JP2003161800A - Electron beam or x-ray irradiation system - Google Patents

Electron beam or x-ray irradiation system

Info

Publication number
JP2003161800A
JP2003161800A JP2001362689A JP2001362689A JP2003161800A JP 2003161800 A JP2003161800 A JP 2003161800A JP 2001362689 A JP2001362689 A JP 2001362689A JP 2001362689 A JP2001362689 A JP 2001362689A JP 2003161800 A JP2003161800 A JP 2003161800A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
irradiation
electron beam
ray
irradiated
gas jet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001362689A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Etsuko Gama
越虎 蒲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2001362689A priority Critical patent/JP2003161800A/en
Publication of JP2003161800A publication Critical patent/JP2003161800A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam or an X-ray irradiation system that is high in reliability and even. <P>SOLUTION: There are provided an irradiation device 4 to irradiate electron beam 10 or X-ray to a target 5, a gas jetting device 13 which jets gas jet, a holding part 15 which holds the target, and a gas pressure receiving part 12 which receives a stress of the gas pressure of the gas jet. A holding device which is rotatably held is also provided. The holding device may be suspended and held. The followings may be added: an irradiation does monitor which monitors dose of electron beam or X-ray irradiated on the target; and a transportation device which transports the target into the irradiation range of electron beam or X-ray and evacuates the target from within the irradiation range if the monitored does reaches a prescribed value. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子線又はX線照
射システムに関し、特に、医療器具等の滅菌または食品
殺菌、殺虫等に使用する電子線またはX線照射システム
に関する。また、本発明は、電子線又はX線照射による
材料性質改善等に使用する電子線またはX線照射システ
ムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam or X-ray irradiation system, and more particularly to an electron beam or X-ray irradiation system used for sterilization of medical instruments, food sterilization, insecticide and the like. The present invention also relates to an electron beam or X-ray irradiation system used for improving material properties by electron beam or X-ray irradiation.

【0002】[0002]

【従来の技術】医療器具のなかでも血液透析用のダイア
ライザは、その内部に血液を通した後、人の体内に還流
させるので、十分に滅菌しておく必要がある。近年は、
高温蒸気による滅菌法や殺菌剤による滅菌法に替わっ
て、電子線やX線を照射して行う滅菌法が用いられてい
る。例えば、特開2000−325434号公報に開示
されている従来の医療用具用の電子線滅菌システムで
は、図4の概略図に示すように、電子線60は、スキャ
ンホーン54から被照射物55に照射される。この被照
射体55は、例えば、血液透析用のダイアライザであ
り、容器65に格納されている。さらに、モータ59を
回転させてモータ59に直結した歯車8を回転させ、ベ
ルト61で連動させて歯車57を回転させ、歯車57に
直結する容器65を回転させている。
2. Description of the Related Art Among medical instruments, a dialyzer for hemodialysis needs to be sufficiently sterilized because blood is passed through the dialyzer and then returned to the human body. In recent years,
Instead of the sterilization method using high temperature steam and the sterilization method using a bactericide, a sterilization method performed by irradiating with an electron beam or X-ray is used. For example, in the conventional electron beam sterilization system for medical devices disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-325434, as shown in the schematic view of FIG. 4, the electron beam 60 is emitted from the scan horn 54 to the irradiation object 55. Is irradiated. The irradiated body 55 is, for example, a dialyzer for hemodialysis and is stored in a container 65. Further, the motor 59 is rotated to rotate the gear 8 directly connected to the motor 59, and the belt 61 is interlocked to rotate the gear 57 to rotate the container 65 directly connected to the gear 57.

【0003】この電子線による照射滅菌システムでは、
加速電圧10MeVの電子線の有効レンジは約5g/c
であるため、被照射体55がダイアライザなど面密
度が大きいの医療器具である場合には、電子線が被照射
体55を貫通できず、均一に照射することが難しい。し
かし、上記のように容器65を回転させることによっ
て、電子線が被照射体55の複数方向から照射されるた
め、均一に照射される。
In this irradiation sterilization system using electron beams,
Effective range of electron beam with acceleration voltage 10MeV is about 5g / c
Since it is m 2 , when the irradiated body 55 is a medical device having a high surface density such as a dialyzer, the electron beam cannot penetrate the irradiated body 55 and it is difficult to irradiate it uniformly. However, by rotating the container 65 as described above, the electron beam is emitted from a plurality of directions of the irradiation target 55, and thus the irradiation is performed uniformly.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図4に示すよ
うな従来の電子線滅菌照射システムでは、被照射体55
を回転させるためには、モータ59を用いる必要がある
が、モータ59の耐放射線性や耐オゾン腐食性に問題が
あった。即ち、電子線滅菌照射では、キログレイ(kG
y)以上の照射線量が必要であり、照射領域付近では強
い放射線と大量のオゾンが発生する。このような厳しい
環境下ではモータ59等を用いると、モータ等の寿命が
短くなる問題があった。また、モータ59及び関連ケー
ブルのメンテナンスが困難であった。
However, in the conventional electron beam sterilization irradiation system as shown in FIG.
Although it is necessary to use the motor 59 to rotate the motor, there is a problem in the radiation resistance and ozone corrosion resistance of the motor 59. That is, in the case of electron beam sterilization irradiation, kilo gray (kG
y) The irradiation dose above is required, and strong radiation and a large amount of ozone are generated near the irradiation area. If the motor 59 or the like is used in such a severe environment, there is a problem that the life of the motor or the like is shortened. Moreover, maintenance of the motor 59 and related cables was difficult.

【0005】そこで、本発明の目的は、医療器具等の殺
菌照射などを行なうための高強度電子線又はX線を用い
る照射システムにおいて、信頼性の高い均一な電子線又
はX線照射システムを提供することである。また、構成
がより簡単であって、且つ、メンテナンスし易い電子線
又はX線照射システムを提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a highly reliable and uniform electron beam or X-ray irradiation system in an irradiation system using high-intensity electron beams or X-rays for sterilizing irradiation of medical instruments and the like. It is to be. Another object of the present invention is to provide an electron beam or X-ray irradiation system having a simpler configuration and easier maintenance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明に係る電子線又は
X線照射システムは、電子線又はX線を被照射体に照射
する照射装置と、ガスジェットを噴出させるガスジェッ
ト噴出装置と、前記被照射体を保持する保持部と、前記
ガスジェットのガス圧による応力を受けるガス圧受け部
とを有すると共に、回転可能に保持された保持装置とを
備えたことを特徴とする。
An electron beam or X-ray irradiation system according to the present invention comprises an irradiation device for irradiating an object to be irradiated with an electron beam or X-ray, a gas jet ejecting device for ejecting a gas jet, and The present invention is characterized in that it has a holding unit that holds the irradiation target and a gas pressure receiving unit that receives stress due to the gas pressure of the gas jet, and that the holding device is rotatably held.

【0007】本発明に係る電子線又はX線照射システム
は、電子線又はX線を被照射体に照射する照射装置と、
ガスジェットを噴出させるガスジェット噴出装置と、前
記被照射体を保持する保持部と、前記ガスジェットのガ
ス圧による応力を受けるガス圧受け部とを有すると共
に、吊り下げ保持された保持装置とを備えたことを特徴
とする。
An electron beam or X-ray irradiation system according to the present invention comprises an irradiation device for irradiating an irradiation object with an electron beam or X-rays,
A gas jet ejecting device for ejecting a gas jet, a holding part for holding the irradiation target, and a gas pressure receiving part for receiving a stress due to the gas pressure of the gas jet, and a holding device suspended and held. It is characterized by having.

【0008】また、本発明に係る電子線又はX線照射シ
ステムは、前記電子線又はX線照射システムであって、
前記被照射体に照射される電子線又はX線の照射線量を
モニタする照射線量モニタと、前記被照射体を前記電子
線又はX線の照射範囲内に搬送し、前記モニタされた照
射線量が所定値以上となった場合に前記被照射体を前記
照射範囲内から退避させる搬送装置と、をさらに備えた
ことを特徴とする。
An electron beam or X-ray irradiation system according to the present invention is the electron beam or X-ray irradiation system,
An irradiation dose monitor for monitoring an irradiation dose of an electron beam or an X-ray that is irradiated to the irradiation target, and a irradiation dose monitored when the irradiation target is transported within an irradiation range of the electron beam or the X-ray. And a transfer device for retracting the irradiation target from the irradiation range when the value is equal to or more than a predetermined value.

【0009】さらに、本発明に係る電子線又はX線照射
システムは、前記電子線又はX線照射システムであっ
て、前記ガスジェットは、空気ジェットであることを特
徴とする。
Further, the electron beam or X-ray irradiation system according to the present invention is the electron beam or X-ray irradiation system, wherein the gas jet is an air jet.

【0010】本発明に係る電子線又はX線照射方法は、
被照射体を搬送装置によって電子線又はX線の照射範囲
内に搬入する搬入ステップと、ガスジェット噴出装置か
ら噴出されるガスジェットのガス圧を受けて、回転可能
に保持された前記被照射体を回転させながら、前記被照
射体に電子線又はX線を照射する照射ステップと、前記
被照射体に照射される電子線又はX線の照射線量を照射
線量モニタでモニタする照射線量モニタステップと、前
記照射線量が所定線量以上となった場合には、前記被照
射体を前記搬送装置によって前記電子線又はX線の照射
範囲内から退避させる退避ステップとを含むことを特徴
とする。
The electron beam or X-ray irradiation method according to the present invention comprises:
The object to be irradiated which is rotatably held in response to a carrying-in step of carrying the object to be irradiated into an electron beam or X-ray irradiation range by a carrier device and a gas pressure of a gas jet ejected from a gas jet ejector. An irradiation step of irradiating the irradiation target with an electron beam or an X-ray while rotating the irradiation target, and an irradiation dose monitoring step of monitoring the irradiation dose of the electron beam or the X-ray irradiation applied to the irradiation target with an irradiation dose monitor. When the irradiation dose is equal to or higher than a predetermined dose, the transfer device retracts the irradiation target from the electron beam or X-ray irradiation range.

【0011】本発明に係る電子線又はX線照射方法は、
被照射体を搬送装置によって電子線又はX線の照射範囲
内に搬入する搬入ステップと、ガスジェット噴出装置か
ら噴出されるガスジェットのガス圧を受けて、吊り下げ
保持された前記被照射体を鉛直軸から傾斜させながら、
前記被照射体に電子線又はX線を照射する照射ステップ
と、前記被照射体に照射される電子線又はX線の照射線
量を照射線量モニタでモニタする照射線量モニタステッ
プと、前記照射線量が所定線量以上となった場合には、
前記被照射体を前記搬送装置によって前記電子線又はX
線の照射範囲内から退避させる退避ステップとを含むこ
とを特徴とする。
The electron beam or X-ray irradiation method according to the present invention is
The loading step of loading the irradiation target object into the irradiation range of the electron beam or the X-ray by the transfer device, and the gas pressure of the gas jet ejected from the gas jet ejecting device to receive the suspended irradiation target object. While inclining from the vertical axis,
An irradiation step of irradiating the irradiation target with an electron beam or an X-ray, an irradiation dose monitoring step of monitoring an irradiation dose of the electron beam or the X-ray irradiated onto the irradiation target with an irradiation dose monitor, and the irradiation dose If the dose is above a certain level,
The irradiation target is transferred to the electron beam or X by the transfer device.
And a retracting step of retracting from the irradiation range of the line.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に係る電子線
又はX線照射システムについて、添付の図1から図3を
用いて説明する。なお、各図において、実質的に同一の
部材には同一符号を付した。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An electron beam or X-ray irradiation system according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the attached FIGS. In each drawing, substantially the same members are designated by the same reference numerals.

【0013】実施の形態1.本発明の実施の形態1に係
る電子線滅菌照射システムについて、図1を用いて説明
する。図1は、本発明の実施の形態1による電子線滅菌
照射システムの基本構成を示している。この電子線滅菌
照射システムは、回転可能に保持された被照射体をガス
ジェットのガス圧によって回転させており、モータ等の
駆動機構を用いておらず、放射線及びオゾン等による腐
食を防ぐことができる。
Embodiment 1. An electron beam sterilization irradiation system according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows the basic configuration of an electron beam sterilization irradiation system according to the first embodiment of the present invention. This electron beam sterilization irradiation system rotates the irradiation target held rotatably by the gas pressure of the gas jet, and does not use a drive mechanism such as a motor to prevent corrosion due to radiation and ozone. it can.

【0014】この電子線滅菌照射システムにおける構成
を、図1を用いて説明する。まず、電子線照射機構につ
いて説明する。この電子線滅菌照射システムでは、電子
加速器等からなる電子線発生装置1で発生された電子線
は、輸送ライン2とスキャン電磁石3とを介してスキャ
ンホーン4から被照射体5に向けて照射される。スキャ
ンホーン4には真空側と大気側を分離する真空窓(図示
せず)が装着されており、スキャンされて大気側に取り
出された電子線10を図1に表している。なお、ここで
は、電子線照射システムについて説明したが、これに限
られることなく、照射線源は、X線でも、γ線であって
もよい。照射線源がX線の場合には、X線管球を用いて
高電圧を印加してX線を発生させる。また、X線以上の
短波長の電磁波、例えば、硬X線やγ線等を照射する場
合には、γ崩壊する放射性同位元素を線源として用いて
もよい、あるいは、加速器から出力される放射光を利用
してもよい。この場合にも同様の効果が得られる。
The configuration of this electron beam sterilization irradiation system will be described with reference to FIG. First, the electron beam irradiation mechanism will be described. In this electron beam sterilization irradiation system, the electron beam generated by the electron beam generator 1 including an electron accelerator or the like is emitted from the scan horn 4 toward the irradiation target 5 via the transport line 2 and the scan electromagnet 3. It A vacuum window (not shown) for separating the vacuum side and the atmosphere side is attached to the scan horn 4, and FIG. 1 shows the electron beam 10 that is scanned and taken out to the atmosphere side. Although the electron beam irradiation system has been described here, the irradiation source is not limited to this and may be an X-ray or a γ-ray. When the irradiation source is X-ray, a high voltage is applied using an X-ray tube to generate X-ray. When irradiating an electromagnetic wave having a short wavelength of X-rays or more, for example, hard X-rays or γ-rays, a γ-decaying radioisotope may be used as a radiation source, or radiation emitted from an accelerator. You may use light. In this case, the same effect can be obtained.

【0015】次に、被照射体の支持機構及び回転機構に
ついて説明する。この被照射体5は、例えば、血液透析
用のダイアライザ等の医療器具であり、容器15内に収
納される。容器15内での被照射体5の収納形態は、種
々の形態をとることができ、図1の場合には容器の中央
に固定されている。また、この容器15は、金属線でで
きた網状のものであってもよい。また、容器15の上端
に被照射体5を出し入れ可能な開口部を設けてもよい。
この被照射体5を格納する容器15は、搬送用コンベア
6上に設けられた回転用ベアリング17と、回転用プロ
ペラ12とを有する回転機構を介して回転可能に支持さ
れている。この搬送用コンベア6によって、被照射体5
を収納する容器15は電子線の照射領域内に搬入され
る。この搬送用コンベア6の移動方向は、紙面に垂直な
方向である(駆動部は図示せず)。回転用プロペラ12
は、アルミ等の金属製のものからなる。なお、回転用ベ
アリング17は、軸16を中心に回転する。
Next, the support mechanism and the rotation mechanism for the irradiated body will be described. The irradiated body 5 is, for example, a medical device such as a dialyzer for hemodialysis, and is housed in the container 15. The irradiation object 5 can be stored in the container 15 in various forms, and in the case of FIG. 1, it is fixed to the center of the container. Further, the container 15 may be a mesh made of metal wire. In addition, an opening that allows the irradiated body 5 to be put in and taken out may be provided at the upper end of the container 15.
The container 15 for storing the irradiation target 5 is rotatably supported via a rotating mechanism having a rotating bearing 17 and a rotating propeller 12 provided on the conveyor 6. Irradiation target 5
The container 15 for storing is carried into the electron beam irradiation area. The moving direction of the carrying conveyor 6 is a direction perpendicular to the plane of the paper (the drive unit is not shown). Rotating propeller 12
Is made of metal such as aluminum. The rotating bearing 17 rotates about the shaft 16.

【0016】また、空気ジェット14を噴出するノズル
13を、噴出方向が図1の紙面に垂直方向となるように
配置される。なお、図1では、ノズル13の概略を示す
ために、便宜上、ノズル13を左下方に表わしている。
このノズル13から回転用プロペラ12に空気ジェット
14を吹き付ける。なお、図1ではノズル13を1つし
か示していないが、これに限られず複数あってもよい。
また、ノズル13は、電子線10の照射領域内または被
照射体5が電子線10の照射領域内に入る前の領域に配
置してもよい。さらに、ノズル13は、例えば、耐放射
線及び耐オゾン性の金属などでできている。ノズル13
には、ガス供給パイプ(図示せず)を接続している。な
お、ノズル13から噴出させるガスジェット14として
は、上記の空気ジェットの他、窒素ガス等の不活性ガス
のガスジェットを用いることができる。
Further, the nozzle 13 for ejecting the air jet 14 is arranged so that the ejection direction is perpendicular to the paper surface of FIG. Note that in FIG. 1, the nozzle 13 is shown in the lower left for convenience, in order to show the outline of the nozzle 13.
An air jet 14 is blown from the nozzle 13 to the rotating propeller 12. Although only one nozzle 13 is shown in FIG. 1, it is not limited to this, and a plurality of nozzles 13 may be provided.
Further, the nozzle 13 may be arranged in the irradiation area of the electron beam 10 or in the area before the irradiation target 5 enters the irradiation area of the electron beam 10. Further, the nozzle 13 is made of, for example, a radiation resistant and ozone resistant metal. Nozzle 13
A gas supply pipe (not shown) is connected to. As the gas jet 14 ejected from the nozzle 13, a gas jet of an inert gas such as nitrogen gas can be used in addition to the above air jet.

【0017】次に、被照射体5の回転機構の動作につい
て、図1を用いて説明する。この電子線滅菌照射システ
ムでは、ノズル13からの空気ジェット14を回転用プ
ロペラ12に吹き付けて、回転用ベアリング17の軸1
6を中心にして回転可能に支持された容器15を回転さ
せることができる。この回転は、ノズル13から吹き付
けられたガスジェット14の圧力を回転用プロペラ12
で受けることによって生じさせることができ、回転速度
や回転方向は、必要に応じて制御することができる。ま
た、被照射体5を格納する容器15を回転させながら、
搬送装置6によって搬送して、電子線の照射領域を通過
させてもよい。この場合には、被照射体5の厚みがたと
え電子線10のレンジより大きい場合でも、被照射体5
において均一な照射を得られる。しかも、回転機構にモ
ータ等を用いないので、放射線やオゾンによる回転機構
の劣化を避けることができる。また、回転機構に用いる
ベアリング17、ノズル13、プロペラ12は全部金属
性のもので作ってもよく、電子線10による放射線やオ
ゾンによる損傷または劣化を避けることができる。
Next, the operation of the rotating mechanism of the irradiated body 5 will be described with reference to FIG. In this electron beam sterilization irradiation system, an air jet 14 from a nozzle 13 is blown onto a rotating propeller 12 to rotate the shaft 1 of a rotating bearing 17.
The container 15 rotatably supported around 6 can be rotated. This rotation changes the pressure of the gas jet 14 blown from the nozzle 13 into the propeller 12 for rotation.
The rotation speed and the rotation direction can be controlled as necessary. In addition, while rotating the container 15 storing the irradiation target 5,
It may be transported by the transport device 6 and passed through the electron beam irradiation region. In this case, even if the thickness of the irradiation target 5 is larger than the range of the electron beam 10, the irradiation target 5
Uniform irradiation can be obtained in. Moreover, since no motor or the like is used for the rotating mechanism, deterioration of the rotating mechanism due to radiation or ozone can be avoided. Further, the bearing 17, the nozzle 13, and the propeller 12 used in the rotating mechanism may be made of metal, so that damage or deterioration due to radiation or ozone by the electron beam 10 can be avoided.

【0018】なお、この場合には、被照射体5を格納す
る容器15と、ガスジェット14によって回転駆動させ
る回転用プロペラ12とを別体で構成しているので、被
照射体5にはガスジェット14を直接に吹き付けること
はない。これによって、被照射体5へのガスジェットの
影響を防ぐことができる。また、ここでは回転機構とし
て回転用プロペラ12を設けているが、回転機構はこれ
に限られない。例えば、被照射体5や容器15の形状を
ガスジェット14を受けやすい形状とし、ノズル13か
らのガスジェット14を直接に被照射体5やその容器1
5に吹き付けて回転させることができる。これによっ
て、回転機構のメンテナンスを容易にできる。さらに、
電子線滅菌照射システムの稼動率を高めることができ
る。さらに、ここでは回転機構を用いているがこれに限
定されず、ガスジェットによって直線的に移動する直線
移動機構であってもよい。
In this case, since the container 15 for storing the irradiation target 5 and the rotating propeller 12 which is rotationally driven by the gas jet 14 are formed as separate bodies, the irradiation target 5 does not have gas. The jet 14 is not sprayed directly. This can prevent the influence of the gas jet on the irradiated body 5. Although the rotating propeller 12 is provided as the rotating mechanism here, the rotating mechanism is not limited to this. For example, the irradiation target 5 and the container 15 are shaped so as to easily receive the gas jet 14, and the gas jet 14 from the nozzle 13 is directly applied to the irradiation target 5 and its container 1.
5 can be sprayed and rotated. This facilitates maintenance of the rotating mechanism. further,
The operation rate of the electron beam sterilization irradiation system can be increased. Furthermore, although a rotating mechanism is used here, the invention is not limited to this, and a linear moving mechanism that moves linearly by a gas jet may be used.

【0019】また、電子線の照射線量をモニタする照射
線量モニタを配置しておき、所定の照射線量を検出した
場合には、搬送用コンベア6によって被照射体5を照射
領域から退避させてもよい。この場合の手順は、例えば
次のようになる。 (1)被照射体5を搬送装置6によって電子線又はX線
の照射範囲内に搬入する。 (2)ガスジェット噴出装置13から噴出されるガスジ
ェット14のガス圧を受けて、回転可能に保持された被
照射体5を回転させながら、被照射体5に電子線又はX
線を照射する。この場合の回転機構及び照射機構につい
ては、上記のものを用いることができる。 (3)被照射体5に照射される電子線又はX線の照射線
量を照射線量モニタでモニタする。 (4)モニタした照射線量が所定線量以上となった場合
には、被照射体5を搬送装置6によって電子線又はX線
の照射範囲内から退避させる。退避の方法は、例えば、
搬送用コンベア6によって被照射体5を格納する容器1
5を照射範囲から退避させてもよい。これによって、一
定の照射線量を被照射体5に付加することができる。ま
た、医療器具等を安定に、且つ、確実に滅菌することが
できる。
Further, an irradiation dose monitor for observing the irradiation dose of the electron beam is arranged, and when the predetermined irradiation dose is detected, the irradiation object 5 may be retracted from the irradiation region by the conveyor 6 for transportation. Good. The procedure in this case is as follows, for example. (1) The irradiation target 5 is carried into the irradiation range of the electron beam or the X-ray by the transfer device 6. (2) While receiving the gas pressure of the gas jet 14 ejected from the gas jet ejecting device 13 and rotating the irradiation target 5 held rotatably, the irradiation target 5 is irradiated with an electron beam or X-rays.
Irradiate a line. As the rotating mechanism and the irradiation mechanism in this case, those described above can be used. (3) An irradiation dose monitor monitors the irradiation dose of the electron beam or the X-ray irradiated to the irradiation target 5. (4) When the monitored irradiation dose is equal to or higher than a predetermined dose, the irradiation target 5 is retracted from the irradiation range of the electron beam or the X-ray by the transfer device 6. The evacuation method is, for example,
A container 1 for storing an irradiation target 5 by a conveyor 6 for transportation
5 may be retracted from the irradiation range. Thereby, a constant irradiation dose can be added to the irradiated body 5. In addition, medical instruments and the like can be sterilized stably and reliably.

【0020】なお、上記回転機構の他に、電子線が照射
される部屋を密閉し、回転を伝達するベルトを該部屋の
外部に延在させ、該部屋の外部から回転を伝達してもよ
い。
In addition to the rotating mechanism, the room irradiated with the electron beam may be sealed and a belt for transmitting the rotation may be extended to the outside of the room so that the rotation is transmitted from the outside of the room. .

【0021】また、この電子線又はX線照射システム
は、医療器具の滅菌の他、食品等の殺菌、殺虫等に使用
することもできる。さらに、種々の材料への電子線又は
X線を照射することによって材料性質を改善する材料改
質用途等に使用してもよい。
Further, the electron beam or X-ray irradiation system can be used for sterilization of medical instruments, sterilization of foods, insecticide, etc. Further, it may be used for material modification applications in which the material properties are improved by irradiating various materials with electron beams or X-rays.

【0022】実施の形態2.本発明の実施の形態2に係
る電子線滅菌照射システムを、図2を用いて説明する。
この電子線滅菌照射システムは、実施の形態1に係る電
子線滅菌照射システムと比較すると、図2に示すよう
に、被照射体5を回転させるのではなく、ガスジェット
14を一方向から吊り下げ保持された被照射体5に吹き
付けて、鉛直軸に対して所定角度だけ傾斜させている点
で相違する。この電子線滅菌照射システムは、図2に示
すように、被照射体5を格納した包装15をフック18
に吊るして吊り下げ保持しており、ノズル13から噴出
させたガスジェット14を包装15に左下方向から吹き
付けて、包装15で受けて鉛直軸に対して右側に傾斜さ
せている。これによって、被照射体5が、例えば、血液
透析に使うダイアライザなど両端に電子線10のレンジ
より厚い部分を有する物体である場合にも、ガスジェッ
トの圧力を用いて、被照射体5を幾分傾けることによっ
て、電子線が貫通する部分を増やすことができ、より均
一な照射が得られる。
Embodiment 2. An electron beam sterilization irradiation system according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIG.
Compared with the electron beam sterilization irradiation system according to the first embodiment, this electron beam sterilization irradiation system suspends a gas jet 14 from one direction, as shown in FIG. The difference is that the irradiated object 5 held is sprayed and inclined by a predetermined angle with respect to the vertical axis. In this electron beam sterilization irradiation system, as shown in FIG.
The gas jet 14 ejected from the nozzle 13 is blown onto the package 15 from the lower left direction, is received by the package 15, and is inclined rightward with respect to the vertical axis. As a result, even if the irradiation target 5 is an object having portions thicker than the range of the electron beam 10 at both ends, such as a dialyzer used for hemodialysis, the irradiation target 5 can be detected by using the pressure of the gas jet. By tilting by an amount, the portion through which the electron beam penetrates can be increased, and more uniform irradiation can be obtained.

【0023】次に、この電子線滅菌照射システムにおい
て、被照射体5を鉛直軸から傾斜させる方法について具
体的に説明する。この場合には、被照射体5を格納する
包装15は、搬送コンベア6からフック18で吊り下げ
保持されている。これによって、フック18による支持
点を中心にして包装15を鉛直軸から傾斜させることが
できる。このフック18は、例えば、放射線やオゾンに
強い金属ワイヤ等でできている。また、ガスジェットを
噴出させるノズル13は、包装15の左下方であって、
電子線10の照射領域の下部に配置されている。なお、
この場合にガスジェットの圧力を変えることによって、
被照射体5の傾斜角度を任意に調節でき、しかも、照射
領域及び周辺に発生している放射線やオゾンの影響を受
けることなく、信頼性の高い照射装置を構成できる。ま
た、図2ではノズル13の形状は詳細に示していない
が、このノズル13は必要に応じて細長いスリット状の
ものを用いてもよく、この場合にも同様の効果が得られ
る。さらに、このシステムでは、ノズル13を被照射体
5とスキャンホーン4の間に配置し、被照射体5を右側
に傾斜させたが、ノズル13の配置はこれに限定されな
い。所望により、例えば、図2において、被照射体5の
右側にノズル13を配置し、被照射体5の右下方向から
ガスジェット14を吹き付けて、スキャンホーン4側に
傾斜させてもよく、この場合にも同様の効果が得られ
る。なお、ノズル13から噴出するガスジェットの量や
流速等を制御して、被照射体5をフック18による支持
点を中心にして振り子のように振動させてもよい。ま
た、被照射体の左右下方にノズル13を設けて交互にガ
スジェットを噴出させてもよい。なお、この電子線照射
システムは、図2に示すように、電子線発生装置1等の
他の構成部は実施の形態1に係る電子線滅菌照射システ
ムと同じである。
Next, in this electron beam sterilization irradiation system, a method for inclining the irradiation object 5 from the vertical axis will be specifically described. In this case, the package 15 that stores the irradiation target 5 is suspended and held by the hook 18 from the transport conveyor 6. This allows the package 15 to be tilted from the vertical axis about the support point of the hook 18. The hook 18 is made of, for example, a metal wire resistant to radiation or ozone. The nozzle 13 for ejecting the gas jet is located at the lower left of the package 15 and
It is arranged below the irradiation region of the electron beam 10. In addition,
In this case by changing the pressure of the gas jet,
The tilt angle of the irradiated body 5 can be arbitrarily adjusted, and a highly reliable irradiation device can be configured without being affected by the radiation or ozone generated in the irradiation region and its periphery. In addition, although the shape of the nozzle 13 is not shown in detail in FIG. 2, the nozzle 13 may have an elongated slit shape if necessary, and in this case, the same effect can be obtained. Furthermore, in this system, the nozzle 13 is arranged between the irradiated body 5 and the scan horn 4, and the irradiated body 5 is inclined to the right side, but the arrangement of the nozzle 13 is not limited to this. If desired, for example, in FIG. 2, the nozzle 13 may be arranged on the right side of the irradiation target 5, and the gas jet 14 may be blown from the lower right direction of the irradiation target 5 to incline toward the scan horn 4 side. In this case, the same effect can be obtained. Note that the irradiation target 5 may be vibrated like a pendulum around the support point of the hook 18 by controlling the amount and flow rate of the gas jet ejected from the nozzle 13. Further, the nozzles 13 may be provided on the lower right and left sides of the irradiation target to alternately eject the gas jets. As shown in FIG. 2, this electron beam irradiation system is the same as the electron beam sterilization irradiation system according to the first embodiment in other components such as the electron beam generator 1.

【0024】さらに、被照射体に照射される照射線量を
モニタする照射線量モニタを備えていてもよい。この場
合に、被照射体の受ける照射線量が所定の照射線量以上
となった場合に被照射体を退避させる手順は、実施の形
態1に示す場合と比較すると、被照射体を鉛直軸から傾
斜させながら照射する点で異なるが、他の手順は実質的
に同様である。
Further, an irradiation dose monitor for monitoring the irradiation dose applied to the object to be irradiated may be provided. In this case, the procedure for retracting the irradiation target when the irradiation dose received by the irradiation target is equal to or higher than a predetermined irradiation dose is that the irradiation target is tilted from the vertical axis as compared with the case shown in the first embodiment. Other procedures are substantially the same, except that the irradiation is performed while being performed.

【0025】実施の形態3.本発明の実施の形態3に係
る電子線滅菌照射システムついて、図3に基づいて説明
する。図3は、この電子線滅菌照射システムの構成を示
している。この電子線滅菌照射システムは、実施の形態
1に係る電子線滅菌照射システムと比較すると、図3に
示すように、被照射体5を格納した容器15を上方から
フック18で吊り下げて回転可能に保持され、ガスジェ
ットのガス圧を受けて回転する点で相違する。このよう
に、フック18で吊り下げた被照射体5を回転させなが
ら電子線を照射することができるので、強い放射線とオ
ゾン雰囲気のなかでも、信頼性の高い均一照射システム
を構成できる。また、血液透析用のダイアライザ等の厚
み分布が不均一であって、かつ細長いものであっても、
吊るして回転させながら照射することによって、ダイア
ライザのあらゆる方向から電子線を照射でき、より完全
に滅菌できる。
Embodiment 3. An electron beam sterilization irradiation system according to Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 shows the configuration of this electron beam sterilization irradiation system. Compared to the electron beam sterilization irradiation system according to the first embodiment, this electron beam sterilization irradiation system can rotate a container 15 in which an irradiation target 5 is stored by hanging a hook 18 from above, as shown in FIG. The difference is that they are held at and are rotated by receiving the gas pressure of the gas jet. In this way, since the electron beam can be irradiated while rotating the irradiation target 5 suspended by the hook 18, a highly reliable uniform irradiation system can be configured even in a strong radiation and ozone atmosphere. Further, even if the dialyzer for hemodialysis has a non-uniform thickness distribution and is elongated,
By irradiating while hanging and rotating, the electron beam can be irradiated from all directions of the dialyzer, and more complete sterilization can be performed.

【0026】この電子線滅菌照射システムにおいて、ま
ず、この電子線滅菌照射システムの被照射体の支持機構
及び回転機構の構成について、図3を用いて具体的に説
明する。この電子線滅菌照射システムでは、被照射体5
を格納する包装15を搬送コンベア6にフック18で吊
り下げており、搬送コンベア6との接続部は、例えば、
フリージョイント(図示せず)を用いて自由回転できる
ようにしている。また、この搬送コンベア6によって被
照射体を格納する包装15を吊り下げたまま電子線の照
射領域に搬送する。なおこの搬送コンベアの移動方向
は、紙面にほぼ垂直方向である。さらに、フック18に
はガスジェットを受けてフック18の軸を中心に回転可
能な回転用プロペラ12が設けられている。なお、プロ
ペラ12の数や形状は特に限定されない。
In this electron beam sterilization irradiation system, first, the structure of the support mechanism and the rotation mechanism of the irradiation object of this electron beam sterilization irradiation system will be specifically described with reference to FIG. In this electron beam sterilization irradiation system, the irradiation target 5
The packaging 15 for storing the is hung by the hook 18 on the transport conveyor 6, and the connection portion with the transport conveyor 6 is, for example,
A free joint (not shown) is used to allow free rotation. In addition, the package 15 for storing the irradiation target is transported to the electron beam irradiation region while being suspended by the transportation conveyor 6. Note that the moving direction of this conveyer conveyor is substantially perpendicular to the paper surface. Further, the hook 18 is provided with a rotating propeller 12 that receives a gas jet and is rotatable about the axis of the hook 18. The number and shape of the propellers 12 are not particularly limited.

【0027】また、ガスジェット14を噴出させるノズ
ル13a、13bを、回転用プロペラ12に対して噴出
方向が図3の紙面に垂直方向となるように配置する。な
お、図3では、ノズルを示すために便宜上斜め方向に示
している。なお、ノズル13a、13bの数は、2個に
限られず、1個、又は複数個であってもよい。なお、こ
の電子線照射システムは、図3に示すように、電子線発
生装置1等の他の構成部は実施の形態1に係る電子線滅
菌照射システムと同じである。
Further, the nozzles 13a and 13b for ejecting the gas jet 14 are arranged so that the ejection direction is perpendicular to the paper surface of FIG. 3 with respect to the rotating propeller 12. In FIG. 3, the nozzles are shown in an oblique direction for the sake of convenience. The number of nozzles 13a and 13b is not limited to two, and may be one or more. As shown in FIG. 3, this electron beam irradiation system is the same as the electron beam sterilization irradiation system according to the first embodiment in other components such as the electron beam generator 1.

【0028】次に、被照射体5の回転機構の動作につい
て、図3を用いて説明する。この電子線滅菌照射システ
ムでは、ノズル13a、13bからのガスジェット14
をフック18に設けたプロペラ12に吹き付けて、被照
射体5を格納した包装15をフック18の軸を中心に回
転させることができる。この被照射体5の回転は、ノズ
ル13から吹き付けられたガスジェット14の圧力によ
って生じさせることができ、回転の速度や回転方向は、
必要に応じて制御することができる。また、搬送コンベ
ア6で被照射体5を格納する包装15を回転させながら
電子線の照射領域を搬送して通過させてもよい。この場
合には、被照射体5の厚みがたとえ電子線10のレンジ
より大きい場合でも、被照射体5において均一な照射を
得られる。しかも、回転機構にモータ等を用いないの
で、放射線やオゾンによる回転機構の劣化を避けること
ができる。なお、ここでは回転機構としてフック18に
プロペラ12を設けているが、回転機構はこれに限られ
ない。例えば、被照射体5や包装15の形状をガスジェ
ットによって回転させることができる形状とすることに
よって、ノズル13を直接に被照射体5やその包装15
に吹き付けて、回転させることができる。
Next, the operation of the rotating mechanism of the irradiated body 5 will be described with reference to FIG. In this electron beam sterilization irradiation system, the gas jet 14 from the nozzles 13a and 13b is used.
Can be sprayed onto the propeller 12 provided on the hook 18, and the package 15 containing the irradiation target 5 can be rotated about the axis of the hook 18. The rotation of the irradiation target 5 can be generated by the pressure of the gas jet 14 blown from the nozzle 13, and the rotation speed and the rotation direction are
It can be controlled as needed. Further, the irradiation region of the electron beam may be conveyed and passed while the package 15 storing the irradiation target 5 is rotated by the conveyance conveyor 6. In this case, even if the thickness of the irradiation target 5 is larger than the range of the electron beam 10, uniform irradiation can be obtained on the irradiation target 5. Moreover, since no motor or the like is used for the rotating mechanism, deterioration of the rotating mechanism due to radiation or ozone can be avoided. Although the propeller 12 is provided on the hook 18 as a rotating mechanism here, the rotating mechanism is not limited to this. For example, by making the shape of the irradiation target 5 or the packaging 15 rotatable by a gas jet, the nozzle 13 can be directly exposed to the irradiation target 5 or the packaging 15 thereof.
It can be sprayed on and rotated.

【0029】さらに、被照射体に照射される照射線量を
モニタする照射線量モニタを備えていてもよい。この場
合に、被照射体の受ける照射線量が所定の照射線量以上
となった場合に被照射体を退避させる手順は、実施の形
態1に示す場合と実質的に同様である。
Further, an irradiation dose monitor for monitoring the irradiation dose applied to the object to be irradiated may be provided. In this case, the procedure for retracting the irradiation target when the irradiation dose received by the irradiation target is equal to or higher than the predetermined irradiation dose is substantially the same as the case shown in the first embodiment.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明に係る電子線又はX線照射システ
ムによれば、例えば、圧縮空気等のガスジェットのガス
圧によって回転可能に保持された被照射体を回転させな
がら、電子線を照射するため、被照射体が医療器具など
厚い物体であるときも、均一な照射が得られる。また、
回転機構としてモータを用いないので、金属等を用い
て、放射線とオゾンによる腐食と劣化を防ぐことができ
る。総じて、電子線滅菌照射システムの稼動率を高める
効果もある。
According to the electron beam or X-ray irradiation system of the present invention, for example, the electron beam is irradiated while rotating the object to be irradiated which is rotatably held by the gas pressure of a gas jet such as compressed air. Therefore, even when the irradiation target is a thick object such as a medical instrument, uniform irradiation can be obtained. Also,
Since a motor is not used as the rotating mechanism, it is possible to prevent corrosion and deterioration due to radiation and ozone by using metal or the like. Overall, it also has the effect of increasing the operating rate of the electron beam sterilization irradiation system.

【0031】また、本発明に係る電子線又はX線照射シ
ステムによれば、ガスジェットのガス圧によって吊り下
げ保持された被照射体を鉛直軸から傾斜させることがで
きる。これによって、被照射体が両端に電子線のレンジ
より厚い部分を有する物体である場合にも、ガスジェッ
トの圧力を用いて、被照射体を幾分傾けることによっ
て、電子線が貫通する部分を増やすことができ、より均
一な照射が得られる。
Further, according to the electron beam or X-ray irradiation system of the present invention, the irradiation target suspended and held by the gas pressure of the gas jet can be tilted from the vertical axis. Thus, even when the irradiation target is an object having a portion thicker than the range of the electron beam at both ends, the pressure of the gas jet is used to tilt the irradiation target somewhat, so that the portion through which the electron beam penetrates is blocked. Can be increased and more uniform irradiation can be obtained.

【0032】また、本発明に係る電子線又はX線照射シ
ステムによれば、被照射体に照射される電子線又はX線
の照射線量をモニタする照射線量モニタと、被照射体を
電子線又はX線の照射範囲内に搬入し、モニタされた照
射線量が所定値以上となった場合に被照射体を照射範囲
から退避させる搬送装置とをさらに備える。これによっ
て、被照射体に一定の照射線量を付与することができ
る。
Further, according to the electron beam or X-ray irradiation system of the present invention, an irradiation dose monitor for monitoring the irradiation dose of the electron beam or X-ray applied to the object to be irradiated, and the object to be irradiated with the electron beam or X-ray. The apparatus further comprises a carrying device which is carried into the X-ray irradiation range and retracts the irradiation target from the irradiation range when the monitored irradiation dose becomes a predetermined value or more. Thereby, a constant irradiation dose can be given to the irradiated body.

【0033】さらに、本発明に係る電子線又はX線照射
システムによれば、ガスジェットとして空気ジェットを
用いているので、システムを容易に構成することができ
る。
Further, according to the electron beam or X-ray irradiation system of the present invention, since the air jet is used as the gas jet, the system can be easily constructed.

【0034】本発明に係る電子線又はX線照射方法によ
れば、回転可能に保持された被照射体をガスジェットの
ガス圧によって回転させながら、電子線又はX線を照射
し、被照射体に照射される照射線量を照射線量モニタで
モニタしている。この照射線量が所定値以上となった場
合には、被照射体を照射範囲から退避させることができ
る。これによって、一定の照射線量に制御でき、医療器
具を安定して、確実に滅菌することができる。
According to the electron beam or X-ray irradiation method of the present invention, the irradiation target which is rotatably held is irradiated by the electron beam or X-ray while rotating by the gas pressure of the gas jet. The irradiation dose to be irradiated on is monitored by the irradiation dose monitor. When the irradiation dose becomes equal to or larger than the predetermined value, the irradiation target can be retracted from the irradiation range. As a result, the irradiation dose can be controlled to a constant level, and the medical instrument can be stably and reliably sterilized.

【0035】本発明に係る電子線又はX線照射方法によ
れば、吊り下げ保持された被照射体をガスジェットのガ
ス圧によって鉛直軸から傾斜させながら、電子線又はX
線を照射し、被照射体に照射される照射線量を照射線量
モニタでモニタしている。この照射線量が所定値以上と
なった場合には、被照射体を照射範囲から退避させるこ
とができる。これによって、一定の照射線量に制御で
き、医療器具を安定して、確実に滅菌することができ
る。
According to the electron beam or X-ray irradiation method of the present invention, the electron beam or X-ray is radiated while tilting the suspended object to be irradiated from the vertical axis by the gas pressure of the gas jet.
The irradiation dose is monitored by irradiating a line and irradiating the irradiation target. When the irradiation dose becomes equal to or larger than the predetermined value, the irradiation target can be retracted from the irradiation range. As a result, the irradiation dose can be controlled to a constant level, and the medical instrument can be stably and reliably sterilized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1に係る電子線滅菌照射
システムの構成を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of an electron beam sterilization irradiation system according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態2に係る電子線滅菌照射
システムの構成を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of an electron beam sterilization irradiation system according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態3に係る電子線滅菌照射
システムの基本構成を示す概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a basic configuration of an electron beam sterilization irradiation system according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 従来の電子線滅菌照射システムの基本構成を
示す概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a basic configuration of a conventional electron beam sterilization irradiation system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電子線発生装置、2 輸送ライン、3 スキャン電
磁石、4 スキャンホーン、5 被照射体、6 搬送用
コンベア、10 電子線、12 回転用プロペラ、1
3、13a、13b ノズル、14 ガスジェット(空
気ジェット)、15容器(包装)、16 回転軸、17
回転用ベアリング、18 フック、51電子線発生装
置、52 輸送ライン、53 スキャン電磁石、54
スキャンホーン、55 被照射体、56 搬送用コンベ
ア、60 電子線、61 ベルト、65 容器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 electron beam generator, 2 transportation lines, 3 scan electromagnets, 4 scan horns, 5 irradiated objects, 6 conveyors for carrying, 10 electron beams, 12 rotation propellers, 1
3, 13a, 13b nozzle, 14 gas jet (air jet), 15 container (packaging), 16 rotating shaft, 17
Bearing for rotation, 18 hooks, 51 electron beam generator, 52 transportation line, 53 scan electromagnet, 54
Scan horn, 55 Irradiation object, 56 Conveyor for conveyance, 60 electron beam, 61 belt, 65 container

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G21K 5/00 G21K 5/00 A 5/02 5/02 X 5/04 5/04 E Fターム(参考) 4B021 LP10 LT01 MC01 4C058 AA12 AA21 BB06 CC02 DD01 DD03 EE22 EE23 KK03 KK32 KK42 KK43 KK44 KK45 KK46 4C077 AA05 BB01 EE10 GG05 HH10 JJ09 JJ22 JJ24 KK09 4G075 AA25 AA30 AA61 AA65 BA05 BA10 CA38 CA39 DA02 EB31 ED02 ED20 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G21K 5/00 G21K 5/00 A 5/02 5/02 X 5/04 5/04 EF term (reference) ) 4B021 LP10 LT01 MC01 4C058 AA12 AA21 BB06 CC02 DD01 DD03 EE22 EE23 KK03 KK32 KK42 KK43 KK44 KK45 KK46 4C077 AA05 BB01 EE10 GG05 HH10 JJ09 CAT09 A38A05 A5A5ABA25

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子線又はX線を被照射体に照射する照
射装置と、 ガスジェットを噴出させるガスジェット噴出装置と、 前記被照射体を保持する保持部と、前記ガスジェットの
ガス圧による応力を受けるガス圧受け部とを有すると共
に、回転可能に保持された保持装置とを備えたことを特
徴とする電子線又はX線照射システム。
1. An irradiation device for irradiating an object to be irradiated with an electron beam or an X-ray, a gas jet ejecting device for ejecting a gas jet, a holding portion for holding the object to be irradiated, and a gas pressure of the gas jet. An electron beam or X-ray irradiation system, comprising: a gas pressure receiving portion that receives a stress; and a holding device that is rotatably held.
【請求項2】 電子線又はX線を被照射体に照射する照
射装置と、 ガスジェットを噴出させるガスジェット噴出装置と、 前記被照射体を保持する保持部と、前記ガスジェットの
ガス圧による応力を受けるガス圧受け部とを有すると共
に、吊り下げ保持された保持装置とを備えたことを特徴
とする電子線又はX線照射システム。
2. An irradiation device for irradiating an object to be irradiated with an electron beam or an X-ray, a gas jet ejecting device for ejecting a gas jet, a holding portion for holding the object to be irradiated, and a gas pressure of the gas jet. An electron beam or X-ray irradiation system comprising: a gas pressure receiving portion that receives a stress; and a holding device that is suspended and held.
【請求項3】 前記被照射体に照射される電子線又はX
線の照射線量をモニタする照射線量モニタと、 前記被照射体を前記電子線又はX線の照射範囲内に搬送
し、前記モニタされた照射線量が所定値以上となった場
合に前記被照射体を前記照射範囲内から退避させる搬送
装置と、 をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載
の電子線又はX線照射システム。
3. An electron beam or X irradiating the object to be irradiated.
An irradiation dose monitor for monitoring the irradiation dose of a beam, and the irradiation target when the irradiation target is transported within an irradiation range of the electron beam or X-ray and the monitored irradiation dose becomes a predetermined value or more. The electron beam or X-ray irradiation system according to claim 1 or 2, further comprising: a transporting device that retracts from the irradiation range.
【請求項4】 前記ガスジェットは、空気ジェットであ
ることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記
載の電子線又はX線照射システム。
4. The electron beam or X-ray irradiation system according to claim 1, wherein the gas jet is an air jet.
【請求項5】 被照射体を搬送装置によって電子線又は
X線の照射範囲内に搬入する搬入ステップと、 ガスジェット噴出装置から噴出されるガスジェットのガ
ス圧を受けて、回転可能に保持された前記被照射体を回
転させながら、前記被照射体に電子線又はX線を照射す
る照射ステップと、 前記被照射体に照射される電子線又はX線の照射線量を
照射線量モニタでモニタする照射線量モニタステップ
と、 前記照射線量が所定線量以上となった場合には、前記被
照射体を前記搬送装置によって前記電子線又はX線の照
射範囲内から退避させる退避ステップとを含むことを特
徴とする電子線又はX線照射方法。
5. A carrying-in step of carrying in an object to be irradiated into an irradiation range of an electron beam or an X-ray by a carrying device, and a gas pressure of a gas jet ejected from a gas jet ejecting device, so that the object is rotatably held. An irradiation step of irradiating the irradiation target with an electron beam or an X-ray while rotating the irradiation target, and an irradiation dose monitor for monitoring the irradiation dose of the electron beam or the X-ray irradiated to the irradiation target. An irradiation dose monitoring step, and a retreating step of retracting the irradiation target from the electron beam or X-ray irradiation range by the transport device when the irradiation dose is equal to or higher than a predetermined dose And an electron beam or X-ray irradiation method.
【請求項6】 被照射体を搬送装置によって電子線又は
X線の照射範囲内に搬入する搬入ステップと、 ガスジェット噴出装置から噴出されるガスジェットのガ
ス圧を受けて、吊り下げ保持された前記被照射体を鉛直
軸から傾斜させながら、前記被照射体に電子線又はX線
を照射する照射ステップと、 前記被照射体に照射される電子線又はX線の照射線量を
照射線量モニタでモニタする照射線量モニタステップ
と、 前記照射線量が所定線量以上となった場合には、前記被
照射体を前記搬送装置によって前記電子線又はX線の照
射範囲内から退避させる退避ステップとを含むことを特
徴とする電子線又はX線照射方法。
6. A carrying-in step of carrying in an object to be irradiated into an irradiation range of an electron beam or an X-ray by a carrying device and a gas pressure of a gas jet ejected from a gas jet ejecting device, and the object is suspended and held. An irradiation step of irradiating the irradiated body with an electron beam or an X-ray while inclining the irradiated body with respect to a vertical axis, and an irradiation dose monitor for irradiating the irradiated body with the electron beam or the X-ray. An irradiation dose monitoring step of monitoring, and a retreating step of retracting the irradiation target from the electron beam or X-ray irradiation range by the transfer device when the irradiation dose is equal to or higher than a predetermined dose. An electron beam or X-ray irradiation method characterized by:
JP2001362689A 2001-11-28 2001-11-28 Electron beam or x-ray irradiation system Pending JP2003161800A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001362689A JP2003161800A (en) 2001-11-28 2001-11-28 Electron beam or x-ray irradiation system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001362689A JP2003161800A (en) 2001-11-28 2001-11-28 Electron beam or x-ray irradiation system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003161800A true JP2003161800A (en) 2003-06-06

Family

ID=19173149

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001362689A Pending JP2003161800A (en) 2001-11-28 2001-11-28 Electron beam or x-ray irradiation system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003161800A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2429893A (en) * 2005-07-29 2007-03-07 Univ Tsinghua A shielded sterilisation apparatus using electron beam irradiation
JP2008150091A (en) * 2006-12-20 2008-07-03 Japan Ae Power Systems Corp Device for determining performance of electron beam irradiation apparatus
US7579607B2 (en) * 2004-01-20 2009-08-25 Serac Group Installation for sterilizing articles by electron bombardment
JP4928599B2 (en) * 2006-03-20 2012-05-09 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ Apparatus and method for electronically changing the characteristics of a three-dimensional molded part and use of the apparatus
WO2020241758A1 (en) * 2019-05-29 2020-12-03 日立造船株式会社 Electron beam sterilization device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7579607B2 (en) * 2004-01-20 2009-08-25 Serac Group Installation for sterilizing articles by electron bombardment
GB2429893A (en) * 2005-07-29 2007-03-07 Univ Tsinghua A shielded sterilisation apparatus using electron beam irradiation
DE102006035087B4 (en) 2005-07-29 2019-06-27 Tsinghua University Self-shielding disinfection device with electron beams
JP4928599B2 (en) * 2006-03-20 2012-05-09 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ Apparatus and method for electronically changing the characteristics of a three-dimensional molded part and use of the apparatus
JP2008150091A (en) * 2006-12-20 2008-07-03 Japan Ae Power Systems Corp Device for determining performance of electron beam irradiation apparatus
WO2020241758A1 (en) * 2019-05-29 2020-12-03 日立造船株式会社 Electron beam sterilization device
EP3974001A4 (en) * 2019-05-29 2023-10-04 Hitachi Zosen Corporation Electron beam sterilization device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4551397B2 (en) Sterilizer
JP4365835B2 (en) Electron beam irradiation device for open containers
US6492645B1 (en) System for, and method of, irradiating articles to sterilize the articles
EP1738776B1 (en) Process and apparatus for irradiating product pallets or containers
JP2003161800A (en) Electron beam or x-ray irradiation system
EP2292515B1 (en) Electron beam irradiation device for aperture vessel
JP5209050B2 (en) Sterilization using β-ray radiation
JP3648537B2 (en) Electron beam irradiation device
JP4881721B2 (en) Method and apparatus for maintaining sterility of electron beam irradiation apparatus for sterilization
JPH10268100A (en) Electron beam irradiation device
JP2001242297A (en) Electron beam irradiation method and device
JP2002104334A (en) Sterilization method and apparatus of vessel
JP3730850B2 (en) Particle transport mechanism in electron beam irradiation equipment
JP2003014900A (en) Electron beam irradiator
JP3933451B2 (en) Electron beam irradiation apparatus and sterilization method
JP4103699B2 (en) Electron beam irradiation device
JP3777080B2 (en) Electron beam irradiation device
JP3822426B2 (en) Electron beam irradiation device
JP2001318197A (en) Structure for shielding and transportation in electron beam irradiator
JP2003290650A (en) Radiation irradiation system
JP2001321139A (en) Device and method for sterilizing grain
JP2003028998A (en) Small quantity particle batch process system used for electron beam irradiation apparatus
JP2021028228A (en) Electron beam irradiation device and electron beam irradiation method
JPH11109100A (en) Electron-applying device
JP2001318200A (en) Electron beam irradiator