JP2003246160A - Manufacturing method for aluminum substrate for lithographic printing plate - Google Patents

Manufacturing method for aluminum substrate for lithographic printing plate

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JP2003246160A
JP2003246160A JP2002051221A JP2002051221A JP2003246160A JP 2003246160 A JP2003246160 A JP 2003246160A JP 2002051221 A JP2002051221 A JP 2002051221A JP 2002051221 A JP2002051221 A JP 2002051221A JP 2003246160 A JP2003246160 A JP 2003246160A
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plate
acid
aqueous solution
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JP2002051221A
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Japanese (ja)
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Atsuo Nishino
温夫 西野
Hirokazu Sawada
宏和 澤田
Akio Uesugi
彰男 上杉
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for an aluminum substrate for a lithographic printing plate which makes it possible to use an aluminum rolled sheet (an aluminum sheet containing lots of alloy constituents or an aluminum sheet of which the alloy constituents are not regulated) and which brings about no nonuniformity in treatment due to surface roughening treatment and can make compatible plate wear and printing performance (scumming performance) when it is made into the plate. <P>SOLUTION: In this manufacturing method, the aluminum sheet is subjected sequentially to (1) electrochemical surface roughening treatment in a nitric acid water solution in the condition that the ratio Qc/Qa between the quantity Qa of electricity of an alternating current on the occasion of the aluminum sheet being an anode and the quantity Qc of electricity of the current on the occasion of the sheet being a cathode is 0.9-1.0, (2) electrochemical surface roughening treatment in a hydrochloric acid water solution wherein the concentration of aluminum ions is made 1-8 g/L by adding an aluminum chloride hexahydrate in the rate of 10-70 g/L to a water solution containing a hydrochloric acid of 1-10 g/L, in the condition that the ratio of Qc/Qa is 0.9-1.0, and (3) anodizing treatment. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用アル
ミニウム支持体の製造方法に関し、特に、低純度のアル
ミニウム圧延板(合金成分を多く含むアルミニウム板ま
たは合金成分を調製していないアルミニウム板)を使用
でき、かつ、粗面化処理による処理ムラが発生せず、ま
た本発明の製造方法により得られる平版印刷版用アルミ
ニウム支持体を平版印刷版としたときに耐刷性および印
刷性能(汚れ性能)を両立できる平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法に関する。 【0002】 【従来の技術】平版印刷版用アルミニウム支持体は、機
械的粗面化、酸またはアルカリ水溶液中での化学的エッ
チング、酸性水溶液中でのデスマット処理、酸性水溶液
中での陽極酸化処理、親水化処理、封孔処理などのうち
1つ以上を組み合わせて粗面化処理するのが一般的であ
る。特に電気化学的な粗面化処理は均一な凹凸を得やす
いことから平版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化方
法として一般的に用いられてきた。特に塩酸または硝酸
水溶液中での電気化学的な粗面化処理を主として用いる
のが一般的である。 【0003】従来、均一な凹凸を得られるとして用いら
れてきた、硝酸を主体とする水溶液を用いた電解粗面化
法においては、アルミニウム合金板の合金成分の調整を
厳密に行う必要がある。そして、合金成分の組成が振れ
ると粗面化形状が大きく変化するため、粗面化処理の条
件を一定とした場合に、種々のアルミニウム材料からな
るアルミニウム合金板、特に不純物元素の含有量の多い
アルミニウム合金板に対し、均一な凹凸の粗面化形状を
形成することができないという問題がある。 【0004】一方、近年、平版印刷版用アルミニウム支
持体として、アルミニウム板の圧延工程を簡素化したア
ルミニウム圧延板、汎用のアルミニウム板、飲料缶など
からリサイクルされた合金成分を調整してない地金を用
いて圧延した安価なアルミニウム板を用いることは省エ
ネルギー、資源の有効利用の観点から望まれている。し
かし、アルミニウム板の圧延工程を簡素化したアルミニ
ウム板、合金成分を多く含むアルミニウム板、合金成分
を調製していないアルミニウム板を用いて平版印刷版用
アルミニウム支持体を製造すると、アルミ結晶方位が起
因するストリークと呼ばれる処理ムラが発生しやすい。
また、電気化学的な粗面化処理では、均一な粗面化が行
えず、外観上の故障(処理ムラ)または印刷性能(とく
に汚れ性能)が劣るという問題点がある。 【0005】さらに、ダイレクト製版用の赤外線レーザ
用感光性画像形成材料で形成された画像形成層を有する
平版印刷版用のアルミニウム支持体として、印刷枚数
(耐刷性)と汚れ性能の両立した性能を有する平版印刷
版用アルミニウム支持体が望まれていた。しかし、アル
ミニウム合金板の合金成分の調整をしていないと、やは
り電気化学的な粗面化処理が均一に行われず、耐刷性と
汚れ性能の両立した性能を有する平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造は困難である。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、平版印刷版
用アルミニウム支持体用として用いられなかった低純度
のアルミニウム圧延板(合金成分を多く含むアルミニウ
ム板または合金成分を調製していないアルミニウム板)
を使用でき、かつ、粗面化処理による処理ムラが発生せ
ず、また本発明の製造方法により得られる平版印刷版用
アルミニウム支持体を平版印刷版としたときに(以下単
に「平版印刷としたときに」という場合がある。)優れ
た耐刷性および印刷性能(汚れ性能)を両立できる平版
印刷版用アルミニウム支持体の製造方法を提供すること
を目的とする。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、塩酸水溶液中での電気化学的な粗面化処理に用い
る塩酸水溶液を特定の組成を有する塩酸水溶液を用いる
こと、ならびに、硝酸水溶液中および塩酸水溶液中での
電気化学的な粗面化処理に用いる交流のアルミニウム板
の陽極時の電気量Qaと陰極時の電気量Qcの比、Qc
/Qaを0.9〜1.0とすることにより、平版印刷版
用アルミニウム支持体用として用いられるアルミニウム
板合金成分量のラチチュードが広くても、該粗面化処理
による処理ムラが発生せず、平版印刷版としたときに優
れた耐刷性および印刷性能(汚れ性能)を両立できるこ
とを知見し、本発明を完成するに至った。 【0008】すなわち、(1)本発明は、アルミニウム
板を順に、 1)硝酸水溶液中で、交流のアルミニウム板の陽極時の
電気量Qaと陰極時の電気量Qcの比、Qc/Qaが
0.9〜1.0の条件で電気化学的に粗面化処理し、 2)塩酸を1〜10g/L含有する水溶液に、塩化アル
ミニウム6水和物を10〜70g/Lの割合で添加しア
ルミニウムイオン濃度が1〜8g/Lである塩酸水溶液
中で、交流のアルミニウム板の陽極時の電気量Qaと陰
極時の電気量Qcの比、Qc/Qaが0.9〜1.0の
条件で電気化学的に粗面化処理し、 3)陽極酸化処理することを特徴とする平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の製造方法を提供する。 【0009】また、(2)本発明は、アルミニウム板を
順に、 1)機械的に粗面化処理し、 2)硝酸水溶液中で、交流のアルミニウム板の陽極時の
電気量Qaと陰極時の電気量Qcの比、Qc/Qaが
0.9〜1.0の条件で電気化学的に粗面化処理し、 3)塩酸を1〜10g/L含有する水溶液に、塩化アル
ミニウム6水和物を10〜70g/Lの割合で添加しア
ルミニウムイオン濃度が1〜8g/Lである塩酸水溶液
中で、交流のアルミニウム板の陽極時の電気量Qaと陰
極時の電気量Qcの比、Qc/Qaが0.9〜1.0の
条件で電気化学的に粗面化処理し、 4)陽極酸化処理することを特徴とする平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の製造方法を提供する。 【0010】ここで、前記塩酸水溶液は、塩酸を1〜1
0g/L含有するのが好ましく、2〜6g/L含有する
のが特に好ましい。添加する塩化アルミニウム6水和物
は、10〜70g/Lであるのが好ましく、20〜50
g/Lであるのがより好ましく、35〜45g/Lであ
るのが特に好ましい。塩化アルミニウム6水和物を添加
した塩酸水溶液のアルミニウムイオン濃度は、1〜8g
/Lであるのが好ましく、2〜6g/Lであるのがより
好ましく、4〜5g/Lであるのが特に好ましい。 【0011】また、(3)本発明は、前記硝酸水溶液中
および/または前記塩酸水溶液中での電気化学的な粗面
化処理の前および/または後にアルカリ水溶液中での化
学的なエッチング処理および酸性水溶液中でのデスマッ
ト処理を行うことを特徴とする(1)または(2)に記
載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法を提供
する。 【0012】ここで、アルミニウム板を順に、 1)アルカリ水溶液中でエッチング処理し、(第1アル
カリエッチング処理) 2)酸性水溶液中でデスマット処理し、(第1デスマッ
ト処理) 3)硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処
理し、(第1電気化学的粗面化処理) 4)アルカリ水溶液中でエッチング処理し、(第2アル
カリエッチング処理) 5)酸性水溶液中でデスマット処理し、(第2デスマッ
ト処理) 6)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処
理し、(第2電気化学的粗面化処理) 7)アルカリ水溶液中でエッチング処理し、(第3アル
カリエッチング処理) 8)酸性水溶液中でデスマット処理し、(第3デスマッ
ト処理) 9)陽極酸化処理するのが特に好ましい。 【0013】また、(4)本発明は、前記陽極酸化処理
の後に、封孔処理または親水化処理、あるいは、封孔処
理および親水化処理を行うことを特徴とする(1)〜
(3)のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法を提供する。 【0014】また、(5)本発明は、前記デスマット処
理に、前記硝酸水溶液中および/または前記塩酸水溶液
中での電気化学的な粗面化処理、あるいは、前記陽極酸
化処理で用いた電解液の廃液を用いることを特徴とする
(1)〜(4)のいずれかに記載の平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法を提供する。 【0015】また、(6)本発明は、前記アルミニウム
板が、下記第1表に示す組成を有するアルミニウム板
(AL1〜AL4)であることを特徴とする(1)〜
(5)に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法を提供する。 【0016】 【表1】 【0017】また、(7)本発明は、(1)〜(6)の
いずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製
造方法により製造した平版印刷版用アルミニウム支持体
を提供する。 【0018】また、(8)本発明は、(7)に記載の平
版印刷版用アルミニウム支持体の上に、レーザで直接描
画し、光熱変換により発生する熱によりアルカリ現像液
に対する可溶性が変化するポジ型画像形成層を有するこ
とを特徴とする平版印刷版原版を提供する。 【0019】また、(9)本発明は、レーザで直接描画
し、光熱変換により発生する熱によりアルカリ現像液に
対する可溶性が変化する感光層が、下記A層とB層を順
次積層し、B層に、光を吸収して発熱する化合物を含有
することを特徴とする(8)に記載の平版印刷版原版を
提供する。A層:モノマー(a−1)〜(a−3)の少
なくとも1つを共重合成分として10モル%以上含む共
重合体を50質量%以上含有する層B層:フェノール性
水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂を50質量%
以上含有する層 【0020】また、(10)本発明は、(7)に記載の
平版印刷版用アルミニウム支持体の上に、レーザで直接
描画し、光熱変換により発生する熱によりアルカリ現像
液に対する可溶性が変化するネガ型画像形成層を有する
ことを特徴とする平版印刷版原版を提供する。 【0021】また、(11)本発明は、(7)に記載の
平版印刷版用アルミニウム支持体の上に、ラジカル付加
重合反応を利用したレーザで直接描画可能な画像形成層
を有することを特徴とする平版印刷版原版を提供する。 【0022】また、(12)本発明は、(7)に記載の
平版印刷版用アルミニウム支持体の上に、ポジ型感光性
画像形成層を有することを特徴とする平版印刷版を提供
する。 【0023】また、(13)本発明は、(7)に記載の
平版印刷版用アルミニウム支持体の上に、ネガ型感光性
画像形成層を有することを特徴とする平版印刷版原版を
提供する。 【0024】また、(14)本発明は、現像処理液が、
ケイ酸を含むアルカリ性水溶液で現像することを特徴と
する(8)〜(13)のいずれかに記載の平版印刷版原
版の現像処理方法を提供する。 【0025】また、(15)本発明は、現像処理液が、
ケイ酸を含まず、糖類を含むアルカリ性水溶液で現像す
ることを特徴とする(8)〜(13)のいずれかに記載
の平版印刷版原版の現像処理方法を提供する。 【0026】 【発明の実施の形態】<アルミニウム合金板(圧延アル
ミ)>本発明に使用されるアルミニウム板は、純アルミ
ニウム板、アルミニウムを主成分として微量の異元素を
含む合金板、またはアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムの中から選ばれる。ア
ルミニウム板に含まれる微量の異元素は、元素周期表に
記載されているものの中から選択された、1種以上で、
その含量は0.001wt%〜1.5wt%である。該
アルミニウム合金に含まれる異元素の代表例には、ケイ
素、鉄、ニッケル、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、チタン、バナジウムなどがある。
通常はアルミニウムハンドブック第4版(1990、軽
金属協会)に記載の、従来より公知の素材のもの、例え
ばJIS A 1050材、JIS A 3103材、
JIS A 3005材、JIS A 1100材、J
IS A 3004材または引っ張り強度を増す目的で
これらに5wt%以下のマグネシウムを添加した合金を
用いることができる。 【0027】また、本発明に用いるアルミニウム板は、
飲料缶などをスクラップして再生した不純物の多く含ま
れる地金を圧延して得たアルミニウム板も用いることが
できる。例えば、前記第1表に示す組成を有するアルミ
ニウム板が挙げられる。本発明の平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法では、上記微量元素が多く含まれ
ていても、酸性水溶液中での電気化学的な粗面化で均一
なハニカムピットが生成する。また、Si成分が多く含
まれていても、粗面化処理後に陽極酸化処理を施したと
きに、陽極酸化皮膜の欠陥が発生せず、印刷時に紙が汚
れることもない。さらに、Cu成分が多く含まれても、
ハニカムピットが生成しない部分の面積が少なく外観故
障となることもない。 【0028】本発明の平版印刷板用アルミニウム支持体
の製造方法に用いるアルミニウム板は、DC鋳造法から
中間焼鈍処理もしくは均熱処理、または、中間焼鈍処理
および均熱処理を省略して製造されたアルミニウム板、
あるいは、連続鋳造法から中間焼鈍処理を省略して製造
されたアルミニウム板を用いてもよい。 【0029】本発明で用いるアルミニウム板の厚みは
0.05〜0.8mm、好ましくは0.1mm〜0.6
mmである。 【0030】本発明の平版印刷版用アルミニウム支持体
の製造方法においては、上記アルミニウム合金板に、酸
性水溶液中での特定条件下における電気化学的粗面化処
理を含む表面処理を施して平版印刷版用アルミニウム支
持体を得るが、この表面処理には更に各種の処理が含ま
れていてもよい。なお、本発明に用いられる各種の工程
においては、その工程に用いられる処理液の中に使用す
るアルミニウム合金板の合金成分が溶出するので、処理
液はアルミニウム合金板の合金成分を含有していてもよ
く、特に、処理前にそれらの合金成分を添加して処理液
を定常状態にして用いるのが好ましい。 【0031】本発明においては、各電気化学的粗面化処
理の前には、アルカリエッチング処理またはデスマット
処理を施すのが好ましく、また、アルカリエッチング処
理とデスマット処理とをこの順に施すのも好ましい。ま
た、各電気化学的粗面化処理の後には、アルカリエッチ
ング処理またはデスマット処理を施すのが好ましく、ま
た、アルカリエッチング処理とデスマット処理とをこの
順に施すのも好ましい。また、各電気化学的粗面化処理
後のアルカリエッチング処理は、省略することもでき
る。本発明においては、これらの処理の前に機械的粗面
化処理を施すのも好ましい。また、各電気化学的粗面化
処理を2回以上行ってもよい。また、これらの後に、陽
極酸化処理、封孔処理、親水化処理などを施すのも好ま
しい。 【0032】特に、表面処理が、アルカリエッチング処
理、デスマット処理、硝酸水溶液の中での電気化学的粗
面化処理、アルカリエッチング処理および/またはデス
マット処理、塩酸水溶液の中での電気化学的粗面化処
理、アルカリエッチング処理および/またはデスマット
処理、陽極酸化処理をこの順に含むのは、本発明の好ま
しい態様の一つである。この場合、表面処理が、陽極酸
化処理の後に、封孔処理および/または親水化処理を含
むのは、本発明の好ましい態様の一つである。また、こ
の場合、表面処理が、最初のアルカリエッチング処理の
前に、機械的粗面化処理を含むのは、本発明の好ましい
態様の一つである。 【0033】以下、機械的粗面化処理、第1アルカリエ
ッチング処理、第1デスマット処理、第1電気化学的粗
面化処理、第2アルカリエッチング処理、第2デスマッ
ト処理、第2電気化学的粗面化処理、第3アルカリエッ
チング処理、第3デスマット処理、陽極酸化処理、封孔
処理および親水化処理のそれぞれについて、詳細に説明
する。 【0034】なお、本明細書においては、硝酸水溶液中
での電気化学的粗面化処理を第1電気化学的粗面化処理
といい、塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理を第2
電気化学的粗面化処理という場合がある。また、(機械
的粗面化処理の後で)第1電気化学的粗面化処理の前に
行うアルカリエッチング処理を第1アルカリエッチング
処理といい、第1電気化学的粗面化処理の後で第2電気
化学的粗面化処理の前に行うアルカリエッチング処理を
第2アルカリエッチング処理といい、第2電気化学的粗
面化処理の後で陽極酸化処理の前に行うアルカリエッチ
ング処理を第3アルカリエッチング処理という場合があ
る。同様に、デスマット処理も上記の順に、第1デスマ
ット処理、第2デスマット処理、第3デスマット処理と
いう場合がある。なお、デスマット処理は、アルカリエ
ッチング処理の後に行う。 【0035】<機械的な粗面化処理>本発明において
は、機械的粗面化処理は電気化学的粗面化処理の前に行
うのが好ましい。機械的粗面化処理によりアルミニウム
板の表面積が増大する。まず、アルミニウム板をブラシ
グレイニングするに先立ち、所望により、表面の圧延油
を除去するための脱脂処理、例えば界面活性剤、有機溶
剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われ
る。但し、圧延油の付着が少い場合は脱脂処理は省略す
ることができる。引き続いて、1種類または毛径が異な
る少なくとも2種類のブラシを用いて、研磨スラリー液
をアルミニウム板表面に供給しながら、ブラシグレイニ
ングを行う。 【0036】機械的な粗面化処理については、特開平6
−135175号公報、特公昭50−40047号公報
に詳しく記載されている。該ブラシグレイニングにおい
て初めに用いるブラシを第1ブラシと呼び、最終に用い
るブラシを第2ブラシと呼ぶ。図5において、51はア
ルミニウム合金板、52、54はローラ状ブラシ、53
は研磨スラリー液および55、56、57、58は支持
ローラである。該グレイン時、図5に示すように、アル
ミニウム板51を挟んでローラ状ブラシ52および54
と、それぞれ二本の支持ローラ55、56および57、
58を配置する。二本の支持ローラ55、56および5
7、58は互の外面の最短距離がローラ状ブラシ52お
よび54の外径よりそれぞれ小なるように配置され、ア
ルミニウム板51がローラ状ブラシ52および54によ
り加圧され、2本の支持ローラ55、56および57、
58の間に押し入れられる様な状態でアルミニウム板を
一定速度で搬送し、かつ研磨スラリー液53をアルミニ
ウム板上に供給してローラ状ブラシを回転させることに
より表面を研磨することが好ましい。 【0037】本発明に用いられるブラシは、ローラ状の
台部にナイロン、ポリプロピレン、動物毛、あるいは、
スチールワイヤなどのブラシ材を均一な毛長および植毛
分布をもって植え込んだもの、台部に小穴を開けブラシ
毛束を植込んだもの、また、チャンネルローラ型のもの
などが好ましく用いられる。その中でも好ましい材料は
ナイロンであり、好ましい植毛後の毛長は10〜200
mmである。なおブラシローラに植え込む際の植毛密度
は1cm2 当り30〜1000本が好ましく、さらに好
ましくは50〜300本である。該ブラシの好ましい毛
径は、0.24〜0.83mmであり、更に好ましくは
0.295〜0.72mmである。毛の断面形状は円が
好ましい。毛径が0.24mmよりも小さいとシャドウ
部での汚れ性能が悪くなり、0.83mmよりも大きい
とブランケット上の汚れ性能が悪くなる場合がある。毛
の材質はナイロンが好ましく、ナイロン6、ナイロン6
・6、ナイロン6・10などが用いられるが、引っ張り
強さ、耐摩耗性、吸水による寸法安定性、曲げ強さ、耐
熱性、回復性などでナイロン6・10が最も好ましい。 【0038】ブラシの本数は、好ましくは1本以上10
本以下であり、更に好ましくは1本以上6本以下であ
る。ブラシローラは特開平6−135175号公報に記
載のように毛径の異なるブラシローラを組み合わせても
よい。次にブラシローラの回転は好ましくは100rp
mから500rpmで任意に選ばれる。支持ローラはゴ
ムあるいは金属面を有し真直度のよく保たれたものが用
いられる。ブラシローラの回転方向は図5に示すように
アルミニウム板の搬送方向に順転に行うのが好ましい
が、ブラシローラが多数本の場合は一部のブラシローラ
を逆転としてもよい。ブラシの押し込み量は、ブラシの
回転駆動モーターの負荷で管理することが好ましく、回
転駆動モータの消費電力が1.0〜15kw、更に2〜
10kwとなるように管理することが好ましい。 【0039】本発明において、上記太いブラシで粗面化
した後、細いブラシで処理することにより、親水性、保
水性および密着性のすべてを兼備えた支持体が得られて
好ましい。その場合、湿し水が少ない場合のシャドー部
のつぶれがないため水幅が広く、地汚れが発生しにく
く、さらに感光層との密着劣化がないことである。本発
明に用いられる研磨スラリー液は、ケイ砂、水酸化アル
ミニウム、アルミナ粉、火山灰、軽石、カーボランダ
ム、金剛砂などの平均粒子径1〜50μm(好ましくは
20〜45μm)の研磨剤を、比重1.05〜1.3と
なるような範囲で水に分散させたものが好ましい。平均
粒子径とは、スラリー液中に含まれる全研磨材の体積に
対し、各径の粒子の占める割合の累積度数をとったと
き、累積割合が50%となる粒子径をいう。なお、機械
的な粗面化後の中心線平均粗さ(Ra)は0.3〜1.
0μmとなる様に処理されることが好ましい。もちろん
スラリー液を吹き付ける方式、ワイヤーブラシを用いた
方式、凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウ
ム板に転写する方式などを用いても良い。その他の方式
としては、特開昭55−074898号公報、特開昭6
1ー162351号公報、特開昭63−104889号
公報などに記載されている。 【0040】このようにアルミニウム板をブラシグレイ
ニングした後、次いで、アルミニウム板の表面を化学的
にエッチングしておくことが好ましい。この化学的エッ
チング処理は、ブラシグレイニング処理されたアルミニ
ウム板の表面に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑など
を取り除く作用を有し、その後に施される電気化学的な
粗面化をより均一に、しかも効果的に達成させることが
できる。 【0041】<アルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理(第1アルカリエッチング処理)>第1アルカリ
エッチング処理は、上記アルミニウム合金板をアルカリ
溶液に接触させることにより、エッチングを行う。第1
アルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行って
いない場合には、前記アルミニウム合金板(圧延アル
ミ)の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜を除去するこ
とを目的として、また、機械的粗面化処理を行った場合
には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ
部分を溶解させ、滑らかなうねりを持つ表面を得ること
を目的として行われる。アルミニウム合金板をアルカリ
溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム
合金板をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方
法、アルミニウム合金板をアルカリ溶液を入れた槽の中
に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム合金
板の表面に噴きかける方法が挙げられる。 【0042】かかる化学的エッチング方法の詳細は、米
国特許第3,834,398号明細書に記載されてい
る。より具体的に説明すると、アルミニウムを溶解し得
る溶液、より具体的にはアルカリの水溶液へ浸漬する方
法である。上記のアルカリとしては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン
酸カリウム、アルミン酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウムなどが含まれる。塩基の水溶液を
使用するとエッチング速度が早い。 【0043】化学的エッチングは、これらのアルカリの
0.05〜40質量%(wt%)水溶液を用い、40℃
〜100℃の液温において5〜300秒処理するのが好
ましい。アルカリ水溶液の濃度は1〜30wt%が好ま
しく、アルミニウムは勿論アルミニウム合金中に含有す
る合金成分が0〜10wt%含有していてよい。アルカ
リ水溶液としては、特に苛性ソーダを主体とする水溶液
が好ましい。液温は常温〜95℃で、1〜120秒間処
理することが好ましい。 【0044】エッチング処理が終了した後には、処理液
を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液
切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。アル
ミニウム板の化学的なエッチング量としては片側のアル
ミニウム板の溶解量が0.001〜30g/m2 が好ま
しく、より好ましくは、1〜15g/m2であり、特に
好ましくは、3〜12g/m2 である。 【0045】<酸性エッチング処理>酸性エッチング処
理は、酸性水溶液中でアルミニウム板を化学的にエッチ
ングする処理であり、上記電気化学的粗面化処理の後に
行うのが好ましい。また、上記電気化学的粗面化処理の
前および/または後に上記アルカリエッチング処理を行
う場合は、アルカリエッチング処理の後に酸性エッチン
グ処理を行うのも好ましい。アルミニウム板に上記アル
カリエッチング処理を施した後に、上記酸性エッチング
処理を施すと、アルミニウム板表面のシリカを含む金属
間化合物または単体Siを除去することができ、その後
の陽極酸化処理において生成する陽極酸化皮膜の欠陥を
なくすことができる。その結果、印刷時にチリ状汚れと
称される非画像部に点状のインクが付着するトラブルを
防止することができる。 【0046】酸性エッチング処理に用いられる酸性水溶
液としては、リン酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、ま
たはこれらの2種以上の混酸を含有する水溶液が挙げら
れる。中でも、硫酸水溶液が好ましい。酸性水溶液の濃
度は、50〜500g/Lであるのが好ましい。酸性水
溶液は、アルミニウムはもちろん、アルミニウム板中に
含有される合金成分を含有していてもよい。 【0047】酸性エッチング処理は、液温を60〜90
℃、好ましくは70〜80℃とし、1〜10秒間処理す
ることにより行うのが好ましい。このときのアルミニウ
ム板の溶解量は0.001〜0.2g/m2 であるのが
好ましい。また、酸濃度、例えば、硫酸濃度とアルミニ
ウムイオン濃度は、常温で晶出しない範囲から選択する
ことが好ましい。好ましいアルミニウムイオン濃度は
0.1〜50g/Lであり、特に好ましくは5〜15g
/Lである。また、酸性エッチング処理が終了した後に
は、処理液を次工程に持ち出さないために、ニップロー
ラによる液切りとスプレーによる水洗とを行うのが好ま
しい。 【0048】<酸性水溶液中でのデスマット処理(第1
デスマット処理)>化学的なエッチングをアルカリ水溶
液を用いて行うと、一般にアルミニウムの表面にはスマ
ットが生成するので、この場合にはリン酸、硝酸、硫
酸、クロム酸、塩酸、またはこれらの2以上の酸を含む
混酸でデスマット処理する。酸性水溶液の濃度は0.5
〜60wt%が好ましい。更に酸性水溶液中にはアルミ
ニウムはもちろんアルミニウム合金中に含有する合金成
分が0〜5wt%が溶解していても良い。また、デスマ
ット処理液として、電気化学的な粗面化処理で発生した
廃液、陽極酸化処理で発生した廃液を用いることが特に
好ましい。 【0049】液温は常温から95℃で実施され、30〜
70℃が特に好ましい。処理時間は1〜120秒が好ま
しく、特に1〜5秒が好ましい。デスマット処理が終了
した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニッ
プローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うこ
とが好ましい。ニップローラーによる液切りとスプレー
による水洗は、デスマット処理液が、次の工程で用いる
液と同じ種類の液、または同じ組成の液を用いるときは
省略することができる。また、電気化学的な粗面化処理
に用いる装置で、電極の溶解防止と粗面化形状のコント
ロールのために補助陽極槽を使用するとき、補助陽極槽
をアルミニウム板に交流が流れて電気化学的粗面化処理
を行う槽の前に持ってくる場合は、電気化学的な粗面化
処理の前の酸性水溶液中でのデスマット工程を省略する
こともできる。 【0050】<電気化学的な粗面化処理>本発明におけ
る電気化学的な粗面化処理は、硝酸を主体とする水溶液
中で特定条件下における電気化学的な粗面化処理(第1
電気化学的粗面化処理)と、塩酸を主体とする水溶液中
で特定条件下における電気化学的な粗面化処理(第2電
気化学的粗面化処理)とを組合わせることに特徴があ
る。これらの特定条件下における電気化学的な粗面化処
理および陽極酸化処理、必要により、機械的粗面化処
理、本明細書で説明する各表面処理を行うことにより、
本発明の目的を達成することができる。以下、特定条件
下における電気化学的な粗面化処理について説明する。 【0051】(1)硝酸を主体とする水溶液(第1電気
化学的粗面化処理) 本発明でいう硝酸を主体とする水溶液は、通常の直流ま
たは交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるもの
を使用でき、1〜100g/Lの硝酸水溶液に、硝酸ア
ルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの
硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化
アンモニウムなどの塩酸イオンを有する塩酸または硝酸
化合物の1つ以上を1g/L〜飽和まで添加して使用す
ることができる。また、銅と錯体を形成する化合物を1
〜200g/Lの割合で添加することもできる。硝酸を
主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケ
ル、チタン、マグネシウム、シリカなどのアルミニウム
合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。次亜塩素
酸や過酸化水素を1〜100g/L添加してもよい。液
温15〜90℃、硝酸を5〜15g/L含有する水溶液
にアルミニウム塩(硝酸アルミニウム)を添加してアル
ミニウムイオンが3〜50g/Lにした水溶液であるこ
とが特に好ましい。硝酸を主体とする水溶液中への添加
物、装置、電源、電流密度、流速、温度としては公知の
電気化学的な粗面化に使用するものが用いることができ
る。電気化学的な粗面化に用いる電源は交流または直流
が用いられるが、交流が特に好ましい。硝酸を主体とす
る水溶液中での電気化学的な粗面化でアルミニウム板が
陽極反応にあずかる電気量は、電気化学的な粗面化処理
が終了した時点で、10〜1000C/dm2 の範囲か
ら選択でき、30〜500C/dm2 が好ましく、45
〜300C/dm2 が特に好ましい。 【0052】(2)塩酸を主体とする水溶液(第2電気
化学的粗面化処理) 本発明でいう塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流ま
たは交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるもの
を使用でき、1〜10g/Lの塩酸水溶液に、硝酸アル
ミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝
酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化ア
ンモニウムなどの塩酸イオンを有する塩酸または硝酸化
合物の1つ以上を1g/L〜飽和まで添加して使用する
ことができる。また、銅と錯体を形成する化合物を1〜
200g/Lの割合で添加することもできる。塩酸を主
体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、
チタン、マグネシウム、シリカなどのアルミニウム合金
中に含まれる金属が溶解していてもよい。次亜塩素酸や
過酸化水素を1〜100g/L添加してもよい。塩酸水
溶液は、液温15〜50℃、塩酸を1〜10g/L含有
する水溶液に、アルミニウム塩(塩化アルミニウム、A
lCl3 ・6H2 O)を10〜70g/Lの割合で添加
してアルミニウムイオン濃度が1〜8g/Lにした水溶
液であることが特に好ましい。このような塩酸水溶液を
用いて電気化学的粗面化処理を行うと、該粗面化処理に
よる表面形状が均一になり、低純度のアルミニウム圧延
板(合金成分を多く含むアルミニウム板または合金成分
を調製していないアルミニウム板)を使用しても、該粗
面化処理による処理ムラが発生せず、平版印刷版とした
ときに優れた耐刷性および印刷性能(汚れ性能)を両立
できる。ここで、塩酸水溶液は、塩酸を1〜10g/L
含有するのが好ましく、2〜6g/L含有するのが特に
好ましい。添加する塩化アルミニウム6水和物は、10
〜70g/Lであるのが好ましく、20〜50g/Lで
あるのがより好ましく、35〜45g/Lであるのが特
に好ましい。塩化アルミニウム6水和物を添加した塩酸
水溶液のアルミニウムイオン濃度は、1〜8g/Lであ
るのが好ましく、2〜6g/Lであるのがより好まし
く、4〜5g/Lであるのが特に好ましい。塩酸を主体
とする水溶液中への添加物、装置、電源、電流密度、流
速、温度としては公知の電気化学的な粗面化に使用する
ものを用いることができる。電気化学的な粗面化に用い
る電源は交流または直流が用いられるが、交流が特に好
ましい。塩酸を主体とする水溶液中での電気化学的な粗
面化でアルミニウム板が陽極反応にあずかる電気量は、
電気化学的な粗面化処理が終了した時点で、10〜10
00C/dm2 の範囲から選択でき、20〜80C/d
2 が好ましく、25〜60C/dm2 が特に好まし
い。 【0053】(3)電気化学的な粗面化 電気化学的な粗面化処理とは、酸性水溶液中で、アルミ
ニウム板とこれに対向する電極との間に、直流または交
流を加えて電気化学的に粗面化処理することをいう。本
発明では、交流が特に好ましいが、該交流は単相、二
相、三相などのいずれでもよい。また、交流と直流とを
重畳した電流を用いることもできる。電解処理槽は公知
のものが何れも使用でき、電気化学的な粗面化に用いる
電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型など公知の表
面処理に用いる電解槽が使用可能である。電解処理槽は
複数個設けても良い。また、酸またはアルカリ水溶液中
でのエッチング処理、酸性水溶液中でのデスマット処
理、酸または中性塩水溶液中でのアルミニウム板のカソ
ード電解処理などを挟んで電気化学的な粗面化処理を繰
り返し行っても良い。 【0054】a)アルミニウム板への給電方法 アルミニウム板への給電方式はコンダクタロールを用い
た直接給電方式またはコンダクタロールを用いない液給
電方式(間接給電方式)を用いることができる。電解槽
内を通過する電解液はアルミニウムウェブの進行とパラ
レルでもカウンターでもよい。ひとつの電解槽には1個
以上の交流電源が接続することができる。間接給電方式
を用いるときは、特公平6−37716号公報、特公平
5−42520号公報に記載の補助陽極を用いた方法
で、アルミニウム板に加わる陽極時の電気量と陰極時の
電気量の比を調整することが好ましい。補助陽極に流れ
る電流はサイリスタ、ダイオード、GTOなどの整流素
子を用いて制御することが特に好ましい。特公平6−3
7716号公報に記載の方式を用いれば、電気化学的な
粗面化反応が行われる主極のカーボン電極に対向するア
ルミニウム板表面における交流電流の陽極時の電気量と
陰極時の電気量(電流値)を容易に制御できる。また、
電源装置制作上も変圧器の偏磁の影響も小さく非常にコ
スト的に有利である。 【0055】サイン波を用いた電気化学的な粗面化を行
うときの電流値の制御方法は、変圧器、可変式誘導電圧
調整器などを併用して用い、電解に用いる電流値を可変
式誘導電圧調整器にフィードバックして行う。そのと
き、電流値を制御する方法では特開昭55−25381
号公報に記載のように、サイリスタで位相制御する方式
を併用することもできる。 【0056】電気化学的な粗面化処理ではアルミニウム
板と電極の距離と液流速が一定でないと電流の偏りが発
生しやすく、その結果アルミニウム表面の処理ムラとな
って平版印刷板用支持体として適さないものが製造され
てしまう。その問題点を解決するために、内部に液たま
り室を設け、アルミニウムウェブの巾方向に1〜5mm
の液吹き出し用のスリットを設けた給液ノズルを用いる
ことができる。また、複数の液たまり室を設け、それぞ
れの液たまり室につながる配管にはバルブと流量計を設
けてそれぞれのスリットから吹き出す液量を調整するこ
とを行うのが特に好ましい。アルミニウムウェブと電極
の距離は5〜100mm、特に8〜15mmが好まし
い。この距離を一定に保つために特公昭61−3003
6号公報に記載の、走行するウェブを摺動しうる面に静
圧を利用してウェブを摺動面に圧接させつつ走行させる
方式が用いられる。または特開平8−300843号公
報に記載のように直径の大きなローラーを用いて電極と
アルミニウム板の距離を一定に保つ方法も用いることが
できる。 【0057】直接給電方式を用いるときは、特開昭58
−177441号公報に記載のようなコンダクタロール
を用い、特開昭56−123400号公報に記載の装置
で電気化学的に粗面化処理することが好ましい。コンダ
クタロールはアルミニウムウェブの上面または下面に設
けることが可能であるが、アルミニウム板の上面に設
け、ニップ装置にてアルミニウム板に押しつけるように
するのが特に好ましい。アルミニウム板がコンダクタロ
ールに接する長さは、アルミ進行方向に対して1〜30
0mmが好ましい。アルミニウム板を挟んでコンダクタ
ロールに対向するパスロールはゴム製のロールであるこ
とが好ましい。押しつけ圧、ゴムロールの硬度はアーク
スポットの発生しない条件で任意に設定する。コンダク
タロールをアルミニウム板の上面に設置することで、コ
ンダクタロールの交換作業・点検作業が簡単になる。コ
ンダクタロールの端部には給電ブラシを回転体に摺動さ
せながら通電する方式を用いるのが好ましい。アルミニ
ウム板に押しつけられたコンダクターロールにはアーク
スポットの発生を防止するために常に電気化学的な粗面
化に用いる電解液と同じ組成、同じ温度の電解液により
常に冷却する事が好ましい。電解液の中に異物が入ると
アークスポットの原因になりやすいので、冷却に用いる
スプレーに濾布などを巻いたり、スプレー管の上流側の
配管にメッシュの細かいフィルターを入れるなどする事
が好ましい。 【0058】b)交流を用いた電気化学的な粗面化 電気化学的な粗面化に用いる交流電源波形は、サイン
波、矩形波、台形波、三角波などを用いることができる
が、矩形波または台形波が好ましく、台形波が特に好ま
しい。周波数は0.1〜500Hzが好ましく、40〜
120Hzが更に好ましく、45〜65Hzが特に好ま
しい。台形波を用いる場合は、電流が0からピークに達
するまでの時間tpは0.1〜2msecが好ましく、
0.3〜2msecが特に好ましい。電源回路のインピ
ーダンスの影響のため、tpが0.1未満であると電流
波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、電
源の設備コストが高くなる。2msecより大きくなる
と、電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり均一な
粗面化が行われにくくなる。電気化学的な粗面化に用い
る交流の1サイクルの条件が、アルミニウム板のアノー
ド反応時間taが交流の周期Tに占める割合(本発明に
おいて「duty」という。)ta/Tは、0.33〜
0.66が好ましく、0.45〜0.55が更に好まし
く、0.5が特に好ましい。アルミニウム合金板の表面
には、カソード反応時に、水酸化アルミニウムを主体と
する酸化皮膜が生成し、更に、酸化皮膜の溶解や破壊が
生じることがある。そして、酸化皮膜の溶解や破壊が生
じると、溶解や破壊が生じた部分は、次のアルミニウム
合金板のアノード反応時におけるピッティング反応の開
始点となる。したがって、交流のdutyの選択は均一
な電解粗面化処理を行う点で、特に重要である。 【0059】主極に対向するアルミニウム板に加わる電
気量は、アルミニウム板がカソード反応時の電気量Qc
とアノード反応時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.9
〜1.0の範囲であり、好ましくは、0.92〜0.9
8であり、特に好ましくは、0.94〜0.96であ
る。Qc/Qaがこの範囲であると、粗面化処理による
処理ムラが発生せず、平版印刷版としたときに耐刷性お
よび印刷性能(汚れ性能)を両立できる。また、Qc/
Qaが1.0超では、電極が溶解する場合がある。この
電気量比のコントロールは電源が発生する電圧を制御し
て行うことができる。電解粗面化処理を、主極のアノー
ド電流を分流する補助電極を有する交流電解槽を用いて
行う場合には、特開昭60−43500号公報および特
開平1−52098号公報に記載されているように、補
助電極に分流するアノード電流の電流値を制御すること
により、Qc/Qaを制御することができる。電流密度
は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ia、
カソードサイクル側Icともに10〜200A/dm2
が好ましい。Ia/Icは0.5〜3の範囲にあること
が好ましい。本発明で交流を用いた電気化学的な粗面化
に用いる電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型など
公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特
開平5−195300号公報に記載のようなラジアル型
電解槽またはフラット型が特に好ましい。電極はカーボ
ンを主電極とし、補助陽極としてフェライトを用いるこ
とが特に好ましい。また、交流電解槽を複数台直列に配
設した電解粗面化処理装置も好適に用いることができ
る。 【0060】補助陽極を有する電解槽は、主極を有する
電解槽の前または後に設置することができるが、特に塩
酸を主体とする電気化学的な粗面化工程で用いる補助電
極を有する電解槽は、主極を有する電解槽の前に持って
くることが、処理ムラの発生を低減できる点で好まし
い。また、補助電極を有する電解槽の入口(液面)と主
極を有する電解槽の入口(液面)までの距離があまり長
いと塩酸の化学的な溶解反応でアルミニウム板中の金属
間化合物が溶解して深い穴となり、その部分の感光層が
厚塗りとなって印刷時のムラとなる。そのためアルミニ
ウム板が補助電極を有する電解槽の入口(液面)から主
極を有する電解槽の入口(液面)までの時間を3秒以下
とすることが好ましい。 【0061】電解粗面化処理においては、1または2以
上の交流電解槽において、1つの電解槽内で極性の異な
る電源端子につながれた、主極と主極の間のアルミニウ
ム合金板と、これらの主極との間に交流が流れない休止
期間を1回以上設け、前記休止期間の長さを0.001
〜0.6秒とすると、ハニカムピットがアルミニウム合
金板の表面全体に均一に形成されるので好ましい。より
好ましくは0.005〜0.55秒、更に好ましくは
0.01〜0.5秒である。直列に配置された2以上の
交流電解槽を用いる場合には、一の交流電解槽と他の交
流電解層との間におけるアルミニウム合金板に交流が流
れない時間を0.001〜20秒とするのが好ましい。
より好ましくは0.1〜15秒、更に好ましくは1〜1
2秒である。 【0062】図2に、本発明に好適に用いられるフラッ
ト型交流電解槽を備える電解粗面化処理装置の一例の断
面模式図を示す。図2において、2は交流電解槽、4
A、4B、4Cは主極、6A、6Bは搬送ローラ、8A
は導入ローラ、8Bは導出ローラおよび100は電解粗
面化処理装置である。電解粗面化処理装置100は、ア
ルミニウムウェブWを略水平方向に搬送しつつ三相の交
流(以下「三相交流電流」ともいう。)を印加して電解
粗面化処理を施す電解粗面化処理装置である。 【0063】電解粗面化処理装置100は、アルミニウ
ムウェブWの搬送方向aに沿って延在し上面が開放され
た浅い箱状の交流電解槽2と、交流電解槽2の底面近傍
に搬送方向aに沿って、アルミニウムウェブWの搬送経
路である搬送面Tに対して平行に配設された三つの板状
の主極4A、4Bおよび4Cと、交流電解槽2の内部に
おける搬送方向aに対して上流側(以下、単に「上流
側」という。)および搬送方向aに対して下流側(以
下、単に「下流側」という。)の端部近傍に配設され、
交流電解槽2内部においてアルミニウムウェブWを搬送
する搬送ローラ6Aおよび6Bと、交流電解槽2の上方
における上流側に位置し、アルミニウムウェブWを交流
電解槽2の内部に導入する導入ローラ8Aと、交流電解
槽2の上方における下流側に位置し、交流電解槽2内部
を通過したアルミニウムウェブWを交流電解槽2の外部
に導出する導出ローラ8Bとを備える。交流電解槽2内
部には、上述した酸性水溶液が貯留されている。主極4
A、4Bおよび4Cは、それぞれ三相の交流を発生させ
る交流電源TacのU端子、V端子およびW端子に接続
されている。したがって、主極4A、4Bおよび4Cに
印加される交流は、位相が120°ずつずれている。 【0064】電解粗面化処理装置100の作用について
以下に説明する。アルミニウムウェブWは、導入ローラ
8Aによって交流電解槽2の内部に導入され、搬送ロー
ラ6Aおよび6Bによって搬送方向aに沿って一定速度
で搬送される。交流電解槽2の内部において、アルミニ
ウムウェブWは、主極4A、4Bおよび4Cに対して平
行に移動するとともに、主極4A、4Bおよび4Cから
交流を印加される。これにより、アルミニウムウェブW
において、アノード反応とカソード反応とが交互に起
き、アノード反応が起きているときには主にハニカムピ
ットが生じ、カソード反応が起きているときには主に水
酸化アルミニウムの皮膜が生じて、表面が粗面化され
る。主極4A、4Bおよび4Cに印加される交流は、上
述したように位相が120°ずつずれているから、主極
4Bにおいては、主極4Aの位相(U相)よりも120
°遅れた位相(V相)でアノード反応とカソード反応と
が繰り返され、主極4Cにおいては、主極4Bよりも1
20°遅れた位相(W相)でアノード反応とカソード反
応とが繰り返される。したがって、アルミニウムウェブ
Wにおいては、周波数の同一の単相の交番波形電流を印
加した場合に比べて、3倍の頻度でアノード反応とカソ
ード反応とが繰り返されるから、高い搬送速度および電
流密度で電解粗面化処理を行う場合においても、幅方向
の縞であるチャタマークが生じにくい。 【0065】図3に、本発明に好適に用いられるフラッ
ト型交流電解槽を備える電解粗面化処理装置の他の一例
の断面模式図を示す。図3において、図2と同一の符号
は、図2において前記符号が示す要素と同一の要素を示
し、10は補助電解槽、12は補助電極、14A、14
Bは搬送ローラ、16Aは導入ローラ、16Bは導出ロ
ーラ、102は電解粗面化処理装置およびTh1、Th
2、Th3はサイリスタである。電解粗面化処理装置1
02は、上述した電解粗面化処理装置100が備える交
流電解槽2の前段に補助電解槽10を配設した電解粗面
化処理装置である。補助電解槽10は、上面が開放され
た箱型であり、底面近傍に、アルミニウムウェブWの搬
送面Tに対して平行に板状の補助電極12が設けられて
いる。補助電解槽10の上流側壁面の近傍と下流側壁面
の近傍とには、アルミニウムウェブWを補助電極12の
上方において搬送する搬送ローラ14Aおよび14Bが
配設されている。また、補助電解槽10の上方における
上流側には、アルミニウムウェブWを補助電解槽10の
内部に導入する導入ローラ16Aが設けられ、補助電解
槽10の上方における下流側には、補助電解槽10内部
を通過したアルミニクムウェブWを外部に導出する導出
ローラ16Bが設けられている。補助電解槽10内部に
は、上述した酸性水溶液が貯留されている。 【0066】交流電源TacのU相、V相およびW相
は、それぞれ補助電極12に接続され、U相、V相およ
びW相のそれぞれと補助電極12との間には、サイリス
タTh1、Th2およびTh3が介装されている。サイ
リスタTh1、Th2およびTh3は、いずれも点弧時
に交流電源Tacから補助電極12に向って電流が流れ
るように接続されている。したがって、サイリスタTh
1、Th2およびTh3のいずれを点弧したときも、補
助電極12にはアノード電流が流れるから、サイリスタ
Th1、Th2およびTh3を位相制御することによ
り、補助電極12に流れるアノード電流の電流値を制御
することができ、したがって、Qc/Qaの値も制御す
ることができる。 【0067】図4に、本発明に好適に用いられるラジア
ル型交流電解槽を備える電解粗面化処理装置の一例の断
面模式図を示す。図4において、20は交流電解槽、2
6A、26Bは主極、34は補助電解槽、35は上流側
案内ローラ、36は補助電極、22は交流電解槽本体、
22Aは開口部、24は送りローラ、28A、28Bは
給液ノズル、30Aは上流側案内ローラ、30Bは下流
側案内ローラ、32は溢流槽、34Aは補助電解槽の底
面、104は電解粗面化処理装置およびTh4、Th5
はサイリスタである。電解粗面化処理装置104は、酸
性水溶液が貯留される交流電解槽本体22を備える交流
電解槽20と、交流電解槽本体22内部に収容され、水
平方向に伸びる軸線の周りに回転可能に配設され、アル
ミニウムウェブWを、図4における左方から右方に向か
って、搬送方向aで送る送りローラ24とを備えてい
る。交流電解槽本体22内部には、上述した酸性水溶液
が貯留されている。交流電解槽本体22の内壁面は、送
りローラ24を囲むように略円筒状に形成されており、
前記内壁面上には、半円筒状の主極26Aおよび26B
が送りローラ24を挟んで設けられている。主極26A
および26Bは、複数の小電極に分割され、それぞれの
小電極の間には、絶縁性のスペーサーが介装されてい
る。小電極は、例えば、グラファイトや金属を用いて形
成することができ、スペーサーは、例えば、塩化ビニル
樹脂により形成することができる。スペーサーの厚さは
1〜10mmであるのが好ましい。また、図4において
は簡略的に示したが、主極26Aおよび26Bのいずれ
においても、スペーサーにより分割された小電極のそれ
ぞれが交流電源Tacに接続されている。 【0068】交流電解槽20の上部には、アルミニウム
ウェブWを交流電解槽本体22に導入し、また、導出す
るための開口部22Aが形成されている。交流電解槽本
体22における開口部22Aの近傍には、交流電解槽本
体22に酸性水溶液を補充する給液ノズル28Aが設け
られている。また、給液ノズル28Bも別途設けられて
いる。交流電解槽20の上方における開口部22A近傍
には、アルミニウムウェブWを交流電解槽本体22内部
に案内する一群の上流側案内ローラ30Aと、交流電解
槽本体22内で電解粗面化処理されたアルミニウムウェ
ブWを外部に案内する一群の下流側案内ローラ30Bと
が配設されている。 【0069】交流電解槽20においては、交流電解槽本
体22の下流側に隣接して溢流槽32が設けられてい
る。溢流槽32内部には、上述した酸性水溶液が貯留さ
れている。溢流槽32は、交流電解槽本体22から溢流
した酸性水溶液を一時貯留し、交流電解槽本体22にお
ける酸性水溶液の液面の高さを一定に保持する機能を有
する。 【0070】交流電解槽本体22の前段(上流)には、
補助電解槽34が設けられている。補助電解槽34は、
交流電解槽本体22よりも浅く、底面34Aが平面状に
形成されている。そして、底面34A上には、円柱状の
補助電極36が複数本儲けられている。補助電解槽34
内部には上述した酸性水溶液が貯留されている。補助電
極36は、白金などの高耐食性の金属、フェライトなど
により形成されているのが好ましい。また、補助電極3
6は板状であってもよい。補助電極36は、交流電源T
acにおける主極26Aが接続される側に、主極26A
に対して並列に接続され、中間には、サイリスタTh4
が、点弧時に交流電源Tacにおける前記側から補助電
極36に向かって電流が流れるように接続されている。
また、交流電源Tacにおける主極26Bが接続された
側も、サイリスタTh5を介して補助電極36に接続さ
れている。サイリスタTh5も、点弧時に交流電源Ta
cにおける主極26Bが接続された側から補助電極36
に向かって電流が流れるように接続されている。サイリ
スタTh4およびTh5のいずれを点弧したときも、補
助電極36にはアノード電流が流れる。したがって、サ
イリスタTh4およびTh5を位相制御することによ
り、補助電極36に流れるアノード電流の電流値を制御
することができ、したがって、Qc/Qaの値も制御す
ることができる。 【0071】電解粗面化処理装置104の作用について
以下に説明する。図4における左方から、アルミニウム
合金板Wは、まず、上流側案内ロ一ラ35によって補助
電解槽34内に案内され、次いで上流側案内ローラ30
Aによって交流電解槽本体22に案内される。そして、
送りローラ24によって図4における左方から右方に向
かって送られ、下流側案内ロ一ラ30Bにより導出され
る。交流電解槽本体22および補助電解槽34の内部に
おいて、アルミニウムウェブWは、主極26Aおよび2
6Bに印加された交流電流と、補助電極36に印加され
たアノード電流とにより、主極26Aおよび26Bに面
する側の表面が粗面化され、ほぼ均一なハニカムピット
が形成される。 【0072】(4)粗面化に用いる廃液のリサイクル 各粗面化処理に用いた液(廃液)は可能な限りリサイク
ルすることが好ましい。アルミニウムイオンが溶けた苛
性ソーダ水溶液では晶析法によるアルミニウムと苛性ソ
ーダの分離を行うことができる。アルミニウムイオンが
溶けた硫酸水溶液、硝酸水溶液または塩酸水溶液では電
気透析法やイオン交換樹脂による硫酸または硝酸の回収
を行うことができる。アルミニウムイオンが溶けた塩酸
水溶液では特開2000−282272号公報に記載さ
れているような蒸発による回収を行うこともできる。本
発明では、電気化学的粗面化処理で用いた電解液の廃液
をデスマット処理(第1、第2および第3デスマット処
理)に用いるのが好ましい。また、電気化学的な粗面化
処理、または、陽極酸化処理の前に行うデスマット処理
は、デスマット処理の後に行う粗面化処理または陽極酸
化処理と同じ種類の液を用いることが好ましく、同じ組
成の液を用いることが特に好ましい。そうすることで、
デスマット処理とその次の工程の間に設ける水洗工程を
省略することができ、設備の簡素化と廃液量の低減が可
能となる。 【0073】<アルカリ水溶液中での化学的なエッチン
グ処理(第2および第3アルカリエッチング処理)>第
1電気化学的粗面化処理の後で第2電気化学的粗面化処
理の前に第2アルカリエッチング処理を行うのが好まし
い。この処理により第2電気化学的粗面化処理を均一に
行うことができ、かつ、アルミニウム板の表面形状が均
一で耐刷性および印刷性能に優れた平版印刷版が得られ
る。また、第2電気化学的粗面化処理の後で陽極酸化処
理の前に第3アルカリエッチング処理を行うのが好まし
い。この処理により第2電気化学的粗面化処で生成した
スマット成分(水酸化アルミニウムが主成分)を除去で
き、かつ、アルミニウム板の表面形状が均一で耐刷性お
よび印刷性能に優れた平版印刷版が得られる。第2アル
カリエッチング処理および第3アルカリエッチング処理
は、上記アルミニウム合金板をアルカリ溶液に接触させ
ることにより、エッチングを行う。アルカリの種類、ア
ルミニウム合金板をアルカリ溶液に接触させる方法およ
びそれに用いる装置は、第1アルカリエッチング処理の
場合と同様のものが挙げられる。アルカリ溶液に用いら
れるアルカリとしては、第1アルカリエッチング処理の
場合と同様のものが挙げられる。アルカリ溶液の濃度
は、エッチング量に応じて決定することができるが、
0.01〜80質量%であるのが好ましい。アルカリ溶
液の温度は20〜90℃であるのが好ましい。処理時間
は1〜60秒であるのが好ましい。第2アルカリエッチ
ング処理においては、アルミニウム板(電解粗面化処理
を施した面)の溶解量は、好ましくは、0.001〜3
0g/m2 であり、より好ましくは、0.1〜4g/m
2 であり、特に好ましくは、0.2〜1.5g/m 2
ある。第3アルカリエッチング処理においては、アルミ
ニウム板(電解粗面化処理を施した面)の溶解量は、好
ましくは、0.001〜30g/m2 であり、より好ま
しくは、0.1〜2g/m2 であり、特に好ましくは、
0.1〜0.6g/m 2 である。 【0074】第2アルカリエッチング処理の後に第2デ
スマット処理を行うのが好ましい。第2電気化学的粗面
化処理をより均一に行うことができる。また、第3アル
カリエッチング処理の後に第3デスマット処理を行うの
が好ましい。第3アルカリエッチング処理で発生した水
酸化物を除去でき、かつ、印刷時に支持体と感光層の密
着性が高い平版印刷版が得られる。第2デスマット処理
および第3デスマット処理は、例えば、上記アルミニウ
ム合金板をリン酸、塩酸、硝酸、硫酸などの濃度0.5
〜30質量%の酸性溶液(アルミニウムイオン0.01
〜5質量%を含有する。)に接触させることにより行
う。アルミニウム合金板を酸性溶液に接触させる方法
は、第1デスマット処理の場合と同様のものが挙げられ
る。第2デスマット処理および第3デスマット処理にお
いては、酸性溶液として、後述する陽極酸化処理におい
て排出される硫酸溶液の廃液を用いるのが好ましい。ま
た、該廃液の代わりに、硫酸濃度が100〜600g/
L、アルミニウムイオン濃度が1〜10g/Lであり、
液温が60〜90℃である硫酸溶液を用いることもでき
る。第2デスマット処理および第3デスマット処理の液
温は、25〜90℃であるのが好ましい。また、第2デ
スマット処理および第3デスマット処理の処理時間は、
1〜180秒であるのが好ましい。第2デスマット処理
および第3デスマット処理に用いられる酸性溶液には、
アルミニウムおよびアルミニウム合金成分が溶け込んで
いてもよい。 【0075】<陽極酸化処理>アルミニウム板の表面の
耐磨耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アル
ミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては
多孔質酸化皮膜を形成するものならば、いかなるもので
も使用することができる。一般には硫酸、リン酸、シュ
ウ酸、クロム酸、またはそれらの混合液が用いられる。
それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決め
られる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質によって変
わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃
度が1〜80wt%、液温は5〜70℃、電流密度1〜
60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜
300秒の範囲にあれば適当である。硫酸法は通常直流
電流で処理が行われるが、交流を用いることも可能であ
る。陽極酸化皮膜の量は1〜5g/m2 の範囲が適当で
ある。1g/m2よりも少ないと耐刷性が不十分であっ
たり、平版印刷版の非画像部に傷が付きやすくなって、
同時にきずの部分にインキが付着する、いわゆるきず汚
れが生じやすくなる。また、陽極酸化皮膜量が多くなる
と、アルミニウムエッチ部分へ酸化皮膜が集中しやすく
なるので、アルミニウム板のエッチの部分と中心部分の
酸化皮膜量の差は、1g/m2 以下であることが好まし
い。 【0076】硫酸水溶液中での陽極酸化については、特
開昭54−128453号、特開昭48−45303号
各公報に詳しく記載されている。硫酸濃度10〜300
g/L、アルミニウムイオン濃度1〜25g/Lとする
ことが好ましく、50〜200g/Lの硫酸水溶液中に
硫酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を
2〜10g/Lとすることが特に好ましい。液温は30
〜60℃が好ましい。直流法を用いるとき、電流密度1
〜60A/dm2 、特に5〜40A/dm2 が好まし
い。連続的にアルミニウムシートを陽極酸化する場合
は、アルミニウム板の焼けと呼ばれる電流集中を防ぐた
めに最初5〜10A/dm2 の低電流密度で陽極酸化処
理を行い、後半に行くに従い徐々に電流密度を上げて3
0〜50A/dm2 になるまで、あるいはそれ以上に電
流密度を設定することが特に好ましい。電流密度は5〜
15ステップで徐々に上げることが好ましい。各ステッ
プごとには独立した電源装置を持ち、この電源装置の電
流値で電流密度をコントロールする。給電方法はコンダ
クタローラを用いない液給電方式が好ましい。特開20
01−11698Aにはその一例が示されている。 【0077】硫酸水溶液中にはアルミニウム板に含まれ
る微量成分元素が少量溶解していても良いのはもちろん
である。陽極酸化処理中の硫酸水溶液にはアルミが溶出
するため、工程の管理のためには硫酸濃度とアルミニウ
ムイオン濃度を管理する必要がある。アルミニウムイオ
ン濃度を低く設定すると陽極酸化を行う硫酸水溶液の更
新を頻繁に行わなければならず、廃液量が増えて経済的
でないばかりでなく環境面でも問題である。また、アル
ミニウムイオン濃度を高く設定すると電解電圧が高くな
り電力コストがかさみ経済的でない。好ましい陽極酸化
の硫酸濃度、アルミイオン濃度、液温としては、 (その1) 硫酸濃度 100〜200g/L(更に130〜180
g/L) アルミニウムイオン濃度 2〜10g/L(更に3〜7
g/L) 液温30〜40℃(更に33〜38℃) (その2) 硫酸濃度 50〜125g/L(更に80〜120g/
L) アルミニウムイオン濃度 2〜10g/L(更に3〜7
g/L) 液温40〜70(更に50〜60℃) である。 【0078】陽極酸化処理でのアルミニウム板電への給
電方式は、コンダクタロールを用いて直接アルミニウム
板に給電する直接給電方式と、電解液を通じてアルミニ
ウム板に給電する液給電方式がある。直接給電方式はラ
イン速度30m/min以下の比較的低速・低電流密度
の陽極酸化装置で、間接給電方式はライン速度30m/
minを越える高速・高電流密度の陽極酸化装置で用い
られることが多い。間接給電方式は、連続表面処理技術
(総合技術センター、昭和61年9月30日発行)の2
89頁にあるように、山越型またはストレート型の槽レ
イアウトを用いることができる。高速・高電流密度にな
るとコンダクタロールとアルミニウムウェブ間のスパー
ク発生の問題が発生するため、直接給電ロール方式は不
利である。直接給電方式、間接給電方式ともに、アルミ
ニウムウェブ内の電圧ドロップによるエネルギーロスを
少なくする目的で、陽極酸化処理工程は2つ以上に分離
し、それぞれの電解装置の給電槽と酸化槽、またはコン
ダクタロールと酸化槽の間に直流電源を接続して用いる
ことが特に好ましい。直接給電方式を用いる場合は、コ
ンダクタロールはアルミを用いるのが一般的である。ロ
ールの寿命を長くするために、特公昭61−50138
号公報に記載されているような、工業用純アルミニウム
を用いて鋳造したのち、高温均質化処理を施してAl−
Fe系晶出物をAl3 Feの単一層として耐食性を向上
させたものを用いることが特に好ましい。陽極酸化処理
工程においては大電流を流すため、ブスバーに流れる電
流により発生する磁界により、アルミニウム板にローレ
ンツ力が働く。その結果ウェブが蛇行する問題が生じる
ため、特開昭57−51290号公報に記載されている
ような方法を用いることが特に好ましい。 【0079】また、アルミニウム板には大電流が流れる
ため、アルミニウム板自身を流れる電流による磁界によ
り、アルミニウム板の幅方向において中央に向かってロ
ーレンツ力が働く。その結果アルミニウム板に折れが発
生しやすくなるため、陽極酸化処理槽内に直径100〜
200mmのパスローラーを100〜3000mmピッ
チで複数設け、1〜15度の角度でラップさせてローレ
ンツ力による折れを防止する方法をとることが特に好ま
しい。また、陽極酸化皮膜はアルミニウム板の幅方向で
生成量が異なり、エッチに近づくほど生成量が多くなり
厚さが厚くなる。その結果巻き取り装置にてアルミニウ
ム板をうまく巻きとれない問題が生じる。これを解決す
るには、特公昭62−30275号公報または特公昭5
5−21840号公報に記載の方法で液流を撹拌するこ
とにより解決できる。その方法においても不十分な場合
は、アルミニウム板の巻き取り装置を0.1〜10Hz
の周期で5〜50mmの振幅でアルミニウムウェブの幅
方向にオシレートさせて巻き取る方法を併用して用いる
ことが特に好ましい。 【0080】硫酸法では通常、直流電流で処理が行われ
るが、交流を用いることも可能である。陽極酸化皮膜の
量は1〜10g/m2 の範囲が適当である。一般的平版
印刷版材料の場合、陽極酸化皮膜量は1〜5g/m
2 で、1g/m2 よりも少ないと耐刷性が不十分であっ
たり、平版印刷版の非画像部に傷が付きやすくなって、
同時に傷の部分にインキが付着する、いわゆる傷汚れが
生じやすくなる。また、陽極酸化皮膜量が多くなると、
アルミニウム板のエッチ部分へ酸化皮膜が集中しやすく
なるので、アルミニウム板のエッチの部分と中心部分の
酸化皮膜量の差は、1g/m2 以下であることが好まし
い。連続的な陽極酸化処理は液給電方式を用いるのが一
般的である。アルミニウム板に電流を通電するための陽
極としては、鉛、酸化イリジウム、白金、フェライトな
どを用いることができるが、酸化イリジウムを主体とす
るものが特に好ましい。酸化イリジウムは熱処理により
基材に被覆される。基材としてはチタン、タンタル、ニ
オブ、ジルコニウムなどの所謂バルブ金属が用いられる
が、チタンまたはニオブが特に好ましい。前記バルブ金
属は比較的電気抵抗が大きいため、芯材に銅を用い、そ
の周囲にバルブ金属をクラッドすることが特に好まし
い。銅の芯材にバルブ金属をクラッドする場合は、あま
り複雑な形状のものは作れないので、各パーツに分割し
て作成した電極部品を、酸化イリジウムを被覆した後に
ボルト・ナットなどで希望の構造となるように組み立て
るのが一般的である。 【0081】本発明では、デスマット処理液の送液設
備、濃度調整設備を簡素化し、設備コストを低減できる
点で、陽極酸化処理で生じる酸廃液は、デスマット処理
(第1、第2および第3デスマット処理)に用いるのが
好ましい。 【0082】<親水化処理>親水化処理は、平版印刷版
用アルミニウム支持体の製造に一般的に用いられる公知
の親水化処理を用いることができるが、アルカリ金属ケ
イ酸塩で処理するのが好ましく、以下に詳細に説明す
る。陽極酸化処理された支持体は、水洗処理された後、
現像液への陽極酸化皮膜の溶解抑制、感光層成分の残膜
抑制、陽極酸化皮膜強度向上、陽極酸化皮膜の親水性向
上、感光層との密着性向上などを目的に、以下のような
処理を行うことができる。そのひとつとしては陽極酸化
皮膜をアルカリ金属のケイ酸塩水溶液と接触させて処理
するシリケート処理が挙げられる。この場合、アルカリ
金属ケイ酸塩の濃度は0.1〜30質量%、好ましくは
0.5〜15質量%であり、25℃でのpHが10〜1
3.5である水溶液に5〜80℃、好ましくは10〜7
0℃、より好ましくは15〜50℃で0.5〜120秒
間接触させる。接触させる方法は、浸せきでもスプレー
による吹き付けでも、いかなる方法によってもかまわな
い。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液はpHが10より低い
と液はゲル化し、13.5より高いと陽極酸化皮膜が溶
解されてしまう場合がある。本発明に用いられるアルカ
リ金属ケイ酸塩は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケ
イ酸塩水溶液のpH調整に使用される水酸化物として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ムなどがある。なお、上記処理液にはアルカリ土類金属
塩もしくは第IVA族(4族)金属塩を配合してもよ
い。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝
酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムの
ような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、
シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性塩が挙げられる。第
IVA(4族)族金属塩としては、四塩化チタン、三塩
化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリ
ウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニ
ウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属もしくは第I
VA族(4族)金属塩は単独または2種以上組み合わせ
て使用する事ができる。これらの金属塩の好ましい範囲
は、0.01〜10質量%であり、更に好ましくは0.
05〜5.0質量%である。 【0083】<封孔処理>他には、各種封孔処理も挙げ
られ、一般的に陽極酸化皮膜の封孔処理方法として知ら
れている、水蒸気封孔、沸騰水(熱水)封孔、金属塩封
孔(クロム酸塩/重クロム酸塩封孔、酢酸ニッケル封孔
など)、油脂含浸封孔、合成樹脂封孔、低温封孔(赤血
塩やアルカリ土類塩などによる)などを用いる事ができ
るが、印刷版用支持体としての性能(感光層との密着性
や親水性)、高速処理、低コスト、低公害性などの面か
ら水蒸気封孔が比較的好ましい。その方法としては、例
えば特開平4−176690号公報にも記載されている
加圧または常圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対
湿度70%以上・蒸気温度95℃以上で2秒〜180秒
程度陽極酸化皮膜に接触させる方法などが挙げられる。
他の封孔処理法としては、支持体を80〜100℃程度
の熱水またはアルカリ水溶液に浸漬または吹き付け処理
する方法や、これに代えるか、あるいは引き続き、亜硝
酸溶液で浸漬または吹き付け処理することができる。亜
硝酸溶液に含有する亜硝酸塩などの例としては、例えば
LiO2 、NaNO2 、KNO2 、Mg(NO2 2
Ca(NO2 2 、Zn(NO3 2 、Al(NO2
3 、Zr(NO2 4 、Sn(NO2 3 、Cr(NO
2 3 、Co(NO2 2 、Mn(NO2 2 、Ni
(NO2 2 などが好ましく挙げられ、特にアルカリ金
属硝酸塩が好ましい。亜硝酸塩などは2種以上併用する
こともできる。 【0084】処理条件は、支持体の状態およびアルカリ
金属の種類により異なるので一義的には決定できない
が、例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は
一般的には0.001〜10質量%、より好ましくは
0.01〜2質量%、浴温度は一般的には室温から約1
00℃前後、より好ましくは60〜90℃、処理時間は
一般的には15〜300秒、より好ましくは10〜18
0秒のそれぞれの範囲から選択すればよい。亜硝酸水溶
液のpHは8.0〜11.0に調製されていることが好
ましく、8.5〜9.5に調製されていることが特に好
ましい。亜硝酸水溶液のpHを上記の範囲に調製するに
は、例えばアルカリ緩衝液などを用いて好適に調製する
ことができる。該アルカリ緩衝液としては、限定はされ
ないが例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナトリウムの
混合水溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合
水溶液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水
溶液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶
液、塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ酸ナト
リウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液などを好適に用
いることができる。また、上記アルカリ緩衝液はナトリ
ウム以外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩なども用
いることができる。以上のような、シリケート処理また
は封孔処理を施した後、感光層との密着性をアップさせ
るために特開平5−278362号公報に記載されてい
る酸性水溶液処理と親水性下塗りを行うことや、特開平
4−282637号公報や特願平6−108678号明
細書(特開平07−314937号公報)に記載されて
いる有機層を設けてもよい。 【0085】本発明の平版印刷版用アルミニウム支持体
の製造方法は、上記処理の他に、以下の処理を行うこと
もできる。 【0086】<アルミニウム板の水洗>アルミニウム板
を酸またはアルカリ水溶液中での処理、または研磨剤を
用いて機械的に粗面化した後には、薬液や研磨剤をアル
ミニウム板表面から除去する目的で洗浄工程を設けるの
が常法である。洗浄は薬液の種類、組成の異なる処理槽
の中間に設けるのが普通であるが、処理槽から洗浄工程
に入る時間、または、洗浄から次の処理槽に入るまでの
時間は10秒以下が好ましく、0.1〜10秒が特に好
ましい。10秒を越えると表面の化学的な変性が進み、
処理ムラが発生しやすくなる場合がある。また水洗工程
を挟んだ処理槽と処理槽の間隔は、アルミニウムウェブ
の通過時間で15秒以下、特に5秒以下が好ましい。1
5秒を越えると表面の化学的な変性が進んで次工程で均
一な粗面化処理が行われにくくなる場合がある。アルミ
ニウム板を洗浄するにあたっては、以下の方法を用いる
ことが好ましく、排水量を減少させるという目的で、ド
ライアイスパウダーを用いた水洗方式が好ましい。 【0087】(1)水による洗浄 平版印刷板用アルミニウム支持体の洗浄方法としては、
ニップローラーにて液切りした表面を、スプレーチップ
から噴射した水を用いて洗浄する方法を用いるのが一般
的である。水はアルミニウム板の走行方向の下流に向か
って45〜90度の角度で噴射することが好ましい。水
の噴射圧力は、噴射ノズル直前の圧力で、通常0.5〜
5kg/cm2 、液温は10〜80℃が好ましい。走行
するアルミニウム板の移動速度は20〜200m/mi
nであることが好ましい。アルミニウム板に吹き付けら
れる水の液量は、ひとつの洗浄工程で0.1〜10L/
2 の液量が吹き付けられることが好ましい。一つの洗
浄槽には、アルミニウム板の表面に最低2本以上、裏面
に最低2本以上のスプレー管から洗浄水が噴射される。
一つのスプレー管にはピッチ50〜200mmの間隔で
スプレーチップが5〜30本設置される。スプレーチッ
プの噴霧角度は10〜150度、アルミニウム板とスプ
レーチップ噴射面の間隔は10〜250mmが好まし
い。スプレーチップの噴霧の断面形状(スプレーパター
ン)は環状、円形、楕円形、正方形、長方形などがある
が、円形・惰円形または正方形・長方形が好ましい。流
量分布(アルミニウム板の表面における噴霧の水量分配
状態)は環状分布、均等分布、山型分布などがあるが、
スプレーチップをスプレー管に複数並べて使用するとき
は、幅全域での均一な流量分布を容易にする山型分布が
好ましい。流量分布は噴霧圧力とスプレーチップとアル
ミニウム板の距離により変化する。噴霧の粒子径はスプ
レーチップの構造、噴霧圧力、噴霧量によって変わる
が、10〜10000μm、特に100〜1000μm
が好ましい。スプレーノズルの材質は高速で流れる液体
に対して耐摩耗性があることが好ましい。その材質は真
鍮、ステンレス、セラミックなどが用いられるが、セラ
ミックノズルが特に好ましい。スプレーチップを設置し
たスプレーノズルはアルミニウム板の進行方向に対して
45〜90度に配置することができるが、スプレーパタ
ーンの中心のうち長さが長い方の中心線がアルミニウム
板の進行方向と直角になるようにすることが好ましい。
水洗処理工程を通過する洗浄時間は、工業的に10秒以
下が好ましく、特に好ましくは0.5〜5秒が好まし
い。 【0088】(2)ドライアイスパウダーを使った洗浄 ドライアイスパウダーをアルミニウム板の両面に噴射し
て洗浄する方法には、特開平10−66905号公報に
記載されているような公知のショットブラスト装置を用
いることができる。噴射ノズルは特開平10−2890
1号公報、特開平10ー28902号公報に記載されて
いるような公知の噴射ノズルをアルミニウム板の両面に
複数個並べることができる。噴射ノズルは横一直線に配
置しても良いが、アルミニウム板表面の噴射パターンが
アルミニウム板の巾方向で重なるように斜めに設置する
ことが好ましい。噴射ノズルとアルミニウム板の間隔は
1〜100mmが好ましく、特に10〜50mmが好ま
しい。また、パウダー状のドライアイスを製造する方法
は実開平7−38104号公報に記載されているような
製造装置を用いることができる。噴射用の気体はGN2
ガス、または空気を用いることができる。パウダー状の
ドライアイスは1〜1000μmであり、その平均粒径
は10〜100μmが好ましい。噴射ノズル一個あたり
のLCO2 (液化炭酸ガス)供給量は0.1〜1kg/
minが好ましく、その供給圧力は1〜20MPaが好
ましい。アルミニウム板での洗浄圧力は1〜20MPa
が好ましい。 【0089】<パスロールの材質>ロールは、表面にメ
ッキ処理またはライニング処理された公知の鉄鋼、メッ
キ、電解コンデンサ、PS板などの連続生産ラインに用
いる金属ロール、樹脂ロール、ゴムロール、不織布ロー
ルから選定して用いることができる。ロールの材質、表
面の物性値は薬液やそのときのアルミニウム表面の状態
に応じて耐食性、耐摩耗性、耐熱性、耐薬品性などを考
慮して選定する。金属ロールではハードクロムメッキロ
ールが一般的に用いられる。ゴムロールでは天然ゴム、
イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエン
ゴム、ブチルゴム、クロロプレンゴム、クロロスルフォ
ン化ポリエチレン、ニトリルゴム、アクリルゴム、エピ
クロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、多硫化ゴム、フッ
素ゴムなどはもちろんそれらに微量の添加物を添加した
ものを用いることができる。ゴムロールの硬度は60〜
90が特に好ましい。 【0090】上記に詳細に説明した本発明の平版印刷版
用アルミニウム支持体の製造方法によれば、低純度のア
ルミニウム合金板(合金成分を多く含むアルミニウム板
または合金成分を調製していないアルミニウム板)を用
いた場合であっても、表面の凹凸が均一な平版印刷版用
アルミニウム支持体を得ることができる。また、本発明
の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法により得
られた平版印刷版用アルミニウム支持体は、後述するよ
うに感光層を設け平版印刷版原版とすると、これを製版
して平版印刷版としたときに、印刷性能に優れ、かつ、
耐刷性に優れる。 【0091】本発明で得られた平版印刷版用アルミニウ
ム支持体を用いた、平版印刷版およびその製造方法につ
いて説明する。 【0092】<下塗り層>本発明においては、このよう
にして得られた本発明の平版印刷版用アルミニウム支持
体上に、感光層を設ける前に、必要に応じて、例えば、
ホウ酸亜鉛などの水溶性金属塩のような無機下塗層や、
有機下塗層を設けてもよい。 【0093】有機下塗層に用いられる有機化合物として
は、例えば、カルボキシメチルセルロース;デキストリ
ン;アラビアガム;スルホン酸基を側鎖に有する重合体
および共重合体;ポリアクリル酸;2−アミノエチルホ
スホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類;置換基
を有していてもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホス
ホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メ
チレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸などの有機
ホスホン酸;置換基を有していてもよいフェニルリン
酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸、グリセロリン酸
などの有機リン酸;置換基を有していてもよいフェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフ
ィン酸、グリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン
酸;グリシン、β−アラニンなどのアミノ酸類;トリエ
タノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有する
アミンの塩酸塩;黄色染料が挙げられる。これらは単独
で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 【0094】有機下塗層は、水もしくはメタノール、エ
タノール、メチルエチルケトンなどの有機溶媒、または
それらの混合溶剤に、上記有機化合物を溶解させた溶液
をアルミニウム板上に塗布し乾燥することにより設けら
れる。上記有機化合物を溶解させた溶液の濃度は、0.
005〜10質量%であるのが好ましい。塗布の方法
は、特に限定されず、バーコーター塗布、回転塗布、ス
プレー塗布、カーテン塗布などのいずれの方法も用いる
ことができる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜2
00mg/m2 であるのが好ましく、5〜100mg/
2 であるのがより好ましい。上記範囲であると、耐刷
性がより良好になる。 【0095】<感光層>本発明により得られる平版印刷
版用アルミニウム支持体に、感光層を設けて、平版印刷
版原版が得られる。感光層は、特に限定されないが、例
えば、通常の可視光で露光する可視光露光型製版層、赤
外線レーザ光などのレーザ光で露光するレーザ露光型製
版層が挙げられる。なかでも、レーザで直接描画し、
光熱変換により発生する熱によりアルカリ現像液に対す
る可溶性が変化するポジ型画像形成層、 レーザで直接描画し、光熱変換により発生する熱によ
りアルカリ現像液に対する可溶性が変化する感光層が、
下記A層とB層を順次積層し、B層に、光を吸収して発
熱する化合物を含有する感光層、 A層:モノマー(a−1)〜(a−3)の少なくとも1
つを共重合成分として10モル%以上含む共重合体を5
0質量%以上含有する層 B層:フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶
性樹脂を50質量%以上含有する層 レーザで直接描画し、光熱変換により発生する熱によ
りアルカリ現像液に対する可溶性が変化するネガ型画像
形成層、 ラジカル付加重合反応を利用したレーザで直接描画可
能な画像形成層、 ポジ型感光性画像形成層、 ネガ型感光性画像形成層、 が好ましい。以下、感光層について説明する。 【0096】(1)可視光露光型製版層 可視光露光型製版層は、感光性樹脂および必要に応じて
着色剤などを含有する組成物により形成することができ
る。感光性樹脂としては、光が当たると現像液に溶ける
ようになるボジ型感光性樹脂、光が当たると現像液に溶
解しなくなるネガ型感光性樹脂が挙げられる。ポジ型感
光性樹脂としては、例えば、キノンジアジド化合物、ナ
フトキノンジアジド化合物などのジアジド化合物と、フ
ェノールノボラック樹脂、クレゾール−ノボラック樹脂
などのフェノール樹脂との組み合わせが挙げられる。ネ
ガ型感光性樹脂としては、例えば、ジアゾ樹脂(例え
ば、芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドなどのア
ルデヒド類との縮合物)、前記ジアゾ樹脂の無機酸塩、
前記ジアゾ樹脂の有機酸塩などのジアゾ化合物と、(メ
タ)アクリレート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン
樹脂などの結合剤との組み合わせ、(メタ)アクリレー
ト樹脂、ポリスチレン樹脂などのビニルポリマーと、
(メタ)アクリル酸エステル、スチレンなどのビニル重
合性化合物と、ベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン誘導
体、チオキサントン誘導体などの光重合開始剤との組み
合わせが挙げられる。 【0097】着色剤としては、通常の色素のほか、露光
により発色する露光発色色素、露光によりほとんどまた
は完全に無色になる露光消色色素などを用いることがで
きる。露光発色色素としては、例えば、ロイコ色素が挙
げられる。露光消色色素としては、例えば、トリフェニ
ルメタン系色素、ジフェニルメタン系色素、オキザジン
系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色
素、アゾメチン系色素、アントラキノン系色素が挙げら
れる。 【0098】可視光露光型製版層は、例えば、上記感光
性樹脂と上記着色剤とを溶剤に配合した感光性樹脂溶液
を塗布し、その後、乾燥させることにより形成すること
ができる。感光性樹脂溶液に用いられる溶剤としては、
上記感光性樹脂を溶解することができ、かつ、室温であ
る程度の揮発性を有する溶剤が挙げられる。具体的に
は、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステ
ル系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールエーテル系溶
剤、アミド系溶剤、炭酸エステル系溶剤が挙げられる。
アルコール系溶剤としては、例えば、エタノール、プロ
パノール、ブタノールが挙げられる。ケトン系溶剤とし
ては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
プロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチル
ケトンが挙げられる。エステル系溶剤としては、例え
ば、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸メチル、ギ酸エチ
ルが挙げられる。エーテル系溶剤としては、例えば、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンが挙げられる。グリコー
ルエーテル系溶剤としては、例えば、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブが挙げられ
る。アミド系溶剤としては、例えば、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミドが挙げられる。炭酸エステ
ル系溶剤としては、例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピ
レン、炭酸ジエチル、炭酸ジブチルが挙げられる。 【0099】感光性樹脂溶液の塗布方法は、特に限定さ
れず、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布
法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布
法などの従来公知の方法を用いることができる。 【0100】(2)レーザ露光型製版層 レーザ露光型製版層としては、例えば、レーザ光を照射
した部分が残存するネガ型レーザ製版層、レーザ光を照
射した部分が除去されるポジ型レーザ製版層、レーザ光
を照射すると光重合する光重合型レーザ製版層が主なも
のとして挙げられる。 【0101】ネガ型レーザ製版層は、(A)熱または光
により分解して酸を発生させる酸前駆体、(B)酸前駆
体(A)が分解して発生した酸により架橋する酸架橋性
化合物、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)赤外線吸収
剤、および(E)フェノール性水酸基含有化合物を適当
な溶剤に溶解させ、または懸濁させたネガ型レーザ製版
層形成液を用いて形成することができる。 【0102】酸前駆体(A)としては、例えば、イミノ
フォスフェート化合物のように、紫外光、可視光または
熱により分解してスルホン酸を発生させる化合物が挙げ
られる。ほかには、光カチオン重合開始剤、光ラジカル
重合開始剤、光変色剤などとして一般に使用されている
化合物も、酸前駆体(A)として用いることができる。
酸架橋性化合物(B)としては、例えば、アルコキシメ
チル基およびヒドロキシル基のうち少なくとも一方を有
する芳香族化合物、N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基またはN−アシルオキシメチル基を有す
る化合物、エポキシ化合物が挙げられる。アルカリ可溶
性樹脂(C)としては、例えば、ノボラック樹脂、ポリ
(ヒドロシスチレン)などの側鎖にヒドロキシアリール
基を有するポリマーが挙げられる。 【0103】赤外線吸収剤(D)としては、例えば、波
長760〜1200nmの赤外線を吸収する染料および
顔料が挙げられる。具体的には、例えば、黒色顔料、赤
色顔料、金属粉顔料、フタロシアニン系顔料;前記波長
の赤外線を吸収するアゾ染料、アントラキノン染料、フ
タロシアニン染料、シアニン色素が挙げられる。フェノ
ール性水酸基含有化合物(E)としては、例えば、一般
式 (R1 −X)n −Ar−(OH)m (式中、R1 は、炭素数6〜32のアルキル基またはア
ルケニル基であり、Xは、単結合、O、S、COOまた
はCONHであり、Arは、芳香族炭化水素基、脂環式
炭化水素基または複素環基であり、nおよびmは、それ
ぞれ1〜8の自然数である。)で表される化合物が挙げ
られる。そのような化合物としては、例えば、ノニルフ
ェノールなどのアルキルフェノール類が挙げられる。ネ
ガ型レーザ製版層形成液には、上記各成分のほかに、可
塑剤などを配合することもできる。 【0104】ボジ型レーザ製版層は、(F)アルカリ可
溶性高分子、(G)アルカリ溶解阻害剤、および(H)
赤外線吸収剤を適当な溶剤に溶解させ、または懸濁させ
たポジ型レーザ製版層形成液を用いて形成することがで
きる。アルカリ可溶性高分子(F)としては、例えば、
フェノール樹脂、クレゾール樹脂、ノボラック樹脂、ピ
ロガロール樹脂、ポリ(ヒドロキシスチレン)などのフ
ェノール性水酸基を有するフェノール系ポリマー;少な
くとも一部のモノマー単位がスルホンアミド基を有する
ポリマーであるスルホンアミド基含有ポリマー;N−
(p−トルエンスルホニル)(メタ)アクリルアミド基
などの活性イミド基を有するモノマーの単独重合または
共重合により得られる活性イミド基含有ポリマーが挙げ
られる。 【0105】アルカリ溶解阻害剤(G)としては、例え
ば、加熱などによりアルカリ可溶性高分子(F)と反応
してアルカリ可溶性高分子(F)のアルカリ溶解性を低
下させる化合物が挙げられる。具体的には、例えば、ス
ルホン化合物、アンモニウム塩、スルホニウム塩、アミ
ド化合物が挙げられる。アルカリ可溶性高分子(F)と
アルカリ溶解阻害剤(G)の組み合わせとしては、アル
カリ可溶性高分子(F)としてノボラック樹脂、アルカ
リ溶解阻害剤(G)としてスルホン化合物の一種である
シアニン色素の組み合わせが好適に挙げられる。赤外線
吸収剤(H)としては、例えば、スクワリリウム色素、
ピリリウム色素、カーボンブラック、不溶性アゾ染料、
アントラキノン系染料などの波長750〜1200nm
の赤外域に吸収領域があり、光/熱変換能を有する色
素、染料および顔料が挙げられる。 【0106】光重合型レーザ製版層は、(I)分子末端
にエチレン性不飽和結合を有するビニル重合性化合物を
含有する光重合型レーザ製版層形成液を用いて形成する
ことができる。光重合型レーザ製版層形成液には、必要
に応じて、(J)光重合開始剤、(K)増感剤などを配
合することができる。ビニル重合性化合物(I)として
は、例えば、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸などのエチレン性不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ルコールとのエステルであるエチレン性不飽和カルボン
酸多価エステル;前記エチレン性不飽和カルボン酸と多
価アミンとからなるメチレンビス(メタ)アクリルアミ
ド;キシリレン(メタ)アクリルアミドなどのエチレン
性不飽和カルボン酸多価アミドが挙げられる。ビニル重
合性化合物(I)としては、ほかに、スチレン、α−メ
チルスチレンなどの芳香族ビニル化合物;(メタ)アク
リル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチルなどのエチレ
ン性不飽和カルボン酸モノエステルが挙げられる。光重
合開始剤(J)としては、ビニル系モノマーの光重合に
通常使用される光重合開始剤を用いることができる。増
感剤(K)としては、例えば、チタノセン化合物、トリ
アジン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾイミダ
ゾール系化合物、シアニン色素、メロシアニン色素、キ
サンテン色素、クマリン色素が挙げられる。 【0107】上述したネガ型レーザ製版層形成液、ポジ
型レーザ製版層形成液および光重合型レーザ製版層形成
液に使用される溶剤、ならびに、ネガ型レーザ製版層形
成液、ポジ型レーザ製版層形成液および光重合型レーザ
製版層形成液の塗布方法については、上記感光性樹脂溶
液について挙げた溶剤および塗布方法を用いることがで
きる。なお、光重合型レーザ製版層を形成させる場合に
おいては、シラン化合物を水、アルコールまたはカルボ
ン酸で部分分解して得られる部分分解型シラン化合物な
どの反応性官能基を有するシリコーン化合物を用いて、
平版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化処理面をあら
かじめ処理しておくと、支持体と光重合型レーザ製版層
との接着性が向上するため好ましい。 【0108】(3)レーザで直接描画し、光熱変換によ
り発生する熱によりアルカリ現像液に対する可溶性が変
化する感光層が、下記A層とB層を順次積層し、B層
に、光を吸収して発熱する化合物を含有する感光層を、
以下に簡単に説明する。 A層:モノマー(a−1)〜(a−3)の少なくとも1
つを共重合成分として10モル%以上含む共重合体を5
0質量%以上含有する層 B層:フェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶
性樹脂を50質量%以上含有する層 【0109】A層は、以下のモノマー(a−1)1分子
中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素原子が結合し
たスルホンアミド基を有するモノマー、(a−2)1分
子中に、下記式で表される活性イミノ基を有するモノマ
ー、(a−3)フェノール性水酸基を有するアクリルア
ミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、およびヒドロキシスチレンから選択さ
れるモノマー、のうち少なくとも1つを共重合成分とし
て10モル%以上含む共重合体を50質量%以上含有す
る層である。 【0110】 【化1】 【0111】B層は、フェノール性水酸基を有するアル
カリ水溶液可溶性樹脂を50質量%以上含有する層であ
る。上記感光層は、A層とB層とが順次積層され、か
つ、少なくとも該B層のフェノール性水酸基を有するア
ルカリ水溶液可溶性樹脂を50質量%以上含有するB層
に、光を吸収して発熱する化合物を含有する感光層であ
る。詳細は、特開平11−218914号公報に記載さ
れている。 【0112】<バックコート>現像時のアルミ溶解をな
くし、感光層とアルミニウム板のこすれによるキズをな
くす目的で、特開平6−32115号公報に記載の有機
高分子化合物ならびに界面活性剤を含む、厚さ0.01
〜8μmのバックコート層を設けることが知られてい
る。しかし、この厚さを積極的にコントロールすること
で印刷版用原版の厚さを補正することが可能となる。 【0113】このバックコート層の主成分としては、ガ
ラス転移点20℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂および
塩化ビニリデン共重合樹脂の群から選ばれる少なくとも
一種の樹脂が用いられる。飽和共重合ポリエステル樹脂
は、ジカルボン酸ユニットとジオールユニットからな
る。本発明に用いられるポリエステルのジカルボン酸ユ
ニットとしてはフタル酸、テレフタル酸、イソフタル
酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル酸など
の芳香族ジカルボン酸;アジピン酸、アゼライン酸、コ
ハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン酸、マロン
酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸などの飽和脂
肪族ジカルボン酸などが挙げられる。バックコート層に
は更に、着色のための染料や顔料、アルミニウム支持体
との密着性向上のためのシランカップリング剤、ジアゾ
ニウム塩からなるジアゾ樹脂、有機ホスホン酸、有機リ
ン酸およびカチオン性ポリマーなど、更には滑り剤とし
て通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸ア
ミド、ジメチルシロキサンよりなるシリコーン化合物、
変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末などが適宜
加えられる。 【0114】バックコート層をアルミニウム支持体の裏
面に被覆するには種々の方法が適用できる。例えば適当
な溶媒の溶液にして、または乳化分散液にして塗布、乾
燥する方法、例えば予めフィルム状に成形したものを接
着剤や熱でアルミニウム支持体に貼り合わせる方法およ
び溶融押し出し機で溶融皮膜を形成し、支持体に貼り合
わせる方法などが挙げられるが、上記の塗布量を確保す
る上で最も好ましいのは溶液にして塗布、乾燥する方法
である。ここで使用される溶媒としては、特開昭62−
251739号公報に記載されているような有機溶剤が
単独あるいは混合して用いられる。 【0115】<マット層>上記のようにして設けられた
感光層の表面には、必要に応じて、真空焼き枠を用いた
密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、かつ、焼きボ
ケを防ぐため、マット層が設けられる。具体的には、特
開昭50−125805号、特公昭57−6582号、
同61−28986号の各公報に記載されているような
マット層を設ける方法、特公昭62−62337号公報
に記載されているような固体粉末を熱融着させる方法な
どが挙げられる。連続的に走行する長尺アルミニウム板
にマット層を塗布する場合、事前に温度調整装置におい
て所定の温度に調整し、次に湿潤装置において表面を湿
潤した後、静電塗装装置により微細な液滴をアルミニウ
ム板の表面の塗布する。次いで、再度設けられた湿潤装
置にて表面を再湿潤した後、乾燥装置により乾燥する。
本発明に用いられるマット層の平均径は100μm以下
が好ましく、これよりも平均径が大きくなるとPS版を
重ねて保存する場合、感光層とバックコート層との接触
面積が増大し、滑り性が低下、感光層およびバックコー
ト層双方の表面に擦れ傷を生じ易い。マット層の平均高
さは10μm以下が好ましく、より好ましくは2〜8μ
mである。この範囲より平均高さが高いと細線が付き難
く、ハイライトドットも点減りし、調子再現上好ましく
ない。平均高さが2μm以下では真空密着性が不十分で
焼きボケを生じる。マット層の塗布量は5〜200mg
/m2が好ましく、更に好ましくは20〜150mg/
2 である。塗布量がこの範囲よりも大きいと感光層と
バックコート層との接触面積が増大し擦れ傷の原因とな
り、これよりも小さいと真空密着性が不十分となる。 【0116】<塗布>また感光層およびバックコート層
を塗布する方式条件としては、公知の感光層を塗布する
方式、条件の多くを利用できる。即ち、コーティングロ
ッドを用いる方法、エクストルージョン型コーターを用
いる方法、スライドビードコーターを用いる方法が利用
できる。また塗布する条件も公知特許に記載した条件を
利用できる。感光性組成物の塗布方法としては特公昭5
8−4589号公報、特開昭59−123568号公報
などに記載されているコーティングロッドを用いる方法
や特開平4−244265号公報などに記載されている
エクストルージョン型コーターを用いる方法、あるいは
特公平1−57629号公報、特願平8−288656
号公報などに記載されているスライドビードコーターを
用いる方法などを用いることができる。 【0117】<乾燥>粗面化処理後または感光層、マッ
ト層およびバックコート層の塗布後のアルミニウム板の
乾燥方式条件について記載する。乾燥方式としては、特
開平6−63487号公報に記載がある乾燥装置内にパ
スロールを配置し、ロールにウェブをラップさせて搬送
するアーチ型ドライヤー、ウェブの上下面からノズルに
よりエアーを供給しウェブを浮上させながら乾燥する方
式、あるいは熱風を用いず、高温に種々の媒体を用いて
加熱し、その副射熱により乾燥する方式、あるいはロー
ルを種々媒体を用いて加熱しそのロールとウェブの接触
による伝導伝熱により乾燥する方式などがある。 【0118】このようにして得られた平版印刷版原版
を、必要に応じて、適当な大きさに裁断して、露光し現
像して製版することにより、平版印刷版が得られる。可
視光露光型製版層(感光性製版層)を設けた平版印刷版
原版の場合には、印刷画像が形成された透明フィルムを
重ねて通常の可視光を照射することにより露光し、その
後、現像を行うことにより製版することができる。レー
ザ露光型製版層を設けた平版印刷版原版の場合には、各
種レーザ光を照射して印刷画像を直接書き込むことによ
り露光し、その後、現像することにより製版することが
できる。 【0119】<露光>露光方法は、特開平9−6881
0号公報、特開平11−218914号公報、特願20
00−378507号明細書および特願2001−17
3968号明細書に記載されたものをはじめ、公知の方
法を使用できる。 【0120】<現像液>本発明で用いる現像液、補充液
などは、特開平9−68810号公報、特開平11−2
18914号公報、特願2000−378507号明細
書および特願2001−173968号明細書に記載さ
れたものをはじめ、公知のものを使用できる。またケイ
酸を含むアルカリ性水溶液、および、ケイ酸を含まず、
糖類を含むアルカリ性水溶液を用いることができる。具
体的には、ケイ酸を含むアルカリ性水溶液として、現像
液および補充液の主成分は、ケイ酸、リン酸、炭酸、硼
酸、フェノール類、糖類、オキシム類およびフッ素化ア
ルコール類から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有
し、pHが12. 0より高く13. 0未満の範囲である
アルカリ性水溶液である。これらのうちフェノール類、
糖類、オキシム類およびフッ素化アルコール類の如き弱
酸性物質としては、解離指数(pKa)が10. 0〜1
3. 2のものが好ましい。詳細は特開平9−68810
号公報に記載されている。また、ケイ酸を含むアルカリ
性水溶液として、アルカリ剤はケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウムなどのケイ酸塩が好ましい。その理由はケイ
酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2 とアルカリ金属酸
化物M2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能と
なるためであり、例えば、特開昭54−62004号公
報、特公昭57−7427号公報に記載されているよう
なアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。詳細は特
開平11−218914号公報に記載されている。ま
た、ケイ酸を含まず、糖類を含むアルカリ性水溶液とし
ては、従来から知られている、緩衝作用を有する有機化
合物と塩基とを主成分とし、実質上、二酸化ケイ素を含
有しないアルカリ現像液を用いることを要する。本発明
では、このような現像液を以下、「非シリケート現像
液」と称する。なお、ここで「実質上」とは不可避の不
純物及び副生成物としての微量の二酸化ケイ素の存在を
許容することを意味する。現像工程に、このような非シ
リケート現像液を適用することで、傷の発生抑制効果は
発現され、画像部に欠陥のない、良好な平版印刷版を得
ることができる。アルカリ水溶液としては、特にpH1
2.5〜13.5のものが好ましい。該非シリケート現
像液は、前記したように緩衝作用を有する有機化合物と
塩基とを主成分とするものである。詳細は特開2000
−378507号公報に記載されている。 【0121】また、現像方法および現像後の処理も、特
開平9−68810号公報、特開平11−218914
号公報、特願2000−378507号明細書および特
願2001−173968号明細書に記載されたものを
はじめ、公知のものを使用できる。 【0122】 【実施例】以下に実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限られるものではない。 1.平版印刷版用アルミニウム支持体の製造 (実施例1−1〜1−17および比較例1−1〜1−
3)第2表に示すように、第1表に示す組成の各アルミ
ニウム合金板に、各表面処理を施し、各平版印刷版用ア
ルミニウム支持体を得た。第2表に示す表面処理は、機
械的粗面化処理、第1アルカリエッチング処理、第1デ
スマット処理、第1電気化学的粗面化処理(硝酸水溶
液)、第2アルカリエッチング処理、第2デスマット処
理、第2電気化学的粗面化処理(塩酸水溶液)、第3ア
ルカリエッチング処理、第3デスマット処理、陽極酸化
処理、封孔処理および親水化処理を、この順に組み合わ
せて行ったものである。比較例1−3は、第2電気化学
的粗面化処理(塩酸水溶液)を、下記(7)の塩酸濃度
5g/Lの水溶液の替わりに、塩酸濃度0.5g/Lの
水溶液を用いた以外は、第2表に示す各表面処理を施し
た。各処理の詳細は、以下のとおりである。なお、各工
程の粗面化処理の後には水洗処理を行った。粗面化処理
および水洗処理の後にはニップローラによる液切りを行
った。また、同じ種類の液を使った処理が連続して行わ
れるケースでは、その工程の間での水洗は省略した。 【0123】(1)機械的粗面化処理 研磨材A(軽石を粉砕し、その中に含まれる粒子の平均
粒径が40μmとなるように分級した研磨材)、また
は、研磨材B(ケイ砂を用い、その中に含まれる粒子の
平均粒径が20μmとなるように分級した研磨材)と水
との懸濁液(比重1.12)を研磨スラリー液として、
スプレー管にてアルミニウム板の表面に供給しながら、
回転するローラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面
化を行った。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン
を使用し、毛長50mmの3号ブラシを用いた。ナイロ
ンブラシはΦ300mmのステンレス製の筒に穴をあけ
て密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用し
た。ブラシ下部の2本の支持ローラ(Φ200mm)の
距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回
転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニ
ウム板に押さえつける前の負荷に対して管理し、粗面化
後のアルミニウム板の平均表面粗さが0.45〜0.5
5μmになるように押さえつけた。ブラシの回転方向は
アルミニウム板の移動方向と同じであった。 【0124】(2)第1アルカリエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH27wt%、アルミニウム
イオン6.5wt%含有する水溶液、70℃をスプレー
管より吹き付けてアルミニウム板のエッチング処理を行
った。後の工程で電気化学的に粗面化処理する面のアル
ミニウム板の溶解量は第2表に示したとおりであった。 【0125】(3)第1デスマット処理 デスマット処理に用いる酸性水溶液は以下の処理液のい
ずれかであった。 処理液A:次工程の電気化学的な粗面化工程に用いた硝
酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマ
ット液はスプレーにて吹き付けて2秒間デスマット処理
を行った。 処理液B:後記、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫
酸100g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/L
溶解)を用い、液温35℃で2秒間デスマット処理を行
った。 【0126】(4)第1電気化学的粗面化処理(硝酸水
溶液) 液温50℃、硝酸濃度9.5g/Lの水溶液に硝酸アル
ミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を5g/L
に調整した電解液を用いた。台形波交流電流を発生する
電源を用いて電気化学的な粗面化処理を行った。その交
流電流の周波数は60Hz、電流のゼロからピークに達
するまでの時間Tpは0.8msecであった。交流の
duty(ta/T)は0.5であった。電流密度は交
流のピーク時でアルミニウム板のアノード反応時60A
/dm2であり、アルミニウム板がアノード反応時の電
気量の総和とカソード反応時の電気量の総和の比は0.
95であった。アルミニウム板に加わる電気量は、アル
ミニウム板のアノード反応時の電気量の総和で第2表に
示した。電解処理槽は図4に示すラジアル型のものを2
槽用いた。 【0127】(5)第2アルカリエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH27wt%、アルミニウム
イオン6.5wt%含有する水溶液、45℃をスプレー
管より吹き付けてアルミニウム板のエッチング処理を行
った。後の工程で電気化学的に粗面化処理する面のアル
ミニウム板の溶解量は第2表に示したとおりであった。 【0128】(6)第2デスマット処理 デスマット処理に用いる酸性水溶液は以下の処理液のい
ずれかであった。 処理液A:次工程の電気化学的な粗面化工程に用いた塩
酸の廃液を用いた。その液温は30℃であった。デスマ
ット液はスプレーにて吹き付けて2秒間デスマット処理
を行った。 処理液B:前記、電気化学的な粗面化工程に用いた硝酸
の廃液を用いた。その液温は30℃であった。デスマッ
ト液はスプレーにて吹き付けて2秒間デスマット処理を
行った。 処理液C:後記、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫
酸100g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/L
溶解)を用い、液温30℃で2秒間デスマット処理を行
った。 【0129】(7)第2電気化学的粗面化処理(塩酸水
溶液) 液温35℃、塩酸濃度5g/Lの水溶液に、塩化アルミ
ニウム40g/Lを添加してアルミニウムイオン濃度を
4.5g/Lに調整した電解液を用いた。台形波交流電
流を発生する電源を用いて電気化学的な粗面化処理を行
った。その交流電流の周波数は50Hz、電流のゼロか
らピークに達するまでの時間Tpは0.8msecであ
った。交流のduty(ta/T)は0.5であった。
電流密度は交流のピーク時でアルミニウム板のアノード
反応時50A/dm2であり、アルミニウム板がアノー
ド反応時の電気量の総和とカソード反応時の電気量総和
の比は0.95であった。アルミニウム板に加わる電気
量は、アルミニウム板のアノード反応時の電気量の総和
で第2表に示した。電解処理槽は図4に示すラジアル型
のものを1槽用いた。補助電解槽34の入口(液面)か
ら交流電解槽20の入口(液面)までのアルミニウム板
の通過する時間は2秒であった。 【0130】(8)第3アルカリエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH27wt%、アルミニウム
イオン6.5wt%含有する水溶液、45℃をスプレー
管より吹き付けてアルミニウム板のエッチング処理を行
った。上記工程(7)で電気化学的に粗面化処理した面
のアルミニウム板の溶解量は第2表に示したとおりであ
った。 【0131】(9)第3デスマット処理 デスマット処理に用いる酸性水溶液は以下の処理液のい
ずれかであった。 処理液A:次工程の陽極酸化処理工程で発生した廃液
(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g
/L溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理
を行った。 処理液B:次工程の陽極酸化処理工程で発生した廃液
(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g
/L溶解)を用い、液温70℃で4秒間デスマット処理
を行った。 処理液C:次工程の陽極酸化処理工程で発生した廃液
(硫酸100g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g
/L溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理
を行った。 【0132】(10)陽極酸化処理 次に、この板を、次のいずれかの条件で陽極酸化処理し
た。 条件A:硫酸170g/Lに硫酸アルミニウムを添加し
てアルミニウムイオン濃度を5g/Lとした電解液を用
いて、液温33℃、電流密度10A/dm2 で2.4g
/m2 の直流陽極酸化皮膜を設けた。 条件B:硫酸100g/Lに硫酸アルミニウムを添加し
てアルミニウムイオン濃度を5g/Lとした電解液を用
いて、液温50℃、電流密度10A/dm2 で3g/m
2 の直流陽極酸化皮膜を設けた。 【0133】(11)封孔処理 100℃1気圧において飽和した蒸気チャンバーの中で
10秒間蒸気封孔処理した。 【0134】(12)親水化処理 つぎのいずれかの条件で親水化処理を行った。 条件A:ケイ酸ナトリウム1質量%水溶液で25℃で7
秒間浸漬処理した。 条件B:ケイ酸ナトリウム2.5質量%水溶液で70℃
で5秒間浸漬処理した。 その後、乾燥した。 【0135】2.平版印刷版用アルミニウム支持体の表
面形状の評価 各実施例および比較例で得られた各平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の表面形状を走査型電子顕微鏡を用いて倍
率2000倍で観察し、表面に生成したハニカムピット
の均一性を評価した。結果を第2表に示す。なお、評価
は、表面の凹凸の均一性が良好であったものを「○」、
不均一であったものを「×」と表した。 【0136】3.電気化学的粗面化処理における電極の
溶解 第1電気化学的粗面化処理または第2電気化学的粗面化
処理において、電極の溶解を確認した。電極が溶解まっ
たく溶解していない場合を「なし」、電極が少しでも溶
解している場合を「あり」と表した。 【0137】 【表2】【0138】 【表3】 【0139】4.平版印刷版の製造と汚れ性能の評価
(実施例2−1〜2−11) (実施例2−1)実施例1−11で製造した平版印刷版
用アルミニウム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・
乾燥し、露光処理後、下記の現像液を用いて現像処理し
た。この平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が
良好な印刷版であった。 【0140】あらかじめ、下塗り層を形成させた。下塗
り層は、下記組成の下塗り液を塗布し80℃、30秒間
乾燥した。乾燥後の被覆量は30mg/m2 であった。 <下塗り液> アミノエチルホスホン酸 0.10g フェニルホスホン酸 0.15g β−アラニン 0.10g メタノール 40g 純 水 60g このようにして作製した基板上に次の感光液を塗布量を
変化させて塗布し、110℃で1分間乾燥してポジ型感
光性平版印刷版を得た。 【0141】 <感光液> 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドとピロガロール−ア セトン樹脂とのエステル化物(米国特許第3,635,709号明細書の実施例 1に記載されているもの) 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ、パラ比;6対4、重 量平均分子量3,000、数平均分子量1,100、未反応のクレゾールを0. 7%含有) 1.1g m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量平均分子量1,7 00、数平均分子量600、未反応のクレゾールを1%含有) 0.3g ポリ〔N−(P−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド−コ−ノルマ ルブチルアクリレート−コ−ジエチレングリコールモノメチルエーテルメタクリ レート〕(各モノマーのモル比は順に40:40:20、重量平均分子量40, 000、数平均分子量20,000) 0.2g 【0142】 P−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂(米国特許第4, 123,279号明細書に記載されているもの) 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.1g 安息香酸 0.02g 4−〔p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕− 2,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン 0.01g 4−〔P−N−(P−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェニル〕−2,6− ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン 0.02g 2−トリクロロメチル−5−(4−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−オ キサジアゾール 0.01g ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に した染料 0.02g 【0143】 モディパーF−200(日本油脂(株)製フッ素系界面活性剤、30質量% のメチルエチルケトンとメチルイソブチルケトン混合溶剤溶液) 0.06g メガファックF177(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤 、20質量%のメチルイソブチルケトン溶液) 0.02g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 10g 【0144】この様にして塗布された感光層の上に特公
昭61−28986号公報実施例1に記載の方法に基づ
いて、(メチルメタクリレート/エチルアクリレート/
アクリル酸ソーダ=68/20/12)の共重合体水溶
液を静電スプレーすることによりマット層を設けた。こ
のようにして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠中
で、透明ポジテイブフィルムを通して1mの距離から3
kwのメタルハライドランプにより、50秒間露光を行
ったのち、現像液としてSiO2 /Na2 Oのモル比が
1.74のケイ酸ナトリウムの5.26%水溶液(pH
=12.7)を、リンス液として富士写真フィルム
(株)製FR−3(1:7)を仕込んだ富士写真フィル
ム(株)製自動現像機スタブロン900Dに通して処理
した。このポジ型感光性平版印刷版について、印刷評価
した。印刷機はハイデルベルグ社製SOR−Mを、湿し
水は富士写真フィルム(株)製EU−3(1:100)
にイソプロパノールを10%添加したものを、インキは
東洋インキ(株)製マークファイブニュー墨を用いた。 【0145】(実施例2−2)実施例1−1〜1−9、
1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミニウ
ム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、露光
処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これらの
平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好な印
刷版であった。 【0146】下記組成の塗布液を塗燥重量2g/m2
なるよう支持体に設けた。 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドとピロガロール−ア セトン樹脂のエステル化物(重量平均分子量2,500) 40質量部 フェノールホルムアルデヒド樹脂(重量平均分子量10,000、3核体以 上の成分90%) 75質量部 アクリルポリマーI 35質量部 2−(p−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s− トリアジン 3質量部 オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製)1.5質量部 メガファックF−176(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性 剤) 0.3質量部 メチルエチルケトン 1000質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000質量部 【0147】アクリルポリマーIは、以下の方法で合成
した。N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミ
ド60.3g、アクリロニトリル10.0gおよびエチ
ルアクリレート46.0gをジメチルホルムアミド23
2.6gに溶解し、窒素気流下、2,2′−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.224gを重
合開始剤として用い、65℃で7時間かくはんした。反
応液を放冷した後、水5リットル中に再沈した。析出し
たポリマーを濾取し、乾燥することでアクリルポリマー
Iを110.4g(収率95%、Mw52,000)を
得た。 【0148】さらに以下のマット形成樹脂液を吹きつけ
てマット層を形成した。マット層形成用樹脂液としてメ
チルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリル酸
(仕込質量比65:20:15)共重合体の一部をナト
リウム塩とした12%水溶液を準備し、回転霧化静電塗
布機で霧化頭回転数25,000rpm、樹脂液の送液
量は40ml/分、霧化頭への印加電圧は−90kV、
塗布時の周囲温度は25℃、相対湿度は50%とし、塗
布後2.5秒で塗布面に蒸気を吹き付けて湿潤させ、つ
いで湿潤した3秒後に温度60℃、湿度10%の温度を
5秒間吹き付けて乾燥させた。 【0149】このようにした作製したPS版に原稿フィ
ルムを通して1mの距離から3kWのメタルハライドラ
ンプを用いて、60秒間露光した。 【0150】 <現像液および現像処理> <現像液a(pH約12.4)> D−サッカロース 4.8質量% 水酸化ナトリウム 0.34質量% 炭酸ナトリウム 0.70質量% テトラブチルアンモニウムブロマイド 0.03質量% 水 94.13質量% <現像補充液a(pH約13.0)> D−サッカロース 9.7質量% 水酸化ナトリウム 1.5質量% 炭酸ナトリウム 1.0質量% テトラブチルアンモニウムブロマイド 0.07質量% 水 87.73質量% <フィニッシングガム液> アラビアガム 1.8質量% 酵素変性馬鈴薯澱粉 18.3質量% 酵素変性玉蜀黍澱粉 3.7質量% リン酸化ワキシー玉蜀黍澱粉 1.8質量% ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.91質量% 第一リン酸アンモニウム 0.27質量% リン酸(85%) 0.37質量% EDTA−四ナトリウム塩 0.27質量% エチレングリコール 1.8質量% ベンジルアルコール 2.3質量% デヒドロ酢酸ナトリウム 0.04質量% エマルジョン型シリコン消泡剤 0.02質量% 水 68.42質量% <リンス液> ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム(40質量%水溶液) 6.7質量% ヘキサメタリン酸ナトリウム 0.8質量% ベンジルアルコール 1.5質量% ポリオキシエチレン(エチレンオキシド12モル付加)ノニルフェニルエー テル 1.5質量% ジオクチルスルホ琥珀酸ナトリウム 1.4質量% リン酸(85質量%) 5.2質量% 水酸化ナトリウム 2.0質量% シリコン消泡剤 0.01質量% 水 80.89質量% 【0151】次に浸漬型現像槽を有する市販の自動現像
機PS−900D(富士写真フイルム(株)製)の現像
槽に、上記各現像液を20リットル仕込み、30℃に保
温した。PS−900Dの第二浴目には水道水を8リッ
トル、第三浴目にはフィニッシング液:水=1:1希釈
したフィニッシング液を8リットル仕込んだ。この様に
準備したPS−900Dに前述の露光済みのPS版を通
し、現像処理した。 【0152】(実施例2−3)実施例1−10で製造し
た平版印刷版用アルミニウム支持体を用いて、下記の感
光層を塗布・乾燥し、露光処理後、下記の現像液を用い
て現像処理した。この平版印刷版を用いて印刷したとこ
ろ汚れ性能が良好な印刷版であった。 【0153】このアルミニウム板に下記組成Aの共重合
体の1%水溶液をロールコーターによつて塗布し乾燥さ
せて下塗り層を形成した。その乾燥後の塗布量は0.0
5g/m2 であつた。 <組成A> メチルメタクリレート/エチルアクリレート/2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム
(50:30:20モル比)共重合体(平均分子量約6
0,000) この下塗り層の上に下記組成の溶液を塗布し乾燥させ
て、感光性平版印刷版を得た。これを試料とする。 2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体(米国特許第4,123,2 76号明細中の実施例1に記載されているもの) 0.87g p−ジアゾジフエニルアミンとパラホルムアルデヒドの縮合物の2−メトキ シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩 0.1g オイルブル−#603(オリエント化学工業(株) の青色染料) 0.03g メタノール 6g 2−メトキシエタノール 6g 感光層の乾燥塗布量は、2.0g/m2 であつた。 【0154】透明ネガ原画を真空密着して、3kwのメ
タルハライド灯で1mの距離から60秒間露光し、次の
現像液に1分間浸漬し、感光層の表面をスポンジで軽く
擦つて現像し、市販の不感脂化ガム液を塗布した。 <現像液> 亜硫酸ナトリウム 5g ベンジルアルコール 30g 炭酸ナトリウム 5g イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム 12g 純水 1000g 【0155】(実施例2−4)実施例1−1〜1−9、
1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミニウ
ム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、露光
処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これらの
平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好な印
刷版であった。 【0156】<カーボンブラック分散液の作製>下記質
量比による組成物をガラスビーズにより10分間分散し
カーボンブラック分散液を得た。 カーボンブラック 1質量部 ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体(モル比72:28,重 量平均分子量70,000) 1.6質量部 シクロヘキサノン 1.6質量部 メトキシプロピルアセテート 3.8質量部 【0157】<ネガ型感光性平版印刷版の作製>上記に
より得られたアルミニウム板に下記感光液を塗布し、1
00℃で2分間乾燥をしてネガ型感光性平版印刷版を得
た。乾燥後の重量は2.0g/m2 であった。 【0158】 <感光液> 前記カーボンブラック分散液 10g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の六フッ化リン酸 塩 0.5g メタクリル酸、2ーヒドロキシエチルアクリレート、ベンジルメタクリレー ト、アクリロニトリルのラジカル共重合体(モル比15:30:40:15,重 量平均分子量100,000) 5g リンゴ酸 0.05g FC−430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) 0.05g 1−メトキシ−2−プロパノール 80g 乳酸エチル 15g 水 5g 【0159】得られたネガ型感光性平版印刷版を版面出
力2Wに調節したYAGレーザで露光した後,富士写真
フィルム(株)製現像液,DN−3C(1:1),ガム
液FN−2(1:1)を仕込んだ自動現像機を通して処
理したところ、ネガ画像が得られた。この平版印刷版を
ハイデルSOR−KZ機で印刷した。 【0160】(実施例2−5)実施例1−1〜1−9、
1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミニウ
ム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、露光
処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これらの
平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好な印
刷版であった。 【0161】アルミニウム支持体に下記下塗り液をワイ
ヤーバーにて塗布し、温風式乾燥装置を用いて90℃で
30秒間乾燥した。乾燥後被覆量は20mg/m2 であ
った。 【0162】 <下塗り液> メタクリロイルオキシエチルホスホン酸 0.2g メチルアクリレートとスチレンスルホン酸ナトリウム塩のモル比75:15 の共重合体 0.2g 硝酸カルシウム 0.2g メタノール 20g イオン交換水 80g 【0163】<記録層の形成>下記記録層塗布液<P−
2>を前記下塗り層を形成した支持体上に、ワイヤーバ
ーで塗布し、温風式乾燥装置にて120℃で45秒間乾
燥して記録層を形成し、さらに、下記オーバーコート層
塗布液をスライドホッパーを用いて塗布し、温風式乾燥
装置にて120℃で75秒間乾燥して平版印刷版原版
[PS−1]を得た。なお、記録層の塗布量は2.0g
/m2 であり、オーバーコート層の塗布量は2.3g/
2 であった。また、記録層用塗布液の調製に用いた赤
外線吸収剤などの構造は以下に示す通りである。また、
ポリマー(PB−2)は、メタクリル酸、N−イソプロ
ピルアクリルアミドおよびエチルメタクリレートの共重
合体を合成した後、1,2−エポキシ−3−メタクリロ
イルオキシメチルシクロヘキサンと反応させることによ
り合成した。組成モル比は、15:30:20:35で
あり、重量平均分子量は120,000であった。 【0164】 <記録層用塗布液[P−2]> チタノセン型ラジカル発生剤(CGI−784 、チバ・スペシャルティ・ケ ミカルズ(株)製) 0.1g 重合性化合物(RM−2) 0.60g 重合性化合物(RM−3) 0.20g 可視光吸収剤(VR−1) 0.10g ポリマー(PB−2) 1.20g 銅フタロシアニン顔料 0.04g 重合禁止剤(クペロンAl、和光純薬(株)製) 0.005g フッ素系界面活性剤(メガファックKF309、大日本インキ化学工業(株 )製) 0.03g メチルエチルケトン 10g γ−ブチロラクトン 5g メタノール 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 5g 【0165】重合性化合物RM−2 【化2】 【0166】重合性化合物RM−3 【化3】 【0167】可視光吸収剤VR−1 【化4】 【0168】ポリマーPB−2 【化5】 【0169】 <オーバーコート層用塗布液> ポリビニルアルコール(ケン化度98.5モル%、重合度500) 3.0g 非イオン性界面活性剤(EMAREX NP−10 日本エマルジョン社( 株)製) 0.05g イオン交換水 96.95g 【0170】<現像液組成物の評価>冨士写真フイルム
(株)製自動現像機(LP−850P2)の現像処理槽
に、下記組成の現像液組成物(V−2)を仕込み、30
℃に保温した。自動現像機の第二浴目には、水道水を仕
込み、第三浴目には、FP−2W(富士写真フイルム
(株)製):水=1:1希釈したフィニッシングガム液
を仕込んだ。なお、現像液のpHは、8.1であった。 【0171】 <現像液組成物[V−2]> 炭酸水素ナトリウム 26g エチレングリコールモノナフチルエーテルモノスルフェートのナトリウム塩 30g エチレングリコールモノドデシルエーテル 20g 亜硫酸ナトリウム 3g エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム 1g 水 920g 【0172】次に、平版印刷版原版[PS−1]サイズ
1030×800mmの20枚を405nmの紫光を発
する30mW半導体レーザを用い、レーザビーム径12
μm、版面エネルギー50μJ/cm2 の露光条件で走
査露光し、上記の自現機を用いて現像処理した。処理
後、自動現像液を3日間そのまま放置した。放置した
後、平版印刷版原版[PS−1]1枚を、同様にレーザ
露光、引き続き現像処理した。得られた平版印刷版[P
S−1]を、小森コーポレーション(株)製印刷機リス
ロンを用いて印刷した。この際、印刷開始後、充分にイ
ンキがのった印刷物をどれだけの枚数得られるかを目視
にて評価した。また、そのときの非画像部の汚れの状態
を目視で観察した。その結果、自現機を放置する前に処
理した印刷版も、放置した後に処理した印刷版も、7万
枚の良好な印刷物が得られた。また、得られた印刷物の
非画像部に汚れの発生は認められなかった。 【0173】(実施例2−6)実施例1−1〜1−9、
1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミニウ
ム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、露光
処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これらの
平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好な印
刷版であった。 【0174】<下塗り>次に、このアルミニウム支持体
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被服
量は20mg/m2 であった。 【0175】 <下塗り液> 4−ジアゾ−3メトキシジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物のジ ブチルナフタレンスルホン酸塩 0.3g 2−アミノエチルホスホン酸のマグネシウム塩 0.1g 塩化カルシウム 0.2g メタノール 20g イオン交換水 80g 【0176】<記録層の形成>下記記録層塗布液を前記
下塗り層を形成した支持体上に、ワイヤーバーで塗布
し、温風式乾燥装置にて120℃で45秒間乾燥して記
録層を形成し、平版印刷版原版[PS−2]を得た。乾
燥後の塗布量は2.0g/m2 であった。なお、記録層
用塗布液の調製に用いた赤外線吸収剤などの構造は以下
に示す通りである。また、ポリマー(PB−1)は、メ
タクリル酸、N−アクリロイルモルホリンおよびベンジ
ルメタクリレートの共重合体を合成した後、3−クロロ
−2−ヒドロキシプロピルメタクリレートと、塩基およ
びヨウ化カリウム存在下で反応させることにより合成し
た。組成モル比は、15:30:10:45であり、重
量平均分子量は10万であった。 【0177】 <記録層用塗布液[P−1]> オニウム塩(KO−1) 0.25g 重合性化合物(RM−1) 0.60g 赤外線吸収剤(IR−1) 0.06g ポリマー(PB−1) 1.40g ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g N−アリルステアリン酸アミド 0.01g 重合禁止剤(イルガノックス1010、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ (株)製) 0.005g フッ素系界面活性剤(メガファックKF309、大日本インキ化学工業(株 )製) 0.03g メチルエチルケトン 10g γ−ブチロラクトン 5g メタノール 7g 1−メトキシ−3−プロパノール 5g 【0178】オニウム塩KO−1 【化6】 【0179】重合性化合物RM−1 【化7】 【0180】赤外線吸収剤IR−1 【化8】 【0181】ポリマーPB−1 【化9】 【0182】<現像液組成物の評価>版材供給装置(S
A−L8000)、露光装置(Luxel T−900
0CTP)、コンベア(T−9000 Conveyo
r)、自動現像機(LP−1310H)、ストッカー
(ST−1160)よりなる冨士写真フイルム(株)C
TP出力システムを用いた。自動現像機の現像処理槽
に、下記組成の現像液組成物(V−1)を仕込み、30
℃に保温した。自動現像機の第二浴目には、水道水を仕
込み、第三浴目には、FP−2W(富士写真フイルム
(株)製):水=1:1希釈したフィニッシングガム液
を仕込んだ。なお、現像液のpHは、8.0であった。 【0183】 <現像液組成物[V−1]> 炭酸水素カリウム 20g ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 30g エチレングリコールモノナフチルエーテル 20g 亜硫酸ナトリウム 3g ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム 2g シリコーンSA730(東芝シリコーン(株)製界面活性剤) 0.1g 水 924.9g 【0184】次に、平版印刷版原版[PS−2]サイズ
1030×800mmの30枚を、版材供給装置に装填
し、全自動で連続して、露光、現像処理し、ストッカー
へ排出した。処理後、自動現像液を3日間そのまま放置
した。放置した後、平版印刷版原版[PS−2]1枚
を、版材供給装置に装填し、全自動で連続して、露光、
現像処理し、ストッカーへ排出した。得られた平版印刷
版[PS−2]を、小森コーポレーション(株)製印刷
機リスロンを用いて印刷した。この際、印刷開始後、充
分にインキがのった印刷物をどれだけの枚数得られるか
を目視にて評価した。また、そのときの非画像部の汚れ
の状態を目視で観察した。その結果、自現機を放置する
前に処理した印刷版も、放置した後に処理した印刷版
も、6万枚の良好な印刷物が得られた。また、得られた
印刷物の非画像部に汚れの発生は認められなかった。 【0185】(実施例2−7)実施例1−1〜1−9、
1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミニウ
ム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、露光
処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これらの
平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好な印
刷版であった。 【0186】下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で1
5秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆
量は15mg/m2 であった。 【0187】<下塗り液組成> 下記高分子化合物 0.3g メタノール 100g 水 1g 【0188】 【化10】 【0189】<感光層の形成>更に、下記組成の感光層
塗布液1を調製し、下塗りしたアルミニウム支持体に、
この感光層塗布液1をバーコーターを用いて、乾燥後の
塗布量(感光層塗布量)が1.0g/m2 になるよう塗
布し、乾燥して感光層を形成させ、平版印刷版を得た。 【0190】 <感光層塗布液1組成> カプリン酸 0.03g 後述する特定の共重合体1 0.75g m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量3,5 00、未反応クレゾール0.5質量%含有) 0.25g p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g 下記構造式で表されるシアニン染料A 0.017g 【0191】 【化11】 【0192】 ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニ オンにした染料 0.015g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業社製 ) 0.05g γ−ブチルラクトン 10g メチルエチルケトン 10g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g 【0193】<特定の共重合体1>かくはん機、冷却管
および滴下ロートを備えた500mL容の三つ口フラス
コに、メタクリル酸31.0g(0.36mol)、ク
ロロギ酸エチル39.lg(0.36mol)およびア
セトニトリル200mLを入れ、氷水浴で冷却しながら
混合物をかくはんした。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36mol)を約1時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、
室温下で30分間混合物をかくはんした。 【0194】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30mol)を加え、油
浴にて70℃に温めながら混合物を1時間かくはんし
た。反応終了後、この混合物を水1Lにこの水をかくは
んしながら投入し、30分間得られた混合物をかくはん
した。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを
水500mLでスラリーにした後、このスラリーをろ過
し、得られた固体を乾燥することによりN−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が
得られた(収量46.9g)。 【0195】つぎに、かくはん機、冷却管および滴下ロ
ートを備えた20mL容の三つ口フラスコに、N−(p
−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.6
1g(0.0192mol)、メタクリル酸エチル2.
94g(0.0258mol)、アクリロニトリル0.
80g(0.015mol)およびN,N−ジメチルア
セトアミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱し
ながら混合物をかくはんした。この混合物に下記に示す
「V−65」(和光純薬社製)0.15gを加え、65
℃に保ちながら窒素気流下で、混合物を2時間かくはん
した。この反応混合物に更にN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド4.61g、メタクリル
酸エチル2.94g、アクリロニトリル0.80g、
N,N−ジメチルアセトアミドおよび下記「V−65」
0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴
下した。滴下終了後、更に、得られた混合物を65℃で
2時間かくはんした。反応終了後、メタノール40gを
混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2Lにこの
水をかくはんしながら投入し、30分混合物をかくはん
した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することに
より15gの白色固体の特定の共重合体1を得た。得ら
れた特定の共重合体1の重量平均分子量をゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィーにより測定したところ、5
3,000(ポリスチレン標準)であった。 【0196】アゾ系重合開始剤 V−65 【化12】 【0197】上記のようにして得られた平版印刷版を出
力500mW、波長830nm、ビーム径17μm(1
/e2 )の半導体レーザを用いて、主操作速度5m/秒
で露光した後、富士写真フイルム(株)製のPS版用現
像液DP−4(1:8)水希釈液を用いて30秒間現像
した。 【0198】(実施例2−8)実施例1−1〜1−9、
1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミニウ
ム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、露光
処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これらの
平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好な印
刷版であった。 【0199】下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で1
5秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆
量は15mg/m2 であった。 【0200】<下塗り液組成> 下記高分子化合物 0.3g メタノール 100g 水 1g 【0201】 【化13】 【0202】<感光層の形成>更に、下記組成の感光層
塗布液1を調製し、下塗りしたアルミニウム支持体に、
この感光層塗布液1をバーコーターを用いて、乾燥後の
塗布量(感光層塗布量)が1.0g/m2 になるよう塗
布し、乾燥して感光層を形成させ、平版印刷版を得た。 【0203】 <感光層塗布液1組成> カプリン酸 0.03g 後述する特定の共重合体1 0.75g m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量3,5 00、未反応クレゾール0.5質量%含有) 0.25g p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g 下記構造式で表されるシアニン染料A 0.017g 【0204】 【化14】【0205】 ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニ オンにした染料 0.015g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業社製 ) 0.05g γ−ブチルラクトン 10g メチルエチルケトン 10g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g 【0206】<特定の共重合体1>かくはん機、冷却管
および滴下ロートを備えた500mL容の三つ口フラス
コに、メタクリル酸31.0g(0.36mol)、ク
ロロギ酸エチル39.lg(0.36mol)およびア
セトニトリル200mLを入れ、氷水浴で冷却しながら
混合物をかくはんした。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36mol)を約1時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、
室温下で30分間混合物をかくはんした。 【0207】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30mol)を加え、油
浴にて70℃に温めながら混合物を1時間かくはんし
た。反応終了後、この混合物を水1Lにこの水をかくは
んしながら投入し、30分間得られた混合物をかくはん
した。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを
水500mLでスラリーにした後、このスラリーをろ過
し、得られた固体を乾燥することによりN−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が
得られた(収量46.9g)。 【0208】つぎに、かくはん機、冷却管および滴下ロ
ートを備えた20mL容の三つ口フラスコに、N−(p
−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.6
1g(0.0192mol)、メタクリル酸エチル2.
94g(0.0258mol)、アクリロニトリル0.
80g(0.015mol)およびN,N−ジメチルア
セトアミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱し
ながら混合物をかくはんした。この混合物に上記「V−
65」(和光純薬社製)0.15gを加え、65℃に保
ちながら窒素気流下で、混合物を2時間かくはんした。
この反応混合物に更にN−(p−アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド4.61g、メタクリル酸エチ
ル2.94g、アクリロニトリル0.80g、N,N−
ジメチルアセトアミドおよび上記「V−65」0.15
gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。
滴下終了後、更に、得られた混合物を65℃で2時間か
くはんした。反応終了後、メタノール40gを混合物に
加え、冷却し、得られた混合物を水2Lにこの水をかく
はんしながら投入し、30分混合物をかくはんした後、
析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより15
gの白色固体の特定の共重合体1を得た。得られた特定
の共重合体1の重量平均分子量をゲルパーミエーション
クロマトグラフィーにより測定したところ、53,00
0(ポリスチレン標準)であった。 【0209】上記のようにして得られた平版印刷版を出
力500mW、波長830nm、ビーム径17μm(1
/e2 )の半導体レーザを用いて、主操作速度5m/秒
で露光した後、下記組成の非シリケート現像液を用いて
現像した。 【0210】<現像液(非シリケート現像液)>非還元
糖と塩基とを組み合わせたD−ソルビット/酸化カリウ
ム(K2 O)よりなるカリウム塩45%水溶液1リット
ルに、両性界面活性剤パイオニンC−158G(竹本油
脂(株)製)20gと消泡剤オルフィンAK−02(日
信化学(株)製)2.0gを添加して濃縮液を作製し
た。この濃縮液を水で9倍に希釈したものを現像液とし
た。この現像液1の電導度は45mS/cmである。 【0211】(実施例2−9)実施例1−1〜1−9、
1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミニウ
ム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、露光
処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これらの
平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好な印
刷版であった。 【0212】<(A)成分共重合体の合成> 合成例1(共重合体1) かくはん機、冷却管および滴下ロートを備えた500m
l三ツ口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36
モル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)
およびアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却
しながら混合物をかくはんした。この混合物にトリエチ
ルアミン36.4g(0.36モル)を約1時間かけて
滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり
去り、室温下で30分間混合物をかくはんした。 【0213】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間かくはんした。
反応終了後、この混合物を水1リットルにこの水をかく
はんしながら投入し、30分間得られた混合物をかくは
んした。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これ
を水500mlでスラリーにした後、このスラリーをろ
過し、得られた固体を乾燥することによりN−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体
が得られた(収量46.9g)。 【0214】次にかくはん機、冷却管および滴下ロート
を備えた100ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g
(0.0210モル)、メタクリル酸エチル2.05g
(0.0180モル)、アクリロニトリル1.11g
(0.021モル)およびN,N−ジメチルアセトアミ
ド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混
合物をかくはんした。この混合物に上記「V−65」
(和光純薬(株)製)0.15gを加え65℃に保ちな
がら窒素気流下2時間混合物をかくはんした。この反応
混合物にさらにN−(p−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド5.04g、メタクリル酸エチル2.
05g、アクリロニトリル1.11g、N,N−ジメチ
ルアセトアミド20gおよび上記「V−65」0.15
gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。
滴下終了後さらに65℃で2時間得られた混合物をかく
はんした。反応終了後メタノール40gを混合物に加
え、冷却し、得られた混合物を水2リットルにこの水を
かくはんしながら投入し、30分混合物をかくはんした
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの共重合体1の重量平均分子量
(ポリスチレン標準)を測定したところ53,000で
あった。 【0215】合成例2(共重合体2) 合成例1の重合反応において、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.02
10モル)をN−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド3.72g(0.0210モル)に変えた以外
は、合成例1と同様に重合反応を行い、重量平均分子量
(ポリスチレン標準)47,000の共重合体2を得
た。 【0216】<基板の作製>厚み0.3mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
ス−水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、水でよく
洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水
溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さら
に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂
目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であった。次
にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/d
2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗
し、乾燥し、さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を9
0℃で1分乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg
/m2 であった。 【0217】<下塗り液> β−アラニン 0.5g メタノール 95g 水 5g 【0218】得られた基板に以下の感光液A1を塗布
し、100℃で2分間乾燥して、A層を形成した。乾燥
後の塗布量は1.4g/m2 であった。その後、以下の
感光液B1を塗布し、100℃で2分間乾燥して、B層
を形成し、平版印刷版を得た。乾燥後の感光液の合計塗
布量は2.0g/m2 であった。 【0219】 <感光液A1> 共重合体1 0.75g 上記シアニン染料A 0.04g p−トルエンスルホン酸 0.002g テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ビクトリアピュアブルー(BOHの対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸 アニオンにした染料) 0.015g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株 )製) 0.02g γ−ブチルラクトン 8g メチルエチルケトン 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g <感光液B1> m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量4,0 00) 0.25g 上記シアニン染料A 0.05g ステアリン酸n−ドデシル 0.02g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株 )製) 0.05g メチルエチルケトン 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g 【0220】得られた平版印刷版を、出力500mW、
波長830nm、ビーム径17μm(1/e2 )の半導
体レーザを用いて主走査速度5m/秒にて露光した後、
富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4、リンス液
FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機(富士写真フ
イルム(株)製:「PSプロセッサー900VR」)を
用いて現像した。その際、DP−4は1:8で希釈した
ものを用いた。この印刷版をハイデルベルク社製のハイ
デルKOR−D機で上質紙に印刷した。 【0221】(実施例2−10)実施例1−1〜1−
9、1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミ
ニウム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、
露光処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これ
らの平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好
な印刷版であった。 【0222】あらかじめ、下塗り層を形成させた。下塗
り層は、下記組成の下塗り液を塗布し80℃、30秒間
乾燥した。乾燥後の被覆量は30mg/m2 であった。 <下塗り液> 下記化合物 0.3g メタノール 100g 水 1g 【0223】 【化15】 【0224】<感熱層の形成>得られた基板に以下の下
層用塗布液を塗布量が0.85g/m2 になるよう塗布
したのち、TABAI社製、PERFECT OVEN
PH200にてWind Controlを7に設定
して140度で50秒間乾燥し、その後、感熱層用塗布
液を塗布量が0.15g/m2 になるよう塗布したの
ち、120度で1分間乾燥し、平版印刷版原版を得た。 【0225】 <下層用塗布液> N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリ ル/メタクリル酸メチル(36/34/30:重量平均分子量50,000) 1.896g クレゾールノボラック(m/p=6/4 重量平均分子量4,500、残存 モノマー0.8wt%) 0.237g シアニン染料A(下記構造) 0.109g 4,4’−ビズヒドロキシフェニルスルホン 0.063g 無水テトラヒドロフタル酸 0.190g p−トルエンスルホン酸 0.008g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒイドロキシナフタレンスルホンに変 えたもの 0.05g フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ工業(株)社製 ) 0.035g メチルエチルケトン 26.6g 1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g γ−ブチロラクトン 13.8g 【0226】 【化16】【0227】 <感熱層用塗布液> m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 4500、未反応クレゾール0.8重量%含有) 0.237g シアニン染料A(上記構造) 0.047g ステアリン酸ドデシル 0.060g 3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート 0.030g フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ化学工業(株) 製) 0.110g フッ素系界面活性剤〔メガファックMCF−312(30%)、大日本イン キ工業(株)社製〕 0.120g メチルエチルケトン 15.1 g 1−メトキシ−2−プロパノール 7.7 g 【0228】得られた平版印刷版原版をCreo社製T
rendsetterにてビーム強度9w、ドラム回転
速度150rpmでテストパターンを画像状に描き込み
を行った。書き込みを行った平版印刷版原版に対して、
現像に際し、下記組成の非シリケート現像液を用いて現
像した。 <現像液(非シリケート現像液)>非還元糖と塩基とを
組み合わせたD−ソルビット/酸化カリウム(K2 O)
よりなるカリウム塩45%水溶液1リットルに、両性界
面活性剤パイオニンC−158G(竹本油脂(株)製)
20gと消泡剤オルフィンAK−02(日信化学(株)
製)2.0gを添加して濃縮液を作製した。この濃縮液
を水で9倍に希釈したものを現像液とした。この現像液
1の電導度は45mS/cmである。 【0229】(実施例2−11)実施例1−1〜1−
9、1−12〜1−17で製造した平版印刷版用アルミ
ニウム支持体を用いて、下記の感光層を塗布・乾燥し、
露光処理後、下記の現像液を用いて現像処理した。これ
らの平版印刷版を用いて印刷したところ汚れ性能が良好
な印刷版であった。 【0230】下記下塗り液を塗布し、塗膜を80℃で1
5秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は15
mg/m2 であった。 【0231】<下塗り液の組成> 分子量2.8万の下記共重合体 0.3g メタノール 100g 水 1g 【0232】 【化17】 【0233】得られた基板に以下の感光層形成用塗布液
1を塗布量が1.8g/m2 になるよう塗布し、乾燥し
た。 <感光層塗布液1の組成> m, p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量8,0 00、未反応クレゾール0.5質量%含有 1.0g シアニン染料A(下記構造) 0.1g テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g p−トルエンスルホル酸 0.002g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン 酸にしたもの 0.02g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株 )製) 0.05g メチルエチルケトン 12g 【0234】 【化18】 【0235】平版印刷版をクレオ社製プレートセッター
Trendsetter3244Fを用いて(回転数:
150rpm)露光し、現像処理した。浸漬型現像槽を
有する市販の自動現像機LP−900H(富士写真フィ
ルム(株)製)の現像処理槽に、下記組成のアルカリ現
像処理液C(pH約13)を20リットル仕込み、30
℃に保温した。LP−900Hの第二浴目には、水道水
を8リットル、第三浴目には、FP−2W(富士フィル
ム(株)製):水=1:1稀釈したフィニッシングガム
液を8リットル仕込んだ。 【0236】 <アルカリ現像処理液Cの組成> SiO2 ・K2 O(K2 O/SiO2 =1.1(モル比))4.0質量% クエン酸 0.5質量% ポリエチレングリコール(重量平均分子量=1,000) 0.5質量% 水 95.0質量% 【0237】本発明の平版印刷版用アルミニウム支持体
の製造方法によれば、アルミニウム合金板のアルミニウ
ム含有率によらず、塩酸水溶液中での電気化学的な粗面
化処理に用いる塩酸水溶液が特定の組成を有する塩酸水
溶液であり、かつ、硝酸水溶液中および塩酸水溶液中で
の電気化学的な粗面化処理に用いる交流のアルミニウム
板の陽極時の電気量Qaと陰極時の電気量Qcの比、Q
c/Qaが0.9〜1.0であると、表面のハニカムピ
ットが極めて均一な平版印刷版用アルミニウム支持体を
得ることができることが分かる(実施例1−1〜1−1
7)。したがって、飲料缶をスクラップし、リサイクル
して得られるアルミニウム合金板を用いた場合(実施例
1−16)でも、表面のハニカムピットが極めて均一な
平版印刷版用アルミニウム支持体を得ることができる。
また、本発明の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法により得られた平版印刷版用アルミニウム支持体
は、コンベンショナルタイプの可視光露光型製版層を設
けた場合(実施例2−2、2−3)およびレーザー製版
層を設けた場合(実施例2−4〜2−11)のいずれに
おいても、平版印刷版としたときに、耐刷性および印刷
性能(汚れ性能)に優れる。 【0238】これに対して、平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造において、硝酸水溶液中および塩酸水溶液
中での電気化学的な粗面化処理に用いる交流のアルミニ
ウム板の陽極時の電気量Qaと陰極時の電気量Qcの
比、Qc/Qaが0.9未満であると、得られる平版印
刷版用アルミニウム支持体の表面のハニカムピットが不
均一であり(比較例1−1)、また、Qc/Qaが1.
0超であると、電気化学的な粗面化処理における電極が
溶解する(比較例1−2)。また、塩酸水溶液中での電
気化学的な粗面化処理に用いる塩酸水溶液が特定の組成
を有する塩酸水溶液でないと、得られる平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の表面のハニカムピットが不均一とな
る(比較例1−3)。 【0239】 【発明の効果】本発明によれば、平版印刷版用アルミニ
ウム支持体用として用いられなかった低純度のアルミニ
ウム圧延板(合金成分を多く含むアルミニウム板または
合金成分を調製していないアルミニウム板)を使用で
き、かつ、粗面化処理による処理ムラが発生せず、平版
印刷版としたときに耐刷性および印刷性能(汚れ性能)
を両立できる平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方
法を提供することできる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
In particular, the low purity aluminum
Minium rolled plate (aluminum plate containing many alloy components)
Or an aluminum plate with no alloy components prepared)
And there is no processing unevenness due to the roughening process.
Aluminum for planographic printing plates obtained by the production method of the present invention
Printing durability and marking when a lithographic printing plate is used as the support.
Aluminum for lithographic printing plates that can achieve both printing performance (dirt performance)
The present invention relates to a method for manufacturing a um support. [0002] 2. Description of the Related Art Aluminum supports for lithographic printing plates
Mechanical roughening, chemical etching in acid or alkaline solution
Ching, desmut treatment in acidic aqueous solution, acidic aqueous solution
Among anodizing treatment, hydrophilization treatment, sealing treatment, etc.
It is common to roughen the surface by combining one or more.
The In particular, electrochemical surface roughening makes it easy to obtain uniform irregularities.
How to roughen the aluminum support for lithographic printing plates
It has been commonly used as a law. Especially hydrochloric acid or nitric acid
Mainly used for electrochemical surface roughening in aqueous solution
It is common. Conventionally, it has been used to obtain uniform irregularities.
Electrolytic surface roughening using aqueous solution mainly composed of nitric acid
In the method, adjustment of the alloy components of the aluminum alloy plate
It must be done strictly. And the composition of alloy components fluctuated
As a result, the roughened shape changes significantly, so
If the condition is constant,
Aluminum alloy plate, especially high content of impurity elements
Uniform uneven surface roughened shape for aluminum alloy plate
There is a problem that it cannot be formed. On the other hand, in recent years, aluminum supports for planographic printing plates have been developed.
As a holder, a simplified aluminum plate rolling process
Luminium rolled plate, general-purpose aluminum plate, beverage can, etc.
Use bullion that has not been adjusted from alloy components recycled from
Using an inexpensive aluminum sheet that has been rolled
It is desired from the viewpoint of energy and effective use of resources. Shi
However, an aluminum plate that simplified the aluminum plate rolling process.
Um plate, aluminum plate with many alloy components, alloy components
For lithographic printing plates using unprepared aluminum plates
When an aluminum support is manufactured, the aluminum crystal orientation occurs.
Therefore, processing unevenness called streak tends to occur.
In addition, in the electrochemical roughening treatment, uniform roughening is performed.
First, the appearance failure (processing unevenness) or printing performance (
(Soil performance) is inferior. Further, an infrared laser for direct plate making
Having an image forming layer formed of a photosensitive image forming material
Number of printed sheets as an aluminum support for lithographic printing plates
Lithographic printing with both printing durability and dirt performance
An aluminum support for printing plates has been desired. But Al
If the alloy composition of the minium alloy plate is not adjusted,
Electrochemical roughening treatment is not performed uniformly, and printing durability
Aluminium for lithographic printing plates with compatible dirt performance
It is difficult to manufacture a um support. [0006] The present invention relates to a lithographic printing plate.
Low purity not used for aluminum support
Aluminum rolled plate (aluminum containing many alloy components)
Or aluminum plate with no alloy components prepared)
And uneven processing due to the roughening treatment
In addition, for lithographic printing plates obtained by the production method of the present invention
When the aluminum support is a lithographic printing plate (hereinafter simply
In some cases, "when lithographic printing is used". ) Excellent
A lithographic plate that achieves both printing durability and printing performance (dirt performance)
To provide a method for producing an aluminum support for a printing plate
With the goal. [0007] [Means for Solving the Problems] The present inventors have conducted extensive research.
As a result, used for electrochemical surface roughening in hydrochloric acid aqueous solution
Use an aqueous hydrochloric acid solution with a specific composition.
And in aqueous nitric acid and aqueous hydrochloric acid
AC aluminum plate for electrochemical roughening treatment
The ratio of the quantity of electricity Qa at the time of anode to the quantity of electricity Qc at the time of cathode, Qc
/ Qa is set to 0.9 to 1.0, so that a lithographic printing plate
Aluminum used for aluminum support
Even if the latitude of the amount of the plate alloy component is wide, the roughening treatment
The processing unevenness caused by
It is possible to achieve both printing durability and printing performance (dirt performance).
As a result, the present invention has been completed. That is, (1) the present invention is aluminum
In order, 1) In an aqueous nitric acid solution, when an alternating current aluminum plate is used as an anode
Ratio of electricity quantity Qa and electricity quantity Qc at the time of cathode, Qc / Qa is
Electrochemically roughening treatment under conditions of 0.9 to 1.0, 2) In an aqueous solution containing 1-10 g / L hydrochloric acid,
Add Minium Hexahydrate at a rate of 10-70 g / L
Hydrochloric acid aqueous solution having a ruminium ion concentration of 1 to 8 g / L
Inside, the amount of electricity Qa and the shade of the aluminum plate of AC
Ratio of electrical quantity Qc at the extreme, Qc / Qa is 0.9 to 1.0
Electrochemical roughening treatment under conditions, 3) An anodizing treatment for a lithographic printing plate
A method for producing a ruminium support is provided. (2) The present invention provides an aluminum plate.
In turn, 1) Mechanically roughening treatment, 2) In the nitric acid aqueous solution, the anode of the aluminum plate of alternating current
Ratio of electricity quantity Qa and electricity quantity Qc at the time of cathode, Qc / Qa is
Electrochemically roughening treatment under conditions of 0.9 to 1.0, 3) To an aqueous solution containing 1 to 10 g / L of hydrochloric acid,
Add Minium Hexahydrate at a rate of 10-70 g / L
Hydrochloric acid aqueous solution having a ruminium ion concentration of 1 to 8 g / L
Inside, the amount of electricity Qa and the shade of the aluminum plate of AC
Ratio of electrical quantity Qc at the extreme, Qc / Qa is 0.9 to 1.0
Electrochemical roughening treatment under conditions, 4) An anodizing treatment for a lithographic printing plate
A method for producing a ruminium support is provided. Here, the aqueous hydrochloric acid solution contains 1 to 1 hydrochloric acid.
It is preferable to contain 0 g / L, and 2 to 6 g / L is contained.
Is particularly preferred. Aluminum chloride hexahydrate to be added
Is preferably 10 to 70 g / L, and 20 to 50
More preferably, it is g / L, and it is 35-45 g / L.
It is particularly preferred. Added aluminum chloride hexahydrate
The concentration of aluminum ions in the aqueous hydrochloric acid solution is 1-8 g
/ L is preferable, and 2 to 6 g / L is more preferable.
4 to 5 g / L is particularly preferable. [0011] (3) The present invention provides the above nitric acid aqueous solution.
And / or electrochemical rough surface in the aqueous hydrochloric acid solution
In alkaline aqueous solution before and / or after crystallization treatment
Etching process and desmatter in acidic aqueous solution
(1) or (2)
A method for manufacturing aluminum supports for lithographic printing plates
To do. Here, the aluminum plates are in order, 1) Etching treatment in alkaline aqueous solution (1st Al
Potash etching process) 2) Desmut treatment in acidic aqueous solution
Processing) 3) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of nitric acid.
(First electrochemical roughening treatment) 4) Etching in alkaline aqueous solution (second al
Potash etching process) 5) Desmut treatment in acidic aqueous solution
Processing) 6) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid.
(2nd electrochemical roughening treatment) 7) Etching treatment in alkaline aqueous solution (3rd Al
Potash etching process) 8) Desmut treatment in acidic aqueous solution.
Processing) 9) Anodizing is particularly preferable. (4) The present invention provides the anodizing treatment.
After the sealing treatment or hydrophilization treatment or sealing treatment
(1) to characterized by performing treatment and hydrophilization treatment
(3) The aluminum support for lithographic printing plates according to any one of
A method for manufacturing a holding body is provided. (5) The present invention also provides the desmut treatment.
In reason, the aqueous nitric acid solution and / or the aqueous hydrochloric acid solution
Electrochemical surface roughening treatment or the anodic acid
It is characterized by using the waste liquid of the electrolyte used in the chemical treatment
The lithographic printing plate aluminum according to any one of (1) to (4)
Provided is a method for manufacturing a nium support. (6) The present invention provides the above aluminum.
Aluminum plate having the composition shown in Table 1 below
(AL1 to AL4)
Production of an aluminum support for a lithographic printing plate as described in (5)
Provide a method. [0016] [Table 1] (7) The present invention provides (1) to (6)
Production of an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of
Aluminum support for lithographic printing plate produced by the manufacturing method
I will provide a. [0018] (8) The present invention provides a flat plate according to (7).
Directly laser-printed on an aluminum support for printing plates
The alkaline developer by heat generated by photothermal conversion
It has a positive-type image-forming layer that changes its solubility in
A lithographic printing plate precursor characterized by: (9) The present invention directly draws with a laser.
However, the heat generated by the photothermal conversion makes the alkaline developer
The photosensitive layer whose solubility is changed is the following A layer and B layer in order.
Next layered, B layer contains compound that generates heat by absorbing light
The lithographic printing plate precursor as described in (8)
provide. Layer A: Small amount of monomers (a-1) to (a-3)
Copolymer containing at least 10 mol% as a copolymerization component
Layer B layer containing 50% by mass or more of polymer: phenolic
50% by mass of an aqueous alkali-soluble resin having a hydroxyl group
Layer containing [0020] (10) The present invention provides the method described in (7).
Direct laser with an aluminum support for lithographic printing plates
Drawing and alkali development by heat generated by photothermal conversion
It has a negative type image forming layer whose solubility in liquid changes
A lithographic printing plate precursor is provided. (11) The present invention is also directed to (7).
Radical addition on an aluminum support for lithographic printing plates
Image forming layer that can be drawn directly by laser using polymerization reaction
A lithographic printing plate precursor is provided. (12) Further, the present invention provides the method according to (7).
Positive photosensitive on an aluminum support for lithographic printing plates
Providing a lithographic printing plate characterized by having an image forming layer
To do. [0023] (13) The present invention provides the method described in (7).
Negative photosensitive on an aluminum support for lithographic printing plates
A lithographic printing plate precursor having an image forming layer
provide. (14) In the present invention, the development processing solution comprises:
It is characterized by developing with an alkaline aqueous solution containing silicic acid.
The lithographic printing plate precursor according to any one of (8) to (13)
A method for developing a plate is provided. (15) In the present invention, the developing solution may be
Develop with alkaline aqueous solution without silicate and saccharides
Any one of (8) to (13)
A lithographic printing plate precursor development method is provided. [0026] DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Aluminum alloy sheet (rolled aluminum)
Mi)> The aluminum plate used in the present invention is pure aluminum
A small amount of foreign elements mainly composed of a aluminum plate and aluminum
Including alloy plate or aluminum laminate or
Selected from vapor-deposited plastic films. A
Trace amounts of foreign elements contained in the luminium plate
One or more selected from those listed,
Its content is 0.001 wt% to 1.5 wt%. The
Typical examples of foreign elements contained in aluminum alloys include
Elemental, iron, nickel, manganese, copper, magnesium, black
, Zinc, bismuth, titanium and vanadium.
Usually Aluminum Handbook 4th Edition (1990, light
Of materials known in the art as described in (Metal Society)
JIS A 1050 materials, JIS A 3103 materials,
JIS A 3005, JIS A 1100, J
For the purpose of increasing IS A 3004 material or tensile strength
Alloys with 5 wt% or less of magnesium added to these
Can be used. The aluminum plate used in the present invention is
Contains a lot of impurities recovered by scrapping beverage cans, etc.
It is also possible to use aluminum plates obtained by rolling
it can. For example, aluminum having the composition shown in Table 1 above
A nickel plate is mentioned. Aluminum for planographic printing plates of the present invention
In the manufacturing method of the um support, the trace element is contained in a large amount.
Even with electrochemical roughening in acidic aqueous solution
Honeycomb pits are generated. Also contains a lot of Si component
Even if it is rare, after anodizing after roughening
In this case, there is no defect of the anodized film, and the paper becomes dirty during printing.
It will never happen. Furthermore, even if a lot of Cu component is contained,
The area where the honeycomb pits are not formed is small and the appearance is
There is no obstacle. Aluminum support for lithographic printing plate of the present invention
The aluminum plate used in the manufacturing method is from the DC casting method.
Intermediate annealing treatment or soaking treatment, or intermediate annealing treatment
And aluminum plate manufactured by omitting soaking,
Or manufactured by omitting the intermediate annealing process from the continuous casting method
An aluminum plate may be used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is
0.05-0.8mm, preferably 0.1mm-0.6
mm. The aluminum support for lithographic printing plates of the present invention
In the manufacturing method of
Electrochemical surface roughening treatment in specific aqueous solution
Aluminum support for lithographic printing plates with surface treatment including finishing
This surface treatment includes various treatments.
It may be. Various processes used in the present invention
Used in the processing solution used in the process.
Because the alloy components of the aluminum alloy plate are eluted
The liquid may contain the alloy components of the aluminum alloy plate.
In particular, add the alloy components before treatment
Is preferably used in a steady state. In the present invention, each electrochemical roughening treatment is performed.
Before processing, alkali etching treatment or desmut
It is preferable to perform treatment, and alkali etching treatment
It is also preferable to perform treatment and desmut treatment in this order. Ma
After each electrochemical surface roughening treatment, alkaline etching
It is preferable to apply
Alkaline etching and desmutting
It is also preferable to apply in order. In addition, each electrochemical roughening treatment
Subsequent alkaline etching treatment can be omitted.
The In the present invention, the mechanical rough surface before these treatments.
It is also preferable to apply a crystallization treatment. In addition, each electrochemical roughening
You may perform a process twice or more. Also after these, Yang
It is also preferable to perform extreme oxidation treatment, sealing treatment, hydrophilic treatment, etc.
That's right. In particular, the surface treatment is an alkali etching treatment.
, Desmutting, electrochemical roughening in aqueous nitric acid
Surface treatment, alkali etching treatment and / or death
Matting treatment, electrochemical surface roughening treatment in hydrochloric acid aqueous solution
, Alkaline etching and / or desmut
It is preferable for the present invention to include the treatment and the anodizing treatment in this order.
This is one of the new embodiments. In this case, the surface treatment is anodic acid
After the hydrophilization treatment, sealing treatment and / or hydrophilization treatment are included.
This is one of the preferred embodiments of the present invention. Also this
In the case of the surface treatment, the first alkaline etching treatment
It is preferred that the present invention includes a mechanical surface roughening process before
This is one of the embodiments. Hereinafter, the mechanical surface roughening treatment, the first alkaline solution
Etching, first desmut treatment, first electrochemical roughing
Surface treatment, second alkali etching treatment, second desma
Treatment, second electrochemical surface roughening treatment, third alkali etch
Ching treatment, third desmut treatment, anodizing treatment, sealing
Each of treatment and hydrophilization treatment is explained in detail
To do. In the present specification, in an aqueous nitric acid solution
Electrochemical surface roughening treatment at the first electrochemical surface roughening treatment
The second electrochemical roughening treatment in hydrochloric acid solution
It may be called electrochemical roughening treatment. Also (machine
Before the first electrochemical surface roughening)
The first alkali etching is the alkali etching process
This is called treatment, and after the first electrochemical roughening treatment, the second electricity
Alkaline etching before chemical roughening
This is called the second alkaline etching treatment, and the second electrochemical roughing
Alkaline etch after surface treatment and before anodizing
In some cases, the etching process is called a third alkali etching process.
The Similarly, the desmut process is performed in the order described above.
The second desmut process, the second desmut process,
There is a case. Note that the desmut treatment is performed with alkaline alkali.
This is done after the etching process. <Mechanical surface roughening> In the present invention
The mechanical roughening treatment should be performed before the electrochemical roughening treatment.
It is preferable. Aluminum by mechanical surface roughening
The surface area of the plate is increased. First, brush the aluminum plate
Prior to graining, if desired, surface rolling oil
Degreasing treatment to remove water, such as surfactants, organic solvents
Degreasing treatment with an agent or alkaline aqueous solution
The However, degreasing treatment is omitted when there is little adhesion of rolling oil.
Can. Subsequently, one type or different hair diameter
Polishing slurry using at least two types of brushes
While supplying to the aluminum plate surface
Perform. Regarding mechanical surface roughening, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6
-135175, JP-B-50-40047
Are described in detail. The brush graining smell
The first brush used is called the first brush, and the last used
This brush is called the second brush. In FIG.
Luminium alloy plates 52 and 54 are roller brushes, 53
Is polishing slurry and 55, 56, 57, 58 are supported
Laura. At the grain time, as shown in FIG.
Roller-shaped brushes 52 and 54 sandwiching the minium plate 51
And two support rollers 55, 56 and 57, respectively.
58 is arranged. Two support rollers 55, 56 and 5
7 and 58, the shortest distance between the outer surfaces is the roller-shaped brush 52.
Are arranged so as to be smaller than the outer diameters of
Luminium plate 51 is formed by roller brushes 52 and 54.
Two supporting rollers 55, 56 and 57,
58 with the aluminum plate pushed in between
It is transported at a constant speed and polishing slurry liquid 53 is aluminized.
Rotating the roller-shaped brush by feeding it on the steel plate
It is preferable to polish the surface more. The brush used in the present invention has a roller shape.
Nylon, polypropylene, animal hair on the base, or
Uniform hair length and flocking of brush material such as steel wire
What is planted with distribution, brush with a small hole in the base
Hair transplanted, channel roller type
Etc. are preferably used. Of these, preferred materials are
It is nylon, and the preferred hair length after planting is 10 to 200.
mm. In addition, the flocking density when planting in the brush roller
Is 1cm230-1000 per piece are preferred, and more preferred
The number is preferably 50 to 300. Preferred hair of the brush
The diameter is 0.24 to 0.83 mm, more preferably
0.295 to 0.72 mm. The cross-sectional shape of the hair is a circle
preferable. If the hair diameter is smaller than 0.24mm, shadow
The dirt performance at the part deteriorates and is larger than 0.83 mm
And the dirt performance on the blanket may deteriorate. hair
Material is preferably nylon, nylon 6, nylon 6
・ 6, nylon 6, 10 etc. are used, but pull
Strength, abrasion resistance, dimensional stability due to water absorption, bending strength, resistance
Nylon 6 · 10 is most preferable in terms of heat resistance and recoverability. The number of brushes is preferably 1 or more and 10
Or less, more preferably 1 or more and 6 or less.
The The brush roller is described in JP-A-6-135175.
Even if you combine brush rollers with different bristle diameters as listed
Good. Next, the rotation of the brush roller is preferably 100 rp.
m is arbitrarily selected from 500 rpm. Support roller is
Use a metal or metal surface that is kept straight.
I can. The direction of rotation of the brush roller is as shown in FIG.
It is preferable to perform forward rotation in the conveyance direction of the aluminum plate
However, if there are many brush rollers, some brush rollers
May be reversed. The pushing amount of the brush
It is preferable to manage with the load of the rotary drive motor.
The power consumption of the rolling drive motor is 1.0-15 kW, and 2
It is preferable to manage so that it may become 10 kw. In the present invention, the rough brush is used to roughen the surface.
After treatment with a thin brush, hydrophilicity and
A support that has both aqueous and adhesive properties is obtained.
preferable. In that case, shadow area when dampening water is low
Since there is no crushing of the water, the water width is wide and soiling is difficult to occur.
Furthermore, there is no deterioration in adhesion with the photosensitive layer. Main departure
The polishing slurry used for light is silica sand, hydroxide hydroxide
Minium, alumina powder, volcanic ash, pumice, carboranda
Average particle diameter of 1 to 50 μm (preferably
20-45 μm) abrasives with a specific gravity of 1.05-1.3
What is dispersed in water within such a range is preferable. average
The particle size is the volume of all abrasives contained in the slurry.
On the other hand, when the cumulative frequency of the proportion of particles of each diameter was taken
The particle size at which the cumulative ratio is 50%. The machine
The center line average roughness (Ra) after roughening is 0.3 to 1.
It is preferable to process so that it may become 0 micrometer. of course
A method of spraying slurry liquid, using a wire brush
The surface shape of the rolling roll with irregularities
For example, a method of transferring to a film plate may be used. Other methods
Are disclosed in JP-A-55-074898 and JP-A-6.
No. 1-162351, JP-A 63-104889
It is described in gazettes. Thus, the aluminum plate is brush gray
Then, the surface of the aluminum plate is chemically treated
It is preferable to perform etching. This chemical essence
Chinching is performed with brush grained aluminum.
Abrasives, aluminum scraps, etc.
Has the effect of removing the electrochemical
It is possible to achieve roughening more uniformly and effectively.
it can. <Chemical etching in aqueous alkali solution>
Treatment (first alkali etching treatment)> first alkali
Etching treatment is performed using the above aluminum alloy plate
Etching is performed by contacting the solution. First
Alkaline etching treatment is mechanical roughening treatment.
If not, the aluminum alloy plate (rolled aluminum)
Remove the rolling oil, dirt and natural oxide film on the surface of
And for the purpose of mechanical roughing
Has uneven edges generated by mechanical surface roughening
Dissolve the part and get a surface with smooth swell
It is done for the purpose. Aluminum alloy plate with alkali
As a method of contacting the solution, for example, aluminum
Passing the alloy plate through a tank containing an alkaline solution
Method, aluminum alloy plate in a tank containing alkaline solution
Soaking in aluminum, alkaline solution with aluminum alloy
The method of spraying on the surface of a board is mentioned. Details of the chemical etching method are described in US
It is described in Japanese Patent No. 3,834,398.
The More specifically, it can dissolve aluminum.
To be immersed in an aqueous solution, more specifically, an alkaline aqueous solution
Is the law. Examples of the alkali include sodium hydroxide
, Potassium hydroxide, tribasic sodium phosphate, tertiary phosphorus
Potassium acid, sodium aluminate, sodium metasilicate
Um and sodium carbonate. An aqueous base solution
When used, the etching rate is fast. Chemical etching of these alkalis
0.05 ° C. to 40% by mass (wt%) aqueous solution, 40 ° C.
It is preferable to treat for 5 to 300 seconds at a liquid temperature of -100 ° C.
Good. The concentration of alkaline aqueous solution is 1-30 wt%
Of course, aluminum is included in the aluminum alloy.
The alloy component may contain 0 to 10 wt%. Arca
An aqueous solution mainly composed of caustic soda
Is preferred. The liquid temperature is from room temperature to 95 ° C, and is treated for 1 to 120 seconds
It is preferable to manage. After the etching process is completed, the processing liquid
In order not to bring it into the next process
It is preferable to perform cutting and water washing by spraying. Al
The amount of chemical etching of the minium plate is
The dissolution amount of the minium plate is 0.001 to 30 g / m.2Preferred
More preferably 1-15 g / m2And especially
Preferably, 3-12 g / m2It is. <Acid etching process> Acid etching process
The chemical etching of the aluminum plate in an acidic aqueous solution
After the electrochemical roughening treatment.
It is preferred to do so. In addition, the electrochemical surface roughening treatment
Perform the alkali etching process before and / or after
If so, acid etch after alkali etching
It is also preferable to perform the processing. The above aluminum plate
After the potash etching treatment, the above acidic etching
When treated, a metal containing silica on the aluminum plate surface
Intercalation compound or simple substance Si can be removed, and then
Defects in the anodized film formed in the anodizing treatment of
Can be eliminated. As a result, when printing,
Trouble that dot ink adheres to the non-image area called
Can be prevented. Acidic water used for acid etching treatment
Liquids include phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid,
Or an aqueous solution containing two or more of these mixed acids.
It is. Of these, a sulfuric acid aqueous solution is preferable. Concentration of acidic aqueous solution
The degree is preferably 50 to 500 g / L. Acid water
Solution is not only aluminum but also aluminum plate
The alloy component to be contained may be contained. In the acid etching treatment, the liquid temperature is set to 60 to 90.
℃, preferably 70-80 ℃, treated for 1-10 seconds
It is preferable to do so. Aluminium at this time
The dissolution amount of the steel plate is 0.001 to 0.2 g / m2Is
preferable. Also, acid concentration, such as sulfuric acid concentration and aluminum
Select the ion concentration from the range that does not crystallize at room temperature.
It is preferable. The preferred aluminum ion concentration is
0.1 to 50 g / L, particularly preferably 5 to 15 g
/ L. Also, after the acid etching process is finished
In order not to take the processing liquid to the next process,
It is preferable to perform draining with water and washing with spray.
That's right. <Desmutting treatment in acidic aqueous solution (first
Desmut treatment)> Chemical etching with alkaline water
In general, the surface of aluminum
In this case, phosphoric acid, nitric acid,
Contains acid, chromic acid, hydrochloric acid, or two or more of these acids
Desmut with mixed acid. The concentration of the acidic aqueous solution is 0.5
~ 60 wt% is preferred. In addition, aluminum in acidic aqueous solution
Alloy compositions contained in aluminum alloys as well as
Minutes of 0 to 5 wt% may be dissolved. Desma
Generated by electrochemical surface roughening treatment
Use of waste liquid and waste liquid generated by anodizing
preferable. The liquid temperature is from room temperature to 95 ° C.
70 ° C. is particularly preferred. Processing time is preferably 1 to 120 seconds
In particular, 1 to 5 seconds is preferable. Desmut processing is complete
In order to prevent the processing solution from being brought into the next process after
Perform draining with a prowler and washing with spray.
And are preferred. Liquid draining and spraying with nip rollers
Washing with water, desmut treatment liquid used in the next step
When using the same type of liquid or liquid with the same composition
Can be omitted. Electrochemical roughening treatment
This device is used to prevent dissolution of the electrode and control the roughened shape.
When using an auxiliary anode tank for rolls, the auxiliary anode tank
Electrochemical roughening treatment by alternating current flowing through the aluminum plate
If you bring it in front of the tank, electrochemical roughening
Omit desmutting step in acidic aqueous solution before treatment
You can also <Electrochemical roughening treatment> In the present invention
Electrochemical roughening treatment is an aqueous solution mainly composed of nitric acid.
Electrochemical surface roughening treatment under specific conditions (No. 1
Electrochemical roughening treatment) in aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid
Electrochemical roughening treatment under specific conditions (second electric
Is characterized by the combination of gas-chemical roughening treatment)
The Electrochemical roughening treatment under these specific conditions
Treatment and anodizing treatment, if necessary, mechanical roughening treatment
By performing each surface treatment described in this specification,
The object of the present invention can be achieved. Specific conditions
The electrochemical surface roughening process will be described below. (1) An aqueous solution mainly composed of nitric acid (first electric
Chemical roughening treatment) The aqueous solution mainly composed of nitric acid in the present invention is a normal direct current.
Or used for electrochemical surface roughening using alternating current
1 to 100 g / L nitric acid aqueous solution,
Such as luminium, sodium nitrate, ammonium nitrate
Nitrate ion, aluminum chloride, sodium chloride, chloride
Hydrochloric acid or nitric acid with hydrochloric acid ions such as ammonium
Use by adding one or more compounds from 1 g / L to saturation
Can. In addition, a compound that forms a complex with copper 1
It can also be added at a rate of ˜200 g / L. Nitric acid
The aqueous solution mainly contains iron, copper, manganese, nickel
Aluminum such as ru, titanium, magnesium, silica
The metal contained in the alloy may be dissolved. Hypochlorous acid
An acid or hydrogen peroxide may be added at 1 to 100 g / L. liquid
Aqueous solution containing a temperature of 15 to 90 ° C. and 5 to 15 g / L of nitric acid
Add aluminum salt (aluminum nitrate) to the
This is an aqueous solution containing 3-50 g / L of minium ions.
Are particularly preferred. Addition to aqueous solution mainly composed of nitric acid
Known as things, equipment, power supply, current density, flow rate, temperature
Those used for electrochemical roughening can be used.
The The power source used for electrochemical roughening is AC or DC.
Is used, but alternating current is particularly preferred. Mainly nitric acid
The aluminum plate is formed by electrochemical surface roughening in an aqueous solution.
The amount of electricity involved in the anodic reaction is electrochemical roughening treatment.
10 to 1000 C / dm when2Range of
30-500 C / dm2Is preferred, 45
~ 300C / dm2Is particularly preferred. (2) Aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (second electric
Chemical roughening treatment) The aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid as used in the present invention is a normal direct current.
Or used for electrochemical surface roughening using alternating current
Can be used in an aqueous solution of 1-10 g / L hydrochloric acid.
Glasses such as minium, sodium nitrate, ammonium nitrate
Acid ion, aluminum chloride, sodium chloride, chloride
Hydrochloric acid or nitrate with hydrochloric acid ions such as ammonium
Use by adding one or more compounds from 1 g / L to saturation
be able to. Moreover, the compound which forms a complex with copper is 1-
It can also be added at a rate of 200 g / L. Mainly hydrochloric acid
In the aqueous solution to make the body, iron, copper, manganese, nickel,
Aluminum alloys such as titanium, magnesium and silica
The metal contained therein may be dissolved. Hypochlorous acid and
Hydrogen peroxide may be added at 1 to 100 g / L. Hydrochloric acid water
The solution contains a liquid temperature of 15 to 50 ° C. and 1 to 10 g / L of hydrochloric acid.
In the aqueous solution, aluminum salt (aluminum chloride, A
lClThree・ 6H2O) added at a rate of 10-70 g / L
Water solution with an aluminum ion concentration of 1-8 g / L
A liquid is particularly preferable. Such hydrochloric acid aqueous solution
When the surface is subjected to electrochemical surface roughening,
Due to uniform surface shape, low purity aluminum rolling
Plate (aluminum plate or alloy component containing a lot of alloy components)
Even if an aluminum plate not prepared is used,
Uneven processing due to surface treatment does not occur, and a lithographic printing plate
Sometimes excellent printing durability and printing performance (dirt performance)
it can. Here, hydrochloric acid aqueous solution is 1-10 g / L hydrochloric acid.
It is preferable to contain, especially 2 to 6 g / L
preferable. The added aluminum chloride hexahydrate is 10
~ 70 g / L is preferred, and 20-50 g / L
More preferably, it is 35 to 45 g / L.
Is preferred. Hydrochloric acid with aluminum chloride hexahydrate added
The aluminum ion concentration of the aqueous solution is 1-8 g / L.
2-6g / L is more preferable
4 to 5 g / L is particularly preferable. Mainly hydrochloric acid
Additives, equipment, power supply, current density, flow into aqueous solution
For speed and temperature, use for known electrochemical surface roughening
Things can be used. Used for electrochemical roughening
AC or DC is used as the power source.
Good. Electrochemical roughening in aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid
The amount of electricity that the aluminum plate takes part in the anodic reaction during
When the electrochemical roughening treatment is completed, 10 to 10
00C / dm2Can be selected from the range of 20 to 80 C / d
m2Is preferably 25-60 C / dm2Is particularly preferred
Yes. (3) Electrochemical roughening Electrochemical roughening is the treatment of aluminum in acidic aqueous solution.
Direct current or alternating current between the nium plate and the opposite electrode
It means that the surface is electrochemically roughened by applying a flow. Book
In the invention, alternating current is particularly preferred.
Any of a phase, a three-phase, etc. may be sufficient. Also, AC and DC
A superimposed current can also be used. Electrolysis tank is well known
Can be used for electrochemical roughening
The electrolytic cell is a well-known table such as a vertical type, flat type, or radial type.
An electrolytic cell used for surface treatment can be used. Electrolytic treatment tank
A plurality may be provided. Also in acid or alkaline aqueous solution
Etching treatment in water, desmutting treatment in acidic aqueous solution
Aluminum plate in acid, acid or neutral salt solution
Repeated electrochemical surface roughening process with the electrode electrolytic process in between.
You may go back and forth. A) Power feeding method to aluminum plate Conductor roll is used as the power supply method to the aluminum plate.
Liquid supply without direct power supply or conductor roll
An electric system (indirect power supply system) can be used. Electrolytic cell
The electrolyte that passes through the interior of the
It can be a real or counter. One in one electrolytic cell
The above AC power supplies can be connected. Indirect power supply method
Is used, Japanese Patent Publication No. 6-37716,
A method using an auxiliary anode described in JP-A-5-42520
The amount of electricity applied to the aluminum plate during the anode and the cathode
It is preferable to adjust the ratio of the amount of electricity. Flow to auxiliary anode
Rectifier elements such as thyristors, diodes, and GTOs
It is particularly preferable to control using a child. JP 6-3
If the method described in Japanese Patent No. 7716 is used,
The electrode facing the carbon electrode of the main electrode where the roughening reaction takes place
The quantity of electricity at the time of anode of the alternating current on the surface of the ruminium plate
The amount of electricity (current value) at the time of the cathode can be easily controlled. Also,
In terms of power supply production, the effect of transformer bias is small and very
Is advantageous. Electrochemical roughening using sine waves
The current value control method is a transformer, variable induction voltage
Adjustable current value for electrolysis using a regulator etc.
This is performed by feeding back to the induction voltage regulator. And
The method for controlling the current value is disclosed in JP-A-55-25812.
System that controls the phase with a thyristor
Can also be used together. Aluminum is used for electrochemical surface roughening.
If the distance between the plate and electrode and the liquid flow rate are not constant, current bias will occur.
Easy to produce, resulting in uneven processing of the aluminum surface
Is not suitable as a support for lithographic printing plates
End up. In order to solve the problem,
1-5mm in the width direction of the aluminum web
Use a liquid supply nozzle with slits for blowing out liquid
be able to. In addition, a plurality of liquid pool chambers are provided.
A valve and a flow meter are installed in the piping connected to the liquid pool chamber.
Adjust the amount of liquid blown out from each slit.
It is particularly preferred that Aluminum web and electrode
The distance of 5-100mm, especially 8-15mm is preferred
Yes. In order to keep this distance constant, Japanese Patent Publication No. 61-3003
The surface described in No. 6 Gazette on the surface on which the running web can slide
The web is run while being pressed against the sliding surface using pressure.
A method is used. Or JP-A-8-300843
Use a roller with a large diameter as described in
The method of keeping the distance of the aluminum plate constant can also be used.
it can. When using the direct feeding method, Japanese Patent Laid-Open No. 58
Conductor roll as described in JP-A-177441
And an apparatus described in JP-A-56-123400
It is preferable to roughen the surface electrochemically. Conda
Kuta rolls are installed on the upper or lower surface of the aluminum web.
Can be installed on the upper surface of the aluminum plate.
And press against the aluminum plate with a nip device
It is particularly preferable to do this. Aluminum plate is a conductor
The length in contact with the rail is 1 to 30 with respect to the aluminum traveling direction.
0 mm is preferable. Conductor across an aluminum plate
The pass roll facing the roll is a rubber roll.
And are preferred. Pressing pressure, rubber roll hardness is arc
Set arbitrarily under conditions that do not generate spots. Kondak
By installing the talol on the upper surface of the aluminum plate,
Dactor roll replacement and inspection work is simplified. Co
The power supply brush is slid against the rotating body at the end of the dactor roll.
It is preferable to use a method of energizing while maintaining the current. Armini
The conductor roll pressed against
Always electrochemical rough surface to prevent spot generation
With the same composition and the same temperature as the electrolyte used
It is preferable to always cool. If foreign matter enters the electrolyte
It is easy to cause an arc spot, so it is used for cooling.
Wrap filter cloth etc. around spray, or upstream of spray tube
Put a fine mesh filter in the pipe.
Is preferred. B) Electrochemical roughening using alternating current The AC power supply waveform used for electrochemical roughening is a sign
Wave, rectangular wave, trapezoidal wave, triangular wave, etc. can be used
However, rectangular or trapezoidal waves are preferred, and trapezoidal waves are particularly preferred.
That's right. The frequency is preferably 0.1 to 500 Hz, 40 to
120 Hz is more preferable, and 45 to 65 Hz is particularly preferable.
That's right. When trapezoidal wave is used, current reaches peak from 0
The time tp until is preferably 0.1 to 2 msec,
0.3-2 msec is particularly preferable. Impedance of power circuit
If tp is less than 0.1 due to
A large power supply voltage is required at the rise of the waveform.
Source equipment costs increase. Greater than 2 msec
And easily affected by trace components in the electrolyte
Roughening is difficult to be performed. Used for electrochemical roughening
The condition of one cycle of AC
The ratio of the reaction time ta to the AC cycle T (in the present invention
It is called “duty”. ) Ta / T is 0.33-
0.66 is preferable, and 0.45-0.55 is more preferable
0.5 is particularly preferable. Aluminum alloy plate surface
Is mainly composed of aluminum hydroxide during the cathode reaction.
Oxide film is generated, and further, dissolution and destruction of the oxide film
May occur. And the dissolution and destruction of the oxide film is
The part where melting or destruction occurs is the next aluminum
Opening of pitting reaction during anodic reaction of alloy plate
The starting point. Therefore, the selection of AC duty is uniform
This is particularly important in that an electrolytic surface roughening treatment is performed. Electricity applied to the aluminum plate facing the main electrode
The amount of electricity is the amount of electricity Qc when the aluminum plate is cathodic.
The ratio Qc / Qa of the amount of electricity Qa during the anode reaction is 0.9
-1.0, preferably 0.92-0.9.
8, particularly preferably 0.94 to 0.96
The When Qc / Qa is within this range, the surface is roughened.
There is no processing unevenness and printing durability is improved when using a lithographic printing plate.
And printing performance (dirt performance). Qc /
If Qa exceeds 1.0, the electrode may be dissolved. this
Electricity ratio control controls the voltage generated by the power supply.
Can be done. Electrolytic surface roughening treatment
Using an AC electrolytic cell with an auxiliary electrode to shunt current
In the case of carrying out, JP-A-60-43500 and JP
As described in the Kaihei 1-52098 publication,
Controlling the current value of the anode current diverted to the auxiliary electrode
Thus, Qc / Qa can be controlled. Current density
Is the peak value of the trapezoidal wave, and the current is on the anode cycle side Ia,
10 to 200 A / dm for both cathode cycle side Ic2
Is preferred. Ia / Ic is in the range of 0.5-3
Is preferred. Electrochemical roughening using alternating current in the present invention
The electrolytic cell used for the vertical type, flat type, radial type, etc.
A known electrolytic cell for surface treatment can be used.
Radial type as described in Kaihei 5-195300
An electrolytic cell or a flat type is particularly preferable. The electrode is carbo
Use the main electrode as the main electrode and ferrite as the auxiliary anode.
Are particularly preferred. Also, multiple AC electrolyzers are arranged in series.
The installed electrolytic surface roughening apparatus can also be used suitably.
The An electrolytic cell having an auxiliary anode has a main electrode.
Can be installed before or after the electrolytic cell, but especially salt
Auxiliary power used in electrochemical surface roughening process mainly composed of acid
Hold the electrolytic cell with the pole in front of the electrolytic cell with the main electrode.
It is preferable to reduce the occurrence of processing unevenness.
Yes. Also, the inlet (liquid level) of the electrolytic cell with the auxiliary electrode and the main
The distance to the inlet (liquid level) of the electrolytic cell with poles is too long
Metal in aluminum plate by chemical dissolution reaction of water and hydrochloric acid
The intermetallic compound dissolves to form deep holes, and the photosensitive layer in that area
It becomes thick and uneven during printing. Therefore alumini
Mainly from the inlet (liquid level) of the electrolytic cell where the aluminum plate has an auxiliary electrode
3 seconds or less to the entrance (liquid level) of the electrolytic cell with electrodes
It is preferable that In the electrolytic surface roughening treatment, 1 or 2 or more
In the above AC electrolytic cell, different polarities in one electrolytic cell
Aluminium between the main poles connected to the power terminals
A break in which alternating current does not flow between the alloy plate and these main electrodes
One or more periods are provided, and the length of the suspension period is 0.001
~ 0.6 seconds, honeycomb pits
It is preferable because it is uniformly formed on the entire surface of the metal plate. Than
Preferably 0.005-0.55 seconds, more preferably
0.01 to 0.5 seconds. 2 or more arranged in series
When using an AC electrolytic cell, one AC electrolytic cell and another
Alternating current flows in the aluminum alloy plate between the flow electrolysis layer
It is preferable to set the time not to be 0.001 to 20 seconds.
More preferably, it is 0.1-15 seconds, More preferably, it is 1-1.
2 seconds. FIG. 2 is a diagram of a flat frame suitably used in the present invention.
Discontinuation of an example of an electrolytic surface-roughening treatment apparatus equipped with a to-type AC electrolytic cell
A surface schematic diagram is shown. In FIG. 2, 2 is an AC electrolytic cell, 4
A, 4B, 4C are main poles, 6A, 6B are transport rollers, 8A
Is an introduction roller, 8B is a discharge roller, and 100 is electrolytic roughing.
It is a surface treatment apparatus. The electrolytic surface roughening treatment apparatus 100 is
Three-phase exchange while transporting the ruminium web W in a substantially horizontal direction
Current (hereinafter also referred to as “three-phase alternating current”) for electrolysis
It is an electrolytic surface roughening apparatus which performs a surface roughening process. The electrolytic surface roughening treatment apparatus 100 is made of aluminum.
It extends along the conveyance direction a of the web web W and the upper surface is opened.
Shallow box-shaped AC electrolytic cell 2 and the vicinity of the bottom surface of AC electrolytic cell 2
The conveyance path of the aluminum web W along the conveyance direction a
Three plate-like shapes arranged parallel to the transport surface T, which is a path
Main electrodes 4A, 4B and 4C, and the inside of the AC electrolytic cell 2
The upstream side with respect to the transport direction a (hereinafter simply “upstream”
"Side". ) And the downstream side with respect to the transport direction a (hereinafter
Below, it is simply called “downstream”. ) Near the end of
Conveys aluminum web W inside AC electrolytic cell 2
Conveying rollers 6A and 6B and the upper side of the AC electrolytic cell 2
Is located on the upstream side of the aluminum web W
An introduction roller 8A to be introduced into the electrolytic cell 2 and AC electrolysis
Located on the downstream side of the tank 2 and inside the AC electrolytic cell 2
The aluminum web W that has passed through the outside of the AC electrolytic cell 2
And a derivation roller 8B. In AC electrolytic cell 2
The acidic aqueous solution mentioned above is stored in the part. Main pole 4
A, 4B and 4C each generate a three-phase AC
Connected to U terminal, V terminal and W terminal of AC power supply Tac
Has been. Therefore, the main poles 4A, 4B and 4C
The applied alternating current is shifted in phase by 120 °. Regarding the operation of the electrolytic surface roughening treatment apparatus 100
This will be described below. Aluminum web W is an introduction roller
8A introduced into the AC electrolytic cell 2
Constant speed along conveyance direction a by la 6A and 6B
It is conveyed by. Inside the AC electrolytic cell 2, aluminum
Umweb W is flat against main poles 4A, 4B and 4C.
Move to row and from main poles 4A, 4B and 4C
AC is applied. Thereby, the aluminum web W
In this case, the anode reaction and the cathode reaction occur alternately.
When the anode reaction is taking place,
When the cathode reaction occurs,
An aluminum oxide film is formed and the surface is roughened.
The The alternating current applied to the main poles 4A, 4B and 4C is
As described above, the phase is shifted by 120 °.
In 4B, it is 120 rather than the phase (U phase) of the main pole 4A.
Anode reaction and cathode reaction with a phase delayed by V (phase V)
Is repeated, and the main pole 4C is 1 more than the main pole 4B.
Anode reaction and cathode reaction in 20 ° phase (W phase)
The response is repeated. Therefore, aluminum web
In W, a single-phase alternating waveform current having the same frequency is applied.
The anode reaction and cathode are three times more frequent than
High speed and power
Even when electrolytic surface roughening is performed at a flow density, the width direction
Chatter marks that are stripes are less likely to occur. FIG. 3 shows a flat frame suitably used in the present invention.
Another example of electrolytic surface-roughening treatment equipment equipped with a to-type AC electrolytic cell
The cross-sectional schematic diagram of is shown. In FIG. 3, the same reference numerals as in FIG.
Indicates the same element as that indicated by the reference numeral in FIG.
10 is an auxiliary electrolytic cell, 12 is an auxiliary electrode, 14A, 14
B is a transport roller, 16A is an introduction roller, 16B is a delivery roller
, 102 is an electrolytic surface-roughening treatment device and Th1, Th
2, Th3 is a thyristor. Electrolytic surface roughening treatment equipment 1
02 is an alternating current provided in the electrolytic surface roughening treatment apparatus 100 described above.
Electrolytic rough surface in which an auxiliary electrolytic cell 10 is disposed in front of the flow electrolytic cell 2
It is a chemical processing apparatus. The auxiliary electrolytic cell 10 has an open top surface.
It is a box shape, and the aluminum web W is carried near the bottom.
A plate-like auxiliary electrode 12 is provided in parallel to the feeding surface T.
Yes. The vicinity of the upstream side wall surface and the downstream side wall surface of the auxiliary electrolytic cell 10
In the vicinity of the aluminum web W, the auxiliary electrode 12
Conveying rollers 14A and 14B that convey above
It is arranged. Also, above the auxiliary electrolytic cell 10
On the upstream side, the aluminum web W is connected to the auxiliary electrolytic cell 10.
An introduction roller 16A to be introduced inside is provided, and auxiliary electrolysis
On the downstream side above the tank 10, there is an inside of the auxiliary electrolytic tank 10.
Derivation of the aluminum web W that has passed through
A roller 16B is provided. Inside the auxiliary electrolytic cell 10
The acidic aqueous solution mentioned above is stored. AC power supply Tac U phase, V phase and W phase
Are connected to the auxiliary electrode 12, respectively, and the U phase, V phase and
Between each of the W phase and the auxiliary electrode 12
Th1, Th2 and Th3 are interposed. Rhino
Listers Th1, Th2, and Th3 are all fired
Current flows from the AC power supply Tac to the auxiliary electrode 12
Connected so that. Therefore, thyristor Th
1, any of Th2 and Th3
Since the anode current flows through the auxiliary electrode 12, the thyristor
By controlling the phase of Th1, Th2 and Th3
The current value of the anode current flowing through the auxiliary electrode 12 is controlled.
And therefore also control the value of Qc / Qa
Can. FIG. 4 shows a radius that is preferably used in the present invention.
Disconnection of an example of an electrolytic surface-roughening treatment apparatus equipped with a water-type AC electrolytic cell
A surface schematic diagram is shown. In FIG. 4, 20 is an AC electrolytic cell, 2
6A and 26B are main electrodes, 34 is an auxiliary electrolytic cell, and 35 is an upstream side.
Guide roller, 36 auxiliary electrode, 22 AC electrolytic cell body,
22A is an opening, 24 is a feed roller, 28A and 28B are
Liquid supply nozzle, 30A is upstream guide roller, 30B is downstream
Side guide roller, 32 is overflow tank, 34A is bottom of auxiliary electrolytic cell
Surface 104 is an electrolytic surface roughening treatment device and Th4 and Th5.
Is a thyristor. Electrolytic surface roughening treatment apparatus 104 is an acid
AC comprising an AC electrolytic cell main body 22 in which an aqueous solution is stored
The electrolytic cell 20 and the AC electrolytic cell main body 22 are accommodated inside, and the water
Arranged rotatably around an axis extending in the plane direction
Move the Minium web W from the left to the right in FIG.
And a feed roller 24 for feeding in the transport direction a.
The In the AC electrolytic cell main body 22, the acidic aqueous solution described above is provided.
Is stored. The inner wall surface of the AC electrolytic cell main body 22
It is formed in a substantially cylindrical shape so as to surround the roller 24,
On the inner wall surface, semi-cylindrical main poles 26A and 26B
Are provided with the feed roller 24 in between. Main pole 26A
And 26B are divided into a plurality of small electrodes,
An insulating spacer is interposed between the small electrodes.
The For example, small electrodes can be formed using graphite or metal.
The spacer can be, for example, vinyl chloride
It can be formed of resin. The spacer thickness is
It is preferable that it is 1-10 mm. In FIG.
Is shown in a simplified manner, whichever of the main poles 26A and 26B
Also in the case of small electrodes divided by spacers
Each is connected to an AC power source Tac. The upper part of the AC electrolytic cell 20 has aluminum.
The web W is introduced into the AC electrolytic cell main body 22 and is led out.
An opening 22A for this purpose is formed. AC electrolytic cell book
In the vicinity of the opening 22A in the body 22, there is an AC electrolytic cell book
A liquid supply nozzle 28A for replenishing the body 22 with an acidic aqueous solution is provided.
It has been. A liquid supply nozzle 28B is also provided separately.
Yes. Near the opening 22A above the AC electrolytic cell 20
The aluminum web W is placed inside the AC electrolytic cell main body 22.
A group of upstream guide rollers 30A for guiding to the
Aluminum surface that has been subjected to electrolytic surface roughening in the tank body 22.
A group of downstream guide rollers 30B for guiding the hub W to the outside;
Is arranged. In the AC electrolytic cell 20, the AC electrolytic cell main
An overflow tank 32 is provided adjacent to the downstream side of the body 22.
The In the overflow tank 32, the above acidic aqueous solution is stored.
It is. The overflow tank 32 overflows from the AC electrolytic cell main body 22.
The acidic aqueous solution temporarily stored in the AC electrolytic cell main body 22
It has a function to keep the level of acidic aqueous solution constant.
To do. In the previous stage (upstream) of the AC electrolytic cell main body 22,
An auxiliary electrolytic cell 34 is provided. The auxiliary electrolytic cell 34
It is shallower than the AC electrolytic cell main body 22 and the bottom surface 34A is flat.
Is formed. On the bottom surface 34A, a cylindrical shape
A plurality of auxiliary electrodes 36 are provided. Auxiliary electrolytic cell 34
The acidic aqueous solution mentioned above is stored inside. Auxiliary power
The pole 36 is made of a highly corrosion-resistant metal such as platinum, ferrite, etc.
It is preferable that it is formed by. Also, the auxiliary electrode 3
6 may be plate-shaped. The auxiliary electrode 36 is an AC power source T
On the side where the main pole 26A in ac is connected, the main pole 26A
Is connected in parallel with the thyristor Th4 in the middle.
However, the auxiliary power from the side of the AC power supply Tac is
It is connected so that a current flows toward the pole 36.
Further, the main electrode 26B in the AC power supply Tac is connected.
The side is also connected to the auxiliary electrode 36 via the thyristor Th5.
It is. The thyristor Th5 is also connected to the AC power supply Ta
The auxiliary electrode 36 from the side to which the main electrode 26B is connected in c
It is connected so that a current flows toward. Sairi
When either of the stars Th4 and Th5 is fired,
An anode current flows through the auxiliary electrode 36. Therefore,
By controlling the phase of irristors Th4 and Th5
The current value of the anode current flowing through the auxiliary electrode 36 is controlled.
And therefore also control the value of Qc / Qa
Can. Regarding the operation of the electrolytic surface roughening treatment apparatus 104
This will be described below. From the left in FIG. 4, aluminum
The alloy plate W is first assisted by the upstream guide roller 35.
Guided into the electrolytic cell 34 and then the upstream guide roller 30
A is guided to the AC electrolytic cell main body 22 by A. And
From the left to the right in FIG.
Sent by the downstream guide roller 30B.
The Inside the AC electrolytic cell main body 22 and the auxiliary electrolytic cell 34
The aluminum web W has the main poles 26A and 2A.
The AC current applied to 6B and the auxiliary electrode 36
Surface of the main electrodes 26A and 26B
Surface is roughened and almost uniform honeycomb pits
Is formed. (4) Recycling of waste liquid used for roughening The liquid (waste liquid) used for each roughening treatment is recycled as much as possible.
Preferably. Caustic melted aluminum ions
In aqueous soda solutions, aluminum and caustic soda are prepared by crystallization.
Can be separated. Aluminum ion
In a dissolved sulfuric acid aqueous solution, nitric acid aqueous solution or hydrochloric acid aqueous solution,
Recovery of sulfuric acid or nitric acid by air dialysis and ion exchange resin
It can be performed. Hydrochloric acid with aluminum ions dissolved
In aqueous solution, it is described in JP2000-282272A.
Recovery by evaporation can also be performed. Book
In the invention, the waste liquid of the electrolyte used in the electrochemical surface roughening treatment
The desmut process (first, second and third desmut process)
It is preferably used for Electrochemical roughening
Desmut treatment performed before treatment or anodizing treatment
Roughening or anodizing after desmutting
It is preferable to use the same type of liquid as
It is particularly preferable to use the resultant solution. By doing so,
The water washing process provided between the desmut treatment and the next process
Can be omitted, simplifying equipment and reducing the amount of waste liquid
It becomes ability. <Chemical etch in aqueous alkali solution
Treatment (second and third alkali etching treatment)> first
1 electrochemical roughening treatment followed by 2nd electrochemical roughening treatment
It is preferable to perform the second alkali etching process before
Yes. This process makes the second electrochemical surface roughening process uniform.
And the surface shape of the aluminum plate is uniform.
A lithographic printing plate with excellent printing durability and printing performance.
The In addition, after the second electrochemical surface roughening treatment, anodization treatment is performed.
It is preferable to perform the third alkali etching process before
Yes. This process produced a second electrochemical surface roughening process.
Removal of smut component (mainly aluminum hydroxide)
In addition, the surface shape of the aluminum plate is uniform and printing durability is high.
And a lithographic printing plate excellent in printing performance. Second Al
Potash etching treatment and third alkali etching treatment
Contact the aluminum alloy plate with an alkaline solution.
Etching is performed. Alkali type, a
A method of contacting the aluminum alloy plate with an alkaline solution;
And the apparatus used for the first alkali etching treatment
The same thing as a case is mentioned. Used in alkaline solutions
As the alkali to be used, the first alkali etching treatment
The same thing as a case is mentioned. Concentration of alkaline solution
Can be determined according to the etching amount,
It is preferable that it is 0.01-80 mass%. Alkali-soluble
The temperature of the liquid is preferably 20 to 90 ° C. processing time
Is preferably 1 to 60 seconds. Second alkali etch
Aluminum plate (electrolytic roughening treatment)
The amount of dissolution of the surface subjected to is preferably 0.001 to 3
0g / m2More preferably, 0.1 to 4 g / m
2And particularly preferably 0.2 to 1.5 g / m. 2so
is there. In the third alkali etching process, aluminum
The amount of dissolution of the nickel plate (surface that has been subjected to electrolytic surface roughening)
Preferably 0.001-30g / m2Is more preferred
Or 0.1-2 g / m2And particularly preferably,
0.1-0.6 g / m 2It is. After the second alkali etching process, the second degassing is performed.
A smut treatment is preferably performed. Second electrochemical rough surface
Can be performed more uniformly. The third al
Do the third desmut process after the potash etching process
Is preferred. Water generated by the third alkali etching process
Oxide can be removed, and the support and photosensitive layer can be
A lithographic printing plate with high adhesion is obtained. Second desmut treatment
And the third desmut process is, for example, the above aluminum
Concentration of phosphoric acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid 0.5%
˜30 mass% acidic solution (aluminum ion 0.01
Contains -5% by weight. Line by contacting)
Yeah. Method of contacting aluminum alloy plate with acidic solution
Is the same as in the case of the first desmut treatment.
The For the second desmut process and the third desmut process
In an anodic oxidation treatment described later as an acidic solution
It is preferable to use a waste solution of sulfuric acid solution discharged in this manner. Ma
Instead of the waste liquid, the sulfuric acid concentration is 100 to 600 g /
L, the aluminum ion concentration is 1-10 g / L,
A sulfuric acid solution having a liquid temperature of 60 to 90 ° C. can also be used.
The Liquid for second desmut treatment and third desmut treatment
The temperature is preferably 25 to 90 ° C. In addition, the second
The processing time of the smut process and the third desmut process is
It is preferably 1 to 180 seconds. Second desmut treatment
And the acidic solution used for the third desmut treatment is
Aluminum and aluminum alloy components melt
May be. <Anodizing treatment> The surface of the aluminum plate
Anodization is applied to increase the wear resistance. Al
As an electrolyte used for anodizing of minium plates
Whatever forms a porous oxide film
Can also be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid,
Uric acid, chromic acid, or a mixture thereof is used.
The concentration of these electrolytes is appropriately determined according to the type of electrolyte.
It is done. The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used.
As a result, it cannot be specified in general, but in general, the concentration of the electrolyte
The temperature is 1 to 80 wt%, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 1 to 1.
60A / dm2, Voltage 1-100V, electrolysis time 10 seconds
It is appropriate if it is in the range of 300 seconds. The sulfuric acid method is usually direct current
Processing is done with electric current, but alternating current can also be used.
The The amount of anodized film is 1-5g / m2The range is suitable
is there. 1g / m2If it is less, the printing durability is insufficient.
Or scratches on the non-image area of the planographic printing plate
At the same time, ink adheres to the flaws, so-called fouling.
This tends to occur. Also, the amount of anodized film increases
And the oxide film tends to concentrate on the aluminum etch part
So, the etch part and the center part of the aluminum plate
The difference in the amount of oxide film is 1 g / m2Preferred to be
Yes. Regarding anodic oxidation in sulfuric acid aqueous solution,
No. 54-128453, JP-A 48-45303
It is described in detail in each publication. Sulfuric acid concentration 10-300
g / L, aluminum ion concentration 1-25 g / L
In a 50 to 200 g / L sulfuric acid aqueous solution.
Add aluminum sulfate to reduce the aluminum ion concentration
It is especially preferable to set it as 2-10 g / L. Liquid temperature is 30
~ 60 ° C is preferred. When using the DC method, the current density is 1
~ 60A / dm2, Especially 5-40A / dm2Is preferred
Yes. When anodizing aluminum sheets continuously
Prevent the current concentration called burning of the aluminum plate
First 5-10A / dm2Anodizing at low current density
And gradually increase the current density in the second half.
0-50A / dm2Until or
It is particularly preferable to set the flow density. Current density is 5
It is preferable to gradually increase in 15 steps. Each step
Each power supply has an independent power supply.
The current density is controlled by the flow value. Power supply method is Konda
A liquid power feeding method that does not use a kuta roller is preferable. JP 20
An example is shown in 01-11698A. The sulfuric acid aqueous solution contains aluminum.
Of course, a small amount of trace component elements may be dissolved.
It is. Aluminum is eluted in sulfuric acid aqueous solution during anodization
Therefore, sulfuric acid concentration and aluminum for process control
It is necessary to control the muon concentration. Aluminum Io
If the concentration of the aqueous solution is set low, the sulfuric acid aqueous solution that performs anodic oxidation is further changed.
New must be done frequently, waste volume increases and economical
Not only is it an environmental problem. Also al
If the concentration of minium ion is set high, the electrolysis voltage increases.
Power costs are high and not economical. Preferred anodization
As sulfuric acid concentration, aluminum ion concentration, and liquid temperature, (Part 1) Sulfuric acid concentration 100-200 g / L (further 130-180
g / L) Aluminum ion concentration 2-10 g / L (further 3-7
g / L) Liquid temperature 30-40 ° C (more 33-38 ° C) (Part 2) Sulfuric acid concentration 50-125 g / L (further 80-120 g / L
L) Aluminum ion concentration 2-10 g / L (further 3-7
g / L) Liquid temperature 40-70 (further 50-60 ° C) It is. Supply to aluminum plate in anodizing treatment
Electric system is aluminum directly using a conductor roll
A direct power supply method for supplying power to the plate and aluminum through an electrolyte.
There is a liquid power supply system that supplies power to the metal plate. The direct power supply method is
Relatively low speed and low current density with an in-speed of 30 m / min or less
The indirect power supply method uses an anodizing device of 30m /
Used in anodizing equipment with high speed and high current density exceeding min
It is often done. Indirect power supply method is continuous surface treatment technology
2 (General Technology Center, issued on September 30, 1986)
As shown on page 89, Yamakoshi type or straight type tank tray
Iout can be used. High speed and high current density
The spar between the conductor roll and the aluminum web
The direct feed roll method is not possible.
It is profit. Aluminum for both direct power supply and indirect power supply
Energy loss due to voltage drop in the nium web
In order to reduce the number, the anodizing process is separated into two or more.
Power supply tank and oxidation tank or condenser of each electrolyzer
Connect a DC power source between the ductor roll and the oxidation tank.
It is particularly preferred. When using the direct power supply method,
In general, the dactor roll is made of aluminum. B
In order to extend the service life of the service, Japanese Patent Publication No. 61-50138
Industrial pure aluminum as described in the Gazette
After casting using a high temperature homogenization treatment, Al-
Fe-based crystallized material is AlThreeImproved corrosion resistance as a single layer of Fe
It is particularly preferable to use those prepared. Anodizing treatment
Since a large current flows in the process, the current flowing in the bus bar
Due to the magnetic field generated by the flow,
The force is working. The result is a web meandering problem
Therefore, it is described in JP-A-57-51290
It is particularly preferable to use such a method. Also, a large current flows through the aluminum plate.
Therefore, the magnetic field due to the current flowing through the aluminum plate itself
The aluminum plate toward the center in the width direction.
-Rents force works. As a result, the aluminum plate is broken.
Because it is easy to produce, the diameter is 100 ~ in the anodizing tank.
A 200 mm pass roller is pulled between 100 and 3000 mm.
Provide a plurality of rolls and wrap at an angle of 1 to 15 degrees.
It is especially preferred to take a method to prevent breakage due to force
That's right. In addition, the anodized film is in the width direction of the aluminum plate.
The amount of production is different, and the amount of production increases as it approaches the etch.
Thickness increases. As a result, the winding machine uses aluminum
The problem arises that the steel plate cannot be wound well. Solve this
To this end, Japanese Patent Publication No. 62-30275 or Japanese Patent Publication No. 5
The liquid flow is agitated by the method described in Japanese Patent Publication No. 5-21840.
And can be solved. If that method is not enough
The aluminum plate winding device is 0.1 to 10 Hz.
The width of the aluminum web with an amplitude of 5-50 mm with a period of
Used in combination with the method of oscillating in the direction and winding up
It is particularly preferred. In the sulfuric acid method, the treatment is usually performed with a direct current.
However, alternating current can be used. Of anodized film
The amount is 1-10g / m2The range of is appropriate. General lithographic
In the case of printing plate materials, the amount of anodized film is 1 to 5 g / m.
21g / m2If it is less, the printing durability is insufficient.
Or scratches on the non-image area of the planographic printing plate
At the same time, the ink is attached to the scratched area, so-called scratched dirt.
It tends to occur. Also, when the amount of anodized film increases,
Easy to concentrate oxide film on the etched part of aluminum plate
So, the etch part and the center part of the aluminum plate
The difference in the amount of oxide film is 1 g / m2Preferred to be
Yes. For continuous anodizing treatment, the liquid feeding method should be used.
It is common. Positive for energizing the aluminum plate
The poles include lead, iridium oxide, platinum, and ferrite.
Can be used, but it is mainly made of iridium oxide.
Those are particularly preferred. Iridium oxide is heat treated
The substrate is coated. The base material is titanium, tantalum, ni
So-called valve metals such as ob and zirconium are used.
However, titanium or niobium is particularly preferred. The valve gold
The genus has a relatively large electrical resistance, so copper is used as the core material.
It is especially preferred to clad the valve metal around
Yes. When cladding a valve metal on a copper core,
It is difficult to make a complicated shape.
After coating the electrode parts created with iridium oxide
Assembled to the desired structure with bolts and nuts
It is common. In the present invention, the desmut treatment liquid feeding device is provided.
Equipment and concentration adjustment equipment can be simplified and equipment costs can be reduced.
On the other hand, the acid waste liquid generated by anodizing treatment is desmutted.
Used for (first, second and third desmut processing)
preferable. <Hydrophilic treatment> The hydrophilization treatment is a planographic printing plate.
Commonly used in the manufacture of aluminum supports for automobiles
However, the alkali metal treatment can be used.
Treatment with iodate is preferred and is described in detail below.
The After the anodized support is washed with water,
Suppression of dissolution of anodic oxide film in developer, residual film of photosensitive layer components
Suppression, anodized film strength improvement, hydrophilic property of anodized film
For the purpose of improving adhesion to the photosensitive layer, the following
Processing can be performed. One example is anodic oxidation.
Treat the coating with an alkali metal silicate solution
Silicate processing to be performed. In this case, alkali
The concentration of metal silicate is 0.1-30% by weight, preferably
0.5 to 15% by mass and pH at 25 ° C. is 10 to 1
3.5 to 5 ° C, preferably 10-7
0 ° C, more preferably 15 to 50 ° C for 0.5 to 120 seconds
Keep in contact. The method of contact is spraying even in soaking
Can be sprayed by any method.
Yes. Alkali metal silicate aqueous solution has pH lower than 10
And the solution gels, and if it is higher than 13.5, the anodized film dissolves.
It may be solved. Arca used in the present invention
Metallic silicates are sodium silicate, potassium silicate
Or lithium silicate is used. Alkali metal
As a hydroxide used to adjust the pH of aqueous silicate solutions
Is sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide
There is. In addition, alkaline earth metal is used for the treatment liquid.
You may add a salt or a Group IVA (Group 4) metal salt
Yes. Alkaline earth metal salts include calcium nitrate, glass
Of strontium acid, magnesium nitrate, barium nitrate
Such as nitrates, sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates,
Water-soluble salts such as oxalate and borate are listed. First
IVA (Group 4) metal salts include titanium tetrachloride and trisalt
Titanium fluoride, potassium titanium fluoride, potassium potassium oxalate
Um, titanium sulfate, titanium tetraiodide, chlorinated zirconium oxide
Um etc. are mentioned. Alkaline earth metal or I
Group VA (Group 4) metal salts may be used alone or in combination of two or more
Can be used. Preferred range of these metal salts
Is 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.
It is 05-5.0 mass%. <Sealing treatment> Besides, various sealing treatments are also mentioned.
Generally known as a method for sealing anodized films
Water vapor seal, boiling water (hot water) seal, metal salt seal
Pore (chromate / bichromate seal, nickel acetate seal
Etc.), oil-impregnated sealing, synthetic resin sealing, low-temperature sealing (red blood
Salt or alkaline earth salt)
However, its performance as a printing plate support (adhesion to the photosensitive layer)
Or hydrophilic), high-speed processing, low cost, low pollution, etc.
Water vapor sealing is relatively preferred. An example of how to do this is
For example, it is also described in JP-A-4-176690.
Pressurized or normal pressure water vapor continuously or discontinuously, relative
Humidity 70% or higher, steam temperature 95 ° C or higher, 2 to 180 seconds
For example, a method of bringing it into contact with the anodized film may be mentioned.
As another sealing treatment method, the support is about 80 to 100 ° C.
Immersion or spraying in hot water or alkaline aqueous solution
How to do it, or replace it or continue
It can be dipped or sprayed with an acid solution. Asia
Examples of nitrite contained in the nitric acid solution include, for example,
LiO2, NaNO2, KNO2, Mg (NO2)2,
Ca (NO2)2, Zn (NOThree)2, Al (NO2)
Three, Zr (NO2)Four, Sn (NO2)Three, Cr (NO
2)Three, Co (NO2)2, Mn (NO2)2, Ni
(NO2)2And the like, preferably alkaline gold
The genus nitrate is preferred. Use two or more types of nitrite.
You can also The treatment conditions are the state of the support and the alkali.
Since it depends on the type of metal, it cannot be determined uniquely.
However, for example, when sodium nitrite is used, the concentration is
Generally 0.001-10% by weight, more preferably
0.01-2% by weight, bath temperature is generally from room temperature to about 1
Around 00 ° C, more preferably 60-90 ° C, treatment time is
Generally 15 to 300 seconds, more preferably 10 to 18
What is necessary is just to select from each range of 0 second. Nitrite aqueous solution
The pH of the solution is preferably adjusted to 8.0 to 11.0.
In particular, it is particularly preferred that it is prepared at 8.5 to 9.5.
Good. To adjust the pH of nitrous acid aqueous solution to the above range
Is preferably prepared using, for example, an alkaline buffer.
be able to. The alkaline buffer is not limited.
For example, sodium bicarbonate and sodium hydroxide
Mixed aqueous solution, mixture of sodium carbonate and sodium hydroxide
Aqueous solution, mixed water of sodium carbonate and sodium bicarbonate
Solution, mixed aqueous solution of sodium chloride and sodium hydroxide
Solution, aqueous solution of hydrochloric acid and sodium carbonate, sodium tetraborate
Suitable for use with mixed aqueous solutions of lithium and sodium hydroxide
Can be. The alkaline buffer solution is
Also used for alkali metal salts other than um, such as potassium salts
Can be. As described above, silicate processing or
Improves the adhesion with the photosensitive layer after sealing.
Therefore, it is described in JP-A-5-278362.
An acidic aqueous solution treatment and a hydrophilic primer,
No. 4-282737 and Japanese Patent Application No. 6-108678
Described in a booklet (Japanese Patent Laid-Open No. 07-314937)
An organic layer may be provided. Aluminum support for lithographic printing plate of the present invention
In addition to the above process, the manufacturing method of
You can also. <Washing of aluminum plate> Aluminum plate
Treatment in aqueous acid or alkali solution, or abrasive
After mechanically roughening the surface, use chemicals or abrasives.
A cleaning process is provided for the purpose of removing from the surface of the minium plate.
Is the ordinary method. Cleaning is a treatment tank with different types and compositions of chemicals.
Usually, it is installed in the middle of
Time to enter, or from cleaning to entering the next treatment tank
The time is preferably 10 seconds or less, particularly preferably 0.1 to 10 seconds.
Good. If it exceeds 10 seconds, chemical modification of the surface will proceed,
Processing unevenness may occur easily. Also washing process
The distance between the processing tank and the processing tank
Is preferably 15 seconds or less, and particularly preferably 5 seconds or less. 1
If the time exceeds 5 seconds, the chemical modification of the surface proceeds and the next step is uniform.
One roughening process may be difficult to perform. Aluminum
The following method is used to clean the nium plate.
For the purpose of reducing the amount of drainage.
A water washing method using rye ice powder is preferred. (1) Washing with water As a method for cleaning an aluminum support for a lithographic printing plate,
The surface that has been drained with a nip roller is spray tip.
It is common to use a method of washing with water sprayed from
Is. Water goes downstream in the direction of travel of the aluminum plate
Therefore, it is preferable to inject at an angle of 45 to 90 degrees. water
The injection pressure is the pressure immediately before the injection nozzle, usually 0.5 to
5kg / cm2The liquid temperature is preferably 10 to 80 ° C. Traveling
The moving speed of the aluminum plate is 20 to 200 m / mi
n is preferred. Sprayed on aluminum plate
The amount of water produced is 0.1 to 10 L / in one washing process.
m 2It is preferable that the amount of liquid is sprayed. One wash
In the septic tank, at least two on the surface of the aluminum plate, the back
Wash water is sprayed from at least two spray tubes.
One spray tube has a pitch of 50-200mm
5 to 30 spray tips are installed. Spray chip
Spray angle of 10 to 150 degrees, aluminum plate and sp
The spacing of the lace tip injection surface is preferably 10 to 250 mm.
Yes. Spray tip spray cross-sectional shape (spray pattern)
N) are circular, circular, elliptical, square, rectangular, etc.
However, a circle, an oval, or a square or a rectangle is preferable. Flow
Volume distribution (spray water distribution on the surface of aluminum plate
State) has circular distribution, uniform distribution, mountain distribution, etc.
When using multiple spray tips side by side on a spray tube
Has a mountain-shaped distribution that facilitates uniform flow distribution over the entire width.
preferable. Flow distribution is spray pressure, spray tip and al
It varies depending on the distance of the minium plate. Spray particle size is sp
Varies depending on the structure of the rice chip, spray pressure, and spray volume
10 to 10000 μm, especially 100 to 1000 μm
Is preferred. The material of the spray nozzle is a liquid that flows at high speed
It is preferable that it has abrasion resistance. The material is true
Brass, stainless steel, ceramic, etc. are used.
Mick nozzles are particularly preferred. Install spray tip
Spray nozzles in the direction of travel of the aluminum plate
Can be placed at 45-90 degrees, but spray pattern
The centerline of the longer center of the wire is aluminum.
It is preferable to be perpendicular to the direction of travel of the plate.
The cleaning time for passing through the washing process is industrially 10 seconds or less.
Lower is preferred, particularly preferably 0.5 to 5 seconds
Yes. (2) Cleaning using dry ice powder Spray dry ice powder on both sides of the aluminum plate
Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-66905 discloses a cleaning method.
Using known shot blasting equipment as described
Can be. The injection nozzle is disclosed in JP-A-10-2890.
No. 1 and JP-A-10-28902
There are known injection nozzles on both sides of the aluminum plate.
Multiple items can be arranged. The spray nozzles are arranged in a horizontal line
The spray pattern on the surface of the aluminum plate
Install diagonally so as to overlap in the width direction of the aluminum plate
It is preferable. The distance between the spray nozzle and the aluminum plate is
1 to 100 mm is preferable, and 10 to 50 mm is particularly preferable.
That's right. Also, a method for producing dry powder ice
Is described in Japanese Utility Model Publication No. 7-38104.
Manufacturing equipment can be used. The gas for injection is GN2.
Gas or air can be used. Powdery
Dry ice has a mean particle size of 1-1000 μm
Is preferably 10 to 100 μm. Per spray nozzle
LCO2(Liquefied carbon dioxide) supply amount is 0.1-1kg /
min is preferable, and the supply pressure is preferably 1 to 20 MPa.
Good. Cleaning pressure with aluminum plate is 1-20MPa
Is preferred. <Material of pass roll>
Well-known steel or metal that has been treated with
For continuous production lines such as K, electrolytic capacitors and PS plates
Metal rolls, resin rolls, rubber rolls, non-woven fabrics
Can be selected from the above. Roll material, table
The physical property value of the surface is the state of the chemical solution and the aluminum surface at that time
Depending on the corrosion resistance, wear resistance, heat resistance, chemical resistance, etc.
Select with consideration. Hard chrome plating on metal rolls
Is commonly used. Natural rubber in rubber rolls,
Isoprene rubber, styrene butadiene rubber, butadiene
Rubber, butyl rubber, chloroprene rubber, chlorosulfo
Polyethylene, nitrile rubber, acrylic rubber, epi
Chlorhydrin rubber, urethane rubber, polysulfide rubber,
A small amount of additive was added to them, not to mention raw rubber
Things can be used. Rubber roll hardness is 60 ~
90 is particularly preferred. The planographic printing plate of the present invention described in detail above
According to the method for manufacturing an aluminum support for an automobile, a low purity aluminum
Luminium alloy plate (aluminum plate with many alloy components
Or an aluminum plate with no alloy components prepared)
For lithographic printing plates with uniform surface irregularities
An aluminum support can be obtained. In addition, the present invention
Obtained by the manufacturing method of aluminum support for lithographic printing plates
The lithographic printing plate aluminum support will be described later.
If a lithographic printing plate precursor is provided with a photosensitive layer,
When using a lithographic printing plate, the printing performance is excellent, and
Excellent printing durability. Aluminum for lithographic printing plates obtained in the present invention
A planographic printing plate using a film support and a method for producing the same
And explain. <Undercoat layer> In the present invention,
Aluminum support for lithographic printing plate of the present invention obtained as described above
Before providing the photosensitive layer on the body, if necessary, for example,
Inorganic subbing layers such as water-soluble metal salts such as zinc borate,
An organic subbing layer may be provided. As an organic compound used in an organic undercoat layer
For example, carboxymethylcellulose; dextri
Gum arabic; polymer having sulfonic acid groups in the side chain
And copolymers; polyacrylic acid; 2-aminoethyl phosphate
Phosphonic acids having an amino group such as sulfonic acid; substituents
Phenylphosphonic acid, naphthylphos
Phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, meso
Organics such as tylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid
Phosphonic acid; optionally substituted phenyl phosphorus
Acid, naphthyl phosphate, alkyl phosphate, glycerophosphate
Organophosphoric acid such as phenyl which may have a substituent
Phosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphine
Organic phosphines such as phosphoric acid and glycerophosphinic acid
Acid; amino acids such as glycine and β-alanine;
Has hydroxyl group such as hydrochloride of tanolamine
Amine hydrochloride; yellow dye. These are alone
It may be used in a mixture of two or more. The organic subbing layer is made of water or methanol,
Organic solvents such as tanol, methyl ethyl ketone, or
A solution in which the above organic compound is dissolved in the mixed solvent.
Applied on an aluminum plate and dried.
It is. The concentration of the solution in which the organic compound is dissolved is 0.
It is preferable that it is 005-10 mass%. Application method
There is no particular limitation, and bar coater coating, spin coating,
Use any method such as spray coating or curtain coating.
be able to. The coating amount after drying of the organic undercoat layer is 2 to 2
00mg / m2Is preferably 5 to 100 mg /
m2It is more preferable that Within the above range, printing durability
The property becomes better. <Photosensitive layer> Lithographic printing obtained by the present invention
Planographic printing is provided by providing a photosensitive layer on an aluminum support for printing plates.
A plate original is obtained. The photosensitive layer is not particularly limited, but examples
For example, a visible light exposure type plate making layer exposed to normal visible light, red
Made by laser exposure type to expose with laser light such as external laser light
A plate layer is mentioned. Above all, draw directly with laser,
Against alkaline developer by heat generated by photothermal conversion
A positive-type image-forming layer whose solubility changes, Drawing directly with a laser and using heat generated by photothermal conversion
A photosensitive layer whose solubility in an alkaline developer changes,
The following A layer and B layer are laminated in sequence, and light is absorbed by the B layer.
A photosensitive layer containing a compound to be heated, Layer A: at least one of monomers (a-1) to (a-3)
5 containing at least 10 mol% of a copolymer as a copolymer component
Layer containing 0% by mass or more B layer: Soluble in aqueous alkali solution with phenolic hydroxyl group
Containing 50% by mass or more of functional resin Drawing directly with a laser and using heat generated by photothermal conversion
Negative type image with different solubility in alkaline developer
Forming layer, Direct writing with laser using radical addition polymerization reaction
Effective image forming layer, Positive photosensitive image forming layer, Negative photosensitive image forming layer, Is preferred. Hereinafter, the photosensitive layer will be described. (1) Visible light exposure type plate making layer Visible light exposure type plate making layer is made of photosensitive resin and, if necessary,
Can be formed by a composition containing colorants etc.
The As photosensitive resin, it dissolves in developer when exposed to light.
BODY type photosensitive resin that dissolves in developer when exposed to light
Examples include negative photosensitive resins that cannot be understood. Positive feeling
Examples of the photosensitive resin include quinonediazide compounds,
Diazide compounds such as phtoquinone diazide compounds and
Enol novolac resin, cresol-novolak resin
Combinations with phenolic resins such as Ne
Examples of ga-type photosensitive resins include diazo resins (for example,
For example, aromatic diazonium salts and formaldehyde
A condensate with aldehydes), an inorganic acid salt of the diazo resin,
A diazo compound such as an organic acid salt of the diazo resin;
) Acrylate resin, polyamide resin, polyurethane
Combination with binders such as resin, (meth) acrelane
Vinyl polymer such as resin and polystyrene resin,
(Meth) acrylic acid ester, vinyl heavy such as styrene
Compound, benzoin derivative, benzophenone derivative
And photopolymerization initiators such as thioxanthone derivatives
A combination is mentioned. As the colorant, in addition to ordinary dyes, exposure
Exposure color development color that develops by
Can be used with an exposure decolorizing dye that becomes completely colorless.
Yes. Examples of exposure coloring dyes include leuco dyes.
I can get lost. As the exposure decoloring dye, for example, triphenyl
Rumethane dye, diphenylmethane dye, oxazine
Dyes, xanthene dyes, iminonaphthoquinone colors
And azomethine dyes and anthraquinone dyes
It is. The visible light exposure type plate-making layer is, for example, the above-mentioned photosensitive layer.
Photosensitive resin solution containing photosensitive resin and the above colorant in a solvent
Form by applying and then drying
Can do. As a solvent used for the photosensitive resin solution,
The photosensitive resin can be dissolved and at room temperature
And a solvent having a certain degree of volatility. Specifically
For example, alcohol solvents, ketone solvents, esthetics
Solvent, ether solvent, glycol ether solvent
Agent, amide solvent, and carbonate ester solvent.
Examples of alcohol solvents include ethanol and pro
Examples include panol and butanol. As a ketone solvent
For example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl
Propyl ketone, methyl isopropyl ketone, diethyl
Ketones. Examples of ester solvents include
Ethyl acetate, propyl acetate, methyl formate, ethyl formate
Le. Examples of ether solvents include
Examples include trahydrofuran and dioxane. Glico
Examples of the ruether solvent include ethyl cellosol
Bu, methyl cellosolve, butyl cellosolve
The Examples of amide solvents include dimethylforma
And dimethylacetamide. Carbonated beauty treatment salon
Examples of such solvents include ethylene carbonate and propylene carbonate.
Len, diethyl carbonate, dibutyl carbonate. The method for applying the photosensitive resin solution is not particularly limited.
Rotating coating method, wire bar coating method, dip coating
Method, air knife coating method, roll coating method, blade coating
Conventionally known methods such as the method can be used. (2) Laser exposure type plate making layer As a laser exposure type plate making layer, for example, a laser beam is irradiated.
Negative type laser engraving layer where the part remains
Positive type laser engraving layer, laser light from which the irradiated part is removed
The main component is a photopolymerization laser plate making layer that photopolymerizes when irradiated with
As mentioned. The negative type laser plate making layer is composed of (A) heat or light.
Acid precursor that generates acid upon decomposition by (B) acid precursor
Acid crosslinkability that crosslinks with acid generated by decomposition of body (A)
Compound, (C) alkali-soluble resin, (D) infrared absorption
And (E) phenolic hydroxyl group-containing compound
Negative type laser engraving dissolved or suspended in various solvents
It can form using a layer formation liquid. Examples of the acid precursor (A) include imino.
Like phosphate compounds, ultraviolet light, visible light or
Examples include compounds that decompose by heat to generate sulfonic acid
It is done. Besides, photocationic polymerization initiator, photoradical
Commonly used as polymerization initiators, photochromic agents, etc.
A compound can also be used as an acid precursor (A).
Examples of the acid crosslinkable compound (B) include alkoxy compounds.
Has at least one of til group and hydroxyl group
Aromatic compound, N-hydroxymethyl group, N-al
Has a coxymethyl group or an N-acyloxymethyl group
Compounds and epoxy compounds. Alkali soluble
Examples of the functional resin (C) include novolac resin and poly
(Hydroxystyrene) etc. in the side chain hydroxyaryl
Examples thereof include a polymer having a group. As the infrared absorber (D), for example, a wave
A dye that absorbs infrared light having a length of 760 to 1200 nm, and
Pigments. Specifically, for example, black pigment, red
Color pigment, metal powder pigment, phthalocyanine pigment; the wavelength
Azo dyes, anthraquinone dyes, dyes that absorb infrared rays
Examples include talocyanine dyes and cyanine dyes. Feno
Examples of the hydroxyl group-containing compound (E) include, for example, general
formula (R1-X)n-Ar- (OH)m (Wherein R1Is an alkyl group having 6 to 32 carbon atoms or
A rukenyl group, wherein X is a single bond, O, S, COO or
Is CONH, Ar is an aromatic hydrocarbon group, alicyclic
A hydrocarbon group or a heterocyclic group, and n and m are
Each is a natural number of 1-8. )
It is done. Such compounds include, for example, nonylf
Examples include alkylphenols such as enol. Ne
In addition to the above components, the ga-type laser plate-making layer forming solution can be used.
A plasticizer etc. can also be mix | blended. The body type laser plate making layer can be (F) alkali-capable.
Soluble polymers, (G) alkaline dissolution inhibitors, and (H)
Dissolve or suspend the infrared absorber in a suitable solvent
Can be formed using a positive type laser plate-making layer forming liquid.
Yes. Examples of the alkali-soluble polymer (F) include:
Phenol resin, cresol resin, novolac resin,
Logariol resin, poly (hydroxystyrene), etc.
Phenolic polymers with enolic hydroxyl groups;
At least some monomer units have sulfonamide groups
A sulfonamide group-containing polymer which is a polymer; N-
(P-Toluenesulfonyl) (meth) acrylamide group
Homopolymerization of monomers having an active imide group such as
Examples include active imide group-containing polymers obtained by copolymerization
It is done. Examples of the alkali dissolution inhibitor (G) include
React with alkali-soluble polymer (F) by heating
Low alkali solubility of alkali-soluble polymer (F)
Compounds to be reduced. Specifically, for example,
Lufone compounds, ammonium salts, sulfonium salts, amino acids
Compound. With alkali-soluble polymer (F)
Alkali dissolution inhibitor (G) combinations include Al
Novolac resin and alkali as potassium soluble polymer (F)
It is a kind of sulfone compound as a re-dissolution inhibitor (G)
A combination of cyanine dyes is preferable. Infrared
As the absorbent (H), for example, squarylium dye,
Pyrylium pigment, carbon black, insoluble azo dye,
Wavelength of 750-1200 nm for anthraquinone dyes
Has an absorption region in the infrared region, and has a light / heat conversion ability
Element, dye and pigment. The photopolymerization type laser plate making layer is composed of (I) molecular terminal
A vinyl polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond
Formed using the contained photopolymerization type laser plate-making layer forming liquid
be able to. Necessary for photopolymerization laser plate making solution
(J) photopolymerization initiator, (K) sensitizer, etc.
Can be combined. As vinyl polymerizable compound (I)
For example, (meth) acrylic acid, itaconic acid, male
Ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acids and aliphatic polyvalent acids
Ethylenically unsaturated carboxylic acid, ester with rucol
Acid polyvalent ester; ethylenically unsaturated carboxylic acid and many
Methylenebis (meth) acrylamid composed of a polyvalent amine
Do; ethylene such as xylylene (meth) acrylamide
Unsaturated carboxylic polyvalent amides. Vinyl heavy
Other compatible compounds (I) include styrene, α-medium.
Aromatic vinyl compounds such as chilled styrene;
Ethyl such as methyl laurate and ethyl (meth) acrylate
Unsaturated carboxylic acid monoesters. Light weight
As the initiator (J), photopolymerization of vinyl monomers
A commonly used photopolymerization initiator can be used. Increase
Examples of the sensitizer (K) include titanocene compounds, tri
Azine compounds, benzophenone compounds, benzoimida
Zole compounds, cyanine dyes, merocyanine dyes, key
Santen dye and coumarin dye are listed. The above-mentioned negative type laser plate making layer forming liquid, positive
Type laser plate making liquid and photopolymerization type laser plate making layer formation
Solvent used in the liquid, and negative type laser plate making
Composition liquid, positive type laser plate making liquid and photopolymerization laser
For the method of applying the plate making layer forming solution, the photosensitive resin solution is used.
The solvents and coating methods mentioned for the liquid can be used.
Yes. When forming a photopolymerization type laser plate making layer
Silane compounds in water, alcohol or carbohydrate
Partially decomposable silane compounds obtained by partial decomposition with acid
Using any reactive functional group silicone compound,
Roughening the roughened surface of the aluminum support for lithographic printing plates
The support and the photopolymerization type laser plate-making layer are obtained after staking.
This is preferable because the adhesiveness is improved. (3) Direct drawing with a laser, and photothermal conversion.
Solubility in alkaline developer changes due to heat generated
The photosensitive layer to be converted is formed by sequentially laminating the following A layer and B layer.
A photosensitive layer containing a compound that absorbs light and generates heat,
Briefly described below. Layer A: at least one of monomers (a-1) to (a-3)
5 containing at least 10 mol% of a copolymer as a copolymer component
Layer containing 0% by mass or more B layer: Soluble in aqueous alkali solution with phenolic hydroxyl group
Containing 50% by mass or more of functional resin The layer A is composed of the following monomer (a-1) 1 molecule:
In which at least one hydrogen atom is bonded on the nitrogen atom.
Monomer having a sulfonamide group, (a-2) 1 minute
A monomer having an active imino group represented by the following formula:
-(A-3) Acrylic acid having phenolic hydroxyl group
Amide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylate
Selected from ylates and hydroxystyrene
At least one of the monomers
50% by mass or more of a copolymer containing 10% by mol or more
Layer. [0110] [Chemical 1] [0111] Layer B is an alcohol having a phenolic hydroxyl group.
A layer containing 50% by mass or more of a potassium aqueous solution-soluble resin
The The photosensitive layer is formed by sequentially laminating an A layer and a B layer.
And at least the B layer having phenolic hydroxyl groups
Layer B containing 50% by mass or more of a Lucari aqueous solution-soluble resin
And a photosensitive layer containing a compound that absorbs light and generates heat.
The Details are described in JP-A-11-218914.
It is. <Backcoat> Do not dissolve aluminum during development.
Comb, scratches due to rubbing of photosensitive layer and aluminum plate
For the purpose of soot, organic materials described in JP-A-6-32115
Thickness 0.01 including polymer compound and surfactant
It is known to provide a backcoat layer of ~ 8 μm
The However, actively controlling this thickness
Thus, the thickness of the printing plate precursor can be corrected. As the main component of this back coat layer,
Saturated copolymer polyester tree having a glass transition point of 20 ° C or higher
Fats, phenoxy resins, polyvinyl acetal resins and
At least selected from the group of vinylidene chloride copolymer resins
A kind of resin is used. Saturated copolymer polyester resin
Consists of a dicarboxylic acid unit and a diol unit.
The Polyester dicarboxylic acid units used in the present invention
Knit phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid
Acid, tetrabromophthalic acid, tetrachlorophthalic acid, etc.
Aromatic dicarboxylic acids; adipic acid, azelaic acid, co
Succinic acid, oxalic acid, suberic acid, sebacic acid, malon
Saturated fats such as acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid
Examples thereof include aliphatic dicarboxylic acids. Back coat layer
In addition, dyes and pigments for coloring, aluminum supports
Diazo coupling agent, diazo for improving adhesion
Diazo resin composed of nium salt, organic phosphonic acid, organic resin
Acids and cationic polymers, and even slip agents
Commonly used waxes, higher fatty acids, higher fatty acid acids
A silicone compound consisting of dimethylsiloxane,
Modified dimethylsiloxane, polyethylene powder, etc.
Added. [0114] The back coat layer was placed on the back of the aluminum support.
Various methods can be applied to coat the surface. For example, appropriate
Apply a solution in a suitable solvent or an emulsified dispersion
Drying method, for example, a pre-formed film
A method of bonding to an aluminum support with adhesive or heat and
A melt film is formed by a melt extruder and bonded to a support.
The above method can be used.
The most preferable method is to apply the solution and dry it.
It is. As the solvent used here, JP-A-62-2
An organic solvent as described in Japanese Patent No. 251739
Used alone or in combination. <Matte layer> Provided as described above.
If necessary, a vacuum baking frame was used on the surface of the photosensitive layer.
The vacuuming time for contact exposure is shortened, and
A mat layer is provided to prevent injuries. Specifically,
Kaisho 50-125805, Shoko 57-6582,
As described in each publication of JP-A-61-28986
Method for providing a mat layer, Japanese Patent Publication No. 62-62337
The method of heat-sealing solid powder as described in
And so on. Long aluminum plate that runs continuously
Before applying the matte layer to the
Adjust the temperature to
After moistening, aluminum droplets can be removed with an electrostatic coating device.
Apply on the surface of the plate. Next, the wet equipment provided again
The surface is re-wetted with a stand and then dried with a drying device.
The average diameter of the mat layer used in the present invention is 100 μm or less.
If the average diameter is larger than this,
Contact between the photosensitive layer and the backcoat layer when storing repeatedly
Increases area, reduces slipperiness, photosensitive layer and back coating
The surface of both layers is easily rubbed. Average height of matte layer
The thickness is preferably 10 μm or less, more preferably 2 to 8 μm.
m. If the average height is higher than this range, it will be difficult to attach fine lines.
The highlight dots are also reduced, which is preferable for tone reproduction.
Absent. If the average height is 2 μm or less, the vacuum adhesion is insufficient.
Causes bokeh. The coating amount of the mat layer is 5 to 200 mg
/ M2Is more preferable, and more preferably 20 to 150 mg /
m2It is. If the coating amount is larger than this range,
The contact area with the backcoat layer increases and causes scratches.
If it is smaller than this, the vacuum adhesion is insufficient. <Coating> Photosensitive layer and back coat layer
As a system condition for applying the coating, a known photosensitive layer is applied.
Many methods and conditions are available. That is, coating
A method using a hood and an extrusion type coater
The method using the slide bead coater is used.
it can. Also, the conditions for application are the same as those described in the known patent.
Available. As a method for applying the photosensitive composition, Japanese Patent Publication No. 5
JP-A-8-4589, JP-A-59-123568
Using a coating rod described in
And JP-A-4-244265.
Using an extrusion coater, or
Japanese Patent Publication No. 1-57629, Japanese Patent Application No. 8-288656
The slide bead coater described in the gazette
The method used can be used. <Drying> After roughening treatment or photosensitive layer,
Of the aluminum plate after applying the coating layer and backcoat layer
Describes the drying method conditions. Special drying methods
In the drying apparatus described in Kaihei 6-63487
Place a roll and wrap the web on the roll
Arch-type dryer, from the top and bottom of the web to the nozzle
One that dries while raising the web by supplying more air
Using various media at high temperature without using the formula or hot air
Heating and drying by the secondary heat, or low
The roll is heated using various media and the roll contacts the web
There is a method of drying by conduction heat transfer. The planographic printing plate precursor thus obtained
If necessary, cut it into an appropriate size, expose it, and
A lithographic printing plate can be obtained by imaging and plate making. OK
A lithographic printing plate provided with a visible light exposure type plate making layer (photosensitive plate making layer)
In the case of the original plate, remove the transparent film on which the printed image is formed.
It is exposed by irradiating normal visible light repeatedly,
Thereafter, the plate can be made by development. Leh
In the case of a lithographic printing plate precursor provided with the exposure type plate making layer,
By directly writing a print image by irradiating seed laser light
Plate making by exposing to light and then developing.
it can. <Exposure> The exposure method is disclosed in JP-A-9-6881.
No. 0, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-218914, Japanese Patent Application No. 20
No. 00-378507 and Japanese Patent Application No. 2001-17
Well-known people including those described in the specification of 3968
The law can be used. <Developer> Developer and replenisher used in the present invention
Are disclosed in JP-A-9-68810 and JP-A-11-2.
No. 18914, Japanese Patent Application No. 2000-378507
And in Japanese Patent Application No. 2001-173968
Known ones can be used. Kay
An alkaline aqueous solution containing an acid and no silicic acid,
An alkaline aqueous solution containing saccharides can be used. Ingredients
Physically, it was developed as an alkaline aqueous solution containing silicic acid.
The main components of the liquid and replenisher are silicic acid, phosphoric acid, carbonic acid, boron
Acids, phenols, sugars, oximes and fluorinated amines
Contains at least one compound selected from rucols
And the pH is in the range higher than 12.0 and lower than 13.0
Alkaline aqueous solution. Of these, phenols,
Weaks such as sugars, oximes and fluorinated alcohols
As an acidic substance, dissociation index (pKa) is 10.0-1.
3.2 are preferred. Details are disclosed in JP-A-9-68810.
It is described in the gazette. Also, alkali containing silicic acid
As an aqueous solution, alkaline agent is sodium silicate, silica
Silicates such as potassium acid are preferred. The reason is Kay
Silicon oxide SiO, a component of acid salts2And alkali metal acids
Chemical M2Developability can be adjusted by O ratio and density
For example, Japanese Patent Laid-Open No. 54-62004
As described in Japanese Patent Publication No.57-7427
An effective alkali metal silicate is used. Details are special
It is described in Kaihei 11-218914. Ma
In addition, an alkaline aqueous solution that does not contain silicic acid and contains saccharides
Is known as an organic material with a buffering action.
It is composed mainly of a compound and a base, and substantially contains silicon dioxide.
It is necessary to use an alkaline developer that does not have. The present invention
In the following, such a developer is referred to as “non-silicate development”.
It is called “liquid”. Here, “substantially” means unavoidable.
Presence of trace amounts of silicon dioxide as pure and by-product
It means to allow. In the development process,
By applying a silicate developer,
A good lithographic printing plate that is expressed and has no defects in the image area is obtained.
Can. As an alkaline aqueous solution, in particular, pH 1
The thing of 2.5-13.5 is preferable. The non-silicated
As described above, the image liquid is composed of an organic compound having a buffering action and
It is mainly composed of a base. Details are disclosed in JP 2000
-378507. Further, the development method and the processing after development are also special.
Japanese Laid-Open Patent Publication No. 9-68810, Japanese Patent Laid-Open No. 11-218914
No. 2000, Japanese Patent Application No. 2000-378507, and Japanese Patent Application No. 2000-378507
What is described in the specification of Japanese Patent Application No. 2001-173968
First, a known one can be used. [0122] The present invention will be described in detail with reference to the following examples.
However, the present invention is not limited to these. 1. Production of aluminum support for lithographic printing plates (Examples 1-1 to 1-17 and Comparative Examples 1-1 to 1-1-
3) As shown in Table 2, each aluminum having the composition shown in Table 1
Each surface treatment is applied to the lithographic alloy plate and each lithographic printing plate
A ruminium support was obtained. The surface treatment shown in Table 2
Mechanical surface roughening treatment, first alkali etching treatment,
Smut treatment, 1st electrochemical roughening treatment (nitric acid aqueous solution
Solution), second alkali etching treatment, second desmutting treatment
2nd electrochemical surface roughening treatment (hydrochloric acid aqueous solution) 3rd
Lukari etching treatment, third desmut treatment, anodizing
Treatment, sealing treatment and hydrophilization treatment in this order
It was done. Comparative Example 1-3 is the second electrochemical
Surface roughening treatment (hydrochloric acid aqueous solution), the following (7) hydrochloric acid concentration
Instead of 5 g / L aqueous solution, hydrochloric acid concentration 0.5 g / L
Each surface treatment shown in Table 2 was performed except that an aqueous solution was used.
It was. Details of each process are as follows. Each engineer
After the roughening treatment, a water washing treatment was performed. Roughening treatment
After rinsing with water, drain the liquid with a nip roller.
It was. In addition, processing using the same type of liquid is performed continuously.
In some cases, washing with water during the process was omitted. (1) Mechanical surface roughening treatment Abrasive A (pumice crushed, average of particles contained in it)
Abrasives classified so that the particle size is 40 μm), and
Abrasive B (silica sand is used, the particles contained in it
Abrasive material classified so that the average particle size becomes 20 μm) and water
And a suspension (specific gravity 1.12) as a polishing slurry liquid,
While supplying to the surface of the aluminum plate with a spray tube,
Mechanical rough surface by rotating nylon roller brush
Made. Nylon brush material is 6 · 10 nylon
No. 3 brush with a hair length of 50 mm was used. Niro
N-brush has a hole in a stainless steel tube of Φ300mm
And planted so as to be dense. Use 3 rotating brushes
It was. Of the two support rollers (Φ200mm) at the bottom of the brush
The distance was 300 mm. Brush roller turns the brush
The load of the drive motor that rotates the brush roller
Control and roughen the load before pressing against the metal plate
The average surface roughness of the rear aluminum plate is 0.45 to 0.5.
It was pressed down to 5 μm. The direction of brush rotation is
The moving direction of the aluminum plate was the same. (2) First alkali etching treatment Aluminum plate, NaOH 27wt%, aluminum
An aqueous solution containing 6.5 wt% of ions, sprayed at 70 ° C
The aluminum plate is etched by spraying from the tube.
It was. The surface of the surface to be electrochemically roughened in a later process
The dissolution amount of the minium plate was as shown in Table 2. (3) First desmut process The acidic aqueous solution used for desmut treatment is the following treatment solution.
It was off. Treatment liquid A: Glass used in the next electrochemical roughening step
Acid effluent was used. The liquid temperature was 35 ° C. Desma
Spray solution is sprayed with spray and desmutted for 2 seconds
Went. Treatment liquid B: waste liquid generated in the anodizing process (sulfurization)
Aluminum ion 5g / L in acid 100g / L aqueous solution
Dissolve) and perform desmut treatment at 35 ° C for 2 seconds
It was. (4) First electrochemical roughening treatment (nitric acid water
solution) Alkaline nitrate is added to an aqueous solution with a liquid temperature of 50 ° C and a nitric acid concentration of 9.5 g / L.
Add aluminum to make aluminum ion concentration 5g / L
The electrolyte solution adjusted to was used. Generate trapezoidal alternating current
An electrochemical surface roughening treatment was performed using a power source. That exchange
The frequency of the flowing current is 60Hz, reaching the peak from zero.
The time Tp until the start was 0.8 msec. Exchange
The duty (ta / T) was 0.5. Current density is alternating
60A during anode reaction of aluminum plate at the peak of flow
/ Dm2And the aluminum plate is charged during the anode reaction.
The ratio of the total amount of electricity to the total amount of electricity during the cathode reaction is 0.
95. The amount of electricity applied to the aluminum plate is
Table 2 shows the total amount of electricity during the anode reaction of the minium plate.
Indicated. The electrolytic treatment tank is the radial type shown in FIG.
The tank was used. (5) Second alkali etching treatment Aluminum plate, NaOH 27wt%, aluminum
Aqueous solution containing 6.5 wt% ions, sprayed at 45 ° C
The aluminum plate is etched by spraying from the tube.
It was. The surface of the surface to be electrochemically roughened in a later process
The dissolution amount of the minium plate was as shown in Table 2. (6) Second desmut process The acidic aqueous solution used for desmut treatment is the following treatment solution.
It was off. Treatment liquid A: salt used in the next electrochemical roughening step
Acid effluent was used. The liquid temperature was 30 ° C. Desma
Spray solution is sprayed with spray and desmutted for 2 seconds
Went. Treatment liquid B: Nitric acid used in the electrochemical roughening step
The waste liquid was used. The liquid temperature was 30 ° C. Desma
The spray solution is sprayed and sprayed for 2 seconds.
went. Treatment liquid C: waste liquid generated in the anodizing treatment process
Aluminum ion 5g / L in acid 100g / L aqueous solution
Dissolve) for 2 seconds at a liquid temperature of 30 ° C.
It was. (7) Second electrochemical roughening treatment (hydrochloric acid water
solution) Aluminum chloride was added to an aqueous solution with a liquid temperature of 35 ° C and a hydrochloric acid concentration of 5 g / L.
Add 40g / L of Ni to adjust the aluminum ion concentration
The electrolytic solution adjusted to 4.5 g / L was used. Trapezoidal wave AC
Electrochemical roughening using a power source that generates flow
It was. Is the frequency of the alternating current 50Hz, zero current?
The time Tp to reach the peak is 0.8 msec.
It was. The duty cycle (ta / T) of alternating current was 0.5.
The current density is at the peak of alternating current, and the aluminum plate anode
50A / dm during reaction2The aluminum plate is
Sum of electricity during cathode reaction and sum of electricity during cathode reaction
The ratio was 0.95. Electricity applied to aluminum plate
The amount is the total amount of electricity during the anode reaction of the aluminum plate
And shown in Table 2. The electrolytic treatment tank is a radial type as shown in FIG.
One tank was used. At the inlet (liquid level) of the auxiliary electrolytic cell 34
To the inlet (liquid level) of the AC electrolytic cell 20
The passing time was 2 seconds. (8) Third alkali etching treatment Aluminum plate, NaOH 27wt%, aluminum
Aqueous solution containing 6.5 wt% ions, sprayed at 45 ° C
The aluminum plate is etched by spraying from the tube.
It was. Surface electrochemically roughened in step (7) above
The amount of aluminum plate dissolved is as shown in Table 2.
It was. (9) Third desmut process The acidic aqueous solution used for desmut treatment is the following treatment solution.
It was off. Treatment liquid A: Waste liquid generated in the next anodizing process
(5 g of aluminum ion in 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid
/ L dissolution) for 4 seconds at a liquid temperature of 35 ° C.
Went. Treatment liquid B: Waste liquid generated in the next anodizing process
(5 g of aluminum ion in 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid
/ L dissolution) and desmutting for 4 seconds at a liquid temperature of 70 ° C.
Went. Treatment liquid C: Waste liquid generated in the next anodizing process
(5 g of aluminum ion in 100 g / L aqueous solution of sulfuric acid
/ L dissolution) for 4 seconds at a liquid temperature of 35 ° C.
Went. (10) Anodizing treatment Next, this plate is anodized under any of the following conditions:
It was. Condition A: Aluminum sulfate is added to 170 g / L of sulfuric acid.
Use an electrolyte with an aluminum ion concentration of 5 g / L
Liquid temperature 33 ° C, current density 10A / dm22.4g
/ M2The direct current anodic oxide film was provided. Condition B: Aluminum sulfate is added to 100 g / L of sulfuric acid.
Use an electrolyte with an aluminum ion concentration of 5 g / L
Liquid temperature 50 ° C., current density 10 A / dm23g / m
2The direct current anodic oxide film was provided. (11) Sealing treatment In a vapor chamber saturated at 100 ° C and 1 atm
Steam sealed for 10 seconds. (12) Hydrophilization treatment Hydrophilic treatment was performed under any of the following conditions. Condition A: 7% aqueous solution of sodium silicate at 25 ° C.
Soaked for 2 seconds. Condition B: Sodium silicate 2.5 mass% aqueous solution at 70 ° C.
For 5 seconds. Thereafter, it was dried. 2. Table of aluminum supports for lithographic printing plates
Surface shape evaluation Each lithographic printing plate aluminum obtained in each example and comparative example
Double the surface shape of the Ni support using a scanning electron microscope
Honeycomb pits observed on the surface and observed at a rate of 2000 times
Was evaluated for uniformity. The results are shown in Table 2. Evaluation
Indicates that the uniformity of the irregularities on the surface is good,
What was non-uniform was represented as “x”. 3. Electrode roughening treatment of electrodes
Dissolution 1st electrochemical surface roughening treatment or 2nd electrochemical surface roughening
In the treatment, dissolution of the electrode was confirmed. The electrode is dissolved
`` None '' when the electrode is not dissolved
The case where it was solved was expressed as “Yes”. [0137] [Table 2][0138] [Table 3] 4. Production of lithographic printing plates and evaluation of dirt performance
(Examples 2-1 to 2-11) (Example 2-1) Planographic printing plate produced in Example 1-11
Using the aluminum support for coating, apply the following photosensitive layer
After drying and exposure processing, develop with the following developer.
It was. When this lithographic printing plate is used for printing, the stain performance is
It was a good printing plate. An undercoat layer was formed in advance. Undercoat
The bottom layer is coated with an undercoat solution of the following composition at 80 ° C for 30 seconds
Dried. The coating amount after drying is 30 mg / m2Met.   <Undercoat liquid>     Aminoethylphosphonic acid 0.10g     Phenylphosphonic acid 0.15g     β-Alanine 0.10g     40g of methanol     60g of pure water Apply the following amount of photosensitive solution on the substrate thus prepared.
Apply with change and dry at 110 ° C for 1 minute to feel positive
A photolithographic printing plate was obtained. [0141]   <Photosensitive solution>     1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride and pyrogallol Esterified product with seton resin (Example of US Pat. No. 3,635,709) 1) 0.45g     Cresol-formaldehyde novolak resin (meta, para ratio; 6 to 4, heavy Weight average molecular weight: 3,000, number average molecular weight: 1,100, unreacted cresol: 1.1g)     m-cresol-formaldehyde novolak resin (weight average molecular weight 1,7 00, number average molecular weight 600, 1% of unreacted cresol)                                                 0.3g     Poly [N- (P-aminosulfonylphenyl) acrylamide-co-norma Butyl acrylate-co-diethylene glycol monomethyl ether methacrylate Rate] (The molar ratio of each monomer is 40:40:20, weight average molecular weight 40, 000, number average molecular weight 20,000) 0.2 g [0142]     P-normal octylphenol-formaldehyde resin (US Pat. No. 4, No. 123,279) 0.02 g     Naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride                                               0.01g     Tetrahydrophthalic anhydride 0.1g     Benzoic acid 0.02g     4- [p-N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl]- 2,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine                                               0.01g     4- [PN- (P-hydroxybenzoyl) aminophenyl] -2,6- Bis (trichloromethyl) -S-triazine 0.02g     2-Trichloromethyl-5- (4-hydroxystyryl) -1,3,4-o Oxadiazole 0.01g     The counter anion of Victoria Pure Blue BOH is changed to 1-naphthalenesulfonic acid 0.02g of dye [0143]     MODIPER F-200 (Fluorosurfactant manufactured by NOF Corporation, 30% by mass (Methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone mixed solvent solution)                                               0.06g     MegaFuck F177 (Fluorine surfactant manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) , 20 mass% methyl isobutyl ketone solution) 0.02 g     Methyl ethyl ketone 15g     1-methoxy-2-propanol 10g On the photosensitive layer coated in this way,
Based on the method described in Example 1 of JP 61-28986 A
And (methyl methacrylate / ethyl acrylate /
Copolymer aqueous solution of sodium acrylate = 68/20/12)
A mat layer was provided by electrostatic spraying of the liquid. This
The photosensitive lithographic printing plate made in the
From the distance of 1m through the transparent positive film, 3
50 seconds exposure with kw metal halide lamp
After that, as the developer, SiO2/ Na2The molar ratio of O is
1.74 sodium silicate 5.26% aqueous solution (pH
= 12.7) Fuji Photo Film as rinse solution
Fuji Photo Film with FR-3 (1: 7) manufactured by KK
Processed through an automatic processor Stablon 900D manufactured by Mu Co., Ltd.
did. Printing evaluation of this positive photosensitive lithographic printing plate
did. The press is dampened with Heidelberg SOR-M
Water is EU-3 (1: 100) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
10% isopropanol added to the ink
Mark Five New Ink manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. was used. (Example 2-2) Examples 1-1 to 1-9,
Aluminum for lithographic printing plates produced in 1-12 to 1-17
Using the film support, apply and dry the following photosensitive layer to expose
After the processing, development processing was performed using the following developer. these
Marks with good smearing performance when printed using a lithographic printing plate
It was a printing plate. A coating solution having the following composition was applied at a dry weight of 2 g / m.2When
It was provided on the support.     1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride and pyrogallol Seton resin esterified product (weight average molecular weight 2,500) 40 parts by mass     Phenol formaldehyde resin (weight average molecular weight 10,000, trinuclear or less Top component 90%) 75 parts by mass     Acrylic polymer I 35 parts by mass     2- (p-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s- 3 parts by weight of triazine     Oil blue # 603 (made by Orient Chemical Co., Ltd.) 1.5 parts by mass     MegaFuck F-176 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc. fluorine-based surfactant) Agent) 0.3 parts by mass     1000 parts by mass of methyl ethyl ketone     1000 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether The acrylic polymer I was synthesized by the following method.
did. N- (p-toluenesulfonyl) methacrylami
60.3 g, acrylonitrile 10.0 g and ethyl
46.0 g of acrylate is dimethylformamide 23
Dissolved in 2.6 g, 2,2'-azobis under nitrogen flow
(2,4-dimethylvaleronitrile) 0.224g
It was used as a combined initiator and stirred at 65 ° C. for 7 hours. Anti
The reaction solution was allowed to cool and then re-precipitated in 5 liters of water. Precipitate
Acrylic polymer by filtering and drying the polymer
110.4 g of I (yield 95%, Mw 52,000)
Obtained. Further, the following mat forming resin solution is sprayed.
Thus, a mat layer was formed. As a mat layer forming resin solution,
Chill methacrylate / ethyl acrylate / acrylic acid
(Feeding mass ratio 65:20:15) Part of the copolymer is natto
Prepare 12% aqueous solution in the form of a lithium salt.
Atomizing head rotation speed of 25,000 rpm with a cloth machine, feeding of resin liquid
The amount is 40 ml / min, the applied voltage to the atomizing head is -90 kV,
The ambient temperature during application is 25 ° C and the relative humidity is 50%.
After 2.5 seconds from the cloth, spray the surface with water to moisten it.
After 3 seconds of wetting, the temperature is 60 ° C and the humidity is 10%.
Sprayed for 5 seconds to dry. The original plate is added to the PS plate thus prepared.
3 kW metal halide la from a distance of 1 m through Lum
Using the amplifier, exposure was performed for 60 seconds. [0150]   <Developer and development processing>   <Developer a (pH about 12.4)>     D-saccharose 4.8% by mass     Sodium hydroxide 0.34% by mass     Sodium carbonate 0.70% by mass     Tetrabutylammonium bromide 0.03% by mass     94.13% by weight of water   <Development replenisher a (pH about 13.0)>     D-sucrose 9.7% by mass     Sodium hydroxide 1.5% by mass     Sodium carbonate 1.0% by mass     Tetrabutylammonium bromide 0.07% by mass     87.73% by mass of water   <Finishing gum solution>     Gum arabic 1.8% by mass     Enzyme-modified potato starch 18.3% by mass     Enzyme-modified onion starch 3.7% by mass     Phosphorylated waxy onion starch 1.8% by mass     Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.91% by mass     Primary ammonium phosphate 0.27% by mass     Phosphoric acid (85%) 0.37% by mass     EDTA-tetrasodium salt 0.27% by mass     Ethylene glycol 1.8% by mass     Benzyl alcohol 2.3% by mass     Sodium dehydroacetate 0.04% by mass     Emulsion type silicon antifoaming agent 0.02% by mass     Water 68.42% by mass   <Rinse solution>     Sodium dodecyl diphenyl ether disulfonate (40% by weight aqueous solution)                                                           6.7% by mass     Sodium hexametaphosphate 0.8% by mass     Benzyl alcohol 1.5% by mass     Polyoxyethylene (12 mol addition of ethylene oxide) Nonylphenyl A Tell 1.5% by mass     Sodium dioctyl sulfosuccinate 1.4% by mass     Phosphoric acid (85% by mass) 5.2% by mass     Sodium hydroxide 2.0% by mass     Silicon antifoaming agent 0.01% by mass     80.89% by mass of water Next, a commercially available automatic development having an immersion type developing tank.
PS-900D (Fuji Photo Film Co., Ltd.) development
The tank is charged with 20 liters of each developer and kept at 30 ° C.
Warm up. 8 liters of tap water for the second bath of PS-900D
In the third bath, finishing solution: water = 1: 1 dilution
8 liters of the finished finishing solution was charged. Like this
Pass the exposed PS plate through the prepared PS-900D.
And developed. (Example 2-3) Prepared in Example 1-10
Using an aluminum support for lithographic printing plates,
Apply and dry the light layer, and after exposure processing, use the following developer
And developed. When printing using this planographic printing plate
The printing plate had good filter stain performance. The aluminum plate was copolymerized with the following composition A.
Apply 1% aqueous solution of the body with a roll coater and dry
To form an undercoat layer. The coating amount after drying is 0.0
5g / m2It was hot. <Composition A> Methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylic
Sodium rilamido-2-methylpropanesulfonate
(50:30:20 molar ratio) copolymer (average molecular weight of about 6
0,000) Apply a solution of the following composition on this undercoat layer and dry it.
Thus, a photosensitive lithographic printing plate was obtained. This is used as a sample.     2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (US Pat. No. 4,123,2) (Described in Example 1 in No. 76) 0.87 g     2-Methoxy of condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde Ci-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate 0.1 g     Oil Bull-# 603 (Blue dye from Orient Chemical Co., Ltd.)                                                         0.03g     6g of methanol     2-methoxyethanol 6g The dry coating amount of the photosensitive layer is 2.0 g / m.2It was hot. The transparent negative original is adhered in a vacuum and the 3 kW medium
Expose for 60 seconds from a distance of 1m with a Talhalide lamp.
Immerse in the developer for 1 minute, and lightly wipe the surface of the photosensitive layer with a sponge
By rubbing and developing, a commercially available desensitized gum solution was applied.   <Developer>     Sodium sulfite 5g     Benzyl alcohol 30g     Sodium carbonate 5g     Isopropyl naphthalene sulfonate sodium 12g     1000g of pure water Example 2-4 Examples 1-1 to 1-9,
Aluminum for lithographic printing plates produced in 1-12 to 1-17
Using the film support, apply and dry the following photosensitive layer to expose
After the processing, development processing was performed using the following developer. these
Marks with good smearing performance when printed using a lithographic printing plate
It was a printing plate. <Preparation of carbon black dispersion>
Disperse the composition by volume ratio with glass beads for 10 minutes
A carbon black dispersion was obtained.     1 part by mass of carbon black     Copolymer of benzyl methacrylate and methacrylic acid (molar ratio 72:28, heavy (Weight average molecular weight 70,000) 1.6 parts by mass     1.6 parts by mass of cyclohexanone     Methoxypropyl acetate 3.8 parts by mass <Preparation of negative photosensitive lithographic printing plate>
The following photosensitive solution was applied to the aluminum plate obtained and 1
Dry at 00 ° C for 2 minutes to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate
It was. Weight after drying is 2.0 g / m2Met. [0158]   <Photosensitive solution>     Carbon black dispersion 10g     Hexafluorophosphoric acid, a condensate of 4-diazodiphenylamine and formaldehyde 0.5g salt     Methacrylic acid, 2-hydroxyethyl acrylate, benzyl methacrylate And acrylonitrile radical copolymer (molar ratio 15: 30: 40: 15, heavy Weight average molecular weight 100,000) 5g     Malic acid 0.05g     FC-430 (U.S. 3M fluorine-based surfactant) 0.05 g     1-methoxy-2-propanol 80g     15g ethyl lactate     5g of water The obtained negative photosensitive lithographic printing plate was exposed to the plate.
Fuji Photo after exposure with YAG laser adjusted to 2W power
Film Co., Ltd. developer, DN-3C (1: 1), gum
Processing through an automatic processor charged with liquid FN-2 (1: 1)
As a result, a negative image was obtained. This lithographic printing plate
Printed with a Heidel SOR-KZ machine. (Example 2-5) Examples 1-1 to 1-9,
Aluminum for lithographic printing plates produced in 1-12 to 1-17
Using the film support, apply and dry the following photosensitive layer to expose
After the processing, development processing was performed using the following developer. these
Marks with good smearing performance when printed using a lithographic printing plate
It was a printing plate. Apply the following undercoat liquid to the aluminum support.
Apply with Yarber and use a warm air dryer at 90 ° C.
Dry for 30 seconds. The coating amount after drying is 20mg / m2In
It was. [0162]   <Undercoat liquid>     Methacryloyloxyethylphosphonic acid 0.2g     Molar ratio of methyl acrylate to styrene sulfonic acid sodium salt 75:15 Copolymer of 0.2g     Calcium nitrate 0.2g     Methanol 20g     Ion exchange water 80g <Formation of Recording Layer> The following recording layer coating solution <P-
2> on the support on which the undercoat layer is formed,
And dried at 120 ° C for 45 seconds with a hot air dryer.
To form a recording layer, and the following overcoat layer
Apply the coating solution using a slide hopper and dry with hot air
Dry lithographic printing plate precursor at 120 ° C for 75 seconds
[PS-1] was obtained. In addition, the coating amount of the recording layer is 2.0 g
/ M2The coating amount of the overcoat layer is 2.3 g /
m2Met. The red color used for the preparation of the recording layer coating solution
The structure of the external line absorbent and the like is as shown below. Also,
Polymer (PB-2) is methacrylic acid, N-isopropyl
Co-polymerization of pyracrylamide and ethyl methacrylate
After synthesizing the compound, 1,2-epoxy-3-methacrylo
By reacting with yloxymethylcyclohexane
Synthesized. The composition molar ratio is 15: 30: 20: 35
The weight average molecular weight was 120,000. [0164]   <Recording layer coating solution [P-2]>   Titanocene type radical generator (CGI-784, Ciba Specialty Ke Micals Co., Ltd.) 0.1g     Polymerizable compound (RM-2) 0.60 g     Polymerizable compound (RM-3) 0.20 g     Visible light absorber (VR-1) 0.10 g     Polymer (PB-2) 1.20 g     Copper phthalocyanine pigment 0.04g     Polymerization inhibitor (Cuperon Al, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.005g     Fluorosurfactant (Megafac KF309, Dainippon Ink & Chemicals, Inc. ) Made) 0.03g     Methyl ethyl ketone 10g     γ-butyrolactone 5g     7g of methanol     1-methoxy-2-propanol 5g Polymerizable compound RM-2 [Chemical 2] Polymerizable compound RM-3 [Chemical 3] Visible light absorber VR-1 [Formula 4] Polymer PB-2 [Chemical formula 5] [0169]   <Coating liquid for overcoat layer>     Polyvinyl alcohol (saponification degree 98.5 mol%, polymerization degree 500)                                                         3.0g     Nonionic surfactant (EMAREX NP-10 Nippon Emulsion Co., Ltd. ( 0.05g)     Ion exchange water 96.95g <Evaluation of Developer Composition> Fuji Photo Film
Development processing tank of automatic processor (LP-850P2)
The developer composition (V-2) having the following composition was charged into 30:
Incubated at 0 ° C. Tap water is supplied to the second bath of the automatic processor.
FP-2W (Fuji Photo Film)
(Made by Co., Ltd.): Finishing gum solution diluted with water = 1: 1
Was charged. The pH of the developer was 8.1. [0171]   <Developer Composition [V-2]>     Sodium bicarbonate 26g     Sodium salt of ethylene glycol mononaphthyl ether monosulfate                                                   30g     Ethylene glycol monododecyl ether 20g     Sodium sulfite 3g     Ethylenediaminetetraacetic acid 4sodium 1g     920 g of water Next, the planographic printing plate precursor [PS-1] size
20 sheets of 1030 x 800 mm emit 405 nm purple light
Using a 30 mW semiconductor laser and a laser beam diameter of 12
μm, plate surface energy 50 μJ / cm2Running under different exposure conditions
It was exposed to light and developed using the above self-machine. processing
Thereafter, the automatic developer was left as it was for 3 days. Left
After that, one lithographic printing plate precursor [PS-1]
Exposure followed by development processing. The resulting lithographic printing plate [P
S-1] is a printing press manufactured by Komori Corporation.
Printed using Ron. At this time, after printing starts,
Visually check how many sheets of printed material can be obtained
Evaluated. In addition, the stain state of the non-image part at that time
Was visually observed. As a result, before leaving the self-machine,
70,000 print plates processed and processed after being left alone
A good printed sheet was obtained. In addition, of the obtained printed matter
No stain was observed in the non-image area. (Example 2-6) Examples 1-1 to 1-9,
Aluminum for lithographic printing plates produced in 1-12 to 1-17
Using the film support, apply and dry the following photosensitive layer to expose
After the processing, development processing was performed using the following developer. these
Marks with good smearing performance when printed using a lithographic printing plate
It was a printing plate. <Undercoat> Next, the aluminum support.
Apply the following undercoat liquid to the wire bar with hot air drying
It dried for 30 second at 90 degreeC using the apparatus. Clothing after drying
The amount is 20mg / m2Met. [0175]   <Undercoat liquid>     Didia of condensate of 4-diazo-3methoxydiphenylamine and formaldehyde Butyl naphthalene sulfonate 0.3g     Magnesium salt of 2-aminoethylphosphonic acid 0.1 g     Calcium chloride 0.2g     Methanol 20g     Ion exchange water 80g <Formation of recording layer> The following recording layer coating solution was added
Apply with a wire bar on a support with an undercoat layer
And dry for 45 seconds at 120 ° C in a hot air dryer.
A recording layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor [PS-2]. Dry
The coating amount after drying is 2.0 g / m2Met. The recording layer
The structure of the infrared absorber used to prepare the coating solution is as follows:
As shown in The polymer (PB-1)
Tacrylic acid, N-acryloylmorpholine and benzy
After synthesizing a copolymer of dimethacrylate,
2-hydroxypropyl methacrylate, base and
By reacting in the presence of potassium iodide.
It was. The composition molar ratio is 15: 30: 10: 45,
The weight average molecular weight was 100,000. [0177]   <Recording layer coating solution [P-1]>     Onium salt (KO-1) 0.25g     Polymerizable compound (RM-1) 0.60 g     Infrared absorber (IR-1) 0.06 g     Polymer (PB-1) 1.40 g     Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonate 0.04g     N-allyl stearamide 0.01 g     Polymerization inhibitor (Irganox 1010, Ciba Specialty Chemicals 0.005g     Fluorosurfactant (Megafac KF309, Dainippon Ink & Chemicals, Inc. ) Made) 0.03g     Methyl ethyl ketone 10g     γ-butyrolactone 5g     7g of methanol     1-methoxy-3-propanol 5g Onium salt KO-1 [Chemical 6] Polymerizable compound RM-1 [Chemical 7] Infrared absorber IR-1 [Chemical 8] Polymer PB-1 [Chemical 9] <Evaluation of Developer Composition> Plate Material Feeder (S
A-L8000), exposure apparatus (Luxel T-900)
0CTP), conveyor (T-9000 Conveyo)
r), automatic processor (LP-1310H), stocker
Fuji Photo Film Co., Ltd. C (ST-1160)
A TP output system was used. Development tank of automatic processor
The developer composition (V-1) having the following composition was charged into
Incubated at 0 ° C. Tap water is supplied to the second bath of the automatic processor.
FP-2W (Fuji Photo Film)
(Made by Co., Ltd.): Finishing gum solution diluted with water = 1: 1
Was charged. The pH of the developer was 8.0. [0183]   <Developer Composition [V-1]>     20g potassium bicarbonate     Sodium dibutylnaphthalenesulfonate 30g     Ethylene glycol mononaphthyl ether 20g     Sodium sulfite 3g     Hydroxyethane diphosphonate potassium 2g     Silicone SA730 (Surfactant manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.)                                                     0.1g     924.9 g of water Next, the planographic printing plate precursor [PS-2] size
Load 30 sheets of 1030x800mm into the plate material supply device
Fully automatic, continuous exposure, development processing, stocker
Discharged. After processing, leave the automatic developer for 3 days
did. After leaving, one lithographic printing plate precursor [PS-2]
Is loaded in the plate material supply device, fully automatically and continuously,
Developed and discharged to stocker. Lithographic printing obtained
Version [PS-2] printed by Komori Corporation
Printing was performed using a Lithlon machine. At this time, after printing starts,
How many sheets can be obtained with ink on the minute
Was visually evaluated. Also, the non-image area is dirty at that time
The state of was observed visually. As a result, leave the self-machine
The previously processed printing plate is the same as the printing plate processed after being left unattended.
As a result, 60,000 good prints were obtained. Also obtained
No stain was observed on the non-image area of the printed material. (Example 2-7) Examples 1-1 to 1-9,
Aluminum for lithographic printing plates produced in 1-12 to 1-17
Using the film support, apply and dry the following photosensitive layer to expose
After the processing, development processing was performed using the following developer. these
Marks with good smearing performance when printed using a lithographic printing plate
It was a printing plate. An undercoat solution having the following composition was applied, and 1 at 80 ° C.
The film was dried for 5 seconds to form a coating film. Coating of the coating after drying
The amount is 15mg / m2Met. <Undercoat liquid composition> The following polymer compound 0.3g Methanol 100g 1g of water [0188] Embedded image <Formation of photosensitive layer> Further, a photosensitive layer having the following composition:
A coating liquid 1 was prepared and applied to an undercoated aluminum support.
This photosensitive layer coating solution 1 was dried using a bar coater.
Coating amount (photosensitive layer coating amount) is 1.0 g / m2Paint to be
It was clothed and dried to form a photosensitive layer, and a lithographic printing plate was obtained. [0190]   <Photosensitive layer coating solution 1 composition>     Capric acid 0.03g     0.75 g of specific copolymer 1 described later     m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,5 00, containing 0.5% by mass of unreacted cresol) 0.25g     p-Toluenesulfonic acid 0.003g     Tetrahydrophthalic anhydride 0.03g     0.017 g of cyanine dye A represented by the following structural formula [0191] Embedded image [0192]     The counter ion of Victoria Pure Blue BOH was replaced with 1-naphthalenesulfonic acid anion. 0.015g of dye turned on     Fluorosurfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. ) 0.05g     γ-Butyllactone 10g     Methyl ethyl ketone 10g     1-methoxy-2-propanol 1g <Specific copolymer 1> Stirrer, cooling pipe
And a 500 mL three-necked flask with a dropping funnel
In addition, 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid,
Ethyl loformate 39. lg (0.36 mol) and a
Put 200 mL of cetonitrile and cool with ice water bath
The mixture was stirred. Triethylamine to this mixture
36.4 g (0.36 mol) was added dropwise over about 1 hour.
The solution was dripped with a filter. After the dripping is finished, remove the ice water bath,
The mixture was stirred for 30 minutes at room temperature. To this reaction mixture, p-aminobenzenes was added.
Add 51.7 g (0.30 mol) of lufonamide and add oil
Stir the mixture for 1 hour while warming to 70 ° C in a bath
It was. After completion of the reaction, the mixture is poured into 1 L of water.
And stir the mixture obtained for 30 minutes.
did. The mixture is filtered to remove the precipitate,
After slurrying with 500 mL of water, the slurry is filtered
The solid obtained is dried to give N- (p-amino
Nosulfonylphenyl) methacrylamide white solid
Obtained (yield 46.9 g). Next, a stirrer, a cooling pipe, and a dropping batter are used.
N- (p
-Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.6
1 g (0.0192 mol), ethyl methacrylate2.
94 g (0.0258 mol), acrylonitrile 0.
80 g (0.015 mol) and N, N-dimethyla
Add 20 g of cetamide and heat to 65 ° C in a hot water bath.
While stirring the mixture. This mixture is shown below
Add "V-65" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.15g, 65
Stir the mixture for 2 hours under nitrogen flow while keeping at ℃
did. This reaction mixture is further mixed with N- (p-aminosulfonate.
Ruphenyl) methacrylamide 4.61 g, methacryl
2.94 g of ethyl acid, 0.80 g of acrylonitrile,
N, N-dimethylacetamide and the following “V-65”
Drop 0.15 g of mixture with dropping funnel over 2 hours
I gave it. After completion of the dropwise addition, the obtained mixture was further heated at 65 ° C.
Stir for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added.
Add to the mixture, cool, and add the resulting mixture to 2 L of water.
Stir in the water and stir the mixture for 30 minutes.
After that, the precipitate is removed by filtration and dried.
15 g of the specific copolymer 1 as a white solid was obtained. Obtained
The weight average molecular weight of the specific copolymer 1 obtained
5 as measured by chromatography.
3,000 (polystyrene standard). Azo polymerization initiator V-65 Embedded image The lithographic printing plate obtained as described above is discharged.
Power 500mW, wavelength 830nm, beam diameter 17μm (1
/ E2) Main operating speed 5m / sec
After the exposure at, current version for PS plate made by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Development for 30 seconds using image liquid DP-4 (1: 8) water dilution
did. (Example 2-8) Examples 1-1 to 1-9,
Aluminum for lithographic printing plates produced in 1-12 to 1-17
Using the film support, apply and dry the following photosensitive layer to expose
After the processing, development processing was performed using the following developer. these
Marks with good smearing performance when printed using a lithographic printing plate
It was a printing plate. An undercoat solution having the following composition was applied, and 1 at 80 ° C.
The film was dried for 5 seconds to form a coating film. Coating of the coating after drying
The amount is 15mg / m2Met. <Undercoat liquid composition> The following polymer compound 0.3g Methanol 100g 1g of water [0201] Embedded image <Formation of photosensitive layer> Further, a photosensitive layer having the following composition:
A coating liquid 1 was prepared and applied to an undercoated aluminum support.
This photosensitive layer coating solution 1 was dried using a bar coater.
Coating amount (photosensitive layer coating amount) is 1.0 g / m2Paint to be
It was clothed and dried to form a photosensitive layer, and a lithographic printing plate was obtained. [0203]   <Photosensitive layer coating solution 1 composition>     Capric acid 0.03g     0.75 g of specific copolymer 1 described later     m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,5 00, containing 0.5% by mass of unreacted cresol) 0.25g     p-Toluenesulfonic acid 0.003g     Tetrahydrophthalic anhydride 0.03g     0.017 g of cyanine dye A represented by the following structural formula [0204] Embedded image[0205]     The counter ion of Victoria Pure Blue BOH was replaced with 1-naphthalenesulfonic acid anion. 0.015g of dye turned on     Fluorosurfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. ) 0.05g     γ-Butyllactone 10g     Methyl ethyl ketone 10g     1-methoxy-2-propanol 1g <Specific copolymer 1> Stirrer, cooling pipe
And a 500 mL three-necked flask with a dropping funnel
In addition, 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid,
Ethyl loformate 39. lg (0.36 mol) and a
Put 200 mL of cetonitrile and cool with ice water bath
The mixture was stirred. Triethylamine to this mixture
36.4 g (0.36 mol) was added dropwise over about 1 hour.
The solution was dripped with a filter. After the dripping is finished, remove the ice water bath,
The mixture was stirred for 30 minutes at room temperature. To this reaction mixture, p-aminobenzenes was added.
Add 51.7 g (0.30 mol) of lufonamide and add oil
Stir the mixture for 1 hour while warming to 70 ° C in a bath
It was. After completion of the reaction, the mixture is poured into 1 L of water.
And stir the mixture obtained for 30 minutes.
did. The mixture is filtered to remove the precipitate,
After slurrying with 500 mL of water, the slurry is filtered
The solid obtained is dried to give N- (p-amino
Nosulfonylphenyl) methacrylamide white solid
Obtained (yield 46.9 g). Next, a stirrer, a cooling pipe, and a dropping batter are used.
N- (p
-Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.6
1 g (0.0192 mol), ethyl methacrylate2.
94 g (0.0258 mol), acrylonitrile 0.
80 g (0.015 mol) and N, N-dimethyla
Add 20 g of cetamide and heat to 65 ° C in a hot water bath.
While stirring the mixture. To this mixture, the above "V-
65 ”(manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.15 g was added and kept at 65 ° C.
However, the mixture was stirred for 2 hours under a stream of nitrogen.
This reaction mixture is further subjected to N- (p-aminosulfonylphenol).
Nyl) methacrylamide 4.61 g, methacrylic acid ethyl
2.94 g, acrylonitrile 0.80 g, N, N-
Dimethylacetamide and the above “V-65” 0.15
The mixture of g was dropped with a dropping funnel over 2 hours.
After completion of the dropwise addition, the obtained mixture is further heated at 65 ° C. for 2 hours.
I scrambled. After completion of the reaction, 40 g of methanol was mixed into the mixture
Add, cool, and pour the resulting mixture into 2 L of water.
After stirring, stir the mixture for 30 minutes,
By removing the precipitate by filtration and drying, 15
g of a specific copolymer 1 of white solid was obtained. Specific obtained
Gel Permeation of Weight Average Molecular Weight of Copolymer 1
As measured by chromatography, 53,000.
0 (polystyrene standard). [0209] The lithographic printing plate obtained as described above was put out.
Power 500mW, wavelength 830nm, beam diameter 17μm (1
/ E2) Main operating speed 5m / sec
Using a non-silicate developer with the following composition:
Developed. <Developer (non-silicate developer)> Non-reducing
D-Sorbit / Kariu oxide combining sugar and base
(K21 liter of 45% aqueous potassium salt solution comprising O)
And amphoteric surfactant Pionein C-158G (Takemoto Oil)
20g made by Fat Co., Ltd. and anti-foaming agent Olphine AK-02
2.0 g of Shin Chemical Co., Ltd.) was added to prepare a concentrated solution
It was. A solution obtained by diluting this concentrated solution 9 times with water is used as a developer.
It was. The conductivity of the developer 1 is 45 mS / cm. (Example 2-9) Examples 1-1 to 1-9,
Aluminum for lithographic printing plates produced in 1-12 to 1-17
Using the film support, apply and dry the following photosensitive layer to expose
After the processing, development processing was performed using the following developer. these
Marks with good smearing performance when printed using a lithographic printing plate
It was a printing plate. <Synthesis of (A) Component Copolymer> Synthesis Example 1 (Copolymer 1) 500m with stirrer, cooling pipe and dropping funnel
l 31.0 g of methacrylic acid (0.36 g
Mol), 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate
200ml of acetonitrile and cool with ice water bath
While stirring the mixture. Trieti to this mixture
Lumine 36.4g (0.36mol) over about 1 hour
It dropped by the dropping funnel. After completion of dripping, take an ice water bath
Leaving and stirring the mixture at room temperature for 30 minutes. To this reaction mixture, p-aminobenzenes was added.
Add 51.7 g (0.30 mol) of lufonamide, oil bath
The mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C.
After the reaction, the mixture is poured into 1 liter of water.
Stir while stirring and stir the resulting mixture for 30 minutes
I did. The mixture is filtered to remove the precipitate,
After slurrying with 500 ml of water, the slurry is filtered.
The resulting solid is dried to give N- (p-a
Minosulfonylphenyl) methacrylamide white solid
Was obtained (yield 46.9 g). Next, a stirrer, a cooling pipe and a dropping funnel.
Into a 100 ml three-necked flask equipped with
Nosulfonylphenyl) methacrylamide 5.04 g
(0.0210 mol), ethyl methacrylate 2.05 g
(0.0180 mol), 1.11 g of acrylonitrile
(0.021 mol) and N, N-dimethylacetami
Add 20g and mix while heating to 65 ° C in a hot water bath.
Stir the compound. To this mixture, the above "V-65"
Add 0.15 g (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and keep it at 65 ° C.
The mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream. This reaction
Further N- (p-aminosulfonylphenyl) to the mixture
Methacrylamide 5.04 g, ethyl methacrylate 2.
05 g, acrylonitrile 1.11 g, N, N-dimethyl
20 g of rubacetamide and the above “V-65” 0.15
The mixture of g was dropped with a dropping funnel over 2 hours.
After completion of the dropwise addition, the mixture obtained at 65 ° C. for 2 hours is stirred.
I got it. After completion of the reaction, 40 g of methanol is added to the mixture.
Cool, and mix the resulting mixture into 2 liters of water.
While stirring, the mixture was stirred for 30 minutes.
After that, the precipitate is removed by filtration and dried.
15 g of a white solid was obtained. Gel permeation chroma
The weight average molecular weight of copolymer 1 by
(Polystyrene standard) measured was 53,000.
there were. Synthesis Example 2 (Copolymer 2) In the polymerization reaction of Synthesis Example 1, N- (p-aminosulfo
Nylphenyl) methacrylamide 5.04 g (0.02
10 moles) N- (p-hydroxyphenyl) methacrylate
Except for changing to 3.72 g (0.0210 mol) of Luamide
Is a polymerization reaction in the same manner as in Synthesis Example 1, and the weight average molecular weight is
(Polystyrene standard) 47,000 copolymer 2 is obtained.
It was. <Production of substrate> Aluminum having a thickness of 0.3 mm
Um plate (material 1050) washed with trichlorethylene
After degreasing, nylon brush and 400 mesh Pami
Use a suspension of water, grain this surface, and wash well with water.
Washed. This plate is 25% sodium hydroxide water at 45 ° C.
Etch by immersing in solution for 9 seconds, rinse with water,
The sample was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. Sand at this time
The amount of etching on the sharpened surface is about 3 g / m2Met. Next
In addition, the current density was 15 A / d using 7% sulfuric acid as an electrolyte.
m23g / m2After providing a direct current anodized film of
And dried, and further, the following undercoat liquid was applied to form a coating film.
Dried for 1 minute at 0 ° C. The coating amount after drying is 10mg
/ M2Met. <Undercoat liquid> β-Alanine 0.5g Methanol 95g 5g of water The following photosensitive solution A1 was applied to the obtained substrate.
And dried at 100 ° C. for 2 minutes to form layer A. Dry
The subsequent coating amount is 1.4 g / m2Met. Then the following
Apply Photosensitive Solution B1 and dry at 100 ° C. for 2 minutes.
And a lithographic printing plate was obtained. Total coating of photosensitive solution after drying
The amount of cloth is 2.0 g / m2Met. [0219]   <Photosensitive solution A1>     0.75 g of copolymer 1     Cyanine dye A 0.04g     0.002 g of p-toluenesulfonic acid     Tetrahydrophthalic anhydride 0.05g     Victoria Pure Blue (BOH counter anion is 1-naphthalenesulfonic acid Anion dye) 0.015 g     Fluorosurfactant (Megafac F-177, Dainippon Ink & Chemicals, Inc. ) Made) 0.02g     γ-Butyllactone 8g     7g of methyl ethyl ketone   1-methoxy-2-propanol 7g   <Photosensitive solution B1>     m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4,0 00) 0.25g     Cyanine dye A 0.05g     N-dodecyl stearate 0.02 g     Fluorosurfactant (Megafac F-177, Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 0.05g)     7g of methyl ethyl ketone     1-methoxy-2-propanol 7g The obtained lithographic printing plate was printed with an output of 500 mW,
Wavelength 830 nm, beam diameter 17 μm (1 / e2) Semiconductor
After exposure at a main scanning speed of 5 m / sec using a body laser,
Fuji Photo Film Co., Ltd. Developer, DP-4, Rinse solution
Automatic processor (Fuji Photo Film) equipped with FR-3 (1: 7)
Irum Co., Ltd .: “PS processor 900VR”)
And developed. At that time, DP-4 was diluted 1: 8
A thing was used. This printed version is made by Heidelberg
Printed on fine paper with a Dell KOR-D machine. (Example 2-10) Examples 1-1 to 1-
9, Aluminum for planographic printing plates manufactured in 1-12 to 1-17
The following photosensitive layer is applied and dried using a nium support,
After the exposure processing, development processing was performed using the following developer. this
Stain performance is good when printed using these planographic printing plates
Printing plate. An undercoat layer was formed in advance. Undercoat
The bottom layer is coated with an undercoat solution having the following composition at 80 ° C. for 30 seconds.
Dried. The coating amount after drying is 30 mg / m2Met. <Undercoat liquid> The following compound 0.3g Methanol 100g 1g of water [0223] Embedded image <Formation of heat-sensitive layer>
The coating amount of the layer coating solution is 0.85 g / m2Apply to be
After that, TABIAI, PERFECT OVEN
  Set Wind Control to 7 on PH200.
And then dried at 140 degrees for 50 seconds, and then coated for the heat sensitive layer
Application amount of liquid is 0.15 g / m2I applied so that
That is, it was dried at 120 degrees for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor. [0225]   <Coating liquid for lower layer>     N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / acrylonitrile / Methyl methacrylate (36/34/30: weight average molecular weight 50,000)                                                   1.896g     Cresol novolak (m / p = 6/4, weight average molecular weight 4,500, remaining Monomer 0.8wt%) 0.237g     Cyanine dye A (the following structure) 0.109 g     4,4'-Bizhydroxyphenylsulfone 0.063 g     Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g     p-Toluenesulfonic acid 0.008g     Change the counterion of ethyl violet to 6-hydroxynaphthalene sulfone Food 0.05g     Fluorosurfactant (Megafac F176, manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.) 0.035g     Methyl ethyl ketone 26.6g     13.6 g of 1-methoxy-2-propanol     γ-butyrolactone 13.8 g [0226] Embedded image[0227]   <Coating solution for heat-sensitive layer>     m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight     4500, containing 0.8% by weight of unreacted cresol) 0.237 g     Cyanine dye A (above structure) 0.047g     0.060 g dodecyl stearate     3-methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate                                                       0.030g     Fluorosurfactant (Megafac F176, Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 0.110g     Fluorosurfactant [Megafac MCF-312 (30%), Dainippon Inn Manufactured by Ki Kogyo Co., Ltd.] 0.120 g     Methyl ethyl ketone 15.1 g     1-methoxy-2-propanol 7.7 g The obtained lithographic printing plate precursor was converted to Creo T
Beam strength 9w with drum setter, drum rotation
Draw a test pattern in an image at a speed of 150 rpm
Went. For written lithographic printing plate precursor,
When developing, use a non-silicate developer with the following composition.
I imaged it. <Developer (non-silicate developer)> Non-reducing sugar and base
Combined D-sorbite / potassium oxide (K2O)
1 liter of 45% aqueous potassium salt solution
Surfactant Pionein C-158G (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)
20 g and antifoaming agent Orphin AK-02 (Nisshin Chemical Co., Ltd.)
2.0 g) was added to prepare a concentrated solution. This concentrate
A developer was prepared by diluting 9 times with water. This developer
The conductivity of 1 is 45 mS / cm. (Example 2-11) Examples 1-1 to 1-
9, Aluminum for planographic printing plates manufactured in 1-12 to 1-17
The following photosensitive layer is applied and dried using a nium support,
After the exposure processing, development processing was performed using the following developer. this
Stain performance is good when printed using these planographic printing plates
Printing plate. The following undercoat liquid was applied, and the coating film was heated to 1 ° C. at 80 ° C.
The substrate was obtained by drying for 5 seconds. The coating amount after drying is 15
mg / m2Met. <Composition of undercoat liquid> 0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000 Methanol 100g 1g of water [0232] Embedded image The following coating solution for forming a photosensitive layer was applied to the obtained substrate.
1 coating amount is 1.8 g / m2Apply and dry
It was.   <Composition of photosensitive layer coating solution 1>     m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 8,0 00, 1.0 g containing 0.5% by mass of unreacted cresol     Cyanine dye A (the following structure) 0.1g     Tetrahydrophthalic anhydride 0.05g     p-Toluenesulfuric acid 0.002 g     6-Hydroxy-β-naphthalene sulfone as the counterion of ethyl violet 0.02g of acidified     Fluorosurfactant (Megafac F-177, Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 0.05g)     Methyl ethyl ketone 12g [0234] Embedded image A lithographic printing plate is made from Creo plate setter.
Using Trendsetter 3244F (rotation speed:
150 rpm) exposure and development processing. Immersion type developer tank
Commercially available automatic processor LP-900H (Fuji Photo
Rum Co., Ltd.) developed processing tank
20 liters of image processing liquid C (pH about 13) is charged, 30
Incubated at 0 ° C. In the second bath of LP-900H, tap water
8 liters, FP-2W (Fuji Phil
Mu): Water = 1: 1 diluted finishing gum
8 liters of liquid was charged. [0236]   <Composition of alkali developing solution C>     SiO2・ K2O (K2O / SiO2= 1.1 (molar ratio)) 4.0% by mass     Citric acid 0.5% by mass     Polyethylene glycol (weight average molecular weight = 1,000) 0.5% by mass     95.0% by weight of water Aluminum support for planographic printing plate of the present invention
According to the manufacturing method, aluminum alloy plate aluminum
Electrochemical rough surface in hydrochloric acid aqueous solution regardless of
Hydrochloric acid aqueous solution with a specific composition used for hydrochloric acid treatment
Solution and in aqueous nitric acid and aqueous hydrochloric acid
AC aluminum used for electrochemical surface roughening
The ratio of the amount of electricity Qa at the time of anode of the plate to the amount of electricity Qc at the time of cathode, Q
If c / Qa is 0.9 to 1.0, the honeycomb honeycomb on the surface
Aluminum support for lithographic printing plates with extremely uniform
(Examples 1-1 to 1-1)
7). Therefore, beverage cans can be scrapped and recycled
When using an aluminum alloy plate obtained by
1-16) Even on the surface, the honeycomb pits are extremely uniform
An aluminum support for a lithographic printing plate can be obtained.
Also, the production of an aluminum support for a lithographic printing plate according to the present invention
Aluminum support for lithographic printing plate obtained by the method
Has a conventional type visible light exposure type plate making layer.
Case (Example 2-2, 2-3) and laser plate making
When a layer is provided (Examples 2-4 to 2-11)
However, when using a lithographic printing plate, printing durability and printing
Excellent performance (dirt performance). In contrast, lithographic printing plate aluminum
In the production of supports, aqueous nitric acid and aqueous hydrochloric acid
AC aluminium used for electrochemical surface roughening
The quantity of electricity Qa at the time of anode and the quantity of electricity Qc at the time of cathode
If the ratio, Qc / Qa is less than 0.9, the resulting lithographic stamp
There is no honeycomb pit on the surface of the aluminum support for printing plates.
It is uniform (Comparative Example 1-1), and Qc / Qa is 1.
If it exceeds 0, the electrode in electrochemical roughening treatment
Dissolve (Comparative Example 1-2). Electricity in aqueous hydrochloric acid is also possible.
Hydrochloric acid used for aerochemical roughening treatment has a specific composition
If it is not a hydrochloric acid aqueous solution containing
The honeycomb pits on the surface of the luminium support are not uniform.
(Comparative Example 1-3). [0239] According to the present invention, the aluminum for a lithographic printing plate is used.
Low-purity aluminum that has not been used for
Um rolled plate (aluminum plate containing a lot of alloy components or
Using an aluminum plate that has not been prepared with alloy components
And no unevenness due to the roughening process
Printing durability and printing performance (stain performance) when used as a printing plate
Of aluminum support for lithographic printing plates
Can provide the law.

【図面の簡単な説明】 【図1】 本発明の電気化学的粗面化に好ましく用いら
れる台形波交流電源波形の一例を示す波形図である。 【図2】 本発明に用いられるフラット型交流電解槽を
備える電解粗面化処理装置の一例を示す断面図である。 【図3】 本発明に用いられるフラット型交流電解槽を
備える電解粗面化処理装置の他の一例を示す断面図であ
る。 【図4】 本発明に用いられるラジアル型交流電解槽を
備える電解粗面化処理装置の一例を示す断面図である。 【図5】 本発明において機械的粗面化処理に用いられ
るブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図であ
る。 【符号の説明】 2、20 交流電解槽 4A、4B、4C、26A、26B 主極 6A、6B、14A、14B 搬送ローラ 8A、16A 導入ローラ 8B、16B 導出ローラ 10、34 補助電解槽 12、36 補助電極 22 交流電解槽本体 22A 開口部 24 送りローラ 28A、28B 給液ノズル 30A 上流側案内ローラ 30B 下流側案内ローラ 32 溢流槽 34A 補助電解槽の底面 35 上流側案内ローラ 51 アルミニウム合金板 52、54 ローラ状ブラシ 53 研磨スラリー液 55、56、57、58 支持ローラ 100、102、104 電解粗面化処理装置 a 搬送方向 T 搬送面 Tac 電源 Th1、Th2、Th3、Th4、Th5 サイリスタ W アルミニウムウェブ ta アノード反応時間 tb カソード反応時間 tc 電流が0からピークに達するまでの時間 Ia アノードサイクル側のピーク時の電流 Ic カソードサイクル側のピーク時の電流
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a waveform diagram showing an example of a trapezoidal wave AC power supply waveform preferably used for electrochemical roughening of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of an electrolytic surface roughening apparatus equipped with a flat AC electrolytic cell used in the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of an electrolytic surface roughening apparatus equipped with a flat AC electrolytic cell used in the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of an electrolytic surface roughening apparatus provided with a radial AC electrolytic cell used in the present invention. FIG. 5 is a side view showing the concept of a brush graining process used for mechanical roughening treatment in the present invention. [Explanation of Symbols] 2, 20 AC electrolytic cells 4A, 4B, 4C, 26A, 26B Main poles 6A, 6B, 14A, 14B Conveying rollers 8A, 16A Introducing rollers 8B, 16B Deriving rollers 10, 34 Auxiliary electrolytic cells 12, 36 Auxiliary electrode 22 AC electrolytic cell main body 22A Opening 24 Feed rollers 28A, 28B Supply nozzle 30A Upstream guide roller 30B Downstream guide roller 32 Overflow tank 34A Bottom surface 35 of auxiliary electrolyzer upstream guide roller 51 Aluminum alloy plate 52, 54 Roller-like brush 53 Polishing slurry liquids 55, 56, 57, 58 Support rollers 100, 102, 104 Electrolytic surface roughening processing apparatus a Transport direction T Transport surface Tac Power supply Th1, Th2, Th3, Th4, Th5 Thyristor W Aluminum web ta Anode reaction time tb Cathode reaction time tc Current peaked from 0 Time Ia anode cycle side of the peak current Ic cathode cycle side Peak currents of up to

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C25F 3/04 C25F 3/04 D G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/09 501 7/09 501 (72)発明者 上杉 彰男 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 DA18 2H096 AA06 CA01 CA03 2H114 AA04 AA14 AA23 BA01 DA04 DA06 DA09 EA03 EA04 GA08 GA09 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme code (reference) C25F 3/04 C25F 3/04 D G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/09 501 7/09 501 (72) Inventor Akio Uesugi 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Kashihara-gun, Shizuoka Pref. Fuji Photo Shin-Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H025 AA12 AB03 DA18 2H096 AA06 CA01 CA03 2H114 AA04 AA14 AA23 BA01 DA04 DA06 DA09 EA03 EA04 GA08 GA09

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】アルミニウム板を順に、 1)硝酸水溶液中で、交流のアルミニウム板の陽極時の
電気量Qaと陰極時の電気量Qcの比、Qc/Qaが
0.9〜1.0の条件で電気化学的に粗面化処理し、 2)塩酸を1〜10g/L含有する水溶液に、塩化アル
ミニウム6水和物を10〜70g/Lの割合で添加しア
ルミニウムイオン濃度が1〜8g/Lである塩酸水溶液
中で、交流のアルミニウム板の陽極時の電気量Qaと陰
極時の電気量Qcの比、Qc/Qaが0.9〜1.0の
条件で電気化学的に粗面化処理し、 3)陽極酸化処理することを特徴とする平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の製造方法。
Claims: 1. Aluminum plates in order: 1) The ratio of the amount of electricity Qa at the time of anode and the amount of electricity Qc at the time of cathode of an alternating current aluminum plate in a nitric acid aqueous solution, Qc / Qa is 0. Surface roughening electrochemically under the conditions of 9 to 1.0, 2) Aluminum chloride hexahydrate was added at a rate of 10 to 70 g / L to an aqueous solution containing 1 to 10 g / L of hydrochloric acid, and aluminum was added. In a hydrochloric acid aqueous solution having an ion concentration of 1 to 8 g / L, the ratio of the amount of electricity Qa at the time of anode of the alternating current aluminum plate to the amount of electricity Qc at the time of cathode, under the condition that Qc / Qa is 0.9 to 1.0 3) A method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, characterized by electrochemically roughening the surface and 3) anodizing.
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