JP2003156720A - 短幅の光パルスを生成する装置及び方法 - Google Patents

短幅の光パルスを生成する装置及び方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】全体的にパルスのリンギングを排除しつつ、短
幅の光パルスを得る。 【構成】光信号(2)を変調するよう設けたマッハツェ
ンダ型変調器(3)と、所定の繰り返し周波数(f)の
半分の周波数(f/2)の正弦波成分を含む信号を駆動
することにより前記マッハツェンダ型変調器(3)を駆
動する駆動生成器(4)とを備える、所定の繰り返し周
波数(f)の光パルス(OS)を生成する光パルス生成
装置であって、前記駆動生成器が、前記正弦波成分の少
なくとも一つの奇数次高調波を生成し、前記正弦波成分
に加えて該正弦波成分の少なくとも一つの奇数次高調波
を前記駆動信号に合成(40)する回路網(4’,・
・・,4’2n+1)を有する光パルス生成装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、短狭の光パルスの
生成に関する。より具体的には、本発明は所望の繰り返
し周波数fの半分の周波数f/2でかつマッハツェンダ
型変調器(M−Z変調器)を最小転送出力から最大転送
出力まで切り替えるのに必要な振幅(V )の2倍の
振幅を有する正弦波を用いてM−Z変調器を駆動するこ
とにより、所定の繰り返し数すなわち周波数fで光パル
スを生成する技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】M−Z変調器を利用した光パルス生成の
基本原理は公知であり、添付図面の図1,2に概略図示
してある。
【0003】具体的には、図1の下側部分の参照符号S
Wは−Vpiと+Vpiの間で振動する変調正弦波を指
す。また、Pは通常M−Z変調器により生成される出力
光パルスを指す。
【0004】図2a)はこの種の技術を利用して生成さ
れるパルスの理論的な時間挙動を示すものである。図2
b)は、対応する実験結果を示すものであり、理論的な
予測結果と良く一致する。
【0005】
【特許文献1】国際公開第99/08406号パンフレ
ット
【特許文献2】国際公開第01/48956号パンフレ
ット
【非特許文献1】フロバーグ(N.M.Frober
g),外9名,「積分型ディー・ビー・アール レーザ
変調器の高調波変調によるパルス生成(Pulse g
eneration by harmonic mod
ulation of an integrated
DBR laser−modulator)」,エレク
トロニック・レターズ(Electronic let
ters),(英国),アイ・イー・イー・スティーベ
ネッジ(IEE Stevenage),平成6年4月
14日,第30巻,第8号,p.650−651
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来技術は、
約35%のほぼ固定されたデューティサイクルをもって
パルス生成できるようにするものである。この種のパル
ス生成のための一般的な半値幅は、100ピコ秒の繰り
返し周期(繰り返し数周波数をfとしたときに周期T=
1/f)でもって約33ピコ秒である。変調振幅を増や
すことによってより短幅のパルスが得られるが、これが
パルスの裾部分に不要なリンギングを生じさせる。
【0007】本発明は、上述した技術により短幅の光パ
ルスを生成する際に生じる不利益を排除しつつ、より短
幅のパルスが得られるようにする改善された解決策を提
供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上述した本発明の目的
は、所定の繰り返し周波数(f)の半分の周波数(f/
2)の正弦波成分(SW)を含む駆動信号により駆動さ
れるマッハツェンダ型変調器(3)により光信号(2)
を変調することにより、所定の繰り返し周波数(f)の
光パルス(OS)を生成する方法であって、前記駆動信
号(SW’)に前記正弦波成分の少なくとも一つの奇数
次高調波を重畳するステップを有することを特徴とする
光パルス生成方法により達成される。
【0009】前記光パルス生成方法は、前記奇数次高調
波の相対振幅を選択的に変更するステップ(24,2
,・・・,242n+1)を含んでもよい。
【0010】前記光パルス生成方法は、前記奇数次高調
波の相対位相を選択的に変更するステップ(34,・
・・,342n+1)を含んでもよい。
【0011】前記光パルス生成方法は、前記所定の繰り
返し周波数(f)にて生成した光パルス(OS)から帰
還信号を生成(7,9)するステップと、前記帰還信号
を前記所定の繰り返し周波数(f)の半分の記周波数
(f/2)で濾波(9a)するステップと、前記濾波さ
れた帰還信号に前記正弦波成分を乗算(10)して誤差
信号を生成するステップと、前記誤差信号に基づいて前
記マッハツェンダ型変調器(3)をバイアスするステッ
プを含んでもよい。
【0012】前記光パルス生成方法は、前記誤差信号を
積分(11)してマッハツェンダ型変調器(3)用のバ
イアス信号を生成するステップを含んでもよい。
【0013】前記光パルス生成方法は、前記所定の周波
数(f)で生成された光パルス(OS)の一部を分岐
(7)させ、被分岐光信号を生成するステップと、前記
光信号を電気信号へ変換(9)して前記帰還信号を生成
するステップを含んでもよい。
【0014】また上述した本発明の目的は、光信号
(2)を変調するよう設けたマッハツェンダ型変調器
(3)と、所定の繰り返し周波数(f)の半分の周波数
(f/2)の正弦波成分を含む信号を駆動することによ
り前記マッハツェンダ型変調器(3)を駆動する駆動生
成器(4)を備える、所定の繰り返し周波数(f)の光
パルス(OS)を生成する光パルス生成装置であって、
前記駆動生成器が、前記正弦波成分の少なくとも一つの
奇数次高調波を生成し、前記正弦波成分に加えて該正弦
波成分の少なくとも一つの奇数次高調波を前記駆動信号
に合成(40)する回路網(4’,・・・,4’
2n+1)を有することを特徴とする光パルス生成装置
によっても達成できる。
【0015】前記光パルス生成装置の前記生成器(4)
が、前記正弦波成分を生成する基本生成回路(5)と、
前記正弦波成分の少なくとも一つの奇数次高調波を生成
する少なくとも一つの奇数次高調波生成器(4’,・
・・,4’2n+1)と、前記変調器(3)へ向けて前
記正弦波成分を伝搬する主要信号路(4)と、前記変
調器(3)へ向けて前記正弦波成分の前記少なくとも一
つの奇数次高調波を伝搬する少なくとも一つの付加信号
路(4,・・・,4n+1)を有してもよい。
【0016】前記光パルス生成装置は、前記生成器
(4)が、前記正弦波成分に対する前記少なくとも一つ
の奇数次高調波の相対振幅を選択的に変更可能な少なく
とも一つの減衰器(24,24,・・・,24
2n+1)を有してもよい。
【0017】前記光パルス生成装置は、前記生成器
(4)が前記正弦波成分に対する前記少なくとも一つの
奇数次高調波の相対位相を選択的に可変可能な少なくと
も一つの移相器(34,・・・,342n+1)を有
してもよい。
【0018】前記光パルス生成装置は、前記マッハツェ
ンダ型変調器(3)用のバイアス制御回路(6)をさら
に有し、前記バイアス制御回路(6)が、生成された光
パルス(OS)内で前記所定の繰り返し周波数(f)の
半分の周波数(f/2)のスペクトル成分を検出すると
ともに、前記マッハツェンダ型変調器に印加されたバイ
アス信号を変調し、前記所定の繰り返し周波数(f)の
半分の周波数(f/2)の前記スペクトル成分を抑圧す
るよう配設された帰還信号路(9〜11)を有してもよ
い。
【0019】前記光パルス生成装置の前記バイアス制御
回路(6)は、前記生成された光パルス(OS)を検出
してそこから帰還信号を生成する帰還ユニットと、前記
所定の繰り返し周波数(f)の半分の周波数(f/2)
にて前記帰還信号を濾波して濾波帰還信号を出力するフ
ィルタ(9a)と、前記濾波帰還信号に前記正弦波成分
を乗算して誤差信号を生成する乗算器(18)と、前記
誤差信号に基づいて前記マッハツェンダ型変調器のバイ
アスを制御するバイアス制御信号路(11,12,3
a)を有してもよい。
【0020】前記光パルス生成装置の前記バイアス制御
信号路が、前記マッハツェンダ型変調器のバイアス制御
に用いる前記誤差信号を積分する積分器(11)を有し
てもよい。
【0021】前記光パルス生成装置の前記帰還信号路
は、前記生成された光パルス(OS)を電気信号に変換
して前記帰還信号を生成する光電変換器(9)を有して
もよい。
【0022】なお、上述した本発明の解決手段は、本質
的に、周波数f/2の駆動信号に対しその奇数次高調波
(すなわち、3/2f,5/2f,・・・)を適当な振
幅及び位相をもって付加する構想に基づくものである。
【0023】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を添付図
面に基づきあくまで一例として説明する。具体的には、
図3,4(各々図1,2に対応)では、駆動信号SW’
が図1,2の説明の際に述べた基本原理に従うM−Z変
調器に印加されるよう設けて図示してある。
【0024】本発明装置の場合、駆動信号SW’のスペ
クトルの中身には、パルス繰り返し周波数fの半分の周
波数f/2の基本正弦波成分に加え、周波数(3/2)
fの第三次高調波項が含まれる。
【0025】こうして、図4a),b)に表わした線図
に示す如く100ピコ秒の繰り返し周期を有するパルス
を生成することができ、それは図2に示すものよりも相
当に狭いもの(すなわち、半値幅で約33ピコ秒に対し
約19ピコ秒)である。
【0026】また、実験結果(図4b)から理論モデル
(図4a)と良好に合致していることがわかる。
【0027】図5のブロック線図で、参照符号1はCW
レーザなどのレーザ光源2により生成される放射を起点
に本発明になる短い光パルスを生成する装置全体を指
す。
【0028】本発明の好適な実施形態では、光源2は高
出力DFBレーザである。
【0029】レーザ光源2からの放射は、周知のニオブ
酸リチウムM−Z変調器などのマッハツェンダ型変調器
3に供給される。
【0030】M−Z変調器3には変調ポート3aが備わ
っていて、下記により詳細に説明する生成器回路4によ
り生成される駆動信号SW’を受け取る。
【0031】M−Z変調器3からの光パルスは、約10
0ピコ秒の繰り返し周期Tをもった一連の超短幅光パル
スからなる出力信号OSを構成する。本実施形態では、
繰り返し周期Tは1/9953.28MHzクロック信
号に対応して選択した。
【0032】外部クロック信号源50により生成される
この種のクロック信号CSの周波数は、分周器5により
2分周して生成器4へ供給される。
【0033】参照符号6は、M−Z変調器3用のバイア
ス制御器回路全体を指す。バイアス制御器6は、5/9
5光結合器7により信号OSから分周したパルス化出力
信号の一部により駆動される。バイアス制御器6はま
た、分周器5にて2分周したクロック信号CSを線路8
を介して受信する。
【0034】生成器4は、実質的に分周器5の出力から
分岐して高周波合成器40へ通ずる複数の信号路から構
成される。
【0035】上述した複数の信号路には、減衰器24
が後に続く増幅器14を含む基本信号路4を含む。
【0036】この装置は、駆動信号SW’の第1高調波
(すなわち基本波)が周波数f/2にて合成器40へ供
給されるようにする。
【0037】 付加する各信号路4,・・・,42n+1は、 ・高調波生成回路4’,・・・,4’2n+1と、 ・増幅器14,・・・,142n+1と、 ・可変減衰器24,・・・,242n+1と、 ・可変移相器34,・・・,342n+1とで構成さ
れる。 付加する各信号路4,・・・,42n+1は、周波数
(3/2)f,・・・,((2n+1)/2)fの個々
の信号成分が信号路4を伝搬する周波数f/2の基本
成分に対し所定の振幅及び位相関係をもって合成器40
へ供給されるようにする。
【0038】具体的には、減衰器24,24,・・
・,242n+1上で動作させることで、周波数f/2
の基本成分と周波数(3/2)f,・・・((2n+
1)/2)fの奇数次高調波成分の相対振幅は選択的か
つ正確に調整することができる。
【0039】同様に、移相器34,・・・,34
2n+1上で動作させることで、周波数(3/2)f,
・・・((2n+1)/2)fの奇数次高調波成分の位
相関係を調整することができる。
【0040】奇数次高調波生成器4’,・・・,4’
2n+1は、従来からある回路網に基づいて、適当なマ
イクロ波デマルチプレクサが後に続く例えばコム発生器
で構成することができる。
【0041】f/2の基本駆動信号の奇数次高調波が、
本実施形態を参照してここに記載し図示したものとは異
なる方法で生成できることを、当業者は速やかに理解し
よう。
【0042】生成器4内の多数の付加信号を合成するこ
とにより、出力信号OSに含まれるパルスの半値幅を非
常に小さな値で実質的に零へ低減することができる。
【0043】本発明装置は、駆動信号SW’の様々な成
分の相対振幅ならびに位相が個別調整され、かくして変
調器3の周波数応答の遮断性能の補償を可能にする長所
を有する点で、M−Z変調器に印加される方形波を供給
する技術に匹敵する技術である。
【0044】もっとも実用上はパルス幅低減量と生成器
4の複雑さを鑑みて合理的な設計を行うことになる。実
験の結果、生成器4内でたった1つ或いは2つの付加信
号路(周波数f/2の基本信号の第3及び第5高調波に
対応)を供給することで、現在想像される大半の実用用
途にとって完全に満足すべき結果(約15ピコ秒のパル
ス幅)を得ることができた。
【0045】バイアス制御器回路6は、あらゆる不要な
半周波数線路を抹消することで非常に良く均衡のとれた
パルスストリームをもたらす(バイアスが正しくないと
きは、奇数パルスと偶数パルスが存在する)。最適のバ
イアスが温度とともに変動するため、出力信号OSのス
ペクトル中のあらゆる不要な半周波数線路を抹消する必
要がある。この目的に合せ、バイアス制御回路6は光結
合器7にて分割された出力信号OSの一部を電気信号へ
変換する広帯域光検出器9を有する。光検出器9により
生成された電気信号は、帯域通過フィルタ9a(実際に
は帯域通過フィルタとその後段に配置された調整済み増
幅器からなる)を通過し、そこで乗算器10にて線路8
を介して分周器5から受け取った周波数f/2の半周波
数信号を重畳される。
【0046】乗算器10の出力信号は、続いて積分器1
1にて積分され、生成器4からの出力信号と12にて合
成される。
【0047】参照符号13は、合成器40の出力端に出
現する直流成分を抑圧する目的で、合成器40の出力端
に配置されたコンデンサである。M−Z変調器3に印加
される駆動信号SW’のバイアスレベルは、かくしてバ
イアス制御器回路6により厳密に規定され、あらゆる不
要オフセット効果が排除される。
【0048】すなわち、M−Z変調器3を誤ってバイア
スしたときは、f/2の成分がパルススペクトルに出現
する。変調器3を正確にバイアスすることでその成分を
抑制するため、線路8上の周波数f/2の駆動信号によ
ってほぼf/2に中心をもつフィルタ9a内で濾波した
被検出光パルスを乗算することで、誤差信号が得られ
る。積分器11における積分の結果として得られる積分
誤差信号が、そこで変調器3のバイアス入力端へ帰還さ
れる。
【0049】本実施形態により、パルス幅を一般の繰り
返し周期である35%から理論上は零へ、実用上は繰り
返し周期の約15%へ低減することができる。このこと
は、長距離光伝送ならびに例えば40ギガビット/秒以
上の範囲の非常に高速の伝送レートでもって動作する光
システムにおいて特に好都合である。
【0050】無論、本実施形態は本発明を説明ならびに
図解するための単なる例示であり、構成ならびに実施形
態の詳細は、特許請求の範囲に規定した本発明の範囲か
ら逸脱することなく変形することができる。
【0051】
【発明の効果】本発明により、全体的にパルスのリンギ
ングを排除しつつ、パルス幅が調整可能となり、短幅の
光パルスを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術に関して、駆動信号と光出力を示す図
である。
【図2】従来技術で生成された光パルスの理論上の波形
(a)と実測波形(b)を示す図である。
【図3】図1の従来技術との比較における本発明の解決
策の長所を示す図である。本発明における駆動信号と光
出力を示す図である。
【図4】図2の従来技術との比較における本発明の解決
策の長所を示す図である。(a)は理論上の波形と
(b)は実測波形である。
【図5】本実施形態における光パルス生成器のレイアウ
トを示すブロック線図である。
【符号の説明】
2 光信号 3 マッハツェンダ型変調器(M−Z変調器) 3a 変調ポート 4 駆動生成器 4,4,・・・,42n+1 信号路 4’,・・・,4’2n+1 回路網 5 分周器(基本生成回路) 6 バイアス制御回路 7 5/95光結合器 8 線路 9 光検出器 9a 帯域通過フィルタ 10 乗算器 11 積分器 13 コンデンサ 14,・・・,142n+1 増幅器 24,・・・,242n+1 可変減衰器 34,・・・,342n+1 可変移相器 40 高周波合成器 50 クロック信号源
フロントページの続き (72)発明者 マリオ・ピューレオ イタリア共和国ボルゴセッシア、ヴィア フェネラ アナンツィアータ1 Fターム(参考) 2H079 AA02 AA12 BA01 BA03 DA03 EA05 FA01 FA03 KA18

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定の繰り返し周波数(f)の半分の周波
    数(f/2)の正弦波成分(SW)を含む駆動信号によ
    り駆動されるマッハツェンダ型変調器(3)により光信
    号(2)を変調することにより、所定の繰り返し周波数
    (f)の光パルス(OS)を生成する方法であって、 前記駆動信号(SW’)に前記正弦波成分の少なくとも
    一つの奇数次高調波を重畳するステップを有することを
    特徴とする光パルス生成方法。
  2. 【請求項2】請求項1記載の光パルス生成方法であっ
    て、前記奇数次高調波の相対振幅を選択的に変更するス
    テップ(24,24,・・・,242n+ )を有
    することを特徴とする光パルス生成方法。
  3. 【請求項3】請求項1又は2に記載の光パルス生成方法
    であって、前記奇数次高調波の相対位相を選択的に変更
    するステップ(34,・・・,342n+ )を有す
    ることを特徴とする光パルス生成方法。
  4. 【請求項4】請求項1乃至3に記載の光パルス生成方法
    であって、前記所定の繰り返し周波数(f)にて生成し
    た光パルス(OS)から帰還信号を生成(7,9)する
    ステップと、 前記帰還信号を前記所定の繰り返し周波数(f)の半分
    の記周波数(f/2)で濾波(9a)するステップと、 前記濾波された帰還信号に前記正弦波成分を重畳(1
    0)して誤差信号を生成するステップと、 前記誤差信号に基づいて前記マッハツェンダ型変調器
    (3)をバイアスするステップを有することを特徴とす
    る光パルス生成方法。
  5. 【請求項5】請求項4記載の光パルス生成方法であっ
    て、さらに前記誤差信号を積分(11)してマッハツェ
    ンダ型変調器(3)用のバイアス信号を生成するステッ
    プを有することを特徴とする光パルス生成方法。
  6. 【請求項6】請求項4又は5の記載の光パルス生成方法
    であって、前記所定の周波数(f)で生成された光パル
    ス(OS)の一部を分岐(7)させ、被分岐光信号を生
    成するステップと、前記光信号を電気信号へ変換(9)
    して前記帰還信号を生成するステップを有することを特
    徴とする光パルス生成方法。
  7. 【請求項7】光信号(2)を変調するよう設けたマッハ
    ツェンダ型変調器(3)と、 所定の繰り返し周波数(f)の半分の周波数(f/2)
    の正弦波成分を含む信号を駆動することにより前記マッ
    ハツェンダ型変調器(3)を駆動する駆動生成器(4)
    とを備える、所定の繰り返し周波数(f)の光パルス
    (OS)を生成する光パルス生成装置であって、 前記駆動生成器が、前記正弦波成分の少なくとも一つの
    奇数次高調波を生成し、前記正弦波成分に加えて該正弦
    波成分の少なくとも一つの奇数次高調波を前記駆動信号
    に合成(40)する回路網(4’,・・・,4’
    2n+1)を有することを特徴とする光パルス生成装
    置。
  8. 【請求項8】請求項7記載の光パルス生成装置あって、 前記生成器(4)が、 前記正弦波成分を生成する基本生成回路(5)と、 前記正弦波成分の少なくとも一つの奇数次高調波を生成
    する少なくとも一つの奇数次高調波生成器(4’,・
    ・・,4’2n+1)と、 前記変調器(3)へ向けて前記正弦波成分を伝搬する主
    要信号路(4)と、 前記変調器(3)へ向けて前記正弦波成分の前記少なく
    とも一つの奇数次高調波を伝搬する少なくとも一つの付
    加信号路(4,・・・,4n+1)を有することを特
    徴とする光パルス生成装置。
  9. 【請求項9】請求項7又は8に記載の光パルス生成装置
    であって、 前記生成器(4)が、前記正弦波成分に対する前記少な
    くとも一つの奇数次高調波の相対振幅を選択的に変更可
    能な少なくとも一つの減衰器(24,24,・・
    ・,242n+1)を有することを特徴とする光パルス
    生成装置。
  10. 【請求項10】請求項7乃至9に記載の光パルス生成装
    置であって、 前記生成器(4)が前記正弦波成分に対する前記少なく
    とも一つの奇数次高調波の相対位相を選択的に可変可能
    な少なくとも一つの移相器(34,・・・,34
    2n+1)を有することを特徴とする光パルス生成装
    置。
  11. 【請求項11】請求項7乃至10に記載の光パルス生成
    装置であって、 前記マッハツェンダ型変調器(3)用のバイアス制御回
    路(6)をさらに含み、前記バイアス制御回路(6)
    が、生成された光パルス(OS)内で前記所定の繰り返
    し周波数(f)の半分の周波数(f/2)のスペクトル
    成分を検出するとともに、前記マッハツェンダ型変調器
    に印加されたバイアス信号を変調し、前記所定の繰り返
    し周波数(f)の半分の周波数(f/2)の前記スペク
    トル成分を抑制するよう配設された帰還信号路(9〜1
    1)を有することを特徴とする光パルス生成装置。
  12. 【請求項12】請求項11記載の光パルス生成装置であ
    って、 前記バイアス制御回路(6)は、前記生成された光パル
    ス(OS)を検出してそこから帰還信号を生成する帰還
    ユニットと、 前記所定の繰り返し周波数(f)の半分の周波数(f/
    2)にて前記帰還信号を濾波して濾波帰還信号を出力す
    るフィルタ(9a)と、 前記濾波帰還信号に前記正弦波成分を重畳して誤差信号
    を生成する乗算器(18)と、 前記誤差信号に基づいて前記マッハツェンダ型変調器の
    バイアスを制御するバイアス制御信号路(11,12,
    3a)を有することを特徴とする光パルス生成装置。
  13. 【請求項13】請求項12記載の光パルス生成装置であ
    って、 前記バイアス制御信号路が、前記マッハツェンダ型変調
    器のバイアス制御に用いる前記誤差信号を積分する積分
    器(11)を有することを特徴とする光パルス生成装
    置。
  14. 【請求項14】請求項11乃至13に記載の光パルス生
    成装置であって、 前記帰還信号路は、前記生成された光パルス(OS)を
    電気信号に変換して前記帰還信号を生成する光電変換器
    (9)を有することを特徴とする光パルス生成装置。
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