JP2003262806A - Exposure device - Google Patents

Exposure device

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Publication number
JP2003262806A
JP2003262806A JP2002062089A JP2002062089A JP2003262806A JP 2003262806 A JP2003262806 A JP 2003262806A JP 2002062089 A JP2002062089 A JP 2002062089A JP 2002062089 A JP2002062089 A JP 2002062089A JP 2003262806 A JP2003262806 A JP 2003262806A
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JP
Japan
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light
laser beam
sub
scanning direction
light beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002062089A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Miyagawa
一郎 宮川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2002062089A priority Critical patent/JP2003262806A/en
Publication of JP2003262806A publication Critical patent/JP2003262806A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Fax Reproducing Arrangements (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an exposure device capable of preventing aberration from occurring. <P>SOLUTION: When a laser beam L emitted from a semiconductor laser LD is divided into several in a subscanning direction by an array refracting element 36 and condensed on thermal sensitive material T, it is temporarily condensed at a 1st condensing position between a fiber array part 30 and the material T by a 1st optical system constituted of a 1st collimator lens 32A and a 1st condensing lens 38A. Then, the specified areas at both ends in the subscanning direction of the laser beam L are shielded by an array aperture plate 39 at the condensing position. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に係り、
特に、走査露光によって記録媒体上に画像を形成する露
光装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus,
In particular, it relates to an exposure device that forms an image on a recording medium by scanning exposure.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、外周面に感光材料(記録媒
体)が装着されたドラムを主走査方向に回転させると共
に、上記感光材料に記録すべき画像の画像データに応じ
て変調されたレーザビームを上記主走査方向と直交する
副走査方向に走査させることで、2次元画像を上記感光
材料に記録するようにした露光記録装置が用いられてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, a drum having a photosensitive material (recording medium) mounted on its outer peripheral surface is rotated in the main scanning direction, and a laser beam modulated according to image data of an image to be recorded on the photosensitive material. An exposure recording apparatus is used in which a two-dimensional image is recorded on the photosensitive material by scanning in the sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction.

【0003】この種の露光記録装置において、解像度を
低くして画像を記録するためには、感光材料表面におけ
るレーザビームのスポット径を拡大すると共に、副走査
方向に対する記録ピッチを大きくするか、又はスポット
径の大きさ及び記録ピッチは変更せずに、同一の画像デ
ータからなる画素を解像度を低くした分だけ繰り返し記
録する方法が採られていた。一方、解像度を高くして画
像を記録する場合は、これと逆の方法が採られていた。
In this type of exposure recording apparatus, in order to record an image with a low resolution, the spot diameter of the laser beam on the surface of the photosensitive material is increased and the recording pitch in the sub-scanning direction is increased, or A method has been adopted in which the size of the spot diameter and the recording pitch are not changed and pixels of the same image data are repeatedly recorded by the amount corresponding to the lowered resolution. On the other hand, when recording an image with a high resolution, the opposite method has been adopted.

【0004】しかしながら、このようにしてレーザビー
ムのスポット径を拡大、ないし縮小するためには、駆動
機構を用いて光学系のレンズ等を駆動する必要があるこ
とから、装置が大型化すると共に、コストが上昇する、
という問題点があった。また、同一の画像データからな
る画素を解像度を低くした分だけ繰り返し記録すること
で解像度を低くする場合には、副走査方向に対する記録
ピッチが一定であるため、記録速度を向上できない、と
いう問題点があった。
However, in order to enlarge or reduce the spot diameter of the laser beam in this way, it is necessary to drive the lens of the optical system by using the drive mechanism, so that the apparatus becomes large and Cost will rise,
There was a problem. Further, when the resolution is lowered by repeatedly recording the pixels of the same image data by the amount corresponding to the lowered resolution, the recording pitch in the sub-scanning direction is constant, so that the recording speed cannot be improved. was there.

【0005】そこで、これらの問題点を解消するため
に、本発明の出願人による特開2000−284206
号公報に記載の技術では、光源から射出された光を複数
に分割し、集光光学系による記録媒体上での集光点を、
当該記録媒体の副走査方向に対して複数生成する複数集
光点生成手段と、解像度に応じて副走査方向の記録間隔
を制御する副走査制御手段と、を備えておき、光源から
射出された光を集光光学系を介して記録媒体上に集光さ
せて画像を記録する際に、記録画像の解像度に応じて、
複数集光点生成手段により副走査方向に分割して生成さ
れる集光点の数を制御することでビームスポットの大き
さを調整すると共に、副走査方向のビームスポットの記
録間隔を調整することにより、解像度に応じた画像を効
率的に記録することを可能としていた。
Therefore, in order to solve these problems, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-284206 by the applicant of the present invention.
In the technique described in the publication, the light emitted from the light source is divided into a plurality of light beams, and the light condensing point on the recording medium by the light condensing optical system is
A plurality of condensing point generation means for generating a plurality in the sub-scanning direction of the recording medium and a sub-scanning control means for controlling the recording interval in the sub-scanning direction according to the resolution are provided, and the light is emitted from the light source. When recording an image by condensing light on a recording medium via a condensing optical system, depending on the resolution of the recorded image,
Adjusting the size of the beam spot by controlling the number of condensing points generated by the plurality of condensing point generating means in the sub-scanning direction and adjusting the recording interval of the beam spot in the sub-scanning direction. This makes it possible to efficiently record an image according to the resolution.

【0006】なお、この技術では、上記複数集光点生成
手段として、一軸性結晶により構成された偏光光学素
子、又は偏角プリズムを適用していた。
In this technique, a polarization optical element formed of a uniaxial crystal or a deflection angle prism is used as the plural condensing point generating means.

【0007】しかしながら、上記特開2000−284
206号公報に記載の技術において複数集光点生成手段
として一軸性結晶により構成された偏光光学素子を適用
した場合には、一軸性結晶は高価であるため高コストと
なってしまう、という問題点があった。
However, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 2000-284.
In the technique described in Japanese Patent No. 206, when a polarizing optical element composed of a uniaxial crystal is used as a plurality of condensing point generating means, the uniaxial crystal is expensive, resulting in high cost. was there.

【0008】また、同公報に記載の技術において複数集
光点生成手段として偏角プリズムを適用した場合には、
記録画像の画質が悪くなる場合がある、という問題点が
あった。
Further, in the case where the deflection angle prism is applied as the plural condensing point generating means in the technique described in the publication,
There has been a problem that the quality of recorded images may deteriorate.

【0009】すなわち、同公報に記載の技術において複
数集光点生成手段として偏角プリズムを適用した場合に
は、偏角プリズムで分割され集光レンズで集光されたレ
ーザビームの焦点位置から光軸方向(深度方向)前後に
ずれた位置におけるレーザビームのボケ方が光軸方向に
対して非対称となる。
That is, when a deflection prism is used as a plurality of converging point generating means in the technique described in the above publication, light is emitted from a focal position of a laser beam divided by the deflection prism and condensed by a condenser lens. The defocusing direction of the laser beam at the position shifted in the axial direction (depth direction) is asymmetric with respect to the optical axis direction.

【0010】これは、偏角プリズムにより分割した光を
各々焦点位置の分割方向における異なる位置に集光レン
ズによって集光しているため、焦点位置から光の入射側
を見たときには分割された光が互いに離れていく状態と
なり、焦点位置から光の出射側を見たときには分割され
た光が接近して交差した後に離れていく状態となって生
じる現象であり、この現象によって深度方向に対する記
録媒体の配置位置の許容範囲が少なくなり、当該配置位
置の深度方向へのずれが僅かであっても、記録媒体への
記録画像の画質が悪化する場合があるのである。
This is because the light divided by the deflection prism is condensed by the condenser lens at different positions in the dividing direction of the focal position, so that when the incident side of the light is seen from the focal position, the divided light is divided. Are separated from each other, and when the light emission side is viewed from the focus position, the divided light beams come close to each other and then cross apart from each other. This phenomenon causes the recording medium to move in the depth direction. The allowable range of the arrangement position is reduced, and even if the displacement of the arrangement position in the depth direction is slight, the image quality of the recorded image on the recording medium may deteriorate.

【0011】そこで、これらの問題点を解消するため
に、本発明の出願人による特願2001−310537
号に記載の技術では、走査露光により記録媒体上に画像
を形成する露光装置であって、少なくとも副走査方向に
ついてはブロードエリアで発光する光ビームを射出する
光源と、当該光源から射出された光ビームを上記記録媒
体上に集光する集光光学系と、有する露光装置に、1本
の光ビームを2つに分割する単位表面形状を有する屈折
部材が対単位でアレイ状に並ぶように構成したアレイ屈
折素子を、上記光ビームの分割方向が上記光源から射出
された光ビームのブロードエリア方向と略平行となるよ
うに配置していた。
Therefore, in order to solve these problems, Japanese Patent Application No. 2001-310537 filed by the applicant of the present invention.
The technique described in No. 1 is an exposure device that forms an image on a recording medium by scanning exposure, and a light source that emits a light beam emitted in a broad area at least in the sub-scanning direction, and a light emitted from the light source. A condensing optical system for condensing a beam on the recording medium, and an exposure apparatus having the refraction member having a unit surface shape for dividing one light beam into two are arranged in pairs in an array. The array refracting element is arranged so that the dividing direction of the light beam is substantially parallel to the broad area direction of the light beam emitted from the light source.

【0012】これにより、アレイ屈折素子のアレイ対に
より2つに分割された光ビームは、各々アレイ対の数分
の光で構成される。従って、アレイ対の数の集光ビーム
で1つの集光スポットを構成するので、分割された光ビ
ームを集光レンズによって焦点位置で2つずつ集光スポ
ットをずらして重ね合わせた場合、焦点位置から光ビー
ムの入射側を見たときと、焦点位置から光ビームの出射
側を見たときとで、各光ビームのボケ方が光軸方向に対
して対称となり、この結果として記録画像の画質を向上
することができる。
As a result, the light beam divided into two by the array pair of the array refracting element is composed of light corresponding to the number of array pairs. Therefore, since one focused spot is formed by the focused beams of the number of array pairs, when the divided light beams are superposed by shifting the focused spots by two at the focal positions, the focal positions are overlapped. From the incident side of the light beam to the emission side of the light beam from the focus position, the defocusing of each light beam is symmetric with respect to the optical axis direction. Can be improved.

【0013】また、このアレイ屈折素子は、光ビームを
2つに分割することができるものであれば如何なる材質
の材料でも構成することができるので、光ビームを偏光
方向に応じて分離する場合に必要となる一軸性結晶を必
ずしも用いる必要がなく、低コストに構成することがで
きる。
The array refracting element can be made of any material as long as it can divide the light beam into two. Therefore, when the light beam is split according to the polarization direction. It is not always necessary to use the necessary uniaxial crystal, and the cost can be reduced.

【0014】ところで、記録速度の向上を目的として、
複数の光源から射出された各レーザビームを各々光ファ
イバーで単一の露光ヘッドに案内すると共に、当該露光
ヘッドにおいて各光ファイバーにおけるレーザビームの
出射口端部を副走査方向に並べて配置しておき、上記複
数の光源から射出された複数のレーザビームによる露光
を同時に行う露光記録装置がある。
By the way, for the purpose of improving the recording speed,
Each laser beam emitted from a plurality of light sources is guided by an optical fiber to a single exposure head, and the end portions of the laser beam emission ports of each optical fiber in the exposure head are arranged side by side in the sub-scanning direction. There is an exposure recording apparatus that simultaneously performs exposure with a plurality of laser beams emitted from a plurality of light sources.

【0015】この種の露光記録装置に対して、前述の特
開2000−284206号公報に記載の技術を適用し
た場合、1つのレーザビームを複数に分割して露光する
ことができるため、記録速度の更なる向上が可能とな
る。
When the technique described in the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 2000-284206 is applied to this type of exposure recording apparatus, one laser beam can be divided into a plurality of exposures, and therefore the recording speed can be increased. Can be further improved.

【0016】しかしながら、このような光ファイバーを
用いた露光記録装置では、光ファイバーに加えられる外
力変位(振動変位、圧力変位、ねじれ変位、温度変位
等)によって光ファイバーから出射されるレーザビーム
の偏光方向が時々刻々と変化する場合があり、この場合
には複数に分割されたレーザビームの光量が競合してし
まい、集光スポットが不安定な形状となってしまうた
め、記録画像の画質が劣化する、という問題点があっ
た。
However, in the exposure recording apparatus using such an optical fiber, the polarization direction of the laser beam emitted from the optical fiber is sometimes changed by the external force displacement (vibration displacement, pressure displacement, twist displacement, temperature displacement, etc.) applied to the optical fiber. It may change from moment to moment. In this case, the light amounts of the laser beams divided into a plurality compete with each other, and the focused spot has an unstable shape, which deteriorates the image quality of the recorded image. There was a problem.

【0017】そこで、この問題点を解消するために、本
発明の出願人による特願2001−201407号に記
載の技術では、光を射出する光源と、当該光源から射出
された光を記録媒体上に集光する集光光学系と、上記光
を偏光方向が互いに直交する2つの光に分離する偏光分
離素子と、を備えた露光装置に、上記光源と上記偏光分
離素子との間に、当該偏光分離素子により分離される光
ビームの偏光方向に対して結晶光軸が45度を含む所定
範囲の角度で傾斜するように1/2波長板を配置して構
成した偏光方向制御素子を配置していた。
In order to solve this problem, therefore, in the technique described in Japanese Patent Application No. 2001-201407 filed by the applicant of the present invention, a light source for emitting light and a light emitted from the light source are recorded on a recording medium. In an exposure apparatus including a condensing optical system that condenses light into two and a polarization separation element that separates the light into two lights whose polarization directions are orthogonal to each other, the exposure apparatus includes A polarization direction control element, which is configured by arranging a ½ wavelength plate so that the crystal optical axis is inclined at an angle of a predetermined range including 45 degrees with respect to the polarization direction of the light beam separated by the polarization separation element, is arranged. Was there.

【0018】なお、上記結晶光軸は「光学軸」とも呼ば
れているものであるが、本明細書では、「結晶光軸」と
統一して記載する。更に、上記「45度を含む所定範囲
の角度」は、理想的には45度であるが、当該偏光方向
制御素子の製造上許容される範囲内の角度、当該偏光方
向制御素子が適用される装置において許容される範囲内
の角度等の各種許容範囲内の角度を意味するものであ
る。
Although the crystal optical axis is also called the "optical axis", it will be referred to as "crystal optical axis" in the present specification. Further, the above-mentioned "angle in a predetermined range including 45 degrees" is ideally 45 degrees, but an angle within a range allowable in manufacturing the polarization direction control element, the polarization direction control element is applied. It means an angle within various allowable ranges such as an angle within the allowable range of the apparatus.

【0019】ここで、図27を参照して、本技術の原理
について簡単に説明する。なお、ここでは、本技術の偏
光方向制御素子を、1/2波長板と、透過する光の偏光
方向に大きな影響を与えない透明平行板と、を組み合わ
せて構成した場合について説明する。同図に示すよう
に、偏光分離素子により分離する光の偏光方向を(x,
y)としたとき、偏光方向制御素子における1/2波長
板の結晶光軸の方向が(x,y)に対して45度傾斜さ
れる方向となるように偏光方向制御素子を配置するもの
とする。なお、このときの1/2波長板における結晶光
軸の座標系を(X,Y)とする。また、ここでは、偏光
方向制御素子における透明平行板と1/2波長板の光透
過率の差がないか、無視できるほど小さいことを前提と
して、1/2波長板に入射する光の光量と、入射しない
光の光量との比が1:1となるように光量分配される位
置に偏光方向制御素子を配置するものとする。
Here, the principle of the present technology will be briefly described with reference to FIG. Note that, here, a case will be described where the polarization direction control element of the present technology is configured by combining a half-wave plate and a transparent parallel plate that does not significantly affect the polarization direction of transmitted light. As shown in the figure, the polarization direction of the light separated by the polarization separation element is (x,
y), the polarization direction control element is arranged so that the direction of the crystal optical axis of the half-wave plate in the polarization direction control element is inclined by 45 degrees with respect to (x, y). To do. The coordinate system of the crystal optical axis in the half-wave plate at this time is (X, Y). In addition, here, on the assumption that there is no difference in light transmittance between the transparent parallel plate and the half-wave plate in the polarization direction control element, or the difference is negligibly small, the light amount of light incident on the half-wave plate is The polarization direction control element is arranged at a position where the amount of light is distributed so that the ratio to the amount of light that does not enter becomes 1: 1.

【0020】偏光方向制御素子に入射される光の電界ベ
クトルαをα=(a,b)として、1/2波長板に入射
する光を考えた場合、(x,y)座標系を45度回転さ
せるための行列をA、Y座標の光を1/2波長位相を遅
らせる行列をB、−45度回転させて元の(x,y)座
標系に戻す行列をCとすると、それぞれは次のように表
わされる。
When the electric field vector α of the light incident on the polarization direction control element is α = (a, b) and the light incident on the ½ wavelength plate is considered, the (x, y) coordinate system is 45 degrees. Let A be the matrix for rotation, B be the matrix that delays the 1/2 wavelength phase of the light at the Y coordinate, and C be the matrix that rotates -45 degrees to return to the original (x, y) coordinate system. It is expressed as.

【0021】[0021]

【数1】 [Equation 1]

【0022】従って、1/2波長板を通過した後の光の
電界ベクトルβは次のように表わされる。
Therefore, the electric field vector β of the light after passing through the half-wave plate is expressed as follows.

【0023】[0023]

【数2】 [Equation 2]

【0024】αとβは、光量分配として1:1に配分さ
れるように設定されていることから、それぞれの光量I
α、Iβは次のように表わされる。
Since α and β are set so as to be distributed at a ratio of 1: 1 as the light quantity distribution, the respective light quantity I
α and Iβ are expressed as follows.

【0025】[0025]

【数3】 [Equation 3]

【0026】従って、それぞれの光を足し合わせたとき
の光量Iは次のようになる。
Therefore, the light quantity I when the respective lights are added is as follows.

【0027】[0027]

【数4】 [Equation 4]

【0028】この結果は、1/2波長板を通過した光
と、通過しなかった光とを足し合わせた場合、偏光分離
素子でxとyの各偏光方向に分離された光は、等光量で
分離されることを示している。
This result shows that when the light that has passed through the half-wave plate and the light that did not pass are added together, the light separated in each of the x and y polarization directions by the polarization splitting element is equal in light amount. It shows that it is separated by.

【0029】なお、ここで偏光方向制御素子に設けた透
明平行板は必ずしも必要なものではなく、入射された光
の偏光方向に大きな影響を与えない他の部材(例えば、
ND(Neutral Density)フィルタ)を透明平行板に代
えて適用することもでき、これらの部材を設けずに、何
もない素通しの状態とすることもできる。
It should be noted that the transparent parallel plate provided in the polarization direction control element is not always necessary here, and other members (for example, those that do not greatly affect the polarization direction of the incident light) are used.
An ND (Neutral Density) filter may be applied instead of the transparent parallel plate, and it is also possible to provide a blank through state without providing these members.

【0030】以上の原理に基づき、特願2001−20
1407号に記載の技術における偏光方向制御素子は、
光を偏光方向が互いに直交する2つの光に分離する偏光
分離素子の上記光の光軸方向上流側に設けられる偏光方
向制御素子であって、上記偏光分離素子の光軸方向上流
側に設けられた際に、上記光の一部が透過されると共
に、上記偏光分離素子により分離される光の偏光方向に
対して結晶光軸が45度を含む所定範囲の角度で傾斜す
るように1/2波長板を配置して構成しているので、偏
光分離素子と組み合わせて用いた場合に当該偏光分離素
子により光を等光量で分離することが可能となり、偏光
分離素子を用いた露光記録装置における記録画像の画質
を向上することができる。
Based on the above principle, Japanese Patent Application No. 2001-20
The polarization direction control element in the technique described in 1407,
A polarization direction control element provided on the upstream side in the optical axis direction of the light of a polarization splitting element for splitting light into two lights having polarization directions orthogonal to each other, and provided on the upstream side in the optical axis direction of the polarization splitting element. At this time, a part of the light is transmitted and at the same time, the crystal optical axis is inclined at an angle within a predetermined range including 45 degrees with respect to the polarization direction of the light separated by the polarization separation element. Since a wavelength plate is arranged and configured, when used in combination with a polarization separation element, it becomes possible to separate light with the same amount of light by the polarization separation element, and recording in an exposure recording apparatus using the polarization separation element. The image quality of the image can be improved.

【0031】[0031]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
願2001−310537号の技術及び上記特願200
1−201407号の技術では、アレイ屈折素子又は偏
光分離素子により分割された光ビームを記録媒体上で2
つずつ中心位置をずらして一部を重ね合わせていたの
で、この重ね合わせた領域の光パワーが大きくなり、当
該領域に対応する記録媒体表面の温度が急激に上昇し、
記録媒体として光の熱により版を記録するサーマル式感
光材料(以下、「サーマル感材」という。)を適用した
場合には当該サーマル感材表面の膜面の物質が飛散す
る、所謂アブレーションが発生してしまう場合がある、
という問題点があった。
However, the technique of the above-mentioned Japanese Patent Application No. 2001-310537 and the above-mentioned Japanese Patent Application No.
In the technique of No. 1-201407, a light beam split by an array refraction element or a polarization separation element is divided into two beams on a recording medium.
Since the center positions were shifted one by one and a part of them were overlapped, the optical power of the overlapped area increased, and the temperature of the recording medium surface corresponding to the area rapidly increased,
When a thermal type photosensitive material that records a plate by heat of light as a recording medium (hereinafter referred to as "thermal sensitive material") is applied, so-called ablation occurs in which the substance on the film surface of the thermal sensitive material scatters. There is a possibility that
There was a problem.

【0032】アブレーションが発生した場合、飛散した
物質が光学系を構成する各種レンズや各種駆動系等に付
着し、記録画像の品質が劣化するばかりでなく、露光装
置の耐久性の面や、露光装置の動作そのものに悪影響を
及ぼすことになる。
When ablation occurs, the scattered material adheres to various lenses and various driving systems that constitute the optical system, which not only deteriorates the quality of recorded images, but also increases the durability of the exposure apparatus and the exposure. This will adversely affect the operation of the device itself.

【0033】本発明は上記問題点を解消するためになさ
れたものであり、アブレーションの発生を防止すること
ができる露光装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of preventing the occurrence of ablation.

【0034】[0034]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の露光装置は、走査露光により記録媒
体上に画像を形成する露光装置であって、少なくとも副
走査方向についてはブロードエリアで発光する光ビーム
を射出する光源と、前記光源から射出された前記光ビー
ムを前記光源と前記記録媒体との間で集光する第1光学
系と、前記第1光学系で集光された前記光ビームを前記
記録媒体上に集光する第2光学系と、前記第1光学系に
よる前記光ビームの集光位置と前記記録媒体との間に配
置されると共に前記光ビームを副走査方向に対して複数
に分割する光分割手段と、前記第1光学系による前記光
ビームの集光位置に配置されると共に前記光ビームの副
走査方向端部の所定領域を遮光する遮光手段と、を備え
ている。
In order to achieve the above object, an exposure apparatus according to claim 1 is an exposure apparatus which forms an image on a recording medium by scanning exposure, and is broad in at least a sub-scanning direction. A light source that emits a light beam emitted in an area, a first optical system that focuses the light beam emitted from the light source between the light source and the recording medium, and a first optical system that focuses the light beam. A second optical system that focuses the light beam on the recording medium; and a second optical system that is disposed between the focus position of the light beam by the first optical system and the recording medium and that subscans the light beam. A light splitting unit that splits the light beam into a plurality of light beams in the direction; and a light blocking unit that is disposed at a position where the light beam is focused by the first optical system and that shields a predetermined region at an end portion of the light beam in the sub-scanning direction. Is equipped with.

【0035】請求項1に記載の露光装置によれば、少な
くとも副走査方向についてはブロードエリアで発光する
光ビームを射出する光源から射出された光ビームが第1
光学系によって光源と記録媒体との間で一旦集光され、
当該集光された光ビームが第2光学系によって記録媒体
上に集光される。なお、上記光源には、各種半導体レー
ザが含まれる。
According to the exposure apparatus of the first aspect, the light beam emitted from the light source for emitting the light beam emitted in the broad area is at least in the sub-scanning direction.
The optical system once collects light between the light source and the recording medium,
The condensed light beam is condensed on the recording medium by the second optical system. The light source includes various semiconductor lasers.

【0036】以上のような記録媒体への光ビームの集光
の際に、本発明では、第1光学系による光ビームの集光
位置と記録媒体との間に配置された光分割手段により、
光ビームが副走査方向に対して複数に分割され、第1光
学系による光ビームの集光位置に配置された遮光手段に
より、光ビームの副走査方向端部の所定領域が遮光され
る。
In converging the light beam on the recording medium as described above, according to the present invention, the light splitting means arranged between the condensing position of the light beam by the first optical system and the recording medium is used.
The light beam is divided into a plurality of parts in the sub-scanning direction, and a predetermined area at the end portion in the sub-scanning direction of the light beam is shielded by the light shielding means arranged at the light beam converging position of the first optical system.

【0037】すなわち、本発明では、光源から射出され
た光ビームを光分割手段によって副走査方向に対し複数
に分割して記録媒体上に集光する際に、当該光ビームを
第1光学系により光源と記録媒体との間で一旦集光し、
この集光位置において光ビームの副走査方向端部の所定
領域を遮光手段により遮光しており、これによって光分
割手段により分割された光ビームを記録媒体上で中心位
置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該重ね合わせ
領域の面積が小さくなるため、この領域の光パワーを小
さくすることができ、この結果としてアブレーションの
発生を防止することができる。
That is, in the present invention, when the light beam emitted from the light source is divided into a plurality of light beams in the sub-scanning direction by the light dividing means and condensed on the recording medium, the light beam is emitted by the first optical system. Once focused between the light source and the recording medium,
At this converging position, a predetermined area at the end of the light beam in the sub-scanning direction is shielded by the light shielding means, whereby the light beam split by the light splitting means is shifted in the center position on the recording medium and a part thereof is overlapped. Since the area of the overlapping region in the case of matching is small, the optical power of this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0038】このように、請求項1に記載の露光装置に
よれば、少なくとも副走査方向についてはブロードエリ
アで発光する光ビームを射出する光源から射出された光
ビームを第1光学系により光源と記録媒体との間で一旦
集光し、該集光された光ビームを記録媒体上に集光する
と共に、第1光学系による光ビームの集光位置と記録媒
体との間に配置された光分割手段により光ビームを副走
査方向に対して複数に分割し、かつ第1光学系による光
ビームの集光位置に配置された遮光手段によって光ビー
ムの副走査方向端部の所定領域を遮光しているので、光
分割手段により分割された光ビームを記録媒体上で中心
位置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該重ね合わ
せ領域の面積が小さくなるため、この領域の光パワーを
小さくすることができ、この結果としてアブレーション
の発生を防止することができる。
As described above, according to the exposure apparatus of the first aspect, the light beam emitted from the light source that emits the light beam emitted in the broad area is used as the light source by the first optical system at least in the sub-scanning direction. The light beam is focused once with the recording medium, the focused light beam is focused on the recording medium, and the light beam is placed between the focusing position of the light beam by the first optical system and the recording medium. The light beam is divided into a plurality of parts in the sub-scanning direction by the dividing means, and the predetermined region at the end portion in the sub-scanning direction of the light beam is shielded by the light shielding means arranged at the light beam focusing position by the first optical system. Therefore, when the light beam split by the light splitting means is shifted in the center position on the recording medium and a part of the light beam is overlapped, the area of the overlapping area becomes small, and therefore the optical power of this area should be made small. But Come, it is possible to prevent the occurrence of ablation as a result.

【0039】一方、上記目的を達成するために、請求項
2記載の露光装置は、走査露光により記録媒体上に画像
を形成する露光装置であって、少なくとも副走査方向に
ついてはブロードエリアで発光する光ビームを射出する
光源と、前記光源から射出された前記光ビームを前記記
録媒体上に集光する光学系と、前記光源から射出された
光ビームの出射口と前記記録媒体との間に配置されると
共に前記光ビームを副走査方向に対して複数に分割する
光分割手段と、前記出射口と前記光分割手段との間に配
置されると共に前記光ビームの副走査方向端部の所定領
域を遮光する遮光手段と、を備えている。
On the other hand, in order to achieve the above object, an exposure apparatus according to a second aspect is an exposure apparatus which forms an image on a recording medium by scanning exposure, and emits light in a broad area at least in the sub-scanning direction. A light source that emits a light beam, an optical system that condenses the light beam emitted from the light source on the recording medium, and an emission port for the light beam emitted from the light source and the recording medium. A light splitting means for splitting the light beam into a plurality of light beams in the sub-scanning direction, and a predetermined area at the end of the light beam in the sub-scanning direction, the light splitting means being arranged between the emission port and the light splitting means. And a light blocking means for blocking the light.

【0040】請求項1に記載の露光装置によれば、少な
くとも副走査方向についてはブロードエリアで発光する
光ビームを射出する光源から射出された光ビームが光学
系によって記録媒体上に集光される。なお、上記光源に
は、各種半導体レーザが含まれる。
According to the exposure apparatus of the first aspect, at least in the sub-scanning direction, the light beam emitted from the light source for emitting the light beam emitted in the broad area is condensed on the recording medium by the optical system. . The light source includes various semiconductor lasers.

【0041】以上のような記録媒体への光ビームの集光
の際に、本発明では、光源から射出された光ビームの出
射口と記録媒体との間に配置された光分割手段により、
光ビームが副走査方向に対して複数に分割され、上記出
射口と光分割手段との間に配置された遮光手段により、
光ビームの副走査方向端部の所定領域が遮光される。
In converging the light beam on the recording medium as described above, according to the present invention, the light splitting means arranged between the exit of the light beam emitted from the light source and the recording medium,
The light beam is divided into a plurality in the sub-scanning direction, and by the light shielding means arranged between the emission port and the light dividing means,
A predetermined area at the end of the light beam in the sub-scanning direction is shielded.

【0042】すなわち、本発明では、光源から射出され
た光ビームを光分割手段によって副走査方向に対し複数
に分割して記録媒体上に集光する際に、当該光ビームの
出射口と光分割手段との間において当該光ビームの副走
査方向端部の所定領域を遮光手段により遮光しており、
これによって光分割手段により分割された光ビームを記
録媒体上で中心位置をずらして一部を重ね合わせる場合
の当該重ね合わせ領域の面積が小さくなるため、この領
域の光パワーを小さくすることができ、この結果として
アブレーションの発生を防止することができる。
That is, according to the present invention, when the light beam emitted from the light source is divided into a plurality of light beams in the sub-scanning direction by the light dividing means and condensed on the recording medium, the light beam emission port and the light beam division are performed. A predetermined region at the end of the light beam in the sub-scanning direction is shielded by a light shielding unit between the means and
As a result, the area of the overlapping region becomes small when the light beams split by the light splitting means are shifted in the center position on the recording medium and a part of them are overlapped, so that the optical power in this region can be reduced. As a result, it is possible to prevent the occurrence of ablation.

【0043】このように、請求項2に記載の露光装置に
よれば、少なくとも副走査方向についてはブロードエリ
アで発光する光ビームを射出する光源から射出された光
ビームを記録媒体上に集光すると共に、光ビームの出射
口と記録媒体との間に配置された光分割手段により光ビ
ームを副走査方向に対して複数に分割し、かつ上記出射
口と光分割手段との間に配置された遮光手段によって光
ビームの副走査方向端部の所定領域を遮光しているの
で、光分割手段により分割された光ビームを記録媒体上
で中心位置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該重
ね合わせ領域の面積が小さくなるため、この領域の光パ
ワーを小さくすることができ、この結果としてアブレー
ションの発生を防止することができる。
As described above, according to the exposure apparatus of the second aspect, the light beam emitted from the light source that emits the light beam emitted in the broad area is focused on the recording medium at least in the sub-scanning direction. At the same time, the light beam is divided into a plurality of parts in the sub-scanning direction by the light splitting means arranged between the light beam outlet and the recording medium, and is arranged between the light outlet and the light splitting means. Since the predetermined area at the end of the light beam in the sub-scanning direction is shielded by the light shielding means, the superposition in the case where the light beams divided by the light dividing means are shifted in their center positions on the recording medium and partially overlapped with each other. Since the area of the region is reduced, the optical power of this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0044】また、請求項3記載の露光装置は、請求項
1又は請求項2に記載の発明において、前記所定領域
を、前記光ビームの中心から、前記光分割手段により分
割された光ビームの前記記録媒体上での集光スポットの
中心間距離の半分を含む所定範囲の距離に対応する距離
だけ副走査方向両端部側に離れた2つの位置の各々に接
する主走査方向直線の外側の領域としたものである。な
お、上記「中心間距離の半分を含む所定範囲の距離」
は、理想的には中心間距離の半分の距離であるが、露光
装置において許容される範囲内の距離等の各種許容範囲
内の距離を意味するものである。
An exposure apparatus according to a third aspect is the exposure apparatus according to the first aspect or the second aspect, wherein the predetermined region is divided by the light splitting means from the center of the light beam. An area outside a straight line in the main scanning direction which is in contact with each of two positions separated on both end sides in the sub scanning direction by a distance corresponding to a distance in a predetermined range including half the center-to-center distance of the focused spot on the recording medium. It is what In addition, the above "distance within a predetermined range including half the distance between centers"
Is ideally half the center-to-center distance, but means a distance within various allowable ranges such as a distance within the allowable range of the exposure apparatus.

【0045】すなわち、請求項3に記載の露光装置で
は、請求項1又は請求項2記載の発明における所定領域
を、図7に示すように、各発明の光分割手段により分割
された光ビームの記録媒体上での集光スポットSPの中
心間距離ΔSの半分(ΔS/2)を含む所定範囲の距離
に対応する距離だけ光ビームの中心から副走査方向両端
部側に離れた2つの位置の各々に接する主走査方向直線
の外側の領域としており、これによって光分割手段によ
り分割された光ビームの記録媒体上での重ね合わせ領域
の面積が略最小となる(理想的には無くなる)ため、こ
の領域の光パワーを小さくすることができ、この結果と
してアブレーションの発生をほぼ確実に防止することが
できる。
That is, in the exposure apparatus according to the third aspect, as shown in FIG. 7, the predetermined region in the invention according to the first or second aspect of the invention is divided into the light beams divided by the light dividing means of each invention. Two positions separated from the center of the light beam toward both ends in the sub-scanning direction by a distance corresponding to a predetermined range of distance including half (ΔS / 2) of the center-to-center distance ΔS of the focused spot SP on the recording medium. The area outside the straight line in the main-scanning direction in contact with each of the areas is substantially the minimum (ideally disappears) because the area of the overlapping area on the recording medium of the light beam split by the light splitting means is reduced. The optical power in this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be almost certainly prevented.

【0046】このように、請求項3に記載の露光装置に
よれば、本発明における所定領域を光ビームの中心か
ら、光分割手段により分割された光ビームの記録媒体上
での集光スポットの中心間距離の半分を含む所定範囲の
距離に対応する距離だけ副走査方向両端部側に離れた2
つの位置の各々に接する主走査方向直線の外側の領域と
しているので、アブレーションの発生をほぼ確実に防止
することができる。
As described above, according to the exposure apparatus of the third aspect, the predetermined spot in the present invention is formed from the center of the light beam by the light splitting means, and the condensed spot of the light beam on the recording medium is formed. A distance corresponding to a distance in a predetermined range including a half of the center-to-center distance is separated from both ends in the sub-scanning direction by 2
Since the area is located outside the straight line in the main scanning direction that is in contact with each of the three positions, it is possible to almost certainly prevent the occurrence of ablation.

【0047】なお、本発明に係る光分割手段は、請求項
4記載の発明のように、1本の光ビームを2つに分割す
る単位表面形状を有する屈折部材が対単位でアレイ状に
並ぶように構成すると共に、前記光ビームの分割方向が
前記光源から射出された光ビームのブロードエリア方向
と略平行となるように配置されたアレイ屈折素子とする
か、又は、前記光ビームを偏光方向が互いに直交する2
つの光に分離する偏光分離素子と、前記光源と前記偏光
分離素子との間に配置されると共に前記偏光分離素子に
より分離される光ビームの偏光方向に対して結晶光軸が
45度を含む所定範囲の角度で傾斜するように1/2波
長板を配置して構成した偏光方向制御素子と、を含めて
構成するものとすることができる。なお、上記偏光分離
素子には、ローションプリズム(Rochon Prism)、ウォ
ラストンプリズム(Wollaston Prism)等の各種プリズ
ムが含まれる。
In the light splitting means according to the present invention, as in the invention described in claim 4, refracting members having a unit surface shape for splitting one light beam into two are arranged in pairs in an array. And an array refraction element arranged such that the division direction of the light beam is substantially parallel to the broad area direction of the light beam emitted from the light source, or the light beam is polarized in the direction of polarization. Are orthogonal to each other 2
A polarization separation element that separates the light into two lights, and a crystal optical axis that is disposed between the light source and the polarization separation element and has a crystal optical axis of 45 degrees with respect to the polarization direction of the light beam that is separated by the polarization separation element. A polarization direction control element configured by arranging a ½ wavelength plate so as to be inclined at an angle in the range can be configured. The polarization separation element includes various prisms such as a Rochon Prism and a Wollaston Prism.

【0048】すなわち、請求項4に記載の発明は、本発
明の主眼とするところの光ビームの副走査方向端部の所
定領域を遮光する、という技術を、前述の特願2001
−310537号及び特願2001−201407号の
各々の発明に適用したものであり、これらの発明に対し
ても請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の発明と
同様の効果を奏させることができる。
That is, the invention described in claim 4 is a technique for shielding a predetermined region at the end portion of the light beam in the sub-scanning direction, which is the main object of the present invention, is the above-mentioned Japanese Patent Application 2001.
It is applied to each invention of Japanese Patent Application No. 310537/2001 and Japanese Patent Application No. 2001-201407, and the same effect as that of the invention described in any one of claims 1 to 3 is obtained for these inventions. Can be made.

【0049】更に、請求項5記載の露光装置は、請求項
1乃至請求項4の何れか1項記載の発明において、走査
露光によって前記記録媒体上に形成される画像の解像度
を示す解像度情報を入力する入力手段と、前記解像度情
報によって示される解像度が予め定められた第1解像度
である場合に前記光分割手段が前記光ビームの光軸上か
ら退避され、前記解像度情報によって示される解像度が
前記第1解像度より低い第2解像度である場合に前記光
分割手段が前記光軸上に位置されるように当該光分割手
段を移動させる移動手段と、を更に備えたものである。
Further, in the exposure apparatus according to a fifth aspect, in the invention according to any one of the first to fourth aspects, resolution information indicating a resolution of an image formed on the recording medium by scanning exposure is provided. Input means for inputting, and when the resolution indicated by the resolution information is a predetermined first resolution, the light splitting means is retracted from the optical axis of the light beam, and the resolution indicated by the resolution information is And a moving means for moving the light splitting means so that the light splitting means is positioned on the optical axis when the second resolution is lower than the first resolution.

【0050】請求項5に記載の露光装置によれば、走査
露光によって記録媒体上に形成される画像の解像度を示
す解像度情報が入力手段によって入力され、当該解像度
情報によって示される解像度が予め定められた第1解像
度である場合に本発明の光分割手段が光源から射出され
た光ビームの光軸上から退避され、解像度情報によって
示される解像度が第1解像度より低い第2解像度である
場合に光分割手段が上記光軸上に位置されるように当該
光分割手段が移動手段によって移動される。
According to the fifth aspect of the exposure apparatus, the resolution information indicating the resolution of the image formed on the recording medium by the scanning exposure is input by the input means, and the resolution indicated by the resolution information is predetermined. In the case of the first resolution, the light splitting means of the present invention is retracted from the optical axis of the light beam emitted from the light source, and the light when the resolution indicated by the resolution information is the second resolution lower than the first resolution. The light splitting means is moved by the moving means so that the splitting means is positioned on the optical axis.

【0051】このように、請求項5に記載の露光装置に
よれば、走査露光によって記録媒体上に形成される画像
の解像度を示す解像度情報を入力し、当該解像度情報に
よって示される解像度が予め定められた第1解像度であ
る場合に光分割手段が光源から射出された光ビームの光
軸上から退避され、当該解像度情報によって示される解
像度が第1解像度より低い第2解像度である場合に光分
割手段が上記光軸上に位置されるように当該光分割手段
を移動しているので、解像度情報を入力するのみによっ
て、記録媒体に画像を記録する際の解像度を容易に変更
することができる。
As described above, according to the exposure apparatus of the fifth aspect, the resolution information indicating the resolution of the image formed on the recording medium by the scanning exposure is input, and the resolution indicated by the resolution information is predetermined. When the resolution is the first resolution, the light splitting means is retracted from the optical axis of the light beam emitted from the light source, and the light splitting is performed when the resolution indicated by the resolution information is the second resolution lower than the first resolution. Since the light dividing means is moved so that the means is located on the optical axis, the resolution when recording an image on the recording medium can be easily changed by only inputting the resolution information.

【0052】なお、請求項1乃至請求項5の何れか1項
記載の発明における前記光源を、前記光分割手段による
前記光ビームの分割方向に沿って複数配置し、各光源か
ら射出された光ビームを各々光分割手段によって分割し
て記録媒体に導くように構成すれば、記録画像の画質を
向上できるばかりでなく、画像を高速に記録することが
できる。
A plurality of the light sources in the invention according to any one of claims 1 to 5 are arranged along the dividing direction of the light beam by the light dividing means, and the light emitted from each light source is arranged. If the beam is divided by the light dividing means and guided to the recording medium, not only the image quality of the recorded image can be improved but also the image can be recorded at high speed.

【0053】[0053]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について詳細に説明する。なお、以下では、
本発明の露光装置をレーザ記録装置に適用した場合につ
いて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. In the following,
A case where the exposure apparatus of the present invention is applied to a laser recording apparatus will be described.

【0054】〔第1実施形態〕まず、図1を参照して、
本第1実施形態に係るレーザ記録装置10Aの構成につ
いて説明する。同図に示すように、本第1実施形態に係
るレーザ記録装置10Aは、各々レーザビームを射出す
る3以上の奇数個(本実施の形態では、15個)の半導
体レーザLDと、各半導体レーザLDから射出された各
レーザビームを集光する露光ヘッド12と、画像が記録
されるサーマル感材Tが装着されかつ当該サーマル感材
Tが主走査方向に移動するように回転駆動されるドラム
14と、ボールネジ18を回転駆動させることによって
ボールネジ18上に配置された露光ヘッド12を上記主
走査方向に直交する方向である副走査方向に移動させる
副走査モータ16と、を含んで構成されている。なお、
本実施の形態では、半導体レーザLDとして、図14に
示される強度分布からなる光ファイバーカップルド半導
体レーザを適用している。
[First Embodiment] First, referring to FIG.
The configuration of the laser recording device 10A according to the first embodiment will be described. As shown in the figure, the laser recording device 10A according to the first embodiment includes an odd number of semiconductor lasers LD of 3 or more (15 in the present embodiment) each of which emits a laser beam, and each semiconductor laser. An exposure head 12 that collects each laser beam emitted from the LD, a thermal sensitive material T on which an image is recorded, and a drum 14 that is rotationally driven so that the thermal sensitive material T moves in the main scanning direction. And a sub-scanning motor 16 for rotating the ball screw 18 to move the exposure head 12 arranged on the ball screw 18 in the sub-scanning direction which is a direction orthogonal to the main scanning direction. . In addition,
In this embodiment, as the semiconductor laser LD, an optical fiber coupled semiconductor laser having the intensity distribution shown in FIG. 14 is applied.

【0055】一方、露光ヘッド12には、上記複数個の
半導体レーザLDから導波された各レーザビームを取り
纏めて出射する横多モードのファイバーアレイ部30が
備えられており、各半導体レーザLDから射出されたレ
ーザビームは、各々横多モードの光ファイバー20によ
ってファイバーアレイ部30まで案内される。なお、本
実施の形態では、レーザビームを高出力とするために、
コア径の比較的大きな多モード光ファイバーを光ファイ
バー20として用いている。
On the other hand, the exposure head 12 is provided with a transverse multimode fiber array section 30 for collecting and emitting the laser beams guided from the plurality of semiconductor lasers LD. The emitted laser beams are guided to the fiber array unit 30 by the transverse multimode optical fibers 20. In this embodiment, in order to make the laser beam have a high output,
A multimode optical fiber having a relatively large core diameter is used as the optical fiber 20.

【0056】図2には、ファイバーアレイ部30の図1
矢印B方向に見た場合の構成が示されている。同図に示
すように、本実施の形態に係るファイバーアレイ部30
には、対向する面に複数のV字溝が副走査方向に沿って
隣接するように設けられた一対の基台30Aが備えられ
ると共に、各V字溝に対して光ファイバー20が1本ず
つ嵌め込まれて構成されている。従って、ファイバーア
レイ部30からは、各半導体レーザLDから射出された
複数のレーザビームLが、主走査方向に2列で、かつ副
走査方向に沿った所定間隔毎に出射されることになる。
FIG. 2 shows the fiber array section 30 of FIG.
The configuration when viewed in the direction of arrow B is shown. As shown in the figure, the fiber array unit 30 according to the present embodiment
Is provided with a pair of bases 30A in which a plurality of V-shaped grooves are provided so as to be adjacent to each other in the sub-scanning direction on opposite surfaces, and one optical fiber 20 is fitted into each V-shaped groove. It is configured. Therefore, the plurality of laser beams L emitted from each semiconductor laser LD are emitted from the fiber array unit 30 in two rows in the main scanning direction and at predetermined intervals along the sub scanning direction.

【0057】なお、光源として各半導体レーザLDは一
方向についてブロードバンドエリアで発光するものを用
いてもよい。このときには、各半導体レーザLDから射
出されたレーザビームLのブロードバンドエリア方向が
副走査方向に一致するように配置する。
As the light source, each semiconductor laser LD may be one which emits light in a broadband area in one direction. At this time, the laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is arranged so that the broadband area direction thereof coincides with the sub-scanning direction.

【0058】また、図1に示すように、露光ヘッド12
には、ファイバーアレイ部30側より、ファイバーアレ
イ部30から射出されたレーザビームLを略平行光束と
する第1コリメータレンズ32A、レーザビームLを一
旦集光する第1集光レンズ38A、アレイ開口板39、
第1集光レンズ38Aによって集光されたレーザビーム
Lを略平行光束とする第2コリメータレンズ32B、ア
レイ屈折素子36、第2コリメータレンズ32Bによっ
て略平行光束とされたレーザビームLをサーマル感材T
上に集光する第2集光レンズ38Bが順に配列されてい
る。
Further, as shown in FIG. 1, the exposure head 12
The first collimator lens 32A that makes the laser beam L emitted from the fiber array unit 30 into a substantially parallel light flux from the fiber array unit 30 side, the first condensing lens 38A that once condenses the laser beam L, and the array aperture. Plate 39,
The second collimator lens 32B for converting the laser beam L condensed by the first condenser lens 38A into a substantially parallel light beam, the array refracting element 36, and the laser beam L converted into a substantially parallel light beam by the second collimator lens 32B are thermally sensitive materials. T
The second condensing lens 38B that condenses upward is arranged in order.

【0059】更に、露光ヘッド12には、回転軸が図1
矢印A方向に回転することにより、アレイ屈折素子36
をレーザビームLの光路上に挿抜することができる素子
移動モータ40が備えられている。
Further, the exposure head 12 has a rotary shaft shown in FIG.
By rotating in the direction of arrow A, the array refraction element 36
An element moving motor 40 capable of inserting / removing the laser beam into / from the optical path of the laser beam L is provided.

【0060】本実施の形態に係るアレイ屈折素子36
は、図3に示すように、各々入射されたレーザビームL
を2つに分割する単位表面形状とされた凹レンズ状の偏
角プリズム36A及び偏角プリズム36Bを、各々のレ
ーザビームLの分割方向が一致し、かつ各々分割方向に
沿うように直線状に一対配置して構成したものであり、
レーザビームLの分割方向が副走査方向に一致し、かつ
第2コリメータレンズ32Bによるファーフィールドパ
ターンができる位置に挿抜可能なように素子移動モータ
40によって位置決めされる。
The array refraction element 36 according to the present embodiment.
Are the laser beams L that are respectively incident on each other, as shown in FIG.
A pair of concave lens-shaped deflection angle prisms 36A and deflection angle prisms 36B having a unit surface shape that divide the laser beam L into two are linearly formed so that the division directions of the laser beams L coincide with each other and are along the division directions. It is arranged and configured,
The dividing direction of the laser beam L coincides with the sub-scanning direction, and the element moving motor 40 positions the element so that the laser beam L can be inserted and removed at a position where the second collimator lens 32B forms a far field pattern.

【0061】図4(A)にはアレイ屈折素子36をレー
ザビームLの光路上に位置させない場合に第2集光レン
ズ38Bによってサーマル感材T上に形成される集光ス
ポットの状態が、図4(B)にはアレイ屈折素子36を
レーザビームLの光路上に位置させた場合にサーマル感
材T上に形成される集光スポットの状態が、各々示され
ている。なお、後述するアレイ開口板39によって各レ
ーザビームLの副走査方向両端部の所定領域が遮光され
るため、各集光スポットは副走査方向両端部がカットさ
れた状態となるが、図4では、簡単のため、各集光スポ
ットを円形で示している。
FIG. 4A shows the state of the focused spot formed on the thermal sensitive material T by the second focusing lens 38B when the array refracting element 36 is not positioned on the optical path of the laser beam L. 4B shows states of condensed spots formed on the thermal sensitive material T when the array refracting element 36 is positioned on the optical path of the laser beam L, respectively. It should be noted that the array aperture plate 39 described later shields a predetermined region at both ends in the sub-scanning direction of each laser beam L, so that each focused spot has a state in which both ends in the sub-scanning direction are cut. For the sake of simplicity, each focus spot is shown as a circle.

【0062】図4(A)に示すように、アレイ屈折素子
36をレーザビームLの光路上に位置させない場合に
は、各光ファイバー20から出射されたレーザビームL
は各々分割されることなくサーマル感材T上に集光スポ
ットを形成するが、アレイ屈折素子36をレーザビーム
Lの光路上に位置させた場合には、図4(B)に示すよ
うに、各レーザビームLが副走査方向に沿って2つに分
割されることになり、サーマル感材T上には各レーザビ
ームL毎に2つの集光スポットを形成することになる。
As shown in FIG. 4 (A), when the array refracting element 36 is not positioned on the optical path of the laser beam L, the laser beam L emitted from each optical fiber 20.
Form a focused spot on the thermal sensitive material T without being divided. However, when the array refracting element 36 is positioned on the optical path of the laser beam L, as shown in FIG. Each laser beam L will be divided into two along the sub-scanning direction, and two focused spots will be formed on the thermal sensitive material T for each laser beam L.

【0063】すなわち、本実施の形態に係るレーザ記録
装置10Aでは、アレイ屈折素子36をレーザビームL
の光路上に位置させるか否かを選択的に切り替えること
によって、サーマル感材Tに記録する画像を所定解像度
とするか、当該所定解像度より高い解像度とするかを切
り替えるようにしている。
That is, in the laser recording apparatus 10A according to this embodiment, the array refraction element 36 is moved to the laser beam L.
By selectively switching whether or not it is positioned on the optical path, the image to be recorded on the thermal sensitive material T is switched to a predetermined resolution or a resolution higher than the predetermined resolution.

【0064】なお、本実施の形態では、図4(A)に示
すように、アレイ屈折素子36をレーザビームLの光路
上に位置させない場合の、すなわち、高解像度側で画像
形成を行う場合の副走査方向に隣接する集光スポットの
間隔を4・εとし、当該副走査方向に隣接する集光スポ
ット間の副走査方向の中心位置に他列の集光スポットが
形成されるように関係各部が構成されている。これによ
り、1回の主走査で走査線ピッチ間隔が2・εの画像を
サーマル感材T上に記録することができる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 4A, when the array refracting element 36 is not located on the optical path of the laser beam L, that is, when image formation is performed on the high resolution side. The interval between the converging spots adjacent to each other in the sub-scanning direction is set to 4 · ε, and the other spots are formed so that the condensing spots of the other rows are formed at the central position in the sub-scanning direction between the converging spots adjacent to each other in the sub-scanning direction. Is configured. Thus, an image having a scanning line pitch interval of 2 · ε can be recorded on the thermal sensitive material T by one main scan.

【0065】また、図4(B)に示すように、本実施の
形態では、アレイ屈折素子36により分離された2つの
レーザビームに対応するサーマル感材T上の集光スポッ
トのずらし量がεとなるように関係各部が設定されてい
る。
As shown in FIG. 4B, in the present embodiment, the shift amount of the focused spot on the thermal sensitive material T corresponding to the two laser beams separated by the array refracting element 36 is ε. The relevant parts are set so that

【0066】一方、図5には、アレイ開口板39の図1
矢印C方向に見た場合の構成が示されている。同図に示
すように、本実施の形態に係るアレイ開口板39には、
半導体レーザLDと同数の矩形状の開口39Aが設けら
れている。
On the other hand, FIG. 5 shows the array aperture plate 39 shown in FIG.
The configuration when viewed in the direction of arrow C is shown. As shown in the figure, the array aperture plate 39 according to the present embodiment includes
The same number of rectangular openings 39A as the semiconductor laser LD are provided.

【0067】アレイ開口板39は、第1集光レンズ38
AによるレーザビームLの集光位置である第1集光位置
(図1も参照)に配設されるものであり、図6に示すよ
うに、各開口39Aは、アレイ開口板39が第1集光位
置に配設された状態で、各半導体レーザLDから射出さ
れ、ファイバーアレイ部30から出射された複数(本実
施の形態では、‘15’)のレーザビームL毎に副走査
方向両端部の所定領域を遮光できる寸法、及び配置位置
とされている。
The array aperture plate 39 has a first condenser lens 38.
It is arranged at the first condensing position (see also FIG. 1) which is the condensing position of the laser beam L by A. As shown in FIG. Each of the plurality (in the present embodiment, “15”) of laser beams L emitted from each semiconductor laser LD and emitted from the fiber array unit 30 in the state of being arranged at the converging position is located at both ends in the sub-scanning direction. The size and arrangement position are such that a predetermined area can be shielded from light.

【0068】なお、本実施の形態に係るアレイ開口板3
9では、図6及び図7に示すように、上記所定領域を、
レーザビームLの中心から、アレイ屈折素子36により
分割されたレーザビームLのサーマル感材T上での集光
スポットSPの中心間距離ΔSの半分(ΔS/2)の距
離に対応する距離だけ副走査方向両端部側に離れた2つ
の位置の各々に接する主走査方向直線(図6における破
線)の外側の領域としたものである。
The array aperture plate 3 according to the present embodiment.
In FIG. 9, as shown in FIG. 6 and FIG.
The distance from the center of the laser beam L, which corresponds to a half (ΔS / 2) of the center-to-center distance ΔS of the focused spot SP of the laser beam L divided by the array refracting element 36 on the thermal sensitive material T, is subordinate. This is a region outside the straight line in the main scanning direction (broken line in FIG. 6) that is in contact with each of the two positions that are separated from each other in the scanning direction.

【0069】これによってアレイ屈折素子36により分
割されたレーザビームLのサーマル感材T上での重ね合
わせ領域がほぼ無くなるため、この領域の光パワーを最
小限とすることができ、この結果としてアブレーション
の発生をほぼ確実に防止することができる。
As a result, the overlapping area of the laser beam L divided by the array refracting element 36 on the thermal sensitive material T is almost eliminated, and the optical power in this area can be minimized, resulting in ablation. Can be almost certainly prevented.

【0070】なお、上記中心間距離ΔSは、本実施の形
態ではコンピュータ・シミュレーションにより導出す
る。また、アレイ開口板39の各開口39Aは、本実施
の形態ではエッチングにより形成する。
The center-to-center distance ΔS is derived by computer simulation in this embodiment. Further, each opening 39A of the array opening plate 39 is formed by etching in this embodiment.

【0071】次に、図8を参照して、本実施の形態に係
るレーザ記録装置10Aの制御系の構成について説明す
る。同図に示すように、当該制御系は、画像データに応
じて半導体レーザLDを駆動するLD駆動回路54と、
素子移動モータ40を駆動する素子移動モータ駆動回路
56と、副走査モータ16を駆動する副走査モータ駆動
回路58と、LD駆動回路54、素子移動モータ駆動回
路56及び副走査モータ駆動回路58を制御する制御回
路52と、を備えている。ここで、制御回路52には、
サーマル感材Tに記録する画像を示す画像データ、及び
画像記録の解像度を示す解像度データが供給される。
Next, the configuration of the control system of the laser recording apparatus 10A according to the present embodiment will be described with reference to FIG. As shown in the figure, the control system includes an LD drive circuit 54 that drives the semiconductor laser LD according to image data,
An element movement motor drive circuit 56 that drives the element movement motor 40, a sub-scanning motor drive circuit 58 that drives the sub-scanning motor 16, an LD drive circuit 54, an element movement motor drive circuit 56, and a sub-scanning motor drive circuit 58 are controlled. And a control circuit 52 that operates. Here, in the control circuit 52,
Image data showing an image to be recorded on the thermal sensitive material T and resolution data showing the resolution of image recording are supplied.

【0072】半導体レーザLDが本発明の光源に、第1
コリメータレンズ32A及び第1集光レンズ38Aによ
って構成される光学系が本発明の第1光学系に、第2コ
リメータレンズ32B及び第2集光レンズ38Bによっ
て構成される光学系が本発明の第2光学系に、アレイ屈
折素子36が本発明の光分割手段に、アレイ開口板39
が本発明の遮光手段に、素子移動モータ40が本発明の
移動手段に、サーマル感材Tが本発明の記録媒体に、各
々相当する。
The semiconductor laser LD is the first light source of the present invention.
The optical system configured by the collimator lens 32A and the first condensing lens 38A is the first optical system of the present invention, and the optical system configured by the second collimator lens 32B and the second condensing lens 38B is the second optical system of the present invention. In the optical system, the array refracting element 36 serves as the light splitting means of the present invention, and the array aperture plate 39.
Corresponds to the light shielding means of the present invention, the element moving motor 40 corresponds to the moving means of the present invention, and the thermal sensitive material T corresponds to the recording medium of the present invention.

【0073】次に、以上のように構成されたレーザ記録
装置10Aの作用について、図9に示すフローチャート
を参照しつつ説明する。
Next, the operation of the laser recording apparatus 10A constructed as described above will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

【0074】まず、作業者は、レーザ記録装置10Aに
対して記録する画像の解像度Sを示す解像度データを入
力する(ステップ100)。この解像度データ、及び記
録すべき画像の画像データは制御回路52に供給され、
制御回路52は、これらのデータに基づいて調整された
信号をLD駆動回路54、素子移動モータ駆動回路56
及び副走査モータ駆動回路58に供給する。なお、本実
施の形態では、上記解像度SとしてK0(dpi)と2
・K0(dpi)の2種類の解像度で画像を記録できる
ものとして以下の説明を行う。
First, the operator inputs the resolution data indicating the resolution S of the image to be recorded in the laser recording device 10A (step 100). The resolution data and the image data of the image to be recorded are supplied to the control circuit 52,
The control circuit 52 outputs a signal adjusted based on these data to the LD drive circuit 54 and the element movement motor drive circuit 56.
And to the sub-scanning motor drive circuit 58. In the present embodiment, K0 (dpi) and 2 are used as the resolution S.
The following description will be given on the assumption that an image can be recorded at two kinds of resolutions of K0 (dpi).

【0075】作業者によって入力された解像度が2・K
0(dpi)である場合(ステップ102で肯定判定さ
れた場合)、素子移動モータ駆動回路56は素子移動モ
ータ40を駆動し、アレイ屈折素子36がレーザビーム
Lの光路上に位置しないようにアレイ屈折素子36を移
動させる(ステップ104)。また、この場合、副走査
モータ駆動回路58は副走査モータ16による露光ヘッ
ド12の副走査方向に対する送り間隔Wを次のように設
定する(ステップ106)。
The resolution input by the operator is 2 · K.
If 0 (dpi) (if affirmative determination is made in step 102), the element moving motor drive circuit 56 drives the element moving motor 40 to prevent the array refracting element 36 from being located on the optical path of the laser beam L. The refraction element 36 is moved (step 104). Further, in this case, the sub-scanning motor drive circuit 58 sets the feeding interval W of the exposure head 12 by the sub-scanning motor 16 in the sub-scanning direction as follows (step 106).

【0076】[0076]

【数5】 [Equation 5]

【0077】但し、Nは半導体レーザLDの数(本実施
の形態では‘15’)である。
However, N is the number of semiconductor lasers LD ('15' in this embodiment).

【0078】すなわち、解像度が2・K0(dpi)で
ある場合、アレイ屈折素子36をレーザビームLの光路
上から外すことによって、レーザビームLを副走査方向
に分割しないようにしており、これによってレーザビー
ムLを分割する場合の2倍の解像度を実現している。
That is, when the resolution is 2 · K0 (dpi), the array refracting element 36 is removed from the optical path of the laser beam L so that the laser beam L is not divided in the sub-scanning direction. The resolution is twice as high as when the laser beam L is split.

【0079】上述のようにアレイ屈折素子36の移動及
び副走査方向に対する送り間隔の設定が終了すると、L
D駆動回路54は、画像データに基づき、記録濃度に合
わせて設定されたデータに応じた発光量となるように各
半導体レーザLDの駆動を制御する(ステップ10
8)。
When the movement of the array refracting element 36 and the setting of the feed interval in the sub-scanning direction are completed as described above, L
Based on the image data, the D drive circuit 54 controls the drive of each semiconductor laser LD so that the light emission amount corresponds to the data set according to the recording density (step 10).
8).

【0080】各半導体レーザLDから射出されたレーザ
ビームLは、第1コリメータレンズ32Aによって略平
行光束とされた後、第1集光レンズ38Aによって第1
集光位置に集光される。そして、この集光されたレーザ
ビームLはアレイ開口板39を介して第1集光位置を境
として発散されるが、この発散されたレーザビームL
は、第2コリメータレンズ32Bによって略平行光束と
された後、第2集光レンズ38Bによってドラム14の
サーマル感材Tに集光される。
The laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is converted into a substantially parallel light flux by the first collimator lens 32A, and then the first collimator lens 38A makes the first beam.
It is focused at the focus position. Then, the condensed laser beam L diverges through the array aperture plate 39 at the first condensing position as a boundary, and the diverged laser beam L
After being converted into a substantially parallel light flux by the second collimator lens 32B, the light is focused on the thermal sensitive material T of the drum 14 by the second condenser lens 38B.

【0081】この場合、サーマル感材T上には、各々ほ
ぼ図14に示す強度分布からなるビームスポットS1〜
S15(図10(A))が形成される。このビームスポ
ットS1〜S15は、図10(A)に示すように、露光
ヘッド12が副走査方向に送り間隔Wのピッチで送られ
ると共に、ドラム14が主走査方向に回転されることに
より、解像度が2・K0(dpi)となる2次元画像が
サーマル感材T上に形成される(ステップ110)。
In this case, on the thermal sensitive material T, beam spots S1 to S1 each having an intensity distribution shown in FIG.
S15 (FIG. 10 (A)) is formed. As shown in FIG. 10A, the beam spots S1 to S15 are transmitted by the exposure head 12 in the sub-scanning direction at a pitch of the feeding interval W, and the drum 14 is rotated in the main scanning direction, so that the resolution is increased. A two-dimensional image having a value of 2.K0 (dpi) is formed on the thermal sensitive material T (step 110).

【0082】次に、解像度が2・K0(dpi)からK
0(dpi)に変更された場合(ステップ102で否定
判定された場合)について説明する。この場合、素子移
動モータ駆動回路56は素子移動モータ40を駆動し、
アレイ屈折素子36がレーザビームLの光路上に位置す
るようにアレイ屈折素子36を移動させる(ステップ1
12)。また、この場合、副走査モータ駆動回路58は
副走査モータ16による露光ヘッド12の副走査方向に
対する送り間隔W’を次のように設定する(ステップ1
14)。
Next, the resolution is from 2 · K0 (dpi) to K.
A case where it is changed to 0 (dpi) (when a negative determination is made in step 102) will be described. In this case, the element moving motor drive circuit 56 drives the element moving motor 40,
The array refracting element 36 is moved so that the array refracting element 36 is located on the optical path of the laser beam L (step 1).
12). Further, in this case, the sub-scanning motor drive circuit 58 sets the feed interval W ′ in the sub-scanning direction of the exposure head 12 by the sub-scanning motor 16 as follows (step 1).
14).

【0083】[0083]

【数6】 [Equation 6]

【0084】すなわち、解像度がK0(dpi)である
場合、アレイ屈折素子36をレーザビームLの光路上に
位置させることによって、アレイ屈折素子36に入射さ
れたレーザビームLを副走査方向に複数(本実施の形態
では‘2’)のレーザビームに分割するようにしてお
り、これによってレーザビームLを分割しない場合の2
分の1の解像度を実現している。
That is, when the resolution is K0 (dpi), by arranging the array refracting element 36 on the optical path of the laser beam L, a plurality of laser beams L incident on the array refracting element 36 in the sub-scanning direction ( In the present embodiment, the laser beam is divided into '2') laser beams.
It realizes a resolution of one-half.

【0085】上述のようにアレイ屈折素子36の移動及
び副走査方向に対する送り間隔の設定が終了すると、L
D駆動回路54は、画像データに基づき、記録濃度に合
わせて設定されたデータに応じた発光量となるように各
半導体レーザLDの駆動を制御する(ステップ11
6)。
When the movement of the array refracting element 36 and the setting of the feed interval in the sub-scanning direction are completed as described above, L
The D drive circuit 54 controls the drive of each semiconductor laser LD based on the image data so that the amount of light emission is in accordance with the data set according to the recording density (step 11).
6).

【0086】各半導体レーザLDから射出されたレーザ
ビームLは、第1コリメータレンズ32Aによって略平
行光束とされた後、第1集光レンズ38Aを介して第1
集光位置に、図4(A)に示される状態と同様の状態で
集光される。
The laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is converted into a substantially parallel light flux by the first collimator lens 32A, and then the first collimator lens 38A passes the first beam.
The light is condensed at the light collecting position in the same state as that shown in FIG.

【0087】第1集光位置では、アレイ開口板39によ
り、各レーザビームLの副走査方向両端部の所定領域が
遮光される。
At the first focus position, the array aperture plate 39 shields a predetermined region at each end of each laser beam L in the sub-scanning direction.

【0088】そして、この所定領域が遮光された状態の
レーザビームLは、第1集光位置を境として発散され、
第2コリメータレンズ32Bによって略平行光束とされ
た後、アレイ屈折素子36に供給され、各レーザビーム
L毎に副走査方向に4つに分割(ビームシェアリング)
される。そして、この4分割されたレーザビームは、第
2集光レンズ38Bを介してサーマル感材T上に、図4
(B)に示されるように各レーザビーム毎に2つに分割
された状態で集光される。
Then, the laser beam L in the state where the predetermined region is shielded is diverged at the first condensing position as a boundary,
After being made into a substantially parallel light flux by the second collimator lens 32B, it is supplied to the array refraction element 36 and is divided into four in the sub-scanning direction for each laser beam L (beam sharing).
To be done. Then, the four-divided laser beam is transferred onto the thermal sensitive material T via the second condenser lens 38B, as shown in FIG.
As shown in (B), each laser beam is condensed in a state of being divided into two.

【0089】すなわち、図11(A)に示すように、各
レーザビームLの光軸上のレーザビームLが略平行光束
となる位置で、かつファーフィールドパターンのできる
位置近傍にアレイ屈折素子36を配置した場合、図11
(B)に示すように、各レーザビームLはアレイ屈折素
子36によって一旦4つに分割され、図11(A)に示
すように、アレイ屈折素子36により4つに分割された
各レーザビームが第2集光レンズ38Bで集光されるこ
とによって、サーマル感材T上で副走査方向に2つずつ
重ね合わされ、結果的に2つに分割された状態になる。
That is, as shown in FIG. 11A, the array refracting element 36 is provided at a position where the laser beam L on the optical axis of each laser beam L becomes a substantially parallel light beam and in the vicinity of a position where a far field pattern can be formed. Figure 11 when placed
As shown in FIG. 11B, each laser beam L is once divided into four by the array refraction element 36, and each laser beam L divided into four by the array refraction element 36 is shown in FIG. 11A. By being condensed by the second condensing lens 38B, the thermal condensing material T is superposed two by two in the sub-scanning direction, and as a result, is divided into two.

【0090】このとき、アレイ屈折素子36のアレイ対
の数の集光ビームで1つの集光スポットを構成するの
で、焦点位置(サーマル感材Tの位置)からレーザビー
ムの入射側を見たときと、焦点位置からレーザビームの
出射側を見たときとで、各レーザビームのボケ方が光軸
方向に対して対称となり、この結果としてレーザ記録装
置10Aにおける記録画像の品質を向上することができ
る。
At this time, one focused spot is formed by the focused beams of the number of array pairs of the array refracting element 36, so that when the laser beam incident side is viewed from the focal position (the position of the thermal sensitive material T). And when the emission side of the laser beam is seen from the focus position, the blur direction of each laser beam becomes symmetrical with respect to the optical axis direction, and as a result, the quality of the recorded image in the laser recording device 10A can be improved. it can.

【0091】また、サーマル感材Tに形成された各集光
スポット対は、アレイ屈折素子36によるレーザビーム
Lの分割前に、当該レーザビームLの副走査方向両端部
の所定領域がアレイ開口板39により遮光されているの
で、アレイ屈折素子36により分割されたレーザビーム
Lをサーマル感材T上で中心位置をずらして一部を重ね
合わせたときの当該重ね合わせ領域の面積が小さくなる
ため、この領域の光パワーを小さくすることができ、こ
の結果としてアブレーションの発生を防止することがで
きる。
Further, in each of the focused spot pairs formed on the thermal sensitive material T, a predetermined area at both ends of the laser beam L in the sub-scanning direction is array aperture plate before the laser beam L is divided by the array refraction element 36. Since the laser beam L divided by the array refraction element 36 is shifted in the center position on the thermal sensitive material T and a part of the laser beam L is superposed, the area of the superposed region becomes small. The optical power in this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0092】すなわち、アレイ開口板39を用いない場
合においてアレイ屈折素子36により分割されたレーザ
ビームLによりサーマル感材T上に形成される集光スポ
ット対による強度分布は、一例として図12(A)に示
すように、各集光スポットSPの各々の強度分布が副走
査方向に合成された状態となり、集光スポットSPの重
なり領域については各集光スポットの強度が加算された
状態となって、当該集光スポット対の副走査方向中央部
における強度は各集光スポットSPの最大レベルより大
幅に高くなる。
That is, the intensity distribution by the focused spot pair formed on the thermal sensitive material T by the laser beam L divided by the array refracting element 36 when the array aperture plate 39 is not used is shown in FIG. ), The intensity distributions of the respective focused spots SP are combined in the sub-scanning direction, and the intensity of each focused spot is added to the overlapping region of the focused spots SP. The intensity of the focused spot pair in the central portion in the sub-scanning direction is significantly higher than the maximum level of each focused spot SP.

【0093】これに対し、アレイ開口板39を用いた場
合においてアレイ屈折素子36により分割されたレーザ
ビームLによりサーマル感材T上に形成される集光スポ
ット対による強度分布は、一例として図12(B)に示
すように、各集光スポットSPの各々の強度分布が副走
査方向に合成された状態となるが、集光スポットSPの
重なり領域については各集光スポットの元となるレーザ
ビームLの副走査方向両端部の所定領域がアレイ開口板
39によって遮光されているので、当該集光スポット対
の副走査方向中央部における強度を各集光スポットSP
の最大レベル程度に抑えることができ、この結果として
アブレーションの発生をほぼ確実に防止することができ
る。
On the other hand, when the array aperture plate 39 is used, the intensity distribution by the focused spot pair formed on the thermal sensitive material T by the laser beam L divided by the array refraction element 36 is shown in FIG. As shown in (B), the intensity distributions of the respective focused spots SP are combined in the sub-scanning direction, but the overlapping region of the focused spots SP is the laser beam that is the source of each focused spot. Since the predetermined areas at both ends of L in the sub-scanning direction are shielded by the array aperture plate 39, the intensity at the central portion of the focused spot pair in the sub-scanning direction is set to each focus spot SP.
Can be suppressed to about the maximum level, and as a result, the occurrence of ablation can be almost certainly prevented.

【0094】この場合、サーマル感材T上には、一例と
して図12(B)に示される状態の強度分布からなるビ
ームスポットS1’〜S15’(図10(B))が形成
される。
In this case, on the thermal sensitive material T, as an example, beam spots S1 'to S15' (FIG. 10 (B)) having the intensity distribution in the state shown in FIG. 12 (B) are formed.

【0095】このビームスポットS1’〜S15’は、
図10(B)に示すように、露光ヘッド12が副走査方
向に送り間隔W’のピッチで送られると共に、ドラム1
4が主走査方向に回転されることにより、解像度がK0
(dpi)となる2次元画像がサーマル感材T上に形成
される(ステップ110)。
The beam spots S1 'to S15' are
As shown in FIG. 10B, the exposure head 12 is fed in the sub-scanning direction at a feed interval W ′ and the drum 1
4 is rotated in the main scanning direction so that the resolution is K0.
A two-dimensional image of (dpi) is formed on the thermal sensitive material T (step 110).

【0096】このように、記録画像の解像度を2・K0
(dpi)からK0(dpi)に変更した場合、アレイ
屈折素子36をレーザビームLの光路上に挿入するだけ
でビームスポットS1〜S15をビームスポットS1’
〜S15’に容易に拡大することができ、しかも、副走
査速度が高速化されるので、高速で画像記録を行うこと
が可能となる。
In this way, the resolution of the recorded image is set to 2 · K0.
When (dpi) is changed to K0 (dpi), the beam spots S1 to S15 are changed to beam spots S1 ′ simply by inserting the array refracting element 36 in the optical path of the laser beam L.
To S15 ', the image can be recorded at high speed because the sub-scanning speed is increased.

【0097】同様にして、解像度をK0(dpi)から
2・K0(dpi)に変更することができる。
Similarly, the resolution can be changed from K0 (dpi) to 2.K0 (dpi).

【0098】上記ステップ100の処理が本発明の入力
手段に相当する。
The processing of step 100 corresponds to the input means of the present invention.

【0099】以上詳細に説明したように、本第1実施形
態に係るレーザ記録装置10Aでは、半導体レーザLD
から射出されたレーザビームLをファイバーアレイ部3
0とサーマル感材Tとの間で一旦集光し、該集光された
レーザビームLをサーマル感材T上に集光すると共に、
第1集光位置とサーマル感材Tとの間に配置されたアレ
イ屈折素子36によりレーザビームLを副走査方向に対
して2つに分割し、かつ第1集光位置に配置されたアレ
イ開口板39によってレーザビームLの副走査方向端部
の所定領域を遮光しているので、アレイ屈折素子36に
より分割されたレーザビームLをサーマル感材T上で中
心位置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該重ね合
わせ領域の面積が小さくなるため、この領域の光パワー
を小さくすることができ、この結果としてアブレーショ
ンの発生を防止することができる。
As described in detail above, in the laser recording apparatus 10A according to the first embodiment, the semiconductor laser LD
The laser beam L emitted from the fiber array unit 3
0 and the thermal sensitive material T are once focused, and the focused laser beam L is focused on the thermal sensitive material T.
The array refraction element 36 arranged between the first condensing position and the thermal sensitive material T divides the laser beam L into two in the sub-scanning direction, and the array aperture arranged at the first condensing position. Since the plate 39 shields a predetermined region at the end of the laser beam L in the sub-scanning direction, the laser beam L divided by the array refracting element 36 is shifted in the center position on the thermal sensitive material T and a part thereof is overlapped. In this case, since the area of the overlapping region is small, the optical power of this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0100】また、本第1実施形態に係るレーザ記録装
置10Aでは、上記所定領域を、レーザビームLの中心
から、アレイ屈折素子36により分割されたレーザビー
ムLのサーマル感材T上での集光スポットの中心間距離
の半分を含む所定範囲の距離に対応する距離だけ副走査
方向両端部側に離れた2つの位置の各々に接する主走査
方向直線の外側の領域としているので、アブレーション
の発生をほぼ確実に防止することができる。
Further, in the laser recording apparatus 10A according to the first embodiment, the predetermined region is collected from the center of the laser beam L on the thermal sensitive material T of the laser beam L divided by the array refracting element 36. Ablation occurs because the area outside the straight line in the main scanning direction is in contact with each of the two positions that are separated from each other on both ends in the sub scanning direction by a distance corresponding to a predetermined range including half the distance between the centers of the light spots. Can be almost certainly prevented.

【0101】なお、本実施の形態では、アレイ屈折素子
36として、各々凹レンズ状の偏角プリズム36A及び
偏角プリズム36Bを配置して構成したものを適用した
場合について説明したが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、1本の光ビームを2つに分割する単位表面
形状を有する屈折部材が対単位でアレイ状に並ぶような
形状とされているものであれば、如何なるものも適用す
ることができる。
In the present embodiment, the case where the concave refraction prism 36A and the deflection prism 36B are arranged as the array refracting element 36 is applied, but the present invention is not limited to this. However, the present invention is not limited to this, and any one can be applied as long as the refracting members having a unit surface shape that divides one light beam into two are arranged in pairs in an array. can do.

【0102】図13には、本実施の形態で示したアレイ
屈折素子36以外の形状とされたアレイ屈折素子の形態
例(平面図)が示されている。図13(A)に示したア
レイ屈折素子は、レーザビームの出射側に対して凸形状
となる単位表面形状を、副走査方向に沿った直線状に一
対形成して構成したものである。また、図13(B)に
示したアレイ屈折素子は、レーザビームの入射側に対し
てレーザビームの光軸方向に平行となるように形成され
た面と、当該面のレーザビーム入射側の一端部からレー
ザビームの光軸方向に対して傾斜するように形成された
面と、の各面の組み合わせとされた単位表面形状を、副
走査方向に沿った直線状に一対形成して構成したもので
ある。更に、図13(C)に示したアレイ屈折素子は、
レーザビームの出射側に対してレーザビームの光軸方向
に平行となるように形成された面と、当該面のレーザビ
ーム入射側の一端部からレーザビームの光軸方向に対し
て傾斜するように形成された面と、の各面の組み合わせ
とされた単位表面形状を、副走査方向に沿った直線状に
一対形成して構成したものである。なお、図13(B)
に示されるアレイ屈折素子では、上記単位表面形状がレ
ーザビーム入射側に対して凸形状とされており、図13
(C)に示されるアレイ屈折素子では、上記単位表面形
状がレーザビーム出射側に対して凹形状とされている。
FIG. 13 shows an example (plan view) of an array refracting element having a shape other than the array refracting element 36 shown in the present embodiment. The array refraction element shown in FIG. 13A is configured by forming a pair of unit surface shapes that are convex toward the laser beam emission side in a linear shape along the sub-scanning direction. The array refracting element shown in FIG. 13B has a surface formed to be parallel to the laser beam incident side in the optical axis direction of the laser beam and one end of the surface on the laser beam incident side. Formed by forming a pair of unit surface shapes, which are a combination of the surfaces formed so as to incline with respect to the optical axis direction of the laser beam from the section, in a straight line along the sub-scanning direction Is. Further, the array refracting element shown in FIG.
A surface formed so as to be parallel to the optical axis direction of the laser beam with respect to the emission side of the laser beam, and an inclination from the one end of the surface on the laser beam incident side with respect to the optical axis direction of the laser beam. The unit surface shape, which is a combination of the formed surface and the respective surfaces, is formed in a linear shape along the sub-scanning direction. Note that FIG. 13B
In the array refracting element shown in FIG. 13, the unit surface shape is convex toward the laser beam incident side, and FIG.
In the array refracting element shown in (C), the unit surface shape is concave with respect to the laser beam emitting side.

【0103】また、本実施の形態に係るアレイ屈折素子
36と同様の形状となるように一体形成されたアレイ屈
折素子も適用することができることは言うまでもない。
It goes without saying that an array refraction element integrally formed to have the same shape as the array refraction element 36 according to the present embodiment can also be applied.

【0104】これらのアレイ屈折素子を適用した場合
も、本実施の形態と同様の効果を奏することができる。
Even when these array refracting elements are applied, the same effects as in the present embodiment can be obtained.

【0105】〔第2実施形態〕上記第1実施形態では、
本発明のアレイ屈折素子を光が略平行光束となる部位に
配設し、入射光を互いに異なる角度に分割して出射する
ものとした場合の形態について説明したが、本第2実施
形態では、アレイ屈折素子を光が収束する部位に配設
し、入射光を互いに略平行となるように分割して出射す
るものとした場合の形態について説明する。
[Second Embodiment] In the first embodiment,
The case where the array refracting element of the present invention is arranged at a site where light becomes a substantially parallel light flux and the incident light is divided into different angles and emitted is described. However, in the second embodiment, A description will be given of a mode in which the array refraction element is arranged at a portion where light is converged, and the incident light is divided and emitted so as to be substantially parallel to each other.

【0106】まず、図15を参照して、第2実施形態に
係るレーザ記録装置10Bの構成について説明する。な
お、同図における図1に示されるレーザ記録装置10A
と同一の構成要素には図1と同一の符号を付して、その
説明を省略する。
First, the structure of the laser recording apparatus 10B according to the second embodiment will be described with reference to FIG. Incidentally, the laser recording device 10A shown in FIG.
The same components as in FIG. 1 are assigned the same reference numerals as those in FIG. 1 and their description is omitted.

【0107】同図に示すように、本第2実施形態に係る
レーザ記録装置10Bは、アレイ屈折素子36に代えて
アレイ屈折素子36’を用いている点と、アレイ屈折素
子36’を第2集光レンズ38Bとサーマル感材Tとの
間のレーザビームLの収束する部位に配設した点のみ
が、上記第1実施形態に係るレーザ記録装置10Aと相
違している。
As shown in the figure, in the laser recording apparatus 10B according to the second embodiment, an array refraction element 36 'is used in place of the array refraction element 36, and an array refraction element 36' is provided as a second refraction element. The difference from the laser recording apparatus 10A according to the first embodiment described above is that the laser beam L is arranged between the condenser lens 38B and the thermal sensitive material T at a position where the laser beam L converges.

【0108】本第2実施形態に係るアレイ屈折素子3
6’は、図16(B)に示すように、各々入射されたレ
ーザビームLを2つに分割し、かつ分割された2つのレ
ーザビームを互いに略平行となるように出射する単位表
面形状を有する屈折部材を、各々のレーザビームLの分
割方向が一致し、かつ各々当該分割方向に沿うように直
線状に一対形成して構成したものであり、レーザビーム
Lの分割方向が副走査方向に一致するように素子移動モ
ータ40によって位置決めされる。
Array refraction element 3 according to the second embodiment
As shown in FIG. 16B, 6'denotes a unit surface shape that splits each incident laser beam L into two and emits the two split laser beams so as to be substantially parallel to each other. A pair of refraction members included in the laser beam L are formed linearly so that the division directions of the laser beams L coincide with each other and the division directions of the laser beam L are in the sub-scanning direction. Positioning is performed by the element moving motor 40 so as to match.

【0109】解像度をK0(dpi)に設定した場合に
おいて、各半導体レーザLDから射出されたレーザビー
ムLは、第1コリメータレンズ32Aによって略平行光
束とされた後、第1集光レンズ38Aに供給されて第1
集光位置に、図4(A)に示される状態と同様の状態で
集光される。
When the resolution is set to K0 (dpi), the laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is converted into a substantially parallel light beam by the first collimator lens 32A and then supplied to the first condenser lens 38A. Being the first
The light is condensed at the light collecting position in the same state as that shown in FIG.

【0110】一方、第1集光位置では、アレイ開口板3
9により各レーザビームLの副走査方向両端部の所定領
域が遮光される。
On the other hand, at the first focus position, the array aperture plate 3
A predetermined area at both ends of each laser beam L in the sub-scanning direction is shielded by 9.

【0111】そして、この副走査方向両端部の所定領域
が遮光された状態のレーザビームLは、各々第1集光位
置を境として発散され、第2コリメータレンズ32Bに
よって略平行光束とされた後、図16(A)に示すよう
に第2集光レンズ38Bを介してアレイ屈折素子36’
に供給され、図16(B)に示すように各レーザビーム
L毎に副走査方向に4つに分割(ビームシェアリング)
されると共に、アレイ屈折素子36’の単位表面形状に
対応する一対の部位の各々から、分割された2つのレー
ザビームが互いに平行となるように出射される。そし
て、この4分割されたレーザビームは、サーマル感材T
上で副走査方向に2つずつ重ね合わされ、結果的に各レ
ーザビームL毎に2つに分割された状態で集光される。
Then, the laser beams L in the state where the predetermined regions at both ends in the sub-scanning direction are shielded are diverged at the first converging position as a boundary, and after being made into a substantially parallel light beam by the second collimator lens 32B. , The array refraction element 36 ′ is arranged via the second condenser lens 38B as shown in FIG.
And is divided into four in the sub-scanning direction for each laser beam L as shown in FIG. 16B (beam sharing).
At the same time, the two divided laser beams are emitted from each of the pair of portions corresponding to the unit surface shape of the array refraction element 36 ′ so as to be parallel to each other. The laser beam divided into four parts is used as the thermal sensitive material T.
Two laser beams are superposed on each other in the sub-scanning direction, and as a result, each laser beam L is condensed into two beams.

【0112】このとき、アレイ屈折素子36’のアレイ
対の数の集光ビームで1つの集光スポットを構成するの
で、焦点位置(サーマル感材Tの位置)からレーザビー
ムの入射側を見たときと、焦点位置からレーザビームの
出射側を見たときとで、各レーザビームのボケ方が光軸
方向に対して対称となり、この結果としてレーザ記録装
置10Bにおける記録画像の画質を向上することができ
る。
At this time, since one focused spot is formed by the focused beams of the number of array pairs of the array refracting element 36 ', the laser beam incident side is viewed from the focal position (the position of the thermal sensitive material T). At this time and when the emission side of the laser beam is viewed from the focus position, the blur direction of each laser beam becomes symmetrical with respect to the optical axis direction, and as a result, the image quality of the recorded image in the laser recording device 10B is improved. You can

【0113】また、サーマル感材Tに形成された各集光
スポット対は、アレイ屈折素子36’によるレーザビー
ムLの分割前に、当該レーザビームLの副走査方向両端
部の所定領域がアレイ開口板39により遮光されている
ので、アレイ屈折素子36’により分割されたレーザビ
ームLをサーマル感材T上で中心位置をずらして一部を
重ね合わせたときの当該重ね合わせ領域の面積が小さく
なるため、この領域の光パワーを小さくすることがで
き、この結果としてアブレーションの発生を防止するこ
とができる。
Further, in each of the focused spot pairs formed on the thermal sensitive material T, a predetermined area at both ends in the sub-scanning direction of the laser beam L is arrayed before the array refraction element 36 'divides the laser beam L. Since it is shielded by the plate 39, the area of the overlapping region becomes small when the laser beam L divided by the array refracting element 36 'is partially overlapped on the thermal sensitive material T by shifting the center position. Therefore, the optical power in this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0114】この場合、サーマル感材T上には、一例と
して図12(B)に示される状態の強度分布からなるビ
ームスポットS1’〜S15’(図10(B))が形成
される。
In this case, on the thermal sensitive material T, as an example, beam spots S1 'to S15' (FIG. 10B) having the intensity distribution in the state shown in FIG. 12B are formed.

【0115】このビームスポットS1’〜S15’は、
図10(B)に示すように、露光ヘッド12が副走査方
向に送り間隔W’のピッチで送られると共に、ドラム1
4が主走査方向に回転されることにより、解像度がK0
(dpi)となる2次元画像がサーマル感材T上に形成
される。
The beam spots S1 'to S15' are
As shown in FIG. 10B, the exposure head 12 is fed in the sub-scanning direction at a feed interval W ′ and the drum 1
4 is rotated in the main scanning direction so that the resolution is K0.
A two-dimensional image of (dpi) is formed on the thermal sensitive material T.

【0116】一方、解像度が2・K0(dpi)の画像
を形成する場合は、アレイ屈折素子36’をレーザビー
ムLの光路上に位置しないように移動させ、図10
(A)に示すビームスポットS1〜S15を得るように
制御すればよい。
On the other hand, when forming an image having a resolution of 2 · K0 (dpi), the array refracting element 36 ′ is moved so as not to be located on the optical path of the laser beam L, and the arrangement shown in FIG.
It may be controlled so as to obtain the beam spots S1 to S15 shown in (A).

【0117】以上詳細に説明したように、本第2実施形
態に係るレーザ記録装置10Bでは、半導体レーザLD
から射出されたレーザビームLをファイバーアレイ部3
0とサーマル感材Tとの間で一旦集光し、該集光された
レーザビームLをサーマル感材T上に集光すると共に、
第1集光位置とサーマル感材Tとの間に配置されたアレ
イ屈折素子36’によりレーザビームLを副走査方向に
対して2つに分割し、かつ第1集光位置に配置されたア
レイ開口板39によってレーザビームLの副走査方向端
部の所定領域を遮光しているので、アレイ屈折素子3
6’により分割されたレーザビームLをサーマル感材T
上で中心位置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該
重ね合わせ領域の面積が小さくなるため、この領域の光
パワーを小さくすることができ、この結果としてアブレ
ーションの発生を防止することができる。
As described above in detail, in the laser recording apparatus 10B according to the second embodiment, the semiconductor laser LD
The laser beam L emitted from the fiber array unit 3
0 and the thermal sensitive material T are once focused, and the focused laser beam L is focused on the thermal sensitive material T.
An array that divides the laser beam L into two in the sub-scanning direction by the array refraction element 36 'arranged between the first condensing position and the thermal sensitive material T and is arranged at the first condensing position. Since the aperture plate 39 shields a predetermined region at the end of the laser beam L in the sub-scanning direction, the array refraction element 3
The laser beam L divided by 6'is applied to the thermal sensitive material T
Since the area of the overlapping region becomes small when the center position is shifted and the portions are overlapped with each other, the optical power in this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0118】また、本第2実施形態に係るレーザ記録装
置10Bでは、上記所定領域を、レーザビームLの中心
から、アレイ屈折素子36’により分割されたレーザビ
ームLのサーマル感材T上での集光スポットの中心間距
離の半分を含む所定範囲の距離に対応する距離だけ副走
査方向両端部側に離れた2つの位置の各々に接する主走
査方向直線の外側の領域としているので、アブレーショ
ンの発生をほぼ確実に防止することができる。
Further, in the laser recording apparatus 10B according to the second embodiment, the above-mentioned predetermined region is divided from the center of the laser beam L by the array refracting element 36 'on the thermal sensitive material T. Since the area outside the straight line in the main scanning direction is in contact with each of the two positions separated by the distance in the sub-scanning direction at both ends corresponding to the distance in the predetermined range including half the distance between the centers of the focused spots, The occurrence can be almost certainly prevented.

【0119】一方、上記各実施形態に係るレーザ記録装
置10A、10Bでは、アレイ屈折素子を、ファイバー
アレイ部30とサーマル感材Tとの間で、かつレーザビ
ームの分割方向が当該レーザビームのブロードエリア方
向と平行となるように配置しているので、当該レーザビ
ームの焦点位置から光軸方向(深度方向)前後にずれた
位置における当該レーザビームのボケ方が光軸方向に対
して対称となるようにでき、この結果として記録画像の
画質を向上することができると共に、アレイ屈折素子
は、一軸性結晶を用いる場合に比較して低コストで構成
することができるので、この結果として装置を低コスト
で構成することができる。
On the other hand, in the laser recording devices 10A and 10B according to each of the above-described embodiments, the array refracting element is provided between the fiber array section 30 and the thermal sensitive material T, and the laser beam splitting direction is broad. Since the laser beam is arranged so as to be parallel to the area direction, the blur direction of the laser beam at a position deviated from the focus position of the laser beam forward and backward in the optical axis direction (depth direction) is symmetrical with respect to the optical axis direction. As a result, the image quality of the recorded image can be improved, and the array refraction element can be constructed at a lower cost as compared with the case where a uniaxial crystal is used. Can be configured at cost.

【0120】また、上記各実施形態に係るレーザ記録装
置10A、10Bでは、アレイ屈折素子を、レーザビー
ムのファーフィールドパターンができる位置に配置して
いるので、各半導体レーザLDから射出されたレーザビ
ームLの全てに対して、アレイ屈折素子を同様に作用さ
せることができる。
Further, in the laser recording devices 10A and 10B according to each of the above embodiments, since the array refracting element is arranged at the position where the far field pattern of the laser beam can be formed, the laser beam emitted from each semiconductor laser LD is The array refractive element can be similarly acted on all of L.

【0121】更に、上記各実施形態に係るレーザ記録装
置10A、10Bでは、走査露光によってサーマル感材
T上に形成される画像の解像度を示す解像度情報(上記
各実施形態の「解像度データ」に相当。)を入力し、当
該解像度情報によって示される解像度が予め定められた
第1解像度(上記各実施形態では、2・K0(dp
i))である場合にアレイ屈折素子が半導体レーザLD
から射出されたレーザビームの光軸上から退避され、当
該解像度情報によって示される解像度が第1解像度より
低い第2解像度(上記各実施形態では、K0(dp
i))である場合にアレイ屈折素子が上記光軸上に位置
されるように当該アレイ屈折素子を移動しているので、
解像度情報を入力するのみによって、サーマル感材Tに
画像を記録する際の解像度を容易に変更することができ
る。
Further, in the laser recording apparatuses 10A and 10B according to the above-described respective embodiments, resolution information indicating the resolution of an image formed on the thermal sensitive material T by scanning exposure (corresponding to "resolution data" in the above-described respective embodiments). .), And the resolution indicated by the resolution information is a predetermined first resolution (2.K0 (dp in the above embodiments).
i)), the array refraction element is a semiconductor laser LD.
The second resolution, which is retracted from the optical axis of the laser beam emitted from the device, and whose resolution indicated by the resolution information is lower than the first resolution (K0 (dp
In the case of i)), since the array refraction element is moved so that it is located on the optical axis,
The resolution at the time of recording an image on the thermal sensitive material T can be easily changed only by inputting the resolution information.

【0122】なお、上記第2実施形態では、アレイ屈折
素子36’をレーザビームが集光する部位に配設した場
合について説明したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、例えば、レーザビームが発散する部位、すな
わち、第1集光位置と第2コリメータレンズ32Bとの
間に配設する形態とすることもできる。この場合も、上
記第2実施形態と同様の効果を奏することができる。
In the second embodiment described above, the case where the array refraction element 36 'is arranged at the portion where the laser beam is focused has been described. However, the present invention is not limited to this. The beam may be diverged, that is, it may be arranged between the first condensing position and the second collimator lens 32B. Also in this case, the same effect as that of the second embodiment can be obtained.

【0123】〔第3実施形態〕まず、図17を参照し
て、第3実施形態に係るレーザ記録装置10Cの構成に
ついて説明する。なお、同図における図1に示されるレ
ーザ記録装置10Aと同一の構成要素には図1と同一の
符号を付して、その説明を省略する。
[Third Embodiment] First, the configuration of a laser recording apparatus 10C according to a third embodiment will be described with reference to FIG. In the figure, the same components as those of the laser recording apparatus 10A shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals as those in FIG. 1 and their explanations are omitted.

【0124】同図に示すように、本第3実施形態に係る
レーザ記録装置10Cは、アレイ屈折素子36に代えて
偏光方向制御素子34及び偏光分離素子37を用いてい
る点のみが、上記第1実施形態に係るレーザ記録装置1
0Aと相違している。
As shown in the figure, the laser recording apparatus 10C according to the third embodiment is different from the first embodiment only in that a polarization direction control element 34 and a polarization separation element 37 are used instead of the array refraction element 36. Laser recording apparatus 1 according to one embodiment
It is different from 0A.

【0125】本実施の形態に係る偏光分離素子37は、
図18に示すように、結晶光軸が互いに直交する2つの
一軸性結晶37A、37Bを張り合わせて構成した、レ
ーザビームLをサーマル感材Tの副走査方向に対して常
光線及び異常光線に分離するローションプリズムであ
り、例えば、レーザビームLの入射側に配置される一軸
性結晶37Aの結晶光軸がレーザビームLの光軸に平行
に設定され、レーザビームLの出射側に配置される一軸
性結晶37Bの結晶光軸がレーザビームLの光軸及び副
走査方向と直交する方向に設定される。この場合、常光
線は偏光分離素子37を直進し、異常光線は偏光分離素
子37によって副走査方向に屈折される。
The polarization separation element 37 according to the present embodiment is
As shown in FIG. 18, the laser beam L, which is formed by bonding two uniaxial crystals 37A and 37B whose crystal optical axes are orthogonal to each other, is separated into an ordinary ray and an extraordinary ray with respect to the sub-scanning direction of the thermal sensitive material T. A uniaxial crystal 37A arranged on the incident side of the laser beam L, the crystal optical axis of which is set parallel to the optical axis of the laser beam L, and which is arranged on the emission side of the laser beam L. The crystal optical axis of the crystalline film 37B is set in a direction orthogonal to the optical axis of the laser beam L and the sub-scanning direction. In this case, the ordinary ray goes straight through the polarization separation element 37, and the extraordinary ray is refracted in the sub-scanning direction by the polarization separation element 37.

【0126】なお、偏光分離素子37としては、一軸性
結晶37Aの結晶光軸がレーザビームLの光軸に直交す
ると共に副走査方向に平行に設定され、一軸性結晶37
Bの結晶光軸がレーザビームLの光軸及び副走査方向と
直交する方向に設定されるウォラストンプリズムを適用
してもよい。
As the polarization separation element 37, the crystal optical axis of the uniaxial crystal 37A is set to be orthogonal to the optical axis of the laser beam L and parallel to the sub-scanning direction.
A Wollaston prism in which the crystal optical axis of B is set in a direction orthogonal to the optical axis of the laser beam L and the sub-scanning direction may be applied.

【0127】また、偏光分離素子37は、レーザビーム
Lを必ずしも常光線と異常光線とに分離させる必要はな
く、偏光方向の異なる2つの光に分離するものであれば
よい。
Further, the polarization separation element 37 does not necessarily have to separate the laser beam L into an ordinary ray and an extraordinary ray, and may be any one that separates the laser beam L into two rays having different polarization directions.

【0128】一方、本実施の形態に係る偏光方向制御素
子34は、図19(A)及び図19(B)に示すよう
に、ガラス板34Bを基台とし、偏光分離素子37の光
軸方向上流側に設けられた際に、レーザビームLの一部
が透過されると共に、偏光分離素子37により分離され
る光の偏光方向に対して結晶光軸が略45度傾斜するよ
うに1/2波長板34Aを配置して構成したものであ
る。また、ここでは、1/2波長板34A及びガラス板
34Bの光が入射される領域の面積比が略1対1となる
ように、複数の1/2波長板34Aを、所定間隔D毎に
各々の両端部(レーザビームLが通過しない部位)をガ
ラス板34Bに接着して構成したものである。
On the other hand, as shown in FIGS. 19 (A) and 19 (B), the polarization direction control element 34 according to the present embodiment has a glass plate 34B as a base, and an optical axis direction of the polarization separation element 37. When provided on the upstream side, a part of the laser beam L is transmitted and the crystal optical axis is inclined by about 45 degrees with respect to the polarization direction of the light separated by the polarization separation element 37. It is configured by disposing a wave plate 34A. Further, here, a plurality of ½ wavelength plates 34A are arranged at predetermined intervals D so that the area ratio of the light incident regions of the ½ wavelength plate 34A and the glass plate 34B is approximately 1: 1. Both ends (portions through which the laser beam L does not pass) of each are bonded to the glass plate 34B.

【0129】このように、本実施の形態に係る偏光方向
制御素子34は、1/2波長板34AのレーザビームL
が入射される領域と、当該1/2波長板34Aに入射さ
れないレーザビームLの領域、すなわち、ガラス板34
BのレーザビームLが入射される領域との面積比が略1
対1となるように、複数の1/2波長板34Aをレーザ
ビームLの全入射領域において各々所定間隔D毎に配置
して構成したものであるが、レーザ記録装置10Cの装
置仕様等に基づいて、1/2波長板34A及びガラス板
34BのレーザビームLが入射される領域の面積比が、
偏光分離素子37によって得られる2つのレーザビーム
の各々の光量が略同一となるように構成するものとする
こともできる。また、1/2波長板34Aを透過したレ
ーザビームLと、透過しなかったレーザビームL(すな
わち、ガラス板34Bのみを透過したレーザビームL)
の光量が略同一となるように1/2波長板34Aの配置
位置を調整して構成するものとすることもできる。な
お、これらの偏光方向制御素子の構成は、図19に示さ
れるものと略同一であるので、これらの偏光方向制御素
子の他の図示は省略する。
As described above, the polarization direction control element 34 according to the present embodiment has the laser beam L of the half-wave plate 34A.
Of the laser beam L not incident on the half-wave plate 34A, that is, the glass plate 34.
The area ratio to the region where the laser beam L of B is incident is about 1
A plurality of half-wave plates 34A are arranged at predetermined intervals D in the entire incident region of the laser beam L so as to be paired with one another. However, based on the device specifications of the laser recording device 10C and the like. Then, the area ratio of the regions of the half-wave plate 34A and the glass plate 34B on which the laser beam L is incident is
The two light beams of the two laser beams obtained by the polarization separation element 37 may be configured to have substantially the same light amount. Further, the laser beam L that has passed through the half-wave plate 34A and the laser beam L that has not passed therethrough (that is, the laser beam L that has transmitted only the glass plate 34B).
It is also possible to adjust the arrangement position of the half-wave plate 34A so that the light amounts of the two are substantially the same. Since the configurations of these polarization direction control elements are substantially the same as those shown in FIG. 19, other illustrations of these polarization direction control elements are omitted.

【0130】ここで、以上のように構成された偏光方向
制御素子34を用いない場合と、偏光方向制御素子34
を用いた場合の、偏光分離素子37によるレーザビーム
の分離状態について説明する。まず、図20を参照し
て、偏光方向制御素子34を用いない場合のレーザビー
ムの分離状態について説明する。
Here, the case where the polarization direction control element 34 configured as described above is not used, and the case where the polarization direction control element 34 is used
The separation state of the laser beam by the polarization separation element 37 in the case of using will be described. First, referring to FIG. 20, the separation state of the laser beam when the polarization direction control element 34 is not used will be described.

【0131】図20(A)に示すように、例えば、偏光
がe1+e2のレーザビーム(偏光e1に対して45度
傾斜した偏光のレーザビーム)が偏光分離素子37に入
射した場合は、均等に2つの偏光e1及び偏光e2に分
離される。
As shown in FIG. 20A, for example, when a laser beam having a polarization of e1 + e2 (a laser beam having a polarization inclined by 45 degrees with respect to the polarization e1) is incident on the polarization separation element 37, the light beams are evenly distributed. It is separated into two polarized lights e1 and e2.

【0132】一方、図20(B)に示すように、偏光e
1のレーザビームが偏光分離素子37に入射した場合に
は、偏光e1のレーザビームしか偏光分離素子37から
出射されない。従って、この場合は、均等に2つのレー
ザビームに分離することは困難である。
On the other hand, as shown in FIG.
When the laser beam of No. 1 is incident on the polarization separation element 37, only the laser beam of polarized light e1 is emitted from the polarization separation element 37. Therefore, in this case, it is difficult to evenly separate the two laser beams.

【0133】次に、図21を参照して、偏光方向制御素
子34を用いた場合のレーザビームの分離状態について
説明する。
Next, referring to FIG. 21, the separation state of the laser beam when the polarization direction control element 34 is used will be described.

【0134】図21(A)に示すように、偏光がe1+
e2のレーザビーム(偏光e1に対して45度傾斜した
偏光のレーザビーム)がガラス板34Bに入射した場合
は、偏光方向が変化することなく透過し、このレーザビ
ームが偏光分離素子37に入射して、均等に2つの偏光
e1及び偏光e2に分離される。これに対し、偏光がe
1+e2のレーザビームが1/2波長板34Aに入射し
た場合は、結晶光軸が偏光e1に対して45度傾斜して
いるため、偏光方向が変化することなく透過し、このレ
ーザビームが偏光分離素子37に入射して、均等に2つ
の偏光e1及び偏光e2に分離される。
As shown in FIG. 21A, the polarized light is e1 +
When the laser beam of e2 (the laser beam of the polarized light inclined by 45 degrees with respect to the polarized light e1) is incident on the glass plate 34B, it is transmitted without changing the polarization direction, and this laser beam is incident on the polarization separation element 37. Thus, the two polarized lights e1 and e2 are evenly separated. On the other hand, the polarized light is e
When the 1 + e2 laser beam is incident on the ½ wavelength plate 34A, the crystal optical axis is inclined by 45 degrees with respect to the polarized light e1, so that the laser beam is transmitted without changing the polarization direction, and this laser beam is polarized and separated. The light enters the element 37 and is equally divided into two polarized lights e1 and e2.

【0135】一方、図21(B)に示すように、偏光e
1のレーザビームがガラス板34Bに入射した場合は、
偏光方向が変化することなく透過し、このレーザビーム
が偏光分離素子37に入射して、偏光e1のみのレーザ
ビームを出射する。これに対し、偏光e1のレーザビー
ムが1/2波長板34Aに入射した場合は、結晶光軸が
偏光e1に対して45度傾斜しているため、偏光e1に
直交する偏光e2となって出射され、このレーザビーム
が偏光分離素子37に入射して、偏光e2のみのレーザ
ビームを出射する。従って、空間的には異なる位置とな
るが、総合的にみてレーザビームを均等に分割すること
ができる。
On the other hand, as shown in FIG.
When the laser beam of No. 1 is incident on the glass plate 34B,
The laser beam is transmitted without changing the polarization direction, enters the polarization separation element 37, and emits the laser beam of only the polarized light e1. On the other hand, when the laser beam of the polarized light e1 is incident on the half-wave plate 34A, the crystal optical axis is inclined by 45 degrees with respect to the polarized light e1 and is emitted as the polarized light e2 orthogonal to the polarized light e1. Then, this laser beam enters the polarization separation element 37 and emits a laser beam of only the polarized light e2. Therefore, although the positions are spatially different, it is possible to divide the laser beam evenly as a whole.

【0136】なお、本実施の形態に係るレーザ記録装置
10Cの制御系の構成は、上記第1実施形態に係るレー
ザ記録装置10Aと同様(図8参照)であるので、ここ
での説明は省略する。偏光方向制御素子34及び偏光分
離素子37によって構成される光学系が本発明の光分割
手段に相当する。
The configuration of the control system of the laser recording apparatus 10C according to the present embodiment is the same as that of the laser recording apparatus 10A according to the first embodiment (see FIG. 8), and the description thereof is omitted here. To do. The optical system configured by the polarization direction control element 34 and the polarization separation element 37 corresponds to the light splitting means of the present invention.

【0137】次に、以上のように構成されたレーザ記録
装置10Cの作用について、図22に示すフローチャー
トを参照しつつ説明する。
Next, the operation of the laser recording apparatus 10C configured as described above will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

【0138】まず、作業者は、レーザ記録装置10Cに
対して記録する画像の解像度を示す解像度データを入力
する(ステップ200)。この解像度データ、及び記録
すべき画像の画像データは制御回路52に供給され、制
御回路52は、これらのデータに基づいて調整された信
号をLD駆動回路54、素子移動モータ駆動回路56及
び副走査モータ駆動回路58に供給する。なお、本実施
の形態では、上記解像度としてR(dpi)と2・R
(dpi)の2種類の解像度で画像を記録できるものと
して以下の説明を行う。
First, the operator inputs resolution data indicating the resolution of an image to be recorded in the laser recording device 10C (step 200). The resolution data and the image data of the image to be recorded are supplied to the control circuit 52, and the control circuit 52 outputs the signals adjusted based on these data to the LD drive circuit 54, the element movement motor drive circuit 56 and the sub-scanning. It is supplied to the motor drive circuit 58. In the present embodiment, the resolutions R (dpi) and 2 · R are
The following description will be made assuming that an image can be recorded at two types of resolutions (dpi).

【0139】作業者によって入力された解像度が2・R
(dpi)である場合(ステップ202で肯定判定され
た場合)、素子移動モータ駆動回路56は素子移動モー
タ40を駆動し、偏光分離素子37がレーザビームLの
光路上に位置しないように偏光分離素子37を移動させ
る(ステップ204)。また、この場合、副走査モータ
駆動回路58は副走査モータ16による露光ヘッド12
の副走査方向に対する送り間隔Wを上記(1)式のよう
に設定する(ステップ206)。
The resolution input by the operator is 2 · R.
If it is (dpi) (if affirmative determination is made in step 202), the element moving motor drive circuit 56 drives the element moving motor 40, and the polarization separation element 37 is polarized and separated so that it is not located on the optical path of the laser beam L. The element 37 is moved (step 204). In this case, the sub-scanning motor drive circuit 58 controls the exposure head 12 by the sub-scanning motor 16.
The feed interval W in the sub-scanning direction is set as in the above equation (1) (step 206).

【0140】すなわち、解像度が2・R(dpi)であ
る場合、偏光分離素子37をレーザビームLの光路上か
ら外すことによって、レーザビームLを副走査方向に2
つのレーザビーム(常光線及び異常光線)に分離しない
ようにしており、これによってレーザビームLを分離す
る場合の2倍の解像度を実現している。
That is, when the resolution is 2.multidot.R (dpi), the polarization beam splitting element 37 is removed from the optical path of the laser beam L to move the laser beam L to 2 in the sub-scanning direction.
The two laser beams (the ordinary ray and the extraordinary ray) are not separated from each other, thereby achieving a resolution twice as high as that when separating the laser beam L.

【0141】上述のように偏光分離素子37の移動及び
副走査方向に対する送り間隔の設定が終了すると、LD
駆動回路54は、画像データに応じて各半導体レーザL
Dの駆動を制御する(ステップ208)。
When the movement of the polarization separation element 37 and the setting of the feed interval in the sub-scanning direction are completed as described above, the LD
The drive circuit 54 controls each semiconductor laser L according to the image data.
The drive of D is controlled (step 208).

【0142】各半導体レーザLDから射出されたレーザ
ビームLは、第1コリメータレンズ32Aによって略平
行光束とされた後、第1集光レンズ38Aを介して第1
集光位置に集光される。
The laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is converted into a substantially parallel light flux by the first collimator lens 32A, and then the first collimator lens 38A passes the first beam.
It is focused at the focus position.

【0143】そして、この集光されたレーザビームLは
アレイ開口板39を介した後、第1集光位置を境として
発散されるが、この発散されたレーザビームLは、第2
コリメータレンズ32Bによって略平行光束とされた
後、偏光方向制御素子34に入射する。偏光方向制御素
子34に入射したレーザビームLは、ガラス板34Bに
入射したレーザビームについては偏光方向が変更される
ことなく出射される。また、1/2波長板34Aに入射
したレーザビームについては、偏光方向が1/2波長板
34Aの結晶光軸に一致する偏光は偏光方向が変更され
ることなく、偏光方向が上記結晶光軸に一致しない偏光
は当該偏光方向と上記結晶光軸とのなす角度に応じた方
向に偏光方向が変更されて出射される。
Then, the condensed laser beam L diverges after passing through the array aperture plate 39 at the first condensing position as a boundary, and the diverged laser beam L becomes the second laser beam L.
The collimator lens 32 </ b> B collimates the light into a substantially parallel light flux, which then enters the polarization direction control element 34. The laser beam L incident on the polarization direction control element 34 is emitted without changing the polarization direction of the laser beam incident on the glass plate 34B. Regarding the laser beam incident on the half-wave plate 34A, the polarization direction of the polarized light whose polarization direction coincides with the crystal optical axis of the half-wave plate 34A is not changed and the polarization direction is the crystal optical axis. The polarized light that does not coincide with is emitted with its polarization direction changed to a direction corresponding to the angle formed by the polarization direction and the crystal optical axis.

【0144】そして、この偏光方向制御素子34から出
射されたレーザビームLは、第2集光レンズ38Bを介
してサーマル感材Tに集光される。
The laser beam L emitted from the polarization direction control element 34 is condensed on the thermal sensitive material T via the second condenser lens 38B.

【0145】この場合、サーマル感材T上には、各々ほ
ぼ図14に示す強度分布からなるビームスポットS1〜
S15(図10(A))が形成される。このビームスポ
ットS1〜S15は、図10(A)に示すように、露光
ヘッド12が副走査方向に送り間隔Wのピッチで送られ
ると共に、ドラム14が主走査方向に回転されることに
より、解像度が2・R(dpi)となる2次元画像がサ
ーマル感材T上に形成される(ステップ210)。
In this case, on the thermal sensitive material T, the beam spots S1 to S1 each having the intensity distribution shown in FIG.
S15 (FIG. 10 (A)) is formed. As shown in FIG. 10A, the beam spots S1 to S15 are transmitted by the exposure head 12 in the sub-scanning direction at a pitch of the feeding interval W, and the drum 14 is rotated in the main scanning direction, so that resolution A two-dimensional image of 2 · R (dpi) is formed on the thermal sensitive material T (step 210).

【0146】次に、解像度が2・R(dpi)からR
(dpi)に変更された場合(ステップ202で否定判
定された場合)について説明する。この場合、素子移動
モータ駆動回路56は素子移動モータ40を駆動し、偏
光分離素子37がレーザビームLの光路上に位置するよ
うに偏光分離素子37を移動させる(ステップ21
2)。また、この場合、副走査モータ駆動回路58は副
走査モータ16による露光ヘッド12の副走査方向に対
する送り間隔W’を上記(2)式のように設定する(ス
テップ214)。
Next, the resolution is changed from 2 · R (dpi) to R.
The case where it is changed to (dpi) (when a negative determination is made in step 202) will be described. In this case, the element moving motor drive circuit 56 drives the element moving motor 40 to move the polarization separating element 37 so that the polarization separating element 37 is located on the optical path of the laser beam L (step 21).
2). Further, in this case, the sub-scanning motor drive circuit 58 sets the feed interval W ′ of the exposure head 12 by the sub-scanning motor 16 in the sub-scanning direction as in the above equation (2) (step 214).

【0147】すなわち、解像度がR(dpi)である場
合、偏光分離素子37をレーザビームLの光路上に位置
させることによって、偏光分離素子37に入射されたレ
ーザビームLを副走査方向に2つのレーザビーム(常光
線及び異常光線)に分離するようにしており、これによ
ってレーザビームLを分離しない場合の2分の1の解像
度を実現している。
That is, when the resolution is R (dpi), the laser beam L incident on the polarization beam splitting element 37 is divided into two in the sub-scanning direction by positioning the polarization beam splitting element 37 on the optical path of the laser beam L. The laser beam (ordinary ray and extraordinary ray) is separated, and this realizes a resolution that is half that of the case where the laser beam L is not separated.

【0148】上述のように偏光分離素子37の移動及び
副走査方向に対する送り間隔の設定が終了すると、LD
駆動回路54は、画像データに応じて各半導体レーザL
Dの駆動を制御する(ステップ208)。
When the movement of the polarization separation element 37 and the setting of the feed interval in the sub-scanning direction are completed as described above, the LD
The drive circuit 54 controls each semiconductor laser L according to the image data.
The drive of D is controlled (step 208).

【0149】各半導体レーザLDから射出されたレーザ
ビームLは、第1コリメータレンズ32Aによって略平
行光束とされた後、第1集光レンズ38Aを介して第1
集光位置に、図4(A)に示される状態と同様の状態で
集光される。
The laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is converted into a substantially parallel light flux by the first collimator lens 32A, and then the first collimator lens 38A passes the first beam.
The light is condensed at the light collecting position in the same state as that shown in FIG.

【0150】一方、第1集光位置では、アレイ開口板3
9により各レーザビームLの副走査方向両端部の所定領
域が遮光される。そして、この副走査方向両端部の所定
領域が遮光された状態のレーザビームLは、各々第1集
光位置を境として発散され、第2コリメータレンズ32
Bによって略平行光束とされた後、偏光方向制御素子3
4に入射する。
On the other hand, at the first focus position, the array aperture plate 3
A predetermined area at both ends of each laser beam L in the sub-scanning direction is shielded by 9. Then, the laser beams L in a state where the predetermined regions at both ends in the sub-scanning direction are shielded are diverged at the first condensing position as a boundary, and the second collimator lens 32 is provided.
After being made into a substantially parallel light flux by B, the polarization direction control element 3
It is incident on 4.

【0151】偏光方向制御素子34に入射したレーザビ
ームLは、ガラス板34Bに入射したレーザビームにつ
いては偏光方向が変更されることなく出射される。ま
た、1/2波長板34Aに入射したレーザビームについ
ては、偏光方向が1/2波長板34Aの結晶光軸に一致
する偏光は偏光方向が変更されることなく、偏光方向が
上記結晶光軸に一致しない偏光は当該偏光方向と上記結
晶光軸とのなす角度に応じた方向に偏光方向が変更され
て出射される。
The laser beam L incident on the polarization direction control element 34 is emitted without changing the polarization direction of the laser beam incident on the glass plate 34B. Regarding the laser beam incident on the half-wave plate 34A, the polarization direction of the polarized light whose polarization direction coincides with the crystal optical axis of the half-wave plate 34A is not changed and the polarization direction is the crystal optical axis. The polarized light that does not coincide with is emitted with its polarization direction changed to a direction corresponding to the angle formed by the polarization direction and the crystal optical axis.

【0152】偏光方向制御素子34から出射されたレー
ザビームLは偏光分離素子37に供給され、常光線及び
異常光線の双方が透過する。そして、この常光線及び異
常光線は、第2集光レンズ38Bを介してサーマル感材
T上に、図4(B)に示されるように各レーザビーム毎
に2つに分割された状態で集光される。
The laser beam L emitted from the polarization direction control element 34 is supplied to the polarization separation element 37, and both ordinary and extraordinary rays are transmitted. Then, the ordinary ray and the extraordinary ray are collected on the thermal sensitive material T via the second condenser lens 38B in a state of being divided into two for each laser beam as shown in FIG. 4B. Be illuminated.

【0153】このとき、サーマル感材Tに形成された各
集光スポット対は、偏光分離素子37によるレーザビー
ムLの分割前に、当該レーザビームLの副走査方向両端
部の所定領域がアレイ開口板39により遮光されている
ので、偏光分離素子37により分割されたレーザビーム
Lをサーマル感材T上で中心位置をずらして一部を重ね
合わせたときの当該重ね合わせ領域の面積が小さくなる
ため、この領域の光パワーを小さくすることができ、こ
の結果としてアブレーションの発生を防止することがで
きる。
At this time, each of the focused spot pairs formed on the thermal sensitive material T has a predetermined area at both ends in the sub-scanning direction of the laser beam L before the splitting of the laser beam L by the polarization separation element 37. Since the light is shielded by the plate 39, the area of the overlapping region becomes small when the laser beam L divided by the polarization separation element 37 is partially overlapped with the center position shifted on the thermal sensitive material T. The optical power in this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0154】この場合、サーマル感材T上には、一例と
して図12(B)に示される状態の強度分布からなるビ
ームスポットS1’〜S15’(図10(B))が形成
される。
In this case, on the thermal sensitive material T, as an example, beam spots S1 'to S15' (FIG. 10B) having the intensity distribution in the state shown in FIG. 12B are formed.

【0155】このビームスポットS1’〜S15’は、
図10(B)に示すように、露光ヘッド12が副走査方
向に送り間隔W’のピッチで送られると共に、ドラム1
4が主走査方向に回転されることにより、解像度がR
(dpi)となる2次元画像がサーマル感材T上に形成
される(ステップ210)。
The beam spots S1 'to S15' are
As shown in FIG. 10B, the exposure head 12 is fed in the sub-scanning direction at a feed interval W ′ and the drum 1
By rotating 4 in the main scanning direction, the resolution is R
A two-dimensional image of (dpi) is formed on the thermal sensitive material T (step 210).

【0156】このように、記録画像の解像度を2・R
(dpi)からR(dpi)に変更した場合、偏光分離
素子37をレーザビームLの光路上に挿入するだけでビ
ームスポットS1〜S15をビームスポットS1’〜S
15’に容易に拡大することができ、しかも、副走査速
度が高速化されるので、高速で画像記録を行うことが可
能となる。
As described above, the resolution of the recorded image is set to 2 · R.
When (dpi) is changed to R (dpi), the beam spots S1 to S15 are changed to beam spots S1 'to S1 only by inserting the polarization separation element 37 in the optical path of the laser beam L.
The image can be easily enlarged to 15 'and the sub-scanning speed is increased, so that image recording can be performed at high speed.

【0157】同様にして、解像度をR(dpi)から2
・R(dpi)に変更することができる。上記ステップ
200の処理が本発明の入力手段に相当する。
Similarly, the resolution is changed from R (dpi) to 2
-It can be changed to R (dpi). The process of step 200 corresponds to the input means of the present invention.

【0158】以上詳細に説明したように、本第3実施形
態に係るレーザ記録装置10Cでは、半導体レーザLD
から射出されたレーザビームLをファイバーアレイ部3
0とサーマル感材Tとの間で一旦集光し、該集光された
レーザビームLをサーマル感材T上に集光すると共に、
第1集光位置とサーマル感材Tとの間に配置された偏光
方向制御素子34及び偏光分離素子37によりレーザビ
ームLを副走査方向に対して2つに分割し、かつ第1集
光位置に配置されたアレイ開口板39によってレーザビ
ームLの副走査方向端部の所定領域を遮光しているの
で、偏光方向制御素子34及び偏光分離素子37により
分割されたレーザビームLをサーマル感材T上で中心位
置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該重ね合わせ
領域の面積が小さくなるため、この領域の光パワーを小
さくすることができ、この結果としてアブレーションの
発生を防止することができる。
As described in detail above, in the laser recording apparatus 10C according to the third embodiment, the semiconductor laser LD
The laser beam L emitted from the fiber array unit 3
0 and the thermal sensitive material T are once focused, and the focused laser beam L is focused on the thermal sensitive material T.
The laser beam L is divided into two in the sub-scanning direction by the polarization direction control element 34 and the polarization separation element 37 arranged between the first focus position and the thermal sensitive material T, and the first focus position Since a predetermined area at the end of the laser beam L in the sub-scanning direction is shielded by the array aperture plate 39 disposed at the thermal aperture T, the laser beam L split by the polarization direction control element 34 and the polarization separation element 37 is transferred to the thermal sensitive material T. Since the area of the overlapping region becomes small when the center position is shifted and the portions are overlapped with each other, the optical power in this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0159】また、本第3実施形態に係るレーザ記録装
置10Cでは、上記所定領域を、レーザビームLの中心
から、偏光方向制御素子34及び偏光分離素子37によ
り分割されたレーザビームLのサーマル感材T上での集
光スポットの中心間距離の半分を含む所定範囲の距離に
対応する距離だけ副走査方向両端部側に離れた2つの位
置の各々に接する主走査方向直線の外側の領域としてい
るので、アブレーションの発生をほぼ確実に防止するこ
とができる。
Further, in the laser recording apparatus 10C according to the third embodiment, the thermal sensitivity of the laser beam L obtained by dividing the predetermined region from the center of the laser beam L by the polarization direction control element 34 and the polarization separation element 37. As an area outside the straight line in the main scanning direction that is in contact with each of the two positions separated on the both end sides in the sub scanning direction by a distance corresponding to a distance in a predetermined range including half the distance between the centers of the focused spots on the material T. Therefore, the occurrence of ablation can be almost certainly prevented.

【0160】〔第4実施形態〕上記第3実施形態では、
本発明の偏光分離素子を光が略平行光束となる部位に配
設し、2つの光を異なる角度で出射するものとした場合
の一形態について説明したが、本第4実施形態では、偏
光分離素子を光が発散する部位に配設し、2つの光を当
該偏光分離素子による光の分離方向に対する異なる位置
から出射するものとした場合の一形態について説明す
る。
[Fourth Embodiment] In the third embodiment,
A mode in which the polarization separation element of the present invention is arranged at a site where light becomes a substantially parallel light flux and two lights are emitted at different angles has been described. However, in the fourth embodiment, polarization separation is performed. One mode in which the element is arranged at a site where the light diverges and two lights are emitted from different positions in the direction of light separation by the polarization separation element will be described.

【0161】まず、図23を参照して、第4実施形態に
係るレーザ記録装置10Dの構成について説明する。な
お、同図における図17に示されるレーザ記録装置10
Cと同一の構成要素には図17と同一の符号を付して、
その説明を省略する。
First, the structure of a laser recording apparatus 10D according to the fourth embodiment will be described with reference to FIG. The laser recording device 10 shown in FIG.
The same components as C are given the same reference numerals as those in FIG. 17,
The description is omitted.

【0162】同図に示すように、本第4実施形態に係る
レーザ記録装置10Dは、偏光分離素子37に代えて一
軸性結晶からなる偏光分離素子37’を用いている点
と、偏光方向制御素子34及び偏光分離素子37’を第
1集光位置と第2コリメータレンズ32Bとの間のレー
ザビームLの発散する部位に配設した点のみが、上記第
3実施形態に係るレーザ記録装置10Cと相違してい
る。この場合、偏光分離素子37’の結晶光軸の方向
は、レーザビームLの光軸方向と副走査方向との間とな
るように設定される。
As shown in the figure, the laser recording apparatus 10D according to the fourth embodiment uses a polarization separation element 37 'made of a uniaxial crystal in place of the polarization separation element 37, and controls the polarization direction. The laser recording apparatus 10C according to the third embodiment described above is different in that the element 34 and the polarization separation element 37 'are arranged at the site where the laser beam L diverges between the first focusing position and the second collimator lens 32B. Is different from In this case, the direction of the crystal optical axis of the polarization separation element 37 'is set so as to be between the optical axis direction of the laser beam L and the sub-scanning direction.

【0163】解像度をR(dpi)に設定した場合にお
いて、各半導体レーザLDから射出されたレーザビーム
Lは、第1コリメータレンズ32Aによって略平行光束
とされた後、第1集光レンズ38Aを介して第1集光位
置に、図4(A)に示される状態と同様の状態で集光さ
れる。
When the resolution is set to R (dpi), the laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is made into a substantially parallel light flux by the first collimator lens 32A, and then passes through the first condenser lens 38A. Then, the light is focused on the first focus position in the same state as that shown in FIG.

【0164】一方、第1集光位置では、アレイ開口板3
9により各レーザビームLの副走査方向両端部の所定領
域が遮光される。そして、この副走査方向両端部の所定
領域が遮光された状態のレーザビームLは、各々第1集
光位置を境として発散され偏光方向制御素子34に供給
される。
On the other hand, at the first focus position, the array aperture plate 3
A predetermined area at both ends of each laser beam L in the sub-scanning direction is shielded by 9. Then, the laser beams L in a state where the predetermined regions at both ends in the sub-scanning direction are shielded are diverged at the first converging position and supplied to the polarization direction control element 34.

【0165】そして、偏光方向制御素子34により偏光
方向が制御されたレーザビームLは、図24に示すよう
に偏光分離素子37’によって常光線及び異常光線に分
離される。この場合、常光線に対する偏光分離素子3
7’の屈折率は、結晶光軸の方向によらず一定であるた
め、レーザビームLの光軸上の仮想発光点Poから射出
されて第2コリメータレンズ32Bに導かれる。一方、
異常光線に対する偏光分離素子37’の屈折率は、レー
ザビームLの入射方向と結晶光軸の方向とによって異な
り、結晶光軸がレーザビームLの光軸方向と副走査方向
との間に設定されているため、レーザビームLの光軸か
ら副走査方向に所定量変位した仮想発光点Peより射出
されて第2コリメータレンズ32Bに導かれる。
Then, the laser beam L whose polarization direction is controlled by the polarization direction control element 34 is split into an ordinary ray and an extraordinary ray by a polarization splitting element 37 'as shown in FIG. In this case, the polarization separation element 3 for ordinary rays
Since the refractive index of 7'is constant regardless of the direction of the crystal optical axis, it is emitted from the virtual emission point Po on the optical axis of the laser beam L and guided to the second collimator lens 32B. on the other hand,
The refractive index of the polarization beam splitting element 37 'for extraordinary rays differs depending on the incident direction of the laser beam L and the direction of the crystal optical axis, and the crystal optical axis is set between the optical axis direction of the laser beam L and the sub-scanning direction. Therefore, the laser beam L is emitted from the virtual light emitting point Pe displaced by a predetermined amount in the sub-scanning direction from the optical axis of the laser beam L and guided to the second collimator lens 32B.

【0166】この結果、常光線及び異常光線は第2コリ
メータレンズ32B、及び第2集光レンズ38Bを介し
てサーマル感材T上の副走査方向に所定量ずれた位置
に、図4(B)に示されるように各レーザビーム毎に2
つに分割された状態で集光されて、図10(B)に示す
ビームスポットS1’〜S15’が得られる。これによ
って、解像度がR(dpi)の画像を形成することがで
きる。
As a result, the ordinary ray and the extraordinary ray pass through the second collimator lens 32B and the second condenser lens 38B, and are displaced by a predetermined amount in the sub-scanning direction on the thermal sensitive material T, as shown in FIG. 2 for each laser beam as shown in
The beam spots S1 ′ to S15 ′ shown in FIG. 10B are obtained by being condensed in a state of being divided into two. As a result, an image having a resolution of R (dpi) can be formed.

【0167】このとき、サーマル感材Tに形成された各
集光スポット対は、偏光方向制御素子34及び偏光分離
素子37’によるレーザビームLの分割前に、当該レー
ザビームLの副走査方向両端部の所定領域がアレイ開口
板39により遮光されているので、偏光方向制御素子3
4及び偏光分離素子37’により分割されたレーザビー
ムLをサーマル感材T上で中心位置をずらして一部を重
ね合わせたときの当該重ね合わせ領域の面積が小さくな
るため、この領域の光パワーを小さくすることができ、
この結果としてアブレーションの発生を防止することが
できる。
At this time, each condensing spot pair formed on the thermal sensitive material T has both ends in the sub-scanning direction of the laser beam L before the laser beam L is divided by the polarization direction control element 34 and the polarization separation element 37 '. Since a predetermined area of the portion is shielded by the array aperture plate 39, the polarization direction control element 3
4 and the polarization beam splitting element 37 ′ split the laser beam L on the thermal sensitive material T by shifting the center position and partially overlapping the area, the area of the overlapping area becomes small. Therefore, the optical power of this area is reduced. Can be smaller,
As a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0168】一方、解像度が2・R(dpi)の画像を
形成する場合は、偏光分離素子37’をレーザビームL
の光路上に位置しないように移動させ、図10(A)に
示すビームスポットS1〜S15を得るように制御すれ
ばよい。
On the other hand, when an image having a resolution of 2 · R (dpi) is formed, the polarization beam splitting element 37 ′ is set to the laser beam L.
It may be controlled so that the beam spots S1 to S15 shown in FIG.

【0169】以上詳細に説明したように、本第4実施形
態に係るレーザ記録装置10Dでは、半導体レーザLD
から射出されたレーザビームLをファイバーアレイ部3
0とサーマル感材Tとの間で一旦集光し、該集光された
レーザビームLをサーマル感材T上に集光すると共に、
第1集光位置とサーマル感材Tとの間に配置された偏光
方向制御素子34及び偏光分離素子37’によりレーザ
ビームLを副走査方向に対して2つに分割し、かつ第1
集光位置に配置されたアレイ開口板39によってレーザ
ビームLの副走査方向端部の所定領域を遮光しているの
で、偏光方向制御素子34及び偏光分離素子37’によ
り分割されたレーザビームLをサーマル感材T上で中心
位置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該重ね合わ
せ領域の面積が小さくなるため、この領域の光パワーを
小さくすることができ、この結果としてアブレーション
の発生を防止することができる。
As described in detail above, in the laser recording apparatus 10D according to the fourth embodiment, the semiconductor laser LD
The laser beam L emitted from the fiber array unit 3
0 and the thermal sensitive material T are once focused, and the focused laser beam L is focused on the thermal sensitive material T.
The laser beam L is divided into two in the sub-scanning direction by the polarization direction control element 34 and the polarization separation element 37 'arranged between the first focus position and the thermal sensitive material T, and
Since the array aperture plate 39 arranged at the condensing position shields a predetermined region at the end of the laser beam L in the sub-scanning direction, the laser beam L split by the polarization direction control element 34 and the polarization splitting element 37 'is divided. Since the area of the overlapping region becomes small when the center position is shifted on the thermal sensitive material T and the portions are overlapped, the optical power of this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation is prevented. be able to.

【0170】また、本第4実施形態に係るレーザ記録装
置10Dでは、上記所定領域を、レーザビームLの中心
から、偏光方向制御素子34及び偏光分離素子37’に
より分割されたレーザビームLのサーマル感材T上での
集光スポットの中心間距離の半分を含む所定範囲の距離
に対応する距離だけ副走査方向両端部側に離れた2つの
位置の各々に接する主走査方向直線の外側の領域として
いるので、アブレーションの発生をほぼ確実に防止する
ことができる。
Further, in the laser recording apparatus 10D according to the fourth embodiment, the above-mentioned predetermined area is thermally separated from the center of the laser beam L by the polarization direction control element 34 and the polarization separation element 37 '. A region outside a straight line in the main scanning direction which is in contact with each of two positions separated on both end sides in the sub scanning direction by a distance corresponding to a distance in a predetermined range including half the distance between the centers of the focused spots on the photosensitive material T. Therefore, it is possible to almost certainly prevent the occurrence of ablation.

【0171】また、上記第3、第4実施形態に係る偏光
方向制御素子34は、レーザビームLを偏光方向が互い
に直交する2つのレーザビームに分離する偏光分離素子
のレーザビームLの光軸方向上流側に設けられる偏光方
向制御素子であって、偏光分離素子の光軸方向上流側に
設けられた際に、レーザビームLの一部が透過されると
共に、偏光分離素子により分離される光の偏光方向に対
して結晶光軸が略45度傾斜するように1/2波長板3
4Aを配置して構成しているので、偏光分離素子と組み
合わせて用いた場合に当該偏光分離素子によりレーザビ
ームLを等光量で分離することが可能となり、偏光分離
素子を用いたレーザ記録装置における記録画像の画質を
向上することができる。
Further, the polarization direction control element 34 according to the third and fourth embodiments is such that the optical axis direction of the laser beam L of the polarization separation element for separating the laser beam L into two laser beams whose polarization directions are orthogonal to each other. In the polarization direction control element provided on the upstream side, when provided on the upstream side in the optical axis direction of the polarization separation element, a part of the laser beam L is transmitted and the light separated by the polarization separation element is transmitted. 1/2 wave plate 3 so that the crystal optical axis is tilted by approximately 45 degrees with respect to the polarization direction
Since 4A is arranged and configured, when used in combination with the polarization separation element, it becomes possible to separate the laser beam L with the same amount of light by the polarization separation element, and in a laser recording apparatus using the polarization separation element. The image quality of the recorded image can be improved.

【0172】また、上記第3、第4実施形態に係る偏光
方向制御素子34は、1/2波長板34Aのレーザビー
ムLが入射される領域と、1/2波長板34Aに入射さ
れないレーザビームLの領域、すなわち、ガラス板34
BのレーザビームLが直接入射される領域との面積比が
略1対1となるように構成されているので、分離された
レーザビームの強度分布を均一化することができる。
In the polarization direction control elements 34 according to the third and fourth embodiments, the area where the laser beam L of the half-wave plate 34A is incident and the laser beam which is not incident on the half-wave plate 34A are included. Area L, that is, the glass plate 34
Since the area ratio with respect to the region where the laser beam L of B is directly incident is about 1: 1, the intensity distribution of the separated laser beam can be made uniform.

【0173】また、上記第3、第4実施形態に係る偏光
方向制御素子34は、複数の1/2波長板34Aをレー
ザビームLの全入射領域において各々所定間隔毎に配置
して構成しているので、容易に作成することができる。
Further, the polarization direction control elements 34 according to the third and fourth embodiments are constructed by disposing a plurality of ½ wavelength plates 34A at predetermined intervals in the entire incident region of the laser beam L. It can be created easily.

【0174】また、上記第3、第4実施形態に係るレー
ザ記録装置10C、10Dでは、以上のような偏光方向
制御素子34を、半導体レーザLDと偏光分離素子との
間に、偏光分離素子により分離されるレーザビームLの
偏光方向に対して1/2波長板34Aの結晶光軸が略4
5度傾斜するように配置しているので、偏光分離素子に
よりレーザビームLを等光量で分離することが可能とな
り、分離されたレーザビームLによりサーマル感材Tに
画像を記録する際の当該画像の画質を向上することがで
きる。
In the laser recording devices 10C and 10D according to the third and fourth embodiments, the polarization direction control element 34 as described above is provided between the semiconductor laser LD and the polarization separation element by the polarization separation element. The crystal optical axis of the half-wave plate 34A is approximately 4 with respect to the polarization direction of the separated laser beam L.
Since the laser beam L is arranged so as to be inclined by 5 degrees, it is possible to separate the laser beam L with an equal amount of light by the polarization separation element, and the image when the image is recorded on the thermal sensitive material T by the separated laser beam L. The image quality of can be improved.

【0175】更に、上記第3、第4実施形態に係るレー
ザ記録装置10C、10Dでは、偏光分離素子がレーザ
ビームLの光軸上に挿抜されるように当該偏光分離素子
を移動させる素子移動モータ40を備えているので、当
該素子移動モータ40により偏光分離素子を光路上に挿
抜することによって、サーマル感材Tに画像を記録する
際の解像度を容易に変更することができる。
Furthermore, in the laser recording devices 10C and 10D according to the third and fourth embodiments, an element moving motor that moves the polarization separation element so that the polarization separation element is inserted and removed on the optical axis of the laser beam L. Since the element moving motor 40 is provided, the polarization separating element is inserted into and removed from the optical path, so that the resolution at the time of recording an image on the thermal sensitive material T can be easily changed.

【0176】なお、上記第4実施形態では、偏光方向制
御素子34及び偏光分離素子37’をレーザビームが発
散する部位に配設した場合について説明したが、本発明
はこれに限定されるものではなく、例えば、レーザビー
ムが収束する部位、すなわち、第2集光レンズ38Bと
サーマル感材Tとの間に配設する形態とすることもでき
る。この場合も、上記第4実施形態と同様の効果を奏す
ることができる。
The fourth embodiment has been described with respect to the case where the polarization direction control element 34 and the polarization separation element 37 'are arranged at the site where the laser beam diverges, but the present invention is not limited to this. Alternatively, for example, a configuration may be adopted in which the laser beam is arranged to be converged, that is, between the second condenser lens 38B and the thermal sensitive material T. Also in this case, the same effect as that of the fourth embodiment can be obtained.

【0177】また、上記第3、第4実施形態では、素子
移動モータ40を偏光分離素子のみをレーザビームLの
光路上に挿抜することができるものとして構成した場合
について説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、素子移動モータ40を偏光方向制御素子34及
び偏光分離素子を同時にレーザビームLの光路上に挿抜
することができるものとして構成することもできる。こ
の場合も、上記第3、第4実施形態と同様の効果を奏す
ることができる。
In the third and fourth embodiments, the case where the element moving motor 40 is configured so that only the polarization separation element can be inserted into and removed from the optical path of the laser beam L has been described. However, the present invention is not limited to this. The present invention is not limited to this, and the element moving motor 40 may be configured so that the polarization direction control element 34 and the polarization separation element can be inserted into and removed from the optical path of the laser beam L at the same time. Also in this case, the same effects as those of the third and fourth embodiments can be obtained.

【0178】〔第5実施形態〕まず、図25を参照し
て、本第5実施形態に係るレーザ記録装置10Eの構成
について説明する。なお、同図における図1に示される
レーザ記録装置10Aと同一の構成要素には図1と同一
の符号を付して、その説明を省略する。
[Fifth Embodiment] First, the structure of a laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG. In the figure, the same components as those of the laser recording apparatus 10A shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals as those in FIG. 1 and their explanations are omitted.

【0179】同図に示すように、本第5実施形態に係る
レーザ記録装置10Eは、露光ヘッド12に代えて内部
構成の異なる露光ヘッド12’を用いている点のみが、
上記第1実施形態に係るレーザ記録装置10Aと相違し
ている。
As shown in the figure, the laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment is different from the exposure head 12 only in that an exposure head 12 'having a different internal structure is used.
This is different from the laser recording device 10A according to the first embodiment.

【0180】本第5実施形態に係るレーザ記録装置10
Eの露光ヘッド12’には、ファイバーアレイ部30側
より、アレイ開口板39、コリメータレンズ32、アレ
イ屈折素子36、及び集光レンズ38が順に配列されて
いる。ここで、アレイ開口板39はファイバーアレイ部
30のレーザビームLの出射口近傍に配設されている。
Laser recording apparatus 10 according to the fifth embodiment
In the exposure head 12 ′ of E, an array aperture plate 39, a collimator lens 32, an array refracting element 36, and a condenser lens 38 are sequentially arranged from the fiber array section 30 side. Here, the array aperture plate 39 is arranged in the vicinity of the emission port of the laser beam L of the fiber array section 30.

【0181】更に、露光ヘッド12’には、回転軸が図
1矢印A方向に回転することにより、アレイ屈折素子3
6をレーザビームLの光路上で、かつコリメータレンズ
32によるファーフィールドパターンができる位置に挿
抜することができる素子移動モータ40が備えられてい
る。
Further, in the exposure head 12 ', the rotation axis rotates in the direction of arrow A in FIG.
An element moving motor 40 capable of inserting / removing 6 on the optical path of the laser beam L and at a position where a far field pattern can be formed by the collimator lens 32 is provided.

【0182】なお、本第5実施形態に係るレーザ記録装
置10Eの制御系の構成は、上記第1実施形態に係るレ
ーザ記録装置10Aと同様(図8参照)であるので、こ
こでの説明は省略する。
Since the configuration of the control system of the laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment is the same as that of the laser recording apparatus 10A according to the first embodiment (see FIG. 8), the description here will be omitted. Omit it.

【0183】アレイ屈折素子36が本発明の光分割手段
に、コリメータレンズ32及び集光レンズ38によって
構成される光学系が本発明の光学系に、各々相当する。
The array refracting element 36 corresponds to the light splitting means of the present invention, and the optical system constituted by the collimator lens 32 and the condenser lens 38 corresponds to the optical system of the present invention.

【0184】次に、以上のように構成されたレーザ記録
装置10Eの作用について、図9に示すフローチャート
を参照しつつ説明する。
Next, the operation of the laser recording apparatus 10E configured as described above will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

【0185】まず、作業者は、レーザ記録装置10Eに
対して記録する画像の解像度Sを示す解像度データを入
力する(ステップ100)。この解像度データ、及び記
録すべき画像の画像データは制御回路52に供給され、
制御回路52は、これらのデータに基づいて調整された
信号をLD駆動回路54、素子移動モータ駆動回路56
及び副走査モータ駆動回路58に供給する。なお、本実
施の形態では、上記解像度SとしてK0(dpi)と2
・K0(dpi)の2種類の解像度で画像を記録できる
ものとして以下の説明を行う。
First, the operator inputs the resolution data indicating the resolution S of the image to be recorded in the laser recording device 10E (step 100). The resolution data and the image data of the image to be recorded are supplied to the control circuit 52,
The control circuit 52 outputs a signal adjusted based on these data to the LD drive circuit 54 and the element movement motor drive circuit 56.
And to the sub-scanning motor drive circuit 58. In the present embodiment, K0 (dpi) and 2 are used as the resolution S.
The following description will be given on the assumption that an image can be recorded at two kinds of resolutions of K0 (dpi).

【0186】作業者によって入力された解像度が2・K
0(dpi)である場合(ステップ102で肯定判定さ
れた場合)、素子移動モータ駆動回路56は素子移動モ
ータ40を駆動し、アレイ屈折素子36がレーザビーム
Lの光路上に位置しないようにアレイ屈折素子36を移
動させる(ステップ104)。また、この場合、副走査
モータ駆動回路58は副走査モータ16による露光ヘッ
ド12の副走査方向に対する送り間隔Wを上記(1)式
のように設定する(ステップ106)。
The resolution input by the operator is 2 · K.
If 0 (dpi) (if affirmative determination is made in step 102), the element moving motor drive circuit 56 drives the element moving motor 40 to prevent the array refracting element 36 from being located on the optical path of the laser beam L. The refraction element 36 is moved (step 104). Further, in this case, the sub-scanning motor drive circuit 58 sets the feeding interval W of the exposure head 12 by the sub-scanning motor 16 in the sub-scanning direction as in the above equation (1) (step 106).

【0187】すなわち、解像度が2・K0(dpi)で
ある場合、アレイ屈折素子36をレーザビームLの光路
上から外すことによって、レーザビームLを副走査方向
に分割しないようにしており、これによってレーザビー
ムLを分割する場合の2倍の解像度を実現している。
That is, when the resolution is 2 · K0 (dpi), the array refracting element 36 is removed from the optical path of the laser beam L so that the laser beam L is not divided in the sub-scanning direction. The resolution is twice as high as when the laser beam L is split.

【0188】上述のようにアレイ屈折素子36の移動及
び副走査方向に対する送り間隔の設定が終了すると、L
D駆動回路54は、画像データに基づき、記録濃度に合
わせて設定されたデータに応じた発光量となるように各
半導体レーザLDの駆動を制御する(ステップ10
8)。
When the movement of the array refracting element 36 and the setting of the feed interval in the sub-scanning direction are completed as described above, L
Based on the image data, the D drive circuit 54 controls the drive of each semiconductor laser LD so that the light emission amount corresponds to the data set according to the recording density (step 10).
8).

【0189】各半導体レーザLDから射出されたレーザ
ビームLは、アレイ開口板39によって副走査方向両端
部の所定領域が各々遮光され、コリメータレンズ32に
よって略平行光束とされた後、集光レンズ38によって
サーマル感材Tに集光される。
The laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is shielded by the array aperture plate 39 in predetermined regions at both ends in the sub-scanning direction, and is made into a substantially parallel light beam by the collimator lens 32, and then the condenser lens 38. Is focused on the thermal sensitive material T.

【0190】この場合、サーマル感材T上には、各々ほ
ぼ図14に示す強度分布からなるビームスポットS1〜
S15(図10(A))が形成される。このビームスポ
ットS1〜S15は、図10(A)に示すように、露光
ヘッド12が副走査方向に送り間隔Wのピッチで送られ
ると共に、ドラム14が主走査方向に回転されることに
より、解像度が2・K0(dpi)となる2次元画像が
サーマル感材T上に形成される(ステップ110)。
In this case, on the thermal sensitive material T, the beam spots S1 to S1 each having an intensity distribution shown in FIG.
S15 (FIG. 10 (A)) is formed. As shown in FIG. 10A, the beam spots S1 to S15 are transmitted by the exposure head 12 in the sub-scanning direction at a pitch of the feeding interval W, and the drum 14 is rotated in the main scanning direction, so that the resolution is increased. A two-dimensional image having a value of 2.K0 (dpi) is formed on the thermal sensitive material T (step 110).

【0191】次に、解像度が2・K0(dpi)からK
0(dpi)に変更された場合(ステップ102で否定
判定された場合)について説明する。この場合、素子移
動モータ駆動回路56は素子移動モータ40を駆動し、
アレイ屈折素子36がレーザビームLの光路上に位置す
るようにアレイ屈折素子36を移動させる(ステップ1
12)。また、この場合、副走査モータ駆動回路58は
副走査モータ16による露光ヘッド12の副走査方向に
対する送り間隔W’を上記(2)式のように設定する
(ステップ114)。
Next, the resolution is from 2 · K0 (dpi) to K.
A case where it is changed to 0 (dpi) (when a negative determination is made in step 102) will be described. In this case, the element moving motor drive circuit 56 drives the element moving motor 40,
The array refracting element 36 is moved so that the array refracting element 36 is located on the optical path of the laser beam L (step 1).
12). Further, in this case, the sub-scanning motor drive circuit 58 sets the feeding interval W ′ of the exposure head 12 by the sub-scanning motor 16 in the sub-scanning direction as in the above equation (2) (step 114).

【0192】すなわち、解像度がK0(dpi)である
場合、アレイ屈折素子36をレーザビームLの光路上に
位置させることによって、アレイ屈折素子36に入射さ
れたレーザビームLを副走査方向に複数(本実施の形態
では‘2’)のレーザビームに分割するようにしてお
り、これによってレーザビームLを分割しない場合の2
分の1の解像度を実現している。
That is, when the resolution is K0 (dpi), the array refracting element 36 is positioned on the optical path of the laser beam L so that a plurality of laser beams L incident on the array refracting element 36 in the sub-scanning direction ( In the present embodiment, the laser beam is divided into '2') laser beams.
It realizes a resolution of one-half.

【0193】上述のようにアレイ屈折素子36の移動及
び副走査方向に対する送り間隔の設定が終了すると、L
D駆動回路54は、画像データに基づき、記録濃度に合
わせて設定されたデータに応じた発光量となるように各
半導体レーザLDの駆動を制御する(ステップ11
6)。
When the movement of the array refracting element 36 and the setting of the feed interval in the sub-scanning direction are completed as described above, L
The D drive circuit 54 controls the drive of each semiconductor laser LD based on the image data so that the amount of light emission is in accordance with the data set according to the recording density (step 11).
6).

【0194】各半導体レーザLDから射出されたレーザ
ビームLは、アレイ開口板39によって副走査方向両端
部の所定領域が各々遮光され、この所定領域が遮光され
た状態のレーザビームLは、コリメータレンズ32によ
って略平行光束とされた後、アレイ屈折素子36に供給
され、各レーザビームL毎に副走査方向に4つに分割
(ビームシェアリング)される。そして、この4分割さ
れたレーザビームは、集光レンズ38を介してサーマル
感材T上に、図4(B)に示されるように各レーザビー
ム毎に2つに分割された状態で集光される。
The laser beam L emitted from each semiconductor laser LD is shielded by the array aperture plate 39 in predetermined regions at both ends in the sub-scanning direction, and the laser beam L in a state in which the predetermined regions are shielded is a collimator lens. After being made into a substantially parallel light flux by 32, the light flux is supplied to the array refraction element 36, and is divided into four (beam sharing) in the sub-scanning direction for each laser beam L. Then, the four-divided laser beam is condensed on the thermal sensitive material T via the condensing lens 38 in a state in which the laser beam is divided into two for each laser beam as shown in FIG. 4B. To be done.

【0195】このとき、アレイ屈折素子36のアレイ対
の数の集光ビームで1つの集光スポットを構成するの
で、焦点位置(サーマル感材Tの位置)からレーザビー
ムの入射側を見たときと、焦点位置からレーザビームの
出射側を見たときとで、各レーザビームのボケ方が光軸
方向に対して対称となり、この結果としてレーザ記録装
置10Eにおける記録画像の品質を向上することができ
る。
At this time, since one focused spot is formed by the focused beams of the number of array pairs of the array refracting element 36, when the incident side of the laser beam is seen from the focal position (the position of the thermal sensitive material T). And when the laser beam emission side is viewed from the focus position, the blur direction of each laser beam becomes symmetrical with respect to the optical axis direction, and as a result, the quality of the recorded image in the laser recording device 10E can be improved. it can.

【0196】また、サーマル感材Tに形成された各集光
スポット対は、アレイ屈折素子36によるレーザビーム
Lの分割前に、当該レーザビームLの副走査方向両端部
の所定領域がアレイ開口板39により遮光されているの
で、アレイ屈折素子36により分割されたレーザビーム
Lをサーマル感材T上で中心位置をずらして一部を重ね
合わせたときの当該重ね合わせ領域の面積が小さくなる
ため、この領域の光パワーを小さくすることができ、こ
の結果としてアブレーションの発生を防止することがで
きる。
Further, in each of the focused spot pairs formed on the thermal sensitive material T, a predetermined area at both ends in the sub-scanning direction of the laser beam L is array aperture plate before the laser beam L is divided by the array refraction element 36. Since the laser beam L divided by the array refraction element 36 is shifted in the center position on the thermal sensitive material T and a part of the laser beam L is superposed, the area of the superposed region becomes small. The optical power in this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【0197】すなわち、アレイ開口板39を用いない場
合においてアレイ屈折素子36により分割されたレーザ
ビームLによりサーマル感材T上に形成される集光スポ
ット対による強度分布は、一例として図12(A)に示
すように、各集光スポットSPの各々の強度分布が副走
査方向に合成された状態となり、集光スポットSPの重
なり領域については各集光スポットの強度が加算された
状態となって、当該集光スポット対の副走査方向中央部
における強度は各集光スポットSPの最大レベルより大
幅に高くなる。
That is, the intensity distribution by the focused spot pair formed on the thermal sensitive material T by the laser beam L split by the array refracting element 36 when the array aperture plate 39 is not used is shown in FIG. ), The intensity distributions of the respective focused spots SP are combined in the sub-scanning direction, and the intensity of each focused spot is added to the overlapping region of the focused spots SP. The intensity of the focused spot pair in the central portion in the sub-scanning direction is significantly higher than the maximum level of each focused spot SP.

【0198】これに対し、アレイ開口板39を用いた場
合においてアレイ屈折素子36により分割されたレーザ
ビームLによりサーマル感材T上に形成される集光スポ
ット対による強度分布は、一例として図12(B)に示
すように、各集光スポットSPの各々の強度分布が副走
査方向に合成された状態となるが、集光スポットSPの
重なり領域については各集光スポットの元となるレーザ
ビームLの副走査方向両端部の所定領域がアレイ開口板
39によって遮光されているので、当該集光スポット対
の副走査方向中央部における強度を各集光スポットSP
の最大レベル程度に抑えることができ、この結果として
アブレーションの発生をほぼ確実に防止することができ
る。
On the other hand, when the array aperture plate 39 is used, the intensity distribution by the focused spot pair formed on the thermal sensitive material T by the laser beam L divided by the array refraction element 36 is shown in FIG. As shown in (B), the intensity distributions of the respective focused spots SP are combined in the sub-scanning direction, but the overlapping region of the focused spots SP is the laser beam that is the source of each focused spot. Since the predetermined areas at both ends of L in the sub-scanning direction are shielded by the array aperture plate 39, the intensity at the central portion of the focused spot pair in the sub-scanning direction is set to each focus spot SP.
Can be suppressed to about the maximum level, and as a result, the occurrence of ablation can be almost certainly prevented.

【0199】この場合、サーマル感材T上には、一例と
して図12(B)に示される状態の強度分布からなるビ
ームスポットS1’〜S15’(図10(B))が形成
される。
In this case, on the thermal sensitive material T, as an example, beam spots S1 'to S15' (FIG. 10 (B)) having the intensity distribution in the state shown in FIG. 12 (B) are formed.

【0200】このビームスポットS1’〜S15’は、
図10(B)に示すように、露光ヘッド12が副走査方
向に送り間隔W’のピッチで送られると共に、ドラム1
4が主走査方向に回転されることにより、解像度がK0
(dpi)となる2次元画像がサーマル感材T上に形成
される(ステップ110)。
The beam spots S1 'to S15' are
As shown in FIG. 10B, the exposure head 12 is fed in the sub-scanning direction at a feed interval W ′ and the drum 1
4 is rotated in the main scanning direction so that the resolution is K0.
A two-dimensional image of (dpi) is formed on the thermal sensitive material T (step 110).

【0201】このように、記録画像の解像度を2・K0
(dpi)からK0(dpi)に変更した場合、アレイ
屈折素子36をレーザビームLの光路上に挿入するだけ
でビームスポットS1〜S15をビームスポットS1’
〜S15’に容易に拡大することができ、しかも、副走
査速度が高速化されるので、高速で画像記録を行うこと
が可能となる。
As described above, the resolution of the recorded image is set to 2 · K0.
When (dpi) is changed to K0 (dpi), the beam spots S1 to S15 are changed to beam spots S1 ′ simply by inserting the array refracting element 36 in the optical path of the laser beam L.
To S15 ', the image can be recorded at high speed because the sub-scanning speed is increased.

【0202】同様にして、解像度をK0(dpi)から
2・K0(dpi)に変更することができる。上記ステ
ップ100の処理が本発明の入力手段に相当する。
Similarly, the resolution can be changed from K0 (dpi) to 2.K0 (dpi). The process of step 100 corresponds to the input means of the present invention.

【0203】なお、本第5実施形態では、アレイ開口板
39をファイバーアレイ部30におけるレーザビームL
の出射口近傍に配置しているため、ファイバーアレイ部
30は、アレイ開口板39の非開口部から反射されたレ
ーザビームL、すなわち、アレイ開口板39によって遮
光されたレーザビームLによって加熱されることにな
る。
In the fifth embodiment, the array aperture plate 39 is used as the laser beam L in the fiber array section 30.
Since the fiber array portion 30 is disposed in the vicinity of the emission port of the laser beam L, the fiber array portion 30 is heated by the laser beam L reflected from the non-opening portion of the array aperture plate 39, that is, the laser beam L shielded by the array aperture plate 39. It will be.

【0204】このため、本実施の形態に係るファイバー
アレイ部30は、次のように構成することが好ましい。
すなわち、図26(A)に示すように、各光ファイバー
20のファイバーアレイ部30における基台30AのV
字溝に嵌め込まれる部分に金属を蒸着しておき、図26
(B)に示すように、当該金属蒸着部分に対してハンダ
にて基台30Aに固定する。これによって、光ファイバ
ーを通常の接着剤によって基台30Aに固定する場合に
比較して、加熱に対する耐久性を向上することができ
る。
Therefore, the fiber array section 30 according to the present embodiment is preferably constructed as follows.
That is, as shown in FIG. 26A, V of the base 30A in the fiber array unit 30 of each optical fiber 20 is
A metal is vapor-deposited on the portion to be fitted into the groove, and FIG.
As shown in (B), the metal deposition portion is fixed to the base 30A with solder. As a result, the durability against heating can be improved as compared with the case where the optical fiber is fixed to the base 30A with a normal adhesive.

【0205】以上詳細に説明したように、本第5実施形
態に係るレーザ記録装置10Eでは、半導体レーザLD
から射出されたレーザビームLをサーマル感材T上に集
光すると共に、ファイバーアレイ部30とサーマル感材
Tとの間に配置されたアレイ屈折素子36によりレーザ
ビームLを副走査方向に対して複数に分割し、かつファ
イバーアレイ部30とアレイ屈折素子36との間に配置
されたアレイ開口板39によってレーザビームLの副走
査方向端部の所定領域を遮光しているので、アレイ屈折
素子36により分割された光ビームをサーマル感材T上
で中心位置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該重
ね合わせ領域の面積が小さくなるため、この領域の光パ
ワーを小さくすることができ、この結果としてアブレー
ションの発生を防止することができる。
As described in detail above, in the laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment, the semiconductor laser LD
The laser beam L emitted from the laser beam L is focused on the thermal sensitive material T, and the laser beam L is moved in the sub-scanning direction by the array refracting element 36 disposed between the fiber array unit 30 and the thermal sensitive material T. Since the array aperture plate 39, which is divided into a plurality of portions and is arranged between the fiber array section 30 and the array refracting element 36, shields a predetermined region at the end portion in the sub-scanning direction of the laser beam L, the array refracting element 36. Since the area of the overlapping region becomes small when the light beams divided by are shifted in the center position on the thermal sensitive material T and a part of them are overlapped, the optical power in this region can be reduced. As a result, it is possible to prevent the occurrence of ablation.

【0206】また、本第5実施形態に係るレーザ記録装
置10Eでは、上記所定領域を、レーザビームLの中心
から、アレイ屈折素子36により分割されたレーザビー
ムLのサーマル感材T上での集光スポットの中心間距離
の半分を含む所定範囲の距離に対応する距離だけ副走査
方向両端部側に離れた2つの位置の各々に接する主走査
方向直線の外側の領域としているので、アブレーション
の発生をほぼ確実に防止することができる。
Further, in the laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment, the predetermined area is collected from the center of the laser beam L on the thermal sensitive material T of the laser beam L divided by the array refracting element 36. Ablation occurs because the area outside the straight line in the main scanning direction is in contact with each of the two positions that are separated from each other on both ends in the sub scanning direction by a distance corresponding to a predetermined range including half the distance between the centers of the light spots. Can be almost certainly prevented.

【0207】また、本第5実施形態に係るレーザ記録装
置10Eでは、アレイ屈折素子を、ファイバーアレイ部
30とサーマル感材Tとの間で、かつレーザビームの分
割方向が当該レーザビームのブロードエリア方向と平行
となるように配置しているので、当該レーザビームの焦
点位置から光軸方向(深度方向)前後にずれた位置にお
ける当該レーザビームのボケ方が光軸方向に対して対称
となるようにでき、この結果として記録画像の画質を向
上することができると共に、アレイ屈折素子は、一軸性
結晶を用いる場合に比較して低コストで構成することが
できるので、この結果として装置を低コストで構成する
ことができる。
Further, in the laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment, the array refracting element is provided between the fiber array section 30 and the thermal sensitive material T, and the laser beam is divided into a broad area of the laser beam. Since it is arranged so as to be parallel to the direction, the blur direction of the laser beam at the position deviated from the focus position of the laser beam to the front and rear of the optical axis direction (depth direction) is symmetrical with respect to the optical axis direction. As a result, the image quality of the recorded image can be improved, and the array refraction element can be constructed at a lower cost as compared with the case where a uniaxial crystal is used. As a result, the device can be manufactured at a low cost. Can be composed of

【0208】また、本第5実施形態に係るレーザ記録装
置10Eでは、アレイ屈折素子を、レーザビームのファ
ーフィールドパターンができる位置に配置しているの
で、各半導体レーザLDから射出されたレーザビームL
の全てに対して、アレイ屈折素子を同様に作用させるこ
とができる。
Further, in the laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment, since the array refraction element is arranged at the position where the far field pattern of the laser beam can be formed, the laser beam L emitted from each semiconductor laser LD.
The array refractive element can be similarly operated for all of the above.

【0209】また、本第5実施形態に係るレーザ記録装
置10Eでは、走査露光によってサーマル感材T上に形
成される画像の解像度を示す解像度情報(本第5実施形
態の「解像度データ」に相当。)を入力し、当該解像度
情報によって示される解像度が予め定められた第1解像
度(本第5実施形態では、2・K0(dpi))である
場合にアレイ屈折素子が半導体レーザLDから射出され
たレーザビームの光軸上から退避され、当該解像度情報
によって示される解像度が第1解像度より低い第2解像
度(上記各実施形態では、K0(dpi))である場合
にアレイ屈折素子が上記光軸上に位置されるように当該
アレイ屈折素子を移動しているので、解像度情報を入力
するのみによって、サーマル感材Tに画像を記録する際
の解像度を容易に変更することができる。
Further, in the laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment, resolution information indicating the resolution of the image formed on the thermal sensitive material T by scanning exposure (corresponding to "resolution data" in the fifth embodiment). .) And the resolution indicated by the resolution information is the predetermined first resolution (2.K0 (dpi) in the fifth embodiment), the array refraction element is emitted from the semiconductor laser LD. When the resolution indicated by the resolution information is a second resolution lower than the first resolution (K0 (dpi) in each of the above embodiments), the array refracting element is retracted from the optical axis of the laser beam. Since the array refraction element is moved so as to be positioned above, the resolution at the time of recording an image on the thermal sensitive material T can be easily achieved by only inputting the resolution information. It is possible to further.

【0210】更に、上記各実施形態に係るレーザ記録装
置10A〜10Eでは、半導体レーザLDをアレイ屈折
素子又は偏光分離素子によるレーザビームLの分割方向
に沿って複数配置し、各半導体レーザLDから射出され
たレーザビームLを各々アレイ屈折素子又は偏光分離素
子によって分割してサーマル感材Tに導くように構成し
ているので、画像を高速に記録することができる。
Further, in the laser recording devices 10A to 10E according to each of the above-mentioned embodiments, a plurality of semiconductor lasers LD are arranged along the dividing direction of the laser beam L by the array refracting element or the polarization separating element, and emitted from each semiconductor laser LD. Since the laser beams L thus generated are each divided by the array refracting element or the polarization separating element and guided to the thermal sensitive material T, an image can be recorded at high speed.

【0211】なお、上記第5実施形態では、アレイ屈折
素子36をレーザビームが略平行光となる部位に配設し
た場合について説明したが、本発明はこれに限定される
ものではなく、例えば、レーザビームが集光する部位、
すなわち、集光レンズ38とサーマル感材Tとの間に配
設する形態や、レーザビームが発散する部位、すなわ
ち、ファイバーアレイ部30とコリメータレンズ32と
の間に配設する形態とすることもできる。この場合も、
上記第5実施形態と同様の効果を奏することができる。
In the fifth embodiment described above, the case where the array refracting element 36 is arranged at a portion where the laser beam becomes substantially parallel light has been described, but the present invention is not limited to this, and for example, The part where the laser beam is focused,
That is, it may be arranged between the condenser lens 38 and the thermal sensitive material T, or a portion where the laser beam diverges, that is, between the fiber array section 30 and the collimator lens 32. it can. Also in this case,
The same effect as that of the fifth embodiment can be obtained.

【0212】また、上記各実施形態では、アレイ開口板
39をレーザビームLの光路上に固定的に配置した場合
について説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、素子移動モータ40によるアレイ屈折素子36
又は偏光分離素子のレーザビームLの光路上への挿抜と
連動してアレイ開口板39を光路上に挿抜する形態とす
ることもできる。この場合も、上記各実施形態と同様の
効果を奏することができる。
Further, in each of the above embodiments, the case where the array aperture plate 39 is fixedly arranged on the optical path of the laser beam L has been described, but the present invention is not limited to this, and the element moving motor 40. Array refraction element 36 by
Alternatively, the array aperture plate 39 may be inserted into or removed from the optical path in conjunction with the insertion / extraction of the laser beam L of the polarization separation element into or out of the optical path. Also in this case, the same effect as that of each of the above-described embodiments can be obtained.

【0213】更に、上記各実施形態では、本発明をマル
チビームスキャンを行うレーザ記録装置10A〜10E
に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、例えば、光源が1つの半導体レ
ーザで構成されたシングルビームスキャンを行うレーザ
記録装置に適用することもできる。この場合も、上記各
実施形態と同様の効果を奏することができる。
Further, in each of the above-mentioned embodiments, the present invention is applied to laser recording devices 10A to 10E for performing multi-beam scanning.
However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to, for example, a laser recording device for performing a single beam scan in which a light source is composed of one semiconductor laser. Also in this case, the same effect as that of each of the above-described embodiments can be obtained.

【0214】[0214]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項1に
記載の露光装置によれば、少なくとも副走査方向につい
てはブロードエリアで発光する光ビームを射出する光源
から射出された光ビームを第1光学系により光源と記録
媒体との間で一旦集光し、該集光された光ビームを記録
媒体上に集光すると共に、第1光学系による光ビームの
集光位置と記録媒体との間に配置された光分割手段によ
り光ビームを副走査方向に対して複数に分割し、かつ第
1光学系による光ビームの集光位置に配置された遮光手
段によって光ビームの副走査方向端部の所定領域を遮光
しているので、光分割手段により分割された光ビームを
記録媒体上で中心位置をずらして一部を重ね合わせる場
合の当該重ね合わせ領域の面積が小さくなるため、この
領域の光パワーを小さくすることができ、この結果とし
てアブレーションの発生を防止することができる、とい
う効果が得られる。
As described in detail above, according to the exposure apparatus of the first aspect, at least in the sub-scanning direction, the light beam emitted from the light source for emitting the light beam emitted in the broad area is The first optical system once condenses between the light source and the recording medium, condenses the condensed light beam on the recording medium, and at the same time, the condensing position of the light beam by the first optical system and the recording medium. The light beam is divided into a plurality of light beams in the sub-scanning direction by the light splitting device disposed between the light beams, and the light beam scanning device is disposed at the light beam focusing position by the first optical system. Since the predetermined area is shielded from light, the area of the overlapping area becomes small when the light beams split by the light splitting means are shifted in their center positions on the recording medium and a part of them are overlapped. Light power Can fence, it is possible to prevent the occurrence of ablation as a result, the effect is obtained that.

【0215】また、請求項2に記載の露光装置によれ
ば、少なくとも副走査方向についてはブロードエリアで
発光する光ビームを射出する光源から射出された光ビー
ムを記録媒体上に集光すると共に、光ビームの出射口と
記録媒体との間に配置された光分割手段により光ビーム
を副走査方向に対して複数に分割し、かつ上記出射口と
光分割手段との間に配置された遮光手段によって光ビー
ムの副走査方向端部の所定領域を遮光しているので、光
分割手段により分割された光ビームを記録媒体上で中心
位置をずらして一部を重ね合わせる場合の当該重ね合わ
せ領域の面積が小さくなるため、この領域の光パワーを
小さくすることができ、この結果としてアブレーション
の発生を防止することができる、という効果が得られ
る。
According to the exposure apparatus of the second aspect, at least in the sub-scanning direction, the light beam emitted from the light source that emits the light beam emitted in the broad area is condensed on the recording medium, and A light splitting means arranged between the light beam emission port and the recording medium divides the light beam into a plurality of parts in the sub-scanning direction, and a light blocking means disposed between the emission port and the light splitting device. Since a predetermined area at the end of the light beam in the sub-scanning direction is shielded by the light beam, the light beam split by the light splitting means is shifted from the center position on the recording medium to partially overlap the light beam. Since the area is reduced, the optical power in this region can be reduced, and as a result, the occurrence of ablation can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施形態に係るレーザ記録装置10Aの概
略構成図(平面図)である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram (plan view) of a laser recording device 10A according to a first embodiment.

【図2】実施の形態に係るファイバーアレイ部30の概
略構成図(側面図)である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram (side view) of a fiber array unit 30 according to an embodiment.

【図3】第1、第5実施形態に係るアレイ屈折素子36
の構成を示す概略構成図(平面図)である。
FIG. 3 is an array refraction element 36 according to the first and fifth embodiments.
2 is a schematic configuration diagram (plan view) showing the configuration of FIG.

【図4】実施の形態に係るレーザ記録装置における集光
スポットの状態を示す図であり、(A)はアレイ屈折素
子又は偏光分離素子をレーザビームLの光路上に位置さ
せない場合にサーマル感材Tに形成される集光スポット
の状態を、(B)はアレイ屈折素子又は偏光分離素子を
レーザビームLの光路上に位置させた場合にサーマル感
材Tに形成される集光スポットの状態を、各々示す概略
図である。
FIG. 4 is a diagram showing a state of a focused spot in the laser recording device according to the embodiment, and FIG. 4A is a thermal sensitive material when the array refracting element or the polarization separating element is not positioned on the optical path of the laser beam L. (B) shows the state of the focused spot formed on the thermal sensitive material T when the array refracting element or the polarization splitting element is positioned on the optical path of the laser beam L. FIG. 3 is a schematic diagram showing each.

【図5】実施の形態に係るアレイ開口板39の構成を示
す概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a configuration of an array aperture plate 39 according to the embodiment.

【図6】実施の形態に係るアレイ開口板39に設けられ
た開口39Aの構成を示す概略構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a configuration of an opening 39A provided in the array opening plate 39 according to the embodiment.

【図7】本発明の遮光手段及び実施の形態に係るアレイ
開口板39により遮光される領域の説明に供する概略図
である。
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a light shielding unit of the present invention and a region shielded by an array aperture plate 39 according to the embodiment.

【図8】実施の形態に係るレーザ記録装置の制御系の構
成を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of a control system of the laser recording apparatus according to the embodiment.

【図9】第1、第2、第5実施形態に係るレーザ記録装
置において、解像度に応じて画像記録を行う場合の処理
の流れを示すフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing the flow of processing when image recording is performed according to resolution in the laser recording devices according to the first, second, and fifth embodiments.

【図10】実施の形態に係るレーザ記録装置によるサー
マル感材T上でのビームスポットの状態を示す概略図で
ある。
FIG. 10 is a schematic view showing a state of a beam spot on the thermal sensitive material T by the laser recording device according to the embodiment.

【図11】第1実施形態に係るレーザ記録装置10Aの
作用の説明に供する概略図(平面図)である。
FIG. 11 is a schematic diagram (plan view) for explaining the operation of the laser recording apparatus 10A according to the first embodiment.

【図12】実施の形態に係るレーザ記録装置の効果の説
明に供する図であり、(A)はアレイ開口板39を用い
ない場合のサーマル感材T上に形成される集光スポット
対による強度分布を示す概略図であり、(B)はアレイ
開口板39を用いた場合のサーマル感材T上に形成され
る集光スポット対による強度分布を示す概略図である。
12A and 12B are diagrams for explaining the effect of the laser recording apparatus according to the embodiment, and FIG. 12A is an intensity of a focused spot pair formed on the thermal sensitive material T when the array aperture plate 39 is not used. FIG. 6B is a schematic diagram showing the distribution, and FIG. 6B is a schematic diagram showing the intensity distribution by the focused spot pairs formed on the thermal sensitive material T when the array aperture plate 39 is used.

【図13】本発明のアレイ屈折素子の他の構成例を示す
概略構成図(平面図)である。
FIG. 13 is a schematic configuration diagram (plan view) showing another configuration example of the array refraction element of the present invention.

【図14】実施の形態に係るレーザビームLの強度分布
の状態例を示すグラフである。
FIG. 14 is a graph showing a state example of the intensity distribution of the laser beam L according to the embodiment.

【図15】第2実施形態に係るレーザ記録装置10Bの
概略構成図(平面図)である。
FIG. 15 is a schematic configuration diagram (plan view) of a laser recording device 10B according to a second embodiment.

【図16】(A)は第2実施形態に係るレーザ記録装置
10Bの作用の説明に供する概略図(平面図)であり、
(B)は第2実施形態に係るアレイ屈折素子36’ の
構成及び作用の説明に供する概略図(平面図)である。
FIG. 16A is a schematic diagram (plan view) for explaining the operation of the laser recording apparatus 10B according to the second embodiment,
(B) is a schematic diagram (plan view) for explaining the configuration and action of the array refraction element 36 ′ according to the second embodiment.

【図17】第3実施形態に係るレーザ記録装置10Cの
概略構成図(平面図)である。
FIG. 17 is a schematic configuration diagram (plan view) of a laser recording device 10C according to a third embodiment.

【図18】第3実施形態に係る偏光分離素子37の構成
及び作用の説明に供する概略図(平面図)である。
FIG. 18 is a schematic diagram (plan view) for explaining the configuration and action of the polarization beam splitting element 37 according to the third embodiment.

【図19】(A)は第3、第4実施形態に係る偏光方向
制御素子34の概略構成図(正面図及び側面図)であ
り、(B)は偏光方向制御素子34の結晶光軸の方向を
示す概略図である。
19A is a schematic configuration diagram (a front view and a side view) of a polarization direction control element 34 according to the third and fourth embodiments, and FIG. 19B is a crystal optical axis of the polarization direction control element 34. It is the schematic which shows a direction.

【図20】第3、第4実施形態に係るレーザ記録装置に
おいて偏光方向制御素子34を用いない場合の偏光分離
素子37によるレーザビームの分離状態を示す概略図で
ある。
FIG. 20 is a schematic diagram showing a laser beam separation state by a polarization separation element 37 when the polarization direction control element is not used in the laser recording devices according to the third and fourth embodiments.

【図21】第3、第4実施形態に係るレーザ記録装置に
おいて偏光方向制御素子34を用いた場合の偏光分離素
子37によるレーザビームの分離状態を示す概略図であ
る。
FIG. 21 is a schematic diagram showing a laser beam separation state by a polarization separation element 37 when a polarization direction control element 34 is used in the laser recording devices according to the third and fourth embodiments.

【図22】第3、第4実施形態に係るレーザ記録装置に
おいて、解像度に応じて画像記録を行う場合の処理の流
れを示すフローチャートである。
FIG. 22 is a flowchart showing the flow of processing when image recording is performed according to resolution in the laser recording devices according to the third and fourth embodiments.

【図23】第4実施形態に係るレーザ記録装置10Dの
概略構成図(平面図)である。
FIG. 23 is a schematic configuration diagram (plan view) of a laser recording device 10D according to a fourth embodiment.

【図24】第4実施形態に係る偏光分離素子37’の作
用の説明に供する概略図(平面図)である。
FIG. 24 is a schematic diagram (plan view) for explaining the operation of the polarization beam splitting element 37 ′ according to the fourth embodiment.

【図25】第5実施形態に係るレーザ記録装置10Eの
概略構成図(平面図)である。
FIG. 25 is a schematic configuration diagram (plan view) of a laser recording device 10E according to a fifth embodiment.

【図26】第5実施形態に係るレーザ記録装置10Eに
おいて用いられるファイバーアレイ部30のより好適な
構成を示す概略図である。
FIG. 26 is a schematic view showing a more preferable configuration of the fiber array section 30 used in the laser recording apparatus 10E according to the fifth embodiment.

【図27】従来技術の原理の説明に供する概略図であ
る。
FIG. 27 is a schematic diagram for explaining the principle of the conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10A、10B、10C、10D、10E レーザ記
録装置 32 コリメータレンズ(光学系) 32A 第1コリメータレンズ(第1光学系) 32B 第2コリメータレンズ(第2光学系) 34 偏光方向制御素子(光分割手段) 36 アレイ屈折素子(光分割手段) 36’ アレイ屈折素子(光分割手段) 37 偏光分離素子(光分割手段) 37’ 偏光分離素子(光分割手段) 38 集光レンズ(光学系) 38A 第1集光レンズ(第1光学系) 38B 第2集光レンズ(第2光学系) 39 アレイ開口板(遮光手段) 40 素子移動モータ(移動手段) L レーザビーム(光ビーム) LD 半導体レーザ(光源) T サーマル感材(記録媒体)
10A, 10B, 10C, 10D, 10E Laser recording device 32 Collimator lens (optical system) 32A First collimator lens (first optical system) 32B Second collimator lens (second optical system) 34 Polarization direction control element (light splitting means) ) 36 array refracting element (light splitting means) 36 'array refracting element (light splitting means) 37 polarization separating element (light splitting means) 37' polarization separating element (light splitting means) 38 condensing lens (optical system) 38A 1st Condensing lens (first optical system) 38B Second condensing lens (second optical system) 39 Array aperture plate (light shielding means) 40 Element moving motor (moving means) L Laser beam (light beam) LD Semiconductor laser (light source) T Thermal sensitive material (recording medium)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/027 H01L 21/30 529 5C074 H04N 1/113 B41J 3/00 D 5F046 1/23 103 H04N 1/04 104Z Fターム(参考) 2C362 AA09 AA29 AA34 AA40 BA25 BA26 BA29 BA58 BA60 BA85 BA86 BA90 CB71 DA03 2H045 AG09 BA22 BA26 BA33 CB24 CB33 DA24 2H097 AA03 AA16 BA01 BB01 BB10 CA03 CA17 2H099 AA00 BA17 CA08 DA09 5C072 AA03 BA16 BA20 DA17 HA02 HA06 HA10 5C074 AA02 BB17 DD06 DD14 EE02 EE04 GG12 5F046 BA07 CA03 CB04 CB05 CB14 CB27 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H01L 21/027 H01L 21/30 529 5C074 H04N 1/113 B41J 3/00 D 5F046 1/23 103 H04N 1 / 04 104Z F term (reference) 2C362 AA09 AA29 AA34 AA40 BA25 BA26 BA29 BA58 BA60 BA85 BA86 BA90 CB71 DA03 2H045 AG09 BA22 BA26 BA33 CB24 CB33 DA24 2H097 AA03 AA16 BA01 BB01 BB10 CA03 CA17 2H072 CA16 2A0BAABA BA17 BAH HA10 5C074 AA02 BB17 DD06 DD14 EE02 EE04 GG12 5F046 BA07 CA03 CB04 CB05 CB14 CB27

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 走査露光により記録媒体上に画像を形成
する露光装置であって、 少なくとも副走査方向についてはブロードエリアで発光
する光ビームを射出する光源と、 前記光源から射出された前記光ビームを前記光源と前記
記録媒体との間で集光する第1光学系と、 前記第1光学系で集光された前記光ビームを前記記録媒
体上に集光する第2光学系と、 前記第1光学系による前記光ビームの集光位置と前記記
録媒体との間に配置されると共に前記光ビームを副走査
方向に対して複数に分割する光分割手段と、 前記第1光学系による前記光ビームの集光位置に配置さ
れると共に前記光ビームの副走査方向端部の所定領域を
遮光する遮光手段と、 を備えた露光装置。
1. An exposure apparatus for forming an image on a recording medium by scanning exposure, comprising: a light source for emitting a light beam emitted in a broad area at least in the sub-scanning direction; and the light beam emitted from the light source. A first optical system for condensing the light beam between the light source and the recording medium, a second optical system for condensing the light beam condensed by the first optical system on the recording medium, A light splitting unit that is disposed between the condensing position of the light beam by one optical system and the recording medium and splits the light beam into a plurality in the sub-scanning direction; and the light by the first optical system. An exposure apparatus comprising: a light shielding unit which is disposed at a beam condensing position and shields a predetermined region at an end of the light beam in the sub-scanning direction.
【請求項2】 走査露光により記録媒体上に画像を形成
する露光装置であって、 少なくとも副走査方向についてはブロードエリアで発光
する光ビームを射出する光源と、 前記光源から射出された前記光ビームを前記記録媒体上
に集光する光学系と、 前記光源から射出された光ビームの出射口と前記記録媒
体との間に配置されると共に前記光ビームを副走査方向
に対して複数に分割する光分割手段と、 前記出射口と前記光分割手段との間に配置されると共に
前記光ビームの副走査方向端部の所定領域を遮光する遮
光手段と、 を備えた露光装置。
2. An exposure device for forming an image on a recording medium by scanning exposure, comprising a light source for emitting a light beam emitted in a broad area at least in the sub-scanning direction, and the light beam emitted from the light source. Is disposed between the recording medium and an optical system for condensing the light beam on the recording medium, and the light beam is divided into a plurality in the sub-scanning direction. An exposure apparatus comprising: a light splitting unit; and a light blocking unit that is disposed between the emission port and the light splitting unit and that blocks a predetermined region at an end of the light beam in the sub-scanning direction.
【請求項3】 前記所定領域を、前記光ビームの中心か
ら、前記光分割手段により分割された光ビームの前記記
録媒体上での集光スポットの中心間距離の半分を含む所
定範囲の距離に対応する距離だけ副走査方向両端部側に
離れた2つの位置の各々に接する主走査方向直線の外側
の領域とした請求項1又は請求項2記載の露光装置。
3. The predetermined area is within a predetermined range of distance from the center of the light beam to a half of the center-to-center distance of the focused spot on the recording medium of the light beam split by the light splitting means. 3. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the area is located outside the straight line in the main scanning direction, which is in contact with each of the two positions separated by the corresponding distance on both ends in the sub scanning direction.
【請求項4】 前記光分割手段を、 1本の光ビームを2つに分割する単位表面形状を有する
屈折部材が対単位でアレイ状に並ぶように構成すると共
に、前記光ビームの分割方向が前記光源から射出された
光ビームのブロードエリア方向と略平行となるように配
置されたアレイ屈折素子とするか、 又は、前記光ビームを偏光方向が互いに直交する2つの
光に分離する偏光分離素子と、前記光源と前記偏光分離
素子との間に配置されると共に前記偏光分離素子により
分離される光ビームの偏光方向に対して結晶光軸が45
度を含む所定範囲の角度で傾斜するように1/2波長板
を配置して構成した偏光方向制御素子と、を含めて構成
した請求項1乃至請求項3の何れか1項記載の露光装
置。
4. The light splitting means is configured such that refracting members having a unit surface shape for splitting one light beam into two are arranged in pairs in a pair unit, and the splitting direction of the light beam is An array refraction element arranged so as to be substantially parallel to the broad area direction of the light beam emitted from the light source, or a polarization separation element for separating the light beam into two lights whose polarization directions are orthogonal to each other And the crystal optical axis is 45 with respect to the polarization direction of the light beam that is arranged between the light source and the polarization separation element and is separated by the polarization separation element.
4. The exposure apparatus according to claim 1, further comprising: a polarization direction control element configured by arranging a half-wave plate so as to be tilted at an angle in a predetermined range including a degree. .
【請求項5】 走査露光によって前記記録媒体上に形成
される画像の解像度を示す解像度情報を入力する入力手
段と、 前記解像度情報によって示される解像度が予め定められ
た第1解像度である場合に前記光分割手段が前記光ビー
ムの光軸上から退避され、前記解像度情報によって示さ
れる解像度が前記第1解像度より低い第2解像度である
場合に前記光分割手段が前記光軸上に位置されるように
当該光分割手段を移動させる移動手段と、 を更に備えた請求項1乃至請求項4の何れか1項記載の
露光装置。
5. An input device for inputting resolution information indicating a resolution of an image formed on the recording medium by scanning exposure, and the resolution when the resolution indicated by the resolution information is a predetermined first resolution. The light splitting means is retracted from the optical axis of the light beam, and the light splitting means is positioned on the optical axis when the resolution indicated by the resolution information is a second resolution lower than the first resolution. The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 4, further comprising: a moving unit that moves the light splitting unit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102253492A (en) * 2011-06-24 2011-11-23 南京英田光学工程有限公司 Laser emission optical system easily coupled with laser-optical fiber combination and provided with adjustable beam divergence angle

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102253492A (en) * 2011-06-24 2011-11-23 南京英田光学工程有限公司 Laser emission optical system easily coupled with laser-optical fiber combination and provided with adjustable beam divergence angle
CN102253492B (en) * 2011-06-24 2014-04-09 南京英田光学工程有限公司 Laser emission optical system easily coupled with laser-optical fiber combination

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