JP2003269373A - Vacuum pump system and rotating speed control method of vacuum pump - Google Patents

Vacuum pump system and rotating speed control method of vacuum pump

Info

Publication number
JP2003269373A
JP2003269373A JP2002067803A JP2002067803A JP2003269373A JP 2003269373 A JP2003269373 A JP 2003269373A JP 2002067803 A JP2002067803 A JP 2002067803A JP 2002067803 A JP2002067803 A JP 2002067803A JP 2003269373 A JP2003269373 A JP 2003269373A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
motor
rotation
vacuum pump
controller
pump system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2002067803A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyoshi Namiki
啓能 並木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Edwards Japan Ltd
Original Assignee
BOC Edwards Technologies Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOC Edwards Technologies Ltd filed Critical BOC Edwards Technologies Ltd
Priority to JP2002067803A priority Critical patent/JP2003269373A/en
Priority to US10/385,187 priority patent/US20030175112A1/en
Priority to DE60300663T priority patent/DE60300663T2/en
Priority to EP03251461A priority patent/EP1344941B1/en
Priority to KR10-2003-0015644A priority patent/KR20030074415A/en
Publication of JP2003269373A publication Critical patent/JP2003269373A/en
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Control Of Positive-Displacement Air Blowers (AREA)
  • Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
  • Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum pump system, and a rotating speed control method of a vacuum pump generating no beat and low frequency vibration by unifying rotating speeds of rotary bodies even when a plurality of turbo molecular pumps are arranged. <P>SOLUTION: A rotation signal of a motor 121A in the turbo molecular pump 101A is outputted as a synchronizing signal 15 from a controller 12A as the master side. While, a PLL circuit (Phased Locked Loop) being a phase control circuit is built in a controller 12B as the slave side, and the synchronizing signal 15 outputted from the controller 12A is inputted. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は真空ポンプシステム
及び真空ポンプの回転数制御方法に係わり、特に複数台
のターボ分子ポンプが配設された場合でも、回転体の回
転数を一致させることでうなりや低周波の振動を発生さ
せない真空ポンプシステム及び真空ポンプの回転数制御
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum pump system and a method for controlling the rotation speed of a vacuum pump, and in particular, even when a plurality of turbo molecular pumps are arranged, the rotation speed of the rotating body is made to match. The present invention relates to a vacuum pump system that does not generate low-frequency vibrations and a method for controlling the rotation speed of a vacuum pump.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年のエレクトロニクスの発展に伴い、
メモリや集積回路といった半導体の需要が急激に増大し
ている。これらの半導体は、きわめて純度の高い半導体
基板に不純物をドープして電気的性質を与えたり、エッ
チングにより半導体基板上に微細な回路を形成したりな
どして製造される。
2. Description of the Related Art With the recent development of electronics,
Demand for semiconductors such as memories and integrated circuits is rapidly increasing. These semiconductors are manufactured by doping a semiconductor substrate of extremely high purity with impurities to give electric properties, or by etching to form a fine circuit on the semiconductor substrate.

【0003】そして、これらの作業は空気中の塵等によ
る影響を避けるため高真空状態のチャンバ内で行われる
必要がある。このチャンバの排気には、一般に真空ポン
プが用いられているが、特に残留ガスが少なく、保守が
容易等の点から真空ポンプの中の一つであるターボ分子
ポンプが多用されている。
These operations must be carried out in a high vacuum chamber to avoid the influence of dust in the air. A vacuum pump is generally used to evacuate the chamber, but a turbo molecular pump, which is one of the vacuum pumps, is often used from the viewpoints of particularly small residual gas and easy maintenance.

【0004】また、半導体の製造工程では、さまざまな
プロセスガスを半導体の基板に作用させる工程が数多く
あり、ターボ分子ポンプはチャンバ内を真空にするのみ
ならず、これらのプロセスガスをチャンバ内から排気す
るのにも使用される。
In the semiconductor manufacturing process, there are many processes in which various process gases are applied to the semiconductor substrate. The turbo molecular pump not only evacuates the chamber, but also exhausts these process gases from the chamber. Also used to do.

【0005】更に、真空ポンプは、電子顕微鏡等の設備
において、粉塵等の存在による電子ビームの屈折等を防
止するため、電子顕微鏡等を収納したチャンバ内の環境
を高度の真空状態にするのにも用いられている。
Further, the vacuum pump prevents refraction of the electron beam due to the presence of dust or the like in equipment such as an electron microscope, so that the environment inside the chamber accommodating the electron microscope is set to a high vacuum state. Is also used.

【0006】以上のように各分野に多用されている真空
ポンプであるが、最近では半導体の製造に関し従来以上
に大きな半導体ウェハの製造が企画されたり、電子顕微
鏡等の分野に関し従来以上に大型の電子顕微鏡等が装置
化されたり、設備の増設の行われる機会が多く存在して
いる。
As described above, the vacuum pump is widely used in various fields, but recently, in the field of semiconductor manufacturing, it is planned to manufacture a larger semiconductor wafer, and in the field of electron microscopes, the vacuum pump is larger than ever. There are many opportunities for electron microscopes and the like to be made into devices and equipment to be added.

【0007】このような場合に、図4の全体システム簡
略構成図に示すように、真空ポンプを複数台使用する場
合がある。図4において、吸引減圧される吸引対象機器
のチャンバ3には真空ポンプ10A、10Bが接続され
ている。
In such a case, a plurality of vacuum pumps may be used as shown in the overall system simplified configuration diagram of FIG. In FIG. 4, vacuum pumps 10A and 10B are connected to the chamber 3 of the equipment to be sucked and depressurized.

【0008】なお、真空ポンプ10A、10Bによって
吸引減圧される吸引対象機器のチャンバ3との間には、
実際には開閉バルブ等のバルブと振動吸収用のダンパと
がそれぞれ存在しているが簡略のため省略している。
In addition, between the vacuum pumps 10A, 10B and the chamber 3 of the equipment to be sucked and depressurized,
Actually, a valve such as an on-off valve and a damper for absorbing vibration are respectively present, but they are omitted for simplification.

【0009】真空ポンプ10A、10Bは、例えばター
ボ分子ポンプである。そして、この真空ポンプ10A、
10Bはコントローラ12A、12Bによりそれぞれ制
御されるようになっている。ターボ分子ポンプの縦断面
図を図5に示す。
The vacuum pumps 10A and 10B are, for example, turbo molecular pumps. And this vacuum pump 10A,
10B is controlled by controllers 12A and 12B, respectively. A vertical sectional view of the turbo molecular pump is shown in FIG.

【0010】図5において、ターボ分子ポンプ101
は、円筒状の外筒1cの上端に吸引口フランジ1aが形
成されている。外筒1cの内方には、ガスを吸引排気す
るためのタービンブレードによる複数の回転翼102
a、102b、102c・・・を周部に多段に形成した
回転体103を備える。
In FIG. 5, a turbo molecular pump 101 is shown.
Has a suction port flange 1a formed on the upper end of a cylindrical outer cylinder 1c. Inside the outer cylinder 1c, a plurality of rotor blades 102 by turbine blades for sucking and exhausting gas
The rotating body 103 is formed by forming a, 102b, 102c ...

【0011】この回転体103の中心にはロータ軸11
3が取り付けられており、このロータ軸113は、例え
ば、いわゆる5軸制御の磁気軸受により空中に浮上支持
かつ位置制御されている。上側径方向電磁石104は、
4個の電磁石がX軸とY軸とに対をなして配置されてい
る。
A rotor shaft 11 is provided at the center of the rotating body 103.
3 is attached, and the rotor shaft 113 is levitationally supported in the air and its position is controlled by, for example, a so-called 5-axis control magnetic bearing. The upper radial electromagnet 104 is
Four electromagnets are arranged in pairs on the X axis and the Y axis.

【0012】この上側径方向電磁石104に近接かつ対
応されて4個の電磁石からなる上側径方向センサ107
が備えられている。この上側径方向センサ107はロー
タ軸113の径方向変位を検出し、コントローラ12に
送るように構成されている。
An upper radial sensor 107 composed of four electromagnets which are close to and correspond to the upper radial electromagnet 104.
Is provided. The upper radial sensor 107 is configured to detect the radial displacement of the rotor shaft 113 and send it to the controller 12.

【0013】コントローラ12においては、上側径方向
センサ107が検出した変位信号に基づき、PID調節
機能を有する補償回路を介して上側径方向電磁石104
の励磁を制御し、ロータ軸113の上側の径方向位置を
調整する。
In the controller 12, based on the displacement signal detected by the upper radial sensor 107, the upper radial electromagnet 104 is passed through a compensation circuit having a PID adjusting function.
Is controlled to adjust the radial position on the upper side of the rotor shaft 113.

【0014】ロータ軸113は、高透磁率材(鉄など)
などにより形成され、上側径方向電磁石104の磁力に
より吸引されるようになっている。かかる調整は、X軸
方向とY軸方向とにそれぞれ独立して行われる。
The rotor shaft 113 is made of a material having a high magnetic permeability (such as iron).
And the like, and is attracted by the magnetic force of the upper radial electromagnet 104. Such adjustment is performed independently in the X-axis direction and the Y-axis direction.

【0015】また、下側径方向電磁石105及び下側径
方向センサ108が、上側径方向電磁石104及び上側
径方向センサ107と同様に配置され、ロータ軸113
の下側の径方向位置を上側の径方向位置と同様に調整し
ている。
Further, the lower radial electromagnet 105 and the lower radial sensor 108 are arranged similarly to the upper radial electromagnet 104 and the upper radial sensor 107, and the rotor shaft 113 is arranged.
The lower radial position is adjusted in the same manner as the upper radial position.

【0016】更に、軸方向電磁石106A、106B
が、ロータ軸113の下部に備えた円板状の金属ディス
ク111を上下に挟んで配置されている。金属ディスク
111は、鉄などの高透磁率材で構成されている。ロー
タ軸113の軸方向変位を検出するために軸方向センサ
109が備えられ、その軸方向変位信号がコントローラ
12に送られるように構成されている。
Further, the axial electromagnets 106A, 106B
However, the disk-shaped metal disks 111 provided under the rotor shaft 113 are vertically sandwiched. The metal disk 111 is made of a high magnetic permeability material such as iron. An axial sensor 109 is provided to detect the axial displacement of the rotor shaft 113, and the axial displacement signal is sent to the controller 12.

【0017】そして、軸方向電磁石106A、106B
は、この軸方向変位信号に基づきコントローラ12のP
ID調節機能を有する補償回路を介して励磁制御される
ようになっている。軸方向電磁石106Aは、磁力によ
り金属ディスク111を上方に吸引し、軸方向電磁石1
06Bは、金属ディスク111を下方に吸引する。
Axial electromagnets 106A and 106B are then provided.
Is the P of the controller 12 based on this axial displacement signal.
Excitation control is performed via a compensation circuit having an ID adjusting function. The axial electromagnet 106A attracts the metal disk 111 upward by magnetic force, and the axial electromagnet 1
06B sucks the metal disk 111 downward.

【0018】このように、コントローラ12は、この軸
方向電磁石106A、106Bが金属ディスク111に
及ぼす磁力を適当に調節し、ロータ軸113を軸方向に
磁気浮上させ、空間に非接触で保持するようになってい
る。
As described above, the controller 12 appropriately adjusts the magnetic force exerted by the axial electromagnets 106A and 106B on the metal disk 111 to magnetically levitate the rotor shaft 113 in the axial direction and hold it in the space in a non-contact manner. It has become.

【0019】モータ121は、ロータ軸113を取り囲
むように周状に配置された複数の磁極を備えている。各
磁極は、ロータ軸113との間に作用する電磁力を介し
てロータ軸113を回転駆動するように、コントローラ
12によって制御されている。
The motor 121 is provided with a plurality of magnetic poles which are circumferentially arranged so as to surround the rotor shaft 113. Each magnetic pole is controlled by the controller 12 so as to rotationally drive the rotor shaft 113 via an electromagnetic force acting between the magnetic pole and the rotor shaft 113.

【0020】また、ロータ軸113の下端には、回転数
センサ110が取り付けられている。コントローラ12
は、この回転数センサ110の検出信号によりロータ軸
113の回転数を検出するようになっている。
A rotation speed sensor 110 is attached to the lower end of the rotor shaft 113. Controller 12
Is adapted to detect the rotational speed of the rotor shaft 113 based on the detection signal of the rotational speed sensor 110.

【0021】また、例えば下側径方向センサ108近傍
に、図示しない位相センサが取り付けてあり、ロータ軸
113の回転の位相を検出するようになっている。コン
トローラ12では、この位相センサと回転数センサ11
0の検出信号を共に用いて磁極の位置を検出するように
なっている。
Also, for example, a phase sensor (not shown) is attached near the lower radial sensor 108 to detect the phase of rotation of the rotor shaft 113. In the controller 12, the phase sensor and the rotation speed sensor 11
The position of the magnetic pole is detected by using the detection signal of 0 together.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に真空ポンプとしてターボ分子ポンプを複数台(ターボ
分子ポンプ101A、101Bの2台)使用した場合に
は、従来、コントローラ12Aとコントローラ12Bと
はそれぞれ独立した制御が行われている。一方、回転数
の設定は、例えば定格回転数48,000rpm(80
0Hz)に対し誤差数Hzの精度で可能である。
By the way, when a plurality of turbo molecular pumps (two turbo molecular pumps 101A and 101B) are used as vacuum pumps as described above, conventionally, the controller 12A and the controller 12B are different from each other. Each is controlled independently. On the other hand, the rotation speed is set, for example, at the rated rotation speed of 48,000 rpm (80
It is possible with an accuracy of several Hz for 0 Hz).

【0023】従って、ターボ分子ポンプ101Aとター
ボ分子ポンプ101Bとを同じ定格回転数に設定した場
合でも、実際には例えば、ターボ分子ポンプ101A側
は48,000rpm(800Hz)で運転され、一方
ターボ分子ポンプ101B側は48,060rpm(8
01Hz)で運転されるというような双方の回転数に微
差を生ずることがあった。
Therefore, even when the turbo molecular pump 101A and the turbo molecular pump 101B are set to the same rated rotation speed, the turbo molecular pump 101A side is actually operated at 48,000 rpm (800 Hz), while the turbo molecular pump 101A is operated. 48,060 rpm (8
There was a case where there was a slight difference in both rotation speeds such as the operation at 01 Hz).

【0024】そして、この場合には、双方の回転数の差
1Hzによりうなりを生じ、このうなりに起因してター
ボ分子ポンプ101A、101Bでは低周波の振動を発
生することがあった。この振動がターボ分子ポンプ10
1A、101Bよりチャンバ3側に伝わると、チャンバ
3内に収納された電子顕微鏡等の測定や半導体の製造に
影響を与えるおそれがあった。
In this case, a beat occurs due to the difference of 1 Hz between the rotational speeds of the two, and due to this beat, low-frequency vibrations may be generated in the turbo molecular pumps 101A and 101B. This vibration causes the turbo molecular pump 10
If it is transmitted to the chamber 3 side from 1A and 101B, there is a possibility that it may affect the measurement of the electron microscope and the like housed in the chamber 3 and the manufacturing of semiconductors.

【0025】このうなりの周波数は、配設されるターボ
分子ポンプの容量や機種等の組み合わせによって一様で
はなく、一旦うなりの発生した場合には、このうなりを
消すことは技術的に困難を伴う。従って、うなりを発生
させないことが望ましい。
The frequency of this beat is not uniform depending on the combination of the capacity and model of the turbo molecular pump to be arranged, and once the beat occurs, it is technically difficult to eliminate the beat. . Therefore, it is desirable not to generate a beat.

【0026】本発明はこのような従来の課題に鑑みてな
されたもので、複数台のターボ分子ポンプが配設された
場合でも、回転体の回転数を一致させることでうなりや
低周波の振動を発生させない真空ポンプシステム及び真
空ポンプの回転数制御方法を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of such conventional problems. Even when a plurality of turbo molecular pumps are provided, by matching the rotational speeds of the rotating bodies, beats and low-frequency vibrations are generated. It is an object of the present invention to provide a vacuum pump system and a method for controlling the rotation speed of the vacuum pump, which does not generate the noise.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】このため本発明は、回転
翼及び該回転翼を回転駆動するモータとを内蔵し、被吸
引対象設備より気体を吸引するため該被吸引対象設備に
対し並設されたN台の真空ポンプと、前記モータの回転
を制御するコントローラとを備える真空ポンプシステム
であって、該コントローラの内の1台をマスターコント
ローラとし、該マスターコントローラより前記モータの
回転信号を抽出する回転信号抽出手段と、前記マスター
コントローラを除くN−1台をスレーブコントローラと
し、前記回転信号抽出手段で抽出された回転信号に同期
させる同期手段とを備えて構成した。
Therefore, the present invention has a built-in rotary blade and a motor for rotationally driving the rotary blade, and is installed in parallel with the equipment to be sucked in order to suck gas from the equipment to be sucked. A vacuum pump system comprising N vacuum pumps and a controller for controlling the rotation of the motor, wherein one of the controllers is a master controller and the rotation signal of the motor is extracted from the master controller. The rotation signal extracting means and the synchronization means for synchronizing the rotation signal extracted by the rotation signal extracting means with N-1 units other than the master controller as slave controllers.

【0028】コントローラを連携して、モータの回転に
同期をとる。即ち、マスターコントローラより抽出した
回転信号を基に、スレーブコントローラの回転信号を一
致させる。このことにより、N台の真空ポンプのモータ
の回転数及び位相が一致する。
The controller is linked to synchronize with the rotation of the motor. That is, the rotation signals of the slave controllers are matched based on the rotation signals extracted from the master controller. As a result, the rotation speeds and phases of the motors of the N vacuum pumps match.

【0029】真空ポンプを同期運転することで、うなり
も生ぜず、低周波の振動も発生しない。従って、電子顕
微鏡等の振動を嫌う用途に対しても真空ポンプを複数台
使用することが可能となる。
By synchronously operating the vacuum pump, no beat occurs and low frequency vibration does not occur. Therefore, it is possible to use a plurality of vacuum pumps even for applications such as electron microscopes where vibration is disliked.

【0030】また、本発明は、回転翼及び該回転翼を回
転駆動するモータとを内蔵し、被吸引対象設備より気体
を吸引するため該被吸引対象設備に対し並設された複数
の真空ポンプと、前記モータの回転を制御するコントロ
ーラとを備える真空ポンプシステムであって、所定の同
期信号を作成し、出力する同期信号作成手段と、該同期
信号作成手段より入力された前記所定の同期信号に合わ
せて前記モータの回転の同期をとる同期手段とを備えて
構成した。
Further, according to the present invention, a plurality of vacuum pumps each having a rotary vane and a motor for rotationally driving the rotary vane are installed in parallel with the equipment to be sucked in order to suck gas from the equipment to be sucked. And a controller for controlling rotation of the motor, wherein the vacuum pump system comprises a synchronization signal generating means for generating and outputting a predetermined synchronization signal, and the predetermined synchronization signal input from the synchronization signal generating means. And a synchronizing means for synchronizing the rotation of the motor.

【0031】同期信号作成手段で作成された所定の同期
信号に基づき、各モータの回転数及び位相が同時に調整
され、その結果各モータの回転数及び位相は一致する。
同期信号は例えば水晶発振器等を基に作成されるので制
御精度を一層高くすることができる。従って、うなりも
生ぜず、低周波の振動も発生しない。このことにより、
請求項1と同様の効果を得ることができる。
The rotation speed and phase of each motor are simultaneously adjusted based on the predetermined synchronization signal generated by the synchronization signal generating means, and as a result, the rotation speed and phase of each motor match.
Since the synchronization signal is created based on, for example, a crystal oscillator, the control accuracy can be further enhanced. Therefore, no beat occurs and low-frequency vibration does not occur. By this,
The same effect as that of claim 1 can be obtained.

【0032】更に、本発明は、真空ポンプの回転数制御
方法であり、回転翼及び該回転翼を回転駆動するモータ
とを内蔵し、被吸引対象設備より気体を吸引するため該
被吸引対象設備に対し並設された複数の真空ポンプと、
前記モータの回転を制御するコントローラとを備え、前
記モータの回転数をすべて同一に制御することを特徴と
する。
Further, the present invention is a method for controlling the number of revolutions of a vacuum pump, comprising a rotary blade and a motor for rotationally driving the rotary blade, and sucking gas from the suction target equipment, the suction target equipment. A plurality of vacuum pumps installed side by side,
A controller for controlling rotation of the motor is provided, and the number of rotations of the motor is controlled to be the same.

【0033】モータの回転数及び位相は双方を常に同時
に一致させる必要はなく、すべての真空ポンプのモータ
の回転数のみを一致させればうなりを防止し低周波の振
動を抑えることができる。
It is not always necessary to match the rotation speed and the phase of the motor at the same time. If only the rotation speeds of the motors of all the vacuum pumps are matched, beats can be prevented and low-frequency vibration can be suppressed.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施形態に
ついて説明する。図1に、本発明の第1実施形態の全体
システム構成図を示す。なお、図4と同一要素のものに
ついては同一符号を付して説明は省略する。また、ター
ボ分子ポンプは以下の各実施形態において2台配設した
例を示すが、3台以上配設される場合も同様である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A first embodiment of the present invention will be described below. FIG. 1 shows an overall system configuration diagram of the first embodiment of the present invention. The same elements as those in FIG. 4 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Further, an example in which two turbo molecular pumps are provided in each of the following embodiments is shown, but the same applies when three or more turbo molecular pumps are provided.

【0035】図1において、マスター側であるコントロ
ーラ12Aからはターボ分子ポンプ101A内のモータ
121Aの回転信号が同期信号15として出力されるよ
うになっている。一方、スレーブ側であるコントローラ
12Bには位相制御回路であるPLL回路(Phase Lock
ed Loop)が内蔵され、かつコントローラ12Aから出
力された同期信号15が入力されるようになっている。
In FIG. 1, the rotation signal of the motor 121A in the turbo molecular pump 101A is output as the synchronization signal 15 from the controller 12A on the master side. On the other hand, the controller 12B on the slave side has a PLL circuit (Phase Lock) which is a phase control circuit.
ed Loop) is built in, and the synchronization signal 15 output from the controller 12A is input.

【0036】次に、本発明の第1実施形態の動作を説明
する。図2には、PLL回路に入力されたモータ121
Aの回転信号である同期信号15と、このモータ121
Aの回転信号に対し同期するように作成されたコントロ
ーラ12B内のモータ121Bに対する回転駆動信号の
様子を示す。
Next, the operation of the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 shows the motor 121 input to the PLL circuit.
The synchronization signal 15 which is the rotation signal of A and the motor 121
The state of the rotation drive signal with respect to the motor 121B in the controller 12B created so that it may synchronize with the rotation signal of A is shown.

【0037】即ち、PLL回路では、モータ121Aの
回転信号の立ち上がり若しくは立ち下がりを検出し、そ
の検出した位相に対しスレーブ側であるコントローラ1
2Bのモータ121Bに対する回転駆動信号の位相を合
わせる処理が行われる。そして、回転数及び位相の一致
された回転駆動信号がコントローラ12Bよりモータ1
21Bに対し出力され、モータ121Bが回転制御され
る。
That is, the PLL circuit detects the rising or falling of the rotation signal of the motor 121A, and the controller 1 on the slave side with respect to the detected phase.
Processing for matching the phases of the rotation drive signals for the 2B motor 121B is performed. Then, the rotation drive signal whose rotation speed and phase are matched is sent from the controller 12B to the motor 1
21B, and the motor 121B is rotationally controlled.

【0038】この結果、モータ121Aとモータ121
Bの回転とは回転数及び位相が一致する。従って、うな
りも生ぜず、低周波の振動も発生しない。このことによ
り、電子顕微鏡等の振動を嫌う用途に対してもターボ分
子ポンプを複数台使用することが可能となる。
As a result, the motor 121A and the motor 121
The rotation number and the phase match the rotation of B. Therefore, no beat occurs and low-frequency vibration does not occur. This makes it possible to use a plurality of turbo molecular pumps even for applications such as electron microscopes where vibration is disliked.

【0039】但し、回転数及び位相は双方を同時に一致
させる必要はなく、回転数のみを一致させればうなりを
防止することができる。
However, the rotational speed and the phase do not have to coincide with each other at the same time, and if only the rotational speeds coincide with each other, the beat can be prevented.

【0040】次に、本発明の第2実施形態について説明
する。図3に、本発明の第2実施形態の全体システム構
成図を示す。なお、図4と同一要素のものについては同
一符号を付して説明は省略する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 shows an overall system configuration diagram of the second embodiment of the present invention. The same elements as those in FIG. 4 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0041】図3において、コントローラ12A及びコ
ントローラ12Bには、共にPLL回路が内蔵されてい
る。そして、このコントローラ12A及びコントローラ
12BのそれぞれのPLL回路には、基準発振器17か
ら発生された同期信号19がそれぞれ入力されるように
なっている。基準発振器17は例えば水晶発振器にて構
成されている。
In FIG. 3, both the controller 12A and the controller 12B have built-in PLL circuits. The synchronization signal 19 generated from the reference oscillator 17 is input to each PLL circuit of the controller 12A and the controller 12B. The reference oscillator 17 is composed of, for example, a crystal oscillator.

【0042】かかる構成によれば、それぞれのPLL回
路では、入力された同一の同期信号19に基づき、モー
タ121Aに対する回転駆動信号及びモータ121Bに
対する回転駆動信号の回転数及び位相が同時に調整され
る。
According to such a configuration, in each PLL circuit, the rotation speed and the phase of the rotation driving signal for the motor 121A and the rotation driving signal for the motor 121B are simultaneously adjusted based on the same input synchronizing signal 19.

【0043】回転数及び位相は基準発振器17により水
晶発振器に基づき制御されるので、制御精度を一層高く
することができる。従って、うなりも生ぜず、低周波の
振動も発生しない。このことにより、本発明の第1実施
形態と同様の効果を得ることができる。
Since the rotation speed and the phase are controlled by the reference oscillator 17 based on the crystal oscillator, the control accuracy can be further enhanced. Therefore, no beat occurs and low-frequency vibration does not occur. As a result, the same effect as that of the first embodiment of the present invention can be obtained.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、マ
スターコントローラの回転信号を基にスレーブコントロ
ーラの回転信号を一致させるように構成したので、N台
の真空ポンプのモータの回転数及び位相が一致する。真
空ポンプを同期運転することで、うなりも生ぜず、低周
波の振動も発生しない。
As described above, according to the present invention, the rotation signal of the slave controller is matched with the rotation signal of the master controller. Match. By operating the vacuum pump synchronously, no beat occurs and low-frequency vibration does not occur.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1実施形態の全体システム構成図FIG. 1 is an overall system configuration diagram of a first embodiment of the present invention.

【図2】 PLL回路に入力されたマスターの同期信号
とスレーブの回転信号の関係を示す図
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a master synchronization signal and a slave rotation signal input to a PLL circuit.

【図3】 本発明の第2実施形態の全体システム構成図FIG. 3 is an overall system configuration diagram of a second embodiment of the present invention.

【図4】 全体システム簡略構成図[Figure 4] Simplified configuration diagram of the entire system

【図5】 ターボ分子ポンプの縦断面図FIG. 5 is a vertical sectional view of a turbo molecular pump.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 チャンバ 10A、10B 真空ポンプ 12A、12B コントローラ 15、19 同期信号 17 基準発振器 101A、101B ターボ分子ポンプ 102 回転翼 103 回転体 104 上側径方向電磁石 105 下側径方向電磁石 106A、106B 軸方向電磁石 107 上側径方向センサ 108 下側径方向センサ 109 軸方向センサ 110 回転数センサ 111 金属ディスク 113 ロータ軸 121A、121B モータ 3 chambers 10A, 10B vacuum pump 12A, 12B controller 15, 19 Sync signal 17 Reference oscillator 101A, 101B Turbo molecular pump 102 rotor 103 rotating body 104 upper radial electromagnet 105 Lower radial electromagnet 106A, 106B axial electromagnet 107 Upper radial sensor 108 Lower radial sensor 109 Axial sensor 110 speed sensor 111 metal disc 113 rotor shaft 121A, 121B motor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // F04D 19/04 F04D 19/04 H Fターム(参考) 3H021 AA06 AA08 BA01 BA11 BA20 CA04 CA07 DA04 DA21 EA07 3H022 AA01 BA03 BA07 CA06 CA48 CA50 DA09 3H031 DA01 DA02 DA07 EA12 EA13 EA15 FA40 3H045 AA06 AA09 AA16 AA21 AA26 AA31 AA38 AA39 BA01 BA28 BA31 BA38 CA09 CA21 DA05 DA31 EA26 EA34 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // F04D 19/04 F04D 19/04 HF term (reference) 3H021 AA06 AA08 BA01 BA11 BA20 CA04 CA07 DA04 DA21 EA07 3H022 AA01 BA03 BA07 CA06 CA48 CA50 DA09 3H031 DA01 DA02 DA07 EA12 EA13 EA15 FA40 3H045 AA06 AA09 AA16 AA21 AA26 AA31 AA38 AA39 BA01 BA28 BA31 BA38 CA09 CA21 DA05 DA31 EA26 EA34

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転翼及び該回転翼を回転駆動するモー
タとを内蔵し、被吸引対象設備より気体を吸引するため
該被吸引対象設備に対し並設されたN台の真空ポンプ
と、前記モータの回転を制御するコントローラとを備え
る真空ポンプシステムであって、該コントローラの内の
1台をマスターコントローラとし、該マスターコントロ
ーラより前記モータの回転信号を抽出する回転信号抽出
手段と、前記マスターコントローラを除くN−1台をス
レーブコントローラとし、前記回転信号抽出手段で抽出
された回転信号に同期させる同期手段とを備えたことを
特徴とする真空ポンプシステム。
1. N vacuum pumps, which have a rotary blade and a motor for driving the rotary blade to rotate, are arranged in parallel with the suction target equipment for sucking gas from the suction target equipment, A vacuum pump system comprising a controller for controlling the rotation of a motor, wherein one of the controllers is a master controller, a rotation signal extracting means for extracting a rotation signal of the motor from the master controller, and the master controller. A vacuum pump system comprising: N-1 units other than the above as slave controllers, and synchronization means for synchronizing with the rotation signal extracted by the rotation signal extraction means.
【請求項2】 回転翼及び該回転翼を回転駆動するモー
タとを内蔵し、被吸引対象設備より気体を吸引するため
該被吸引対象設備に対し並設された複数の真空ポンプ
と、前記モータの回転を制御するコントローラとを備え
る真空ポンプシステムであって、所定の同期信号を作成
し、出力する同期信号作成手段と、該同期信号作成手段
より入力された前記所定の同期信号に合わせて前記モー
タの回転の同期をとる同期手段とを備えたことを特徴と
する真空ポンプシステム。
2. A plurality of vacuum pumps each having a rotary vane and a motor for rotationally driving the rotary vane, arranged in parallel with the target equipment to be sucked for sucking gas from the target equipment to be sucked, and the motor. A vacuum pump system including a controller for controlling the rotation of the synchronization signal generating means for generating and outputting a predetermined synchronization signal, and the synchronization signal generating means for synchronizing with the predetermined synchronization signal input from the synchronization signal generating means. A vacuum pump system comprising: a synchronization means for synchronizing the rotation of a motor.
【請求項3】 回転翼及び該回転翼を回転駆動するモー
タとを内蔵し、被吸引対象設備より気体を吸引するため
該被吸引対象設備に対し並設された複数の真空ポンプ
と、前記モータの回転を制御するコントローラとを備
え、前記モータの回転数をすべて同一に制御することを
特徴とする真空ポンプの回転数制御方法。
3. A plurality of vacuum pumps each having a rotary blade and a motor for driving the rotary blade to rotate, the plurality of vacuum pumps provided in parallel with the suction target equipment for sucking gas from the suction target equipment, and the motor. And a controller for controlling the rotation of the motor, wherein the number of rotations of the motor is all controlled to be the same.
JP2002067803A 2002-03-13 2002-03-13 Vacuum pump system and rotating speed control method of vacuum pump Abandoned JP2003269373A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002067803A JP2003269373A (en) 2002-03-13 2002-03-13 Vacuum pump system and rotating speed control method of vacuum pump
US10/385,187 US20030175112A1 (en) 2002-03-13 2003-03-10 Vacuum pump system and vacuum pump RPM control method
DE60300663T DE60300663T2 (en) 2002-03-13 2003-03-11 Speed control for a vacuum pump system
EP03251461A EP1344941B1 (en) 2002-03-13 2003-03-11 RPM control for a vacuum pump system
KR10-2003-0015644A KR20030074415A (en) 2002-03-13 2003-03-13 Vacuum pump system and method for controlling revolutions of vacuum pump

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002067803A JP2003269373A (en) 2002-03-13 2002-03-13 Vacuum pump system and rotating speed control method of vacuum pump

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003269373A true JP2003269373A (en) 2003-09-25

Family

ID=29199059

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002067803A Abandoned JP2003269373A (en) 2002-03-13 2002-03-13 Vacuum pump system and rotating speed control method of vacuum pump

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003269373A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010523111A (en) * 2007-04-03 2010-07-15 デラヴァル ホルディング アーベー Method and computer program product in a milking system for producing a required decompression level
CN106968931A (en) * 2017-05-18 2017-07-21 广东美的制冷设备有限公司 Driven compressor system and its control method, device
CN112640040A (en) * 2018-08-06 2021-04-09 埃地沃兹日本有限公司 Detoxification system, detoxification device, and system control device
WO2024014736A1 (en) * 2022-07-12 2024-01-18 한온시스템 주식회사 Cooling water control module and pump control method therefor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010523111A (en) * 2007-04-03 2010-07-15 デラヴァル ホルディング アーベー Method and computer program product in a milking system for producing a required decompression level
CN106968931A (en) * 2017-05-18 2017-07-21 广东美的制冷设备有限公司 Driven compressor system and its control method, device
CN112640040A (en) * 2018-08-06 2021-04-09 埃地沃兹日本有限公司 Detoxification system, detoxification device, and system control device
WO2024014736A1 (en) * 2022-07-12 2024-01-18 한온시스템 주식회사 Cooling water control module and pump control method therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4287213B2 (en) Magnetic bearing device having vibration suppressing function, magnetic bearing device having vibration estimating function, and pump device equipped with the magnetic bearing device
JP2007327639A (en) Magnetic bearing unit
EP1344941B1 (en) RPM control for a vacuum pump system
US7390164B2 (en) Fixing structure for fixing rotor to rotor shaft, and turbo molecular pump having the fixing structure
EP1574719A2 (en) Method and apparatus to reduce vibrations in a pumping arrangement
JP6728821B2 (en) Magnetic bearing type vacuum pump
JP2003269373A (en) Vacuum pump system and rotating speed control method of vacuum pump
WO2021060003A1 (en) Vacuum pump and accessory unit of vacuum pump
JP5255752B2 (en) Turbo molecular pump
JP4481124B2 (en) Magnetic bearing device and turbomolecular pump equipped with the magnetic bearing device
JP2007231938A (en) Vacuum device, method of quickly reducing water vapor partial pressure in vacuum device, method of preventing rise of water vapor partial pressure in load lock chamber, and vacuum pump for vacuum device
JP5972944B2 (en) Apparatus having a vacuum pump and method for correcting the magnetic field of at least one component arranged in the vacuum pump and generating an interference magnetic field
EP4108946A1 (en) Vacuum pump controller and vacuum pump
JP4914165B2 (en) Damping device and damping method
JP2004100624A (en) Vacuum pump system
CN111902636B (en) Vacuum pump and control device for vacuum pump
WO2006030824A1 (en) Magnetic bearing control device
JP4127758B2 (en) Molecular pump control device and molecular pump device
JP2003293980A (en) Magnetic bearing type turbo molecular pump
JP7214805B1 (en) Magnetic bearing device and vacuum pump
JP2003148386A (en) Turbo-molecular pump, and method for operating turbo- molecular pump
WO2022264926A1 (en) Rare gas recovery system and rare gas recovery method
JP2005094852A (en) Motor control system and vacuum pump mounting same thereon
JP2003269368A (en) Vacuum pump
JPH04287896A (en) Magnetic bearing type turbo molecular pump

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20040108

A521 Written amendment

Effective date: 20040301

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A621 Written request for application examination

Effective date: 20050307

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A762 Written abandonment of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762

Effective date: 20050613