JP2003226517A - Surface modifying method for silica gel and adsorbent - Google Patents

Surface modifying method for silica gel and adsorbent

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JP2003226517A
JP2003226517A JP2002026778A JP2002026778A JP2003226517A JP 2003226517 A JP2003226517 A JP 2003226517A JP 2002026778 A JP2002026778 A JP 2002026778A JP 2002026778 A JP2002026778 A JP 2002026778A JP 2003226517 A JP2003226517 A JP 2003226517A
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睦弘 伊藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface modifying method for silica gel capable of modifying the surface of silica gel to ensure a property suitable for adsorbing an organic compound without breaking the porous structure of the silica gel and to provide an adsorbent having a property of adsorbing an organic compound improved by the surface modifying method. <P>SOLUTION: B type silica gel disposed in a measuring device is heated at 180°C for 2 hr while introducing dehumidified air having 0.05 g/kg absolute humidity into the measuring device to remove the adsorbed surface water from the silica gel. Evacuation is then carried out at 0.067 kPa in the measuring device and cyclohexane vapor is adsorbed until adsorption equilibrium is attained. Evacuation is further carried out at 0.067 kPa in the measuring device to obtain surface-modified silica gel with irreversibly adsorbed cyclohexane. This surface-modified silica gel is more excellent in a property of adsorbing cyclohexane than silica gel fired at a high temperature. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シリカゲル表面を
有機化合物の吸着に好適な特性に改質可能なシリカゲル
の表面改質方法と、その表面改質方法によって有機化合
物についての吸着特性を改善した吸着材に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for modifying the surface of silica gel capable of modifying the surface of silica gel to a property suitable for adsorbing an organic compound, and the adsorption property for an organic compound improved by the surface modifying method. Regarding the adsorbent.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、有機化合物ガスを吸着するのに好
適なシリカゲルとして、例えば、特公昭52−1956
0号公報には、300〜500℃の温度で1〜3時間焼
成してなるシリカゲルが記載されている。同公報によれ
ば、シリカゲルを300〜500℃の温度で1〜3時間
焼成すると、シリカゲル表面のシラノール基がシロキサ
ン結合に変化し、その結果、有機化合物ガスを吸着する
のに好適なシリカゲルになるとされている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a silica gel suitable for adsorbing an organic compound gas, for example, Japanese Patent Publication No. 52-1956.
No. 0 publication describes silica gel obtained by firing at a temperature of 300 to 500 ° C. for 1 to 3 hours. According to the publication, when silica gel is calcined at a temperature of 300 to 500 ° C. for 1 to 3 hours, the silanol groups on the surface of the silica gel are changed into siloxane bonds, and as a result, silica gel suitable for adsorbing organic compound gas is obtained. Has been done.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に記載されたような温度範囲でシリカゲルを焼成する
と、シリカゲルが焼成前に備えていた細孔構造を維持で
きない場合があり、より具体的には、シンタリングによ
ってシリカゲルの細孔容積、表面積などが低下してしま
う場合があり、これが原因でシリカゲルの吸着性能が低
下してしまう、という問題があった。
However, when the silica gel is calcined in the temperature range described in the above publication, the pore structure which the silica gel had before the calcining may not be maintained, and more specifically, However, there is a problem in that the pore volume, surface area, etc. of silica gel may decrease due to sintering, which causes a decrease in the adsorption performance of silica gel.

【0004】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、その目的は、シリカゲルの細孔構造を
壊すことなく、シリカゲル表面を有機化合物の吸着に好
適な特性に改質可能なシリカゲルの表面改質方法と、そ
の表面改質方法によって有機化合物についての吸着特性
を改善した吸着材を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to modify the surface of silica gel to a property suitable for adsorbing an organic compound without destroying the pore structure of silica gel. It is intended to provide a method for modifying the surface of silica gel and an adsorbent having improved adsorption properties for organic compounds by the method for modifying the surface.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段、および発明の効果】上述
の目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、発明者
らは、雰囲気が0℃以上300℃未満かつ各温度の相対
湿度が1%以下に制御された環境下でシリカゲルの吸着
水を除去してから、シリカゲルと有機化合物とを接触さ
せると、有機化合物がシリカゲルの表面に不可逆的に吸
着され、真空引きしても脱着しない不可逆吸着層(以
下、プレコート層ともいう)を形成すること、および、
このような方法でシリカゲルの表面を改質してもシリカ
ゲルの細孔構造が壊れないことを見いだし、本発明を完
成させるに至った。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention As a result of intensive studies in order to achieve the above-mentioned object, the inventors have found that the atmosphere is 0 ° C. or more and less than 300 ° C. and the relative humidity at each temperature is 1. % Remove the adsorbed water of silica gel in the controlled environment below, and then contact the silica gel with the organic compound, the organic compound will be irreversibly adsorbed on the surface of the silica gel and will not be desorbed even if vacuum is applied. Forming an adsorption layer (hereinafter, also referred to as a precoat layer), and
It has been found that the pore structure of silica gel is not broken even if the surface of silica gel is modified by such a method, and the present invention has been completed.

【0006】すなわち、本発明のシリカゲルの表面改質
方法は、雰囲気が0℃以上300℃未満かつ各温度の相
対湿度が1%以下に制御された環境下でシリカゲルの吸
着水を除去し、その後、前記シリカゲルと有機化合物と
を接触させることにより、前記シリカゲルの表面に前記
有機化合物を吸着させて、前記シリカゲルの表面を前記
有機化合物の吸着に好適な特性に改質することを特徴と
する。
That is, the method for surface-modifying silica gel of the present invention removes adsorbed water of silica gel in an environment in which the atmosphere is controlled to be 0 ° C. or higher and lower than 300 ° C. and the relative humidity at each temperature is controlled to 1% or lower. By contacting the silica gel with an organic compound, the organic compound is adsorbed on the surface of the silica gel, and the surface of the silica gel is modified to have characteristics suitable for adsorbing the organic compound.

【0007】このシリカゲルの表面改質方法において
は、雰囲気の相対湿度を1%以下に制御する事が必須で
ある。この湿度条件はシリカゲルがその湿度に平衡状態
になった時のシリカゲル単分子吸着量の10%以下とな
る条件であり、各温度における相対湿度1%以下の微量
水分が必要であることを意味するものではない。この相
対湿度が1%を上回るとシリカゲルの単分子吸着量の1
0%以下を達成することが困難となり、残留した吸着水
がシリカゲル表面の疎水化を阻害する恐れがある。
In this method for modifying the surface of silica gel, it is essential to control the relative humidity of the atmosphere to 1% or less. This humidity condition is a condition that the silica gel single molecule adsorption amount is 10% or less when the silica gel is in an equilibrium state with respect to the humidity, and it means that a small amount of relative humidity of 1% or less at each temperature is required. Not a thing. When this relative humidity exceeds 1%, the amount of monomolecular adsorption of silica gel becomes 1
It becomes difficult to achieve 0% or less, and residual adsorbed water may hinder the hydrophobization of the silica gel surface.

【0008】雰囲気の相対湿度を1%以下に制御する方
法としては、例えば、雰囲気温度の飽和蒸気圧の1%に
相当する絶対湿度以下に制御された除湿気体を、パージ
気体として容器内へ連続的に送り込むとともに、容器内
の空気を連続的に排気して、常に容器内が新たに送り込
まれたパージ気体で満たされるようにするといった方法
を採用すればよい。これにより、シリカゲルの加熱に伴
う容器内の湿度上昇を防止して所期の低い湿度を維持す
ることができる。
As a method for controlling the relative humidity of the atmosphere to 1% or less, for example, a dehumidifying body controlled to an absolute humidity or less corresponding to 1% of the saturated vapor pressure at the atmospheric temperature is continuously introduced into the container as a purge gas. It is possible to adopt a method in which the air in the container is continuously exhausted and the air in the container is continuously exhausted so that the inside of the container is always filled with the newly supplied purge gas. As a result, it is possible to prevent the humidity in the container from rising due to the heating of the silica gel and maintain the desired low humidity.

【0009】シリカゲルを加熱する時の温度条件は、0
℃以上300℃未満である。この温度が0℃を下回ると
シリカゲルに吸着している吸着水の除去に時間を要し、
吸着水を十分に除去できない恐れがある。0℃以上かつ
相対湿度1%以上であれば吸着水の除去は十分に達成で
きるが、好適には100℃以上300℃未満である事が
望ましい。
The temperature condition for heating the silica gel is 0.
The temperature is not less than 300 ° C and less than 300 ° C. If this temperature is below 0 ° C, it takes time to remove the adsorbed water adsorbed on the silica gel,
Adsorbed water may not be removed sufficiently. If the temperature is 0 ° C or higher and the relative humidity is 1% or higher, the removal of the adsorbed water can be sufficiently achieved, but it is preferably 100 ° C or higher and lower than 300 ° C.

【0010】シリカゲルと接触させる有機化合物は、吸
着対象となる有機化合物そのものか、吸着対象となる有
機化合物と親和性の高い有機化合物であり、具体的に
は、例えば、前記有機化合物が、炭化水素、ハロゲン化
炭化水素、アルコール、エーテルとアセタール、ケトン
とアルデヒド、エステル、多価アルコールとその誘導
体、カルボン酸とその無水物、フェノール、含窒素化合
物、含硫黄化合物、フッ素化合物、および有機ケイ素化
合物の中から選ばれる一種または二種以上の混合物であ
るとよい。
The organic compound which is brought into contact with the silica gel is an organic compound itself to be adsorbed or an organic compound having a high affinity with the organic compound to be adsorbed. Specifically, for example, the organic compound is a hydrocarbon. Of halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers and acetals, ketones and aldehydes, esters, polyhydric alcohols and their derivatives, carboxylic acids and their anhydrides, phenols, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, fluorine compounds, and organosilicon compounds. It may be one kind or a mixture of two or more kinds selected from the inside.

【0011】炭化水素の具体例としては、アミルベンゼ
ン、イソプロピルベンゼン、エチルベンゼン、オクタ
ン、ガソリン、キシレン類、ジエチルベンゼン類、シク
ロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、シクロヘキセ
ン、シクロペンタン、ジペンテン、ジメチルナフタレ
ン、シメン類、ショウ脳油、スチレン、石油エーテル、
石油ベンジン、ソルベントナフサ、デカリン、デカン、
テトラリン、テレピン油、灯油、ドデカン、ドデシルベ
ンゼン、トルエン、ナフタレン、ノナン、パインオイ
ル、ピネン、ビフェニル、ブタン、プロパン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ベンゼン、ペンタン、メシチレン、メチ
ルシクロヘキサン、メチルシクロペンタン、p−メンタ
ン、リグロイン、流動パラフィンを挙げることができ
る。
Specific examples of hydrocarbons include amylbenzene, isopropylbenzene, ethylbenzene, octane, gasoline, xylenes, diethylbenzenes, cyclohexane, cyclohexylbenzene, cyclohexene, cyclopentane, dipentene, dimethylnaphthalene, cymene, and show brain oil. , Styrene, petroleum ether,
Petroleum benzine, solvent naphtha, decalin, decane,
Tetralin, turpentine oil, kerosene, dodecane, dodecylbenzene, toluene, naphthalene, nonane, pine oil, pinene, biphenyl, butane, propane, hexane, heptane, benzene, pentane, mesitylene, methylcyclohexane, methylcyclopentane, p-menthane, Examples thereof include ligroin and liquid paraffin.

【0012】ハロゲン化炭化水素の具体例としては、ア
リルクロリド、2−エチルヘキシルクロリド、塩化アミ
ル、塩化イソプロピル、塩化エチル、塩化ナフタレン
類、塩化ブチル、塩化ヘキシル、塩化メチル、塩化メチ
レン、o−クロロトルエン、p−クロロトルエン、クロ
ロベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素、1,1−ジク
ロロエタン、1,2−ジクロロエタン、1,1−ジクロ
ロエチレン、1,2−ジクロロエチレン、2,3−ジク
ロロトルエン、2,4−ジクロロトルエン、2,5−ジ
クロロトルエン、2,6−ジクロロトルエン、3,4−
ジクロロトルエン、3,5−ジクロロトルエン、ジクロ
ロブタン類、ジクロロプロパン、m−ジクロロベンゼ
ン、o−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼン、ジ
ブロモエタン、ジブロモブタン、ジブロモプロパン、ジ
ブロモベンゼン、ジブロモペンタン、臭化アリル、臭化
イソプロピル、臭化エチル、臭化オクチル、臭化ブチ
ル、臭化プロピル、臭化メチル、臭化ラウリル、1,
1,1,2−テトラクロロエタン、1,1,2,2−テ
トラクロロエタン、テトラクロロエチレン、テトラブロ
モエタン、テトラメチレンクロロブロミド、1,1,1
−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、
トリクロロエチレン、1,2,3−トリクロロベンゼ
ン、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,3,5−ト
リクロロベンゼン、ブロモクロロエタン、1−ブロモ−
3−クロロプロパン、ブロモナフタレン、ブロモベンゼ
ン、ヘキサクロロエタン、ペンタメチレンクロロブロミ
ドを挙げることができる。
Specific examples of the halogenated hydrocarbon include allyl chloride, 2-ethylhexyl chloride, amyl chloride, isopropyl chloride, ethyl chloride, naphthalene chloride, butyl chloride, hexyl chloride, methyl chloride, methylene chloride and o-chlorotoluene. , P-chlorotoluene, chlorobenzene, chloroform, carbon tetrachloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1-dichloroethylene, 1,2-dichloroethylene, 2,3-dichlorotoluene, 2,4-dichloro. Toluene, 2,5-dichlorotoluene, 2,6-dichlorotoluene, 3,4-
Dichlorotoluene, 3,5-dichlorotoluene, dichlorobutanes, dichloropropane, m-dichlorobenzene, o-dichlorobenzene, p-dichlorobenzene, dibromoethane, dibromobutane, dibromopropane, dibromobenzene, dibromopentane, allyl bromide , Isopropyl bromide, ethyl bromide, octyl bromide, butyl bromide, propyl bromide, methyl bromide, lauryl bromide, 1,
1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, tetrachloroethylene, tetrabromoethane, tetramethylenechlorobromide, 1,1,1
-Trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane,
Trichloroethylene, 1,2,3-trichlorobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, 1,3,5-trichlorobenzene, bromochloroethane, 1-bromo-
Mention may be made of 3-chloropropane, bromonaphthalene, bromobenzene, hexachloroethane and pentamethylenechlorobromide.

【0013】アルコールの具体例としては、n−アミル
アルコール、s−アミルアルコール、t−アミルアルコ
ール、アリルアルコール、イソアミルアルコール、イソ
ブチルアルコール、イソプロピルアルコール、ウンデカ
ノール、エタノール、2−エチルブタノール、2−エチ
ルヘキサノール、2−オクタノール、n−オクタノー
ル、グリシドール、シクロヘキサノール、3,5−ジメ
チル−1−ヘキシン−3−オール、n−デカノール、テ
トラヒドロフルフリルアルコール、α−テルピネオー
ル、ネオペンチルアルコール、ノナノール、フーゼル
油、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノー
ル、フルフリルアルコール、プロパルギルアルコール、
1−プロパノール、n−ヘキサノール、2−ヘプタノー
ル、3−ヘプタノール、n−ヘプタノール、ベンジルア
ルコール、3−ペンタノール、メタノール、メチルシク
ロヘキサノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メ
チル−2−ブタノール、3−メチル−1−ブチン−3−
オール、4−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−
1−ペンチン−3−オールを挙げることができる。
Specific examples of alcohols include n-amyl alcohol, s-amyl alcohol, t-amyl alcohol, allyl alcohol, isoamyl alcohol, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, undecanol, ethanol, 2-ethylbutanol and 2-ethylhexanol. , 2-octanol, n-octanol, glycidol, cyclohexanol, 3,5-dimethyl-1-hexyne-3-ol, n-decanol, tetrahydrofurfuryl alcohol, α-terpineol, neopentyl alcohol, nonanol, fusel oil, n-butanol, s-butanol, t-butanol, furfuryl alcohol, propargyl alcohol,
1-propanol, n-hexanol, 2-heptanol, 3-heptanol, n-heptanol, benzyl alcohol, 3-pentanol, methanol, methylcyclohexanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, 3-methyl-1-butyne-3-
All, 4-methyl-2-pentanol, 3-methyl-
1-Pentin-3-ol can be mentioned.

【0014】エーテルとアセタールの具体例としては、
アニソール、エチルイソアミルエーテル、エチル−t−
ブチルエーテル、エチルベンジルエーテル、エピクロロ
ヒドリン、エポキシブタン、クラウンエーテル類、クレ
ジルメチルエーテル、酸化プロピレン、ジイソアミルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルアセター
ル、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジグリシジルエー
テル、1,8−シネオール、ジフェニルエーテル、ジブ
チルエーテル、ジプロピルエーテル、ジベンジルエーテ
ル、ジメチルエーテル、テトラヒドロピラン、テトラヒ
ドロフラン、トリオキサン、ビス(2−クロロエチル)
エーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルメチルエーテ
ル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、フラン、
フルフラール、メチラール、メチル−t−ブチルエーテ
ル、メチルフラン、モノクロロジエチルエーテルを挙げ
ることができる。
Specific examples of ether and acetal include:
Anisole, ethyl isoamyl ether, ethyl-t-
Butyl ether, ethyl benzyl ether, epichlorohydrin, epoxy butane, crown ethers, cresyl methyl ether, propylene oxide, diisoamyl ether, diisopropyl ether, diethyl acetal, diethyl ether, dioxane, diglycidyl ether, 1,8-cineole , Diphenyl ether, dibutyl ether, dipropyl ether, dibenzyl ether, dimethyl ether, tetrahydropyran, tetrahydrofuran, trioxane, bis (2-chloroethyl)
Ether, vinyl ethyl ether, vinyl methyl ether, phenetole, butyl phenyl ether, furan,
Furfural, methylal, methyl-t-butyl ether, methylfuran, monochlorodiethyl ether may be mentioned.

【0015】ケトンとアルデヒドの具体例としては、ア
クロレイン、アセチルアセトン、アセトアルデヒド、ア
セトフェノン、アセトン、イソホロン、エチル−n−ブ
チルケトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケト
ン、ジイソプロピルケトン、ジエチルケトン、シクロヘ
キサノン、ジ−n−プロピルケトン、ホロン、メシチル
オキシド、メチル−n−アミルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノ
ン、メチル−n−ブチルケトン、メチル−n−プロピル
ケトン、メチル−n−ヘキシルケトン、メチル−n−ヘ
プチルケトンを挙げることができる。
Specific examples of the ketone and aldehyde include acrolein, acetylacetone, acetaldehyde, acetophenone, acetone, isophorone, ethyl-n-butyl ketone, diacetone alcohol, diisobutyl ketone, diisopropyl ketone, diethyl ketone, cyclohexanone, di-n-propyl. Ketone, holone, mesityl oxide, methyl-n-amyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, methylcyclohexanone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-hexyl ketone, methyl-n-heptyl ketone. Can be mentioned.

【0016】エステルの具体例としては、アジピン酸ジ
エチル、アジピン酸ジオクチル、アセチルクエン酸トリ
エチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセト酢酸アリ
ル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アビエチン
酸メチル、安息香酸イソアミル、安息香酸エチル、安息
香酸ブチル、安息香酸プロピル、安息香酸ベンジル、安
息香酸メチル、イソ吉草酸イソアミル、イソ吉草酸エチ
ル、ギ酸イソアミル、ギ酸イソブチル、ギ酸エチル、ギ
酸ブチル、ギ酸プロピル、ギ酸ヘキシル、ギ酸ベンジ
ル、ギ酸メチル、クエン酸トリブチル、ケイ酸エステ
ル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸メチル、酢酸アミル、酢
酸アリル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸イソ
プロピル、酢酸エチル、酢酸2−エチルヘキシル、酢酸
シクロヘキシル、酢酸n−ブチル、酢酸s−ブチル、酢
酸プロピル、酢酸ベンジル、酢酸メチル、酢酸メチルシ
クロヘキシル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベン
ジル、サリチル酸メチル、シュウ酸ジアミル、シュウ酸
ジエチル、シュウ酸ジブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸
ジブチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸エチル、
ステアリン酸ブチル、セバシン酸ジオクチル、セバシン
酸ジブチル、炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル、炭酸ジメ
チル、乳酸アミル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸メチ
ル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジメチル、γ−ブチロラクトン、プ
ロピオン酸イソアミル、プロピオン酸エチル、プロピオ
ン酸ブチル、プロピオン酸ベンジル、プロピオン酸メチ
ル、ホウ酸エステル類、マレイン酸ジオクチル、マレイ
ン酸ジブチル、マロン酸ジイソプロピル、マロン酸ジエ
チル、マロン酸ジメチル、酪酸イソアミル、酪酸イソプ
ロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸メチル、リン酸
エステル類を挙げることができる。
Specific examples of the ester include diethyl adipate, dioctyl adipate, triethyl acetyl citrate, tributyl acetyl citrate, allyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl acetoacetate, methyl abietate, isoamyl benzoate, and benzoic acid. Ethyl, butyl benzoate, propyl benzoate, benzyl benzoate, methyl benzoate, isoamyl isovalerate, ethyl isovalerate, isoamyl formate, isobutyl formate, ethyl formate, butyl formate, propyl formate, hexyl formate, benzyl formate, formate Methyl, tributyl citrate, silicate ester, ethyl cinnamate, methyl cinnamate, amyl acetate, allyl acetate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, ethyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, acetic acid -Butyl, s-butyl acetate, propyl acetate, benzyl acetate, methyl acetate, methyl cyclohexyl acetate, isoamyl salicylate, benzyl salicylate, methyl salicylate, diamyl oxalate, diethyl oxalate, dibutyl oxalate, diethyl tartrate, dibutyl tartrate, stearic acid Amyl, ethyl stearate,
Butyl stearate, dioctyl sebacate, dibutyl sebacate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, dimethyl carbonate, amyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl lactate, diethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, dimethyl phthalate, γ -Butyrolactone, isoamyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, benzyl propionate, methyl propionate, borate esters, dioctyl maleate, dibutyl maleate, diisopropyl malonate, diethyl malonate, dimethyl malonate, isoamyl butyrate. , Isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl butyrate, and phosphoric acid esters.

【0017】多価アルコールとその誘導体の具体例とし
ては、エチレンカルボナート、エチレングリコール、エ
チレングリコールジアセタート、エチレングリコールジ
エチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエー
テル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
アセタート、エチレングリコールモノイソプロピルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレン
グリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエ
ーテルアセタート、エチレングリコールモノヘキシルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレ
ングリコールモノメトキシメチルエーテル、エチレンク
ロロヒドリン、1,3−オクチレングリコール、グリセ
リン、グリセリングリシジルエーテル、グリセリン1,
3−ジアセタート、グリセリンジアルキルエーテル、グ
リセリン脂肪酸エステル、グリセリントリアセタート、
グリセリントリラウラート、グリセリンモノアセター
ト、2−クロロ−1,3−プロパンジオール、3−クロ
ロ−1,2−プロパンジオール、ジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエ
チレングリコールクロロヒドリン、ジエチレングリコー
ルジアセタート、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジベンゾエート、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、ジエチレングリコールビスアリルカル
ボナート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテルアセタート、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサンジオー
ル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコール
モノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、テ
トラエチレングリコール、トリエチレングリコール、ト
リエチレングリコールジ−2−エチルブチラート、トリ
エチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル、トリグリコールジクロリド、トリ
プロピレングリコール、トリプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、トリメチレングリコール、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、1,2−ブタン
ジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジ
オール、1,4−ブテンジオール、プロピレンカルボナ
ート、プロピレングリコール、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレンクロロヒドリン、ヘキシレングリコール、ペン
タエリスリトール、1,5−ペンタンジオール、ポリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール脂肪酸エス
テル、ポリ(オキシエチレン−オキシプロピレン)誘導
体、ポリプロピレングリコールを挙げることができる。
Specific examples of the polyhydric alcohol and its derivative include ethylene carbonate, ethylene glycol, ethylene glycol diacetate, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol. Monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol Monomethyl ether, ethylene glycol Ether acetate, ethylene glycol monomethyl methoxymethyl ether, ethylene chlorohydrin, 1,3-octylene glycol, glycerin, glycerin triglycidyl ether, glycerol 1,
3-diacetate, glycerin dialkyl ether, glycerin fatty acid ester, glycerin triacetate,
Glycerin trilaurate, glycerin monoacetate, 2-chloro-1,3-propanediol, 3-chloro-1,2-propanediol, diethylene glycol, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol chlorohydrin, diethylene glycol diacetate, diethylene glycol Diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dibenzoate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol bisallyl carbonate, diethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol monoethyl ether acetate,
Diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, cyclohexanediol, dipropylene glycol, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tetraethylene glycol , Triethylene glycol, triethylene glycol di-2-ethylbutyrate, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triglycol dichloride, tripropylene glycol, tripropylene glycol monomethyl ether, Limethylene glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,4-butenediol, propylene carbonate, propylene glycol, propylene glycol mono Ethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene chlorohydrin, hexylene glycol, pentaerythritol, 1,5-pentanediol, polyethylene glycol, polyethylene glycol fatty acid ester, poly (oxyethylene-oxypropylene) derivative, Mention may be made of polypropylene glycol.

【0018】カルボン酸とその無水物の具体例として
は、イソ吉草酸、イソ酪酸、イタコン酸、2−エチルヘ
キサン酸、2−エチル酪酸、オレイン酸、カプリル酸、
カプロン酸、ギ酸、吉草酸、酢酸、ジクロロ酢酸、乳
酸、ピバリン酸、プロピオン酸、無水イソ酪酸、無水イ
タコン酸、無水酢酸、無水シトラコン酸、無水プロピオ
ン酸、無水マレイン酸、無水酪酸、モノクロロ酢酸、酪
酸を挙げることができる。
Specific examples of the carboxylic acid and its anhydride include isovaleric acid, isobutyric acid, itaconic acid, 2-ethylhexanoic acid, 2-ethylbutyric acid, oleic acid, caprylic acid,
Caproic acid, formic acid, valeric acid, acetic acid, dichloroacetic acid, lactic acid, pivalic acid, propionic acid, isobutyric anhydride, itaconic anhydride, acetic anhydride, citraconic acid, propionic anhydride, maleic anhydride, butyric anhydride, monochloroacetic acid, Butyric acid may be mentioned.

【0019】フェノールの具体例としては、エチルフェ
ノール、オクチルフェノール、カテコール、キシレノー
ル、グアヤコール、p−クミルフェノール、クレゾー
ル、m−クレゾール、o−クレゾール、p−クレゾー
ル、ドデシルフェノール、ナフトール、ノニルフェノー
ル、フェノール、ベンジルフェノール、p−メトキシエ
チルフェノールを挙げることができる。
Specific examples of phenol include ethylphenol, octylphenol, catechol, xylenol, guaiacol, p-cumylphenol, cresol, m-cresol, o-cresol, p-cresol, dodecylphenol, naphthol, nonylphenol, phenol, Benzylphenol and p-methoxyethylphenol can be mentioned.

【0020】含窒素化合物の具体例としては、アセトア
ミド、アセトニトリル、アセトンシアノヒドリン、アニ
リン、アミルアミン、アリルアミン、イソキノリン、イ
ソブチルアミン、イソプロパノールアミン類、イソプロ
ピルアミン、イミダゾール、N−エチルエタノールアミ
ン、2−エチルヘキシルアミン、N−エチルモルホリ
ン、エチレンジアミン、カプロラクタム、キノリン、o
−クロロアニリン、シアノ酢酸エチル、ジアミルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、ジエタノールアミン、N,N
−ジエチルアニリン、ジエチルアミン、ジエチルベンジ
ルアミン、ジエチレントリアミン、ジオクチルアミン、
シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジフ
ェニルアミン、N,N−ジブチルアニリン、ジ−n−ブ
チルアミン、N,N−ジブチルエタノールアミン、N,
N−ジメチルアニリン、ジメチルアミン、1,3−ジメ
チル−2−イミダゾリジノン、N,N−ジメチルホルム
アミド、テトラエチレンペンタミン、N,N,N’,
N’−テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチル尿
素、トリアミルアミン、トリエタノールアミン、トリエ
チルアミン、トリオクチルアミン、トリ−n−ブチルア
ミン、トリプロピルアミン、トリメチルアミン、o−ト
ルイジン、o−ニトロアニソール、o−ニトロアニリ
ン、ニトロエタン、1−ニトロプロパン、2−ニトロプ
ロパン、ニトロベンゼン、ニトロメタン、α−ピコリ
ン、β−ピコリン、γ−ピコリン、ヒドラジン、ピペコ
リン、ピペラジン、ピペリジン、ピラジン、ピリジン、
ピロリジン、2−ピロリドン、N−フェニルモルホリ
ン、N−ブチルアニリン、s−ブチルアミン、t−ブチ
ルアミン、N−ブチルエタノールアミン、ブチロニトリ
ル、プロピオニトリル、プロピレンジアミン、ヘキサメ
チルホスホルトリアミド、ヘプチルアミン、ベンゾニト
リル、ホルムアミド、N−メチルアニリン、N−メチル
ピロリドン、N−メチルホルムアミド、モノエタノール
アミン、モノエチルアミン、モノ−n−ブチルアミン、
モノメチルアミン、モルホリン、2,4−ルチジン、
2,6−ルチジンを挙げることができる。
Specific examples of the nitrogen-containing compound include acetamide, acetonitrile, acetone cyanohydrin, aniline, amylamine, allylamine, isoquinoline, isobutylamine, isopropanolamines, isopropylamine, imidazole, N-ethylethanolamine, 2-ethylhexylamine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, caprolactam, quinoline, o
-Chloroaniline, ethyl cyanoacetate, diamylamine, diisobutylamine, diisopropylamine, diisopropylethylamine, diethanolamine, N, N
-Diethylaniline, diethylamine, diethylbenzylamine, diethylenetriamine, dioctylamine,
Cyclohexylamine, dicyclohexylamine, diphenylamine, N, N-dibutylaniline, di-n-butylamine, N, N-dibutylethanolamine, N,
N-dimethylaniline, dimethylamine, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N, N-dimethylformamide, tetraethylenepentamine, N, N, N ′,
N'-tetramethylethylenediamine, tetramethylurea, triamylamine, triethanolamine, triethylamine, trioctylamine, tri-n-butylamine, tripropylamine, trimethylamine, o-toluidine, o-nitroanisole, o-nitroaniline , Nitroethane, 1-nitropropane, 2-nitropropane, nitrobenzene, nitromethane, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, hydrazine, pipecoline, piperazine, piperidine, pyrazine, pyridine,
Pyrrolidine, 2-pyrrolidone, N-phenylmorpholine, N-butylaniline, s-butylamine, t-butylamine, N-butylethanolamine, butyronitrile, propionitrile, propylenediamine, hexamethylphosphortriamide, heptylamine, benzonitrile , Formamide, N-methylaniline, N-methylpyrrolidone, N-methylformamide, monoethanolamine, monoethylamine, mono-n-butylamine,
Monomethylamine, morpholine, 2,4-lutidine,
2,6-lutidine can be mentioned.

【0021】含硫黄化合物の具体例としては、ジエチル
硫酸、ジフェニルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチル硫酸、スルホラン、チオアニソール、チオフェ
ン、テトラヒドロチオフェン、二硫化炭素、プロパンス
ルトンを挙げることができる。フッ素化合物の具体例と
しては、ジクロロジフルオロメタン、1,1−ジクロロ
−1−フルオロエタン、ジフルオロベンゼン類、1,
1,2,2−テトラクロロジフルオロエタン、2,2,
3,3−テトラフルオロプロパノール、ドデカフルオロ
シクロヘキサン、1,1,2−トリクロロトリフルオロ
エタン、トリクロロフルオロメタン、トリフルオロアセ
トアミド、4,4,4−トリフルオロアセト酢酸エチ
ル、トリフルオロエタノール、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロ酢酸エステル、1,1,1−トリフルオロジク
ロロエタン、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフル
オロメチルアニリン類、トリフルオロメチルピリジン
類、p−トリフルオロメチルベンゾニトリル、パーフル
オロアルカン、2−パーフルオロアルキルエタノール、
パーフルオロアルキルエチレン、パーフルオロアルキル
カルボン酸、パーフルオロテトラヒドロフラン、パーフ
ルオロトリアルキルアミン、パーフルオロブチルテトラ
ヒドロフラン、パーフルオロポリエーテル類、フルオロ
アニリン類、フルオロイソフタロニトリル類、フルオロ
フェノール類、フルオロベンゼン、ヘキサフルオロアセ
トン三水和物、ヘキサフルオロイソプロパノール、ヘキ
サフルオロプロピレン、ヘキサフルオロベンゼン、ベン
ゾトリフルオリド、ペンタフルオロジクロロプロパン、
ペンタフルオロフェノール、2,2,3,3,3−ペン
タフルオロプロパノールを挙げることができる。
Specific examples of the sulfur-containing compound include diethyl sulfate, diphenyl sulfone, dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfate, sulfolane, thioanisole, thiophene, tetrahydrothiophene, carbon disulfide and propane sultone. Specific examples of the fluorine compound include dichlorodifluoromethane, 1,1-dichloro-1-fluoroethane, difluorobenzenes, 1,
1,2,2-tetrachlorodifluoroethane, 2,2
3,3-tetrafluoropropanol, dodecafluorocyclohexane, 1,1,2-trichlorotrifluoroethane, trichlorofluoromethane, trifluoroacetamide, ethyl 4,4,4-trifluoroacetoacetate, trifluoroethanol, trifluoroacetic acid , Trifluoroacetic acid ester, 1,1,1-trifluorodichloroethane, trifluoromethanesulfonic acid, trifluoromethylanilines, trifluoromethylpyridines, p-trifluoromethylbenzonitrile, perfluoroalkane, 2-perfluoroalkyl ethanol,
Perfluoroalkylethylene, perfluoroalkylcarboxylic acid, perfluorotetrahydrofuran, perfluorotrialkylamine, perfluorobutyltetrahydrofuran, perfluoropolyethers, fluoroanilines, fluoroisophthalonitriles, fluorophenols, fluorobenzene, hexa Fluoroacetone trihydrate, hexafluoroisopropanol, hexafluoropropylene, hexafluorobenzene, benzotrifluoride, pentafluorodichloropropane,
Mention may be made of pentafluorophenol and 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol.

【0022】有機ケイ素化合物の具体例としては、シリ
コーンを挙げることができる。これらの有機化合物は、
一種だけを単独で用いてもよいし、相溶性が高いもの同
士であれば二種以上の混合物を用いてもよい。また、有
機化合物の吸着量は、有機化合物の種類やシリカゲルの
物性によっても変わり得るが、例えば、表面改質後のシ
リカゲル全体に対する重量比で0.1〜30重量%であ
ると望ましい。この重量比が0.1重量%を下回るとシ
リカゲル表面を十分に疎水化することができない恐れが
ある。また、この重量比が30重量%を上回っても前記
有機化合物の吸着特性の程度はあまり向上せず、吸着済
みの有機化合物の量が多くなりすぎると吸着飽和に達す
るまでの吸着容量が減ってしまう恐れがある。
Specific examples of the organosilicon compound include silicone. These organic compounds are
One kind may be used alone, or a mixture of two or more kinds may be used as long as they are highly compatible with each other. The amount of the organic compound adsorbed may vary depending on the type of the organic compound and the physical properties of the silica gel, but is preferably 0.1 to 30% by weight based on the total weight of the silica gel after the surface modification. If this weight ratio is less than 0.1% by weight, the surface of the silica gel may not be sufficiently hydrophobized. Further, even if this weight ratio exceeds 30% by weight, the degree of the adsorption property of the organic compound does not improve so much, and if the amount of the adsorbed organic compound becomes too large, the adsorption capacity until reaching the adsorption saturation decreases. There is a risk that

【0023】また、シリカゲルの物性については、吸着
能力があれば特に限定されないが、例えば、シリカゲル
の表面改質前の物性が、比表面積100〜900m2
g、細孔容積0.3〜1.3ml/g、平均細孔径2〜
50nmであると、吸着材として用いるのに好適な吸着
能力を発揮するものとなるので望ましい。
The physical properties of silica gel are not particularly limited as long as they have adsorption ability. For example, the physical properties of silica gel before surface modification are 100 to 900 m 2 / specific surface area.
g, pore volume 0.3 to 1.3 ml / g, average pore diameter 2
A thickness of 50 nm is desirable because it exhibits a suitable adsorption capacity for use as an adsorbent.

【0024】また、シリカゲルから吸着水を除去する際
には、吸着水をシリカゲルの単分子吸着量の10%以下
となる状態まで除去するとよい。吸着水がシリカゲルの
単分子吸着量の10%以下になったか否かは、例えば、
180℃、2時間以上の無水窒素パージ下による加熱乾
燥前後の重量変化により算出したり、TGA(熱重量分
析)による重量減少量測定R.T.〜180℃(無水窒
素パージ下)の測定によって確認することができる。シ
リカゲルの単分子吸着量の10%を上回る吸着水が残っ
ていると、吸着水が有機化合物の吸着を阻害するため、
シリカゲル表面を十分に疎水化することができない恐れ
があるので、この場合は、加熱温度を300度未満の範
囲内でより高めに設定するか、加熱処理時間をより長く
することにより、さらに吸着水を除去すればよい。な
お、加熱処理時間は、原料シリカゲルの吸着水の量、加
熱温度、雰囲気湿度などのパラメータに応じて適宜調節
されるが、目安としては1分〜10時間程度にすればよ
い。
When removing the adsorbed water from the silica gel, it is advisable to remove the adsorbed water to a state where the adsorbed water is 10% or less of the amount of monomolecular adsorption of the silica gel. Whether or not the amount of adsorbed water is 10% or less of the amount of adsorbed single molecule of silica gel is
Calculated by the weight change before and after heating and drying under an anhydrous nitrogen purge at 180 ° C. for 2 hours or more, or measuring the weight loss by TGA (thermogravimetric analysis). T. It can be confirmed by measurement at ˜180 ° C. (under anhydrous nitrogen purge). If more than 10% of the amount of adsorbed single molecule of silica gel remains, the adsorbed water will hinder the adsorption of organic compounds.
Since the silica gel surface may not be able to be sufficiently hydrophobized, in this case, set the heating temperature higher within the range of less than 300 degrees or increase the heat treatment time to further increase the adsorption water. Should be removed. The heat treatment time is appropriately adjusted according to parameters such as the amount of adsorbed water of the raw material silica gel, the heating temperature, and the atmospheric humidity, but as a guide, it may be about 1 minute to 10 hours.

【0025】雰囲気については、使用するシリカゲルや
有機化合物に対して悪影響を及ぼさないものであれば特
に限定されないが、例えば、空気、酸素ガス、窒素ガ
ス、炭酸ガス、およびアルゴンガスなどを利用できる。
これら雰囲気として利用される気体は、一種だけを単独
で用いてもよいし、二種以上の混合物を用いてもよい。
The atmosphere is not particularly limited as long as it has no adverse effect on the silica gel or organic compound used, and for example, air, oxygen gas, nitrogen gas, carbon dioxide gas, argon gas, etc. can be used.
The gases used as these atmospheres may be used alone or in a mixture of two or more.

【0026】以上のように構成されたシリカゲルの表面
改質方法によれば、有機化合物がシリカゲルの表面に不
可逆的に吸着されて、当該有機化合物の吸着特性に優れ
たプレコート層が形成されるため、シリカゲルの表面を
有機化合物に対する親和性の高い表面に改質することが
できる。しかも、雰囲気が0℃以上300℃未満かつ各
温度の相対湿度が1%以下に制御された環境下でシリカ
ゲルの吸着水を除去するので、シリカゲルの細孔構造が
シンタリングに伴って壊れるようなことがなく、表面改
質前のシリカゲルが備えていた優れた物性を、表面改質
に伴って大きく低下させてしまうようなこともない。
According to the method for modifying the surface of silica gel having the above-described structure, the organic compound is irreversibly adsorbed on the surface of the silica gel to form a precoat layer having excellent adsorption characteristics for the organic compound. The surface of silica gel can be modified to have a high affinity for organic compounds. Moreover, since the adsorbed water of silica gel is removed under the environment where the atmosphere is controlled to be 0 ° C or higher and lower than 300 ° C and the relative humidity at each temperature is controlled to 1% or lower, the pore structure of silica gel is likely to be destroyed by sintering. In addition, the excellent physical properties of the silica gel before surface modification are not significantly deteriorated by the surface modification.

【0027】このような表面改質方法によって、上述の
如き有機化合物の吸着に好適な特性のプレコート層が形
成されるのは、発明者らは、次のような仕組みによるも
のと考えている。シリカゲルの表面には、多数のシラノ
ール基が存在しており、このシラノール基には、水分子
が水素結合などによって強く吸着している。そのため、
既に水分子が吸着しているシラノール基は、有機化合物
に対する吸着活性がきわめて低く、このまま単に有機化
合物をシリカゲルと接触させても、有機化合物をシラノ
ール基に吸着させることは困難である。
The inventors believe that the above-described surface modification method forms the precoat layer having the characteristics suitable for the adsorption of the organic compound as described above because of the following mechanism. A large number of silanol groups are present on the surface of silica gel, and water molecules are strongly adsorbed to the silanol groups by hydrogen bonds and the like. for that reason,
The silanol group in which water molecules have already been adsorbed has an extremely low adsorption activity to an organic compound, and it is difficult to adsorb the organic compound to the silanol group by simply contacting the organic compound with silica gel as it is.

【0028】しかし、本発明においては、雰囲気が0℃
以上300℃未満かつ各温度の相対湿度が1%以下に制
御されたごく低い湿度条件の環境下においてシリカゲル
の吸着水を除去するので、シラノール基に吸着していた
水分子が脱着されてシラノール基が孤立状態になり、シ
リカゲル表面のシラノール基は有機化合物に対する吸着
活性が高い状態になる。しかも、シリカゲル加熱時の温
度条件が、0℃以上300℃未満という比較的低温な温
度条件になっているので、シリカゲル表面のシラノール
基の多くはシロキサン結合に変化せず、その結果、多数
のシラノール基が有機化合物の吸着ポイントとして有効
に機能することになる。そのため、この状態において、
シリカゲルと有機化合物とを接触させると、多数の活性
なシラノール基に有機化合物が強く吸着され、その結
果、シリカゲルの表面が有機化合物によって表面修飾さ
れ、有機化合物の吸着に好適な特性に改質されることに
なるのである。
However, in the present invention, the atmosphere is 0 ° C.
Since the adsorbed water of silica gel is removed under the environment of extremely low humidity condition in which the relative humidity at each temperature is less than 300 ° C. and the relative humidity at each temperature is controlled to be 1% or less, the water molecules adsorbed on the silanol groups are desorbed and the silanol groups are desorbed. Becomes an isolated state, and the silanol groups on the surface of silica gel have a high adsorption activity for organic compounds. Moreover, since the temperature condition for heating the silica gel is a relatively low temperature condition of 0 ° C. or more and less than 300 ° C., most of the silanol groups on the surface of the silica gel do not change to siloxane bonds, and as a result, many silanol groups are used. The group effectively functions as an adsorption point of the organic compound. Therefore, in this state,
When silica gel is contacted with an organic compound, the organic compound is strongly adsorbed by a large number of active silanol groups, and as a result, the surface of silica gel is surface-modified by the organic compound and modified to have properties suitable for adsorbing the organic compound. It will happen.

【0029】この点は、300℃〜500℃という比較
的高温な温度条件で加熱する従来技術が、シリカゲル表
面のシラノール基の多くをシロキサン結合に変化させ
て、シラノール基そのものを喪失させることにより、シ
リカゲル表面の親水性を低下させ、その相対的な結果と
して疎水性を高めているのと大きく相違する点である。
すなわち、シリカゲル表面のシラノール基の多くをシロ
キサン結合に変化させてしまうと、シラノール基を有機
化合物の吸着ポイントとして機能させることができない
ので、本発明ほど有機化合物に対する吸着特性を向上さ
せることは困難になる。
In this respect, the conventional technique of heating under a relatively high temperature condition of 300 ° C. to 500 ° C. changes most of the silanol groups on the surface of silica gel into siloxane bonds and loses the silanol groups themselves. This is a big difference from the fact that the hydrophilicity of the silica gel surface is reduced and the relative result is that the hydrophobicity is increased.
That is, if most of the silanol groups on the surface of silica gel are changed to siloxane bonds, the silanol groups cannot function as adsorption points for organic compounds, so it is difficult to improve the adsorption characteristics for organic compounds as much as the present invention. Become.

【0030】以上説明したように、本発明のシリカゲル
の表面改質方法によれば、シリカゲルの表面を有機化合
物に対する親和性の高い表面に改質することができ、し
かも、表面改質前のシリカゲルが備えていた優れた物性
を、表面改質に伴って大きく低下させてしまうようなこ
とがない。したがって、この改質シリカゲルで吸着剤の
一部または全部を構成すれば、有機化合物ガスの吸着や
有機溶媒の吸着に好適な吸着材を得ることができる。
As described above, according to the method for modifying the surface of silica gel of the present invention, the surface of silica gel can be modified to a surface having a high affinity for organic compounds, and the silica gel before surface modification can be modified. The excellent physical properties possessed by (1) will not be significantly deteriorated by the surface modification. Therefore, if a part or all of the adsorbent is composed of this modified silica gel, an adsorbent suitable for adsorbing an organic compound gas or an organic solvent can be obtained.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態につい
て、いくつかの具体的な実施例を挙げて説明する。 [実施例1]試料としてB型シリカゲル(比表面積46
2m2/g、細孔容積0.78ml/g、平均細孔径
6.8nm)を用意し、この試料を設置した測定装置内
に絶対湿度0.05g/kgの除湿空気を導入しなが
ら、試料を180℃で2時間加熱して、試料から表面吸
着水を除去した。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, embodiments of the present invention will be described with reference to some specific examples. [Example 1] B-type silica gel (specific surface area 46
2 m 2 / g, pore volume 0.78 ml / g, average pore diameter 6.8 nm) were prepared, and while introducing dehumidified air with an absolute humidity of 0.05 g / kg into the measuring device in which this sample was installed, Was heated at 180 ° C. for 2 hours to remove surface adsorbed water from the sample.

【0032】この試料の一部を取り出して、無水窒素パ
ージ下において180℃、2時間以上の加熱乾燥を行
い、その前後の重量変化から試料に吸着されている表面
吸着水の量を算出した結果、水分は0.22重量%であ
り、表面吸着水は単分子吸着量の2%程度まで除去され
ていた。
A part of this sample was taken out, heated and dried at 180 ° C. for 2 hours or more under an anhydrous nitrogen purge, and the amount of surface adsorbed water adsorbed on the sample was calculated from the weight change before and after that. The water content was 0.22% by weight, and the surface adsorbed water was removed up to about 2% of the amount of adsorbed monomolecule.

【0033】その後、測定装置内において0.067k
Paで1回目の真空引きを行い、シクロヘキサンの吸着
等温線を測定した。シクロヘキサンの吸着等温線は、容
量法測定装置(吸着の科学、近藤精一、石川達雄、安部
郁夫、丸善株式会社、p.148〜153)に準拠した
装置を用い、試料管温度30℃で測定した。以下、この
測定を測定1という。
After that, in the measuring device, 0.067 k
The first vacuuming was performed at Pa, and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured. The adsorption isotherm of cyclohexane is measured at a sample tube temperature of 30 ° C. using an apparatus conforming to a volumetric measurement device (adsorption science, Seiichi Kondo, Tatsuo Ishikawa, Ikuo Abe, Maruzen Co., Ltd., p. 148-153). did. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 1.

【0034】その後、測定1においてシクロヘキサン蒸
気で吸着平衡となった試料について、0.067kPa
で2回目の真空引きを行い、シクロヘキサンの吸着等温
線を測定した。以下、この測定を測定2という。その
後、測定2においてシクロヘキサン蒸気で吸着平衡とな
った試料について、0.067kPaで3回目の真空引
きを行い、シクロヘキサンの吸着等温線を測定した。以
下、この測定を測定3という。
Then, for the sample in adsorption equilibrium with cyclohexane vapor in Measurement 1, 0.067 kPa
A second vacuum was drawn with and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 2. Then, for the sample in adsorption equilibrium with the cyclohexane vapor in Measurement 2, the third vacuum evacuation was performed at 0.067 kPa, and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 3.

【0035】その後、測定3においてシクロヘキサン蒸
気で吸着平衡となった試料について、0.067kPa
で4回目の真空引きを行い、シクロヘキサンの吸着等温
線を測定した。以下、この測定を測定4という。以上、
測定1〜測定4によって得られた吸着等温線を図1に示
す。なお、図1において、横軸はシクロヘキサン蒸気の
相対圧P/P0(P:シクロヘキサン蒸気圧、P0:シ
クロヘキサン飽和蒸気圧)、縦軸は試料1g当りのシク
ロヘキサン吸着量V[ml(liq.)/g]である。
Then, for the sample in adsorption equilibrium with cyclohexane vapor in Measurement 3, 0.067 kPa
Was vacuumed for the fourth time and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 4. that's all,
The adsorption isotherms obtained by measurement 1 to measurement 4 are shown in FIG. In FIG. 1, the horizontal axis represents the relative pressure P / P0 of cyclohexane vapor (P: cyclohexane vapor pressure, P0: cyclohexane saturated vapor pressure), and the vertical axis represents the amount of cyclohexane adsorbed per 1 g of the sample V [ml (liq.) / g].

【0036】[比較例1]試料として実施例1と同じB
型シリカゲル(比表面積462m2/g、細孔容積0.
78ml/g、平均細孔径6.8nm)を用意し、この
試料を800℃で焼成することにより、表面シラノール
基の一部を脱水縮合させて、シロキサン結合に変化させ
た。
[Comparative Example 1] As a sample, the same B as in Example 1 was used.
-Type silica gel (specific surface area: 462 m 2 / g, pore volume: 0.
78 ml / g, average pore size 6.8 nm) was prepared, and this sample was baked at 800 ° C. to partially dehydrate and condense surface silanol groups, thereby converting into siloxane bonds.

【0037】その後、測定装置内において0.067k
Paで1回目の真空引きを行い、シクロヘキサンの吸着
等温線を測定した。以下、この測定を測定1という。そ
の後、測定1においてシクロヘキサン蒸気で吸着平衡と
なった試料について、0.067kPaで2回目の真空
引きを行い、シクロヘキサンの吸着等温線を測定した。
以下、この測定を測定2という。
Then, in the measuring device, 0.067 k
The first vacuuming was performed at Pa, and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 1. After that, the sample that was in adsorption equilibrium with cyclohexane vapor in Measurement 1 was subjected to a second vacuum evacuation at 0.067 kPa, and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured.
Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 2.

【0038】その後、測定2においてシクロヘキサン蒸
気で吸着平衡となった試料について、0.067kPa
で3回目の真空引きを行い、シクロヘキサンの吸着等温
線を測定した。以下、この測定を測定3という。その
後、測定3においてシクロヘキサン蒸気で吸着平衡とな
った試料について、0.067kPaで4回目の真空引
きを行い、シクロヘキサンの吸着等温線を測定した。以
下、この測定を測定4という。
After that, for the sample in the adsorption equilibrium with the cyclohexane vapor in Measurement 2, 0.067 kPa
Vacuum suction was performed for the third time and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 3. After that, the sample that was in adsorption equilibrium with the cyclohexane vapor in Measurement 3 was subjected to a fourth vacuum evacuation at 0.067 kPa, and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 4.

【0039】その後、測定4においてシクロヘキサン蒸
気で吸着平衡となった試料について、0.067kPa
で5回目の真空引きを行い、シクロヘキサンの吸着等温
線を測定した。以下、この測定を測定5という。以上、
測定1〜測定5によって得られた吸着等温線を図2に示
す。なお、図2において、横軸はシクロヘキサン蒸気の
相対圧P/P0(P:シクロヘキサン蒸気圧、P0:シ
クロヘキサン飽和蒸気圧)、縦軸は試料1g当りのシク
ロヘキサン吸着量V[ml(liq.)/g]である。
Then, for the sample in adsorption equilibrium with cyclohexane vapor in Measurement 4, 0.067 kPa
The vacuum was evacuated for the fifth time and the adsorption isotherm of cyclohexane was measured. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 5. that's all,
The adsorption isotherms obtained by measurement 1 to measurement 5 are shown in FIG. In FIG. 2, the horizontal axis represents the relative pressure P / P0 of cyclohexane vapor (P: cyclohexane vapor pressure, P0: cyclohexane saturated vapor pressure), and the vertical axis represents the cyclohexane adsorption amount V [ml (liq.) / Per 1 g of the sample. g].

【0040】[実施例1と比較例1との対比]実施例1
および比較例1の測定結果からは、両者のシクロヘキサ
ン吸着等温線に明らかな違いがあることがわかる。特
に、実施例1および比較例1について、1回目に測定し
た吸着等温線(測定1)を比較する。シリカゲルの表面
はシラノールに覆われているため、通常は親水性を示
し、疎水性物質であるシクロヘキサンに対しては吸着等
温線の吸着量が上昇しにくい。しかし、実施例1は、吸
着等温線測定一回目から立ち上がり、吸着量が多く確保
されている。一方、比較例1は、数回の吸脱着を繰り返
さなければ吸着等温線が立ち上がらず、飽和吸着量が低
い。また、P/P0が0.4〜0.8の吸着量の立ち上
がり傾斜が低いために、このカーブ上での吸脱着を繰り
返す場合には実施例1が優位となる。このことから、実
施例1の方が、比較例1に比べ、有機化合物に対する活
性が高いと考えられる。このような結果が得られる要因
としては、実施例1の方が、疎水化の程度が高いこと、
および、シンタリングによる表面積および細孔容積の低
下が起きていないことが考えられ、恐らくこれら両方の
要因が作用しているものと思われる。
[Comparison between Example 1 and Comparative Example 1] Example 1
From the measurement results of Comparative Example 1, it can be seen that there is a clear difference between the cyclohexane adsorption isotherms. In particular, for Example 1 and Comparative Example 1, the adsorption isotherms (measurement 1) measured for the first time are compared. Since the surface of silica gel is covered with silanol, it normally exhibits hydrophilicity, and the adsorption amount of adsorption isotherm is unlikely to increase for cyclohexane, which is a hydrophobic substance. However, in Example 1, a large amount of adsorption was secured since the adsorption isotherm measurement started from the first time. On the other hand, in Comparative Example 1, the adsorption isotherm does not rise unless adsorption / desorption is repeated several times, and the saturated adsorption amount is low. Further, since the rising slope of the adsorption amount when P / P0 is 0.4 to 0.8 is low, Example 1 is superior when adsorption / desorption on this curve is repeated. From this, it is considered that Example 1 has higher activity to the organic compound than Comparative Example 1. The reason why such a result is obtained is that the degree of hydrophobization is higher in Example 1,
Also, it is considered that the reduction in surface area and pore volume due to sintering has not occurred, and it is considered that both of these factors are probably acting.

【0041】さらに、実施例1の測定1〜測定4の結果
からは、真空引きを繰り返してもシクロヘキサンについ
ての吸着特性に大きな変化が無いことがわかる。 [比較例2]試料として実施例1と同じB型シリカゲル
(比表面積462m2/g、細孔容積0.78ml/
g、平均細孔径6.8nm)を用い、この試料の一部を
取り出して、無水窒素パージ下において180℃、2時
間以上の加熱乾燥を行い、その前後の重量変化から試料
に吸着されている表面吸着水の量を算出した結果、水分
は1.2重量%であり、表面吸着水は単分子吸着量の1
0.9%程度であった。
Further, from the results of measurement 1 to measurement 4 in Example 1, it can be seen that there is no great change in the adsorption property for cyclohexane even if the evacuation is repeated. [Comparative Example 2] As a sample, the same B-type silica gel as in Example 1 (specific surface area 462 m 2 / g, pore volume 0.78 ml /
g, average pore size 6.8 nm), a part of this sample was taken out, heated and dried at 180 ° C. for 2 hours or more under anhydrous nitrogen purge, and adsorbed to the sample due to weight change before and after that. As a result of calculating the amount of surface-adsorbed water, the water content was 1.2% by weight, and the surface-adsorbed water was 1% of the amount of adsorbed monomolecule.
It was about 0.9%.

【0042】この試料について、測定装置内において
0.067kPaで真空引きを行い、シクロヘキサンの
吸着等温線を測定した。この比較例2の吸着等温線と、
上記実施例1の測定1によって得られた吸着等温線を、
図3に併記する。
The sample was evacuated at 0.067 kPa in the measuring device, and the cyclohexane adsorption isotherm was measured. The adsorption isotherm of Comparative Example 2;
The adsorption isotherm obtained by Measurement 1 of Example 1 above was
Also shown in FIG.

【0043】[実施例1(測定1)と比較例2との対
比]実施例1(測定1)と比較例2を比較すると、実施
例1(測定1)に比べて比較例2の各相対圧におけるシ
クロヘキサンの吸着量が低いことが分かる。比較例2の
試料の試料全体に対する水分の重量比は1.2重量%で
あり、これはシリカゲル単分子吸着量の10.9%に相
当する。このため、残留した吸着水がシリカゲル表面の
疎水化を阻害しており、シクロヘキサンに対する吸着活
性が低くなったと考えられる。
[Comparison of Example 1 (Measurement 1) and Comparative Example 2] When Example 1 (Measurement 1) and Comparative Example 2 are compared, each relative of Comparative Example 2 is compared with Example 1 (Measurement 1). It can be seen that the amount of cyclohexane adsorbed at pressure is low. The weight ratio of water to the whole sample of the sample of Comparative Example 2 was 1.2% by weight, which corresponds to 10.9% of the amount of adsorbed single molecule of silica gel. Therefore, it is considered that the residual adsorbed water hindered the hydrophobicity of the silica gel surface, and the adsorption activity for cyclohexane became low.

【0044】[実施例2]試料としてA型シリカゲル
(比表面積612m2/g、細孔容積0.37ml/
g、平均細孔径2.1nm)を用意し、この試料を設置
した測定装置内に絶対湿度0.05g/kgの除湿空気
を導入しながら、試料を180℃で2時間加熱して、試
料から表面吸着水を除去した。
Example 2 As a sample, A-type silica gel (specific surface area 612 m 2 / g, pore volume 0.37 ml /
g, average pore diameter 2.1 nm), and while introducing dehumidified air with an absolute humidity of 0.05 g / kg into the measuring device in which this sample is installed, heat the sample at 180 ° C. for 2 hours to remove it from the sample. Surface adsorbed water was removed.

【0045】この試料の一部を取り出して、無水窒素パ
ージ下において180℃、2時間以上の加熱乾燥を行
い、その前後の重量変化から試料に吸着されている表面
吸着水の量を算出した結果、水分は0.13重量%であ
り、表面吸着水は単分子吸着量の2%程度まで除去され
ていた。
A part of this sample was taken out, heated and dried at 180 ° C. for 2 hours or more under anhydrous nitrogen purge, and the amount of surface-adsorbed water adsorbed on the sample was calculated from the weight change before and after the drying. The water content was 0.13% by weight, and the surface-adsorbed water was removed up to about 2% of the amount of adsorbed monomolecule.

【0046】その後、フロンガス(HFC−125)の
吸着等温線を測定した。測定方法は実施例1と同様であ
る。以下、この測定を測定1という。また、2回目の真
空引きを行った試料について、フロンの吸着等温線を測
定した。以下、この測定を測定2という。
Then, the adsorption isotherm of CFC gas (HFC-125) was measured. The measuring method is the same as in Example 1. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 1. Further, the adsorption isotherm of chlorofluorocarbon was measured for the second vacuumed sample. Hereinafter, this measurement is referred to as measurement 2.

【0047】以上、測定1、測定2によって得られた吸
着等温線を図4に示す。なお、図4において、横軸はフ
ロンガスの圧力[kPa]、縦軸は試料1g当りのフロ
ンガス吸着量V[ml(liq.)/g]である。測定
1の結果からは、表面シラノール基が活性な状態となっ
たシリカゲルは、低蒸気圧から良好な吸着能力を示し、
大気圧(101.32kPa)では、シリカゲル1gあ
たり0.15mlのフロンガスを吸着できることが確認
された。
FIG. 4 shows the adsorption isotherms obtained by the above measurement 1 and measurement 2. In FIG. 4, the abscissa represents the pressure of fluorocarbon [kPa], and the ordinate represents the adsorption amount of fluorocarbon V [ml (liq.) / G] per 1 g of the sample. From the result of measurement 1, the silica gel in which the surface silanol group was in an active state showed a good adsorption ability from a low vapor pressure,
At atmospheric pressure (101.32 kPa), it was confirmed that 0.15 ml of CFC gas could be adsorbed per 1 g of silica gel.

【0048】また、測定2の結果からは、測定1より
も、各圧力におけるフロンガスの吸着量が多くなったこ
とがわかる。この傾向は、特に低圧側において顕著であ
った。これは、一旦フロンガスが飽和吸着状態となった
シリカゲルは、その表面にフロンガス吸着層(プレコー
ト層)が形成され、フロンガスにより表面修飾された状
態で2回目のフロンガス吸着を行うことになるため、フ
ロンガスとの親和性が向上するものと考えられる。
From the results of measurement 2, it can be seen that the amount of adsorption of CFC gas at each pressure was larger than that in measurement 1. This tendency was particularly remarkable on the low pressure side. This is because silica gel once having a chlorofluorocarbon saturation adsorption state has a chlorofluorocarbon adsorption layer (precoat layer) formed on its surface, and the fluorocarbon gas is adsorbed a second time in a state where the fluorocarbon surface has been surface-modified. It is thought that the affinity with

【0049】[効果]以上説明したように、上記実施例
1,2において説明したようなシリカゲルの表面改質方
法によれば、有機化合物がシリカゲルの表面に不可逆的
に吸着されて、有機化合物の吸着に好適な特性のプレコ
ート層が形成されるため、シリカゲルの表面を有機化合
物に対する親和性の高い表面に改質することができる。
しかも、吸着水を除去するために実施する加熱処理の温
度条件は、100℃以上300℃未満としてあるので、
シリカゲルの細孔構造がシンタリングに伴って壊れるよ
うなことがなく、表面改質前のシリカゲルが備えていた
優れた物性を、表面改質に伴って大きく低下させてしま
うようなこともない。
[Effects] As described above, according to the method for modifying the surface of silica gel as described in Examples 1 and 2, the organic compound is irreversibly adsorbed on the surface of the silica gel and the organic compound Since the precoat layer having characteristics suitable for adsorption is formed, the surface of silica gel can be modified to have a high affinity for organic compounds.
Moreover, since the temperature condition of the heat treatment performed to remove the adsorbed water is 100 ° C. or more and less than 300 ° C.,
The pore structure of silica gel is not destroyed by sintering, and the excellent physical properties of silica gel before surface modification are not significantly deteriorated by surface modification.

【0050】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明は上記の具体的な一実施形態に限定されず、
この他にも種々の形態で実施することができる。例え
ば、上記実施形態では、有機化合物の例として、シクロ
ヘキサンとフロンを示したが、これら以外の有機化合物
を吸着対象とする場合でも、本発明を適用することによ
り、吸着対象となる有機化合物との親和性が高いシリカ
ゲルを得ることができる。
Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above specific embodiment.
Other than this, it can be implemented in various forms. For example, in the above embodiment, cyclohexane and freon were shown as examples of the organic compound, but even when an organic compound other than these is targeted for adsorption, by applying the present invention, the organic compound to be targeted for adsorption is used. It is possible to obtain silica gel having high affinity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 実施例1に関する吸着等温線を示すグラフで
ある。
1 is a graph showing adsorption isotherms for Example 1. FIG.

【図2】 比較例1に関する吸着等温線を示すグラフで
ある。
2 is a graph showing an adsorption isotherm for Comparative Example 1. FIG.

【図3】 比較例2に関する吸着等温線を示すグラフで
ある。
FIG. 3 is a graph showing an adsorption isotherm for Comparative Example 2.

【図4】 実施例2に関する吸着等温線を示すグラフで
ある。
FIG. 4 is a graph showing adsorption isotherms for Example 2.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 正和 愛知県春日井市高蔵寺町2丁目1846番地 富士シリシア化学株式会社内 Fターム(参考) 4G066 AA22B BA23 BA25 BA26 CA25 CA27 CA32 CA33 CA51 CA52 CA56 FA21 FA37 4G072 AA28 CC10 GG03 HH19 LL02 LL04 LL05 MM35 QQ06 RR07 UU11    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Masakazu Suzuki             2-1846 Kozoji-cho, Kasugai City, Aichi Prefecture             Within Fuji Silysia Chemical Ltd. F-term (reference) 4G066 AA22B BA23 BA25 BA26                       CA25 CA27 CA32 CA33 CA51                       CA52 CA56 FA21 FA37                 4G072 AA28 CC10 GG03 HH19 LL02                       LL04 LL05 MM35 QQ06 RR07                       UU11

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】雰囲気が0℃以上300℃未満かつ各温度
の相対湿度が1%以下に制御された環境下でシリカゲル
の吸着水を除去し、 その後、前記シリカゲルと有機化合物とを接触させるこ
とにより、前記シリカゲルの表面に前記有機化合物を吸
着させて、前記シリカゲルの表面を前記有機化合物の吸
着に好適な特性に改質することを特徴とするシリカゲル
の表面改質方法。
1. Adsorbed water of silica gel is removed under an environment in which the atmosphere is controlled to 0 ° C. or higher and lower than 300 ° C. and the relative humidity at each temperature is controlled to 1% or lower, and then the silica gel and the organic compound are brought into contact with each other. By adsorbing the organic compound on the surface of the silica gel to modify the surface of the silica gel to a property suitable for adsorbing the organic compound.
【請求項2】前記有機化合物が、炭化水素、ハロゲン化
炭化水素、アルコール、エーテルとアセタール、ケトン
とアルデヒド、エステル、多価アルコールとその誘導
体、カルボン酸とその無水物、フェノール、含窒素化合
物、含硫黄化合物、フッ素化合物、および有機ケイ素化
合物の中から選ばれる一種または二種以上の混合物であ
ることを特徴とする請求項1に記載のシリカゲルの表面
改質方法。
2. The organic compounds are hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers and acetals, ketones and aldehydes, esters, polyhydric alcohols and their derivatives, carboxylic acids and their anhydrides, phenols, nitrogen-containing compounds, The method for modifying the surface of silica gel according to claim 1, which is one or a mixture of two or more kinds selected from a sulfur-containing compound, a fluorine compound, and an organic silicon compound.
【請求項3】前記有機化合物の吸着量が、表面改質後の
シリカゲル全体に対する重量比で0.1〜30重量%で
あることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の
シリカゲルの表面改質方法。
3. The silica gel according to claim 1, wherein the adsorption amount of the organic compound is 0.1 to 30% by weight based on the total weight of the silica gel after surface modification. Surface modification method.
【請求項4】前記シリカゲルの表面改質前の物性が、比
表面積100〜900m2/g、細孔容積0.3〜1.
3ml/g、平均細孔径2〜50nmであることを特徴
とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のシリカゲ
ルの表面改質方法。
4. The physical properties of the silica gel before surface modification have a specific surface area of 100 to 900 m 2 / g and a pore volume of 0.3 to 1.
The method for modifying the surface of silica gel according to any one of claims 1 to 3, wherein the method has a pore size of 3 ml / g and an average pore diameter of 2 to 50 nm.
【請求項5】前記シリカゲルから前記吸着水を除去する
際に、該吸着水を前記シリカゲルの単分子吸着量の10
%以下となる状態まで除去することを特徴とする請求項
1〜請求項4のいずれかに記載のシリカゲルの表面改質
方法。
5. When removing the adsorbed water from the silica gel, the adsorbed water is adsorbed in an amount of 10 per molecule of the silica gel.
The method for modifying the surface of silica gel according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the surface is removed to a state of not more than%.
【請求項6】前記雰囲気が、空気、酸素ガス、窒素ガ
ス、炭酸ガス、およびアルゴンガスの中から選ばれる一
種または二種以上の混合物であることを特徴とする請求
項1〜請求項5のいずれかに記載のシリカゲルの表面改
質方法。
6. The atmosphere according to claim 1, wherein the atmosphere is one or a mixture of two or more selected from air, oxygen gas, nitrogen gas, carbon dioxide gas, and argon gas. The method for modifying the surface of silica gel according to any one of claims.
【請求項7】請求項1〜請求項6のいずれかに記載した
シリカゲルの表面改質方法によって表面が前記有機化合
物の吸着に好適な特性に改質されたシリカゲルで一部ま
たは全部が構成されていることを特徴とする吸着材。
7. A part or all of silica gel whose surface has been modified to have a property suitable for adsorbing the organic compound by the method for modifying a surface of silica gel according to any one of claims 1 to 6. An adsorbent characterized in that
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