JP2003243472A - Method for controlling travel of conveying cart in vacuum chamber - Google Patents

Method for controlling travel of conveying cart in vacuum chamber

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JP2003243472A
JP2003243472A JP2002035550A JP2002035550A JP2003243472A JP 2003243472 A JP2003243472 A JP 2003243472A JP 2002035550 A JP2002035550 A JP 2002035550A JP 2002035550 A JP2002035550 A JP 2002035550A JP 2003243472 A JP2003243472 A JP 2003243472A
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直之 宮園
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茂一 上野
Eishiro Sasagawa
英四郎 笹川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for controlling a travel of a conveying cart in a vacuum chamber, capable of transferring a substrate safely and reliably under a special environment where visual checking cannot can be performed. <P>SOLUTION: An abutment block is disposed at a location where a cart cannot advance ahead of a target stop position where a substrate is transferred from the cart to the other member in a vacuum processing chamber (a); a distance enough to lower a propulsive force of the cart before the cart abuts on the abutment block is set (b); the revolution of a pinion or a revolution of a pinion drive source is detected to calculate a location of the conveying cart based on the detected revolution (c); when a distance between a calculated position and the target stop position is equal to or smaller than the distance set by the step (b), the drive torque of the pinion is decreased to lower the propulsive force of the cart (d); and the cart is set to abut on the abutment block by the smaller propulsive force than when normally conveying, and the pinion is continually driven at low torque only in a predetermined period to continue to advance the cart in a state of abutting on the abutment block (e). <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CVD製膜等を行
う真空処理室においてガラス基板を搬送する搬送台車の
真空室内走行制御方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for controlling traveling inside a vacuum chamber of a carrier for transporting a glass substrate in a vacuum processing chamber for performing CVD film formation or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7を参照して従来の台車走行制御方法
について説明する。真空処理システムはゲート弁112
を介して直列につながれた真空処理室101、台車回転
室102、真空処理室103を備えている。搬送台車6
は、側面に形成されたラック64にピニオン172が噛
み合い、ピニオン172から伝達される駆動力によって
レール8上を走行するようになっている。ピニオン17
2はレール8に沿って所定の間隔で配置され、各々がコ
ントローラ180に制御されるステッピングモータ17
0A〜170Dにより独立に駆動されるようになってい
る。
2. Description of the Related Art A conventional bogie traveling control method will be described with reference to FIG. The vacuum processing system has a gate valve 112.
A vacuum processing chamber 101, a bogie rotation chamber 102, and a vacuum processing chamber 103 are connected in series via the. Carrier 6
The pinion 172 meshes with the rack 64 formed on the side surface and travels on the rail 8 by the driving force transmitted from the pinion 172. Pinion 17
2 are arranged at predetermined intervals along the rail 8 and each of them is controlled by the controller 180.
It is designed to be independently driven by 0A to 170D.

【0003】コントローラ180は、同一ラインに並ぶ
レール8上の全てのピニオン172が同期がとれた状態
で回転されるように、ステッピングモータ170A〜1
70Dを制御する。搬送台車6は、開閉されるゲート弁
112を通って真空処理室101から台車回転室102
へ、次いで台車回転室102から真空処理室103へと
ガラス基板Gを搬送し、製膜処理のために真空処理室内
の製膜ユニット(図示せず)に基板Gを受け渡す。
The controller 180 controls the stepping motors 170A to 170A so that all the pinions 172 on the rails 8 arranged on the same line are rotated in a synchronized manner.
Control 70D. The transport carriage 6 passes from the vacuum processing chamber 101 to the carriage rotation chamber 102 through the gate valve 112 that is opened and closed.
Then, the glass substrate G is transferred from the carriage rotation chamber 102 to the vacuum processing chamber 103, and the substrate G is transferred to a film forming unit (not shown) in the vacuum processing chamber for film forming processing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラズ
マCVD、スパッタリング、ドライエッチング等の処理
を基板に施す真空処理室は周囲をチャンバ外壁で取り囲
まれているために、オペレータが目視により確認しなが
ら搬送台車を目標位置に停止させることができない環境
にある。このため、従来の台車走行制御方法においては
次の(1)〜(3)の問題点がある。
However, since the vacuum processing chamber for performing processing such as plasma CVD, sputtering, and dry etching on the substrate is surrounded by the outer wall of the chamber, the operator can visually confirm the transfer carriage. Is in an environment where it cannot be stopped at the target position. Therefore, the conventional vehicle traveling control method has the following problems (1) to (3).

【0005】(1)コントローラ/ステッピングモータ
/ピニオン間の制御系では電気的に位置決めが完了して
いたとしても、基板受け渡し場所での台車停止位置に機
械的なガタが発生した場合に適切に対応することができ
ないため、基板の受け渡し動作が不確実になり、他部材
との衝突や落下により基板を損傷するおそれがある。
(1) Even if the positioning is electrically completed in the control system between the controller / stepping motor / pinion, it is possible to appropriately cope with mechanical backlash at the bogie stop position at the substrate transfer place. Therefore, the transfer operation of the substrate becomes uncertain, and there is a possibility that the substrate may be damaged due to a collision with another member or a drop.

【0006】(2)同じ動作を繰り返し行った場合に同
一の結果が得られる受け渡し再現性を保証するために、
台車の停止位置を目標停止位置(受け渡し位置)に対し
て±1mm以内とする高い位置精度が要求される。
(2) In order to guarantee the reproducibility of delivery, the same result is obtained when the same operation is repeated.
High positional accuracy is required so that the stop position of the carriage is within ± 1 mm with respect to the target stop position (delivery position).

【0007】(3)装置をメンテナンスするごとに搬送
台車の目標停止位置を確認することが必要になり、その
分だけメンテナンスに要する時間が増加する。
(3) It is necessary to confirm the target stop position of the carrier every time the apparatus is maintained, and the time required for the maintenance increases accordingly.

【0008】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであって、目視確認が不可能な特殊環境下におい
て基板を安全確実に受け渡すことができる搬送台車の真
空室内走行制御方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and provides a method for controlling traveling in a vacuum chamber of a carrier truck that can safely and reliably transfer substrates in a special environment where visual confirmation is impossible. The purpose is to do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る搬送台車の
真空室内走行制御方法は、軌条に沿って所定の間隔をお
いて配置された複数のピニオンを搬送台車のラックに噛
み込ませて駆動力を伝達し、該搬送台車に保持された基
板を複数の真空処理室に搬送する搬送台車の真空室内走
行制御方法において、(a)真空処理室内で搬送台車か
ら他の部材に基板が受け渡される目標停止位置から搬送
台車が先に進めないところに当て止めブロックを配置
し、(b)搬送台車が前記当て止めブロックに突き当た
るまでに該搬送台車の推進力を低下させるのに余裕をも
たせた距離を設定し、(c)前記ピニオンの回転数又は
ピニオン駆動源の回転数を検出し、この検出回転数に基
づいて搬送台車の位置を算出し、(d)前記算出位置か
ら前記目標停止位置までの距離が前記工程(b)で設定
した距離と同じか又はそれよりも小さくなったときに、
前記ピニオンの駆動トルクを減少させて搬送台車の推進
力を低下させ、(e)通常搬送時よりも小さい推進力で
搬送台車を前記当て止めブロックに突き当たらせ、所定
の時間だけ前記ピニオンを低トルクで駆動させ続けて、
前記当て止めブロックに突き当てた状態で搬送台車を前
進させ続けることを特徴とする。
According to a method of controlling traveling of a carriage in a vacuum chamber of a carriage according to the present invention, a plurality of pinions arranged at predetermined intervals along a rail are driven by being engaged with a rack of the carriage. In a vacuum chamber traveling control method of a transfer vehicle for transmitting a force to transfer a substrate held by the transfer vehicle to a plurality of vacuum processing chambers, (a) the substrate is transferred from the transfer vehicle to another member in the vacuum processing chamber. The contact stop block is arranged at a position where the transfer carriage cannot move forward from the target stop position, and (b) a margin is provided to reduce the propulsive force of the transfer carriage until the transfer carriage hits the contact stop block. The distance is set, (c) the rotation speed of the pinion or the rotation speed of the pinion drive source is detected, and the position of the carrier is calculated based on the detected rotation speed, and (d) the target stop position is calculated from the calculated position. When reduced same as or than the distance set in the distance in said step (b),
The driving torque of the pinion is reduced to reduce the propulsive force of the carrier vehicle, and (e) the carrier vehicle is abutted against the stopper block with a smaller propulsive force than during normal transportation, and the pinion is lowered for a predetermined time. Continue to drive with torque,
It is characterized in that the transport carriage is continuously moved forward while being abutted against the stopper block.

【0010】この場合に、上記工程(b)の設定距離を
90〜110mmとすることが好ましい。搬送台車の定
常速度は200〜500mm/秒であるので、この設定
距離を走行して搬送台車が当て止めブロックに突き当た
るまでに0.2〜0.5秒間の時間的余裕があることに
なり、この間にピニオン駆動源(サーボモータ)の駆動
を高トルクから低トルクに切り替える制御動作を完了さ
せる。
In this case, it is preferable that the set distance in the step (b) is 90 to 110 mm. Since the steady speed of the carrier truck is 200 to 500 mm / sec, there is a time margin of 0.2 to 0.5 seconds before the carrier truck hits the stopper block after traveling the set distance. During this period, the control operation for switching the drive of the pinion drive source (servo motor) from high torque to low torque is completed.

【0011】また、上記工程(e)では、搬送台車が当
て止めブロックに突き当たっている間において、該当て
止めブロックが無いものとして搬送台車が前進したであ
ろう仮想走行距離を100〜300mmとすることが好
ましい。
Further, in the step (e), while the carrier truck is abutting against the stopper block, the virtual travel distance which the carrier truck would have advanced is assumed to be 100 to 300 mm assuming that there is no corresponding stopper block. It is preferable.

【0012】さらに、工程(d)では、ピニオン駆動源
の回転速度を小さくし、搬送台車を減速させることが好
ましい。搬送台車は基板を積載したときの合計重量が1
0kgを超える重量物であるため慣性力が大きい。この
ため、ピニオンから台車に伝達する推進力(駆動トル
ク)を低下させた場合であっても、搬送台車が当て止め
ブロックに衝突したときに生じる衝撃が大きく、それが
振動となって基板に伝わるのを可能な限り低減する必要
があるからである。
Further, in the step (d), it is preferable to reduce the rotation speed of the pinion drive source to decelerate the carriage. The total weight of the carrier is 1 when the boards are loaded.
Since the weight is over 0 kg, the inertial force is large. Therefore, even when the propulsive force (driving torque) transmitted from the pinion to the dolly is reduced, a large impact is generated when the transport dolly collides with the abutment block, which is transmitted to the substrate as vibration. This is because it is necessary to reduce as much as possible.

【0013】また、付属のエンコーダでモータ回転数を
検出することによりサーボモータ駆動軸の回転角をフィ
ードバック制御し、同一ライン上に配列されたピニオン
のギア歯を揃え、ピニオンとラックとを同期噛み合いさ
せる。このようにモータを同期駆動制御するので、ピニ
オンがラックと噛み合う瞬間の衝撃が低減され、台車に
伝わる振動が減少する。とくに大型の基板を搬送する場
合は、ピニオン/ラックの噛み合い時に台車が衝撃を受
けて基板に振動が伝わるので、高トルク低速駆動するこ
とが好ましい。
Further, the rotation angle of the servomotor drive shaft is feedback-controlled by detecting the motor rotation speed by an attached encoder, the gear teeth of the pinions arranged on the same line are aligned, and the pinion and the rack are synchronously engaged. Let Since the motors are synchronously controlled in this manner, the impact at the moment when the pinion meshes with the rack is reduced, and the vibration transmitted to the truck is reduced. Particularly when a large-sized substrate is conveyed, it is preferable to drive at a high torque and a low speed, because the dolly receives an impact when the pinion / rack is engaged and the vibration is transmitted to the substrate.

【0014】なお、真空処理室は、基板にプラズマCV
D製膜するための製膜室であってもよいし、搬送台車を
回転させて基板の搬送方向を変える台車回転室であって
もよいし、あるいは、搬送台車が大気側から真空側へ入
るロード室、又は搬送台車が真空側から大気側へ出てい
くアンロード室であってもよい。
In the vacuum processing chamber, plasma CV is applied to the substrate.
D It may be a film forming chamber for film formation, it may be a dolly rotation chamber that rotates the transfer dolly to change the transfer direction of the substrate, or the transfer dolly enters from the atmosphere side to the vacuum side. It may be a load chamber or an unload chamber in which the carrier truck goes out from the vacuum side to the atmosphere side.

【0015】真空処理室が製膜室である場合は、上記工
程(e)の所定の時間を、搬送台車から他の部材への基
板の受け渡しが完了するまでの時間とし、さらに、工程
(e)において基板の受け渡しを完了した後に、ピニオ
ンを逆回転させ、搬送台車を製膜室から退出させる。
When the vacuum processing chamber is a film forming chamber, the predetermined time of the step (e) is the time until the transfer of the substrate from the carrier to other members is completed, and the step (e) is further performed. After completing the transfer of the substrate in (4), the pinion is rotated in the reverse direction, and the transport carriage is withdrawn from the film forming chamber.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照しながら
本発明の種々の好ましい実施の形態について説明する。
Various preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0017】図1に示すように、クラスタ型真空処理シ
ステム1において、共通搬送室としての台車回転室16
が中央に配置され、その周囲に複数の真空処理室10,
18,20が放射状に配置され、さらに台車回転室16
同士は互いに連絡通路室(中間室)19により連結され
ている。
As shown in FIG. 1, in the cluster type vacuum processing system 1, the carriage rotating chamber 16 as a common transfer chamber.
Is arranged in the center, and a plurality of vacuum processing chambers 10,
18 and 20 are arranged in a radial pattern.
The communication passage chambers (intermediate chambers) 19 are connected to each other.

【0018】真空処理室のうちロード室10およびアン
ロード室20は、前面側に大気雰囲気の外部搬送路との
間の開口を遮断するゲート弁機構12を、後面側に真空
雰囲気の共通搬送室16との間の開口を遮断するゲート
弁機構12をそれぞれ備えている。ゲート弁機構12
は、図2に示すように、左右一対の搬入出口12a,1
2bをそれぞれ独立に開放し遮断するゲート弁と、各ゲ
ート弁を駆動するシリンダとを備えている。
Of the vacuum processing chambers, the load chamber 10 and the unload chamber 20 are provided with a gate valve mechanism 12 on the front side for shutting off an opening between the chamber and the external transfer path in the atmosphere, and a common transfer chamber in the vacuum atmosphere on the rear side. The gate valve mechanism 12 for blocking the opening between the gate valve 16 and the gate valve 16 is provided. Gate valve mechanism 12
2, as shown in FIG. 2, a pair of left and right loading / unloading ports 12a, 1
It is provided with a gate valve that independently opens and shuts off 2b and a cylinder that drives each gate valve.

【0019】真空処理室のうち複数の製膜室18は、共
通搬送室16との間の開口を遮断するゲート弁機構12
をそれぞれ備えている。各製膜室18の背面側には開閉
可能な扉がそれぞれ取り付けられ、扉を開けて各製膜室
18の内部をメンテナンスできるようになっている。扉
は手動または電動で開閉できるように各室に取り付けら
れ、各室を構成するフレーム壁と扉との間にシール部材
が介装されている。なお、複数の製膜室18のうちの一
部を予備室として用いるようにしてもよい。予備室は、
製膜室として使用されるのは勿論のことであるが、搬送
台車6を一時待機(退避)させておく待機室として用い
てもよいし、製膜処理前の基板Gを予備的に加熱する予
備加熱室または冷却する冷却室として用いてもよい。
Among the vacuum processing chambers, the plurality of film forming chambers 18 block the openings between the film forming chambers 18 and the common transfer chamber 16.
It has each. A door that can be opened and closed is attached to the back side of each film forming chamber 18, and the inside of each film forming chamber 18 can be maintained by opening the door. The door is attached to each chamber so that it can be opened or closed manually or electrically, and a seal member is interposed between the frame wall forming each chamber and the door. A part of the plurality of film forming chambers 18 may be used as a preliminary chamber. The spare room
It is needless to say that it is used as a film forming chamber, but it may be used as a standby chamber for temporarily holding (retracting) the transport vehicle 6 or preliminarily heating the substrate G before film forming processing. It may be used as a preheating chamber or a cooling chamber for cooling.

【0020】共通搬送室16の床部はターンテーブル1
7で構成されており、ターンテーブル17によりレール
8上の搬送台車6が水平面内で回転され、搬送台車6の
向きが360°どの方位にも変えられるようになってい
る。
The floor of the common transfer chamber 16 is the turntable 1
The turntable 17 rotates the carriage 6 on the rail 8 in a horizontal plane so that the carriage 6 can be turned in any direction by 360 °.

【0021】図2に示すように、一対の平行レール8が
大気搬送路からロード室10を通って台車回転室16内
の回転レール8に接続可能に敷設され、搬送台車6が各
レール8上を1台ずつ走行するようになっている。大気
搬送路のレール8の延長線上にロード室10内のレール
8がそれぞれ設けられ、搬送台車6はゲート弁機構12
の段差を通って大気搬送路のレール8から真空搬送路の
レール8上に乗り移れるようになっている。
As shown in FIG. 2, a pair of parallel rails 8 are laid so as to be connectable to the rotating rails 8 in the carriage rotating chamber 16 from the atmospheric conveying path through the load chamber 10, and the conveying carriages 6 are mounted on the rails 8. It is designed to drive one car at a time. The rails 8 in the load chamber 10 are respectively provided on the extension lines of the rails 8 of the atmosphere transfer path, and the transfer carriage 6 is provided with the gate valve mechanism 12
The rail 8 of the atmosphere transfer path can be transferred to the rail 8 of the vacuum transfer path through the step.

【0022】各搬送台車6はそれぞれ独立に基板Gを1
枚ずつ保持し搬送するようになっている。すなわち、台
車6は本体フレーム61上に一対の支柱62および複数
の支持爪(図示せず)を備え、これにより1枚のガラス
基板Gをやや傾斜した直立姿勢で保持している。ちなみ
に、ガラス基板Gのサイズは例えば1m角である。1m
角サイズのガラス基板Gは、重量が10kgfを上回
り、かなりな重量物となる。
Each of the transport carriages 6 independently transfers the substrate G 1
It is designed to be held and conveyed one by one. That is, the carriage 6 is provided with a pair of support columns 62 and a plurality of support claws (not shown) on the main body frame 61, and thereby holds one glass substrate G in an upright posture with a slight inclination. By the way, the size of the glass substrate G is, for example, 1 m square. 1m
The square glass substrate G has a weight of more than 10 kgf, which is a considerable weight.

【0023】基板Gを保持した搬送台車6は、外部搬送
路からロード室10を通って台車回転室16内に入り、
ターンテーブル17により回転されて製膜室18に位置
合せされ、製膜室18に入って基板Gに製膜した後に、
台車回転室16およびアンロード室20を通って外部搬
送路に出ていくようになっている。
The carrier 6 holding the substrate G enters the carrier rotating chamber 16 from the external carrier path through the load chamber 10.
After being rotated by the turntable 17 and aligned with the film forming chamber 18, after entering the film forming chamber 18 to form a film on the substrate G,
It passes through the carriage rotation chamber 16 and the unload chamber 20 and exits to the external conveyance path.

【0024】図3及び図4に示すように、複数のピニオ
ン72がレール8の側方の近傍に所定の間隔で設けられ
ている。これらのピニオン72は搬送台車6の側面に形
成されたラック64にそれぞれ噛み合い可能な位置に配
置されている。
As shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of pinions 72 are provided near the side of the rail 8 at predetermined intervals. These pinions 72 are arranged at positions where they can mesh with the racks 64 formed on the side surfaces of the carrier truck 6.

【0025】図3に示すように、各ピニオン72は搬送
路の下方に配置されたサーボモータ70A,70Bの回
転駆動軸にそれぞれ連結され、サーボモータ70A,7
0Bによりピニオン72はそれぞれ独立に駆動されるよ
うになっている。各サーボモータ70A,70Bにはエ
ンコーダ75がそれぞれ取り付けられ、モータ回転数を
検出した信号がコントローラ80にそれぞれ送られるよ
うになっている。なお、本実施形態ではモータ回転数を
検出するエンコーダ75を採用しているが、本発明はこ
れのみに限定されることなく、他のエンコーダを用いて
ピニオン回転数を検出するようにしてもよい。
As shown in FIG. 3, each pinion 72 is connected to the rotary drive shafts of the servomotors 70A and 70B disposed below the conveying path, and the servomotors 70A and 7B are connected to the rotary drive shafts.
The pinions 72 are driven independently by 0B. Encoders 75 are attached to the servomotors 70A and 70B, respectively, and signals for detecting the motor rotation speed are sent to the controller 80, respectively. Although the encoder 75 that detects the motor rotation speed is used in the present embodiment, the present invention is not limited to this, and another encoder may be used to detect the pinion rotation speed. .

【0026】当止めブロック77Bは、製膜室のメンテ
ナンス扉側および台車回転室内の台車回転台にのみ取り
付けられており、シリンダによる上下機構は持たず、製
膜室の容器および台車回転台にボルトで固定されてい
る。
The stopper block 77B is attached only to the maintenance door side of the film forming chamber and to the trolley rotating base in the trolley rotating chamber, and does not have an up-and-down mechanism by a cylinder. It is fixed at.

【0027】製膜室18はプラズマCVD製膜に必要な
機器要素を2組ずつ備えるものであり、基板搬送路を両
側から挟むように図示しない製膜ユニットとヒータユニ
ットとが向き合って配置されている。
The film forming chamber 18 is provided with two sets of equipment elements required for plasma CVD film formation, and a film forming unit and a heater unit (not shown) are arranged so as to face each other so as to sandwich the substrate transfer path from both sides. There is.

【0028】ヒータユニットは面状のヒータエレメント
とこれを覆うヒータカバーとを備えている。ヒータカバ
ーはヒータエレメントの発熱面を保護するためのもので
あり、押し付け機構により支持されている。押し付け機
構は、ヒータカバーを製膜ユニットに向けて移動させる
機構である。
The heater unit includes a planar heater element and a heater cover that covers the heater element. The heater cover is for protecting the heating surface of the heater element, and is supported by the pressing mechanism. The pressing mechanism is a mechanism that moves the heater cover toward the film forming unit.

【0029】製膜ユニットは、ガス供給機能付きラダー
電極と、製膜ユニットカバーと、温調ヒータと、基板押
え板と、排気通路とを備えている。ラダー電極には高周
波電源およびガス供給源がそれぞれ接続されている。高
周波電源は所定周波数の高周波を電極に印可し、電極と
基板Gとの間にプラズマを生じさせるようになってい
る。ガス供給源には反応性ガスとして例えばシランを主
成分とするプロセスガスが収容されている。
The film forming unit is provided with a ladder electrode with a gas supply function, a film forming unit cover, a temperature control heater, a substrate pressing plate, and an exhaust passage. A high frequency power source and a gas supply source are connected to the ladder electrode. The high frequency power source applies a high frequency of a predetermined frequency to the electrodes to generate plasma between the electrodes and the substrate G. A process gas containing silane as a main component is contained as a reactive gas in the gas supply source.

【0030】製膜室18内の目標停止位置には第2の当
て止めブロック77Bがレール8のベース面上にボルト
及びナットで固定されている。ボルト穴は長穴に形成さ
れ、第2の当て止めブロック77Bの取り付け位置を微
調整できるようになっている。搬送台車6は、台車回転
室16から製膜室18内に進入し、第2の当て止めブロ
ック77Bに突き当たって目標停止位置(すなわち基板
受け渡し位置)に停止されるようになっている。
A second stopper block 77B is fixed on the base surface of the rail 8 with bolts and nuts at a target stop position in the film forming chamber 18. The bolt hole is formed in a long hole so that the mounting position of the second contact-stop block 77B can be finely adjusted. The transport carriage 6 enters into the film forming chamber 18 from the carriage rotation chamber 16, hits against the second stopper block 77B, and is stopped at the target stop position (that is, the substrate transfer position).

【0031】コントローラ80は、本システム各部にお
ける搬送路の長さ、真空処理室内での当て止めブロック
77A,77Bまでの距離、基板Gの処理レシピ、サー
ボモータ70A,70Bにおける所定の駆動トルクT
1,T2、および回転速度V1,V2などを初期データ
として備え、この初期データと各エンコーダ75から入
力される検出信号とに基づいて各サーボモータ70A,
70Bの駆動をそれぞれ制御するようになっている。さ
らに、コントローラ80は、同一ラインに直列に並ぶレ
ール8に沿って設けられたピニオン駆動用モータ70
A,70Bを同期駆動制御するようになっている。さら
に、コントローラ80は、搬送台車6が当て止めブロッ
ク77Bに当接し続けているときの時間の長さをも制御
するようになっている。
The controller 80 controls the length of the transfer path in each part of the system, the distance to the contact blocks 77A and 77B in the vacuum processing chamber, the processing recipe of the substrate G, and the predetermined driving torque T of the servomotors 70A and 70B.
1, T2, rotation speeds V1, V2, etc. are provided as initial data, and based on the initial data and the detection signals input from each encoder 75, each servo motor 70A,
The drive of 70B is controlled respectively. Further, the controller 80 includes the pinion drive motor 70 provided along the rails 8 arranged in series on the same line.
A and 70B are synchronously driven and controlled. Further, the controller 80 is also configured to control the length of time during which the transport carriage 6 continues to be in contact with the stopper block 77B.

【0032】図5に示すように、搬送台車6は、本体フ
レーム61、一対の支柱62、複数のローラ車輪63を
備えている。本体フレーム61の一方側面にはラック6
4が形成され、これに上述のピニオン72が噛み合うよ
うになっている。一対の支柱62は本体フレーム61の
長手直交軸に対して約10°傾斜するように本体フレー
ム61の上に直立して設けられている。支柱62の相互
間隔は基板Gの長辺より少し大きく、これら一対の支柱
62の間に基板Gがもたせ掛けられるようになってい
る。支柱62は基板Gの重量に耐えられるように本体フ
レーム61に強固に締結されている。支柱62および本
体フレーム61は例えばステンレス鋼のような高強度で
強靭な金属材料でつくられている。複数のローラ車輪6
3は、断面T字状のレール8の各部に回転自由に転接
し、台車の本体フレーム61に伝わる振動や衝撃を吸収
するための緩衝機構に支持されている。
As shown in FIG. 5, the carrier truck 6 includes a main body frame 61, a pair of columns 62, and a plurality of roller wheels 63. The rack 6 is provided on one side of the body frame 61.
4 is formed, and the above-mentioned pinion 72 is engaged with this. The pair of support columns 62 are provided upright on the main body frame 61 so as to be inclined about 10 ° with respect to the longitudinal orthogonal axis of the main body frame 61. The mutual distance between the columns 62 is slightly larger than the long side of the substrate G, and the substrate G is hung between the pair of columns 62. The columns 62 are firmly fastened to the main body frame 61 so as to bear the weight of the substrate G. The support column 62 and the main body frame 61 are made of a high-strength and strong metal material such as stainless steel. Multiple roller wheels 6
3 is rotatably rollingly contacted with each part of the rail 8 having a T-shaped cross section, and is supported by a buffer mechanism for absorbing vibrations and shocks transmitted to the body frame 61 of the carriage.

【0033】次に、上記のクラスタ型真空処理システム
1において搬送台車6によりガラス基板Gを搬送する場
合について、図3及び図6を用いて説明する。
Next, a case where the glass substrate G is transferred by the transfer carriage 6 in the cluster type vacuum processing system 1 will be described with reference to FIGS. 3 and 6.

【0034】搬送台車6は、大気搬送路上にて図示しな
いローラフレーム機構から基板Gを受け渡され、大気搬
送路からロード室10内に入り、ロード室10内の目標
停止位置にて停止する。なお、停止方法としては、サー
ボモータに予め停止位置を設定しておき、その設定位置
データに基づいて停止させる方法をとる。
The transport carriage 6 receives the substrate G from a roller frame mechanism (not shown) on the atmospheric transport path, enters the load chamber 10 through the atmospheric transport path, and stops at the target stop position in the load chamber 10. As a stopping method, a method is used in which a stop position is set in the servo motor in advance and the servo motor is stopped based on the set position data.

【0035】コントローラ80は、台車回転室16から
の搬入YESの信号を受けると、ゲート弁機構12、ピ
ニオン駆動用サーボモータ70の各電源にそれぞれ信号
を送り、ゲート弁を開け、ピニオン72を回転駆動させ
る。これにより搬送台車6はロード室10から台車回転
室16内に入る。
When the controller 80 receives the signal of YES from the carriage rotating chamber 16, it sends a signal to each power source of the gate valve mechanism 12 and the pinion driving servomotor 70 to open the gate valve and rotate the pinion 72. Drive it. As a result, the carriage 6 enters the carriage rotating chamber 16 from the load chamber 10.

【0036】さらに、コントローラ80は、サーボモー
タに信号を送り、ピニオン72の駆動を定常速度/定常
トルクから低速/低トルクに切り替え、搬送台車6を当
て止めブロック77Aに突き当て、台車回転室内の目標
停止位置に停止させる。この目標停止位置はターンテー
ブル17のほぼ中央である。次いで、搬送台車6は、タ
ーンテーブル17により回転され、製膜室18に対して
搬送方向を位置合せされ、製膜室18に入っていく準備
が整う。
Further, the controller 80 sends a signal to the servo motor to switch the drive of the pinion 72 from a constant speed / steady torque to a low speed / low torque, and abuts the transport carriage 6 against the stopper block 77A, so that the inside of the carriage rotation chamber is stopped. Stop at the target stop position. This target stop position is substantially in the center of the turntable 17. Next, the transport carriage 6 is rotated by the turntable 17, the transport direction is aligned with the film forming chamber 18, and preparation for entering the film forming chamber 18 is completed.

【0037】台車回転室内での準備が整うと、コントロ
ーラ80は、ゲート弁機構12、サーボモータ70A,
70Bの各電源にそれぞれ信号を送り、ゲート弁を開
け、さらにピニオン72を回転駆動させる。これにより
搬送台車6は台車回転室16から製膜室18内に入り、
固定式の当て止めブロック77Bに突き当たり、製膜室
内の目標停止位置に停止する。
When preparations are completed in the bogie rotating chamber, the controller 80 causes the gate valve mechanism 12, the servomotor 70A,
A signal is sent to each power source of 70B, the gate valve is opened, and the pinion 72 is driven to rotate. As a result, the carriage 6 enters the film forming chamber 18 from the carriage rotating chamber 16 and
It hits the fixed stopper block 77B and stops at the target stop position in the film forming chamber.

【0038】次に、搬送台車6が製膜室18内に進入
し、さらに製膜室18から退出する場合について図6を
参照しながら詳しく説明する。
Next, a case in which the transport carriage 6 enters the film forming chamber 18 and leaves the film forming chamber 18 will be described in detail with reference to FIG.

【0039】図6の(a)に示すように、コントローラ
80は、タイミングt1にモータ70Bを定常トルクT
1で起動し、所定時間経過後のタイミングt2にモータ
70Bの駆動を低トルクT2に切り替えて、搬送台車6
を低トルク走行させる。
As shown in FIG. 6 (a), the controller 80 causes the motor 70B to drive the steady torque T at the timing t1.
1, the driving of the motor 70B is switched to the low torque T2 at a timing t2 after a lapse of a predetermined time, and the transport carriage 6 is driven.
Drive with low torque.

【0040】また、コントローラ80は、図6の(b)
に示すように、タイミングt1にモータ70Bを定常速
度V1で起動し、所定時間経過後のタイミングt2にモ
ータ70Bの駆動を低速度V2に切り替え、搬送台車6
を低速走行させる。
Further, the controller 80 is shown in FIG.
As shown in, the motor 70B is started at the steady speed V1 at the timing t1, and the driving of the motor 70B is switched to the low speed V2 at the timing t2 after the elapse of a predetermined time.
Run at low speed.

【0041】搬送台車6は所定時間経過後のタイミング
t3に当て止めブロック77Bに突き当たる。コントロ
ーラ80は、その後も所定時間(時間t3〜t6)が経
過するまでの間はモータ70Bに引き続き給電し、ピニ
オン72を駆動させ続ける。しかし、搬送台車6は当て
止めブロック77Bによってそれ以上前進することを阻
まれているので、ピニオン72はラック64に噛み込ん
だままの状態で回転できない。
The carrier truck 6 hits the stopper block 77B at a timing t3 after a lapse of a predetermined time. The controller 80 continues to supply power to the motor 70B until the predetermined time (time t3 to t6) elapses, and continues to drive the pinion 72. However, since the carriage 6 is prevented from moving further by the stopper block 77B, the pinion 72 cannot rotate while being bitten in the rack 64.

【0042】なお、モータ70Bの駆動トルクを切り替
えるタイミングt2は、搬送台車6がモータ回転速度V
2(平均速度)で走行されたとした場合に、駆動切り替
え時の台車の現在位置から当て止めブロック77Bまで
の距離が100mmとなるように設定される。すなわ
ち、コントローラ80は、台車回転室内の停止位置(当
て止めブロック77Aの位置)から製膜室内の目標停止
位置(当て止めブロック77Bの位置)までの距離、前
半のモータ回転速度V1(平均速度)、後半のモータ回
転速度V2(平均速度)、タイミングt1からt3まで
の時間、および当て止めブロック77Bに到着するまで
の100mmの仮想距離を、所定の数式に代入すること
によりタイミングt2を算出し、そのタイミングt2に
モータ70Bの駆動を低トルクT2/低速度V2に切り
替える信号を送る。
At the timing t2 when the drive torque of the motor 70B is switched, the carrier truck 6 is rotated at the motor rotation speed V.
When the vehicle travels at 2 (average speed), the distance from the current position of the trolley to the contact block 77B at the time of drive switching is set to 100 mm. That is, the controller 80 measures the distance from the stop position (position of the stopper block 77A) in the carriage rotation chamber to the target stop position (position of the stopper block 77B) in the film forming chamber, the motor rotation speed V1 (average speed) in the first half. , The second half of the motor rotation speed V2 (average speed), the time from the timing t1 to t3, and the virtual distance of 100 mm until reaching the abutment block 77B are substituted into a predetermined mathematical expression to calculate the timing t2, At the timing t2, a signal for switching the driving of the motor 70B to the low torque T2 / low speed V2 is sent.

【0043】また、コントローラ80は、図6の(c)
に示すように、台車6が当て止めブロック77Bに突き
当たった後のタイミングt4に、製膜ユニット側の受け
渡し機構と台車側の受け渡し機構とに信号を送る。押し
付け機構によりヒータカバーを台車6上の基板Gに前進
近接させ、保持爪による基板Gの拘束を解除し、台車の
支持アーム62からヒータカバーの支持突起の上に基板
Gを受け渡す。この基板Gの受け渡し時間t4〜t5の
間において、台車6は低速・低トルクの状態で前進を続
けるので、製膜室18内での台車6の停止位置は正確に
当て止めブロック77Bの位置となる。このため、基板
Gは台車側から製膜ユニット側へ再現性よく確実に受け
渡される。
Further, the controller 80 is shown in FIG.
As shown in, a signal is sent to the delivery mechanism on the film forming unit side and the delivery mechanism on the trolley side at a timing t4 after the trolley 6 hits the stopper block 77B. The pressing mechanism moves the heater cover forward and close to the substrate G on the dolly 6, releases the restraint of the substrate G by the holding claws, and transfers the substrate G from the support arm 62 of the dolly onto the support protrusion of the heater cover. During the transfer time t4 to t5 of the substrate G, the carriage 6 continues to move forward at a low speed and low torque, so that the stop position of the carriage 6 in the film forming chamber 18 is exactly the position of the contact block 77B. Become. Therefore, the substrate G is reliably and reliably transferred from the trolley side to the film forming unit side.

【0044】製膜室18内で基板GにプラズマCVD製
膜した後に、上記と逆の動作を行わせて基板Gを製膜ユ
ニット側から台車側に受け渡す。このようにして基板G
の受け渡しはタイミングt5に完了する。
After the plasma CVD film is formed on the substrate G in the film forming chamber 18, the reverse operation is performed to transfer the substrate G from the film forming unit side to the trolley side. In this way, the substrate G
Is completed at timing t5.

【0045】さらに、コントローラ80は、製膜/基板
受け渡し完了後のタイミングt6にゲート弁機構12お
よびモータ70Bにそれぞれ信号を送り、ゲート弁を開
けるとともに、図6の(a),(b)に示すようにモー
タ70Bを定常トルク−T1/定常速度−V1で逆回転
させ、台車6を製膜室18から台車回転室16に退出さ
せる。
Further, the controller 80 sends a signal to the gate valve mechanism 12 and the motor 70B at the timing t6 after the completion of the film formation / transfer of the substrate to open the gate valve, and at the same time, as shown in FIGS. As shown, the motor 70B is reversely rotated at the steady torque −T1 / steady speed −V1, and the carriage 6 is withdrawn from the film forming chamber 18 to the carriage rotation chamber 16.

【0046】上記実施形態では製膜室内での搬送台車の
走行制御について説明したが、真空処理室が製膜室以外
の台車回転室、ロード室、アンロード室、中間室につい
ても本発明を適用することができる。
Although the traveling control of the transfer carriage in the film forming chamber has been described in the above embodiment, the present invention is also applied to the carriage rotating chamber, the load chamber, the unload chamber, and the intermediate chamber other than the film forming chamber in the vacuum processing chamber. can do.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、基
板受け渡し場所での台車停止位置に機械的なガタが発生
した場合であっても適切に対処することができ、基板の
受け渡し動作が安全かつ確実になり、他部材との衝突や
落下により基板を損傷するおそれがなくなる。
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to appropriately deal with a mechanical backlash at the bogie stop position at the substrate transfer place, and the substrate transfer operation. Is safe and reliable, and there is no risk of damaging the substrate due to collision or dropping with other members.

【0048】また、本発明によれば、台車の停止位置を
目標停止位置(受け渡し位置)に対して高い位置精度が
要求される場合であっても、同じ動作を繰り返し行った
場合に同一の結果が得られる受け渡し再現性を保証する
ことができる。
Further, according to the present invention, the same result is obtained when the same operation is repeated even when the stop position of the carriage is required to have high positional accuracy with respect to the target stop position (passing position). It is possible to guarantee the reproducibility of delivery.

【0049】さらに、本発明によれば、装置をメンテナ
ンスするごとに搬送台車の目標停止位置を確認すること
が不要になり、その分だけメンテナンスに要する費用お
よび時間が低減する。
Further, according to the present invention, it is not necessary to confirm the target stop position of the carriage every time the apparatus is maintained, and the cost and time required for the maintenance are reduced accordingly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】搬送台車を備えた真空処理システムを示す透視
平面図。
FIG. 1 is a perspective plan view showing a vacuum processing system including a carrier.

【図2】真空処理システムに設けられたゲート弁および
台車搬送路を示す斜視図。
FIG. 2 is a perspective view showing a gate valve and a carriage transport path provided in the vacuum processing system.

【図3】真空処理室内の台車と駆動機構を示す透視側断
面図。
FIG. 3 is a perspective side sectional view showing a carriage and a drive mechanism in a vacuum processing chamber.

【図4】真空処理室内の台車と駆動機構を示す透視平面
図。
FIG. 4 is a perspective plan view showing a carriage and a drive mechanism in a vacuum processing chamber.

【図5】台車の駆動機構およびレールを示す部分拡大断
面図。
FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view showing a drive mechanism and rails of a truck.

【図6】(a)はサーボモータの駆動トルク(台車推進
力)制御を示すタイミングチャート、(b)はサーボモ
ータの回転速度(台車走行速度)制御を示すタイミング
チャート、(c)は基板の受け渡しを示すタイミングチ
ャート。
6A is a timing chart showing a drive torque (carrying force) control of a servo motor, FIG. 6B is a timing chart showing a rotation speed (carrying speed) control of the servo motor, and FIG. A timing chart showing delivery.

【図7】従来の台車走行制御に用いられる装置の概要を
示す図。
FIG. 7 is a diagram showing an outline of an apparatus used for conventional vehicle traveling control.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

6…搬送台車、 8…レール、 10…ロード室、 12…ゲート弁機構、 16…台車回転室(共通搬送室)、 18…製膜室、 19…中間室(連通室)、 20…アンロード室、 61…本体フレーム、 62…支柱、 64…ラック、 70A,70B…サーボモータ、 72…ピニオン、 75…エンコーダ、 77A,77B…当て止めブロック、 78…昇降シリンダ機構、 80…コントローラ、 G…基板。 6 ... carrier truck, 8 ... rail, 10 ... load room, 12 ... Gate valve mechanism, 16 ... Cart rotation room (common transfer room), 18 ... a film forming chamber, 19 ... Intermediate room (communication room) 20 ... Unload room, 61 ... body frame, 62 ... stanchions, 64 ... rack, 70A, 70B ... Servo motor, 72 ... Pinion, 75 ... encoder, 77A, 77B ... stop block, 78 ... Lifting cylinder mechanism, 80 ... controller, G ... substrate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上野 茂一 長崎県長崎市飽の浦町1番1号 三菱重工 業株式会社長崎造船所内 (72)発明者 笹川 英四郎 長崎県長崎市飽の浦町1番1号 三菱重工 業株式会社長崎造船所内 Fターム(参考) 4K030 CA06 CA12 GA12 JA03 JA12 KA39 KA41 5F031 CA05 FA02 FA07 FA12 FA18 GA54 GA59 JA01 JA21 JA45 LA08 LA14 MA28 MA29 MA32 NA05 NA09    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Shigekazu Ueno             1-1 Satinoura Town, Nagasaki City, Nagasaki Prefecture Mitsubishi Heavy Industries             Nagasaki Shipyard Co., Ltd. (72) Inventor Eishiro Sasakawa             1-1 Satinoura Town, Nagasaki City, Nagasaki Prefecture Mitsubishi Heavy Industries             Nagasaki Shipyard Co., Ltd. F-term (reference) 4K030 CA06 CA12 GA12 JA03 JA12                       KA39 KA41                 5F031 CA05 FA02 FA07 FA12 FA18                       GA54 GA59 JA01 JA21 JA45                       LA08 LA14 MA28 MA29 MA32                       NA05 NA09

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 軌条に沿って所定の間隔をおいて配置さ
れた複数のピニオンを搬送台車のラックに噛み込ませて
駆動力を伝達し、該搬送台車に保持された基板を複数の
真空処理室に搬送する搬送台車の真空室内走行制御方法
において、 (a)真空処理室内で搬送台車から他の部材に基板が受
け渡される目標停止位置から搬送台車が先に進めないと
ころに当て止めブロックを配置し、 (b)搬送台車が前記当て止めブロックに突き当たるま
でに該搬送台車の推進力を低下させるのに余裕をもたせ
た距離を設定し、 (c)前記ピニオンの回転数又はピニオン駆動源の回転
数を検出し、この検出回転数に基づいて搬送台車の位置
を算出し、 (d)前記算出位置から前記目標停止位置までの距離が
前記工程(b)で設定した距離と同じか又はそれよりも
小さくなったときに、前記ピニオンの駆動トルクを減少
させて搬送台車の推進力を低下させ、 (e)通常搬送時よりも小さい推進力で搬送台車を前記
当て止めブロックに突き当たらせ、所定の時間だけ前記
ピニオンを低トルクで駆動させ続けて、前記当て止めブ
ロックに突き当てた状態で搬送台車を前進させ続けるこ
とを特徴とする搬送台車の真空室内走行制御方法。
1. A plurality of pinions, which are arranged at predetermined intervals along a rail, are engaged with a rack of a carrier truck to transmit a driving force, and a substrate held by the carrier truck is subjected to a plurality of vacuum treatments. In a vacuum chamber traveling control method for a transfer carriage that conveys a substrate to a chamber, (a) an abutment block is provided at a position where the transfer carriage cannot advance from a target stop position where a substrate is transferred from the transfer carriage to another member in the vacuum processing chamber. And (b) setting a distance that has a margin to reduce the propulsive force of the carrier until the carrier hits the stopper block, and (c) the number of rotations of the pinion or the pinion drive source. The number of revolutions is detected, and the position of the carrier is calculated based on the detected number of revolutions. (D) Whether the distance from the calculated position to the target stop position is the same as the distance set in step (b) or Yo When it also becomes smaller, the driving torque of the pinion is reduced to reduce the propulsive force of the carrier vehicle, and (e) the carrier vehicle is struck against the stopper block with a smaller propulsive force than during normal transfer, The driving of the transport carriage in the vacuum chamber is continued by driving the pinion with a low torque for a period of time, and continuously moving the transport carriage in a state of abutting against the stopper block.
【請求項2】 前記工程(b)の設定距離を90〜11
0mmとすることを特徴とする請求項1記載の方法。
2. The set distance in the step (b) is 90 to 11
The method according to claim 1, wherein the length is 0 mm.
【請求項3】 前記工程(e)において搬送台車が当て
止めブロックに突き当たっている間に、該当て止めブロ
ックが無いものとして搬送台車が前進したであろう仮想
走行距離を100〜300mmとすることを特徴とする
請求項1記載の方法。
3. The virtual travel distance that the transport vehicle would have advanced while assuming that there is no corresponding stop block while the transport vehicle is abutting against the stopper block in the step (e) is 100 to 300 mm. The method according to claim 1, characterized in that
【請求項4】 さらに、前記工程(d)では、前記ピニ
オン駆動源の回転速度を小さくし、搬送台車を減速させ
ることを特徴とする請求項1記載の方法。
4. The method according to claim 1, wherein in the step (d), the rotation speed of the pinion drive source is reduced to decelerate the carriage.
【請求項5】 前記工程(e)の所定の時間を、搬送台
車から他の部材への基板の受け渡しが完了するまでの時
間とすることを特徴とする請求項1記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the predetermined time in the step (e) is a time until the transfer of the substrate from the carrier to another member is completed.
【請求項6】 さらに、前記工程(e)において基板の
受け渡しを完了した後に、前記ピニオンを逆回転させ、
搬送台車を真空処理室から退出させることを特徴とする
請求項5記載の方法。
6. Further, after completing the transfer of the substrate in the step (e), the pinion is reversely rotated,
The method according to claim 5, wherein the transport carriage is evacuated from the vacuum processing chamber.
【請求項7】 前記ピニオン駆動源としてACサーボモ
ータを用いることを特徴とする請求項1記載の方法。
7. The method according to claim 1, wherein an AC servomotor is used as the pinion drive source.
【請求項8】 前記真空処理室は、基板にプラズマCV
D製膜するための製膜室であることを特徴とする請求項
1記載の方法。
8. The vacuum processing chamber comprises a plasma CV on a substrate.
The method according to claim 1, wherein the method is a film forming chamber for D film formation.
【請求項9】 前記真空処理室は、搬送台車を回転させ
て基板の搬送方向を変える台車回転室であることを特徴
とする請求項1記載の方法。
9. The method according to claim 1, wherein the vacuum processing chamber is a carriage rotation chamber that rotates a carriage to change a substrate transport direction.
【請求項10】 前記真空処理室は、搬送台車が大気側
から真空側へ入るロード室、又は搬送台車が真空側から
大気側へ出ていくアンロード室であることを特徴とする
請求項1記載の方法。
10. The vacuum processing chamber is a load chamber in which a carrier truck enters from the atmosphere side to the vacuum side, or an unload chamber in which the carrier truck exits from the vacuum side to the atmosphere side. The method described.
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