JP2003215303A - Antireflection article - Google Patents

Antireflection article

Info

Publication number
JP2003215303A
JP2003215303A JP2002009531A JP2002009531A JP2003215303A JP 2003215303 A JP2003215303 A JP 2003215303A JP 2002009531 A JP2002009531 A JP 2002009531A JP 2002009531 A JP2002009531 A JP 2002009531A JP 2003215303 A JP2003215303 A JP 2003215303A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine irregularities
refractive index
fine
reflection
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002009531A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Suzuki
智之 鈴木
Arimichi Ito
有道 伊東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2002009531A priority Critical patent/JP2003215303A/en
Publication of JP2003215303A publication Critical patent/JP2003215303A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an antireflection article which has reduced light reflection and the improvd visibility of display. <P>SOLUTION: In an antireflection article 10, fine irregularities 2 is provided on one surface of a transparent base material 1, and an antireflection film 3 which doesn't have fine irregularities like a dielectric multi-layered film and has a layer having a low refractive index and is constituted of a single layer or many layers is provided on the other surface. Such shape is given to the fine irregularities 2 that a period PMAX of top parts of the fine irregularities becomes equal to or shorter than a minimum wavelength λMIN in vacuum of the wavelength band of visible rays, and the sectional area occupancy ratio of the material part of the transparent base material in a horizontal section is continuously gradually reduced toward the top part from the bottom part of the fine irregularities. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶ディ
スプレイ等による各種表示部の窓材等の各種用途に用い
得る、光の表面反射を防止した反射防止物品に関する。 【0002】 【従来の技術】液晶表示ディスプレイ等を用いた各種表
示部の前面に配置する窓材、或いは各種光学素子等、表
面の光反射が問題になる事が多い。例えば、液晶表示デ
ィスプレイ(LCD)等を表示部に利用した携帯電話機
では、水、塵、外力等からLCD等による表示パネル本
体を保護する為に、表示パネルの前面に、透明プラスチ
ック板等による窓材を配置し保護している(特開平7−
66859号公報等参照)。ところが、窓材を配置した
事により、その表裏両面で外光が反射し、表示の視認性
が低下する。また、表示パネルからの光も、その一部
は、窓材で反射され表示パネル側に戻される為、表示パ
ネルの光の利用効率が低下し、その分、視認性が低下す
る。また、それを補う為には無駄な電力消費が必要であ
り、低消費電力化が重要な携帯電話機では、無視できな
い問題である。 【0003】そこで従来、光反射が問題となる面には、
例えば、蒸着、スパッタリング、或いは塗工等の手法に
よって、低屈折率層単層膜或いは低屈折率層と高屈折率
層との多層膜からなる反射防止膜を設ける(特開200
1−127852号公報等参照)等の反射防止処理を施
すのが一般的である(特開2001−127852号公
報等参照)。或いはまた、別の反射防止処理として、表
面を光波長以上のスケールで梨地化し、その凹凸面の鏡
面反射によって光を拡散させて光(の正)反射を低減す
る防眩技術(特開平9−193332号公報等参照)も
ある。この技術は防眩性を向上でき、ディスプレス等を
正視する時に画面に背面風景が映るのを防げる。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、蒸着、
スパッタリング等による反射防止膜は、1回又は多数回
のバッチ処理により、屈折率と厚みを制御した薄膜を形
成する必要があった。一方、上記防眩技術は、光反射率
が低下した分を、光の透過率の増大に結びつける事は出
来ない。従って、光の利用効率は向上できない。例え
ば、前記表示部の窓材に於ける、表示光の利用効率であ
る。 【0005】そこで、本出願人は、これら従来の反射防
止処理技術に於ける問題点を解決すべく、特開昭50−
70040号公報に開示された、繰返周期が光の波長以
下の極めて微細な微細凹凸を表面に設けることによって
表面反射率を減少させる技術を、応用することを試み
た。同号公報に開示された技術をここで説明すれば、表
面反射を減らすべきレンズ等の光学部品に対して、その
表面にフォトレジスト等を塗布し、露光し、現像する等
して、レジストパターンを作製し、該パターンによりガ
ラス基材を腐蝕することで、光学部品の表面に一品毎に
直接、微細凹凸を造形する方法である。 【0006】但し、この方法では、作業能率が悪く、工
業製品に必要な生産性(量産性)は得られない。そこ
で、本出願人は、その様な微細凹凸を、一旦、原版(マ
ザー版)とするガラス基材上に作製してから、このマザ
ー版から、コンパクトディスクの製造ライン等で用いら
れているニッケル電鋳法を利用して、金属製の複製版を
複製し、この複製版を賦形型(マスター版)として使用
することで、工業製品としての量産性を実現する事に成
功した。 【0007】そして、例えば前述窓材等の物品の場合で
は、その透明基材の表裏面のうち片面のみに上記微細凹
凸を設けるよりは、表裏両面に設けた方が、光反射を表
裏両面で防止でき、より優れた反射防止効果が得られ
る。しかしながら、その様な物品の場合、表側面(外
面)に設けた微細凹凸は、使用環境下で外部に露出する
ことになるので、容易に傷付き、また汚れが微細凹凸の
凹部内に溜まり易い。その為、表側面については、微細
凹凸による反射防止効果が低下し易いという問題があっ
た。この為、表示装置の窓材としての反射防止物品で
は、微細凹凸は反射防止物品使用時には外部に露出しな
い側となる、透明基材の裏側面(内面)に形成した構成
とした(特願2001−185965号による表示装置
の窓材:本特許出願時未公開)。 【0008】しかし、微細凹凸による反射防止効果が如
何に優れていたとしても、手垢や塵や汚れが付着し易い
外部に露出した外面は除いた裏側等の内部の面のみであ
れば、外面での光反射は依然として残ってしまうという
問題があった。 【0009】すなわち、本発明の課題は、LCD等によ
る各種表示部の窓材等の光関連部品や光学素子等として
利用し得る、光の表面反射を減らし且つ光透過率が向上
した反射防止物品を提供することである。 【0010】 【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
すべく、本発明による反射防止物品は、透明基材の表面
に反射防止用の微細凹凸が形成され、該微細凹凸形成面
との別の面には少なくとも低屈折率層から構成され上記
微細凹凸は持たない反射防止膜が形成されて成る、反射
防止物品であって、前記微細凹凸は、可視光の波長帯域
の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸
部に於ける周期をPMAXとしたときに、 PMAX≦λMIN なる関係を有し、且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交
する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける透明
基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部
から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様
な凹凸である構成とした。 【0011】この様な構成の反射防止物品とすること
で、物品表面の光反射が微細凹凸形成面では該微細凹凸
によって防止され、また該面との別の面の反射防止膜形
成面では、該反射防止膜によって光反射が防止される。
この為、一面のみを微細凹凸によって反射防止する場合
に比べて、反射防止性能がより向上する。なお、微細凹
凸によって光反射が防止されるのは、簡単に言えば、物
質表面に、反射防止すべき光の波長以下のサイズの微細
凹凸を設けると、該表面と空気間の屈折率変化を、実質
的に穏やかで連続的なものにできるので、急激で不連続
な屈折率変化の場合に生じる現象である光反射を防げる
からである。 【0012】しかも、本微細凹凸による反射防止は、凹
凸でも光波長以上のサイズの凹凸である梨地面等の様な
鏡面乱反射によって光反射を低減する防眩性のものでは
無く、物品表面と空気との界面の急激な屈折率変化を緩
和する事によって実現している為に、光反射率が低減し
た分、光透過率が向上する。もちろん、微細凹凸形成面
とは別の面に形成する反射防止膜も、鏡面乱反射によっ
て光反射を低減する防眩性のものでは無い。従って、光
反射率を低減させた分、光透過率を向上できる。従っ
て、例えば、反射防止物品をディスプレイ等の表示部の
窓材等に使用時には、表示の視認性を向上させると共
に、表示光の光の利用効率も上げられる物品となる。 【0013】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。 【0014】〔概要〕先ず、図1(A)は、本発明の反
射防止物品10の一形態を例示する断面図である。同図
に例示する反射防止物品10は、全体形状が平板状(乃
至はシート状)の場合であり、また、反射防止対象面は
表裏両板面であり、図面上方の表面と下方の表面の互い
に平行な平面の2面の場合である。 【0015】なお、ここで例示する図面の反射防止物品
10については、これら2面の図面上方の面を外面、下
方の面を内面とも呼ぶことにする。外面は、手垢、塵、
汚れ等が付き易い方の面である。一方、内面は、手が触
れたり汚れや塵が付着し難い側の面で、装置内側等とな
る面である。 【0016】そして、同図では、透明基材1の内面に反
射防止を目的とした微細凹凸2が形成され、透明基材1
の外面には、該微細凹凸は持たない反射防止膜3が形成
された構成の物品である。反射防止膜3は、低屈折率層
単層膜、或いは低屈折率層と高屈折率層との多層膜等の
従来の方式による反射防止膜である。この様に、内面に
は微細凹凸による反射防止を施した上で、反射防止が望
まれるが微細凹凸を設けると傷付きや汚れ易い外面の方
には、該微細凹凸によらない従来の反射防止処理を施し
た構成とすることで、両方の反射防止機能により、内面
のみに微細凹凸による反射防止機能を持たせるよりも、
より反射防止性能が向上する。しかも、外面の反射防止
は、微細凹凸による場合に比べて傷付き・汚れに耐性が
あるので反射防止効果が低下し難い。 【0017】なお、図1(A)の反射防止物品10で
は、透明基材1は単層として描いてあるが、多層構成で
も良い。例えば、図1(B)に例示の反射防止物品10
の如く、透明基材1が、微細凹凸2を有する部分を本体
部分とは別層として持つ構成であり、透明基材1は透明
基材本体1aと、微細凹凸2を表面に有する透明な微細
凹凸層1bから成る構成である。 【0018】〔微細凹凸〕微細凹凸2が、反射防止効果
を有するのは、次の様な理由による。すなわち、該微細
凹凸2によって、物品表面を構成する透明基材1と、外
界(空気)との間の急激で不連続な屈折率変化を、連続
的で漸次変化する屈折率変化に変えることが可能となる
からである。それは、光の反射は、物質界面の不連続な
急激な屈折率変化によって生じる現象であるから、物品
表面に於ける屈折率変化を、空間的に連続的に変化する
様にすることによって、該物品表面に於ける光反射が減
るのである。 【0019】図2〜図4は、透明基材1の表面に賦形さ
れた微細凹凸2によって得られる屈折率分布を、概念的
に説明する概念図である。先ず、図2は、微細凹凸2が
表面に付与された透明基材1について、該透明基材1
が、Z≦0の部分の空間を占め、該透明基材の表面、す
なわちZ=0に於けるXY平面上に、Z軸方向を凹凸方
向とする多数の微細凹凸2が配置された状態を示す。 【0020】そして、本発明では、微細凹凸2を、図2
の如く、その最凸部2tに於ける周期をPMAXとしたと
きに、このPMAXが、可視光の波長帯域の真空中に於け
る最小波長をλMIN以下としてある為、微細凹凸形成面
への到達光に対しては、媒質(透明基材、及び空気)の
屈折率に空間的な分布があっても、それは注目する波長
以下の大きさの分布である為に、その分布がそのまま直
接に光に作用せず、それが平均化されたものとして作用
する。従って、平均化された後の屈折率(有効屈折率)
が光が進行するに従って連続的に変化する様な分布にし
ておけば、光の反射を防げるのである。 【0021】なお、本発明に於いて、最凸部2tに於け
る周期PMAXとは、隣接する微細凹凸2の最凸部2t間
の距離のうち最大の距離であって、個々の微細凹凸が規
則的に配置され周期性を有する(隣接する微細凹凸同士
間の距離が同一)構成でも良いが、周期性が無い(隣接
する微細凹凸同士間の距離が不揃い)構成でも良い。 【0022】そして、図2では、直交座標系として、透
明基材1の表面の包絡面に立てた法線方向にZ軸を、ま
た、それと直交する平面内にX軸、Y軸をとる。そし
て、今、光が図面上方から透明基材に入光して、該透明
基材内部を進み、該透明基材の表面近傍をZ軸の負方向
に向かって進行しつつあり、丁度、Z軸座標がzのとこ
ろに存在するとする。 【0023】すると、ここのZ=zに居る光にとって
は、媒体の屈折率は透明基材1表面が特定の微細凹凸2
をなす為、厳密には、Z=zに於いてZ軸と直交するX
Y平面(横断面:水平断面)内に於いて、分布f(x,
y,z)を持つ様に見える。すなわち、XY平面内に於
いて、透明基材1の断面部分は屈折率nb(1.5程
度)、其の他の部分、具体的には空気aの部分は屈折率
a(=1.0程度)となる(図3参照)。ところが実
際には、光にとっては、その波長(反射防止の対象とす
る光の波長が分布を有する場合は、その波長帯域の最小
波長λMINを考えれば良い。)よりも小さな空間的スケ
ールの屈折率分布は、平均化されたものとして作用する
結果、平均化された結果の有効屈折率は、前記XY平面
内に於いて、屈折率分布f(x,y,z)をXY平面内
に於いて積分したもの、 【0024】 【数1】 【0025】となる。その結果、有効屈折率(nef)の
分布はzのみの関数nef(z)となる(図4参照)。 【0026】よって、もしも、微細凹凸2に於ける透明
基材の凸部の断面積が、凹部に向かって連続的に増大す
る様な形状であれば(XY平面内に於ける)透明基材部
分と空気部分との面積比がZ軸方向に向かって連続的に
変化する為、有効屈折率nef(z)はzに付いての連続
関数になる。 【0027】一方、屈折率n0の媒質から、屈折率n1
媒質に光が入射する場合を考える。今、簡単の為に、入
射角θ=0°(垂直入射)を考える。但し、入射角は入
射面の法線に対する角度とする。この場合、媒質界面で
の反射率Rは、偏光、及び入射角には依存せず、下記の
〔式2〕となる。 【0028】 【数2】 【0029】従って、(有効)屈折率のZ方向への変化
が連続関数であるということは、Z方向(光の進行方
向)に微小距離Δz隔てた2点、Z=zに於ける屈折率
ef(z)をn0、Z=z+Δzに於ける屈折率n
ef(z+Δz)をn1、としたときに、 【0030】Δz→0 ならば、 n1→n0 【0031】となり(連続関数の定義より)、よって、
〔式2〕より、 【0032】R→0 【0033】となる。 【0034】なお、ここで、より厳密に言うと、物体中
での光の波長は、真空中の波長をλ、物体の屈折率をn
としたときに、λ/nとなり、λよりは一般に或る程度
小となる。但し、物体が空気の場合の屈折率はn≒1の
為、λ/n≒λと考えて良い。但し、透明基材に使われ
る材料は、通常1.5前後の屈折率である為、屈折率n
bの透明基材中の波長(λ/nb)は、0.7λ程度とな
る。この点を考慮すると、微細凹凸2の部分に於いて、
空気の側の部分(微細凹凸2の凹部)について見れば、 【0035】PMAX≦λMIN 【0036】の条件を満たすとき、屈折率平均化による
反射率低減効果が期待出来る。但し、 【0037】λMIN/nb≦PMAX≦λMIN 【0038】である場合は、透明基材の部分(微細凹凸
2の凸部)の寄与について見れば、屈折率平均化による
反射率低減効果は、少なくとも完全には期待出来ないこ
とになる。しかし、それでも、空気部分に於ける寄与の
為、全体としては反射防止効果を有する。そして、 【0039】PMAX≦λMIN/nb 【0040】の条件までも満たす場合は、空気部分、透
明基材部分とも、周期PMAXが、最短波長よりも小さい
と言う条件が完全に満たされる為、屈折率平均化による
反射防止効果は、より完全となる。具体的には、λMIN
を可視光波長帯域の下限380nm、nbを仮に1.5
とすれば、λMIN/nbは250nm、つまりPMAXは2
50nm以下とすれば良い。なお、前述図2を参照した
説明では図面上方からの光を取り上げて説明してきた
が、図面下方からの光に対しても同様の原理により反射
防止効果がある。 【0041】次に、微細凹凸2の形状は、微細凹凸をそ
の凹凸方向と直交する面(XY平面)で切断したと仮定
したときの断面(水平断面)内に於ける透明基材の材料
部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部(頂上)か
ら最凹部(谷底)に行くに従って連続的に漸次増加して
行く形状とする。この為には、微細凹凸の山は少なくと
もその一部の側面が斜めの斜面を有するものとすれば良
いが、下記する図5(C)の様に斜面と共に垂直側面が
ある形状の微細凹凸でも良い。特に、好ましくは、最凸
部に於いて完全に0に収束し、且つ最凹部に於いて完全
に1に収束する形状とする。具体的には例えば、図5
(B)、図5(C)の如き形状が挙げられる。但し、図
5(D)、或いは図5(E)の如く、最凸部に於いて
は、ほぼ0に漸近した形状、或いは、最凹部に於いてほ
ぼ1に漸近する様な形状であれば、或る程度の効果は得
られる。微細凹凸の形状は、この様な条件を満たせば、
どんな形状でも良い。 【0042】例えば、個々の微細凹凸2の垂直断面形状
は、図5(A)の如き正弦波等の曲線のみによる波状の
形状〔図2も参照〕、図5(B)及び図5(C)の如き
三角形等の直線のみによる形状、或いは、図5(D)の
如き三角形の最凸部が平坦面を成す形状である台形の形
状、図5(E)の如き隣接する三角形間の最凹部が平坦
面を成す形状等である。但し、図5(D)や図5(E)
の如く、最凸部或いは最凹部に平坦面を有する形状で
は、最凸部或いは最凹部の平坦面の部分で、その平坦面
の占める面積割合が大きい程、有効屈折率の変化がより
大きく不連続となる。その点で性能的には劣るものとな
る。しかし、この場合でも、微細凹凸の最凸部から最凹
部に行くに従って有効屈折率を連続的に変化させること
は出来る。従って、反射防止性能の点では、最凸部或い
は最凹部の平坦面の面積割合は少ない程好ましい。 【0043】また、有効屈折率nef(z)を空気中から
透明基材中に向かうZ方向の関数として、naからnb
連続的に変化する様にする為には、微細凹凸の最凸部に
於いて、透明基材の断面積占有率が0に収束する図5
(B)或いは図5(C)の如き形状(すなわち、尖った
形状)で且つ最凹部に於いて該断面積占有率が連続的に
1に収束する形状が最も好ましい。 【0044】次に、個々の微細凹凸の水平断面形状は、
円形(例えば図2)、楕円形、三角形、四角形、長方
形、六角形、其の他多角形等任意である。なお、水平断
面形状は、微細凹凸の最凸部から最凹部の全てにわたっ
て同じである必要は無い。従って、微細凹凸の立体形状
は、例えば、水平断面形状が円形で垂直断面形状が正三
角形の場合の微細凹凸の立体形状は円錐に、水平断面形
状が円形で垂直断面形状が三角形の場合の微細凹凸の立
体形状は斜円錐に、水平断面形状が三角形で垂直断面形
状が正三角形の場合の微細凹凸の立体形状は三角錐に、
水平断面形状が四角形で垂直断面形状が三角形の場合の
微細凹凸の立体形状は四角錐になる。 【0045】また、微細凹凸の、水平面内に於ける配置
は、図2で例示した如く二次元的配置の他に、図6
(A)の斜視図で例示の直線溝状の微細凹凸2の如く、
一次元的配置でも良く、どちらも効果は得られる。但
し、一次元的配置の場合は、光の波の振幅方向との関係
で、反射防止効果が得られる方向と得られない方向とが
出る、異方性が発生する。従って、図2の斜視図や図6
(B)及び(C)の平面図で例示の様な二次元的配置の
方が、方向性が全く無い点で好ましい。 【0046】なお、個々の微細凹凸の立体形状は全て同
一でも良いが、全て同一で無くても良い。また、個々の
微細凹凸2を二次元配置する場合に、周期は、個々の微
細凹凸に於いて全て同一でも良いが、全て同一で無くて
も良い。 【0047】また、微細凹凸の高さHは、希望する反射
率の低減効果と透明基材表面に入射する可視光帯域の最
大波長に応じて決定する。例えば、特開昭50−700
40号公報(特にその第3図)記載の反射率、微細凹凸
の高さ、及び光波長との関係を基に設計する場合、例え
ば、可視光帯域での反射率を、2%(未処理硝子の半
分)以下に低減させることを目標とするならば、その最
小高さHMINが0.2λM AX以上、すなわち、 【0048】HMIN≧0.2λMAX 【0049】また、可視光帯域での反射率を0.5%以
下にまで低減させることを目標とするならば、 【0050】HMIN≧0.4λMAX 【0051】とするのが好ましい。なお、ここで、λ
MAXは、可視光波長帯域の真空中に於ける最大波長であ
る。微細凹凸の高さHは、ゼロから高くなるに従って反
射率が低下して行くが、上記不等号条件を満足させる高
さまで達すると、有為な効果が得られる様になる。具体
的には、例えば、発光スペクトルの最大波長が、λMAX
=640nmの蛍光灯を用いたとすれば、HMIN≧0.
2λMAX=128nmとかなる。すなわち、HMINは12
8nm以上とすれば良い。また、スペクトルの最大波長
がλMAX=780nmの太陽光線を考えるならば、HMIN
≧0.2λMAX=156nm、すなわち、HMINは156
nm以上とすれば良い。また、最小高さHM INと周期P
MAXとの関係では、最小高さHMIN/周期PMAXの比を、
1/2〜4/1程度とする。 【0052】ここで、微細凹凸の具体的形状及び大きさ
を例示すれば、形状は垂直断面が正弦波状で水平断面が
円形の円錐状の形状のものを多数、二次元的に規則的配
置した集合体であり、周期期PMAXが50〜250n
m、最小高さHMINを前記周期P MAXの1.5倍としたも
の等がある。 【0053】〔透明基材〕透明基材1としては、透明性
及び機械的強度を有するものが好ましい。例えば、透明
基材の素材としては、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、
ポリ(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸メ
チル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体等のアクリル
樹脂〔但し、(メタ)アクリルとはアクリル、或いはメ
タクリルを意味する。〕、ポリプロピレン、ポリメチル
ペンテン、環状オレフィン系高分子(代表的にはノルボ
ルネン系樹脂等があるが、例えば、日本ゼオン株式会社
製の製品名「ゼオノア」、JSR株式会社製の「アート
ン」等がある)等のポリオレフィン系樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリア
ミド樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン
共重合体、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、
セルロース系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエーテルエー
テルケトン、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂、或いは、
ガラス(セラミックスを含む)等である。 【0054】透明基材の形状は、反射防止物品の用途に
より様々な形状があり得る。例えば、図1(A)で例示
した如き平板状である。また、平板状の場合、可撓性を
有するシート状もあり得る。つまり、前述機械的強度と
は、剛直に限定されるものではない。なお、平板状の場
合、その反射防止面は通常は表裏面であるが、これに限
定されない。透明基材は、三次元立体物等でも良い。つ
まり、反射防止物品の形状は、三次元立体物でも良い。
また、前述表示部の窓材等で例示すれば、反射防止面部
分については、上記平板状ではあるが、その周囲にリブ
等の窓材取付け用の形状を有する物等である。また、透
明基材が平板状の場合の厚さの具体例としては、表示部
の窓材等の用途では通常0.5〜2mm程度である。な
お、反射防止面は、微細凹凸による面は平面がその形成
が容易であるが、これに限定され無い。また、反射防止
膜形成面は平面でも曲面でも良い。 【0055】ところで、微細凹凸2は透明基材1の一部
を構成するものであるが、該微細凹凸2を含む透明基材
は、図1(A)に例示の反射防止物品10の如く、微細
凹凸部分も含めて同一材質からなる連続の物体として構
成する以外に、図1(B)に例示の反射防止物品10の
如く、その透明基材1を、微細凹凸2を含む部分(微細
凹凸層1b)と、微細凹凸を含まない部分(透明基材本
体1a)とからなる例えば2層が密着した構成等として
も良い。前者の場合は、例えば、樹脂製の透明基材とし
て射出成形によって、微細凹凸も含めて透明基材を微細
凹凸と共に一度に形作る方法によって形成できる。ま
た、後者の場合は、例えば、既に形状を有するガラス製
や樹脂製の透明基材として用意された物に対して、該透
明基材の所望の表面に、電離放射線硬化性樹脂等を硬化
物層として2P法(Photo−polymeriza
tion法)等によって微細凹凸を含む層を賦形と同時
に積層する方法によって形成できる。また、射出成形法
でもインサート成形法、或いは全部樹脂製では2色成形
法によって形成できる。なお、これらの例示の方法はい
ずれも、微細凹凸賦形用の凹凸形状が予め形成された
(賦形)型を使用する。 【0056】〔微細凹凸を賦形する型の作製方法〕ここ
で、透明基材に微細凹凸を賦形(形成)する為に使用し
得る型について説明する。微細凹凸は、既に有形の透明
基材とする物(透明基材本体)、一つ一つに、直接形成
する事も可能である(前述した特開昭50−70040
号公報参照)。この方法は、反射防止物品が単品である
場合、或いは少量生産でも良い場合ならば問題ない。し
かし、工業製品として大量生産が必要となる反射防止物
品の場合には、作製に時間を要しコスト高となってしま
う。そこで、工業的生産性、コストを考慮すると、賦形
型を作製しておき、この賦形型によって微細凹凸を賦形
により形成する方法が好ましい。 【0057】更に、賦形型としては、微細凹凸形状を最
初に造形した原型は用いずに、該原型から1回、或いは
2回以上の型取・反転による複製工程を経て作製した複
製型を用いるのが好ましい。つまり、最初に一旦、原型
(これを原版、或いはマザー版とも呼ぶ)を作製した
後、この原型から複製型を作製する複製操作を1回又は
2回以上の多数回行い、その結果、得られた複製型(こ
れを本版、或いはマスター版とも呼ぶ)を、賦形型とし
て使用するのである。この様な賦形型を用いることで、
工業的生産性、コスト等に優れた方法となる。例えば、
本版が傷付いたとしても、本版は容易に再作製できるか
らである。 【0058】賦形型の元となる原型としては、必要な微
細凹凸が形成されているのものであれば、その作製方法
には基本的には特に限定は無く、生産性、コスト等を考
慮して適宜なものを使用すれば良い。原型の作製は、微
細凹凸2を賦形する為の凹凸形状を最初に造形する工程
であり、半導体分野等に於ける微細加工技術、すなわ
ち、光(含む電子ビーム)をパターン形成に利用する所
謂露光法を利用できる。但し、半導体の場合は、凹凸形
状はその側面が通常垂直面で良く、本発明の如く斜面に
する必要は特に無いため、本発明では、斜面が形成でき
る様にして微細加工する。 【0059】露光法に該当する微細加工技術としては、
例えば、電子線描画法を利用できる。この方法では、先
ず、ガラス基板の上にレジスト層を形成した後、電子線
描画法により該レジスト層を露光し現像してパターニン
グしてレジストパターン層とする。この後、腐蝕マスク
に該レジストパターン層を利用してガラス基板をドライ
エッチング法等により腐蝕することで、ガラス基板に微
細凹凸形状が形成される。この際、エッチング時にサイ
ドエッチングさせて、斜面を形成する。また、ガラス基
板腐蝕時の腐蝕マスクとしてはレジストパターン層自体
を直接用いても良いが、斜面を有する深い凹凸形状を形
成するには、好ましくは、ガラス基板上にクロム等によ
る金属層を設けた後、レジスト膜を形成してレジストパ
ターン層を得、前記金属層をこのレジストパターン層を
利用して金属パターン層としてたものを、腐蝕マスクと
して用いるのが良い。 【0060】また、レジスト膜へのパターン形成に際し
ては、電子線描画法の他の露光法として、レーザ描画法
も利用できる。レーザ描画法では、ホログラム、回折格
子等の作製等に利用されているレーザ干渉法が利用でき
る。回折格子の場合は、一次元的配置であるが、角度を
変えて多重露光すれば、二次元配置も可能となる。但
し、レーザ干渉法では、得られる微細凹凸は、通常規則
的配置となるが、電子線描画法では、予め所定の描画パ
ターン情報を記憶装置にデジタルデータとして記憶して
おき、該描画パターン情報により、走査する電子線のO
N、OFF、乃至は強弱を変調する。その為、規則配置
の他にも、不規則配置も可能である。また、レーザー描
画法及び電子線描画法には各々長所、短所が有る為、設
計諸元、目的、生産性等を考慮の上、適宜な手法及び条
件を選択する。 【0061】次に、上記原型から賦形型として使用する
複製型を作製する方法としては、公知の方法、例えば、
原型にニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を剥
がせば金属製の複製型を作製できる(電鋳法)。或い
は、この複製型にもう一度めっきして、再度複製した型
を賦形型とするなど、2以上の多数回の複製操作を経て
賦形型を作製しても良い。なお、光重合法で使用する賦
形型の形態としては、板状、シート状、ブロック状等が
あり得、反射防止物品の形状、用途等に応じて適宜選択
すれば良い。なお、賦形型は、上記ニッケルの如き金属
製でも良いが、シリコーン樹脂等の樹脂製のものを使用
しても良い。例えば、樹脂からなるシート状で連続帯状
も可能な賦形型である。 【0062】以上の如き、賦形型を用いて、透明基材に
対して微細凹凸を形成(複製)する具体的な方法として
は、例えば、熱プレス法(エンボス法)、射出成形法、
2P法(Photo−polymerization
法)、ゾルゲル法等の公知の複製法、或いは、微細凹凸
賦形シートのラミネート法、微細凹凸層の転写法等の各
種方法を、反射防止物品の用途、及び透明基材の材質等
に応じて適宜選択すれば良い。 【0063】これらのうち、既に有形の透明基材に対す
る、微細凹凸の形成方法は、熱プレス法(エンボス
法)、2P法、ゾルゲル法、微細凹凸賦形シートのラミ
ネート法、微細凹凸層の転写法等が挙げられ。このう
ち、熱プレス法(エンボス法)は、透明基材が一般に熱
可塑性樹脂等の塑性変形可能な状態を呈することができ
る樹脂等の材料からなる場合に適用される。一方、2P
法、微細凹凸賦形シート(或いは板)のラミネート法、
微細凹凸層の転写法は、透明基材がガラス等の無機材料
からなる場合でも適用できる方法である。また、ゾルゲ
ル法は、透明基材がガラス等の耐熱性を有する無機材料
からなる場合に適用できる方法である。 【0064】なお、ゾルゲル法(特開平6−64907
号公報等参照)は、金属アルコキシド等と増粘剤として
ポリエチレングリコール等を含む組成物を、塗工し、ゾ
ルが軟らかいうちに型押しして凹凸を賦形して、その後
に最終的な乾燥、熱処理を行って、無機質の塗膜として
微細凹凸を形成する方法である。また、微細凹凸賦形シ
ート(或いは板)とは、樹脂のシート或いは板に、前述
賦形型を使用する等して微細凹凸を既に賦形しておいた
物である。該樹脂には、透明基材の材料として列記した
樹脂等が使用できる。該凹凸賦形シート(或いは板)
は、接着剤や熱融着で透明基材に貼着する。 【0065】また、微細凹凸層の転写法は、支持体シー
ト上に転写層が積層されて成る転写シートとして、その
表面(つまり転写後の表面となる支持体シート側の転写
層面)に微細凹凸を予め設けた微細凹凸層を持つ転写シ
ートを用い、その微細凹凸層を転写により透明基材に移
行させて、透明基材上に微細凹凸層を積層する方法であ
る。この為、転写シートの支持体シートは、その転写層
側面に、目的とする微細凹凸とは逆凹凸形状の微細凹凸
を設けたシートを使用する。なお、該支持体シートに
は、上記微細凹凸賦形シート等を使用する。また、支持
体シート上への微細凹凸層は、アクリル樹脂等の熱可塑
性樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、紫外線や電子
線で硬化するアクリレート系等の電離放射線硬化性樹脂
等の透明樹脂からなる塗液を塗工する等して形成する。 【0066】次に、透明基材自体の造形時に同時に形成
する、微細凹凸の形成方法は、射出成形法の他、2P法
等が挙げられる。射出成形法は、型面に微細凹凸形状を
設けてなる射出成形型を用い、微細凹凸を射出成形法に
よって形成する。この方法によれば、樹脂を用いて、透
明基材自体と微細凹凸とを同時に成形にて形成する事が
出来るので、極めて量産性に優れた方法となる。射出成
形型に、微細凹凸形成用の微細凹凸形状を設けるには、
前述の如くして得た賦形型を、型面に装着する等すれば
良い。また、ここでの2P法では、透明基材自体も微細
凹凸の同時に造形してしまう方法となる。 【0067】また、透明基材自体の造形時に同時に形成
する微細凹凸の形成方法としては、透明基材がガラスの
場合でも、ガラスは加熱より塑性変形可能な状態を呈す
ることができるので、熱プレス法を適用して、透明基材
の造形と同時に微細凹凸を形成しても良い。 【0068】なお、以上述べた各種形成方法のうち、図
1(B)の如く透明基材1と微細凹凸2とが一体となっ
た構造のものは、熱プレス法(エンボス法)、射出成形
法、2P法等の場合に得られ、また、図1(B)の如く
透明基材1a本体に、微細凹凸2を表面に有する透明な
微細凹凸層1bが積層された構造のものは、射出成形法
(本体と凹凸部との2色成形法)、2P法、ゾルゲル
法、微細凹凸賦形シート(或いは板)のラミネート法、
微細凹凸層の転写法等の場合に得られる。 【0069】また、2P法、転写法等の微細凹凸層が樹
脂層として形成される場合、該樹脂としては透明であれ
ば特に制限は無いが、傷付き難くする為には、硬質の樹
脂、例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性
樹脂、アクリレート系等の電離放射線硬化性樹脂等が好
ましい。 【0070】また、微細凹凸を、透明基材本体上の微細
凹凸層として形成する場合には、透明基材本体と微細凹
凸層間には、必要に応じ適宜、接着層等を介在させても
良い。接着層は、公知の接着剤、或いはシランカップリ
ング剤等が用いられる。 【0071】〔反射防止膜〕反射防止膜3は、反射防止
原理が上述した如き本発明特有の微細凹凸によらない、
従来公知の各種方式による層である。但し、従来公知の
方式とは言っても、表面を光波長以上のスケールで表面
に梨地状凹凸を設け、その凹凸面の鏡面乱反射によって
光を拡散させて光(の正)反射を低減する防眩技術によ
る光反射防止方式は除く。それは、本発明の目的として
は、光反射防止と共に光透過率向上も狙う為に、この様
な防眩技術による光反射防止では光透過率がその分低下
するからである。従って、反射防止膜の具体例として
は、少なくとも低屈折率層を有し単層又は多層から構成
される膜である。反射防止膜としては、単層の低屈折率
層のみでも相応の光反射防止効果は得られるが、代表的
には、低屈折率層と高屈折率層とを所定厚みで交互に重
ねて最外層を低屈折率層とし、光学的干渉作用を利用し
て光反射防止効果を得る誘電体多層膜等が挙げられる。 【0072】誘電体多層膜に於ける低屈折率層及び高屈
折率層としては、代表的には各々金属酸化物薄膜が使用
される。例えば、高屈折率層には、通常、屈折率1.5
以上となるものが使用され(2.3〜2.7)、ZnO
(屈折率1.90、以下括弧内数値は屈折率を示す)、
TiO2(2.3〜2.7)、CeO2(1.95)、S
25(1.71)、SnO2(1.997)、In2
3(2.00)、Y23(1.87)、La23(1.
95)、Al23(1.63)、HfO2(2.0
0)、ZrO2(2.05)、ITO〔インジウム・錫
酸化物〕(1.95)等の金属酸化物が挙げられる。こ
れらの中でも、特に高屈折率である点で屈折率が1.7
8〜2.4である金属酸化物が好ましく、特に、IT
O、TiO2、SnO2、In23、ZrO2、及びこれ
らの混合酸化物が好ましい。一方、低屈折率層には、例
えば、屈折率が1.42〜1.51となるものが使用さ
れ、SiO2、SiO、SiOx、(但し、x<2)、メ
チル基含有シリカ等からなる金属酸化物が使用される。
なお、メチル基含有シリカとは、例えば、ヘキサメチル
ジシロキサン(HMDSO)、テトラメチルジシロキサ
ン(TMDSO)等のメチル基を含有する有機ケイ素化
合物を原料ガスとしたプラズマCVD法によって形成す
ることが出来る(特開2000−338307号公報参
照)。そして、これらの金属酸化物からなる低屈折率層
及び高屈折率層は、スパッタリング法、プラズマCVD
法等の公知の薄膜形成法で形成される。 【0073】誘電体多層膜に於ける高屈折率層と低屈折
率層の組合わせの具体例としては、例えば、高屈折率層
にITO膜(屈折率2.002)を用い、低屈折率層に
SiO2膜(屈折率1.452)を使用し、透明基材側
から順に、ITO膜(厚さ25nm)/SiO2膜(厚
さ25nm)/ITO膜(厚さ85nm)/SiO2
(厚さ92nm)と4層重ねた多層膜である。なお、こ
れらの膜は、スパッタリング法により形成できる。 【0074】また、誘電体多層膜の別の具体例を挙げれ
ば、例えば、透明基材側から順に、ITO膜(厚さ25
nm)/SiO2膜(厚さ25nm)/ITO膜(厚さ
85nm)/シリカ膜(厚さ95nm)と4層重ねた多
層膜である。なお、このシリカ膜はプラズマCVD法で
形成し、他はスパッタリング法により形成する。 【0075】また、反射防止膜としては、フッ化マグネ
シウム、酸化ケイ素等の低屈折率物質による単層の薄
膜、或いは、これら低屈折率物質の粉末を樹脂バインダ
ー中に分散塗料化した反射防止塗料の塗膜等が挙げられ
る。 【0076】なお、反射防止膜を透明基材上に設けるに
当たって、該反射防止膜の表面強度を増す為のハードコ
ート層や、透明基材への密着性を増す為にプライマー層
等を適宜併用しても良い。ハードコート層は反射防止膜
と透明基材との間に設けるのが反射防止の点で好ましい
る。一方、プライマー層は反射防止膜と透明基材との間
に設けるが、ハードコート層も設ける場合には、ハード
コート層と透明基材間、反射防止膜とハードコート層
間、或いはこれら両方の位置に設ける。 【0077】ハードコート層としては、用途に応じて従
来公知のもので良い。例えば、ハードコート層として
は、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、紫
外線や電子線で硬化するアクリレート系等の電離放射線
硬化性樹脂等の硬化性樹脂の架橋硬化物として形成する
ことができる。 【0078】〔反射防止物品の用途〕本発明の反射防止
物品は、先ず形状としては、フィルム(或いはシー
ト)、板、三次元形状等任意であり、用途も特に限定れ
るものでは無い。但し、反射防止の為の微細凹凸は、極
めて微細であるが故に汚れや傷に対して注意するのが好
ましい。従って、微細凹凸形成面側は好ましくは外面に
は露出させず内面側にして利用でき、一方の反射防止膜
側は外面側にして利用できる用途が好適である。なお、
本発明が適用し得る用途は、これから例示される用途に
限定されるものではない。 【0079】例えば、携帯電話等の各種機器に於ける表
示部の窓材である。これら表示部では、LCD等の表示
パネルの前面に、板や成形品等となった樹脂製の窓材が
配置される。窓材としての反射防止物品では、外面側を
反射防止膜として、内面側を本発明特有の微細凹凸形成
面とすると良い。なお、表示部は、LCD等の表示パネ
ル以外に、時計に代表される機械式アナログメータ等の
様な機械的手段で表示するものでも良く、これらの窓材
でも良い。なお、窓材は、平板状もあるが、組み付けや
デザイン上の観点から周囲に突起等有する物もある。 【0080】なお、上記の様な窓付き表示部を有する機
器としては、携帯電話、時計の外にも、パーソナルコン
ピュータ、電子手帳等のPDA乃至は携帯情報端末、電
卓、或いは、CDプレーヤー、DVDプレーヤ、MDプ
レーヤ、半導体メモリ方式音楽プレーヤ等の各種携帯型
音楽プレーヤ、或いは、ビデオテープレコーダ、ICレ
コーダ、ビデオカメラ、デシタルカメラ、ラベルプリン
タ等の電子機器、或いは、電気炊飯器、電子ポット、洗
濯機等の電気製品等がある。 【0081】また、フィルム(或いはシート)や板状の
反射防止物品に於いては、透明タッチパネル等に使用す
る、透明電極フィルムや透明板等の透明基材が挙げられ
る。透明タッチパネルは、表示部に入力機能を付加する
ものであるが、該製品組立上、LCD、CRT等の表示
パネルと別部品として組み付けるので、表示パネルと透
明タッチパネル間に空隙が残り、光反射が生じる。そこ
で、透明タッチパネルの裏面側を成す透明基材について
は、その裏面(内面)側を本発明特有の微細凹凸を設
け、表面側(外面)は反射防止膜を設けた反射防止物品
とすれば、光反射が防げる。 【0082】なお、透明タッチパネルは、例えば、電子
手帳等のPDA乃至は携帯情報端末(機器)、或いは、
カーナビゲーションシステム、POS(販売時点情報管
理)端末、携帯型オーダー入力端末、ATM(現金自動
預金支払兼用機)、ファクシミリ、固定電話端末、携帯
電話機、デシタルカメラ、ビデオカメラ、パソコン、パ
ソコン用ディスプレイ、テレビジョン受像機、テレビ用
モニターディスプレイ、券売機、計測機器、電卓、電子
楽器等の電子機器、複写機、ECR(金銭登録機)等の
事務器、或いは、洗濯機、電子レンジ等の電気製品に使
用される。また、本発明の反射防止物品の用途としては
各種光学素子等も挙げられる。 【0083】 【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳述する。 【0084】〔実施例1〕図1(B)の如き構成の反射
防止物品10を次の様にして作製した。微細凹凸を賦形
する為の賦形型を作製すべく、厚さ3mmのガラス基板
上にスピンコート法により感光性樹脂(Sipley
Co., Inc.製、商品名「Microposit
S1805」)の厚さ600nmのレジスト層を形成
し、レーザ干渉露光装置により、アルゴンイオンレーザ
ーを50°の入射角度で2方向から露光する操作を、ガ
ラス基板の90度回転させて2回行った。次いで、現像
液(Sipley Co., Inc.製、商品名「D
eveloperCONC」)によりレジスト層を現像
することによって、所望の微細凹凸形状が形成されたレ
ジスト層表面を持つガラス基板からなる原版(マザー
版)を作製した。 【0085】次に、このマザー版から、電気めっき法に
よって、厚さ80μmのニッケルめっきプレートのマス
ター版を賦形型として作製した。 【0086】一方、基材本体1aとして厚さ80μmの
トリアセチルセルロース樹脂(TAC)フィルムの表側
とする面に対して、誘電体多層膜からなる反射防止膜3
を形成した。該反射防止膜3は、表側から順に、酸化ケ
イ素膜(厚さ100nm)/ITO膜(厚さ40nm)
/酸化ケイ素膜(厚さ80nm)の3層構成の膜をスパ
ッタリング法で形成した。 【0087】そして、上記基材本体1aの裏側とする面
に対して、紫外線硬化型の電離放射線硬化性樹脂を用い
た2P法によって微細凹凸2を有する微細凹凸層1bを
形成した。具体的には、該基材本体の裏面に電離放射線
硬化性樹脂をポッティングした(塗工量換算2g/
2)後、その樹脂塊の上から前記した賦形型を押し付
けて樹脂をシート面に行き渡らせて圧着させたままの状
態で、基材本体側から高圧水銀灯で紫外線を照射して樹
脂を光重合により硬化させた後、賦形型を剥がして、微
細凹凸層を形成した。以上の如くして、シート状の反射
防止物品が得られた。 【0088】そして、上記反射防止物品の微細凹凸2
は、原子間力顕微鏡での観察により、高さHMINが20
0nm、周期PMAXが300nmの、図2の如き形状が
多数縦横に正方格子状に規則的に配列された微細凹凸で
あった。 【0089】〔比較例1〕実施例1において、微細凹凸
の形成を省略し反射防止膜のみとした他は、実施例1と
同様にして反射防止物品を作製した。 【0090】〔性能評価〕上記実施例及び比較例の反射
防止物品について、可視光帯域での光の透過率(視感透
過率)と反射率(視感反射率)を測定した。その結果、
実施例1の反射防止物品では、透過率は98.4%、反
射率は0.6%であった。これに対して、従来の反射防
止膜のみの比較例1の反射防止物品では、透過率95.
2%、反射率4.0%と両性能共に実施例1よりも劣っ
た。また、実施例1の反射防止物品は、反射防止された
光は拡散せず、その分、透過率が向上している事も認め
られた。 【0091】 【発明の効果】本発明の反射防止物品によれば、物品表
面の光反射が微細凹凸と反射防止膜の両方によって防止
され、一面のみを微細凹凸によって反射防止する場合に
比べて、反射防止性能がより向上する。しかも、それら
によって光反射率が低減した分、光透過率が向上する。
従って、ディスプレイ等の表示部の窓材等に使用時に、
表示の視認性を向上させると共に、表示光の光の利用効
率も上げられる物品となる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a liquid crystal display, for example.
Used for various purposes such as window material of various display parts by spraying etc.
The present invention relates to an anti-reflection article that prevents surface reflection of light. [0002] 2. Description of the Related Art Various tables using a liquid crystal display or the like
Window materials or various optical elements placed on the front of the display
Often the reflection of light on the surface is a problem. For example, a liquid crystal display
Mobile phone using display (LCD) etc. for display
Then, display panel book by LCD etc. from water, dust, external force, etc.
To protect your body, put a transparent plastic on the front of the display panel.
A window material such as a backing plate is arranged and protected (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 66859). However, we placed the window material
As a result, outside light is reflected on both the front and back, and the visibility of the display
Decreases. In addition, light from the display panel
Is reflected by the window material and returned to the display panel side.
The light use efficiency of the panel decreases, and the visibility decreases accordingly.
You. In addition, wasteful power consumption is necessary to compensate for this.
In mobile phones where low power consumption is important,
Is a problem. [0003] Conventionally, on the surface where light reflection is a problem,
For example, methods such as vapor deposition, sputtering, or coating
Therefore, a low-refractive-index layer single-layer film or a low-refractive-index layer and a high-refractive-index layer
Providing an anti-reflection film composed of a multilayer film with a layer
(Refer to JP-A 1-127852).
(Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-127852)
Information). Alternatively, as another anti-reflection treatment,
The surface is matted on a scale larger than the light wavelength, and the mirror of the uneven surface is
Diffuse light by surface reflection to reduce light (specular) reflection
Anti-glare technology (see JP-A-9-193332)
is there. This technology can improve anti-glare properties,
This prevents the rear view from appearing on the screen when looking straight ahead. [0004] However, evaporation,
Anti-reflection coating by sputtering etc. once or many times
Batch processing to form a thin film with controlled refractive index and thickness
Had to be done. On the other hand, the anti-glare technology has a light reflectance
Is not linked to an increase in light transmittance.
do not come. Therefore, the light use efficiency cannot be improved. example
For example, the display light utilization efficiency in the window material of the display unit is
You. Therefore, the applicant of the present invention has proposed a conventional anti-reflection
In order to solve the problems in the shutdown processing technology,
The repetition period disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 70040 is smaller than the wavelength of light.
By providing the very fine irregularities below on the surface
Attempt to apply technology to reduce surface reflectance
Was. If the technology disclosed in this publication is described here,
For optical components such as lenses to reduce surface reflection,
Applying photoresist on the surface, exposing, developing, etc.
To form a resist pattern, and
By corroding the glass substrate, the surface of the optical component
This is a method of directly forming fine irregularities. However, in this method, work efficiency is poor, and
The required productivity (mass productivity) for industrial products cannot be obtained. There
Then, the applicant once applied such fine irregularities to the original (ma
After preparing on a glass substrate to be
-Used in production of compact disc production lines, etc.
Using a nickel electroforming method that has been
Duplicate and use this duplicate as the imprint (master)
To achieve mass production as an industrial product.
It worked. [0007] For example, in the case of the above-mentioned articles such as window materials,
Is the fine concave only on one of the front and back surfaces of the transparent substrate.
Light reflection is better when provided on both front and back surfaces than when provided with protrusions.
It can be prevented on both sides, and a better anti-reflection effect can be obtained.
You. However, in the case of such an article,
Surface) is exposed to the outside under the operating environment
So that it is easily scratched and
It is easy to accumulate in the recess. Therefore, the front side is fine
There is a problem that the anti-reflection effect due to unevenness is likely to decrease.
Was. For this reason, antireflection articles as window materials for display devices
Is not exposed to the outside when using anti-reflective articles.
On the back side (inside) of the transparent substrate
(Display device according to Japanese Patent Application No. 2001-185965)
Window material: not disclosed at the time of filing this patent). [0008] However, the anti-reflection effect due to the fine irregularities is not enough.
No matter what is excellent, it is easy for dirt, dust and dirt to adhere
Only the inner surface, such as the back side, excluding the outer surface exposed to the outside
The light reflection on the outer surface will still remain
There was a problem. That is, an object of the present invention is to provide an LCD or the like.
As optical components and optical elements such as window materials for various display units
Available, reduces surface reflection of light and improves light transmittance
To provide an improved anti-reflection article. [0010] Means for Solving the Problems Therefore, the above problems are solved.
The anti-reflective article according to the present invention has a
Anti-reflection fine irregularities are formed on the fine irregularities forming surface.
The other surface is composed of at least a low refractive index layer
Reflection made by forming an anti-reflection film without fine irregularities
The prevention article, wherein the fine irregularities are in a visible light wavelength band.
Is the minimum wavelength in vacuumMIN, The most convex of the fine irregularities
The period in the part is PMAXAnd when PMAX≤λMIN And the fine irregularities are perpendicular to the direction of the irregularities.
Transparency in the cross section assuming that it was cut on the surface to be cut
The sectional area occupancy of the material portion of the base material is the most convex portion of the fine irregularities.
From the top to the most concave part
The configuration was such that it had unevenness. An antireflection article having such a structure is provided.
In the case where the light reflection on the surface of the article is
Anti-reflective coating on another surface that is prevented by
On the surface, light reflection is prevented by the antireflection film.
For this reason, when only one side is used to prevent reflection by fine irregularities
The antireflection performance is further improved as compared with. In addition, micro concave
In simple terms, convexity prevents light reflection.
On the surface of the material
When the irregularities are provided, the change in the refractive index between the surface and air is substantially reduced.
Abrupt and discontinuous because it can be gentle and continuous
Prevents light reflection, a phenomenon that occurs when the refractive index changes
Because. Moreover, the anti-reflection due to the fine irregularities is not
Even if it is convex, it has irregularities that are larger than the light wavelength
Anti-glare type that reduces light reflection by specular irregular reflection
No sudden change in refractive index at the interface between the article surface and air
The light reflectance is reduced because it is realized by summing
As a result, the light transmittance is improved. Of course, the surface with fine irregularities
The anti-reflection film formed on a different surface is also
It is not an antiglare that reduces light reflection. Therefore, light
The light transmittance can be improved as much as the reflectance is reduced. Follow
For example, an anti-reflection article is
When used for window materials, etc., improving the visibility of the display
In addition, the article can improve the use efficiency of the display light. [0013] DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
I do. [Outline] First, FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating one embodiment of an anti-sun article 10. Same figure
The anti-reflection article 10 illustrated in FIG.
To sheet-like), and the anti-reflection target surface is
Both front and back surfaces, the upper surface and the lower surface
This is a case of two planes parallel to. The anti-reflection article shown in the drawings exemplified here
For 10, the upper surface of these two drawings is the outer surface, and the lower surface is the lower surface.
The other surface is also called the inner surface. The outer surface is greasy, dusty,
This is the one that is easily stained. On the other hand, the inner surface is
On the side where dirt and dust are unlikely to adhere, such as inside the device.
Face. In FIG. 1, the inner surface of the transparent substrate 1
Fine irregularities 2 are formed for the purpose of preventing
An anti-reflection film 3 having no fine irregularities is formed on the outer surface of
It is an article of the composition made. The antireflection film 3 is a low refractive index layer
Single-layer film or multilayer film of low refractive index layer and high refractive index layer
This is an antireflection film according to a conventional method. Like this, on the inside
Is anti-reflective after anti-reflection
If you have fine irregularities on the outer surface that is easily scratched or dirty
Has been subjected to a conventional anti-reflection treatment that does not depend on the fine irregularities.
The anti-reflection function of both
Rather than only having an anti-reflection function due to fine irregularities,
Antireflection performance is further improved. Moreover, anti-reflection on the outer surface
Is more resistant to scratches and dirt
As a result, the antireflection effect is not easily reduced. The anti-reflection article 10 shown in FIG.
Means that the transparent substrate 1 is depicted as a single layer,
Is also good. For example, the antireflection article 10 illustrated in FIG.
As shown in FIG.
The transparent substrate 1 is transparent and has a different layer
Substrate body 1a and transparent fines having fine irregularities 2 on the surface
This is a configuration including the uneven layer 1b. [Fine unevenness] The fine unevenness 2 has an antireflection effect.
Has the following reasons. That is, the fine
Due to the irregularities 2, the transparent substrate 1 constituting the surface of the article and the outside
Abrupt and discontinuous refractive index changes with the field (air)
It is possible to change to a refractive index change that is gradually and gradually changing
Because. That is, the reflection of light is discontinuous at the material interface.
Because it is a phenomenon caused by a sudden change in the refractive index,
The refractive index change at the surface changes continuously and spatially
By doing so, light reflection on the article surface is reduced.
Because FIGS. 2 to 4 show the shape of the transparent substrate 1 formed on the surface thereof.
Of the refractive index distribution obtained by the fine irregularities 2
FIG. First, FIG.
Regarding the transparent substrate 1 provided on the surface, the transparent substrate 1
Occupies the space of Z ≦ 0, and the surface of the transparent substrate,
That is, the Z-axis direction is uneven on the XY plane at Z = 0.
This shows a state in which a number of fine irregularities 2 are arranged. In the present invention, the fine irregularities 2 are
, The period at the most convex portion 2t is PMAXAnd
This PMAXHowever, in a vacuum in the wavelength band of visible light,
Is the minimum wavelengthMINBecause it is as follows, the surface with fine unevenness
For the light that reaches the light, the medium (transparent substrate and air)
Even if there is a spatial distribution of the refractive index, it is the wavelength of interest
Since the distribution has the following size, the distribution is directly
Does not act on light, but acts as an average
I do. Therefore, the refractive index after averaging (effective refractive index)
Has a distribution that changes continuously as light progresses.
By doing so, the reflection of light can be prevented. In the present invention, the most convex portion 2t
Cycle PMAXMeans between the most convex portions 2t of the adjacent fine irregularities 2
Distance is the largest of the
It is regularly arranged and has periodicity (adjacent fine irregularities
Although the distance between them may be the same, there is no periodicity (adjacent
(The distances between the fine irregularities are irregular). In FIG. 2, a transparent coordinate system is used as an orthogonal coordinate system.
The Z axis is set in the normal direction set on the envelope surface of
The X axis and the Y axis are set in a plane orthogonal to the X axis and the Y axis. Soshi
Now, light enters the transparent substrate from above the drawing,
Navigate the inside of the substrate and move the vicinity of the surface of the transparent substrate in the negative direction of the Z axis.
, And the Z-axis coordinate is just z
Assume that it exists. Then, for the light at Z = z here,
Means that the refractive index of the medium is such that the surface of the transparent substrate 1 has specific fine irregularities 2
Strictly speaking, X is perpendicular to the Z axis at Z = z.
In the Y plane (transverse section: horizontal section), the distribution f (x,
(y, z). That is, in the XY plane
The cross section of the transparent substrate 1 has a refractive index nb(About 1.5
Degree), the other parts, specifically the part of air a, have a refractive index
na(= About 1.0) (see FIG. 3). However,
In some cases, for light, its wavelength (the
If the wavelength of the light is distributed, the minimum
Wavelength λMINShould be considered. Spatial scale smaller than)
The refractive index distribution of the tool acts as an average
As a result, the averaged effective refractive index is the XY plane.
, The refractive index distribution f (x, y, z) in the XY plane
Integral at [0024] (Equation 1) ## EQU1 ## As a result, the effective refractive index (nef)of
Distribution is a function n of z onlyef(Z) (see FIG. 4). Therefore, if the fine irregularities 2 are transparent,
The cross-sectional area of the convex portion of the substrate continuously increases toward the concave portion.
Transparent substrate (within XY plane)
The area ratio between the minute and the air part is continuously
Effective refractive index nef(Z) is the continuation of z
Function. On the other hand, the refractive index n0From the medium, the refractive index n1of
Consider the case where light enters the medium. Now, for simplicity, enter
Consider an angle of incidence θ = 0 ° (normal incidence). However, the incident angle is
It is the angle with respect to the normal of the launch surface. In this case, at the medium interface
Is independent of the polarization and the angle of incidence, and
[Equation 2] is obtained. [0028] (Equation 2) Therefore, the change of the (effective) refractive index in the Z direction
Is a continuous function in the Z direction (the way light travels).
Direction), two points separated by a small distance Δz, the refractive index at Z = z
nef(Z) is n0, The refractive index n at Z = z + Δz
ef(Z + Δz) is n1, And when If Δz → 0, then n1→ n0 (From the definition of the continuous function)
From [Equation 2], R → 0 ## EQU1 ## Here, more strictly speaking, in the object
Is the wavelength in vacuum of λ and the refractive index of the object is n.
Λ / n, and generally to some extent less than λ
It will be small. However, when the object is air, the refractive index is n ≒ 1.
Therefore, it may be considered that λ / n ≒ λ. However, it is used for transparent substrates
Materials usually have a refractive index of around 1.5, so the refractive index n
bWavelength in a transparent substrate (λ / nb) Is about 0.7λ
You. Considering this point, in the portion of the fine irregularities 2,
Looking at the part on the air side (the concave part of the fine irregularities 2), PMAX≤λMIN When the condition is satisfied, the refractive index is averaged.
The effect of reducing the reflectance can be expected. However, ΛMIN/ Nb≤PMAX≤λMIN In the case of (1), the transparent substrate portion (fine irregularities)
2), the refractive index averaging
The reflectivity reduction effect cannot be expected at least completely.
And But still, the contribution of the air
Therefore, it has an antireflection effect as a whole. And PMAX≤λMIN/ Nb If the condition is satisfied, the air portion, the permeability
The period PMAXBut smaller than the shortest wavelength
Condition is completely satisfied, so the refractive index is averaged.
The anti-reflection effect is more complete. Specifically, λMIN
Is 380 nm, the lower limit of the visible light wavelength band, nbAssuming 1.5
Then λMIN/ NbIs 250 nm, that is, PMAXIs 2
The thickness may be set to 50 nm or less. In addition, with reference to FIG.
In the explanation, the light from above the drawing is taken up and explained
But also reflects light from below in the drawing according to the same principle
Has a preventive effect. Next, the shape of the fine irregularities 2 is
Assuming that it was cut along a plane (XY plane) orthogonal to the direction of the unevenness
Material of the transparent substrate in the cross section (horizontal cross section)
Whether the cross-sectional area occupancy of the part is the most convex part (top) of the fine irregularities
From the bottom to the bottom (valley bottom).
Go shape. For this purpose, there should be at least
It is only necessary that some of the sides have an oblique slope.
However, as shown in Fig. 5 (C) below,
Fine irregularities of a certain shape may be used. Particularly preferably, the most convex
Completely converges to 0 at the part and completely at the most concave part
The shape converges to 1. Specifically, for example, FIG.
(B) and a shape as shown in FIG. 5 (C). However,
5 (D) or at the most convex part as shown in FIG. 5 (E).
Has a shape that is asymptotically close to 0, or
If the shape approaches asymptotically, a certain effect can be obtained.
Can be If the shape of the fine irregularities satisfies such conditions,
Any shape is acceptable. For example, the vertical cross-sectional shape of each fine unevenness 2
Is a wave-like shape formed only by a curve such as a sine wave as shown in FIG.
Shape (see also FIG. 2), as shown in FIGS. 5 (B) and 5 (C)
The shape of only a straight line such as a triangle, or the shape shown in FIG.
Trapezoidal shape in which the most convex part of a triangle forms a flat surface
Shape, the most concave part between adjacent triangles as shown in FIG. 5 (E) is flat
And the like. However, FIG. 5 (D) and FIG. 5 (E)
As shown in the figure, the shape has a flat surface in the most convex part or the most concave part.
Is the flat surface of the most convex or concave portion, and the flat surface
The larger the percentage of the area occupied, the more the change in the effective refractive index
It becomes largely discontinuous. In that respect, performance is inferior.
You. However, even in this case, the most concave part
To continuously change the effective refractive index as going to the section
Can do it. Therefore, in terms of the antireflection performance,
The smaller the area ratio of the flat surface of the most concave portion, the better. The effective refractive index nef(Z) from the air
As a function of the Z direction into the transparent substrate, naTo nbTo
In order to change continuously, it is necessary to use
In FIG. 5, the sectional area occupancy of the transparent substrate converges to 0.
(B) or a shape as shown in FIG.
Shape) and the cross-sectional area occupancy is continuously
A shape that converges to 1 is most preferred. Next, the horizontal cross-sectional shape of each fine unevenness is as follows:
Circular (eg Figure 2), elliptical, triangular, square, rectangular
Shapes, hexagons, and other polygons are optional. In addition, horizontal cut
The surface shape extends from the most convex part to the most concave part of the fine irregularities.
Need not be the same. Therefore, the three-dimensional shape of the fine irregularities
For example, the horizontal cross section is circular and the vertical cross section is
In the case of a square shape, the three-dimensional shape of the fine irregularities is a cone, a horizontal cross-sectional shape
Of small irregularities when the shape is circular and the vertical cross section is triangular
Body shape is oblique cone, horizontal cross-section is triangular, vertical cross-section
When the shape is an equilateral triangle, the three-dimensional shape of the fine unevenness is a triangular pyramid,
When the horizontal cross-section is square and the vertical cross-section is triangle
The three-dimensional shape of the fine irregularities becomes a quadrangular pyramid. The arrangement of the fine irregularities in the horizontal plane
Is a two-dimensional arrangement as illustrated in FIG.
As shown in the perspective view of FIG.
A one-dimensional arrangement may be used, and both effects can be obtained. However
However, in the case of a one-dimensional arrangement, the relationship with the amplitude direction of the light wave
The direction in which the antireflection effect is obtained and the direction in which
Out, anisotropy occurs. Therefore, the perspective view of FIG.
The two-dimensional arrangement as exemplified in the plan views of (B) and (C)
It is preferable that there is no directionality at all. The three-dimensional shapes of the individual fine irregularities are all the same.
The number may be one, but not necessarily the same. Also individual
When the fine irregularities 2 are two-dimensionally arranged, the cycle is
All may be the same in the fine irregularities, but they are not all the same
Is also good. The height H of the fine unevenness is determined by the desired reflection.
Reduction effect and the maximum visible light band incident on the transparent substrate surface.
Determined according to the large wavelength. For example, JP-A-50-700
No. 40 (especially FIG. 3), the reflectance and fine irregularities
When designing based on the relationship between the height of light and the wavelength of light, for example,
For example, the reflectance in the visible light band is 2% (half of that of untreated glass).
Min) if the goal is to reduce it below
Small height HMINIs 0.2λM AXThat is, HMIN≧ 0.2λMAX Further, the reflectance in the visible light band is 0.5% or less.
If your goal is to reduce it down, HMIN≧ 0.4λMAX It is preferable that Here, λ
MAXIs the maximum wavelength in a vacuum in the visible light wavelength band.
You. As the height H of the fine irregularities increases from zero,
Although the emissivity decreases, it is high enough to satisfy the above inequality condition.
At that point, a significant effect can be obtained. Concrete
Specifically, for example, the maximum wavelength of the emission spectrum is λMAX
= 640 nm fluorescent light, then HMIN≧ 0.
MAX= 128 nm. That is, HMINIs 12
The thickness may be set to 8 nm or more. Also, the maximum wavelength of the spectrum
Is λMAX= 780 nm, consider HMIN
≧ 0.2λMAX= 156 nm, ie, HMINIs 156
nm or more. Also, the minimum height HM INAnd period P
MAXThe minimum height HMIN/ Period PMAXThe ratio of
It is about 1/2 to 4/1. Here, the specific shape and size of the fine irregularities
In the example, the vertical section is sinusoidal and the horizontal section is
Many circular conical shapes are regularly arranged in two dimensions.
Is a set placed, and the period PMAXIs 50-250n
m, minimum height HMINWith the period P MAX1.5 times
And so on. [Transparent Substrate] The transparent substrate 1 has transparency.
And those having mechanical strength are preferred. For example, transparent
As a material of the base material, poly (meth) acrylate,
Ethyl poly (meth) acrylate, (meth) acrylate
Acrylic such as butyl-butyl (meth) acrylate copolymer
Resin (however, (meth) acryl is acrylic or
Means tacryl. ], Polypropylene, polymethyl
Pentene, cyclic olefin polymer (typically Norbo
There is a linen resin, etc., for example, Nippon Zeon Co., Ltd.
Product name "Zeonor" and JSR Corporation "Art"
Resin), polycarbonate
Nate resin, polyethylene terephthalate, polyethylene
Thermoplastic polyester resin such as naphthalate, polya
Amide resin, polystyrene, acrylonitrile-styrene
Copolymer, polyether sulfone, polysulfone,
Cellulosic resin, vinyl chloride resin, polyether ether
Thermoplastic resin such as terketone, polyurethane, or
Glass (including ceramics) and the like. The shape of the transparent substrate is suitable for use in antireflection articles.
There can be more various shapes. For example, as shown in FIG.
It is a flat plate as described above. In the case of a flat plate, flexibility is increased.
There may also be a sheet shape having the same. In other words, the aforementioned mechanical strength
Is not limited to rigidity. Note that a flat
In this case, the anti-reflection surface is usually the front and back, but it is not limited to this.
Not determined. The transparent substrate may be a three-dimensional three-dimensional object or the like. One
In other words, the shape of the antireflection article may be a three-dimensional three-dimensional object.
In addition, for example, in the case of the window material of the display unit, the antireflection surface
The plate is flat, but the ribs
And the like having a shape for attaching window materials. In addition,
Specific examples of the thickness when the bright base material is flat
For applications such as window materials, the thickness is usually about 0.5 to 2 mm. What
The anti-reflection surface is a flat surface due to the fine irregularities.
However, the present invention is not limited to this. Also anti-reflective
The film formation surface may be flat or curved. Incidentally, the fine unevenness 2 is a part of the transparent substrate 1.
A transparent substrate including the fine irregularities 2
Is fine, like the anti-reflection article 10 illustrated in FIG.
As a continuous object made of the same material including
1B, the anti-reflection article 10 illustrated in FIG.
As described above, the transparent substrate 1 is placed in a portion (fine
The uneven layer 1b) and the portion not including the fine unevenness (the transparent base material)
For example, as a configuration in which two layers of
Is also good. In the former case, for example, a transparent base made of resin
Injection molding makes transparent substrates fine, including fine irregularities
It can be formed by a method of forming at once with unevenness. Ma
In the latter case, for example, a glass
Or a transparent substrate made of resin
Curing of ionizing radiation curable resin etc. on the desired surface of bright substrate
2P method (Photo-polymeriza)
at the same time as the shaping of the layer with fine irregularities
Can be formed. Also, injection molding method
But insert molding, or two-color molding if all resin
It can be formed by a method. Note that these exemplary methods are
Displacement, uneven shape for fine uneven shaping was previously formed
Use (shaping) mold. [Method of Manufacturing Mold for Forming Fine Asperities]
It is used for shaping (forming) fine irregularities on a transparent substrate.
The type obtained will be described. Fine irregularities are already tangible and transparent
Substrate material (transparent substrate body), directly formed on each one
(Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-70040 described above).
Reference). In this method, the anti-reflective article is a single item
There is no problem in the case where small-scale production is sufficient. I
However, anti-reflective materials that require mass production as industrial products
In the case of products, it takes time to manufacture and the cost is high.
U. Therefore, considering industrial productivity and cost,
Make a mold and shape fine irregularities with this shaping mold
Is preferred. Further, as the shaping mold, the fine uneven shape is most preferable.
Do not use the prototype originally formed, once from the prototype, or
Duplicate produced through duplication process by molding and reversing at least twice
It is preferable to use a mold. In other words, first the prototype
(This is also called the original version or mother version)
Later, one or more replication operations to make a duplicate from this prototype
Performed twice or more times, and as a result,
This is also called this version or master version)
And use it. By using such a shaping mold,
This is a method excellent in industrial productivity, cost, and the like. For example,
Even if this version is damaged, can this version be easily reproduced?
It is. As a prototype which is a base of a shaping mold, a necessary fine
As long as fine irregularities are formed, the manufacturing method
There are basically no particular restrictions on productivity, cost, etc.
An appropriate one may be used with due consideration. Prototype fabrication is fine
Step of first forming an uneven shape for shaping the fine unevenness 2
The fine processing technology in the semiconductor field, etc.
Where light (including electron beam) is used for pattern formation
A so-called exposure method can be used. However, in the case of semiconductors, the uneven shape
As for the shape, the side surface is usually a vertical surface, and as in the present invention, it
In the present invention, it is not necessary to perform
And fine processing. The fine processing technology corresponding to the exposure method includes:
For example, an electron beam drawing method can be used. In this method,
After forming a resist layer on a glass substrate,
The resist layer is exposed and developed by a drawing method to
To form a resist pattern layer. After this, a corrosion mask
Dry the glass substrate using the resist pattern layer
Corrosion due to etching, etc.
Fine irregularities are formed. At this time, when etching,
Then, a slope is formed by etching. In addition, glass base
The resist pattern layer itself as a corrosion mask during plate corrosion
May be used directly, but a deep uneven shape with a slope
For this purpose, it is preferable to use chrome or the like on a glass substrate.
After forming a metal layer, a resist film is formed
A turn layer is obtained.
What was used as a metal pattern layer was replaced with a corrosion mask
It is good to use it. In forming a pattern on a resist film,
As another exposure method for electron beam lithography, laser lithography
Also available. In laser writing, holograms and diffraction gratings
Laser interferometry, which is used for manufacturing
You. In the case of a diffraction grating, it is a one-dimensional arrangement, but the angle is
If multiple exposures are changed, a two-dimensional arrangement is also possible. However
However, in laser interferometry, the fine irregularities obtained are usually regular
In the electron beam lithography method, a predetermined pattern
Turn information is stored as digital data in a storage device
In accordance with the drawing pattern information, the O
N, OFF, or intensity is modulated. Therefore, rule arrangement
Besides, irregular arrangement is also possible. Also, laser drawing
The drawing method and the electron beam drawing method each have advantages and disadvantages.
Considering the specifications, objectives, productivity, etc.,
Select an item. Next, the above prototype is used as a shaping mold.
As a method for producing a replication mold, a known method, for example,
Perform plating of metal such as nickel on the prototype and peel off the plating layer.
If it is stripped, a metal replica can be made (electroforming). Some
Is a plating of this duplicate mold again
Through many or more duplication operations such as
A shaping mold may be manufactured. In addition, the excipient used in the photopolymerization method is used.
The shape of the shape is plate, sheet, block, etc.
Possible, appropriately selected according to the shape, application, etc. of the antireflective article
Just do it. The shaping mold is made of a metal such as nickel.
May be used, but use resin products such as silicone resin
You may. For example, a continuous sheet-like sheet made of resin
Is also a possible shaping type. As described above, the transparent base material is formed by using the shaping mold.
On the other hand, as a specific method of forming (replicating) fine irregularities
Are, for example, hot pressing (embossing), injection molding,
2P method (Photo-polymerization)
Method), known replication methods such as the sol-gel method, or fine irregularities
Various methods such as laminating method of shaping sheet, transferring method of fine uneven layer
Seeding method, application of anti-reflective article, material of transparent substrate, etc.
May be appropriately selected according to the conditions. Among them, the tangible transparent base material
The method of forming fine irregularities is hot pressing (embossing).
Method), 2P method, sol-gel method, lamination of fine irregular shaped sheet
And a transfer method of a fine uneven layer. This
In the hot pressing method (embossing method), a transparent substrate is generally heated.
It can exhibit plastically deformable state such as plastic resin
It is applied when it is made of a material such as a resin. On the other hand, 2P
Method, laminating method of fine irregular shaped sheet (or plate),
In the transfer method of the fine uneven layer, the transparent substrate is made of inorganic material such as glass.
It is a method that can be applied even when it consists of Also, Solge
The transparent method uses a heat-resistant inorganic material such as glass
This is a method that can be applied when it consists of The sol-gel method (JP-A-6-64907)
And the like) as a thickener with metal alkoxide, etc.
A composition containing polyethylene glycol or the like is applied,
While the metal is soft to shape the irregularities, and then
After final drying and heat treatment, as an inorganic coating film
This is a method for forming fine irregularities. In addition, fine irregularities
A sheet (or board) is a sheet or board made of resin
Fine irregularities have already been shaped by using a shaping mold, etc.
Things. The resin is listed as a material for the transparent substrate
Resin or the like can be used. The irregular shaped sheet (or plate)
Is attached to the transparent substrate by an adhesive or heat fusion. The method for transferring the fine uneven layer is based on
Transfer sheet with a transfer layer laminated on
Transfer on the front side (that is, the transfer sheet on the side of the support sheet
Transfer surface with a fine uneven layer in which fine unevenness is provided in advance on the layer surface)
And transfer the fine uneven layer to the transparent substrate by transfer.
To form a fine uneven layer on a transparent substrate.
You. For this reason, the support sheet of the transfer sheet is
On the side surface, fine irregularities with an irregular shape reverse to the target fine irregularities
Use a sheet provided with. In addition, the support sheet
Uses the above-mentioned fine irregular shaped sheet or the like. Also support
The fine uneven layer on the body sheet is made of thermoplastic resin such as acrylic resin.
Resins, thermosetting resins such as urethane resins, ultraviolet rays and electrons
Ionizing radiation curable resins such as acrylates that cure with radiation
For example, by applying a coating liquid made of a transparent resin such as Next, the transparent base material is simultaneously formed at the time of molding.
In addition to the injection molding method, the 2P method
And the like. In the injection molding method, fine irregularities are formed on the mold surface.
Using the injection mold that is provided, fine irregularities are applied to the injection molding method
Therefore, it is formed. According to this method, the resin is used for transparency.
The bright substrate itself and the fine irregularities can be formed simultaneously by molding.
Since it is possible, this method is extremely excellent in mass productivity. Injection
In order to provide fine irregularities for forming fine irregularities on the mold,
By mounting the shaping mold obtained as described above on the mold surface, etc.
good. In the 2P method, the transparent substrate itself is fine.
This is a method of forming irregularities at the same time. Further, the transparent substrate is formed at the same time when the transparent substrate itself is formed.
As a method for forming fine irregularities, a transparent substrate is made of glass.
In some cases, glass can be plastically deformed by heating
It is possible to apply a hot pressing method
Fine irregularities may be formed at the same time as the molding of. Note that among the various forming methods described above,
1 (B), the transparent substrate 1 and the fine irregularities 2 are integrated.
In the case of the hot structure, hot press method (embossing method), injection molding
Method, 2P method, etc., and as shown in FIG.
A transparent base having fine irregularities 2 on its surface
The structure in which the fine unevenness layer 1b is laminated is obtained by an injection molding method.
(Two-color molding method of the main body and the uneven portion), 2P method, sol-gel
Method, laminating method of fine irregular shaped sheet (or plate),
It is obtained in the case of a transfer method of a fine uneven layer or the like. Further, the fine uneven layer formed by the 2P method, the transfer method, etc.
When formed as a fat layer, the resin must be transparent.
There is no particular limitation, but in order to make it hard to
Thermosetting resin such as urethane resin, epoxy resin, etc.
Resins, acrylate-based ionizing radiation-curable resins, etc. are preferred.
Good. Further, the fine irregularities are formed on the transparent base material main body.
When forming as an uneven layer, the transparent substrate body and the fine concave
If necessary, an adhesive layer or the like may be interposed between the convex layers.
good. The adhesive layer may be a known adhesive or a silane coupling agent.
And the like. [Anti-Reflection Film] The anti-reflection film 3 is an anti-reflection film.
The principle does not depend on the fine irregularities unique to the present invention as described above,
It is a layer by various conventionally known methods. However, conventionally known
Even if it is a method, the surface is scaled at the scale of light wavelength or more.
With irregularities on the matte surface,
Anti-glare technology that diffuses light to reduce light (specular) reflection
Excluding the light reflection prevention method. It is for the purpose of the present invention
Is to improve light transmittance as well as to prevent light reflection.
Anti-reflection with anti-glare technology reduces light transmittance accordingly
Because you do. Therefore, as a specific example of the antireflection film,
Has at least a low refractive index layer and is composed of a single layer or multiple layers
It is a film to be performed. Single layer low refractive index as anti-reflective coating
Although only a layer can provide a corresponding anti-reflection effect,
The low refractive index layer and the high refractive index layer
The outermost layer is a low-refractive-index layer.
And a dielectric multilayer film for obtaining a light reflection preventing effect. Low refractive index layer and high refractive index in dielectric multilayer film
Typically, a metal oxide thin film is used for each index layer.
Is done. For example, a high refractive index layer usually has a refractive index of 1.5.
The above is used (2.3 to 2.7), and ZnO
(Refractive index: 1.90, hereinafter the numerical value in parentheses indicates the refractive index),
TiOTwo(2.3-2.7), CeOTwo(1.95), S
bTwoOFive(1.71), SnOTwo(1.997), InTwoO
Three(2.00), YTwoOThree(1.87), LaTwoOThree(1.
95), AlTwoOThree(1.63), HfOTwo(2.0
0), ZrOTwo(2.05), ITO [Indium tin
Oxide] (1.95) and the like. This
Among them, the refractive index is 1.7 particularly at the point of high refractive index.
Metal oxides of from 8 to 2.4 are preferred.
O, TiOTwo, SnOTwo, InTwoOThree, ZrOTwoAnd this
These mixed oxides are preferred. On the other hand, low refractive index layers
For example, those having a refractive index of 1.42 to 1.51 are used.
And SiOTwo, SiO, SiOx, (However, x <2),
A metal oxide composed of chill group-containing silica or the like is used.
In addition, methyl group-containing silica is, for example, hexamethyl
Disiloxane (HMDSO), tetramethyldisiloxa
(Silicone) containing methyl group such as TMDSO
Formed by a plasma CVD method using a compound as a source gas.
(See JP-A-2000-338307).
See). And a low refractive index layer made of these metal oxides
And high refractive index layer, sputtering method, plasma CVD
It is formed by a known thin film forming method such as a method. High refractive index layer and low refractive index in dielectric multilayer film
Specific examples of the combination of the refractive index layer, for example, a high refractive index layer
Using an ITO film (refractive index 2.002) for the low refractive index layer
SiOTwoUsing a film (refractive index: 1.452), transparent substrate side
From the ITO film (thickness 25 nm) / SiOTwoMembrane (thick
25 nm) / ITO film (85 nm thick) / SiOTwofilm
(Having a thickness of 92 nm) and four layers. In addition, this
These films can be formed by a sputtering method. Further, another specific example of the dielectric multilayer film will be described.
For example, for example, an ITO film (having a thickness of 25
nm) / SiOTwoFilm (thickness 25 nm) / ITO film (thickness
85 nm) / Silica film (95 nm thick)
It is a layer film. In addition, this silica film is formed by a plasma CVD method.
The other is formed by a sputtering method. Further, as the antireflection film, magnesium fluoride
Thin single layer with low refractive index material such as
Film or powder of these low refractive index substances
-A coating film of an anti-reflective paint made into a dispersed paint in
You. It should be noted that an anti-reflection film should be provided on a transparent substrate.
At this time, a hard core for increasing the surface strength of the anti-reflection film is used.
Primer layer to increase adhesion to transparent substrates and transparent substrates
May be used in combination as appropriate. Hard coat layer is anti-reflective coating
It is preferable to provide between the transparent base material in terms of antireflection
You. On the other hand, the primer layer is between the antireflection film and the transparent substrate.
When a hard coat layer is also provided,
Between coat layer and transparent substrate, anti-reflective coating and hard coat layer
It is provided between or at both positions. As the hard coat layer, depending on the application,
Known ones may be used. For example, as a hard coat layer
Is a thermosetting resin such as urethane resin and epoxy resin,
Ionizing radiations such as acrylates that cure with external or electron beams
Formed as a cross-linked cured product of a curable resin such as a curable resin
be able to. [Use of antireflection article] Antireflection article of the present invention
An article is first shaped as a film (or sheet).
G), plate, three-dimensional shape, etc. are arbitrary, and the use is particularly limited.
Not something. However, fine irregularities for anti-reflection
Be careful about dirt and scratches
Good. Therefore, the surface on which the fine unevenness is formed is preferably on the outer surface.
Can be used on the inner side without being exposed, and one anti-reflection coating
The use which can be used by making the side the outer surface side is preferable. In addition,
The applications to which the present invention can be applied include the following applications.
It is not limited. For example, a table in various devices such as a cellular phone
It is the window material of the indicator. In these displays, display such as LCD
On the front of the panel, a resin window material that became a plate or molded product
Be placed. For anti-reflective articles as window material,
As an anti-reflection film, forming the fine irregularities unique to the present invention on the inner surface side
Good face. The display unit is a display panel such as an LCD.
In addition to mechanical analog meters such as watches.
The display may be performed by any mechanical means such as these.
But it's fine. In addition, although the window material has a flat shape,
Some have projections and the like around from the viewpoint of design. A device having a display unit with a window as described above
In addition to mobile phones and watches, personal computers
PDA or personal digital assistant such as computer, electronic notebook,
Desk or CD player, DVD player, MD player
Various portable types such as layers and semiconductor memory type music players
Music player, video tape recorder, IC recorder
Coders, video cameras, digital cameras, label pudding
Electronic devices such as rice cookers, electric rice cookers, electronic pots,
There are electric products such as a rinsing machine. Further, a film (or sheet) or a plate
For anti-reflective articles, use for transparent touch panels, etc.
Transparent substrates such as transparent electrode films and transparent plates.
You. Transparent touch panel adds input function to display
Although it is a product, display on LCD, CRT, etc. on the product assembly
Since it is assembled as a separate part from the panel,
Air gaps remain between the bright touch panels, causing light reflection. There
The transparent base material that forms the back side of the transparent touch panel
Has fine irregularities peculiar to the present invention on its back (inner) side.
Anti-reflective article with an anti-reflective coating on the front side (outer surface)
Then, light reflection can be prevented. The transparent touch panel is, for example, an electronic
PDAs such as notebooks or portable information terminals (devices), or
Car navigation system, POS (point of sale
Terminal), portable order entry terminal, ATM (cash automatic
Deposit payment machine), facsimile, fixed telephone terminal, mobile
Phones, digital cameras, video cameras, personal computers,
Display for socon, television receiver, for television
Monitor displays, ticket vending machines, measuring instruments, calculators, electronics
Electronic devices such as musical instruments, copiers, ECRs (cash register machines), etc.
Used for office equipment or electrical products such as washing machines and microwave ovens.
Used. The use of the antireflection article of the present invention
Various optical elements are also included. [0083] The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. [Embodiment 1] Reflection having a configuration as shown in FIG.
The prevention article 10 was produced as follows. Shapes fine irregularities
Glass substrate with a thickness of 3mm in order to make a shaping mold
Photosensitive resin (Sipley)
Co. , Inc., Inc. Product name "Micropost
  S1805 ") to form a resist layer having a thickness of 600 nm
And an argon ion laser
The operation of exposing the light from two directions at an incident angle of 50 °
This was performed twice while rotating the lath substrate by 90 degrees. Then develop
Liquid (manufactured by Sipley Co., Inc., trade name "D
Develop the resist layer with "eveloperCONC")
By doing so, the laser with the desired fine irregularities formed
An original plate (mother) consisting of a glass substrate
Plate). Next, from this mother plate, an electroplating method was applied.
Therefore, the mass of the nickel-plated plate having a thickness of 80 μm is
The slab was prepared as a shaping mold. On the other hand, the substrate body 1a having a thickness of 80 μm
Front side of triacetyl cellulose resin (TAC) film
Antireflection film 3 made of a dielectric multilayer film
Was formed. The antireflection film 3 is made of an oxide
Ion film (thickness 100 nm) / ITO film (thickness 40 nm)
/ Three-layer silicon oxide film (80 nm thick)
It was formed by a sputtering method. Then, the surface to be the back side of the base material body 1a
In contrast, using ultraviolet-curing ionizing radiation-curable resin
The fine uneven layer 1b having the fine unevenness 2 is formed by the 2P method.
Formed. Specifically, ionizing radiation is applied to the back surface of the substrate body.
The curable resin was potted (coating amount converted: 2 g /
mTwo) After that, press the above-mentioned shaping mold from above the resin mass
With the resin spread over the sheet surface and pressed
In the condition, the substrate is irradiated with ultraviolet rays from the
After the fat is cured by photopolymerization, the shaping mold is peeled off,
A fine uneven layer was formed. As described above, sheet-like reflection
A protected article was obtained. Then, the fine unevenness 2 of the antireflection article
Is the height H by observation with an atomic force microscope.MINIs 20
0 nm, period PMAXHas a shape of 300 nm, as shown in FIG.
With a large number of fine irregularities regularly arranged in a square lattice shape vertically and horizontally
there were. [Comparative Example 1]
Example 1 was the same as Example 1 except that the formation of
Similarly, an antireflection article was produced. [Evaluation of Performance] Reflection of Examples and Comparative Examples
For the prevention products, the light transmittance in the visible light band (
And the reflectance (luminous reflectance) were measured. as a result,
In the antireflection article of Example 1, the transmittance was 98.4%,
The emissivity was 0.6%. In contrast, conventional anti-reflection
In the antireflection article of Comparative Example 1 having only the stop film, the transmittance was 95.
2%, reflectance 4.0%, both performances inferior to Example 1.
Was. The antireflection article of Example 1 was antireflection.
Light is not diffused and the transmittance has been improved.
Was done. [0091] According to the antireflection article of the present invention, the article table
Surface light reflection is prevented by both fine irregularities and anti-reflective coating
When only one side is anti-reflective with fine irregularities
In comparison, the antireflection performance is further improved. Moreover, those
As a result, the light transmittance improves as much as the light reflectivity decreases.
Therefore, when used as a window material for a display unit such as a display,
Improve the visibility of the display and use the display light
It is an article that can raise the rate.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の反射防止物品をその2形態について例
示する断面図。 【図2】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図(その1)。 【図3】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図(その2)。 【図4】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図(その3)。 【図5】微細凹凸の(垂直)断面形状の幾つかを例示す
る断面図。 【図6】微細凹凸の水平面内での配置の幾つかを例示す
る断面図。 【符号の説明】 1 透明基材 1a 透明基材本体 1b 微細凹凸層 2 微細凹凸 2t (微細凹凸2の)最凸部 3 反射防止膜 10 反射防止物品 n 屈折率 na 屈折率(空気) nb 屈折率(透明基材) n0 屈折率 n1 屈折率 nef(Z) 有効屈折率 HMIN (微細凹凸の)最小高さ PMAX 周期 R 反射率 λMIN 最小波長 λMAX 最大波長
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an antireflection article of the present invention in two embodiments. FIG. 2 is a diagram (part 1) for conceptually explaining the distribution of the effective refractive index obtained by fine irregularities. FIG. 3 is a diagram (part 2) for conceptually explaining the distribution of the effective refractive index obtained by fine irregularities. FIG. 4 is a diagram (part 3) for conceptually explaining the distribution of the effective refractive index obtained by fine irregularities. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating some (vertical) cross-sectional shapes of fine unevenness. FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating some arrangements of fine irregularities in a horizontal plane. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 1a Transparent substrate main body 1b Fine unevenness layer 2 Fine unevenness 2t Most convex portion 3 (of fine unevenness 2) Antireflection film 10 Antireflection article n Refractive index n a Refractive index (air) n b Refractive index (transparent substrate) n 0 Refractive index n 1 Refractive index n ef (Z) Effective refractive index H MIN Minimum height of fine irregularities P MAX Period R Reflectivity λ MIN Minimum wavelength λ MAX maximum wavelength

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H090 JA02 JB02 JC03 LA20 2H091 FA19Y FA37X FB02 FB13 FC02 LA30 2K009 AA02 AA12 BB14 BB24 CC03 DD04 DD05 DD12 DD15    ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page    F term (reference) 2H090 JA02 JB02 JC03 LA20                 2H091 FA19Y FA37X FB02 FB13                       FC02 LA30                 2K009 AA02 AA12 BB14 BB24 CC03                       DD04 DD05 DD12 DD15

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 透明基材の表面に反射防止用の微細凹凸
が形成され、該微細凹凸形成面との別の面には上記微細
凹凸は持たず少なくとも低屈折率層を有し単層又は多層
から構成される反射防止膜が形成されて成る、反射防止
物品であって、 前記微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最
小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をP
MAXとしたときに、 PMAX≦λMIN なる関係を有し、 且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断した
と仮定したときの断面内に於ける透明基材の材料部分の
断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行く
に従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸である、反
射防止物品。
Claims: 1. A surface of a transparent substrate having fine irregularities for antireflection formed thereon, and at least a low refractive index layer having no such fine irregularities on a surface different from the surface on which the fine irregularities are formed. An anti-reflection article comprising an anti-reflection film formed of a single layer or a multilayer, wherein the fine irregularities have a minimum wavelength in a vacuum of a visible light wavelength band in a vacuum of λ MIN . The period at the most convex part of the fine irregularities is P
When MAX , the relationship of P MAX ≦ λ MIN is satisfied, and the cutting of the material portion of the transparent base material in the cross section when it is assumed that the fine unevenness is cut on a surface orthogonal to the uneven direction. An antireflection article wherein the area occupancy is such that the area occupancy increases gradually from the most convex portion to the most concave portion of the fine irregularities.
JP2002009531A 2002-01-18 2002-01-18 Antireflection article Pending JP2003215303A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002009531A JP2003215303A (en) 2002-01-18 2002-01-18 Antireflection article

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002009531A JP2003215303A (en) 2002-01-18 2002-01-18 Antireflection article

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003215303A true JP2003215303A (en) 2003-07-30

Family

ID=27647519

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002009531A Pending JP2003215303A (en) 2002-01-18 2002-01-18 Antireflection article

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003215303A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007322572A (en) * 2006-05-31 2007-12-13 Omron Corp Anti-reflection optical element
JP2010005998A (en) * 2008-06-30 2010-01-14 Asahi Glass Co Ltd High light transmissible fluororesin film and its manufacturing method
JP2010048902A (en) * 2008-08-19 2010-03-04 The Inctec Inc Low reflective transparent board and exhibition case using same
WO2011033818A1 (en) * 2009-09-15 2011-03-24 シャープ株式会社 Structure with observation window
JP2012073487A (en) * 2010-09-29 2012-04-12 Dainippon Printing Co Ltd Antireflection article and display device
JP2012133398A (en) * 2012-03-26 2012-07-12 Canon Electronics Inc Camera
JP2013063656A (en) * 2012-10-15 2013-04-11 Dnp Fine Chemicals Co Ltd Low reflection transparent plate and case for display using the same
WO2019017072A1 (en) * 2017-07-21 2019-01-24 Agc株式会社 Front panel for display device
WO2021200175A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07 デクセリアルズ株式会社 Optical body, method of producing optical body, and optical device
JP2022121424A (en) * 2016-10-04 2022-08-19 株式会社半導体エネルギー研究所 Display device

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007322572A (en) * 2006-05-31 2007-12-13 Omron Corp Anti-reflection optical element
JP2010005998A (en) * 2008-06-30 2010-01-14 Asahi Glass Co Ltd High light transmissible fluororesin film and its manufacturing method
JP2010048902A (en) * 2008-08-19 2010-03-04 The Inctec Inc Low reflective transparent board and exhibition case using same
US8736960B2 (en) 2009-09-15 2014-05-27 Sharp Kabushiki Kaisha Structure with observation port
WO2011033818A1 (en) * 2009-09-15 2011-03-24 シャープ株式会社 Structure with observation window
JP2012073487A (en) * 2010-09-29 2012-04-12 Dainippon Printing Co Ltd Antireflection article and display device
JP2012133398A (en) * 2012-03-26 2012-07-12 Canon Electronics Inc Camera
JP2013063656A (en) * 2012-10-15 2013-04-11 Dnp Fine Chemicals Co Ltd Low reflection transparent plate and case for display using the same
JP2022121424A (en) * 2016-10-04 2022-08-19 株式会社半導体エネルギー研究所 Display device
JP7274645B2 (en) 2016-10-04 2023-05-16 株式会社半導体エネルギー研究所 Display device
WO2019017072A1 (en) * 2017-07-21 2019-01-24 Agc株式会社 Front panel for display device
JPWO2019017072A1 (en) * 2017-07-21 2020-07-30 Agc株式会社 Front plate for display device
JP7151710B2 (en) 2017-07-21 2022-10-12 Agc株式会社 Front plate for display device
WO2021200175A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07 デクセリアルズ株式会社 Optical body, method of producing optical body, and optical device
JP2021162728A (en) * 2020-03-31 2021-10-11 デクセリアルズ株式会社 Optical body, method of manufacturing optical body, and optical device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6677703B2 (en) Cover plate for display device, method of making the same, display device and reflection reducing structure
JP4197100B2 (en) Anti-reflective article
JP4632589B2 (en) Transparent touch panel with antireflection function and display device using the same
JP2003215314A (en) Antireflection article
JP2003240903A (en) Antireflection article
KR101504391B1 (en) Transparent conductive film, conductive optical device, and production method therefor
JP4270806B2 (en) Method for producing antireflection article by sol-gel method
KR100565387B1 (en) A microlens array, a method for making a transfer master pattern for microlens array, a concave and convex pattern obtained from the transfer master pattern, a laminate for transfer, a diffuse reflection plate and a liquid crystal display device
EP2474843A1 (en) Conductive optical element, touch panel, information input device, display device, solar cell, and master for production of conductive optical element
CN102947897B (en) There is the high transmission conductive membranes of antireflecting coating, touch panel and manufacture method
US8907224B2 (en) Transparent conductive element, input device, and display device
JP2003205564A (en) Electrification preventing transfer foil with reflection preventing function
JP5841656B2 (en) Display device
CN102592715A (en) Conductive optical device, information input apparatus, and display apparatus
KR20120111920A (en) Conductive optical element
CN101055329A (en) Wire-grid polarizers, methods of fabrication thereof and their use in transmissive displays
JP6070356B2 (en) Manufacturing method of conductive sheet for touch panel, and conductive sheet for touch panel
JP4393042B2 (en) Antiglare antireflection member and optical member
JP2007090656A (en) Translucent article
TW201936418A (en) Articles with textured surfaces and methods of making same
JP2008090212A (en) Antireflection optical structure, antireflection optical structure body and its manufacturing method
JP2015068853A (en) Laminated body, imaging element package, imaging apparatus, and electronic apparatus
JP2003098304A (en) Antireflective transfer film and method for antireflection processing by using the same
JP2003215303A (en) Antireflection article
JP2014071323A (en) Anti-reflection article

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050114

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080422

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080623

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080623

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081104