JP2003268072A - Active energy ray-curable epoxy resin-based solid composition - Google Patents

Active energy ray-curable epoxy resin-based solid composition

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JP2003268072A
JP2003268072A JP2002079130A JP2002079130A JP2003268072A JP 2003268072 A JP2003268072 A JP 2003268072A JP 2002079130 A JP2002079130 A JP 2002079130A JP 2002079130 A JP2002079130 A JP 2002079130A JP 2003268072 A JP2003268072 A JP 2003268072A
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JP
Japan
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epoxy resin
solid
active energy
energy ray
compound
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Application number
JP2002079130A
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Japanese (ja)
Inventor
Takaaki Tano
敬明 田野
Hideaki Futsuki
秀明 夫津木
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Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solid photo-cation-polymerizable epoxy resin which has excellent photocurability with active energy ray, gives the cured product having good physical properties, and has excellent storage stability. <P>SOLUTION: This solid epoxy resin having a softening point of 80 to 150°C and a number-average mol.wt. of 1,000 to 10,000 is obtained by reacting a hydrogenated bisphenol type epoxy compound represented by general formula 1 with a bisphenlo-based compound represented by general formula 2. An active energy ray-curable epoxy resin-based solid composition comprises the solid epoxy resin and a cationic polymerization initiator. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は紫外線などの活性エ
ネルギー線を照射することにより硬化する固形エポキシ
樹脂組成物に関する物である。さらに詳しくは、水素化
ビスフェノール型エポキシ化合物とビスフェノール系化
合物を反応させて得られる固形エポキシ樹脂に光カチオ
ン重合開始剤を配合して得られる光硬化性、貯蔵安定
性、密着性、耐薬品性などに優れた粉体塗料、コーティ
ング剤、接着剤、封止剤、成形材料、フイルム・シート
状材料等の用途に使用可能な光カチオン重合性エポキシ
樹脂系固形組成物に関する物である。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a solid epoxy resin composition which is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays. More specifically, photocurability, storage stability, adhesion, chemical resistance, etc. obtained by blending a photocationic polymerization initiator with a solid epoxy resin obtained by reacting a hydrogenated bisphenol type epoxy compound with a bisphenol compound. The present invention relates to a photocationically polymerizable epoxy resin-based solid composition which can be used for applications such as excellent powder coatings, coating agents, adhesives, sealants, molding materials, and film / sheet materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にエポキシ樹脂は、接着性、機械特
性、耐熱性、耐薬品性、電気特性などの優れた特徴によ
り、接着剤、塗料、土木建築材料、電気・電子部品材料
や絶縁材料などに幅広く使用されている。また、紫外線
や電子線などの活性エネルギー線で硬化する光カチオン
重合性の化合物としても知られている。光カチオン重合
性化合物には、エポキシ樹脂としてグリシジル基を持つ
グリシジルエーテルタイプのエポキシ樹脂や脂環式エポ
キシ樹脂、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物な
どがある。その中で、実使用においては脂環式エポキシ
とグリシジルエーテルタイプのエポキシ樹脂が良く使用
されるが、グリシジルエーテルエポキシ樹脂は、種類が
豊富であるが、多官能でないと硬化性が悪いという傾向
があった。
2. Description of the Related Art Generally, epoxy resins have excellent characteristics such as adhesiveness, mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, and electrical properties, and are used as adhesives, paints, civil engineering and construction materials, electric / electronic component materials, and insulating materials. Widely used in. It is also known as a photocationically polymerizable compound that cures with active energy rays such as ultraviolet rays and electron rays. Examples of the cationic photopolymerizable compound include a glycidyl ether type epoxy resin having a glycidyl group as an epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, a vinyl ether compound, and an oxetane compound. Among them, alicyclic epoxies and glycidyl ether type epoxy resins are often used in actual use. Glycidyl ether epoxy resins are rich in types, but tend to have poor curability unless they are polyfunctional. there were.

【0003】この傾向の中で、二官能でありながら光硬
化性や接着性及び耐候性に優れた特徴をもつエポキシ樹
脂として、水素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂が最
近注目されてきている。この樹脂は、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂と違
い芳香環を含まない構造であるため、紫外領域での光の
吸収がほとんどなく、光重合開始剤の光吸収・分解によ
る樹脂の硬化を妨げない上、光が継続的に当たったとき
の黄変(汎用ビスフェノールA型エポキシ樹脂に見られ
る外観が黄色く着色する)現象がほとんど起こらないと
いった特徴をもっている。その他、実使用されている脂
環式エポキシ樹脂と違い、光硬化させた時の耐水性、耐
溶剤性が良く、硬化収縮率も低いという特徴を持ってい
る為、良好な塗膜が得られる。それゆえ、カチオン重合
性硬化樹脂の中では、実使用可能な性能とコストをあわ
せ持った材料として非常に期待されている。
In this tendency, a hydrogenated bisphenol A type epoxy resin has recently been attracting attention as an epoxy resin which is bifunctional and excellent in photocurability, adhesiveness and weather resistance. This resin is bisphenol A
Since it has a structure that does not contain an aromatic ring unlike type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin, it hardly absorbs light in the ultraviolet region and does not hinder the curing of the resin due to the light absorption and decomposition of the photopolymerization initiator. It is characterized in that the phenomenon of yellowing (the appearance of general-purpose bisphenol A type epoxy resin is colored yellow) hardly occurs when it is continuously exposed to light. In addition, unlike the alicyclic epoxy resin that is actually used, it has the characteristics of good water resistance and solvent resistance when photocured, and also has a low curing shrinkage ratio, so a good coating film can be obtained. . Therefore, among the cationically polymerizable cured resins, there are great expectations as a material that has both practically usable performance and cost.

【0004】従来、この水素化ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂のようなシクロヘキサン環を有するグリシジル
エーテル化合物の一般的な製造法としては、シクロヘキ
サン環を有するアルコール化合物の水酸基をエピクロル
ヒドリンを用いてグリシジルエーテル化する方法により
合成されている。しかし、このような従来の製造法によ
って得られる化合物は、水酸基が単にグリシジルエーテ
ル化されたものが主成分であり、一旦生成したエポキシ
基が再度反応することにより生成するオリゴマーないし
はポリマー成分の含有量が少ないものであった。
Conventionally, as a general method for producing a glycidyl ether compound having a cyclohexane ring such as this hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, a method of glycidyl etherifying a hydroxyl group of an alcohol compound having a cyclohexane ring with epichlorohydrin is used. Is synthesized by. However, the compound obtained by such a conventional production method is mainly composed of a compound in which a hydroxyl group is simply glycidyl etherified, and the content of an oligomer or a polymer component produced by the reaction of an epoxy group once produced again. There were few.

【0005】そのため、この方法で得られる物の製品形
状は液状であり、固形物を粉末状にして使用する粉体塗
料などの用途には基本的に使用できず、固形のビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂等に配合したとしても軟化点が
低くなり貯蔵中にブロッキングを起こすため使用に耐え
ない。また、硬化物に耐熱性を必要とする場合、硬化前
の樹脂組成物の分子量が高い方がガラス転移温度の高い
硬化物が得られやすいが、このような場合にも液状で分
子量の低いものでは硬化後のガラス転移温度が低く目的
とする耐熱性が得られないという問題があった。
Therefore, the product obtained by this method is in a liquid form, and cannot be basically used for applications such as powder coatings in which a solid substance is used in the form of powder, and a solid bisphenol A type epoxy resin. Even if it is blended with, etc., it cannot be used because it has a low softening point and causes blocking during storage. Further, when the cured product requires heat resistance, a cured product having a higher glass transition temperature is more likely to be obtained when the resin composition before curing has a higher molecular weight. However, there is a problem that the glass transition temperature after curing is low and the desired heat resistance cannot be obtained.

【0006】これに対し、固形のビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂では、貯
蔵安定性の問題は解決できても、分子中にしめる芳香環
の割合が大きいため、光硬化性に劣るという欠点があっ
た。
On the other hand, solid bisphenol A type epoxy resins and bisphenol F type epoxy resins can solve the problem of storage stability, but are inferior in photocurability because of the large proportion of aromatic rings in the molecule. There was a flaw.

【0007】また、上記のシクロヘキサン環を有するグ
リシジルエーテル化合物の一般的な製造法のほかに芳香
族エポキシ樹脂を有機溶媒に溶解し、ロジウム又はルテ
ニウムをグラファイトに担持したような特殊で高価な触
媒の存在下、芳香環を選択的に水素化反応する方法でも
シクロヘキサン環を有するグリシジルエーテル化合物が
得られる。この方法であると分子量が高い芳香族エポキ
シ樹脂を水素化することでオリゴマーやポリマー成分を
含んだ固形のものは得られるものの、製造も容易ではな
くコストもかかる方法であった。
In addition to the above-mentioned general method for producing a glycidyl ether compound having a cyclohexane ring, a special and expensive catalyst prepared by dissolving an aromatic epoxy resin in an organic solvent and supporting rhodium or ruthenium on graphite is used. A glycidyl ether compound having a cyclohexane ring can also be obtained by a method of selectively hydrogenating an aromatic ring in the presence. According to this method, although a solid product containing an oligomer or a polymer component can be obtained by hydrogenating an aromatic epoxy resin having a high molecular weight, it is a process that is not easy to manufacture and is costly.

【0008】これらの状況より、水素化ビスフェノール
A型エポキシ樹脂の光硬化性や光硬化物物性を活かし、
容易に製造できる貯蔵安定性に優れた固形の光カチオン
重合性エポキシ樹脂が望まれていた。
From these circumstances, the photocurability and photocurable physical properties of hydrogenated bisphenol A type epoxy resin are utilized,
There has been a demand for a solid cationic photopolymerizable epoxy resin which can be easily produced and has excellent storage stability.

【0009】[0009]

【問題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、従来のグリ
シジルエーテル化の方法で得られた一般式1
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies conducted by the present inventors to solve the above-mentioned problems, the general formula 1 obtained by the conventional glycidyl etherification method was used.

【化1】 (Rは水素原子またはC1〜5のアルキル基、a、bは
1〜4の自然数、Yは1〜10のアルキレン基、アルキ
リデン基または直接結合を示し、mは0〜2、G1、G
2は水素原子またはグリシジル基を示す。但し、G1、
G2共に水素原子であることはない)で表される水素化
ビスフェノール型エポキシ化合物と一般式2
[Chemical 1] (R is a hydrogen atom or a C1-5 alkyl group, a and b are natural numbers of 1 to 4, Y is an alkylene group of 1 to 10, an alkylidene group or a direct bond, m is 0 to 2, G1 and G.
2 represents a hydrogen atom or a glycidyl group. However, G1,
G2 is not a hydrogen atom) and a hydrogenated bisphenol type epoxy compound represented by the general formula 2

【化2】 (Rは水素原子またはC1〜5のアルキル基またはハロ
ゲン原子、c、dは1〜4の自然数、Zは1〜10のア
ルキレン基、アルキリデン基または直接結合を示す)で
表されるビスフェノール系化合物を反応させて得られる
ものであり、軟化点が80℃〜150℃、数平均分子量
が1000〜10000である固形エポキシ樹脂とカチ
オン重合開始剤を配合してなる固形エポキシ樹脂組成物
が光硬化性及び貯蔵安定性に優れることを見出した。
[Chemical 2] (R is a hydrogen atom or a C1-5 alkyl group or a halogen atom, c and d are natural numbers of 1 to 4, Z is an alkylene group of 1 to 10, an alkylidene group or a direct bond). The solid epoxy resin composition obtained by mixing a solid epoxy resin having a softening point of 80 ° C. to 150 ° C. and a number average molecular weight of 1,000 to 10,000 and a cationic polymerization initiator is photocurable. It was also found that it has excellent storage stability.

【0010】即ち、本発明は、水素化ビスフェノールA
型エポキシ樹脂等のシクロヘキサン環を持つ液状の水素
化ビスフェノール型エポキシ化合物にビスフェノールA
等のビスフェノール系化合物を反応させて得られる固形
エポキシ樹脂にカチオン重合開始剤を配合し、活性エネ
ルギー線で硬化させることによって、密着性、耐薬品性
などに優れた硬化物や塗膜が得られる光硬化性、貯蔵安
定性に優れた光カチオン重合性エポキシ樹脂系固形組成
物を提供するものである。
That is, the present invention relates to hydrogenated bisphenol A.
Bisphenol A to liquid hydrogenated bisphenol type epoxy compound having cyclohexane ring such as epoxy resin
By mixing a cationic polymerization initiator into a solid epoxy resin obtained by reacting a bisphenol compound such as, and curing with an active energy ray, a cured product or coating film having excellent adhesion, chemical resistance, etc. can be obtained. Provided is a photocationically polymerizable epoxy resin-based solid composition excellent in photocurability and storage stability.

【0011】[0011]

【発明の細部構成と作用】本発明の組成物に用いられる
固形エポキシ樹脂の合成方法をさらに詳しく説明する
と、まず第一段階として一般的な公知の方法でシクロヘ
キサン環を有するアルコール化合物の水酸基をグリシジ
ルエーテル化しエポキシ化合物を得る。このエポキシ化
合物は、水素化ビスフェノール型化合物とエピクロルヒ
ドリンとを反応させることにより得ることができる。こ
のとき、トルエンやキシレンなどの不活性溶剤中でアミ
ンやルイス酸などの触媒を用いて付加反応を行なった後
に、NaOHなどのアルカリを用いて閉環反応を経る2
段階の反応方法やエピクロルヒドリン溶媒中でアルカリ
を用いて直接1段階で反応させる方法を用いても合成で
きる。
Detailed Structure and Function of the Invention The synthetic method of the solid epoxy resin used in the composition of the present invention will be described in more detail. First, as a first step, a hydroxyl group of an alcohol compound having a cyclohexane ring is converted to a glycidyl group by a generally known method. Etherification gives an epoxy compound. This epoxy compound can be obtained by reacting a hydrogenated bisphenol type compound with epichlorohydrin. At this time, an addition reaction is carried out using a catalyst such as an amine or a Lewis acid in an inert solvent such as toluene or xylene, and then a ring closure reaction is carried out using an alkali such as NaOH.
It can also be synthesized by using a one-step reaction method or a method of directly reacting in one step using an alkali in an epichlorohydrin solvent.

【0012】次に、上記の反応の結果得られた水素化ビ
スフェノール型エポキシ化合物とビスフェノール系化合
物とを反応させる。これは、水素化ビスフェノール型エ
ポキシ化合物のエポキシ基とビスフェノール系化合物の
水酸基との連続的な反応であり、両者を目的とする分子
量が得られる割合で仕込んだ後、混合、溶融させ、無溶
媒下、トリエチルアミン等のアミン系触媒、テトラメチ
ルアンモニウムクロライドなど第四級アンモニウム塩触
媒、トリフェニルホスフィンやテトラブチルホスホニウ
ムブロマイド等のリン系触媒などを用いてビスフェノー
ル系化合物の水酸基がほぼなくなるまで反応させること
により目的とする固形エポキシ樹脂が得られる。
Next, the hydrogenated bisphenol type epoxy compound obtained as a result of the above reaction is reacted with a bisphenol compound. This is a continuous reaction between an epoxy group of a hydrogenated bisphenol type epoxy compound and a hydroxyl group of a bisphenol type compound, and after charging both at a ratio to obtain a target molecular weight, they are mixed and melted under a solvent-free condition. By using an amine-based catalyst such as triethylamine, a quaternary ammonium salt catalyst such as tetramethylammonium chloride, or a phosphorus-based catalyst such as triphenylphosphine or tetrabutylphosphonium bromide until the hydroxyl groups of the bisphenol compound are almost eliminated. The desired solid epoxy resin is obtained.

【0013】本発明におけるシクロヘキサン環を持つ水
素化ビスフェノール型エポキシ化合物としては、例えば
水素化ビスフェノールA・ジグリシジルエーテル、水素
化ビスフェノールF・ジグリシジルエーテル、水素化ビ
スフェノールAD・ジグリシジルエーテル、水素化フェ
ノールノボラック・ポリグリシジルエーテル、水素化ク
レゾールノボラック・ポリグリシジルエーテル、水素化
ナフタレンジオール・ジグリシジルエーテル、水素化レ
ゾルシン・ジグリシジルエーテル、水素化ビフェノール
・ジグリシジルエーテル、水素化テトラメチルビフェノ
ール・ジグリシジルエーテル、水素化トリスフェノール
メタン・ポリグリシジルエーテルなどを挙げることがで
きる。なお、これらのものは元のアルコール化合物の水
酸基が完全にグリシジルエーテル化されていなくても良
い。
Examples of the hydrogenated bisphenol type epoxy compound having a cyclohexane ring in the present invention include hydrogenated bisphenol A / diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F / diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol AD / diglycidyl ether and hydrogenated phenol. Novolak polyglycidyl ether, hydrogenated cresol novolac polyglycidyl ether, hydrogenated naphthalenediol diglycidyl ether, hydrogenated resorcin diglycidyl ether, hydrogenated biphenol diglycidyl ether, hydrogenated tetramethyl biphenol diglycidyl ether, Examples thereof include hydrogenated trisphenol methane / polyglycidyl ether. The hydroxyl groups of the original alcohol compound may not be completely glycidyl etherified.

【0014】本発明における固形エポキシ樹脂の数平均
分子量及び軟化点は、目的とする性能が得られるよう水
素化ビスフェノール型エポキシ化合物とビスフェノール
系化合物との仕込割合や化合物の種類、触媒の種類や添
加量、反応条件等により任意に調整できるが、生成物の
数平均分子量は1000〜10000が好ましく、さら
に好ましくは1200〜6000である。また、軟化点
は80〜150℃が好ましく、さらに好ましくは90〜
120℃である。数平均分子量が1000以下のものや
軟化点80℃以下のものではオリゴマー体の生成量が少
ないため、貯蔵安定性が悪く光硬化物の耐熱性を上げる
事が出来ず、また数平均分子量10000以上や軟化点
150℃以上では高重合体が生成しすぎ、実使用での取
り扱いが難しく、光硬化後の外観も悪くなる。
The number average molecular weight and the softening point of the solid epoxy resin in the present invention are determined by the proportion of the hydrogenated bisphenol type epoxy compound and the bisphenol compound, the kind of the compound, the kind and the addition of the catalyst so that the desired performance can be obtained. The number average molecular weight of the product is preferably 1000 to 10000, more preferably 1200 to 6000, though it can be adjusted optionally depending on the amount, reaction conditions and the like. The softening point is preferably 80 to 150 ° C., more preferably 90 to
It is 120 ° C. If the number average molecular weight is 1000 or less or the softening point is 80 ° C. or less, the amount of oligomers formed is small, so that the storage stability is poor and the heat resistance of the photocured product cannot be increased, and the number average molecular weight is 10,000 or more. If the softening point is 150 ° C. or higher, a high polymer is excessively formed, which makes it difficult to handle in actual use and the appearance after photocuring becomes poor.

【0015】本発明に使用する光カチオン重合開始剤
は、紫外線の照射によってエポキシ基のカチオン重合を
開始する化合物であれば、イオン性光発生タイプであっ
ても良いし、非イオン性光発生タイプであっても良い。
The cationic photopolymerization initiator used in the present invention may be an ionic photogenerating type or a nonionic photogenerating type as long as it is a compound that initiates cationic polymerization of an epoxy group by irradiation of ultraviolet rays. May be

【0016】上記イオン性光酸発生タイプの光カチオン
重合開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩、
芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩等のオニ
ウム塩や、鉄−アレン錯体等の有機金属錯体類等が挙げ
られ、これらの1種もしくは2種以上が使用される。
Examples of the ionic photoacid generating type photocationic polymerization initiator include aromatic iodonium salts,
Examples thereof include onium salts such as aromatic sulfonium salts and aromatic diazonium salts, and organic metal complexes such as iron-arene complexes, and one or more of these may be used.

【0017】上記イオン性光酸発生タイプの光カチオン
重合開始剤の具体例としては、特に限定されるものでは
ないが、例えば、芳香族スルホニウム塩には、ビス[4
−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィドビス
ヘキサフルオロフォスフェート、ビス[4−(ジフェニ
ルスルホニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフルオ
ロアンチモネート、ビス[4−(ジフェニルスルホニ
オ)フェニル]スルフィドビステトラフルオロボレー
ト、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]ス
ルフィドテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレー
ト、ジフェニル−4−(フェニルチオ)フェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニル−4
−(フェニルチオ)フェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジフェニル−4−(フェニルチオ)
フェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェ
ニル−4−(フェニルチオ)フェニルスルホニウムテト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェ
ニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリ
フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ト
リフェニルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)ボレート、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロ
キシエトキシ))フェニルスルホニオ)フェニル]スル
フィドビスヘキサフルオロフォスフェート、ビス[4−
(ジ(4−(2−ヒドロキシエトキシ))フェニルスル
ホニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフルオロアン
チモネート、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエ
トキシ))フェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド
ビステトラフルオロボレート、ビス[4−(ジ(4−
(2−ヒドロキシエトキシ))フェニルスルホニオ)フ
ェニル]スルフィドテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート等;芳香族ヨードニウム塩には、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジフェ
ニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフ
ェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニ
ルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキ
サフルオロフォスフェート、ビス(ドデシルフェニル)
ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(ド
デシルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレー
ト、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムテトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−メチルフェ
ニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨードニウム
ヘキサフルオロフォスフェート、4−メチルフェニル−
4−(1−メチルエチル)フェニルヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネート、4−メチルフェニル−4−
(1−メチルエチル)フェニルヨードニウムテトラフル
オロボレート、4−メチルフェニル−4−(1−メチル
エチル)フェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフル
オロフェニル)ボレート等;芳香族ジアゾニウム塩に
は、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロフォスフェー
ト、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、フェニルジアゾニウムテトラフルオロボレート、フ
ェニルジアゾニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート等、が挙げられ、これらの1種もしくは2
種以上が挙げられる。また、2種類以上の光カチオン重
合開始剤を併用する場合、有効活性波長の異なる2種類
以上の光カチオン重合開始剤を用いて多段階硬化をさせ
ても良い。
Specific examples of the above-mentioned cationic photopolymerization initiator of the ionic photoacid generating type are not particularly limited, but for example, aromatic sulfonium salts include bis [4].
-(Diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluorophosphate, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bistetrafluoroborate, Bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diphenyl-4- (phenylthio) phenylsulfonium hexafluorophosphate, diphenyl-4
-(Phenylthio) phenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl-4- (phenylthio)
Phenylsulfonium tetrafluoroborate, diphenyl-4- (phenylthio) phenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate,
Triphenylsulfonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis [4- (di (4- (2-hydroxyethoxy)) phenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluorophosphate, bis [4 −
(Di (4- (2-hydroxyethoxy)) phenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate, bis [4- (di (4- (2-hydroxyethoxy)) phenylsulfonio) phenyl] sulfidebistetra Fluoroborate, bis [4- (di (4-
(2-hydroxyethoxy)) phenylsulfonio) phenyl] sulfide tetrakis (pentafluorophenyl) borate, etc .; aromatic iodonium salts include diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium tetrafluoroborate, Diphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl)
Borate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (dodecylphenyl)
Iodonium hexafluoroantimonate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrafluoroborate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 4-methylphenyl-4- (1-methylethyl) phenyliodonium hexafluorophosphate, 4-methylphenyl-
4- (1-methylethyl) phenyliodonium hexafluoroantimonate, 4-methylphenyl-4-
(1-Methylethyl) phenyliodonium tetrafluoroborate, 4-methylphenyl-4- (1-methylethyl) phenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, etc .; aromatic diazonium salts include phenyldiazonium hexafluorophosphate, Phenyldiazonium hexafluoroantimonate, phenyldiazonium tetrafluoroborate, phenyldiazonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and the like, and one or two of these
There are more than one species. When two or more kinds of photocationic polymerization initiators are used in combination, two or more kinds of photocationic polymerization initiators having different effective active wavelengths may be used for multistage curing.

【0018】本発明により製造された固形エポキシ樹脂
100重量部に対する上記光カチオン重合開始剤の配合
量は特に限定されるものではないが、0.1〜10重量
部が好ましく、特に1〜5重量部が好ましい。0.1重
量部以下であるとエネルギー線照射時に開始剤が発生す
る酸の発生量が少なすぎて充分な硬化物が得られず、1
0重量部を超えると開始剤から発生する酸の量が多くな
り、最終的に硬化物中に残存する不純物量が多くなりす
ぎ、硬化物周辺へ腐食などの悪影響を及ぼす。
The amount of the above-mentioned photo-cationic polymerization initiator to be added to 100 parts by weight of the solid epoxy resin produced by the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 parts by weight, particularly 1 to 5 parts by weight. Parts are preferred. When the amount is 0.1 part by weight or less, the amount of acid generated by the initiator upon irradiation with energy rays is too small to obtain a sufficient cured product, and 1
If it exceeds 0 parts by weight, the amount of acid generated from the initiator increases, and the amount of impurities remaining in the cured product finally increases too much, which adversely affects the periphery of the cured product such as corrosion.

【0019】なお、上記硬化性組成物には、本発明によ
り製造された水素化ビスフェノール型エポキシ化合物が
必須であるが、単体使用に限定されるものではなく、本
発明の樹脂組成物本来の性質を損なわない範囲において
他種類のグリシジルエーテル型エポキシ化合物、脂環式
エポキシ化合物およびオキセタン化合物等を混合しても
良い。
Although the hydrogenated bisphenol type epoxy compound produced by the present invention is essential for the above-mentioned curable composition, the curable composition is not limited to the use as a single substance, but the original properties of the resin composition of the present invention. Other types of glycidyl ether type epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, oxetane compounds and the like may be mixed within the range that does not impair the above.

【0020】本発明の樹脂組成物は活性エネルギー線を
照射することにより活性化され、光カチオン重合開始物
質を発生して、比較的低エネルギーで重合が開始し、硬
化する。活性エネルギー線としては、特に限定されるも
のではないが、例えばマイクロ波、赤外線、可視光、紫
外線、X線、γ線、電子線等が挙げられ、好ましくはそ
の中でも簡便で経済的な紫外線が使用される。
The resin composition of the present invention is activated by irradiating it with an active energy ray to generate a photocationic polymerization initiation substance, and the polymerization is initiated with a relatively low energy to cure. The active energy rays are not particularly limited, but include, for example, microwaves, infrared rays, visible light, ultraviolet rays, X-rays, γ rays, electron beams, and the like, preferably, among them, simple and economical ultraviolet rays. used.

【0021】上記の紫外線の光源は、特に限定されるも
のではないが、例えば水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超
高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ等があり、好ましくは水銀ランプ、高圧水銀ランプが
使用される。
The above-mentioned ultraviolet light source is not particularly limited, and examples thereof include a mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp and a metal halide lamp, and a mercury lamp and a high-pressure mercury lamp are preferable. used.

【0022】以下、本発明の詳細を合成例及び実施例に
より具体的に説明する。ただし、本発明はその要旨を越
えない限りにおいて、以下の実施例に制約されるもので
はない。
The details of the present invention will be specifically described below with reference to synthesis examples and examples. However, the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.

【0023】[0023]

【合成例1】撹拌機、温度計、コンデンサー、滴下ロー
トを備えた1Lの四つ口フラスコに、水素化ビスフェノ
ールAを125g、トルエン375g、四塩化スズ2g
を仕込み、次に60℃でエピクロルヒドリン102gを
滴下し、さらに30分攪拌した。その後、同温度で20
%NaOH240gを添加し、2時間反応させた。これ
の水層を分離し、油層を再度、20%NaOH120g
を添加して、60℃、2時間反応させた。この後再度水
層を分離し、さらに蒸留水100gで水洗、分離した
後、油層のトルエンを留去し、粘稠液体の水素化ビスフ
ェノールA型エポキシ化合物を得た。続いて、撹拌機、
温度計を備えた1Lのセパラブルフラスコに、上記で合
成した生成物185g、ビスフェノールA75gを仕込
み、テトラメチルアンモニウムクロライド0.5gを添
加した後、150℃で12時間反応させた。反応終了
後、生成物を取り出した後、冷却、粉砕し、エポキシ当
量1400、軟化点98℃の微黄色固体を得た。このも
ののは、GPC分析法により分子量を求めると、数平均
分子量が2500であった。また、50%のアニソール
溶液での色数はガードナー1以下であった。
[Synthesis Example 1] 125 g of hydrogenated bisphenol A, 375 g of toluene, and 2 g of tin tetrachloride were placed in a 1 L four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, and a dropping funnel.
Then, 102 g of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C., and the mixture was further stirred for 30 minutes. Then, at the same temperature, 20
% NaOH 240g was added and it was made to react for 2 hours. The aqueous layer was separated, and the oil layer was added again with 120 g of 20% NaOH.
Was added and reacted at 60 ° C. for 2 hours. After this, the aqueous layer was separated again, washed with 100 g of distilled water and separated, and then the toluene of the oil layer was distilled off to obtain a viscous liquid hydrogenated bisphenol A type epoxy compound. Then, a stirrer,
A 1 L separable flask equipped with a thermometer was charged with 185 g of the product synthesized above and 75 g of bisphenol A, 0.5 g of tetramethylammonium chloride was added, and the mixture was reacted at 150 ° C. for 12 hours. After completion of the reaction, the product was taken out, cooled and pulverized to obtain a slightly yellow solid having an epoxy equivalent of 1400 and a softening point of 98 ° C. This product had a number average molecular weight of 2,500 as determined by GPC analysis. The color number with a 50% anisole solution was Gardner 1 or less.

【0024】[0024]

【合成例2】合成例1で得られた水素化ビスフェノール
A型エポキシ化合物185g、ビスフェノールA84g
を仕込み、テトラメチルアンモニウムクロライド0.5
gを添加した後、窒素気流下150℃で15時間反応さ
せた。反応終了後、生成物を冷却、粉砕し、エポキシ当
量2350、軟化点119℃の微黄色固体を得た。この
ものは、GPC分析より数平均分子量4300、50%
アニソール溶液での色数はガードナー1以下であった。
[Synthesis Example 2] 185 g of the hydrogenated bisphenol A type epoxy compound obtained in Synthesis Example 1 and 84 g of bisphenol A
Charged with tetramethylammonium chloride 0.5
After adding g, the mixture was reacted at 150 ° C. for 15 hours under a nitrogen stream. After completion of the reaction, the product was cooled and pulverized to obtain a slightly yellow solid having an epoxy equivalent of 2350 and a softening point of 119 ° C. This product has a number average molecular weight of 4300 and 50% according to GPC analysis.
The number of colors in the anisole solution was Gardner 1 or less.

【0025】[0025]

【合成例3】ビスフェノールAをビスフェノールF66
gに変更した以外は合成例1と同様の条件で反応を行
い、エポキシ当量1350、軟化点91℃の微黄色固体
を得た。このものは、GPC分析より数平均分子量25
00、50%アニソール溶液での色数はガードナー1以
下であった。
[Synthesis Example 3] Bisphenol A to bisphenol F66
The reaction was performed under the same conditions as in Synthesis Example 1 except that the amount was changed to g to obtain a slightly yellow solid having an epoxy equivalent of 1350 and a softening point of 91 ° C. This product has a number average molecular weight of 25 by GPC analysis.
The number of colors in the 00, 50% anisole solution was Gardner 1 or less.

【0026】[0026]

【合成例4】ビスフェノールAをテトラブロモビスフェ
ノールA161gに変更した以外は合成例2と同様の条
件で反応を行い、エポキシ当量1450、軟化点115
℃の微黄色固体を得た。このものは、GPC分析より数
平均分子量2800、50%アニソール溶液での色数は
ガードナー1であった。
[Synthesis Example 4] The reaction was performed under the same conditions as in Synthesis Example 2 except that 161 g of tetrabromobisphenol A was used instead of bisphenol A, and the epoxy equivalent was 1450 and the softening point was 115.
A slightly yellow solid at 0 ° C. was obtained. According to GPC analysis, this product had a number average molecular weight of 2,800 and the color number in a 50% anisole solution was Gardner 1.

【0027】[0027]

【比較合成例1】ビスフェノールAの量を41gに変更
した以外は合成例2と同様の条件で反応を行い、エポキ
シ当量455、軟化点70℃の微黄色固体を得た。この
ものは、GPCより数平均分子量850、50%アニソ
ール溶液での色数はガードナー1以下であった。
[Comparative Synthesis Example 1] The reaction was carried out under the same conditions as in Synthesis Example 2 except that the amount of bisphenol A was changed to 41 g to obtain a slightly yellow solid having an epoxy equivalent of 455 and a softening point of 70 ° C. According to GPC, this product had a number average molecular weight of 850 and a color number in a 50% anisole solution was Gardner 1 or less.

【0028】[0028]

【比較合成例2】ビスフェノールAの量を93g、テト
ラメチルアンモニウムクロライドの量を1.5gに変更
した以外は合成例2と同様の条件で反応を行い、エポキ
シ当量7000、軟化点155℃の微黄色固体を得た。
このものは、GPC分析より数平均分子量12000、
50%アニソール溶液での色数はガードナー1以下であ
った。
[Comparative Synthesis Example 2] The reaction was carried out under the same conditions as in Synthesis Example 2 except that the amounts of bisphenol A and tetramethylammonium chloride were changed to 93 g and 1.5 g, respectively, and the epoxy equivalent was 7,000 and the softening point was 155 ° C. A yellow solid was obtained.
According to GPC analysis, this product has a number average molecular weight of 12,000,
The number of colors in the 50% anisole solution was Gardner 1 or less.

【0029】[0029]

【比較合成例3】合成例1で合成した水素化ビスフェノ
ールA型エポキシ化合物をビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル(ジャパンエポキシレジン(株)製エピコート
828)157gに変更した以外は合成例1と同様の条
件で反応を行い、エポキシ当量1320、軟化点109
℃の微黄色固体を得た。このものは、GPC分析より数
平均分子量2500、50%アニソール溶液での色数は
ガードナー1以下であった。
COMPARATIVE SYNTHESIS EXAMPLE 3 Under the same conditions as in Synthesis Example 1, except that the hydrogenated bisphenol A type epoxy compound synthesized in Synthesis Example 1 was changed to 157 g of bisphenol A diglycidyl ether (Epicoat 828 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). The reaction is carried out to obtain an epoxy equivalent of 1320 and a softening point of 109.
A slightly yellow solid at 0 ° C. was obtained. According to GPC analysis, this product had a number average molecular weight of 2500 and the color number in a 50% anisole solution was Gardner 1 or less.

【0030】合成例1〜4及び比較合成例1〜3で得ら
れた固形エポキシ樹脂化合物の測定値を第1表にまとめ
て示した。
The measured values of the solid epoxy resin compounds obtained in Synthesis Examples 1 to 4 and Comparative Synthesis Examples 1 to 3 are summarized in Table 1.

【0031】[0031]

【表1】 [Table 1]

【0032】[0032]

【実施例1〜5】合成例1〜4で得られた固形エポキシ
樹脂100重量部に光カチオン重合開始剤としてトリア
リルスルフォニウム ヘキサフルオロフォスフェート塩
混合物(ユニオン・カーバイド日本(株)製「UVI−6
990」)またはビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキ
シエトキシ))フェニルスルホニオ)フェニル]スルフ
ィドビスヘキサフルオロアンチモネート(旭電化工業
(株)製「アデカオプトマーSP−170」)2重量部を
添加し、混合した後、二軸ニーダーを用いて溶融混合し
た。得られた混練物を冷却、固化した後、粉砕し150
メッシュのふるいで濾過してエポキシ樹脂系固形組成物
を得た。得られた組成物の貯蔵安定性を評価した。結果
を表1に示した。
Examples 1 to 5 100 parts by weight of the solid epoxy resins obtained in Synthesis Examples 1 to 4 were mixed with triallylsulfonium hexafluorophosphate salt as a photocationic polymerization initiator (manufactured by Union Carbide Japan Co., Ltd. UVI-6
990 ") or bis [4- (di (4- (2-hydroxyethoxy)) phenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate (Asahi Denka Co., Ltd.
(Adeka Optomer SP-170, manufactured by Co., Ltd.) was added and mixed, and then melt-mixed using a biaxial kneader. The obtained kneaded product is cooled and solidified, and then crushed to 150
It was filtered through a mesh sieve to obtain an epoxy resin-based solid composition. The storage stability of the obtained composition was evaluated. The results are shown in Table 1.

【0033】また、この組成物を前処理としてアセトン
で洗浄した鋼板に膜厚が約30μmになるように塗装
し、乾燥器で150℃で5分間加熱溶融して塗膜を形成
後、高圧水銀灯(コールドミラー付き、ランプ出力80
W/cm)を用い、紫外線を照射し、硬化させた。この
ようにして得られた試験片の塗膜性能を測定した。結果
を第2表に示した。
Further, this composition was applied as a pretreatment to a steel plate washed with acetone so that the film thickness was about 30 μm, and was heated and melted at 150 ° C. for 5 minutes in a dryer to form a coating film. (With cold mirror, lamp output 80
(W / cm) and irradiated with ultraviolet rays to cure. The coating film performance of the test piece thus obtained was measured. The results are shown in Table 2.

【0034】評価方法は以下の通りである。尚、塗膜外
観、密着性、耐溶剤性の評価は、紫外線を800mJ/
cm照射した塗膜を評価した。 光硬化性・・・紫外線照射した塗膜を、メチルエチルケ
トンを含浸させた脱脂綿で5回ラビングし、膨潤または
溶解しない最小紫外線照射量(mJ/cm)を測定し
た。照射量が200mJ/cm以下の物を○、200
〜400mJ/cmの物を△、400mJ/cm
上の物を×と評価した。 貯蔵安定性・・・得られた粉末を50mlのアルミカッ
プ(上径58mm、下径42mm)に高さが1cmにな
るように入れ、30℃で7日間静置した後、その状態を
観察した。全く固まりがなく良好な物を○、多少固まり
が発生しているが、指で押すとほぐれる物を△、固まり
が発生し、指で押してもほぐれない物を×と評価した。 塗膜外観・・・塗膜の仕上がりの外観を観察した。光沢
があり、平滑性に優れる物を○、光沢や平滑性が若干劣
る物を△、光沢や平滑性が劣る物を×と評価した。 密着性・・・最小紫外線照射量の2倍量紫外線照射した
JIS K5400碁盤目テープ法に準じて評価した。 耐溶剤性・・・塗膜を各溶剤(エタノール,メチルエチ
ルケトン)を含浸させた脱脂綿で5回ラビングした後、
塗膜の状態を目視により観察した。塗膜に変化のないも
のを○と評価し、光沢が低下したものを△と評価し、剥
離または溶解したものを×と評価した。
The evaluation method is as follows. In addition, the coating film appearance, adhesion, and solvent resistance were evaluated by using ultraviolet light of 800 mJ /
The coating film irradiated with cm 2 was evaluated. Photocurability: The coating film irradiated with ultraviolet rays was rubbed 5 times with absorbent cotton impregnated with methyl ethyl ketone, and the minimum ultraviolet irradiation amount (mJ / cm 2 ) that did not swell or dissolve was measured. ○, 200 for irradiation dose of 200 mJ / cm 2 or less
~400mJ / cm 2 of things △, was evaluated as × 400 mJ / cm 2 or more things. Storage stability: The obtained powder was placed in a 50 ml aluminum cup (upper diameter 58 mm, lower diameter 42 mm) so that the height was 1 cm, and allowed to stand at 30 ° C. for 7 days, and then the state was observed. . A good product without any lumps was evaluated as ◯, a product that was slightly lumped but was loosened when pressed with a finger was evaluated as Δ, and a product that was lumped and was not loosened even with a finger was evaluated as ×. Appearance of coating film ... The appearance of the finish of the coating film was observed. A product having gloss and excellent smoothness was evaluated as ◯, a product having slightly poor gloss and smoothness was evaluated as Δ, and a product having poor gloss and smoothness was evaluated as x. Adhesion ... Evaluated according to JIS K5400 cross-cut tape method in which twice the minimum ultraviolet irradiation amount was irradiated. Solvent resistance: After rubbing the coating film 5 times with absorbent cotton impregnated with each solvent (ethanol, methyl ethyl ketone),
The state of the coating film was visually observed. When the coating film did not change, it was evaluated as ◯, when the gloss was decreased, it was evaluated as Δ, and when peeled or dissolved, it was evaluated as x.

【0035】[0035]

【比較例1〜3】比較合成例1〜3で得られた固形エポ
キシ樹脂化合物を実施例1〜3と同様の操作を行い、硬
化させた後、同様に評価を行った。結果を第2表に示し
た。
[Comparative Examples 1 to 3] The solid epoxy resin compounds obtained in Comparative Synthesis Examples 1 to 3 were cured in the same manner as in Examples 1 to 3, and then evaluated in the same manner. The results are shown in Table 2.

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明による固形の光カチオン重合性エ
ポキシ樹脂は、貯蔵安定性に優れるとともに、活性エネ
ルギー線での光硬化性に優れ、その硬化物は密着性、耐
薬品性などの点で良好な性能を示す。この特長を利用
し、粉体塗料、コーティング剤、接着剤、封止剤、成形
材料、フイルム・シート状材料等幅広い分野に応用でき
る。
The solid photocationically polymerizable epoxy resin according to the present invention is excellent in storage stability and photocurability with active energy rays, and the cured product thereof has good adhesion and chemical resistance. Shows good performance. Utilizing this feature, it can be applied to a wide range of fields such as powder coatings, coating agents, adhesives, sealants, molding materials, and film / sheet materials.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J036 AA01 AB07 DB05 DB06 GA03 GA22 GA24 GA26 HA01 HA02 HA03 JA01 JA03 JA06 JA07 KA05 KA06    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 4J036 AA01 AB07 DB05 DB06 GA03                       GA22 GA24 GA26 HA01 HA02                       HA03 JA01 JA03 JA06 JA07                       KA05 KA06

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式1 【化1】 (Rは水素原子またはC1〜5のアルキル基またはハロ
ゲン原子、a、bは1〜4の自然数、Yは1〜10のア
ルキレン基、アルキリデン基または直接結合を示し、m
は0〜2、G1、G2は水素原子またはグリシジル基を
示す。但し、G1、G2共に水素原子であることはな
い)で表される水素化ビスフェノール型エポキシ化合物
と一般式2 【化2】 (Rは水素原子またはC1〜5のアルキル基またはハロ
ゲン原子、c、dは1〜4の自然数、Zは1〜10のア
ルキレン基、アルキリデン基または直接結合を示す)で
表されるビスフェノール系化合物を反応させて得られる
ものであり、軟化点が80℃〜150℃、数平均分子量
が1000〜10000である固形エポキシ樹脂。
1. A general formula 1 (R is a hydrogen atom or a C1-5 alkyl group or a halogen atom, a and b are natural numbers of 1 to 4, Y is an alkylene group of 1 to 10, an alkylidene group or a direct bond, m
Is 0 to 2, G1 and G2 each represent a hydrogen atom or a glycidyl group. However, both G1 and G2 are not hydrogen atoms) and a hydrogenated bisphenol type epoxy compound represented by the general formula 2 (R is a hydrogen atom or a C1-5 alkyl group or a halogen atom, c and d are natural numbers of 1 to 4, Z is an alkylene group of 1 to 10, an alkylidene group or a direct bond). A solid epoxy resin having a softening point of 80 ° C. to 150 ° C. and a number average molecular weight of 1,000 to 10,000.
【請求項2】 請求項1に記載された固形エポキシ樹脂
100重量部に対し、カチオン重合開始剤0.1〜10
重量部を加えた活性エネルギー線硬化型エポキシ樹脂系
固形組成物。
2. A cationic polymerization initiator of 0.1 to 10 relative to 100 parts by weight of the solid epoxy resin described in claim 1.
An active energy ray-curable epoxy resin-based solid composition containing parts by weight.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005200438A (en) * 2003-01-09 2005-07-28 Sekisui Chem Co Ltd Photocationic polymerization initiator and photocurable resin composition
JP2007091841A (en) * 2005-09-28 2007-04-12 Sugai Chemical Industry Co Ltd Bis(glycidyloxy)decalin
JP2008285679A (en) * 2008-06-30 2008-11-27 Sekisui Chem Co Ltd Organic electroluminescence element sealant
CN102766113A (en) * 2012-08-03 2012-11-07 中国石油化工股份有限公司 Preparation method of hydrogenated bisphenol A epoxy resin
WO2020149384A1 (en) * 2019-01-17 2020-07-23 デンカ株式会社 Sealing agent, cured body, organic electroluminescent display device, and method for producing device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005200438A (en) * 2003-01-09 2005-07-28 Sekisui Chem Co Ltd Photocationic polymerization initiator and photocurable resin composition
JP2007091841A (en) * 2005-09-28 2007-04-12 Sugai Chemical Industry Co Ltd Bis(glycidyloxy)decalin
JP2008285679A (en) * 2008-06-30 2008-11-27 Sekisui Chem Co Ltd Organic electroluminescence element sealant
CN102766113A (en) * 2012-08-03 2012-11-07 中国石油化工股份有限公司 Preparation method of hydrogenated bisphenol A epoxy resin
WO2020149384A1 (en) * 2019-01-17 2020-07-23 デンカ株式会社 Sealing agent, cured body, organic electroluminescent display device, and method for producing device
CN113227169A (en) * 2019-01-17 2021-08-06 电化株式会社 Sealing agent, cured body, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing device
JPWO2020149384A1 (en) * 2019-01-17 2021-11-25 デンカ株式会社 Encapsulant, cured product, organic electroluminescence display device, and manufacturing method of the device
JP7197609B2 (en) 2019-01-17 2022-12-27 デンカ株式会社 Sealing agent, cured body, organic electroluminescence display device, and method for manufacturing device
CN113227169B (en) * 2019-01-17 2023-10-31 电化株式会社 Sealant, cured body, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing device
JP7385722B2 (en) 2019-01-17 2023-11-22 デンカ株式会社 Encapsulant, cured product, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing the device

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