JP2005148135A - Liquid crystal device, and electronic appliance equipped with the liquid crystal device - Google Patents

Liquid crystal device, and electronic appliance equipped with the liquid crystal device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent display quality from lowering by suppressing light leakage around a spacer without modifying a manufacturing process or a spacer particle. <P>SOLUTION: A reflection layer is formed on the lower side substrate and a transmissive part with an opening width less than three times of a diameter of the spacer, that is, less than a diameter of a light leakage region is formed in the reflection layer. Next, a black light shielding layer BM is formed on the reflection layer and subsequently a coloring layer is formed on the transmissive part and on the reflection layer of the lower substrate. Next, a protective layer composed of an acrylic resin etc. is formed on the black light shielding layer BM and on the coloring layer. Next, a transparent electrode etc. is formed on the protective layer. Thereby, a color filter substrate is manufactured. Next, the spacers are sprayed on the color filter substrate. Next, the upper side substrate to be opposite to the color filter substrate is stuck thereto via a sealant. Thus, a liquid crystal display device is manufactured. In the liquid crystal display device, as a portion of the light leakage region of each spacer is light shielded with the reflection layer in a transmissive display mode, a bright spot caused by the light leakage of the spacer is displayed through the transmissive part in small size. Consequently the display quality is prevented from lowering. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、スペーサ周囲の光漏れによる画質低下を防止した半透過反射型の液晶装置、及びその液晶装置を備える電子機器に関する。   The present invention relates to a transflective liquid crystal device that prevents deterioration in image quality due to light leakage around a spacer, and an electronic apparatus including the liquid crystal device.

従来から、外光を利用した反射型表示と、バックライト等の照明光を利用した透過型表示とのいずれをも視認可能とした半透過反射型の液晶表示装置が知られている。半透過反射型の液晶表示装置は、例えば、液晶表示装置を構成する基板上に、開口部を有する反射層を設け、反射層の反射面の背面側にバックライト等の光源を設けて構成される。この構成によると、反射層の反射面側から入射した外光は液晶層を通過し、反射層で反射されて再び液晶層を通過して外部へ出射する。これにより、反射表示が行われる。一方、光源から発せられた照明光は開口部を通じて液晶層を通過し、外部へ出射する。これにより、透過表示が行われる。こうして、半透過反射型の液晶表示装置は、消費電力を低減しつつ、周囲が明るい場合でも暗い場合でも、品位の高い表示を可能にしている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a transflective liquid crystal display device that makes it possible to visually recognize both a reflective display using external light and a transmissive display using illumination light such as a backlight is known. A transflective liquid crystal display device is configured, for example, by providing a reflective layer having an opening on a substrate constituting the liquid crystal display device, and providing a light source such as a backlight on the back side of the reflective surface of the reflective layer. The According to this configuration, external light incident from the reflective surface side of the reflective layer passes through the liquid crystal layer, is reflected by the reflective layer, passes through the liquid crystal layer again, and is emitted to the outside. Thereby, reflective display is performed. On the other hand, the illumination light emitted from the light source passes through the liquid crystal layer through the opening and is emitted to the outside. Thereby, transmissive display is performed. Thus, the transflective liquid crystal display device enables high-quality display regardless of whether the surrounding is bright or dark, while reducing power consumption.

しかしながら、特に基板間にランダムに配置されたスペーサによって基板を支持する方式の液晶表示装置では、スペーサ周囲に液晶の配向乱れが生じ、その部分では適切な光学補償が行われない。これは特に透過型表示時にスペーサ周囲の光漏れとして目に見え、これにより、表示画像のコントラストの低下、ひいては表示品位の低下を招く。   However, particularly in a liquid crystal display device of a type in which a substrate is supported by spacers randomly arranged between the substrates, liquid crystal alignment is disturbed around the spacers, and appropriate optical compensation is not performed in that portion. This is particularly visible as light leakage around the spacer during transmissive display, and this causes a reduction in the contrast of the display image, and consequently a reduction in display quality.

即ち、液晶表示装置は、液晶層の厚さ(セル厚)を均一にするため一対の基板間にスペーサを保持しており、このスペーサはスペーサ散布装置などにより、一方の基板上にランダムに配置される。このため、反射層の開口部上にもスペーサが配置される。この開口部は透過表示領域を規定するものであり、通常、スペーサの面積よりも大きく形成されている。   That is, the liquid crystal display device holds a spacer between a pair of substrates in order to make the liquid crystal layer thickness (cell thickness) uniform, and this spacer is randomly arranged on one substrate by a spacer spraying device or the like. Is done. For this reason, a spacer is also disposed on the opening of the reflective layer. The opening defines a transmissive display area and is usually formed larger than the area of the spacer.

したがって、透過型表示の場合、光源から発せられた照明光は開口部を通過し、開口部上に配置されたスペーサ部にも照射される。液晶層内の液晶分子は配向膜により配向が一様に制御されているが、スペーサの存在により、スペーサの周囲には配向乱れが生じるため、スペーサの周囲には配向乱れによる光漏れが生じ、表示品位が低下する。   Therefore, in the case of the transmissive display, the illumination light emitted from the light source passes through the opening and is also applied to the spacer portion arranged on the opening. The alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is uniformly controlled by the alignment film, but due to the presence of the spacer, alignment disturbance occurs around the spacer, so light leakage due to alignment disturbance occurs around the spacer. Display quality deteriorates.

特に、透過型表示時に黒表示をさせたときには、そのような光漏れによりスペーサの部分が小さな輝点のように表示されてしまい、表示品位が低下してしまうという問題が生じている。   In particular, when black display is performed during transmissive display, such a light leakage causes the spacer portion to be displayed like a small bright spot, resulting in a problem that display quality is deteriorated.

このような問題を解消するために、例えば、スペーサ粒子に皮膜を形成することにより、スペーサ周囲の液晶の配向乱れを抑制し、表示画像に色むらなどが生じないようにした液晶表示装置が提案されている(例えば、特許文献1を参照)。この特許文献1によれば、コア粒子表面にZrO皮膜層を形成してスペーサ粒子を製造し、そのスペーサ粒子を液晶表示装置に適用することにより、スペーサ粒子周囲の液晶の配向乱れを抑制し、表示画像に色むらなどが生じないようにしている。 In order to solve such problems, for example, a liquid crystal display device is proposed in which a coating film is formed on the spacer particles to suppress the alignment disorder of the liquid crystal around the spacer and to prevent color irregularities in the display image. (For example, refer to Patent Document 1). According to Patent Document 1, a ZrO 2 coating layer is formed on the surface of core particles to produce spacer particles, and the spacer particles are applied to a liquid crystal display device, thereby suppressing alignment disorder of the liquid crystal around the spacer particles. The display image does not cause uneven color.

また、スペーサを画素と画素の間の領域にのみ配置させることにより、スペーサ周囲の光漏れの問題をなくして表示品質、表示性能を向上させた液晶表示装置が提案されている(例えば、特許文献2を参照)。   In addition, there has been proposed a liquid crystal display device in which display quality and display performance are improved by disposing a spacer only in a region between pixels so as to eliminate the problem of light leakage around the spacer (for example, Patent Documents). 2).

しかしながら、上記のような液晶表示装置においては、配向を制御する特殊な被膜を有するスペーサを使用したり、スペーサの配置を制御する必要があるため、コスト増や生産効率の低下などを招くという問題がある。   However, in the liquid crystal display device as described above, it is necessary to use a spacer having a special film for controlling the orientation or to control the arrangement of the spacer, which causes an increase in cost and a decrease in production efficiency. There is.

特開2002−90754号公報JP 2002-90754 A 特開平5−216048号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-216048

本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、製造工程やスペーサ粒子を変更することなく、スペーサ周囲の光漏れを抑制して表示品位の低下を防止することが可能な半透過反射型の液晶装置、及びその液晶装置を備える電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to suppress the light leakage around the spacer and prevent the deterioration of display quality without changing the manufacturing process or the spacer particles. An object of the present invention is to provide a liquid crystal device of a type and an electronic apparatus including the liquid crystal device.

本発明の1つの観点では、スペーサを介して対向配置されてなる一対の基板に液晶が挟持されてなる液晶装置は、反射部と透過部を含む画素を有し、前記透過部は、前記スペーサに起因する光抜け領域の幅よりも狭い部分を備えてなる。   In one aspect of the present invention, a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates that are opposed to each other via a spacer includes a pixel including a reflective portion and a transmissive portion, and the transmissive portion includes the spacer. It is provided with a portion that is narrower than the width of the light leakage region caused by the above.

上記の液晶装置は、各画素領域内、例えばサブ画素内に反射部と透過部を有している。透過部は、スペーサに起因する光抜け領域の幅よりも狭い部分を備えている。その光抜け領域の幅は、スペーサの直径の3倍とすることができる。   The above liquid crystal device has a reflective portion and a transmissive portion in each pixel region, for example, in a sub-pixel. The transmission part includes a portion that is narrower than the width of the light leakage region caused by the spacer. The width of the light escape region can be three times the diameter of the spacer.

よって、この液晶装置によれば、透過型表示の際に、スペーサの周囲に生じる光漏れ領域(光抜け領域、以下同じ)の一部分は反射部などにより遮光され、残りの光漏れ領域の部分が透過部を通じて微小な輝点として表示される。つまり、この場合、光漏れ領域の全体が透過部を通じて表示されるのを抑制できるので、スペーサの光漏れによる輝点を小さくすることができる。よって、表示品位の低下を防止することができる。   Therefore, according to this liquid crystal device, in the transmissive display, a part of the light leakage area (light leakage area, the same applies hereinafter) generated around the spacer is shielded by the reflection part, and the remaining light leakage area part is blocked. It is displayed as a fine bright spot through the transmission part. That is, in this case, since it is possible to suppress the entire light leakage area from being displayed through the transmission part, it is possible to reduce the bright spot due to the light leakage of the spacer. Accordingly, it is possible to prevent display quality from being deteriorated.

透過部の一部分の幅を細くするとその分だけ透過型表示時の表示画像の明るさが低下することになるが、サブ画素内に透過部を複数形成することにより、全体としての透過表示領域の面積を同等とすれば、透過型表示時の表示画像の明るさ不足が生じることはない。   If the width of a part of the transmissive part is narrowed, the brightness of the display image at the transmissive display will be reduced by that amount. However, by forming a plurality of transmissive parts in the sub-pixel, the entire transmissive display area is reduced. If the areas are made equal, the brightness of the display image at the time of transmissive display will not be insufficient.

さらに、透過部がスペーサの直径より狭い部分を有すれば、各スペーサの光漏れによる輝点をより一層小さくすることができ、より一層、表示品位の低下を防止することができる。   Furthermore, if the transmissive portion has a portion narrower than the diameter of the spacer, the bright spot due to light leakage of each spacer can be further reduced, and the display quality can be further prevented from being deteriorated.

上記の液晶装置の一態様では、スペーサを介して対向配置されてなる一対の基板に液晶が挟持されてなる液晶装置は、反射部と透過部を含む画素を有し、前記透過部は、前記画素内に複数の線分を有し、各前記線分の幅は、前記スペーサに起因する光抜け領域の幅よりも狭い部分を備えてなる。   In one mode of the above liquid crystal device, a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates that are opposed to each other with a spacer includes pixels including a reflective portion and a transmissive portion, The pixel has a plurality of line segments, and each line segment has a width narrower than the width of the light leakage region caused by the spacer.

この態様によれば、各画素領域内、例えばサブ画素内に透過部は複数の線分を有し、各線分の幅は、スペーサに起因する光抜け領域の幅よりも狭い部分を備えることができる。これにより、透過型表示の際に、スペーサの周囲に生じる光漏れ領域の一部分は反射部などにより遮光され、残りの光漏れ領域の部分が透過部内のスペーサに起因する光抜け領域の幅よりも狭い部分を通じて微小な輝点として表示される。よって、表示品位の低下を防止することができる。   According to this aspect, the transmissive portion has a plurality of line segments in each pixel region, for example, in the sub-pixel, and the width of each line segment has a portion narrower than the width of the light leakage region caused by the spacer. it can. As a result, in the transmissive display, a part of the light leakage area generated around the spacer is shielded by the reflecting part, and the remaining part of the light leakage area is larger than the width of the light leakage area caused by the spacer in the transmissive part. It is displayed as a small bright spot through a narrow part. Accordingly, it is possible to prevent display quality from being deteriorated.

上記の液晶装置の他の一態様では、スペーサを介して対向配置されてなる一対の基板に液晶が挟持されてなる液晶装置は、反射部と透過部を含む画素を有し、前記スペーサに起因する光抜け領域は前記透過部の幅をまたがるようにすることができる。   In another mode of the above liquid crystal device, a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates that are opposed to each other with a spacer includes pixels including a reflective portion and a transmissive portion, and is attributed to the spacer. The light escape region to be spread may span the width of the transmission part.

これにより、透過型表示の際に、スペーサの周囲に生じる光漏れ領域の一部分は反射部などにより遮光され、残りの光漏れ領域の部分が透過部を通じて微小な輝点として表示される。よって、表示品位の低下を防止することができる。   As a result, in the transmissive display, a part of the light leakage area generated around the spacer is shielded by the reflection part or the like, and the remaining part of the light leakage area is displayed as a minute bright spot through the transmission part. Accordingly, it is possible to prevent display quality from being deteriorated.

なお、上記の液晶装置を有する電子機器を構成することができる。   Note that an electronic device including the above liquid crystal device can be formed.

以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。尚、以下の実施形態は、本発明を液晶表示装置に適用したものである。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, the present invention is applied to a liquid crystal display device.

本実施形態は、製造工程やスペーサを変更することなく、スペーサ周囲の光漏れを抑制して表示品位の低下を防止するものである。   In the present embodiment, the light leakage around the spacer is suppressed and the display quality is prevented from deteriorating without changing the manufacturing process or the spacer.

[第1実施形態]
第1実施形態は、サブ画素毎に形成される透過部の幅を適切な値とすることにより、スペーサ周囲に生じる光漏れを抑制して表示品位の低下を防止するものである。
[First embodiment]
In the first embodiment, by setting the width of the transmissive portion formed for each sub-pixel to an appropriate value, light leakage that occurs around the spacer is suppressed and deterioration of display quality is prevented.

まず、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置の構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここに、図1は、液晶表示装置100を模式的に示す概略断面図であり、図2は、図1に示す液晶表示装置100の平面構造を模式的に示す概略平面図である。図1及び図2に示す液晶表示装置はいわゆるパッシブマトリクス駆動方式である。   First, the configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display device 100, and FIG. 2 is a schematic plan view schematically showing the planar structure of the liquid crystal display device 100 shown in FIG. The liquid crystal display device shown in FIGS. 1 and 2 is a so-called passive matrix driving method.

図1において、この液晶表示装置100は、ガラスやプラスチック等の材料からなる上側基板1と、その上側基板1と同様の材料からなる下側基板2とがシール材3を介して貼り合わせられ、内部に液晶が封入されて液晶層4が形成されてなる。   In FIG. 1, the liquid crystal display device 100 includes an upper substrate 1 made of a material such as glass or plastic and a lower substrate 2 made of the same material as that of the upper substrate 1, bonded together with a sealing material 3. A liquid crystal layer 4 is formed by enclosing liquid crystal therein.

下側基板2の内面上には、RGB3色のいずれかのサブ画素(サブピクセル)SG毎に、所定の厚みを有する反射層5が形成されている。各反射層5内には、矩形状の透過部50(以下、「透過表示領域」とも呼ぶ。)が複数形成されている。透過部50の幅D1は、後述するスペーサ7の直径を3倍した値より小さい。各反射層5は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金等の薄膜により形成することができる。透過部50は、下側基板2の内面上に縦横にマトリクス状に配列されたサブ画素SG毎に、当該サブ画素SGの全面積を基準として所定割合の面積を有するように形成されている。   On the inner surface of the lower substrate 2, a reflective layer 5 having a predetermined thickness is formed for each of the subpixels (subpixels) SG of three colors of RGB. A plurality of rectangular transmissive portions 50 (hereinafter also referred to as “transmissive display areas”) are formed in each reflective layer 5. The width D1 of the transmission part 50 is smaller than a value obtained by triple the diameter of the spacer 7 described later. Each reflective layer 5 can be formed of a thin film such as aluminum, an aluminum alloy, or a silver alloy. The transmissive part 50 is formed so as to have an area of a predetermined ratio on the basis of the total area of the sub-pixel SG for each sub-pixel SG arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions on the inner surface of the lower substrate 2.

反射層5上であって且つ各サブ画素SGの間には、サブ画素間に存在する非点灯領域を遮光するため、黒色遮光層BMが形成されている。この黒色遮光層BMは、黒色の樹脂材料、例えば黒色の顔料を樹脂中に分散させたもの等を用いることが可能である。なお、本発明では、これに代えて、R、G、Bの着色層が相互に重ね合わされて形成された重ね遮光層(図示略)を用いてもよい。   A black light-shielding layer BM is formed between the sub-pixels SG on the reflective layer 5 in order to shield non-lighting regions existing between the sub-pixels. The black light shielding layer BM can be made of a black resin material, for example, a black pigment dispersed in a resin. In the present invention, instead of this, an overlapping light shielding layer (not shown) formed by overlapping R, G, and B colored layers may be used.

また、反射層5上及び透過部50上には、サブ画素SG毎にR、G、Bの三色のいずれかからなる着色層6R、6G、及び6Bが形成されている。着色層6R、6G及び6Bによりカラーフィルタが構成される。画素Gは、R、G、Bのサブ画素SGから構成されるカラー1画素分の領域を示している。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層6」と記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層6R」などと記す。また、図1に示すように、透過部50上に形成された着色層6R、6G、及び6Bの厚さは、反射層5上に形成された着色層6R、6G、及び6Bの厚さよりも厚く形成されている。これにより、着色層6は、反射型表示モードと透過型表示モードとにおいて夫々所望の色相及び明るさを呈するように設計されている。   In addition, on the reflective layer 5 and the transmissive portion 50, colored layers 6R, 6G, and 6B made of any of the three colors R, G, and B are formed for each subpixel SG. A color filter is constituted by the colored layers 6R, 6G, and 6B. A pixel G indicates a region for one color pixel composed of R, G, and B sub-pixels SG. In the following description, when referring to a colored layer regardless of color, it is simply referred to as “colored layer 6”, and when referring to a colored layer by distinguishing colors, it is referred to as “colored layer 6R” or the like. Moreover, as shown in FIG. 1, the thickness of the colored layers 6R, 6G, and 6B formed on the transmissive portion 50 is larger than the thickness of the colored layers 6R, 6G, and 6B formed on the reflective layer 5. It is formed thick. Thus, the colored layer 6 is designed to exhibit a desired hue and brightness in the reflective display mode and the transmissive display mode, respectively.

着色層6及び黒色遮光層BMの上には、透明樹脂等からなる保護層8が形成されている。この保護層8は、本実施形態に係るカラーフィルタ基板101及び液晶表示装置100の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から、着色層6を保護する機能を有する。   A protective layer 8 made of a transparent resin or the like is formed on the colored layer 6 and the black light shielding layer BM. The protective layer 8 has a function of protecting the colored layer 6 from corrosion and contamination due to chemicals used during the manufacturing process of the color filter substrate 101 and the liquid crystal display device 100 according to the present embodiment.

保護層8の表面上には、ストライプ状のITO(Indium-Tin Oxide)などの透明電極9が形成され、対向する上側基板1の内面上には、そのストライプ状の透明電極9と交差する方向に、やはりストライプ状の透明電極10が形成されている。   A transparent electrode 9 such as striped ITO (Indium-Tin Oxide) is formed on the surface of the protective layer 8, and a direction intersecting with the striped transparent electrode 9 is formed on the inner surface of the upper substrate 1 that faces the protective layer 8. In addition, a striped transparent electrode 10 is also formed.

下側基板2上の透明電極9上、及び保護層8上には、配向膜17が形成されている。また、上側基板1上の透明電極10上には配向膜16が形成されている。   An alignment film 17 is formed on the transparent electrode 9 on the lower substrate 2 and the protective layer 8. An alignment film 16 is formed on the transparent electrode 10 on the upper substrate 1.

配向膜16と配向膜17との間には、液晶層4の厚さを均一に保持するために粒子状のスペーサ7がランダムに配置されている。スペーサ7の材料としては、シリカや樹脂などを主成分とするものが好ましい。スペーサ7の直径D2は、通常、約6μm程度であり、設計上の要求セル厚に応じて決定される。   Between the alignment film 16 and the alignment film 17, particulate spacers 7 are randomly arranged in order to keep the thickness of the liquid crystal layer 4 uniform. As a material of the spacer 7, a material mainly composed of silica, resin, or the like is preferable. The diameter D2 of the spacer 7 is usually about 6 μm and is determined according to the required cell thickness in design.

なお、本実施形態では、下側基板2、反射層5、着色層6、保護層8、透明電極9、配向膜17により構成される部分をカラーフィルタ基板101と呼んでいる。   In the present embodiment, a portion constituted by the lower substrate 2, the reflective layer 5, the colored layer 6, the protective layer 8, the transparent electrode 9, and the alignment film 17 is called a color filter substrate 101.

下側基板2の外面上には、位相差板(1/4波長板)11及び偏光板12が配置されており、上側基板1の外面上には、位相差板13及び偏光板14が配置されている。また、偏光板12の下側には、冷陰極蛍光管や白色LED等を用いたバックライト15が配置されている。   On the outer surface of the lower substrate 2, a phase difference plate (¼ wavelength plate) 11 and a polarizing plate 12 are arranged. On the outer surface of the upper substrate 1, a phase difference plate 13 and a polarizing plate 14 are arranged. Has been. A backlight 15 using a cold cathode fluorescent tube, a white LED or the like is disposed below the polarizing plate 12.

本実施形態の液晶表示装置100において反射型表示がなされる場合、液晶表示装置100に入射した外光は、図1に示す経路Rに沿って進行する。つまり、液晶表示装置100に入射した外光は、反射表示領域、即ち、反射層5によって反射され、観察者に至る。この場合、その外光は、着色層6が形成されている領域を通過して、その着色層6の下側にある反射層5により反射され、再度着色層6を通過することによって所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   When reflective display is performed in the liquid crystal display device 100 of the present embodiment, external light that has entered the liquid crystal display device 100 travels along a path R shown in FIG. That is, the external light incident on the liquid crystal display device 100 is reflected by the reflective display region, that is, the reflective layer 5 and reaches the observer. In this case, the external light passes through the region where the colored layer 6 is formed, is reflected by the reflective layer 5 below the colored layer 6, and passes through the colored layer 6 again to have a predetermined hue. And brightness. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

一方、透過型表示がなされる場合、バックライト15から出射した照明光は、図1に示す経路Tに沿って進行し、透過表示領域、即ち、透過部50上の着色層6を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、着色層6を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   On the other hand, when transmissive display is performed, the illumination light emitted from the backlight 15 travels along the path T shown in FIG. 1 and passes through the transmissive display region, that is, the colored layer 6 on the transmissive portion 50. To the observer. In this case, the illumination light has a predetermined hue and brightness by passing through the colored layer 6. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

次に、透過型表示モードにおける、透過部50の幅と、スペーサ7の周囲に生じる光漏れの大きさとの関係について検討する。ここでは、図2に示すように、透過部50及びスペーサ7を上方から平面視した状態を想定して説明する。   Next, the relationship between the width of the transmissive part 50 and the magnitude of light leakage generated around the spacer 7 in the transmissive display mode will be examined. Here, as shown in FIG. 2, description will be made assuming a state in which the transmission part 50 and the spacer 7 are viewed from above.

スペーサを有する半透過反射型の液晶表示装置では、透過型表示時にそのスペーサ周囲の液晶の配向状態の乱れに起因してスペーサの周囲に光漏れが生じる。これにより、表示画像のコントラストなどが低下するため、表示品位が低下するという現象が生じる。   In a transflective liquid crystal display device having a spacer, light leaks around the spacer due to the disorder of the alignment state of the liquid crystal around the spacer during transmissive display. As a result, the contrast of the display image and the like are lowered, resulting in a phenomenon that the display quality is lowered.

かかるスペーサ周囲に生じる光漏れの領域(以下「光漏れ領域」と呼ぶ。)は、図1及び図2に模式的に示すように、一般的に、スペーサの直径の3倍程度の直径を有する円形領域となる。   A region of light leakage generated around the spacer (hereinafter referred to as “light leakage region”) generally has a diameter of about three times the diameter of the spacer, as schematically shown in FIGS. It becomes a circular area.

したがって、従来の半透過反射型の液晶表示装置のように、透過表示領域が光漏れ領域よりも大きく形成されている場合、透過型表示モード時に光漏れ領域において透過光の光漏れが生じ、それが小さな「輝点」のように観察される。このため、特に黒表示のときにコントラストが低下し、表示品位が低下するという問題が生じている。   Therefore, when the transmissive display area is formed larger than the light leakage area as in a conventional transflective liquid crystal display device, light leakage of transmitted light occurs in the light leakage area during the transmissive display mode. Are observed as small “bright spots”. For this reason, there is a problem that the contrast is lowered and the display quality is lowered particularly during black display.

このような現象を抑制するために、本発明では、全体としての透過表示領域の大きさは変えずに、透過部の幅を光漏れ領域の直径よりも小さくする。即ち、透過表示領域の全体の大きさ自体を変えないで、幅を狭くした複数の透過部により透過表示領域を構成する。よって、光源から透過表示領域を通過する光量は変わらないため、透過型表示時の表示画像の明るさが減少することはない。また、各透過部の幅を光漏れ領域の直径よりも小さくしているので、光漏れ領域の一部分は反射層と重なり合う。このため、透過型表示において、その重なり合った光漏れ領域の一部分は遮光され、透過表示領域内に位置する残りの光漏れ領域の部分のみが微少な輝点として観察される。これにより、透過型表示時に、透過表示領域を通じて表示される各スペーサの光漏れによる輝点を小さくすることができる。   In order to suppress such a phenomenon, in the present invention, the width of the transmissive portion is made smaller than the diameter of the light leakage region without changing the size of the transmissive display region as a whole. That is, the transmissive display area is configured by a plurality of transmissive portions having a narrow width without changing the overall size of the transmissive display area. Therefore, the amount of light passing through the transmissive display area from the light source does not change, and the brightness of the display image during transmissive display is not reduced. Moreover, since the width of each transmission part is made smaller than the diameter of the light leakage region, a part of the light leakage region overlaps the reflective layer. For this reason, in the transmissive display, a part of the overlapping light leakage area is shielded, and only the remaining light leakage area located in the transmissive display area is observed as a minute bright spot. Thereby, the luminescent spot by the light leakage of each spacer displayed through a transmissive display area at the time of transmissive display can be reduced.

透過表示領域の透過部50の幅D1は、具体的に、
(透過部50の幅:D1)<(光漏れ領域7aの直径:D3)
=(スペーサ7の直径:D2)×3
と規定される。
Specifically, the width D1 of the transmissive portion 50 in the transmissive display area is as follows.
(Width of transmission part 50: D1) <(Diameter of light leakage region 7a: D3)
= (Diameter of spacer 7: D2) × 3
It is prescribed.

これにより、本実施形態の液晶表示装置100は、図2に示すように、光漏れ領域7aの一部分が反射層5と重なり合っており、残りの光漏れ領域7aの部分が透過部50の位置に配置されている。このため、本実施形態の液晶表示装置100において、透過型表示がなされる場合、透過部50を通じて表示される各スペーサの光漏れによる輝点を小さく表示することができる。よって、表示品位の低下を防止することができる。   Thereby, in the liquid crystal display device 100 of the present embodiment, as shown in FIG. 2, a part of the light leakage area 7 a overlaps the reflective layer 5, and the remaining light leakage area 7 a is located at the position of the transmission part 50. Has been placed. For this reason, in the liquid crystal display device 100 of the present embodiment, when transmissive display is performed, a bright spot due to light leakage of each spacer displayed through the transmissive portion 50 can be displayed small. Accordingly, it is possible to prevent display quality from being deteriorated.

尚、透過部50の幅D1をスペーサ7の直径D2よりも小さくすれば、透過部50を通じて表示される各スペーサ7の光漏れによる輝点をさらに小さくすることができ、より一層、表示品位の低下を防止することができる。なお、透過部50の幅を狭くした領域分だけ、サブ画素SG内に透過部50を複数形成しているので透過型表示における表示画像の明るさが減少することはない。   If the width D1 of the transmissive part 50 is made smaller than the diameter D2 of the spacer 7, the bright spot due to light leakage of each spacer 7 displayed through the transmissive part 50 can be further reduced, and the display quality can be further improved. A decrease can be prevented. Note that the brightness of the display image in the transmissive display is not reduced because a plurality of the transmissive portions 50 are formed in the sub-pixel SG by the area where the width of the transmissive portion 50 is narrowed.

なお、上記の実施形態においては、図2に示すように、矩形のサブ画素SGの長辺方向に沿って、サブ画素SG内に透過部50を複数形成している。これに限らず、サブ画素SGの拡大平面図である図3(a)及び(b)に示すように、サブ画素の短辺方向、又は斜め方向に沿って、サブ画素SG内に透過部50を複数形成してもよい。このような形態であっても、図3(a)及び(b)に示すように、透過部50の幅D1は変わらないので、光漏れ領域7aの一部分は反射層5によって必ず遮光される。また、透過部50の幅を狭くした領域分だけ複数の透過部50がサブ画素SG内に形成されるので、透過型表示における表示画像の明るさが不足することもない。   In the above embodiment, as shown in FIG. 2, a plurality of transmission parts 50 are formed in the subpixel SG along the long side direction of the rectangular subpixel SG. Not limited to this, as shown in FIGS. 3A and 3B which are enlarged plan views of the sub-pixel SG, the transmissive portion 50 is provided in the sub-pixel SG along the short-side direction or the oblique direction of the sub-pixel. A plurality of may be formed. Even in such a form, as shown in FIGS. 3A and 3B, the width D1 of the transmission part 50 does not change, so that a part of the light leakage region 7a is always shielded by the reflection layer 5. In addition, since the plurality of transmissive portions 50 are formed in the sub-pixel SG by the area where the width of the transmissive portion 50 is narrowed, the brightness of the display image in the transmissive display is not insufficient.

よって、かかる態様によれば、透過型表示の際に表示画像の明るさの減少が生じることなく、かつ、スペーサ周囲の光漏れによる表示品位の低下を防止することができる。なお、本実施形態では、透過部50の幅D1がスペーサ7の光漏れ領域7aの直径D3よりも小さければ、透過部50の形状や位置や数量などは種々の変形が可能である。   Therefore, according to this aspect, the brightness of the display image does not decrease during the transmissive display, and the display quality can be prevented from being deteriorated due to light leakage around the spacer. In the present embodiment, if the width D1 of the transmission part 50 is smaller than the diameter D3 of the light leakage region 7a of the spacer 7, the shape, position, quantity, etc. of the transmission part 50 can be variously modified.

次に、上述の液晶表示装置100の製造方法について説明する。まず、カラーフィルタ基板101の製造方法について図4を参照して説明する。図4は、各工程における層構造を示す断面図である。   Next, a method for manufacturing the above-described liquid crystal display device 100 will be described. First, a method for manufacturing the color filter substrate 101 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing the layer structure in each step.

先ず、カラーフィルタ基板101を構成する下側基板2上に、反射層5と、その反射層5内に透過部50を形成する(工程P1)。具体的には、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金などの金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜し、これをパターニングして透過部50を形成する。   First, the reflective layer 5 and the transmission part 50 are formed in the reflective layer 5 on the lower substrate 2 constituting the color filter substrate 101 (process P1). Specifically, a metal such as aluminum, an aluminum alloy, or a silver alloy is formed into a thin film by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and is patterned to form the transmission portion 50.

このとき、透過部50の幅D1は、本発明に適用するスペーサ7の直径D2を3倍した値よりも小さく形成される。なお、必要に応じて、透過部50の幅D1は、スペーサ7の直径D2より小さく形成してもよい。但し、この場合、透過部50の幅D1はより一層狭くなるので、その狭くした領域の分だけ透過型表示の際に表示画像の明るさが不足する。したがって、この場合、その狭くした領域の分だけ、サブ画素SG毎に、反射層5内に透過部50を複数形成すれば、その表示画像の明るさ不足を解消することができる。こうして、下側基板2上に、幅D1なる透過部50を有する反射層5が形成される。   At this time, the width D1 of the transmission part 50 is formed to be smaller than a value obtained by triple the diameter D2 of the spacer 7 applied to the present invention. Note that the width D1 of the transmission part 50 may be smaller than the diameter D2 of the spacer 7 as necessary. However, in this case, since the width D1 of the transmissive portion 50 is further narrowed, the brightness of the display image is insufficient in the transmissive display by the amount of the narrowed area. Therefore, in this case, if a plurality of transmission parts 50 are formed in the reflection layer 5 for each subpixel SG by the narrowed area, the insufficient brightness of the display image can be solved. Thus, the reflective layer 5 having the transmission part 50 having the width D1 is formed on the lower substrate 2.

次に、反射層5上に黒色遮光層BMを形成し(工程P2)、その後、下側基板2の透過部50上、及び反射層5上に着色層6R、6G、及び6Bを形成する(工程P3)。具体的には、所定の色相を呈する顔料や染料などを分散させてなる着色された感光性樹脂(感光性レジスト)を塗布し、フォトリソグラフィー法などによってパターニングを行うことにより、反射層5上の所定の領域に黒色遮光層BMを、透過部50上及び反射層5上の所定の領域に着色層6R、6G、及び6Bを形成する。なお、透過部50上に形成される着色層6R、6G、及び6Bの厚さと、反射層5上に形成される着色層6R、6G、及び6Bの厚さは前述のように予め決定される。   Next, the black light-shielding layer BM is formed on the reflective layer 5 (process P2), and then the colored layers 6R, 6G, and 6B are formed on the transmissive portion 50 of the lower substrate 2 and on the reflective layer 5 ( Step P3). Specifically, a colored photosensitive resin (photosensitive resist) formed by dispersing pigments or dyes exhibiting a predetermined hue is applied, and patterning is performed by a photolithography method or the like, whereby the reflective layer 5 is coated. The black light-shielding layer BM is formed in a predetermined area, and the colored layers 6R, 6G, and 6B are formed in predetermined areas on the transmissive portion 50 and the reflective layer 5. The thicknesses of the colored layers 6R, 6G, and 6B formed on the transmission part 50 and the thicknesses of the colored layers 6R, 6G, and 6B formed on the reflective layer 5 are determined in advance as described above. .

次に、黒色遮光層BM及び着色層6上にアクリル樹脂などからなる保護層8を形成する(工程P4)。次に、保護層8に透明導電体をスパッタリング法により被着し、フォトリソグラフィー法によってパターニングすることにより、透明電極9を形成する(工程P5)。その後、保護層8上の領域の一部及び透明電極9上にポリイミド樹脂などからなる配向膜17を形成し、ラビング処理などを施す(工程P6)。以上の各工程を経て、本発明のカラーフィルタ基板101が製造される。   Next, the protective layer 8 made of an acrylic resin or the like is formed on the black light shielding layer BM and the colored layer 6 (process P4). Next, the transparent electrode 9 is formed by depositing a transparent conductor on the protective layer 8 by sputtering and patterning by photolithography (process P5). Thereafter, an alignment film 17 made of polyimide resin or the like is formed on part of the region on the protective layer 8 and on the transparent electrode 9, and a rubbing treatment or the like is performed (step P6). The color filter substrate 101 of the present invention is manufactured through the above steps.

次に、こうして得られたカラーフィルタ側基板101を用いて、図1に示す液晶表示
装置100を製造する方法について図5を参照して説明する。図5は、液晶表示装置100の製造工程を示す流れ図である。
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 100 shown in FIG. 1 using the color filter side substrate 101 thus obtained will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a flowchart showing a manufacturing process of the liquid crystal display device 100.

先ず、上記の方法により、カラーフィルタ基板101を製造し(工程S1)、スペーサ散布装置によりカラーフィルタ基板101上に粒子状のスペーサ7を散布する(工程S2)。
尚、カラーフィルタ基板101の構成要素である透明電極9上には、上記したように既に配向膜やラビリング処理などが施されている。一方、カラーフィルタ基板101と対向する上側基板1を製造し(工程S3)、上記同様の方法により透明電極10を形成し(工程S4)、さらに透明電極10上に配向膜16を形成し、ラビング処理などを施す(工程S5)。尚、上記においては、カラーフィルタ基板101上にスペーサ7を散布するようにしているが、これに限らず、上側基板1上にスペーサ7を散布するようにしてもよい。
First, the color filter substrate 101 is manufactured by the above method (step S1), and the particulate spacers 7 are sprayed on the color filter substrate 101 by the spacer spraying device (step S2).
Note that, as described above, the alignment film and the rubbing process have already been performed on the transparent electrode 9 which is a component of the color filter substrate 101. On the other hand, the upper substrate 1 facing the color filter substrate 101 is manufactured (step S3), the transparent electrode 10 is formed by the same method as described above (step S4), and the alignment film 16 is further formed on the transparent electrode 10 to be rubbed. Processing is performed (step S5). In the above description, the spacers 7 are dispersed on the color filter substrate 101. However, the present invention is not limited to this, and the spacers 7 may be dispersed on the upper substrate 1.

そして、シール材3を介して、上記のカラーフィルタ基板101と上側基板1を貼り合わせて、パネル構造を構成する(工程S6)。カラーフィルタ基板101と上側基板1とは、基板間に分散配置されたスペーサ7によって、ほぼ規定の基板間隔となるように配置される。   Then, the color filter substrate 101 and the upper substrate 1 are bonded together through the sealing material 3 to constitute a panel structure (step S6). The color filter substrate 101 and the upper substrate 1 are arranged so as to have a substantially prescribed substrate interval by the spacers 7 distributed between the substrates.

その後、シール材3の開口部から液晶を注入し、シール材3の開口部を紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する(工程S7)。こうして主要なパネル構造が完成した後に、位相差板11、13や偏光板12、14などを必要に応じてパネル構造の外面上に貼着などの方法によって取り付け(工程S8)、図1に示す液晶表示装置100が製造される。   Thereafter, liquid crystal is injected from the opening of the sealing material 3, and the opening of the sealing material 3 is sealed with a sealing material such as an ultraviolet curable resin (step S7). After the main panel structure is completed in this way, the retardation plates 11 and 13 and the polarizing plates 12 and 14 are attached to the outer surface of the panel structure as needed by a method such as sticking (step S8), as shown in FIG. The liquid crystal display device 100 is manufactured.

本発明においては、上記のようなパッシブマトリクス方式の液晶表示装置100の構成に代えて、一方の基板上にいわゆる画素電極、他方の基板上に対向電極(共通電極)を備えることにより、アクティブマトリクス駆動が可能なアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を構成してもよい。   In the present invention, instead of the configuration of the passive matrix liquid crystal display device 100 as described above, a so-called pixel electrode is provided on one substrate, and a counter electrode (common electrode) is provided on the other substrate, whereby an active matrix is provided. An active matrix liquid crystal display device that can be driven may be configured.

図6に、本発明をTFD素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置200に適用した例を示す。図6に示す液晶表示装置200は、図1に示す液晶表示装置100における上側基板1が素子基板として構成される。上側基板1の領域212の拡大図に示すように、上側基板1上にはTFD素子210と、画素電極211とが交互に形成されている。領域212の画素電極211に対応する下側基板2の領域には、R(赤)の着色層6Rが形成され、領域212のTFD素子210に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。また、上側基板1の領域213及び領域214においても、上記同様に上側基板1上にTFD素子210と、画素電極211とが交互に形成されている。領域213の画素電極211に対応する下側基板2の領域にG(緑)の着色層6Gが形成され、領域213のTFD素子210に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。また、領域214の画素電極211に対応する下側基板2の領域にB(青)の着色層6Bが形成され、領域214のTFD素子210に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。   FIG. 6 shows an example in which the present invention is applied to an active matrix liquid crystal display device 200 using a TFD element. In the liquid crystal display device 200 shown in FIG. 6, the upper substrate 1 in the liquid crystal display device 100 shown in FIG. 1 is configured as an element substrate. As shown in the enlarged view of the region 212 of the upper substrate 1, the TFD elements 210 and the pixel electrodes 211 are alternately formed on the upper substrate 1. An R (red) colored layer 6R is formed in a region of the lower substrate 2 corresponding to the pixel electrode 211 in the region 212, and a black light-shielding layer BM is formed in a region corresponding to the TFD element 210 in the region 212. . Also in the region 213 and the region 214 of the upper substrate 1, the TFD elements 210 and the pixel electrodes 211 are alternately formed on the upper substrate 1 in the same manner as described above. A G (green) colored layer 6G is formed in a region of the lower substrate 2 corresponding to the pixel electrode 211 in the region 213, and a black light shielding layer BM is formed in a region corresponding to the TFD element 210 in the region 213. Further, the B (blue) colored layer 6B is formed in the region of the lower substrate 2 corresponding to the pixel electrode 211 in the region 214, and the black light shielding layer BM is formed in the region corresponding to the TFD element 210 in the region 214. .

また、図7に、本実施形態をTFT素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置300に適用した例を示す。図7に示す液晶表示装置300は、図1に示す液晶表示装置100における上側基板1が素子基板として構成される。上側基板1の領域312の拡大図に示すように、上側基板1上にTFT素子310と、画素電極311とが交互に形成されている。領域312の画素電極311に対応する下側基板2の領域には、R(赤)の着色層6Rが形成され、領域312のTFT素子310に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。また、上側基板1の領域313及び領域314においても、上記同様に上側基板1上にTFT素子310と、画素電極311とが交互に形成されている。領域313の画素電極311に対応する下側基板2の領域にG(緑)の着色層6Gが形成され、領域313のTFT素子310に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。また、領域314の画素電極311に対応する下側基板2の領域にB(青)の着色層6Bが形成され、領域314のTFT素子310に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。   FIG. 7 shows an example in which the present embodiment is applied to an active matrix type liquid crystal display device 300 using TFT elements. In the liquid crystal display device 300 shown in FIG. 7, the upper substrate 1 in the liquid crystal display device 100 shown in FIG. 1 is configured as an element substrate. As shown in the enlarged view of the region 312 of the upper substrate 1, the TFT elements 310 and the pixel electrodes 311 are alternately formed on the upper substrate 1. An R (red) colored layer 6R is formed in the region of the lower substrate 2 corresponding to the pixel electrode 311 in the region 312, and a black light shielding layer BM is formed in the region corresponding to the TFT element 310 in the region 312. . Also in the region 313 and the region 314 of the upper substrate 1, the TFT elements 310 and the pixel electrodes 311 are alternately formed on the upper substrate 1 as described above. A G (green) colored layer 6G is formed in a region of the lower substrate 2 corresponding to the pixel electrode 311 in the region 313, and a black light shielding layer BM is formed in a region corresponding to the TFT element 310 in the region 313. Further, a B (blue) colored layer 6B is formed in the region of the lower substrate 2 corresponding to the pixel electrode 311 in the region 314, and a black light-shielding layer BM is formed in the region corresponding to the TFT element 310 in the region 314. .

[第2実施形態]
第2実施形態は、上側基板と下側基板とを貼着させた状態において、上側基板の内面上に形成された黒色遮光膜BMの開口部の周縁と、下側基板の内面上に形成された反射層の外周縁との間隔を所定の長さにすることにより、スペーサ周囲の光漏れを抑制して表示品位の低下を防止するものである。尚、本実施形態において、第1実施形態と同様の部分は省略又は簡略化して説明する。また、第1実施形態と同一の部材は、原則として同一の符号を付して説明する。
[Second Embodiment]
The second embodiment is formed on the peripheral edge of the opening of the black light shielding film BM formed on the inner surface of the upper substrate and the inner surface of the lower substrate in a state where the upper substrate and the lower substrate are adhered. By setting the distance from the outer peripheral edge of the reflective layer to a predetermined length, light leakage around the spacer is suppressed and display quality is prevented from deteriorating. In addition, in this embodiment, the part similar to 1st Embodiment is abbreviate | omitted or simplified and demonstrated. Moreover, the same member as 1st Embodiment attaches | subjects and demonstrates the same code | symbol in principle.

まず、本発明の第2実施形態に係る液晶表示装置の構成について、図8及び図9を参照して説明する。ここに、図8は、液晶表示装置400を模式的に示す概略断面図であり、図9は、図8に示す液晶表示装置400の平面構造を模式的に示す概略平面図である。図8及び図9に示す液晶表示装置はいわゆるパッシブマトリクス駆動方式である。   First, the configuration of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a schematic sectional view schematically showing the liquid crystal display device 400, and FIG. 9 is a schematic plan view schematically showing the planar structure of the liquid crystal display device 400 shown in FIG. The liquid crystal display device shown in FIGS. 8 and 9 is a so-called passive matrix driving method.

図8において、この液晶表示装置400は、ガラスやプラスチック等の材料からなる上側基板1と、その上側基板1と同様の材料からなる下側基板2とがシール材3を介して貼り合わせられ、内部に液晶が封入されて液晶層4が形成されてなる。   In this liquid crystal display device 400, an upper substrate 1 made of a material such as glass or plastic and a lower substrate 2 made of the same material as the upper substrate 1 are bonded to each other through a sealing material 3 in FIG. A liquid crystal layer 4 is formed by enclosing liquid crystal therein.

下側基板2の内面上には、サブ画素SG毎に、所定の厚みを有する反射層25が形成されている。各反射層25は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金等などの金属を薄膜状に成膜したものであり、サブ画素SGの電極としても機能する。各反射層25上には、ストライプ状の透明電極20が形成されている。下側基板2上の所定の領域、及び透明電極20上には、保護層24が形成されている。この保護層24は、本実施形態に係る液晶表示装置400の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から、透明電極20などを保護する機能を有する。保護層24上には配向膜30が形成されている。   On the inner surface of the lower substrate 2, a reflective layer 25 having a predetermined thickness is formed for each subpixel SG. Each reflective layer 25 is formed by depositing a metal such as aluminum, an aluminum alloy, or a silver alloy into a thin film, and also functions as an electrode of the sub-pixel SG. On each reflective layer 25, a striped transparent electrode 20 is formed. A protective layer 24 is formed on a predetermined region on the lower substrate 2 and on the transparent electrode 20. The protective layer 24 has a function of protecting the transparent electrode 20 and the like from corrosion and contamination due to chemicals and the like used during the manufacturing process of the liquid crystal display device 400 according to the present embodiment. An alignment film 30 is formed on the protective layer 24.

上側基板1の内面上には、サブ画素SG毎に、所定の厚みを有する着色層26R、26G及び26Bが形成されている。着色層26R、26G及び26Bによりカラーフィルタが構成される。画素Gは、R、G、Bのサブ画素SGから構成されるカラー1画素分の領域を示している。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層26」と記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層26R」などと記す。   On the inner surface of the upper substrate 1, colored layers 26R, 26G, and 26B having a predetermined thickness are formed for each sub-pixel SG. A color filter is constituted by the colored layers 26R, 26G, and 26B. A pixel G indicates a region for one color pixel composed of R, G, and B sub-pixels SG. In the following description, when referring to a colored layer regardless of color, it is simply referred to as “colored layer 26”, and when referring to a colored layer by distinguishing colors, it is referred to as “colored layer 26R” or the like.

上側基板1の内面上であって且つ各サブ画素SGの間には、サブ画素間に存在する非点灯領域を遮光するため、黒色遮光層BMが形成されている。   On the inner surface of the upper substrate 1 and between the sub-pixels SG, a black light-shielding layer BM is formed to shield the non-lighting area existing between the sub-pixels.

着色層26及び黒色遮光層BMの上には、透明樹脂等からなる保護層22が形成されている。この保護層22は、本実施形態に係る液晶表示装置100の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から、着色層26を保護する機能を有する。   A protective layer 22 made of a transparent resin or the like is formed on the colored layer 26 and the black light shielding layer BM. The protective layer 22 has a function of protecting the colored layer 26 from corrosion and contamination by chemicals used during the manufacturing process of the liquid crystal display device 100 according to the present embodiment.

保護層22の表面上には、対向する下側基板2の内面上に形成されたストライプ状の透明電極20と交差する方向に、やはりストライプ状の透明電極21が形成されている。透明電極21上には配向膜23が形成されている。   On the surface of the protective layer 22, stripe-like transparent electrodes 21 are also formed in a direction intersecting with the stripe-like transparent electrodes 20 formed on the inner surface of the opposing lower substrate 2. An alignment film 23 is formed on the transparent electrode 21.

配向膜23と配向膜30との間には、液晶層4の厚さを均一に保持するために、上記第1実施形態と同様に粒子状のスペーサ7がランダムに配置されている。   In order to keep the thickness of the liquid crystal layer 4 uniform between the alignment film 23 and the alignment film 30, particulate spacers 7 are randomly arranged as in the first embodiment.

上側基板1と下側基板2とがシール材3を介して貼り合わされた状態において、黒色遮光膜BMの開口部の周縁27と、その周縁27に隣接する反射層25の外周縁25aとの間は透過部51を構成する。透過部51の幅D4は、スペーサ7の直径D2を3倍した値、即ち光漏れ領域7aの直径D3より小さく形成されている。   In a state where the upper substrate 1 and the lower substrate 2 are bonded to each other with the sealant 3 between the peripheral edge 27 of the opening of the black light shielding film BM and the outer peripheral edge 25a of the reflective layer 25 adjacent to the peripheral edge 27. Constitutes the transmission part 51. The width D4 of the transmission part 51 is formed to be smaller than a value obtained by triple the diameter D2 of the spacer 7, that is, the diameter D3 of the light leakage region 7a.

本実施形態では、上側基板1、着色層26、保護層22、透明電極21、配向膜23により構成される部分をカラーフィルタ基板401と呼ぶ。   In the present embodiment, a portion constituted by the upper substrate 1, the colored layer 26, the protective layer 22, the transparent electrode 21, and the alignment film 23 is referred to as a color filter substrate 401.

下側基板2の外面上には、位相差板(1/4波長板)11及び偏光板12が配置されており、上側基板1の外面上には、位相差板13及び偏光板14が配置されている。また、偏光板12の下側には、冷陰極蛍光管や白色LED等を用いたバックライト15が配置されている。   On the outer surface of the lower substrate 2, a phase difference plate (¼ wavelength plate) 11 and a polarizing plate 12 are arranged. On the outer surface of the upper substrate 1, a phase difference plate 13 and a polarizing plate 14 are arranged. Has been. A backlight 15 using a cold cathode fluorescent tube, a white LED or the like is disposed below the polarizing plate 12.

さて、本実施形態の液晶表示装置400において反射型表示がなされる場合、液晶表示装置400に入射した外光は、図8に示す経路Rに沿って進行する。つまり、液晶表示装置400に入射した外光は、反射表示領域、即ち、反射層25によって反射され観察者に至る。この場合、その外光は、着色層26が形成されている領域を通過して、透明電極20の下側にある反射層25により反射され、再度透明電極20及び着色層26を通過することによって所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   When the reflective display is performed in the liquid crystal display device 400 of the present embodiment, the external light that has entered the liquid crystal display device 400 travels along the path R shown in FIG. That is, the external light incident on the liquid crystal display device 400 is reflected by the reflective display region, that is, the reflective layer 25, and reaches the observer. In this case, the external light passes through the region where the colored layer 26 is formed, is reflected by the reflective layer 25 on the lower side of the transparent electrode 20, and passes through the transparent electrode 20 and the colored layer 26 again. Presents a predetermined hue and brightness. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

一方、透過型表示がなされる場合、バックライト15から出射した照明光は、図8に示す経路Tに沿って進行し、透過部51及び着色層26を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、着色層26を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   On the other hand, when transmissive display is performed, the illumination light emitted from the backlight 15 travels along the path T shown in FIG. 8, passes through the transmissive part 51 and the colored layer 26, and reaches the observer. In this case, the illumination light has a predetermined hue and brightness by passing through the colored layer 26. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

本実施形態の液晶表示装置400では、透過部51の幅D4を光漏れ領域7aの直径D3より小さく形成している。このため、図9に示すように、光漏れ領域7aの一部分は反射層25又は黒色遮光膜BMと重なり合い、残りの光漏れ領域7aの部分は透過部51の位置にある。このため、本実施形態の液晶表示装置400において透過型表示がなされる場合、透過部51を通過する各スペーサの光漏れによる輝点を小さくすることができる。よって、表示品位の低下を防止することができる。尚、透過部51の幅D4をスペーサ7の直径D2よりも小さくすれば、透過部51を通じて各スペーサ7の光漏れによる輝点をより一層小さくすることができる。   In the liquid crystal display device 400 of the present embodiment, the width D4 of the transmission part 51 is formed smaller than the diameter D3 of the light leakage region 7a. For this reason, as shown in FIG. 9, a part of the light leakage region 7 a overlaps with the reflective layer 25 or the black light shielding film BM, and the remaining light leakage region 7 a is at the position of the transmission part 51. For this reason, when transmissive display is performed in the liquid crystal display device 400 of the present embodiment, it is possible to reduce a bright spot due to light leakage of each spacer that passes through the transmissive portion 51. Accordingly, it is possible to prevent display quality from being deteriorated. If the width D4 of the transmission part 51 is made smaller than the diameter D2 of the spacer 7, the bright spots due to light leakage of the spacers 7 can be further reduced through the transmission part 51.

なお、上記の第2実施形態においては、図8及び図9に示すように、サブ画素SG単位毎の反射層25内に透過部を形成していないが、サブ画素SGの拡大平面図である図10(a)に示すように、透過型表示時の表示画像の明るさの向上を図るために、その反射層25内に、スペーサ7の光漏れ領域7aの直径D3よりも小さい開口幅D5を有する透過部53を形成してもよい。尚、その透過部53の開口幅D5は、スペーサ7の直径D2よりも小さく形成してもよい。このとき、所望する明るさの表示画像を得るためにその反射層25内に透過部53を複数形成してもよい。第1実施形態と同様に、透過表示領域53の幅D5がスペーサ7の光漏れ領域7aの直径D3よりも小さければ、反射層25に形成される透過部53の形状や位置や数量などは種々の変形が可能である。
なお、図10(b)は、図10(a)に示す透過部53が形成された反射層25を液晶表示装置400に適用したときの、その液晶表示装置400の部分拡大断面図を示している。
In the second embodiment, as shown in FIGS. 8 and 9, the transmissive portion is not formed in the reflective layer 25 for each subpixel SG unit, but is an enlarged plan view of the subpixel SG. As shown in FIG. 10A, in order to improve the brightness of the display image during transmissive display, an opening width D5 smaller than the diameter D3 of the light leakage region 7a of the spacer 7 is provided in the reflective layer 25. A transmissive portion 53 having the above may be formed. The opening width D5 of the transmission part 53 may be formed smaller than the diameter D2 of the spacer 7. At this time, a plurality of transmission parts 53 may be formed in the reflective layer 25 in order to obtain a display image having a desired brightness. As in the first embodiment, if the width D5 of the transmissive display region 53 is smaller than the diameter D3 of the light leakage region 7a of the spacer 7, the shape, position, quantity, and the like of the transmissive portion 53 formed in the reflective layer 25 are various. Can be modified.
10B shows a partially enlarged cross-sectional view of the liquid crystal display device 400 when the reflective layer 25 in which the transmissive portion 53 shown in FIG. 10A is formed is applied to the liquid crystal display device 400. FIG. Yes.

次に、上述の液晶表示装置400の製造方法について説明する。まず、カラーフィルタ基板401、及びそのカラーフィルタ基板401に対向する下側基板2の製造方法について図11及び図12を参照して説明する。図11及び図12は、各工程における層構造を示す断面図である。   Next, a method for manufacturing the above-described liquid crystal display device 400 will be described. First, a method for manufacturing the color filter substrate 401 and the lower substrate 2 facing the color filter substrate 401 will be described with reference to FIGS. 11 and 12 are cross-sectional views showing the layer structure in each step.

先ず、カラーフィルタ基板401を構成する上側基板1上に黒色遮光膜BMを形成し(工程P11)、その後、上側基板1上の所定の領域に着色層26R、26G、及び26Bを形成する(工程P12)。具体的には、所定の色相を呈する顔料や染料などを分散させてなる着色された感光性樹脂(感光性レジスト)を塗布し、フォトリソグラフィー法などによってパターニングを行う。これにより、上側基板1上の所定の領域に所定の大きさの開口を有する黒色遮光膜BMを形成する。また、上側基板1上であって、その黒色遮光膜BMの開口部内に着色層26R、26G、及び26Bを形成する。   First, the black light shielding film BM is formed on the upper substrate 1 constituting the color filter substrate 401 (process P11), and then the colored layers 26R, 26G, and 26B are formed in predetermined regions on the upper substrate 1 (process). P12). Specifically, a colored photosensitive resin (photosensitive resist) in which a pigment or dye exhibiting a predetermined hue is dispersed is applied, and patterning is performed by a photolithography method or the like. Thus, a black light shielding film BM having a predetermined size opening is formed in a predetermined region on the upper substrate 1. Further, the colored layers 26R, 26G, and 26B are formed on the upper substrate 1 and in the openings of the black light shielding film BM.

次に、黒色遮光層BM及び着色層26上にアクリル樹脂などからなる保護層22を形成する(工程P13)。次に、保護層22に透明導電体をスパッタリング法により被着し、フォトリソグラフィー法によってパターニングすることにより、透明電極21を形成する(工程P14)。その後、透明電極21上にポリイミド樹脂などからなる配向膜23を形成し、ラビング処理を施す(工程P15)。以上の各工程を経て、カラーフィルタ基板401が製造される。   Next, the protective layer 22 made of an acrylic resin or the like is formed on the black light shielding layer BM and the colored layer 26 (process P13). Next, the transparent electrode 21 is formed by depositing a transparent conductor on the protective layer 22 by sputtering and patterning by photolithography (process P14). Thereafter, an alignment film 23 made of polyimide resin or the like is formed on the transparent electrode 21, and a rubbing process is performed (process P15). The color filter substrate 401 is manufactured through the above steps.

次に、上記により製造されたカラーフィルタ基板401に対向する下側基板2を製造する方法について図12を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing the lower substrate 2 facing the color filter substrate 401 manufactured as described above will be described with reference to FIG.

先ず、下側基板2上に矩形状の反射層25を複数形成する(工程P21)。具体的には、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金などの金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜し、これをパターニングして矩形状の反射層25を複数形成する。尚、このとき、反射層25のパターニングする領域、換言すれば、形成する反射層25の領域は、カラーフィルタ基板401と下側基板2とを貼り合せたときに、カラーフィルタ基板401上に形成された黒色遮光膜BMの開口部の周縁27と、その周縁27に隣接する反射層25の外周縁25aとの間隔がスペーサ7の直径D2の3倍より小さくなるように決定される。   First, a plurality of rectangular reflective layers 25 are formed on the lower substrate 2 (process P21). Specifically, a metal such as aluminum, an aluminum alloy, or a silver alloy is formed into a thin film by vapor deposition or sputtering, and patterned to form a plurality of rectangular reflective layers 25. At this time, the patterning region of the reflective layer 25, in other words, the region of the reflective layer 25 to be formed is formed on the color filter substrate 401 when the color filter substrate 401 and the lower substrate 2 are bonded together. The distance between the peripheral edge 27 of the opening of the black light-shielding film BM and the outer peripheral edge 25a of the reflective layer 25 adjacent to the peripheral edge 27 is determined to be smaller than three times the diameter D2 of the spacer 7.

次に、反射層25を覆うようにして、下側基板2上の所定領域及び反射層25上に透明導電体をスパッタリング法により被着し、フォトリソグラフィー法によってパターニングすることにより、透明電極20を形成する(工程P22)。   Next, a transparent conductor is deposited on the predetermined region on the lower substrate 2 and the reflective layer 25 by a sputtering method so as to cover the reflective layer 25, and patterned by a photolithography method, whereby the transparent electrode 20 is formed. Form (process P22).

次に、透明電極20上にアクリル樹脂などからなる保護層24を形成し(工程P23)、その後、保護膜24上にポリイミド樹脂などからなる配向膜30を形成し、ラビング処理などを施す(工程P24)。以上の各工程を経て、カラーフィルタ基板401に対向する下側基板2が製造される。   Next, a protective layer 24 made of an acrylic resin or the like is formed on the transparent electrode 20 (process P23), and then an alignment film 30 made of a polyimide resin or the like is formed on the protective film 24 and subjected to a rubbing process or the like (process) P24). Through the above steps, the lower substrate 2 facing the color filter substrate 401 is manufactured.

次に、こうして得られたカラーフィルタ側基板401、及びそのカラーフィルタ基板401に対向する下側基板2を用いて、図8に示す液晶表示装置400を製造する方法について図13を参照して説明する。図13は、液晶表示装置400の製造工程を示す流れ図である。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 400 shown in FIG. 8 using the color filter side substrate 401 thus obtained and the lower substrate 2 facing the color filter substrate 401 will be described with reference to FIG. To do. FIG. 13 is a flowchart showing a manufacturing process of the liquid crystal display device 400.

先ず、上記の方法により、カラーフィルタ基板401を製造する(工程S11)。また、上記の方法により、そのカラーフィルタ基板401に対向する下側基板2を製造し(工程S12)、スペーサ散布装置により、その下側基板2上に粒子状のスペーサ7を散布する(工程S13)。尚、上記においては、下側基板2上にスペーサ7を散布するようにしているが、これに限らず、カラーフィルタ基板401上にスペーサ7を散布するようにしてもよい。   First, the color filter substrate 401 is manufactured by the above method (step S11). Further, the lower substrate 2 facing the color filter substrate 401 is manufactured by the above method (step S12), and the particulate spacers 7 are sprayed on the lower substrate 2 by the spacer spraying device (step S13). ). In the above description, the spacers 7 are dispersed on the lower substrate 2. However, the present invention is not limited to this, and the spacers 7 may be dispersed on the color filter substrate 401.

そして、シール材3を介して、上記のカラーフィルタ基板101と下側基板2を貼り合わせて、パネル構造を構成する(工程S14)。カラーフィルタ基板401と下側基板2とは、基板間に分散配置されたスペーサ7によって、ほぼ規定の基板間隔となるように補配置される。   Then, the color filter substrate 101 and the lower substrate 2 are bonded together through the sealing material 3 to constitute a panel structure (step S14). The color filter substrate 401 and the lower substrate 2 are complementarily arranged so as to have a substantially prescribed substrate interval by the spacers 7 distributed between the substrates.

その後、シール材3の開口部から液晶を注入し、シール材3の開口部を紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する(工程S15)。こうして主要なパネル構造が完成した後に、位相差板11、13や偏光板12、14などを必要に応じてパネル構造の外面上に貼着などの方法によって取り付け(工程S16)、図8に示す液晶表示装置400が製造される。   Thereafter, liquid crystal is injected from the opening of the sealing material 3, and the opening of the sealing material 3 is sealed with a sealing material such as an ultraviolet curable resin (step S15). After the main panel structure is completed in this way, the retardation plates 11 and 13 and the polarizing plates 12 and 14 are attached to the outer surface of the panel structure as necessary by a method such as sticking (step S16), as shown in FIG. The liquid crystal display device 400 is manufactured.

本発明においては、上記のようなパッシブマトリクス方式の液晶表示装置400の構成に代えて、一方の基板上にいわゆる画素電極、他方の基板上に対向電極(共通電極)を備えることにより、アクティブマトリクス駆動が可能なアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を構成してもよい。   In the present invention, instead of the configuration of the passive matrix liquid crystal display device 400 as described above, a so-called pixel electrode is provided on one substrate and a counter electrode (common electrode) is provided on the other substrate. An active matrix liquid crystal display device that can be driven may be configured.

図14に、本発明をTFD素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置500に適用した例を示す。図14に示す液晶表示装置500は、図8に示す液晶表示装置400における下側基板2が素子基板として構成される。下側基板2の領域612の拡大図に示すように、下側基板2上にはTFD素子610と、画素電極611とが交互に形成されている。領域612の画素電極611に対応する上側基板1の領域には、R(赤)の着色層26Rが形成され、領域612のTFD素子610に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。また、下側基板2の領域613及び領域614においても、上記同様に下側基板2上にTFD素子610と、画素電極611とが交互に形成されている。領域613の画素電極611に対応する上側基板1の領域にG(緑)の着色層26Gが形成され、領域613のTFD素子610に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。また、領域614の画素電極611に対応する上側基板1の領域にB(青)の着色層26Bが形成され、領域614のTFD素子610に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。   FIG. 14 shows an example in which the present invention is applied to an active matrix liquid crystal display device 500 using a TFD element. In the liquid crystal display device 500 shown in FIG. 14, the lower substrate 2 in the liquid crystal display device 400 shown in FIG. 8 is configured as an element substrate. As shown in the enlarged view of the region 612 of the lower substrate 2, TFD elements 610 and pixel electrodes 611 are alternately formed on the lower substrate 2. In the region of the upper substrate 1 corresponding to the pixel electrode 611 in the region 612, an R (red) colored layer 26R is formed, and in the region corresponding to the TFD element 610 in the region 612, the black light shielding layer BM is formed. Also in the regions 613 and 614 of the lower substrate 2, the TFD elements 610 and the pixel electrodes 611 are alternately formed on the lower substrate 2 as described above. A G (green) colored layer 26G is formed in the region of the upper substrate 1 corresponding to the pixel electrode 611 in the region 613, and a black light shielding layer BM is formed in a region corresponding to the TFD element 610 in the region 613. Further, a B (blue) colored layer 26B is formed in the region of the upper substrate 1 corresponding to the pixel electrode 611 in the region 614, and a black light shielding layer BM is formed in a region corresponding to the TFD element 610 in the region 614.

また、図15に、本実施形態をTFT素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置600に適用した例を示す。図15に示す液晶表示装置600は、図8に示す液晶表示装置400における下側基板2が素子基板として構成される。下側基板2の領域712の拡大図に示すように、下側基板2上にTFT素子710と、画素電極711とが交互に形成されている。領域712の画素電極711に対応する上側基板1の領域には、R(赤)の着色層26Rが形成され、領域712のTFT素子710に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。また、下側基板2の領域713及び領域714においても、上記同様に下側基板2上にTFT素子710と、画素電極711とが交互に形成されている。領域713の画素電極711に対応する上側基板1の領域にG(緑)の着色層26Gが形成され、領域713のTFT素子710に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。また、領域714の画素電極711に対応する上側基板1の領域にB(青)の着色層26Bが形成され、領域714のTFT素子710に対応する領域には黒色遮光層BMが形成される。   FIG. 15 shows an example in which this embodiment is applied to an active matrix type liquid crystal display device 600 using TFT elements. In the liquid crystal display device 600 shown in FIG. 15, the lower substrate 2 in the liquid crystal display device 400 shown in FIG. 8 is configured as an element substrate. As shown in the enlarged view of the region 712 of the lower substrate 2, TFT elements 710 and pixel electrodes 711 are alternately formed on the lower substrate 2. In the region of the upper substrate 1 corresponding to the pixel electrode 711 in the region 712, an R (red) colored layer 26R is formed, and in the region corresponding to the TFT element 710 in the region 712, the black light shielding layer BM is formed. Also in the regions 713 and 714 of the lower substrate 2, the TFT elements 710 and the pixel electrodes 711 are alternately formed on the lower substrate 2 in the same manner as described above. A G (green) colored layer 26G is formed in a region of the upper substrate 1 corresponding to the pixel electrode 711 in the region 713, and a black light-shielding layer BM is formed in a region corresponding to the TFT element 710 in the region 713. Further, a B (blue) colored layer 26B is formed in the region of the upper substrate 1 corresponding to the pixel electrode 711 in the region 714, and a black light shielding layer BM is formed in a region corresponding to the TFT element 710 in the region 714.

[電子機器]
次に、本発明による液晶表示装置100乃至600を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
[Electronics]
Next, an embodiment in which the liquid crystal display devices 100 to 600 according to the present invention are used as a display device of an electronic device will be described.

図16は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示装置100乃至600と、これを制御する制御手段410を有する。ここでは、液晶表示装置100乃至600を、パネル構造体403と、半導体ICなどで構成される駆動回路402とに概念的に分けて描いてある。また、制御手段410は、表示情報出力源411と、表示情報処理回路412と、電源回路413と、タイミングジェネレータ414と、を有する。   FIG. 16 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the present embodiment. The electronic apparatus shown here includes the liquid crystal display devices 100 to 600 and a control unit 410 that controls the liquid crystal display devices 100 to 600. Here, the liquid crystal display devices 100 to 600 are conceptually divided into a panel structure 403 and a drive circuit 402 formed of a semiconductor IC or the like. Further, the control means 410 includes a display information output source 411, a display information processing circuit 412, a power supply circuit 413, and a timing generator 414.

表示情報出力源411は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ414によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路412に供給するように構成されている。   The display information output source 411 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal. The display information is supplied to the display information processing circuit 412 in the form of an image signal of a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 414.

表示情報処理回路412は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKとともに駆動回路402へ供給する。駆動回路402は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路413は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。   The display information processing circuit 412 includes various well-known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information to obtain image information. Are supplied to the drive circuit 402 together with the clock signal CLK. The driving circuit 402 includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 413 supplies a predetermined voltage to each of the above-described components.

次に、本発明に係る液晶表示装置100乃至600を適用可能な電子機器の具体例について図17を参照して説明する。   Next, specific examples of electronic devices to which the liquid crystal display devices 100 to 600 according to the present invention can be applied will be described with reference to FIG.

まず、本発明に係る液晶表示装置100乃至600を、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図17(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部713とを備えている。   First, an example in which the liquid crystal display devices 100 to 600 according to the present invention are applied to a display unit of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. FIG. 17A is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in the figure, the personal computer 710 includes a main body 712 having a keyboard 711 and a display 713 to which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied.

続いて、本発明に係る液晶表示装置100乃至600を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図17(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本発明に係る液晶表示装置100乃至600を適用した表示部724を備える。   Next, an example in which the liquid crystal display devices 100 to 600 according to the present invention are applied to a display unit of a mobile phone will be described. FIG. 17B is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure, the cellular phone 720 includes a plurality of operation buttons 721, a reception port 722, a transmission port 723, and a display unit 724 to which the liquid crystal display devices 100 to 600 according to the present invention are applied.

なお、本発明に係る液晶表示装置100乃至600を適用可能な電子機器としては、図17(a)に示したパーソナルコンピュータや図17(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。   Electronic devices to which the liquid crystal display devices 100 to 600 according to the present invention can be applied include a liquid crystal television, a personal computer shown in FIG. 17A and a mobile phone shown in FIG. A viewfinder type / monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a video phone, a POS terminal, a digital still camera, and the like.

[変形例]
上記実施形態では、球状のスペーサを液晶表示装置100乃至600に適用しているが、これに限らず、各種の形状を有するスペーサを液晶表示装置100乃至600に適用することができる。
[Modification]
In the above embodiment, spherical spacers are applied to the liquid crystal display devices 100 to 600, but the present invention is not limited to this, and spacers having various shapes can be applied to the liquid crystal display devices 100 to 600.

上記第1実施形態の液晶表示装置100乃至300は、サブ画素SG毎に、反射層5内にスペーサ7の直径D2を3倍した値より小さい、幅D1なる透過部50を複数有している。また、上記第2実施形態の液晶表示装置400乃至600は、サブ画素SG毎に、スペーサ7の直径D2を3倍した値より小さい、幅D4なる透過部51を有している。加えて、かかる液晶表示装置400乃至600は、サブ画素SG毎に、反射層25内にスペーサ7の光漏れ領域7aの直径D3よりも小さい、幅D5なる透過部53を1又は複数有することも可能としている。   The liquid crystal display devices 100 to 300 according to the first embodiment have a plurality of transmission portions 50 having a width D1 smaller than the value obtained by triple the diameter D2 of the spacer 7 in the reflection layer 5 for each subpixel SG. . Further, the liquid crystal display devices 400 to 600 according to the second embodiment have the transmission part 51 having the width D4 smaller than the value obtained by triple the diameter D2 of the spacer 7 for each sub-pixel SG. In addition, the liquid crystal display devices 400 to 600 may include one or a plurality of transmission portions 53 having a width D5 smaller than the diameter D3 of the light leakage region 7a of the spacer 7 in the reflection layer 25 for each subpixel SG. It is possible.

しかし、これに限らず、上記の第1及び第2実施形態の液晶表示装置100乃至600において、透過部50、透過部51、及び透過部53は、各々スペーサ7の光漏れ領域7aよりも狭い部分を有し、且つ、光漏れ領域7aよりも広い部分を有していてもよい。また、これに代えて、透過部50、透過部51、及び透過部53は、各々スペーサ7の直径D2よりも狭い部分を有し、且つ、光漏れ領域7aよりも広い部分を有していてもよい。これにより、少なくとも光漏れ領域よりも狭い部分においては、光漏れによる輝点を小さくし、表示品位の低下を防止することが可能となる。   However, the present invention is not limited to this, and in the liquid crystal display devices 100 to 600 of the first and second embodiments described above, the transmissive part 50, the transmissive part 51, and the transmissive part 53 are each narrower than the light leakage region 7a of the spacer 7. It may have a portion and may have a portion wider than the light leakage region 7a. Instead of this, each of the transmissive part 50, the transmissive part 51, and the transmissive part 53 has a portion narrower than the diameter D2 of the spacer 7 and a portion wider than the light leakage region 7a. Also good. As a result, at least in a portion narrower than the light leakage region, it is possible to reduce a bright spot due to light leakage and to prevent deterioration of display quality.

本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal display device which concerns on 1st Embodiment of this invention. 第1実施形態に係るカラーフィルタ基板の平面図を示す。1 is a plan view of a color filter substrate according to a first embodiment. 第1実施形態に係る透過部の他の態様を示す平面図である。It is a top view which shows the other aspect of the permeation | transmission part which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造工程の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing process of the color filter substrate which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る液晶表示装置の製造方法のフローチャートを示す。1 shows a flowchart of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a first embodiment. TFD素子を利用した第1実施形態の液晶表示装置への適用例を示す。An example of application to the liquid crystal display device of the first embodiment using a TFD element will be described. TFT素子を利用した第1実施形態の液晶表示装置への適用例を示す。An example of application to the liquid crystal display device of the first embodiment using a TFT element will be described. 本発明の第2実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal display device which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 第2実施形態に係るカラーフィルタ基板の平面図を示す。The top view of the color filter board | substrate which concerns on 2nd Embodiment is shown. 第2実施形態に係る透過部の他の態様を示す平面図である。It is a top view which shows the other aspect of the permeation | transmission part which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造工程の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing process of the color filter substrate which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る対向基板の製造工程の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing process of the opposing board | substrate which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る液晶表示装置の製造方法のフローチャートを示す。7 shows a flowchart of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a second embodiment. TFD素子を利用した第2実施形態の液晶表示装置への適用例を示す。An application example of the second embodiment using a TFD element to the liquid crystal display device will be described. TFT素子を利用した第2実施形態の液晶表示装置への適用例を示す。An application example to the liquid crystal display device of the second embodiment using a TFT element will be described. 本発明の液晶表示装置を適用した電子機器の回路ブロック図である。It is a circuit block diagram of the electronic device to which the liquid crystal display device of the present invention is applied. 本発明の液晶表示装置を適用した電子機器の例である。It is an example of the electronic device to which the liquid crystal display device of the present invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1 上側基板、 2 下側基板、 3 シール材、 4 液晶層、 5、25 反射層、 6、26 着色層、 7 スペーサ、 8、22、24 保護層、 9、10、20、21 透明電極、 16、17、23、30 配向膜、 101、401 カラーフィルタ基板、 100、200、300、400、500、600 液晶表示装置   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Upper substrate, 2 Lower substrate, 3 Sealing material, 4 Liquid crystal layer, 5, 25 Reflective layer, 6, 26 Colored layer, 7 Spacer, 8, 22, 24 Protective layer, 9, 10, 20, 21 Transparent electrode, 16, 17, 23, 30 Alignment film, 101, 401 Color filter substrate, 100, 200, 300, 400, 500, 600 Liquid crystal display device

Claims (6)

スペーサを介して対向配置されてなる一対の基板に液晶が挟持されてなる液晶装置において、
反射部と透過部を含む画素を有し、
前記透過部は、前記スペーサに起因する光抜け領域の幅よりも狭い部分を備えてなることを特徴とする液晶装置。
In a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates that are arranged to face each other via a spacer,
A pixel including a reflective portion and a transmissive portion;
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the transmission portion includes a portion that is narrower than a width of a light leakage region caused by the spacer.
スペーサを介して対向配置されてなる一対の基板に液晶が挟持されてなる液晶装置において、
反射部と透過部を含む画素を有し、
前記透過部は、前記画素内に複数の線分を有し、
各前記線分の幅は、前記スペーサに起因する光抜け領域の幅よりも狭い部分を備えてなることを特徴とする液晶装置。
In a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates that are arranged to face each other via a spacer,
A pixel including a reflective portion and a transmissive portion;
The transmissive portion has a plurality of line segments in the pixel,
The width of each said line segment is provided with the part narrower than the width | variety of the light extraction area | region resulting from the said spacer, The liquid crystal device characterized by the above-mentioned.
前記光抜け領域の幅は、前記スペーサの直径の3倍であることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein a width of the light leakage region is three times a diameter of the spacer. 前記透過部は、前記スペーサの直径より狭い部分を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the transmissive portion has a portion that is narrower than a diameter of the spacer. スペーサを介して対向配置されてなる一対の基板に液晶が挟持されてなる液晶装置において、
反射部と透過部を含む画素を有し、
前記スペーサに起因する光抜け領域は、前記透過部の幅をまたがることを特徴とする液晶装置。
In a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates that are arranged to face each other via a spacer,
A pixel including a reflective portion and a transmissive portion;
The liquid crystal device according to claim 1, wherein a light leakage region caused by the spacer extends across the width of the transmission part.
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007108648A (en) * 2005-10-14 2007-04-26 Boe Hydis Technology Co Ltd Transflective liquid crystal display device
CN106990596A (en) * 2017-05-12 2017-07-28 武汉华星光电技术有限公司 Color membrane substrates and liquid crystal display

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007108648A (en) * 2005-10-14 2007-04-26 Boe Hydis Technology Co Ltd Transflective liquid crystal display device
JP4486614B2 (en) * 2005-10-14 2010-06-23 ハイディス テクノロジーズ株式会社 Transflective liquid crystal display device
CN106990596A (en) * 2017-05-12 2017-07-28 武汉华星光电技术有限公司 Color membrane substrates and liquid crystal display
WO2018205365A1 (en) * 2017-05-12 2018-11-15 武汉华星光电技术有限公司 Color film substrate and liquid crystal display

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