JP2003230976A - Device for positioning and holding object to be processed and beam processing apparatus having the same - Google Patents

Device for positioning and holding object to be processed and beam processing apparatus having the same

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JP2003230976A
JP2003230976A JP2002031751A JP2002031751A JP2003230976A JP 2003230976 A JP2003230976 A JP 2003230976A JP 2002031751 A JP2002031751 A JP 2002031751A JP 2002031751 A JP2002031751 A JP 2002031751A JP 2003230976 A JP2003230976 A JP 2003230976A
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JP
Japan
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positioning
processing
work
holding
processed
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002031751A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Kobayashi
丈司 小林
Michio Ogawa
道夫 小河
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Microelectronics Co Ltd
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Publication date
Application filed by Ricoh Microelectronics Co Ltd filed Critical Ricoh Microelectronics Co Ltd
Priority to JP2002031751A priority Critical patent/JP2003230976A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for positioning and holding an object to be processed in which the object can be smoothly moved, positioned and held, and to provide a beam processing apparatus having the same. <P>SOLUTION: The device for positioning and holding the object to be processed comprises a processing table 20 for placing a work W as the object to be processed, fixing guides 61, 62 fixed to the table 20, and movable guides 63, 64 for positioning and holding the work W on the table 20 together with the fixing guides. The device further comprises cam followers 65 to 72 as rolling contact members brought into rolling contact with the work W and provided at the fixing guides 61, 62 and the movable guides 63, 64. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、加工対象物位置決
め保持装置及び該装置を備えたビーム加工装置に関し、
詳しくは、加工対象物を載置する加工テーブルと、該加
工テーブルに固定された固定ガイドと、該加工テーブル
上で進退移動可能で該固定ガイドとともに該加工対象物
を該加工テーブル上に位置決め保持する可動ガイドとを
備えた加工対象物位置決め保持装置及び該装置を備えた
ビーム加工装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a workpiece positioning and holding device and a beam processing device equipped with the device.
More specifically, a processing table on which a processing object is placed, a fixed guide fixed to the processing table, a movable back and forth on the processing table, and the processing target together with the fixed guide are positioned and held on the processing table. The present invention relates to a workpiece positioning and holding device including a movable guide and a beam processing device including the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子回路基板や金属板等の加工対
象物(以下、「ワーク」という)にエネルギービームを
照射して、熱溶融により加工を行うビーム加工装置が知
られている。このビーム加工装置では、ワークをXYテ
ーブルに位置決め・保持し、所定位置に照射されるエネ
ルギービームに対して、ワークをXY平面内で移動させ
て、加工する方法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a beam processing apparatus for irradiating an object to be processed (hereinafter referred to as "workpiece") such as an electronic circuit board or a metal plate with an energy beam to perform processing by thermal melting. In this beam processing apparatus, there is known a method of positioning and holding a work on an XY table and moving the work within an XY plane with respect to an energy beam irradiated at a predetermined position to perform processing.

【0003】以下に従来のXYテーブルのワーク位置決
め保持装置の一例について説明する。
An example of a conventional work positioning and holding device for an XY table will be described below.

【0004】図8(a),(b)に示すように、XYテ
ーブル本体41に加工テーブル20が固設されており、
この加工テーブル20に一対の固定ガイド21,22及
び一対の可動ガイド23,24が配設されている。一対
の固定ガイド21,22は加工テーブル20にネジで固
設されている。一方、一対の可動ガイド23,24はそ
れぞれL金具25,26に固設されている。ここで、一
対の可動ガイド23,24の支持構造は同じなので、図
8(a)中の左側に配設された可動ガイド23の支持構
造について説明する。図8(b)に示すように、L金具
25はリニアガイド27とエアシリンダ28とによって
支持されている。エアシリンダ28は図示しない電磁弁
からの圧縮空気によって、ロッドの軸方向に例えば約1
0mm進退移動可能に制御され、L金具25と可動ガイ
ド23とが一体となって、ロッドの軸方向に約10mm
進退移動するようになっている。リニアガイド27は、
L金具25をロッドの軸回りに回転することを防止し
て、スムーズに平行移動させるためのものである。そし
て、リニアガイド27とエアシリンダ28とは加工テー
ブル20の端面に固設された保持プレート29によって
支持される。
As shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), a processing table 20 is fixedly mounted on an XY table body 41,
A pair of fixed guides 21 and 22 and a pair of movable guides 23 and 24 are arranged on the processing table 20. The pair of fixed guides 21 and 22 are fixed to the processing table 20 with screws. On the other hand, the pair of movable guides 23 and 24 are fixed to the L fittings 25 and 26, respectively. Here, since the pair of movable guides 23 and 24 have the same support structure, the support structure of the movable guide 23 arranged on the left side in FIG. 8A will be described. As shown in FIG. 8B, the L fitting 25 is supported by the linear guide 27 and the air cylinder 28. The air cylinder 28 is, for example, about 1 in the axial direction of the rod by compressed air from a solenoid valve not shown.
It is controlled so that it can move back and forth by 0 mm, and the L metal fitting 25 and the movable guide 23 are integrated to form about 10 mm in the axial direction of the rod.
It is designed to move forward and backward. The linear guide 27
This is to prevent the L metal fitting 25 from rotating around the axis of the rod and to smoothly move it in parallel. The linear guide 27 and the air cylinder 28 are supported by a holding plate 29 fixed to the end surface of the processing table 20.

【0005】以上のように構成されたワーク位置決め保
持装置について、以下その動作について説明する。
The operation of the work positioning and holding device constructed as described above will be described below.

【0006】まず、図示しないワーク移載装置により例
えば電子回路基板等のワークWを加工テーブル20上の
一対の可動ガイド23,24と一対の固定ガイド21,
22との間に挿入する。するとワークWはその下面が基
板支持部材60で支持される。そして、図示しないセン
サによりワークWが挿入されているか否かを検出し、挿
入が確認されれば一対の可動ガイド23,24が矢印g
及びhで示した方向に移動し一対の固定ガイド21,2
2との間でワークWの4方向の端面を挟み込み、ワーク
Wの保持・位置決めを行う。そしてXYテーブル本体4
1はビーム加工のために予定された位置に移動を開始す
る。なお、図8(a),(b)の例は、ワークWが所定
の位置に位置決め後、保持されている状態を図示してい
る。
First, a work W such as an electronic circuit board is used to move a work W, such as an electronic circuit board, by a pair of movable guides 23, 24 and a pair of fixed guides 21, which are not shown in the figure.
Insert between 22 and. Then, the lower surface of the work W is supported by the substrate support member 60. Then, a sensor (not shown) detects whether or not the work W is inserted, and if the insertion is confirmed, the pair of movable guides 23 and 24 are indicated by an arrow g.
And a pair of fixed guides 21 and 2 that move in the directions indicated by h.
The end surface of the work W in four directions is sandwiched between the two and the work W to hold and position the work W. And XY table body 4
1 starts moving to a position scheduled for beam processing. The examples of FIGS. 8A and 8B show a state in which the work W is held after being positioned at a predetermined position.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
構成では、ワークWの端面と一対の固定ガイド21,2
2及び一対の可動ガイド23,24とが摺動しながら接
触するため、位置決め時にワークWがスムーズに移動し
ない場合がある。特に、一対の可動ガイド23,24の
位置決め時の動作タイミングがずれると、ワークWの移
動に支障が生じる。より具体的には、一方の可動ガイド
23が先に進退移動を開始して固定ガイド22との間で
ワークWのX方向の位置決めが完了した後に、他方の可
動ガイド24が進退移動した場合に、可動ガイド24の
進退移動力に比べ、可動ガイド23及び固定ガイド22
とワークWとの間の摩擦力の方が大きいと、Y方向の位
置決めができず、位置決め不良が生じる。また逆に、可
動ガイド24の進退移動力に比べ、可動ガイド23及び
固定ガイド22とワークWとの間の摩擦力の方が小さい
と、X方向の位置決めが完了した後に、可動ガイド24
がワークWをY方向に移動させることになり、可動ガイ
ド23及び固定ガイド22とワークWとの間の摺動によ
りワークWの端面が損傷するおそれもある。
However, in the above-mentioned conventional configuration, the end surface of the work W and the pair of fixed guides 21, 2 are formed.
Since the two and the pair of movable guides 23 and 24 come into contact with each other while sliding, the work W may not move smoothly during positioning. In particular, if the operation timing for positioning the pair of movable guides 23, 24 deviates, the movement of the work W will be hindered. More specifically, when one movable guide 23 first starts moving forward and backward and the positioning of the work W in the X direction with the fixed guide 22 is completed, the other movable guide 24 moves forward and backward. The movable guide 23 and the fixed guide 22 are larger than the moving force of the movable guide 24.
If the frictional force between the workpiece W and the workpiece W is larger, the positioning in the Y direction cannot be performed, resulting in poor positioning. On the contrary, when the frictional force between the movable guide 23 and the fixed guide 22 and the work W is smaller than the forward / backward moving force of the movable guide 24, the movable guide 24 is moved after the positioning in the X direction is completed.
Causes the work W to move in the Y direction, and the sliding between the movable guide 23 and the fixed guide 22 and the work W may damage the end surface of the work W.

【0008】また、ワークWの加工精度が悪い場合、例
えば4隅の角度が正確に90°に形成されていない場合
には、一対の固定ガイド21,22及び一対の可動ガイ
ド23,24でワークWを挟み込んで保持するときに、
その端面にガイドが片当たりしてしまい、片当りした部
分に力が集中してしまう。すると、ワークWが撓んだ
り、変形したりしてしまうおそれがある。
When the machining accuracy of the work W is poor, for example, when the angles of the four corners are not exactly 90 °, the work is performed by the pair of fixed guides 21 and 22 and the pair of movable guides 23 and 24. When sandwiching and holding W,
The guide is one-sided with the end face, and the force concentrates on the one-sided portion. Then, the work W may be bent or deformed.

【0009】本発明は以上の背景に鑑みなされたもので
あり、その第一の目的とするところは、加工対象物をス
ムーズに移動させて位置決め保持することができる加工
対象物位置決め保持装置及び該装置を備えたビーム加工
装置を提供することである。また、第二の目的とすると
ころは、加工対象物の加工精度によるガイドの片当りを
低減して略均一な力で該加工対象物を保持することがで
きる加工対象物位置決め保持装置及び該装置を備えたビ
ーム加工装置を提供することである。
The present invention has been made in view of the above background. A first object of the present invention is to provide an apparatus for positioning and holding an object to be machined, which is capable of smoothly moving the object to be positioned and held. A beam processing apparatus provided with the apparatus. A second object of the present invention is a device for positioning and holding an object to be machined, which can hold the object to be machined with a substantially uniform force by reducing one-side contact of a guide due to the processing accuracy of the object to be machined. It is to provide a beam processing apparatus including the.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記第一の目的を達成す
るために、請求項1の発明は、加工対象物を載置する加
工テーブルと、該加工テーブルに固定された固定ガイド
と、該加工テーブル上で進退移動可能で該固定ガイドと
ともに該加工対象物を該加工テーブル上に位置決め保持
する可動ガイドとを備えた加工対象物位置決め保持装置
において、上記固定ガイドと上記可動ガイドとに、上記
加工対象物と転がり接触する転がり接触部材を設けたこ
とを特徴とするものである。ここで、転がり接触部材と
しては、カムフォロアやボールベアリングなどを用いる
ことができる。この請求項1の加工対象物位置決め保持
装置では、可動ガイドが移動すると、該可動ガイドに設
けられた転がり接触部材が加工対象物に接触して該加工
対象物を移動させ、固定ガイドに設けられた転がり接触
部材との間に該加工対象物を挟み込んで位置決め保持す
る。このように、加工対象物に可動ガイド及び固定ガイ
ドに設けられた転がり接触部材が転がり接触するため接
触部での摩擦が少なく、加工対象物に可動ガイド及び固
定ガイドとが摺動接触する従来構成に比べ、加工対象物
の位置決めに伴う移動がスムーズに行える。この結果、
加工対象物の位置決め不良や損傷を防止することができ
る。
In order to achieve the above-mentioned first object, the invention of claim 1 provides a machining table on which a workpiece is placed, a fixed guide fixed to the machining table, In a processing object positioning and holding apparatus, which is capable of moving back and forth on a processing table, and is provided with a movable guide for positioning and holding the processing object on the processing table together with the fixed guide, in the fixed guide and the movable guide, It is characterized in that a rolling contact member which makes rolling contact with the object to be processed is provided. Here, a cam follower, a ball bearing, or the like can be used as the rolling contact member. In the workpiece positioning and holding device according to this aspect, when the movable guide moves, the rolling contact member provided on the movable guide contacts the workpiece to move the workpiece, and the fixed guide is provided. The object to be processed is sandwiched between the rolling contact member and the rolling contact member, and positioned and held. As described above, since the rolling contact members provided on the movable guide and the fixed guide make rolling contact with the object to be processed, friction at the contact portion is small, and the movable guide and the fixed guide have sliding contact with the object to be processed. Compared with, it is possible to move the object to be processed smoothly. As a result,
It is possible to prevent misalignment and damage of the workpiece.

【0011】上記第二の目的を達成するために、請求項
2の発明は、請求項1の加工対象物位置決め保持装置に
おいて、上記可動ガイドに上記転がり接触部材を複数設
けるとともに、該可動ガイドをXY平面内で所定角度揺
動させるように構成したことを特徴とするものである。
この請求項2の加工対象物位置決め保持装置では、可動
ガイドに複数の転がり接触部材を設けたので、該転がり
接触部材が1つの場合に比べ、加工対象物のより安定し
た位置決め及び保持が可能となる。また、可動ガイドが
揺動して、複数の転がり接触部材が加工対象物に接触す
るような姿勢をとることができる。この結果、加工対象
物の加工精度が悪い場合であっても、一部の転がり接触
部材が加工対象物に片当りせず、複数の転がり接触部材
がそれぞれ略均一な力で該加工対象物を保持することが
できる。
In order to achieve the second object, the invention of claim 2 is the apparatus for positioning and holding a workpiece according to claim 1, wherein the movable guide is provided with a plurality of the rolling contact members and the movable guide is provided. It is characterized in that it is configured to swing at a predetermined angle in the XY plane.
In the workpiece positioning and holding apparatus of the present invention, since the movable guide is provided with a plurality of rolling contact members, it is possible to more stably position and hold the workpiece as compared with the case where there is one rolling contact member. Become. Further, the movable guide can be swung so that the plurality of rolling contact members come into contact with the workpiece. As a result, even if the processing accuracy of the object to be processed is poor, some of the rolling contact members do not hit the object to be processed, and the plurality of rolling contact members respectively move the object to be processed with substantially uniform force. Can be held.

【0012】請求項3の発明は、請求項1又は2の加工
対象物位置決め保持装置において、上記加工テーブルを
XY方向に移動駆動させる移動駆動手段を設けるととも
に、上記可動ガイドを2つ設け、一方の可動ガイドをX
方向に進退移動させ、且つ、他方の可動ガイドをY方向
に進退移動させるように構成したことを特徴とするもの
である。この請求項3の加工対象物位置決め保持装置で
は、X方向に進退移動する可動ガイド及びY方向に進退
移動する可動ガイドにより、加工対象物をXY平面内で
所定の位置に位置決め保持することができる。なお、可
動ガイドが1つの場合には、上記移動駆動手段で上記加
工テーブルをXY方向に移動駆動させたときに、上記転
がり接触部材が回転して上記加工対象物の位置ずれが生
じてしまうおそれがある。このため、上記2つの可動ガ
イドで上記加工対象物を保持することにより、該加工対
象物を位置ずれ無く保持することができる。
According to a third aspect of the present invention, in the apparatus for positioning and holding an object to be machined according to the first or second aspect, a moving drive means for moving and driving the working table in the XY directions is provided, and two movable guides are provided. X movable guide
It is characterized in that the movable guide is moved in the Y direction and the other movable guide is moved in the Y direction. In the workpiece positioning and holding apparatus according to the third aspect, the workpiece can be positioned and held at a predetermined position in the XY plane by the movable guide that moves forward and backward in the X direction and the movable guide that moves forward and backward in the Y direction. . If there is one movable guide, the rolling contact member may rotate when the processing table is moved and driven in the XY directions by the movement driving means, which may cause displacement of the processing object. There is. Therefore, by holding the processing target with the two movable guides, the processing target can be held without displacement.

【0013】請求項4の発明は、パルス状のエネルギー
ビームを繰り返し出射するビーム源と、該ビーム源から
出射されたエネルギービームを加工対象物に案内して照
射するビーム照射手段と、該加工対象物と該加工対象物
に対する該エネルギービームの照射ポイントとを相対移
動させるXYテーブルと、該XYテーブルに該加工対象
物を位置決め保持する位置決め保持手段と、加工制御デ
ータに基づいて該ビーム源及び該XYテーブルを制御す
る制御手段とを備えたビーム加工装置において、上記位
置決め保持手段として、請求項1、2又は3に記載の加
工対象物位置決め保持装置を用いたことを特徴とするも
のである。この請求項4のビーム加工装置では、加工対
象物位置決め装置がXYテーブル上の所定位置に加工対
象物を正確に位置決め保持するので、該加工対象物の位
置決め不良やXYテーブルの駆動に伴う該加工対象物の
位置ずれを防いで、精度の高いビーム加工が可能とな
る。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a beam source for repeatedly emitting a pulsed energy beam, a beam irradiating means for guiding and irradiating an energy beam emitted from the beam source to an object to be processed, and the object to be processed. An XY table that relatively moves an object and an irradiation point of the energy beam with respect to the object to be processed, a positioning holding unit that positions and holds the object to be processed on the XY table, the beam source and the beam source based on processing control data. In a beam processing apparatus provided with a control means for controlling an XY table, the processing object positioning and holding apparatus according to claim 1, 2 or 3 is used as the positioning and holding means. In the beam processing apparatus according to the present invention, since the processing object positioning device accurately positions and holds the processing object at a predetermined position on the XY table, the processing is performed due to the positioning error of the processing object or the driving of the XY table. Preventing the displacement of the object, it is possible to perform beam processing with high accuracy.

【0014】請求項5の発明は、請求項4のビーム加工
装置において、上記ビーム源が、YAGレーザであるこ
とを特徴とするものである。この請求項5のビーム加工
装置では、ビーム源がYAGレーザであるので、例えば
エキシマレーザなどに比べ、装置の製造コスト低減が図
れる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the beam processing apparatus according to the fourth aspect, the beam source is a YAG laser. In the beam processing apparatus of the fifth aspect, since the beam source is the YAG laser, the manufacturing cost of the apparatus can be reduced as compared with, for example, an excimer laser.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明を固体レーザである
YAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)レ
ーザを用いたレーザ加工装置における加工対象物の位置
決め装置に適用した一実施形態について説明する。図1
は本実施形態に係るレーザ加工装置全体の概略構成図で
ある。なお、従来例と同一部品には同一番号を付して説
明は省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment in which the present invention is applied to a positioning device for a processing object in a laser processing apparatus using a YAG (yttrium aluminum garnet) laser which is a solid-state laser will be described below. Figure 1
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an entire laser processing apparatus according to this embodiment. The same parts as those of the conventional example are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0016】レーザ加工装置は、YAGレーザ装置1、
ワーク位置決め保持装置2、ワーク移載装置3、XYテ
ーブル4、メインコントローラ5から主に構成されてい
る。
The laser processing device is a YAG laser device 1,
It mainly comprises a work positioning and holding device 2, a work transfer device 3, an XY table 4, and a main controller 5.

【0017】図2は上記YAGレーザ装置1の概略構成
を説明するための図である。YAGレーザ装置1は、Y
AGレーザ発振器10と加工ヘッド11とから構成され
ている。YAGレーザ発振器10は、適量のNd(ネオ
ジウム)が添加されたYAGの棒状結晶体であるレーザ
ロッド及びこれの励起用のランプを内蔵するレーザチャ
ンバ12と、これから発せられる誘導放出光の光路に沿
って所定の距離を隔てて対向配置されたフロントミラー
13及びリアミラー14を備えている。
FIG. 2 is a diagram for explaining a schematic configuration of the YAG laser device 1. The YAG laser device 1 has a Y
It is composed of an AG laser oscillator 10 and a processing head 11. The YAG laser oscillator 10 includes a laser rod 12 which is a rod-shaped crystal body of YAG doped with an appropriate amount of Nd (neodymium) and a laser chamber 12 having a lamp for exciting the same, and an optical path of stimulated emission light emitted from the laser chamber 12. And a front mirror 13 and a rear mirror 14 that are opposed to each other at a predetermined distance.

【0018】レーザチャンバ12は、図中に一点鎖線に
て示す如く、誘導放出光を出射する。また、上記リアミ
ラー14とレーザチャンバ12との間に、シャッタ15
とQスイッチ16とが取り付けてある。上記フロントミ
ラー13は、一部の光の透過が可能な反射率を有するミ
ラーであり、レーザチャンバ12から発せられる誘導放
出光の光路にその鏡面の中心を正対せしめて取り付けて
ある。上記リアミラー14は、実質的な全反射が可能な
鏡面を有しており、上記フロントミラー13と対向する
ように取り付けてある。レーザチャンバ12から発せら
れる誘導放出光は、フロントミラー13とリアミラー1
4との間での多重反射の間に増幅される。上記シャッタ
15は、レーザチャンバ12から発せられる誘導放出光
の光路を遮断して、誘導放出光の増幅を抑えるものであ
る。上記Qスイッチ16は、フロントミラー13とリア
ミラー14との間での共振器としてのメリット数(Q
値)を高め、励起原子の反転分布を発生させ、高出力の
レーザパルスを取り出す作用をなすものである。なお、
必要出力によっては、このQスイッチ16を用いなくて
もよい。
The laser chamber 12 emits stimulated emission light, as indicated by a chain line in the drawing. In addition, a shutter 15 is provided between the rear mirror 14 and the laser chamber 12.
And the Q switch 16 are attached. The front mirror 13 is a mirror having a reflectance capable of transmitting a part of light, and is attached to the optical path of the stimulated emission light emitted from the laser chamber 12, with the center of the mirror surface thereof being directly aligned. The rear mirror 14 has a mirror surface capable of substantially total reflection, and is attached so as to face the front mirror 13. The stimulated emission light emitted from the laser chamber 12 is generated by the front mirror 13 and the rear mirror 1.
Amplified during multiple reflections to and from 4. The shutter 15 blocks the optical path of the stimulated emission light emitted from the laser chamber 12 and suppresses the amplification of the stimulated emission light. The Q switch 16 has a number of merits (Q) as a resonator between the front mirror 13 and the rear mirror 14.
Value) to generate a population inversion of excited atoms and to extract a high-power laser pulse. In addition,
Depending on the required output, the Q switch 16 may not be used.

【0019】なお、上記YAGレーザ発振器10の構成
は一例であって、これに限られるものではない。他の構
成としては、例えばLD励起を用いたものがある。
The configuration of the YAG laser oscillator 10 is an example, and the present invention is not limited to this. As another configuration, for example, there is one using LD excitation.

【0020】前記加工ヘッド11は、アパーチャ17、
落射ミラー18及び結像レンズ19を備えている。上記
アパーチャ17は、開口の面積を変えることができるシ
ャッタ機構を有する遮光板であり、該開口の中心を前記
YAGレーザ発振器10から発せられるレーザ光の光路
に合わせて取り付けてある。上記落射ミラー18はレー
ザ光の光路を90度折り曲げるものである。上記結像レ
ンズ19はレーザ光をワークW上に集光させて結像させ
るものである。
The processing head 11 has an aperture 17,
An epi-illumination mirror 18 and an imaging lens 19 are provided. The aperture 17 is a light shielding plate having a shutter mechanism capable of changing the area of the opening, and the center of the opening is attached so as to match the optical path of the laser light emitted from the YAG laser oscillator 10. The epi-illumination mirror 18 bends the optical path of laser light by 90 degrees. The imaging lens 19 focuses the laser light on the work W to form an image.

【0021】以上のように構成されたYAGレーザ装置
1において、レーザチャンバ12から発せられる誘導放
出光は、フロントミラー13とリアミラー14との間を
往復する間に、Qスイッチ16の作用を受け、フロント
ミラー13を経て前記アパーチャ17にレーザ光として
送り出される。レーザ光は、アパーチャ17を通過した
後、落射ミラー18で光路を90度折り曲げられ結像レ
ンズ19に入射する。結像レンズ19に入射したレーザ
光は集光されてワークWに対し鉛直下向きに照射され
る。
In the YAG laser device 1 configured as described above, the stimulated emission light emitted from the laser chamber 12 is affected by the Q switch 16 while reciprocating between the front mirror 13 and the rear mirror 14. It is sent out as laser light to the aperture 17 through the front mirror 13. After passing through the aperture 17, the laser light has its optical path bent at 90 degrees by an epi-illumination mirror 18 and enters an imaging lens 19. The laser light that has entered the imaging lens 19 is condensed and irradiated vertically downward on the work W.

【0022】前記ワーク位置決め保持装置2は、加工対
象物としてのワークWを加工テーブル20に位置決めす
ると共に、加工中に位置ずれが生じないように保持する
役割を果たすものである。図3はワーク位置決め保持装
置2を図1中の上側から見た平面図である。XYテーブ
ル本体41(不図示)に固設された加工テーブル20に
は一対の固定ガイド61,62及び一対の可動ガイド6
3,64が配設されている。これらの固定ガイド61,
62及び可動ガイド63,64はコの字状の形態を成し
ており、コの字状の先端部にそれぞれ、転がり接触部材
として円筒面が回動可能なカムフォロア65〜72が設
けられている。このカムフォロア65〜72の円筒面が
ワーク端面に転がり接触するので、従来ガイドがワーク
に摺動接触していた場合に比べ、位置決め時にワークの
スムーズな位置決めが可能となる。上記一対の固定ガイ
ド61,62は図示しないホルダを介して加工テーブル
20に固設されている。
The work positioning / holding device 2 serves to position the work W as the object to be processed on the processing table 20 and to hold the work W so as not to be displaced during processing. FIG. 3 is a plan view of the work positioning and holding device 2 seen from the upper side in FIG. A pair of fixed guides 61 and 62 and a pair of movable guides 6 are provided on the processing table 20 fixed to the XY table body 41 (not shown).
3, 64 are provided. These fixed guides 61,
62 and the movable guides 63 and 64 have a U-shape, and cam followers 65 to 72, whose cylindrical surfaces are rotatable, are provided as rolling contact members at their U-shaped tips. . Since the cylindrical surfaces of the cam followers 65 to 72 are in rolling contact with the end surface of the work, the work can be smoothly positioned at the time of positioning, as compared with the case where the conventional guide is in sliding contact with the work. The pair of fixed guides 61 and 62 are fixed to the processing table 20 via a holder (not shown).

【0023】ここで、一対の可動ガイド63,64の支
持構造は同じなので、図3中の左側に配設された可動ガ
イド63の支持構造について説明する。図4(a)〜
(c)は、可動ガイド63の拡大説明図である。図4
(c)に示すように、可動ガイド63は回動可能なフラ
ンジ73にネジ止めされている。フランジ73には回転
軸74が固設されており、この回転軸74がハウジング
75に配設された一対のボールベアリング76,77で
回動支持されているため、可動ガイド63はフランジ7
3と共に回動可能となっている。また、ハウジング75
は、L金具78に固設されており、このL金具78は、
図4(a)に示すように、一対のリニアガイド79,8
0とエアシリンダ81とによって支持されている。エア
シリンダ81は図示しない電磁弁からの圧縮空気によっ
て、ロッド81aの軸方向に例えば約10mm進退移動
可能に制御される。よって、L金具78、ハウジング7
5、フランジ73及び可動ガイド63等が一体となっ
て、ロッド81aの軸方向に約10mm進退移動する。
一対のリニアガイド79,80は、L金具78をロッド
81aの軸回りに回転することを防止して、平行移動さ
せるためのものである。そして、一対のリニアガイド7
9,80とエアシリンダ81とは加工テーブル20の端
面に固設された保持プレート82によって支持される。
なお、L金具78には可動ガイド63の回動角度を規制
する一対の回動角度規制ピン83,84が設けられてお
り、これらの回動角度規制ピン83,84の先端部がそ
れぞれ可動ガイド63に穿設された一対の貫通孔63
a,63bに挿入されている。一対の回動角度規制ピン
83,84の外径が例えばφ4mmに対して、一対の貫
通孔63a,63bの内径がφ4.2mmとなってお
り、このあそび分だけ可動ガイド63は回転軸74を中
心に±約1°揺動する。
Since the pair of movable guides 63 and 64 have the same support structure, the support structure of the movable guide 63 disposed on the left side in FIG. 3 will be described. 4 (a)-
(C) is an enlarged explanatory view of the movable guide 63. Figure 4
As shown in (c), the movable guide 63 is screwed to the rotatable flange 73. A rotary shaft 74 is fixedly mounted on the flange 73, and the rotary shaft 74 is rotatably supported by a pair of ball bearings 76 and 77 arranged in a housing 75.
It can be rotated together with 3. Also, the housing 75
Is fixed to the L metal fitting 78, and this L metal fitting 78 is
As shown in FIG. 4A, a pair of linear guides 79, 8
0 and an air cylinder 81. The air cylinder 81 is controlled by compressed air from a solenoid valve (not shown) so that it can move back and forth by about 10 mm in the axial direction of the rod 81a. Therefore, the L metal fitting 78 and the housing 7
5, the flange 73, the movable guide 63, and the like integrally move forward and backward about 10 mm in the axial direction of the rod 81a.
The pair of linear guides 79, 80 prevent the L fitting 78 from rotating around the axis of the rod 81a and move it in parallel. And a pair of linear guides 7
9, 80 and the air cylinder 81 are supported by a holding plate 82 fixed to the end surface of the processing table 20.
The L metal fitting 78 is provided with a pair of rotation angle restriction pins 83 and 84 for restricting the rotation angle of the movable guide 63, and the tips of these rotation angle restriction pins 83 and 84 are respectively movable guides. A pair of through holes 63 formed in 63
a, 63b. The outer diameters of the pair of rotation angle regulating pins 83 and 84 are, for example, φ4 mm, whereas the inner diameters of the pair of through holes 63a and 63b are φ4.2 mm, and the movable guide 63 moves the rotary shaft 74 by this play amount. Swing ± 1 ° to the center.

【0024】前記ワーク移載装置3は、加工テーブルに
対するワークの装着及び取外しを行なうものである。図
1に示すように、複数の吸着パッド31でワーク上面を
真空吸着しながら搬送するようになっている。
The work transfer device 3 mounts and removes a work on and from the processing table. As shown in FIG. 1, a plurality of suction pads 31 convey the work while suctioning the work top surface under vacuum.

【0025】前記XYテーブル4は、XYテーブル本体
41、XYテーブル本体41を制御するXYテーブルコ
ントローラ42とから主に構成されている。XYテーブ
ル本体41には、上述したようにワーク位置決め保持装
置2が配設されている。
The XY table 4 is mainly composed of an XY table body 41 and an XY table controller 42 for controlling the XY table body 41. The work positioning and holding device 2 is arranged in the XY table body 41 as described above.

【0026】前記メインコントローラ5は、レーザ加工
装置全体を制御するものであり、YAGレーザ装置1、
ワーク移載装置3、XYテーブルコントローラ42が接
続されている。
The main controller 5 controls the entire laser processing apparatus, and includes the YAG laser apparatus 1,
The work transfer device 3 and the XY table controller 42 are connected.

【0027】以上のように構成されたレーザ加工装置に
おいて、XYテーブル本体41に固設された加工テーブ
ル20にワークWを位置決めして保持する動作について
説明する。ワークWとしては、例えば、図6に示すよう
に、ガラス板101の表面にITO薄膜102が形成さ
れたガラス基板100等が対象となる。
The operation of positioning and holding the work W on the processing table 20 fixed to the XY table body 41 in the laser processing apparatus configured as described above will be described. As the work W, for example, as shown in FIG. 6, a glass substrate 100 or the like in which an ITO thin film 102 is formed on the surface of a glass plate 101 is targeted.

【0028】まず、図5(a)において、ワーク移載装
置3によりワークWをXYテーブル本体41の加工テー
ブル20上の一対の固定ガイド61,62と一対の可動
ガイド63,64との間に載置する動作を行なう。この
ときエアシリンダ81の力により可動ガイド63は矢印
cで示した方向に開いており、またエアシリンダ85の
力により可動ガイド64は矢印dで示す方向に開いてい
る。次に、エアシリンダ81のロッド81aに矢印eで
示した方向の力が加わると、図示しないL金具78,ハ
ウジング75及びフランジ73を介して可動ガイド63
に矢印eで示した方向の力を与える。また同様にエアシ
リンダ85のロッド85aに矢印fで示した方向の力が
加わると、可動ガイド64に矢印fで示した方向の力を
与える。このとき可動ガイド63の一対のカムフォロア
65,66の円筒面、及び、可動ガイド64の一対のカ
ムフォロア67,68の円筒面がワークWの端面に接
し、ワークWを矢印e及びfで示した方向に移動させ
る。このとき各カムフォロア65〜68の円筒は回動自
在となっているため、円筒面とワークW端面とは転がり
接触し、従来摺動接触していた場合に比べ、ワークWの
よりスムーズな位置決めが可能となる。そして、図5
(b)に示すように、ワークWが移動していくと、一対
の固定ガイド61,62の各カムフォロア69〜72に
接触する。この結果一対の固定ガイド61,62の各カ
ムフォロア69〜72と、一対の可動ガイド63,64
の各カムフォロア65〜68との間でワークWの4つの
端面を挟み込んで保持し位置決めする。
First, in FIG. 5 (a), the work W is placed between the pair of fixed guides 61, 62 and the pair of movable guides 63, 64 on the machining table 20 of the XY table body 41 by the work transfer device 3. Perform the placing operation. At this time, the movable guide 63 is opened in the direction indicated by the arrow c by the force of the air cylinder 81, and the movable guide 64 is opened in the direction indicated by the arrow d by the force of the air cylinder 85. Next, when a force in the direction indicated by the arrow e is applied to the rod 81a of the air cylinder 81, the movable guide 63 is passed through the L metal fitting 78, the housing 75 and the flange 73 (not shown).
To the direction indicated by arrow e. Similarly, when a force in the direction indicated by arrow f is applied to the rod 85a of the air cylinder 85, a force in the direction indicated by arrow f is applied to the movable guide 64. At this time, the cylindrical surfaces of the pair of cam followers 65 and 66 of the movable guide 63 and the cylindrical surfaces of the pair of cam followers 67 and 68 of the movable guide 64 are in contact with the end surface of the work W, and the work W is indicated by the arrows e and f. Move to. At this time, since the cylinders of the cam followers 65 to 68 are rotatable, the cylindrical surface and the end surface of the work W are in rolling contact with each other, so that the work W can be positioned more smoothly than in the conventional sliding contact. It will be possible. And FIG.
As shown in (b), as the work W moves, it comes into contact with the cam followers 69 to 72 of the pair of fixed guides 61 and 62. As a result, the cam followers 69 to 72 of the pair of fixed guides 61 and 62, and the pair of movable guides 63 and 64.
The four end surfaces of the work W are sandwiched and held between the cam followers 65 to 68 to be positioned.

【0029】ここで仮に、上記一対の可動ガイド63,
64の位置決め時の動作タイミングがずれて、例えば、
一方の可動ガイド63が先にX方向の位置決めを完了し
た場合であっても、その後他方の可動ガイド64がY方
向の位置決めを行なうときに、ワークWは4つのカムフ
ォロア65,66,69,70に転がり接触しているた
めスムーズに移動し、ワークWの位置決め不良や損傷を
防止することができる。また、ワークWの加工精度が悪
く、例えば4隅の角度が正確に90°に形成されていな
いと、ワークWの一辺に1つのカムフォロアのみが片当
たりしてその部分に応力が集中し、ワークWが撓んだり
変形したりしてしまうおそれがある。本実施形態に係る
一対の可動ガイド63,64は、上述したように±約1
°揺動するように構成したので、一対の可動ガイド6
3,64に設けられた各カムフォロア65〜68が全て
ワークWの端面に良好に追従し、一部のカムフォロアが
片当りすることなく、ワークWの撓みや変形を防止する
ことができる。
Here, it is assumed that the pair of movable guides 63,
The operation timing at the time of positioning of 64 is deviated, for example,
Even when one movable guide 63 completes the positioning in the X direction first, when the other movable guide 64 subsequently performs the positioning in the Y direction, the work W has four cam followers 65, 66, 69, 70. Since it is in rolling contact with, it can move smoothly, and it is possible to prevent defective positioning and damage of the work W. Further, if the machining accuracy of the work W is poor and, for example, the angles of the four corners are not accurately formed at 90 °, only one cam follower hits one side of the work W and stress concentrates on that part. W may be bent or deformed. The pair of movable guides 63 and 64 according to the present embodiment has a difference of ± about 1 as described above.
Since it is configured to oscillate, a pair of movable guides 6
All of the cam followers 65 to 68 provided in 3, 64 follow the end surface of the work W satisfactorily, and it is possible to prevent the work W from bending and deforming without causing partial contact of some cam followers.

【0030】そして、図示しない検知センサにより、ワ
ークWが載置されて位置決め、保持されていることが確
認された後、XYテーブル本体41はワークWの溝加工
もしくは孔加工等のために予定された位置に移動を開始
する。
Then, after it is confirmed by a detection sensor (not shown) that the work W is placed, positioned and held, the XY table body 41 is scheduled for grooving or hole machining of the work W. Start moving to the position you set.

【0031】以上のように本実施形態によれば、加工テ
ーブル20に固定された一対の固定ガイド61,62と
ともに、ワークWを位置決め保持する一対の可動ガイド
63,64にワークWと転がり接触するカムフォロア6
5〜72を設けたことにより、ワークWが良好に移動し
てスムーズな位置決めが可能となる。また、一対の可動
ガイド63,64を揺動可能に支持したので、ワークW
を位置決めした後、保持するときに、ワークWの加工精
度に影響されることなくワークWの少なくとも一対の可
動ガイド63,64側の端面にはそれぞれ確実にカムフ
ォロア65〜68が接触し、一部のカムフォロアの片当
りによる撓みや変形を防止することができる。
As described above, according to this embodiment, the pair of fixed guides 61 and 62 fixed to the working table 20 and the pair of movable guides 63 and 64 for positioning and holding the workpiece W are brought into rolling contact with the workpiece W. Cam follower 6
By providing 5 to 72, the work W moves well and smooth positioning is possible. Further, since the pair of movable guides 63 and 64 are swingably supported, the work W
When the workpiece W is positioned and held, the cam followers 65 to 68 surely come into contact with the end faces of the workpiece W on the side of at least the pair of movable guides 63 and 64 without being affected by the processing accuracy of the workpiece W. It is possible to prevent the cam follower from being bent or deformed due to partial contact.

【0032】なお、上記実施形態では、ワークを搬送す
るために、複数の吸着パッドで真空吸引しながら搬送す
るバキューム方式について説明したが、このバキューム
方式ではワークに静電気が生じ、塵や埃が付着するおそ
れがあった。そこで、バキューム方式に替えて、図7
(a),(b)に示すように、ワーク端部をチャッキン
グして搬送するメカ方式を用いることができる。より具
体的には、図7(a)に示す状態から、まずエアシリン
ダ32の一対のロッド32a,bが互いに内側に移動
し、次に一対のエアチャック33,34が閉じて、図7
(b)に示すようにワークWをチャッキングして加工テ
ーブル20(不図示)まで搬送する。加工テーブル20
にワークWを載置する場合には、エアシリンダ32が所
定の高さまで下降し、まず一対のエアチャック33,3
4が開き、次にエアシリンダ32の一対のロッド32
a,bが互いに外側に移動する。このように、ワーク端
部をチャッキングして搬送するメカ方式は、静電気が発
生せずワークWに塵や埃が付着するおそれが少ないの
で、上記ガラス基板100の搬送などに適している。
In the above embodiment, in order to convey the work, the vacuum method in which the work is conveyed while being vacuum-sucked by a plurality of suction pads has been described. However, in this vacuum method, static electricity is generated on the work and dust or dirt adheres to the work. There was a risk of Therefore, instead of the vacuum method, as shown in FIG.
As shown in (a) and (b), it is possible to use a mechanical system in which the end portion of the work is chucked and conveyed. More specifically, from the state shown in FIG. 7A, first, the pair of rods 32a and 32b of the air cylinder 32 move inward to each other, then the pair of air chucks 33 and 34 are closed, and the state shown in FIG.
As shown in (b), the work W is chucked and conveyed to the processing table 20 (not shown). Processing table 20
When the workpiece W is placed on the air cylinder 32, the air cylinder 32 descends to a predetermined height, and first, the pair of air chucks 33, 3 is placed.
4 opens, and then the pair of rods 32 of the air cylinder 32
a and b move to the outside of each other. In this way, the mechanical method of chucking and transporting the end of the work is suitable for transporting the glass substrate 100, etc., since static electricity is not generated and dust or dirt is unlikely to adhere to the work W.

【0033】さらに、上記実施形態では、YAGレーザ
を用いてワークを加工する装置について説明したが、こ
れに限られるものではなく、COレーザやエキシマレ
ーザを用いることもできる。また、ワークに複数箇所の
加工を行わない場合や、レーザ光を走査してレーザ加工
を行う場合には、上記XYテーブルを設けなくてもよ
い。また、ワークとして表面にITO薄膜が形成された
ガラス基板を加工した例について説明したが、これに限
られるものではなくセラミックス材料や金属材料からな
る板状のワークを加工することも可能である。
Further, in the above embodiment, the apparatus for processing the work by using the YAG laser has been described, but the present invention is not limited to this, and a CO 2 laser or an excimer laser may be used. The XY table may not be provided when the work is not processed at a plurality of locations or when laser processing is performed by scanning laser light. Further, although the example in which the glass substrate having the ITO thin film formed on the surface is processed as the work has been described, the present invention is not limited to this, and it is also possible to process a plate-shaped work made of a ceramic material or a metal material.

【0034】[0034]

【発明の効果】請求項1乃至5の発明によれば、転がり
接触部材が加工対象物に転がり接触して位置決めするの
で、従来加工対象物にガイドが摺動接触する場合に比
べ、該加工対象物の位置決めに伴う移動をスムーズに行
うことができ、加工対象物の位置決め不良や損傷を防止
できるという優れた効果がある。
According to the first to fifth aspects of the invention, since the rolling contact member is positioned in rolling contact with the object to be machined, the object to be machined is compared with the case where the guide is slidably contacting the object to be machined. There is an excellent effect that the movement accompanying the positioning of the object can be performed smoothly and the positioning error or damage of the object to be processed can be prevented.

【0035】特に、請求項2の発明によれば、可動ガイ
ドに複数の転がり接触部材を設けたので、該転がり接触
部材が1つの場合に比べ、加工対象物のより安定した位
置決め及び保持が可能となるという優れた効果がある。
また、可動ガイドが揺動するため、加工対象物の加工精
度が悪くても、該可動ガイドに設けられた転がり接触部
材の一部が片当りせず、該複数の転がり接触部材がそれ
ぞれ略均一な力で該加工対象物を保持するので、該加工
対象物の撓みや変形を防止することができるという優れ
た効果もある。
In particular, according to the second aspect of the invention, since the movable guide is provided with a plurality of rolling contact members, it is possible to more stably position and hold the workpiece as compared with the case where there is one rolling contact member. There is an excellent effect that
Further, since the movable guide oscillates, even if the processing accuracy of the object to be machined is poor, some of the rolling contact members provided on the movable guide do not hit one side, and the plurality of rolling contact members are substantially uniform. Since the object to be processed is held by various forces, there is also an excellent effect that it is possible to prevent the object to be processed from being bent or deformed.

【0036】特に、請求項3の発明によれば、加工対象
物をXY平面内で所定の位置に位置決め保持することが
できるという優れた効果がある。また仮に、2つの可動
ガイドの位置決め時の動作タイミングがずれた場合であ
っても、加工対象物の位置決め不良や損傷を防止するこ
とができるという優れた効果もある。
In particular, according to the invention of claim 3, there is an excellent effect that the object to be processed can be positioned and held at a predetermined position in the XY plane. Further, even if the operation timing of positioning the two movable guides is deviated from each other, there is an excellent effect that it is possible to prevent the positioning failure or damage of the workpiece.

【0037】特に、請求項4及び5の発明によれば、加
工対象物の位置決め不良やXYテーブルの駆動に伴う該
加工対象物の位置ずれを防いで、精度の高いビーム加工
が可能となるという優れた効果がある。
In particular, according to the inventions of claims 4 and 5, it is possible to prevent the positioning error of the object to be processed or the positional deviation of the object to be driven due to the driving of the XY table, thereby enabling the beam processing with high accuracy. It has an excellent effect.

【0038】特に、請求項5の発明によれば、ビーム源
がYAGレーザであるので、例えばエキシマレーザなど
に比べ、装置の製造コスト低減が図れるという優れた効
果がある。
In particular, according to the invention of claim 5, since the beam source is a YAG laser, there is an excellent effect that the manufacturing cost of the device can be reduced as compared with, for example, an excimer laser.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施形態に係るレーザ加工装置の概略構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment.

【図2】YAGレーザ装置の概略構成図。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a YAG laser device.

【図3】ワーク位置決め保持装置2を図1中の上側から
見た平面図。
FIG. 3 is a plan view of the work positioning and holding device 2 seen from the upper side in FIG.

【図4】(a)〜(c)は、可動ガイド63の拡大説明
図。
4A to 4C are enlarged explanatory views of a movable guide 63. FIG.

【図5】(a),(b)は、ワークを加工テーブル上に
位置決め保持する動作説明図。
5A and 5B are operation explanatory views for positioning and holding a work on a processing table.

【図6】ガラス基板の斜視図。FIG. 6 is a perspective view of a glass substrate.

【図7】(a),(b)は、基板移載装置のハンドリン
グの動作説明図。
7 (a) and 7 (b) are explanatory views of the handling operation of the substrate transfer device.

【図8】(a),(b)は、従来技術に係るワーク位置
決め保持装置の構成説明図。
8A and 8B are configuration explanatory views of a work positioning and holding device according to a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 YAGレーザ装置 2 ワーク位置決め保持装置 3 ワーク移載装置 4 XYテーブル 5 メインコントローラ 10 YAGレーザ発振器 20 加工テーブル 61,62 固定ガイド 63,64 可動ガイド 63a,63b 貫通孔 65〜72 カムフォロア 73 フランジ 74 回転軸 75 ハウジング 76,77 軸受 78 L金具 79,80 リニアガイド 81 エアシリンダ 82 保持プレート 83,84 回動角度規制ピン W ワーク 1 YAG laser device 2 Work positioning and holding device 3 Work transfer device 4 XY table 5 Main controller 10 YAG laser oscillator 20 processing table 61,62 Fixed guide 63, 64 movable guide 63a, 63b through holes 65-72 Cam Follower 73 Flange 74 rotation axis 75 housing 76,77 bearing 78 L metal fittings 79,80 Linear guide 81 Air cylinder 82 holding plate 83, 84 Rotation angle control pin W work

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】加工対象物を載置する加工テーブルと、該
加工テーブルに固定された固定ガイドと、該加工テーブ
ル上で進退移動可能で該固定ガイドとともに該加工対象
物を該加工テーブル上に位置決め保持する可動ガイドと
を備えた加工対象物位置決め保持装置において、上記固
定ガイドと上記可動ガイドとに、上記加工対象物と転が
り接触する転がり接触部材を設けたことを特徴とする加
工対象物位置決め保持装置。
1. A processing table on which a processing object is placed, a fixed guide fixed to the processing table, and a reciprocating movable on the processing table, and the processing object together with the fixed guide on the processing table. In a workpiece positioning and holding device having a movable guide for positioning and holding, a workpiece contact positioning device is provided, in which the fixed guide and the movable guide are provided with rolling contact members that make rolling contact with the workpiece. Holding device.
【請求項2】請求項1の加工対象物位置決め保持装置に
おいて、上記可動ガイドに上記転がり接触部材を複数設
けるとともに、該可動ガイドをXY平面内で所定角度揺
動させるように構成したことを特徴とする加工対象物位
置決め保持装置。
2. The workpiece positioning and holding apparatus according to claim 1, wherein the movable guide is provided with a plurality of the rolling contact members, and the movable guide is swung by a predetermined angle in an XY plane. Positioning and holding device for processed objects.
【請求項3】請求項1又は2の加工対象物位置決め保持
装置において、上記加工テーブルをXY方向に移動駆動
させる移動駆動手段を設けるとともに、上記可動ガイド
を2つ設け、一方の可動ガイドをX方向に進退移動さ
せ、且つ、他方の可動ガイドをY方向に進退移動させる
ように構成したことを特徴とする加工対象物位置決め保
持装置。
3. The apparatus for positioning and holding a workpiece according to claim 1 or 2, wherein a moving drive means for moving and driving the processing table in XY directions is provided, two movable guides are provided, and one of the movable guides is X. An apparatus for positioning and holding an object to be machined, wherein the movable guide is moved forward and backward in the Y direction, and the other movable guide is moved forward and backward in the Y direction.
【請求項4】パルス状のエネルギービームを繰り返し出
射するビーム源と、該ビーム源から出射されたエネルギ
ービームを加工対象物に案内して照射するビーム照射手
段と、該加工対象物と該加工対象物に対する該エネルギ
ービームの照射ポイントとを相対移動させるXYテーブ
ルと、該XYテーブルに該加工対象物を位置決め保持す
る位置決め保持手段と、加工制御データに基づいて該ビ
ーム源及び該XYテーブルを制御する制御手段とを備え
たビーム加工装置において、上記位置決め保持手段とし
て、請求項1、2又は3に記載の加工対象物位置決め保
持装置を用いたことを特徴とするビーム加工装置。
4. A beam source that repeatedly emits a pulsed energy beam, a beam irradiation means that guides and irradiates an energy beam emitted from the beam source to an object to be processed, the object to be processed and the object to be processed. An XY table that relatively moves the irradiation point of the energy beam with respect to the object, a positioning holding unit that positions and holds the object to be processed on the XY table, and the beam source and the XY table based on processing control data. A beam processing apparatus comprising a control means, wherein the processing object positioning and holding device according to claim 1, 2 or 3 is used as the positioning and holding means.
【請求項5】請求項4のビーム加工装置において、上記
ビーム源が、YAGレーザであることを特徴とするビー
ム加工装置。
5. The beam processing apparatus according to claim 4, wherein the beam source is a YAG laser.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115491472A (en) * 2022-11-03 2022-12-20 中国铁建重工集团股份有限公司 Quenching anti-deformation device for ring part and thin-wall part machining method

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