JP2003243146A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- JP2003243146A JP2003243146A JP2002041051A JP2002041051A JP2003243146A JP 2003243146 A JP2003243146 A JP 2003243146A JP 2002041051 A JP2002041051 A JP 2002041051A JP 2002041051 A JP2002041051 A JP 2002041051A JP 2003243146 A JP2003243146 A JP 2003243146A
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- frequency heating
- discharge
- heating device
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マイクロ波の輻射分布を可視化し、効率よく
被加熱物にマイクロ波を入射できる高周波加熱装置を提
供すること。 【解決手段】 放電ガスを封入した複数の放電ランプ１
０を高周波加熱装置１の加熱室２内部に配列した構成の
高周波加熱装置とするもので、配列された放電ランプの
発光の有無を見ることでマイクロ波の輻射分布を知るこ
とができる。
被加熱物にマイクロ波を入射できる高周波加熱装置を提
供すること。 【解決手段】 放電ガスを封入した複数の放電ランプ１
０を高周波加熱装置１の加熱室２内部に配列した構成の
高周波加熱装置とするもので、配列された放電ランプの
発光の有無を見ることでマイクロ波の輻射分布を知るこ
とができる。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、加熱室におけるマ
イクロ波の輻射分布が視認できる高周波加熱装置に関す
る。
イクロ波の輻射分布が視認できる高周波加熱装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図１２に従来技術を示す。図１２は電子
レンジの縦断面図である。図１２において、１は電子レ
ンジ本体で、内部には被加熱物を収納し加熱する加熱室
２が設けられている。３はマイクロ波を発生させるマグ
ネトロン、４はマイクロ波を加熱室２に導く導波管であ
る。５は被加熱物を載置するターンテーブルでモータ６
によって回転する。７は加熱室２内のマイクロ波を撹拌
する撹拌板でモータ８によって回転する。９は被加熱物
を加熱室２から出し入れするための前ドアである。
レンジの縦断面図である。図１２において、１は電子レ
ンジ本体で、内部には被加熱物を収納し加熱する加熱室
２が設けられている。３はマイクロ波を発生させるマグ
ネトロン、４はマイクロ波を加熱室２に導く導波管であ
る。５は被加熱物を載置するターンテーブルでモータ６
によって回転する。７は加熱室２内のマイクロ波を撹拌
する撹拌板でモータ８によって回転する。９は被加熱物
を加熱室２から出し入れするための前ドアである。
【０００３】この構成で運転を行うと、加熱室２内部で
定在波１２が発生する。従ってマイクロ波の輻射分布が
不均一となり、被加熱物に加熱むらが生じる。これを改
善するために撹拌板７やターンテーブル５による被加熱
物の回転が行われているが、このような手段を用いても
輻射分布を均一化するのは難しく、被加熱物の加熱むら
を防止するには至っていない。
定在波１２が発生する。従ってマイクロ波の輻射分布が
不均一となり、被加熱物に加熱むらが生じる。これを改
善するために撹拌板７やターンテーブル５による被加熱
物の回転が行われているが、このような手段を用いても
輻射分布を均一化するのは難しく、被加熱物の加熱むら
を防止するには至っていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、マイク
ロ波の輻射分布を改善しようにも輻射分布そのものを知
る方法がなく、開発者は経験や勘、あるいはコンピュー
タによるシミュレーションによって改善を行うしかなか
った。一方、輻射分布を直接電子レンジ内で可視化する
ことができれば、仮に不均一な輻射分布であったとして
も使用者の方でマイクロ波の強く当たるところに被加熱
物の位置を移動してやることで、被加熱物に効率よくマ
イクロ波を入射でき、加熱効率を飛躍的に向上させるこ
とができる。
ロ波の輻射分布を改善しようにも輻射分布そのものを知
る方法がなく、開発者は経験や勘、あるいはコンピュー
タによるシミュレーションによって改善を行うしかなか
った。一方、輻射分布を直接電子レンジ内で可視化する
ことができれば、仮に不均一な輻射分布であったとして
も使用者の方でマイクロ波の強く当たるところに被加熱
物の位置を移動してやることで、被加熱物に効率よくマ
イクロ波を入射でき、加熱効率を飛躍的に向上させるこ
とができる。
【０００５】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、マイクロ波の輻射分布を可視化し使用者が視認でき
るようにすることで、効率よく被加熱物にマイクロ波を
入射できる高周波加熱装置を提供することを目的として
いる。
で、マイクロ波の輻射分布を可視化し使用者が視認でき
るようにすることで、効率よく被加熱物にマイクロ波を
入射できる高周波加熱装置を提供することを目的として
いる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明の高周波加熱装置は、放電ガスを封入
した複数の放電ランプを高周波加熱装置の加熱室内部に
配列した構成とした。この構成により、マイクロ波が強
く入射する場所については放電ランプが発光するので、
加熱室内部に配列した放電ランプの発光の有無を見るこ
とでマイクロ波の輻射分布を知ることができる。
るために、本発明の高周波加熱装置は、放電ガスを封入
した複数の放電ランプを高周波加熱装置の加熱室内部に
配列した構成とした。この構成により、マイクロ波が強
く入射する場所については放電ランプが発光するので、
加熱室内部に配列した放電ランプの発光の有無を見るこ
とでマイクロ波の輻射分布を知ることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】請求項１記載の発明は、放電ガス
を封入した複数の放電ランプを高周波加熱装置の加熱室
内部に配列した構成の高周波加熱装置とするもので、配
列された放電ランプの発光の有無を見ることでマイクロ
波の輻射分布を知ることができる。
を封入した複数の放電ランプを高周波加熱装置の加熱室
内部に配列した構成の高周波加熱装置とするもので、配
列された放電ランプの発光の有無を見ることでマイクロ
波の輻射分布を知ることができる。
【０００８】請求項２記載の発明は、特に請求項１に記
載した構成において、放電ガスを封入した複数の放電ラ
ンプを高周波加熱装置の加熱室底部近傍に配列した構成
の高周波加熱装置とするもので、放電ランプの発光の状
態が視認しやすい。
載した構成において、放電ガスを封入した複数の放電ラ
ンプを高周波加熱装置の加熱室底部近傍に配列した構成
の高周波加熱装置とするもので、放電ランプの発光の状
態が視認しやすい。
【０００９】請求項３記載の発明は、特に請求項１また
は２に記載した構成において、放電ランプを略円筒形状
からなる構成としたので、放電ランプの加工が簡単に行
え、安価にマイクロ波の輻射分布を知ることができる。
は２に記載した構成において、放電ランプを略円筒形状
からなる構成としたので、放電ランプの加工が簡単に行
え、安価にマイクロ波の輻射分布を知ることができる。
【００１０】請求項４記載の発明は、放電ガスを封入し
た平板状からなる放電ランプを高周波加熱装置の加熱室
内部に設けた構成の高周波加熱装置としたので、簡単な
構成でマイクロ波の輻射分布を知ることができる。
た平板状からなる放電ランプを高周波加熱装置の加熱室
内部に設けた構成の高周波加熱装置としたので、簡単な
構成でマイクロ波の輻射分布を知ることができる。
【００１１】請求項５記載の発明は、請求項４記載の構
成において、特に放電ランプ内部に放電ガスの移動を抑
制するガス移動抑制部材を設けた構成の高周波加熱装置
としたので、放電ランプ全体が発光してしまうのを防止
し、輻射分布を精度良く表示するようにできる。
成において、特に放電ランプ内部に放電ガスの移動を抑
制するガス移動抑制部材を設けた構成の高周波加熱装置
としたので、放電ランプ全体が発光してしまうのを防止
し、輻射分布を精度良く表示するようにできる。
【００１２】請求項６記載の発明は、特に請求項１また
は２に記載した構成において、ガス圧が異なる複数の放
電ランプを高周波加熱装置の加熱室に配列した構成とし
たので、輻射分布の強弱の状態を段階的に知ることがで
きる。
は２に記載した構成において、ガス圧が異なる複数の放
電ランプを高周波加熱装置の加熱室に配列した構成とし
たので、輻射分布の強弱の状態を段階的に知ることがで
きる。
【００１３】請求項７記載の発明は、特に請求項１また
は２に記載した構成において、放電ガスの種類が異なる
複数の放電ランプを高周波加熱装置の加熱室に配列した
構成としたので、輻射分布の強弱の状態を段階的に知る
ことができる。また輻射分布の強弱によって発光色が異
なるので輻射分布の視認性はいっそう高くなる。
は２に記載した構成において、放電ガスの種類が異なる
複数の放電ランプを高周波加熱装置の加熱室に配列した
構成としたので、輻射分布の強弱の状態を段階的に知る
ことができる。また輻射分布の強弱によって発光色が異
なるので輻射分布の視認性はいっそう高くなる。
【００１４】請求項８記載の発明は、請求項１〜７のい
ずれか１項記載の構成において、放電ランプを高周波加
熱装置の加熱室内で移動可能とした構成なので、マイク
ロ波の輻射分布を立体的に知ることができる。
ずれか１項記載の構成において、放電ランプを高周波加
熱装置の加熱室内で移動可能とした構成なので、マイク
ロ波の輻射分布を立体的に知ることができる。
【００１５】請求項９記載の発明は、請求項１〜８のい
ずれか１項記載の構成において、無電極の放電ランプか
らなる構成としたので、放電ランプ自身がマイクロ波の
輻射分布に与える影響を小さくすることができる。ま
た、放電ランプの寿命を長くすることができる。
ずれか１項記載の構成において、無電極の放電ランプか
らなる構成としたので、放電ランプ自身がマイクロ波の
輻射分布に与える影響を小さくすることができる。ま
た、放電ランプの寿命を長くすることができる。
【００１６】
【実施例】（実施例１）以下、本発明の実施例１につい
て、図面を参照しながら説明する。
て、図面を参照しながら説明する。
【００１７】図１は本発明の実施例１の電子レンジの縦
断面図、図２は横断面図、図３は斜視図である。図１に
おいて、１は電子レンジ本体で内部には被加熱物を収納
し加熱する加熱室２が設けられている。３はマイクロ波
を発生させるマグネトロン、４はマイクロ波を加熱室２
に導く導波管である。７は加熱室２内のマイクロ波を撹
拌する撹拌板でモータ８によって回転する。９は被加熱
物を加熱室２から出し入れするための前ドアである。１
０は放電ガスを封入した放電ランプで加熱室２底部に設
けられた底板１１の直下にｂ１〜ｂ５のように配列され
ている。また図２に示すように放電ランプ１０は底板１
１の直下にａ１〜ａ６のように配列されており、この配
列を平面的に示したものが図４である。ここで底板１１
は可視光を透過する材質からなっており、放電ランプ１
０が発光したことを底板１１を介して視認することがで
きるものとする。
断面図、図２は横断面図、図３は斜視図である。図１に
おいて、１は電子レンジ本体で内部には被加熱物を収納
し加熱する加熱室２が設けられている。３はマイクロ波
を発生させるマグネトロン、４はマイクロ波を加熱室２
に導く導波管である。７は加熱室２内のマイクロ波を撹
拌する撹拌板でモータ８によって回転する。９は被加熱
物を加熱室２から出し入れするための前ドアである。１
０は放電ガスを封入した放電ランプで加熱室２底部に設
けられた底板１１の直下にｂ１〜ｂ５のように配列され
ている。また図２に示すように放電ランプ１０は底板１
１の直下にａ１〜ａ６のように配列されており、この配
列を平面的に示したものが図４である。ここで底板１１
は可視光を透過する材質からなっており、放電ランプ１
０が発光したことを底板１１を介して視認することがで
きるものとする。
【００１８】動作を説明する。マグネトロン３で発生
し、導波管４を通って加熱室２に入射したマイクロ波は
撹拌板７で撹拌されるものの定在波１２を生じる。ただ
しここに示した定在波１２は説明をわかりやすくするた
めにモデル化したものであり、現実にはもっと複雑な波
形をしている。定在波１２が仮に図１、図２に示した波
形であるとした場合、図１において、加熱室２の底部近
傍では放電ランプ１０のうち、ｂ２とｂ４付近に強い電
界が生じることになる。このため放電ランプ１０のうち
ｂ２とｂ４が発光する。一方、図２において定在波１２
が発生すると、加熱室２の底部近傍では放電ランプ１０
のうち、ａ２とａ５付近に強い電界が生じ、その結果放
電ランプ１０のうちａ２とａ５が発光する。この発光の
様子は図４に示されており、発光する放電ランプ１０は
ハッチングで表現されている。即ち、図４に示すような
ｘ方向、ｙ方向の座標軸を考えるとすれば、（ａ２，ｂ
２）、（ａ２，ｂ４）、（ａ５，ｂ２）、（ａ５，ｂ
４）の座標に相当する放電ランプ１０が発光することに
なる。これは加熱室２内の底部近傍におけるマイクロ波
の輻射分布をある敷居値に関して二値化したものと略一
致し、発光している所は電界強度が高く、発光していな
い所は電界強度が低い。即ち、マイクロ波の輻射分布が
可視化できたことになる。ここでいう敷居値とは放電ラ
ンプ１０が発光するのに必要なマイクロ波の電界強度の
ことをいい、放電ランプ１０内部のガス圧やガス種類に
よって異なるものである。マイクロ波の輻射分布のうち
特に電界強度の高い所を見つけたいのであれば、放電ラ
ンプ１０が発光する条件の敷居値を大きく設定して発光
する放電ランプ１０の位置を観察すればよいし、またマ
イクロ波の輻射分布のうち特に電界強度の低い所を見つ
けたいのであれば、放電ランプ１０が発光する条件の敷
居値を小さく設定し発光していない放電ランプ１０の位
置を観察すればよい。
し、導波管４を通って加熱室２に入射したマイクロ波は
撹拌板７で撹拌されるものの定在波１２を生じる。ただ
しここに示した定在波１２は説明をわかりやすくするた
めにモデル化したものであり、現実にはもっと複雑な波
形をしている。定在波１２が仮に図１、図２に示した波
形であるとした場合、図１において、加熱室２の底部近
傍では放電ランプ１０のうち、ｂ２とｂ４付近に強い電
界が生じることになる。このため放電ランプ１０のうち
ｂ２とｂ４が発光する。一方、図２において定在波１２
が発生すると、加熱室２の底部近傍では放電ランプ１０
のうち、ａ２とａ５付近に強い電界が生じ、その結果放
電ランプ１０のうちａ２とａ５が発光する。この発光の
様子は図４に示されており、発光する放電ランプ１０は
ハッチングで表現されている。即ち、図４に示すような
ｘ方向、ｙ方向の座標軸を考えるとすれば、（ａ２，ｂ
２）、（ａ２，ｂ４）、（ａ５，ｂ２）、（ａ５，ｂ
４）の座標に相当する放電ランプ１０が発光することに
なる。これは加熱室２内の底部近傍におけるマイクロ波
の輻射分布をある敷居値に関して二値化したものと略一
致し、発光している所は電界強度が高く、発光していな
い所は電界強度が低い。即ち、マイクロ波の輻射分布が
可視化できたことになる。ここでいう敷居値とは放電ラ
ンプ１０が発光するのに必要なマイクロ波の電界強度の
ことをいい、放電ランプ１０内部のガス圧やガス種類に
よって異なるものである。マイクロ波の輻射分布のうち
特に電界強度の高い所を見つけたいのであれば、放電ラ
ンプ１０が発光する条件の敷居値を大きく設定して発光
する放電ランプ１０の位置を観察すればよいし、またマ
イクロ波の輻射分布のうち特に電界強度の低い所を見つ
けたいのであれば、放電ランプ１０が発光する条件の敷
居値を小さく設定し発光していない放電ランプ１０の位
置を観察すればよい。
【００１９】今、被加熱物を加熱室２内部に置いたとし
て、仮に図４に示すように放電ランプ１０が発光したの
であれば、その発光している放電ランプ１０の直上位置
に被加熱物を移動すると被加熱物に効率よくマイクロ波
を入射させることができる。ただし、底板１１部分と被
加熱物とは高さが異なるので被加熱物の高さにおける輻
射分布と底板１１での輻射分布とは厳密には相違がある
が、被加熱物の高さが小さい場合には、高さ方向での輻
射分布の相違による影響は小さいので問題ない。 ま
た、発光する放電ランプ１０の位置は被加熱物形状など
内部状況によって変化するので、被加熱物を置いた状態
で放電ランプ１０の発光状況を確認し、被加熱物の位置
を調節する必要がある。
て、仮に図４に示すように放電ランプ１０が発光したの
であれば、その発光している放電ランプ１０の直上位置
に被加熱物を移動すると被加熱物に効率よくマイクロ波
を入射させることができる。ただし、底板１１部分と被
加熱物とは高さが異なるので被加熱物の高さにおける輻
射分布と底板１１での輻射分布とは厳密には相違がある
が、被加熱物の高さが小さい場合には、高さ方向での輻
射分布の相違による影響は小さいので問題ない。 ま
た、発光する放電ランプ１０の位置は被加熱物形状など
内部状況によって変化するので、被加熱物を置いた状態
で放電ランプ１０の発光状況を確認し、被加熱物の位置
を調節する必要がある。
【００２０】ここで放電ランプ１０を図５に示すような
略円筒形状の放電ランプ１３にすれば、その製造工程は
ガラス管の中を一旦真空引きし、放電ガスを封入した
後、ガラス管の両端を溶解、切断するだけでよいので加
工性が著しく向上する。従って安価な放電ランプで構成
できるようになる。この場合、配列は図６（ａ）のよう
に平面的に単純に敷き詰めたものや、図６（ｂ）や
（ｃ）に示すように格子状に配列したものなどが考えら
れる。
略円筒形状の放電ランプ１３にすれば、その製造工程は
ガラス管の中を一旦真空引きし、放電ガスを封入した
後、ガラス管の両端を溶解、切断するだけでよいので加
工性が著しく向上する。従って安価な放電ランプで構成
できるようになる。この場合、配列は図６（ａ）のよう
に平面的に単純に敷き詰めたものや、図６（ｂ）や
（ｃ）に示すように格子状に配列したものなどが考えら
れる。
【００２１】複数の放電ランプ１０を使用する代わり
に、図７に示すように放電ガスを封入した大きな平板状
の放電ランプ１４にすることで、放電ランプそのものの
取付構成を簡単にすることができる。また、この場合底
板１１と放電ランプ１４とを兼用することも可能となり
一層簡単な構成にすることができる。ただし、このよう
な大きな平板状の放電ランプ１４を製作する場合、ラン
プ内部の減圧に対する強度が必要となるので、図８
（ａ）や（ｂ）のような補強部材１５がランプ内部に必
要となる。ここで図８は図７の放電ランプ１４を図中の
矢印方向に断面しそれを平面的に見たものである。ま
た、放電ランプ１４のように１つのランプにしてしまう
ことで局所発光せずにいきなり放電ランプ１４全体が発
光してしまうことがある。そのままでは輻射分布を精度
良く表示することができなくなる。この場合、放電ラン
プ１４の内部にガス移動抑制部材を設置することで発光
時の放電ガスの移動を制約し、局所発光が全体発光に容
易に進展するのを防止できる。図８では補強部材１５が
ガス移動抑制部材を兼用した構成となっている。
に、図７に示すように放電ガスを封入した大きな平板状
の放電ランプ１４にすることで、放電ランプそのものの
取付構成を簡単にすることができる。また、この場合底
板１１と放電ランプ１４とを兼用することも可能となり
一層簡単な構成にすることができる。ただし、このよう
な大きな平板状の放電ランプ１４を製作する場合、ラン
プ内部の減圧に対する強度が必要となるので、図８
（ａ）や（ｂ）のような補強部材１５がランプ内部に必
要となる。ここで図８は図７の放電ランプ１４を図中の
矢印方向に断面しそれを平面的に見たものである。ま
た、放電ランプ１４のように１つのランプにしてしまう
ことで局所発光せずにいきなり放電ランプ１４全体が発
光してしまうことがある。そのままでは輻射分布を精度
良く表示することができなくなる。この場合、放電ラン
プ１４の内部にガス移動抑制部材を設置することで発光
時の放電ガスの移動を制約し、局所発光が全体発光に容
易に進展するのを防止できる。図８では補強部材１５が
ガス移動抑制部材を兼用した構成となっている。
【００２２】図９は放電ランプのガス圧と電位との相関
関係を示すものであり、例えばガス圧がＰ１であれば発
光するのに必要な電位はＶ１であることを意味してい
る。先述の放電ランプ１０が発光するのに必要なマイク
ロ波の電界強度即ち敷居値とはこの電位に相当する。従
ってＶ１より大きい場所は発光し、小さい場所は発光し
ない。これが二値化と称した由縁である。今ここで、放
電ランプ１０内部のガス圧をＰ１、Ｐ２、Ｐ３の３種類
用意するものとすると、これらを発光させるためにはＶ
１、Ｖ２、Ｖ３の電位が必要である。この３種類の放電
ランプを取り混ぜて図４や図６のように配置すれば、マ
イクロ波の輻射分布を４種類の電界強度で表示すること
ができるようになる。即ち、ある場所の電界強度をＶｘ
とすれば、Ｖ３≦ＶｘであればＰ１、Ｐ２、Ｐ３の各放
電ランプが発光する。Ｖ２≦Ｖｘ＜Ｖ３であればＰ１、
Ｐ２の放電ランプが発光する。Ｖ１≦Ｖｘ＜Ｖ２であれ
ばＰ１の放電ランプだけが発光する。Ｖｘ＜Ｖ１であれ
ばどの放電ランプも発光しない。このようにガス圧の異
なる放電ランプを同時に使用することでマイクロ波の輻
射分布が電界強度の段階に応じて細かく表示できるよう
になる。
関係を示すものであり、例えばガス圧がＰ１であれば発
光するのに必要な電位はＶ１であることを意味してい
る。先述の放電ランプ１０が発光するのに必要なマイク
ロ波の電界強度即ち敷居値とはこの電位に相当する。従
ってＶ１より大きい場所は発光し、小さい場所は発光し
ない。これが二値化と称した由縁である。今ここで、放
電ランプ１０内部のガス圧をＰ１、Ｐ２、Ｐ３の３種類
用意するものとすると、これらを発光させるためにはＶ
１、Ｖ２、Ｖ３の電位が必要である。この３種類の放電
ランプを取り混ぜて図４や図６のように配置すれば、マ
イクロ波の輻射分布を４種類の電界強度で表示すること
ができるようになる。即ち、ある場所の電界強度をＶｘ
とすれば、Ｖ３≦ＶｘであればＰ１、Ｐ２、Ｐ３の各放
電ランプが発光する。Ｖ２≦Ｖｘ＜Ｖ３であればＰ１、
Ｐ２の放電ランプが発光する。Ｖ１≦Ｖｘ＜Ｖ２であれ
ばＰ１の放電ランプだけが発光する。Ｖｘ＜Ｖ１であれ
ばどの放電ランプも発光しない。このようにガス圧の異
なる放電ランプを同時に使用することでマイクロ波の輻
射分布が電界強度の段階に応じて細かく表示できるよう
になる。
【００２３】ガスの種類を変えても同様の効果を出せ
る。図１０はＡ、Ｂ、Ｃの３種類のガスの特性曲線を１
つに重ねて描いたものである。放電ランプ内のガス圧が
Ｐ１であった場合、ガスＡでは電位Ｖ１以上、ガスＢで
は電位Ｖ２以上、ガスＣでは電位Ｖ３以上で発光する。
従ってこの３種類の放電ランプを取り混ぜて図４や図６
のように配置すれば、マイクロ波の輻射分布を４種類の
電界強度で表示することができるようになる。即ち、あ
る場所の電界強度をＶｘとすれば、Ｖ３≦Ｖｘであれば
ガスＡ、ガスＢ、ガスＣの各放電ランプが発光する。Ｖ
２≦Ｖｘ＜Ｖ３であればガスＡ、ガスＢの放電ランプが
発光する。Ｖ１≦Ｖｘ＜Ｖ２であればガスＡの放電ラン
プだけが発光する。Ｖｘ＜Ｖ１であればどの放電ランプ
も発光しない。このようにガスの種類の異なる放電ラン
プを同時に使用することでマイクロ波の輻射分布が電界
強度の段階に応じて細かく表示できるようになる。この
場合、発光色自体がガスの種類で異なるので、輻射分布
が色分けできて理解しやすくなる。
る。図１０はＡ、Ｂ、Ｃの３種類のガスの特性曲線を１
つに重ねて描いたものである。放電ランプ内のガス圧が
Ｐ１であった場合、ガスＡでは電位Ｖ１以上、ガスＢで
は電位Ｖ２以上、ガスＣでは電位Ｖ３以上で発光する。
従ってこの３種類の放電ランプを取り混ぜて図４や図６
のように配置すれば、マイクロ波の輻射分布を４種類の
電界強度で表示することができるようになる。即ち、あ
る場所の電界強度をＶｘとすれば、Ｖ３≦Ｖｘであれば
ガスＡ、ガスＢ、ガスＣの各放電ランプが発光する。Ｖ
２≦Ｖｘ＜Ｖ３であればガスＡ、ガスＢの放電ランプが
発光する。Ｖ１≦Ｖｘ＜Ｖ２であればガスＡの放電ラン
プだけが発光する。Ｖｘ＜Ｖ１であればどの放電ランプ
も発光しない。このようにガスの種類の異なる放電ラン
プを同時に使用することでマイクロ波の輻射分布が電界
強度の段階に応じて細かく表示できるようになる。この
場合、発光色自体がガスの種類で異なるので、輻射分布
が色分けできて理解しやすくなる。
【００２４】さて、ここまで述べてきた内容はマイクロ
波の輻射分布を加熱室２の底部近傍において可視化する
ものであった。これは被加熱物が高さの低い物であれば
非常に有効であるが高い物に対しては必ずしも有効には
作用しない。その理由は加熱室２において高さに応じて
輻射分布が異なるからである。従って、被加熱物の高さ
が高い物にはその高さに応じた位置で輻射分布を調べる
方が良い。そこで図１１（ａ）に示すように、放電ラン
プを内蔵した放電ランプユニット１６を上下に移動可能
とすることで、任意の高さでの輻射分布を調べることが
できる。ただし、この場合被加熱物の出し入れは放電ラ
ンプユニット１６が邪魔となるため、放電ランプユニッ
ト１６を加熱室２底部または天面に移動してから行う必
要がある。 また、図１１（ｂ）に示すように放電ラン
プユニット１６を立てた状態で横に移動可能とすること
で、鉛直方向の輻射分布を調べることができるようにな
る。
波の輻射分布を加熱室２の底部近傍において可視化する
ものであった。これは被加熱物が高さの低い物であれば
非常に有効であるが高い物に対しては必ずしも有効には
作用しない。その理由は加熱室２において高さに応じて
輻射分布が異なるからである。従って、被加熱物の高さ
が高い物にはその高さに応じた位置で輻射分布を調べる
方が良い。そこで図１１（ａ）に示すように、放電ラン
プを内蔵した放電ランプユニット１６を上下に移動可能
とすることで、任意の高さでの輻射分布を調べることが
できる。ただし、この場合被加熱物の出し入れは放電ラ
ンプユニット１６が邪魔となるため、放電ランプユニッ
ト１６を加熱室２底部または天面に移動してから行う必
要がある。 また、図１１（ｂ）に示すように放電ラン
プユニット１６を立てた状態で横に移動可能とすること
で、鉛直方向の輻射分布を調べることができるようにな
る。
【００２５】ところで、放電ランプに電極を設けるとマ
イクロ波に対してアンテナとして作用し加熱室２内部の
輻射分布に影響を及ぼしてしまう。即ち、本来輻射分布
の電界強度が弱い所であっても、アンテナでマイクロ波
を導く結果放電ランプが発光してしまうのである。従っ
て輻射分布を可視化するには有電極式はあまり適してお
らず、無電極とする方が好ましい。また無電極にするこ
とで、ランプ寿命を長くすることができる。
イクロ波に対してアンテナとして作用し加熱室２内部の
輻射分布に影響を及ぼしてしまう。即ち、本来輻射分布
の電界強度が弱い所であっても、アンテナでマイクロ波
を導く結果放電ランプが発光してしまうのである。従っ
て輻射分布を可視化するには有電極式はあまり適してお
らず、無電極とする方が好ましい。また無電極にするこ
とで、ランプ寿命を長くすることができる。
【００２６】なお、本実施例においては図１２に示すよ
うなターンテーブル５を設けなかったが、図１の底板１
１上部に設けても良い。ただし、この場合はターンテー
ブル５は可視光を透過する材質で構成されている必要が
ある。また、放電ランプを内蔵させたターンテーブルと
して設けても良い。
うなターンテーブル５を設けなかったが、図１の底板１
１上部に設けても良い。ただし、この場合はターンテー
ブル５は可視光を透過する材質で構成されている必要が
ある。また、放電ランプを内蔵させたターンテーブルと
して設けても良い。
【００２７】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、電子レ
ンジ加熱室内部のマイクロ波の輻射分布が可視化できる
ので、使用者がマイクロ波の強く当たるところに被加熱
物の位置を移動してやることで、被加熱物に効率よくマ
イクロ波を入射でき、加熱効率を飛躍的に向上させるこ
とができる。
ンジ加熱室内部のマイクロ波の輻射分布が可視化できる
ので、使用者がマイクロ波の強く当たるところに被加熱
物の位置を移動してやることで、被加熱物に効率よくマ
イクロ波を入射でき、加熱効率を飛躍的に向上させるこ
とができる。
【図１】本発明の実施例１における電子レンジの縦断面
図
図
【図２】本発明の実施例１における電子レンジの横断面
図
図
【図３】本発明の実施例１における電子レンジの斜視図
【図４】本発明の実施例１における放電ランプ配列の平
面図
面図
【図５】本発明の実施例１における略円筒形状の放電ラ
ンプの外観図
ンプの外観図
【図６】（ａ）本発明の実施例１における略円筒形状の
放電ランプ配列の平面図 （ｂ）同、他の例を示す略円筒形状の放電ランプ配列の
平面図 （ｃ）同、他の例を示す略円筒形状の放電ランプ配列の
平面図
放電ランプ配列の平面図 （ｂ）同、他の例を示す略円筒形状の放電ランプ配列の
平面図 （ｃ）同、他の例を示す略円筒形状の放電ランプ配列の
平面図
【図７】本発明の実施例１における平板状の放電ランプ
の外観図
の外観図
【図８】（ａ）本発明の実施例１における平板状の放電
ランプの平面図 （ｂ）同、他の例を示す平板状の放電ランプの平面図
ランプの平面図 （ｂ）同、他の例を示す平板状の放電ランプの平面図
【図９】本発明の実施例１における放電ランプのガス圧
と電位との関係を示す相関図
と電位との関係を示す相関図
【図１０】本発明の実施例１における放電ランプのガス
の種類によるガス圧と電位との関係を示す相関図
の種類によるガス圧と電位との関係を示す相関図
【図１１】（ａ）本発明の実施例１における移動可能な
放電ランプユニットを有する電子レンジを示す斜視図 （ｂ）他の例を示す移動可能な放電ランプユニットを有
する電子レンジを示す斜視図
放電ランプユニットを有する電子レンジを示す斜視図 （ｂ）他の例を示す移動可能な放電ランプユニットを有
する電子レンジを示す斜視図
【図１２】来の技術による電子レンジの縦断面図
２ 加熱室
１０ 放電ランプ
１３ 略円筒形状からなる放電ランプ
１４ 平板状の放電ランプ
１５ 補強部材兼ガス移動抑制部材
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｂ 6/68 ３２０ Ｈ０５Ｂ 6/68 ３２０Ｐ
(72)発明者 中西 邦行
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
Ｆターム(参考） 3K086 AA08 BA08 CC13
3K090 AA02 BA01 BB01 EB36
3L086 AA01 CA16 DA06
5C039 PP10
Claims (9)
- 【請求項１】 放電ガスを封入した放電ランプを高周波
加熱装置の加熱室内部に配列した高周波加熱装置。 - 【請求項２】 放電ガスを封入した放電ランプを高周波
加熱装置の加熱室底部近傍に配列した請求項１記載の高
周波加熱装置。 - 【請求項３】 前記放電ランプは略円筒形状とした請求
項１または２記載の高周波加熱装置。 - 【請求項４】 放電ガスを封入した平板状の放電ランプ
を高周波加熱装置の加熱室内部に設けた高周波加熱装
置。 - 【請求項５】 放電ランプ内部に放電ガスの移動を抑制
するガス移動抑制部材を設けた請求項４記載の高周波加
熱装置。 - 【請求項６】 ガス圧が異なる複数の放電ランプを高周
波加熱装置の加熱室に配列した請求項１または２記載の
高周波加熱装置。 - 【請求項７】 放電ガスの種類が異なる複数の放電ラン
プを高周波加熱装置の加熱室に配列した請求項１または
２記載の高周波加熱装置。 - 【請求項８】 放電ランプを高周波加熱装置の加熱室内
で移動可能とした請求項１〜７のいずれか１項に記載の
高周波加熱装置。 - 【請求項９】 無電極の放電ランプを備えた請求項１〜
８のいずれか１項に記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002041051A JP2003243146A (ja) | 2002-02-19 | 2002-02-19 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002041051A JP2003243146A (ja) | 2002-02-19 | 2002-02-19 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003243146A true JP2003243146A (ja) | 2003-08-29 |
Family
ID=27781565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002041051A Pending JP2003243146A (ja) | 2002-02-19 | 2002-02-19 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003243146A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006322869A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Micro Denshi Kk | マイクロ波の検出装置 |
| DE102011111065B3 (de) * | 2011-08-24 | 2013-02-14 | Schott Ag | Beleuchtungsvorrichtung für Heißräume sowie damit beleuchtete Heißräume |
| CN110056913A (zh) * | 2019-02-02 | 2019-07-26 | 四川大学 | 一种可视化操作的智能微波炉及其加热方法 |
-
2002
- 2002-02-19 JP JP2002041051A patent/JP2003243146A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006322869A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Micro Denshi Kk | マイクロ波の検出装置 |
| DE102011111065B3 (de) * | 2011-08-24 | 2013-02-14 | Schott Ag | Beleuchtungsvorrichtung für Heißräume sowie damit beleuchtete Heißräume |
| CN110056913A (zh) * | 2019-02-02 | 2019-07-26 | 四川大学 | 一种可视化操作的智能微波炉及其加热方法 |
| CN110056913B (zh) * | 2019-02-02 | 2024-03-19 | 四川大学 | 一种可视化操作的智能微波炉及其加热方法 |
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