JP2003198945A - Solid-state electronic imaging device and solid-state electronic image pickup device - Google Patents

Solid-state electronic imaging device and solid-state electronic image pickup device

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JP2003198945A
JP2003198945A JP2001399615A JP2001399615A JP2003198945A JP 2003198945 A JP2003198945 A JP 2003198945A JP 2001399615 A JP2001399615 A JP 2001399615A JP 2001399615 A JP2001399615 A JP 2001399615A JP 2003198945 A JP2003198945 A JP 2003198945A
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JP
Japan
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photoelectric conversion
photodiode
signal charge
transfer
field
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001399615A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuya Oda
和也 小田
Atsuhiko Ishihara
淳彦 石原
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001399615A priority Critical patent/JP2003198945A/en
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  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To maintain brightness of an obtained image even though the light reception area of a photodiode 2 is reduced. <P>SOLUTION: The light reception area of the photodiode 2, the area of a transfer electrode on a vertical transfer line 4, and the magnitude of a transfer pulse to be given to the vertical transfer line 4 are so determined that a potential well for storing 3-fold storage capacity of the photodiode 2 is formed. Signal electric charge is repeatedly stored in the photodiode 2 several times ((A), (C), and (E)) and is shifted to the vertical transfer line 4 at each time of storage ((B), (D), and (F)). Thus the storage capacity of the photodiode 2 can be practically increased though the storage capacity of the photodiode 2 (the light reception area) is small, and brightness of the obtained image is increased. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【技術分野】この発明は,固体電子撮像素子および固体
電子撮像装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a solid-state electronic image pickup device and a solid-state electronic image pickup device.

【0002】[0002]

【発明の背景】CCDの小型化が要求されるにもかかわ
らず,CCDの画素数は年々増加している。CCDは,
多数のフォトダイオードとフォトダイオードに蓄積され
た信号電荷を転送する転送路(垂直転送路,水平転送
路)とを有している。CCDの1画素分の領域には,1
個のフォトダイオードとこの1個のフォトダイオードに
対応する転送電極が含まれている。CCDの画素数が増
加するにもかかわらず,CCDが小型化すると,CCD
の1画素分の領域は小さくなる。
Despite the demand for miniaturization of CCD, the number of pixels of CCD is increasing year by year. CCD is
It has a large number of photodiodes and transfer paths (vertical transfer paths, horizontal transfer paths) for transferring the signal charges accumulated in the photodiodes. In the area of 1 pixel of CCD, 1
Each photodiode and a transfer electrode corresponding to this one photodiode are included. Even if the number of pixels of the CCD increases, if the CCD becomes smaller, the CCD
The area for one pixel becomes smaller.

【0003】フォトダイオードに蓄積された信号電荷は
転送路下に形成される電位井戸によって転送されること
から,1個のフォトダイオードの受光面積と1個の転送
電極の面積とはほぼ等しい。CCDを小型化するために
1画素分の領域が小さくなると,フォトダイオードの受
光面積も小さくなる。しかしながら得られる画像の画質
を維持するためには,フォトダイオードの受光面積をあ
まり小さくすることはできない。結果的に1画素分の領
域を小さくすることもできず,CCD自体を小型化する
こともできない。
Since the signal charge accumulated in the photodiode is transferred by the potential well formed under the transfer path, the light receiving area of one photodiode and the area of one transfer electrode are almost equal. If the area for one pixel is reduced to reduce the size of the CCD, the light receiving area of the photodiode is also reduced. However, in order to maintain the quality of the obtained image, the light receiving area of the photodiode cannot be made very small. As a result, the area for one pixel cannot be made smaller, and the CCD itself cannot be made smaller.

【0004】[0004]

【発明の開示】この発明は,フォトダイオード(光電変
換素子)の受光面積を小さくすることを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to reduce the light receiving area of a photodiode (photoelectric conversion element).

【0005】この発明による固体電子撮像素子は,入射
光量に応じた電荷量の信号電荷を蓄積する多数の光電変
換素子,上記光電変換素子に隣接し,かつ転送電極に転
送パルスが与えられることにより電位井戸が形成され,
形成された電位井戸により上記信号電荷を転送する転送
路,およびシフト・パルスが与えられることにより上記
光電変換素子に蓄積された信号電荷を上記転送路にシフ
トする転送ゲートを備え,上記光電変換素子の受光面積
が上記転送電極の面積未満であることを特徴とする。
In the solid-state electronic image pickup device according to the present invention, a large number of photoelectric conversion devices for accumulating signal charges corresponding to the amount of incident light, adjacent to the photoelectric conversion devices, and provided with transfer pulses to transfer electrodes are provided. A potential well is formed,
The photoelectric conversion element includes a transfer path for transferring the signal charge by the formed potential well, and a transfer gate for shifting the signal charge accumulated in the photoelectric conversion element to the transfer path when a shift pulse is applied. Is smaller than the area of the transfer electrode.

【0006】この発明によると,上記光電変換素子の受
光面積(光電変換素子1個分の受光面積)が上記転送電
極の面積(1個の転送電極の面積)未満なので,1画素
分の領域を小さくすることができる。固体電子撮像素子
を小型化することができるようになる。
According to this invention, since the light receiving area of the photoelectric conversion element (light receiving area for one photoelectric conversion element) is less than the area of the transfer electrode (area of one transfer electrode), the area for one pixel is Can be made smaller. The solid-state electronic image sensor can be downsized.

【0007】上記固体電子撮像素子,および上記転送路
に上記転送パルスを与える駆動回路を備えた固体電子撮
像装置を構成することもできる。この場合,上記転送ゲ
ートにシフト・パルスが与えられることにより,上記光
電変換素子に蓄積された信号電荷を上記転送路にシフト
するときに生じる上記電位井戸の容量が上記光電変換素
子の蓄積容量より大きくなるように上記光電変換素子に
対応する上記転送電極の面積および上記転送パルスのレ
ベルが決定されているとよい。
A solid-state electronic image pickup device including the above-mentioned solid-state electronic image pickup device and a drive circuit for giving the above-mentioned transfer pulse to the above-mentioned transfer path can be constructed. In this case, when a shift pulse is applied to the transfer gate, the capacity of the potential well generated when the signal charge stored in the photoelectric conversion element is shifted to the transfer path is smaller than the storage capacity of the photoelectric conversion element. The area of the transfer electrode corresponding to the photoelectric conversion element and the level of the transfer pulse may be determined so as to be large.

【0008】光電変換素子の蓄積容量よりも電位井戸の
容量が大きいので,光電変換素子の露光中に蓄積された
信号電荷を随時転送路にシフトしても信号電荷を電位井
戸に蓄積することができる。光電変換素子に蓄積された
信号電荷を露光中に随時転送路にシフトさせることによ
り,光電変換素子の蓄積容量は実質的に多くなる。光電
変換素子の受光面積が小さくとも実質的に多くの信号電
荷を蓄積できる。得られる画像の明るさの低下を未然に
防止できる。
Since the capacity of the potential well is larger than the storage capacity of the photoelectric conversion element, it is possible to store the signal charge in the potential well even if the signal charge accumulated during the exposure of the photoelectric conversion element is shifted to the transfer path at any time. it can. By shifting the signal charges accumulated in the photoelectric conversion element to the transfer path at any time during exposure, the storage capacity of the photoelectric conversion element is substantially increased. Even if the light receiving area of the photoelectric conversion element is small, a large amount of signal charges can be stored. It is possible to prevent a decrease in the brightness of the obtained image.

【0009】上記光電変換素子の露光時間内において,
上記転送ゲートに複数回のシフト・パルスが与えられる
ときには,上記光電変換素子に蓄積された信号電荷を上
記転送路にシフトするときに生じる上記電位井戸の容量
と上記光電変換素子の蓄積容量との比率に基づいて,上
記転送ゲート・パルスに与えられるシフト・パルスのタ
イミングが決定されることが好ましい。
Within the exposure time of the photoelectric conversion element,
When a shift pulse is applied to the transfer gate a plurality of times, the capacitance of the potential well and the storage capacitance of the photoelectric conversion element generated when the signal charges accumulated in the photoelectric conversion element are shifted to the transfer path. The timing of the shift pulse applied to the transfer gate pulse is preferably determined based on the ratio.

【0010】上記転送路に蓄積されている不要電荷を掃
き出す不要電荷パルスを,上記フィールド・シフト・パ
ルスの第1回目のタイミング以前(上記光電変換素子へ
の露光開始以前でもよい)に与える掃き出しパルス出力
手段をさらに備えるようにしてもよい。
A sweep pulse for giving an unnecessary charge pulse for sweeping unnecessary charges accumulated in the transfer path before the first timing of the field shift pulse (may be before starting exposure of the photoelectric conversion element). You may make it further provide an output means.

【0011】上記固体電子撮像素子は,上記光電変換素
子が行方向および列方向に多数配列されているものであ
り,上記転送路は,上記光電変換素子の各列に隣接して
配列されているものであもよい。
In the solid-state electronic image pickup device, a large number of the photoelectric conversion elements are arranged in the row direction and the column direction, and the transfer path is arranged adjacent to each column of the photoelectric conversion elements. It may be one.

【0012】この場合,第1フィールドおよび第2フィ
ールドの上記光電変換素子の蓄積容量に対応した信号電
荷にもとづいて1駒の画像を生成する画像生成手段,お
よび第1フィールドの信号電荷の読み出し時には,奇数
行の転送ゲートにシフト・パルスが与えられ,第2フィ
ールドの信号電荷の読み出し時には,偶数行の転送ゲー
トにシフト・パルスが与えられ,第1フィールドの信号
電荷読み出しおよび第2フィールドの信号電荷の読み出
しのうち先に読み出された一方のフィールドにおいて
は,上記電位井戸の容量と上記光電変換素子の蓄積容量
との比率にもとづいて上記シフト・パルスのタイミング
が決定されものであり,上記光電変換素子の蓄積容量以
上に得られる信号電荷を用いて上記画像生成手段により
生成された画像の明るさ調整を行う明るさ調整手段を固
体電子撮像装置に備える。
In this case, the image generating means for generating an image of one frame based on the signal charges corresponding to the storage capacities of the photoelectric conversion elements of the first field and the second field, and the signal charges of the first field are read out, A shift pulse is applied to the transfer gates in the odd-numbered rows, and a shift pulse is applied to the transfer gates in the even-numbered rows when the signal charges in the second field are read. In one of the fields read out first, the timing of the shift pulse is determined based on the ratio of the capacity of the potential well to the storage capacity of the photoelectric conversion element. The brightness of the image generated by the image generating means is increased by using the signal charges obtained in excess of the storage capacity of the conversion element. It is a brightness adjusting means for adjusting comprises a solid-state electronic image sensing device.

【0013】第1フィールドと第2フィールドとの光電
変換素子が同時に露光される場合,先に読み出されるフ
ィールドの光電変換素子に蓄積された信号電荷は,露光
中に随時転送路にシフトすることにより,光電変換素子
の蓄積容量よりも実質的に多くの信号電荷を蓄積するこ
とができる。これに対して,後のフィールドの光電変換
素子に蓄積される信号電荷は先のフィールドの光電変換
素子に蓄積された信号電荷と混ざるのを防止するため転
送路にシフトできない。このため後のフィールドの光電
変換素子の蓄積容量より多い量の信号電荷を実質的に蓄
積することはできない。このため,転送路に信号電荷を
シフトしない場合に,第1フィールドおよび第2フィー
ルドの光電変換素子に蓄積された信号電荷を用いて画像
が生成される。第1フィールドまたは第2フィールドの
うち先に読み出された光電変換素子の蓄積容量以上の信
号電荷は,生成される画像の明るさ調整に用いられる。
得られる信号電荷は,高輝度部分を表すものであり,高
輝度部分の階調のよい画像が得られるようになる。
When the photoelectric conversion elements of the first field and the second field are exposed at the same time, the signal charges accumulated in the photoelectric conversion elements of the previously read field are shifted to the transfer path at any time during the exposure. , Substantially more signal charges than the storage capacity of the photoelectric conversion element can be stored. On the other hand, the signal charge accumulated in the photoelectric conversion element of the subsequent field cannot be shifted to the transfer path in order to prevent it from being mixed with the signal charge accumulated in the photoelectric conversion element of the previous field. Therefore, it is not possible to substantially store a larger amount of signal charge than the storage capacity of the photoelectric conversion element in the subsequent field. Therefore, when the signal charges are not shifted to the transfer path, an image is generated using the signal charges accumulated in the photoelectric conversion elements of the first field and the second field. The signal charge that is equal to or larger than the storage capacity of the photoelectric conversion element that is read out first in the first field or the second field is used for adjusting the brightness of the generated image.
The obtained signal charge represents a high-luminance portion, and an image with good gradation in the high-luminance portion can be obtained.

【0014】[0014]

【実施例の説明】図1は,この発明の実施例を示すもの
で,CCDの構造を模式的に表している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of the present invention and schematically shows the structure of a CCD.

【0015】CCD1には,列方向および行方向に多数
配列されたフォトダイオード(光電変換素子)2が設け
られている。また,垂直転送パルスφV1からφV3が
与えられることにより,フォトダイオード2に蓄積され
た信号電荷を行方向に転送する垂直転送路4(遮光され
ている)がフォトダイオード2の各列に隣接して設けら
れている。フォトダイオード2と垂直転送路4との間に
は,フィールド・シフト・パルスFSが与えられること
によりフォトダイオード2に蓄積された信号電荷を垂直
転送路4にシフトするためのシフト・ゲート3が形成さ
れている。また,CCD1には,水平転送パルスφHが
与えられることにより,垂直転送路4を転送されてきた
信号電荷を列方向(水平方向)に転送する水平転送路6
および水平転送路6から出力される映像信号を増幅する
増幅回路7が設けられている。
The CCD 1 is provided with a plurality of photodiodes (photoelectric conversion elements) 2 arranged in columns and rows. Further, by applying the vertical transfer pulses φV1 to φV3, the vertical transfer paths 4 (shielded) for transferring the signal charges accumulated in the photodiodes 2 in the row direction are adjacent to each column of the photodiodes 2. It is provided. A shift gate 3 for shifting the signal charge accumulated in the photodiode 2 to the vertical transfer path 4 by forming a field shift pulse FS between the photodiode 2 and the vertical transfer path 4 is formed. Has been done. A horizontal transfer pulse φH is applied to the CCD 1 so that the signal charges transferred through the vertical transfer path 4 are transferred in the column direction (horizontal direction).
An amplifier circuit 7 for amplifying the video signal output from the horizontal transfer path 6 is provided.

【0016】上述したフィールド・シフト・パルスF
S,垂直転送パルスφV1からφV3,水平転送パルス
φH等は,駆動回路9から出力され,CCD1に与えら
れる。また,駆動回路9からはオーバフロー・ドレイン
・パルスOFDPも出力され,CCD1に与えられる。
オーバフロー・ドレイン・パルスOFDPは,不要な残
留信号電荷をCCD1の基板から掃き出すときに用いら
れるものである。
The above-mentioned field shift pulse F
S, vertical transfer pulses φV1 to φV3, horizontal transfer pulse φH, etc. are output from the drive circuit 9 and given to the CCD 1. Further, the overflow / drain / pulse OFDP is also output from the drive circuit 9 and given to the CCD 1.
The overflow / drain / pulse OFDP is used when sweeping unnecessary residual signal charges from the substrate of the CCD 1.

【0017】CCD1の1個のフォトダイオード2が,
CCD1から得られる映像信号によって表される画像の
1画素に対応する。1つのフォトダイオード2,シフト
・ゲート3および1つのフォトダイオード2に対応して
垂直転送路4上に形成されている垂直転送電極を含む領
域を1画素領域5ということにする(後に図2を参照し
て述べるように,CCD1には,各パルスを垂直転送電
極4等に与えるための電極8がフォトダイオード2に対
応して形成されている。この電極8も1画素領域5に含
まれる)。
One photodiode 2 of the CCD 1 is
It corresponds to one pixel of the image represented by the video signal obtained from the CCD 1. An area including a vertical transfer electrode formed on the vertical transfer path 4 corresponding to one photodiode 2, shift gate 3 and one photodiode 2 is referred to as one pixel area 5 (see FIG. 2 later). As will be described with reference to the CCD 1, an electrode 8 for applying each pulse to the vertical transfer electrode 4 and the like is formed corresponding to the photodiode 2. This electrode 8 is also included in one pixel region 5.) .

【0018】図2は,1画素領域5の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the one pixel area 5.

【0019】図2においては,図1と比較してシフト・
ゲートの図示が省略され,電極8が示されている。
In FIG. 2, compared with FIG.
The gate is not shown and the electrode 8 is shown.

【0020】1つのフォトダイオード(PD)2に対応
して3つの垂直転送電極V1,V2およびV3が形成さ
れている。これらの垂直転送電極V1,V2およびV3
に垂直転送パルスφV1,φV2およびφV3が与えら
れることにより,垂直転送電極V1,V2およびV3の
下に電位井戸が形成される。形成された電位井戸に信号
電荷が蓄積され,転送されることとなる。
Three vertical transfer electrodes V1, V2 and V3 are formed corresponding to one photodiode (PD) 2. These vertical transfer electrodes V1, V2 and V3
By applying the vertical transfer pulses φV1, φV2 and φV3 to, the potential wells are formed under the vertical transfer electrodes V1, V2 and V3. The signal charge is accumulated in the formed potential well and transferred.

【0021】この実施例においては,1つのフォトダイ
オード2の受光面積は,1つの垂直転送電極V1,V2
またはV3の面積よりも小さくなるように,フォトダイ
オード2および垂直転送電極が形成されている。また,
フォトダイオード2の蓄積容量よりも1つの転送電極下
に形成される電位井戸の容量が大きくなるように,フォ
トダイオード2の面積,垂直転送電極V1,V2または
V3の面積および垂直転送パルスφV1〜φV3の大き
さが定められている。
In this embodiment, the light receiving area of one photodiode 2 is equal to that of one vertical transfer electrode V1, V2.
Alternatively, the photodiode 2 and the vertical transfer electrode are formed so as to be smaller than the area of V3. Also,
The area of the photodiode 2, the area of the vertical transfer electrodes V1, V2 or V3, and the vertical transfer pulses φV1 to φV3 are set so that the capacity of the potential well formed below one transfer electrode is larger than the storage capacity of the photodiode 2. The size of is fixed.

【0022】図3(A)から(F)は,信号電荷のシフ
トの様子を示すポテンシャル・プロファイルである。フ
ォトダイオード2に蓄積された信号電荷が垂直転送路
(VCCD)4にシフトされる様子が示されている。
FIGS. 3A to 3F are potential profiles showing how the signal charges are shifted. It is shown that the signal charges accumulated in the photodiode 2 are shifted to the vertical transfer path (VCCD) 4.

【0023】この例は,垂直転送路4の駆動を停止した
状態で,1つのフォトダイオード2が露光されることに
より蓄積された信号電荷を露光中に3回繰り返して垂直
転送路4にシフトするものである。フォトダイオード1
に蓄積された信号電荷を3回繰り返して垂直転送路4に
シフトするのであるから,垂直転送路4においてオーバ
フローを防ぐ必要があり,フォトダイオード2の蓄積容
量と垂直転送路4に形成される電位井戸の容量との間に
以下に述べるように一定の関係が要求される。
In this example, with the driving of the vertical transfer path 4 stopped, the signal charges accumulated by exposing one photodiode 2 are repeatedly shifted three times during the exposure to the vertical transfer path 4. It is a thing. Photodiode 1
Since the signal charge accumulated in the vertical transfer path 4 is repeated three times and shifted to the vertical transfer path 4, it is necessary to prevent overflow in the vertical transfer path 4, and the storage capacity of the photodiode 2 and the potential formed in the vertical transfer path 4 are prevented. A certain relationship with the well capacity is required as described below.

【0024】1画素領域5が図2に示す構造をもつ場合
において,CCD1のすべてのフォトダイオード2に蓄
積された信号電荷を同一フィールドで読み出すとき(全
画素読み出しという)には,垂直方向において隣接する
電位井戸間でバリア(電位障壁)ができなければ信号電
荷が混在してしまう。このため全画素読み出しのときに
は,3回シフトされるから,1つの垂直転送電極下に形
成される電位井戸の蓄積容量が,フォトダイオード2の
蓄積容量の3倍必要となる。奇数行のフォトダイオード
2と偶数行のフォトダイオード2とを異なるフィールド
において読み出すとき(インターレース読み出しとい
う)には,1つのフォトダイオード2に対応する3つの
垂直転送電極V1からV3の下に形成される電位井戸の
蓄積容量が,フォトダイオード2の蓄積容量の3倍であ
ればよい。このようにフォトダイオード2の受光面積,
垂直転送電極V1〜V3の面積,垂直転送パルスφV1
〜φV3がそれぞれ定められる。
In the case where the one pixel region 5 has the structure shown in FIG. 2, when the signal charges accumulated in all the photodiodes 2 of the CCD 1 are read in the same field (all pixel reading), they are adjacent in the vertical direction. If a barrier (potential barrier) cannot be formed between the potential wells, the signal charges will be mixed. Therefore, when reading out all pixels, the storage capacity of the potential well formed below one vertical transfer electrode is required to be three times as large as the storage capacity of the photodiode 2 since the shift is performed three times. When the photodiodes 2 in the odd rows and the photodiodes 2 in the even rows are read in different fields (called interlaced reading), they are formed below the three vertical transfer electrodes V1 to V3 corresponding to one photodiode 2. The storage capacity of the potential well may be three times the storage capacity of the photodiode 2. Thus, the light receiving area of the photodiode 2
Area of vertical transfer electrodes V1 to V3, vertical transfer pulse φV1
~ ΦV3 is determined respectively.

【0025】全画素読み出しまたはインターレース読み
出しのいずれであっても,(A)に示すように,フォト
ダイオード2が露光され,フォトダイオード2への第1
回目の信号電荷の蓄積が行われる。
In either all-pixel reading or interlaced reading, the photodiode 2 is exposed as shown in FIG.
The signal charge is accumulated for the second time.

【0026】(B)に示すように,露光中にシフト・ゲ
ートにフィールド・シフト・パルスが与えられ,第1回
目の露光によりフォトダイオード2に蓄積された信号電
荷が垂直転送路4にシフトされる(第1回目の信号電荷
シフト)。
As shown in (B), a field shift pulse is applied to the shift gate during exposure, and the signal charge accumulated in the photodiode 2 by the first exposure is shifted to the vertical transfer path 4. (First signal charge shift).

【0027】フォトダイオード2には露光が続けられて
おり,(C)に示すようにフォトダイオード2への信号
電荷の蓄積が行われる。(D)に示すように,第1回目
のときと同様にシフト・ゲートにフィールド・シフト・
パルスが与えられ,第2回目の露光によりフォトダイオ
ード2に蓄積された信号電荷が垂直転送路4にシフトさ
れる。
Exposure of the photodiode 2 is continued, and signal charges are accumulated in the photodiode 2 as shown in (C). As shown in (D), the field shift is applied to the shift gate as in the first time.
A pulse is applied, and the signal charge accumulated in the photodiode 2 by the second exposure is shifted to the vertical transfer path 4.

【0028】第2回目のフォトダイオード2への信号電
荷の蓄積および垂直転送路4へのシフトが終わると,
(E)に示すようにフォトダイオード2への第3回目の
露光および(F)に示すように垂直転送路4への第3回
目のシフトが行われる。
When the second accumulation of the signal charges in the photodiode 2 and the shift to the vertical transfer path 4 are completed,
The third exposure is performed on the photodiode 2 as shown in (E), and the third shift to the vertical transfer path 4 is performed as shown in (F).

【0029】このように,フォトダイオード2に蓄積さ
れた信号電荷の垂直転送路4へのシフトが垂直転送路4
の駆動が停止した状態で露光中に3回繰り返して行われ
る。フォトダイオード3の蓄積容量が少なくとも(フォ
トダイオード2の受光面積が小さくとも)実質的に多く
の信号電荷を垂直転送路4にシフトさせることができ
る。CCD1の小型化を維持しつつ画素数を増加させる
ことができる。また,フォトダイオード2の受光面積を
小さくしても1つのフォトダイオード2当たりに得られ
る信号電荷の量は実質的に減少しないので,得られる画
像の画質が低下してしまうことを未然に防止できる。
As described above, the shift of the signal charges accumulated in the photodiode 2 to the vertical transfer path 4 is
Is repeatedly performed three times during the exposure while the driving of is stopped. At least the storage capacitance of the photodiode 3 (even if the light receiving area of the photodiode 2 is small) can shift substantially a large amount of signal charge to the vertical transfer path 4. The number of pixels can be increased while maintaining the miniaturization of the CCD 1. Further, even if the light receiving area of the photodiode 2 is reduced, the amount of signal charge obtained per photodiode 2 does not substantially decrease, so that it is possible to prevent deterioration of the image quality of the obtained image. .

【0030】図4は垂直転送路のポテンシャル・プロフ
ァイル,図5は,CCD1に与えられるパルスのタイム
・チャートであり,図4に対応する。
FIG. 4 is a potential profile of the vertical transfer path, and FIG. 5 is a time chart of the pulse given to the CCD 1, which corresponds to FIG.

【0031】この例は,フォトダイオード2に蓄積され
た信号電荷を全画素読み出しにより読み出すものであ
る。もつとも,同様の読み出し方法によりインターレー
ス読み出しにおける第1フィールドに蓄積された信号電
荷を転送することもできる。
In this example, the signal charges accumulated in the photodiode 2 are read out by all pixel readout. In addition, the signal charge accumulated in the first field in the interlaced reading can be transferred by the same reading method.

【0032】フォトダイオード2への露光時間は,時刻
t2から時刻t6の間である。この露光時間中に信号電
荷の垂直転送路4への転送が3回行なわれる。
The exposure time for the photodiode 2 is from time t2 to time t6. During this exposure time, the signal charges are transferred to the vertical transfer path 4 three times.

【0033】露光開始前の時刻t1においては,垂直転
送電極V1およびV2に垂直転送パルスφV1およびφ
V2が与えられ,垂直転送電極V1およびV2下に電位
井戸が形成されている。この電位井戸には,不要電荷S
が残っている。
At time t1 before the start of exposure, vertical transfer pulses φV1 and φ are applied to the vertical transfer electrodes V1 and V2.
V2 is applied, and potential wells are formed below the vertical transfer electrodes V1 and V2. In this potential well, unnecessary charges S
Is left.

【0034】時刻t2においてフォトダイオード2にオ
ーバフロー・ドレイン・パルスOFDPが与えられ,垂
直転送路4に残っている不要電荷がCCD1の基板から
掃き出される。もっとも,不要電荷を基板から掃き出さ
ずに,垂直転送路4を転送させるようにしてもよい。フ
ォトダイオード2にオーバフロー・ドレイン・パルスO
FDPを与えて基板から掃き出す場合には,フォトダイ
オード2の露光が開始される前(時刻t2以前)に行う
必要があるが,不要電荷を垂直転送路4から転送させる
場合には,フォトダイオード2に蓄積された信号電荷を
垂直転送路4にシフトする前(第1のフィールド・シフ
ト・パルスFS1が立上がる以前)に行えばよい。ま
た,垂直転送路4に残っている不要電荷SをCCD1の
基板から掃き出しやすくするために,垂直転送電極V1
およびV2に与えられる垂直転送電極φV1およびφV
2の電圧を変え,図4に矢印Aで示すように電位井戸の
深さを浅くしてもよい。
At time t2, an overflow / drain pulse OFDP is applied to the photodiode 2, and unnecessary charges remaining on the vertical transfer path 4 are swept out from the substrate of the CCD 1. However, the vertical transfer path 4 may be transferred without sweeping unnecessary charges from the substrate. Overflow / drain / pulse O
When the FDP is applied and is swept out from the substrate, it must be performed before the exposure of the photodiode 2 is started (before the time t2), but when the unnecessary charges are transferred from the vertical transfer path 4, the photodiode 2 is used. It may be performed before shifting the signal charges accumulated in the vertical transfer path 4 (before the rise of the first field shift pulse FS1). In addition, in order to easily sweep out the unnecessary charges S remaining in the vertical transfer paths 4 from the substrate of the CCD 1, the vertical transfer electrodes V1
And V2 applied to the vertical transfer electrodes φV1 and φV
The voltage of 2 may be changed and the depth of the potential well may be made shallow as shown by arrow A in FIG.

【0035】フォトダイオード2に蓄積された信号電荷
が垂直転送路4にシフトされる前の時刻t3において
は,垂直転送路4に形成されている電位井戸中には不要
電荷5が除去され空の状態となっている。
At time t3 before the signal charge accumulated in the photodiode 2 is shifted to the vertical transfer path 4, the unnecessary charge 5 is removed and empty in the potential well formed in the vertical transfer path 4. It is in a state.

【0036】時刻t4において,シフト・ゲートに第1
回目のフィールド・シフト・パルスFS1が与えられる
と,時刻t2から時刻t4までの間にフォトダイオード
2に蓄積された信号電荷S1が垂直転送電極V2および
V1下の電位井戸にシフトされる。フォトダイオード2
は引き続き露光が続けられ,信号電荷の蓄積が行われ
る。時刻t5において第2回目のフィールド・シフト・
パルスFS2がシフト・ゲートに与えられ,時刻t4か
ら時刻t5の間にフォトダイオード2に蓄積された信号
電荷S2が垂直転送電極V2およびV1下の電位井戸
(S1+S2)にシフトされる。さらに,フォトダイオ
ード2は,露光が続けられる。時刻t6においてシフト
・ゲートに第3回目のフィールド・シフト・パルスFS
3が与えられることにより時刻t5から時刻t6の間に
フォトダイオード2に蓄積された信号電荷S3が垂直転
送電極V2およびV1下の電位井戸にシフトされる。
At time t4, the first shift gate
When the field shift pulse FS1 for the second time is applied, the signal charge S1 accumulated in the photodiode 2 from time t2 to time t4 is shifted to the potential well below the vertical transfer electrodes V2 and V1. Photodiode 2
Is continuously exposed, and signal charges are accumulated. The second field shift at time t5
The pulse FS2 is applied to the shift gate, and the signal charge S2 accumulated in the photodiode 2 between time t4 and time t5 is shifted to the potential well (S1 + S2) below the vertical transfer electrodes V2 and V1. Further, the photodiode 2 is continuously exposed. The third field shift pulse FS is applied to the shift gate at time t6.
By applying 3, the signal charge S3 accumulated in the photodiode 2 from time t5 to time t6 is shifted to the potential well below the vertical transfer electrodes V2 and V1.

【0037】このようにして,フォトダイオード2の蓄
積容量よりも多い量の信号電荷S1+S2+S3であっ
ても垂直転送電極V2およびV1下の電位井戸にシフト
され,蓄積されることとなる。
In this way, even the signal charges S1 + S2 + S3 having a larger amount than the storage capacitance of the photodiode 2 are shifted and stored in the potential wells below the vertical transfer electrodes V2 and V1.

【0038】時刻t7において,垂直転送電極V1に垂
直転送パルスφV1が与えられることにより,電位井戸
は垂直転送電極V1下に形成される。時刻t8において
垂直転送電極V1およびV3に垂直転送パルスφV1お
よびφV3が与えられることにより,垂直転送電極V1
およびV3下に電位井戸が形成される。フォトダイオー
ド2からシフトされた信号電荷S1+S2+S3が垂直
転送路4内を転送されることとなる。
At time t7, the vertical transfer pulse φV1 is applied to the vertical transfer electrode V1, so that the potential well is formed below the vertical transfer electrode V1. At time t8, the vertical transfer electrodes V1 and V3 are supplied with the vertical transfer pulses φV1 and φV3, whereby the vertical transfer electrodes V1 and V3 are applied.
And a potential well is formed under V3. The signal charges S1 + S2 + S3 shifted from the photodiode 2 are transferred in the vertical transfer path 4.

【0039】フォトダイオード2の蓄積容量が少なくと
も1回の露光で多くの信号電荷が蓄積され,明るい画像
が得られるようになる。
A large amount of signal charge is accumulated in the storage capacity of the photodiode 2 by at least one exposure, and a bright image can be obtained.

【0040】図6から図8は,応用例を示すものであ
る。
6 to 8 show an application example.

【0041】インターレース読み出しが行われる場合,
露光時間を制御するための(遮光のための)機械的なシ
ャッタが必要である。機械的なシャッタが開放されるこ
とにより,第1フィールドのフォトダイオード2(奇数
行のフォトダイオード2)と第2フィールドのフォトダ
イオード2(偶数行のフォトダイオード2)とは同時に
露光される。先に読み出される第1フィールドのフォト
ダイオード2に蓄積された信号電荷は上述したように繰
り返して垂直転送路4にシフトできる。しかしながら,
第2フィールドのフォトダイオード2に蓄積された信号
電荷を垂直転送路4にシフトするときには,機械的なシ
ャッタが閉じているので,信号電荷の垂直転送路4への
第1回目のシフトが行なわれるとフォトダイオード2は
空となり信号電荷は蓄積されない。このためにフォトダ
イオード2への信号電荷の蓄積を繰り返し行い,垂直転
送路4へのシフトを繰り返すことはできない。
When interlaced reading is performed,
A mechanical shutter (for shading) is needed to control the exposure time. By opening the mechanical shutter, the first field photodiode 2 (odd row photodiode 2) and the second field photodiode 2 (even row photodiode 2) are simultaneously exposed. The signal charges accumulated in the photodiode 2 of the first field, which is previously read, can be repeatedly shifted to the vertical transfer path 4 as described above. However,
When the signal charge accumulated in the photodiode 2 of the second field is shifted to the vertical transfer path 4, since the mechanical shutter is closed, the first shift of the signal charge to the vertical transfer path 4 is performed. Then, the photodiode 2 becomes empty and no signal charge is stored. Therefore, it is not possible to repeatedly accumulate the signal charges in the photodiode 2 and repeat the shift to the vertical transfer path 4.

【0042】次に述べる応用例は,第1フィールドのフ
ォトダイオード2においては上述したように3回の信号
電荷の蓄積および垂直転送路4へのシフトを行い,第2
フィールドのフォトダイオード2においては1回の信号
電荷の蓄積および垂直転送路4へのシフトを行うもので
ある。このようなものにおいて,第1フィールドのフォ
トダイオード2への第1回目の蓄積により得られた信号
電荷および第2フィールドのフォトダイオード2への蓄
積(第1回の蓄積)により得られた信号電荷により得ら
れる映像信号を用いて画像が生成される。そして,第1
フィールドのフォトダイオード2への第1回目の蓄積,
第2回目の蓄積および第3回目の蓄積により得られた信
号電荷にもとづいて映像信号によって表される画像を用
いて,生成された画像の高輝度の画像部分の画像が置き
換えられる。輝度の高い画像部分について飽和すること
なく,階調のよい画像が生成されるようになる。
In the application example described below, in the photodiode 2 of the first field, the signal charge is accumulated three times and shifted to the vertical transfer path 4 as described above,
In the photodiode 2 of the field, signal charges are accumulated once and shifted to the vertical transfer path 4. In such a case, the signal charge obtained by the first accumulation in the photodiode 2 of the first field and the signal charge obtained by the accumulation (first accumulation) in the photodiode 2 of the second field An image is generated using the video signal obtained by. And the first
The first accumulation in the photodiode 2 of the field,
The image of the high-luminance image portion of the generated image is replaced by using the image represented by the video signal based on the signal charges obtained by the second accumulation and the third accumulation. An image with good gradation can be generated without being saturated in an image part with high brightness.

【0043】図6は,CCD1への入射光量とその出力
信号との関係を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the amount of light incident on the CCD 1 and its output signal.

【0044】後から信号電荷が読み出される第2フィー
ルドのフォトダイオード2においては,上述したように
1回の信号電荷の蓄積しかできないから,しきい値L1
までの入射光Aiについては蓄積することができるが,
しきい値L1を越えた入射光Biの光が入射してもCC
D1からの映像信号としては得られない。映像信号とし
て得られるのはAoの部分のみである。このため,第1
フィールドのフォトダイオード2における信号電荷の蓄
積により得られたAoの部分の映像信号および第2フィ
ールドのフォトダイオード2における信号電荷の蓄積に
より得られたAoの部分の映像信号を用いて一駒の画像
が生成される。
In the photodiode 2 of the second field from which the signal charge is read out later, since the signal charge can be stored only once as described above, the threshold value L1
Incident light Ai up to can be accumulated,
Even if the incident light Bi that exceeds the threshold L1 is incident, CC
It cannot be obtained as a video signal from D1. Only the Ao part is obtained as a video signal. Therefore, the first
An image of one frame is formed by using the video signal of the Ao portion obtained by the accumulation of the signal charge in the photodiode 2 of the field and the video signal of the Ao portion obtained by the accumulation of the signal charge in the photodiode 2 of the second field. Is generated.

【0045】第1フィールドのフォトダイオード2にお
いては,上述したように3回の信号電荷の蓄積および垂
直転送路4へのシフトができるから,入射光量がしきい
値L1を越えてしきい値L2までは入射光量に対応した
信号電荷を蓄積することができる。したがって第1フィ
ールドにおいては,CCD1からはAoを越えてBoの
範囲の映像信号が得られる。第1フィールドのフォトダ
イオード2への蓄積は3回繰り返されるからBoの映像
信号の最大値は,Aoの映像信号の最大値の3倍とな
る。
In the photodiode 2 of the first field, since the signal charge can be accumulated and shifted to the vertical transfer path 4 three times as described above, the incident light quantity exceeds the threshold value L1 and the threshold value L2. Up to the signal charges corresponding to the amount of incident light can be stored. Therefore, in the first field, a video signal in the range of Bo exceeding Ao can be obtained from the CCD 1. Since the accumulation of the first field in the photodiode 2 is repeated three times, the maximum value of the Bo video signal is three times the maximum value of the Ao video signal.

【0046】図7は,CCD1の入射光量とガンマ補正
後の画像データとの関係を示している。
FIG. 7 shows the relationship between the amount of incident light on the CCD 1 and the image data after gamma correction.

【0047】ディジタル・スチル・カメラにおいては,
ガンマ補正が行われる。ガンマ補正を行った場合,上述
したように入射光量Aiまでは,ガンマ補正後の画像デ
ータが飽和しないようにガンマ補正回路が設定される。
しかしながら,しきい値L1を越えた入射光Biについ
ては飽和してしまう。このために,画像の高輝度部分は
鎖線で示すようにすべて白くなってしまう。
In a digital still camera,
Gamma correction is performed. When the gamma correction is performed, the gamma correction circuit is set so that the image data after the gamma correction is not saturated up to the incident light amount Ai as described above.
However, the incident light Bi that exceeds the threshold L1 is saturated. For this reason, the high-intensity part of the image is all white as shown by the chain line.

【0048】第1フィールドのフォトダイオード2への
信号電荷の蓄積が3回繰り返し行うことができることか
ら,しきい値L1を越えた入射光Biを利用できる。入
射光Biの部分にもとづいて得られる画像データが,生
成された1駒の画像を表す画像データのうち対応する部
分の画像データに置き換えられる,図7に実線で示すよ
うに,高輝度部分についても比較的正確に明るさが表示
されている画像が得られるようになる。
Since the signal charges can be repeatedly stored in the photodiode 2 of the first field three times, the incident light Bi exceeding the threshold value L1 can be used. The image data obtained based on the portion of the incident light Bi is replaced with the image data of the corresponding portion of the image data representing the generated image of one frame. As shown by the solid line in FIG. An image in which the brightness is displayed relatively accurately can be obtained.

【0049】図8は,ディジタル・スチル・カメラの電
気的構成の一部を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a part of the electrical construction of the digital still camera.

【0050】ディジタル・スチル・カメラは,CPU10
によって全体の動作が統括される。
The digital still camera has a CPU 10
The whole operation is controlled by.

【0051】機械シャッタ11が設けられており,この機
械シャッタ11によりCCD1への露光が制御される。機
械シャッタ11は,シャッタ制御回路12により開閉が制御
される。
A mechanical shutter 11 is provided, and the mechanical shutter 11 controls the exposure of the CCD 1. The opening and closing of the mechanical shutter 11 is controlled by the shutter control circuit 12.

【0052】CCD1は,駆動回路9から与えられる各
種パルスにもとづいて上述のようにインターレース読み
出しされるように駆動される。CCD1から出力された
映像信号は,アナログ/ディジタル変換回路13において
ディジタル画像データに変換される。ディジタル画像デ
ータは,信号処理回路14に入力する。
The CCD 1 is driven on the basis of various pulses given from the driving circuit 9 so that the interlaced reading is performed as described above. The video signal output from the CCD 1 is converted into digital image data in the analog / digital conversion circuit 13. The digital image data is input to the signal processing circuit 14.

【0053】信号処理回路14は,上述したように第1フ
ィールドおよび第2フィールドのそれぞれの画像データ
から一駒の画像を表す画像データの生成,ガンマ補正,
生成された画像データのうち高輝度部分を表すものにつ
いては上述のようにして得られたしきい値L1以上の入
射光により得られる高輝度画像データへの置き換えなど
の各処理を行うものである。信号処理回路14から信号処
理された画像データが出力される。
As described above, the signal processing circuit 14 generates image data representing one frame of image from the image data of the first field and the image data of the second field, gamma correction,
For the generated image data representing the high-intensity part, each process such as replacement with high-intensity image data obtained by the incident light having the threshold value L1 or more obtained as described above is performed. . The signal-processed image data is output from the signal processing circuit 14.

【0054】信号処理回路14から出力された画像データ
によって表される画像は高輝度部分について白く飽和す
ることなく比較的正確に明るさが表示されるものとな
る。
In the image represented by the image data output from the signal processing circuit 14, the brightness of the high-luminance portion is displayed relatively accurately without being saturated in white.

【0055】上述した実施例においては,二次元のCC
Dについて説明したが,ライン・センサにも適用するこ
とができる。
In the above embodiment, the two-dimensional CC
Although D has been described, it can be applied to a line sensor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】CCDの構成を示している。FIG. 1 shows the configuration of a CCD.

【図2】1画素領域を示している。FIG. 2 shows one pixel area.

【図3】(A)から(F)は,フォトダイオードへの信
号電荷の蓄積と垂直転送路へのシフトを複数回繰り返す
様子を示している。
3A to 3F show a state in which the accumulation of signal charges in a photodiode and the shift to a vertical transfer path are repeated a plurality of times.

【図4】信号電荷の垂直転送路へのシフトおよび転送を
示すポテンシャル・プロファイルである。
FIG. 4 is a potential profile showing shift and transfer of signal charges to a vertical transfer path.

【図5】CCDに与えられる各種パルスを示すタイム・
チャートである。
FIG. 5 is a time chart showing various pulses given to a CCD.
It is a chart.

【図6】CCD入射光量とCCD出力との関係を示すグ
ラフである。
FIG. 6 is a graph showing a relationship between a CCD incident light amount and a CCD output.

【図7】CCD入射光量とガンマ補正後の画像データと
の関係を示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing a relationship between a CCD incident light amount and image data after gamma correction.

【図8】ディジタル・スチル・カメラの電気的構成の一
部を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a part of an electrical configuration of a digital still camera.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 CCD 2 フォトダイオード 3 シフト・ゲート 4 垂直転送路 5 1画素領域 9 駆動回路 10 CPU 11 機械シャッタ 14 信号処理回路 V1,V2,V3 垂直転送電極 1 CCD 2 photodiode 3 shift gates 4 Vertical transfer path 5 1 pixel area 9 drive circuit 10 CPU 11 Mechanical shutter 14 Signal processing circuit V1, V2, V3 Vertical transfer electrodes

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4M118 AA10 AB01 BA10 CA03 DB01 DB03 DB07 DB09 FA06 FA08 FA17 5C024 CX47 CX55 GX03 GY04 HX29 HX50 5C051 AA01 BA03 DA02 DB01 DB04 DB07 DC02 DC03 DC07 DE03   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4M118 AA10 AB01 BA10 CA03 DB01                       DB03 DB07 DB09 FA06 FA08                       FA17                 5C024 CX47 CX55 GX03 GY04 HX29                       HX50                 5C051 AA01 BA03 DA02 DB01 DB04                       DB07 DC02 DC03 DC07 DE03

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入射光量に応じた電荷量の信号電荷を蓄
積する多数の光電変換素子,上記光電変換素子に隣接
し,かつ転送電極に転送パルスが与えられることにより
電位井戸が形成され,形成された電位井戸により上記信
号電荷を転送する転送路,およびシフト・パルスが与え
られることにより上記光電変換素子に蓄積された信号電
荷を上記転送路にシフトする転送ゲートを備え,上記光
電変換素子の受光面積が上記転送電極の面積未満であ
る,固体電子撮像素子。
1. A large number of photoelectric conversion elements for accumulating a signal charge of an amount of electric charge according to the amount of incident light, a potential well is formed by being provided with a transfer pulse adjacent to the photoelectric conversion element and being applied to a transfer electrode. A transfer path for transferring the signal charge by the potential well formed and a transfer gate for shifting the signal charge accumulated in the photoelectric conversion element to the transfer path by applying a shift pulse to the transfer path. A solid-state electronic image sensor having a light-receiving area less than the area of the transfer electrode.
【請求項2】 請求項1に記載の固体電子撮像素子,お
よび上記転送路に上記転送パルスを与える駆動回路を備
え,上記転送ゲートにシフト・パルスが与えられること
により,上記光電変換素子に蓄積された信号電荷を上記
転送路にシフトするときに生じる上記電位井戸の容量が
上記光電変換素子の蓄積容量より大きくなるように上記
光電変換素子に対応する上記転送電極の面積および上記
転送パルスのレベルが決定されている,固体電子撮像装
置。
2. The solid-state electronic image pickup device according to claim 1, and a drive circuit for applying the transfer pulse to the transfer path, wherein a shift pulse is applied to the transfer gate to accumulate in the photoelectric conversion device. The area of the transfer electrode corresponding to the photoelectric conversion element and the level of the transfer pulse so that the capacity of the potential well generated when the stored signal charge is shifted to the transfer path becomes larger than the storage capacity of the photoelectric conversion element. Solid-state electronic imaging device that has been decided.
【請求項3】 上記固体電子撮像素子は,上記光電変換
素子が行方向および列方向に多数配列されているもので
あり,上記転送路は,上記光電変換素子の各列に隣接し
て配列されているものであり,第1フィールドおよび第
2フィールドの上記光電変換素子の蓄積容量に対応した
信号電荷にもとづいて1駒の画像を生成する画像生成手
段,および第1フィールドの信号電荷の読み出し時に
は,奇数行の転送ゲートにシフト・パルスが与えられ,
第2フィールドの信号電荷の読み出し時には,偶数行の
転送ゲートにシフト・パルスが与えられ,第1フィール
ドの信号電荷読み出しおよび第2フィールドの信号電荷
の読み出しのうち先に読み出された一方のフィールドに
おいては,上記電位井戸の容量と上記光電変換素子の蓄
積容量との比率にもとづいて上記シフト・パルスのタイ
ミングが決定されものであり,上記光電変換素子の蓄積
容量以上に得られる信号電荷を用いて上記画像生成手段
により生成された画像の明るさ調整を行う明るさ調整手
段,をさらに備えた請求項2に記載の固体電子撮像装
置。
3. The solid-state electronic image pickup device, wherein a large number of the photoelectric conversion elements are arranged in a row direction and a column direction, and the transfer path is arranged adjacent to each column of the photoelectric conversion elements. Image generating means for generating an image of one frame based on the signal charges corresponding to the storage capacities of the photoelectric conversion elements in the first field and the second field, and when reading the signal charges in the first field, A shift pulse is applied to the transfer gates in odd rows,
At the time of reading the signal charge of the second field, a shift pulse is applied to the transfer gates of the even-numbered rows, and one of the signal charge read of the first field and the signal charge read of the second field is read first. , The timing of the shift pulse is determined based on the ratio of the capacity of the potential well to the storage capacity of the photoelectric conversion element, and the signal charge obtained above the storage capacity of the photoelectric conversion element is used. 3. The solid-state electronic imaging device according to claim 2, further comprising brightness adjusting means for adjusting the brightness of the image generated by the image generating means.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006086845A (en) * 2004-09-16 2006-03-30 Sony Corp Camera system and method for driving solid-state image sensor

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