JP2003215322A - Ionizing radiation-curable resin composition for color filter, color filter and liquid crystal panel - Google Patents

Ionizing radiation-curable resin composition for color filter, color filter and liquid crystal panel

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JP2003215322A
JP2003215322A JP2002009372A JP2002009372A JP2003215322A JP 2003215322 A JP2003215322 A JP 2003215322A JP 2002009372 A JP2002009372 A JP 2002009372A JP 2002009372 A JP2002009372 A JP 2002009372A JP 2003215322 A JP2003215322 A JP 2003215322A
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JP
Japan
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resin composition
curable resin
weight
ionizing radiation
color filter
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Application number
JP2002009372A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinji Hayashi
慎二 林
Shunsuke Sega
俊介 瀬賀
Kenichi Ueda
賢一 上田
Minoru Yamaguchi
稔 山口
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Nippon Shokubai Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photo-curable resin composition free of yellowing and a color tone change due to high temperature and having good various physical properties such as alkali developability and to provide a color filter and a liquid crystal panel using the photo-curable resin composition. <P>SOLUTION: The ionizing radiation-curable resin composition for a color filter comprises components A, B and C. A: an N-substituted maleimide copolymer resin obtained by copolymerizing (a) 10-80 wt.% N-substituted maleimide, (b) 10-80 wt.% aromatic vinyl compound, (c) 1-70 wt.% unsaturated monocarboxylic acid and (d) a desired copolymerizable component and having ≤10 wt.% content of impurities represented by formula (1). B: a photopolymerizable component having three or more ethylenically unsaturated double bonds per molecule C: a photopolymerization initiator. The color filter and the liquid crystal panel are manufactured using the ionizing radiation- curable resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
に含まれる薄膜層又は微細パターンを形成するために用
いられる電離放射線硬化性樹脂組成物、及び、当該樹脂
組成物を用いて着色層、保護層、スペーサーのような薄
膜層又は微細パターンを形成したカラーフィルター、及
び、当該カラーフィルターを用いて組み立てた液晶パネ
ルに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an ionizing radiation-curable resin composition used for forming a thin film layer or a fine pattern included in a color filter, and a colored layer and a protective layer using the resin composition. The present invention relates to a color filter formed with a thin film layer such as a spacer or a fine pattern, and a liquid crystal panel assembled using the color filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピューターなどの
フラットディスプレーとして、カラー液晶表示装置が急
速に普及してきている。一般にカラー液晶表示装置(1
01)は、図1に示すように、カラーフィルター1とT
FT基板等の電極基板2とを対向させて1〜10μm程
度の間隙部3を設け、当該間隙部3内に液晶化合物Lを
充填し、その周囲をシール材4で密封した構造をとって
いる。カラーフィルター1は、透明基板5上に、画素間
の境界部を遮光するために所定のパターンに形成された
ブラックマトリックス層6と、各画素を形成するために
複数の色(通常、赤(R)、緑(G)、青(B)の3原
色)を所定順序に配列した着色層7と、保護膜8と、透
明電極膜9とが、透明基板に近い側からこの順に積層さ
れた構造をとっている。最近では、着色層7の代わりに
カラーホログラムを用いて画素を形成することもある。
また、カラーフィルター1及びこれと対向する電極基板
2の内面側には配向膜10が設けられる。さらに間隙部
3には、カラーフィルター1と電極基板2の間のセルギ
ャップを一定且つ均一に維持するために、スペーサーと
して一定粒子径を有するパール11が分散されている。
そして、各色に着色された画素それぞれ又はカラーホロ
グラムの背後にある液晶層の光透過率を制御することに
よってカラー画像が得られる。
2. Description of the Related Art In recent years, color liquid crystal display devices have rapidly become popular as flat displays for personal computers and the like. Generally, color liquid crystal display devices (1
01) is the color filter 1 and T as shown in FIG.
The electrode substrate 2 such as an FT substrate is faced with a gap 3 of about 1 to 10 μm, the gap 3 is filled with the liquid crystal compound L, and the periphery thereof is sealed with a sealing material 4. . The color filter 1 includes a black matrix layer 6 formed on a transparent substrate 5 in a predetermined pattern to shield the boundaries between pixels, and a plurality of colors (usually red (R ), Green (G), and blue (B) three primary colors) are arranged in a predetermined order, a protective layer 8, and a transparent electrode film 9 are laminated in this order from the side closer to the transparent substrate. Is taking. Recently, pixels may be formed by using a color hologram instead of the colored layer 7.
An alignment film 10 is provided on the color filter 1 and the inner surface of the electrode substrate 2 facing the color filter 1. Further, in the gap portion 3, pearls 11 having a constant particle diameter are dispersed as spacers in order to maintain the cell gap between the color filter 1 and the electrode substrate 2 constant and uniform.
Then, a color image is obtained by controlling the light transmittance of each of the pixels colored in each color or the liquid crystal layer behind the color hologram.

【0003】スペーサーとして図1に示したような微粒
子状のパール11を分散させる場合には、当該パール
は、ブラックマトリックス層6の背後であるか画素の背
後であるかは関係なく、ランダムに分散する。パールが
表示領域すなわち画素部に配置された場合、パールの部
分をバックライトの光が透過し、また、パール周辺の液
晶の配向が乱れ、表示画像の品位を著しく低下させる。
そこで図2に示すように、パールを分散させるかわり
に、カラーフィルターの内面側であってブラックマトリ
ックス層6が形成されている位置と重り合う領域に、セ
ルギャップに対応する高さを有する柱状スペーサー12
を形成することが行われるようになってきた。
When the fine-grained pearls 11 shown in FIG. 1 are dispersed as spacers, the pearls are randomly dispersed regardless of whether they are behind the black matrix layer 6 or behind the pixels. To do. When the pearls are arranged in the display area, that is, the pixel portion, the light of the backlight is transmitted through the pearls, and the alignment of the liquid crystal around the pearls is disturbed, so that the quality of the displayed image is significantly deteriorated.
Therefore, as shown in FIG. 2, instead of dispersing the pearls, a columnar spacer having a height corresponding to the cell gap is formed in the region on the inner surface side of the color filter, which overlaps with the position where the black matrix layer 6 is formed. 12
It has come to be formed.

【0004】カラーフィルターの構造中に含まれている
着色層7及び保護膜8には、透明性、密着性、強度、硬
度、耐熱性、パターン形状の精度、塗膜の平坦性などの
特性が要求される。保護膜は着色層上にベタ塗工される
が、シール部の密着性や密閉性を考慮すると、透明基板
上の着色層が形成された領域のみを選択的に被覆できる
ものであることが好ましい。従って、着色層ほどの微細
なパターンには形成されないものの、保護膜にも着色層
と同様にパターン形状の精度が求められる。また、柱状
スペーサー12は、ブラックマトリックス層の背後に形
成されるので透明性は必要とされないが、それ以外の要
求特性は着色層や保護膜と共通している。
The colored layer 7 and the protective film 8 included in the structure of the color filter have characteristics such as transparency, adhesion, strength, hardness, heat resistance, pattern shape accuracy, and coating flatness. Required. Although the protective film is solidly coated on the colored layer, it is preferable that only the region where the colored layer is formed on the transparent substrate can be selectively covered in consideration of the adhesiveness and hermeticity of the seal portion. . Therefore, although it is not formed in a finer pattern than that of the colored layer, the protective film is required to have the accuracy of the pattern shape similarly to the colored layer. Further, since the columnar spacer 12 is formed behind the black matrix layer, it does not need to be transparent, but other required characteristics are common to the colored layer and the protective film.

【0005】カラーフィルター中に含まれる着色層、保
護膜あるいは柱状スペーサー等の薄膜層又は微細パター
ンは、透明基板の表面、又は、透明基板上に設けられた
何らかの層の表面に、光又は光よりも短波長の放射線に
より硬化し得る樹脂組成物をベースとする塗工材料を塗
布し、形成された塗工膜を必要に応じてマスクを介して
パターン露光し、非露光部の未硬化部分を現像により除
去することによって形成できる。
The colored layer, the protective film, the thin film layer such as the columnar spacers, or the fine pattern contained in the color filter is exposed to light or light on the surface of the transparent substrate or the surface of any layer provided on the transparent substrate. Coating a coating composition based on a resin composition that can be cured by radiation having a short wavelength, and pattern-expose the formed coating film through a mask as necessary to expose the uncured portion of the unexposed portion. It can be formed by removing by development.

【0006】カラーフィルター用の光硬化性樹脂組成物
としては、バインダー成分としてアクリル樹脂やN−置
換マレイミド系共重合樹脂を用いたものが知られてい
る。N−置換マレイミド系共重合樹脂に関しては、特開
平9−311211号公報に、N−置換マレイミドと酸
基を有するモノマーの共重合体を主成分としたバインダ
ー樹脂、色素、分散剤、光重合性モノマー、光重合開始
剤、及び、溶剤を含有してなる感光性着色組成物を用い
てカラーフィルターの着色樹脂層を形成することが開示
されている。また、特開平10−300922号公報に
は、着色剤、アルカリ可溶性のN−置換マレイミド系共
重合樹脂、多官能性モノマー、及び、光重合開始剤を含
有するカラーフィルター用感放射線性組成物が開示され
ている。
As a photocurable resin composition for a color filter, one using an acrylic resin or an N-substituted maleimide copolymer resin as a binder component is known. Regarding the N-substituted maleimide-based copolymer resin, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-311211 discloses a binder resin containing a copolymer of N-substituted maleimide and a monomer having an acid group as a main component, a dye, a dispersant, and a photopolymerizable resin. It is disclosed that a colored resin layer of a color filter is formed by using a photosensitive coloring composition containing a monomer, a photopolymerization initiator, and a solvent. Further, JP-A-10-300922 discloses a radiation-sensitive composition for a color filter containing a colorant, an alkali-soluble N-substituted maleimide copolymer resin, a polyfunctional monomer, and a photopolymerization initiator. It is disclosed.

【0007】さらに、特開平4−315101号公報に
は、(a)N−置換マレイミド、(b)芳香族ビニル化
合物、(c)アクリル酸及び/又はメタクリル酸、及
び、(d)必要に応じて他の不飽和単量体を共重合して
なる共重合樹脂と、多官能エポキシ樹脂からなるカラー
フィルター保護膜用樹脂組成物が開示されている。しか
しながら、この特開平4−315101号公報に開示さ
れた樹脂組成物は、硬化剤としてエポキシ樹脂を含有
し、酸基を含有するN−置換マレイミド共重合体とエポ
キシ樹脂を硬化させて皮膜化させる熱硬化性樹脂組成物
である。従って、光硬化性樹脂として用いた場合のアル
カリ現像性については、全く考慮されていない。
Further, in JP-A-4-315101, (a) N-substituted maleimide, (b) aromatic vinyl compound, (c) acrylic acid and / or methacrylic acid, and (d) if necessary. There is disclosed a resin composition for a color filter protective film, which comprises a copolymer resin obtained by copolymerizing another unsaturated monomer and a polyfunctional epoxy resin. However, the resin composition disclosed in JP-A-4-315101 contains an epoxy resin as a curing agent, and an N-substituted maleimide copolymer containing an acid group and an epoxy resin are cured to form a film. It is a thermosetting resin composition. Therefore, no consideration is given to the alkali developability when used as a photocurable resin.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】バインダー成分として
アクリル樹脂を含有するカラーフィルター用光硬化性樹
脂組成物は、加熱工程において黄変を生じやすいと言う
欠点がある。
The photocurable resin composition for a color filter, which contains an acrylic resin as a binder component, has a drawback that it tends to cause yellowing in the heating step.

【0009】また、本発明者らの研究によれば、N−置
換マレイミドとカルボン酸を有するモノマーとの間の共
重合性はあまり良くないので、N−置換マレイミドとカ
ルボン酸の2成分だけ重合させたのでは、アルカリ現像
性、密着性などの光硬化性樹脂に要求される性能を十分
に満足できる共重合体を製造することが困難である。
Further, according to the research conducted by the present inventors, the copolymerizability between the N-substituted maleimide and the monomer having a carboxylic acid is not so good, so that only two components of the N-substituted maleimide and the carboxylic acid are polymerized. If so, it is difficult to produce a copolymer capable of sufficiently satisfying the performance required for the photocurable resin such as alkali developability and adhesion.

【0010】本発明は、かかる事情を考慮して成し遂げ
られたものであり、その第一の目的は、高温に晒されて
も黄変などの色調変化を生じず、また、アルカリ現像性
等のその他の諸物性も良好なカラーフィルター用光硬化
性樹脂組成物を提供することにある。
The present invention has been accomplished in view of such circumstances, and a first object thereof is to prevent a change in color tone such as yellowing even when exposed to a high temperature, and to improve alkali developability. Another object of the present invention is to provide a photocurable resin composition for color filters, which has other excellent physical properties.

【0011】また、本発明の第二の目的は、上記したよ
うな本発明に係る光硬化性樹脂組成物を用いて、画素部
の色調及び透明性に優れたカラーフィルター及び液晶パ
ネルを提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a color filter and a liquid crystal panel which are excellent in the color tone and transparency of the pixel part, using the photocurable resin composition according to the present invention as described above. Especially.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明において、上記第
一の目的を達成するための光硬化性樹脂組成物は、A.
(a)N−置換マレイミドを10〜80重量%、(b)
芳香族ビニル化合物を10〜80重量%、(c)不飽和
モノカルボン酸を1〜70重量%、及び、必要に応じて
(d)前記各成分(a)、(b)、(c)と共重合可能
な化合物、を共重合してなると共に、下記式(1)で表
される不純物の含有量が10重量%以下であるN−置換
マレイミド共重合樹脂、
In the present invention, a photocurable resin composition for achieving the first object described above comprises A.
(A) 10 to 80% by weight of N-substituted maleimide, (b)
10 to 80% by weight of an aromatic vinyl compound, 1 to 70% by weight of (c) an unsaturated monocarboxylic acid, and (d) each of the components (a), (b) and (c) as required. A copolymerizable compound, and an N-substituted maleimide copolymer resin having a content of impurities represented by the following formula (1) of 10% by weight or less,

【0013】[0013]

【化2】 [Chemical 2]

【0014】(但し式(1)において、R1は互いに独
立してアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ア
ルキル置換アリール基またはハロゲン置換アリール基を
表し、R2は水素またはメチル基を表し、R3乃至R6
それぞれ独立に水素、アルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルキル置換アリール基またはハロゲン置
換アリール基を表す。) B.一分子中にエチレン性不飽和二重結合を3個以上有
する光重合性成分、及び、 C.光重合開始剤、を含有してなることを特徴とするカ
ラーフィルター用電離放射線硬化性樹脂組成物である。
(In the formula (1), R 1 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkyl-substituted aryl group or a halogen-substituted aryl group, and R 2 represents hydrogen or a methyl group, R 3 to R 6 are each independently hydrogen, an alkyl group, a cycloalkyl group,
It represents an aryl group, an alkyl-substituted aryl group or a halogen-substituted aryl group. ) B. A photopolymerizable component having three or more ethylenically unsaturated double bonds in one molecule, and C.I. An ionizing radiation curable resin composition for a color filter, which comprises a photopolymerization initiator.

【0015】上記の電離放射線硬化性樹脂組成物に、さ
らにD成分として顔料や染料等の色材を配合することに
より、カラーフィルターの着色層を形成することができ
る。
The colored layer of the color filter can be formed by further adding a coloring material such as a pigment or a dye as the component D to the above ionizing radiation curable resin composition.

【0016】本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物をカ
ラーフィルターの基板上に直接塗布するか、又は基板上
に設けられた何らかの層或いは構造部分の上に塗布し塗
工膜を形成し、当該塗工膜に紫外線等の電離放射線を照
射すると、C成分である光開始剤から活性種を生じ、こ
の活性種の作用によってB成分である3官能性の光重合
性成分が架橋反応し、塗工膜が硬化する。露光時にフォ
トマスクを用いるなどの方法で所定のパターン状に露光
してから現像すると、A成分であるN−置換マレイミド
共重合樹脂がカルボキシル基を有しているので、B成分
の架橋結合が形成されていない未露光部分をアルカリ現
像により除去することができ、所定パターンの硬化皮膜
を形成することができる。
The ionizing radiation curable resin composition of the present invention is directly applied on the substrate of the color filter, or is applied on any layer or structural portion provided on the substrate to form a coating film, When the coating film is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays, active species are generated from the photoinitiator which is the C component, and the trifunctional photopolymerizable component which is the B component undergoes a crosslinking reaction due to the action of the active species, resulting in coating. The coating film hardens. When exposed in a predetermined pattern by a method such as using a photomask at the time of exposure and then developed, since the N-substituted maleimide copolymer resin as the A component has a carboxyl group, a crosslink bond of the B component is formed. The unexposed portion that has not been exposed can be removed by alkali development, and a cured film having a predetermined pattern can be formed.

【0017】A成分であるN−置換マレイミド共重合樹
脂は、(a)N−置換マレイミド及び(c)不飽和モノ
カルボン酸と共に、(b)芳香族ビニル化合物を共重合
させたものであり、芳香族ビニル化合物を共存させたこ
とによって、不飽和モノカルボン酸由来の構造単位を十
分に取り込んだ、組成分布の狭い、品質の安定したバイ
ンダー成分である。
The N-substituted maleimide copolymer resin as the component A is a copolymer of (a) N-substituted maleimide and (c) unsaturated monocarboxylic acid with (b) an aromatic vinyl compound. It is a binder component having a narrow composition distribution and a stable quality, in which a structural unit derived from an unsaturated monocarboxylic acid is sufficiently incorporated by coexisting with an aromatic vinyl compound.

【0018】従って、本発明の電離放射線硬化性樹脂組
成物をカラーフィルターの基板上に塗布し、露光するこ
とによって、A成分であるN−置換マレイミド共重合樹
脂が有する優れた物性及びアルカリ現像性と、B成分で
ある3官能性の光重合性成分によって形成される3次元
ネットワーク構造によって、被塗布体表面に対する密着
性、皮膜強度、耐熱性、耐温純水性、耐薬品性等の諸物
性に優れた硬化皮膜を形成することができ、露光時に所
定のパターン状に露光して現像する場合には正確なパタ
ーンを形成することができる。
Therefore, the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention is applied onto a substrate of a color filter and exposed to light to obtain excellent physical properties and alkali developability of the N-substituted maleimide copolymer resin as the component A. And the three-dimensional network structure formed by the trifunctional photopolymerizable component, which is the B component, provides various physical properties such as adhesion to the surface of the coated object, film strength, heat resistance, warm pure water resistance, and chemical resistance. An excellent cured film can be formed, and an accurate pattern can be formed when exposing and developing in a predetermined pattern during exposure.

【0019】また、本発明の電離放射線硬化性樹脂組成
物は、黄変を引き起こす原因となる式(1)の不純物を
少量しか含んでいないので、配向膜を形成するための加
熱のようにカラーフィルターの製造プロセスにおいて避
けられない高温環境に晒されても黄変せず、透明性及び
色調に関する耐熱安定性に優れている。
Further, since the ionizing radiation curable resin composition of the present invention contains only a small amount of the impurity of the formula (1) which causes yellowing, it may be colored like the heating for forming the alignment film. It does not yellow even when exposed to the high temperature environment that cannot be avoided in the filter manufacturing process, and has excellent heat resistance stability in terms of transparency and color tone.

【0020】具体的には、本発明の電離放射線硬化性樹
脂組成物をガラス基板上にスピンコートにより塗布し、
100mJ/cm2の照射量で露光後、200℃で30
分間加熱して膜厚2μmに形成した塗膜が、250℃で
1時間加熱した後における380nmの光の透過率が9
0%以上となる。
Specifically, the ionizing radiation curable resin composition of the present invention is applied onto a glass substrate by spin coating,
After exposure with a dose of 100 mJ / cm 2 , 30 at 200 ° C
The coating film formed to a film thickness of 2 μm by heating for 1 minute had a light transmittance of 380 nm of 9 after being heated at 250 ° C. for 1 hour.
It becomes 0% or more.

【0021】さらに本発明の電離放射線硬化性樹脂組成
物から作成した塗膜は非常に硬く、透明性、色調に関す
る耐熱安定性と共に、十分な硬度を有している。具体的
には、上記と同じ条件で形成した膜厚5μmの塗膜、す
なわち、電離放射線硬化性樹脂組成物をガラス基板上に
スピンコートにより塗布し、100mJ/cm2の照射
量で露光後、200℃で30分間加熱して膜厚5μmに
形成した塗膜が、表面温度180℃、ビッカース圧子を
最大荷重20mNとなる条件で表面硬度を測定した時に
ユニバーサル硬さ(試験荷重/試験荷重下でのビッカー
ス圧子の表面積)が200N/mm2以上となる。
Furthermore, the coating film made from the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention is very hard and has sufficient hardness as well as transparency and heat resistance regarding color tone. Specifically, a coating film having a film thickness of 5 μm formed under the same conditions as described above, that is, an ionizing radiation curable resin composition is applied onto a glass substrate by spin coating, and after exposure with an irradiation dose of 100 mJ / cm 2 , Universal hardness (under test load / under test load) was measured when the surface hardness of the coating film formed by heating at 200 ° C. for 30 minutes to a film thickness of 5 μm was 180 ° C. and the Vickers indenter had a maximum load of 20 mN. Surface area of the Vickers indenter) is 200 N / mm 2 or more.

【0022】本発明に係る電離放射線硬化性樹脂組成物
を用いれば、カラーフィルターに含まれる薄膜層又は微
細パターンを正確に形成することができ、液晶パネルの
セルギャップを維持するための柱状スペーサーのよう
な、それほど透明性を必要としない皮膜だけでなく、着
色層や保護層のような透明性や色調に対する要求の大き
い部分の皮膜を形成することも可能である。従って品質
の良いカラーフィルター及び当該カラーフィルターを用
いた品質の良い液晶パネルが得られる。
By using the ionizing radiation curable resin composition according to the present invention, a thin film layer or a fine pattern included in a color filter can be accurately formed, and a columnar spacer for maintaining a cell gap of a liquid crystal panel. It is also possible to form not only such a film that does not require so much transparency, but also a film of a portion such as a colored layer or a protective layer that has a great demand for transparency and color tone. Therefore, a high quality color filter and a high quality liquid crystal panel using the color filter can be obtained.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】(1)カラーフィルター用電離放
射線硬化性樹脂組成物 本発明においては、A.(a)N−置換マレイミドを1
0〜80重量%、(b)芳香族ビニル化合物を10〜8
0重量%、(c)不飽和モノカルボン酸を1〜70重量
%、及び、必要に応じて(d)前記各成分(a)、
(b)、(c)と共重合可能な化合物、を共重合してな
ると共に、下記式(1)で表される不純物の含有量が1
0重量%以下であるN−置換マレイミド共重合樹脂、
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (1) Ionizing radiation curable resin composition for color filter In the present invention, A. (A) N-substituted maleimide 1
0 to 80% by weight, (b) 10 to 8 aromatic vinyl compound
0% by weight, (c) 1 to 70% by weight of unsaturated monocarboxylic acid, and (d) each component (a), if necessary.
A compound copolymerizable with (b) and (c) is copolymerized, and the content of impurities represented by the following formula (1) is 1
0% by weight or less of N-substituted maleimide copolymer resin,

【0024】[0024]

【化3】 [Chemical 3]

【0025】(但し式(1)において、R1は互いに独
立してアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ア
ルキル置換アリール基またはハロゲン置換アリール基を
表し、R2は水素またはメチル基を表し、R3乃至R6
それぞれ独立に水素、アルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルキル置換アリール基またはハロゲン置
換アリール基を表す。) B.一分子中にエチレン性不飽和二重結合を3個以上有
する光重合性成分、及び、 C.光重合開始剤、を含有してなることを特徴とするカ
ラーフィルター用電離放射線硬化性樹脂組成物が提供さ
れる。
(In the formula (1), R 1 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkyl-substituted aryl group or a halogen-substituted aryl group, and R 2 represents hydrogen or a methyl group, R 3 to R 6 are each independently hydrogen, an alkyl group, a cycloalkyl group,
It represents an aryl group, an alkyl-substituted aryl group or a halogen-substituted aryl group. ) B. A photopolymerizable component having three or more ethylenically unsaturated double bonds in one molecule, and C.I. An ionizing radiation-curable resin composition for a color filter, which comprises a photopolymerization initiator, is provided.

【0026】上記A成分として用いられるN−置換マレ
イミド共重合樹脂は、本発明において電離放射線硬化性
樹脂組成物の主要なバインダー成分であり、共重合成分
(単量体)の総量を100重量%とした時に、(a)N
−置換マレイミドを10〜80重量%、(b)芳香族ビ
ニル化合物を10〜80重量%、(c)不飽和モノカル
ボン酸を1〜70重量%、及び、必要に応じて(d)前
記各成分(a)、(b)、(c)と共重合可能な化合
物、を共重合して得られる樹脂である。
The N-substituted maleimide copolymer resin used as the component A is the main binder component of the ionizing radiation-curable resin composition in the present invention, and the total amount of the copolymerization components (monomers) is 100% by weight. Then, (a) N
-Substituted maleimide 10 to 80% by weight, (b) aromatic vinyl compound 10 to 80% by weight, (c) unsaturated monocarboxylic acid 1 to 70% by weight, and optionally (d) each of the above It is a resin obtained by copolymerizing the components (a), (b) and (c) and a compound copolymerizable therewith.

【0027】N−置換マレイミドとカルボン酸を有する
モノマーとの間の共重合性はあまり良くないので、N−
置換マレイミドとカルボン酸の2成分だけ共重合させた
のでは、アルカリ現像性、密着性、強度などの電離放射
線硬化性樹脂に要求される性能を十分に満足できる共重
合樹脂を製造することが困難であり、仮に諸物性の良好
な共重合樹脂が得られるとしても、性能が同じ製品を繰
り返し安定的に製造し供給することが困難である。
Since the copolymerizability between the N-substituted maleimide and the monomer having a carboxylic acid is not very good, N-
Copolymerization of only two components, a substituted maleimide and a carboxylic acid, makes it difficult to produce a copolymer resin that can sufficiently satisfy the performance required for an ionizing radiation curable resin such as alkali developability, adhesion, and strength. Therefore, even if a copolymer resin having good physical properties can be obtained, it is difficult to stably manufacture and supply products having the same performance repeatedly.

【0028】これに対して本発明で用いるN−置換マレ
イミド共重合樹脂は、N−置換マレイミド及び不飽和モ
ノカルボン酸と共に第3の共重合成分としてスチレン等
の芳香族ビニル化合物を共存させて共重合させた3元共
重合体であり、N−置換マレイミド系共重合体にカルボ
ン酸が効率よく且つ均一の共重合比で導入されており、
アルカリ現像性、密着性、強度、硬度、耐熱性などの電
離放射線硬化性樹脂に要求される諸物性に優れている。
On the other hand, the N-substituted maleimide copolymer resin used in the present invention is a copolymer of N-substituted maleimide and unsaturated monocarboxylic acid together with an aromatic vinyl compound such as styrene as a third copolymerization component. It is a polymerized terpolymer, in which the carboxylic acid is introduced into the N-substituted maleimide-based copolymer at an efficient and uniform copolymerization ratio,
It has excellent physical properties required for ionizing radiation curable resins such as alkali developability, adhesion, strength, hardness and heat resistance.

【0029】さらに、本発明においてはN−置換マレイ
ミド共重合樹脂として、下記式(1)で表される不純物
の含有量が10重量%以下であるものを選択的に用い
る。式(1)で表される不純物の含有量が10重量%以
下のN−置換マレイミド共重合樹脂を用いることによ
り、透明性及び色調に関する耐熱安定性が十分な電離放
射線硬化性樹脂組成物が得られる。
Further, in the present invention, as the N-substituted maleimide copolymer resin, one having an impurity content represented by the following formula (1) of 10% by weight or less is selectively used. By using the N-substituted maleimide copolymer resin having the content of impurities represented by the formula (1) of 10% by weight or less, an ionizing radiation curable resin composition having sufficient heat resistance stability with respect to transparency and color tone is obtained. To be

【0030】[0030]

【化4】 [Chemical 4]

【0031】(但し式(1)において、R1は互いに独
立してアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ア
ルキル置換アリール基またはハロゲン置換アリール基を
表し、R2は水素またはメチル基を表し、R3乃至R6
それぞれ独立に水素、アルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルキル置換アリール基またはハロゲン置
換アリール基を表す。) 式(1)の不純物は、N−置換マレイミドと不飽和モノ
カルボン酸だけを共重合させる場合には副成しないが、
N−置換マレイミド及び不飽和モノカルボン酸と共にス
チレン等の芳香族ビニル化合物を共重合させる場合に副
成する。N−置換マレイミド、不飽和モノカルボン酸、
及び芳香族ビニル化合物を共重合させた3元共重合樹脂
中に式(1)の不純物が多量に含有されている場合に
は、高温下で黄変しやすい。例えば、式(1)の不純物
を多量に含有するN−置換マレイミド共重合樹脂をバイ
ンダーとして含有する光硬化性樹脂組成物を用いて透明
基板上に保護膜を形成した後に引き続き、配向膜を形成
すると、配向膜を形成する工程での加熱によって保護膜
の黄変を生じる。
(In the formula (1), R 1 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkyl-substituted aryl group or a halogen-substituted aryl group, and R 2 represents hydrogen or a methyl group, R 3 to R 6 are each independently hydrogen, an alkyl group, a cycloalkyl group,
It represents an aryl group, an alkyl-substituted aryl group or a halogen-substituted aryl group. The impurity of formula (1) does not form as a by-product when only N-substituted maleimide and unsaturated monocarboxylic acid are copolymerized,
It is a by-product when an aromatic vinyl compound such as styrene is copolymerized with the N-substituted maleimide and the unsaturated monocarboxylic acid. N-substituted maleimide, unsaturated monocarboxylic acid,
Also, when a large amount of the impurity of the formula (1) is contained in the ternary copolymer resin obtained by copolymerizing the aromatic vinyl compound, yellowing easily occurs at high temperature. For example, after forming a protective film on a transparent substrate using a photocurable resin composition containing a N-substituted maleimide copolymer resin containing a large amount of impurities of the formula (1) as a binder, an alignment film is subsequently formed. Then, yellowing of the protective film occurs due to heating in the process of forming the alignment film.

【0032】すなわち、N−置換マレイミド及び不飽和
モノカルボン酸と共に、芳香族ビニル化合物を共重合さ
せることによって、アルカリ現像性等の電離放射線硬化
性樹脂に要求される諸物性を向上させることができる
が、その反面、透明性及び色調に関する耐熱安定性を損
なうという新たな問題が生じる。
That is, by copolymerizing the aromatic vinyl compound with the N-substituted maleimide and the unsaturated monocarboxylic acid, various physical properties required for the ionizing radiation curable resin such as alkali developability can be improved. However, on the other hand, a new problem arises that heat resistance stability with respect to transparency and color tone is impaired.

【0033】これに対して本発明においては、式(1)
で表される不純物の含有量が10重量%以下のN−置換
マレイミド共重合樹脂を用いることにより、アルカリ現
像性等の電離放射線硬化性樹脂に要求される諸物性に加
えて、さらに透明性及び色調に関する耐熱安定性にも優
れた電離放射線硬化性樹脂が提供される。この電離放射
線硬化性樹脂は、パターニングの精度及び硬化後の諸物
性に優れておりカラーフィルター中に含まれている様々
な薄膜層やパターンを形成する材料として好適に用いる
ことができ、しかも、柱状スペーサーのようにそれほど
透明性を必要としない部分だけでなく、保護膜や着色層
のように透明性を必要とする部分を形成することができ
る。
On the other hand, in the present invention, the formula (1)
By using the N-substituted maleimide copolymer resin having an impurity content of 10% by weight or less, in addition to various physical properties required for the ionizing radiation curable resin such as alkali developability, transparency and Provided is an ionizing radiation-curable resin which is also excellent in heat resistance stability regarding color tone. This ionizing radiation curable resin has excellent patterning accuracy and various physical properties after curing, and can be suitably used as a material for forming various thin film layers and patterns contained in a color filter. It is possible to form not only a portion such as a spacer that does not require so much transparency, but also a portion that requires transparency such as a protective film or a colored layer.

【0034】上記A成分であるN−置換マレイミド共重
合樹脂の第一の共重合成分、N−置換マレイミド(a成
分)としては、例えば、フェニルマレイミド、ベンジル
マレイミド、ナフチルマレイミド、o−クロロフェニル
マレイミド等の芳香族置換マレイミド;メチルマレイミ
ド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、イソプロ
ピルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のアルキ
ル置換マレイミドなどを用いることができる。これらの
マレイミド系単量体は、1種または2種以上を混合して
使用することができる。このなかで、工業的な入手のし
易さ、及び、単量体の毒性が比較的少ないことから、フ
ェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミドが好まし
い。さらに、透明性、熱安定性の観点から、シクロヘキ
シルマレイミドが最も好ましい。シクロヘキシルマレイ
ミドを使用する場合には、シクロヘキシルマレイミド中
に副成物として含まれるシクロヘキシルアミノ無水コハ
ク酸の含有量を1重量%以下に低減したものを使用する
ことが好ましい。
The first copolymerization component of the N-substituted maleimide copolymer resin as the component A, the N-substituted maleimide (a component), is, for example, phenylmaleimide, benzylmaleimide, naphthylmaleimide, o-chlorophenylmaleimide or the like. Aromatic substituted maleimides; alkyl substituted maleimides such as methylmaleimide, ethylmaleimide, propylmaleimide, isopropylmaleimide, cyclohexylmaleimide and the like can be used. These maleimide-based monomers can be used alone or in combination of two or more. Among these, phenylmaleimide and cyclohexylmaleimide are preferable because they are industrially easily available and the monomer has relatively low toxicity. Further, cyclohexylmaleimide is most preferable from the viewpoint of transparency and thermal stability. When cyclohexylmaleimide is used, it is preferable to use cyclohexylmaleimide in which the content of cyclohexylaminosuccinic anhydride contained as a by-product in cyclohexylmaleimide is reduced to 1% by weight or less.

【0035】N−置換マレイミド共重合樹脂の第二の共
重合成分、芳香族ビニル化合物(b成分)としては、例
えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチ
レン、p−クロロスチレン等を用いることができる。こ
れらの芳香族ビニル系単量体は、1種または2種以上を
混合して使用することができる。このなかで、工業的な
入手のし易さ、及び、重合性の観点から、スチレンが好
ましい。
As the second copolymerization component of the N-substituted maleimide copolymerization resin and the aromatic vinyl compound (component b), for example, styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene, etc. are used. be able to. These aromatic vinyl monomers can be used alone or in combination of two or more. Among these, styrene is preferable from the viewpoint of industrial availability and polymerizability.

【0036】N−置換マレイミド共重合樹脂の第三の共
重合成分、不飽和モノカルボン酸(c成分)としては、
エチレン性二重結合とカルボキシル基を有する化合物を
用いることができ、例えば、メタアクリル酸、アクリル
酸等を例示することができる。これらの不飽和モノカル
ボン酸系単量体は、1種または2種以上を混合して使用
することができる。
As the third copolymerization component of the N-substituted maleimide copolymerization resin, unsaturated monocarboxylic acid (component c),
A compound having an ethylenic double bond and a carboxyl group can be used, and examples thereof include methacrylic acid and acrylic acid. These unsaturated monocarboxylic acid-based monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0037】上記の(a)成分、(b)成分、(c)成
分は、必須の共重合成分であるが、これら以外にも、本
発明の趣旨に反しない限り、前記必須の共重合成分と共
重合可能な化合物((d)成分)を用いても良い。所望
により用いられる単量体としては、例えば、メタクリル
酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピ
ル、メタクリル酸2−エチルヘキシル等のメタクリル酸
エステル;アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル等のア
クリル酸エステル;アクリロニトリル、メタクリロニト
リル等のシアン化ビニル;無水マレイン酸等の不飽和ジ
カルボン酸無水物などを用いることができる。これら所
望の単量体は、1種または2種以上を混合して使用する
ことができる。
The above-mentioned components (a), (b) and (c) are essential copolymerization components, but in addition to these components, the above essential copolymerization components are also included unless they are contrary to the gist of the present invention. You may use the compound (component (d)) copolymerizable with. Examples of the monomer used as desired include methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, and 2-ethylhexyl methacrylate; acrylic acid esters such as methyl acrylate and butyl acrylate; acrylonitrile, Vinyl cyanide such as methacrylonitrile; unsaturated dicarboxylic acid anhydride such as maleic anhydride can be used. These desired monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0038】なお、A成分であるN−置換マレイミド共
重合樹脂は、必須の共重合成分(a)、(b)、(c)
だけでは電離放射線硬化性を示さないが、これら必須の
共重合成分からなる共重合体と、グリシジルメタクリレ
ートのような不飽和エポキシとを反応させたり、(a)
や(b)及び(c)といった必須の共重合成分と共に、
(d)成分として上記シアン化ビニル化合物のような共
重合性の二重結合とシアノ基を有する化合物を用いて共
重合を行った後、シアノ基の部分に(メタ)アクリル酸
のような不飽和カルボン酸を反応させると、得られる共
重合樹脂中に二重結合を有する側鎖が導入され、N−置
換マレイミド共重合樹脂自体が電離放射線硬化性(架橋
性)を獲得する。このような電離放射線硬化性を有する
N−置換マレイミド共重合樹脂をA成分として用いるこ
とにより、電離放射線硬化性樹脂の感度を向上させるこ
とが可能となる。
The N-substituted maleimide copolymer resin as the component A is an essential copolymer component (a), (b), (c).
Although it does not exhibit ionizing radiation curability by itself, it is possible to react a copolymer consisting of these essential copolymerization components with an unsaturated epoxy such as glycidyl methacrylate, or (a)
Together with the essential copolymerization components such as and (b) and (c),
After copolymerization is performed using a compound having a copolymerizable double bond such as the above-mentioned vinyl cyanide compound and a cyano group as the component (d), the cyano group portion is treated with a compound such as (meth) acrylic acid. When a saturated carboxylic acid is reacted, a side chain having a double bond is introduced into the resulting copolymer resin, and the N-substituted maleimide copolymer resin itself acquires ionizing radiation curability (crosslinkability). By using such an N-substituted maleimide copolymer resin having ionizing radiation curability as the component A, the sensitivity of the ionizing radiation curable resin can be improved.

【0039】A成分であるN−置換マレイミド共重合樹
脂は、単量体成分の総量を100重量%とした時に、
(a)N−置換マレイミドを10〜80重量%、(b)
芳香族ビニル化合物を10〜80重量%、(c)不飽和
モノカルボン酸を1〜70重量%、及び、(d)前記必
須の共重合成分と共重合可能な化合物を0〜20重量%
の割合で共重合させて合成する。さらに好ましくは、
(a)15〜70重量%、(b)15〜70重量%、
(c)10〜60重量%、(d)0〜15重量%とす
る。特に好ましくは、(a)20〜55重量%、(b)
15〜55重量%、(c)20〜55重量%、(d)0
〜10重量%とする。
The N-substituted maleimide copolymer resin as the component A has a total amount of the monomer components of 100% by weight,
(A) 10 to 80% by weight of N-substituted maleimide, (b)
10 to 80% by weight of an aromatic vinyl compound, (c) 1 to 70% by weight of an unsaturated monocarboxylic acid, and (d) 0 to 20% by weight of a compound copolymerizable with the essential copolymerization component.
To be synthesized by copolymerization. More preferably,
(A) 15 to 70% by weight, (b) 15 to 70% by weight,
(C) 10 to 60% by weight, (d) 0 to 15% by weight. Particularly preferably, (a) 20 to 55% by weight, (b)
15-55% by weight, (c) 20-55% by weight, (d) 0
10 to 10% by weight.

【0040】(c)不飽和モノカルボン酸の含有割合が
上記範囲を下回る場合、アルカリ水溶液可溶能が低下す
る恐れがあり、一方、上記範囲を超えると耐熱性や熱安
定性が低下する恐れがある。
(C) If the content ratio of the unsaturated monocarboxylic acid is less than the above range, the solubility of the alkaline aqueous solution may decrease, while if it exceeds the above range, the heat resistance and the thermal stability may decrease. There is.

【0041】また、(a)N−置換マレイミドの含有割
合が上記範囲を下回る場合、耐熱性が低下する恐れがあ
り、一方、上記範囲を超えると、アルカリ水溶液可溶能
が低下する恐れがあるほか、皮膜化した時の機械強度が
低下する恐れがある。
If the content of the (a) N-substituted maleimide is less than the above range, the heat resistance may decrease, while if it exceeds the above range, the aqueous alkali solution solubility may decrease. In addition, the mechanical strength when formed into a film may be reduced.

【0042】N−置換マレイミド共重合樹脂は、0.5
%KOH水溶液を用いた時のアルカリ水溶液可溶分が1
0重量%以下であることが好ましく、5重量%以下であ
ることがさらに好ましく、3重量%以下であることが最
も好ましい。N−置換マレイミド共重合樹脂のアルカリ
水溶液可溶分は、具体的には、当該N−置換マレイミド
共重合樹脂からなる厚さ50μmのフイルムの、50℃
における200ミリリットルの0.5%KOH水溶液に
対する溶解性テストでアルカリ不溶分の存在量を求め、
評価することができる。
The N-substituted maleimide copolymer resin is 0.5
% Soluble in alkaline aqueous solution when using 1% KOH aqueous solution
It is preferably 0% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and most preferably 3% by weight or less. The alkali aqueous solution-soluble content of the N-substituted maleimide copolymer resin is specifically 50 ° C. of a film of the N-substituted maleimide copolymer resin having a thickness of 50 μm.
The amount of the alkali-insoluble component was determined by the solubility test in 200 ml of 0.5% KOH aqueous solution in
Can be evaluated.

【0043】A成分であるN−置換マレイミド共重合樹
脂中に含まれる上記式(1)で表される不純物の含有量
は、10重量%以下が好ましく、5重量%以下がさらに
好ましく、2重量%以下がさらに好ましく、1重量%以
下であることが最も好ましい。式(1)で表される不純
物の含有量が10重量%を超えると、高温下で黄変しや
すく、電離放射線硬化性樹脂の透明性及び色調に関する
耐熱安定性を損なう。また、電離放射線硬化性樹脂のア
ルカリ水溶液可溶能を損なう恐れもある。
The content of impurities represented by the above formula (1) contained in the N-substituted maleimide copolymer resin as the component A is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and 2% by weight. % Or less is more preferable, and 1% by weight or less is most preferable. When the content of the impurities represented by the formula (1) exceeds 10% by weight, yellowing easily occurs at high temperature, and the transparency and color tone heat resistance stability of the ionizing radiation curable resin are impaired. In addition, the ability of the ionizing radiation curable resin to dissolve in an aqueous alkali solution may be impaired.

【0044】N−置換マレイミド共重合樹脂の分子量
は、アルカリ可溶能を発揮させるために、重量平均分子
量で5,000〜200,000が好ましく、5,00
0〜100,000がさらに好ましく、10,000〜
50,000が最も好ましい。重量平均分子量が上記範
囲を上回ると、アルカリ可溶能が低下する恐れがあり、
一方、上記範囲を下回ると、耐熱性や熱安定性が低下す
る恐れがある。
The molecular weight of the N-substituted maleimide copolymer resin is preferably 5,000 to 200,000 in terms of weight average molecular weight, and 5,000, in order to exert alkali-solubility.
0 to 100,000 is more preferable, and 10,000 to
Most preferred is 50,000. If the weight average molecular weight exceeds the above range, the alkali-solubility may decrease,
On the other hand, if it is less than the above range, heat resistance and thermal stability may be deteriorated.

【0045】また、N−置換マレイミド共重合樹脂は、
GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)で測定した重量
平均分子量と数平均分子量の比(Mw/Mn)が4.0
以下であることが好ましく、3.0以下がさらに好まし
く、2.5以下が最も好ましい。Mw/Mnで表される
比が4.0を超えると、熱安定性やアルカリ可溶能が低
下する恐れがある。
The N-substituted maleimide copolymer resin is
The ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight and the number average molecular weight measured by GPC (gel permeation chromatography) is 4.0.
It is preferably below, more preferably below 3.0, most preferably below 2.5. If the ratio represented by Mw / Mn exceeds 4.0, the thermal stability and the alkali-solubility may decrease.

【0046】また、N−置換マレイミド共重合樹脂は、
酸価が50〜300mgKOH/gであるのが好まし
く、150〜250mgKOH/gであるのがさらに好
ましい。酸価が上記範囲を下回るとアルカリ可溶能が低
下する恐れがあり、一方、上記範囲を超えるとN−置換
マレイミド共重合樹脂が脆くなるおそれがある。
The N-substituted maleimide copolymer resin is
The acid value is preferably 50 to 300 mgKOH / g, more preferably 150 to 250 mgKOH / g. If the acid value is less than the above range, the alkali-solubility may be reduced, while if it exceeds the above range, the N-substituted maleimide copolymer resin may be brittle.

【0047】N−置換マレイミド共重合樹脂は、本発明
の電離放射線硬化性樹脂組成物中に、通常、5〜80重
量%、好ましくは10〜50重量%の割合で配合する。
N−置換マレイミド共重合樹脂の配合割合が上記範囲を
下回ると、粘度が低くなり過ぎ、塗布乾燥後の塗膜安定
性が不充分であり、一方、N−置換マレイミド共重合樹
脂の配合割合が上記範囲を超えると、粘度が高くなり過
ぎ、その結果、流動性が低下し、塗布性が悪くなるなど
の不都合を生じる。
The N-substituted maleimide copolymer resin is usually added to the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention in an amount of 5 to 80% by weight, preferably 10 to 50% by weight.
If the blending ratio of the N-substituted maleimide copolymer resin is less than the above range, the viscosity becomes too low and the coating stability after coating and drying is insufficient, while the blending ratio of the N-substituted maleimide copolymer resin is too small. If it exceeds the above range, the viscosity becomes too high, resulting in a decrease in fluidity and a deterioration in coating property.

【0048】A成分であるN−置換マレイミド共重合樹
脂の製造方法としては、公知の溶液重合、懸濁重合、乳
化重合などを採用できるが、懸濁重合や乳化重合では懸
濁剤や乳化剤が混入するため、透明性低下の原因となる
恐れがある。また、懸濁重合や乳化重合では、上記式
(1)の不純物が生成する恐れがあるほか、組成分布が
広がりやすく、アルカリ可溶能が低下する恐れがある。
さらに、懸濁重合や乳化重合では、水中での分散状態で
共重合成分を反応させるため、後述するような方法で反
応系に共重合成分を供給しながら共重合反応を進行させ
ようとする場合に、後から供給する分の共重合成分が反
応系に十分に混合せず、得られる共重合樹脂のアルカリ
可溶能や耐熱安定性が低下する恐れがある。
As a method for producing the N-substituted maleimide copolymer resin as the component A, known solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization and the like can be adopted. In suspension polymerization or emulsion polymerization, a suspending agent or an emulsifier is used. Since it is mixed, it may cause a decrease in transparency. Further, in suspension polymerization or emulsion polymerization, the impurities of the above formula (1) may be generated, the composition distribution may be easily spread, and the alkali-solubility may be decreased.
Further, in suspension polymerization or emulsion polymerization, since the copolymerization components are reacted in a dispersed state in water, when the copolymerization reaction is attempted to proceed while supplying the copolymerization components to the reaction system by the method described below. In addition, the copolymerization component to be supplied later may not be sufficiently mixed in the reaction system, and the alkali solubility and heat resistance stability of the obtained copolymer resin may be reduced.

【0049】従って、N−置換マレイミド共重合樹脂と
しては、マレイミド系単量体を用いて溶剤存在下で共重
合を行う溶液重合法によって得られたものを用いるのが
好ましい。さらに、マレイミド系単量体を用いて回分式
溶液重合法によって得られたN−置換マレイミド共重合
樹脂を用いるのが最も好ましい。
Therefore, it is preferable to use, as the N-substituted maleimide copolymer resin, one obtained by a solution polymerization method in which a maleimide monomer is used for copolymerization in the presence of a solvent. Furthermore, it is most preferable to use an N-substituted maleimide copolymer resin obtained by a batch solution polymerization method using a maleimide-based monomer.

【0050】共重合反応における重合温度は、使用する
重合開始剤に合わせて設定すれば良く、特に限定されな
いが、50〜200℃が好ましく、80〜150℃が更
に好ましい。重合温度が上記範囲を下回ると、分解温度
の低い開始剤を用いる必要があり、開始剤を冷却保存す
る設備が必要となるなど、工業的製造に不利である。一
方、重合温度が上記範囲を上回ると、開始剤の分解温度
に達する前に重合成分が熱重合し始めるため好ましくな
い。
The polymerization temperature in the copolymerization reaction may be set according to the polymerization initiator used and is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 80 to 150 ° C. When the polymerization temperature is lower than the above range, it is necessary to use an initiator having a low decomposition temperature, and equipment for cooling and storing the initiator is required, which is disadvantageous for industrial production. On the other hand, if the polymerization temperature exceeds the above range, the polymerization components start to undergo thermal polymerization before reaching the decomposition temperature of the initiator, which is not preferable.

【0051】上記の溶液重合で使用する溶剤は、溶液重
合反応に支障なく、また、原料である共重合成分と、生
成したN−置換マレイミド共重合樹脂の両方を溶解し得
る液体であれば特に制限はなく、例えば、メタノール、
エタノール、グリコール等の炭素原子数1〜3個の脂肪
族アルコール;セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロ
ソルブ類;カルビトール、ブチルカルビトール等のカル
ビトール類;酢酸セロソルブ、酢酸カルビトール、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエ
ステル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類;テトラヒドロフラン等の環状エーテル;シ
クロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン類;或いは、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド等の極性を有する有機溶剤を
用いることができる。非水系の分散重合に用いられる溶
剤は、原料である共重合成分が溶解可能で、且つ、生成
したN−置換マレイミド共重合樹脂が不溶である液体で
あれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、
ヘキサン、シクロヘキサンのような液状の炭化水素、或
いは、その他の非極性の有機溶剤を用いることができ
る。上記の溶液重合や非水系の分散重合に用いられる溶
剤の量は、重合成分の合計重量に対して20〜80重量
%が好ましく、30〜70重量%がより好ましい。溶剤
の量が上記範囲を下回ると、重合終了時に増粘のため攪
拌が不充分となる恐れがあり、一方、上記範囲を超える
と、生成するN−置換マレイミド共重合樹脂の分子量が
小さすぎる恐れがある。
The solvent used in the above solution polymerization is not particularly limited as long as it does not hinder the solution polymerization reaction and is capable of dissolving both the raw material copolymerization component and the produced N-substituted maleimide copolymerization resin. There is no limitation, for example, methanol,
Aliphatic alcohols having 1 to 3 carbon atoms such as ethanol and glycol; cellosolves such as cellosolve and butyl cellosolve; carbitols such as carbitol and butyl carbitol; cellosolve acetate, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. , Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; cyclic ethers such as tetrahydrofuran; ketones such as cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; or polar organic solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. The solvent used for the non-aqueous dispersion polymerization is not particularly limited as long as it is a liquid in which the raw material copolymerization component is soluble, and the produced N-substituted maleimide copolymerization resin is insoluble, for example, benzene, toluene,
Liquid hydrocarbons such as hexane and cyclohexane, or other non-polar organic solvent can be used. The amount of the solvent used for the solution polymerization or the non-aqueous dispersion polymerization is preferably 20 to 80% by weight, more preferably 30 to 70% by weight, based on the total weight of the polymerization components. If the amount of the solvent is less than the above range, stirring may be insufficient due to thickening at the end of the polymerization, while if it exceeds the above range, the molecular weight of the N-substituted maleimide copolymer resin produced may be too small. There is.

【0052】N−置換マレイミド共重合樹脂を製造する
ための重合開始剤としては、公知のラジカル重合開始剤
である過酸化物、アゾ開始剤が好適に用いられる。重合
開始剤は、重合温度に応じて適宜選択し、共重合成分の
合計量に対して、通常、0.001〜1.0重量%の割
合で使用される。
As the polymerization initiator for producing the N-substituted maleimide copolymer resin, peroxides and azo initiators which are known radical polymerization initiators are preferably used. The polymerization initiator is appropriately selected according to the polymerization temperature, and is usually used in a proportion of 0.001 to 1.0% by weight based on the total amount of the copolymerization components.

【0053】N−置換マレイミド共重合樹脂の分子量を
調節するために、重合時に連鎖移動剤を用いることがで
き、例えば、α−メチルスチレンやメルカプタン系の連
鎖移動剤を例示することができる。
In order to control the molecular weight of the N-substituted maleimide copolymer resin, a chain transfer agent can be used during the polymerization, and examples thereof include α-methylstyrene and mercaptan chain transfer agents.

【0054】N−置換マレイミド共重合樹脂を製造する
共重合プロセスにおいては、反応系への共重合成分の供
給方法に特別の工夫をすることが好ましい。具体的に
は、(b)芳香族ビニル化合物と(c)不飽和モノカル
ボン酸の一部、及び、必要に応じて溶剤を予め反応器に
入れておき、開始剤を添加して重合反応を開始すると共
に、残りの(b)成分と(c)成分と共に、(a)N−
置換マレイミドを連続的に又は断続的に反応系に供給し
ながら重合反応を行い、全ての重合成分を供給し終えて
から0.5時間以上反応を継続させるのが最も好まし
い。(a)N−置換マレイミドは、予め反応器に入れて
おくことはせず、入れておくとしてもほんの僅かな量と
する。従って(a)成分のほとんど全てが、重合反応を
開始した後で連続的に又は断続的に反応系に供給され
る。また、(a)成分は、(b)成分と(c)成分とは
予め混合せず、(b)成分と(c)成分とは別個に反応
系に供給するのが好ましい。
In the copolymerization process for producing the N-substituted maleimide copolymer resin, it is preferable to specially devise the method of supplying the copolymerization component to the reaction system. Specifically, (b) an aromatic vinyl compound, (c) a part of unsaturated monocarboxylic acid, and optionally a solvent are placed in a reactor in advance, and an initiator is added to carry out the polymerization reaction. Once started, along with the remaining components (b) and (c), (a) N-
It is most preferable to carry out the polymerization reaction while continuously or intermittently supplying the substituted maleimide to the reaction system, and to continue the reaction for 0.5 hours or more after all the polymerization components have been supplied. The (a) N-substituted maleimide is not placed in the reactor in advance, but only a small amount is allowed. Therefore, almost all of the component (a) is continuously or intermittently supplied to the reaction system after the polymerization reaction is started. Further, it is preferable that the component (a) is not preliminarily mixed with the component (b) and the component (c), but is supplied to the reaction system separately from the component (b) and the component (c).

【0055】(a)N−置換マレイミドは、重合開始前
に予め反応系に入れておく量と、重合反応の開始後に連
続的に又は断続的に反応系へ供給する量の比を、0乃至
5重量%/100乃至95重量%の範囲とするのが好ま
しく、0乃至1重量%/100乃至99重量%の範囲と
するのが更に好ましいが、全量(100重量%)を重合
反応の開始後に供給するのが最も好ましい。
(A) The N-substituted maleimide is added to the reaction system in advance before the polymerization is started, and the ratio of the amount supplied to the reaction system continuously or intermittently after the initiation of the polymerization reaction is 0 to. It is preferably in the range of 5% by weight / 100 to 95% by weight, more preferably in the range of 0 to 1% by weight / 100 to 99% by weight, but the total amount (100% by weight) is after the initiation of the polymerization reaction. Most preferably, it is supplied.

【0056】(b)芳香族ビニル化合物は、重合開始前
に予め反応系に入れておく量と、重合反応の開始後に連
続的に又は断続的に反応系へ供給する量の比を、1乃至
99重量%/99乃至1重量%と広範囲に調節可能であ
るが、5乃至90重量%/95乃至10重量%の範囲と
するのが好ましく、30乃至60重量%/70乃至40
重量%の範囲とするのが更に好ましい。
The amount of the aromatic vinyl compound (b) to be added to the reaction system before the initiation of the polymerization and the amount of the aromatic vinyl compound to be continuously or intermittently supplied to the reaction system after the initiation of the polymerization reaction are from 1 to It can be adjusted in a wide range of 99% by weight / 99 to 1% by weight, but is preferably in the range of 5 to 90% by weight / 95 to 10% by weight, and 30 to 60% by weight / 70 to 40% by weight.
More preferably, it is in the range of wt%.

【0057】(c)不飽和モノカルボン酸は、重合開始
前に予め反応系に入れておく量と、重合反応の開始後に
連続的に又は断続的に反応系へ供給する量の比を、1乃
至99重量%/99乃至1重量%と広範囲に調節可能で
あるが、10乃至90重量%/90乃至10重量%の範
囲とするのが好ましく、25乃至75重量%/75乃至
25重量%の範囲とするのが更に好ましく、30乃至7
0重量%/70乃至30重量%の範囲とするのが最も好
ましい。
(C) The unsaturated monocarboxylic acid is added to the reaction system in advance before the initiation of the polymerization and the ratio of the amount supplied to the reaction system continuously or intermittently after the initiation of the polymerization reaction is 1 It can be adjusted in a wide range of from 99 to 99% by weight / 99 to 1% by weight, but the range of 10 to 90% by weight / 90 to 10% by weight is preferable, and 25 to 75% by weight / 75 to 25% by weight More preferably, the range is 30 to 7
The most preferable range is 0% by weight / 70 to 30% by weight.

【0058】このような重合方法を採用することによ
り、式(1)で表される不純物の生成を抑制することが
でき、且つ、アルカリ水溶液可溶能の低下を抑制するこ
とができ、さらには、得られるN−置換マレイミド共重
合樹脂中に残存するマレイミド系単量体を効果的に低減
することができる。(a)N−置換マレイミドと(b)
芳香族ビニル化合物の全量を予め反応系に入れておいて
重合を開始すると、重合初期において(a)成分と
(b)成分の交互共重合体が優先的に生成し、その後、
引き続き、残った(c)不飽和カルボン酸に由来する構
造単位を多く持つ重合体が生成するため、(a)成分と
(b)成分からなる交互重合体と、不飽和カルボン酸系
単量体由来の構造単位の多いマレイミド系共重合体との
混合物になる。その結果、得られたマレイミド系共重合
体は、組成分布が非常に広くなり、アルカリ可溶能が低
下するため好ましくない。さらに、(a)N−置換マレ
イミドと(b)芳香族ビニル化合物を予め反応系に入れ
ておいて重合を開始すると、昇温中及び重合中に、式
(1)の不純物が副成しやすくなる。
By adopting such a polymerization method, it is possible to suppress the production of the impurities represented by the formula (1) and suppress the decrease in the aqueous alkaline solution solubility, and further, The maleimide-based monomer remaining in the obtained N-substituted maleimide copolymer resin can be effectively reduced. (A) N-substituted maleimide and (b)
When the whole amount of the aromatic vinyl compound is put in the reaction system in advance and the polymerization is started, the alternating copolymer of the component (a) and the component (b) is preferentially produced at the initial stage of the polymerization, and thereafter,
Subsequently, a polymer having a large amount of structural units derived from the remaining (c) unsaturated carboxylic acid is produced. Therefore, the alternating polymer composed of the components (a) and (b) and the unsaturated carboxylic acid monomer It is a mixture with a maleimide-based copolymer having many derived structural units. As a result, the resulting maleimide-based copolymer has a very broad composition distribution and a poor alkali-solubility, which is not preferable. Furthermore, if (a) N-substituted maleimide and (b) aromatic vinyl compound are put in the reaction system in advance and polymerization is started, impurities of the formula (1) are likely to be by-produced during heating and during polymerization. Become.

【0059】反応系に全ての(a)N−置換マレイミド
を供給し終えた後、0.5時間以上、さらに好ましくは
1時間以上重合反応を継続することで、残存するマレイ
ミド系単量体の量を低減することができる。(a)N−
置換マレイミドは、使用量の90重量%以上を、好まし
くは95重量%以上を、さらに好ましくは全量を、重合
反応の開始後に反応系へ連続的または断続的に投入する
条件で重合反応を行う必要がある。(a)N−置換マレ
イミドの初期仕込み量が使用量の10重量%を超えた条
件で重合反応を開始すると、(a)N−置換マレイミド
と(b)芳香族ビニル化合物の交互重合体の生成量が多
くなり、アルカリ可溶能が低下する恐れがあるからであ
る。
After all the (a) N-substituted maleimide has been supplied to the reaction system, the polymerization reaction is continued for 0.5 hour or longer, more preferably 1 hour or longer, whereby the remaining maleimide monomer The amount can be reduced. (A) N-
The substituted maleimide is required to carry out the polymerization reaction under the condition that 90% by weight or more, preferably 95% by weight or more, and more preferably the whole amount of the used maleimide is continuously or intermittently added to the reaction system after the initiation of the polymerization reaction. There is. When the polymerization reaction is started under the condition that the initial charge amount of (a) N-substituted maleimide exceeds 10% by weight of the amount used, an alternating polymer of (a) N-substituted maleimide and (b) aromatic vinyl compound is formed. This is because the amount may increase and the alkali-solubility may decrease.

【0060】また、(a)N−置換マレイミドと(b)
芳香族ビニル化合物とは、反応系に供給する前は混合せ
ずに、別々に反応系に供給することが好ましい。(a)
成分と(b)成分を混合供給すると、混合液中で式
(1)の不純物が副成しやすくなる。
Further, (a) N-substituted maleimide and (b)
It is preferable that the aromatic vinyl compound is not mixed before being supplied to the reaction system and is separately supplied to the reaction system. (A)
When the component and the component (b) are mixed and supplied, the impurity of the formula (1) is easily formed as a by-product in the mixed liquid.

【0061】重合反応の終了後に反応液から揮発分を除
去してN−置換マレイミド共重合樹脂を分離する方法と
しては、反応液を真空下で加熱する方法、反応液を貧溶
媒中に投入して沈殿させ濾別する方法などを採用できる
が、貧溶媒に投入して濾別する方法は設備が過大となり
工業的には不向きである。よって真空下の加熱により溶
剤及び残存モノマーを揮発除去させる方法が好ましい。
また、揮発除去された溶剤及び残存モノマーを回収する
設備を備えていることが好ましい。加熱溶媒回収設備と
しては、脱揮槽での真空加熱、2軸押出機での脱溶媒な
どが好ましく用いられる。また、脱揮槽で反応液を予備
濃縮した後、2軸押出機で脱溶媒を完結させることもで
きる。さらに、重合後、固形分を分離せず、溶液状態で
各種用途に使用する事も可能である。
As the method for removing the volatile matter from the reaction solution after the completion of the polymerization reaction to separate the N-substituted maleimide copolymer resin, the reaction solution is heated under vacuum, or the reaction solution is put into a poor solvent. Although a method of precipitating and filtering can be adopted, the method of pouring into a poor solvent and filtering is not industrially suitable because the equipment is too large. Therefore, a method of volatilizing and removing the solvent and the residual monomer by heating under vacuum is preferable.
Further, it is preferable to provide a facility for recovering the solvent and the residual monomer that have been volatilized and removed. Vacuum heating in a devolatilization tank and desolvation in a twin-screw extruder are preferably used as the heating solvent recovery equipment. In addition, after preliminarily concentrating the reaction solution in the devolatilization tank, the solvent removal can be completed with a twin-screw extruder. Further, after the polymerization, it is possible to use it for various purposes in a solution state without separating the solid content.

【0062】N−置換マレイミド共重合樹脂は、(a)
N−置換マレイミド以外の共重合成分或いは溶剤などの
残存する揮発分が2000ppm以下であることが好ま
しく、1000ppm以下であることがさらに好まし
く、500ppm以下であることが特に好ましい。残存
揮発分が多いと熱安定性が低下したり、着色の原因とな
るため好ましくない。また、N−置換マレイミド共重合
樹脂中に残存する(a)N−置換マレイミドの量を低減
させるのがさらに好ましい。具体的には、(a)N−置
換マレイミドの残存量が500ppm以下であることが
好ましく、200ppm以下であることがさらに好まし
く、100ppm以下であることが特に好ましい。
The N-substituted maleimide copolymer resin is (a)
The residual volatile content of the copolymerization components other than the N-substituted maleimide or the solvent is preferably 2000 ppm or less, more preferably 1000 ppm or less, and particularly preferably 500 ppm or less. A large amount of residual volatile matter is not preferable because it causes deterioration of thermal stability and causes coloring. Further, it is more preferable to reduce the amount of the (a) N-substituted maleimide remaining in the N-substituted maleimide copolymer resin. Specifically, the residual amount of (a) N-substituted maleimide is preferably 500 ppm or less, more preferably 200 ppm or less, and particularly preferably 100 ppm or less.

【0063】本発明のカラーフィルター用電離放射線硬
化性樹脂組成物は、B成分として、一分子中にエチレン
性不飽和二重結合を3個以上有する光重合性成分を用い
る。B成分として用いられる3官能以上の光重合性成分
は、本発明において電離放射線の作用により架橋結合を
生じて電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させる成分で
ある。このような3官能以上の光重合性成分としては、
例えば、3価以上の多価アルコールのポリアクリレート
類又はポリメタクリレート類、或いは、それらのジカル
ボン酸変性物を用いることができる。具体的には、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサメタクリレート等を例示することができる。
これらのなかでも、特に、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート
が好ましく用いられる。
The ionizing radiation curable resin composition for color filters of the present invention uses, as the component B, a photopolymerizable component having three or more ethylenically unsaturated double bonds in one molecule. The tri- or higher functional photopolymerizable component used as the component B is a component that causes cross-linking by the action of ionizing radiation in the present invention to cure the ionizing radiation curable resin composition. As such a tri- or higher functional photopolymerizable component,
For example, polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols or their dicarboxylic acid modified products can be used. Specifically, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, succinic acid modified pentaerythritol triacrylate, succinic acid modified pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol. Examples thereof include tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, and the like.
Of these, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and dipentaerythritol hexamethacrylate are particularly preferably used.

【0064】B成分である3官能以上の光重合性成分
は、本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物中に、通常、
5〜70重量%、好ましくは10〜40重量%の割合で
配合する。3官能以上の光重合性成分が上記範囲を下回
ると、現像時における未露光部の抜けが悪くなり、一
方、上記範囲を超えると、粘度が低くなり過ぎ、塗布乾
燥後の塗膜安定性が不十分なため、露光や現像の適性を
損なうなどの不都合を生じる。
The photopolymerizable component having a functionality of 3 or more, which is the component B, is usually contained in the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention.
The amount is 5 to 70% by weight, preferably 10 to 40% by weight. When the amount of the trifunctional or higher photopolymerizable component is less than the above range, the unexposed portion is not easily removed during development. On the other hand, when the amount exceeds the above range, the viscosity becomes too low and the coating stability after coating and drying is poor. Since it is insufficient, it causes inconvenience such as impairing the suitability for exposure and development.

【0065】電離放射線硬化性樹脂組成物には、3官能
以上の光重合性成分と共に、反応希釈剤として単官能性
又は2官能性の光共重合性成分を必要に応じて配合する
ことができる。そのような光共重合性成分としては、具
体的には、(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、プロピル(メタ)アクリレート等を例示する
ことができる。なお、「(メタ)アクリレート」とは、
アクリレート又はメタクリレートのいずれでもよいこと
を意味する。
If necessary, a monofunctional or difunctional photocopolymerizable component as a reaction diluent may be added to the ionizing radiation curable resin composition together with a photopolymerizable component having three or more functional groups. . Specific examples of such a photocopolymerizable component include (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and propyl (meth) acrylate. In addition, "(meth) acrylate" means
It means that either acrylate or methacrylate may be used.

【0066】本発明のカラーフィルター用電離放射線硬
化性樹脂組成物には、C成分として、光重合開始剤が配
合される。C成分として用いられる光重合開始剤として
は、波長が365nm以下の電離放射線によりラジカ
ル、カチオン、アニオン等の活性種を生じて、前記B成
分である3官能以上の光重合性成分の重合反応を開始で
きるものを使用する。また、光重合開始剤は、電離放射
線硬化性樹脂組成物の溶剤に対する溶解性の高いことが
好ましい。このような光開始剤としては、例えば、紫外
線のエネルギーによりフリーラジカルを発生する化合物
であって、ベンゾイン、ベンゾフェノンなどのベンゾフ
ェノン誘導体又はそれらのエステルなどの誘導体;キサ
ントン並びにチオキサントン誘導体;クロロスルフォニ
ル、クロロメチル多核芳香族化合物、クロロメチル複素
環式化合物、クロロメチルベンゾフェノン類などの含ハ
ロゲン化合物;トリアジン類;イミダゾリン類;フルオ
レノン類;ハロアルカン類;光還元性色素と還元剤との
レドックスカップル類;有機硫黄化合物;過酸化物など
を例示することができる。これらのなかでも、トリアジ
ン類やイミダゾリン類などが好ましく用いられる。これ
らの開始剤は、1種のみ又は2種以上を組み合わせて用
いることができる。
A photopolymerization initiator is added as the component C to the ionizing radiation-curable resin composition for color filters of the present invention. As the photopolymerization initiator used as the C component, active species such as radicals, cations and anions are generated by ionizing radiation having a wavelength of 365 nm or less, and the polymerization reaction of the trifunctional or more photopolymerizable component as the B component is performed. Use what you can get started. Further, the photopolymerization initiator preferably has high solubility in the solvent of the ionizing radiation curable resin composition. Examples of such a photoinitiator are compounds that generate free radicals by the energy of ultraviolet rays, and include benzophenone derivatives such as benzoin and benzophenone or derivatives thereof such as esters; xanthone and thioxanthone derivatives; chlorosulfonyl, chloromethyl. Halogen-containing compounds such as polynuclear aromatic compounds, chloromethyl heterocyclic compounds, and chloromethylbenzophenones; triazines; imidazolines; fluorenones; haloalkanes; redox couples of photoreducible dyes and reducing agents; organic sulfur compounds Examples thereof include peroxides. Among these, triazines and imidazolines are preferably used. These initiators can be used alone or in combination of two or more.

【0067】C成分である光重合開始剤は、本発明の電
離放射線硬化性樹脂組成物中に、通常、0.05〜20
重量%、好ましくは2〜15重量%の割合で配合する。
光重合開始剤の配合割合が上記範囲を下回ると、塗膜の
硬化性が不充分であり、一方、上記範囲を超えると、現
像時における未露光部の抜けが悪くなったり、ポストベ
ーク後に塗膜が黄変するなどの不都合を生じる。
The photopolymerization initiator which is the component C is usually contained in the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention in an amount of 0.05 to 20.
It is blended in a ratio of wt%, preferably 2 to 15 wt%.
When the blending ratio of the photopolymerization initiator is less than the above range, the curability of the coating film is insufficient. On the other hand, when it exceeds the above range, the unexposed portion is not easily removed during development, or the coating after post-baking is performed. This causes inconvenience such as yellowing of the film.

【0068】電離放射線硬化性樹脂組成物の感度を向上
させたい場合には、当該樹脂組成物中に増感剤を添加し
てもよい。用いる増感剤としては、スチリル系化合物或
いはクマリン系化合物が好ましい。具体的には、スチリ
ル系化合物としては、2−(p−ジメチルアミノスチリ
ル)キノリン、2−(p−ジエチルアミノスチリル)キ
ノリン、4−(p−ジメチルアミノスチリル)キノリン
等を例示することができ、クマリン系化合物としては、
7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン、7−エチル
アミノ−4−トリフルオロメチルクマリン、4,6−ジ
エチルアミノ−7−エチルアミノクマリン等を例示する
ことができる。
When it is desired to improve the sensitivity of the ionizing radiation curable resin composition, a sensitizer may be added to the resin composition. The sensitizer used is preferably a styryl compound or a coumarin compound. Specific examples of the styryl compound include 2- (p-dimethylaminostyryl) quinoline, 2- (p-diethylaminostyryl) quinoline, 4- (p-dimethylaminostyryl) quinoline, and the like. As a coumarin compound,
Examples thereof include 7-diethylamino-4-methylcoumarin, 7-ethylamino-4-trifluoromethylcoumarin, and 4,6-diethylamino-7-ethylaminocoumarin.

【0069】本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物を用
いてカラーフィルターの着色層を形成する場合には、当
該樹脂組成物中にD成分として顔料や染料等の色材を配
合する。色材としては、画素部のR、G、B等の求める
色に合わせて、有機着色剤及び無機着色剤の中からカラ
ーフィルターの加熱プロセスに耐え得る耐熱性があり、
且つ、良好に分散し得る微粒子のものを選んで使用する
ことができる。
When the colored layer of the color filter is formed using the ionizing radiation curable resin composition of the present invention, a coloring material such as a pigment or a dye is blended as the D component in the resin composition. As the color material, there is heat resistance that can withstand the heating process of the color filter from among the organic colorant and the inorganic colorant in accordance with the desired color of R, G, B, etc. of the pixel portion,
In addition, fine particles that can be well dispersed can be selected and used.

【0070】有機着色剤としては、例えば、染料、有機
顔料、天然色素等を用いることができる。また、無機着
色剤としては、例えば、無機顔料、体質顔料等を用いる
ことができる。
As the organic colorant, for example, a dye, an organic pigment, a natural pigment or the like can be used. Further, as the inorganic colorant, for example, an inorganic pigment, an extender pigment or the like can be used.

【0071】有機顔料の具体例としては、カラーインデ
ックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists
社発行) においてピグメント(Pigment)に分類されてい
る化合物、すなわち、下記のようなカラーインデックス
(C.I.)番号が付されているものを挙げることができ
る。C.I.ピグメントイエロー1、C.I.ピグメントイエロ
ー3、C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイ
エロー13等のイエロー系ピグメント;C.I.ピグメント
レッド1、C.I.ピグメントレッド2、C.I.ピグメントレ
ッド3等のレッド系ピグメント;及び、C.I.ピグメント
ブルー15、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグ
メントブルー15:4等のブルー系ピグメント。
Specific examples of the organic pigment include color index (CI; The Society of Dyers and Colorists).
(Published by the company), compounds classified as Pigment, that is, compounds having the following color index (CI) numbers can be mentioned. CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13 and other yellow pigments; CI Pigment Red 1, CI Pigment Red 2, CI Pigment Red 3 and other red pigments; and CI Pigment Blue 15, CI pigment blue 15: 3, CI pigment blue 15: 4 and other blue pigments.

【0072】また、前記無機顔料あるいは体質顔料の具
体例としては、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤
色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロ
ム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄
黒、カーボンブラック等を挙げることができる。本発明
において色材は、単独でまたは2種以上を混合して使用
することができる。
Specific examples of the inorganic pigment or extender pigment include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (red iron (III) oxide), and cadmium red. , Ultramarine, dark blue, chrome oxide green, cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like. In the present invention, the coloring materials may be used alone or in combination of two or more.

【0073】色材は、本発明の電離放射線硬化性樹脂組
成物中に、通常、40〜75重量%、好ましくは45〜
70重量%の割合で配合する。色材の配合割合が上記範
囲を下回ると、各着色層の着色力が不十分であり、鮮明
な画像の表示が困難であり、一方、上記範囲を超える
と、各着色層における光透過率が不十分となるなどの不
都合を生じる。
The colorant is usually contained in the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention in an amount of 40 to 75% by weight, preferably 45 to 75% by weight.
It is mixed at a ratio of 70% by weight. When the mixing ratio of the coloring material is less than the above range, the coloring power of each colored layer is insufficient, and it is difficult to display a clear image. On the other hand, when it exceeds the above range, the light transmittance of each colored layer is low. It causes inconvenience such as insufficient.

【0074】電離放射線硬化性樹脂組成物に色材を配合
する場合には、色材を均一且つ安定して分散させるため
に、電離放射線硬化性樹脂組成物中に分散剤を配合して
もよい。分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオ
ン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の
界面活性剤を使用できる。界面活性剤の中でも、次に例
示するような高分子界面活性剤(高分子分散剤)が好ま
しい。
When the coloring material is blended with the ionizing radiation-curable resin composition, a dispersant may be blended with the ionizing radiation-curable resin composition in order to uniformly and stably disperse the coloring material. . As the dispersant, for example, cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone, fluorine-based surfactants, etc. can be used. Among the surfactants, the following polymer surfactants (polymer dispersants) are preferable.

【0075】すなわち、ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリ
オキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンオクチルフ
ェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチ
レングリコールジステアレート等のポリエチレングリコ
ールジエステル類;ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪
酸変性ポリエステル類;3級アミン変性ポリウレタン類
などの高分子界面活性剤が好ましく用いられる。
That is, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene alkyl such as polyoxyethylene octyl phenyl ether and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Polymer surfactants such as phenyl ethers; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid modified polyesters; tertiary amine modified polyurethanes are preferably used.

【0076】本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物に
は、加熱により酸と反応して硬化する熱硬化性樹脂を配
合してもよい。本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物に
酸反応性の熱硬化性樹脂を混合し、当該樹脂組成物を基
材表面に塗工し、所望のパターン状に露光、現像するこ
とにより硬化パターンを形成した後、当該硬化パターン
を所定の温度に加熱すると、硬化パターン中に残留して
いるカルボキシル基と反応してカルボキシル基を消費し
て耐アルカリ性を向上させると共に、熱硬化性樹脂の架
橋反応により硬化パターンの物性が向上する。その結
果、本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物により形成し
た皮膜又はパターンの耐熱性、密着性、耐温純水性、耐
薬品性(特に耐アルカリ性)が向上する。
The ionizing radiation-curable resin composition of the present invention may be blended with a thermosetting resin which reacts with an acid to be cured by heating. An acid-reactive thermosetting resin is mixed with the ionizing radiation curable resin composition of the present invention, the resin composition is applied to the surface of the substrate, and a cured pattern is formed by exposing and developing the resin composition in a desired pattern. After the formation, when the cured pattern is heated to a predetermined temperature, it reacts with the carboxyl groups remaining in the cured pattern to consume the carboxyl groups and improve the alkali resistance, and at the same time, due to the crosslinking reaction of the thermosetting resin. The physical properties of the cured pattern are improved. As a result, the heat resistance, adhesion, hot pure water resistance and chemical resistance (particularly alkali resistance) of the film or pattern formed from the ionizing radiation curable resin composition of the present invention are improved.

【0077】酸反応性の熱硬化性樹脂としては、エポキ
シ樹脂、特に一分子中にエポキシ基を2個以上有するエ
ポキシ樹脂が好ましく、具体的には、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂等を例示することができる。
The acid-reactive thermosetting resin is preferably an epoxy resin, particularly an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. Specifically, bisphenol A
Type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin and the like.

【0078】熱硬化性樹脂は、本発明の電離放射線硬化
性樹脂組成物中に、通常、1〜20重量%、好ましくは
3〜15重量%の割合で配合する。熱硬化性樹脂の配合
割合が上記範囲を下回ると、塗膜に十分な耐アルカリ性
を付与することが出来ず、一方、上記範囲を超えると、
感光性樹脂組成物の保存安定性、現像性が低下するなど
の不都合を生じる。
The thermosetting resin is usually added to the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention in an amount of 1 to 20% by weight, preferably 3 to 15% by weight. If the blending ratio of the thermosetting resin is less than the above range, sufficient alkali resistance cannot be imparted to the coating film, while if it exceeds the above range,
Inconveniences such as deterioration in storage stability and developability of the photosensitive resin composition occur.

【0079】本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物に
は、上記した以外の各種の添加剤も必要に応じて配合す
ることができる。例えば、ビニルシラン、アクリルシラ
ン、エポキシシラン等のシランカップリング剤を電離放
射線硬化性樹脂組成物に配合して、基材や隣接する他の
塗布層との密着性を向上させることが可能である。
The ionizing radiation-curable resin composition of the present invention may contain various additives other than those mentioned above, if necessary. For example, a silane coupling agent such as vinyl silane, acryl silane, or epoxy silane can be added to the ionizing radiation curable resin composition to improve the adhesiveness with the base material or another adjacent coating layer.

【0080】本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物は、
塗料化及び塗布適性を考慮して通常、溶剤を用いて希釈
する。溶剤としては、N−置換マレイミド共重合樹脂、
3官能性の光重合性成分、光開始剤などの配合成分を溶
解し、高沸点であり、スピンコーティング性が良いこと
が望まれる。使用可能な溶剤としては、例えばメチルア
ルコール、エチルアルコール、N−プロピルアルコー
ル、i−プロピルアルコールなどのアルコール系溶剤;
メトキシアルコール、エトキシアルコールなどのセロソ
ルブ系溶剤;メトキシエトキシエタノール、エトキシエ
トキシエタノールなどのカルビトール系溶剤;酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキ
シプロピオン酸エチル、乳酸エチルなどのエステル系溶
剤;アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのケトン系溶剤;メトキシエチルアセテート、
エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテー
トなどのセロソルブアセテート系溶剤;メトキシエトキ
シエチルアセテート、エトキシエトキシエチルアセテー
トなどのカルビトールアセテート系溶剤;ジエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル系溶剤;N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
などの非プロトン性アミド溶剤;γ−ブチロラクトンな
どのラクトン系溶剤;ベンゼン、トルエン、キシレン、
ナフタレンなどの不飽和炭化水素系溶剤;N−ヘプタ
ン、N−ヘキサン、N−オクタンなどの飽和炭化水素系
溶剤などの有機溶剤を例示することができる。これらの
溶剤の中では、酢酸-3-メトキシブチル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールジメチルエーテル等が好ましい。
The ionizing radiation curable resin composition of the present invention comprises
In consideration of paintability and coating suitability, it is usually diluted with a solvent. As the solvent, N-substituted maleimide copolymer resin,
It is desired that the compounding components such as the trifunctional photopolymerizable component and the photoinitiator are dissolved, the boiling point is high, and the spin coating property is good. Examples of usable solvents include alcohol solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, N-propyl alcohol and i-propyl alcohol;
Cellosolve solvents such as methoxy alcohol and ethoxy alcohol; carbitol solvents such as methoxy ethoxy ethanol and ethoxy ethoxy ethanol; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate and ethyl lactate; acetone , Methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and other ketone solvents; methoxyethyl acetate,
Cellosolve acetate solvents such as ethoxyethyl acetate and ethyl cellosolve acetate; Carbitol acetate solvents such as methoxyethoxyethyl acetate and ethoxyethoxyethyl acetate; ether solvents such as diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and tetrahydrofuran; N, N-dimethylformamide,
Aprotic amide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; lactone solvents such as γ-butyrolactone; benzene, toluene, xylene,
Examples thereof include unsaturated hydrocarbon solvents such as naphthalene; and organic solvents such as saturated hydrocarbon solvents such as N-heptane, N-hexane and N-octane. Among these solvents, 3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether and the like are preferable.

【0081】溶剤の使用量は、配合成分の溶解状態や塗
布性を考慮して適宜調節するが、通常は、固形分濃度が
5%〜50%程度となるように調節される。
The amount of the solvent used is appropriately adjusted in consideration of the dissolved state of the blended components and the coatability, but usually the solid content concentration is adjusted to about 5% to 50%.

【0082】本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物を製
造するには、A成分であるN−置換マレイミド共重合樹
脂、B成分である3官能性の光重合性成分、C成分であ
る光重合開始剤、及び、必要に応じて、D成分である色
材、更には他の配合成分を任意の順序で混合し、或い
は、任意の順序で溶剤に投入し、ペイントシェーカー、
ビーズミル、サンドグラインドミル、ボールミル、アト
ライターミル、2本ロールミル、3本ロールミル、等の
装置を用いて攪拌して均一に溶解、分散する。
In order to produce the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention, the component A is an N-substituted maleimide copolymer resin, the component B is a trifunctional photopolymerizable component, and the component C is a photopolymerization component. An initiator and, if necessary, a colorant which is the D component, and further other compounding ingredients are mixed in an arbitrary order, or are added to a solvent in an arbitrary order, and a paint shaker,
A bead mill, a sand grind mill, a ball mill, an attritor mill, a two-roll mill, a three-roll mill, etc. are used to stir and uniformly dissolve and disperse.

【0083】(2)本発明に係るカラーフィルター 本発明の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて、硬化皮
膜(所定のパターンに形成されたものを含む)を形成す
る方法について、以下説明する。先ず、本発明の電離放
射線硬化性樹脂組成物を被塗布体の表面に塗布し、形成
した塗工膜に紫外線や電子線等の電離放射線を照射して
露光、硬化させる。塗工膜に電離放射線を照射すると、
塗工膜中において先ず電離放射線の作用により光開始剤
(C成分)から活性種が生じ、この活性種の作用によっ
て3官能性の光重合性成分(B成分)の架橋反応が開始
し、塗工膜が硬化する。
(2) Color Filter According to the Present Invention A method for forming a cured film (including one formed in a predetermined pattern) using the ionizing radiation curable resin composition of the present invention will be described below. First, the ionizing radiation curable resin composition of the present invention is applied to the surface of an object to be coated, and the formed coating film is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams to be exposed and cured. When the coating film is irradiated with ionizing radiation,
In the coating film, active species are first generated from the photoinitiator (component C) by the action of ionizing radiation, and the crosslink reaction of the trifunctional photopolymerizable component (component B) is initiated by the action of the active species, and The coating film hardens.

【0084】この時、塗工膜を画素や柱状スペーサーの
ような所定のパターンに形成したい場合には、フォトマ
スクを介して露光を行うなどして、所定のパターン状に
露光し、現像する。塗工膜は、A成分であるN−置換マ
レイミド共重合樹脂がカルボキシル基を有しているの
で、アルカリ現像することができる。N−置換マレイミ
ド共重合樹脂は、上記(a)、(b)及び(c)の共重
合成分に由来する構造単位のみで構成されている場合に
は、光重合反応性を持っていないが、皮膜の成膜性、強
度、密着性、透明性、アルカリ現像性等を付与するため
に必須のバインダー成分である。また、N−置換マレイ
ミド共重合樹脂の分子中に、エチレン性二重結合等の電
離放射線硬化性官能基を有する側鎖を導入することによ
り、N−置換マレイミド共重合樹脂は、B成分である3
官能性の光重合性成分と架橋反応できるようになり、皮
膜の露光感度、強度等の物性が向上する。
At this time, when it is desired to form the coating film in a predetermined pattern such as pixels or columnar spacers, the coating film is exposed through a photomask or the like to be exposed in a predetermined pattern and developed. The coating film can be alkali-developed because the N-substituted maleimide copolymer resin as the component A has a carboxyl group. The N-substituted maleimide copolymer resin does not have photopolymerization reactivity when it is composed of only structural units derived from the copolymerization components (a), (b) and (c), It is an essential binder component for imparting film forming properties, strength, adhesion, transparency, alkali developability and the like. Further, by introducing a side chain having an ionizing radiation-curable functional group such as an ethylenic double bond into the molecule of the N-substituted maleimide copolymer resin, the N-substituted maleimide copolymer resin is a component B. Three
It becomes possible to carry out a crosslinking reaction with a functional photopolymerizable component, and the physical properties such as exposure sensitivity and strength of the film are improved.

【0085】塗工膜を露光硬化し、必要に応じて現像し
た後、当該塗工膜をさらに加熱硬化させると硬化皮膜が
得られる。露光硬化させた塗工膜に、B成分のエチレン
性二重結合が残留している場合には、加熱工程によって
架橋反応をさらに進行させることができる。さらに、塗
工膜中に2官能のエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が含有
されている場合には、塗膜中に残留しているA成分のカ
ルボキシル基と反応して、カルボキシル基を消費すると
共に、架橋結合を生じる。その結果、硬化皮膜の耐熱
性、密着性、耐温純水性、耐薬品性(特に耐アルカリ
性)が向上する。
The coating film is exposed to light and cured and, if necessary, developed, and then the coating film is further heated and cured to obtain a cured film. When the exposure-cured coating film has an ethylenic double bond of the component B remaining, the crosslinking reaction can be further advanced by the heating step. Further, when the coating film contains a thermosetting resin such as a bifunctional epoxy resin, it reacts with the carboxyl group of the component A remaining in the coating film to consume the carboxyl group. At the same time, cross-linking occurs. As a result, the heat resistance, adhesion, hot pure water resistance and chemical resistance (particularly alkali resistance) of the cured film are improved.

【0086】本発明の電離放射線硬化性樹脂を用いて得
られる硬化皮膜は、被塗布体表面に対する密着性、皮膜
強度、耐熱性、耐温純水性、耐薬品性等の諸物性に優
れ、且つ、アルカリ現像によって正確にパターン形成す
ることができる。さらには、透明性及び色調に関する耐
熱安定性に優れており、特に、カラーフィルター製造工
程において配向膜を形成する際の加熱工程などの高温環
境に晒されても黄変を来たすことなく、透明性の高い保
護膜、及び、所望の色調を有する着色層を形成すること
ができる。
A cured film obtained using the ionizing radiation-curable resin of the present invention is excellent in various physical properties such as adhesion to the surface of an object to be coated, film strength, heat resistance, hot pure water resistance, and chemical resistance, and Accurate pattern formation can be achieved by alkali development. Furthermore, it is excellent in heat resistance stability with respect to transparency and color tone, and in particular, even when exposed to a high temperature environment such as a heating step when forming an alignment film in a color filter manufacturing process, yellowing does not occur, and the transparency is high. It is possible to form a high protective film and a colored layer having a desired color tone.

【0087】具体的には、本発明の電離放射線硬化性樹
脂組成物をガラス基板上にスピンコートにより塗布し、
100mJ/cm2の照射量で露光後、200℃で30
分間加熱して膜厚2μmに形成した塗膜は、当該塗膜を
さらに250℃で1時間加熱した後において、380n
mの光の透過率を90%以上に保持し得るものである。
Specifically, the ionizing radiation curable resin composition of the present invention is applied onto a glass substrate by spin coating,
After exposure with a dose of 100 mJ / cm 2 , 30 at 200 ° C
A coating film formed by heating for 2 minutes to a film thickness of 2 μm was 380 n after heating the coating film at 250 ° C. for 1 hour.
The light transmittance of m can be maintained at 90% or more.

【0088】さらに本発明の電離放射線硬化性樹脂組成
物から作成した塗膜は非常に硬く、透明性、色調に関す
る耐熱安定性と共に、十分な硬度を有している。具体的
には、上記と同じ条件、すなわち、電離放射線硬化性樹
脂組成物をガラス基板上にスピンコートにより塗布し、
100mJ/cm2の照射量で露光後、200℃で30
分間加熱して膜厚5μmの塗膜を形成した時に、当該塗
膜について表面温度180℃、ビッカース圧子を最大荷
重20mNとなる条件で表面硬度を測定した時にユニバ
ーサル硬さ(試験荷重/試験荷重下でのビッカース圧子
の表面積)が200N/mm2以上となるものである。
Further, the coating film prepared from the ionizing radiation-curable resin composition of the present invention is very hard and has sufficient hardness in addition to transparency and heat resistance regarding color tone. Specifically, the same conditions as above, that is, the ionizing radiation curable resin composition is applied onto a glass substrate by spin coating,
After exposure with a dose of 100 mJ / cm 2 , 30 at 200 ° C
When a coating film having a film thickness of 5 μm is formed by heating for a minute, the surface hardness of the coating film is 180 ° C. and the Vickers indenter has a maximum load of 20 mN. Surface area of the Vickers indenter) is 200 N / mm 2 or more.

【0089】本発明の電離放射線硬化性樹脂は、カラー
フィルターの着色層、当該着色層を被覆する保護層、及
び、液晶パネルのセルギャップを維持するための柱状ス
ペーサーを形成するのに適している。
The ionizing radiation curable resin of the present invention is suitable for forming a colored layer of a color filter, a protective layer for covering the colored layer, and a columnar spacer for maintaining a cell gap of a liquid crystal panel. .

【0090】カラーフィルターは、透明基板に所定のパ
ターンで形成されたブラックマトリックスと、当該ブラ
ックマトリックス上に所定のパターンで形成した着色層
と、当該着色層を覆うように形成された保護膜を備えて
いる。保護膜上に必要に応じて液晶駆動用の透明電極が
形成される場合もある。また、ブラックマトリックス層
が形成された領域に合わせて、透明電極板上若しくは着
色層上若しくは保護膜上に柱状スペーサーが形成される
場合もある。
The color filter comprises a black matrix formed in a predetermined pattern on a transparent substrate, a colored layer formed in a predetermined pattern on the black matrix, and a protective film formed so as to cover the colored layer. ing. A transparent electrode for driving a liquid crystal may be formed on the protective film as needed. In addition, a columnar spacer may be formed on the transparent electrode plate, the colored layer, or the protective film in accordance with the region where the black matrix layer is formed.

【0091】着色層は赤色パターン、緑色パターン及び
青色パターンがモザイク型、ストライプ型、トライアン
グル型、4画素配置型等の所望の形態で配列されてな
り、ブラックマトリックスは各着色パターンの間及び着
色層形成領域の外側の所定領域に設けられている。着色
層は、様々な方法で形成できるが、本発明の電離放射線
硬化性樹脂を用いて顔料分散法により形成するのが好ま
しい。すなわち、本発明の電離放射線硬化性樹脂に着色
顔料を分散させて塗工材料を調製し、透明基板の一面側
に塗布し、フォトマスクを介して紫外線等の電離放射線
を照射することにより露光し、アルカリ現像後、クリー
ンオーブン等で加熱硬化することにより着色層を形成で
きる。着色層は、通常、1.5μm程度の厚さに形成す
る。
The colored layer is formed by arranging a red pattern, a green pattern, and a blue pattern in a desired form such as a mosaic type, a stripe type, a triangle type, and a four-pixel arrangement type, and a black matrix is provided between the colored patterns and between the colored layers. It is provided in a predetermined area outside the formation area. The colored layer can be formed by various methods, but it is preferably formed by the pigment dispersion method using the ionizing radiation curable resin of the present invention. That is, a coating material is prepared by dispersing a color pigment in the ionizing radiation curable resin of the present invention, applied on one surface side of a transparent substrate, and exposed by irradiating ionizing radiation such as ultraviolet rays through a photomask. After the alkali development, the colored layer can be formed by heating and curing in a clean oven or the like. The colored layer is usually formed to have a thickness of about 1.5 μm.

【0092】ブラックマトリックスは、染色法、顔料分
散法、印刷法、電着法のいずれを用いても形成すること
ができ、また、クロム蒸着等により形成してもよい。
The black matrix can be formed by any of the dyeing method, the pigment dispersion method, the printing method and the electrodeposition method, or may be formed by chromium vapor deposition or the like.

【0093】保護膜は、本発明の電離放射線硬化性樹脂
の塗工液を、スピンコーター、ロールコーター、スプレ
イ、印刷等の方法により塗布して形成することができ
る。保護膜は、例えば、2μm程度の厚さに形成する。
スピンコーターを使用する場合、回転数は500〜15
00回転/分の範囲内で設定する。電離放射線硬化性樹
脂の塗工膜は、フォトマスクを介して電離放射線を照射
することにより露光され、アルカリ現像後、クリーンオ
ーブン等で加熱硬化されて保護膜となる。
The protective film can be formed by applying the coating liquid of the ionizing radiation curable resin of the present invention by a method such as spin coater, roll coater, spraying or printing. The protective film is formed to have a thickness of about 2 μm, for example.
When using a spin coater, the rotation speed is 500 to 15
Set within the range of 00 revolutions / minute. The coating film of the ionizing radiation curable resin is exposed by irradiating it with ionizing radiation through a photomask, and after alkali development, it is heated and cured in a clean oven or the like to form a protective film.

【0094】保護膜上の透明電極は、酸化インジウムス
ズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(Sn
O)等、およびそれらの合金等を用いて、スパッタリン
グ法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な方法により形
成され、必要に応じてフォトレジストを用いたエッチン
グ又は治具の使用により所定のパターンとしたものであ
る。この透明電極の厚みは20〜500nm程度、好ま
しくは100〜300nm程度とすることできる。
The transparent electrode on the protective film is made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (Sn).
O), etc., and their alloys, etc., are formed by a general method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, a CVD method, etc., and if necessary, by etching using a photoresist or using a jig, It is a pattern. The thickness of the transparent electrode can be about 20 to 500 nm, preferably about 100 to 300 nm.

【0095】透明電極上の柱状スペーサーも、本発明の
電離放射線硬化性樹脂の塗工液を、スピンコーター、ロ
ールコーター、スプレイ、印刷等の方法により塗布し、
フォトマスクを介する電離放射線照射により露光し、ア
ルカリ現像後、クリーンオーブン等で加熱硬化すること
により形成できる。柱状スペーサーは、例えば、5μm
程度の高さに形成される。スピンコーターの回転数も保
護膜を形成する場合と同様に、500〜1500回転/
分の範囲内で設定すればよい。
The columnar spacer on the transparent electrode is also coated with the coating liquid of the ionizing radiation-curable resin of the present invention by a method such as spin coater, roll coater, spraying or printing.
It can be formed by exposing to ionizing radiation through a photomask, alkali development, and then heat curing in a clean oven or the like. The columnar spacer is, for example, 5 μm
It is formed to a high level. The rotation speed of the spin coater is 500 to 1500 rotations / similar to the case of forming the protective film.
It may be set within the range of minutes.

【0096】このようにして製造されたカラーフィルタ
ーの内面側に配向膜を形成し、電極基板と対向させ、間
隙部に液晶を満たして密封することにより、液晶パネル
が得られる。
A liquid crystal panel is obtained by forming an alignment film on the inner surface side of the color filter thus manufactured, facing the electrode substrate, filling the gap with liquid crystal and sealing the liquid crystal.

【0097】[0097]

【実施例】(実施例1) (N−置換マレイミド共重合樹脂溶液1の合成)重合槽
中にスチレン3.7重量部、メタクリル酸3.7重量
部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)
55重量部、α−メチルスチレンダイマー1.0重量部
を仕込み、重合系を110℃に昇温した後、開始剤であ
るt−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート0.
05重量部を添加し重合を開始すると共に、滴下系
(A)としてスチレン6.3重量部、メタクリル酸6.
3重量部、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ート0.05重量部を、滴下系(B)としてN−シクロヘ
キシルマレイミド(CHMI)12重量部をDMDG12
重量部で60℃で溶解したものを3時間かけて連続的に
供給し、更に2時間重合を継続した。その重合液をDM
DGで希釈した後、ヘキサン中に注いで沈澱析出物とし
てマレイミド系共重合体を得た。得られたマレイミド共
重合体の酸価は、238mgKOH/g、重合平均分子
量はポリスチレン換算で28000、ガラス移転点は2
01℃であった。得られたポリマーをDMDGに再溶解
し、固形分20%溶液のN−置換マレイミド共重合樹脂
溶液1を得た。
(Example 1) (Synthesis of N-substituted maleimide copolymer resin solution 1) 3.7 parts by weight of styrene, 3.7 parts by weight of methacrylic acid, and diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) in a polymerization tank.
55 parts by weight and 1.0 part by weight of α-methylstyrene dimer were charged, and the temperature of the polymerization system was raised to 110 ° C., and then t-butylperoxyisopropyl carbonate as an initiator was added.
Polymerization was started by adding 05 parts by weight, and 6.3 parts by weight of styrene and 6.
3 parts by weight, 0.05 parts by weight of t-butylperoxyisopropyl carbonate, 12 parts by weight of N-cyclohexylmaleimide (CHMI) as a dropping system (B) were added to DMDG12.
What was melt | dissolved at 60 degreeC in weight part was continuously supplied over 3 hours, and superposition | polymerization was continued for 2 hours. DM the polymerization solution
After diluted with DG, it was poured into hexane to obtain a maleimide copolymer as a precipitate. The acid value of the obtained maleimide copolymer is 238 mgKOH / g, the polymerization average molecular weight is 28,000 in terms of polystyrene, and the glass transition point is 2.
It was 01 ° C. The obtained polymer was redissolved in DMDG to obtain N-substituted maleimide copolymer resin solution 1 having a solid content of 20%.

【0098】(硬化性樹脂組成物1の調製) 下記分量の各材料 ・上記N−置換マレイミド共重合樹脂溶液1(固形分2
0%):69.0重量部 ・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サート
マー社、SR399):11.0重量部 ・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シ
ェルエポキシ社製、エピコート180S70):15.
0重量部 ・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−
モルフォリノプロパノン−1:2.1重量部 ・2,2’−ビス(O−クロロフェニル)−4,5,
4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ル:1.5重量部 ・ジエチレングリコールジメチルエーテル:66.0重
量部 を室温で攪拌・混合し、硬化性樹脂組成物1を得た。
(Preparation of Curable Resin Composition 1) The following amounts of each material and the above N-substituted maleimide copolymer resin solution 1 (solid content 2
0%): 69.0 parts by weight-dipentaerythritol pentaacrylate (SR399, Sartomer): 11.0 parts by weight-Orthocresol novolac type epoxy resin (Epicote 180S70, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.): 15.
0 parts by weight 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-
Morpholinopropanone-1: 2.1 parts by weight of 2,2'-bis (O-chlorophenyl) -4,5,
4 ′, 5′-Tetraphenyl-1,2′-biimidazole: 1.5 parts by weight / diethylene glycol dimethyl ether: 66.0 parts by weight were stirred and mixed at room temperature to obtain a curable resin composition 1.

【0099】(実施例2) (N−置換マレイミド共重合樹脂溶液2の合成)スチレ
ン2.8重量部、メタクリル酸4.6重量部、滴下系の
スチレンを4.2重量部、メタクリル酸を8.4重量部
に変更した以外は実施例1の合成方法と同様の操作を行
い、その重合液をDMDGで希釈した後、ヘキサン中に
注いで沈澱析出物としてマレイミド系共重合体を得た。
得られたマレイミド共重合体の酸価は、285mgKO
H/g、重合平均分子量はポリスチレン換算で2400
0、ガラス移転点は208℃であった。得られたポリマ
ーはDMDGに再溶解し、固形分20%溶液のN−置換
マレイミド共重合樹脂溶液2を得た。
(Example 2) (Synthesis of N-substituted maleimide copolymer resin solution 2) 2.8 parts by weight of styrene, 4.6 parts by weight of methacrylic acid, 4.2 parts by weight of styrene in a dropping system, and methacrylic acid were added. The same operation as in the synthesis method of Example 1 was carried out except that the amount was changed to 8.4 parts by weight, and the polymerization solution was diluted with DMDG and then poured into hexane to obtain a maleimide copolymer as a precipitate. .
The acid value of the obtained maleimide copolymer is 285 mgKO.
H / g, polymerization average molecular weight is 2400 in terms of polystyrene
0, the glass transition point was 208 ° C. The obtained polymer was redissolved in DMDG to obtain N-substituted maleimide copolymer resin solution 2 having a solid content of 20%.

【0100】(硬化性樹脂組成物2の調製)用いた樹脂
をN−置換マレイミド共重合樹脂溶液2に変更した以外
は実施例1と同様に組成物の調製を行い、硬化性樹脂組
成物2を得た。
(Preparation of Curable Resin Composition 2) A curable resin composition 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin used was N-substituted maleimide copolymer resin solution 2. Got

【0101】(実施例3) (N−置換マレイミド共重合樹脂溶液3の合成)CHM
Iのかわりに、N−フェニルマレイミドを使用した以外
は実施例1の合成方法と同様の操作を行い、その重合液
をDMDGで希釈した後、ヘキサン中に注いで沈澱析出
物としてマレイミド系共重合体を得た。得られたマレイ
ミド共重合体の酸価は、234mgKOH/g、重合平
均分子量はポリスチレン換算で26000、ガラス移転
点は206℃であった。得られたポリマーはDMDGに
再溶解し、固形分20%溶液のN−置換マレイミド共重
合樹脂溶液3を得た。
(Example 3) (Synthesis of N-substituted maleimide copolymer resin solution 3) CHM
The same operation as in the synthesis method of Example 1 was carried out except that N-phenylmaleimide was used instead of I, and the polymerization solution was diluted with DMDG and then poured into hexane to give a maleimide-based copolymerization product as a precipitate. Got united. The acid value of the obtained maleimide copolymer was 234 mgKOH / g, the polymerization average molecular weight was 26000 in terms of polystyrene, and the glass transition point was 206 ° C. The obtained polymer was redissolved in DMDG to obtain N-substituted maleimide copolymer resin solution 3 having a solid content of 20%.

【0102】(硬化性樹脂組成物3の調製)用いた樹脂
をN−置換マレイミド共重合樹脂溶液3に変更した以外
は実施例1と同様に組成物の調製を行い、硬化性樹脂組
成物3を得た。 (実施例4) (N−置換マレイミド共重合樹脂溶液4の合成)CHM
Iのかわりに、N−ベンジルマレイミドを使用した以外
は実施例1の合成方法と同様の操作を行い、その重合液
をDMDGで希釈した後、ヘキサン中に注いで沈澱析出
物としてマレイミド系共重合体を得た。得られたマレイ
ミド共重合体の酸価は、239mgKOH/g、重合平
均分子量はポリスチレン換算で29000、ガラス移転
点は189℃であった。得られたポリマーはDMDGに
再溶解し、固形分20%溶液のN−置換マレイミド共重
合樹脂溶液4を得た。 (硬化性樹脂組成物4の調製)用いた樹脂をN−置換マ
レイミド共重合樹脂溶液4に変更した以外は実施例1と
同様に組成物の調製を行い、硬化性樹脂組成物4を得
た。
(Preparation of Curable Resin Composition 3) A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin used was changed to N-substituted maleimide copolymer resin solution 3 and curable resin composition 3 was prepared. Got (Example 4) (Synthesis of N-substituted maleimide copolymer resin solution 4) CHM
The same operation as in the synthesis method of Example 1 was carried out except that N-benzylmaleimide was used in place of I, the polymerization solution was diluted with DMDG, and the mixture was poured into hexane to give a maleimide-based copolymerization product as a precipitate. Got united. The acid value of the obtained maleimide copolymer was 239 mgKOH / g, the polymerization average molecular weight was 29000 in terms of polystyrene, and the glass transition point was 189 ° C. The obtained polymer was redissolved in DMDG to obtain N-substituted maleimide copolymer resin solution 4 having a solid content of 20%. (Preparation of curable resin composition 4) A curable resin composition 4 was obtained by preparing a composition in the same manner as in Example 1 except that the resin used was changed to the N-substituted maleimide copolymer resin solution 4. .

【0103】(実施例5) (N−置換マレイミド共重合樹脂溶液5の合成)実施例
1で得られた重合溶液を、DMDGで希釈せずに、脱揮
装置であるベント付2軸押出機に導入し、減圧下に20
0℃で脱溶媒を行い、マレイミド系共重合を押出し、得
られたストランドを粉砕して、マレイミド系共重合体を
得た。得られたマレイミド共重合体の酸価は、241m
gKOH/g、重合平均分子量はポリスチレン換算で2
3000、ガラス移転点は195℃であった。得られた
ポリマーはDMDGに再溶解し、固形分20%溶液のN
−置換マレイミド共重合樹脂溶液5を得た。
(Example 5) (Synthesis of N-Substituted Maleimide Copolymer Resin Solution 5) The polymerization solution obtained in Example 1 was not diluted with DMDG, but a twin-screw extruder with a vent, which was a devolatilizer. And put it under reduced pressure for 20
The solvent was removed at 0 ° C., the maleimide copolymer was extruded, and the obtained strand was pulverized to obtain a maleimide copolymer. The acid value of the obtained maleimide copolymer is 241 m.
gKOH / g, polymerization average molecular weight is 2 in terms of polystyrene
The glass transition point was 3000 and glass was 195 ° C. The obtained polymer was redissolved in DMDG to obtain a solution containing 20% solid content of N.
-Substituted maleimide copolymer resin solution 5 was obtained.

【0104】(硬化性樹脂組成物5の調製)用いた樹脂
をN−置換マレイミド共重合樹脂溶液5に変更した以外
は実施例1と同様に組成物の調製を行い、硬化性樹脂組
成物5を得た。
(Preparation of Curable Resin Composition 5) A curable resin composition 5 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin used was changed to N-substituted maleimide copolymer resin solution 5. Got

【0105】(実施例6) (N−置換マレイミド共重合樹脂溶液6の合成)初期仕
込み分のスチレンを4.6重量部、メタクリル酸3.7
重量部、滴下系のスチレンを8.4重量部、メタクリル
酸を6.3重量部、CHMIを9重量部にした以外は実
施例1の合成方法と同様の操作を行い、その重合液をD
MDGで希釈した後、ヘキサン中に注いで沈澱析出物と
してマレイミド系共重合体を得た。得られたマレイミド
共重合体の酸価は、239mgKOH/g、重合平均分
子量はポリスチレン換算で32000、ガラス移転点は
181℃であった。得られたポリマーはDMDGに再溶
解し、固形分20%溶液のN−置換マレイミド共重合樹
脂溶液6を得た。
(Example 6) (Synthesis of N-substituted maleimide copolymer resin solution 6) 4.6 parts by weight of styrene initially charged and 3.7 parts of methacrylic acid were charged.
Parts by weight, styrene in the dropping system was 8.4 parts by weight, methacrylic acid was 6.3 parts by weight, and CHMI was 9 parts by weight.
After diluted with MDG, it was poured into hexane to obtain a maleimide copolymer as a precipitate. The acid value of the obtained maleimide copolymer was 239 mgKOH / g, the polymerization average molecular weight was 32000 in terms of polystyrene, and the glass transition point was 181 ° C. The obtained polymer was redissolved in DMDG to obtain N-substituted maleimide copolymer resin solution 6 having a solid content of 20%.

【0106】(硬化性樹脂組成物6の調製)用いた樹脂
をN−置換マレイミド共重合樹脂溶液6に変更した以外
は実施例1と同様に組成物の調製を行い、硬化性樹脂組
成物6を得た。
(Preparation of Curable Resin Composition 6) A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin used was N-substituted maleimide copolymer resin solution 6, and the curable resin composition 6 was prepared. Got

【0107】(比較例1) (アクリル系共重合体樹脂溶液1の合成)ベンジルメタ
クリレート250重量部、スチレン350重量部、アク
リル酸150重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート200重量部をアゾビスイソブチロニトリル5重量
部と共に650重量部の酢酸−3−メトキシブチルに溶
解した溶液を、酢酸−3−メトキシブチル1000重量
部を入れた重合槽中に、100℃で6時間かけて滴下、
重合し、アクリル系共重合体樹脂溶液1を得た。得られ
た樹脂溶液の固形分は20%であった。得られた樹脂溶
液をヘキサン中に注いで沈殿析出物として得たアクリル
系共重合体の酸価は110mgKOH/g、重合平均分
子量はポリスチレン換算で43000、ガラス移転点は
92℃であった。
Comparative Example 1 (Synthesis of Acrylic Copolymer Resin Solution 1) 250 parts by weight of benzyl methacrylate, 350 parts by weight of styrene, 150 parts by weight of acrylic acid, and 200 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate were added to azobisisobutyrate. A solution prepared by dissolving 5 parts by weight of ronitrile and 650 parts by weight of 3-methoxybutyl acetate in a polymerization tank containing 1000 parts by weight of 3-methoxybutyl acetate was added dropwise at 100 ° C. for 6 hours.
Polymerization was performed to obtain an acrylic copolymer resin solution 1. The solid content of the obtained resin solution was 20%. The acid value of the acrylic copolymer obtained as a precipitate by pouring the obtained resin solution into hexane was 110 mgKOH / g, the polymerization average molecular weight was 43,000 in terms of polystyrene, and the glass transition point was 92 ° C.

【0108】(硬化性樹脂組成物7の調製)用いた樹脂
をアクリル系共重合樹脂溶液1に変更した以外は実施例
1と同様に組成物の調製を行い、硬化性樹脂組成物7を
得た。
(Preparation of curable resin composition 7) A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the acrylic copolymer resin solution 1 was used as the resin used to obtain a curable resin composition 7. It was

【0109】(比較例2) (N−置換マレイミド共重合樹脂溶液7の合成)重合槽
中にDMDG53重量部、α−メチルスチレンダイマー
1.0重量部を仕込み、重合系を110℃に昇温した
後、開始剤であるt−ブチルパーオキシイソプロピルカ
ーボネート0.1重量部を添加し重合を開始すると共
に、滴下系(A)としてt−ブチルパーオキシイソプロピ
ルカーボネート0.1重量部とDMDG5重量部を、滴
下系(B)としてスチレン10重量部とメタクリル酸10
重量部、CHMI12重量部をDMDG7重量部で、6
0℃で溶解したものを3時間かけて連続的に供給し、更
に2時間重合を継続した。その重合液をDMDGで希釈
した後、ヘキサン中に注いで沈澱析出物としてマレイミ
ド系共重合体を得た。得られたマレイミド共重合体の酸
価は、235mgKOH/g、重量平均分子量はポリス
チレン換算で36000、ガラス移転点は141℃であ
った。得られたポリマーはDMDGに再溶解し、固形分
20%溶液のN−置換マレイミド共重合樹脂溶液7を得
た。
(Comparative Example 2) (Synthesis of N-substituted maleimide copolymer resin solution 7) 53 parts by weight of DMDG and 1.0 part by weight of α-methylstyrene dimer were charged into a polymerization tank, and the temperature of the polymerization system was raised to 110 ° C. Then, 0.1 part by weight of t-butylperoxyisopropyl carbonate as an initiator was added to start polymerization, and 0.1 part by weight of t-butylperoxyisopropyl carbonate and 5 parts by weight of DMDG were added as a dropping system (A). As a dropping system (B), 10 parts by weight of styrene and 10 parts of methacrylic acid were added.
6 parts by weight, 12 parts by weight of CHMI and 7 parts by weight of DMDG
What was melt | dissolved at 0 degreeC was continuously supplied over 3 hours, and superposition | polymerization was continued for 2 hours. The polymer solution was diluted with DMDG and then poured into hexane to obtain a maleimide copolymer as a precipitate. The acid value of the obtained maleimide copolymer was 235 mgKOH / g, the weight average molecular weight was 36000 in terms of polystyrene, and the glass transition point was 141 ° C. The obtained polymer was redissolved in DMDG to obtain N-substituted maleimide copolymer resin solution 7 having a solid content of 20%.

【0110】(硬化性樹脂組成物8の調製)用いた樹脂
をN−置換マレイミド共重合樹脂溶液7に変更した以外
は実施例1と同様に組成物の調製を行い、硬化性樹脂組
成物8を得た。
(Preparation of Curable Resin Composition 8) A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin used was changed to N-substituted maleimide copolymer resin solution 7, and the curable resin composition 8 was prepared. Got

【0111】得られた共重合体の物性を第1表に示し
た。
The physical properties of the resulting copolymer are shown in Table 1.

【0112】[0112]

【表1】 [Table 1]

【0113】(実施例7) (ブラックマトリックスの形成)先ず、下記分量 ・黒色顔料:23部 ・高分子分散剤(ビックケミー・ジャパン(株)製Di
sperbyk 111):2重量部 ・溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル):7
5重量部 の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔
料分散液を調製した。
(Example 7) (Formation of black matrix) First, the following amount: Black pigment: 23 parts Polymer dispersant (manufactured by BYK Japan KK)
sperbyk 111): 2 parts by weight Solvent (diethylene glycol dimethyl ether): 7
5 parts by weight of the components were mixed and sufficiently dispersed by a sand mill to prepare a black pigment dispersion liquid.

【0114】次に下記分量 ・上記の黒色顔料分散液:61重量部 ・実施例1の硬化性樹脂組成物1:20重量部 ・ジエチレングリコールジメチルエーテル:30重量部 の成分を十分混合して、遮光層用組成物を得た。Next, the following amount -The above black pigment dispersion: 61 parts by weight -Curable resin composition of Example 1: 1:20 parts by weight ・ Diethylene glycol dimethyl ether: 30 parts by weight The components described in (1) above were thoroughly mixed to obtain a light-shielding layer composition.

【0115】そして、厚み1.1mmのガラス基板(旭
硝子(株)製AL材)上に上記遮光層用組成物をスピン
コーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、膜厚約
1μmの遮光層を形成した。当該遮光層を、超高圧水銀
ランプで遮光パターンに露光した後、0.05%水酸化
カリウム水溶液で現像し、その後、基板を180℃の雰
囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して
遮光部を形成すべき領域にブラックマトリックスを形成
した。
Then, the above composition for a light-shielding layer was applied onto a glass substrate (AL material manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a thickness of 1.1 mm by a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes to form a light-shielding film having a thickness of about 1 μm. Layers were formed. The light-shielding layer is exposed to a light-shielding pattern with an ultra-high pressure mercury lamp, developed with a 0.05% potassium hydroxide aqueous solution, and then subjected to heat treatment by leaving the substrate in an atmosphere of 180 ° C. for 30 minutes. A black matrix was formed in the area where the light-shielding portion should be formed.

【0116】(着色層の形成)上記のようにしてブラッ
クマトリックスを形成した基板上に、下記組成の赤色硬
化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布(塗
布厚み1.5μm)し、その後、70℃のオーブン中で
30分間乾燥した。
(Formation of Colored Layer) A red curable resin composition having the following composition was applied by spin coating (coating thickness: 1.5 μm) on the substrate on which the black matrix was formed as described above, and then 70 Dry in an oven at 0 ° C for 30 minutes.

【0117】次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜か
ら100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシ
ミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを
用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を
10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリ
ウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ
現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分の
みを除去した。その後、基板を180℃の雰囲気中に3
0分間放置することにより加熱処理を施して赤色画素を
形成すべき領域に赤色のレリーフパターンを形成した。
Then, a photomask was arranged at a distance of 100 μm from the coating film of the red curable resin composition, and a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp was used by a proximity liner to form only a region corresponding to the formation region of the colored layer. The sample was exposed to ultraviolet rays for 10 seconds. Then, it was immersed in a 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 ° C.) for 1 minute for alkali development to remove only the uncured portion of the coating film of the red curable resin composition. Then, the substrate is placed in an atmosphere of 180 ° C. for 3
By leaving it for 0 minutes, heat treatment was performed to form a red relief pattern in the region where the red pixel was to be formed.

【0118】次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を
用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、
緑色画素を形成すべき領域に緑色のレリーフパターンを
形成した。
Next, using the green curable resin composition having the following composition, in the same process as the formation of the red relief pattern,
A green relief pattern was formed in a region where a green pixel should be formed.

【0119】さらに、下記組成の青色硬化性樹脂組成物
を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程
で、青色画素を形成すべき領域に青色のレリーフパター
ンを形成し、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色から
なる着色層を形成した。
Further, a blue curable resin composition having the following composition was used to form a blue relief pattern in a region where a blue pixel is to be formed, in the same process as that for forming a red relief pattern, and red (R), A colored layer composed of three colors of green (G) and blue (B) was formed.

【0120】a.赤色硬化性樹脂組成物の組成 ・C.I.ピグメントイエロー139:2重量部 ・C.I.ピグメントレッド254:8重量部 ・ポリスルホン酸型高分子分散剤:3重量部 ・実施例1の硬化性樹脂組成物1:5重量部 ・酢酸−3−メトキシブチル:82重量部 b.緑色硬化性樹脂組成物の組成 ・C.I.ピグメントグリーン36:6重量部 ・C.I.ピグメントイエロー138:4重量部 ・ポリスルホン酸型高分子分散剤:3重量部 ・実施例1の硬化性樹脂組成物1:5重量部 ・酢酸−3−メトキシブチル:82重量部 c.青色硬化性樹脂組成物の組成 ・C.I.ピグメントブルー15:6:10重量部 ・ポリスルホン酸型高分子分散剤:3重量部 ・実施例1の硬化性樹脂組成物1:5重量部 ・酢酸−3−メトキシブチル:82重量部 (実施例8) (保護膜の形成)実施例7において着色層を形成したガ
ラス基板上に、実施例1の硬化性樹脂組成物1をスピン
コーティング法により塗布、乾燥し、乾燥膜厚2μmの
塗布膜を形成した。
A. Composition of red curable resin composition C.I. I. Pigment Yellow 139: 2 parts by weight C.I. I. Pigment Red 254: 8 parts by weight, polysulfonic acid type polymer dispersant: 3 parts by weight, curable resin composition of Example 1 1: 5 parts by weight, 3-methoxybutyl acetate: 82 parts by weight b. Composition of green curable resin composition C.I. I. Pigment Green 36: 6 parts by weight C.I. I. Pigment Yellow 138: 4 parts by weight, polysulfonic acid type polymer dispersant: 3 parts by weight, curable resin composition of Example 1 1: 5 parts by weight, 3-methoxybutyl acetate: 82 parts by weight c. Composition of blue curable resin composition C.I. I. Pigment Blue 15: 6: 10 parts by weight, polysulfonic acid type polymer dispersant: 3 parts by weight, curable resin composition of Example 1 1: 5 parts by weight, 3-methoxybutyl acetate: 82 parts by weight (Examples 8) (Formation of protective film) The curable resin composition 1 of Example 1 was applied onto the glass substrate on which the colored layer was formed in Example 7 by spin coating and dried to form a coating film having a dry film thickness of 2 μm. Formed.

【0121】硬化性樹脂組成物1の塗布膜から100μ
mの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアラ
イナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて着色
層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照
射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液
(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬
化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後、基板を200℃の雰囲気中に30分間放置する
ことにより加熱処理を施して保護膜を形成し、本発明の
カラーフィルターを得た。
100 μm from the coating film of the curable resin composition 1
A photomask was placed at a distance of m, and an ultraviolet ray was irradiated for 10 seconds only by a proximity liner using a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp on an area corresponding to the area where the colored layer was formed. Next, it was immersed in a 0.05 wt% aqueous solution of potassium hydroxide (liquid temperature: 23 ° C.) for 1 minute for alkali development to remove only the uncured portion of the coating film of the curable resin composition.
Then, the substrate was left in an atmosphere of 200 ° C. for 30 minutes for heat treatment to form a protective film, and a color filter of the present invention was obtained.

【0122】(実施例9) (硬化性樹脂組成物1の塗布) (スペーサーの形成)実施例7において着色層を形成し
たガラス基板上に、実施例1で得られた硬化性樹脂組成
物1をスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥
膜厚5μmの塗布膜を形成した。
(Example 9) (Application of Curable Resin Composition 1) (Formation of Spacer) On the glass substrate on which the colored layer was formed in Example 7, the curable resin composition 1 obtained in Example 1 was applied. Was applied by a spin coating method and dried to form a coating film having a dry film thickness of 5 μm.

【0123】硬化性樹脂組成物1の塗布膜から100μ
mの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアラ
イナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて、ブ
ラックマトリックス上のスペーサーの形成領域のみに紫
外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸
化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してア
ルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分
のみを除去した。その後、基板を200℃の雰囲気中に
30分間放置することにより加熱処理を施して固定スペ
ーサーを形成し、本発明のカラーフィルターを得た。
100 μm from the coating film of the curable resin composition 1
A photomask was placed at a distance of m, and a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp was used by a proximity liner to irradiate only the spacer formation region on the black matrix with ultraviolet rays for 10 seconds. Next, it was immersed in a 0.05 wt% aqueous solution of potassium hydroxide (liquid temperature: 23 ° C.) for 1 minute for alkali development to remove only the uncured portion of the coating film of the curable resin composition. Then, the substrate was left in an atmosphere of 200 ° C. for 30 minutes for heat treatment to form a fixed spacer, and a color filter of the present invention was obtained.

【0124】(実施例10)実施例9で得られたカラー
フィルターの固定スペーサーを含む表面に、基板温度2
00℃でアルゴンと酸素を放電ガスとし、DCマグネト
ロンスパッタリング法によってITOをターゲットとし
て透明電極膜を形成した。その後、更に透明電極膜上に
ポリイミドよりなる配向膜を形成した。
(Example 10) The substrate temperature of 2 was applied to the surface of the color filter obtained in Example 9 including the fixed spacers.
A transparent electrode film was formed by using DC and magnetron sputtering method with ITO as a target, using argon and oxygen as discharge gas at 00 ° C. After that, an alignment film made of polyimide was further formed on the transparent electrode film.

【0125】次いで、上記カラーフィルターと、TFT
を形成したガラス基板とを、エポキシ樹脂をシール材と
して用い、150℃で0.3kg/cm2の圧力をかけ
て接合してセル組みし、TN液晶を封入して、本発明の
液晶表示装置を作製した。
Next, the color filter and the TFT
The liquid crystal display device of the present invention, in which a glass substrate on which the above is formed is bonded using an epoxy resin as a sealing material under a pressure of 0.3 kg / cm 2 at 150 ° C. to form a cell, and TN liquid crystal is sealed. Was produced.

【0126】(実施例11)実施例7において着色層を
形成したガラス基板の当該着色層上に、または実施例8
において着色層と保護膜を形成したカラーフィルターの
当該保護膜上に、基板温度200℃でアルゴンと酸素を
放電ガスとし、DCマグネトロンスパッタリング法によ
ってITOをターゲットとして透明電極膜を形成した。
その後、更に透明電極膜上にポリイミドよりなる配向膜
を形成してカラーフィルターを得た。
(Example 11) On the colored layer of the glass substrate on which the colored layer was formed in Example 7, or in Example 8.
A transparent electrode film was formed on the protective film of the color filter having the colored layer and the protective film, at a substrate temperature of 200 ° C., using argon and oxygen as discharge gas, and DC magnetron sputtering with ITO as a target.
Then, an alignment film made of polyimide was further formed on the transparent electrode film to obtain a color filter.

【0127】(耐熱性の評価)10cm画のガラス基板
上に、実施例1で得られた硬化性樹脂組成物1をスピン
コーター(MIKASA製、形式1H−DX2)によ
り、塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.2μmの塗布膜を形成
した。この塗布膜をホットプレート上で90℃、3分間
加熱した。加熱後、2.0kWの超高圧水銀ランプを装
着したUVアライナー(大日本スクリーン製、形式MA
1200)によって100mJ/cm2の強度(405
nm照度換算)で紫外線を照射した。
(Evaluation of Heat Resistance) The curable resin composition 1 obtained in Example 1 was applied onto a glass substrate of 10 cm by a spin coater (MIKASA, model 1H-DX2), dried and dried. A coating film having a thickness of 2.2 μm was formed. This coating film was heated on a hot plate at 90 ° C. for 3 minutes. After heating, UV aligner equipped with a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp (manufactured by Dainippon Screen, type MA
1200), a strength of 100 mJ / cm 2 (405
Ultraviolet rays were radiated in terms of nm illuminance conversion).

【0128】紫外線の照射後、塗布膜をクリーンオーブ
ン(忍足研究所(株)製、SCOV−250 Hy−S
o)により200℃で30分間乾燥し、膜厚2.0μm
の硬化膜を得た。このようにして得られたガラス基板上
の硬化膜の光(380nm)の透過率をガラス基板をリ
ファレンスとし、吸光計(島津(株)製、UV−310
0PC)を用いて測定した。
After the irradiation of ultraviolet rays, the coating film was cleaned in a clean oven (manufactured by Ninpo Institute, SCOV-250 Hy-S).
o) dried at 200 ° C for 30 minutes, film thickness 2.0 μm
A cured film of was obtained. The light transmittance (380 nm) of the cured film thus obtained on the glass substrate was used as a reference for the glass substrate, and an absorptiometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-310).
0PC).

【0129】次いで、測定した硬化膜付きガラス基板を
クリーンオーブン(忍足研究所(株)製、SCOV−2
50 Hy−So)により250℃で1時間加熱し、加
熱試験硬化膜を得た。このようにして得られたガラス基
板上の硬化膜の可視光(380nm〜780nm)の透
過率をガラス基板をリファレンスとし、吸光計(島津
(株)製、UV−3100PC)を用いて測定した。
Then, the measured glass substrate with a cured film was attached to a clean oven (SCOV-2 manufactured by Ninpo Research Institute Co., Ltd.).
50 Hy-So) was heated at 250 ° C. for 1 hour to obtain a heat-test cured film. The transmittance of visible light (380 nm to 780 nm) of the cured film thus obtained on the glass substrate was measured using an optical spectrometer (UV-3100PC, manufactured by Shimadzu Corporation) with the glass substrate as a reference.

【0130】上記加熱試験前後の光(380nm)の透
過率の変化から硬化膜の耐熱性を評価した。さらに、上
記の方法と同様に、他の実施例で得られた硬化性樹脂組
成物2乃至6の塗布膜を形成し、加熱試験前後の光(3
80nm)の透過率の変化から硬化膜の耐熱性を評価し
た。このようにして、各硬化樹脂組成物1乃至6につい
ての耐熱性の評価結果を第2表に示す。
The heat resistance of the cured film was evaluated from the change in the light (380 nm) transmittance before and after the heating test. Further, similarly to the above method, coating films of the curable resin compositions 2 to 6 obtained in other examples were formed, and light (3) before and after the heating test was formed.
The heat resistance of the cured film was evaluated from the change in transmittance of 80 nm). Thus, Table 2 shows the evaluation results of the heat resistance of the cured resin compositions 1 to 6.

【0131】(硬化膜物性の評価)10cm画のガラス
基板上に、実施例1で得られた硬化性樹脂組成物1をス
ピンコーター(MIKASA製、形式1H−DX2)に
より、塗布、乾燥し、乾燥膜厚5.4μmの塗布膜を形
成した。この塗布膜をホットプレート上で90℃、3分
間加熱した。加熱後、2.0kWの超高圧水銀ランプを
装着したUVアライナー(大日本スクリーン製、形式M
A 1200)によって100mJ/cm2の強度(40
5nm照度換算)で紫外線を照射した。紫外線の照射
後、塗布膜をクリーンオーブン(忍足研究所(株)製、
SCOV−250 Hy−So)により200℃で30
分間乾燥し、膜厚5.0μmの硬化膜を得た。
(Evaluation of Physical Properties of Cured Film) The curable resin composition 1 obtained in Example 1 was applied onto a glass substrate having a size of 10 cm by a spin coater (manufactured by MIKASA, model 1H-DX2) and dried, A coating film having a dry film thickness of 5.4 μm was formed. This coating film was heated on a hot plate at 90 ° C. for 3 minutes. After heating, UV aligner equipped with a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp (Dainippon Screen, type M
A 1200), a strength of 100 mJ / cm 2 (40
Ultraviolet rays were irradiated at a 5 nm illuminance conversion. After irradiation with ultraviolet rays, the coating film was cleaned in a clean oven (manufactured by Ninja Research Institute,
SCOV-250 Hy-So) 30 at 200 ° C
After drying for a minute, a cured film having a thickness of 5.0 μm was obtained.

【0132】得られた硬化膜の硬度を、超微少硬度計
((株)フィッシャーインストルメンツ製、WIN−H
CU)を用い、加熱治具で硬化膜の表面温度が180℃
になった時に、ビッカース圧子の最大荷重20mNとな
る条件で表面硬度を測定したときのユニバーサル硬さ
(試験荷重/試験荷重下でのビッカース圧子の表面積)
で評価した。
The hardness of the obtained cured film was measured with an ultra-micro hardness meter (manufactured by Fisher Instruments Co., WIN-H).
CU) and the surface temperature of the cured film is 180 ° C with a heating jig.
Universal hardness (surface area of Vickers indenter under test load / test load) when surface hardness is measured under the condition that the maximum load of Vickers indenter is 20 mN.
It was evaluated by.

【0133】さらに、上記の方法と同様に、他の実施例
で得られた硬化性樹脂組成物2乃至6の塗布膜を形成
し、これらの硬化膜の硬度を、加熱治具で硬化膜の表面
温度が180℃になった時に、ビッカース圧子の最大荷
重が20mNとなる条件で表面硬度を測定した時のユニ
バーサル硬さ(試験荷重/試験荷重下でのビッカース圧
子の表面積)で評価した。このようにして、各硬化樹脂
組成物1乃至6についての耐熱性の評価結果を第2表に
示す。
Further, similarly to the above-mentioned method, coating films of the curable resin compositions 2 to 6 obtained in other examples were formed, and the hardness of these cured films was measured by a heating jig. When the surface temperature was 180 ° C., the universal hardness (test load / surface area of Vickers indenter under test load) when the surface hardness was measured under the condition that the maximum load of the Vickers indenter was 20 mN was evaluated. Thus, Table 2 shows the evaluation results of the heat resistance of the cured resin compositions 1 to 6.

【0134】(現像性の評価)10cm画のガラス基板
上に、実施例1で得られた硬化性樹脂組成物1をスピン
コーター(MIKASA製、形式1H−DX2)によ
り、塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.2μmの塗布膜を形成
した。この塗布膜をホットプレート上で90℃、3分間
加熱した。加熱後、塗布膜から100μmの距離にフォ
トマスクを配置して2.0kWの超高圧水銀ランプを装
着したUVアライナー(大日本スクリーン製、形式MA
1200)によって100mJ/cm2の強度(405
nm照度換算)で紫外線を照射した。
(Evaluation of developability) The curable resin composition 1 obtained in Example 1 was applied onto a glass substrate of 10 cm by a spin coater (manufactured by MIKASA, model 1H-DX2), dried and dried. A coating film having a thickness of 2.2 μm was formed. This coating film was heated on a hot plate at 90 ° C. for 3 minutes. After heating, a UV mask aligner equipped with a 2.0 kW ultra-high pressure mercury lamp with a photomask placed at a distance of 100 μm from the coating film (manufactured by Dainippon Screen, type MA
1200), a strength of 100 mJ / cm 2 (405
Ultraviolet rays were radiated in terms of nm illuminance conversion).

【0135】紫外線照射後、塗布膜に0.05wt%の
水酸化カリウム水溶液をスピン現像機(Applied
Process Technology,INK、MO
DEL:915)にて60秒間散布し、未露光部を溶
解、除去し、残った露光部を純水で60秒間水洗するこ
とにより現像した。現像後、露光部の膜をクリーンオー
ブン(忍足研究所(株)製、SCOV−250 Hy−
So)により、200℃で30分間加熱した。そして、
得られた膜の現像性を光学顕微鏡(オリンパス光学工業
(株)製、MHL100)と触針式表面粗度測定装置
(日本アネルバ(株)製、Dektak 1600)に
よりレリーフパターンの形状を観察し、形状の悪いもの
を×、良いものを○、非常に良いものを◎とした。
After irradiation with ultraviolet rays, a 0.05 wt% aqueous potassium hydroxide solution was applied to the coating film by a spin developing machine (Applied).
Process Technology, INK, MO
DEL: 915) for 60 seconds, the unexposed area was dissolved and removed, and the remaining exposed area was washed with pure water for 60 seconds for development. After development, the exposed film was cleaned in a clean oven (SCOV-250 Hy-manufactured by Ninja Institute).
So), heating at 200 ° C. for 30 minutes. And
The developability of the obtained film was observed with an optical microscope (Olympus Optical Co., Ltd., MHL100) and a stylus type surface roughness measuring device (Japan Anerva Co., Ltd., Dektak 1600) for observing the shape of the relief pattern. Poor shape was marked with x, good one was marked with o, and very good one was marked with ◎.

【0136】さらに、上述したのと同じ方法により、他
の実施例、比較例で得られた硬化性樹脂組成物2乃至6
の塗布膜を形成し、現像後のレリーフパターンの形状を
観察した。このようにして、各硬化性樹脂組成物1乃至
6について現像性を評価した。結果を第2表に示す。
Further, by the same method as described above, the curable resin compositions 2 to 6 obtained in other examples and comparative examples were prepared.
The coating film was formed, and the shape of the relief pattern after development was observed. In this way, the developability of each curable resin composition 1 to 6 was evaluated. The results are shown in Table 2.

【0137】[0137]

【表2】 [Table 2]

【0138】[0138]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る電離
放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線の照射によって
硬化させることができ、硬化後には密着性、皮膜強度、
耐熱性、耐温純水性、耐薬品性等の諸物性に優れた皮膜
となる。また、本発明に係る電離放射線硬化性樹脂組成
物の塗工膜を所定のパターン状に露光した後、正確にア
ルカリ現像することができるので、精密なパターニング
が可能である。さらに、黄変を引き起こす不純物の含有
量が少ないので、配向膜を形成するための加熱のように
カラーフィルターの製造プロセスにおいて避けられない
高温環境に晒されても黄変せず、透明性及び色調に関す
る耐熱安定性に優れている。
As described above, the ionizing radiation-curable resin composition according to the present invention can be cured by irradiation with ionizing radiation, and after curing, adhesion, film strength,
A film with excellent physical properties such as heat resistance, hot pure water resistance, and chemical resistance. Further, since the coating film of the ionizing radiation curable resin composition according to the present invention can be exposed to a predetermined pattern and then accurately developed with an alkali, precise patterning is possible. Furthermore, since the content of impurities that cause yellowing is low, it does not yellow even when exposed to the high temperature environment that is unavoidable in the color filter manufacturing process, such as heating for forming the alignment film, and it has transparency and color tone. Has excellent heat resistance stability.

【0139】本発明に係る電離放射線硬化性樹脂組成物
を用いれば、カラーフィルターに含まれる薄膜層又は微
細パターンを正確に形成することができ、液晶パネルの
セルギャップを維持するための柱状スペーサーのよう
な、それほど透明性を必要としない皮膜だけでなく、着
色層や保護層のような透明性や色調に対する要求の大き
い部分の皮膜を形成することも可能である。従って品質
の良いカラーフィルター及び当該カラーフィルターを用
いた品質の良い液晶パネルが得られる。
By using the ionizing radiation curable resin composition according to the present invention, a thin film layer or a fine pattern included in a color filter can be accurately formed, and a columnar spacer for maintaining a cell gap of a liquid crystal panel. It is also possible to form not only such a film that does not require so much transparency, but also a film of a portion such as a colored layer or a protective layer that has a great demand for transparency and color tone. Therefore, a high quality color filter and a high quality liquid crystal panel using the color filter can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】液晶パネルの一例についての模式的断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a liquid crystal panel.

【図2】液晶パネルの別の例についての模式的断面図で
ある。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of another example of a liquid crystal panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…カラーフィルター 2…電極基板 3…間隙部 4…シール材 5…透明基板 6…ブラックマトリックス層 7(7R、7G、7B)…着色層 8…保護膜 9…透明電極膜 10…配向膜 11…パール 12…柱状スペーサー 1 ... Color filter 2 ... Electrode substrate 3 ... Gap 4 ... Sealing material 5: Transparent substrate 6 ... Black matrix layer 7 (7R, 7G, 7B) ... Colored layer 8 ... Protective film 9 ... Transparent electrode film 10 ... Alignment film 11 ... Pearl 12 ... Column spacer

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 222/40 C08F 222/40 G02F 1/1335 505 G02F 1/1335 505 G03F 7/004 505 G03F 7/004 505 7/037 7/037 (72)発明者 瀬賀 俊介 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 上田 賢一 大阪府吹田市西御旅町5番8号 株式会社 日本触媒機能材料研究所内 (72)発明者 山口 稔 大阪府吹田市西御旅町5番8号 株式会社 日本触媒機能材料研究所内 Fターム(参考) 2H025 AA04 AA11 AB13 AC01 AD01 BC82 BJ00 BJ10 CA00 CB08 CB10 CB25 CB43 CC11 FA17 2H048 BA02 BA48 BB02 2H091 FA02Y FB02 FB11 GA01 LA30 4J011 PA65 PA69 PA70 PC02 PC08 QA03 QA23 QA24 QA34 QA35 RA03 RA04 RA10 SA21 SA31 SA62 SA64 SA73 SA74 SA76 SA78 SA83 UA01 VA01 WA01 4J100 AB02Q AB03Q AB04Q AB08Q AJ02R AM45P AM47P AM48P BB01P BC04P BC43P BC49P CA05 DA01 DA25 DA29 JA38Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08F 222/40 C08F 222/40 G02F 1/1335 505 G02F 1/1335 505 G03F 7/004 505 G03F 7/004 505 7 / 037 7/037 (72) Inventor Shunsuke Sega 1-1-1 Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Within Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Kenichi Ueda 5-8 Nishimitabicho, Suita-shi, Osaka (72) Inventor Minoru Yamaguchi 5-8 Nishimitabicho, Suita City, Osaka Prefecture F-Term (Reference) 2H025 AA04 AA11 AB13 AC01 AD01 BC82 BJ00 BJ10 CA00 CB08 CB10 CB25 CB43 CC11 FA17 2H048 BA02 BA48 BB02 2H091 FA02Y FB02 FB11 GA01 LA30 4J011 PA65 PA69 PA70 PC02 PC08 QA03 QA23 QA24 QA34 QA35 RA03 RA04 RA10 SA21 SA31 SA62 SA04 SA04 SA04 SA04 SA04 SA04 SA04 SA02 SA04 SA02 SA04 SA02 SA04 SA02 SA04 SA02 SA04 SA02 SA04 SA02 SA01 SA04 SA02 SA04 SA01 SA04 SA02 SA04 SA02 SA01 BC43P BC49P CA05 DA01 DA25 DA2 9 JA38

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 A.(a)N−置換マレイミドを10〜
80重量%、(b)芳香族ビニル化合物を10〜80重
量%、(c)不飽和モノカルボン酸を1〜70重量%、
及び、必要に応じて(d)前記各成分(a)、(b)、
(c)と共重合可能な化合物、を共重合してなると共
に、下記式(1)で表される不純物の含有量が10重量
%以下であるN−置換マレイミド共重合樹脂、 【化1】 (但し式(1)において、R1は互いに独立してアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキル置換ア
リール基またはハロゲン置換アリール基を表し、R2
水素またはメチル基を表し、R3乃至R6はそれぞれ独立
に水素、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
アルキル置換アリール基またはハロゲン置換アリール基
を表す。) B.一分子中にエチレン性不飽和二重結合を3個以上有
する光重合性成分、及び、 C.光重合開始剤、を含有してなることを特徴とするカ
ラーフィルター用電離放射線硬化性樹脂組成物。
1. A. (A) 10-substituted N-substituted maleimide
80% by weight, (b) 10 to 80% by weight of an aromatic vinyl compound, (c) 1 to 70% by weight of an unsaturated monocarboxylic acid,
And, if necessary, (d) each of the components (a), (b),
An N-substituted maleimide copolymer resin having a content of impurities represented by the following formula (1) of 10% by weight or less, which is obtained by copolymerizing a compound copolymerizable with (c). (In the formula (1), R 1 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkyl-substituted aryl group or a halogen-substituted aryl group, R 2 represents hydrogen or a methyl group, and R 3 to R 6 is independently hydrogen, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group,
It represents an alkyl-substituted aryl group or a halogen-substituted aryl group. ) B. A photopolymerizable component having three or more ethylenically unsaturated double bonds in one molecule, and C.I. An ionizing radiation curable resin composition for a color filter, which comprises a photopolymerization initiator.
【請求項2】 電離放射線硬化性樹脂組成物をガラス基
板上にスピンコートにより塗布し、100mJ/cm2
の照射量で露光後、200℃で30分間加熱して膜厚2
μmに形成した塗膜が、250℃で1時間加熱した後に
おける380nmの光の透過率が90%以上となること
を特徴とする、請求項1に記載の電離放射線硬化性樹脂
組成物。
2. An ionizing radiation curable resin composition is applied onto a glass substrate by spin coating to give 100 mJ / cm 2.
After exposure with a dose of 2
The ionizing radiation curable resin composition according to claim 1, wherein the coating film formed to have a thickness of μm has a transmittance of light having a wavelength of 380 nm of 90% or more after being heated at 250 ° C. for 1 hour.
【請求項3】 電離放射線硬化性樹脂組成物をガラス基
板上にスピンコートにより塗布し、100mJ/cm2
の照射量で露光後、200℃で30分間加熱して膜厚5
μmに形成した塗膜が、表面温度180℃、ビッカース
圧子を最大荷重20mNとなる条件で表面硬度を測定し
た時にユニバーサル硬さ(試験荷重/試験荷重下でのビ
ッカース圧子の表面積)が200N/mm2以上となる
ことを特徴とする、請求項1又は2に記載の電離放射線
硬化性樹脂組成物。
3. An ionizing radiation-curable resin composition is applied onto a glass substrate by spin coating to give 100 mJ / cm 2.
After exposure with the irradiation amount of, the film thickness is 5 by heating at 200 ° C for 30 minutes.
The universal hardness (test load / surface area of Vickers indenter under test load) is 200 N / mm when the surface hardness of the coating film formed to have a surface temperature of 180 ° C and the maximum load of 20 mN is applied to the Vickers indenter. The ionizing radiation curable resin composition according to claim 1 or 2, which is 2 or more.
【請求項4】 透明基板と、当該透明基板上に形成され
た着色層と、当該着色層を被覆する保護膜とを備え、前
記の保護層が、前記請求項1乃至3のいずれかに記載の
電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させて形成したもの
であることを特徴とする、カラーフィルター。
4. A transparent substrate, a colored layer formed on the transparent substrate, and a protective film covering the colored layer, wherein the protective layer is any one of claims 1 to 3. A color filter, which is formed by curing the ionizing radiation curable resin composition described in 1.
【請求項5】 透明基板と、当該透明基板上に形成され
た着色層と、対向させるべき電極基板との間隔を維持す
るために非表示部と重なり合う位置に設けられたスペー
サーとを備え、前記のスペーサーが、前記請求項1乃至
3のいずれかに記載の電離放射線硬化性樹脂組成物を硬
化させて形成したものであることを特徴とする、カラー
フィルター。
5. A transparent substrate, a colored layer formed on the transparent substrate, and a spacer provided at a position overlapping with the non-display portion in order to maintain a gap between the electrode substrate to be opposed, 4. The color filter, wherein the spacer is formed by curing the ionizing radiation curable resin composition according to any one of claims 1 to 3.
【請求項6】 透明基板と、当該透明基板上に形成され
た着色層とを備え、前記の着色層が、前記請求項1乃至
3のいずれかに記載の電離放射線硬化性樹脂組成物を硬
化させて形成したものであることを特徴とする、カラー
フィルター。
6. A transparent substrate and a colored layer formed on the transparent substrate, wherein the colored layer cures the ionizing radiation curable resin composition according to any one of claims 1 to 3. A color filter, which is characterized by being formed by
【請求項7】 前記請求項4乃至6のいずれかに記載の
カラーフィルターと、電極基板とを対向させ、両者の間
に液晶化合物を封入してなることを特徴とする、液晶パ
ネル。
7. A liquid crystal panel, characterized in that the color filter according to any one of claims 4 to 6 and an electrode substrate are opposed to each other, and a liquid crystal compound is enclosed between the two.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007322900A (en) * 2006-06-02 2007-12-13 Bridgestone Corp Color filter for display panel, and information display panel using the same
CN100397190C (en) * 2004-06-15 2008-06-25 Nec液晶技术株式会社 Liquid crystal display device
JP2011242811A (en) * 2011-09-06 2011-12-01 Dainippon Printing Co Ltd Method for producing color filter
JP2013049864A (en) * 2005-08-03 2013-03-14 Dnp Fine Chemicals Co Ltd Method for producing polymer composition, and polymer composition
CN104808442A (en) * 2015-04-20 2015-07-29 北京欣奕华科技有限公司 Composition, transparent resin protective layer and preparation method thereof, display devices
JP2016186024A (en) * 2015-03-27 2016-10-27 株式会社日本触媒 Production method of alkali-soluble resin and photosensitive resin composition comprising alkali-soluble resin produced by the production method

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100397190C (en) * 2004-06-15 2008-06-25 Nec液晶技术株式会社 Liquid crystal display device
JP2013049864A (en) * 2005-08-03 2013-03-14 Dnp Fine Chemicals Co Ltd Method for producing polymer composition, and polymer composition
JP2007322900A (en) * 2006-06-02 2007-12-13 Bridgestone Corp Color filter for display panel, and information display panel using the same
JP2011242811A (en) * 2011-09-06 2011-12-01 Dainippon Printing Co Ltd Method for producing color filter
JP2016186024A (en) * 2015-03-27 2016-10-27 株式会社日本触媒 Production method of alkali-soluble resin and photosensitive resin composition comprising alkali-soluble resin produced by the production method
CN104808442A (en) * 2015-04-20 2015-07-29 北京欣奕华科技有限公司 Composition, transparent resin protective layer and preparation method thereof, display devices

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