JP2003182087A - Method of manufacturing share mode inkjet head - Google Patents

Method of manufacturing share mode inkjet head

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JP2003182087A
JP2003182087A JP2001389797A JP2001389797A JP2003182087A JP 2003182087 A JP2003182087 A JP 2003182087A JP 2001389797 A JP2001389797 A JP 2001389797A JP 2001389797 A JP2001389797 A JP 2001389797A JP 2003182087 A JP2003182087 A JP 2003182087A
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省三 菊川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a high quality share mode inkjet head whereby precise electrodes in high density and precise solid wiring patterns in high density can be formed by a simple and highly reliable method as compared to heretofore and leakage of ink, or falling or cracking of a partition wall between channel grooves does not occur. <P>SOLUTION: A piezoelectric element plate is subjected to mechanical grinding to form the channel grooves 2. After vertical grooves 6 communicating with the channel grooves 2 are formed by emitting a laser light, the plate is subjected to electroless plating. A head substrate 5 is abraded to form longitudinal wiring patterns. The laser light is emitted to the head substrate 5 to form lateral wiring patterns communicating with the longitudinal wiring patterns. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高速、高密度、高
画質シェヤーモードインクジェットヘッドに、電極と、
電極からの立体的な引出し配線を形成する新規な方法に
関し、詳しくは、めっき金属層の形成とレーザー光の照
射と研磨で、電極と立体的な引き出し配線を形成するこ
とにより、従来に比べて簡易な方法で、信頼性の高い、
インク漏れの生じない高画質なシェヤーモードインクジ
ェットヘッドを製造する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-speed, high-density, high-quality high-quality shear mode inkjet head, an electrode,
Regarding the novel method of forming a three-dimensional extraction wiring from the electrode, in more detail, by forming a three-dimensional extraction wiring with the electrode by forming a plated metal layer, irradiating laser light and polishing, Simple and reliable,
The present invention relates to a method for manufacturing a high-quality shear-mode inkjet head that does not cause ink leakage.

【0002】[0002]

【従来の技術】シェヤーモードインクジェットヘッドの
原理は、分極した圧電素子板に、多数の平行なチャンネ
ル溝を研削して、これをインク溝とし、該インク溝の側
壁に電極を設けて電界を掛けると、各インク溝間の側壁
がシェヤーモード変形して、インクに圧力が掛かり、イ
ンクを吐出する。インク溝の側壁を変形させてインクを
吐出するため、インクを吐出するとその振動が隣接する
溝に伝わり、吐出したインク溝のインクメニスカスのみ
ならず、両隣りのインク溝のメニスカスも振動する。こ
のメニスカスの振動が静止するまでは、吐出したインク
溝のみならず、両隣りのインク溝からも吐出できない。
2. Description of the Related Art The principle of a shear mode ink jet head is to grind a number of parallel channel grooves in a polarized piezoelectric element plate and use these as ink grooves, and electrodes are provided on the side walls of the ink grooves to generate an electric field. When applied, the side wall between each ink groove is deformed in the shear mode, pressure is applied to the ink, and the ink is ejected. Since the side wall of the ink groove is deformed to eject the ink, when the ink is ejected, the vibration is transmitted to the adjacent groove, and not only the ink meniscus of the ejected ink groove but also the meniscus of the ink grooves on both sides vibrate. Until the vibration of the meniscus stops, the ink cannot be ejected not only from the ejected ink groove but also from the ink grooves on both sides.

【0003】このため、多数のインク溝から同時にイン
クを吐出しようとする場合、例えば全インク溝から吐出
しようとする場合は、同時に吐出できるインク溝は2つ
以上離す必要があり、2つおきのインク溝を3群に分
け、3回に分けて吐出する3サイクル吐出法が行われて
いる。しかし、この場合、全インク溝からは同時に吐出
できないため、チャンネル当たりのプリント速度の向上
効果は望めない。
Therefore, when ink is to be ejected from a large number of ink grooves at the same time, for example, when ejecting from all ink grooves, it is necessary to separate two or more ink grooves that can be ejected at the same time, and every other ink groove. A three-cycle ejection method is used in which the ink groove is divided into three groups and the ink is ejected three times. However, in this case, since the ink cannot be ejected simultaneously from all the ink grooves, the effect of improving the printing speed per channel cannot be expected.

【0004】また、チャンネル溝を用いてインク吐出用
のインク溝とインクの吐出を行わない空気溝を交互に設
け、吐出の振動が隣接するインク溝に及ばないようにす
ることにより、全インク溝から同時に吐出させることを
可能とし、チャンネル当りのプリント速度を大幅に向上
できるようにしたヘッドも知られている。
Further, the ink grooves for ink ejection and the air grooves for which ink is not ejected are alternately provided by using the channel grooves so that the vibration of ejection does not reach the adjacent ink grooves. There is also known a head capable of simultaneously ejecting ink from the ink jet head and greatly improving the printing speed per channel.

【0005】このようなシェヤーモードインクジェット
ヘッドを製造するには、圧電素子板にチャンネル溝を研
削して、各チャンネル溝内に電極を形成し、この電極に
信号を送る配線を形成する必要がある。
In order to manufacture such a shear mode ink jet head, it is necessary to grind the channel grooves in the piezoelectric element plate, form electrodes in each channel groove, and form wiring for sending a signal to the electrodes. is there.

【0006】図15に従来のシェヤーモードインクジェ
ットヘッドの一例を示す。このシェヤーモードインクジ
ェットヘッドは、圧電素子板100に平行な複数のチャ
ンネル溝103を形成することにより、チャンネル溝1
03と隔壁102を交互に形成している。各チャンネル
溝103は、その深さをインクの入口端(図示右奥側)
に向かって次第に浅くして溝を封止し、天板101の開
口101aからインクを供給するようにしている。この
形状は、隔壁102の屋根の部分をマスクしてアルミニ
ウムを蒸着した後、マスクを除去すると、チャンネル溝
103内部に電極104が、同時に浅溝部103aと未
研削部100aに引き出し配線104aが形成され、こ
の引き出し配線104aをワイヤーボンデイング又はA
CF(異方導電性フィルム)により、フレキシブルケー
ブルを介して駆動回路と繋げることができる。即ち、各
チャンネル溝103に電極104を形成すると、同時に
引き出し配線104aも形成できる。
FIG. 15 shows an example of a conventional shear mode ink jet head. In this shear mode inkjet head, the channel groove 1 is formed by forming a plurality of channel grooves 103 parallel to the piezoelectric element plate 100.
03 and partition 102 are formed alternately. Each channel groove 103 has a depth equal to the ink inlet end (on the right rear side in the drawing).
The groove is sealed by gradually shallowing toward, and ink is supplied from the opening 101a of the top plate 101. With this shape, when the roof portion of the partition wall 102 is masked and aluminum is vapor-deposited and then the mask is removed, the electrode 104 is formed inside the channel groove 103, and at the same time, the lead wiring 104a is formed in the shallow groove portion 103a and the unground portion 100a. , This lead-out wiring 104a to wire bonding or A
CF (anisotropic conductive film) can be connected to a drive circuit via a flexible cable. That is, when the electrode 104 is formed in each channel groove 103, the lead wiring 104a can be formed at the same time.

【0007】しかし、浅溝部103aを形成するには、
直径数cmのダイシングソーを徐々に持ち上げながら研
削しなければならないので、浅溝部103aと未研削部
100aが、ヘッド体積の約半分を占めるようになる。
浅溝部103aは電圧を掛けても隔壁102を殆ど変形
させることができない。また、この部分は、天板101
を切り欠いて開口101aを形成しているので、発生し
た圧力がマニホールド側に抜けて、インク吐出には殆ど
寄与できない。更に、未研削部100aは全く吐出に寄
与できない。
However, in order to form the shallow groove portion 103a,
Since the dicing saw having a diameter of several cm must be gradually lifted and ground, the shallow groove portion 103a and the unground portion 100a occupy about half of the head volume.
The shallow groove portion 103a can hardly deform the partition wall 102 even when a voltage is applied. Also, this part is the top plate 101.
Since the opening 101a is formed by cutting out the hole, the generated pressure escapes to the manifold side and hardly contributes to ink ejection. Furthermore, the unground portion 100a cannot contribute to ejection at all.

【0008】なお、図中、105はインク溝103の出
口端に接合されたノズル板、106は該ノズル板105
に穿孔したインクを吐出させるノズル孔、107はプリ
ント基板、108は引き出し配線104aとプリント基
板107とを電気的に接続するためにワイヤーボンデイ
ングした配線である。
In the figure, 105 is a nozzle plate joined to the outlet end of the ink groove 103, and 106 is the nozzle plate 105.
Nozzle holes for ejecting ink perforated in the printed circuit board, 107 is a printed circuit board, and 108 is wire-bonded wiring for electrically connecting the lead-out wiring 104a and the printed circuit board 107.

【0009】シェヤーモードインクジェットヘッドは、
圧電素子板を電極で挟む形になるので、コンデンサーと
同じ動作になり、上述したように吐出に寄与しない部分
にも電荷が蓄積される。このためヘッドの静電容量が大
きくなり、ヘッドに高周波信号を掛けても、応答が遅
れ、高速駆動できなくなる。また、圧電素子板のヒステ
リシス損失が大きくなり、著しく発熱する欠点がある。
更に、画像の種類により、頻繁にインクを吐出するチャ
ンネル溝とあまり吐出しないチャンネル溝があると、頻
繁に吐出するチャンネル溝の温度が上昇するので、該チ
ャンネル溝内のインク温度が上昇してインク粘度が低下
し、吐出滴の速度が速くなる。チャンネル溝により吐出
速度が変わると、インクの媒体への着弾位置が乱れ、い
わゆる印刷パターン依存クロストークを生じ、画質が著
しく劣化する。従って、従来構造のヘッドは、高速、高
画質、高密度インクジェットプリンター用に適している
とはいい難い。
The shear mode ink jet head is
Since the piezoelectric element plate is sandwiched between the electrodes, the operation is the same as that of the capacitor, and as described above, the electric charge is also accumulated in the portion that does not contribute to the ejection. Therefore, the electrostatic capacity of the head becomes large, and even if a high frequency signal is applied to the head, the response is delayed and high-speed driving cannot be performed. In addition, there is a drawback that the piezoelectric element plate has a large hysteresis loss, and remarkably generates heat.
Further, depending on the type of image, if there is a channel groove that frequently ejects ink and a channel groove that does not eject much, the temperature of the channel groove that ejects frequently rises, so the ink temperature in the channel groove rises and The viscosity is reduced and the speed of the ejected droplet is increased. When the ejection speed changes due to the channel groove, the landing position of the ink on the medium is disturbed, so-called print pattern-dependent crosstalk occurs, and the image quality deteriorates significantly. Therefore, it is hard to say that the head having the conventional structure is suitable for a high speed, high image quality, high density ink jet printer.

【0010】また、圧電素子板は、通常、圧電セラミッ
クスにより構成されるが、普通のセラミックスに比べて
非常に高価なため、圧電素子板をできるだけ有効に利用
する観点から、吐出に殆ど寄与できない浅溝部と未研削
部を持たないヘッド構造が望ましい。
The piezoelectric element plate is usually made of piezoelectric ceramics, but is very expensive as compared with ordinary ceramics. Therefore, from the viewpoint of utilizing the piezoelectric element plate as effectively as possible, it can hardly contribute to ejection. A head structure that does not have a groove portion and an unground portion is desirable.

【0011】そこで、従来、チャンネル溝を入口から出
口に向かってストレートに形成し、溝全体が吐出に寄与
できるストレート溝を有するシェヤーモードインクジェ
ットヘッドが提案されており、特開平7−132589
号、特開平9−20006号、特開平11−11519
5号、特開平11−115188号、特開2000−1
68094号、特開2000−141653号、特開平
10−76669号等に開示されている。このようなス
トレート溝を有するシェヤーモードインクジェットヘッ
ドによれば、圧電素子板の使用量が必要最小限で済み、
静電容量が小さく、高周波応答性に優れ、発熱が少な
く、クロストークが少なく、また、チヤンネル内に気泡
が貯まりにくい利点があり、高画質、高速、高密度用ヘ
ッドとして優れている。
Therefore, conventionally, there has been proposed a shear mode ink jet head in which a channel groove is formed straight from the inlet to the outlet, and the entire groove has a straight groove which can contribute to ejection. JP-A-7-132589
No. 9, JP-A-9-20006, JP-A No. 11-11519
5, JP-A-11-115188, JP-A-2000-1
No. 68094, JP-A-2000-141653, JP-A-10-76669 and the like. According to the shear mode inkjet head having such a straight groove, the use amount of the piezoelectric element plate can be minimized.
It has the advantages of small capacitance, excellent high-frequency response, less heat generation, less crosstalk, and less accumulation of bubbles in the channel, making it an excellent head for high image quality, high speed, and high density.

【0012】しかし、このストレートなチャンネル溝を
有するシェヤーモードインクジェットヘッドは、従来構
造のヘッドから吐出に必要な部分だけを取り出した構造
になっているので、チャンネル溝内の電極から配線を引
き出すことが難しく、また、フレキシブルケーブルと繋
ぐための配線を形成するスペースが取りにくい問題があ
る。この場合、電極からの引き出し配線を、ヘッドの前
面又は後面から、底面又は上面にかけて立体的に形成し
て、ヘッド底面又は上面でフレキシブルケーブルと繋ぐ
ことになる。即ち、この様なストレートなチャンネル溝
を持つシェヤーモードインクジェットヘッドは、チャン
ネル溝内の電極からヘッド前面又は後面を通り、底面又
は上面に至る立体的な配線を形成する必要がある。この
ような微小な立体配線を高密度に形成することは非常に
難しい。
However, since the shear mode ink jet head having the straight channel groove has a structure in which only the portion necessary for ejection is taken out from the head having the conventional structure, the wiring is drawn out from the electrode in the channel groove. However, there is a problem in that it is difficult to secure a space for forming wiring for connecting to the flexible cable. In this case, the lead wires from the electrodes are three-dimensionally formed from the front surface or the rear surface of the head to the bottom surface or the top surface, and the head bottom surface or the top surface is connected to the flexible cable. That is, in such a shear mode ink jet head having such straight channel grooves, it is necessary to form a three-dimensional wiring from the electrodes in the channel grooves to the front surface or the rear surface of the head to the bottom surface or the upper surface. It is very difficult to form such minute three-dimensional wiring with high density.

【0013】近年、高画質を目指して、インクジェット
ヘッドの記録密度が益々高くなっている。これに対応し
て、ヘッドから吐出するインク滴の間隔は、90→18
0→360dpiと狭くなっている。例えば180dp
iヘッドでは、141μm間隔でインク滴を吐出しなく
てはならない。これは、シェヤーモードインクジェット
ヘッドの場合、例えば、溝幅71μm、壁幅70μmと
なる。更に、インク溝と空気溝を交互に設けたヘッド
で、150dpiを達成するには、300dpiに相当
する溝幅と壁幅が必要になり、溝と壁の幅が40μmと
なる。
In recent years, the recording density of ink jet heads has become higher and higher with the aim of achieving high image quality. Corresponding to this, the interval of ink droplets ejected from the head is 90 → 18.
It is as narrow as 0 → 360 dpi. For example, 180 dp
The i-head has to eject ink droplets at 141 μm intervals. In the case of a shear mode inkjet head, this is, for example, a groove width of 71 μm and a wall width of 70 μm. Furthermore, in order to achieve 150 dpi with a head in which ink grooves and air grooves are alternately provided, a groove width and a wall width corresponding to 300 dpi are required, and the width of the groove and the wall is 40 μm.

【0014】また、高速化を目指して、ノズル数も32
→64→128→256→512→1024と増えてい
る。最近のヘッドは、溝幅と溝ピッチが40μm以下、
溝数1024本以上を必要とする例もある。入口浅溝型
の従来のヘッドは、前述したように、電極と引き出し配
線を同時にほぼ同一平面に形成できるので、配線形成に
は有利であるが、応答が遅く、発熱が大きいため、高画
質、高速ヘッドには適さない。一方、ストレート溝を持
つヘッドは、吐出に必要な部分だけからなる構造なの
で、吐出滴の微小化、高周波駆動や低発熱、コスト低
下、クロストーク低下の点では有利であるが、チャンネ
ル溝内の電極からの引き出し配線をヘッド前面又は後面
から底面又は上面にかけて90°曲げて立体的に形成し
なくてはならない。
The number of nozzles is 32 in order to increase the speed.
→ 64 → 128 → 256 → 512 → 1024 Recent heads have a groove width and groove pitch of 40 μm or less,
In some cases, the number of grooves is 1024 or more. As described above, the conventional shallow inlet groove type head is advantageous in forming wiring because the electrode and the lead-out wiring can be formed on substantially the same plane at the same time, but since the response is slow and the heat generation is large, high image quality, Not suitable for high speed heads. On the other hand, a head having a straight groove is advantageous in terms of miniaturization of ejected droplets, high-frequency driving, low heat generation, cost reduction, and crosstalk reduction because it has a structure consisting of only the portion necessary for ejection. The lead wiring from the electrode must be bent three-dimensionally from the front surface or the rear surface of the head to the bottom surface or the top surface to be three-dimensionally formed.

【0015】従来、めっき金属にて電子部品に立体配線
を形成する方法は、例えば、ワーク表面にめっき触媒を
吸着させ、触媒に光を当ててめっき不要部の触媒を失活
させてからめっきする光析出法が知られているが、その
配線ピッチはmmオーダーであり、高画質インクジェッ
トヘッドに必要な50μm以下のピッチで、数百本から
数千本の立体配線を形成する方法は知られていない。
Conventionally, a method of forming a three-dimensional wiring on an electronic component with a plated metal is, for example, after adsorbing a plating catalyst on the surface of a work and irradiating the catalyst with light to deactivate the catalyst in an unnecessary portion for plating. The photo-deposition method is known, but its wiring pitch is on the order of mm, and a method of forming hundreds to thousands of three-dimensional wiring at a pitch of 50 μm or less required for a high image quality inkjet head is known. Absent.

【0016】特開平7−132589号は、ストレート
なチャンネル用の横溝を機械的に研削し、その一端から
縦溝を機械的に研削して、めっき後、研磨して、縦溝の
中に縦配線を形成する。この方法は、横溝に重ねて縦溝
を機械的に研削するのであまり高密度化できない。ま
た、2度にわたって機械的な研削を行うため、溝の壁が
薄くなると、壁が倒れたり欠け易くなったりする欠点が
ある。
JP-A-7-132589 discloses that a horizontal groove for a straight channel is mechanically ground, a vertical groove is mechanically ground from one end thereof, and after plating, polishing is performed, and a vertical groove is formed in the vertical groove. Form the wiring. In this method, the flutes are mechanically ground so as to overlap with the flutes, and therefore the density cannot be increased so much. Further, since the mechanical grinding is performed twice, when the wall of the groove becomes thin, there is a drawback that the wall easily falls or is easily chipped.

【0017】特開平9−20006号は、ストレートな
空気溝を形成し、空気溝の入口端を引き出し配線を形成
した目止め部材で塞いでからストレートなインク溝を形
成している。しかし、この方法では、空気溝の電極と目
止め部材の配線が直角に接触することになるので、信頼
性の高い電気的接続ができない。
In Japanese Patent Laid-Open No. 9-20006, a straight air groove is formed, and the inlet end of the air groove is closed by a stopper member having a lead wiring, and then a straight ink groove is formed. However, in this method, since the electrode of the air groove and the wiring of the sealing member are in contact with each other at a right angle, highly reliable electrical connection cannot be performed.

【0018】特開平11−115195号、特開平11
−115188号は、導電性のコンタクト層を埋め込ん
だ部材を圧電素子板に接着してから、コンタクト層が露
出するように空気溝を研削する方法である。しかし、こ
の方法では、工程が複雑になるため、高密度ヘッドの製
造に要求される微細で精密な加工ができない。
JP-A-11-115195 and JP-A-11-115195
No. -115188 is a method in which a member having a conductive contact layer embedded therein is bonded to a piezoelectric element plate, and then an air groove is ground so that the contact layer is exposed. However, with this method, the process becomes complicated, and therefore the fine and precise processing required for manufacturing a high-density head cannot be performed.

【0019】特開2000−168094号は、ヘッド
全体をめっきしてから、インク溝と空気溝の間に析出し
ためっき金属をレーザー光で線状に除去して各溝内の電
極を独立させ、同時に引き出し配線を形成する方法であ
る。この方法では、インク溝と空気溝の間の間隔が30
〜70μmと狭く、しかも、図16に示すように、2枚
の圧電素子板201、202を接着している接着層20
3にもレーザー光LBを照射することになるので、接着
層203が蒸発して破壊され、この破壊された接着層2
03によってインク溝204と空気溝205とが繋が
り、空気溝205にインクが浸入する。空気溝205に
インクが浸入すると、吐出時、溝の側壁の振動を遮蔽す
る効果がなくなり、クロストークが大きくなって好まし
くない。たとえ接着層203の破壊が少なく、接着層2
03からインクの浸入が起こらなくても、レーザー光L
Bで金属薄膜を蒸発させると、除去された部分が窪み、
その周囲が盛り上がり、更に、その周辺に金属溶融物が
流出して冷却、凝固して堆積するため、凹凸が激しくな
り、インクマニホールド内のインクから空気溝205を
完全に遮蔽することが困難になる。
In Japanese Patent Laid-Open No. 2000-168094, after plating the entire head, the plating metal deposited between the ink groove and the air groove is linearly removed by laser light to separate the electrodes in each groove. This is a method of forming lead wires at the same time. In this method, the distance between the ink groove and the air groove is 30.
It is as narrow as ~ 70 μm, and as shown in FIG. 16, an adhesive layer 20 that adheres two piezoelectric element plates 201 and 202 together.
Since the laser beam LB is also applied to 3, the adhesive layer 203 is evaporated and destroyed, and the destroyed adhesive layer 2
The ink groove 204 and the air groove 205 are connected by 03, and the ink penetrates into the air groove 205. If the ink enters the air groove 205, the effect of blocking the vibration of the side wall of the groove at the time of ejection is lost, and crosstalk becomes large, which is not preferable. Even if the adhesive layer 203 is less broken, the adhesive layer 2
Laser light L even if ink does not enter from 03
When the metal thin film is evaporated with B, the removed part is dented,
The periphery thereof rises, and further, the metal melt flows out around the periphery and is cooled, solidified and deposited, so that the irregularities become severe and it becomes difficult to completely shield the air groove 205 from the ink in the ink manifold. .

【0020】特開2000−141653号は、ヘッド
の後壁を感光性レジストによりパターン状にマスクして
から蒸着して、縦配線を形成する方法であるが、微小な
ヘッド後壁に微細なマスクパターンを形成することが難
しい。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-141653 is a method of forming a vertical wiring by masking a rear wall of a head in a pattern with a photosensitive resist, and forming vertical wiring. It is difficult to form a pattern.

【0021】特開平10−76669号は、溝の底にビ
アーホールを設ける技術を開示しているが、具体的な説
明がない。圧電素子の製造中、グリーンシートの段階で
ビアーホールを正確に開けても、高温で焼結すると、膨
張、収縮が激しく起こるので、数十μm径の穴を数μm
の位置精度で設けることは困難である。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-76669 discloses a technique of providing a via hole at the bottom of a groove, but there is no specific description. Even if a via hole is accurately opened at the stage of a green sheet during the manufacture of a piezoelectric element, if it is sintered at high temperature, expansion and contraction will occur violently.
It is difficult to provide with the positional accuracy of.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】以上要するに、図15
に示すような従来のヘッドは、チャンネル溝の末端に浅
溝部が設けてあるので、チャンネル溝内に電極を形成す
ると、浅溝部を通して配線を自動的に引き出すことがで
きる反面、この浅溝部とそれに続く未研削部が吐出に殆
ど寄与できず、発熱して、クロストークが大きくなり、
また高速駆動できない原因となる。
SUMMARY OF THE INVENTION In summary, as shown in FIG.
In the conventional head as shown in (1), the shallow groove is provided at the end of the channel groove, so when the electrode is formed in the channel groove, the wiring can be automatically drawn out through the shallow groove, but on the other hand, this shallow groove and it The subsequent unground portion hardly contributes to ejection, heat is generated, and crosstalk increases,
It also causes high speed driving.

【0023】また、高画質、高密度、高速ヘッドに適し
たヘッド構造は、圧電素子板にストレートなチャンネル
溝を形成することで得られ、また、圧電素子板から吐出
に寄与しない部分を取り除いた構造なので、発熱が少な
く、高周波応答性が良く、しかも、高価な圧電素子板の
使用を節約できる利点を有するが、チャンネル溝内の電
極に繋がる引き出し配線を、ヘッドの前面又は後面から
ヘッドの底面又は上面にかけて立体的に形成しなくては
ならない。チャンネル溝内の電極から90°折れ曲がっ
た立体的な配線を引き出すことは難しい。このような直
角に曲がる幅数十μmの立体配線を、一つのヘッドに、
数百〜数千本、数十μmピッチで形成する方法はまだ知
られていない。
A head structure suitable for high-quality, high-density, high-speed heads can be obtained by forming straight channel grooves in the piezoelectric element plate, and a portion which does not contribute to ejection is removed from the piezoelectric element plate. Since it has a structure, it has less heat generation, good high frequency response, and has the advantage of saving the use of expensive piezoelectric element plates, but the lead wires connected to the electrodes in the channel groove can be connected to the bottom or front of the head. Or, it must be formed three-dimensionally over the upper surface. It is difficult to draw a three-dimensional wiring bent at 90 ° from the electrode in the channel groove. Such a three-dimensional wiring with a width of several tens of μm bent at a right angle can be
A method for forming a few hundreds to a few thousands and a pitch of several tens of μm has not been known yet.

【0024】更に、圧電素子板にチャンネル用横溝と引
き出し配線用の縦溝を機械的に研削し、めっきした後、
余分なめっき金属を研磨して除去する方法では、幅数十
μmの溝を研削せねばならないので、溝の壁が破壊され
易く、また、ヘッドの側面に感光性レジストを塗布し
て、パターンを形成してめっきする方法では、ヘッドの
厚みが1〜数mmしかないので、レジストを塗布して、
露光、現像する方法が難しい。
Further, the piezoelectric element plate is mechanically ground with lateral grooves for channels and vertical grooves for lead-out wiring, and after plating,
In the method of polishing and removing the excess plating metal, the groove with a width of several tens of μm must be ground, so the wall of the groove is easily broken, and the side surface of the head is coated with a photosensitive resist to form a pattern. In the method of forming and plating, the thickness of the head is only 1 to several mm, so apply a resist,
The method of exposing and developing is difficult.

【0025】そこで、本発明の課題は、めっきとレーザ
ー光の照射と研磨で、電極と立体的な引き出し配線を形
成することにより、面倒な画像処理や現像を行わなくと
も、従来に比べて、簡易で信頼性が高い方法で、高密度
で微細な電極と高密度で微細な立体配線を形成でき、し
かも、インク漏れやチャンネル溝間の隔壁の倒れや欠け
の生じない高画質なシェヤーモードインクジェットヘッ
ドを製造する方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to form an electrode and a three-dimensional lead wiring by plating, laser light irradiation, and polishing, so that compared with the conventional case, even without performing troublesome image processing and development. A simple and highly reliable method that can form high-density and fine electrodes and high-density and fine three-dimensional wiring, and that does not cause ink leakage or collapse or breakage of partition walls between channel grooves. It is to provide a method for manufacturing an inkjet head.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する請
求項1記載の発明は、シェヤーモードインクジェットヘ
ッドの製造方法において、分極した圧電素子板に複数の
チャンネル溝を研削してアクチュエーター基盤を形成す
る工程と、前記アクチュエーター基盤に天板を接着して
ヘッド基盤を形成する工程と、前記ヘッド基盤の前面及
び後面の少なくとも一方の面にレーザー光を照射して、
前記複数のチャンネル溝の各チャンネル溝と前記ヘッド
基盤の上面及び/又は底面とに繋がる縦溝を形成する工
程と、前記縦溝が形成された前記ヘッド基盤に、無電解
めっきによりめっき金属を施す工程と、前記ヘッド基盤
の前面及び後面を研磨して、前記縦溝に施されためっき
金属を残してめっき金属を除去することにより、前記各
チャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッド基盤の上面及
び/又は底面のめっき金属とに繋がる縦配線を形成する
工程と、前記ヘッド基盤の上面及び/又は底面にレーザ
ー光を照射して、めっき金属の一部を除去することによ
り、前記縦配線に繋がる横配線を形成する工程とを有す
ることを特徴とするシェヤーモードインクジェットヘッ
ドの製造方法である。
According to a first aspect of the present invention for solving the above problems, in a method for manufacturing a shear mode ink jet head, a plurality of channel grooves are ground in a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base. A step of forming, a step of adhering a top plate to the actuator base to form a head base, and irradiating at least one of the front surface and the rear surface of the head base with laser light,
Forming a vertical groove connected to each channel groove of the plurality of channel grooves and an upper surface and / or a bottom surface of the head base; and plating metal on the head base having the vertical groove formed by electroless plating. A step of polishing the front surface and the rear surface of the head substrate to remove the plated metal leaving the plated metal applied to the vertical grooves, and thus the plated metal in each channel groove and the upper surface of the head substrate; And / or a step of forming a vertical wiring connected to the plating metal on the bottom surface and irradiating a laser beam on the upper surface and / or the bottom surface of the head substrate to remove a part of the plating metal, thereby connecting to the vertical wiring. And a step of forming lateral wiring.

【0027】上記課題を解決する請求項2記載の発明
は、シェヤーモードインクジェットヘッドの製造方法に
おいて、分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研
削してアクチュエーター基盤を形成する工程と、前記ア
クチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤を形成
する工程と、前記アクチュエーター基板の前面及び後面
の少なくとも一方の面にレーザー光を照射して、前記複
数のチャンネル溝の各チャンネル溝と前記ヘッド基盤の
底面とに繋がる縦溝を形成する工程と、前記縦溝が形成
された前記ヘッド基盤に、無電解めっきによりめっき金
属を施す工程と、前記ヘッド基盤の前面及び後面を研磨
して、前記縦溝に施されためっき金属を残してめっき金
属を除去することにより、前記各チャンネル溝内のめっ
き金属と前記ヘッド基盤の底面のめっき金属とに繋がる
縦配線を形成する工程と、前記ヘッド基盤の底面にレー
ザー光を照射して、めっき金属の一部を除去することに
より、前記縦配線に繋がる横配線を形成する工程とを有
することを特徴とするシェヤーモードインクジェットヘ
ッドの製造方法である。
According to a second aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, in a method for manufacturing a shear mode ink jet head, a step of grinding a plurality of channel grooves in a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and the actuator. Forming a head substrate by adhering a top plate to the substrate; and irradiating at least one of the front surface and the rear surface of the actuator substrate with laser light to form each of the channel grooves of the plurality of channel grooves and the head substrate. Forming a vertical groove connected to the bottom surface, applying a plating metal to the head substrate having the vertical groove formed by electroless plating, and polishing the front and rear surfaces of the head substrate to form the vertical groove. By removing the plating metal leaving the plating metal applied to the plate, the plating metal in each channel groove and the head are removed. Forming a vertical wiring connected to the plating metal on the bottom surface of the board, and irradiating the bottom surface of the head substrate with a laser beam to remove a part of the plating metal to form a horizontal wiring connected to the vertical wiring. The method for manufacturing a shear mode inkjet head, comprising:

【0028】上記課題を解決する請求項3記載の発明
は、シェヤーモードインクジェットヘッドの製造方法に
おいて、分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研
削してアクチュエーター基盤を形成する工程と、前記ア
クチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤を形成
する工程と、前記天板の前面及び後面の少なくとも一方
の面にレーザー光を照射して、前記複数のチャンネル溝
の各チャンネル溝と前記ヘッド基板の上面とに繋がる縦
溝を形成する工程と、前記縦溝が形成された前記ヘッド
基盤に、無電解めっきによりめっき金属を施す工程と、
前記ヘッド基盤の前面及び後面を研磨して、前記縦溝に
施されためっき金属を残してめっき金属を除去すること
により、前記各チャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッ
ド基盤の上面のめっき金属とに繋がる縦配線を形成する
工程と、前記ヘッド基盤の上面にレーザー光を照射し
て、めっき金属の一部を除去することにより、前記縦配
線に繋がる横配線を形成する工程とを有することを特徴
とするシェヤーモードインクジェットヘッドの製造方法
である。
According to a third aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, in a method for manufacturing a shear mode ink jet head, a step of grinding a plurality of channel grooves in a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and the actuator. A step of forming a head base by bonding a top plate to the base, and irradiating at least one of the front surface and the rear surface of the top plate with a laser beam to form each channel groove of the plurality of channel grooves and the head substrate. A step of forming a vertical groove connected to the upper surface, a step of applying a plating metal to the head substrate in which the vertical groove is formed by electroless plating,
By polishing the front surface and the rear surface of the head substrate and removing the plated metal leaving the plated metal applied to the vertical grooves, the plated metal in each channel groove and the plated metal on the upper surface of the head substrate are removed. A step of forming vertical wiring connected to the vertical wiring and a step of forming horizontal wiring connected to the vertical wiring by irradiating the upper surface of the head substrate with laser light to remove a part of the plating metal. It is a method of manufacturing a characteristic shear mode inkjet head.

【0029】上記課題を解決する請求項4記載の発明
は、シェヤーモードインクジェットヘッドの製造方法に
おいて、分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研
削してアクチュエーター基盤を形成する工程と、前記ア
クチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤を形成
する工程と、前記アクチュエーター基板の前面及び後面
にレーザー光を照射して、前記複数のチャンネル溝の各
チャンネル溝と前記ヘッド基盤の底面とに繋がる縦溝
を、前記チャンネル溝の1本おきに前記アクチュエータ
ー基盤の前面と後面とで交互になるように形成する工程
と、前記縦溝が形成された前記ヘッド基盤に、無電解め
っきによりめっき金属を施す工程と、前記ヘッド基盤の
前面及び後面を研磨して、前記縦溝に施されためっき金
属を残してめっき金属を除去することにより、前記各チ
ャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッド基盤の底面のめ
っき金属とに繋がる縦配線を形成する工程と、前記ヘッ
ド基盤の底面にレーザー光を照射して、めっき金属の一
部を除去することにより、前記縦配線に繋がる横配線を
形成する工程とを有することを特徴とするシェヤーモー
ドインクジェットヘッドの製造方法である。
According to a fourth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, in a method for manufacturing a shear mode ink jet head, a step of grinding a plurality of channel grooves in a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and the actuator. Forming a head substrate by adhering a top plate to the substrate; and irradiating the front and rear surfaces of the actuator substrate with laser light to connect the channel grooves of the plurality of channel grooves to the bottom surface of the head substrate. Forming grooves every other one of the channel grooves alternately on the front surface and the rear surface of the actuator base, and plating metal by electroless plating on the head base on which the vertical grooves are formed. Process and polishing the front and back surfaces of the head substrate, leaving the plating metal applied to the flutes A step of forming a vertical wiring connecting the plated metal in each of the channel grooves and the plated metal on the bottom surface of the head substrate by removing, and irradiating the bottom surface of the head substrate with a laser beam to remove one of the plated metal. A step of removing a portion to form a horizontal wiring connected to the vertical wiring, and a method for manufacturing a shear mode inkjet head.

【0030】上記課題を解決する請求項5記載の発明
は、シェヤーモードインクジェットヘッドの製造方法に
おいて、分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研
削してアクチュエーター基盤を形成する工程と、前記ア
クチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤を形成
する工程と、前記天板の前面及び後面にレーザー光を照
射して、前記複数のチャンネル溝の各チャンネル溝と前
記ヘッド基盤の上面とに繋がる縦溝を、前記チャンネル
溝の1本おきに前記天板の前面と後面とで交互になるよ
うに形成する工程と、前記縦溝が形成された前記ヘッド
基盤に、無電解めっきによりめっき金属を施す工程と、
前記ヘッド基盤の前面及び後面を研磨して、前記縦溝に
施されためっき金属を残してめっき金属を除去すること
により、前記各チャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッ
ド基盤の上面のめっき金属とに繋がる縦配線を形成する
工程と、前記ヘッド基盤の上面にレーザー光を照射し
て、めっき金属の一部を除去することにより、前記縦配
線に繋がる横配線を形成する工程とを有することを特徴
とするシェヤーモードインクジェットヘッドの製造方法
である。
According to a fifth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problems, in a method for manufacturing a shear mode ink jet head, a step of grinding a plurality of channel grooves in a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and the actuator. Forming a head substrate by adhering a top plate to the base, and irradiating the front and back surfaces of the top plate with laser light to connect the channel grooves of the plurality of channel grooves to the upper surface of the head base. Forming grooves every other channel groove alternately on the front surface and the rear surface of the top plate; and applying plating metal to the head substrate on which the vertical grooves are formed by electroless plating. Process,
By polishing the front surface and the rear surface of the head substrate and removing the plated metal leaving the plated metal applied to the vertical grooves, the plated metal in each channel groove and the plated metal on the upper surface of the head substrate are removed. A step of forming vertical wiring connected to the vertical wiring and a step of forming horizontal wiring connected to the vertical wiring by irradiating the upper surface of the head substrate with laser light to remove a part of the plating metal. It is a method of manufacturing a characteristic shear mode inkjet head.

【0031】請求項6記載の発明は、前記めっき金属が
施された前記ヘッド基盤の該めっき金属表面に、保護膜
を形成する工程を有することを特徴とする請求項1〜5
のいずれかに記載のシェヤーモードインクジェットヘッ
ドの製造方法である。
The invention according to claim 6 has a step of forming a protective film on the surface of the plated metal of the head substrate on which the plated metal is applied.
The method for manufacturing a shear mode inkjet head according to any one of 1 to 3 above.

【0032】請求項7記載の発明は、前記アクチュエー
ター基盤は、分極した2枚の圧電素子板を、分極方向を
互いに反対に向けて接着して形成することを特徴とする
請求項1〜6のいずれかに記載のシェヤーモードインク
ジェットヘッドの製造方法である。
The invention according to claim 7 is characterized in that the actuator base is formed by bonding two polarized piezoelectric element plates so that their polarization directions are opposite to each other. It is a method for manufacturing a shear mode inkjet head according to any one of the above.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.

【0034】最初に、本明細書では、製造工程を説明す
る上で方向が重要であるので、「前面」と「後面」、
「上面」と「底面」をそれぞれ明らかにしておく。本明
細書では、アクチュエーター基盤及びヘッド基盤におけ
るインク吐出側に面する壁面を「前面」、それとは反対
側のインク供給側に面する壁面を「後面」と称する。全
ての図面では、この「前面」を奥側に、「後面」を手前
側にそれぞれ位置させて図示する。また、天板を接着し
た側、即ち天板の上表面を「上面」、天板を接着した側
と反対側の面を「底面」と称する。全ての図面では、こ
の「上面」を上側に、「底面」を下側にそれぞれ位置さ
せて図示する。
First, in this specification, since the direction is important in describing the manufacturing process, the "front surface" and the "rear surface" are
The "top" and "bottom" are clarified respectively. In this specification, the wall surface of the actuator base and the head base that faces the ink ejection side is referred to as a “front surface”, and the wall surface that faces the ink supply side on the opposite side is referred to as a “rear surface”. In all the drawings, the "front surface" is positioned on the back side and the "rear surface" is positioned on the front side. Further, the side to which the top plate is adhered, that is, the upper surface of the top plate is referred to as "upper surface", and the surface opposite to the side to which the top plate is adhered is referred to as "bottom surface". In all the drawings, the “top surface” is located on the upper side and the “bottom surface” is located on the lower side.

【0035】最初の工程は、図1に示すように、分極し
た圧電素子板1にチャンネル溝2を研削して、アクチュ
エーター基盤3を作る工程である。
As shown in FIG. 1, the first step is to grind the channel groove 2 in the polarized piezoelectric element plate 1 to make the actuator base 3.

【0036】分極した圧電素子板1に形成したチャンネ
ル溝2の側壁をせん断変形させる方法は、以下の2通り
の方法がある。
There are the following two methods of shearing the side wall of the channel groove 2 formed in the polarized piezoelectric element plate 1.

【0037】分極した1枚の圧電素子板でチャンネル
溝の側壁を形成する場合は、側壁の上半分に電極を形成
して、側壁の上半分をせん断変形させる。 分極した2枚の圧電素子板を、分極方向を互いに反対
に向けて接着してチャンネル溝の側壁を形成する場合
は、側壁に、好ましくは効率を良くする観点から側壁の
全面に電極を設け、側壁全体をせん断変形させる。
When the side wall of the channel groove is formed by one polarized piezoelectric element plate, an electrode is formed on the upper half of the side wall and the upper half of the side wall is sheared and deformed. When two polarized piezoelectric element plates are bonded to each other with their polarization directions opposite to each other to form the side wall of the channel groove, an electrode is provided on the side wall, preferably from the viewpoint of improving efficiency, Shear the entire sidewall.

【0038】前者の方法は、側壁の上半分を変形させ
るだけであるが、後者の方法は側壁の上半分と下半分
を同時に、互いに反対方向に変形させるので、変形量が
大きく、変形効率が良い。同じ電圧を掛けても、後者
の方法が、側壁の変形量が大きいので、発生する圧力が
高く、吐出したインク滴の速度が速く、従ってインクの
着弾ずれが少なく、画質が大幅に向上する。また、同じ
変位を与える場合、後者は電圧が約半分で済むので、
ヘッドの発熱を抑えることができる。
The former method only deforms the upper half of the side wall, while the latter method simultaneously deforms the upper half and lower half of the side wall in opposite directions, so that the amount of deformation is large and the deformation efficiency is high. good. Even if the same voltage is applied, the latter method has a large amount of deformation of the side wall, so that the generated pressure is high, the speed of the ejected ink droplets is high, and therefore the ink landing deviation is small, and the image quality is greatly improved. Also, if the same displacement is given, the latter requires half the voltage, so
The heat generation of the head can be suppressed.

【0039】本発明では上記いずれの方法も採用できる
が、好ましくは後者の方法を用い、図1に示すよう
に、分極した厚さの異なる2枚(例えば厚さ150μm
と900μm)の圧電素子板1a、1bを、分極方向を
互いに反対に向けて接着し、薄い板(圧電素子板1a)
の側から厚い板(圧電素子板1b)の途中までに亘るチ
ャンネル溝2を形成し、チャンネル溝2とその間の隔壁
とを交互に設ける。
Although any of the above methods can be employed in the present invention, the latter method is preferably used, and as shown in FIG. 1, two polarized plates having different thicknesses (for example, a thickness of 150 μm) are used.
And 900 μm) piezoelectric element plates 1a and 1b are bonded so that the polarization directions thereof are opposite to each other to form a thin plate (piezoelectric element plate 1a).
The channel groove 2 extending from the side to the middle of the thick plate (piezoelectric element plate 1b) is formed, and the channel groove 2 and the partition wall therebetween are provided alternately.

【0040】圧電素子板1には、電圧を加えることによ
り変形を生じる圧電素子を用いることができる。この圧
電素子には公知の圧電材料を用いることができる。公知
の圧電材料には有機材料からなる圧電材料や非金属性圧
電材料がある。特に、非金属性圧電材料が好ましく、こ
のような圧電材料としては、成形、焼成工程を経て形成
される圧電セラミックス、または成形、焼成を必要とし
ないで形成される圧電材料等がある。有機材料からなる
圧電材料としては、ポリフッ化ビニリデン等の有機ポリ
マーや、有機ポリマーと無機物とのハイブリッド材料等
が挙げられる。
For the piezoelectric element plate 1, a piezoelectric element which is deformed by applying a voltage can be used. A known piezoelectric material can be used for this piezoelectric element. Known piezoelectric materials include piezoelectric materials made of organic materials and non-metallic piezoelectric materials. Particularly, a non-metallic piezoelectric material is preferable, and examples of such a piezoelectric material include piezoelectric ceramics formed through molding and firing steps, piezoelectric materials formed without requiring molding and firing, and the like. Examples of the piezoelectric material made of an organic material include an organic polymer such as polyvinylidene fluoride, a hybrid material of an organic polymer and an inorganic material, and the like.

【0041】非金属性の圧電材料において、成形、焼成
の工程を経て形成される圧電セラミックスとしてチタン
酸ジルコン酸鉛(PZT)を用いることが好ましい。更
に、BaTiO2、ZnO、LiNbO2、LiTaO2
等を用いてもよい。PZTとしては、真性PZT(Pb
ZrO2−PbTiO2)と、第三成分を添加して、圧電
特性を調整した変性PZTがある。添加する第三成分と
しては、Fe、Nb、Ni、Ta、Zn、Mn、Ca、
Sb等がある。
In the non-metallic piezoelectric material, it is preferable to use lead zirconate titanate (PZT) as the piezoelectric ceramic formed through the steps of molding and firing. Further, BaTiO 2 , ZnO, LiNbO 2 , LiTaO 2
Etc. may be used. As PZT, the true PZT (Pb
ZrO 2 -PbTiO 2 ) and modified PZT in which the third component is added to adjust the piezoelectric characteristics. The third component added is Fe, Nb, Ni, Ta, Zn, Mn, Ca,
There are Sb etc.

【0042】また、圧電材料として、ゾル−ゲル法で製
造した圧電粉末も使用できる。ゾル−ゲル法によれば、
ゾルは所定の化学組成を持つ均質な溶液に、水と酸ある
いはアルカリを添加し、加水分解等の化学変化を起こさ
せることによって調製される。更に、溶媒の蒸発や冷却
等の処理を加えることによって、目的組成の微粒子ある
いは非金属性、無機微粒子の前躯体を分散したゾルが作
成され、焼結して圧電材料とすることができる。異種元
素の微量添加も含めて、化学組成の均一な化合物を得る
ことができる。出発原料に、一般にケイ酸ナトリウム等
の水に可溶な金属塩あるいは金属アルコキシドが用いら
れ、金属アルコキシドは、一般式M(OR)nで表され
る化合物で、OR基が強い塩基性を持つため容易に加水
分解され、有機高分子のような縮合過程を経て、金属酸
化物あるいはその水和物に変化する。
Further, as the piezoelectric material, piezoelectric powder manufactured by the sol-gel method can also be used. According to the sol-gel method,
The sol is prepared by adding water and an acid or alkali to a homogeneous solution having a predetermined chemical composition and causing a chemical change such as hydrolysis. Further, by subjecting the solvent to a process such as evaporation or cooling, a sol in which fine particles of a target composition or precursors of non-metallic inorganic fine particles are dispersed can be prepared and sintered to obtain a piezoelectric material. It is possible to obtain a compound having a uniform chemical composition, including the addition of a trace amount of a different element. A water-soluble metal salt or metal alkoxide such as sodium silicate is generally used as a starting material, and the metal alkoxide is a compound represented by the general formula M (OR) n, in which the OR group has a strong basicity. Therefore, it is easily hydrolyzed, and changes into a metal oxide or its hydrate through a condensation process like an organic polymer.

【0043】また、積層基盤のコーティング法として、
気相から析出させる蒸着法やスパッター法があり、気相
からセラミック基盤を作成する方法は、物理的手段によ
る蒸着法と、気相から基盤表面に化学反応により析出さ
せる化学析出法の2通りに分類される。更に、物理蒸着
法(PVD)は、真空蒸着法、スパッター法、イオンプ
レーティング法等に細分され、また化学的方法は、気相
化学反応法(CVD)、プラズマCVD法などがある。
物理蒸着法(PVD)としての真空蒸着法は、真空中で
対象とする物質を加熱して蒸発させ、その蒸気を基盤上
に付着させる方法で、スパッター法は目的物質(ターゲ
ット)に高エネルギー粒子を衝突させ、ターゲット表面
の原子・分子が衝突粒子と運動量を交換して、表面から
はじきだされるスパッタリング現象を利用する方法であ
る。またイオンプレーティング法は、イオン化したガス
雰囲気中で蒸着を行う方法である。また、CVD法で
は、膜を構成する原子・分子あるいはイオンを含む化合
物を気相状態にした後、適当なキャリヤーガスで反応部
に導き、加熱した基盤上で反応あるいは反応析出させる
ことによって膜を形成する。プラズマCVD法はプラズ
マエネルギーで気相状態を発生させ、400℃〜500
℃までの比較的低い温度範囲の気相化学反応で膜を析出
させる。
Further, as a method of coating a laminated substrate,
There are vapor deposition and sputtering methods that deposit from the vapor phase. There are two methods to create a ceramic substrate from the vapor phase: vapor deposition by physical means and chemical deposition that deposits from the vapor phase on the substrate surface by a chemical reaction. being classified. Further, the physical vapor deposition method (PVD) is subdivided into a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method and the like, and the chemical method includes a vapor phase chemical reaction method (CVD), a plasma CVD method and the like.
A vacuum vapor deposition method as a physical vapor deposition method (PVD) is a method of heating a target substance in a vacuum to evaporate it and depositing the vapor on a substrate. The sputtering method is a high energy particle to a target substance (target). Is a method in which atoms and molecules on the target surface exchange momentum with colliding particles to utilize the sputtering phenomenon that is ejected from the surface. The ion plating method is a method of performing vapor deposition in an ionized gas atmosphere. Further, in the CVD method, a compound containing atoms / molecules or ions constituting the film is made into a gas phase state, then introduced into a reaction part with an appropriate carrier gas, and reacted or reacted and deposited on a heated substrate to form the film. Form. In the plasma CVD method, a gas phase state is generated by plasma energy, and 400 ° C. to 500 ° C.
The film is deposited by a gas phase chemical reaction in a relatively low temperature range up to ° C.

【0044】分極方向を反対に向けた2枚の圧電素子板
1a、1bを接合する場合の接合手段としては、接着剤
を用いた接合を採用できるが、接合可能であれば特に限
定される訳ではない。接着剤を用いて接着層を形成する
場合、その接着層の硬化後の厚みは、5〜10μmの範
囲が好ましい。
As a joining means for joining the two piezoelectric element plates 1a and 1b whose polarization directions are opposite to each other, joining using an adhesive can be adopted, but it is not particularly limited as long as they can be joined. is not. When the adhesive layer is formed using an adhesive, the thickness of the adhesive layer after curing is preferably in the range of 5 to 10 μm.

【0045】チャンネル溝2の形成手段は、公知の研削
機による研削が好ましい。本実施形態では、2枚の圧電
素子板1a、1bを接着してから、圧電素子板1a側か
ら圧電素子板1bの途中までに亘ってチャンネル溝2を
研削するので、溝を研削してから2枚の圧電素子板を接
着する特開平8−174822号の方法に比べて、接着
剤が溝に溢れ出す恐れがない。
The means for forming the channel groove 2 is preferably grinding by a known grinding machine. In this embodiment, since the two piezoelectric element plates 1a and 1b are bonded and the channel groove 2 is ground from the piezoelectric element plate 1a side to the middle of the piezoelectric element plate 1b, after the grooves are ground, There is no possibility that the adhesive will overflow into the groove, as compared with the method of Japanese Patent Laid-Open No. 8-174822 in which two piezoelectric element plates are bonded.

【0046】チャンネル溝2は、図示のように、水平方
向に研削され、各チャンネル溝2内の両側壁は互いに平
行に形成される。チャンネル溝2の形は、溝の両側壁が
垂直方向に立ち上がっており、そして互いに平行である
から、溝の入口(アクチュエーター基盤3の後面側のイ
ンク供給側)と出口(アクチュエーター基盤3の前面側
のインク吐出側)で大きさと形状がほとんど変わらない
ストレートタイプになる。かかるストレートタイプのチ
ャンネル溝2によって構成されるインク溝は、従来のイ
ンク入口浅溝タイプの溝に比べ、泡抜けが良く、電力効
率が高く、発熱が少なく、高速応答性が良好になる。ま
た、高価な圧電素子板の使用量を大幅に節約できる。溝
の深さは150〜300μm、幅は40〜100μm、
長さは1〜10mmで、溝ピッチ80〜200μmが好
ましい。
As shown in the figure, the channel grooves 2 are ground in the horizontal direction, and both side walls in each channel groove 2 are formed parallel to each other. The shape of the channel groove 2 is such that both side walls of the groove stand upright in the vertical direction and are parallel to each other, so that the inlet (the ink supply side on the rear surface side of the actuator substrate 3) and the outlet (the front surface side of the actuator substrate 3) of the groove are formed. It becomes a straight type with almost the same size and shape on the ink ejection side. The ink groove formed by the straight type channel groove 2 has better bubble removal, higher power efficiency, less heat generation, and better high-speed response than the conventional ink inlet shallow groove type groove. In addition, the amount of expensive piezoelectric element plate used can be greatly saved. The depth of the groove is 150 to 300 μm, the width is 40 to 100 μm,
The length is 1 to 10 mm, and the groove pitch is preferably 80 to 200 μm.

【0047】このようにして形成したチャンネル溝2
は、目的に応じて、インクを吐出するインク溝とインク
を吐出しない空気溝として使用することができる。この
場合、インク溝と空気溝を交互に配置させ、吐出の振動
が隣接するインク溝に及ばないようにすることで、高速
吐出が可能となると共に、全インク溝から同時に吐出さ
せることが可能になるので、チャンネル当りのプリント
速度を大幅に向上できるようになるために好ましい。
The channel groove 2 thus formed
Can be used as an ink groove that ejects ink and an air groove that does not eject ink, depending on the purpose. In this case, by arranging the ink grooves and the air grooves alternately so that the vibration of ejection does not reach the adjacent ink grooves, it is possible to eject at high speed and simultaneously eject from all ink grooves. Therefore, it is preferable because the printing speed per channel can be greatly improved.

【0048】更に、形成したチャンネル溝2を全てイン
ク溝として使用しても良い。この場合は、クロストーク
を防ぐため、前述した3サイクル吐出法が好ましい。本
発明はそのいずれでも良い。
Further, all the formed channel grooves 2 may be used as ink grooves. In this case, in order to prevent crosstalk, the above-mentioned 3-cycle ejection method is preferable. The present invention may be any of them.

【0049】また、チャンネル溝2をインク溝と空気溝
とに分けて使用する場合には、各チャンネル溝2は、図
示するように全てほぼ同一幅、ほぼ同一深さとする必要
はなく、インク溝と空気溝とで幅及び深さを異ならせる
ようにしても良い。
When the channel groove 2 is divided into an ink groove and an air groove for use, it is not necessary that all the channel grooves 2 have substantially the same width and the same depth as shown in the drawing. The width and the depth of the air groove may be different.

【0050】シェヤーモードインクジェットヘッドにお
いては、インクを吐出できる周期は、インク溝の長さを
インク中の音速で割った時間の整数倍に限られるので、
高周波で吐出するには、インク溝の長さを短くすること
が好ましい。浅溝部を持つ入口浅溝型より、図示するよ
うな短い溝を持つストレート溝型の方が、高速吐出に都
合が良い。
In the shear mode ink jet head, the period in which ink can be ejected is limited to an integral multiple of the time obtained by dividing the length of the ink groove by the speed of sound in the ink.
In order to eject at high frequency, it is preferable to shorten the length of the ink groove. A straight groove type having a short groove as shown in the drawing is more convenient for high-speed ejection than an inlet shallow groove type having a shallow groove portion.

【0051】次の工程は、前記アクチュエーター基盤3
におけるチャンネル溝2を形成した面に天板4を接着し
て、図2に示すヘッド基盤5を作成する工程である。
The next step is to perform the actuator base 3
2 is a step of adhering the top plate 4 to the surface on which the channel groove 2 is formed in to form the head substrate 5 shown in FIG.

【0052】天板4としては、アクチュエーター基盤3
に用いられる圧電素子板1と熱膨張係数が近いセラミッ
クスを使用することが好ましい。例えば、アクチュエー
ター基盤3に用いられる圧電素子板1と同じ圧電素子板
(PZT)を脱分極して使用することが好ましい。
As the top plate 4, the actuator base 3 is used.
It is preferable to use a ceramic whose coefficient of thermal expansion is close to that of the piezoelectric element plate 1 used for. For example, it is preferable to use the same piezoelectric element plate (PZT) as the piezoelectric element plate 1 used for the actuator base 3 after depolarizing it.

【0053】アクチュエーター基盤3と天板4の接合手
段としては、エポキシ接着剤で接着し、14〜20kg
/cm2の圧力と、90〜100℃の温度をかけて、3
0分間硬化させることが好ましい。PZTは高価なの
で、天板4として安価なアルミナ基盤を用い、これを室
温硬化型接着剤、例えば、(株)日本エーブルスティッ
ク製のエーブルボンド931−1、931−1T1N等
でアクチュエーター基盤3と接着しても良い。この場
合、接着時に加熱を要しないので、熱膨張係数の差は問
題にならない。
As a means for joining the actuator base 3 and the top plate 4, an epoxy adhesive is used for bonding, and the weight is 14 to 20 kg.
/ Cm 2 pressure and temperature of 90-100 ℃, 3
It is preferable to cure for 0 minutes. Since PZT is expensive, an inexpensive alumina substrate is used as the top plate 4, and this is bonded to the actuator substrate 3 with a room temperature curable adhesive, for example, Able Bond 931-1, 931-1T1N manufactured by Nippon Able Stick Co., Ltd. You may. In this case, since heating is not required at the time of bonding, the difference in thermal expansion coefficient does not matter.

【0054】なお、詳細については図示しないが、通
常、アクチュエーター基盤3と天板4とを接合した後
は、これをチャンネル溝2と直交する方向に沿って所望
寸法に裁断することによって複数のヘッド基盤5を同時
に形成するようにしている。
Although not shown in detail, usually, after the actuator base 3 and the top plate 4 are joined, the plurality of heads are cut by cutting the actuator base 3 and the top plate 4 into desired dimensions along a direction orthogonal to the channel grooves 2. The base 5 is formed at the same time.

【0055】このようにして形成されたヘッド基盤5に
は、各チャンネル溝2内に、後述する方法によって、電
極及びこの電極と繋がる引き出し配線を形成する。この
引き出し配線の形成に際しては、まず、前記ヘッド基盤
5の前面及び後面の少なくとも一方の面にレーザー光を
照射して、複数のチャンネル溝2の各チャンネル溝2と
ヘッド基盤5の上面及び/又は底面とに繋がる縦溝を形
成する。
On the head substrate 5 thus formed, an electrode and a lead wire connected to this electrode are formed in each channel groove 2 by a method described later. When forming the lead-out wiring, first, at least one of the front surface and the rear surface of the head substrate 5 is irradiated with laser light to form each channel groove 2 of the plurality of channel grooves 2 and the upper surface of the head substrate 5 and / or. A vertical groove connecting to the bottom surface is formed.

【0056】即ち、この縦溝を形成する場所について
は、以下に記載する各態様が挙げられる。
That is, with respect to the place where the vertical groove is formed, the following modes can be mentioned.

【0057】(1)アクチュエーター基盤3の前面及び
後面の少なくとも一方に形成する態様。 (2)天板4の前面及び後面の少なくとも一方に形成す
る態様。 (3)アクチュエーター基盤3及び天板4の、前面及び
後面の少なくとも一方に形成する態様。
(1) A mode in which it is formed on at least one of the front surface and the rear surface of the actuator base 3. (2) A mode in which it is formed on at least one of the front surface and the rear surface of the top plate 4. (3) A mode in which it is formed on at least one of the front surface and the rear surface of the actuator base 3 and the top plate 4.

【0058】そこで、これら各態様について個別に説明
する。
Therefore, each of these aspects will be described individually.

【0059】(1)アクチュエーター基盤3の前面及び
後面の少なくとも一方に形成する態様
(1) Formed on at least one of the front surface and the rear surface of the actuator base 3

【0060】縦溝をアクチュエーター基盤3の前面及び
後面の少なくとも一方に形成する場合、図3に示すよう
に、アクチュエーター基盤3の前面及び後面の少なくと
も一方にレーザー光LBを照射して、一端がチャンネル
溝2に繋がり、他端がヘッド基盤5の底面5bに繋がる
縦溝6を各チャンネル2毎に形成する。図示する例では
アクチュエーター基盤3の後面のみに縦溝6を形成する
ものを示している。
When the vertical groove is formed on at least one of the front surface and the rear surface of the actuator base 3, as shown in FIG. 3, at least one of the front surface and the rear surface of the actuator base 3 is irradiated with the laser beam LB, and one end of the channel is formed. A vertical groove 6 which is connected to the groove 2 and whose other end is connected to the bottom surface 5b of the head substrate 5 is formed for each channel 2. In the illustrated example, the vertical groove 6 is formed only on the rear surface of the actuator base 3.

【0061】この縦溝6は、機械的な研削ではなく、レ
ーザー光の照射によって溝を掘るようにして形成するの
で、溝の側壁の欠けや割れが発生する心配はない。ま
た、機械的な研削では作れない微細な溝を高密度に形成
することが可能である。しかも、各チャンネル溝2間に
はレーザー光が照射されないため、本実施形態に示すよ
うに2枚の圧電素子板1a、1bを用いた場合でも、そ
れら2枚の圧電素子板1a、1b間の接着層にはレーザ
ー光は照射されず、接着層が破壊されることはない。従
って、接着層の破壊によるインク漏れが発生することは
ない。
Since the vertical groove 6 is formed not by mechanical grinding but by digging the groove by laser light irradiation, there is no fear of chipping or cracking of the side wall of the groove. Further, it is possible to form a high density of fine grooves that cannot be formed by mechanical grinding. Moreover, since the laser beam is not irradiated between the respective channel grooves 2, even when the two piezoelectric element plates 1a and 1b are used as shown in the present embodiment, the space between the two piezoelectric element plates 1a and 1b is reduced. The adhesive layer is not irradiated with laser light, and the adhesive layer is not destroyed. Therefore, ink leakage due to breakage of the adhesive layer does not occur.

【0062】レーザー光で縦溝6を掘る条件は、レーザ
ー光の波長やパルスレートにも依存するが、幅約30μ
m、深さ約10μmの溝を掘るのに、約50J/cm2
以上のエネルギー密度を要する。例えば、被加工面で4
00μm2に集束されたYAGレーザーの第2高調波光
を、1パルスエネルギー0.4mJ、パルスレート3K
Hzで、X,Yガルバノミラーを通して照射すること
で、縦溝6を掘ることができる。この縦溝6の幅は10
〜30μmが好ましい。また、その深さは10〜20μ
mが好ましい。
The condition for digging the longitudinal groove 6 with laser light depends on the wavelength and pulse rate of the laser light, but the width is about 30 μm.
m, about 50 J / cm 2 to dig a groove with a depth of about 10 μm
The above energy density is required. For example, 4 on the work surface
The second harmonic light of the YAG laser focused at 00 μm 2 was emitted with a pulse energy of 0.4 mJ and a pulse rate of 3K.
The vertical groove 6 can be dug by irradiating through the X, Y galvanometer mirror at Hz. The width of this vertical groove 6 is 10
-30 μm is preferable. The depth is 10 to 20μ.
m is preferred.

【0063】次に、このようにして縦溝6が形成された
ヘッド基盤5の全面に無電解めっきを施してめっき金属
を析出させる。
Next, electroless plating is applied to the entire surface of the head substrate 5 in which the vertical groove 6 is formed in this way to deposit a plating metal.

【0064】この無電解めっき工程は、前処理工程とめ
っき工程からなる。前処理としては、脱脂処理、エッチ
ング処理、触媒吸着、水洗処理等が挙げられる。上記ヘ
ッド基盤5を、濃度0.1%の塩化第1錫水溶液に浸漬
して塩化第1錫を吸着させ、続いて濃度0.01%の塩
化パラジウム水溶液に浸漬して塩化パラジウムを吸着さ
せ、先に吸着した塩化第1錫と塩化パラジウムの間で酸
化還元反応(SnCl 2+PdCl2→SnCl4+Pd
↓)により金属パラジウムを形成する。この金属パラジ
ウムが無電解めっきの触媒となる。
This electroless plating process is not limited to the pretreatment process.
It consists of a process. As pretreatment, degreasing and etching
And the like. Above
Soaking the substrate 5 in a 0.1% concentration stannous chloride solution
To adsorb stannous chloride, followed by 0.01% salt
Immerse in palladium chloride aqueous solution to adsorb palladium chloride.
The acid between the stannous chloride and palladium chloride adsorbed earlier.
Redox reaction (SnCl 2+ PdCl2→ SnClFour+ Pd
↓) forms metallic palladium. This metal paradigm
Um serves as a catalyst for electroless plating.

【0065】次に、触媒が吸着されたヘッド基盤5に無
電解めっきを行う。めっき金属はヘッド基盤5の触媒吸
着面に析出され、このめっき金属により電極が形成され
る。
Next, electroless plating is performed on the head substrate 5 on which the catalyst has been adsorbed. The plated metal is deposited on the catalyst adsorption surface of the head substrate 5, and the plated metal forms an electrode.

【0066】電極を形成するための金属としては、Ni
(ニッケル)、Co(コバルト)、Cu(銅)、Al
(アルミニウム)等があるが、これらのうちでNiやC
uが好ましく、特にNiが好ましい。無電解めっきによ
る電極形成においては、Ni−Pめっき又はNi−Bめ
っきを単独で使用しても良い。或いはNi−PとNi−
Bを重層しても良い。Ni−PめっきはP含量が高くな
ると電気抵抗が増大するので、P含量が1〜数%程度の
ものが良い。Ni−BめっきのB含量は、普通1%以下
なので、Ni−PよりNi含量が多く、電気抵抗が低
く、また、外部配線との接続性が良いため、Ni−Pよ
りNi−Bの方が好ましい。
Ni was used as a metal for forming the electrodes.
(Nickel), Co (cobalt), Cu (copper), Al
(Aluminum), etc., but among these, Ni and C
u is preferable, and Ni is particularly preferable. In electrode formation by electroless plating, Ni-P plating or Ni-B plating may be used alone. Or Ni-P and Ni-
B may be layered. Since the electric resistance of Ni-P plating increases as the P content increases, a P content of about 1 to several% is preferable. Since the B content of Ni-B plating is usually 1% or less, the Ni content is higher than that of Ni-P, the electric resistance is low, and the connectivity with external wiring is good, so that Ni-B is better than Ni-P. Is preferred.

【0067】無電解めっきを施す際には、めっき液がヘ
ッド基盤5の表面のみならず、チャンネル溝2と縦溝6
の内部にまで行きわたって、全体が均一にめっきされる
よう、ヘッド基盤5を振動又は揺動させることが好まし
い。
When performing electroless plating, the plating solution is applied not only to the surface of the head substrate 5 but also to the channel grooves 2 and the vertical grooves 6.
It is preferable to vibrate or oscillate the head substrate 5 so that the entire surface is evenly plated and evenly plated.

【0068】以上のようにして、ヘッド基盤5の全面、
即ちチ各ャンネル溝2内と縦溝6内にも無電解めっきが
施される。
As described above, the entire surface of the head substrate 5,
That is, electroless plating is also applied to each channel groove 2 and each vertical groove 6.

【0069】次の工程は、ヘッド基盤5の前面及び後面
を研磨してヘッド基盤5の表面に析出しためっき金属を
除去し、各チャンネル溝2と各縦溝6の中にめっき金属
を残して、それにより、図4に示すように電極2aと縦
配線7を形成する工程である。図中、斜線で示す部分が
めっき金属が残存する部分である。
In the next step, the front and rear surfaces of the head substrate 5 are polished to remove the plated metal deposited on the surface of the head substrate 5, leaving the plated metal in each channel groove 2 and each vertical groove 6. This is the step of forming the electrodes 2a and the vertical wirings 7 as shown in FIG. In the figure, the shaded portion is the portion where the plated metal remains.

【0070】めっき金属を除去するには、通常の研磨機
で研磨すれば良い。研磨機による研磨は、ヘッド基盤5
の前面及び後面に対して行う。また、ヘッド基盤5の側
面は、必要に応じて研磨しても良いし、めっきした後に
ヘッド基盤5を所定長さに裁断することで、非めっき部
分を露出させるようにしても良い。
In order to remove the plated metal, it may be polished with a usual polishing machine. The polishing by the polishing machine is performed on the head substrate 5
To the front and back of the. Further, the side surface of the head substrate 5 may be polished as necessary, or the non-plated portion may be exposed by cutting the head substrate 5 to a predetermined length after plating.

【0071】以上のように研磨すると、ヘッド基盤5の
前面及び後面において、その表面のめっき金属は除去さ
れるが、チャンネル溝2と縦溝6の中に析出しためっき
金属は残るので、これを電極2aと該電極2aに繋がる
縦配線7として使用する。また、この研磨によって、レ
ーザー光の照射部に生じた凹凸を平滑化できるので、後
工程においてノズル板、絞り板及びインクマニホールド
を確実に接着できるようになる。
By polishing as described above, the plating metal on the front and rear surfaces of the head substrate 5 is removed, but the plating metal deposited in the channel grooves 2 and the vertical grooves 6 remains. It is used as the electrode 2a and the vertical wiring 7 connected to the electrode 2a. In addition, since the polishing can smooth the unevenness generated in the laser light irradiation portion, the nozzle plate, the diaphragm plate, and the ink manifold can be reliably bonded in the subsequent process.

【0072】次に、図5に示すようにヘッド基盤5の底
面5bにレーザー光LBを照射して、底面5bに析出し
ためっき金属の一部をチャンネル溝2とほぼ平行に線状
に除去して除去部9を形成することにより、各チャンネ
ル溝2毎に独立した配線となるように、前記縦配線7と
繋がる横配線8、8…を区分けする。この縦配線7と横
配線8によって、各チャンネル溝2内の電極2aから引
き出される引き出し配線が構成される。
Next, as shown in FIG. 5, the bottom surface 5b of the head substrate 5 is irradiated with a laser beam LB to linearly remove a part of the plated metal deposited on the bottom surface 5b substantially parallel to the channel groove 2. By forming the removed portion 9 by means of this, the horizontal wirings 8, 8 ... Connected to the vertical wirings 7 are divided so that each channel groove 2 becomes an independent wiring. The vertical wiring 7 and the horizontal wiring 8 constitute a lead-out wiring led out from the electrode 2a in each channel groove 2.

【0073】これで、縦配線7及び横配線8により構成
される引き出し配線をチャンネル溝2毎に独立させるこ
とができる。
With this, the lead-out wiring constituted by the vertical wiring 7 and the horizontal wiring 8 can be made independent for each channel groove 2.

【0074】各チャンネル溝2毎の縦溝6をアクチュエ
ーター基盤3の前面に設ける場合も、上記と同様にして
行うことができる。
When the vertical groove 6 for each channel groove 2 is provided on the front surface of the actuator base 3, the same operation as described above can be performed.

【0075】この(1)の態様では、縦溝6をアクチュ
エーター基盤3の前面及び後面の両方に形成することも
できる。この場合は、図6に示すように、アクチュエー
ター基盤3の前面及び後面にレーザー光を照射して、複
数のチャンネル溝2の各チャンネル溝2とヘッド基盤5
の底面5bとに繋がる縦溝を、アクチュエーター基盤3
の前面と後面の両方に形成する。
In the mode (1), the vertical groove 6 can be formed on both the front surface and the rear surface of the actuator base 3. In this case, as shown in FIG. 6, the front surface and the rear surface of the actuator base 3 are irradiated with laser light so that each channel groove 2 of the plurality of channel grooves 2 and the head base 5 are exposed.
The vertical groove connected to the bottom surface 5b of the actuator base 3
Formed on both the front and back surfaces of.

【0076】図示する例では、アクチュエーター基盤3
の後面に位置する縦溝を符号6aとし、前面に位置する
縦溝を符号6bとし、チャンネル溝2の1本おきにアク
チュエーター基盤3の前面と後面とで交互になるように
形成するものを示しているが、縦溝はアクチュエーター
基盤3の前面と後面の両方に形成されていれば良く、必
ずしも図示する態様に限定されない。
In the illustrated example, the actuator base 3
The vertical groove located on the rear surface is designated by reference numeral 6a, and the vertical groove positioned on the front surface is designated by reference numeral 6b, and alternate channel grooves 2 are formed so that the front surface and the rear surface of the actuator base 3 alternate. However, the vertical groove may be formed on both the front surface and the rear surface of the actuator base 3, and is not necessarily limited to the illustrated mode.

【0077】これら縦溝6a、6bを形成した後は、上
記同様に、めっき工程、研磨工程を経て、図7(a)
(b)に示すようにそれぞれ各チャンネル溝2内に電極
2aと、各縦溝6a、6b内に残存するめっき金属によ
り上記電極2aに繋がる縦配線7a、7bとを形成した
後、ヘッド基盤5の底面5bにレーザー光を照射して、
底面5bに析出しためっき金属の一部を線状に除去する
ことにより、前記縦配線7aと繋がる横配線8aと、縦
配線7bと繋がる横配線8bをそれぞれ形成するが、こ
の横配線8a、8bの形成に際しては、各チャンネル溝
2を空気溝21とインク溝22とに分け、それらを交互
に配置して使用する場合と、各チャンネル溝2を全てイ
ンク溝として使用する場合とで方法が若干異なる。
After the vertical grooves 6a and 6b are formed, a plating process and a polishing process are performed in the same manner as described above, and then, as shown in FIG.
After forming the electrodes 2a in the respective channel grooves 2 and the vertical wirings 7a and 7b connected to the electrodes 2a by the plated metal remaining in the respective vertical grooves 6a and 6b, as shown in FIG. Irradiate the bottom surface 5b of the with laser light,
By removing a part of the plated metal deposited on the bottom surface 5b in a linear manner, horizontal wirings 8a connected to the vertical wirings 7a and horizontal wirings 8b connected to the vertical wirings 7b are formed. The horizontal wirings 8a and 8b are formed. When forming, the channel groove 2 is divided into an air groove 21 and an ink groove 22 and these are arranged alternately and used, and there is a slight difference in the method when all the channel grooves 2 are used as ink grooves. different.

【0078】即ち、前者の場合は、図7(a)に示すよ
うに、ヘッド基盤5の底面5bに、チャンネル溝2とほ
ぼ直交する方向に沿ってレーザー光を照射することによ
り、ヘッド基盤5の前面側と後面側とを分離するように
めっき金属を線状に一部除去して除去部9aを形成し、
そのうちのヘッド基盤5の前面側に残存するめっき金属
により空気溝21用の一つの横配線8bを区分けすると
共に、ヘッド基盤5の後面側に残存するめっき金属を、
更に各インク溝22用の縦配線7a毎に独立した配線と
なるように、チャンネル溝2とほぼ平行に線状に一部除
去することで除去部9b、9b…を形成し、インク溝2
2用の横配線8a、8a…を区分けする。これで、縦配
線7a及び横配線8aにより構成される引き出し配線を
インク溝22毎に独立させることができる。
That is, in the former case, as shown in FIG. 7A, by irradiating the bottom surface 5b of the head substrate 5 with laser light along a direction substantially orthogonal to the channel groove 2, the head substrate 5 is formed. Part of the plating metal is removed linearly so as to separate the front side and the rear side of
One horizontal wiring 8b for the air groove 21 is divided by the plating metal remaining on the front surface side of the head substrate 5, and the plating metal remaining on the rear surface side of the head substrate 5 is divided into
Further, the removal portions 9b, 9b ... Are formed by partially removing linearly in parallel with the channel groove 2 so that each vertical wiring 7a for each ink groove 22 becomes an independent wiring, and the ink groove 2 is formed.
The horizontal wirings 8a for 8 and 8a are divided. In this way, the lead-out wiring constituted by the vertical wiring 7a and the horizontal wiring 8a can be made independent for each ink groove 22.

【0079】また、後者の場合は、図7(b)に示すよ
うに、ヘッド基盤5の底面5bにチャンネル溝2とほぼ
直交する方向に沿ってレーザー光を照射することによ
り、ヘッド基盤5の前面側と後面側とを分離するように
めっき金属を線状に一部除去して除去部9aを形成し、
そのうちのヘッド基盤5の前面側に残存するめっき金属
を、更にその前面に位置する各縦配線7b毎に独立した
配線となるように、チャンネル溝2とほぼ平行に線状に
一部除去して除去部9b、9b…を形成して横配線8
b、8b…を区分けする。また、同様にしてヘッド基盤
5の後面側に残存するめっき金属を、その後面に位置す
る各縦配線7a毎に独立した配線となるように、各チャ
ンネル溝2とほぼ平行に線状に一部除去して除去部9
c、9c…を形成して横配線8a、8a…を区分けす
る。これで、縦配線7a、7b及び横配線8a、8bに
より構成される引き出し配線をチャンネル溝2毎に独立
させることができる。
In the latter case, as shown in FIG. 7 (b), the bottom surface 5b of the head substrate 5 is irradiated with laser light along a direction substantially orthogonal to the channel groove 2 so that the head substrate 5 is exposed. The plating metal is partially removed linearly so as to separate the front surface side and the rear surface side to form a removed portion 9a,
A part of the plated metal remaining on the front surface side of the head substrate 5 is linearly removed in parallel with the channel groove 2 so that each vertical wiring 7b located on the front surface becomes an independent wiring. The removal portions 9b, 9b ... Are formed to form the horizontal wiring 8.
b, 8b ... are classified. Similarly, the plated metal remaining on the rear surface side of the head substrate 5 is partially linearly formed substantially parallel to each channel groove 2 so that each vertical wiring 7a located on the rear surface becomes an independent wiring. Removal and removal unit 9
.. are formed to divide the horizontal wirings 8a, 8a. As a result, the lead-out wiring constituted by the vertical wirings 7a and 7b and the horizontal wirings 8a and 8b can be made independent for each channel groove 2.

【0080】図7(a)に示す前者の態様によれば、全
空気溝21に繋がる横配線8bをまとめてグランドに落
としておけば良いので配線形成を簡単にすることができ
る。しかも、各インク溝22に対応する縦配線7aと横
配線8aとからなる引き出し配線の密度を低下させるこ
とができるため、図5に示すヘッド基盤5に比べて、各
引き出し配線のピッチを倍にすることができ、各引き出
し配線を異方導電性フィルム(ACF)を用いてフレキ
シブルケーブルと接続するための位置合わせの際のマー
ジンが大きくなり、ショートによる不良を誘発する危険
性を著しく低減させることができる。
According to the former mode shown in FIG. 7 (a), the horizontal wirings 8b connected to all the air grooves 21 may be collectively grounded, so that the wiring formation can be simplified. Moreover, since the density of the lead-out wiring composed of the vertical wiring 7a and the horizontal wiring 8a corresponding to each ink groove 22 can be reduced, the pitch of each lead-out wiring is doubled as compared with the head substrate 5 shown in FIG. It is possible to significantly reduce the risk of causing a defect due to a short circuit by increasing the alignment margin for connecting each lead wire with a flexible cable using an anisotropic conductive film (ACF). You can

【0081】なお、図7(a)に示す例では、除去部9
aの端部を屈曲させてチャンネル溝2とほぼ平行な除去
部9a’を形成することで、横配線8bを、インク溝2
2用の引き出し配線を構成する横配線8aと並列させて
設けるようにしている。このようにすると、全空気溝2
1のグランドの取り出し位置を、底面5bにおいて横配
線8aと同じ側(ここでは後面側)にまとめて配置させ
ることができるようになる利点がある。
In the example shown in FIG. 7A, the removing unit 9
By bending the end portion of a to form the removed portion 9a ′ that is substantially parallel to the channel groove 2, the horizontal wiring 8b is connected to the ink groove 2
It is arranged in parallel with the horizontal wiring 8a constituting the lead wiring for two. In this way, all air grooves 2
There is an advantage that it is possible to collectively arrange the first ground take-out positions on the same side of the bottom surface 5b as the horizontal wiring 8a (here, the rear surface side).

【0082】また、図7(b)に示す後者の態様によれ
ば、各チャンネル溝2に繋がる縦配線7を、ヘッド基盤
5の前面と後面とに分けて設けることで、各縦配線7に
繋がる横配線8とにより構成される引き出し配線の密度
を低下させることができるので、全チャンネル溝2をイ
ンク溝22として使用するにも関わらず、図5に示すヘ
ッド基盤5に比べて、各引き出し配線のピッチを倍にす
ることができるので、各引き出し配線を異方導電性フィ
ルム(ACF)を用いてフレキシブルケーブルと接続す
るための位置合わせの際のマージンが大きくなり、ショ
ートによる不良を誘発する危険性を著しく低減させるこ
とができる。
Further, according to the latter mode shown in FIG. 7B, the vertical wirings 7 connected to the respective channel grooves 2 are separately provided on the front surface and the rear surface of the head substrate 5, so that the respective vertical wirings 7 are provided. Since it is possible to reduce the density of the lead wiring formed by the horizontal wirings 8 connected to each other, even though all the channel grooves 2 are used as the ink grooves 22, each lead groove is different from the head substrate 5 shown in FIG. Since the wiring pitch can be doubled, the alignment margin for connecting each lead wiring to the flexible cable by using the anisotropic conductive film (ACF) becomes large, which causes a defect due to a short circuit. The risk can be significantly reduced.

【0083】(2)天板4の前面及び後面の少なくとも
一方に形成する態様
(2) Form on at least one of the front surface and rear surface of the top plate 4

【0084】縦溝を天板4の前面及び後面の少なくとも
一方に形成する場合、図8に示すように、天板4の前面
及び後面の少なくとも一方に、レーザー光を照射して、
一端がチャンネル溝2に繋がり、他端がヘッド基盤5の
上面5aに繋がる縦溝6を各チャンネル溝2毎に形成す
る。図示する例では天板4の後面のみに縦溝6を形成す
るものを示している。
When the vertical groove is formed on at least one of the front surface and the rear surface of the top plate 4, as shown in FIG. 8, at least one of the front surface and the back surface of the top plate 4 is irradiated with laser light,
A vertical groove 6 having one end connected to the channel groove 2 and the other end connected to the upper surface 5a of the head substrate 5 is formed for each channel groove 2. In the illustrated example, the vertical groove 6 is formed only on the rear surface of the top plate 4.

【0085】縦溝6を形成した後は、上記(1)と同様
に、めっき工程、研磨工程を経て、図9に示すように、
それぞれ各チャンネル溝2内に電極2aと、各縦溝6内
に残存するめっき金属により上記電極2aと繋がる縦配
線7とを形成した後、ヘッド基盤5の上面5aに、レー
ザー光を照射して、上面5aに析出しためっき金属の一
部をチャンネル溝2とほぼ平行に線状に除去して除去部
9を形成することにより、各チャンネル溝2毎に独立し
た配線となるように、前記縦配線7と繋がる横配線8、
8…を区分けする。この縦配線7と横配線8によって、
各チャンネル溝2内の電極2aから引き出される引き出
し配線が構成される。
After the vertical groove 6 is formed, the plating step and the polishing step are performed in the same manner as in the above (1), and as shown in FIG.
After forming the electrodes 2a in the respective channel grooves 2 and the vertical wirings 7 connected to the electrodes 2a by the plating metal remaining in the respective vertical grooves 6, the upper surface 5a of the head substrate 5 is irradiated with laser light. , A part of the plated metal deposited on the upper surface 5a is linearly removed in parallel with the channel groove 2 to form a removed portion 9, so that each channel groove 2 becomes an independent wiring. Horizontal wiring 8 connected to wiring 7,
Divide 8 ... By this vertical wiring 7 and horizontal wiring 8,
A lead-out wiring that is led out from the electrode 2a in each channel groove 2 is formed.

【0086】これで、縦配線7及び横配線8により構成
される引き出し配線をチャンネル溝2毎に独立させるこ
とができる。
With this, the lead-out wiring constituted by the vertical wiring 7 and the horizontal wiring 8 can be made independent for each channel groove 2.

【0087】各チャンネル溝2毎の縦溝6を天板4の前
面に設ける場合も、上記と同様にして行うことができ
る。
The vertical groove 6 for each channel groove 2 may be provided on the front surface of the top plate 4 in the same manner as described above.

【0088】また、縦溝6を天板4の前面及び後面の両
方に形成する場合は、図10に示すように、天板4の前
面及び後面にレーザー光を照射して、複数のチャンネル
溝2の各チャンネル溝2とヘッド基盤5の上面5aとに
繋がる縦溝を、天板4の前面と後面の両方に形成する。
When the vertical grooves 6 are formed on both the front and rear surfaces of the top plate 4, as shown in FIG. 10, the front and rear surfaces of the top plate 4 are irradiated with laser light to form a plurality of channel grooves. Vertical grooves connecting the respective channel grooves 2 of 2 and the upper surface 5a of the head substrate 5 are formed on both the front surface and the rear surface of the top plate 4.

【0089】図示する例では、天板4の後面に位置する
縦溝を符号6aとし、前面に位置する縦溝を符号6bと
し、チャンネル溝2の1本おきにアクチュエーター基盤
3の前面と後面とで交互になるように形成するものを示
しているが、縦溝は天板4の前面と後面との両方に形成
されていれば良く、必ずしも図示する態様に限定されな
い。
In the illustrated example, the vertical groove located on the rear surface of the top plate 4 is designated by reference numeral 6a, the vertical groove positioned on the front surface is designated by reference numeral 6b, and every other channel groove 2 is connected to the front and rear surfaces of the actuator base 3. However, the vertical groove may be formed on both the front surface and the rear surface of the top plate 4, and is not necessarily limited to the illustrated mode.

【0090】これら縦溝6a及び縦溝6bを形成した後
は、上記(1)と同様に、めっき工程、研磨工程を経
て、図11(a)(b)に示すように、それぞれ各チャ
ンネル溝2内に電極2aと、各縦溝6a、6b内に残存
するめっき金属により上記電極2aと繋がる縦配線7
a、7bを形成した後、ヘッド基盤5の底面5bにレー
ザー光を照射して、底面5bに析出しためっき金属の一
部を線状に除去することにより、前記縦配線7aと繋が
る横配線8aと、縦配線7bと繋がる横配線8bをそれ
ぞれ形成するが、ここでも横配線8a、8bの形成に際
しては、図7(a)(b)に示した態様と同様、各チャ
ンネル溝2を空気溝21とインク溝22とに分け、それ
らを交互に配置して使用する場合と、各チャンネル溝2
を全てインク溝として使用する場合とで方法を異にす
る。
After the vertical grooves 6a and 6b are formed, a plating step and a polishing step are performed in the same manner as in the above (1), and as shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b), each channel groove is formed. 2 and the vertical wiring 7 connected to the electrode 2a by the plating metal remaining in the vertical grooves 6a and 6b.
After forming a and 7b, the bottom surface 5b of the head substrate 5 is irradiated with laser light to linearly remove a part of the plating metal deposited on the bottom surface 5b, thereby forming a horizontal wiring 8a connected to the vertical wiring 7a. And horizontal wirings 8b connected to the vertical wirings 7b are respectively formed. Here, when forming the horizontal wirings 8a and 8b, each channel groove 2 is formed in the same manner as the embodiment shown in FIGS. 7A and 7B. 21 and the ink groove 22, and when these are alternately arranged and used, each channel groove 2
The method is different from the case where all are used as ink grooves.

【0091】即ち、前者の場合は、図11(a)に示す
ように、ヘッド基盤5の上面5aに、チャンネル溝2と
ほぼ直交する方向に沿ってレーザー光を照射することに
より、ヘッド基盤5の前面側と後面側とを分離するよう
にめっき金属を線状に一部除去して除去部9aを形成
し、そのうちのヘッド基盤5の前面側に残存するめっき
金属により空気溝21用の一つの横配線8bを区分けす
ると共に、ヘッド基盤5の後面側に残存するめっき金属
を、更に各インク溝22用の縦配線7a毎に独立した配
線となるように、チャンネル溝2とほぼ平行に線状に一
部除去することで除去部9b、9b…を形成し、インク
溝22用の横配線8a、8a…を区分けする。これで、
縦配線7a及び横配線8aにより構成される引き出し配
線をインク溝22毎に独立させることができる。
That is, in the former case, as shown in FIG. 11A, the upper surface 5a of the head substrate 5 is irradiated with laser light along a direction substantially orthogonal to the channel groove 2 so that the head substrate 5 is exposed. Part of the plated metal is removed linearly so as to separate the front side and the rear side of the head substrate 5 to form the removed portion 9a. The two horizontal wirings 8b are divided, and the plating metal remaining on the rear surface side of the head substrate 5 is lined substantially parallel to the channel groove 2 so that each vertical wiring 7a for each ink groove 22 becomes an independent wiring. Are partially removed to form the removed portions 9b, 9b ... And the lateral wirings 8a, 8a. with this,
The lead-out wiring formed by the vertical wiring 7a and the horizontal wiring 8a can be made independent for each ink groove 22.

【0092】また、後者の場合は、図11(b)に示す
ように、ヘッド基盤5の上面5aにチャンネル溝2とほ
ぼ直交する方向に沿ってレーザー光を照射することによ
り、ヘッド基盤5の前面側と後面側とを分離するように
めっき金属を線状に一部除去して除去部9aを形成し、
そのうちのヘッド基盤5の前面側に残存するめっき金属
を、更にその前面に位置する各縦配線7b毎に独立した
配線となるように、チャンネル溝2とほぼ平行に線状に
一部除去して除去部9b、9b…を形成して横配線8
b、8b…を区分けする。また、同様にしてヘッド基盤
5の後面側に残存するめっき金属を、その後面に位置す
る各縦配線7a毎に独立した配線となるように、各チャ
ンネル溝2とほぼ平行に線状に一部除去して除去部9
c、9c…を形成して横配線8a、8a…を区分けす
る。これで、縦配線7a、7b及び横配線8a、8bに
より構成される引き出し配線をチャンネル溝2毎に独立
させることができる。
In the latter case, as shown in FIG. 11B, the upper surface 5a of the head substrate 5 is irradiated with laser light along a direction substantially orthogonal to the channel groove 2 so that the head substrate 5 is exposed. The plating metal is partially removed linearly so as to separate the front surface side and the rear surface side to form a removed portion 9a,
A part of the plated metal remaining on the front surface side of the head substrate 5 is linearly removed in parallel with the channel groove 2 so that each vertical wiring 7b located on the front surface becomes an independent wiring. The removal portions 9b, 9b ... Are formed to form the horizontal wiring 8.
b, 8b ... are classified. Similarly, the plated metal remaining on the rear surface side of the head substrate 5 is partially linearly formed substantially parallel to each channel groove 2 so that each vertical wiring 7a located on the rear surface becomes an independent wiring. Removal and removal unit 9
.. are formed to divide the horizontal wirings 8a, 8a. As a result, the lead-out wiring constituted by the vertical wirings 7a and 7b and the horizontal wirings 8a and 8b can be made independent for each channel groove 2.

【0093】図11(a)に示す前者の態様によれば、
図7(a)に示す態様と同様の効果があり、また、図1
1(b)に示す後者の態様によれば、図7(b)に示す
態様と同様の効果がある。
According to the former mode shown in FIG. 11 (a),
7A has the same effect as that of the embodiment shown in FIG.
According to the latter mode shown in FIG. 1 (b), the same effect as the mode shown in FIG. 7 (b) can be obtained.

【0094】(3)アクチュエーター基盤3及び天板4
の、前面及び後面の少なくとも一方に形成する態様
(3) Actuator base 3 and top plate 4
Of at least one of the front surface and the rear surface of

【0095】縦溝をアクチュエーター基盤3及び天板4
の前面及び後面の少なくとも一方に形成する場合は、図
12(a)(b)に示すように、ヘッド基盤5の前面及
び後面の少なくとも一方にレーザー光を照射して、複数
のチャンネル溝2の各チャンネル溝2とヘッド基盤5の
上面5a及び/又は底面5bとに繋がる縦溝を、ヘッド
基盤5を構成するアクチュエーター基盤3と天板4の両
方に形成した後、上記同様に、めっき工程、研磨工程を
経て、それぞれ各チャンネル溝2内に電極2aと、各縦
溝内に残存するめっき金属により上記電極2aと繋がる
縦配線71、72とを形成し、更に、ヘッド基盤5の上
面5a及び底面5bにレーザー光を照射して、上面5a
及び底面5bに析出しためっき金属の一部をチャンネル
溝2とほぼ平行に線状に除去して除去部9、9…を形成
することにより、各チャンネル溝2毎に独立した配線と
なるように、前記縦配線71、72と繋がる横配線8
1、81…及び82、82…を区分けする。この縦配線
71と横配線81、縦配線72と横配線82によって、
それぞれ各チャンネル溝2内の電極2aから引き出され
る引き出し配線が構成される。
The vertical groove is used as the actuator base 3 and the top plate 4.
12A and 12B, at least one of the front surface and the rear surface of the head substrate 5 is irradiated with laser light to form a plurality of channel grooves 2. After forming vertical grooves connecting to each channel groove 2 and the upper surface 5a and / or the bottom surface 5b of the head substrate 5 on both the actuator substrate 3 and the top plate 4 constituting the head substrate 5, the plating step, After the polishing process, electrodes 2a are formed in the respective channel grooves 2, and vertical wirings 71 and 72 connected to the electrodes 2a are formed by the plating metal remaining in the respective vertical grooves. Further, the upper surface 5a of the head substrate 5 and The bottom surface 5b is irradiated with laser light, and the top surface 5a
And a part of the plated metal deposited on the bottom surface 5b is linearly removed in parallel with the channel groove 2 to form the removed portions 9, 9 ..., By which an independent wiring is provided for each channel groove 2. , Horizontal wiring 8 connected to the vertical wiring 71, 72
1, 81 ... and 82, 82 ... are classified. With the vertical wiring 71 and the horizontal wiring 81, and the vertical wiring 72 and the horizontal wiring 82,
Lead-out wirings that are led out from the electrodes 2a in the respective channel grooves 2 are formed.

【0096】これで、縦配線71、72及び横配線8
1、82により構成される引き出し配線をチャンネル溝
2毎に独立させることができる。
Now, the vertical wirings 71 and 72 and the horizontal wiring 8
The lead-out wiring constituted by 1 and 82 can be made independent for each channel groove 2.

【0097】なお、図示する例では、ヘッド基盤5の後
面に縦溝を形成した例を示しており、図12(a)はヘ
ッド基盤5を上面5a側から見た状態を、図12(b)
は同一のヘッド基盤5を底面5b側から見た状態をそれ
ぞれ示す。
The illustrated example shows an example in which vertical grooves are formed on the rear surface of the head substrate 5, and FIG. 12A shows a state in which the head substrate 5 is viewed from the upper surface 5a side. )
Shows the same head substrate 5 viewed from the bottom surface 5b side.

【0098】また、図示する例では、アクチュエーター
基盤3側の縦溝により形成される縦配線を符号71と
し、天板4側の縦溝により形成される縦配線を符号72
とし、各チャンネル溝2の1本おきにアクチュエーター
基盤3側と天板4側とに交互に形成するものを示してい
るが、この態様では、縦溝がアクチュエーター基盤3及
び天板4の前面及び後面の少なくとも一方に形成されて
いれば良く、必ずしも図示する態様に限定されない。
In the illustrated example, the vertical wiring formed by the vertical groove on the actuator base 3 side is designated by reference numeral 71, and the vertical wiring formed by the vertical groove on the top plate 4 side is designated by reference numeral 72.
It is shown that every other channel groove 2 is alternately formed on the actuator base 3 side and the top plate 4 side, but in this mode, the vertical grooves form the front faces of the actuator base 3 and the top plate 4, and It need only be formed on at least one of the rear surfaces, and is not necessarily limited to the illustrated embodiment.

【0099】この態様によれば、各チャンネル溝2の電
極2aと繋がる引き出し配線を、ヘッド基盤5の上面5
aと底面5bとに分けることができるため、ヘッド基盤
5の上面5aと底面5bとでフレキシブルケーブルと接
続する必要があるが、各チャンネル溝2を全てインク溝
として使用する場合には、それら引き出し配線のピッチ
及び各引き出し配線の面積をいずれも大きくとることが
でき、各引き出し配線をACFを用いてフレキシブルケ
ーブルと接続するための位置合わせの際のマージンがよ
り大きくなり、ショートによる不良を誘発する危険性を
より一層低減させることができる。
According to this aspect, the lead wiring connected to the electrode 2a of each channel groove 2 is connected to the upper surface 5 of the head substrate 5.
Since it can be divided into a and a bottom surface 5b, it is necessary to connect to the flexible cable at the top surface 5a and the bottom surface 5b of the head substrate 5, but when all the channel grooves 2 are used as ink grooves, they are pulled out. Both the wiring pitch and the area of each lead-out wiring can be made large, and the margin at the time of alignment for connecting each lead-out wiring with the flexible cable using the ACF becomes larger, causing a defect due to a short circuit. The risk can be further reduced.

【0100】また、各チャンネル溝2をインク溝と空気
溝として使用し、それらを交互に配設する場合には、図
示するように、各チャンネル溝2の1本おきにアクチュ
エーター基盤3側と天板4側とに交互に縦溝を形成する
ようにすれば、詳細は図示しないが、ヘッド基盤5の上
面5a又は底面5bのいずれかの面をそのまま空気溝用
の引き出し配線とすることも可能となるため、めっき工
程、研磨工程を経た後の引き出し配線の形成工程におい
て、空気溝用の引き出し配線となる面に対してはレーザ
ー光を照射して引き出し配線を区分けする作業を不要と
することができる。
When each channel groove 2 is used as an ink groove and an air groove and these are alternately arranged, as shown in the figure, every other channel groove 2 is connected to the actuator base 3 side and the ceiling. If vertical grooves are alternately formed on the plate 4 side, although not shown in detail, either the upper surface 5a or the bottom surface 5b of the head substrate 5 can be used as the lead wiring for the air groove as it is. Therefore, in the process of forming the lead wiring after the plating process and the polishing process, it is not necessary to irradiate the surface of the lead wiring for the air groove with a laser beam to divide the lead wiring. You can

【0101】なお、レーザー光の照射により縦溝をアク
チュエーター基盤3及び天板4の前面及び後面の少なく
とも一方に形成する態様では、各チャンネル溝2に一つ
の縦溝を形成するものに限らず、図13に示すように、
各チャンネル溝2のそれぞれにおいて、アクチュエータ
ー基盤3と天板4との両方に縦溝を形成し、めっき工
程、研磨工程を経た後、それら縦溝内に残存するめっき
金属により、各チャンネル溝2内の電極2aと繋がる縦
配線71、72をそれぞれ形成するようにしても良い。
縦溝は、その全てをヘッド基盤5の前面又は後面のいず
れかに設けても良いし、例えば縦配線71をアクチュエ
ーター基盤3の前面に設け、縦配線72を天板4の後面
に設けるという具合に、ヘッド基盤5の前面と後面とに
分けて設けるようにしても良いことはもちろんである。
Incidentally, in the mode in which the vertical groove is formed on at least one of the front surface and the rear surface of the actuator base 3 and the top plate 4 by the irradiation of the laser light, it is not limited to the case where one vertical groove is formed in each channel groove 2. As shown in FIG.
In each of the channel grooves 2, vertical grooves are formed on both the actuator base 3 and the top plate 4, and after the plating process and the polishing process, the plating metal remaining in the vertical grooves causes the inside of each channel groove 2 to grow. Vertical wirings 71 and 72 connected to the electrode 2a may be formed respectively.
All the vertical grooves may be provided on either the front surface or the rear surface of the head substrate 5, for example, the vertical wiring 71 is provided on the front surface of the actuator substrate 3 and the vertical wiring 72 is provided on the rear surface of the top plate 4. Of course, the head base 5 may be separately provided on the front surface and the rear surface.

【0102】図示する例では、ヘッド基盤5の後面に全
ての縦配線71、72を形成した例を示しており、図1
3(a)はヘッド基盤5を上面5a側から見た状態を、
図13(b)は同一のヘッド基盤5を底面5b側から見
た状態をそれぞれ示す。
The illustrated example shows an example in which all the vertical wirings 71 and 72 are formed on the rear surface of the head substrate 5, as shown in FIG.
3 (a) shows a state where the head substrate 5 is viewed from the upper surface 5a side,
FIG. 13B shows the same head substrate 5 as viewed from the bottom surface 5b side.

【0103】この場合、ヘッド基盤5の上面5a及び底
面5bには、それぞれ図5又は図9と同様にして、ヘッ
ド基盤5の上面5a及び底面5bにそれぞれレーザー光
を照射し、上面5a及び底面5bに析出しためっき金属
の一部をチャンネル溝2とほぼ平行に線状に除去して除
去部9、9…を形成することにより、各チャンネル溝2
毎に独立した配線となるように、前記縦配線71、72
と繋がる横配線81、81…及び82、82…を区分け
し、引き出し配線を形成する。
In this case, the upper surface 5a and the bottom surface 5b of the head base 5 are irradiated with laser light, respectively, in the same manner as in FIG. 5 or FIG. Each of the channel grooves 2 is formed by linearly removing a part of the plated metal deposited on 5b in parallel with the channel grooves 2 to form the removed portions 9, 9.
The vertical wirings 71 and 72 are arranged so that the wirings are independent of each other.
The horizontal wirings 81, 81 ... And 82, 82.

【0104】この態様によれば、ヘッド基盤5の上面5
aと底面5bとで同一パターンの引き出し配線が形成さ
れるため、各チャンネル溝2を全てインク溝として使用
する場合には、フレキシブルケーブルとの接続面を上面
5a及び底面5bのいずれにすることもできる。
According to this aspect, the upper surface 5 of the head substrate 5 is
Since the lead wiring of the same pattern is formed on the a and the bottom surface 5b, when all the channel grooves 2 are used as ink grooves, the connection surface with the flexible cable may be either the top surface 5a or the bottom surface 5b. it can.

【0105】以上、(1)〜(3)の各態様に示すよう
にしてヘッド基盤5に電極2aとそれに繋がる引き出し
配線とを形成した後は、図14に示すように、前記ヘッ
ド基盤5の前面にノズル板10を、また、前記ヘッド基
盤5の後面に絞り板11とインクマニホールド12を各
々接合する。ここでは図5に示すヘッド基盤5を用いた
例を図示している。
As described above, after the electrodes 2a and the lead wires connected to the electrodes 2a are formed on the head substrate 5 as shown in each of the modes (1) to (3), as shown in FIG. The nozzle plate 10 is bonded to the front surface, and the diaphragm plate 11 and the ink manifold 12 are bonded to the rear surface of the head substrate 5. Here, an example using the head substrate 5 shown in FIG. 5 is shown.

【0106】ノズル板10は、一般にステンレスやポリ
イミドなどで形成されたシート状の薄板に、インク吐出
のためのノズル孔10aが各チャンネル溝2に対応して
設けられている。例えば、125μmのポリイミドシー
トに18μm径のノズル孔10aをチャンネル溝2の数
に合わせて、エキシマレーザー光で穿孔するようにし、
これをヘッド基盤5の前面にエポキシ接着剤で接着す
る。
The nozzle plate 10 is generally a sheet-like thin plate made of stainless steel or polyimide, and nozzle holes 10a for ejecting ink are provided corresponding to each channel groove 2. For example, a polyimide sheet of 125 μm is formed with 18 μm diameter nozzle holes 10 a in accordance with the number of channel grooves 2 and perforated by excimer laser light.
This is bonded to the front surface of the head substrate 5 with an epoxy adhesive.

【0107】絞り板11はインク入り口流路を絞り、吐
出時にインクに掛けた圧力がマニホールド側に抜けるこ
とを防ぐために設けられる。この絞り板11には、例え
ば125μmのポリイミドシートに20〜30μm径の
インク供給孔11aを、チャンネル溝2の数に合わせて
エキシマレーザー光で穿孔し、ヘッド基盤5の後面にエ
ポキシ接着剤で接着し、引き続き80℃で40分間硬化
させる。
The diaphragm plate 11 is provided in order to restrict the ink inlet flow path and prevent the pressure applied to the ink during ejection from leaking to the manifold side. In this diaphragm plate 11, for example, a 125 μm polyimide sheet is provided with ink supply holes 11 a having a diameter of 20 to 30 μm in accordance with the number of channel grooves 2 by excimer laser light, and is bonded to the rear surface of the head substrate 5 with an epoxy adhesive. And subsequently cured at 80 ° C. for 40 minutes.

【0108】インクマニホールド12は、エンジニヤリ
ングプラスチック、例えばポリエーテルイミド樹脂を射
出成型した成型物を、エポキシ接着剤でヘッド基盤5の
後面に接着する。
The ink manifold 12 is obtained by adhering a molded product obtained by injection molding an engineering plastic, for example, a polyetherimide resin, to the rear surface of the head substrate 5 with an epoxy adhesive.

【0109】ヘッド基盤5の底面5b又は上面5aに形
成された各横配線8は、図示しないが、異方導電性フィ
ルム(ACF)を用いて、約170℃で約20秒間、1
4Kg程度の荷重を均一にかけて加熱押圧することによ
り、図示しない駆動制御基盤と繋がるフレキシブルケー
ブルと電気的に接続する。
Although not shown, each horizontal wiring 8 formed on the bottom surface 5b or the top surface 5a of the head substrate 5 is formed by using an anisotropic conductive film (ACF) at about 170 ° C. for about 20 seconds.
By uniformly applying a load of about 4 kg and heating and pressing, a flexible cable connected to a drive control board (not shown) is electrically connected.

【0110】なお、以上説明した製造方法において、ヘ
ッド基盤5に無電解めっきを施した後は、析出しためっ
き金属面がインクと接触することによる腐食を防ぐた
め、めっき金属の上に保護膜を形成することが好まし
い。この保護膜形成工程は、ヘッド基盤5に無電解めっ
きを施した後であれば良く、レーザー光の照射による引
き出し配線の形成前であっても、形成後であっても良
い。
In the manufacturing method described above, after the head substrate 5 is electroless plated, a protective film is formed on the plated metal in order to prevent corrosion due to contact of the deposited plated metal surface with the ink. It is preferably formed. The protective film forming step may be performed after the electroless plating is applied to the head substrate 5, and may be performed before or after the formation of the lead wiring by the irradiation of the laser light.

【0111】この保護膜としては有機絶縁膜を用いるこ
とが好ましい。有機絶縁膜を形成する方法は、塗布法や
電着法がある。塗布法としては、電極上にポリマー皮膜
をスピンコーティングしたり、コンフォーマルコーティ
ングする方法が挙げられ、また乾式法による有機皮膜の
形成、例えば、パリレンコンフォーマルコーティングで
も良い。
As the protective film, it is preferable to use an organic insulating film. The method of forming the organic insulating film includes a coating method and an electrodeposition method. Examples of the coating method include a method of spin coating a polymer film on the electrode and a method of conformal coating, and an organic film formation by a dry method, for example, parylene conformal coating may be used.

【0112】電着法によって有機絶縁膜を形成する方法
としては、例えば15%濃度のアミノアクリル樹脂を含
む電着液に、電極を形成したヘッド基盤5を室温で浸漬
して、50Vの直流を2分間印加すると、厚さ2μm程
度のピンホールフリーの絶縁膜が形成される。電着法
は、電導性のある場所にだけ皮膜が形成されること、ま
た、一度薄い皮膜が形成されると、その箇所が絶縁され
て電導性がなくなるので、それ以上その場所には析出せ
ず、別の電導性のある場所を探して析出するので、複雑
な形状物の上でも均一な薄膜をコーティングすることが
できる。このように電着法は微細な溝の底まで均一に薄
膜状の有機絶縁膜を簡単に形成できるので好ましい。
As a method of forming the organic insulating film by the electrodeposition method, for example, the head substrate 5 having the electrodes formed thereon is immersed in an electrodeposition liquid containing a 15% aminoacryl resin at room temperature, and a direct current of 50 V is applied. When applied for 2 minutes, a pinhole-free insulating film having a thickness of about 2 μm is formed. In the electrodeposition method, a film is formed only in a conductive place, and once a thin film is formed, that part is insulated and loses conductivity, so it is not deposited in that place. Instead, since another conductive place is searched for and deposited, a uniform thin film can be coated even on a complicated shape. As described above, the electrodeposition method is preferable because a thin organic insulating film can be easily formed uniformly up to the bottom of the fine groove.

【0113】[0113]

【発明の効果】本発明によれば、圧電素子板を機械的に
研削してチャンネル溝を形成し、これに繋がる縦溝をレ
ーザー光を照射して形成した後、無電解めっきし、ヘッ
ド基盤を研磨することで縦配線を形成し、更にヘッド基
盤にレーザー光を照射して、この縦配線に繋がる横配線
を形成するので、従来の横溝と縦溝を機械的に研削する
方法やフォトレジストを使用して画像処理する方法に比
べて簡単であり、しかも溝の側壁の欠けや倒れが起こる
ことなく、電極とこれに繋がる引き出し配線を容易に形
成することができる。
According to the present invention, a piezoelectric element plate is mechanically ground to form a channel groove, and a vertical groove connected to the channel groove is formed by irradiating laser light, and then electroless plating is performed to form a head substrate. To form vertical wiring by irradiating the head substrate with laser light and to form horizontal wiring connected to this vertical wiring. The method is simpler than the image processing method using, and the electrodes and the lead wirings connected to the electrodes can be easily formed without chipping or falling of the sidewall of the groove.

【0114】また、2枚の圧電素子板を接着してアクチ
ュエーター基盤を構成した場合でも、接着層にはレーザ
ー光を照射することはないので、接着層の破壊によるイ
ンク漏れが起こるようなことはない。
Even when the two piezoelectric element plates are adhered together to form the actuator substrate, the adhesive layer is not irradiated with laser light, so that ink leakage due to destruction of the adhesive layer does not occur. Absent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の製造方法の過程を示すアクチュエータ
ー基盤及び天板の斜視図
FIG. 1 is a perspective view of an actuator base and a top plate showing a process of a manufacturing method of the present invention.

【図2】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の斜
視図
FIG. 2 is a perspective view of a head substrate showing a process of the manufacturing method of the present invention.

【図3】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の斜
視図
FIG. 3 is a perspective view of a head substrate showing a process of the manufacturing method of the present invention.

【図4】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の斜
視図
FIG. 4 is a perspective view of a head substrate showing a process of the manufacturing method of the present invention.

【図5】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の斜
視図
FIG. 5 is a perspective view of a head substrate showing a process of the manufacturing method of the present invention.

【図6】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の斜
視図
FIG. 6 is a perspective view of a head substrate showing the process of the manufacturing method of the present invention.

【図7】(a)(b)は本発明の製造方法の過程を示す
ヘッド基盤の斜視図
7 (a) and 7 (b) are perspective views of the head substrate showing the steps of the manufacturing method of the present invention.

【図8】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の斜
視図
FIG. 8 is a perspective view of a head substrate showing a process of the manufacturing method of the present invention.

【図9】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の斜
視図
FIG. 9 is a perspective view of a head substrate showing a process of the manufacturing method of the present invention.

【図10】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の
斜視図
FIG. 10 is a perspective view of a head substrate showing a process of the manufacturing method of the present invention.

【図11】(a)(b)は本発明の製造方法の過程を示
すヘッド基盤の斜視図
11 (a) and 11 (b) are perspective views of the head substrate showing the steps of the manufacturing method of the present invention.

【図12】(a)(b)は本発明の製造方法の過程を示
すヘッド基盤の斜視図
12 (a) and 12 (b) are perspective views of the head substrate showing the steps of the manufacturing method of the present invention.

【図13】(a)(b)は本発明の製造方法の過程を示
すヘッド基盤の斜視図
13 (a) and 13 (b) are perspective views of a head substrate showing the steps of the manufacturing method of the present invention.

【図14】本発明の製造方法の過程を示すヘッド基盤の
斜視図
FIG. 14 is a perspective view of the head substrate showing the process of the manufacturing method of the present invention.

【図15】従来の入口浅溝構造の説明図FIG. 15 is an explanatory diagram of a conventional inlet shallow groove structure.

【図16】従来のレーザー光照射法の説明図FIG. 16 is an explanatory view of a conventional laser light irradiation method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:圧電素子板 2:チャンネル溝 2a:電極 3:アクチュエーター基盤 4:天板 5:ヘッド基盤 6、6a、6b:縦溝 7、7a、7b:縦配線 8、8a:横配線 9、9a、9b、9c:除去部 10:ノズル板 10a:ノズル孔 11:絞り板 11a:インク供給口 12:インクマニホールド 1: Piezoelectric element plate 2: Channel groove 2a: electrode 3: Actuator base 4: Top plate 5: Head substrate 6, 6a, 6b: vertical groove 7, 7a, 7b: Vertical wiring 8, 8a: Horizontal wiring 9, 9a, 9b, 9c: Removal unit 10: Nozzle plate 10a: nozzle hole 11: diaphragm plate 11a: ink supply port 12: Ink manifold

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C057 AF35 AG12 AG44 AG45 AG93 AP03 AP14 AP22 AP23 AP25 AP55    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2C057 AF35 AG12 AG44 AG45 AG93                       AP03 AP14 AP22 AP23 AP25                       AP55

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】シェヤーモードインクジェットヘッドの製
造方法において、 分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研削してア
クチュエーター基盤を形成する工程と、 前記アクチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤
を形成する工程と、 前記ヘッド基盤の前面及び後面の少なくとも一方の面に
レーザー光を照射して、前記複数のチャンネル溝の各チ
ャンネル溝と前記ヘッド基盤の上面及び/又は底面とに
繋がる縦溝を形成する工程と、 前記縦溝が形成された前記ヘッド基盤に、無電解めっき
によりめっき金属を施す工程と、 前記ヘッド基盤の前面及び後面を研磨して、前記縦溝に
施されためっき金属を残してめっき金属を除去すること
により、前記各チャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッ
ド基盤の上面及び/又は底面のめっき金属とに繋がる縦
配線を形成する工程と、 前記ヘッド基盤の上面及び/又は底面にレーザー光を照
射して、めっき金属の一部を除去することにより、前記
縦配線に繋がる横配線を形成する工程とを有することを
特徴とするシェヤーモードインクジェットヘッドの製造
方法。
1. A method for manufacturing a shear mode ink jet head, comprising the steps of grinding a plurality of channel grooves in a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and bonding a top plate to the actuator base to form a head base. A step of forming, and irradiating at least one surface of the front surface and the rear surface of the head substrate with a laser beam to form a vertical groove connected to each channel groove of the plurality of channel grooves and an upper surface and / or a bottom surface of the head substrate. A step of forming, the step of applying a plating metal to the head substrate in which the vertical groove is formed by electroless plating, a front surface and a rear surface of the head substrate are polished, and the plating metal applied to the vertical groove is formed. By removing the plating metal remaining, the plating metal in each channel groove and the top and / or bottom surface of the head substrate are plated. A step of forming a vertical wiring connected to the metal, and a laser beam is applied to the upper surface and / or the bottom surface of the head substrate to remove a part of the plating metal, thereby forming a horizontal wiring connected to the vertical wiring. A method for manufacturing a shear mode inkjet head, comprising:
【請求項2】シェヤーモードインクジェットヘッドの製
造方法において、 分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研削してア
クチュエーター基盤を形成する工程と、 前記アクチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤
を形成する工程と、 前記アクチュエーター基板の前面及び後面の少なくとも
一方の面にレーザー光を照射して、前記複数のチャンネ
ル溝の各チャンネル溝と前記ヘッド基盤の底面とに繋が
る縦溝を形成する工程と、 前記縦溝が形成された前記ヘッド基盤に、無電解めっき
によりめっき金属を施す工程と、 前記ヘッド基盤の前面及び後面を研磨して、前記縦溝に
施されためっき金属を残してめっき金属を除去すること
により、前記各チャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッ
ド基盤の底面のめっき金属とに繋がる縦配線を形成する
工程と、 前記ヘッド基盤の底面にレーザー光を照射して、めっき
金属の一部を除去することにより、前記縦配線に繋がる
横配線を形成する工程とを有することを特徴とするシェ
ヤーモードインクジェットヘッドの製造方法。
2. A method of manufacturing a shear mode ink jet head, comprising the steps of forming a plurality of channel grooves on a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and bonding a top plate to the actuator base to form a head base. A step of forming, and a step of irradiating at least one surface of the front surface and the rear surface of the actuator substrate with a laser beam to form a vertical groove connected to each channel groove of the plurality of channel grooves and the bottom surface of the head base; A step of applying plating metal to the head base having the vertical grooves formed thereon by electroless plating, and polishing the front and rear surfaces of the head base to leave the plating metal applied to the vertical grooves. By removing the vertical distribution that connects the plated metal in each channel groove and the plated metal on the bottom surface of the head substrate. And a step of forming horizontal wirings connected to the vertical wirings by irradiating the bottom surface of the head substrate with laser light to remove a part of the plating metal. Yermode inkjet head manufacturing method.
【請求項3】シェヤーモードインクジェットヘッドの製
造方法において、 分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研削してア
クチュエーター基盤を形成する工程と、 前記アクチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤
を形成する工程と、 前記天板の前面及び後面の少なくとも一方の面にレーザ
ー光を照射して、前記複数のチャンネル溝の各チャンネ
ル溝と前記ヘッド基板の上面とに繋がる縦溝を形成する
工程と、 前記縦溝が形成された前記ヘッド基盤に、無電解めっき
によりめっき金属を施す工程と、 前記ヘッド基盤の前面及び後面を研磨して、前記縦溝に
施されためっき金属を残してめっき金属を除去すること
により、前記各チャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッ
ド基盤の上面のめっき金属とに繋がる縦配線を形成する
工程と、 前記ヘッド基盤の上面にレーザー光を照射して、めっき
金属の一部を除去することにより、前記縦配線に繋がる
横配線を形成する工程とを有することを特徴とするシェ
ヤーモードインクジェットヘッドの製造方法。
3. A method for manufacturing a shear mode ink jet head, comprising the steps of forming a plurality of channel grooves in a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and bonding a top plate to the actuator base to form a head base. A step of forming, and a step of irradiating at least one of the front surface and the rear surface of the top plate with a laser beam to form a vertical groove connected to each channel groove of the plurality of channel grooves and the upper surface of the head substrate, A step of applying plating metal to the head base having the vertical grooves formed thereon by electroless plating, and polishing the front and rear surfaces of the head base to leave the plating metal applied to the vertical grooves. To form a vertical wiring connecting the plated metal in each channel groove and the plated metal on the upper surface of the head substrate. Irradiating a laser beam on the upper surface of the head substrate to remove a part of the plating metal to form a horizontal wiring connected to the vertical wiring. Production method.
【請求項4】シェヤーモードインクジェットヘッドの製
造方法において、 分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研削してア
クチュエーター基盤を形成する工程と、 前記アクチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤
を形成する工程と、 前記アクチュエーター基板の前面及び後面にレーザー光
を照射して、前記複数のチャンネル溝の各チャンネル溝
と前記ヘッド基盤の底面とに繋がる縦溝を、前記チャン
ネル溝の1本おきに前記アクチュエーター基盤の前面と
後面とで交互になるように形成する工程と、 前記縦溝が形成された前記ヘッド基盤に、無電解めっき
によりめっき金属を施す工程と、 前記ヘッド基盤の前面及び後面を研磨して、前記縦溝に
施されためっき金属を残してめっき金属を除去すること
により、前記各チャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッ
ド基盤の底面のめっき金属とに繋がる縦配線を形成する
工程と、 前記ヘッド基盤の底面にレーザー光を照射して、めっき
金属の一部を除去することにより、前記縦配線に繋がる
横配線を形成する工程とを有することを特徴とするシェ
ヤーモードインクジェットヘッドの製造方法。
4. A method for manufacturing a shear mode ink jet head, comprising the steps of forming a plurality of channel grooves in a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and bonding a top plate to the actuator base to form a head base. Forming step, and irradiating the front and back surfaces of the actuator substrate with laser light to form vertical grooves connecting to each channel groove of the plurality of channel grooves and the bottom surface of the head substrate, every other one of the channel grooves. A step of alternately forming a front surface and a rear surface of the actuator base; a step of applying plating metal to the head base having the vertical grooves formed thereon by electroless plating; and a front surface and a rear surface of the head base. By polishing and removing the plating metal leaving the plating metal applied to the flutes, A step of forming a vertical wiring connected to the plated metal in the groove and the plated metal on the bottom surface of the head base, and by irradiating the bottom surface of the head base with a laser beam to remove a part of the plated metal, And a step of forming horizontal wirings connected to the vertical wirings.
【請求項5】シェヤーモードインクジェットヘッドの製
造方法において、 分極した圧電素子板に複数のチャンネル溝を研削してア
クチュエーター基盤を形成する工程と、 前記アクチュエーター基盤に天板を接着してヘッド基盤
を形成する工程と、 前記天板の前面及び後面にレーザー光を照射して、前記
複数のチャンネル溝の各チャンネル溝と前記ヘッド基盤
の上面とに繋がる縦溝を、前記チャンネル溝の1本おき
に前記天板の前面と後面とで交互になるように形成する
工程と、 前記縦溝が形成された前記ヘッド基盤に、無電解めっき
によりめっき金属を施す工程と、 前記ヘッド基盤の前面及び後面を研磨して、前記縦溝に
施されためっき金属を残してめっき金属を除去すること
により、前記各チャンネル溝内のめっき金属と前記ヘッ
ド基盤の上面のめっき金属とに繋がる縦配線を形成する
工程と、 前記ヘッド基盤の上面にレーザー光を照射して、めっき
金属の一部を除去することにより、前記縦配線に繋がる
横配線を形成する工程とを有することを特徴とするシェ
ヤーモードインクジェットヘッドの製造方法。
5. A method for manufacturing a shear mode ink jet head, comprising the steps of forming a plurality of channel grooves on a polarized piezoelectric element plate to form an actuator base, and bonding a top plate to the actuator base to form a head base. Forming step, and irradiating the front and rear surfaces of the top plate with a laser beam to form vertical grooves connecting to each channel groove of the plurality of channel grooves and the upper surface of the head substrate, every other channel groove. A step of alternately forming the front and rear surfaces of the top plate; a step of applying a plating metal to the head base on which the vertical grooves are formed by electroless plating; and a front and rear surface of the head base. By polishing and removing the plating metal leaving the plating metal applied to the vertical grooves, the plating metal in each of the channel grooves and the head substrate are removed. A step of forming a vertical wiring connected to the plating metal on the upper surface of the head substrate, and irradiating the upper surface of the head substrate with a laser beam to remove a part of the plating metal to form a horizontal wiring connected to the vertical wiring. A method for manufacturing a shear mode inkjet head, comprising:
【請求項6】前記めっき金属が施された前記ヘッド基盤
の該めっき金属表面に、保護膜を形成する工程を有する
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のシェ
ヤーモードインクジェットヘッドの製造方法。
6. The shear mode inkjet according to claim 1, further comprising a step of forming a protective film on the plated metal surface of the head substrate on which the plated metal is applied. Head manufacturing method.
【請求項7】前記アクチュエーター基盤は、分極した2
枚の圧電素子板を、分極方向を互いに反対に向けて接着
して形成することを特徴とする請求項1〜6のいずれか
に記載のシェヤーモードインクジェットヘッドの製造方
法。
7. The actuator substrate is polarized 2
7. The method for manufacturing a shear mode inkjet head according to claim 1, wherein the piezoelectric element plates are adhered so that the polarization directions thereof are opposite to each other.
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