JP2003209862A - Inspection apparatus and inspection method - Google Patents

Inspection apparatus and inspection method

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JP2003209862A
JP2003209862A JP2002003146A JP2002003146A JP2003209862A JP 2003209862 A JP2003209862 A JP 2003209862A JP 2002003146 A JP2002003146 A JP 2002003146A JP 2002003146 A JP2002003146 A JP 2002003146A JP 2003209862 A JP2003209862 A JP 2003209862A
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transparent substrate
inspection
inspection apparatus
light source
chuck
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JP2002003146A
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Japanese (ja)
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Kiyoshi Takekoshi
清 竹腰
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Tokyo Electron Ltd
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Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection apparatus and inspection method for automatically inspecting the electric characteristics of CCDs since the CCD inspection apparatus is less automated than inspection apparatuses for semiconductor integrated circuits such as memory circuit elements. <P>SOLUTION: An inspection apparatus 10 of this invention includes: a moving mechanism 11 movable in X, Y, Z and θ directions; an inverting mechanism 12 fitted to the moving mechanism 11; a chuck 13 connected to the inverting mechanism 12 in a forward/reverse turnably manner and sucking and supporting a transparent substrate 1; a light source 14 for emitting light to the backside of the transparent substrate 2 supported by the chuck 13; and a contactor 15 with a plurality of probes 15A for detecting electric signals generated by the CCD 1 via a plurality of electrodes 1A on the basis of the light emitted from the light source 14. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、検査装置及び検査
方法に関し、更に詳しくは、撮像素子(例えば、CCD
素子)の電気的特性検査を自動的に行うことができる検
査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection device and an inspection method, and more particularly, to an image pickup device (eg CCD).
The present invention relates to an inspection device capable of automatically inspecting electrical characteristics of elements.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】メモリ
回路素子やロジック回路素子等の半導体集積回路はその
需要が極めて多いため、大量に生産されている。そし
て、種々の検査装置を用いて半導体集積回路の電気的特
性検査を行い、欠陥品をスクリーニングしている。ま
た、検査数量が大量である上に検査内容も多岐に渡るた
め、検査装置も他の半導体製造装置と同様に極力自動化
が行われている。
2. Description of the Related Art Semiconductor integrated circuits such as memory circuit elements and logic circuit elements are in great demand because they are in great demand. Then, the electrical characteristics of the semiconductor integrated circuit are inspected using various inspection devices to screen defective products. Further, since the inspection quantity is large and the inspection contents are diverse, the inspection apparatus is automated as much as other semiconductor manufacturing apparatuses.

【0003】また、最近では例えば撮像素子として用い
られるCCD素子の普及も目覚ましく、その需要も飛躍
的に伸びている。しかしながら、CCD素子の検査装置
はメモリ回路素子等の半導体集積回路と比較すれば自動
化が遅れている。
Recently, for example, a CCD element used as an image pickup element has been remarkably popularized, and the demand thereof has been dramatically increased. However, in comparison with semiconductor integrated circuits such as memory circuit elements, the inspection device for CCD elements has been delayed in automation.

【0004】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、CCD素子等の撮像素子の電気的特性検査
を自動的に行うことができる検査装置及び検査方法を提
供することを目的としている。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide an inspection apparatus and an inspection method capable of automatically inspecting the electrical characteristics of an image pickup device such as a CCD device. There is.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の検査装置は、透明基板の表面に配列された複数の撮像
素子の電気的特性検査を行う検査装置であって、上記透
明基板を保持する保持体と、この保持体を反転させて上
記透明基板の裏面を上向きにする反転機構と、この反転
機構を介して反転した上記透明基板の裏面へ光を照射す
る光源と、この光源から光が照射されている状態で上記
撮像素子の電気的特性を検査する検査手段とを備えたこ
とを特徴とするものである。
The inspection apparatus according to claim 1 of the present invention is an inspection apparatus for inspecting the electrical characteristics of a plurality of image pickup devices arranged on the surface of a transparent substrate. A holding body for holding, a reversing mechanism for reversing the holding body so that the back surface of the transparent substrate faces upward, a light source for irradiating the back surface of the transparent substrate reversed through the reversing mechanism, and this light source And an inspection means for inspecting the electrical characteristics of the image pickup device under the condition that light is emitted from the image pickup device.

【0006】また、本発明の請求項2に記載の検査装置
は、請求項1に記載の発明において、上記透明基板を搬
送する搬送機構を備えたことを特徴とするものである。
The inspection apparatus according to a second aspect of the present invention is characterized in that, in the invention according to the first aspect, a transport mechanism for transporting the transparent substrate is provided.

【0007】また、本発明の請求項3に記載の検査装置
は、請求項1または請求項2に記載の発明において、上
記保持体及び上記反転機構を少なくともX、Y、Z方向
に移動させる移動機構を備えたことを特徴とするもので
ある。
The inspection apparatus according to claim 3 of the present invention is the inspection apparatus according to claim 1 or 2, wherein the holder and the reversing mechanism are moved in at least X, Y and Z directions. It is characterized by having a mechanism.

【0008】また、本発明の請求項4に記載の検査装置
は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明に
おいて、上記保持体は上記透明基板をその外周で保持す
る支持部を有することを特徴とするものである。
The inspection device according to claim 4 of the present invention is the inspection device according to any one of claims 1 to 3, wherein the holding body supports the transparent substrate at its outer periphery. It is characterized by having a part.

【0009】また、本発明の請求項5に記載の検査装置
は、請求項4に記載の発明において、上記保持体は上記
支持部の複数箇所で開口する排気通路を有することを特
徴とするものである。
Further, an inspection apparatus according to a fifth aspect of the present invention is characterized in that, in the invention according to the fourth aspect, the holding body has exhaust passages that open at a plurality of positions of the support portion. Is.

【0010】また、本発明の請求項6に記載の検査装置
は、請求項2〜請求項5のいずれか1項に記載の発明に
おいて、上記保持体は上記搬送機構のアームが進入する
進入部を有することを特徴とするものである。
The inspection device according to claim 6 of the present invention is the inspection device according to any one of claims 2 to 5, wherein the holder is an entrance portion into which the arm of the transport mechanism enters. It is characterized by having.

【0011】また、本発明の請求項7に記載の検査装置
は、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の発明に
おいて、上記検査手段は撮像素子を加熱する加熱部を有
することを特徴とするものである。
The inspection apparatus according to claim 7 of the present invention is the inspection apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the inspection means has a heating section for heating the image pickup device. It is characterized by.

【0012】また、本発明の請求項8に記載の検査装置
は、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の発明に
おいて、上記光源は上記保持体の上方に配置されている
ことを特徴とするものである。
The inspection device according to claim 8 of the present invention is the inspection device according to any one of claims 1 to 7, wherein the light source is arranged above the holder. It is characterized by.

【0013】また、本発明の請求項9に記載の検査装置
は、請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の発明に
おいて、上記検査手段は上記保持体の下方に配置されて
いることを特徴とするものである。
The inspection device according to claim 9 of the present invention is the inspection device according to any one of claims 1 to 8, wherein the inspection means is arranged below the holder. It is characterized by that.

【0014】また、本発明の請求項10に記載の検査方
法は、透明基板の表面に配列された複数の撮像素子の電
気的特性検査を行う検査方法であって、上記透明基板を
搬送する工程と、上記透明基板を保持体で保持する工程
と、上記透明基板の裏面を上向きにするため上記保持体
を反転させる工程と、上記透明基板の裏面に光を照射す
る工程と、上記光が照射されている状態で上記撮像素子
の電気的特性を検査する工程とを備えたことを特徴とす
るものである。
The inspection method according to a tenth aspect of the present invention is an inspection method for inspecting the electrical characteristics of a plurality of image pickup devices arranged on the surface of a transparent substrate, the step of transporting the transparent substrate. A step of holding the transparent substrate with a holder, a step of reversing the holder so that the back surface of the transparent substrate faces upward, a step of irradiating the back surface of the transparent substrate with light, and a step of irradiating with the light. And a step of inspecting the electrical characteristics of the image pickup device under the above condition.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図3に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。まず、撮像素子としての
CCD素子の電気的特性検査の原理について図1に基づ
いて説明する。CCD素子1は例えば図1の(a)、
(b)に示すように石英ガラス等の透明基板2の表面に
縦横にマトリックス状に配列されている。そして、透明
基板2上には各CCD素子1に対応する複数の電極1A
が形成され、同図の(c)に示すように各CCD素子1
がバンプ1Bを介して複数の電極1Aに対して接続され
ている。また、CCD素子1と透明基板2の間にはアン
ダーフィル3が充填され、アンダーフィル3を介してC
CD素子1、電極1A及び透明基板2を互いに密着して
いる。そして、CCD素子1の電気的特性検査を行う場
合には、光Lを透明基板2の裏面側からCCD素子1に
照射する。CCD素子1の光電変換素子(図示せず)に
おいて光電変換された電気信号を各電極1Aに電気的に
接触した接触子(プローブ)Pを介して検出し、図示し
ないテスタでCCD素子1の電気的特性検査を行う。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention will be described below based on the embodiments shown in FIGS. First, the principle of the electrical characteristic inspection of the CCD element as the image pickup element will be described with reference to FIG. The CCD element 1 is, for example, as shown in FIG.
As shown in (b), the transparent substrate 2 made of quartz glass or the like is arranged vertically and horizontally in a matrix. On the transparent substrate 2, a plurality of electrodes 1A corresponding to each CCD element 1 are provided.
Are formed, and each CCD element 1 is formed as shown in FIG.
Are connected to the plurality of electrodes 1A via bumps 1B. An underfill 3 is filled between the CCD element 1 and the transparent substrate 2, and C is inserted through the underfill 3.
The CD element 1, the electrode 1A and the transparent substrate 2 are in close contact with each other. Then, when the electrical characteristic inspection of the CCD element 1 is performed, the light L is applied to the CCD element 1 from the back surface side of the transparent substrate 2. An electric signal photoelectrically converted by a photoelectric conversion element (not shown) of the CCD element 1 is detected through a contactor (probe) P which is in electrical contact with each electrode 1A, and an electric signal of the CCD element 1 is detected by a tester (not shown). Characteristic test.

【0016】而して、本実施形態の検査装置10は、図
2の(a)、(b)及び図3の(a)、(b)に示すよ
うに、X、Y、Z及びθ方向に移動可能な移動機構11
と、この移動機構11に取り付けられた反転機構12
と、この反転機構12に正逆回転可能に連結され且つ透
明基板1を吸着保持する保持体(チャック)13と、こ
のチャック13で保持された透明基板2の裏面にその開
口部13Aから光を照射する光源14(図3参照)と、
この光源14の照射光に基づいてCCD素子1において
生成した電気信号を複数の電極1Aを介して検出する複
数のプローブ15Aを有するコンタクタ15(図3参
照)とを備え、透明基板2上の複数のCCD素子1(図
1参照)の電気的特性検査を自動的に行う。また、検査
装置10は搬送機構16を備え、アーム16Aを介して
カセット(図示せず)とチャック13間で透明基板2の
受け渡しを行う。
Thus, the inspection apparatus 10 of the present embodiment, as shown in FIGS. 2 (a), (b) and FIGS. 3 (a), (b), has X, Y, Z and θ directions. Moving mechanism 11
And the reversing mechanism 12 attached to the moving mechanism 11.
And a holder (chuck) 13 which is connected to the reversing mechanism 12 so as to be able to rotate in the forward and reverse directions and sucks and holds the transparent substrate 1, and light from the opening 13A to the back surface of the transparent substrate 2 held by the chuck 13. A light source 14 (see FIG. 3) for irradiating,
A contactor 15 (see FIG. 3) having a plurality of probes 15A for detecting an electric signal generated in the CCD element 1 based on the light emitted from the light source 14 through a plurality of electrodes 1A, The electrical characteristic inspection of the CCD element 1 (see FIG. 1) is automatically performed. In addition, the inspection device 10 includes a transport mechanism 16, and transfers the transparent substrate 2 between the chuck (not shown) and the chuck 13 via the arm 16A.

【0017】移動機構11は、図2の(a)、(b)に
示すように、基台17上に配置され且つX方向に移動す
るXステージ11Aと、このXステージ11A上に配置
され且つY方向に移動するYステージ11Bと、このY
ステージ11B上に配置され且つZ方向に昇降するZス
テージ11Cと、このZステージ11C上に配置され且
つ垂直軸を中心に正逆回転するθステージ11Dとを備
え、後述のように透明基板2の各CCD素子1の検査を
行う時に、X、Yステージ11A、11Bを介してチャ
ック13で保持した透明基板2をX方向及びY方向へイ
ンデックス送りすると共に、検査位置でZステージ11
Cを介してCCD素子1とプローブ15Aを離接させ
る。
As shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the moving mechanism 11 is arranged on a base 17 and is moved on the X stage 11A, and is arranged on this X stage 11A. The Y stage 11B that moves in the Y direction and this Y
A Z stage 11C, which is arranged on the stage 11B and moves up and down in the Z direction, and a θ stage 11D, which is arranged on this Z stage 11C and rotates forward and backward about a vertical axis, are provided. When inspecting each CCD element 1, the transparent substrate 2 held by the chuck 13 is index-fed in the X and Y directions via the X and Y stages 11A and 11B, and the Z stage 11 is moved at the inspection position.
The CCD element 1 and the probe 15A are brought into contact with each other via C.

【0018】チャック13はθステージ11Dに装着さ
れた反転機構12を介して反転する。即ち、透明基板2
を受け渡す時には透明基板2を支持する面が上面にな
り、透明基板2のCCD素子1の検査を行う時には反転
し、透明基板2を支持する面が下面になる。このチャッ
ク13の開口部13Aは透明基板2の形状及び大きさに
合わせてチャック13の先端側に形成され、その先端側
がフレーム状に形成されている。また、チャック13の
上面には開口部13A全周に渡って段部が支持部13B
として形成され、この支持部13Bで透明基板2の外周
縁部を支持する。このチャック13内には真空排気装置
(図示せず)に連通する排気路が形成され、この排気路
は支持部13Bの周方向等間隔を空けた複数箇所で吸着
用の孔13Cとして開口している。従って、真空排気装
置による真空排気により、透明基板2を支持部13B上
で真空吸着、固定する。また、チャック13には搬送機
構16のアーム16Aが進入する進入部13Dがアーム
16Aの幅に合わせて形成され、図2の(a)に矢印A
で示すように透明基板2を保持したアーム16Aがチャ
ック13の真上に進入し、チャック13がZ方向に上昇
しアーム16Aが進入部13D内に嵌まり込んで透明基
板2を支持部13Bに引き渡す。
The chuck 13 is reversed by the reversing mechanism 12 mounted on the θ stage 11D. That is, the transparent substrate 2
The surface supporting the transparent substrate 2 becomes the upper surface when the CCD is transferred, and the surface supporting the transparent substrate 2 becomes the lower surface when the CCD device 1 of the transparent substrate 2 is inspected. The opening 13A of the chuck 13 is formed on the tip side of the chuck 13 according to the shape and size of the transparent substrate 2, and the tip side is formed in a frame shape. In addition, on the upper surface of the chuck 13, a stepped portion is formed over the entire circumference of the opening portion 13A and a supporting portion 13B.
The support portion 13B supports the outer peripheral edge portion of the transparent substrate 2. An exhaust passage communicating with a vacuum exhaust device (not shown) is formed in the chuck 13, and the exhaust passage is opened as suction holes 13C at a plurality of positions at equal intervals in the circumferential direction of the support portion 13B. There is. Therefore, the transparent substrate 2 is vacuum-adsorbed and fixed on the supporting portion 13B by the vacuum exhaust of the vacuum exhaust device. Further, an entrance portion 13D into which the arm 16A of the transfer mechanism 16 enters is formed in the chuck 13 in accordance with the width of the arm 16A, and an arrow A in FIG.
As shown by, the arm 16A holding the transparent substrate 2 enters directly above the chuck 13, the chuck 13 moves upward in the Z direction, and the arm 16A is fitted into the entering portion 13D, so that the transparent substrate 2 is supported on the supporting portion 13B. hand over.

【0019】また、図3の(a)、(b)に示すよう
に、光源14とコンタクタ15は互いに所定間隔を空け
て配置され、上側に光源14が位置し、下側にコンタク
タ15が位置して互いに対向している。光源14は図3
の(b)に示すように下方のコンタクタ15に対向する
集光レンズ14Aを有し、集光レンズ14Aにパーティ
クル等の塵埃が付着しないようになっている。そして、
これら両者14、15間で透明基板2の表面を下向きに
したチャック13が移動機構11を介してインデックス
送りと昇降を繰り返してCCD素子1の検査を行う。
As shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), the light source 14 and the contactor 15 are arranged at a predetermined interval from each other, the light source 14 is located on the upper side, and the contactor 15 is located on the lower side. And are facing each other. The light source 14 is shown in FIG.
As shown in (b), the condenser lens 14A is provided so as to face the lower contactor 15 so that dust such as particles does not adhere to the condenser lens 14A. And
The chuck 13 with the surface of the transparent substrate 2 facing downward between these both 14 and 15 repeats index feed and elevation through the moving mechanism 11 to inspect the CCD element 1.

【0020】コンタクタ15は、図3の(a)、(b)
に示すように、テスタ部18を介して基台19上に固定
されている。このコンタクタ15の上方には光源14が
所定間隔を空けて固定され、光源14とコンタクタ15
の間でチャック13がX、Y及びZ方向に移動可能にな
っている。また、コンタクタ15は、例えば同図に示す
ように、CCD素子1の電極1Aに対応して二列に配列
された複数のプローブ15Aと、二列のプローブ15A
間に配置されてCCD素子1を加熱する加熱部15Bと
を備え、検査時には複数のプローブ15AがCCD素子
1の各電極1Aにそれぞれ電気的に接触すると共に加熱
部15BがCCD素子1に接触するようになっている。
The contactor 15 is shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b).
As shown in, it is fixed on the base 19 via the tester portion 18. A light source 14 is fixed above the contactor 15 with a predetermined space between the light source 14 and the contactor 15.
The chuck 13 can move in the X, Y, and Z directions between them. The contactor 15 includes a plurality of probes 15A arranged in two rows corresponding to the electrodes 1A of the CCD 1 and two rows of probes 15A as shown in FIG.
A heating unit 15B disposed between the heating unit 15B and the heating unit 15B for heating the CCD device 1 is provided, and at the time of inspection, the plurality of probes 15A electrically contact the respective electrodes 1A of the CCD device 1 and the heating unit 15B contacts the CCD device 1. It is like this.

【0021】次に、動作について説明する。まず、チャ
ック13の支持部13Bが図2の(a)、(b)に示す
ように上向きになった状態で、搬送機構16のアーム1
6Aを介して透明基板2をカセット(図示せず)から取
り出し、透明基板2をチャック13の真上まで搬送する
と、Zステージ11Cが上昇し、透明基板2を支持部1
3B上に引き渡すと共にアーム16Aが進入部13D内
に嵌まり込む。引き続き、真空排気装置が駆動して透明
基板2を支持部13Bにおいて真空吸着すると共にアー
ム16Aがチャック13から後退する。
Next, the operation will be described. First, with the supporting portion 13B of the chuck 13 facing upward as shown in FIGS.
When the transparent substrate 2 is taken out from the cassette (not shown) via 6A and is transported to a position right above the chuck 13, the Z stage 11C is raised and the transparent substrate 2 is supported by the supporting portion 1.
The arm 16A is fitted into the entrance portion 13D while being handed over to 3B. Subsequently, the vacuum evacuation device is driven to vacuum-adsorb the transparent substrate 2 on the supporting portion 13B, and the arm 16A retracts from the chuck 13.

【0022】次いで、チャック13が反転機構12を介
して反転し、透明基板2上のCCD素子1を下に向け、
透明基板2の裏面を上に向ける。その後、X、Yステー
ジ11A、11Bを介してX、Y方向へ移動して図3の
(a)に示すように光源14とコンタクタ15の間に進
入すると、図示しないアライメント機構を介してコンタ
クタ15とCCD素子1の位置合わせを行った後、X、
Yステージ11A、11Bを介して最初のCCD素子1
をコンタクタ15の検査位置へ移動させる。この位置で
チャック13がZステージ11Cを介してZ方向に下降
し、コンタクタ15のプローブ15AとCCD素子1の
電極1Aが電気的に接触すると共に加熱部15BがCC
D素子1に当接する。そして、加熱部15BによってC
CD素子1を所定温度(例えば、50℃)に加熱すると
共に光源14から光を照射する。
Next, the chuck 13 is reversed through the reversing mechanism 12, and the CCD element 1 on the transparent substrate 2 is turned downward,
The back surface of the transparent substrate 2 faces upward. After that, when moving in the X and Y directions via the X and Y stages 11A and 11B and entering between the light source 14 and the contactor 15 as shown in FIG. 3A, the contactor 15 is moved through an alignment mechanism (not shown). After aligning the CCD element 1 with
First CCD device 1 via Y stage 11A, 11B
Is moved to the inspection position of the contactor 15. At this position, the chuck 13 descends in the Z direction via the Z stage 11C, the probe 15A of the contactor 15 and the electrode 1A of the CCD element 1 make electrical contact, and the heating unit 15B moves to CC.
Contact the D element 1. Then, by the heating unit 15B, C
The CD element 1 is heated to a predetermined temperature (for example, 50 ° C.) and the light source 14 emits light.

【0023】CCD素子1では光電変換素子を介して光
を電気信号に変換し、電気信号を電極1Aを介して出力
する。コンタクタ15ではプローブ15Aを介して電気
信号を検出した後、テスタ部18において電気信号を解
析し、CCD素子1の電気的特性検査を終了する。最初
のCCD素子1の検査を終了すると、Zステージ11C
を介してチャック13が上昇し、CCD素子1とプロー
ブ15Aの接触を解除する。次いで、X、Yステージ1
1A、11Bを介してCCD素子1をインデックス送り
した後、Zステージ11Cを介して下降し、次のCCD
素子1とプローブ15A及び加熱部15Bが上述したよ
うに接触すると共に光源14からの照射光によりこのC
CD素子1の検査を行った後、Zステージ11Cを介し
てチャック13が上昇する。X、Yステージ11A、1
1Bのインデックス送りにより全てのCCD素子1の検
査を終了すると、チャック13で保持された透明基板2
が移動機構11を介して光源14及びコンタクタ15か
ら後退し、透明基板2の受け渡し位置へ移動する。この
位置で検査後のCCD素子1を搬送機構16を介してカ
セットの元の位置に戻す。その後、新たな透明基板2を
チャック13に引き渡し、同一要領で検査を行う。
The CCD element 1 converts light into an electric signal through the photoelectric conversion element and outputs the electric signal through the electrode 1A. After the contactor 15 detects the electric signal via the probe 15A, the tester unit 18 analyzes the electric signal and ends the electric characteristic inspection of the CCD element 1. When the inspection of the first CCD element 1 is completed, the Z stage 11C
The chuck 13 ascends through and releases the contact between the CCD element 1 and the probe 15A. Then, X, Y stage 1
After the CCD element 1 is index-fed via 1A and 11B, it is lowered through the Z stage 11C to move to the next CCD.
The element 1, the probe 15A, and the heating unit 15B come into contact with each other as described above, and the irradiation light from the light source 14 causes the C
After the inspection of the CD element 1, the chuck 13 is raised via the Z stage 11C. X, Y stage 11A, 1
When the inspection of all the CCD elements 1 is completed by the index feed of 1B, the transparent substrate 2 held by the chuck 13
Moves backward from the light source 14 and the contactor 15 via the moving mechanism 11 and moves to the delivery position of the transparent substrate 2. At this position, the CCD element 1 after the inspection is returned to the original position of the cassette via the transport mechanism 16. Then, the new transparent substrate 2 is delivered to the chuck 13 and the inspection is performed in the same manner.

【0024】以上説明したように本実施形態によれば、
X、Y、Z及びθ方向に移動可能な移動機構11と、こ
の移動機構11のθステージ11Dに装着された反転機
構12と、この反転機構12に連結され且つ透明基板2
を保持するチャック13と、このチャック13で保持さ
れた透明基板2の裏面に光を照射する光源14と、この
光源14の照射光に基づいてCCD素子1において生成
した電気信号を複数の電極1Aを介して検出する複数の
プローブ15Aを有するコンタクタ15とを備えている
ため、チャック13で保持した透明基板2を移動機構1
1のX、Yステージ11A、11Bを介してCCD素子
1をインデックス送りしながら透明基板2上のCCD素
子1について自動的に電気的特性検査を行うことができ
る。
As described above, according to this embodiment,
A moving mechanism 11 capable of moving in the X, Y, Z, and θ directions, a reversing mechanism 12 mounted on a θ stage 11D of the moving mechanism 11, and a transparent substrate 2 connected to the reversing mechanism 12
, A light source 14 for irradiating the back surface of the transparent substrate 2 held by the chuck 13 with light, and an electric signal generated in the CCD element 1 based on the light emitted from the light source 14 for the plurality of electrodes 1A. And the contactor 15 having a plurality of probes 15A for detecting the transparent substrate 2 held by the chuck 13 are moved.
The electrical characteristics of the CCD element 1 on the transparent substrate 2 can be automatically inspected while the CCD element 1 is index-fed through the X and Y stages 11A and 11B.

【0025】また、本実施形態によれば、透明基板2を
搬送する搬送機構16を設けたため、カセットとチャッ
ク13間で透明基板2の受け渡しを自動化することがで
きる。また、チャック13は透明基板2をその外周縁部
で支持する支持部13Bを有するため、光源14から透
明基板2に光を照射する際の開口部13Aを確保するこ
とができる。また、チャック13は支持部13Bの複数
箇所で開口する排気通路を有するため、支持部13Bに
おいて透明基板2を確実に吸着固定することができる。
更に、チャック13は搬送機構16のアーム16Aが進
入する進入部13Dを有するため、アーム16Aとチャ
ック13との間で透明基板2の受け渡しを円滑に行うこ
とができる。また、コンタクタ15はCCD素子1を加
熱する加熱部15Bを有するため、CCD素子1を加熱
しながら検査を行うことができる。また、光源14をチ
ャック13の上方に配置し、光源14を下向きにしたた
め、パーティクル等の塵埃が光源14に付着することが
ない。
Further, according to this embodiment, since the transfer mechanism 16 for transferring the transparent substrate 2 is provided, the transfer of the transparent substrate 2 between the cassette and the chuck 13 can be automated. Further, since the chuck 13 has the support portion 13B that supports the transparent substrate 2 at the outer peripheral edge portion thereof, it is possible to secure the opening portion 13A when the light source 14 irradiates the transparent substrate 2 with light. Further, since the chuck 13 has exhaust passages that open at a plurality of positions of the supporting portion 13B, the transparent substrate 2 can be reliably attracted and fixed to the supporting portion 13B.
Furthermore, since the chuck 13 has the entry portion 13D into which the arm 16A of the transport mechanism 16 enters, the transparent substrate 2 can be smoothly transferred between the arm 16A and the chuck 13. Further, since the contactor 15 has the heating unit 15B that heats the CCD element 1, the inspection can be performed while heating the CCD element 1. Further, since the light source 14 is arranged above the chuck 13 and the light source 14 is directed downward, dust such as particles does not adhere to the light source 14.

【0026】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではない。上記実施形態では撮像素子としてCC
D素子を例に挙げて説明したが、CCD素子以外の撮像
素子例えばMOS型素子についても本発明を適用するこ
とができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. In the above embodiment, the CC is used as the image sensor.
Although the D element has been described as an example, the present invention can be applied to an image pickup element other than the CCD element, for example, a MOS type element.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の請求項1〜請求項10に記載の
発明によれば、パーティクル等の塵埃を光源に付着させ
ることなく、CCD素子等の撮像素子の電気的特性検査
を自動的に行うことができる検査装置及び検査方法を提
供することができる。
According to the first to tenth aspects of the present invention, the electrical characteristic inspection of the image pickup device such as the CCD device is automatically performed without adhering dust such as particles to the light source. An inspection apparatus and an inspection method that can be performed can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】CCD素子及びその電気的特性検査の原理を示
す図で、(a)はCCD素子が配列された透明基板を示
す平面図、(b)は(a)の側面図、(c)はCCD素
子の検査原理を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a principle of a CCD device and its electrical characteristic inspection, (a) is a plan view showing a transparent substrate on which CCD devices are arranged, (b) is a side view of (a), and (c). FIG. 3 is a diagram showing the principle of inspection of a CCD element.

【図2】本発明の検査装置の一実施形態に示す図で、
(a)はその平面図、(b)はその側面図である。
FIG. 2 is a diagram showing an embodiment of the inspection apparatus of the present invention,
(A) is the top view, (b) is the side view.

【図3】図1に示す検査装置を用いてCCD素子の検査
を行う状態を示す図で、(a)は検査装置の検査部を示
す側面図、(b)は(a)の要部を拡大して示す断面図
である。
3A and 3B are diagrams showing a state in which a CCD device is inspected using the inspection apparatus shown in FIG. 1, in which FIG. 3A is a side view showing an inspection portion of the inspection apparatus, and FIG. It is sectional drawing which expands and shows.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 CCD素子(撮像素子) 1A 電極 2 透明基板 10 検査装置 11 移動機構 12 反転機構 13 チャック(保持体) 13A 開口部 13B 支持部 13C 吸着用の孔 13D 進入部 14 光源 15 コンタクタ(検査手段) 15A プローブ 15B 加熱部 1 CCD element (imaging element) 1A electrode 2 transparent substrate 10 Inspection device 11 Moving mechanism 12 Inversion mechanism 13 Chuck (holding body) 13A opening 13B support Hole for 13C adsorption 13D entry section 14 Light source 15 Contactor (inspection means) 15A probe 15B heating part

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板の表面に配列された複数の撮像
素子の電気的特性検査を行う検査装置であって、上記透
明基板を保持する保持体と、この保持体を反転させて上
記透明基板の裏面を上向きにする反転機構と、この反転
機構を介して反転した上記透明基板の裏面へ光を照射す
る光源と、この光源から光が照射されている状態で上記
撮像素子の電気的特性を検査する検査手段とを備えたこ
とを特徴とする検査装置。
1. An inspection apparatus for inspecting electrical characteristics of a plurality of image pickup devices arranged on the surface of a transparent substrate, comprising: a holder for holding the transparent substrate; and the transparent substrate by reversing the holder. The reversing mechanism with the back surface facing upward, the light source that irradiates the back surface of the transparent substrate that is reversed through the reversing mechanism, and the electrical characteristics of the image pickup device in the state where the light is irradiated from the light source. An inspection device comprising an inspection means for inspecting.
【請求項2】 上記透明基板を搬送する搬送機構を備え
たことを特徴とする請求項1に記載の検査装置。
2. The inspection apparatus according to claim 1, further comprising a transfer mechanism that transfers the transparent substrate.
【請求項3】 上記保持体及び上記反転機構を少なくと
もX、Y、Z方向に移動させる移動機構を備えたことを
特徴とする請求項1または請求項2に記載の検査装置。
3. The inspection apparatus according to claim 1, further comprising a moving mechanism that moves the holding body and the reversing mechanism in at least X, Y, and Z directions.
【請求項4】 上記保持体は上記透明基板をその外周で
保持する支持部を有することを特徴とする請求項1〜請
求項3のいずれか1項に記載の検査装置。
4. The inspection apparatus according to claim 1, wherein the holder has a supporting portion that holds the transparent substrate on its outer periphery.
【請求項5】 上記保持体は上記支持部の複数箇所で開
口する排気通路を有することを特徴とする請求項4に記
載の検査装置。
5. The inspection apparatus according to claim 4, wherein the holding body has exhaust passages that open at a plurality of positions of the support portion.
【請求項6】 上記保持体は上記搬送機構のアームが進
入する進入部を有することを特徴とする請求項2〜請求
項5のいずれか1項に記載の検査装置。
6. The inspection apparatus according to claim 2, wherein the holder has an entrance portion into which an arm of the transport mechanism enters.
【請求項7】 上記検査手段は撮像素子を加熱する加熱
部を有することを特徴とする請求項1〜請求項6のいず
れか1項に記載の検査装置。
7. The inspection apparatus according to claim 1, wherein the inspection unit has a heating unit that heats the image pickup element.
【請求項8】 上記光源は上記保持体の上方に配置され
ていることを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか
1項に記載の検査装置。
8. The inspection apparatus according to claim 1, wherein the light source is arranged above the holder.
【請求項9】 上記検査手段は上記保持体の下方に配置
されていることを特徴とする請求項1〜請求項8のいず
れか1項に記載の検査装置。
9. The inspection apparatus according to claim 1, wherein the inspection means is arranged below the holding body.
【請求項10】 透明基板の表面に配列された複数の撮
像素子の電気的特性検査を行う検査方法であって、上記
透明基板を搬送する工程と、上記透明基板を保持体で保
持する工程と、上記透明基板の裏面を上向きにするため
上記保持体を反転させる工程と、上記透明基板の裏面に
光を照射する工程と、上記光が照射されている状態で上
記撮像素子の電気的特性を検査する工程とを備えたこと
を特徴とする検査方法。
10. An inspection method for inspecting the electrical characteristics of a plurality of image pickup devices arranged on the surface of a transparent substrate, comprising the steps of transporting the transparent substrate and holding the transparent substrate with a holder. , A step of reversing the holding body so that the back surface of the transparent substrate faces upward, a step of irradiating the back surface of the transparent substrate with light, and an electrical characteristic of the imaging device in a state where the light is irradiated. An inspection method comprising: an inspection step.
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