JP2003255365A - Substrate for liquid crystal panel, its manufacturing method, liquid crystal display panel and electronic equipment - Google Patents

Substrate for liquid crystal panel, its manufacturing method, liquid crystal display panel and electronic equipment

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JP2003255365A
JP2003255365A JP2002333828A JP2002333828A JP2003255365A JP 2003255365 A JP2003255365 A JP 2003255365A JP 2002333828 A JP2002333828 A JP 2002333828A JP 2002333828 A JP2002333828 A JP 2002333828A JP 2003255365 A JP2003255365 A JP 2003255365A
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JP
Japan
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layer
light
thickness
liquid crystal
shielding region
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2002333828A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keiji Takizawa
圭二 瀧澤
Yorihiro Odagiri
頼広 小田切
Tomoyuki Nakano
智之 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent irregularity of display, etc., by securing uniformity of cells in a peripheral breaking part and an image display part inside it. <P>SOLUTION: A first light shielding area that regulates a display area is arranged on a light transmission substrate, a cell thickness adjustment layer is provided on the substrate and a second light shielding area that regulates boundaries of a plurality of pixel areas is arranged on the cell thickness adjustment layer in the display area. The thickness of the cell thickness adjustment layer is determined so that thickness of the whole of the second light shielding area does not become less than thickness of the whole of the first light shielding area. Since the second light shielding area such as a black matrix is extremely thin in comparison with the first light shielding area such as the peripheral breaking parts, it is difficult to form the respective layers as thickness as designed values in the case of laminating a plurality of layers and the layer thickness of the second light shielding area tends to become thinner. Gaps of cells are uniformized over the entire display area and the irregularity of display, etc., can be prevented by raising the bottoms of the respective layers of the second light shielding area by providing the cell thickness adjustment layer and making the entire thickness as approximately equal to the thickness of the whole of the first light shielding area. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半透過反射型液晶
表示装置に関し、特に液晶表示パネルのセル厚を均一に
するカラーフィルタ構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transflective liquid crystal display device, and more particularly to a color filter structure for making a cell thickness of a liquid crystal display panel uniform.

【0002】[0002]

【背景技術】従来から、外光を利用した反射型表示と、
バックライトなどの照明光を利用した透過型表示とのい
ずれをも視認可能とした半透過反射型の液晶表示パネル
が知られている。この半透過反射型の液晶表示パネル
は、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有
し、バックライトからの照明光がこの反射層を透過する
ことができるように構成したものである。この種の反射
層としては、例えば液晶表示パネルの画素毎に所定割合
の開口部(スリット)を備えたパターンを持つものがあ
る。
BACKGROUND ART Conventionally, a reflective display utilizing external light,
BACKGROUND ART A transflective liquid crystal display panel is known that allows any of a transmissive display using illumination light such as a backlight to be visually recognized. This semi-transmissive reflective liquid crystal display panel has a reflective layer for reflecting external light inside the panel, and is configured so that illumination light from a backlight can pass through this reflective layer. is there. As this type of reflective layer, for example, there is one having a pattern having openings (slits) of a predetermined ratio for each pixel of the liquid crystal display panel.

【0003】そのような液晶表示パネルは、携帯電話、
携帯型情報端末などの電子機器に設置される場合、その
背後にバックライトが配置された状態で取り付けられ
る。この液晶表示パネルでは、昼間や屋内などの明るい
場所では外光が液晶を透過した後に反射層により反射さ
れ、再び液晶を透過して放出されることにより反射型表
示がなされる。一方、夜間や野外などの暗い場所では、
バックライトを点灯させることにより、バックライトか
ら出射される照明光のうち、反射層に設けられた開口部
を通過した光が液晶表示パネルを通過して放出され、透
過型表示がなされる。
Such a liquid crystal display panel is used in a mobile phone,
When installed in an electronic device such as a portable information terminal, the backlight is installed behind it. In this liquid crystal display panel, in a bright place such as daytime or indoors, external light passes through the liquid crystal, is then reflected by the reflective layer, and is again transmitted through the liquid crystal to be emitted, thereby performing a reflective display. On the other hand, in dark places such as at night or outdoors,
By turning on the backlight, of the illumination light emitted from the backlight, the light that has passed through the opening provided in the reflective layer is emitted through the liquid crystal display panel, and transmissive display is performed.

【0004】上述の液晶表示パネルには、画像表示領域
の外縁を規定する周辺見切り又は額縁と呼ばれる遮光領
域が形成される。具体的には、液晶表示パネルを構成す
る2枚の対向基板上で画像表示領域の外縁に相当する位
置に略矩形の遮光パターンが形成される(以下、「周辺
見切り」と呼ぶ。)。周辺見切りはカラーフィルタ内に
形成されるブラックマトリクスと同様に、R(赤)、G
(緑)、B(青)の3色の着色層を重ねて形成すること
ができる。
In the above-mentioned liquid crystal display panel, a light-shielding area called a peripheral partition or a frame which defines the outer edge of the image display area is formed. Specifically, a substantially rectangular light-shielding pattern is formed at a position corresponding to the outer edge of the image display area on the two opposing substrates forming the liquid crystal display panel (hereinafter, referred to as “peripheral parting”). The peripheral parting is R (red), G, like the black matrix formed in the color filter.
The colored layers of three colors (green) and B (blue) can be stacked and formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、R、G、Bの
着色層の重ね塗りにより周辺見切りとブラックマトリク
スを形成した場合、周辺見切り部分と、画像表示領域内
のブラックマトリクス部分との間で、層厚に相違が生じ
るという問題がある。周辺見切り部分は、例えば携帯電
話などに用いられる液晶表示パネルの平面において約3
〜4mmの幅を有するように形成されるのに対し、画像
表示領域内のブラックマトリクスは隣接する画素間に形
成されるものであり、10μm程度の幅しかない。よっ
て、前述のように周辺見切り及びブラックマトリクスを
RGB3色の着色層の積層により形成する場合、周辺見
切り部分は幅が比較的大きいので各着色層が設計値通り
の厚さに形成しやすいのに対し、ブラックマトリクス部
分は周辺見切りに比べて幅が非常に小さいため、RGB
の着色層をそれぞれ設計値通りの厚さに形成することが
難しい。そのため、積層したRGBの着色層のうち、上
方に位置する着色層ほど薄く形成される傾向がある。そ
の結果、同一工程で同一の厚さに渡って各色の着色層を
形成する工程を実行した場合、周辺見切り部分はほぼ設
計値通りの厚さの着色層が形成されるのに対し、ブラッ
クマトリクス部分では着色層が設計より薄くなってしま
う。このため、周辺見切り部分に比べて、ブラックマト
リクス部分の方がカラーフィルタ層全体の層厚が薄くな
ってしまう。
However, when the peripheral parting and the black matrix are formed by overlapping coating of the R, G, and B colored layers, the part between the peripheral parting and the black matrix part in the image display area is formed. However, there is a problem that the layer thickness varies. The peripheral parting portion is about 3 in the plane of a liquid crystal display panel used for, for example, a mobile phone.
While the black matrix in the image display area is formed between adjacent pixels, the width is about 10 μm, while the black matrix is formed to have a width of ˜4 mm. Therefore, as described above, when the peripheral partition and the black matrix are formed by stacking the colored layers of three colors RGB, the peripheral partition has a relatively large width, so that each colored layer can be easily formed to the thickness as designed. On the other hand, the width of the black matrix part is much smaller than that of the peripheral partition, so RGB
It is difficult to form each of the colored layers with the thickness as designed. Therefore, among the laminated RGB colored layers, the colored layers located above the colored layers tend to be formed thinner. As a result, when the step of forming colored layers of each color over the same thickness is performed in the same step, the colored layer having a thickness almost equal to the design value is formed in the peripheral parting portion, while the black matrix is formed. In the part, the colored layer becomes thinner than designed. Therefore, the layer thickness of the entire color filter layer becomes smaller in the black matrix portion than in the peripheral parting portion.

【0006】RGBの3色の着色層の積層によりブラッ
クマトリクスを形成する場合、画像表示領域内において
は、構造上ブラックマトリクス部分の膜厚が最も大きく
なる。しかし、上述のように画像表示領域を取り囲む周
辺見切り部分がブラックマトリクス部分よりさらに大き
な膜厚を有することになるので、周辺見切り部分とその
内側の画像表示部分とのセルギャップに差が生じてしま
う。より詳細には、周辺見切り部分と比べて、画像表示
領域内のセルギャップが小さくなってしまうので、画像
表示領域内の特に周辺見切りに近い領域において、セル
ギャップの不均一に起因する表示ムラが生じてしまう。
When a black matrix is formed by laminating colored layers of three colors of RGB, the film thickness of the black matrix portion is the largest in the structure in the image display area. However, as described above, since the peripheral parting portion surrounding the image display area has a larger film thickness than the black matrix part, a difference occurs in the cell gap between the peripheral parting portion and the image display part inside thereof. . More specifically, since the cell gap in the image display area becomes smaller than that in the peripheral parting portion, display unevenness due to the nonuniformity of the cell gap is generated particularly in the area close to the peripheral parting portion in the image display area. Will occur.

【0007】本発明は、以上の点に鑑みてなされたもの
であり、周辺見切り部分とその内側の画像表示部分にお
けるセルの均一性を確保して表示ムラなどを防止するこ
とが可能な液晶パネル用基板及びその製造方法、液晶装
置並びに電子機器を提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of the above points, and a liquid crystal panel capable of preventing display unevenness by ensuring the uniformity of cells in the peripheral parting portion and the image display portion inside thereof. It is an object of the present invention to provide a substrate for a substrate, a manufacturing method thereof, a liquid crystal device, and an electronic device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の1つの観点によ
れば、液晶パネル用基板において、基板と、前記基板上
に配置され、表示領域の外縁を規定する第1の遮光領域
と、前記表示領域内において基板上に配置されたセル厚
調整層と、前記セル厚調整層上に配置され、前記表示領
域内の複数の画素領域の境界を規定する第2の遮光領域
と、を備え、前記セル厚調整層の厚さは、前記第2の遮
光領域全体の厚さが前記第1の遮光領域全体の厚さより
小さくならないように決定される。
According to one aspect of the present invention, in a liquid crystal panel substrate, the substrate, a first light-shielding region that is disposed on the substrate and defines an outer edge of a display region, and A cell thickness adjusting layer disposed on the substrate in the display region; and a second light shielding region disposed on the cell thickness adjusting layer and defining boundaries of a plurality of pixel regions in the display region, The thickness of the cell thickness adjusting layer is determined such that the total thickness of the second light-shielding region does not become smaller than the total thickness of the first light-shielding region.

【0009】上記の液晶パネル用基板は、ガラスやプラ
スチックなどの透光性基板上に複数の層を積層して構成
される。基板上には液晶表示パネルとして画像などの表
示を行う際の表示領域を規定する第1の遮光領域が配置
される。この第1の遮光領域は、周辺見切り又は額縁な
どとも呼ばれる。また、表示領域内においては、基板上
にセル厚調整層が設けられ、その上に複数の画素領域の
境界を規定する第2の遮光領域が設けられる。第2の遮
光領域は、隣接する画素の境界を規定するものであり、
ブラックマトリクスとも呼ばれる。そして、セル厚調整
層は、第2の遮光領域全体の厚さが、第1の遮光領域全
体の厚さより小さくならないように決定される。
The above liquid crystal panel substrate is constructed by laminating a plurality of layers on a transparent substrate such as glass or plastic. A first light-shielding region that defines a display region when an image or the like is displayed as a liquid crystal display panel is arranged on the substrate. This first light shielding area is also called a peripheral parting or a frame. Further, in the display area, the cell thickness adjusting layer is provided on the substrate, and the second light shielding area that defines the boundaries of the plurality of pixel areas is provided thereon. The second light-shielding region defines the boundary between adjacent pixels,
Also called black matrix. Then, the cell thickness adjustment layer is determined so that the total thickness of the second light-shielding region does not become smaller than the total thickness of the first light-shielding region.

【0010】ブラックマトリクスなどの第2の遮光領域
は、周辺見切りなどの第1の遮光領域と比べて非常に細
いので、複数の層を積層する際に設計値通りの厚さに各
層を形成することが困難であり、その結果第2の遮光領
域は設計よりも層厚が薄くなる傾向がある。そこで、セ
ル厚調整層を設けて第2の遮光領域の各層を底上げし、
全体の厚さを第1の遮光領域全体の厚さと等しいか又は
それより厚くすることにより、表示領域全体に渡ってセ
ルギャップが均一化される。これにより、セルギャップ
の不均一により生じる表示ムラなどを防止することがで
きる。
Since the second light-shielding region such as the black matrix is much thinner than the first light-shielding region such as the peripheral parting, each layer is formed to have a thickness as designed when a plurality of layers are stacked. This is difficult, and as a result, the second light-shielding region tends to have a smaller layer thickness than the design. Therefore, a cell thickness adjusting layer is provided to raise each layer in the second light-shielding region,
By making the total thickness equal to or larger than the total thickness of the first light shielding region, the cell gap is made uniform over the entire display region. As a result, it is possible to prevent display unevenness and the like caused by non-uniformity of the cell gap.

【0011】上記の液晶パネル用基板の一態様では、前
記セル厚調整層は、透明な樹脂により構成することが好
ましい。本発明を半透過反射型の液晶パネルに適用した
場合には、セル厚調整層は透過領域にも形成されること
になるため、透過光を通過させるために透明な樹脂によ
りセル厚調整層を形成することが必要となる。
In one aspect of the liquid crystal panel substrate, it is preferable that the cell thickness adjusting layer is made of a transparent resin. When the present invention is applied to a semi-transmissive reflective liquid crystal panel, the cell thickness adjusting layer is also formed in the transmissive region, and therefore the cell thickness adjusting layer is made of a transparent resin to allow the transmitted light to pass therethrough. It is necessary to form.

【0012】上記の液晶パネル用基板の他の一態様で
は、前記第1の遮光領域は赤、青、緑の各色の着色層及
びオーバーコート層の重ね合わせを含み、前記第2の遮
光領域は赤、青、緑の各色の着色層及オーバーコート層
の重ね合わせを含み、前記第1の遮光領域と前記第2の
遮光領域に含まれる赤、青、緑の着色層及びオーバーコ
ート層はそれぞれ同一の材料により構成することができ
る。これにより、第1の遮光領域と第2の遮光領域の対
応する各層を同一の方法で形成することが可能となり、
製造工程の効率化が図れる。
In another aspect of the above-described liquid crystal panel substrate, the first light-shielding region includes a superposition of colored layers of red, blue, and green and an overcoat layer, and the second light-shielding region is Including overlapping of colored layers of red, blue, and green and overcoat layers, the red, blue, and green colored layers and overcoat layers included in the first light-shielding region and the second light-shielding region are respectively It can be composed of the same material. This makes it possible to form the corresponding layers of the first light-shielding region and the second light-shielding region by the same method,
The efficiency of the manufacturing process can be improved.

【0013】上記の液晶パネル用基板のさらに他の一態
様では、前記セル厚調整層の厚さは、前記第2の遮光領
域全体の厚さが、前記第1の遮光領域に含まれる前記各
色の着色層の層厚及びオーバーコート層の層厚の合計以
上となるように決定することができる。これにより、第
1の遮光領域の各層の層厚を基準にして、セル厚調整層
の厚さを決定することができる。
In still another mode of the above-mentioned liquid crystal panel substrate, the thickness of the cell thickness adjusting layer is such that the entire thickness of the second light-shielding region is the respective colors included in the first light-shielding region. The total thickness of the colored layer and the overcoat layer can be determined to be not less than the total. Accordingly, the thickness of the cell thickness adjustment layer can be determined based on the layer thickness of each layer in the first light shielding region.

【0014】上記の液晶パネル用基板の一実施形態にお
いては、前記第2の遮光領域はさらにカラーフィルタ層
を含み、前記第1の遮光領域及び前記第2の遮光領域に
おける各色の着色層の層厚をm、第1の遮光領域及び前
記第2の遮光領域におけるオーバーコート層の層厚を
n、前記第2の遮光領域における前記カラーフィルタ層
の層厚をsとすると、前記セル厚調整層の厚さTは、
式:T=(3m+n)−(s+2m+n/2)により与
えられる。
In one embodiment of the above liquid crystal panel substrate, the second light-shielding region further includes a color filter layer, and layers of colored layers of respective colors in the first light-shielding region and the second light-shielding region. When the thickness is m, the layer thickness of the overcoat layer in the first light-shielding region and the second light-shielding region is n, and the layer thickness of the color filter layer in the second light-shielding region is s, the cell thickness adjusting layer The thickness T of
Formula: T = (3m + n)-(s + 2m + n / 2).

【0015】上記の液晶パネル用基板のさらに他の一態
様では、前記セル厚調整層は、前記オーバーコート層と
同一の透明な樹脂により形成されることが好ましい。こ
れにより、同一の製造装置及び材料を利用してセル厚調
整層とオーバーコート層を形成することができ、製造工
程の効率化が図れる。
In still another mode of the above liquid crystal panel substrate, the cell thickness adjusting layer is preferably formed of the same transparent resin as the overcoat layer. Thereby, the cell thickness adjusting layer and the overcoat layer can be formed using the same manufacturing apparatus and material, and the efficiency of the manufacturing process can be improved.

【0016】上記の液晶パネル用基板を含む液晶表示パ
ネルを構成し、さらにその液晶表示パネルを表示部とし
て備える電子機器を構成することができる。
It is possible to construct a liquid crystal display panel including the above-mentioned liquid crystal panel substrate, and to construct an electronic device further including the liquid crystal display panel as a display section.

【0017】本発明の他の観点では、液晶パネル用基板
の製造方法において、基板上に、表示領域の外縁を規定
する第1の遮光領域を形成する第1工程と、前記表示領
域内において、前記基板上にセル厚調整層を形成する第
2工程と、前記セル厚調整層上に、前記表示領域内の複
数の画素領域の境界を規定する第2の遮光領域を形成す
る第3工程と、を有し、前記セル厚調整層の厚さは、前
記第2の遮光領域全体の厚さが前記第1の遮光領域全体
の厚さより小さくならないように決定される。
According to another aspect of the present invention, in a method for manufacturing a liquid crystal panel substrate, a first step of forming a first light-shielding region that defines an outer edge of a display region on the substrate, and in the display region, A second step of forming a cell thickness adjusting layer on the substrate, and a third step of forming a second light shielding area on the cell thickness adjusting layer that defines a boundary between a plurality of pixel areas in the display area. And the thickness of the cell thickness adjusting layer is determined such that the total thickness of the second light-shielding region is not smaller than the total thickness of the first light-shielding region.

【0018】上記の製造方法により、上述の液晶パネル
用基板を製造することができる。
The substrate for liquid crystal panel described above can be manufactured by the above manufacturing method.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施の形態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】[液晶表示パネル]まず、本発明を適用し
た液晶表示パネルの実施形態について説明する。図1
に、本発明を半透過反射型の液晶表示パネルに適用した
例の断面図を示す。
[Liquid Crystal Display Panel] First, an embodiment of a liquid crystal display panel to which the present invention is applied will be described. Figure 1
FIG. 3 is a sectional view showing an example in which the present invention is applied to a transflective liquid crystal display panel.

【0021】図1において、液晶表示パネル100は、
ガラスやプラスチックなどからなる基板101と基板1
02とがシール材103を介して貼り合わせられ、内部
に液晶104が封入されてなる。また、基板102の外
面上には位相差板105及び偏光板106が順に配置さ
れ、基板101の外面上には位相差板107及び偏光板
108が順に配置される。なお、偏光板108の下方に
は、透過型表示を行う際に照明光を発するバックライト
109が配置される。
In FIG. 1, the liquid crystal display panel 100 is
Substrate 101 and substrate 1 made of glass or plastic
No. 02 and No. 02 are bonded together via a sealing material 103, and a liquid crystal 104 is sealed inside. A retardation plate 105 and a polarizing plate 106 are sequentially arranged on the outer surface of the substrate 102, and a retardation plate 107 and a polarizing plate 108 are sequentially arranged on the outer surface of the substrate 101. A backlight 109 that emits illumination light when performing transmissive display is disposed below the polarizing plate 108.

【0022】基板101は、カラーフィルタ基板10を
構成する。基板101の上に例えばアクリル樹脂などに
より透明な樹脂散乱層113が形成される。樹脂散乱層
113は、ガラスやプラスチックなどの基板表面上に例
えばアクリル樹脂などにより透光性の樹脂層を形成し、
その表面に多数の微細な凹凸構造を形成することにより
製作することができる。
The substrate 101 constitutes the color filter substrate 10. A transparent resin scattering layer 113 is formed on the substrate 101 by using, for example, acrylic resin. For the resin scattering layer 113, a translucent resin layer made of, for example, acrylic resin is formed on the surface of a substrate such as glass or plastic,
It can be manufactured by forming a large number of fine concavo-convex structures on its surface.

【0023】また、樹脂散乱層113の上には、部分的
にアルミニウム合金又は銀合金などの反射層111が形
成される。反射層111が形成される領域は、反射型表
示に利用される領域(以下、「反射領域」とも呼ぶ。)
である。これにより、反射層111の表面は、樹脂散乱
113層の凹凸構造を反映した凹凸形状となる。よっ
て、外光を利用して反射型表示を行う場合は、外光が上
記の凹凸形状により適度に散乱した状態で反射されるた
め、反射光を均一化し、広い視野角を確保することが可
能となる。
A reflective layer 111 made of an aluminum alloy, a silver alloy, or the like is partially formed on the resin scattering layer 113. The area where the reflective layer 111 is formed is an area used for reflective display (hereinafter, also referred to as “reflective area”).
Is. As a result, the surface of the reflective layer 111 has an uneven shape that reflects the uneven structure of the resin scattering 113 layer. Therefore, when performing a reflective display using external light, the external light is reflected in a state of being appropriately scattered due to the uneven shape, so that the reflected light can be made uniform and a wide viewing angle can be secured. Becomes

【0024】反射層111には所定間隔で開口117が
形成されている(図2参照)。即ち、開口117の部分
は反射層111が形成されておらず、この開口117の
領域が透過領域となる。そして、反射層111が形成さ
れている領域、即ち、開口117以外の領域が反射領域
となる。
Openings 117 are formed in the reflective layer 111 at predetermined intervals (see FIG. 2). That is, the reflective layer 111 is not formed in the portion of the opening 117, and the region of the opening 117 becomes the transmissive region. The area where the reflective layer 111 is formed, that is, the area other than the opening 117 is the reflective area.

【0025】反射領域においては反射層111の上、透
過領域においては樹脂散乱層113の上に、感光性アク
リル樹脂などによりセル厚調整層115が形成される。
セル厚調整層115は、その上に形成されるカラーフィ
ルタ層を底上げし、周辺見切り領域と画像表示領域との
間のセル厚を調整する役割を果たす。なお、セル厚調整
層115の好適な厚さについては後述する。
A cell thickness adjusting layer 115 made of a photosensitive acrylic resin or the like is formed on the reflective layer 111 in the reflective region and on the resin scattering layer 113 in the transmissive region.
The cell thickness adjusting layer 115 serves to adjust the cell thickness between the peripheral parting region and the image display region by raising the bottom of the color filter layer formed thereon. The suitable thickness of the cell thickness adjusting layer 115 will be described later.

【0026】そして、反射領域においては、セル厚調整
層115の上に各色の反射用カラーフィルタ部120R
が形成される。一方、透過領域においては、同じくセル
厚調整層115の上に各色の透過用カラーフィルタ部1
20Tが形成される。反射用カラーフィルタ120Rと
透過用カラーフィルタ120Tを別々に形成する理由
は、透過表示時と反射表示時における表示色を個別に調
整可能とするためである。
In the reflection area, the reflection color filter portion 120R of each color is formed on the cell thickness adjusting layer 115.
Is formed. On the other hand, in the transmissive region, the transmissive color filter unit 1 for each color is similarly formed on the cell thickness adjusting layer 115.
20T is formed. The reason why the reflective color filter 120R and the transmissive color filter 120T are formed separately is that the display colors during transmissive display and reflective display can be adjusted individually.

【0027】なお、図1においては図示の便宜上、RG
B各色のカラーフィルタを反射用カラーフィルタ120
R及び透過用カラーフィルタ120Tにより示している
が、実際には反射用カラーフィルタ120R及び透過用
カラーフィルタ120Tはいずれも図2に示すように、
RGB3色の着色層により構成されている。即ち、反射
用カラーフィルタ120Rは、赤色(R)着色層120
RR、緑色(G)着色層120RG、青色(B)着色層
120RBを順に配列することにより構成される。同様
に、透過用カラーフィルタ120Tは、赤色(R)着色
層120TR、緑色(G)着色層120TG、青色
(B)着色層120TBを順に配列することにより構成
される。
In FIG. 1, RG is used for convenience of illustration.
A color filter for each color B is used as a reflection color filter 120.
Although shown by the R and transmission color filters 120T, both the reflection color filter 120R and the transmission color filter 120T are actually shown in FIG.
It is composed of three colored layers of RGB. That is, the reflection color filter 120R is the red (R) colored layer 120.
It is configured by sequentially arranging the RR, the green (G) colored layer 120RG, and the blue (B) colored layer 120RB. Similarly, the transmission color filter 120T is configured by sequentially arranging a red (R) colored layer 120TR, a green (G) colored layer 120TG, and a blue (B) colored layer 120TB.

【0028】各色の反射用カラーフィルタ部120T
R、120TG及び120TB、並びに各色の透過用カ
ラーフィルタ部120RR、120RG及び120RB
の境界には、ブラックマトリクス120B(図2参照)
が形成される。ブラックマトリクス120Bは、図1に
示すように、透過用カラーフィルタ120Tを構成する
RGB3色の着色層を重ね合わせることにより形成され
る。なお、反射用カラーフィルタではなく、透過用カラ
ーフィルタのRGBの着色層を使用する理由は、一般に
反射用カラーフィルタより透過用カラーフィルタの方が
色濃度が高く設計されているため、3色の重ね合わせに
より、より濃度が高く遮光性の良好なブラックマトリク
スが形成できるからである。
Reflective color filter section 120T for each color
R, 120TG and 120TB, and transmission color filter sections 120RR, 120RG and 120RB for each color
A black matrix 120B (see FIG. 2) at the boundary of
Is formed. As shown in FIG. 1, the black matrix 120B is formed by superposing colored layers of the three RGB colors forming the transmission color filter 120T. The reason why the RGB color layers of the transmissive color filter are used instead of the reflective color filter is that the transmissive color filter is generally designed to have a higher color density than the reflective color filter. This is because the superposition can form a black matrix having a higher density and a good light-shielding property.

【0029】そして、反射用カラーフィルタ部120R
及び透過用カラーフィルタ部120Tを覆うようにオー
バーコート層127が形成される。このオーバーコート
層127は、液晶表示パネルの製造工程中にカラーフィ
ルタ120R及び120Tを薬剤などによる腐食や汚染
から保護するためのものである。なお、図1の液晶表示
パネル100は、いわゆるマルチギャップ構造を採用し
ている。マルチギャップ構造とは、透過領域と反射領域
において形成するオーバーコート層127の厚さを異な
らせてセル厚を最適化することにより、透過表示モード
の際にも反射表示モードの際にも表示性能を向上させる
手法である。
Then, the reflection color filter section 120R
An overcoat layer 127 is formed so as to cover the transmission color filter portion 120T. The overcoat layer 127 is for protecting the color filters 120R and 120T from corrosion and contamination by chemicals during the manufacturing process of the liquid crystal display panel. The liquid crystal display panel 100 of FIG. 1 employs a so-called multi-gap structure. The multi-gap structure is a display performance in both the transmissive display mode and the reflective display mode by optimizing the cell thickness by making the thickness of the overcoat layer 127 formed in the transmissive region and the reflective region different. Is a method of improving.

【0030】さらに、オーバーコート層127の表面上
には、ITO(インジウムスズ酸化物)などの透明導電
体からなる透明電極114が形成される。この透明電極
114は本実施形態においては複数並列したストライプ
状に形成されている。また、この透明電極114は、基
板102上に同様にストライプ状に形成された透明電極
121に対して直交する方向に延び、透明電極114と
透明電極121との交差領域内に含まれる液晶表示パネ
ル100の構成部分(反射層111、カラーフィルタ1
20、透明電極114、液晶104及び透明電極121
における上記交差領域内の部分)が画素を構成するよう
になっている。
Further, a transparent electrode 114 made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) is formed on the surface of the overcoat layer 127. In the present embodiment, the transparent electrodes 114 are formed in a plurality of parallel stripes. Further, the transparent electrode 114 extends in a direction orthogonal to the transparent electrode 121 similarly formed in a stripe shape on the substrate 102, and is included in the intersection region of the transparent electrode 114 and the transparent electrode 121. 100 constituent parts (reflection layer 111, color filter 1
20, transparent electrode 114, liquid crystal 104 and transparent electrode 121
The portion within the crossing area in) constitutes a pixel.

【0031】なお、基板101上の透明電極114上、
及び、基板102上の透明電極121上には、配向膜な
どが必要に応じて形成される。
On the transparent electrode 114 on the substrate 101,
Further, an alignment film or the like is formed on the transparent electrode 121 on the substrate 102 as needed.

【0032】この液晶表示パネル100においては、反
射型表示がなされる場合には、反射層111が形成され
ている領域に入射した外光は、図1に示す経路Rに沿っ
て進行し、反射層111により反射されて観察者Eによ
り視認される。一方、透過型表示がなされる場合には、
バックライト109から出射した照明光が図1に示す経
路Tに従って進行し、観察者Eにより視認される。
In the liquid crystal display panel 100, when the reflection type display is performed, the external light incident on the area where the reflection layer 111 is formed travels along the path R shown in FIG. 1 and is reflected. It is reflected by the layer 111 and visually recognized by the observer E. On the other hand, when a transmissive display is made,
The illumination light emitted from the backlight 109 travels along the path T shown in FIG. 1 and is visually recognized by an observer E.

【0033】なお、本発明ではカラーフィルタの各色層
の配列は図2に示す配列には限られない。即ち、ストラ
イプ配列、デルタ配列、ダイヤゴナル配列などの各種の
配列に構成することが可能である。また、上記の実施形
態では透過用カラーフィルタと反射用カラーフィルタと
を別個の材料により独立に形成しているが、同一の材料
により単一のカラーフィルタとして形成することも可能
である。また、その場合に、透過領域と反射領域とでカ
ラーフィルタの厚さを変化させたタイプのカラーフィル
タにも適用可能である。
In the present invention, the arrangement of each color layer of the color filter is not limited to the arrangement shown in FIG. That is, it is possible to form various arrays such as a stripe array, a delta array, and a diagonal array. Further, in the above embodiment, the transmission color filter and the reflection color filter are independently formed of different materials, but it is also possible to form them as a single color filter by the same material. Further, in that case, it is also applicable to a type of color filter in which the thickness of the color filter is changed between the transmissive region and the reflective region.

【0034】[セル厚調整層]次に、本発明の特徴部分
であるセル厚調整層について詳しく説明する。図3
(a)は、図1における破線部分130の拡大図であ
る。図3(a)に示すように、基板101の上には樹脂
散乱層113が形成され、反射領域においてその上に反
射層111が形成される。
[Cell Thickness Adjustment Layer] Next, the cell thickness adjustment layer, which is a feature of the present invention, will be described in detail. Figure 3
(A) is an enlarged view of a broken line portion 130 in FIG. 1. As shown in FIG. 3A, the resin scattering layer 113 is formed on the substrate 101, and the reflection layer 111 is formed on the resin scattering layer 113 in the reflection region.

【0035】画像表示領域においては、樹脂散乱層11
3及び反射層111の上にセル厚調整層115が形成さ
れ、その上に透過用カラーフィルタ120T及び反射用
カラーフィルタ120Rが形成される。そして、反射用
カラーフィルタ120R上には、RGB3色の着色層
(120BB、120BR、120BG)の重ね合わせ
によりブラックマトリクス120Bが形成される。一
方、周辺見切り領域においては、反射層111の上にR
GB3色の着色層123B、123及び123Gの重ね
合わせにより周辺見切り123が形成される。
In the image display area, the resin scattering layer 11
3 and the reflection layer 111, the cell thickness adjusting layer 115 is formed, and the transmission color filter 120T and the reflection color filter 120R are formed thereon. Then, the black matrix 120B is formed on the reflection color filter 120R by overlapping the colored layers (120BB, 120BR, 120BG) of RGB three colors. On the other hand, in the peripheral parting region, R is formed on the reflective layer 111.
A peripheral parting line 123 is formed by superimposing the colored layers 123B, 123, and 123G of three GB colors.

【0036】そして、周辺見切り領域と画像表示領域を
覆うようにオーバーコート層127が形成され、さらに
画像表示領域内の各画素領域に透明電極114が形成さ
れている。
An overcoat layer 127 is formed so as to cover the peripheral parting region and the image display region, and a transparent electrode 114 is further formed in each pixel region in the image display region.

【0037】図3(a)からわかるように、本発明では
セル厚調整層115を設けたことにより、周辺見切り1
23の部分の高さH1(正確には周辺見切り123を覆
うオーバーコート層127の高さ)と、画像表示領域内
の最高点、即ちブラックマトリクス120Bの部分の高
さH2(正確にはブラックマトリクス120Bを覆うオ
ーバーコート層127の高さ)とがほぼ一致する。これ
により、周辺見切り領域と画像表示領域のセルギャップ
をほぼ同一とすることができる。
As can be seen from FIG. 3A, in the present invention, since the cell thickness adjusting layer 115 is provided, the peripheral partition 1
The height H1 of the portion 23 (to be precise, the height of the overcoat layer 127 covering the peripheral parting 123) and the highest point in the image display area, that is, the height H2 of the portion of the black matrix 120B (to be precise, the black matrix). (The height of the overcoat layer 127 that covers 120B) is substantially the same. Thereby, the cell gaps of the peripheral parting region and the image display region can be made substantially the same.

【0038】図3(b)に、本発明との比較のために、
セル厚調整層を設けないカラーフィルタ基板の例を示
す。図3(b)の例は、セル厚調整層115を設けない
こと以外は、図3(a)に示す積層構造と同一である。
即ち、反射領域においては反射層111の直ぐ上に反射
用カラーフィルタ120Rが形成され、透過領域におい
ては樹脂散乱層113の直ぐ上に透過用カラーフィルタ
120Tが形成されている。
FIG. 3B shows a comparison with the present invention.
An example of a color filter substrate without a cell thickness adjusting layer will be shown. The example of FIG. 3B is the same as the laminated structure shown in FIG. 3A except that the cell thickness adjusting layer 115 is not provided.
That is, the reflective color filter 120R is formed immediately above the reflective layer 111 in the reflective region, and the transmissive color filter 120T is formed immediately above the resin scattering layer 113 in the transmissive region.

【0039】セル厚調整層を設けない場合は、図3
(b)から明らかなように、周辺見切り領域の最高点の
高さH1に比べて、画像表示領域内のブラックマトリク
ス120Bの部分の高さH2は低くなってしまう。
When the cell thickness adjusting layer is not provided, as shown in FIG.
As is clear from (b), the height H2 of the portion of the black matrix 120B in the image display area becomes lower than the height H1 of the highest point of the peripheral parting area.

【0040】なお、図3(b)に示すように、画像表示
領域の高さが周辺見切り領域の高さより低くなってしま
うという問題に対する対策として、図3(b)において
周辺見切り123を構成する緑色の着色層123Gを省
略する方法も考案されている。RGB3色のうち緑色の
着色層を省略する理由は、カラーフィルタの分光特性を
検討すると、RGB3色のうちどれか1色を省略すると
すれば緑色を省略するのが最も影響が少なく、そうして
も一応周辺見切りとしての機能は果たせる程度の遮光性
が得られるからである。しかし、緑色の着色層123G
を省略しても、高さの差は小さくはなるものの、依然と
して画像表示領域の高さと周辺見切り領域の高さをほぼ
一致させることは難しい。
As a measure against the problem that the height of the image display area becomes lower than the height of the peripheral parting area as shown in FIG. 3B, the peripheral parting 123 is configured in FIG. 3B. A method of omitting the green colored layer 123G has also been devised. The reason why the green color layer of the three RGB colors is omitted is that if one of the three RGB colors is omitted, then omitting the green color has the least effect, considering the spectral characteristics of the color filter. This is because, for the time being, it is possible to obtain a light-shielding property to the extent that it can function as a peripheral parting line. However, the green colored layer 123G
Even if is omitted, it is still difficult to make the height of the image display area and the height of the peripheral parting area substantially coincide with each other, although the difference in height becomes small.

【0041】図1に示す液晶104を封入する領域には
図示しない球状のスペーサが分散される。分散されたス
ペーサは、カラーフィルタ基板10の最高点により支持
され、基板101と102の間隔であるセルギャップを
均一化する役割を有する。しかし、基板101と102
の間に分散されるスペーサは同一の径を有するので、図
3(b)に示すように周辺見切り領域と画像表示領域と
でカラーフィルタ基板10の最高点の高さが異なると、
周辺見切り領域に比べて画像表示領域の方がカラーフィ
ルタによるスペーサの支持が不十分となり易い。その結
果、周辺見切り領域よりも画像表示領域の方がセルギャ
ップが小さくなるという現象が起きる。つまり、液晶表
示パネル100を横方向から見た場合に、周辺見切り領
域に対応する周辺部分に比べて、画像表示領域に対応す
る中央部分が若干窪んだような形状となり、画像表示領
域にセルギャップの不均一に起因する表示ムラが生じ
る。この点に鑑み、本発明ではセル厚調整層115を形
成して、画像表示領域の最高点H2と周辺見切り領域の
最高点H1の高さをほぼ一致させ、セルギャップの不均
一に起因する表示ムラを防止している。
Spherical spacers (not shown) are dispersed in the area for enclosing the liquid crystal 104 shown in FIG. The dispersed spacers are supported by the highest point of the color filter substrate 10 and have a role of making the cell gap, which is the distance between the substrates 101 and 102, uniform. However, substrates 101 and 102
Since the spacers dispersed between the two have the same diameter, when the height of the highest point of the color filter substrate 10 is different between the peripheral parting region and the image display region as shown in FIG.
The spacer is more likely to be insufficiently supported by the color filter in the image display area than in the peripheral parting area. As a result, a phenomenon occurs in which the cell gap is smaller in the image display area than in the peripheral parting area. That is, when the liquid crystal display panel 100 is viewed from the lateral direction, the central portion corresponding to the image display area is slightly recessed as compared with the peripheral portion corresponding to the peripheral parting area, and the cell gap is formed in the image display area. Unevenness occurs due to the non-uniformity. In view of this point, in the present invention, the cell thickness adjusting layer 115 is formed so that the height of the highest point H2 of the image display area and the height of the highest point H1 of the peripheral parting area are substantially the same, and the display caused by the nonuniformity of the cell gap is shown. Prevents unevenness.

【0042】なお、画像表示領域のセルギャップと周辺
見切り領域のセルギャップが一致しない場合でも、画像
表示領域のセルギャップが周辺見切り領域のセルギャッ
プより小さい場合(図3(b)の場合)より、画像表示
領域のセルギャップが周辺見切り領域のセルギャップよ
り幾分大きい場合(即ち、液晶表示パネルを横方向から
見た場合に中央が幾分膨らんでいるような状態)の方が
表示ムラは発生しにくく、画像の表示品質も高いことが
経験的にわかっている。よって、基本的には、画像表示
領域のセルギャップが周辺見切り領域のセルギャップよ
り小さくならないように、即ち、画像表示領域の最高点
H2が周辺見切り領域の最高点H1より低くならないよ
うにセル厚調整層115の厚さを決定することが好まし
い。もちろん、さらに両者が一致するようにセル厚調整
層115の厚さを決定することが最も望ましい。
Even when the cell gap of the image display area and the cell gap of the peripheral parting area do not match, the cell gap of the image display area is smaller than the cell gap of the peripheral parting area (the case of FIG. 3B). , If the cell gap of the image display area is slightly larger than the cell gap of the peripheral parting area (that is, when the liquid crystal display panel is viewed laterally, the center is slightly bulged) It has been empirically known that it is unlikely to occur and the display quality of the image is high. Therefore, basically, the cell thickness is set so that the cell gap of the image display area does not become smaller than the cell gap of the peripheral parting area, that is, the highest point H2 of the image display area does not become lower than the highest point H1 of the peripheral parting area. It is preferable to determine the thickness of the adjustment layer 115. Of course, it is most desirable to determine the thickness of the cell thickness adjusting layer 115 so that the two match.

【0043】次に、セル厚調整層115の厚さについて
検討する。いま、図3(b)に示すようにセル厚調整層
を設けないものと仮定する。周辺見切り123の位置と
画像表示領域のブラックマトリクス120Bの位置で
は、積層構造を比較すると、基板101、樹脂散乱層1
13及び反射層111までは同一の構造であり、基本的
に高さの相違は生じない。
Next, the thickness of the cell thickness adjusting layer 115 will be examined. Now, it is assumed that the cell thickness adjusting layer is not provided as shown in FIG. At the position of the peripheral parting line 123 and the position of the black matrix 120B in the image display area, comparing the laminated structures, the substrate 101 and the resin scattering layer 1 are compared.
13 and the reflective layer 111 have the same structure, and basically no difference in height occurs.

【0044】周辺見切り123の位置と画像表示領域の
ブラックマトリクス120Bの位置における積層構造、
及び、各層の層厚を図4(a)及び図4(b)にそれぞ
れ示す。周辺見切りの位置の積層構造は、下から着色層
123B、着色層123R、着色層123G、オーバー
コート層127であり、3つの着色層123B〜123
Gの設計上の厚さはm(例えば1μm)、オーバーコー
ト層127の設計上の厚さはn(例えば2μm)とす
る。この場合、実際に設計上の層厚に従って各層を形成
すると、図4(a)に示すように各層はほぼ設計上の厚
さ通りに形成される。
A laminated structure at the position of the peripheral partition 123 and the position of the black matrix 120B in the image display area,
The layer thickness of each layer is shown in FIG. 4 (a) and FIG. 4 (b), respectively. The laminated structure of the peripheral parting position is the colored layer 123B, the colored layer 123R, the colored layer 123G, and the overcoat layer 127 from the bottom, and the three colored layers 123B to 123B.
The designed thickness of G is m (for example, 1 μm), and the designed thickness of the overcoat layer 127 is n (for example, 2 μm). In this case, when each layer is actually formed according to the designed layer thickness, each layer is formed to have substantially the designed thickness as shown in FIG.

【0045】一方、画像表示領域のブラックマトリクス
120Bの位置における積層構造は、図3(b)及び図
4(b)に示すように、下から反射用カラーフィルタ層
120R、着色層120BB、着色層120BR、着色
層120BG、オーバーコート層127である。各層の
設計上の厚さは、反射用カラーフィルタ層120がs
(例えば1μm)、ブラックマトリクス120Bを形成
する各着色層120BB、120BR、120BGがそ
れぞれm(例えば1μm)、オーバーコート層127が
n(例えば2μm)とする。この場合、実際に設計上の
層厚に従って各層を形成すると、図4(b)に示すよう
に、3層目より上の層は設計上の層厚通りの厚さには形
成されず、設計上の層厚の1/2程度の層厚となってし
まう。
On the other hand, the laminated structure at the position of the black matrix 120B in the image display area is, as shown in FIGS. 3 (b) and 4 (b), the reflection color filter layer 120R, the coloring layer 120BB, and the coloring layer from the bottom. 120BR, colored layer 120BG, and overcoat layer 127. The design thickness of each layer is such that the reflective color filter layer 120 is s
(For example, 1 μm), each colored layer 120BB, 120BR, and 120BG forming the black matrix 120B is m (for example, 1 μm), and the overcoat layer 127 is n (for example, 2 μm). In this case, when each layer is actually formed according to the designed layer thickness, the layers above the third layer are not formed to have the designed layer thickness as shown in FIG. The layer thickness is about ½ of the upper layer thickness.

【0046】この現象は、ブラックマトリクス120B
の幅が小さいことに起因する。図3(b)に周辺見切り
123とブラックマトリクス120Bの幅の一例を示し
ている。周辺見切り123の幅W1は約3〜4mm程度
であるのに対し、ブラックマトリクス120Bの幅W2
は約10〜12μm程度である。よって、周辺見切り1
23の幅は比較的大きいので各層を設計値通りに形成す
ることができるが、ブラックマトリクス120Bの幅は
小さいので積層を重ねるにつれて、設計通りの層厚に各
層を形成することが難しくなる(実際には、ブラックマ
トリクスの位置における積層構造は、図3(b)のよう
な断面で見ると上の層に行くに従って先細り上になって
いると考えられる。)。
This phenomenon is caused by the black matrix 120B.
Due to the small width of. FIG. 3B shows an example of the widths of the peripheral partition 123 and the black matrix 120B. The peripheral partition 123 has a width W1 of about 3 to 4 mm, while the black matrix 120B has a width W2.
Is about 10 to 12 μm. Therefore, the peripheral closure 1
Since the width of 23 is relatively large, each layer can be formed as designed, but since the width of the black matrix 120B is small, it becomes difficult to form each layer with the designed layer thickness as the layers are stacked (actually, in practice). It is considered that the laminated structure at the position of the black matrix is tapered as it goes to the upper layer when viewed in a cross section as shown in FIG.

【0047】従って、ブラックマトリクス120Bの位
置で実際に形成される層厚を考慮してセル調整層115
の層厚を決定すればよい。図4に示した例によれば、ブ
ラックマトリクス120Bの位置では3層目あたりから
上の層では設計上の層厚の1/2程度の層厚でしか各層
が形成されない。よって、3層目又は4層目あたりから
上の層については設計上の層厚の1/2の層厚で実際に
各層が形成されるものとしてセル厚調整層115の層厚
を決定することができる。
Therefore, in consideration of the layer thickness actually formed at the position of the black matrix 120B, the cell adjustment layer 115.
The thickness of the layer may be determined. According to the example shown in FIG. 4, at the position of the black matrix 120B, each layer is formed only from about the third layer to the upper layer with a layer thickness of about ½ of the designed layer thickness. Therefore, the layer thickness of the cell thickness adjusting layer 115 should be determined on the assumption that each layer is actually formed with a layer thickness of 1/2 of the designed layer thickness from the third layer or the fourth layer to the upper layers. You can

【0048】図4の例では、周辺見切り123の位置で
は実際に形成される1層目から4層目までの各層の合計
の層厚T1は、T1=3m+n(約5μm)となる。一
方、ブラックマトリクス120Bの位置では実際に形成
される1層目から5層目までの各層の合計の層厚T2
は、T2=s+m+2×m/2+n/2=s+2m+n
/2(約4μm)となる。よって、本例では、セル厚調
整層115の厚さTは、 T=T1−T2=(3m+n)−(s+2m+n/2) で与えられる。
In the example of FIG. 4, the total layer thickness T1 of the first to fourth layers actually formed at the position of the peripheral partition 123 is T1 = 3 m + n (about 5 μm). On the other hand, at the position of the black matrix 120B, the total layer thickness T2 of the first to fifth layers actually formed
Is T2 = s + m + 2 × m / 2 + n / 2 = s + 2m + n
/ 2 (about 4 μm). Therefore, in this example, the thickness T of the cell thickness adjusting layer 115 is given by T = T1-T2 = (3m + n)-(s + 2m + n / 2).

【0049】よって、図4の例では、1μm程度の厚さ
のセル調整層115を形成すれば、周辺見切りの位置と
ブラックマトリクスの位置の最高点の高さがほぼ一致す
ることになる。こうして、適切な厚さのセル厚調整層1
15を形成することにより、周辺見切り領域と画像表示
領域のセルギャップを均一化し、セルギャップの不均一
に起因する表示ムラなどの表示品質の低下を防止するこ
とが可能となる。
Therefore, in the example of FIG. 4, if the cell adjustment layer 115 having a thickness of about 1 μm is formed, the heights of the highest points of the peripheral partition and the black matrix are substantially the same. Thus, the cell thickness adjusting layer 1 having an appropriate thickness
By forming 15, the cell gap between the peripheral parting region and the image display region can be made uniform, and it is possible to prevent display quality deterioration such as display unevenness due to nonuniform cell gap.

【0050】[製造方法]次に、上述の液晶表示パネル
100の製造方法について説明する。まず、図1に示す
カラーフィルタ基板10の製造方法について図1及び図
3(a)を参照して説明する。
[Manufacturing Method] Next, a manufacturing method of the above-described liquid crystal display panel 100 will be described. First, a method for manufacturing the color filter substrate 10 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS. 1 and 3A.

【0051】まず、基板101の表面上に樹脂散乱層1
13を形成する。樹脂散乱層113の形成方法として
は、前述のようにガラスやプラスチックなどの基板表面
上に例えばアクリル樹脂などにより透光性の樹脂層を形
成し、その表面に多数の微細な凹凸構造を形成すること
により製作することができる。なお、樹脂散乱層113
の形成方法としては、これ以外の方法を採用することも
もちろん可能である。
First, the resin scattering layer 1 is formed on the surface of the substrate 101.
13 is formed. As a method of forming the resin scattering layer 113, as described above, a transparent resin layer is formed of, for example, an acrylic resin on the surface of a substrate such as glass or plastic, and a large number of fine concavo-convex structures are formed on the surface. It can be manufactured by The resin scattering layer 113
It is of course possible to adopt a method other than this as a method of forming the.

【0052】次に、アルミニウム、アルミニウム合金、
銀合金などの金属を蒸着法やスパッタリング法などによ
って薄膜状に成膜し、これをフォトリソグラフィー法を
用いてパターニングすることによって反射層111を形
成する。この際、反射層111は、反射領域のみに形成
される。
Next, aluminum, aluminum alloy,
A metal such as a silver alloy is formed into a thin film by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and is patterned by a photolithography method to form the reflective layer 111. At this time, the reflective layer 111 is formed only in the reflective region.

【0053】次に、透明な感光性アクリル樹脂などによ
りセル厚調整層115を形成する。図3(a)からわか
るように、透過表示を行う際にはバックライト109か
らの照明光がセル厚調整層を通過するので、セル厚調整
層115は透明で波長依存性の低い材料により形成する
ことが好ましい。また、このセル厚調整層115を、オ
ーバーコート層127と同一の材料を用いて形成するこ
ととすれば、製造工程を簡略化することが可能となる。
Next, the cell thickness adjusting layer 115 is formed of a transparent photosensitive acrylic resin or the like. As can be seen from FIG. 3A, since the illumination light from the backlight 109 passes through the cell thickness adjusting layer when performing the transmissive display, the cell thickness adjusting layer 115 is made of a transparent material having a low wavelength dependence. Preferably. If the cell thickness adjusting layer 115 is formed using the same material as the overcoat layer 127, the manufacturing process can be simplified.

【0054】次に、所定の色相を呈する顔料や染料など
を分散させてなる着色された感光性樹脂(感光性レジス
ト)を塗布し、所定パターンにて露光、現像を行ってパ
ターニングを行うことにより、セル厚調整層115の上
に、透過領域においては透過用カラーフィルタ120T
を形成し、反射領域においては反射用カラーフィルタを
120Rを形成する。
Next, a colored photosensitive resin (photosensitive resist) in which pigments or dyes exhibiting a predetermined hue are dispersed is applied, and exposure and development are performed in a predetermined pattern to perform patterning. On the cell thickness adjusting layer 115, in the transmissive region, the transmissive color filter 120T
And a color filter for reflection 120R is formed in the reflection area.

【0055】次に、透過用カラーフィルタ120R上に
ブラックマトリクス120Bを形成するとともに、好ま
しくは同時に、周辺見切り領域において反射層111上
に周辺見切り123を形成する。周辺見切り123はブ
ラックマトリクス120を構成するRGB各色の着色層
と同一の材料により形成される。即ち、同一の材料によ
り周辺見切り123の着色層123Bとブラックマトリ
クス120Bの着色層120BBを形成し、次に、同一
の材料により周辺見切り123の着色層123Rとブラ
ックマトリクス120Bの着色層120BRを形成し、
さらに同一の材料により周辺見切り123の着色層12
3Gとブラックマトリクス120Bの着色層120BG
を形成する。
Next, the black matrix 120B is formed on the transmissive color filter 120R, and preferably, at the same time, the peripheral partition 123 is formed on the reflective layer 111 in the peripheral partition region. The peripheral partition 123 is formed of the same material as the colored layers of the RGB colors forming the black matrix 120. That is, the colored layer 123B of the peripheral partition 123 and the colored layer 120BB of the black matrix 120B are formed of the same material, and then the colored layer 123R of the peripheral partition 123 and the colored layer 120BR of the black matrix 120B are formed of the same material. ,
Furthermore, the colored layer 12 of the peripheral parting wall 123 is made of the same material.
3G and colored layer 120BG of black matrix 120B
To form.

【0056】次に、周辺見切り123及びブラックマト
リクス120Bを含む全領域に、アクリル樹脂などによ
りオーバーコート層127を形成する。さらに、画像表
示領域内の各画素領域に透明電極114を形成する。こ
うして、カラーフィルタ基板10が製造される。
Next, an overcoat layer 127 is formed of acrylic resin or the like on the entire area including the peripheral partition 123 and the black matrix 120B. Further, the transparent electrode 114 is formed in each pixel area in the image display area. In this way, the color filter substrate 10 is manufactured.

【0057】なお、周辺見切り123の位置における各
着色層123B〜123Rとブラックマトリクス120
Bの各着色層120BB〜120BG、及び、周辺見切
り123の位置におけるオーバーコート層127とブラ
ックマトリクス120Bの位置におけるオーバーコート
層127は設計上は同一の層厚となるように形成される
が、実際には前述のように、周辺見切り123はほぼ設
計値通りに各層が形成されるものの、ブラックマトリク
ス120B上では設計値通りには各層は形成されない。
しかし、本発明ではセル厚調整層115を設けることに
より、ブラックマトリクス120Bの位置における各層
を底上げして、周辺見切りの位置の層厚とほぼ一致する
ようにしている。
The colored layers 123B to 123R and the black matrix 120 at the position of the peripheral parting line 123.
Although the colored layers 120BB to 120BG of B, the overcoat layer 127 at the position of the peripheral parting line 123, and the overcoat layer 127 at the position of the black matrix 120B are formed to have the same layer thickness by design, As described above, although each layer is formed on the peripheral parting line 123 almost as designed, each layer is not formed on the black matrix 120B as designed.
However, in the present invention, by providing the cell thickness adjusting layer 115, each layer at the position of the black matrix 120B is raised so that the layer thickness at the peripheral parting position is substantially the same.

【0058】次に、こうして得られたカラーフィルタ1
0を用いて、図1に示す液晶表示パネル100を製造す
る方法について図5を参照して説明する。図5は、表示
パネル100の製造工程を示す流れ図である。
Next, the color filter 1 thus obtained
A method of manufacturing the liquid crystal display panel 100 shown in FIG. 1 using 0 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a flowchart showing the manufacturing process of the display panel 100.

【0059】まず、上記の方法により、セル厚調整層1
15を有するカラーフィルタ10が形成された基板10
1が製造され(工程S1)、さらにオーバーコート層1
27上に透明導電体をスパッタリング法により被着し、
フォトリソグラフィー法によってパターニングすること
により、透明電極114を形成する(工程S2)。その
後、透明電極114上にポリイミド樹脂などからなる配
向膜を形成し、ラビング処理などを施す(工程S3)。
First, the cell thickness adjusting layer 1 is formed by the above method.
Substrate 10 on which color filter 10 having 15 is formed
1 is manufactured (step S1), and the overcoat layer 1 is further manufactured.
27 is coated with a transparent conductor by a sputtering method,
The transparent electrode 114 is formed by patterning by the photolithography method (step S2). After that, an alignment film made of polyimide resin or the like is formed on the transparent electrode 114, and a rubbing process or the like is performed (step S3).

【0060】一方、反対側の基板102を製作し(工程
S4)、同様の方法で透明電極121を形成し(工程S
5)、さらに透明電極121上に配向膜を形成し、ラビ
ング処理などを施す(工程S6)。
On the other hand, the substrate 102 on the opposite side is manufactured (step S4), and the transparent electrode 121 is formed by the same method (step S4).
5) Further, an alignment film is further formed on the transparent electrode 121, and rubbing treatment is performed (step S6).

【0061】そして、シール材103を介して上記の基
板101と基板102とを貼り合わせてパネル構造を構
成する(工程S7)。基板101と基板102とは、基
板間に分散配置された図示しないスペーサなどによって
ほぼ規定の基板間隔となるように貼り合わせられる。
Then, the substrate 101 and the substrate 102 are attached to each other via the sealing material 103 to form a panel structure (step S7). The substrate 101 and the substrate 102 are attached to each other by a spacer or the like (not shown) dispersedly arranged between the substrates so as to have a substantially defined substrate interval.

【0062】その後、シール材103の図示しない開口
部から液晶104を注入し、シール材103の開口部を
紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する(工程
S8)。こうして主要なパネル構造が完成した後に、上
述の位相差板や偏光板などを必要に応じてパネル構造の
外面上に貼着などの方法によって取り付け(工程S
9)、図1に示す液晶表示パネル100が完成する。
Then, the liquid crystal 104 is injected from the opening (not shown) of the sealing material 103, and the opening of the sealing material 103 is sealed with a sealing material such as an ultraviolet curable resin (step S8). After the main panel structure is completed in this way, the above-mentioned retardation plate, polarizing plate, etc. are attached to the outer surface of the panel structure by a method such as sticking, if necessary (Step S
9), the liquid crystal display panel 100 shown in FIG. 1 is completed.

【0063】[電子機器]次に、本発明に係る液晶表示
パネルを適用可能な電子機器の例について図6を参照し
て説明する。
[Electronic Equipment] Next, examples of electronic equipment to which the liquid crystal display panel according to the present invention can be applied will be described with reference to FIG.

【0064】まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可
搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソ
コン)の表示部に適用した例について説明する。図6
(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜
視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュー
タ41は、キーボード411を備えた本体部412と、
本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部413と
を備えている。
First, an example in which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied to the display portion of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. Figure 6
FIG. 3A is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in the figure, the personal computer 41 includes a main body 412 having a keyboard 411,
And a display portion 413 to which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied.

【0065】続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、
携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図
6(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図であ
る。同図に示すように、携帯電話機42は、複数の操作
ボタン421のほか、受話口422、送話口423とと
もに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部4
24を備える。
Subsequently, the liquid crystal display panel according to the present invention is
An example applied to the display unit of a mobile phone will be described. FIG. 6B is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure, the mobile phone 42 includes a plurality of operation buttons 421, an earpiece 422, a mouthpiece 423, and a display unit 4 to which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied.
24 are provided.

【0066】なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用
可能な電子機器としては、図6(a)に示したパーソナ
ルコンピュータや図6(b)に示した携帯電話機の他に
も、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型の
ビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ペー
ジャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステ
ーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチル
カメラなどが挙げられる。
As electronic equipment to which the liquid crystal display panel according to the present invention can be applied, in addition to the personal computer shown in FIG. 6A and the mobile phone shown in FIG. 6B, a liquid crystal television, A viewfinder type / monitor direct-viewing type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, a digital still camera and the like can be mentioned.

【0067】[変形例]なお、上述のカラーフィルタ基
板及び液晶表示パネルなどは、上述の例にのみ限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内にお
いて種々の変更が可能であることは勿論である。
[Modification] The above-mentioned color filter substrate and liquid crystal display panel are not limited to the above-mentioned examples, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. Of course.

【0068】上記の実施形態では、透過領域と反射領域
においてオーバーコート層の層厚を異ならせた、いわゆ
るマルチギャップ構造を採用した液晶表示パネルを例示
しているが、透過領域と反射領域においてオーバーコー
ト層を均一に形成する構造の液晶表示パネルにも本発明
の適用が可能である。
In the above embodiment, the liquid crystal display panel adopting a so-called multi-gap structure in which the layer thickness of the overcoat layer is different in the transmissive region and the reflective region is illustrated, but the transmissive region and the reflective region are overcoated. The present invention can be applied to a liquid crystal display panel having a structure in which a coat layer is uniformly formed.

【0069】また、図2に示したカラーフィルタは反射
領域内の開口として透過領域を規定する構造であるが、
この構造は単なる一例であり、例えば矩形の反射用カラ
ーフィルタ部と透過用カラーフィルタ部を交互に隣接さ
せて形成するような構造とすることも可能である。
The color filter shown in FIG. 2 has a structure that defines the transmissive area as an opening in the reflective area.
This structure is merely an example, and a structure in which rectangular reflection color filter portions and transmission color filter portions are alternately adjacent to each other may be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの構造
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a structure of a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す液晶表示パネルに使用されるカラー
フィルタ構造を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a color filter structure used in the liquid crystal display panel shown in FIG.

【図3】図1に示す液晶表示パネルの一部の拡大断面
図、及び、比較例としてセル厚調整部を設けない場合の
液晶表示パネルの構造を示す断面図である。
3 is an enlarged cross-sectional view of a part of the liquid crystal display panel shown in FIG. 1 and a cross-sectional view showing a structure of the liquid crystal display panel when a cell thickness adjusting portion is not provided as a comparative example.

【図4】本発明の実施形態における周辺見切りの位置及
び画像表示領域内のブラックマトリクスの位置の積層構
造を数値的に示す図表である。
FIG. 4 is a table showing numerically a laminated structure of a peripheral parting position and a black matrix position in an image display area in the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造
方法の工程図である。
FIG. 5 is a process drawing of the manufacturing method of the liquid crystal display panel according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルを適用
した電子機器の例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example of an electronic device to which the liquid crystal display panel according to the embodiment of the invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 カラーフィルタ 100 液晶表示パネル 101、102 基板 103 シール材 109 バックライト 111 反射層 113 樹脂散乱層 114 透明電極 115 セル厚調整層 120T、120R カラーフィルタ層 120B ブラックマトリクス 123 周辺見切り 127 オーバーコート層 10 color filters 100 LCD display panel 101, 102 substrate 103 sealant 109 backlight 111 reflective layer 113 Resin scattering layer 114 transparent electrode 115 Cell thickness adjustment layer 120T, 120R color filter layer 120B black matrix 123 Peripheral closure 127 Overcoat layer

フロントページの続き (72)発明者 中野 智之 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2H042 AA06 AA09 AA26 2H048 BA02 BA11 BA45 BB01 BB02 BB07 BB10 BB24 BB28 BB42 2H089 NA19 NA37 NA58 QA16 TA01 TA02 TA04 TA12 TA14 TA15 TA17 TA18 2H090 JB02 JB03 LA01 LA03 LA06 LA09 LA15 LA16 LA20 2H091 FA02Y FA07X FA07Z FA11X FA11Z FA14Y FA35Y FA41Z FD01 GA01 GA03 GA06 GA09 LA30 Continued front page    (72) Inventor Tomoyuki Nakano             Seiko, 3-3-3 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture             -In Epson Corporation F-term (reference) 2H042 AA06 AA09 AA26                 2H048 BA02 BA11 BA45 BB01 BB02                       BB07 BB10 BB24 BB28 BB42                 2H089 NA19 NA37 NA58 QA16 TA01                       TA02 TA04 TA12 TA14 TA15                       TA17 TA18                 2H090 JB02 JB03 LA01 LA03 LA06                       LA09 LA15 LA16 LA20                 2H091 FA02Y FA07X FA07Z FA11X                       FA11Z FA14Y FA35Y FA41Z                       FD01 GA01 GA03 GA06 GA09                       LA30

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、 前記基板上に配置され、表示領域の外縁を規定する第1
の遮光領域と、 前記表示領域内において基板上に配置されたセル厚調整
層と、 前記セル厚調整層上に配置され、前記表示領域内の複数
の画素領域の境界を規定する第2の遮光領域と、を備
え、 前記セル厚調整層の厚さは、前記第2の遮光領域全体の
厚さが前記第1の遮光領域全体の厚さより小さくならな
いように決定されていることを特徴とする液晶パネル用
基板。
1. A substrate and a first substrate disposed on the substrate and defining an outer edge of a display area.
A light shielding region, a cell thickness adjusting layer disposed on the substrate in the display region, and a second light shielding disposed on the cell thickness adjusting layer and defining boundaries of a plurality of pixel regions in the display region. A region, and the thickness of the cell thickness adjusting layer is determined such that the total thickness of the second light shielding region is not smaller than the total thickness of the first light shielding region. Substrate for liquid crystal panel.
【請求項2】 前記セル厚調整層は、透明な樹脂により
構成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶パネ
ル用基板。
2. The substrate for a liquid crystal panel according to claim 1, wherein the cell thickness adjusting layer is made of a transparent resin.
【請求項3】 前記第1の遮光領域は赤、青、緑の各色
の着色層及びオーバーコート層の重ね合わせを含み、前
記第2の遮光領域は赤、青、緑の各色の着色層及オーバ
ーコート層の重ね合わせを含み、前記第1の遮光領域と
前記第2の遮光領域に含まれる赤、青、緑の着色層及び
オーバーコート層はそれぞれ同一の材料により構成され
ることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶パネル
基板。
3. The first light-shielding region includes a superposition of colored layers of red, blue and green colors and an overcoat layer, and the second light-shielding region includes colored layers of red, blue and green colors. Including overlapping of overcoat layers, the red, blue, and green colored layers and the overcoat layers included in the first light-shielding region and the second light-shielding region are made of the same material. The liquid crystal panel substrate according to claim 1 or 2.
【請求項4】 前記セル厚調整層の厚さは、前記第2の
遮光領域全体の厚さが、前記第1の遮光領域に含まれる
前記各色の着色層の層厚及びオーバーコート層の層厚の
合計以上となるように決定されることを特徴とする請求
項3に記載の液晶パネル用基板。
4. The thickness of the cell thickness adjusting layer is such that the entire thickness of the second light-shielding region is the layer thickness of the colored layer of each color and the layer of the overcoat layer included in the first light-shielding region. The substrate for liquid crystal panel according to claim 3, wherein the thickness is determined to be equal to or larger than the total thickness.
【請求項5】 前記第2の遮光領域はさらにカラーフィ
ルタ層を含み、前記第1の遮光領域及び前記第2の遮光
領域における各色の着色層の層厚をm、第1の遮光領域
及び前記第2の遮光領域におけるオーバーコート層の層
厚をn、前記第2の遮光領域における前記カラーフィル
タ層の層厚をsとすると、前記セル厚調整層の厚さT
は、式: T=(3m+n)−(s+2m+n/2) により与えられることを特徴とする請求項3に記載の液
晶パネル用基板。
5. The second light-shielding region further includes a color filter layer, the layer thickness of the colored layer of each color in the first light-shielding region and the second light-shielding region is m, the first light-shielding region and the When the layer thickness of the overcoat layer in the second light-shielding region is n and the layer thickness of the color filter layer in the second light-shielding region is s, the thickness T of the cell thickness adjusting layer is T.
Is given by the formula: T = (3m + n)-(s + 2m + n / 2). 4. The liquid crystal panel substrate according to claim 3, wherein
【請求項6】 前記セル厚調整層は、前記オーバーコー
ト層と同一の透明な樹脂により形成されることを特徴と
する請求項3に記載の液晶パネル基板。
6. The liquid crystal panel substrate according to claim 3, wherein the cell thickness adjusting layer is formed of the same transparent resin as the overcoat layer.
【請求項7】 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の
液晶パネル用基板を含む液晶表示パネル。
7. A liquid crystal display panel including the liquid crystal panel substrate according to claim 1. Description:
【請求項8】 請求項7に記載の液晶表示パネルを表示
部として備える電子機器。
8. An electronic device comprising the liquid crystal display panel according to claim 7 as a display section.
【請求項9】 基板上に、表示領域の外縁を規定する第
1の遮光領域を形成する第1工程と、 前記表示領域内において、前記基板上にセル厚調整層を
形成する第2工程と、 前記セル厚調整層上に、前記表示領域内の複数の画素領
域の境界を規定する第2の遮光領域を形成する第3工程
と、を有し、 前記セル厚調整層の厚さは、前記第2の遮光領域全体の
厚さが前記第1の遮光領域全体の厚さより小さくならな
いように決定されていることを特徴とする液晶パネル用
基板の製造方法。
9. A first step of forming a first light-shielding region that defines an outer edge of a display region on a substrate, and a second step of forming a cell thickness adjusting layer on the substrate in the display region. A third step of forming, on the cell thickness adjustment layer, a second light-shielding region that defines boundaries of a plurality of pixel regions in the display region, and the thickness of the cell thickness adjustment layer is The method for manufacturing a substrate for a liquid crystal panel, wherein the thickness of the entire second light-shielding region is determined so as not to be smaller than the thickness of the entire first light-shielding region.
【請求項10】 前記第2工程において、前記セル厚調
整層は透明な樹脂により構成されることを特徴とする請
求項9に記載の液晶パネル用基板の製造方法。
10. The method for manufacturing a liquid crystal panel substrate according to claim 9, wherein in the second step, the cell thickness adjusting layer is made of a transparent resin.
【請求項11】 前記第1工程は、赤、青、緑の各色の
着色層及びオーバーコート層を順に積層することにより
前記第1の遮光領域を形成し、 前記第3工程は、赤、青、緑の各色の着色層及びオーバ
ーコート層を順に積層することにより前記第2の遮光領
域を形成し、 前記第1工程及び前記第2工程は、前記第1の遮光領域
と前記第2の遮光領域に含まれる赤、青、緑の着色層及
びオーバーコート層をそれぞれ同一の材料により形成す
ることを特徴とする請求項9又は10に記載の液晶パネ
ル基板の製造方法。
11. The first step forms the first light-shielding region by sequentially stacking colored layers of red, blue, and green and an overcoat layer, and the third step includes red and blue. Forming a second light-shielding region by sequentially stacking a colored layer of each color of green, and an overcoat layer, wherein the first step and the second step include the first light-shielding area and the second light-shielding area. The method for manufacturing a liquid crystal panel substrate according to claim 9 or 10, wherein the red, blue, and green colored layers and the overcoat layer included in the regions are formed of the same material.
【請求項12】 前記セル厚調整層の厚さは、前記第2
の遮光領域全体の厚さが、前記第1の遮光領域に含まれ
る前記各色の着色層の層厚及びオーバーコート層の層厚
の合計以上となるように決定されることを特徴とする請
求項11に記載の液晶パネル用基板の製造方法。
12. The thickness of the cell thickness adjusting layer is the second thickness.
The total thickness of the light-shielding regions is determined so as to be equal to or more than the total of the layer thicknesses of the colored layers of the respective colors and the layer thicknesses of the overcoat layers included in the first light-shielding region. 11. The method for manufacturing a liquid crystal panel substrate according to item 11.
【請求項13】 前記第3の工程は、前記各色の着色層
を形成する以前に前記セル厚調整層上にカラーフィルタ
層を形成し、 前記第1の遮光領域及び前記第2の遮光領域における各
色の着色層の層厚をm、第1の遮光領域及び前記第2の
遮光領域におけるオーバーコート層の層厚をn、前記第
2の遮光領域における前記カラーフィルタ層の層厚をs
とすると、前記セル厚調整層の厚さTは、式: T=(3m+n)−(s+2m+n/2) により与えられることを特徴とする請求項11に記載の
液晶パネル用基板の製造方法。
13. In the third step, a color filter layer is formed on the cell thickness adjusting layer before forming the colored layers of the respective colors, and a color filter layer is formed in the first light-shielding region and the second light-shielding region. The layer thickness of the colored layer of each color is m, the layer thickness of the overcoat layer in the first light shielding region and the second light shielding region is n, and the layer thickness of the color filter layer in the second light shielding region is s.
Then, the thickness T of the cell thickness adjusting layer is given by the formula: T = (3m + n)-(s + 2m + n / 2).
【請求項14】 前記セル厚調整層は、前記オーバーコ
ート層と同一の透明な樹脂により形成されることを特徴
とする請求項11に記載の液晶パネル基板の製造方法。
14. The method of manufacturing a liquid crystal panel substrate according to claim 11, wherein the cell thickness adjusting layer is formed of the same transparent resin as the overcoat layer.
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