JP2003197654A - Method of manufacturing semiconductor device and manufacturing apparatus - Google Patents

Method of manufacturing semiconductor device and manufacturing apparatus

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JP2003197654A
JP2003197654A JP2001400235A JP2001400235A JP2003197654A JP 2003197654 A JP2003197654 A JP 2003197654A JP 2001400235 A JP2001400235 A JP 2001400235A JP 2001400235 A JP2001400235 A JP 2001400235A JP 2003197654 A JP2003197654 A JP 2003197654A
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JP
Japan
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semiconductor device
manufacturing
needle
tape
resin
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JP2001400235A
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Masanori Sato
正徳 佐藤
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce product failures in a sealing step of a semiconductor chip. <P>SOLUTION: A method of manufacturing a semiconductor device includes the sealing of at least a part of a semiconductor chip 18. The sealing is performed by dropping resin 30 from the tip of a needle 42. At least a part of an excessive drop 32 remaining on the tip of the needle 42 is forcibly removed. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
方法及び製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device manufacturing method and manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【発明の背景】半導体装置の製造方法において、テープ
に複数の半導体チップを実装し、各半導体チップをポッ
ティングによって樹脂封止することが知られている。こ
の工程では、液状の樹脂の量をディスペンサによって調
整し、ニードルから樹脂を滴下する。複数の半導体チッ
プを封止する場合には、例えば、テープをニードルに対
して相対的に搬送させながら、各半導体チップを連続的
に封止する。
BACKGROUND OF THE INVENTION In a method of manufacturing a semiconductor device, it is known that a plurality of semiconductor chips are mounted on a tape and each semiconductor chip is sealed with a resin by potting. In this step, the amount of liquid resin is adjusted with a dispenser, and the resin is dropped from a needle. When sealing a plurality of semiconductor chips, for example, the semiconductor chips are continuously sealed while the tape is conveyed relative to the needle.

【0003】しかしながら、従来、ポッティング工程に
おいて、ニードルから封止領域以外の領域に樹脂が垂れ
ることがあった。例えば、半導体チップが実装されない
不良部が連続する場合に、不良部には樹脂を設ける必要
がないので、樹脂の滴下間隔が空いてしまい、その間に
ニードルの先端に溜まった樹脂が垂れることがあった。
ニードルからの樹脂垂れは、ディスペンサによる制御の
みでは防止することができなかった。
However, conventionally, in the potting process, the resin sometimes dripped from the needle to a region other than the sealing region. For example, when there are a series of defective parts on which semiconductor chips are not mounted, it is not necessary to provide resin on the defective parts, so there is a gap between the resin drops, and the resin that collects at the tip of the needle may drop during that interval. It was
The resin dripping from the needle could not be prevented only by controlling the dispenser.

【0004】本発明は、上述した課題を解決するための
ものであり、その目的は、半導体チップの封止工程にお
いて製品の不良を少なくすることにある。
The present invention is intended to solve the above-mentioned problems, and an object thereof is to reduce defective products in a semiconductor chip sealing process.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】(1)本発明に係る半導
体装置の製造方法は、ニードルの先端から樹脂を滴下す
ることによって、半導体チップの少なくとも一部を封止
することを含み、前記ニードルの先端に溜まる余滴の少
なくとも一部を強制的に除去する。
(1) A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes sealing at least a part of a semiconductor chip by dropping resin from a tip of the needle, Forced removal of at least a portion of the extra droplets that collect at the tip of the.

【0006】本発明によれば、ニードルの先端から樹脂
を滴下するときに、滴下前後に、ニードルの先端に溜ま
る余滴の少なくとも一部を強制的に除去する。そのた
め、余滴が溜まり過ぎて、製品に垂れてしまうのを防止
できる。また、余滴の量を少なくすることができるの
で、封止する樹脂量が必要以上に多くなるのを防止でき
る。したがって、製品の不良を少なくすることができ
る。
According to the present invention, at the time of dropping the resin from the tip of the needle, at least a part of the extra droplets accumulated at the tip of the needle is forcibly removed before and after the dropping. Therefore, it is possible to prevent the excessive drops from accumulating and dropping onto the product. Moreover, since the amount of the extra drops can be reduced, it is possible to prevent the amount of resin to be sealed from unnecessarily increasing. Therefore, product defects can be reduced.

【0007】(2)この半導体装置の製造方法におい
て、前記封止工程の前に、複数の前記半導体チップをテ
ープに実装し、前記封止工程で、前記テープをリール・
トゥ・リール搬送してもよい。
(2) In this method of manufacturing a semiconductor device, a plurality of the semiconductor chips are mounted on a tape before the sealing step, and the tape is reeled in the sealing step.
It may be conveyed to the reel.

【0008】これによれば、複数の半導体チップを流れ
作業で封止できるので、生産効率を向上させることがで
きる。
According to this, since a plurality of semiconductor chips can be sealed by a flow operation, the production efficiency can be improved.

【0009】(3)この半導体装置の製造方法におい
て、前記封止工程で、前記テープが搬送される第1のエ
リアと、前記テープとは離れた位置の第2のエリアとの
間で、前記ニードルを往復移動させ、前記往復移動の途
中において、前記余滴の少なくとも一部を強制的に除去
してもよい。
(3) In this method of manufacturing a semiconductor device, in the encapsulating step, the tape is conveyed between a first area where the tape is conveyed and a second area which is apart from the tape. The needle may be moved back and forth, and at least a part of the residual droplet may be forcibly removed during the reciprocation.

【0010】これによれば、必要に応じて、ニードルを
第2のエリアに待機させて、製品に樹脂が垂れるのをよ
り確実に防止することができる。
According to this, it is possible to more reliably prevent the resin from dripping on the product by making the needle stand by in the second area, if necessary.

【0011】(4)この半導体装置の製造方法におい
て、前記テープは、前記半導体チップが実装されない複
数の不良部を有し、前記封止工程で、前記不良部が連続
して通過する間に、前記ニードルの前記往復移動を行っ
てもよい。
(4) In this method of manufacturing a semiconductor device, the tape has a plurality of defective portions on which the semiconductor chips are not mounted, and in the sealing step, while the defective portions continuously pass, The reciprocating movement of the needle may be performed.

【0012】(5)この半導体装置の製造方法におい
て、前記余滴に部材を接触させることによって、前記余
滴の少なくとも一部を前記部材に転写させてもよい。
(5) In this method of manufacturing a semiconductor device, at least a part of the extra drops may be transferred to the member by contacting the extra drops with a member.

【0013】これによれば、部材を接触させるだけで済
むので工程が簡単である。また、ニードルから除去した
余滴は部材に転写されるので、余滴の処理が簡単であ
る。
According to this, the process is simple because it is only necessary to bring the members into contact with each other. Further, since the residual drops removed from the needle are transferred to the member, the processing of the residual drops is easy.

【0014】(6)この半導体装置の製造方法におい
て、前記余滴に部材を接触させることによって、前記余
滴の少なくとも一部を落としてもよい。
(6) In this method of manufacturing a semiconductor device, at least a part of the extra drops may be dropped by bringing a member into contact with the extra drops.

【0015】これによれば、部材を接触させるだけで済
むので工程が簡単である。
According to this, the process is simple because it is sufficient to bring the members into contact with each other.

【0016】(7)この半導体装置の製造方法におい
て、前記部材は、面を有する板状部材であり、前記ニー
ドルの先端を、前記板状部材に対して相対的に、前記面
の上方を通過させることによって、前記余滴の少なくと
も一部を前記面に転写させてもよい。
(7) In this method of manufacturing a semiconductor device, the member is a plate-shaped member having a surface, and the tip of the needle passes above the surface relative to the plate-shaped member. By doing so, at least a part of the extra droplets may be transferred to the surface.

【0017】(8)この半導体装置の製造方法におい
て、前記部材は、糸状部材であり、前記ニードルの先端
を、前記糸状部材に対して相対的に、前記糸状部材の直
線に交差する方向に移動することによって、前記余滴の
一部に前記糸状部材を接触させてもよい。
(8) In this method of manufacturing a semiconductor device, the member is a thread member, and the tip of the needle is moved relative to the thread member in a direction intersecting a straight line of the thread member. By doing so, the filamentous member may be brought into contact with a part of the residual droplet.

【0018】(9)この半導体装置の製造方法におい
て、前記余滴に気体を噴射することによって、前記余滴
の少なくとも一部を落としてもよい。
(9) In this method of manufacturing a semiconductor device, at least a part of the extra drops may be dropped by injecting gas into the extra drops.

【0019】(10)この半導体装置の製造方法におい
て、前記ニードルを振動させることによって、前記余滴
の少なくとも一部を落としてもよい。
(10) In this method of manufacturing a semiconductor device, at least a part of the extra droplet may be dropped by vibrating the needle.

【0020】(11)本発明に係る半導体装置の製造装
置は、ニードルの先端から樹脂を滴下し、半導体チップ
の少なくとも一部を封止する樹脂供給部と、前記ニード
ルの先端に溜まる余滴の少なくとも一部を強制的に除去
する樹脂除去手段と、を含む。
(11) In the semiconductor device manufacturing apparatus according to the present invention, at least the resin supply portion for dropping the resin from the tip of the needle to seal at least a part of the semiconductor chip and the residual droplets accumulated at the tip of the needle. A resin removing means for forcibly removing a part thereof.

【0021】本発明によれば、ニードルの先端から樹脂
を滴下するときに、滴下前後に、ニードルの先端に溜ま
る余滴の少なくとも一部を強制的に除去することができ
る。そのため、余滴が溜まり過ぎて、製品に垂れてしま
うのを防止できる。また、余滴の量を少なくすることが
できるので、封止する樹脂量が必要以上に多くなるのを
防止できる。したがって、製品の不良を少なくすること
ができる。
According to the present invention, when the resin is dropped from the tip of the needle, at least a part of the extra droplets accumulated at the tip of the needle can be forcibly removed before and after the dropping. Therefore, it is possible to prevent the excessive drops from accumulating and dropping onto the product. Moreover, since the amount of the extra drops can be reduced, it is possible to prevent the amount of resin to be sealed from unnecessarily increasing. Therefore, product defects can be reduced.

【0022】(12)この半導体装置の製造装置におい
て、複数の前記半導体チップはテープに実装されてな
り、前記テープをリール・トゥ・リール搬送するテープ
搬送部をさらに含んでもよい。
(12) In this semiconductor device manufacturing apparatus, the plurality of semiconductor chips may be mounted on a tape, and the tape manufacturing apparatus may further include a tape carrying section for carrying the tape reel-to-reel.

【0023】これによれば、複数の半導体チップを流れ
作業で封止できるので、生産効率を向上させることがで
きる。
According to this, since a plurality of semiconductor chips can be sealed by a flow operation, the production efficiency can be improved.

【0024】(13)この半導体装置の製造装置におい
て、前記テープ搬送部が配置された第1のエリアと、前
記テープ搬送部とは離れて配置された第2のエリアと、
をさらに含み、前記樹脂供給部は、前記第1及び第2の
エリアの間で往復移動可能であり、前記樹脂除去手段
は、前記第1及び第2のエリアの間に配置されてもよ
い。
(13) In this semiconductor device manufacturing apparatus, a first area in which the tape transport section is arranged and a second area in which the tape transport section is separated from each other,
Further, the resin supply unit may be capable of reciprocating between the first and second areas, and the resin removing unit may be disposed between the first and second areas.

【0025】これによれば、必要に応じて、ニードルを
第2のエリアに待機させて、製品に樹脂が垂れるのをよ
り確実に防止することができる。
According to this, it is possible to more reliably prevent the resin from dripping on the product by making the needle stand by in the second area, if necessary.

【0026】(14)この半導体装置の製造装置におい
て、前記テープは、前記半導体チップが実装されない複
数の不良部を有し、前記樹脂供給部は、前記テープ搬送
部で前記不良部が連続して通過する間に、前記往復移動
を行ってもよい。
(14) In this semiconductor device manufacturing apparatus, the tape has a plurality of defective portions on which the semiconductor chips are not mounted, and the resin supply portion is such that the defective portions are continuous in the tape transport portion. The reciprocating movement may be performed during passage.

【0027】(15)この半導体装置の製造装置におい
て、前記樹脂除去手段は、前記余滴に接触させる部材を
有し、前記部材によって、前記余滴の少なくとも一部を
転写させてもよい。
(15) In this semiconductor device manufacturing apparatus, the resin removing means may include a member that comes into contact with the residual droplet, and at least part of the residual droplet may be transferred by the member.

【0028】これによれば、部材を接触させるだけで済
むので工程が簡単である。また、ニードルから除去した
余滴は部材に転写されるので、余滴の処理が簡単であ
る。
According to this, the process is simple because it is only necessary to bring the members into contact with each other. Further, since the residual drops removed from the needle are transferred to the member, the processing of the residual drops is easy.

【0029】(16)この半導体装置の製造装置におい
て、前記樹脂除去手段は、前記余滴に接触させる部材を
有し、前記部材によって、前記余滴の少なくとも一部を
落としてもよい。
(16) In this semiconductor device manufacturing apparatus, the resin removing means may include a member that comes into contact with the residual droplet, and at least a part of the residual droplet may be dropped by the member.

【0030】これによれば、部材を接触させるだけで済
むので工程が簡単である。
According to this, the process is simple since it is sufficient to bring the members into contact with each other.

【0031】(17)この半導体装置の製造装置におい
て、前記部材は、面を有する板状部材であり、前記樹脂
除去手段は、前記ニードルの先端を、前記板状部材に対
して相対的に、前記面の上方を通過させることによっ
て、前記余滴の少なくとも一部を前記面に転写させても
よい。
(17) In this semiconductor device manufacturing apparatus, the member is a plate-shaped member having a surface, and the resin removing means causes the tip of the needle to move relatively to the plate-shaped member. At least a portion of the extra drops may be transferred to the surface by passing over the surface.

【0032】(18)この半導体装置の製造装置におい
て、前記部材は、糸状部材であり、前記樹脂除去手段
は、前記ニードルの先端を、前記糸状部材に対して相対
的に、前記糸状部材の直線に交差する方向に移動するこ
とによって、前記余滴の一部に前記糸状部材を接触させ
てもよい。
(18) In this semiconductor device manufacturing apparatus, the member is a thread-like member, and the resin removing means linearly moves the tip of the needle relative to the thread-like member. The filamentous member may be brought into contact with a part of the extra droplet by moving in a direction intersecting with.

【0033】(19)この半導体装置の製造装置におい
て、前記樹脂除去手段は、前記余滴に気体を噴射するこ
とによって、前記余滴の少なくとも一部を落としてもよ
い。
(19) In this semiconductor device manufacturing apparatus, the resin removing means may drop at least a part of the extra droplets by injecting a gas into the extra droplets.

【0034】(20)この半導体装置の製造装置におい
て、前記樹脂除去手段は、前記ニードルを振動させるこ
とによって、前記余滴の少なくとも一部を落としてもよ
い。
(20) In this semiconductor device manufacturing apparatus, the resin removing means may drop at least a part of the residual droplet by vibrating the needle.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の
実施の形態に限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

【0036】(第1の実施の形態)図1は、本実施の形
態で使用されるテープ(例えばTABテープ)の概略図
である。図1では、半導体チップ18がボンディング
(例えばILB;Inner LeadBonding)されたテープ1
0が示されている。
(First Embodiment) FIG. 1 is a schematic view of a tape (for example, a TAB tape) used in this embodiment. In FIG. 1, a tape 1 on which a semiconductor chip 18 is bonded (eg, ILB; Inner Lead Bonding)
0 is shown.

【0037】テープ10は、基板(ベース基板)11を
有する。基板11の材料として、有機系又は無機系のい
ずれの材料であってもよく、これらの複合構造からなる
ものであってもよい。有機系の材料から形成された基板
11として、例えばポリイミド樹脂からなるフレキシブ
ル基板が挙げられる。フレキシブル基板として、FPC
(Flexible Printed Circuit)や、TAB(Tape Autom
ated Bonding)技術で使用されるテープを使用してもよ
い。
The tape 10 has a substrate (base substrate) 11. The material of the substrate 11 may be either an organic material or an inorganic material, or a composite structure of these materials. As the substrate 11 formed of an organic material, for example, a flexible substrate made of polyimide resin can be used. FPC as a flexible substrate
(Flexible Printed Circuit) and TAB (Tape Autom
Tapes used in ated Bonding technology may be used.

【0038】図1に示す基板11は、長尺状をなし、端
部に複数のスプロケットホール12が形成されている。
スプロケットホール12にスプロケット(図示せず)を
はめ合わせて、基板11又はテープ10のリール・トゥ
・リール搬送が可能になっている。
The substrate 11 shown in FIG. 1 has a long shape and has a plurality of sprocket holes 12 formed at the ends thereof.
A sprocket (not shown) is fitted in the sprocket hole 12 so that the substrate 11 or the tape 10 can be conveyed reel-to-reel.

【0039】基板11には、穴14が形成されている。
TABテープでは、穴14はデバイスホールと呼ばれ
る。穴14の内側には、半導体チップ18が配置され
る。穴14は、半導体チップ18の外形よりもわずかに
大きく形成することが好ましい。
A hole 14 is formed in the substrate 11.
In the TAB tape, the holes 14 are called device holes. A semiconductor chip 18 is arranged inside the hole 14. The hole 14 is preferably formed slightly larger than the outer shape of the semiconductor chip 18.

【0040】半導体チップ18の平面形状は一般的には
矩形である。半導体チップ18の一方の面に、複数の電
極19(図2参照)が形成されている。電極19は、半
導体チップ18の面の少なくとも1辺(多くの場合、2
辺又は4辺)に沿って並んでいる。また、電極19は、
半導体チップ18の面の端部に並んでいる場合と、中央
部に並んでいる場合がある。各電極19は、アルミニウ
ムなどで薄く平らに形成されたパッドと、その上に形成
されたバンプと、からなることが多い。バンプが形成さ
れない場合は、パッドのみが電極19となる。電極19
の少なくとも一部を避けて半導体チップ18には、パッ
シベーション膜(図示しない)が形成されている。パッ
シベーション膜は、例えば、SiO2、SiN、ポリイ
ミド樹脂などで形成することができる。
The plane shape of the semiconductor chip 18 is generally rectangular. A plurality of electrodes 19 (see FIG. 2) are formed on one surface of the semiconductor chip 18. The electrode 19 has at least one side of the surface of the semiconductor chip 18 (in many cases, 2
(4 sides). In addition, the electrode 19 is
There are cases where they are lined up at the ends of the surface of the semiconductor chip 18 and cases where they line up at the center. Each electrode 19 is often composed of a thin and flat pad made of aluminum or the like, and a bump formed on the pad. When no bump is formed, only the pad serves as the electrode 19. Electrode 19
A passivation film (not shown) is formed on the semiconductor chip 18 while avoiding at least a part of the above. The passivation film can be formed of, for example, SiO 2 , SiN, polyimide resin, or the like.

【0041】基板11には、少なくとも1つ(1つでも
よいが図1では複数)のアウターリードホール16を形
成してもよい。アウターリードホール16は、半導体チ
ップ18の配置位置の周囲に形成される。例えば、穴1
4が矩形をなす場合に、矩形の各辺に平行に延びる長穴
のアウターリード16を形成してもよい。アウターリー
ドホール16上をまたいでリード20を形成し、リード
20におけるアウターリードホール16上の部分を外部
端子(アウターリード24)として使用することができ
る。
At least one outer lead hole 16 may be formed in the substrate 11 (a plurality of outer lead holes 16 may be provided in FIG. 1). The outer lead hole 16 is formed around the arrangement position of the semiconductor chip 18. For example, hole 1
When 4 is rectangular, outer leads 16 may be formed as elongated holes extending in parallel with each side of the rectangle. The lead 20 can be formed so as to extend over the outer lead hole 16, and the portion of the lead 20 on the outer lead hole 16 can be used as an external terminal (outer lead 24).

【0042】基板11には、外部端子となる部分を有す
るリード20が形成されている。リード20は、図2に
示すように半導体チップ18の電極19と接合される部
分(例えばインナーリード22)と、図1に示すように
外部端子となる部分(例えばアウターリード24)と、
を有し、両者が接続されている。なお、インナーリード
22は穴14の内側に突出している。また、リード20
をアウターリード24よりもさらに延長して、テストパ
ッドを設けてよい。
Leads 20 having portions to be external terminals are formed on the substrate 11. The lead 20 has a portion (for example, an inner lead 22) joined to the electrode 19 of the semiconductor chip 18 as shown in FIG. 2, and a portion that serves as an external terminal as shown in FIG. 1 (for example, an outer lead 24).
And both are connected. The inner lead 22 projects inside the hole 14. Also, the lead 20
May be extended further than the outer lead 24 to provide a test pad.

【0043】リード20は、銅(Cu)、クローム(C
r)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、チタンタン
グステン(Ti−W)、金(Au)、アルミニウム(A
l)、ニッケルバナジウム(NiV)、タングステン
(W)のうちのいずれかを積層して、あるいはいずれか
の一層で形成することができる。リード20が接着材料
(図示せず)を介して基板に貼り付けられて、3層基板
(又は3層テープ)を構成してもよい。この場合、フォ
トリソグラフィを適用した後にエッチングしてリード2
0を形成する。あるいは、リード20を、接着剤なしで
基板に形成して2層基板(2層テープ)を構成してもよ
い。例えば、スパッタリング等によってリード20を形
成してもよいし、無電解メッキでリード20を形成する
アディティブ法を適用してもよい。
The lead 20 is made of copper (Cu), chrome (C).
r), titanium (Ti), nickel (Ni), titanium tungsten (Ti-W), gold (Au), aluminum (A
l), nickel vanadium (NiV), or tungsten (W) may be laminated or formed in any one layer. The lead 20 may be attached to the substrate via an adhesive material (not shown) to form a three-layer substrate (or three-layer tape). In this case, after applying photolithography, the lead 2 is etched.
Form 0. Alternatively, the leads 20 may be formed on the substrate without an adhesive to form a two-layer substrate (two-layer tape). For example, the lead 20 may be formed by sputtering or the additive method of forming the lead 20 by electroless plating may be applied.

【0044】リード20は、ハンダ、スズ、金、ニッケ
ルなどでメッキされていることが好ましい。共晶が作ら
れるような金属メッキが施されていると、金属接合が達
成されやすくて好ましい。リード20には、他の導電部
材(例えば半導体チップ18の電極19)との接合部に
バンプが形成されていてもよい。リード20の一部は、
ラインとなる部分よりも面積の大きいランドとなってい
てもよい。このランドは電気的接続部を十分に確保する
機能を有する。
The lead 20 is preferably plated with solder, tin, gold, nickel or the like. It is preferable that the metal plating is performed so that a eutectic crystal is formed because metal bonding can be easily achieved. A bump may be formed on the lead 20 at a joint with another conductive member (for example, the electrode 19 of the semiconductor chip 18). Some of the leads 20
The land may have a larger area than the line portion. This land has a function of sufficiently securing an electrical connection portion.

【0045】本実施の形態では、図1に示すテープ10
(複数の半導体チップ18が実装されている)を用意
し、半導体チップの封止工程を行う。本実施の形態に係
る製造装置は、樹脂供給部40と、テープ搬送部50
と、樹脂除去手段と、を含む。
In the present embodiment, the tape 10 shown in FIG.
(A plurality of semiconductor chips 18 are mounted) is prepared, and a semiconductor chip sealing step is performed. The manufacturing apparatus according to the present embodiment includes a resin supply unit 40 and a tape transport unit 50.
And a resin removing means.

【0046】図2に示すように、樹脂供給部40は、ニ
ードル(又はノズル)42を有し、ニードル42の先端
から液状(又はペースト状)の樹脂30を滴下すること
ができる。ニードル42の径は、樹脂30の粘度及び単
位時間当たりの滴下量などに応じて決められる。なお、
本実施の形態では、樹脂供給部40は、描画方式のポッ
ティングとして使用される。
As shown in FIG. 2, the resin supply unit 40 has a needle (or nozzle) 42, and the liquid (or paste) resin 30 can be dropped from the tip of the needle 42. The diameter of the needle 42 is determined according to the viscosity of the resin 30 and the amount dropped per unit time. In addition,
In the present embodiment, the resin supply unit 40 is used as a drawing type potting.

【0047】樹脂供給部40は、搬送されるテープ10
の面と平行な仮想平面上に移動可能になっている。その
場合、樹脂供給部40は、テープ10の搬送方向と、そ
の搬送方向の直交方向と、に移動可能であってもよい。
例えば、制御ロボット(図示しない)によって、樹脂供
給部40を移動させてもよい。
The resin supply section 40 is used for the tape 10 to be conveyed.
It is possible to move on a virtual plane parallel to the plane. In that case, the resin supply unit 40 may be movable in the transport direction of the tape 10 and in a direction orthogonal to the transport direction.
For example, the resin supply unit 40 may be moved by a control robot (not shown).

【0048】樹脂供給部40は、ディスペンサ(図示し
ない)を含む。ディスペンサは、樹脂30に圧力を加え
て、ニードル40から樹脂30を押し出す。これによっ
て、樹脂30を過不足なく滴下することができる。ある
いは、ディスペンサは、樹脂30を吸引して、ニードル
40から樹脂30が滴下されないようにする構造を備え
てもよい。
The resin supply section 40 includes a dispenser (not shown). The dispenser applies pressure to the resin 30 to push the resin 30 out of the needle 40. Thereby, the resin 30 can be dripped without excess or deficiency. Alternatively, the dispenser may be provided with a structure that sucks the resin 30 and prevents the resin 30 from dropping from the needle 40.

【0049】図2に示すように、テープ搬送部50は、
テープ送出部52及びテープ巻取部54を含む。テープ
10を、テープ送出部52から送り出してテープ巻取部
54にて巻き取ることで、テープ10のリール・トゥ・
リール搬送が可能になっている。これによれば、複数の
半導体チップ18を流れ作業で処理(例えば封止)でき
るので、生産効率を向上させることができる。
As shown in FIG. 2, the tape transport unit 50 is
The tape feeding unit 52 and the tape winding unit 54 are included. By reeling out the tape 10 from the tape feeding section 52 and winding it by the tape winding section 54,
Reel transfer is possible. According to this, since the plurality of semiconductor chips 18 can be processed (for example, sealed) by a flow operation, the production efficiency can be improved.

【0050】図3に示すように、この製造装置は、第1
及び第2のエリア60、62を有する。第1のエリア6
0には、テープ10がリール・トゥ・リール搬送される
テープ搬送部50が配置される。第2のエリア62は、
テープ搬送部50とは離れて配置される。例えば、第2
のエリア62は、テープ10が搬送される方向から見て
左右方向(図3では右方向)に位置してもよい。樹脂供
給部40は、第1及び第2のエリア60、62の間を往
復移動できるようになっている。その場合、後述するよ
うに、樹脂供給部40は、テープ10の1つ又は複数の
不良部34が通過する間に往復移動を行ってもよい。こ
れによれば、必要に応じて、ニードル42を第2のエリ
ア62に待機させて、製品に樹脂30が垂れるのをより
確実に防止することができる。
As shown in FIG. 3, this manufacturing apparatus has a first
And second areas 60, 62. First area 6
At 0, a tape transport unit 50 for transporting the tape 10 reel-to-reel is arranged. The second area 62 is
It is arranged apart from the tape transport unit 50. For example, second
The area 62 may be located in the left-right direction (right direction in FIG. 3) when viewed from the direction in which the tape 10 is transported. The resin supply unit 40 can reciprocate between the first and second areas 60 and 62. In that case, as described below, the resin supply unit 40 may reciprocate while the one or more defective portions 34 of the tape 10 pass through. According to this, the needle 42 can be made to stand by in the 2nd area 62 as needed, and the resin 30 can be more certainly prevented from dripping on a product.

【0051】図4に示すように、樹脂除去手段(図4で
は部材70を含む)は、ニードル42の先端に溜まる余
滴32の少なくとも一部(全部又は一部)を強制的に除
去する。すなわち、樹脂供給部40の樹脂30を滴下す
るための制御(例えばディスペンサによる制御)とは別
手段によって余滴32を除去する。図3に示すように、
樹脂除去手段は、第1及び第2のエリア60、62の間
に配置されてもよい。こうすることで、樹脂供給部40
が第1及び第2のエリア60、62の間を往復移動する
間に、樹脂の余滴32を除去することができる。
As shown in FIG. 4, the resin removing means (including the member 70 in FIG. 4) forcibly removes at least a part (all or part) of the extra droplet 32 accumulated at the tip of the needle 42. That is, the extra drops 32 are removed by a means different from the control for dropping the resin 30 of the resin supply unit 40 (for example, control by the dispenser). As shown in FIG.
The resin removing means may be arranged between the first and second areas 60 and 62. By doing so, the resin supply unit 40
The resin drops 32 can be removed during the reciprocating movement between the first and second areas 60, 62.

【0052】樹脂除去手段は、部材(図3及び図4では
糸状部材70)を余滴32に接触させることによって、
余滴32の少なくとも一部を除去するものであってもよ
い。その場合、余滴32の少なくとも一部を、部材に転
写させてもよいし、ニードル42の先端から落としても
よい。転写させる場合には、余滴32を受け止める受け
皿がなくてもよいので、余滴32の処理が簡単である。
部材は、ニードル42の先端に非接触にすることが好ま
しい。これによって、ニードル42が折れ曲がったり、
余滴32が飛び散ったりするのを防止できる。
The resin removing means brings the member (the thread member 70 in FIGS. 3 and 4) into contact with the extra droplet 32,
It may be one that removes at least a part of the extra drops 32. In that case, at least a part of the extra droplet 32 may be transferred to the member or dropped from the tip of the needle 42. In the case of transferring, it is not necessary to have a tray for receiving the extra drops 32, and therefore the treatment of the extra drops 32 is simple.
The member is preferably not in contact with the tip of the needle 42. This causes the needle 42 to bend,
It is possible to prevent the extra drops 32 from scattering.

【0053】図3及び図4に示す例では、樹脂除去手段
は、糸状部材70を含む。糸状部材70とは、立体形状
が細長い形状の部材を指す。樹脂除去手段は、ニードル
42の先端を、糸状部材70に対して相対的に、糸状部
材70の直線に交差する方向に移動することによって、
余滴32の一部に糸状部材70を接触させてもよい。糸
状部材70は、金属線、プラスチック線又は糸などであ
ってもよい。いずれの材料であっても、その両端に引張
応力が加わっていることが好ましい。糸状部材70の径
は、ニードル42の先端に溜まる余滴32の長さ(重力
の加わる方向の長さ)よりも小さくてもよい。これによ
って、余滴32の一部を、糸状部材70を境界として分
割することができるので、余滴32の一部を確実に除去
することができる。
In the example shown in FIGS. 3 and 4, the resin removing means includes a thread member 70. The thread member 70 refers to a member having a three-dimensional elongated shape. The resin removing means moves the tip of the needle 42 relative to the thread member 70 in a direction intersecting a straight line of the thread member 70,
The filamentous member 70 may be brought into contact with part of the extra droplet 32. The thread member 70 may be a metal wire, a plastic wire, a thread, or the like. Regardless of which material is used, it is preferable that tensile stress is applied to both ends thereof. The diameter of the filamentous member 70 may be smaller than the length of the extra droplet 32 accumulated at the tip of the needle 42 (the length in the direction in which gravity is applied). As a result, a part of the extra drop 32 can be divided with the filamentous member 70 as a boundary, so that a part of the extra drop 32 can be reliably removed.

【0054】本実施の形態に係る半導体装置の製造装置
は、上述したように構成されており、以下、半導体装置
の製造方法について説明する。
The semiconductor device manufacturing apparatus according to this embodiment is configured as described above, and the semiconductor device manufacturing method will be described below.

【0055】図2に示すように、少なくとも1つ(一般
的には複数)の半導体チップ18が実装されたテープ1
0を用意し、このテープ10を、図2に示すテープ搬送
部50にセットする。詳しくは、テープ10を、テープ
送出部52及びテープ巻取部54に掛け渡して、リール
・トゥ・リール搬送できるようにする。なお、図3に示
すように、テープ10は、半導体チップ18が実装され
ない複数の不良部34を有する。
As shown in FIG. 2, a tape 1 on which at least one (generally a plurality of) semiconductor chips 18 are mounted.
0 is prepared, and the tape 10 is set in the tape transport unit 50 shown in FIG. More specifically, the tape 10 is stretched over the tape sending section 52 and the tape winding section 54 so that reel-to-reel transfer can be performed. Note that, as shown in FIG. 3, the tape 10 has a plurality of defective portions 34 on which the semiconductor chips 18 are not mounted.

【0056】そして、テープ10に樹脂30を滴下す
る。詳しくは、ポッティング法によって、樹脂30を半
導体チップ18に設ける。樹脂30は、樹脂供給部40
のニードル42の先端から滴下する。樹脂30によっ
て、半導体チップ18の一部の表面が封止されることが
一般的である。例えば、半導体チップ18の電極19が
形成された面を樹脂30によって覆う。また、樹脂30
によって、電極19とリード20(詳しくはインナーリ
ード22)との接合部を覆う。
Then, the resin 30 is dropped on the tape 10. Specifically, the resin 30 is provided on the semiconductor chip 18 by the potting method. The resin 30 is a resin supply unit 40.
It is dripped from the tip of the needle 42. The resin 30 generally seals a part of the surface of the semiconductor chip 18. For example, the surface of the semiconductor chip 18 on which the electrodes 19 are formed is covered with the resin 30. Also, the resin 30
Thus, the joint between the electrode 19 and the lead 20 (specifically, the inner lead 22) is covered.

【0057】リール・トゥ・リール搬送によって、複数
の半導体チップ18を連続的に封止する。図3に示すよ
うに、テープ10の1つ又は複数の不良部34が、樹脂
供給部40の下方を通過する間に、樹脂供給部40を第
2のエリア62に移動させてもよい。その場合、複数
(図3では3つ)の不良部34が連続する場合に樹脂供
給部40を移動させてもよい。こうして、樹脂供給部4
0を、テープ10の不良部34が通過する間、第2のエ
リア62で待機させ、半導体チップが実装された良部
(良品)36が通過する前に第1のエリア60に戻す。
なお、第2のエリア62には、樹脂供給部40からの樹
脂30を受け止めるための受け皿(図示しない)を配置
することが好ましい。
A plurality of semiconductor chips 18 are continuously sealed by reel-to-reel transfer. As shown in FIG. 3, the resin supply unit 40 may be moved to the second area 62 while the one or more defective portions 34 of the tape 10 pass below the resin supply unit 40. In that case, the resin supply unit 40 may be moved when a plurality of (three in FIG. 3) defective portions 34 are continuous. Thus, the resin supply unit 4
0 is made to stand by in the second area 62 while the defective portion 34 of the tape 10 passes, and is returned to the first area 60 before the good portion (non-defective product) 36 on which the semiconductor chip is mounted passes.
In the second area 62, a tray (not shown) for receiving the resin 30 from the resin supply unit 40 is preferably arranged.

【0058】樹脂供給部40が第1及び第2のエリア6
0、62間を往復移動する途中に、余滴32の少なくと
も一部を強制的に除去する。詳しくは、第1から第2の
エリア62に移動する間、第2から第1のエリア62に
移動する間、又はそれらの両方の間、のいずれかの間に
余滴32を除去する。その場合、樹脂供給部40を移動
させながら余滴32を除去してもよく、樹脂供給部40
を移動途中で一旦停止させて余滴32を除去してもよ
い。
The resin supply unit 40 is provided in the first and second areas 6
During the reciprocating movement between 0 and 62, at least a part of the extra droplet 32 is forcibly removed. Specifically, the drop 32 is removed during either the movement from the first to the second area 62, the movement from the second to the first area 62, or both. In that case, the residual droplet 32 may be removed while moving the resin supply unit 40.
May be temporarily stopped during the movement to remove the extra droplet 32.

【0059】例えば、図3に示すように、第1及び第2
のエリア60、62の間に糸状部材70を、樹脂供給部
40の移動方向に交差するように配置し、樹脂供給部4
0を糸状部材70に通過させることによって余滴32を
除去してもよい。その場合、糸状部材70は、その位置
を固定してもよいし、樹脂供給部40の移動方向とは反
対方向に移動させてもよい。
For example, as shown in FIG. 3, first and second
The filamentous member 70 is disposed between the areas 60 and 62 of the resin supply unit 40 so as to intersect with the moving direction of the resin supply unit 40.
The extra droplet 32 may be removed by passing 0 through the thread member 70. In that case, the thread member 70 may be fixed in its position, or may be moved in the direction opposite to the moving direction of the resin supply unit 40.

【0060】図4に示すように、余滴32の少なくとも
一部を、糸状部材70に転写してもよいし、あるいはニ
ードル42の先端から落としてもよい。なお、糸状部材
70の下方には、樹脂供給部40からの樹脂30を受け
止めるための受け皿(図示しない)を配置することが好
ましい。
As shown in FIG. 4, at least a part of the extra droplet 32 may be transferred to the thread member 70, or dropped from the tip of the needle 42. Note that it is preferable to arrange a tray (not shown) for receiving the resin 30 from the resin supply unit 40 below the thread member 70.

【0061】1つのテープ10をリール・トゥ・リール
搬送させる間に、余滴32を複数回除去してもよい。そ
の場合、糸状部材70をその直線方向に移動させること
によって、最初に余滴32が接触した部分とは異なる部
分に2度目の余滴32を接触させてもよい。
The extra drops 32 may be removed a plurality of times while one tape 10 is being conveyed reel-to-reel. In that case, the second drop 32 may be brought into contact with a part different from the part with which the drop 32 is first contacted by moving the filamentous member 70 in the linear direction.

【0062】また、余滴32の少なくとも一部を、第1
のエリア60で除去してもよい。その場合、糸状部材7
0を第1のエリア60に配置する。こうすることで、樹
脂供給部40を第2のエリア62に待機させない場合で
あっても、余滴32を除去することができる。あるい
は、樹脂供給部40を樹脂30の垂れを防止するため
に、第2のエリア62で待機させておく必要がなくな
る。
Further, at least a part of the extra droplet 32 is
It may be removed in the area 60. In that case, the thread member 7
0 is arranged in the first area 60. By doing so, even when the resin supply unit 40 is not allowed to stand by in the second area 62, the extra droplet 32 can be removed. Alternatively, it is not necessary to make the resin supply unit 40 stand by in the second area 62 in order to prevent the resin 30 from dripping.

【0063】あるいは、テープ10の半導体チップ18
を封止するごとに、余滴32を除去してもよい。これに
よって、半導体チップ18ごとの樹脂量を一定にするこ
とができる。したがって、それぞれの半導体装置の品質
を一定に保つことができる。
Alternatively, the semiconductor chip 18 of the tape 10
The extra droplet 32 may be removed each time the is sealed. Thereby, the amount of resin for each semiconductor chip 18 can be made constant. Therefore, the quality of each semiconductor device can be kept constant.

【0064】本実施の形態によれば、ニードル42の先
端から樹脂30を滴下するときに、滴下前後に、ニード
ル42の先端に溜まる余滴32の少なくとも一部を強制
的に除去する。そのため、余滴32が溜まり過ぎて、製
品(テープ10の完成品の部分)に垂れてしまうのを防
止できる。また、余滴32の量を少なくすることができ
るので、封止する樹脂量が必要以上に多くなるのを防止
できる。さらに、樹脂垂れ防止のために予備滴下する
(故意に滴下させる)のに比べて、樹脂30を無駄にせ
ずに済むので材料コストを抑えることができる。したが
って、製品の不良を少なくすることができる。
According to the present embodiment, at the time of dropping the resin 30 from the tip of the needle 42, at least a part of the extra droplet 32 accumulated at the tip of the needle 42 is forcibly removed before and after the dropping. Therefore, it is possible to prevent the excess drops 32 from being accumulated too much and dripping on the product (the finished product portion of the tape 10). Moreover, since the amount of the extra drops 32 can be reduced, it is possible to prevent the amount of resin to be sealed from unnecessarily increasing. Further, as compared with the case of pre-dripping (dripping intentionally) in order to prevent resin dripping, the resin 30 is not wasted, so that the material cost can be suppressed. Therefore, product defects can be reduced.

【0065】なお、上述の工程後、テープ10に設けた
樹脂30をキュア(プリキュア及びポストキュア)す
る。その他、TCP(Tape Carrier Package)の製造に
おいて周知の工程を行ってもよい。
After the above steps, the resin 30 provided on the tape 10 is cured (pre-cure and post-cure). In addition, well-known processes may be performed in manufacturing TCP (Tape Carrier Package).

【0066】(第2の実施の形態)図5は、本実施の形
態に係る半導体装置の製造方法及び製造装置を示す図で
ある。本実施の形態では、樹脂除去手段は、面82を有
する板状部材80を含む。
(Second Embodiment) FIG. 5 is a diagram showing a method and a device for manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment. In the present embodiment, the resin removing means includes the plate member 80 having the surface 82.

【0067】板状部材80は、金属板、プラスチック
板、セラミック板又はスポンジなどであってもよい。面
82は、余滴32を転写(塗布)できる大きさを有す
る。面82は平面であることが好ましいが曲面であって
も構わない。
The plate member 80 may be a metal plate, a plastic plate, a ceramic plate, a sponge or the like. The surface 82 is large enough to transfer (apply) the extra droplet 32. The surface 82 is preferably a flat surface, but may be a curved surface.

【0068】樹脂除去手段は、ニードル42の先端を、
板状部材80に対して相対的に、面82の上方を通過さ
せることによって、余滴32の少なくとも一部を面82
に転写させてもよい。その場合、ニードル42の先端を
面82に対して、非接触にすることが好ましい。板状部
材80の面82が平面である場合に、面82をニードル
42の移動方向に平行になるように配置してもよく、斜
めになるように配置してもよい。面82を斜めにして余
滴32に接触させる場合には、樹脂供給部40を余滴3
2が板状部材80に接触したときに停止させればよい。
The resin removing means uses the tip of the needle 42 as
By passing above the surface 82 relative to the plate-shaped member 80, at least a part of the extra droplet 32 is transferred to the surface 82.
May be transferred to. In that case, it is preferable that the tip of the needle 42 is not in contact with the surface 82. When the surface 82 of the plate member 80 is a flat surface, the surface 82 may be arranged parallel to the moving direction of the needle 42 or may be arranged obliquely. When the surface 82 is slanted and brought into contact with the extra droplet 32, the resin supply section 40 is set to the extra droplet 3
It may be stopped when the second member contacts the plate member 80.

【0069】なお、その他の構成及び効果は、第1の実
施の形態で説明した通りである。
The other configurations and effects are as described in the first embodiment.

【0070】(第3の実施の形態)図6は、本実施の形
態に係る半導体装置の製造方法及び製造装置を示す図で
ある。本実施の形態では、樹脂除去手段は、余滴32に
接触せずに、余滴32の少なくとも一部を落とす。
(Third Embodiment) FIG. 6 is a diagram showing a method and an apparatus for manufacturing a semiconductor device according to this embodiment. In the present embodiment, the resin removing unit drops at least a part of the extra droplet 32 without contacting the extra droplet 32.

【0071】図6に示すように、例えば、噴射器90で
気体(エアー又はガス)を噴射することによって、余滴
32の少なくとも一部を落としてもよい。その場合、樹
脂供給部40を停止させて気体を噴射してもよく、樹脂
供給部40を移動させながら気体を噴射してもよい。
As shown in FIG. 6, at least a part of the extra droplet 32 may be dropped by injecting a gas (air or gas) with the injector 90, for example. In that case, the resin supply unit 40 may be stopped and the gas may be injected, or the gas may be injected while the resin supply unit 40 is moved.

【0072】あるいは、ニードル42(樹脂供給部4
0)を振動させることによって、余滴32の少なくとも
一部を落としてもよい。例えば、樹脂供給部40を第1
のエリア60から移動して第2のエリア62において、
図示しない物体に衝突させることによってニードル42
を振動させてもよい。
Alternatively, the needle 42 (resin supply unit 4
At least a part of the extra drops 32 may be dropped by vibrating 0). For example, the resin supply unit 40
In the second area 62 after moving from the area 60 of
The needle 42 is caused by colliding with an object not shown.
May be vibrated.

【0073】なお、その他の構成及び効果は、第1の実
施の形態で説明した通りである。
The other configurations and effects are as described in the first embodiment.

【0074】図7は、上述の実施の形態に係る製造方法
によって製造された半導体装置が実装された回路基板を
示す図である。図7に示す半導体装置は、テープ10の
基板11から切断されてなる基板26と、基板26に設
けられたリード20と、半導体チップ18と、封止材と
しての樹脂30と、を有する。これらの詳細は、上述し
たとおりである。なお、リード20には、少なくとも基
板26にて支持された部分の表面が、保護膜28にて覆
われていることが好ましい。保護膜28として、例えば
ソルダーレジストが挙げられる。
FIG. 7 is a diagram showing a circuit board on which the semiconductor device manufactured by the manufacturing method according to the above-described embodiment is mounted. The semiconductor device shown in FIG. 7 includes a substrate 26 obtained by cutting the tape 11 from the substrate 11, leads 20 provided on the substrate 26, a semiconductor chip 18, and a resin 30 as a sealing material. These details are as described above. It is preferable that at least the surface of the lead 20 supported by the substrate 26 is covered with the protective film 28. Examples of the protective film 28 include solder resist.

【0075】回路基板100には例えばガラスエポキシ
基板等の有機系基板を用いることが一般的である。回路
基板100には例えば銅等からなる配線パターン102
が所望の回路となるように形成されていて、配線パター
ン102と半導体装置のアウターリード24とが接合さ
れている。
As the circuit board 100, it is general to use an organic substrate such as a glass epoxy substrate. The circuit board 100 has a wiring pattern 102 made of, for example, copper or the like.
Are formed so as to form a desired circuit, and the wiring pattern 102 and the outer leads 24 of the semiconductor device are joined.

【0076】そして、本発明を適用した半導体装置を有
する電子機器として、図8にはノート型パーソナルコン
ピュータ200、図9には携帯電話300が示されてい
る。
As an electronic device having a semiconductor device to which the present invention is applied, a notebook personal computer 200 is shown in FIG. 8 and a mobile phone 300 is shown in FIG.

【0077】本発明は、上述した実施の形態に限定され
るものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本
発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構
成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるい
は目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明
は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置
き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説
明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目
的を達成することができる構成を含む。また、本発明
は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構
成を含む。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, but various modifications can be made. For example, the present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations having the same function, method and result, or configurations having the same purpose and result). Further, the invention includes configurations in which non-essential parts of the configurations described in the embodiments are replaced. Further, the present invention includes a configuration having the same effects as the configurations described in the embodiments or a configuration capable of achieving the same object. Further, the invention includes configurations in which known techniques are added to the configurations described in the embodiments.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、第1の実施の形態で使用されるテープ
を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a tape used in a first embodiment.

【図2】図2は、第1の実施の形態に係る半導体装置の
製造方法及び製造装置を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a semiconductor device according to the first embodiment.

【図3】図3は、第1の実施の形態に係る半導体装置の
製造方法及び製造装置を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a semiconductor device according to the first embodiment.

【図4】図4は、第1の実施の形態に係る半導体装置の
製造方法及び製造装置を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a semiconductor device according to the first embodiment.

【図5】図5は、第2の実施の形態に係る半導体装置の
製造方法及び製造装置を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a semiconductor device according to a second embodiment.

【図6】図6は、第2の実施の形態に係る半導体装置の
製造方法及び製造装置を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a semiconductor device according to a second embodiment.

【図7】図7は、本発明を適用した実施の形態に係る回
路基板を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a circuit board according to an embodiment to which the present invention is applied.

【図8】図8は、本発明を適用した実施の形態に係る電
子機器を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an electronic device according to an embodiment to which the present invention is applied.

【図9】図9は、本発明を適用した実施の形態に係る電
子機器を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an electronic device according to an embodiment to which the present invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 テープ 18 半導体チップ 30 樹脂 32 余滴 34 不良部 40 樹脂供給部 42 ニードル 50 テープ搬送部 60 第1のエリア 62 第2のエリア 70 糸状部材 80 板状部材 82 面 10 tapes 18 semiconductor chips 30 resin 32 extra drops 34 Defective part 40 Resin supply section 42 needle 50 Tape transport section 60 First Area 62 Second Area 70 Filiform member 80 Plate-shaped member 82 sides

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ニードルの先端から樹脂を滴下すること
によって、半導体チップの少なくとも一部を封止するこ
とを含み、 前記ニードルの先端に溜まる余滴の少なくとも一部を強
制的に除去する半導体装置の製造方法。
1. A semiconductor device comprising: sealing at least a part of a semiconductor chip by dropping a resin from a tip of a needle; and forcibly removing at least a part of an extra drop accumulated at the tip of the needle. Production method.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 前記封止工程の前に、複数の前記半導体チップをテープ
に実装し、 前記封止工程で、前記テープをリール・トゥ・リール搬
送する半導体装置の製造方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of the semiconductor chips are mounted on a tape before the sealing step, and the tape is reel-to-reel in the sealing step. A method for manufacturing a semiconductor device to be transported.
【請求項3】 請求項2記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 前記封止工程で、前記テープが搬送される第1のエリア
と、前記テープとは離れた位置の第2のエリアとの間
で、前記ニードルを往復移動させ、 前記往復移動の途中において、前記余滴の少なくとも一
部を強制的に除去する半導体装置の製造方法。
3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 2, wherein, in the sealing step, between a first area where the tape is conveyed and a second area which is apart from the tape. The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the needle is reciprocated, and at least a part of the residual droplet is forcibly removed during the reciprocation.
【請求項4】 請求項3記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 前記テープは、前記半導体チップが実装されない複数の
不良部を有し、 前記封止工程で、前記不良部が連続して通過する間に、
前記ニードルの前記往復移動を行う半導体装置の製造方
法。
4. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein the tape has a plurality of defective portions on which the semiconductor chips are not mounted, and the defective portions continuously pass through in the sealing step. Between,
A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the reciprocating movement of the needle is performed.
【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
の半導体装置の製造方法において、 前記余滴に部材を接触させることによって、前記余滴の
少なくとも一部を前記部材に転写させる半導体装置の製
造方法。
5. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein a member is brought into contact with the extra droplet to transfer at least a part of the extra droplet to the member. Production method.
【請求項6】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
の半導体装置の製造方法において、 前記余滴に部材を接触させることによって、前記余滴の
少なくとも一部を落とす半導体装置の製造方法。
6. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein at least a part of the extra drops is dropped by bringing a member into contact with the extra drops.
【請求項7】 請求項5記載の半導体装置の製造方法に
おいて、 前記部材は、面を有する板状部材であり、 前記ニードルの先端を、前記板状部材に対して相対的
に、前記面の上方を通過させることによって、前記余滴
の少なくとも一部を前記面に転写させる半導体装置の製
造方法。
7. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 5, wherein the member is a plate-shaped member having a surface, and a tip of the needle is formed on the surface of the plate relative to the plate-shaped member. A method for manufacturing a semiconductor device, wherein at least a part of the extra droplets is transferred to the surface by passing therethrough.
【請求項8】 請求項5又は請求項6に記載の半導体装
置の製造方法において、 前記部材は、糸状部材であり、 前記ニードルの先端を、前記糸状部材に対して相対的
に、前記糸状部材の直線に交差する方向に移動すること
によって、前記余滴の一部に前記糸状部材を接触させる
半導体装置の製造方法。
8. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 5, wherein the member is a thread-shaped member, and the tip of the needle is relatively positioned with respect to the thread-shaped member. The method for manufacturing a semiconductor device, wherein the thread member is brought into contact with a part of the extra droplet by moving in a direction intersecting the straight line.
【請求項9】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
の半導体装置の製造方法において、 前記余滴に気体を噴射することによって、前記余滴の少
なくとも一部を落とす半導体装置の製造方法。
9. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein at least a part of the extra drops is dropped by injecting gas into the extra drops.
【請求項10】 請求項1から請求項4のいずれかに記
載の半導体装置の製造方法において、 前記ニードルを振動させることによって、前記余滴の少
なくとも一部を落とす半導体装置の製造方法。
10. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein at least a part of the extra droplets is dropped by vibrating the needle.
【請求項11】 ニードルの先端から樹脂を滴下し、半
導体チップの少なくとも一部を封止する樹脂供給部と、 前記ニードルの先端に溜まる余滴の少なくとも一部を強
制的に除去する樹脂除去手段と、 を含む半導体装置の製造装置。
11. A resin supply unit for dropping resin from a tip of a needle to seal at least a part of a semiconductor chip, and a resin removing means for forcibly removing at least a part of a residual drop accumulated at the tip of the needle. An apparatus for manufacturing a semiconductor device, including:
【請求項12】 請求項11記載の半導体装置の製造装
置において、 複数の前記半導体チップはテープに実装されてなり、 前記テープをリール・トゥ・リール搬送するテープ搬送
部をさらに含む半導体装置の製造装置。
12. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 11, wherein the plurality of semiconductor chips are mounted on a tape, and the semiconductor device further includes a tape transfer section for transferring the tape reel-to-reel. apparatus.
【請求項13】 請求項12記載の半導体装置の製造装
置において、 前記テープ搬送部が配置された第1のエリアと、 前記テープ搬送部とは離れて配置された第2のエリア
と、 をさらに含み、 前記樹脂供給部は、前記第1及び第2のエリアの間で往
復移動可能であり、 前記樹脂除去手段は、前記第1及び第2のエリアの間に
配置されてなる半導体装置の製造装置。
13. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 12, further comprising: a first area in which the tape transport section is arranged, and a second area in which the tape transport section is separated from the first area. Including, the resin supply unit is capable of reciprocating between the first and second areas, and the resin removing unit is for manufacturing a semiconductor device arranged between the first and second areas. apparatus.
【請求項14】 請求項13記載の半導体装置の製造装
置において、 前記テープは、前記半導体チップが実装されない複数の
不良部を有し、 前記樹脂供給部は、前記テープ搬送部で前記不良部が連
続して通過する間に、前記往復移動を行う半導体装置の
製造装置。
14. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 13, wherein the tape has a plurality of defective portions on which the semiconductor chips are not mounted, and the resin supply unit has the defective portions in the tape transport unit. An apparatus for manufacturing a semiconductor device, which performs the reciprocating movement while continuously passing.
【請求項15】 請求項11から請求項14のいずれか
に記載の半導体装置の製造装置において、 前記樹脂除去手段は、前記余滴に接触させる部材を有
し、 前記部材によって、前記余滴の少なくとも一部を転写さ
せる半導体装置の製造装置。
15. The apparatus for manufacturing a semiconductor device according to claim 11, wherein the resin removing unit has a member that contacts the residual droplet, and the member removes at least one of the residual droplets. Device for manufacturing semiconductor device for transferring parts.
【請求項16】 請求項11から請求項14のいずれか
に記載の半導体装置の製造装置において、 前記樹脂除去手段は、前記余滴に接触させる部材を有
し、 前記部材によって、前記余滴の少なくとも一部を落とす
半導体装置の製造装置。
16. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 11, wherein the resin removing unit has a member that contacts the residual droplet, and the member removes at least one of the residual droplets. Semiconductor device manufacturing equipment that drops parts.
【請求項17】 請求項15記載の半導体装置の製造装
置において、 前記部材は、面を有する板状部材であり、 前記樹脂除去手段は、前記ニードルの先端を、前記板状
部材に対して相対的に、前記面の上方を通過させること
によって、前記余滴の少なくとも一部を前記面に転写さ
せる半導体装置の製造装置。
17. The apparatus for manufacturing a semiconductor device according to claim 15, wherein the member is a plate-shaped member having a surface, and the resin removing unit relatively positions the tip of the needle with respect to the plate-shaped member. Device for manufacturing a semiconductor device, wherein at least a part of the extra droplet is transferred onto the surface by passing over the surface.
【請求項18】 請求項15又は請求項16に記載の半
導体装置の製造装置において、 前記部材は、糸状部材であり、 前記樹脂除去手段は、前記ニードルの先端を、前記糸状
部材に対して相対的に、前記糸状部材の直線に交差する
方向に移動することによって、前記余滴の一部に前記糸
状部材を接触させる半導体装置の製造装置。
18. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 15 or 16, wherein the member is a thread-shaped member, and the resin removing unit causes the tip of the needle to move relative to the thread-shaped member. And a semiconductor device manufacturing apparatus for bringing the filamentous member into contact with a part of the residual droplet by moving the filamentous member in a direction intersecting a straight line of the filamentous member.
【請求項19】 請求項11から請求項14のいずれか
に記載の半導体装置の製造装置において、 前記樹脂除去手段は、前記余滴に気体を噴射することに
よって、前記余滴の少なくとも一部を落とす半導体装置
の製造装置。
19. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 11, wherein the resin removing unit injects gas into the extra drops to drop at least a part of the extra drops. Equipment manufacturing equipment.
【請求項20】 請求項11から請求項14のいずれか
に記載の半導体装置の製造装置において、 前記樹脂除去手段は、前記ニードルを振動させることに
よって、前記余滴の少なくとも一部を落とす半導体装置
の製造装置。
20. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 11, wherein the resin removing unit vibrates the needle to drop at least a part of the residual droplet. Manufacturing equipment.
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