JP2003221377A - Method for producing trifluoromethylbenzene sulfonyl chloride compound - Google Patents

Method for producing trifluoromethylbenzene sulfonyl chloride compound

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JP2003221377A
JP2003221377A JP2002020039A JP2002020039A JP2003221377A JP 2003221377 A JP2003221377 A JP 2003221377A JP 2002020039 A JP2002020039 A JP 2002020039A JP 2002020039 A JP2002020039 A JP 2002020039A JP 2003221377 A JP2003221377 A JP 2003221377A
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JP
Japan
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general formula
compound represented
reaction
compound
sulfur trioxide
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JP2002020039A
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Japanese (ja)
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Masatoshi Hayashi
雅俊 林
Hirobumi Nakagawa
博文 中川
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Otsuka Chemical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Chemical Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/02Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
    • C07C303/22Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof from sulfonic acids, by reactions not involving the formation of sulfo or halosulfonyl groups; from sulfonic halides by reactions not involving the formation of halosulfonyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C303/02Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method capable of producing a trifluoromethylbenzene sulfonyl chloride compound in a high yield and with high purity. <P>SOLUTION: A benzotrifluoride compound represented by formula (1) (X and Y are same or different and are each hydrogen or a halogen atom) is reacted with sulfur trioxide and the resulted sulfonic compound represented by formula (2) (X and Y are the same as the above) is chlorinated to form the trifluoromethylbenzene sulfonyl chloride compound represented by formula (3) (X and Y are the same as the above). <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホニルクロリド化合物の製造方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般式(3)2. Description of the Related Art General formula (3)

【0003】[0003]

【化4】 [Chemical 4]

【0004】[式中、X及びYは、同一又は異なって、
水素原子又はハロゲン原子を示す。]で表されるトリフ
ルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド化合物は、例
えば、ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー
第41巻、第4885−4889頁(1998年)に記
載されているように、医薬品を合成するための中間体と
して有用な化合物である。
[Wherein X and Y are the same or different,
Indicates a hydrogen atom or a halogen atom. ] The trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound represented by the formula is for use in synthesizing pharmaceuticals as described in, for example, Journal of Medicinal Chemistry Vol. 41, pp. 4885-4889 (1998). It is a compound useful as an intermediate.

【0005】一般式(3)で表されるトリフルオロメチ
ルベンゼンスルホニルクロリド化合物の製造法として
は、例えば、トリフルオロメチルベンゼン化合物を直接
クロルスルホニル化する方法が知られている(特公昭5
4−9191号公報)。この方法は、下記反応式に示す
ように、クロロスルホン酸と発煙硫酸との混合液にトリ
フルオロメチルベンゼン化合物を滴下してクロロスルホ
ニル化反応を行い、次いで多量の氷中に反応液を添加し
て、過剰に存在するクロロスルホン酸を加水分解すると
共に発煙硫酸を希釈した後、目的化合物を単離、精製す
る方法である。
As a method for producing a trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound represented by the general formula (3), for example, a method of directly converting a trifluoromethylbenzene compound into a chlorosulfonyl group is known (Japanese Patent Publication No. Sho 5).
4-9191). In this method, as shown in the reaction formula below, a trifluoromethylbenzene compound is added dropwise to a mixed liquid of chlorosulfonic acid and fuming sulfuric acid to carry out a chlorosulfonylation reaction, and then the reaction liquid is added to a large amount of ice. Then, the excess chlorosulfonic acid is hydrolyzed and the fuming sulfuric acid is diluted, and then the target compound is isolated and purified.

【0006】[0006]

【化5】 [Chemical 5]

【0007】[式中、X及びYは前記に同じ。] しかしながら、この方法では、反応液を氷中に添加した
際に、目的化合物が水と接触してスルホン酸化合物に分
解されるために、目的化合物の収率低下が避けられな
い。また、多量の硫酸が廃液として生成するために廃液
処理の必要が生じ、工業的製造法として不利である。
[In the formula, X and Y are the same as above. However, in this method, when the reaction liquid is added to ice, the target compound is contacted with water and decomposed into a sulfonic acid compound, so that a decrease in the yield of the target compound cannot be avoided. Further, since a large amount of sulfuric acid is produced as a waste liquid, it becomes necessary to treat the waste liquid, which is disadvantageous as an industrial manufacturing method.

【0008】上記特公昭54−9191号公報に記載さ
れている製造法の改良法として、トリフルオロメチルベ
ンゼン化合物を発煙硫酸を用いて30〜70℃でスルホ
ン化反応を行った後、引続きクロルスルホン酸を添加し
て20〜60℃でクロルスルホニル化反応を行う方法が
開発されている(特開昭63−104952号公報)。
As an improvement of the production method described in Japanese Patent Publication No. 54-9191, a trifluoromethylbenzene compound is subjected to a sulfonation reaction at 30 to 70 ° C. with fuming sulfuric acid, and then chlorsulfone is added. A method has been developed in which an acid is added to carry out a chlorosulfonylation reaction at 20 to 60 ° C. (JP-A-63-104952).

【0009】しかしながら、特開昭63−104952
号公報に記載の方法でも、反応液を多量の氷中に添加し
ているので、目的化合物の分解は避けられず、従って目
的化合物の収率改善効果は不充分である。
However, JP-A-63-104952
Even in the method described in the publication, the reaction liquid is added to a large amount of ice, so the decomposition of the target compound is unavoidable, and therefore the effect of improving the yield of the target compound is insufficient.

【0010】更に、特開平2−157257号公報は、
トリフルオロメチルベンゼン化合物を発煙硫酸及びクロ
ロスルホン酸と反応させ、得られる反応液に不活性溶媒
を加えて目的化合物を不活性溶媒中に抽出し、抽出液か
ら目的化合物を単離、精製する方法である。この方法
は、多量の氷中に反応液を添加するものではないので、
目的化合物の分解を回避し、目的化合物の収率向上を目
指すものである。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 2-157257 discloses
A method of reacting a trifluoromethylbenzene compound with fuming sulfuric acid and chlorosulfonic acid, adding an inert solvent to the resulting reaction solution, extracting the target compound into an inert solvent, and isolating and purifying the target compound from the extract. Is. Since this method does not add the reaction solution to a large amount of ice,
The aim is to avoid decomposition of the target compound and improve the yield of the target compound.

【0011】しかしながら、特開平2−157257号
公報記載の方法は、反応液に直接不活性溶媒を加えて抽
出するので、抽出効率が極めて悪く、しかも何回も大量
の不活性溶媒で抽出する必要があるために、コスト高に
なるばかりでなく、操作が煩雑になる。しかも、反応に
使用される発煙硫酸及びクロロスルホン酸は、不活性溶
媒の抽出液中に取り込まれるので、抽出液から発煙硫酸
及びクロロスルホン酸を取り除く操作が必要になる。従
って、該方法は、工業的な製造法としては極めて不適当
である。
However, in the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-157257, the reaction solution is directly added with an inert solvent for extraction, so that the extraction efficiency is extremely poor and it is necessary to perform extraction with a large amount of inert solvent many times. Therefore, not only the cost becomes high, but also the operation becomes complicated. Moreover, since fuming sulfuric acid and chlorosulfonic acid used in the reaction are incorporated into the extract of the inert solvent, it is necessary to remove fuming sulfuric acid and chlorosulfonic acid from the extract. Therefore, this method is extremely unsuitable as an industrial manufacturing method.

【0012】更に、特開昭63−104952号公報及
び特開平2−157257号公報に記載の方法につい
て、本発明者が検討を加えたところ、一般式(3)で表
されるトリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド
化合物の中でも、特にX及びYの少なくとも1つがフッ
素原子を示す化合物である場合には、反応途中に原料化
合物のベンゼン環上に存在するトリフルオロメチル基の
大部分が加水分解を受けてカルボキシル基に変換され、
その結果低収率でしか目的化合物を製造し得ないことが
判明した(後記比較例1及び比較例2参照)。
Furthermore, the inventors of the present invention investigated the methods described in JP-A-63-104952 and JP-A-2-157257, and found that trifluoromethylbenzene represented by the general formula (3) was used. Among the sulfonyl chloride compounds, particularly when at least one of X and Y is a compound showing a fluorine atom, most of the trifluoromethyl group present on the benzene ring of the raw material compound is hydrolyzed during the reaction. Converted to a carboxyl group,
As a result, it was found that the target compound could be produced only in a low yield (see Comparative Examples 1 and 2 below).

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、一般式
(3)のトリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリ
ド化合物の工業的に有利な製造法を提供することを課題
とする。
An object of the present invention is to provide an industrially advantageous method for producing a trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound represented by the general formula (3).

【0014】本発明は、上記トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリド化合物を高収率且つ高純度で製造
し得る製造方法を提供することを課題とする。
An object of the present invention is to provide a production method capable of producing the above trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound in high yield and high purity.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決したトリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリ
ド化合物の製造方法を開発すべく鋭意研究を重ねてき
た。その結果、ベンゾトリフルオリド化合物に三酸化硫
黄を反応させ、次いで生成する化合物を塩素化すること
により上記課題を解決できることを見い出した。本発明
は、斯かる知見に基づき完成されたものである。 1.本発明は、一般式(1)
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies to develop a method for producing a trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound that solves the above problems. As a result, they have found that the above problems can be solved by reacting a benzotrifluoride compound with sulfur trioxide and then chlorinating the compound produced. The present invention has been completed based on such knowledge. 1. The present invention has the general formula (1)

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】[式中、X及びYは前記に同じ。]で表さ
れるベンゾトリフルオリド化合物に三酸化硫黄を反応さ
せ、次いで生成する一般式(2)
[In the formula, X and Y are the same as defined above. ] The benzotrifluoride compound represented by

【0018】[0018]

【化7】 [Chemical 7]

【0019】[式中、X及びYは前記に同じ。]で表さ
れるスルホン酸化合物を塩素化することにより、一般式
(3)
[Wherein X and Y are the same as defined above]. ] By chlorinating the sulfonic acid compound represented by the general formula (3)

【0020】[0020]

【化8】 [Chemical 8]

【0021】[式中、X及びYは前記に同じ。]で表さ
れるトリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド化
合物を製造することを特徴とするトリフルオロメチルベ
ンゼンスルホニルクロリド化合物の製造方法である。 2.本発明は、上記一般式(1)で表されるベンゾトリ
フルオリド化合物に三酸化硫黄を反応させ、次いで生成
する上記一般式(2)で表されるスルホン酸化合物を単
離することなく塩素化することを特徴とする上記1に記
載の製造方法である。 3.本発明は、塩素化に先立ち、未反応の三酸化硫黄を
反応系から取り出すことを特徴とする上記1に記載の製
造方法である。
[Wherein X and Y are the same as defined above]. ] The manufacturing method of the trifluoromethyl benzene sulfonyl chloride compound characterized by manufacturing the trifluoromethyl benzene sulfonyl chloride compound represented by these. 2. In the present invention, a benzotrifluoride compound represented by the general formula (1) is reacted with sulfur trioxide, and then a sulfonic acid compound represented by the general formula (2) produced is chlorinated without isolation. The manufacturing method according to the above 1, wherein 3. The present invention is the production method described in the above 1, wherein unreacted sulfur trioxide is taken out from the reaction system prior to chlorination.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明において、出発原料として
用いられる一般式(1)で表されるベンゾトリフルオリ
ド化合物は、公知の化合物である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the benzotrifluoride compound represented by the general formula (1) used as a starting material is a known compound.

【0023】一般式(1)で表されるベンゾトリフルオ
リド化合物としては、例えば、ベンゾトリフルオリド、
2−フルオロベンゾトリフルオリド、4−フルオロベン
ゾトリフルオリド、2,4−ジフルオロベンゾトリフル
オリド、2−クロロベンゾトリフルオリド、4−クロロ
ベンゾトリフルオリド、2,4−ジクロロベンゾトリフ
ルオリド、2−クロロ−4−フルオロベンゾトリフルオ
リド、2−フルオロ−4−クロロベンゾトリフルオリ
ド、2−ブロモベンゾトリフルオリド、4−ブロモベン
ゾトリフルオリド、2,4−ジブロモベンゾトリフルオ
リド、2−ブロモ−4−フルオロベンゾトリフルオリ
ド、2−フルオロ−4−ブロモベンゾトリフルオリド、
2−ブロモ−4−クロロベンゾトリフルオリド、4−ブ
ロモ−2−クロロベンゾトリフルオリド等を挙げること
ができる。
Examples of the benzotrifluoride compound represented by the general formula (1) include benzotrifluoride,
2-fluorobenzotrifluoride, 4-fluorobenzotrifluoride, 2,4-difluorobenzotrifluoride, 2-chlorobenzotrifluoride, 4-chlorobenzotrifluoride, 2,4-dichlorobenzotrifluoride, 2-chloro- 4-fluorobenzotrifluoride, 2-fluoro-4-chlorobenzotrifluoride, 2-bromobenzotrifluoride, 4-bromobenzotrifluoride, 2,4-dibromobenzotrifluoride, 2-bromo-4-fluorobenzotrifluoride Lido, 2-fluoro-4-bromobenzotrifluoride,
2-bromo-4-chlorobenzotrifluoride, 4-bromo-2-chlorobenzotrifluoride and the like can be mentioned.

【0024】一般式(1)で表されるベンゾトリフルオ
リド化合物と三酸化硫黄との反応は、無溶媒下又は適当
な不活性溶媒中で行われる。不活性溶媒としては、例え
ばクロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエ
タン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等を挙げるこ
とができる。これらの不活性溶媒は、1種単独で又は2
種以上混合して使用できる。
The reaction between the benzotrifluoride compound represented by the general formula (1) and sulfur trioxide is carried out without solvent or in a suitable inert solvent. Examples of the inert solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride and the like. These inert solvents may be used alone or in combination of 2
Mixtures of two or more can be used.

【0025】一般式(1)で表されるベンゾトリフルオ
リド化合物と三酸化硫黄との使用割合は、前者1モルに
対して後者を通常1〜10モル程度、好ましくは1〜4
モル程度とするのがよい。
The ratio of the benzotrifluoride compound represented by the general formula (1) and sulfur trioxide to be used is usually 1 to 10 mol, preferably 1 to 4 mol of the latter with respect to 1 mol of the former.
It is good to set it to about molar.

【0026】一般式(1)で表されるベンゾトリフルオ
リド化合物と三酸化硫黄との反応は、スルホン化反応で
あり、該反応により一般式(2)で表されるスルホン酸
化合物が生成する。
The reaction between the benzotrifluoride compound represented by the general formula (1) and sulfur trioxide is a sulfonation reaction, and the reaction produces a sulfonic acid compound represented by the general formula (2).

【0027】このスルホン化反応の反応温度は、通常−
10℃〜不活性溶媒の沸点付近、好ましくは20〜50
℃程度、より好ましくは30〜40℃程度である。反応
時間は、反応温度により異なるが、通常0.1〜10時
間程度、好ましくは1〜3時間程度である。
The reaction temperature of this sulfonation reaction is usually −
10 ° C to around the boiling point of the inert solvent, preferably 20 to 50
C., about 30 to 40.degree. C. is more preferable. The reaction time varies depending on the reaction temperature, but is usually about 0.1 to 10 hours, preferably about 1 to 3 hours.

【0028】該スルホン化反応の好ましい実施態様を示
すと、例えば所定量の三酸化硫黄に一般式(1)のベン
ゾトリフルオリド化合物を徐々に添加していくか、又は
一般式(1)のベンゾトリフルオリド化合物に三酸化硫
黄を徐々に添加していくのがよい。不活性溶媒を用いる
場合、三酸化硫黄を不活性溶媒に溶解しておいてもよい
し、一般式(1)のベンゾトリフルオリド化合物を不活
性溶媒に溶解しておいてもよい。 一般式(1)のベン
ゾトリフルオリド化合物と三酸化硫黄とを混合すると、
混合物の温度が徐々に上昇する。本発明では、混合物の
温度が30〜40℃の範囲を維持するように、一般式
(1)のベンゾトリフルオリド化合物と三酸化硫黄とを
混合する際の添加速度を調整するのが好ましい。
As a preferred embodiment of the sulfonation reaction, for example, a benzotrifluoride compound of the general formula (1) is gradually added to a predetermined amount of sulfur trioxide, or a benzotrifluoride compound of the general formula (1) is added. It is advisable to gradually add sulfur trioxide to the trifluoride compound. When an inert solvent is used, sulfur trioxide may be dissolved in the inert solvent, or the benzotrifluoride compound represented by the general formula (1) may be dissolved in the inert solvent. When the benzotrifluoride compound of the general formula (1) and sulfur trioxide are mixed,
The temperature of the mixture gradually rises. In the present invention, it is preferable to adjust the addition rate when mixing the benzotrifluoride compound of the general formula (1) and sulfur trioxide so that the temperature of the mixture is maintained in the range of 30 to 40 ° C.

【0029】本発明では、次いで生成する一般式(2)
で表されるスルホン酸化合物を塩素化する。スルホン化
反応で生成する一般式(2)のスルホン酸化合物を一旦
単離して次の塩素化を行ってもよいが、反応の効率性の
観点からスルホン化反応で生成する一般式(2)のスル
ホン酸化合物を単離することなく反応混合物のまま次の
塩素化反応に供するのが好ましい。
In the present invention, the following general formula (2) is generated.
The sulfonic acid compound represented by is chlorinated. The sulfonic acid compound of the general formula (2) produced by the sulfonation reaction may be isolated and then chlorinated, but from the viewpoint of reaction efficiency, the sulfonic acid compound of the general formula (2) produced by the sulfonation reaction may be used. It is preferable to use the reaction mixture as it is for the next chlorination reaction without isolation of the sulfonic acid compound.

【0030】更に、本発明では、塩素化に先立ち、反応
混合物中に存在する未反応の三酸化硫黄又は三酸化硫黄
及び不活性溶媒を単離しておくのが望ましい。単離手段
としては、公知の単離手段を広く適用できる。このよう
な単離手段としては、例えば減圧蒸留等が挙げられる。
単離された三酸化硫黄は、回収して再使用できるので、
製造コスト、廃液処理等の点で有利である。
Further, in the present invention, it is desirable to isolate unreacted sulfur trioxide or sulfur trioxide and an inert solvent present in the reaction mixture prior to chlorination. As the isolation means, known isolation means can be widely applied. Examples of such isolation means include vacuum distillation and the like.
Since the isolated sulfur trioxide can be recovered and reused,
It is advantageous in terms of manufacturing cost and waste liquid treatment.

【0031】一般式(2)のスルホン酸化合物の塩素化
は、例えば一般式(2)のスルホン酸化合物に塩素化剤
を作用させることにより行われる。
Chlorination of the sulfonic acid compound of the general formula (2) is carried out, for example, by reacting the sulfonic acid compound of the general formula (2) with a chlorinating agent.

【0032】塩素化剤としては、公知のものを広く使用
でき、例えば塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リ
ン、クロルスルホン酸、塩化スルフリル等を挙げること
ができる。これらの塩素化剤は、1種単独で又は2種以
上混合して使用できる。これら塩素化剤の中でも、塩化
チオニルが好ましい。
A wide variety of known chlorinating agents can be used, and examples thereof include thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, chlorosulfonic acid and sulfuryl chloride. These chlorinating agents may be used alone or in combination of two or more. Among these chlorinating agents, thionyl chloride is preferable.

【0033】一般式(2)のスルホン酸化合物の塩素化
は、無溶媒下又は適当な不活性溶媒中で、好ましくは無
溶媒下で行われる。不活性溶媒としては、例えば塩化メ
チレン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン系溶
媒、トルエン、クロロベンゼン、キシレン等の芳香族炭
化水素系溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族
炭化水素系溶媒等を挙げることができる。これらの不活
性溶媒は、1種単独で又は2種以上混合して使用でき
る。
Chlorination of the sulfonic acid compound of the general formula (2) is carried out without solvent or in a suitable inert solvent, preferably without solvent. Examples of the inert solvent include halogen-based solvents such as methylene chloride, dichloroethane and carbon tetrachloride, aromatic hydrocarbon-based solvents such as toluene, chlorobenzene and xylene, and aliphatic hydrocarbon-based solvents such as n-hexane and n-heptane. Etc. can be mentioned. These inert solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0034】本発明においては、反応を円滑に進行させ
るために、反応系内にジメチルホルムアミド等を存在さ
せてもよい。
In the present invention, in order to allow the reaction to proceed smoothly, dimethylformamide or the like may be present in the reaction system.

【0035】一般式(2)のスルホン酸化合物と塩素化
剤との使用割合は、前者1モルに対して後者を通常1〜
5モル程度、好ましくは1.2〜2.2モル程度とする
のがよい。
The ratio of the sulfonic acid compound of the general formula (2) to the chlorinating agent is usually 1 to 1 mol of the former and 1 to 2 mol of the latter.
It is about 5 mol, preferably about 1.2 to 2.2 mol.

【0036】塩素化反応の反応温度は、通常0〜160
℃程度、好ましくは60〜110℃程度、より好ましく
は65〜100℃程度、特に好ましくは70〜90℃程
度である。塩素化反応の反応時間は、反応温度により異
なるが、通常1〜10時間程度、好ましくは2〜5時間
程度である。
The reaction temperature of the chlorination reaction is usually 0 to 160.
C., preferably 60 to 110.degree. C., more preferably 65 to 100.degree. C., and particularly preferably 70 to 90.degree. The reaction time of the chlorination reaction varies depending on the reaction temperature, but is usually about 1 to 10 hours, preferably about 2 to 5 hours.

【0037】一般式(2)のスルホン酸化合物の塩素化
により、目的とする一般式(3)で表されるトリフルオ
ロメチルベンゼンスルホニルクロリド化合物が生成す
る。
By chlorinating the sulfonic acid compound of the general formula (2), the desired trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound represented by the general formula (3) is produced.

【0038】塩素化反応終了後、本発明では、反応液を
減圧下に濃縮することにより一般式(3)で表されるト
リフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド化合物を
単離できる。得られた一般式(3)で表されるトリフル
オロメチルベンゼンスルホニルクロリド化合物は、その
まま医薬品等を合成するための中間体として使用するこ
とができる。
After completion of the chlorination reaction, in the present invention, the trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound represented by the general formula (3) can be isolated by concentrating the reaction solution under reduced pressure. The obtained trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound represented by the general formula (3) can be used as it is as an intermediate for synthesizing a drug or the like.

【0039】また、本発明では、反応終了後の反応液を
減圧下に濃縮し、次いで得られる濃縮液に不活性溶媒を
加えて、一般式(3)で表されるトリフルオロメチルベ
ンゼンスルホニルクロリド化合物を不活性溶媒中に抽出
し、抽出液を水洗し、濃縮することにより、目的とする
一般式(3)で表されるトリフルオロメチルベンゼンス
ルホニルクロリド化合物化合物を単離することができ
る。
Further, in the present invention, the reaction solution after completion of the reaction is concentrated under reduced pressure, an inert solvent is added to the resulting concentrated solution, and trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride represented by the general formula (3) is added. By extracting the compound in an inert solvent, washing the extract with water, and concentrating it, the target trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound compound represented by the general formula (3) can be isolated.

【0040】反応液の抽出に使用される不活性溶媒とし
ては、例えば塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭
素等のハロゲン系溶媒、トルエン、クロロベンゼン、キ
シレン等の芳香族炭化水素系溶媒、n−ヘキサン、n−
ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒等を挙げることがで
きる。これらの不活性溶媒は、1種単独で又は2種以上
混合して使用できる。
Examples of the inert solvent used for extracting the reaction solution include halogen solvents such as methylene chloride, dichloroethane and carbon tetrachloride, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, chlorobenzene and xylene, n-hexane, n-
Examples thereof include aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane. These inert solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0041】塩素化反応終了後、反応液を減圧下に濃縮
する方法を採用すると、未反応の塩素化剤を回収して再
使用できるので、製造コスト、廃液処理等の点で有利で
ある。
When the method of concentrating the reaction solution under reduced pressure after the chlorination reaction is adopted, the unreacted chlorinating agent can be recovered and reused, which is advantageous in terms of manufacturing cost, waste liquid treatment, and the like.

【0042】本発明の方法では、スルホン化反応に使用
された三酸化硫黄及び不活性溶媒並びに塩素化反応で使
用された塩素化剤が反応液から除去されているので、目
的化合物抽出のための不活性溶媒の使用量を大幅に抑制
することができる。
In the method of the present invention, since the sulfur trioxide used in the sulfonation reaction and the inert solvent and the chlorinating agent used in the chlorination reaction are removed from the reaction solution, it is possible to extract the target compound. The amount of the inert solvent used can be greatly suppressed.

【0043】不活性溶媒の使用量は、抽出処理されるべ
き反応液に対して、通常1〜10倍容量、好ましくは2
〜5倍容量でよい。
The amount of the inert solvent used is usually 1 to 10 times the volume of the reaction liquid to be extracted, preferably 2 times.
Up to 5 times capacity is sufficient.

【0044】目的化合物を抽出した不活性溶媒には、回
収されなかった微量の塩素化剤等が混入する場合がある
が、該溶媒を水で洗浄することにより、混入された不純
物を取り除くことができる。斯くして、本発明の目的と
する一般式(3)で表されるトリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリド化合物を純度よく製造することが
できる。
The inert solvent from which the target compound has been extracted may be mixed with a small amount of chlorinating agent or the like which has not been recovered. By washing the solvent with water, the mixed impurities can be removed. it can. Thus, the trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound represented by the general formula (3), which is the object of the present invention, can be produced with high purity.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明の方法によれば、一般式(3)の
トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド化合物
を高収率(例えば90%以上)且つ高純度(例えば95
%以上)で製造し得る製造方法を提供することができ
る。本発明の方法は、特に2−フルオロ−5−トリフル
オロメチルベンゼンスルホニルクロリド、4−フルオロ
−3−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド
等のフッ素置換トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド化合物の製造に適している。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the method of the present invention, the trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound represented by the general formula (3) can be obtained in a high yield (eg 90% or more) and a high purity (eg 95
% Or more) can be provided. The method of the present invention is particularly suitable for producing a fluorine-substituted trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound such as 2-fluoro-5-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride and 4-fluoro-3-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride.

【0046】本発明の方法では、スルホン化反応に使用
される三酸化硫黄及び塩素化反応で使用される塩素化剤
を回収し、再使用することができる。このため、廃液処
理が不必要になり、また三酸化硫黄及び塩素化剤の使用
量を減じることができるので、製造コストを抑制するこ
とができる。
In the method of the present invention, the sulfur trioxide used in the sulfonation reaction and the chlorinating agent used in the chlorination reaction can be recovered and reused. For this reason, the waste liquid treatment becomes unnecessary, and the amounts of sulfur trioxide and the chlorinating agent can be reduced, so that the manufacturing cost can be suppressed.

【0047】本発明の方法では、目的化合物抽出のため
の不活性溶媒の使用量を大幅に抑制することができる。
In the method of the present invention, the amount of the inert solvent used for extracting the target compound can be greatly suppressed.

【0048】従って、本発明の方法は、一般式(3)の
トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド化合物
の工業的な製造方法として極めて有利である。
Therefore, the method of the present invention is extremely advantageous as an industrial method for producing the trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride compound of the general formula (3).

【0049】[0049]

【実施例】以下に実施例を掲げて、本発明をより一層明
らかにする。
EXAMPLES The present invention will be further clarified with reference to the following examples.

【0050】実施例1 三酸化硫黄30g及び塩化メチレン30gの混合液に、
4−フルオロベンゾトリフルオリド15gを20℃で滴
下した。滴下が進行すると反応液の温度が徐々に上昇す
るが、反応液の温度が30〜35℃の範囲を維持するよ
うに滴下速度を調整した。滴下終了後2時間撹拌した。
反応液のNMRスペクトルから、原料である4−フルオ
ロベンゾトリフルオリドの消失を確認した。
Example 1 In a mixed solution of 30 g of sulfur trioxide and 30 g of methylene chloride,
15 g of 4-fluorobenzotrifluoride was added dropwise at 20 ° C. Although the temperature of the reaction solution gradually rises as the dropping proceeds, the dropping rate was adjusted so that the temperature of the reaction solution was maintained in the range of 30 to 35 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours.
From the NMR spectrum of the reaction solution, disappearance of 4-fluorobenzotrifluoride as a raw material was confirmed.

【0051】次に、反応液を減圧下で塩化メチレン及び
三酸化硫黄を蒸留し、これらを回収した。更に、反応液
に、塩化チオニル24ml及びジメチルホルムアミドを
数滴加え、5時間加熱還流した。反応液を40℃に冷却
後、減圧下に塩化チオニルを蒸留し、これを回収した。
反応液を10℃に冷却後、n−ヘキサン100mlを加
え、液温が10℃を越えないように冷却しながら水10
0mlを加えて、n−ヘキサン溶液を分離した。n−ヘ
キサン溶液を乾燥後、減圧濃縮して、2−フルオロ−5
−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド2
2.8g(収率95%、純度96%)を得た。 沸点:80〜85℃/5mmHg NMRスペクトル(δppm):8.26−8.28
(1H,m),8.01−8.05(1H,m),7.
51(1H,t,9Hz)。
Next, methylene chloride and sulfur trioxide were distilled from the reaction solution under reduced pressure to recover them. Further, 24 ml of thionyl chloride and a few drops of dimethylformamide were added to the reaction solution, and the mixture was heated under reflux for 5 hours. After the reaction solution was cooled to 40 ° C., thionyl chloride was distilled under reduced pressure to collect it.
After cooling the reaction solution to 10 ° C, 100 ml of n-hexane was added, and water was added while cooling so that the solution temperature did not exceed 10 ° C.
0 ml was added and the n-hexane solution was separated. After drying the n-hexane solution, it was concentrated under reduced pressure to give 2-fluoro-5.
-Trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride 2
2.8 g (yield 95%, purity 96%) was obtained. Boiling point: 80 to 85 ° C./5 mmHg NMR spectrum (δ ppm): 8.26-8.28
(1H, m), 8.01 to 8.05 (1H, m), 7.
51 (1H, t, 9Hz).

【0052】実施例2 三酸化硫黄37g及び塩化メチレン37gの混合液に、
2−フルオロベンゾトリフルオリド19gを20℃で滴
下した。滴下が進行すると反応液の温度が徐々に上昇す
るが、反応液の温度が30〜35℃の範囲を維持するよ
うに滴下速度を調整した。滴下終了後2時間撹拌した。
反応液のNMRスペクトルから、原料である2−フルオ
ロベンゾトリフルオリドの消失を確認した。
Example 2 In a mixed solution of 37 g of sulfur trioxide and 37 g of methylene chloride,
19 g of 2-fluorobenzotrifluoride was added dropwise at 20 ° C. Although the temperature of the reaction solution gradually rises as the dropping proceeds, the dropping rate was adjusted so that the temperature of the reaction solution was maintained in the range of 30 to 35 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours.
From the NMR spectrum of the reaction solution, the disappearance of the starting material 2-fluorobenzotrifluoride was confirmed.

【0053】次に、反応液を減圧にして塩化メチレン及
び三酸化硫黄を蒸留し、これらを回収した。更に、反応
液に、塩化チオニル24ml及びジメチルホルムアミド
を数滴加え、5時間加熱還流した。反応液を40℃に冷
却後、減圧下に塩化チオニルを蒸留し、これを回収し
た。反応液を10℃に冷却後、1,2−ジクロロエタン
100mlを加え、液温が10℃を越えないように冷却
しながら水100mlを加えて、1,2−ジクロロエタ
ン溶液を分離した。1,2−ジクロロエタン溶液を乾燥
後、減圧濃縮して、4−フルオロ−3−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルクロリド28g(収率99%、
純度98%)を得た。 沸点:85〜89℃/5mmHg NMRスペクトル(δppm):8.2−8.4(2
H,m),7.50(1H,t,J=9Hz)。
Next, the reaction solution was depressurized to distill methylene chloride and sulfur trioxide, and these were recovered. Further, 24 ml of thionyl chloride and a few drops of dimethylformamide were added to the reaction solution, and the mixture was heated under reflux for 5 hours. After the reaction solution was cooled to 40 ° C., thionyl chloride was distilled under reduced pressure to collect it. After cooling the reaction solution to 10 ° C., 100 ml of 1,2-dichloroethane was added, and 100 ml of water was added while cooling so that the liquid temperature did not exceed 10 ° C. to separate a 1,2-dichloroethane solution. After the 1,2-dichloroethane solution was dried, it was concentrated under reduced pressure to give 28 g of 4-fluoro-3-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride (yield 99%,
Purity 98%) was obtained. Boiling point: 85 to 89 ° C./5 mmHg NMR spectrum (δ ppm): 8.2-8.4 (2
H, m), 7.50 (1H, t, J = 9 Hz).

【0054】比較例1 特開昭63−104952号公報に記載の方法に従っ
て、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルベンゼンス
ルホニルクロリドを製造した。
Comparative Example 1 4-Fluoro-3-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride was produced according to the method described in JP-A-63-104952.

【0055】即ち、60%発煙硫酸20mlに4−フル
オロベンゾトリフルオリド33gを50℃で1時間かけ
て滴下し、同温度にて更に1時間撹拌した。次にこの混
合物にクロロスルホン酸(67ml)を50℃で徐々に
滴下した。20℃まで冷却しながら2時間撹拌した。反
応液を500gの氷に注ぎ、撹拌した。n−ヘキサンを
加え、析出した結晶を濾別し、n−ヘキサン層を分液ロ
ートでとり濃縮、乾燥して、4−フルオロ−3−トリフ
ルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド5.2g(収
率10%)を得た。
That is, 33 g of 4-fluorobenzotrifluoride was added dropwise to 20 ml of 60% fuming sulfuric acid at 50 ° C. over 1 hour, and the mixture was further stirred at the same temperature for 1 hour. Then, chlorosulfonic acid (67 ml) was gradually added dropwise to this mixture at 50 ° C. The mixture was stirred for 2 hours while cooling to 20 ° C. The reaction solution was poured into 500 g of ice and stirred. n-Hexane was added, the precipitated crystals were filtered off, the n-hexane layer was taken in a separating funnel, concentrated and dried to give 5.2 g of 4-fluoro-3-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride (yield 10%. ) Got.

【0056】比較例2 特開平2−157257号公報に記載の方法に従って、
4−フルオロ−3−トリフルオロメチルベンゼンスルホ
ニルクロリドを製造した。
Comparative Example 2 According to the method described in JP-A-2-157257,
4-Fluoro-3-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride was prepared.

【0057】即ち、60%発煙硫酸15ml及びクロロ
スルホン酸30mlの混合液を−5℃に冷却し、これに
4−フルオロベンゾトリフルオリドを混合液の温度が0
℃以上にならないように冷却しながら滴下した。反応液
を0℃で更に4時間撹拌した。反応液にn−ヘキサン1
00mlを加え、1時間撹拌後、n−ヘキサン層を分取
した。更に、同じ操作を2回繰り返した。
That is, a mixed solution of 15 ml of 60% fuming sulfuric acid and 30 ml of chlorosulfonic acid was cooled to -5 ° C., and 4-fluorobenzotrifluoride was added thereto at a temperature of 0.
The mixture was added dropwise while cooling so that the temperature did not rise above ℃. The reaction was stirred at 0 ° C for a further 4 hours. N-hexane 1 in the reaction solution
After adding 00 ml, the mixture was stirred for 1 hour and the n-hexane layer was separated. Furthermore, the same operation was repeated twice.

【0058】得られたn−ヘキサン層を合わせて水30
0mlで水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し
て、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルベンゼンス
ルホニルクロリド5g(収率10%)を得た。
The n-hexane layers obtained were combined and washed with water 30
The extract was washed with 0 ml of water, dried over magnesium sulfate, and then concentrated to obtain 5 g (yield 10%) of 4-fluoro-3-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 [式中、X及びYは、同一又は異なって、水素原子又は
ハロゲン原子を示す。]で表されるベンゾトリフルオリ
ド化合物に三酸化硫黄を反応させ、次いで生成する一般
式(2) 【化2】 [式中、X及びYは前記に同じ。]で表されるスルホン
酸化合物を塩素化することにより、一般式(3) 【化3】 [式中、X及びYは前記に同じ。]で表されるトリフル
オロメチルベンゼンスルホニルクロリド化合物を製造す
ることを特徴とするトリフルオロメチルベンゼンスルホ
ニルクロリド化合物の製造方法。
1. A compound represented by the general formula (1): [In the formula, X and Y are the same or different and each represents a hydrogen atom or a halogen atom. ] The benzotrifluoride compound represented by the following formula is reacted with sulfur trioxide, and then formed by the general formula (2): [In the formula, X and Y are the same as defined above. ] By chlorinating the sulfonic acid compound represented by the general formula (3) [In the formula, X and Y are the same as defined above. ] The trifluoromethylbenzene sulfonyl chloride compound represented by these is manufactured, The manufacturing method of the trifluoromethyl benzene sulfonyl chloride compound characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 一般式(1)で表されるベンゾトリフル
オリド化合物に三酸化硫黄を反応させ、次いで生成する
一般式(2)で表されるスルホン酸化合物を単離するこ
となく塩素化することを特徴とする請求項1に記載の製
造方法。
2. A benzotrifluoride compound represented by the general formula (1) is reacted with sulfur trioxide, and then a sulfonic acid compound represented by the general formula (2) produced is chlorinated without isolation. The manufacturing method according to claim 1, wherein:
【請求項3】 塩素化に先立ち、未反応の三酸化硫黄を
反応系から取り出すことを特徴とする請求項1に記載の
製造方法。
3. The production method according to claim 1, wherein unreacted sulfur trioxide is taken out from the reaction system prior to chlorination.
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