JP2003258626A - Programmable logic device, non-volatile memory and data reproducing method - Google Patents

Programmable logic device, non-volatile memory and data reproducing method

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JP2003258626A
JP2003258626A JP2002026177A JP2002026177A JP2003258626A JP 2003258626 A JP2003258626 A JP 2003258626A JP 2002026177 A JP2002026177 A JP 2002026177A JP 2002026177 A JP2002026177 A JP 2002026177A JP 2003258626 A JP2003258626 A JP 2003258626A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To exactly reproduce the stored data in a ferroelectric capacitor used in a programmable logic device when the power is turned on, improve the reliability of the stored data in ferroelectric SRAM cells, composed of SRAM memory cells with the ferroelectric capacitors attached thereto, and quickly start logic operations after power is turned on. <P>SOLUTION: When the power is turned on, a configuration memory 23 is fed with an externally supplied power voltage Vdd with a delay, depending on the time constant according to the characteristics of a ferroelectric capacitor. The drop in the externally supplied power voltage Vdd is detected to fully apply the power voltage to ferroelectric SRAM cells, and then its power source is cut off. Information whether configuration information are already written or not are held in the ferroelectric SRAM cells. If not yet written or already written, the output of a logic block is forcibly disabled or enabled, respectively. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、強誘電体キャパシ
タを用いたプログラマブル論理デバイスに関し、特に単
一の集積回路上に作製されたプログラマブル論理ブロッ
クとして利用が可能なプログラマブル論理デバイスに関
する。また、本発明は、上記プログラマブル論理デバイ
スや、その他にICカード等にも使用され得る、強誘電
体キャパシタを備えた不揮発性メモリの構成およびその
蓄積データの再現方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a programmable logic device using a ferroelectric capacitor, and more particularly to a programmable logic device that can be used as a programmable logic block manufactured on a single integrated circuit. The present invention also relates to a configuration of a non-volatile memory having a ferroelectric capacitor, which can be used in the programmable logic device and other IC cards and the like, and a method of reproducing stored data thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】SRAM型メモリ・セルに蓄積されたデ
ータに応じて論理状態が決まるプログラマブル論理デバ
イスでは、このデバイスの外部に、このデバイスの動作
を既定するコンフィギュレーション情報を電源の遮断後
においても保持するためのPROMやEPROM等の不
揮発性メモリが必要となる。そのため、デバイス点数が
増えてコストが増加したり、ボード面積が増大するなど
の欠点がある。
2. Description of the Related Art In a programmable logic device whose logic state is determined according to the data stored in an SRAM type memory cell, configuration information for prescribing the operation of this device is provided outside the device even after the power is turned off. A non-volatile memory such as a PROM or EPROM for holding is required. Therefore, there are drawbacks such as an increase in the number of devices, an increase in cost, and an increase in board area.

【0003】そこで、SRAM型メモリ・セルに強誘電
体キャパシタを付加し、その誘電分極を利用して電源の
遮断後もコンフィギュレーション情報を保持するように
したプログラマブル論理デバイスが提案されている(特
許第3121862号)。この強誘電体キャパシタを付
加したSRAM型メモリ・セル(以下、強誘電体SRA
Mセルとする)よりなるプログラマブル論理デバイス
は、PROM等の不揮発メモリを用いたデバイスに比べ
て高速性を実現することができるため、特に望ましい技
術であるとされている。
Therefore, a programmable logic device has been proposed in which a ferroelectric capacitor is added to an SRAM type memory cell and the dielectric polarization thereof is used to retain the configuration information even after the power is turned off (Patent No. 3121862). SRAM-type memory cell (hereinafter referred to as ferroelectric SRA) to which this ferroelectric capacitor is added.
A programmable logic device including M cells) is considered to be a particularly desirable technique because it can achieve higher speed than a device using a non-volatile memory such as a PROM.

【0004】ところで、通常、外部の不揮発性メモリか
らコンフィギュレーション情報をロードするタイプのプ
ログラマブル論理デバイスでは、電源投入後、SRAM
型メモリ・セルにコンフィギュレーション情報に基づく
データが書き込まれるまでの間、論理ブロックの出力ド
ライバはディスエーブルされる。これは、コンフィギュ
レーション情報が書き込まれていない、すなわちSRA
M型メモリ・セルの保持データが未設定であると、誤っ
た配線の接続がおこなわれる可能性があるからである。
誤って接続された配線が別々のドライバによって異なる
論理状態に駆動されると、その配線の電圧が不安定(配
線信号のコンフリクト)となり、大きな電流消費が生じ
るという不具合がある。
By the way, normally, in a programmable logic device of a type in which configuration information is loaded from an external non-volatile memory, SRAM is turned on after power is turned on.
The output driver of the logic block is disabled until data based on the configuration information is written to the type memory cell. This means that no configuration information has been written, ie SRA
This is because if the data held in the M-type memory cell is not set, incorrect wiring may be connected.
If wirings that are erroneously connected are driven by different drivers to different logic states, the voltage of the wirings becomes unstable (wiring signal conflict), resulting in a large current consumption.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近時、
田村らにより、強誘電体キャパシタに動的に変動する性
質があることが報告されている(T.Tamura et al.,ISIF
digest,p.1.2.2,2001)。この性質により、電源投入時
に急激に増加する電圧が強誘電体SRAMセルに印加さ
れると、強誘電体キャパシタの誘電分極状態に基づいた
データが正常に再生されないおそれがあることが判明し
た。
However, in recent years,
Tamura et al. Have reported that ferroelectric capacitors have the property of dynamically fluctuating (T.Tamura et al., ISIF
digest, p. 1.2.2, 2001). Due to this property, it has been found that when a voltage that sharply increases when the power is turned on is applied to the ferroelectric SRAM cell, the data based on the dielectric polarization state of the ferroelectric capacitor may not be normally reproduced.

【0006】また、電源の遮断時には、強誘電体SRA
Mセルに蓄積された情報の信頼性を確保するため、強誘
電体SRAMセルに電源電圧をフルに印加した後に電源
を遮断するのが望ましい。しかし、常時、強誘電体SR
AMセルに電源電圧をフルに印加した状態としておく
と、強誘電体キャパシタのヒステリシスカーブが変化す
るいわゆるインプリントと呼ばれる現象が起き、強誘電
体キャパシタのデータが書き替わりにくくなるという不
具合が生じる。
Further, when the power is cut off, the ferroelectric SRA is used.
In order to ensure the reliability of the information stored in the M cell, it is desirable to turn off the power supply after the power supply voltage is fully applied to the ferroelectric SRAM cell. However, the ferroelectric SR
If the power supply voltage is fully applied to the AM cell, a phenomenon called so-called imprint in which the hysteresis curve of the ferroelectric capacitor changes occurs, and it becomes difficult to rewrite the data of the ferroelectric capacitor.

【0007】さらに、強誘電体SRAMセルを用いたプ
ログラマブル論理デバイスでは、一旦コンフィギュレー
ション情報が書き込まれると、電源遮断後もその情報が
蓄積されているため、電源投入時に配線のコンフリクト
は生じない。したがって、電源投入毎に出力ドライバを
ディスエーブルさせる必要がない。それにもかかわら
ず、従来同様、電源投入時に出力ドライバをディスエー
ブルさせると、電源投入後、論理動作の開始が遅くな
る。
Further, in the programmable logic device using the ferroelectric SRAM cell, once the configuration information is written, the information is accumulated even after the power is turned off, so that no wiring conflict occurs when the power is turned on. Therefore, it is not necessary to disable the output driver every time the power is turned on. Nevertheless, as in the past, disabling the output driver at power-on delays the start of logic operation after power-up.

【0008】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであって、電源投入時に強誘電体キャパシタの蓄積デ
ータを正確に再現することができ、また強誘電体SRA
Mセルの蓄積データの信頼性をより高めることができ、
さらには電源投入後の論理動作を迅速に開始させること
ができる強誘電体キャパシタを用いたプログラマブル論
理デバイスを提供することを目的とする。また、本発明
の他の目的は、電源投入時に強誘電体キャパシタの蓄積
データを正確に再現することができる不揮発性メモリお
よびそのデータ再現方法を提供することである。
The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to accurately reproduce the data stored in the ferroelectric capacitor when the power is turned on, and the ferroelectric SRA.
The reliability of the data stored in the M cell can be further increased,
Another object of the present invention is to provide a programmable logic device using a ferroelectric capacitor that can quickly start a logic operation after power is turned on. Another object of the present invention is to provide a non-volatile memory capable of accurately reproducing the data stored in the ferroelectric capacitor when the power is turned on, and a data reproducing method thereof.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、強誘電体SRAMセルを用いたプログラ
マブル論理デバイスにおいて、電源の投入時に、外部か
ら供給された電源電圧を、強誘電体キャパシタの特性に
応じた時定数で遅らせてSRAMセル駆動電圧として強
誘電体SRAMセルよりなるコンフィギュレーション・
メモリに供給することを特徴とする。この発明によれ
ば、電源の投入時に、外部から供給された電源電圧が、
強誘電体キャパシタの特性に応じた時定数で遅れたSR
AMセル駆動電圧としてコンフィギュレーション・メモ
リに供給される。
In order to achieve the above object, the present invention relates to a programmable logic device using a ferroelectric SRAM cell, in which a power supply voltage supplied from the outside when a power supply is turned on is applied to the ferroelectric material. A configuration in which a ferroelectric SRAM cell is used as an SRAM cell drive voltage with a time constant delayed according to the characteristics of the capacitor.
It is characterized in that it is supplied to a memory. According to this invention, when the power is turned on, the power supply voltage supplied from the outside is
SR delayed with a time constant according to the characteristics of the ferroelectric capacitor
It is supplied to the configuration memory as an AM cell drive voltage.

【0010】また、本発明は、電源の遮断時に、コンフ
ィギュレーション・メモリに供給されているSRAMセ
ル駆動電圧が実際に降下する前に、外部から供給された
電源電圧の降下を検出し、強誘電体SRAMセルにSR
AMセル駆動電圧をフルに印加した後に電源を遮断する
ことを特徴とする。この発明によれば、外部から供給さ
れた電源電圧の降下が検出されると、強誘電体SRAM
セルにSRAMセル駆動電圧がフルに印加された後に電
源が遮断される。
Further, according to the present invention, when the power supply is cut off, before the SRAM cell drive voltage supplied to the configuration memory actually drops, the drop of the power supply voltage supplied from the outside is detected, and the ferroelectric SR in body SRAM cell
The power supply is shut off after the AM cell drive voltage is fully applied. According to the present invention, when the drop of the power supply voltage supplied from the outside is detected, the ferroelectric SRAM
The power is shut off after the SRAM cell driving voltage is fully applied to the cell.

【0011】また、本発明は、強誘電体SRAMセルの
一つに、コンフィギュレーション情報が書き込み済みで
あるか否かの情報を保持させ、書き込み前である場合に
は論理ブロックの出力を強制的にディスエーブルし、一
方、書き込み済みである場合には論理ブロックの出力を
イネーブルする。この発明によれば、コンフィギュレー
ション情報の書き込み前であれば、論理ブロックの出力
が強制的にディスエーブルされ、書き込み後であれば、
論理ブロックの出力はイネーブルされる。
Further, according to the present invention, one of the ferroelectric SRAM cells is made to hold the information as to whether or not the configuration information has been written, and the output of the logic block is forcibly forced before the writing. , While enabling the output of the logic block if it has been written. According to the present invention, the output of the logic block is forcibly disabled before writing the configuration information, and after writing the configuration information,
The output of the logic block is enabled.

【0012】また、本発明は、強誘電体SRAMセルを
構成する一対のインバータを、nチャネルトランジスタ
のドレイン端子と電源線との間に抵抗素子を接続した構
成とする。この発明によれば、一方のインバータの抵抗
素子の抵抗値が他方のインバータの抵抗素子の抵抗値に
対して20%程度異なっていても、電源投入時の各イン
バータの出力ノードにおける電位変化は小さいので、強
誘電体キャパシタの蓄積データが正確に再現される。
Further, according to the present invention, a pair of inverters forming a ferroelectric SRAM cell has a structure in which a resistance element is connected between a drain terminal of an n-channel transistor and a power supply line. According to the present invention, even if the resistance value of the resistance element of one inverter differs from the resistance value of the resistance element of the other inverter by about 20%, the potential change at the output node of each inverter at power-on is small. Therefore, the accumulated data of the ferroelectric capacitor is accurately reproduced.

【0013】また、本発明は、強誘電体SRAMセルを
構成する一対のインバータを、nチャネルトランジスタ
とnチャネルトランジスタのサイズ以下のサイズのpチ
ャネルトランジスタにより構成する。この発明によれ
ば、電源投入時に各インバータの出力ノードの電位が上
昇するのにより時間がかかり、強誘電体キャパシタが充
分応答するようになるので、強誘電体キャパシタの蓄積
データが正確に再現される。
Further, according to the present invention, the pair of inverters forming the ferroelectric SRAM cell is composed of an n-channel transistor and a p-channel transistor having a size equal to or smaller than the size of the n-channel transistor. According to the present invention, it takes more time for the potential of the output node of each inverter to rise when the power is turned on, and the ferroelectric capacitor responds sufficiently. Therefore, the accumulated data of the ferroelectric capacitor is accurately reproduced. It

【0014】また、本発明は、強誘電体SRAMセルの
電源投入時に、一対のビット信号線をプリチャージした
後、各ビット信号線と一対のインバータの出力ノードと
の間にそれぞれ接続されたスイッチを短時間オンさせ
る。この発明によれば、電源投入時に各インバータの出
力ノードの電位が上昇し、一対の強誘電体キャパシタの
等価容量の差が大きくなる方向に両強誘電体キャパシタ
の動作点が変更されるので、強誘電体キャパシタの蓄積
データが正確に再現される。
Further, according to the present invention, when the ferroelectric SRAM cell is powered on, a pair of bit signal lines are precharged, and then a switch is connected between each bit signal line and the output node of the pair of inverters. Turn on for a short time. According to this invention, the potential of the output node of each inverter rises when the power is turned on, and the operating points of both ferroelectric capacitors are changed in the direction in which the difference in equivalent capacitance between the pair of ferroelectric capacitors increases. Accumulated data of the ferroelectric capacitor is accurately reproduced.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を参照しつつ詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0016】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1にかかるプログラマブル論理デバイスの要部の構
成を示すブロック図である。図1に示すように、実施の
形態1にかかるプログラマブル論理デバイスは、電源電
圧検出・供給回路21、強誘電体SRAMセル制御回路
22、およびコンフィギュレーション情報を蓄積するメ
モリ(以下、コンフィギュレーション・メモリとする)
23を備えている。コンフィギュレーション・メモリ2
3は主として強誘電体SRAMセルにより構成されてい
る。また、プログラマブル論理デバイスは、図示しない
ルック・アップ・テーブル、図示しないプログラマブル
配線、および図示しないプログラマブル入出力回路(プ
ログラマブルI/O)を備えている。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a main part of a programmable logic device according to Embodiment 1 of the present invention. As shown in FIG. 1, the programmable logic device according to the first exemplary embodiment includes a power supply voltage detection / supply circuit 21, a ferroelectric SRAM cell control circuit 22, and a memory that stores configuration information (hereinafter referred to as a configuration memory. And)
Equipped with 23. Configuration memory 2
3 is mainly composed of a ferroelectric SRAM cell. The programmable logic device also includes a look-up table (not shown), programmable wiring (not shown), and a programmable input / output circuit (programmable I / O) not shown.

【0017】電源電圧検出・供給回路21には、外部電
源端子24から電源電圧Vddが供給されている。この
電源電圧Vddの電源線25には平滑容量26が接続さ
れている。電源電圧検出・供給回路21は強誘電体SR
AMセル制御回路22にSRAMセル駆動電圧PWRを
供給する。強誘電体SRAMセル制御回路22は、電源
投入時に、コンフィギュレーション・メモリ23に、立
ち上がり制御された電源電圧を供給する。
A power supply voltage Vdd is supplied to the power supply voltage detection / supply circuit 21 from an external power supply terminal 24. A smoothing capacitor 26 is connected to the power supply line 25 of the power supply voltage Vdd. The power supply voltage detection / supply circuit 21 is a ferroelectric SR
The SRAM cell drive voltage PWR is supplied to the AM cell control circuit 22. The ferroelectric SRAM cell control circuit 22 supplies a rising-controlled power supply voltage to the configuration memory 23 when the power is turned on.

【0018】また、電源電圧検出・供給回路21には電
源電圧検出端子VDETが設けられている。この電源電
圧検出端子VDETには、外部電源端子24から電源電
圧Vddが平滑容量26を介さずに直接供給されてい
る。電源電圧検出・供給回路21は電源電圧Vddを検
出し、強誘電体SRAMセル制御回路22に電圧検出信
号PDETを供給する。強誘電体SRAMセル制御回路
22は、電源遮断時に、コンフィギュレーション・メモ
リ23に各種制御信号を供給する。
Further, the power supply voltage detection / supply circuit 21 is provided with a power supply voltage detection terminal VDET. The power supply voltage Vdd is directly supplied to the power supply voltage detection terminal VDET from the external power supply terminal 24 without passing through the smoothing capacitor 26. The power supply voltage detection / supply circuit 21 detects the power supply voltage Vdd and supplies a voltage detection signal PDET to the ferroelectric SRAM cell control circuit 22. The ferroelectric SRAM cell control circuit 22 supplies various control signals to the configuration memory 23 when the power is cut off.

【0019】図2は、コンフィギュレーション・メモリ
23の一例を示すブロック図である。たとえば図2に示
すように、コンフィギュレーション・メモリ23は、コ
ンフィギュレーション情報を転送するためのシフト・レ
ジスタ31と、シフト・レジスタ31から供給されたデ
ータを強誘電体SRAMセル33に書き込むための書き
込み回路32と、強誘電体SRAMセル33と、プリチ
ャージを含めたセンスアンプ・出力バッファ34とによ
り構成されている。
FIG. 2 is a block diagram showing an example of the configuration memory 23. For example, as shown in FIG. 2, the configuration memory 23 includes a shift register 31 for transferring the configuration information and a write for writing the data supplied from the shift register 31 into the ferroelectric SRAM cell 33. It is composed of a circuit 32, a ferroelectric SRAM cell 33, and a sense amplifier / output buffer 34 including precharge.

【0020】強誘電体SRAMセル33の出力は、セン
スアンプ・出力バッファ34を介して図示しないルック
・アップ・テーブルに供給される。このコンフィギュレ
ーション・メモリ23を制御するため、強誘電体SRA
Mセル33にはワード線制御信号WLおよびプレート線
制御信号PL、書き込み回路32には書き込み制御信号
WEがそれぞれ強誘電体SRAMセル制御回路22から
供給される。
The output of the ferroelectric SRAM cell 33 is supplied to a look-up table (not shown) via the sense amplifier / output buffer 34. In order to control this configuration memory 23, the ferroelectric SRA
A word line control signal WL and a plate line control signal PL are supplied to the M cell 33, and a write control signal WE is supplied to the write circuit 32 from the ferroelectric SRAM cell control circuit 22.

【0021】図3は、強誘電体SRAMセルの一例を示
す回路図である。たとえば図3に示すように、強誘電体
SRAMセルは、一対のインバータを構成する2個のp
チャネルトランジスタ41,42および2個のnチャネ
ルトランジスタ43,44と、nチャネルトランジスタ
よりなる2個のアクセス・トランジスタ45,46と、
2個の強誘電体キャパシタ47,48により構成されて
いる。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a ferroelectric SRAM cell. For example, as shown in FIG. 3, a ferroelectric SRAM cell has two p-type inverters forming a pair of inverters.
Channel transistors 41, 42 and two n-channel transistors 43, 44, two access transistors 45, 46 consisting of n-channel transistors,
It is composed of two ferroelectric capacitors 47 and 48.

【0022】第1のインバータは、第1のpチャネルト
ランジスタ41のドレイン端子と第1のnチャネルトラ
ンジスタ43のドレイン端子とを共通接続した構成とな
っている。同様に、第2のインバータは、第2のpチャ
ネルトランジスタ42のドレイン端子と第2のnチャネ
ルトランジスタ44のドレイン端子とを共通接続した構
成となっている。そして、第1のインバータと第2のイ
ンバータとが、互いにその出力が相手の入力となるよう
に接続されていることによって、SRAM型メモリ・セ
ルが構成されている。
The first inverter has a structure in which the drain terminal of the first p-channel transistor 41 and the drain terminal of the first n-channel transistor 43 are commonly connected. Similarly, the second inverter has a configuration in which the drain terminal of the second p-channel transistor 42 and the drain terminal of the second n-channel transistor 44 are commonly connected. Then, the first inverter and the second inverter are connected to each other so that their outputs become the inputs of the counterpart, thereby forming an SRAM type memory cell.

【0023】第1および第2のpチャネルトランジスタ
41,42の各ソース端子は、SRAMセル駆動電圧P
WRが印加されるSRAMセル部電源線51に接続され
ている。第1および第2のnチャネルトランジスタ4
3,44の各ソース端子は接地されている。第1のアク
セス・トランジスタ45は、第1のインバータの出力端
子となるノード(ストレージ・ノードS1とする)と、
ビット線制御信号BLが供給されるビット信号線52と
の間に接続されている。第2のアクセス・トランジスタ
46は、第2のインバータの出力端子となるノード(ス
トレージ・ノードS2とする)と、ビット線制御信号B
Lの反転信号XBLが供給されるビット信号線53との
間に接続されている。
The source terminals of the first and second p-channel transistors 41 and 42 are connected to the SRAM cell drive voltage P.
It is connected to the SRAM cell power supply line 51 to which WR is applied. First and second n-channel transistor 4
Each of the source terminals 3, 44 is grounded. The first access transistor 45 has a node (storage node S1) which is an output terminal of the first inverter,
It is connected to the bit signal line 52 to which the bit line control signal BL is supplied. The second access transistor 46 has a node serving as an output terminal of the second inverter (referred to as a storage node S2) and a bit line control signal B.
It is connected to the bit signal line 53 to which the inverted signal XBL of L is supplied.

【0024】第1および第2のアクセス・トランジスタ
45,46の各ゲート端子は、ワード線制御信号WLが
供給される信号線54に接続されている。第1の強誘電
体キャパシタ47および第2の強誘電体キャパシタ48
は、それぞれ各ストレージ・ノードS1およびS2と、
プレート線制御信号PLが供給される信号線55との間
に接続されている。
The gate terminals of the first and second access transistors 45 and 46 are connected to the signal line 54 to which the word line control signal WL is supplied. First ferroelectric capacitor 47 and second ferroelectric capacitor 48
Are each storage nodes S1 and S2,
It is connected to the signal line 55 to which the plate line control signal PL is supplied.

【0025】ここで、アクセス・トランジスタ45,4
6はSRAM型メモリ・セルに蓄積された情報を外部に
取り出したり、書き込みデータを取り入れるために使用
される。なお、取り出す情報が1ビットの非反転情報の
みでよい場合には、第2のアクセス・トランジスタ46
を省略した構成としてもよい。
Here, the access transistors 45 and 4
Reference numeral 6 is used to take out the information stored in the SRAM type memory cell to the outside and take in write data. If the information to be extracted is only the 1-bit non-inverted information, the second access transistor 46
May be omitted.

【0026】また、プレート線制御信号PLは、メモリ
・セルへの書き込みを制御したり、データ保持状態でメ
モリ・セルに高い電圧が加わって、強誘電体の特性が劣
化するのを防ぐための制御をおこなう信号である。強誘
電体キャパシタ47,48は、PZT(チタン酸ジルコ
ン酸鉛)を主な組成とする強誘電体材料や、SBT(タ
ンタル酸ビスマス・ストロンチウム)などのビスマス層
状ペロブスカイト構造を有する強誘電体材料により構成
される。
The plate line control signal PL is used to control the writing to the memory cell and to prevent the characteristics of the ferroelectric substance from being deteriorated by applying a high voltage to the memory cell in the data holding state. This is a control signal. The ferroelectric capacitors 47 and 48 are made of a ferroelectric material mainly composed of PZT (lead zirconate titanate) or a ferroelectric material having a bismuth layered perovskite structure such as SBT (bismuth strontium tantalate). Composed.

【0027】図4は、電源電圧検出・供給回路21を構
成する電源供給回路の一例を示す回路図である。たとえ
ば図4に示すように、オペアンプ61の非反転入力端子
と電源電圧Vddが印加される端子62との間に、キャ
パシタ63および抵抗素子64からなるCR回路が接続
されている。そのため、オペアンプ61から出力される
SRAMセル駆動電圧PWRは、電源の立ち上がりから
ゆっくりと増加する。このオペアンプ61はフルレイル
まで駆動可能な回路で構成されている。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a power supply circuit which constitutes the power supply voltage detection / supply circuit 21. For example, as shown in FIG. 4, a CR circuit including a capacitor 63 and a resistance element 64 is connected between the non-inverting input terminal of the operational amplifier 61 and the terminal 62 to which the power supply voltage Vdd is applied. Therefore, the SRAM cell drive voltage PWR output from the operational amplifier 61 slowly increases from the rise of the power supply. The operational amplifier 61 is composed of a circuit capable of driving up to a full rail.

【0028】また、オペアンプ61の出力端子と、SR
AMセル駆動電圧PWRを出力する端子65との間には
負荷容量66が接続されている。オペアンプ61の反転
入力端子にはオペアンプ61の出力がフィードバックさ
れている。図4に示す回路は電源を100nsecの時
定数で制御する回路であり、抵抗素子64の抵抗値およ
びキャパシタ63の容量はそれぞれ10kΩおよび10
pFである。なお、立ち上げの時定数は強誘電体キャパ
シタの特性に依存しており、強誘電体材料に応じて適宜
選択される。100nsecという時定数は強誘電体材
料としてPZTを用いた場合の典型的な値である。
The output terminal of the operational amplifier 61 and SR
A load capacitance 66 is connected between the terminal 65 that outputs the AM cell drive voltage PWR. The output of the operational amplifier 61 is fed back to the inverting input terminal of the operational amplifier 61. The circuit shown in FIG. 4 is a circuit for controlling the power supply with a time constant of 100 nsec, and the resistance value of the resistance element 64 and the capacitance of the capacitor 63 are 10 kΩ and 10 respectively.
pF. The start-up time constant depends on the characteristics of the ferroelectric capacitor and is appropriately selected according to the ferroelectric material. The time constant of 100 nsec is a typical value when PZT is used as the ferroelectric material.

【0029】図5は、電源電圧検出・供給回路21を構
成する電源電圧検出回路の一例を示す回路図である。た
とえば図5に示すように、3.0V検出部71と2.7
V検出部72が設けられており、電源電圧検出端子VD
ETに印加された電圧が3.0Vになったら電圧検出信
号PDETとして相対的に電位の高いハイを出力し、一
旦電圧が上がった後は、2.7V以下になるまで電圧検
出信号PDETをハイに保つというヒステリシス特性を
備えている。これは、負荷の増大にともなう電源の瞬間
的な低下に対して、余裕を持たせるためである。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of the power supply voltage detection circuit constituting the power supply voltage detection / supply circuit 21. For example, as shown in FIG. 5, 3.0V detectors 71 and 2.7.
The V detection unit 72 is provided, and the power supply voltage detection terminal VD
When the voltage applied to ET becomes 3.0V, a relatively high potential high is output as the voltage detection signal PDET, and once the voltage rises, the voltage detection signal PDET goes high until the voltage becomes 2.7V or less. It has a hysteresis characteristic of keeping at. This is to allow a margin for the momentary drop of the power supply due to the increase of the load.

【0030】3.0V検出部71は、抵抗値r1の抵抗
素子73とその1.7倍の抵抗値(1.7×r1)の抵
抗素子74により電源電圧Vddを抵抗分割して得られ
た電圧(1.7×Vdd/(1+1.7))と、バンド
ギャップ・リファレンス回路75から出力された1.1
Vの基準電圧Vrefとを第1の比較器76により比較
する。電源電圧Vddがゼロから3.0Vに達するまで
は第1の比較器76の出力はハイであるが、電源電圧V
ddが3.0Vになると第1の比較器76の出力は相対
的に電位の低いローに切り替わる。
The 3.0V detecting portion 71 is obtained by resistance-dividing the power supply voltage Vdd by the resistance element 73 having the resistance value r1 and the resistance element 74 having the resistance value (1.7 × r1) which is 1.7 times the resistance value. Voltage (1.7 × Vdd / (1 + 1.7)) and 1.1 output from the bandgap reference circuit 75.
The first comparator 76 compares the V reference voltage Vref. The output of the first comparator 76 is high until the power supply voltage Vdd reaches from zero to 3.0 V, but the power supply voltage Vdd
When dd becomes 3.0 V, the output of the first comparator 76 switches to low, which has a relatively low potential.

【0031】同様に、2.7V検出部72は、抵抗値r
1の抵抗素子77とその1.5倍の抵抗値(1.5×r
1)の抵抗素子78により電源電圧Vddを抵抗分割し
て得られた電圧(1.5×Vdd/(1+1.5))
と、バンドギャップ・リファレンス回路79から出力さ
れた1.1Vの基準電圧Vrefとを第2の比較器80
により比較する。電源電圧Vddが2.7V以上のとき
には第2の比較器80の出力はハイであるが、電源電圧
Vddが2.7Vよりも低くなると第2の比較器80の
出力はローに切り替わる。ここで、バンドギャップ・リ
ファレンス回路75,79を採用したことにより、電源
の変動や温度の変動に対して特性変動の極めて少ない安
定した電圧が得られている。
Similarly, the 2.7V detector 72 has a resistance value r
1 resistance element 77 and a resistance value 1.5 times that (1.5 × r
A voltage (1.5 × Vdd / (1 + 1.5)) obtained by resistance-dividing the power supply voltage Vdd by the resistance element 78 of 1).
And the reference voltage Vref of 1.1V output from the bandgap reference circuit 79, to the second comparator 80.
Compare by. When the power supply voltage Vdd is 2.7 V or higher, the output of the second comparator 80 is high, but when the power supply voltage Vdd becomes lower than 2.7 V, the output of the second comparator 80 switches to low. Here, by adopting the bandgap reference circuits 75 and 79, it is possible to obtain a stable voltage in which the characteristic variation is extremely small with respect to the power source variation and the temperature variation.

【0032】第1の比較器76の出力および第2の比較
器80の出力はそれぞれ第1のNANDゲート81およ
び第2のNANDゲート82に入力される。そして、第
1のNANDゲート81および第2のNANDゲート8
2の出力は互いに相手のもう一方の入力となっている。
電圧検出信号PDETを出力する端子83には第1のN
ANDゲート81の出力が供給される。
The output of the first comparator 76 and the output of the second comparator 80 are input to the first NAND gate 81 and the second NAND gate 82, respectively. Then, the first NAND gate 81 and the second NAND gate 8
The outputs of 2 are the inputs of the other side of each other.
The terminal 83 that outputs the voltage detection signal PDET has a first N
The output of the AND gate 81 is supplied.

【0033】図6は、ルック・アップ・テーブルの一例
を示す図である。たとえば図6に示すように、ルック・
アップ・テーブルは、複数のラッチ91とマルチプレク
サ92により構成されており、特にその数を限定しない
が、たとえば4ビットの入力(A,B,C,D)に基づ
いて16個の強誘電体SRAMセルの出力を選択する構
成となっている。強誘電体SRAMセルの蓄積データを
変更することにより、ルック・アップ・テーブルはAN
Dゲート、NANDゲート、反転入力付きANDゲー
ト、ORゲート、NORゲート、排他的論理和ゲート、
AND−ORゲート、マルチプレクサ、ラッチまたはフ
リップ・フロップなどを構成する。
FIG. 6 is a diagram showing an example of the look-up table. For example, as shown in FIG.
The up table is composed of a plurality of latches 91 and multiplexers 92, and the number thereof is not particularly limited, but for example, 16 ferroelectric SRAMs based on 4-bit inputs (A, B, C, D). The cell output is selected. By changing the data stored in the ferroelectric SRAM cell, the look-up table can be changed to AN.
D gate, NAND gate, AND gate with inverted input, OR gate, NOR gate, exclusive OR gate,
It comprises an AND-OR gate, a multiplexer, a latch or a flip-flop.

【0034】図7はプログラマブル配線について説明す
るための模式図である。図7に示すように、パス・トラ
ンジスタ101が配線の途中に設けられ、パス・トラン
ジスタ101のソース・ドレイン端子が配線との接続端
子102,102に接続される。パス・トランジスタ1
01のゲート端子には強誘電体SRAMセル103の出
力(厳密には出力バッファの出力)が供給される。強誘
電体SRAMセル103の出力電位レベルに応じてパス
・トランジスタ101がオン/オフし、それによって配
線の接続が制御される。
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining the programmable wiring. As shown in FIG. 7, the pass transistor 101 is provided in the middle of the wiring, and the source / drain terminal of the pass transistor 101 is connected to the connection terminals 102 and 102 with the wiring. Pass transistor 1
The output of the ferroelectric SRAM cell 103 (strictly speaking, the output of the output buffer) is supplied to the gate terminal of 01. The pass transistor 101 is turned on / off according to the output potential level of the ferroelectric SRAM cell 103, thereby controlling the wiring connection.

【0035】本実施の形態1におけるプログラマブル配
線の構成について説明する前に、一般的なプログラマブ
ル配線の構成について説明する。図14は一般的なプロ
グラマブル配線の構成を説明するための図である。図1
4に示す例において、強誘電体SRAMセルのデータの
書き込みをおこなう前、あるいは強誘電体キャパシタが
付加されていないSRAM型メモリ・セルの電源の立ち
上げ直後は、メモリ・セルに書き込まれたデータは不定
の状態になっている。このため、たとえば出力バッファ
1,2,3,4のうち第1の出力バッファ1と第3の出
力バッファ3が同時にパス・トランジスタ5,6,7,
8のうちの対応するトランジスタ5,7をオンさせる可
能性がある。
Before describing the configuration of the programmable wiring in the first embodiment, the configuration of a general programmable wiring will be described. FIG. 14 is a diagram for explaining the configuration of a general programmable wiring. Figure 1
In the example shown in FIG. 4, the data written in the memory cell is written before the data is written in the ferroelectric SRAM cell or immediately after the power supply of the SRAM type memory cell to which the ferroelectric capacitor is not added is turned on. Is in an indeterminate state. Therefore, for example, among the output buffers 1, 2, 3, 4 the first output buffer 1 and the third output buffer 3 simultaneously pass transistors 5, 6, 7,
There is a possibility that the corresponding transistors 5 and 7 of 8 will be turned on.

【0036】また、ルック・アップ・テーブルの出力も
同様に不定であるため、ルック・アップ・テーブルから
の出力1がハイで、かつルック・アップ・テーブルから
の出力3がローとなる可能性がある。この結果、下側の
配線トラック9にはハイの出力とローの出力が競合する
ことになり、この配線の電位が中間電位に保たれ、大き
な電流が流れることになる。これを防止するため、従来
のプログラマブル論理デバイスでは、デバイスの電源が
供給された後、コンフィギュレーション情報の書き込み
が終わるまで、ルック・アップ・テーブルからの出力を
ディスエーブルする構成となっている。
Also, since the look-up table output is similarly indeterminate, output 1 from the look-up table can be high and output 3 from the look-up table can be low. is there. As a result, a high output and a low output compete with each other on the lower wiring track 9, the potential of this wiring is maintained at an intermediate potential, and a large current flows. In order to prevent this, the conventional programmable logic device has a configuration in which the output from the look-up table is disabled until the writing of the configuration information is completed after the device power is supplied.

【0037】しかし、本実施の形態1のように、強誘電
体SRAMセルを用いたプログラマブル論理デバイスで
は、コンフィギュレーション情報の書き込みを一度おこ
なえばよいので、電源を立ち上げるたびにコンフィギュ
レーションをおこなう必要はない。そこで、本実施の形
態1ではつぎのような構成となっている。
However, in the programmable logic device using the ferroelectric SRAM cell as in the first embodiment, since the configuration information only needs to be written once, it is necessary to perform the configuration each time the power is turned on. There is no. Therefore, the first embodiment has the following configuration.

【0038】図8は本実施の形態1におけるプログラマ
ブル配線の構成を説明するための図である。図8に示す
ように、コンフィギュレーション情報を書き込み済みか
否かの情報を第5の強誘電体SRAMセルに保持させ、
その保持情報を第5の強誘電体SRAMセルに対応する
出力バッファ119を介して出力させる。その出力情報
を第1〜第4のANDゲート121,122,123,
124に入力させるとともに、各ANDゲート121,
122,123,124に、それぞれ各強誘電体SRA
Mセルに対応する出力バッファ111,112,11
3,114の出力情報を入力させる。
FIG. 8 is a diagram for explaining the configuration of the programmable wiring in the first embodiment. As shown in FIG. 8, information as to whether or not the configuration information has been written is held in the fifth ferroelectric SRAM cell,
The held information is output via the output buffer 119 corresponding to the fifth ferroelectric SRAM cell. The output information is used as the first to fourth AND gates 121, 122, 123,
124 and inputs to each AND gate 121,
122, 123, and 124, each of the ferroelectric SRA
Output buffers 111, 112, 11 corresponding to M cells
Input the output information of 3,114.

【0039】そして、各ANDゲート121,122,
123,124の出力に基づいて各パス・トランジスタ
115,116,117,118のオン/オフを制御
し、ルック・アップ・テーブルからの出力を配線トラッ
クに供給する。このようにすることによって、コンフィ
ギュレーション情報の書き込み前であれば、プログラマ
ブル論理デバイスにおける論理ブロックの出力を強制的
にディスエーブルし、プログラマブル論理デバイスの出
力がコンフリクトを生じないようにする。一方、コンフ
ィギュレーションが書き込まれた後であればプログラマ
ブル論理デバイスにおける論理ブロックの出力をイネー
ブルする。
The AND gates 121, 122,
ON / OFF of each pass transistor 115, 116, 117, 118 is controlled based on the output of 123, 124, and the output from the look-up table is supplied to the wiring track. By doing so, before writing the configuration information, the output of the logic block in the programmable logic device is forcibly disabled so that the output of the programmable logic device does not cause a conflict. On the other hand, after the configuration is written, it enables the output of the logic block in the programmable logic device.

【0040】なお、コンフィギュレーション情報を書き
込み済みか否かの情報を保持するメモリは、強誘電体S
RAMセルに限らず、通常の2T2C型強誘電体メモリ
・セルでもよいし、1T1C型強誘電体メモリ・セルで
もよい。プログラマブルI/Oは、その構成を特に図示
しないが、強誘電体SRAMセルの出力に基づいてI/
Oポートの入出力が選択される構成となっている。
The memory holding the information as to whether or not the configuration information has been written is the ferroelectric S.
Not limited to the RAM cell, a normal 2T2C type ferroelectric memory cell or a 1T1C type ferroelectric memory cell may be used. Although the configuration of the programmable I / O is not particularly illustrated, the I / O is based on the output of the ferroelectric SRAM cell.
The O port input / output is selected.

【0041】図9は、図3に示す構成の強誘電体SRA
Mセルの基本動作時の各制御信号の状態を示す図表であ
る。強誘電体SRAMセルにデータを書き込む際には、
SRAMセル部電源はオン状態となる。書き込み制御信
号WEおよびワード線制御信号WLはともにハイとな
る。プレート線制御信号PLはハイからローに切り替わ
る。
FIG. 9 shows a ferroelectric SRA having the structure shown in FIG.
It is a chart showing the state of each control signal during the basic operation of the M cell. When writing data to the ferroelectric SRAM cell,
The SRAM cell section power is turned on. Both the write control signal WE and the word line control signal WL become high. The plate line control signal PL switches from high to low.

【0042】データを読み出す際には、SRAMセル部
電源はオン状態となる。書き込み制御信号WEはローと
なり、ワード線制御信号WLはハイとなる。プレート線
制御信号PLは電源電圧Vddの2分の1、すなわちV
dd/2となる。プログラマブル論理デバイスの通常の
論理動作時、すなわちこのときには強誘電体SRAMセ
ルはデータを保持している状態であり、SRAMセル部
電源はオン状態となる。書き込み制御信号WEおよびワ
ード線制御信号WLはともにローとなり、プレート線制
御信号PLはVdd/2となる。
When reading data, the SRAM cell part power supply is turned on. The write control signal WE becomes low and the word line control signal WL becomes high. The plate line control signal PL is half the power supply voltage Vdd, that is, V
It becomes dd / 2. During a normal logic operation of the programmable logic device, that is, at this time, the ferroelectric SRAM cell is in a state of holding data, and the SRAM cell power supply is turned on. Both the write control signal WE and the word line control signal WL become low, and the plate line control signal PL becomes Vdd / 2.

【0043】このように、データの読み出し時および通
常の論理動作時にプレート線制御信号PLがVdd/2
である理由は、上述したインプリント現象が起こらない
ようにするためである。なお、Vdd/2となる電位を
発生する回路としては、従来よりDRAM等で採用され
ている回路を用いることができる。あるいは、外部から
Vdd/2の電位を印加する構成としてもよい。その他
の制御信号の動作は、基本的にSRAMと同等である。
As described above, the plate line control signal PL changes to Vdd / 2 during the data read and the normal logic operation.
The reason is that the imprint phenomenon described above does not occur. As a circuit for generating a potential of Vdd / 2, a circuit conventionally used in a DRAM or the like can be used. Alternatively, it may be configured to apply a potential of Vdd / 2 from the outside. The operation of other control signals is basically the same as that of the SRAM.

【0044】図10は強誘電体SRAMセルの電源立ち
上げ時の制御シーケンスの一例を示す図である。図10
に示すように、まず各制御信号が設定される。その際、
電源立ち上げ前の各制御信号の状態を示す図11のよう
に、SRAMセル部電源はオフ状態である。そして、書
き込み制御信号WE、ワード線制御信号WLおよびプレ
ート線制御信号PLをいずれもローに設定するのが最も
安全である。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a control sequence when the power source of the ferroelectric SRAM cell is turned on. Figure 10
As shown in, each control signal is first set. that time,
As shown in FIG. 11, which shows the state of each control signal before the power supply is turned on, the SRAM cell power supply is in the off state. It is safest to set the write control signal WE, the word line control signal WL, and the plate line control signal PL to low.

【0045】つづいて、図10に示すように、クロック
周波数が40MHzの場合、4クロック、すなわち10
0nsecで電源電圧の供給がおこなわれる。電源の立
ち上げ後、コンフィギュレーション・メモリの読み出し
がおこなわれる。それによって、ルック・アップ・テー
ブル、プログラマブル配線およびプログラマブルI/O
が所定の論理動作に設定される。その後、デバイスのリ
セット状態が解除されて、通常の論理動作が開始され
る。なお、クロック周波数および電源電圧の供給に要す
るサイクル数は強誘電体キャパシタの材料に応じて種々
選択される。
Continuing, as shown in FIG. 10, when the clock frequency is 40 MHz, 4 clocks, that is, 10 clocks.
The power supply voltage is supplied in 0 nsec. After the power is turned on, the configuration memory is read. Thereby, look-up table, programmable wiring and programmable I / O
Are set to a predetermined logical operation. Then, the reset state of the device is released, and normal logic operation is started. The clock frequency and the number of cycles required to supply the power supply voltage are variously selected according to the material of the ferroelectric capacitor.

【0046】図12は電源遮断時の制御シーケンスの一
例を示す図である。図12に示すように、電源の遮断が
検出されると、全コンフィギュレーション・メモリの書
き込みがおこなわれる。その後、遮断待ち状態となる。
上述したように電源電圧検出端子VDETに供給された
電源電圧Vddがたとえば2.7Vよりも低くなったと
きに電源の遮断が検出される。
FIG. 12 is a diagram showing an example of a control sequence when the power is cut off. As shown in FIG. 12, when the power-off is detected, the entire configuration memory is written. After that, it enters a cutoff waiting state.
As described above, when the power supply voltage Vdd supplied to the power supply voltage detection terminal VDET becomes lower than, for example, 2.7 V, the cutoff of the power supply is detected.

【0047】外部から電源電圧Vddの供給が遮断され
た時に、通常の電源端子、すなわち図1において平滑容
量26が接続された電源線25の電位はゆるやかに下が
るが、平滑容量26が接続されていない電源電圧検出端
子VDETの電位は急激に下がる。したがって、この電
源電圧検出端子VDETの電位変化をモニターすること
によって、強誘電体SRAMセルに供給された電源電圧
が実際に下がる前に電源の遮断を検出することができ
る。たとえば、平滑容量26が0.1μFの場合、デバ
イスの消費電流が100mAであっても、0.2Vの電
圧降下が起こるのに200nsecかかることになる。
これは、40MHzのクロックでは8クロックに相当
し、充分に全コンフィギュレーション・メモリの書き込
みをおこなうことができる。
When the supply of the power supply voltage Vdd from the outside is cut off, the potential of the normal power supply terminal, that is, the power supply line 25 to which the smoothing capacitor 26 is connected in FIG. 1 gradually drops, but the smoothing capacitor 26 is connected. The potential of the non-source voltage detection terminal VDET sharply drops. Therefore, by monitoring the potential change of the power supply voltage detection terminal VDET, it is possible to detect the interruption of the power supply before the power supply voltage supplied to the ferroelectric SRAM cell actually drops. For example, when the smoothing capacitor 26 is 0.1 μF, it takes 200 nsec for the voltage drop of 0.2 V to occur even if the device current consumption is 100 mA.
This corresponds to 8 clocks at a clock of 40 MHz, and writing to the entire configuration memory can be sufficiently performed.

【0048】図13に電源遮断時の各制御信号の状態を
示す。全コンフィギュレーション・メモリの書き換え
(書き込み)時には、SRAMセル部電源はオン状態で
あり、書き込み制御信号WEおよびワード線制御信号W
Lはともにローであり、プレート線制御信号PLはハイ
からローに切り替わる。これによって、電源遮断前に、
強誘電体キャパシタに電源電圧がフルに印加される。遮
断待ち状態では、SRAMセル部電源はオン状態であ
り、書き込み制御信号WE、ワード線制御信号WLおよ
びプレート線制御信号PLはいずれもローである。これ
ら各制御信号の設定は、電圧検出信号PDETに基づい
ておこなわれる。
FIG. 13 shows the state of each control signal when the power is cut off. At the time of rewriting (writing) of all the configuration memories, the power supply of the SRAM cell section is in the ON state, and the write control signal WE and the word line control signal W
Both L are low, and the plate line control signal PL switches from high to low. By this, before power off,
The power supply voltage is fully applied to the ferroelectric capacitor. In the cut-off waiting state, the power supply of the SRAM cell section is on, and the write control signal WE, the word line control signal WL, and the plate line control signal PL are all low. Each of these control signals is set based on the voltage detection signal PDET.

【0049】上述した実施の形態1によれば、電源の投
入時に、外部から供給された電源電圧Vddが、強誘電
体キャパシタの特性に応じた時定数で遅れたSRAMセ
ル駆動電圧PWRとしてコンフィギュレーション・メモ
リ23に供給されるため、電源投入時に強誘電体キャパ
シタの蓄積データを正確に再現することができる。
According to the first embodiment described above, when the power is turned on, the power supply voltage Vdd supplied from the outside is configured as the SRAM cell drive voltage PWR delayed by a time constant according to the characteristics of the ferroelectric capacitor. Since the data is supplied to the memory 23, the data stored in the ferroelectric capacitor can be accurately reproduced when the power is turned on.

【0050】また、実施の形態1によれば、外部から供
給された電源電圧Vddの降下が検出されると、強誘電
体SRAMセルにSRAMセル駆動電圧PWRがフルに
印加された後に電源が遮断されるため、強誘電体SRA
Mセルの蓄積データの短期的および長期的な信頼性をよ
り高めることができる。
Further, according to the first embodiment, when the drop of the power supply voltage Vdd supplied from the outside is detected, the SRAM cell drive voltage PWR is fully applied to the ferroelectric SRAM cell and then the power is cut off. Therefore, the ferroelectric SRA
It is possible to further improve the short-term and long-term reliability of the accumulated data of M cells.

【0051】また、実施の形態1によれば、コンフィギ
ュレーション情報の書き込み前であれば、論理ブロック
の出力が強制的にディスエーブルされ、書き込み後であ
れば、論理ブロックの出力はイネーブルされるため、一
旦コンフィギュレーション情報が書き込まれてしまえ
ば、電源投入後の論理動作を迅速に開始することができ
る。
Further, according to the first embodiment, the output of the logical block is forcibly disabled before the writing of the configuration information, and the output of the logical block is enabled after the writing of the configuration information. Once the configuration information has been written, the logical operation after power-on can be started quickly.

【0052】以上説明したように、実施の形態1では、
電源投入時に強誘電体キャパシタの蓄積データを正確に
再現するため、強誘電体SRAMセルには、強誘電体キ
ャパシタの特性に応じた時定数で遅れてSRAMセル駆
動電圧PWRが供給されるとした。しかし、SRAMセ
ル駆動電圧PWRの供給を遅らせる代わりに、以下に説
明する実施の形態2〜4の構成によっても、電源投入時
に強誘電体キャパシタの蓄積データを正確に再現するこ
とが可能である。
As described above, in the first embodiment,
In order to accurately reproduce the data stored in the ferroelectric capacitor when the power is turned on, it is assumed that the SRAM cell drive voltage PWR is supplied to the ferroelectric SRAM cell with a time constant that depends on the characteristics of the ferroelectric capacitor. . However, instead of delaying the supply of the SRAM cell drive voltage PWR, the data stored in the ferroelectric capacitor can be accurately reproduced when the power is turned on by the configurations of the second to fourth embodiments described below.

【0053】(実施の形態2)まず、実施の形態2につ
いて説明する前に、強誘電体SRAMセルに電源が投入
された時に強誘電体キャパシタの蓄積データがどのよう
にして再現されるか、ということについて説明する。強
誘電体SRAMセルの構成は図3に示すとおりである。
したがって、ここでは図3で付した符号を用いて説明す
る。なお、電源投入と同時にSRAMセル駆動電圧PW
Rが供給されるものとする。図15に強誘電体キャパシ
タのヒステリシス曲線および動作点を示す。また、図1
6に電源投入時のSRAMセル駆動電圧PWRおよびス
トレージ・ノードS1,S2の電位変化のシミュレーシ
ョン結果を示す。
(Second Embodiment) First, before describing the second embodiment, how the stored data in the ferroelectric capacitor is reproduced when the ferroelectric SRAM cell is powered on, I will explain that. The structure of the ferroelectric SRAM cell is as shown in FIG.
Therefore, description will be given here using the reference numerals given in FIG. At the same time when the power is turned on, the SRAM cell drive voltage PW
R shall be supplied. FIG. 15 shows the hysteresis curve and operating point of the ferroelectric capacitor. Also, FIG.
6 shows simulation results of the SRAM cell drive voltage PWR and potential changes of the storage nodes S1 and S2 when the power is turned on.

【0054】図15に示すように、電源投入前の状態に
おいて、一対の強誘電体キャパシタ47,48には、前
回の電源遮断時のストレージ・ノードS1,S2の電位
(ハイまたはロー)に対応して、向きの異なる残留電荷
が蓄えられている。図16に示すように、電源投入時の
初期においては各ストレージ・ノードS1,S2の電位
はゼロである。そして、SRAMセル駆動電圧PWRが
上昇していくと、pチャネルトランジスタ41,42が
オン状態となり、電流が流れ始める。それによって、ス
トレージ・ノードS1,S2の電位が上昇していくが、
強誘電体キャパシタ47,48の残留電荷の向きにより
ストレージ・ノードS1の電位とストレージ・ノードS
2の電位は徐々に異なっていく。
As shown in FIG. 15, before the power is turned on, the pair of ferroelectric capacitors 47 and 48 correspond to the potentials (high or low) of the storage nodes S1 and S2 at the time of the previous power shutdown. As a result, residual charges having different directions are stored. As shown in FIG. 16, the potentials of the storage nodes S1 and S2 are zero at the initial stage when the power is turned on. Then, as the SRAM cell drive voltage PWR rises, the p-channel transistors 41 and 42 are turned on and current starts to flow. As a result, the potentials of the storage nodes S1 and S2 rise,
Depending on the direction of the residual charges of the ferroelectric capacitors 47 and 48, the potential of the storage node S1 and the storage node S
The potential of 2 gradually changes.

【0055】たとえば、前回の電源遮断時にストレージ
・ノードS1の電位がハイであり、ストレージ・ノード
S2の電位がローであったとする。この場合、電源を再
投入すると、ストレージ・ノードS1に接続された強誘
電体キャパシタ47にかかる電位は同じ向きなので、こ
の強誘電体キャパシタ47の等価容量は、ストレージ・
ノードS2に接続されたもう一方の強誘電体キャパシタ
48よりも小さくなる。したがって、ストレージ・ノー
ドS1の電位はストレージ・ノードS2の電位よりも速
く上昇する。
For example, assume that the potential of storage node S1 was high and the potential of storage node S2 was low at the previous power-off time. In this case, when the power is turned on again, the potential applied to the ferroelectric capacitor 47 connected to the storage node S1 is in the same direction, so the equivalent capacitance of this ferroelectric capacitor 47 is
It is smaller than the other ferroelectric capacitor 48 connected to the node S2. Therefore, the potential of storage node S1 rises faster than the potential of storage node S2.

【0056】そして、ストレージ・ノードS1の電位が
ストレージ・ノードS2の電位よりも先に、nチャネル
トランジスタが導通する電位に達するので、ストレージ
・ノードS2に接続されたnチャネルトランジスタ44
がオン状態となる。それによって、ストレージ・ノード
S2の電位はゼロに引き下げられ、一方、ストレージ・
ノードS1の電位はSRAMセル駆動電圧PWRとな
る。つまり、ストレージ・ノードS1,S2の電位が確
定し、強誘電体キャパシタ47,48に蓄積されていた
データが再現されたことになる。
Since the potential of the storage node S1 reaches the potential at which the n-channel transistor becomes conductive before the potential of the storage node S2, the n-channel transistor 44 connected to the storage node S2.
Turns on. Thereby, the potential of the storage node S2 is pulled down to zero, while the storage node S2
The potential of the node S1 becomes the SRAM cell drive voltage PWR. That is, the potentials of the storage nodes S1 and S2 are determined, and the data stored in the ferroelectric capacitors 47 and 48 are reproduced.

【0057】しかし、pチャネルトランジスタ41,4
2のしきい値にばらつきがあると、ストレージ・ノード
S1,S2の電位の上昇パターンが反対となり、強誘電
体キャパシタ47,48に蓄積されたデータが正確に再
現されなくなってしまう。これを防ぐため、実施の形態
2にかかる強誘電体SRAMセルでは、従来nチャネル
トランジスタ43,44の1.5〜2倍の大きさであっ
たpチャネルトランジスタ41,42のサイズを変更
し、nチャネルトランジスタ43,44のサイズと同じ
か、それよりも小さくする。このようなサイズ比を有す
る強誘電体SRAMセルは、従来のSRAMプロセスに
より容易に製造される。
However, the p-channel transistors 41 and 4
If the threshold value of 2 varies, the rising patterns of the potentials of the storage nodes S1 and S2 become opposite, and the data stored in the ferroelectric capacitors 47 and 48 cannot be accurately reproduced. In order to prevent this, in the ferroelectric SRAM cell according to the second embodiment, the size of the p-channel transistors 41 and 42, which is 1.5 to 2 times the size of the conventional n-channel transistors 43 and 44, is changed, The size is the same as or smaller than the size of the n-channel transistors 43 and 44. A ferroelectric SRAM cell having such a size ratio is easily manufactured by a conventional SRAM process.

【0058】図17に、nチャネルトランジスタ43,
44に対するpチャネルトランジスタ41,42のサイ
ズ比が1であるものと、1.5であるものについて、p
チャネルトランジスタ41,42のしきい値のばらつき
ΔVthを変えて、電位がハイに確定されるべき側のス
トレージ・ノードの電源投入時の電位変化をシミュレー
ションした結果を示す。図17より明らかなように、サ
イズ比が1の場合、ストレージ・ノードの電位は、ΔV
th=10mV(曲線a)ではハイとなるが、ΔVth
=12mV(曲線b)ではローとなっている。したがっ
て、pチャネルトランジスタ41,42のしきい値が1
0mV程度ばらついていても、強誘電体キャパシタ4
7,48に蓄積されたデータが正確に再現されることが
わかる。
In FIG. 17, the n-channel transistor 43,
For the case where the size ratio of the p-channel transistors 41 and 42 to 44 is 1 and the case where the size ratio is 1.5, p
The result of simulating the potential change at the time of power-on of the storage node on the side where the potential should be fixed high is shown by changing the threshold variation ΔVth of the channel transistors 41 and 42. As is clear from FIG. 17, when the size ratio is 1, the potential of the storage node is ΔV.
It becomes high at th = 10 mV (curve a), but ΔVth
= 12 mV (curve b) is low. Therefore, the threshold value of the p-channel transistors 41 and 42 is 1
Ferroelectric capacitor 4 even if it varies by about 0 mV
It can be seen that the data accumulated in 7, 48 are accurately reproduced.

【0059】それに対して、サイズ比が1.5の場合に
は、ΔVth=8mV(曲線d)ですでにストレージ・
ノードの電位はローとなってしまい、データの再現が正
確におこなわれていない。このシミュレーション結果よ
り、実施の形態2によれば、pチャネルトランジスタ4
1,42のしきい値のばらつきのマージンが大きくなる
ことがわかる。サイズ比が1よりも小さくなれば、pチ
ャネルトランジスタ41,42のしきい値のばらつきの
マージンがより大きくなることは容易に理解される。
On the other hand, when the size ratio is 1.5, ΔVth = 8 mV (curve d) is already stored.
The potential of the node becomes low, and the data is not reproduced accurately. From the simulation result, according to the second embodiment, the p-channel transistor 4
It can be seen that the margin of variation in the threshold values of 1,42 becomes large. It is easily understood that if the size ratio is smaller than 1, the margin of variation in the threshold values of the p-channel transistors 41 and 42 becomes larger.

【0060】このように実施の形態2によれば、pチャ
ネルトランジスタ41,42がnチャネルトランジスタ
43,44と同じサイズか、それよりも小さいため、電
源投入時にストレージ・ノードS1,S2の電位が上昇
するのにより時間がかかり、強誘電体キャパシタ47,
48が充分応答するようになる。それによって、ストレ
ージ・ノードS1,S2の電位差が大きくなり、pチャ
ネルトランジスタ41,42のしきい値にばらつきがあ
っても、安定して読み出し動作がおこなえるようにな
る。したがって、強誘電体キャパシタ47,48の蓄積
データが正確に再現される。
As described above, according to the second embodiment, since the p-channel transistors 41 and 42 have the same size as or smaller than the n-channel transistors 43 and 44, the potentials of the storage nodes S1 and S2 are turned on when the power is turned on. It takes longer to rise, and the ferroelectric capacitor 47,
48 becomes fully responsive. As a result, the potential difference between the storage nodes S1 and S2 becomes large, and the read operation can be stably performed even if the threshold values of the p-channel transistors 41 and 42 vary. Therefore, the data stored in the ferroelectric capacitors 47 and 48 are accurately reproduced.

【0061】(実施の形態3)図18は、実施の形態3
にかかる強誘電体SRAMセルの構成を示す回路図であ
る。図18に示すように、実施の形態3にかかる強誘電
体SRAMセルは、図3に示す強誘電体SRAMセルに
おいてpチャネルトランジスタ41,42の代わりにそ
れぞれ抵抗素子241,242を用いたものである。抵
抗素子241,242はSRAMセル部電源線51とス
トレージ・ノードS1,S2との間にそれぞれ接続され
ている。抵抗素子241,242の抵抗値は、特に限定
しないが、たとえば10kΩ程度である。その他の構成
は図3に示す構成と同じであるので、図3と同じ構成に
ついては図3と同じ符号を付して説明を省略する。実施
の形態3にかかる強誘電体SRAMセルは、従来のSR
AMプロセスにより容易に製造される。
(Third Embodiment) FIG. 18 shows a third embodiment.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a ferroelectric SRAM cell according to the present invention. As shown in FIG. 18, the ferroelectric SRAM cell according to the third embodiment uses resistance elements 241 and 242 instead of the p-channel transistors 41 and 42 in the ferroelectric SRAM cell shown in FIG. is there. The resistance elements 241 and 242 are connected between the SRAM cell part power supply line 51 and the storage nodes S1 and S2, respectively. The resistance values of the resistance elements 241 and 242 are not particularly limited, but are, for example, about 10 kΩ. Since other configurations are the same as the configurations shown in FIG. 3, the same configurations as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. The ferroelectric SRAM cell according to the third embodiment is a conventional SR cell.
It is easily manufactured by the AM process.

【0062】抵抗素子241,242の抵抗値のばらつ
きの影響について説明する。nチャネルトランジスタ4
3,44のオフ抵抗値を200kΩと見積もり、抵抗素
子241,242の抵抗値の設定値を10kΩとする
が、一方の抵抗素子242の抵抗値がばらついて8kΩ
であったと仮定する。nチャネルトランジスタ43,4
4のしきい値を0.5Vとすると、いずれかのnチャネ
ルトランジスタがオンするときのストレージ・ノードS
1,S2の電位差はつぎの計算式よりおおよそ5mVと
なる。
The influence of variations in resistance values of the resistance elements 241 and 242 will be described. n-channel transistor 4
The off-resistance value of 3,44 is estimated to be 200 kΩ, and the set value of the resistance value of the resistance elements 241 and 242 is set to 10 kΩ, but the resistance value of one resistance element 242 varies and is 8 kΩ.
Suppose that was. n-channel transistors 43, 4
Assuming that the threshold value of 4 is 0.5 V, the storage node S when one of the n-channel transistors turns on.
The potential difference between 1 and S2 is approximately 5 mV according to the following calculation formula.

【0063】0.5V×10kΩ/200kΩ−0.5
V×8kΩ/200kΩ=0.5V×2kΩ/200k
Ω=5mV
0.5 V × 10 kΩ / 200 kΩ-0.5
V × 8 kΩ / 200 kΩ = 0.5 V × 2 kΩ / 200 k
Ω = 5mV

【0064】つまり、抵抗素子241,242の抵抗値
のばらつきが20%あっても、nチャネルトランジスタ
がオンするときのストレージ・ノードS1,S2の電位
のばらつきは5mV程度にしかならず、強誘電体キャパ
シタ47,48からのデータの読み出しは正常におこな
われる。
In other words, even if the resistance values of the resistance elements 241 and 242 have a variation of 20%, the potential variation of the storage nodes S1 and S2 when the n-channel transistor is turned on is only about 5 mV, and the ferroelectric capacitor. Data reading from 47 and 48 is normally performed.

【0065】図19に、電位がハイに確定されるべき側
のストレージ・ノードに接続された抵抗素子の抵抗値R
(設定値:10kΩ)を変えて、電位がハイに確定され
るべき側のストレージ・ノードの電源投入時の電位変化
をシミュレーションした結果を示す。図19より明らか
なように、電源投入の初期においては、ストレージ・ノ
ードS1,S2の電位はSRAMセル駆動電圧PWRの
上昇とほぼ同じように上昇する。そして、抵抗値Rが1
0kΩ(曲線e)、9kΩ(曲線f)および8kΩ(曲
線g)の場合にはストレージ・ノードの電位はハイとな
る。それに対して、抵抗値Rが7kΩ(曲線h)、6k
Ω(曲線i)および5kΩ(曲線j)ではローとなって
いる。このシミュレーション結果からも、抵抗素子24
1,242の抵抗値が20%程度ばらついていても、強
誘電体キャパシタ47,48に蓄積されたデータが正確
に再現されることがわかる。
FIG. 19 shows the resistance value R of the resistance element connected to the storage node on the side where the potential should be determined to be high.
The result of simulating the potential change at the time of power-on of the storage node on the side where the potential should be fixed high is shown by changing (setting value: 10 kΩ). As is apparent from FIG. 19, in the initial stage of power-on, the potentials of the storage nodes S1 and S2 rise almost in the same manner as the rise of the SRAM cell drive voltage PWR. And the resistance value R is 1
For 0 kΩ (curve e), 9 kΩ (curve f) and 8 kΩ (curve g), the storage node potential is high. On the other hand, the resistance value R is 7 kΩ (curve h), 6 k
It is low for Ω (curve i) and 5 kΩ (curve j). Also from this simulation result, the resistance element 24
It can be seen that the data stored in the ferroelectric capacitors 47 and 48 can be accurately reproduced even if the resistance values of 1 and 242 vary by about 20%.

【0066】このように実施の形態3によれば、強誘電
体SRAMセルを構成する一対のインバータが抵抗素子
241,242とnチャネルトランジスタ43,44で
構成されているため、一方の抵抗素子241の抵抗値が
他方の抵抗素子242の抵抗値に対して20%程度異な
っていても、電源投入時にストレージ・ノードS1,S
2の電位変化に及ぼす影響は小さいので、安定して読み
出し動作がおこなえるようになる。したがって、強誘電
体キャパシタ47,48の蓄積データが正確に再現され
る。
As described above, according to the third embodiment, since the pair of inverters forming the ferroelectric SRAM cell are composed of the resistance elements 241, 242 and the n-channel transistors 43, 44, one resistance element 241 is formed. Even if the resistance value of the storage element S1 differs from the resistance value of the other resistance element 242 by about 20%, the storage nodes S1, S
Since the influence of 2 on the potential change is small, the reading operation can be stably performed. Therefore, the data stored in the ferroelectric capacitors 47 and 48 are accurately reproduced.

【0067】(実施の形態4)図20は、実施の形態4
にかかる強誘電体SRAMセルのデータ再現方法におけ
る各制御信号およびストレージ・ノードS1,S2の電
位の変化を示す波形図である。強誘電体SRAMセルの
構成は図3または図18に示す構成と同じである。図2
0に示すように、電源投入時に、ビット信号線52,5
3をハイレベルにプリチャージした後、ワード線制御信
号WLを短時間だけハイレベルとしてスイッチとなるア
クセス・トランジスタ45,46を短時間(数ナノ秒)
だけオンさせ、そこからSRAMセル駆動電圧PWRを
上昇させる。
(Fourth Embodiment) FIG. 20 shows a fourth embodiment.
FIG. 6 is a waveform diagram showing changes in respective control signals and potentials of storage nodes S1 and S2 in the data reproducing method of the ferroelectric SRAM cell according to the first embodiment. The structure of the ferroelectric SRAM cell is the same as that shown in FIG. 3 or FIG. Figure 2
As shown in 0, when the power is turned on, the bit signal lines 52, 5
After precharging 3 to the high level, the word line control signal WL is set to the high level for a short time, and the access transistors 45 and 46 serving as switches are short time (several nanoseconds).
Only, and the SRAM cell drive voltage PWR is increased from there.

【0068】このようにすると、ストレージ・ノードS
1,S2に電荷が注入されるので、ストレージ・ノード
S1,S2の電位が少し上昇した状態でSRAMセル駆
動電圧PWRが上昇することになる。それによって、図
21に強誘電体キャパシタのヒステリシス曲線および動
作点を示すように、図15と比較して、強誘電体キャパ
シタ47,48の等価容量(動作点における傾き)の差
が大きくなる方向に、強誘電体キャパシタ47,48の
動作点が変更される。したがって、実施の形態4によれ
ば、ストレージ・ノードS1,S2間の電位差が大きく
なり、安定して読み出し動作がおこなえるようになり、
強誘電体キャパシタ47,48の蓄積データが正確に再
現される。
In this way, the storage node S
Since charges are injected into the storage cells S1 and S2, the SRAM cell drive voltage PWR rises with the potentials of the storage nodes S1 and S2 slightly raised. As a result, as shown in the hysteresis curve and operating point of the ferroelectric capacitor in FIG. 21, the difference between the equivalent capacitances (slopes at the operating point) of the ferroelectric capacitors 47 and 48 is larger than that in FIG. Then, the operating points of the ferroelectric capacitors 47 and 48 are changed. Therefore, according to the fourth embodiment, the potential difference between the storage nodes S1 and S2 becomes large, and stable read operation can be performed.
Accumulated data in the ferroelectric capacitors 47 and 48 are accurately reproduced.

【0069】以上において本発明は、上述した各実施の
形態に限らず、種々変更可能である。たとえば、電源供
給回路や電源電圧検出回路は図4または図5に示す構成
に限らない。また、実施の形態中で挙げたクロックや抵
抗値や容量値などは一例であり、本発明はこれらに限定
されない。また、実施の形態2または3にかかる強誘電
体SRAMセルはプログラマブル論理デバイスに限ら
ず、ICカードやメモリカードなどの不揮発性メモリと
しても使用可能である。また、実施の形態4にかかる強
誘電体SRAMセルのデータ再現方法は、プログラマブ
ル論理デバイスを構成する強誘電体SRAMセルに限ら
ず、ICカードやメモリカードなどの不揮発性メモリと
して使用される強誘電体SRAMセルにも適用可能であ
る。
In the above, the present invention is not limited to the above-mentioned respective embodiments, but can be variously modified. For example, the power supply circuit and the power supply voltage detection circuit are not limited to the configuration shown in FIG. 4 or 5. Further, the clocks, resistance values, capacitance values, and the like mentioned in the embodiments are examples, and the present invention is not limited to these. The ferroelectric SRAM cell according to the second or third embodiment can be used not only as a programmable logic device but also as a nonvolatile memory such as an IC card or a memory card. Further, the data reproducing method of the ferroelectric SRAM cell according to the fourth embodiment is not limited to the ferroelectric SRAM cell forming the programmable logic device, but may be used as a nonvolatile memory such as an IC card or a memory card. It is also applicable to body SRAM cells.

【0070】[0070]

【発明の効果】本発明によれば、強誘電体SRAMセル
を用いたプログラマブル論理デバイスにおいて、電源の
投入時に、外部から供給された電源電圧が、強誘電体キ
ャパシタの特性に応じた時定数で遅れたSRAMセル駆
動電圧としてコンフィギュレーション・メモリに供給さ
れるため、電源投入時に強誘電体キャパシタの蓄積デー
タを正確に再現することができる。
According to the present invention, in a programmable logic device using a ferroelectric SRAM cell, when a power is turned on, a power supply voltage supplied from the outside has a time constant corresponding to the characteristics of the ferroelectric capacitor. Since the delayed SRAM cell drive voltage is supplied to the configuration memory, the data stored in the ferroelectric capacitor can be accurately reproduced when the power is turned on.

【0071】また、本発明によれば、外部から供給され
た電源電圧の降下が検出されると、強誘電体SRAMセ
ルにSRAMセル駆動電圧がフルに印加された後に電源
が遮断されるため、強誘電体SRAMセルの蓄積データ
の短期的および長期的な信頼性をより高めることができ
る。
Further, according to the present invention, when the drop of the power supply voltage supplied from the outside is detected, the power is cut off after the SRAM cell drive voltage is fully applied to the ferroelectric SRAM cell. It is possible to further improve the short-term and long-term reliability of the accumulated data of the ferroelectric SRAM cell.

【0072】また、本発明によれば、コンフィギュレー
ション情報の書き込み前であれば、論理ブロックの出力
が強制的にディスエーブルされ、書き込み後であれば、
論理ブロックの出力はイネーブルされるため、一旦コン
フィギュレーション情報が書き込まれてしまえば、電源
投入後の論理動作を迅速に開始することができる。
Further, according to the present invention, the output of the logic block is forcibly disabled before the writing of the configuration information, and after the writing of the configuration information.
Since the output of the logic block is enabled, once the configuration information is written, the logic operation after power-on can be started quickly.

【0073】また、本発明によれば、強誘電体SRAM
セルにおいて、電源投入時に強誘電体キャパシタの蓄積
データを正確に再現することができる。
Further, according to the present invention, a ferroelectric SRAM
In the cell, the data stored in the ferroelectric capacitor can be accurately reproduced when the power is turned on.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスの要部の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a main part of a programmable logic device according to a first exemplary embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスを構成するコンフィギュレーション・メモ
リの一例を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing an example of a configuration memory configuring the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスを構成する強誘電体SRAMセルの一例を
示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a ferroelectric SRAM cell that constitutes the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスを構成する電源供給回路の一例を示す回路
図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a power supply circuit that constitutes the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスを構成する電源電圧検出回路の一例を示す
回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a power supply voltage detection circuit configuring the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスを構成するルック・アップ・テーブルの一
例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a look-up table forming the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスを構成するプログラマブル配線について説
明するための模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a programmable wiring forming the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスを構成するプログラマブル配線の構成を説
明するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining a configuration of programmable wirings that configure the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブル
論理デバイスを構成する強誘電体SRAMセルの基本動
作時の各制御信号の状態を示す図表である。
FIG. 9 is a table showing states of respective control signals at the time of basic operation of the ferroelectric SRAM cell forming the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブ
ル論理デバイスを構成する強誘電体SRAMセルの電源
立ち上げ時の制御シーケンスの一例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a control sequence at power-on of the ferroelectric SRAM cell that constitutes the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブ
ル論理デバイスを構成する強誘電体SRAMセルの電源
立ち上げ前の各制御信号の状態を示す図表である。
FIG. 11 is a table showing states of respective control signals before power-on of a ferroelectric SRAM cell forming the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブ
ル論理デバイスの電源遮断時の制御シーケンスの一例を
示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing an example of a control sequence when the programmable logic device according to the first embodiment of the present invention is powered off.

【図13】本発明の実施の形態1にかかるプログラマブ
ル論理デバイスの電源遮断時の各制御信号の状態を示す
図表である。
FIG. 13 is a table showing states of respective control signals at the time of power-off of the programmable logic device according to the first exemplary embodiment of the present invention.

【図14】一般的なプログラマブル配線の構成を説明す
るための図である。
FIG. 14 is a diagram for explaining the configuration of a general programmable wiring.

【図15】電源投入と同時に強誘電体SRAMセルに駆
動電圧を供給した場合の強誘電体キャパシタのヒステリ
シス曲線および動作点を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a hysteresis curve and an operating point of a ferroelectric capacitor when a drive voltage is supplied to a ferroelectric SRAM cell at the same time when power is turned on.

【図16】電源投入と同時に強誘電体SRAMセルに駆
動電圧を供給した場合のSRAMセル駆動電圧PWRお
よびストレージ・ノードS1,S2の電位変化のシミュ
レーション結果を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a simulation result of potential changes of the SRAM cell drive voltage PWR and the storage nodes S1 and S2 when the drive voltage is supplied to the ferroelectric SRAM cell at the same time when power is turned on.

【図17】本発明の実施の形態2にかかる強誘電体SR
AMセル(サイズ比1)と一般的な強誘電体SRAMセ
ル(サイズ比1.5)とについて、pチャネルトランジ
スタのしきい値のばらつきと、電位がハイに確定される
べき側のストレージ・ノードの電源投入時の電位変化と
の関係をシミュレーションした結果を示す図である。
FIG. 17 is a ferroelectric substance SR according to a second embodiment of the invention.
For an AM cell (size ratio 1) and a general ferroelectric SRAM cell (size ratio 1.5), variations in the threshold value of the p-channel transistor and the storage node on the side where the potential should be determined to be high It is a figure which shows the result of having simulated the relationship with the electric potential change at the time of power-on.

【図18】本発明の実施の形態3にかかる強誘電体SR
AMセルの構成を示す回路図である。
FIG. 18 is a ferroelectric substance SR according to a third embodiment of the invention.
It is a circuit diagram which shows the structure of an AM cell.

【図19】本発明の実施の形態3にかかる強誘電体SR
AMセルにおいて、電位がハイに確定されるべき側のス
トレージ・ノードに接続された抵抗素子の抵抗値と、そ
のストレージ・ノードの電源投入時の電位変化との関係
をシミュレーションした結果を示す図である。
FIG. 19 is a ferroelectric substance SR according to a third embodiment of the invention.
FIG. 3 is a diagram showing a result of simulating the relationship between the resistance value of the resistance element connected to the storage node on the side where the potential should be determined to be high in the AM cell and the potential change when the storage node is powered on. is there.

【図20】本発明の実施の形態4にかかる強誘電体SR
AMセルのデータ再現方法における各制御信号およびス
トレージ・ノードS1,S2の電位の変化を示す波形図
である。
FIG. 20 is a ferroelectric substance SR according to the fourth embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a waveform diagram showing changes in respective control signals and potentials of storage nodes S1 and S2 in the method of reproducing data in the AM cell.

【図21】本発明の実施の形態4にかかる強誘電体SR
AMセルのデータ再現方法における電源投入時の強誘電
体キャパシタのヒステリシス曲線および動作点を示す図
である。
FIG. 21 is a ferroelectric substance SR according to a fourth embodiment of the invention.
It is a figure which shows the hysteresis curve and operating point of the ferroelectric capacitor at the time of power-on in the data reproduction method of AM cell.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

PWR SRAMセル駆動電圧 S1,S2 出力ノード(ストレージ・ノード) Vdd 電源電圧 21 電源供給回路、電源電圧検出回路(電源電圧検出
・供給回路) 22 強誘電体SRAMセル制御回路 26 平滑容量 41,42 pチャネルトランジスタ 43,44 nチャネルトランジスタ 45,46 スイッチ(アクセス・トランジスタ) 47,48 強誘電体キャパシタ 51 電源線(SRAMセル部電源線) 52,53 ビット信号線 61 オペアンプ 63 キャパシタ 64,241,242 抵抗素子
PWR SRAM cell drive voltage S1, S2 Output node (storage node) Vdd power supply voltage 21 power supply circuit, power supply voltage detection circuit (power supply voltage detection / supply circuit) 22 ferroelectric SRAM cell control circuit 26 smoothing capacitance 41, 42 p Channel transistor 43, 44 n-channel transistor 45, 46 Switch (access transistor) 47, 48 Ferroelectric capacitor 51 Power supply line (SRAM cell part power supply line) 52, 53 Bit signal line 61 Operational amplifier 63 Capacitor 64, 241, 242 Resistance element

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B015 HH05 JJ11 KA10 KA33 KB74 QQ17 QQ18 5J042 BA10 BA11 CA08 CA20 DA03   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 5B015 HH05 JJ11 KA10 KA33 KB74                       QQ17 QQ18                 5J042 BA10 BA11 CA08 CA20 DA03

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 SRAM型メモリ・セルに強誘電体キャ
パシタが接続され、該強誘電体キャパシタの誘電分極を
利用して電源の遮断後もデータを保持するメモリ・セル
を有し、前記SRAM型メモリ・セルに蓄積されたデー
タに応じて論理状態が決まるプログラマブル論理デバイ
スであって、 電源の投入時に、外部から供給された電源電圧を、前記
強誘電体キャパシタの特性に応じた時定数で遅らせて前
記SRAM型メモリ・セルに供給する電源供給回路を具
備することを特徴とするプログラマブル論理デバイス。
1. A SRAM type memory cell, to which a ferroelectric capacitor is connected, wherein the ferroelectric type capacitor has a memory cell which retains data even after power-off by utilizing dielectric polarization of the ferroelectric type capacitor. A programmable logic device whose logic state is determined according to the data stored in a memory cell, wherein the power supply voltage supplied from the outside is delayed with a time constant according to the characteristics of the ferroelectric capacitor when the power is turned on. A programmable logic device comprising a power supply circuit for supplying the SRAM type memory cell.
【請求項2】 SRAM型メモリ・セルに強誘電体キャ
パシタが接続され、該強誘電体キャパシタの誘電分極を
利用して電源の遮断後もデータを保持するメモリ・セル
を有し、前記SRAM型メモリ・セルに蓄積されたデー
タに応じて論理状態が決まるプログラマブル論理デバイ
スであって、 電源の遮断時に、前記SRAM型メモリ・セルに供給さ
れているSRAMセル駆動電圧が降下する前に、外部か
ら供給された電源電圧の降下を検出する電源電圧検出回
路と、 外部から供給された電源電圧の降下を検出した後に、前
記強誘電体SRAMセルにSRAMセル駆動電圧をフル
に印加する強誘電体SRAMセル制御回路と、 を具備することを特徴とするプログラマブル論理デバイ
ス。
2. A SRAM type memory cell, to which a ferroelectric capacitor is connected, has a memory cell which retains data even after power-off by utilizing dielectric polarization of the ferroelectric type capacitor. A programmable logic device whose logic state is determined according to the data stored in a memory cell, which is externally applied to the SRAM type memory cell before the SRAM cell drive voltage drops when the power is turned off. A power supply voltage detection circuit that detects a drop in the supplied power supply voltage, and a ferroelectric SRAM that applies a full SRAM cell drive voltage to the ferroelectric SRAM cell after detecting a drop in the power supply voltage supplied from the outside. A programmable logic device comprising: a cell control circuit.
【請求項3】 SRAM型メモリ・セルに強誘電体キャ
パシタが接続され、該強誘電体キャパシタの誘電分極を
利用して電源の遮断後もデータを保持するメモリ・セル
を有し、前記SRAM型メモリ・セルに蓄積されたデー
タに応じて論理状態が決まるプログラマブル論理デバイ
スであって、 強誘電体キャパシタを有し、該強誘電体キャパシタの誘
電分極を利用して電源の遮断後もデータを保持可能で、
論理状態を決めるデータを書き込み済みであるか否かの
情報を保持するメモリと、 前記メモリに保持された情報に基づいて、論理状態を決
める前記データが書き込み前である場合には当該プログ
ラマブル論理デバイスにおける論理ブロックの出力が強
制的にディスエーブルされ、書き込み済みである場合に
は前記論理ブロックの出力がイネーブルされるプログラ
マブル配線と、 を具備することを特徴とするプログラマブル論理デバイ
ス。
3. A SRAM type memory cell to which a ferroelectric capacitor is connected and which has a memory cell which retains data even after the power is cut off by utilizing the dielectric polarization of the ferroelectric type capacitor. A programmable logic device whose logic state is determined according to the data stored in a memory cell, which has a ferroelectric capacitor and retains the data even after the power is cut off by using the dielectric polarization of the ferroelectric capacitor. Possible,
A memory that retains information as to whether or not data that determines a logical state has been written, and based on the information that is retained in the memory, the programmable logic device if the data that determines a logical state is not yet written. And a programmable wiring in which the output of the logic block is forcibly disabled and the output of the logic block is enabled when it has been written, and the programmable logic device.
【請求項4】 SRAM型メモリ・セルに強誘電体キャ
パシタが接続され、該強誘電体キャパシタの誘電分極を
利用して電源の遮断後もデータを保持するメモリ・セル
を有し、前記SRAM型メモリ・セルに蓄積されたデー
タに応じて論理状態が決まるプログラマブル論理デバイ
スであって、 電源の投入時に、外部から供給された電源電圧を、前記
強誘電体キャパシタの特性に応じた時定数で遅らせて前
記SRAM型メモリ・セルに供給する電源供給回路と、 電源の遮断時に、前記SRAM型メモリ・セルに供給さ
れているSRAMセル駆動電圧が降下する前に、外部か
ら供給された電源電圧の降下を検出する電源電圧検出回
路と、 外部から供給された電源電圧の降下を検出した後に、前
記強誘電体SRAMセルにSRAMセル駆動電圧をフル
に印加する強誘電体SRAMセル制御回路と、 強誘電体キャパシタを有し、該強誘電体キャパシタの誘
電分極を利用して電源の遮断後もデータを保持可能で、
論理状態を決めるデータを書き込み済みであるか否かの
情報を保持するメモリと、 前記メモリに保持された情報に基づいて、論理状態を決
める前記データが書き込み前である場合には当該プログ
ラマブル論理デバイスにおける論理ブロックの出力が強
制的にディスエーブルされ、書き込み済みである場合に
は前記論理ブロックの出力がイネーブルされるプログラ
マブル配線と、 を具備することを特徴とするプログラマブル論理デバイ
ス。
4. A SRAM type memory cell to which a ferroelectric capacitor is connected and which has a memory cell which retains data even after power-off by utilizing the dielectric polarization of the ferroelectric type capacitor. A programmable logic device whose logic state is determined according to the data stored in a memory cell, wherein the power supply voltage supplied from the outside is delayed with a time constant according to the characteristics of the ferroelectric capacitor when the power is turned on. And a power supply circuit for supplying power to the SRAM type memory cell, and a power supply voltage supplied from the outside before the SRAM cell drive voltage supplied to the SRAM type memory cell drops when the power is cut off. After detecting a drop in the power supply voltage supplied from the outside, a SRAM cell drive voltage is applied to the ferroelectric SRAM cell. It has a ferroelectric SRAM cell control circuit to be applied to the memory and a ferroelectric capacitor, and can use the dielectric polarization of the ferroelectric capacitor to retain data even after the power is cut off.
A memory that retains information as to whether or not data that determines a logical state has been written, and based on the information that is retained in the memory, the programmable logic device if the data that determines a logical state is not yet written. And a programmable wiring in which the output of the logic block is forcibly disabled and the output of the logic block is enabled when it has been written, and the programmable logic device.
【請求項5】 前記電源供給回路は、外部から供給され
た電源電圧を入力とし、前記強誘電体SRAMセルにS
RAMセル駆動電圧を出力するオペアンプと、前記オペ
アンプの入力側に接続された抵抗素子およびキャパシタ
よりなるCR回路とから構成されていることを特徴とす
る請求項1または4に記載のプログラマブル論理デバイ
ス。
5. The power supply circuit receives the power supply voltage supplied from the outside as an input, and outputs S to the ferroelectric SRAM cell.
5. The programmable logic device according to claim 1, comprising an operational amplifier that outputs a RAM cell drive voltage, and a CR circuit that is connected to the input side of the operational amplifier and that includes a resistance element and a capacitor.
【請求項6】 外部から供給される電源電圧の供給経路
として、前記SRAM型メモリ・セルにSRAMセル駆
動電圧を供給するための経路、および前記電源電圧検出
回路にて電源電圧の降下を検出するための経路の2経路
があり、SRAMセル駆動電圧を供給する側の経路にの
み平滑容量が接続されていることを特徴とする請求項2
または4に記載のプログラマブル論理デバイス。
6. A path for supplying an SRAM cell drive voltage to the SRAM type memory cell as a supply path of an externally supplied power supply voltage, and a power supply voltage drop is detected by the power supply voltage detection circuit. 3. The smoothing capacitor is connected only to the path on the side that supplies the SRAM cell drive voltage.
Alternatively, the programmable logic device described in 4 above.
【請求項7】 一方の出力が他方の入力となるように接
続された一対のインバータの出力ノードにそれぞれ1個
ずつ強誘電体キャパシタが接続され、前記強誘電体キャ
パシタの誘電分極を利用して電源の遮断後もデータを保
持する不揮発性メモリであって、 前記インバータは、nチャネルトランジスタと、該nチ
ャネルトランジスタのドレイン端子と電源線との間に接
続された抵抗素子とにより構成されていることを特徴と
する不揮発性メモリ。
7. A ferroelectric capacitor is connected to each of the output nodes of a pair of inverters connected so that one output becomes the other input, and the dielectric polarization of the ferroelectric capacitor is utilized. A non-volatile memory that retains data even after power-off, wherein the inverter includes an n-channel transistor and a resistance element connected between a drain terminal of the n-channel transistor and a power supply line. A non-volatile memory characterized by the above.
【請求項8】 一方の出力が他方の入力となるように接
続された一対のインバータの出力ノードにそれぞれ1個
ずつ強誘電体キャパシタが接続され、前記強誘電体キャ
パシタの誘電分極を利用して電源の遮断後もデータを保
持する不揮発性メモリであって、 前記インバータは、それぞれドレイン端子が前記出力ノ
ードに接続されたpチャネルトランジスタおよびnチャ
ネルトランジスタにより構成され、前記pチャネルトラ
ンジスタのサイズは前記nチャネルトランジスタのサイ
ズと同じかまたは前記nチャネルトランジスタのサイズ
よりも小さいことを特徴とする不揮発性メモリ。
8. A ferroelectric capacitor is connected to each of the output nodes of a pair of inverters connected so that one output becomes the other input, and the dielectric polarization of the ferroelectric capacitor is utilized. A non-volatile memory that retains data even after power-off, wherein the inverter is composed of a p-channel transistor and an n-channel transistor whose drain terminals are connected to the output node, and the size of the p-channel transistor is the above-mentioned. A nonvolatile memory having the same size as the n-channel transistor or smaller than the size of the n-channel transistor.
【請求項9】 一方の出力が他方の入力となるように接
続された一対のインバータの出力ノードにそれぞれ1個
ずつ強誘電体キャパシタが接続され、前記強誘電体キャ
パシタの誘電分極を利用して電源の遮断後もデータを保
持する不揮発性メモリの電源投入時に、前記各出力ノー
ドにそれぞれスイッチを介して接続された一対のビット
信号線をプリチャージした後、前記スイッチを短時間オ
ンさせることを特徴とする不揮発性メモリのデータ再現
方法。
9. One ferroelectric capacitor is connected to each output node of a pair of inverters connected so that one output becomes the other input, and the dielectric polarization of the ferroelectric capacitor is utilized. When the nonvolatile memory that retains data even after the power is turned off is turned on, a pair of bit signal lines connected to the output nodes via the switches are precharged, and then the switches are turned on for a short time. Characteristic non-volatile memory data reproduction method.
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