JP2003215595A - Device and method for producing liquid crystal device and liquid crystal device - Google Patents

Device and method for producing liquid crystal device and liquid crystal device

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JP2003215595A
JP2003215595A JP2002013483A JP2002013483A JP2003215595A JP 2003215595 A JP2003215595 A JP 2003215595A JP 2002013483 A JP2002013483 A JP 2002013483A JP 2002013483 A JP2002013483 A JP 2002013483A JP 2003215595 A JP2003215595 A JP 2003215595A
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liquid crystal
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filament
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain various kinds of characteristics required for a rubbing roll through the use of a plurality of kinds of filaments. <P>SOLUTION: The rubbing roll 81 is constituted by alternately arranging thin and long filaments 83 with low elasticity and thick and short filaments 84 with high elasticity. The rubbing roll 81 is rotated to rub the front surface of a board 101 by the filaments 83 and 84. In this case, the whole surface of the board 101 is rubbed mainly by the filaments 83 and foreign matters obtained by the rubbing are swept out mainly by the filaments 84 and removed. Thus, fine pixels are uniformly rubbed simultaneously with a foreign matter-sweeping effect. Besides, rigidity is also kept since the thin filaments 83 are supported by the thick filaments 84. Thus, the characteristics required for the rubbing roll is shared by the plurality of kinds of filaments and, then, a desired synergy effect by the filaments can be anticipated. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶基板の配向膜
にラビング処理を施すものに好適な液晶装置の製造装
置、製造方法及び液晶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device manufacturing apparatus, a manufacturing method, and a liquid crystal device suitable for rubbing an alignment film on a liquid crystal substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラ
ス基板、石英基板等の2枚の基板間に液晶を封入して構
成される。液晶ライトバルブでは、一方の基板に、例え
ば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、T
FTと称す)をマトリクス状に配置し、他方の基板に対
向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特
性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可
能にする。
2. Description of the Related Art A liquid crystal device such as a liquid crystal light valve is constructed by enclosing a liquid crystal between two substrates such as a glass substrate and a quartz substrate. In a liquid crystal light valve, for example, a thin film transistor (hereinafter, referred to as T
(Referred to as FT) are arranged in a matrix, the counter electrode is arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between both substrates are changed according to the image signal, thereby enabling image display. To do.

【0003】TFTを配置したTFT基板と、TFT基
板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。
両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わさ
れた後、液晶が封入される。
The TFT substrate on which the TFTs are arranged and the counter substrate opposed to the TFT substrate are manufactured separately.
After both substrates are bonded with high precision in the panel assembly process, liquid crystal is sealed.

【0004】パネル組立工程においては、先ず、各基板
工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板との
対向面、即ち、対向基板及びTFT基板の液晶層と接す
る面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行わ
れる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール
部が形成される。TFT基板と対向基板とをシール部を
用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化
させる。シール部の一部には切り欠きが設けられてお
り、この切り欠きを介して液晶を封入する。
In the panel assembling process, first, an alignment film is formed on the facing surfaces of the TFT substrate and the counter substrate manufactured in each substrate process, that is, on the surfaces of the counter substrate and the liquid crystal layer of the TFT substrate in contact with each other. Then, a rubbing process is performed. Next, a seal portion serving as an adhesive is formed on the edge of one of the substrates. The TFT substrate and the counter substrate are attached to each other using the seal portion, and pressure-bonded and cured while performing alignment. A notch is provided in a part of the seal portion, and the liquid crystal is sealed through this notch.

【0005】配向膜を形成してラビング処理を施すこと
で、電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。配向
膜は、例えばポリイミド(PI)を約数十ナノメーター
の厚さで塗布することにより形成される。液晶層に対向
する両基板の面上に配向膜を形成することで、液晶分子
を基板面に沿って配向処理することができる。ラビング
処理は、配向膜表面に細かい溝を形成して配向異方性の
膜にするものであり、配向膜に一定方向のラビング処理
を施すことで、液晶分子の配列を規定することができ
る。
By forming an alignment film and performing rubbing treatment, the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied is determined. The alignment film is formed by applying, for example, polyimide (PI) with a thickness of about several tens of nanometers. By forming the alignment films on the surfaces of both substrates facing the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules can be aligned along the surfaces of the substrates. The rubbing treatment is to form fine grooves on the surface of the alignment film to form an anisotropic film, and the alignment film can be rubbed in a certain direction to define the alignment of liquid crystal molecules.

【0006】図8はラビング装置を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic view showing a rubbing device.

【0007】ステージ100上には液晶基板101が載
置されている。ステージ100は、水平方向に移動して
基板101を搬送する。ステージ100の搬送路の上方
にはラビングロール102が配設されている。ラビング
ロール102は周面にベルベット状の生地、例えばレー
ヨンのラビング布103が取り付けられている。ラビン
グロール102を回転させながらステージ100を搬送
させて、ラビングロール102の回転及びステージ10
0の搬送によって、ラビング布103で基板全面を擦っ
てラビングを行う。
A liquid crystal substrate 101 is placed on the stage 100. The stage 100 moves in the horizontal direction and carries the substrate 101. A rubbing roll 102 is arranged above the transport path of the stage 100. The rubbing roll 102 has a velvet-like cloth, for example, a rayon rubbing cloth 103, attached to its peripheral surface. The stage 100 is conveyed while rotating the rubbing roll 102 to rotate the rubbing roll 102 and the stage 10.
By carrying 0, rubbing is performed by rubbing the entire surface of the substrate with the rubbing cloth 103.

【0008】なお、ラビング布103は布表面にレーヨ
ンのフィラメント104を編み込んだものである。フィ
ラメント104は布表面から上方に伸び、その毛先が布
表面全体に一様に設けられる。フィラメント104は製
造時に毛先が所定の長さにカットされる。
The rubbing cloth 103 is made by weaving a rayon filament 104 on the cloth surface. The filament 104 extends upward from the cloth surface, and the tips of the filaments 104 are provided evenly over the cloth surface. The tips of the filaments 104 are cut into a predetermined length during manufacturing.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、1本のフィ
ラメント104が基板101表面と接触する面は、フィ
ラメント104の線径に等しく、液晶パネルを高精細化
するためには、フィラメント104の線径を十分に細く
する必要がある。
By the way, the surface of one filament 104 in contact with the surface of the substrate 101 is equal to the wire diameter of the filament 104, and in order to make the liquid crystal panel high definition, the wire diameter of the filament 104 is large. Need to be thin enough.

【0010】しかしながら、線径が細いフィラメント
は、糸の弾性力が低いことから、線径が細いフィラメン
トを用いたラビングロールでは、基板101に対する十
分な接触圧が得られないという問題点があった。
However, since the filament having a small wire diameter has a low elastic force, the rubbing roll using the filament having a small wire diameter has a problem that a sufficient contact pressure with respect to the substrate 101 cannot be obtained. .

【0011】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、ラビングロールを複数種類のフィラメント
を用いて構成することにより、ラビングロールに所望の
特性を付与することができる液晶装置の製造装置、製造
方法及び液晶装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and by forming a rubbing roll using a plurality of types of filaments, a liquid crystal device capable of imparting desired characteristics to the rubbing roll is manufactured. An object of the present invention is to provide a device, a manufacturing method, and a liquid crystal device.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶装置の
製造装置は、回転することによって液晶基板に形成され
た配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、周
面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントとし
て線長及び線径のうち少なくとも線径が異なる2種類以
上のフィラメントを用いたラビングロールを具備したこ
とを特徴とする。
A liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention is adapted to rub an alignment film formed on a liquid crystal substrate to perform a rubbing process by rotating, and is provided on a peripheral surface. A rubbing roll using two or more types of filaments having different wire lengths and wire diameters at least as wire diameters as the filaments to be woven into the rubbing cloth.

【0013】また、本発明に係る液晶装置の製造方法
は、回転することによって液晶基板に形成された配向膜
を擦ってラビング処理を行う工程であって、周面に設け
られたラビング布に編み込むフィラメントとして線長及
び線径のうち少なくとも線径が異なる2種類以上のフィ
ラメントを用いたラビングロールによってラビング処理
を行う工程を具備したことを特徴とする。
The method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a step of rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating to perform a rubbing process, and knitting on a rubbing cloth provided on a peripheral surface. The method is characterized by comprising a step of performing a rubbing treatment with a rubbing roll using at least two types of filaments having different wire diameters and wire diameters as filaments.

【0014】これらの構成によれば、細い線径のフィラ
メントによって微細画素に対応することができ、太い線
径のフィラメントによって異物の掃き出し効果が得られ
る。
According to these configurations, fine filaments can be used for fine pixels and filaments having a large diameter can sweep out foreign matter.

【0015】また、本発明に係る液晶装置の製造装置
は、回転することによって液晶基板に形成された配向膜
を擦ってラビング処理を行うものであって、周面に設け
られたラビング布に編み込むフィラメントとして線長及
び弾性のうち少なくとも弾性が異なる2種類以上のフィ
ラメントを用いたラビングロールを具備したことを特徴
とする。
Further, the apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is for rubbing the alignment film formed on the liquid crystal substrate by rotating and rubbing it, and knitting it on a rubbing cloth provided on the peripheral surface. A rubbing roll using two or more kinds of filaments having different elasticity at least among line length and elasticity is provided as a filament.

【0016】また、本発明に係る液晶装置の製造方法
は、回転することによって液晶基板に形成された配向膜
を擦ってラビング処理を行う工程であって、周面に設け
られたラビング布に編み込むフィラメントとして線長及
び弾性のうち少なくとも弾性が異なる2種類以上のフィ
ラメントを用いたラビングロールによってラビング処理
を行う工程を具備したことを特徴とする。
The method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a step of rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating to perform a rubbing treatment, and knitting on a rubbing cloth provided on a peripheral surface. The present invention is characterized by including a step of performing a rubbing treatment with a rubbing roll that uses two or more types of filaments having different elasticity at least among the filament length and the elasticity.

【0017】これらの構成によれば、低い弾性のフィラ
メントによって、基板段差に対する追随性を向上させる
ことができ、高い弾性のフィラメントによって剛性を向
上させることができる。
According to these configurations, the filament having low elasticity can improve the followability to the step of the substrate, and the filament having high elasticity can improve the rigidity.

【0018】また、本発明に係る液晶装置の製造装置
は、回転することによって液晶基板に形成された配向膜
を擦ってラビング処理を行うものであって、周面に設け
られたラビング布に編み込むフィラメントとして線径及
び弾性の少なくとも一方が異なる2種類以上のフィラメ
ントを用いたラビングロールを具備したことを特徴とす
る。
The liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention rubs the alignment film formed on the liquid crystal substrate by rotating to perform a rubbing process, and knits it on a rubbing cloth provided on the peripheral surface. A rubbing roll using two or more types of filaments having different wire diameters and / or elasticity as filaments is provided.

【0019】また、本発明に係る液晶装置の製造方法
は、回転することによって液晶基板に形成された配向膜
を擦ってラビング処理を行う工程であって、周面に設け
られたラビング布に編み込むフィラメントとして線径及
び弾性の少なくとも一方が異なる2種類以上のフィラメ
ントを用いたラビングロールによってラビング処理を行
う工程を具備したことを特徴とする。
Further, the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a step of rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating to perform a rubbing treatment, and knitting on a rubbing cloth provided on a peripheral surface. It is characterized by comprising a step of performing a rubbing treatment with a rubbing roll using two or more kinds of filaments having different wire diameters and / or elasticity as filaments.

【0020】これらの構成によれば、微細画素に対応す
ることができ、高い異物の掃き出し効果を得ることがで
き、基板段差への高い追随性を得ることができ、高い剛
性を得ることができる。
According to these structures, it is possible to deal with fine pixels, obtain a high effect of sweeping out foreign matters, obtain a high followability to the step of the substrate, and obtain a high rigidity. .

【0021】また、本発明に係る液晶装置の製造装置
は、回転することによって液晶基板に形成された配向膜
を擦ってラビング処理を行うものであって、周面に設け
られたラビング布に編み込むフィラメントとして線長、
線径及び弾性が異なる2種類以上のフィラメントを用い
たラビングロールを具備したことを特徴とする。
Further, the apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention rubs the alignment film formed on the liquid crystal substrate by rotating to perform a rubbing process, and knits it on a rubbing cloth provided on the peripheral surface. Wire length as filament,
A rubbing roll using two or more kinds of filaments having different wire diameters and elasticity is provided.

【0022】また、本発明に係る液晶装置の製造方法
は、回転することによって液晶基板に形成された配向膜
を擦ってラビング処理を行う工程であって、周面に設け
られたラビング布に編み込むフィラメントとして線長、
線径及び弾性が異なる2種類以上のフィラメントを用い
たラビングロールによってラビング処理を行う工程を具
備したことを特徴とする。
The method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a step of rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating to perform a rubbing process, and knitting on a rubbing cloth provided on a peripheral surface. Wire length as filament,
The method is characterized by comprising a step of performing a rubbing treatment with a rubbing roll using two or more kinds of filaments having different wire diameters and elasticity.

【0023】これらの構成によれば、細く長いフィラメ
ントによってラビングを行うことで微細画素に対応さ
せ、太く短いフィラメントによって異物の掃き出し効果
を得、細く弾性が低いフィラメントを太く弾性が高いフ
ィラメントで支持することによって剛性を向上させるこ
とができる。
According to these structures, rubbing with a thin and long filament corresponds to a fine pixel, a foreign substance is swept out with a thick and short filament, and a thin and low elastic filament is supported by a thick and high elastic filament. Thereby, the rigidity can be improved.

【0024】上記液晶装置の製造装置又は上記液晶装置
の製造方法によってラビング処理されたことを特徴とす
る。
A rubbing treatment is performed by the above-mentioned liquid crystal device manufacturing apparatus or the above liquid crystal device manufacturing method.

【0025】このような構成によれば、所望のラビング
特性が得られるので、電気光学特性に優れている。
According to this structure, a desired rubbing characteristic can be obtained, so that the electro-optical characteristic is excellent.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について詳細に説明する。図1は本発明の第1
の実施の形態に係る液晶装置の製造装置に採用されるラ
ビング装置及びラビングロールを模式的に示す説明図で
ある。図2は液晶装置の画素領域を構成する複数の画素
における各種素子、配線等の等価回路図である。図3は
TFT基板等の素子基板をその上に形成された各構成要
素と共に対向基板側から見た平面図であり、図4は素子
基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工
程終了後の液晶装置を、図3のH−H'線の位置で切断
して示す断面図である。また、図5は液晶装置を詳細に
示す断面図である。図6はパネル組立工程を示すフロー
チャートである。また、図7はフィラメントの種類とそ
の利点及び欠点を説明するための図表である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows the first of the present invention.
FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing a rubbing device and a rubbing roll adopted in the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, and the like in a plurality of pixels forming a pixel region of a liquid crystal device. FIG. 3 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate as viewed from the counter substrate side together with the constituent elements formed thereon, and FIG. 4 is an assembly process for bonding the element substrate and the counter substrate to enclose liquid crystal. It is sectional drawing which cuts and shows the liquid crystal device after completion | finish in the position of the HH 'line of FIG. FIG. 5 is a sectional view showing the liquid crystal device in detail. FIG. 6 is a flowchart showing the panel assembly process. FIG. 7 is a table for explaining the types of filaments and their advantages and disadvantages.

【0027】本実施の形態は複数種類のフィラメントを
用い、ラビングロールに所望の特性を付与するための役
割を各フィラメントに分担させると共に、1種類のフィ
ラメントだけでは得られない相乗的な効果を得るように
したものである。
In the present embodiment, a plurality of types of filaments are used, and the role of imparting desired characteristics to the rubbing roll is shared by each filament, and a synergistic effect which cannot be obtained by only one type of filament is obtained. It was done like this.

【0028】先ず、図2乃至図5を参照して、ラビング
処理が施された液晶パネルの構造について説明する。
First, the structure of the liquid crystal panel that has been rubbed will be described with reference to FIGS.

【0029】液晶パネルは、図3及び図4に示すよう
に、TFT基板等の素子基板10と対向基板20との間
に液晶50を封入して構成される。素子基板10上には
画素を構成する画素電極等がマトリクス状に配置され
る。図2は画素を構成する素子基板10上の素子の等価
回路を示している。
As shown in FIGS. 3 and 4, the liquid crystal panel is constructed by enclosing a liquid crystal 50 between an element substrate 10 such as a TFT substrate and a counter substrate 20. Pixel electrodes that form pixels are arranged in a matrix on the element substrate 10. FIG. 2 shows an equivalent circuit of the elements on the element substrate 10 which form the pixels.

【0030】図2に示すように、画素領域においては、
複数本の走査線3aと複数本のデータ線6aとが交差す
るように配線され、走査線3aとデータ線6aとで区画
された領域に画素電極9aがマトリクス状に配置され
る。そして、走査線3aとデータ線6aの各交差部分に
対応してTFT30が設けられ、このTFT30に画素
電極9aが接続される。
As shown in FIG. 2, in the pixel area,
The plurality of scanning lines 3a and the plurality of data lines 6a are arranged so as to intersect with each other, and the pixel electrodes 9a are arranged in a matrix in a region partitioned by the scanning lines 3a and the data lines 6a. A TFT 30 is provided corresponding to each intersection of the scanning line 3a and the data line 6a, and the pixel electrode 9a is connected to this TFT 30.

【0031】TFT30は走査線3aのON信号によっ
てオンとなり、これにより、データ線6aに供給された
画像信号が画素電極9aに供給される。この画素電極9
aと対向基板20に設けられた対向電極21との間の電
圧が液晶50に印加される。また、画素電極9aと並列
に蓄積容量70が設けられており、蓄積容量70によっ
て、画素電極9aの電圧はソース電圧が印加された時間
よりも例えば3桁も長い時間の保持が可能となる。蓄積
容量70によって、電圧保持特性が改善され、コントラ
スト比の高い画像表示が可能となる。
The TFT 30 is turned on by the ON signal of the scanning line 3a, whereby the image signal supplied to the data line 6a is supplied to the pixel electrode 9a. This pixel electrode 9
A voltage between a and the counter electrode 21 provided on the counter substrate 20 is applied to the liquid crystal 50. Further, a storage capacitor 70 is provided in parallel with the pixel electrode 9a, and the storage capacitor 70 enables the voltage of the pixel electrode 9a to be retained for a time that is, for example, three digits longer than the time when the source voltage is applied. The storage capacitor 70 improves the voltage holding characteristic and enables image display with a high contrast ratio.

【0032】図5は、一つの画素に着目した液晶パネル
の模式的断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view of a liquid crystal panel focusing on one pixel.

【0033】ガラスや石英等の素子基板10には、溝1
1が形成されている。この溝11上に遮光膜12及び第
1層間絶縁膜13を介してLDD構造をなすTFT30
が形成されている。溝11によって、TFT基板の液晶
50との境界面が平坦化される。
The groove 1 is formed in the element substrate 10 such as glass or quartz.
1 is formed. A TFT 30 having an LDD structure is formed on the groove 11 via a light shielding film 12 and a first interlayer insulating film 13.
Are formed. The groove 11 flattens the boundary surface of the TFT substrate with the liquid crystal 50.

【0034】TFT30は、チャネル領域1a、ソース
領域1d、ドレイン領域1eが形成された半導体層に絶
縁膜2を介してゲート電極をなす走査線3aが設けられ
てなる。なお、遮光膜12は、TFT30の形成領域に
対応する領域、後述するデータ線6a及び走査線3a等
の形成領域、即ち各画素の非表示領域に対応した領域に
形成されている。この遮光膜12によって、入射光がT
FT30のチャネル領域1a、ソース領域1d及びドレ
イン領域1eに入射することが防止される。
The TFT 30 comprises a scanning line 3a forming a gate electrode via an insulating film 2 in a semiconductor layer in which a channel region 1a, a source region 1d and a drain region 1e are formed. The light shielding film 12 is formed in a region corresponding to the formation region of the TFT 30, a formation region of the data lines 6a and the scanning lines 3a described later, that is, a region corresponding to the non-display region of each pixel. The light-shielding film 12 causes the incident light to reach T
Incident on the channel region 1a, the source region 1d, and the drain region 1e of the FT 30 is prevented.

【0035】TFT30上には第2層間絶縁膜14が積
層され、第2層間絶縁膜14上には中間導電層15が形
成されている。中間導電層15上には誘電体膜17を介
して容量線18が対向配置されている。容量線18は、
容量層と遮光層とからなり、中間導電層15との間で蓄
積容量を構成すると共に、光の内部反射を防止する遮光
機能を有する。半導体層に比較的近接した位置に中間導
電層15を形成しており、光の乱反射を効率よく防止す
ることができる。
A second interlayer insulating film 14 is laminated on the TFT 30, and an intermediate conductive layer 15 is formed on the second interlayer insulating film 14. Capacitor lines 18 are arranged on the intermediate conductive layer 15 with a dielectric film 17 interposed therebetween. The capacitance line 18 is
It is composed of a capacitance layer and a light-shielding layer, constitutes a storage capacitor with the intermediate conductive layer 15, and has a light-shielding function of preventing internal reflection of light. Since the intermediate conductive layer 15 is formed at a position relatively close to the semiconductor layer, diffused reflection of light can be efficiently prevented.

【0036】容量線18上には第3層間絶縁膜19が配
置され、第3層間絶縁膜19上にはデータ線6aが積層
される。データ線6aは、第3及び第2層間絶縁膜1
8,14を貫通するコンタクトホール24a,24bを
介してソース領域1dに電気的に接続される。データ線
6a上には第4層間絶縁膜25を介して画素電極9aが
積層されている。画素電極9aは、第4〜第2層間絶縁
膜25,19,14を貫通するコンタクトホール26
a,26bにより容量線18を介してドレイン領域1e
に電気的に接続される。画素電極9a上にはポリイミド
系の高分子樹脂からなる配向膜16が積層され、図1の
ラビングロールを用いて所定方向にラビング処理されて
いる。
A third interlayer insulating film 19 is arranged on the capacitance line 18, and a data line 6a is laminated on the third interlayer insulating film 19. The data line 6a is connected to the third and second interlayer insulating films 1
It is electrically connected to the source region 1d through the contact holes 24a and 24b penetrating through 8 and 14. A pixel electrode 9a is stacked on the data line 6a with a fourth interlayer insulating film 25 interposed therebetween. The pixel electrode 9a has a contact hole 26 penetrating the fourth to second interlayer insulating films 25, 19, and 14.
a, 26b through the capacitance line 18 to the drain region 1e
Electrically connected to. An alignment film 16 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the pixel electrode 9a, and is rubbed in a predetermined direction by using the rubbing roll shown in FIG.

【0037】走査線3a(ゲート電極)にON信号が供
給されることで、チャネル領域1aが導通状態となり、
ソース領域1dとドレイン領域1eとが接続されて、デ
ータ線6aに供給された画像信号が画素電極9aに与え
られる。
When the ON signal is supplied to the scanning line 3a (gate electrode), the channel region 1a becomes conductive,
The source region 1d and the drain region 1e are connected to each other, and the image signal supplied to the data line 6a is applied to the pixel electrode 9a.

【0038】一方、対向基板20には、対向電極(共通
電極)21が基板20全面に亘って形成されている。対
向電極21上にポリイミド系の高分子樹脂からなる配向
膜22が積層され、図1のラビングロールを用いて所定
方向にラビング処理されている。
On the other hand, on the counter substrate 20, a counter electrode (common electrode) 21 is formed over the entire surface of the substrate 20. An alignment film 22 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the counter electrode 21, and is rubbed in a predetermined direction using the rubbing roll shown in FIG.

【0039】そして、素子基板10と対向基板20との
間に液晶50が封入されている。これにより、TFT3
0は所定のタイミングでデータ線6aから供給される画
像信号を画素電極9aに書き込む。書き込まれた画素電
極9aと対向電極21との電位差に応じて液晶50の分
子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示
を可能にする。
Liquid crystal 50 is sealed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. As a result, the TFT3
0 writes the image signal supplied from the data line 6a to the pixel electrode 9a at a predetermined timing. Depending on the written potential difference between the pixel electrode 9a and the counter electrode 21, the orientation or order of the molecular assembly of the liquid crystal 50 is changed to modulate light and enable gradation display.

【0040】図3及び図4に示すように、対向基板20
には表示領域を区画する額縁としての遮光膜42が設け
られている。遮光膜42は例えば遮光膜23と同一又は
異なる遮光性材料によって形成されている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the counter substrate 20
Is provided with a light shielding film 42 as a frame that divides the display area. The light shielding film 42 is made of, for example, the same or different light shielding material as the light shielding film 23.

【0041】遮光膜42の外側の領域に液晶を封入する
シール材41が、素子基板10と対向基板20間に形成
されている。シール材41は対向基板20の輪郭形状に
略一致するように配置され、素子基板10と対向基板2
0を相互に固着する。シール材41は、素子基板10の
1辺の一部において欠落しており、貼り合わされた素子
基板10及び対向基板20相互の間隙には、液晶50を
注入するための液晶注入口78が形成される。液晶注入
口78より液晶が注入された後、液晶注入口78を封止
材79で封止するようになっている。
A sealing material 41 for enclosing the liquid crystal in a region outside the light shielding film 42 is formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The sealing material 41 is arranged so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 20, and the element substrate 10 and the counter substrate 2 are arranged.
Stick 0 to each other. The sealing material 41 is missing in a part of one side of the element substrate 10, and a liquid crystal injection port 78 for injecting the liquid crystal 50 is formed in a gap between the element substrate 10 and the counter substrate 20 which are bonded to each other. It After the liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 78, the liquid crystal injection port 78 is sealed with a sealing material 79.

【0042】素子基板10のシール材41の外側の領域
には、データ線駆動回路61及び実装端子62が素子基
板10の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接
する2辺に沿って、走査線駆動回路63が設けられてい
る。素子基板10の残る一辺には、画面表示領域の両側
に設けられた走査線駆動回路63間を接続するための複
数の配線64が設けられている。また、対向基板20の
コーナー部の少なくとも1箇所においては、素子基板1
0と対向基板20との間を電気的に導通させるための導
通材65が設けられている。
A data line driving circuit 61 and mounting terminals 62 are provided along one side of the element substrate 10 in a region outside the sealing material 41 of the element substrate 10, and along two sides adjacent to the one side. , A scanning line drive circuit 63 is provided. A plurality of wirings 64 for connecting the scanning line drive circuits 63 provided on both sides of the screen display area are provided on the remaining side of the element substrate 10. The element substrate 1 is provided at least at one corner of the counter substrate 20.
A conductive material 65 is provided to electrically connect 0 and the counter substrate 20.

【0043】次に、図6を参照してパネル組立工程につ
いて説明する。素子基板10(TFT基板)と対向基板
20とは、別々に製造される。ステップS1 ,S6 で夫
々用意されたTFT基板及び対向基板20に対して、次
のステップS2 ,S7 では、配向膜16,22となるポ
リイミド(PI)を塗布する。次に、ステップS3 ,S
8 において、素子基板10表面の配向膜16及び対向基
板20表面の配向膜22に対して、ラビング処理を施
す。このラビング処理は図1のラビングロールを用いて
行われる。
Next, the panel assembling process will be described with reference to FIG. The element substrate 10 (TFT substrate) and the counter substrate 20 are manufactured separately. Polyimide (PI) to be the alignment films 16 and 22 is applied to the TFT substrate and the counter substrate 20 prepared in steps S1 and S6, respectively, in the next steps S2 and S7. Next, steps S3 and S
In 8, the rubbing process is performed on the alignment film 16 on the surface of the element substrate 10 and the alignment film 22 on the surface of the counter substrate 20. This rubbing process is performed using the rubbing roll shown in FIG.

【0044】次に、ステップS4 ,S9 において、洗浄
工程を行う。この洗浄工程は、ラビング処理によって生
じた塵埃を除去するためのものである。洗浄工程が終了
すると、ステップS5 において、シール材41(図2参
照)を形成する。次に、ステップS10で、素子基板10
と対向基板20とを貼り合わせ、ステップS11でアライ
メントを施しながら圧着し、シール材41を硬化させ
る。最後に、ステップS12において、シール材41の一
部に設けた切り欠きから液晶を封入し、切り欠きを塞い
で液晶を封止する。
Next, in steps S4 and S9, a cleaning process is performed. This cleaning step is for removing dust generated by the rubbing process. When the cleaning process is completed, the sealing material 41 (see FIG. 2) is formed in step S5. Next, in step S10, the element substrate 10
And the counter substrate 20 are attached to each other, and pressure is applied while performing alignment in step S11 to cure the sealing material 41. Finally, in step S12, the liquid crystal is sealed from the notch provided in a part of the sealing material 41, and the notch is closed to seal the liquid crystal.

【0045】本実施の形態においては、図1(a)に示
すラビング装置によってステップS3 ,S8 のラビング
処理が行われる。
In the present embodiment, the rubbing process shown in FIG. 1A carries out the rubbing process in steps S3 and S8.

【0046】図1(a)に示すラビング装置は、図8の
ラビングロール102に代えて図1(b)のラビングロ
ール81を採用した点が図8のラビング装置と異なる。
なお、図1は形状を模式的に示したものであり、図1
(a),(b)相互間でロール径等についての相関はな
い。図1(a)はステージ進行方向に直交する方向から
見たものであり、図1(b)はステージ進行方向から見
たものである。
The rubbing apparatus shown in FIG. 1A differs from the rubbing apparatus shown in FIG. 8 in that the rubbing roller 81 shown in FIG. 1B is used instead of the rubbing roller 102 shown in FIG.
Note that FIG. 1 schematically shows the shape.
There is no correlation in roll diameter etc. between (a) and (b). FIG. 1A is viewed from a direction orthogonal to the stage moving direction, and FIG. 1B is viewed from the stage moving direction.

【0047】図1(a),(b)において、ラビングロ
ール81は、円柱形状に構成され、円中心を軸芯85に
して周方向に回動自在である。ラビングロール81の周
面には、ベルベット状の生地、例えばレーヨンで形成さ
れたラビング布82が巻かれている。
In FIGS. 1A and 1B, the rubbing roll 81 is formed in a cylindrical shape and is rotatable in the circumferential direction with the center of the circle as the axis 85. On the peripheral surface of the rubbing roll 81, a velvet cloth, for example, a rubbing cloth 82 formed of rayon is wound.

【0048】本実施の形態においては、ラビング布82
は、布地に2種類のフィラメント83,84が編み込ま
れて構成されており、フィラメント83,84は、夫々
所定の長さだけラビング布82の表面から伸びている。
In the present embodiment, the rubbing cloth 82
Is formed by weaving two kinds of filaments 83 and 84 into a cloth, and the filaments 83 and 84 extend from the surface of the rubbing cloth 82 by a predetermined length.

【0049】図7はフィラメントを線径、線長及び弾性
を考慮して分類し、夫々、特徴、利点及び欠点を示して
いる。図7に示すように、線径が太いフィラメントは高
弾性を得やすいという特徴を有する。一方、線径が細い
フィラメントは、微細画素への対応が可能であるという
特徴を有する。
FIG. 7 classifies filaments in consideration of wire diameter, wire length and elasticity, and shows characteristics, advantages and disadvantages, respectively. As shown in FIG. 7, a filament having a large wire diameter has a characteristic that it is easy to obtain high elasticity. On the other hand, a filament having a small wire diameter has a feature that it can be applied to fine pixels.

【0050】本実施の形態においては、微細画素への対
応を可能にするために、線径が細いフィラメントを用い
る必要がある。しかし、線径が細いフィラメントは十分
な接触圧を得にくいという欠点を有しているので、この
欠点を相殺するために、弾性が高く、十分な接触圧を得
やすいフィラメント、即ち、線径が太いフィラメントを
採用する。図1(a),(b)に示すラビングロール8
1のフィラメント83は、線径が細いフィラメントであ
り、フィラメント84は線径が太いフィラメントであ
る。
In the present embodiment, it is necessary to use a filament having a small wire diameter in order to be able to deal with fine pixels. However, a filament having a small wire diameter has a drawback that it is difficult to obtain a sufficient contact pressure. Therefore, in order to offset this defect, a filament having high elasticity and easily obtaining a sufficient contact pressure, that is, a wire diameter is Adopt a thick filament. Rubbing roll 8 shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b)
The filament 83 of No. 1 is a filament having a small wire diameter, and the filament 84 is a filament having a large wire diameter.

【0051】また、微細画素に対応するためには、主に
液晶基板101の表面を擦るフィラメントとして線径が
細いフィラメントを用いた方がよい。そこで、線径が細
いフィラメント83としては、線長が長いものを使用す
る。逆に、線径が太いフィラメント84としては、線長
が短いものを使用して、異物の掃き出し効果の特徴を利
用する。
Further, in order to deal with fine pixels, it is preferable to use a filament having a small wire diameter as a filament mainly rubbing the surface of the liquid crystal substrate 101. Therefore, a filament having a long wire length is used as the filament 83 having a small wire diameter. On the contrary, as the filament 84 having a large wire diameter, a filament having a short wire length is used to utilize the feature of the foreign matter sweeping effect.

【0052】更に、線径が太いフィラメント84として
高弾性のもの用い、線径が細いフィラメント83として
低弾性のものを用いる。そしてこれらのフィラメント8
3,84を水平及び垂直方向に交互に配置する。これに
より、線径が細いフィラメント83につきやすい折れ癖
を、線径が太いフィラメント84によって支え、全体と
して剛性を維持するようになっている。
Further, a high elasticity filament is used as the filament 84 having a large wire diameter, and a low elasticity filament is used as the filament 83 having a small wire diameter. And these filaments 8
3, 84 are staggered horizontally and vertically. As a result, the bending tendency of the filament 83 having a small wire diameter is easily supported by the filament 84 having a large wire diameter, and the rigidity as a whole is maintained.

【0053】ステージ100は上面に基板101が載置
されるようになっている。ステージ100上に載置され
る基板101は、ラビング処理前の上述した素子基板1
0又は対向基板20に相当する。ラビングロール81と
ステージ100とは、ラビング布82のフィラメント8
3,84による基板101へのラビング圧が所定値にな
るように、垂直方向の位置決めが行われている。ステー
ジ100は、基板101の表面に平行な所定方向に移動
自在であり、ステージ100の移動路、即ち、基板10
1の搬送路の上方に、ラビングロール81が配置される
ようになっている。
The substrate 101 is mounted on the upper surface of the stage 100. The substrate 101 mounted on the stage 100 is the above-described element substrate 1 before the rubbing process.
0 or the counter substrate 20. The rubbing roll 81 and the stage 100 are the filament 8 of the rubbing cloth 82.
The vertical positioning is performed so that the rubbing pressure applied to the substrate 101 by 3, 84 has a predetermined value. The stage 100 is movable in a predetermined direction parallel to the surface of the substrate 101, and the moving path of the stage 100, that is, the substrate 10
A rubbing roll 81 is arranged above the first transport path.

【0054】ラビング時には、ラビングロール81は、
ラビング布82が基板101に接する部分では、ステー
ジ100の進行方向の逆方向となるように回転する。基
板101がラビング布82のフィラメント83,84に
所定の圧力で接しながらその表面全体が擦られるよう
に、ラビングロール81を回転させながら、ステージ1
00を搬送する。
During rubbing, the rubbing roll 81
At the portion where the rubbing cloth 82 is in contact with the substrate 101, the rubbing cloth 82 rotates in the direction opposite to the traveling direction of the stage 100. The stage 1 is rotated while rotating the rubbing roll 81 so that the substrate 101 is in contact with the filaments 83 and 84 of the rubbing cloth 82 at a predetermined pressure and the entire surface thereof is rubbed.
00 is conveyed.

【0055】次に、このように構成された実施の形態の
作用について説明する。
Next, the operation of the embodiment thus constructed will be described.

【0056】先ず、配向膜となるポリイミドが塗布され
た状態の素子基板10又は対向基板20に相当する基板
101をステージ100上に載置する。この状態で、ス
テージ100をラビングロール81側に搬送する。ま
た、ラビングロール81を回転させる。ステージ100
がラビングロール81の底部近傍に到達すると、ラビン
グ布82のフィラメント83,84が基板101に接触
する。更に、ラビングロール81の回転及びステージ1
00の搬送されることによって、フィラメント83,8
4は、基板101の表面を擦りながら進行する。こうし
て、基板101の全面がラビング処理される。
First, the substrate 101 corresponding to the element substrate 10 or the counter substrate 20 in a state where the polyimide serving as the alignment film is applied is placed on the stage 100. In this state, the stage 100 is conveyed to the rubbing roll 81 side. Further, the rubbing roll 81 is rotated. Stage 100
When reaches the vicinity of the bottom of the rubbing roll 81, the filaments 83 and 84 of the rubbing cloth 82 come into contact with the substrate 101. Further, the rotation of the rubbing roll 81 and the stage 1
00, the filaments 83, 8
Step 4 proceeds while rubbing the surface of the substrate 101. Thus, the entire surface of the substrate 101 is rubbed.

【0057】この場合には、線長が長いフィラメント8
3が主に液晶基板101の表面を擦ってラビング処理を
行い、線長が短いフィラメント84は、フィラメント8
3が基板101表面を擦ることによって発生した異物を
掃き出して除去する。線径が細いフィラメント83によ
って微細画素に対応し、しかも、毛先が基板101表面
の段差等の形状の変化に対応して画素内の細部まで到達
するので、微細画素の均一ラビングが可能である。ま
た、線径が太く弾性が高いフィラメント84が低弾性の
細いフィラメント83を支持するので、全体として剛性
を維持することができる。
In this case, the filament 8 having a long wire length
3 mainly rubs the surface of the liquid crystal substrate 101 to perform rubbing treatment, and the filament 84 having a short line length is the filament 8
The foreign matter generated by rubbing the surface of the substrate 101 by the reference numeral 3 is swept and removed. The filament 83 having a small wire diameter corresponds to a fine pixel, and moreover, the bristles reach the details in the pixel in response to a change in shape such as a step on the surface of the substrate 101, so that uniform rubbing of the fine pixel is possible. . Further, since the filament 84 having a large wire diameter and high elasticity supports the thin filament 83 having a low elasticity, the rigidity as a whole can be maintained.

【0058】このように本実施の形態においては、ラビ
ングロール81を細く柔らかく長いフィラメント83と
太く高弾性の短いフィラメント84とを組み合わせて構
成していることから、細いフィラメント83による微細
画素の均一ラビング、太いフィラメント84の異物掃き
出し効果を同時に得ると共に、太いフィラメント84が
細いフィラメント83を支えることにより剛性維持とい
う、相乗効果を得ることができる。
As described above, in the present embodiment, since the rubbing roll 81 is constituted by combining the thin and soft long filament 83 and the thick and high elastic short filament 84, the thin filament 83 uniformly rubs fine pixels. It is possible to obtain the synergetic effect that the thick filament 84 simultaneously supports the foreign matter sweeping-out effect and the thick filament 84 supports the thin filament 83 to maintain rigidity.

【0059】なお、2種類のフィラメント83,84を
水平及び垂直方向に交互に配置する例について説明した
が、配置はこれに限定されるものではない。例えば、2
種類のフィラメントをラビングロール81の回転方向に
均一に配置するだけでもよい。また、ラビングを施す液
晶基板の用途に応じて、混合割合や面積比を適宜設定す
るようにしてもよい。
An example in which the two types of filaments 83 and 84 are alternately arranged in the horizontal and vertical directions has been described, but the arrangement is not limited to this. For example, 2
It is also possible to simply arrange the types of filaments uniformly in the rotation direction of the rubbing roll 81. Further, the mixing ratio and the area ratio may be appropriately set depending on the use of the liquid crystal substrate to be rubbed.

【0060】また、上記実施の形態においては、単体の
液晶基板をステージ上に載置してラビング処理を行う装
置に適用する例を説明したが、対向基板を複数パレット
上に配置してラビング処理を行う装置にも適用可能であ
ることは明らかである。また、ラビング処理のためにス
テージ100を水平方向に移動させたが、ラビングロー
ル81側を移動させるようにしてもよい。
Further, in the above-mentioned embodiment, the example in which the single liquid crystal substrate is placed on the stage and the rubbing treatment is applied is explained, but the counter substrate is arranged on a plurality of pallets and the rubbing treatment is carried out. Obviously, it can be applied to a device for performing. Although the stage 100 is moved in the horizontal direction for the rubbing process, it may be moved on the rubbing roll 81 side.

【0061】次に、本発明の第2の実施の形態について
説明する。本実施の形態は組み合わせるフィラメントの
種類が異なるラビング布を用いた点が第1の実施の形態
と異なるのみであり、他の構成は図1と同様である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. This embodiment is different from the first embodiment only in that a rubbing cloth having different kinds of filaments to be combined is used, and the other configurations are the same as those in FIG.

【0062】本実施の形態においては、下記表1に示す
2種類のフィラメントa,bを採用する。
In this embodiment, two types of filaments a and b shown in Table 1 below are adopted.

【0063】 このように構成された実施の形態においては、フィラメ
ントaによってラビング時の異物掃き出し効果が得られ
る。また、フィラメントbによって微細画素に十分なラ
ビングを行うことができる。また、フィラメントbの毛
先がラビング方向に流れることから、ラビング基板との
見かけの接触面積が増大する。更に、フィラメントbが
フィラメントaを支えるため、十分な接触圧を得ること
ができる。
[0063] In the embodiment configured as described above, the foreign matter sweeping-out effect at the time of rubbing can be obtained by the filament a. Further, the filament b can sufficiently rub the fine pixels. Moreover, since the tips of the filaments b flow in the rubbing direction, the apparent contact area with the rubbing substrate increases. Furthermore, since the filament b supports the filament a, a sufficient contact pressure can be obtained.

【0064】このように本実施の形態においても、1種
類のフィラメントを用いただけでは得られない種々の特
性をラビングロールに付与することができる。
As described above, also in this embodiment, the rubbing roll can be provided with various characteristics which cannot be obtained by using only one kind of filament.

【0065】次に、本発明の第3の実施の形態について
説明する。本実施の形態も組み合わせるフィラメントの
種類が異なるラビング布を用いた点が第1の実施の形態
と異なるのみであり、他の構成は図1と同様である。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. The present embodiment is different from the first embodiment only in that a rubbing cloth having a different type of filament to be combined is used, and other configurations are the same as those in FIG.

【0066】本実施の形態においては、下記表2に示す
2種類のフィラメントc,dを採用する。
In this embodiment, two types of filaments c and d shown in Table 2 below are adopted.

【0067】 このように構成された実施の形態においては、フィラメ
ントcの剛性が高いため、寿命が長くなる。フィラメン
トcで追随できない段差部をフィラメントdでラビング
することができる。また、フィラメントcの剛性が高い
ため、静電気等の外力による凝集を防ぐことができる。
[0067] In the embodiment configured as described above, the rigidity of the filament c is high, and thus the life is extended. The step portion that cannot be followed by the filament c can be rubbed by the filament d. In addition, since the filament c has high rigidity, it is possible to prevent aggregation due to external force such as static electricity.

【0068】このように本実施の形態においても、1種
類のフィラメントを用いただけでは得られない種々の特
性をラビングロールに付与することができる。
As described above, also in this embodiment, the rubbing roll can be provided with various characteristics which cannot be obtained by using only one kind of filament.

【0069】次に、本発明の第4の実施の形態について
説明する。本実施の形態も組み合わせるフィラメントの
種類が異なるラビング布を用いた点が第1の実施の形態
と異なるのみであり、他の構成は図1と同様である。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. The present embodiment is different from the first embodiment only in that a rubbing cloth having a different type of filament to be combined is used, and other configurations are the same as those in FIG.

【0070】本実施の形態においては、下記表3に示す
2種類のフィラメントe,fを採用する。
In this embodiment, two types of filaments e and f shown in Table 3 below are adopted.

【0071】 このように構成された実施の形態においては、フィラメ
ントeの毛先がラビング方向に流れるので、見かけの接
触面積を増大させることができる。フィラメントeで追
随できない段差部をフィラメントfでラビングすること
ができる。フィラメントeの剛性が低いため、配向膜へ
のダメージを少なくすることができる。
[0071] In the embodiment configured in this manner, the tips of the filaments e flow in the rubbing direction, so that the apparent contact area can be increased. The step portion that cannot be followed by the filament e can be rubbed by the filament f. Since the filament e has a low rigidity, damage to the alignment film can be reduced.

【0072】このように本実施の形態においても、1種
類のフィラメントを用いただけでは得られない種々の特
性をラビングロールに付与することができる。
As described above, also in this embodiment, the rubbing roll can be provided with various characteristics which cannot be obtained by using only one kind of filament.

【0073】次に、本発明の第5の実施の形態について
説明する。本実施の形態も組み合わせるフィラメントの
種類が異なるラビング布を用いた点が第1の実施の形態
と異なるのみであり、他の構成は図1と同様である。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. The present embodiment is different from the first embodiment only in that a rubbing cloth having a different type of filament to be combined is used, and other configurations are the same as those in FIG.

【0074】本実施の形態においては、下記表4に示す
2種類のフィラメントg,hを採用する。
In this embodiment, two types of filaments g and h shown in Table 4 below are adopted.

【0075】 このように構成された実施の形態においては、基板とロ
ールとの距離を変えることで接触圧を制御することがで
きる。なお、距離が小さいほど接触圧を高くすることが
できる。
[0075] In the embodiment configured as described above, the contact pressure can be controlled by changing the distance between the substrate and the roll. The contact pressure can be increased as the distance is reduced.

【0076】このように本実施の形態においても、1種
類のフィラメントを用いただけでは得られない種々の特
性をラビングロールに付与することができる。
As described above, also in this embodiment, the rubbing roll can be provided with various characteristics which cannot be obtained by using only one kind of filament.

【0077】[0077]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ラ
ビングロールを複数種類のフィラメントを用いて構成す
ることにより、ラビングロールに所望の特性を付与する
ことができるという効果を有する。
As described above, according to the present invention, by forming a rubbing roll using a plurality of types of filaments, it is possible to impart desired characteristics to the rubbing roll.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る液晶装置の製
造装置に採用されるラビング装置及びラビングロールを
模式的に示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory view schematically showing a rubbing device and a rubbing roll adopted in a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】液晶装置の画素領域を構成する複数の画素にお
ける各種素子、配線等の等価回路図。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, and the like in a plurality of pixels forming a pixel region of a liquid crystal device.

【図3】TFT基板等の素子基板をその上に形成された
各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。
FIG. 3 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate as viewed from the counter substrate side together with the constituent elements formed thereon.

【図4】素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封
入する組立工程終了後の液晶装置を、図4のH−H'線
の位置で切断して示す断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the liquid crystal device after the assembly process in which the element substrate and the counter substrate are attached to each other and the liquid crystal is sealed, taken along line HH ′ in FIG. 4;

【図5】液晶装置を詳細に示す断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a liquid crystal device in detail.

【図6】パネル組立工程を示すフローチャート。FIG. 6 is a flowchart showing a panel assembly process.

【図7】フィラメントの種類とその利点及び欠点を説明
するための図表。
FIG. 7 is a chart for explaining the types of filaments and their advantages and disadvantages.

【図8】ラビング装置を示す模式図。FIG. 8 is a schematic view showing a rubbing device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

81…ラビングロール 82…ラビング布 83,84…フィラメント 100…ステージ 101…基板 81 ... Rubbing roll 82 ... rubbing cloth 83, 84 ... Filament 100 ... stage 101 ... Substrate

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転することによって液晶基板に形成さ
れた配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、
周面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントと
して線長及び線径のうち少なくとも線径が異なる2種類
以上のフィラメントを用いたラビングロールを具備した
ことを特徴とする液晶装置の製造装置。
1. A rubbing treatment is performed by rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating.
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, comprising a rubbing roll using two or more kinds of filaments having different wire lengths and diameters as filaments to be woven into a rubbing cloth provided on a peripheral surface.
【請求項2】 回転することによって液晶基板に形成さ
れた配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、
周面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントと
して線長及び弾性のうち少なくとも弾性が異なる2種類
以上のフィラメントを用いたラビングロールを具備した
ことを特徴とする液晶装置の製造装置。
2. A rubbing process is performed by rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating.
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a rubbing roll using two or more kinds of filaments having at least different elasticity in line length and elasticity as filaments to be woven into a rubbing cloth provided on a peripheral surface.
【請求項3】 回転することによって液晶基板に形成さ
れた配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、
周面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントと
して線径及び弾性の少なくとも一方が異なる2種類以上
のフィラメントを用いたラビングロールを具備したこと
を特徴とする液晶装置の製造装置。
3. A rubbing process is performed by rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating.
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, comprising a rubbing roll using two or more kinds of filaments having different wire diameters and elasticity as filaments to be woven into a rubbing cloth provided on a peripheral surface.
【請求項4】 回転することによって液晶基板に形成さ
れた配向膜を擦ってラビング処理を行うものであって、
周面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントと
して線長、線径及び弾性が異なる2種類以上のフィラメ
ントを用いたラビングロールを具備したことを特徴とす
る液晶装置の製造装置。
4. A rubbing process is performed by rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating.
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, comprising a rubbing roll using two or more kinds of filaments having different wire lengths, wire diameters and elasticity as filaments to be woven into a rubbing cloth provided on a peripheral surface.
【請求項5】 回転することによって液晶基板に形成さ
れた配向膜を擦ってラビング処理を行う工程であって、
周面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントと
して線長及び線径のうち少なくとも線径が異なる2種類
以上のフィラメントを用いたラビングロールによってラ
ビング処理を行う工程を具備したことを特徴とする液晶
装置の製造方法。
5. A step of rubbing by rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating,
A liquid crystal device comprising a rubbing process using a rubbing roll that uses two or more types of filaments having different wire diameters and diameters as filaments to be woven into a rubbing cloth provided on the peripheral surface. Manufacturing method.
【請求項6】 回転することによって液晶基板に形成さ
れた配向膜を擦ってラビング処理を行う工程であって、
周面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントと
して線長及び弾性のうち少なくとも弾性が異なる2種類
以上のフィラメントを用いたラビングロールによってラ
ビング処理を行う工程を具備したことを特徴とする液晶
装置の製造方法。
6. A step of rubbing by rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating,
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising a step of performing a rubbing process using a rubbing roll that uses two or more types of filaments having at least different elasticity among wire length and elasticity as filaments to be woven into a rubbing cloth provided on a peripheral surface. Method.
【請求項7】 回転することによって液晶基板に形成さ
れた配向膜を擦ってラビング処理を行う工程であって、
周面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントと
して線径及び弾性の少なくとも一方が異なる2種類以上
のフィラメントを用いたラビングロールによってラビン
グ処理を行う工程を具備したことを特徴とする液晶装置
の製造方法。
7. A step of rubbing by rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating.
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising a step of performing a rubbing treatment with a rubbing roll using two or more kinds of filaments having different wire diameters and / or elasticity as filaments to be woven into a rubbing cloth provided on a peripheral surface. .
【請求項8】 回転することによって液晶基板に形成さ
れた配向膜を擦ってラビング処理を行う工程であって、
周面に設けられたラビング布に編み込むフィラメントと
して線長、線径及び弾性が異なる2種類以上のフィラメ
ントを用いたラビングロールによってラビング処理を行
う工程を具備したことを特徴とする液晶装置の製造方
法。
8. A step of rubbing by rubbing an alignment film formed on a liquid crystal substrate by rotating,
A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising a step of performing a rubbing treatment with a rubbing roll using two or more kinds of filaments having different wire lengths, diameters and elasticity as filaments to be woven into a rubbing cloth provided on a peripheral surface. .
【請求項9】 上記請求項1乃至請求項4のいずれか1
つに記載の液晶装置の製造装置又は上記請求項5乃至請
求項8のいずれか1つに記載の液晶装置の製造方法によ
ってラビング処理されたことを特徴とする液晶装置。
9. The method according to any one of claims 1 to 4.
9. A liquid crystal device that has been subjected to a rubbing treatment by the device for manufacturing a liquid crystal device according to claim 5 or the method for manufacturing a liquid crystal device according to any one of claims 5 to 8.
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