JP2003209286A - Light emitting device and manufacturing method therefor - Google Patents

Light emitting device and manufacturing method therefor

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JP2003209286A
JP2003209286A JP2002042417A JP2002042417A JP2003209286A JP 2003209286 A JP2003209286 A JP 2003209286A JP 2002042417 A JP2002042417 A JP 2002042417A JP 2002042417 A JP2002042417 A JP 2002042417A JP 2003209286 A JP2003209286 A JP 2003209286A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliable light emitting device with especially high light emitting efficiency capable of emitting light at high luminance regarding the light emitting device utilizing a nitride semiconductor light emitting element. <P>SOLUTION: The light emitting device is provided with a light emitting element having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, and a support having an external electrode separately stacked on an insulating substrate surface. The upper surface of the external electrode is covered with a reflection layer having a through-hole and the respective electrodes of the light emitting element face an external electrode surface exposed from the through-hole through a bump having at least one kind of the same materials as the external electrode. Further, the light emitting device is provided with an external reflection layer mounted on the support, and provided with the through-hole capable of housing the light emitting element and an internal reflection layer composed of the same material as the external reflection layer between the respective electrodes and the external electrode. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、窒化物半導体発光
素子を利用した発光装置に関わり、特に発光効率が高
く、高輝度に発光可能な信頼性の高い発光装置を提供す
ることを目的とする。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device using a nitride semiconductor light emitting element, and an object of the present invention is to provide a highly reliable light emitting device capable of emitting light with high luminance and high brightness. .

【0002】[0002]

【従来技術】LEDチップをフリップチップ実装で支持
体の外部電極に接合する場合において、近年超音波を利
用した新しい接合技術が登場し主流となりつつある。こ
の超音波接合方式は、以下のようなものである。
2. Description of the Related Art In the case of bonding an LED chip to an external electrode of a support by flip-chip mounting, a new bonding technique using ultrasonic waves has recently appeared and is becoming mainstream. This ultrasonic bonding method is as follows.

【0003】まず、ステージ上に載置した支持体の導電
体上にAuバンプを形成する。
First, Au bumps are formed on the conductor of the support placed on the stage.

【0004】次に、同一面側に正負両電極が設けられて
いるLEDチップの電極面を下側にして、上記Auバン
プと、LEDチップのAuを含む正負両電極面とを接触
させる。
Next, with the electrode surface of the LED chip having both positive and negative electrodes provided on the same surface side facing downward, the Au bumps are brought into contact with both the positive and negative electrode surfaces of the LED chip containing Au.

【0005】最後に、外部電極、LEDチップの正負両
電極面、およびAuバンプが加温されている状態で、外
部電極上面とLEDチップ電極面の間隔が狭くなるよう
に圧力を加えながら、外部電極、LEDチップの正負両
電極面、およびAuバンプに超音波振動を当てる。この
ときの熱と超音波振動による摩擦熱でAuバンプの支持
体および正負両電極面との接触部分が融解し、これを放
置冷却するとAuバンプは、支持体の導電体上面および
正負両電極面に固着される。
Finally, while the external electrodes, the positive and negative electrode surfaces of the LED chip, and the Au bumps are heated, pressure is applied so that the distance between the upper surface of the external electrodes and the LED chip electrode surface is narrowed, Ultrasonic vibration is applied to the electrodes, the positive and negative electrode surfaces of the LED chip, and the Au bumps. At this time, the heat and the frictional heat generated by the ultrasonic vibration melt the contact portion between the Au bump and the support and both the positive and negative electrode surfaces. Stuck to.

【0006】このようにして、Auバンプを介して支持
体の外部電極とLEDチップの正負両電極とを接合し、
両者の電気的導通が図られる。
In this way, the external electrodes of the support and the positive and negative electrodes of the LED chip are joined via the Au bumps,
Electrical connection between the two is achieved.

【0007】ここで、フリップチップ実装とは同一面側
に正負両電極が設けられている半導体チップの電極面を
下側にして、支持体の導電体に直接面接続する方法をい
う。
Here, flip chip mounting refers to a method in which the electrode surface of a semiconductor chip having both positive and negative electrodes on the same surface side is the lower side and direct surface connection is made to the conductor of the support.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、青色等
の波長の短い光を発光するLEDチップと、Auメッキ
した支持体とを使用して発光装置を形成する場合、Au
は青色等の波長の短い光に対して反射率が低いことか
ら、光取り出し効率の向上が図れない。また、光反射率
の高いAg等を支持体上のメッキ材料として使用した場
合、支持体のAgメッキされた部分の上に形成したAu
バンプと、LEDチップのAuを含む正負両電極を接合
することは、異なる材料間での接合となるため、超音波
を利用した接合方式では接合強度の低下を生じ、生産性
の低下を招いていた。
However, when a light emitting device is formed using an LED chip that emits light having a short wavelength such as blue light and an Au-plated support, Au is used.
Has a low reflectance for light having a short wavelength, such as blue, and cannot improve the light extraction efficiency. When Ag or the like having high light reflectance is used as the plating material on the support, the Au formed on the Ag-plated portion of the support is used.
Joining the bump and the positive and negative electrodes containing Au of the LED chip is joining between different materials. Therefore, the joining method using ultrasonic waves causes a decrease in the joining strength and a decrease in productivity. It was

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、同一面側に正
負一対の電極を有する発光素子と、絶縁性基板表面に分
離して積層された外部電極を有する支持体と、を備えた
発光装置において、前記外部電極の上面は、貫通孔を有
する反射層にて覆われ、前記発光素子の各電極は、前記
外部電極と同一材料を少なくとも一種有するバンプを介
して前記貫通孔から露出された外部電極表面と対向して
いることを特徴とする発光装置である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides light emission including a light emitting element having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, and a support having external electrodes separately laminated on the surface of an insulating substrate. In the device, an upper surface of the external electrode is covered with a reflective layer having a through hole, and each electrode of the light emitting element is exposed from the through hole through a bump having at least one kind of material same as the external electrode. The light emitting device is characterized by facing the surface of the external electrode.

【0010】本発明の請求項1に記載の構成とすること
により、同一材料を少なくとも一種有するバンプを介し
て、発光素子の各電極と外部電極とを超音波ダイボンド
することで、同種類の金属元素を含む部分同士の接合と
なるため、接合強度を高く保つことが可能である。ま
た、反射層の材料として青色より波長の短い光に対して
も高反射率を保つ金属を使用し、青色より波長の短い光
を発光する発光装置とした場合、光取り出し効率を向上
させることが可能である。
With the structure according to claim 1 of the present invention, the electrodes of the light emitting element and the external electrodes are ultrasonically die-bonded through the bumps having at least one kind of the same material, so that the same kind of metal is formed. Since the portions containing the elements are bonded to each other, the bonding strength can be kept high. Further, when a metal that maintains a high reflectance for light having a wavelength shorter than that of blue is used as the material of the reflective layer and the light emitting device emits light having a wavelength shorter than that of blue, the light extraction efficiency can be improved. It is possible.

【0011】請求項2に記載の発明は、前記発光素子
は、モールド部材で封止されていることを特徴とする請
求項1記載の発光装置である。
The invention according to claim 2 is the light-emitting device according to claim 1, wherein the light-emitting element is sealed with a mold member.

【0012】本発明の請求項2に記載の構成とすること
により、発光素子などを外部環境からの外力、塵芥や水
分などから保護することができる。
With the structure according to the second aspect of the present invention, the light emitting element and the like can be protected from external force from the external environment, dust and water.

【0013】請求項3に記載の発明は、同一面側に正負
一対の電極を有する発光素子と、絶縁性基板表面に分離
して積層された外部電極を有する支持体と、該支持体上
に載置され前記発光素子を収納可能な貫通孔を有する外
部反射層と、を有する発光装置において、前記発光素子
の各電極は、前記外部電極と同一材料を少なくとも一種
有するバンプを介して前記貫通孔から露出された外部電
極表面と対向しており、前記各電極間から前記外部電極
間にかけて、前記外部反射層と同一材料からなる内部反
射層を有することを特徴とする発光装置である。
According to a third aspect of the present invention, a light emitting element having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, a support having external electrodes separately laminated on the surface of an insulating substrate, and a support on the support are provided. An external reflection layer having a through hole that is placed and capable of accommodating the light emitting element, wherein each electrode of the light emitting element has the through hole through a bump having at least one material that is the same as the external electrode. The light emitting device is characterized in that it has an internal reflection layer made of the same material as the external reflection layer, between the electrodes and between the external electrodes, the internal reflection layer facing the external electrode surface exposed from.

【0014】本発明の請求項3に記載の構成とすること
により、反射層として、拡散剤を含むシリコン樹脂等の
柔らかく弾力性に富む樹脂を本発明に独特の形状に成型
して使用すると、光取り出し効率を向上させることがで
きるだけでなく、放熱効果も高めることができる。
With the structure according to claim 3 of the present invention, when a soft and highly elastic resin such as a silicone resin containing a diffusing agent is molded into a unique shape for use in the present invention as the reflecting layer, Not only can the light extraction efficiency be improved, but also the heat dissipation effect can be improved.

【0015】請求項4に記載の発明は、前記外部反射層
の内壁はテーパー形状であり、前記内部反射層の外壁は
逆テーパー形状であることを特徴とする請求項3に記載
の発光装置である。
According to a fourth aspect of the invention, there is provided the light emitting device according to the third aspect, wherein the inner wall of the outer reflection layer is tapered and the outer wall of the inner reflection layer is inversely tapered. is there.

【0016】本発明の請求項4に記載の構成とすること
により、外部反射層を僅かに変形させるだけでLEDチ
ップ側面に密着させることができ、内部反射層をLED
チップの正負両電極間から外部電極間にかけて隙間なく
存在させることができる。
With the structure according to claim 4 of the present invention, the outer reflection layer can be brought into close contact with the side surface of the LED chip by only slightly deforming the inner reflection layer.
It is possible to exist without any gap between the positive and negative electrodes of the chip and the external electrodes.

【0017】請求項5に記載の発明は、前記外部反射層
内部は、モールド部材を有することを特徴とする請求項
3乃至4に記載の発光装置である。
The invention according to claim 5 is the light-emitting device according to any one of claims 3 to 4, characterized in that a mold member is provided inside the external reflection layer.

【0018】本発明の請求項5に記載の構成とすること
により、発光素子などを外部環境からの外力、塵芥や水
分などから保護することが可能である。
With the structure according to the fifth aspect of the present invention, it is possible to protect the light emitting element and the like from external force from the external environment, dust and water.

【0019】請求項6に記載の発明は、同一面側に正負
一対の電極を有する発光素子と、絶縁性基板表面に分離
して積層された外部電極を有する支持体と、該支持体上
に載置され前記発光素子を収納可能な貫通孔を有する外
部反射層と、を有する発光装置の製造方法において、前
記支持体上に、前記外部電極の各表面の一部が露出され
る貫通孔を有する反射層を、硬化状態において弾力性を
有する部材にて形成する第1の工程と、前記各貫通孔内
にそれぞれバンプを形成する第2の工程と、前記発光素
子の各電極を前記バンプと対向させ、前記発光素子を前
記支持体方向に押しつけ電気的に接続させる第3の工程
と、を有することを特徴とする発光装置の製造方法であ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, a light emitting element having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, a support having external electrodes separately laminated on the surface of an insulating substrate, and a support on the support are provided. In a method of manufacturing a light emitting device having an external reflection layer having a through hole that is placed and capable of accommodating the light emitting element, a through hole in which a part of each surface of the external electrode is exposed is provided on the support. A first step of forming the reflective layer having a resilient member in a cured state; a second step of forming bumps in the through-holes; and electrodes of the light-emitting element formed of the bumps. And a third step of facing each other and pressing the light emitting element toward the support to electrically connect the light emitting element.

【0020】本発明の請求項6に記載の方法とすること
により、反射層として、硬化状態において弾力性を有す
る部材を本発明に独特の形状に成型して使用し、光取り
出し効率、および放熱効果を向上させた発光装置が容易
に製造できる。即ち、従来はLEDチップを支持体上に
ダイボンドした後、LEDチップと支持体との間に樹脂
等を隙間なく流し込むのは非常に手間のかかる作業であ
ったが、本発明による方法により、反射層を支持体上に
予め成型した後、LEDチップをダイボンドすることで
作業性を向上させることができる。
By the method according to claim 6 of the present invention, a member having elasticity in a cured state is molded into a shape unique to the present invention and used as a reflective layer, and the light extraction efficiency and the heat radiation are improved. A light emitting device with improved effect can be easily manufactured. That is, conventionally, it was a very troublesome work to pour a resin or the like between the LED chip and the support without leaving a gap after the LED chip was die-bonded onto the support, but by the method according to the present invention, Workability can be improved by die-bonding the LED chip after the layer is preformed on the support.

【0021】請求項7に記載の発明は、前記反射層が、
内部に離型剤が塗布された金型にて形成されることを特
徴とする請求項6に記載の発光装置の製造方法である。
According to a seventh aspect of the present invention, the reflective layer comprises:
7. The method for manufacturing a light emitting device according to claim 6, wherein the mold is formed with a mold release agent applied inside.

【0022】本発明の請求項7に記載の方法とすること
により、硬化状態において弾力性を有する部材を硬化さ
せた後、金型を取り外す際に金型表面への該部材の付着
が防止され、金型表面と該部材が剥離しやすくなるた
め、作業性よく反射層を成型することができる。
The method according to claim 7 of the present invention prevents adhesion of the member to the surface of the mold when the mold is removed after curing the elastic member in the cured state. Since the mold surface and the member are easily separated, the reflective layer can be molded with good workability.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明者は種々の検討の結果、外
部電極の上面には、貫通孔を有する反射層と貫通孔から
露出された外部電極とを有し、発光素子の各電極は、貫
通孔から露出された外部電極と、外部電極に含有された
同一材料を少なくとも一種以上有するバンプを介して接
続することで光取り出し効率や接合強度を低下させるこ
とのない発光装置を提供することを可能とした。即ち、
図1に示すように、本発明の一実施例に使用される支持
体は、ガラスエポキシ樹脂111上にCu、Ni、A
u、Ag層が順に積層され、絶縁部113によって分離
されることにより形成された外部電極を有している。本
実施例において反射層として使用されるAg層107に
は貫通孔が設けてあり、その貫通孔によってAu層10
8の上面が露出している。そして、本実施例にかかる発
光装置は、LEDチップ100の正負一対の両電極がフ
リップチップ実装によりAg層に設けられた貫通孔内の
Auバンプ106を介してAu層108とボンディング
(接合)されてなる。さらに、Ag層107は外部配線
701と接続されている。
As a result of various studies, the present inventor has a reflection layer having a through hole and an external electrode exposed from the through hole on the upper surface of the external electrode, and each electrode of the light emitting element is Provided is a light emitting device that does not reduce light extraction efficiency or bonding strength by connecting an external electrode exposed from a through hole via a bump having at least one kind of the same material contained in the external electrode. Made possible. That is,
As shown in FIG. 1, the support used in one embodiment of the present invention is composed of Cu, Ni, A on a glass epoxy resin 111.
The u and Ag layers are sequentially stacked, and have external electrodes formed by being separated by the insulating portion 113. Through holes are provided in the Ag layer 107 used as the reflection layer in this embodiment, and the Au layer 10 is formed by the through holes.
The upper surface of 8 is exposed. Then, in the light emitting device according to the present embodiment, the pair of positive and negative electrodes of the LED chip 100 is bonded (bonded) to the Au layer 108 via the Au bump 106 in the through hole provided in the Ag layer by flip chip mounting. It becomes. Furthermore, the Ag layer 107 is connected to the external wiring 701.

【0024】また、図2に示されるように、本発明の別
の一実施例に使用される支持体は、ガラスエポキシ樹脂
111上にCu、Ni、Au層が順に積層され、絶縁部
113によって分離されることにより形成された外部電
極を有している。そして、本実施例にかかる発光装置は
LEDチップ100の正負一対の両電極がフリップチッ
プ実装により、Auバンプを介してAu層108とボン
ディング(接合)されてなり、硬化状態において弾力性
に富む樹脂からなる外部反射層201がLEDチップ1
00の周囲に設けられ、内部反射層202はLEDチッ
プの電極面と支持体上面との隙間に入り込んでいる。さ
らに、Au層108は外部配線701と接続されてい
る。
Further, as shown in FIG. 2, the support used in another embodiment of the present invention is such that Cu, Ni and Au layers are laminated in this order on the glass epoxy resin 111, and the insulating portion 113 is used. It has an external electrode formed by being separated. In the light emitting device according to the present embodiment, a pair of positive and negative electrodes of the LED chip 100 are flip-chip mounted to be bonded (joined) to the Au layer 108 via Au bumps, and the resin is highly elastic in a cured state. The external reflection layer 201 composed of the LED chip 1
00, the internal reflection layer 202 is inserted into the gap between the electrode surface of the LED chip and the upper surface of the support. Further, the Au layer 108 is connected to the external wiring 701.

【0025】ここで、LEDチップ100の負電極10
3および正電極104と支持体上面の外部電極とのボン
ディングは、超音波接合方式により行われる。
Here, the negative electrode 10 of the LED chip 100 is used.
3 and the positive electrode 104 and the external electrode on the upper surface of the support are bonded by ultrasonic bonding.

【0026】以下、本発明の実施の形態の各構成につい
て詳述する。 [LEDチップ100]本発明における発光素子とし
て、本実施の形態ではLEDチップ100が使用され
る。本発明において使用される半導体発光素子として
は、ZnSeやGaNなど種々の半導体を使用したもの
を挙げることができるが、蛍光物質を使用する場合に
は、その蛍光物質を効率良く励起できる短波長が発光可
能な窒化物半導体(InAlGa1−X−YN、0
≦X、0≦Y、X+Y≦1)が好適に挙げられる。半導
体の構造としては、MIS接合、PIN接合やpn接合
などを有するホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテ
ロ構成のものが挙げられる。半導体層の材料やその混晶
度によって発光波長を種々選択することができる。ま
た、半導体活性層を量子効果が生ずる薄膜に形成させた
単一量子井戸構造や多重量子井戸構造とすることもでき
る。
Hereinafter, each configuration of the embodiment of the present invention will be described in detail. [LED Chip 100] In the present embodiment, the LED chip 100 is used as the light emitting element in the present invention. Examples of the semiconductor light emitting device used in the present invention include those using various semiconductors such as ZnSe and GaN. When a fluorescent substance is used, a short wavelength that can efficiently excite the fluorescent substance capable of emitting nitride semiconductor (In X Al Y Ga 1- X-Y N, 0
≦ X, 0 ≦ Y, X + Y ≦ 1) are preferable. Examples of the semiconductor structure include a homo structure having a MIS junction, a PIN junction, a pn junction, etc., a hetero structure, and a double hetero structure. Various emission wavelengths can be selected depending on the material of the semiconductor layer and the degree of mixed crystal thereof. Further, the semiconductor active layer may be formed as a thin film in which a quantum effect is generated, and may have a single quantum well structure or a multiple quantum well structure.

【0027】窒化物半導体を使用した場合、半導体用基
板にはサファイヤ、スピネル、SiC、Si、ZnO等
の材料が好適に用いられる。結晶性の良い窒化物半導体
を量産性よく形成させるためにはサファイヤ基板を用い
ることが好ましい。このサファイヤ基板上にMOCVD
法などを用いて窒化物半導体を形成させることができ
る。サファイア基板上にGaN、AlN、GaAlN等
のバッファー層を形成し、その上にpn接合を有する窒
化物半導体を形成させる。
When a nitride semiconductor is used, materials such as sapphire, spinel, SiC, Si and ZnO are preferably used for the semiconductor substrate. A sapphire substrate is preferably used in order to form a nitride semiconductor having good crystallinity with good mass productivity. MOCVD on this sapphire substrate
A nitride semiconductor can be formed by using a method or the like. A buffer layer of GaN, AlN, GaAlN or the like is formed on a sapphire substrate, and a nitride semiconductor having a pn junction is formed thereon.

【0028】窒化物半導体を使用したpn接合を有する
発光素子例として、バッファ層上に、n型窒化ガリウム
で形成した第1のコンタクト層、n型窒化アルミニウム
・ガリウムで形成させた第1のクラッド層、窒化インジ
ウム・ガリウムで形成した活性層、p型窒化アルミニウ
ム・ガリウムで形成した第2のクラッド層、p型窒化ガ
リウムで形成した第2のコンタクト層を順に積層させた
ダブルへテロ構成などが挙げられる。
As an example of a light emitting device having a pn junction using a nitride semiconductor, a first contact layer made of n-type gallium nitride on a buffer layer, and a first clad made of n-type aluminum gallium nitride / gallium. A layer, an active layer formed of indium gallium nitride, a second cladding layer formed of p-type aluminum nitride gallium, and a second contact layer formed by sequentially stacking a second contact layer formed of p-type gallium nitride. Can be mentioned.

【0029】窒化物半導体は、不純物をドープしない状
態でn型導電性を示す。発光効率を向上させるなど所望
のn型窒化物半導体を形成させる場合は、n型ドーパン
トとしてSi、Ge、Se、Te、C等を適宜導入する
ことが好ましい。一方、p型窒化物半導体を形成させる
場合は、p型ドーパントであるZn、Mg、Be、C
a、Sr、Ba等をドープさせる。窒化物半導体は、p
型ドーパントをドープしただけではp型化しにくいため
p型ドーパント導入後に、炉による加熱やプラズマ照射
等により低抵抗化させることが好ましい。
The nitride semiconductor exhibits n-type conductivity in a state where it is not doped with impurities. When forming a desired n-type nitride semiconductor such as improving the luminous efficiency, it is preferable to appropriately introduce Si, Ge, Se, Te, C or the like as an n-type dopant. On the other hand, when forming a p-type nitride semiconductor, Zn, Mg, Be, and C which are p-type dopants are used.
Doping with a, Sr, Ba and the like. Nitride semiconductor is p
Since it is difficult to form a p-type by only doping with a type dopant, it is preferable to reduce the resistance by heating in a furnace or plasma irradiation after introducing the p-type dopant.

【0030】基板にサファイア等の絶縁性基板を用いた
場合、正負両電極形成後、半導体ウエハーからチップ状
にカットすることで、同一面側に正負両電極が設けられ
た窒化物半導体チップが得られ、発光素子を形成するこ
とができる。ここで、互いに平行な正負両電極を形成す
ると、本発明による支持体に対して安定に実装でき、ま
た、電極間を流れる電流が均一になることにより発光素
子の発光面からの発光が均一になるため好ましい。 [外部電極112]本発明における外部電極112は、
絶縁性基板上面に分離して形成される。ここで、本発明
における外部電極112は、絶縁性基板上面の全面に形
成されてもよいが、絶縁性基板上面の一部に様々な導通
パターンで形成されてもよい。外部電極112を形成す
る金属は、金属相互間の接着性の良さ、いわゆる濡れ性
等を考慮して選択される。Auバンプを介して、Auを
含むLEDチップの電極とを超音波ダイボンドにより接
合する場合、接合層はAu層とする。ここで、接合層と
は、外部電極を構成する層のうちの一つであり、同一面
側に正負両電極が設けられたLEDチップの電極とそれ
ぞれ対向しバンプを介して接合される上面を有する層で
ある。 (絶縁性基板)本発明において絶縁性基板として使用さ
れるガラスエポキシ樹脂111は、他のエポキシ樹脂等
と比較して容易に入手可能かつ耐熱性に優れ、さらに機
械的強度も大きいため、本発明において好適に使用され
る。 (Cu層110)絶縁部113が形成される部分に金型
を設置したガラスエポキシ樹脂の板の上面に無電解メッ
キにより、Cu層110を形成する。ここで、Cuは他
の金属に比較して熱伝導性がよいため、本発明の発光装
置における外部電極を形成する金属として好適に利用さ
れ、Cu層は他の外部電極より厚めに形成しても構わな
い。また、絶縁部113が形成される部分の金型の厚さ
は外部電極112全体の厚さより大きいものとする。 (Ni層109)Cu層110上に、Cuに対して濡れ
性のよい金属のうちの一つであるNiの層、即ちNi層
109を無電解メッキにより形成する。Ni層109
は、その上に形成されるAu層108より熱伝導率が低
いため、他の外部電極と比較すると、層の厚さを薄くし
て形成されることが好ましい。これにより発光装置の放
熱性を向上させることができる。 (Au層108)Ni層109上に、Niに対して濡れ
性のよい金属のうちの一つであるAuの層、即ちAu層
108を電解メッキにより形成する。他の外部電極と比
較すると、Auは高価であるため発光装置全体の生産コ
ストを上げることとなる。そこで、膜厚を容易に制御し
てメッキすることが可能な電解メッキにより、他の外部
電極より薄いAu層108を形成することが好ましい。 (Ag層107)Ag層107の貫通孔の形成個所に金
型を設置した後、Au層108上に無電解メッキにより
Ag層107を形成する。Agは、Auに対して濡れ性
のよい金属のうちの一つであり、また、発光素子から出
光してきた光を反射させて発光観測面に光を取り出すた
めの反射層としても使用される。Agが反射層として使
用されると、他の外部電極と比較して青色より短い波長
の光に対しても高反射率を保ち、光取り出し効率の向上
が図れるため、本発明における外部電極を構成する金属
として好適に使用される。Agに代わる他の金属材料と
してAl、Pt、Pd、Rh、W、Ta、Re、Ti、
V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni等を用いて反射層を
形成してもよい。特に、Agに代わる他の金属材料とし
てAlを用いて反射層を形成すると、Alは、他の金属
材料と比較して、可視光領域の光だけでなく、青色より
短い波長の光に対しても高反射率を保つため、光取り出
し効率の向上が図れる。
When an insulating substrate such as sapphire is used as the substrate, both positive and negative electrodes are formed, and then the semiconductor wafer is cut into chips to obtain a nitride semiconductor chip in which both positive and negative electrodes are provided on the same side. Thus, a light emitting element can be formed. Here, by forming the positive and negative electrodes parallel to each other, it is possible to stably mount the support according to the present invention, and the current flowing between the electrodes becomes uniform, so that the light emission from the light emitting surface of the light emitting element becomes uniform. Therefore, it is preferable. [External Electrode 112] The external electrode 112 in the present invention is
It is formed separately on the upper surface of the insulating substrate. Here, the external electrode 112 in the present invention may be formed on the entire upper surface of the insulating substrate, but may be formed in various conductive patterns on a part of the upper surface of the insulating substrate. The metal forming the external electrode 112 is selected in consideration of good adhesion between metals, so-called wettability, and the like. When the electrode of the LED chip containing Au is bonded by ultrasonic die bonding via the Au bump, the bonding layer is an Au layer. Here, the bonding layer is one of the layers forming the external electrode, and is a top surface facing the electrodes of the LED chip having positive and negative electrodes provided on the same surface side and bonded via bumps. It is a layer that has. (Insulating Substrate) The glass epoxy resin 111 used as an insulating substrate in the present invention is easily available and excellent in heat resistance as compared with other epoxy resins and has a large mechanical strength. Is preferably used in. (Cu layer 110) The Cu layer 110 is formed by electroless plating on the upper surface of a glass epoxy resin plate in which a mold is installed in the portion where the insulating portion 113 is formed. Here, since Cu has better thermal conductivity than other metals, it is preferably used as a metal forming an external electrode in the light emitting device of the present invention, and the Cu layer is formed thicker than other external electrodes. I don't mind. Further, the thickness of the mold in the portion where the insulating portion 113 is formed is larger than the thickness of the entire external electrode 112. (Ni layer 109) On the Cu layer 110, a Ni layer, which is one of the metals having good wettability for Cu, that is, the Ni layer 109 is formed by electroless plating. Ni layer 109
Has a lower thermal conductivity than the Au layer 108 formed thereon, and is therefore preferably formed with a smaller layer thickness as compared with other external electrodes. Thereby, the heat dissipation of the light emitting device can be improved. (Au Layer 108) On the Ni layer 109, a layer of Au which is one of the metals having good wettability with Ni, that is, the Au layer 108 is formed by electrolytic plating. Since Au is more expensive than other external electrodes, it increases the production cost of the entire light emitting device. Therefore, it is preferable to form the Au layer 108, which is thinner than the other external electrodes, by electrolytic plating that allows the film thickness to be easily controlled and plated. (Ag Layer 107) After a mold is placed at a position where a through hole is formed in the Ag layer 107, the Ag layer 107 is formed on the Au layer 108 by electroless plating. Ag is one of the metals having good wettability with respect to Au, and is also used as a reflective layer for reflecting the light emitted from the light emitting element and extracting the light to the emission observation surface. When Ag is used as the reflective layer, the high reflectance can be maintained even for light having a wavelength shorter than blue and the light extraction efficiency can be improved as compared with other external electrodes. It is preferably used as a metal. As other metal materials replacing Ag, Al, Pt, Pd, Rh, W, Ta, Re, Ti,
The reflective layer may be formed using V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni or the like. In particular, when Al is used as the other metal material instead of Ag to form the reflective layer, Al is more effective than other metal materials not only for light in the visible light region but also for light having a wavelength shorter than blue. Since the high reflectance is maintained, the light extraction efficiency can be improved.

【0031】以上のようにCu層110、Ni層10
9、Au層108、およびAg層107を形成した後、
絶縁部113が形成される部分に設置した金型、および
Au層108上の金型を除去すると、ガラスエポキシ樹
脂の板上に外部電極が形成された、本発明に独特の支持
体が完成される。本発明に独特の支持体は、LEDチッ
プの他、レーザダイオードなど、同一面側に正負一対の
両電極を有する種々の半導体チップに対しても使用可能
である。 [バンプ106]本発明において、LEDチップの正負
両電極と外部電極とのダイボンドに使用されるバンプ
は、正負両電極および外部電極と同一材料を少なくとも
一種有するバンプである。例えば、超音波ボンディング
において一般的に使用されるAuバンプ、Auを含む合
金等からなるバンプである。本発明におけるLEDチッ
プの電極に含まれる金属元素であって、反射層の貫通孔
から露出された外部電極表面に含まれる金属元素でもあ
る、Auをバンプの材料としても使用することは、同一
種類の金属元素を含む材料同士の接合を行うことで接合
強度が増すため好ましい。 [反射層] (外部反射層201、内部反射層202)本発明におけ
る反射層としては、貫通孔を有するAg層が利用される
他、Ag層の代わりに、硬化状態において弾力性を有す
る部材、例えばシリコン樹脂を使用することにより反射
層が形成される。Ag層の代わりに硬化状態において弾
力性を有する部材を含む反射層を形成した発光装置の模
式断面図を図2に示す。硬化状態において弾力性を有す
る部材としては、バンプの数も考慮しながら、LEDチ
ップの電極と外部電極とをバンプを介して接合した際、
それらの接合力の方が、収縮した部材の弾性力よりも十
分大きく、接合強度の低下を招かない弾力性を有する部
材が選択される。
As described above, the Cu layer 110 and the Ni layer 10
9, after forming the Au layer 108 and the Ag layer 107,
By removing the mold installed in the portion where the insulating portion 113 is formed and the mold on the Au layer 108, a support unique to the present invention in which external electrodes are formed on a glass epoxy resin plate is completed. It The support unique to the present invention can be used not only for LED chips but also for various semiconductor chips such as laser diodes having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side. [Bump 106] In the present invention, the bump used for die-bonding both the positive and negative electrodes of the LED chip and the external electrode is a bump having at least one kind of the same material as the positive and negative electrodes and the external electrode. For example, it is an Au bump generally used in ultrasonic bonding, a bump made of an alloy containing Au, or the like. The use of Au as the material for the bumps, which is the metal element contained in the electrode of the LED chip in the present invention and also the metal element contained in the surface of the external electrode exposed from the through hole of the reflection layer, has the same kind. It is preferable to join the materials containing the metal element, because the joining strength is increased. [Reflective Layer] (External Reflective Layer 201, Internal Reflective Layer 202) As the reflective layer in the present invention, an Ag layer having a through hole is used, and instead of the Ag layer, a member having elasticity in a cured state, The reflective layer is formed by using, for example, silicone resin. FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of a light emitting device in which a reflective layer including a member having elasticity in a cured state is formed instead of the Ag layer. As a member having elasticity in the cured state, when the electrodes of the LED chip and the external electrodes are joined via the bumps while also considering the number of bumps,
A member is selected whose elasticity is sufficiently larger than the elastic force of the contracted member and which does not cause a decrease in the bonding strength.

【0032】図7(j)および図8に示されるように、
LEDチップ実装前に支持体上に形成した反射層は、外
部電極上のバンプ形成箇所から開口方向に広くなる形状
(テーパー形状)の貫通孔を少なくとも2つ有し、ダイ
ボンド時にLEDチップを収納可能な厚さを有する反射
層である。該反射層の全体の外形は、図8に示されるよ
うな直方体型の他、円柱型、多角柱型等いかなる形でも
よく、二つの貫通孔の存在により内部反射層202の周
囲に外部反射層201が存在し、二カ所で両者が繋がっ
た形となっている。外部反射層201および内部反射層
202は、外部電極上に同一材料で同時成型される。ま
た、LEDチップ実装前の上記貫通孔の形状は、円錐
状、三角錐状、四角錐状等の多角錐状、等が考えられ
る。
As shown in FIGS. 7 (j) and 8,
The reflective layer formed on the support before mounting the LED chip has at least two through holes with a shape (tapered shape) that widens in the opening direction from the bump formation location on the external electrode, and the LED chip can be stored during die bonding. It is a reflective layer having a uniform thickness. The overall outer shape of the reflective layer may be any shape such as a rectangular parallelepiped shape, a cylindrical shape, a polygonal prism shape, etc. as shown in FIG. There is 201, and the two are connected at two places. The external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 are simultaneously molded on the external electrode with the same material. The shape of the through-hole before mounting the LED chip may be a conical shape, a triangular pyramid shape, a polygonal pyramid shape such as a quadrangular pyramid shape, or the like.

【0033】本実施の形態では、硬化状態において弾力
性を有する部材として、硬化後の硬度(JIS−A)3
2、無色透明のシリコン樹脂が使用されるが、これに限
定されない。シリコン樹脂は硬化状態において柔らかく
弾力性に富むため、図7(j)に示されるように外部反
射層201および内部反射層202を成型した後、LE
Dチップを基板の側から押さえつけるようにして超音波
ダイボンドすると、外部反射層201は、僅かに変形し
てLEDチップ側面に密着し、内部反射層202は、L
EDチップの正負両電極間から外部電極間にかけて隙間
なく存在する状態に変形する。従って、LEDチップの
電極面あるいは側面と樹脂との間に空気がほとんど存在
せず、発光素子から出光する光が空気によって複雑に屈
折したり、発光素子からの熱が熱伝導率の低い空気を介
して放熱されることはないため、光取り出し効率が向上
し、放熱効果も高まる。特に、LEDチップの正負両電
極間から外部電極間にかけて絶縁部113上方に形成さ
れる内部反射層202は、ダイボンドの前に予め、外部
配線701を接続する側の外部反射層201の高さより
数十μm厚く形成される。そのため、LEDチップがダ
イボンドされる際、内部反射層202は、加圧により押
し縮められるが柔らかく弾力性に富むため、LEDチッ
プの電極面と支持体との間に生じる小さな隙間にも入り
込み、該隙間は内部反射層を形成する樹脂で満たされ
る。従来は、LEDチップを支持体にダイボンドした
後、LEDチップの電極面と支持体との間に生じた隙間
を埋めるためにLEDチップの横方向から溶融状態の樹
脂を流し込む作業が必要であったが、完全に隙間無く樹
脂を流し込むのは非常に手間のかかる作業であり、作業
性を低下させていた。しかし、本発明においては、反射
層を支持体上に樹脂にて予め成型した後、LEDチップ
をダイボンドすることにより作業性を向上させることが
できる。 (金型601)硬化状態において弾力性を有する部材を
含む反射層における上記貫通孔は、図7(h)あるいは
図10に示されるように、Au層108上のバンプ形成
箇所に向かって細くなる形状(円錐状、三角錐状、四角
錐状等の逆テーパー形状)の部分を有する金型601を
使用することにより成型される。このような形状部分を
有する金型を使用して樹脂を成型後すると、金型は樹脂
から剥離し易くなるため好ましい。さらに、このような
形状の金型により成型された樹脂は変形し易いため、外
部反射層はLEDチップ側面に密着し、内部反射層はL
EDチップの正負両電極間から外部電極間にかけて隙間
なく存在することとなる。 (離型剤)金型は、樹脂との接触面に離型剤を塗布さ
れ、離型剤の膜が形成されていることが好ましい。この
ようにしておくと、Au層108上を溶融した樹脂で満
たし、樹脂を硬化させた後、金型を取り外す際、金型に
樹脂が付着せず、金型と樹脂が離れやすくなるため、作
業性よく成型することができる。本実施の形態において
は、離型剤としてフッ素系離型剤を使用した。このフッ
素系離型剤は、型汚れし難いため、成型する樹脂の表面
を汚して透光性の低下を引き起こすことがなく、さらに
フッ素系化合物特有の低表面張力、非粘着性、撥水撥油
性等を有しており、本実施例のような複雑な形状を有す
る金型を使用して樹脂を含む反射層を成型する際の使用
に最も適している。 (拡散剤)本実施の形態における反射層として使用され
る樹脂には、発光装置の発光輝度を向上させるために拡
散剤を含有させる。外部反射層201、および内部反射
層202に含有される拡散剤は、発光素子から放出され
る光のうち発光観測面側に放出される光の散乱吸収を少
なくし、光反射層側面に向かう光を多く散乱させること
で発光装置の発光輝度を向上させるものである。このよ
うな拡散剤としては、酸化バリウム、チタン酸バリウ
ム、酸化バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミ
ニウム等の無機部材やメラミン樹脂、CTUグアナミン
樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの有機部材が好適に用
いられる。
In this embodiment, the hardness (JIS-A) 3 after curing is used as a member having elasticity in the cured state.
2. A colorless and transparent silicone resin is used, but is not limited to this. Since the silicone resin is soft and highly elastic in the cured state, after molding the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 as shown in FIG.
When ultrasonic die bonding is performed by pressing the D chip from the substrate side, the external reflection layer 201 is slightly deformed and adheres to the side surface of the LED chip, and the internal reflection layer 202 is L.
It deforms to a state in which there is no space between the positive and negative electrodes of the ED chip and the external electrodes. Therefore, there is almost no air between the electrode surface or the side surface of the LED chip and the resin, the light emitted from the light emitting element is complicatedly refracted by the air, and the heat from the light emitting element generates air with a low thermal conductivity. Since the heat is not radiated through, the light extraction efficiency is improved and the heat dissipation effect is also enhanced. In particular, the internal reflection layer 202 formed above the insulating portion 113 from both the positive and negative electrodes of the LED chip to the external electrodes is more than the height of the external reflection layer 201 on the side to which the external wiring 701 is connected in advance before die bonding. It is formed to be 10 μm thick. Therefore, when the LED chip is die-bonded, the internal reflection layer 202 is pressed and compressed, but is soft and rich in elasticity. The gap is filled with the resin forming the internal reflection layer. Conventionally, after die-bonding an LED chip to a support, it was necessary to pour a molten resin from the lateral direction of the LED chip in order to fill a gap generated between the electrode chip electrode surface and the support. However, it is a very troublesome work to pour the resin completely without any gap, and the workability is deteriorated. However, in the present invention, it is possible to improve workability by die-bonding the LED chip after the reflective layer is pre-molded on the support with a resin. (Mold 601) The through hole in the reflective layer including a member having elasticity in the cured state becomes narrower toward the bump formation location on the Au layer 108, as shown in FIG. 7 (h) or FIG. It is molded by using a metal mold 601 having a shape (conical shape, triangular pyramid shape, quadrangular pyramid shape, or other inverse taper shape). It is preferable to mold the resin using a mold having such a shape because the mold is easily separated from the resin. Furthermore, since the resin molded by the mold having such a shape is easily deformed, the external reflection layer is closely attached to the side surface of the LED chip, and the internal reflection layer is L.
There is no space between the positive and negative electrodes of the ED chip and the external electrodes. (Release Agent) It is preferable that the mold has a release agent applied to the contact surface with the resin to form a film of the release agent. By doing so, when the Au layer 108 is filled with the molten resin and the resin is cured, and then the mold is removed, the resin does not adhere to the mold and the mold and the resin are easily separated from each other. Can be molded with good workability. In the present embodiment, a fluorine-based release agent is used as the release agent. Since this fluorine-based release agent does not easily stain the mold, it does not stain the surface of the resin to be molded and causes a decrease in translucency. It has oiliness and the like, and is most suitable for use when molding a reflection layer containing a resin using a mold having a complicated shape as in this embodiment. (Diffusing Agent) The resin used as the reflecting layer in the present embodiment contains a diffusing agent in order to improve the emission brightness of the light emitting device. The diffusing agent contained in the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 reduces the scattering absorption of the light emitted from the light emitting element and is emitted to the light emission observation surface side, and the light directed to the side surface of the light reflection layer is reduced. By scattering a large amount of light, the emission brightness of the light emitting device is improved. As such a diffusing agent, inorganic members such as barium oxide, barium titanate, barium oxide, silicon oxide, titanium oxide and aluminum oxide, and organic members such as melamine resin, CTU guanamine resin and benzoguanamine resin are preferably used.

【0034】同様に、外来光や発光素子からの不要な波
長をカットするフィルター効果を持たすために各種着色
剤を添加させることもできる。さらに、発光素子からの
発光波長によって励起され蛍光を発する蛍光物質を含有
させることもできる。また、樹脂の内部応力を緩和させ
る各種フィラーを含有させることもできる。 [モールド部材301]本発明において、モールド部材
301は、LEDチップ100および反射層201を封
止し、又はLEDチップ100と外部反射層201の内
壁との隙間を埋め、発光素子などを外部環境からの外
力、塵芥や水分などから保護するために用いられる。モ
ールド部材301の形状を種々に変えることによって発
光素子から放出される光や受光素子が受光する光の指向
特性を種々選択することができる。即ち、モールド部材
301の形状を凸レンズ形状、凹レンズ形状とすること
によってレンズ効果をもたすことができる。そのため、
所望に応じて、ドーム型、発光観測面側から見て楕円
状、立方体、三角柱など種々の形状を選択することがで
きる。
Similarly, various colorants may be added to have a filter effect of cutting out extraneous light and unnecessary wavelengths from the light emitting element. Furthermore, a fluorescent substance that emits fluorescence when excited by the wavelength of light emitted from the light emitting element can be included. Further, various fillers that relieve the internal stress of the resin can be contained. [Molding Member 301] In the present invention, the molding member 301 seals the LED chip 100 and the reflection layer 201, or fills a gap between the LED chip 100 and the inner wall of the external reflection layer 201, so that the light emitting element and the like are protected from the external environment. It is used to protect from external force, dust and water. By changing the shape of the mold member 301 in various ways, it is possible to select various directional characteristics of the light emitted from the light emitting element and the light received by the light receiving element. That is, the lens effect can be provided by forming the mold member 301 into a convex lens shape or a concave lens shape. for that reason,
Various shapes such as a dome shape, an elliptical shape when viewed from the side of the light emission observation surface, a cube, and a triangular prism can be selected as desired.

【0035】光半導体素子用の具体的モールド部材とし
ては、耐光性、透光性に優れたエポキシ樹脂、アクリル
樹脂、イミド樹脂、シリコン樹脂などの有機物質や硝子
など無機物質を選択することができる。また、モールド
部材に発光素子からの光を拡散させる目的で酸化アルミ
ニウム、酸化バリウム、チタン酸バリウム、酸化珪素な
どを含有させることもできる。同様に外来光や発光素子
からの不要な波長をカットするフィルター効果を持たす
ために各種着色剤を添加させることもできる。さらに、
発光素子からの発光波長によって励起され蛍光を発する
蛍光物質を含有させる。また、モールド樹脂の内部応力
を緩和させる各種フィラーを含有させることもできる。 (異方性導電層)本実施の形態において、上記発光素子
は、正負一対の電極が設けられた電極形成面側が支持体
上の外部電極と対向するように載置され、連続した異方
性導電層を介してフリップチップ実装されてもよい。即
ち、上述した外部反射層201および内部反射層202
に変えて、該外部反射層201および内部反射層202
と同じ位置に異方性導電層を形成しても構わない。
As a concrete mold member for an optical semiconductor element, an organic substance such as an epoxy resin, an acrylic resin, an imide resin, a silicon resin or the like having an excellent light resistance and a light transmitting property, or an inorganic substance such as glass can be selected. .. Further, aluminum oxide, barium oxide, barium titanate, silicon oxide or the like can be contained in the mold member for the purpose of diffusing light from the light emitting element. Similarly, various colorants may be added to have a filter effect of cutting out extraneous light and unnecessary wavelengths from the light emitting element. further,
A fluorescent substance that emits fluorescence when excited by the emission wavelength of the light emitting element is contained. Further, various fillers that relieve the internal stress of the mold resin may be contained. (Anisotropic Conductive Layer) In the present embodiment, the light emitting element is mounted so that the electrode formation surface side on which a pair of positive and negative electrodes is provided faces the external electrode on the support, and a continuous anisotropic It may be flip-chip mounted via a conductive layer. That is, the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 described above
In place of the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202.
An anisotropic conductive layer may be formed at the same position as.

【0036】本発明において異方性導電層は、熱可塑性
又は熱硬化性を有する有機物又は無機物からなる接着剤
中に、発光素子からの光を効率よく反射することが可能
であって、かつ導電性を有する導電粒子が分散されてい
る。具体的導電粒子として、Ni粒子や、プラスチッ
ク、シリカ等の粒子表面にNiやAu等からなる金属コ
ートを有するものが挙げられる。本発明において導電粒
子の含有量は、前記接着剤に対して0.3vol%以上
1.2vol%以下が好ましく、このような異方性導電
層は、発光素子を実装する際の加熱及び加圧により容易
に層の膜厚方向間において高い導電性を得ることができ
る。一方、層の面方向では導電粒子の充填量が少ないた
め導電粒子同士の接触による隣接電極間の短絡が発生せ
ず高い絶縁性を維持することができる。より好ましく
は、異方性導電層において1mm当たりの粒子数が3
500個以上5000個以下であると、各電極間のピッ
チが狭い小型発光素子を信頼性高く基面上の外部電極と
微細接続することができる。更に、異方性導電層にて発
光素子からの光を効率よく反射散乱させることができ
る。
In the present invention, the anisotropic conductive layer is capable of efficiently reflecting the light from the light emitting element in an adhesive made of an organic or inorganic material having thermoplasticity or thermosetting property, and is electrically conductive. Conductive particles having properties are dispersed. Specific examples of the conductive particles include Ni particles, and particles having a metal coat made of Ni, Au, or the like on the surface of particles such as plastic and silica. In the present invention, the content of conductive particles is preferably 0.3 vol% or more and 1.2 vol% or less with respect to the adhesive, and such an anisotropic conductive layer is heated and pressed when mounting a light emitting element. Thus, high conductivity can be easily obtained between the film thickness directions of the layers. On the other hand, since the filling amount of the conductive particles is small in the plane direction of the layer, a short circuit between adjacent electrodes due to contact between the conductive particles does not occur, and high insulation can be maintained. More preferably, the number of particles per 1 mm 3 is 3 in the anisotropic conductive layer.
When the number is 500 or more and 5000 or less, the small light emitting element having a narrow pitch between the electrodes can be finely connected to the external electrodes on the base surface with high reliability. Furthermore, the anisotropic conductive layer can efficiently reflect and scatter light from the light emitting element.

【0037】本発明において、前記異方性導電層は、そ
れぞれ対向した発光素子表面と外部電極面との間を密閉
していると共に、発光素子の側方端面の一部を直接被覆
している。これにより、発光素子から発光される光の一
部を異方性導電層中に取り込み、前記異方性導電層中の
導電粒子にて反射散乱し、発光装置の正面方向へ光を取
り出すことができる。また、LEDチップの電極面と外
部電極表面との間には異方性導電層の存在により、隙間
が全く存在せず、光取り出し効率が向上し、放熱効果も
高まる。
In the present invention, the anisotropic conductive layer seals between the surface of the light emitting element and the surface of the external electrode which face each other, and directly covers a part of the side end surface of the light emitting element. . Thereby, a part of the light emitted from the light emitting element is taken into the anisotropic conductive layer, reflected and scattered by the conductive particles in the anisotropic conductive layer, and the light can be extracted in the front direction of the light emitting device. it can. Further, due to the presence of the anisotropic conductive layer between the electrode surface of the LED chip and the external electrode surface, there is no gap at all, the light extraction efficiency is improved, and the heat dissipation effect is also enhanced.

【0038】本発明の一実施例における発光装置の形成
方法として、液状の異方性導電層材料が、外部電極表面
に予め形成したバンプを適度に覆い、かつチップの大き
さ程度に広がる状態にした後に超音波接合を行う方法を
とる。このような形成方法とすると、チップの電極面と
外部電極表面は、異方性導電層に含まれる接着剤、およ
びバンプの両方を介して接合されるため、その接合強度
が倍増する。更には、所望の形状に電極を折り曲げる工
程を行う際に発光装置全体に外力が加わった場合であっ
ても、弾力性に富んだ樹脂を含む異方性導電層にて応力
が緩和され上記接合を保持することができるので、信頼
性の高い発光装置とすることが可能である。
As a method of forming a light emitting device according to one embodiment of the present invention, a liquid anisotropic conductive layer material is formed in such a state that a bump formed in advance on the surface of an external electrode is covered appropriately and spreads to the size of a chip. Then, ultrasonic bonding is performed. With such a forming method, the electrode surface of the chip and the surface of the external electrode are bonded through both the adhesive contained in the anisotropic conductive layer and the bumps, so that the bonding strength is doubled. Furthermore, even when an external force is applied to the entire light-emitting device when performing the step of bending the electrode into a desired shape, the stress is relieved by the anisotropic conductive layer containing a highly elastic resin and the above-mentioned bonding is performed. Therefore, the light emitting device can have high reliability.

【0039】[0039]

【実施例】以下、本発明に係る実施例について詳述す
る。なお、本発明は以下に示す実施例のみに限定される
ものではない。 [実施例1]図1に示すように、本発明の一実施例に使
用される支持体は、ガラスエポキシ樹脂111上にC
u、Ni、Au、Ag層が順に積層され、絶縁部113
によって分離されることにより形成された外部電極を有
している。本実施例において反射層として使用されるA
g層107には貫通孔が設けてあり、その貫通孔によっ
てAu層108の上面が露出している。そして、本実施
例にかかる発光装置はLEDチップ100の正負一対の
両電極がフリップチップ実装により、Ag層に設けられ
た貫通孔内のAuバンプを介してAu層108とボンデ
ィング(接合)されてなる。さらに、Ag層107は外
部配線701と接続されている。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below. The present invention is not limited to the examples shown below. Example 1 As shown in FIG. 1, the support used in one example of the present invention was a glass epoxy resin 111 with C
The u, Ni, Au, and Ag layers are sequentially stacked to form the insulating portion 113.
The external electrodes are formed by being separated by. A used as a reflective layer in this example
A through hole is provided in the g layer 107, and the upper surface of the Au layer 108 is exposed by the through hole. In the light emitting device according to the present embodiment, the pair of positive and negative electrodes of the LED chip 100 are flip-chip mounted and bonded (bonded) to the Au layer 108 via the Au bumps in the through holes provided in the Ag layer. Become. Furthermore, the Ag layer 107 is connected to the external wiring 701.

【0040】本実施例における外部電極112の形成方
法を、図5および図6を参照しながら、以下、順を追っ
て説明する。さらに、図1に示されるような発光装置の
製造方法を説明する。 (工程1)図5(a)および(b)に示すように、ガラ
スエポキシ樹脂板の上面の所定の位置に、外部電極11
2の厚さ以上の厚さを有する金型401を設置した後、
銅の融解液に浸し、無電解メッキにより、ガラスエポキ
シ樹脂の板上に厚さ18〜70μmのCu層110を形
成する。ここで、ガラスエポキシ樹脂の板の上面は、L
EDチップ基板の上面よりも十分大きい面積を有し、さ
らにガラスエポキシ樹脂の板の厚さは任意であるものと
する。また、本工程で使用する金型401は、外部電極
を絶縁分離させる絶縁部113を形成させるためにマス
クとして使用するものである。 (工程2)Cu層110を形成した後、支持体をニッケ
ルの融解液に浸し、無電解メッキにより、図5(c)に
示されるような厚さ4.0μmのNi層110をCu層
110上に形成する。 (工程3)Ni層109を形成した後、支持体を金の融
解液に浸し、電解メッキにより膜厚を制御しながら、図
5(d)に示されるような厚さ0.3〜2.0μmのA
u層108をNi層109上に形成する。 (工程4)接合層となるAu層108を形成した後、図
6(e)に示されるように、Au層108上のバンプ設
置個所に金型501を設置し、支持体を銀の融解液に浸
し、無電解メッキにより、図5(f)に示されるよう
に、Au層108上に厚さ5.0μmのAg層107を
形成する。ここで、本工程において使用する金型501
は、Ag層107に対して貫通孔を設けるためにマスク
として使用するものである。 (工程5)金型401及び501を取り外すことによ
り、図6(g)に示されるように、上面に外部電極11
2が形成された支持体を得ることができる。即ち、ガラ
スエポキシ樹脂111上にCu、Ni、Au、Ag層が
順に積層され、絶縁部113によって分離されることに
より外部電極112が形成されている。本実施例におい
て反射層として使用されるAg層107に対しては貫通
孔が設けてあり、その貫通孔によりAu層108上面が
露出している。 (工程6)以上の工程により形成された2つの貫通孔内
のAu層108上面に、Auバンプ106をそれぞれバ
ンプボンダーによりボンディングする。ここで、それぞ
れの貫通孔内に複数のバンプをボンディングしてもよ
い。このようにバンプの数を増やすと、LEDチップの
正負両電極と外部電極のAu層108との接合強度が高
まるため好ましい。Auバンプ106の高さはAg層1
07の厚さより十分高く、かつAuバンプ106の量は
LEDチップの正負両電極と外部電極のAu層108と
の電気的導通が取れる程度であることが好ましい。この
ようにバンプの量を調節すると、LEDチップの電極1
03、104の大きさが貫通孔の内径よりも大きく貫通
孔内に電極が入り込めない場合でも、LEDチップの電
極103、104は、貫通孔の上方でAuバンプと接触
しAuバンプを介して外部電極のAu層108と接合す
るため、LEDチップの正負両電極と外部電極のAu層
108との電気的導通を確実にし製造歩留まりの低下を
防ぐことができる。本実施例では、最大径が約80μ
m、最大高さが約40μmのAuバンプをボンディング
した。
The method of forming the external electrode 112 in this embodiment will be described step by step with reference to FIGS. 5 and 6. Further, a method of manufacturing the light emitting device as shown in FIG. 1 will be described. (Step 1) As shown in FIGS. 5A and 5B, the external electrode 11 is provided at a predetermined position on the upper surface of the glass epoxy resin plate.
After installing the mold 401 having a thickness of 2 or more,
A Cu layer 110 having a thickness of 18 to 70 μm is formed on a glass epoxy resin plate by immersing in a copper melt and electroless plating. Here, the upper surface of the glass epoxy resin plate is L
It has an area sufficiently larger than the upper surface of the ED chip substrate, and the thickness of the glass epoxy resin plate is arbitrary. The mold 401 used in this step is used as a mask for forming the insulating portion 113 that insulates and separates the external electrodes. (Step 2) After the Cu layer 110 is formed, the support is immersed in a nickel melt and electroless plating is performed to form a Ni layer 110 having a thickness of 4.0 μm as shown in FIG. Form on top. (Step 3) After the Ni layer 109 is formed, the support is immersed in a gold melt and the thickness is controlled by electrolytic plating to a thickness of 0.3-2. 0 μm A
The u layer 108 is formed on the Ni layer 109. (Step 4) After forming the Au layer 108 serving as a bonding layer, as shown in FIG. 6E, a mold 501 is set at a bump setting place on the Au layer 108, and a support is melted with a silver melt. Then, as shown in FIG. 5F, an Ag layer 107 having a thickness of 5.0 μm is formed on the Au layer 108 by electroless plating. Here, the mold 501 used in this step
Is used as a mask to form a through hole in the Ag layer 107. (Step 5) By removing the molds 401 and 501, as shown in FIG.
A support on which 2 is formed can be obtained. That is, the external electrode 112 is formed by sequentially stacking Cu, Ni, Au, and Ag layers on the glass epoxy resin 111 and separating them by the insulating portion 113. A through hole is provided in the Ag layer 107 used as the reflective layer in this embodiment, and the upper surface of the Au layer 108 is exposed by the through hole. (Step 6) Au bumps 106 are bonded to the upper surfaces of the Au layers 108 in the two through-holes formed by the above steps by a bump bonder. Here, a plurality of bumps may be bonded in each through hole. Increasing the number of bumps in this way is preferable because it increases the bonding strength between the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au layer 108 of the external electrode. The height of the Au bump 106 is Ag layer 1
It is preferable that the thickness is sufficiently higher than the thickness of 07 and the amount of the Au bumps 106 is such that electrical conduction can be established between the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au layer 108 of the external electrodes. When the bump amount is adjusted in this way, the LED chip electrode 1
Even when the size of 03 and 104 is larger than the inner diameter of the through hole and the electrode cannot enter the through hole, the electrodes 103 and 104 of the LED chip are in contact with the Au bump above the through hole and the Au bump is interposed therebetween. Since it is joined to the Au layer 108 of the external electrode, it is possible to ensure electrical conduction between the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au layer 108 of the external electrode and prevent the production yield from decreasing. In this embodiment, the maximum diameter is about 80μ.
m, and Au bumps having a maximum height of about 40 μm were bonded.

【0041】Auバンプ106上面にLEDチップの正
負両電極面を接触させ、保温状態にあるLEDチップの
基板の側から加圧しながら超音波を当てることにより、
Auバンプ106を介してLEDチップの正負両電極と
Au層108とを対向させて接合した。上記Auバンプ
を介した接合強度は、バンプ一個当たり、約50gfで
あった。 (工程7)最後に、LEDチップごとに支持体をカット
し、外部配線701と接続すると、図1に示されるよう
な発光装置が一度に複数個得られる。なお、同一の支持
体上に複数のLEDチップがダイボンドされているよう
に支持体をカットしても構わない。また、カット後の支
持体の形状は、矩形の他、如何なる形状でも構わない。
By contacting the positive and negative electrode surfaces of the LED chip with the upper surface of the Au bump 106 and applying ultrasonic waves while applying pressure from the substrate side of the LED chip in the heat-retaining state,
Both the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au layer 108 were opposed to each other and bonded via the Au bumps 106. The bonding strength through the Au bump was about 50 gf per bump. (Step 7) Finally, by cutting the support for each LED chip and connecting it to the external wiring 701, a plurality of light emitting devices as shown in FIG. 1 can be obtained at a time. The support may be cut so that a plurality of LED chips are die-bonded on the same support. The shape of the support after cutting may be any shape other than rectangular.

【0042】実施例1のような構成にすると、LEDチ
ップの電極材料として使用されるAuをバンプの材料と
しても使用しており、同一の金属を使用することで接合
強度が増すため好ましい。さらに、Au層108上のバ
ンプ設置個所以外に形成されているAg層107は、A
u等と比較して青色より短い波長の光に対しても高反射
率を保つため、反射層として使用すると、光取り出し効
率の向上を図ることができる。 [実施例2]図2あるいは図9に示されるように、本発
明の別の一実施例に使用される支持体は、ガラスエポキ
シ樹脂111上にCu、Ni、Au層が順に積層され、
絶縁部113によって分離されることにより形成された
外部電極を有している。そして、本実施例にかかる発光
装置はLEDチップ100の正負一対の両電極がフリッ
プチップ実装により、Auバンプを介してAu層108
とボンディング(接合)されてなり、硬化状態において
弾力性に富む樹脂からなる外部反射層201がLEDチ
ップ100の周囲に設けられ、内部反射層202はLE
Dチップの電極面と支持体上面との隙間に入り込んでい
る。さらに、Au層108は外部配線701と接続され
ている。
With the structure as in Example 1, Au used as the electrode material of the LED chip is also used as the material of the bump, and it is preferable to use the same metal because the bonding strength is increased. Further, the Ag layer 107 formed on the Au layer other than the bump installation location is
Since high reflectance is maintained even for light having a wavelength shorter than blue as compared with u and the like, when used as a reflective layer, the light extraction efficiency can be improved. [Embodiment 2] As shown in FIG. 2 or FIG. 9, the support used in another embodiment of the present invention is such that Cu, Ni and Au layers are laminated in this order on the glass epoxy resin 111.
It has an external electrode formed by being separated by the insulating portion 113. Further, in the light emitting device according to the present embodiment, the pair of positive and negative electrodes of the LED chip 100 are flip-chip mounted, and the Au layer 108 is provided via the Au bumps.
The external reflection layer 201 made of a resin having high elasticity in a cured state is provided around the LED chip 100, and the internal reflection layer 202 is LE.
It penetrates into the gap between the electrode surface of the D chip and the upper surface of the support. Further, the Au layer 108 is connected to the external wiring 701.

【0043】本実施例における反射層の形成方法を、図
7および図8を参照しながら、以下、順を追って説明す
る。さらに、図2および図9に示されるような発光装置
の製造方法を説明する。ここで、図2および図7は、図
9および図8に示されるような発光装置あるいは支持体
をそれぞれA面において切断したときの模式的な断面図
である。
The method of forming the reflective layer in this embodiment will be described step by step with reference to FIGS. 7 and 8. Further, a method of manufacturing the light emitting device as shown in FIGS. 2 and 9 will be described. Here, FIGS. 2 and 7 are schematic cross-sectional views of the light emitting device or the support as shown in FIGS. 9 and 8 taken along the plane A, respectively.

【0044】工程1から工程3までは実施例1と同様に
して、ガラスエポキシ樹脂の板の上面に対して順にCu
層110、Ni層109、Au層108を外部電極とし
て形成した後、金型401を取り外し、代わりに図7
(h)あるいは図10に示される形状の金型601をA
u層108上に設置する。ここで、図7(h)あるいは
図10に示される形状の金型601は、複数の突起部分
を備えている。それらの突起部分のうち、二つの突起部
分(602)がAu層108上にて外部配線を接続する
部分をマスクし、さらに、他の二つの突起部分(60
3)がAu層108上にてバンプをボンディングする部
分をマスクする。図7(h)あるいは図10に示される
ように、Au層108上面のバンプ形成箇所に向かって
細くなる形状(四角錐状)の突起部分(603)を有す
る金型を使用することにより、樹脂を成型した後、金型
は樹脂から剥離し易くなる。また、外部反射層201お
よび内部反射層202は、樹脂を同一の材料として同時
に成型され、外部反射層は僅かに変形するだけでLED
チップ側面に密着し、内部反射層はLEDチップのダイ
ボンドにより押し縮められてLEDチップの電極面と支
持体との間を隙間なく埋める。
In the same manner as in Example 1 from step 1 to step 3, Cu was sequentially added to the upper surface of the glass epoxy resin plate.
After forming the layer 110, the Ni layer 109, and the Au layer 108 as external electrodes, the mold 401 is removed, and instead, as shown in FIG.
(H) Alternatively, the mold 601 having the shape shown in FIG.
It is installed on the u layer 108. Here, the mold 601 having the shape shown in FIG. 7 (h) or FIG. 10 has a plurality of protrusions. Of these protrusions, the two protrusions (602) mask the portions on the Au layer 108 that connect the external wiring, and further two other protrusions (602).
3) masks a portion to be bump-bonded on the Au layer 108. As shown in FIG. 7 (h) or FIG. 10, by using a mold having a protruding portion (603) having a shape (quadrangular pyramid shape) which becomes narrower toward the bump formation location on the upper surface of the Au layer 108, After molding, the mold is easily separated from the resin. Further, the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 are simultaneously molded by using the same material of resin, and the external reflection layer is slightly deformed to form an LED.
The internal reflection layer is closely attached to the side surface of the chip and is compressed by die bonding of the LED chip to fill the gap between the electrode surface of the LED chip and the support without any gap.

【0045】金型601の表面には、樹脂との接触面に
対してフッ素系離型剤を塗布し、約1μm程度の離型剤
の膜を設けておく。このようにしておくと、Au層10
8上を溶融した樹脂で満たし硬化させた後、金型を取り
外す際、金型に樹脂が付着せず、金型と樹脂が離れやす
くなるため、作業性よく樹脂からなる反射層を成型する
ことができる。
On the surface of the mold 601, a fluorine-based release agent is applied to the contact surface with the resin, and a release agent film of about 1 μm is provided. By doing so, the Au layer 10
8) After filling the top with molten resin and curing it, when removing the mold, the resin does not adhere to the mold and the resin easily separates from the mold, so it is necessary to mold a reflective layer made of resin with good workability. You can

【0046】Au層108上に金型601を設置した状
態で、図7(i)に示されるように、拡散剤として使用
する酸化アルミニウムを含み、溶融したシリコン樹脂を
金型601の高さまでスキージングにより充填する。
With the die 601 placed on the Au layer 108, as shown in FIG. 7 (i), the molten silicon resin containing aluminum oxide used as a diffusing agent is skied to the height of the die 601. Fill by ging.

【0047】シリコン樹脂が硬化した後、金型601を
取り外すとシリコン樹脂を材料とした外部反射層201
および内部反射層202が、バンプ形成個所を除く外部
電極上面および絶縁部113上方に同時に成型される。
ここで、外部反射層201の内壁はテーパー形状であっ
て、対向する内壁との間隔の最小はLEDチップ100
が収納可能な大きさである。また、内部反射層202の
外壁は逆テーパー形状であって、対向する外壁との間隔
の最小は、LEDチップの正負両電極の間隔とほぼ等し
い。これにより、外部反射層は僅かに変形するだけでL
EDチップ側面に密着し、内部反射層はLEDチップの
正負両電極間から外部電極間にかけて存在することとな
る。
After the silicone resin is cured, the mold 601 is removed, and the external reflection layer 201 made of silicone resin is used.
Then, the internal reflection layer 202 is molded at the same time on the upper surface of the external electrode excluding the bump formation portion and above the insulating portion 113.
Here, the inner wall of the external reflection layer 201 has a tapered shape, and the minimum distance between the inner wall and the opposing inner wall is the LED chip 100.
Is a size that can be stored. Further, the outer wall of the internal reflection layer 202 has a reverse taper shape, and the minimum distance between the outer wall and the facing outer wall is substantially equal to the distance between the positive and negative electrodes of the LED chip. As a result, the external reflection layer is slightly deformed
The internal reflection layer is in close contact with the side surface of the ED chip, and exists between the positive and negative electrodes of the LED chip and the external electrode.

【0048】シリコン樹脂からなる反射層を成型した
後、実施例1と同様にAuバンプ106を、Au層10
8上のバンプ設置個所に実施例1と同程度の量と高さに
なるように、バンプボンダーによりボンディングする。
After molding the reflecting layer made of silicon resin, the Au bumps 106 and the Au layer 10 were formed in the same manner as in Example 1.
Bonding is carried out on the bump installation locations on 8 by a bump bonder so as to have the same amount and height as in the first embodiment.

【0049】次に、LEDチップの正負両電極面が、A
uバンプ106の直上にそれぞれ位置して対向するよう
に、LEDチップ100を絶縁部113上方に存在する
内部反射層202の上面に載せる。
Next, the positive and negative electrode surfaces of the LED chip are
The LED chip 100 is placed on the upper surface of the internal reflection layer 202 existing above the insulating portion 113 so as to be located directly above the u bumps 106 and face each other.

【0050】実施例1と同様に超音波接合方式を使用し
て、LEDチップ100の基板面に対して支持体の方へ
垂直に圧力を加え、Auバンプ106表面とLEDチッ
プの正負両電極面を接触させた状態で、フリップチップ
実装にてLEDチップをダイボンドする。このとき、絶
縁部113上に存在するシリコン樹脂は、柔らかく弾力
性に富むため、上記の圧力によって収縮し、また、LE
Dチップの電極面の隙間にもよく入り込む。また、1つ
の貫通孔内のAuバンプの数は、ダイボンドにより押し
縮められたシリコン樹脂の弾性力よりもLEDチップの
電極と外部電極との接合力のほうが十分大きくなるよう
に、ダイボンド前に予め調節しておく。このようにする
と、LEDチップが、シリコン樹脂の弾性力によって支
持体とは逆の方向へ押し戻されることが無く、LEDチ
ップの電極と外部電極との接合の強度は常に一定に保た
れ、LEDチップの電極と外部電極との電気的導通が断
たれることはないため、発光装置の製造歩留まりは低下
しない。
Using the ultrasonic bonding method as in Example 1, pressure is applied perpendicularly to the substrate surface of the LED chip 100 toward the support, and the surface of the Au bump 106 and both the positive and negative electrode surfaces of the LED chip are applied. The LED chip is die-bonded by flip-chip mounting in a state of contacting with. At this time, since the silicon resin existing on the insulating portion 113 is soft and rich in elasticity, it contracts due to the above-mentioned pressure, and LE
It often goes into the gap between the electrode surfaces of the D chip. In addition, the number of Au bumps in one through hole is set in advance before the die bonding so that the bonding force between the electrode of the LED chip and the external electrode is sufficiently larger than the elastic force of the silicon resin compressed by the die bonding. Adjust it. By doing so, the LED chip is not pushed back in the opposite direction to the support body by the elastic force of the silicon resin, and the strength of the bond between the electrode of the LED chip and the external electrode is always kept constant. Since the electrical continuity between the electrode and the external electrode is not interrupted, the manufacturing yield of the light emitting device does not decrease.

【0051】最後に実施例1における工程7と同様にし
て、図2あるいは図9に示されるような発光装置が得ら
れた。
Finally, in the same manner as in Step 7 of Example 1, a light emitting device as shown in FIG. 2 or 9 was obtained.

【0052】実施例2のような構成にした発光装置は、
LEDチップの電極面および側面と反射層の間に隙間が
ほぼ無くなる。また、LEDチップ側面と外部反射層2
01の内壁との間に隙間が生じると、LEDチップから
出光した光が、隙間に存在する空気によって複雑に屈折
することで光取り出し効率の低下を招来し、さらに、熱
伝導率の低い空気を介して発光素子から放熱することに
より放熱効果の低下を招くが、本実施例では隙間が生じ
ないため、発光装置の光取り出し効率が向上し、放熱効
果も高まった。 [実施例3]実施例2と同様に、図2あるいは図9に示
されるような発光装置を得た後、支持体表面のうち外部
配線701と接続される部分をマスクして、外部反射層
201およびLEDチップの基板上にエポキシ樹脂をス
キージング、あるいはスクリーン印刷することによって
それらを封止した。最後に実施例1における工程7と同
様にして、図4に示すような、外部反射層201上面お
よび発光素子基板面がエポキシ樹脂にてモールドされた
発光装置が得られた。
The light emitting device having the structure as in Example 2 is
There is almost no gap between the reflective surface and the electrode surface and side surface of the LED chip. In addition, the LED chip side surface and the external reflection layer 2
When a gap is formed between the inner wall of 01 and the inner wall of 01, the light emitted from the LED chip is complicatedly refracted by the air present in the gap, resulting in a decrease in light extraction efficiency. Although the heat radiation effect is lowered by radiating heat from the light emitting element via the light emitting element, since no gap is formed in this embodiment, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved and the heat radiation effect is also enhanced. [Embodiment 3] Similar to Embodiment 2, after the light emitting device as shown in FIG. 2 or 9 is obtained, the portion of the surface of the support that is connected to the external wiring 701 is masked and the external reflection layer is formed. They were sealed by squeezing or screen printing an epoxy resin on the substrate of 201 and LED chips. Finally, in the same manner as in Step 7 of Example 1, a light emitting device was obtained in which the upper surface of the external reflection layer 201 and the surface of the light emitting element substrate were molded with epoxy resin as shown in FIG.

【0053】実施例3のような構成にすると、外部反射
層201の内壁とLEDチップ側面との間に生じた小さ
な隙間を埋めることができ、外部反射層201およびL
EDチップを外部環境からの外力、塵芥や水分などから
保護することができる。また、LEDチップ側面と外部
反射層201の内壁との間に隙間が生じると、LEDチ
ップから出光した光が該隙間に存在する空気によって複
雑に屈折することで光取り出し効率の低下を招来し、さ
らに、発光装置は熱伝導率の低い空気を介して放熱する
ことにより放熱効果の低下を招くが、本実施例では隙間
が生じないため、発光装置の光取り出し効率が向上し、
放熱効果も高まった。 [実施例4]実施例1と同様に、図1に示されるような
発光装置を得た後、支持体表面のうち外部配線701と
接続される部分をマスクして、LEDチップの基板上に
エポキシ樹脂をスキージング、あるいはスクリーン印刷
することによってLEDチップを封止した。最後に実施
例1における工程7と同様にして、図3に示すような、
発光素子がエポキシ樹脂にてモールドされた発光装置が
得られた。
With the structure of Example 3, it is possible to fill the small gap between the inner wall of the external reflection layer 201 and the side surface of the LED chip, and the external reflection layers 201 and L are formed.
It is possible to protect the ED chip from external force from the external environment, dust and water. Further, when a gap is formed between the side surface of the LED chip and the inner wall of the external reflection layer 201, the light emitted from the LED chip is complicatedly refracted by the air present in the gap, resulting in a decrease in light extraction efficiency. Further, although the light emitting device radiates heat through air having low thermal conductivity, the heat radiation effect is lowered, but in this embodiment, since no gap is formed, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved,
The heat dissipation effect also increased. [Embodiment 4] Similar to Embodiment 1, after obtaining a light emitting device as shown in FIG. 1, a portion of the surface of the support which is connected to the external wiring 701 is masked and placed on the substrate of the LED chip. The LED chip was sealed by squeezing epoxy resin or screen printing. Finally, in the same manner as in Step 7 in Example 1, as shown in FIG.
A light emitting device in which the light emitting element was molded with epoxy resin was obtained.

【0054】実施例4のような構成にすると、LEDチ
ップを外部環境からの外力、塵芥や水分などから保護す
ることができる。 [実施例5]実施例1における発光装置を形成した後、
実施例2と同様にして、Ag層の上に樹脂による反射層
を形成した。
With the structure of the fourth embodiment, the LED chip can be protected from external force from the external environment, dust and water. Example 5 After forming the light emitting device of Example 1,
A reflective layer made of resin was formed on the Ag layer in the same manner as in Example 2.

【0055】実施例5のような構成にすると、発光素子
から取り出した光はAg層表面と、反射層の両方により
反射されることにより、発光装置の光取り出し効率を上
げることができた。 [実施例6]実施例1と同様にAuバンプ106を、A
u層108上のバンプ設置個所に実施例1と同程度の量
と高さになるように、バンプボンダーによりボンディン
グする。その後、LEDチップ100をダイボンドしよ
うとする部分に、バンプの高さ程度の厚みでバンプを覆
うように、かつLEDチップの大きさとほぼ等しい面積
で広がるように液状の異方性導電層材料を供給する。
With the structure as in Example 5, the light extracted from the light emitting element was reflected by both the surface of the Ag layer and the reflective layer, so that the light extraction efficiency of the light emitting device could be improved. [Embodiment 6] As in Embodiment 1, the Au bumps 106 are
Bonding is performed by a bump bonder on the u layer 108 so that the amount and height are the same as those in the first embodiment. After that, a liquid anisotropic conductive layer material is supplied to the portion where the LED chip 100 is to be die-bonded so as to cover the bump with a thickness of about the height of the bump and to spread in an area substantially equal to the size of the LED chip. To do.

【0056】次に、LEDチップの正負両電極面が、液
状の異方性導電層材料を介してAuバンプ106の直上
にそれぞれ対向するように、LEDチップ100を載置
する。
Next, the LED chip 100 is placed so that the positive and negative electrode surfaces of the LED chip face directly above the Au bumps 106 with the liquid anisotropic conductive layer material interposed therebetween.

【0057】実施例1と同様に超音波接合方式を使用し
て、LEDチップ100の基板面に対して支持体の方へ
垂直に圧力を加え、Auバンプ106とLEDチップの
正負両電極面を対向させた状態で、フリップチップ実装
にてLEDチップをダイボンドする。
Using the ultrasonic bonding method as in Example 1, pressure is applied perpendicularly to the substrate surface of the LED chip 100 so that the Au bumps 106 and the positive and negative electrode surfaces of the LED chip are connected to each other. In a state where they face each other, the LED chip is die-bonded by flip chip mounting.

【0058】以上の工程により、図11に示されるよう
な発光装置を形成した。本実施例により、従来例を上回
る接合強度を得てLEDチップ100と外部電極との電
気的導通をとることができ、さらに発光装置全体の機械
的強度も従来例を上回った。また、少なくともLEDチ
ップの電極面と、バンプ設置部分を除く外部電極表面と
の間には異方性導電層が存在し、隙間が全く存在しない
ため、発光装置の光取り出し効率が向上し、放熱効果も
高まった。 [実施例7]実施例6と同様にAuバンプ106を、A
u層108上のバンプ設置個所に実施例1と同程度の量
と高さになるように、バンプボンダーによりボンディン
グする。その後、LEDチップ100をダイボンドしよ
うとする部分に、バンプの高さ程度の厚みでバンプを覆
うように、かつLEDチップの大きさとほぼ等しい面積
で広がるように液状のエポキシ樹脂を供給する。なお、
ここでエポキシ樹脂の代わりに絶縁性接着剤等を使用し
ても構わない。
Through the above steps, a light emitting device as shown in FIG. 11 was formed. According to the present embodiment, it is possible to obtain a bonding strength higher than that of the conventional example and establish electrical continuity between the LED chip 100 and the external electrode, and further, the mechanical strength of the entire light emitting device exceeds that of the conventional example. Further, since there is at least an anisotropic conductive layer between the electrode surface of the LED chip and the external electrode surface excluding the bump installation portion, and there is no gap at all, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved and heat dissipation is improved. The effect also increased. [Embodiment 7] The Au bump 106 is
Bonding is performed by a bump bonder on the u layer 108 so that the amount and height are the same as those in the first embodiment. After that, a liquid epoxy resin is supplied to a portion where the LED chip 100 is to be die-bonded so as to cover the bump with a thickness of about the height of the bump and to spread in an area substantially equal to the size of the LED chip. In addition,
Here, an insulating adhesive or the like may be used instead of the epoxy resin.

【0059】次に、LEDチップの正負両電極面が、液
状のエポキシ樹脂を介してAuバンプ106の直上にそ
れぞれ対向するように、LEDチップ100を載置す
る。
Next, the LED chip 100 is placed so that the positive and negative electrode surfaces of the LED chip face each other directly above the Au bumps 106 with a liquid epoxy resin in between.

【0060】実施例1と同様に超音波接合方式を使用し
て、LEDチップ100の基板面に対して支持体の方へ
垂直に圧力を加え、Auバンプ106表面とLEDチッ
プの正負両電極面を対向させた状態で、フリップチップ
実装にてLEDチップをダイボンドする。このとき、L
EDチップの正負両電極面とAuバンプ106の表面と
の間に存在する液状のエポキシ樹脂は、超音波により振
動するため、外部電極表面にボンディングされ固定され
ているAuバンプ106の上部は、エポキシ樹脂の中か
ら露出し、LEDチップの正負両電極と接触する。従っ
て、LEDチップの正負両電極とAuバンプ106が、
間にエポキシ樹脂を介することなく接合する。
Using the ultrasonic bonding method as in Example 1, pressure is applied perpendicularly to the substrate surface of the LED chip 100 toward the support, and the surface of the Au bumps 106 and the positive and negative electrode surfaces of the LED chip 100. The LED chips are die-bonded by flip-chip mounting in a state where they are opposed to each other. At this time, L
Since the liquid epoxy resin existing between the positive and negative electrode surfaces of the ED chip and the surface of the Au bump 106 is vibrated by ultrasonic waves, the upper portion of the Au bump 106 bonded and fixed to the external electrode surface is covered with epoxy. It is exposed from inside the resin and contacts both the positive and negative electrodes of the LED chip. Therefore, the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au bump 106 are
Bonded without interposing an epoxy resin.

【0061】以上の工程により、異方性導電層203の
代わりにエポキシ樹脂を使用して図11に示されるよう
な発光装置を形成した。本実施例により、十分な接合強
度を得てLEDチップ100と外部電極との電気的導通
をとることができ、さらに発光装置全体の機械的強度も
従来例を上回った。また、少なくともLEDチップの電
極面と、バンプ設置部分を除く外部電極表面との間はエ
ポキシ樹脂で満たされ、隙間が全く存在しないため、発
光装置の光取り出し効率が向上し、放熱効果も高まっ
た。 [実施例8]Auバンプ106を、LEDチップ100
の正負両電極面にそれぞれ実施例6と同程度の量と高さ
になるように、バンプボンダーによりボンディングす
る。その後、LEDチップ100をダイボンドしようと
する部分に、バンプの高さ程度の厚みで、かつLEDチ
ップの大きさとほぼ等しい面積で広がるように液状のエ
ポキシ樹脂を供給する。なお、ここでエポキシ樹脂の代
わりに絶縁性接着剤等を使用しても構わない。
Through the above steps, a light emitting device as shown in FIG. 11 was formed by using an epoxy resin instead of the anisotropic conductive layer 203. According to this embodiment, sufficient bonding strength can be obtained to establish electrical continuity between the LED chip 100 and the external electrode, and the mechanical strength of the entire light emitting device is higher than that of the conventional example. Further, since at least the electrode surface of the LED chip and the external electrode surface excluding the bump installation portion are filled with epoxy resin and there is no gap at all, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved and the heat dissipation effect is also enhanced. . [Embodiment 8] The Au bump 106 is connected to the LED chip 100.
Bonding is carried out on both the positive and negative electrode surfaces by the bump bonder so as to have the same amount and height as in the sixth embodiment. After that, a liquid epoxy resin is supplied to the portion where the LED chip 100 is to be die-bonded so as to spread in a thickness about the height of the bump and in an area substantially equal to the size of the LED chip. Here, an insulating adhesive or the like may be used instead of the epoxy resin.

【0062】次に、LEDチップの正負両電極面上のA
uバンプ106が、液状のエポキシ樹脂を介して外部電
極の正負両電極の直上にそれぞれ対向するように、LE
Dチップ100を載置する。
Next, A on both the positive and negative electrode surfaces of the LED chip
LE so that the u bumps 106 face directly above both the positive and negative electrodes of the external electrode via the liquid epoxy resin.
The D chip 100 is placed.

【0063】実施例1と同様に超音波接合方式を使用し
て、LEDチップ100の基板面に対して支持体の方へ
垂直に圧力を加え、Auバンプ106と外部電極表面を
対向させた状態で、フリップチップ実装にてLEDチッ
プをダイボンドする。このとき、外部電極とAuバンプ
106の表面との間に存在する液状のエポキシ樹脂は、
超音波により激しく振動するため、LEDチップにボン
ディングされ固定されているAuバンプ106の下部
は、上記液状のエポキシ樹脂を押し退け、外部電極表面
と接触する。従って、外部電極とAuバンプ106が、
間にエポキシ樹脂を介することなく接合する。
A state where the Au bump 106 and the external electrode surface are opposed to each other by applying pressure perpendicularly to the substrate surface of the LED chip 100 using the ultrasonic bonding method as in the first embodiment. Then, the LED chip is die-bonded by flip-chip mounting. At this time, the liquid epoxy resin existing between the external electrode and the surface of the Au bump 106 is
Since it vibrates violently due to ultrasonic waves, the lower part of the Au bump 106 bonded and fixed to the LED chip pushes away the liquid epoxy resin and makes contact with the external electrode surface. Therefore, the external electrode and the Au bump 106 are
Bonded without interposing an epoxy resin.

【0064】以上の工程により、異方性導電層203の
代わりにエポキシ樹脂を使用して図11に示されるよう
な発光装置を形成した。本実施例により、十分な接合強
度を得てLEDチップ100と外部電極との電気的導通
をとることができ、さらに発光装置全体の機械的強度も
従来例を上回った。また、少なくともLEDチップの電
極面と、バンプ設置部分を除く外部電極表面との間はエ
ポキシ樹脂で満たされ、隙間が全く存在しないため、発
光装置の光取り出し効率が向上し、放熱効果も高まっ
た。
Through the above steps, the light emitting device as shown in FIG. 11 was formed by using the epoxy resin instead of the anisotropic conductive layer 203. According to this embodiment, sufficient bonding strength can be obtained to establish electrical continuity between the LED chip 100 and the external electrode, and the mechanical strength of the entire light emitting device is higher than that of the conventional example. Further, since at least the electrode surface of the LED chip and the external electrode surface excluding the bump installation portion are filled with epoxy resin and there is no gap at all, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved and the heat dissipation effect is also enhanced. .

【0065】[0065]

【発明の効果】同一材料を少なくとも一種有するバンプ
を介して、発光素子の各電極と外部電極とを超音波ダイ
ボンドすることで、同種類の金属元素を含む部分同士の
接合となるため、接合強度を高く保つことが可能であ
る。また、反射層の材料として青色より波長の短い光に
対しても高反射率を保つ金属を使用した場合、青色より
波長の短い光を発光する発光装置の光取り出し効率が向
上する。
[Effects of the Invention] By ultrasonically die-bonding each electrode of the light-emitting element and the external electrode through the bump having at least one kind of the same material, the portions containing the same kind of metal element are joined to each other. Can be kept high. Further, when a metal that maintains a high reflectance with respect to light having a wavelength shorter than blue is used as the material of the reflective layer, the light extraction efficiency of the light emitting device that emits light having a wavelength shorter than blue is improved.

【0066】さらに、反射層として、硬化状態で柔らか
く弾力性に富む部材を本発明に独特の形状に成型して使
用した場合、光取り出し効率が向上するだけでなく、放
熱効果も高まる。また、硬化状態で柔らかく弾力性に富
む部材を含む反射層を予め支持体上に成型した後、LE
Dチップをダイボンドすることにより作業性が向上す
る。
Further, when a member which is soft and has a high elasticity in a cured state is molded and used as the reflection layer in a shape unique to the present invention, not only the light extraction efficiency is improved but also the heat dissipation effect is enhanced. In addition, after the reflective layer including a soft and highly elastic member in the cured state is previously molded on the support, LE
Workability is improved by die-bonding the D chip.

【0067】[0067]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 図1は、本発明の一実施例による発光装置の
模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図2は、本発明の一実施例による発光装置の
模式断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【図3】 図3は、本発明の一実施例による発光装置の
模式断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【図4】 図4は、本発明の一実施例による発光装置の
模式断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【図5】 図5は、本発明にかかる外部電極の形成工程
を示す支持体の模式断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a support showing a step of forming an external electrode according to the present invention.

【図6】 図6は、本発明にかかる反射層の形成工程を
示す支持体の模式断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a support showing a process of forming a reflective layer according to the present invention.

【図7】 図7は、本発明にかかる反射層の形成工程を
示す支持体の模式断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a support showing a process of forming a reflective layer according to the present invention.

【図8】 図8は、本発明にかかる支持体の模式的な斜
視図である。
FIG. 8 is a schematic perspective view of a support according to the present invention.

【図9】 図9は、本発明にかかる発光装置の模式的な
斜視図である。
FIG. 9 is a schematic perspective view of a light emitting device according to the present invention.

【図10】 図10は、本発明の一実施例にかかる金型
の模式的な斜視図である。
FIG. 10 is a schematic perspective view of a mold according to an embodiment of the present invention.

【図11】 図11は、本発明の一実施例による発光装
置の模式断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100・・・LEDチップ 101・・・サファイア基板 102・・・n型窒化物半導体 103・・・負電極 104・・・正電極 105・・・p型窒化物半導体 106・・・バンプ 107・・・Ag層 108・・・Au層 109・・・Ni層 110・・・Cu層 112・・・外部電極 113・・・絶縁部 201・・・外部反射層 202・・・内部反射層 203・・・異方性導電層 301・・・モールド部材 401、501、601・・・金型 602、603・・・金型の突起部分 701・・・外部配線 100 ... LED chip 101 ... Sapphire substrate 102 ... N-type nitride semiconductor 103 ... Negative electrode 104 ... Positive electrode 105 ... p-type nitride semiconductor 106 ... Bump 107 ... Ag layer 108 ... Au layer 109 ... Ni layer 110 ... Cu layer 112 ... External electrode 113 ... Insulation part 201 ... External reflection layer 202 ... Internal reflection layer 203 ... Anisotropic conductive layer 301: Mold member 401, 501, 601 ... Mold 602, 603 ... Mold projection 701 ... External wiring

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成14年9月6日(2002.9.6)[Submission date] September 6, 2002 (2002.9.6)

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】全文[Correction target item name] Full text

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【書類名】 明細書[Document name] Statement

【発明の名称】 発光装置およびその製造方法Title: Light emitting device and method for manufacturing the same

【特許請求の範囲】[Claims]

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、窒化物半導体発光
素子を利用した発光装置に関わり、特に発光効率が高
く、高輝度に発光可能な信頼性の高い発光装置を提供す
ることを目的とする。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device using a nitride semiconductor light emitting element, and an object of the present invention is to provide a highly reliable light emitting device capable of emitting light with high luminance and high brightness. .

【0002】[0002]

【従来技術】LEDチップをフリップチップ実装で支持
体の外部電極に接合する場合において、近年超音波を利
用した新しい接合技術が登場し主流となりつつある。こ
の超音波接合方式は、以下のようなものである。
2. Description of the Related Art In the case of bonding an LED chip to an external electrode of a support by flip-chip mounting, a new bonding technique using ultrasonic waves has recently appeared and is becoming mainstream. This ultrasonic bonding method is as follows.

【0003】まず、ステージ上に載置した支持体の導電
体上にAuバンプを形成する。
First, Au bumps are formed on the conductor of the support placed on the stage.

【0004】次に、同一面側に正負両電極が設けられて
いるLEDチップの電極面を下側にして、上記Auバン
プと、LEDチップのAuを含む正負両電極面とを接触
させる。
Next, with the electrode surface of the LED chip having both positive and negative electrodes provided on the same surface side facing downward, the Au bumps are brought into contact with both the positive and negative electrode surfaces of the LED chip containing Au.

【0005】最後に、外部電極、LEDチップの正負両
電極面、およびAuバンプが加温されている状態で、外
部電極上面とLEDチップ電極面の間隔が狭くなるよう
に圧力を加えながら、外部電極、LEDチップの正負両
電極面、およびAuバンプに超音波振動を当てる。この
ときの熱と超音波振動による摩擦熱でAuバンプの支持
体および正負両電極面との接触部分が融解し、これを放
置冷却するとAuバンプは、支持体の導電体上面および
正負両電極面に固着される。
Finally, while the external electrodes, the positive and negative electrode surfaces of the LED chip, and the Au bumps are heated, pressure is applied so that the distance between the upper surface of the external electrodes and the LED chip electrode surface is narrowed, Ultrasonic vibration is applied to the electrodes, the positive and negative electrode surfaces of the LED chip, and the Au bumps. At this time, the heat and the frictional heat generated by the ultrasonic vibration melt the contact portion between the Au bump and the support and both the positive and negative electrode surfaces. Stuck to.

【0006】このようにして、Auバンプを介して支持
体の外部電極とLEDチップの正負両電極とを接合し、
両者の電気的導通が図られる。
In this way, the external electrodes of the support and the positive and negative electrodes of the LED chip are joined via the Au bumps,
Electrical connection between the two is achieved.

【0007】ここで、フリップチップ実装とは同一面側
に正負両電極が設けられている半導体チップの電極面を
下側にして、支持体の導電体に直接面接続する方法をい
う。
Here, flip chip mounting refers to a method in which the electrode surface of a semiconductor chip having both positive and negative electrodes on the same surface side is the lower side and direct surface connection is made to the conductor of the support.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、青色等
の波長の短い光を発光するLEDチップと、Auメッキ
した支持体とを使用して発光装置を形成する場合、Au
は青色等の波長の短い光に対して反射率が低いことか
ら、光取り出し効率の向上が図れない。また、光反射率
の高いAg等を支持体上のメッキ材料として使用した場
合、支持体のAgメッキされた部分の上に形成したAu
バンプと、LEDチップのAuを含む正負両電極を接合
することは、異なる材料間での接合となるため、超音波
を利用した接合方式では接合強度の低下を生じ、生産性
の低下を招いていた。
However, when a light emitting device is formed using an LED chip that emits light having a short wavelength such as blue light and an Au-plated support, Au is used.
Has a low reflectance for light having a short wavelength, such as blue, and cannot improve the light extraction efficiency. When Ag or the like having high light reflectance is used as the plating material on the support, the Au formed on the Ag-plated portion of the support is used.
Joining the bump and the positive and negative electrodes containing Au of the LED chip is joining between different materials. Therefore, the joining method using ultrasonic waves causes a decrease in the joining strength and a decrease in productivity. It was

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、同一面側に正
負一対の電極を有する発光素子と、絶縁性基板表面に分
離して積層された外部電極を有する支持体と、を備えた
発光装置において、前記外部電極の上面は、貫通孔を有
する反射層にて覆われ、前記発光素子の各電極は、前記
外部電極と同一材料を少なくとも一種有するバンプを介
して前記貫通孔から露出された外部電極表面と対向して
いることを特徴とする発光装置である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides light emission including a light emitting element having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, and a support having external electrodes separately laminated on the surface of an insulating substrate. In the device, an upper surface of the external electrode is covered with a reflective layer having a through hole, and each electrode of the light emitting element is exposed from the through hole through a bump having at least one kind of material same as the external electrode. The light emitting device is characterized by facing the surface of the external electrode.

【0010】本発明の請求項1に記載の構成とすること
により、同一材料を少なくとも一種有するバンプを介し
て、発光素子の各電極と外部電極とを超音波ダイボンド
することで、同種類の金属元素を含む部分同士の接合と
なるため、接合強度を高く保つことが可能である。ま
た、反射層の材料として青色より波長の短い光に対して
も高反射率を保つ金属を使用し、青色より波長の短い光
を発光する発光装置とした場合、光取り出し効率を向上
させることが可能である。
With the structure according to claim 1 of the present invention, the electrodes of the light emitting element and the external electrodes are ultrasonically die-bonded through the bumps having at least one kind of the same material, so that the same kind of metal is formed. Since the portions containing the elements are bonded to each other, the bonding strength can be kept high. Further, when a metal that maintains a high reflectance for light having a wavelength shorter than that of blue is used as the material of the reflective layer and the light emitting device emits light having a wavelength shorter than that of blue, the light extraction efficiency can be improved. It is possible.

【0011】請求項2に記載の発明は、前記発光素子
は、モールド部材で封止されていることを特徴とする請
求項1記載の発光装置である。
The invention according to claim 2 is the light-emitting device according to claim 1, wherein the light-emitting element is sealed with a mold member.

【0012】本発明の請求項2に記載の構成とすること
により、発光素子などを外部環境からの外力、塵芥や水
分などから保護することができる。
With the structure according to the second aspect of the present invention, the light emitting element and the like can be protected from external force from the external environment, dust and water.

【0013】請求項3に記載の発明は、同一面側に正負
一対の電極を有する発光素子と、絶縁性基板表面に分離
して積層された外部電極を有する支持体と、該支持体上
に載置され前記発光素子を収納可能な貫通孔を有する外
部反射層と、を有する発光装置において、前記発光素子
の各電極は、前記外部電極と同一材料を少なくとも一種
有するバンプを介して前記貫通孔から露出された外部電
極表面と対向しており、前記各電極間から前記外部電極
間にかけて、前記外部反射層と同一材料からなる内部反
射層を有することを特徴とする発光装置である。
According to a third aspect of the present invention, a light emitting element having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, a support having external electrodes separately laminated on the surface of an insulating substrate, and a support on the support are provided. An external reflection layer having a through hole that is placed and capable of accommodating the light emitting element, wherein each electrode of the light emitting element has the through hole through a bump having at least one material that is the same as the external electrode. The light emitting device is characterized in that it has an internal reflection layer made of the same material as the external reflection layer, between the electrodes and between the external electrodes, the internal reflection layer facing the external electrode surface exposed from.

【0014】本発明の請求項3に記載の構成とすること
により、反射層として、拡散剤を含むシリコン樹脂等の
柔らかく弾力性に富む樹脂を本発明に独特の形状に成型
して使用すると、光取り出し効率を向上させることがで
きるだけでなく、放熱効果も高めることができる。
With the structure according to claim 3 of the present invention, when a soft and highly elastic resin such as a silicone resin containing a diffusing agent is molded into a unique shape for use in the present invention as the reflecting layer, Not only can the light extraction efficiency be improved, but also the heat dissipation effect can be improved.

【0015】請求項4に記載の発明は、前記外部反射層
の内壁はテーパー形状であり、前記内部反射層の外壁は
逆テーパー形状であることを特徴とする請求項3に記載
の発光装置である。
According to a fourth aspect of the invention, there is provided the light emitting device according to the third aspect, wherein the inner wall of the outer reflection layer is tapered and the outer wall of the inner reflection layer is inversely tapered. is there.

【0016】本発明の請求項4に記載の構成とすること
により、外部反射層を僅かに変形させるだけでLEDチ
ップ側面に密着させることができ、内部反射層をLED
チップの正負両電極間から外部電極間にかけて隙間なく
存在させることができる。
With the structure according to claim 4 of the present invention, the outer reflection layer can be brought into close contact with the side surface of the LED chip by only slightly deforming the inner reflection layer.
It is possible to exist without any gap between the positive and negative electrodes of the chip and the external electrodes.

【0017】請求項5に記載の発明は、前記外部反射層
は、モールド部材を有することを特徴とする請求項3乃
至4に記載の発光装置である。
The invention according to claim 5 is the light-emitting device according to any one of claims 3 to 4, characterized in that the external reflection layer has a molding member.

【0018】本発明の請求項5に記載の構成とすること
により、発光素子などを外部環境からの外力、塵芥や水
分などから保護することが可能である。
With the structure according to the fifth aspect of the present invention, it is possible to protect the light emitting element and the like from external force from the external environment, dust and water.

【0019】請求項6に記載の発明は、前記外部反射層
および/または前記内部反射層は、前記発光素子からの
発光波長によって励起され蛍光を発する蛍光物質を含有
する請求項3乃至5に記載の発光装置である。
According to a sixth aspect of the present invention, the outer reflection layer and / or the inner reflection layer contains a fluorescent substance that emits fluorescence when excited by the emission wavelength of the light emitting element. It is a light emitting device.

【0020】本発明の請求項6に記載の構成とすること
により、発光素子からの発光波長によって励起された蛍
光を発する発光装置とすることができる。
With the structure according to the sixth aspect of the present invention, it is possible to provide a light emitting device which emits fluorescence excited by the emission wavelength from the light emitting element.

【0021】請求項7に記載の発明は、同一面側に正負
一対の電極を有する発光素子と、絶縁性基板表面に分離
して積層された外部電極を有する支持体と、該支持体上
に載置され前記発光素子を収納可能な貫通孔を有する外
部反射層と、を有する発光装置の製造方法において、前
記支持体上に、前記外部電極の各表面の一部が露出され
る貫通孔を有する反射層を、硬化状態において弾力性を
有する部材にて形成する第1の工程と、前記各貫通孔内
にそれぞれバンプを形成する第2の工程と、前記発光素
子の各電極を前記バンプと対向させ、前記発光素子を前
記支持体方向に押しつけ電気的に接続させる第3の工程
と、を有することを特徴とする発光装置の製造方法であ
る。
According to a seventh aspect of the present invention, a light emitting element having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, a support having external electrodes separately laminated on the surface of an insulating substrate, and a support on the support are provided. In a method of manufacturing a light emitting device having an external reflection layer having a through hole that is placed and capable of accommodating the light emitting element, a through hole in which a part of each surface of the external electrode is exposed is provided on the support. A first step of forming the reflective layer having a resilient member in a cured state, a second step of forming bumps in the through-holes, and the electrodes of the light-emitting element being the bumps. And a third step of facing each other and pressing the light emitting element toward the support to electrically connect the light emitting element.

【0022】本発明の請求項7に記載の方法とすること
により、反射層として、硬化状態において弾力性を有す
る部材を本発明に独特の形状に成型して使用し、光取り
出し効率、および放熱効果を向上させた発光装置が容易
に製造できる。即ち、従来はLEDチップを支持体上に
ダイボンドした後、LEDチップと支持体との間に樹脂
等を隙間なく流し込むのは非常に手間のかかる作業であ
ったが、本発明による方法により、反射層を支持体上に
予め成型した後、LEDチップをダイボンドすることで
作業性を向上させることができる。
By the method according to claim 7 of the present invention, a member having elasticity in a cured state is molded into a shape unique to the present invention and used as a reflective layer, and the light extraction efficiency and heat dissipation are improved. A light emitting device with improved effect can be easily manufactured. That is, conventionally, it was a very troublesome work to pour a resin or the like between the LED chip and the support without leaving a gap after the LED chip was die-bonded onto the support, but by the method according to the present invention, Workability can be improved by die-bonding the LED chip after the layer is preformed on the support.

【0023】請求項8に記載の発明は、前記反射層が、
内部に離型剤が塗布された金型にて形成されることを特
徴とする請求項7に記載の発光装置の製造方法である。
According to an eighth aspect of the present invention, the reflective layer comprises:
The method for manufacturing a light emitting device according to claim 7, wherein the mold is formed by a mold having a release agent applied inside.

【0024】本発明の請求項8に記載の方法とすること
により、硬化状態において弾力性を有する部材を硬化さ
せた後、金型を取り外す際に金型表面への該部材の付着
が防止され、金型表面と該部材が剥離しやすくなるた
め、作業性よく反射層を成型することができる。
By the method according to claim 8 of the present invention, after the member having elasticity in the cured state is cured, the member is prevented from adhering to the surface of the mold when the mold is removed. Since the mold surface and the member are easily separated, the reflective layer can be molded with good workability.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】本発明者は種々の検討の結果、外
部電極の上面には、貫通孔を有する反射層と貫通孔から
露出された外部電極とを有し、発光素子の各電極は、貫
通孔から露出された外部電極と、外部電極に含有された
同一材料を少なくとも一種以上有するバンプを介して接
続することで光取り出し効率や接合強度を低下させるこ
とのない発光装置を提供することを可能とした。即ち、
図1に示すように、本発明の一実施例に使用される支持
体は、ガラスエポキシ樹脂111上にCu、Ni、A
u、Ag層が順に積層され、絶縁部113によって分離
されることにより形成された外部電極を有している。本
実施例において反射層として使用されるAg層107に
は貫通孔が設けてあり、その貫通孔によってAu層10
8の上面が露出している。そして、本実施例にかかる発
光装置は、LEDチップ100の正負一対の両電極がフ
リップチップ実装によりAg層に設けられた貫通孔内の
Auバンプ106を介してAu層108とボンディング
(接合)されてなる。さらに、Ag層107は外部配線
701と接続されている。
As a result of various studies, the present inventor has a reflection layer having a through hole and an external electrode exposed from the through hole on the upper surface of the external electrode, and each electrode of the light emitting element is Provided is a light emitting device that does not reduce light extraction efficiency or bonding strength by connecting an external electrode exposed from a through hole via a bump having at least one kind of the same material contained in the external electrode. Made possible. That is,
As shown in FIG. 1, the support used in one embodiment of the present invention is composed of Cu, Ni, A on a glass epoxy resin 111.
The u and Ag layers are sequentially stacked, and have external electrodes formed by being separated by the insulating portion 113. Through holes are provided in the Ag layer 107 used as the reflection layer in this embodiment, and the Au layer 10 is formed by the through holes.
The upper surface of 8 is exposed. Then, in the light emitting device according to the present embodiment, the pair of positive and negative electrodes of the LED chip 100 is bonded (bonded) to the Au layer 108 via the Au bump 106 in the through hole provided in the Ag layer by flip chip mounting. It becomes. Furthermore, the Ag layer 107 is connected to the external wiring 701.

【0026】また、図2に示されるように、本発明の別
の一実施例に使用される支持体は、ガラスエポキシ樹脂
111上にCu、Ni、Au層が順に積層され、絶縁部
113によって分離されることにより形成された外部電
極を有している。そして、本実施例にかかる発光装置は
LEDチップ100の正負一対の両電極がフリップチッ
プ実装により、Auバンプを介してAu層108とボン
ディング(接合)されてなり、硬化状態において弾力性
に富む樹脂からなる外部反射層201がLEDチップ1
00の周囲に設けられ、内部反射層202はLEDチッ
プの電極面と支持体上面との隙間に入り込んでいる。さ
らに、Au層108は外部配線701と接続されてい
る。
Further, as shown in FIG. 2, the support used in another embodiment of the present invention is such that Cu, Ni and Au layers are laminated in this order on the glass epoxy resin 111, and the insulating portion 113 is used. It has an external electrode formed by being separated. In the light emitting device according to the present embodiment, a pair of positive and negative electrodes of the LED chip 100 are flip-chip mounted to be bonded (joined) to the Au layer 108 via Au bumps, and the resin is highly elastic in a cured state. The external reflection layer 201 composed of the LED chip 1
00, the internal reflection layer 202 is inserted into the gap between the electrode surface of the LED chip and the upper surface of the support. Further, the Au layer 108 is connected to the external wiring 701.

【0027】ここで、LEDチップ100の負電極10
3および正電極104と支持体上面の外部電極とのボン
ディングは、超音波接合方式により行われる。
Here, the negative electrode 10 of the LED chip 100 is used.
3 and the positive electrode 104 and the external electrode on the upper surface of the support are bonded by ultrasonic bonding.

【0028】以下、本発明の実施の形態の各構成につい
て詳述する。 [LEDチップ100]本発明における発光素子とし
て、本実施の形態ではLEDチップ100が使用され
る。本発明において使用される半導体発光素子として
は、ZnSeやGaNなど種々の半導体を使用したもの
を挙げることができるが、蛍光物質を使用する場合に
は、その蛍光物質を効率良く励起できる短波長が発光可
能な窒化物半導体(InAlGa1−X−YN、0
≦X、0≦Y、X+Y≦1)が好適に挙げられる。半導
体の構造としては、MIS接合、PIN接合やpn接合
などを有するホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテ
ロ構成のものが挙げられる。半導体層の材料やその混晶
度によって発光波長を種々選択することができる。ま
た、半導体活性層を量子効果が生ずる薄膜に形成させた
単一量子井戸構造や多重量子井戸構造とすることもでき
る。
Hereinafter, each structure of the embodiment of the present invention will be described in detail. [LED Chip 100] In the present embodiment, the LED chip 100 is used as the light emitting element in the present invention. Examples of the semiconductor light emitting device used in the present invention include those using various semiconductors such as ZnSe and GaN. When a fluorescent substance is used, a short wavelength that can efficiently excite the fluorescent substance capable of emitting nitride semiconductor (In X Al Y Ga 1- X-Y N, 0
≦ X, 0 ≦ Y, X + Y ≦ 1) are preferable. Examples of the semiconductor structure include a homo structure having a MIS junction, a PIN junction, a pn junction, etc., a hetero structure, and a double hetero structure. Various emission wavelengths can be selected depending on the material of the semiconductor layer and the degree of mixed crystal thereof. Further, the semiconductor active layer may be formed as a thin film in which a quantum effect is generated, and may have a single quantum well structure or a multiple quantum well structure.

【0029】窒化物半導体を使用した場合、半導体用基
板にはサファイヤ、スピネル、SiC、Si、ZnO等
の材料が好適に用いられる。結晶性の良い窒化物半導体
を量産性よく形成させるためにはサファイヤ基板を用い
ることが好ましい。このサファイヤ基板上にMOCVD
法などを用いて窒化物半導体を形成させることができ
る。サファイア基板上にGaN、AlN、GaAlN等
のバッファー層を形成し、その上にpn接合を有する窒
化物半導体を形成させる。
When a nitride semiconductor is used, materials such as sapphire, spinel, SiC, Si and ZnO are preferably used for the semiconductor substrate. A sapphire substrate is preferably used in order to form a nitride semiconductor having good crystallinity with good mass productivity. MOCVD on this sapphire substrate
A nitride semiconductor can be formed by using a method or the like. A buffer layer of GaN, AlN, GaAlN or the like is formed on a sapphire substrate, and a nitride semiconductor having a pn junction is formed thereon.

【0030】窒化物半導体を使用したpn接合を有する
発光素子例として、バッファ層上に、n型窒化ガリウム
で形成した第1のコンタクト層、n型窒化アルミニウム
・ガリウムで形成させた第1のクラッド層、窒化インジ
ウム・ガリウムで形成した活性層、p型窒化アルミニウ
ム・ガリウムで形成した第2のクラッド層、p型窒化ガ
リウムで形成した第2のコンタクト層を順に積層させた
ダブルへテロ構成などが挙げられる。
As an example of a light emitting device having a pn junction using a nitride semiconductor, a first contact layer made of n-type gallium nitride on a buffer layer, and a first clad made of n-type aluminum gallium nitride. A layer, an active layer made of indium gallium nitride, a second cladding layer made of p-type aluminum nitride gallium, and a second contact layer made of a second contact layer made of p-type gallium nitride in this order. Can be mentioned.

【0031】窒化物半導体は、不純物をドープしない状
態でn型導電性を示す。発光効率を向上させるなど所望
のn型窒化物半導体を形成させる場合は、n型ドーパン
トとしてSi、Ge、Se、Te、C等を適宜導入する
ことが好ましい。一方、p型窒化物半導体を形成させる
場合は、p型ドーパントであるZn、Mg、Be、C
a、Sr、Ba等をドープさせる。窒化物半導体は、p
型ドーパントをドープしただけではp型化しにくいため
p型ドーパント導入後に、炉による加熱やプラズマ照射
等により低抵抗化させることが好ましい。
The nitride semiconductor exhibits n-type conductivity in a state where it is not doped with impurities. When forming a desired n-type nitride semiconductor such as improving the luminous efficiency, it is preferable to appropriately introduce Si, Ge, Se, Te, C or the like as an n-type dopant. On the other hand, when forming a p-type nitride semiconductor, Zn, Mg, Be, and C which are p-type dopants are used.
Doping with a, Sr, Ba and the like. Nitride semiconductor is p
Since it is difficult to form a p-type by only doping with a type dopant, it is preferable to reduce the resistance by heating in a furnace or plasma irradiation after introducing the p-type dopant.

【0032】基板にサファイア等の絶縁性基板を用いた
場合、正負両電極形成後、半導体ウエハーからチップ状
にカットすることで、同一面側に正負両電極が設けられ
た窒化物半導体チップが得られ、発光素子を形成するこ
とができる。ここで、互いに平行な正負両電極を形成す
ると、本発明による支持体に対して安定に実装でき、ま
た、電極間を流れる電流が均一になることにより発光素
子の発光面からの発光が均一になるため好ましい。 [外部電極112]本発明における外部電極112は、
絶縁性基板上面に分離して形成される。ここで、本発明
における外部電極112は、絶縁性基板上面の全面に形
成されてもよいが、絶縁性基板上面の一部に様々な導通
パターンで形成されてもよい。外部電極112を形成す
る金属は、金属相互間の接着性の良さ、いわゆる濡れ性
等を考慮して選択される。Auバンプを介して、Auを
含むLEDチップの電極とを超音波ダイボンドにより接
合する場合、接合層はAu層とする。ここで、接合層と
は、外部電極を構成する層のうちの一つであり、同一面
側に正負両電極が設けられたLEDチップの電極とそれ
ぞれ対向しバンプを介して接合される上面を有する層で
ある。 (絶縁性基板)本発明において絶縁性基板として使用さ
れるガラスエポキシ樹脂111は、他のエポキシ樹脂等
と比較して容易に入手可能かつ耐熱性に優れ、さらに機
械的強度も大きいため、本発明において好適に使用され
る。 (Cu層110)絶縁部113が形成される部分に金型
を設置したガラスエポキシ樹脂の板の上面に無電解メッ
キにより、Cu層110を形成する。ここで、Cuは他
の金属に比較して熱伝導性がよいため、本発明の発光装
置における外部電極を形成する金属として好適に利用さ
れ、Cu層は他の外部電極より厚めに形成しても構わな
い。また、絶縁部113が形成される部分の金型の厚さ
は外部電極112全体の厚さより大きいものとする。 (Ni層109)Cu層110上に、Cuに対して濡れ
性のよい金属のうちの一つであるNiの層、即ちNi層
109を無電解メッキにより形成する。Ni層109
は、その上に形成されるAu層108より熱伝導率が低
いため、他の外部電極と比較すると、層の厚さを薄くし
て形成されることが好ましい。これにより発光装置の放
熱性を向上させることができる。 (Au層108)Ni層109上に、Niに対して濡れ
性のよい金属のうちの一つであるAuの層、即ちAu層
108を電解メッキにより形成する。他の外部電極と比
較すると、Auは高価であるため発光装置全体の生産コ
ストを上げることとなる。そこで、膜厚を容易に制御し
てメッキすることが可能な電解メッキにより、他の外部
電極より薄いAu層108を形成することが好ましい。 (Ag層107)Ag層107の貫通孔の形成個所に金
型を設置した後、Au層108上に無電解メッキにより
Ag層107を形成する。Agは、Auに対して濡れ性
のよい金属のうちの一つであり、また、発光素子から出
光してきた光を反射させて発光観測面に光を取り出すた
めの反射層としても使用される。Agが反射層として使
用されると、他の外部電極と比較して青色より短い波長
の光に対しても高反射率を保ち、光取り出し効率の向上
が図れるため、本発明における外部電極を構成する金属
として好適に使用される。Agに代わる他の金属材料と
してAl、Pt、Pd、Rh、W、Ta、Re、Ti、
V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni等を用いて反射層を
形成してもよい。特に、Agに代わる他の金属材料とし
てAlを用いて反射層を形成すると、Alは、他の金属
材料と比較して、可視光領域の光だけでなく、青色より
短い波長の光に対しても高反射率を保つため、光取り出
し効率の向上が図れる。
When an insulating substrate such as sapphire is used as the substrate, the positive and negative electrodes are formed, and then the semiconductor wafer is cut into chips to obtain a nitride semiconductor chip having the positive and negative electrodes on the same side. Thus, a light emitting element can be formed. Here, by forming the positive and negative electrodes parallel to each other, it is possible to stably mount the support according to the present invention, and the current flowing between the electrodes becomes uniform, so that the light emission from the light emitting surface of the light emitting element becomes uniform. Therefore, it is preferable. [External Electrode 112] The external electrode 112 in the present invention is
It is formed separately on the upper surface of the insulating substrate. Here, the external electrode 112 in the present invention may be formed on the entire upper surface of the insulating substrate, but may be formed in various conductive patterns on a part of the upper surface of the insulating substrate. The metal forming the external electrode 112 is selected in consideration of good adhesion between metals, so-called wettability, and the like. When the electrode of the LED chip containing Au is bonded by ultrasonic die bonding via the Au bump, the bonding layer is an Au layer. Here, the bonding layer is one of the layers forming the external electrode, and is a top surface facing the electrodes of the LED chip having positive and negative electrodes provided on the same surface side and bonded via bumps. It is a layer that has. (Insulating Substrate) The glass epoxy resin 111 used as an insulating substrate in the present invention is easily available and excellent in heat resistance as compared with other epoxy resins and has a large mechanical strength. Is preferably used in. (Cu layer 110) The Cu layer 110 is formed by electroless plating on the upper surface of a glass epoxy resin plate in which a mold is installed in the portion where the insulating portion 113 is formed. Here, since Cu has better thermal conductivity than other metals, it is preferably used as a metal forming an external electrode in the light emitting device of the present invention, and the Cu layer is formed thicker than other external electrodes. I don't mind. Further, the thickness of the mold in the portion where the insulating portion 113 is formed is larger than the thickness of the entire external electrode 112. (Ni layer 109) On the Cu layer 110, a Ni layer, which is one of the metals having good wettability for Cu, that is, the Ni layer 109 is formed by electroless plating. Ni layer 109
Has a lower thermal conductivity than the Au layer 108 formed thereon, and is therefore preferably formed with a smaller layer thickness as compared with other external electrodes. Thereby, the heat dissipation of the light emitting device can be improved. (Au Layer 108) On the Ni layer 109, a layer of Au which is one of the metals having good wettability with Ni, that is, the Au layer 108 is formed by electrolytic plating. Since Au is more expensive than other external electrodes, it increases the production cost of the entire light emitting device. Therefore, it is preferable to form the Au layer 108, which is thinner than the other external electrodes, by electrolytic plating that allows the film thickness to be easily controlled and plated. (Ag Layer 107) After a mold is placed at a position where a through hole is formed in the Ag layer 107, the Ag layer 107 is formed on the Au layer 108 by electroless plating. Ag is one of the metals having good wettability with respect to Au, and is also used as a reflective layer for reflecting the light emitted from the light emitting element and extracting the light to the emission observation surface. When Ag is used as the reflective layer, the high reflectance can be maintained even for light having a wavelength shorter than blue and the light extraction efficiency can be improved as compared with other external electrodes. It is preferably used as a metal. As other metal materials replacing Ag, Al, Pt, Pd, Rh, W, Ta, Re, Ti,
The reflective layer may be formed using V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni or the like. In particular, when Al is used as the other metal material instead of Ag to form the reflective layer, Al is more effective than other metal materials not only for light in the visible light region but also for light having a wavelength shorter than blue. Since the high reflectance is maintained, the light extraction efficiency can be improved.

【0033】以上のようにCu層110、Ni層10
9、Au層108、およびAg層107を形成した後、
絶縁部113が形成される部分に設置した金型、および
Au層108上の金型を除去すると、ガラスエポキシ樹
脂の板上に外部電極が形成された、本発明に独特の支持
体が完成される。本発明に独特の支持体は、LEDチッ
プの他、レーザダイオードなど、同一面側に正負一対の
両電極を有する種々の半導体チップに対しても使用可能
である。 [バンプ106]本発明において、LEDチップの正負
両電極と外部電極とのダイボンドに使用されるバンプ
は、正負両電極および外部電極と同一材料を少なくとも
一種有するバンプである。例えば、超音波ボンディング
において一般的に使用されるAuバンプ、Auを含む合
金等からなるバンプである。本発明におけるLEDチッ
プの電極に含まれる金属元素であって、反射層の貫通孔
から露出された外部電極表面に含まれる金属元素でもあ
る、Auをバンプの材料としても使用することは、同一
種類の金属元素を含む材料同士の接合を行うことで接合
強度が増すため好ましい。 [反射層] (外部反射層201、内部反射層202)本発明におけ
る反射層としては、貫通孔を有するAg層が利用される
他、Ag層の代わりに、硬化状態において弾力性を有す
る部材、例えばシリコン樹脂を使用することにより反射
層が形成される。Ag層の代わりに硬化状態において弾
力性を有する部材を含む反射層を形成した発光装置の模
式断面図を図2に示す。硬化状態において弾力性を有す
る部材としては、バンプの数も考慮しながら、LEDチ
ップの電極と外部電極とをバンプを介して接合した際、
それらの接合力の方が、収縮した部材の弾性力よりも十
分大きく、接合強度の低下を招かない弾力性を有する部
材が選択される。
As described above, the Cu layer 110 and the Ni layer 10
9, after forming the Au layer 108 and the Ag layer 107,
By removing the mold installed in the portion where the insulating portion 113 is formed and the mold on the Au layer 108, a support unique to the present invention in which external electrodes are formed on a glass epoxy resin plate is completed. It The support unique to the present invention can be used not only for LED chips but also for various semiconductor chips such as laser diodes having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side. [Bump 106] In the present invention, the bump used for die-bonding both the positive and negative electrodes of the LED chip and the external electrode is a bump having at least one kind of the same material as the positive and negative electrodes and the external electrode. For example, it is an Au bump generally used in ultrasonic bonding, a bump made of an alloy containing Au, or the like. The use of Au as the material for the bumps, which is the metal element contained in the electrode of the LED chip in the present invention and also the metal element contained in the surface of the external electrode exposed from the through hole of the reflection layer, has the same kind. It is preferable to join the materials containing the metal element, because the joining strength is increased. [Reflective Layer] (External Reflective Layer 201, Internal Reflective Layer 202) As the reflective layer in the present invention, an Ag layer having a through hole is used, and instead of the Ag layer, a member having elasticity in a cured state, The reflective layer is formed by using, for example, silicone resin. FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of a light emitting device in which a reflective layer including a member having elasticity in a cured state is formed instead of the Ag layer. As a member having elasticity in the cured state, when the electrodes of the LED chip and the external electrodes are joined via the bumps while also considering the number of bumps,
A member is selected whose elasticity is sufficiently larger than the elastic force of the contracted member and which does not cause a decrease in the bonding strength.

【0034】図7(j)および図8に示されるように、
LEDチップ実装前に支持体上に形成した反射層は、外
部電極上のバンプ形成箇所から開口方向に広くなる形状
(テーパー形状)の貫通孔を少なくとも2つ有し、ダイ
ボンド時にLEDチップを収納可能な厚さを有する反射
層である。該反射層の全体の外形は、図8に示されるよ
うな直方体型の他、円柱型、多角柱型等いかなる形でも
よく、二つの貫通孔の存在により内部反射層202の周
囲に外部反射層201が存在し、二カ所で両者が繋がっ
た形となっている。外部反射層201および内部反射層
202は、外部電極上に同一材料で同時成型される。ま
た、LEDチップ実装前の上記貫通孔の形状は、円錐
状、三角錐状、四角錐状等の多角錐状、等が考えられ
る。
As shown in FIG. 7 (j) and FIG.
The reflective layer formed on the support before mounting the LED chip has at least two through holes with a shape (tapered shape) that widens in the opening direction from the bump formation location on the external electrode, and the LED chip can be stored during die bonding. It is a reflective layer having a uniform thickness. The overall outer shape of the reflective layer may be any shape such as a rectangular parallelepiped shape, a cylindrical shape, a polygonal prism shape, etc. as shown in FIG. There is 201, and the two are connected at two places. The external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 are simultaneously molded on the external electrode with the same material. The shape of the through-hole before mounting the LED chip may be a conical shape, a triangular pyramid shape, a polygonal pyramid shape such as a quadrangular pyramid shape, or the like.

【0035】本実施の形態では、硬化状態において弾力
性を有する部材として、硬化後の硬度(JIS−A)3
2、無色透明のシリコン樹脂が使用されるが、これに限
定されない。シリコン樹脂は硬化状態において柔らかく
弾力性に富むため、図7(j)に示されるように外部反
射層201および内部反射層202を成型した後、LE
Dチップを基板の側から押さえつけるようにして超音波
ダイボンドすると、外部反射層201は、僅かに変形し
てLEDチップ側面に密着し、内部反射層202は、L
EDチップの正負両電極間から外部電極間にかけて隙間
なく存在する状態に変形する。従って、LEDチップの
電極面あるいは側面と樹脂との間に空気がほとんど存在
せず、発光素子から出光する光が空気によって複雑に屈
折したり、発光素子からの熱が熱伝導率の低い空気を介
して放熱されることはないため、光取り出し効率が向上
し、放熱効果も高まる。特に、LEDチップの正負両電
極間から外部電極間にかけて絶縁部113上方に形成さ
れる内部反射層202は、ダイボンドの前に予め、外部
配線701を接続する側の外部反射層201の高さより
数十μm厚く形成される。そのため、LEDチップがダ
イボンドされる際、内部反射層202は、加圧により押
し縮められるが柔らかく弾力性に富むため、LEDチッ
プの電極面と支持体との間に生じる小さな隙間にも入り
込み、該隙間は内部反射層を形成する樹脂で満たされ
る。従来は、LEDチップを支持体にダイボンドした
後、LEDチップの電極面と支持体との間に生じた隙間
を埋めるためにLEDチップの横方向から溶融状態の樹
脂を流し込む作業が必要であったが、完全に隙間無く樹
脂を流し込むのは非常に手間のかかる作業であり、作業
性を低下させていた。しかし、本発明においては、反射
層を支持体上に樹脂にて予め成型した後、LEDチップ
をダイボンドすることにより作業性を向上させることが
できる。 (金型601)硬化状態において弾力性を有する部材を
含む反射層における上記貫通孔は、図7(h)あるいは
図10に示されるように、Au層108上のバンプ形成
箇所に向かって細くなる形状(円錐状、三角錐状、四角
錐状等の逆テーパー形状)の部分を有する金型601を
使用することにより成型される。このような形状部分を
有する金型を使用して樹脂を成型後すると、金型は樹脂
から剥離し易くなるため好ましい。さらに、このような
形状の金型により成型された樹脂は変形し易いため、外
部反射層はLEDチップ側面に密着し、内部反射層はL
EDチップの正負両電極間から外部電極間にかけて隙間
なく存在することとなる。 (離型剤)金型は、樹脂との接触面に離型剤を塗布さ
れ、離型剤の膜が形成されていることが好ましい。この
ようにしておくと、Au層108上を溶融した樹脂で満
たし、樹脂を硬化させた後、金型を取り外す際、金型に
樹脂が付着せず、金型と樹脂が離れやすくなるため、作
業性よく成型することができる。本実施の形態において
は、離型剤としてフッ素系離型剤を使用した。このフッ
素系離型剤は、型汚れし難いため、成型する樹脂の表面
を汚して透光性の低下を引き起こすことがなく、さらに
フッ素系化合物特有の低表面張力、非粘着性、撥水撥油
性等を有しており、本実施例のような複雑な形状を有す
る金型を使用して樹脂を含む反射層を成型する際の使用
に最も適している。 (拡散剤)本実施の形態における反射層として使用され
る樹脂には、発光装置の発光輝度を向上させるために拡
散剤を含有させる。外部反射層201、および内部反射
層202に含有される拡散剤は、発光素子から放出され
る光のうち発光観測面側に放出される光の散乱吸収を少
なくし、光反射層側面に向かう光を多く散乱させること
で発光装置の発光輝度を向上させるものである。このよ
うな拡散剤としては、酸化バリウム、チタン酸バリウ
ム、酸化バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミ
ニウム等の無機部材やメラミン樹脂、CTUグアナミン
樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの有機部材が好適に用
いられる。
In this embodiment, the hardness (JIS-A) 3 after curing is used as the member having elasticity in the cured state.
2. A colorless and transparent silicone resin is used, but is not limited to this. Since the silicone resin is soft and highly elastic in the cured state, after molding the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 as shown in FIG.
When ultrasonic die bonding is performed by pressing the D chip from the substrate side, the external reflection layer 201 is slightly deformed and adheres to the side surface of the LED chip, and the internal reflection layer 202 is L.
It deforms to a state in which there is no space between the positive and negative electrodes of the ED chip and the external electrodes. Therefore, there is almost no air between the electrode surface or the side surface of the LED chip and the resin, the light emitted from the light emitting element is complicatedly refracted by the air, and the heat from the light emitting element generates air with a low thermal conductivity. Since the heat is not radiated through, the light extraction efficiency is improved and the heat dissipation effect is also enhanced. In particular, the internal reflection layer 202 formed above the insulating portion 113 from both the positive and negative electrodes of the LED chip to the external electrodes is more than the height of the external reflection layer 201 on the side to which the external wiring 701 is connected in advance before die bonding. It is formed to be 10 μm thick. Therefore, when the LED chip is die-bonded, the internal reflection layer 202 is pressed and compressed, but is soft and rich in elasticity. The gap is filled with the resin forming the internal reflection layer. Conventionally, after die-bonding an LED chip to a support, it was necessary to pour a molten resin from the lateral direction of the LED chip in order to fill a gap generated between the electrode chip electrode surface and the support. However, it is a very troublesome work to pour the resin completely without any gap, and the workability is deteriorated. However, in the present invention, it is possible to improve workability by die-bonding the LED chip after the reflective layer is pre-molded on the support with a resin. (Mold 601) The through hole in the reflective layer including a member having elasticity in the cured state becomes narrower toward the bump formation location on the Au layer 108, as shown in FIG. 7 (h) or FIG. It is molded by using a metal mold 601 having a shape (conical shape, triangular pyramid shape, quadrangular pyramid shape, or other inverse taper shape). It is preferable to mold the resin using a mold having such a shape because the mold is easily separated from the resin. Furthermore, since the resin molded by the mold having such a shape is easily deformed, the external reflection layer is closely attached to the side surface of the LED chip, and the internal reflection layer is L.
There is no space between the positive and negative electrodes of the ED chip and the external electrodes. (Release Agent) It is preferable that the mold has a release agent applied to the contact surface with the resin to form a film of the release agent. By doing so, when the Au layer 108 is filled with the molten resin and the resin is cured, and then the mold is removed, the resin does not adhere to the mold and the mold and the resin are easily separated from each other. Can be molded with good workability. In the present embodiment, a fluorine-based release agent is used as the release agent. Since this fluorine-based release agent does not easily stain the mold, it does not stain the surface of the resin to be molded and causes a decrease in translucency. It has oiliness and the like, and is most suitable for use when molding a reflection layer containing a resin using a mold having a complicated shape as in this embodiment. (Diffusing Agent) The resin used as the reflecting layer in the present embodiment contains a diffusing agent in order to improve the emission brightness of the light emitting device. The diffusing agent contained in the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 reduces the scattering absorption of the light emitted from the light emitting element and is emitted to the light emission observation surface side, and the light directed to the side surface of the light reflection layer is reduced. By scattering a large amount of light, the emission brightness of the light emitting device is improved. As such a diffusing agent, inorganic members such as barium oxide, barium titanate, barium oxide, silicon oxide, titanium oxide and aluminum oxide, and organic members such as melamine resin, CTU guanamine resin and benzoguanamine resin are preferably used.

【0036】同様に、外来光や発光素子からの不要な波
長をカットするフィルター効果を持たすために各種着色
剤を添加させることもできる。さらに、発光素子からの
発光波長によって励起され蛍光を発する蛍光物質を含有
させることもできる。また、樹脂の内部応力を緩和させ
る各種フィラーを含有させることもできる。 [モールド部材301]本発明において、モールド部材
301は、LEDチップ100および反射層201を封
止し、又はLEDチップ100と外部反射層201の内
壁との隙間を埋め、発光素子などを外部環境からの外
力、塵芥や水分などから保護するために用いられる。モ
ールド部材301の形状を種々に変えることによって発
光素子から放出される光や受光素子が受光する光の指向
特性を種々選択することができる。即ち、モールド部材
301の形状を凸レンズ形状、凹レンズ形状とすること
によってレンズ効果をもたすことができる。そのため、
所望に応じて、ドーム型、発光観測面側から見て楕円
状、立方体、三角柱など種々の形状を選択することがで
きる。
Similarly, various colorants may be added to have a filter effect of cutting out extraneous light and unnecessary wavelengths from the light emitting element. Furthermore, a fluorescent substance that emits fluorescence when excited by the wavelength of light emitted from the light emitting element can be included. Further, various fillers that relieve the internal stress of the resin can be contained. [Molding Member 301] In the present invention, the molding member 301 seals the LED chip 100 and the reflection layer 201, or fills a gap between the LED chip 100 and the inner wall of the external reflection layer 201, so that the light emitting element and the like are protected from the external environment. It is used to protect from external force, dust and water. By changing the shape of the mold member 301 in various ways, it is possible to select various directional characteristics of the light emitted from the light emitting element and the light received by the light receiving element. That is, the lens effect can be provided by forming the mold member 301 into a convex lens shape or a concave lens shape. for that reason,
Various shapes such as a dome shape, an elliptical shape when viewed from the side of the light emission observation surface, a cube, and a triangular prism can be selected as desired.

【0037】光半導体素子用の具体的モールド部材とし
ては、耐光性、透光性に優れたエポキシ樹脂、アクリル
樹脂、イミド樹脂、シリコン樹脂などの有機物質や硝子
など無機物質を選択することができる。また、モールド
部材に発光素子からの光を拡散させる目的で酸化アルミ
ニウム、酸化バリウム、チタン酸バリウム、酸化珪素な
どを含有させることもできる。同様に外来光や発光素子
からの不要な波長をカットするフィルター効果を持たす
ために各種着色剤を添加させることもできる。さらに、
発光素子からの発光波長によって励起され蛍光を発する
蛍光物質を含有させる。また、モールド樹脂の内部応力
を緩和させる各種フィラーを含有させることもできる。 (異方性導電層)本実施の形態において、上記発光素子
は、正負一対の電極が設けられた電極形成面側が支持体
上の外部電極と対向するように載置され、連続した異方
性導電層を介してフリップチップ実装されてもよい。即
ち、上述した外部反射層201および内部反射層202
に変えて、該外部反射層201および内部反射層202
と同じ位置に異方性導電層を形成しても構わない。
As a concrete mold member for an optical semiconductor element, an organic substance such as an epoxy resin, an acrylic resin, an imide resin, a silicon resin or the like having an excellent light resistance and a light transmitting property, or an inorganic substance such as glass can be selected. . Further, aluminum oxide, barium oxide, barium titanate, silicon oxide or the like can be contained in the mold member for the purpose of diffusing light from the light emitting element. Similarly, various colorants may be added to have a filter effect of cutting out extraneous light and unnecessary wavelengths from the light emitting element. further,
A fluorescent substance that emits fluorescence when excited by the emission wavelength of the light emitting element is contained. Further, various fillers that relieve the internal stress of the mold resin may be contained. (Anisotropic Conductive Layer) In the present embodiment, the light emitting element is mounted so that the electrode formation surface side on which a pair of positive and negative electrodes is provided faces the external electrode on the support, and a continuous anisotropic It may be flip-chip mounted via a conductive layer. That is, the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 described above
In place of the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202.
An anisotropic conductive layer may be formed at the same position as.

【0038】本発明において異方性導電層は、熱可塑性
又は熱硬化性を有する有機物又は無機物からなる接着剤
中に、発光素子からの光を効率よく反射することが可能
であって、かつ導電性を有する導電粒子が分散されてい
る。具体的導電粒子として、Ni粒子や、プラスチッ
ク、シリカ等の粒子表面にNiやAu等からなる金属コ
ートを有するものが挙げられる。本発明において導電粒
子の含有量は、前記接着剤に対して0.3vol%以上
1.2vol%以下が好ましく、このような異方性導電
層は、発光素子を実装する際の加熱及び加圧により容易
に層の膜厚方向間において高い導電性を得ることができ
る。一方、層の面方向では導電粒子の充填量が少ないた
め導電粒子同士の接触による隣接電極間の短絡が発生せ
ず高い絶縁性を維持することができる。より好ましく
は、異方性導電層において1mm当たりの粒子数が3
500個以上5000個以下であると、各電極間のピッ
チが狭い小型発光素子を信頼性高く基面上の外部電極と
微細接続することができる。更に、異方性導電層にて発
光素子からの光を効率よく反射散乱させることができ
る。
In the present invention, the anisotropic conductive layer is capable of efficiently reflecting the light from the light emitting element in an adhesive made of an organic or inorganic material having thermoplasticity or thermosetting property, and is electrically conductive. Conductive particles having properties are dispersed. Specific examples of the conductive particles include Ni particles, and particles having a metal coat made of Ni, Au, or the like on the surface of particles such as plastic and silica. In the present invention, the content of conductive particles is preferably 0.3 vol% or more and 1.2 vol% or less with respect to the adhesive, and such an anisotropic conductive layer is heated and pressed when mounting a light emitting element. Thus, high conductivity can be easily obtained between the film thickness directions of the layers. On the other hand, since the filling amount of the conductive particles is small in the plane direction of the layer, a short circuit between adjacent electrodes due to contact between the conductive particles does not occur, and high insulation can be maintained. More preferably, the number of particles per 1 mm 3 is 3 in the anisotropic conductive layer.
When the number is 500 or more and 5000 or less, the small light emitting element having a narrow pitch between the electrodes can be finely connected to the external electrodes on the base surface with high reliability. Furthermore, the anisotropic conductive layer can efficiently reflect and scatter light from the light emitting element.

【0039】本発明において、前記異方性導電層は、そ
れぞれ対向した発光素子表面と外部電極面との間を密閉
していると共に、発光素子の側方端面の一部を直接被覆
している。これにより、発光素子から発光される光の一
部を異方性導電層中に取り込み、前記異方性導電層中の
導電粒子にて反射散乱し、発光装置の正面方向へ光を取
り出すことができる。また、LEDチップの電極面と外
部電極表面との間には異方性導電層の存在により、隙間
が全く存在せず、光取り出し効率が向上し、放熱効果も
高まる。
In the present invention, the anisotropic conductive layer seals between the surface of the light emitting element and the surface of the external electrode which face each other, and directly covers a part of the side end surface of the light emitting element. . Thereby, a part of the light emitted from the light emitting element is taken into the anisotropic conductive layer, reflected and scattered by the conductive particles in the anisotropic conductive layer, and the light can be extracted in the front direction of the light emitting device. it can. Further, due to the presence of the anisotropic conductive layer between the electrode surface of the LED chip and the external electrode surface, there is no gap at all, the light extraction efficiency is improved, and the heat dissipation effect is also enhanced.

【0040】本発明の一実施例における発光装置の形成
方法として、液状の異方性導電層材料が、外部電極表面
に予め形成したバンプを適度に覆い、かつチップの大き
さ程度に広がる状態にした後に超音波接合を行う方法を
とる。このような形成方法とすると、チップの電極面と
外部電極表面は、異方性導電層に含まれる接着剤、およ
びバンプの両方を介して接合されるため、その接合強度
が倍増する。更には、所望の形状に電極を折り曲げる工
程を行う際に発光装置全体に外力が加わった場合であっ
ても、弾力性に富んだ樹脂を含む異方性導電層にて応力
が緩和され上記接合を保持することができるので、信頼
性の高い発光装置とすることが可能である。
As a method of forming a light emitting device in one embodiment of the present invention, a liquid anisotropic conductive layer material is formed so as to appropriately cover the bumps previously formed on the surface of the external electrode and to spread to the size of the chip. Then, ultrasonic bonding is performed. With such a forming method, the electrode surface of the chip and the surface of the external electrode are bonded through both the adhesive contained in the anisotropic conductive layer and the bumps, so that the bonding strength is doubled. Furthermore, even when an external force is applied to the entire light-emitting device when performing the step of bending the electrode into a desired shape, the stress is relieved by the anisotropic conductive layer containing a highly elastic resin and the above-mentioned bonding is performed. Therefore, the light emitting device can have high reliability.

【0041】[0041]

【実施例】以下、本発明に係る実施例について詳述す
る。なお、本発明は以下に示す実施例のみに限定される
ものではない。 [実施例1]図1に示すように、本発明の一実施例に使
用される支持体は、ガラスエポキシ樹脂111上にC
u、Ni、Au、Ag層が順に積層され、絶縁部113
によって分離されることにより形成された外部電極を有
している。本実施例において反射層として使用されるA
g層107には貫通孔が設けてあり、その貫通孔によっ
てAu層108の上面が露出している。そして、本実施
例にかかる発光装置はLEDチップ100の正負一対の
両電極がフリップチップ実装により、Ag層に設けられ
た貫通孔内のAuバンプを介してAu層108とボンデ
ィング(接合)されてなる。さらに、Ag層107は外
部配線701と接続されている。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below. The present invention is not limited to the examples shown below. Example 1 As shown in FIG. 1, the support used in one example of the present invention was a glass epoxy resin 111 with C
The u, Ni, Au, and Ag layers are sequentially stacked to form the insulating portion 113.
The external electrodes are formed by being separated by. A used as a reflective layer in this example
A through hole is provided in the g layer 107, and the upper surface of the Au layer 108 is exposed by the through hole. In the light emitting device according to the present embodiment, the pair of positive and negative electrodes of the LED chip 100 are flip-chip mounted and bonded (bonded) to the Au layer 108 via the Au bumps in the through holes provided in the Ag layer. Become. Furthermore, the Ag layer 107 is connected to the external wiring 701.

【0042】本実施例における外部電極112の形成方
法を、図5および図6を参照しながら、以下、順を追っ
て説明する。さらに、図1に示されるような発光装置の
製造方法を説明する。 (工程1)図5(a)および(b)に示すように、ガラ
スエポキシ樹脂板の上面の所定の位置に、外部電極11
2の厚さ以上の厚さを有する金型401を設置した後、
銅の融解液に浸し、無電解メッキにより、ガラスエポキ
シ樹脂の板上に厚さ18〜70μmのCu層110を形
成する。ここで、ガラスエポキシ樹脂の板の上面は、L
EDチップ基板の上面よりも十分大きい面積を有し、さ
らにガラスエポキシ樹脂の板の厚さは任意であるものと
する。また、本工程で使用する金型401は、外部電極
を絶縁分離させる絶縁部113を形成させるためにマス
クとして使用するものである。 (工程2)Cu層110を形成した後、支持体をニッケ
ルの融解液に浸し、無電解メッキにより、図5(c)に
示されるような厚さ4.0μmのNi層110をCu層
110上に形成する。 (工程3)Ni層109を形成した後、支持体を金の融
解液に浸し、電解メッキにより膜厚を制御しながら、図
5(d)に示されるような厚さ0.3〜2.0μmのA
u層108をNi層109上に形成する。 (工程4)接合層となるAu層108を形成した後、図
6(e)に示されるように、Au層108上のバンプ設
置個所に金型501を設置し、支持体を銀の融解液に浸
し、無電解メッキにより、図5(f)に示されるよう
に、Au層108上に厚さ5.0μmのAg層107を
形成する。ここで、本工程において使用する金型501
は、Ag層107に対して貫通孔を設けるためにマスク
として使用するものである。 (工程5)金型401及び501を取り外すことによ
り、図6(g)に示されるように、上面に外部電極11
2が形成された支持体を得ることができる。即ち、ガラ
スエポキシ樹脂111上にCu、Ni、Au、Ag層が
順に積層され、絶縁部113によって分離されることに
より外部電極112が形成されている。本実施例におい
て反射層として使用されるAg層107に対しては貫通
孔が設けてあり、その貫通孔によりAu層108上面が
露出している。 (工程6)以上の工程により形成された2つの貫通孔内
のAu層108上面に、Auバンプ106をそれぞれバ
ンプボンダーによりボンディングする。ここで、それぞ
れの貫通孔内に複数のバンプをボンディングしてもよ
い。このようにバンプの数を増やすと、LEDチップの
正負両電極と外部電極のAu層108との接合強度が高
まるため好ましい。Auバンプ106の高さはAg層1
07の厚さより十分高く、かつAuバンプ106の量は
LEDチップの正負両電極と外部電極のAu層108と
の電気的導通が取れる程度であることが好ましい。この
ようにバンプの量を調節すると、LEDチップの電極1
03、104の大きさが貫通孔の内径よりも大きく貫通
孔内に電極が入り込めない場合でも、LEDチップの電
極103、104は、貫通孔の上方でAuバンプと接触
しAuバンプを介して外部電極のAu層108と接合す
るため、LEDチップの正負両電極と外部電極のAu層
108との電気的導通を確実にし製造歩留まりの低下を
防ぐことができる。本実施例では、最大径が約80μ
m、最大高さが約40μmのAuバンプをボンディング
した。
A method of forming the external electrode 112 in this embodiment will be described step by step with reference to FIGS. 5 and 6. Further, a method of manufacturing the light emitting device as shown in FIG. 1 will be described. (Step 1) As shown in FIGS. 5A and 5B, the external electrode 11 is provided at a predetermined position on the upper surface of the glass epoxy resin plate.
After installing the mold 401 having a thickness of 2 or more,
A Cu layer 110 having a thickness of 18 to 70 μm is formed on a glass epoxy resin plate by immersing in a copper melt and electroless plating. Here, the upper surface of the glass epoxy resin plate is L
It has an area sufficiently larger than the upper surface of the ED chip substrate, and the thickness of the glass epoxy resin plate is arbitrary. The mold 401 used in this step is used as a mask for forming the insulating portion 113 that insulates and separates the external electrodes. (Step 2) After the Cu layer 110 is formed, the support is immersed in a nickel melt and electroless plating is performed to form a Ni layer 110 having a thickness of 4.0 μm as shown in FIG. Form on top. (Step 3) After the Ni layer 109 is formed, the support is immersed in a gold melt and the thickness is controlled by electrolytic plating to a thickness of 0.3-2. 0 μm A
The u layer 108 is formed on the Ni layer 109. (Step 4) After forming the Au layer 108 serving as a bonding layer, as shown in FIG. 6E, a mold 501 is set at a bump setting place on the Au layer 108, and a support is melted with a silver melt. Then, as shown in FIG. 5F, an Ag layer 107 having a thickness of 5.0 μm is formed on the Au layer 108 by electroless plating. Here, the mold 501 used in this step
Is used as a mask to form a through hole in the Ag layer 107. (Step 5) By removing the molds 401 and 501, as shown in FIG.
A support on which 2 is formed can be obtained. That is, the external electrode 112 is formed by sequentially stacking Cu, Ni, Au, and Ag layers on the glass epoxy resin 111 and separating them by the insulating portion 113. A through hole is provided in the Ag layer 107 used as the reflective layer in this embodiment, and the upper surface of the Au layer 108 is exposed by the through hole. (Step 6) Au bumps 106 are bonded to the upper surfaces of the Au layers 108 in the two through-holes formed by the above steps by a bump bonder. Here, a plurality of bumps may be bonded in each through hole. Increasing the number of bumps in this way is preferable because it increases the bonding strength between the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au layer 108 of the external electrode. The height of the Au bump 106 is Ag layer 1
It is preferable that the thickness is sufficiently higher than the thickness of 07 and the amount of the Au bumps 106 is such that electrical conduction can be established between the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au layer 108 of the external electrodes. When the bump amount is adjusted in this way, the LED chip electrode 1
Even when the size of 03 and 104 is larger than the inner diameter of the through hole and the electrode cannot enter the through hole, the electrodes 103 and 104 of the LED chip are in contact with the Au bump above the through hole and the Au bump is interposed therebetween. Since it is joined to the Au layer 108 of the external electrode, it is possible to ensure electrical conduction between the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au layer 108 of the external electrode and prevent the production yield from decreasing. In this embodiment, the maximum diameter is about 80μ.
m, and Au bumps having a maximum height of about 40 μm were bonded.

【0043】Auバンプ106上面にLEDチップの正
負両電極面を接触させ、保温状態にあるLEDチップの
基板の側から加圧しながら超音波を当てることにより、
Auバンプ106を介してLEDチップの正負両電極と
Au層108とを対向させて接合した。上記Auバンプ
を介した接合強度は、バンプ一個当たり、約50gfで
あった。 (工程7)最後に、LEDチップごとに支持体をカット
し、外部配線701と接続すると、図1に示されるよう
な発光装置が一度に複数個得られる。なお、同一の支持
体上に複数のLEDチップがダイボンドされているよう
に支持体をカットしても構わない。また、カット後の支
持体の形状は、矩形の他、如何なる形状でも構わない。
Both the positive and negative electrode surfaces of the LED chip are brought into contact with the upper surface of the Au bump 106, and ultrasonic waves are applied while applying pressure from the substrate side of the LED chip in the heat retaining state.
Both the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au layer 108 were opposed to each other and bonded via the Au bumps 106. The bonding strength through the Au bump was about 50 gf per bump. (Step 7) Finally, by cutting the support for each LED chip and connecting it to the external wiring 701, a plurality of light emitting devices as shown in FIG. 1 can be obtained at a time. The support may be cut so that a plurality of LED chips are die-bonded on the same support. The shape of the support after cutting may be any shape other than rectangular.

【0044】実施例1のような構成にすると、LEDチ
ップの電極材料として使用されるAuをバンプの材料と
しても使用しており、同一の金属を使用することで接合
強度が増すため好ましい。さらに、Au層108上のバ
ンプ設置個所以外に形成されているAg層107は、A
u等と比較して青色より短い波長の光に対しても高反射
率を保つため、反射層として使用すると、光取り出し効
率の向上を図ることができる。 [実施例2]図2あるいは図9に示されるように、本発
明の別の一実施例に使用される支持体は、ガラスエポキ
シ樹脂111上にCu、Ni、Au層が順に積層され、
絶縁部113によって分離されることにより形成された
外部電極を有している。そして、本実施例にかかる発光
装置はLEDチップ100の正負一対の両電極がフリッ
プチップ実装により、Auバンプを介してAu層108
とボンディング(接合)されてなり、硬化状態において
弾力性に富む樹脂からなる外部反射層201がLEDチ
ップ100の周囲に設けられ、内部反射層202はLE
Dチップの電極面と支持体上面との隙間に入り込んでい
る。さらに、Au層108は外部配線701と接続され
ている。
With the structure as in Example 1, Au which is used as the electrode material of the LED chip is also used as the material of the bump, and it is preferable to use the same metal because the bonding strength is increased. Further, the Ag layer 107 formed on the Au layer other than the bump installation location is
Since high reflectance is maintained even for light having a wavelength shorter than blue as compared with u and the like, when used as a reflective layer, the light extraction efficiency can be improved. [Embodiment 2] As shown in FIG. 2 or FIG. 9, the support used in another embodiment of the present invention is such that Cu, Ni and Au layers are laminated in this order on the glass epoxy resin 111.
It has an external electrode formed by being separated by the insulating portion 113. Further, in the light emitting device according to the present embodiment, the pair of positive and negative electrodes of the LED chip 100 are flip-chip mounted, and the Au layer 108 is provided via the Au bumps.
The external reflection layer 201 made of a resin having high elasticity in a cured state is provided around the LED chip 100, and the internal reflection layer 202 is LE.
It penetrates into the gap between the electrode surface of the D chip and the upper surface of the support. Further, the Au layer 108 is connected to the external wiring 701.

【0045】本実施例における反射層の形成方法を、図
7および図8を参照しながら、以下、順を追って説明す
る。さらに、図2および図9に示されるような発光装置
の製造方法を説明する。ここで、図2および図7は、図
9および図8に示されるような発光装置あるいは支持体
をそれぞれA面において切断したときの模式的な断面図
である。
The method of forming the reflective layer in this embodiment will be described step by step with reference to FIGS. 7 and 8. Further, a method of manufacturing the light emitting device as shown in FIGS. 2 and 9 will be described. Here, FIGS. 2 and 7 are schematic cross-sectional views of the light emitting device or the support as shown in FIGS. 9 and 8 taken along the plane A, respectively.

【0046】工程1から工程3までは実施例1と同様に
して、ガラスエポキシ樹脂の板の上面に対して順にCu
層110、Ni層109、Au層108を外部電極とし
て形成した後、金型401を取り外し、代わりに図7
(h)あるいは図10に示される形状の金型601をA
u層108上に設置する。ここで、図7(h)あるいは
図10に示される形状の金型601は、複数の突起部分
を備えている。それらの突起部分のうち、二つの突起部
分(602)がAu層108上にて外部配線を接続する
部分をマスクし、さらに、他の二つの突起部分(60
3)がAu層108上にてバンプをボンディングする部
分をマスクする。図7(h)あるいは図10に示される
ように、Au層108上面のバンプ形成箇所に向かって
細くなる形状(四角錐状)の突起部分(603)を有す
る金型を使用することにより、樹脂を成型した後、金型
は樹脂から剥離し易くなる。また、外部反射層201お
よび内部反射層202は、樹脂を同一の材料として同時
に成型され、外部反射層は僅かに変形するだけでLED
チップ側面に密着し、内部反射層はLEDチップのダイ
ボンドにより押し縮められてLEDチップの電極面と支
持体との間を隙間なく埋める。
In the same manner as in Example 1 from step 1 to step 3, Cu was sequentially added to the upper surface of the glass epoxy resin plate.
After forming the layer 110, the Ni layer 109, and the Au layer 108 as external electrodes, the mold 401 is removed, and instead, as shown in FIG.
(H) Alternatively, the mold 601 having the shape shown in FIG.
It is installed on the u layer 108. Here, the mold 601 having the shape shown in FIG. 7 (h) or FIG. 10 has a plurality of protrusions. Of these protrusions, the two protrusions (602) mask the portions on the Au layer 108 that connect the external wiring, and further two other protrusions (602).
3) masks a portion to be bump-bonded on the Au layer 108. As shown in FIG. 7 (h) or FIG. 10, by using a mold having a protruding portion (603) having a shape (quadrangular pyramid shape) which becomes narrower toward the bump formation location on the upper surface of the Au layer 108, After molding, the mold is easily separated from the resin. Further, the external reflection layer 201 and the internal reflection layer 202 are simultaneously molded by using the same material of resin, and the external reflection layer is slightly deformed to form an LED.
The internal reflection layer is closely attached to the side surface of the chip and is compressed by die bonding of the LED chip to fill the gap between the electrode surface of the LED chip and the support without any gap.

【0047】金型601の表面には、樹脂との接触面に
対してフッ素系離型剤を塗布し、約1μm程度の離型剤
の膜を設けておく。このようにしておくと、Au層10
8上を溶融した樹脂で満たし硬化させた後、金型を取り
外す際、金型に樹脂が付着せず、金型と樹脂が離れやす
くなるため、作業性よく樹脂からなる反射層を成型する
ことができる。
On the surface of the mold 601, a fluorine-based release agent is applied to the contact surface with the resin, and a release agent film of about 1 μm is provided. By doing so, the Au layer 10
8) After filling the top with molten resin and curing it, when removing the mold, the resin does not adhere to the mold and the resin easily separates from the mold, so it is necessary to mold a reflective layer made of resin with good workability. You can

【0048】Au層108上に金型601を設置した状
態で、図7(i)に示されるように、拡散剤として使用
する酸化アルミニウムを含み、溶融したシリコン樹脂を
金型601の高さまでスキージングにより充填する。
With the mold 601 placed on the Au layer 108, as shown in FIG. 7I, the molten silicon resin containing aluminum oxide used as a diffusing agent is skied up to the height of the mold 601. Fill by ging.

【0049】シリコン樹脂が硬化した後、金型601を
取り外すとシリコン樹脂を材料とした外部反射層201
および内部反射層202が、バンプ形成個所を除く外部
電極上面および絶縁部113上方に同時に成型される。
ここで、外部反射層201の内壁はテーパー形状であっ
て、対向する内壁との間隔の最小はLEDチップ100
が収納可能な大きさである。また、内部反射層202の
外壁は逆テーパー形状であって、対向する外壁との間隔
の最小は、LEDチップの正負両電極の間隔とほぼ等し
い。これにより、外部反射層は僅かに変形するだけでL
EDチップ側面に密着し、内部反射層はLEDチップの
正負両電極間から外部電極間にかけて存在することとな
る。
After the silicone resin is cured, the mold 601 is removed, and the external reflection layer 201 made of silicone resin is used.
Then, the internal reflection layer 202 is molded at the same time on the upper surface of the external electrode excluding the bump formation portion and above the insulating portion 113.
Here, the inner wall of the external reflection layer 201 has a tapered shape, and the minimum distance between the inner wall and the opposing inner wall is the LED chip 100.
Is a size that can be stored. Further, the outer wall of the internal reflection layer 202 has a reverse taper shape, and the minimum distance between the outer wall and the facing outer wall is substantially equal to the distance between the positive and negative electrodes of the LED chip. As a result, the external reflection layer is slightly deformed
The internal reflection layer is in close contact with the side surface of the ED chip, and exists between the positive and negative electrodes of the LED chip and the external electrode.

【0050】シリコン樹脂からなる反射層を成型した
後、実施例1と同様にAuバンプ106を、Au層10
8上のバンプ設置個所に実施例1と同程度の量と高さに
なるように、バンプボンダーによりボンディングする。
After molding the reflecting layer made of silicon resin, the Au bump 106 and the Au layer 10 were formed in the same manner as in Example 1.
Bonding is carried out on the bump installation locations on 8 by a bump bonder so as to have the same amount and height as in the first embodiment.

【0051】次に、LEDチップの正負両電極面が、A
uバンプ106の直上にそれぞれ位置して対向するよう
に、LEDチップ100を絶縁部113上方に存在する
内部反射層202の上面に載せる。
Next, the positive and negative electrode surfaces of the LED chip are
The LED chip 100 is placed on the upper surface of the internal reflection layer 202 existing above the insulating portion 113 so as to be located directly above the u bumps 106 and face each other.

【0052】実施例1と同様に超音波接合方式を使用し
て、LEDチップ100の基板面に対して支持体の方へ
垂直に圧力を加え、Auバンプ106表面とLEDチッ
プの正負両電極面を接触させた状態で、フリップチップ
実装にてLEDチップをダイボンドする。このとき、絶
縁部113上に存在するシリコン樹脂は、柔らかく弾力
性に富むため、上記の圧力によって収縮し、また、LE
Dチップの電極面の隙間にもよく入り込む。また、1つ
の貫通孔内のAuバンプの数は、ダイボンドにより押し
縮められたシリコン樹脂の弾性力よりもLEDチップの
電極と外部電極との接合力のほうが十分大きくなるよう
に、ダイボンド前に予め調節しておく。このようにする
と、LEDチップが、シリコン樹脂の弾性力によって支
持体とは逆の方向へ押し戻されることが無く、LEDチ
ップの電極と外部電極との接合の強度は常に一定に保た
れ、LEDチップの電極と外部電極との電気的導通が断
たれることはないため、発光装置の製造歩留まりは低下
しない。
Using ultrasonic bonding as in Example 1, pressure is applied perpendicularly to the substrate surface of the LED chip 100 toward the support, and the surface of the Au bump 106 and the positive and negative electrode surfaces of the LED chip are both applied. The LED chip is die-bonded by flip-chip mounting in a state of contacting with. At this time, since the silicon resin existing on the insulating portion 113 is soft and rich in elasticity, it contracts due to the above-mentioned pressure, and LE
It often goes into the gap between the electrode surfaces of the D chip. In addition, the number of Au bumps in one through hole is set in advance before the die bonding so that the bonding force between the electrode of the LED chip and the external electrode is sufficiently larger than the elastic force of the silicon resin compressed by the die bonding. Adjust it. By doing so, the LED chip is not pushed back in the opposite direction to the support body by the elastic force of the silicon resin, and the strength of the bond between the electrode of the LED chip and the external electrode is always kept constant. Since the electrical continuity between the electrode and the external electrode is not interrupted, the manufacturing yield of the light emitting device does not decrease.

【0053】最後に実施例1における工程7と同様にし
て、図2あるいは図9に示されるような発光装置が得ら
れた。
Finally, in the same manner as in Step 7 of Example 1, a light emitting device as shown in FIG. 2 or 9 was obtained.

【0054】実施例2のような構成にした発光装置は、
LEDチップの電極面および側面と反射層の間に隙間が
ほぼ無くなる。また、LEDチップ側面と外部反射層2
01の内壁との間に隙間が生じると、LEDチップから
出光した光が、隙間に存在する空気によって複雑に屈折
することで光取り出し効率の低下を招来し、さらに、熱
伝導率の低い空気を介して発光素子から放熱することに
より放熱効果の低下を招くが、本実施例では隙間が生じ
ないため、発光装置の光取り出し効率が向上し、放熱効
果も高まった。 [実施例3]実施例2と同様に、図2あるいは図9に示
されるような発光装置を得た後、支持体表面のうち外部
配線701と接続される部分をマスクして、外部反射層
201およびLEDチップの基板上にエポキシ樹脂をス
キージング、あるいはスクリーン印刷することによって
それらを封止した。最後に実施例1における工程7と同
様にして、図4に示すような、外部反射層201上面お
よび発光素子基板面がエポキシ樹脂にてモールドされた
発光装置が得られた。
The light emitting device having the structure as in Example 2 is
There is almost no gap between the reflective surface and the electrode surface and side surface of the LED chip. In addition, the LED chip side surface and the external reflection layer 2
When a gap is formed between the inner wall of 01 and the inner wall of 01, the light emitted from the LED chip is complicatedly refracted by the air present in the gap, resulting in a decrease in light extraction efficiency. Although the heat radiation effect is lowered by radiating heat from the light emitting element via the light emitting element, since no gap is formed in this embodiment, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved and the heat radiation effect is also enhanced. [Embodiment 3] Similar to Embodiment 2, after the light emitting device as shown in FIG. 2 or 9 is obtained, the portion of the surface of the support that is connected to the external wiring 701 is masked and the external reflection layer is formed. They were sealed by squeezing or screen printing an epoxy resin on the substrate of 201 and LED chips. Finally, in the same manner as in Step 7 of Example 1, a light emitting device was obtained in which the upper surface of the external reflection layer 201 and the surface of the light emitting element substrate were molded with epoxy resin as shown in FIG.

【0055】実施例3のような構成にすると、外部反射
層201の内壁とLEDチップ側面との間に生じた小さ
な隙間を埋めることができ、外部反射層201およびL
EDチップを外部環境からの外力、塵芥や水分などから
保護することができる。また、LEDチップ側面と外部
反射層201の内壁との間に隙間が生じると、LEDチ
ップから出光した光が該隙間に存在する空気によって複
雑に屈折することで光取り出し効率の低下を招来し、さ
らに、発光装置は熱伝導率の低い空気を介して放熱する
ことにより放熱効果の低下を招くが、本実施例では隙間
が生じないため、発光装置の光取り出し効率が向上し、
放熱効果も高まった。 [実施例4]実施例1と同様に、図1に示されるような
発光装置を得た後、支持体表面のうち外部配線701と
接続される部分をマスクして、LEDチップの基板上に
エポキシ樹脂をスキージング、あるいはスクリーン印刷
することによってLEDチップを封止した。最後に実施
例1における工程7と同様にして、図3に示すような、
発光素子がエポキシ樹脂にてモールドされた発光装置が
得られた。
With the structure as in Example 3, it is possible to fill a small gap between the inner wall of the external reflection layer 201 and the side surface of the LED chip, and the external reflection layers 201 and L are formed.
It is possible to protect the ED chip from external force from the external environment, dust and water. Further, when a gap is formed between the side surface of the LED chip and the inner wall of the external reflection layer 201, the light emitted from the LED chip is complicatedly refracted by the air present in the gap, resulting in a decrease in light extraction efficiency. Further, although the light emitting device radiates heat through air having low thermal conductivity, the heat radiation effect is lowered, but in this embodiment, since no gap is formed, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved,
The heat dissipation effect also increased. [Embodiment 4] Similar to Embodiment 1, after obtaining a light emitting device as shown in FIG. 1, a portion of the surface of the support which is connected to the external wiring 701 is masked and placed on the substrate of the LED chip. The LED chip was sealed by squeezing epoxy resin or screen printing. Finally, in the same manner as in Step 7 in Example 1, as shown in FIG.
A light emitting device in which the light emitting element was molded with epoxy resin was obtained.

【0056】実施例4のような構成にすると、LEDチ
ップを外部環境からの外力、塵芥や水分などから保護す
ることができる。 [実施例5]実施例1における発光装置を形成した後、
実施例2と同様にして、Ag層の上に樹脂による反射層
を形成した。
With the structure of the fourth embodiment, the LED chip can be protected from external force from the external environment, dust and water. Example 5 After forming the light emitting device of Example 1,
A reflective layer made of resin was formed on the Ag layer in the same manner as in Example 2.

【0057】実施例5のような構成にすると、発光素子
から取り出した光はAg層表面と、反射層の両方により
反射されることにより、発光装置の光取り出し効率を上
げることができた。 [実施例6]実施例1と同様にAuバンプ106を、A
u層108上のバンプ設置個所に実施例1と同程度の量
と高さになるように、バンプボンダーによりボンディン
グする。その後、LEDチップ100をダイボンドしよ
うとする部分に、バンプの高さ程度の厚みでバンプを覆
うように、かつLEDチップの大きさとほぼ等しい面積
で広がるように液状の異方性導電層材料を供給する。
With the structure of Example 5, the light extracted from the light emitting element was reflected by both the surface of the Ag layer and the reflective layer, so that the light extraction efficiency of the light emitting device could be improved. [Embodiment 6] As in Embodiment 1, the Au bumps 106 are
Bonding is performed by a bump bonder on the u layer 108 so that the amount and height are the same as those in the first embodiment. After that, a liquid anisotropic conductive layer material is supplied to the portion where the LED chip 100 is to be die-bonded so as to cover the bump with a thickness of about the height of the bump and to spread in an area substantially equal to the size of the LED chip. To do.

【0058】次に、LEDチップの正負両電極面が、液
状の異方性導電層材料を介してAuバンプ106の直上
にそれぞれ対向するように、LEDチップ100を載置
する。
Next, the LED chip 100 is placed so that the positive and negative electrode surfaces of the LED chip face each other directly above the Au bumps 106 with the liquid anisotropic conductive layer material interposed therebetween.

【0059】実施例1と同様に超音波接合方式を使用し
て、LEDチップ100の基板面に対して支持体の方へ
垂直に圧力を加え、Auバンプ106とLEDチップの
正負両電極面を対向させた状態で、フリップチップ実装
にてLEDチップをダイボンドする。
Using the ultrasonic bonding method as in Example 1, pressure is applied perpendicularly to the substrate surface of the LED chip 100 so that the Au bumps 106 and the positive and negative electrode surfaces of the LED chip are connected to each other. In a state where they face each other, the LED chip is die-bonded by flip chip mounting.

【0060】以上の工程により、図11に示されるよう
な発光装置を形成した。本実施例により、従来例を上回
る接合強度を得てLEDチップ100と外部電極との電
気的導通をとることができ、さらに発光装置全体の機械
的強度も従来例を上回った。また、少なくともLEDチ
ップの電極面と、バンプ設置部分を除く外部電極表面と
の間には異方性導電層が存在し、隙間が全く存在しない
ため、発光装置の光取り出し効率が向上し、放熱効果も
高まった。 [実施例7]実施例6と同様にAuバンプ106を、A
u層108上のバンプ設置個所に実施例1と同程度の量
と高さになるように、バンプボンダーによりボンディン
グする。その後、LEDチップ100をダイボンドしよ
うとする部分に、バンプの高さ程度の厚みでバンプを覆
うように、かつLEDチップの大きさとほぼ等しい面積
で広がるように液状のエポキシ樹脂を供給する。なお、
ここでエポキシ樹脂の代わりに絶縁性接着剤等を使用し
ても構わない。
Through the above steps, a light emitting device as shown in FIG. 11 was formed. According to the present embodiment, it is possible to obtain a bonding strength higher than that of the conventional example and establish electrical continuity between the LED chip 100 and the external electrode, and further, the mechanical strength of the entire light emitting device exceeds that of the conventional example. Further, since there is at least an anisotropic conductive layer between the electrode surface of the LED chip and the external electrode surface excluding the bump installation portion, and there is no gap at all, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved and heat dissipation is improved. The effect also increased. [Embodiment 7] The Au bump 106 is
Bonding is performed by a bump bonder on the u layer 108 so that the amount and height are the same as those in the first embodiment. After that, a liquid epoxy resin is supplied to a portion where the LED chip 100 is to be die-bonded so as to cover the bump with a thickness of about the height of the bump and to spread in an area substantially equal to the size of the LED chip. In addition,
Here, an insulating adhesive or the like may be used instead of the epoxy resin.

【0061】次に、LEDチップの正負両電極面が、液
状のエポキシ樹脂を介してAuバンプ106の直上にそ
れぞれ対向するように、LEDチップ100を載置す
る。
Next, the LED chip 100 is placed so that the positive and negative electrode surfaces of the LED chip face each other directly above the Au bumps 106 with the liquid epoxy resin therebetween.

【0062】実施例1と同様に超音波接合方式を使用し
て、LEDチップ100の基板面に対して支持体の方へ
垂直に圧力を加え、Auバンプ106表面とLEDチッ
プの正負両電極面を対向させた状態で、フリップチップ
実装にてLEDチップをダイボンドする。このとき、L
EDチップの正負両電極面とAuバンプ106の表面と
の間に存在する液状のエポキシ樹脂は、超音波により振
動するため、外部電極表面にボンディングされ固定され
ているAuバンプ106の上部は、エポキシ樹脂の中か
ら露出し、LEDチップの正負両電極と接触する。従っ
て、LEDチップの正負両電極とAuバンプ106が、
間にエポキシ樹脂を介することなく接合する。
Using the ultrasonic bonding method as in Example 1, pressure is applied vertically to the substrate with respect to the substrate surface of the LED chip 100, and the surface of the Au bump 106 and both the positive and negative electrode surfaces of the LED chip are applied. The LED chips are die-bonded by flip-chip mounting in a state where they are opposed to each other. At this time, L
Since the liquid epoxy resin existing between the positive and negative electrode surfaces of the ED chip and the surface of the Au bump 106 is vibrated by ultrasonic waves, the upper portion of the Au bump 106 bonded and fixed to the external electrode surface is covered with epoxy. It is exposed from inside the resin and contacts both the positive and negative electrodes of the LED chip. Therefore, the positive and negative electrodes of the LED chip and the Au bump 106 are
Bonded without interposing an epoxy resin.

【0063】以上の工程により、異方性導電層203の
代わりにエポキシ樹脂を使用して図11に示されるよう
な発光装置を形成した。本実施例により、十分な接合強
度を得てLEDチップ100と外部電極との電気的導通
をとることができ、さらに発光装置全体の機械的強度も
従来例を上回った。また、少なくともLEDチップの電
極面と、バンプ設置部分を除く外部電極表面との間はエ
ポキシ樹脂で満たされ、隙間が全く存在しないため、発
光装置の光取り出し効率が向上し、放熱効果も高まっ
た。 [実施例8]Auバンプ106を、LEDチップ100
の正負両電極面にそれぞれ実施例6と同程度の量と高さ
になるように、バンプボンダーによりボンディングす
る。その後、LEDチップ100をダイボンドしようと
する部分に、バンプの高さ程度の厚みで、かつLEDチ
ップの大きさとほぼ等しい面積で広がるように液状のエ
ポキシ樹脂を供給する。なお、ここでエポキシ樹脂の代
わりに絶縁性接着剤等を使用しても構わない。
Through the above steps, the light emitting device as shown in FIG. 11 was formed by using the epoxy resin instead of the anisotropic conductive layer 203. According to this embodiment, sufficient bonding strength can be obtained to establish electrical continuity between the LED chip 100 and the external electrode, and the mechanical strength of the entire light emitting device is higher than that of the conventional example. Further, since at least the electrode surface of the LED chip and the external electrode surface excluding the bump installation portion are filled with epoxy resin and there is no gap at all, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved and the heat dissipation effect is also enhanced. . [Embodiment 8] The Au bump 106 is connected to the LED chip 100.
Bonding is carried out on both the positive and negative electrode surfaces by the bump bonder so as to have the same amount and height as in the sixth embodiment. After that, a liquid epoxy resin is supplied to the portion where the LED chip 100 is to be die-bonded so as to spread in a thickness about the height of the bump and in an area substantially equal to the size of the LED chip. Here, an insulating adhesive or the like may be used instead of the epoxy resin.

【0064】次に、LEDチップの正負両電極面上のA
uバンプ106が、液状のエポキシ樹脂を介して外部電
極の正負両電極の直上にそれぞれ対向するように、LE
Dチップ100を載置する。
Next, A on both positive and negative electrode surfaces of the LED chip
LE so that the u bumps 106 face directly above both the positive and negative electrodes of the external electrode via the liquid epoxy resin.
The D chip 100 is placed.

【0065】実施例1と同様に超音波接合方式を使用し
て、LEDチップ100の基板面に対して支持体の方へ
垂直に圧力を加え、Auバンプ106と外部電極表面を
対向させた状態で、フリップチップ実装にてLEDチッ
プをダイボンドする。このとき、外部電極とAuバンプ
106の表面との間に存在する液状のエポキシ樹脂は、
超音波により激しく振動するため、LEDチップにボン
ディングされ固定されているAuバンプ106の下部
は、上記液状のエポキシ樹脂を押し退け、外部電極表面
と接触する。従って、外部電極とAuバンプ106が、
間にエポキシ樹脂を介することなく接合する。
A state where the Au bump 106 and the external electrode surface are opposed to each other by applying pressure perpendicularly to the substrate surface of the LED chip 100 using the ultrasonic bonding method as in the first embodiment. Then, the LED chip is die-bonded by flip-chip mounting. At this time, the liquid epoxy resin existing between the external electrode and the surface of the Au bump 106 is
Since it vibrates violently due to ultrasonic waves, the lower part of the Au bump 106 bonded and fixed to the LED chip pushes away the liquid epoxy resin and makes contact with the external electrode surface. Therefore, the external electrode and the Au bump 106 are
Bonded without interposing an epoxy resin.

【0066】以上の工程により、異方性導電層203の
代わりにエポキシ樹脂を使用して図11に示されるよう
な発光装置を形成した。本実施例により、十分な接合強
度を得てLEDチップ100と外部電極との電気的導通
をとることができ、さらに発光装置全体の機械的強度も
従来例を上回った。また、少なくともLEDチップの電
極面と、バンプ設置部分を除く外部電極表面との間はエ
ポキシ樹脂で満たされ、隙間が全く存在しないため、発
光装置の光取り出し効率が向上し、放熱効果も高まっ
た。
Through the above steps, the light emitting device as shown in FIG. 11 was formed by using the epoxy resin instead of the anisotropic conductive layer 203. According to this embodiment, sufficient bonding strength can be obtained to establish electrical continuity between the LED chip 100 and the external electrode, and the mechanical strength of the entire light emitting device is higher than that of the conventional example. Further, since at least the electrode surface of the LED chip and the external electrode surface excluding the bump installation portion are filled with epoxy resin and there is no gap at all, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved and the heat dissipation effect is also enhanced. .

【0067】[0067]

【発明の効果】同一材料を少なくとも一種有するバンプ
を介して、発光素子の各電極と外部電極とを超音波ダイ
ボンドすることで、同種類の金属元素を含む部分同士の
接合となるため、接合強度を高く保つことが可能であ
る。また、反射層の材料として青色より波長の短い光に
対しても高反射率を保つ金属を使用した場合、青色より
波長の短い光を発光する発光装置の光取り出し効率が向
上する。
[Effects of the Invention] By ultrasonically die-bonding each electrode of the light-emitting element and the external electrode through the bump having at least one kind of the same material, the portions containing the same kind of metal element are joined to each other. Can be kept high. Further, when a metal that maintains a high reflectance with respect to light having a wavelength shorter than blue is used as the material of the reflective layer, the light extraction efficiency of the light emitting device that emits light having a wavelength shorter than blue is improved.

【0068】さらに、反射層として、硬化状態で柔らか
く弾力性に富む部材を本発明に独特の形状に成型して使
用した場合、光取り出し効率が向上するだけでなく、放
熱効果も高まる。また、硬化状態で柔らかく弾力性に富
む部材を含む反射層を予め支持体上に成型した後、LE
Dチップをダイボンドすることにより作業性が向上す
る。
Further, when a member which is soft and has a high elasticity in a cured state is molded into a shape unique to the present invention and used as the reflective layer, not only the light extraction efficiency is improved but also the heat dissipation effect is enhanced. In addition, after the reflective layer including a soft and highly elastic member in the cured state is previously molded on the support, LE
Workability is improved by die-bonding the D chip.

【0069】[0069]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 図1は、本発明の一実施例による発光装置の
模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図2は、本発明の一実施例による発光装置の
模式断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【図3】 図3は、本発明の一実施例による発光装置の
模式断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【図4】 図4は、本発明の一実施例による発光装置の
模式断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【図5】 図5は、本発明にかかる外部電極の形成工程
を示す支持体の模式断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a support showing a step of forming an external electrode according to the present invention.

【図6】 図6は、本発明にかかる反射層の形成工程を
示す支持体の模式断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a support showing a process of forming a reflective layer according to the present invention.

【図7】 図7は、本発明にかかる反射層の形成工程を
示す支持体の模式断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a support showing a process of forming a reflective layer according to the present invention.

【図8】 図8は、本発明にかかる支持体の模式的な斜
視図である。
FIG. 8 is a schematic perspective view of a support according to the present invention.

【図9】 図9は、本発明にかかる発光装置の模式的な
斜視図である。
FIG. 9 is a schematic perspective view of a light emitting device according to the present invention.

【図10】 図10は、本発明の一実施例にかかる金型
の模式的な斜視図である。
FIG. 10 is a schematic perspective view of a mold according to an embodiment of the present invention.

【図11】 図11は、本発明の一実施例による発光装
置の模式断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】 100・・・LEDチップ 101・・・サファイア基板 102・・・n型窒化物半導体 103・・・負電極 104・・・正電極 105・・・p型窒化物半導体 106・・・バンプ 107・・・Ag層 108・・・Au層 109・・・Ni層 110・・・Cu層 112・・・外部電極 113・・・絶縁部 201・・・外部反射層 202・・・内部反射層 203・・・異方性導電層 301・・・モールド部材 401、501、601・・・金型 602、603・・・金型の突起部分 701・・・外部配線[Explanation of symbols] 100 ... LED chip 101 ... Sapphire substrate 102 ... N-type nitride semiconductor 103 ... Negative electrode 104 ... Positive electrode 105 ... p-type nitride semiconductor 106 ... Bump 107 ... Ag layer 108 ... Au layer 109 ... Ni layer 110 ... Cu layer 112 ... External electrode 113 ... Insulation part 201 ... External reflection layer 202 ... Internal reflection layer 203 ... Anisotropic conductive layer 301: Mold member 401, 501, 601 ... Mold 602, 603 ... Mold projection 701 ... External wiring

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 同一面側に正負一対の電極を有する発光
素子と、絶縁性基板表面に分離して積層された外部電極
を有する支持体と、を備えた発光装置において、 前記外部電極の上面は、貫通孔を有する反射層にて覆わ
れ、 前記発光素子の各電極は、前記外部電極と同一材料を少
なくとも一種有するバンプを介して前記貫通孔から露出
された外部電極表面と対向していることを特徴とする発
光装置。
1. A light emitting device comprising: a light emitting element having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side; and a support having an external electrode that is separately laminated on a surface of an insulating substrate, wherein an upper surface of the external electrode. Is covered with a reflective layer having a through hole, and each electrode of the light emitting element faces the external electrode surface exposed from the through hole via a bump having at least one material that is the same as the external electrode. A light-emitting device characterized by the above.
【請求項2】 前記発光素子は、モールド部材で封止さ
れていることを特徴とする請求項1記載の発光装置。
2. The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting element is sealed with a mold member.
【請求項3】 同一面側に正負一対の電極を有する発光
素子と、絶縁性基板表面に分離して積層された外部電極
を有する支持体と、該支持体上に載置され前記発光素子
を収納可能な貫通孔を有する外部反射層と、を有する発
光装置において、 前記発光素子の各電極は、前記外部電極と同一材料を少
なくとも一種有するバンプを介して前記貫通孔から露出
された外部電極表面と対向しており、 前記各電極間から前記外部電極間にかけて、前記外部反
射層と同一材料からなる内部反射層を有することを特徴
とする発光装置。
3. A light emitting device having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, a support having external electrodes laminated separately on the surface of an insulating substrate, and the light emitting device mounted on the support and having the light emitting device mounted thereon. An external reflection layer having a storable through hole, wherein each electrode of the light emitting element has an external electrode surface exposed from the through hole via a bump having at least one material that is the same as the external electrode. A light emitting device having an internal reflection layer made of the same material as the external reflection layer, between the electrodes and between the external electrodes.
【請求項4】 前記外部反射層の内壁はテーパー形状で
あり、前記内部反射層の外壁は逆テーパー形状であるこ
とを特徴とする請求項3に記載の発光装置。
4. The light emitting device according to claim 3, wherein an inner wall of the outer reflective layer has a tapered shape, and an outer wall of the inner reflective layer has an inverse tapered shape.
【請求項5】 前記外部反射層内部は、モールド部材を
有することを特徴とする請求項3乃至4に記載の発光装
置。
5. The light emitting device according to claim 3, wherein a mold member is provided inside the external reflection layer.
【請求項6】 同一面側に正負一対の電極を有する発光
素子と、絶縁性基板表面に分離して積層された外部電極
を有する支持体と、該支持体上に載置され前記発光素子
を収納可能な貫通孔を有する外部反射層と、を有する発
光装置の製造方法において、 前記支持体上に、前記外部電極の各表面の一部が露出さ
れる貫通孔を有する反射層を、硬化状態において弾力性
を有する部材にて形成する第1の工程と、 前記各貫通孔内にそれぞれバンプを形成する第2の工程
と、 前記発光素子の各電極を前記バンプと対向させ、前記発
光素子を前記支持体方向に押しつけ電気的に接続させる
第3の工程と、を有することを特徴とする発光装置の製
造方法。
6. A light emitting device having a pair of positive and negative electrodes on the same surface side, a support having external electrodes separately laminated on the surface of an insulating substrate, and the light emitting device mounted on the support In a manufacturing method of a light emitting device having an external reflection layer having a storable through hole, a reflective layer having a through hole in which a part of each surface of the external electrode is exposed is cured on the support. In the first step of forming a member having elasticity, a second step of forming a bump in each of the through holes, and each electrode of the light emitting element is opposed to the bump to form the light emitting element. And a third step of pressing in the direction of the support and electrically connecting the support, the method for manufacturing a light-emitting device.
【請求項7】 前記反射層は、内部に離型剤が塗布され
た金型にて形成されることを特徴とする請求項6に記載
の発光装置の製造方法。
7. The method of manufacturing a light emitting device according to claim 6, wherein the reflective layer is formed by a mold having a release agent applied inside.
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