JP2003157574A - Optical disk and optical disk device - Google Patents

Optical disk and optical disk device

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JP2003157574A
JP2003157574A JP2001356403A JP2001356403A JP2003157574A JP 2003157574 A JP2003157574 A JP 2003157574A JP 2001356403 A JP2001356403 A JP 2001356403A JP 2001356403 A JP2001356403 A JP 2001356403A JP 2003157574 A JP2003157574 A JP 2003157574A
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JP
Japan
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optical disc
thickness
metal substrate
optical
optical disk
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Application number
JP2001356403A
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Japanese (ja)
Inventor
Junji Hirokane
順司 広兼
Noboru Iwata
昇 岩田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that there is a limit for making an optical disk device thin because an optical disk and an optical disk cartridge can not be made thin although making a thin optical disk device is studied by various methods. SOLUTION: The disk substrate of the optical disk 1 where a recording medium layer 4 or a metallic reflecting layer 4' is to be formed is composed of a thin metallic substrate 2 and a resin layer 3 having a rugged pit pattern and/or a rugged guide groove pattern formed on the metallic substrate 2 or a resin layer 3' having a rugged pit pattern.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度な情報の記
録又は再生を実現する光ディスクに関し、より詳細に
は、光ディスクと、該光ディスクが収容されてなるか光
ディスクカートリッジ、及び該ディスクを備えた光ディ
スク装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disc for recording or reproducing high-density information, and more specifically, an optical disc, an optical disc cartridge containing the optical disc, and an optical disc. The present invention relates to an optical disk device.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスク装置の携帯性を向上するた
め、様々な試みが行われている。例えば、MD(Mini
Disc)においては、ホログラム素子を用いて、半導体レ
ーザと光検出器とを一体化したホログラムピックアップ
素子や、光学素子を集積化した集積化ピックアップ素子
等が開発され、情報信号の記録再生を行うための光ピッ
クアップ素子の小型薄型化が進められている。その結
果、現在、厚さ5mmのMDカートリッジを用いて、厚
さ10mm程度と極めて薄いMD記録再生装置が商品化
されている。
2. Description of the Related Art Various attempts have been made to improve the portability of optical disk devices. For example, MD (Mini
Disc), a hologram pickup element in which a semiconductor laser and a photodetector are integrated by using a hologram element, an integrated pickup element in which an optical element is integrated, and the like have been developed to record and reproduce information signals. The optical pickup device is being made smaller and thinner. As a result, an MD recording / reproducing apparatus having a thickness of about 10 mm and using an MD cartridge having a thickness of 5 mm is now commercially available.

【0003】また、近年、さらなる薄型化を目指して、
光ディスク基板の薄型化が着実に進み、MDにおいて
1.2mm厚のポリカーボネート基板が用いられていた
のに対して、“Feasibility Study of CAD-MSR with 7
Gbit/in2”MORIS'99 p.181において、0.6mm厚のポ
リカーボネート基板を用いた直径50mmの光ディスク
についての発表が行われている。
In recent years, with the aim of further thinning,
The optical disc substrate is steadily becoming thinner, and a 1.2 mm thick polycarbonate substrate was used in MD, whereas the “Feasibility Study of CAD-MSR with 7
In Gbit / in 2 “MORIS'99 p.181, an optical disk with a diameter of 50 mm using a 0.6 mm thick polycarbonate substrate was presented.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ノートパソコンやPD
A(Personal Digital Assistants) 等の携帯情報端末
は、装置自体の厚さが10mm以下であり、それらの携
帯機器のカードスロットに挿入可能な光ディスク装置と
しては、厚さ5mm以下であることが必要となる。
[Problems to be Solved by the Invention] Laptops and PDs
Portable information terminals such as A (Personal Digital Assistants) have a thickness of 10 mm or less, and an optical disk device that can be inserted into a card slot of such a mobile device needs to have a thickness of 5 mm or less. Become.

【0005】この要件を満たすためには、光ディスク装
置に搭載される光ピックアップの小型化とともに、光デ
ィスクカートリッジ及び光ディスクの薄型化が必要とな
る。
In order to meet this requirement, it is necessary to reduce the size of the optical pickup mounted in the optical disc device and to reduce the thickness of the optical disc cartridge and the optical disc.

【0006】しかしながら、ディスク基板(光ディスク
の基体部分)として用いられているポリカーボネート等
の樹脂基板は、一般に射出成形により製造されており、
例えば、0.2mm程度の板厚のポリカーボネート製の
ディスク基板を射出成形した場合、ディスク基板として
必要な平坦性が得られなくなってしまう。また、ポリカ
ーボネート樹脂の剛性が低いため、0.2mm程度の板
厚とすると、ディスク基板としての剛性が不十分とな
り、安定した回転駆動を実現することができなくなって
しまう。さらに、ディスク基板の上に形成される無機物
からなる記録膜や反射膜等とディスクの材質である樹脂
とは、互いの熱膨張係数が大きく異なるため、基板上に
形成することにより、熱膨張係数の差により、温度変化
にともなう基板の反りが発生してしまう。
However, the resin substrate such as polycarbonate used as the disc substrate (base portion of the optical disc) is generally manufactured by injection molding,
For example, when a polycarbonate disc substrate having a plate thickness of about 0.2 mm is injection-molded, the flatness required for the disc substrate cannot be obtained. Further, since the polycarbonate resin has low rigidity, if the plate thickness is about 0.2 mm, the rigidity as a disk substrate becomes insufficient, and stable rotation drive cannot be realized. Furthermore, since the thermal expansion coefficient of the recording film or reflective film made of an inorganic material formed on the disk substrate and the resin that is the material of the disk are greatly different from each other, by forming them on the substrate, the thermal expansion coefficient The difference between the two causes the substrate to warp due to the temperature change.

【0007】なお、最近では、樹脂からなるディスク基
板が可撓性を有する程度にまで薄く形成して可撓性を有
する光ディスクとし、該可撓性を有する光ディスクを安
定化板等を用いて安定回転させる技術等も提案されてき
ているが、本発明は、あくまで安定化板等を用いること
なく光ディスクのみで安定回転可能な、非可撓性の光デ
ィスクに関するものである。
[0007] Recently, a disc substrate made of resin is formed thin enough to have flexibility to form a flexible optical disc, and the flexible optical disc is stabilized by using a stabilizing plate or the like. Although a technique of rotating the optical disc has been proposed, the present invention relates to an inflexible optical disc that can be stably rotated only by the optical disc without using a stabilizing plate or the like.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の光ディスクは、
上記の課題を解決するために、金属基板上に、凹凸ピッ
トパターンを有する樹脂層と金属反射層とが少なくとも
順次形成され、光ディスク全体の厚みが0.3mm以下
であることを特徴としている。
The optical disc of the present invention comprises:
In order to solve the above problems, a resin layer having a concavo-convex pit pattern and a metal reflective layer are formed at least in sequence on a metal substrate, and the total thickness of the optical disc is 0.3 mm or less.

【0009】また、本発明の光ディスクは、上記の課題
を解決するために、金属基板上に、凹凸ピットパターン
及び/又は凹凸案内溝パターンを有する樹脂層と光記録
層とが少なくとも順次形成され、光ディスク全体の厚み
が0.3mm以下であることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the optical disc of the present invention comprises a metal substrate on which a resin layer having an uneven pit pattern and / or an uneven guide groove pattern and an optical recording layer are formed at least sequentially. It is characterized in that the thickness of the entire optical disc is 0.3 mm or less.

【0010】また、本発明の光ディスクは、上記の課題
を解決するために、金属基板の表裏両面それぞれに、凹
凸ピットパターンを有する樹脂層と金属反射層とが少な
くとも順次形成され、光ディスク全体の厚みが0.3m
m以下であることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the optical disk of the present invention has a resin layer having a concave and convex pit pattern and a metal reflective layer which are formed at least in sequence on each of the front and back surfaces of the metal substrate, and the total thickness of the optical disk. Is 0.3m
It is characterized by being m or less.

【0011】さらに、本発明の光ディスクは、上記の課
題を解決するために、金属基板の表裏両面それぞれに、
凹凸ピットパターン及び/又は凹凸案内溝パターンを有
する樹脂層と光記録層とが少なくとも順次形成され、光
ディスク全体の厚みが0.3mm以下であることを特徴
としている。
Further, in order to solve the above-mentioned problems, the optical disk of the present invention is provided on each of the front and back surfaces of the metal substrate.
A resin layer having a concavo-convex pit pattern and / or a concavo-convex guide groove pattern and an optical recording layer are formed at least sequentially, and the total thickness of the optical disc is 0.3 mm or less.

【0012】上記の各構成においては、光ディスクに、
金属基板を用い、該金属基板上に凹凸ピットパターンを
有する樹脂層、或いは凹凸ピットパターン及び/又は凹
凸案内溝パターンを有する樹脂層を形成して、ディスク
基板としている。したがって、ディスク基板を構成する
該金属基板にて、光ディスクとして必要な剛性を確保す
ることができる。ここで言う必要な剛性とは、光ディス
クが光ディスク装置に搭載された際に安定した回転動作
を維持し得る剛性であって、詳細に言えば、情報の記録
再生を高速化するために、光ディスクを高速回転で回転
駆動した場合においても、バタツキ(光ディスクの上下
動)を招ずることなく安定した回転動作を維持すること
を可能とする剛性である。
In each of the above constructions,
A disk substrate is formed by using a metal substrate and forming a resin layer having an uneven pit pattern or a resin layer having an uneven pit pattern and / or an uneven guide groove pattern on the metal substrate. Therefore, the metal substrate forming the disc substrate can secure the rigidity required for the optical disc. The necessary rigidity referred to here is a rigidity that can maintain a stable rotation operation when the optical disc is mounted in the optical disc device. More specifically, in order to speed up information recording / reproducing, Even when driven to rotate at high speed, the rigidity is such that stable rotation can be maintained without causing fluttering (vertical movement of the optical disk).

【0013】そして、金属は自体の剛性が樹脂に比べて
非常に高いので、光ディスクに必要な剛性を持つ厚みと
しても、非常に薄くすることができ、その結果、光ディ
スク自体を薄くした場合においても、光ディスクの回転
時のバタツキを抑えて安定回転が可能となり、光ディス
ク自体の薄型化を図ることはもちろんのこと、光ディス
ク装置の薄型化を実現することができる。
Since the metal itself has a very high rigidity as compared with the resin, it can be made very thin even if it has a rigidity required for the optical disk, and as a result, even when the optical disk itself is made thin. In addition, it is possible to suppress the fluttering of the optical disc during rotation and to perform stable rotation, so that the optical disc itself can be made thinner and the optical disc device can be made thinner.

【0014】そして、特に、上記した各構成において
は、光ディス全体の厚みを0.3mmとしているので、
これにより、従来よりよく用いられている樹脂製の光デ
ィスクカートリッジケースに収容して光ディスクカート
リッジとしても、光ディスクカートリッジの厚みを2.
5mm以下として、厚さ5mmの光ディスク装置の実現
を可能とする。
Especially, in each of the above-mentioned constitutions, the thickness of the entire optical disc is set to 0.3 mm.
As a result, even if the optical disk cartridge is housed in a resin-made optical disk cartridge case that has been often used conventionally, the thickness of the optical disk cartridge is 2.
When the thickness is 5 mm or less, it is possible to realize an optical disk device having a thickness of 5 mm.

【0015】本発明には、上記した本発明の各光ディス
クを、光ディスク表面への塵埃の付着を抑制することを
目的に、光ディスクカートリッジケースに収容して光デ
ィスクカートリッジとする構成を含むものである。光デ
ィスクカートリッジとすることで、エラー発生を少なく
することが可能となる。
The present invention includes a structure in which each of the above-described optical disks of the present invention is housed in an optical disk cartridge case to form an optical disk cartridge for the purpose of suppressing the adhesion of dust to the surface of the optical disk. By using an optical disk cartridge, it is possible to reduce the occurrence of errors.

【0016】また、光ディスクカートリッジとしては、
光ディスクカートリッジケースを金属からなる構成とす
ることで、該カートリッジケース自体の厚みを薄くでき
るので、光ディスクカートリッジのさらなる薄型化が図
れ、光ディスク装置の薄型も実現する。
As the optical disk cartridge,
Since the optical disc cartridge case is made of metal, the thickness of the cartridge case itself can be made thin, so that the optical disc cartridge can be made thinner and the optical disc device can be made thinner.

【0017】さらに、上記光ディスクカートリッジ全体
の厚みは2.5mm以下とすることが好ましく、これに
より、厚さ5mmの光ディスク装置の実現を可能とす
る。
Furthermore, the thickness of the entire optical disk cartridge is preferably 2.5 mm or less, which makes it possible to realize an optical disk device having a thickness of 5 mm.

【0018】本発明の各光ディスクにおいて、上記樹脂
層は、紫外線硬化樹脂から形成することができ、また、
上記光記録層には、相変化記録媒体や、光磁気記録媒体
を用いることができる。さらに、上記金属反射層や光記
録層上に光透過性保護層を設ける構成とすることが、金
属反射層や光記録層を保護する点から望ましく、光透過
性保護層としては、紫外線硬化樹脂から形成した層や、
透明接着剤で接着された透明樹脂シートからなる層とす
ることができる。
In each of the optical disks of the present invention, the resin layer can be formed of an ultraviolet curable resin, and
A phase change recording medium or a magneto-optical recording medium can be used for the optical recording layer. Furthermore, it is desirable to provide a light-transmissive protective layer on the metal reflective layer or the optical recording layer from the viewpoint of protecting the metal reflective layer or the optical recording layer. As the light-transmissive protective layer, an ultraviolet curable resin is used. Layers formed from
It can be a layer made of a transparent resin sheet adhered with a transparent adhesive.

【0019】また、本発明の光ディスクにおいては、上
記金属基板の剛性が、0.150kgf・mm以上であ
ることを特徴とすることもできる。金属基板の剛性を該
範囲を満足する構成とすることで、上記した作用・効果
を奏する本発明の光ディスクを容易に実現することがで
きる。
Further, the optical disc of the present invention can be characterized in that the rigidity of the metal substrate is 0.150 kgf · mm or more. By making the rigidity of the metal substrate satisfy the above range, it is possible to easily realize the optical disk of the present invention having the above-described actions and effects.

【0020】そして、金属基板としては、アルミニウム
からなるものを用いることができ、その場合の金属基板
の厚みとしては、66μm以上とすることで、上記した
作用・効果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現す
ることができる。
As the metal substrate, one made of aluminum can be used. In this case, the thickness of the metal substrate is set to 66 μm or more, so that the optical disk of the present invention having the above-described actions and effects can be easily obtained. Can be realized.

【0021】また、金属基板としては、鉄からなるもの
を用いることもでき、その場合の金属基板の厚みとして
は、45μm以上とすることで、上記した作用・効果を
奏する本発明の光ディスクを容易に実現することができ
る。
Further, as the metal substrate, one made of iron can be used. In this case, the thickness of the metal substrate is 45 μm or more, so that the optical disk of the present invention having the above-described action and effect can be easily obtained. Can be realized.

【0022】また、金属基板としては、銅からなるもの
を用いることもでき、その場合の金属基板の厚みとして
は、53μm以上とすることで、上記した作用・効果を
奏する本発明の光ディスクを容易に実現することができ
る。
Further, as the metal substrate, one made of copper can be used. In this case, the thickness of the metal substrate is set to 53 μm or more, whereby the optical disk of the present invention having the above-described action and effect can be easily obtained. Can be realized.

【0023】また、金属基板としては、ニッケルからな
るものを用いることもでき、その場合の金属基板の厚み
としては、44μm以上とすることで、上記した作用・
効果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現すること
ができる。
Further, as the metal substrate, one made of nickel can be used, and in this case, the thickness of the metal substrate is set to 44 μm or more, whereby the above-mentioned function
It is possible to easily realize the optical disk of the present invention that exerts the effect.

【0024】また、金属基板としては、チタンからなる
ものを用いることもでき、その場合の金属基板の厚みと
しては、55μm以上とすることで、上記した作用・効
果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現することが
できる。
Further, as the metal substrate, one made of titanium may be used. In this case, the thickness of the metal substrate is set to 55 μm or more, whereby the optical disk of the present invention having the above-described actions and effects can be easily obtained. Can be realized.

【0025】また、金属基板としては、鉄を主成分とす
る鉄合金からなるものを用いることもでき、その一種と
して、FeとCrとNiとからなるステンレスを挙げる
ことができ、その場合の金属基板の厚みとしては、43
μm以上とすることで、上記した作用・効果を奏する本
発明の光ディスクを容易に実現することができる。
Further, as the metal substrate, one made of an iron alloy containing iron as a main component can be used, and one of them is stainless steel made of Fe, Cr and Ni. The thickness of the substrate is 43
When the thickness is at least μm, it is possible to easily realize the optical disc of the present invention that exhibits the above-described actions and effects.

【0026】また、金属基板としては、チタンを主成分
とするチタン合金からなるものを用いることもでき、そ
の一種として、TiとAlとVとからなるチタン合金を
挙げることができ、その場合の金属基板の厚みとして
は、51μm以上とすることで、上記した作用・効果を
奏する本発明の光ディスクを容易に実現することができ
る。
Further, as the metal substrate, one made of a titanium alloy containing titanium as a main component can be used, and a titanium alloy made of Ti, Al and V can be mentioned as one of the examples. When the thickness of the metal substrate is 51 μm or more, the optical disc of the present invention having the above-described actions and effects can be easily realized.

【0027】また、金属基板としては、アルミニウムを
主成分とするアルミニウム合金からなるものを用いるこ
ともでき、その一種として、AlとCuとMgとからな
るジュラルミンを挙げることができ、その場合の金属基
板の厚みとしては、65μm以上とすることで、上記し
た作用・効果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現
することができる。
As the metal substrate, it is possible to use a substrate made of an aluminum alloy containing aluminum as a main component, and one example thereof is duralumin composed of Al, Cu, and Mg. By setting the thickness of the substrate to 65 μm or more, it is possible to easily realize the optical disc of the present invention that exhibits the above-described actions and effects.

【0028】また、金属基板としては、金属基板として
は、銅を主成分とする銅合金からなるものを用いること
もでき、その一種として、CuとSnとPとからなるリ
ン青銅を挙げることができ、その場合の金属基板の厚み
としては、55μm以上とすることで、上記した作用・
効果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現すること
ができる。
Further, as the metal substrate, a metal substrate made of a copper alloy containing copper as a main component may be used, and one example thereof is phosphor bronze made of Cu, Sn and P. If the thickness of the metal substrate in this case is 55 μm or more, the above-mentioned action and
It is possible to easily realize the optical disk of the present invention that exerts the effect.

【0029】また、本発明の光ディスク装置は、上記し
た本発明の光ディスク、或いは本発明の光ディスクカー
トリッジに対して記録又は再生を行う光ディスク装置で
あって、上記光ディスクの金属基板とは反対側から、金
属反射層又は光記録層に光を照射するようになっている
ことを特徴としている。
The optical disk device of the present invention is an optical disk device for recording or reproducing data on or from the above-described optical disk of the present invention or the optical disk cartridge of the present invention. It is characterized in that the metal reflection layer or the optical recording layer is irradiated with light.

【0030】このような構成とすることで、上記した本
発明の光ディスク、光ディスクカートリッジに対して、
情報の記録又は再生が可能となる装置を提供することが
できる。
With such a structure, the optical disc and the optical disc cartridge of the present invention described above are
A device capable of recording or reproducing information can be provided.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下、本発明の光ディスク及び光
ディスク装置に係る実施の形態を、図1〜図18を参照
しながら説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of an optical disk and an optical disk device according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0032】まず、図1〜図10を用いて、光ディスク
について説明する。
First, the optical disc will be described with reference to FIGS.

【0033】光ディスク1は、記録再生が可能なタイプ
と、再生のみが行われるROMタイプとがあり、記録再
生が可能なタイプの光ディスク1は、金属基板2と、該
金属基板2上に形成された凹凸ピットパターン及び/又
は凹凸案内溝パターンを有する樹脂層3と、該樹脂層3
上に形成された記録媒体層(光記録層)4と、該記録媒
体層4を保護するための光透過性保護層5とで構成され
ている。一方、再生のみが行われるROMタイプの光デ
ィスク1は、金属基板2と、該金属基板2上に形成され
た凹凸ピットパターンを有する樹脂層3’と、該樹脂層
3’上に形成された金属反射層4’と、該金属反射層
4’を保護するための光透過性保護層5とで構成されて
いる。いずれのタイプの光ディスク1においても、金属
基板2からその上に形成された光透過性保護層5までの
薄層全てを含む光ディスク1のトータル厚は、0.3m
m以下である。なお、光ディスク1のトータル厚を0.
3mm以下として理由については後述する。
The optical disc 1 is of a type capable of recording / reproducing and a ROM type capable of reproducing only. An optical disc 1 of a type capable of recording / reproducing is formed on a metal substrate 2 and the metal substrate 2. A resin layer 3 having an uneven pit pattern and / or an uneven guide groove pattern, and the resin layer 3
It is composed of a recording medium layer (optical recording layer) 4 formed thereon and a light transmissive protective layer 5 for protecting the recording medium layer 4. On the other hand, the ROM-type optical disc 1 that is used only for reproduction is provided with a metal substrate 2, a resin layer 3 ′ having an uneven pit pattern formed on the metal substrate 2, and a metal layer formed on the resin layer 3 ′. It is composed of a reflective layer 4'and a light-transmitting protective layer 5 for protecting the metal reflective layer 4 '. In any type of optical disc 1, the total thickness of the optical disc 1 including all the thin layers from the metal substrate 2 to the light-transmitting protective layer 5 formed thereon is 0.3 m.
m or less. The total thickness of the optical disc 1 is 0.
The reason for setting it to 3 mm or less will be described later.

【0034】図3は、2P法と呼ばれる光ディスク1の
形成方法を示す図である。金属基板2が、鏡面板6の上
に配置され、金属基板2上に上記樹脂層3(或いは上記
樹脂層3’)となる紫外線硬化樹脂3aを塗布した後、
凹凸ピットパターン及び/又は凹凸案内溝パターンを有
する透明スタンパ7(或いは凹凸ピットパターンを有す
る透明スタンパ7’)を、鏡面板6方向に圧着し、透明
スタンパ7(7’)側から紫外線8を照射し、金属基板
2上に塗布された紫外線硬化樹脂3aの硬化を行う。そ
の後、透明スタンパ7(7’)及び鏡面板6から、金属
基板2を硬化された紫外線硬化樹脂3aごとを剥離する
ことにより、図4に示す、金属基板2上に凹凸ピットパ
ターン及び/又は凹凸案内溝パターンを有する樹脂層3
(或いは凹凸ピットパターンを有する樹脂層3’)が形
成された、光ディスク1の基板(ディスク基板)が完成
する。ここで、上記透明スタンパ7(7’)としては、
ガラス基板の表面に、凹凸ピットパターン及び/又は凸
案内溝パターン(或いは凹凸ピットパターン)をドライ
エッチングで形成したものが望ましい。
FIG. 3 is a diagram showing a method of forming the optical disc 1 called the 2P method. After the metal substrate 2 is placed on the mirror plate 6 and the ultraviolet curable resin 3a to be the resin layer 3 (or the resin layer 3 ′) is applied onto the metal substrate 2,
A transparent stamper 7 having an uneven pit pattern and / or an uneven guide groove pattern (or a transparent stamper 7'having an uneven pit pattern) is pressure-bonded in the direction of the mirror plate 6 and ultraviolet rays 8 are irradiated from the transparent stamper 7 (7 ') side. Then, the ultraviolet curable resin 3a applied on the metal substrate 2 is cured. Then, by peeling the ultraviolet curable resin 3a that hardens the metal substrate 2 from the transparent stamper 7 (7 ') and the mirror surface plate 6, the uneven pit pattern and / or the unevenness on the metal substrate 2 shown in FIG. Resin layer 3 having guide groove pattern
(Or the resin layer 3 ′ having the concave and convex pit pattern) is formed, and the substrate of the optical disc 1 (disc substrate) is completed. Here, as the transparent stamper 7 (7 ′),
It is desirable that the concave and convex pit pattern and / or the convex guide groove pattern (or the concave and convex pit pattern) be formed on the surface of the glass substrate by dry etching.

【0035】図5及び図6は、図4に示す光ディスク1
の基板の一部を拡大して示す部分断面斜視図である。光
ディスク1が記録再生が可能なものである上記樹脂層3
の表面には、図5に示すように、記録再生を行う光ビー
ムを導くための案内溝9が、スパイラル状に形成されて
いる(図5の樹脂層3は、凹凸案内溝パターンのみが形
成されているタイプ)。一方、光ディスク1が再生のみ
が行われるROMタイプである上記樹脂層3’の表面に
は、図6に示すように情報を構成するピット10が、ス
パイラル状に形成されている。書き換え可能な本発明の
光ディスクにおいては、凹凸案内溝に沿ってトラッキン
グ信号を得て、凹凸ピットでアドレス信号を得るタイプ
の光ディスク、凹凸案内溝のみでトラッキング信号とア
ドレス信号の両方を得るウオブル案内溝方式と呼ばれる
タイプの光ディスク、及び凹凸ピットのみでトラッキン
グ信号とアドレス信号の両方を得るサンプルサーボ方式
と呼ばれるタイプの光ディスクに対してそれぞれ適用可
能である。
5 and 6 show the optical disc 1 shown in FIG.
FIG. 3 is a partial cross-sectional perspective view showing a part of the substrate of FIG. The resin layer 3 on which the optical disc 1 is recordable and reproducible
As shown in FIG. 5, a guide groove 9 for guiding a light beam for recording / reproducing is formed in a spiral shape on the surface of the resin (the resin layer 3 in FIG. 5 has only an uneven guide groove pattern. Type). On the other hand, as shown in FIG. 6, pits 10 forming information are spirally formed on the surface of the resin layer 3'of the ROM type in which the optical disc 1 is only read. In the rewritable optical disc of the present invention, an optical disc of a type in which a tracking signal is obtained along an uneven guide groove and an address signal is obtained by an uneven pit, and a wobble guide groove which obtains both a tracking signal and an address signal only by the uneven guide groove The present invention can be applied to an optical disk of a type called a method and an optical disk of a type called a sample servo method in which both a tracking signal and an address signal are obtained only by uneven pits.

【0036】上記金属基板2としては、材質として金属
であって、可撓性を持たない厚みを有するものである。
非可撓性の金属基板の剛性としては、0.150kgf
・mm以上であることを確認しており、より好ましく
は、0.24kgf・mm以上であることも確認してい
る。なお、理由については後述する。
The metal substrate 2 is made of metal and has a thickness without flexibility.
The rigidity of the non-flexible metal substrate is 0.150 kgf
It has been confirmed that it is not less than mm, and more preferably that it is not less than 0.24 kgf · mm. The reason will be described later.

【0037】該剛性の範囲であれば、材質としては、例
えば、アルミニウム、鉄、銅、ニッケル、チタン等の単
体金属からなる基板、及び、これらの金属を主成分とす
る合金類、例えば、ステンレスに代表される鉄合金、チ
タン合金、ジュラルミンに代表されるアルミニウム合
金、リン青銅に代表される銅合金等を挙げることができ
る。
Within the range of the rigidity, the material is, for example, a substrate made of a single metal such as aluminum, iron, copper, nickel and titanium, and an alloy containing these metals as a main component, for example, stainless steel. Examples thereof include iron alloys, titanium alloys, aluminum alloys represented by duralumin, and copper alloys represented by phosphor bronze.

【0038】金属基板2としてアルミニウムからなるも
のを用いた場合、その厚みとしては、66μm以上とす
ることで、光ディスク1として必要な剛性を得ることが
できる。また、より好ましくは、78μm以上とするこ
とである。
When the metal substrate 2 made of aluminum is used, by setting the thickness to 66 μm or more, the rigidity required for the optical disk 1 can be obtained. In addition, it is more preferably set to 78 μm or more.

【0039】また、金属基板2として鉄からなるものを
用いた場合、その厚みとしては、45μm以上とするこ
とで、光ディスク1として必要な剛性を得ることができ
る。また、より好ましくは、53μm以上とすることで
ある。
When the metal substrate 2 made of iron is used and the thickness thereof is 45 μm or more, the rigidity required for the optical disc 1 can be obtained. Moreover, it is more preferable that the thickness is 53 μm or more.

【0040】また、金属基板2として、銅からなるもの
を用いた場合、その厚みとしては、53μm以上とする
ことで、光ディスク1として必要な剛性を得ることがで
きる。また、より好ましくは、64μm以上とすること
である。
When a metal substrate 2 made of copper is used, and the thickness thereof is 53 μm or more, the rigidity required for the optical disc 1 can be obtained. Further, it is more preferable that the thickness is 64 μm or more.

【0041】また、金属基板2として、ニッケルからな
るものを用いた場合、その厚みとしては、44μm以上
とすることで、光ディスク1として必要な剛性を得るこ
とができる。また、より好ましくは、53μm以上とす
ることである。
When a metal substrate 2 made of nickel is used and the thickness thereof is 44 μm or more, the rigidity required for the optical disc 1 can be obtained. Moreover, it is more preferable that the thickness is 53 μm or more.

【0042】また、金属基板2として、チタンからなる
ものを用いた場合、その厚みとしては、55μm以上と
することで、光ディスク1として必要な剛性を得ること
ができる。また、より好ましくは、66μm以上とする
ことである。
When the metal substrate 2 made of titanium is used, the rigidity required for the optical disc 1 can be obtained by setting the thickness to 55 μm or more. Further, it is more preferably 66 μm or more.

【0043】また、金属基板2として、FeとCrとN
iとからなるステンレスを用いた場合、その厚みとして
は、43μm以上とすることで、光ディスク1として必
要な剛性を得ることができる。また、より好ましくは、
50μm以上とすることである。
Further, as the metal substrate 2, Fe, Cr and N are used.
When stainless steel composed of i is used, the rigidity required for the optical disc 1 can be obtained by setting the thickness to 43 μm or more. Also, more preferably,
It is to be 50 μm or more.

【0044】また、金属基板2として、TiとAlとV
とからなるチタン合金を用いた場合、その厚みとして
は、51μm以上とすることで、光ディスク1として必
要な剛性を得ることができる。また、より好ましくは、
60μm以上とすることである。
As the metal substrate 2, Ti, Al and V are used.
When a titanium alloy composed of and is used, the rigidity required for the optical disc 1 can be obtained by setting the thickness to 51 μm or more. Also, more preferably,
It is to be 60 μm or more.

【0045】また、金属基板2として、AlとCuとM
gからなるジュラルミンを用いた場合、その厚みとして
は、65μm以上とすることで、光ディスク1として必
要な剛性を得ることができる。また、より好ましくは、
77μm以上とすることである。
As the metal substrate 2, Al, Cu and M are used.
When duralumin composed of g is used, the rigidity required for the optical disc 1 can be obtained by setting the thickness to be 65 μm or more. Also, more preferably,
It is to be 77 μm or more.

【0046】また、金属基板としては、CuとSnとP
とからなるリン青銅を用いた場合、その厚みとしては、
55μm以上とすることで、光ディスク1として必要な
剛性を得ることができる。また、より好ましくは、66
μm以上とすることである。
As the metal substrate, Cu, Sn and P are used.
When phosphor bronze consisting of and is used, the thickness is
By setting the thickness to 55 μm or more, the rigidity required for the optical disc 1 can be obtained. Also, more preferably, 66
It is to be at least μm.

【0047】上記金属基板2上に形成された樹脂層3・
3’の層厚は、1μm以上150μm以下であることが
望ましい。上記金属基板2の表面の微細な凹凸欠陥は、
該樹脂層3・3’により被い隠され、該樹脂層3・3’
の表面に、凹凸欠陥の存在しない透明スタンパ7の表面
の凹凸ピットパターン及び/又は凹凸案内溝パターンが
転写されることとなるが、ここで、該樹脂層3・3' の
層厚が1μmより薄くなると、上記金属基板2の表面の
微細な凹凸欠陥を該樹脂層3・3' で被い隠すことがで
きなくなり、凹凸欠陥に起因する記録再生エラーが増大
する。また、該樹脂層3・3' の層厚が150μmより
大きくなると、該樹脂層3・3' を硬化させるのに、長
い時間が必要となり、光ディスク製造のためのプロセス
時間が長くなり、光ディスクのコストアップを招くこと
になると共に、光ディスク1のトータル板厚の増加につ
ながり、光ディスク1の薄型化を阻害する。
Resin layer 3 formed on the metal substrate 2
The layer thickness of 3 ′ is preferably 1 μm or more and 150 μm or less. The fine irregularities on the surface of the metal substrate 2 are
The resin layer 3.3 'is covered with the resin layer 3.3'.
The concave-convex pit pattern and / or the concave-convex guide groove pattern on the surface of the transparent stamper 7 having no concave-convex defects will be transferred to the surface of the resin layer. When the thickness is reduced, it becomes impossible to cover the fine irregularities on the surface of the metal substrate 2 with the resin layers 3 and 3 ', and the recording / reproduction error due to the irregularities increases. Further, if the layer thickness of the resin layer 3.3 ′ is larger than 150 μm, it takes a long time to cure the resin layer 3.3 ′, and the process time for manufacturing the optical disc becomes long, and This leads to an increase in cost, leads to an increase in the total plate thickness of the optical disc 1, and prevents the optical disc 1 from becoming thinner.

【0048】上記樹脂層3上に形成される記録媒体層4
としては、書換えが可能な相変化記録媒体、または、光
磁気記録媒体、ライトワンス型の色素系記録媒体を用い
ることが可能である。また、ROMタイプである表面に
凹凸ピットパターンのみが形成された樹脂層3’上に形
成される金属反射層4’としては、AlTi合金(Al
90Ti10)を用いることができる。
Recording medium layer 4 formed on the resin layer 3
As the recording medium, a rewritable phase change recording medium, a magneto-optical recording medium, or a write-once type dye recording medium can be used. Further, as the metal reflection layer 4 ′ formed on the resin layer 3 ′ having only the concave-convex pit pattern formed on the surface of the ROM type, an AlTi alloy (Al
90 Ti 10 ) can be used.

【0049】図7と図8は、それぞれ、記録媒体層4の
記録媒体として相変化記録媒体と光磁気記録媒体を用い
た場合の光ディスク1の断面拡大図を示している。
FIGS. 7 and 8 are enlarged cross-sectional views of the optical disc 1 when a phase change recording medium and a magneto-optical recording medium are used as the recording medium of the recording medium layer 4, respectively.

【0050】図7に示す相変化記録媒体を用いた光ディ
スク1は、金属基板2上に、案内溝(凹凸案内溝パター
ン)9を有する樹脂層3を2P法により形成した後、記
録媒体層4として、Al反射膜11、ZnS−SiO2
干渉層12、SiN保護層13、GeSbTe相変化記
録層14、SiN保護層15、ZnS−SiO2 干渉層
16を順次スパッタリングにより形成し、さらに、紫外
線硬化樹脂からなる光透過性保護層5が形成された構成
となっている。
In the optical disc 1 using the phase change recording medium shown in FIG. 7, the resin layer 3 having the guide groove (concavo-convex guide groove pattern) 9 is formed on the metal substrate 2 by the 2P method, and then the recording medium layer 4 is formed. As the Al reflection film 11, ZnS-SiO 2
The interference layer 12, the SiN protective layer 13, the GeSbTe phase change recording layer 14, the SiN protective layer 15, and the ZnS—SiO 2 interference layer 16 are sequentially formed by sputtering, and further, the light transmitting protective layer 5 made of an ultraviolet curable resin is formed. It has been configured.

【0051】また、図8に示す光磁気記録媒体を用いた
光ディスク1は、金属基板2上に、案内溝9を有する樹
脂層3を2P法により形成した後、磁気的超解像再生が
可能な記録媒体層4として、AgTi放熱層17、Al
N保護層18、TbFeCo記録層19、Al非磁性中
間層20、GdFeCo再生層21、AlN干渉層22
を順次スパッタリングにより形成し、さらに、紫外線硬
化樹脂からなる透明な保護層5が形成された構成となっ
ている。
The optical disc 1 using the magneto-optical recording medium shown in FIG. 8 is capable of magnetic super-resolution reproduction after the resin layer 3 having the guide groove 9 is formed on the metal substrate 2 by the 2P method. As the recording medium layer 4, AgTi heat dissipation layer 17, Al
N protective layer 18, TbFeCo recording layer 19, Al nonmagnetic intermediate layer 20, GdFeCo reproducing layer 21, AlN interference layer 22.
Are sequentially formed by sputtering, and a transparent protective layer 5 made of an ultraviolet curable resin is further formed.

【0052】記録媒体層4を保護するための光透過性保
護層5は、光透過性保護層5側から記録のための光が照
射されるため、少なくとも光が透過可能であることが必
要である。該光透過性保護層5の材料としては、紫外線
硬化樹脂層の他に、樹脂シート接着層等の樹脂層を用い
ることが可能である。樹脂シートを接着して光透過性保
護層5を形成した場合、樹脂シートの厚さを精度良く管
理することが可能であるため、記録媒体層4或いは金属
反射層4’への集光特性を良好なものとすることが可能
となる。
The light-transmissive protective layer 5 for protecting the recording medium layer 4 is irradiated with light for recording from the light-transmissive protective layer 5 side, and therefore it is necessary that at least light can be transmitted. is there. As the material of the light transmitting protective layer 5, a resin layer such as a resin sheet adhesive layer can be used in addition to the ultraviolet curable resin layer. When the light-transmitting protective layer 5 is formed by adhering a resin sheet, the thickness of the resin sheet can be controlled with high precision, so that the light-condensing characteristics on the recording medium layer 4 or the metal reflective layer 4 ′ can be improved. It becomes possible to make it good.

【0053】また、光透過性保護層5の表面に、光透過
可能でありかつ硬度の高い薄膜、例えば、2nm〜10
nmの厚さのSiC薄膜を形成することにより、光ディ
スク1の光入射面に対する傷の発生によるエラー増大を
抑制することが可能である。
On the surface of the light-transmitting protective layer 5, a thin film capable of transmitting light and having high hardness, for example, 2 nm to 10 nm is used.
By forming a SiC thin film with a thickness of nm, it is possible to suppress an increase in errors due to the occurrence of scratches on the light incident surface of the optical disc 1.

【0054】上記光透過性保護層5の層厚は、2μm〜
150μmの範囲とすることが望ましい。光透過性保護
層5の層厚を2μmより薄くすると、光透過性保護層5
の光入射面における光ビームスポット径が小さくなるた
め、光透過性保護層5上に付着した塵埃が記録再生エラ
ーの原因となり、光ディスク1の可換性に著しい悪影響
を与える。また、光透過性保護層5の層厚を150μm
より厚くすると、光透過性保護層5を硬化させるのに、
長い時間が必要となり、光ディスク製造のためのプロセ
ス時間が長くなり、光ディスクのコストアップを招くこ
とになるとともに、光ディスク1のトータル板厚の増加
につながり、光ディスク1の薄型化を阻害する。
The layer thickness of the light-transmitting protective layer 5 is 2 μm to
It is desirable to set it in the range of 150 μm. When the layer thickness of the light-transmitting protective layer 5 is less than 2 μm, the light-transmitting protective layer 5 is
Since the diameter of the light beam spot on the light incident surface becomes smaller, the dust adhering to the light-transmitting protective layer 5 causes a recording / reproducing error, which has a significant adverse effect on the replaceability of the optical disc 1. Further, the layer thickness of the light-transmitting protective layer 5 is 150 μm.
If the thickness is made thicker, the light-transmitting protective layer 5 may be hardened.
It takes a long time, the process time for manufacturing the optical disc becomes long, the cost of the optical disc increases, and the total plate thickness of the optical disc 1 increases, which prevents the optical disc 1 from being thin.

【0055】MD等の従来の光ディスクにおいては、光
ビームが1.2mm厚の透明基板(=ディスク基板)を
通過して記録媒体層へと集光されていたため、光ディス
ク1の傾きによるこま収差により、集光スポット形状が
変形し、記録再生特性の劣化を招いていたが、上記光デ
ィスク1においては、光ビームは、2μm〜150μm
と、極めて薄い光透過性保護層5を通過して記録媒体層
4へと集光されるため、ほとんどこま収差が発生するこ
となく、集光スポット形状の変化の少ない安定した記録
再生を実現することができる。
In a conventional optical disc such as an MD, a light beam passes through a transparent substrate (= disc substrate) having a thickness of 1.2 mm and is focused on a recording medium layer. Although the shape of the focused spot was deformed and the recording / reproducing characteristics were deteriorated, in the optical disc 1, the light beam is 2 μm to 150 μm.
Since the light passes through the extremely thin light-transmitting protective layer 5 and is condensed on the recording medium layer 4, stable recording and reproduction with little change in the condensed spot shape are realized with almost no coma aberration. be able to.

【0056】また、光透過性保護層5の厚みは、光ディ
スク1を光ディスクカートリッジケース(以下、カート
リッジケース)の中に挿入させて光ディスクカートリッ
ジとした場合、光ディスク1の防塵効果を高め、光ディ
スク装置のエラー訂正能力を高めることにより、さらに
薄くすることも可能である。
The thickness of the light-transmitting protective layer 5 increases the dustproof effect of the optical disc 1 when the optical disc 1 is inserted into an optical disc cartridge case (hereinafter referred to as a cartridge case) to improve the dustproof effect of the optical disc device. It can be made even thinner by increasing the error correction capability.

【0057】さらに、上記光透過性保護層5を用いない
構成の光ディスク、及び、光透過性保護層5として、光
透過可能でありかつ硬度の高い薄膜、例えば、2nm〜
10nmの厚さのSiC薄膜を形成することも可能であ
る。
Furthermore, an optical disc having a structure not using the light-transmitting protective layer 5 and a thin film capable of transmitting light and having high hardness, for example, 2 nm to
It is also possible to form a SiC thin film having a thickness of 10 nm.

【0058】次に、金属基板2の表裏両面に記録媒体層
4或いは金属反射層4’を形成した両面タイプの光ディ
スク1’について説明する。図9は、光ディスク1’の
部分断面図である。
Next, a description will be given of a double-sided type optical disc 1'in which the recording medium layer 4 or the metal reflection layer 4'is formed on both front and back surfaces of the metal substrate 2. FIG. 9 is a partial cross-sectional view of the optical disc 1 '.

【0059】記録再生が可能なタイプの両面型の光ディ
スク1’は、金属基板2と、該金属基板2の表裏両面に
形成された凹凸ピットパターン及び/又は凹凸案内溝パ
ターンを有する樹脂層3・3と、該樹脂層3・3上にそ
れぞれ形成された記録媒体層4・4と、該記録媒体層4
・4をそれぞれ保護するための光透過性保護層5・5と
で構成されている。一方、再生のみが行われるROMタ
イプの両面型の光ディスク1’は、金属基板2と、該金
属基板2の表裏両面に形成された凹凸ピットパターンを
有する樹脂層3’・3’と、該樹脂層3’・3’上にそ
れぞれ形成された金属反射層4’・4’と、該金属反射
層4’・4’をそれぞれ保護するための光透過性保護層
5・5とで構成されている。いずれのタイプの光ディス
ク1’においても、金属基板2からその上に形成された
光透過性保護層5までの薄層全てを含む光ディスク1’
のトータル厚は、0.3mm以下である。
A double-sided optical disk 1'of a type capable of recording and reproducing comprises a metal substrate 2 and a resin layer 3 having an uneven pit pattern and / or an uneven guide groove pattern formed on both front and back surfaces of the metal substrate 2. 3, recording medium layers 4 and 4 respectively formed on the resin layers 3 and 3, and the recording medium layer 4
The light-transmitting protective layers 5 and 5 for protecting 4 respectively. On the other hand, a ROM-type double-sided optical disc 1 ′ that is used only for reproduction includes a metal substrate 2, resin layers 3 ′ and 3 ′ having concave and convex pit patterns formed on both front and back surfaces of the metal substrate 2, and the resin. A metal reflective layer 4 ', 4'formed on each of the layers 3', 3 ', and a light-transmissive protective layer 5, 5 for protecting the metal reflective layer 4', 4 ', respectively. There is. In any type of optical disc 1 ', an optical disc 1'including all thin layers from the metal substrate 2 to the light-transmitting protective layer 5 formed thereon.
Has a total thickness of 0.3 mm or less.

【0060】図10は、2P法と呼ばれる上記両面タイ
プの光ディスク1’の形成方法を示す図である。金属基
板2の両面上に上記樹脂層3(或いは上記樹脂層3’)
となる紫外線硬化樹脂3aを塗布した後、2枚の凹凸ピ
ットパターン及び/又は凹凸案内溝パターンを有する透
明スタンパ7・7(或いは2枚の凹凸ピットパターンを
有する透明スタンパ7’・7’)の間に、紫外線硬化樹
脂3aを塗布した金属基板2を密着配置し、両方の透明
スタンパ7・7(7’・7’)側からそれぞれ紫外線8
を照射し、金属基板2の両面上に塗布された紫外線硬化
樹脂3aの硬化を行う。その後、透明スタンパ7・7
(7’・7’)から、金属基板2及び硬化された紫外線
硬化樹脂3aを剥離することにより、金属基板2の両面
上に凹凸ピットパターン及び/又は凹凸案内溝パターン
を有する樹脂層3(或いは凹凸ピットパターンを有する
上記樹脂層3’)が形成されたディスク基板が形成され
る。該光ディスク基板の両面に、それぞれ、記録媒体層
4(或いは反射金属層4’)と光透過性保護層5とを形
成することにより、両面タイプの光ディスク1’を製造
することができる。
FIG. 10 is a diagram showing a method of forming the above-mentioned double-sided type optical disc 1'called the 2P method. The resin layer 3 (or the resin layer 3 ') on both surfaces of the metal substrate 2
Of the transparent stamper 7 · 7 (or the transparent stamper 7 ′ · 7 ′ having two concave / convex pit patterns) having the concave / convex pit pattern and / or the concave / convex guide groove pattern after applying the ultraviolet curable resin 3a The metal substrate 2 coated with the ultraviolet curable resin 3a is placed in close contact therewith, and ultraviolet rays 8 are respectively applied from both transparent stampers 7 (7 ', 7') side.
Is irradiated to cure the ultraviolet curable resin 3a applied on both sides of the metal substrate 2. After that, the transparent stamper 7.7
By peeling the metal substrate 2 and the cured ultraviolet curable resin 3a from (7 ′ · 7 ′), the resin layer 3 (or the resin layer 3 having an uneven pit pattern and / or an uneven guide groove pattern on both sides of the metal substrate 2 (or A disk substrate is formed on which the resin layer 3 ') having an uneven pit pattern is formed. By forming the recording medium layer 4 (or the reflective metal layer 4 ′) and the light-transmitting protective layer 5 on both sides of the optical disc substrate, a double-sided type optical disc 1 ′ can be manufactured.

【0061】次に、図11〜図13を用いて、上記光デ
ィスク1(1’)に対して情報の記録再生が可能な光デ
ィスク装置について説明する。
Next, an optical disk device capable of recording / reproducing information on / from the optical disk 1 (1 ') will be described with reference to FIGS.

【0062】図11は、光ディスク装置の概略図を示し
ている。この光ディスク装置は、再生専用のROMタイ
プの光ディスク1(1’)、及び記録媒体層4の記録媒
体として相変化記録媒体を用いた書き換え可能な光ディ
スク1(1’)を扱うものである。図12は、図11に
おける発光受光素子部の概略図である。
FIG. 11 shows a schematic diagram of an optical disk device. This optical disc apparatus handles a read-only ROM type optical disc 1 (1 ′) and a rewritable optical disc 1 (1 ′) using a phase change recording medium as a recording medium of the recording medium layer 4. FIG. 12 is a schematic diagram of the light emitting / receiving element portion in FIG.

【0063】光ディスク1(1’)は、センターハブ2
3を介してスピドル24に対して固定され回転駆動され
る。光ディスク1(1’)の半径方向に、図示しない駆
動手段にて移動可能に設置された光ピックアップ32が
配置されている。光ピックアップ32は、記録再生を行
うための発光素子28と、トラッキング及びフォーカシ
ングのための制御用受光素子27と、再生信号検出用受
光素子26とを有する発光受光素子部29と、光ビーム
30を集光手段31へと導く立ち上げミラー32と、2
軸アクチュエータ33により、フォーカス方向及びトラ
ック方向に駆動可能に支持された集光手段31とで構成
されている。
The optical disc 1 (1 ') has a center hub 2
It is fixed to the spider 24 via 3 and is rotationally driven. In the radial direction of the optical disc 1 (1 '), an optical pickup 32 is arranged so as to be movable by a driving means (not shown). The optical pickup 32 includes a light emitting / receiving element portion 29 having a light emitting element 28 for recording / reproducing, a control light receiving element 27 for tracking and focusing, and a reproduction signal detecting light receiving element 26, and a light beam 30. A rising mirror 32 that leads to the condensing means 31 and 2
It is composed of a condensing means 31 supported by an axial actuator 33 so as to be drivable in the focus direction and the track direction.

【0064】発光受光素子部29内においては、発光素
子28から出た光ビームはコリメータレンズにより平行
光束とされた後、第1のビームスプリッター34により
反射され、立上げミラー32へと導かれ、光ディスク1
(1’)の記録媒体層4(或いは金属反射層4’)上に
集光される。また、光ディスク1(1’)の記録媒体層
4(或いは金属反射層4’)からの反射光は、第1のビ
ームスプリッター34を透過し、第2のビームスプリッ
ター35により分光され、一方の光ビームは、集光レン
ズによりトラッキング及びフォーカシングのための制御
用受光素子27へと集光され、他方の光ビームは、集光
レンズにより再生信号検出用受光素子26へと集光され
る。
In the light emitting / receiving element portion 29, the light beam emitted from the light emitting element 28 is collimated by the collimator lens and then reflected by the first beam splitter 34 to be guided to the rising mirror 32. Optical disc 1
The light is focused on the recording medium layer 4 (or the metal reflection layer 4 ′) of (1 ′). Further, the reflected light from the recording medium layer 4 (or the metal reflection layer 4 ′) of the optical disc 1 (1 ′) passes through the first beam splitter 34 and is split by the second beam splitter 35, so that one light The beam is focused on the control light receiving element 27 for tracking and focusing by the focusing lens, and the other light beam is focused on the reproduction signal detecting light receiving element 26 by the focusing lens.

【0065】上記発光受光素子部29と2軸アクチュエ
ータ33とは、信号処理回路36にてその駆動が制御さ
れる。信号処理回路36は、発光受光素子部29の発光
素子28のパワー制御を行い、再生信号検出用受光素子
26からの出力から記録情報の再生信号を生成する。ま
た、信号処理回路36は、再生信号の生成と共に、発光
受光素子部29の制御用受光素子27からの出力に基づ
き、2軸アクチュエータ33を駆動して集光手段31を
変位させ、集光手段31を通過した光ビーム30が、光
透過性保護層5側から入射し、記録媒体層4に集光され
るようにフォーカシングを行うと共に、樹脂層3上の案
内溝9に沿って集光スポットが相対的に移動すべくトラ
ッキングを行い、情報の記録再生を行うことを可能とす
る。
Driving of the light emitting / receiving element section 29 and the biaxial actuator 33 is controlled by a signal processing circuit 36. The signal processing circuit 36 controls the power of the light emitting element 28 of the light emitting and receiving element section 29, and generates a reproduction signal of recorded information from the output from the reproduction signal detecting light receiving element 26. Further, the signal processing circuit 36 drives the biaxial actuator 33 to displace the light converging means 31 based on the output from the control light receiving element 27 of the light emitting and light receiving element section 29 together with the generation of the reproduction signal, and the light converging means 31 is displaced. Focusing is performed so that the light beam 30 that has passed through 31 enters from the light-transmitting protective layer 5 side and is focused on the recording medium layer 4, and at the same time, a focused spot is formed along the guide groove 9 on the resin layer 3. Makes it possible to perform recording and reproduction of information by performing tracking so as to move relatively.

【0066】ROMタイプの光ディスク1(1’)の場
合は、上記と同様にして金属反射層4’に光ビーム30
が集光されるようにフォーカシングを行うと共に、光デ
ィスク1(1’)の樹脂層3’上のピット(凹凸ピット
パターン)10に沿って集光スポットが相対的に移動す
べくトラッキングを行い、情報の再生が行われる。
In the case of the ROM type optical disc 1 (1 '), the light beam 30 is applied to the metal reflection layer 4'in the same manner as above.
Focusing is performed so that the light is focused, and tracking is performed so that the focused spot relatively moves along the pit (concave pit pattern) 10 on the resin layer 3 ′ of the optical disc 1 (1 ′). Is played.

【0067】上記光ディスク装置においては、光ビーム
スポット径を小径化するため、発光素子として、波長が
350nm〜650nmの半導体レーザを用い、集光手
段31の開口数NAを0.70〜1.00とすることが
望ましい。なお、図11においては、集光手段31とし
て対物レンズ1枚からなるものを記載しているが、開口
数を0.80以上に大きくする場合、集光手段31を2
枚以上の対物レンズ群で構成することにより、開口数の
大きな集光手段を容易に製造することができる。
In the above optical disk device, in order to reduce the diameter of the light beam spot, a semiconductor laser having a wavelength of 350 nm to 650 nm is used as the light emitting element, and the numerical aperture NA of the condensing means 31 is 0.70 to 1.00. Is desirable. In FIG. 11, the light collecting means 31 is composed of one objective lens. However, when the numerical aperture is increased to 0.80 or more, the light collecting means 31 is divided into two.
By constructing the objective lens group with one or more sheets, it is possible to easily manufacture a condensing means having a large numerical aperture.

【0068】図13は、別の光ディスク装置の概略図を
示している。この光ディスク装置は、再生専用のROM
タイプの光ディスク1及び記録媒体層4の記録媒体とし
て相変化記録媒体を用いた書き換え可能な光ディスク1
に加えて、記録媒体層4の記録媒体として光磁気記録媒
体を用いた書き換え可能な光ディスクを扱うものであ
る。
FIG. 13 shows a schematic view of another optical disk device. This optical disk device is a read-only ROM
Type optical disc 1 and rewritable optical disc 1 using a phase change recording medium as the recording medium of the recording medium layer 4.
In addition, the present invention deals with a rewritable optical disc using a magneto-optical recording medium as the recording medium of the recording medium layer 4.

【0069】主たる構成は、図11に示した光ディスク
装置と同じであるので、同じ機能を有する部材には同じ
参照符号を付して、説明を省略する。図13に示す光デ
ィスク装置は、図11の光ディスク装置に、さらに、光
磁気記録媒体に記録磁界を印加するための磁気ヘッド4
2が設けられた構成である。
Since the main structure is the same as that of the optical disk device shown in FIG. 11, members having the same functions are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. The optical disk device shown in FIG. 13 is different from the optical disk device of FIG. 11 in that a magnetic head 4 for applying a recording magnetic field to the magneto-optical recording medium.
2 is provided.

【0070】記録媒体層4の記録媒体として光磁気記録
媒体を用いた場合、記録のために記録磁界を印加する必
要があり、集光手段31に対向する位置に、光ピックア
ップ25と一体的に移動可能なサスペンション41によ
り支持された記録磁界印加用の磁気ヘッド42が配置さ
れている。該磁気ヘッド42は、光ディスク1上を安定
走行するように、スライダー上に搭載することも可能で
ある。磁気ヘッド42は、光ディスク1(1’)の金属
基板2側から近接配置する。ここで、磁気ヘッド42
は、金属基板側からサスペンション41により近接して
配置されるが、金属基板2の厚さが薄いため、磁気ヘッ
ド42から発生する磁界強度が大きく減衰することなく
記録媒体層4へと到達し、記録媒体層4に対して、十分
な強度の記録磁界を印加することができる。
When a magneto-optical recording medium is used as the recording medium of the recording medium layer 4, it is necessary to apply a recording magnetic field for recording, and it is integrated with the optical pickup 25 at a position facing the light converging means 31. A magnetic head 42 for applying a recording magnetic field, which is supported by a movable suspension 41, is arranged. The magnetic head 42 can be mounted on a slider so that the magnetic head 42 travels stably on the optical disc 1. The magnetic head 42 is arranged close to the metal substrate 2 side of the optical disc 1 (1 ′). Here, the magnetic head 42
Is arranged closer to the suspension 41 from the metal substrate side, but since the metal substrate 2 is thin, the magnetic field strength generated from the magnetic head 42 reaches the recording medium layer 4 without being greatly attenuated, A recording magnetic field of sufficient strength can be applied to the recording medium layer 4.

【0071】また、金属基板2を用いた上記光ディスク
1(1’)は、前述したように、光ディスク1の防塵の
ために、光ディスクカートリッジケース(以下、カート
リッジケース)に収容し、光ディスクカートリッジとす
ることもできる。
Further, the optical disc 1 (1 ') using the metal substrate 2 is housed in an optical disc cartridge case (hereinafter referred to as a cartridge case) to form an optical disc cartridge in order to protect the optical disc 1 from dust as described above. You can also

【0072】次に、図14〜図16を用いて、上記光デ
ィスク1(1’)をカートリッジケースに収容してなる
光ディスクカートリッジ、及び該光ディスクカートリッ
ジに対して情報の記録再生が可能な光ディスク装置につ
いて説明する。
Next, referring to FIGS. 14 to 16, an optical disk cartridge in which the optical disk 1 (1 ′) is housed in a cartridge case, and an optical disk device capable of recording / reproducing information on / from the optical disk cartridge are described. explain.

【0073】図14は、光ディスク1(1’)がカート
リッジケース37に収容されてなる光ディスクカートリ
ッジ50と、該光ディスクカートリッジ50を扱う光デ
ィスク装置とを示し、図15は、カートリッジケース3
7の平面図を示している。
FIG. 14 shows an optical disk cartridge 50 in which the optical disk 1 (1 ′) is housed in a cartridge case 37, and an optical disk device which handles the optical disk cartridge 50. FIG. 15 shows the cartridge case 3
7 shows a plan view of FIG.

【0074】カートリッジケース37は、スピンドル2
4に光ディスク1(1’)を固定するための第1の開口
部38と、光ピックアップ25の集光手段31を光ディ
スク1(1’)に臨ませるための第2の開口部39と
を、カートリッジケース37の片面に有している。な
お、特に図示してはいないが、光ディスクが両面タイプ
の光ディスク1’である場合、上記第1開口部38と第
2の開口部39とは、カートリッジケース37の両面に
それぞれ形成される。
The cartridge case 37 includes the spindle 2
4, a first opening 38 for fixing the optical disc 1 (1 ′) and a second opening 39 for exposing the condensing means 31 of the optical pickup 25 to the optical disc 1 (1 ′). It is provided on one side of the cartridge case 37. Although not particularly shown, when the optical disc is a double-sided type optical disc 1 ′, the first opening 38 and the second opening 39 are formed on both sides of the cartridge case 37, respectively.

【0075】さらに、カートリッジケース37における
第1の開口部38と第2の開口部39には、図15に示
すように、開閉可能なスライドシャッター40が設けら
れている。該スライドシャッター40は、光ディスク装
置に光ディスクカートリッジ50が装着されると、第1
の開口部38と第2の開口部39とを開放し、光ディス
クカートリッジ50が光ディスク装置から取り出された
時に、第1の開口部38と第2の開口部39とを閉塞す
る。該スライドシャッター40を設けることにより、光
ディスク1(1’)への塵埃の付着を抑制することが可
能となる。
Further, as shown in FIG. 15, a slide shutter 40 that can be opened and closed is provided in the first opening 38 and the second opening 39 of the cartridge case 37. When the optical disk cartridge 50 is mounted on the optical disk device, the slide shutter 40 is set to the first position.
The opening 38 and the second opening 39 are opened, and when the optical disk cartridge 50 is taken out from the optical disk device, the first opening 38 and the second opening 39 are closed. By providing the slide shutter 40, it becomes possible to prevent dust from adhering to the optical disc 1 (1 ′).

【0076】上記光ディスク1(1’)の場合、光ビー
ム30が通過する光透過性保護層5の層厚が、2μm〜
150μmとなっており、光透過性保護層5の表面に塵
埃が付着することにより、正確な記録再生が行われなく
なる。したがって、光ディスク1(1’)においては、
開閉可能なスライドシャッター40を有する光ディスク
カートリッジケース37により、塵埃が光ディスク1の
表面に付着することを防止することが好ましい。
In the case of the optical disc 1 (1 ′), the layer thickness of the light-transmitting protective layer 5 through which the light beam 30 passes is 2 μm to.
The thickness is 150 μm, and dust adheres to the surface of the light-transmitting protective layer 5, whereby accurate recording / reproducing cannot be performed. Therefore, in the optical disc 1 (1 '),
It is preferable to prevent dust from adhering to the surface of the optical disc 1 by the optical disc cartridge case 37 having the slide shutter 40 that can be opened and closed.

【0077】カートリッジケース37の材質としては、
ポリカーボネート等の樹脂、ステンレスやジュラルミン
等の金属材料を用いることができる。
As the material of the cartridge case 37,
Resins such as polycarbonate and metallic materials such as stainless steel and duralumin can be used.

【0078】材質として樹脂を選択した場合、カートリ
ッジケース37として必要な剛性を得るために、ある程
度の厚みを持たせる必要がある。樹脂製の場合、カート
リッジケース37の厚さを薄くし過ぎると、カートリッ
ジケース37の剛性が低下し、光ディスク1(1’)を
保護するというカートリッジケース37の本来の役割を
担うことができなくなる。たとえば、光ディスク装置に
対して、光ディスクカートリッジ50のローディングま
たはアンローディングを行う際、カートリッジケース3
7が湾曲し、光ディスク1(1’)と接触し、光ディス
ク1(1’)表面に傷をつけるといった不具合が発生し
たり、カートリッジケース37自体が破損したりするこ
とになる。このような理由から、樹脂製のカートリッジ
ケース37の板厚は、0.8mm以上であることが好ま
しい。
When resin is selected as the material, it is necessary to have a certain thickness in order to obtain the rigidity required for the cartridge case 37. When the cartridge case 37 is made of resin, if the thickness of the cartridge case 37 is too thin, the rigidity of the cartridge case 37 decreases, and the cartridge case 37 cannot serve its original role of protecting the optical disc 1 (1 ′). For example, when loading or unloading the optical disk cartridge 50 with respect to the optical disk device, the cartridge case 3
7 is curved and comes into contact with the optical disc 1 (1 ′), causing a problem such as scratching the surface of the optical disc 1 (1 ′) or damaging the cartridge case 37 itself. For this reason, the plate thickness of the resin cartridge case 37 is preferably 0.8 mm or more.

【0079】図16は、板厚0.8mmの樹脂製のカー
トリッジケース37を用いた光ディスクカートリッジ5
0の断面図を示している。光ディスク1(1’)のトー
タル厚さがaであり、カートリッジケース37の板厚が
cであり、ここでは=0.8mmである。光ディスク1
(1’)とカートリッジケース37との接触を防ぐため
に必要な間隔がdであり、dとしては少なくとも0.3
mm必要である。
FIG. 16 shows an optical disk cartridge 5 using a resin cartridge case 37 having a plate thickness of 0.8 mm.
0 shows a sectional view of 0. The total thickness of the optical disc 1 (1 ') is a, the plate thickness of the cartridge case 37 is c, and here = 0.8 mm. Optical disc 1
The distance required to prevent contact between (1 ′) and the cartridge case 37 is d, and d is at least 0.3.
mm is required.

【0080】ここで、光ディスクカートリッジ50のト
ータル厚さは、光ディスク1(1’)のトータル厚さa
と、カートリッジケース37の厚さcの2倍と、間隔d
の2倍を加え合わせた厚さ(a+2b+2c=a+2.
2mm)となる。したがって、厚さ5mmの光ディスク
装置を実現するためには、該光ディスクカートリッジ5
0の厚さを2.5mm以下とすることが必要であり、つ
まりは、光ディスク1(1’)のトータル厚さを0.3
mm以下とすることが必要である。
Here, the total thickness of the optical disk cartridge 50 is the total thickness a of the optical disk 1 (1 ').
And twice the thickness c of the cartridge case 37, and the distance d
Of the total thickness (a + 2b + 2c = a + 2.
2 mm). Therefore, in order to realize an optical disk device having a thickness of 5 mm, the optical disk cartridge 5
It is necessary to set the thickness of 0 to 2.5 mm or less, that is, the total thickness of the optical disc 1 (1 ') is 0.3 mm.
It is necessary to set it to mm or less.

【0081】光ディスク1(1’)のトータル厚さを
0.3mm以下とすることで、従来より多様されている
樹脂よりカートリッジケース37を形成した場合であっ
ても、厚さ5mmの光ディスク装置を実現することが可
能となる。
By setting the total thickness of the optical disc 1 (1 ') to 0.3 mm or less, even if the cartridge case 37 is formed of a resin that has been widely used in the past, an optical disc device having a thickness of 5 mm can be provided. It can be realized.

【0082】一方、カートリッジケース37の材質とし
て、樹脂に比べて剛性の高い金属材料を用いた場合は、
肉厚を薄くしても、カートリッジケース37として必要
な剛性を得ることが可能となり、光ディスクカートリッ
ジ50、ひいては光ディスク装置のより一層の薄型化が
可能となる。
On the other hand, when a metal material having higher rigidity than resin is used as the material of the cartridge case 37,
Even if the wall thickness is reduced, the rigidity required for the cartridge case 37 can be obtained, and the optical disk cartridge 50, and thus the optical disk device, can be made even thinner.

【0083】図17は、金属製のカートリッジケース3
7を用いた光ディスクカートリッジ50の断面図を示し
ている。光ディスク1(1’)のトータル厚さがaであ
り、カートリッジケース37の板厚がeである。カート
リッジケース37の材質として例えばステンレスを用い
た場合、e=0.16mmで、0.8mm厚のポリカー
ボネート樹脂製のカートリッジケース37と同じ剛性を
実現できることを確認している。光ディスク1(1’)
とカートリッジケース37との接触を防ぐために必要な
間隔がdであり、dとしては少なくとも0.3mm必要
である。
FIG. 17 shows a metal cartridge case 3
7 is a sectional view of an optical disc cartridge 50 using No. 7. The total thickness of the optical disc 1 (1 ') is a, and the plate thickness of the cartridge case 37 is e. It has been confirmed that when stainless steel is used as the material of the cartridge case 37, e = 0.16 mm and the same rigidity as that of the 0.8 mm-thick polycarbonate resin cartridge case 37 can be realized. Optical disc 1 (1 ')
The distance required to prevent contact between the cartridge case 37 and the cartridge case 37 is d, and d must be at least 0.3 mm.

【0084】ここで、光ディスクカートリッジ50のト
ータル厚さは、光ディスク1(1’)のトータル厚さa
と、カートリッジケース37の肉厚eの2倍と、間隔d
の2倍を加え合わせた厚さ(a+2b+2e=a+0.
92mm)となる。したがって、aを同じとした場合、
金属製のディスクカートリッジ37を採用することによ
り、ポリカーボネート樹脂製のものを用いた場合に比べ
て、1.28mm薄い光ディスクカートリッジを実現す
ることができる。
Here, the total thickness of the optical disk cartridge 50 is the total thickness a of the optical disk 1 (1 ').
And twice the thickness e of the cartridge case 37, and the distance d
Of the total thickness (a + 2b + 2e = a + 0.
92 mm). Therefore, if a is the same,
By using the disk cartridge 37 made of metal, it is possible to realize an optical disk cartridge which is thinner by 1.28 mm as compared with the case of using the one made of polycarbonate resin.

【0085】金属製の光ディスクカートリッジケース3
7として、ステンレス以外の金属を用いることが可能で
ある。特に、ジュラルミンやチタン合金等の軽合金を用
いることにより、薄くかつ軽量な光ディスクカートリッ
ジを実現することができる。
Optical disc cartridge case 3 made of metal
As 7, a metal other than stainless steel can be used. In particular, a thin and lightweight optical disk cartridge can be realized by using a light alloy such as duralumin or a titanium alloy.

【0086】なお、このような光ディスクカートリッジ
50を扱う図14に示す光ディスク装置の構成は、図1
1に示した光ディスク装置と同じであるので、同じ機能
を有する部材には同じ参照符号を付して、説明を省略す
る。
The structure of the optical disk device shown in FIG. 14 which handles such an optical disk cartridge 50 is shown in FIG.
Since it is the same as the optical disk device shown in FIG. 1, the members having the same functions are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0087】また、図18に、カートリッジケース3
7’に記録媒体層4に光磁気記録媒体を用いた光ディス
ク1(1’)を収容してなる、光磁気記録型の光ディス
クカートリッジ50’、及び該光ディスクカートリッジ
50’を扱う光ディスク装置とを示す。
FIG. 18 shows the cartridge case 3
Reference numeral 7'denotes a magneto-optical recording type optical disc cartridge 50 'in which an optical disc 1 (1') using a magneto-optical recording medium is contained in a recording medium layer 4, and an optical disc device which handles the optical disc cartridge 50 '. .

【0088】記録媒体層4が光磁気記録媒体よりなる光
ディスク1(1’)の場合、記録を行うための記録磁界
が必要であり、図18に示すように、カートリッジケー
ス37’には、記録磁界を発生させるための磁気ヘッド
42を光ディスク1(1’)の金属基板2側に近接して
配置するための第3の開口部43が、第2の開口部39
に対向する位置に設けられている。この場合、開閉可能
なスライドシャッター40は、第1の開口部38、第2
の開口部39、及び、第3の開口部43を覆うように設
けられることが望ましい。また、特に図示してはいない
が、光ディスクが両面タイプの光ディスク1’である場
合、上記第1開口部38と第2の開口部39、及び第3
開口部43とは、カートリッジケース37’の両面にそ
れぞれ形成される。この場合、カートリッジケース3
7’の同一面に形成される第2開口部39と第3開口部
とは兼用され、結果として、図14に示したカートリッ
ジケース37の両面に第2開口部39を設けた構成と同
じとなる。
When the recording medium layer 4 is the optical disc 1 (1 ') made of a magneto-optical recording medium, a recording magnetic field is required for recording, and as shown in FIG. The third opening 43 for arranging the magnetic head 42 for generating a magnetic field close to the metal substrate 2 side of the optical disc 1 (1 ′) is the second opening 39.
Is provided at a position opposite to. In this case, the slide shutter 40 that can be opened and closed includes the first opening 38 and the second opening 38.
It is desirable to be provided so as to cover the opening 39 and the third opening 43. Further, although not particularly shown, when the optical disk is a double-sided type optical disk 1 ', the first opening 38, the second opening 39, and the third opening 38 are provided.
The openings 43 are formed on both sides of the cartridge case 37 '. In this case, the cartridge case 3
The second opening 39 and the third opening formed on the same surface of 7'are also used, and as a result, the same configuration as the configuration in which the second opening 39 is provided on both surfaces of the cartridge case 37 shown in FIG. Become.

【0089】なお、このような光ディスクカートリッジ
50’を扱う図18に示す光ディスク装置の構成も、基
本的には、図13に示した光ディスク装置と同じである
ので、同じ機能を有する部材には同じ参照符号を付し
て、説明を省略する。
The structure of the optical disk device shown in FIG. 18 for handling such an optical disk cartridge 50 'is basically the same as that of the optical disk device shown in FIG. The reference numerals are attached and the description is omitted.

【0090】また、上記光ディスクカートリッジ50・
50’の厚さとしては、2.5mm以下とすることが好
ましく、金属基板2を用いた上記光ディスク1(1’)
においては、光ディスクカートリッジ50・50’の厚
さを、2.5mm以下とすることが可能である。
Further, the optical disk cartridge 50.
The thickness of 50 'is preferably 2.5 mm or less, and the optical disc 1 (1') using the metal substrate 2 is used.
In the above, the thickness of the optical disk cartridge 50/50 'can be 2.5 mm or less.

【0091】本発明は、ノートパソコン等の携帯機器の
カードスロットに挿入可能な厚さ5mm以下の光ディス
ク装置で使用される光ディスク1を実現することを目的
とした発明であり、上記光ディスクカートリッジ50・
50’の厚さとしては、厚さ5mm以下の光ディスク装
置に挿入可能であることが必要となる。既存の光ディス
クとしてMDが存在するが、そのMDを扱う光ディスク
装置の厚さはおおむね10mm程度であり、また、MD
カートリッジの厚さは5mmである。このことから、現
在の実装技術を用いることにより、光ディスクカートリ
ッジの厚さのほぼ倍の厚さの光ディスク装置を実現する
ことが可能となる。
The present invention is intended to realize an optical disk 1 used in an optical disk device having a thickness of 5 mm or less that can be inserted into a card slot of a portable device such as a notebook computer.
As for the thickness 50 ', it is necessary to be insertable into an optical disk device having a thickness of 5 mm or less. Although there is an MD as an existing optical disc, the thickness of an optical disc device that handles the MD is about 10 mm.
The thickness of the cartridge is 5 mm. From this, by using the current mounting technology, it becomes possible to realize an optical disc device having a thickness approximately twice that of the optical disc cartridge.

【0092】したがって、上記光ディスクカートリッジ
50・50’の厚さを2.5mm以下とすることで、厚
さ5mmの光ディスク装置を実現することが可能となっ
ている。
Therefore, by setting the thickness of the optical disc cartridges 50 and 50 'to 2.5 mm or less, it is possible to realize an optical disc device having a thickness of 5 mm.

【0093】[0093]

【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明を具体的に説
明する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0094】〔実施例1〕ディスク基板を構成する金属
基板2として、直径50mm、厚み37μmのステンレ
ス(Fe76Cr17Ni7 )製の基板(以下、スレンレス
からなる金属基板をステンレス基板と称する)を用い、
該ステンレス基板2上に、2P法で凹凸ピットパターン
を有する層厚10μmの樹脂層3’を形成し、スパッタ
リングによりAl90Ti10合金からなる金属反射層4’
を形成した後、光透過性保護層5として、層厚20μm
の紫外線硬化樹脂層をスピンコート法により形成し、直
径50mmのROMタイプの光ディスク1を作製した。
同様にして、ステンレス基板2の厚みを種々変更して、
直径50mmのROMタイプの光ディスク1を複数形成
した。
Example 1 As the metal substrate 2 constituting the disk substrate, a substrate made of stainless steel (Fe 76 Cr 17 Ni 7 ) having a diameter of 50 mm and a thickness of 37 μm (hereinafter, a metal substrate made of stainless steel is referred to as a stainless substrate). Using
A resin layer 3 ′ having a layer thickness of 10 μm having a concavo-convex pit pattern is formed on the stainless steel substrate 2 by the 2P method, and a metal reflection layer 4 ′ made of an Al 90 Ti 10 alloy is formed by sputtering.
After forming, the light-transmitting protective layer 5 has a layer thickness of 20 μm.
The ultraviolet curable resin layer of No. 1 was formed by a spin coating method to prepare a ROM type optical disc 1 having a diameter of 50 mm.
Similarly, by changing the thickness of the stainless steel substrate 2,
A plurality of ROM type optical disks 1 having a diameter of 50 mm were formed.

【0095】また、金属基板2として、直径80mm、
厚み37μmのステンレス製(Fe 76Cr17Ni7 )の
基板を用い、同様の手順で、該ステンレス基板2上に、
樹脂層3’、金属反射層4’、及び光透過性保護層5を
形成し、直径80mmのROMタイプの光ディスク1を
作製した。同様にして、ステンレス基板2の厚みを種々
変更して、直径80mmのROMタイプの光ディスク1
を複数形成した。
The metal substrate 2 has a diameter of 80 mm,
Made of stainless steel with a thickness of 37 μm (Fe 76Cr17Ni7)of
Using a substrate and following the same procedure on the stainless steel substrate 2,
The resin layer 3 ′, the metal reflection layer 4 ′, and the light transmissive protective layer 5 are
ROM type optical disk 1 with a diameter of 80 mm
It was made. Similarly, the thickness of the stainless steel substrate 2 can be varied.
Changed, ROM type optical disk 1 with a diameter of 80 mm
A plurality of layers were formed.

【0096】また、金属基板2として、直径130mm
で、厚み37μmのステンレス製(Fe76Cr17
7 )の基板を用い、同様の手順で、該ステンレス基板
2上に、樹脂層3’、金属反射層4’、及び光透過性保
護層5を形成し、直径130mmのROMタイプの光デ
ィスク1を作製した。同様にして、ステンレス基板2の
厚みを種々変更して、直径80mmのROMタイプの光
ディスク1を複数形成した。
The metal substrate 2 has a diameter of 130 mm.
And made of stainless steel with a thickness of 37 μm (Fe 76 Cr 17 N
i 7 ), the resin layer 3 ′, the metal reflection layer 4 ′, and the light-transmitting protective layer 5 are formed on the stainless steel substrate 2 by the same procedure, and the ROM type optical disc 1 having a diameter of 130 mm is formed. Was produced. Similarly, various thicknesses of the stainless steel substrate 2 were changed to form a plurality of ROM type optical disks 1 having a diameter of 80 mm.

【0097】直径サイズに関わらず、上記金属反射層
4’における凹凸ピット列は、トラックピッチ0.3μ
mでスパイラル状に、ピット直径0.15μm,ピット
周期0.3μm,ピット深さ25nmのピット列が形成
されたものである。また、各光ディスク1のトータル厚
さは、直径サイズに関わらず、大凡ステンレス基板2の
厚にみ、樹脂層3’と光透過性保護膜5の厚みを+した
ものであった。
Regardless of the diameter size, the concavo-convex pit row in the metal reflection layer 4'has a track pitch of 0.3 μm.
A pit row having a pit diameter of 0.15 μm, a pit period of 0.3 μm, and a pit depth of 25 nm was spirally formed at m. In addition, the total thickness of each optical disc 1 was approximately the thickness of the stainless steel substrate 2 plus the thickness of the resin layer 3 ′ and the light-transmitting protective film 5, regardless of the diameter size.

【0098】このように形成した各光ディスク1にセン
ターハブ23(図11参照)を接着固定した後、図11
に示す光ディスク装置に取付け、2000rpmで回転
駆動し、フォーカスエラー量を測定した。
After the center hub 23 (see FIG. 11) is adhered and fixed to each of the optical discs 1 thus formed, as shown in FIG.
It was mounted on the optical disk device shown in (1) and rotated at 2000 rpm to measure the focus error amount.

【0099】直径50mmの光ディスク1においては、
直径22mm(中心より11mm)の位置である内周位
置と、直径44mm(中心より22mm)の位置である
外周位置において、フォーカスエラー量を測定した。一
方、直径80mmの光ディスク1においては、直径37
mm(中心より18.5mm)の位置である内周位置
と、直径74mm(中心より37mm)の位置である外
周位置において、フォーカスエラー量を測定した。直径
130mmの光ディスク1においては、直径30mm
(中心より15mm)の位置である内周位置と、直径1
20mm(中心より60mm)の位置である外周位置に
おいて、フォーカスエラー量を測定した。また、ここで
使用した光ディスク装置の発行素子28としては、波長
405nmの半導体レーザを用い、集光手段31として
は、NAが0.85の2群対物レンズを用いた。また、
フォーカシングを行った後、スパイラル状に形成された
ピット列に対するトラッキングを行い、レーザ光を0.
5mWのパワーで連続的に照射し、上記ピット列の再生
を行った。再生信号検出用受光素子26からの出力をス
ペクトラムアナライザで評価した。
In the optical disc 1 having a diameter of 50 mm,
The focus error amount was measured at an inner peripheral position having a diameter of 22 mm (11 mm from the center) and an outer peripheral position having a diameter of 44 mm (22 mm from the center). On the other hand, in the optical disc 1 having a diameter of 80 mm, the diameter 37
The focus error amount was measured at an inner peripheral position of mm (18.5 mm from the center) and an outer peripheral position of 74 mm in diameter (37 mm from the center). For an optical disc 1 with a diameter of 130 mm, the diameter is 30 mm
Inner circumference position (15 mm from center) and diameter 1
The focus error amount was measured at the outer peripheral position which was a position of 20 mm (60 mm from the center). Further, a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm was used as the issuing element 28 of the optical disk device used here, and a second group objective lens having an NA of 0.85 was used as the focusing means 31. Also,
After focusing is performed, tracking is performed on the spirally formed pit row and the laser light is adjusted to 0.
The above pit train was reproduced by continuously irradiating with a power of 5 mW. The output from the reproduction signal detecting light receiving element 26 was evaluated by a spectrum analyzer.

【0100】直径50mmの光ディスク1のフォーカス
エラー量の測定結果を表1に、直径80mmの光ディス
ク1のフォーカスエラー量の測定結果を表2に、直径1
30mmの光ディスク1のフォーカスエラー量の測定結
果を表3に示す。
Table 1 shows the measurement result of the focus error amount of the optical disc 1 having a diameter of 50 mm, and Table 2 shows the measurement result of the focus error amount of the optical disc 1 having a diameter of 80 mm.
Table 3 shows the measurement results of the focus error amount of the 30 mm optical disc 1.

【0101】[0101]

【表1】 [Table 1]

【0102】[0102]

【表2】 [Table 2]

【0103】[0103]

【表3】 [Table 3]

【0104】表1から、直径50mmの光ディスク1の
場合、ステンレス基板2の板厚が43μm以上の条件
で、フォーカス方向へのフォーカスエラーが±0.2μ
m以下となり、フォーカシングが可能である。フォーカ
ス方向に±0.2μm以上のフォーカスエラーが存在す
る場合、光ビームスポット径の拡大が顕著となってフォ
ーカシング不可となるため、フォーカスエラー量の許容
値は、±0.2μm未満とした。また、この板厚の範囲
で、ROMタイプの光ディスク1の凹凸ピット情報を正
確に再生することができることが確認された。詳しく
は、再生信号検出用受光素子26からの出力をスペクト
ラムアナライザで評価した結果、49dBの信号対雑音
比が得られることが確認され、実用可能な再生を実現で
きることがわかった。
From Table 1, in the case of the optical disc 1 having a diameter of 50 mm, the focus error in the focus direction is ± 0.2 μ when the thickness of the stainless steel substrate 2 is 43 μm or more.
It becomes m or less, and focusing is possible. When there is a focus error of ± 0.2 μm or more in the focus direction, the expansion of the light beam spot diameter becomes remarkable and focusing becomes impossible. Therefore, the allowable value of the focus error amount is set to less than ± 0.2 μm. It was also confirmed that the uneven pit information of the ROM type optical disc 1 can be accurately reproduced within the range of the plate thickness. Specifically, as a result of evaluating the output from the reproduction signal detecting light receiving element 26 with a spectrum analyzer, it was confirmed that a signal-to-noise ratio of 49 dB was obtained, and it was found that a practical reproduction can be realized.

【0105】また、表2より、直径80mmの光ディス
ク1の場合も同様に、ステンレス基板2の厚みが、43
μm以上の条件で、フォーカス方向へのフォーカスエラ
ーが±0.2μm未満となり、フォーカシングが良好で
あることがわかる。また、この板厚の範囲で、ROMタ
イプの光ディスク1の凹凸ピット情報を正確に再生する
ことができることが確認された。実際、ステンレス基板
2の厚みが該範囲にある光ディスク1に対しては、凹凸
ピット情報を正確に再生することができた。
Also, from Table 2, in the case of the optical disc 1 having a diameter of 80 mm, the stainless steel substrate 2 has a thickness of 43 as well.
Under the condition of μm or more, the focus error in the focus direction is less than ± 0.2 μm, which shows that the focusing is good. It was also confirmed that the uneven pit information of the ROM type optical disc 1 can be accurately reproduced within the range of the plate thickness. Actually, the concave-convex pit information could be accurately reproduced for the optical disc 1 in which the thickness of the stainless steel substrate 2 was within the range.

【0106】また、表3より、直径130mmの光ディ
スク1の場合も同様に、ステンレス基板2の厚みが、4
3μm以上の条件で、フォーカス方向へのフォーカスエ
ラーが±0.2μm未満となり、フォーカシングが良好
であることがわかる。また、この板厚の範囲で、ROM
タイプの光ディスク1の凹凸ピット情報を正確に再生す
ることができることが確認された。実際、ステンレス基
板2の厚みが該範囲にある光ディスク1に対しては、凹
凸ピット情報を正確に再生することができた。
Further, from Table 3, in the case of the optical disc 1 having a diameter of 130 mm, the thickness of the stainless steel substrate 2 is 4 as well.
Under the condition of 3 μm or more, the focus error in the focus direction is less than ± 0.2 μm, which shows that the focusing is good. Also, within this range of thickness, ROM
It was confirmed that the concave-convex pit information of the optical disc 1 of the type can be accurately reproduced. Actually, the concave-convex pit information could be accurately reproduced for the optical disc 1 in which the thickness of the stainless steel substrate 2 was within the range.

【0107】なお、ここで、直径サイズに関わらず、ス
テンレス基板2の厚みが43μmより薄い場合にフォー
カスエラー量が許容値を越える理由は、ステンレス基板
2の剛性が低くなりすぎ、光ディスク1としての剛性低
下にて光ディスク1の上下動(バタツキ)が発生し、安
定回転できなくなるためである。
Here, regardless of the diameter size, the reason why the focus error amount exceeds the allowable value when the thickness of the stainless steel substrate 2 is less than 43 μm is that the rigidity of the stainless steel substrate 2 becomes too low and the optical disc 1 is used. This is because the lowering of the rigidity causes the optical disc 1 to move up and down (fluttering), and the stable rotation cannot be achieved.

【0108】この結果より、ディスク基板に金属基板を
用いる場合、ステンレス基板2の厚みを43μm以上と
することで、フォーカスエラー量0.2μm未満を実現
して、良好なフォーカシングが可能であると言える。
From these results, it can be said that when a metal substrate is used as the disk substrate, a focus error amount of less than 0.2 μm can be realized and good focusing can be achieved by setting the thickness of the stainless steel substrate 2 to 43 μm or more. .

【0109】そこで、次に、ステンレス基板2の厚みを
43μm以上とした場合の剛性を求めることとした。
Therefore, next, the rigidity is determined when the thickness of the stainless steel substrate 2 is 43 μm or more.

【0110】ステンレス基板2の剛性δ(kgf・m
m)は、ステンレスのヤング率E(kgf/mm2 )、
ポアソン比v、厚みh(mm)を用いて、以下に示す式
(1)より算出できる。
Rigidity δ of stainless steel substrate 2 (kgf · m
m) is the Young's modulus E (kgf / mm 2 ) of stainless steel,
It can be calculated by the following equation (1) using the Poisson's ratio v and the thickness h (mm).

【0111】 δ=E・h3 (1−v2 )/12 ……(1) 式(1)に、ステンレスのヤング率E=25000kg
f/mm2 、ステンレスのポアソン比v=0. 29を代
入し、ステンレス基板2の剛性δを、ステンレス基板2
の厚みの関数として図19のグラフを得た。
Δ = E · h 3 (1-v 2 ) / 12 (1) In the formula (1), Young's modulus of stainless steel E = 25000 kg
Substituting f / mm 2 and Poisson's ratio v = 0.29 of stainless steel, the rigidity δ of the stainless steel substrate 2 is calculated as follows.
The graph of FIG. 19 was obtained as a function of thickness.

【0112】該グラフより、ステンレス基板2が厚み4
3μm以上の場合の剛性δは、0.15kgf・mm以
上となることがわかる。
From the graph, the stainless steel substrate 2 has a thickness of 4
It can be seen that the rigidity δ of 3 μm or more is 0.15 kgf · mm or more.

【0113】このことより、ディスク基板に金属基板を
用いた光ディスク1の場合、金属基板2の剛性が0.1
5kgf・mm以上であれば、安定したフォーカシング
が可能となり、ROMタイプの光ディスク1の凹凸ピッ
ト情報を再生することができると言える。
From the above, in the case of the optical disc 1 using the metal substrate as the disc substrate, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.1.
If it is 5 kgf · mm or more, it can be said that stable focusing becomes possible and the concave and convex pit information of the ROM type optical disc 1 can be reproduced.

【0114】そして、さらに言えば、フォーカスエラー
量としては、上記した±0.2μm未満とするよりも±
0.1μm以下とすることがより好ましい。フォーカス
エラー量を±0.1μm以下とすることで、フォーカシ
ングに必要となる集光手段31の駆動量を減少させるこ
とが可能となり、集光手段31を駆動する2軸アクチュ
エータ33を薄くすることが可能となる。
Further, more specifically, the focus error amount is ± less than ± 0.2 μm as described above.
It is more preferable that the thickness is 0.1 μm or less. By setting the focus error amount to ± 0.1 μm or less, it is possible to reduce the drive amount of the focusing means 31 required for focusing, and it is possible to make the biaxial actuator 33 that drives the focusing means 31 thin. It will be possible.

【0115】フォーカスエラー量を±0.1μm以下と
なるステンレス基板2の厚みは、表1,表2、表3よ
り、50μm以上であることがわかる。このことより、
少なくとも直径50〜130mmの光ディスク1におい
ては、金属基板2の剛性を0.24kgf・mm以上と
することがさらに望ましいと言える。
From Tables 1, 2 and 3, it can be seen from Tables 1, 2 and 3 that the thickness of the stainless steel substrate 2 with the focus error amount of ± 0.1 μm or less is 50 μm or more. From this,
It can be said that it is more desirable to set the rigidity of the metal substrate 2 to 0.24 kgf · mm or more in the optical disc 1 having a diameter of at least 50 to 130 mm.

【0116】なお、上記光ディスク1において、金属反
射層4’の膜厚は数十nm程度であり、金属基板2の厚
みに比べて著しく薄く、光ディスク1の剛性に与える影
響は、ほとんど無いものと考えられる。また、2P法に
より形成した樹脂層3’とスピンコート法にて形成した
紫外線硬化樹脂からなる光透過性保護層5は、そのヤン
グ率が230kgf・mm2 と、金属基板2のヤング率
に比べて2桁小さな値であり、光ディスク1の剛性に与
える影響が極めて小さく無視し得るものである。したが
って、ここでは金属反射層4’、樹脂層3’、及び光透
過性保護層5の存在を無視して、金属基板2の剛性を光
ディスク1の剛性として扱っている。
In the above optical disc 1, the metal reflection layer 4'has a thickness of about several tens of nanometers, which is significantly smaller than the thickness of the metal substrate 2 and has almost no influence on the rigidity of the optical disc 1. Conceivable. Further, the resin layer 3 ′ formed by the 2P method and the light-transmitting protective layer 5 formed of the ultraviolet curable resin formed by the spin coating method have a Young's modulus of 230 kgf · mm 2, which is higher than that of the metal substrate 2. It is a value that is two orders of magnitude smaller, and the influence on the rigidity of the optical disc 1 is extremely small and can be ignored. Therefore, here, the rigidity of the metal substrate 2 is treated as the rigidity of the optical disc 1, ignoring the existence of the metal reflection layer 4 ′, the resin layer 3 ′, and the light-transmitting protective layer 5.

【0117】次に、上記光ディスク1をカートリッジケ
ース37に挿入して光ディスクカートリッジ50とし、
図14に示す光ディスク装置を用いて、同様にしてフォ
ーカシング動作の可否について調査した結果、光カート
リッジケース37を用いなかった場合と同様に、ステン
レス基板2の板厚が43μm以上の時に、フォーカス方
向へのフォーカスエラーが±0.2μm以下となり、安
定したフォーカシングが可能となり、ROMタイプの光
ディスク1の凹凸ピット情報を再生することができるこ
とが確認された。
Next, the optical disc 1 is inserted into the cartridge case 37 to form an optical disc cartridge 50,
As a result of similarly investigating whether or not the focusing operation is possible by using the optical disk device shown in FIG. 14, when the plate thickness of the stainless steel substrate 2 is 43 μm or more, in the focusing direction as in the case where the optical cartridge case 37 is not used. It was confirmed that the focus error of No. 2 was ± 0.2 μm or less, stable focusing was possible, and the uneven pit information of the ROM type optical disc 1 could be reproduced.

【0118】ここで、上記カートリッジケース37とし
ては、ポリカーボネート樹脂を用いた。その板厚を、
0.8mmとしたので、光ディスク装置に対して、光デ
ィスクカートリッジ50のローディングまたはアンロー
ディングを行う際に、カートリッジケース37が湾曲
し、光ディスク1と接触し、光ディスク1表面に傷をつ
けるといった不具合は発生しなかった。また、カートリ
ッジケース37自体が破損したりすることもなかった。
Here, a polycarbonate resin is used for the cartridge case 37. The plate thickness,
Since the thickness is 0.8 mm, when loading or unloading the optical disk cartridge 50 with respect to the optical disk device, the cartridge case 37 is curved, contacts the optical disk 1, and scratches the surface of the optical disk 1. I didn't. Moreover, the cartridge case 37 itself was not damaged.

【0119】また、板厚0.8mmのポリカーボネート
樹脂製のカートリッジケース37を用いた場合、光ディ
スク1とカートリッジケース37との接触を防ぐため
に、光ディスク1とカートリッジケース37の内壁面と
の間には、少なくとも0.3mm必要であった。これら
のことから、厚さ5mmの光ディスク装置を実現するた
めには、光ディスクカートリッジ50の厚さを2.5m
m以下とすることが必要であり、光ディスク1のトータ
ル厚さとしては、0.3mm以下とすることが必要であ
ることを確認した。
When a cartridge case 37 made of polycarbonate resin having a plate thickness of 0.8 mm is used, in order to prevent contact between the optical disk 1 and the cartridge case 37, a space between the optical disk 1 and the inner wall surface of the cartridge case 37 is provided. , At least 0.3 mm was required. From these facts, in order to realize an optical disc device having a thickness of 5 mm, the thickness of the optical disc cartridge 50 should be 2.5 m.
It has been confirmed that the thickness is required to be m or less, and the total thickness of the optical disc 1 is required to be 0.3 mm or less.

【0120】また、続いて、上記直径50mm、80m
m、130mmの3種類の光ディスク1それぞれについ
て、フォーカシングが良好に行えるステンレス基板2の
厚みの下限である43μmにおいて、光ディスク1の回
転数を変えた場合に、内周位置及び外周位置のフォーカ
スエラー量がどのように変化するかを調べた。なお、各
サイズの光ディスク1におけるフォーカスエラー量を測
定した内周位置及び外周位置は、実施例1の場合と同じ
である。
Further, subsequently, the above diameters of 50 mm and 80 m
For each of the three types of optical disks 1 of m and 130 mm, the focus error amount at the inner peripheral position and the outer peripheral position when the number of rotations of the optical disk 1 was changed at 43 μm, which is the lower limit of the thickness of the stainless steel substrate 2 that enables good focusing. To see how it changes. The inner peripheral position and the outer peripheral position where the focus error amount is measured in the optical disc 1 of each size are the same as those in the first embodiment.

【0121】フォーカスエラー量を測定した結果を表4
〜表6に示す。
Table 4 shows the result of measuring the focus error amount.
~ Shown in Table 6.

【0122】[0122]

【表4】 [Table 4]

【0123】[0123]

【表5】 [Table 5]

【0124】[0124]

【表6】 [Table 6]

【0125】表4が直径50mmのステンレス基板2の
測定結果で、表5が直径80mmのステンレス基板2の
測定結果で、表6が直径130mmのステンレス基板2
の測定結果である。
Table 4 shows the measurement results of the stainless steel substrate 2 having a diameter of 50 mm, Table 5 shows the measurement results of the stainless steel substrate 2 having a diameter of 80 mm, and Table 6 shows the stainless steel substrate 2 having a diameter of 130 mm.
Is the measurement result.

【0126】表3〜表6よりわかるように、すべての直
径サイズにおいて、回転数(回転速度)を変えてもフォ
ーカスエラー量に著しい変化が見られないことを確認し
た。
As can be seen from Tables 3 to 6, it was confirmed that the focus error amount did not change remarkably even if the rotation speed (rotation speed) was changed in all diameter sizes.

【0127】〔実施例2〕金属基板2として、直径80
mm、厚み50μmのステンレス(Fe76Cr17
7 )基板2を用い、該ステンレス基板2上に、トラッ
クピッチ0.3μmで、幅0.15μm深さ20nmの
スパイラル状の案内溝9(図5参照)を有する層厚10
μmの紫外線硬化樹脂層からなる樹脂層3を2P法によ
り形成した。次に、記録媒体層4として、膜厚100n
mのAl反射膜11、膜厚10nmのZnS−SiO2
干渉層12、膜厚4nmのSiN保護層13、膜厚20
nmのGeSbTe相変化記録層14、膜厚4nmのS
iN保護層15、膜厚40nmのZnS−SiO2干渉
層16を順次スパッタリングにより形成し、相変化記録
媒体層を形成した(図7参照)。さらに、紫外線硬化樹
脂をスピンコート法により塗布し、層厚20μmの紫外
線硬化樹脂からなる光透過性保護層5を形成し、書き換
え可能な相変化記録材料を用いた直径50mmの光ディ
スク1を作製した。光ディスク1のトータル厚さは、お
よそ80μmであった。
[Embodiment 2] A metal substrate 2 having a diameter of 80
mm, 50 μm thick stainless steel (Fe 76 Cr 17 N
i 7 ) Using the substrate 2, a layer thickness 10 having a spiral guide groove 9 (see FIG. 5) having a track pitch of 0.3 μm and a width of 0.15 μm and a depth of 20 nm on the stainless steel substrate 2.
The resin layer 3 made of a UV curable resin layer having a thickness of μm was formed by the 2P method. Next, as the recording medium layer 4, a film thickness of 100 n
m Al reflective film 11, 10 nm thick ZnS-SiO2
Interference layer 12, SiN protective layer 13 having a film thickness of 4 nm, film thickness 20
GeSbTe phase change recording layer 14 with a thickness of 4 nm
The iN protective layer 15 and the ZnS-SiO2 interference layer 16 having a film thickness of 40 nm were sequentially formed by sputtering to form a phase change recording medium layer (see FIG. 7). Further, an ultraviolet curable resin was applied by a spin coating method to form a light-transmitting protective layer 5 made of an ultraviolet curable resin having a layer thickness of 20 μm, and an optical disc 1 having a diameter of 50 mm was prepared using a rewritable phase change recording material. . The total thickness of the optical disc 1 was about 80 μm.

【0128】上記光ディスク1を、図14に示すよう
に、カートリッジケース37の中に入れて光ディスクカ
ートリッジ50とし、光ディスク装置を用いて記録再生
特性を調べた。ここで、光ディスク装置の発光素子28
としては、波長405nmの半導体レーザを用い、集光
手段31としては、開口数が0.90の2群対物レンズ
を用い、光透過性保護層5側から光ビームを集光照射
し、記録再生を行った。
As shown in FIG. 14, the optical disk 1 was put in a cartridge case 37 to form an optical disk cartridge 50, and the recording / reproducing characteristics were examined using an optical disk device. Here, the light emitting element 28 of the optical disk device
Is a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm, and the condensing unit 31 is a second group objective lens having a numerical aperture of 0.90. I went.

【0129】カートリッジケース37としては、板厚
0.8mmのポリカーボネート樹脂製のものを用いた。
上記光ディスクカートリッジ50において、光ディスク
1のトータル厚さが80μmと薄いため、該光ディスク
カートリッジ50の厚さを約2.28mmと薄くするこ
とができた。ちなみに、従来の光ディスクであるMD
は、光ディスクの厚さが1.2mmであり、光ディスク
カートリッジの厚さは5.0mmである。
As the cartridge case 37, one made of polycarbonate resin having a plate thickness of 0.8 mm was used.
In the optical disc cartridge 50, the total thickness of the optical disc 1 was as thin as 80 μm, so that the thickness of the optical disc cartridge 50 could be made as thin as about 2.28 mm. By the way, the conventional optical disc MD
The optical disc has a thickness of 1.2 mm and the optical disc cartridge has a thickness of 5.0 mm.

【0130】ここで、光ディスク1の回転数を2000
rpmとして、光ディスク1の直径60mm(半径30
mm)の位置において、フォーカシング動作の可否につ
いて調査した結果、フォーカシング時のフォーカスエラ
ーは、0.08μm以下であり、従来の2軸アクチュエ
ータ33を用いた図14に示す光ディスク装置で安定し
たフォーカシング動作が可能であった。
Here, the rotation speed of the optical disk 1 is set to 2000.
In rpm, the diameter of the optical disk 1 is 60 mm (radius 30
(mm) position, the focus error during focusing is 0.08 μm or less. As a result, a stable focusing operation can be achieved in the optical disc device shown in FIG. 14 using the conventional biaxial actuator 33. It was possible.

【0131】また、フォーカシングを行った後、案内溝
9に対するトラッキングを行い、レーザ光を5mWの記
録パワーで光パルス照射することにより、マーク長0.
12μm,マークピッチ0.24μmの記録マークを形
成し、その後、レーザ光を0.5mWの再生パワーで連
続的に照射し、上記記録情報の再生を行った。再生信号
検出用受光素子26からの出力をスペクトラムアナライ
ザで評価した結果、46dBの信号対雑音比が得られる
ことが確認され、本発明の光ディスク1及びその光ディ
スク装置において、実用可能な記録再生を実現できるこ
とがわかった。
After focusing, the guide groove 9 is tracked, and a laser beam is irradiated with an optical pulse at a recording power of 5 mW to make the mark length 0.
Recording marks having a thickness of 12 μm and a mark pitch of 0.24 μm were formed, and then laser light was continuously irradiated with a reproducing power of 0.5 mW to reproduce the recorded information. As a result of evaluating the output from the reproduction signal detecting light receiving element 26 with a spectrum analyzer, it was confirmed that a signal-to-noise ratio of 46 dB was obtained, and practical recording and reproduction were realized in the optical disc 1 and the optical disc device of the present invention. I knew I could do it.

【0132】なお、ここではステンレス基板2の厚みを
50μmとしたが、実施例1で記載したように、ステン
レス基板2の場合、厚みを43μm以上であれば、安定
したフォーカシングが可能となり、安定した記録再生を
実現できることを確認した。
Although the thickness of the stainless steel substrate 2 is 50 μm here, as described in Example 1, when the thickness of the stainless steel substrate 2 is 43 μm or more, stable focusing becomes possible and stable. It was confirmed that recording and playback could be realized.

【0133】〔実施例3〕金属基板2として、直径80
mm、厚み50μmのステンレス(Fe76Cr17
7 )基板2を用い、該ステンレス基板2上に、トラッ
クピッチ0.3μmで、幅0.15μm深さ20nmの
スパイラル状の案内溝9(図5参照)を有する層厚10
μmの紫外線硬化樹脂層からなる樹脂層3を2P法によ
り形成した。次に、記録媒体層4として、膜厚20nm
のAgTi放熱層17、膜厚10nmのAlN保護層1
8、膜厚40nmのTbFeCo記録層19、膜厚5n
mのAl非磁性中間層20、膜厚25nmのGdFeC
o再生層21、膜厚40nmのAlN干渉層22を順次
スパッタリングにより形成し、磁気的超解像再生が可能
な光磁気記録媒体層を形成した(図8参照)。さらに、
紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、層厚2
0μmの紫外線硬化樹脂からなる光透過性保護層5を形
成し、書き換え及び磁気的超解像再生が可能な光磁気記
録媒体を用いた直径50mmの光ディスク1を作製し
た。光ディスク1のトータル厚さは、およそ80μmで
あった。
[Embodiment 3] A metal substrate 2 having a diameter of 80
mm, 50 μm thick stainless steel (Fe 76 Cr 17 N
i 7 ) Using the substrate 2, a layer thickness 10 having a spiral guide groove 9 (see FIG. 5) having a track pitch of 0.3 μm and a width of 0.15 μm and a depth of 20 nm on the stainless steel substrate 2.
The resin layer 3 made of a UV curable resin layer having a thickness of μm was formed by the 2P method. Next, as the recording medium layer 4, the film thickness is 20 nm.
AgTi heat dissipation layer 17 and AlN protective layer 1 with a thickness of 10 nm
8, TbFeCo recording layer 19 having a film thickness of 40 nm, film thickness 5 n
m Al non-magnetic intermediate layer 20, 25 nm thick GdFeC
A reproducing layer 21 and an AlN interference layer 22 having a thickness of 40 nm were sequentially formed by sputtering to form a magneto-optical recording medium layer capable of magnetic super-resolution reproduction (see FIG. 8). further,
UV curable resin is applied by spin coating to give a layer thickness of 2
The optical transparent protective layer 5 made of 0 μm ultraviolet curable resin was formed, and an optical disc 1 having a diameter of 50 mm was prepared using a magneto-optical recording medium capable of rewriting and magnetic super-resolution reproduction. The total thickness of the optical disc 1 was about 80 μm.

【0134】上記光ディスク1を、図18に示すよう
に、カートリッジケース37’の中に入れ、光ディスク
装置を用いて記録再生特性を調べた。ここで、光ディス
ク装置の発光素子28としては、波長405nmの半導
体レーザを用い、集光手段31としては、開口数が0.
90の2群対物レンズを用い、光透過性保護層5側から
光ビームを集光照射し、記録再生を行った。
As shown in FIG. 18, the optical disc 1 was placed in a cartridge case 37 ', and the recording / reproducing characteristics were examined using an optical disc device. Here, a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm is used as the light emitting element 28 of the optical disk device, and the converging means 31 has a numerical aperture of 0.
Recording and reproduction were carried out by converging and irradiating a light beam from the side of the light-transmitting protective layer 5 using a 90-second objective lens.

【0135】カートリッジケース37としては、板厚
0.8mmのポリカーボネート樹脂製のものを用いた。
上記光ディスクカートリッジ50において、光ディスク
1のトータル厚さが80μmと薄いため、該光ディスク
カートリッジ50の厚さを約2.28mmと薄くするこ
とができた。ちなみに、従来の光ディスクであるMD
は、光ディスクの厚さが1.2mmであり、光ディスク
カートリッジの厚さは5.0mmである。
As the cartridge case 37, one made of polycarbonate resin having a plate thickness of 0.8 mm was used.
In the optical disc cartridge 50, the total thickness of the optical disc 1 was as thin as 80 μm, so that the thickness of the optical disc cartridge 50 could be made as thin as about 2.28 mm. By the way, the conventional optical disc MD
The optical disc has a thickness of 1.2 mm and the optical disc cartridge has a thickness of 5.0 mm.

【0136】ここで、光ディスク1の回転数を2000
rpmとして、光ディスク1の半径30mmの位置にお
いて、フォーカシング動作の可否について調査した結
果、フォーカシング時のフォーカスエラーは、0.09
μm以下であり、従来の2軸アクチュエータ33を用い
た図18に示す光ディスク装置で安定したフォーカシン
グ動作が可能であった。
Here, the rotation speed of the optical disk 1 is set to 2000.
As a result of investigating whether or not the focusing operation is possible at a position where the radius is 30 mm as the rpm, the focus error at the time of focusing is 0.09.
It was less than μm, and stable focusing operation was possible with the optical disk device shown in FIG. 18 using the conventional biaxial actuator 33.

【0137】また、フォーカシングを行った後、案内溝
9に対するトラッキングを行い、レーザ光を7mWの記
録パワーで光パルス照射するとともに、磁気ヘッド42
により最大強度16kA/mの変調磁界を光ディスク1
の記録媒体面に印加ことにより、マーク長0.08μ
m,マークピッチ0.16μmの記録マークを形成し
た。その後、レーザ光を1.0mWの再生パワーで連続
的に照射し、上記記録情報の再生を行った。再生信号検
出用受光素子26からの出力をスペクトラムアナライザ
で評価した結果、47dBの信号対雑音比が得られるこ
とが確認され、本発明の光ディスク1及びその光ディス
ク装置において、実用可能な記録再生を実現できること
がわかった。
After focusing, the guide groove 9 is tracked to irradiate a laser beam with an optical pulse at a recording power of 7 mW and the magnetic head 42.
The optical disc 1 produces a modulated magnetic field with a maximum strength of 16 kA / m.
When applied to the recording medium surface of, the mark length is 0.08μ
A recording mark having a m and a mark pitch of 0.16 μm was formed. Then, laser light was continuously irradiated with a reproducing power of 1.0 mW to reproduce the recorded information. As a result of evaluating the output from the reproduction signal detecting light receiving element 26 with a spectrum analyzer, it was confirmed that a signal-to-noise ratio of 47 dB was obtained, and practical recording and reproduction were realized in the optical disc 1 and the optical disc apparatus of the present invention. I knew I could do it.

【0138】なお、ここではステンレス基板2の厚みを
50μmとしたが、実施例1で記載したように、ステン
レス基板2の場合、厚みを43μm以上であれば、安定
したフォーカシングが可能となり、安定した記録再生を
実現できることを確認した。
Although the thickness of the stainless steel substrate 2 is 50 μm here, as described in Example 1, when the thickness of the stainless steel substrate 2 is 43 μm or more, stable focusing becomes possible and stable. It was confirmed that recording and playback could be realized.

【0139】〔実施例4〕金属基板2として、直径80
mm、厚み50μmのステンレス(Fe76Cr17
7 )基板2を用い、該ステンレス基板2上に、トラッ
クピッチ0.3μmで、幅0.15μm深さ20nmの
スパイラル状のピットを0.30μmピッチで形成した
紫外線硬化樹脂層からなる樹脂層3を2P法により形成
した。次に、金属反射層4として、膜厚50nmのAl
0.9 Ti0.1 金属反射膜を両面スパッタリングにより形
成した。さらに、両面に形成された金属反射層4の上に
それぞれ紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布
し、層厚20μmの光透過性保護層5を形成し、ROM
タイプの両面光ディスク1’(図9参照)を作製した。
該光ディスク1’のトータル厚さは、およそ110μm
であった。
[Embodiment 4] A metal substrate 2 having a diameter of 80
mm, 50 μm thick stainless steel (Fe 76 Cr 17 N
i 7 ) A resin layer comprising a substrate 2 and an ultraviolet curable resin layer formed on the stainless steel substrate 2 with 0.30 μm pitch spiral pits having a track pitch of 0.3 μm and a width of 0.15 μm and a depth of 20 nm. 3 was formed by the 2P method. Next, as the metal reflective layer 4, Al having a film thickness of 50 nm is used.
A 0.9 Ti 0.1 metal reflective film was formed by double-sided sputtering. Further, an ultraviolet curable resin is applied on each of the metal reflection layers 4 formed on both sides by a spin coating method to form a light transmissive protective layer 5 having a layer thickness of 20 μm, and the ROM
A double-sided optical disc 1'of a type (see FIG. 9) was produced.
The total thickness of the optical disc 1'is about 110 μm.
Met.

【0140】上記光ディスク1’を、図14に示す光デ
ィスク装置を用いて、同様にしてフォーカシング動作の
可否について調査した。ここで、本実施例の光ディスク
1’を挿入したカートリッジケース37は、両面からの
情報再生を行う必要があり、カートリッジケース37の
両面に第2の開口部39を設けた。
Using the optical disk device shown in FIG. 14, the optical disk 1'was similarly examined for the focusing operation. Here, the cartridge case 37 into which the optical disc 1 ′ of the present embodiment is inserted needs to reproduce information from both sides, and the second opening 39 is provided on both sides of the cartridge case 37.

【0141】光ディスク1’の回転数を2000rpm
として、光ディスク1’の半径30mmの位置におい
て、フォーカシング動作の可否について調査した結果、
フォーカシング時のフォーカスエラーは、0.05μm
以下であり、従来の2軸アクチュエータ33を用いた図
14に示す光ディスク装置で安定したフォーカシング動
作が可能であった。
The rotation speed of the optical disk 1'is 2000 rpm.
As a result, as a result of investigating whether or not the focusing operation is possible at the position of the radius 30 mm of the optical disc 1 ′,
Focus error during focusing is 0.05 μm
This is the following, and stable focusing operation was possible with the optical disk device shown in FIG. 14 using the conventional biaxial actuator 33.

【0142】光ディスク1’のトータル厚さが110μ
mと薄いため、該光ディスクカートリッジ50の厚さを
2.31mmと、従来の光ディスクカートリッジよりも
薄くすることができた。ちなみに、従来の光ディスクで
あるMDは、光ディスクの厚さが1.2mmであり、光
ディスクカートリッジケースの厚さは、5.0mmであ
り、従来の片面タイプの光ディスクカートリッジよりも
薄い厚さの両面タイプの光ディスクカートリッジ50を
実現することができた。
The total thickness of the optical disc 1'is 110 μm.
Since the optical disc cartridge 50 is as thin as m, the thickness of the optical disc cartridge 50 is 2.31 mm, which is thinner than the conventional optical disc cartridge. Incidentally, MD, which is a conventional optical disc, has an optical disc thickness of 1.2 mm and an optical disc cartridge case thickness of 5.0 mm, which is a double-sided type that is thinner than a conventional single-sided type optical disc cartridge. It was possible to realize the optical disk cartridge 50.

【0143】ここで、同一厚さのステンレス基板2を用
いて作製した実施例1に示す片面タイプの光ディスク1
においては、フォーカシング動作時のフォーカスエラー
が0.08μm存在したが、両面タイプとした本実施例
の光ディスク1’においては、フォーカシング時のフォ
ーカスエラーは、0.05μm以下と小さくなってい
る。これは、金属基板2の両面に、対称的に、樹脂層
3’、金属反射層4’、光透過性保護層5が形成され、
金属基板2を基準として、金属基板2の両面に形成され
た層の応力が釣り合ったことによるものと考えられる。
Here, the single-sided type optical disc 1 shown in Example 1 manufactured by using the stainless steel substrate 2 having the same thickness.
There was a focus error of 0.08 .mu.m during the focusing operation, but in the optical disc 1'of the present embodiment of the double-sided type, the focus error during focusing is as small as 0.05 .mu.m or less. This is because the resin layer 3 ′, the metal reflection layer 4 ′, and the light-transmitting protective layer 5 are symmetrically formed on both surfaces of the metal substrate 2.
It is considered that the stresses of the layers formed on both surfaces of the metal substrate 2 are balanced with respect to the metal substrate 2.

【0144】以上のように、本実施例の両面タイプの光
ディスク1’は、実施例1の場合よりも、フォーカス方
向への上下動が低く抑えられており、安定したフォーカ
シング及びトラッキングが実現し、より良好な再生特性
が得られた。
As described above, in the double-sided type optical disc 1'of the present embodiment, the vertical movement in the focus direction is suppressed to be lower than that of the first embodiment, and stable focusing and tracking are realized. Better reproduction characteristics were obtained.

【0145】なお、ここではステンレス基板2の厚みを
50μmとしたが、実施例1で記載したように、ステン
レス基板2の場合、厚みを43μm以上であれば、安定
したフォーカシングが可能となり、安定した記録再生を
実現できることを確認した。
Although the thickness of the stainless steel substrate 2 is 50 μm here, as described in Example 1, when the thickness of the stainless steel substrate 2 is 43 μm or more, stable focusing becomes possible and stable. It was confirmed that recording and playback could be realized.

【0146】さらに、実施例2及び実施例3に示すよう
な、金属反射層4’に代えて記録媒体層4として、記録
再生可能な光ディスク1も本実施例のように両面タイプ
の光ディスク1’とすることにより、フォーカス方向へ
の光ディスク1の上下動が抑制され、より安定した記録
再生を実現することを確認した。
Further, as shown in Examples 2 and 3, as the recording medium layer 4 instead of the metal reflection layer 4 ', the recordable and reproducible optical disc 1 is the double-sided type optical disc 1'as in the present embodiment. It was confirmed that, by setting the above, the vertical movement of the optical disc 1 in the focus direction is suppressed, and more stable recording / reproducing is realized.

【0147】〔実施例5〕金属基板2として、直径50
mm、厚み80μmのアルミニウム製の基板(以下、ア
ルミニウム基板)を用い、該アルミニウム基板2上に、
トラックピッチ0.3μmで、直径0.15μm深さ2
0nmのスパイラル状のピット列を0.30μmピッチ
で形成した層厚10μmの紫外線硬化樹脂よりなる樹脂
層3’を図3に示す2P法により形成した。次に、金属
反射層4’として、膜厚50nmのAl0.9 Ti0.1
属反射膜をスパッタリングにより形成した。さらに、紫
外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、層厚20
μmの紫外線硬化樹脂からなる光透過性保護層5を金属
反射層4の上に形成し、図2に示すROMタイプの光デ
ィスク1を作製した。該光ディスク1のトータル厚さ
は、およそ110μmであった。
[Embodiment 5] The metal substrate 2 has a diameter of 50.
An aluminum substrate having a thickness of 80 μm and a thickness of 80 μm (hereinafter referred to as an aluminum substrate) is used.
Track pitch 0.3 μm, diameter 0.15 μm depth 2
A resin layer 3 ′ made of an ultraviolet curable resin having a layer thickness of 10 μm, in which spiral pit rows of 0 nm were formed at a pitch of 0.30 μm, was formed by the 2P method shown in FIG. Next, as the metal reflection layer 4 ', an Al 0.9 Ti 0.1 metal reflection film having a film thickness of 50 nm was formed by sputtering. Further, an ultraviolet curable resin is applied by a spin coating method to obtain a layer thickness of 20
A light-transmitting protective layer 5 made of a UV curable resin having a thickness of μm was formed on the metal reflective layer 4 to prepare the ROM type optical disk 1 shown in FIG. The total thickness of the optical disc 1 was about 110 μm.

【0148】上記光ディスク1をカートリッジケース3
7に挿入し、図14に示す光ディスク装置を用いて、実
施例1と同様にして、その再生特性を調査した。
The optical disk 1 is used in the cartridge case 3
No. 7, and the reproduction characteristics were investigated in the same manner as in Example 1 by using the optical disk device shown in FIG.

【0149】カートリッジケース37としては、板厚
0.8mmのポリカーボネート樹脂製のものをを用い
た。上記光ディスクカートリッジ50において、光ディ
スク1のトータル厚さが110μmと薄いため、該光デ
ィスクカートリッジ50の厚さを約2.31mmと薄く
することができた。ちなみに、従来の光ディスクである
MDは、光ディスクの厚さが1.2mmであり、光ディ
スクカートリッジの厚さは5.0mmである。
As the cartridge case 37, one made of polycarbonate resin having a plate thickness of 0.8 mm was used. In the above optical disc cartridge 50, the total thickness of the optical disc 1 was as thin as 110 μm, so that the thickness of the optical disc cartridge 50 could be made as thin as approximately 2.31 mm. Incidentally, in the MD which is a conventional optical disc, the thickness of the optical disc is 1.2 mm and the thickness of the optical disc cartridge is 5.0 mm.

【0150】そして、実施例1と同様に、光透過性保護
層5側から光ビームを集光照射し、2000rpmで回
転駆動し、光ディスク1の半径30mmの位置におい
て、フォーカシング動作の可否について調査した結果、
フォーカシング時のフォーカスエラーは、0.09μm
以下であり、従来の2軸アクチュエータ33を用いた図
14に示す光ディスク装置で安定したフォーカシング動
作が可能であった。
Then, in the same manner as in Example 1, a light beam was condensed and irradiated from the side of the light-transmitting protective layer 5 and was rotationally driven at 2000 rpm, and whether or not the focusing operation was possible was examined at the position of the radius 30 mm of the optical disk 1. result,
Focus error during focusing is 0.09μm
This is the following, and stable focusing operation was possible with the optical disk device shown in FIG. 14 using the conventional biaxial actuator 33.

【0151】また、フォーカシングを行った後、スパイ
ラル状に形成されたピット列に対するトラッキングを行
い、レーザ光を0.5mWのパワーで連続的に照射し、
上記ピット列の再生を行った。再生信号検出用受光素子
26からの出力をスペクトラムアナライザで評価した結
果、48dBの信号対雑音比が得られることが確認さ
れ、本発明の光ディスク1及びその光ディスク装置にお
いて、実用可能な再生を実現できることがわかった。
After focusing, the pit row formed in a spiral shape is tracked, and laser light is continuously irradiated with a power of 0.5 mW.
The above pit train was reproduced. As a result of evaluating the output from the reproduction signal detecting light receiving element 26 with a spectrum analyzer, it was confirmed that a signal-to-noise ratio of 48 dB was obtained, and practical reproduction can be realized in the optical disc 1 and the optical disc device thereof of the present invention. I understood.

【0152】次に、アルミニウムのヤング率E=703
0kgf/mm2 、アルミニウムのポアソン比v=0.
345を式(1)に代入し、アルミニウム基板2の剛性
δを、アルミニウム基板2の厚みの関数として図20の
グラフを得た。該グラフより、剛性δが0.15kgf
・mm以上となるアルミニウム基板2の厚みは、66μ
m以上であることがわかる。
Next, Young's modulus of aluminum E = 703
0 kgf / mm 2 , Poisson's ratio of aluminum v = 0.
Substituting 345 into the equation (1), the rigidity δ of the aluminum substrate 2 was obtained as a function of the thickness of the aluminum substrate 2 to obtain the graph of FIG. From the graph, the rigidity δ is 0.15 kgf
・ The thickness of the aluminum substrate 2 which is not less than mm is 66μ.
It can be seen that it is m or more.

【0153】このことより、金属基板2としてアルミニ
ウム基板2を用いた場合、その厚みを66μm以上とす
ることにより、安定したフォーカシングが可能となり、
ROMタイプの光ディスク1の凹凸ピット情報を再生可
能であると言える。
From the above, when the aluminum substrate 2 is used as the metal substrate 2, by setting the thickness to 66 μm or more, stable focusing becomes possible,
It can be said that the concave-convex pit information of the ROM type optical disc 1 can be reproduced.

【0154】なお、ここではROMタイプの光ディスク
1についてのみ記載したが、実施例2及び実施例3にお
いて示した記録再生可能な光ディスク1、及び、実施例
4において示した両面タイプの光ディスク1’において
も、金属基板2としてアルミニウム基板2を用いた場
合、その厚みを66μm以上とすることにより、安定し
たフォーカシングが可能となり、安定した記録再生を実
現できることを確認した。
Although only the ROM type optical disc 1 is described here, the recordable and reproducible optical disc 1 shown in the second and third embodiments and the double-sided type optical disc 1'shown in the fourth embodiment. Also, it was confirmed that when the aluminum substrate 2 was used as the metal substrate 2, by setting the thickness to 66 μm or more, stable focusing becomes possible and stable recording and reproduction can be realized.

【0155】そしてまた、フォーカスエラー量を±0.
1μm以下とするには、金属基板2の剛性が0.24k
gf・mmを満足する範囲であるから、図20のグラフ
より見て、金属基板2としてアルミニウム基板2を用い
た場合、その厚みを78μm以上とすることがより好ま
しい。
Further, the focus error amount is ± 0.
In order to reduce the thickness to 1 μm or less, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.24 k.
Since it is within the range of satisfying gf · mm, when the aluminum substrate 2 is used as the metal substrate 2 as seen from the graph of FIG. 20, the thickness thereof is more preferably set to 78 μm or more.

【0156】〔実施例6〕実施例5において記載したア
ルミニウム基板2に代えて、鉄からなる金属基板2(以
下、鉄基板2)を用い、実施例5と同様の手順で、鉄基
板2よりなる光ディスク1を作成すると共に、カートリ
ッジケース37に挿入し、図14に示す光ディスク装置
を用いて、実施例1と同様にして、その再生特性を調査
した結果、実施例5と同様の結果を得た。
Example 6 Instead of the aluminum substrate 2 described in Example 5, a metal substrate 2 made of iron (hereinafter referred to as iron substrate 2) was used. The optical disc 1 is manufactured, inserted into the cartridge case 37, and the reproduction characteristics of the optical disc device shown in FIG. 14 are examined in the same manner as in Example 1. As a result, the same result as in Example 5 is obtained. It was

【0157】そしてまた、金属基板2の剛性δが0.1
5kgf・mm以上となる鉄基板2の厚みを求めるべ
く、鉄のヤング率E=21600kgf/mm2 、鉄の
ポアソン比v=0. 30を式(1)に代入し、鉄基板2
の剛性δを、鉄基板2の厚みの関数として図21のグラ
フを得た。該グラフより、剛性δが0.15kgf・m
m以上となる鉄基板2の厚みは、45μm以上であるこ
とがわかる。
Also, the rigidity δ of the metal substrate 2 is 0.1.
In order to obtain the thickness of the iron substrate 2 of 5 kgf · mm or more, the Young's modulus of iron E = 21600 kgf / mm 2 and the Poisson's ratio of iron v = 0.30 are substituted into the equation (1) to obtain the iron substrate 2
21 was obtained as a function of the thickness of the iron substrate 2 by the rigidity δ of. From the graph, the rigidity δ is 0.15 kgf · m
It can be seen that the thickness of the iron substrate 2 having a thickness of m or more is 45 μm or more.

【0158】このことより、ディスク基板を構成する金
属基板2として鉄基板2を用いた光ディスク1の場合、
その厚みを45μm以上とすることにより、安定したフ
ォーカシングが可能となり、ROMタイプの光ディスク
1の凹凸ピット情報を再生可能であると言える。
From the above, in the case of the optical disc 1 using the iron substrate 2 as the metal substrate 2 constituting the disc substrate,
By setting the thickness to 45 μm or more, stable focusing becomes possible, and it can be said that the concave and convex pit information of the ROM type optical disc 1 can be reproduced.

【0159】なお、ここではROMタイプの光ディスク
1についてのみ記載したが、実施例2及び実施例3にお
いて示した記録再生可能な光ディスク1、及び、実施例
4において示した両面タイプの光ディスク1’において
も、金属基板2として鉄基板2を用いた場合、その厚み
を45μm以上とすることにより、安定したフォーカシ
ングが可能となり、安定した記録再生を実現できる。
Although only the ROM type optical disc 1 is described here, the recordable and reproducible optical disc 1 shown in the second and third embodiments and the double-sided type optical disc 1'shown in the fourth embodiment. Also, when the iron substrate 2 is used as the metal substrate 2, by setting the thickness to 45 μm or more, stable focusing becomes possible and stable recording / reproducing can be realized.

【0160】そしてまた、フォーカスエラー量を±0.
1μm以下とするには、金属基板2の剛性が0.24k
gf・mm以上であるから、図21のグラフより見て、
金属基板2として鉄基板2を用いた場合、その厚みを5
3μm以上とすることがより好ましい。
The focus error amount is ± 0.
In order to reduce the thickness to 1 μm or less, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.24 k.
Since it is gf · mm or more, as seen from the graph of FIG. 21,
When the iron substrate 2 is used as the metal substrate 2, its thickness is 5
More preferably, it is 3 μm or more.

【0161】〔実施例7〕実施例5において記載したア
ルミニウム基板2に代えて、銅からなる金属基板2(以
下、銅基板2)を用い、実施例5と同様の手順で、銅基
板2よりなる光ディスク1を作成すると共に、カートリ
ッジケース37に挿入し、図14に示す光ディスク装置
を用いて、実施例1と同様にして、その再生特性を調査
した結果、実施例5と同様の結果を得た。
[Embodiment 7] Instead of the aluminum substrate 2 described in Embodiment 5, a metal substrate 2 made of copper (hereinafter referred to as copper substrate 2) is used. The optical disc 1 is manufactured, inserted into the cartridge case 37, and the reproduction characteristics of the optical disc device shown in FIG. 14 are examined in the same manner as in Example 1. As a result, the same result as in Example 5 is obtained. It was

【0162】そしてまた、金属基板2の剛性δが0.1
5kgf・mm以上となる銅基板2の厚みを求めるべ
く、銅のヤング率E=13000kgf/mm2 、銅の
ポアソン比v=0. 343を式(1)に代入し、銅基板
2の剛性δを、銅基板2の厚みの関数として図22のグ
ラフを得た。該グラフより、剛性δが0.15kgf・
mm以上となる銅基板2の厚みは、53μm以上である
ことがわかる。
Further, the rigidity δ of the metal substrate 2 is 0.1.
In order to obtain the thickness of the copper substrate 2 of 5 kgf · mm or more, the Young's modulus of copper E = 13000 kgf / mm 2 and the Poisson's ratio of copper v = 0.343 are substituted into the equation (1) to determine the rigidity δ of the copper substrate 2. 22 was obtained as a function of the thickness of the copper substrate 2. From the graph, the rigidity δ is 0.15 kgf
It can be seen that the thickness of the copper substrate 2 that is equal to or greater than mm is 53 μm or greater.

【0163】このことより、ディスク基板を構成する金
属基板2として銅基板2を用いた光ディスク1の場合、
その厚みを53μm以上とすることにより、安定したフ
ォーカシングが可能となり、ROMタイプの光ディスク
1の凹凸ピット情報を再生可能であると言える。
From the above, in the case of the optical disc 1 using the copper substrate 2 as the metal substrate 2 constituting the disc substrate,
It can be said that by setting the thickness to 53 μm or more, stable focusing becomes possible and the concave and convex pit information of the ROM type optical disc 1 can be reproduced.

【0164】なお、ここではROMタイプの光ディスク
1についてのみ記載したが、実施例2及び実施例3にお
いて示した記録再生可能な光ディスク1、及び、実施例
4において示した両面タイプの光ディスク1’において
も、金属基板2として銅基板2を用いた場合、その厚み
を53μm以上とすることにより、安定したフォーカシ
ングが可能となり、安定した記録再生を実現できる。
Although only the ROM type optical disc 1 is described here, the recordable and reproducible optical disc 1 shown in the second and third embodiments and the double-sided type optical disc 1'shown in the fourth embodiment. Also, when the copper substrate 2 is used as the metal substrate 2, by setting the thickness to 53 μm or more, stable focusing becomes possible and stable recording / reproducing can be realized.

【0165】そしてまた、フォーカスエラー量を±0.
1μm以下とするには、金属基板2の剛性が0.24k
gf・mm以上であるから、図22のグラフより見て、
金属基板2として銅基板2を用いた場合、その厚みを6
4μm以上とすることがより好ましい。
The focus error amount is ± 0.
In order to reduce the thickness to 1 μm or less, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.24 k.
Since it is gf · mm or more, as seen from the graph of FIG.
When the copper substrate 2 is used as the metal substrate 2, its thickness is 6
More preferably, it is 4 μm or more.

【0166】〔実施例8〕実施例5において記載したア
ルミニウム基板2に代えて、ニッケルからなる金属基板
2(以下、ニッケル基板2)を用い、実施例5と同様の
手順で、ニッケル基板2よりなる光ディスク1を作成す
ると共に、カートリッジケース37に挿入し、図14に
示す光ディスク装置を用いて、実施例1と同様にして、
その再生特性を調査した結果、実施例5と同様の結果を
得た。
[Embodiment 8] Instead of the aluminum substrate 2 described in Embodiment 5, a metal substrate 2 made of nickel (hereinafter referred to as nickel substrate 2) is used. The optical disc 1 is formed and is inserted into the cartridge case 37. Using the optical disc device shown in FIG.
As a result of investigating the reproduction characteristic, the same result as in Example 5 was obtained.

【0167】そしてまた、金属基板2の剛性δが0.1
5kgf・mm以上となるニッケル基板2の厚みを求め
るべく、ニッケルのヤング率E=21900kgf/m
2、ニッケルのポアソン比v=0. 306を式(1)
に代入し、ニッケル基板2の剛性δを、ニッケル基板2
の厚みの関数として図23のグラフを得た。該グラフよ
り、剛性δが0.15kgf・mm以上となるニッケル
基板2の厚みは、44μm以上であることがわかる。
Also, the rigidity δ of the metal substrate 2 is 0.1.
In order to obtain the thickness of the nickel substrate 2 of 5 kgf · mm or more, the Young's modulus of nickel E = 21900 kgf / m
m 2 and nickel's Poisson's ratio v = 0.306 are given by the formula (1).
To the rigidity δ of the nickel substrate 2
The graph of FIG. 23 was obtained as a function of thickness. From the graph, it can be seen that the thickness of the nickel substrate 2 having a rigidity δ of 0.15 kgf · mm or more is 44 μm or more.

【0168】このことより、ディスク基板を構成する金
属基板2としてニッケル基板2を用いた光ディスク1の
場合、その厚みを44μm以上とすることにより、安定
したフォーカシングが可能となり、ROMタイプの光デ
ィスク1の凹凸ピット情報を再生可能であると言える。
From the above, in the case of the optical disc 1 using the nickel substrate 2 as the metal substrate 2 constituting the disc substrate, stable focusing becomes possible by setting the thickness to 44 μm or more, and the ROM type optical disc 1 It can be said that the uneven pit information can be reproduced.

【0169】なお、ここではROMタイプの光ディスク
1についてのみ記載したが、実施例2及び実施例3にお
いて示した記録再生可能な光ディスク1、及び、実施例
4において示した両面タイプの光ディスク1’において
も、金属基板2としてニッケル基板2を用いた場合、そ
の厚みを44μm以上とすることにより、安定したフォ
ーカシングが可能となり、安定した記録再生を実現でき
る。
Although only the ROM type optical disc 1 is described here, the recordable and reproducible optical disc 1 shown in the second and third embodiments and the double-sided type optical disc 1'shown in the fourth embodiment. Also, when the nickel substrate 2 is used as the metal substrate 2, by setting the thickness to 44 μm or more, stable focusing becomes possible and stable recording / reproducing can be realized.

【0170】そしてまた、フォーカスエラー量を±0.
1μm以下とするには、金属基板2の剛性が0.24k
gf・mm以上であるから、図23のグラフより見て、
金属基板2としてニッケル基板2を用いた場合、その厚
みを53μm以上とすることがより好ましい。
The focus error amount is ± 0.
In order to reduce the thickness to 1 μm or less, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.24 k.
Since it is gf · mm or more, as seen from the graph of FIG.
When the nickel substrate 2 is used as the metal substrate 2, its thickness is more preferably set to 53 μm or more.

【0171】〔実施例9〕実施例5において記載したア
ルミニウム基板2に代えて、チタンからなる金属基板2
(以下、チタン基板2)を用い、実施例5と同様の手順
で、チタン基板2よりなる光ディスク1を作成すると共
に、カートリッジケース37に挿入し、図14に示す光
ディスク装置を用いて、実施例1と同様にして、その再
生特性を調査した結果、実施例5と同様の結果を得た。
Example 9 Instead of the aluminum substrate 2 described in Example 5, a metal substrate 2 made of titanium is used.
Using (hereinafter, titanium substrate 2) and in the same procedure as in Example 5, an optical disk 1 made of the titanium substrate 2 was prepared, and was inserted into the cartridge case 37, and the optical disk device shown in FIG. As a result of investigating the reproduction characteristics in the same manner as in Example 1, the same results as in Example 5 were obtained.

【0172】そしてまた、金属基板2の剛性δが0.1
5kgf・mm以上となるチタン基板2の厚みを求める
べく、チタンのヤング率E=11600kgf/m
2 、チタンのポアソン比v=0. 321を式(1)に
代入し、チタン基板2の剛性δを、チタン基板2の厚み
の関数として図24のグラフを得た。該グラフより、剛
性δが0.15kgf・mm以上となるチタン基板2の
厚みは、55μm以上であることがわかる。
Further, the rigidity δ of the metal substrate 2 is 0.1.
In order to obtain the thickness of the titanium substrate 2 of 5 kgf · mm or more, the Young's modulus of titanium E = 11600 kgf / m
Substituting m 2 and the Poisson's ratio of titanium v = 0.321 into the equation (1), the rigidity δ of the titanium substrate 2 was obtained as a function of the thickness of the titanium substrate 2 to obtain the graph of FIG. From the graph, it is understood that the thickness of the titanium substrate 2 having a rigidity δ of 0.15 kgf · mm or more is 55 μm or more.

【0173】このことより、ディスク基板を構成する金
属基板2としてチタン基板2を用いた光ディスク1の場
合、その厚みを55μm以上とすることにより、安定し
たフォーカシングが可能となり、ROMタイプの光ディ
スク1の凹凸ピット情報を再生可能であると言える。
From the above, in the case of the optical disc 1 using the titanium substrate 2 as the metal substrate 2 constituting the disc substrate, stable focusing becomes possible by setting the thickness to 55 μm or more, and the ROM type optical disc 1 It can be said that the uneven pit information can be reproduced.

【0174】なお、ここではROMタイプの光ディスク
1についてのみ記載したが、実施例2及び実施例3にお
いて示した記録再生可能な光ディスク1、及び、実施例
4において示した両面タイプの光ディスク1’において
も、金属基板2としてチタン基板2を用いた場合、その
厚みを55μm以上とすることにより、安定したフォー
カシングが可能となり、安定した記録再生を実現でき
る。
Although only the ROM type optical disc 1 is described here, the recordable and reproducible optical disc 1 shown in the second and third embodiments and the double-sided type optical disc 1'shown in the fourth embodiment. However, when the titanium substrate 2 is used as the metal substrate 2, by setting the thickness to 55 μm or more, stable focusing becomes possible and stable recording / reproducing can be realized.

【0175】そしてまた、フォーカスエラー量を±0.
1μm以下とするには、金属基板2の剛性が0.24k
gf・mm以上であるから、図24のグラフより見て、
金属基板2としてチタン基板2を用いた場合、その厚み
を66μm以上とすることがより好ましい。
The focus error amount is ± 0.
In order to reduce the thickness to 1 μm or less, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.24 k.
Since it is gf · mm or more, as seen from the graph of FIG. 24,
When the titanium substrate 2 is used as the metal substrate 2, the thickness is more preferably 66 μm or more.

【0176】〔実施例10〕実施例5において記載した
アルミニウム基板2に代えて、Ti90Al6 4 のチタ
ン合金からなる金属基板2(以下、チタン合金基板2)
を用い、実施例5と同様の手順で、チタン合金基板2よ
りなる光ディスク1を作成すると共に、カートリッジケ
ース37に挿入し、図14に示す光ディスク装置を用い
て、実施例1と同様にして、その再生特性を調査した結
果、実施例5と同様の結果を得た。
Example 10 Instead of the aluminum substrate 2 described in Example 5, a metal substrate 2 made of a titanium alloy of Ti 90 Al 6 V 4 (hereinafter, titanium alloy substrate 2).
Using the same procedure as in Example 5, an optical disc 1 made of a titanium alloy substrate 2 was prepared, and the optical disc 1 was inserted into a cartridge case 37. The optical disc device shown in FIG. As a result of investigating the reproduction characteristic, the same result as in Example 5 was obtained.

【0177】そしてまた、金属基板2の剛性δが0.1
5kgf・mm以上となるチタン合金基板2の厚みを求
めるべく、チタン合金のヤング率E=15000kgf
/mm2 、チタン合金のポアソン比v=0. 33を式
(1)に代入し、チタン合金基板2の剛性δを、チタン
合金基板2の厚みの関数として図25のグラフを得た。
該グラフより、剛性δが0.15kgf・mm以上とな
るチタン合金基板2の厚みは、51μm以上であること
がわかる。
Also, the rigidity δ of the metal substrate 2 is 0.1.
In order to obtain the thickness of the titanium alloy substrate 2 of 5 kgf · mm or more, the Young's modulus of the titanium alloy E = 15000 kgf
/ Mm 2 and the Poisson's ratio v = 0.33 of the titanium alloy were substituted into the equation (1), and the rigidity δ of the titanium alloy substrate 2 was obtained as a function of the thickness of the titanium alloy substrate 2 to obtain the graph of FIG.
From the graph, it can be seen that the titanium alloy substrate 2 having a rigidity δ of 0.15 kgf · mm or more has a thickness of 51 μm or more.

【0178】このことより、ディスク基板を構成する金
属基板2としてチタン合金基板2を用いた光ディスク1
の場合、その厚みを51μm以上とすることにより、安
定したフォーカシングが可能となり、ROMタイプの光
ディスク1の凹凸ピット情報を再生可能であると言え
る。
Therefore, the optical disc 1 using the titanium alloy substrate 2 as the metal substrate 2 constituting the disc substrate.
In this case, by setting the thickness to 51 μm or more, stable focusing becomes possible, and it can be said that the uneven pit information of the ROM type optical disc 1 can be reproduced.

【0179】なお、ここではROMタイプの光ディスク
1についてのみ記載したが、実施例2及び実施例3にお
いて示した記録再生可能な光ディスク1、及び、実施例
4において示した両面タイプの光ディスク1’において
も、金属基板2としてチタン合金基板2を用いた場合、
その厚みを51μm以上とすることにより、安定したフ
ォーカシングが可能となり、安定した記録再生を実現で
きる。
Although only the ROM type optical disc 1 is described here, the recordable and reproducible optical disc 1 shown in the second and third embodiments and the double-sided type optical disc 1'shown in the fourth embodiment. When the titanium alloy substrate 2 is used as the metal substrate 2,
By setting the thickness to 51 μm or more, stable focusing becomes possible and stable recording / reproduction can be realized.

【0180】そしてまた、フォーカスエラー量を±0.
1μm以下とするには、金属基板2の剛性が0.24k
gf・mm以上であるから、図25のグラフより見て、
金属基板2としてチタン合金基板2を用いた場合、その
厚みを60μm以上とすることがより好ましい。
The focus error amount is ± 0.
In order to reduce the thickness to 1 μm or less, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.24 k.
Since it is gf · mm or more, as seen from the graph of FIG.
When the titanium alloy substrate 2 is used as the metal substrate 2, its thickness is more preferably 60 μm or more.

【0181】〔実施例11〕実施例5において記載した
アルミニウム基板2に代えて、Al95.5Cu4 Mg 0.5
のアルミニウム合金の一種であるジュラルミンからなる
金属基板2(以下、ジュラルミン基板2)を用い、実施
例5と同様の手順で、ジュラルミン基板2よりなる光デ
ィスク1を作成すると共に、カートリッジケース37に
挿入し、図14に示す光ディスク装置を用いて、実施例
1と同様にして、その再生特性を調査した結果、実施例
5と同様の結果を得た。
Example 11 As described in Example 5.
Instead of the aluminum substrate 2, Al95.5CuFourMg 0.5
Made of duralumin, a type of aluminum alloy
Conducted using a metal substrate 2 (hereinafter, duralumin substrate 2)
In the same procedure as in Example 5, an optical device made of the duralumin substrate 2 was used.
Create the disk 1 and attach it to the cartridge case 37.
Example by inserting the optical disk device shown in FIG.
As a result of investigating the reproduction characteristics in the same manner as in Example 1,
The same result as in No. 5 was obtained.

【0182】そしてまた、金属基板2の剛性δが0.1
5kgf・mm以上となるジュラルミン基板2の厚みを
求めるべく、ジュラルミンのヤング率E=7150kg
f/mm2 、ジュラルミンのポアソン比v=0. 335
を式(1)に代入し、ジュラルミン基板2の剛性δを、
ジュラルミン基板2の厚みの関数として図26のグラフ
を得た。該グラフより、剛性δが0.15kgf・mm
以上となるジュラルミン基板2の厚みは、65μm以上
であることがわかる。
The rigidity δ of the metal substrate 2 is 0.1.
In order to obtain the thickness of the duralumin substrate 2 of 5 kgf · mm or more, the duralumin Young's modulus E = 7150 kg
f / mm 2 , Poisson's ratio of duralumin v = 0.335
Is substituted into the equation (1), and the rigidity δ of the duralumin substrate 2 is
The graph of FIG. 26 was obtained as a function of the thickness of the duralumin substrate 2. From the graph, the rigidity δ is 0.15 kgf · mm
It can be seen that the thickness of the duralumin substrate 2 described above is 65 μm or more.

【0183】このことより、ディスク基板を構成する金
属基板2としてジュラルミン基板2を用いた光ディスク
1の場合、その厚みを65μm以上とすることにより、
安定したフォーカシングが可能となり、ROMタイプの
光ディスク1の凹凸ピット情報を再生可能であると言え
る。
From the above, in the case of the optical disc 1 using the duralumin substrate 2 as the metal substrate 2 constituting the disc substrate, by setting the thickness to 65 μm or more,
It can be said that stable focusing becomes possible and the concave and convex pit information of the ROM type optical disc 1 can be reproduced.

【0184】なお、ここではROMタイプの光ディスク
1についてのみ記載したが、実施例2及び実施例3にお
いて示した記録再生可能な光ディスク1、及び、実施例
4において示した両面タイプの光ディスク1’において
も、金属基板2としてジュラルミン基板2を用いた場
合、その厚みを65μm以上とすることにより、安定し
たフォーカシングが可能となり、安定した記録再生を実
現できる。
Although only the ROM type optical disc 1 is described here, the recordable and reproducible optical disc 1 shown in the second and third embodiments and the double-sided type optical disc 1'shown in the fourth embodiment. Also, when the duralumin substrate 2 is used as the metal substrate 2, by setting the thickness to 65 μm or more, stable focusing becomes possible and stable recording / reproducing can be realized.

【0185】そしてまた、フォーカスエラー量を±0.
1μm以下とするには、金属基板2の剛性が0.24k
gf・mm以上であるから、図26のグラフより見て、
金属基板2としてジュラルミン基板2を用いた場合、そ
の厚みを77μm以上とすることがより好ましい。
The focus error amount is ± 0.
In order to reduce the thickness to 1 μm or less, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.24 k.
Since it is gf · mm or more, as seen from the graph of FIG. 26,
When the duralumin substrate 2 is used as the metal substrate 2, the thickness thereof is more preferably 77 μm or more.

【0186】〔実施例12〕実施例5において記載した
アルミニウム基板2に代えて、Cu91.8Sn8 0. 2
銅合金の一種であるからなるリン青銅からなる金属基板
2(以下、リン青銅基板2)を用い、実施例5と同様の
手順で、ジュラルミン基板2よりなる光ディスク1を作
成すると共に、カートリッジケース37に挿入し、図1
4に示す光ディスク装置を用いて、実施例1と同様にし
て、その再生特性を調査した結果、実施例5と同様の結
果を得た。
[0186] Example 12 instead of the aluminum substrate 2 as described in Example 5, Cu 91.8 Sn 8 P 0. 2 of the metal substrate 2 made of phosphor bronze consisting of a type of a copper alloy (hereinafter, phosphor bronze Using the substrate 2) and in the same procedure as in Example 5, an optical disc 1 made of the duralumin substrate 2 was prepared and was inserted into the cartridge case 37.
Using the optical disk device shown in FIG. 4, the reproduction characteristics were investigated in the same manner as in Example 1, and the same result as in Example 5 was obtained.

【0187】そしてまた、金属基板2の剛性δが0.1
5kgf・mm以上となるリン青銅基板2の厚みを求め
るべく、リン青銅のヤング率E=12000kgf/m
2、リン青銅のポアソン比v=0. 38を式(1)に
代入し、リン青銅基板2の剛性δを、リン青銅基板2の
厚みの関数として図27のグラフを得た。該グラフよ
り、剛性δが0.15kgf・mm以上となるリン青銅
基板2の厚みは、55μm以上であることがわかる。
Also, the rigidity δ of the metal substrate 2 is 0.1.
Young's modulus of phosphor bronze E = 12000 kgf / m in order to obtain the thickness of phosphor bronze substrate 2 of 5 kgf · mm or more
Substituting m 2 and Poisson's ratio v = 0.38 of phosphor bronze into the equation (1), the rigidity δ of the phosphor bronze substrate 2 was obtained as a function of the thickness of the phosphor bronze substrate 2 to obtain the graph of FIG. The graph shows that the thickness of the phosphor bronze substrate 2 having a rigidity δ of 0.15 kgf · mm or more is 55 μm or more.

【0188】このことより、ディスク基板を構成する金
属基板2としてリン青銅基板2を用いた光ディスク1の
場合、その厚みを55μm以上とすることにより、安定
したフォーカシングが可能となり、ROMタイプの光デ
ィスク1の凹凸ピット情報を再生可能であると言える。
From the above, in the case of the optical disc 1 using the phosphor bronze substrate 2 as the metal substrate 2 constituting the disc substrate, stable focusing becomes possible by setting the thickness to 55 μm or more, and the ROM type optical disc 1 It can be said that the uneven pit information of can be reproduced.

【0189】なお、ここではROMタイプの光ディスク
1についてのみ記載したが、実施例2及び実施例3にお
いて示した記録再生可能な光ディスク1、及び、実施例
4において示した両面タイプの光ディスク1’において
も、金属基板2としてリン青銅基板2を用いた場合、そ
の厚みを55μm以上とすることにより、安定したフォ
ーカシングが可能となり、安定した記録再生を実現でき
る。
Although only the ROM type optical disc 1 is described here, the recordable and reproducible optical disc 1 shown in the second and third embodiments and the double-sided type optical disc 1'shown in the fourth embodiment. Also, when the phosphor bronze substrate 2 is used as the metal substrate 2, by setting the thickness to 55 μm or more, stable focusing becomes possible and stable recording / reproducing can be realized.

【0190】そしてまた、フォーカスエラー量を±0.
1μm以下とするには、金属基板2の剛性が0.24k
gf・mm以上であるから、図27のグラフより見て、
金属基板2としてリン青銅基板2を用いた場合、その厚
みを66μm以上とすることがより好ましい。
The focus error amount is ± 0.
In order to reduce the thickness to 1 μm or less, the rigidity of the metal substrate 2 is 0.24 k.
Since it is gf · mm or more, as seen from the graph of FIG.
When the phosphor bronze substrate 2 is used as the metal substrate 2, its thickness is more preferably 66 μm or more.

【0191】〔実施例13〕実施例1〜実施例12にお
いては、光ディスクカートリッジ50(50’)におけ
るカートリッジケース37(37’)の材料としてポリ
カーボネート樹脂を用いていた。本実施例は、図17に
示すように、金属製のカートリッジケース37を採用す
ることにより、カートリッジのさらなる薄型化を実現す
るものである。
[Example 13] In Examples 1 to 12, a polycarbonate resin was used as the material of the cartridge case 37 (37 ') of the optical disk cartridge 50 (50'). In this embodiment, as shown in FIG. 17, a metal cartridge case 37 is used to further reduce the thickness of the cartridge.

【0192】カートリッジケース37の材質としてポリ
カーボネート樹脂を用いた場合、その剛性を維持するた
めに、少なくとも0.8mm以上の肉厚が必要であった
が、ステンレスを用いた場合、その肉厚を0.16mm
として、同等の剛性を実現することが可能であった。
When a polycarbonate resin was used as the material of the cartridge case 37, a wall thickness of at least 0.8 mm was required to maintain its rigidity, but when stainless steel was used, the wall thickness was 0 mm. .16 mm
As a result, it was possible to achieve the same rigidity.

【0193】その結果、同一厚さの光ディスク1を用い
た場合、金属製のカートリッジケース37を採用するこ
とにより、ポリカーボネート樹脂製のカートリッジケー
ス37を用いた場合に比べて、全体の厚さが1.28m
m薄い光ディスクカートリッジを実現することができ
た。
As a result, when the optical discs 1 having the same thickness are used, the metal cartridge case 37 is used, so that the total thickness is 1 as compared with the case where the polycarbonate resin cartridge case 37 is used. .28 m
It was possible to realize a thin optical disk cartridge.

【0194】[0194]

【発明の効果】本発明の光ディスクは、以上のように、
金属基板上に、凹凸ピットパターンを有する樹脂層と金
属反射層とが少なくとも順次形成され、光ディスク全体
の厚みが0.3mm以下であることを特徴としている。
As described above, the optical disk of the present invention has the following features.
At least a resin layer having a concavo-convex pit pattern and a metal reflective layer are sequentially formed on a metal substrate, and the total thickness of the optical disc is 0.3 mm or less.

【0195】また、本発明の光ディスクは、以上のよう
に、金属基板上に、凹凸ピットパターン及び/又は凹凸
案内溝パターンを有する樹脂層と光記録層とが少なくと
も順次形成され、光ディスク全体の厚みが0.3mm以
下であることを特徴としている。
As described above, the optical disc of the present invention has at least the resin layer having the concavo-convex pit pattern and / or the concavo-convex guide groove pattern and the optical recording layer formed at least sequentially on the metal substrate, and the total thickness of the optical disc. Is 0.3 mm or less.

【0196】また、本発明の光ディスクは、以上のよう
に、金属基板の表裏両面それぞれに、凹凸ピットパター
ンを有する樹脂層と金属反射層とが少なくとも順次形成
され、光ディスク全体の厚みが0.3mm以下であるこ
とを特徴としている。
As described above, the optical disc of the present invention has at least the resin layer having the concavo-convex pit pattern and the metal reflection layer formed on each of the front and back surfaces of the metal substrate at least in sequence, and the total thickness of the optical disc is 0.3 mm. It is characterized by the following.

【0197】さらに、本発明の光ディスクは、以上のよ
うに、金属基板の表裏両面それぞれに、凹凸ピットパタ
ーン及び/又は凹凸案内溝パターンを有する樹脂層と光
記録層とが少なくとも順次形成され、光ディスク全体の
厚みが0.3mm以下であることを特徴としている。
Further, as described above, the optical disc of the present invention has at least the resin layer having the concave-convex pit pattern and / or the concave-convex guide groove pattern and the optical recording layer, which are sequentially formed on both the front and back surfaces of the metal substrate. The entire thickness is 0.3 mm or less.

【0198】これにより、光ディスク自体を薄くした場
合においても、光ディスクの回転時のバタツキを抑えて
安定回転が可能となり、光ディスク自体の薄型化を図る
ことはもちろんのこと、光ディスク装置の薄型化を実現
することができる。
As a result, even when the optical disc itself is thinned, it is possible to suppress the fluttering when the optical disc is rotated and to perform stable rotation, and not only the optical disc itself can be made thin, but also the optical disc device can be made thin. can do.

【0199】そして、特に、上記した各構成において
は、光ディス全体の厚みを0.3mmとしているので、
これにより、従来よりよく用いられている樹脂製の光デ
ィスクカートリッジケースに収容して光ディスクカート
リッジとしても、光ディスクカートリッジの厚みを2.
5mm以下として、厚さ5mmの光ディスク装置の実現
を可能とするという効果を奏する。
In particular, in each of the above-mentioned configurations, since the thickness of the entire optical disc is 0.3 mm,
As a result, even if the optical disk cartridge is housed in a resin-made optical disk cartridge case that has been often used conventionally, the thickness of the optical disk cartridge is 2.
When the thickness is 5 mm or less, it is possible to realize an optical disk device having a thickness of 5 mm.

【0200】従来より用いられていたポリカーボネート
等の樹脂性基板を用いて、0.3mm以下の厚さの光デ
ィスクを形成すると、光ディスクを高速回転駆動した際
に、光ディスクのバタツキが発生し、安定して回転駆動
することができなかったが、本発明のように金属基板を
用いることにより、0.3mm以下の厚さの光ディスク
においても、安定した高速回転駆動が可能になるという
効果を奏する。
When an optical disc having a thickness of 0.3 mm or less is formed by using a resin substrate such as polycarbonate which has been conventionally used, fluttering of the optical disc is generated when the optical disc is rotated at a high speed, and the optical disc becomes stable. However, by using a metal substrate as in the present invention, it is possible to perform stable high-speed rotation drive even for an optical disc having a thickness of 0.3 mm or less.

【0201】本発明には、上記した本発明の各光ディス
クを、光ディスク表面への塵埃の付着を抑制することを
目的に、光ディスクカートリッジケースに収容して光デ
ィスクカートリッジとする構成を含むものである。光デ
ィスクカートリッジとすることで、エラー発生を少なく
することが可能となる。
The present invention includes a structure in which each of the above-mentioned optical disks of the present invention is housed in an optical disk cartridge case to form an optical disk cartridge for the purpose of suppressing the adhesion of dust to the surface of the optical disk. By using an optical disk cartridge, it is possible to reduce the occurrence of errors.

【0202】また、光ディスクカートリッジとしては、
光ディスクカートリッジケースを金属からなる構成とす
ることで、該カートリッジケース自体の厚みを薄くでき
るので、光ディスクカートリッジのさらなる薄型化が図
れ、光ディスク装置の薄型も実現する。
As the optical disk cartridge,
Since the optical disc cartridge case is made of metal, the thickness of the cartridge case itself can be made thin, so that the optical disc cartridge can be made thinner and the optical disc device can be made thinner.

【0203】さらに、上記光ディスクカートリッジ全体
の厚みは2.5mm以下とすることが好ましく、これに
より、厚さ5mmの光ディスク装置の実現を可能とす
る。
Further, the thickness of the entire optical disk cartridge is preferably 2.5 mm or less, which makes it possible to realize an optical disk device having a thickness of 5 mm.

【0204】本発明の各光ディスクにおいて、上記樹脂
層は、紫外線硬化樹脂から形成することができ、また、
上記光記録層には、相変化記録媒体や、光磁気記録媒体
を用いることができる。さらに、上記金属反射層や光記
録層上に光透過性保護層を設ける構成とすることが、金
属反射層や光記録層を保護する点から望ましく、光透過
性保護層としては、紫外線硬化樹脂から形成した層や、
透明接着剤で接着された透明樹脂シートからなる層とす
ることができる。
In each of the optical disks of the present invention, the resin layer can be formed of an ultraviolet curable resin, and
A phase change recording medium or a magneto-optical recording medium can be used for the optical recording layer. Furthermore, it is desirable to provide a light-transmissive protective layer on the metal reflective layer or the optical recording layer from the viewpoint of protecting the metal reflective layer or the optical recording layer. As the light-transmissive protective layer, an ultraviolet curable resin is used. Layers formed from
It can be a layer made of a transparent resin sheet adhered with a transparent adhesive.

【0205】また、本発明の光ディスクにおいては、上
記金属基板の剛性が、0.150kgf・mm以上であ
ることを特徴とすることもできる。金属基板の剛性を該
範囲を満足する構成とすることで、上記した作用・効果
を奏する本発明の光ディスクを容易に実現することがで
きるという効果を奏する。
The optical disc of the present invention may be characterized in that the metal substrate has a rigidity of 0.150 kgf · mm or more. By making the rigidity of the metal substrate satisfy the above range, it is possible to easily realize the optical disk of the present invention having the above-described actions and effects.

【0206】そして、金属基板としては、アルミニウム
からなるものを用いることができ、その場合の金属基板
の厚みとしては、66μm以上とすることで、上記した
作用・効果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現す
ることができるという効果を奏する。
As the metal substrate, one made of aluminum can be used. In this case, the thickness of the metal substrate is set to 66 μm or more, so that the optical disk of the present invention having the above-described actions and effects can be easily obtained. The effect that can be realized is achieved.

【0207】また、金属基板としては、鉄からなるもの
を用いることもでき、その場合の金属基板の厚みとして
は、45μm以上とすることで、上記した作用・効果を
奏する本発明の光ディスクを容易に実現することができ
るという効果を奏する。
As the metal substrate, one made of iron may be used. In this case, the thickness of the metal substrate is set to 45 μm or more, whereby the optical disk of the present invention having the above-mentioned actions and effects can be easily obtained. The effect that can be realized is achieved.

【0208】また、金属基板としては、銅からなるもの
を用いることもでき、その場合の金属基板の厚みとして
は、53μm以上とすることで、上記した作用・効果を
奏する本発明の光ディスクを容易に実現することができ
るという効果を奏する。
Further, as the metal substrate, one made of copper can be used. In this case, the thickness of the metal substrate is set to 53 μm or more, whereby the optical disk of the present invention having the above-described action and effect can be easily obtained. The effect that can be realized is achieved.

【0209】また、金属基板としては、ニッケルからな
るものを用いることもでき、その場合の金属基板の厚み
としては、44μm以上とすることで、上記した作用・
効果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現すること
ができるという効果を奏する。
Further, as the metal substrate, one made of nickel may be used, and in this case, the thickness of the metal substrate is set to 44 μm or more, whereby
It is possible to easily realize the optical disk of the present invention that has an effect.

【0210】また、金属基板としては、チタンからなる
ものを用いることもでき、その場合の金属基板の厚みと
しては、55μm以上とすることで、上記した作用・効
果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現することが
できるという効果を奏する。
As the metal substrate, one made of titanium may be used. In this case, the thickness of the metal substrate is 55 μm or more, so that the optical disk of the present invention having the above-described action and effect can be easily obtained. The effect that can be realized is achieved.

【0211】また、金属基板としては、鉄を主成分とす
る鉄合金からなるものを用いることもでき、その一種と
して、FeとCrとNiとからなるステンレスを挙げる
ことができ、その場合の金属基板の厚みとしては、43
μm以上とすることで、上記した作用・効果を奏する本
発明の光ディスクを容易に実現することができるという
効果を奏する。
Further, as the metal substrate, a substrate made of an iron alloy containing iron as a main component can be used, and one example thereof is stainless steel made of Fe, Cr and Ni. The thickness of the substrate is 43
By setting the thickness to be equal to or more than μm, it is possible to easily realize the optical disk of the present invention having the above-described actions and effects.

【0212】また、金属基板としては、チタンを主成分
とするチタン合金からなるものを用いることもでき、そ
の一種として、TiとAlとVとからなるチタン合金を
挙げることができ、その場合の金属基板の厚みとして
は、51μm以上とすることで、上記した作用・効果を
奏する本発明の光ディスクを容易に実現することができ
るという効果を奏する。
Further, as the metal substrate, one made of a titanium alloy containing titanium as a main component can be used, and a titanium alloy made of Ti, Al, and V can be given as one example, and in that case. By setting the thickness of the metal substrate to be 51 μm or more, it is possible to easily realize the optical disk of the present invention having the above-described actions and effects.

【0213】また、金属基板としては、アルミニウムを
主成分とするアルミニウム合金からなるものを用いるこ
ともでき、その一種として、AlとCuとMgとからな
るジュラルミンを挙げることができ、その場合の金属基
板の厚みとしては、65μm以上とすることで、上記し
た作用・効果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現
することができるという効果を奏する。
Further, as the metal substrate, one made of an aluminum alloy containing aluminum as a main component can be used, and as a kind thereof, duralumin made of Al, Cu, and Mg can be used. By setting the thickness of the substrate to be 65 μm or more, it is possible to easily realize the optical disk of the present invention having the above-described actions and effects.

【0214】また、金属基板としては、金属基板として
は、銅を主成分とする銅合金からなるものを用いること
もでき、その一種として、CuとSnとPとからなるリ
ン青銅を挙げることができ、その場合の金属基板の厚み
としては、55μm以上とすることで、上記した作用・
効果を奏する本発明の光ディスクを容易に実現すること
ができるという効果を奏する。
Further, as the metal substrate, a metal substrate made of a copper alloy containing copper as a main component can be used, and one example thereof is phosphor bronze made of Cu, Sn and P. If the thickness of the metal substrate in this case is 55 μm or more, the above-mentioned action and
It is possible to easily realize the optical disk of the present invention that has an effect.

【0215】また、本発明の光ディスク装置は、上記し
た本発明の光ディスク、或いは本発明の光ディスクカー
トリッジに対して記録又は再生を行う光ディスク装置で
あって、上記光ディスクの金属基板とは反対側から、金
属反射層又は光記録層に光を照射するようになっている
ことを特徴としている。
The optical disk device of the present invention is an optical disk device for recording or reproducing data on or from the above-mentioned optical disk of the present invention or the optical disk cartridge of the present invention. It is characterized in that the metal reflection layer or the optical recording layer is irradiated with light.

【0216】このような構成とすることで、上記した本
発明の光ディスク、光ディスクカートリッジに対して、
情報の記録又は再生が可能となる装置を提供することが
できるという効果を奏する。
With such a structure, the optical disc and the optical disc cartridge of the present invention described above are
It is possible to provide an apparatus capable of recording or reproducing information.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態の光ディスクの構成を示す
部分断面斜視図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional perspective view showing a configuration of an optical disc according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記光ディスクの部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view of the optical disc.

【図3】上記光ディスクの一製造方法における一工程の
様子を示す図面である。
FIG. 3 is a drawing showing a state of a step in a method of manufacturing the optical disc.

【図4】上記光ディスクの一製造方法における途中の光
ディスクの断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of an optical disc in the process of manufacturing the optical disc.

【図5】上記光ディスクの樹脂層の表面状態を示す部分
断面斜視図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional perspective view showing a surface state of a resin layer of the optical disc.

【図6】上記光ディスクの樹脂層の別の表面状態を示す
部分断面斜視図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional perspective view showing another surface state of the resin layer of the optical disc.

【図7】上記光ディスクの記録媒体層の構成を詳細に示
す部分断面図である。
FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing in detail the structure of a recording medium layer of the optical disc.

【図8】上記光ディスクの記録媒体層の別の構成を詳細
に示す部分断面図である。
FIG. 8 is a partial cross-sectional view showing another configuration of the recording medium layer of the optical disc in detail.

【図9】本発明の実施の形態の光ディスクの構成を示す
部分断面図である。
FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing the configuration of the optical disc according to the embodiment of the present invention.

【図10】図9の光ディスクの一製造方法における一工
程の様子を示す図面である。
FIG. 10 is a drawing showing a state of one step in a method of manufacturing the optical disc of FIG.

【図11】本発明の実施の形態の光ディスク装置の構成
を概略的に示す図面である。
FIG. 11 is a drawing schematically showing a configuration of an optical disc device according to an embodiment of the present invention.

【図12】図11の光ディスク装置における光ピックア
ップの構成を概略的に示す図面である。
12 is a drawing schematically showing a configuration of an optical pickup in the optical disc device of FIG.

【図13】本発明の実施の形態の光ディスク装置の構成
を概略的に示す図面である。
FIG. 13 is a drawing schematically showing a configuration of an optical disc device according to an embodiment of the present invention.

【図14】本発明の実施の形態の光ディスクカートリッ
ジと、該光ディスクカートリッジを備えた光ディスク装
置の構成とを概略的に示す図面である。
FIG. 14 is a diagram schematically showing an optical disc cartridge according to an embodiment of the present invention and a configuration of an optical disc device including the optical disc cartridge.

【図15】光ディスクカートリッジの平面図である。FIG. 15 is a plan view of an optical disc cartridge.

【図16】光ディスクカートリッジの部分断面図であ
る。
FIG. 16 is a partial cross-sectional view of an optical disc cartridge.

【図17】別の光ディスクカートリッジの部分断面図で
ある。
FIG. 17 is a partial cross-sectional view of another optical disc cartridge.

【図18】本発明の実施の形態の光ディスクカートリッ
ジと、該光ディスクカートリッジを備えた光ディスク装
置の構成とを概略的に示す図面である。
FIG. 18 is a diagram schematically showing an optical disc cartridge according to an embodiment of the present invention and a configuration of an optical disc device including the optical disc cartridge.

【図19】光ディスクにおける、スレンレスからなる基
板の基板厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 19 is a graph showing the relationship between the substrate thickness and the rigidity of a slenless substrate in an optical disc.

【図20】光ディスクにおける、アルミニウムからなる
基板の基板厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 20 is a graph showing the relationship between the substrate thickness and the rigidity of a substrate made of aluminum in an optical disc.

【図21】光ディスクにおける、鉄からなる基板の基板
厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 21 is a graph showing the relationship between the substrate thickness and the rigidity of a substrate made of iron in an optical disc.

【図22】光ディスクにおける、銅からなる基板の基板
厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 22 is a graph showing the relationship between the substrate thickness and the rigidity of a substrate made of copper in an optical disc.

【図23】光ディスクにおける、ニッケルからなる基板
の基板厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 23 is a graph showing the relationship between substrate thickness and rigidity of a substrate made of nickel in an optical disc.

【図24】光ディスクにおける、チタンからなる基板の
基板厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 24 is a graph showing the relationship between the substrate thickness and the rigidity of a substrate made of titanium in an optical disc.

【図25】光ディスクにおける、チタン合金からなる基
板の基板厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 25 is a graph showing the relationship between the substrate thickness and the rigidity of a substrate made of a titanium alloy in an optical disc.

【図26】光ディスクにおける、ジュラルミンからなる
基板の基板厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 26 is a graph showing the relationship between substrate thickness and rigidity of a substrate made of duralumin in an optical disc.

【図27】光ディスクにおける、リン青銅からなる基板
の基板厚と剛性との関係を示すグラフである。
FIG. 27 is a graph showing the relationship between substrate thickness and rigidity of a substrate made of phosphor bronze in an optical disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光ディスク 1’ 光ディスク 2 金属基板 3 樹脂層 3’ 樹脂層 4 記録媒体層(光記録層) 4’ 金属反射層 5 光透過性保護層 6 鏡面板 7 透明スタンパ 7’ 透明スタンパ 8 紫外線 9 案内溝(凹凸案内溝パターン) 10 ピット(凹凸ピットパターン) 23 センターハブ 24 スピンドル 25 光ピックアップ 26 再生信号検出用受光素子 27 制御用受光素子 28 発光素子 29 発光受光素子部 30 光ビーム 31 集光手段 33 2軸アクチュエータ 37 光ディスクカートリッジケース 37’ 光ディスクカートリッジケース 38 上側の内壁面 39 下側の内壁面 38 第1の開口部 39 第2の開口部 40 スライドシャッター 41 サスペンション 42 磁気ヘッド 43 第3の開口部 50 光ディスクカートリッジ 50’ 光ディスクカートリッジ 1 optical disc 1'optical disc 2 metal substrate 3 resin layers 3'resin layer 4 Recording medium layer (optical recording layer) 4'metal reflective layer 5 Light-transmissive protective layer 6 Mirror plate 7 Transparent stamper 7'Transparent stamper 8 ultraviolet rays 9 Guide groove (concavo-convex guide groove pattern) 10 pits (uneven pit pattern) 23 Center Hub 24 spindles 25 optical pickup 26 Light receiving element for reproducing signal detection 27 Photodetector for control 28 Light emitting element 29 Light emitting and receiving element section 30 light beams 31 light collecting means 33 2-axis actuator 37 Optical disk cartridge case 37 'optical disk cartridge case 38 Inner wall surface on the upper side 39 Inner wall surface on the lower side 38 First opening 39 Second opening 40 slide shutter 41 suspension 42 magnetic head 43 Third opening 50 Optical disk cartridge 50 'optical disk cartridge

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 G11B 7/24 535L 571 571Y 7/004 7/004 Z 11/105 501 11/105 501A 521 521B 521C 521D 536 536C 541 541A 23/03 604 23/03 604P 604Z Fターム(参考) 5D029 JB18 JB32 KA22 KA23 KB14 KC09 LB13 LC08 MA34 PA09 5D075 FF20 FG04 FG14 FH06 5D090 AA01 CC01 CC04 CC14 DD02 FF11 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 identification code FI theme code (reference) G11B 7/24 G11B 7/24 535L 571 571Y 7/004 7/004 Z 11/105 501 11/105 501A 521 521B 521C 521D 536 536C 541 541A 23/03 604 23/03 604P 604Z F term (reference) 5D029 JB18 JB32 KA22 KA23 KB14 KC09 LB13 LC08 MA34 PA09 5D075 FF20 FG04 FG14 CC14 DD0201090

Claims (37)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属基板上に、凹凸ピットパターンを有す
る樹脂層と金属反射層とが少なくとも順次形成され、光
ディスク全体の厚みが0.3mm以下であることを特徴
とする光ディスク。
1. An optical disc, wherein a resin layer having a concave-convex pit pattern and a metal reflection layer are formed at least in sequence on a metal substrate, and the total thickness of the optical disc is 0.3 mm or less.
【請求項2】金属基板上に、凹凸ピットパターン及び/
又は凹凸案内溝パターンを有する樹脂層と光記録層とが
少なくとも順次形成され、光ディスク全体の厚みが0.
3mm以下であることを特徴とする光ディスク。
2. A concavo-convex pit pattern and // on a metal substrate.
Alternatively, at least a resin layer having an uneven guide groove pattern and an optical recording layer are sequentially formed, and the total thickness of the optical disk is 0.
An optical disc having a thickness of 3 mm or less.
【請求項3】金属基板の表裏両面それぞれに、凹凸ピッ
トパターンを有する樹脂層と金属反射層とが少なくとも
順次形成され、光ディスク全体の厚みが0.3mm以下
であることを特徴とする光ディスク。
3. An optical disc, wherein a resin layer having a concave-convex pit pattern and a metal reflective layer are formed at least sequentially on both front and back surfaces of a metal substrate, and the total thickness of the optical disc is 0.3 mm or less.
【請求項4】金属基板の表裏両面それぞれに、凹凸ピッ
トパターン及び/又は凹凸案内溝パターンを有する樹脂
層と光記録層とが少なくとも順次形成され、光ディスク
全体の厚みが0.3mm以下であることを特徴とする光
ディスク。
4. A resin layer having a concavo-convex pit pattern and / or a concavo-convex guide groove pattern and an optical recording layer are formed at least sequentially on each of the front and back surfaces of a metal substrate, and the total thickness of the optical disc is 0.3 mm or less. An optical disc characterized by.
【請求項5】上記樹脂層が、紫外線硬化樹脂からなるこ
とを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光ディ
スク。
5. The optical disc according to claim 1, wherein the resin layer is made of an ultraviolet curable resin.
【請求項6】上記光記録層が、相変化記録媒体を用いた
記録層であることを特徴とする請求項2又は4に記載の
光ディスク。
6. The optical disc according to claim 2, wherein the optical recording layer is a recording layer using a phase change recording medium.
【請求項7】上記光記録層が、光磁気記録媒体を用いた
記録層であることを特徴とする請求項2又は4に記載の
光ディスク。
7. The optical disc according to claim 2 or 4, wherein the optical recording layer is a recording layer using a magneto-optical recording medium.
【請求項8】上記金属反射層或いは光記録層の上に光透
過性保護層が設けられていることを特徴とする請求項1
〜4のいずれかに記載の光ディスク。
8. A light transmissive protective layer is provided on the metal reflective layer or the optical recording layer.
4. The optical disc according to any one of 4 to 4.
【請求項9】上記光透過性保護層が、紫外線硬化樹脂か
らなることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載
の光ディスク。
9. The optical disc according to claim 1, wherein the light-transmitting protective layer is made of an ultraviolet curable resin.
【請求項10】上記光透過性保護層が、透明接着剤で接
着された透明樹脂シートからなることを特徴とする請求
項1〜4のいずれかに記載の光ディスク。
10. The optical disk according to claim 1, wherein the light-transmitting protective layer is made of a transparent resin sheet adhered with a transparent adhesive.
【請求項11】上記金属基板の剛性が、0.150kg
f・mm以上であることを特徴とする請求項1〜10の
いずれかに記載の光ディスク。
11. The rigidity of the metal substrate is 0.150 kg.
The optical disc according to any one of claims 1 to 10, wherein the optical disc has a length of f · mm or more.
【請求項12】上記金属基板がアルミニウムからなるこ
とを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の光デ
ィスク。
12. The optical disk according to claim 1, wherein the metal substrate is made of aluminum.
【請求項13】上記金属基板の厚みが66μm以上であ
ることを特徴とする請求項12に記載の光ディスク。
13. The optical disk according to claim 12, wherein the metal substrate has a thickness of 66 μm or more.
【請求項14】上記金属基板が鉄からなることを特徴と
する請求項1〜11のいずれかに記載の光ディスク。
14. The optical disk according to claim 1, wherein the metal substrate is made of iron.
【請求項15】上記鉄からなる金属基板の厚みが45μ
m以上であることを特徴とする請求項14に記載の光デ
ィスク。
15. The thickness of the metal substrate made of iron is 45 μm.
The optical disc according to claim 14, wherein the optical disc has a length of m or more.
【請求項16】上記金属基板が銅からなることを特徴と
する請求項1〜11のいずれかに記載の光ディスク。
16. The optical disc according to claim 1, wherein the metal substrate is made of copper.
【請求項17】上記銅からなる金属基板の厚みが53μ
mであることを特徴とする請求項16に記載の光ディス
ク。
17. The thickness of the metal substrate made of copper is 53 μm.
17. The optical disc according to claim 16, wherein the optical disc is m.
【請求項18】上記金属基板がニッケルからなることを
特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の光ディス
ク。
18. The optical disc according to claim 1, wherein the metal substrate is made of nickel.
【請求項19】上記ニッケルからなる金属基板の厚みが
44μm以上であることを特徴とする請求項18に記載
の光ディスク。
19. The optical disk according to claim 18, wherein the metal substrate made of nickel has a thickness of 44 μm or more.
【請求項20】上記金属基板がチタンからなることを特
徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の光ディス
ク。
20. The optical disc according to claim 1, wherein the metal substrate is made of titanium.
【請求項21】上記チタンからなる金属基板の厚みが5
5μm以上であることを特徴とする請求項20に記載の
光ディスク。
21. The thickness of the metal substrate made of titanium is 5
The optical disc according to claim 20, which has a thickness of 5 μm or more.
【請求項22】上記金属基板が鉄を主成分とする鉄合金
からなることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに
記載の光ディスク。
22. The optical disc according to claim 1, wherein the metal substrate is made of an iron alloy containing iron as a main component.
【請求項23】上記鉄合金がFeとCrとNiとからな
るステンレスであることを特徴とする請求項22に記載
の光ディスク。
23. The optical disk according to claim 22, wherein the iron alloy is stainless steel composed of Fe, Cr and Ni.
【請求項24】上記ステンレスからなる金属基板の厚み
が43μm以上であることを特徴とする請求項23に記
載の光ディスク。
24. The optical disc according to claim 23, wherein the metal substrate made of stainless steel has a thickness of 43 μm or more.
【請求項25】上記金属基板がチタンを主成分とするチ
タン合金からなることを特徴とする請求項1〜11のい
ずれかに記載の光ディスク。
25. The optical disc according to claim 1, wherein the metal substrate is made of a titanium alloy containing titanium as a main component.
【請求項26】上記チタン合金がTiとAlとVとから
なることを特徴とする請求項25に記載の光ディスク。
26. The optical disc according to claim 25, wherein the titanium alloy is composed of Ti, Al and V.
【請求項27】上記TiとAlとVとのチタン合金から
なる金属基板の厚みが51μm以上であることを特徴と
する請求項26に記載の光ディスク。
27. The optical disc according to claim 26, wherein the metal substrate made of a titanium alloy of Ti, Al and V has a thickness of 51 μm or more.
【請求項28】上記金属基板がアルミニウムを主成分と
するアルミニウム合金からなることを特徴とする請求項
1〜11のいずれかに記載の光ディスク。
28. The optical disc according to claim 1, wherein the metal substrate is made of an aluminum alloy containing aluminum as a main component.
【請求項29】上記アルミニウム合金がAlとCuとM
gからなるジュラルミンであることを特徴とする請求項
28に記載の光ディスク。
29. The aluminum alloy comprises Al, Cu and M.
29. The optical disc according to claim 28, which is a duralumin composed of g.
【請求項30】上記ジュラルミンからなる金属基板の厚
みが65μm以上であることを特徴とする請求項29に
記載の光ディスク。
30. The optical disk according to claim 29, wherein the metal substrate made of duralumin has a thickness of 65 μm or more.
【請求項31】上記金属基板が銅を主成分とする銅合金
からなることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに
記載の光ディスク。
31. The optical disk according to claim 1, wherein the metal substrate is made of a copper alloy containing copper as a main component.
【請求項32】上記銅合金がCuとSnとPとからなる
リン青銅であることを特徴とする請求項31に記載の光
ディスク。
32. The optical disk according to claim 31, wherein the copper alloy is phosphor bronze composed of Cu, Sn and P.
【請求項33】上記リン青銅からなる金属基板の厚みが
55μm以上であることを特徴とする請求項32に記載
の光ディスク。
33. The optical disc according to claim 32, wherein the metal substrate made of phosphor bronze has a thickness of 55 μm or more.
【請求項34】請求項1〜33のいずれかに記載の光デ
ィスクが、光ディスクカートリッジケースに挿入されて
なることを特徴とする光ディスクカートリッジ。
34. An optical disk cartridge, wherein the optical disk according to any one of claims 1 to 33 is inserted in an optical disk cartridge case.
【請求項35】上記光ディスクカートリッジケースが、
金属からなることを特徴とする請求項34に記載の光デ
ィスクカートリッジ。
35. The optical disk cartridge case,
The optical disk cartridge according to claim 34, wherein the optical disk cartridge is made of metal.
【請求項36】上記光ディスクカートリッジ全体の厚み
が2.5mm以下であることを特徴とする請求項34又
は35に記載の光ディスクカートリッジ。
36. The optical disk cartridge according to claim 34, wherein the thickness of the entire optical disk cartridge is 2.5 mm or less.
【請求項37】請求項1〜33のいずれかに記載の光デ
ィスク、或いは請求項34〜36のいずれかに記載の光
ディスクカートリッジに対して記録又は再生を行う光デ
ィスク装置であって、 上記光ディスクの金属基板とは反対側から、金属反射層
又は光記録層に光を照射するようになっていることを特
徴とする光ディスク装置。
37. An optical disc device for recording or reproducing data on or from the optical disc according to any one of claims 1 to 33 or the optical disc cartridge according to any one of claims 34 to 36. An optical disk device characterized in that light is applied to a metal reflection layer or an optical recording layer from the side opposite to the substrate.
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