JP2003273449A - Adjusting method for semiconductor laser driving circuit - Google Patents

Adjusting method for semiconductor laser driving circuit

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JP2003273449A
JP2003273449A JP2002068732A JP2002068732A JP2003273449A JP 2003273449 A JP2003273449 A JP 2003273449A JP 2002068732 A JP2002068732 A JP 2002068732A JP 2002068732 A JP2002068732 A JP 2002068732A JP 2003273449 A JP2003273449 A JP 2003273449A
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semiconductor laser
high frequency
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power
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Inventor
Shinji Kaneko
真二 金子
Kazumichi Kishiyu
和導 旗手
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Sony Corp
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Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an adjusting method for a semiconductor laser driving circuit capable of ensuring the stability of a signal output upon regeneration. <P>SOLUTION: In an adjusting method for a semiconductor laser driving circuit using a semiconductor laser driven by a driving current comprising a high frequency current superposed on a DC current, an oscillation frequency of the high frequency current is set 1/6 to 1/5 times a relaxation oscillation frequency with the output waveform of the high frequency current set to a rectangular wave in response to the oscillation frequency. Further, the current level of the high frequency current is set such that the peak value of the relaxation oscillation in the state of the high frequency current not superposed on the DC current is two times in the state of the high frequency current superposed on the DC current. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体レーザ駆動回
路の調整方法に関し、例えば光ディスク装置の光ピック
アップに適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for adjusting a semiconductor laser driving circuit, which is suitable for application to, for example, an optical pickup of an optical disk device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば光ディスク装置の光学ピッ
クアップの光源に用いられる半導体レーザにおいては、
いわゆる戻り光雑音の低減を図る目的で、直流電流に高
周波電流を重畳した駆動電流で半導体レーザを駆動する
こと、すなわち半導体レーザに高周波重畳を行うことが
ある。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, in a semiconductor laser used as a light source of an optical pickup of an optical disk device,
For the purpose of reducing so-called return light noise, a semiconductor laser may be driven by a drive current in which a high frequency current is superimposed on a direct current, that is, high frequency superimposition may be performed on the semiconductor laser.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、相変化光デ
ィスクの場合、かかる半導体レーザの記録及び再生に要
するパワー(出力)は、当該相変化光ディスクのパワー
仕様に基づきそれぞれ5.0〔mW〕及び300〔μW〕と決
められている。このため光路系のカップリング(すなわ
ち出力に対する戻り率)を15〔%〕とすると、半導体レ
ーザのパワーは33〔mW〕以上を必要とする。
In the case of a phase change optical disk, the power (output) required for recording and reproducing by such a semiconductor laser is 5.0 [mW] and 300 [μW] based on the power specification of the phase change optical disk. ]] Has been decided. Therefore, if the coupling of the optical path system (that is, the return rate with respect to the output) is 15%, the power of the semiconductor laser needs to be 33 mW or more.

【0004】このようにディスクの記録時には大きなパ
ワーを必要とするため、大出力の半導体レーザを使用す
るようになされている。
As described above, since a large power is required at the time of recording on the disc, a high output semiconductor laser is used.

【0005】例えば記録パワーである5.0〔mW〕より
十分大きい40〔mW〕程度の出力の半導体レーザを使用
した場合、再生時のパワーの上限が0.3〔mW〕のとき
には、半導体レーザのパワーは2.0〔mW〕にする必要
がある。
For example, when a semiconductor laser having an output of about 40 [mW], which is sufficiently higher than the recording power of 5.0 [mW], is used, the power of the semiconductor laser is 2.0 when the upper limit of the reproducing power is 0.3 [mW]. It is necessary to set [mW].

【0006】一般に、半導体レーザのノイズ特性は、図
12に示すように、当該半導体レーザのパワーと、単位
周波数当りの光強度雑音(光強度のゆらぎ)及び平均光
出力の比をとって得られる相対強度雑音(RIN:Rela
tive Intensity Noise)との関係でなる特性曲線として
表される。
Generally, the noise characteristic of a semiconductor laser is obtained by taking the ratio of the power of the semiconductor laser to the light intensity noise per unit frequency (fluctuation of light intensity) and the average light output, as shown in FIG. Relative intensity noise (RIN: Rela)
tive Intensity Noise).

【0007】かかる半導体レーザの特性曲線は、パワー
の値が約4〔mW〕当りからRINの値がほぼ一定にな
るため、比較的パワーの大きい半導体レーザを用いた場
合には、パワーの値が低い2.0〔mW〕のところではR
INの値が大きくなり、この結果再生時の信号ノイズが
大きくなるという問題があった。
In the characteristic curve of such a semiconductor laser, the value of RIN becomes almost constant from the power value of about 4 [mW]. Therefore, when the semiconductor laser of relatively large power is used, the power value is R at low 2.0 [mW]
There has been a problem that the value of IN becomes large and, as a result, signal noise during reproduction becomes large.

【0008】かかる問題を解決する一つの方法として、
再生時の光学系によるカップリングを更に低下させて、
RINの値が小さなところで比較的パワーの大きい半導
体レーザを使用する方法が提案されている。例えば、6.
0〔dB〕のアッテネータ(ATT:減衰器)を50
〔%〕の透過率で入れると、半導体レーザの再生パワー
は4.0〔mW〕となる。この場合、重畳する高周波電流
の電流レベルは約1.2倍で増加していく。
As one method for solving such a problem,
By further reducing the coupling by the optical system during playback,
A method has been proposed in which a semiconductor laser having a relatively high power is used where the RIN value is small. For example, 6.
0 [dB] attenuator (ATT: attenuator) 50
When the transmittance is [%], the reproducing power of the semiconductor laser is 4.0 [mW]. In this case, the current level of the superposed high frequency current increases about 1.2 times.

【0009】ディスクの再生安定性は、半導体レーザの
再生パワーで決定するのみならず、半導体レーザの駆動
電流に重畳される高周波電流の電流レベルにも依存す
る。すなわちディスク再生時に、半導体レーザの再生パ
ワーは、駆動電流に重畳される高周波電流の電流レベル
に比例して増大するため、半導体レーザの再生パワーが
所定レベルより高い場合には、光ディスク上のピットが
レーザ光の照射により消滅して記録データが消去される
おそれがあった。
The reproduction stability of the disk depends not only on the reproduction power of the semiconductor laser but also on the current level of the high frequency current superimposed on the drive current of the semiconductor laser. That is, when reproducing the disc, the reproducing power of the semiconductor laser increases in proportion to the current level of the high frequency current superimposed on the drive current. Therefore, when the reproducing power of the semiconductor laser is higher than a predetermined level, the pits on the optical disc are There is a possibility that the data may be erased by irradiating the laser beam and the recorded data may be erased.

【0010】このため、高周波電流の電流レベルのピー
ク値を管理するようにして再生安定性が損なわれるのを
未然に防ぐ必要があるが、現在用いられているレベル調
整方法では半導体レーザの種類ごとにバラツキが大き
く、約6〜9倍にもなってしまうことから、高周波電流
の電流レベルの管理方法が実用上未だ不十分な問題があ
った。
Therefore, it is necessary to prevent the reproduction stability from being impaired by controlling the peak value of the current level of the high frequency current. However, in the level adjustment method currently used, it is necessary to change the semiconductor laser for each type of semiconductor laser. However, there is a problem in that the method of controlling the current level of the high frequency current is still insufficient in practice.

【0011】さらに半導体レーザの温度特性は、図13
に示すような横軸に光出力及び縦軸に駆動電流(半導体
レーザに注入する順電流)をとった特性曲線で表され、
例えば25〔℃〕又は55〔℃〕の温度のときであって高周
波電流を重畳させたオン状態又は重畳させないオフ状態
の場合についてそれぞれ特性曲線F1〜F4を示す。因
みにこのオン状態及びオフ状態の半導体レーザの順電流
差は電流オフセットと呼ばれる。
Further, the temperature characteristics of the semiconductor laser are shown in FIG.
Is represented by a characteristic curve in which the horizontal axis represents the optical output and the vertical axis represents the drive current (forward current injected into the semiconductor laser).
For example, characteristic curves F1 to F4 are shown at a temperature of 25 [° C.] or 55 [° C.] and in an on state in which a high frequency current is superimposed or in an off state in which no high frequency current is superimposed. Incidentally, the difference in forward current between the semiconductor lasers in the on state and the off state is called a current offset.

【0012】これらの特性曲線F1〜F4によると、温
度が高いほど駆動電流の値が高く、かつ高周波電流を重
畳させないオフ状態の方がオン状態のときより駆動電流
の値が高いことがわかる。このように高周波電流の重畳
効果は温度でも変化し、半導体レーザごとにバラツキが
広がるといった問題が発生している。
According to these characteristic curves F1 to F4, it can be seen that the higher the temperature, the higher the value of the drive current, and the higher the drive current in the OFF state in which the high frequency current is not superimposed than in the ON state. As described above, the superposition effect of the high-frequency current changes with temperature, which causes a problem that the variation spreads from semiconductor laser to semiconductor laser.

【0013】実際にディスク再生時に、高周波電流が重
畳された駆動電流で半導体レーザを駆動したとき、当該
半導体レーザの再生パワーに反比例するRINの値を所
定値以下に抑えると同時に、光ディスク上のピットが消
滅しない程度に半導体レーザの再生パワーを抑えること
ができれば非常に望ましい。
When a semiconductor laser is driven by a driving current on which a high-frequency current is superposed at the time of actually reproducing a disc, the value of RIN inversely proportional to the reproduction power of the semiconductor laser is suppressed to a predetermined value or less, and at the same time, a pit on the optical disc. It is highly desirable if the reproducing power of the semiconductor laser can be suppressed to such an extent that does not disappear.

【0014】しかしながら、従来の半導体レーザ駆動回
路においては、RINの値を十分低下させながら、これ
と同時に半導体レーザの駆動電流に重畳される高周波電
流の電流レベルのピーク値を調整して、再生された信号
出力の安定性を確保することは非常に困難であった。
However, in the conventional semiconductor laser drive circuit, while the value of RIN is sufficiently lowered, at the same time, the peak value of the current level of the high frequency current superimposed on the drive current of the semiconductor laser is adjusted for reproduction. It was very difficult to ensure the stability of the signal output.

【0015】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、再生時の信号出力の安定性を確保し得る半導体レー
ザ駆動回路の調整方法を提案しようとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and it is an object of the present invention to propose a method of adjusting a semiconductor laser drive circuit capable of ensuring the stability of a signal output during reproduction.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、直流電流に高周波電流を重畳した
駆動電流により駆動する半導体レーザを用いた半導体レ
ーザ駆動回路の調整方法において、高周波電流の発振周
波数を緩和振動周波数の1/6〜1/5倍に設定すると
共に、高周波電流の出力波形を当該発振周波数に応じた
矩形波に設定し、高周波電流の電流レベルを、直流電流
に高周波電流を重畳させない状態で緩和振動の波高値が
当該高周波電流を重畳させた状態のときの2倍となるよ
うに設定するようにした。
In order to solve the above problems, the present invention provides a method for adjusting a semiconductor laser drive circuit using a semiconductor laser driven by a drive current in which a high frequency current is superimposed on a direct current. The oscillation frequency is set to 1/6 to 1/5 times the relaxation oscillation frequency, the output waveform of the high frequency current is set to a rectangular wave corresponding to the oscillation frequency, and the current level of the high frequency current is set to the direct current to the high frequency current. Is set so that the peak value of relaxation oscillation is twice as high as that when the high-frequency current is superimposed.

【0017】この結果、半導体レーザ駆動回路におい
て、再生時に直流電流に高周波電流を重畳した駆動電流
で半導体レーザを駆動したとき、当該半導体レーザの再
生パワーに反比例するRINの値を所定値以下に抑える
と同時に、半導体レーザの照射対象となる光ディスク上
のピットが消滅しない程度に半導体レーザの再生パワー
を抑えることができる。
As a result, in the semiconductor laser drive circuit, when the semiconductor laser is driven by the drive current in which the high frequency current is superimposed on the direct current at the time of reproduction, the value of RIN inversely proportional to the reproduction power of the semiconductor laser is suppressed to a predetermined value or less. At the same time, the reproduction power of the semiconductor laser can be suppressed to such an extent that the pits on the optical disk which is the irradiation target of the semiconductor laser do not disappear.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施の形態を詳述する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0019】(1)本実施の形態による半導体レーザ駆
動回路の構成 図1において、1は全体として再生専用の光ディスク装
置に搭載された本実施の形態による半導体レーザ駆動回
路を示し、再生動作時には、所定レベルの直流電流I
に高周波電流Iを重畳した駆動電流Iにより半導体
レーザ2を駆動するようになされている。
(1) Configuration of Semiconductor Laser Driving Circuit According to this Embodiment In FIG. 1, reference numeral 1 denotes the semiconductor laser driving circuit according to this embodiment which is mounted on a read-only optical disk device as a whole. DC current I 1 of a predetermined level
The semiconductor laser 2 is driven by the drive current I 3 obtained by superimposing the high frequency current I 2 on.

【0020】すなわち半導体レーザ駆動回路1において
は、半導体レーザ2から発射されるレーザ光の再生パワ
ーが常に一定となるようにその直流電流Iの電流レベ
ルを制御するAPC(Automatic Phase Control)回路
3と、当該直流電流Iに重畳する高周波電流Iを生
成する重畳高周波生成回路4とが設けられている。
That is, in the semiconductor laser drive circuit 1, an APC (Automatic Phase Control) circuit 3 for controlling the current level of the direct current I 1 so that the reproduction power of the laser light emitted from the semiconductor laser 2 is always constant. And a superposed high frequency generation circuit 4 for generating a high frequency current I 2 which is superposed on the direct current I 1 .

【0021】またこの半導体レーザ駆動回路1には、こ
れらAPC回路3及び重畳高周波生成回路4に加えて、
さらにAPC回路3の出力段からの直流電流Iを測定
するための電流測定用回路5が当該APC回路3内で接
続するように設けられている。
In addition to the APC circuit 3 and the superposed high frequency generation circuit 4, the semiconductor laser drive circuit 1 further includes
Further, a current measuring circuit 5 for measuring the direct current I 1 from the output stage of the APC circuit 3 is provided so as to be connected in the APC circuit 3.

【0022】この場合APC回路3においては、半導体
レーザ2から発射されたレーザ光の再生パワーをモニタ
するためのモニタ用フォトダイオード6から出力され
る、当該レーザ光の再生パワーに応じた電流レベルのパ
ワー検出信号S1をオペアンプ7及び帰還抵抗R1から
なる電流電圧変換器8において電流電圧変換し、かくし
て得られたパワー検出電圧信号S2をエラー検出回路9
に与える。
In this case, in the APC circuit 3, a current level corresponding to the reproduction power of the laser light outputted from the monitor photodiode 6 for monitoring the reproduction power of the laser light emitted from the semiconductor laser 2 is output. The power detection signal S1 is current-voltage converted in the current-voltage converter 8 including the operational amplifier 7 and the feedback resistor R1, and the power detection voltage signal S2 thus obtained is subjected to the error detection circuit 9
Give to.

【0023】エラー検出回路9は、電流電圧変換部8の
オペアンプ7の出力端と抵抗R2を介して反転入力端が
接続されたオペアンプ10と、当該オペアンプ10に並
列接続された帰還抵抗R3と、オペアンプ10に並列接
続された帰還抵抗R4及びコンデンサC1とから構成さ
れる比較回路構成でなり、オペアンプ10の非反転入力
端には基準電圧源11から設定自在の所定電圧レベルの
基準電圧が印加される。
The error detecting circuit 9 includes an operational amplifier 10 having an inverting input terminal connected to the output terminal of the operational amplifier 7 of the current-voltage converter 8 via a resistor R2, a feedback resistor R3 connected in parallel to the operational amplifier 10. The operational amplifier 10 has a comparison circuit configuration including a feedback resistor R4 and a capacitor C1 connected in parallel, and a non-inverting input terminal of the operational amplifier 10 is applied with a reference voltage of a predetermined voltage level that can be set from a reference voltage source 11. It

【0024】かくしてエラー検出回路9においては、電
流電圧変換器8からのパワー検出電圧信号S2の電圧レ
ベルと、基準電圧源11からの基準電圧の電圧レベルと
をオペアンプ10において比較し、これらのレベル差
(すなわち電位差)に応じた電圧レベルの誤差信号S3
として電流測定用回路5を介してAPC回路3の出力段
に設けられたPNP型トランジスタ(以下、これをAP
C側トランジスタと呼ぶ)TR1のベースに送出する。
Thus, in the error detection circuit 9, the operational amplifier 10 compares the voltage level of the power detection voltage signal S2 from the current-voltage converter 8 with the voltage level of the reference voltage from the reference voltage source 11, and these levels are compared. Error signal S3 having a voltage level corresponding to the difference (that is, the potential difference)
As a PNP transistor provided in the output stage of the APC circuit 3 via the current measuring circuit 5 (hereinafter, referred to as AP
It is called the C-side transistor) It is sent to the base of TR1.

【0025】このときAPC側トランジスタTR1のエ
ミッタは、抵抗R5を介してモニタ用フォトダイオード
6のカソード端子と接続されると共に、当該抵抗R5及
びモニタ用フォトダイオード6の接続中点は定電圧源V
ccに接続されている。
At this time, the emitter of the APC side transistor TR1 is connected to the cathode terminal of the monitor photodiode 6 via the resistor R5, and the middle point of connection between the resistor R5 and the monitor photodiode 6 is the constant voltage source V.
connected to cc .

【0026】これによりAPC回路3においては、AP
C側トランジスタTR1のベースに印加されるエラー増
幅回路9からの誤差信号S3に基づいて、当該誤差信号
S3の電圧レベルの直流電流Iを当該APC側トラン
ジスタTR1のコレクタから出力し得るようになされて
いる。
As a result, in the APC circuit 3, the AP
Based on the error signal S3 from the error amplification circuit 9 applied to the base of the C-side transistor TR1, the DC current I 1 having the voltage level of the error signal S3 can be output from the collector of the APC-side transistor TR1. ing.

【0027】さらに上述の電流測定用回路5は、APC
側トランジスタTR1と同一構成のPNP型トランジス
タ(以下、これをミラートランジスタと呼ぶ)TR2を
有し、当該ミラートランジスタTR2のベースにはAP
C回路3のエラー増幅回路9の出力段と接続されると共
に、そのエミッタは抵抗R6を介してモニタ用フォトダ
イオード6及び定電圧源Vccの接続中点が接続され、
そのコレクタは抵抗R7を介して接地されている。
Further, the above-mentioned current measuring circuit 5 is an APC.
The side transistor TR1 has a PNP-type transistor (hereinafter referred to as a mirror transistor) TR2 having the same configuration, and the base of the mirror transistor TR2 has an AP.
It is connected to the output stage of the error amplification circuit 9 of the C circuit 3, and its emitter is connected to the connection midpoint of the monitoring photodiode 6 and the constant voltage source V cc via the resistor R6.
Its collector is grounded via a resistor R7.

【0028】これにより電流測定用回路5は、ミラート
ランジスタTR2のベースに印加されるエラー増幅回路
9からの誤差信号S3に基づいて、当該誤差信号S3の
電圧レベルに応じた電流レベルの直流電流Iを当該ミ
ラートランジスタTR2のコレクタから出力し得るよう
になされている。このことはミラートランジスタTR2
が、APC側トランジスタTR1と入出力が同じで同一
動作を行うことを表している。
As a result, the current measuring circuit 5, based on the error signal S3 from the error amplifier circuit 9 applied to the base of the mirror transistor TR2, has a DC current I of a current level corresponding to the voltage level of the error signal S3. 1 can be output from the collector of the mirror transistor TR2. This is the mirror transistor TR2
Indicates that the same input / output as the APC side transistor TR1 is performed and the same operation is performed.

【0029】一方、重畳高周波生成回路4においては、
可変抵抗でなる周波数コントロール部20を操作するこ
とにより発振周波数を自在に設定し得るようになされた
高周波発振器21を有し、当該高周波発振器21から出
力される高周波電流(HF:High Frequency)Iを高
周波電流レベルコントロール部22の第1のNPN型ト
ランジスタTR3のベースに入力する。
On the other hand, in the superposed high frequency generation circuit 4,
A high-frequency oscillator 21 is provided which is capable of freely setting the oscillation frequency by operating the frequency control unit 20 including a variable resistor, and a high-frequency current (HF: High Frequency) I 2 output from the high-frequency oscillator 21. Is input to the base of the first NPN transistor TR3 of the high frequency current level control unit 22.

【0030】この場合、この第1のNPN型トランジス
タTR3と一体に差動対を構成する第2のNPN型トラ
ンジスタTR4のベースには、電池23から一定電圧の
基準電圧が印加されると共に、これら第1及び第2のN
PN型トランジスタTR3、TR4の共通エミッタは、
第3のNPN型トランジスタTR5及び当該第3のNP
N型トランジスタTR5のベースに高周波電流Iの電
流レベルを調整するための可変電圧でなるレベル制御部
24が順次接続されている。また第3のNPN型トラン
ジスタTR5のエミッタは抵抗R7を介して接地されて
いる。
In this case, a constant reference voltage is applied from the battery 23 to the base of the second NPN transistor TR4, which forms a differential pair integrally with the first NPN transistor TR3. First and second N
The common emitter of the PN type transistors TR3 and TR4 is
Third NPN type transistor TR5 and the third NP
A level control unit 24 having a variable voltage for adjusting the current level of the high frequency current I 2 is sequentially connected to the base of the N-type transistor TR5. The emitter of the third NPN transistor TR5 is grounded via the resistor R7.

【0031】また第1及び第2のNPN型トランジスタ
TR3、TR4の各コレクタは、それぞれ直接又は抵抗
R8を介して定電圧源Vccに接続されると共に、第2
のNPN型トランジスタTR4のコレクタ及び抵抗R8
の接続中点は、重畳高周波生成回路4の出力段のPNP
型トランジスタ(以下、これを重畳高周波側トランジス
タと呼ぶ)TR6のベースに接続されている。この重畳
高周波側トランジスタ4TR6は、APC側トランジス
タTR1と一体に差動対を構成しており、そのエミッタ
は抵抗R9を介して定電圧源Vccに接続されている。
The collectors of the first and second NPN type transistors TR3 and TR4 are connected to the constant voltage source V cc either directly or via a resistor R8, and the second
Collector of NPN transistor TR4 and resistor R8
Is the PNP of the output stage of the superposed high frequency generation circuit 4.
The transistor is connected to the base of a type transistor (hereinafter, referred to as a superimposed high frequency side transistor) TR6. The superimposed high-frequency-side transistor 4TR6 constitute a differential pair together with the APC side transistor TR1, its emitter connected to the constant voltage source V cc through a resistor R9.

【0032】これにより重畳高周波生成回路4において
は、高周波発振器21により発生された高周波電流I
を、高周波電流レベルコントロール部22により増幅し
て、重畳高周波側トランジスタTR6のコレクタから出
力することができるようになされている。
As a result, in the superposed high frequency generation circuit 4, the high frequency current I 2 generated by the high frequency oscillator 21 is generated.
Can be amplified by the high frequency current level control unit 22 and output from the collector of the superimposed high frequency side transistor TR6.

【0033】そしてこの半導体レーザ駆動回路1では、
APC側トランジスタTR1及び重畳高周波側トランジ
スタTR6の共通コレクタが半導体レーザ2を介して接
地されている。
In this semiconductor laser drive circuit 1,
A common collector of the APC side transistor TR1 and the superimposed high frequency side transistor TR6 is grounded via the semiconductor laser 2.

【0034】これによりこの半導体レーザ駆動回路1に
おいては、APC回路3により電流レベルが調整された
直流電流Iと、重畳高周波生成回路4により生成され
た所定周波数及び所定電流レベルの高周波電流Iとを
重畳して駆動電流Iとして半導体レーザ2に供給し、
当該駆動電流Iに基づいて当該半導体レーザ2を点灯
駆動し得るようになされている。
As a result, in the semiconductor laser drive circuit 1, the DC current I 1 whose current level is adjusted by the APC circuit 3 and the high frequency current I 2 of the predetermined frequency and the predetermined current level generated by the superposition high frequency generation circuit 4 are generated. And are superposed and supplied to the semiconductor laser 2 as the drive current I 3 ,
The semiconductor laser 2 can be lit and driven based on the drive current I 3 .

【0035】かかる構成に加えて、この半導体レーザ駆
動回路1においては、電流測定用回路5内のミラートラ
ンジスタTR2及び抵抗R7の接続中点に接続された端
子(以下、これを第1の測定用端子と呼ぶ)TP1を介
してミラートランジスタTR2のコレクタ電流の電流値
を測定することにより、間接的にAPC側トランジスタ
TR1のコレクタ電流の電流値を測定し得るようになさ
れている。
In addition to the above configuration, in the semiconductor laser drive circuit 1, a terminal (hereinafter, referred to as the first measurement terminal) connected to the connection midpoint of the mirror transistor TR2 and the resistor R7 in the current measurement circuit 5 is used. By measuring the current value of the collector current of the mirror transistor TR2 via a terminal TP1), the current value of the collector current of the APC side transistor TR1 can be indirectly measured.

【0036】また重畳高周波生成回路4の高周波電流レ
ベルコントロール部22における第3のNPN型トラン
ジスタTR3及び周波数コントロール部20の接続中点
に接続された端子(以下、これを第3の測定用端子と呼
ぶ)TP3を介して周波数コントロール部20から出力
される高周波信号の周波数を測定し得るようになされて
いる。
The terminal connected to the midpoint of the connection between the third NPN transistor TR3 and the frequency control section 20 in the high frequency current level control section 22 of the superposed high frequency generation circuit 4 (hereinafter referred to as the third measurement terminal). The frequency of the high frequency signal output from the frequency control unit 20 via TP3 can be measured.

【0037】さらに重畳高周波生成回路4の高周波信号
の電流control段に接続された端子(以下、これを第2
の測定用端子と呼ぶ)TP2を介して当該重畳高周波生
成回路4から発生された高周波電流Iの電流値を測定
し得るようになされている。
Further, the terminal connected to the current control stage of the high frequency signal of the superposed high frequency generation circuit 4 (hereinafter referred to as the second
Of the high frequency current I 2 generated from the superposed high frequency generation circuit 4 via TP2.

【0038】これら第1〜第3の測定用端子TP1〜T
P3は後述するパーソナルコンピュータ30(図2)に
接続されており、当該パーソナルコンピュータ30にお
いて周波数、電流値及び電圧値を測定すると共に、当該
測定結果に基づく種々の演算処理を実行するようになさ
れている。
These first to third measuring terminals TP1 to T
The P3 is connected to a personal computer 30 (FIG. 2) described later, and measures the frequency, the current value, and the voltage value in the personal computer 30 and executes various arithmetic processing based on the measurement result. There is.

【0039】実際に、高周波発振器21から発生された
高周波電流Iは、ディーティ比50〔%〕の矩形波であ
り、周波数コントロール部20の操作に応じて発振周波
数が調整される。そして次段の高周波電流レベルコント
ロール部22内の第1及び第2のNPN型トランジスタ
TR3、TR4による差動増幅により増幅する際、第3
のNPN型トランジスタTR3に接続されたレベル制御
部24の操作に応じて高周波電流Iの電流レベルを調
整するようになされている。
Actually, the high frequency current I 2 generated from the high frequency oscillator 21 is a rectangular wave with a duty ratio of 50%, and the oscillation frequency is adjusted according to the operation of the frequency control unit 20. Then, when the differential amplification by the first and second NPN transistors TR3 and TR4 in the high frequency current level control unit 22 of the next stage is performed,
The current level of the high frequency current I 2 is adjusted according to the operation of the level control unit 24 connected to the NPN transistor TR3.

【0040】この後、重畳高周波側トランジスタTR6
のコレクタから出力される高周波電流Iが、APC側
トランジスタTR1のコレクタから出力される直流電流
と重畳され、これが半導体レーザ2の駆動電流I
として当該半導体レーザ2に出力される。
After this, the superimposed high frequency side transistor TR6
Of the high frequency current I 2 which is output from the collector, it is superimposed to the DC current I 1 output from the collector of the APC-side transistor TR1, which is the driving current I 3 of the semiconductor laser 2
Is output to the semiconductor laser 2.

【0041】ここで重畳高周波生成回路4内の高周波発
振器21の動作をオフ状態にしたまま、電流測定用回路
5において、ミラートランジスタTR2のコレクタ電流
の電流値を第1の測定用端子TP1を介して測定するこ
とにより、APCループによるフィードバック制御時に
APC側トランジスタTR1のコレクタから出力される
直流電流Iの電流値を測定することができる。
In the current measuring circuit 5, the current value of the collector current of the mirror transistor TR2 in the current measuring circuit 5 is passed through the first measuring terminal TP1 while the operation of the high frequency oscillator 21 in the superposed high frequency generating circuit 4 is turned off. It is possible to measure the current value of the direct current I 1 output from the collector of the APC side transistor TR1 during feedback control by the APC loop.

【0042】(2)パーソナルコンピュータ30の内部
構成 図2に、パーソナルコンピュータ30における本体部の
内部構成を示す。パーソナルコンピュータ30の本体部
30Aは、全体の制御を司るCPU(CentralProcessin
g Unit )31と、各種ソフトウェアが格納されたRO
M(Read OnlyMemory)32と、CPU31のワークメ
モリとしてのRAM(Random Access Memory)33と、
各種データが格納されたハードディスク装置34と、C
PU31がケーブル(図示せず)を介して半導体レーザ
駆動回路1(図1)と通信するためのインターフェース
であるインターフェース部35と、ディスプレイ36が
接続された画像処理部37と、キーボード38及びマウ
ス39が接続されたインターフェース部40とを有し、
これらがバス41を介して相互に接続されることにより
構成されている。
(2) Internal Configuration of Personal Computer 30 FIG. 2 shows the internal configuration of the main body of the personal computer 30. The main body 30A of the personal computer 30 includes a CPU (Central Processin) that controls the entire control.
g Unit) 31 and RO that stores various software
An M (Read Only Memory) 32, a RAM (Random Access Memory) 33 as a work memory of the CPU 31,
A hard disk device 34 in which various data are stored, and C
An interface unit 35 that is an interface for the PU 31 to communicate with the semiconductor laser drive circuit 1 (FIG. 1) via a cable (not shown), an image processing unit 37 to which a display 36 is connected, a keyboard 38, and a mouse 39. And an interface unit 40 connected to
These are connected to each other via a bus 41.

【0043】この場合CPU31は、半導体レーザ駆動
回路1の第1〜第3の測定用端子TP1〜TP3を介し
て与えられるデータ(周波数、電流値及び電圧値)やコ
マンドをインターフェース部35を介して取り込み、当
該データやコマンドと、ROM32に格納されているソ
フトウェアとに基づいて各種処理を実行する。
In this case, the CPU 31 sends data (frequency, current value and voltage value) and commands given via the first to third measuring terminals TP1 to TP3 of the semiconductor laser drive circuit 1 via the interface section 35. Various processes are executed based on the fetched data and commands and the software stored in the ROM 32.

【0044】そしてCPU31は、この処理結果とし
て、例えばハードディスク装置34から読み出した所定
のグラフ等の画面データや、他のプログラム又はコマン
ドなどのデータを画像処理部37を介してディスプレイ
36に画面表示し得るようになされている。
As a result of this processing, the CPU 31 screen-displays screen data such as a predetermined graph read from the hard disk device 34 or data such as other programs or commands on the display 36 via the image processing unit 37. It is designed to get you.

【0045】このようにしてパーソナルコンピュータ3
0においては、半導体レーザ駆動回路1内の第1〜第3
の測定端子TP1〜TP3を介して得られた各測定結果
を、ディスプレイ36上にグラフ等に変換して画面表示
させることにより、オペレータは当該画面表示されたグ
ラフ等を目視確認しながら半導体レーザ駆動回路1内の
調整事項を判断することができるようになされている。
In this way, the personal computer 3
0, the first to third parts in the semiconductor laser drive circuit 1
By converting each measurement result obtained through the measurement terminals TP1 to TP3 into a graph or the like on the display 36 and displaying the result on the screen, the operator drives the semiconductor laser while visually checking the graph or the like displayed on the screen. The adjustment items in the circuit 1 can be determined.

【0046】(3)半導体レーザの駆動電流の最適調整 (3−1)半導体レーザの再生パワーのピーク値及びモ
ードホッピングの抑制 まず、図3において、半導体レーザ駆動回路1(図1)
の重畳高周波生成回路4から半導体レーザ2に高周波電
流Iを出力して直流電流Iに重畳させる場合又は重
畳させない場合(以下、これを高周波重畳のオン状態又
はオフ状態と呼ぶ)について、半導体レーザ2の再生パ
ワーに対するRIN(相対強度雑音)特性を示す。
(3) Optimal Adjustment of Driving Current of Semiconductor Laser (3-1) Suppression of Peak Value of Reproducing Power of Semiconductor Laser and Mode Hopping First, in FIG. 3, the semiconductor laser driving circuit 1 (FIG. 1)
When the high frequency current I 2 is output from the superposed high frequency generation circuit 4 to the semiconductor laser 2 to be superimposed on the direct current I 1 or not (hereinafter, this is referred to as the high frequency superposition ON state or OFF state), the semiconductor The RIN (relative intensity noise) characteristic with respect to the reproduction power of the laser 2 is shown.

【0047】かかるRIN特性は、横軸に半導体レーザ
2の再生パワーを、縦軸にRINの値をとった特性曲線
で表される。具体的には、高周波重畳のオン状態とオフ
状態とで、それぞれ半導体レーザ2の再生パワーの値を
1.0〔mW〕から10.0〔mW〕までの間に0.2〔mW〕ご
とに対応するRINの値をとった特性曲線F10、F1
1で表される。
The RIN characteristic is represented by a characteristic curve in which the horizontal axis represents the reproducing power of the semiconductor laser 2 and the vertical axis represents the value of RIN. Specifically, the value of the reproducing power of the semiconductor laser 2 is changed in the ON state and the OFF state of the high frequency superposition, respectively.
Characteristic curves F10 and F1 in which the value of RIN corresponding to each 0.2 [mW] is taken from 1.0 [mW] to 10.0 [mW]
It is represented by 1.

【0048】この半導体レーザ2のRIN特性による
と、半導体レーザ2の再生パワーが比較的小さいとき
(約4.0〔mW〕以下)には、高周波重畳をオフ状態に
した場合の方がRINの値が小さくなる場合もある。
According to the RIN characteristic of the semiconductor laser 2, when the reproduction power of the semiconductor laser 2 is relatively small (about 4.0 [mW] or less), the RIN value is higher when the high frequency superposition is turned off. It may become smaller.

【0049】ここで再生時にRINの値が−125〔d
B〕以下にして半導体レーザ2を使用する場合には、図
3に示す特性曲線F10、F11によると、高周波重畳
のオフ状態では2.5〔mW〕以上にする必要があり、高
周波重畳のオン状態では3.0〔mW〕以上にする必要が
あるが、高周波重畳のオフ状態ではいわゆるモードホッ
ピング(発振波長が飛び移る現象)を起こしてノイズ
(モードホッピングノイズ)を発生するおそれがあるの
で通常は使用できない。
At the time of reproduction, the value of RIN is -125 [d
B] When the semiconductor laser 2 is used below, according to the characteristic curves F10 and F11 shown in FIG. 3, it is necessary to be 2.5 [mW] or more in the high frequency superposition off state, and in the high frequency superposition on state. It must be 3.0 mW or more, but in the off state of high frequency superimposition, so-called mode hopping (a phenomenon in which the oscillation wavelength jumps) may occur and noise (mode hopping noise) may occur, so it cannot be normally used.

【0050】そこで、再生時の光学系によるカップリン
グを更に低下させて、RINの値が小さなところで半導
体レーザを使用すべく、例えば透過率50〔%〕のLED
(発光ダイオード)アッテネータを用いて減衰すると、
高周波重畳のオン状態におけるRINの値は、図4
(A)に示すグラフにおいて特性曲線F12のように表
される。
Therefore, in order to further reduce the coupling by the optical system at the time of reproduction and use the semiconductor laser at a small RIN value, for example, an LED having a transmittance of 50% is used.
(Light Emitting Diode) When attenuated using attenuator,
The value of RIN in the ON state of high frequency superposition is shown in FIG.
It is represented as a characteristic curve F12 in the graph shown in FIG.

【0051】この図4(A)は、横軸に半導体レーザ2
の再生パワーを、右側の縦軸にRINの値をとり、左側
の縦軸に高周波重畳光powerのピーク値(緩和振動周波
数の波高)の倍数をとったグラフである。この特性曲線
F12も、半導体レーザ2の再生パワーの値を1.0〔m
W〕から10.0〔mW〕までの間に0.25〔mW〕ごとに対
応するRINの値をとったものである。
In FIG. 4A, the horizontal axis indicates the semiconductor laser 2
Is a graph in which the RIN value is plotted on the right vertical axis and the multiple of the peak value (wave height of the relaxation oscillation frequency) of the high frequency superimposed light power is plotted on the right vertical axis of the reproducing power of. This characteristic curve F12 also has a reproducing power value of the semiconductor laser 2 of 1.0 [m
The value of RIN corresponding to every 0.25 [mW] is taken from W] to 10.0 [mW].

【0052】この特性曲線F12によると、半導体レー
ザ2の再生パワーのレベルが2.0〔mW〕のとき、−120
〔dB〕であったものが、減衰で4.0〔mW〕となり、−1
31〔dB〕に改善されることがわかる。
According to this characteristic curve F12, when the reproducing power level of the semiconductor laser 2 is 2.0 [mW], -120
What was [dB] becomes 4.0 [mW] in attenuation, and -1
It can be seen that it is improved to 31 [dB].

【0053】このときの発光波形は図4(A)のよう
に、横軸に半導体レーザ2の再生パワーを、左側の縦軸
に当該再生パワーに応じた緩和振動の第1のパルスのピ
ーク値(以下、これを波高値と呼ぶ)の倍数をとった特
性曲線F13で表される。この緩和振動とは、半導体レ
ーザ2が駆動電流Iの印加開始時点から遅れ時間経過
後に発光し始め、しばらく振動(緩和振動)を繰り返し
た後、定常値に収束するという特性に基づくものであ
る。
The emission waveform at this time is, as shown in FIG. 4A, the reproducing power of the semiconductor laser 2 on the horizontal axis and the peak value of the first pulse of relaxation oscillation corresponding to the reproducing power on the left vertical axis. The characteristic curve F13 is a multiple of (hereinafter, referred to as a peak value). The relaxation oscillation is based on the characteristic that the semiconductor laser 2 starts to emit light after a delay time elapses from the application start time of the drive current I 3 , repeats oscillation (relaxation oscillation) for a while, and then converges to a steady value. .

【0054】図4(A)に示す特性曲線F13について
半導体レーザ2の再生パワーの値が6.0〔mW〕のとき
の平均powerを1倍とすると、再生パワーの緩和振動波
高値が6.0〔mW〕のときに8倍となることがわかる。
With respect to the characteristic curve F13 shown in FIG. 4A, when the average power when the value of the reproducing power of the semiconductor laser 2 is 6.0 [mW] is set to 1, the relaxation oscillation peak value of the reproducing power is 6.0 [mW]. It turns out that it becomes 8 times when.

【0055】また図4(A)と対応する部分に同一符号
を付して示す図4(B)において、左側の縦軸として緩
和振動の波高値の倍数(6.0〔mW〕時の平均powerの)
に代えて、再生powerの平均値の倍数をとった場合、緩
和振動の波高値は再生パワーの値が3.0〜6.0〔mW〕の
とき5.5〜8.0倍となることがわかる。
In FIG. 4 (B), in which parts corresponding to those in FIG. 4 (A) are designated by the same reference numerals, the vertical axis on the left side is a multiple of the peak value of relaxation oscillation (average power at 6.0 [mW]). )
In place of the above, when taking a multiple of the average value of the reproduction power, the peak value of relaxation oscillation becomes 5.5 to 8.0 times when the value of the reproduction power is 3.0 to 6.0 [mW].

【0056】実際に半導体レーザ2の特性や、重畳する
高周波電流Iの周波数及び電流レベルが変われば、緩
和振動の波高値の倍数は変化し、高周波電流Iの電流
レベルを上げるか又は高周波電流Iの周波数を下げれ
ば、当該緩和振動の波高値は上昇する。
If the characteristics of the semiconductor laser 2 and the frequency and current level of the superposed high frequency current I 2 change, the multiple of the peak value of relaxation oscillation changes and the current level of the high frequency current I 2 is increased or If the frequency of the current I 2 is lowered, the peak value of the relaxation oscillation is increased.

【0057】半導体レーザ2の再生パワーを300〔μ
W〕としたとき、緩和振動の波高値を8倍とすれば2.4
〔mW〕となり、記録パワーである5.0〔mW〕の約半
分に達すると共に、消去パワーである4.0〔mW〕の約6
0〔%〕になる。
The reproducing power of the semiconductor laser 2 is set to 300 [μ
W], and if the peak value of relaxation oscillation is 8 times, 2.4
[MW], which is about half of the recording power of 5.0 [mW] and about 6 of the erasing power of 4.0 [mW].
It becomes 0%.

【0058】次に上述した図3において、高周波重畳の
オフ状態でも半導体レーザ2のパワー値が4.0〔mW〕
以上では、RINの値は−130〔dB〕より小さくなる
ので、モードホッピングノイズさえ発生しなければ、高
周波重畳のオフ状態でも良いことがわかる。
Next, in FIG. 3 described above, the power value of the semiconductor laser 2 is 4.0 [mW] even in the off state of the high frequency superposition.
From the above, the value of RIN is smaller than -130 [dB], so it can be seen that the high frequency superposition may be turned off as long as mode hopping noise does not occur.

【0059】図5(A)は、高周波重畳のオフ状態で半
導体レーザ2の再生パワーを変えて、温度を掃引(開始
時:25〔℃〕、停止時:55〔℃〕)したときのRIN特
性を示し、半導体レーザ2のパワー値が3.0〔mW〕、
4.0〔mW〕、5.0〔mW〕及び6.0〔mW〕のときの特
性曲線F15〜F18について示す。これらの特性曲線
F15〜F18によると、それぞれ特定温度で5.0〜7.0
〔dB〕のRINの値が変動する。
FIG. 5A shows the RIN when the reproducing power of the semiconductor laser 2 is changed and the temperature is swept (start: 25 [° C.], stop: 55 [° C.]) in the off state of high frequency superposition. Shows the characteristics, the power value of the semiconductor laser 2 is 3.0 [mW],
The characteristic curves F15 to F18 at 4.0 [mW], 5.0 [mW] and 6.0 [mW] are shown. According to these characteristic curves F15 to F18, 5.0 to 7.0 at a specific temperature, respectively.
The RIN value of [dB] fluctuates.

【0060】一方、図5(B)は、従来の高周波重畳の
オン状態で半導体レーザ2の再生パワーを変えて、温度
を掃引(開始時:25〔℃〕、停止時:55〔℃〕)したと
きのRIN特性を示し、半導体レーザ2の再生パワーの
値が3.0〔mW〕、4.0〔mW〕、5.0〔mW〕及び6.0
〔mW〕特のときの特性曲線F19〜F22を示す。こ
れらの特性曲線F19〜F22によると、モードホッピ
ングノイズは見えなくなるが、半導体レーザ2の再生パ
ワーごとにそれぞれ温度カーブが変化し、この例ではR
INの値が7.0〔dB〕も劣化する場合がある。緩和振
動の波高値は上述した図4(B)に示すように、8.0倍程
度となる。
On the other hand, in FIG. 5B, the temperature is swept by changing the reproducing power of the semiconductor laser 2 in the ON state of the conventional high frequency superposition (start: 25 [° C.], stop: 55 [° C.]). The RIN characteristic of the semiconductor laser 2 is 3.0 [mW], 4.0 [mW], 5.0 [mW] and 6.0.
The characteristic curves F19 to F22 when [mW] is specified are shown. According to these characteristic curves F19 to F22, the mode hopping noise disappears, but the temperature curve changes depending on the reproducing power of the semiconductor laser 2, and in this example, R
The value of IN may deteriorate by 7.0 [dB]. The peak value of relaxation oscillation is about 8.0 times as shown in FIG. 4 (B) described above.

【0061】このように図5(A)及び(B)の両グラ
フによると、半導体レーザ2がオフ状態となる電流値よ
り小さな電流値の電流(以下、これをLDオフ電流と呼
ぶ)を駆動電流Iとして半導体レーザ2に注入すれ
ば、モードホッピングを抑制することができることがわ
かる。
As described above, according to both graphs of FIGS. 5A and 5B, a current having a current value smaller than the current value at which the semiconductor laser 2 is turned off (hereinafter referred to as LD off current) is driven. It is understood that mode hopping can be suppressed by injecting the current I 3 into the semiconductor laser 2.

【0062】以上のように図3〜図5(B)に示す各グ
ラフによれば、半導体レーザ2の再生パワーにのみ基づ
いてRINの値を低減させると共に、半導体レーザ2の
駆動電流IをLDオフ電流に設定してモードホッピン
グを抑えれば良く、さらに緩和振動の波高値を最低限に
抑制するようにして、半導体レーザ2を駆動すれば、R
INの値の低減とモードホッピングの抑制を同時に行い
得ることがわかる。
As described above, according to the graphs shown in FIGS. 3 to 5B, the value of RIN is reduced only based on the reproduction power of the semiconductor laser 2, and the drive current I 3 of the semiconductor laser 2 is reduced. If the semiconductor laser 2 is driven by setting the LD off current to suppress mode hopping, and further suppressing the peak value of relaxation oscillation, R
It can be seen that the IN value can be reduced and the mode hopping can be suppressed at the same time.

【0063】(3−2)RINの値の低減及び緩和振動
の波高値の抑制 図6(A)は、高周波電流Iの発振周波数(以下、こ
れを高周波周波数と呼ぶ)が100〔MHz〕で、半導体
レーザ2の駆動電流IとしてのLDオフ電流を1.5
〔mA〕に設定したときの緩和振動を表すグラフであ
る。複数種類の温度(25、40、55〔℃〕)ごとに特性曲
線F23〜F25として表される。
(3-2) Reduction of RIN value and suppression of peak value of relaxation oscillation In FIG. 6 (A), the oscillation frequency of the high frequency current I 2 (hereinafter, referred to as high frequency frequency) is 100 [MHz]. Then, the LD off current as the drive current I 3 of the semiconductor laser 2 is set to 1.5
It is a graph showing relaxation oscillation when it is set to [mA]. Characteristic curves F23 to F25 are represented for each of a plurality of types of temperatures (25, 40, 55 [° C]).

【0064】これら特性曲線F23〜F25によると、
緩和振動の波高値は、平均出力の4倍及び発光時の2倍
となり、温度特性にあまり影響されず、発光遅延と緩和
振動周波数とが若干変化する程度である。
According to these characteristic curves F23 to F25,
The peak value of relaxation oscillation is four times the average output and twice that at the time of light emission, and is not affected by the temperature characteristics so much, and the light emission delay and the relaxation oscillation frequency are slightly changed.

【0065】半導体レーザ2の駆動時の設定をこのまま
使用できれば、緩和振動の波高値は4.0倍に抑えられる
ことがわかる。高周波周波数の下限値は、再生信号の伝
送帯域の2倍であり、70〔MHz〕であれば140〔MH
z〕以上となる。PD高周波増幅器の伝送帯域が広い場合
には飽和してしまうため、十分減衰する値である200
〔MHz〕以上が望ましい。
It can be seen that the peak value of relaxation oscillation can be suppressed to 4.0 times if the setting for driving the semiconductor laser 2 can be used as it is. The lower limit value of the high frequency is twice the transmission band of the reproduction signal, and 140 [MH] if 70 [MHz]
z] or more. If the transmission band of the PD high-frequency amplifier is wide, it saturates, so it is a value that is sufficiently attenuated.
[MHz] or higher is desirable.

【0066】一般に半導体レーザ2の特性である緩和振
動は、こぶ状の波形が3パルス分(約2.0〔nS〕)で
減衰するため、デューティ比50〔%〕の高周波周波数を
250〔MHz〕とすると共振エネルギーが減衰すること
により、後続する緩和振動に影響を与えなくなる。実際
に図6(B)は、高周波周波数を260〔MHz〕とした
もので、複数種類の温度(25、35、45、55〔℃〕)ごと
に特性曲線F26〜F29として表され、緩和振動の波
高値は半導体レーザ2の出力平均の5倍となっている。
In general, relaxation oscillation, which is a characteristic of the semiconductor laser 2, has a hump-shaped waveform attenuated by three pulses (about 2.0 [nS]).
When it is set to 250 [MHz], the resonance energy is attenuated so that it does not affect the subsequent relaxation oscillation. In FIG. 6B, the high frequency frequency is actually 260 [MHz], and the characteristic curves F26 to F29 are shown for each of a plurality of types of temperatures (25, 35, 45, 55 [° C.]), and the relaxation oscillation is shown. Has a peak value of 5 times the average output of the semiconductor laser 2.

【0067】図7は、カットオフ電流を変えたときの緩
和振動であり、電流値を1.0〔mA〕と低く設定する
と、特性曲線F30で表すように半導体レーザ2がオフ
状態とならず、緩和振動の波高値も小さくなるがオフ状
態が浅くなりRINの値が増大する。これに対してカッ
トオフ電流の電流値を2.0〔mA〕と高く設定すると、
特性曲線F31で表すように半導体レーザ2の発光が遅
れ、緩和振動の波高値も大きくなるが、RINの値が減
少する。
FIG. 7 shows relaxation oscillation when the cut-off current is changed. When the current value is set as low as 1.0 [mA], the semiconductor laser 2 is not turned off as shown by the characteristic curve F30, and relaxation is performed. Although the peak value of vibration also becomes smaller, the OFF state becomes shallower and the value of RIN increases. On the other hand, if the current value of the cutoff current is set as high as 2.0 [mA],
As indicated by the characteristic curve F31, the emission of the semiconductor laser 2 is delayed and the peak value of relaxation oscillation is increased, but the value of RIN is decreased.

【0068】このことから、半導体レーザ2のLDオフ
電流は、使用する半導体レーザ2の再生パワーでRIN
の値が比較的増大しない1.5〔mA〕と設定する。
Therefore, the LD off current of the semiconductor laser 2 is RIN depending on the reproducing power of the semiconductor laser 2 used.
The value of is set to 1.5 [mA], which does not increase relatively.

【0069】図8は、半導体レーザ2の駆動電流(順電
流)Iに対する光出力特性を表したグラフであり、高
周波重畳のオフ状態における特性曲線F32について、
発光時の直線性(傾き)は良好であるが、電流を減じて
も半導体レーザ2が発光して0にはならない。このため
特性曲線F32の直線部分の推測線に基づき、半導体レ
ーザ2の駆動電流Iが43.5〔mA〕のときをカットオ
フと設定する。
FIG. 8 is a graph showing the light output characteristics with respect to the drive current (forward current) I 3 of the semiconductor laser 2, and the characteristic curve F32 in the off state of high frequency superimposition,
Although the linearity (gradient) at the time of light emission is good, the semiconductor laser 2 emits light and does not become zero even if the current is reduced. Therefore, the cutoff is set when the drive current I 3 of the semiconductor laser 2 is 43.5 [mA] based on the estimation line of the straight line portion of the characteristic curve F32.

【0070】そして半導体レーザ2を6.0〔mW〕の再
生パワーで発光させた場合、駆動電流(順電流)I
48.5〔mA〕でありカットオフの場合との電流差は5.0
〔mA〕である。すなわち高周波電流Iを電流値が5.
0〔mA〕以上で重畳すれば半導体レーザ2はカットオ
フされる。
When the semiconductor laser 2 is made to emit light with a reproducing power of 6.0 [mW], the driving current (forward current) I 3 is
It is 48.5 [mA], and the current difference with the cutoff is 5.0.
[MA]. That is, the high frequency current I 2 has a current value of 5.
The semiconductor laser 2 is cut off if superposed above 0 [mA].

【0071】ここで半導体レーザ2が十分安全なオフ状
態を42〔mA〕と仮定すると、上述したLDオフ電流の
設定値1.5〔mA〕を加算すれば良く、これは半導体レ
ーザ2の出力パワーの問題ではなく、駆動電流Iであ
る動作順電流のことであるため、半導体レーザ2の特性
にバラツキがあっても成立する。
Assuming that the semiconductor laser 2 is in a sufficiently safe off-state of 42 [mA], the LD off-current set value of 1.5 [mA] described above may be added, which is the output power of the semiconductor laser 2. It is not a problem but an operating forward current that is the drive current I 3 , and therefore it is established even if the characteristics of the semiconductor laser 2 vary.

【0072】図8に示すグラフのうち特性曲線F33
は、半導体レーザ2の再生パワーの値を6.0〔mW〕及
び高周波電流Iの電流値を5.5〔mA〕と固定した場
合であり、特性曲線F34は、半導体レーザ2の再生パ
ワーによる変動分を補正するために設定した電流値(以
下、これを補正用動作電流値と呼ぶ)を用いて補正した
場合である。
Characteristic curve F33 in the graph shown in FIG.
Is a case where the reproducing power value of the semiconductor laser 2 is fixed to 6.0 [mW] and the current value of the high frequency current I 2 is fixed to 5.5 [mA], and the characteristic curve F34 shows the variation due to the reproducing power of the semiconductor laser 2. This is a case where the correction is performed using the current value set for correction (hereinafter, this is referred to as the correction operation current value).

【0073】この補正用動作電流値は、{2×(IOP
−ITH)+1.5}〔mA〕で表され、このうち「2」
は、高周波周波数のデューティ比50〔%〕によるもので
あり、高周波重畳のオフ状態での半導体レーザ2の再生
パワーの値が12〔mW〕のときの電流となりRINの値
を減少させ得る。またIOPは再生パワーの設定時にお
ける半導体レーザ2の駆動電流値であり、ITHは半導
体レーザ2の再生パワーがなくなるであろうと推定され
る閾値を表す電流値(逆を言えば、半導体レーザ2の再
生パワーが急に立ち上がる電流値)(以下、これをしき
い電流値と呼ぶ)である。さらに「1.5」は、上述した
半導体レーザ2のLDオフ電流の設定値である。
The correction operating current value is {2 × (I OP
−I TH ) +1.5} [mA], of which “2”
Is due to the duty ratio of 50% of the high frequency, and becomes a current when the value of the reproducing power of the semiconductor laser 2 in the off state of the high frequency superposition is 12 [mW], and can reduce the value of RIN. Further, I OP is a drive current value of the semiconductor laser 2 at the time of setting the reproduction power, and I TH is a current value representing a threshold value at which the reproduction power of the semiconductor laser 2 is estimated to be exhausted (in other words, the semiconductor laser is reversed). 2 is a current value at which the reproduction power suddenly rises) (hereinafter referred to as a threshold current value). Further, “1.5” is the set value of the LD off current of the semiconductor laser 2 described above.

【0074】この補正用動作電流値は、高周波重畳のオ
フ状態において、緩和振動の波高値が高周波重畳のオン
状態のときの2倍となる動作点であり、当該補正用動作
電流値を用いて半導体レーザ2の再生パワーによる変動
分を補正することにより、半導体レーザ2の発光時にお
けるパワー値は2倍となると共に、緩和振動を大きくし
なくともRINの値を減少し、さらには緩和振動の波高
値を確実に約4.0倍と従来の半分程度にまで抑えること
ができる。
This correction operating current value is an operating point at which the peak value of relaxation oscillation in the off state of high frequency superposition is twice as high as in the on state of high frequency superposition, and the correction operating current value is used. By correcting the variation due to the reproduction power of the semiconductor laser 2, the power value of the semiconductor laser 2 at the time of light emission is doubled, and the value of RIN is reduced without increasing the relaxation oscillation. The peak value can be reliably suppressed to about 4.0 times, which is about half of the conventional value.

【0075】図9は、高周波重畳のオン状態における緩
和振動の波高値について、従来と本実施の形態とを比較
したものである。第1に、従来の高周波重畳のオン状態
及びオフ状態におけるオフセット電流が2.0〔mA〕の
場合、高周波周波数が400〔MHz〕で半導体レーザ2
の再生パワーの値が5.0〔mW〕のとき緩和振動の波高
値が8.2倍と最高になる(特性曲線F35)。
FIG. 9 is a comparison of the peak value of relaxation oscillation in the ON state of high frequency superposition between the conventional example and the present embodiment. First, when the offset current in the ON state and the OFF state of the conventional high frequency superposition is 2.0 [mA], the semiconductor laser 2 has a high frequency of 400 [MHz].
When the value of the reproducing power of is 5.0 [mW], the peak value of relaxation oscillation is 8.2 times, which is the maximum (characteristic curve F35).

【0076】第2に、本実施の形態のようにオフセット
電流の設定を2.0〔mA〕から0.6〔mA〕に低下させる
と、高周波周波数が400〔MHz〕で半導体レーザ2の
再生パワーの値が4.0〔mW〕のときに緩和振動の波高
値が5.2倍となる(特性曲線F36)が、4.5〔mW〕以
上ではオフできず、高周波重畳がかからない。第3に、
高周波周波数が265〔MHz〕で半導体レーザ2の再生
パワーの値を3.0〔mW〕で5.5〔mA〕に固定したとき
は、緩和振動の波高値が最大5.2倍となる(特性曲線F
36)が、上述した補正用動作電流値を用いて補正する
ことにより、緩和振動の波高値は約4.0倍の平坦倍率と
なる(特性曲線F38)。
Secondly, when the setting of the offset current is lowered from 2.0 [mA] to 0.6 [mA] as in the present embodiment, the high frequency frequency is 400 [MHz] and the value of the reproducing power of the semiconductor laser 2 is The peak value of relaxation oscillation is 5.2 times at 4.0 [mW] (characteristic curve F36), but it cannot be turned off at 4.5 [mW] or more, and high frequency superposition is not applied. Third,
When the reproducing power value of the semiconductor laser 2 is fixed at 3.0 [mW] and 5.5 [mA] at a high frequency of 265 [MHz], the peak value of relaxation oscillation becomes 5.2 times at maximum (characteristic curve F
36) corrects using the above-described correction operating current value, the peak value of relaxation oscillation becomes a flattening factor of about 4.0 times (characteristic curve F38).

【0077】このように第1に、高周波周波数を緩和振
動周波数の1/6倍から1/5倍までの範囲に設定し、
第2に、駆動信号すなわち高周波周波数が重畳された直
流電流を矩形波に設定し、第3に、高周波電流の電流レ
ベルを補正用動作電流値に設定することにより、半導体
レーザ2の発光時におけるパワー値は2倍となると共
に、緩和振動を大きくしなくともRINの値は低下し、
さらには緩和振動の波高値を確実に約4.0倍と従来の半
分程度にまで抑えることができる。さらに半導体レーザ
2の再生パワーについて調整する必要がないため、特別
な調整や測定が不要となるという利点がある。
As described above, firstly, the high frequency is set in the range of 1/6 to 1/5 of the relaxation oscillation frequency,
Secondly, the drive signal, that is, the direct current on which the high frequency is superimposed is set to a rectangular wave, and thirdly, the current level of the high frequency current is set to the correction operating current value, so that the semiconductor laser 2 emits light. The power value doubles, and the RIN value decreases without increasing the relaxation oscillation.
Furthermore, the peak value of relaxation oscillation can be reliably suppressed to about 4.0 times, which is about half of the conventional value. Further, since it is not necessary to adjust the reproduction power of the semiconductor laser 2, there is an advantage that no special adjustment or measurement is required.

【0078】(4)本実施の形態による動作及び効果 以上の構成において、半導体レーザ駆動回路1では、ま
ず高周波重畳をオフ状態とし、半導体レーザ2の再生パ
ワーを300〔μW〕で発光させながら、このときの駆動
電流IOP1を測定端子TP1において測定する。
(4) Operation and effects of the present embodiment In the above configuration, in the semiconductor laser drive circuit 1, first, the high frequency superposition is turned off, and the reproducing power of the semiconductor laser 2 is made to emit at 300 [μW], The drive current I OP1 at this time is measured at the measurement terminal TP1.

【0079】続いて高周波重畳をオフ状態にしたまま、
半導体レーザ2の再生パワーを十分低い100〔μW〕に
設定し、発光時における半導体レーザ2の駆動電流I
OP2を測定端子TP1において測定する。
Then, with the high frequency superposition turned off,
The reproducing power of the semiconductor laser 2 is set to a sufficiently low value of 100 [μW], and the driving current I of the semiconductor laser 2 during light emission is set.
OP2 is measured at the measurement terminal TP1.

【0080】この測定端子TP1における2つの駆動電
流IOP1、IOP2の測定結果に基づいて、半導体レ
ーザ2の再生パワーがなくなると推定されるしきい電流
値I THを、次式、
Two drive voltages at this measuring terminal TP1
Flow IOP1, IOP2Based on the measurement results of
Threshold current estimated to lose the playback power of laser 2
Value I THIs given by

【0081】[0081]

【図1】 [Figure 1]

【0082】のように求める。It is calculated as follows.

【0083】この後、測定端子TP3において測定した
高周波発振器31の出力を、可変抵抗30を調整するこ
とにより、高周波周波数を260〔MHz〕に設定し、こ
れをデューティ比50〔%〕の矩形波でなる高周波電流I
として出力する。
Thereafter, the output of the high frequency oscillator 31 measured at the measuring terminal TP3 is set to a high frequency frequency of 260 [MHz] by adjusting the variable resistor 30, and this is set to a rectangular wave with a duty ratio of 50 [%]. High frequency current I consisting of
Output as 2 .

【0084】そして重畳高周波生成回路4内のレベル制
御部37を用いて、測定端子TP2の測定結果である高
周波重畳された直流電流(すなわち駆動電流I)のP
−P(Peak-to-Peak)値が、上述の補正用動作電流値と
なるように調整する。
Then, by using the level controller 37 in the superposed high frequency generation circuit 4, the P of the high frequency superposed direct current (that is, the drive current I 3 ) which is the measurement result of the measurement terminal TP2 is P.
The -P (Peak-to-Peak) value is adjusted so as to be the above-mentioned correction operating current value.

【0085】このように半導体レーザ駆動回路1では、
製品出荷前の調整段階において、高周波周波数を緩和振
動周波数の1/6倍から1/5倍までの範囲で設定して
当該高周波周波数のデューティー比を50〔%〕に保ちな
がら、当該高周波周波数に応じた矩形波で高周波電流I
を設定すると共に、当該高周波電流Iの電流レベル
を補正用動作電流値に設定するようにしておく。
As described above, in the semiconductor laser drive circuit 1,
In the adjustment stage before product shipment, set the high frequency to within 1/6 times to 1/5 times the relaxation oscillation frequency and keep the duty ratio of the high frequency at 50 [%] High-frequency current I with a corresponding rectangular wave
2 is set, and the current level of the high frequency current I 2 is set to the correction operation current value.

【0086】この結果、半導体レーザ2の緩和振動の波
高値が正弦波の場合より(実際には従来の半分程度にま
で)下がり、半導体レーザ2の定格パワー限界までの余
裕が拡大して高周波電流Iの電流レベルを正弦波のと
きより増大させることができ、さらには半導体レーザ2
の発光時におけるパワーの値を2倍にすることができ
る。
As a result, the peak value of the relaxation oscillation of the semiconductor laser 2 is lowered (actually to about half of the conventional value) in the case of a sine wave, the margin up to the rated power limit of the semiconductor laser 2 is expanded, and the high frequency current is increased. The current level of I 2 can be increased more than that of the sine wave, and the semiconductor laser 2
The power value at the time of light emission can be doubled.

【0087】かくして半導体レーザ駆動回路1では、再
生時に高周波電流が重畳された駆動電流Iで半導体レ
ーザ2を駆動したとき、当該半導体レーザ2の再生パワ
ーに反比例するRINの値を所定値以下に抑えると同時
に、光ディスク上のピットが消滅しない程度に半導体レ
ーザ2の再生ピークパワーを抑えることができる。
Thus, in the semiconductor laser drive circuit 1, when the semiconductor laser 2 is driven by the drive current I 3 on which the high frequency current is superposed at the time of reproduction, the value of RIN inversely proportional to the reproduction power of the semiconductor laser 2 is set to a predetermined value or less. At the same time, the reproduction peak power of the semiconductor laser 2 can be suppressed to such an extent that the pits on the optical disk do not disappear.

【0088】さらに測定端子TP1の測定結果をパーソ
ナルコンピュータ30に予め取り込んでおき、当該測定
結果に基づいて、レベル制御部24の調整を自動的に行
うようにして、測定端子TP2の測定結果を調整すれ
ば、半導体レーザ2の駆動電流Iの調整を自動的に行
うことができる。この結果、半導体レーザ2の経時変化
に対しても安定した直流電流Iに高周波重畳をかける
ことができる。
Further, the measurement result of the measurement terminal TP1 is previously stored in the personal computer 30, and the level controller 24 is automatically adjusted based on the measurement result to adjust the measurement result of the measurement terminal TP2. Then, the drive current I 3 of the semiconductor laser 2 can be automatically adjusted. As a result, it is possible to apply a high frequency superimposition to the DC current I 1 which is stable with respect to the aging of the semiconductor laser 2.

【0089】なお図10において、本実施の形態による
高周波重畳のオン状態で半導体レーザ2の温度特性を掃
引(開始時:25〔℃〕、停止時:50〔℃〕)した場合に
ついて示す。上述した図5(B)に対応するものであ
る。この図10では、半導体レーザ2のパワー値が3.0
〔mW〕、4.0〔mW〕、5.0〔mW〕及び6.0〔mW〕
のときの特性曲線F39〜F42について示す。
FIG. 10 shows a case where the temperature characteristics of the semiconductor laser 2 are swept (start: 25 [° C.], stop: 50 [° C.]) in the ON state of the high frequency superposition according to the present embodiment. This corresponds to FIG. 5B described above. In FIG. 10, the power value of the semiconductor laser 2 is 3.0.
[MW], 4.0 [mW], 5.0 [mW] and 6.0 [mW]
The characteristic curves F39 to F42 at the time of are shown.

【0090】これらの特性曲線F39〜F42による
と、従来の高周波重畳のオン状態では、オフ状態と離れ
た温度特性を有していたものが、オフ状態の平均値で推
移している。このとき若干のモードホッピングによる影
響が残るが、温度特性に大きな劣化は生じない。
According to these characteristic curves F39 to F42, in the ON state of the conventional high-frequency superposition, the temperature characteristic which is different from that in the OFF state changes with the average value of the OFF state. At this time, a slight effect of mode hopping remains, but the temperature characteristics are not significantly deteriorated.

【0091】また図11は、半導体レーザ2の再生パワ
ーに対するRIN特性を示し、高周波重畳のオフ状態の
場合と、従来の場合と、本実施の形態の場合とで、それ
ぞれ特性曲線F43〜F45について比較すると、本実
施の形態である特性曲線F45の場合に、実用上十分な
程度にまでRINの値を確保することができることがわ
かる。
FIG. 11 shows the RIN characteristic with respect to the reproducing power of the semiconductor laser 2, showing characteristic curves F43 to F45 in the off state of high frequency superimposition, the conventional case, and the case of the present embodiment, respectively. By comparison, it can be seen that in the case of the characteristic curve F45 according to the present embodiment, the value of RIN can be secured to a practically sufficient level.

【0092】以上の構成によれば、半導体レーザ駆動回
路1において、製品出荷前の調整段階の際、高周波電流
について、高周波周波数を緩和振動周波数の1/6
倍から1/5倍までの範囲で設定して当該高周波周波数
のデューティー比を50〔%〕に保ちながら、当該高周波
周波数に応じた矩形波で高周波電流を設定すると共に、
当該高周波電流の電流レベルを補正用動作電流値に設定
するようにしたことにより、再生時に高周波電流I
重畳された駆動電流Iで半導体レーザ2を駆動したと
き、当該半導体レーザ2の再生パワーに反比例するRI
Nの値を所定値以下に抑えると同時に、光ディスク上の
ピットが消滅しない程度に半導体レーザ2の再生ピーク
パワーを抑えることができ、かくして再生時の信号出力
の安定性を確保することができる。
According to the above configuration, in the semiconductor laser drive circuit 1, the high frequency of the high frequency current I 2 is adjusted to ⅙ of the relaxation oscillation frequency at the adjustment stage before product shipment.
While setting the range from 2 times to 1/5 times and maintaining the duty ratio of the high frequency frequency at 50 [%], while setting the high frequency current with a rectangular wave according to the high frequency frequency,
By setting the current level of the high frequency current to the correction operation current value, when the semiconductor laser 2 is driven by the drive current I 3 on which the high frequency current I 2 is superimposed at the time of reproduction, the reproduction of the semiconductor laser 2 is performed. RI inversely proportional to power
At the same time as suppressing the value of N to a predetermined value or less, it is possible to suppress the reproduction peak power of the semiconductor laser 2 to the extent that the pits on the optical disk do not disappear, thus ensuring the stability of the signal output during reproduction.

【0093】(5)他の実施の形態 なお上述のように本実施の形態においては、高周波電流
の発振周波数を緩和振動周波数の1/6〜1/5倍
に設定すると共に、高周波電流Iの出力波形を当該発
振周波数に応じた矩形波に設定した場合について述べた
が、要は、高周波電流Iの発振周波数のデューティー
比が50〔%〕に保ちながら発光時の半導体レーザ2のパ
ワーを向上させて戻り光によるノイズを生じさせなけれ
ば良い。
(5) Other Embodiments As described above, in the present embodiment, the oscillation frequency of the high frequency current I 2 is set to 1/6 to 1/5 times the relaxation oscillation frequency, and the high frequency current I 2 is set. The case where the output waveform of I 2 is set to a rectangular wave corresponding to the oscillation frequency has been described. The point is that the semiconductor laser 2 during light emission while maintaining the duty ratio of the oscillation frequency of the high frequency current I 2 at 50% It is only necessary to improve the power of the so that the noise due to the returning light is not generated.

【0094】また上述のように本実施の形態において
は、高周波電流Iの電流レベルを、直流電流に高周波
電流Iを重畳させない状態で半導体レーザ2の駆動電
流Iとして設定された所定の電流値と当該半導体レー
ザ2のしきい電流値との差分を2倍した値に、当該半導
体レーザ2が駆動オフとなる電流値を加算した値に設定
するようにした場合について述べたが、本発明はこれに
限らず、要は、高周波電流Iの電流レベルを、直流電
流Iに高周波電流Iを重畳させない状態で緩和振動
の波高値が当該高周波電流Iを重畳させた状態のとき
の2倍となるように設定して、実用上十分な範囲でRI
Nの減少と半導体レーザ2の再生ピークパワーの抑制を
同時にすることができれば、この他種々の演算処理を行
なうようにしても良い。
[0094] In the present embodiment as described above, the current level of the high frequency current I 2, given that is set as the drive current I 3 of the semiconductor laser 2 in a state of not superimposing a high-frequency current I 2 to the direct current The case where the difference between the current value and the threshold current value of the semiconductor laser 2 is doubled and the current value at which the semiconductor laser 2 is turned off is set to a value has been described. invention is not limited thereto. in short, the current level of the high frequency current I 2, the state where the peak value of the relaxation oscillation in a state where the DC current I 1 does not superimpose the high-frequency current I 2 is superposed the high frequency current I 2 It is set to double the value, and RI is set within a practically sufficient range.
If it is possible to reduce N and suppress the reproduction peak power of the semiconductor laser 2 at the same time, various other arithmetic processes may be performed.

【0095】さらに上述の実施の形態においては、本発
明による半導体レーザ駆動回路を再生専用の光ディスク
装置に適用するようにした場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、記録再生用の光ディスク装置に適用
するようにしても良い。
Further, in the above-mentioned embodiment, the case where the semiconductor laser drive circuit according to the present invention is applied to the read-only optical disk device has been described, but the present invention is not limited to this, and the optical disk for recording and reproducing is described. You may make it apply to an apparatus.

【0096】さらに上述の実施の形態においては、半導
体レーザ2の再生パワーが一定となるように、直流電流
の電流レベルを制御するAPC回路3及び高周波電
流I を発生させる重畳高周波発生部4を図1のように
構成するようにした場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、この他種々の構成を広く適用することがで
きる。
Further, in the above-mentioned embodiment, the semiconductor
Direct current so that the reproducing power of the body laser 2 becomes constant.
I1APC circuit 3 for controlling the current level of
Flow I TwoAs shown in FIG. 1, the superposed high frequency generator 4 for generating
Although the case where the configuration is configured has been described, the present invention is not limited to this.
Not limited to this, various other configurations can be widely applied.
Wear.

【0097】さらに上述の実施の形態においては、直流
電流I及び高周波電流Iを加算することにより駆動
電流Iを生成するにあたって、APC側トランジスタ
TR1及びこれと差動対をなす重畳高周波側トランジス
タTR6を構成するようにした場合について述べたが、
本発明はこれに限らず、要は、直流電流I及び高周波
電流Iを加算することにより駆動電流Iを生成する
ことができるのであれば、この他種々の構成を広く適用
することができる。
Further, in the above-described embodiment, when the drive current I 3 is generated by adding the DC current I 1 and the high frequency current I 2 , the APC side transistor TR1 and the superimposed high frequency side forming a differential pair with the transistor TR1. The case where the transistor TR6 is configured has been described.
The present invention is not limited to this, and in short, if the drive current I 3 can be generated by adding the DC current I 1 and the high frequency current I 2 , various other configurations can be widely applied. it can.

【0098】[0098]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、直流電流
に高周波電流を重畳した駆動電流により駆動する半導体
レーザを用いた半導体レーザ駆動回路の調整方法におい
て、高周波電流の発振周波数を緩和振動周波数の1/6
〜1/5倍に設定すると共に、高周波電流の出力波形を
当該発振周波数に応じた矩形波に設定し、高周波電流の
電流レベルを、直流電流に高周波電流を重畳させない状
態で緩和振動の波高値が当該高周波電流を重畳させた状
態のときの2倍となるように設定するようにしたことに
より、半導体レーザ駆動回路における再生時に直流電流
に高周波電流を重畳した駆動電流で半導体レーザを駆動
したとき、当該半導体レーザの再生パワーに反比例する
RINの値を所定値以下に抑えると同時に、半導体レー
ザの照射対象となる光ディスク上のピットが消滅しない
程度に半導体レーザの再生ピークパワーを抑えることが
でき、かくして再生時の信号出力の安定性を確保するこ
とができる半導体レーザ駆動回路の調整方法を実現し得
る。
As described above, according to the present invention, in the adjusting method of the semiconductor laser drive circuit using the semiconductor laser driven by the drive current in which the high frequency current is superimposed on the direct current, the oscillation frequency of the high frequency current is relaxed and oscillated. 1/6 of frequency
~ 1/5 times, the output waveform of the high-frequency current is set to a rectangular wave according to the oscillation frequency, and the current level of the high-frequency current is the peak value of relaxation oscillation without superimposing the high-frequency current on the DC current. When the semiconductor laser is driven by the drive current in which the high frequency current is superimposed on the direct current at the time of reproduction in the semiconductor laser drive circuit, It is possible to suppress the value of RIN, which is inversely proportional to the reproducing power of the semiconductor laser, to a predetermined value or less, and at the same time, to suppress the reproducing peak power of the semiconductor laser to such an extent that the pits on the optical disk that is the irradiation target of the semiconductor laser do not disappear. Thus, it is possible to realize a method of adjusting the semiconductor laser drive circuit, which can ensure the stability of the signal output during reproduction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施の形態による半導体レーザ駆動回路の構
成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor laser drive circuit according to an embodiment.

【図2】本実施の形態による半導体レーザ駆動回路内の
第1〜第3の測定端子に接続されたパーソナルコンピュ
ータの構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a personal computer connected to first to third measurement terminals in the semiconductor laser drive circuit according to the present embodiment.

【図3】半導体レーザの再生パワーに対するRIN特性
の説明に供する波形図である。
FIG. 3 is a waveform diagram for explaining a RIN characteristic with respect to a reproducing power of a semiconductor laser.

【図4】半導体レーザの再生パワーとRIN特性並びに
波高値及びその平均値との関係の説明に供する波形図で
ある。
FIG. 4 is a waveform diagram for explaining the relationship between the reproducing power of the semiconductor laser, the RIN characteristic, and the peak value and its average value.

【図5】高周波重畳のオフ状態及びオン状態における温
度とRINとの関係の説明に供する波形図である。
FIG. 5 is a waveform diagram for explaining a relationship between temperature and RIN in an off state and an on state of high frequency superposition.

【図6】緩和振動についての説明に供する波形図であ
る。
FIG. 6 is a waveform diagram for explaining relaxation oscillation.

【図7】緩和振動におけるカットオフ電流と波高値との
関係の説明に供する波形図である。
FIG. 7 is a waveform diagram for explaining a relationship between a cutoff current and a peak value in relaxation oscillation.

【図8】半導体レーザの駆動電流に対する光出力特性の
説明に供する波形図である。
FIG. 8 is a waveform diagram for explaining a light output characteristic with respect to a driving current of a semiconductor laser.

【図9】高周波重畳のオン状態における波高値の比較の
説明に供する波形図である。
FIG. 9 is a waveform diagram for explaining comparison of peak values in a high frequency superposition ON state.

【図10】高周波重畳のオン状態における温度とRIN
との関係の説明に供する波形図である。
FIG. 10: Temperature and RIN in ON state of high frequency superposition
FIG. 6 is a waveform chart for explaining a relationship with.

【図11】半導体レーザの再生パワーに対するRIN特
性の説明に供する波形図である。
FIG. 11 is a waveform diagram for explaining the RIN characteristic with respect to the reproduction power of the semiconductor laser.

【図12】従来の半導体レーザのノイズ特性の説明に供
する波形図である。
FIG. 12 is a waveform diagram for explaining noise characteristics of a conventional semiconductor laser.

【図13】従来の半導体レーザの温度特性の説明に供す
る波形図である。
FIG. 13 is a waveform diagram for explaining temperature characteristics of a conventional semiconductor laser.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……半導体レーザ駆動回路、2……半導体レーザ、3
……APC回路、4……重畳高周波発生回路、5……電
流測定用回路、TP1〜TP3……第1〜第3の測定用
端子、30……パーソナルコンピュータ、I……直流
電流、I……高周波電流、I……駆動電流。
1 ... Semiconductor laser drive circuit, 2 ... Semiconductor laser, 3
... APC circuit, 4 ... superposed high frequency generation circuit, 5 ... current measurement circuit, TP1 to TP3 ... first to third measurement terminals, 30 ... personal computer, I 1 ... direct current, I 2 ... high frequency current, I 3 ... drive current.

フロントページの続き Fターム(参考) 5D119 AA20 AA31 BA01 DA05 EC09 FA05 HA41 HA55 HA58 5D789 AA20 AA31 BA01 DA05 EC09 FA05 HA41 HA55 HA58 5F073 BA04 EA27 GA12 GA24 GA38Continued front page    F-term (reference) 5D119 AA20 AA31 BA01 DA05 EC09                       FA05 HA41 HA55 HA58                 5D789 AA20 AA31 BA01 DA05 EC09                       FA05 HA41 HA55 HA58                 5F073 BA04 EA27 GA12 GA24 GA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】直流電流に高周波電流を重畳した駆動電流
により駆動する半導体レーザを用いた半導体レーザ駆動
回路の調整方法において、 上記高周波電流の発振周波数を緩和振動周波数の1/6
〜1/5倍に設定すると共に、上記高周波電流の出力波
形を当該発振周波数に応じた矩形波に設定し、上記高周
波電流の電流レベルを、上記直流電流に上記高周波電流
を重畳させない状態で緩和振動の波高値が当該高周波電
流を重畳させた状態のときの2倍となるように設定する
ことを特徴とする半導体レーザ駆動回路の調整方法。
1. A method of adjusting a semiconductor laser drive circuit using a semiconductor laser driven by a drive current in which a high frequency current is superimposed on a direct current, wherein an oscillation frequency of the high frequency current is 1/6 of a relaxation oscillation frequency.
The output waveform of the high-frequency current is set to a rectangular wave corresponding to the oscillation frequency, and the current level of the high-frequency current is relaxed without superimposing the high-frequency current on the DC current. A method for adjusting a semiconductor laser drive circuit, wherein a peak value of vibration is set to be twice as high as that in a state where the high frequency current is superimposed.
【請求項2】上記高周波電流の電流レベルを、 上記直流電流に上記高周波電流を重畳させない状態で上
記半導体レーザの駆動電流として設定された所定の電流
値と当該半導体レーザのしきい電流値との差分を2倍し
た値に、当該半導体レーザが駆動オフとなる電流値を加
算した値に設定することを特徴とする請求項1に記載の
半導体レーザ駆動回路の調整方法。
2. The current level of the high frequency current is a predetermined current value set as a drive current of the semiconductor laser and a threshold current value of the semiconductor laser in a state where the high frequency current is not superimposed on the direct current. The method for adjusting a semiconductor laser drive circuit according to claim 1, wherein a value obtained by adding a current value at which the semiconductor laser is turned off is added to a value obtained by doubling the difference.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2005069456A1 (en) * 2004-01-15 2005-07-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical transmitter
JP2005353786A (en) * 2004-06-10 2005-12-22 Nichia Chem Ind Ltd Semiconductor laser drive circuit

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