JP2003215620A - Liquid crystal display and its manufacturing method - Google Patents

Liquid crystal display and its manufacturing method

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JP2003215620A
JP2003215620A JP2003040693A JP2003040693A JP2003215620A JP 2003215620 A JP2003215620 A JP 2003215620A JP 2003040693 A JP2003040693 A JP 2003040693A JP 2003040693 A JP2003040693 A JP 2003040693A JP 2003215620 A JP2003215620 A JP 2003215620A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display which can be made fast in the response of halftone display and increased in field angle. <P>SOLUTION: An IPS liquid crystal display comprises a 1st transparent substrate 1 where TFTs are formed, an opposite 2nd transparent substrate 11, and liquid crystal 17 which are held between those substrates and is characterized by that the 1st transparent substrate has gate lines 2 and data lines 6 crossing each other at right angles, TFTs 4 provided at wiring intersection parts, and pixel electrodes 7 arranged alternately along the width and a common electrode 3 and the 2nd transparent substrate 11 has a black matrix 12 having a specified opening, a color layer 13, and a flattened film 14 covering them on itself. A hollow 23 which is sectioned as specified is formed on the flattened film 14, etc., and then the gap between the opposite substrates is made different by the hollow 23 to continuously vary a threshold voltage in pixels, and thus panel transmissivity is made large and a response characteristic of halftones is improved. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その製造方法に関し、特に、TFT基板に形成した画素
電極と共通電極との間に印加する電圧によって基板に略
平行な面内で液晶を駆動するIPS(In-Plane Switchi
ng)方式の液晶表示装置及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display in a plane substantially parallel to a substrate by a voltage applied between a pixel electrode formed on a TFT substrate and a common electrode. Driven IPS (In-Plane Switchi
ng) type liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄膜トランジスタ(以下、TFTと略記
する)を画素のスイッチング素子として用いるアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置は、高品位の画質を有し、
省スペースのデスクトップコンピュータのモニター等と
して幅広く用いられている。一般に、液晶表示装置の動
作モードには、配向した液晶分子のダイレクタの方向を
ガラス基板に対して垂直な方向に回転させるツイステッ
ド・ネマティック(Twisted Nematic:TN)方式と、
ガラス基板に対して平行な方向に回転させるIPS方式
とがある。
2. Description of the Related Art An active matrix type liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) as a switching element of a pixel has a high quality image.
Widely used as a monitor for space-saving desktop computers. Generally, the operation mode of a liquid crystal display device includes a twisted nematic (TN) system in which a director of aligned liquid crystal molecules is rotated in a direction perpendicular to a glass substrate.
There is an IPS method in which the glass substrate is rotated in a direction parallel to the glass substrate.

【0003】IPS方式の液晶表示装置は、TFTを形
成する第1の透明基板上に互いに平行な画素電極と共通
電極とを交互に形成し、これらの間に電圧を印加して基
板面に平行な電界を形成することにより、液晶のダイレ
クタの向きを変化させ、これによって透過光量を制御す
るものである。従って、この表示方式ではダイレクタが
基板面内で回転するため、TN方式の場合のようにダイ
レクタの方向から見たときと基板法線方向から見込んだ
ときで透過光量と印加電圧との関係が大きく異なってし
まうといった問題は発生せず、非常に広い視角から見
て、良好な画像を得ることができる。
In the IPS type liquid crystal display device, pixel electrodes and common electrodes which are parallel to each other are alternately formed on a first transparent substrate which forms a TFT, and a voltage is applied between them to make them parallel to the substrate surface. By forming a different electric field, the direction of the director of the liquid crystal is changed, thereby controlling the amount of transmitted light. Therefore, in this display method, since the director rotates in the plane of the substrate, the relationship between the amount of transmitted light and the applied voltage is large when viewed from the direction of the director and when viewed from the normal direction of the substrate as in the case of the TN method. The problem of being different does not occur, and a good image can be obtained from a very wide viewing angle.

【0004】このようなIPS方式は、液晶層をホモジ
ニアス配向とし、互いに偏光軸が直交する2枚の偏光板
でこれをはさみ、一方の偏光軸を液晶分子の配向方向に
等しくとることにより、電圧無印加状態で黒表示とし、
画素電極と共通電極との間の電圧印加により液晶分子を
電界の向きにツイスト変形させて白表示とするものが一
般的であり、この方法では黒表示時の輝度を安定して低
くすることができることから広く用いられている。
In such an IPS system, the liquid crystal layer is homogeneously aligned, sandwiched by two polarizing plates whose polarization axes are orthogonal to each other, and one polarization axis is made equal to the alignment direction of the liquid crystal molecules, whereby a voltage is applied. Black display with no voltage applied,
In general, a liquid crystal molecule is twist-deformed in the direction of an electric field to produce white display by applying a voltage between the pixel electrode and the common electrode. With this method, the luminance during black display can be stably lowered. It is widely used because it can be done.

【0005】しかしながら、従来のIPS方式の液晶表
示装置では、図15に示すように、画素電極7及び共通
電極3が直線状に形成され、液晶分子が1方向のみに回
転するため、白表示状態において斜め方向から見たとき
に色づきが発生するという問題がある。この問題を解決
する方法として1画素内で画素電極7と共通電極3の形
状を「く」の字型に屈曲させる方法が、特開平9−31
1334号公報等に記載されている。
However, in the conventional IPS type liquid crystal display device, as shown in FIG. 15, the pixel electrode 7 and the common electrode 3 are linearly formed, and the liquid crystal molecules rotate in only one direction. There is a problem in that coloring occurs when viewed from an oblique direction. As a method for solving this problem, a method of bending the shapes of the pixel electrode 7 and the common electrode 3 in one pixel into a V shape is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9-31.
It is described in Japanese Patent No. 1334, etc.

【0006】上記技術について、図13を参照して説明
する。図13は、従来のIPS液晶表示装置の構造を示
す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−
A'線における断面図である。この液晶表示装置は、T
FTが形成される第1の透明基板1とカラーフィルター
(Color filter:CF)が形成される第2の透明基板1
1とその間に狭持される液晶17とで構成され、第1の
透明基板1には、ゲート電極2、データ線6が略直交し
て形成され、これらの交差部にマトリクス状にTFT4
が配置されている。また、各画素には「く」の字に折れ
曲がった互いに平行な画素電極7と共通電極3とが交互
に形成されている。また、第2の透明基板11上には、
余分な光を遮光するためのブラックマトリクス12とR
GB3色のカラー表示を行うための色層13とこれらを
覆う平坦化膜14とが形成されている。
The above technique will be described with reference to FIG. 13A and 13B are views showing the structure of a conventional IPS liquid crystal display device, in which FIG. 13A is a plan view and FIG.
It is sectional drawing in the A'line. This liquid crystal display device is
First transparent substrate 1 on which FT is formed and second transparent substrate 1 on which a color filter (Color filter: CF) is formed
1 and a liquid crystal 17 sandwiched therebetween, a gate electrode 2 and a data line 6 are formed on the first transparent substrate 1 substantially orthogonal to each other, and TFTs 4 are formed in a matrix at intersections of these.
Are arranged. Further, in each pixel, pixel electrodes 7 and common electrodes 3 which are bent in a V shape and are parallel to each other are alternately formed. In addition, on the second transparent substrate 11,
Black matrix 12 and R to block excess light
A color layer 13 for performing color display of three colors of GB and a flattening film 14 that covers these are formed.

【0007】そして、これらの第1の透明基板1及び第
2の透明基板11の表面には配向膜18が塗布され、両
基板の間には液晶17が狭持され、この液晶17は、デ
ータ線6の延在方向に略平行にホモジニアス配向されて
いる。また、両基板の外側には、偏光板16a、16b
が貼付され、両偏光板の偏光軸は互いに直交し、一方の
偏光軸は液晶の配向方向に平行に設定される。そして、
TFT4を介して画素電極7に電位を書き込み、画素電
極7と共通電極3との間に横電界を与えることにより、
液晶17を基板に平行な面内でツイスト変形させて表示
を制御している。
An alignment film 18 is applied to the surfaces of the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 11, and a liquid crystal 17 is sandwiched between the two substrates. It is homogeneously aligned substantially parallel to the extending direction of the line 6. In addition, polarizing plates 16a and 16b are provided on the outer sides of both substrates.
Is attached, the polarization axes of both polarizing plates are orthogonal to each other, and one polarization axis is set parallel to the alignment direction of the liquid crystal. And
By writing a potential to the pixel electrode 7 through the TFT 4 and applying a lateral electric field between the pixel electrode 7 and the common electrode 3,
The liquid crystal 17 is twisted in a plane parallel to the substrate to control the display.

【0008】この方法によれば、画素電極7と共通電極
3の間に電圧を印加すると、図16に示すように、
「く」の字の屈曲部分を挟んだ2つの領域で電界が各々
異なった方向に発生するため、液晶分子は2方向にツイ
ストすることになる。すると、白表示状態において斜め
方向から見たときに、2つの領域で異なる色の色づきが
生じ、それらが互いに補償し合う結果、色づきが低減す
るという効果が得られる。
According to this method, when a voltage is applied between the pixel electrode 7 and the common electrode 3, as shown in FIG.
Electric fields are generated in different directions in the two regions sandwiching the bent portion of the V-shape, so that the liquid crystal molecules are twisted in two directions. Then, when viewed from the diagonal direction in the white display state, coloring of different colors occurs in the two areas, and as a result of compensating each other, coloring is reduced.

【0009】[0009]

【特許文献1】特開平9−311334号公報(第2−
4頁、第1図)
[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-313334 (No. 2-
(Page 4, Figure 1)

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】このように、IPS方
式の液晶表示装置で、画素電極7と共通電極3とを
「く」の字型に形成することにより、視野角をかなり広
く、かつ色づきを低減することができるが、IPS方式
の液晶表示装置では、画素領域の開口率を大きく保つよ
うに画素電極7と共通電極3とを形成する必要があるた
め、両電極を密集して形成することはできず、両電極の
間隔を狭くすることができない。そのため、電界を大き
くするためには印加電圧を大きくしなければならず、消
費電力が増加してしまい、一方、印加電圧は小さいと電
界が小さくなるため、液晶17の応答を早くすることが
できないという問題がある。
As described above, in the IPS type liquid crystal display device, the pixel electrode 7 and the common electrode 3 are formed in a V-shape, so that the viewing angle is considerably wide and the color is colored. However, in the IPS type liquid crystal display device, it is necessary to form the pixel electrode 7 and the common electrode 3 so as to keep the aperture ratio of the pixel region large. Therefore, both electrodes are densely formed. Cannot be done, and the interval between both electrodes cannot be narrowed. Therefore, in order to increase the electric field, the applied voltage must be increased, resulting in an increase in power consumption. On the other hand, when the applied voltage is small, the electric field becomes small, so that the response of the liquid crystal 17 cannot be accelerated. There is a problem.

【0011】この問題を解決する方法として、粘度の小
さい液晶17を用いる方法等があり、これによって白表
示の応答速度を早くすることはできるが、一方、中間調
では液晶17に印加される実効的な電界が小さく、白表
示時に比べて応答が2倍程度遅くなってしまう。この問
題を図14を参照して説明する。図14は液晶に印加す
る電圧に対するパネルの透過率及び応答の相関を示す図
であり、破線は印加電圧とパネル透過率との相関を、実
線は印加電圧と応答との相関を示す図である。
As a method of solving this problem, there is a method of using a liquid crystal 17 having a low viscosity, which makes it possible to increase the response speed of white display. The electric field is small, and the response becomes about twice slower than that in white display. This problem will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a diagram showing the correlation between the transmittance and the response of the panel with respect to the voltage applied to the liquid crystal, the broken line shows the correlation between the applied voltage and the panel transmittance, and the solid line shows the correlation between the applied voltage and the response. .

【0012】図14に示すように、パネル透過率は、液
晶に印加する電圧の増加に伴って、液晶の配向方向が電
界の方向にツイストして光を透過しやすくなり、所定の
電圧で45度にツイストして透過率が最大となる(白表
示状態)。また、印加する電圧が大きいと液晶分子が回
転しやすくなるため、印加電圧の増加に伴って応答は徐
々に早くなる。ここで、中間調表示領域は、液晶に印加
する電圧が白表示状態に比べて小さい領域であるため、
その応答は白表示時に比べて遅くなってしまう。
As shown in FIG. 14, the panel transmittance is such that as the voltage applied to the liquid crystal is increased, the alignment direction of the liquid crystal is twisted in the direction of the electric field so that light is easily transmitted. Each time twisted, the transmittance becomes maximum (white display state). Further, when the applied voltage is large, the liquid crystal molecules are likely to rotate, so that the response gradually becomes faster as the applied voltage increases. Here, since the voltage applied to the liquid crystal in the halftone display area is smaller than that in the white display state,
The response becomes slower than when white is displayed.

【0013】一般的に、液晶が動き出すための最低電圧
である閾値電圧Vthは、画素電極7と共通電極3との間
隔Lと実効的なセルギャップdと液晶17のツイスト弾
性定数K22と液晶17の誘電率異方性Δεを用いて次の
ように表される。
Generally, the threshold voltage Vth, which is the lowest voltage for the liquid crystal to start moving, is the distance L between the pixel electrode 7 and the common electrode 3, the effective cell gap d, the twist elastic constant K22 of the liquid crystal 17, and the liquid crystal 17. It is expressed as follows using the dielectric anisotropy Δε of

【0014】 Vth=π・L/d×(K22/ε0Δε)1/2 ・・(1)Vth = π · L / d × (K22 / ε0Δε) 1/2 · (1)

【0015】すなわち、電極間隔Lが大きいほど電界強
度が小さくなるため、閾値電圧Vthは大きくなり、一
方、セルギャップdが大きくなるほど液晶が回転しやす
くなるため、閾値電圧Vthは小さくなる傾向にある。従
って、液晶の応答を早くするためには、電極間隔Lを小
さくし、セルギャップdを大きくすればよいことにな
る。
That is, since the electric field strength decreases as the electrode spacing L increases, the threshold voltage Vth increases. On the other hand, the liquid crystal becomes easier to rotate as the cell gap d increases, and the threshold voltage Vth tends to decrease. . Therefore, in order to speed up the response of the liquid crystal, it suffices to reduce the electrode interval L and increase the cell gap d.

【0016】しかしながら、画素電極7と共通電極3と
の電極間隔Lを均一に狭くしたり、セルギャップを均一
に大きくするとVthは小さくなるが、依然として低電圧
領域での中間調における応答を速くすることはできず、
また、電極間隔Lを小さくすると、画素領域における電
極の占める面積が大きくなり、開口率が低下してしまう
という問題が発生する。
However, if the electrode distance L between the pixel electrode 7 and the common electrode 3 is made narrower or the cell gap is made larger uniformly, Vth becomes smaller, but the response in the halftone in the low voltage region is still accelerated. I can't
Further, if the electrode interval L is reduced, the area occupied by the electrodes in the pixel region increases, and the aperture ratio decreases.

【0017】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであって、その主たる目的は、中間調表示の応答を早
め、パネル透過率を大きくすることができる液晶表示装
置及びその製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and its main purpose is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same capable of accelerating the response of halftone display and increasing the panel transmittance. To provide.

【0018】[0018]

【問題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、一対の対向する基板と前記一対の基板間
に狭持された液晶とを有し、少なくとも、第1の基板上
には、互いに略直交する複数のゲート線及び複数のデー
タ線と、前記ゲート線と前記データ線とで囲まれた各画
素に交互に形成された画素電極及び共通電極と、各々の
電極を覆う絶縁膜とを有し、第2の基板上には、所定の
開口を有するブラックマトリクスと、色層と、前記ブラ
ックマトリクス及び前記色層を覆う平坦化膜とを有し、
前記画素電極と前記共通電極との間に印加する電圧によ
って、前記データ線の延在方向に配向された液晶を前記
基板に略平行な面内で制御するIPS方式の液晶表示装
置において、前記絶縁膜及び前記平坦化膜の少なくとも
一方に、所定の断面形状の窪みが形成され、前記窪みに
よって前記対向する基板間のギャップの異なる領域が前
記画素領域内に形成されているものである。
In order to achieve the above object, the present invention has a pair of opposed substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, and at least on the first substrate. Is a plurality of gate lines and a plurality of data lines that are substantially orthogonal to each other, a pixel electrode and a common electrode that are alternately formed in each pixel surrounded by the gate line and the data line, and insulation that covers each electrode. A black matrix having a predetermined opening, a color layer, and a flattening film covering the black matrix and the color layer on the second substrate,
In the IPS type liquid crystal display device, the liquid crystal oriented in the extending direction of the data line is controlled in a plane substantially parallel to the substrate by a voltage applied between the pixel electrode and the common electrode. At least one of the film and the flattening film is formed with a recess having a predetermined cross-sectional shape, and the recess forms a region having a different gap between the opposing substrates in the pixel region.

【0019】本発明においては、前記窪みが、前記画素
の中心を通り前記ゲート線に平行な方向に延在して形成
され、前記窪みの頂点を結ぶ線を軸として前記ギャップ
の異なる領域が線対称に形成されている構成、又は、前
記窪みの頂点を結ぶ線が前記画素電極又は前記共通電極
の長手方向に沿って延在するように前記窪みが形成され
ている構成とすることができる。
In the present invention, the recess is formed so as to extend in a direction parallel to the gate line passing through the center of the pixel, and regions having different gaps are lined with a line connecting the vertices of the recess as an axis. The recess may be formed symmetrically, or the recess may be formed so that a line connecting the vertices of the recess extends along the longitudinal direction of the pixel electrode or the common electrode.

【0020】また、本発明は、一対の対向する基板と前
記一対の基板間に狭持された液晶とを有し、前記一対の
基板の一方には、所定の開口を有するブラックマトリク
スと、色層と、互いに略直交する複数のゲート線及び複
数のデータ線と、前記ゲート線と前記データ線とで囲ま
れた各画素に交互に形成された画素電極及び共通電極
と、前記ブラックマトリクス及び前記色層を覆う層間膜
と、各々の前記電極を覆う絶縁膜とを少なくとも有し、
前記画素電極と前記共通電極との間に印加する電圧によ
って、前記データ線の延在方向に配向された液晶を、前
記基板に略平行な面内で制御するIPS方式の液晶表示
装置において、前記層間膜又は前記絶縁膜に所定の断面
形状の窪みが形成され、前記窪みによって前記対向する
基板間のギャップの異なる領域が前記画素領域内に形成
されているものである。
Further, the present invention has a pair of opposed substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, and one of the pair of substrates has a black matrix having a predetermined opening and a color matrix. A layer, a plurality of gate lines and a plurality of data lines substantially orthogonal to each other, a pixel electrode and a common electrode alternately formed in each pixel surrounded by the gate line and the data line, the black matrix and the At least an interlayer film covering the color layer and an insulating film covering each of the electrodes,
In an IPS type liquid crystal display device, the liquid crystal oriented in the extending direction of the data line is controlled in a plane substantially parallel to the substrate by a voltage applied between the pixel electrode and the common electrode, A recess having a predetermined cross-sectional shape is formed in the interlayer film or the insulating film, and a region having a different gap between the opposing substrates is formed in the pixel region by the recess.

【0021】本発明においては、前記色層が前記画素内
で分断して形成され、前記画素電極及び前記共通電極
が、分断された前記色層の間を埋めるように前記色層と
同層に形成され、前記画素電極及び前記共通電極と前記
色層との膜厚差により、前記層間膜又は前記絶縁膜に前
記窪みが形成されている構成とすることができる。
In the present invention, the color layer is divided and formed in the pixel, and the pixel electrode and the common electrode are formed in the same layer as the color layer so as to fill the space between the divided color layers. The recess may be formed in the interlayer film or the insulating film due to a difference in film thickness between the color electrode and the pixel electrode and the common electrode.

【0022】また、本発明においては、前記一対の基板
の液晶狭持面側に形成される配向膜が、30cp以上の
粘度の材料を用いてオフセット印刷により形成された膜
である構成とすることもできる。
Further, in the present invention, the alignment film formed on the liquid crystal holding surface side of the pair of substrates is a film formed by offset printing using a material having a viscosity of 30 cp or more. You can also

【0023】また、本発明は、上記記載の液晶表示装置
を製造する方法であって、前記平坦化膜又は前記層間膜
として紫外線硬化型の材料を用い、前記平坦化膜又は前
記層間膜を形成後、紫外線を局所的に照射することによ
り、所定の断面形状の窪みを形成するものである。
Further, the present invention is a method for manufacturing the above-mentioned liquid crystal display device, wherein the flattening film or the interlayer film is formed by using an ultraviolet curable material as the flattening film or the interlayer film. After that, by locally irradiating with ultraviolet rays, a recess having a predetermined cross-sectional shape is formed.

【0024】本発明においては、紫外線硬化型の材料と
してレジスト又はポリイミドからなる紫外線硬化樹脂を
用い、紫外線カットフィルタにより紫外線を局部的に照
射する構成とすることができる。
In the present invention, an ultraviolet curable resin made of resist or polyimide may be used as the ultraviolet curable material, and ultraviolet rays may be locally irradiated by an ultraviolet cut filter.

【0025】このように、本発明は上記構成により、液
晶の閾値電圧の小さい領域から大きい領域までを1画素
内に連続的に形成することができ、閾値電圧の小さい領
域では液晶への印加電圧が低い中間調においてもパネル
透過率を大きく、かつ、応答を速くすることができる。
As described above, according to the present invention, the region having a small threshold voltage of the liquid crystal and the region having a large threshold voltage of the liquid crystal can be continuously formed in one pixel, and the voltage applied to the liquid crystal can be formed in the region having the small threshold voltage. Even in a low halftone, the panel transmittance can be increased and the response can be speeded up.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]本発明の第1の
実施の形態は、TFTが形成される第1の透明基板と対
向する第2の透明基板とそれらの基板間に狭持される液
晶とからなり、第1の透明基板には、互いに直交して延
在するゲート線及びデータ線と、配線交差部に設けられ
たTFTと、幅方向に交互に並べて設けられた画素電極
及び共通電極と、これらの電極を覆う絶縁膜とを有し、
第2の透明基板には、画素領域以外の光を遮断するブラ
ックマトリクスと、カラー表示を行う色層と、それらを
覆う平坦化膜とを備え、画素領域に対応する部分の第1
の透明基板の絶縁膜、又は、第2の透明基板の平坦化膜
に所定の形状の窪みを設け、第1及び第2の透明基板間
のセルギャップの広狭を画素内に設け、セルギャップが
広い部分のVthを下げることにより、中間調における応
答特性を改善するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [First Embodiment] In the first embodiment of the present invention, a first transparent substrate on which a TFT is formed is opposed to a second transparent substrate, and a second transparent substrate is sandwiched between those substrates. And a pixel electrode formed by alternately arranging in a width direction on the first transparent substrate, the gate line and the data line extending orthogonally to each other, the TFT provided at the wiring intersection, And a common electrode, and an insulating film covering these electrodes,
The second transparent substrate includes a black matrix that blocks light other than the pixel region, a color layer that performs color display, and a flattening film that covers the black layer, and the first transparent substrate is provided in a portion corresponding to the pixel region.
The insulating film of the transparent substrate or the flattening film of the second transparent substrate is provided with a recess having a predetermined shape, and the width of the cell gap between the first and second transparent substrates is set within the pixel. By lowering Vth in a wide area, the response characteristic in the halftone is improved.

【0027】[実施の形態2]また、本発明の第4の実
施の形態は、TFTが形成される第1の透明基板と対向
する第2の透明基板とそれらに基板間に狭持される液晶
とからなり、第1の透明基板には、画素領域以外の光を
遮断するブラックマトリクスと、カラー表示を行う色層
と、互いに直交して延在するゲート線及びデータ線と、
配線交差部に設けられたTFTと、幅方向に交互に並べ
て設けられた画素電極及び共通電極と、これらの電極ま
たは色層を覆う絶縁膜とを有し、画素領域に対応する部
分の第1の透明基板の絶縁膜に所定の形状の窪みを設
け、第1及び第2の透明基板間のセルギャップの広狭を
画素内に設け、セルギャップが広い部分のVthを下げる
ことにより、中間調における応答特性を改善するもので
ある。
[Embodiment 2] In the fourth embodiment of the present invention, the second transparent substrate facing the first transparent substrate on which the TFT is formed and the second transparent substrate sandwiched between them. The first transparent substrate, which is made of liquid crystal, has a black matrix that blocks light other than the pixel region, a color layer that performs color display, and gate lines and data lines that extend orthogonally to each other.
A first portion of a portion corresponding to a pixel region, which includes a TFT provided at a wiring intersection, a pixel electrode and a common electrode alternately arranged in the width direction, and an insulating film covering these electrodes or a color layer, is provided. By providing a recess of a predetermined shape in the insulating film of the transparent substrate, the width of the cell gap between the first and second transparent substrates is provided in the pixel, and the Vth of the portion having the wide cell gap is lowered, the intermediate tone is reduced. It improves the response characteristics.

【0028】[0028]

【実施例】上記した本発明の実施の形態についてさらに
詳細に説明すべく、本発明の実施例について図面を参照
して説明する。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described with reference to the drawings in order to describe the above-described embodiments of the present invention in more detail.

【0029】[実施例1]まず、本発明の第1の実施例
に係るIPS方式の液晶表示装置について、図1乃至図
4を参照して説明する。図1及び図2は、第1の実施例
に係る液晶表示装置の構造を示す図であり、(a)は平
面図、(b)は(a)のB−B′線における断面図であ
る。また、図3は、本実施例の効果を説明する図であ
り、液晶への印加電圧とパネル透過率及び応答との相関
を示す図である。また、図4は、窪みを形成する方法を
示す工程断面図である。なお、本実施例では、液晶の中
間調の応答を速くする方法として、電極間隔を変化させ
る代わりにセルギャップに広狭を設けることを特徴とし
ている。
[Embodiment 1] First, an IPS type liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. 1 and 2 are views showing the structure of the liquid crystal display device according to the first embodiment, where (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along line BB ′ of (a). . Further, FIG. 3 is a diagram for explaining the effect of this embodiment, and is a diagram showing the correlation between the voltage applied to the liquid crystal and the panel transmittance and response. Moreover, FIG. 4 is a process cross-sectional view showing a method of forming a depression. In this embodiment, as a method of speeding up the response of the liquid crystal in the halftone, the cell gap is widened instead of changing the electrode interval.

【0030】まず、図1を参照して本実施例のIPS液
晶表示装置の構成について説明すると、第1の透明基板
1側には、ゲート電極2、データ線6が略直交して形成
され、これらの交差部にマトリクス状にTFT4が配置
されて1画素を構成している。また、各画素には画素電
極7及び共通電極3が形成されており、画素電極7はT
FT4に接続されている。ここで、両電極は直線状であ
っても従来技術で示したように屈曲点を有する形状であ
ってもよい。
First, the structure of the IPS liquid crystal display device of this embodiment will be described with reference to FIG. 1. On the first transparent substrate 1 side, a gate electrode 2 and a data line 6 are formed substantially orthogonal to each other. The TFTs 4 are arranged in a matrix at these intersections to form one pixel. A pixel electrode 7 and a common electrode 3 are formed in each pixel, and the pixel electrode 7 is T
It is connected to FT4. Here, both electrodes may have a linear shape or a shape having a bending point as shown in the prior art.

【0031】また、第2の透明基板11上には、ゲート
電極2、データ線6上およびこれらと画素表示部との間
の余分な光を遮光するためのブラックマトリクス12、
RGB3色のカラー表示を行うための色層13、さらに
色層13を覆うように平坦化膜14が形成されている
が、本実施例では、この平坦化膜14の一部に所定の形
状の窪み23を形成することを特徴としている。すなわ
ち、この窪み23を画素中央部にゲート電極2方向に延
在するように形成し、1画素内で窪み23の深さを変化
させることによって第1の透明基板1と第2の透明基板
11とのセルギャップを変化させている。
Further, on the second transparent substrate 11, a black matrix 12 for blocking extra light on the gate electrodes 2, the data lines 6 and between these and the pixel display portion,
Although the color layer 13 for performing color display of three colors of RGB and the flattening film 14 are formed so as to cover the color layer 13, in this embodiment, a part of the flattening film 14 has a predetermined shape. The feature is that the depression 23 is formed. That is, the recess 23 is formed in the central portion of the pixel so as to extend in the direction of the gate electrode 2, and the depth of the recess 23 is changed within one pixel, whereby the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 11 are formed. The cell gap with is changing.

【0032】ここで、セルギャップと液晶の応答との関
係について考察すると、式1に示すように、液晶を駆動
する最低電圧である閾値電圧Vthはセルギャップdに反
比例しており、セルギャップdが大きくなると液晶分子
は回転しやすくなるために閾値電圧Vthは小さくなる。
この閾値電圧Vthが小さくなるということは、小さい電
圧で液晶が回転するということであり、中間調における
応答が速くなるということである。すなわち、セルギャ
ップを変化させることによっても画素電極7と共通電極
3の間隔を変化させる場合と同様に応答を改善すること
ができる。なお、本実施例では、画素中央部分を通りゲ
ート電極2方向に延在するようにセルギャップが大きい
領域19aが形成され、ゲート電極2に近づくに従って
セルギャップが徐々に小さくなる(図の20a参照)よ
うに窪み23を形成している。
Considering the relationship between the cell gap and the response of the liquid crystal, the threshold voltage Vth, which is the lowest voltage for driving the liquid crystal, is inversely proportional to the cell gap d, as shown in Equation 1, and the cell gap d Becomes larger, the liquid crystal molecules tend to rotate, and the threshold voltage Vth becomes smaller.
The decrease in the threshold voltage Vth means that the liquid crystal rotates with a small voltage, and the response in the halftone becomes faster. That is, the response can be improved also by changing the cell gap, similarly to the case where the distance between the pixel electrode 7 and the common electrode 3 is changed. In this embodiment, a region 19a having a large cell gap is formed so as to extend in the direction of the gate electrode 2 through the central portion of the pixel, and the cell gap becomes gradually smaller as it gets closer to the gate electrode 2 (see 20a in the figure). ), The depression 23 is formed.

【0033】次に、第2の透明基板11に窪み23を形
成する方法について図4を参照して説明する。まず、図
4(a)に示すように、第2の透明基板11の所定の領
域にブラックマトリクス12と色層13とを形成した
後、ブラックマトリクス12と色層13とを覆うように
レジスト、ポリイミド等の紫外線硬化型の平坦化膜14
を所定の膜厚で塗布する。次に、図4(b)に示すよう
に、窪み23を形成する部分に紫外線22が当たらない
ように紫外線カットフィルタ等のマスク21を配置した
後、基板全面に紫外線22を照射する。
Next, a method of forming the depression 23 in the second transparent substrate 11 will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 4A, after forming the black matrix 12 and the color layer 13 in a predetermined region of the second transparent substrate 11, a resist is formed so as to cover the black matrix 12 and the color layer 13. UV-curable flattening film 14 such as polyimide
Is applied in a predetermined film thickness. Next, as shown in FIG. 4B, a mask 21 such as an ultraviolet ray cut filter is arranged so that the ultraviolet ray 22 does not hit the portion where the depression 23 is formed, and then the entire surface of the substrate is irradiated with the ultraviolet ray 22.

【0034】すると、紫外線22が当たった部分では平
坦化膜14は硬化し、マスク21が配置された部分では
平坦化膜14は硬化しないため、所定の現像液等でエッ
チングすると、図4(c)に示すようにマスク21部分
の平坦化膜14がより深くエッチングされて所定の形状
の窪み23が形成される。なお、紫外線22の照射条
件、現像・エッチング条件等を最適化することによって
窪み23の形状を制御することができ、図2に示すよう
な断面形状がV字型の窪み23を形成することもでき
る。
Then, the flattening film 14 is hardened in the portion where the ultraviolet rays 22 hit, and the flattening film 14 is not hardened in the portion where the mask 21 is arranged. Therefore, when the flattening film 14 is etched with a predetermined developing solution or the like, FIG. As shown in (), the flattening film 14 in the mask 21 portion is etched deeper to form a recess 23 having a predetermined shape. The shape of the depression 23 can be controlled by optimizing the irradiation conditions of the ultraviolet rays 22, the developing / etching conditions, and the like, and the depression 23 having a V-shaped cross section as shown in FIG. 2 may be formed. it can.

【0035】この窪みの効果を、図3を参照して説明す
ると、セルギャップの小さい部分では、液晶の印加電圧
とパネル透過率との関係は一点鎖線のようになるが、窪
み23が形成されたセルギャップが大きい部分では液晶
は回転しやすくなるため、2点鎖線のようにパネル透過
率のピークを低電圧側にシフトする。従って、画素全体
では破線で示すようになり、パネル透過率を低電圧領域
でも大きくすることができる。又、応答に関しても、セ
ルギャップが大きい部分では液晶は回転しやすくなるた
め、低電圧領域で応答を速くすることができ、中間調の
応答の改善を図ることができる。
The effect of this depression will be described with reference to FIG. 3. In the portion where the cell gap is small, the relationship between the applied voltage of the liquid crystal and the panel transmittance is as shown by the alternate long and short dash line, but the depression 23 is formed. Since the liquid crystal is likely to rotate in the portion where the cell gap is large, the peak of the panel transmittance is shifted to the low voltage side as indicated by the chain double-dashed line. Therefore, the whole pixel is shown by the broken line, and the panel transmittance can be increased even in the low voltage region. Regarding the response, since the liquid crystal is likely to rotate in the portion where the cell gap is large, the response can be speeded up in the low voltage region, and the halftone response can be improved.

【0036】このように、本実施例の液晶表示装置の構
造によれば、第2の透明基板11の平坦化膜14に所定
の形状の窪み23を形成することによって、1画素内で
セルギャップの広い部分と狭い部分を形成することがで
きる。従って、式1より液晶の閾値電圧Vthを画素内で
連続的に変化させることができるため、液晶への印加電
圧が小さい中間調表示においても液晶の応答を速くする
ことができる。
As described above, according to the structure of the liquid crystal display device of the present embodiment, by forming the depression 23 having a predetermined shape in the flattening film 14 of the second transparent substrate 11, the cell gap within one pixel is increased. A wide part and a narrow part can be formed. Therefore, since the threshold voltage Vth of the liquid crystal can be continuously changed within the pixel according to the equation 1, the response of the liquid crystal can be accelerated even in the halftone display in which the voltage applied to the liquid crystal is small.

【0037】なお、本実施例では、窪み23の断面形状
が半円状又はV字型の例について記載したが、本発明は
上記実施例に限定されるものではなく、セルギャップが
画素内で変化するような窪み23であれば良く、例え
ば、断面形状がU字型、台形、矩形等の窪みであっても
よいことは明らかである。また、本実施例においては、
窪み23が形成された凹凸のある面に配向膜18を形成
するため、配向膜材料の粘度が小さいと配向膜材料が窪
み23内部に溜まってしまう場合がある。そこで、配向
膜18としては、30cp以上の粘度を有する材料をオ
フセット印刷により形成することが好ましい。
In the present embodiment, an example in which the depression 23 has a semicircular or V-shaped cross section is described, but the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and the cell gap is within the pixel. It is obvious that the depression 23 can be changed, and for example, the depression may have a U-shaped, trapezoidal, or rectangular cross-sectional shape. In addition, in this embodiment,
Since the alignment film 18 is formed on the uneven surface in which the depressions 23 are formed, the alignment film material may accumulate inside the depressions 23 when the viscosity of the alignment film material is low. Therefore, as the alignment film 18, it is preferable to form a material having a viscosity of 30 cp or more by offset printing.

【0038】[実施例2]次に、本発明の第2の実施例
に係るIPS方式の液晶表示装置について、図5及び図
6を参照して説明する。図5及び図6は、第2の実施例
に係る液晶表示装置の構造を示す図であり、(a)は平
面図、(b)は(a)のA−A′線における断面図であ
る。なお、前記した第1の実施例と本実施例との相違点
は、窪みの形成方向をデータ線方向としたことであり、
他の部分の構造に関しては第1の実施例と同様である。
[Second Embodiment] Next, an IPS type liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6 are views showing the structure of the liquid crystal display device according to the second embodiment, wherein (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of (a). . The difference between the first embodiment and this embodiment is that the formation direction of the depression is the data line direction,
The structure of other parts is similar to that of the first embodiment.

【0039】すなわち、第2の透明基板11上にブラッ
クマトリクス12と色層13と所定の膜厚の平坦化膜1
4が形成され、この平坦化膜14に断面が半円状又はV
字型の窪み23を設け、この窪み23がデータ線6方向
に延在し、かつ、セルギャップが最大となる窪みの頂点
領域が画素電極7又は共通電極3(本実施例の構成では
中央の共通電極3)に沿うように形成している。そし
て、画素内で窪み23の深さを変えることによって第1
の透明基板1と第2の透明基板11とのセルギャップを
変化させ、このセルギャップが大きい部分で閾値電圧V
thを下げ、応答を速くしている。
That is, the black matrix 12, the color layer 13, and the flattening film 1 having a predetermined thickness are formed on the second transparent substrate 11.
4 is formed, and the flattening film 14 has a semicircular cross section or V
A V-shaped recess 23 is provided, the recess 23 extends in the direction of the data line 6, and the apex region of the recess having the maximum cell gap is the pixel electrode 7 or the common electrode 3 (in the configuration of the present embodiment, the It is formed along the common electrode 3). Then, by changing the depth of the depression 23 in the pixel, the first
The cell gap between the transparent substrate 1 and the second transparent substrate 11 is changed, and the threshold voltage V
It lowers th and makes the response faster.

【0040】従って、画素中央の共通電極3に沿った部
分にセルギャップが大きい領域19bが形成され、デー
タ線6に近づくに従ってセルギャップが小さくなるよう
に窪み23を形成し、この窪み23により、セルギャッ
プの小さいデータ線6側の領域では、液晶の印加電圧と
パネル透過率との関係は電極間隔が広い場合と同様にな
るが、窪み23の中央部分ではセルギャップが広いため
に液晶は回転しやすくなり、パネル透過率のピークが低
電圧側にシフトするため、画素全体ではパネル透過率を
低電圧領域でも大きくすることができる。又、応答に関
しても、セルギャップが広い部分では液晶は回転しやす
くなり、低電圧領域で応答を速くすることができ、中間
調の応答の改善を図ることができる。
Therefore, a region 19b having a large cell gap is formed in a portion along the common electrode 3 at the center of the pixel, and a recess 23 is formed so that the cell gap becomes smaller as the data line 6 is approached. In the area on the data line 6 side where the cell gap is small, the relationship between the applied voltage of the liquid crystal and the panel transmittance is the same as when the electrode interval is wide, but the liquid crystal rotates because the cell gap is wide in the central portion of the depression 23. Since the peak of the panel transmittance shifts to the low voltage side, the panel transmittance of the entire pixel can be increased even in the low voltage region. Regarding the response, the liquid crystal is likely to rotate in a portion where the cell gap is wide, the response can be accelerated in the low voltage region, and the response in the halftone can be improved.

【0041】なお、本実施例において画素電極7及び共
通電極3の形状は直線状でも屈曲点を有する形状でもよ
く、又、窪み23の断面形状はU字型、台形、矩形等で
もよいことは、前記した第1の実施例と同様である。
In the present embodiment, the pixel electrode 7 and the common electrode 3 may have a linear shape or a shape having a bending point, and the recess 23 may have a U-shaped, trapezoidal, or rectangular cross-sectional shape. The same as in the first embodiment described above.

【0042】[実施例3]次に、本発明の第3の実施例
に係るIPS方式の液晶表示装置について、図7及び図
8を参照して説明する。図7及び図8は、第3の実施例
に係る液晶表示装置の構造を示す図であり、(a)は平
面図、(b)は(a)のA−A′線における断面図であ
る。なお、前記した第2の実施例と本実施例との相違点
は、窪みを複数形成したことであり、他の部分の構造に
関しては第2の実施例と同様である。
[Embodiment 3] Next, an IPS type liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8 are views showing the structure of the liquid crystal display device according to the third embodiment, where (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of (a). . The difference between the second embodiment and the present embodiment is that a plurality of recesses are formed, and the structure of other portions is the same as that of the second embodiment.

【0043】すなわち、第2の透明基板11上の平坦化
膜14に断面がV字型、半円状、U字型、台形又は矩形
の窪み23を複数設け、この窪み23がデータ線6方向
に延在し、かつ、その各々の頂点が画素電極7又は共通
電極3と平行になるように形成している。そして、画素
内で窪み23の深さを変えることによって第1の透明基
板1と第2の透明基板11とのセルギャップを変化さ
せ、このセルギャップが広い部分で閾値電圧Vthを下
げ、応答を速くすることができる。
That is, a plurality of depressions 23 having a V-shaped, semicircular, U-shaped, trapezoidal or rectangular cross section are provided in the flattening film 14 on the second transparent substrate 11, and these depressions 23 are in the data line 6 direction. Are formed so as to extend in parallel with the pixel electrode 7 or the common electrode 3. Then, by changing the depth of the depression 23 in the pixel, the cell gap between the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 11 is changed, and the threshold voltage Vth is lowered in a portion where this cell gap is wide, and the response is increased. Can be fast.

【0044】具体的には、本実施例では、窪みの頂点2
3aを画素電極7とその両外側の共通電極3との中間に
配置し、窪みの頂点23a近傍でセルギャップが最大と
なり、その領域から内側又はデータ線6に近づくに従っ
てセルギャップが狭くなるように設定している。この窪
み23により、セルギャップが大きい領域を作ることが
でき、液晶が回転しやすくなるため、画素全体では低電
圧領域でパネル透過率を大きく、応答を速くすることが
でき、中間調表示の改善を図ることができる。
Specifically, in this embodiment, the apex 2 of the depression is
3a is arranged between the pixel electrode 7 and the common electrodes 3 on both sides thereof so that the cell gap becomes maximum in the vicinity of the apex 23a of the depression, and the cell gap becomes narrower as approaching the inner side or the data line 6 from that region. It is set. Due to the depression 23, a region having a large cell gap can be formed, and the liquid crystal is easily rotated. Therefore, in the entire pixel, the panel transmittance can be increased in the low voltage region, and the response can be speeded up. Can be achieved.

【0045】なお、本実施例では断面がV字型の窪み2
3を2つ設けた例について説明したが、窪み23の数は
任意であり、例えば、図8に示すように3つ設け、各々
の窪みの頂点が共通電極3及び画素電極7と平行になる
ように形成しても同様の効果を奏することができ、又、
窪み23の深さや断面形状を各々の窪みで変えることも
できる。
In this embodiment, the V-shaped depression 2 has a cross section.
Although the example in which two three are provided is described, the number of the depressions 23 is arbitrary, and for example, three depressions are provided as shown in FIG. 8, and the vertices of each depression are parallel to the common electrode 3 and the pixel electrode 7. The same effect can be obtained by forming
The depth and sectional shape of the depression 23 can be changed in each depression.

【0046】[実施例4]次に、本発明の第4の実施例
に係るIPS方式の液晶表示装置について、図9乃至図
10を参照して説明する。図9及び図10は、第4の実
施例に係る液晶表示装置の構造を示す図であり、(a)
は平面図、(b)は(a)のB−B′線における断面図
である。なお、本実施例は、前記した第1乃至第3の実
施例と異なり、セルギャップの大きさを変えるための窪
みを第1の透明基板側に設けたものである。
[Embodiment 4] Next, an IPS type liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 to 10. 9 and 10 are views showing the structure of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment.
Is a plan view and (b) is a sectional view taken along line BB ′ of (a). Note that this embodiment is different from the above-described first to third embodiments in that a recess for changing the size of the cell gap is provided on the first transparent substrate side.

【0047】このような本実施例のIPS液晶表示装置
の構成について説明すると、第1の透明基板1側には、
ゲート電極2、データ線6が略直交して形成され、これ
らの交差部にマトリクス状にTFT4が配置されて1画
素を構成している。また、各画素には画素電極7及び共
通電極3が形成されており、共通電極3はゲート電極2
と同層に形成され、画素電極7は層間絶縁膜5を介して
データ線6と同層に形成されている。そして、データ線
6及び画素電極7上にはパッシベーション膜10が形成
されている。ここで、本実施例では、画素内の層間絶縁
膜5とパッシベーション膜10に窪み23を設けてセル
ギャップに広狭を形成している。
The structure of the IPS liquid crystal display device of this embodiment will be described below.
The gate electrodes 2 and the data lines 6 are formed substantially orthogonal to each other, and TFTs 4 are arranged in a matrix at the intersections thereof to form one pixel. A pixel electrode 7 and a common electrode 3 are formed in each pixel, and the common electrode 3 is the gate electrode 2
The pixel electrode 7 is formed in the same layer as the data line 6 via the interlayer insulating film 5. Then, a passivation film 10 is formed on the data lines 6 and the pixel electrodes 7. Here, in this embodiment, the inter-layer insulating film 5 and the passivation film 10 in the pixel are provided with the depressions 23 to form a wide and narrow cell gap.

【0048】ここで、第1の透明基板1側に窪み23を
形成する方法について説明すると、第1の透明基板1上
にゲート電極2と共通電極3とを形成した後、層間絶縁
膜5を堆積し、その上に所定の形状のレジストパターン
等を形成し、これをマスクとしてドライエッチング又は
ウェットエッチングによって画素領域内の層間絶縁膜5
を選択的にエッチング除去する。次に、データ線6と画
素電極7とを形成した後、パッシベーション膜10を堆
積し、層間絶縁膜5を除去した領域のパッシベーション
膜10を同様にドライエッチング又はウェットエッチン
グによって除去して画素内に窪み23を形成する。その
後、配向膜18を形成して第1の透明基板1を形成す
る。このように、画素内で窪み23の深さを変えること
によって第1の透明基板1と第2の透明基板11とのセ
ルギャップを変化させ、このセルギャップが広い部分で
閾値電圧Vthを下げ、応答を速くすることができる。
Here, a method of forming the depression 23 on the first transparent substrate 1 side will be described. After forming the gate electrode 2 and the common electrode 3 on the first transparent substrate 1, the interlayer insulating film 5 is formed. The interlayer insulating film 5 in the pixel region is deposited and a resist pattern or the like having a predetermined shape is formed thereon and dry etching or wet etching is performed using this as a mask.
Are selectively removed by etching. Next, after the data line 6 and the pixel electrode 7 are formed, a passivation film 10 is deposited, and the passivation film 10 in the region where the interlayer insulating film 5 is removed is similarly removed by dry etching or wet etching to form a pixel. The depression 23 is formed. Then, the alignment film 18 is formed to form the first transparent substrate 1. In this way, the cell gap between the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 11 is changed by changing the depth of the depression 23 in the pixel, and the threshold voltage Vth is lowered in the portion where the cell gap is wide, The response can be quick.

【0049】すなわち、画素領域の中央を通りゲート電
極2に平行に延在する窪み23を形成し、その領域のセ
ルギャップを大きくすることにより液晶を回転しやすく
し、パネル透過率のピーク低電圧側にシフトさせること
ができる。従って、画素全体では、低電圧領域でパネル
透過率を大きく、応答を速くすることができ、中間調表
示の改善を図ることができる。
That is, by forming a recess 23 extending in parallel with the gate electrode 2 through the center of the pixel region and increasing the cell gap in that region, the liquid crystal is easily rotated, and the panel transmittance has a peak low voltage. Can be shifted to the side. Therefore, in the entire pixel, the panel transmittance can be increased in the low voltage region, the response can be made faster, and the halftone display can be improved.

【0050】なお、本実施例では、層間絶縁膜5とパッ
シベーション膜10の双方を除去して第1の透明基板1
に窪み23を形成したが、第1の透明基板1に窪み23
を形成することができる構成であれば良く、例えば、図
10に示すように、パッシベーション膜10のみを除去
して窪み23を形成したり、パッシベーション膜10を
堆積した後、パッシベーション膜10と層間絶縁膜5を
同時に除去したり、又は、層間絶縁膜5のみを除去して
その段差をパッシベーション膜10に反映させて窪み2
3を形成することもできる。
In this embodiment, both the interlayer insulating film 5 and the passivation film 10 are removed and the first transparent substrate 1 is removed.
The depression 23 is formed on the first transparent substrate 1, but the depression 23 is formed on the first transparent substrate 1.
10 may be formed, for example, as shown in FIG. 10, only the passivation film 10 is removed to form the depression 23, or after the passivation film 10 is deposited, the passivation film 10 and the interlayer insulating film are deposited. The film 5 is removed at the same time, or only the interlayer insulating film 5 is removed so that the step difference is reflected in the passivation film 10 to form the depression 2
3 can also be formed.

【0051】[実施例5]次に、本発明の第5の実施例
に係るIPS方式の液晶表示装置について、図11を参
照して説明する。図11は、第5の実施例に係る液晶表
示装置の構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)
は(a)のA−A′線における断面図である。なお、本
実施例では、前記した第1乃至第4の実施例と異なり、
第1の透明基板1側にブラックマトリクスと色層を設
け、窪みを第1の透明基板1側に形成したことを特徴と
している。
[Embodiment 5] Next, an IPS type liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 11A and 11B are views showing the structure of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment, where FIG. 11A is a plan view and FIG.
FIG. 7A is a sectional view taken along line AA ′ in FIG. In the present embodiment, unlike the first to fourth embodiments described above,
A feature is that a black matrix and a color layer are provided on the first transparent substrate 1 side, and a recess is formed on the first transparent substrate 1 side.

【0052】本実施例のIPS液晶表示装置の構成につ
いて説明すると、まず、第1の透明基板1上に、ゲート
電極2、データ線6上およびこれらと画素表示部との間
の余分な光を遮光するためのブラックマトリクス12、
RGB3色のカラー表示を行うための色層13を形成し
た後、所定の膜厚の有機層間膜24を堆積する。次に、
本実施例では、画素領域の有機層間膜24を所定の条件
でエッチングして窪み23を形成する。そして、有機層
間膜24の上に画素電極7と共通電極3とを形成した
後、層間絶縁膜5を介してデータ線6を形成し、その上
にパッシベーション膜10を堆積する。その後、配向膜
18を形成して第1の透明基板1を形成する。
Explaining the structure of the IPS liquid crystal display device of the present embodiment, first, on the first transparent substrate 1, the surplus light between the gate electrode 2, the data line 6 and these and the pixel display portion is provided. Black matrix 12 for shading,
After forming the color layer 13 for performing color display of RGB three colors, the organic interlayer film 24 having a predetermined thickness is deposited. next,
In this embodiment, the organic interlayer film 24 in the pixel region is etched under predetermined conditions to form the depression 23. Then, after the pixel electrode 7 and the common electrode 3 are formed on the organic interlayer film 24, the data line 6 is formed via the interlayer insulating film 5, and the passivation film 10 is deposited thereon. Then, the alignment film 18 is formed to form the first transparent substrate 1.

【0053】一方、第2の透明基板11側には配向膜1
8のみを形成し、両基板の間に液晶17を狭持する。こ
のような構造の液晶表示装置では、ブラックマトリクス
12を電極が形成される第1の透明基板1側に形成して
いるため、ブラックマトリクス12とゲート電極2、デ
ータ線6及び共通電極3との位置関係をより正確に保つ
ことができる。従って、設計のマージンを減らしてこれ
らを配置することができるため、開口率をより大きくす
ることができる。
On the other hand, the alignment film 1 is formed on the second transparent substrate 11 side.
8 is formed, and the liquid crystal 17 is sandwiched between both substrates. In the liquid crystal display device having such a structure, since the black matrix 12 is formed on the side of the first transparent substrate 1 on which the electrodes are formed, the black matrix 12 and the gate electrode 2, the data line 6 and the common electrode 3 are formed. The positional relationship can be maintained more accurately. Therefore, these can be arranged with a reduced design margin, and the aperture ratio can be further increased.

【0054】このように、本実施例では、画素領域中央
の共通電極3に沿って窪み23が形成されてセルギャッ
プが大きくなり、データ線6に近づくに従ってセルギャ
ップが小さくなるため、セルギャップが大きい部分で液
晶が回転しやすくなるため、低電圧領域でパネル透過率
を大きく、応答を速くすることができ、中間調表示の改
善を図ることができる。又、ブラックマトリクス12と
各電極とが同一基板に形成されるため、それらの位置精
度を向上させることができ、開口率を大きくすることが
できる。
As described above, in the present embodiment, the cell gap is increased by forming the depression 23 along the common electrode 3 in the center of the pixel region, and the cell gap is reduced as the data line 6 is approached. Since the liquid crystal easily rotates in a large portion, the panel transmittance can be increased in the low voltage region, the response can be made faster, and the halftone display can be improved. Further, since the black matrix 12 and each electrode are formed on the same substrate, their positional accuracy can be improved and the aperture ratio can be increased.

【0055】[実施例6]次に、本発明の第6の実施例
に係るIPS方式の液晶表示装置について、図12を参
照して説明する。図12は、第6の実施例に係る液晶表
示装置の構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)
は(a)のA−A′線における断面図である。なお、本
実施例では、前記した第8の実施例と同様に、第1の透
明基板側にブラックマトリクスと色層を設けた構造の液
晶表示装置において、窪みを第1の透明基板側に設けた
ものであるが、画素電極の形成方法、窪みの形状及び形
成方法が第5の実施例と異なるものである。
[Embodiment 6] Next, an IPS type liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 12A and 12B are views showing the structure of the liquid crystal display device according to the sixth embodiment, where FIG. 12A is a plan view and FIG.
FIG. 7A is a sectional view taken along line AA ′ in FIG. In this embodiment, as in the case of the above-described eighth embodiment, in the liquid crystal display device having the structure in which the black matrix and the color layer are provided on the first transparent substrate side, the depression is provided on the first transparent substrate side. However, the method of forming the pixel electrode, the shape of the recess, and the method of forming the pixel electrode are different from those of the fifth embodiment.

【0056】このような本実施例のIPS液晶表示装置
の構成について説明すると、まず、第1の透明基板1上
に余分な光を遮光するためのブラックマトリクス12、
RGB3色のカラー表示を行うための色層13を形成す
る。次に、図12(b)に示すように、画素内の色層1
3の画素電極7及び共通電極3が形成される部分を除去
し、そこを埋め込むように画素電極7と共通電極3とを
形成する。
The structure of the IPS liquid crystal display device of the present embodiment will be described. First, the black matrix 12 for blocking excess light on the first transparent substrate 1,
A color layer 13 for performing color display of RGB three colors is formed. Next, as shown in FIG. 12B, the color layer 1 in the pixel is
The pixel electrode 7 and the common electrode 3 of 3 are removed, and the pixel electrode 7 and the common electrode 3 are formed so as to be embedded therein.

【0057】その後、所定の膜厚の有機層間膜24を堆
積するが、この時、色層13の膜厚に対して画素電極7
及び共通電極3の膜厚が薄いために両者の間に段差が生
じており、その段差が有機層間膜24にも反映され、有
機層間膜24表面に段差に対応した窪みが形成される。
次に、ゲート電極2と画素外側の共通電極3とを形成
し、その上に層間絶縁膜5を介してデータ線6を形成し
た後パッシベーション膜10を堆積する。すると、層間
絶縁膜5及びパッシベーション膜10にも前記の段差に
対応した窪み23が順次形成される。その後、配向膜1
8を形成して第1の透明基板1を形成する。一方、第2
の透明基板11側には配向膜18のみを形成し、両基板
の間に液晶17を狭持する。
Thereafter, the organic interlayer film 24 having a predetermined thickness is deposited. At this time, the pixel electrode 7 is formed with respect to the thickness of the color layer 13.
Further, since the common electrode 3 has a small film thickness, a step is formed between the two, and the step is reflected in the organic interlayer film 24, and a depression corresponding to the step is formed on the surface of the organic interlayer film 24.
Next, the gate electrode 2 and the common electrode 3 outside the pixel are formed, the data line 6 is formed on the common electrode 3 via the interlayer insulating film 5, and then the passivation film 10 is deposited. Then, the depressions 23 corresponding to the steps are sequentially formed in the interlayer insulating film 5 and the passivation film 10. After that, the alignment film 1
8 is formed to form the first transparent substrate 1. Meanwhile, the second
Only the alignment film 18 is formed on the transparent substrate 11 side, and the liquid crystal 17 is sandwiched between both substrates.

【0058】このような構造の液晶表示装置では、ブラ
ックマトリクス12及び色層13を電極が形成される第
1の透明基板1側に形成するため、前記した第8の実施
例と同様に、ブラックマトリクス12及び色層13とゲ
ート電極2、データ線6、画素電極7及び共通電極3と
の位置関係をより正確に保つことができるため、設計マ
ージンを減らしてこれらを配置することができるため、
開口率をより大きくすることができる。また、セルギャ
ップは、画素電極7及び共通電極3の段差に沿って自動
的に形成されるため、窪み23と画素電極7及び共通電
極3との位置関係もより正確に制御することができる。
In the liquid crystal display device having such a structure, since the black matrix 12 and the color layer 13 are formed on the side of the first transparent substrate 1 on which the electrodes are formed, the black matrix 12 and the color layer 13 are formed in the same manner as in the eighth embodiment. Since the positional relationship between the matrix 12 and the color layer 13 and the gate electrode 2, the data line 6, the pixel electrode 7 and the common electrode 3 can be maintained more accurately, these can be arranged with a reduced design margin.
The aperture ratio can be increased. Further, since the cell gap is automatically formed along the step between the pixel electrode 7 and the common electrode 3, the positional relationship between the depression 23 and the pixel electrode 7 and the common electrode 3 can be controlled more accurately.

【0059】また、本実施例でも、画素領域の画素電極
7及び共通電極3に沿ってセルギャップが大きくなり、
画素の他の部分ではセルギャップが小さくなるため、低
電圧領域でもパネル透過率を大きく、応答を速くするこ
とができ、電極間隔に広狭を持たせた場合と同様に中間
調表示の改善を図ることができる。
Also in this embodiment, the cell gap increases along the pixel electrode 7 and the common electrode 3 in the pixel region,
Since the cell gap becomes smaller in other parts of the pixel, the panel transmittance can be increased and the response can be made faster even in the low voltage region, and the halftone display can be improved as in the case where the electrode interval is wide. be able to.

【0060】なお、本実施例では、色層13と画素電極
7及び共通電極3との段差が有機層間膜24、層間絶縁
膜5及びパッシベーション膜10に反映される場合につ
いて説明したが、この段差とは別に有機層間膜24に窪
みを形成しても良く、また、層間絶縁膜5やパッシベー
ション膜10に窪みを形成してもよいことは明らかであ
る。
In this embodiment, the case where the step between the color layer 13 and the pixel electrode 7 and the common electrode 3 is reflected in the organic interlayer film 24, the interlayer insulating film 5 and the passivation film 10 has been described. Apart from this, it is obvious that a recess may be formed in the organic interlayer film 24, or a recess may be formed in the interlayer insulating film 5 and the passivation film 10.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のIPS液
晶表示装置の構成及びその製造方法によれば、TFTを
形成する基板や対向基板に窪みを形成し、両基板間のセ
ルギャップに広狭を持たせることにより、液晶の閾値電
圧の小さい領域を1画素内に形成し、液晶への印加電圧
が低い部分においてもパネル透過率を大きく、かつ、応
答を速くし、中間調表示の特性を改善することができ
る。
As described above, according to the structure of the IPS liquid crystal display device of the present invention and the method of manufacturing the same, the depressions are formed in the substrate on which the TFT is formed and the counter substrate, and the cell gap between the two substrates is widened. By providing a region where the threshold voltage of the liquid crystal is small in one pixel, the panel transmittance is large even in the portion where the voltage applied to the liquid crystal is low, the response is fast, and the halftone display characteristics are improved. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の構
造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)の
B−B′線における断面図である。
1A and 1B are views showing a structure of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a plan view and FIG. 1B is a sectional view taken along line BB ′ of FIG. .

【図2】本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の構
造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)の
B−B′線における断面図である。
2A and 2B are views showing the structure of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2A is a plan view, and FIG. 2B is a sectional view taken along line BB ′ in FIG. 2A. .

【図3】本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の印
加電圧とパネル透過率及び応答の相関を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a correlation between an applied voltage, a panel transmittance and a response of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の製
造方法を示す工程断面図である。
FIG. 4 is a process cross-sectional view showing the method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施例に係る液晶表示装置の構
造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)の
A−A′線における断面図である。
5A and 5B are views showing a structure of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, in which FIG. 5A is a plan view and FIG. 5B is a sectional view taken along line AA ′ in FIG. .

【図6】本発明の第2の実施例に係る液晶表示装置の構
造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)の
A−A′線における断面図である。
6A and 6B are views showing a structure of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, in which FIG. 6A is a plan view and FIG. 6B is a sectional view taken along line AA ′ in FIG. .

【図7】本発明の第3の実施例に係る液晶表示装置の構
造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)の
A−A′線における断面図である。
7A and 7B are diagrams showing a structure of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention, in which FIG. 7A is a plan view and FIG. 7B is a sectional view taken along line AA ′ in FIG. .

【図8】本発明の第3の実施例に係る液晶表示装置の構
造を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の構
造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)の
B−B′線における断面図である。
9A and 9B are views showing a structure of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention, FIG. 9A is a plan view, and FIG. 9B is a sectional view taken along line BB ′ of FIG. 9A. .

【図10】本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の
構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)
のB−B′線における断面図である。
10A and 10B are diagrams showing a structure of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention, in which FIG. 10A is a plan view and FIG.
3 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG.

【図11】本発明の第5の実施例に係る液晶表示装置の
構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)
のA−A′線における断面図である。
11A and 11B are diagrams showing a structure of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention, in which FIG. 11A is a plan view and FIG.
3 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【図12】本発明の第6の実施例に係る液晶表示装置の
構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)
のA−A′線における断面図である。
12A and 12B are views showing a structure of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention, in which FIG. 12A is a plan view and FIG.
3 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【図13】従来の液晶表示装置の構造を示す図であり、
(a)は平面図、(b)は(a)のA−A′線における
断面図である。
FIG. 13 is a diagram showing a structure of a conventional liquid crystal display device,
(A) is a plan view and (b) is a sectional view taken along the line AA 'of (a).

【図14】従来の液晶表示装置の印加電圧とパネル透過
率及び応答の相関を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a correlation between a voltage applied to a conventional liquid crystal display device, a panel transmittance, and a response.

【図15】従来の液晶表示装置の電界方向を示す図であ
る。
FIG. 15 is a diagram showing an electric field direction of a conventional liquid crystal display device.

【図16】従来の液晶表示装置の電界方向を示す図であ
る。
FIG. 16 is a diagram showing an electric field direction of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1の透明基板 2 ゲート電極 3 共通電極 4 TFT 5 層間絶縁膜 6 データ線 7 画素電極 8 ソース電極 9 ドレイン電極 10 パッシベーション膜 11 第2の透明基板 12 ブラックマトリクス 13 色層 14 平坦化膜 15 導電膜 16a、16b 偏光膜 17 液晶 18 配向膜 19a、19b セルギャップが大きい領域 20a、20b セルギャップが小さい領域 21 マスク 22 紫外線 23 窪み 23a 窪みの頂点 24 有機層間膜 1 First transparent substrate 2 Gate electrode 3 common electrode 4 TFT 5 Interlayer insulation film 6 data lines 7 pixel electrode 8 Source electrode 9 Drain electrode 10 Passivation film 11 Second transparent substrate 12 Black matrix 13 color layers 14 Flattening film 15 Conductive film 16a, 16b Polarizing film 17 LCD 18 Alignment film 19a, 19b Region with large cell gap 20a, 20b Region with small cell gap 21 mask 22 UV 23 hollow 23a The top of the depression 24 Organic interlayer film

フロントページの続き Fターム(参考) 2H090 HA01 HA02 HD03 JA02 KA03 LA01 MA02 MA07 2H092 GA14 GA17 NA05 NA07 NA26 QA05 Continued front page    F-term (reference) 2H090 HA01 HA02 HD03 JA02 KA03                       LA01 MA02 MA07                 2H092 GA14 GA17 NA05 NA07 NA26                       QA05

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一対の対向する基板と前記一対の基板間に
狭持された液晶とを有し、少なくとも、第1の基板上に
は、互いに略直交する複数のゲート線及び複数のデータ
線と、前記ゲート線と前記データ線とで囲まれた各画素
に交互に形成された画素電極及び共通電極と、各々の電
極を覆う絶縁膜とを有し、第2の基板上には、所定の開
口を有するブラックマトリクスと、色層と、前記ブラッ
クマトリクス及び前記色層を覆う平坦化膜とを有し、前
記画素電極と前記共通電極との間に印加する電圧によっ
て、前記データ線の延在方向に配向された液晶を前記基
板に略平行な面内で制御するIPS方式の液晶表示装置
において、前記絶縁膜及び前記平坦化膜の少なくとも一
方に、所定の断面形状の窪みが形成され、前記窪みによ
って前記対向する基板間のギャップの異なる領域が前記
画素領域内に形成されていることを特徴とする液晶表示
装置。
1. A plurality of gate lines and a plurality of data lines, which have a pair of opposing substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, and are substantially orthogonal to each other on at least a first substrate. A pixel electrode and a common electrode that are alternately formed in each pixel surrounded by the gate line and the data line, and an insulating film that covers each electrode. A black matrix having openings, a color layer, and a flattening film covering the black matrix and the color layer. The voltage applied between the pixel electrode and the common electrode extends the data line. In an IPS type liquid crystal display device for controlling a liquid crystal oriented in a direction in a plane substantially parallel to the substrate, a recess having a predetermined cross-sectional shape is formed in at least one of the insulating film and the flattening film, Opposed by the depression The liquid crystal display device, characterized in that different regions of the gap between the plates is formed in the pixel region.
【請求項2】前記窪みが、前記画素の中心を通り前記ゲ
ート線に平行な方向に延在して形成され、前記窪みの頂
点を結ぶ線を軸として前記ギャップの異なる領域が線対
称に形成されていることを特徴とする請求項1記載の液
晶表示装置。
2. The recess is formed so as to extend in a direction parallel to the gate line, passing through the center of the pixel, and regions having different gaps are formed line-symmetrically with respect to a line connecting the vertices of the recess as an axis. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is provided.
【請求項3】前記窪みの頂点を結ぶ線が前記画素電極又
は前記共通電極の長手方向に沿って延在するように前記
窪みが形成されていることを特徴とする請求項1記載の
液晶表示装置。
3. The liquid crystal display according to claim 1, wherein the recess is formed so that a line connecting the vertices of the recess extends along the longitudinal direction of the pixel electrode or the common electrode. apparatus.
【請求項4】一対の対向する基板と前記一対の基板間に
狭持された液晶とを有し、前記一対の基板の一方には、
所定の開口を有するブラックマトリクスと、色層と、互
いに略直交する複数のゲート線及び複数のデータ線と、
前記ゲート線と前記データ線とで囲まれた各画素に交互
に形成された画素電極及び共通電極と、前記ブラックマ
トリクス及び前記色層を覆う層間膜と、各々の前記電極
を覆う絶縁膜とを少なくとも有し、前記画素電極と前記
共通電極との間に印加する電圧によって、前記データ線
の延在方向に配向された液晶を、前記基板に略平行な面
内で制御するIPS方式の液晶表示装置において、 前記層間膜又は前記絶縁膜に所定の断面形状の窪みが形
成され、前記窪みによって前記対向する基板間のギャッ
プの異なる領域が前記画素領域内に形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
4. A pair of opposing substrates and a liquid crystal sandwiched between the pair of substrates, wherein one of the pair of substrates comprises:
A black matrix having a predetermined opening, a color layer, a plurality of gate lines and a plurality of data lines substantially orthogonal to each other,
A pixel electrode and a common electrode alternately formed in each pixel surrounded by the gate line and the data line; an interlayer film covering the black matrix and the color layer; and an insulating film covering each electrode. An IPS liquid crystal display that has at least the liquid crystal oriented in the extending direction of the data line in a plane substantially parallel to the substrate by a voltage applied between the pixel electrode and the common electrode. In the device, a liquid crystal is characterized in that a recess having a predetermined cross-sectional shape is formed in the interlayer film or the insulating film, and regions having different gaps between the opposed substrates are formed in the pixel region by the recess. Display device.
【請求項5】前記色層が前記画素内で分断して形成さ
れ、前記画素電極及び前記共通電極が、分断された前記
色層の間を埋めるように前記色層と同層に形成され、前
記画素電極及び前記共通電極と前記色層との膜厚差によ
り、前記層間膜又は前記絶縁膜に前記窪みが形成されて
いることを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。
5. The color layer is divided and formed in the pixel, and the pixel electrode and the common electrode are formed in the same layer as the color layer so as to fill a space between the divided color layers. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the recess is formed in the interlayer film or the insulating film due to a difference in film thickness between the pixel electrode and the common electrode and the color layer.
【請求項6】前記窪みの頂点を結ぶ線が前記画素電極又
は前記共通電極の長手方向に沿って延在するように前記
窪みが形成されていることを特徴とする請求項4又は5
に記載の液晶表示装置。
6. The depression is formed so that a line connecting the vertices of the depression extends along the longitudinal direction of the pixel electrode or the common electrode.
The liquid crystal display device according to item 1.
【請求項7】前記窪みが、互いに平行に複数配設されて
いることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一に記
載の液晶表示装置。
7. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a plurality of the recesses are arranged in parallel with each other.
【請求項8】前記窪みの延在方向に直交する方向の断面
が、半円形、U字型、V字型、台形又は矩形のいずれか
であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一に
記載の液晶表示装置。
8. The cross section in the direction orthogonal to the extending direction of the depression is any one of a semicircle, a U-shape, a V-shape, a trapezoid or a rectangle. The liquid crystal display device according to 1.
【請求項9】前記一対の基板の液晶狭持面側に形成され
る配向膜が、30cp以上の粘度の材料を用いてオフセ
ット印刷により形成された膜であることを特徴とする請
求項1乃至8のいずれか一に記載の液晶表示装置。
9. The alignment film formed on the liquid crystal holding surface side of the pair of substrates is a film formed by offset printing using a material having a viscosity of 30 cp or more. 8. The liquid crystal display device according to any one of 8.
【請求項10】請求項1乃至9のいずれか一に記載の液
晶表示装置を製造する方法であって、 前記平坦化膜又は前記層間膜として紫外線硬化型の材料
を用い、前記平坦化膜又は前記層間膜を形成後、紫外線
を局所的に照射することにより、所定の断面形状の窪み
を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
10. The method for manufacturing the liquid crystal display device according to claim 1, wherein an ultraviolet curable material is used as the flattening film or the interlayer film, and the flattening film or A method for manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that after forming the interlayer film, ultraviolet rays are locally irradiated to form depressions having a predetermined cross-sectional shape.
【請求項11】紫外線硬化型の材料としてレジスト又は
ポリイミドからなる紫外線硬化樹脂を用い、紫外線カッ
トフィルタにより紫外線を局部的に照射することを特徴
とする請求項10記載の液晶表示装置の製造方法。
11. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 10, wherein an ultraviolet curable resin made of resist or polyimide is used as the ultraviolet curable material, and ultraviolet rays are locally irradiated by an ultraviolet cut filter.
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