JP2003270087A - Defect inspecting method and apparatus by image processing - Google Patents
Defect inspecting method and apparatus by image processingInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル用部材およびプラズマディスプレイパネルの
欠陥検査方法ならびに欠陥検査装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel member, a plasma display panel defect inspection method, and a defect inspection apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術】まず、一般的な交流型(AC型)プラズ
マディスプレイパネル(PDP)の構造について述べ
る。PDPは、2枚の対向するガラス基板にそれぞれ規
則的に配列した一対の電極を設け、その間にNe、X
e、He等を主体とするガスを封入した構造になってい
る。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺
の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セル
を発光させて表示を行うようにしている。2. Description of the Related Art First, the structure of a general AC type (AC type) plasma display panel (PDP) will be described. The PDP is provided with a pair of regularly arranged electrodes on two opposing glass substrates, and Ne, X
It has a structure in which a gas mainly containing e, He, etc. is enclosed. Then, a voltage is applied between these electrodes to generate a discharge in the minute cells around the electrodes so that each cell emits light to perform display.
【0003】2枚の対向して配置されるガラス基板はそ
れぞれ表示面側を前面板、非表示面側を背面板と称され
る。前面板にはガラス基板上に維持電極とバス電極から
なる複合電極が互いに平行に配置され、それを覆うよう
に誘電体層が形成され、その全表面に酸化マグネシウム
からなる保護層が形成されている。一方、背面板にはガ
ラス基板上にアドレス電極が互いに平行に配置され、そ
れを覆うように背面誘電体層が形成され、その上には隔
壁(リブ)と蛍光体層が形成されている。The two glass substrates arranged facing each other are called the front plate on the display surface side and the rear plate on the non-display surface side. On the front plate, a composite electrode consisting of a sustain electrode and a bus electrode is arranged in parallel with each other on a glass substrate, a dielectric layer is formed so as to cover it, and a protective layer made of magnesium oxide is formed on the entire surface. There is. On the other hand, on the rear plate, address electrodes are arranged in parallel to each other on a glass substrate, a rear surface dielectric layer is formed so as to cover the address electrodes, and barrier ribs and phosphor layers are formed thereon.
【0004】これらの製造工程において、形成した各構
成層に欠陥が発生する場合がある。パターン形状を有す
る電極やリブ、蛍光体層については、パターン太りやパ
ターン細り、あるいは隣接する電極やリブが設定パター
ン以外で繋がっていたり、パターンが欠けたり切れたり
する欠陥が発生する場合がある。ベタ形成である誘電体
層、保護層については穴(ピンホール)が空いたり、亀
裂が入ったりする欠陥が発生する場合がある。In these manufacturing processes, defects may occur in the formed constituent layers. Regarding electrodes, ribs, and phosphor layers having a pattern shape, pattern thickening or pattern thinning, adjacent electrodes or ribs may be connected by a pattern other than the set pattern, or defects such as chipped or broken patterns may occur. Defects such as holes (pinholes) or cracks may occur in the solid dielectric layer and protective layer.
【0005】これらの欠陥により、パネル点灯時に欠陥
部が不点灯や輝度低下、あるいは常時点灯といった不具
合を発生させるため、各構成層の形成時に欠陥検査を行
い、修正を施して欠陥をなくすことが必要となってい
る。These defects cause defects such as non-lighting, a decrease in brightness, or constant lighting when the panel is turned on. Therefore, a defect inspection may be performed at the time of forming each constituent layer and correction may be performed to eliminate the defect. Is needed.
【0006】欠陥検査を行う方法としては、その欠陥の
大きさ、種類の多様さ、個数等の問題から、目視による
検査は困難であるため、それに代わって欠陥検査装置
(外観検査装置とも呼ぶ)を用いることが一般的になっ
てきている。この欠陥検査装置の基本原理は、形成面上
に照明を当て、CCDカメラで撮像し、その撮像画像を
特定のアルゴリズムによる画像処理によって欠陥検出を
行うというものである。撮像に関しては、CCDで構成
されるラインセンサやエリアセンサが用いられ、モノク
ロCCDの場合には輝度情報を、カラーCCDの場合に
は輝度情報と色度情報を得る。また、画像処理に用いる
アルゴリズムにはいくつかあり、例えば画素間の情報を
比較する隣接比較法や、パターンの膨張・圧縮を行うD
RC法や、パターンをライン化するスケルトン法や、線
幅を比較する線幅比較法や、連続する画素間の積分値の
変動を見るトレンドセンシング法や、周期相関・自己相
関法などがある。As a method of performing defect inspection, visual inspection is difficult because of problems such as the size, variety of defects, and the number of defects. Therefore, a defect inspection device (also called appearance inspection device) is used instead. It has become common to use. The basic principle of this defect inspection apparatus is to illuminate the formation surface, capture an image with a CCD camera, and detect the defect by image processing of the captured image by a specific algorithm. For image pickup, a line sensor or area sensor including a CCD is used, and luminance information is obtained in the case of a monochrome CCD, and luminance information and chromaticity information is obtained in the case of a color CCD. There are several algorithms used for image processing, such as an adjacency comparison method for comparing information between pixels and D for performing pattern expansion / compression.
There are an RC method, a skeleton method for converting a pattern into a line, a line width comparison method for comparing line widths, a trend sensing method for observing a variation in an integrated value between consecutive pixels, and a periodic correlation / autocorrelation method.
【0007】後の欠陥修正や欠陥原因究明をスムーズに
行うために、欠陥を検出した後、欠陥を種類に応じて分
類することが必要である。この際、検出した欠陥に対し
て、人が更に詳細に検査して、分類付けを行い、修復の
必要性、さらには基板の良否判定を行う、一連の工程と
してのレビュー工程が行われるのが一般的である。近年
では、自動的に欠陥に分類付けを行うことができる機能
(Automatic Defect Classification、ADC)をレビ
ュー装置や欠陥検査装置に組み込む提案がなされてきて
いる。In order to smoothly carry out the subsequent defect correction and defect cause investigation, it is necessary to classify the defects according to types after detecting the defects. At this time, a review process is performed as a series of processes in which a person inspects the detected defects in more detail, classifies the defects, determines the necessity of repair, and determines the quality of the substrate. It is common. In recent years, proposals have been made to incorporate a function (Automatic Defect Classification, ADC) capable of automatically classifying defects into a review device or a defect inspection device.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】一方で、前面板や背面
板に形成される電極は、表示領域においては規則周期パ
ターンのみであることが多いが、駆動回路との接続部分
である電極端子部を含むその周囲にある非表示領域にお
いては、PDPの駆動に必要なパターン部以外に、各種
基準マークやテストパターンといった、PDPの駆動に
は必要ないがPDPの組み立てや特性確認には必要な特
異パターンが存在する。このような特異パターンは、従
来の検査方法では「欠陥」として検出されてしまい、後
のレビュー工程にてタクトを増加させるとともに「欠陥
ではない」と判定する必要があった。また、今後進めら
れるであろうADCにおいては、このような特異パター
ンは「欠陥」として誤判定されてしまう可能性が高いと
いった問題もある。On the other hand, the electrodes formed on the front plate and the back plate are often only regular periodic patterns in the display area, but the electrode terminal portion which is the connection portion with the drive circuit is often used. In the non-display area around that, including the pattern portion necessary for driving the PDP, various reference marks and test patterns, which are not necessary for driving the PDP but are necessary for assembling and confirming the characteristics of the PDP. The pattern exists. Such a peculiar pattern is detected as a "defect" by the conventional inspection method, and it is necessary to increase the tact in a later review process and determine that it is not a defect. In addition, there is a problem that such a peculiar pattern is likely to be erroneously determined as a “defect” in an ADC that will be advanced in the future.
【0009】また、CCDカメラで撮像する際の解像度
や、アルゴリズムでの検出限界サイズの都合上、「欠
陥」であるにも関わらず欠陥検出できたりできなかった
りする場合がある。特に電極のパターン切れは、電極上
に誘電体層を形成した後以降は修復もできないし、PD
Pに組み上げた際には線上に不灯欠陥が連続するため、
欠陥サイズが微小であっても致命的な欠陥となる。電極
に限らず微小欠陥が発生する場合の多くは、PDP製造
工程中のスクリーン印刷時のスクリーン印刷版上に繊維
のような細い異物が付着して印刷ヌケを発生している場
合や、フォトプロセス中の露光マスク上に繊維のような
細い異物が付着して露光ヌケを発生している場合であ
る。これらの場合は多くの基板に共通欠陥として発生す
るため、これらを修復せずに後工程に流すことは大きな
問題となる。また、微小な共通欠陥のみならず、共通欠
陥であると判明しているものを毎回レビューすることは
タクト増加の原因となっている。Further, due to the resolution of the image picked up by the CCD camera and the detection limit size of the algorithm, there are cases where the defect cannot be detected although it is a "defect". In particular, the pattern breakage of the electrode cannot be repaired after the dielectric layer is formed on the electrode, and PD
When assembled in P, non-lighting defects continue on the line,
Even if the defect size is minute, it becomes a fatal defect. Not only the electrodes but also micro defects often occur when fine foreign matters such as fibers adhere to the screen printing plate at the time of screen printing during the PDP manufacturing process, resulting in printing gaps, or photo processes. This is a case where a fine foreign substance such as a fiber adheres to the inside of the exposure mask to cause exposure blanking. Since these cases occur as common defects on many substrates, it is a big problem to send them to the subsequent process without repairing them. In addition to the small common defects, reviewing the ones that are known to be common defects every time is a cause of increasing the tact.
【0010】そこで本発明は、従来の技術における上述
した課題に鑑みてなされたもので、その第1の目的は、
これら特異パターンを、欠陥検出後、レビュー前におい
て「欠陥でない」と判定することにより、レビュー対象
から除外する欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供す
ることにある。また、本発明の第2の目的は、共通欠陥
を、欠陥検出動作後、レビュー前において規定の「欠
陥」として判定、あるいは欠陥データ追加することによ
り、レビュー対象から除外する欠陥検査方法および欠陥
検査装置を提供することにある。Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the prior art, and its first object is to:
It is to provide a defect inspection method and a defect inspection apparatus which exclude these peculiar patterns from the review target by determining that the peculiar pattern is “not a defect” after the defect detection and before the review. A second object of the present invention is a defect inspection method and a defect inspection method in which a common defect is determined as a prescribed “defect” after a defect detection operation and before a review or by adding defect data, thereby excluding it from a review target. To provide a device.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下の構成を有する。すなわち本発明は、
被検査部分が収められた画像に対して画像処理による欠
陥検査を行う方法であって、画像処理が、被検査部分の
異常部を検出し、異常部が検出された場合に少なくとも
異常部の中心座標と異常要素とを出力する異常部検出ス
テップと、異常部検出ステップで出力される異常部の中
心座標と異常要素との組み合わせとあらかじめ設定され
ている欠陥部あるいは/かつ非欠陥部の中心座標と異常
要素との組み合わせとを比較することを判定基準とする
異常判定ステップを有することを特徴とする画像処理に
よる欠陥検査方法およびそれを実施するための欠陥検査
装置である。In order to solve the above problems, the present invention has the following constitution. That is, the present invention is
A method for performing a defect inspection by image processing on an image containing an inspected portion, wherein the image processing detects an abnormal portion of the inspected portion, and at least the center of the abnormal portion is detected when the abnormal portion is detected. Abnormal part detection step of outputting coordinates and abnormal element, combination of central coordinates of abnormal part and abnormal element output in abnormal part detection step, and preset central coordinates of defective part and / or non-defective part It is a defect inspection method by image processing characterized by having an abnormality determination step whose determination criterion is to compare a combination of a and an abnormal element, and a defect inspection apparatus for carrying out the method.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の欠陥検査方法および欠陥
検査装置は、特に用途は限定されないが、プラズマディ
スプレイパネル用部材およびプラズマディスプレイパネ
ル(PDP)の欠陥検査に用いることが好ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The defect inspection method and the defect inspection apparatus of the present invention are not particularly limited in use, but are preferably used for defect inspection of members for plasma display panels and plasma display panels (PDP).
【0013】まず、本発明の欠陥検査方法について図面
を用いて説明する。図1は本発明の欠陥検査方法の実施
フローを示した図であり、図2は従来の欠陥検査方法の
実施フローを示した図である。本発明の欠陥検査方法
は、従来の欠陥検査方法である異常部検出ステップ1と
レビューステップ3との流れの間に、異常判定ステップ
2を設けたことを特徴とする。First, the defect inspection method of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing an implementation flow of a defect inspection method of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing an implementation flow of a conventional defect inspection method. The defect inspection method of the present invention is characterized in that an abnormality determination step 2 is provided between the abnormal portion detection step 1 and the review step 3 which are conventional defect inspection methods.
【0014】まず、異常部検出ステップ1について説明
する。異常部検出ステップ1では、被検査面上に照明を
当て、CCDカメラで撮像し、その撮像画像を特定のア
ルゴリズムによる画像処理によって、正常ではない、異
なる形状であると判定される部分、つまり欠陥候補であ
る異常部の検出を行い、異常部が検出された場合には、
異常部に関する情報として、少なくとも異常部の中心座
標と異常要素とを出力する。First, the abnormal portion detecting step 1 will be described. In the abnormal portion detection step 1, the surface to be inspected is illuminated, the image is picked up by the CCD camera, and the picked-up image is subjected to image processing by a specific algorithm, which is a portion which is determined to be abnormal or has a different shape, that is, a defect. If the abnormal part that is a candidate is detected and the abnormal part is detected,
As the information regarding the abnormal portion, at least the center coordinates of the abnormal portion and the abnormal element are output.
【0015】撮像には、CCDで構成されるラインセン
サやエリアセンサが用いられ、モノクロCCDの場合に
はグレー階調の輝度情報を、カラーCCDの場合には
赤、緑、青といった光の3原色それぞれの輝度情報を得
る。A line sensor or area sensor composed of a CCD is used for image pickup. In the case of a monochrome CCD, gray scale luminance information is used, and in the case of a color CCD, light such as red, green, and blue is used. The luminance information of each primary color is obtained.
【0016】照明は、ハロゲンランプやメタルハライド
ランプなどの白色光が用いられる。また、PDPの蛍光
体形成基板の検査に対してUVランプを用いると、形成
された蛍光体を発光させた状態とすることができるた
め、撮像にカラーCCDを用いることで、PDPとして
より実用に近い形で検査を行うことが可能となる。As the illumination, white light such as a halogen lamp or a metal halide lamp is used. Further, when a UV lamp is used for inspection of the phosphor-formed substrate of the PDP, the formed phosphor can be brought into a state of emitting light. Therefore, by using a color CCD for imaging, it is more practical as a PDP. It is possible to carry out the inspection in a close form.
【0017】ここで、画像処理の手法としては、例えば
特開平10−219164号に記載の、画素間の情報を
比較する隣接比較法、パターンの膨張・圧縮を行うDR
C法、パターンをライン化するスケルトン法、線幅を比
較する線幅比較法、連続する画素間の積分値の変動を見
るトレンドセンシング法、周期相関・自己相関法などが
挙げられる。特に、電極端子部のような非周期規則パタ
ーンに対してはDRC法やスケルトン法が好ましい。Here, as an image processing method, for example, an adjacency comparison method for comparing information between pixels and a DR for performing pattern expansion / compression as described in Japanese Patent Laid-Open No. 10-219164.
The C method, a skeleton method for converting a pattern into a line, a line width comparison method for comparing line widths, a trend sensing method for observing a variation in an integrated value between consecutive pixels, a periodic correlation / autocorrelation method, and the like can be given. In particular, the DRC method or the skeleton method is preferable for an aperiodic regular pattern such as an electrode terminal portion.
【0018】ここで、異常部の検出方法について、隣接
比較法を例にとって説明する。まず、図3に示すような
被検査パターンに対応する等間隔かつ等ピッチで並ぶ相
互に平行な画像データP1〜P6を得る。次に各画像デ
ータのうち相互に隣接する2つのパターンから得られる
画像データを比較し、一方の画像データから他方の画像
データを引いて合成データを求める。例えば相互に隣接
する画像データP1と画像データP2とから求められる
合成データD12には画像データP1と画像データP2
とが全く同一の形状であるため、残存データが生じな
い。Here, a method of detecting an abnormal portion will be described by taking the adjacent comparison method as an example. First, mutually parallel image data P1 to P6 arranged at equal intervals and at equal pitch corresponding to the pattern to be inspected as shown in FIG. 3 are obtained. Next, among the respective image data, image data obtained from two patterns adjacent to each other are compared, and one image data is subtracted from the other image data to obtain composite data. For example, the composite data D12 obtained from the image data P1 and the image data P2 that are adjacent to each other includes the image data P1 and the image data P2.
Since and have exactly the same shape, no residual data is generated.
【0019】しかし、画像データP3のようにパターン
欠けCがあると、合成データD23と合成データD34
とに各々残存データNCが生じる。また画像データP5
のようにパターン突起Tがあると、合成データD45お
よび合成データD56の各々に残存データNTが生じ
る。そして、残存データNCや残存データNTが生じる
と、被検査パターンに異常部が存在しているものとして
検出される。However, if there is a pattern defect C as in the image data P3, the combined data D23 and the combined data D34
Remaining data NC are generated at and. Also, the image data P5
If there is the pattern protrusion T as described above, the residual data NT is generated in each of the combined data D45 and the combined data D56. Then, when the residual data NC or the residual data NT is generated, it is detected that an abnormal portion is present in the pattern to be inspected.
【0020】また、図3では被検査パターン1本1本が
周期性パターンを図示したが、1本1本が異幅、異ピッ
チであっても複数本、例えばRGBに対応する3本をセ
ットとした周期性パターンを形成する場合でも、周期性
を持つ領域を1つの画像データとして取り扱うことで、
隣接比較法を用いた異常部検出を行うことができる。Further, in FIG. 3, each pattern to be inspected is a periodic pattern, but a plurality of patterns are set even if each pattern has a different width and a different pitch, for example, three patterns corresponding to RGB are set. Even when a periodic pattern is formed, by treating a region having periodicity as one image data,
An abnormal part can be detected by using the adjacent comparison method.
【0021】一方、隣接比較法では、図4に示すような
2つの周期性パターンの境界部分に対して、異常部とし
て検出してしまう。このような2つの周期性パターンが
正常な状態としてパターン設計されている場合には、こ
の境界部分は「欠陥ではない」特異パターンとしてレビ
ュー対象から除外したいポイントとなり、後述する異常
判定ステップ2においてレビュー対象から除外する方策
をとる。On the other hand, in the adjacent comparison method, the boundary portion between two periodic patterns as shown in FIG. 4 is detected as an abnormal portion. When such two periodic patterns are designed as normal states, this boundary portion becomes a point that is desired to be excluded from the review target as a peculiar pattern that is not a defect, and is reviewed in the abnormality determination step 2 described later. Take measures to exclude from the target.
【0022】次に、電極端子部のような非周期規則パタ
ーンに対して好ましく用いられるスケルトン法の異常部
の検出方法について記述する。図5に示すような被検査
パターンに対応する画像データP1〜P6を得る。次に
各画像データにおけるパターン幅を所定倍、例えば0.
5倍に細くすることを所定回、例えば10回繰り返し
て、1本のラインデータL1〜L6を得る。Next, a method of detecting an abnormal portion of the skeleton method, which is preferably used for an aperiodic regular pattern such as an electrode terminal portion, will be described. Image data P1 to P6 corresponding to the pattern to be inspected as shown in FIG. 5 are obtained. Next, the pattern width in each image data is multiplied by a predetermined number, for example, 0.
5 times thinning is repeated a predetermined number of times, for example 10 times, to obtain one line data L1 to L6.
【0023】この際、ラインの屈曲に対しても所定角、
例えば±45度の許容幅を設定し、それぞれのラインデ
ータのライン端となる端点も求める。図5において端点
は黒丸にて示されている。画像データP4やP6のよう
に異常がない場合には、ラインデータL4やL6のよう
に画像データの両端のみに端点を持つ1本のラインとな
る。At this time, even if the line is bent, a predetermined angle,
For example, an allowable width of ± 45 degrees is set, and the end points that are the line ends of the respective line data are also obtained. In FIG. 5, the end points are indicated by black circles. When there is no abnormality like the image data P4 and P6, the line becomes one line having end points only at both ends of the image data like the line data L4 and L6.
【0024】しかし、画像データP3のように、パター
ン切れOがあると、ラインデータL3に端点を近接して
持つ2本のラインが生じる。また画像データP1、P
2、P5のように隣接パターンとの結合Sやパターン突
起Tがあると、ラインデータL1、L2、L5のように
ラインの交点が生じる。そして、ラインの交点や、端点
を近接して持つ2本のラインが生じると被検査パターン
に異常部が存在しているものとして検出される。However, if there is a pattern break O as in the image data P3, two lines having the end points close to each other are generated in the line data L3. In addition, the image data P1 and P
When there is a connection S with an adjacent pattern or a pattern protrusion T like 2 and P5, line intersections occur like line data L1, L2 and L5. Then, when an intersection of lines or two lines having end points close to each other are generated, it is detected that an abnormal portion exists in the pattern to be inspected.
【0025】駆動回路との接続部分である電極端子部を
含むその周囲にある非表示領域においては、PDPの駆
動に必要なパターン部以外に、図6(a)や図7(a)
に示すような各種基準マークやテストパターンといっ
た、PDPの駆動には必要ないがPDPの組み立てや特
性確認には必要な特異パターンが存在する場合がある。
ここで、図6は(a)が特異パターン(隣接パターンと
の結合)の正常な状態を表す図であり、(b)が特異パ
ターン(隣接パターンとの結合)部分にある欠陥(パタ
ーン切れ)を表す図である。また、図7は、(a)が特
異パターン(パターン間 島状異常)の正常な状態を表
す図であり、(b)が特異パターン(パターン間 島状
異常)部分にある欠陥(隣接パターンとの結合)を表す
図である。In the surrounding non-display area including the electrode terminal portion which is the connection portion with the drive circuit, in addition to the pattern portion necessary for driving the PDP, FIG. 6A and FIG.
There are cases in which there are peculiar patterns such as various reference marks and test patterns as shown in FIG. 4 which are not necessary for driving the PDP but are necessary for assembling the PDP and confirming the characteristics.
Here, FIG. 6A is a diagram showing a normal state of a peculiar pattern (bonding with an adjacent pattern), and FIG. 6B is a defect (pattern break) in a part of the peculiar pattern (bonding with an adjacent pattern). It is a figure showing. Further, FIG. 7A is a diagram showing a normal state of a peculiar pattern (island abnormality between patterns), and FIG. 7B is a defect (adjacent pattern with adjacent pattern) in a peculiar pattern (island abnormality between patterns) part. FIG.
【0026】隣接比較法においても、スケルトン法にお
いても、これらの特異パターンは異常部として検出され
る。これらの特異パターンもまた「欠陥ではない」とし
てレビュー対象から除外したいポイントとなり、後述す
る異常判定ステップ2においてレビュー対象から除外す
る方策をとる。In both the adjacent comparison method and the skeleton method, these peculiar patterns are detected as abnormal parts. These peculiar patterns are also points that are desired to be excluded from the review target as "not a defect", and a measure to exclude them from the review target is taken in the abnormality determination step 2 described later.
【0027】本発明で得られる異常部に関する情報は、
後の異常判定ステップ2やレビューステップ3における
判断材料となる情報であり、そのような情報としては、
中心座標や異常要素、サイズ、輝度などが挙げられる。The information on the abnormal part obtained by the present invention is as follows:
This information is used as a judgment material in the subsequent abnormality judgment step 2 and review step 3, and as such information,
Examples include central coordinates, abnormal elements, size, and brightness.
【0028】ここで、中心座標とは、異常部の検査領域
内における位置を示すものであり、その座標系として
は、一般に機械座標系と呼ばれる、装置の座標系や基板
内の基準マークを原点としたり、基板端点を原点とした
りする、基板の座標系が挙げられるが、後の異常判定ス
テップ2での判定精度を上げる上で、装置内での基板固
定位置精度誤差を含む機械座標系よりは基板の座標系を
用いる方が好ましく、基板内の基準マークを原点とする
方がより好ましい。Here, the central coordinates indicate the position of the abnormal portion in the inspection area, and the coordinate system thereof is the machine coordinate system, which is generally called a machine coordinate system, and the reference mark in the substrate is the origin. And the coordinate system of the substrate such as using the substrate end point as the origin. In order to improve the determination accuracy in the subsequent abnormality determination step 2, the mechanical coordinate system including the substrate fixed position accuracy error in the device is used. Is preferably the coordinate system of the substrate, and more preferably the reference mark in the substrate is the origin.
【0029】異常要素とは、異常の状態を示すものであ
り、その名称や区分境界は画像処理の方法により様々で
はあるが、およそ図8に示すようなパターンの欠けや切
れ、パターンの突起や隣接パターンとの結合、パターン
間にある島状の異常が挙げられる。図8では、モノクロ
画像において輝度階調中のある閾値で白黒2値化した際
のPDP電極パターンを例として記載した。ここでは、
黒色部が電極パターンを示しており、(a)が正常な状
態、(b)がパターン欠け、(c)がパターン切れ、
(d)がパターン突起、(e)が隣接パターンとの結
合、(f)がパターン間の島状異常をそれぞれ表してい
る。The abnormal element indicates an abnormal state, and its name and division boundary vary depending on the image processing method. However, as shown in FIG. This includes binding with adjacent patterns and island-shaped abnormalities between the patterns. In FIG. 8, the PDP electrode pattern when the monochrome image is binarized with a certain threshold value in the luminance gradation is described as an example. here,
The black part shows the electrode pattern, (a) is in a normal state, (b) is a pattern missing, (c) is a pattern cut,
(D) shows the pattern protrusion, (e) shows the coupling with the adjacent pattern, and (f) shows the island-like abnormality between the patterns.
【0030】また、近接する同じ異常要素を持つ異常部
同士を結合して1つの異常部として扱う処理を施しても
良い。この場合は、結合した最終の異常部に対しての中
心座標や異常要素などの異常部に関する情報を取り扱う
ことが好ましい。Further, it is also possible to perform a process in which abnormal parts having the same abnormal element that are adjacent to each other are combined and treated as one abnormal part. In this case, it is preferable to handle information about the abnormal part such as the center coordinates and the abnormal element with respect to the final combined abnormal part.
【0031】一般には、本ステップは欠陥検出ステップ
と称されることが多いが、前述したように、画像処理で
検出されるポイントは、必ずしも欠陥であるとは限らな
いため、本発明では実際の欠陥と欠陥候補との区別を付
けるべく、前者を欠陥部、後者を異常部と称して混同を
さけることとする。In general, this step is often referred to as a defect detection step. However, as described above, the point detected by the image processing is not always a defect, so in the present invention, it is an actual point. In order to distinguish between a defect and a defect candidate, the former is called a defective part and the latter is called an abnormal part to avoid confusion.
【0032】次に異常判定ステップ2について説明す
る。異常判定ステップ2は、異常部検出ステップ1で出
力された異常部の中心座標と異常要素との組み合わせ
が、あらかじめ設定された組み合わせと比較して同じで
あるか否かを調べて、後のレビューステップ3でレビュ
ーを実行する異常部(レビュー対象)を峻別出力するス
テップである。ここで、あらかじめ設定する組み合わせ
とは、検査領域内にあり、異常部検出ステップ1で出力
される可能性のある「欠陥でない」特異パターンの中心
座標と異常要素の組み合わせ(タイプAとする)や、異
常部の検出方法によって発生することがある「欠陥でな
い」にもかかわらず「異常」として出力されてしまうポ
イントの中心座標と異常要素の組み合わせ(タイプBと
する)、あるいは「欠陥」であることが分かっており、
レビュー対象から除外したいポイントの中心座標と異常
要素の組み合わせ(タイプCとする)などが挙げられ
る。Next, the abnormality determination step 2 will be described. The abnormality determination step 2 checks whether or not the combination of the center coordinates of the abnormal portion and the abnormal element output in the abnormal portion detection step 1 is the same as a preset combination, and the subsequent review This is a step in which the abnormal part (review target) for which the review is executed is sharply output in step 3. Here, the preset combination is a combination of a center coordinate of a unique pattern (which is not a defect) and an abnormal element that is in the inspection region and may be output in the abnormal portion detection step 1 (type A), or , A combination of the center coordinates of points that are output as “abnormal” and an abnormal element (type B), or “defect” even though the defect is not a defect that may occur depending on the method of detecting an abnormal portion. I know that
A combination of the center coordinates of points to be excluded from the review target and the abnormal element (type C) can be cited.
【0033】ここにおいて、異常部の中心座標と異常要
素との組み合わせを比較対象とする理由は、例えば隣接
パターンと結合している「欠陥でない」特異パターン部
分に、異なる異常要素であるパターンの切れがあると
「欠陥」となる場合があったり、パターンの切れがある
「欠陥でない」特異パターン部分に、異なる異常要素で
あるパターンの結合があると「欠陥」となる場合がある
ためである。そのため、中心座標のみの判定では不十分
となる。(図6、図7)本ステップで、異常部検出ステ
ップ1で出力された異常部の中心座標と異常要素との組
み合わせが、あらかじめ設定されたタイプAやタイプB
と合致する場合には、レビューステップ3でレビューを
実行しないように、このステップで出力しないように除
外しても良いし、「欠陥でない」というフラグ(情報)
を付与して出力しても良い。また、異常部検出ステップ
1で出力された異常部の中心座標と異常要素との組み合
わせが、タイプCと合致する場合には、「欠陥」である
というフラグ(情報)を付与して出力することで達成す
ることができる。さらに、タイプCが、異常部検出ステ
ップ1にて出力された異常部の中心座標と異常要素との
組み合わせ群に存在しなかった場合には、この存在しな
かったタイプCの異常部に関する情報を追加して出力す
ることで達成する。このフラグ(情報)を付与して出力
する場合には、情報系列を統一するためにも、あらかじ
め設定された組み合わせと合致しない場合には、「欠陥
判定未定」のような第3のフラグを付与すると良い。Here, the reason why the combination of the center coordinates of the abnormal portion and the abnormal element is to be compared is that, for example, a pattern which is a different abnormal element is cut off in a "non-defect" peculiar pattern portion which is combined with an adjacent pattern. This is because there may be a "defect" when there is a defect, or there may be a "defect" when there is a combination of patterns that are different abnormal elements in a "non-defect" peculiar pattern portion where the pattern is broken. Therefore, the determination of only the center coordinates is insufficient. (FIGS. 6 and 7) In this step, the combination of the center coordinates of the abnormal part and the abnormal element output in the abnormal part detection step 1 is set to a preset type A or type B.
If it matches with, the review may not be executed in the review step 3 and may be excluded so as not to be output in this step, or a flag (information) indicating “not a defect”.
May be added and output. Further, when the combination of the center coordinates of the abnormal portion and the abnormal element output in the abnormal portion detection step 1 matches the type C, a flag (information) indicating "defect" is added and output. Can be achieved with. Further, when the type C does not exist in the combination group of the center coordinates of the abnormal part and the abnormal element output in the abnormal part detection step 1, the information on the abnormal part of the type C that does not exist is displayed. Achieve by adding and outputting. When adding and outputting this flag (information), a third flag such as “defect determination undecided” is added in order to unify the information series, if the combination does not match the preset combination. Good to do.
【0034】本ステップのフローとしては、図9に示す
ように、第1段階として異常部検出ステップ1にて出力
された異常部に関する情報群と、「欠陥」であるという
異常部に関する情報群との論理和(AND)をとり、第
2段階としてこれら論理和を取った異常部に関する情報
群と、あらかじめ設定してある異常部に関する情報群と
を比較して、合致する場合には前述の操作等をしてレビ
ュー対象から除外し、合致しない場合には前述の操作等
をしてレビュー対象としてレビューステップ3に出力す
るようにすると良い。As the flow of this step, as shown in FIG. 9, as the first step, the information group regarding the abnormal portion output in the abnormal portion detecting step 1 and the information group regarding the abnormal portion which is "defective" are shown. And the information group about the abnormal part for which these logical sums are taken as the second step is compared with a preset information group about the abnormal part. It is advisable to exclude them from the review target by performing the above processing, and if they do not match, perform the above-described operations and the like and output them as the review target to the review step 3.
【0035】異常部検出ステップ1で出力される異常部
の中心座標には、画像処理精度差やCCDカメラによる
撮像精度差などが含まれており、基板基準の中心座標と
ずれることがあるため、サブミリオーダー程度の数値に
て比較することは、この異常判定ステップにおける判定
精度を上げることができ、好ましい。例えば、345.
678mmという数値に対して、小数第2位を四捨五入
した345.7mmとして比較することである。The center coordinates of the abnormal portion output in the abnormal portion detection step 1 include a difference in image processing accuracy and a difference in image capturing accuracy by the CCD camera, which may deviate from the center coordinate of the substrate reference. It is preferable to make a comparison using a numerical value on the order of sub-millimeter because the determination accuracy in this abnormality determination step can be improved. For example, 345.
It is to compare with the numerical value of 678 mm as 345.7 mm rounded to one decimal place.
【0036】さらに、この異常判定ステップにおける判
定精度を上げるために、中心座標に対する比較許容幅を
設けると良い。比較許容幅が小さすぎると「合致しな
い」と誤判定され、比較許容幅が大きすぎると近接する
同じ異常要素の異常部も「合致する」と誤判定される。
比較許容幅は、判定したいポイントや特異パターンと、
近接するパターンとの距離の0.5〜1.0倍が好まし
く、より好ましくは0.6〜0.8倍である。例えば、
ある特異パターンと近接するパターンとの距離が100
0μmであるならば、比較許容幅は±500μm〜±1
000μmが好ましく、より好ましくは±600μm〜
±800μmである。Further, in order to improve the determination accuracy in this abnormality determination step, it is advisable to provide a comparison allowable width with respect to the center coordinates. If the comparison allowable width is too small, it is erroneously determined as “not matching”, and if the comparison allowable width is too large, erroneously determining that the abnormal parts of the same abnormal element that are adjacent are also “matching”.
The comparison allowance is the point or peculiar pattern you want to judge,
The distance from the adjacent pattern is preferably 0.5 to 1.0 times, more preferably 0.6 to 0.8 times. For example,
The distance between a certain peculiar pattern and the adjacent pattern is 100
If it is 0 μm, the comparison allowable width is ± 500 μm to ± 1.
000 μm is preferable, and more preferably ± 600 μm
± 800 μm.
【0037】さらにレビューステップ3について説明す
る。レビューステップ3は、異常判定ステップ2から出
力された異常部に関する情報を受け取り、異常判定ステ
ップ2においてレビュー対象と判定された異常部に対し
て、更に詳細に検査し、欠陥であるか否かを判定するス
テップである。さらに、欠陥の分類付けを行ったり、修
復の必要性、基板の良否判定を行ったりしても良い。詳
細な検査手段として、人が観察して検査しても、ADC
を用いても良い。Further, the review step 3 will be described. The review step 3 receives the information on the abnormal portion output from the abnormality determination step 2, and further inspects the abnormal portion determined to be the review target in the abnormality determination step 2 to determine whether or not it is a defect. This is a determination step. Furthermore, the defects may be classified, the necessity of repair, and the quality of the substrate may be determined. As a detailed inspection means, even if a person observes and inspects, the ADC
May be used.
【0038】レビューに用いる画像は、異常部検出ステ
ップ1にて撮像した異常部が収められた画像でも良い
し、本ステップ用に改めて異常部を撮像した画像を用い
ても良い。The image used for the review may be an image containing the abnormal portion imaged in the abnormal portion detection step 1 or may be an image in which the abnormal portion is imaged again for this step.
【0039】異常部検出ステップ1に用いたCCDカメ
ラよりも解像度が高い方がより細かい形状の判断ができ
るため好ましい。また、カラー画像の方が色に関する情
報も得られるため、より細かい分類付けが可能となるた
め好ましい。It is preferable that the resolution is higher than that of the CCD camera used in the abnormal portion detection step 1 because a finer shape can be determined. In addition, a color image is preferable because information about colors can be obtained, which enables more detailed classification.
【0040】本ステップは、欠陥検査装置にて行うこと
もできるし、レビュー機能を別装置として独立に設けて
も良い。後者の場合、異常部検出ステップ1や異常部判
定ステップ2とレビューステップ3とが独立して実行で
きるため、トータルの検査タクトの短縮ができる。This step may be performed by the defect inspection apparatus, or the review function may be independently provided as a separate apparatus. In the latter case, the abnormal portion detection step 1, the abnormal portion determination step 2 and the review step 3 can be executed independently, so that the total inspection tact can be shortened.
【0041】[0041]
【発明の効果】本発明の欠陥検査方法は、従来の欠陥検
査方法である異常部検出ステップ1とレビューステップ
3との流れの間に、異常判定ステップ2を設けたので、
従来レビュー対象となっていた検査領域内にある「欠陥
でない」特異パターンや、「欠陥でない」にもかかわら
ず「異常」として検出されてしまうポイントを、異常判
定ステップ2で「欠陥でない」と判定することが可能と
なったため、後のレビューステップ3でのレビュー対象
数を減らすことができ、レビューステップ3のタクトを
減少することができる。また、今後進められるであろう
ADCにおいても、このような特異パターン等を欠陥判
定する必要がなくなるため、「欠陥」として誤判定され
てしまう可能性をなくすことができる。According to the defect inspection method of the present invention, the abnormality determination step 2 is provided between the abnormal portion detection step 1 and the review step 3 which are conventional defect inspection methods.
A unique pattern that is not a defect in the inspection area that has been the subject of conventional review, or a point that is detected as "abnormal" despite "not a defect" is determined as "not a defect" in the abnormality determination step 2. Since it is possible to reduce the number of review targets in the subsequent review step 3, it is possible to reduce the takt time in the review step 3. Further, even in an ADC which will be advanced in the future, it is not necessary to judge such a peculiar pattern as a defect, and thus it is possible to eliminate the possibility of being erroneously judged as a “defect”.
【0042】さらに、共通欠陥のように「欠陥」である
ことがあらかじめ分かっているレビュー対象から除外し
たいポイントを、異常判定ステップ2において、レビュ
ーステップより先に規定の「欠陥」として判定したり、
あるいは欠陥データを追加することができるため、後の
レビューステップ3でのレビュー対象数を減らすことが
でき、レビューステップ3のタクトを減少することがで
きる。Further, in the abnormality judgment step 2, a point to be excluded from the review object which is known to be a "defect" such as a common defect is judged as a prescribed "defect" prior to the review step,
Alternatively, since defect data can be added, the number of review targets in the subsequent review step 3 can be reduced, and the tact of the review step 3 can be reduced.
【図1】本発明の欠陥検査方法の一実施例を示すフロー
図。FIG. 1 is a flow chart showing an embodiment of a defect inspection method of the present invention.
【図2】従来の欠陥検査方法を示すフロー図。FIG. 2 is a flowchart showing a conventional defect inspection method.
【図3】隣接比較法を説明するパターン図。FIG. 3 is a pattern diagram illustrating an adjacent comparison method.
【図4】隣接比較法において異常部検出される特異パタ
ーン例を表す図。FIG. 4 is a diagram showing an example of a peculiar pattern in which an abnormal portion is detected in the adjacent comparison method.
【図5】スケルトン法を説明するパターン図。FIG. 5 is a pattern diagram illustrating a skeleton method.
【図6】特異パターン例を表す図。FIG. 6 is a diagram showing an example of a unique pattern.
【図7】図4と異なる特異パターン例を表す図。FIG. 7 is a diagram showing an example of a peculiar pattern different from FIG.
【図8】異常要素の例を表す図。FIG. 8 is a diagram showing an example of an abnormal element.
【図9】本発明の異常判定ステップ2の一実施例を示す
フロー図。FIG. 9 is a flowchart showing an embodiment of the abnormality determination step 2 of the present invention.
1 特異パターン部 2 欠陥部 P1〜P6 画像データ D12〜D56 合成データ L1〜L6 ラインデータ C パターン欠け T パターン突起 O パターン切れ S 隣接パターンとの結合 NC 残存データ NT 残存データ 1 Unique pattern part 2 defects P1 to P6 image data D12-D56 synthetic data L1 to L6 line data C pattern missing T pattern protrusion O pattern out S Combining with adjacent pattern NC residual data NT residual data
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G051 AA73 AB02 AB03 AB04 AC04 CA03 CA04 DA15 EA12 EA16 EA17 EB09 EC01 ED11 ED15 ED21 ED23 2G086 EE12 5B057 AA02 DA03 DB02 DB06 DB09 DC03 DC06 DC22 DC32 5C012 AA09 BE03 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 JA26 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F term (reference) 2G051 AA73 AB02 AB03 AB04 AC04 CA03 CA04 DA15 EA12 EA16 EA17 EB09 EC01 ED11 ED15 ED21 ED23 2G086 EE12 5B057 AA02 DA03 DB02 DB06 DB09 DC03 DC06 DC22 DC32 5C012 AA09 BE03 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 JA26
Claims (6)
処理による欠陥検査を行う方法であって、画像処理が、
被検査部分の異常部を検出し、異常部が検出された場合
に少なくとも異常部の中心座標と異常要素とを出力する
異常部検出ステップと、異常部検出ステップで出力され
る異常部の中心座標と異常要素との組み合わせとあらか
じめ設定されている欠陥部あるいは/かつ非欠陥部の中
心座標と異常要素との組み合わせとを比較することを判
定基準とする異常判定ステップを有することを特徴とす
る欠陥検査方法。1. A method of performing defect inspection by image processing on an image containing a portion to be inspected, the image processing comprising:
An abnormal part detection step of detecting an abnormal part of the inspected part and outputting at least the center coordinates of the abnormal part and the abnormal element when the abnormal part is detected, and the center coordinates of the abnormal part output in the abnormal part detection step And an abnormal element, and a defect characterized by having an abnormality determination step whose determination criterion is to compare the preset center coordinates of the defective portion and / or the non-defective portion with the combination of the abnormal element. Inspection method.
法を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ル用部材の欠陥検査方法。2. A defect inspection method for a member for a plasma display panel, which uses the defect inspection method according to claim 1.
法を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルの欠陥検査方法。3. A defect inspection method for a plasma display panel, wherein the defect inspection method by image processing according to claim 1 is used.
像処理による欠陥検査を行う装置であって、画像処理
が、被検査部分の異常部を検出する手段、検出された異
常部の少なくとも中心座標と異常要素とを抽出する手
段、およびこれらの組み合わせを判定基準とする異常判
定手段を有することを特徴とする欠陥検査装置。4. An apparatus for performing a defect inspection by image processing on an image containing an inspected portion, wherein the image processing means detects an abnormal portion of the inspected portion, and detects the abnormal portion. A defect inspection apparatus comprising at least a means for extracting a center coordinate and an abnormal element, and an abnormality judging means using a combination of these as a judgment criterion.
を特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材の欠陥
検査装置。5. A defect inspection apparatus for a member for a plasma display panel, which uses the defect inspection apparatus according to claim 4.
を特徴とするプラズマディスプレイパネルの欠陥検査装
置。6. A defect inspection apparatus for a plasma display panel, which uses the defect inspection apparatus according to claim 4.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002068048A JP2003270087A (en) | 2002-03-13 | 2002-03-13 | Defect inspecting method and apparatus by image processing |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008170288A (en) * | 2007-01-12 | 2008-07-24 | Yokogawa Electric Corp | Device for inspecting flaw, and method for inspecting flaw |
-
2002
- 2002-03-13 JP JP2002068048A patent/JP2003270087A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008170288A (en) * | 2007-01-12 | 2008-07-24 | Yokogawa Electric Corp | Device for inspecting flaw, and method for inspecting flaw |
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