JP2003248969A - Optical disc and optical disc manufacturing method - Google Patents

Optical disc and optical disc manufacturing method

Info

Publication number
JP2003248969A
JP2003248969A JP2002223477A JP2002223477A JP2003248969A JP 2003248969 A JP2003248969 A JP 2003248969A JP 2002223477 A JP2002223477 A JP 2002223477A JP 2002223477 A JP2002223477 A JP 2002223477A JP 2003248969 A JP2003248969 A JP 2003248969A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
organic dye
optical disc
disc
recording layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002223477A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaya Hori
賢哉 堀
Katsuyuki Takahashi
克幸 高橋
Masaru Odagiri
優 小田桐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2002223477A priority Critical patent/JP2003248969A/en
Publication of JP2003248969A publication Critical patent/JP2003248969A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical disc that has stabilized characteristics showing a constant reflection and modulation in any location on a disc surface. <P>SOLUTION: In an optical disc that has a recording layer consisting of an organic dye and metal reflector and is capable of recording and reproducing information by a laser beam, (1) the organic dye contents of the recording layer is made radially uneven on the disc, (2) ratio of the recording layer thickness of grooves and lands is made radially uneven, (3) reflector layer thickness is made radially uneven on the disc, and (4) content ratio of the reflector layer is made radially uneven. Above procedures cancel optical characteristic differences unavoidable on the disc made by using a conventional method material, and it is made possible to obtain the optical characteristics stabilized all over the disc. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学的に情報の記
録・再生が可能な光ディスクに関するものであり、特に
レーザー光等の照射により記録層を変化させて記録する
光ディスクおよびその製造方法、ならびにその製造装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk capable of optically recording and reproducing information, and in particular, an optical disk in which a recording layer is changed by irradiation of laser light or the like, and a method for manufacturing the same. The manufacturing apparatus is related.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、CDが普及しそれに伴ってCD規
格に対応した記録可能な光ディスクが開発され使用され
るようになっている。CD−Rは、通常片面に螺旋状の
グルーブ(案内溝)を有する透明樹脂基板を用い、この
上に有機系色素溶液をスピンコート装置で塗布した後に
溶媒を乾燥させて記録層を形成し、更に、その上に金属
のスパッタリング等により形成した反射層、ならびに紫
外線硬化樹脂等をスピンコート装置等で塗布して硬化さ
せることにより形成した保護層を設けて構成される。
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of CDs, recordable optical disks conforming to the CD standard have been developed and used. The CD-R generally uses a transparent resin substrate having a spiral groove (guide groove) on one side, and an organic dye solution is applied onto the transparent resin substrate by a spin coater and then the solvent is dried to form a recording layer, Further, a reflective layer formed by metal sputtering or the like, and a protective layer formed by applying and curing an ultraviolet curable resin or the like with a spin coater or the like are provided thereon.

【0003】最近は、情報の更なる高密度化の方向を目
指して、いわゆるDVDが開発され、実用に供されてい
る。DVDは、CDと同様に成形機で厚さ0.6mmの
樹脂基板に、例えばトラックピッチ0.74μm、最短
ピット長0.40μmのピットを形成し、その上に反射
層を設け、更にディスクとしての強度を確保するため
に、紫外線硬化樹脂などの接着剤を介して厚さ0.6m
mの樹脂基板を積層して一体化することにより、製造さ
れる。そして、DVDについてもCD−Rと同様に、ラ
イトワンス型のDVD−Rが市販されている。
Recently, so-called DVDs have been developed and put into practical use with the aim of further increasing the density of information. Like a CD, a DVD has a molding machine on which a pit having a track pitch of 0.74 μm and a minimum pit length of 0.40 μm is formed on a resin substrate having a thickness of 0.6 mm. In order to ensure the strength of the
It is manufactured by laminating m resin substrates and integrating them. As for the DVD, a write-once type DVD-R is commercially available, like the CD-R.

【0004】図1にDVD−Rの代表的な構成を模式的
に示す。図1に示すDVD−Rは、グルーブ1aを有す
る透明の樹脂製基板1、有機色素を含む記録層2、反射
層3、接着層4および基板1と同じ厚さを有する樹脂製
基板5を含む構成となっている。なお、図1の光ディス
クは、理解の容易のため、各層の厚さの比率等は実際の
ものとは異なるように表されている。
FIG. 1 schematically shows a typical structure of a DVD-R. The DVD-R shown in FIG. 1 includes a transparent resin substrate 1 having a groove 1 a, a recording layer 2 containing an organic dye, a reflective layer 3, an adhesive layer 4, and a resin substrate 5 having the same thickness as the substrate 1. It is composed. For easy understanding, the optical disc of FIG. 1 is illustrated such that the ratio of the thickness of each layer is different from the actual one.

【0005】記録層2への記録は、所定の波長を有する
レーザー光を基板側から記録層へ照射することにより有
機色素等を変化、例えば分解させることにより、および
/またはそれによる記録層の干渉構造の変化を利用して
情報に応じたピットを形成することにより行なわれる。
この記録層2は、CD−Rと同様に有機系色素を適当な
溶媒に溶解した溶液をスピンコートする方法により形成
でき、あるいは、有機系色素等を真空蒸着させることに
よっても形成できる。
Recording on the recording layer 2 is performed by irradiating a laser beam having a predetermined wavelength from the substrate side to the recording layer to change, for example, decompose the organic dye, and / or interference of the recording layer. This is performed by forming pits corresponding to information by utilizing the change in structure.
Like the CD-R, the recording layer 2 can be formed by a method of spin coating a solution in which an organic dye is dissolved in an appropriate solvent, or can be formed by vacuum vapor deposition of an organic dye or the like.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】CD−RまたはDVD
−Rに関して生じ得る問題として、ディスク特性、特に
反射率および変調度がディスクの内周と外周とで異なる
という問題がある。ここでいう反射率とは、光ディスク
の記録層に情報を記録再生する際に使用する光(例えば
レーザ光)、即ち記録再生波長の光を照射したときの反
射率である。以下の説明を含む本明細書において、単に
「反射率」というときは記録再生波長の光の反射率を指
す。
DISCLOSURE OF THE INVENTION CD-R or DVD
As a problem that may occur with respect to −R, there is a problem that the disc characteristics, particularly the reflectance and the modulation degree, are different between the inner circumference and the outer circumference of the disk. The term "reflectance" as used herein refers to the reflectance used when light (for example, laser light) used for recording and reproducing information on the recording layer of the optical disc, that is, light having a recording and reproducing wavelength is irradiated. In the present specification including the following description, the term "reflectance" simply means the reflectance of light having a recording / reproducing wavelength.

【0007】上記の問題が生じる理由として、CD−R
またはDVD−Rを構成する樹脂製基板の複屈折および
/または基板に形成されるグルーブの深さが、基板の半
径方向において一定でないことが挙げられる。
The CD-R is one of the reasons why the above problems occur.
Alternatively, the birefringence of the resin substrate and / or the depth of the groove formed in the substrate forming the DVD-R may not be constant in the radial direction of the substrate.

【0008】ディスク形状の基板は、樹脂を金型(スタ
ンパとも呼ばれる)の中央部から放射状に流す射出成形
によって形成される。スタンパには、基板に所望のグル
ーブが形成されるように凹凸が形成されている。基板の
複屈折は、一般に基板の内周において最も大きく、外周
へ向かうにつれて減少する傾向にある。これは、基板を
射出成形する際の圧力条件等により、基板の半径方向に
おいて均一な分子量分布が得られないこと等に起因する
と考えられる。また、基板に形成されるグルーブの深さ
は、中心から外周に向かうにつれて浅くなる傾向にあ
る。これは、射出成形によりグルーブを形成する際に、
外周部において、スタンパに形成された凹凸が十分に転
写されない、即ち転写率が低いことによると考えられ
る。
The disk-shaped substrate is formed by injection molding in which a resin is radiated from a central portion of a mold (also called a stamper). Concavities and convexities are formed on the stamper so that desired grooves are formed on the substrate. The birefringence of the substrate is generally the largest at the inner circumference of the substrate and tends to decrease toward the outer circumference. This is considered to be due to the fact that a uniform molecular weight distribution cannot be obtained in the radial direction of the substrate due to the pressure conditions and the like when the substrate is injection molded. Further, the depth of the groove formed on the substrate tends to become shallower from the center toward the outer periphery. This is because when forming the groove by injection molding,
It is considered that the unevenness formed on the stamper is not sufficiently transferred on the outer peripheral portion, that is, the transfer rate is low.

【0009】複屈折が小さい部分およびグルーブの深さ
が浅い部分はともに、最終的に得られる光ディスクにお
いて反射率の大きい部分となる。したがって、光ディス
クは、一般に、内周から外周に向かうにつれて、その反
射率が大きくなる。またグルーブの深さが浅い部分は、
最終的に得られる光ディスクにおいて変調度の小さい部
分となる。
Both the portion having a small birefringence and the portion having a shallow groove depth are portions having a high reflectance in the finally obtained optical disc. Therefore, the reflectance of the optical disc generally increases from the inner circumference toward the outer circumference. In addition, in the part where the depth of the groove is shallow,
In the finally obtained optical disc, it becomes a portion with a small modulation degree.

【0010】複屈折に関する問題を解消するために、例
えば、基板を形成する材料の組成等を変更することが行
われている。しかし、射出成形後の基板において一定の
複屈折を実現するためには、特殊な材料を選択する必要
があり、そのような材料は一般に高価である。また、グ
ルーブの深さが一定でないという問題を解消するため
に、例えば、特殊なスタンパが使用されている。しか
し、特殊なスタンパの作製には熟練を要するため、特殊
なスタンパの使用は費用および時間の点において不利で
ある。
In order to solve the problem of birefringence, for example, the composition of the material forming the substrate has been changed. However, in order to achieve a certain birefringence in a substrate after injection molding, it is necessary to select a special material, and such a material is generally expensive. Further, in order to solve the problem that the depth of the groove is not constant, for example, a special stamper is used. However, the use of a special stamper is disadvantageous in terms of cost and time, because the production of a special stamper requires skill.

【0011】ライトワンス(write−once)型
の光ディスクに対しては、一定のディスク特性を確保す
ることが要求される。したがって、1つの光ディスク
は、あらゆる箇所において所定の反射率および変調度等
を有する必要がある。所定の反射率および変調度等を有
しない光ディスクは、規格を満たさないものとみなさ
れ、製品となり得ない。
For a write-once type optical disc, it is required to secure a certain disc characteristic. Therefore, one optical disk needs to have a predetermined reflectance and modulation degree at every location. An optical disc that does not have a predetermined reflectance and modulation degree is regarded as not satisfying the standard and cannot be a product.

【0012】このように、光ディスクのディスク特性
は、いずれの箇所においても一定範囲内の値をとるよう
に規格で定められている。現在市販されているCD−R
およびDVD−Rは、内周および外周の反射率等に差を
有するものの、その差は規格上、許容される範囲内であ
る。しかし、光ディスクにはなお一層の改善が求められ
ており、全体にわたってより均一なディスク特性を有す
る光ディスクが常に要求されている。本発明はかかる実
情に鑑みてなされたものであり、特殊なスタンパおよび
射出成形技術を使用することなく製造された、通常の材
料から成る基板を使用した場合でも、反射率および変調
度等が全体にわたって一定した、優れたディスク特性を
有する光ディスクを提供することを課題とする。
As described above, the disc characteristics of the optical disc are defined by the standard so as to take a value within a certain range at any position. CD-R currently on the market
Although the DVD-R and the DVD-R have a difference in reflectance between the inner circumference and the outer circumference, the difference is within an allowable range according to the standard. However, optical discs are required to be further improved, and optical discs having more uniform disc characteristics throughout are constantly required. The present invention has been made in view of such circumstances, and even when a substrate made of an ordinary material, which is manufactured without using a special stamper and injection molding technology, is used, the reflectance, the degree of modulation, etc. An object of the present invention is to provide an optical disc having excellent disc characteristics which is constant over the entire length.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、第1の光ディスクとして、有機色素から
成る記録層を有する光ディスクであって、記録層が2種
類以上の有機色素を構成成分として含み、記録層におけ
る成分比がディスクの半径方向において一定でない光デ
ィスクを提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is an optical disc having a recording layer made of an organic dye as a first optical disc, and the recording layer comprises two or more kinds of organic dyes. Provided is an optical disc that contains components as components and the component ratio in the recording layer is not constant in the radial direction of the disc.

【0014】第1の光ディスクは、記録層が2種類以上
の有機色素を構成成分として含み、記録層における成分
比がディスクの半径方向において一定でないことを特徴
とする。したがって、この第1の光ディスクの記録層に
おいて、成分比が同じである部分は同心円状に存在する
こととなる。成分比は、各有機色素が記録層に占める割
合(重量基準)で示される。成分比がディスクの半径方
向において一定でない場合には、1)記録層に含まれる
各有機色素の割合がいずれも、ディスクの半径方向にお
いて一定でない場合、および2)記録層に含まれる有機
色素が3種類であって、1種類の有機色素の割合はディ
スクの半径方向全体にわたって一定であり、残り2種類
の有機色素の割合がディスクの半径方向において変化す
る場合等が含まれる。
The first optical disc is characterized in that the recording layer contains two or more kinds of organic dyes as constituent components, and the component ratio in the recording layer is not constant in the radial direction of the disc. Therefore, in the recording layer of the first optical disc, the portions having the same component ratio exist in concentric circles. The component ratio is indicated by the ratio (weight basis) of each organic dye in the recording layer. When the component ratio is not constant in the radial direction of the disc, 1) when the ratio of each organic dye contained in the recording layer is not constant in the radial direction of the disc, and 2) when the organic dye contained in the recording layer is There are three types, and the ratio of one type of organic dye is constant over the entire radial direction of the disc, and the case where the ratio of the remaining two types of organic dye changes in the radial direction of the disc is included.

【0015】記録層において成分比が変化すると、記録
層の光学特性、特に反射率が変化する。したがって、記
録層における成分比を、例えば、記録層の反射率がディ
スクの内周で大きくなり、外周で小さくなるようにディ
スクの半径方向で変化させれば、通常の光ディスク用基
板に由来するディスクの半径方向の光学特性の変化が相
殺される。このように、本発明の第1の光ディスクは、
記録層における成分比を所望のように変化させること
で、全体の光学特性をディスクの半径方向において一定
にし、ディスク面内で安定した記録再生特性を示すよう
にしたものである。
When the component ratio changes in the recording layer, the optical characteristics of the recording layer, especially the reflectance changes. Therefore, if the component ratio in the recording layer is changed in the radial direction of the disc such that the reflectance of the recording layer becomes larger at the inner periphery of the recording layer and becomes smaller at the outer periphery of the recording layer, the disc derived from the ordinary optical disc substrate will be obtained. The changes in the optical characteristics in the radial direction are canceled out. Thus, the first optical disc of the present invention,
By changing the component ratio in the recording layer as desired, the overall optical characteristics are made constant in the radial direction of the disk, and stable recording / reproducing characteristics are exhibited in the disk surface.

【0016】上記課題を解決するため、本発明は、第2
の光ディスクとして、有機色素から成る記録層を有する
光ディスクであって、記録層のグルーブ部分の厚さに対
するランド部分の厚さの比が、ディスクの半径方向にお
いて一定でない光ディスクを提供する。
In order to solve the above problems, the present invention provides a second
An optical disc having a recording layer made of an organic dye, wherein the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer is not constant in the radial direction of the disc.

【0017】第2の光ディスクは、基板のグルーブの上
に位置する記録層の厚さに対する、基板のランドの上に
位置する記録層の厚さの比が、ディスクの半径方向にお
いて一定でないことを特徴とする。したがって、この第
2の光ディスクの記録層において、記録層のグルーブ部
分の厚さに対するランド部分の厚さの比が同じである部
分は、略同心円状に存在することとなる。ここで、グル
ーブおよびランドは通常の意味において使用される。記
録層のグルーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さの
比は、あるグルーブ部分における記録層の厚さに対す
る、当該グルーブ部分における記録層の厚さの比であ
り、隣接するグルーブ部分とランド部分の記録層の段差
の大小として捉えることができる。記録層のグルーブ部
分の厚さに対するランド部分の厚さが大きいほど、2つ
の部分の間の段差は大きくなる。2つの部分の間の段差
の大小は、例えば、プッシュプル信号から知ることがで
きる。
In the second optical disc, the ratio of the thickness of the recording layer located on the land of the substrate to the thickness of the recording layer located on the groove of the substrate is not constant in the radial direction of the disc. Characterize. Therefore, in the recording layer of the second optical disc, the portions in which the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer is the same are substantially concentric circles. Here, grooves and lands are used in their ordinary meaning. The ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer is the ratio of the thickness of the recording layer in the groove portion to the thickness of the recording layer in a certain groove portion. It can be regarded as the size of the level difference of the recording layer. The greater the thickness of the land portion relative to the thickness of the groove portion of the recording layer, the greater the step difference between the two portions. The size of the step between the two parts can be known from the push-pull signal, for example.

【0018】記録層のグルーブ部分の厚さに対するラン
ド部分の厚さの比が変化することによっても、記録層の
光学特性、特に反射率が変化する。一般に、記録層のグ
ルーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さの比が大き
いほど、即ち、2つの部分の間の段差が大きいほど、反
射率は低くなる傾向にある。したがって、記録層におけ
るグルーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さの比
を、外周側ほど大きくなるように変化させれば、通常の
光ディスク用基板に由来するディスクの半径方向の光学
特性の変化が相殺される。このように、本発明の第2の
光ディスクは、記録層のグルーブ部分の厚さに対するラ
ンド部分の厚さの比を所望のように変化させることで、
全体の光学特性をディスクの半径方向において一定に
し、ディスク面内で安定した記録再生特性を示すように
したものである。
A change in the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer also changes the optical characteristics of the recording layer, particularly the reflectance. In general, the reflectance tends to decrease as the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer increases, that is, the step difference between the two portions increases. Therefore, if the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion in the recording layer is changed so as to increase toward the outer peripheral side, the change in the optical characteristics of the disc in the radial direction due to the ordinary optical disc substrate is prevented. Offset. Thus, in the second optical disc of the present invention, by changing the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer as desired,
The overall optical characteristics are made constant in the radial direction of the disk so that stable recording / reproducing characteristics are exhibited in the disk surface.

【0019】あるいは、第2の光ディスクは、記録層
が、基板の中心からの距離が異なる位置に配置された2
以上のノズルから、粘度がそれぞれ異なる有機色素溶液
を滴下して、スピンコートすることにより形成された層
である光ディスクとして特定される。そのように特定さ
れる光ディスクは、例えば同心円を形成するように、場
所によって粘度の異なる有機色素溶液を塗布することに
より、ディスクの半径方向において光学特性が一定でな
い記録層を有するものとなる。
Alternatively, in the second optical disc, the recording layers are arranged at different positions from the center of the substrate.
From the above nozzles, organic dye solutions having different viscosities are dropped, and spin coating is performed to identify the optical disc as a layer. The optical disc specified in this way has a recording layer whose optical characteristics are not constant in the radial direction of the disc by applying organic dye solutions having different viscosities at different places so as to form concentric circles, for example.

【0020】上記課題を解決するため、本発明は第3の
光ディスクとして、有機色素から成る記録層、および反
射層を有する光ディスクであって、反射層の厚さがディ
スクの半径方向において一定でない光ディスクを提供す
る。
In order to solve the above problems, the present invention is an optical disc having a recording layer made of an organic dye and a reflective layer as a third optical disc, wherein the thickness of the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc. I will provide a.

【0021】第3の光ディスクは、反射層の厚さがディ
スクの半径方向において一定でないことを特徴とする。
したがって、この第3の光ディスクの反射層において、
厚さが同じである部分は同心円状に存在することとな
る。
The third optical disc is characterized in that the thickness of the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc.
Therefore, in the reflective layer of this third optical disc,
The parts having the same thickness are concentrically formed.

【0022】反射層の厚さは、光ディスクの特性、特に
反射率および変調度に影響を及ぼす。一般に反射層の厚
さが大きいと、反射率は大きくなり、変調度は小さくな
る。反射層の厚さが小さいと、反射率は小さくなり、変
調度は大きくなる。したがって、例えば、反射層の厚さ
をディスクの内周で大きくし、外周で小さくすれば、通
常の光ディスク用基板に由来するディスクの半径方向の
光学特性の変化が相殺される。このように、本発明の第
3の光ディスクは、反射層の厚さを所望のように変化さ
せることで、全体の光学特性をディスクの半径方向にお
いて一定にし、ディスク面内で安定した記録再生特性を
示すようにしたものである。
The thickness of the reflective layer affects the characteristics of the optical disk, particularly the reflectance and the degree of modulation. Generally, when the thickness of the reflective layer is large, the reflectance is large and the degree of modulation is small. When the thickness of the reflective layer is small, the reflectance is small and the degree of modulation is large. Therefore, for example, if the thickness of the reflective layer is increased on the inner circumference of the disk and decreased on the outer circumference, the change in the optical characteristics of the disk in the radial direction due to the ordinary optical disk substrate is offset. As described above, in the third optical disc of the present invention, by changing the thickness of the reflective layer as desired, the entire optical characteristic is made constant in the radial direction of the disc, and stable recording / reproducing characteristics are achieved in the disc surface. Is shown.

【0023】上記課題を解決するため、本発明は第4の
光ディスクとして、有機色素から成る記録層、および反
射層を有する光ディスクであって、反射層が2種類以上
の元素を構成成分として含み、反射層における成分比が
ディスクの半径方向において一定でない光ディスクを提
供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a fourth optical disc, which is an optical disc having a recording layer made of an organic dye and a reflective layer, wherein the reflective layer contains two or more kinds of elements as constituent components. Provided is an optical disc in which the component ratio in the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc.

【0024】第4の光ディスクは、反射層が2種類以上
の元素を構成成分として含み、反射層における成分比が
ディスクの半径方向において一定でないことを特徴とす
る。成分比は、各元素が反射層に占める割合(重量基
準)で示される。したがって、この第4の光ディスクの
反射層において、成分比が同じである部分は同心円状に
存在することとなる。成分比がディスクの半径方向にお
いて一定でない場合には、1)反射層に含まれる各元素
の割合がいずれもディスクの半径方向において一定でな
い場合、および2)反射層に含まれる元素が3種類であ
って、1種類の元素の割合はディスクの半径方向全体に
わたって一定であり、残り2種類の元素の割合がディス
クの半径方向において変化する場合等が含まれる。
The fourth optical disc is characterized in that the reflective layer contains two or more kinds of elements as constituent components, and the component ratio in the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc. The component ratio is indicated by the ratio (weight basis) of each element in the reflective layer. Therefore, in the reflective layer of the fourth optical disc, the portions having the same component ratio are concentrically present. When the component ratios are not constant in the radial direction of the disc, 1) when the ratio of each element contained in the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc, and 2) when three types of elements are contained in the reflective layer. That is, the ratio of one kind of element is constant over the entire radial direction of the disk, and the ratio of the remaining two kinds of elements changes in the radial direction of the disk.

【0025】反射層における成分比は、光ディスクの光
学特性、特に反射率に影響を及ぼす。したがって、反射
層における成分比を、例えば、反射層の反射率がディス
クの内周で大きくなり、外周で小さくなるようにディス
クの半径方向で変化させれば、通常の光ディスク用基板
に由来するディスクの半径方向の光学特性の変化が相殺
される。このように、本発明の第4の光ディスクは、反
射層における成分比を所望のように変化させることで、
全体の光学特性をディスクの半径方向において一定に
し、ディスク面内で安定した記録再生特性を示すように
したものである。
The component ratio in the reflective layer affects the optical characteristics of the optical disk, especially the reflectance. Therefore, if the component ratio in the reflective layer is changed in the radial direction of the disc, for example, the reflectance of the reflective layer becomes large at the inner circumference of the disc and becomes small at the outer circumference, the disc derived from the ordinary optical disc substrate is obtained. The changes in the optical characteristics in the radial direction are canceled out. Thus, in the fourth optical disc of the present invention, by changing the component ratio in the reflective layer as desired,
The overall optical characteristics are made constant in the radial direction of the disk so that stable recording / reproducing characteristics are exhibited in the disk surface.

【0026】本発明の光ディスクは、通常の方法および
材料で作製される基板において不可避的に生じる光学特
性の不均一さを、記録層における成分比を不均一とす
ること、記録層のグルーブ部分の厚さに対するランド
部分の厚さの比を不均一とすること、反射層の厚さを
不均一とすること、または反射層における成分比を不
均一とすることにより相殺し、反射率および変調度をデ
ィスクの半径方向において実質的に一定にした光ディス
クである。〜を2以上組み合わせることもまた可能
であり、それによって、光ディスクの光学特性をより精
密に制御することができる。
In the optical disk of the present invention, the nonuniformity of the optical characteristics inevitably caused in the substrate manufactured by the ordinary method and material is made nonuniform in the composition ratio in the recording layer, and the groove portion of the recording layer is formed. The unevenness of the ratio of the thickness of the land portion to the thickness, the unevenness of the thickness of the reflection layer, or the unevenness of the component ratio in the reflection layer cancels each other out, and the reflectance and the degree of modulation are reduced. Is an optical disc in which is substantially constant in the radial direction of the disc. It is also possible to combine two or more of, which allows more precise control of the optical properties of the optical disc.

【0027】本発明はまた、上記第1の光ディスクを製
造する方法であって、記録層を有機色素溶液のスピンコ
ートにより形成することを含み、スピンコートを、基板
の中心からの距離が異なる位置に配置された2以上のノ
ズルから、有機色素の組成がそれぞれ異なる有機色素溶
液を滴下するとともに、各ノズルを基板の半径方向で往
復運動させながら実施することを特徴とする光ディスク
の製造方法を提供する。
The present invention is also a method for manufacturing the above-mentioned first optical disc, which comprises forming the recording layer by spin coating of an organic dye solution, wherein the spin coating is performed at a position different in distance from the center of the substrate. A method for manufacturing an optical disk, characterized in that an organic dye solution having a different organic dye composition is dropped from two or more nozzles arranged in each of the nozzles, and each nozzle is reciprocally moved in the radial direction of the substrate. To do.

【0028】この製造方法は、有機色素の組成が異なる
有機色素溶液を2以上使用し、各有機色素溶液を、基板
の中心からの距離が異なる位置に配置された別々のノズ
ルから滴下してスピンコートすることにより記録層を形
成することを特徴とする。有機色素溶液の有機色素の組
成が異なるとは、溶液に含まれる有機色素の種類および
/または配合比が異なることをいう。この製造方法によ
れば、有機色素の組成の異なる有機色素溶液が、基板の
半径方向においてそれぞれ異なる領域に塗布される。そ
れにより、記録層における成分比がディスクの半径方向
において一定でない記録層を得ることができる。
In this manufacturing method, two or more organic dye solutions having different organic dye compositions are used, and each organic dye solution is dropped from different nozzles arranged at different distances from the center of the substrate and spun. It is characterized in that a recording layer is formed by coating. The difference in the composition of the organic dye in the organic dye solution means that the type and / or the blending ratio of the organic dye contained in the solution are different. According to this manufacturing method, organic dye solutions having different organic dye compositions are applied to different regions in the radial direction of the substrate. This makes it possible to obtain a recording layer in which the component ratio in the recording layer is not constant in the radial direction of the disc.

【0029】本発明はまた、上記第2の光ディスクを製
造する方法であって、記録層を有機色素溶液のスピンコ
ートにより形成することを含み、スピンコートを、基板
の中心からの距離が異なる位置に配置された2以上のノ
ズルから、粘度がそれぞれ異なる有機色素溶液を滴下す
るとともに、各ノズルを基板の半径方向で往復運動させ
ながら実施することを特徴とする光ディスクの製造方法
を提供する。粘度が異なる有機色素溶液は、好ましく
は、溶剤または溶剤組成が異なる有機色素溶液である。
溶剤が異なるとは、有機色素を溶解する溶剤の種類が異
なることをいう。溶剤組成が異なるとは、溶液に溶剤が
2種類以上含まれる場合に、溶剤の種類および/または
配合比が異なることをいう。記録層のグルーブ部分の厚
さに対するランド部分の厚さの比は、スピンコート時の
有機色素溶液の粘度によって変化する。したがって、こ
の製造方法によれば、記録層のグルーブ部分の厚さに対
するランド部分の厚さの比がディスクの半径方向におい
て一定でない記録層を得ることができる。
The present invention is also a method for manufacturing the above second optical disk, which comprises forming the recording layer by spin coating of an organic dye solution, wherein the spin coating is performed at a position different in distance from the center of the substrate. Provided is a method for manufacturing an optical disk, characterized in that organic dye solutions having different viscosities are dropped from two or more nozzles arranged in the same manner, and each nozzle is reciprocally moved in the radial direction of the substrate. The organic dye solutions having different viscosities are preferably organic dye solutions having different solvents or solvent compositions.
The term “different solvent” means that the type of solvent that dissolves the organic dye is different. The term “different solvent composition” means that when the solution contains two or more kinds of solvents, the kinds and / or blending ratios of the solvents are different. The ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer changes depending on the viscosity of the organic dye solution during spin coating. Therefore, according to this manufacturing method, it is possible to obtain a recording layer in which the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer is not constant in the radial direction of the disc.

【0030】本発明はまた、上記第3の光ディスクを製
造する方法であって、反射層をスパッタリングにより形
成することを含み、スパッタリングを、基板の一部を覆
う遮蔽板をターゲットと基板との間に配置して、基板を
自転させながら実施することを特徴とする光ディスクの
製造方法を提供する。ここで、スパッタリングされる基
板は、記録層が形成されたものである。以下の説明を含
む本明細書において、スパッタリングされる対象として
「基板」というときは、記録層が形成された基板を指
す。
The present invention is also a method for manufacturing the above-mentioned third optical disc, which comprises forming the reflective layer by sputtering, wherein the sputtering is performed between the target and the substrate by a shield plate covering a part of the substrate. The present invention provides a method for manufacturing an optical disc, which is characterized in that the optical disc is placed on the substrate and is performed while rotating the substrate. Here, the substrate to be sputtered has a recording layer formed thereon. In the present specification including the following description, the term “substrate” as an object to be sputtered refers to a substrate on which a recording layer is formed.

【0031】この製造方法においては、基板の一部を遮
蔽板で覆うとともに、基板を自転させながらスパッタリ
ングを実施する。遮蔽板で覆われている基板の部分には
ターゲット物質が付着しない。そのため、スパッタリン
グ中、所定部分が遮蔽板で他の部分よりも長く覆われる
と、その部分の厚さが小さくなる。遮蔽板に対して基板
が静止した状態でスパッタリングを実施すると、基板に
反射層が形成されない部分が生じるため、基板を自転さ
せる。また、遮蔽板の形状は、基板において、基板が1
回転する間中常に遮蔽板で覆われる部分が存在しないよ
うな形状にする必要がある。基板においてそのような部
分が存在すると、その部分にはターゲット物質が付着せ
ず、反射層が形成されない。
In this manufacturing method, a part of the substrate is covered with a shielding plate, and sputtering is performed while rotating the substrate. The target material does not adhere to the portion of the substrate covered by the shield plate. Therefore, if a predetermined portion is covered with the shield plate longer than other portions during sputtering, the thickness of the portion becomes smaller. If sputtering is performed while the substrate is stationary with respect to the shield plate, a portion where the reflective layer is not formed is generated on the substrate, so that the substrate is rotated. In addition, the shape of the shielding plate is such that the substrate is 1
It is necessary to make the shape such that there is no part covered with the shielding plate during the rotation. When such a portion is present on the substrate, the target material does not adhere to that portion and the reflective layer is not formed.

【0032】このように、遮蔽板を使用すれば、反射層
が均一な厚さに形成されることが防止される。したがっ
て、遮蔽板の形状を適宜選択することにより、反射層の
厚さをディスクの半径方向において所望のように変化さ
せ得る。
As described above, the use of the shielding plate prevents the reflective layer from being formed to have a uniform thickness. Therefore, the thickness of the reflective layer can be changed as desired in the radial direction of the disc by appropriately selecting the shape of the shielding plate.

【0033】本発明はまた、上記第4の光ディスクを製
造する方法であって、反射層をスパッタリングにより形
成することを含み、スパッタリングを、組成の異なる複
数の独立したターゲットを用い、基板を移動させて各タ
ーゲットで順に実施し、少なくとも1つのターゲットで
スパッタリングするときに、ターゲットと基板との間に
位置して基板の一部を覆う遮蔽板を配置して、基板を自
転させることを特徴とする光ディスクの製造方法を提供
する。
The present invention is also a method for manufacturing the above-mentioned fourth optical disk, which comprises forming the reflective layer by sputtering, in which the substrate is moved by using a plurality of independent targets having different compositions. Characterized in that a shield plate located between the target and the substrate and covering a part of the substrate is arranged to rotate the substrate when performing sputtering with each target in order. An optical disc manufacturing method is provided.

【0034】この製造方法においては、組成の異なる独
立した複数のターゲットを用いる。ターゲットが独立し
ているとは、当該ターゲットをスパッタして基板に薄膜
を形成しているときに、別のターゲットに由来する物質
が薄膜の形成に関与しないことを意味する。即ち、この
製造方法において、スパッタリングは実質的に常に1つ
のターゲットを用いて実施されることとなる。
In this manufacturing method, a plurality of independent targets having different compositions are used. The term "independent target" means that when a target is sputtered to form a thin film on a substrate, a substance derived from another target does not participate in the formation of the thin film. That is, in this manufacturing method, sputtering is almost always performed using one target.

【0035】この製造方法においては、基板を移動させ
て各ターゲットで順にスパッタリングを実施することに
より、反射層を形成する。例えば、3つのターゲットT
1、T2、T3を使用する場合、基板を繰り返し順に移
動させて、T1〜T3でスパッタリングすることを繰り
返し、T1膜−T2膜−T3膜がこの順に繰り返し形成
されて成る多層構造の反射層を形成する。多層構造を有
するように反射層を形成すれば、各ターゲットに由来す
る膜が厚さ方向で偏在せず、厚さ方向における反射層の
成分比が比較的均一になる。
In this manufacturing method, the reflective layer is formed by moving the substrate and sequentially performing sputtering with each target. For example, three targets T
When 1, T2 and T3 are used, the substrate is repeatedly moved and the sputtering is repeated from T1 to T3, and a reflective layer having a multi-layer structure is formed by repeatedly forming T1 film-T2 film-T3 film in this order. Form. When the reflective layer is formed so as to have a multilayer structure, the film derived from each target is not unevenly distributed in the thickness direction, and the component ratio of the reflective layer in the thickness direction becomes relatively uniform.

【0036】また、この製造方法においては、少なくと
も1つのターゲットでスパッタリングするときに、ター
ゲットと基板との間に位置して基板の一部を覆う遮蔽板
を配置して、基板を自転させながらスパッタリングを行
う。遮蔽板の機能は、先に第2の光ディスクの製造方法
に関連して説明したとおりである。複数のターゲットを
使用するとともに、少なくとも1つの遮蔽板を用いるこ
とによって、ディスクの半径方向で成分比が異なる反射
層を形成することが可能となる。遮蔽板を全く配置しな
い場合、複数のターゲットを使用しても、形成される反
射層はディスク全体にわたって一定の成分比を有するこ
ととなる。
Further, in this manufacturing method, at the time of sputtering with at least one target, a shield plate which is located between the target and the substrate and covers a part of the substrate is arranged, and the sputtering is performed while rotating the substrate. I do. The function of the shielding plate is as described above in relation to the method for manufacturing the second optical disc. By using a plurality of targets and using at least one shield, it is possible to form a reflective layer having different component ratios in the radial direction of the disc. If no shielding plate is provided, the reflective layer formed will have a constant component ratio over the entire disc, even if a plurality of targets are used.

【0037】本発明はまた、上記第4の光ディスクを製
造する方法であって、反射層をスパッタリングにより形
成することを含み、スパッタリングを組成が半径方向に
おいて一定でないターゲットを用いて実施することを特
徴とする光ディスクの製造方法を提供する。この製造方
法によれば、2種類以上の元素を含み、成分比がディス
クの半径方向において一定でない反射層を、単一のター
ゲットで形成することができる。
The present invention is also the method for manufacturing the above-mentioned fourth optical disc, which comprises forming the reflection layer by sputtering, and the sputtering is carried out using a target whose composition is not constant in the radial direction. A method for manufacturing an optical disc is provided. According to this manufacturing method, it is possible to form a reflective layer containing two or more kinds of elements and having a non-constant composition ratio in the radial direction of the disk with a single target.

【0038】本発明はまた、上記第1または第2の光デ
ィスクを製造する装置であって、スピンコート装置を含
み、スピンコート装置が、基板の中心からの距離が異な
る位置に配置された複数のノズル、および各ノズルを基
板の半径方向で往復運動させる機構を含むことを特徴と
する光ディスク製造装置を提供する。この製造装置は、
上記で説明した、第1または第2の光ディスクを製造す
る方法を実施するために用いられる。
The present invention is also an apparatus for manufacturing the above-mentioned first or second optical disk, including a spin coater, wherein the spin coaters are arranged at different positions from the center of the substrate. There is provided an optical disk manufacturing apparatus including a nozzle and a mechanism for reciprocating each nozzle in a radial direction of a substrate. This manufacturing equipment
It is used to carry out the method of manufacturing the first or second optical disc described above.

【0039】本発明はまた、上記第3の光ディスクを製
造する装置であって、スパッタリング装置を含み、スパ
ッタリング装置が、ターゲット、基板を配置させたとき
にターゲットと基板との間に位置して基板の一部を覆う
遮蔽板、および基板を自転させる機構を含むことを特徴
とする光ディスク製造装置を提供する。この製造装置
は、上記で説明した、第3の光ディスクを製造する方法
を実施するために用いられる。
The present invention is also an apparatus for manufacturing the above third optical disk, including a sputtering apparatus, wherein the sputtering apparatus is located between the target and the substrate when the target and the substrate are arranged. There is provided an optical disk manufacturing apparatus characterized by including a shielding plate which covers a part of the optical disc, and a mechanism for rotating the substrate. This manufacturing apparatus is used to carry out the method for manufacturing the third optical disc described above.

【0040】本発明はまた、上記第4の光ディスクを製
造する装置であって、スパッタリング装置を含み、スパ
ッタリング装置が、a)組成の異なる複数の独立したタ
ーゲット、b)各ターゲットで順に基板をスパッタリン
グするように基板を移動させる機構、c)少なくとも1
つのターゲットでスパッタリングするときに、ターゲッ
トと基板との間に位置して基板の一部を覆う遮蔽板、お
よびd)基板を自転させる機構を含むことを特徴とする
光ディスク製造装置を提供する。この製造装置は、上記
で説明した、第4の光ディスクを製造する方法を実施す
るために用いられる。
The present invention is also an apparatus for manufacturing the above-mentioned fourth optical disc, which includes a sputtering apparatus, wherein the sputtering apparatus sequentially sputters a substrate with a) a plurality of independent targets having different compositions, and b) each target. Mechanism for moving the substrate so that c) at least 1
There is provided an optical disk manufacturing apparatus including a shield plate located between the target and the substrate to cover a part of the substrate when sputtering with one target, and d) a mechanism for rotating the substrate on its own axis. This manufacturing apparatus is used to carry out the method of manufacturing the fourth optical disc described above.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】以下、上記本発明の第1〜第4の
光ディスクの具体的な形態を、その製造方法およびその
製造装置とともに説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Specific embodiments of the above-described first to fourth optical disks of the present invention will be described below together with their manufacturing methods and manufacturing apparatuses.

【0042】本発明の第1の光ディスクは、記録層が2
種類以上の有機色素を構成成分として含み、記録層にお
ける成分比がディスクの半径方向において一定でないも
のである。有機色素は、光ディスクの記録層を構成する
有機色素として採用されているものから選択される。
The first optical disc of the present invention has two recording layers.
An organic dye of more than one kind is contained as a constituent component, and the component ratio in the recording layer is not constant in the radial direction of the disc. The organic dye is selected from those used as the organic dye forming the recording layer of the optical disc.

【0043】記録層を構成する2種類以上の有機色素
は、最大吸収波長(λmax)がそれぞれ異なる有機色素
である。ここで、λmaxは、成膜した状態にて測定され
る値である。1種類の有機色素のみで記録層を形成し、
これに記録再生波長の光を照射すると、記録層は有機色
素の膜のλmaxによって異なる光学特性(特に反射率)
を示す。また、膜のλmaxが異なる2種類以上の有機色
素で記録層を形成し、これに記録再生波長の光を照射す
ると、記録層は各有機色素が記録層に占める割合に応じ
て、1種類の有機色素で形成した記録層とは異なる光学
特性を示す。したがって、記録層における成分比がディ
スクの半径方向において一定でない記録層は、ディスク
の半径方向において、成分比に応じて異なる反射率を示
すこととなる。なお、記録再生波長は、CD−Rについ
ては700〜800nm、一般には780nmであり、DV
D−Rについては630〜680nm、一般には650nm
である。
The two or more kinds of organic dyes constituting the recording layer are organic dyes having different maximum absorption wavelengths (λmax). Here, λmax is a value measured in a film-formed state. The recording layer is formed with only one type of organic dye,
When this is irradiated with light of a recording / reproducing wavelength, the recording layer has different optical characteristics (especially reflectance) depending on the λmax of the organic dye film.
Indicates. In addition, when a recording layer is formed of two or more kinds of organic dyes having different λmax of the film and the recording layer is irradiated with light having a recording / reproducing wavelength, one kind of the recording layer is formed according to the ratio of each organic dye to the recording layer. It exhibits optical characteristics different from those of recording layers formed of organic dyes. Therefore, the recording layer in which the component ratio in the recording layer is not constant in the radial direction of the disc exhibits different reflectance in the radial direction of the disc depending on the component ratio. The recording / reproducing wavelength is 700 to 800 nm for CD-R and generally 780 nm.
630-680 nm for D-R, generally 650 nm
Is.

【0044】一般に、有機色素の膜のλmaxが大きいほ
ど(即ち、長波長側にあるほど)、その色素で記録層を
形成した光ディスクの反射率は低くなる。したがって、
記録層は、光ディスクの種類に応じて、膜のλmaxの小
さい有機色素と膜のλmaxの大きい有機色素を組み合わ
せて構成するとよい。例えば、CD−Rを作製する場合
には、膜のλmaxが700〜770nmの範囲内にある色
素と、膜のλmaxが750〜780nmの範囲内にある色
素とを組み合わせて記録層を構成することが好ましい。
また、DVD−Rを作製する場合には、膜のλmaxが5
50〜600nmの範囲内にある色素と、膜のλmaxが5
80〜630nmの範囲内にある色素とを組み合わせて記
録層を構成することが好ましい。
Generally, the larger the λmax of the film of the organic dye (that is, the longer the wavelength is), the lower the reflectance of the optical disk having the recording layer formed of the dye. Therefore,
The recording layer may be formed by combining an organic dye having a small λmax of the film and an organic dye having a large λmax of the film, depending on the type of the optical disc. For example, in the case of producing a CD-R, a dye having a λmax of the film in the range of 700 to 770 nm and a dye having a λmax of the film in the range of 750 to 780 nm should be combined to form a recording layer. Is preferred.
When producing a DVD-R, the λmax of the film is 5
Dyes in the range of 50-600 nm and film λmax of 5
It is preferable to form a recording layer by combining with a dye in the range of 80 to 630 nm.

【0045】記録層は、好ましくは膜のλmaxが異なる
2〜5種類の有機色素で構成される。有機色素を5種類
より多くしても、ディスクの半径方向で記録層の光学特
性を変化させるという本発明の効果に変わりはない。
The recording layer is preferably composed of 2 to 5 kinds of organic dyes having different λmax of the film. Even if the number of organic dyes is more than 5, the effect of the present invention of changing the optical characteristics of the recording layer in the radial direction of the disc remains unchanged.

【0046】また、記録層の主たる有機色素に着目した
ときに、当該主たる有機色素がディスクの内周部にて記
録層に占める割合に対して、当該主たる有機色素がディ
スクの外周部にて記録層に占める割合は1割以上異なっ
ていることが好ましい。即ち、外周部に占める主たる有
機色素の割合が、内周部に占める主たる有機色素の割合
よりも、1割以上多い又は少ないことが好ましい。主た
る有機色素の占める割合が、ディスクの内周部と外周部
とで1割以上異なっていない場合、光ディスクの反射率
はディスクの半径方向において有意に変化しない。記録
層において主たる有機色素が2種類以上存在する場合、
少なくとも1種類の主たる有機色素について、ディスク
の内周部にて記録層に占める割合に対して、ディスクの
外周部にて記録層に占める割合が1割以上異なっている
ことが好ましい。
When attention is paid to the main organic dye of the recording layer, the main organic dye is recorded on the outer peripheral portion of the disk with respect to the ratio of the main organic dye to the recording layer on the inner peripheral portion of the disk. It is preferable that the proportion of the layers is different by 10% or more. That is, it is preferable that the proportion of the main organic dye in the outer peripheral portion is 10% or more higher or lower than the proportion of the main organic dye in the inner peripheral portion. The reflectance of the optical disk does not change significantly in the radial direction of the disk when the ratio of the main organic dyes does not differ by 10% or more between the inner and outer circumferences of the disk. When two or more main organic dyes are present in the recording layer,
It is preferable that the proportion of the at least one main organic dye in the recording layer at the inner peripheral portion of the disc is different from that in the recording layer at the outer peripheral portion of the disc by 10% or more.

【0047】ここで、主たる有機色素とは、光ディスク
の種類に応じた波長のレーザー光を用いて信号を良好に
記録再生することを確保する有機色素である。信号を良
好に記録再生するとは、記録した信号を再生するとき
に、変調度およびジッタ特性が規格で定められた値を満
たすことをいう。主たる有機色素は、膜のλmaxが所定
範囲内にあり、かつ膜の反射率が所定値以上となる有機
色素であり、光ディスクの種類に応じて異なる。例え
ば、CD−Rを作製する場合、主たる有機色素は膜のλ
maxが750〜780nmの範囲内にある有機色素であ
り、DVD−Rを作製する場合、主たる有機色素は膜の
λmaxが580〜630nmの範囲内にある有機色素であ
る。また、内周部とは、光ディスクの記録領域の内周か
ら半径の2/3までの領域をいい、外周部とは、光ディ
スクの記録領域の外周から半径の1/3までの領域をい
う。したがって、例えば直径120mmのDVD−Rの場
合、半径20mm(記録領域の内周に相当)から半径40
mmまでの領域が内周部に相当し、半径40mmから半径6
0mmまでの領域が外周部に相当する。
Here, the main organic dye is an organic dye that ensures good recording and reproduction of a signal by using a laser beam having a wavelength corresponding to the type of optical disc. Satisfactorily recording / reproducing a signal means that the degree of modulation and the jitter characteristic satisfy the values defined by the standard when the recorded signal is reproduced. The main organic dye is an organic dye having a film having a λmax within a predetermined range and having a film reflectance of a predetermined value or more, and varies depending on the type of optical disc. For example, when making a CD-R, the main organic dye is the λ of the film.
An organic dye having a max in the range of 750 to 780 nm, and in the case of producing a DVD-R, the main organic dye is an organic dye in which the λmax of the film is in the range of 580 to 630 nm. Further, the inner peripheral portion refers to an area from the inner periphery of the recording area of the optical disc to 2/3 of the radius, and the outer peripheral portion refers to the area from the outer periphery of the recording area of the optical disc to 1/3 of the radius. Therefore, for example, in the case of a DVD-R having a diameter of 120 mm, the radius is 20 mm (corresponding to the inner circumference of the recording area) to the radius 40.
The area up to mm corresponds to the inner circumference, with a radius of 40 mm to a radius of 6
The area up to 0 mm corresponds to the outer peripheral portion.

【0048】いずれの光ディスクを作製する場合におい
ても、記録層を構成する主たる有機色素は記録層の20
〜80wt%を占めることが好ましい。主たる有機色素
として機能する有機色素が2種類以上記録層に含まれる
場合、少なくとも1種類の主たる有機色素が記録層の2
0〜80wt%を占めていれば、他の主たる有機色素の
割合は20wt%未満であってよい。主たる有機色素の
占める割合が20wt%未満である場合、光ディスクは
規格で定められた変調度およびジッタを満足することが
できない。主たる有機色素の占める割合が80wt%を
越えると、他の有機色素の占める割合が小さくなり、光
ディスクの反射率をディスクの半径方向において有意に
変化させることが困難となる。主たる有機色素の占める
割合は、記録層のいずれの部分においても、その割合が
20〜80wt%の範囲内にあるように、ディスクの半
径方向において変化していることが好ましい。
In any of the optical discs produced, the main organic dye constituting the recording layer is 20% of the recording layer.
It is preferable to occupy 80 wt%. When two or more kinds of organic dyes that function as the main organic dye are contained in the recording layer, at least one kind of the main organic dye is used in the recording layer
If it occupies 0 to 80 wt%, the proportion of the other main organic dyes may be less than 20 wt%. When the proportion of the main organic dye is less than 20 wt%, the optical disc cannot satisfy the modulation degree and jitter defined by the standard. When the proportion of the main organic dye exceeds 80 wt%, the proportion of other organic dyes becomes small, and it becomes difficult to significantly change the reflectance of the optical disc in the radial direction of the disc. The proportion of the main organic dye is preferably changed in the radial direction of the disc so that the proportion is within the range of 20 to 80 wt% in any part of the recording layer.

【0049】ディスクの半径方向の各位置に存在する有
機色素の種類および割合は、記録層の光学特性(具体的
には反射率)をディスクの半径方向においてどのように
変化させるかに応じて決定される。前述のように、通常
の光ディスク用基板を用いて構成した光ディスクの反射
率は、ディスクの外周側ほど大きくなる傾向にある。し
たがって、通常の光ディスク用基板を用いる場合、記録
層はその反射率が外周部よりも内周部で高くなるように
形成することが好ましい。
The type and proportion of the organic dye present at each position in the radial direction of the disc are determined according to how the optical characteristics (specifically, reflectance) of the recording layer are changed in the radial direction of the disc. To be done. As described above, the reflectance of an optical disc formed by using a normal optical disc substrate tends to increase toward the outer peripheral side of the disc. Therefore, when using an ordinary optical disk substrate, it is preferable that the recording layer is formed so that its reflectance is higher in the inner peripheral portion than in the outer peripheral portion.

【0050】記録層の反射率は、記録層において膜のλ
maxの小さい有機色素の占める割合が大きいほど高くな
る。したがって、膜のλmaxの小さい有機色素の占める
割合が、外周部よりも内周部で大きくなるように記録層
を形成すると、記録層の内周部の反射率は外周部の反射
率よりも高くなる。例えば、膜のλmaxの小さい有機色
素Aおよび膜のλmaxの大きい有機色素Bの2種類の有
機色素で記録層を構成する場合、内周部におけるA:B
は重量比で4:1〜3:2であることが好ましく、外周
部におけるA:Bは重量比で1:4〜2:3であること
が好ましい。
The reflectance of the recording layer is the λ of the film in the recording layer.
The higher the proportion of the organic pigment having the smaller max, the higher the proportion. Therefore, when the recording layer is formed such that the proportion of the organic dye having a small λmax in the film is larger in the inner peripheral portion than in the outer peripheral portion, the reflectance of the inner peripheral portion of the recording layer is higher than that of the outer peripheral portion. Become. For example, when the recording layer is composed of two kinds of organic dyes, that is, an organic dye A having a small λmax of the film and an organic dye B having a large λmax of the film, A: B
Is preferably 4: 1 to 3: 2 by weight, and A: B in the outer peripheral portion is preferably 1: 4 to 2: 3 by weight.

【0051】記録層を構成する有機色素はいずれも、−
OH、−CHO、−COR、−COOH、−COOR、
−CONH2、−CONHR、−CONR2、−R、−N
2、−NO2、−NHR、−SO3H、−SO3M、−
X、−CH=CH2、−OR、−CN、−SH、−CO
OX、−COOM、−CH2X、−NHSO2R、および
−NHSO2Rf(Rは炭素数1〜22のアルキル基また
はアリール基、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金
属、Xはハロゲン、Rfはフルオロアルキル基を示す)
から成る群から選択される基を少なくとも1つ有する化
合物であることが好ましい。
Each of the organic dyes constituting the recording layer is
OH, -CHO, -COR, -COOH, -COOR,
-CONH 2, -CONHR, -CONR 2, -R, -N
H 2, -NO 2, -NHR, -SO 3 H, -SO 3 M, -
X, -CH = CH 2, -OR , -CN, -SH, -CO
OX, —COOM, —CH 2 X, —NHSO 2 R, and —NHSO 2 Rf (R is an alkyl group or aryl group having 1 to 22 carbon atoms, M is an alkali metal or alkaline earth metal, X is a halogen, Rf Represents a fluoroalkyl group)
It is preferably a compound having at least one group selected from the group consisting of:

【0052】前記の群から選択される基を少なくとも1
つ有する化合物である有機色素のうち、少なくとも1種
類の有機色素は、アゾ系、シアニン系、フタロシアニン
系、キノン系、インジゴ系、アリールメタン系、ポルフ
ィン系、スクアリリウム系、スピロピラン系、ペリレン
系、およびフルギド系色素から成る群から選択される有
機色素であることが好ましい。また、この群から選択さ
れる有機色素は、1A族元素(Rb、CsおよびFrを
除く)、2A族元素(SrおよびRaを除く)、3A族
元素(Acを除く)、4A〜7A族元素、8族元素、1
B族元素、2B族元素、3B族元素(Bを除く)、4B
族元素(Cを除く)、5B族元素(N、PおよびBiを
除く)、ランタノイド元素、ならびにアクチノイド元素
(Pu、Cm、Bk、Cf、Es、Fm、Md、Noお
よびLrを除く)から成る群から選択される少なくとも
1種類の金属と化合して成る化合物であることがより好
ましい。金属と化合して成る化合物は、例えば、アゾ系
化合物と金属との錯体、シアニン系化合物と金属との錯
体、およびフタロシアニン系化合物と金属との錯体であ
る。
At least one group selected from the above group
Among the organic dyes that are compounds having at least one organic dye, at least one type of organic dye is azo, cyanine, phthalocyanine, quinone, indigo, arylmethane, porphine, squarylium, spiropyran, perylene, and It is preferably an organic dye selected from the group consisting of fulgide dyes. Organic dyes selected from this group include 1A group elements (excluding Rb, Cs, and Fr), 2A group elements (excluding Sr and Ra), 3A group elements (excluding Ac), and 4A to 7A group elements. , Group 8 elements, 1
B group element, 2B group element, 3B group element (excluding B), 4B
Group element (excluding C), group 5B element (excluding N, P and Bi), lanthanoid element, and actinoid element (excluding Pu, Cm, Bk, Cf, Es, Fm, Md, No and Lr) More preferably, it is a compound formed by combining at least one metal selected from the group. The compound formed by combining with a metal is, for example, a complex of an azo compound and a metal, a complex of a cyanine compound and a metal, or a complex of a phthalocyanine compound and a metal.

【0053】記録層は、スピンコートにより形成され
る。スピンコートは、有機色素を溶剤に溶解した溶液
(有機色素溶液とも呼ぶ)を、基板上にノズルから滴下
して付与し、基板の回転により有機色素溶液を流延させ
た後、溶剤を蒸発させて塗膜を形成する方法である。有
機色素溶液は、溶剤に有機色素をその濃度が0.1〜1
0wt%となるように溶解して調製する。溶剤は有機色素
の溶解性を考慮して選択する。一般に、溶剤は、アルコ
ール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、ピリジン
系溶剤、アニリン系溶剤、アミン系溶剤、ピペリジン系
溶剤、ピロリジン系溶剤、スルホキシド系溶剤、チオフ
ェン系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される。溶剤
は混合溶剤であってよい。溶剤は、25℃にて0.1〜
50mPa・s(0.1〜50cP)の粘度を有するもの
であることが好ましい。
The recording layer is formed by spin coating. In spin coating, a solution in which an organic dye is dissolved in a solvent (also called an organic dye solution) is dropped onto a substrate from a nozzle and applied, and the organic dye solution is cast by rotating the substrate, and then the solvent is evaporated. Is a method of forming a coating film. The organic dye solution has an organic dye concentration of 0.1 to 1 in the solvent.
It is prepared by dissolving it so that it becomes 0 wt%. The solvent is selected in consideration of the solubility of the organic dye. In general, the solvent is selected from alcohol solvents, ketone solvents, ether solvents, pyridine solvents, aniline solvents, amine solvents, piperidine solvents, pyrrolidine solvents, sulfoxide solvents, thiophene solvents and hydrocarbon solvents. To be selected. The solvent may be a mixed solvent. The solvent is 0.1 to 25 ° C.
It is preferable that the viscosity is 50 mPa · s (0.1 to 50 cP).

【0054】本発明の第1の光ディスクの記録層を形成
するために、スピンコートは、具体的には、有機色素の
組成がそれぞれ異なる有機色素溶液を、基板の中心から
の距離が異なる位置に配置された2以上のノズルからそ
れぞれ滴下するとともに、各ノズルを基板の半径方向で
往復運動させながら実施する。
In order to form the recording layer of the first optical disk of the present invention, the spin coating is carried out by specifically applying organic dye solutions having different organic dye compositions to different positions from the center of the substrate. Dropping is performed from each of the two or more nozzles arranged, and each nozzle is reciprocated in the radial direction of the substrate.

【0055】そのようなスピンコートは、図2に示すよ
うなスピンコート装置により実施される。図2に示すス
ピンコート装置20は、基板1の中心からの位置が異なる
位置に配置された2つのノズル22aおよび22bを有す
る。ノズル22aおよび22bから有機色素溶液が吐出され
る。ノズル22aおよび22bは互いに独立しており、その
位置は基板の半径方向において任意に変化させ得る。ま
た、ノズル22aおよび22bはそれぞれ、スピンコートを
実施しているときに、基板の半径方向で往復運動するよ
うになっており、図示した装置はそのための機構(図示
せず)を有する。スピンコートを実施している間、基板
1は基板支持台24で保持される。基板支持台24は駆動装
置(図示せず)に接続されて、軸kのまわりを軸回転で
きるようになっている。基板支持台24の回転速度は、一
般に、50〜8000rpmの範囲内で制御される。図
2のスピンコート装置は、理解の容易のため、各部分の
大きさの比率等は実際のものとは異なるように表されて
いる。
Such spin coating is carried out by a spin coating apparatus as shown in FIG. The spin coater 20 shown in FIG. 2 has two nozzles 22a and 22b arranged at different positions from the center of the substrate 1. The organic dye solution is discharged from the nozzles 22a and 22b. The nozzles 22a and 22b are independent of each other, and their positions can be arbitrarily changed in the radial direction of the substrate. Further, each of the nozzles 22a and 22b is adapted to reciprocate in the radial direction of the substrate during the spin coating, and the illustrated apparatus has a mechanism (not shown) therefor. The substrate 1 is held by the substrate support 24 while the spin coating is performed. The substrate support 24 is connected to a drive device (not shown) so that it can rotate about an axis k. The rotation speed of the substrate support 24 is generally controlled within the range of 50 to 8000 rpm. For easy understanding, the spin coater shown in FIG. 2 is shown such that the ratio of the size of each portion is different from the actual one.

【0056】2つのノズル22aおよび22bには、有機色
素の組成がそれぞれ異なる有機色素溶液が仕込まれる。
各ノズルから有機色素溶液を滴下してスピンコートを実
施すると、ノズル22aから滴下された溶液は、ノズル22
aの直下からノズル22bの直下までの領域の記録層を主
に形成し、ノズル22bから滴下された溶液は、ノズル22
bの直下から外周までの領域の記録層を主に形成する。
したがって、ノズル22aおよび22bから滴下する有機色
素溶液に含まれる有機色素の組成を、それぞれの領域に
て得ようとする成分比に応じて選択し、かつノズル22a
および22bの基板の中心からの位置を選択することによ
って、所望の領域にて所望の成分比を有する記録層を形
成できる。
Organic dye solutions having different organic dye compositions are charged into the two nozzles 22a and 22b.
When the organic dye solution is dropped from each nozzle to perform spin coating, the solution dropped from the nozzle 22a is
The recording layer in the region from immediately below a to just below the nozzle 22b is mainly formed, and the solution dropped from the nozzle 22b is
The recording layer in the area from immediately below b to the outer periphery is mainly formed.
Therefore, the composition of the organic dye contained in the organic dye solution dropped from the nozzles 22a and 22b is selected according to the component ratio to be obtained in each region, and the nozzle 22a
By selecting the positions 22 and 22b from the center of the substrate, it is possible to form a recording layer having a desired component ratio in a desired region.

【0057】例えば、半径60mmの基板に記録層を形成
する場合において、ノズル22aにλmaxの小さい有機色
素の配合比が大きい有機色素溶液を仕込み、ノズル22b
にλmaxの大きい有機色素の配合比が大きい有機色素溶
液を仕込み、ノズル22aを基板の内周に位置させ、ノズ
ル22bを基板の半径40〜60mmの場所に位置させれ
ば、反射率が内周部で高く、外周部で低い記録層が形成
される。
For example, when a recording layer is formed on a substrate having a radius of 60 mm, the nozzle 22a is charged with an organic dye solution having a large compounding ratio of an organic dye having a small λmax, and the nozzle 22b is used.
If an organic dye solution having a large compounding ratio of an organic dye having a large λmax is charged into the nozzle, the nozzle 22a is positioned on the inner circumference of the substrate, and the nozzle 22b is positioned at a radius of 40 to 60 mm on the substrate, the reflectance is on the inner circumference. A recording layer is formed that is high in the portion and low in the outer peripheral portion.

【0058】スピンコートは、各ノズルを基板の半径方
向で往復運動させるとともに、基板を低速(50〜50
0rpm)で回転させながら、各ノズルから所定量の有
機色素溶液を滴下し、それから滴下を止めて、基板を高
速(500〜8000rpm)で回転させる手順で実施
することが好ましい。ノズルを半径方向で往復運動させ
ると、滴下される有機色素溶液は基板表面でスパイラル
状の軌跡を描く。このように有機色素溶液を滴下する
と、ノズルを静止した状態で有機色素溶液を滴下する場
合と比較して、薄い層をより均一に形成することができ
る。基板の高速回転は、基板上の有機色素溶液を、遠心
力の作用により均一に広げるとともに、余分な溶液を振
り切るために実施する。基板の高速回転は一般に1〜6
0秒程度実施される。
In spin coating, each nozzle is reciprocated in the radial direction of the substrate and the substrate is moved at a low speed (50 to 50).
It is preferable to perform a procedure of dropping a predetermined amount of the organic dye solution from each nozzle while rotating the substrate at 0 rpm), stopping the dropping, and rotating the substrate at a high speed (500 to 8000 rpm). When the nozzle reciprocates in the radial direction, the dropped organic dye solution draws a spiral locus on the substrate surface. When the organic dye solution is dropped in this manner, a thin layer can be formed more uniformly than when the organic dye solution is dropped while the nozzle is stationary. The high-speed rotation of the substrate is performed in order to uniformly spread the organic dye solution on the substrate by the action of centrifugal force and shake off the excess solution. High speed rotation of substrate is generally 1-6
It is carried out for about 0 seconds.

【0059】各ノズルの往復運動は、各ノズルで塗布す
べき領域において、基板の半径方向のいずれの箇所の上
にもノズルが位置するように行うことが好ましい。例え
ば、ノズル22aで塗布すべき領域が基板の内周から半径
rmmまでの領域である場合、ノズル22aは基板の内周と
半径rmmの位置との間で往復運動させることが好まし
い。
It is preferable that the reciprocating motion of each nozzle is performed such that the nozzle is located on any position in the radial direction of the substrate in the area to be coated by each nozzle. For example, when the area to be coated by the nozzle 22a is the area from the inner circumference of the substrate to the radius rmm, the nozzle 22a is preferably reciprocated between the inner circumference of the substrate and the position of radius rmm.

【0060】各ノズルから滴下する有機色素溶液の量
は、独立して調節し得ることが好ましい。各ノズルから
滴下する有機色素溶液の量は、各ノズルで塗布すべき領
域の面積、塗れ性、溶剤の粘度および揮発速度、ならび
に塗布環境の温湿度等に応じて選択される。図2に示す
ように2つのノズルを使用する場合には、内周側のノズ
ル22aおよび外周側のノズル22bからは、それぞれ同じ
量の有機色素溶液を滴下することが好ましい。有機色素
溶液は、2つのノズルから、例えば0.01〜0.5c
cずつ滴下するとよい。また、滴下は、一般に1〜10
秒程度かけて行われる。
The amount of the organic dye solution dropped from each nozzle is preferably adjustable independently. The amount of the organic dye solution dropped from each nozzle is selected according to the area of the region to be coated by each nozzle, the wettability, the viscosity and volatilization rate of the solvent, the temperature and humidity of the coating environment, and the like. When using two nozzles as shown in FIG. 2, it is preferable to drop the same amount of the organic dye solution from the inner peripheral side nozzle 22a and the outer peripheral side nozzle 22b, respectively. The organic dye solution is, for example, 0.01 to 0.5c from two nozzles.
It is good to drop by c. The dripping is generally 1-10.
It takes about a second.

【0061】図示した装置は2つのノズルを有するもの
であるから、記録層は成分比の異なる2の領域を有する
こととなる。ノズルの数は3以上であってよい。ノズル
の数が多いほど、記録層において成分比の異なる領域の
数を多くすることができ、成分比を多段階で変化させる
ことが可能となる。ノズルの数の多少に拘らず、成分比
の異なる領域間の境界は明確でないことに留意すべきで
ある。内周側に位置するノズルから吐出された有機色素
溶液の一部が、基板の回転中に外周側にも広がるためで
ある。
Since the illustrated apparatus has two nozzles, the recording layer has two regions having different component ratios. The number of nozzles may be three or more. As the number of nozzles increases, the number of regions having different component ratios in the recording layer can be increased, and the component ratio can be changed in multiple stages. It should be noted that the boundary between regions having different component ratios is not clear regardless of the number of nozzles. This is because a part of the organic dye solution discharged from the nozzle located on the inner peripheral side spreads to the outer peripheral side during the rotation of the substrate.

【0062】図示したスピンコート装置は、常套のスピ
ンコート装置に含まれる他の部材または装置を有してよ
い。他の部材または装置は、例えば、有機色素溶液の周
囲への飛散を防止する壁、および有機溶剤を蒸発させる
ために使用する乾燥装置である。
The illustrated spin coater may have other components or devices included in conventional spin coaters. Other components or devices are, for example, walls that prevent the organic dye solution from splashing around, and drying devices used to evaporate the organic solvent.

【0063】次に本発明の第2の光ディスクについて説
明する。第2の光ディスクは、記録層のグルーブ部分の
厚さに対するランド部分の厚さの比がディスクの半径方
向において一定でないものである。第2の光ディスクに
おいては、記録層におけるグルーブ部分とランド部分と
の間の段差が反射率に及ぼす影響を利用して、記録層の
反射率をディスクの半径方向において変化させている。
したがって、第2の光ディスクにおいて、記録層は1種
類の有機色素から成ってよい。あるいは、記録層が2種
類以上の有機色素から成る場合でも、第1の光ディスク
のように成分比を半径方向において一定でないようにす
る必要はない。記録層を構成する有機色素は、第1の光
ディスクに関連して好ましい有機色素として列挙したも
のから、光ディスクの種類に応じて選択される。
Next, the second optical disc of the present invention will be described. In the second optical disc, the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer is not constant in the radial direction of the disc. In the second optical disc, the reflectance of the recording layer is changed in the radial direction of the disc by utilizing the influence of the step between the groove portion and the land portion of the recording layer on the reflectance.
Therefore, in the second optical disc, the recording layer may consist of one type of organic dye. Alternatively, even when the recording layer is composed of two or more kinds of organic dyes, it is not necessary to keep the component ratios constant in the radial direction as in the first optical disc. The organic dye forming the recording layer is selected from those listed as preferable organic dyes in relation to the first optical disc, depending on the type of the optical disc.

【0064】第2の光ディスクにおいて、記録層のグル
ーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さの比は、所望
の反射率特性が得られるように、半径方向において変化
させる。記録層のグルーブ部分の厚さに対するランド部
分の厚さの比、即ち、記録層のランド部分の厚さt
記録層のグルーブ部分の厚さtは、記録層のいずれの
部分においても、0.1〜0.7の範囲内にあることが
好ましい。0.1よりも小さいと、反射率は高くなるも
のの、プッシュプル信号が小さくなり、トラッキングが
困難となるために、記録および再生の安定性に欠ける。
0.7よりも大きいと、プッシュプル信号は大きくな
り、記録および再生の安定性は良好となるものの、反射
率が低くなり、またグルーブ間の信号のクロストークが
大きくなるために、ジッター等の信号の品質が悪くな
る。
In the second optical disc, the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer is changed in the radial direction so that a desired reflectance characteristic can be obtained. Ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer, that is, the thickness t L / of the land portion of the recording layer
The thickness t G of the groove portion of the recording layer is preferably in the range of 0.1 to 0.7 in any portion of the recording layer. If it is smaller than 0.1, the reflectance becomes high, but the push-pull signal becomes small and tracking becomes difficult, so that the stability of recording and reproduction is poor.
When it is larger than 0.7, the push-pull signal becomes large, and the stability of recording and reproduction becomes good, but the reflectance becomes low, and the crosstalk of the signal between the grooves becomes large. Poor signal quality.

【0065】本発明の第2の光ディスクにおいて、ディ
スクの内周部のt/tに対して、ディスクの外周部
のt/tは5〜30%異なっていることが好まし
い。内周部および外周部の範囲は、先に第1の光ディス
クに関連して説明したとおりである。外周部のt/t
が、内周部のt/tに対して5%以上異なってい
ない場合、あるいは30%を超えて異なっている場合、
ディスク面内で反射率を均一にすることが困難となる場
合がある。
[0065] In the second optical disc of the present invention, with respect to t L / t G of the inner peripheral portion of the disc, t L / t G of the outer periphery of the disc it is preferably differ 5-30%. The ranges of the inner peripheral portion and the outer peripheral portion are as described above in relation to the first optical disc. Perimeter t L / t
When G does not differ from the inner circumferential portion t L / t G by 5% or more, or when it differs by more than 30%,
It may be difficult to make the reflectance uniform on the disk surface.

【0066】ディスクの半径方向の各位置におけるt
/tは、記録層の光学特性(具体的には反射率)をデ
ィスクの半径方向においてどのように変化させるかに応
じて決定される。前述のように、通常の光ディスク用基
板を用いて構成した光ディスクの反射率は、ディスクの
外周側ほど大きくなる傾向にある。したがって、通常の
光ディスク用基板を用いる場合、t/tは、記録層
の反射率が外周部よりも内周部で高くなるように変化さ
せることが好ましい。
T L at each radial position on the disk
/ T G is determined according to how the optical characteristics (specifically, reflectance) of the recording layer are changed in the radial direction of the disc. As described above, the reflectance of an optical disc formed by using a normal optical disc substrate tends to increase toward the outer peripheral side of the disc. Therefore, when an ordinary optical disk substrate is used, it is preferable to change t L / t G so that the reflectance of the recording layer is higher in the inner peripheral portion than in the outer peripheral portion.

【0067】前述のように、記録層の反射率は、t
が大きいほど、即ち、グルーブ部分とランド部分と
の間の段差が大きいほど、小さくなる。したがって、t
/tが、内周部よりも外周部で大きくなるように記
録層を形成すると、記録層の内周部の反射率は外周部の
反射率よりも高くなる。具体的には、外周部におけるt
/tは0.35〜0.7とすることが好ましく、内
周部におけるt/t は0.1〜0.35とすること
が好ましい。使用する有機色素の種類および組成が同じ
である場合、一般に、より粘度の高い有機色素溶液を使
用して形成した記録層においては、t/tが小さく
なる傾向にある。前述のように、t/tの大小はプ
ッシュプル信号で知ることができる。
As described above, the reflectance of the recording layer is tL/
tGIs larger, that is, the groove part and the land part
The larger the step between them, the smaller. Therefore, t
L/ TGHowever, it is noted that the outer circumference is larger than the inner circumference.
When the recording layer is formed, the reflectance of the inner circumference of the recording layer is
It will be higher than the reflectance. Specifically, t at the outer peripheral portion
L/ TGIs preferably 0.35 to 0.7, and
T at the peripheryL/ T GShould be 0.1 to 0.35
Is preferred. Same type and composition of organic dyes used
If this is the case, generally use a more viscous organic dye solution.
In the recording layer formed by usingL/ TGIs small
Tends to become. As mentioned above, tL/ TGThe size of
It can be known by a shuffle signal.

【0068】第2の光ディスクの記録層もまた、スピン
コートにより形成される。有機色素溶液を調製する際に
採用する濃度および溶剤は、第1の光ディスクに関連し
て説明したとおりであるから、ここではその詳細な説明
を省略する。
The recording layer of the second optical disk is also formed by spin coating. The concentration and solvent used when preparing the organic dye solution are as described in relation to the first optical disc, and therefore detailed description thereof is omitted here.

【0069】本発明の第2の光ディスクの記録層を形成
するために、スピンコートは、具体的には、粘度がそれ
ぞれ異なる有機色素溶液を、基板の中心からの距離が異
なる位置に配置された2以上のノズルからそれぞれ滴下
することを含む。更に好ましくは、スピンコートは、各
ノズルを基板の半径方向で往復運動させながら実施す
る。
In order to form the recording layer of the second optical disk of the present invention, spin coating was carried out by specifically placing organic dye solutions having different viscosities at different distances from the center of the substrate. Including dropping from each of two or more nozzles. More preferably, spin coating is performed while reciprocating each nozzle in the radial direction of the substrate.

【0070】そのようなスピンコートもまた、第1の光
ディスクと同様、図2に示すようなスピンコート装置20
を使用して実施される。第2の光ディスクを製造する場
合、2つのノズル22aおよび22bには、粘度がそれぞれ
異なる有機色素溶液が仕込まれる。第1の光ディスクに
関連して説明したように、2つのノズル22aおよび22b
の基板の中心からの位置を選択することによって、所望
の領域にて所望のt/tを有する記録層を形成でき
る。
Similar to the first optical disk, such spin coating is also performed by the spin coating apparatus 20 as shown in FIG.
Is carried out using. When manufacturing the second optical disc, the two nozzles 22a and 22b are charged with organic dye solutions having different viscosities. As described in connection with the first optical disc, the two nozzles 22a and 22b
By selecting the position of the substrate from the center of the substrate, a recording layer having a desired t L / t G can be formed in a desired region.

【0071】有機色素溶液の粘度は、溶剤の種類を変え
ることによって、あるいは2種類以上の溶剤を混合した
混合溶剤を使用する場合には溶剤組成を変えることによ
って、変えることができる。各ノズルから滴下する有機
色素溶液の粘度は、乾燥後の記録層において所望のt
/tが得られるように選択する。
The viscosity of the organic dye solution can be changed by changing the kind of the solvent, or by changing the solvent composition when using a mixed solvent in which two or more kinds of solvents are mixed. The viscosity of the organic dye solution dropped from each nozzle depends on the desired t L in the recording layer after drying.
Choose to obtain / t G.

【0072】いずれのノズルから滴下される有機色素溶
液も、溶液の調製に使用する溶剤(混合溶剤を含む)の
粘度は、25℃において0.1〜50mPa・s(0.
1〜50cP)の範囲内にあることが好ましい。一般
に、溶剤の粘度が低くなると沸点も低くなるので、溶剤
の粘度が0.1mPa・s未満である場合には、記録層
の形成に使用できる時間が短い、即ち、有機色素溶液を
滴下してから溶剤が蒸発するまでの時間が短くなる。そ
のため、有機色素溶液が十分に流延する前に、溶剤の蒸
発が進行し、平滑な記録層を形成することが困難となる
場合がある。溶剤の粘度が50mPa・sを越える場
合、溶剤の蒸発に長い時間を要する、即ち、記録層の形
成時間が長くなるために、光ディスクの製造時間全体が
長くなり、製造効率が低下する。
In any of the organic dye solutions dropped from any nozzle, the viscosity of the solvent (including mixed solvent) used for preparing the solution is 0.1 to 50 mPa · s (0.
It is preferably in the range of 1 to 50 cP). In general, the lower the viscosity of the solvent is, the lower the boiling point is. Therefore, when the viscosity of the solvent is less than 0.1 mPa · s, the usable time for forming the recording layer is short, that is, the organic dye solution is dropped. It takes less time to evaporate the solvent. Therefore, the solvent may evaporate before the organic dye solution is sufficiently cast, and it may be difficult to form a smooth recording layer. When the viscosity of the solvent exceeds 50 mPa · s, it takes a long time to evaporate the solvent, that is, the recording layer is formed for a long time, so that the entire manufacturing time of the optical disk is lengthened and the manufacturing efficiency is lowered.

【0073】図2に示すようなスピンコート装置を使用
する場合、ディスクの外周部にてスピンコートする有機
色素溶液に含まれる溶剤の粘度は、ディスクの内周部に
てスピンコートする有機色素溶液に含まれる溶剤の粘度
に対して、1割以上異なっていることが好ましい。そう
でない場合、記録層のt/tをディスクの半径方向
において有意に変化させることができず、したがって光
ディスクの反射率がディスクの半径方向において有意に
変化しない。
When the spin coater as shown in FIG. 2 is used, the viscosity of the solvent contained in the organic dye solution spin-coated on the outer peripheral portion of the disk depends on the organic dye solution spin-coated on the inner peripheral portion of the disk. It is preferable that the viscosity of the solvent contained in is different by 10% or more. Otherwise, t L / t G of the recording layer cannot be changed significantly in the radial direction of the disc, and thus the reflectivity of the optical disc does not change significantly in the radial direction of the disc.

【0074】一般に、同じ有機色素を使用する場合、溶
剤の粘度が大きいほど、即ち、有機色素溶液の粘度が大
きいほど、当該溶液で形成される記録層の反射率は高く
なる傾向にある。前述のように、光ディスク用基板は、
本来的に内周部で低い反射率を有し、外周部で高い反射
率を有する。基板の反射率の半径方向におけるこの変化
を相殺するためには、内周部に滴下する有機色素溶液に
含まれる溶剤の粘度を、外周部のそれよりも高くするこ
とが好ましい。具体的には、内周部に滴下する有機色素
溶液に含まれる溶剤の粘度は、外周部に滴下する有機色
素溶液に含まれる溶剤の粘度の1.2〜3倍であること
が好ましい。内周部に滴下する溶液に含まれる溶剤/外
周部に滴下する溶液に含まれる溶剤の組合せとして、具
体的には、オクタフルオロペンタノール(24mPa・
s)/テトラフルオロプロパノール(8mPa・s)、
ドデカフルオロヘキサノール(46mPa・s)/オク
タフルオロペンタノール(24mPa・s)、オクタフ
ルオロペンタノール(24mPa・s)/ヘキサフルオ
ロブタノール(10mPa・s)等が挙げられる。
Generally, when the same organic dye is used, the higher the viscosity of the solvent, that is, the higher the viscosity of the organic dye solution, the higher the reflectance of the recording layer formed by the solution tends to be. As mentioned above, the optical disk substrate is
Originally, the inner peripheral portion has a low reflectance and the outer peripheral portion has a high reflectance. In order to offset this change in the reflectance of the substrate in the radial direction, it is preferable to make the viscosity of the solvent contained in the organic dye solution dropped on the inner peripheral portion higher than that on the outer peripheral portion. Specifically, the viscosity of the solvent contained in the organic dye solution dropped on the inner peripheral portion is preferably 1.2 to 3 times the viscosity of the solvent contained in the organic dye solution dropped on the outer peripheral portion. As a combination of the solvent contained in the solution dropped on the inner peripheral part / the solvent contained in the solution dropped on the outer peripheral part, specifically, octafluoropentanol (24 mPa ·
s) / tetrafluoropropanol (8 mPa · s),
Dodecafluorohexanol (46 mPa · s) / octafluoropentanol (24 mPa · s), octafluoropentanol (24 mPa · s) / hexafluorobutanol (10 mPa · s) and the like can be mentioned.

【0075】有機色素溶液に含まれる溶剤は、粘度の異
なる2種以上の溶剤から成る混合溶剤であってよい。溶
剤が、混合溶剤である場合、各溶剤の配合比を変えるこ
とによって、溶剤の粘度、ひいては溶液の粘度を変える
ことができる。混合溶剤を使用する場合、好ましくは粘
度の異なる2〜5種類の溶剤の混合溶剤が使用される。
溶剤を5種類より多くしても、ディスクの半径方向で記
録層の光学特性を変化させるという本発明の効果に変わ
りはない。
The solvent contained in the organic dye solution may be a mixed solvent composed of two or more kinds of solvents having different viscosities. When the solvent is a mixed solvent, the viscosity of the solvent and thus the viscosity of the solution can be changed by changing the compounding ratio of each solvent. When using a mixed solvent, a mixed solvent of 2 to 5 types of solvents having different viscosities is preferably used.
The use of more than 5 kinds of solvent does not change the effect of the present invention of changing the optical characteristics of the recording layer in the radial direction of the disc.

【0076】本発明の第2の光ディスクは、それぞれ粘
度の異なる有機色素溶液を使用するという点を除いて
は、本発明の第1の光ディスクと同様にして作製され
る。したがって、スピンコートの具体的な条件およびス
ピンコート装置の具体的な構成等は、第1の光ディスク
に関連して説明したとおりであるから、ここではその詳
細な説明を省略する。
The second optical disc of the present invention is manufactured in the same manner as the first optical disc of the present invention, except that organic dye solutions having different viscosities are used. Therefore, the specific conditions of the spin coating, the specific configuration of the spin coating device, and the like are as described in relation to the first optical disc, and therefore detailed description thereof will be omitted here.

【0077】次に本発明の第3の光ディスクについて説
明する。第3の光ディスクは、反射層の厚さがディスク
の半径方向において一定でないものである。
Next, the third optical disc of the present invention will be described. In the third optical disc, the thickness of the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc.

【0078】ディスクの半径方向の各位置における反射
層の厚さは、反射層の厚さが光ディスクの変調度に及ぼ
す影響を考慮するともに、反射層の反射率をディスクの
半径方向においてどのように変化させるかに応じて決定
される。前述のように、通常の光ディスク用基板を使用
した場合、光ディスクの反射率は外周に向かうにつれて
大きくなり、変調度は外周に向かうにつれて小さくなる
傾向にある。したがって、通常の光ディスク用基板を用
いる場合、反射層の厚さを内周から外周に向かって減少
させ、反射層の反射率を内周から外周に向かって小さく
するとともに、光ディスクの変調度を外周側で高くする
ことが好ましい。
The thickness of the reflective layer at each position in the radial direction of the disc takes into consideration the influence of the thickness of the reflective layer on the modulation degree of the optical disc, and how the reflectance of the reflective layer is determined in the radial direction of the disc. It is decided according to whether to change. As described above, when a normal optical disk substrate is used, the reflectance of the optical disk tends to increase toward the outer circumference and the modulation degree tends to decrease toward the outer circumference. Therefore, when using an ordinary optical disk substrate, the thickness of the reflective layer is reduced from the inner circumference to the outer circumference, the reflectance of the reflective layer is decreased from the inner circumference to the outer circumference, and the modulation degree of the optical disk is reduced to the outer circumference. It is preferable to increase it on the side.

【0079】反射層において、最も薄い部分の厚さは、
最も厚い部分の厚さをを1としたときに0.7未満であ
ることが好ましい。反射層において最も厚い部分の厚さ
と、最も薄い部分の厚さとの比は、より好ましくは1:
0.7〜1:0.5である。最も厚い部分に対する最も
薄い部分の比が0.7を越えると、反射層の反射率はデ
ィスクの半径方向において有意に変化しない。最も厚い
部分に対する最も薄い部分の比が0.5未満であると、
ディスクの半径方向において反射率の変化が大きくなり
すぎて、最終的に得られる光ディスクにおいて反射率を
均一にすることができない。
In the reflective layer, the thickness of the thinnest portion is
When the thickness of the thickest part is 1, it is preferably less than 0.7. The ratio of the thickness of the thickest part to the thickness of the thinnest part of the reflective layer is more preferably 1 :.
It is 0.7-1: 0.5. When the ratio of the thinnest portion to the thickest portion exceeds 0.7, the reflectance of the reflective layer does not change significantly in the radial direction of the disc. If the ratio of the thinnest part to the thickest part is less than 0.5,
The change of the reflectance becomes too large in the radial direction of the disc, and the reflectance cannot be made uniform in the finally obtained optical disc.

【0080】第3の光ディスクの反射層は、Ag、A
u、Cu、Al、Pt、Pd、Nd、Mg、Se、Y、
Ti、Zr、Hf、C、N、O、V、Nb、Ta、C
r、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、
Rh、Te、Pb、SnおよびBiから成る群から選択
される元素で形成される。これらの元素は単独で、また
は2種類以上組み合わせて、例えば合金の形態で使用し
てよい。反射層を構成する元素は、最終的に得られる光
ディスクが規格で定められている反射率を有するように
選択される。例えば、CD−Rの場合、ディスク全体が
65〜85%の反射率を有し、DVD−Rの場合、ディ
スク全体が45〜85%の反射率を有するように、反射
層は構成される。したがって、反射率を構成する元素と
して、通常、少なくとも1種類の金属元素が選択され
る。反射層は、好ましくは、Ag、AuもしくはAlを
主たる成分とする金属材料または合金で形成される。そ
のような金属材料または合金は、反射率および耐候性の
点から好ましく用いられる。中でも、銀または銀合金
は、反射率が高く、コスト的にも有利であることから特
に好ましい。
The reflective layer of the third optical disk is made of Ag, A
u, Cu, Al, Pt, Pd, Nd, Mg, Se, Y,
Ti, Zr, Hf, C, N, O, V, Nb, Ta, C
r, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru,
It is formed of an element selected from the group consisting of Rh, Te, Pb, Sn and Bi. These elements may be used alone or in combination of two or more, for example, in the form of alloy. The elements constituting the reflective layer are selected so that the finally obtained optical disc has a reflectance specified by the standard. For example, in the case of CD-R, the reflective layer is configured such that the entire disc has a reflectance of 65 to 85%, and in the case of DVD-R, the entire disc has a reflectance of 45 to 85%. Therefore, at least one kind of metal element is usually selected as the element constituting the reflectance. The reflective layer is preferably formed of a metal material or alloy containing Ag, Au or Al as a main component. Such metal materials or alloys are preferably used in terms of reflectance and weather resistance. Among them, silver or silver alloy is particularly preferable because it has high reflectance and is advantageous in cost.

【0081】反射層の厚さは、使用する金属の種類、記
録層の光学特性、および光ディスクの種類等に応じて、
最終的に得られる光ディスクが規格で定められているデ
ィスク特性(例えばジッタ等)を満たすように選択され
る。例えば、CD−Rの反射層は、Au、Ag、Alま
たはこれらの合金を使用して、最も厚い部分の厚さが6
0〜200nmとなるように形成することが好ましい。C
D−Rの反射層の厚さは、50〜170nmの範囲内で
(即ち、最も薄い部分が50mmより薄くならず、最も厚
い部分が170mmより厚くならないように)変化してい
ることがより好ましい。DVD−Rの反射層は、Au、
Ag、Alまたはこれらの合金を使用して、最も薄い部
分の厚さが50nm以上となるように形成することが好ま
しい。DVD−Rの反射層の厚さは、75〜170nmの
範囲内で変化していることがより好ましい。
The thickness of the reflective layer depends on the type of metal used, the optical characteristics of the recording layer, the type of optical disc, etc.
The finally obtained optical disc is selected so as to satisfy the disc characteristic (for example, jitter) defined by the standard. For example, the reflective layer of the CD-R is made of Au, Ag, Al, or an alloy thereof and has a thickness of 6 at the thickest portion.
It is preferably formed to have a thickness of 0 to 200 nm. C
It is more preferable that the thickness of the reflective layer of D-R is changed within the range of 50 to 170 nm (that is, the thinnest portion does not become thinner than 50 mm and the thickest portion does not become thicker than 170 mm). . The reflective layer of the DVD-R is Au,
It is preferable to use Ag, Al or an alloy thereof so that the thinnest portion has a thickness of 50 nm or more. It is more preferable that the thickness of the reflective layer of the DVD-R varies within the range of 75 to 170 nm.

【0082】反射層は、基板に記録層を形成した後、記
録層の表面にスパッタリングにより形成する。スパッタ
リングは、光ディスクの反射層を形成する方法として一
般的に採用されている。第3の光ディスクの反射層の形
成に際しては、スパッタリングを、基板の一部を覆う遮
蔽板をターゲットと基板との間に配置して、基板を自転
させながら実施し、それにより反射層の厚さをディスク
の半径方向で一定でないようにする。
The reflective layer is formed on the surface of the recording layer by sputtering after the recording layer is formed on the substrate. Sputtering is generally adopted as a method for forming a reflective layer of an optical disc. In forming the reflective layer of the third optical disc, sputtering is performed while the substrate is rotated by placing a shield plate covering a part of the substrate between the target and the substrate, whereby the thickness of the reflective layer is increased. Is not constant in the radial direction of the disc.

【0083】遮蔽板で覆われている基板の部分には、タ
ーゲット物質が付着しない。そのため、スパッタリング
中、基板に反射層が形成されない部分が生じないよう
に、基板を回転させる必要がある。さらに、遮蔽板は、
基板において、基板が1回転する間中常に遮蔽板で覆わ
れる部分が存在しないような形状を有する必要がある。
即ち、遮蔽板は、基板が静止しているときに、反射層を
形成すべき領域において、基板の中心から等距離にある
箇所を結んだ線(即ち、円を描く線)の少なくとも一部
が遮蔽板で覆われないような形状を有する必要がある。
円を描く線の全部が遮蔽板で覆われると、基板を自転さ
せても、スパッタリングされない部分が生じるためであ
る。
The target material does not adhere to the portion of the substrate covered with the shield plate. Therefore, it is necessary to rotate the substrate during sputtering so that a portion where the reflective layer is not formed does not occur on the substrate. Furthermore, the shield plate
It is necessary for the substrate to have a shape such that there is no portion covered with the shielding plate during one rotation of the substrate.
That is, when the substrate is stationary, the shielding plate is such that at least a part of a line (that is, a line that draws a circle) that connects points equidistant from the center of the substrate in the area where the reflective layer is to be formed. It must have a shape so that it cannot be covered with a shield.
This is because if all of the lines that draw a circle are covered with the shielding plate, some portions will not be sputtered even if the substrate is rotated.

【0084】遮蔽板は、基板とターゲットとの間に位置
するように配置する。ターゲットおよび基板を、両者の
表面が対向するように配置する場合、遮蔽板は、基板表
面の近くに配置させることが好ましく、遮蔽板と基板表
面との間の距離は5cm程度までとするとよい。あるい
は、遮蔽板はターゲットの表面に配置してよい。また、
遮蔽板は、100℃程度でも変形しない耐熱性材料(例
えば、アルミニウムもしくはSUS等の金属、またはポ
リカーボネート等のプラスチック)で形成し、その厚さ
は0.5〜2mm程度にするとよい。
The shield plate is arranged so as to be located between the substrate and the target. When the target and the substrate are arranged such that their surfaces are opposed to each other, the shielding plate is preferably arranged near the substrate surface, and the distance between the shielding plate and the substrate surface may be up to about 5 cm. Alternatively, the shield may be placed on the surface of the target. Also,
The shield plate is made of a heat-resistant material (for example, metal such as aluminum or SUS, or plastic such as polycarbonate) that does not deform even at about 100 ° C., and its thickness is preferably about 0.5 to 2 mm.

【0085】遮蔽板を使用するスパッタリングは、図3
に示すようなスパッタリング装置により実施される。図
3の(a)は、スパッタリング装置30に含まれるターゲ
ットT、遮蔽板S、および基板10の位置関係を模式的に
示す。図3の(b)および(c)はそれぞれ遮蔽板Sの
一例を示す平面図である。図示したスパッタリング装置
30において、ターゲットTは、基板10と同じ直径を有す
る円盤形態であり、その表面が基板の表面と対向し、か
つ基板の表面と平行となるように配置されている。この
ターゲットTと基板10との間に、遮蔽板Sが配置されて
いる。図3のスパッタリング装置は、理解の容易のた
め、各部分の大きさの比率等は実際のものとは異なるよ
うに表されている。
Sputtering using a shielding plate is performed as shown in FIG.
It is carried out by a sputtering device as shown in FIG. FIG. 3A schematically shows the positional relationship among the target T, the shielding plate S, and the substrate 10 included in the sputtering device 30. 3B and 3C are plan views each showing an example of the shielding plate S. Illustrated sputtering equipment
At 30, the target T is in the form of a disk having the same diameter as the substrate 10, and is arranged such that its surface faces the surface of the substrate and is parallel to the surface of the substrate. A shield plate S is arranged between the target T and the substrate 10. For ease of understanding, the sputtering apparatus of FIG. 3 is illustrated such that the size ratio of each portion is different from the actual one.

【0086】図3の(b)に示す遮蔽板Sは、基板と同
じ直径を有するディスク形状の板である。この遮蔽板に
は、2つの円形の開口部h1およびh2が形成されてお
り、2つの開口部は、それぞれ基板の半径と同じ直径を
有し、2つの開口部の直径は遮蔽板の直径と一致する一
直線をなしている。図3の(b)に示す遮蔽板Sを使用
すると、反射層は、その厚さが内周から外周に向かって
減少したものとなる。図3の(c)に示す遮蔽板は、直
径が基板の半径と同じである2つのディスク形状の板d
1およびd2から成る。2つの板の直径は基板の直径と
重なる一直線をなしている。図3の(c)に示す遮蔽板
を使用すると、反射層は、その厚さが内周から外周に向
かって増加したものとなる。図示した遮蔽板は例示であ
り、遮蔽板の形状は、反射層の厚さをディスクの半径方
向において所望のように変化させ得る限りにおいて、別
の形状であってよい。
The shielding plate S shown in FIG. 3B is a disk-shaped plate having the same diameter as the substrate. The shield plate is formed with two circular openings h1 and h2, each of which has the same diameter as the radius of the substrate, and the diameter of the two openings is equal to the diameter of the shield plate. They are in line with each other. When the shielding plate S shown in FIG. 3B is used, the thickness of the reflective layer decreases from the inner circumference to the outer circumference. The shielding plate shown in FIG. 3 (c) has two disk-shaped plates d having the same diameter as the radius of the substrate.
1 and d2. The diameters of the two plates are aligned with the diameter of the substrate. When the shielding plate shown in FIG. 3C is used, the thickness of the reflective layer increases from the inner circumference to the outer circumference. The shield plate shown is an example, and the shield plate may have another shape as long as the thickness of the reflective layer can be changed as desired in the radial direction of the disc.

【0087】その他の遮蔽板の例を図5の(a)〜
(e)に示す。図5に示す遮蔽板Sはいずれも、開口部
hを有するものであり、基板とターゲットの間に位置さ
せてスパッタリングを実施すると、反射層の厚さは、開
口部hの形状寸法および数に応じてディスクの半径方向
において変化する。図5の(a)〜(d)の遮蔽板を使
用すると、反射層の厚さは内周から外周に向かって減少
し、図5の(e)の遮蔽板を使用すると、反射層の厚さ
は内周から外周に向かって増加する。図5の(c)の遮
蔽板において、開口部hの中央部付近の膨らみが大きく
なるほど、内周における反射層の厚さと外周における反
射層の厚さとの差は大きくなる。図5に示すような開口
部を有する遮蔽板を使用する場合、開口部の形状および
数を、基板の中心から等距離にある箇所を結んだ線(即
ち、円を描く線)上に占める開口部の割合が内周から外
周に向かって変化するように適宜選択することによっ
て、反射層の厚さをディスクの半径方向で所望のように
変化させることができる。例えば、基板の中心から等距
離にある箇所を結んだ線上に占める開口部の割合が内周
から外周に向かって減少すれば、反射層の厚さは内周か
ら外周に向かって減少する。
Examples of other shielding plates are shown in FIGS.
It shows in (e). Each of the shielding plates S shown in FIG. 5 has an opening h, and when the shielding plate S is positioned between the substrate and the target and sputtering is carried out, the thickness of the reflective layer becomes equal to the shape size and number of the openings h. Accordingly, it changes in the radial direction of the disc. When the shielding plate of (a) to (d) of FIG. 5 is used, the thickness of the reflective layer decreases from the inner periphery to the outer periphery, and when the shielding plate of (e) of FIG. 5 is used, the thickness of the reflective layer is reduced. The depth increases from the inner circumference to the outer circumference. In the shielding plate of FIG. 5C, the greater the bulge near the center of the opening h, the greater the difference between the thickness of the reflective layer on the inner circumference and the thickness of the reflective layer on the outer circumference. When a shielding plate having openings as shown in FIG. 5 is used, the shape and number of the openings are occupied on a line (that is, a line that draws a circle) that connects points equidistant from the center of the substrate. The thickness of the reflective layer can be changed as desired in the radial direction of the disk by appropriately selecting the ratio of the parts from the inner circumference to the outer circumference. For example, if the ratio of the openings occupying the line connecting the points equidistant from the center of the substrate decreases from the inner circumference to the outer circumference, the thickness of the reflective layer decreases from the inner circumference to the outer circumference.

【0088】図示した装置を使用するスパッタリング
は、基板支持台32を駆動装置(図示せず)で軸nのまわ
りを軸回転させて基板10を自転させるとともに、ターゲ
ットTの表面から金属をスパッタ蒸発させ、これを基板
10の表面に付着させることにより実施する。スパッタ蒸
発は常套の方法で実施され、例えば、ターゲットを陰極
とするグロー放電、またはイオンビームにより実施して
よい。スパッタリングの条件は、光ディスクの反射層を
形成するときに採用されている条件としてよい。
In the sputtering using the apparatus shown in the drawing, the substrate support 32 is rotated about the axis n by a driving device (not shown) to rotate the substrate 10, and the metal is sputtered and evaporated from the surface of the target T. Let this be the substrate
It is carried out by attaching to 10 surfaces. Sputter evaporation is carried out in a conventional manner and may be carried out, for example, by glow discharge with the target as cathode or by ion beam. The sputtering conditions may be the conditions adopted when forming the reflective layer of the optical disc.

【0089】図3は、第3の光ディスクの製造に適した
スパッタリング装置の一例の概略を示すものである。ス
パッタリング装置は、常套のスパッタリング装置が含む
他の部材または装置、例えば電源および排気装置等を含
んでよい。また、ターゲットは、基板と同じ直径を有し
ないものであってよい。
FIG. 3 shows an outline of an example of a sputtering apparatus suitable for manufacturing a third optical disk. The sputtering apparatus may include other members or devices included in a conventional sputtering apparatus, such as a power supply and an exhaust device. Also, the target may not have the same diameter as the substrate.

【0090】次に本発明の第4の光ディスクについて説
明する。第4の光ディスクは、反射層が2種類以上の元
素を構成成分として含み、反射層における成分比がディ
スクの半径方向において一定でないものである。元素
は、光ディスクの反射層を構成する元素として採用され
ているものから選択され、例えば金属元素である。
Next explained is the fourth optical disc of the invention. In the fourth optical disc, the reflective layer contains two or more kinds of elements as constituent components, and the component ratio in the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc. The element is selected from those adopted as an element constituting the reflective layer of the optical disc, and is, for example, a metal element.

【0091】反射層を構成する元素は、反射率がそれぞ
れ異なる元素である。反射率がそれぞれ異なる元素は、
記録再生波長の光の吸収量がぞれぞれ異なる。反射率が
異なる2種類以上の元素で反射層を形成し、これに記録
再生波長の光を照射すると、各元素が反射層に占める割
合に応じて、1種類の元素で形成した反射層とは異なる
反射率を示す。したがって、反射層における成分比がデ
ィスクの半径方向において一定でない反射層は、ディス
クの半径方向において、成分比に応じて異なる反射率を
示すこととなる。
The elements constituting the reflective layer are elements having different reflectances. Elements with different reflectances are
The absorption amount of light of the recording / reproducing wavelength is different. When a reflective layer is formed of two or more kinds of elements having different reflectances and irradiated with light having a recording / reproducing wavelength, a reflective layer formed of one kind of element is formed according to the ratio of each element in the reflective layer. It shows different reflectivities. Therefore, the reflective layer in which the component ratio in the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc exhibits different reflectance in the radial direction of the disc depending on the component ratio.

【0092】反射層は、前述のように銀合金で形成する
ことが好ましい。第4の光ディスクの反射層を銀合金で
形成する場合、銀以外の成分は全体の0.5〜10wt
%を占めることが好ましい。また、反射層における成分
比は、銀以外の成分の割合が反射層のいずれの部分にお
いても、この範囲内にあるように、ディスクの半径方向
において変化していることが好ましい。
The reflective layer is preferably formed of a silver alloy as described above. When the reflective layer of the fourth optical disc is made of a silver alloy, the components other than silver are 0.5 to 10 wt% of the total.
% Is preferable. Further, the component ratio in the reflective layer is preferably changed in the radial direction of the disc so that the ratio of components other than silver is within this range in any part of the reflective layer.

【0093】銀合金は、銀以外の成分として、Au、C
u、Al、Pt、Pd、Nd、Mg、Se、Y、Ti、
Zr、Hf、C、N、O、V、Nb、Ta、Cr、M
o、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、
Te、Pb、SnおよびBiから成る群から選択される
少なくとも1の元素を含むものであることが好ましく、
Ag−Au−Nd合金、またはAg−Pd−Cu合金で
あることがより好ましい。
The silver alloy contains Au, C as components other than silver.
u, Al, Pt, Pd, Nd, Mg, Se, Y, Ti,
Zr, Hf, C, N, O, V, Nb, Ta, Cr, M
o, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh,
Preferably, it contains at least one element selected from the group consisting of Te, Pb, Sn and Bi,
More preferably, it is an Ag-Au-Nd alloy or an Ag-Pd-Cu alloy.

【0094】銀合金を使用する場合、ディスクの半径方
向の各位置にて銀以外の成分の占める割合は、反射層の
反射率をディスクの半径方向においてどのように変化さ
せるかに応じて決定される。銀合金の反射率は、銀以外
の成分の占める割合が高くなるほど、低くなる。前述の
ように、通常の光ディスク用基板を用いて構成した光デ
ィスクの反射率は、ディスクの外周側ほど大きくなる傾
向にある。したがって、通常の光ディスク用基板を用い
る場合、銀以外の成分の占める割合を内周から外周に向
かって増加させ、反射層の反射率を内周から外周に向か
って小さくすることが好ましい。
When a silver alloy is used, the proportion of components other than silver occupied at each position in the radial direction of the disk is determined according to how the reflectance of the reflective layer is changed in the radial direction of the disk. It The reflectance of a silver alloy decreases as the proportion of components other than silver increases. As described above, the reflectance of an optical disc formed by using a normal optical disc substrate tends to increase toward the outer peripheral side of the disc. Therefore, when an ordinary optical disk substrate is used, it is preferable to increase the proportion of components other than silver from the inner circumference to the outer circumference and decrease the reflectance of the reflective layer from the inner circumference to the outer circumference.

【0095】銀以外の成分の占める割合を内周から外周
に向かって増加させる場合、ディスクの内周で銀以外の
成分の占める割合に対して、ディスクの外周で銀以外の
成分の占める割合は1割以上大きいことが好ましく、1
〜5割大きいことがより好ましい。したがって、例え
ば、ディスクの内周で銀以外の成分の占める割合が5w
t%である場合、ディスクの外周で銀以外の成分の占め
る割合は、好ましくは5.5wt%以上であり、より好
ましくは5.5〜7.5wt%である。ディスクの内周
と外周とで、銀以外の成分の占める割合が1割以上異な
っていない場合、光ディスクの反射率はディスクの半径
方向において有意に変化しない。
When the proportion of the components other than silver is increased from the inner circumference to the outer circumference, the proportion of the components other than silver on the outer circumference of the disc is larger than the proportion of the components other than silver on the inner circumference of the disc. 10% or more is preferable, and 1
More preferably, it is larger by 50%. Therefore, for example, the ratio of components other than silver on the inner circumference of the disk is 5w.
When it is t%, the ratio of components other than silver on the outer periphery of the disk is preferably 5.5 wt% or more, and more preferably 5.5 to 7.5 wt%. The reflectance of the optical disc does not change significantly in the radial direction of the disc when the ratio of the components other than silver occupying the inner periphery and the outer periphery of the disc does not differ by 10% or more.

【0096】第4の光ディスクの反射層は、銀合金以外
の材料で形成してよく、例えば、AuまたはAlを主た
る成分とする合金で形成してよい。また、反射層は、2
種類以上の元素で構成される限りにおいて、任意の材料
で形成してよく、必ずしも合金で形成する必要はない。
The reflective layer of the fourth optical disk may be made of a material other than a silver alloy, for example, an alloy containing Au or Al as a main component. Also, the reflective layer is 2
As long as it is composed of more than one kind of element, it may be formed of any material, and is not necessarily formed of an alloy.

【0097】第4の光ディスクの反射層の厚さは、使用
する元素の種類、記録層の光学特性、および光ディスク
の種類等に応じて、最終的に得られる光ディスクが規格
で定められているディスク特性(例えばジッタ等)を満
たすように選択される。例えば、CD−Rの反射層を、
アルミニウムを主たる構成成分として形成する場合、そ
の厚さは70〜100nmとすることが好ましい。DVD
−Rの反射層を、銀を主たる構成成分として形成する場
合、その厚さは50nm以上とすることが好ましい。
The thickness of the reflective layer of the fourth optical disc is a disc for which the finally obtained optical disc is defined by a standard according to the type of element used, the optical characteristics of the recording layer, the type of optical disc, and the like. It is selected so as to satisfy the characteristic (eg, jitter). For example, a reflective layer of CD-R,
When aluminum is formed as the main constituent, its thickness is preferably 70-100 nm. DVD
When the -R reflective layer is formed with silver as a main constituent, the thickness thereof is preferably 50 nm or more.

【0098】第4の光ディスクの反射層もまた、スパッ
タリングにより形成される。スパッタリングは、組成の
異なる複数の独立したターゲットを用い、基板を移動さ
せて各ターゲットで順に実施し、また、少なくとも1つ
のターゲットでスパッタリングするときに、ターゲット
と基板との間に位置して基板の一部を覆う遮蔽板を配置
して、基板を自転させる。このようにスパッタリングす
れば、反射層における成分比がディスクの半径方向にお
いて一定でなくなる。
The reflective layer of the fourth optical disk is also formed by sputtering. Sputtering is performed by using a plurality of independent targets having different compositions, sequentially moving the substrate, and performing sputtering with each target. Further, when sputtering with at least one target, the sputtering is performed between the target and the substrate. A shielding plate that covers a part is arranged and the substrate is rotated. If sputtering is performed in this manner, the component ratio in the reflective layer will not be constant in the radial direction of the disc.

【0099】図4に、上記のスパッタリングを実施する
のに適したスパッタリング装置40を示す。図4の(a)
は、ターゲットTa〜Tc、遮蔽板SaおよびSb、な
らびに基板10の位置関係を模式的に示す。図4の(b)
は、基板側から見た各ターゲットTa〜Tcならびに遮
蔽板SaおよびSbの位置関係を示す平面図である。図
4のスパッタリング装置は、理解の容易のため、各部分
の大きさの比率等は実際のものとは異なるように表され
ている。
FIG. 4 shows a sputtering apparatus 40 suitable for carrying out the above-mentioned sputtering. Figure 4 (a)
Shows schematically the positional relationship among the targets Ta to Tc, the shielding plates Sa and Sb, and the substrate 10. FIG. 4B
[FIG. 6] is a plan view showing a positional relationship between each of the targets Ta to Tc and the shielding plates Sa and Sb as viewed from the substrate side. For ease of understanding, the sputtering apparatus of FIG. 4 is shown such that the size ratio of each portion is different from the actual one.

【0100】図示したスパッタリング装置においては、
組成がそれぞれ異なる3つのターゲットTa、Tbおよ
びTcが配置されている。ターゲットはいずれも、基板
と同じ直径を有する円盤形態である。基板10は、回転可
能な基板支持台42に取り付けられ、基板支持台42は回転
台44に取り付けられ、回転台44は支持台46に固定されて
いる。回転台44は支持台46が軸n1のまわりを軸回転す
ることにより回転し、それにより基板10が公転して、図
4の(b)にて破線で示す軌跡を描く。基板10はまた、
基板支持台42が軸n2のまわりを軸回転することにより
自転する。
In the illustrated sputtering apparatus,
Three targets Ta, Tb and Tc having different compositions are arranged. Both targets are disk-shaped with the same diameter as the substrate. The substrate 10 is attached to a rotatable substrate support 42, the substrate support 42 is attached to a turntable 44, and the turntable 44 is fixed to a support 46. The turntable 44 rotates as the support 46 rotates about the axis n1, and the substrate 10 revolves around it, thus drawing a locus indicated by a broken line in FIG. 4B. The substrate 10 is also
The substrate support 42 rotates about the axis n2 to rotate on its axis.

【0101】基板10が公転している間に、基板10は各タ
ーゲットTa〜Tcと対向する。基板10は各ターゲット
と対向しているときに、各ターゲットでスパッタリング
される。このとき、他のターゲットは薄膜形成に関与し
ない。図示した装置において、スパッタリングは、ター
ゲットTa、Tb、Tcをこの順に使用して、繰り返し
実施される。その結果、反射層は、各ターゲットに由来
する薄膜が、Ta膜−Tb膜−Tc膜の順に繰り返し形
成された構造を有することとなる。
While the substrate 10 revolves, the substrate 10 faces each of the targets Ta to Tc. Substrate 10 is sputtered on each target when facing each target. At this time, other targets do not participate in the thin film formation. In the illustrated apparatus, sputtering is repeatedly performed using targets Ta, Tb, and Tc in this order. As a result, the reflective layer has a structure in which thin films derived from each target are repeatedly formed in the order of Ta film-Tb film-Tc film.

【0102】基板10は、基板が各ターゲットと対向した
ときに、約5〜10秒間静止するように公転させる。し
たがって、支持台46を回転させるための駆動装置は、基
板10がターゲットと対向したときに速やかに回転を停止
させる機能を有する必要がある。支持台46は、基板10を
1つのターゲットから次のターゲットへ移動させるとき
に回転させる。このとき、製造効率の点から、基板10の
移動時間はできるだけ短くすることが好ましく、支持台
46を大きい回転数で回転させて基板10を移動させること
が好ましい。但し、回転数を大きくしすぎると、基板10
をターゲットと対向する位置で直ちに停止させることが
難しくなる。支持台46の回転数は、具体的には200r
pm程度までとすることが好ましい。
The substrate 10 is revolved so as to be stationary for about 5 to 10 seconds when the substrate faces each target. Therefore, the driving device for rotating the support base 46 needs to have a function of quickly stopping the rotation when the substrate 10 faces the target. The support 46 is rotated when moving the substrate 10 from one target to the next. At this time, from the viewpoint of manufacturing efficiency, it is preferable that the moving time of the substrate 10 be as short as possible.
It is preferable that the substrate 10 is moved by rotating 46 at a high rotation speed. However, if the rotation speed is set too high, the substrate 10
It becomes difficult to immediately stop at a position facing the target. The rotation speed of the support base 46 is specifically 200 r
It is preferably up to about pm.

【0103】図示したスパッタリング装置40において、
2つのターゲットTaおよびTbの上方には、遮蔽板S
aおよびSbが配置されている。遮蔽板Saは、図3の
(c)に示す遮蔽板と同じ形状を有している。したがっ
て、ターゲットTaでスパッタリングすると、内周から
外周に向かって厚さが増加した膜が得られる。遮蔽板S
bは、図3の(b)に示す遮蔽板と同じ形状を有してい
る。したがって、ターゲットTbでスパッタリングする
と、内周から外周に向かって厚さが減少した膜が得られ
る。また、遮蔽板Sbに形成された開口部hb1および
hb2の形状および寸法は、遮蔽板Saを構成するディ
スク形状の板da1およびda2のそれらと同じである。
ターゲットTcの表面には遮蔽板が配置されていない。
したがって、ターゲットTcでスパッタリングすると、
厚さが均一な膜が得られる。
In the illustrated sputtering apparatus 40,
Above the two targets Ta and Tb, the shield S
a and Sb are arranged. The shield plate Sa has the same shape as the shield plate shown in FIG. Therefore, when sputtering with the target Ta, a film whose thickness increases from the inner circumference to the outer circumference is obtained. Shield S
b has the same shape as the shielding plate shown in FIG. Therefore, when sputtering with the target Tb, a film with a reduced thickness from the inner circumference to the outer circumference is obtained. Further, the shapes and dimensions of the openings hb 1 and hb 2 formed in the shield plate Sb are the same as those of the disk-shaped plates da 1 and da 2 that form the shield plate Sa.
No shielding plate is arranged on the surface of the target Tc.
Therefore, when sputtering with the target Tc,
A film having a uniform thickness can be obtained.

【0104】ターゲットTaおよびTbでスパッタリン
グするとき、基板10を自転させる必要がある。基板は、
基板支持台42の軸回転によって自転させられる。基板10
は、例えば、回転数30〜100rpmで自転させる。
Tcでスパッタリングするときは、遮蔽板がないため、
基板は自転させなくてもよい。
When sputtering with the targets Ta and Tb, the substrate 10 needs to rotate. The board is
The substrate support 42 is rotated about its axis by rotation of the shaft. Board 10
Is rotated at a rotation speed of 30 to 100 rpm, for example.
When sputtering with Tc, because there is no shield,
The substrate does not have to rotate.

【0105】このスパッタリング装置を使用して、銀合
金から成り、銀以外の成分の割合が内周から外周にかけ
て減少している反射層は、次のようにして形成される。
ターゲットとして、銀以外の成分の占める割合がそれぞ
れ異なる3種類の銀合金を使用する。3つのターゲット
は、銀以外の成分の占める割合が最も大きいものをTa
とし、もっとも小さいものをTcとして、図4の(b)
のように配置する。
Using this sputtering apparatus, a reflective layer made of a silver alloy, in which the proportion of components other than silver decreases from the inner circumference to the outer circumference, is formed as follows.
As a target, three types of silver alloys having different proportions of components other than silver are used. Of the three targets, the target with the largest proportion of components other than silver is Ta.
And the smallest one is Tc, and FIG.
Place it like.

【0106】まず、ターゲットTaに基板を対向させ
て、スパッタリングを実施する。前述のとおり、ターゲ
ットTaを用いたスパッタリングで形成される薄膜の厚
さは、ディスクの半径方向において内周から外周にかけ
て増加する。次に、ターゲットTbに基板を対向させ
て、スパッタリングを実施する。前述のとおり、ターゲ
ットTbを用いたスパッタリングで形成される薄膜の厚
さは、ディスクの半径方向において内周から外周にかけ
て減少する。次に、ターゲットTcに基板を対向させ
て、スパッタリングを実施する。ターゲットTcと基板
との間には遮蔽板が配置されていないから、ターゲット
Tcを用いたスパッタリングにより形成される薄膜の厚
さは一定である。
First, sputtering is performed with the substrate facing the target Ta. As described above, the thickness of the thin film formed by sputtering using the target Ta increases from the inner circumference to the outer circumference in the radial direction of the disk. Next, the substrate is opposed to the target Tb and sputtering is performed. As described above, the thickness of the thin film formed by sputtering using the target Tb decreases from the inner circumference to the outer circumference in the radial direction of the disk. Next, sputtering is performed with the substrate facing the target Tc. Since no shielding plate is arranged between the target Tc and the substrate, the thickness of the thin film formed by sputtering using the target Tc is constant.

【0107】遮蔽板Sbの2つの開口部hb1およびh
2は、遮蔽板Saを構成する2枚の板da1およびda
2と同じ形状および寸法を有するから、ターゲットTa
およびTbのスパッタリングにより形成される薄膜の厚
さの変化は互いに相殺される。したがって、この装置で
形成される反射層は、全体として均一な厚さを有する膜
となる。また、この装置で形成される反射層は、Tcに
由来する一定の厚さを有する膜の上に、TaおよびTb
に由来する膜が形成されたものとみなし得る。そのよう
にみなし得る膜は、外周では厚さ方向においてターゲッ
トTaに由来する膜の割合が多く、内周では厚さ方向に
おいてターゲットTbに由来する膜の割合が多いもので
ある。したがって、この反射層は、銀以外の成分の占め
る割合が、ディスクの半径方向において内周から外周に
向かって漸減した反射層となる。なお、実際に形成され
る反射層は、Ta〜Tcに由来する膜がこの順に積層さ
れた3層の積層体が繰り返し形成された多層構造を有す
る。
Two openings hb 1 and hb of the shielding plate Sb
b 2 is the two plates da 1 and da constituting the shielding plate Sa
Since it has the same shape and dimensions as those of 2, the target Ta
The changes in the thickness of the thin film formed by sputtering Tb and Tb cancel each other out. Therefore, the reflective layer formed by this device is a film having a uniform thickness as a whole. In addition, the reflective layer formed by this device has Ta and Tb on a film having a constant thickness derived from Tc.
It can be considered that a film derived from is formed. A film that can be regarded as such has a large proportion of the film derived from the target Ta in the thickness direction in the outer circumference and a large proportion of the film derived from the target Tb in the thickness direction in the inner circumference. Therefore, this reflection layer becomes a reflection layer in which the proportion of components other than silver gradually decreases from the inner circumference to the outer circumference in the radial direction of the disc. The reflective layer actually formed has a multi-layer structure in which a three-layer laminated body in which films derived from Ta to Tc are laminated in this order is repeatedly formed.

【0108】図示したスパッタリング装置は、本発明の
第4の光ディスクの反射層を形成する装置の一例の概略
を示したものであり、本発明の光ディスク製造装置に含
まれるスパッタリング装置はこれに限定されない。スパ
ッタリング装置は、例えば4つのターゲットを有するも
のであってよい。また、遮蔽板の形状は図示したものに
限定されず、他の形状であってよい。スパッタリング装
置は、常套のスパッタリング装置が含む他の部材または
装置、例えば電源および排気装置等を含んでよい。
The illustrated sputtering apparatus schematically shows an example of an apparatus for forming the reflection layer of the fourth optical disc of the present invention, and the sputtering apparatus included in the optical disc manufacturing apparatus of the present invention is not limited to this. . The sputtering apparatus may have, for example, four targets. Further, the shape of the shielding plate is not limited to that shown in the figure, and may be another shape. The sputtering apparatus may include other members or devices included in a conventional sputtering apparatus, such as a power supply and an exhaust device.

【0109】図示したスパッタリング装置において、タ
ーゲットTa〜Tcのうち2のみを使用することによっ
ても、ディスクの半径方向において成分比が一定でない
反射層を形成することができる。例えば、ターゲットT
bおよびTcのスパッタリングにより形成される反射層
は、Tcに由来する膜の上に、Tbに由来する膜が形成
されたものとみなし得る。前述のとおり、Tcに由来す
る膜は一定の厚さを有し、Tbに由来する膜は、その厚
さがディスクの半径方向において内周から外周に向かっ
て減少している膜である。よって、反射層全体の厚さは
半径方向において内周から外周に向かって減少する。ま
た、この反射層は、銀の割合の小さい銀合金が膜の厚さ
において占める割合が、ディスクの半径方向で内周から
外周にかけて小さくなっているものであるともいえる。
したがって、この反射層は、ディスクの半径方向におい
て、膜の厚さが内周から外周に向かって減少し、かつ銀
の占める割合が内周から外周に向かって減少しているも
のである。
In the illustrated sputtering apparatus, by using only two of the targets Ta to Tc, it is possible to form a reflective layer whose component ratio is not constant in the radial direction of the disk. For example, target T
The reflective layer formed by sputtering of b and Tc can be regarded as a film derived from Tb formed on a film derived from Tc. As described above, the film derived from Tc has a constant thickness, and the film derived from Tb is a film whose thickness decreases from the inner circumference to the outer circumference in the radial direction of the disc. Therefore, the thickness of the entire reflective layer decreases in the radial direction from the inner circumference to the outer circumference. It can also be said that the ratio of the silver alloy having a small silver ratio in the film thickness in the reflective layer is small from the inner circumference to the outer circumference in the radial direction of the disk.
Therefore, in this reflective layer, the thickness of the film decreases from the inner circumference to the outer circumference in the radial direction of the disk, and the proportion of silver decreases from the inner circumference to the outer circumference.

【0110】図示したスパッタリング装置を用い、回転
台44を回転させることなくターゲットTaまたはTbの
みでスパッタリングを実施すれば、成分比は一定で厚さ
が半径方向で変化した反射層が形成される。そのような
反射層を含む光ディスクは、前述の本発明の第3の光デ
ィスクに相当する。ターゲットTcのみでスパッタリン
グを実施すれば、成分比および厚さがともに一定の反射
層が形成される。
When the sputtering apparatus shown in the figure is used to perform sputtering only with the target Ta or Tb without rotating the rotary table 44, a reflective layer having a constant component ratio and a thickness varied in the radial direction is formed. An optical disc including such a reflective layer corresponds to the above-mentioned third optical disc of the present invention. If the sputtering is performed only with the target Tc, a reflective layer having a constant component ratio and a constant thickness is formed.

【0111】あるいは、第4の光ディスクの反射層は、
基板と同じ直径を有する円盤形態のターゲットであっ
て、組成が半径方向において一定でないターゲットを使
用することによっても製造される。そのようなターゲッ
トの一例を図6に示す。図6は、組成の異なる部分が同
心円状に3つの領域α、β、γに分かれているターゲッ
トTdである。例えば、ターゲットTdが銀合金から成
り、銀以外の成分の占める割合が領域αにおいて最も大
きく、領域γにおいて最も小さい場合には、銀以外の成
分の占める割合がディスクの内周から外周に向かって増
加している反射層が形成される。ターゲットTdは、例
えば、図4に示すスパッタリング装置において、ターゲ
ットTcに代えて配置することができる。その場合、回
転台44を回転させることなく、ターゲットTdのみでス
パッタリングを実施すれば、第4の光ディスクの反射層
を形成できる。
Alternatively, the reflective layer of the fourth optical disk is
It is also manufactured by using a disk-shaped target having the same diameter as the substrate, the target of which has a non-uniform radial composition. An example of such a target is shown in FIG. FIG. 6 shows a target Td in which portions having different compositions are concentrically divided into three regions α, β, γ. For example, when the target Td is made of a silver alloy and the proportions of the components other than silver are the largest in the region α and the smallest in the region γ, the proportions of the components other than silver are from the inner circumference to the outer circumference of the disc. An increasing number of reflective layers are formed. The target Td can be arranged in place of the target Tc in the sputtering device shown in FIG. 4, for example. In that case, if the sputtering is performed only with the target Td without rotating the turntable 44, the reflection layer of the fourth optical disc can be formed.

【0112】以上、本発明の第1〜第4の光ディスクの
特徴部分である記録層または反射層について詳述した。
本発明の光ディスクを構成する他の要素は、常套的に採
用されている材料および方法で構成でき、全体の構成は
従来のものと同様である。したがって、光ディスクが例
えばDVD−Rである場合、その構成は先に説明した図
1に示すようになる。
The recording layer or the reflective layer, which is a characteristic part of the first to fourth optical discs of the present invention, has been described above in detail.
The other elements constituting the optical disc of the present invention can be constituted by the materials and methods conventionally adopted, and the overall constitution is the same as the conventional one. Therefore, when the optical disc is, for example, a DVD-R, its configuration is as shown in FIG. 1 described above.

【0113】図1に示すDVD−Rは、従来の技術の欄
で説明したとおり、グルーブ1aを有する透明のプラス
チック製基板1、記録層2、反射層3、接着剤層4およ
び基板1と同じ厚さを有するプラスチック製基板5を含
む構成となっている。
The DVD-R shown in FIG. 1 is the same as the transparent plastic substrate 1 having the groove 1a, the recording layer 2, the reflective layer 3, the adhesive layer 4, and the substrate 1 as described in the section of the prior art. It is configured to include a plastic substrate 5 having a thickness.

【0114】基板1は厚さが約0.6mmであり、トラッ
キング用のグルーブ1aが螺旋状に形成された構造を有
する。基板1は、レーザ光を良好に透過させる透明の材
料から成るものであることが好ましい。そのような材料
としては、例えばポリカーボネート樹脂がある。グルー
ブ1aは、その深さが150〜180nm、溝幅が0.2
3〜0.37μmとなるように形成され、そのトラック
ピッチは0.74μmである。
The substrate 1 has a thickness of about 0.6 mm and has a structure in which the tracking groove 1a is spirally formed. The substrate 1 is preferably made of a transparent material that allows laser light to pass through well. Examples of such a material include polycarbonate resin. The groove 1a has a depth of 150 to 180 nm and a groove width of 0.2.
It is formed to have a thickness of 3 to 0.37 μm, and its track pitch is 0.74 μm.

【0115】記録層2および反射層3は、先に説明した
とおりである。図示した態様において、反射層3の上に
は、接着剤層4を介して基板5が積層されている。基板
5は全体の強度を増すために設けられる。基板5は、基
板1と同じ厚さを有し、また、基板1と同じ材料から成
るものであることが好ましい。接着剤層4は、紫外線で
硬化するエポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル樹脂
またはシリコン系樹脂等を反射層3上に、スピンコート
もしくはスプレー等の方法で塗布することにより形成さ
れる。基板5に代えて、接着剤層4を層厚が0.57〜
0.63mm程度となるように塗布して保護層を形成し、
これにより全体の強度を向上させてもよい。
The recording layer 2 and the reflective layer 3 are as described above. In the illustrated embodiment, the substrate 5 is laminated on the reflective layer 3 with the adhesive layer 4 interposed therebetween. The substrate 5 is provided to increase the overall strength. The substrate 5 preferably has the same thickness as the substrate 1 and is made of the same material as the substrate 1. The adhesive layer 4 is formed by applying an epoxy resin, a urethane resin, an acrylic resin, a silicone resin, or the like, which is cured by ultraviolet rays, onto the reflective layer 3 by a method such as spin coating or spraying. Instead of the substrate 5, the adhesive layer 4 has a layer thickness of 0.57 to
Coating to form a protective layer of about 0.63 mm,
This may improve the overall strength.

【0116】[0116]

【実施例】次に、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention.

【0117】(有機色素の合成)記録層を構成する有機
色素として、下記の化学式(1)および(2)で示され
る2種類のアゾ系色素を用意した。
(Synthesis of Organic Dye) Two kinds of azo dyes represented by the following chemical formulas (1) and (2) were prepared as organic dyes constituting the recording layer.

【0118】[0118]

【化1】 [Chemical 1]

【0119】[0119]

【化2】 [Chemical 2]

【0120】化学式(1)で示されるアゾ系色素は次の
手順に従って合成した。 1)2−(5−メチル−1,3,4−チアジアゾリル−
2−アゾ)−5−(ジエチルアミノ)−N−(トリフル
オロメタンスルホニル)アニリンの合成 反応容器に、酢酸70ml、プロピオン酸35ml、2
−アミノ−1,3,4−チアジアゾール8.0g、およ
び62%硫酸7mlを仕込み、撹拌しながら0℃まで冷
却し、これに44%ニトロシル硫酸24.1gを1時間
かけて滴下した(A液とする)。別の容器に3−(ジエ
チルアミノ)−N−(トリフルオロメタンスルホニル)
アニリンのトリフルオロメタンスルホン酸塩37.2
g、メタノール200ml、尿素2.9g、および酢酸
ナトリウム28gを仕込み、撹拌しながら0℃に冷却し
た。これに前記のA液を1時間かけて滴下した後、冷却
を止め徐々に室温に戻し、一晩撹拌した。反応液に水3
0mlを滴下した後、反応液を濾過して結晶を得た。こ
れを温水およびメタノールで洗浄した後、乾燥してアゾ
化合物の結晶11gを得た。
The azo dye represented by the chemical formula (1) was synthesized according to the following procedure. 1) 2- (5-methyl-1,3,4-thiadiazolyl-
Synthesis of 2-azo) -5- (diethylamino) -N- (trifluoromethanesulfonyl) aniline In a reaction vessel, acetic acid 70 ml, propionic acid 35 ml, 2
-Amino-1,3,4-thiadiazole (8.0 g) and 62% sulfuric acid (7 ml) were charged, the mixture was cooled to 0 ° C with stirring, and 44% nitrosyl sulfuric acid (24.1 g) was added dropwise thereto over 1 hour (liquid A). And). In a separate container, 3- (diethylamino) -N- (trifluoromethanesulfonyl)
Aniline trifluoromethanesulfonate 37.2
g, 200 ml of methanol, 2.9 g of urea, and 28 g of sodium acetate were charged, and the mixture was cooled to 0 ° C. with stirring. After the above liquid A was added dropwise to this over 1 hour, cooling was stopped and the temperature was gradually returned to room temperature, followed by stirring overnight. Water 3 in the reaction solution
After adding 0 ml dropwise, the reaction solution was filtered to obtain crystals. This was washed with warm water and methanol and then dried to obtain 11 g of crystals of the azo compound.

【0121】2)ビス[2−(5−メチル−1,3,4
−チアジアゾリル−2−アゾ)−5−(ジエチルアミ
ノ)−N−(トリフルオロメタンスルホニル)アニリナ
ト]ニッケルの合成 1)で得たアゾ化合物11gとメタノール85mlとを
混合し、撹拌しながら50℃に昇温した。この昇温した
混合物に、酢酸ニッケル四水和物3.5gを少しずつ加
えた。50〜60℃で3時間撹拌した後、放冷し、濾過
した。得られた結晶を、温水およびメタノールで順次洗
浄した後、乾燥して、化学式(1)で示される錯体1
1.4gを得た。
2) Bis [2- (5-methyl-1,3,4)
-Thiadiazolyl-2-azo) -5- (diethylamino) -N- (trifluoromethanesulfonyl) anilinato] nickel synthesis 11 g of the azo compound obtained in 1) and 85 ml of methanol were mixed and heated to 50 ° C with stirring. did. To this heated mixture, 3.5 g of nickel acetate tetrahydrate was added little by little. After stirring at 50-60 ° C for 3 hours, the mixture was allowed to cool and filtered. The obtained crystals are washed with warm water and methanol in that order, and dried to give the complex 1 represented by the chemical formula (1).
1.4 g was obtained.

【0122】化学式(2)で示されるアゾ系色素は次の
手順に従って合成した。 1)2−(5−メチル−3−イソキサゾリルアゾ)−4
−エトキシ−5−(ジエチルアミノ)−N−(トリフル
オロメタンスルホニル)アニリンの合成 反応容器に、3−アミノ−5−メチルイソキサゾール
0.5g、酢酸5.1ml、プロピオン酸2.6ml、
および62%硫酸0.5mlを仕込み、0℃に冷却し、
これに44%ニトロシル硫酸1.8gを20分かけて滴
下した(A液とする)。別の容器に3−(ジエチルアミ
ノ)−4−エトキシ−N−(トリフルオロメタンスルホ
ニル)アニリンのトリフルオロメタンスルホン酸塩2.
8g、酢酸ナトリウム1.3g、尿素0.13g、およ
びメタノール15mlを仕込み、撹拌しながら0℃に冷
却した。これに前記のA液を30分かけて滴下し、さら
に2時間撹拌した後、少量の水を加え晶析し、濾過し
た。結晶を温水で洗浄した後、メタノールから再結晶し
てアゾ化合物0.87gを得た。
The azo dye represented by the chemical formula (2) was synthesized according to the following procedure. 1) 2- (5-methyl-3-isoxazolylazo) -4
Synthesis of -ethoxy-5- (diethylamino) -N- (trifluoromethanesulfonyl) aniline In a reaction vessel, 0.5 g of 3-amino-5-methylisoxazole, 5.1 ml of acetic acid, 2.6 ml of propionic acid,
And 0.5% of 62% sulfuric acid were charged, cooled to 0 ° C.,
To this, 1.8 g of 44% nitrosylsulfuric acid was added dropwise over 20 minutes (referred to as solution A). In a separate container, the trifluoromethanesulfonate salt of 3- (diethylamino) -4-ethoxy-N- (trifluoromethanesulfonyl) aniline.2.
8 g, 1.3 g of sodium acetate, 0.13 g of urea, and 15 ml of methanol were charged, and the mixture was cooled to 0 ° C. with stirring. The solution A was added dropwise to the solution over 30 minutes, and the solution was stirred for additional 2 hours. The crystals were washed with warm water and then recrystallized from methanol to obtain 0.87 g of an azo compound.

【0123】2)ビス[2−(5−メチル−3−イソキ
サゾリルアゾ)−4−エトキシ−5−(ジエチルアミ
ノ)−N−(トリフルオロメタンスルホニル)アニリナ
ト]ニッケルの合成 1)で得たアゾ系化合物0.87gとメタノール9ml
とを混合し、50℃に昇温した。この昇温した混合物
に、酢酸ニッケル四水和物0.24gを加えた。50〜
60℃で2時間撹拌した後、放冷して、反応液を濾過し
た。得られた結晶を熱水およびメタノールで順次洗浄し
た後、乾燥して、化学式(2)で示される錯体0.75
gを得た。
2) Synthesis of bis [2- (5-methyl-3-isoxazolylazo) -4-ethoxy-5- (diethylamino) -N- (trifluoromethanesulfonyl) anilinato] nickel 1) Azo compound 0.87g and methanol 9ml
And were mixed, and the temperature was raised to 50 ° C. To this heated mixture was added 0.24 g of nickel acetate tetrahydrate. 50-
After stirring at 60 ° C. for 2 hours, the mixture was allowed to cool and the reaction solution was filtered. The obtained crystals are washed successively with hot water and methanol and then dried to give a complex of the chemical formula (2) 0.75
g was obtained.

【0124】化学式(1)で示されるアゾ系色素(「ア
ゾ系色素(1)」とも呼ぶ)は、膜のλmaxが605nm
であり、化学式(2)で示されるアゾ系色素(「アゾ系
色素(2)」とも呼ぶ)は、膜のλmaxが592nmであ
る。したがって、いずれのアゾ系色素も、それ単独でD
VD−Rの記録層を構成し得る。また、いずれのアゾ系
色素も、100mlのテトラフルオロプロパノールに5
g以上溶解し得る。
The azo dye represented by the chemical formula (1) (also referred to as "azo dye (1)") has a film λmax of 605 nm.
The azo dye represented by the chemical formula (2) (also referred to as “azo dye (2)”) has a film λmax of 592 nm. Therefore, any of the azo dyes alone
The recording layer of VD-R can be formed. In addition, all of the azo dyes were added to 100 ml of tetrafluoropropanol with 5
It can dissolve more than g.

【0125】(試料1)図1に示す構造のDVD−Rで
あって、記録層における成分比がディスクの半径方向に
おいて一定でないDVD−Rを以下の手順により作製し
た。基板1として、ポリカーボネート樹脂からなり、内
径15mm、外径120mm、厚さ0.6mmのドーナ
ツ形状のものを用意した。この基板は、一方の面にスパ
イラル状のグルーブ1aを有し、溝深さは160〜18
0nm、溝幅は0.25μm、トラックピッチは0.74
μmであった。
(Sample 1) A DVD-R having the structure shown in FIG. 1 in which the component ratio in the recording layer was not constant in the radial direction of the disc was produced by the following procedure. As the substrate 1, a doughnut-shaped substrate made of a polycarbonate resin having an inner diameter of 15 mm, an outer diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm was prepared. This substrate has a spiral groove 1a on one surface and a groove depth of 160-18.
0 nm, groove width 0.25 μm, track pitch 0.74
was μm.

【0126】基板1のグルーブ1aが形成された面に、
記録層2を形成した。記録層2は、図2に示すスピンコ
ート装置を使用して形成した。ノズル22aに仕込む有機
色素溶液は、アゾ系色素(1)およびアゾ系色素(2)
を重量比で20:80で混合し、これをテトラフルオロ
プロパノールに溶解して調製した。ノズル22bに仕込む
有機色素溶液は、アゾ系色素(1)およびアゾ系色素
(2)を重量比で80:20で混合し、これをテトラフ
ルオロプロパノールに溶解して調製した。いずれの有機
色素溶液も、色素の濃度は1wt%とした。また、有機
色素溶液は、ノズルに仕込む前に0.2μmの濾紙でフ
ィルタリングした。
On the surface of the substrate 1 where the groove 1a is formed,
The recording layer 2 was formed. The recording layer 2 was formed using the spin coater shown in FIG. The organic dye solution charged in the nozzle 22a is an azo dye (1) and an azo dye (2).
Were mixed in a weight ratio of 20:80, and this was dissolved in tetrafluoropropanol to prepare the solution. The organic dye solution charged into the nozzle 22b was prepared by mixing the azo dye (1) and the azo dye (2) at a weight ratio of 80:20 and dissolving the mixture in tetrafluoropropanol. The concentration of the dye in each of the organic dye solutions was 1 wt%. Further, the organic dye solution was filtered with a 0.2 μm filter paper before being charged into the nozzle.

【0127】これらの有機色素溶液を、ノズル22aおよ
びノズル22bから、それぞれ滴下して、基板1の表面に
付与した。このとき、ノズル22aを、基板1の半径方向
において、基板1の内周から半径40mmの位置までの間
で往復運動させ、ノズル22bを、基板1の半径方向にお
いて、半径40mmの位置から外周までの間で往復運動さ
せた。各有機色素溶液は、ノズル22aから0.015
g、ノズル22bから0.015g、1.5秒間かけて滴
下した。有機色素溶液の滴下中、基板1は240rpm
で回転させた。滴下後、基板1の回転数を3500rp
mまで徐々に増加させながら基板1を約15秒間回転さ
せて、有機色素溶液を均一に流延させるとともに、余分
な溶液を振り切った。基板1の回転は、基板支持台24を
駆動装置(モータ)で軸回転させることにより行った。
最後に、有機色素溶液中の溶媒を蒸発させて、グルーブ
1a内の部分の厚さが約120nmである記録層2を得
た。
These organic dye solutions were dropped from the nozzle 22a and the nozzle 22b, respectively, and applied to the surface of the substrate 1. At this time, the nozzle 22a is reciprocally moved in the radial direction of the substrate 1 from the inner circumference of the substrate 1 to a position having a radius of 40 mm, and the nozzle 22b is moved from the position having a radius of 40 mm to the outer periphery in the radial direction of the substrate 1. It was reciprocated between. Each organic dye solution is 0.015 from the nozzle 22a.
g, 0.015 g from the nozzle 22b, and was dripped over 1.5 seconds. During the dropping of the organic dye solution, the substrate 1 is 240 rpm
I rotated it. After dropping, the rotation speed of the substrate 1 is 3500 rp
The substrate 1 was rotated for about 15 seconds while gradually increasing to m to uniformly cast the organic dye solution and shake off the excess solution. The rotation of the substrate 1 was performed by rotating the substrate support base 24 by a drive device (motor).
Finally, the solvent in the organic dye solution was evaporated to obtain a recording layer 2 having a thickness of about 120 nm in the groove 1a.

【0128】この記録層2は、ディスクの内周から半径
40mmまでの領域において、λmaxの小さい(即ち、反
射率の高い)有機色素の占める割合が大きく、半径40
mmから外周までの領域において、λmaxの大きい(即
ち、反射率の低い)有機色素の占める割合が大きいもの
であった。
In the recording layer 2, the ratio of the organic dye having a small λmax (that is, a high reflectance) is large in the region from the inner circumference of the disc to the radius of 40 mm, and the radius of 40 mm.
In the region from mm to the outer circumference, the proportion of the organic dye having a large λmax (that is, a low reflectance) was large.

【0129】次いで、記録層2の上に反射層3をスパッ
タリングにより形成した。スパッタリングは、図4に示
すスパッタリング装置を使用し、ターゲットTcのみを
用いて実施した。したがって、反射層3は、基板全体に
わたって均一な厚さおよび成分比を有するように形成さ
れた。ターゲットTcとして、銀合金(Ag98wt%
以上)を使用した。反射層3の厚さは120nmとした。
Then, the reflective layer 3 was formed on the recording layer 2 by sputtering. The sputtering was performed using the sputtering apparatus shown in FIG. 4 and using only the target Tc. Therefore, the reflective layer 3 was formed to have a uniform thickness and composition ratio over the entire substrate. As a target Tc, a silver alloy (Ag 98 wt%
(Above) was used. The thickness of the reflective layer 3 was 120 nm.

【0130】次に、反射層3上に接着剤層4を介して基
板1と同形同寸の(但し、グルーブは形成されていな
い)ポリカーボネート樹脂製基板5を積層した。その手
順は次のとおりである。まず、基板5の一方の面に、接
着剤層4として、UV硬化型ポリウレタンアクリレート
樹脂(商品名;SD−301 大日本インキ(株)製)
を厚さが40〜60μmとなるように、スピンコートに
より塗布した。次に、接着剤層4と反射層3とが接触す
るように基板5を反射層3上に積層した。それから、紫
外線を照射して接着剤層4を硬化させることにより、基
板5を固定し、DVD−Rを得た。
Next, a polycarbonate resin substrate 5 having the same shape and size as the substrate 1 (however, no groove was formed) was laminated on the reflective layer 3 with an adhesive layer 4 interposed therebetween. The procedure is as follows. First, on one surface of the substrate 5, as the adhesive layer 4, a UV curable polyurethane acrylate resin (trade name; SD-301, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
Was applied by spin coating to a thickness of 40 to 60 μm. Next, the substrate 5 was laminated on the reflective layer 3 so that the adhesive layer 4 and the reflective layer 3 were in contact with each other. Then, the substrate 5 was fixed by irradiating ultraviolet rays to cure the adhesive layer 4, and a DVD-R was obtained.

【0131】(試料2)図1に示す構造のDVD−Rで
あって、記録層のt/tがディスクの半径方向にお
いて一定でないDVD−Rを以下の手順により作製し
た。基板1として、試料1の作製に用いた基板と同じも
のを用意し、グルーブ1aが形成された面に、記録層2
を形成した。記録層2は、図2に示すスピンコート装置
を使用して形成した。ノズル22aに仕込む有機色素溶液
は、アゾ系色素(1)およびアゾ系色素(2)を重量比
で50:50で混合し、これをオクタフルオロペンタノ
ール(25℃における粘度:24mPa・s)に溶解し
て調製した。色素の濃度は1.5wt%とした。ノズル
22bに仕込む有機色素溶液は、アゾ系色素(1)および
アゾ系色素(2)を重量比で50:50で混合し、これ
をテトラフルオロプロパノール(25℃における粘度:
8mPa・s)に溶解して調製した。色素の濃度は1.
0wt%とした。また、各色素溶液は、ノズルに仕込む
前に0.2μmの濾紙でフィルタリングした。
(Sample 2) A DVD-R having the structure shown in FIG. 1 in which t L / t G of the recording layer was not constant in the radial direction of the disc was produced by the following procedure. As the substrate 1, the same substrate as that used for producing the sample 1 was prepared, and the recording layer 2 was formed on the surface on which the groove 1a was formed.
Was formed. The recording layer 2 was formed using the spin coater shown in FIG. The organic dye solution charged into the nozzle 22a was prepared by mixing the azo dye (1) and the azo dye (2) at a weight ratio of 50:50, and adding this to octafluoropentanol (viscosity at 25 ° C .: 24 mPa · s). It was prepared by dissolving. The dye concentration was 1.5 wt%. nozzle
The organic dye solution charged to 22b was prepared by mixing the azo dye (1) and the azo dye (2) at a weight ratio of 50:50, and mixing the mixture with tetrafluoropropanol (viscosity at 25 ° C .:
It was prepared by dissolving in 8 mPa · s). The dye concentration is 1.
It was set to 0 wt%. In addition, each dye solution was filtered with 0.2 μm filter paper before being charged into the nozzle.

【0132】これらの有機色素溶液を、試料1と同様に
して、ノズル22a、22bから滴下して、流延させた後、
溶媒を蒸発させて記録層2を得た。記録層2は、グルー
ブ1a内の部分の厚さが約120nmであって、ランド
部分の厚さt/グルーブ部分の厚さtが、内周部お
よび外周部にてそれぞれ、約0.3および約0.5であ
り、半径方向において変化しているものであった。
These organic dye solutions were dropped from nozzles 22a and 22b in the same manner as in Sample 1 and cast,
The solvent was evaporated to obtain Recording Layer 2. In the recording layer 2, the thickness of the portion in the groove 1a is about 120 nm, and the thickness t L of the land portion / the thickness t G of the groove portion is about 0. 3 and about 0.5, which varied in the radial direction.

【0133】さらに、試料1と同様にして、反射層3を
形成した後、接着剤層4を介して基板5を積層した。接
着剤層4を硬化させて、基板5を固定して、DVD−R
を得た。
Further, after the reflective layer 3 was formed in the same manner as the sample 1, the substrate 5 was laminated with the adhesive layer 4 interposed therebetween. The adhesive layer 4 is hardened, the substrate 5 is fixed, and the DVD-R
Got

【0134】(試料3)図1に示す構造のDVD−Rで
あって、反射層の厚さがディスクの半径方向において一
定でないDVD−Rを以下の手順により作製した。基板
1として、試料1の作製に用いた基板と同じものを用意
し、グルーブ1aが形成された面に、記録層2を形成し
た。記録層2は、アゾ系色素(1)をテトラフルオロプ
ロパノールに溶解して調製した溶液(色素濃度1wt
%)を用いて、スピンコートにより形成した。試料3の
記録層2は、通常のスピンコート装置を使用して、1つ
のノズルから有機色素溶液を滴下して形成した。また、
記録層2は、グルーブ1a内の部分の厚さが約120nm
となるように形成した。
(Sample 3) A DVD-R having the structure shown in FIG. 1 in which the thickness of the reflection layer was not constant in the radial direction of the disc was produced by the following procedure. As the substrate 1, the same substrate as that used for producing the sample 1 was prepared, and the recording layer 2 was formed on the surface on which the groove 1a was formed. The recording layer 2 is a solution prepared by dissolving the azo dye (1) in tetrafluoropropanol (dye concentration 1 wt.
%) Was used for spin coating. The recording layer 2 of Sample 3 was formed by dropping an organic dye solution from one nozzle using a normal spin coater. Also,
The recording layer 2 has a thickness of about 120 nm in the groove 1a.
Was formed so that

【0135】次いで、記録層2の上に反射層3をスパッ
タリングにより形成した。スパッタリングは、図4に示
すスパッタリング装置を使用し、ターゲットTbのみを
用いて実施した。したがって、反射層3は、ディスクの
半径方向において、成分比が一定であり、その厚さが内
周から外周に向かって減少するように形成された。ター
ゲットTaとして、銀合金(Ag98wt%以上)を使
用した。反射層3の厚さは、内周において160nm、外
周において80nmとした。
Then, the reflective layer 3 was formed on the recording layer 2 by sputtering. Sputtering was performed using the sputtering apparatus shown in FIG. 4 and using only the target Tb. Therefore, the reflective layer 3 was formed so that the component ratio was constant in the radial direction of the disk and the thickness thereof decreased from the inner circumference to the outer circumference. A silver alloy (Ag 98 wt% or more) was used as the target Ta. The thickness of the reflective layer 3 was 160 nm on the inner circumference and 80 nm on the outer circumference.

【0136】次に、試料1を作製したときと同様の手順
で、接着剤層4を介して基板5を積層し、DVD−Rを
得た。
Next, the substrate 5 was laminated with the adhesive layer 4 interposed therebetween in the same procedure as when the sample 1 was manufactured, and a DVD-R was obtained.

【0137】(試料4)図1に示す構造のDVD−Rで
あって、反射層における成分比がディスクの半径方向に
おいて一定でないDVD−Rを以下の手順により作製し
た。基板1として、試料1の作製に用いた基板と同じも
のを用意し、グルーブ1aが形成された面に、記録層2
を形成した。記録層2は、試料3を作製したときと同様
の手順で形成した。
(Sample 4) A DVD-R having the structure shown in FIG. 1 in which the component ratio in the reflective layer was not constant in the radial direction of the disc was produced by the following procedure. As the substrate 1, the same substrate as that used for producing the sample 1 was prepared, and the recording layer 2 was formed on the surface on which the groove 1a was formed.
Was formed. The recording layer 2 was formed by the same procedure as when the sample 3 was manufactured.

【0138】次いで、記録層2の上に反射層3をスパッ
タリングにより形成した。スパッタリングは、図4に示
すスパッタリング装置を使用し、ターゲットTa〜Tc
で順に繰り返しスパッタリングされるように実施した。
ターゲットTaはAg:Au:Nd=85:10:5
(重量比)の銀合金とし、ターゲットTbはAg:A
u:Nd=93:5:2(重量比)の銀合金とし、ター
ゲットTcはAg=98wt%以上の銀合金とした。タ
ーゲットTaおよびTbの表面には、それぞれ図4の
(b)に示す遮蔽板SaおよびSbを配置した。スパッ
タリングは、各ターゲットと基板とが10秒ずつ対向す
るように、基板支持台42を回転させて実施した。各ター
ゲット間で基板を移動させるに際し、基板支持台42は4
0rpmで回転させた。また、スパッタリング中、支持
台46を10rpmで回転させて基板を自転させた。得ら
れた反射層3において、反射率の高い銀の割合は、内周
から外周に向かって漸減していた。反射層3の厚さは1
20nmとした。
Next, the reflective layer 3 was formed on the recording layer 2 by sputtering. Sputtering uses the sputtering device shown in FIG. 4, and targets Ta-Tc are used.
In order to repeatedly perform sputtering.
The target Ta is Ag: Au: Nd = 85: 10: 5.
(Weight ratio) of a silver alloy, and the target Tb is Ag: A
The silver alloy of u: Nd = 93: 5: 2 (weight ratio) was used, and the target Tc was a silver alloy of Ag = 98 wt% or more. Shielding plates Sa and Sb shown in FIG. 4B are arranged on the surfaces of the targets Ta and Tb, respectively. The sputtering was performed by rotating the substrate support 42 so that each target and the substrate face each other for 10 seconds. When moving the substrate between the targets, the substrate support 42 is moved to 4
It was rotated at 0 rpm. During the sputtering, the support base 46 was rotated at 10 rpm to rotate the substrate. In the obtained reflective layer 3, the proportion of highly reflective silver gradually decreased from the inner circumference to the outer circumference. The thickness of the reflective layer 3 is 1
It was set to 20 nm.

【0139】次に、試料1を作製したときと同様の手順
で、接着剤層4を介して基板5を積層し、DVD−Rを
得た。
Then, the substrate 5 was laminated with the adhesive layer 4 interposed therebetween in the same procedure as when the sample 1 was manufactured, and a DVD-R was obtained.

【0140】(試料5:比較試料)図1に示す構造のD
VD−Rであって、記録層における成分比、反射層の厚
さ、および反射層における成分比のいずれもがディスク
の半径方向において一定であるDVD−Rを次のように
して作製した。
(Sample 5: Comparative Sample) D of the structure shown in FIG.
A DVD-R, which is a VD-R and in which the component ratio in the recording layer, the thickness of the reflective layer, and the component ratio in the reflective layer are all constant in the radial direction of the disc, was manufactured as follows.

【0141】基板1として、試料1の作製に用いた基板
と同じものを用意し、グルーブ1aが形成された面に、
記録層2を形成した。記録層2は、試料3を作製したと
きと同様の手順で形成した。次いで、記録層2の上に、
反射層3を、試料1を作製したときと同様の手順で形成
した。さらに、反射層3の上に、試料1を作製したとき
と同様の手順で、接着剤層4を介して基板5を積層し、
DVD−Rを得た。
As the substrate 1, the same substrate as used in the preparation of the sample 1 was prepared, and the surface on which the groove 1a was formed was
The recording layer 2 was formed. The recording layer 2 was formed by the same procedure as when the sample 3 was manufactured. Then, on the recording layer 2,
The reflective layer 3 was formed by the same procedure as when the sample 1 was manufactured. Further, the substrate 5 is laminated on the reflective layer 3 with the adhesive layer 4 interposed therebetween in the same procedure as in the case of producing the sample 1.
DVD-R was obtained.

【0142】作製した試料1〜5のディスクの構成を表
1にまとめる。
Table 1 shows the configurations of the disks of Samples 1 to 5 produced.

【0143】[0143]

【表1】 [Table 1]

【0144】試料1〜5の反射率および変調度を測定
し、ディスク特性を評価した。反射率および変調度は、
光ディスク評価装置(DDU−1000、パルステック
工業社製)で測定した。信号の記録再生は、波長650
nmのレーザー光を使用して実施した。ディスク特性
は、半径25mm、半径40mm、および半径55mm
の位置で反射率および変調度を測定して最大値および最
小値を求め、これら2つの値の差である変化量の大小で
評価した。評価結果を表2に示す。
The disk characteristics were evaluated by measuring the reflectance and modulation of each of Samples 1-5. The reflectance and the degree of modulation are
It was measured with an optical disk evaluation device (DDU-1000, manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.). Wavelength of 650
It was carried out using a laser beam of nm. Disc characteristics are 25 mm radius, 40 mm radius, and 55 mm radius
The maximum value and the minimum value were obtained by measuring the reflectance and the degree of modulation at the position of, and the change amount, which is the difference between these two values, was evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

【0145】[0145]

【表2】 [Table 2]

【0146】表2より、記録層が1種類の有機色素から
成り、反射層の膜厚および反射層における成分比がディ
スクの半径方向において変化しない光ディスク(試料
5)は、反射率および変調度の変化量が大きかった。こ
れに対し、試料1〜4は、ディスクの半径方向における
反射率および変調度の変化量が小さく、安定したディス
ク特性を有するものであった。
From Table 2, the optical disc (Sample 5) in which the recording layer is composed of one kind of organic dye, and the film thickness of the reflective layer and the component ratio in the reflective layer do not change in the radial direction of the disc (Sample 5), The amount of change was large. On the other hand, Samples 1 to 4 had small changes in reflectance and modulation in the radial direction of the disk and had stable disk characteristics.

【0147】[0147]

【発明の効果】本発明の光ディスクは、記録層におけ
る有機色素の成分比、記録層のグルーブ部分の厚さに
対するランド部分の厚さの比、反射層の厚さ、反射
層における成分比の少なくとも1つを、ディスクの半径
方向において一定でないようにしたことを特徴とする。
かかる特徴によれば、複屈折および/またはグルーブの
深さがディスクの半径方向において一定でない安価な基
板を用いた場合でも、ディスク面内で反射率および変調
度の変化量を小さくすることが可能となる。したがっ
て、本発明によれば、高品質の光ディスクを低コストで
製造することが可能となる。
According to the optical disk of the present invention, at least the component ratio of the organic dye in the recording layer, the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer, the thickness of the reflecting layer, and the component ratio of the reflecting layer are at least. One is characterized in that it is not constant in the radial direction of the disk.
According to this feature, even when using an inexpensive substrate in which the birefringence and / or the depth of the groove are not constant in the radial direction of the disc, it is possible to reduce the amount of change in the reflectance and the degree of modulation within the disc surface. Becomes Therefore, according to the present invention, it becomes possible to manufacture a high-quality optical disc at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 図1は本発明の光ディスクの一例の模式的断
面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an example of an optical disc of the present invention.

【図2】 図2は本発明の光ディスク製造装置に含まれ
るスピンコート装置の模式図である。
FIG. 2 is a schematic view of a spin coater included in the optical disc manufacturing apparatus of the present invention.

【図3】 図3の(a)は本発明の光ディスク製造装置
に含まれるスパッタリング装置の模式図であり、(b)
および(c)は遮蔽板の平面図である。
FIG. 3A is a schematic view of a sputtering apparatus included in the optical disk manufacturing apparatus of the present invention, and FIG.
And (c) are plan views of the shielding plate.

【図4】 図4の(a)は本発明の光ディスク製造装置
に含まれるスパッタリング装置の模式図であり、(b)
はターゲットおよび遮蔽板の平面図である。
FIG. 4A is a schematic view of a sputtering apparatus included in the optical disk manufacturing apparatus of the present invention, and FIG.
FIG. 4 is a plan view of a target and a shield plate.

【図5】 図5の(a)〜(e)は本発明の光ディスク
製造装置に含まれるスパッタリング装置で使用される遮
蔽板の平面図である。
5 (a) to 5 (e) are plan views of a shielding plate used in a sputtering apparatus included in the optical disk manufacturing apparatus of the present invention.

【図6】 図6は本発明の光ディスク製造装置に含まれ
るスパッタリング装置で使用されるターゲットの平面図
である。
FIG. 6 is a plan view of a target used in a sputtering apparatus included in the optical disk manufacturing apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1...基板、1a...グルーブ、2...記録層、3...反射
層、4...接着剤層、5...基板、10...基板、20...
スピンコート装置、22a,22b...ノズル、24...
基板支持台、30,40...スパッタリング装置、3
2,42...基板支持台、46...支持台、44...回転
台、T,Ta,Tb,Tc,Td...ターゲット、S,
Sa,Sb...遮蔽板、h1,h2,hb1,hb2
h...開口部、d1,d2,da1,da2...ディスク形
状の板。
1 ... Substrate, 1a ... Groove, 2 ... Recording layer, 3 ... Reflective layer, 4 ... Adhesive layer, 5 ... Substrate, 10 ... Substrate, 20 ...
Spin coater, 22a, 22b ... Nozzle, 24 ...
Substrate support, 30, 40 ... Sputtering equipment, 3
2, 42 ... substrate support base, 46 ... support base, 44 ... rotary base, T, Ta, Tb, Tc, Td ... target, S,
Sa, Sb ... shielding plate, h1, h2, hb 1, hb 2,
h ... opening, d1, d2, da 1, da 2 ... disk-shaped plate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/26 531 B41M 5/26 Y (72)発明者 小田桐 優 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA37 FA01 FA12 FA23 FB42 FB43 FB45 FB46 FB48 GA02 GA07 5D029 JA04 JB36 JB37 MA13 MA14 5D121 AA01 AA05 EE03 EE09 EE11 EE20 EE22 EE24 EE30 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G11B 7/26 531 B41M 5/26 Y (72) Inventor Yu Oda Kiryu 1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Sangyo Co., Ltd. F-term (reference) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA37 FA01 FA12 FA23 FB42 FB43 FB45 FB46 FB48 GA02 GA07 5D029 JA04 JB36 JB37 MA13 MA14 5D121 AA01 AA05 EE03 EE09 EE11 EE20 EE22 EE24 EE22 EE24 EE22

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機色素から成る記録層を有する光ディ
スクであって、記録層が2種類以上の有機色素を構成成
分として含み、記録層における成分比がディスクの半径
方向において一定でないことを特徴とする光ディスク。
1. An optical disc having a recording layer made of an organic dye, wherein the recording layer contains two or more kinds of organic dyes as constituent components, and the component ratio in the recording layer is not constant in the radial direction of the disc. Optical disc.
【請求項2】 ディスクの内周部で主たる有機色素の占
める割合に対して、ディスクの外周部で当該主たる有機
色素の占める割合が1割以上異なっている請求項1に記
載の光ディスク。
2. The optical disc according to claim 1, wherein the proportion of the main organic dye in the outer peripheral portion of the disc is 10% or more different from the proportion of the main organic pigment in the inner peripheral portion of the disc.
【請求項3】 有機色素から成る記録層を有する光ディ
スクであって、記録層のグルーブ部分の厚さに対するラ
ンド部分の厚さの比が、ディスクの半径方向において一
定でないことを特徴とする光ディスク。
3. An optical disc having a recording layer made of an organic dye, wherein the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer is not constant in the radial direction of the disc.
【請求項4】 記録層のグルーブ部分の厚さに対するラ
ンド部分の厚さの比が、ディスクの内周から外周に向っ
て増加している請求項3に記載の光ディスク。
4. The optical disk according to claim 3, wherein the ratio of the thickness of the land portion to the thickness of the groove portion of the recording layer increases from the inner circumference to the outer circumference of the disk.
【請求項5】 有機色素が、−OH、−CHO、−CO
R、−COOH、−COOR、−CONH2、−CON
HR、−CONR2、−R、−NH2、−NO2、−NH
R、−SO3H、−SO3M、−X、−CH=CH2、−
OR、−CN、−SH、−COOX、−COOM、−C
2X、−NHSO2R、および−NHSO2Rf(Rは炭
素数1〜22のアルキル基またはアリール基、Mはアル
カリ金属またはアルカリ土類金属、Xはハロゲン、Rf
はフルオロアルキル基を示す)から成る群から選択され
る基を有する化合物である請求項1〜4のいずれか1項
に記載の光ディスク。
5. The organic dye is --OH, --CHO, --CO.
R, -COOH, -COOR, -CONH 2 , -CON
HR, -CONR 2, -R, -NH 2, -NO 2, -NH
R, -SO 3 H, -SO 3 M, -X, -CH = CH 2, -
OR, -CN, -SH, -COOX, -COOM, -C
H 2 X, —NHSO 2 R, and —NHSO 2 Rf (R is an alkyl group or aryl group having 1 to 22 carbon atoms, M is an alkali metal or alkaline earth metal, X is a halogen, Rf
Is a compound having a group selected from the group consisting of (indicating a fluoroalkyl group). 5. The optical disc according to claim 1, wherein
【請求項6】 前記の群から選択される基を有する化合
物である有機色素のうち、少なくとも1種類の有機色素
が、アゾ系、シアニン系、フタロシアニン系、キノン
系、インジゴ系、アリールメタン系、ポルフィン系、ス
クアリリウム系、スピロピラン系、ペリレン系、および
フルギド系色素から成る群から選択される請求項5に記
載の光ディスク。
6. Among the organic dyes which are compounds having a group selected from the above group, at least one type of organic dye is azo, cyanine, phthalocyanine, quinone, indigo, arylmethane, The optical disk according to claim 5, which is selected from the group consisting of porphine-based dyes, squarylium-based dyes, spiropyran-based dyes, perylene-based dyes, and fulgide-based dyes.
【請求項7】 前記の色素の群から選択される少なくと
も1種類の有機色素が、1A族元素(Rb、Csおよび
Frを除く)、2A族元素(SrおよびRaを除く)、
3A族元素(Acを除く)、4A〜7A族元素、8族元
素、1B族元素、2B族元素、3B族元素(Bを除
く)、4B族元素(Cを除く)、5B族元素(N、Pお
よびBiを除く)、ランタノイド元素、ならびにアクチ
ノイド元素(Pu、Cm、Bk、Cf、Es、Fm、M
d、NoおよびLrを除く)から成る群から選択される
少なくとも1種類の金属と化合して成る化合物である請
求項6に記載の光ディスク。
7. At least one organic dye selected from the group of dyes is a Group 1A element (excluding Rb, Cs and Fr), a Group 2A element (excluding Sr and Ra),
3A group element (excluding Ac), 4A to 7A group element, 8 group element, 1B group element, 2B group element, 3B group element (excluding B), 4B group element (excluding C), 5B group element (N , P and Bi), lanthanoid elements, and actinide elements (Pu, Cm, Bk, Cf, Es, Fm, M
The optical disc according to claim 6, which is a compound formed by combining at least one metal selected from the group consisting of d, No and Lr).
【請求項8】 有機色素から成る記録層、および反射層
を有する光ディスクであって、反射層の厚さがディスク
の半径方向において一定でないことを特徴とする光ディ
スク。
8. An optical disc having a recording layer made of an organic dye and a reflective layer, wherein the thickness of the reflective layer is not constant in the radial direction of the disc.
【請求項9】 反射層の厚さがディスクの内周から外周
に向かって減少している請求項8に記載の光ディスク。
9. The optical disc according to claim 8, wherein the thickness of the reflective layer decreases from the inner periphery of the disc toward the outer periphery thereof.
【請求項10】 反射層において最も厚い部分の厚さ
と、最も薄い部分の厚さとの比が1:0.7〜1:0.
5である請求項8または請求項9に記載の光ディスク。
10. The ratio of the thickness of the thickest portion to the thickness of the thinnest portion of the reflective layer is 1: 0.7 to 1: 0.
The optical disc according to claim 8 or 9, which is No. 5.
【請求項11】 有機色素から成る記録層、および反射
層を有する光ディスクであって、反射層が2種類以上の
元素を構成成分として含み、反射層における成分比がデ
ィスクの半径方向において一定でないことを特徴とする
光ディスク。
11. An optical disc having a recording layer made of an organic dye and a reflection layer, wherein the reflection layer contains two or more kinds of elements as constituent components, and the component ratio in the reflection layer is not constant in the radial direction of the disc. An optical disc characterized by.
【請求項12】 反射層が、銀以外の成分の占める割合
が0.5〜10wt%である銀合金から成る請求項11
に記載の光ディスク。
12. The reflection layer is made of a silver alloy in which the proportion of components other than silver is 0.5 to 10 wt%.
The optical disc described in.
【請求項13】 銀以外の成分の占める割合が、ディス
クの内周から外周に向かって増加している請求項12に
記載の光ディスク。
13. The optical disc according to claim 12, wherein the proportion of components other than silver increases from the inner circumference to the outer circumference of the disc.
【請求項14】 ディスクの内周で銀以外の成分の占め
る割合に対して、ディスクの外周で銀以外の成分の占め
る割合が1割以上大きい請求項12または請求項13に
記載の光ディスク。
14. The optical disk according to claim 12, wherein the ratio of the components other than silver on the outer periphery of the disc is 10% or more higher than the ratio of the components other than silver on the inner periphery of the disc.
【請求項15】 銀合金が、銀以外の成分として、A
u、Cu、Al、Pt、Pd、Nd、Mg、Se、Y、
Ti、Zr、Hf、C、N、O、V、Nb、Ta、C
r、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、
Rh、Te、Pb、SnおよびBiから成る群から選択
される少なくとも1の元素を含む請求項12〜14のい
ずれか1項に記載の光ディスク。
15. A silver alloy containing A as a component other than silver.
u, Cu, Al, Pt, Pd, Nd, Mg, Se, Y,
Ti, Zr, Hf, C, N, O, V, Nb, Ta, C
r, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru,
The optical disc according to any one of claims 12 to 14, which contains at least one element selected from the group consisting of Rh, Te, Pb, Sn, and Bi.
【請求項16】 請求項1に記載の光ディスクを製造す
る方法であって、記録層を有機色素溶液のスピンコート
により形成することを含み、 スピンコートを、基板の中心からの距離が異なる位置に
配置された2以上のノズルから、有機色素の組成がそれ
ぞれ異なる有機色素溶液を滴下するとともに、各ノズル
を基板の半径方向で往復運動させながら実施することを
特徴とする光ディスクの製造方法。
16. The method of manufacturing an optical disc according to claim 1, comprising forming the recording layer by spin coating with an organic dye solution, the spin coating being provided at different positions from the center of the substrate. A method for manufacturing an optical disk, characterized in that organic dye solutions having different organic dye compositions are dropped from two or more nozzles arranged and each nozzle is reciprocated in the radial direction of the substrate.
【請求項17】 請求項3に記載の光ディスクを製造す
る方法であって、記録層を有機色素溶液のスピンコート
により形成することを含み、 スピンコートを、基板の中心からの距離が異なる位置に
配置された2以上のノズルから、粘度がそれぞれ異なる
有機色素溶液を滴下するとともに、各ノズルを基板の半
径方向で往復運動させながら実施することを特徴とする
光ディスクの製造方法。
17. The method for manufacturing an optical disc according to claim 3, comprising forming the recording layer by spin coating with an organic dye solution, the spin coating being provided at different positions from the center of the substrate. A method for manufacturing an optical disk, characterized in that organic dye solutions having different viscosities are dropped from two or more arranged nozzles, and each nozzle is reciprocally moved in the radial direction of the substrate.
【請求項18】 粘度がそれぞれ異なる有機色素溶液
が、溶剤または溶剤組成がそれぞれ異なる有機色素溶液
である請求項17に記載の光ディスクの製造方法。
18. The method of manufacturing an optical disc according to claim 17, wherein the organic dye solutions having different viscosities are solvents or organic dye solutions having different solvent compositions.
【請求項19】 請求項8に記載の光ディスクを製造す
る方法であって、反射層をスパッタリングにより形成す
ることを含み、 スパッタリングを、基板の一部を覆う遮蔽板をターゲッ
トと基板との間に配置して、基板を自転させながら実施
することを特徴とする光ディスクの製造方法。
19. The method of manufacturing an optical disk according to claim 8, further comprising forming a reflective layer by sputtering, the method comprising: forming a shielding plate covering a part of the substrate between the target and the substrate. A method for manufacturing an optical disc, wherein the method is performed by arranging the substrates and rotating the substrate.
【請求項20】 請求項11に記載の光ディスクを製造
する方法であって、反射層をスパッタリングにより形成
することを含み、 スパッタリングを、組成が半径方向において一定でない
ターゲットを用いて実施することを特徴とする光ディス
クの製造方法。
20. A method of manufacturing an optical disk according to claim 11, comprising forming the reflective layer by sputtering, the sputtering being carried out using a target whose composition is not constant in the radial direction. Optical disk manufacturing method.
【請求項21】 有機色素から成る記録層を有する光デ
ィスクであって、記録層が、基板の中心からの距離が異
なる位置に配置された2以上のノズルから、粘度がそれ
ぞれ異なる有機色素溶液を滴下して、スピンコートする
ことにより形成された層であることを特徴とする光ディ
スク。
21. An optical disc having a recording layer made of an organic dye, wherein the recording layer has two or more nozzles arranged at different distances from the center of the substrate, and organic dye solutions having different viscosities are dripped. Then, an optical disc having a layer formed by spin coating.
JP2002223477A 2001-12-20 2002-07-31 Optical disc and optical disc manufacturing method Pending JP2003248969A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002223477A JP2003248969A (en) 2001-12-20 2002-07-31 Optical disc and optical disc manufacturing method

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001387821 2001-12-20
JP2001-387821 2001-12-20
JP2002223477A JP2003248969A (en) 2001-12-20 2002-07-31 Optical disc and optical disc manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003248969A true JP2003248969A (en) 2003-09-05

Family

ID=28676934

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002223477A Pending JP2003248969A (en) 2001-12-20 2002-07-31 Optical disc and optical disc manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003248969A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005056851A1 (en) * 2003-12-10 2005-06-23 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Silver alloy excelling in performance of reflectance maintenance
JP2009199685A (en) * 2008-02-22 2009-09-03 Ricoh Co Ltd Sputtering system, manufacturing method of optical recording medium using the same, and optical recording medium
US8232042B2 (en) * 2005-03-31 2012-07-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Storage medium, reproducing method, and recording method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005056851A1 (en) * 2003-12-10 2005-06-23 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Silver alloy excelling in performance of reflectance maintenance
US8232042B2 (en) * 2005-03-31 2012-07-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Storage medium, reproducing method, and recording method
JP2009199685A (en) * 2008-02-22 2009-09-03 Ricoh Co Ltd Sputtering system, manufacturing method of optical recording medium using the same, and optical recording medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4392594B2 (en) Optical device with a gap reactive layer and limited service life and method for producing the same
JP4094610B2 (en) Limited playback optical media with improved shelf life and playback performance
TWI270877B (en) Photo data recording method and the medium
TW200537481A (en) Write-once information recording medium
TW200405322A (en) Photo-data recording media
JP2001344812A (en) Optical information recording medium
EP0356140A2 (en) Optical data recording medium and manufacturing apparatus and method thereof
JP2003248969A (en) Optical disc and optical disc manufacturing method
TWI296801B (en)
WO2002023544A1 (en) Optical recording medium
JP2002036726A (en) Optical recording medium and method for reproducing record of the same
CN1691164A (en) Coating liquid, optical recording media and method for producing same
JP3126267U (en) Optical disc manufacturing equipment
JP2007152825A (en) Manufacturing method for optical recording medium
WO2007063923A1 (en) Optical information recording medium, method for manufacturing optical information recording medium, method for visible information recording, use of mixture, and mixture
JP4783193B2 (en) Coating film forming method
JP3773627B2 (en) Information recording medium
JP2010134978A (en) Method and device for manufacturing optical recording medium
JPH08115538A (en) Preparation of organic light beam record disk
JP2000348390A (en) Production of optical information recording medium and optical information recording medium
JP3818629B2 (en) Optical recording medium
JP2004185760A (en) Manufacturing method for information medium
JP2008041187A (en) Optical disk bonding method, optical disk manufacturing apparatus, and manufacturing method of optical disk
JP3718076B2 (en) Optical information recording medium
JP4075006B2 (en) Optical information recording medium