JP2003238551A - Polymerizable compound and optical element using its matrix - Google Patents

Polymerizable compound and optical element using its matrix

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JP2003238551A
JP2003238551A JP2002044058A JP2002044058A JP2003238551A JP 2003238551 A JP2003238551 A JP 2003238551A JP 2002044058 A JP2002044058 A JP 2002044058A JP 2002044058 A JP2002044058 A JP 2002044058A JP 2003238551 A JP2003238551 A JP 2003238551A
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acryloyloxy
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a compound useful as a nonlinear optical material having no or suppressed orientation relaxation, to provide an optical element using its matrix and uses thereof. <P>SOLUTION: The polymerizable compound is represented by formula (I) or (II) [wherein, X denotes O or S; Ar<SP>1</SP>and Ar<SP>2</SP>denote each a single bond, an aromatic ring, biphenyl group or terphenyl group (with the proviso that Ar<SP>1</SP>and Ar<SP>2</SP>are not simultaneously single bonds); D denotes oxygen atom, sulfur atom or an electron-bonating group; A denotes an electron-attracting group; S<SP>1</SP>and S<SP>2</SP>denote each a bivalent connecting group; and P<SP>1</SP>and P<SP>2</SP>denote each a polymerizable group]. The optical element uses the matrix thereof. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はオプトエレクトロニ
クス、およびフォトニクス分野で有用な新規な非線形光
学材料として有用な化合物、及び電気光学素子等の非線
形光学効果を利用する各種素子に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a compound useful as a novel nonlinear optical material useful in the fields of optoelectronics and photonics, and various elements utilizing the nonlinear optical effect such as electro-optical elements.

【0002】[0002]

【従来の技術】高度な情報社会の進展に伴い、情報の伝
送、処理、及び記録に対して光技術を用いる試みが多数
なされている。そのような現状において、非線形光学効
果を示す非線形光学材料がオプトエレクトロニクス、及
びフォトニクス分野において注目されている。非線形光
学効果とは、物質に強電場を加えた時、生じた電気分極
と加えた電場の間で非線形的な応答を示す現象であり、
非線形光学材料とは、このような非線形性を顕著に示す
材料を指す。二次の非線形応答を利用した非線形光学材
料として、第二高調波を発生する材料や印加電場強度の
一次に比例して屈折率変化を引き起こすポッケルス効果
(一次電気光学効果)を示す材料などが知られており、
特に後者は電気光学(EO)光変調素子への応用が検討され
ている。
2. Description of the Related Art With the progress of the advanced information society, many attempts have been made to use optical technology for transmission, processing and recording of information. Under such circumstances, a nonlinear optical material exhibiting a nonlinear optical effect has attracted attention in the fields of optoelectronics and photonics. The nonlinear optical effect is a phenomenon that when a strong electric field is applied to a substance, a nonlinear response is exhibited between the generated electric polarization and the applied electric field.
A non-linear optical material refers to a material that remarkably exhibits such non-linearity. Known nonlinear optical materials that utilize the second-order nonlinear response include materials that generate second harmonics and materials that exhibit the Pockels effect (first-order electro-optical effect) that causes a change in the refractive index in proportion to the linearity of the applied electric field strength. Has been
In particular, the latter is being studied for application to electro-optic (EO) light modulators.

【0003】これらの非線形光学材料は、従来は無機非
線形光学材料を中心に材料探索や素子作成が行われてき
たが、近年は、1)大きな非線形を示す、2)応答速度
の速さ、3)光損傷しきい値が高い、4)多種多様な分
子設計が可能、5)製造適性に優れることなどから有機
材料が注目を集めている。しかしながら、二次の非線形
光学効果の発現には、電場により誘起される分極が反転
対称心を欠く必要がある。したがって、非線形光学効果
を示す分子あるいは非線形光学応答基を材料中で反転対
称心を欠く構造に配置する必要がある。
Conventionally, for these nonlinear optical materials, material search and element fabrication have been performed mainly on inorganic nonlinear optical materials, but in recent years, 1) large nonlinearity is shown, 2) response speed is fast, 3 ) Organic materials are attracting attention because of their high photo-damage threshold, 4) a wide variety of molecular designs are possible, and 5) excellent manufacturing suitability. However, in order for the second-order nonlinear optical effect to appear, the polarization induced by the electric field needs to lack an inversion symmetry center. Therefore, it is necessary to arrange a molecule exhibiting a nonlinear optical effect or a nonlinear optical response group in a material in a structure lacking the center of inversion symmetry.

【0004】従来の技術によれば、非線形光学効果を示
す分子、あるいは非線形光学応答基を反転対称心を欠く
構造に配置させるには、有機ポリマー中に非線形光学効
果を示す分子あるいは非線形光学応答基を導入し、例え
ば電場により双極子を配向させることが広く利用されて
いる。この電場による配向制御をポーリング(poling)
とよび、ポーリングされた有機ポリマーを電場配向ポリ
マー(ポールドポリマー)とよぶ。すなわち、ベースポ
リマーのガラス転移点以上の温度で高電圧を印加するこ
とで、二次の非線形光学効果を示す分子あるいは応答基
の双極子を配向させたのち、冷却して電場による双極子
の配向を凍結させる手法である。例えば、SPIE誌、第1
213巻、7頁(1990年)には、本方法により製造
された電気光学(EO)光変調素子の例が記述されてい
る。しかしながら、これらの材料は時間とともに熱的に
配向緩和を起こし、電気光学的特性が劣化していく、安
定性に欠けるものであり、実用化や広い範囲への応用が
可能となるものではなく、その解決が望まれていた(例
えば、Mol. Cryst. Liq. Cryst.誌、第189巻、3頁
(1990年)参照)。
According to the prior art, in order to arrange a molecule exhibiting a non-linear optical effect or a non-linear optical response group in a structure lacking inversion symmetry, a molecule exhibiting a non-linear optical effect or a non-linear optical response group is arranged in an organic polymer. Is used to orient the dipoles by, for example, an electric field. Poling the orientation control by this electric field
The polled organic polymer is called an electric field oriented polymer (polled polymer). That is, by applying a high voltage at a temperature higher than the glass transition temperature of the base polymer, the dipoles of the molecule or the responsive group exhibiting the second-order nonlinear optical effect are aligned, and then cooled and aligned by the electric field. Is a method of freezing. For example, SPIE magazine, first
213, p. 7 (1990), describes examples of electro-optic (EO) light modulators made by this method. However, these materials undergo thermal orientation relaxation with time, electro-optical characteristics deteriorate, and lack stability, and are not practical or applicable to a wide range. The solution was desired (see, for example, Mol. Cryst. Liq. Cryst., Vol. 189, p. 3, (1990)).

【0005】また、例えば、Thin Solid Film誌、第2
10巻、195頁(1992年)には両親媒性で非線形
光学効果を示す化合物として2-アミノ-5-ニトロピリジ
ンの重合性長鎖アルキルアミノ誘導体を合成し、LB膜を
形成させた後に重合により配向固定させた例が報告され
ている。しかしながら、LB法を用いた素子の作成では、
ピンポールなどの欠陥や工業的製造適性の欠如などが問
題視されていた。さらに、例えば、Handbook of Liquid
Crystals誌、第3巻、第IV章、第4項(1998年)
等には非線形光学活性基を側鎖に有する液晶高分子を用
いた例が報告されているが、いずれも十分な長期安定性
を確保するに至っておらず、さらなる改善が望まれてい
た。
Also, for example, Thin Solid Film magazine, 2nd
Vol. 10, p. 195 (1992), synthesizes a polymerizable long-chain alkylamino derivative of 2-amino-5-nitropyridine as a compound that is amphiphilic and exhibits a nonlinear optical effect, and polymerizes it after forming an LB film. Have reported an example in which the orientation is fixed. However, in the fabrication of devices using the LB method,
Defects such as pin poles and lack of suitability for industrial manufacturing were regarded as problems. Furthermore, for example, the Handbook of Liquid
Crystals, Volume 3, Chapter IV, Section 4 (1998)
Although an example of using a liquid crystal polymer having a non-linear optically active group in the side chain has been reported in J. et al., None of them has ensured sufficient long-term stability, and further improvement has been desired.

【0006】次に、例えばNew J. Chem.誌、第24巻、
977頁(2000年)、特開平7−179856号公
報等にはベンゾフラン誘導体が開示されている。また、
特表平11−502855号公報等にはベンゾチオフェ
ン誘導体が開示されている。しかしながら、いずれも本
発明のような化合物の具体的な例示は無く、本発明を示
唆するものではない。例えば前記、特開平7−1798
56号公報及び特表平11−502855号公報に例示
されている化合物はいずれも非線形光学特性の発現を目
的として開発されたものではなく、また重合性化合物す
なわち化合物の両末端に重合反応可能な置換基を2個以
上有する化合物は例示されていない。従って、これらに
開示されている化合物はいずれも三次元的にマトリック
スを形成できるものではなく、非線形光学特性を発現す
る基を有していたとしても、配向緩和を抑制する事がで
きないため有用性に欠ける。また、New J. Chem.誌に記
載されているベンゾフラン類は非線形光学特性を有する
ものの、重合性化合物ではないため、本発明のように三
次元マトリックスにより配向を固定化することができな
い。
Next, for example, New J. Chem., Vol. 24,
A benzofuran derivative is disclosed on page 977 (2000), JP-A-7-179856 and the like. Also,
A benzothiophene derivative is disclosed in Japanese Patent Publication No. 11-502855. However, none of them have concrete examples of the compounds of the present invention, and do not suggest the present invention. For example, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 7-1798.
The compounds exemplified in Japanese Patent Publication No. 56 and Japanese Patent Publication No. 11-502855 are not developed for the purpose of exhibiting nonlinear optical characteristics, and are polymerizable compounds, that is, capable of undergoing a polymerization reaction at both ends of the compound. A compound having two or more substituents is not exemplified. Therefore, none of the compounds disclosed in these publications can form a matrix three-dimensionally, and even if they have a group exhibiting nonlinear optical characteristics, orientation relaxation cannot be suppressed, so that they are useful. Lack. Further, the benzofurans described in New J. Chem. Magazine have non-linear optical properties, but are not polymerizable compounds, so that the orientation cannot be fixed by a three-dimensional matrix as in the present invention.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、配向
緩和が無い、あるいはそれが抑制された有機材料による
非線形光学材料に有用な新規な重合性化合物、及びその
マトリックスを用いた光学素子を提供することにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel polymerizable compound which is useful for a non-linear optical material made of an organic material which has no orientation relaxation or is suppressed, and an optical element using the matrix. To provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、下記の材料により本発明の目的が達成で
きる事を見いだした。すなわち、 (1)下記一般式(I)または(II) で示される重合性化
合物。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the following materials can achieve the object of the present invention. That is, (1) a polymerizable compound represented by the following general formula (I) or (II).

【0009】[0009]

【化5】 [Chemical 5]

【0010】[0010]

【化6】 [Chemical 6]

【0011】(それぞれの式中、Xは−O−、あるいは−
S−を示し、Ar1,Ar2はそれぞれ独立に単結合、あるいは
芳香族環、ビフェニル基、あるいはターフェニル基を示
す。但し、Ar1,Ar2は同時に単結合ではない。Dは酸素原
子(−O−)、硫黄原子(−S−)あるいは電子供与性基、
Aは電子吸引性基、S1,S2はそれぞれ独立して二価の連結
基、P1,P2はそれぞれ独立して重合性基を示す。) (2)Xが−O−である前記(1)項記載の重合性化合
物。 (3)Ar1が単結合、Ar2がベンゼン環である前記(1)
または(2)項に記載の重合性化合物。 (4)S1,S2がそれぞれ独立して炭素数2から12のアルキ
レン基である前記(1)から(3)項に記載の重合性化
合物。 (5)P1,P2の重合性基が、それぞれ独立してアクリロ
イルオキシ基、またはメタアクリロイルオキシ基である
前記(1)から(4)項に記載の重合性化合物。 (6)Dが酸素原子(−O−)又は硫黄原子(−S−)あ
るいは置換イミノ基(−NR−:ただしRは炭素数1〜6
の低級アルキル基、あるいは水素原子、あるいはP −S
1−で示される置換基を示し、環構造を有するイミノ基
であってもよい。)であり、Aがエステル基(−COO
−)、スルホニル基(−SO2−)又はスルホキシ基(−S
O−)から選択される電子吸引性基である事を特徴と
する前記(1)から(5)項に記載の重合性化合物。 (7)非線形光学材料を用いる光学素子において、非線
形光学材料が下記一般式(I)または(II) で示される重
合性化合物のマトリックスであることを特徴とする光学
素子。
(In each formula, X is -O- or-
Indicates S-, Ar1, Ar2Are each independently a single bond, or
Indicates an aromatic ring, biphenyl group, or terphenyl group
You However, Ar1, Ar2Are not single bonds at the same time. D is oxygen source
Child (-O-), sulfur atom (-S-) or electron donating group,
A is an electron-withdrawing group, S1, S2Are each independently bivalent linked
Base, P1, P2Each independently represents a polymerizable group. ) (2) The polymerizable compound according to item (1), wherein X is -O-.
object. (3) Ar1Is a single bond, Ar2Wherein (1) is a benzene ring
Alternatively, the polymerizable compound according to the item (2). (4) S1, S2Are each independently an alky having 2 to 12 carbons.
Polymerization of the above (1) to (3), which is a len group.
Compound (5) P1, P2The polymerizable groups of
Is an yloxy group or a methacryloyloxy group
The polymerizable compound according to any one of items (1) to (4). (6) D is an oxygen atom (-O-) or a sulfur atom (-S-).
Rui or substituted imino group (-NR-: where R is 1 to 6 carbon atoms
Lower alkyl group, or hydrogen atom, or P 1-S
1An imino group having a ring structure, which represents a substituent represented by-
May be ) And A is an ester group (-COO
-), Sulfonyl group (-SO2-) Or sulfoxy group (-S
OThree-) Is an electron-withdrawing group selected from
The polymerizable compound according to any one of (1) to (5) above. (7) In an optical element using a nonlinear optical material, a nonlinear
The optical material is shaped by the general formula (I) or (II) below.
Optics characterized by a matrix of compatible compounds
element.

【0012】[0012]

【化7】 [Chemical 7]

【0013】[0013]

【化8】 [Chemical 8]

【0014】(それぞれの式中、Xは−O−、あるいは−
S−を示し、Ar1,Ar2はそれぞれ独立に単結合、あるいは
置換基を有していてもよい芳香族環、置換基を有してい
てもよいビフェニル基、あるいは置換基を有していても
よいターフェニル基を示す。但し、Ar1,Ar2は同時に単
結合ではない。Dは酸素原子(−O−)あるいは硫黄原子
(−S−)あるいは電子供与性基、Aは電子吸引性基、
S1,S2はそれぞれ独立して二価の連結基、P1,P2はそれぞ
れ独立して重合性基を示す。) (8)光学素子が、非線形光学素子、電気光学素子、波
長変換素子である前記(7)項に記載の光学素子。
(In each formula, X is -O- or-
S- represents, Ar 1 and Ar 2 each independently have a single bond, or an aromatic ring which may have a substituent, a biphenyl group which may have a substituent, or a substituent. Represents a terphenyl group which may be present. However, Ar 1 and Ar 2 are not single bonds at the same time. D is an oxygen atom (-O-) or a sulfur atom (-S-) or an electron-donating group, A is an electron-withdrawing group,
S 1 and S 2 each independently represent a divalent linking group, and P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group. (8) The optical element according to the item (7), wherein the optical element is a non-linear optical element, an electro-optical element, or a wavelength conversion element.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明についてより詳細に
説明する。まず、前記一般式(I)、(II)中のAr1及び
Ar2どちらか一方が単結合であることが好ましい。Ar1
たはAr2は、2価の基であって、炭素数6乃至12の芳香
環、ビフェニル基、ターフェニル基が好ましく、ベンゼ
ン環、ナフタレン環、ビフェニル基、ターフェニル基が
更に好ましい。本発明において、Ar1、Ar2は置換基を有
していてもよい。Ar1、Ar2が置換基を有した芳香環を示
す場合、その好ましい置換基の例としては、炭素数1乃
至6の低級アルキル基、更に好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec
−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基及びヘキ
シル基等が挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below. First, Ar 1 in the general formulas (I) and (II) and
It is preferable that one of Ar 2 is a single bond. Ar 1 or Ar 2 is a divalent group, preferably an aromatic ring having 6 to 12 carbon atoms, a biphenyl group or a terphenyl group, more preferably a benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl group or a terphenyl group. In the present invention, Ar 1 and Ar 2 may have a substituent. When Ar 1 and Ar 2 represent an aromatic ring having a substituent, examples of the preferable substituent include a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group. , Butyl group, sec
-Butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group and the like can be mentioned.

【0016】前記一般式(I)、(II)中のDは酸素原
子(−O−)、硫黄原子(−S−)、−NH−、あるい
は−NR−(Rは炭素数が1乃至6の置換基またはP
−で示される基が好ましく、特に好ましくはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル
基及びヘキシル基等が挙げられる。)、あるいは下記に
示される基
In the general formulas (I) and (II), D is an oxygen atom (-O-), a sulfur atom (-S-), -NH-, or -NR- (R has 1 to 6 carbon atoms. A substituent of or P 1
A group represented by S 1- is preferable, and a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group and a hexyl group are particularly preferable. ), Or the groups shown below

【0017】[0017]

【化9】 [Chemical 9]

【0018】等が好ましく、特に好ましくは酸素原子が
挙げられる。Aの好ましい例としては、カルボニル基
(−CO−)、カルボニルオキシ基(−COO−)、ス
ルホニル基(−SO−)、またはスルホニルオキシ基
(−SO−)等が挙げられるが、カルボニルオキシ基
及びスルホニルオキシ基が特に好ましい。
Etc. are preferred, and an oxygen atom is particularly preferred. Preferred examples of A, a carbonyl group (-CO-), carbonyloxy group (-COO-), a sulfonyl group (-SO 2 -), or a sulfonyloxy group (-SO 3 -) and others as mentioned, carbonyl Oxy and sulfonyloxy groups are particularly preferred.

【0019】前記一般式(I)、(II)のS及びS
で示される連結基の炭素数は2乃至12が好ましく、炭素
数2乃至6が更に好ましい。また、S1及びSは環構造
を有していても良く、環構造を有する場合にはシクロヘ
キサン環が好ましい。更に、好ましい連結基の例として
はアルキレン基が挙げられる。該連結基は1個または複
数個の置換基を有していても良い。この時、好ましい置
換基としては、炭素数が1乃至4の置換基及びハロゲン
原子等が挙げられ、特に好ましくはメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。また、
置換基を有する炭素原子が不斉炭素となる時は、その立
体配置はR,S及びその任意の混合体のいずれでも良
い。
S 1 and S 2 of the above general formulas (I) and (II)
The number of carbon atoms of the linking group represented by is preferably 2 to 12, and more preferably 2 to 6. Further, S 1 and S 2 may have a ring structure, and when they have a ring structure, a cyclohexane ring is preferable. Furthermore, an alkylene group is mentioned as an example of a preferable coupling group. The linking group may have one or more substituents. At this time, examples of the preferable substituent include a substituent having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom, and particularly preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group. Also,
When the carbon atom having a substituent is an asymmetric carbon, the configuration may be any of R, S and any mixture thereof.

【0020】前記一般式(I)、(II)中、P及びP2
は重合性基を示すが、アクリロイルオキシ基、メタアク
リロイルオキシ基、グリシジル基、ビニルオキシ基等が
好ましい例として挙げられ、アクリロイルオキシ基及び
メタアクリロイルオキシ基が特に好ましい。一般式
(I)又は(II)において、D−Ar−ベンゾテオフ
ェン環又はベンゾフラン環−Ar−Aの部分が非線形
光学応答基としての作用を発現する。前記一般式
(I)、(II)で示される化合物の具体例としては、下
記のような化合物を挙げる事ができる。
In the general formulas (I) and (II), P 1 and P 2
Represents a polymerizable group, and preferable examples thereof include an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a glycidyl group, and a vinyloxy group, and an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group are particularly preferable. In the general formula (I) or (II), the D-Ar 1 -benzotheophene ring or benzofuran ring -Ar 2 -A moiety exerts an action as a nonlinear optical response group. Specific examples of the compounds represented by the general formulas (I) and (II) include the following compounds.

【0021】[0021]

【化10】 [Chemical 10]

【0022】[0022]

【化11】 [Chemical 11]

【0023】[0023]

【化12】 [Chemical 12]

【0024】[0024]

【化13】 [Chemical 13]

【0025】本発明の特に好ましい例の化合物は例えば
以下に示すスキーム1乃至4の方法によって合成でき
る。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。 スキーム1
The compounds of the particularly preferred examples of the present invention can be synthesized, for example, by the methods of Schemes 1 to 4 shown below. However, the present invention is not limited to this. Scheme 1

【0026】[0026]

【化14】 [Chemical 14]

【0027】(式中、Ar1,Ar2,Dは前記と同義である。
Kは脱離基、Yは保護基、Rはアルキル基を示す。)
(In the formula, Ar 1 , Ar 2 and D have the same meanings as described above.
K is a leaving group, Y is a protecting group, and R is an alkyl group. )

【0028】スキーム1の方法では、化合物I及びIIで
示される化合物(化合物Iに対し、化合物IIは当量比で
1乃至3当量が好ましく、更に好ましくは1乃至1.5
当量である。)を出発原料とし、塩基I存在下(塩基I
は化合物IIに対し、1乃至4当量が好ましく、更に好ま
しくは1乃至2当量である。)において有機溶媒中、5
0〜150℃程度の過熱下において好適に反応が進行
し、化合物IIIに示される化合物が得られる。化合物I
における保護基Yは、例えばDがアミノ基の場合、te
rt−ブトキシカルボニル基(Boc)、ベンゾイルカル
ボニル基(Dbz)基、アセチル基(Ac)等が挙げられる。
Dがこれ以外の置換基の場合、プロテクティブ・グルー
プス・イン・オルガニック・ケミストリー,(プレナム
プレス)(ロンドンとニューヨーク,1973)[Protecti
ve Groups in Organic Chemistry,Plenum Press];
グリーン・ティー・ダブリュ著(Green,T.W.),プロ
テクティブグループス・イン・オルガニック・シンセシ
ス,(ウィリー,ニューヨーク,1981)[ Protective
Groups in Organic Synthesis, Wiley New York,198
1];及びペプチド類,Vol.I,シュレーダーとルブケ
著(アカデミックプレス(ロンドンとニューヨーク)19
65)[Peptides,Vol.I,Schrooder and Lubke,Acade
mic Press(London and New York,1965)]に記載され
ている方法に従って保護及び脱保護を行った。化合物II
における脱離基Kの例としては、ハロゲン原子、アルキ
ルスルホニルオキシ基、あるいはアリールスルホニルオ
キシ基が挙げられ、アルキル基Rの例としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げら
れる。用いる有機溶媒としては、N,N-ジメチルホルムア
ミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMA)、テト
ラヒドロフラン(THF)、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジメチルスルホキシド(DMSO)等が挙げられる。塩
基Iとしては無機及び有機塩基を採用することができ、
好ましい塩基の例としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、リン酸ナトリウ
ム、アンモニア等が挙げられる。
In the method of Scheme 1, the compounds represented by the compounds I and II (the compound II is preferably 1 to 3 equivalents, more preferably 1 to 1.5 equivalents based on the compound I).
It is equivalent. ) As a starting material in the presence of base I (base I
Is preferably 1 to 4 equivalents, more preferably 1 to 2 equivalents, relative to compound II. 5) in an organic solvent
The reaction suitably proceeds under heating at about 0 to 150 ° C. to obtain the compound represented by the compound III. Compound I
The protecting group Y in is, for example, te when D is an amino group.
An rt-butoxycarbonyl group (Boc), a benzoylcarbonyl group (Dbz) group, an acetyl group (Ac) and the like can be mentioned.
If D is any other substituent, Protective Groups in Organic Chemistry, (Plenham Press) (London and New York, 1973) [Protecti
ve Groups in Organic Chemistry, Plenum Press];
Green Tea W (Green, TW), Protective Groups in Organic Synthesis, (Willie, New York, 1981) [Protective
Groups in Organic Synthesis, Wiley New York, 198
1]; and peptides, Vol. I, Schroeder and Lubke (Academic Press (London and New York) 19
65) [Peptides, Vol. I, Schrooder and Lubke, Acade
mic Press (London and New York, 1965)] for protection and deprotection. Compound II
Examples of the leaving group K in are a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group, or an arylsulfonyloxy group, and examples of the alkyl group R are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and the like. Examples of the organic solvent used include N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMA), tetrahydrofuran (THF), chloroform, dichloromethane, dimethylsulfoxide (DMSO) and the like. As the base I, inorganic and organic bases can be adopted,
Examples of preferable bases include potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, potassium acetate, sodium acetate, sodium phosphate, ammonia and the like.

【0029】次に得られた化合物IIIを塩基II存在下
(ただし塩基IIは化合物IIIに対し、1乃至4当量が好
ましく、更に好ましくは1乃至2当量である。)、室温
100℃程度の温度で撹拌すると好適に反応が進行し、
化合物IVに示される化合物が得られる。塩基IIとしては
無機及び有機塩基を採用することができ、好ましい塩基
の例としては、tert−ブトキシカリウム、tert
−ブトキシナトリウム、ナトリムメトキシド、水素化ナ
トリウム、水素化リチウム等が挙げられる。
Next, the compound III thus obtained is allowed to stand at a temperature of about 100 ° C. in the presence of the base II (wherein the base II is preferably 1 to 4 equivalents, more preferably 1 to 2 equivalents relative to the compound III). The reaction proceeds properly when stirred at
The compound shown in compound IV is obtained. Inorganic and organic bases can be adopted as the base II, and examples of preferable bases include tert-butoxy potassium and tert.
-Sodium butoxy, sodium methoxide, sodium hydride, lithium hydride and the like.

【0030】最後に塩基III存在下(ただし塩基IIIは化
合物IVに対し、1乃至4当量が好ましく、更に好ましく
は1乃至2当量である。)、化合物IVを加水分解するこ
とにより化合物Vが得られる。好ましい塩基IIIとして
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、水酸化リチウム等が挙げられる。 スキーム2
Finally, the compound IV is hydrolyzed in the presence of the base III (however, the base III is preferably 1 to 4 equivalents, more preferably 1 to 2 equivalents relative to the compound IV) to obtain the compound V. To be Examples of preferable base III include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, lithium hydroxide and the like. Scheme 2

【0031】[0031]

【化15】 [Chemical 15]

【0032】(式中、Ar1,Ar2,S1,S2,P1,P2は前記と同
義である。Yは保護基、Kは脱離基を示す。)
(In the formula, Ar 1 , Ar 2 , S 1 , S 2 , P 1 and P 2 have the same meanings as described above. Y represents a protecting group and K represents a leaving group.)

【0033】続いてスキーム2において、上記で得られ
た化合物Vに対し有機溶媒中、塩化チオニル(SOCl2
(化合物Vに対し、1乃至3当量が好ましく、更に好ま
しくは1乃至1.5当量である。)を作用させた後、H
O−S−Pで示される化合物(化合物Vに対し、1乃
至3当量が好ましく、更に好ましくは1乃至1.5当量
である。)を反応させると化合物VIが得られる。
Then, in Scheme 2, thionyl chloride (SOCl 2 ) was added to the compound V obtained above in an organic solvent.
(1 to 3 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents relative to compound V) are allowed to act, and then H
Compound VI is obtained by reacting a compound represented by OS 2 -P (preferably 1 to 3 equivalents, more preferably 1 to 1.5 equivalents based on compound V).

【0034】次に、前記のプロテクティブ・グループス
・イン・オルガニック・ケミストリー,(プレナムプレ
ス)(ロンドンとニューヨーク,1973)に記載されてい
る方法により保護基Yを脱保護して化合物VIIが得られ
る。最後に、塩基I(化合物VIIに対し、1乃至4当量
が好ましく、更に好ましくは1乃至2当量である。)存
在下、K−S−Pで示される化合物(化合物VIIに
対し、1乃至3当量が好ましく、更に好ましくは1乃至
1.5当量である。)を50℃〜150℃程度の過熱下
で反応させると目的とする化合物VIIIが得られる。この
化合物における脱離基Kの例としては、ハロゲン原子、
アルキルスルホニルオキシ基、あるいはアリールスルホ
ニルオキシ基が挙げられる。塩基Iとしては無機及び有
機塩基を採用することができ、好ましい塩基の例として
は炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム、酢酸カリウム、酢酸
ナトリウム、リン酸ナトリウム等が挙げられる。 スキーム3
Next, the protecting group Y is deprotected by the method described in Protective Groups in Organic Chemistry, (Plenham Press) (London and New York, 1973) to give compound VII. To be Finally, in the presence of a base I (1 to 4 equivalents relative to compound VII, preferably 1 to 2 equivalents), a compound represented by K-S 1 -P 1 ( 1 relative to compound VII To 3 equivalents, more preferably 1 to 1.5 equivalents) are reacted under heating at about 50 ° C to 150 ° C to obtain the desired compound VIII. Examples of the leaving group K in this compound include a halogen atom,
Examples thereof include an alkylsulfonyloxy group and an arylsulfonyloxy group. As the base I, inorganic and organic bases can be adopted, and preferred examples of the base include potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydroxide,
Examples thereof include potassium hydroxide, lithium hydroxide, potassium acetate, sodium acetate, sodium phosphate and the like. Scheme 3

【0035】[0035]

【化16】 [Chemical 16]

【0036】(式中、Ar1,Ar2,Dは前記と同義である。
Tはハロゲン原子、Yは保護基、Rはアルキル基を示
す。)
(In the formula, Ar 1 , Ar 2 and D have the same meanings as described above.
T is a halogen atom, Y is a protecting group, and R is an alkyl group. )

【0037】スキーム3において化合物IXは特表平11
−502855号公報に記載の方法で合成する事ができ
る。この化合物IXとY−D−Ar−B(OH)で示さ
れる化合物(化合物IXに対し、1乃至3当量が好まし
く、更に好ましくは1乃至2当量である。)とをテトラ
キストリフェニルホスフィンパラジウム(化合物IXに対
し、0.3乃至5モル%が好ましく、更に好ましくは1
乃至3モル%である。)を用いた反応(鈴木カップリン
グ反応)により反応させると化合物Xが得られる。保護
基Yの例としては、tert−ブトキシカルボニル基
(Boc)、ベンゾイルカルボニル基(Dbz)基、アセチル
基(Ac)等が挙げられる。
In Scheme 3, the compound IX is represented in Table 11
It can be synthesized by the method described in JP-A-502855. This compound IX and a compound represented by Y-D-Ar 1 -B (OH) 2 (1 to 3 equivalents relative to compound IX, preferably 1 to 2 equivalents) are tetrakistriphenylphosphine. Palladium (preferably 0.3 to 5 mol% relative to compound IX, more preferably 1
To 3 mol%. Compound X is obtained by the reaction (Suzuki coupling reaction). Examples of the protecting group Y include a tert-butoxycarbonyl group (Boc), a benzoylcarbonyl group (Dbz) group, an acetyl group (Ac) and the like.

【0038】次に化合物Xに対して塩基III(化合物x
に対し、1乃至4当量が好ましく、更に好ましくは1乃
至2当量である。)を作用させた後、Tと反応させる
と化合物XIが得られる。ハロゲン原子Tはヨウ素原子ま
たは臭素原子が好ましい。次に、化合物XIと(HO)
−Ar−CO−Rで示される化合物(化合物XIに対
し、1乃至3当量が好ましく、更に好ましくは1乃至2
当量である。)とを鈴木カップリング反応により反応さ
せると化合物XIIが得られる。最後に、前記のプロテク
ティブ・グループス・イン・オルガニック・ケミストリ
ー,(プレナムプレス)(ロンドンとニューヨーク,19
73)に記載されている方法に従って化合物XIIの保護基
Yを脱保護すれば化合物XIIIを得られる。 スキーム4
Next, for compound X, base III (compound x
On the other hand, it is preferably 1 to 4 equivalents, more preferably 1 to 2 equivalents. ) Is reacted with T 2 to give compound XI. The halogen atom T is preferably an iodine atom or a bromine atom. Next, compound XI and (HO) 2 B
A compound represented by —Ar 2 —CO 2 —R (1 to 3 equivalents relative to compound XI is preferable, and 1 to 2 is more preferable.
It is equivalent. ) Is reacted with Suzuki coupling reaction to obtain compound XII. Finally, the above-mentioned Protective Groups in Organic Chemistry, (Plenham Press) (London and New York, 19
By deprotecting the protecting group Y of compound XII according to the method described in 73), compound XIII can be obtained. Scheme 4

【0039】[0039]

【化17】 [Chemical 17]

【0040】(式中、Ar1,Ar2,S1,S2,P1,P2,は前記と同
義である。Yは保護基、Kは脱離基を示す。)
(In the formula, Ar 1 , Ar 2 , S 1 , S 2 , P 1 and P 2 have the same meanings as described above. Y represents a protecting group and K represents a leaving group.)

【0041】スキーム4では前記スキーム2記載の方法
と同様の方法で化合物XIIIから目的化合物XVIを合成す
る事ができる。
In Scheme 4, the target compound XVI can be synthesized from the compound XIII by a method similar to the method described in the above Scheme 2.

【0042】次に、本発明の光学素子の好ましい一実施
態様について説明する。前記一般式で表される重合性分
子を少なくとも構成成分の一部として含有してなる層を
一枚の基板上、あるいは一対の基板間に設けたものが好
ましい。該重合性分子を少なくとも構成成分の一部とし
て含有してなる層には、前記分子を重量で80%以上、
好ましくは90%以上含む事が望ましい。必要に応じて
適切な重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、架橋剤など
を添加しても良い。
Next, a preferred embodiment of the optical element of the present invention will be described. It is preferable that a layer containing the polymerizable molecule represented by the general formula as at least a part of the constituent components is provided on one substrate or between a pair of substrates. The layer containing the polymerizable molecule as at least a part of the constituents contains the molecule in an amount of 80% by weight or more,
It is preferable to contain 90% or more. If necessary, an appropriate polymerization initiator, polymerization inhibitor, photosensitizer, crosslinking agent, etc. may be added.

【0043】基板としてはガラスや透明プラスチック基
板等の透明基板が好ましい例として挙げられ、必要に応
じて基板上に透明電極層、および絶縁膜等を設けてもよ
い。透明電極は有してもいなくても良いが、基板上にI
TOを蒸着したものが好ましいが、特にこれに限定され
る事は無い。絶縁膜は有してもいなくても良いが、絶縁
膜を有する場合はポリイミド系やポリビニルアルコール
の絶縁膜が好ましい例として挙げられる。また、基板を
一対で用いる場合には、必要に応じてスペーサー、シー
ル剤等を用いてもよい。
A preferred example of the substrate is a transparent substrate such as glass or a transparent plastic substrate. If necessary, a transparent electrode layer, an insulating film, etc. may be provided on the substrate. It may or may not have a transparent electrode, but I
It is preferable that TO is vapor-deposited, but it is not particularly limited thereto. Although an insulating film may or may not be included, a polyimide-based or polyvinyl alcohol insulating film is a preferred example when the insulating film is included. When using a pair of substrates, a spacer, a sealant or the like may be used if necessary.

【0044】非線形光学応答基と複数個の重合反応可能
な官能基を同時に有する分子を少なくとも構成成分の一
部として含有してなる層を一枚の基板上に設ける方法と
しては、周知の方法が採用される。塗布する方法として
は、公知の方法、例えばカーテンコーティング法、押し
出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコ
ーティング法、ディップコーティング法、バーコーティ
ング法、スプレーコーティング法、スライドコーティン
グ法、印刷コーティング法等が採用される。基板間に注
入する方法としては、ディスペンサー方式、ベルジャー
法などの一般的な方法が採用される。
A well-known method can be used as a method for providing a layer containing a molecule having a non-linear optical response group and a plurality of polymerization-reactive functional groups at the same time as at least a part of constituent components on one substrate. Adopted. As the coating method, known methods such as curtain coating method, extrusion coating method, roll coating method, spin coating method, dip coating method, bar coating method, spray coating method, slide coating method, and printing coating method are adopted. It As a method for injecting between the substrates, a general method such as a dispenser method or a bell jar method is adopted.

【0045】次に、非線形光学応答基と複数個の重合反
応可能な官能基を同時に有する分子を少なくとも構成成
分の一部として含有してなる層に外部電場、あるいは外
部磁場を印加する事によって該重合性分子を配向させ
る。配向法としては外部電場を用いる方法が好ましく、
コンタクトポーリング法(平面電極ポーリング法、電極
サンドイッチポーリング法)やコロナポーリング法を採
用する事が好ましい。これらのポーリング法は「光・電
子機能有機材料ハンドブック」、朝倉書店発行(199
5年)に記載されている。外部電場、あるいは外部磁場
の印加は融点前後の温度範囲で行うのが好ましい。用い
る外部電場、あるいは外部磁場の強度は、用いる該重合
性分子の配向制御に適切な強度が採用される。
Then, an external electric field or an external magnetic field is applied to the layer containing at least a molecule having a nonlinear optical response group and a plurality of functional groups capable of undergoing polymerization reaction at least as a part of the constituents. Orient the polymerizable molecules. As the orientation method, a method using an external electric field is preferable,
It is preferable to employ a contact poling method (planar electrode poling method, electrode sandwich poling method) or a corona poling method. These polling methods are described in "A Handbook of Optoelectronic Functional Organic Materials", published by Asakura Shoten (199
5 years). The external electric field or the external magnetic field is preferably applied within a temperature range around the melting point. As the strength of the external electric field or the external magnetic field used, a strength suitable for controlling the orientation of the polymerizable molecules used is adopted.

【0046】最後に、非線形光学応答基と複数個の重合
反応可能な官能基を同時に有する該重合性分子を配向さ
せた状態において、外部電場、あるいは外部磁場印加
下、該重合性分子を二次元的に重合し、その重合鎖が全
体として三次元的に絡み合い、マトリックス形成するこ
とにより非線形光学応答基の配向を固定し、目的とする
非線形光学材料を得ることができる。重合反応には、熱
あるいは電磁波による公知の種々の重合法が採用できる
が、紫外光による光重合開始剤を用いるラジカル重合が
特に好ましい。以上のようにして得られた非線形光学応
答層を一枚の絶縁膜を有していてもいなくても良い透明
電極基板上に設けた非線形光学材料においては、非線形
光学応答層の上層に更なる電極層を設けても良い。その
例としては、アルミニウムや金などの金属を蒸着させた
電極が挙げられる。図1及び2に本発明における非線形
光学材料の層構造の典型的な例を示す。図1及び図2に
おいて、1は本発明の重合性化合物のマトリックスから
なる層(非線形光学応答層)、2は絶縁層、3は透明電
極基板を示す。
Finally, in a state in which the polymerizable molecule having a non-linear optical response group and a plurality of functional groups capable of polymerization reaction at the same time is oriented, the polymerizable molecule is two-dimensionally applied under the application of an external electric field or an external magnetic field. It is possible to obtain the desired non-linear optical material by polymerizing mechanically, the polymer chains are entangled three-dimensionally as a whole, and by forming a matrix, the orientation of the non-linear optical response group is fixed. For the polymerization reaction, various known polymerization methods using heat or electromagnetic waves can be adopted, but radical polymerization using a photopolymerization initiator by ultraviolet light is particularly preferable. The non-linear optical response layer obtained as described above may or may not have one insulating film. In the non-linear optical material provided on the transparent electrode substrate, the non-linear optical response layer is further formed on the upper layer. An electrode layer may be provided. An example thereof is an electrode formed by vapor-depositing a metal such as aluminum or gold. 1 and 2 show typical examples of the layer structure of the nonlinear optical material according to the present invention. In FIG. 1 and FIG. 2, 1 is a layer made of a matrix of the polymerizable compound of the present invention (nonlinear optical response layer), 2 is an insulating layer, and 3 is a transparent electrode substrate.

【0047】[0047]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが,本発明の範囲は下記の実施例に限定される
ことはない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the scope of the present invention is not limited to the following examples.

【0048】実施例1 4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック
アシドの合成
Example 1 4- (6-Hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic
Acid synthesis

【0049】[0049]

【化18】 [Chemical 18]

【0050】2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾアルデヒ
ド(16.1g, 105.8mmol)及びメチル4-(ブロモエチル)ベ
ンゾエート (24.5g, 107.0mmol)をジメチルホルムアミ
ド(DMF)280mlに溶解させ、炭酸カリウム(34.6g, 250m
mol)を添加した。100℃において10時間撹拌した後、
水400mlを加え酢酸エチルにて抽出した。飽和食塩水で
洗浄した後、抽出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥し
た後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去した。そ
の後、ヘキサン/酢酸エチルにより再結晶して30.1gの4-
(2-フォルミル-5-メトキシ-フェノキシメチル)-ベンゾ
イック アシドメチル エステルの白色結晶を得た。
2-Hydroxy-4-methoxy-benzaldehyde (16.1 g, 105.8 mmol) and methyl 4- (bromoethyl) benzoate (24.5 g, 107.0 mmol) were dissolved in 280 ml of dimethylformamide (DMF) and potassium carbonate (34.6 g) was added. g, 250m
mol) was added. After stirring at 100 ° C for 10 hours,
400 ml of water was added and extracted with ethyl acetate. After washing with saturated saline, the extract was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off with a rotary evaporator. Then recrystallize with hexane / ethyl acetate to give 30.1 g of 4-
White crystals of (2-formyl-5-methoxy-phenoxymethyl) -benzoic acid methyl ester were obtained.

【0051】次に、4-(2-フォルミル-5-メトキシ-フェ
ノキシメチル)-ベンゾイック アシドメチル エステル(3
0.1g, 99.9mmol)をジメチルホルムアミド(DMF)300mlに
溶解させ、ter−ブトキシカリウム(12.9g, 115mmol)
を徐々に添加した。室温で8時間撹拌した後、水を加え
た。沈殿を濾過し、水で洗浄して4-(6-メトキシ-ベンゾ
フラン-2-イル)-ベンゾイック アシド メチル エステル
の白色固体11.9gを得た。
Next, 4- (2-formyl-5-methoxy-phenoxymethyl) -benzoic acid methyl ester (3
0.1 g, 99.9 mmol) was dissolved in 300 ml of dimethylformamide (DMF), and potassium ter-butoxide (12.9 g, 115 mmol) was added.
Was gradually added. After stirring at room temperature for 8 hours, water was added. The precipitate was filtered and washed with water to give 11.9 g of 4- (6-methoxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid methyl ester as a white solid.

【0052】次に、4-(6-メトキシ-ベンゾフラン-2-イ
ル)-ベンゾイック アシド メチル エステル(11.9g, 42.
2mmol)をジクロロメタン150mlに溶解させ、ボロントリ
ブロマイド(BBr3)の1.0mol/Lジクロロメタン溶液100ml
(100mmol)を氷冷下において滴下した後、室温にて4時間
撹拌した。その後反応液に水を加え、生じた沈殿を濾過
し、水で洗浄することにより4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフ
ラン-2-イル)-ベンゾイック アシド 25.1gを得た。 FAB-MS (M+H)+ = 2541 H NMR (DMSO-d6 , 300MHz, δ) : 6.78-6.81(dd, J =
8.4, 2.1Hz, 1H), 6.99-7.00(d, J = 1.5Hz, 1H), 7.46
-7.49(d, J = 8.4Hz, 1H), 7.47(s, 1H), 7.93-7.96(d,
J = 8.4Hz, 1H), 8.01-8.04(d, J = 8.4Hz, 1H)
Next, 4- (6-methoxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid methyl ester (11.9 g, 42.
(2 mmol) is dissolved in 150 ml of dichloromethane, and 100 ml of a 1.0 mol / L dichloromethane solution of boron tribromide (BBr3) is dissolved.
(100 mmol) was added dropwise under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. After that, water was added to the reaction solution, and the formed precipitate was filtered and washed with water to obtain 25.1 g of 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid. FAB-MS (M + H) + = 254 1 H NMR (DMSO-d 6 , 300MHz, δ): 6.78-6.81 (dd, J =
8.4, 2.1Hz, 1H), 6.99-7.00 (d, J = 1.5Hz, 1H), 7.46
-7.49 (d, J = 8.4Hz, 1H), 7.47 (s, 1H), 7.93-7.96 (d,
J = 8.4Hz, 1H), 8.01-8.04 (d, J = 8.4Hz, 1H)

【0053】実施例2 4-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル)-ベンゾ
イック アシドの合成
Example 2 Synthesis of 4- (6-hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzoic acid

【0054】[0054]

【化19】 [Chemical 19]

【0055】まず、特表平11−502855号公報に
記載の方法により2-ブロモ-6-メトキシ-ベンゾ[b]チオ
フェンを合成した。続いて、トルエン(200ml)中の2-ブ
ロモ-6-メトキシ-ベンゾ[b]チオフェン(12.2g, 50.0mmo
l)溶液に4-メトキシカルボフェニルボロニック アシド
(9.9g, 55.0mmol)、テトラキストリフェニルホスフィン
パラジウム (1.13g, 1.00mmol)を順次加えた。この溶液
に2N炭酸ナトリウム溶液50mlを加えた。得られた混合
液を5時間熱還流した。冷却すると、白色の4-(6-メトキ
シ-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル)-ベンゾイック アシド
メチル エステルが生成した。この固体を濾過により集
め、酢酸エチルにて洗浄した。一方、濾液は酢酸エチル
と飽和炭酸水素ナトリウム水にて抽出し、有機層を飽和
食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。ロータリ
ーエバポレーターにより更なる4-(6-メトキシ-ベンゾ
[b]チオフェン-2-イル)-ベンゾイック アシド メチル
エステルを得、これを濾過により集めた。生成物の総収
量は11.7g(収率81%)であった。
First, 2-bromo-6-methoxy-benzo [b] thiophene was synthesized by the method described in Japanese Patent Publication No. 11-502855. Then 2-bromo-6-methoxy-benzo [b] thiophene (12.2 g, 50.0 mmo in toluene (200 ml).
l) Add 4-methoxycarbophenylboronic acid to the solution.
(9.9 g, 55.0 mmol) and tetrakistriphenylphosphine palladium (1.13 g, 1.00 mmol) were sequentially added. To this solution was added 50 ml of 2N sodium carbonate solution. The resulting mixture was heated under reflux for 5 hours. Upon cooling, white 4- (6-methoxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzic acid methyl ester was formed. The solid was collected by filtration and washed with ethyl acetate. On the other hand, the filtrate was extracted with ethyl acetate and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, and the organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. Further 4- (6-methoxy-benzo-
[b] Thiophen-2-yl) -benzoic acid methyl
The ester was obtained, which was collected by filtration. The total yield of product was 11.7 g (81% yield).

【0056】次に、4-(6-メトキシ-ベンゾ[b]チオフェ
ン-2-イル)-ベンゾイック アシド メチル エステル (1
0.0g, 33.5mmol)をジクロロメタン130mlに溶解させ、ボ
ロントリブロマイド(BBr3)の1.0mol/Lジクロロメタン溶
液80ml(80mmol)を氷冷下において滴下した後、室温にて
4時間撹拌した。その後反応液に水を加え、生じた沈殿
を濾過し、水で洗浄することにより4-(6-ヒドロキシ-ベ
ンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシド7.8g(収率87
%)を得た。 FAB-MS (M+H)+ = 270
Next, 4- (6-methoxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzoic acid methyl ester (1
0.0 g, 33.5 mmol) was dissolved in 130 ml of dichloromethane, 80 ml (80 mmol) of a 1.0 mol / L dichloromethane solution of boron tribromide (BBr3) was added dropwise under ice cooling, and then at room temperature.
It was stirred for 4 hours. Thereafter, water was added to the reaction solution, and the resulting precipitate was filtered and washed with water to give 7.8 g of 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid (yield 87
%). FAB-MS (M + H) + = 270

【0057】実施例3:4-[6-(4-アクリロイルオキシ−
ブトキシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイックアシド
4-アクリロイルオキシ−ブチル エステル(化合物3)
の合成
Example 3: 4- [6- (4-acryloyloxy-
Butoxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid
4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 3)
Synthesis of

【0058】[0058]

【化20】 [Chemical 20]

【0059】4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシド(1.46g, 5.74mmol)をジメチルホル
ムアミド(DMF)15mlに溶解し、炭酸カリウム(6.22g, 45.
0mmol)を添加した。アクリル アシド 4-メタンスルフォ
ニルオキシ ブチル エステル(5.11g, 23.0mmol)を添加
し、120℃にて12時間撹拌した。その後反応液に水を加
え、酢酸エチルにて抽出し、抽出液を飽和炭酸水素ナト
リウム水及び飽和食塩水にて洗浄し無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた。ロータリーエバポレーターにて濃縮
し、この濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー(展開
液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)にて精製し、4-[6-
(4-アクリロイルオキシ−ブトキシ)-ベンゾフラン-2-イ
ル]-ベンゾイック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチ
ル エステル1.2gを得た。
4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl)-
Benzoic acid (1.46 g, 5.74 mmol) was dissolved in 15 ml of dimethylformamide (DMF), and potassium carbonate (6.22 g, 45.
0 mmol) was added. Acrylic acid 4-methanesulfonyloxy butyl ester (5.11 g, 23.0 mmol) was added, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 12 hours. After that, water was added to the reaction solution and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. Concentrate with a rotary evaporator and purify the concentrate with silica gel chromatography (developing solution: hexane / ethyl acetate = 3/1) to give 4- [6-
1.2 g of (4-acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester was obtained.

【0060】FAB-MS (M+H)+ = 5061 H NMR (CDCl3, 300MHz, δ) : 1.66-1.78(m, 8H), 3.6
9-3.73(t, J = 6.2Hz, 2H), 4.19-4.23(t, J = 6.5Hz,
2H), 4.24-4.28(t, J = 6.1Hz, 2H), 4.35-4.39(t, J =
6.1Hz, 2H), 5,82-5.86(dd, J = 10.3, 1.5Hz, 1H),
6.09-6.17(dd, J =17.4, 10.2Hz, 1H), 6.39-6.46(dd,
J = 18.6, 1.2Hz, 1H), 6.80-6.83(d, J =7.5Hz, 1H),
7.03-7.;7.07(dd, J = 10.4, 2.0Hz, 2H), 7.42-7.44
(d, J = 8.4Hz, 1H), 7.84-7.87(d, J = 8.6Hz, 2H),
8.07-8.09(d, J = 8.7Hz, 2H)
FAB-MS (M + H) + = 506 1 H NMR (CDCl 3 , 300 MHz, δ): 1.66-1.78 (m, 8H), 3.6
9-3.73 (t, J = 6.2Hz, 2H), 4.19-4.23 (t, J = 6.5Hz,
2H), 4.24-4.28 (t, J = 6.1Hz, 2H), 4.35-4.39 (t, J =
6.1Hz, 2H), 5,82-5.86 (dd, J = 10.3, 1.5Hz, 1H),
6.09-6.17 (dd, J = 17.4, 10.2Hz, 1H), 6.39-6.46 (dd,
J = 18.6, 1.2Hz, 1H), 6.80-6.83 (d, J = 7.5Hz, 1H),
7.03-7.; 7.07 (dd, J = 10.4, 2.0Hz, 2H), 7.42-7.44
(d, J = 8.4Hz, 1H), 7.84-7.87 (d, J = 8.6Hz, 2H),
8.07-8.09 (d, J = 8.7Hz, 2H)

【0061】実施例4:4-[6-(4-アクリロイルオキシ−
ブトキシ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-ベンゾイック
アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エステル(化
合物4)の合成
Example 4: 4- [6- (4-acryloyloxy-
Butoxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 4) synthesis

【0062】[0062]

【化21】 [Chemical 21]

【0063】4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシド を4-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チ
オフェン-2-イル)-ベンゾイック アシドに変え、実施例
3の方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 522
4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl)-
The benzoic acid was changed to 4- (6-hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzoic acid and synthesized according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 522

【0064】実施例5:4-(6-アクリロイルオキシメト
キシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシドアク
リロイルオキシメチル エステル(化合物1)の合成
Example 5: Synthesis of 4- (6-acryloyloxymethoxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid acryloyloxymethyl ester (Compound 1)

【0065】[0065]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0066】アクリル アシド 4-メタンスルフォニルオ
キシ- ブチル エステルをアクリルアシド メタンスルフ
ォニルオキシメチル エステルに変え、実施例3の方法
に従って合成した。融点108℃(DSCにて測定)。 FAB-MS (M+H)+ = 422
Acrylic acid 4-methanesulfonyloxy-butyl ester was replaced with acrylic acid methanesulfonyloxymethyl ester, and synthesis was performed according to the method of Example 3. Melting point 108 ° C (measured by DSC). FAB-MS (M + H) + = 422

【0067】実施例6:4-(6-アクリロイルオキシメト
キシ-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル)-ベンゾイックアシ
ド アクリロイルオキシメチル エステル(化合物2)の
合成
Example 6: Synthesis of 4- (6-acryloyloxymethoxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzic acid acryloyloxymethyl ester (Compound 2)

【0068】[0068]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0069】4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシド を4-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チ
オフェン-2-イル)-ベンゾイック アシドに変え、実施例
5の方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 438
4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl)-
The benzoic acid was changed to 4- (6-hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzoic acid and synthesized according to the method of Example 5. FAB-MS (M + H) + = 438

【0070】実施例7:4-[6-(6-アクリロイルオキシ-
ヘキシルオキシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイック
アシド 6-アクリロイルオキシ-ヘキシル エステル(化
合物5)の合成
Example 7: 4- [6- (6-acryloyloxy-
Hexyloxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic
Synthesis of acid 6-acryloyloxy-hexyl ester (Compound 5)

【0071】[0071]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0072】アクリル アシド 4-メタンスルフォニルオ
キシ ブチル エステルをアクリルアシド 6-メタンスル
フォニルオキシ-ヘキシル エステルに変え、実施例3の
方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 562
Acrylic acid 4-methanesulfonyloxy butyl ester was replaced with acrylic acid 6-methanesulfonyloxy-hexyl ester, and synthesis was performed according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 562

【0073】実施例8:4-[6-(6-アクリロイルオキシ-
ヘキシルオキシ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-ベンゾ
イック アシド 6-アクリロイルオキシ-ヘキシル エステ
ル(化合物6)の合成
Example 8: 4- [6- (6-acryloyloxy-
Hexyloxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -benzoic acid 6-Acryloyloxy-hexyl ester (Compound 6) synthesis

【0074】[0074]

【化25】 [Chemical 25]

【0075】4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシドを4-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオ
フェン-2-イル)-ベンゾイック アシドに変え、実施例3
の方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 578
4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl)-
Example 3 with the benzoic acid changed to 4- (6-hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzoic acid
It was synthesized according to the method of. FAB-MS (M + H) + = 578

【0076】実施例9:4-[6-(12-アクリロイルオキシ-
ドデシルオキシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイック
アシド 12-アクリロイルオキシ-ドデシル エステル(化
合物7)の合成
Example 9: 4- [6- (12-acryloyloxy-
Dodecyloxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic
Synthesis of acid 12-acryloyloxy-dodecyl ester (Compound 7)

【0077】[0077]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0078】アクリル アシド 4-メタンスルフォニルオ
キシ ブチル エステルをアクリルアシド 12-メタンスル
フォニルオキシ-ドデシル エステルに変え、実施例3の
方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 730
Acrylic acid 4-methanesulfonyloxy butyl ester was replaced with acrylic acid 12-methanesulfonyloxy-dodecyl ester, and synthesis was performed according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 730

【0079】実施例10:4-[6-(12-アクリロイルオキ
シ-ドデシルオキシ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-ベ
ンゾイック アシド 12-アクリロイルオキシ-ドデシル
エステル(化合物8)の合成
Example 10: 4- [6- (12-acryloyloxy-dodecyloxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -benzoic acid 12-acryloyloxy-dodecyl
Synthesis of ester (Compound 8)

【0080】[0080]

【化27】 [Chemical 27]

【0081】アクリル アシド 4-メタンスルフォニルオ
キシ- ブチル エステルをアクリルアシド 12-メタンス
ルフォニルオキシ-ドデシル エステルに変え、実施例4
の方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 746
Example 4 was changed to acrylic acid 12-methanesulfonyloxy-dodecyl ester instead of acrylic acid 4-methanesulfonyloxy-butyl ester.
It was synthesized according to the method of. FAB-MS (M + H) + = 746

【0082】実施例11 4-[6-(4-アクリロイルオキシ−ブトキシ)-ベンゾフラン
-2-イル]-ベンゾイックアシド 6-アクリロイルオキシ-
ヘキシル エステル(化合物9)の合成
Example 11 4- [6- (4-acryloyloxy-butoxy) -benzofuran
-2-yl] -benzoic acid 6-acryloyloxy-
Synthesis of hexyl ester (Compound 9)

【0083】[0083]

【化28】 [Chemical 28]

【0084】4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシド (5.0g, 19.7mmol)をテトラヒドロ
フラン (THF) 50mlに溶解させ、塩化チオニル (3.5g, 2
9.5mmol)を滴下した。50℃にて3時間撹拌後、アクリル
アシド 6-ヒドロキシ-ヘキシルエステル (6.6g, 38.4mm
ol)及びジイソプロピルエチルアミン (10.2g, 78.8mmo
l)を添加し、70℃にて12時間撹拌した。リン酸緩衝液
を加え酢酸エチルにて抽出した。その抽出液を飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒
を留去後、シリカゲルクロマトグラフィー(展開液:ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1)にて精製し、4-(6-ヒドロ
キシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイックアシド 6-ア
クリロイルオキシ-ヘキシル エステル (4.58g,収率 57
%)を得た。最後に、4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イ
ル)-ベンゾイック アシド 6-アクリロイルオキシ-ヘキ
シル エステル及びアクリル アシド 4-メタンスルフォ
ニルオキシ-ブチル エステルを用いて、実施例2の方法
に従って目的とする4-[6-(4-アクリロイルオキシ−ブト
キシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイック アシド 6-
アクリロイルオキシ-ヘキシル エステルを得た。 FAB-MS (M+H)+ = 535
4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl)-
Benzoic acid (5.0 g, 19.7 mmol) was dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran (THF) and thionyl chloride (3.5 g, 29.7 mmol) was added.
9.5 mmol) was added dropwise. Acrylic after stirring for 3 hours at 50 ℃
Acid 6-hydroxy-hexyl ester (6.6g, 38.4mm
ol) and diisopropylethylamine (10.2g, 78.8mmo
l) was added and the mixture was stirred at 70 ° C. for 12 hours. Phosphate buffer was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After distilling off the solvent, the residue was purified by silica gel chromatography (developing solution: hexane / ethyl acetate = 2/1) to give 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzic acid 6-acryloyloxy-hexyl. Ester (4.58 g, yield 57
%). Finally, using 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid 6-acryloyloxy-hexyl ester and acryl acid 4-methanesulfonyloxy-butyl ester, the method of Example 2 was followed. 4- [6- (4-Acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid 6-
Acryloyloxy-hexyl ester was obtained. FAB-MS (M + H) + = 535

【0085】実施例12 4-[6-(4-アクリロイルオキシ−ブトキシ)-ベンゾ[b]チ
オフェン-2-イル]-ベンゾイック アシド 6-アクリロイ
ルオキシ-ヘキシル エステル(化合物10)の合成
Example 12 Synthesis of 4- [6- (4-acryloyloxy-butoxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -benzoic acid 6-acryloyloxy-hexyl ester (Compound 10)

【0086】[0086]

【化29】 [Chemical 29]

【0087】4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシドを4-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオ
フェン-2-イル)-ベンゾイック アシドに変え、実施例1
1の方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 550
4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl)-
Example 1 with the benzoic acid changed to 4- (6-hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzoic acid
It was synthesized according to the method of 1. FAB-MS (M + H) + = 550

【0088】実施例13:4-[5-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイックアシ
ド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エステル(化合物1
1)の合成
Example 13: 4- [5- (4-acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 1
Synthesis of 1)

【0089】[0089]

【化30】 [Chemical 30]

【0090】2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾアルデヒ
ドを2-ヒドロキシ-5-メトキシ-ベンゾアルデヒドに変
え、実施例1の方法に従って4-(5-ヒドロキシ-ベンゾフ
ラン-2-イル)-ベンゾイック アシドをまず合成した。そ
の後、4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾ
イック アシド を4-(5-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イ
ル)-ベンゾイック アシドに変え、後は実施例3の方法
に従って目的とする4-[5-(4-アクリロイルオキシ−ブト
キシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイック アシド 4-
アクリロイルオキシ−ブチル エステルを合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 5061 H NMR (CDCl3, 300MHz, δ) : 1.87-1.94(m, 8H), 4.0
5-4.6(m, 2H), 4.23-4.27(m, 2H), 4.37-4.42(m, 2H),
5,81-5.86(dd, J = 9.6, 1.5Hz, 1H), 6.11-6.17(dd,
J = 17.4, 8.4Hz, 1H), 6.39-6.46(dd, J = 17.4, 1.2H
z, 1H), 6.90-6.94(dd J = 7.5, 1.2Hz, 1H), 7.04-7.0
8(dd, J = 9.6, 2.7Hz, 2H), 7.40-7.43(d, J = 8.4Hz,
1H), 7.89-7.91(d, J = 8.4Hz, 2H), 8.09-8.12(d, J
= 8.7Hz, 2H)
2-Hydroxy-4-methoxy-benzaldehyde was replaced by 2-hydroxy-5-methoxy-benzaldehyde and 4- (5-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was prepared according to the method of Example 1. First synthesized. Then, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was changed to 4- (5-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid, and the target compound was prepared according to the method of Example 3. -[5- (4-Acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid 4-
Acryloyloxy-butyl ester was synthesized. FAB-MS (M + H) + = 506 1 H NMR (CDCl 3 , 300MHz, δ): 1.87-1.94 (m, 8H), 4.0
5-4.6 (m, 2H), 4.23-4.27 (m, 2H), 4.37-4.42 (m, 2H),
5,81-5.86 (dd, J = 9.6, 1.5Hz, 1H), 6.11-6.17 (dd,
J = 17.4, 8.4Hz, 1H), 6.39-6.46 (dd, J = 17.4, 1.2H
z, 1H), 6.90-6.94 (dd J = 7.5, 1.2Hz, 1H), 7.04-7.0
8 (dd, J = 9.6, 2.7Hz, 2H), 7.40-7.43 (d, J = 8.4Hz,
1H), 7.89-7.91 (d, J = 8.4Hz, 2H), 8.09-8.12 (d, J
= 8.7Hz, 2H)

【0091】実施例14:4-[5-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-ベンゾイッ
ク アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エステル
(化合物12)の合成
Example 14: Synthesis of 4- [5- (4-acryloyloxy-butoxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 12)

【0092】[0092]

【化31】 [Chemical 31]

【0093】4-(5-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシドを4-(5-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオ
フェン-2-イル)-ベンゾイック アシドに変え、実施例1
3の方法に従って4-[5-(4-アクリロイルオキシ−ブトキ
シ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-ベンゾイック アシ
ド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エステルを合成し
た。 FAB-MS (M+H)+ = 522
4- (5-hydroxy-benzofuran-2-yl)-
Example 1 was changed to 4- (5-hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzoic acid instead of benzoic acid.
4- [5- (4-acryloyloxy-butoxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester was synthesized according to the method of 3. FAB-MS (M + H) + = 522

【0094】実施例15:4-[5-(12-アクリロイルオキ
シ-ドデシルオキシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイッ
ク アシド 12-アクリロイルオキシ-ドデシル エステル
(化合物13)の合成
Example 15: Synthesis of 4- [5- (12-acryloyloxy-dodecyloxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid 12-acryloyloxy-dodecyl ester (compound 13)

【0095】[0095]

【化32】 [Chemical 32]

【0096】4-(5-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシドを4-(5-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオ
フェン-2-イル)-ベンゾイック アシドに変え、実施例9
の方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 730
4- (5-hydroxy-benzofuran-2-yl)-
Example 9 was changed to 4- (5-hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl) -benzoic acid instead of benzoic acid.
It was synthesized according to the method of. FAB-MS (M + H) + = 730

【0097】実施例16:4-[5-(12-アクリロイルオキ
シ-ドデシルオキシ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-ベ
ンゾイック アシド 12-アクリロイルオキシ-ドデシル
エステル(化合物14)の合成
Example 16: 4- [5- (12-acryloyloxy-dodecyloxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -benzoic acid 12-acryloyloxy-dodecyl
Synthesis of ester (compound 14)

【0098】[0098]

【化33】 [Chemical 33]

【0099】4-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオフェン-2-
イル)-ベンゾイック アシドを4-(5-ヒドロキシ-ベンゾ
[b]チオフェン-2-イル)-ベンゾイック アシドに変え、
実施例10の方法に従って合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 746
4- (6-hydroxy-benzo [b] thiophene-2-
Yl) -benzoic acid 4- (5-hydroxy-benzo
[b] thiophen-2-yl) -benzoic acid
Synthesized according to the method of Example 10. FAB-MS (M + H) + = 746

【0100】実施例17:4'-[6-(4-アクリロイルオキ
シ−ブトキシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ビフェニル-4-カ
ルボキシリック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル
エステル(化合物15)の合成
Example 17: Synthesis of 4 '-[6- (4-Acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl] -biphenyl-4-carboxylic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 15)

【0101】[0101]

【化34】 [Chemical 34]

【0102】まず、メチル 4-(ブロモエチル)ベンゾエ
ートを4'-ブロモメチル-ビフェニル-4-カルボキシリッ
ク アシド メチル エステルに変え、実施例1の方法に
従って4'-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ビフェ
ニル-4-カルボキシリック アシドを合成した。次に、4-
(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック ア
シドを4'-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ビフェ
ニル-4-カルボキシリック アシドに変え、実施例3の方
法に従って目的とする化合物15を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 582
First, methyl 4- (bromoethyl) benzoate was changed to 4'-bromomethyl-biphenyl-4-carboxylic acid methyl ester, and 4 '-(6-hydroxy-benzofuran-2-yl) was prepared according to the method of Example 1. -Biphenyl-4-carboxylic acid was synthesized. Then 4-
(6-Hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid is changed to 4 '-(6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -biphenyl-4-carboxylic acid and the desired compound is prepared according to the method of Example 3. 15 was synthesized. FAB-MS (M + H) + = 582

【0103】実施例18:4'-[6-(4-アクリロイルオキ
シ−ブトキシ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-ビフェニ
ル-4-カルボキシリック アシド 4-アクリロイルオキシ-
ブチルエステル(化合物16)の合成
Example 18: 4 '-[6- (4-acryloyloxy-butoxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -biphenyl-4-carboxylic acid 4-acryloyloxy-
Synthesis of butyl ester (Compound 16)

【0104】[0104]

【化35】 [Chemical 35]

【0105】まず、4-メトキシカルボニルフェニルボロ
ニック アシドを4'-メトキシカルボニル-ビフェニル-4-
カルボキシリック アシドに変え、実施例1の方法に従
って4'-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル)-
ビフェニル-4-カルボキシリック アシドを合成した。次
に、4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイッ
ク アシドを4'-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオフェン-2-
イル)-ビフェニル-4-カルボキシリック アシドに変え、
実施例3の方法に従って目的とする化合物16を合成し
た。 FAB-MS (M+H)+ = 598
First, 4-methoxycarbonylphenylboronic acid was converted into 4'-methoxycarbonyl-biphenyl-4-
4 '-(6-Hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl)-according to the method of Example 1 substituting for a carboxylic acid.
Biphenyl-4-carboxylic acid was synthesized. Next, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was converted to 4 '-(6-hydroxy-benzo [b] thiophene-2-
Yl) -biphenyl-4-carboxylic acid,
The target compound 16 was synthesized according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 598

【0106】実施例19:4-[6-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-ベンゾフラン-2-イル]-[1,1';4',1'']ター
フェニル-4''-カルボキシリック アシド 4-アクリロイ
ルオキシ−ブチル エステル(化合物17)の合成
Example 19: 4- [6- (4-Acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl]-[1,1 ';4', 1 "] terphenyl-4" -carboxyl Synthesis of acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 17)

【0107】[0107]

【化36】 [Chemical 36]

【0108】まず、メチル 4-(ブロモエチル)ベンゾエ
ートを4-ブロモメチル-[1,1';4',1'']ターフェニル-4''
-カルボキシリック アシドに変え、実施例1の方法に従
って4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-[1,1';4',
1'']ターフェニル-4''-カルボキシリック アシドを合成
した。次に、4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベ
ンゾイック アシドを4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-
イル)-[1,1';4',1'']ターフェニル-4''-カルボキシリッ
ク アシドに変え、実施例3の方法に従って目的とする
化合物17を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 658
First, methyl 4- (bromoethyl) benzoate was replaced with 4-bromomethyl- [1,1 ′; 4 ′, 1 ″] terphenyl-4 ″.
-Carboxylic acid, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl)-[1,1 ';4', according to the method of Example 1
1 ″] terphenyl-4 ″ -carboxylic acid was synthesized. Next, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was added to 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl).
Yield)-[1,1 ′; 4 ′, 1 ″] terphenyl-4 ″ -carboxylic acid, and the target compound 17 was synthesized according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 658

【0109】実施例20:4-[6-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-[1,1';4',
1'']ターフェニル-4''-カルボキシリック アシド 4-ア
クリロイルオキシ−ブチル エステル(化合物18)の
合成
Example 20: 4- [6- (4-acryloyloxy-butoxy) -benzo [b] thiophen-2-yl]-[1,1 ';4',
Synthesis of 1 "] terphenyl-4" -carboxylic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 18)

【0110】[0110]

【化37】 [Chemical 37]

【0111】まず、4-メトキシカルボニルフェニルボロ
ニック アシドを4-メトキシカルボニル-[1,1';4',1'']
ターフェニル-4''-カルボキシリック アシド メチル エ
ステルに変え、実施例2の方法に従って4-(6-ヒドロキシ
-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル)-[1,1';4',1'']ターフェ
ニル-4''-カルボキシリック アシドを合成した。次に、4
-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック
アシドを4-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオフェン-2-イ
ル)-[1,1';4',1'']ターフェニル-4''-カルボキシリック
アシドに変え、実施例3の方法に従って目的とする化
合物18を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 674
First, 4-methoxycarbonylphenylboronic acid is converted into 4-methoxycarbonyl- [1,1 ';4', 1 ''].
Change to terphenyl-4 ''-carboxylic acid methyl ester and follow the procedure of Example 2 to prepare 4- (6-hydroxy)
-Benzo [b] thiophen-2-yl)-[1,1 ';4', 1 "] terphenyl-4" -carboxylic acid was synthesized. Then 4
-(6-Hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic
The acid was changed to 4- (6-hydroxy-benzo [b] thiophen-2-yl)-[1,1 ′; 4 ′, 1 ″] terphenyl-4 ″ -carboxylic acid and the acid of Example 3 was used. Compound 18 of interest was synthesized according to the method. FAB-MS (M + H) + = 674

【0112】実施例21:6-[6-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-ベンゾフラン-2-イル]-ナフタレン-2-カル
ボキシリック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル
エステル(化合物19)の合成
Example 21: 6- [6- (4-Acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl] -naphthalene-2-carboxylic acid 4-acryloyloxy-butyl
Synthesis of ester (compound 19)

【0113】[0113]

【化38】 [Chemical 38]

【0114】まず、メチル 4-(ブロモエチル)ベンゾエ
ートを6-ブロモメチル-ナフタレン-2-カルボキシリック
アシド メチル エステルに変え、実施例1の方法に従
って6-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ナフタレ
ン-2-カルボキシリック アシドを合成した。その後、4-
(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック ア
シドを6-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ナフタ
レン-2-カルボキシリック アシドに変え、実施例3の方
法に従って目的とする化合物19を合成した。 FAB-MS (M+H)+ =556
First, methyl 4- (bromoethyl) benzoate was replaced with 6-bromomethyl-naphthalene-2-carboxylic acid methyl ester, and 6- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -naphthalene was prepared according to the method of Example 1. -2-Carboxylic acid was synthesized. Then 4-
(6-Hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was changed to 6- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -naphthalene-2-carboxylic acid to obtain the desired compound 19 according to the method of Example 3. Was synthesized. FAB-MS (M + H) + = 556

【0115】実施例22:6-[6-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル]-ナフタレン
-2-カルボキシリック アシド 4-アクリロイルオキシ−
ブチル エステル(化合物20)の合成
Example 22: 6- [6- (4-Acryloyloxy-butoxy) -benzo [b] thiophen-2-yl] -naphthalene
-2-Carboxylic acid 4-acryloyloxy-
Synthesis of butyl ester (Compound 20)

【0116】[0116]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0117】まず、4-メトキシカルボニルフェニルボロ
ニック アシドを6-メトキシカルボニルフェニル-ナフタ
レン-2-カルボキシリック アシドに変え、実施例1の方
法に従って6-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ナ
フタレン-2-カルボキシリック アシドを合成した。その
後、4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイ
ック アシドを6-(6-ヒドロキシ-ベンゾ[b]チオフェン-2
-イル)-ナフタレン-2-カルボキシリック アシドに変
え、実施例3の方法に従って目的とする化合物19を合
成した。 FAB-MS (M+H)+ =572
First, 4-methoxycarbonylphenylboronic acid was changed to 6-methoxycarbonylphenyl-naphthalene-2-carboxylic acid and 6- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl)-was prepared according to the method of Example 1. Naphthalene-2-carboxylic acid was synthesized. Then, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was added to 6- (6-hydroxy-benzo [b] thiophene-2.
The target compound 19 was synthesized according to the method of Example 3 by changing to (-yl) -naphthalene-2-carboxylic acid. FAB-MS (M + H) + = 572

【0118】実施例23:6-[4-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-フェニル]-ベンゾフラン-2-カルボキシリ
ック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エステル
(化合物21)の合成
Example 23: Synthesis of 6- [4- (4-acryloyloxy-butoxy) -phenyl] -benzofuran-2-carboxylic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 21)

【0119】[0119]

【化40】 [Chemical 40]

【0120】まず、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾア
ルデヒドを3-ヒドロキシ-4'-メトキシ-ビフェニル-4-カ
ルボアルデヒドに変え、実施例1の方法に従って6-(4-
ヒドロキシ-フェニル)-ベンゾフラン-2-カルボキシリッ
ク アシドを合成した。その後、4-(6-ヒドロキシ-ベン
ゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシドを6-(4-ヒドロ
キシ-フェニル)-ベンゾフラン-2-カルボキシリック ア
シドに変え、実施例3の方法に従って目的とする化合物
21を合成した。 FAB-MS (M+H)+ =506
First, 2-hydroxy-4-methoxy-benzaldehyde was changed to 3-hydroxy-4'-methoxy-biphenyl-4-carbaldehyde, and 6- (4-
Hydroxy-phenyl) -benzofuran-2-carboxylic acid was synthesized. Then, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was changed to 6- (4-hydroxy-phenyl) -benzofuran-2-carboxylic acid to obtain the desired compound 21 according to the method of Example 3. Was synthesized. FAB-MS (M + H) + = 506

【0121】実施例24:6-[4'-(4-アクリロイルオキ
シ−ブトキシ)-ビフェニル-4-イル]-ベンゾフラン-2-カ
ルボキシリック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル
エステル(化合物22)の合成
Example 24: Synthesis of 6- [4 '-(4-acryloyloxy-butoxy) -biphenyl-4-yl] -benzofuran-2-carboxylic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 22)

【0122】[0122]

【化41】 [Chemical 41]

【0123】まず、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾア
ルデヒドを3''-ヒドロキシ-4-メトキシ-[1,1';4',1'']
ターフェニル-4''-カルボアルデヒドに変え、実施例1
の方法に従って6-(4'-ヒドロキシ-ビフェニル-4-イル)-
ベンゾフラン-2-カルボキシリック アシドを合成した。
その後、4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベン
ゾイック アシドを6-(4'-ヒドロキシ-ビフェニル-4-イ
ル)-ベンゾフラン-2-カルボキシリック アシドに変え、
実施例3の方法に従って目的とする化合物22を合成し
た。 FAB-MS (M+H)+ =582
First, 2-hydroxy-4-methoxy-benzaldehyde was converted into 3 ″ -hydroxy-4-methoxy- [1,1 ′; 4 ′, 1 ″].
Example 1 was changed to terphenyl-4 ″ -carbaldehyde.
6- (4'-hydroxy-biphenyl-4-yl)-according to the method of
Benzofuran-2-carboxylic acid was synthesized.
After that, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was changed to 6- (4'-hydroxy-biphenyl-4-yl) -benzofuran-2-carboxylic acid,
Compound 22 of interest was synthesized according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 582

【0124】実施例25:6-[6-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-ナフタレン-2-イル]-ベンゾフラン-2-カル
ボキシリック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル
エステル(化合物23)の合成
Example 25: 6- [6- (4-Acryloyloxy-butoxy) -naphthalen-2-yl] -benzofuran-2-carboxylic acid 4-acryloyloxy-butyl
Synthesis of ester (compound 23)

【0125】[0125]

【化42】 [Chemical 42]

【0126】まず、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾア
ルデヒドを2-ヒドロキシ-4-(6-メトキシ-ナフタレン-2-
イル)-ベンゾアルデヒドに変え、実施例1の方法に従っ
て6-(6-ヒドロキシ-ナフタレン-2-イル)-ベンゾフラン-
2-カルボキシリック アシドを合成した。その後、4-(6-
ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシ
ドを6-(6-ヒドロキシ-ナフタレン-2-イル)-ベンゾフラ
ン-2-カルボキシリック アシドに変え、実施例3の方法
に従って目的とする化合物23を合成した。 FAB-MS (M+H)+ =556
First, 2-hydroxy-4-methoxy-benzaldehyde was treated with 2-hydroxy-4- (6-methoxy-naphthalene-2-
6- (6-Hydroxy-naphthalen-2-yl) -benzofuran-in accordance with the method of Example 1
2-Carboxylic acid was synthesized. Then 4- (6-
Hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was changed to 6- (6-hydroxy-naphthalen-2-yl) -benzofuran-2-carboxylic acid to synthesize the desired compound 23 according to the method of Example 3. . FAB-MS (M + H) + = 556

【0127】実施例26 4-{6-[4-(4-アクリロイルオキシ−ブトキシ)-フェニル]
-ベンゾフラン-2-イル}-ベンゾイック アシド 4-アクリ
ロイルオキシ−ブチル エステル(化合物24)の合成
Example 26 4- {6- [4- (4-acryloyloxy-butoxy) -phenyl]
-Benzofuran-2-yl} -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 24)

【0128】[0128]

【化43】 [Chemical 43]

【0129】2−ヒドロキシ−4−メトキシベンズアル
デヒドを3-ヒドロキシ-4'-メトキシ-ビフェニル-4-カル
バルデハイドに変え、実施例1の方法に従ってまず、4-
[6-(4-ヒドロキシ-フェニル)-ベンゾフラン-2-イル]-ベ
ンゾイック アシドをまず合成した。その後、4-(6-ヒド
ロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシド を
4-[6-(4-ヒドロキシ-フェニル)-ベンゾフラン-2-イル]-
ベンゾイック アシドに変え、実施例3の方法に従って目
的とする化合物24を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 582
2-Hydroxy-4-methoxybenzaldehyde was changed to 3-hydroxy-4'-methoxy-biphenyl-4-carbaldehyde and the 4-
[6- (4-Hydroxy-phenyl) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid was first synthesized. Then, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid
4- [6- (4-hydroxy-phenyl) -benzofuran-2-yl]-
The desired compound 24 was synthesized according to the method of Example 3 by changing to benzoic acid. FAB-MS (M + H) + = 582

【0130】実施例27 アクリル アシド 4-{2-[4-(4-アクリロイルオキシ-ブト
キシスルフォニル)-フェニル]-ベンゾフラン-6-イルオ
キシ}-ブチル エステル(化合物25)の合成
Example 27 Synthesis of acrylic acid 4- {2- [4- (4-acryloyloxy-butoxysulfonyl) -phenyl] -benzofuran-6-yloxy} -butyl ester (Compound 25)

【0131】[0131]

【化44】 [Chemical 44]

【0132】メチル 4-(ブロモエチル)ベンゾエートを4
-ブロモメチル-ベンゼンスルフォニック アシド メチル
エステルに変え、実施例1の方法に従って4-(6-ヒドロ
キシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゼンスルフォニック
アシドをまず合成した。その後、4-(6-ヒドロキシ-ベン
ゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシド を4-[6-(4-ヒ
ドロキシ-フェニル)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイッ
ク アシドに変え、実施例3の方法に従って目的とする
化合物25を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 542
Methyl 4- (bromoethyl) benzoate
-Bromomethyl-benzene sulphonic 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzene sulphonic according to the method of Example 1 substituting for the acid methyl ester.
The acid was first synthesized. Thereafter, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was changed to 4- [6- (4-hydroxy-phenyl) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid, and the method of Example 3 was followed. The target compound 25 was synthesized. FAB-MS (M + H) + = 542

【0133】実施例28:4-{6-[(4-アクリロイルオキ
シ-ブチル)-エチル−アミノ]-ベンゾフラン-2-イル}-ベ
ンゾイック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エ
ステル(化合物26)の合成
Example 28: Synthesis of 4- {6-[(4-acryloyloxy-butyl) -ethyl-amino] -benzofuran-2-yl} -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 26)

【0134】[0134]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0135】まず、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾア
ルデヒドを4-ブロモ-2-ヒドロキシ-ベンゾアルデヒドに
変え、実施例1の方法に従って4-(6-ブロモ-ベンゾフラ
ン-2-イル)-ベンゾイック アシド メチル エステルをま
ず合成した。次に、4-(6-ブロモ-ベンゾフラン-2-イル)
-ベンゾイック アシド メチル エステル (14.8g, 44.7m
mol)及びN-エチル−アセトアミド(4.67g, 53.6mmol)を
トルエン100mlに溶解させた。この混合液にPd(dba)2 (2
60mg, 0.45mmol)及びトリ-tert-ブチルフォスフィン (9
1.0mg, 0.45mmol)を添加し、80℃にて撹拌した。10時間
後、リン酸緩衝液を加えて酢酸エチルにて抽出した。こ
の抽出液を飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた。溶媒を留去後、シリガゲルクロマトグ
ラフィー(展開液:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)に
て精製し、4-[6-(アセチル-エチル−アミノ)-ベンゾフ
ラン-2-イル]-ベンゾイック アシド メチル エステル
(12.8g,収率 85%)を得た。次に、4-[6-(アセチル-エチ
ル−アミノ)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイックアシ
ド メチル エステル (12.5g, 37.9mmol)を塩化メチレン
200mlに溶解させ氷冷下、BF3・Et2O (14.0g, 98.9mmol)
を滴下した。室温で5時間撹拌後、表冷下、水を加え沈
殿を濾過分取した。この沈殿を飽和炭酸水素ナトリウム
水及び水で洗浄した後、真空加熱乾燥し、4-(6-エチル
アミノ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシド (1
0.2g, 36.1mmol)を得た。最後に、実施例3の方法に従っ
て4-(6-エチルアミノ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイ
ック アシドとアクリル アシド 4-メタンスルフォニル
オキシ‐ブチル エステルを反応させ、目的とする4-{6-
[(4-アクリロイルオキシ-ブチル)-エチル−アミノ]-ベ
ンゾフラン-2-イル}-ベンゾイック アシド 4-アクリロ
イルオキシ−ブチル エステルを得た。 FAB-MS (M+H)+ = 533
First, 2-hydroxy-4-methoxy-benzaldehyde was changed to 4-bromo-2-hydroxy-benzaldehyde, and 4- (6-bromo-benzofuran-2-yl) -benzoic acid was prepared according to the method of Example 1. The acid methyl ester was first synthesized. Then 4- (6-bromo-benzofuran-2-yl)
-Benzoic Acid Methyl Ester (14.8g, 44.7m
mol) and N-ethyl-acetamide (4.67 g, 53.6 mmol) were dissolved in 100 ml of toluene. Pd (dba) 2 (2
60 mg, 0.45 mmol) and tri-tert-butylphosphine (9
1.0 mg, 0.45 mmol) was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. After 10 hours, a phosphate buffer was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was purified by silica gel chromatography (developing solution: hexane / ethyl acetate = 2/1), and 4- [6- (acetyl-ethyl-amino) -benzofuran-2-yl] -benzoic Acid methyl ester
(12.8 g, yield 85%) was obtained. Next, 4- [6- (acetyl-ethyl-amino) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid methyl ester (12.5 g, 37.9 mmol) was added to methylene chloride.
Dissolve in 200 ml and under ice cooling, BF 3・ Et 2 O (14.0 g, 98.9 mmol)
Was dripped. After stirring at room temperature for 5 hours, water was added under surface cooling and the precipitate was collected by filtration. The precipitate was washed with saturated aqueous sodium hydrogencarbonate and water, dried under vacuum and dried, and then 4- (6-ethylamino-benzofuran-2-yl) -benzoic acid (1
0.2 g, 36.1 mmol) was obtained. Finally, 4- (6-ethylamino-benzofuran-2-yl) -benzoic acid and acrylic acid 4-methanesulfonyloxy-butyl ester were reacted according to the method of Example 3 to obtain the desired 4- {6-
[(4-Acryloyloxy-butyl) -ethyl-amino] -benzofuran-2-yl} -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester was obtained. FAB-MS (M + H) + = 533

【0136】実施例29:4-{6-[(4-アクリロイルオキ
シ-ブチル)-イソプロピル−アミノ]-ベンゾフラン-2-イ
ル}-ベンゾイック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチ
ル エステル(化合物27)の合成
Example 29: Synthesis of 4- {6-[(4-acryloyloxy-butyl) -isopropyl-amino] -benzofuran-2-yl} -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 27)

【0137】[0137]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0138】N-エチル−アセトアミドをN- イソプロピ
ル ?アセトアミドに変え、実施例28の方法に従って合
成した。 FAB-MS (M+H)+ = 547
N-Ethyl-acetamide was replaced with N-isopropyl-acetamide and synthesized according to the method of Example 28. FAB-MS (M + H) + = 547

【0139】実施例30:4-{6-[ビス-(4-アクリロイル
オキシ-ブチル)-アミノ]-ベンゾフラン-2-イル}-ベンゾ
イック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エステ
ル(化合物28)の合成
Example 30: Synthesis of 4- {6- [bis- (4-acryloyloxy-butyl) -amino] -benzofuran-2-yl} -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 28)

【0140】[0140]

【化47】 [Chemical 47]

【0141】まず、N-アセチル-3-アミノ-フェノールを
出発原料として、New J. Chem. 誌、第24巻、977
頁(2000年)に記載の方法により4-(6-アセチルア
ミノ-ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシド メチ
ル エステルを合成した。次に、4-(6-アセチルアミノ-
ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシド メチル エ
ステル (2.0g, 6.47mmol)を塩化メチレン70mlに溶解さ
せ氷冷下、BF3・Et2O (2.7g, 19.4mmol)を滴下した。室
温で5時間撹拌後、氷冷下、水を加え沈殿を濾過分取し
た。この沈殿を飽和炭酸水素ナトリウム水及び水で洗浄
した後、真空加熱乾燥し、4-(6-アミノ-ベンゾフラン-2
-イル)-ベンゾイック アシド(1.15g,収率 76%)を得た。
最後に、4-(6-ヒドロキシ-ベンゾフラン-2-イル)-ベン
ゾイック アシドを4-(6-アミノ-ベンゾフラン-2-イル)-
ベンゾイック アシドに変え、実施例3の方法に従って
目的とする化合物28を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 631
First, using N-acetyl-3-amino-phenol as a starting material, New J. Chem., Vol. 24, 977.
4- (6-acetylamino-benzofuran-2-yl) -benzic acid methyl ester was synthesized by the method described on page (2000). Next, 4- (6-acetylamino-
Benzofuran-2-yl) -benzoic acid methyl ester (2.0 g, 6.47 mmol) was dissolved in 70 ml of methylene chloride, and BF 3 .Et 2 O (2.7 g, 19.4 mmol) was added dropwise under ice cooling. After stirring at room temperature for 5 hours, water was added under ice cooling and the precipitate was collected by filtration. The precipitate was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and water, dried under vacuum, and dried with 4- (6-amino-benzofuran-2).
-Yl) -benzoic acid (1.15 g, yield 76%) was obtained.
Finally, 4- (6-hydroxy-benzofuran-2-yl) -benzoic acid is converted to 4- (6-amino-benzofuran-2-yl)-
Substituting benzoic acid, the desired compound 28 was synthesized according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 631

【0142】実施例31:4-[6-(4-アクリロイルオキシ
-ブチルスルファニル)-ベンゾフラン-2-イル]-ベンゾイ
ック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エステル
(化合物29)の合成
Example 31: 4- [6- (4-acryloyloxy
-Butylsulfanyl) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 29)

【0143】[0143]

【化48】 [Chemical 48]

【0144】2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾアルデヒ
ドを2-ヒドロキシ-4-メチルスルファニル-ベンゾアルデ
ヒドに変え、実施例1の方法に従って4-(6-メルカプト-
ベンゾフラン-2-イル)-ベンゾイック アシドをまず合成
した。その後、実施例3の方法に従って目的とする化合
物29を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 522
2-Hydroxy-4-methoxy-benzaldehyde was changed to 2-hydroxy-4-methylsulfanyl-benzaldehyde and 4- (6-mercapto- was prepared according to the method of Example 1.
Benzofuran-2-yl) -benzoic acid was first synthesized. Then, the target compound 29 was synthesized according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 522

【0145】実施例32:4-{6-[4-(2-メチル-アクリロ
イルオキシ)-ブトキシ]-ベンゾフラン-2-イル}-ベンゾ
イック アシド 4-(2-メチル-アクリロイルオキシ)-ブチ
ル エステル(化合物30)の合成
Example 32: 4- {6- [4- (2-Methyl-acryloyloxy) -butoxy] -benzofuran-2-yl} -benzoic acid 4- (2-methyl-acryloyloxy) -butyl ester ( Synthesis of compound 30)

【0146】[0146]

【化49】 [Chemical 49]

【0147】アクリル アシド 4-メタンスルフォニルオ
キシ ブチル エステルをメタクリック アシド 4-メタン
スルフォニルオキシ ブチル エステルに変え、実施例3
の方法に従って化合物30を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 534
Example 3 Acrylic acid 4-methanesulfonyloxy butyl ester was replaced with metaclic acid 4-methanesulfonyloxy butyl ester, Example 3
Compound 30 was synthesized according to the method described in 1. FAB-MS (M + H) + = 534

【0148】実施例33:4-{6-[4-(2-メチル-アクリロ
イルオキシ)-ブトキシ]-ベンゾ[b]チオフェン-2-イル}-
ベンゾイック アシド 4-(2-メチル-アクリロイルオキ
シ)-ブチル エステル(化合物31)の合成
Example 33: 4- {6- [4- (2-Methyl-acryloyloxy) -butoxy] -benzo [b] thiophen-2-yl}-
Synthesis of benzoic acid 4- (2-methyl-acryloyloxy) -butyl ester (Compound 31)

【0149】[0149]

【化50】 [Chemical 50]

【0150】アクリル アシド 4-メタンスルフォニルオ
キシ ブチル エステルをメタクリック アシド 4-メタン
スルフォニルオキシ ブチル エステルに変え、実施例4
の方法に従って化合物31を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 550
Example 4 Acrylic acid 4-methanesulfonyloxy butyl ester was replaced with metaclic acid 4-methanesulfonyloxy butyl ester, Example 4
Compound 31 was synthesized according to the method described in 1. FAB-MS (M + H) + = 550

【0151】実施例34:6-[4-(4-アクリロイルオキシ
−ブトキシ)-フェニル]-ベンゾフラン-2-カルボキシリ
ック アシド 4-アクリロイルオキシ−ブチル エステル
(化合物32)の合成
Example 34: Synthesis of 6- [4- (4-acryloyloxy-butoxy) -phenyl] -benzofuran-2-carboxylic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 32)

【0152】[0152]

【化51】 [Chemical 51]

【0153】2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾアルデヒ
ドを3-ヒドロキシ-4'-メトキシ-ビフェニル-4-カルバル
デハイドに変え、メチル 4-(ブロモエチル)ベンゾエー
トをブロモ-アセティック アシド メチル エステルに変
え、実施例1の方法に従ってまず、6-(4-ヒドロキシ-フ
ェニル)-ベンゾフラン-2-カルボキシリック アシドを合
成した。その後、実施例3の方法に従って目的とする化
合物32を合成した。 FAB-MS (M+H)+ = 506
2-hydroxy-4-methoxybenzaldehyde was changed to 3-hydroxy-4'-methoxy-biphenyl-4-carbaldehyde, methyl 4- (bromoethyl) benzoate was changed to bromo-acetic acid acid methyl ester, According to the method of Example 1, 6- (4-hydroxy-phenyl) -benzofuran-2-carboxylic acid was first synthesized. Then, the target compound 32 was synthesized according to the method of Example 3. FAB-MS (M + H) + = 506

【0154】実施例35:絶縁膜としてポリイミド薄膜
を塗布したITO透明電極部を有するガラス基板からなる
4μmの空隙を有する水平配向セル(イー.エッチ.ア
イ製)に、4-[6-(4-アクリロイルオキシ−ブトキシ)-ベ
ンゾフラン-2-イル]-ベンゾイック アシド4-アクリロイ
ルオキシ−ブチル エステル(化合物3)(92.7重
量部)、フェノチアジン(1.3重量部)、重合開始剤
(イルガキュア651商品名、チバガイギー社製)(4
重量部)、およびハイドロキノンモノメチルエーテル
(2重量部)の割合の組成からなる構成材料を狭持し
た。次に、透明電極間に200Vの直流電圧を印加しな
がら得られた試料を80℃に保ち、UV照射(254nm, 10W
/cm, 3min)を行って、図1に示す非線形光学材料を作
成した。上記で得られた試料に対し、YHGレーザーの
赤外光(1.06μm)を照射し、第二高調波の発生を
確認した。その試料の第二高調波の強度は6ヶ月後も保
持された。
Example 35: 4- [6- (4 -Acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 3) (92.7 parts by weight), phenothiazine (1.3 parts by weight), polymerization initiator (IRGACURE 651 Product name, manufactured by Ciba Geigy) (4
(Parts by weight) and hydroquinone monomethyl ether (2 parts by weight). Next, while applying a DC voltage of 200 V between the transparent electrodes, the obtained sample was kept at 80 ° C. and UV irradiation (254 nm, 10 W
/ cm, 3 min) to prepare the nonlinear optical material shown in FIG. The sample obtained above was irradiated with infrared light of a YHG laser (1.06 μm), and generation of the second harmonic was confirmed. The second harmonic intensity of the sample was retained after 6 months.

【0155】実施例36:絶縁膜としてポリイミド薄膜
を塗布したITO透明電極部を有するガラス基板(ガラス
基板厚さ0.7mm、ポリイミド薄膜厚さ0.3μm)
上に4-[6-(4-アクリロイルオキシ−ブトキシ)-ベンゾフ
ラン-2-イル]-ベンゾイック アシド 4-アクリロイルオ
キシ−ブチル エステル(化合物3)(92.7重量
部)、フェノチアジン(1.3重量部)、イルガキュア
651(4重量部)、およびハイドロキノンモノメチル
エーテル(2重量部)の組成からなるメチルエチルケト
ン溶液をスピンコートにより塗布(1000rpm、20秒)
し、減圧下にて12時間乾燥し樹脂層(厚さ1.0μ
m)を形成した。次に、得られた試料を60℃に保ち、
コロナポーリング法を用いて電圧印加(印加電圧:5.0k
V、20min)を行い、その後、電圧を印加しながらUV照射
(254nm, 10W/cm, 3min)を行った。重合された非線形
光学応答部の上にアルミニウム電極を蒸着により担持さ
せ、両端に電極を有する図1に示す非線形光学材料を作
成した。上記で得られた試料に対し、YHGレーザーの
赤外光(1.06μm)を照射し、第二高調波の発生及
び電気光学効果を確認した。その試料の第二高調波及び
電気光学効果の強度は6ヶ月後も保持された。化合物3
を化合物1、2、4〜30のいずれかの化合物に代えた
以外は実施例35と全く同様にして、該化合物のマトリ
ックスを狭持した試料を作成した。いずれの試料も第二
高調波を発生し、その強度が長期間保持されることを確
認した。
Example 36: Glass substrate having ITO transparent electrode portion coated with polyimide thin film as insulating film (glass substrate thickness 0.7 mm, polyimide thin film thickness 0.3 μm)
4- [6- (4-acryloyloxy-butoxy) -benzofuran-2-yl] -benzoic acid 4-acryloyloxy-butyl ester (Compound 3) (92.7 parts by weight), phenothiazine (1.3 parts by weight) Part), Irgacure 651 (4 parts by weight), and hydroquinone monomethyl ether (2 parts by weight) are applied by spin coating (1000 rpm, 20 seconds).
And dried under reduced pressure for 12 hours to obtain a resin layer (thickness 1.0 μm
m) was formed. Next, the obtained sample is kept at 60 ° C.,
Voltage application using the corona poling method (applied voltage: 5.0k
V, 20 min) and then UV irradiation (254 nm, 10 W / cm, 3 min) while applying voltage. An aluminum electrode was carried on the polymerized non-linear optical response portion by vapor deposition to prepare the non-linear optical material shown in FIG. 1 having electrodes at both ends. The sample obtained above was irradiated with infrared light (1.06 μm) of a YHG laser to confirm the generation of the second harmonic and the electro-optical effect. The intensity of the second harmonic and electro-optic effect of the sample was retained after 6 months. Compound 3
A sample in which a matrix of the compound was sandwiched was prepared in exactly the same manner as in Example 35 except that the compound was replaced by any one of the compounds 1, 2, and 4 to 30. It was confirmed that all the samples generated the second harmonic and the intensity was maintained for a long time.

【0156】[0156]

【発明の効果】本発明により、電気光学効果または第二
高調波発生の経時による減衰が著しく抑えられた、有機
非線形光学材料が得られた。
Industrial Applicability According to the present invention, an organic non-linear optical material having an electro-optic effect or the attenuation of the generation of second harmonics over time significantly suppressed can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の非線形光学材料の層構造を示した一例
の概略図である。
FIG. 1 is a schematic view of an example showing a layer structure of a nonlinear optical material of the present invention.

【図2】本発明の非線形光学材料の層構造を示した別の
例の概略図である。
FIG. 2 is a schematic view of another example showing the layer structure of the nonlinear optical material of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 非線形光学応答層 2 絶縁膜 3 透明電極基板 1 Non-linear optical response layer 2 insulating film 3 Transparent electrode substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/361 G02F 1/361 Fターム(参考) 2K002 AB12 CA06 HA13 HA20 4C037 PA05 PA06 QA12 4J100 AL66P AL67P BA02P BA15P BA28P BA55P BC43P BC44P BC49P BC53P BC83P CA01 JA32 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/361 G02F 1/361 F term (reference) 2K002 AB12 CA06 HA13 HA20 4C037 PA05 PA06 QA12 4J100 AL66P AL67P BA02P BA15P BA28P BA55P BC43P BC44P BC49P BC53P BC83P CA01 JA32

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(I)または(II)で示される
重合性化合物。 【化1】 【化2】 (それぞれの式中、Xは−O−、あるいは−S−を示し、A
r1,Ar2はそれぞれ独立に単結合、あるいは芳香族環、ビ
フェニル基、あるいはターフェニル基を示す。但し、Ar
1,Ar2は同時に単結合ではない。Dは酸素原子(−O−)、
硫黄原子(−S−)あるいは電子供与性基、Aは電子吸引
性基、S1,S2はそれぞれ独立して二価の連結基、P1,P2
それぞれ独立して重合性基を示す。)
1. A polymerizable compound represented by the following general formula (I) or (II). [Chemical 1] [Chemical 2] (In each formula, X represents -O- or -S-, and A
r 1 and Ar 2 each independently represent a single bond, an aromatic ring, a biphenyl group, or a terphenyl group. However, Ar
1 and Ar 2 are not single bonds at the same time. D is an oxygen atom (-O-),
Sulfur atom (-S-) or electron-donating group, A is an electron-withdrawing group, S 1 and S 2 are independently divalent linking groups, and P 1 and P 2 are independently polymerizable groups. Show. )
【請求項2】 非線形光学材料を用いる光学素子におい
て、非線形光学材料が下記一般式(I)または(II)で示
される重合性化合物のマトリックスであることを特徴と
する光学素子。 【化3】 【化4】 (それぞれの式中、Xは−O−、あるいは−S−を示し、A
r1,Ar2はそれぞれ独立に単結合、あるいは芳香族環、ビ
フェニル基、あるいはターフェニル基を示す。但し、Ar
1,Ar2は同時に単結合ではない。Dは酸素原子(−O−)あ
るいは硫黄原子(−S−)あるいは電子供与性基、Aは電
子吸引性基、S1,S2はそれぞれ独立して二価の連結基、P
1,P2はそれぞれ独立して重合性基を示す。)
2. An optical element using a nonlinear optical material, wherein the nonlinear optical material is a matrix of a polymerizable compound represented by the following general formula (I) or (II). [Chemical 3] [Chemical 4] (In each formula, X represents -O- or -S-, and A
r 1 and Ar 2 each independently represent a single bond, an aromatic ring, a biphenyl group, or a terphenyl group. However, Ar
1 and Ar 2 are not single bonds at the same time. D is an oxygen atom (-O-) or sulfur atom (-S-) or an electron-donating group, A is an electron-withdrawing group, S 1 and S 2 are each independently a divalent linking group, P
1 and P 2 each independently represent a polymerizable group. )
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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