JP2003207869A - Photothermographic recording material and thermal development method - Google Patents

Photothermographic recording material and thermal development method

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JP2003207869A
JP2003207869A JP2002323029A JP2002323029A JP2003207869A JP 2003207869 A JP2003207869 A JP 2003207869A JP 2002323029 A JP2002323029 A JP 2002323029A JP 2002323029 A JP2002323029 A JP 2002323029A JP 2003207869 A JP2003207869 A JP 2003207869A
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JP
Japan
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heat
recording material
silver halide
silver
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JP2002323029A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Ozeki
智之 大関
Katsutoshi Yamane
勝敏 山根
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photothermographic recording material having low fog, good raw stock preservability and high sensitivity, satisfying a high Dmax (maximum density) and a high color tone, having small temperature dependency in development and optimum for an image for a medical diagnosis. <P>SOLUTION: In the photothermographic recording material comprising at least one photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, the mean silver iodide content of the photosensitive silver halide is 5-100 mol% and at least one of the compounds represented by the formula (X)<SB>k</SB>-(L)<SB>m</SB>-(A-B)<SB>n</SB>is incorporated. In the formula, X is a silver halide attracting group or a light absorbing group having at least one atom selected from N, S, P, Se and Te; L is a (k+n)-valent linking group having at least one atom selected from C, N, S and O; A is an electron donative group: B is a releasable group or H; and A-B is released or deprotonated after oxidation to generate a radical A. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像画像記録材料
及びその熱現像方法に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a heat-developable image recording material and a heat-development method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、医療分野において環境保全、省ス
ペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。
そこで、レーザー・イメージセッターまたはレーザー・
イメージャーにより効率的に露光させることができ、高
解像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成する
ことができる医療診断用および写真技術用途の光感光性
熱現像写真材料に関する技術が必要とされている。これ
ら光感光性熱現像写真材料では、溶液系処理化学薬品の
使用をなくし、より簡単で環境を損なわない熱現像処理
システムを顧客に対して供給することができる。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a strong demand in the medical field to reduce the amount of processing waste liquid from the viewpoint of environmental protection and space saving.
So, laser imagesetter or laser
What is needed is a technique for photosensitive photothermographic materials for medical diagnostics and photographic applications that can be efficiently exposed by an imager to form a clear black image with high resolution and sharpness. ing. With these photosensitive photothermographic materials, it is possible to supply a customer with a heat development processing system which eliminates the use of solution processing chemicals and is simpler and does not damage the environment.

【0003】一般画像形成材料の分野でも同様の要求は
あるが、医療用画像は微細な描写が要求されるため鮮鋭
性、粒状性に優れる高画質が必要であるうえ、診断のし
易さの観点から冷黒調の画像が好まれる特徴がある。現
在、インクジェットプリンター、電子写真など顔料、染
料を利用した各種ハードコピーシステムが一般画像形成
システムとして流通しているが、医療用画像の出力シス
テムとしては満足できるものがない。
Although there are similar demands in the field of general image forming materials, since medical images are required to be minutely drawn, high image quality excellent in sharpness and graininess is required, and diagnosis is easy. From a viewpoint, there is a feature that a cold black image is preferred. At present, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are in circulation as general image forming systems, but none are satisfactory as output systems for medical images.

【0004】一方、有機銀塩を利用した熱画像形成シス
テムが知られている(例えば、特許文献1,2、非特許文
献1参照。)。
On the other hand, a thermal image forming system using an organic silver salt is known (see, for example, Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1).

【0005】特に、熱現像画像記録材料は、一般に、触
媒活性量の光触媒(例、ハロゲン化銀)、還元剤、還元
可能な銀塩(例、有機銀塩)、必要により銀の色調を制
御する色調剤を、バインダーのマトリックス中に分散し
た感光性層を有している。熱現像画像記録材料は、画像
露光後、高温(例えば80℃以上)に加熱し、ハロゲン
化銀あるいは還元可能な銀塩(酸化剤として機能する)
と還元剤との間の酸化還元反応により、黒色の銀画像を
形成する。酸化還元反応は、露光で発生したハロゲン化
銀の潜像の触媒作用により促進される。そのため、黒色
の銀画像は、露光領域に形成される。米国特許2910377
号、特公昭43-4924号をはじめとする多くの文献に開示
され、そして熱現像画像記録材料による医療用画像形成
システムとして富士メディカルドライイメージャーFM
−DP Lが発売された。
In particular, a heat-developable image recording material generally controls a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), a reducing agent, a reducible silver salt (eg, organic silver salt), and if necessary, the color tone of silver. The resulting toning agent has a photosensitive layer in which a binder matrix is dispersed. The heat-developable image recording material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and silver halide or a reducible silver salt (functions as an oxidizing agent)
A black-and-white silver image is formed by a redox reaction between the dye and the reducing agent. The redox reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposed area. US Patent 2910377
Fuji Medical Dry Imager FM as a medical image forming system using a heat-developable image recording material, which is disclosed in many documents including Japanese Patent Publication No. 43-4924.
-DPL has been released.

【0006】有機銀塩を利用した熱画像形成システムの
製造においては、溶剤塗布により製造する方法と、主バ
インダーとしてポリマー微粒子を水分散として含有する
塗布液を塗布・乾燥して製造する方法がある。後者の方
法は溶剤の回収等の工程が不要なため製造設備が簡単で
あり、かつ大量生産に有利である。
In the production of a thermal image forming system using an organic silver salt, there are a method of producing by a solvent coating and a method of producing by coating and drying a coating solution containing polymer fine particles as a water dispersion as a main binder. . The latter method does not require steps such as solvent recovery, and thus has simple manufacturing equipment and is advantageous for mass production.

【0007】この様な有機銀塩を利用した画像形成シス
テムは、定着工程がないため現像処理後の画像保存性、
特に光が当たったときのプリントアウトの悪化が大きな
問題であった。このプリントアウトを改良する手段とし
て有機銀塩をコンバージョンすることによって形成した
AgIを利用する方法が特許文献に開示されている(例え
ば、特許文献3,4参照。)。しかしながらここで開示
されたような有機銀塩をヨードでコンバージョンする方
法では十分な感度を得ることが出来ず現実のシステムを
組むことは困難であった。その他AgIを利用した感材
としては、いくつかの特許文献等に記載があるが(例え
ば、特許文献5〜9参照。)、いずれも十分な感度・か
ぶりレベルを達成できておらず、レーザー露光感材とし
ての実用に耐えるものではなかった。このようなヨウ化
銀含量の多いハロゲン化銀を使いこなす方法の開発が待
たれていた。
An image forming system using such an organic silver salt does not have a fixing step, so that the image storability after development processing,
In particular, deterioration of printout when exposed to light was a big problem. Formed by converting an organic silver salt as a means to improve this printout
A method using AgI is disclosed in Patent Documents (for example, refer to Patent Documents 3 and 4). However, the method of converting an organic silver salt as disclosed herein with iodine cannot obtain sufficient sensitivity, and it is difficult to construct an actual system. Other photosensitive materials using AgI are described in several patent documents and the like (see, for example, Patent Documents 5 to 9), but none of them can achieve sufficient sensitivity and fog level, and laser exposure It was not suitable for practical use as a sensitive material. The development of a method of utilizing such silver halide having a high silver iodide content has been awaited.

【0008】[0008]

【特許文献1】米国特許第3152904号公報[Patent Document 1] US Pat. No. 3,152,904

【特許文献2】米国特許第3457075号公報[Patent Document 2] US Pat. No. 3,457,075

【特許文献3】U米国特許第6143488号公報[Patent Document 3] U.S. Patent No. 6143488

【特許文献4】欧州特許第EP0922995号公報[Patent Document 4] European Patent EP0922995

【特許文献5】WO97-48014号公報[Patent Document 5] WO97-48014

【特許文献6】WO97-48015号公報[Patent Document 6] WO97-48015

【特許文献7】米国特許第6165705号公報[Patent Document 7] US Pat. No. 6,165,705

【特許文献8】特開平8-297345号公報[Patent Document 8] Japanese Patent Laid-Open No. 8-297345

【特許文献9】特許第2785129号公報[Patent Document 9] Japanese Patent No. 2785129

【非特許文献1】B.シェリー(Shely) 著、「熱によっ
て処理される銀システム(Thermally Processed Silver
Systems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・
マテリアルズ(Imaging Processes and Materials)Neble
tte 第8版、スタージ(Sturge)、V.ウオールワース(Wal
worth)、A.シェップ(Shepp) 編集、第2頁、1996
年)
[Non-Patent Document 1] B. Shely, "Thermally Processed Silver
Systems) "(Imaging Processes and
Materials (Imaging Processes and Materials) Neble
tte Eighth Edition, Sturge, V. Wallworth
worth), edited by A. Shepp, page 2, 1996
Year)

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、高ヨウ化銀ハロゲン化銀感光材料ながら高感度で高
画質な熱現像画像記録材料及びそれを用いた熱現像方法
を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a heat-developable image recording material having high sensitivity and high image quality even though it is a high silver iodide silver halide photosensitive material, and a heat development method using the same. is there.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
熱現像画像記録材料及び熱現像方法によって達成され
た。 <1> 支持体上に少なくとも1層の感光性ハロゲン化
銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有す
る熱現像画像記録材料において、該感光性ハロゲン化銀
のヨウ化銀含量が5〜100モル%であるハロゲン化銀
を含有し、且つ下記一般式(I)で表される化合物の少
なくとも一種を含有することを特徴とする熱現像画像記
録材料。
The objects of the present invention have been achieved by the following heat-developable image recording material and heat-development method. <1> In a heat-developable image recording material containing at least one layer of a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, the silver iodide content of the photosensitive silver halide is A heat-developable image recording material comprising 5 to 100 mol% of silver halide and at least one compound represented by the following general formula (I).

【0011】[0011]

【化2】 [Chemical 2]

【0012】〔式中、XはN、S、P、Se又はTeの
少なくとも1つの原子を有するハロゲン化銀吸着基又は
光吸収基を表す。LはC、N、S、Oの少なくとも1つ
の原子を有する(k+n)価の連結基を表す。Aは電子
供与性基を表し、Bは脱離基又は水素原子を表し、A−
Bは酸化後、脱離又は脱プロトンされてラジカルA・を
生成する。kは0〜3の整数を表し、mは0又は1を表
し、nは1又は2を表す。但し、k=0且つn=1の場
合は、m=0である。〕 <2> 前記ハロゲン化銀のヨウ化銀含量が、10〜1
00モル%であることを特徴とする上記<1>に記載の熱
現像画像記録材料。 <3> 前記ハロゲン化銀のヨウ化銀含量が、40〜1
00モル%であることを特徴とする上記<1>に記載の熱
現像画像記録材料。 <4> 前記ハロゲン化銀粒子が、高ヨウ化銀結晶構造
に由来する直接遷移吸収を持つことを特徴とする上記<1
>〜<3>のいずれかに記載の熱現像画像記録材料。 <5> 上記<1>〜<4>のいずれかの熱現像画像記録材
料を熱現像する時の最高温度が、100〜120℃であ
ることを特徴とする熱現像方法。 <6> 上記<1>〜<4>のいずれかの熱現像画像記録材
料を熱現像する時の最高温度が、105〜115℃であ
ることを特徴とする熱現像方法。 <7> 2〜6枚のプレート状熱現像ヒーターからなる
熱現像部に、上記<1>〜<4>のいずれかの熱現像画像記
録材料が接触しながら搬送されることにより熱現像が行
われることを特徴とする上記<5>又は<6>に記載の熱現
像方法。 <8> 前記ハロゲン化銀の平均粒子サイズが、5〜7
0nmであることを特徴とする上記<1>〜<4>のいずれ
かに記載の熱現像画像記録材料。 <9> 前記ハロゲン化銀の平均粒子サイズが、5〜7
0nmであることを特徴とする上記<1>〜<4>のいずれ
かに記載の熱現像画像記録材料。 <10> <8>または<9>のいずれかの熱現像画像記録
材料を熱現像する時の最高温度が、100〜120℃で
あることを特徴とする熱現像方法。 <11> <8>または<9>のいずれかの熱現像画像記録
材料を熱現像する時の最高温度が、105〜115℃で
あることを特徴とする熱現像方法。 <12> 2〜6枚のプレート状熱現像ヒーターからな
る熱現像部に、<8>または<9>のいずれかの熱現像画像
記録材料が接触しながら搬送されることにより熱現像が
行われることを特徴とする請求項10又は11に記載の
熱現像方法。
[In the formula, X represents a silver halide adsorption group or a light absorption group having at least one atom of N, S, P, Se or Te. L represents a (k + n) -valent linking group having at least one atom of C, N, S and O. A represents an electron donating group, B represents a leaving group or a hydrogen atom, and A-
After being oxidized, B is eliminated or deprotonated to generate a radical A. k represents an integer of 0 to 3, m represents 0 or 1, and n represents 1 or 2. However, when k = 0 and n = 1, m = 0. <2> The silver iodide content of the silver halide is 10 to 1
The heat-developable image recording material as described in <1> above, wherein the content is 00 mol%. <3> The silver iodide content of the silver halide is 40 to 1
The heat-developable image recording material as described in <1> above, wherein the content is 00 mol%. <4> The above-mentioned <1>, wherein the silver halide grains have direct transition absorption derived from a high silver iodide crystal structure.
> A heat-developable image recording material according to any one of <3>. <5> A heat developing method, wherein the heat developing image recording material according to any one of the above <1> to <4> has a maximum temperature of 100 to 120 ° C. when heat developing. <6> A heat development method, wherein the heat development image recording material according to any one of the above <1> to <4> has a maximum temperature of 105 to 115 ° C. <7> Heat development is performed by transporting the heat-developable image recording material according to any one of the above <1> to <4> while being brought into contact with the heat-development section including two to six plate-shaped heat development heaters. The heat development method as described in <5> or <6> above. <8> The average grain size of the silver halide is 5 to 7
The heat-developable image recording material described in any one of the above items <1> to <4>, which has a thickness of 0 nm. <9> The average grain size of the silver halide is 5 to 7
The heat-developable image recording material described in any one of the above items <1> to <4>, which has a thickness of 0 nm. <10> A heat development method, wherein the maximum temperature at which the heat development image recording material of <8> or <9> is subjected to heat development is 100 to 120 ° C. <11> A heat development method, wherein the maximum temperature at the time of heat development of the heat development image recording material of <8> or <9> is 105 to 115 ° C. <12> Heat development is carried out by transporting the heat-developable image recording material of <8> or <9> while contacting the heat-development section consisting of two to six plate-shaped heat development heaters. The heat development method according to claim 10 or 11, characterized in that.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、ハロゲン組
成として5モル%以上100モル%以下のヨウ化銀を含
む高ヨウ化銀乳剤であることが重要である。一般に高ヨ
ウ化銀含量を有するハロゲン化銀は低感度であり、利用
価値の低いものであった。本発明のハロゲン化銀の一部
は、直接遷移によって光を吸収する相を有することが好
ましい。本発明の露光波長である350nm〜450n
mにおいては、六方晶系のウルツァイト構造または立方
晶系のジンクブレンド構造を有する高ヨウ化銀構造を持
つことによって、この直接遷移の吸収が実現できること
はよく知られている。しかしながらこのような吸収構造
をもつハロゲン化銀は、一般に低感度であり写真工業的
には利用価値の低いものであった。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is described in detail below.
It is important that the photosensitive silver halide used in the present invention is a high silver iodide emulsion containing 5 mol% or more and 100 mol% or less of silver iodide as a halogen composition. Generally, silver halide having a high silver iodide content has low sensitivity and low utility value. Part of the silver halide of the present invention preferably has a phase that absorbs light by direct transition. The exposure wavelength of the present invention is 350 nm to 450 n
It is well known that in m, the direct transition absorption can be realized by having a high silver iodide structure having a hexagonal wurtzite structure or a cubic zinc blend structure. However, silver halide having such an absorption structure is generally low in sensitivity and has low utility value in the photographic industry.

【0014】本発明者の研究によれば、非感光性有機酸
銀塩および熱現像剤を有する熱現像画像記録材料におい
て、本発明の一般式(I)の化合物を使用することによ
って、このような高ヨウ化銀感光材料で高感度・高鮮鋭
度を達成することができることが分かった。また本研究
によれば、この時のハロゲン化銀のサイズは80nm以
下であることが好ましい。本発明では、より好ましく
は、ハロゲン化銀のサイズは5nm〜80nmであり、
さらに好ましくは、5nm〜70nmである。このよう
な粒子サイズの小さなハロゲン化銀において、特に本発
明の効果は明瞭に発揮される。
According to the studies of the present inventors, by using the compound of the general formula (I) of the present invention in a heat-developable image recording material having a non-photosensitive organic acid silver salt and a heat developing agent, It was found that high sensitivity and high sharpness can be achieved with various high silver iodide light-sensitive materials. According to the present study, the size of silver halide at this time is preferably 80 nm or less. In the present invention, more preferably, the size of silver halide is 5 nm to 80 nm,
More preferably, it is 5 nm to 70 nm. The effect of the present invention is clearly exhibited particularly in silver halide having such a small grain size.

【0015】以下、各内容について詳細に説明を加え
る。 (一般式(I)の化合物)まず、本発明の熱現像画像記
録材料に用いる一般式(I)で表わされる化合物につい
て説明する。一般式(I)中、XはN、S、P、Seま
たはTeの少なくとも1つの原子を有するハロゲン化銀
吸着基または光吸収基を表す。好ましいXは、N、S、
P、SeまたはTeの少なくとも1つの原子を有し、銀
イオンリガンド構造を有するハロゲン化銀吸着基であ
る。銀イオンリガンド構造を有するハロゲン化銀吸着基
として、例えば以下の一般式で表される基を挙げること
ができる。
The contents will be described in detail below. (Compound of Formula (I)) First, the compound represented by Formula (I) used in the heat-developable image recording material of the present invention will be described. In the general formula (I), X represents a silver halide adsorption group or a light absorption group having at least one atom of N, S, P, Se or Te. Preferred X is N, S,
It is a silver halide adsorption group having at least one atom of P, Se or Te and having a silver ion ligand structure. Examples of the silver halide adsorbing group having a silver ion ligand structure include groups represented by the following general formula.

【0016】一般式(X−1) −G1−Z1−Y1 式中、G1は2価の連結基であり、置換もしくは無置換
のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、ア
リーレン基、SO2基または2価のヘテロ環基を表す。
1は、S、SeまたはTe原子を表す。Y1は水素原子
またはZ1の解離体となった場合に必要な対イオンとし
て、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオ
ンおよびアンモニウムイオンを表す。
[0016] Formula (X-1) -G in 1 -Z 1 -Y 1 formula, G 1 represents a divalent linking group, a substituted or unsubstituted alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, an arylene group, It represents a SO 2 group or a divalent heterocyclic group.
Z 1 represents an S, Se or Te atom. Y 1 represents a hydrogen atom or a counter ion necessary when it becomes a dissociation product of Z 1 , and represents a sodium ion, a potassium ion, a lithium ion and an ammonium ion.

【0017】一般式(X−2a)、(X−2b)General formulas (X-2a), (X-2b)

【化3】 [Chemical 3]

【0018】一般式(X−2a)、(X−2b)で表さ
れる基は5〜7員のヘテロ環または不飽和環を有してい
る。Zaは、O、N、S、SeまたはTe原子を表し、
1は0〜3の整数を表す。Y2は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表
す。
The groups represented by the general formulas (X-2a) and (X-2b) have a 5- to 7-membered hetero ring or unsaturated ring. Za represents an O, N, S, Se or Te atom,
n 1 represents an integer of 0 to 3. Y 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group.

【0019】一般式(X−3) ―Y3―(Z2)n2―Y4 式中、Z2はS、SeまたはTe原子を表し、n2は1〜
3の整数を表す。Y3は2価の連結基であり、アルキレ
ン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基
または2価のヘテロ環基を表す。Y4はアルキル基、ア
リール基またはヘテロ環基を表す。
[0019] Formula (X-3) -Y 3 - (Z 2) n in 2 -Y 4 formula, Z 2 is S, Se or Te atom, n 2 is 1
Represents an integer of 3. Y 3 is a divalent linking group and represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group or a divalent heterocyclic group. Y 4 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

【0020】一般式(X−4)General formula (X-4)

【化4】 [Chemical 4]

【0021】式中、Y5およびY6は各々独立してアルキ
ル基、アルケニル基、アリーレン基またはヘテロ環基を
表す。
In the formula, Y 5 and Y 6 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an arylene group or a heterocyclic group.

【0022】一般式(X−5a)、(X−5b)General formulas (X-5a), (X-5b)

【化5】 [Chemical 5]

【0023】式中、Z3は、S、SeまたはTe原子を
表し、E1は水素原子、NH2、NHY10、N
(Y102、NHN(Y102、OY10またはSY10を表
す。E2は2価の連結基であり、NH、NY10、NHN
10、OまたはSを表す。Y7、Y8およびY9は各々独
立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール
基またはヘテロ環基を表し、Y8とY9は互いに結合して
環を形成していてもよい。Y10は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表
す。
In the formula, Z 3 represents an S, Se or Te atom, E 1 represents a hydrogen atom, NH 2 , NHY 10 , N
It represents (Y 10 ) 2 , NHN (Y 10 ) 2 , OY 10 or SY 10 . E 2 is a divalent linking group, and NH, NY 10 , NHN
Represents Y 10 , O or S. Y 7 , Y 8 and Y 9 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and Y 8 and Y 9 may be bonded to each other to form a ring. Y 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

【0024】一般式(X−6a)、(X−6b)General formulas (X-6a), (X-6b)

【化6】 [Chemical 6]

【0025】式中、Y11は2価の連結基であり、アルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アルーレン
基または2価のヘテロ環基を表す。G2およびJは各々
独立して、COOY12、SO212、COY12、SOY
12、CN、CHOまたはNO2を表す。Y12はアルキル
基、アルケニル基またはアリール基を表す。
In the formula, Y 11 is a divalent linking group and represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an allylene group or a divalent heterocyclic group. G 2 and J are each independently COOY 12 , SO 2 Y 12 , COY 12 , SOY
Represents 12 , CN, CHO or NO 2 . Y 12 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group.

【0026】一般式(X−1)について詳細に説明す
る。式中、G1で表される連結基としては、それぞれ炭
素数1〜20の置換もしくは無置換の直鎖または分岐の
アルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメ
チレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメ
チレン基、3−オキサペンチレン基、2−ヒドロキシト
リメチレン基)、炭素数3〜18の置換もしくは無置換
の環状アルキレン基(例えばシクロプロピレン基、シク
ロペンチレン基、シクロへキシレン基)、炭素数2〜2
0の置換もしくは無置換のアルケニレン基(例えばエテ
ン基、2−ブテニレン基)、炭素数2〜10のアルキニ
レン基(例えばエチニレン基)、炭素数6〜20の置換
もしくは無置換のアリーレン基(例えば無置換p−フェ
ニレン基、無置換2,5−ナフチレン基)が挙げられ
る。
The general formula (X-1) will be described in detail. In the formula, the linking group represented by G 1 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, tetramethylene group). , Hexamethylene group, 3-oxapentylene group, 2-hydroxytrimethylene group), and substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 18 carbon atoms (for example, cyclopropylene group, cyclopentylene group, cyclohexylene group). , Carbon number 2 to 2
0-substituted or unsubstituted alkenylene group (for example, ethene group, 2-butenylene group), C2-C10 alkynylene group (for example, ethynylene group), C6-C20 substituted or unsubstituted arylene group (for example, And a substituted p-phenylene group and an unsubstituted 2,5-naphthylene group).

【0027】式中、G1で表されるSO2基としては、−
SO2−基の他に、炭素数1〜10の置換もしくは無置
換の直鎖または分岐のアルキレン基、炭素数3〜6の置
換もしくは無置換の環状アルキレン基あるいは炭素数2
〜10のアルケニレン基と結合した−SO2−基が挙げ
られる。
In the formula, the SO 2 group represented by G 1 is
In addition to the SO 2 — group, a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 6 carbon atoms or 2 carbon atoms
And a —SO 2 — group bonded to the alkenylene group of 10 to 10.

【0028】式中、G1で表される2価のヘテロ環基と
しては、無置換もしくはアルキレン基、アルケニレン
基、アリーレン基、ヘテロ環基で置換されたもの、ベン
ゾ縮合またはナフト縮合されたもの(例えば、2,3−
テトラゾールジイル基、1,3−トリアゾールジイル
基、1,2−イミダゾールジイル基、3,5−オキサジ
アゾールジイル基、2,4−チアゾールジル基、1,5
−ベンゾイミダゾールジイル基、2,5−ベンゾチアゾ
ールジイル基、2,5−ベンゾオキサゾールジイル基、
2,5−ピリミジンジイル基、3−フェニル−2,5−
テトラゾールジイル基、2,5−ピリジンジイル基、
2,4−フランジイル基、1,3−ピペリジンジイル
基、2,4−モルホリンジイル基)が挙げられる。
In the formula, the divalent heterocyclic group represented by G 1 is unsubstituted or substituted with an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, a heterocyclic group, a benzo-fused or naphtho-fused group. (For example, 2,3-
Tetrazolediyl group, 1,3-triazolediyl group, 1,2-imidazoldiyl group, 3,5-oxadiazolediyl group, 2,4-thiazoldiyl group, 1,5
-Benzimidazole diyl group, 2,5-benzothiazolediyl group, 2,5-benzoxazolediyl group,
2,5-pyrimidinediyl group, 3-phenyl-2,5-
Tetrazolediyl group, 2,5-pyridinediyl group,
2,4-furandiyl group, 1,3-piperidinediyl group, 2,4-morpholinediyl group).

【0029】上記式中、G1で表されるアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、SO
2基または2価のヘテロ環基は置換基を有していてもよ
い。採りうる置換基について以下に説明するが、本明細
書では以下に説明する置換基を「置換基Y」と称する。
置換基としては、例えばハロゲン原子(例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、t
ert−ブチル基)、アルケニル基(例えばアリル基、
2−ブテニル基)、アルキニル基(例えばプロパルギル
基)、アラルキル基(例えばベンジル基)、アリール基
(例えばフェニル基、ナフチル基、4−メチルフェニル
基)、ヘテロ環基(例えばピリジル基、フリル基、イミ
ダゾリル基、ピペリジニル基、モルホリル基)、アルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、
2−エチルヘキシルオキシ基、エトキシエトキシ基、メ
トキシエトキシ基)、アリールオキシ基(例えばフェノ
キシ基、2−ナフチルオキシ基)、アミノ基(例えば無
置換アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、
ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、エチルアミノ
基、アニリノ基)、アシルアミノ基(例えばアセチルア
ミノ基、ベンゾイルアミノ基)、ウレイド基(例えば無
置換ウレイド基、N−メチルウレイド基)、ウレタン基
(例えばメトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカル
ボニルアミノ基)、スルホニルアミノ基(例えばメチル
スルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基)、
スルファモイル基(例えば無置換スルファモイル基、
N,N−ジメチルスルファモイル基、N−フェニルスル
ファモイル基)、カルバモイル基(例えば無置換カルバ
モイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、N−フェ
ニルカルバモイル基)、スルホニル基(例えばメシル
基、トシル基)、スルフィニル基(例えばメチルスルフ
ィニル基、フェニルスルフィニル基)、アルキルオキシ
カルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基)、アリールオキシカルボニル基(例えば
フェノキシカルボニル基)、アシル基(例えばアセチル
基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基)、アシ
ルオキシ基(例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ
基)、リン酸アミド基(例えばN,N−ジエチルリン酸
アミド基)、シアノ基、スルホ基、チオスルホン酸基、
スルフィン酸基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、ホスホ
ノ基、ニトロ基、アンモニオ基、ホスホニオ基、ヒドラ
ジノ基、チアゾリノ基が挙げられる。また、置換基が2
つ以上ある時はそれらは同じでも異なっていてもよく、
置換基はさらに置換基を有していてもよい。
In the above formula, an alkylene group represented by G 1 ,
Alkenylene group, alkynylene group, arylene group, SO
The divalent or divalent heterocyclic group may have a substituent. The substituents that can be used are described below, but in the present specification, the substituents described below are referred to as “substituent Y”.
Examples of the substituent include a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, t
ert-butyl group), alkenyl group (eg allyl group,
2-butenyl group), alkynyl group (eg propargyl group), aralkyl group (eg benzyl group), aryl group (eg phenyl group, naphthyl group, 4-methylphenyl group), heterocyclic group (eg pyridyl group, furyl group, Imidazolyl group, piperidinyl group, morpholyl group), alkoxy group (eg methoxy group, ethoxy group, butoxy group,
2-ethylhexyloxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxy group), aryloxy group (for example, phenoxy group, 2-naphthyloxy group), amino group (for example, unsubstituted amino group, dimethylamino group, diethylamino group,
Dipropylamino group, dibutylamino group, ethylamino group, anilino group), acylamino group (eg acetylamino group, benzoylamino group), ureido group (eg unsubstituted ureido group, N-methylureido group), urethane group (eg Methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group), sulfonylamino group (for example, methylsulfonylamino group, phenylsulfonylamino group),
A sulfamoyl group (for example, an unsubstituted sulfamoyl group,
N, N-dimethylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group), carbamoyl group (eg unsubstituted carbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group), sulfonyl group (eg mesyl group, Tosyl group), sulfinyl group (eg methylsulfinyl group, phenylsulfinyl group), alkyloxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group), aryloxycarbonyl group (eg phenoxycarbonyl group), acyl group (eg acetyl group, Benzoyl group, formyl group, pivaloyl group), acyloxy group (eg acetoxy group, benzoyloxy group), phosphoric acid amide group (eg N, N-diethylphosphoric acid amide group), cyano group, sulfo group, thiosulfonic acid group,
Examples thereof include sulfinic acid group, carboxy group, hydroxy group, phosphono group, nitro group, ammonio group, phosphonio group, hydrazino group and thiazolino group. In addition, the substituent is 2
When there are two or more, they may be the same or different,
The substituent may further have a substituent.

【0030】一般式(X−1)の好ましい例を示す。好
ましい一般式(X−1)としては、G1は炭素数6〜1
0の置換もしくは無置換のアリーレン基、無置換もしく
はアルキレン基またはアリーレン基と結合された、もし
くはベンゾ縮合またはナフト縮合された5〜7員のヘテ
ロ環基が挙げられる。Z1としてはS、Seが挙げら
れ、Y1としては、水素原子、ナトリウムイオン、カリ
ウムイオンが挙げられる。さらに好ましくは、G1は、
炭素数6〜8の置換もしくは無置換のアリーレン基、ア
リーレン基と結合された、またはベンゾ縮合された5〜
6員のヘテロ環基であり、最も好ましくは、アリーレン
基と結合された、もしくはベンゾ縮合された5〜6員の
ヘテロ環基である。さらに好ましいZ1はSであり、Y1
は、水素原子、ナトリウムイオンである。
Preferred examples of the general formula (X-1) are shown below. In the preferable general formula (X-1), G 1 has 6 to 1 carbon atoms.
5 to 7-membered heterocyclic groups bonded to 0 or a substituted or unsubstituted arylene group, an unsubstituted or alkylene group or an arylene group, or benzo-fused or naphtho-fused. Examples of Z 1 include S and Se, and examples of Y 1 include a hydrogen atom, sodium ion, and potassium ion. More preferably, G 1 is
A substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 8 carbon atoms, 5 bonded to an arylene group, or benzo-fused
It is a 6-membered heterocyclic group, most preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group bonded to an arylene group or benzo-fused. More desirable Z 1 is S, and Y 1
Are hydrogen atoms and sodium ions.

【0031】一般式(X−2a)および(X−2b)に
ついて詳細に説明する。式中、Y2で表されるアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基としては、炭素数1〜
10の置換もしくは無置換の直鎖または分岐のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n−
プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、2−
ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、ter
t−オクチル基、2−エチルヘキシル基、2−ヒドロキ
シエチル基、1−ヒドロキシエチル基、ジエチルアミノ
エチル基、n−ブトキシプロピル基、メトキシメチル
基)、炭素数3〜6の置換もしくは無置換の環状アルキ
ル基(例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基)、炭素数2〜10のアルケニル基(例
えばアリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基)、
炭素数2〜10のアルキニル基(例えばプロパルギル
基、3−ペンチニル基)、炭素数6〜12のアラルキル
基(例えばベンジル基)等が挙げられる。アリール基と
しては、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリー
ル基(例えばヒドロキシフェニル基、4−メチルヒドロ
キシフェニル基)等が挙げられる。上記Y2はさらに置
換基Y等を有してもよい。
The general formulas (X-2a) and (X-2b) will be described in detail. In the formula, the alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group represented by Y 2 have 1 to 1 carbon atoms.
10 substituted or unsubstituted linear or branched alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-
Propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, 2-
Pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, ter
t-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxyethyl group, diethylaminoethyl group, n-butoxypropyl group, methoxymethyl group), substituted or unsubstituted cyclic alkyl having 3 to 6 carbon atoms Group (for example, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group), alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (for example, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group),
Examples thereof include an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, propargyl group, 3-pentynyl group), an aralkyl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group) and the like. Examples of the aryl group include a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, a hydroxyphenyl group, a 4-methylhydroxyphenyl group) and the like. The above Y 2 may further have a substituent Y or the like.

【0032】一般式(X−2a)および(X−2b)の
好ましい例を示す。式中、好ましくはY2が水素原子、
炭素数1〜6の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素
数6〜10の置換もしくは無置換のアリール基であり、
ZaはO、NまたはSであり、n1が1〜3である。さ
らに好ましくは、Y2が水素原子および炭素数1〜4の
アルキル基であり、ZaはNまたはSであり、n1が2
もしくは3である。
Preferred examples of the general formulas (X-2a) and (X-2b) are shown below. In the formula, preferably Y 2 is a hydrogen atom,
A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms,
Za is O, N or S, and n 1 is 1 to 3. More preferably, Y 2 is a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Za is N or S, and n 1 is 2
Or it is 3.

【0033】次に一般式(X−3)について詳細に説明
する。式中、Y3で表される連結基としては、それぞれ
炭素数1〜20の置換もしくは無置換の直鎖または分岐
のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、トリ
メチレン基、イソプロピレン基、テトラメチレン基、ヘ
キサメチレン基、3−オキサペンチレン基、2−ヒドロ
キシトリメチレン基)、炭素数3〜18の置換もしくは
無置換の環状アルキレン基(例えばシクロプロピレン
基、シクロペンチニレン基、シクロへキシレン基)、炭
素数2〜20の置換もしくは無置換のアルケニレン基
(例えばエテン基、2−ブテニレン基)、炭素数2〜1
0のアルキニレン基(例えばエチニレン基)、炭素数6
〜20の置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば無
置換p−フェニレン基、無置換2,5−ナフチレン基)
が挙げられ、ヘテロ環基としては、無置換もしくはアル
キレン基、アルケニレン基、アリーレン基、およびさら
にヘテロ環基が置換されたもの(例えば2,5−ピリジ
ンジイル基、3−フェニル−2,5−ピリジンジイル
基、1,3−ピペリジンジイル基、2,4−モルホリン
ジイル基)が挙げられる。
Next, the general formula (X-3) will be described in detail. In the formula, the linking group represented by Y 3 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methylene group, ethylene group, trimethylene group, isopropylene group, tetramethylene group). Group, hexamethylene group, 3-oxapentylene group, 2-hydroxytrimethylene group), substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 18 carbon atoms (for example, cyclopropylene group, cyclopentynylene group, cyclohexylene group) ), A substituted or unsubstituted alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms (e.g., ethene group, 2-butenylene group), and 2 to 1 carbon atoms.
0 alkynylene group (eg ethynylene group), 6 carbon atoms
To 20 substituted or unsubstituted arylene groups (eg, unsubstituted p-phenylene group, unsubstituted 2,5-naphthylene group)
As the heterocyclic group, an unsubstituted or alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, and a heterocyclic group further substituted (for example, 2,5-pyridinediyl group, 3-phenyl-2,5- Pyridinediyl group, 1,3-piperidinediyl group, 2,4-morpholinediyl group).

【0034】式中、Y4で表されるアルキル基として
は、炭素数1〜10の置換もしくは無置換の直鎖、また
は分岐のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソ
プロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、tert
−ブチル基、2−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オ
クチル基、tert−オクチル基、2−エチルヘキシル
基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシエチル
基、ジエチルアミノエチル基、ジブチルアミノエチル
基、n−ブトキシメチル基、メトキシメチル基)、炭素
数3〜6の置換もしくは無置換の環状アルキル基(例え
ばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基)が挙げられ、アリール基としては、炭素数6〜1
2の置換もしくは無置換のアリール基(例えば無置換フ
ェニル基、2−メチルフェニル基)が挙げられる。ヘテ
ロ環基としては、無置換もしくはアルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、および、さらにヘテロ環基が置換さ
れたもの(例えばピリジル基、3−フェニルピリジル
基、ピペリジル基、モルホリル基)が挙げられる。上記
4はさらに置換基Y等を有してもよい。
In the formula, the alkyl group represented by Y 4 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group). Group, n-butyl group, tert
-Butyl group, 2-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, tert-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxyethyl group, diethylaminoethyl group, dibutylaminoethyl group, n-butoxymethyl group, methoxymethyl group), a substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group), and the aryl group has 6 to 6 carbon atoms. 1
And a substituted or unsubstituted aryl group of 2 (for example, an unsubstituted phenyl group and a 2-methylphenyl group). Examples of the heterocyclic group include an unsubstituted or alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, and a group in which a heterocyclic group is further substituted (for example, a pyridyl group, a 3-phenylpyridyl group, a piperidyl group, a morpholyl group). The Y 4 may further have a substituent Y or the like.

【0035】一般式(X−3)の好ましい例を示す。式
中、好ましくはY3は炭素数1〜6の置換もしくは無置
換のアルキレン基、または炭素数6〜10の置換もしく
は無置換のアリーレン基であり、Y4は炭素数1〜6の
置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数6〜1
0の置換もしくは無置換のアリール基であり、Z2はS
またはSeであり、n2は1〜2である。さらに好まし
くは、Y3は炭素数1〜4のアルキレン基であり、Y4
炭素数1〜4のアルキル基であり、Z2はSであり、n2
は1である。
Preferred examples of the general formula (X-3) are shown below. In the formula, preferably Y 3 is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and Y 4 is a substituted or unsubstituted C 1 to 6 or Unsubstituted alkyl group or C6 to C1
0 is a substituted or unsubstituted aryl group, and Z 2 is S
Alternatively, it is Se and n 2 is 1-2. More preferably, Y 3 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, Y 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Z 2 is S, and n 2
Is 1.

【0036】次に一般式(X−4)について詳細に説明
する。式中、Y5およびY6で表されるアルキル基、アル
ケニル基としては、炭素数1〜10の置換もしくは無置
換の直鎖、または分岐のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、n−ブチ
ル基、tert−ブチル基、2−ペンチル基、n−ヘキ
シル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、2−
エチルヘキシル基、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキ
シエチル基、1−ヒドロキシエチル基、ジエチルアミノ
エチル基、ジブチルアミノエチル基、n−ブトキシメチ
ル基、n−ブトキシプロピル基、メトキシメチル基)、
炭素数3〜6の置換もしくは無置換の環状アルキル基
(例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基)、炭素数2〜10のアルケニル基(例えば
アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基)が挙げ
られる。アリール基としては、炭素数6〜12の置換も
しくは無置換のアリール基(例えば無置換フェニル基、
4−メチルフェニル基)が挙げら、ヘテロ環基としては
無置換もしくはアルキレン基、アルケニレン基、アリー
レン基、およびさらにヘテロ環基が置換されたもの(例
えばピリジル基、3−フェニルピリジル基、フリル基、
ピペリジル基、モルホリル基)が挙げられる。上記式
中、Y5およびY6はさらに置換基Y等を有していてもよ
Next, the general formula (X-4) will be described in detail. In the formula, the alkyl group and the alkenyl group represented by Y 5 and Y 6 are a substituted or unsubstituted straight chain or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, a methyl group,
Ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, 2-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, tert-octyl group, 2-
Ethylhexyl group, hydroxymethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxyethyl group, diethylaminoethyl group, dibutylaminoethyl group, n-butoxymethyl group, n-butoxypropyl group, methoxymethyl group),
Substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group), alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group) Is mentioned. As the aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, an unsubstituted phenyl group,
4-methylphenyl group), as the heterocyclic group, unsubstituted or alkylene group, alkenylene group, arylene group, and further substituted heterocyclic group (for example, pyridyl group, 3-phenylpyridyl group, furyl group) ,
And piperidyl group and morpholyl group). In the above formula, Y 5 and Y 6 may further have a substituent Y or the like.

【0037】一般式(X−4)の好ましい例を示す。式
中、好ましくはY5およびY6が炭素数1〜6の置換もし
くは無置換のアルキル基、または炭素数6〜10の置換
もしくは無置換のアリール基である。さらに好ましくは
5およびY6が、炭素数6〜8のアリール基である。
Preferred examples of the general formula (X-4) are shown below. In the formula, preferably Y 5 and Y 6 are a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms. More preferably, Y 5 and Y 6 are aryl groups having 6 to 8 carbon atoms.

【0038】次に一般式(X−5a)および(X−5
b)について詳細に説明する。式中、E1で表される基
としてはNH2、NHCH3、NHC25、NHPh、N
(CH32、N(Ph)2、NHNHC37、NHNH
Ph、OC49、OPh、SCH 3等が挙げられ、E2
しては、NH、NCH3、NC25、NPh、NHNC3
7、NHNPh等が挙げられる。なお、本明細書にお
いて「Ph」はフェニル基を表す。一般式(X−5a)
および(X−5b)中、Y7、Y8およびY9で表される
アルキル基、アルケニル基としては、炭素数1〜10の
置換もしくは無置換の直鎖または、分岐のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−
プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、2−
ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、ter
t−オクチル基、2−エチルヘキシル基、ヒドロキシメ
チル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシエチ
ル基、ジエチルアミノエチル基、ジブチルアミノエチル
基、n−ブトキシメチル基、n−ブトキシプロピル基、
メトキシメチル基)、炭素数3〜6の置換もしくは無置
換の環状アルキル基(例えば、シクロプロピル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基)、炭素数2〜10の
アルケニル基(例えば、アリル基、2−ブテニル基、3
−ペンテニル基)が挙げられる。アリール基としては、
炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基(例
えば、無置換フェニル基、4−メチルフェニル基)が挙
げら、ヘテロ環基としては無置換もしくはアルキレン
基、アルケニレン基、アリーレン基、およびさらにヘテ
ロ環基が置換されたもの、(例えば、ピリジル基、3−
フェニルピリジル基、フリル基、ピペリジル基、モルホ
リル基)が挙げられる。Y7、Y8およびY9はさらに置
換基Y等を有していてもよい。
Next, general formulas (X-5a) and (X-5)
The b) will be described in detail. In the formula, E1Group represented by
As NH2, NHCH3, NHC2HFive, NHPh, N
(CH3)2, N (Ph)2, NHNHC3H7, NHNH
Ph, OCFourH9, OPh, SCH 3Etc., E2When
Then NH, NCH3, NC2HFive, NPh, NHNC3
H 7, NHNPh and the like. In addition, in this specification
And "Ph" represents a phenyl group. General formula (X-5a)
And (X-5b), Y7, Y8And Y9Represented by
The alkyl group and the alkenyl group have 1 to 10 carbon atoms.
Substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group
(For example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-
Propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, 2-
Pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, ter
t-octyl group, 2-ethylhexyl group, hydroxy
Cyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxyethyl group
Group, diethylaminoethyl group, dibutylaminoethyl group
Group, n-butoxymethyl group, n-butoxypropyl group,
Methoxymethyl group), substituted or non-substituted with 3 to 6 carbon atoms
A substituted cyclic alkyl group (eg, cyclopropyl group, cyclo
Ropentyl group, cyclohexyl group), having 2 to 10 carbon atoms
Alkenyl group (eg, allyl group, 2-butenyl group, 3
-Pentenyl group). As an aryl group,
A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg,
Examples include unsubstituted phenyl group and 4-methylphenyl group).
Gera, the heterocyclic group is unsubstituted or alkylene
Groups, alkenylene groups, arylene groups, and further
Those substituted with a ring group (for example, pyridyl group, 3-
Phenylpyridyl group, furyl group, piperidyl group, morpho
Ryl group). Y7, Y8And Y9Is further
It may have a substituent Y or the like.

【0039】一般式(X−5a)および(X−5b)の
好ましい例を示す。式中、好ましくはE1はアルキル置
換もしくは無置換のアミノ基またはアルコキシ基であ
り、E2はアルキル置換もしくは無置換のアミノ連結基
であり、Y7、Y8およびY9は炭素数1〜6の置換もし
くは無置換のアルキル基、または炭素数6〜10の置換
もしくは無置換のアリーレン基であり、Z3はSまたは
Seである。さらに好ましくは、E1はアルキル置換も
しくは無置換のアミノ基であり、E2はアルキル置換も
しくは無置換のアミノ連結基であり、Y7、Y8およびY
9は炭素数1〜4の置換もしくは無置換のアルキル基で
あり、Z3はSである。
Preferred examples of formulas (X-5a) and (X-5b) are shown below. In the formula, preferably E 1 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino group or an alkoxy group, E 2 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino linking group, and Y 7 , Y 8 and Y 9 are each a carbon number of 1 to 1. A substituted or unsubstituted alkyl group having 6 or 6 or a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and Z 3 is S or Se. More preferably, E 1 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino group, E 2 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino linking group, and Y 7 , Y 8 and Y
9 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Z 3 is S.

【0040】次に一般式(X−6a)および(X−6
b)について詳細に説明する。式中、G2およびJで表
される基としてはCOOCH3、COOC37、COO
613、COOPh、SO2CH3、SO249、CO
25、COPh、SOCH3、SOPh、CN、CH
O、NO2等が挙げられる。式中、Y11で表される連結
基としては、それぞれ炭素数1〜20の置換もしくは無
置換の直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレン
基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テト
ラメチレン基、ヘキサメチレン基、3−オキサペンチレ
ン基、2−ヒドロキシトリメチレン基)、炭素数3〜1
8の置換もしくは無置換の環状アルキレン基(例えばシ
クロプロピレン基、シクロペンチレン基、シクロへキシ
レン基)、炭素数2〜20の置換もしくは無置換のアル
ケニレン基(例えばエテン基、2−ブテニレン基)、炭
素数2〜10のアルキニレン基(例えばエチニレン
基)、炭素数6〜20の置換もしくは無置換のアリーレ
ン基(例えば無置換p−フェニレン基、無置換2,5−
ナフチレン基)が挙げられる。式中、Y11で表される2
価のヘテロ環基としては、無置換もしくはアルキレン
基、アルケニレン基、アリーレン基、またはさらにヘテ
ロ環基が置換されたもの、(例えば2,5−ピリジンジ
イル基、3−フェニル−2,5−ピリジンジイル基、
2,4−フランジイル基、1,3−ピペリジンジイル
基、2,4−モルホリンジイル基)が挙げられる。式
中、Y11はさらに置換基Y等を有していてもよい。
Next, general formulas (X-6a) and (X-6
The b) will be described in detail. In the formula, the groups represented by G 2 and J include COOCH 3 , COOC 3 H 7 , and COO.
C 6 H 13, COOPh, SO 2 CH 3, SO 2 C 4 H 9, CO
C 2 H 5 , COPh, SOCH 3 , SOPh, CN, CH
O, NO 2, etc. may be mentioned. In the formula, the linking group represented by Y 11 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, tetramethylene group). , Hexamethylene group, 3-oxapentylene group, 2-hydroxytrimethylene group), carbon number 3 to 1
8 substituted or unsubstituted cyclic alkylene group (eg, cyclopropylene group, cyclopentylene group, cyclohexylene group), substituted or unsubstituted alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms (eg, ethene group, 2-butenylene group) , An alkynylene group having 2 to 10 carbon atoms (eg, ethynylene group), a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg, unsubstituted p-phenylene group, unsubstituted 2,5-
Naphthylene group). In the formula, 2 represented by Y 11
The valent heterocyclic group is unsubstituted or substituted with an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, or a heterocyclic group (for example, 2,5-pyridinediyl group, 3-phenyl-2,5-pyridine). Diyl group,
2,4-furandiyl group, 1,3-piperidinediyl group, 2,4-morpholinediyl group). In the formula, Y 11 may further have a substituent Y or the like.

【0041】一般式(X−6a)および(X−6b)の
好ましい例を示す。式中、好ましくはG2およびJが炭
素数2〜6のカルボン酸エステル類およびカルボニル類
であり、Y11が炭素数1〜6の置換もしくは無置換のア
ルキレン基または炭素数6〜10の置換もしくは無置換
のアリーレン基である。さらに好ましくは、G2および
Jが炭素数2〜4のカルボン酸エステル類であり、Y11
が炭素数1〜4の置換もしくは無置換のアルキレン基ま
たは炭素数6〜8の置換もしくは無置換のアリーレン基
である。
Preferred examples of the general formulas (X-6a) and (X-6b) are shown below. In the formula, preferably G 2 and J are carboxylic acid esters having 2 to 6 carbon atoms and carbonyls, and Y 11 is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or a substituted carbon atom having 6 to 10 carbon atoms. Alternatively, it is an unsubstituted arylene group. More preferably, G 2 and J are carboxylic acid esters having 2 to 4 carbon atoms, and Y 11
Is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 8 carbon atoms.

【0042】Xで表されるハロゲン化銀吸着基の一般式
は、好ましい順に(X−1)、(X−2a)、(X−2
b)、(X−3)、(X−5a)、(X−5b)、(X
−4)、(X−6a)、(X−6b)である。
The general formula of the silver halide adsorbing group represented by X is (X-1), (X-2a) and (X-2) in the order of preference.
b), (X-3), (X-5a), (X-5b), (X
-4), (X-6a), and (X-6b).

【0043】次に、一般式(I)中、Xで表される光吸
収基について詳細に説明する。一般式(I)中、Xで表
される光吸収基としては以下の一般式で表される基が挙
げられる。
Next, the light absorbing group represented by X in the general formula (I) will be described in detail. In the general formula (I), examples of the light absorbing group represented by X include groups represented by the following general formula.

【0044】一般式(X−7)General formula (X-7)

【化7】 [Chemical 7]

【0045】式中、Z4は5または6員の含窒素ヘテロ
環を形成するために必要な原子群を表し、L2、L3、L
4およびL5はメチン基を表す。p1はOまたは1を表
し、n3は0〜3を表す。M1は電荷均衡対イオンを表
し、m2は分子の電荷を中和するために必要な0〜10
の数を表す。
In the formula, Z 4 represents an atomic group necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, and L 2 , L 3 , L
4 and L 5 represent a methine group. p 1 represents O or 1 and n 3 represents 0 to 3. M 1 represents a charge-balancing counterion, m 2 represents 0 to 10 necessary for neutralizing the charge of the molecule.
Represents the number of.

【0046】式中、Z4で表される5または6員の含窒
素ヘテロ環としては、チアゾリジン核、チアゾール核、
ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール
核、ベンゾオキサゾール核、セレナゾリン核、セレナゾ
ール核、ベンゾセレナゾール核、3,3−ジアルキルイ
ンドレニン核(例えば、3,3−ジメチルインドレニン
核)、イミダゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダ
ゾール核、2−ピリジン核、4−ピリジン核、2−キノ
リン核、4−キノリン核、1−イソキノリン核、3−イ
ソキノリン核、イミダゾ〔4,5−b〕キノキザリン
核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾ
ール核、ピリミジン核等が挙げられる。Z4で表される
5または6員の含窒素ヘテロ環は前述の置換基Yを有し
ていてもよい。
In the formula, the 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle represented by Z 4 includes a thiazolidine nucleus, a thiazole nucleus,
Benzothiazole nucleus, oxazoline nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, selenazoline nucleus, selenazole nucleus, benzoselenazole nucleus, 3,3-dialkylindolenine nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenine nucleus), imidazoline nucleus, imidazole nucleus Nucleus, benzimidazole nucleus, 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus, 2-quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus, 1-isoquinoline nucleus, 3-isoquinoline nucleus, imidazo [4,5-b] quinoxaline nucleus, oxadiazole Examples thereof include a nucleus, a thiadiazole nucleus, a tetrazole nucleus and a pyrimidine nucleus. The 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle represented by Z 4 may have the aforementioned substituent Y.

【0047】式中、L2、L3、L4およびL5は各々独立
したメチン基を表す。L2、L3、L 4およびL5で表され
るメチン基は置換基を有していてもよく、置換基として
は例えば、置換もしくは無置換の炭素数1〜15のアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、2−カルボキシエ
チル基)、置換もしくは無置換の炭素数6〜20のアリ
ール基(例えばフェニル基、o−カルボキシフェニル
基)、置換もしくは無置換の炭素数3〜20のヘテロ環
基(例えばN,N−ジエチルバルビツール酸基)、ハロ
ゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃
素原子)、炭素数1〜15のアルコキシ基(例えばメト
キシ基、エトキシ基)、炭素数1〜15のアルキルチオ
基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基)、炭素数6〜
20のアリールチオ基(例えばフェニルチオ基)、炭素
数0〜15のアミノ基(例えばN,N−ジフェニルアミ
ノ基、Nーメチル−N−フェニルアミノ基、N−メチル
ピペラジン基)等が挙げられる。また、他のメチン基と
環を形成してもよい。あるいは、その他の部分と環を形
成することもできる。
Where L2, L3, LFourAnd LFiveEach is independent
Represents a methine group. L2, L3, L FourAnd LFiveRepresented by
The methine group may have a substituent,
Is, for example, a substituted or unsubstituted C1-C15 al
Kill group (eg, methyl group, ethyl group, 2-carboxy group
Chill group), a substituted or unsubstituted ant having 6 to 20 carbon atoms
Group (eg phenyl group, o-carboxyphenyl
Group), a substituted or unsubstituted heterocyclic ring having 3 to 20 carbon atoms
Group (for example, N, N-diethylbarbituric acid group), halo
Gen atom (eg chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, iodine
Elementary atom), an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms (for example, meth
Xy group, ethoxy group), alkylthio having 1 to 15 carbon atoms
Group (for example, methylthio group, ethylthio group), carbon number 6 to
20 arylthio groups (eg phenylthio groups), carbon
An amino group of the number 0 to 15 (for example, N, N-diphenylamido)
Group, N-methyl-N-phenylamino group, N-methyl
Piperazine group) and the like. Also, with other methine groups
You may form a ring. Or form a ring with other parts
It can also be done.

【0048】式中、M1は光吸収基のイオン電荷を中性
にするために必要に応じて、陽イオン叉は陰イオンの存
在を示すために式の中に含まれている。典型的な陽イオ
ンとしては水素イオン(H+)、アルカリ金属イオン
(例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウ
ムイオン)等の無機陽イオン、アンモニウムイオン(例
えば、アンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウ
ムイオン、ピリジニウムイオン、エチルピリジニウムイ
オン)等の有機陽イオンが挙げられる。陰イオンも無機
陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよ
く、ハロゲン陰イオン(例えば、フッ素イオン、塩素イ
オン、沃素イオン)、置換アリールスルホン酸イオン
(例えば、p−トルエンスルホン酸イオン、p−クロロ
ベンゼンスルホン酸イオン)、アリールジスルホン酸イ
オン(例えば、1,3−ベンゼンジスルホン酸イオン、
1,5−ナフタレンジスルホン酸イオン、2,6−ナフ
タレンジスルホン酸イオン)、アルキル硫酸イオン(例
えば、メチル硫酸イオン)、硫酸イオン、チオシアン酸
イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオ
ン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタ
ンスルホン酸イオンが挙げられる。さらに、イオン性ポ
リマーまたは逆電荷を有する光吸収基を用いてもよい。
本明細書では、例えばスルホ基をSO3 -、カルボキシ基
をCO2 -と表記しているが、対イオンが水素イオンであ
る時は各々SO3H、CO2Hと表記することができる。
式中、m2は電荷を均衡させるために必要な数を表し、
分子内で塩を形成する場合は0である。
In the formula, M 1 is included in the formula to indicate the presence of a cation or an anion as necessary to neutralize the ionic charge of the light absorbing group. Typical cations include inorganic cations such as hydrogen ion (H + ) and alkali metal ions (eg, sodium ion, potassium ion, lithium ion), ammonium ion (eg, ammonium ion, tetraalkylammonium ion, pyridinium ion). , Ethylpyridinium ion) and the like. The anion may be either an inorganic anion or an organic anion, a halogen anion (eg, fluorine ion, chlorine ion, iodine ion), a substituted aryl sulfonate ion (eg, p-toluene sulfonate ion, p -Chlorobenzene sulfonate ion), an aryl disulfonate ion (for example, 1,3-benzenedisulfonate ion,
1,5-naphthalenedisulfonate ion, 2,6-naphthalenedisulfonate ion), alkyl sulfate ion (for example, methyl sulfate ion), sulfate ion, thiocyanate ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, picric acid Ions, acetate ions, and trifluoromethanesulfonate ions. Further, an ionic polymer or a light absorbing group having an opposite charge may be used.
In the present specification, for example, a sulfo group is represented by SO 3 and a carboxy group is represented by CO 2 , but when the counter ion is a hydrogen ion, they can be represented by SO 3 H and CO 2 H, respectively.
Where m 2 represents the number required to balance the charge,
It is 0 when a salt is formed in the molecule.

【0049】一般式(X−7)の好ましい例を示す。好
ましい一般式(X−7)としては、Z4がベンゾオキサ
ゾール核、ベンゾチアゾール核、ベンゾイミダゾール核
またはキノリン核であり、L2、L3、L4およびL5が無
置換のメチン基であり、p1がOであり、n3が1もしく
は2である。さらに好ましくは、Z4がベンゾオキサゾ
ール核、ベンゾチアゾール核であり、n3が1である。
特に好ましいZ4はベンゾチアゾール核である。
Preferred examples of the general formula (X-7) are shown below. As preferable general formula (X-7), Z 4 is a benzoxazole nucleus, benzothiazole nucleus, benzimidazole nucleus or quinoline nucleus, and L 2 , L 3 , L 4 and L 5 are unsubstituted methine groups. , P 1 is O and n 3 is 1 or 2. More preferably, Z 4 is a benzoxazole nucleus or a benzothiazole nucleus, and n 3 is 1.
A particularly preferred Z 4 is a benzothiazole nucleus.

【0050】一般式(I)中、好ましいkは0又は1で
あり、更に好ましくは1である。以下に一般式(I)の
Xの具体例を挙げるが、本発明において採用することが
できるXはこれらに限定されるものではない。
In the general formula (I), k is preferably 0 or 1, and more preferably 1. Specific examples of X in the general formula (I) are shown below, but X that can be employed in the present invention is not limited to these.

【0051】[0051]

【化8】 [Chemical 8]

【0052】[0052]

【化9】 [Chemical 9]

【0053】[0053]

【化10】 [Chemical 10]

【0054】[0054]

【化11】 [Chemical 11]

【0055】[0055]

【化12】 [Chemical 12]

【0056】[0056]

【化13】 [Chemical 13]

【0057】次に一般式(I)中、Lで表される連結基
について詳細に説明する。一般式(I)中、Lで表され
る連結基としては、それぞれ炭素数1〜20の置換もし
くは無置換の直鎖または分岐のアルキレン基(例えば、
メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン
基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、3−オキサ
ペンチレン基、2−ヒドロキシトリメチレン基)、炭素
数3〜18の置換もしくは無置換の環状アルキレン基
(例えば、シクロプロピレン基、シクロペンチレン基、
シクロへキシレン基)、炭素数2〜20の置換もしくは
無置換のアルケニレン基(例えば、エテン基、2−ブテ
ニレン基)、炭素数2〜10のアルキニレン基(例え
ば、エチニレン基)、炭素数6〜20の置換もしくは無
置換のアリーレン基(例えば、無置換p−フェニレン
基、無置換2,5−ナフチレン基)、ヘテロ環連結基
(例えば、2,6−ピリジンジイル基)、カルボニル
基、チオカルボニル基、イミド基、スルホニル基、スル
ホニルオキシ基、エステル基、チオエステル基、アミド
基、エーテル基、チオエーテル基、アミノ基、ウレイド
基、チオウレイド基、チオスルホニル基等が挙げられ
る。また、これらの連結基が、互いに連結して新たに連
結基を形成してもよい。Lはさらに前述の置換基Y等を
有していてもよい。
Next, the linking group represented by L in formula (I) will be described in detail. In the general formula (I), the linking group represented by L is a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example,
Methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, tetramethylene group, hexamethylene group, 3-oxapentylene group, 2-hydroxytrimethylene group), a substituted or unsubstituted cyclic alkylene group having 3 to 18 carbon atoms ( For example, a cyclopropylene group, a cyclopentylene group,
A cyclohexylene group), a substituted or unsubstituted alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms (e.g., ethene group, 2-butenylene group), an alkynylene group having 2 to 10 carbon atoms (e.g., ethynylene group), 6 to carbon atoms. 20 substituted or unsubstituted arylene group (eg, unsubstituted p-phenylene group, unsubstituted 2,5-naphthylene group), heterocyclic linking group (eg, 2,6-pyridinediyl group), carbonyl group, thiocarbonyl Examples thereof include groups, imide groups, sulfonyl groups, sulfonyloxy groups, ester groups, thioester groups, amide groups, ether groups, thioether groups, amino groups, ureido groups, thioureido groups and thiosulfonyl groups. Further, these linking groups may be linked to each other to form a new linking group. L may further have the above-mentioned substituent Y and the like.

【0058】好ましい連結基Lとしては、炭素数1〜1
0の無置換のアルキレン基とアミノ基、アミド基、チオ
エーテル基、ウレイド基またはスルホニル基と連結した
炭素数1〜10のアルキレン基が挙げられ、さらに好ま
しくは炭素数1〜6の無置換のアルキレン基とアミノ
基、アミド基またはチオエーテル基と連結した炭素数1
〜6のアルキレン基が挙げられる。一般式(I)中、好
ましいmは0もしくは1であり、さらに好ましくは1で
ある。
The preferred linking group L has 1 to 1 carbon atoms.
Examples thereof include an unsubstituted alkylene group having 0 to 10 carbon atoms, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms and an amino group, an amide group, a thioether group, a ureido group or a sulfonyl group. 1 carbon atoms linked to amino group, amino group, amide group or thioether group
~ 6 alkylene groups. In the general formula (I), m is preferably 0 or 1, and more preferably 1.

【0059】次に電子供与基Aについて詳細に説明す
る。A−B部が酸化およびフラグメント化を受けて電子
を発生してラジカルA・が生成し、さらにラジカルA・が
酸化を受けて電子を発生させ、高感度化する反応過程を
以下に示す。
Next, the electron donating group A will be described in detail. The reaction process in which the AB portion is oxidized and fragmented to generate an electron to generate a radical A., and the radical A. is oxidized to generate an electron to increase the sensitivity is shown below.

【0060】[0060]

【化14】 [Chemical 14]

【0061】Aは電子供与基であるので、いずれの構造
のものでも芳香族基上の置換基はAが電子過多である状
態にするように選定するのが好ましい。例えば、芳香環
が電子過多でない場合は、電子供与性基を導入し、逆に
アントラセンのように非常に電子過多となっているよう
な場合は、電子吸引性基を導入してそれぞれ酸化電位を
調節するのが好ましい。好ましい、A基は次の一般式を
有するものである。 一般式(A−1)、(A−2)、(A−3)
Since A is an electron-donating group, it is preferable that the substituents on the aromatic group in any structure be selected so that A is in the state of having an excess of electrons. For example, when the aromatic ring is not electron-rich, an electron-donating group is introduced. Conversely, when the aromatic ring is extremely electron-rich, an electron-withdrawing group is introduced to adjust the oxidation potential of each. It is preferably adjusted. Preferred A groups are those having the general formula: General formula (A-1), (A-2), (A-3)

【0062】[0062]

【化15】 [Chemical 15]

【0063】一般式(A−1)および(A−2)中、Y
12、Y12’、Y13およびY13’は各々独立に水素原子、
置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、アルキ
レン基およびアリ−レン基を表し、Y14およびY14’は
各々独立にアルキル基、COOH、ハロゲン原子、N
(Y152、OY15、SY15、CHO、COY15、CO
OY15、CONHY15、CON(Y152、SO315
SO2NHY15、SO2NY15、SO215、SOY15
CSY15を表す。Ar1およびAr1’は各々独立にアリ
ール基、ヘテロ環基を表す。Y12とY13、Y12とA
1、Y12’とY13’、およびY12’とAr1’はそれぞ
れ結合して環を形成していてもよい。Q2およびQ2’は
各々独立にO、S、Se、Teを表し、m3およびm4
各々独立に0もしくは1を表し、n4は1〜3を表す。
2はN−R、N−Ar、O、S、Seを表し、5〜7
員のヘテロ環もしくは不飽和環を有するものであっても
よい。Y 15は水素原子、アルキル基およびアリール基を
表す。一般式(A−3)の環状構造は、置換もしくは無
置換の5〜7員環の不飽和環またはヘテロ環基を表す。
In the general formulas (A-1) and (A-2), Y
12, Y12’, Y13And Y13′ Are each independently a hydrogen atom,
Substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, alkyl group
Represents a len group and an arylene group, Y14And Y14’Is
Each independently an alkyl group, COOH, halogen atom, N
(Y15)2, OY15, SY15, CHO, COY15, CO
OY15, CONHY15, CON (Y15)2, SO3Y15,
SO2NHY15, SO2NY15, SO2Y15, SOY15,
CSY15Represents Ar1And Ar1’Are ants independently
And a heterocyclic group. Y12And Y13, Y12And A
r1, Y12’And Y13’And Y12’And Ar1'Is that
They may combine with each other to form a ring. Q2And Q2’Is
Each independently represents O, S, Se, Te, m3And mFourIs
N independently represents 0 or 1,FourRepresents 1 to 3.
L2Represents NR, N-Ar, O, S, Se, and 5 to 7
Even if it has a heterocyclic ring or an unsaturated ring
Good. Y 15Is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group
Represent The cyclic structure of the general formula (A-3) has no substitution or substitution.
It represents a substituted 5- to 7-membered unsaturated ring or heterocyclic group.

【0064】一般式(A−1)、(A−2)および(A
−3)について詳細に説明する。式中、Y12、Y12’、
13およびY13’で表されるアルキル基としては、炭素
数1〜10の置換もしくは無置換の直鎖、または分岐の
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル
基、2−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル
基、tert−オクチル基、2−エチルヘキシル基、2
−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシエチル基、ジエ
チルアミノエチル基、ジブチルアミノエチル基、n−ブ
トキシメチル基、メトキシメチル基)、炭素数3〜6の
置換もしくは無置換の環状アルキル基(例えばシクロプ
ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基)が挙
げられ、アリール基としては、炭素数6〜12の置換も
しくは無置換のアリール基(例えば無置換フェニル基、
2−メチルフェニル基)が挙げられる。アルキレン基と
しては、炭素数1〜10の置換もしくは無置換の直鎖、
または分岐のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレ
ン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、メトキシエ
チレン基)が挙げられ、アリーレン基としては炭素数6
〜12の置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば無
置換フェニレン基、2−メチルフェニレン基、ナフチレ
ン基)が挙げられる。
General formulas (A-1), (A-2) and (A
-3) will be described in detail. In the formula, Y 12 , Y 12 ',
Examples of the alkyl group represented by Y 13 and Y 13 'include a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, 2-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, tert-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2
-Hydroxyethyl group, 1-hydroxyethyl group, diethylaminoethyl group, dibutylaminoethyl group, n-butoxymethyl group, methoxymethyl group), a substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group) , A cyclopentyl group, a cyclohexyl group), and examples of the aryl group include a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, an unsubstituted phenyl group,
2-methylphenyl group). As the alkylene group, a substituted or unsubstituted straight chain having 1 to 10 carbon atoms,
Alternatively, a branched alkylene group (for example, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a methoxyethylene group) can be mentioned, and an arylene group has 6 carbon atoms.
To 12 substituted or unsubstituted arylene groups (eg, unsubstituted phenylene group, 2-methylphenylene group, naphthylene group).

【0065】一般式(A−1)および(A−2)中、Y
14およびY14’で表される基としては、アルキル基(例
えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピ
ル基、n−ブチル基、2−ペンチル基、n−ヘキシル
基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、2−ヒド
ロキシエチル基、n−ブトキシメチル基)、COOH
基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素
原子)、OH、N(CH32、NPh2、OCH3、OP
h、SCH3、SPh、CHO、COCH3、COPh、
COOC49、COOCH3、CONHC25、CON
(CH32、SO3CH3、SO337、SO2NHCH
3、SO2N(CH32、SO225、SOCH3、CS
Ph、CSCH3が挙げられる。一般式(A−1)およ
び(A−2)で表されるAr1およびAr1’としては、
炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基(例
えば、フェニル基、2−メチルフェニル基、ナフチル
基)、置換もしくは無置換のヘテロ環基(例えば、ピリ
ジル基、3−フェニルピリジル基、ピペリジル基、モル
ホリル基)が挙げられる。
In the general formulas (A-1) and (A-2), Y
Examples of the group represented by 14 and Y 14 'include an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, 2-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group). , 2-ethylhexyl group, 2-hydroxyethyl group, n-butoxymethyl group), COOH
Group, halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), OH, N (CH 3 ) 2 , NPh 2 , OCH 3 , OP
h, SCH 3 , SPh, CHO, COCH 3 , COPh,
COOC 4 H 9 , COOCH 3 , CONHC 2 H 5 , CON
(CH 3 ) 2 , SO 3 CH 3 , SO 3 C 3 H 7 , SO 2 NHCH
3 , SO 2 N (CH 3 ) 2 , SO 2 C 2 H 5 , SOCH 3 , CS
Ph and CSCH 3 can be mentioned. As Ar 1 and Ar 1 ′ represented by the general formulas (A-1) and (A-2),
Substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, 2-methylphenyl group, naphthyl group), substituted or unsubstituted heterocyclic group (eg, pyridyl group, 3-phenylpyridyl group, piperidyl) Group, morpholyl group).

【0066】一般式(A−1)および(A−2)で表さ
れるL2としては、NH、NCH3、NC49、NC37
(i)、NPh、NPh−CH3、O、S、Se、Te
が挙げられる。一般式(A−3)の環状構造としては、
不飽和の5〜7員環、ヘテロ環(例えば、フリル基、ピ
ペリジル基、モルホリル基)が挙げられる。一般式(A
−1)および(A−2)中のY12、Y13、Y14、A
1、L2、Y12’、Y13’、Y14’、Ar1’および一
般式(A−3)中の環状構造上には前述の置換基Y等を
さらに有してもよい。
L 2 represented by the general formulas (A-1) and (A-2) includes NH, NCH 3 , NC 4 H 9 and NC 3 H 7.
(I), NPh, NPh- CH 3, O, S, Se, Te
Is mentioned. As the cyclic structure of the general formula (A-3),
An unsaturated 5- to 7-membered ring and a hetero ring (for example, a furyl group, a piperidyl group, a morpholyl group) can be mentioned. General formula (A
-1) and (Y 12 of A-2) in, Y 13, Y 14, A
r 1 , L 2 , Y 12 ′, Y 13 ′, Y 14 ′, Ar 1 ′ and the cyclic structure in the general formula (A-3) may further have the above-mentioned substituent Y and the like.

【0067】一般式(A−1)、(A−2)および(A
−3)の好ましい例を示す。一般式(A−1)および
(A−2)中、好ましくはY12、Y12’、Y13およびY
13’が各々独立に炭素数1〜6の置換もしくは無置換の
アルキル基、アルキレン基、または炭素数6〜10の置
換もしくは無置換のアリール基であり、Y14および
14’が炭素数1〜6の置換もしくは無置換のアルキル
基、炭素数1〜4のアルキル基でモノ置換またはジ置換
されたアミノ基、カルボン酸、ハロゲンまたは炭素数1
〜4のカルボン酸エステルであり、Ar1およびAr1
が炭素数6〜10の置換もしくは無置換のアリール基で
あり、Q2およびQ2’がO、SまたはSeであり、m3
およびm4が0もしくは1であり、n4が1〜3であり、
2が、炭素数0〜3のアルキル置換されたアミノ基で
ある。一般式(A−3)で表される環状構造は、5〜7
員のヘテロ環であることが好ましい。
General formulas (A-1), (A-2) and (A
-3) A preferable example is shown. In formulas (A-1) and (A-2), Y 12 , Y 12 ′, Y 13 and Y are preferable.
13 ′ each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylene group, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and Y 14 and Y 14 ′ have 1 carbon atoms. To 6 substituted or unsubstituted alkyl groups, amino groups mono- or di-substituted with alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, carboxylic acids, halogens or 1 carbon atoms
~ 4 carboxylic acid esters, Ar 1 and Ar 1 '
Is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, Q 2 and Q 2 ′ are O, S or Se, and m 3
And m 4 is 0 or 1, n 4 is 1 to 3,
L 2 is an alkyl-substituted amino group having 0 to 3 carbon atoms. The cyclic structure represented by the general formula (A-3) has 5 to 7
It is preferably a membered heterocycle.

【0068】一般式(A−1)および(A−2)中、さ
らに好ましくは、Y12、Y12’、Y 13およびY13’が各
々独立に炭素数1〜4の置換もしくは無置換のアルキル
基またはアルキレン基であり、Y14およびY14’が炭素
数1〜4の無置換のアルキル基、炭素数1〜4のモノア
ミノ置換もしくはジアミノ置換されたアルキル基であ
り、Ar1およびAr1’が炭素数6〜10の置換もしく
は無置換のアリール基であり、Q2およびQ2’がOまた
はSであり、m3およびm4が0であり、n4が1であ
り、L2が炭素数0〜3のアルキル置換されたアミノ基
である。一般式(A−3)で表される環状構造は、5〜
6員のヘテロ環であることがさらに好ましい。一般式
(I)のAがXまたはLと結合する部分は、Xが一般式
(A−1)および(A−2)で表される場合はY12、Y
13、Ar1、Y12’、Y13’またはAr1’の中から選択
される。以下に一般式(I)のAの具体例を挙げるが、
本発明で採用することができるAはこれらの具体例に限
定されるものではない。
In the general formulas (A-1) and (A-2),
And preferably Y12, Y12’, Y 13And Y13'Is each
Independently substituted or unsubstituted alkyl having 1 to 4 carbon atoms
A group or an alkylene group, and Y14And Y14'Is carbon
An unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a monoalkyl having 1 to 4 carbon atoms
A mino- or diamino-substituted alkyl group
R, Ar1And Ar1'Is a C6-10 substitution
Is an unsubstituted aryl group, Q2And Q2'Is O again
Is S and m3And mFourIs 0 and nFourIs 1
L2Is an alkyl-substituted amino group having 0 to 3 carbon atoms
Is. The cyclic structure represented by the general formula (A-3) has 5 to
A 6-membered heterocycle is more preferred. General formula
In the moiety of (I) where A is bonded to X or L, X is a general formula
Y when represented by (A-1) and (A-2)12, Y
13, Ar1, Y12’, Y13’Or Ar1Select from '
To be done. Specific examples of A in the general formula (I) will be given below.
A that can be adopted in the present invention is limited to these specific examples.
It is not fixed.

【0069】[0069]

【化16】 [Chemical 16]

【0070】[0070]

【化17】 [Chemical 17]

【0071】[0071]

【化18】 [Chemical 18]

【0072】[0072]

【化19】 [Chemical 19]

【0073】[0073]

【化20】 [Chemical 20]

【0074】[0074]

【化21】 [Chemical 21]

【0075】次に一般式(I)のBについて詳細に説明
する。Bが水素原子の場合は酸化後、分子内塩基によっ
て脱プロトンされてラジカルA・を生成する。好まし
い、Bは水素原子および次の一般式を有するものであ
る。 一般式(B−1)、(B−2)、(B−3)
Next, B of the general formula (I) will be described in detail. When B is a hydrogen atom, it is oxidized and then deprotonated by an intramolecular base to generate a radical A. Preferred B is one having a hydrogen atom and the following general formula. General formula (B-1), (B-2), (B-3)

【0076】[0076]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0077】一般式(B−1)、(B−2)および(B
−3)中、WはSi、SnまたはGeを表し、Y16は各
々独立してアルキル基を表し、Ar2は各々独立してア
リール基を表す。一般式(B−2)および(B−3)は
吸着基Xと結合させることができる。一般式(B−
1)、(B−2)および(B−3)について詳細に説明
する。式中、Y16で表されるアルキル基としては、炭素
数1〜6の置換もしくは無置換の直鎖、または分岐のア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル
基、2−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル
基、tert−オクチル基、2−エチルヘキシル基、2
−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシエチル基、n−
ブトキシエチル基、メトキシメチル基)、炭素数6〜1
2の置換もしくは無置換のアリール基(例えば、フェニ
ル基、2−メチルフェニル基)が挙げられる。一般式
(B−1)、(B−2)および(B−3)中のY16およ
びAr2は更に前述の置換基Y等を有していてもよい。
General formulas (B-1), (B-2) and (B
-3), W represents Si, Sn or Ge, Y 16 independently represents an alkyl group, and Ar 2 independently represents an aryl group. The general formulas (B-2) and (B-3) can be bonded to the adsorption group X. General formula (B-
1), (B-2) and (B-3) will be described in detail. In the formula, the alkyl group represented by Y 16 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, 2-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, tert-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2
-Hydroxyethyl group, 1-hydroxyethyl group, n-
Butoxyethyl group, methoxymethyl group), carbon number 6 to 1
And a substituted or unsubstituted aryl group of 2 (for example, a phenyl group, a 2-methylphenyl group). Y 16 and Ar 2 in the general formulas (B-1), (B-2) and (B-3) may further have the above-mentioned substituent Y and the like.

【0078】一般式(B−1)、(B−2)および(B
−3)の好ましい例を以下に示す。一般式(B−2)お
よび(B−3)中、好ましくは、Y16が炭素数1〜4の
置換もしくは無置換のアルキル基であり、Ar2が炭素
数6〜10の置換もしくは無置換のアリール基であり、
WはSiまたはSnである。一般式(B−2)および
(B−3)中、さらに好ましくは、Y16が炭素数1〜3
の置換もしくは無置換のアルキル基であり、Ar2が炭
素数6〜8の置換もしくは無置換のアリール基であり、
WはSiである。一般式(B−1)、(B−2)および
(B−3)中、最も好ましいのは、(B−1)のCOO
-および(B−2)におけるSi−(Y163である。一
般式(I)中、好ましいnは1である。以下に一般式
(I)中のA−Bの具体例を挙げるが、本発明において
採用することができるA−Bはこれらに限定されるもの
ではない。
General formulas (B-1), (B-2) and (B
The preferable example of -3) is shown below. In general formulas (B-2) and (B-3), Y 16 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Ar 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 6 to 10 carbon atoms. Is an aryl group of
W is Si or Sn. In the general formulas (B-2) and (B-3), more preferably Y 16 has 1 to 3 carbon atoms.
Is a substituted or unsubstituted alkyl group, and Ar 2 is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 8 carbon atoms,
W is Si. Among the general formulas (B-1), (B-2) and (B-3), the most preferable is COO of (B-1).
- and a Si- (Y 16) 3 in (B-2). In general formula (I), preferable n is 1. Specific examples of AB in the general formula (I) are shown below, but the AB that can be employed in the present invention is not limited to these.

【0079】[0079]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0080】[0080]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0081】[0081]

【化25】 [Chemical 25]

【0082】[0082]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0083】[0083]

【化27】 [Chemical 27]

【0084】[0084]

【化28】 [Chemical 28]

【0085】上記A−Bの電荷バランスに必要な対イオ
ンとしては、ナトリウムイオン、カリウムイオン、トリ
エチルアンモニウムイオン、ジイソプロピルアンモニウ
ムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、およびテ
トラメチルグアニジニウムイオンが挙げられる。
Examples of the counter ion necessary for the charge balance of AB are sodium ion, potassium ion, triethylammonium ion, diisopropylammonium ion, tetrabutylammonium ion, and tetramethylguanidinium ion.

【0086】A−Bの好ましい酸化電位は0〜1.5V
であり、より好ましくは0〜1.0Vであり、さらに好
ましくは0.3〜1.0Vの範囲である。結合開裂反応
から生じるラジカルA・(E2)の好ましい酸化電位は−
0.6〜−2.5Vであり、より好ましくは−0.9〜
−2Vであり、さらに好ましくは−0.9〜−1.6V
の範囲である。
The preferable oxidation potential of AB is 0 to 1.5 V.
And more preferably 0 to 1.0 V, and further preferably 0.3 to 1.0 V. The preferable oxidation potential of the radical A · (E 2 ) generated from the bond cleavage reaction is −
0.6 to -2.5 V, more preferably -0.9 to
-2V, more preferably -0.9 to -1.6V
Is the range.

【0087】酸化電位の測定法は以下の通りである。E
1はサイクリックボルタンメトリー法で行うことができ
る。電子供与体Aをアセトニトリル/0.1M過塩素酸
リチウムを含有する水80%/20%(容量%)の溶液
に溶解させる。ガラス状のカーボンディスクを動作電極
に用い、プラチナ線を対電極に用い、飽和カロメル電極
(SCE)を参照電極に用いる。25℃で、0.1V/
秒の電位走査速度で測定する。サイクリックボルタンメ
トリー波のピーク電位の時に酸化電位対SCEをとる。
これらA−B化合物のE1値は欧州特許第93,731
A1号公報に記載されている。ラジカルの酸化電位測定
は過度的な電気化学およびパルス放射線分解法によって
行われる。これらはJ.Am.Chem.Soc.19
88,110,132、同1974,96,1287、
同1974,96,1295で報告されている。以下に
一般式(I)で表される化合物の具体例を記すが、本発
明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではな
い。
The method for measuring the oxidation potential is as follows. E
1 can be performed by the cyclic voltammetry method. The electron donor A is dissolved in a solution of acetonitrile / water containing 80% / 20% (volume%) containing 0.1 M lithium perchlorate. A glassy carbon disk is used as the working electrode, a platinum wire is used as the counter electrode and a saturated calomel electrode (SCE) is used as the reference electrode. 0.1V / at 25 ° C
It is measured at a potential scanning speed of 2 seconds. The oxidation potential vs. SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.
The E 1 values of these AB compounds are European Patent No. 93,731.
It is described in A1 publication. Radical oxidation potential measurements are made by transient electrochemistry and pulse radiolysis. These are described in J. Am. Chem. Soc. 19
88, 110, 132, 1974, 96, 1287,
1974, 96, 1295. Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the compound used in the present invention is not limited thereto.

【0088】[0088]

【化29】 [Chemical 29]

【0089】[0089]

【化30】 [Chemical 30]

【0090】[0090]

【化31】 [Chemical 31]

【0091】[0091]

【化32】 [Chemical 32]

【0092】[0092]

【化33】 [Chemical 33]

【0093】[0093]

【化34】 [Chemical 34]

【0094】[0094]

【化35】 [Chemical 35]

【0095】[0095]

【化36】 [Chemical 36]

【0096】[0096]

【化37】 [Chemical 37]

【0097】[0097]

【化38】 [Chemical 38]

【0098】[0098]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0099】[0099]

【化40】 [Chemical 40]

【0100】一般式(I)で表される化合物の合成法と
しては、米国特許5,747,235号明細書、同5,
747,235号明細書、欧州特許公開786,692
A1号公報、同893,731A1号公報、同893,
732A1号公報、国際公開WO99/05570号公
報等に記載の方法、あるいはそれに準じた方法で容易に
合成することができる。
The synthetic method of the compound represented by the general formula (I) is described in US Pat. No. 5,747,235 and US Pat.
747,235, European Patent Publication 786,692.
A1 publication, 893,731 A1 publication, 893
It can be easily synthesized by a method described in 732A1 publication, WO99 / 05570 publication, or the like, or a method similar thereto.

【0101】本発明の熱現像画像記録材料を製造する際
に、一般式(I)で表される化合物は、塗布用の乳剤調
製工程や熱現像画像記録材料の製造工程中のいかなる段
階で使用してもよい。例えば、粒子形成時、脱塩工程、
化学増感時、塗布前などに用いることができる。またこ
れらの工程中において、複数回に分けて添加することも
できる。一般式(I)で表される化合物は、水、メタノ
ール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混
合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解す
る場合、pHを高くした方が溶解度が上がる化合物につ
いては、pHを高くして溶解してもよい。逆に、水に溶
解する場合、pHを低くした方が溶解度が上がる化合物
については、pHを低くして溶解してもよい。
In the production of the heat-developable image recording material of the present invention, the compound represented by the general formula (I) is used at any stage during the emulsion preparation step for coating and the production step of the heat-developable image recording material. You may. For example, during particle formation, desalting step,
It can be used during chemical sensitization or before coating. In addition, during these steps, it may be added in plural times. The compound represented by the general formula (I) is preferably added by dissolving it in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound whose solubility increases with increasing pH may be dissolved with increasing pH. On the other hand, when the compound is dissolved in water, the compound whose solubility is improved by lowering the pH may be dissolved by lowering the pH.

【0102】一般式(I)で表される化合物は、画像形
成層(乳剤層)中に使用するのが好ましいが、画像形成
層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散
させてもよい。一般式(I)で表される化合物の添加時
期は増感色素添加の前後を問わず、各々好ましくはハロ
ゲン化銀1mol当り、1×10-9〜5×10-1mo
l、更に好ましくは1×10-8〜2×10-1molの割
合でハロゲン化銀を含有する画像形成層に含有する。
The compound represented by the general formula (I) is preferably used in the image forming layer (emulsion layer), but it is added to the protective layer or the intermediate layer together with the image forming layer and diffused at the time of coating. May be. The compound represented by the general formula (I) may be added before or after the addition of the sensitizing dye, preferably 1 × 10 −9 to 5 × 10 −1 mo per mol of silver halide.
1, more preferably 1 × 10 −8 to 2 × 10 −1 mol in the image forming layer containing silver halide.

【0103】(感光性ハロゲン化銀)以下、本発明で用
いられる感光性ハロゲン化銀について詳細に説明する。
本発明の感光性ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含量は、5
〜100モル%であることが好ましい。該平均ヨウ化銀
含量は、10〜100モル%がより好ましく、40〜1
00モル%が更に好ましく、70〜100モル%が特に
好ましく、90〜100モル%が最も好ましい。
(Photosensitive Silver Halide) The photosensitive silver halide used in the present invention will be described in detail below.
The photosensitive silver halide of the present invention has an average silver iodide content of 5
It is preferably ˜100 mol%. The average silver iodide content is more preferably 10 to 100 mol%, and 40 to 1
00 mol% is more preferable, 70-100 mol% is especially preferable, and 90-100 mol% is the most preferable.

【0104】粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一
であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化した
ものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。
また、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好
ましく用いることできる。構造として好ましいものは2
〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア
/シェル構造粒子を用いることができる。ヨウ素の他の
ハロゲン組成に対する固溶には限界があるが、上述のよ
うなコア/シェル構造や接合構造をとることにより、ヨ
ウ素含量は任意に設定することができる。
The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or the halogen composition may be continuously changed.
Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. 2 is preferable as a structure
It is possible to use core / shell structured particles having a quintuple-fold structure, and more preferably a quadruple-fold structure. Although there is a limit to the solid solution of iodine with other halogen compositions, the iodine content can be arbitrarily set by adopting the core / shell structure or the junction structure as described above.

【0105】本発明の感光性ハロゲン化銀は、350n
m〜450nmの間の波長にヨウ化銀結晶構造に由来す
る直接遷移吸収を示すことが好ましい。これらハロゲン
化銀が直接遷移の光吸収を持っているかどうかは、40
0nm〜430nm付近に直接遷移に起因する励起子吸
収が見られるかで容易に区別することができる。
The photosensitive silver halide of the present invention is 350 n
It is preferable to exhibit direct transition absorption derived from the silver iodide crystal structure at a wavelength between m and 450 nm. Whether these silver halides have direct transition light absorption is 40
It can be easily distinguished by the fact that exciton absorption due to direct transition is observed in the vicinity of 0 nm to 430 nm.

【0106】この様な直接遷移光吸収型高ヨウ化銀相
は、単独で存在しても構わないが、臭化銀乳剤、塩化銀
乳剤、またはヨウ臭化銀乳剤、ヨウ塩化銀およびこれら
の混晶の様な350mm〜450nmの波長域において
間接遷移吸収を示すハロゲン化銀に接合して存在するも
のも好ましく用いられる。
Such a direct transition light absorption type high silver iodide phase may exist alone, but it may be a silver bromide emulsion, a silver chloride emulsion, or a silver iodobromide emulsion, silver iodochloride, or a silver halide emulsion. A compound such as a mixed crystal which is present by being bonded to silver halide exhibiting indirect transition absorption in the wavelength range of 350 mm to 450 nm is also preferably used.

【0107】また、既述のごとくコア/シェル構造をと
ることも好ましく、あるいはヨウ素イオンコンバージョ
ンによる不定構造として存在することも好ましい。これ
らの場合についても、ハロゲン化銀粒子のハロゲン組成
として全ヨウ化銀含有量は5〜100モル%が好まし
い。該ヨウ化銀含有量は、10〜100モル%がより好
ましく、40〜100モル%が更に好ましく、70〜1
00モル%が特に好ましく、90〜100モル%が最も
好ましい。
It is also preferable that the core / shell structure is taken as described above, or that the core / shell structure is present as an indefinite structure due to iodide conversion. Also in these cases, the total silver iodide content is preferably 5 to 100 mol% as the halogen composition of the silver halide grains. The silver iodide content is more preferably 10 to 100 mol%, further preferably 40 to 100 mol%, and 70 to 1
00 mol% is particularly preferable, and 90 to 100 mol% is the most preferable.

【0108】この様な直接遷移によって光を吸収するハ
ロゲン化銀相は一般に強い光吸収を示すが、弱い吸収し
か示さない間接遷移のハロゲン化銀相に比べて低感度で
あり従来工業的にはあまり利用されていなかった。本発
明はこのようなハロゲン化銀感光材料を本発明の一般式
(I)で表される化合物の少なくとも一種を用いること
により、好ましい高感度が得られることを見出したもの
である。
A silver halide phase which absorbs light by such a direct transition generally exhibits strong light absorption, but has a lower sensitivity than an indirect transition silver halide phase which exhibits only weak absorption, and is conventionally industrially less It wasn't used much. The present invention has found that preferable high sensitivity can be obtained by using such a silver halide light-sensitive material with at least one compound represented by the general formula (I) of the present invention.

【0109】本発明の感光性ハロゲン化銀は、その平均
粒子サイズが5nm〜80nmであると一層好ましく特
性を発揮する。特に直接遷移吸収を有する相が存在する
ハロゲン化銀粒子において、その粒子サイズが80nm
以下と小さいことによって好ましい高感度が得られるこ
とを見出した。
The photosensitive silver halide of the present invention exhibits more preferable characteristics when its average grain size is 5 nm to 80 nm. In particular, in a silver halide grain having a phase having direct transition absorption, the grain size is 80 nm.
It has been found that a preferable high sensitivity can be obtained by making it small as follows.

【0110】上記感光性ハロゲン化銀の平均粒子サイズ
は、より好ましくは5nm〜70nmであり、更に好ま
しくは10nm〜50nmである。ここでいう平均粒子
サイズとは、ハロゲン化銀粒子の投影面積(平板粒子の
場合は主平面の投影面積)と同面積の円像に換算したと
きの直径をいう。以下、この平均粒子サイズは単に粒子
サイズということもある。
The average grain size of the photosensitive silver halide is more preferably 5 nm to 70 nm, further preferably 10 nm to 50 nm. The average grain size as used herein means a diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of silver halide grains (projected area of the main plane in the case of tabular grains). Hereinafter, this average particle size may be simply referred to as a particle size.

【0111】前記感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業
界ではよく知られており、例えば、リサーチディスクロ
ージャー1978年6月の第17029号、および米国
特許第3700458号に記載されている方法を用いる
ことができるが、具体的にはゼラチンあるいは他のポリ
マー溶液中に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添
加することにより感光性ハロゲン化銀を調製し、その後
で有機銀塩と混合する方法を用いる。また、特開平11
−119374号公報の段落番号0217〜0224に
記載されている方法、特開平11−352627号公
報、特開2000−347335号公報記載の方法も好
ましい。
The method of forming the photosensitive silver halide is well known in the art, and for example, the method described in Research Disclosure, June 1978, No. 17029, and US Pat. No. 3,700,458 is used. Specifically, a method is used in which a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver-providing compound and a halogen-providing compound into gelatin or another polymer solution, and thereafter, a method of mixing with a silver salt is used. In addition, JP-A-11
The methods described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A-119374, and the methods described in JP-A Nos. 11-352627 and 2000-347335 are also preferable.

【0112】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体形状の状粒子が好ましい。ハロゲン化銀粒子の
コーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができ
る。感光性ハロゲン化銀粒子の外表面の面指数(ミラー
指数)については特に制限はないが、分光増感色素が吸
着した場合の分光増感効率が高い{100}面の占める
割合が高いことが好ましい。その割合としては50%以
上が好ましく、65%以上が更に好ましく、80%以上
が特に好ましい。ミラー指数{100}面の比率は増感
色素の吸着における{111}面と{100}面との吸
着依存性を利用したT.Tani;J.Imaging
Sci.、<29>、165(1985年)に記載の方
法により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is cubic,
Examples thereof include octahedral particles, tabular particles, spherical particles, rod-shaped particles, and potato-shaped particles. In the present invention, cubic particles are particularly preferable. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (Miller index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the {100} plane, which has high spectral sensitization efficiency when a spectral sensitizing dye is adsorbed, may be high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, particularly preferably 80% or more. The ratio of the Miller index {100} plane is measured by T.M., which utilizes the adsorption dependence of the {111} plane and the {100} plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani; J. Imaging
Sci. , <29>, 165 (1985).

【0113】本発明においては、六シアノ金属錯体を粒
子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六
シアノ金属錯体としては、[Fe(CN)64-、[F
e(CN)63-、[Ru(CN)64-、[Os(C
N)64-、[Co(CN)6 3-、[Rh(CN)6
3-、[Ir (CN)63-、[Cr(CN)63-
[Re(CN)63-等が挙げられる。本発明において
は六シアノFe錯体が好ましい。
In the present invention, the hexacyano metal complex is granulated.
A silver halide grain present on the outermost surface of the child is preferable. Six
Examples of cyano metal complexes include [Fe (CN)6]Four-, [F
e (CN)6]3-, [Ru (CN)6]Four-, [Os (C
N)6]Four-, [Co (CN)6] 3-, [Rh (CN)6]
3-, [Ir (CN)6]3-, [Cr (CN)6]3-,
[Re (CN)6]3-Etc. In the present invention
Is preferably a hexacyano Fe complex.

【0114】六シアノ金属錯体は、水溶液中でイオンの
形で存在するので対陽イオンは重要ではないが、水と混
和しやすく、ハロゲン化銀乳剤の沈澱操作に適合してい
るナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオ
ン、セシウムイオンおよびリチウムイオン等のアルカリ
金属イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウ
ムイオン(例えばテトラメチルアンモニウムイオン、テ
トラエチルアンモニウムイオン、テトラプロピルアンモ
ニウムイオン、テトラ(n−ブチル)アンモニウムイオ
ン)を用いることが好ましい。
Since the hexacyano metal complex exists in the form of an ion in an aqueous solution, the counter cation is not important, but it is easily miscible with water and is suitable for the precipitation operation of a silver halide emulsion. Use of alkali metal ions such as ions, rubidium ions, cesium ions and lithium ions, ammonium ions, alkylammonium ions (for example, tetramethylammonium ion, tetraethylammonium ion, tetrapropylammonium ion, tetra (n-butyl) ammonium ion) Is preferred.

【0115】六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和し
うる適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル
類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類
等)との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することが
できる。
The hexacyano metal complex is a mixed solvent with water or a suitable organic solvent miscible with water (eg, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.) and gelatin. It can be mixed with and added.

【0116】六シアノ金属錯体の添加量は、銀1モル当
たり1×10-5モル以上1×10-2モル以下が好まし
く、より好ましくは1×10-4モル以上1×10-3モル
以下である。
The addition amount of the hexacyano metal complex is preferably 1 × 10 −5 mol or more and 1 × 10 −2 mol or less, and more preferably 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −3 mol or less per 1 mol of silver. Is.

【0117】六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表
面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に
使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セ
レン増感およびテルル増感のカルコゲン増感や金増感等
の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終
了前、水洗工程中、分散工程中、または化学増感工程前
に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないた
めには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加す
ることが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好
ましい。
In order to allow the hexacyano metal complex to exist on the outermost surface of the silver halide grain, sulfur hexasensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization are carried out after the hexacyano metal complex has been added to the silver nitrate aqueous solution used for grain formation. Of the chalcogen sensitization or gold sensitization before the chemical sensitization step before the chemical sensitization step, the washing step, the dispersion step, or the chemical sensitization step. In order to prevent silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and preferably before the end of the charging step.

【0118】尚、六シアノ金属錯体の添加は、粒子形成
をするために添加する硝酸銀の総量の96質量%を添加
した後から開始してもよく、98質量%添加した後から
開始するのがより好ましく、99質量%添加した後が特
に好ましい。
The addition of the hexacyano metal complex may be started after the addition of 96% by mass of the total amount of silver nitrate added for grain formation, or after the addition of 98% by mass. More preferably, and particularly preferably after addition of 99% by mass.

【0119】これら六シアノ金属錯体を粒子形成の完了
する直前の硝酸銀水溶液を添加した後に添加すると、ハ
ロゲン化銀粒子最表面に吸着することができ、そのほと
んどが粒子表面の銀イオンと難溶性の塩を形成する。こ
の六シアノ鉄(II)の銀塩は、AgIよりも難溶性の塩
であるため、微粒子による再溶解を防ぐことができ、粒
子サイズが小さいハロゲン化銀微粒子を製造することが
可能となった。
When these hexacyano metal complexes are added after the addition of the aqueous silver nitrate solution just before the completion of grain formation, they can be adsorbed on the outermost surface of the silver halide grain, and most of them are hardly soluble with silver ions on the grain surface. Form a salt. Since this silver salt of hexacyanoiron (II) is less soluble than AgI, redissolution by fine particles can be prevented, and fine silver halide fine particles having a small grain size can be produced. .

【0120】本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、周期
律表(第1〜18族までを示す)の第8族〜第10族の
金属または金属錯体を含有することができる。周期律表
の第8族〜第10族の金属または金属錯体の中心金属と
して好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウムで
ある。これら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属及
び異種金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい
含有率は銀1モルに対し1×10-9モルから1×10-3
モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及び
それらの添加法については特開平7−225449号公
報、特開平11−65021号公報の段落番号0018
〜0024、特開平11−119374号公報の段落番
号0227〜0240に記載されている。
The photosensitive silver halide grain of the present invention can contain a metal or a metal complex of Group 8 to Group 10 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18). The metal of Group 8 to 10 of the periodic table or the central metal of the metal complex is preferably rhodium, ruthenium or iridium. One of these metal complexes may be used, or two or more of the same metal complex and different metal complexes may be used in combination. The preferred content is 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol per mol of silver.
A molar range is preferred. Regarding these heavy metals and metal complexes and the method of adding them, paragraph Nos. 0018 of JP-A-7-225449 and JP-A-11-65021.
To 0024, paragraph Nos. 0227 to 0240 of JP-A No. 11-119374.

【0121】更に本発明に用いられるハロゲン化銀粒子
に含有することのできる金属原子(例えば[Fe(C
N)64-)、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法
については特開平11−84574号公報の段落番号0
046〜0050、特開平11−65021号公報の段
落番号0025〜0031、特開平11−119374
号公報の段落番号0242〜0250に記載されてい
る。
Further, a metal atom which can be contained in the silver halide grain used in the present invention (for example, [Fe (C
N) 6 ] 4- ), the desalting method and the chemical sensitizing method of a silver halide emulsion are disclosed in paragraph No. 0 of JP-A No. 11-84574.
046 to 0050, paragraph numbers 0025 to 0031 of JP-A No. 11-65021, and JP-A No. 11-119374.
Paragraph Nos. 0242 to 0250 of the publication.

【0122】本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に
含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用す
ることができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含
有塗布液内で良好な分散状態を維持するために、分子量
は、500〜60000の低分子量ゼラチンを使用する
ことが好ましい。これらの低分子量ゼラチンは粒子形成
時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、脱
塩処理後の分散時に使用することが好ましい。
Various gelatins can be used as the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention. In order to maintain a good dispersion state in the coating solution containing the organic silver salt of the photosensitive silver halide emulsion, it is preferable to use low molecular weight gelatin having a molecular weight of 500 to 60,000. These low molecular weight gelatins may be used during grain formation or dispersion after desalting treatment, but are preferably used during dispersion after desalting treatment.

【0123】本発明では増感色素を用いることができ
る。本発明の増感色素としては、ハロゲン化銀粒子に吸
着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増
感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度
を有する増感色素を有利に選択することができる。増感
色素及び添加法については、特開平11-65021号の段落番
号0103〜0109、特開平10-186572号一般式(II)で表され
る化合物、特開平11-119374号の一般式(I) で表される
色素及び段落番号0106、米国特許第5,510,236号、同第
3,871,887号実施例5に記載の色素、特開平2-96131号、
特開昭59-48753号に開示されている色素、欧州特許公開
第0803764A1号の第19ページ第38行〜第20ページ第35
行、特願2000-86865号、特願2000-102560号、特願2000-
205399号等に記載されている。これらの増感色素は単独
で用いてもよく、2種以上組合せて用いてもよい。本発
明において増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する時
期は、脱塩工程後、塗布までの時期が好ましく、より好
ましくは脱塩後から化学熟成が終了する前までの時期で
ある。本発明における増感色素の添加量は、感度やカブ
リの性能に合わせて所望の量にすることができるが、画
像形成層のハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルが好
ましく、更に好ましくは10-4〜10-1モルである。
In the present invention, a sensitizing dye can be used. The sensitizing dye of the present invention is capable of spectrally sensitizing silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and has a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. Can be advantageously selected. Regarding the sensitizing dye and the addition method, paragraph Nos. 0103 to 0109 of JP-A No. 11-65021, a compound represented by JP-A No. 10-186572, a general formula (II), and a general formula (I of JP-A No. 11-119374) ) And a paragraph number 0106, U.S. Pat.No. 5,510,236,
3,871,887, the dye described in Example 5, JP-A-2-96131,
Dyes disclosed in JP-A-59-48753, page 19 line 38 to page 20 line 35 of European Patent Publication No. 0803764A1.
Line, Japanese Patent Application No. 2000-86865, Japanese Patent Application 2000-102560, Japanese Patent Application 2000-
No. 205399 etc. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more kinds. In the present invention, the sensitizing dye is added to the silver halide emulsion preferably after the desalting step and before coating, and more preferably after the desalting step and before the completion of chemical ripening. The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be a desired amount according to the sensitivity and fog performance, but is preferably 10 -6 to 1 mol per 1 mol of silver halide in the image forming layer, and more preferably Is 10 -4 to 10 -1 mol.

【0124】本発明は分光増感効率を向上させるため、
強色増感剤を用いることができる。本発明に適用される
強色増感剤としては、欧州特許公開第587,338号、米国
特許第3,877,943号、同第4,873,184号、特開平5-341432
号、同11-109547号、同10-111543号等に記載の化合物が
挙げられる。
In order to improve the spectral sensitization efficiency of the present invention,
A supersensitizer can be used. Examples of the supersensitizer applied to the present invention include European Patent Publication No. 587,338, U.S. Patent Nos. 3,877,943, 4,873,184, and JP-A-5-341432.
No. 11-109547, No. 10-111543 and the like.

【0125】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子
は、硫黄増感法、セレン増感法もしくはテルル増感法に
て化学増感されていることが好ましい。硫黄増感法、セ
レン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物
としては公知の化合物、例えば、特開平7-128768号等に
記載の化合物等を使用することができる。特に本発明に
おいてはテルル増感が好ましく、特開平11-65021号の段
落番号0030に記載の文献に記載の化合物、特開平5-
313284号中の一般式(II),(III),(IV)で示される化
合物がより好ましい。
The photosensitive silver halide grains in the present invention are preferably chemically sensitized by a sulfur sensitizing method, a selenium sensitizing method or a tellurium sensitizing method. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, the selenium sensitization method, and the tellurium sensitization method, known compounds, for example, the compounds described in JP-A-7-128768 can be used. Particularly in the present invention, tellurium sensitization is preferable, and compounds described in the literature described in paragraph No. 0030 of JP-A No. 11-65021, JP-A No.
The compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in 313284 are more preferable.

【0126】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子
は、上記カルコゲン増感と組み合わせて、あるいは単独
で金増感法にて化学増感されていることが好ましい。金
増感剤としては、金の価数が+1価または+3価が好まし
く、金増感剤としては通常用いられる金化合物が好まし
い。代表的な例としては塩化金酸、臭化金酸、カリウム
クロロオーレート、カリウムブロロオーレート、オーリ
ックトリクロライド、カリウムオーリックチオシアネー
ト、カリウムヨードオーレート、テトラシアノオーリッ
クアシド、アンモニウムオーロチオシアネート、ピリジ
ルトリクロロゴールドなどが好ましい。また、米国特許
第5858637号、特願2001−79450号に記
載の金増感剤も好ましく用いられる。
The photosensitive silver halide grain in the invention is preferably chemically sensitized by a gold sensitizing method in combination with the chalcogen sensitization or alone. The gold sensitizer preferably has a gold valence of +1 or +3, and the gold sensitizer is preferably a gold compound usually used. Typical examples are chloroauric acid, bromioric acid, potassium chloroaurate, potassium brouroate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodoaurate, tetracyanoauric acid, ammonium aurothiocyanate and pyridyl trichlorogold. Are preferred. Further, the gold sensitizers described in US Pat. No. 5,858,637 and Japanese Patent Application No. 2001-79450 are also preferably used.

【0127】本発明においては、化学増感は粒子形成後
で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩
後、(1)分光増感前、(2)分光増感と同時、(3)分光増感
後、(4)塗布直前等があり得る。本発明で用いられる硫
黄、セレンおよびテルル増感剤の使用量は、使用するハ
ロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハ
ロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-2モル、好ましく
は10-7〜10-3モル程度を用いる。金増感剤の添加量
は種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化
銀1モル当たり10-7モル〜10-3モル、より好ましくは10
-6モル〜5×10-4モルである。本発明における化学増感
の条件としては特に制限はないが、pHとしては5〜
8、pAgとしては6〜11、温度としては40〜95
℃程度である。本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、
欧州特許公開第293,917号公報に示される方法により、
チオスルホン酸化合物を添加してもよい。
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after grain formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, ( There may be 3) after spectral sensitization and (4) immediately before coating. The amount of the sulfur, selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but is 10 −8 to 10 −2 mol, preferably 1 −8 mol, per mol of silver halide. About 10 −7 to 10 −3 mol is used. The addition amount of the gold sensitizer varies depending on various conditions, but as a guide, it is 10 -7 to 10 -3 mol, and more preferably 10 -10 mol per mol of silver halide.
-6 mol to 5 × 10 -4 mol. The chemical sensitization conditions in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to
8, 6 to 11 as pAg, 40 to 95 as temperature
It is about ℃. The silver halide emulsion used in the present invention includes
By the method shown in European Patent Publication No. 293,917,
A thiosulfonic acid compound may be added.

【0128】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子に
は、還元剤を用いることが好ましい。還元増感法の具体
的な化合物としてはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素が
好ましく、その他に塩化第一スズ、アミノイミノメタン
スルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラ
ン化合物、ポリアミン化合物等を用いることが好まし
い。還元増感剤の添加は、結晶成長から塗布直前の調製
工程までの感光乳剤製造工程のどの過程でも良い。ま
た、乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持
して熟成することにより還元増感することが好ましく、
粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導
入することにより還元増感することも好ましい。
A reducing agent is preferably used for the photosensitive silver halide grains in the present invention. As a specific compound for the reduction sensitization method, ascorbic acid and thiourea dioxide are preferable, and stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, a hydrazine derivative, a borane compound, a silane compound, and a polyamine compound are preferably used. . The reduction sensitizer may be added at any stage of the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating. Further, it is preferable to carry out reduction sensitization by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or pAg at 8.3 or less,
It is also preferable to carry out reduction sensitization by introducing a single addition part of silver ions during grain formation.

【0129】本発明に用いられる感光記録材料中の感光
性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上
(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成
の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異
なるもの)併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲ
ン化銀を複数種用いることで階調を調節することができ
る。これらに関する技術としては特開昭57-119341号、
同53-106125号、同47-3929号、同48-55730号、同46-518
7号、同50-73627号、同57-150841号などが挙げられる。
感度差としてはそれぞれの乳剤で0.2logE以上の差を持
たせることが好ましい。
The photosensitive silver halide emulsion in the photosensitive recording material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, different halogen compositions, and different crystal habits). Those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination. Gradation can be adjusted by using a plurality of photosensitive silver halides having different sensitivities. As a technique relating to these, JP-A-57-119341,
53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-518
No. 7, No. 50-73627, No. 57-150841, etc.
As a difference in sensitivity, it is preferable that each emulsion has a difference of 0.2 logE or more.

【0130】感光性ハロゲン化銀の添加量は、感材1m
2当たりの塗布銀量で示して、0.03〜0.6g/m2
であることが好ましく、0.07〜0.4g/m2である
ことが更に好ましく、0.05〜0.3g/m2であるこ
とが最も好ましく、有機銀塩1モルに対しては、感光性
ハロゲン化銀は0.01モル以上0.3モル以下が好ま
しく、より好ましくは0.02モル以上0.2モル以
下、更に好ましくは0.03モル以上0.15モル以下
である。
The amount of photosensitive silver halide added was 1 m for the light-sensitive material.
Indicated by the amount of coated silver per 2, 0.03~0.6g / m 2
It is preferably, more preferably from 0.07~0.4g / m 2, and most preferably from 0.05 to 0.3 g / m 2, relative to the organic silver salt 1 mole, The photosensitive silver halide is preferably 0.01 mol or more and 0.3 mol or less, more preferably 0.02 mol or more and 0.2 mol or less, still more preferably 0.03 mol or more and 0.15 mol or less.

【0131】別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機
銀塩の混合方法及び混合条件については、それぞれ調製
終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボ
ールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモ
ジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調
製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロ
ゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等がある。
Regarding the mixing method and mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide grains and organic silver salt are mixed with a high-speed stirrer, a ball mill, a sand mill, a colloid mill, and a vibration. There are a method of mixing with a mill, a homogenizer, etc., or a method of mixing the photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt to prepare the organic silver salt.

【0132】この様に本発明のハロゲン化銀は有機酸銀
の存在しない状態で形成されたものであることが好まし
い。また、混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と
2種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真
特性の調節のために好ましい方法である。
Thus, the silver halide of the present invention is preferably formed in the absence of organic acid silver. In addition, mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions at the time of mixing is a preferable method for controlling photographic characteristics.

【0133】本発明のハロゲン化銀の画像形成層塗布液
中への好ましい添加時期は、塗布する180分前から直
前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方
法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる
限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法とし
ては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞
留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合す
る方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋
幸司訳“液体混合技術”(日刊工業新聞社刊、1989年)の
第8章などに記載されているスタチックミキサーなどを
使用する方法がある。
The silver halide of the present invention is preferably added to the coating solution for the image forming layer 180 minutes before and immediately before coating, preferably 60 minutes before 10 seconds before coating. Is not particularly limited as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount sent to the coater is set to a desired time, and N. Harnby, MF Edwards, AW Nienow, translated by Koji Takahashi. There is a method of using a static mixer described in Chapter 8 of "Liquid mixing technology" (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).

【0134】感光記録材料の階調は任意であるが、本発
明の効果を有効に発現するためにはその濃度1.5から
濃度3.0の平均コントラストが1.5以上10以下で
あることが好ましい。ここで平均コントラストとは、レ
ーザーの露光量の対数を横軸にとり、その露光量で露光
された感光記録材料の熱現像後の光学濃度を横軸にとっ
た特性曲線において、光学濃度1.5と濃度3.0を結
ぶ線の傾きをいう。この平均コントラストは1.5以上
10以下であることが文字切れの性能向上のためには好
ましい。特に好ましくは2.0以上7以下である。さら
に好ましくは2.5以上6以下である。
The gradation of the photosensitive recording material is arbitrary, but in order to effectively bring out the effect of the present invention, the average contrast from density 1.5 to density 3.0 is 1.5 or more and 10 or less. Is preferred. Here, the average contrast is a characteristic curve in which the horizontal axis represents the logarithm of the laser exposure amount and the horizontal axis represents the optical density of the photosensitive recording material exposed with the exposure amount. And the slope of the line connecting the density 3.0. It is preferable that the average contrast is 1.5 or more and 10 or less in order to improve the performance of character breaks. It is particularly preferably 2.0 or more and 7 or less. It is more preferably 2.5 or more and 6 or less.

【0135】(非感光性有機銀塩)本発明に用いること
のできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、
露光された光触媒(感光性ハロゲン化銀の潜像など)及
び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱され
た場合に銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は銀イ
オンを還元できる源を含む任意の有機物質であってよ
い。
(Non-Photosensitive Organic Silver Salt) The organic silver salt which can be used in the present invention is relatively stable to light,
A silver salt that forms a silver image when heated to 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of photosensitive silver halide) and a reducing agent. The organic silver salt may be any organic substance containing a source capable of reducing silver ions.

【0136】このような非感光性の有機銀塩について
は、特開平10-62899号の段落番号0048〜0049、
欧州特許公開第0803764A1号の第18ページ第24行〜
第19ページ第37行、欧州特許公開第0962812A1号、
特開平11-349591号、特開2000-7683号、同2000-72711号
等に記載されている。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10
〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン酸の銀
塩が好ましい。脂肪酸銀塩の好ましい例としては、ベヘ
ン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸
銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パ
ルミチン酸銀、およびこれらの混合物などを含む。本発
明においては、これら脂肪酸銀の中でも、ベヘン酸銀含
有率が好ましくは50モル%以上、より好ましくは80
モル%以上、さらに好ましくは90モル%以上の脂肪酸
銀を用いることが好ましい。
Regarding such non-photosensitive organic silver salt, paragraph Nos. 0048 to 0049 of JP-A-10-62899,
European Patent Publication No. 0803764A1, page 18, line 24-
Page 19, Line 37, European Patent Publication No. 0962812A1,
It is described in JP-A Nos. 11-349591, 2000-7683, 2000-72711 and the like. Silver salts of organic acids, especially (10 carbon atoms
Silver salts of long chain aliphatic carboxylic acids (~ 30, preferably 15-28) are preferred. Preferred examples of the fatty acid silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and a mixture thereof. In the present invention, among these fatty acid silver salts, the silver behenate content is preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more.
It is preferable to use at least mol%, more preferably at least 90 mol% of fatty acid silver.

【0137】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん
片状いずれでもよい。本発明においてはりん片状の有機
銀塩が好ましい。また、長軸と単軸の長さの比が5以下
の短針状、直方体、立方体またはジャガイモ状の不定形
粒子も好ましく用いられる。これらの有機銀粒子は長軸
と単軸の長さの比が5以上の長針状粒子に比べて熱現像
時のカブリが少ないという特徴を有している。
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited and may be needle-like, rod-like, tabular or flaky. In the present invention, a flaky organic silver salt is preferred. In addition, short needle-shaped, rectangular parallelepiped, cubic or potato-shaped amorphous particles having a major axis-uniaxial length ratio of 5 or less are also preferably used. These organic silver particles are characterized by less fog during thermal development than long needle-shaped particles having a major axis to uniaxial length ratio of 5 or more.

【0138】本明細書において、りん片状の有機銀塩と
は、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡
で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、こ
の直方体の辺を一番短い方からa、b、cとした(cは
bと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、b
で計算し、次のようにしてxを求める。 x=b/a
In the present specification, the flaky organic silver salt is defined as follows. By observing the organic acid silver salt with an electron microscope, the shape of the organic acid silver salt particles was approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of this rectangular parallelepiped were set to a, b, and c from the shortest side (c is the same as b. Also, the shorter numerical value a, b
And calculate x as follows. x = b / a

【0139】このようにして200個程度の粒子につい
てxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平
均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好
ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは2
0≧x(平均)≧2.0である。因みに針状とは1≦x
(平均)<1.5である。
In this way, when x is obtained for about 200 particles and the average value x (average) is taken, the one satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 is made into a flaky shape. Preferably 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 2
0 ≧ x (average) ≧ 2.0. By the way, needle-shaped is 1 ≦ x
(Average) <1.5.

【0140】りん片状粒子において、aはbとcを辺と
する面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることがで
きる。aの平均は0.01μm以上0.23μmが好ま
しく0.1μm以上0.20μm以下がより好ましい。
c/bの平均は好ましくは1以上6以下、より好ましく
は1.05以上4以下、さらに好ましくは1.1以上3
以下、特に好ましくは1.1以上2以下である。
In the scale-like grains, a can be regarded as the thickness of a tabular grain having a plane having sides b and c as a main plane. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.23 μm, more preferably 0.1 μm or more and 0.20 μm or less.
The average of c / b is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1.05 or more and 4 or less, still more preferably 1.1 or more 3
The ratio is particularly preferably 1.1 or more and 2 or less.

【0141】有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散である
ことが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さ
の標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分
率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以
下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状
の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡
像より求めることができる。単分散性を測定する別の方
法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求
める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率
(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましく
は80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定
方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー
光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自
己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ(体
積加重平均直径)から求めることができる。
The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodisperse. Monodisperse is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, still more preferably 50%, of 100% of the value obtained by dividing the standard deviation of the length of each of the minor axis and the major axis by each of the minor axis and the major axis. It is the following. The shape of the organic silver salt can be measured by a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring the monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, It is preferably 80% or less, more preferably 50% or less. As a measuring method, for example, the particle size (volume-weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the time change of the fluctuation of scattered light You can

【0142】本発明に用いられる有機酸銀の製造及びそ
の分散法は、公知の方法等を適用することができる。例
えば上記の特開平10-62899号、欧州特許公開第0803763A
1、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11-349591号、
特開2000-7683号、同2000-72711号、特願平11-348228〜
30号、同11-203413号、特願2000-90093号、同2000-1956
21号、同2000-191226号、同2000-213813号、同2000-214
155号、同2000-191226号等を参考にすることができる。
Known methods and the like can be applied to the method for producing the organic silver salt used in the invention and the dispersing method thereof. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-62899 and European Patent Publication No. 0803763A described above.
1, European Patent Publication No. 0962812A1, JP-A-11-349591,
JP 2000-7683, 2000-72711, Japanese Patent Application No. 11-348228 ~
No. 30, No. 11-203413, Japanese Patent Application No. 2000-90093, No. 2000-1956
21, 2000-191226, 2000-213813, 2000-214
Reference can be made to Nos. 155 and 2000-191226.

【0143】なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を
共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下する
ため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことが
より好ましい。本発明では、分散される水分散液中での
感光性銀塩量は、その液中の有機酸銀塩1molに対し
1mol%以下であることが好ましく、より好ましくは
0.1mol%以下であり、さらに好ましいのは積極的
な感光性銀塩の添加を行わないものである。
When a photosensitive silver salt is allowed to coexist during the dispersion of the organic silver salt, fog increases and the sensitivity remarkably decreases. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained during the dispersion. In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the dispersed aqueous dispersion is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% or less, based on 1 mol of the organic acid silver salt in the liquid. It is more preferable that the photosensitive silver salt is not added positively.

【0144】本発明において有機銀塩水分散液と感光性
銀塩水分散液を混合して感光記録材料を製造することが
可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的
に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性銀塩の割合
は1〜30モル%の範囲が好ましく、更に2〜20モル
%、特に3〜15モル%の範囲が好ましい。混合する際
に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩
水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好
ましく用いられる方法である。
In the present invention, it is possible to produce a photosensitive recording material by mixing an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver salt aqueous dispersion. The mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt depends on the purpose. The ratio of the photosensitive silver salt to the organic silver salt is preferably in the range of 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, and particularly preferably 3 to 15 mol%. Mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions at the time of mixing is a method preferably used for controlling photographic characteristics.

【0145】本発明の有機銀塩は所望の量で使用できる
が、銀量として0.1〜5g/m2が好ましく、より好
ましくは0.3〜3g/m2、さらに好ましくは0.5
〜2g/m2である。
[0145] The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, preferably 0.1-5 g / m 2 as silver amount, more preferably 0.3 to 3 g / m 2, more preferably 0.5
~ 2 g / m 2 .

【0146】(還元剤)本発明の熱現像画像記録材料に
は有機銀塩のための還元剤である熱現像剤を含むことが
好ましい。有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金属
銀に還元する任意の物質(好ましくは有機物質)であっ
てよい。このような還元剤の例は、特開平11-65021号の
段落番号0043〜0045や、欧州特許公開第080376
4A1号の第7ページ第34行〜第18ページ第12行に
記載されている。
(Reducing Agent) The heat-developable image recording material of the present invention preferably contains a heat developing agent which is a reducing agent for the organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance (preferably organic substance) that reduces silver ions to metallic silver. Examples of such reducing agents include those disclosed in JP-A No. 11-65021, paragraphs 0043 to 0045, and European Patent Publication No. 080376.
It is described on page 7, line 34 to page 18, line 12 of 4A1.

【0147】本発明において、還元剤としてはフェノー
ル性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダ
ードフェノール系還元剤あるいはビスフェノール系還元
剤が好ましく、下記一般式(R)で表される化合物がよ
り好ましい。
In the present invention, the reducing agent is preferably a so-called hindered phenol type reducing agent or a bisphenol type reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group, and a compound represented by the following general formula (R) is more preferable. preferable.

【0148】[0148]

【化41】 [Chemical 41]

【0149】一般式(R)において、R11およびR11'
は各々独立に炭素数1〜20のアルキル基を表す。R12
およびR12'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に
置換可能な置換基を表す。Lは−S−基または−CHR
13−基を表す。R13は水素原子または炭素数1〜20の
アルキル基を表す。X1およびX1'は各々独立に水素原
子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
In the general formula (R), R 11 and R 11 '
Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 12
And R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent capable of substituting on the benzene ring. L is -S- group or -CHR
Represents a 13 -group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X 1 and X 1 'each independently represent a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.

【0150】一般式(R)について詳細に説明する。R
11およびR11'は各々独立に置換または無置換の炭素数
1〜20のアルキル基であり、アルキル基の置換基は特
に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、
カルバモイル基、エステル基、ウレイド基、ウレタン
基、ハロゲン原子等があげられる。
The general formula (R) will be described in detail. R
11 and R 11 'each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the substituent of the alkyl group is not particularly limited, but preferably an aryl group,
Hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamide group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group,
Examples thereof include carbamoyl group, ester group, ureido group, urethane group and halogen atom.

【0151】R12およびR12'は各々独立に水素原子ま
たはベンゼン環に置換可能な置換基であり、X1および
1'も各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能
な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基として
は、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent capable of substituting on a benzene ring, and X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group capable of substituting on a benzene ring. Preferable examples of the group capable of substituting on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group and an acylamino group.

【0152】Lは−S−基または−CHR13−基を表
す。R13は水素原子または炭素数1〜20のアルキル基
を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。R13
の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イ
ソプロピル基、1−エチルペンチル基、2,4,4−ト
リメチルペンチル基などがあげられる。アルキル基の置
換基の例はR11の置換基と同様の基があげられる。
L represents a --S-- group or a --CHR 13 --group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent. R 13
Specific examples of the unsubstituted alkyl group of are methyl group, ethyl group,
Examples thereof include a propyl group, a butyl group, a heptyl group, an undecyl group, an isopropyl group, a 1-ethylpentyl group and a 2,4,4-trimethylpentyl group. Examples of the substituent of the alkyl group include the same groups as the substituent of R 11 .

【0153】R11およびR11'として好ましくは炭素数
3〜15の2級または3級のアルキル基であり、具体的
にはイソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、t
−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、シク
ロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−メチ
ルシクロプロピル基などがあげられる。R11および
11'としてより好ましくは炭素数4〜12の3級アル
キル基で、その中でもt−ブチル基、t−アミル基、1
−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、t−ブチル
基が最も好ましい。
R 11 and R 11 ′ are preferably a secondary or tertiary alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, specifically, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, t
Examples include -amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group. R 11 and R 11 ′ are more preferably a tertiary alkyl group having 4 to 12 carbon atoms, among which a t-butyl group, a t-amyl group, 1
A -methylcyclohexyl group is more preferable, and a t-butyl group is most preferable.

【0154】R12およびR12'として好ましくは炭素数
1〜20のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−
ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、1−メチ
ルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、
メトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−
ブチル基である。X1およびX1'は、好ましくは水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素
原子である。
R 12 and R 12 ′ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, t-
Butyl group, t-amyl group, cyclohexyl group, 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group,
Examples include methoxyethyl group. More preferably, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, t-
It is a butyl group. X 1 and X 1 ′ are preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.

【0155】Lは好ましくは−CHR13−基である。R
13として好ましくは水素原子または炭素数1〜15のア
ルキル基であり、アルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、2,4,4−トリメ
チルペンチル基が好ましい。R13として特に好ましいの
は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基またはイ
ソプロピル基である。
L is preferably a --CHR 13 --group. R
13 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4,4-trimethylpentyl group. Particularly preferred as R 13 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an isopropyl group.

【0156】R13が水素原子である場合、R12およびR
12'は好ましくは炭素数2〜5のアルキル基であり、エ
チル基、プロピル基がより好ましく、エチル基が最も好
ましい。R13が炭素数1〜8の1級または2級のアルキ
ル基である場合、R12およびR 12'はメチル基が好まし
い。R13の炭素数1〜8の1級または2級のアルキル基
としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基
が更に好ましい。
R13When is a hydrogen atom, R12And R
12'Is preferably an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and
A tyl group and a propyl group are more preferable, and an ethyl group is the most preferable.
Good R13Is a primary or secondary alky having 1 to 8 carbon atoms
R is a radical12And R 12'Is preferably a methyl group
Yes. R13A C1-C8 primary or secondary alkyl group
Are methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group
Group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group
Is more preferable.

【0157】R11、R11’、R12およびR12’がいずれ
もメチル基である場合には、R13は2級のアルキル基で
あることが好ましい。この場合R13の2級アルキル基と
してはイソプロピル基、イソブチル基、1−エチルペン
チル基が好ましく、イソプロピル基がより好ましい。上
記還元剤はR11、R11’、R12、R12’およびR13の組
み合わせにより、熱現像性、現像銀色調などが異なる。
2種以上の還元剤を組み合わせることでこれらを調整す
ることができるため、目的によっては2種以上を組み合
わせて使用することが好ましい。
When R 11 , R 11 ′, R 12 and R 12 ′ are all methyl groups, R 13 is preferably a secondary alkyl group. In this case, the secondary alkyl group for R 13 is preferably an isopropyl group, an isobutyl group or a 1-ethylpentyl group, more preferably an isopropyl group. The reducing agent has different heat developability, developed silver color tone and the like depending on the combination of R 11 , R 11 ′, R 12 , R 12 ′ and R 13 .
Since these can be adjusted by combining two or more reducing agents, it is preferable to use two or more reducing agents depending on the purpose.

【0158】以下に本発明の一般式(R)で表される化
合物をはじめとする本発明の還元剤の具体例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the reducing agent of the present invention including the compounds represented by the general formula (R) of the present invention are shown below.
The present invention is not limited to these.

【0159】[0159]

【化42】 [Chemical 42]

【0160】[0160]

【化43】 [Chemical 43]

【0161】[0161]

【化44】 [Chemical 44]

【0162】[0162]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0163】本発明において還元剤の添加量は0.1〜
3.0g/m2であることが好ましく、より好ましくは
0.2〜1.5g/m2で、さらに好ましくは0.3〜
1.0g/m2である。画像形成層を有する面の銀1モル
に対しては5〜50%モル含まれることが好ましく、よ
り好ましくは8〜30モル%であり、10〜20モル%
で含まれることがさらに好ましい。還元剤は画像形成層
に含有させることが好ましい。
In the present invention, the reducing agent is added in an amount of 0.1 to 10.
It is preferably 3.0 g / m 2 , more preferably 0.2 to 1.5 g / m 2 , and further preferably 0.3 to
It is 1.0 g / m 2 . It is preferably contained in an amount of 5 to 50% by mole, more preferably 8 to 30% by mole, and 10 to 20% by mole based on 1 mole of silver on the surface having the image forming layer.
Is more preferably included. The reducing agent is preferably contained in the image forming layer.

【0164】還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微
粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せし
め、感光記録材料に含有させてもよい。よく知られてい
る乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレ
ジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるい
はジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシク
ロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に
乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
The reducing agent may be contained in the coating liquid and contained in the photosensitive recording material by any method such as a solution form, an emulsion dispersion form and a solid fine particle dispersion form. Well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, dissolved using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, mechanically emulsified dispersion A method of producing the same can be given.

【0165】また、固体微粒子分散法としては、還元剤
の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミ
ル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ロー
ラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を
作成する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド
(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例え
ばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム
(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合
物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上
記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使
われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZ
r等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよ
るが通常は1ppm〜1000ppmの範囲である。感
材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であ
れば実用上差し支えない。水分散物には防腐剤(例えば
ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させるこ
とが好ましい。
As the solid fine particle dispersion method, a reducing agent powder is dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibrating ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill or ultrasonic waves to obtain a solid dispersion. There is a method of creating. At that time, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three different isopropyl group substitution positions) or the like) may be used. Good. In the above mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Z that elutes from these beads is used.
r and the like may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the content of Zr in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no problem in practical use. The water dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).

【0166】(現像促進剤)本発明の熱現像画像記録材
料では、現像促進剤として特開2000-267222号明細書や
特開2000-330234号明細書等に記載の一般式(A)で表
されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開平20
01-92075記載の一般式(II)で表されるヒンダードフェ
ノール系の化合物、特開平10-62895号明細書や特開平11
-15116号明細書等に記載の一般式(I)、特願2001-0742
78号明細書に記載の一般式(1)で表されるヒドラジン
系の化合物、特願2000-76240号明細書に記載されている
一般式(2)で表されるフェノール系またはナフトール
系の化合物が好ましく用いられる。これらの現像促進剤
は還元剤に対して0.1〜20モル%の範囲で使用さ
れ、好ましくは0.5〜10モル%の範囲で、より好ま
しくは1〜5モル%の範囲である。感材への導入方法は
還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物また
は乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散
物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と
低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として
添加するか、もしくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイ
ルレス乳化分散物として添加することが好ましい。本発
明においては上記現像促進剤の中でも、特願2001-07427
8号明細書に記載の一般式(1)で表されるヒドラジン
系の化合物および特願2000-76240号明細書に記載されて
いる一般式(2)で表されるフェノール系またはナフト
ール系の化合物が特に好ましい。以下、本発明の現像促
進剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定
されるものではない。
(Development Accelerator) In the heat-developable image recording material of the present invention, a compound represented by the general formula (A) described in JP-A-2000-267222 or 2000-330234 is used as a development accelerator. Sulfonamide Phenol Compounds
A hindered phenolic compound represented by the general formula (II) described in 01-92075, JP-A-10-62895 and JP-A-11-62895.
-15116 General formula (I) described in the specification etc., Japanese Patent Application 2001-0742
A hydrazine-based compound represented by the general formula (1) described in Japanese Patent No. 78, and a phenol- or naphthol-based compound represented by the general formula (2) described in Japanese Patent Application No. 2000-76240 Is preferably used. These development accelerators are used in the range of 0.1 to 20 mol% with respect to the reducing agent, preferably in the range of 0.5 to 10 mol%, and more preferably in the range of 1 to 5 mol%. The method of introducing into the light-sensitive material may be the same as that of the reducing agent, but it is particularly preferable to add it as a solid dispersion or an emulsion dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent and a low-boiling auxiliary solvent that are solid at room temperature, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add. Among the above development accelerators in the present invention, Japanese Patent Application No. 2001-07427
No. 8 hydrazine-based compound represented by the general formula (1) and Japanese Patent Application No. 2000-76240 described phenol-based or naphthol-based compound represented by the general formula (2) Is particularly preferable. Preferred specific examples of the development accelerator of the invention are to be described below. The present invention is not limited to these.

【0167】[0167]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0168】[0168]

【化47】 [Chemical 47]

【0169】(水素結合性化合物)次に、本発明で用い
られる水素結合性化合物について説明する。本発明にお
ける還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)を有する場
合、特に前述のビスフェノール類の場合には、これらの
基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元
性の化合物を併用することが好ましい。水酸基またはア
ミノ基と水素結合を形成する基としては、ホスホリル
基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、ア
ミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級ア
ミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。
(Hydrogen-bonding Compound) Next, the hydrogen-bonding compound used in the present invention will be described. When the reducing agent in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH), particularly in the case of the above-mentioned bisphenols, a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with these groups. Is preferably used in combination. Examples of the group forming a hydrogen bond with a hydroxyl group or an amino group include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. Can be mentioned.

【0170】その中でも好ましいのはホスホリル基、ス
ルホキシド基、アミド基(但し、>N−H基を持たず、
>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックさ
れている。)、ウレタン基(但し、>N−H基を持た
ず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロッ
クされている。)、ウレイド基(但し、>N−H基を持
たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロ
ックされている。)を有する化合物である。
Of these, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group and an amide group (provided that they do not have a> N—H group,
> N-Ra (wherein Ra is a substituent other than H). ), A urethane group (provided that it has no> N-H group and is blocked as> N-Ra (Ra is a substituent other than H)), and a ureido group (provided that the> N-H group is It is a compound which does not have and has a block like> N-Ra (Ra is a substituent other than H).

【0171】本発明で、特に好ましい水素結合性の化合
物は下記一般式(D)で表される化合物である。
In the present invention, a particularly preferable hydrogen bonding compound is a compound represented by the following general formula (D).

【0172】[0172]

【化48】 [Chemical 48]

【0173】一般式(D)においてR21ないしR23は各
々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表し、これ
らの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
21ないしR23が置換基を有する場合の置換基としては
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキ
シ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげら
れ、置換基として好ましいのはアルキル基またはアリー
ル基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、
t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル基、4−アル
コキシフェニル基、4−アシルオキシフェニル基などが
あげられる。
In formula (D), R 21 to R 23 each independently represent an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be unsubstituted. It may have a substituent.
When R 21 to R 23 have a substituent, the substituent is a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, Examples thereof include an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, and a phosphoryl group. Preferred substituents are an alkyl group or an aryl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group,
Examples thereof include t-butyl group, t-octyl group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group and 4-acyloxyphenyl group.

【0174】R21ないしR23のアルキル基としては具体
的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル
基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシ
クロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、2−フェ
ノキシプロピル基などがあげられる。アリール基として
はフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、
4−t−ブチルフェニル基、4−t−オクチルフェニル
基、4−アニシジル基、3,5−ジクロロフェニル基な
どが挙げられる。
Specific examples of the alkyl group represented by R 21 to R 23 include methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, Examples thereof include cyclohexyl group, 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group and 2-phenoxypropyl group. As the aryl group, a phenyl group, a cresyl group, a xylyl group, a naphthyl group,
4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, 3,5-dichlorophenyl group and the like can be mentioned.

【0175】アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキ
シ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキ
シルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ
基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−
メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が
挙げられる。アリールオキシ基としてはフェノキシ基、
クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t
−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキ
シ基等が挙げられる。アミノ基としてはジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチル
アミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシク
ロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N−メチル
−N−フェニルアミノ基等が挙げられる。
As the alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a 3,5,5-trimethylhexyloxy group, a dodecyloxy group, a cyclohexyloxy group, 4-
Examples thereof include a methylcyclohexyloxy group and a benzyloxy group. A phenoxy group as the aryloxy group,
Cresyloxy group, isopropylphenoxy group, 4-t
-Butylphenoxy group, naphthoxy group, biphenyloxy group and the like can be mentioned. Examples of the amino group include dimethylamino group, diethylamino group, dibutylamino group, dioctylamino group, N-methyl-N-hexylamino group, dicyclohexylamino group, diphenylamino group, N-methyl-N-phenylamino group and the like. .

【0176】R21ないしR23としてはアルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。
本発明の効果の点ではR21ないしR23のうち少なくとも
一つ以上がアルキル基またはアリール基であることが好
ましく、二つ以上がアルキル基またはアリール基である
ことがより好ましい。また、安価に入手する事ができる
という点ではR21ないしR23が同一の基である場合が好
ましい。
As R 21 to R 23 , an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group and an aryloxy group are preferable.
From the viewpoint of the effect of the present invention, at least one or more of R 21 to R 23 is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. Further, it is preferable that R 21 to R 23 are the same group in that they can be obtained at low cost.

【0177】以下に本発明における一般式(D)の化合
物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the hydrogen-bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below.
The present invention is not limited to these.

【0178】[0178]

【化49】 [Chemical 49]

【0179】[0179]

【化50】 [Chemical 50]

【0180】[0180]

【化51】 [Chemical 51]

【0181】水素結合性化合物の具体例は上述の他に欧
州特許1096310号明細書、特願2000-270498号、同2001-1
24796号に記載のものがあげられる。本発明の一般式
(D)の化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散
形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せし
め、感光記録材料中で使用することができる。本発明の
化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基、アミノ基を
有する化合物と水素結合性の錯体を形成しており、還元
剤と本発明の一般式(D)の化合物との組み合わせによ
っては錯体として結晶状態で単離することができる。こ
のようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物
として使用することは安定した性能を得る上で特に好ま
しい。また、還元剤と本発明の一般式(D)の化合物を
粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグライン
ダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用い
ることができる。
Specific examples of the hydrogen-bonding compound are, in addition to the above, the specifications of European Patent 1096310, Japanese Patent Application Nos. 2000-270498 and 2001-1.
No. 24796 is mentioned. The compound of the general formula (D) of the present invention can be used in a photosensitive recording material by containing it in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersion of fine particles, like a reducing agent. The compound of the present invention forms a hydrogen-bonding complex with a compound having a phenolic hydroxyl group or an amino group in a solution state, and as a complex depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (D) of the present invention. It can be isolated in crystalline form. It is particularly preferable to use the crystal powder thus isolated as a solid fine particle dispersion in order to obtain stable performance. Further, a method in which a reducing agent and the compound of the general formula (D) of the present invention are mixed in a powder form and a complex is formed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can also be preferably used.

【0182】本発明の一般式(D)の化合物は還元剤に
対して、1〜200モル%の範囲で使用することが好ま
しく、より好ましくは10〜150モル%の範囲で、さ
らに好ましくは20〜100モル%の範囲である。
The compound of the general formula (D) of the present invention is preferably used in the range of 1 to 200 mol%, more preferably 10 to 150 mol%, further preferably 20% with respect to the reducing agent. To 100 mol%.

【0183】(バインダー)次に、本発明で用いられる
バインダーについて説明する。本発明の有機銀塩含有層
のバインダーはいかなるポリマーを使用してもよく、好
適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であ
り、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポ
リマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒
体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ(ビニルアルコ
ール)類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロース
アセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポ
リ(ビニルピロリドン)類、カゼイン、デンプン、ポリ
(アクリル酸)類、ポリ(メチルメタクリル酸)類、ポ
リ(塩化ビニル)類、ポリ(メタクリル酸)類、スチレ
ン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニ
トリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、
ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビニルホ
ルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポリ(エ
ステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹脂、ポ
リ(塩化ビニリデン)類、ポリ(エポキシド)類、ポリ
(カーボネート)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(オ
レフィン)類、セルロースエステル類、ポリ(アミド)
類がある。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルシ
ョンから被覆形成してもよい。
(Binder) Next, the binder used in the present invention will be described. The binder of the organic silver salt-containing layer of the present invention may be any polymer, suitable binders are transparent or translucent, generally colorless, natural resins and polymers and copolymers, synthetic resins and polymers and copolymers, etc. Film forming media such as gelatins, gums, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrate, poly (vinylpyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) ), Poly (methylmethacrylic acid) s, poly (vinyl chloride) s, poly (methacrylic acid) s, styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers ,
Poly (vinyl acetal) s (for example, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane) s, phenoxy resin, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), Poly (carbonates), poly (vinyl acetate) s, poly (olefins), cellulose esters, poly (amides)
There are kinds. The binder may be formed by coating with water, an organic solvent or an emulsion.

【0184】本発明では、有機銀塩を含有する層に併用
できるバインダーのガラス転移温度は10℃以上80℃
以下である(以下、高Tgバインダーということもあ
る)ことが好ましく、15℃〜70℃であることがより
好ましく、20℃以上65℃以下であることが更に好ま
しい。
In the present invention, the glass transition temperature of the binder that can be used in combination with the layer containing the organic silver salt is 10 ° C. or higher and 80 ° C. or higher.
It is preferably the following (hereinafter sometimes referred to as high Tg binder), more preferably 15 ° C. to 70 ° C., and further preferably 20 ° C. or more and 65 ° C. or less.

【0185】なお、本明細書においてTgは下記の式で
計算した。 1/Tg=Σ(Xi/Tgi) ここでは、ポリマーはi=1からnまでのn個のモノマー
成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの
質量分率(ΣXi=1)、 Tgiはi番目のモノマーの単独重
合体のガラス転移温度(絶対温度)である。ただしΣは
i=1からnまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合
体ガラス転移温度の値(Tgi)はPolymer Handbook(3rd
Edition)(J.Brandrup, E.H.Immergut著(Wiley-Intersci
ence、1989))の値を採用した。
In this specification, Tg was calculated by the following formula. 1 / Tg = Σ (Xi / Tgi) Here, it is assumed that the polymer is a copolymer of n monomer components from i = 1 to n. Xi is the mass fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. Where Σ is
Take the sum of i = 1 to n. The homopolymer glass transition temperature value (Tgi) of each monomer is shown in Polymer Handbook (3rd
Edition) (J. Brandrup, EHImmergut (Wiley-Intersci
ence, 1989)).

【0186】バインダーは必要に応じて2種以上を併用
しても良い。また、ガラス転移温度が20℃以上のもの
とガラス転移温度が20℃未満のものを組み合わせて用
いてもよい。Tgの異なるポリマーを2種以上ブレンド
して使用する場合には、その質量平均Tgが上記の範囲
にはいることが好ましい。
Two or more binders may be used in combination, if desired. Further, those having a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and those having a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more polymers having different Tg's are blended and used, the mass average Tg is preferably within the above range.

【0187】本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒
の30質量%以上が水である塗布液を用いて塗布、乾燥
して被膜を形成させることが好ましい。本発明において
は、有機銀塩含有層が溶媒の30質量%以上が水である
塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さ
らに有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒(水溶媒)
に可溶または分散可能である場合に、特に25℃60%
RHでの平衡含水率が2質量%以下のポリマーのラテッ
クスからなる場合に性能が向上する。最も好ましい形態
は、イオン伝導度が2.5mS/cm以下になるように
調製されたものであり、このような調製法としてポリマ
ー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げら
れる。
In the present invention, it is preferable that the organic silver salt-containing layer is coated with a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried to form a film. In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed by coating using a coating liquid in which 30% by mass or more of the solvent is water and drying, the binder of the organic silver salt-containing layer further contains an aqueous solvent ( Water solvent)
When it is soluble or dispersible in water, especially at 25 ℃ 60%
Performance is improved when the equilibrium water content at RH is made of a polymer latex having a content of 2% by mass or less. The most preferable form is prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and such a preparation method includes a method of purifying using a separation functional membrane after polymer synthesis.

【0188】ここでいう前記ポリマーが可溶または分散
可能である水系溶媒とは、水または水に70質量%以下
の水混和性の有機溶媒を混合したものである。水混和性
の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミ
ドなどを挙げることができる。
The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible as used herein is water or a mixture of water and 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include, for example, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and propyl alcohol,
Examples thereof include cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, ethyl acetate, dimethylformamide, and the like.

【0189】なお、ポリマーが熱力学的に溶解しておら
ず、いわゆる分散状態で存在している系の場合にも、こ
こでは水系溶媒という言葉を使用する。
The term "aqueous solvent" is used here also in the case of a system in which the polymer is not thermodynamically dissolved and exists in a so-called dispersed state.

【0190】また「25℃60%RHにおける平衡含水
率」とは、25℃60%RHの雰囲気下で調湿平衡にあ
るポリマーの質量W1と25℃で絶乾状態にあるポリマ
ーの質量W0を用いて以下のように表すことができる。
25℃60%RHにおける平衡含水率={(W1−W0)/W0]
×100(質量%)
"Equilibrium water content at 25 ° C. 60% RH" means the mass W 1 of the polymer in humidity controlled equilibrium in the atmosphere of 25 ° C. 60% RH and the mass W of the polymer in the absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as follows using 0 .
Equilibrium water content at 25 ° C. and 60% RH = {(W 1 −W 0 ) / W 0 ]
× 100 (mass%)

【0191】含水率の定義と測定法については、例えば
高分子工学講座14、高分子材料試験法(高分子学会
編、地人書館)を参考にすることができる。
The definition and measurement method of the water content can be referred to, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (edited by The Polymer Society of Japan, Jijijinkan).

【0192】本発明のバインダーポリマーの25℃60
%RHにおける平衡含水率は2質量%以下であることが
好ましいが、より好ましくは0.01質量%以上1.5
質量%以下、さらに好ましくは0.02質量%以上1質
量%以下が望ましい。
25 ° C. of the binder polymer of the present invention 60 ° C.
The equilibrium water content in% RH is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 1.5% by mass or more.
The amount is preferably not more than mass%, more preferably not less than 0.02 mass% and not more than 1 mass%.

【0193】本発明においては水系溶媒に分散可能なポ
リマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶
な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスや
ポリマー分子が分子状態またはミセルを形成して分散し
ているものなどいずれでもよいが、ラテックス分散した
粒子がより好ましい。
In the present invention, a polymer dispersible in an aqueous solvent is particularly preferable. Examples of the dispersed state may be latex in which fine particles of a water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed, or those in which polymer molecules are dispersed in a molecular state or forming micelles, but latex dispersed particles are more preferable. preferable.

【0194】分散粒子の平均粒径は1〜50000n
m、好ましくは5〜1000nmの範囲で、より好まし
くは10〜500nmの範囲、さらに好ましくは50〜
200nmの範囲である。分散粒子の粒径分布に関して
は特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散
の粒径分布を持つものでもよい。単分散の粒径分布を持
つものを2種以上混合して使用することも塗布液の物性
を制御する上で好ましい使用法である。
The average particle size of the dispersed particles is 1 to 50000n.
m, preferably in the range of 5-1000 nm, more preferably in the range of 10-500 nm, still more preferably 50-
It is in the range of 200 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may be a wide particle size distribution or a monodisperse particle size distribution. Mixing and using two or more kinds having a monodisperse particle size distribution is also a preferable use method for controlling the physical properties of the coating solution.

【0195】本発明において水系溶媒に分散可能なポリ
マーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポ
リ(エステル)類、ゴム類(例えばSBR樹脂)、ポリ
(ウレタン)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(酢酸ビ
ニル)類、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(オレフィ
ン)類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができ
る。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分か
れしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよい
し、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーで
もよいし、2種類以上のモノマーが重合したコポリマー
でもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーで
も、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの分
子量は数平均分子量で5000〜1000000、好ま
しくは10000〜200000がよい。分子量が小さ
すぎるものは乳剤層の力学強度が不十分であり、大きす
ぎるものは成膜性が悪く好ましくない。また、架橋性の
ポリマーラッテクスは特に好ましく使用される。
In the present invention, preferred examples of the polymer dispersible in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (for example, SBR resin), poly (urethane) s, poly (vinyl chloride) s, Hydrophobic polymers such as poly (vinyl acetate) s, poly (vinylidene chloride) s, and poly (olefins) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more kinds of monomers. The copolymer may be a random copolymer or a block copolymer. The number average molecular weight of these polymers is 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the emulsion layer is insufficient, and if it is too large, the film formability is poor and it is not preferred. A crosslinkable polymer latex is particularly preferably used.

【0196】以下に、好ましいポリマーラテックスの具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値
は質量%、分子量は数平均分子量である。多官能モノマ
ーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が
適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略
した。Tgはガラス転移温度を表す。
Specific examples of the preferred polymer latex are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following, the raw material monomers are used, and the numerical values in parentheses are mass% and the molecular weights are number average molecular weights. When a polyfunctional monomer is used, the concept of molecular weight cannot be applied because a crosslinked structure is formed, so the term "crosslinkable" is used and the description of molecular weight is omitted. Tg represents a glass transition temperature.

【0197】P-1;-MMA(70)-EA(27)-MAA(3)-のラテック
ス(分子量37000、Tg61℃) P-2;-MMA(70)-2EHA(20)-St(5)-AA(5)-のラテックス(分
子量40000、Tg59℃) P-3;-St(50)-Bu(47)-MAA(3)-のラテックス(架橋性、Tg-
17℃) P-4;-St(68)-Bu(29)-AA(3)-のラテックス(架橋性、Tg17
℃) P-5;-St(71)-Bu(26)-AA(3)-のラテックス(架橋性,Tg24
℃) P-6;-St(70)-Bu(27)-IA(3)-のラテックス(架橋性) P-7;-St(75)-Bu(24)-AA(1)-のラテックス(架橋性、Tg29
℃) P-8;-St(60)-Bu(35)-DVB(3)-MAA(2)-のラテックス(架橋
性) P-9;-St(70)-Bu(25)-DVB(2)-AA(3)-のラテックス(架橋
性) P-10;-VC(50)-MMA(20)-EA(20)-AN(5)-AA(5)-のラテック
ス(分子量80000) P-11;-VDC(85)-MMA(5)-EA(5)-MAA(5)-のラテックス(分
子量67000) P-12;-Et(90)-MAA(10)-のラテックス(分子量12000) P-13;-St(70)-2EHA(27)-AA(3)のラテックス(分子量130
000、Tg43℃) P-14;-MMA(63)-EA(35)- AA(2)のラテックス(分子量330
00、Tg47℃) P-15;-St(70.5)-Bu(26.5)-AA(3)-のラテックス(架橋性,
Tg23℃) P-16;-St(69.5)-Bu(27.5)-AA(3)-のラテックス(架橋性,
Tg20.5℃)
P-1; -MMA (70) -EA (27) -MAA (3) -latex (molecular weight 37,000, Tg 61 ° C.) P-2; -MMA (70) -2EHA (20) -St (5 ) -AA (5) -latex (Mw 40,000, Tg59 ℃) P-3; -St (50) -Bu (47) -MAA (3) -latex (crosslinkable, Tg-
17 ℃) P-4; -St (68) -Bu (29) -AA (3) -latex (crosslinkable, Tg17
℃) P-5; -St (71) -Bu (26) -AA (3)-latex (crosslinkable, Tg24
℃) P-6; -St (70) -Bu (27) -IA (3) -latex (crosslinkable) P-7; -St (75) -Bu (24) -AA (1) -latex (Crosslinkability, Tg29
℃) P-8; -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2) -latex (crosslinkable) P-9; -St (70) -Bu (25) -DVB ( 2) -AA (3) -latex (crosslinkable) P-10; -VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5) -latex (molecular weight 80,000) P-11; -VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5) -latex (molecular weight 67000) P-12; -Et (90) -MAA (10) -latex (molecular weight 12000) P-13; -St (70) -2EHA (27) -AA (3) latex (molecular weight 130
000, Tg43 ℃) P-14; -MMA (63) -EA (35) -AA (2) latex (molecular weight 330
00, Tg47 ℃) P-15; -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3) -latex (crosslinking,
Tg23 ℃) P-16; -St (69.5) -Bu (27.5) -AA (3) -latex (crosslinkable,
(Tg20.5 ° C)

【0198】上記構造の略号は以下のモノマーを表す。
MMA;メチルメタクリレート,EA;エチルアクリレー
ト、MAA;メタクリル酸,2EHA;2-エチルヘキシルアク
リレート,St;スチレン,Bu;ブタジエン,AA;アクリ
ル酸,DVB;ジビニルベンゼン,VC;塩化ビニル,AN;
アクリロニトリル,VDC;塩化ビニリデン,Et;エチレ
ン,IA;イタコン酸。
The abbreviations for the above structures represent the following monomers:
MMA; methyl methacrylate, EA; ethyl acrylate, MAA; methacrylic acid, 2EHA; 2-ethylhexyl acrylate, St; styrene, Bu; butadiene, AA; acrylic acid, DVB; divinylbenzene, VC; vinyl chloride, AN;
Acrylonitrile, VDC; vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.

【0199】以上に記載したポリマーラテックスは市販
もされており、以下のようなポリマーが利用できる。ア
クリル系ポリマーの例としては、セビアンA-4635,471
8,4601(以上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx81
1、814、821、820、857(以上日本ゼオン(株)製)な
ど、ポリ(エステル)類の例としては、FINETEX ES65
0、611、675、850(以上大日本インキ化学(株)製)、
WD-size、WMS(以上イーストマンケミカル製)など、ポ
リ(ウレタン)類の例としては、HYDRAN AP10、20、30、
40(以上大日本インキ化学(株)製)など、ゴム類の例
としては、LACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C(以上
大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx416、410、438C、
2507(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニ
ル)類の例としては、G351、G576(以上日本ゼオン
(株)製)など、ポリ(塩化ビニリデン)類の例として
は、L502、L513(以上旭化成工業(株)製)など、ポリ
(オレフィン)類の例としては、ケミパールS120、SA10
0(以上三井石油化学(株)製)などを挙げることがで
きる。
The polymer latexes described above are commercially available, and the following polymers can be used. Examples of acrylic polymers include Sebian A-4635,471
8,4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx81
FINETEX ES65 is an example of poly (ester) s such as 1, 814, 821, 820, 857 (all manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.).
0, 611, 675, 850 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.),
Examples of poly (urethane) s such as WD-size and WMS (above Eastman Chemical) are HYDRAN AP10, 20, 30,
As examples of rubbers such as 40 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Nipol Lx416, 410, 438C,
Examples of poly (vinyl chloride) s such as 2507 (above Nippon Zeon Co., Ltd.) include G351, G576 (above all Nippon Zeon Co., Ltd.), examples of poly (vinylidene chloride) L502, Examples of poly (olefin) s such as L513 (all manufactured by Asahi Kasei Corporation) are Chemipearl S120 and SA10.
0 (above, manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.) and the like.

【0200】これらのポリマーラテックスは単独で用い
てもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドしてもよ
い。
These polymer latices may be used alone, or may be used by blending two or more kinds as required.

【0201】本発明に用いられるポリマーラテックスと
しては、特に、スチレン-ブタジエン共重合体のラテック
スが好ましい。スチレン-ブタジエン共重合体における
スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位と
の質量比は40:60〜95:5であることが好まし
い。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノ
マー単位との共重合体に占める割合は60〜99質量%
であることが好ましい。また、本発明のポリマーラテッ
クスはアクリル酸またはメタクリル酸をスチレンとブタ
ジエンの和に対して1〜6質量%含有することが好まし
く、より好ましくは2〜5質量%含有する。本発明のポ
リマーラテックスはアクリル酸を含有することが好まし
い。
As the polymer latex used in the present invention, a latex of styrene-butadiene copolymer is particularly preferable. The mass ratio of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is 60 to 99% by mass.
Is preferred. The polymer latex of the present invention preferably contains acrylic acid or methacrylic acid in an amount of 1 to 6% by mass, more preferably 2 to 5% by mass, based on the sum of styrene and butadiene. The polymer latex of the present invention preferably contains acrylic acid.

【0202】本発明に用いることが好ましいスチレン-
ブタジエン酸共重合体のラテックスとしては、前記のP-
3〜P-8,15、市販品であるLACSTAR-3307B、7132C、Nipol
Lx416等が挙げられる。この様なスチレン-ブタジエン
酸共重合体のラテックスの好ましいTgは10℃以上3
0℃以下、より好ましくは17℃以上25℃以下であ
る。
Styrene preferably used in the present invention-
As the latex of the butadiene acid copolymer, the above-mentioned P-
3 to P-8,15, LACSTAR-3307B, 7132C, Nipol which are commercial products
Lx416 etc. are mentioned. The preferred Tg of the latex of such a styrene-butadiene acid copolymer is 10 ° C. or higher and 3
It is 0 ° C or lower, and more preferably 17 ° C or higher and 25 ° C or lower.

【0203】本発明の感光記録材料の有機銀塩含有層に
は必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボ
キシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加して
もよい。これらの親水性ポリマーの添加量は有機銀塩含
有層の全バインダーの30質量%以下、より好ましくは
20質量%以下が好ましい。
If desired, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose or the like may be added to the organic silver salt-containing layer of the photosensitive recording material of the present invention. The addition amount of these hydrophilic polymers is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less based on the total amount of binders in the organic silver salt-containing layer.

【0204】本発明の有機銀塩含有層(即ち、画像形成
層)は、ポリマーラテックスを用いて形成されたものが
好ましい。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バイ
ンダー/有機銀塩の質量比が1/10〜10/1、より
好ましくは1/3〜5/1の範囲、さらに好ましくは1
/1〜3/1の範囲である。
The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) of the present invention is preferably formed using a polymer latex. The amount of the binder in the organic silver salt-containing layer is such that the total binder / organic silver salt mass ratio is 1/10 to 10/1, more preferably 1/3 to 5/1, and further preferably 1
The range is / 1 to 3/1.

【0205】また、このような有機銀塩含有層は、通
常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された
感光性層(乳剤層)でもあり、このような場合の、全バ
インダー/ハロゲン化銀の質量比は400〜5、より好
ましくは200〜10の範囲である。
Further, such an organic silver salt-containing layer is usually also a photosensitive layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide which is a photosensitive silver salt, and in such a case, all binders are contained. The mass ratio of / silver halide is in the range of 400 to 5, more preferably 200 to 10.

【0206】本発明の画像形成層の全バインダー量は好
ましくは0.2〜30g/m2、より好ましくは1〜15
g/m2、さらに好ましくは2〜10g/m2の範囲であ
る。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布
性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
The total amount of binder in the image forming layer of the present invention is preferably 0.2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 to 15
g / m 2, more preferably in the range of 2 to 10 g / m 2. A cross-linking agent for cross-linking, a surfactant for improving coatability, and the like may be added to the image forming layer of the present invention.

【0207】(好ましい塗布液の溶媒)本発明において
感光記録材料の有機銀塩含有層塗布液の溶媒(ここでは
簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。)
は、水を30質量%以上含む水系溶媒が好ましい。水以外
の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、
イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意
の水混和性有機溶媒を用いてよい。塗布液の溶媒の水含
有率は50質量%以上、より好ましくは70質量%以上
が好ましい。好ましい溶媒組成の例を挙げると、水の
他、水/メチルアルコール=90/10、水/メチルア
ルコール=70/30、水/メチルアルコール/ジメチ
ルホルムアミド=80/15/5、水/メチルアルコー
ル/エチルセロソルブ=85/10/5、水/メチルア
ルコール/イソプロピルアルコール=85/10/5な
どがある(数値は質量%)。
(Preferable Solvent for Coating Liquid) In the present invention, the solvent for the coating liquid for the organic silver salt-containing layer of the photosensitive recording material (for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as the solvent).
Is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As components other than water, methyl alcohol, ethyl alcohol,
Any water-miscible organic solvent such as isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, ethyl acetate may be used. The water content of the solvent of the coating liquid is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more. Examples of preferred solvent compositions include water, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl alcohol / Ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical values are% by mass).

【0208】(かぶり防止剤)次に、本発明に用いられ
るかぶり防止剤について説明する。本発明に用いること
のできるカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体は特
開平10-62899号の段落番号0070、欧州特許公開第08
03764A1号の第20頁第57行〜第21頁第7行に記載の特許
のもの、特開平9-281637号、同9-329864号記載の化合
物、米国特許6,083,681号、同6,083,681号、欧州特許10
48975号に記載の化合物が挙げられる。また、本発明に
好ましく用いられるカブリ防止剤は有機ハロゲン化物で
あり、これらについては、特開平11-65021号の段落番号
0111〜0112に記載の特許に開示されているものが挙げら
れる。特に特開2000-284399号の式(P)で表される有
機ハロゲン化合物、特開平10-339934号の一般式(II)
で表される有機ポリハロゲン化合物、特開2001-31644号
および特開2001-33911号に記載の有機ポリハロゲン化合
物が好ましい。
(Antifoggant) Next, the antifoggant used in the present invention will be described. Antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors that can be used in the present invention are disclosed in paragraph No. 0070 of JP-A-10-62899, European Patent Publication No. 08.
No. 03764A1, page 20, line 57 to page 21, line 7, patents, JP-A-9-281637, JP-A-9-329864, compounds described in US Patents 6,083,681, 6,083,681, European Patents Ten
The compound described in 48975 is mentioned. Further, the antifoggants preferably used in the present invention are organic halides, for these, the paragraph number of JP-A No. 11-65021.
Examples include those disclosed in the patents described in 0111 to 0112. Particularly, an organic halogen compound represented by the formula (P) in JP-A-2000-284399 and a general formula (II) in JP-A-10-339934.
The organic polyhalogen compounds represented by the following are preferred, and the organic polyhalogen compounds described in JP 2001-31644 A and JP 2001-33911 A are preferable.

【0209】以下、本発明で好ましい有機ポリハロゲン
化合物について具体的に説明する。本発明の好ましいポ
リハロゲン化合物は下記一般式(H)で表される化合物
である。
The organic polyhalogen compound preferred in the present invention will be specifically described below. The preferred polyhalogen compound of the present invention is a compound represented by the following general formula (H).

【0210】一般式(H) Q−(Y)n−C(Z1)(Z2)XGeneral formula (H) Q- (Y) n-C (Z 1 ) (Z 2 ) X

【0211】一般式(H)において、Qはアルキル基、
アリール基またはヘテロ環基を表し、Yは2価の連結基
を表し、nは0または1を表し、Z1およびZ2はハロゲ
ン原子を表し、Xは水素原子または電子吸引性基を表
す。
In the general formula (H), Q is an alkyl group,
It represents an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z 1 and Z 2 represent a halogen atom, and X represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group.

【0212】一般式(H)において、Qは好ましくはハ
メットの置換基定数σpが正の値をとる電子吸引性基で
置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に
関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.
16,No.11,1207-1216 等を参考にすることができる。
In the general formula (H), Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-withdrawing group whose Hammett's substituent constant σp has a positive value. For the Hammett's substituent constant, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol.
16, No. 11, 1207-1216, etc. can be referred to.

【0213】このような電子吸引性基としては、例えば
ハロゲン原子(フッ素原子(σp値:0.06)、塩素
原子(σp値:0.23)、臭素原子(σp値:0.2
3)、ヨウ素原子(σp値:0.18))、トリハロメ
チル基(トリブロモメチル(σp値:0.29)、トリ
クロロメチル(σp値:0.33)、トリフルオロメチ
ル(σp値:0.54))、シアノ基(σp値:0.6
6)、ニトロ基(σp値:0.78)、脂肪族・アリー
ルもしくは複素環スルホニル基(例えば、メタンスルホ
ニル(σp値:0.72))、脂肪族・アリールもしく
は複素環アシル基(例えば、アセチル(σp値:0.5
0)、ベンゾイル(σp値:0.43))、アルキニル
基(例えば、C≡CH(σp値:0.23))、脂肪族
・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基(例え
ば、メトキシカルボニル(σp値:0.45)、フェノ
キシカルボニル(σp値:0.44))、カルバモイル
基(σp値:0.36)、スルファモイル基(σp値:
0.57)、スルホキシド基、ヘテロ環基、ホスホリル
基等があげられる。σp値としては好ましくは0.2〜
2.0の範囲で、より好ましくは0.4から1.0の範
囲である。電子吸引性基として特に好ましいのは、カル
バモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホ
ニル基、アルキルホスホリル基で、なかでもカルバモイ
ル基が最も好ましい。
Examples of such an electron-withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), chlorine atom (σp value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.2).
3), iodine atom (σp value: 0.18)), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp value: 0) .54)), a cyano group (σp value: 0.6)
6), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group (for example, Acetyl (σp value: 0.5
0), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (for example, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl (σp value)). : 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value:
0.57), a sulfoxide group, a heterocyclic group, a phosphoryl group and the like. The σp value is preferably 0.2 to
It is in the range of 2.0, and more preferably in the range of 0.4 to 1.0. Particularly preferable as the electron-withdrawing group are a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group and an alkylphosphoryl group, and among them, a carbamoyl group is the most preferable.

【0214】Xは、好ましくは電子吸引性基であり、よ
り好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは
複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環
アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカル
ボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、
特に好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子の中
でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であ
り、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好
ましくは臭素原子である。Yは好ましくは−C(=O)
−、−SO−または−SO2 −を表し、より好ましくは
−C(=O)−、−SO2 −であり、特に好ましくは−
SO2 −である。nは、0または1を表し、好ましくは
1である。
X is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, an aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, an aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, an aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group. A group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group,
Particularly preferred is a halogen atom. Among the halogen atoms, chlorine atom, bromine atom and iodine atom are preferable, chlorine atom and bromine atom are more preferable, and bromine atom is particularly preferable. Y is preferably -C (= O)
-, - SO- or -SO 2 -; more preferably, -C (= O) -, - SO 2 - , and particularly preferably -
SO 2 −. n represents 0 or 1, and is preferably 1.

【0215】以下に本発明の一般式(H)の化合物の具
体例を示す。
Specific examples of the compound represented by formula (H) of the present invention are shown below.

【0216】[0216]

【化52】 [Chemical 52]

【0217】[0217]

【化53】 [Chemical 53]

【0218】本発明の一般式(H)で表される化合物は
画像形成層の非感光性銀塩1モルあたり、1×10-4
0.5モルの範囲で使用することが好ましく、より好ま
しくは10-3〜0.1モルの範囲で、さらに好ましくは
5×10-3〜0.05モルの範囲で使用することが好ま
しい。本発明において、カブリ防止剤を感光記録材料に
含有させる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載
の方法が挙げられ、有機ポリハロゲン化合物についても
固体微粒子分散物で添加することが好ましい。
The compound represented by the general formula (H) of the present invention is 1 × 10 −4 to 1 mol per mol of the non-photosensitive silver salt in the image forming layer.
It is preferably used in the range of 0.5 mol, more preferably in the range of 10 −3 to 0.1 mol, and further preferably in the range of 5 × 10 −3 to 0.05 mol. In the present invention, examples of the method of incorporating the antifoggant into the photosensitive recording material include the methods described in the method of incorporating the reducing agent, and the organic polyhalogen compound is also preferably added as a solid fine particle dispersion.

【0219】その他のカブリ防止剤としては特開平11-6
5021号段落番号0113の水銀(II)塩、同号段落番号0114
の安息香酸類、特開2000-206642号のサリチル酸誘導
体、特開2000-221634号の式(S)で表されるホルマリ
ンスカベンジャー化合物、特開平11-352624号の請求項
9に係るトリアジン化合物、特開平6-11791号の一般式
(III)で表される化合物、4-ヒドロキシ-6-メチル-1,3,3
a,7-テトラザインデン等が挙げられる。
Other antifoggants are disclosed in JP-A-11-6.
5021, paragraph 0113, mercury (II) salt, same, paragraph 0114
Benzoic acid, a salicylic acid derivative of JP-A-2000-206642, a formalin scavenger compound represented by the formula (S) of JP-A-2000-221634, a triazine compound according to claim 9 of JP-A-11-352624, 6-11791 general formula
Compound represented by (III), 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3
Examples include a, 7-tetrazaindene and the like.

【0220】本発明における熱現像画像記録材料はカブ
リ防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。ア
ゾリウム塩としては、特開昭59-193447号記載の一般式
(XI)で表される化合物、特公昭55-12581号記載の化合
物、特開昭60-153039号記載の一般式(II)で表される
化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光記録材料のい
かなる部位に添加しても良いが、添加層としては感光性
層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩
含有層に添加することがさらに好ましい。アゾリウム塩
の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行って
も良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製
時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩
調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法
としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で
行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他
の添加物と混合した溶液として添加しても良い。
The heat-developable image recording material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of preventing fog. Examples of the azolium salt include compounds represented by the general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. The compounds represented may be mentioned. The azolium salt may be added to any part of the light-sensitive recording material, but as an addition layer, it is preferably added to the layer having the photosensitive layer, and more preferably to the organic silver salt-containing layer. The azolium salt may be added at any step in the preparation of the coating solution, and when it is added to the organic silver salt-containing layer, it may be at any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution, but after the preparation of the organic silver salt. Therefore, immediately before coating is preferable. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution and fine particle dispersion. Also, it may be added as a solution mixed with other additives such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a toning agent.

【0221】本発明においてアゾリウム塩の添加量とし
てはいかなる量でも良いが、銀1モル当たり1×10-6
モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3モル以上
0.5モル以下がさらに好ましい。
In the present invention, the addition amount of the azolium salt may be any amount, but it is 1 × 10 -6 per mol of silver.
The molar ratio is preferably 2 mol or more and 2 mol or less, more preferably 1 × 10 −3 mol or more and 0.5 mol or less.

【0222】(その他)本発明には現像を抑制あるいは
促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させ
るため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメル
カプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含
有させることができ、特開平10-62899号の段落番号0067
〜0069、特開平10-186572号の一般式(I)で表される
化合物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州
特許公開第0803764A1号の第20ページ第36〜56行
に記載されている。その中でも特開平9-297367号、特開
平9-304875号、特開2001-100358号、特願2001-104213
号、特願2001-104214号等に記載されているメルカプト
置換複素芳香族化合物が好ましい。
(Others) In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, a thione compound is used for the purpose of suppressing or accelerating the development to control the development, improving the spectral sensitization efficiency, and improving the preservability before and after the development. Paragraph No. 0067 of JP-A-10-62899
~ 0069, compounds represented by the general formula (I) of JP-A-10-186572 and specific examples thereof are described in paragraph Nos. 0033 to 0052, European Patent Publication No. 0803764A1, page 20, lines 36 to 56. There is. Among them, JP-A-9-297367, JP-A-9-304875, JP-A-2001-100358, and Japanese Patent Application No. 2001-104213
Nos. 4,096,096 and No. 2001-104214, and the like, are preferably mercapto-substituted heteroaromatic compounds.

【0223】本発明の熱現像画像記録材料では色調剤の
添加が好ましく、色調剤については、特開平10-62899号
の段落番号0054〜0055、欧州特許公開第0803764A1号の
第21ページ第23〜48行、特開2000-356317号や特願200
0-187298号に記載されており、特に、フタラジノン類
(フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩;
例えば4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロ
フタラジノン、5、7−ジメトキシフタラジノンおよび
2、3−ジヒドロ−1、4−フタラジンジオン);フタ
ラジノン類とフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチ
ルフタル酸、4−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニ
ウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウムおよびテ
トラクロロ無水フタル酸)との組合せ;フタラジン類
(フタラジン、フタラジン誘導体もしくは金属塩;例え
ば4−(1−ナフチル)フタラジン、6−イソプロピル
フタラジン、6−t−ブチルフラタジン、6−クロロフ
タラジン、5、7−ジメトキシフタラジンおよび2、3
−ジヒドロフタラジン);フタラジン類とフタル酸類と
の組合せが好ましく、特にフタラジン類とフタル酸類の
組合せが好ましい。そのなかでも特に好ましい組み合わ
せは6−イソプロピルフタラジンとフタル酸または4−
メチルフタル酸との組み合わせである。
In the heat-developable image recording material of the present invention, it is preferable to add a toning agent. As for the toning agent, paragraph Nos. 0054 to 0055 of JP-A-10-62899 and page 23 to 23 of EP-A-0803764A1 are mentioned. 48 lines, JP 2000-356317 and Japanese Patent Application 200
0-187298, particularly phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts;
For example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione; phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid) , 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, diammonium phthalate, sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride); phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; eg 4- (1 -Naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6-t-butylflatadine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine and 2,3.
-Dihydrophthalazine); a combination of phthalazines and phthalic acids is preferable, and a combination of phthalazines and phthalic acids is particularly preferable. Among them, a particularly preferable combination is 6-isopropylphthalazine and phthalic acid or 4-
It is a combination with methylphthalic acid.

【0224】本発明の感光性層に用いることのできる可
塑剤および潤滑剤については特開平11-65021号段落番号
0117、超硬調画像形成のための超硬調化剤やその添加方
法や量については、同号段落番号0118、特開平11-22389
8号段落番号0136〜0193、特開平2000-284399号の式
(H)、式(1)〜(3)、式(A)、(B)の化合
物、特願平11-91652号記載の一般式(III)〜(V)の
化合物(具体的化合物:化21〜化24)、硬調化促進剤に
ついては特開平11-65021号段落番号0102、特開平11-223
898号段落番号0194〜0195に記載されている。
Regarding the plasticizers and lubricants that can be used in the photosensitive layer of the present invention, paragraph No. of JP-A No. 11-65021
Regarding the super-high contrast agent for super-high contrast image formation and the addition method and amount thereof, paragraph No. 0118 of the same item, JP-A No. 11-22389.
No. 8 paragraphs 0136 to 0193, compounds of formula (H), formulas (1) to (3), formulas (A) and (B) of JP-A 2000-284399, and general description in Japanese Patent Application No. 11-91652. Regarding the compounds of formulas (III) to (V) (specific compounds: Chemical formulas 21 to 24) and the contrast enhancing accelerator, JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0102 and JP-A No. 11-223.
No. 898, paragraph numbers 0194 to 0195.

【0225】蟻酸や蟻酸塩を強いかぶらせ物質として用
いるには、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を
有する側に銀1モル当たり5ミリモル以下、さらには1
ミリモル以下で含有することが好ましい。
To use formic acid or formate as a strong fogging substance, 5 mmol or less, more preferably 1 mol or less, per mol of silver on the side having an image forming layer containing a photosensitive silver halide.
It is preferable that the content is not more than mmol.

【0226】本発明の熱現像画像記録材料で超硬調化剤
を用いる場合には五酸化二リンが水和してできる酸また
はその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リ
ンが水和してできる酸またはその塩としては、メタリン
酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オルトリン酸(塩)、三
リン酸(塩)、四リン酸(塩)、ヘキサメタリン酸
(塩)などを挙げることができる。
When a super-high contrast agent is used in the heat-developable image recording material of the present invention, it is preferable to use an acid formed by hydration of diphosphorus pentaoxide or a salt thereof in combination. Examples of the acid formed by hydration of diphosphorus pentoxide or a salt thereof include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametaline. Examples thereof include acids (salts).

【0227】特に好ましく用いられる五酸化二リンが水
和してできる酸またはその塩としては、オルトリン酸
(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)を挙げることができ
る。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オル
トリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウ
ム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがある。五酸化
二リンが水和してできる酸またはその塩の使用量(感光
記録材料1m2あたりの塗布量)は感度やカブリなどの
性能に合わせて所望の量でよいが、0.1〜500mg
/m2が好ましく、0.5〜100mg/m2がより好ま
しい。
Particularly preferably used acids formed by hydration of diphosphorus pentoxide or salts thereof are orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific salts include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, ammonium hexametaphosphate and the like. The amount of the acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (coating amount per 1 m 2 of the photosensitive recording material) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog, but is 0.1 to 500 mg.
/ M 2 is preferable, and 0.5 to 100 mg / m 2 is more preferable.

【0228】本発明における熱現像画像記録材料は画像
形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けること
ができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であっ
てもよい。表面保護層については、特開平11-65021号段
落番号0119〜0120、特願2000-171936号に記載されてい
る。
The heat-developable image recording material of the present invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers. The surface protective layer is described in paragraph Nos. 0119 to 0120 of JP-A No. 11-65021 and Japanese Patent Application No. 2000-171936.

【0229】本発明の表面保護層のバインダーとしては
ゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール(PVA)
を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンと
してはイナートゼラチン(例えば新田ゼラチン75
0)、フタル化ゼラチン(例えば新田ゼラチン801)な
ど使用することができる。PVAとしては、特開2000-1
71936号の段落番号0009〜0020に記載のものがあげら
れ、完全けん化物のPVA−105、部分けん化物のP
VA−205,PVA−335、変性ポリビニルアルコ
ールのMP−203(以上、クラレ(株)製の商品名)
などが好ましく挙げられる。保護層(1層当たり)のポ
リビニルアルコール塗布量(支持体1m2当たり)として
は0.3〜4.0g/m2が好ましく、0.3〜2.0g
/m2がより好ましい。
Gelatin is preferred as the binder for the surface protective layer of the present invention, but polyvinyl alcohol (PVA)
It is also preferable to use or to use. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 75
0), phthalated gelatin (eg Nitta gelatin 801) and the like can be used. As PVA, JP 2000-1
71936, paragraph numbers 0009 to 0020, which include fully saponified PVA-105 and partially saponified P.
VA-205, PVA-335, modified polyvinyl alcohol MP-203 (these are trade names of Kuraray Co., Ltd.)
And the like are preferable. The polyvinyl alcohol coating amount (per 1 m 2 of support) of the protective layer (per 1 layer) is preferably 0.3 to 4.0 g / m 2 , and 0.3 to 2.0 g
/ M 2 is more preferable.

【0230】特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発
明の熱現像画像記録材料を用いる場合には、表面保護層
やバック層にポリマーラテックスを用いることが好まし
い。このようなポリマーラテックスについては「合成樹
脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発
行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝
明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会
発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井
宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などにも記
載され、具体的にはメチルメタクリレート(33.5質
量%)/エチルアクリレート(50質量%)/メタクリル
酸(16.5質量%)コポリマーのラテックス、メチル
メタクリレート(47.5質量%)/ブタジエン(4
7.5質量%)/イタコン酸(5質量%)コポリマーのラ
テックス、エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリ
マーのラテックス、メチルメタクリレート(58.9質
量%)/2−エチルヘキシルアクリレート(25.4質
量%)/スチレン(8.6質量%)/2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート(5.1質量%)/アクリル酸(2.
0質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレ
ート(64.0質量%)/スチレン(9.0質量%)/ブ
チルアクリレート(20.0質量%)/2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート(5.0質量%)/アクリル酸
(2.0質量%)コポリマーのラテックスなどが挙げら
れる。
Especially when the heat-developable image recording material of the present invention is used for printing applications where dimensional change is a problem, polymer latex is preferably used for the surface protective layer and the back layer. Regarding such polymer latex, "Synthetic resin emulsion (Taira Okuda, edited by Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Kogyokai (1978))", "Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka, Soichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi) Molecular Publishing (1993)), "Chemistry of Synthetic Latex (Souichi Muroi, Polymer Publishing (1970))", etc., and specifically methyl methacrylate (33.5% by mass). / Ethyl acrylate (50% by mass) / methacrylic acid (16.5% by mass) copolymer latex, methyl methacrylate (47.5% by mass) / butadiene (4
7.5% by mass) / itaconic acid (5% by mass) copolymer latex, ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer latex, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethylhexyl acrylate (25.4% by mass) / Styrene (8.6% by mass) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1% by mass) / Acrylic acid (2.
0% by mass) latex of copolymer, methyl methacrylate (64.0% by mass) / styrene (9.0% by mass) / butyl acrylate (20.0% by mass) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0% by mass) / Examples thereof include a latex of acrylic acid (2.0% by mass) copolymer.

【0231】さらに、表面保護層用のバインダーとし
て、特願平11-6872号明細書のポリマーラテックスの組
み合わせ、特願平11-143058号明細書の段落番号0021〜0
025に記載の技術、特願平11-6872号明細書の段落番号00
27〜0028に記載の技術、特願平10-199626号明細書の段
落番号0023〜0041に記載の技術を適用してもよい。
Further, as a binder for the surface protective layer, a combination of polymer latexes of Japanese Patent Application No. 11-6872, paragraphs 0021 to 0 of Japanese Patent Application No. 11-143058.
Paragraph number 00 of the technology described in 025, Japanese Patent Application No. 11-6872
The techniques described in paragraphs 0023 to 0041 of the specification of Japanese Patent Application No. 10-199626 may be applied.

【0232】表面保護層のポリマーラテックスの比率は
全バインダーの10質量%以上90質量%以下が好まし
く、特に20質量%以上80質量%以下が好ましい。表
面保護層(1層当たり)の全バインダー(水溶性ポリマ
ー及びラテックスポリマーを含む)塗布量(支持体1m2
当たり)としては0.3〜5.0g/m2が好ましく、
0.3〜2.0g/m2がより好ましい。
The ratio of the polymer latex in the surface protective layer is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, and more preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less of the total binder. Coating amount of all binders (including water-soluble polymer and latex polymer) in the surface protective layer (per layer) (support 1 m 2
As (per hit), 0.3 to 5.0 g / m 2 is preferable,
0.3 to 2.0 g / m 2 is more preferable.

【0233】本発明の画像形成層塗布液の調製温度は3
0℃以上65℃以下がよく、さらに好ましい温度は35
℃以上60℃未満、より好ましい温度は35℃以上55
℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画
像形成層塗布液の温度が30℃以上65℃以下で維持さ
れることが好ましい。
The preparation temperature of the coating solution for the image forming layer of the present invention is 3
0 ° C or higher and 65 ° C or lower is preferable, and more preferable temperature is 35 ° C.
℃ or more and less than 60 ℃, more preferable temperature is 35 ℃ or more 55
It is below ℃. Further, the temperature of the coating liquid for the image forming layer immediately after the addition of the polymer latex is preferably maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.

【0234】本発明の画像形成層は、支持体上に一また
はそれ以上の層で構成される。一層で構成する場合は有
機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤およびバインダー
よりなり、必要により色調剤、被覆助剤および他の補助
剤などの所望による追加の材料を含む。二層以上で構成
する場合は、第1画像形成層(通常は支持体に隣接した
層)中に有機銀塩および感光性ハロゲン化銀を含み、第
2画像形成層または両層中にいくつかの他の成分を含ま
なければならない。多色感光性熱現像写真材料の構成
は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、
また、米国特許第4,708,928号に記載されているように
単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多染料多色
感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層は、一般に、米
国特許第4,460,681号に記載されているように、各感光
性層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用
することにより、互いに区別されて保持される。
The image forming layer of the present invention comprises one or more layers on the support. When it is composed of a single layer, it consists of an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a binder, and optionally contains additional materials such as a toning agent, a coating aid and other auxiliary agents. When composed of two or more layers, the first image-forming layer (usually the layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and a photosensitive silver halide, and some of the second image-forming layer or both layers are contained. Must contain other ingredients of. The composition of the multicolor photosensitive photothermographic material may include a combination of these two layers for each color,
It may also include all components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. In the case of multi-dye multicolor light-sensitive photothermographic materials, each emulsion layer generally comprises a functional or non-functional barrier layer between each light-sensitive layer as described in U.S. Pat.No. 4,460,681. By being used, they are retained separately from each other.

【0235】本発明の感光性層には色調改良、レーザー
露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点
から各種染料や顔料(例えばC.I.Pigment Blue 60、C.
I.Pigment Blue 64、C.I.Pigment Blue 15:6)を用いる
ことができる。これらについてはWO98/36322号、特開平
10-268465号、同11-338098号等に詳細に記載されてい
る。
The photosensitive layer of the present invention contains various dyes and pigments (for example, CI Pigment Blue 60, C.I., etc.) from the viewpoint of improving color tone, preventing interference fringes during laser exposure, and preventing irradiation.
I.Pigment Blue 64, CI Pigment Blue 15: 6) can be used. About these, WO98 / 36322, JP
It is described in detail in Nos. 10-268465 and 11-338098.

【0236】本発明の熱現像画像記録材料においては、
アンチハレーション層を感光性層に対して光源から遠い
側に設けることが好ましく行われる。
In the heat-developable image recording material of the present invention,
It is preferable to provide the antihalation layer on the side far from the light source with respect to the photosensitive layer.

【0237】熱現像画像記録材料は一般に、感光性層に
加えて非感光性層を有する。非感光性層は、その配置か
ら(1)感光性層の上(支持体よりも遠い側)に設けら
れる保護層、(2)複数の感光性層の間や感光性層と保
護層の間に設けられる中間層、(3)感光性層と支持体
との間に設けられる下塗り層、(4)感光性層の反対側
に設けられるバック層に分類できる。フィルター層は、
(1)または(2)の層として感光記録材料に設けられ
る。アンチハレーション層は、(3)または(4)の層
として感光記録材料に設けられる。
The heat developable image recording material generally has a non-photosensitive layer in addition to the photosensitive layer. The non-photosensitive layer is (1) a protective layer provided on the photosensitive layer (the side farther than the support) from the arrangement, (2) between a plurality of photosensitive layers or between the photosensitive layer and the protective layer. Can be classified into an intermediate layer provided in (3), (3) an undercoat layer provided between the photosensitive layer and the support, and (4) a back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer. The filter layer is
It is provided on the photosensitive recording material as the layer (1) or (2). The antihalation layer is provided on the photosensitive recording material as the layer (3) or (4).

【0238】アンチハレーション層については特開平11
-65021号段落番号0123〜0124、特開平11-223898号、同9
-230531号、同10-36695号、同10-104779号、同11-23145
7号、同11-352625号、同11-352626号等に記載されてい
る。アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有す
るアンチハレーション染料を含有する。本発明の場合は
露光レーザーの波長は350nmから440nmにピー
ク波長を持つものであるため、アンチハレーションもこ
の波長を吸収するような染料を用いることが好ましい。
Regarding the antihalation layer, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-1999
-65021, paragraph numbers 0123 to 0124, JP-A Nos. 11-223898 and 9
-230531, 10-36695, 10-104779, 11-23145
No. 7, No. 11-352625, No. 11-352626, etc. The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. In the case of the present invention, since the wavelength of the exposure laser has a peak wavelength from 350 nm to 440 nm, it is preferable to use a dye that also absorbs this wavelength for antihalation.

【0239】可視域に吸収を有する染料を用いてハレー
ション防止を行う場合には、画像形成後には染料の色が
実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の
熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非
感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加して
アンチハレーション層として機能させることが好まし
い。これらの技術については特開平11-231457号等に記
載されている。
When antihalation is carried out by using a dye having absorption in the visible region, it is preferable that the color of the dye does not substantially remain after image formation. Is preferably used, and it is particularly preferable to add a heat-decolorizing dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as an antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.

【0240】消色染料の添加量は、染料の用途により決
定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光
学濃度(吸光度)が0.1を越える量で使用することが
好ましい。光学濃度は、0.15〜2であることが好ま
しく0.2〜1であることがより好ましい。このような
光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に0.00
1〜1g/m2程度である。
The addition amount of the decolorizing dye is determined depending on the use of the dye. In general, it is preferable to use an optical density (absorbance) of more than 0.1 when measured at a target wavelength. The optical density is preferably 0.15 to 2, more preferably 0.2 to 1. The amount of dye used to obtain such an optical density is generally 0.00
It is about 1 to 1 g / m 2 .

【0241】なお、このように染料を消色すると、熱現
像後の光学濃度を0.1以下に低下させることができ
る。二種類以上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現
像画像記録材料において併用してもよい。同様に、二種
類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。
By decoloring the dye in this way, the optical density after thermal development can be lowered to 0.1 or less. Two or more kinds of decolorizable dyes may be used together in the thermal decolorizable recording material or the heat-developed image recording material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination.

【0242】このような消色染料と塩基プレカーサーを
用いる熱消色においては、特開平11-352626号に記載の
ような塩基プレカーサーと混合すると融点を3℃(de
g)以上降下させる物質(例えば、ジフェニルスルホ
ン、4-クロロフェニル(フェニル)スルホン)、2-ナフ
チルベンゾエート等を併用することが熱消色性等の点で
好ましい。
In the thermal bleaching using such a decolorizing dye and a base precursor, when it is mixed with a base precursor as described in JP-A-11-352626, the melting point is 3 ° C. (de
g) It is preferable from the viewpoint of thermal decoloring property to use together a substance capable of lowering the amount (eg, diphenyl sulfone, 4-chlorophenyl (phenyl) sulfone), 2-naphthyl benzoate and the like.

【0243】本発明においては、銀色調、画像の経時変
化を改良する目的で300〜450nmに吸収極大を有
する着色剤を添加することができる。このような着色剤
は、特開昭62-210458号、同63-104046号、同63-103235
号、同63-208846号、同63-306436号、同63-314535号、
特開平01-61745号、特開平2001-100363などに記載され
ている。このような着色剤は、通常、0.1mg/m2
1g/m2の範囲で添加され、添加する層としては感光性
層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver tone and the change with time of the image. Such colorants are disclosed in JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, and JP-A-63-103235.
No. 63, No. 63-208846, No. 63-306436, No. 63-314535,
It is described in JP-A Nos. 01-61745 and 2001-100363. Such a coloring agent is usually 0.1 mg / m 2 to
The back layer is preferably added in the range of 1 g / m 2 , and the layer to be added is preferably a back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer.

【0244】本発明における熱現像画像記録材料は、支
持体の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を
含む感光性層を有し、他方の側にバック層を有する、い
わゆる片面感光記録材料であることが好ましい。
The heat-developable image recording material in the present invention has a photosensitive layer containing at least one silver halide emulsion on one side of the support and a back layer on the other side, so-called single-sided photosensitive recording. It is preferably a material.

【0245】本発明において、搬送性改良のためにマッ
ト剤を添加することが好ましく、マット剤については、
特開平11-65021号段落番号0126〜0127に記載されてい
る。マット剤は感光記録材料1m2当たりの塗布量で示し
た場合、好ましくは1〜400mg/m2、より好ましく
は5〜300mg/m2である。本発明においてマット剤
の形状は定型、不定形のいずれでもよいが好ましくは定
型で、球形が好ましく用いられる。平均粒径は0.5〜
10μmであることが好ましく、より好ましくは1.0
〜8.0μm、さらに好ましくは2.0〜6.0μmの
範囲である。また、サイズ分布の変動係数としては50
%以下であることが好ましく、より好ましくは40%以
下、さらに好ましくは、30%以下である。ここで変動
係数とは(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×10
0で表される値である。また、変動係数が小さいマット
剤で平均粒径の比が3より大きいものを2種併用するこ
とも好ましい。
In the present invention, it is preferable to add a matting agent for improving the transportability.
It is described in paragraph Nos. 0126 to 0127 of JP-A No. 11-65021. The matting agent is preferably 1 to 400 mg / m 2 , and more preferably 5 to 300 mg / m 2 in terms of coating amount per 1 m 2 of the light-sensitive recording material. In the present invention, the shape of the matting agent may be either regular or amorphous, but is preferably regular and spherical is preferably used. Average particle size is 0.5-
It is preferably 10 μm, more preferably 1.0
˜8.0 μm, more preferably 2.0 to 6.0 μm. The coefficient of variation of the size distribution is 50
% Or less, more preferably 40% or less, and further preferably 30% or less. Here, the coefficient of variation is (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 10
It is a value represented by 0. It is also preferable to use two kinds of matting agents having a small coefficient of variation and having a ratio of average particle diameters of more than 3.

【0246】また、乳剤面のマット度は星屑故障が生じ
なければいかようでも良いが、ベック平滑度が30秒以
上2000秒以下が好ましく、特に40秒以上1500
秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格(J
IS)P8119「紙および板紙のベック試験器による平滑
度試験方法」およびTAPPI標準法T479により容易に求め
ることができる。
The matteness of the emulsion surface may be anything as long as stardust failure does not occur, but the Beck's smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less, and particularly 40 seconds or more 1500.
Seconds or less are preferable. Beck's smoothness is based on Japanese Industrial Standards (J
IS) P8119 "Smoothness test method for paper and board by Beck tester" and TAPPI standard method T479.

【0247】本発明においてバック層のマット度として
はベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好まし
く、800秒以下20秒以上が好ましく、さらに好まし
くは500秒以下40秒以上である。
In the present invention, the Bekk smoothness of the back layer is preferably 1200 seconds or less and 10 seconds or more, more preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and further preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.

【0248】本発明において、マット剤は感光記録材料
の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あ
るいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、また
いわゆる保護層として作用する層に含有されることが好
ましい。
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photosensitive recording material, a layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and a layer acting as a so-called protective layer. Is preferably contained in

【0249】本発明に適用することのできるバック層に
ついては特開平11-65021号段落番号0128〜0130に記載さ
れている。
The back layer applicable to the present invention is described in paragraph Nos. 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.

【0250】本発明の熱現像画像記録材料は、熱現像処
理前の膜面pHが7.0以下であることが好ましく、さ
らに好ましくは6.6以下である。その下限には特に制
限はないが、3程度である。最も好ましいpH範囲は4
〜6.2の範囲である。膜面pHの調節はフタル酸誘導
体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニア
などの揮発性の塩基を用いることが、膜面pHを低減さ
せるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発し
やすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できるこ
とから低膜面pHを達成する上で好ましい。
In the heat-developable image recording material of the present invention, the pH of the film surface before the heat-development treatment is preferably 7.0 or less, more preferably 6.6 or less. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. Most preferred pH range is 4
The range is from to 6.2. From the viewpoint of reducing the film surface pH, it is preferable to use an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia for adjusting the film surface pH. Ammonia is particularly volatile so that it can be removed before the coating step or heat development, which is preferable for achieving a low film surface pH.

【0251】また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを
併用することも好ましく用いられる。なお、膜面pHの
測定方法は、特願平11-87297号明細書の段落番号012
3に記載されている。
It is also preferable to use a non-volatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or lithium hydroxide in combination with ammonia. The method for measuring the film surface pH is described in Japanese Patent Application No. 11-87297, paragraph 012.
3 are described.

【0252】本発明の感光性層、保護層、バック層など
各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の例としてはT.
H.James著“THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS
FOURTH EDITION”(Macmillan Publishing Co., Inc.
刊、1977年刊)77頁から87頁に記載の各方法があ
り、クロムみょうばん、2、4−ジクロロ−6−ヒドロ
キシ−s−トリアジンナトリウム塩、N、N−エチレン
ビス(ビニルスルホンアセトアミド)、N、N−プロピ
レンビス(ビニルスルホンアセトアミド)の他、同書78
頁など記載の多価金属イオン、米国特許4,281,060号、
特開平6-208193号などのポリイソシアネート類、米国特
許4,791,042号などのエポキシ化合物類、特開昭62-8904
8号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いら
れる。
A hardener may be used in each of the layers such as the photosensitive layer, the protective layer and the back layer of the present invention. An example of a hardener is T.
"THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS" by H. James
FOURTH EDITION ”(Macmillan Publishing Co., Inc.
1977) pp. 77-87. Chromium alum, 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide), N , N-propylene bis (vinyl sulfone acetamide), ibid. 78
Polyvalent metal ions described in pages, U.S. Pat.No. 4,281,060,
Polyisocyanates such as JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, JP-A-62-8904
Vinyl sulfone compounds such as No. 8 are preferably used.

【0253】硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の
保護層塗布液中への添加時期は、塗布する180分前か
ら直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混
合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現
れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法
としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平
均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混
合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、
高橋幸司訳“液体混合技術”(日刊工業新聞社刊、1989
年)の第8章などに記載されているスタチックミキサー
などを使用する方法がある。
The hardening agent is added as a solution, and the timing of adding this solution to the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before coating, preferably from 60 minutes before to 10 seconds before coating. The mixing conditions are not particularly limited as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. As a specific mixing method, a method of mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount sent to the coater is a desired time and N. Harnby, MF Edwards, by AW Nienow,
"Liquid mixing technology" translated by Koji Takahashi (Published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989
There is a method of using a static mixer described in Chapter 8 etc.

【0254】本発明に適用できる界面活性剤については
特開平11-65021号段落番号0132、溶剤については同号段
落番号0133、支持体については同号段落番号0134、帯電
防止又は導電層については同号段落番号0135、カラー画
像を得る方法については同号段落番号0136に、滑り剤に
ついては特開平11-84573号段落番号0061〜0064や特願平
11-106881号段落番号0049〜0062記載されている。
The surfactant applicable to the present invention is described in JP-A No. 11-65021, Paragraph No. 0132, the solvent is Paragraph No. 0133, the support is Paragraph No. 0134, and the antistatic or conductive layer is the same. No. 0135, No. 0136 of the same item for a method of obtaining a color image, and JP-A No. 11-84573, paragraphs 0061 to 0064 and Japanese Patent Application No.
No. 11-106881, paragraph numbers 0049 to 0062 are described.

【0255】本発明においては金属酸化物を含む導電層
を有することが好ましい。導電層の導電性材料は金属酸
化物中に酸素欠陥、異種金属原子を導入して導電性を高
めた金属酸化物が好ましく用いられる。金属酸化物の例
としてはZnO、TiO2、SnO2が好ましく、ZnO
2に対してはAl、Inの添加、SnO2に対してはS
b、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、TiO2に対し
てはNb、Ta等の添加が好ましい。特にSbを添加し
たSnO2が好ましい。
In the present invention, it is preferable to have a conductive layer containing a metal oxide. As the conductive material of the conductive layer, a metal oxide in which oxygen defects and foreign metal atoms are introduced into the metal oxide to enhance the conductivity is preferably used. As an example of the metal oxide, ZnO, TiO 2 , and SnO 2 are preferable, and ZnO
For 2 Al, the addition of an In, S for SnO 2
It is preferable to add b, Nb, P, a halogen element, or the like, and to TiO 2 , add Nb, Ta, or the like. SnO 2 containing Sb is particularly preferable.

【0256】異種原子の添加量は0.01〜30mol
%の範囲が好ましく、0.1から10mol%の範囲が
より好ましい。金属酸化物の形状は球状、針状、板状い
ずれでもよいが、導電性付与の効果の点で長軸/単軸比
が2.0以上、好ましくは3.0〜50の針状粒子がよ
い。
The addition amount of the heteroatom is 0.01 to 30 mol.
% Is preferable, and 0.1 to 10 mol% is more preferable. The shape of the metal oxide may be spherical, acicular, or plate-like, but in terms of the effect of imparting conductivity, the major axis / uniaxial ratio is 2.0 or more, preferably 3.0 to 50 acicular particles. Good.

【0257】金属酸化物の使用量は好ましくは1mg/
m〜1000mg/m2の範囲で、より好ましくは10m
g/m〜500mg/m2の範囲、さらに好ましくは20
mg/m〜200mg/m2の範囲である。本発明の導電
層は乳剤面側、バック面側のいずれに設置してもよい
が、支持体とバック層との間に設置することが好まし
い。本発明の導電層の具体例は特開平7-295146号、特開
平11-223901号に記載されている。
The amount of the metal oxide used is preferably 1 mg /
In the range of m to 1000 mg / m 2 , more preferably 10 m
g / m to 500 mg / m 2 , more preferably 20
The range is from mg / m to 200 mg / m 2 . The conductive layer of the present invention may be provided on either the emulsion surface side or the back surface side, but it is preferably provided between the support and the back layer. Specific examples of the conductive layer of the present invention are described in JP-A-7-295146 and JP-A-11-223901.

【0258】本発明においてはフッ素系の界面活性剤を
使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例
は特開平10-197985号、特開2000-19680号、特開2000-21
4554号等に記載された化合物があげられる。また、特開
平9-281636号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好まし
く用いられる。本発明においては特願2000-206560号記
載のフッ素系界面活性剤の使用が特に好ましい。
In the present invention, it is preferable to use a fluorinated surfactant. Specific examples of the fluorine-based surfactant are JP-A-10-197985, JP-A-2000-19680, and JP-A-2000-21.
Examples thereof include compounds described in No. 4554 and the like. Further, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used. In the present invention, it is particularly preferable to use the fluorine-based surfactant described in Japanese Patent Application No. 2000-206560.

【0259】透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残
存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱
収縮歪みをなくすために、130〜185℃の温度範囲
で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレ
フタレートが好ましく用いられる。医療用の熱現像画像
記録材料の場合、透明支持体は青色染料(例えば、特開
平8-240877号実施例記載の染料-1)で着色されていても
よいし、無着色でもよい。
The transparent support is a polyester heat-treated in the temperature range of 130 to 185 ° C. in order to relax the internal strain remaining in the film during biaxial stretching and eliminate the heat shrinkage strain generated during the heat development treatment. Especially, polyethylene terephthalate is preferably used. In the case of a heat-developable image recording material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, Dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored.

【0260】支持体には、特開平11-84574号の水溶性ポ
リエステル、同10-186565号のスチレンブタジエン共重
合体、特開2000-39684号や特願平11-106881号段落番号0
063〜0080の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術
を適用することが好ましい。また、帯電防止層若しくは
下塗りについて特開昭56-143430号、同56-143431号、同
58-62646号、同56-120519号、特開平11-84573号の段落
番号0040〜0051、米国特許第5,575,957号、特開平11-22
3898号の段落番号0078〜0084に記載の技術を適用するこ
とができる。
As the support, a water-soluble polyester described in JP-A No. 11-84574, a styrene-butadiene copolymer described in JP-A No. 10-186565, a paragraph No. 0 in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881.
It is preferable to apply an undercoating technique such as a vinylidene chloride copolymer of 063 to 0080. Further, regarding the antistatic layer or undercoat, JP-A-56-143430, JP-A-56-143431,
58-62646, 56-120519, JP-A-11-84573, paragraph numbers 0040 to 0051, U.S. Pat.No. 5,575,957, JP-A-11-22
The technique described in paragraph numbers 0078 to 0084 of No. 3898 can be applied.

【0261】熱現像画像記録材料は、モノシート型(受
像材料のような他のシートを使用せずに、熱現像画像記
録材料上に画像を形成できる型)であることが好まし
い。
The heat-developable image recording material is preferably a monosheet type (a type capable of forming an image on the heat-developable image recording material without using another sheet such as an image receiving material).

【0262】熱現像画像記録材料には、さらに、酸化防
止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助
剤を添加してもよい。各種の添加剤は、感光性層あるい
は非感光性層のいずれかに添加する。それらについてWO
98/36322号、EP803764A1号、特開平10-186567号、同10-
18568号等を参考にすることができる。
An antioxidant, stabilizer, plasticizer, ultraviolet absorber or coating aid may be further added to the heat-developable image recording material. Various additives are added to either the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. About them WO
98/36322, EP803764A1, JP-A-10-186567, 10-
You can refer to No. 18568 etc.

【0263】本発明における熱現像画像記録材料はいか
なる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストル
ージョンコーティング、スライドコーティング、カーテ
ンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティン
グ、フローコーティング、または米国特許第2,681,294
号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを
含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F.
Kistler、Petert M. Schweizer著“LIQUID FILM COATIN
G”(CHAPMAN & HALL社刊、1997年)399頁から536頁記載
のエクストルージョンコーティング、またはスライドコ
ーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライド
コーティングが用いられる。スライドコーティングに使
用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFig
ure 11b.1に ある。また、所望により同書399頁から536
頁記載の方法、米国特許第2,761,791 号および英国特許
第837,095号に記載の方法により2層またはそれ以上の層
を同時に被覆することができる。
The heat-developable image recording material in the invention may be applied by any method. Specifically, extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or US Patent No. 2,681,294.
Various coating operations were used, including extrusion coating with hoppers of the type described in No.
"LIQUID FILM COATIN" by Kistler, Petert M. Schweizer
G ″ (published by CHAPMAN & HALL, 1997) pages 399 to 536, extrusion coating or slide coating is preferably used, and slide coating is particularly preferably used. The shape of the slide coater used for slide coating is preferably used. For an example, see page 427 of the same book.
ure 11b.1. Also, if desired, pages 399 to 536 of the same book.
Two or more layers can be coated simultaneously by the method described on page, U.S. Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095.

【0264】本発明における有機銀塩含有層塗布液は、
いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。こ
の技術については特開平11-52509号を参考にすることが
できる。本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速
度0.1S-1における粘度は400mPa・s以上100,
000mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは5
00mPa・s以上20,000mPa・s以下であ
る。また、剪断速度1000S-1においては1mPa・
s以上200mPa・s以下が好ましく、さらに好まし
くは5mPa・s以上80mPa・s以下である。
The coating solution for the organic silver salt-containing layer in the present invention comprises
It is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, reference can be made to JP-A-11-52509. The coating solution for the organic silver salt-containing layer in the present invention has a viscosity at a shear rate of 0.1 S −1 of 400 mPa · s or more, 100,
It is preferably 000 mPa · s or less, more preferably 5
It is not less than 00 mPa · s and not more than 20,000 mPa · s. Also, at a shear rate of 1000 S −1 , 1 mPa ·
It is preferably s or more and 200 mPa · s or less, and more preferably 5 mPa · s or more and 80 mPa · s or less.

【0265】本発明の熱現像画像記録材料に用いること
のできる技術としては、EP803764A1号、EP883022A1号、
WO98/36322号、特開昭56-62648号、同58-62644号、特開
平9-43766、同9-281637、同9-297367号、同9-304869
号、同9-311405号、同9-329865号、同10-10669号、同10
-62899号、同10-69023号、同10-186568号、同10-90823
号、同10-171063号、同10-186565号、同10-186567号、
同10-186569号〜同10-186572号、同10-197974号、同10-
197982号、同10-197983号、同10-197985号〜同10-19798
7号、同10-207001号、同10-207004号、同10-221807号、
同10-282601号、同10-288823号、同10-288824号、同10-
307365号、同10-312038号、同10-339934号、同11-7100
号、同11-15105号、同11-24200号、同11-24201号、同11
-30832号、同11-84574号、同11-65021号、同11-109547
号、同11-125880号、同11-129629号、同11-133536号〜
同11-133539号、同11-133542号、同11-133543号、同11-
223898号、同11-352627号、同11-305377号、同11-30537
8号、同11-305384号、同11-305380号、同11-316435号、
同11-327076号、同11-338096号、同11-338098号、同11-
338099号、同11-343420号、特願2000-187298号、同2000
-10229号、同2000-47345号、同2000-206642号、同2000-
98530号、同2000-98531号、同2000-112059号、同2000-1
12060号、同2000-112104号、同2000-112064号、同2000-
171936号も挙げられる。
Techniques that can be used for the heat-developable image recording material of the present invention include EP803764A1 and EP883022A1.
WO98 / 36322, JP-A-56-62648, JP-A-58-62644, JP-A-9-43766, JP-A-9-281637, JP-A-9-297367, JP-A-9-304869
No. 9, No. 9-311405, No. 9-329865, No. 10-10669, No. 10
-62899, 10-69023, 10-186568, 10-90823
No., No. 10-171063, No. 10-186565, No. 10-186567,
10-186569 ~ 10-186572, 10-197974, 10-
197982, 10-197983, 10-197985 to 10-19798
No. 7, No. 10-207001, No. 10-207004, No. 10-221807,
10-282601, 10-288823, 10-288824, 10-
307365, 10-312038, 10-339934, 11-7100
No. 11, No. 15-15105, No. 11-24200, No. 11-24201, No. 11
-30832, 11-84574, 11-65021, 11-109547
No. 11, No. 11-125880, No. 11-129629, No. 11-133536 ~
11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-
No. 223898, No. 11-352627, No. 11-305377, No. 11-30537
No. 8, No. 11-305384, No. 11-305380, No. 11-316435,
11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-
338099, 11-343420, Japanese Patent Application No. 2000-187298, 2000
-10229, 2000-47345, 2000-206642, 2000-
98530, 2000-98531, 2000-112059, 2000-1
12060, 2000-112104, 2000-112064, 2000-
171936 can also be mentioned.

【0266】本発明の感光記録材料は生保存時の写真性
能の変動を押えるため、もしくはカール、巻癖などを改
良するために、酸素透過率および/または水分透過率の
低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は
25℃で50ml/atm・m2・day以下であることが好ましく、よ
り好ましくは10ml/atm・m2・day以下、さらに好ましくは
1.0ml/atm・m2・day以下である。水分透過率は10g/atm・
m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは5g/
atm・m2・day以下、さらに好ましくは1g/atm・m2・day以下
である。該酸素透過率および/または水分透過率の低い
包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254
793号。特開2000−206653号明細書に記載
されている包装材料である。
The photosensitive recording material of the present invention is packaged with a packaging material having a low oxygen transmission rate and / or a water transmission rate in order to suppress fluctuations in photographic performance during raw storage or to improve curl, curl and the like. It is preferable. Oxygen permeability is
It is preferably 50 ml / atm · m 2 · day or less at 25 ° C, more preferably 10 ml / atm · m 2 · day or less, and further preferably
It is less than 1.0 ml / atm · m 2 · day. Water permeability is 10g / atm
It is preferably m 2 · day or less, more preferably 5 g /
It is atm · m 2 · day or less, more preferably 1 g / atm · m 2 · day or less. Specific examples of the packaging material having a low oxygen transmission rate and / or a low water transmission rate include, for example, JP-A-8-254.
No. 793. The packaging material is described in JP-A-2000-206653.

【0267】(熱現像方法)本発明の熱現像画像記録材
料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージ
ワイズに露光した熱現像画像記録材料を昇温して現像さ
れる。好ましい現像温度としては80〜250℃であ
り、より好ましくは100〜140℃、更に好ましくは
100〜120℃であり、最も好ましくは105〜11
5℃である。現像時間としては1〜60秒が好ましく、
より好ましくは3〜30秒、さらに好ましくは5〜25
秒、7〜15秒が特に好ましい。
(Heat Development Method) The heat development image recording material of the present invention may be developed by any method, but it is usually developed by heating the heat development image recording material exposed imagewise. The developing temperature is preferably 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C, further preferably 100 to 120 ° C, and most preferably 105 to 11 ° C.
It is 5 ° C. The development time is preferably 1 to 60 seconds,
More preferably 3 to 30 seconds, even more preferably 5 to 25 seconds.
Seconds, 7 to 15 seconds are particularly preferable.

【0268】熱現像の方式としてはドラム型ヒータ、プ
レート型ヒータのいずれを使用してもよいが、プレート
ヒータ方式がより好ましい。プレートヒータ方式による
熱現像方式とは特開平11-133572号に記載の方法が好ま
しく、潜像を形成した熱現像画像記録材料を熱現像部に
て加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像
装置であって、前記加熱手段がプレートヒータからな
り、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個
の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プ
レートヒータとの間に前記熱現像画像記録材料を通過さ
せて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。
プレートヒータを2〜6段に分けて先端部については1
〜10℃程度温度を下げることが好ましい。例えば、独立
に温度制御できる4組のプレートヒータを使用し、それ
ぞれ112℃、119℃、121℃、120℃になるよ
うに制御する例が挙げられる。このような方法は特開昭
54-30032号にも記載されており、熱現像画像記録材料に
含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることが
でき、また、急激に熱現像画像記録材料が加熱されるこ
とでの熱現像画像記録材料の支持体形状の変化を抑える
こともできる。
As the thermal development system, either a drum type heater or a plate type heater may be used, but the plate heater type is more preferable. The heat development method using the plate heater method is preferably the method described in JP-A No. 11-133572, and a visible image is obtained by bringing the heat-developable image recording material on which a latent image is formed into contact with heating means in the heat-development section. In the heat developing device, the heating means is composed of a plate heater, and a plurality of pressing rollers are arranged to face each other along one surface of the plate heater, and the pressing roller is arranged between the pressing roller and the plate heater. A thermal development apparatus, which performs thermal development by passing a thermal development image recording material.
The plate heater is divided into 2 to 6 stages and the tip is 1
It is preferable to lower the temperature by about 10 ° C. For example, there is an example in which four sets of plate heaters that can be independently temperature controlled are used and are controlled to 112 ° C., 119 ° C., 121 ° C. and 120 ° C., respectively. Such a method is disclosed in
No. 54-30032, it is possible to exclude water and organic solvent contained in the heat-developable image recording material from the system, and by rapidly heating the heat-developable image recording material. It is also possible to suppress changes in the shape of the support of the heat-developable image recording material.

【0269】本発明の感光記録材料は、1mW/mm2以上
の高照度の光で短時間露光することが好ましい。このよ
うな高照度で露光を行うと、本願の高沃度ハロゲン化銀
乳剤と非感光性有機銀塩を含む熱現像材料においても十
分な感度を得ることができる。即ち、低照度露光に比
べ、本願の高照度露光では高感度を得ることができる。
より好ましくはその照度は2mW/mm2以上50W/mm2
以下であり、さらに好ましくは10mW/mm2以上5
0W/mm2以下である。
The photosensitive recording material of the present invention is preferably exposed for a short time with light having a high illuminance of 1 mW / mm 2 or more. When exposure is performed at such a high illuminance, sufficient sensitivity can be obtained even in the heat developing material containing the high iodide silver halide emulsion of the present application and the non-photosensitive organic silver salt. That is, high sensitivity can be obtained in the high illuminance exposure of the present application, as compared with the low illuminance exposure.
More preferably, the illuminance is 2 mW / mm 2 or more and 50 W / mm 2
Or less, more preferably 10 mW / mm 2 or more 5
It is 0 W / mm 2 or less.

【0270】このような光源であればどのようなもので
も構わないが、レーザー光であることによって好ましく
達成できる。本発明にこのましく用いられるレーザー光
としては、ガスレーザー(Ar+、Kr)、YAGレーザー、色
素レーザー、半導体レーザーなどが好ましい。また、レ
ーザーと第2高調波発生素子などを用いることもでき
る。好ましくは赤〜赤外発光のガスもしくは半導体レー
ザーである。青〜紫発光の半導体レーザーも好ましく、
青〜紫発光の高出力半導体レーザーとしては日亜化学の
「NLHV3000E」半導体レーザーを挙げることができる。
Any light source may be used as long as it is such a light source, but a laser beam can be preferably used. As a laser beam which is preferably used in the present invention, a gas laser (Ar + , Kr), a YAG laser, a dye laser, a semiconductor laser and the like are preferable. Further, a laser and a second harmonic generating element can be used. A gas or semiconductor laser emitting red to infrared light is preferable. A blue-violet emitting semiconductor laser is also preferable,
An example of a high output semiconductor laser emitting blue to purple is Nichia's "NLHV3000E" semiconductor laser.

【0271】露光部及び熱現像部を備えた医療用のレー
ザーイメージャーとしては富士メディカルドライレーザ
ーイメージャーFM−DP Lを挙げることができる。
FM−DP Lに関しては、Fuji Medical Review No.
8,page 39〜55に記載されており、それらの技術は本発
明の熱現像画像記録材料のレーザーイメージャーとして
適用することは言うまでもない。また、DICOM規格に適
応したネットワークシステムとして富士メディカルシス
テムが提案した「AD network」の中でのレーザーイメー
ジャー用の熱現像画像記録材料としても適用することが
できる。
Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DP L can be mentioned as a medical laser imager equipped with an exposure section and a heat development section.
Regarding FM-DP L, Fuji Medical Review No.
It is needless to say that those techniques are applied as a laser imager of the heat-developable image recording material of the present invention. It can also be applied as a heat-developable image recording material for a laser imager in "AD network" proposed by Fuji Medical System as a network system adapted to the DICOM standard.

【0272】本発明の熱現像画像記録材料は、銀画像に
よる黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像画像記録材
料、工業写真用熱現像画像記録材料、印刷用熱現像画像
記録材料、COM用の熱現像画像記録材料として使用さ
れることが好ましい。
The heat-developable image recording material of the present invention forms a black and white image by a silver image, and is a heat-developable image recording material for medical diagnosis, heat-developable image recording material for industrial photography, heat-developable image recording material for printing, COM. It is preferably used as a heat-developable image recording material.

【0273】[0273]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 [実施例1]
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. [Example 1]

【0274】(PET支持体の作成)テレフタル酸とエ
チレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66
(フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃
で測定)のPETを得た。これをペレット化した後、13
0℃で4時間乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出
して急冷し、熱固定後の膜厚が175μmになるような厚
みの未延伸フィルムを作成した。
(Preparation of PET support) Using terephthalic acid and ethylene glycol, an intrinsic viscosity IV = 0.66 according to a conventional method.
(Phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio) in 25 ℃
PET) was obtained. After pelletizing this, 13
It was dried at 0 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die and rapidly cooled to prepare an unstretched film having a thickness of 175 μm after heat setting.

【0275】これを、周速の異なるロ−ルを用い3.3倍
に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施し
た。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。
この後、240℃で20秒間熱固定した後、これと同じ温度
で横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部を
スリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2
巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。
This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls having different peripheral speeds, and then laterally stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C and 130 ° C, respectively.
Then, after heat setting at 240 ° C. for 20 seconds, 4% relaxation was carried out in the lateral direction at the same temperature. After slitting the chuck part of the tenter, both ends were knurled and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.

【0276】(表面コロナ処理)ピラー社製のソリッド
ステートコロナ処理機「6KVAモデル」を使い、支持
体の両面を室温下において20m/分でコロナ処理を行っ
た。この時の電流と電圧の読み取り値から、支持体には
0.375kV・A・分/m2の処理がなされたことが分かった。
この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギ
ャップクリアランスは1.6mmであった。
(Surface corona treatment) Using a solid state corona treatment machine "6KVA model" manufactured by Pillar, both sides of the support were subjected to corona treatment at room temperature at 20 m / min. From the readings of current and voltage at this time,
It was found that 0.375 kV · A · min / m 2 was processed.
The processing frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.

【0277】 (下塗り支持体の作成) (1)下塗層塗布液の作成 <処方:感光層側下塗り層用> ・高松油脂(株)製の「ペスレジンA-520」(30質量%溶液) 59g ・ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル (平均エチレンオキシド数=8.5)10質量%溶液 5.4g ・綜研化学(株)製の「MP−1000」 (ポリマー微粒子、平均粒径0.4μm) 0.91g ・蒸留水 935ml[0277]   (Preparation of undercoat support) (1) Preparation of coating liquid for undercoat layer   <Prescription: For undercoat layer on photosensitive layer side> -"Pethresin A-520" (30 mass% solution) made by Takamatsu Yushi Co., Ltd. 59 g ・ Polyethylene glycol monononyl phenyl ether   (Average ethylene oxide number = 8.5) 10 mass% solution 5.4 g ・ "MP-1000" manufactured by Soken Chemical Industry Co., Ltd.   (Polymer fine particles, average particle size 0.4 μm) 0.91 g ・ Distilled water 935 ml

【0278】 <処方:裏面側第1層用> ・スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス 158g (固形分40質量%、スチレン/ブタジエン質量比=68/32) ・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウム塩 (8質量%水溶液) 20g ・ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム(1質量%水溶液) 10ml ・蒸留水 854ml[0278]   <Prescription: Back side first layer> ・ Styrene-butadiene copolymer latex 158 g   (Solid content 40 mass%, styrene / butadiene mass ratio = 68/32) * 2,4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt   (8 mass% aqueous solution) 20 g ・ Sodium laurylbenzene sulfonate (1% by mass aqueous solution) 10 ml ・ Distilled water 854ml

【0279】 <処方:裏面側第2層用> ・SnO2/SbO (9/1質量比、平均粒径0.038μm、17質量%分散物) 84g ・ゼラチン(10質量%水溶液) 89.2g ・信越化学(株)製の「メトローズTC-5」(2質量%水溶液) 8.6g ・綜研化学(株)製の「MP-1000」 0.01g ・ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(1質量%水溶液) 10ml ・NaOH(1質量%) 6ml ・ICI社製の「プロキセル」 1ml ・蒸留水 805ml<Prescription: For Back Side Second Layer> SnO 2 / SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.038 μm, 17 mass% dispersion) 84 g Gelatin (10 mass% aqueous solution) 89.2 g Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. "Metroses TC-5" (2 mass% aqueous solution) 8.6 g-Soken Chemical Co., Ltd. "MP-1000" 0.01 g-Sodium dodecylbenzene sulfonate (1 mass% aqueous solution) 10 ml ・ NaOH (1 mass%) 6 ml ・ "Proxel" made by ICI 1 ml ・ Distilled water 805 ml

【0280】上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ
放電処理を施した後、片面(感光性層面)に上記下塗り
塗布液処方をワイヤーバーでウエット塗布量が6.6ml/
m2(片面当たり)になる様に塗布して180 ℃で5分間乾
燥し、次いでこの裏面(裏面)に上記下塗り塗布液処方
をワイヤーバーでウエット塗布量が5.7ml/m2になる様
に塗布して180 ℃で5分間乾燥し、更に裏面に上記下塗
り塗布液処方をワイヤーバーでウエット塗布量が7.7m
l/m2になる様に塗布して180 ℃で6分間乾燥して、下塗
り支持体を作製した。
Both sides of the 175 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate support were subjected to the corona discharge treatment, and then one side (the photosensitive layer side) of the undercoat coating solution formulation was coated with a wire bar to give a wet coating amount of 6.6. ml /
m 2 (per side) and dry at 180 ° C for 5 minutes, then apply the above-mentioned undercoat solution formulation to the back side (back side) with a wire bar so that the wet coating amount becomes 5.7 ml / m 2 . Apply and dry at 180 ° C for 5 minutes, and then apply the above-mentioned undercoating liquid formulation on the back side with a wire bar to apply a wet amount of 7.7 m.
l / m 2 was applied and dried at 180 ° C for 6 minutes to prepare an undercoat support.

【0281】(裏面塗布液の調製) (塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)の調製)塩
基プレカーサー化合物1を1.5kg、および界面活性剤
(商品名:デモールN、花王(株)製)225g 、ジフェニ
ルスルホン937.5g、パラヒドロキシ安息香酸ブチルエス
テル(商品名メッキンス:上野製薬製)15gおよび蒸留
水を加えて総量を5.0kgに合わせて混合し、混合液を横
型サンドミル(UVM-2:アイメックス(株)製)を用い
てビーズ分散した。分散方法は、混合液を平均直径0.5m
mのジルコニアビーズを充填したUVM-2にダイアフラムポ
ンプで送液し、内圧50hPa以上の状態で、所望の平
均粒径が得られるまで分散した。分散物は、分光吸収測
定を行って該分散物の分光吸収における450nmにおける
吸光度と650nmにおける吸光度の比(D450/D650)が2.
2以上であるところまで分散した。得られた分散物は、
塩基プレカーサーの濃度で20質量%となるように蒸留
水で希釈し、ごみ取りのためにろ過(平均細孔径:3μ
mのポリプロピレン製フィルター)を行って実用に供し
た。
(Preparation of backside coating liquid) (Preparation of solid fine particle dispersion liquid (a) of base precursor) 1.5 kg of base precursor compound 1 and 225 g of surfactant (trade name: DEMOL N, manufactured by Kao Corporation) , 937.5 g of diphenyl sulfone, 15 g of para-hydroxybenzoic acid butyl ester (trade name: Platin: manufactured by Ueno Pharmaceutical Co., Ltd.) and distilled water were added to a total amount of 5.0 kg and mixed, and the mixture was mixed in a horizontal sand mill (UVM-2: AIMEX ( Beads) were dispersed using Dispersion method: average diameter of mixed liquid 0.5m
The UVM-2 filled with m zirconia beads was fed by a diaphragm pump and dispersed under an internal pressure of 50 hPa or more until a desired average particle size was obtained. The dispersion was measured for spectroscopic absorption and the ratio of the absorbance at 450 nm and the absorbance at 650 nm (D450 / D650) in the spectral absorption of the dispersion was 2.
Dispersed to a point of 2 or more. The resulting dispersion is
Dilute with distilled water so that the concentration of the base precursor is 20% by mass, and filter for removing dust (average pore size: 3 μm).
m polypropylene filter) was used for practical use.

【0282】(染料固体微粒子分散液の調製)シアニン
染料化合物−1を6.0kgおよびp-ドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム3.0kg、花王(株)製の界面活性剤
デモールSNB0.6kg、および消泡剤(商品名:サーフィ
ノール104E、日信化学(株)製)0.15kg を蒸留水
と混合して、総液量を60kgとした。混合液を横型
サンドミル(UVM-2:アイメックス(株)製)を用い
て、0.5mmのジルコニアビーズで分散した。分散物
は、分光吸収測定を行って該分散物の分光吸収における
650nmにおける吸光度と750nmにおける吸光度の比(D650
/D750)が5.0以上であるところまで分散した。得ら
れた分散物は、シアニン染料の濃度で6質量%となるよ
うに蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにフィルターろ過
(平均細孔径:1μm)を行って実用に供した。
(Preparation of Dye Solid Fine Particle Dispersion) 6.0 kg of cyanine dye compound-1 and 3.0 kg of sodium p-dodecylbenzenesulfonate, 0.6 kg of surfactant Demol SNB manufactured by Kao Corporation, and defoaming agent ( Brand name: Surfynol 104E, manufactured by Nisshin Chemical Co., Ltd. 0.15 kg was mixed with distilled water to give a total liquid volume of 60 kg. The mixed solution was dispersed with 0.5 mm zirconia beads using a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by IMEX Co., Ltd.). The dispersion is measured by spectroscopic absorption measurement to determine the spectral absorption of the dispersion.
Ratio of absorbance at 650 nm and absorbance at 750 nm (D650
/ D750) was dispersed up to a value of 5.0 or more. The obtained dispersion was diluted with distilled water so that the concentration of the cyanine dye was 6% by mass, filtered with a filter (mean pore size: 1 μm) for dust removal, and put into practical use.

【0283】(ハレーション防止層塗布液の調製)ゼラ
チン30g、ポリアクリルアミド24.5g、1mol/lの苛
性2.2g、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子(平
均粒子サイズ8μm、粒径標準偏差0.4)2.4g、ベンゾイ
ソチアゾリノン0.08g、上記染料固体微粒子分散液35.9
g、上記塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)を74.2
g、ポリエチレンスルホン酸ナトリウム0.6g、青色染料
化合物−1を0.21g、黄色染料化合物−1を0.15g、ア
クリル酸/エチルアクリレート共重合ラテックス(共重
合比5/95)8.3gを混合し、水にて全体を8183
mlとし、ハレーション防止層塗布液を調製した。
(Preparation of coating liquid for antihalation layer) Gelatin 30 g, polyacrylamide 24.5 g, 1 mol / l caustic 2.2 g, monodisperse polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 8 μm, particle size standard deviation 0.4) 2.4 g, benzo Isothiazolinone 0.08 g, the above dye solid fine particle dispersion 35.9
g, 74.2% of the solid fine particle dispersion (a) of the above base precursor.
g, sodium polyethylene sulfonate 0.6 g, blue dye compound-1 0.21 g, yellow dye compound-1 0.15 g, acrylic acid / ethyl acrylate copolymer latex (copolymerization ratio 5/95) 8.3 g, and water At 8183
The anti-halation layer coating solution was prepared in the amount of ml.

【0284】(裏面保護層塗布液の調製)容器を40℃に
保温し、ゼラチン40g、流動パラフィン乳化物を流動パ
ラフィンとして1.5g、ベンゾイソチアゾリノン35mg、
1mol/lの苛性6.8g、 t-オクチルフェノキシエト
キシエタンスルホン酸ナトリウム0.5g、ポリスチレン
スルホン酸ナトリウム0.27g、フッ素系界面活性剤(F
−1:N-パーフルオロオクチルスルフォニル-N-プロピ
ルアラニンカリウム塩)37mg、フッ素系界面活性剤(F
−2:ポリエチレングリコールモノ(N-パーフルオロオ
クチルスルホニル-N-プロピル-2-アミノエチル)エーテ
ル[エチレンオキサイド平均重合度15])150mg、フッ素
系界面活性剤(F−3) 64mg、フッ素系界面活性剤
(F−4)32mg、アクリル酸/エチルアクリレート共重
合体(共重合質量比5/95)6.0g、 N,N-エチレンビス
(ビニルスルホンアセトアミド) 2.0gを混合し、水で
10リットルとして裏面保護層塗布液とした。
(Preparation of Backside Protective Layer Coating Solution) The container was kept warm at 40 ° C., gelatin 40 g, liquid paraffin emulsion as liquid paraffin 1.5 g, benzisothiazolinone 35 mg,
1 mol / l caustic 6.8 g, sodium t-octylphenoxyethoxyethane sulfonate 0.5 g, sodium polystyrene sulfonate 0.27 g, fluorine-based surfactant (F
-1: N-perfluorooctylsulfonyl-N-propylalanine potassium salt) 37 mg, fluorine-based surfactant (F
-2: Polyethylene glycol mono (N-perfluorooctylsulfonyl-N-propyl-2-aminoethyl) ether [ethylene oxide average degree of polymerization 15]) 150 mg, fluorine-based surfactant (F-3) 64 mg, fluorine-based interface 32 mg of activator (F-4), 6.0 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization mass ratio 5/95), and 2.0 g of N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide) were mixed, and 10 liters of water were mixed. Was used as the backside protective layer coating solution.

【0285】(ハロゲン化銀乳剤の調製) <ハロゲン化銀乳剤1の調製>蒸留水1421mlに1質量%臭
化カリウム溶液3.1mlを加え、さらに0.5mol/L濃度の硫
酸を3.5ml、フタル化ゼラチン31.7gを添加した液をステ
ンレス製反応壺中で攪拌しながら、35℃に液温を保ち、
硝酸銀22.22gに蒸留水を加え195.6mlに希釈した溶液A
と臭化カリウム13.7gとヨウ化カリウム2.6gを蒸留水に
て容量218mlに希釈した溶液Bを、一定流量で45秒間か
けて全量添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水
溶液を10ml添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量
%水溶液を10.8ml添加した。
(Preparation of Silver Halide Emulsion) <Preparation of Silver Halide Emulsion 1> To 1421 ml of distilled water was added 3.1 ml of 1% by mass potassium bromide solution, and 3.5 ml of sulfuric acid having a concentration of 0.5 mol / L was further phthalated. While stirring the liquid containing 31.7 g of gelatin in a stainless steel reaction pot, keep the liquid temperature at 35 ° C,
Solution A prepared by adding distilled water to 22.22 g of silver nitrate and diluting it to 195.6 ml.
A solution B prepared by diluting 13.7 g of potassium bromide and 2.6 g of potassium iodide with distilled water to a volume of 218 ml was added over 45 seconds at a constant flow rate. Then, 10 ml of 3.5 mass% hydrogen peroxide aqueous solution was added, and 10.8 ml of 10 mass% benzimidazole aqueous solution was further added.

【0286】更に、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.
5mlに希釈した溶液Cと臭化カリウム31.9gとヨウ化カリ
ウム6.1gを蒸留水にて容量600mlに希釈した溶液Dを、
溶液Cは一定流量で120分間かけて全量添加し、溶液D
はpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジ
ェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになる
よう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよ
び溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。
また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カ
リウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加し
た。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、
攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L
濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、p
Ag8.0のハロゲン化銀分散物を作成した。
Further, distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate to obtain 317.
A solution C prepared by diluting 5 ml of solution C, 31.9 g of potassium bromide and 6.1 g of potassium iodide with distilled water to a volume of 600 ml was prepared.
Solution C was added at a constant flow rate over 120 minutes, and solution D was added.
Was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. 10 minutes after starting the addition of Solution C and Solution D, the total amount of potassium hexachloroiridium (III) salt was added so that the concentration was 1 × 10 −4 mol per mol of silver.
Further, 5 seconds after the addition of the solution C was completed, an aqueous solution of potassium iron (II) cyanide cyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. Adjust the pH to 3.8 with 0.5 mol / L sulfuric acid,
The stirring was stopped and the sedimentation / desalting / water washing steps were performed. 1 mol / L
Adjust to pH 5.9 with concentrated sodium hydroxide and p
A silver halide dispersion of Ag8.0 was prepared.

【0287】上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38
℃に維持して、0.34質量%の1,2-ベンゾイソチアゾリン
-3-オンのメタノール溶液を5ml加え、40分後に分光増感
色素Aと増感色素Bのモル比で1:1のメタノール溶液
を銀1モル当たり増感色素AとBの合計として1.2×10-3
モル加え、1分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベ
ンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀
1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテル
ル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-4
モル加えて91分間熟成した。N,N'-ジヒドロキシ-N"-ジ
エチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加
え、さらに4分後に、5-メチル-2-メルカプトベンゾイミ
ダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3
ル及び1-フェニル-2-ヘプチル-5-メルカプト-1,3,4-ト
リアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×1
0-3モル及びメルカプト化合物−2を水溶液で銀1モル当
たり1.5×10-2モル添加して、ハロゲン化銀乳剤1を作
成した。
While stirring the above silver halide dispersion,
0.34% by mass of 1,2-benzisothiazoline maintained at
After adding 5 ml of a methanol solution of -3-one and 40 minutes later, a methanol solution having a molar ratio of the spectral sensitizing dye A and the sensitizing dye B of 1: 1 was added to the total amount of the sensitizing dyes A and B per silver mole of 1.2 ×. 10 -3
A mole was added, and 1 minute later, the temperature was raised to 47 ° C. After 20 minutes of heating, sodium benzenethiosulfonate was added to a solution of silver in silver.
Add 7.6 × 10 -5 mol to 1 mol, and after 5 minutes, add tellurium sensitizer C with methanol solution to 2.9 × 10 -4 per mol of silver.
A mole was added and the mixture was aged for 91 minutes. 1.3 ml of 0.8 mass% methanol solution of N, N'-dihydroxy-N "-diethylmelamine was added, and 4 minutes later, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added in methanol solution to 4.8 × 10 -3 per 1 mol of silver. And 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution at 5.4 × 1 for 1 mol of silver.
Silver halide emulsion 1 was prepared by adding 0 -3 mol and mercapto compound-2 in an aqueous solution at 1.5 × 10 -2 mol per mol of silver.

【0288】調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、
平均球相当径0.042μm、球相当径の変動係数18%のヨウ
ドを均一に12モル%含むヨウ臭化銀粒子であった。ここ
で、粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の
平均から求めた。
The grains in the prepared silver halide emulsion are as follows:
The silver iodobromide grains had an average equivalent sphere diameter of 0.042 μm and a variation coefficient of the equivalent sphere diameter of 18% and uniformly contained 12 mol% of iodine. Here, the particle size and the like were determined from the average of 1000 particles using an electron microscope.

【0289】<塗布液用混合乳剤Aの調製>ハロゲン化銀
乳剤1を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質
量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。次
いで、表1に記載の一般式(I)で表される化合物をハ
ロゲン化銀1モル当り1×10-3モル添加し、更に塗布液
用混合乳剤1kg当りハロゲン化銀の含有量が、銀とし
て38.2gとなるように加水した。
<Preparation of Mixed Emulsion A for Coating Solution> Silver halide emulsion 1 was dissolved, and benzothiazolium iodide was added in an amount of 1% by mass aqueous solution to 7 × 10 −3 mol per mol of silver. Then, the compound represented by the general formula (I) shown in Table 1 was added in an amount of 1 × 10 −3 mol per mol of silver halide, and the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution was silver. Was added to give 38.2 g.

【0290】<脂肪酸銀分散物の調製>ヘンケル社製のベ
ヘン酸(製品名「Edenor C22-85R」)87.6Kg、蒸留水42
3L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコ
ール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベ
ヘン酸ナトリウム溶液を得た。別途、硝酸銀40.4kgの水
溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635
Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容
器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナ
トリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定で
それぞれ93分15秒と90分かけて添加した。
<Preparation of silver fatty acid dispersion> 87.6 Kg of behenic acid (product name "Edenor C22-85R") manufactured by Henkel, distilled water 42
3 L, 49.2 L of a 5 mol / L concentration aqueous NaOH solution, and 120 L of t-butyl alcohol were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain a sodium behenate solution. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution of 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept at 10 ° C. 635
Keep the reaction vessel containing 30 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol at 30 ° C., and while thoroughly stirring, keep the total amount of the sodium behenate solution and the total amount of the silver nitrate aqueous solution at a constant flow rate for 93 minutes 15 seconds respectively. And added over 90 minutes.

【0291】このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間
は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベ
ヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添
加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添
加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30
℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールし
た。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、
2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加
ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。
また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に
冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリ
ウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸
を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しな
い様な高さに調製した。
At this time, only the silver nitrate aqueous solution was added for 11 minutes after the addition of the silver nitrate aqueous solution was started, and then the sodium behenate solution was added, and the sodium behenate solution was added for 14 minutes and 15 seconds after the addition of the silver nitrate aqueous solution was completed. Only the additive was added. At this time, the temperature in the reaction vessel is 30
The external temperature was controlled so that the solution temperature became constant. In addition, the piping of the addition system of the sodium behenate solution is
The temperature was maintained by circulating hot water outside the double pipe, and the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip was adjusted to 75 ° C.
Further, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double tube. The position of addition of the sodium behenate solution and the position of addition of the aqueous solution of silver nitrate were symmetrically arranged around the stirring axis, and the height was adjusted so as not to come into contact with the reaction solution.

【0292】ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そ
のままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇
温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、
遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が
30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を
得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケー
キとして保管した。
After the addition of the sodium behenate solution was completed, the mixture was left to stir at the same temperature for 20 minutes, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after aging,
The solid content is separated by centrifugal filtration, and the solid content has a conductivity of filtered water.
It was washed with water until it reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without being dried.

【0293】得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微
鏡撮影により観察したところ、平均値でa=0.14μm、b=
0.4μm、c=0.6μm、平均アスペクト比5.2、平均球相
当径0.52μm、球相当径の変動係数15%の燐片状の結晶
であった。(a,b,cは本明細書中の規定によるもの)
The morphology of the obtained silver behenate particles was observed by an electron microscope. As a result, the average value was a = 0.14 μm and b =
It was a scaly crystal having 0.4 μm, c = 0.6 μm, an average aspect ratio of 5.2, an average equivalent sphere diameter of 0.52 μm, and a variation coefficient of the equivalent sphere diameter of 15%. (A, b, c are as defined in this specification)

【0294】乾燥固形分260Kg相当のウエットケーキに
対し、ポリビニルアルコール(商品名「PVA-217」)19.
3Kgおよび水を添加し、全体量を1000Kgとしてからディ
ゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサ
ー(みづほ工業製「PM−10型」)で予備分散した。
[0294] Polyvinyl alcohol (trade name "PVA-217") was added to a wet cake having a dry solid content of 260 kg.
3 kg and water were added to make the total amount 1000 kg, and the mixture was slurried with a dissolver blade and further preliminarily dispersed with a pipeline mixer ("PM-10 type" manufactured by Mizuho Industry Co., Ltd.).

【0295】次に、予備分散済みの原液を分散機(商品
名「マイクロフルイダイザーM−610」、マイクロフ
ルイデックス・インターナショナル・コーポレーション
製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を12
60kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物
を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクション
チャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節する
ことで18℃の分散温度に設定した。
Next, the pre-dispersed stock solution was adjusted to a pressure of 12 with a disperser (trade name "Microfluidizer M-610", manufactured by Microfluidex International Corporation, using Z type interaction chamber).
It was adjusted to 60 kg / cm 2 and treated three times to obtain a silver behenate dispersion. The cooling operation was performed by installing a spiral heat exchanger in front of and behind the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to set the dispersion temperature to 18 ° C.

【0296】(還元剤分散物の調製)(Preparation of reducing agent dispersion)

【0297】<還元剤−1分散物の調製>還元剤―1(6,
6'-di-t-ブチル-4,4'-ジメチル-2,2'-ブチリデンジフェ
ノール)10Kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)
製の「ポバールMP203」)の10質量%水溶液16Kgに、水1
0Kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このス
ラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mm
のジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(アイメ
ックス(株)製の「UVM−2」)にて3時間30分分散した
後、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加
えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製し、還元
剤―2分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含ま
れる還元剤粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.5
μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μ
mのポリプロピレン製フィルターにて濾過を行い、ゴミ
等の異物を除去して収納した。
<Preparation of Reducing Agent-1 Dispersion> Reducing Agent-1 (6,
6'-di-t-butyl-4,4'-dimethyl-2,2'-butylidene diphenol) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd.)
16 kg of a 10 mass% aqueous solution of "Poval MP203" manufactured by
0 kg was added and mixed well to form a slurry. This slurry is sent by a diaphragm pump and the average diameter is 0.5 mm.
After dispersing for 3 hours and 30 minutes in a horizontal sand mill ("UVM-2" manufactured by IMEX Co., Ltd.) filled with zirconia beads, 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt and water were added to reduce the concentration of the reducing agent to 25. The reducing agent-2 dispersion was prepared by adjusting the amount to be% by mass. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.5.
It was less than μm. The resulting reducing agent dispersion has a pore size of 3.0μ.
m was filtered through a polypropylene filter to remove foreign matters such as dust and stored.

【0298】<水素結合性化合物−1分散物の調製>水素
結合性化合物−1(トリ(4−t−ブチルフェニル)ホ
スフィンオキシド)10Kgと変性ポリビニルアルコール
(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16K
gに、水10Kgを添加して、良く混合してスラリーとし
た。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均
直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミ
ル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散
した後、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水
を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製し、
水素結合性化合物―1の分散物を得た。こうして得た還
元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.35μ
m、最大粒子径1.5μm以下であった。得られた水素結
合性化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フ
ィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納
した。
<Preparation of Hydrogen-bonding Compound-1 Dispersion> 10 kg of hydrogen-bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) and modified polyvinyl alcohol (POVAL MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 10 mass% aqueous solution 16K
10 g of water was added to g and mixed well to form a slurry. This slurry was sent by a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by IMEX Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 3 hours and 30 minutes, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2. Add g and water to adjust the concentration of the reducing agent to 25% by mass,
A dispersion of hydrogen bonding compound-1 was obtained. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.35 μm.
m, and the maximum particle diameter was 1.5 μm or less. The obtained hydrogen-bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign matters such as dust and stored.

【0299】<現像促進剤−1分散物の調製>現像促進剤
−1を10Kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)
製、ポバールMP203)の10質量%水溶液20Kgに、水10Kg
を添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリ
ーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジ
ルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:ア
イメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベ
ンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還
元剤の濃度が20質量%になるように調製し、現像促進剤
−1の分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含ま
れる還元剤粒子はメジアン径0.48μm、最大粒子径1.4
μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μ
mのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ
等の異物を除去して収納した。
<Preparation of Development Accelerator-1 Dispersion> 10 kg of development accelerator-1 and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd.)
Manufactured by Poval MP203), 20 kg of 10 mass% aqueous solution, 10 kg of water
Was added and mixed well to form a slurry. This slurry was sent by a diaphragm pump and dispersed for 3 hours and 30 minutes by a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by IMEX Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the reducing agent to 20% by mass to obtain a dispersion of development accelerator-1. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4.
It was less than μm. The resulting reducing agent dispersion has a pore size of 3.0μ.
m polypropylene filter to remove foreign matters such as dust, and stored.

【0300】現像促進剤−2、現像促進剤3および色調
調整剤−1の固体分散物についても現像促進剤−1と同
様の方法により分散し、20質量%の分散液を得た。
The solid dispersions of Development Accelerator-2, Development Accelerator 3 and Color Tone Adjuster-1 were also dispersed in the same manner as in Development Accelerator-1 to obtain a 20% by mass dispersion.

【0301】(ポリハロゲン化合物の調製) <有機ポリハロゲン化合物−1分散物の調製>有機ポリハ
ロゲン化合物―1(トリブロモメタンスルホニルベンゼ
ン)10Kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポ
バールMP203)の20質量%水溶液10Kgと、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液
0.4Kgと、水14Kgを添加して、良く混合してスラリーと
した。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平
均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンド
ミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散し
たのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水
を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が26質量%にな
るように調製し、有機ポリハロゲン化合物―1分散物を
得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれ
る有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.41μm、
最大粒子径2.0μm以下であった。得られた有機ポリハ
ロゲン化合物分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製
フィルターにて濾過を行い、ゴミ等の異物を除去して収
納した。
(Preparation of Polyhalogen Compound) <Preparation of Organic Polyhalogen Compound-1 Dispersion> 10 kg of organic polyhalogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene) and modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 20 mass% aqueous solution 10 kg and 20 mass% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalene sulfonate
0.4 kg and 14 kg of water were added and mixed well to form a slurry. This slurry was sent by a diaphragm pump, and after being dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by IMEX Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt was added. Water was added to adjust the concentration of the organic polyhalogen compound to 26% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the thus obtained polyhalogen compound dispersion have a median diameter of 0.41 μm,
The maximum particle size was 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign matters such as dust and stored.

【0302】<有機ポリハロゲン化合物−2分散物の調
製>有機ポリハロゲン化合物―2(N−ブチル−3−ト
リブロモメタンスルホニルベンゾアミド)10Kgと変性ポ
リビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の1
0質量%水溶液20Kgと、トリイソプロピルナフタレンス
ルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4Kgを添加し
て、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイ
アフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニア
ビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメック
ス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾ
リノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン
化合物の濃度が30質量%になるように調製した。この
分散液を40℃で5時間加温し、有機ポリハロゲン化合
物―2分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物
分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジア
ン径0.40μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得ら
れた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポ
リプロピレン製フィルターにて濾過を行い、ゴミ等の異
物を除去して収納した。
<Preparation of Organic Polyhalogen Compound-2 Dispersion> 10 kg of organic polyhalogen compound-2 (N-butyl-3-tribromomethanesulfonylbenzamide) and a modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1
20 kg of a 0 mass% aqueous solution and 0.4 kg of a 20 mass% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate were added and mixed well to form a slurry. This slurry was sent by a diaphragm pump, and after being dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by IMEX Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt was added. Water was added so that the concentration of the organic polyhalogen compound was adjusted to 30% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the thus obtained polyhalogen compound dispersion had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign matters such as dust and stored.

【0303】<フタラジン化合物−1溶液の調製>8Kgの
クラレ(株)製変性ポリビニルアルコールMP203を水17
4.57Kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンス
ルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液3.15Kgとフタラジ
ン化合物―1(6-イソプロピルフタラジン)の70質量%
水溶液14.28Kgを添加し、フタラジン化合物―1の5質量
%溶液を調製した。
<Preparation of Phthalazine Compound-1 Solution> 8 kg of modified polyvinyl alcohol MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd. in water 17
Dissolve in 4.57Kg, then 3.15Kg of 20 mass% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalene sulfonate and 70 mass% of phthalazine compound-1 (6-isopropylphthalazine)
An aqueous solution of 14.28 Kg was added to prepare a 5 mass% solution of phthalazine compound-1.

【0304】(メルカプト化合物の調製) <メルカプト化合物−1水溶液の調製>メルカプト化合物
―1(1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾールナトリウム塩)7gを水993gに溶解し、0.7
質量%の水溶液とした。
(Preparation of mercapto compound) <Preparation of mercapto compound-1 aqueous solution> 7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to give 0.7
A mass% aqueous solution was used.

【0305】<メルカプト化合物−2水溶液の調製>メル
カプト化合物―2(1−(3−メチルウレイド)−5−
メルカプトテトラゾールナトリウム塩)20gを水980g
に溶解し、2.0質量%の水溶液とした。
<Preparation of Mercapto Compound-2 Aqueous Solution> Mercapto Compound-2 (1- (3-methylureido) -5-
20 g of mercaptotetrazole sodium salt) 980 g of water
To give a 2.0 mass% aqueous solution.

【0306】<顔料−1分散物の調製>C.I.Pigment Blue
60を64gと花王(株)製デモールNを6.4gに水250gを添加
し良く混合してスラリーとした。平均直径0.5mmのジル
コニアビーズ800gを用意してスラリーと一緒にベッセ
ルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:ア
イメックス(株)製)にて25時間分散し、顔料−1分散
物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子
は平均粒径0.21μmであった。
<Preparation of Pigment-1 Dispersion> CI Pigment Blue
To 64 g of 60 and 6.4 g of Demol N manufactured by Kao Corporation, 250 g of water was added and mixed well to obtain a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse them with a disperser (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by AIMEX Co., Ltd.) for 25 hours to obtain pigment-1 dispersion. It was The pigment particles contained in the thus-obtained pigment dispersion had an average particle diameter of 0.21 μm.

【0307】<SBRラテックス液の調製>Tg=22℃の
SBRラテックスは以下により調整した。重合開始剤と
して過硫酸アンモニウム、乳化剤としてアニオン界面活
性剤を使用し、スチレン70.0質量、ブタジエン2
7.0質量およびアクリル酸3.0質量を乳化重合させ
た後、80℃で8時間熟成を行った。その後40℃まで
冷却し、アンモニア水によりpH7.0とし、さらに三洋
化成(株)製サンデットBLを0.22%になるように添加
した。次に5%水酸化ナトリウム水溶液を添加しpH8.
3とし、さらにアンモニア水によりpH8.4になるように
調整した。このとき使用したNa+イオンとNH4 +イオンの
モル比は1:2.3であった。さらに、この液1Kg対
してベンゾイソチアゾリンノンナトリウム塩7%水溶液
を0.15ml添加しSBRラテックス液を調製した。
<Preparation of SBR Latex Liquid> SBR latex having Tg = 22 ° C. was prepared as follows. Ammonium persulfate was used as a polymerization initiator, an anionic surfactant was used as an emulsifier, and 70.0 mass of styrene and 2 parts of butadiene were used.
After emulsion polymerization of 7.0 mass and 3.0 mass of acrylic acid, aging was carried out at 80 ° C. for 8 hours. Thereafter, the mixture was cooled to 40 ° C., pH was adjusted to 7.0 with aqueous ammonia, and Sandet BL manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd. was further added so as to be 0.22%. Next, a 5% aqueous sodium hydroxide solution was added to adjust the pH to 8.
The pH was adjusted to 3, and the pH was adjusted to 8.4 with aqueous ammonia. The molar ratio of Na + ion and NH 4 + ion used at this time was 1: 2.3. Further, 0.15 ml of a 7% aqueous solution of benzoisothiazolinenon sodium salt was added to 1 kg of this solution to prepare an SBR latex solution.

【0308】(SBRラテックス:-St(70.0)-Bu(27.0)-AA
(3.0)-のラテックス) Tg=22℃ 平均粒径0.1μm、濃度43質量%、25℃60%RHにおける平
衡含水率0.6質量%、イオン伝導度4.2mS/cm(イオン伝導
度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM-30S使用し、
ラテックス原液(43質量%)を25℃にて測定)、pH8.4Tg
の異なるSBRラテックスは、スチレンとブタジエンの
比率を適宜変更し、同様の方法により調整できる。
(SBR latex: -St (70.0) -Bu (27.0) -AA
(3.0) -Latex) Tg = 22 ℃, average particle size 0.1μm, concentration 43 mass%, equilibrium water content 0.6 mass% at 25 ℃ 60% RH, ionic conductivity 4.2mS / cm (Ion conductivity is measured by Toa Using Denki Kogyo Co., Ltd. CM-30S conductivity meter,
Latex stock solution (43% by mass) measured at 25 ℃), pH 8.4Tg
Different SBR latices can be adjusted by the same method by appropriately changing the ratio of styrene and butadiene.

【0309】<乳剤層(感光性層)塗布液−1の調製>上
記で得た脂肪酸銀分散物1000g、水276ml、顔料−1分散
物32.8g、有機ポリハロゲン化合物−1の分散物21g、有
機ポリハロゲン化合物−2の分散物58g、フタラジン化
合物―1の溶液173g、SBRラテックス(Tg:20℃)液1082
g、還元剤−2の分散物155g、水素結合性化合物−1の
分散物55g、現像促進剤−1の分散物6g、現像促進剤−
2の分散物2g、現像促進剤−3の分散物3g、色調調整剤
−1の分散物2g、メルカプト化合物−1の水溶液9ml、
メルカプト化合物−2の水溶液27mlを順次添加し、塗布
直前にハロゲン化銀混合乳剤A117gを添加して良く混合
した乳剤層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し
塗布した。
<Preparation of Emulsion Layer (Photosensitive Layer) Coating Solution-1> 1000 g of the fatty acid silver dispersion obtained above, 276 ml of water, 32.8 g of pigment-1 dispersion, 21 g of organic polyhalogen compound-1 dispersion, Organic polyhalogen compound-2 dispersion 58g, phthalazine compound-1 solution 173g, SBR latex (Tg: 20 ° C) solution 1082
g, reducing agent-2 dispersion 155 g, hydrogen bonding compound-1 dispersion 55 g, development accelerator-1 dispersion 6 g, development accelerator-
2 g of Dispersion 2; Development Accelerator-3, 3 g; Color Toner-1 Dispersion, 2 g; Mercapto Compound-1 Aqueous Solution 9 ml;
27 ml of an aqueous solution of mercapto compound-2 was sequentially added, and 117 g of silver halide mixed emulsion A was added immediately before coating, and the well mixed emulsion layer coating solution was directly sent to a coating die for coating.

【0310】上記乳剤層塗布液の粘度は東京計器のB型
粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で4
0[mPa・s]であった。レオメトリックスファーイースト
株式会社製RFSフルードスペクトロメーターを使用し
た25℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、10
0、1000[1/秒]においてそれぞれ530、144、96、51、28
[mPa・s]であった。塗布液中のジルコニウム量は銀1g
あたり0.25mgであった。
The viscosity of the emulsion layer coating solution was measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki Co., Ltd., and it was 4 at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
It was 0 [mPa · s]. The viscosity of the coating solution at 25 ° C using a Rheometrics Far East Co., Ltd. RFS fluid spectrometer has shear rates of 0.1, 1, 10, 10
530, 144, 96, 51, 28 at 0 and 1000 [1 / sec] respectively
It was [mPa · s]. The amount of zirconium in the coating solution is 1 g of silver
Per 0.25 mg.

【0311】<乳剤面中間層塗布液の調製>ポリビニルア
ルコールPVA-205(クラレ(株)製)1000g、顔料の5質量%
分散物272g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルア
クリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル
酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス19質
量%液4200mlにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミ
ド社製)の5質量%水溶液を27ml、フタル酸二アンモニウ
ム塩の20質量%水溶液を135ml、総量10000gになるよう
に水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間
層塗布液とし、9.1ml/m2になるようにコーティングダイ
へ送液した。塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ロー
ター、60rpm)で58[mPa・s]であった。
<Preparation of coating solution for intermediate layer on emulsion side> Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1000 g, 5% by mass of pigment
272 g of dispersion, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5/2) 19% by mass latex 4200 ml aerosol OT (American Cyana (Manufactured by Mido Co., Ltd.) 27 ml of 5% by mass aqueous solution, 135 ml of 20% by mass aqueous solution of diammonium phthalate salt, water is added to a total amount of 10,000 g, and the pH is adjusted to 7.5 with NaOH to apply the intermediate layer. The solution was sent to the coating die at 9.1 ml / m 2 . The viscosity of the coating liquid was 58 [mPa · s] at 40 ° C. with a B type viscometer (No. 1 rotor, 60 rpm).

【0312】<乳剤面保護層第1層塗布液の調製>イナー
トゼラチン64gを水に溶解し、メチルメタクリレート/
スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタク
リレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5
/2)ラテックス27.5質量%液80g、フタル酸の10質量%
メタノール溶液を23ml、4-メチルフタル酸の10質量%水
溶液23ml、0.5mol/L濃度の硫酸を28ml、エアロゾールOT
(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を5ml、
フェノキシエタノール0.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.
1gを加え、総量750gになるように水を加えて塗布液と
し、4質量%のクロムみょうばん26mlを塗布直前にスタ
チックミキサーで混合したものを18.6ml/m2になるよう
にコーティングダイへ送液した。塗布液の粘度はB型粘
度計40℃(No.1ローター、60rpm)で20[mPa・s]であっ
た。
<Preparation of Coating Solution for Emulsion Surface Protective Layer 1st Layer> 64 g of inert gelatin was dissolved in water to prepare methyl methacrylate /
Styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5
/ 2) Latex 27.5 mass% liquid 80g, phthalic acid 10 mass%
23 ml of methanol solution, 23 ml of 10 mass% 4-methylphthalic acid aqueous solution, 28 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, aerosol OT
5 ml of a 5 mass% aqueous solution of (American Cyanamid),
Phenoxyethanol 0.5 g, benzisothiazolinone 0.
Add 1 g and add water to make a total amount of 750 g to make a coating solution, and mix 26 ml of 4% by weight chromium alum just before coating with a static mixer and send it to a coating die at 18.6 ml / m 2. Liquor The viscosity of the coating liquid was 20 [mPa · s] at 40 ° C. with a B type viscometer (No. 1 rotor, 60 rpm).

【0313】<乳剤面保護層第2層塗布液の調製>イナー
トゼラチン80gを水に溶解し、メチルメタクリレート/
スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタク
リレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5
/2)ラテックス27.5質量%液102g、フッ素系界面活性剤
(F−1:N-パーフルオロオクチルスルフォニル-N-プ
ロピルアラニンカリウム塩)の5質量%溶液を3.2ml、フ
ッ素系界面活性剤(F−2:ポリエチレングリコールモ
ノ(N-パーフルオロオクチルスルホニル-N-プロピル-2-
アミノエチル)エーテル[エチレンオキシド平均重合度=1
5])の2質量%水溶液を32ml、エアロゾールOT(アメリカ
ンサイアナミド社製)の5質量%溶液を23ml、ポリメチル
メタクリレート微粒子(平均粒径0.7μm)4g、ポリメチ
ルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm)21g、4-メ
チルフタル酸1.6g、フタル酸4.8g、0.5mol/L濃度の硫酸
44ml、ベンゾイソチアゾリノン10mgに総量650gとなるよ
う水を添加して、4質量%のクロムみょうばんと0.67質
量%のフタル酸を含有する水溶液445mlを塗布直前にス
タチックミキサーで混合したものを表面保護層塗布液と
し、8.3ml/m2になるようにコーティングダイへ送液し
た。塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター,60rp
m)で19[mPa・s]であった。
<Preparation of Coating Solution for Second Layer of Emulsion Protective Layer> 80 g of inert gelatin was dissolved in water to prepare methyl methacrylate /
Styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5
/ 2) 102 g of latex 27.5% by mass liquid, 3.2 ml of 5% by mass solution of fluorosurfactant (F-1: N-perfluorooctylsulfonyl-N-propylalanine potassium salt), fluorosurfactant (F -2: Polyethylene glycol mono (N-perfluorooctylsulfonyl-N-propyl-2-
Aminoethyl) ether [Ethylene oxide average degree of polymerization = 1
5]) 2% by mass aqueous solution 32 ml, Aerosol OT (manufactured by American Cyanamid) 23% by mass solution, polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 0.7 μm) 4 g, polymethylmethacrylate fine particles (average particle size) Diameter 4.5 μm) 21 g, 4-methylphthalic acid 1.6 g, phthalic acid 4.8 g, 0.5 mol / L concentration of sulfuric acid
44 ml, benzisothiazolinone 10 mg with water added to bring the total amount to 650 g, and a mixture of 4% by mass chromium alum and 445 ml of an aqueous solution containing 0.67% by mass phthalic acid in a static mixer just before coating was applied to the surface. The coating solution for the protective layer was sent to the coating die at 8.3 ml / m 2 . The viscosity of the coating liquid is B type viscometer 40 ℃ (No.1 rotor, 60rp
It was 19 [mPa · s] in m).

【0314】<熱現像画像記録材料−1の作成>上記下塗
り支持体の裏面側に、アンチハレーション層塗布液をゼ
ラチン塗布量が0.44g/m2となるように、また裏
面保護層塗布液をゼラチン塗布量が1.7g/m2となるよう
に同時重層塗布し乾燥し、裏面層を作成した。
<Preparation of heat-developable image recording material-1> An antihalation layer coating solution was applied to the back side of the undercoat support so that the gelatin coating amount was 0.44 g / m 2, and the back side protective layer coating solution was used. Was coated at the same time so that the gelatin coating amount was 1.7 g / m 2 and dried to form a back surface layer.

【0315】裏面と反対の面に下塗り面から乳剤層、中
間層、保護層第1層、保護層第2層の順にスライドビー
ド塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像画像記録材料の
試料を作成した。このとき、乳剤層と中間層は31℃
に、保護層第一層は36℃に、保護層第一層は37℃に
温度調整した。
Simultaneous multilayer coating was performed on the surface opposite to the back surface from the undercoating surface in the order of emulsion layer, intermediate layer, protective layer first layer, protective layer second layer by a slide bead coating method, and a sample of a heat-developable image recording material was obtained. Created. At this time, the emulsion layer and the intermediate layer are 31 ° C.
The temperature of the first protective layer was adjusted to 36 ° C, and the temperature of the first protective layer was adjusted to 37 ° C.

【0316】乳剤層の各化合物の塗布量(g/m2)は、以
下の通りである。 ・ベヘン酸銀 5.55 ・顔料(C.I.Pigment Blue 60) 0.036 ・ポリハロゲン化合物−1 0.12 ・ポリハロゲン化合物−2 0.37 ・フタラジン化合物−1 0.19 ・SBRラテックス 9.97 ・還元剤−1 0.81 ・水素結合性化合物−1 0.30 ・現像促進剤−1 0.024 ・現像促進剤−2 0.010 ・現像促進剤−3 0.015 ・色調調整剤−1 0.010 ・メルカプト化合物−1 0.002 ・メルカプト化合物−2 0.012 ・ハロゲン化銀(Agとして) 0.091
The coating amount (g / m 2 ) of each compound in the emulsion layer is as follows.・ Silver behenate 5.55 ・ Pigment (CIPigment Blue 60) 0.036 ・ Polyhalogen compound-1 0.12 ・ Polyhalogen compound-2 0.37 ・ Phthalazine compound-1 0.19 ・ SBR latex 9.97 ・Reducing agent-1 0.81 ・ Hydrogen-bonding compound-1 0.30 ・ Development accelerator-1 0.024 ・ Development accelerator-2 0.010 ・ Development accelerator-3 0.015 ・ Color tone adjuster-1 0.010 ・ Mercapto compound-1 0.002 ・ Mercapto compound-2 0.012 ・ Silver halide (as Ag) 0.091

【0317】塗布乾燥条件は、以下の通りである。塗布
はスピード160m/minで行い、コーティングダイ先端と支
持体との間隙を0.10〜0.30mmとし、減圧室の圧力を大気
圧に対して196〜882Pa低く設定した。支持体は塗布前に
イオン風にて除電した。引き続くチリングゾーンにて、
乾球温度10〜20℃の風にて塗布液を冷却した後、無
接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾
球温度23〜45℃、湿球温度15〜21℃の乾燥風で
乾燥させた。乾燥後、25℃で湿度40〜60%RHで調
湿した後、膜面を70〜90℃になるように加熱した。
加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
The coating and drying conditions are as follows. The coating was performed at a speed of 160 m / min, the gap between the tip of the coating die and the support was set to 0.10 to 0.30 mm, and the pressure in the decompression chamber was set to 196 to 882 Pa lower than the atmospheric pressure. Prior to coating, the support was neutralized with an ionic wind. In the subsequent chilling zone,
After cooling the coating liquid with a wind having a dry-bulb temperature of 10 to 20 ° C., the coating liquid is conveyed in a non-contact type, and a dry-bulb temperature of 23 to 45 ° C. and a wet-bulb temperature of 15 to 21 are measured by a spinning type non-contact type drying device. It was dried with a drying air of ° C. After drying, the humidity was adjusted to 40 to 60% RH at 25 ° C, and then the film surface was heated to 70 to 90 ° C.
After heating, the film surface was cooled to 25 ° C.

【0318】作製された熱現像画像記録材料のマット度
はベック平滑度で感光性層面側が550秒、裏面が130秒で
あった。また、感光層面側の膜面のpHを測定したところ
6.0であった。
The matte degree of the produced heat-developable image recording material was Beck smoothness, 550 seconds on the side of the photosensitive layer and 130 seconds on the back side. Also, when the pH of the film surface on the photosensitive layer side was measured
It was 6.0.

【0319】以下に、本発明の実施例で用いた化合物の
化学構造を示す。
The chemical structures of the compounds used in the examples of the present invention are shown below.

【0320】[0320]

【化54】 [Chemical 54]

【0321】[0321]

【化55】 [Chemical 55]

【0322】[0322]

【化56】 [Chemical 56]

【0323】[0323]

【化57】 [Chemical 57]

【0324】得られた試料は半切サイズに切断し、温度
25℃湿度50%の環境下で、以下の包装材料に包装
し、2週間常温下で保管した。 (包装材料) PET 10μm/PE 12μm/アルミ箔9μm/Ny 15μm/カー
ボン3%を含むポリエチレン50μm 酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day、水分透過
率:0.10g/atm・m2・25℃・day
The obtained sample was cut into half-size pieces, packaged in the following packaging materials in an environment of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%, and stored at room temperature for 2 weeks. (Packaging material) PET 10μm / PE 12μm / Aluminum foil 9μm / Ny 15μm / Polyethylene 50μm containing 3% carbon Oxygen permeability: 0.02ml / atm ・ m 2・ 25 ℃ ・ day, Moisture permeability: 0.10g / atm ・m 2 · 25 ℃ · day

【0325】<熱現像画像記録材料−2〜8の作製><ハ
ロゲン化銀乳剤1の調製>と同様にして、但し、添加す
るハロゲン組成を変更することによって、表1に記載の
様な均一なハロゲン組成を有するハロゲン化銀乳剤2、
3を調製した。ハロゲン化銀の粒子サイズは、粒子形成
時の温度を変化させることによって、平均球相当径0.
040μmのものを作成した。上記のハロゲン化銀乳剤
1、2、3を用いて、表1に記載の様に一般式(I)で
表される化合物を変更したこと以外は、熱現像画像記録
材料−1と同様にして熱現像画像記録材料−2〜8を作
成した。
<Preparation of heat-developable image recording materials-2 to 8> In the same manner as in <Preparation of silver halide emulsion 1>, but by changing the halogen composition to be added, a uniform composition as shown in Table 1 can be obtained. A silver halide emulsion having a different halogen composition,
3 was prepared. The grain size of silver halide can be adjusted by changing the temperature at the time of grain formation to obtain an average equivalent spherical diameter of 0.
040 μm was prepared. The same procedure as in the heat-developable image recording material-1 except that the compounds represented by the general formula (I) were changed as shown in Table 1 by using the above silver halide emulsions 1, 2, and 3. Heat developable image recording materials-2 to 8 were prepared.

【0326】<感光記録材料の評価>試料は富士メディカ
ルドライレーザーイメージャー「FM−DP L」(最
大60mW(IIIB)出力の660nm半導体レーザー搭載)にて露
光し、(112℃−119℃−121℃−121℃)の温度に設定し
た4枚のパネルヒータで合計14秒になるように熱現像
を行った。
<Evaluation of Photosensitive Recording Material> The sample was exposed with a Fuji Medical Dry Laser Imager “FM-DPL” (equipped with a 660 nm semiconductor laser with a maximum output of 60 mW (IIIB)) and exposed (112 ° C.-119 ° C.-121). Thermal development was performed with four panel heaters set at a temperature of (C-121C) for a total of 14 seconds.

【0327】(試料の評価)得られた画像を濃度計で濃
度測定し露光量の対数に対する濃度の特性曲線を作成し
た。未露光の部分の光学濃度をカブリとし、また濃度
3.0の光学濃度が得られる露光量の逆数を感度とし
て、感光記録材料1の感度を100として相対値で表し
た。また、光学濃度1.5と3.0の平均コントラスト
を測定した。これらの結果を表1に示す。
(Evaluation of Sample) The density of the obtained image was measured with a densitometer, and a characteristic curve of the density with respect to the logarithm of the exposure dose was prepared. The optical density of the unexposed portion was taken as the fog, and the reciprocal of the exposure amount at which the optical density of 3.0 was obtained was taken as the sensitivity, and the sensitivity of the photosensitive recording material 1 was taken as 100 and expressed as relative values. Also, the average contrast of the optical densities of 1.5 and 3.0 was measured. The results are shown in Table 1.

【0328】(プリントアウト性能の評価)現像処理後
の感光記録材料を、温度25℃相対湿度60%の部屋に
置き、蛍光灯で100ルクスの下で30日間放置した。
現像処理直後のカブリ濃度に対して、上記条件の下で3
0日間放置した後のカブリ濃度の差をプリントアウト性
能とした。この様な条件による放置でもカブリの上昇が
少ないことが好ましい。結果を表1に示す。
(Evaluation of Printout Performance) The photosensitive recording material after the development treatment was placed in a room at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% and left under a fluorescent lamp at 100 lux for 30 days.
Under the above conditions, the fog density immediately after development was 3
The difference in fog density after leaving for 0 days was defined as the printout performance. It is preferable that the fog does not increase so much even if it is left under such conditions. The results are shown in Table 1.

【0329】[0329]

【表1】 [Table 1]

【0330】表1から明らかなように、本発明の感光記
録材料は高感度かつ低カブリで、好ましい階調を有し、
プリントアウト性能に優れることが分かった。
As is clear from Table 1, the photosensitive recording material of the present invention has high sensitivity and low fog, and has preferable gradation.
It was found that the printout performance was excellent.

【0331】[実施例2] <ハロゲン化銀乳剤4の調製>蒸留水1421mlに1質量%ヨ
ウ化カリウム溶液4.3mlを加え、さらに0.5mol/L濃度の
硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン36.7gを添加した液をス
テンレス製反応壺中で攪拌しながら、42℃に液温を保
ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え195.6mlに希釈した溶
液Aとヨウ化カリウム21.8gを蒸留水にて容量218mlに希
釈した溶液Bを、一定流量で9分間かけて全量添加し
た。
Example 2 <Preparation of Silver Halide Emulsion 4> To 1421 ml of distilled water was added 4.3 ml of 1% by mass potassium iodide solution, 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 36.7 g of phthalated gelatin were added. While stirring the solution with added in a stainless steel reaction pot, keep the solution temperature at 42 ° C, add distilled water to 22.22 g of silver nitrate and dilute to 195.6 ml with solution A and 21.8 g of potassium iodide with a volume of distilled water. Solution B diluted to 218 ml was added at a constant flow rate over 9 minutes.

【0332】その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を1
0ml添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶
液を10.8ml添加した。更に、硝酸銀30.64gに蒸留水を加
えて187.6mlに希釈した溶液Cと臭化カリウム40.0gを蒸
留水にて容量400mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定
流量で12分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1
に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加
した。
Thereafter, 1% of a 3.5% by mass hydrogen peroxide aqueous solution is added.
0 ml was added, and 10.8 ml of a 10 mass% aqueous solution of benzimidazole was further added. Further, distilled water was added to 30.64 g of silver nitrate to dilute it to 187.6 ml, and solution D of 40.0 g of potassium bromide to a volume of 400 ml was added to the solution C at a constant flow rate for 12 minutes. Then, the solution D had a pAg of 8.1.
It was added by the controlled double jet method while maintaining

【0333】その後、硝酸銀22.2gに蒸留水を加えて13
0.0mlを加えた溶液Eと、ヨウ化カリウム21.7gを蒸留水
にて容量217mlに希釈した溶液Ftoを、pAgを6.3に
維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加し
た。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジ
ウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加し
はじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添
加終了の5秒後に、六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を
銀1モル当たり3×10- 4モル全量添加した。0.5mol/L濃度
の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/
脱塩/水洗工程を行った。1mol/L濃度の水酸化ナトリウ
ムを用いてpHを5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化
銀分散物を作成した。
After that, distilled water was added to 22.2 g of silver nitrate to prepare 13
Solution E containing 0.0 ml and solution Fto prepared by diluting 21.7 g of potassium iodide with distilled water to a volume of 217 ml were added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 6.3. 10 minutes after starting the addition of Solution C and Solution D, the total amount of potassium hexachloroiridium (III) salt was added so that the concentration was 1 × 10 −4 mol per mol of silver. Also, the 5 seconds after completing the addition of the solution C, hexacyanoferrate (II) and silver with an aqueous solution of potassium per mole 3 × 10 - 4 mol the total amount was added. Adjust the pH to 3.8 with 0.5 mol / L sulfuric acid, stop stirring, and settle
A desalting / washing process was performed. The pH was adjusted to 5.9 with sodium hydroxide at a concentration of 1 mol / L to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.

【0334】上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38
℃に維持して、0.34質量%の1,2-ベンゾイソチアゾリン
-3-オンのメタノール溶液を5ml加え、1分後に47℃に昇
温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリ
ウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル
加え、さらに5分後にテルル増感剤Bをメタノール溶液
で銀1モル当たり2.9×10-4モル加えて91分間熟成した。
N,N'-ジヒドロキシ-N"-ジエチルメラミンの0.8質量%メ
タノール溶液1.3mlを加え、さらに4分後に、5-メチル-2
-メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1
モル当たり4.8×10-3モル及び1-フェニル-2-ヘプチル-5
-メルカプト-1,3,4-トリアゾールをメタノール溶液で銀
1モルに対して5.4×10-3モル及びメルカプト化合物−
2を水溶液で銀1モル当たり1.5×10-2モル添加して、ハ
ロゲン化銀乳剤1を作成した。
While stirring the above silver halide dispersion, 38
0.34% by mass of 1,2-benzisothiazoline maintained at
5 ml of 3-one methanol solution was added, and 1 minute later, the temperature was raised to 47 ° C. Sodium benzene thiosulfonate after 20 minutes of heating 7.6 × 10 -5 mol was added per mol of silver in methanol solution, per mol of silver 2.9 × 10 further tellurium sensitizer B in methanol solution after 5 minutes - 4 mol was added and aged for 91 minutes.
1.3 ml of 0.8% by mass methanol solution of N, N'-dihydroxy-N "-diethylmelamine was added, and after further 4 minutes, 5-methyl-2
-Mercaptobenzimidazole silver in methanol 1
4.8 × 10 -3 mol and 1-phenyl-2-heptyl-5 per mol
-Mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution with 5.4 × 10 -3 mol per mol of silver and mercapto compound-
Silver halide emulsion 1 was prepared by adding 1.5 × 10 -2 mol per mol of silver in an aqueous solution.

【0335】調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、
平均球相当径0.042μm、球相当径の変動係数18%の純ヨ
ウ化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用
い1000個の粒子の平均から求めた。
The grains in the prepared silver halide emulsion are as follows:
The particles were pure silver iodide grains having an average equivalent spherical diameter of 0.042 μm and a coefficient of variation of equivalent spherical diameter of 18%. The particle size and the like were obtained from the average of 1000 particles using an electron microscope.

【0336】<ハロゲン化銀乳剤5〜17の調製><ハロ
ゲン化銀乳剤4の調製>と同様にして、但し、溶液B、
D、Fのハロゲン組成を変更することによって、表2に
記載の様なハロゲン構造を有するハロゲン化銀乳剤5〜
17を調製した。ハロゲン化銀の粒子サイズは、粒子形
成時の温度を変化させることによって、平均球相当径
0.04μmのものを作成した。
<Preparation of silver halide emulsions 5 to 17> In the same manner as in <Preparation of silver halide emulsion 4>, except that the solution B,
By changing the halogen composition of D and F, a silver halide emulsion having a halogen structure as shown in Table 2
17 was prepared. Regarding the grain size of the silver halide, the average spherical equivalent diameter of 0.04 μm was prepared by changing the temperature at the time of grain formation.

【0337】<ハロゲン化銀乳剤18〜21の調製><ハ
ロゲン化銀乳剤9の調製>と同様にして粒子を形成した
乳剤に対して、表2の平均ヨウド組成になる様に、ヨウ
化カリウム水溶液を添加した後に、沈降/脱塩/水洗工程
を行うことによって、ハロゲン化銀乳剤18、19を調
製した。<ハロゲン化銀乳剤6の調製>に対しても同様に
して、表2に記載のハロゲン化銀乳剤20、21を調製
した。これらハロゲン化銀乳剤5〜21の内、ヨウ化銀
構造の結晶構造を持つ乳剤は、強い直接遷移による光吸
収を有していた。
<Preparation of silver halide emulsions 18 to 21> Potassium iodide was added to the emulsion in which grains were formed in the same manner as in <Preparation of silver halide emulsion 9> so that the average iodide composition shown in Table 2 was obtained. After adding the aqueous solution, silver halide emulsions 18 and 19 were prepared by performing a precipitation / desalting / washing step. Similarly to <Preparation of silver halide emulsion 6>, silver halide emulsions 20 and 21 shown in Table 2 were prepared. Among these silver halide emulsions 5 to 21, the emulsion having a crystal structure of silver iodide had light absorption due to strong direct transition.

【0338】[0338]

【表2】 [Table 2]

【0339】<熱現像画像記録材料−9〜31の作製>実
施例1の<熱現像画像記録材料−1の作製>と同様にし
て、但し、一般式(I)で表される化合物は熱現像画像
記録材料−1と同様にして、表3に記載する様な熱現像
画像記録材料−9〜31を作製した。
<Preparation of heat-developable image recording material-9 to 31> In the same manner as in <Preparation of heat-developable image recording material-1> in Example 1, except that the compound represented by formula (I) is Thermal development image recording materials-9 to 31 as shown in Table 3 were prepared in the same manner as the development image recording material-1.

【0340】得られた熱現像画像記録材料を、以下の様
にして評価を行った。 (感光記録材料の露光)実施例2で得られた感光記録材
料は、以下の様にして露光処理を行った。富士メディカ
ルドライレーザーイメージャー「FM−DPL」の露光
部において半導体レーザー光源に日亜化学工業(株)の
「NLHV3000E」半導体レーザーを実装し、ビーム径を絞
ることによってレーザー光の感光記録材料面照度を0及
び1〜1000mW/mm2の間で変化させて、10-6秒で感
材の露光を行った。レーザー光の発光波長は405nm
であった。
The obtained heat-developable image recording material was evaluated as follows. (Exposure of Photosensitive Recording Material) The photosensitive recording material obtained in Example 2 was exposed as follows. Fuji Medical Dry Laser Imager "FM-DPL" exposed area is equipped with Nichia Corporation's "NLHV3000E" semiconductor laser as a semiconductor laser light source, and the beam diameter is narrowed to reduce the beam diameter of the photosensitive recording material surface illuminance. Was varied between 0 and 1 to 1000 mW / mm 2 , and the photosensitive material was exposed for 10 −6 seconds. The emission wavelength of laser light is 405 nm
Met.

【0341】(感光記録材料の現像)露光された感材
は、以下の様にして熱現像処理を行った。富士メディカ
ルドライレーザーイメージャー「FM−DP L」の熱
現像部において、4枚あるパネルヒータを112℃−110℃
−110℃−110℃に設定し、フィルム搬送速度を速めるこ
とによって、合計熱現像時間が14秒になるようにして
熱現像を行った。試料の評価は、実施例1と同様にして
行い、得られた結果を表3に示した。
(Development of Photosensitive Recording Material) The exposed light-sensitive material was subjected to heat development treatment as follows. Fuji Medical Dry Laser Imager "FM-DP L" heat development part, 4 panel heaters 112 ℃ -110 ℃
Thermal development was carried out by setting the temperature to -110 ° C-110 ° C and increasing the film transport speed so that the total thermal development time was 14 seconds. The sample was evaluated in the same manner as in Example 1, and the obtained results are shown in Table 3.

【0342】[0342]

【表3】 [Table 3]

【0343】表3から明らかなように、本発明の感光記
録材料は青色レーザー露光においても優れた性能を示す
ことが分かった。
As is clear from Table 3, the photosensitive recording material of the present invention was found to exhibit excellent performance even under blue laser exposure.

【0344】[実施例3]実施例2の<ハロゲン化銀乳
剤4の調製>と同様にして、但し、粒子形成時の温度を
変化させることによって、平均粒子サイズ100nmの
純ヨウ化銀乳剤22を作成した。この純ヨウ化銀乳剤2
2の塗布量を変化させることにより、該塗布量以外は実
施例2の感光記録材料9と同様にして、表4に記載の熱
現像画像記録材料32、33、34を作製した。実施例
2と同様にして写真性の評価を行った。ここで熱現像後
の試料の最高光学濃度をDmaxとした。結果を表34
に示す。
[Example 3] Pure silver iodide emulsion 22 having an average grain size of 100 nm was prepared in the same manner as in <Preparation of silver halide emulsion 4> in Example 2, except that the temperature during grain formation was changed. It was created. This pure silver iodide emulsion 2
The thermal development image recording materials 32, 33 and 34 shown in Table 4 were prepared in the same manner as the photosensitive recording material 9 of Example 2 except that the coating amount of 2 was changed. The photographic properties were evaluated in the same manner as in Example 2. Here, the maximum optical density of the sample after heat development was defined as Dmax. The results are shown in Table 34.
Shown in.

【0345】[0345]

【表4】 [Table 4]

【0346】表4から明らかなように、ヨウ化銀乳剤は
その平均粒子サイズが100nmと大きいと十分な感度
が得られず、Dmaxも低下した。通常ハロゲン化銀の
吸収は、平均粒子サイズの3乗に比例するため、大サイ
ズのハロゲン化銀ほど高感度が得られるはずであるが、
本発明における高ヨウ化銀系乳剤は必ずしもそのように
はならない。平均粒子サイズを小さくすることによって
サイズの割には高感度し、同時にDmaxも上昇して好
ましい。
As is clear from Table 4, when the average grain size of the silver iodide emulsion was as large as 100 nm, sufficient sensitivity could not be obtained and Dmax was lowered. Normally, the absorption of silver halide is proportional to the cube of the average grain size, and therefore a larger size silver halide should provide higher sensitivity.
The high silver iodide type emulsion in the present invention does not always have to be such. By decreasing the average particle size, the sensitivity is high relative to the size, and at the same time, Dmax is also increased, which is preferable.

【0347】[実施例4]粒子形成時の温度を上げたこ
と以外は、実施例2の<ハロゲン化銀乳剤4の調製>と同
様にして、平均粒子サイズ70nm、変動係数8%の純
ヨウ化銀乳剤23を作製した。同様に粒子形成時の温度
を変化させることによって、平均粒子サイズ28nm、
変動係数12%の純ヨウ化銀乳剤24を作製した。
[Example 4] Pure iodine having an average grain size of 70 nm and a coefficient of variation of 8% was prepared in the same manner as in <Preparation of silver halide emulsion 4> in Example 2 except that the temperature during grain formation was raised. A silver halide emulsion 23 was prepared. Similarly, by changing the temperature at the time of particle formation, the average particle size is 28 nm,
A pure silver iodide emulsion 24 having a coefficient of variation of 12% was prepared.

【0348】熱現像画像記録材料−9において、ハロゲ
ン化銀乳剤4、23、24を60:15:25の割合で
混合したものを、ハロゲン化銀乳剤4の代わりに添加し
たこと以外は、実施例2と同様にして熱現像画像記録材
料35を作製した。実施例2と同様の評価を行った結
果、好ましい結果が得られた。感光記録材料35の平均
コントラストは2.7であった。同様にして、ハロゲン
化銀乳剤12とハロゲン化銀乳剤23を85:15の割
合で混合して熱現像画像記録材料36を作製した。実施
例2と同様の評価を行った結果、好ましい結果が得られ
た。このようにして、本発明のハロゲン化銀乳剤は、お
互いに任意の割合で混合して使用することが出来る。
Thermal development image recording material-9, except that a mixture of silver halide emulsions 4, 23 and 24 in a ratio of 60:15:25 was added in place of the silver halide emulsion 4 in the heat-developable image recording material-9. A heat-developable image recording material 35 was prepared in the same manner as in Example 2. As a result of performing the same evaluation as in Example 2, favorable results were obtained. The average contrast of the photosensitive recording material 35 was 2.7. Similarly, the silver halide emulsion 12 and the silver halide emulsion 23 were mixed at a ratio of 85:15 to prepare a heat developable image recording material 36. As a result of performing the same evaluation as in Example 2, favorable results were obtained. In this way, the silver halide emulsions of the present invention can be mixed with each other in an arbitrary ratio and used.

【0349】[実施例5]実施例2の<ハロゲン化銀乳
剤4〜21の調製>と同様にして、但し、テルル増感剤
の添加3分後に、カリウムヨードオーレートを銀1モル
当り5×10-4モルと、チオシアン酸カリウムを銀1モ
ル当り2×10-3モルとを添加したこと以外は、実施例
2のハロゲン化銀乳剤4〜21と同様にして、ハロゲン
化銀乳剤25〜42を調製した。これらの乳剤を使用し
て、実施例2の熱現像画像記録材料9と同様にして、熱
現像画像記録材料37〜54を作製した。実施例2と同
様の評価を行った結果、感度は2倍に増感するが、カブ
リとプリントアウト性能には低下はみられず、好ましい
結果が得られた。
[Example 5] In the same manner as in <Preparation of silver halide emulsions 4 to 21> of Example 2, except that 3 minutes after the addition of the tellurium sensitizer, potassium iodoaurate was added to 5 mol per mol of silver. A silver halide emulsion 25 was prepared in the same manner as in the silver halide emulsions 4 to 21 of Example 2 except that x10 -4 mol and 2 × 10 -3 mol of potassium thiocyanate were added per mol of silver. ~ 42 was prepared. Using these emulsions, thermal development image recording materials 37 to 54 were prepared in the same manner as the thermal development image recording material 9 of Example 2. As a result of performing the same evaluation as in Example 2, the sensitivity was doubled, but no fog and printout performance were observed, and favorable results were obtained.

【0350】[実施例6]実施例2の熱現像画像記録材
料9において、裏面保護層及び乳剤面保護層のフッ素系
界面活性剤F−1、F−2、F−3、F−4を、それぞ
れF−5、F−6、F−7、F−8に変更した以外は、
熱現像画像記録材料9と同様にして熱現像画像記録材料
55を作製した。実施例2と同様にして評価したとこ
ろ、熱現像画像記録材料9と同様好ましい結果が得られ
た。
[Example 6] In the heat-developable image recording material 9 of Example 2, the fluorine-containing surfactants F-1, F-2, F-3 and F-4 in the back surface protective layer and the emulsion surface protective layer were used. , Except that they are changed to F-5, F-6, F-7, and F-8, respectively.
A thermal development image recording material 55 was prepared in the same manner as the thermal development image recording material 9. When evaluated in the same manner as in Example 2, the same favorable results as with the heat-developable image recording material 9 were obtained.

【0351】[0351]

【化58】 [Chemical 58]

【0352】[0352]

【化59】 [Chemical 59]

【0353】[0353]

【発明の効果】本発明により、高ヨウ化銀系ハロゲン化
銀感光記録材料からなる高感度で高画質な熱現像画像記
録材料及びそれを用いた熱現像方法を提供することが出
来る。
According to the present invention, it is possible to provide a high-sensitivity and high-quality heat-developable image recording material comprising a high silver iodide type silver halide photosensitive recording material and a heat-development method using the same.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H123 AB00 AB03 AB06 AB23 AB28 BB00 BB22 BB33 CB00 CB03 CB20    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H123 AB00 AB03 AB06 AB23 AB28                       BB00 BB22 BB33 CB00 CB03                       CB20

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層の感光性ハロ
ゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを
含有する熱現像画像記録材料において、該感光性ハロゲ
ン化銀の平均ヨウ化銀含量が5〜100モル%であるハ
ロゲン化銀を含有し、且つ下記一般式(I)で表される
化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする熱
現像画像記録材料。 【化1】 〔式中、XはN、S、P、Se又はTeの少なくとも1
つの原子を有するハロゲン化銀吸着基又は光吸収基を表
す。LはC、N、S、Oの少なくとも1つの原子を有す
る(k+n)価の連結基を表す。Aは電子供与性基を表
し、Bは脱離基又は水素原子を表し、A−Bは酸化後、
脱離又は脱プロトンされてラジカルA・を生成する。k
は0〜3の整数を表し、mは0又は1を表し、nは1又
は2を表す。但し、k=0且つn=1の場合は、m=0
である。〕
1. A heat-developable image recording material containing at least one layer of a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, and the average iodide of the photosensitive silver halide. A heat-developable image recording material comprising a silver halide having a silver content of 5 to 100 mol% and at least one compound represented by the following general formula (I). [Chemical 1] [In the Formula, X is at least 1 of N, S, P, Se, or Te.
Represents a silver halide adsorption group or a light absorption group having one atom. L represents a (k + n) -valent linking group having at least one atom of C, N, S and O. A represents an electron-donating group, B represents a leaving group or a hydrogen atom, and AB represents an oxidized group,
It is desorbed or deprotonated to generate a radical A. k
Represents an integer of 0 to 3, m represents 0 or 1, and n represents 1 or 2. However, when k = 0 and n = 1, m = 0
Is. ]
【請求項2】 前記ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含量
が、10〜100モル%であることを特徴とする請求項
1に記載の熱現像画像記録材料。
2. The average silver iodide content of the silver halide is 10 to 100 mol%.
The heat-developable image recording material described in 1.
【請求項3】 前記ハロゲン化銀の平均ヨウ化銀含量
が、40〜100モル%であることを特徴とする請求項
1に記載の熱現像画像記録材料。
3. The average silver iodide content of the silver halide is 40 to 100 mol%.
The heat-developable image recording material described in 1.
【請求項4】 前記ハロゲン化銀粒子が、高ヨウ化銀結
晶構造に由来する直接遷移吸収を持つことを特徴とする
請求項1〜3のいずれかに記載の熱現像画像記録材料。
4. The heat-developable image recording material according to claim 1, wherein the silver halide grains have a direct transition absorption derived from a high silver iodide crystal structure.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかの熱現像画像記
録材料を熱現像する時の最高温度が、100〜120℃
であることを特徴とする熱現像方法。
5. The maximum temperature for heat development of the heat-developable image recording material according to claim 1 is 100 to 120 ° C.
And a heat development method.
【請求項6】 請求項1〜4のいずれかの熱現像画像記
録材料を熱現像する時の最高温度が、105〜115℃
であることを特徴とする熱現像方法。
6. The maximum temperature for heat development of the heat-developable image recording material according to claim 1 is 105 to 115 ° C.
And a heat development method.
【請求項7】 2〜6枚のプレート状熱現像ヒーターか
らなる熱現像部に、請求項1〜4のいずれかの熱現像画
像記録材料が接触しながら搬送されることにより熱現像
が行われることを特徴とする請求項5又は6に記載の熱
現像方法。
7. The heat development is carried out by transporting the heat-developable image recording material according to any one of claims 1 to 4 while contacting the heat-development section comprising two to six plate-shaped heat development heaters. 7. The heat development method according to claim 5, wherein
【請求項8】 前記ハロゲン化銀の平均粒子サイズが、
5〜80nmであることを特徴とする請求項1〜4のい
ずれかに記載の熱現像画像記録材料。
8. The average grain size of the silver halide is
The heat-developable image recording material according to any one of claims 1 to 4, which has a thickness of 5 to 80 nm.
【請求項9】 前記ハロゲン化銀の平均粒子サイズが、
5〜70nmであることを特徴とする請求項1〜4のい
ずれかに記載の熱現像画像記録材料。
9. The average grain size of the silver halide is
The heat-developable image recording material according to any one of claims 1 to 4, which has a thickness of 5 to 70 nm.
【請求項10】 請求項8または9のいずれかの熱現像
画像記録材料を熱現像する時の最高温度が、100〜1
20℃であることを特徴とする熱現像方法。
10. The maximum temperature for heat development of the heat-developable image recording material according to claim 8 is 100 to 1.
A heat development method, wherein the temperature is 20 ° C.
【請求項11】 請求項8または9のいずれかの熱現像
画像記録材料を熱現像する時の最高温度が、105〜1
15℃であることを特徴とする熱現像方法。
11. The maximum temperature for heat development of the heat-developable image recording material according to claim 8 is 105 to 1
A heat development method, characterized in that the temperature is 15 ° C.
【請求項12】 2〜6枚のプレート状熱現像ヒーター
からなる熱現像部に、請求項8または9のいずれかの熱
現像画像記録材料が接触しながら搬送されることにより
熱現像が行われることを特徴とする請求項10又は11
に記載の熱現像方法。
12. The heat development is carried out by transporting the heat-developable image recording material according to claim 8 while contacting the heat-development section comprising two to six plate-shaped heat development heaters. 12. The method according to claim 10 or 11, wherein
The heat development method described in.
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