JP2003249354A - Method of manufacturing organic el display panel - Google Patents

Method of manufacturing organic el display panel

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JP2003249354A
JP2003249354A JP2002050419A JP2002050419A JP2003249354A JP 2003249354 A JP2003249354 A JP 2003249354A JP 2002050419 A JP2002050419 A JP 2002050419A JP 2002050419 A JP2002050419 A JP 2002050419A JP 2003249354 A JP2003249354 A JP 2003249354A
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substrate
organic
polyimide tape
display panel
thin film
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Application number
JP2002050419A
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Japanese (ja)
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Masaaki Arima
正彰 有馬
Koji Yoshida
浩二 吉田
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Toyota Industries Corp
Original Assignee
Toyota Industries Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an organic EL display panel, enabling the formation of a sealing film in such a manner as to expose the connection part of an electrode while reducing the manhours. <P>SOLUTION: When a plurality of organic EL display panels 11 is manufactured from one substrate 20, a plurality of display parts 13 is formed on the substrate 20 and then a polyimide tape 23 is pasted to the substrate 20. The polyimide tape 23 is formed in a size corresponding to that of the substrate 20 and holes 24 are formed therein at positions corresponding to those of the display parts 13, and the display parts 13 are exposed via the holes 24. The connection parts 14a of the electrodes 14 and cutlines 21 are covered with the polyimide tape 23. The substrate 20 is put in a deposition device in the state of pasting the polyimide tape 23 thereto and a thin film 16 is formed by a plasma CVD. Then, after it is irradiated with a ultraviolet ray for reducing the adhesive force of an adhesive, the polyimide tape 23 is removed until the connection parts 14a of the electrodes 14 and the cutlines 21 are exposed. Then, the substrate 20 is cut at the cutlines 21. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス(以下、単に有機ELという)表示パネル
の製造方法に係り、詳しくは有機EL素子を外気から遮
断する封止膜(薄膜)を形成する封止膜形成工程を備え
た有機EL表示パネルの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an organic electroluminescence (hereinafter, simply referred to as "organic EL") display panel, and more particularly, to a sealing film (thin film) for shielding an organic EL element from the outside air. The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL display panel including a stop film forming step.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機EL表示パネルの有機EL素子は、
陽極と陰極との間に有機EL層が形成されている。有機
EL材料は酸素、水分との反応性が高いため、外気から
遮断された状態で使用しないと、大気中の酸素や水分に
より化学劣化が生じ、ダークスポット、ダークエリアと
呼ばれる発光しない領域が拡がるという問題がある。有
機EL層を外気から遮断する方法には、実用化されてい
るものとしてステンレス製やガラス製の封止カバー(封
止缶)を接着剤を介して基板に設けるとともに、封止カ
バー内に吸着剤を収容して封止する構成のものがある。
このものは図5に示すように、ガラス基板51の表面に
有機EL素子を備える表示部52と、表示部52から外
側に延びる電極53とが設けられ、その表示部52を覆
う状態で封止カバー54が接着剤55を介してガラス基
板51に接着されている。封止カバー54は、その一部
が接着剤55を介して電極53の上に載っている。封止
カバー54内には図示しない吸着剤(乾燥剤)が収容さ
れている。接着剤55としては熱硬化性樹脂や光硬化性
樹脂がある。このように封止缶で封止される有機EL表
示パネルには、例えば特開平5−109482号公報に
示されるものがある。
2. Description of the Related Art Organic EL elements of organic EL display panels are
An organic EL layer is formed between the anode and the cathode. Since organic EL materials have high reactivity with oxygen and moisture, unless they are used in a state in which they are shielded from the outside air, chemical degradation occurs due to oxygen and moisture in the atmosphere, and dark spots and dark areas called non-luminous regions expand. There is a problem. As a method for shutting off the organic EL layer from the outside air, a stainless steel or glass sealing cover (sealing can) is provided on the substrate via an adhesive and is adsorbed in the sealing cover as a practical method. There is a configuration in which an agent is contained and sealed.
As shown in FIG. 5, this is provided with a display section 52 having an organic EL element on the surface of a glass substrate 51, and an electrode 53 extending outward from the display section 52, and encapsulating the display section 52 in a covered state. The cover 54 is adhered to the glass substrate 51 with an adhesive 55. A part of the sealing cover 54 is placed on the electrode 53 via the adhesive 55. A non-illustrated adsorbent (drying agent) is contained in the sealing cover 54. The adhesive 55 may be a thermosetting resin or a photocurable resin. As an organic EL display panel sealed with a sealing can in this way, there is one disclosed in, for example, JP-A-5-109482.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】この現状の構成では、
カバー本体からの水分や酸素等の侵入はほとんどない
が、接着剤55の部分から水分等が侵入するため、外部
からの水分や酸素の浸入を完全に防ぐことができず、安
定した長寿命化が図れていない。また、封止構造が厚く
なるという問題がある。
In the present configuration,
Almost no moisture or oxygen intrudes from the cover body, but moisture or oxygen invades from the adhesive 55 part, so it is not possible to completely prevent intrusion of moisture or oxygen from the outside, and a stable and long life is achieved. Is not working. There is also a problem that the sealing structure becomes thick.

【0004】また、有機EL素子の封止方法として窒化
ケイ素や酸化ケイ素等の薄膜で有機EL素子を封止する
方法も開示されている(例えば、特開2000−223
264号公報)。このような薄膜はプラズマCVD等の
蒸着により形成される。
As a method of sealing the organic EL element, a method of sealing the organic EL element with a thin film of silicon nitride or silicon oxide has also been disclosed (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-223).
No. 264). Such a thin film is formed by vapor deposition such as plasma CVD.

【0005】電極の他の配線に接続すべき接続部は薄膜
から露出させる必要がある。電極の接続部を露出させる
には、薄膜の形成時にこの接続部が薄膜で封止されない
ように例えばメタルマスクを蒸着装置内の所定箇所に配
置してマスキングする方法が考えられる。また、基板全
体に薄膜を蒸着し、フォトリソグラフ工程及びエッチン
グ工程によって薄膜を部分的に除去して接続部を露出さ
せる方法も考えられる。
It is necessary to expose the connecting portion of the electrode to be connected to other wiring from the thin film. In order to expose the connection part of the electrode, a method of masking by disposing a metal mask at a predetermined position in the vapor deposition device so that the connection part is not sealed by the thin film at the time of forming the thin film can be considered. It is also possible to deposit a thin film on the entire substrate and partially remove the thin film by a photolithography process and an etching process to expose the connection part.

【0006】ところが、蒸着装置内のメタルマスクと対
応するように基板を蒸着装置内の所定箇所に配置するこ
とが難しいため、メタルマスクは使用できないという問
題がある。また、基板全体に薄膜を蒸着し、フォトリソ
グラフ工程及びエッチング工程によって薄膜を部分的に
除去する方法は工数がかかるという問題がある。
However, since it is difficult to dispose the substrate at a predetermined position in the vapor deposition apparatus so as to correspond to the metal mask in the vapor deposition apparatus, there is a problem that the metal mask cannot be used. In addition, the method of vapor-depositing a thin film on the entire substrate and partially removing the thin film by a photolithography process and an etching process has a problem that it takes many steps.

【0007】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であって、その目的は、工数を低減して、電極の接続部
を露出させるように封止膜を形成できる有機EL表示パ
ネルの製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to manufacture an organic EL display panel in which the number of steps is reduced and a sealing film can be formed so as to expose a connection portion of an electrode. To provide a method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1に記載の発明では、有機EL素子を備え
る表示部と、該表示部から延びる電極とを基板上に備え
た有機EL表示パネルの前記表示部を封止する封止膜を
形成する封止膜形成工程を備えている。そして、前記封
止膜形成工程において前記電極の他の配線との接続部を
少なくともマスクするマスク部材を前記基板上に配置し
た状態で前記封止膜を形成し、その後前記マスク部材を
除去する。
In order to achieve the above-mentioned object, in the invention according to claim 1, an organic display device having an organic EL element and electrodes extending from the display device are provided on a substrate. A sealing film forming step of forming a sealing film for sealing the display portion of the EL display panel is provided. Then, in the step of forming the sealing film, the sealing film is formed in a state in which a mask member that masks at least a connection portion of the electrode with another wiring is arranged on the substrate, and then the mask member is removed.

【0009】この発明では、メタルマスクをする場合と
異なり、マスク部材を基板上に配置しているため、全体
の厚さをマスク部材を設けていない場合と同じ程度の厚
さにできるため取扱いやすく、封止膜の蒸着装置内等に
問題なく入れることができる。また、基板全体に封止膜
を形成して電極の接続部の封止膜を除去する場合に比べ
て工数を低減できる。
In the present invention, unlike the case where a metal mask is used, since the mask member is arranged on the substrate, the total thickness can be made to be about the same as when the mask member is not provided, which makes it easy to handle. It can be put in the vapor deposition device for the sealing film without any problem. Further, the number of steps can be reduced as compared with the case where the sealing film is formed on the entire substrate and the sealing film at the electrode connecting portion is removed.

【0010】請求項2に記載の発明では、請求項1に記
載の発明において、前記基板には有機EL表示パネルを
切出すためのカットラインが形成され、前記マスク部材
により、前記基板のカットラインもマスクされた状態で
前記封止膜が形成される。例えば封止膜を形成した部分
で基板をカットすると、封止膜にひびが入る虞がある。
しかし、この発明では、マスク部材の配置及び除去によ
ってカットライン上に封止膜がない状態で基板をカット
できるため、封止膜のひび割れを防止できる。
According to a second aspect of the invention, in the first aspect of the invention, a cut line for cutting out the organic EL display panel is formed on the substrate, and the cut line of the substrate is formed by the mask member. The sealing film is formed in a state where it is also masked. For example, if the substrate is cut at the portion where the sealing film is formed, the sealing film may crack.
However, in the present invention, the substrate can be cut without the sealing film on the cut line by arranging and removing the mask member, so that cracking of the sealing film can be prevented.

【0011】請求項3に記載の発明では、請求項1又は
請求項2に記載の発明において、前記マスク部材が粘着
テープである。この発明では、粘着テープは取扱いやす
いため、例えば樹脂を塗布してマスクする場合等と比べ
てマスク部材の取扱いが容易となる。
According to the invention of claim 3, in the invention of claim 1 or 2, the mask member is an adhesive tape. In the present invention, since the adhesive tape is easy to handle, the mask member is easier to handle than, for example, the case of applying a resin to mask.

【0012】請求項4に記載の発明では、請求項1〜請
求項3のいずれか一項に記載の発明において、粘着剤の
粘着力を下げる処理をした後、前記マスク部材が除去さ
れる。例えば粘着力が強すぎると、マスク部材を除去す
る際に電極が基板から剥がれる虞がある。逆に粘着力が
弱すぎると、途中でマスク部材が位置ずれしたり一部が
剥げて電極の接続部を十分にマスキングできない虞があ
る。また、粘着剤が基板や電極の接続部に残る虞がある
ため、粘着力の調整が難しい。しかし、この発明では、
難しい粘着力の調整を行わなくて済むため、粘着力を十
分な強さにしてマスク部材を基板に取り付けることがで
きる。
According to a fourth aspect of the invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the mask member is removed after the treatment for reducing the adhesive strength of the adhesive. For example, if the adhesive force is too strong, the electrode may peel off from the substrate when removing the mask member. On the other hand, if the adhesive strength is too weak, the mask member may be displaced or partly peeled off during the process, and the electrode connection portion may not be sufficiently masked. In addition, since the adhesive may remain on the connecting portion of the substrate or the electrode, it is difficult to adjust the adhesive force. However, in this invention,
Since it is not necessary to adjust the adhesive force, it is possible to attach the mask member to the substrate with sufficient adhesive force.

【0013】請求項5に記載の発明では、請求項4に記
載の発明において、前記粘着剤の粘着力を下げる処理
は、紫外線照射である。この発明では、簡単に粘着剤の
粘着力を下げることができる。
According to a fifth aspect of the invention, in the invention according to the fourth aspect, the treatment for reducing the adhesive strength of the adhesive is irradiation with ultraviolet rays. In the present invention, the adhesive strength of the adhesive can be easily reduced.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明をパッシブマトリッ
クス駆動方式で2分割走査タイプの有機EL表示パネル
の製造方法に具体化した一実施の形態を図1及び図2に
従って説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment in which the present invention is embodied in a method of manufacturing a two-division scanning type organic EL display panel by a passive matrix driving system will be described with reference to FIGS.

【0015】図1(c)は有機EL表示パネルの部分模
式断面図を示す。図2はポリイミドテープを貼った状態
を示す模式平面図であり、図1(a)は図2のIA−I
A線部分模式断面図を示し、図1(b)は薄膜を形成し
た状態の部分模式断面図を示す。図1(a)〜図1
(c)ではわかりやすいように図示するため各部材の厚
さの比は正確ではなく、図2では実際より電極の本数が
少ない。
FIG. 1C shows a partial schematic sectional view of an organic EL display panel. 2 is a schematic plan view showing a state in which a polyimide tape is attached, and FIG. 1 (a) is an IA-I of FIG.
A partial schematic cross-sectional view taken along the line A is shown, and FIG. 1B shows a partial schematic cross-sectional view in a state where a thin film is formed. 1A to 1
In FIG. 2C, the thickness ratio of each member is not accurate because it is illustrated for easy understanding, and the number of electrodes is smaller than the actual number in FIG.

【0016】図1(c)に示すように、有機EL表示パ
ネル11は、基板としてのガラス基板12上に、有機E
L素子を備える表示部13と、表示部13を構成すると
ともに該表示部13から外側に延びる電極14,15
(電極15は図2に図示)とを備えている。この実施の
形態では、電極14が陰極(走査電極)で、電極15が
陽極(データ電極)になっており、電極14,15はそ
れぞれ複数の平行なストライプ状に形成されている。有
機EL素子は、電極15(陽極)、発光層としての有機
EL層、電極14(陰極)がガラス基板12上に順に積
層されて形成されている。有機EL層には例えば公知の
構成のものが使用され、ガラス基板12側から順に、正
孔注入層、発光層及び電子注入層の3層で構成されてい
る。
As shown in FIG. 1 (c), the organic EL display panel 11 has an organic EL display panel 11 on a glass substrate 12 as a substrate.
A display unit 13 including an L element, and electrodes 14 and 15 that form the display unit 13 and extend outward from the display unit 13.
(The electrode 15 is shown in FIG. 2). In this embodiment, the electrode 14 is a cathode (scan electrode), the electrode 15 is an anode (data electrode), and the electrodes 14 and 15 are each formed in a plurality of parallel stripes. The organic EL element is formed by sequentially stacking an electrode 15 (anode), an organic EL layer as a light emitting layer, and an electrode 14 (cathode) on a glass substrate 12. The organic EL layer has, for example, a well-known structure, and is composed of three layers, that is, a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer in order from the glass substrate 12 side.

【0017】有機EL表示パネル11は2分割走査タイ
プであり、四角形状の表示部13は、図2中、上半分
と、下半分とを同時に走査できるように形成されてい
る。よって、有機EL表示パネル11は、表示部13を
上から下まで順に走査する場合に比べて、表示部13全
体を走査するための時間を半分に短縮できる。
The organic EL display panel 11 is a two-division scanning type, and the rectangular display portion 13 is formed so that the upper half and the lower half in FIG. 2 can be simultaneously scanned. Therefore, in the organic EL display panel 11, the time required to scan the entire display unit 13 can be reduced to half compared to the case where the display unit 13 is sequentially scanned from top to bottom.

【0018】有機EL表示パネル11には、表示部13
を被覆するように保護膜(封止膜)としての薄膜16が
形成されている。薄膜16は水及び酸素等の透過を阻止
する材料で形成されており、この実施の形態ではSiN
x(窒化ケイ素)で形成されている。薄膜16を含めた
表示部13の厚さは約1μm〜数μm程度である。電極
14,15の他の配線に接続される接続部14a,15
aは薄膜16で被覆されておらず露出しており、接続部
14a,15aには他の配線としての例えばFPC(フ
レキシブルプリント基板、図1(c)に二点鎖線で図
示)17が接続される。
The organic EL display panel 11 has a display section 13
A thin film 16 as a protective film (sealing film) is formed so as to cover the. The thin film 16 is made of a material that blocks permeation of water, oxygen, etc., and in this embodiment, SiN is used.
x (silicon nitride). The thickness of the display unit 13 including the thin film 16 is about 1 μm to several μm. Connection parts 14a and 15 connected to other wirings of the electrodes 14 and 15
a is not covered with the thin film 16 and is exposed. To the connecting portions 14a and 15a, for example, an FPC (flexible printed circuit board, shown by a chain double-dashed line in FIG. 1C) 17 is connected as another wiring. It

【0019】次に、上記構成の有機EL表示パネル11
の製造方法を説明する。図1(a)及び図2に示すよう
に、一枚の基板(ガラス基板)20から複数の有機EL
表示パネル11を製造する場合、基板20に表示部13
を複数個形成する。この実施の形態では、4個の表示部
13が基板20に形成され、2本のカットライン21
は、各表示部13が配置された領域を区画するように基
板20に形成されている。表示部13は、基板20に電
極15(陽極)、有機EL層、電極14(陰極)を順に
積層して形成する。
Next, the organic EL display panel 11 having the above structure
The manufacturing method of will be described. As shown in FIGS. 1A and 2, one substrate (glass substrate) 20 to a plurality of organic ELs.
When manufacturing the display panel 11, the display unit 13 is provided on the substrate 20.
Forming a plurality of. In this embodiment, four display parts 13 are formed on the substrate 20, and two cut lines 21 are formed.
Are formed on the substrate 20 so as to partition the area in which each display unit 13 is arranged. The display unit 13 is formed by sequentially stacking the electrode 15 (anode), the organic EL layer, and the electrode 14 (cathode) on the substrate 20.

【0020】表示部13を形成した後、基板20にマス
ク部材である粘着テープとしてのポリイミドテープ23
を貼り付ける。ポリイミドテープ23の粘着剤は、紫外
線が照射されると粘着力が下がるように構成されてい
る。ポリイミドテープ23は基板20と対応する大きさ
に形成され、各表示部13と対応する箇所には四角形状
の孔24がそれぞれ形成されている。孔24は合計4個
形成されている。ポリイミドテープ23を貼り付けた状
態では基板20は孔24の部分だけが露出し、表示部1
3が孔24を介して露出される。ポリイミドテープ23
により電極14,15の接続部14a,15aが覆われ
る。また、カットライン21がポリイミドテープ23に
より覆われる。ポリイミドテープ23の厚さは数十μm
であり、表示部13の厚さより大幅に厚くなっている。
ポリイミドテープ23において孔24を囲む側面25は
封止すべき部分との境であって、ポリイミドテープ23
の厚さ方向とほぼ平行に形成されている。
After forming the display portion 13, a polyimide tape 23 as an adhesive tape which is a mask member is formed on the substrate 20.
Paste. The adhesive of the polyimide tape 23 is configured so that its adhesive strength is reduced when it is irradiated with ultraviolet rays. The polyimide tape 23 is formed in a size corresponding to the substrate 20, and a square hole 24 is formed in a position corresponding to each display unit 13. A total of four holes 24 are formed. With the polyimide tape 23 attached, only the holes 24 of the substrate 20 are exposed, and the display unit 1
3 is exposed through the hole 24. Polyimide tape 23
Thus, the connection portions 14a and 15a of the electrodes 14 and 15 are covered. The cut line 21 is covered with the polyimide tape 23. The thickness of the polyimide tape 23 is several tens of μm
And is much thicker than the thickness of the display unit 13.
In the polyimide tape 23, the side surface 25 surrounding the hole 24 is a boundary with the portion to be sealed, and the polyimide tape 23
Is formed substantially parallel to the thickness direction of the.

【0021】次に、ポリイミドテープ23を貼り付けた
基板20を蒸着装置内に入れ、図1(b)に示すよう
に、プラズマCVDにより薄膜16を形成する。マスク
部材は薄膜形成時の温度よりも耐熱性を有することが必
要であり、薄膜形成時の温度は、熱に弱い有機ELの特
性から100°C以下になるように設定される。ポリイ
ミドテープ23は100°Cより十分大きな耐熱性を有
するため問題がない。薄膜形成時に、ポリイミドテープ
23の上にも薄膜26が形成されるが、ポリイミドテー
プ23の厚さが表示部13より大幅に厚いため、ポリイ
ミドテープ23の上の薄膜26と、表示部13を覆う薄
膜16とは分離した状態に形成される。
Next, the substrate 20 to which the polyimide tape 23 is attached is placed in the vapor deposition apparatus, and as shown in FIG. 1B, the thin film 16 is formed by plasma CVD. The mask member needs to have heat resistance higher than the temperature at the time of forming the thin film, and the temperature at the time of forming the thin film is set to 100 ° C. or lower due to the characteristics of the organic EL, which is weak against heat. Since the polyimide tape 23 has heat resistance sufficiently higher than 100 ° C., there is no problem. When the thin film is formed, the thin film 26 is also formed on the polyimide tape 23, but since the thickness of the polyimide tape 23 is significantly thicker than the display portion 13, the thin film 26 on the polyimide tape 23 and the display portion 13 are covered. It is formed in a state of being separated from the thin film 16.

【0022】薄膜16を形成した後、紫外線を照射し
て、ポリイミドテープ23の粘着剤の粘着力を下げる。
そして、ポリイミドテープ23を剥ぎ取り、電極14,
15の接続部14a,15aやカットライン21を露出
させる。そして、カットライン21で基板20を切断
し、図1(c)に示すように有機EL表示パネル11の
製造を完了する。
After the thin film 16 is formed, it is irradiated with ultraviolet rays to reduce the adhesive force of the adhesive on the polyimide tape 23.
Then, the polyimide tape 23 is stripped off, and the electrodes 14,
The connection parts 14a and 15a of 15 and the cut line 21 are exposed. Then, the substrate 20 is cut along the cut line 21, and the manufacturing of the organic EL display panel 11 is completed as shown in FIG.

【0023】この実施の形態によれば、以下のような効
果を有する。 (1) 電極14,15の接続部14a,15aをマス
クするポリイミドテープ23を基板20上に配置した状
態で薄膜16を形成し、その後ポリイミドテープ23を
除去している。メタルマスクをする場合と異なり、全体
の厚さをポリイミドテープ23を設けていない場合と同
じ程度の厚さにできるため取扱いやすく、基板20を薄
膜16の蒸着装置内等に問題なく入れることができる。
また、基板全体に薄膜を形成してパターンニングやアッ
シング工程により電極14,15の接続部14a,15
aと対応する部分の薄膜を除去する場合と異なり、パタ
ーンニングやアッシング工程を不要にして電極14,1
5の接続部14a,15aを露出できるため、工数を低
減できる。
According to this embodiment, the following effects are obtained. (1) The thin film 16 is formed in a state where the polyimide tape 23 that masks the connection portions 14a and 15a of the electrodes 14 and 15 is arranged on the substrate 20, and then the polyimide tape 23 is removed. Unlike the case where a metal mask is used, the entire thickness can be set to the same thickness as when the polyimide tape 23 is not provided, so that it is easy to handle and the substrate 20 can be put in the vapor deposition apparatus for the thin film 16 without any problem. .
In addition, a thin film is formed on the entire substrate and the connecting portions 14a, 15 of the electrodes 14, 15 are formed by a patterning or ashing process.
Unlike the case where the thin film in the portion corresponding to a is removed, patterning and ashing steps are unnecessary and the electrodes 14, 1
Since the connecting portions 14a and 15a of No. 5 can be exposed, the number of steps can be reduced.

【0024】(2) カットライン21をポリイミドテ
ープ23で覆った状態で薄膜16を形成し、ポリイミド
テープ23を剥いでカットライン21上に薄膜26がな
い状態で基板20をカットしている。例えば薄膜を形成
した部分で基板20をカットすると、薄膜にひびが入る
虞がある。そして、薄膜の表示部13を覆う部分と、カ
ットライン21を覆う部分とが連続している場合、薄膜
のカットライン21を覆う部分で入ったひびが伝播して
表示部13を覆う部分にもひびが入る虞がある。しか
し、ポリイミドテープ23の貼り付け及び除去によって
カットライン21上に薄膜26がない状態で基板20を
カットできるため、薄膜16のひび割れや剥がれ等を防
止できる。
(2) The thin film 16 is formed with the cut line 21 covered with the polyimide tape 23, and the polyimide tape 23 is peeled off to cut the substrate 20 without the thin film 26 on the cut line 21. For example, if the substrate 20 is cut at the portion where the thin film is formed, the thin film may crack. Then, when the portion covering the thin film display portion 13 and the portion covering the cut line 21 are continuous, the crack entered in the portion covering the thin film cut line 21 propagates to the portion covering the display portion 13. It may crack. However, by sticking and removing the polyimide tape 23, the substrate 20 can be cut without the thin film 26 on the cut line 21, so that the thin film 16 can be prevented from cracking or peeling.

【0025】(3) 粘着テープ(ポリイミドテープ2
3)でマスクしている。粘着テープは取扱いやすいた
め、例えば樹脂を塗布してマスクする場合等と比べて取
扱いが容易となり、作業工数を少なくできる。
(3) Adhesive tape (polyimide tape 2
Masked in 3). Since the pressure-sensitive adhesive tape is easy to handle, it is easier to handle as compared with, for example, the case of applying a resin and masking, and the number of working steps can be reduced.

【0026】(4) ポリイミドテープ23の粘着剤
は、粘着力を下げる処理を行えるように構成されてい
る。例えば粘着力が強すぎると、ポリイミドテープ23
を除去する際に電極14,15が基板20から剥がれる
虞がある。逆に粘着力が弱すぎると、作業の途中でポリ
イミドテープ23が位置ずれしたり一部が剥げて電極1
4,15の接続部14a,15aを十分にマスキングで
きない虞がある。また、粘着剤が基板や電極14,15
の接続部14a,15aに残る虞があるため、粘着力の
調整が難しい。しかし、粘着剤が粘着力を下げる処理を
行えるように構成されているため、難しい粘着力の調整
を行わなくて済み、ポリイミドテープ23の粘着力を十
分な強さにして基板20に貼り付けることができる。
(4) The adhesive of the polyimide tape 23 is structured so that it can be treated to reduce its adhesive strength. For example, if the adhesive strength is too strong, the polyimide tape 23
There is a possibility that the electrodes 14 and 15 may be peeled off from the substrate 20 when removing the. On the other hand, if the adhesive strength is too weak, the polyimide tape 23 may be displaced or partly peeled off during the work and the electrode 1
There is a possibility that the connection portions 14a and 15a of the wires 4 and 15 cannot be sufficiently masked. In addition, the adhesive is used for the substrate and electrodes 14, 15
It is difficult to adjust the adhesive force because there is a risk of remaining on the connecting portions 14a and 15a. However, since the pressure-sensitive adhesive is configured to reduce the pressure-sensitive adhesive force, it is not necessary to adjust the difficult pressure-sensitive adhesive force, and the polyimide tape 23 should be adhered to the substrate 20 with a sufficient strength. You can

【0027】(5) ポリイミドテープ23の粘着剤
は、紫外線を照射することで粘着力を下げることができ
るように構成されているため、簡単に粘着力を弱めるこ
とができる。また、自動化によるテープ貼り及びテープ
剥がしを行いやすい。
(5) The adhesive of the polyimide tape 23 can be easily weakened by irradiating it with ultraviolet rays so that the adhesive can be lowered. Further, it is easy to perform tape application and tape removal by automation.

【0028】なお、実施の形態は上記実施の形態に限定
されるものではなく、例えば以下のように変更してもよ
い。 ○ ポリイミドテープ23の側面は、封止すべき部分と
の境で、孔24を囲む側面25のようにポリイミドテー
プ23の厚さ方向とほぼ平行に形成されることに限られ
ない。例えば図3に示すように、ポリイミドテープ23
の側面は、封止すべき部分との境でポリイミドテープ2
3の接着面23aより接着面23aと反対側の面23b
の方が張り出すように斜面31になるように形成しても
よい。この場合、ポリイミドテープ23の上の薄膜26
と、表示部13を覆う薄膜16とが分離するように薄膜
を形成しやすい。
The embodiment is not limited to the above embodiment, but may be modified as follows. The side surface of the polyimide tape 23 is not limited to be formed substantially parallel to the thickness direction of the polyimide tape 23 at the boundary with the portion to be sealed like the side surface 25 surrounding the hole 24. For example, as shown in FIG. 3, polyimide tape 23
The side surface of the polyimide tape 2 at the boundary with the part to be sealed.
The surface 23b opposite to the adhesive surface 23a of the adhesive surface 23a of FIG.
You may form so that it may become the slope 31 so that it may overhang. In this case, the thin film 26 on the polyimide tape 23
Then, the thin film can be easily formed so that the thin film 16 covering the display unit 13 is separated.

【0029】○ ポリイミドテープは、図2に示すよう
に基板20と同じ大きさに形成されることに限られず、
例えば図4(a)に示すように、幅の狭いポリイミドテ
ープ33を、各表示部13の辺に沿うように貼って、電
極14,15の接続部14a,15aのみを覆ってもよ
い。また、ポリイミドテープ33を、カットライン21
を覆うように2本を十字状に貼ってもよい。ポリイミド
テープ33同士が交差したり近接する部分では重ねて貼
り付ける。この場合、必要な部分にだけポリイミドテー
プ33を貼ることができ、ポリイミドテープ33を節約
できる。薄膜は、表示部13を覆う部分以外の関係ない
箇所にも形成されるが、そのままにしておいて構わな
い。
The polyimide tape is not limited to be formed in the same size as the substrate 20 as shown in FIG.
For example, as shown in FIG. 4A, a narrow polyimide tape 33 may be attached along the sides of each display portion 13 to cover only the connection portions 14a and 15a of the electrodes 14 and 15. Also, attach the polyimide tape 33 to the cut line 21.
You may stick two in a cross shape so that it may cover. The portions where the polyimide tapes 33 intersect or are close to each other are overlapped and attached. In this case, the polyimide tape 33 can be attached only to a necessary portion, and the polyimide tape 33 can be saved. Although the thin film is formed in a non-related portion other than the portion covering the display unit 13, it may be left as it is.

【0030】○ 一枚の基板20に形成される表示部1
3の数は4個に限られず、表示部13の大きさや基板2
0の大きさによって適宜変更してもよい。例えば図4
(b)に示すように、表示部34が大きい場合にはその
1個の表示部34を一枚の基板20に形成してもよい。
この場合でも大抵の場合は、基板20を、その縁部のカ
ットライン35でカットして基板の大きさを調整する必
要があるため、孔24を形成した四角枠形状のポリイミ
ドテープ36を電極14,15の接続部14a,15a
及びカットライン35を覆うように貼り付ける。また、
後でカットしなくて済むように基板20を予め適切な大
きさに形成すると、カットライン35がなくなって覆う
必要がなくなるため、電極14,15の接続部14a,
15aのみを覆うようにポリイミドテープ33を貼り付
けてもよい。また、四角枠形状のポリイミドテープ36
を対応する大きさに形成して、カットしなくて済むよう
に予め適切な大きさに形成した基板に貼り付けてもよ
い。
Display unit 1 formed on one substrate 20
The number of 3 is not limited to 4, and the size of the display unit 13 and the substrate 2
You may change suitably according to the magnitude | size of 0. For example, in FIG.
As shown in (b), when the display unit 34 is large, one display unit 34 may be formed on one substrate 20.
Even in this case, in most cases, since it is necessary to cut the substrate 20 by the cut line 35 at the edge thereof to adjust the size of the substrate, the rectangular frame-shaped polyimide tape 36 having the holes 24 is used for the electrode 14. , 15 connection parts 14a, 15a
And, it is attached so as to cover the cut line 35. Also,
If the substrate 20 is formed in an appropriate size in advance so that it is not necessary to cut it later, the cut line 35 is eliminated and it is not necessary to cover it. Therefore, the connection portions 14a of the electrodes 14 and 15 are
The polyimide tape 33 may be attached so as to cover only 15a. In addition, the square-shaped polyimide tape 36
May be formed in a corresponding size, and may be attached to a substrate formed in an appropriate size in advance so as to avoid cutting.

【0031】○ 基板20にカットライン21が形成さ
れることに限られず、カットライン21を形成しなくて
もよい。この場合、基板20の切断すべきところを覆う
ようにポリイミドテープを基板20に貼り付け、その後
に薄膜を形成し、そしてポリイミドテープを除去し、基
板20の切断すべきところに薄膜がない状態で基板20
を切断する。よって、基板20にカットライン21を形
成しない場合でも、薄膜16のひび割れや剥がれ等を防
止できる。
The cut line 21 is not limited to being formed on the substrate 20, and the cut line 21 may not be formed. In this case, a polyimide tape is attached to the substrate 20 so as to cover the portion of the substrate 20 to be cut, a thin film is formed after that, and the polyimide tape is removed. Board 20
Disconnect. Therefore, even if the cut line 21 is not formed on the substrate 20, the thin film 16 can be prevented from cracking or peeling.

【0032】○ カットライン21をポリイミドテープ
23で覆わなくてもよいが、覆うと、基板20のカット
時の薄膜16のひび割れを防止できるため、カットライ
ン21をポリイミドテープ23で覆い、その後に薄膜を
形成するのが好ましい。
The cut line 21 does not need to be covered with the polyimide tape 23, but if it is covered, the thin film 16 can be prevented from cracking when the substrate 20 is cut. Therefore, the cut line 21 is covered with the polyimide tape 23, and then the thin film 16 is formed. Are preferably formed.

【0033】○ ポリイミドテープ23の粘着剤は、そ
の粘着力を下げる処理を施せるように構成しなくてもよ
い。この場合、粘着力を調整する必要がある。しかし、
粘着力を下げる処理を施せるように構成しておくと難し
い粘着力の調整を行わなくて済むため、粘着剤は、その
粘着力を下げる処理を施せるように構成するのが好まし
い。
The adhesive of the polyimide tape 23 does not have to be structured so as to reduce its adhesive strength. In this case, it is necessary to adjust the adhesive strength. But,
Since it is not necessary to adjust the adhesive strength, which is difficult if the adhesive is configured to be subjected to the processing for reducing the adhesive strength, it is preferable that the adhesive is configured to be subjected to the processing for reducing the adhesive strength.

【0034】○ ポリイミドテープ23の粘着剤は、紫
外線の照射によってその粘着力が下がるように構成され
ることに限られない。例えば、室温より冷却することに
よって粘着力が下がるように粘着剤を構成してもよい。
The adhesive of the polyimide tape 23 is not limited to the one whose adhesive force is lowered by the irradiation of ultraviolet rays. For example, the pressure-sensitive adhesive may be configured so that the pressure-sensitive adhesive force decreases by cooling from room temperature.

【0035】○ マスク部材としての粘着テープはポリ
イミドテープに限らず、薄膜形成時の温度よりも耐熱性
を有するテープであればよく、例えばアルミテープでも
よい。
The adhesive tape as the mask member is not limited to the polyimide tape, and any tape having heat resistance higher than the temperature at the time of forming the thin film may be used, for example, an aluminum tape.

【0036】○ 薄膜形成時の温度は100°Cである
ことに限られず、例えば有機EL材料の耐熱性の進歩等
によってより高い温度にしてもよく、マスク部材はその
温度よりも耐熱性を有するものであればよい。
The temperature at the time of forming the thin film is not limited to 100 ° C., and may be set to a higher temperature due to, for example, progress in heat resistance of the organic EL material, and the mask member has heat resistance higher than that temperature. Anything will do.

【0037】○ マスク部材は粘着テープでなくてもよ
く、例えば樹脂を塗布してマスク部材を形成してもよ
い。 ○ 薄膜16は窒化ケイ素で形成することに限らず、水
や酸素等の透過を阻止する材料で形成すればよく、例え
ば酸化ケイ素やダイヤモンド・ライク・カーボン等で形
成してもよい。
The mask member does not have to be an adhesive tape, and for example, a resin may be applied to form the mask member. The thin film 16 is not limited to being formed of silicon nitride, and may be formed of a material that blocks permeation of water, oxygen, etc., and may be formed of, for example, silicon oxide, diamond-like carbon, or the like.

【0038】○ 有機EL表示パネル11は2分割走査
タイプに形成されることに限られず、表示部13を上か
ら下まで順に走査するタイプであってもよい。この場
合、例えば電極15は表示部13の上辺又は下辺のいず
れか一方から外側に延びるように形成する。
The organic EL display panel 11 is not limited to the two-division scanning type, and may be a type that sequentially scans the display unit 13 from the top to the bottom. In this case, for example, the electrode 15 is formed so as to extend outward from either the upper side or the lower side of the display unit 13.

【0039】○ 電極14,15の数は少なくてもよ
く、例えば有機EL素子をバックライトとして使うよう
な場合、電極14,15はそれぞれ1本ずつでもよい。 ○ 基板20は、ポリイミドテープ23を剥いだ後にカ
ットされることに限られず、ポリイミドテープ23を貼
り付けた状態のままで基板20をカットして、カットの
後にポリイミドテープ23を剥いでもよい。ポリイミド
テープ23の厚さが表示部13より大幅に厚いことによ
り、表示部13を覆う薄膜16と、ポリイミドテープ2
3上の薄膜26とが分離されて形成されているため、カ
ット時に薄膜26にひびが入ったとしても、表示部13
を覆う薄膜16にひびが入ることはない。なお、カット
時にポリイミドテープ23がクッションのように作用す
ることにより、薄膜26自体にひびが入りにくい。
The number of electrodes 14 and 15 may be small. For example, when the organic EL element is used as a backlight, each of the electrodes 14 and 15 may be one. The substrate 20 is not limited to being cut after the polyimide tape 23 is peeled off. The substrate 20 may be cut with the polyimide tape 23 still attached, and the polyimide tape 23 may be peeled off after cutting. Since the thickness of the polyimide tape 23 is significantly thicker than the display portion 13, the thin film 16 covering the display portion 13 and the polyimide tape 2
3 is formed separately from the thin film 26 on the display 3, so that even if the thin film 26 is cracked during cutting, the display unit 13
The thin film 16 that covers is not cracked. The polyimide tape 23 acts like a cushion during cutting, so that the thin film 26 itself is unlikely to crack.

【0040】〇 有機EL表示パネル11はカラー表示
パネル、モノクロ表示パネルのいずれであってもよい。 ○ 陽極と陰極とは、ガラス基板12上で逆の順に形成
してもよい。
The organic EL display panel 11 may be a color display panel or a monochrome display panel. The anode and cathode may be formed on the glass substrate 12 in the reverse order.

【0041】〇 パッシブマトリックス駆動方式の有機
EL表示パネルに限らず、アクティブマトリックス駆動
方式の有機EL表示パネルに適用してもよい。 ○ 表示部13は4角形状であることに限られない。
Not limited to the passive matrix drive type organic EL display panel, it may be applied to an active matrix drive type organic EL display panel. The display unit 13 is not limited to the rectangular shape.

【0042】上記各実施の形態から把握できる発明(技
術的思想)について、以下に追記する。 (1) 請求項3に記載の発明において、前記粘着テー
プの側面は、封止すべき部分との境で、接着面側より接
着面と反対側の方が張り出すように斜めに形成されてい
る。
The invention (technical idea) that can be understood from the above-described embodiments will be added below. (1) In the invention according to claim 3, the side surface of the pressure-sensitive adhesive tape is formed obliquely so that the side opposite to the bonding surface projects from the bonding surface side at the boundary with the portion to be sealed. There is.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上詳述したように請求項1〜請求項5
に記載の発明によれば、工数を低減して、電極の接続部
を露出させるように封止膜を形成できる。
As described in detail above, the first to fifth aspects of the invention are described.
According to the invention described in (1), the number of steps can be reduced and the sealing film can be formed so as to expose the connection portion of the electrode.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 (a)は図2のIA−IA線部分模式断面
図、(b)は薄膜を形成した状態の部分模式断面図、
(c)は有機EL表示パネルの部分模式断面図。
1A is a partial schematic cross-sectional view taken along the line IA-IA of FIG. 2, and FIG. 1B is a partial schematic cross-sectional view of a state in which a thin film is formed,
(C) is a partial schematic cross section of an organic EL display panel.

【図2】 ポリイミドテープを貼った状態を示す模式平
面図。
FIG. 2 is a schematic plan view showing a state in which a polyimide tape is attached.

【図3】 別例のポリイミドテープを貼った状態を示す
部分模式平面図。
FIG. 3 is a partial schematic plan view showing a state where a polyimide tape of another example is attached.

【図4】 (a)は他の別例のポリイミドテープを貼っ
た状態を示す模式平面図、(b)は他の別例を示す模式
平面図。
FIG. 4A is a schematic plan view showing a state where a polyimide tape of another example is attached, and FIG. 4B is a schematic plan view showing another example.

【図5】 従来の有機EL表示パネルの模式一部断面
図。
FIG. 5 is a schematic partial cross-sectional view of a conventional organic EL display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…有機EL表示パネル、12,20…基板としての
ガラス基板、13,34…表示部、14,15…電極、
14a,15a…接続部、16…封止膜としての薄膜、
21,35…カットライン、23,33,36…マスク
部材である粘着テープとしてのポリイミドテープ。
11 ... Organic EL display panel, 12, 20 ... Glass substrate as substrate, 13, 34 ... Display unit, 14, 15 ... Electrode,
14a, 15a ... Connection part, 16 ... Thin film as sealing film,
21, 35 ... Cut line, 23, 33, 36 ... Polyimide tape as an adhesive tape which is a mask member.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機EL素子を備える表示部と、該表示
部から延びる電極とを基板上に備えた有機EL表示パネ
ルの前記表示部を封止する封止膜を形成する封止膜形成
工程を備えた有機EL表示パネルの製造方法であって、
前記封止膜形成工程において前記電極の他の配線との接
続部を少なくともマスクするマスク部材を前記基板上に
配置した状態で前記封止膜を形成し、その後前記マスク
部材を除去する有機EL表示パネルの製造方法。
1. A sealing film forming step of forming a sealing film for sealing the display unit of an organic EL display panel, which includes a display unit including an organic EL element and an electrode extending from the display unit on a substrate. A method for manufacturing an organic EL display panel comprising:
An organic EL display in which the sealing film is formed in a state in which a mask member that masks at least a connection portion of the electrode with another wiring in the sealing film formation step is arranged on the substrate, and then the mask member is removed. Panel manufacturing method.
【請求項2】 前記基板には有機EL表示パネルを切出
すためのカットラインが形成され、前記マスク部材によ
り、前記基板のカットラインもマスクされた状態で前記
封止膜が形成される請求項1に記載の有機EL表示パネ
ルの製造方法。
2. A cut line for cutting out an organic EL display panel is formed on the substrate, and the sealing film is formed in a state where the cut line of the substrate is also masked by the mask member. 1. The method for manufacturing the organic EL display panel according to 1.
【請求項3】 前記マスク部材が粘着テープである請求
項1又は請求項2に記載の有機EL表示パネルの製造方
法。
3. The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the mask member is an adhesive tape.
【請求項4】 粘着剤の粘着力を下げる処理をした後、
前記マスク部材が除去される請求項1〜請求項3のいず
れか一項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
4. After the treatment for decreasing the adhesive strength of the adhesive,
The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the mask member is removed.
【請求項5】 前記粘着剤の粘着力を下げる処理は、紫
外線照射である請求項4に記載の有機EL表示パネルの
製造方法。
5. The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 4, wherein the treatment for reducing the adhesive strength of the adhesive is irradiation of ultraviolet rays.
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