JP2003248238A - Active matrix type liquid crystal display device - Google Patents

Active matrix type liquid crystal display device

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JP2003248238A
JP2003248238A JP2003062264A JP2003062264A JP2003248238A JP 2003248238 A JP2003248238 A JP 2003248238A JP 2003062264 A JP2003062264 A JP 2003062264A JP 2003062264 A JP2003062264 A JP 2003062264A JP 2003248238 A JP2003248238 A JP 2003248238A
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米治 田窪
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress reflection on an electrode, suppress a decrease in contrast of a display picture under a bright ambient environment, increase the opening ratio of a pixel, and improve the brightness of a picture in an active matrix type liquid crystal display device using a liquid crystal molecule driven with an electric field in the horizontal direction with respect to a substrate surface. <P>SOLUTION: In black display, part of light of linearly polarized light which is made incident from a substrate 1b side, and passed through a polarizing plate passes through a liquid crystal layer, and is then made incident on electrodes 22, 23 formed of a transparent electric conductor, and is transmitted as-is in the lower direction. Thus, reflected light going into the observing point of an observer is substantially decreased compared with conventional active matrix type liquid crystal display devices. A rise in luminance in the black display is suppressed even in bright surroundings to retain the high-contrast picture. Reflectance is decrease by about 40% compared with the conventional active matrix type liquid crystal display devices. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、アクティブ素子に
よって駆動される液晶表示装置において、基板面に対し
て水平方向の電界で駆動される液晶分子を用いたアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置の構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of an active matrix type liquid crystal display device using liquid crystal molecules driven by an electric field in a horizontal direction with respect to a substrate surface in a liquid crystal display device driven by an active element.

【0002】[0002]

【従来の技術】まず、従来の基板面に対して水平方向の
電界で駆動される液晶分子を用いた液晶表示装置につい
て説明する。ここでは、その1例として、表示モードと
してノーマリーブラックモードで、アクティブ素子とし
て薄膜トランジスタで駆動される液晶表示装置について
説明する。図6は、本液晶表示装置の平面模式図、図7
は、断面構成図である。本構成は、特公昭63−219
07号公報等に開示されている。図6に示すように、透
明基板1a上には、ゲート配線24が行方向に、ソース
配線21が列方向に延在する。その直交する交点には、
TFT20が配置されている。また、TFTと接続した
第1の電極であるドレイン電極22が櫛形状に形成され
ている。また、第2の電極である共通電極23が、画素
毎に櫛形状に枝分かれしながらゲート配線と平行に延在
する。共通電極とドレイン電極は、約10μmの距離を
隔てて同一基板上に対じしている。一方、透明基板1b
上には、ブラックマトリクスが、ゲート配線、ソース配
線、及びTFTとその近傍が、透明基板1bに投影され
る領域に形成されている。1画素に於て、このブラック
マトリクスで遮蔽されない領域を、表示領域と定義す
る。そして図7に示すように、2枚の透明基板1a、1
bが、一定のギャップを形成して配置されている中に液
晶分子10が注入されている。また、2枚の各基板の液
晶と接する面には、配向膜が塗布され、各基板ともに、
電極パターンが延在する方向に沿って配向処理が施され
ている。そして、偏光板16a、16bが、2枚の各基
板の外側に、2つの偏光板の偏光軸が直交するように設
置されている。
2. Description of the Related Art First, a conventional liquid crystal display device using liquid crystal molecules driven by an electric field in the horizontal direction with respect to a substrate surface will be described. Here, as an example thereof, a liquid crystal display device driven in a normally black mode as a display mode and a thin film transistor as an active element will be described. FIG. 6 is a schematic plan view of the present liquid crystal display device, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional configuration diagram. This configuration is Japanese Patent Publication No. 63-219
No. 07, etc. As shown in FIG. 6, the gate wiring 24 extends in the row direction and the source wiring 21 extends in the column direction on the transparent substrate 1a. At the orthogonal intersection,
The TFT 20 is arranged. Further, the drain electrode 22 which is the first electrode connected to the TFT is formed in a comb shape. The common electrode 23, which is the second electrode, extends in parallel with the gate wiring while branching in a comb shape for each pixel. The common electrode and the drain electrode are opposed to each other on the same substrate with a distance of about 10 μm. On the other hand, the transparent substrate 1b
The black matrix is formed on the gate wiring, the source wiring, the TFT, and the vicinity thereof in a region projected onto the transparent substrate 1b. A region which is not shielded by the black matrix in one pixel is defined as a display region. Then, as shown in FIG. 7, two transparent substrates 1a, 1
The liquid crystal molecules 10 are injected while b is arranged with a constant gap. In addition, an alignment film is applied to the surface of each of the two substrates in contact with the liquid crystal, and each substrate is
Alignment treatment is performed along the direction in which the electrode pattern extends. The polarizing plates 16a and 16b are installed outside the two substrates so that the polarization axes of the two polarizing plates are orthogonal to each other.

【0003】次に、本液晶表示装置の動作原理を説明す
る。(a)は、電圧無印加時のもので、棒状の液晶分子
10の長軸は、基板とほぼ平行状態で、電極パターン2
2、23が延在する方向に沿って配列している。この時
まず、光源からランダムな偏光方向を持つ入力光の中
で、偏光板16aの偏光軸と平行な直線偏光の光のみが
通過する。次に、液晶層においては、光は偏光方向を変
化せずにそのまま通過する。そして、出射側の偏光板1
6bにおいては、偏光軸が光の偏光方向と垂直であるた
め、光は偏光板を通過しない。よって、観察者の視点に
於いては、黒状態に見える。
Next, the operation principle of the present liquid crystal display device will be described. (A) is a case where no voltage is applied, and the long axis of the rod-shaped liquid crystal molecule 10 is substantially parallel to the substrate, and the electrode pattern 2
2 and 23 are arranged along the extending direction. At this time, first, of the input light having a random polarization direction from the light source, only linearly polarized light parallel to the polarization axis of the polarizing plate 16a passes. Next, in the liquid crystal layer, the light passes as it is without changing the polarization direction. Then, the polarizing plate 1 on the emission side
In 6b, since the polarization axis is perpendicular to the polarization direction of light, the light does not pass through the polarizing plate. Therefore, from the viewpoint of the observer, it looks like a black state.

【0004】次に、(b)の電圧が印加される場合につ
いて説明する。2つの電極22、23の間の基板にほぼ
水平な電界によって、その棒状の液晶分子の長軸方向
は、その電界の向きに傾く。基板1aから基板1bに向
かうに従ってその電界は弱くなるため、その傾き角度は
小さくなる。その結果棒状の液晶分子は、基板1aから
1bに向かって螺旋を描いて配列する。液晶層に入射し
た光は、液晶分子の螺旋配列に沿って、光の偏光方向も
該90度変化する。その結果、出射側の偏光板におて
は、光の偏光方向が偏光板16bの偏光軸とほぼ平行に
なるため光は通過する。よって、透明基板1b側からの
観察者の視点に於いては、白状態に見える。
Next, the case where the voltage (b) is applied will be described. An electric field substantially horizontal to the substrate between the two electrodes 22 and 23 causes the long axis direction of the rod-shaped liquid crystal molecules to tilt in the direction of the electric field. Since the electric field becomes weaker from the substrate 1a toward the substrate 1b, the inclination angle becomes smaller. As a result, the rod-shaped liquid crystal molecules are arranged in a spiral pattern from the substrates 1a to 1b. The light incident on the liquid crystal layer changes its polarization direction by 90 degrees along the helical arrangement of the liquid crystal molecules. As a result, in the polarizing plate on the exit side, the polarization direction of the light becomes substantially parallel to the polarization axis of the polarizing plate 16b, so that the light passes. Therefore, from the viewpoint of the observer from the transparent substrate 1b side, the image appears white.

【0005】上記構成は、水平方向の電界で駆動される
液晶表示装置の1例であり、偏光板の偏光軸の方向、及
び配向方向を変化させることによって、電圧無印加時に
白状態、電圧印加時に黒状態となるノーマリーホワイト
モードの構成にすることも可能である。
The above structure is an example of a liquid crystal display device driven by an electric field in the horizontal direction. By changing the direction of the polarization axis and the alignment direction of the polarizing plate, a white state and a voltage are applied when no voltage is applied. It is also possible to have a normally white mode configuration in which the black state sometimes occurs.

【0006】従来、これ迄商品化されている殆どの液晶
表示装置は、液晶を挟持する2枚の基板の各々の基板に
電極を配置し、その各々の基板に配置した電極間に電圧
を印加し、基板面に対して垂直方向の電界によって液晶
分子の配列状態を変化させ表示を行っている。しかしな
がら、この様な構成に於いては、正面から見た表示性能
は優れているが、斜め方向から観察したときのコントラ
スト、階調表示等の表示性能が非常に劣悪であるという
問題があった。
Conventionally, most of the liquid crystal display devices that have been commercialized so far have electrodes arranged on each of two substrates sandwiching a liquid crystal, and a voltage is applied between the electrodes arranged on each substrate. Then, display is performed by changing the alignment state of the liquid crystal molecules by an electric field in the direction perpendicular to the substrate surface. However, in such a configuration, although the display performance seen from the front is excellent, there is a problem that the display performance such as contrast and gradation display when observed from an oblique direction is very poor. .

【0007】一方、この水平方向の電界で駆動される本
液晶表示装置は、正面と斜め方向の表示性能の差が小さ
く、視角特性が優れているという特長を有している。
On the other hand, the present liquid crystal display device driven by the electric field in the horizontal direction is characterized by a small difference in display performance between the front and diagonal directions and excellent viewing angle characteristics.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の構成においては、以下の様な問題がある。
本液晶表示装置の構成においては、図6に示すように、
ドレイン電極22とソース配線21、また場合によって
は、共通電極23とソース配線の間の領域は、ドレイン
電極と共通電極の間の電界と異なり表示として機能しな
いため、通常ブラックマトリクスによって遮蔽される。
よって、液晶表示装置の開口率(1画素あたりの有効表
示領域の占める面積の割合。有効表示領域とは、ブラッ
クマトリクスで遮蔽されない表示領域の内、電極22、
23で光遮蔽されない、表示に寄与する領域と定義す
る。)が低下し、その表示画像の明るさが低下するとい
う課題がある。また、共通電極とドレイン電極が、ゲー
ト配線と延在する方向が平行である場合、ゲート配線と
共通電極、またはゲート配線とドレイン電極の間で同様
な問題が生じる。
However, the conventional structure as described above has the following problems.
In the configuration of the present liquid crystal display device, as shown in FIG.
The region between the drain electrode 22 and the source line 21, and in some cases, the region between the common electrode 23 and the source line does not function as a display unlike the electric field between the drain electrode and the common electrode, and is therefore normally shielded by a black matrix.
Therefore, the aperture ratio of the liquid crystal display device (the ratio of the area occupied by the effective display region per pixel. The effective display region means the electrode 22, among the display regions not shielded by the black matrix,
It is defined as a region which is not shielded by 23 and contributes to display. ) Is reduced, and the brightness of the display image is reduced. Further, when the common electrode and the drain electrode extend in parallel to the gate wiring, the same problem occurs between the gate wiring and the common electrode or between the gate wiring and the drain electrode.

【0009】本発明は、前記従来の問題を解決するた
め、基板面に対して水平方向の電界で駆動される液晶分
子を用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置におい
て、画素の開口率を増加させ、画像の明るさを向上させ
ることを目的とする。
In order to solve the above conventional problems, the present invention increases the aperture ratio of pixels in an active matrix type liquid crystal display device using liquid crystal molecules driven by an electric field in the horizontal direction with respect to a substrate surface. The purpose is to improve the brightness of the image.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明のアクティブマトリクス型液晶表示装置は、
2枚の透明基板の間に液晶が挟持され、前記2枚の透明
基板の第1の透明基板の液晶に接する面には、アクティ
ブ素子と、前記アクティブ素子と接続された第1の電極
と、前記第1の電極と前記第1の透明基板の平面上で対
じして形成された第2の電極とを有し、前記第1の電極
と前記第2の電極との間に印加された電圧によって前記
液晶分子の配列を変化させるアクティブマトリクス型液
晶表示装置であって、前記第2の電極が、列(または、
行)配線と直交する方向に延在し、第2の電極の列(ま
たは、行)配線との交差部において、列(または、行)
配線の上部または下部に列(または、行)配線の延在す
る方向に沿って、帯状に列(または、行)配線幅より広
い幅の第2の電極パターンが形成されていることを特徴
とする。
In order to achieve the above object, an active matrix type liquid crystal display device of the present invention comprises:
A liquid crystal is sandwiched between two transparent substrates, and an active element and a first electrode connected to the active element are provided on a surface of the two transparent substrates in contact with the liquid crystal of the first transparent substrate. It has the 1st electrode and the 2nd electrode formed so as to oppose on the plane of the 1st transparent substrate, and was impressed between the 1st electrode and the 2nd electrode. An active matrix liquid crystal display device in which the alignment of the liquid crystal molecules is changed by a voltage, wherein the second electrodes are arranged in columns (or
The column (or row) extends in the direction orthogonal to the (row) wiring and intersects with the column (or row) wiring of the second electrode.
A second electrode pattern having a width wider than the width of the column (or row) wiring is formed in a strip shape above or below the wiring along the direction in which the column (or row) wiring extends. To do.

【0011】前記構成においては、前記帯状の第2の電
極パターンが、下部または上部に位置している列(また
は、行)配線部分の上に、ブラックマトリクスが配置さ
れていないことが好ましい。
In the above structure, it is preferable that the black matrix is not disposed on the column (or row) wiring portion located at the lower or upper portion of the strip-shaped second electrode pattern.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以上の様な構成にすることによっ
て、第1の電極と列(または行)配線、または、第2の
電極と列(または行)配線の間の領域はなくなる。よっ
て、有効表示領域の面積が増加し、その表示画像の明る
さが向上するするという作用がある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION With the above structure, there is no region between the first electrode and the column (or row) wiring or the second electrode and the column (or row) wiring. Therefore, there is an effect that the area of the effective display area is increased and the brightness of the display image is improved.

【0013】また、本発明の構成において、帯状の共通
電極パターンがその上部、または下部に配置されている
列(または行)配線部分をブラックマトリクスで遮蔽し
ないように構成することにより、有効表示領域の面積が
更に拡大し、表示画像の明るさは更に向上するという作
用がある。
Further, in the structure of the present invention, the strip-shaped common electrode pattern is configured so that the column (or row) wiring portions arranged above or below the strip-shaped common electrode pattern are not shielded by the black matrix, thereby providing an effective display area. Has the effect of further enlarging the area and further improving the brightness of the display image.

【0014】以下、参考例及び実施例を用いて本発明を
さらに具体的に説明する。 (参考例1)第1の参考例を、図1(a),(b)とと
もに説明する。(a)は、本参考例のTFT液晶表示装
置における平面構成図、(b)は、(a)に於てI−I
線で切断して横方向から見たときの断面構成図である。
図1(a),(b)と共に本TFT液晶表示装置の作成
方法を説明する。まず、透明基板1a上に、透明導電体
であるITO膜2a,2bで、ドレイン電極の一部2
2、及び共通電極23の一部を形成する。次に、シリコ
ン酸化膜3を形成した後、ITO膜2bの一部を開口し
穴4を開ける。そして、クロム膜5a,5bを用いて、
ゲート配線、並びに共通電極23の一部を同時に形成す
る。この時、ゲート配線5a、及び共通電極5bは、平
行して行方向に延在する構成で形成する。また共通電極
として機能するITO膜2bとクロム膜5bとは、穴4
を介して電気的に接続される。次に、TFTのゲート絶
縁膜としてシリコン窒化膜6を、またTFTのチャンネ
ル層として働く半導体層を連続して堆積させる。その
後、半導体層7のみをパターン形成する。その後、IT
O膜2aで形成されたドレイン電極23の一部に於て、
その上の絶縁膜に穴8を開口する。最後に、チタン/ア
ルミニウムの金属膜9a、9bを用いてソース電極とド
レイン電極の一部を同時に形成する。このドレイン電極
9bは、穴8を介してITO膜2aで形成されたドレイ
ン電極と電気的に接続される。共通電極23とドレイン
電極22は、約10μmの距離を隔てて対じする構成で
形成される。以上の工程を経て完成した透明基板1a
と、ブラックマトリクス11が形成されたもう一枚の透
明基板1bに、各々配向膜を塗布した後、各々の基板に
ソース配線が延在する方向に沿って配向処理を施す。そ
の後、約5μmの一定のギャップを隔ててこの2枚の基
板を張り合わせた後、このギャップ中に液晶10を注入
し、2枚の各基板の外側に偏光板を配置することによっ
て、液晶表示装置が完成する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Reference Examples and Examples. Reference Example 1 A first reference example will be described with reference to FIGS. (A) is a plane configuration diagram of the TFT liquid crystal display device of this reference example, and (b) is II in (a).
It is a cross-sectional block diagram when it sees from a horizontal direction cut | disconnected by a line.
A method of manufacturing the present TFT liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. First, on the transparent substrate 1a, the ITO films 2a and 2b, which are transparent conductors, are used to form the drain electrode part 2
2 and part of the common electrode 23 are formed. Next, after forming the silicon oxide film 3, a part of the ITO film 2b is opened and a hole 4 is formed. Then, using the chromium films 5a and 5b,
The gate wiring and a part of the common electrode 23 are formed at the same time. At this time, the gate wiring 5a and the common electrode 5b are formed so as to extend in parallel in the row direction. Further, the ITO film 2b and the chromium film 5b, which function as the common electrode, are formed in the holes 4
Electrically connected via. Next, the silicon nitride film 6 as the gate insulating film of the TFT and the semiconductor layer serving as the channel layer of the TFT are successively deposited. Then, only the semiconductor layer 7 is patterned. Then IT
In a part of the drain electrode 23 formed of the O film 2a,
A hole 8 is opened in the insulating film thereabove. Finally, the titanium / aluminum metal films 9a and 9b are used to simultaneously form part of the source electrode and the drain electrode. The drain electrode 9b is electrically connected to the drain electrode formed of the ITO film 2a through the hole 8. The common electrode 23 and the drain electrode 22 are formed to face each other with a distance of about 10 μm. The transparent substrate 1a completed through the above steps
Then, an alignment film is applied to the other transparent substrate 1b on which the black matrix 11 is formed, and then an alignment treatment is applied to each substrate along the direction in which the source wiring extends. After that, the two substrates are bonded to each other with a constant gap of about 5 μm, the liquid crystal 10 is injected into the gap, and a polarizing plate is arranged outside each of the two substrates. Is completed.

【0015】次に、本液晶表示装置の駆動方法を説明す
る。共通電極23には、外部より一定電圧Vcを印加す
る。ゲート配線24には、外部より1定周期のパルス波
形を有する走査信号Vgを入力する。このパルス信号が
入力された時、このゲート配線上のTFT20はオン状
態となる。一方、ソース配線21には、Vscを中心と
した交流の映像信号Vsが入力される。そして、ソース
配線からこのオン状態のTFTを通じてドレイン電極2
2に映像信号が入力される。ドレイン電極に於ける画素
信号Vdは、次のゲート配線からのパルス信号が入力さ
れる迄同じ電圧が保持される。そして前記したように、
ドレイン電極22に印加された画素信号Vdと共通電極
23に印加された一定電圧Vcの電圧差によって、電極
間に介在する液晶分子のねじれの程度が変化する。そし
て、この液晶分子のねじれ状態によって、液晶層を通過
する光の偏光方向が変化し、液晶表示装置において画素
を通過する光量が変化する。
Next, a method of driving the present liquid crystal display device will be described. A constant voltage Vc is applied to the common electrode 23 from the outside. A scanning signal Vg having a pulse waveform of one fixed cycle is input to the gate wiring 24 from the outside. When this pulse signal is input, the TFT 20 on this gate wiring is turned on. On the other hand, an AC video signal Vs centered on Vsc is input to the source line 21. Then, from the source wiring to the drain electrode 2 through the TFT in the on state.
A video signal is input to 2. The pixel signal Vd at the drain electrode is held at the same voltage until the next pulse signal from the gate wiring is input. And as mentioned above,
The degree of twist of liquid crystal molecules interposed between the electrodes changes depending on the voltage difference between the pixel signal Vd applied to the drain electrode 22 and the constant voltage Vc applied to the common electrode 23. Then, depending on the twisted state of the liquid crystal molecules, the polarization direction of the light passing through the liquid crystal layer changes, and the amount of light passing through the pixel in the liquid crystal display device changes.

【0016】この様な構成にすることによって、第1
に、黒表示を行っている場合、基板1b側から入射し偏
光板を通過した直線偏光の光の一部は、液晶層を通過し
た後、透明導電体で形成された電極22、23に入射
し、そのまま下方向に透過する。よって、観察者の視点
に入る反射光が従来に比較して大幅に低減する。つま
り、周囲が明るくても、黒表示のときの輝度の上昇が抑
制され、高コントラストの画像が維持されるという効果
がある。
With such a configuration, the first
In addition, when black display is performed, part of the linearly polarized light that is incident from the substrate 1b side and passed through the polarizing plate is incident on the electrodes 22 and 23 formed of transparent conductors after passing through the liquid crystal layer. Then, it is transmitted downward as it is. Therefore, the reflected light entering the observer's viewpoint is significantly reduced as compared with the conventional case. That is, even if the surroundings are bright, there is an effect that an increase in luminance during black display is suppressed and a high-contrast image is maintained.

【0017】具体的には、画面サイズ対角26cm、画
素数480×(640×3)のVGAディスプレイにお
いて、1画素に於けるブラックマトリクスの占める面積
は、1画素の面積の約30%である。そして、その表示
領域内の電極22、23が、1画素に占める面積は、約
20%である。観察者に入る反射光は、ブラックマトリ
クス部分と電極22、23部分の2つに大別される。ブ
ラックマトリクスと電極22、23を同じ金属材料で形
成した場合、電極22、23部分での反射は、全反射の
40%を占める。よって、本実施例を行うことによっ
て、従来に比較して、約40%の反射率の低減ができ
た。
Specifically, in a VGA display having a diagonal size of 26 cm and a pixel number of 480 × (640 × 3), the area occupied by the black matrix in one pixel is about 30% of the area of one pixel. . The area occupied by the electrodes 22 and 23 in the display area per pixel is about 20%. The reflected light entering the observer is roughly divided into a black matrix portion and electrodes 22 and 23 portions. When the black matrix and the electrodes 22 and 23 are made of the same metal material, the reflection at the electrodes 22 and 23 accounts for 40% of the total reflection. Therefore, by performing this example, the reflectance could be reduced by about 40% as compared with the conventional case.

【0018】(参考例2)第2の参考例を、図2
(a)、(b)と共に説明する。(a)は、本参考例の
TFT液晶表示装置の平面構成図、(b)は(a)のII
-II線の断面構成図である。図2(a),(b)と共に
本TFT液晶表示装置の作成方法を説明する。まず、ク
ロム膜5a,5bを用いて、ゲート配線、並びに共通電
極の一部を同時に形成する。この時、ゲート配線、及び
共通電極は、平行して行方向に延在する構成で形成す
る。次に、TFTのゲート絶縁膜としてシリコン窒化膜
6を、またTFTのチャンネル層として働く半導体層を
連続して堆積させる。その後、半導体層7のみをパター
ン形成する。次に、クロム5bで形成された共通電極2
3の一部の上のゲート絶縁膜に穴12を開口する。そし
て、チタン/アルミニウム膜9a、9bを用いて、ソー
ス電極、ドレイン電極の一部を形成する。このドレイン
電極の一部は、ITO膜2aで形成されたドレイン電極
の一部と電気的に接続される。共通電極23とドレイン
電極22は、約10μmの距離を隔てて対じする様な構
成で形成されている。以下の作製工程は、第1の実施例
と同じである。
(Reference Example 2) A second reference example is shown in FIG.
It will be described together with (a) and (b). (A) is a plan configuration diagram of the TFT liquid crystal display device of this reference example, (b) is II of (a).
FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram taken along line II. A method of manufacturing the present TFT liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. First, the gate wiring and a part of the common electrode are simultaneously formed using the chromium films 5a and 5b. At this time, the gate wiring and the common electrode are formed so as to extend in the row direction in parallel. Next, the silicon nitride film 6 as the gate insulating film of the TFT and the semiconductor layer serving as the channel layer of the TFT are successively deposited. Then, only the semiconductor layer 7 is patterned. Next, the common electrode 2 made of chromium 5b
A hole 12 is opened in the gate insulating film on a part of 3. Then, the titanium / aluminum films 9a and 9b are used to form part of the source electrode and the drain electrode. A part of the drain electrode is electrically connected to a part of the drain electrode formed of the ITO film 2a. The common electrode 23 and the drain electrode 22 are formed so as to face each other with a distance of about 10 μm. The following manufacturing process is the same as that of the first embodiment.

【0019】また、本参考例の駆動方法も、第1の実施
例と全く同じである。本参考例も第1の参考例と同様の
効果を有する。また、本参考例と第1の参考例を比較す
ると、第1の参考例で用いたシリコン酸化膜3の堆積、
絶縁膜への穴8の開口を行う必要がなく、作製工程がよ
り簡略化される効果を有する。
The driving method of this reference example is also exactly the same as that of the first embodiment. This reference example also has the same effect as the first reference example. Further, comparing this reference example with the first reference example, the deposition of the silicon oxide film 3 used in the first reference example,
Since it is not necessary to open the hole 8 in the insulating film, the manufacturing process can be further simplified.

【0020】(参考例3)第3の参考例を、図3ととも
に説明する。図3(a)は、本参考例のTFT液晶装置
の平面構成図、(b)は(a)のIII-III線の断面構成
図である。図3(a),(b)と共に本TFT液晶表示
装置の作成方法を説明する。まず、クロム5a、5bと
酸化クロム膜13a、13bの2層膜を用いて、ゲート
配線24、並びに共通電極23を同時に形成する。この
時、ゲート配線、及び共通電極は、平行して行方向に延
在する構成で形成する。また、クロム膜と酸化クロム膜
は、同一の製膜装置で堆積することができ、また同時に
パターニングすることが可能である。次に、TFTのゲ
ート絶縁膜としてシリコン窒化膜6を、またTFTのチ
ャンネル層として働く半導体層を連続して堆積させる。
その後、半導体層7のみをパターン形成する。そして、
クロム14a、14bと酸化クロム膜15a、15bの
2層膜を用いて、ソース電極21、並びにドレイン電極
22を同時に形成する。共通電極とドレイン電極は、約
10μmの距離を隔てて対じする様な構成で形成されて
いる。以下の作製工程は、第1、第2の実施例と同じで
ある。
(Reference Example 3) A third reference example will be described with reference to FIG. FIG. 3A is a plan configuration diagram of the TFT liquid crystal device of this reference example, and FIG. 3B is a sectional configuration diagram taken along line III-III of FIG. A method of manufacturing the present TFT liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. First, the gate wiring 24 and the common electrode 23 are simultaneously formed by using a two-layer film of the chromium 5a, 5b and the chromium oxide film 13a, 13b. At this time, the gate wiring and the common electrode are formed so as to extend in the row direction in parallel. Further, the chromium film and the chromium oxide film can be deposited by the same film forming apparatus, and can be patterned at the same time. Next, the silicon nitride film 6 as the gate insulating film of the TFT and the semiconductor layer serving as the channel layer of the TFT are successively deposited.
Then, only the semiconductor layer 7 is patterned. And
The source electrode 21 and the drain electrode 22 are formed at the same time by using a two-layer film of chromium 14a, 14b and chromium oxide film 15a, 15b. The common electrode and the drain electrode are formed so as to face each other with a distance of about 10 μm. The following manufacturing steps are the same as those in the first and second embodiments.

【0021】この様な構成にすることによって、第1
に、黒表示を行っている場合、基板1b側から入射し偏
光板を通過した直線偏光の光の一部は、液晶層を通過し
た後、電極22、23に入射し、酸化クロム膜の作用で
反射が大幅に低減される。よって、観察者の視点に入る
反射光が従来の構成に比較して大幅に低減する。つま
り、周囲が明るくても、黒表示のときの輝度の上昇が抑
制され、高コントラストの画像が維持されるという効果
がある。また、本実施例に於いては、第2の実施例に比
較してITO膜の製膜、パターニングの工程が省略され
る。よって、実施例1、2に比較して、より簡単な工程
で本液晶表示装置を作製することが可能である。更に、
本実施例に於いては、ドレイン電極22と共通電極23
の間にはゲート絶縁膜6が介在している。よって、ドレ
イン電極22と共通電極23を跨るような大きな導電性
の異物が付着しても、2つの電極が短絡し、その画素が
点欠陥不良となることはない。よって、点欠陥不良が低
減し、作製歩留まりが向上するという効果がある。
With this structure, the first
In the black display, a part of the linearly polarized light which is incident from the substrate 1b side and passed through the polarizing plate is incident on the electrodes 22 and 23 after passing through the liquid crystal layer and the action of the chromium oxide film. The reflection is greatly reduced by. Therefore, the reflected light entering the observer's viewpoint is significantly reduced as compared with the conventional configuration. That is, even if the surroundings are bright, there is an effect that an increase in luminance during black display is suppressed and a high-contrast image is maintained. Further, in this embodiment, the steps of forming and patterning the ITO film are omitted as compared with the second embodiment. Therefore, the present liquid crystal display device can be manufactured by a simpler process as compared with the first and second embodiments. Furthermore,
In this embodiment, the drain electrode 22 and the common electrode 23
The gate insulating film 6 is interposed between them. Therefore, even if a large conductive foreign substance that extends over the drain electrode 22 and the common electrode 23 is attached, the two electrodes are not short-circuited and the pixel does not have a point defect defect. Therefore, the point defect defect is reduced and the manufacturing yield is improved.

【0022】(実施例1)第1の実施例を図4とともに
説明する。図4は、本実施例の液晶表示装置の平面構成
図である。作製工程は、第3の参考例と同一である。こ
こで、共通電極23は、ソース配線21との交差部に於
いて、ソース配線の下部にソース配線が延在する方向に
沿って、ソース配線より広い幅で帯状パターンを形成す
る。更に、ブラックマトリクスは、ゲート配線に沿って
帯状に形成されていて、この帯状の共通電極パターンが
その下部に配置されているソース配線部分は、このブラ
ックマトリクスによって遮蔽されていない。
(Embodiment 1) A first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a plan configuration diagram of the liquid crystal display device of the present embodiment. The manufacturing process is the same as that of the third reference example. Here, the common electrode 23 forms a strip-shaped pattern with a width wider than the source wiring along the direction in which the source wiring extends below the source wiring at the intersection with the source wiring 21. Further, the black matrix is formed in a strip shape along the gate wiring, and the source wiring portion on which the strip-shaped common electrode pattern is arranged below is not shielded by the black matrix.

【0023】図8は、従来と、本発明の液晶表示装置の
ソース配線部付近の構成である。従来の構成に於いて
は、ブラックマトリクスの幅は、ソース配線の幅と、ソ
ース配線と共通電極の間の非表示部の幅と、第1の透明
基板と第2の透明基板の合わせ精度を合わせた幅とな
る。一方、本実施例を実施することによって、ブラック
マトリクスの幅は、ソース配線の幅と、第1の透明基板
と第2の透明基板の合わせ精度を合わせた幅のみとな
る。つまり、共通電極とソース配線の間の非表示部の領
域は消失し、それに代わって共通電極とドレイン電極の
間の有効表示領域の面積が増加し、表示画像の明るさが
向上する。
FIG. 8 shows the structure near the source wiring part of the conventional liquid crystal display device of the present invention. In the conventional configuration, the width of the black matrix depends on the width of the source wiring, the width of the non-display portion between the source wiring and the common electrode, and the alignment accuracy of the first transparent substrate and the second transparent substrate. It becomes the combined width. On the other hand, by carrying out the present embodiment, the width of the black matrix becomes only the width that matches the width of the source wiring and the alignment accuracy of the first transparent substrate and the second transparent substrate. That is, the area of the non-display portion between the common electrode and the source wiring disappears, and instead, the area of the effective display area between the common electrode and the drain electrode increases, and the brightness of the display image improves.

【0024】更に、本実施例の様に、ソース配線上に反
射防止膜を形成し、ブラックマトリクスを本ソース配線
上に配置しないように構成することにより、ソース配線
側の光の遮光帯はソース配線のみとなる。その結果、表
示画像の明るさが更に向上するという効果がある。
Further, as in this embodiment, by forming an antireflection film on the source wiring and not disposing the black matrix on the source wiring, the light shielding band on the source wiring side is the source. Wiring only. As a result, there is an effect that the brightness of the display image is further improved.

【0025】具体的に、画面サイズ対角26cm、画素
数480×(640×3)のVGAディスプレイにおい
て、1画素に於ける有効表示領域の占める面積の割合で
ある画素開口率は、従来の構成においては約40%であ
った。一方、本発明の構成に於ける画素開口率は約55
%であり、約38%の画像の明るさの向上が見込まれ
る。更に、本実施例の様に本ソース配線上にブラックマ
トリクスを配置しない様に構成することにより、画素開
口率は約65%となり、従来に比較して約63%の画像
の明るさの向上ができた。
Specifically, in a VGA display having a diagonal size of 26 cm and a pixel number of 480 × (640 × 3), the pixel aperture ratio, which is the ratio of the area occupied by the effective display area in one pixel, is the same as that of the conventional configuration. Was about 40%. On the other hand, the pixel aperture ratio in the configuration of the present invention is about 55.
%, And an improvement in image brightness of about 38% is expected. Further, as in the present embodiment, the black matrix is not arranged on the source wiring, the pixel aperture ratio is about 65%, and the brightness of the image is improved by about 63% as compared with the conventional case. did it.

【0026】(実施例2)第2の実施例を図5とともに
説明する。図4は、本実施例の液晶表示装置の平面構成
図である。作製工程は、第3の参考例と同一である。こ
こで、共通電極23は、ゲート配線21との交差部に於
いて、ゲート配線の上部にゲート配線が延在する方向に
沿って、ゲート配線より広い幅で帯状パターンを形成す
る。更に、ブラックマトリクスは、ソース配線に沿って
帯状に形成されていて、この帯状の共通電極パターンが
その上部に配置されているゲート配線部分は、このブラ
ックマトリクスによって遮蔽されていない。
(Second Embodiment) A second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a plan configuration diagram of the liquid crystal display device of the present embodiment. The manufacturing process is the same as that of the third reference example. Here, the common electrode 23 forms a strip-shaped pattern with a width wider than that of the gate wiring along the direction in which the gate wiring extends above the gate wiring at the intersection with the gate wiring 21. Further, the black matrix is formed in a strip shape along the source wiring, and the gate wiring portion on which the strip-shaped common electrode pattern is arranged is not shielded by the black matrix.

【0027】従来の構成に於いては、ブラックマトリク
スの幅は、ゲート配線の幅と、ゲート配線と共通電極の
間の非表示部の幅と、第1の透明基板と第2の透明基板
の合わせ精度を合わせた幅となる。一方、本実施例を実
施することによって、ブラックマトリクスの幅は、ゲー
ト配線の幅と、第1の透明基板と第2の透明基板の合わ
せ精度を合わせた幅のみとなる。つまり、共通電極とゲ
ート配線の間の非表示部の領域は消失し、それに代わっ
て共通電極とドレイン電極の間の有効表示領域の面積が
増加し、表示画像の明るさが向上する。
In the conventional structure, the width of the black matrix is the width of the gate wiring, the width of the non-display portion between the gate wiring and the common electrode, and the width of the first transparent substrate and the second transparent substrate. The width will match the alignment accuracy. On the other hand, by carrying out the present embodiment, the width of the black matrix becomes only the width that matches the width of the gate wiring and the alignment accuracy of the first transparent substrate and the second transparent substrate. That is, the region of the non-display portion between the common electrode and the gate wiring disappears, and instead, the area of the effective display region between the common electrode and the drain electrode increases, and the brightness of the display image improves.

【0028】更に、本実施例の様に、ゲート配線上に反
射防止膜を形成し、ブラックマトリクスを本ゲート配線
上に配置しないように構成することにより、ゲート配線
側の光の遮光帯はゲート配線のみとなる。その結果、表
示画像の明るさが更に向上するという効果がある。
Further, as in the present embodiment, an antireflection film is formed on the gate wiring so that the black matrix is not arranged on the gate wiring. Wiring only. As a result, there is an effect that the brightness of the display image is further improved.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、有
効表示領域の面積が増加し、画素の開口率が増加し、そ
の表示画像の明るさが向上するという効果がある。ま
た、第2番目の発明のにおいて、列配線、または行配線
部をブラックマトリクスで遮蔽しないように構成するこ
とにより、有効表示領域の面積が更に拡大し、表示画像
の明るさはさらに向上するという効果がある。
As described above, according to the present invention, the area of the effective display area is increased, the aperture ratio of the pixel is increased, and the brightness of the displayed image is improved. Further, in the second aspect of the present invention, the area of the effective display area is further expanded and the brightness of the display image is further improved by configuring the column wiring or the row wiring portion so as not to be blocked by the black matrix. effective.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の参考例のTFT液晶表示装置に於けるT
FTアレイ基板の平面、及び断面構成図
FIG. 1 shows T in the TFT liquid crystal display device of the first reference example.
Plan view and cross-sectional configuration diagram of the FT array substrate

【図2】第2の参考例のTFT液晶表示装置に於けるT
FTアレイ基板の平面、及び断面構成図
FIG. 2 shows T in the TFT liquid crystal display device of the second reference example.
Plan view and cross-sectional configuration diagram of the FT array substrate

【図3】第3の参考例のTFT液晶表示装置に於けるT
FTアレイ基板の平面、及び断面構成図
FIG. 3 shows T in the TFT liquid crystal display device of the third reference example.
Plan view and cross-sectional configuration diagram of the FT array substrate

【図4】第1の実施例のTFT液晶表示装置に於けるT
FTアレイ基板の平面構成図
FIG. 4 shows T in the TFT liquid crystal display device of the first embodiment.
Plan view of FT array substrate

【図5】第2の実施例のTFT液晶表示装置に於けるT
FTアレイ基板の平面構成図
FIG. 5 shows T in the TFT liquid crystal display device of the second embodiment.
Plan view of FT array substrate

【図6】従来の水平方向電界で駆動される液晶表示装置
の平面構成模式図
FIG. 6 is a schematic plan view of a conventional liquid crystal display device driven by a horizontal electric field.

【図7】従来の水平方向電界で駆動される液晶表示装置
の断面構成模式図
FIG. 7 is a schematic cross-sectional configuration diagram of a conventional liquid crystal display device driven by a horizontal electric field.

【図8】本発明の第1の実施例に於けるソース配線部に
於ける液晶表示装置の平面構成図、及び従来のソース配
線部に於ける液晶表示装置の平面構成図
FIG. 8 is a plan configuration diagram of a liquid crystal display device in a source wiring portion according to a first embodiment of the present invention and a plan configuration diagram of a liquid crystal display device in a conventional source wiring portion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a、1b 透明基板 2a、2b ITO膜 3 シリコン酸化膜 4 穴 5a、5b クロム膜 6 シリコン窒化膜 7 半導体膜 8 穴 9a、9b チタン/アルミニウム膜 10 液晶分子 11 ブラックマトリクス 12 穴 13a、13b 酸化クロム膜 14a、14b クロム膜 15a、15b 酸化クロム膜 16a、16b 偏光板 20 薄膜トランジスタ 21 ソース配線 22 ドレイン電極 23 共通電極 24 ゲート配線 1a, 1b transparent substrate 2a, 2b ITO film 3 Silicon oxide film 4 holes 5a, 5b Chrome film 6 Silicon nitride film 7 Semiconductor film 8 holes 9a, 9b titanium / aluminum film 10 Liquid crystal molecules 11 Black Matrix 12 holes 13a, 13b Chromium oxide film 14a, 14b Chrome film 15a, 15b Chromium oxide film 16a, 16b Polarizing plate 20 thin film transistor 21 Source wiring 22 Drain electrode 23 Common electrode 24 gate wiring

フロントページの続き (72)発明者 浅田 智 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H092 GA33 JA24 JA34 JA37 JA41 JB22 JB26 JB31 JB35 JB52 MA10 NA01 NA07 PA01 PA02 PA04 PA09 PA11 PA13 Continued front page    (72) Inventor Satoshi Asada             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. F-term (reference) 2H092 GA33 JA24 JA34 JA37 JA41                       JB22 JB26 JB31 JB35 JB52                       MA10 NA01 NA07 PA01 PA02                       PA04 PA09 PA11 PA13

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一主面上に、列配線と、前記列配線に直交
する行配線と、アクティブ素子と、前記アクティブ素子
と接続された第1の電極と、前記第1の電極と前記第1
の透明基板の平面上で対峙して形成された第2の電極と
を有する第1の透明基板と、 ブラックマトリクスが形成された第2の透明基板と、 前記第1の透明基板と第2の透明基板との間に挟持され
た液晶と、を備え、 前記第1の電極と前記第2の電極との間に印加された電
圧によって前記液晶分子の配列を変化させるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置であって、 前記第2の電極が、前記列配線または行配線と直交する
方向に延在し、前記第2の電極の前記列配線または行配
線との交差部において、前記列配線または行配線の上部
または下部に前記列配線または行配線の延在する方向に
沿って、帯状に前記列配線または行配線の幅より広い幅
の第2の電極パターンが形成されているアクティブマト
リクス型液晶表示装置。
1. A column wiring, a row wiring orthogonal to the column wiring, an active element, a first electrode connected to the active element, the first electrode, and the first electrode on one main surface. 1
A first transparent substrate having a second electrode formed to face each other on the plane of the transparent substrate, a second transparent substrate having a black matrix formed thereon, and the first transparent substrate and the second transparent substrate. A liquid crystal sandwiched between a transparent substrate and an active matrix liquid crystal display device that changes the alignment of the liquid crystal molecules according to a voltage applied between the first electrode and the second electrode. The second electrode extends in a direction orthogonal to the column wiring or the row wiring, and at the intersection of the second electrode with the column wiring or the row wiring, the column wiring or the row wiring is formed. An active matrix type liquid crystal display device in which a second electrode pattern having a width wider than the width of the column wiring or the row wiring is formed in a strip shape along an extending direction of the column wiring or the row wiring at an upper portion or a lower portion.
【請求項2】前記帯状の第2の電極パターンが、下部ま
たは上部に位置している列配線部分または行配線部分に
対応する、前記第2の透明基板の領域には、ブラックマ
トリクスが形成されていない請求項1に記載のアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置。
2. A black matrix is formed in a region of the second transparent substrate where the strip-shaped second electrode pattern corresponds to a column wiring portion or a row wiring portion located at a lower portion or an upper portion. The active matrix liquid crystal display device according to claim 1, which is not provided.
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