JP2003146790A - Gas generating agent composition and gas generating member - Google Patents

Gas generating agent composition and gas generating member

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JP2003146790A
JP2003146790A JP2001350487A JP2001350487A JP2003146790A JP 2003146790 A JP2003146790 A JP 2003146790A JP 2001350487 A JP2001350487 A JP 2001350487A JP 2001350487 A JP2001350487 A JP 2001350487A JP 2003146790 A JP2003146790 A JP 2003146790A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To generate microgases with high gas generation power from microareas and to intermittently shut off or change the direction of the liquid flow continuously discharged from a nozzle with high accuracy. SOLUTION: The gas generating composition is composed of a gas generating agent and a light absorbent and can generate the gases in the microareas by microheating sources. The gas generating member can be obtained by forming a tight contact layer 2 and a gas generating layer 3 containing the gas generating agent (nitrocellulose, etc.), and the light absorbent (carbon black, etc.), and having >=20 μm thickness on the surface of a supporting body 1. The tight contact layer 2 firmly sticks the supporting body 1 and the gas generating layer 3. A coating layer 4 may be formed on the surface of the gas generating layer 3 in order to hold gaseous pressure.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガスを微小部位か
ら噴出させてレジストなどの薬液を選択的に塗布するの
に有用なガス発生剤組成物、ガス発生部材及びこのガス
発生部材を利用した塗布方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention utilizes a gas generating composition, a gas generating member, and a gas generating member useful for selectively applying a chemical liquid such as a resist by ejecting a gas from a minute portion. Regarding the coating method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体の製造プロセスでは、基板に感光
材をコーティングし、露光、現像、エッチングすること
により所定のパターンを形成している。特開2000−
79366号公報では、成膜領域及び非成膜領域が設定
された被処理基板の上方に配置され、かつ被処理基板に
対して一定量の液体を連続的に吐出する液体吐出部と、
前記被処理基板と液体吐出部とを相対的に移動させるた
めの移動部と、この移動部により移動され、かつ液体吐
出部からの液体が非成膜領域に供給される状態になった
とき、前記液体が非成膜領域に供給されるのを遮断する
ための液体遮断部を備えた成膜装置が提案されている。
この文献には、光により反応してガスを発生するガス発
生材(ニトロセルロースなど)と、光を照射するための
光発射部と、この光発射部からの光を反射して前記ガス
発生材に導くための光反射部、被処理基板に対して液体
を吐出するための液体供給ノズルとを備えており、光発
射部からの光を照射してガス発生材からガスを発生さ
せ、液体供給ノズルから滴下された液体の滴下方向を変
更させ、滴下方向が変更された液体を液体回収部に回収
することも記載されている。この成膜装置を利用する
と、表面に段差が存在していても、被処理基板上にレジ
ストや絶縁材などの液体膜を選択的に適用して平坦な表
面を有する被膜を形成できる。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, a substrate is coated with a photosensitive material and exposed, developed and etched to form a predetermined pattern. JP 2000-
In Japanese Patent Publication No. 79366, a liquid ejecting unit that is disposed above a substrate to be processed in which a film formation region and a non-film forming region are set, and that continuously ejects a constant amount of liquid onto the substrate to be processed,
When a moving unit for relatively moving the substrate to be processed and the liquid ejecting unit and a state in which the liquid is moved by the moving unit and is supplied from the liquid ejecting unit to the non-film formation region, A film forming apparatus has been proposed which includes a liquid blocking unit for blocking the supply of the liquid to the non-film forming region.
In this document, a gas generating material (such as nitrocellulose) that reacts with light to generate a gas, a light emitting portion for irradiating the light, and the gas generating material by reflecting light from the light emitting portion. And a liquid supply nozzle for ejecting a liquid onto the substrate to be processed. The light is emitted from the light emitting unit to generate a gas from the gas generating material to supply the liquid. It is also described that the dropping direction of the liquid dropped from the nozzle is changed and the liquid having the changed dropping direction is recovered in the liquid recovery unit. By using this film forming apparatus, a liquid film such as a resist or an insulating material can be selectively applied to a substrate to be processed to form a film having a flat surface even if there is a step on the surface.

【0003】しかし、この装置では、ガス発生材による
ガス発生力が小さく、ノズルから吐出される微量の液流
(例えば、マイクロリットル単位の液流)を断続的に方
向変換させ、高い精度で膜厚をコントロールすることが
困難である。
However, in this apparatus, the gas generating force of the gas generating material is small, and a minute amount of liquid flow discharged from the nozzle (for example, liquid flow in microliter units) is intermittently changed in direction, and the film is formed with high accuracy. It is difficult to control the thickness.

【0004】一方、特開平7−40674号公報および
特開平7−68962号公報には、支持体上に、ニトロ
セルロース、黒色着色剤(カーボンブラックなど)及び
バインダーを含む感光層を形成し、レーザ光により照射
部位を熱分解させてピット又は所定のパターンを形成
し、印刷用版材を製造することが開示されている。この
感光層では、レーザ光のエネルギーを黒色着色剤で吸収
して熱に変換し、レーザ光に対応したピットを形成でき
る。
On the other hand, in JP-A-7-40674 and JP-A-7-68962, a photosensitive layer containing nitrocellulose, a black colorant (such as carbon black) and a binder is formed on a support, and a laser is used. It is disclosed that the irradiated area is thermally decomposed by light to form pits or a predetermined pattern to manufacture a printing plate material. In this photosensitive layer, the energy of the laser light is absorbed by the black colorant and converted into heat, whereby pits corresponding to the laser light can be formed.

【0005】しかし、この方法でも、ガス発生量及びガ
ス発生力が小さく、液流の方向変換機構のためには十分
でない。しかも、多量の煤が生成するため、高い清浄度
が必要とされるプロセス(例えば、半導体製造プロセス
など)には利用できない。
However, even with this method, the amount of gas generation and the gas generation force are small, and it is not sufficient for a liquid flow direction changing mechanism. Moreover, since a large amount of soot is generated, it cannot be used in a process requiring high cleanliness (for example, a semiconductor manufacturing process).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、エネルギーの適用部位が微小であってもガス発生量
及びガス発生力が大きなガス発生剤組成物、この組成物
を用いたガス発生部材および液体の塗布方法を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a gas generant composition which produces a large amount of gas and a large gas generating power even when the energy application site is minute, and a gas generating composition using this composition. It is to provide a member and a liquid application method.

【0007】本発明の他の目的は、微小部位から高いガ
ス発生力で微小ガスを発生させ、ノズルから連続的に吐
出される液流を、高精度にしかも断続的に遮断又は方向
変換させるために有用なガス発生剤組成物、この組成物
を用いたガス発生部材および塗布方法を提供することに
ある。
Another object of the present invention is to generate a minute gas with a high gas generating force from a minute portion and to interrupt or change the direction of a liquid flow continuously discharged from a nozzle with high accuracy and intermittently. Another object of the present invention is to provide a gas generating composition useful for the above, a gas generating member using the composition, and a coating method.

【0008】本発明のさらに他の目的は、ガスを発生さ
せても汚染を抑制できるガス発生剤組成物、この組成物
を用いたガス発生部材および塗布方法を提供することに
ある。
Still another object of the present invention is to provide a gas generating composition capable of suppressing contamination even when gas is generated, a gas generating member using the composition, and a coating method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を達成するため鋭意検討した結果、ガス発生剤及び光吸
収剤で構成されたガス発生層を支持体に対して密着させ
て形成すると、レーザ光の照射に伴って生じる着火エネ
ルギーを、支持体に対して密着したガス発生層により保
持でき、加熱領域が微小であっても高いガス圧でガスを
噴出でき、流体の流れ方向を精度よく変更できることを
見いだし、本発明を完成した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for achieving the above-mentioned objects, the present inventors have formed a gas generating layer composed of a gas generating agent and a light absorbing agent in close contact with a support. Then, the ignition energy generated by the irradiation of the laser beam can be held by the gas generating layer that is in close contact with the support, and the gas can be ejected at a high gas pressure even if the heating region is minute, and the flow direction of the fluid can be changed. The present invention has been completed by finding that the change can be made with high precision.

【0010】すなわち、本発明のガス発生部材は、微小
加熱源により微小部位でガスを発生可能なガス発生部材
であって、支持体と、この支持体に対して密着して形成
され、かつ少なくともガス発生剤及び光吸収剤で構成さ
れたガス発生層とを備えている。このガス発生部材にお
いて、レーザ光の照射エネルギーをE1、飛翔又は飛散
物の運動エネルギーをE2としたとき、エネルギー効率
E2/E1は0.1〜50程度である。ガス発生部材に
おいて、支持体とガス発生層との間に密着層(又は中間
層)を介在させ、この密着層により、隣接する支持体と
ガス発生層とを密着させてもよい。ガス発生部材は、例
えば、レーザ光が透過可能な基材で構成された支持体
と、この支持体の表面に形成された密着層と、この密着
層の表面に形成されたガス発生層とを備えており、前記
密着層は、光吸収剤を実質的に含まず、支持体及びガス
発生層に対して密着した非光吸収層であってもよい。こ
の密着層は成膜性を有するポリマー型ガス発生剤で構成
してもよい。さらに、ガス発生層は、成膜性を有するポ
リマー型ガス発生剤と光吸収剤とを含む光吸収層で構成
してもよい。前記ガス発生剤としては、成膜性を有する
ポリマー型ガス発生剤、低分子又はオリゴマー型ガス発
生剤などが例示でき、例えば、ガス発生剤は、少なくと
もニトロセルロースを含んでいてもよい。
That is, the gas generating member of the present invention is a gas generating member capable of generating gas at a minute portion by a minute heating source, and is formed in close contact with the support and at least the support. And a gas generating layer composed of a gas generating agent and a light absorbing agent. In this gas generating member, when the irradiation energy of laser light is E1 and the kinetic energy of a flying or flying object is E2, the energy efficiency E2 / E1 is about 0.1 to 50. In the gas generating member, an adhesion layer (or an intermediate layer) may be interposed between the support and the gas generation layer, and the adjacent support and the gas generation layer may be brought into close contact with each other. The gas generating member includes, for example, a support composed of a base material capable of transmitting laser light, an adhesion layer formed on the surface of the support, and a gas generation layer formed on the surface of the adhesion layer. The adhesive layer may be a non-light-absorbing layer that does not substantially contain a light absorber and is in close contact with the support and the gas generating layer. This adhesion layer may be composed of a polymer-type gas generating agent having film forming properties. Further, the gas generating layer may be composed of a light absorbing layer containing a polymer type gas generating agent having film forming properties and a light absorbing agent. Examples of the gas generating agent include a polymer type gas generating agent having a film forming property and a low molecular weight or oligomer type gas generating agent. For example, the gas generating agent may include at least nitrocellulose.

【0011】このようなガス発生部材において、ガス発
生層の厚みは、通常、20μm以上である。また、密着
層の厚みは、通常、1μm以上である。
In such a gas generating member, the thickness of the gas generating layer is usually 20 μm or more. The thickness of the adhesive layer is usually 1 μm or more.

【0012】さらに、ガス発生層は、単一の層に限ら
ず、複数の層で構成してもよい。例えば、ガス発生層
は、ガス発生剤及び光吸収剤で構成された光吸収層(又
はエネルギー吸収層)と、この光吸収層上に形成された
被覆層(又は負荷層、圧力保持層)とで構成してもよ
い。
Further, the gas generating layer is not limited to a single layer and may be composed of a plurality of layers. For example, the gas generating layer includes a light absorbing layer (or an energy absorbing layer) composed of a gas generating agent and a light absorbing agent, and a coating layer (or a load layer or a pressure holding layer) formed on the light absorbing layer. You may comprise.

【0013】本発明は、少なくともガス発生剤及び光吸
収剤で構成され、かつ微小加熱源により微小部位でガス
を発生可能なガス発生剤組成物も包含する。この組成物
は、レーザ光の照射によりガスを発生可能な組成物であ
って、成膜性を有するポリマー型ガス発生剤と、可塑剤
及び光吸収剤から選択された少なくとも一種とで構成し
てもよい。
The present invention also includes a gas generating composition which is composed of at least a gas generating agent and a light absorbing agent and which is capable of generating gas at a minute portion by a minute heating source. This composition is a composition capable of generating a gas upon irradiation with laser light, and is composed of a polymer-type gas generating agent having film-forming properties and at least one selected from a plasticizer and a light absorber. Good.

【0014】本発明は、さらに、ノズルから吐出される
液体の流れを断続的に遮断して液体を塗布する方法であ
って、レーザ光及びサーマルヘッドから選択された微小
加熱源を作用させて前記ガス発生部材の微小部位から発
生するガスにより、流れ方向を変更させて液体を塗布す
る方法、レーザ光を照射して支持体側のガス発生層で着
火させ、照射部位に対応するガス発生層の微小部位でガ
スを噴出させるとともに、ガス発生層の微小部位を飛翔
させる方法も含む。
Further, the present invention is a method for applying the liquid by intermittently interrupting the flow of the liquid ejected from the nozzle, wherein a minute heating source selected from a laser beam and a thermal head is operated. A method of applying a liquid by changing the flow direction by a gas generated from a minute portion of the gas generating member, irradiating laser light to ignite the gas generating layer on the side of the support, and a minute portion of the gas generating layer corresponding to the irradiated portion. It also includes a method of ejecting gas at a part and flying a minute part of the gas generation layer.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】図1は本発明のガス発生部材の一
例を示す概略断面図である。この例では、ガス発生部材
は、耐熱性が高く、レーザ光が透過可能な基材(ガラス
基板やプラスチックフィルムなど)で構成された透明支
持体1と、この支持体1の表面に形成され、かつレーザ
光に対して透明な密着層2と、この密着層の表面に形成
され、かつ少なくともガス発生剤及び光吸収剤で構成さ
れたガス発生層3と、このガス発生層の表面に形成さ
れ、かつ発生したガス圧を保持するための被覆層(負荷
層又は圧力保持層)4とで構成されている。
1 is a schematic sectional view showing an example of a gas generating member of the present invention. In this example, the gas generating member has a high heat resistance and is formed on the surface of the transparent support 1 composed of a base material (a glass substrate, a plastic film or the like) which can transmit laser light, and the support 1. And an adhesive layer 2 transparent to laser light, a gas generating layer 3 formed on the surface of the adhesive layer and composed of at least a gas generating agent and a light absorbing agent, and formed on the surface of the gas generating layer. And a coating layer (load layer or pressure holding layer) 4 for holding the generated gas pressure.

【0016】前記密着層2は、光吸収剤を実質的に含ま
ず、成膜性を有するポリマー型ガス発生剤及び可塑剤で
構成され、かつ支持体1とガス発生層3とを密着した非
光吸収層として形成されている。また、前記ガス発生層
3は、成膜性を有するポリマー型ガス発生剤と可塑剤と
光吸収剤とで構成され、レーザ光に対する光吸収層とし
て形成されている。さらに、被覆層4は、前記密着層2
と同様な成分で構成され、レーザ光に対する不活性層と
して形成されている。
The adhesion layer 2 is composed of a polymer-type gas generating agent and a plasticizer having a film-forming property, which does not substantially contain a light absorbing agent, and the support 1 and the gas generating layer 3 are in close contact with each other. It is formed as a light absorption layer. The gas generating layer 3 is composed of a polymer-type gas generating agent having film forming properties, a plasticizer, and a light absorbing agent, and is formed as a light absorbing layer for laser light. Further, the coating layer 4 is the adhesion layer 2
And is formed as an inactive layer against laser light.

【0017】なお、支持体1とガス発生層3との密着性
を向上させるため、密着層2とガス発生層3とは、光吸
収剤を除き、実質的に同じ組成物(ポリマー型ガス発生
剤及び可塑剤)で形成されている。また、前記可塑剤
は、後述するガス発生剤として機能する可塑剤で構成さ
れている。
In order to improve the adhesiveness between the support 1 and the gas generating layer 3, the adhesive layer 2 and the gas generating layer 3 have substantially the same composition (polymer type gas generating layer) except for the light absorber. Agent and plasticizer). The plasticizer is composed of a plasticizer that functions as a gas generating agent described later.

【0018】このようなガス発生部材では、レーザ光を
支持体1側から照射すると、ガス発生層3がレーザ光の
エネルギーを吸収して着火し、ガスが発生する。このガ
スは、密着層2によりガス発生層3が支持体1に密着し
ているため、密着層2とガス発生層3との界面方向に拡
散し伝播するのが規制される。しかも、被覆層の弾性率
に応じて、所定の圧力に達するまでは発生したガス圧が
被覆層4により保持される。そのため、高いガス圧を保
持しつつ、レーザ光の照射部位に対応する微小部位か
ら、高い圧力でガスを噴出できる。なお、ガス発生層3
の着火は、密着層2との界面近傍で生じるものと推測さ
れる。また、前記支持体1は防火帯としても機能し、被
覆層4は圧力保持層として機能する。
In such a gas generating member, when the laser beam is irradiated from the side of the support 1, the gas generating layer 3 absorbs the energy of the laser beam and ignites to generate gas. Since the gas generation layer 3 is in close contact with the support 1 by the adhesion layer 2, this gas is restricted from diffusing and propagating in the interface direction between the adhesion layer 2 and the gas generation layer 3. Moreover, depending on the elastic modulus of the coating layer, the generated gas pressure is held by the coating layer 4 until a predetermined pressure is reached. Therefore, while maintaining a high gas pressure, the gas can be ejected at a high pressure from a minute portion corresponding to the laser light irradiation portion. The gas generation layer 3
It is presumed that the ignition of 1 occurs near the interface with the adhesion layer 2. Further, the support 1 also functions as a firebreak zone, and the coating layer 4 functions as a pressure holding layer.

【0019】なお、ガス発生部材は、支持体と、この支
持体に対して密着したガス発生層とで構成すればよく、
ガス発生層は、支持体に対して直接的に密着していても
よく、前記のように、間接的に密着層を介して密着して
いてもよい。すなわち、支持体とガス発生層との間に介
在する密着層(接着層又は中間層)により、隣接する支
持体とガス発生層とを密着していてもよい。さらに、ガ
ス発生層は、複数の層で構成された積層構造、例えば、
ガス発生剤及び光吸収剤で構成された光吸収層(エネル
ギー吸収層)と、この光吸収層上に形成された被覆層と
の積層構造を有していてもよく、単一の層構造を有して
いてもよい。
The gas generating member may be composed of a support and a gas generating layer in close contact with the support,
The gas generating layer may be in direct contact with the support, or may be in indirect contact via the contact layer, as described above. That is, the adjacent support and gas generating layer may be in close contact with each other by an adhesion layer (adhesive layer or intermediate layer) interposed between the support and the gas generating layer. Further, the gas generating layer is a laminated structure composed of a plurality of layers, for example,
It may have a laminated structure of a light absorbing layer (energy absorbing layer) composed of a gas generating agent and a light absorbing agent, and a coating layer formed on the light absorbing layer, and a single layer structure may be formed. You may have.

【0020】図2は本発明の他のガス発生部材を示す概
略断面図である。この例では、レーザ光が透過可能な基
材で構成された透明支持体11と、この支持体1の表面
に形成され、かつレーザ光に対して透明又は不活性な密
着層12と、この密着層の表面に形成され、かつ少なく
ともガス発生剤及び光吸収剤で構成されたガス発生層1
3とで構成されている。そして、ガス発生層により高い
ガス圧を保持させるため、ガス発生層13は前記図1の
ガス発生層3よりも厚く形成されている。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another gas generating member of the present invention. In this example, a transparent support 11 composed of a base material through which laser light can pass, an adhesion layer 12 formed on the surface of the support 1 and transparent or inert to laser light, and the adhesion Gas generating layer 1 formed on the surface of the layer and composed of at least a gas generating agent and a light absorbing agent
3 and 3. The gas generation layer 13 is formed thicker than the gas generation layer 3 of FIG. 1 in order to maintain a higher gas pressure in the gas generation layer.

【0021】このようなガス発生部材でも、レーザ光の
照射により発生したガス圧を、厚みの大きなガス発生層
13により保持できるため、前記と同様に、高い圧力で
ガスを噴出できる。
Even in such a gas generating member, the gas pressure generated by the irradiation of the laser beam can be held by the gas generating layer 13 having a large thickness, so that the gas can be jetted at a high pressure as described above.

【0022】支持体(又は密着層)とガス発生層との密
着強度は、ガス発生層で発生したガスが、支持体(又は
密着層)とガス発生層との界面方向に伝播するのを抑制
できればよく、通常、レーザー光の照射により高圧にな
った支持体(又は密着層)とガス発生層との界面又はそ
の近傍では、ガス発生層の凝集破壊が生じる。
The adhesion strength between the support (or the adhesion layer) and the gas generation layer is such that the gas generated in the gas generation layer is prevented from propagating toward the interface between the support (or the adhesion layer) and the gas generation layer. It suffices if it is possible. Usually, the cohesive failure of the gas generating layer occurs at or near the interface between the support (or the adhesion layer) and the gas generating layer whose pressure has been increased by the irradiation of laser light.

【0023】さらに、本発明では、ガスの噴出に伴っ
て、レーザ光の照射部位に対応する膜(少なくともガス
発生層)の一部が飛翔又は飛散するようである。そし
て、レーザ光の照射エネルギーをE1、飛翔又は飛散物
の運動エネルギーをE2としたとき、本発明では、エネ
ルギー効率E2/E1=0.1〜50、好ましくは0.
5〜30、さらに好ましくは1〜30、特に1を越える
値(1.5〜20)のエネルギー効率を得ることができ
る。レーザ光によりガス発生層が着火し、燃焼に伴って
さらに大きなエネルギーが生じるためであると推測され
る。
Further, in the present invention, it seems that a part of the film (at least the gas generating layer) corresponding to the laser light irradiation site flies or scatters as the gas is ejected. When the irradiation energy of the laser beam is E1 and the kinetic energy of the flying or scattered object is E2, the energy efficiency E2 / E1 = 0.1 to 50, preferably 0.
Energy efficiencies of 5-30, more preferably 1-30 and especially values above 1 (1.5-20) can be obtained. It is presumed that this is because the gas generating layer is ignited by the laser light, and a larger amount of energy is generated with the combustion.

【0024】前記支持体としては、種々の基材、例え
ば、ガラス、セラミックス、金属箔などの無機基材、プ
ラスチック(ポリアルキレンテレフタレートなどのポリ
エステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート
系樹脂、セルロースアセテートなどのセルロース誘導
体、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、炭化水
素系樹脂、ポリイミド系樹脂など)などの有機基材、こ
れらの複合基材などが例示できる。
Examples of the support include various base materials, for example, inorganic base materials such as glass, ceramics and metal foils, plastics (polyester resins such as polyalkylene terephthalate, polyamide resins, polycarbonate resins and cellulose acetate). Examples thereof include organic base materials such as cellulose derivatives, styrene-based resins, (meth) acrylic-based resins, hydrocarbon-based resins, polyimide-based resins, etc., and composite base materials thereof.

【0025】支持体は微小加熱源の種類に応じて選択で
き、微小加熱源がレーザ光などの光エネルギーである場
合には、光透過可能な基材(例えば、ガラス、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなど
のポリエステル系樹脂、セルロースアセテートなどのセ
ルロースエステル類などの透明性樹脂)が使用でき、微
小加熱源がサーマルヘッドである場合には、耐熱性基材
(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレン
テレフタレートなどのポリエステル系樹脂などの耐熱性
樹脂)などが利用でき、耐熱性基材はサーマルヘッドと
の融着を防止するため離型処理してもよい。
The support can be selected according to the kind of the minute heating source, and when the minute heating source is light energy such as laser light, a light-transmittable substrate (eg, glass, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate). When a micro heating source is a thermal head, a heat resistant substrate (for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, etc.) can be used. A heat-resistant resin such as a polyester resin may be used, and the heat-resistant substrate may be subjected to a mold release treatment in order to prevent fusion with the thermal head.

【0026】さらに、密着層又はガス発生剤層との密着
性を向上するため、支持体の表面には、コロナ放電処
理、プラズマ処理などの表面活性化処理などを施しても
よい。
Further, in order to improve the adhesion to the adhesion layer or the gas generating agent layer, the surface of the support may be subjected to surface activation treatment such as corona discharge treatment or plasma treatment.

【0027】支持体又は基材の形態は、用途に応じて選
択でき、フィルム又はシート状、プレート状やディスク
状などであってもよい。フィルム又はシート状の支持体
又は基材の厚みは特に制限されず、例えば、5〜200
0μm、好ましくは10〜200μm(例えば、15〜
150μm)程度の範囲から適当に選択できる。
The form of the support or base material can be selected according to the application, and may be in the form of film or sheet, plate or disk. The thickness of the film- or sheet-like support or substrate is not particularly limited, and is, for example, 5 to 200.
0 μm, preferably 10 to 200 μm (for example, 15 to
It can be appropriately selected from the range of about 150 μm).

【0028】密着層は、支持体とガス発生層との密着性
が高い限り必ずしも必要ではない。密着層は、支持体及
びガス発生層の種類などに応じて、例えば、シランカッ
プリング剤、チタンカップリング剤などのカップリング
剤による表面処理、アンダーコート剤、アンカーコート
剤や接着剤などによる易接着処理や下塗り処理してもよ
い。アンダーコート剤や接着剤などとしては、例えば、
エポキシ樹脂系組成物、ウレタン樹脂系組成物、アクリ
ル樹脂系組成物、酢酸ビニル樹脂系組成物、ポリエチレ
ンイミン、ゴム系組成物(ポリブタジエン含有組成物な
ど)などが例示できる。なお、前記密着層は、通常、エ
ネルギー吸収剤(光吸収剤)を実質的に含まない場合が
多い。また、光又は熱エネルギー吸収剤を実質的に含ま
ない場合、密着層は、前記アンダーコート剤や接着剤成
分に限らず、ガス発生剤(低分子型ガス発生剤や成膜性
を有するポリマー型ガス発生剤など)で構成してもよ
い。
The adhesion layer is not always necessary as long as the adhesion between the support and the gas generating layer is high. The adhesion layer is, for example, a surface treatment with a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent, an undercoat agent, an anchor coating agent or an adhesive agent depending on the type of the support and the gas generating layer. It may be subjected to an adhesive treatment or an undercoat treatment. Examples of undercoat agents and adhesives include
Examples thereof include an epoxy resin composition, a urethane resin composition, an acrylic resin composition, a vinyl acetate resin composition, polyethyleneimine, and a rubber composition (polybutadiene-containing composition etc.). The adhesive layer usually does not contain an energy absorbing agent (light absorbing agent) in many cases. When the light or heat energy absorber is not substantially contained, the adhesion layer is not limited to the undercoating agent or the adhesive component, but may be a gas generating agent (a low molecular weight gas generating agent or a polymer type having a film forming property). Gas generating agent).

【0029】さらに、ガス発生層は、少なくともガス発
生剤及び光吸収剤で構成し、エネルギー吸収層(光吸収
層)として形成すればよい。ガス発生剤には、成膜性を
有するポリマー型ガス発生剤、低分子又はオリゴマー型
ガス発生剤などが含まれ、これらの成分は単独で又は二
種以上組み合わせて使用できる。
Further, the gas generating layer is composed of at least a gas generating agent and a light absorbing agent, and may be formed as an energy absorbing layer (light absorbing layer). The gas generating agent includes a polymer type gas generating agent having a film forming property, a low molecular weight or oligomer type gas generating agent, and the like, and these components can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0030】ガス発生剤は、分解又は燃焼により多量の
ガスを発生する物質であればよく、このようなガス発生
剤は、しばしば、火薬、爆薬、起爆薬などの原料として
も使用される。ガス発生剤としては、含窒素化合物(例
えば、グアニジン誘導体、テトラゾール誘導体、ニトロ
化合物、硝酸エステル化合物、ニトラミン化合物、アジ
ド化合物など)が例示できる。
The gas generating agent may be a substance that generates a large amount of gas by decomposition or combustion, and such a gas generating agent is often used as a raw material for explosives, explosives, detonators and the like. Examples of the gas generating agent include nitrogen-containing compounds (eg, guanidine derivatives, tetrazole derivatives, nitro compounds, nitrate ester compounds, nitramine compounds, azide compounds, etc.).

【0031】より詳細には、ガス発生剤としては、次の
ような化合物が例示でき、低分子型又はオリゴマー型ガ
ス発生剤やポリマー型ガス発生剤であってもよい。
More specifically, examples of the gas generating agent include the following compounds, which may be a low molecular type or oligomer type gas generating agent or a polymer type gas generating agent.

【0032】グアニジン誘導体:例えば、ニトログアニ
ジン(NQ)、グアニジン硝酸塩(GN)、ジシアンジ
アミド(DCDA)、アミノグアニジン硝酸塩、ジアミ
ノグアニジン硝酸塩、トリアミノグアニジン硝酸塩(T
AGN)、ニトロアミノグアニジン、グアニジン過塩素
酸塩など テトラゾール誘導体:例えば、テトラゾール、5−アミ
ノテトラゾール(5−AT)、5−ヒドラジノテトラゾ
ール、5−シアノテトラゾール、5−ヒドロキシテトラ
ゾール、2−メチル−5−アミノ−テトラゾール、グア
ニルアミノテトラゾール、ビテトラゾール誘導体[例え
ば、ビテトラゾールジアンモニウム塩(BHT−2NH
3)、ビテトラゾール(BHT)、アミノグアニジニウ
ムビテトラゾール、カルシウムビテトラゾール、グアニ
ジニウムビテトラゾールなど]、アゾテトラゾール誘導
体[例えば、アゾテトラゾールジアンモニウム塩な
ど]、テトラセンなど トリアジン誘導体:例えば、メラミン、トリヒドラジノ
トリアジン(THT)、ジニトロアメリン(DNAM)
など ヒドラジン誘導体:例えば、カルボヒドラジド(CD
H)など。
Guanidine derivative: For example, nitroguanidine (NQ), guanidine nitrate (GN), dicyandiamide (DCDA), aminoguanidine nitrate, diaminoguanidine nitrate, triaminoguanidine nitrate (T).
AGN), nitroaminoguanidine, guanidine perchlorate and other tetrazole derivatives: for example, tetrazole, 5-aminotetrazole (5-AT), 5-hydrazinotetrazole, 5-cyanotetrazole, 5-hydroxytetrazole, 2-methyl- 5-amino-tetrazole, guanylaminotetrazole, bitetrazole derivative [eg bitetrazole diammonium salt (BHT-2NH
3), bitetrazole (BHT), aminoguanidinium bitetrazole, calcium bitetrazole, guanidinium bitetrazole, etc.], azotetrazole derivatives [eg, azotetrazole diammonium salt, etc.], tetracene and other triazine derivatives: eg, melamine , Trihydrazinotriazine (THT), dinitroamelin (DNAM)
Hydrazine derivative: For example, carbohydrazide (CD
H) etc.

【0033】トリアゾール誘導体:例えば、3−ニトロ
−1,2,4−トリアゾール−5−オン(NTO)、1
−アミノ−1,2,3−トリアゾール、3−アミノ−
1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−1,2,4−
トリアゾール、1,2,3−トリアゾール、1,2,4
−トリアゾールなど ジシアナミド誘導体:例えば、ナトリウムジシアナミ
ド、アンモニウムジシアナミドなど。
Triazole derivatives: for example, 3-nitro-1,2,4-triazol-5-one (NTO), 1
-Amino-1,2,3-triazole, 3-amino-
1,2,4-triazole, 4-amino-1,2,4-
Triazole, 1,2,3-triazole, 1,2,4
-Dicyanamide derivative such as triazole: for example, sodium dicyanamide, ammonium dicyanamide and the like.

【0034】ニトラミン化合物:例えば、ニトログアニ
ジン(NQ)、トリメチレントリニトロアミン(RD
X)、テトラメチレンテトラニトロアミン(HMX)、
エチレンジニトラミン(EDNA)、ヘキサニトロヘキ
サアザイソウルチタン(CL−20)、1,4−ジニト
ログリコールウリール(DINGU)、2−ニトロイミ
ノ−5−ニトロ−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジ
ン(NNHT)、1,3,3−トリニトロアゼチジン
(TNAZ)、1,3,5,5−テトラニトロヘキサヒ
ドロピリミジン(DNNC),1,3,3,5,7,7
−ヘキサニトロ−1,5−ジアザシクロオクタン(HN
DZ)など。
Nitramine compounds: For example, nitroguanidine (NQ), trimethylene trinitroamine (RD
X), tetramethylene tetranitroamine (HMX),
Ethylene dinitramine (EDNA), hexanitrohexaazaisourtitanium (CL-20), 1,4-dinitroglycoluril (DINGU), 2-nitroimino-5-nitro-hexahydro-1,3,5-triazine (NNHT), 1,3,3-trinitroazetidine (TNAZ), 1,3,5,5-tetranitrohexahydropyrimidine (DNNC), 1,3,3,5,7,7
-Hexanitro-1,5-diazacyclooctane (HN
DZ) etc.

【0035】ニトロ化合物:例えば、トリニトロトルエ
ン(TNT)、ジニトロトルエン(DNT)、ジニトロ
ナフタレン(DNN)、ヘキサニトロスチルベン(HN
S)、ジアミノトリニトロベンゼン(DATB)、トリ
アミノトリニトロベンゼン(TATB)、テトリル、ピ
クリン酸、ジアゾジニトロフェノール(DDNP)、ト
リシネート、ニトロ尿素、ビス−2,2−ジニトロプロ
ピルアセタール/ホルマール(BDNPA/F)、1,
4,5,8−テトラニトロ−1,4,5,8−テトラア
ザデカリン(TNAD)、2,6−ジアミノ−3,5−
ジニトロピラジン−1−オキシド(LLM−105)、
2,4−ジニトロイミダゾール(2,4−DNI)、
5,7−ジアミノ−4,6−ジニトロベンゾフロキサン
(CL−14)、1,1’−[メチレンビス(オキ
シ)]ビス[2−フルオロ−2,2−ジニトロエタン]
(FEFO)、ジニトロアゾキシフラザン(DNA
F)、アミノニトロフラザン(ANF)、7−アミノ−
4,6−ジニトロベンゾフロキサン(ADNBF)、
4,6−ジニトロベンゾフロキサンカリウム塩(KDN
BF)、1,1−ジアミノ−2,2−ジニトロエチレン
(FOX−7)など。
Nitro compounds: For example, trinitrotoluene (TNT), dinitrotoluene (DNT), dinitronaphthalene (DNN), hexanitrostilbene (HN)
S), diaminotrinitrobenzene (DATB), triaminotrinitrobenzene (TATB), tetryl, picric acid, diazodinitrophenol (DDNP), tricinate, nitrourea, bis-2,2-dinitropropyl acetal / formal (BDNPA / F). ), 1,
4,5,8-Tetranitro-1,4,5,8-tetraazadecalin (TNAD), 2,6-diamino-3,5-
Dinitropyrazine-1-oxide (LLM-105),
2,4-dinitroimidazole (2,4-DNI),
5,7-Diamino-4,6-dinitrobenzofuroxane (CL-14), 1,1 ′-[methylenebis (oxy)] bis [2-fluoro-2,2-dinitroethane]
(FEFO), dinitroazoxyfurazan (DNA
F), aminonitrofurazan (ANF), 7-amino-
4,6-dinitrobenzofuroxan (ADNBF),
4,6-Dinitrobenzofuroxan potassium salt (KDN
BF), 1,1-diamino-2,2-dinitroethylene (FOX-7) and the like.

【0036】硝酸エステル化合物:例えば、ニトログリ
セリン(NG)、多価アルコールナイトレート[例え
ば、トリメチロールエタントリナイトレート(TMET
N)、ペンタエリスリトールトリナイトレート(Pet
rin)、ペンタエリスリトールテトラナイトレート
(PETN)、ニトログリコール、ブタントリオールト
リナイトレート(BTTN)、トリエチレングリコール
ジナイトレート(TEGDN)、ジエチレングリコール
ジナイトレート(DEGDN)など]、ニトラトエチル
ニトラミン(NENA)、アルキルニトラトエチルニト
ラミン類[メチル−2−ニトラトエチル−ニトラミン
(MeNENA)、エチル−2−ニトラトエチル−ニト
ラミン(EtNENA)、n−ブチル−2−ニトラトエ
チル−ニトラミン(BuNENA)など]、ポリグリシ
ジルナイトレート(PGN)、ニトロセルロース(N
C)、セルロースアセテートナイトレート(CAN)、
セルロースナイトレートカルボキシメチルエーテル(C
NC)など。
Nitrate compound: Nitroglycerin (NG), polyhydric alcohol nitrate [eg, trimethylolethane trinitrate (TMET)
N), pentaerythritol trinitrate (Pet)
rin), pentaerythritol tetranitrate (PETN), nitroglycol, butanetriol trinitrate (BTTN), triethylene glycol dinitrate (TEGDN), diethylene glycol dinitrate (DEGDN), etc.], nitratoethyl nitramine (DETN) NENA), alkyl nitratoethyl nitramines [methyl-2-nitratoethyl-nithramine (MeNENA), ethyl-2-nitratoethyl-nithramine (EtNENA), n-butyl-2-nitratoethyl-nithramine (BuNEA), etc.], polyglycidyl Nitrate (PGN), Nitrocellulose (N
C), cellulose acetate nitrate (CAN),
Cellulose nitrate carboxymethyl ether (C
NC) etc.

【0037】アジド系化合物:例えば、アジ化ナトリウ
ム、アジ化鉛、ビス(1,3−ジアジド−2−プロピ
ル)−スクシネート(BAPS)、ビス(1,3−ジア
ジド−2−プロピル)−アジピネート(BAPA)、ビ
ス(1,3−ジアジド−2−プロピル)−セバシネート
(BAPSe)、アジドポリマー[グリシジルアジドポ
リマー(GAP)、3,3−ビス(アジドメチル)オキ
セタン(BAMO)、3−アジドメチル−3−メチルオ
キセタン(AMMO)、3−ニトラトメチル−3−メチ
ルオキセタン(NIMMO)、ビス−3,3−ニトラト
メチルオキセタン(BNMO)、BAMO/AMMO共
重合体、BAMO/THF(テトラヒドロフラン)共重
合体、GAP/THF共重合体など]など。
Azide compounds: For example, sodium azide, lead azide, bis (1,3-diazide-2-propyl) -succinate (BAPS), bis (1,3-diazido-2-propyl) -adipinate ( BAPA), bis (1,3-diazido-2-propyl) -sebacate (BAPSe), azido polymer [glycidyl azide polymer (GAP), 3,3-bis (azidomethyl) oxetane (BAMO), 3-azidomethyl-3- Methyl oxetane (AMMO), 3-nitratomethyl-3-methyl oxetane (NIMMO), bis-3,3-nitratomethyl oxetane (BNMO), BAMO / AMMO copolymer, BAMO / THF (tetrahydrofuran) copolymer, GAP / THF copolymer etc.] etc.

【0038】硝酸塩:例えば、グアニル尿素硝酸塩、エ
チレンジアミンジナイトレート、ヒドロキシルアンモニ
ウムナイトレート(HAN)、トリエタノールアンモニ
ウムナイトレート(TEAN)、モノメチルヒドラジン
硝酸塩、モノメチルアミン硝酸塩(MMAN)など その他の化合物、例えば、ヒドラジニウムニトロフォル
メート(HNF)、アンモニウムジニトラミド(AD
N)、アゾジカルボンアミド(ADCA)、3,6−ジ
アミノ−1,2,4,5−テトラジン−1,4−ジ−N
−オキシド(LAX−112)、ジアミノアゾフラザン
(DAAF)、ジアミノアゾキシフラザン(DAAO
F)、N−グアニル尿素−ジニトラミド(FOX−1
2)など。
Nitrate: Other compounds such as guanylurea nitrate, ethylenediamine dinitrate, hydroxylammonium nitrate (HAN), triethanolammonium nitrate (TEAN), monomethylhydrazine nitrate, monomethylamine nitrate (MMAN), for example Hydrazinium nitroformate (HNF), ammonium dinitramide (AD
N), azodicarbonamide (ADCA), 3,6-diamino-1,2,4,5-tetrazine-1,4-di-N
-Oxide (LAX-112), diaminoazofurazan (DAAF), diaminoazoxyfurazan (DAAO)
F), N-guanylurea-dinitramide (FOX-1)
2) etc.

【0039】これらのガス発生剤は単独で又は二種以上
組み合わせて使用できる。好ましいガス発生剤は、ニト
ログアニジン(NQ)、トリアミノグアニジン硝酸塩
(TAGN)、5−アミノテトラゾール(5−AT)、
ビテトラゾールジアンモニウム塩(BHT−2NH
3)、トリヒドラジノトリアジン(THT)、カルボヒ
ドラジド(CDH)、トリメチレントリニトロアミン
(RDX)、テトラメチレンテトラニトロアミン(HM
X)、エチレンジニトラミン(EDNA)、ヘキサニト
ロヘキサアザイソウルチタン(CL−20)、トリニト
ロトルエン(TNT)、ジニトロトルエン(DNT)、
ヒドラジニウムニトロフォルメート(HNF)、アンモ
ニウムジニトラミド(ADN)、ニトロセルロース(N
C)、セルロースアセテートナイトレート(CAN)、
セルロースナイトレートカルボキシメチルエーテル(C
NC)、グリシジルアジドポリマー(GAP)などのア
ジドポリマー、ニトログリセリン(NG)、トリメチロ
ールエタントリナイトレート(TMETN)である。ガ
ス発生剤は、通常、少なくともニトロセルロース(N
C)を含む場合が多い。なお、ニトロセルロースの窒素
含有量は、6.7〜14.1%の範囲から選択でき、通
常、10〜13.5%(特に11〜13.5%)程度で
ある。
These gas generating agents can be used alone or in combination of two or more kinds. Preferred gas generating agents are nitroguanidine (NQ), triaminoguanidine nitrate (TAGN), 5-aminotetrazole (5-AT),
Bitetrazole diammonium salt (BHT-2NH
3), trihydrazinotriazine (THT), carbohydrazide (CDH), trimethylenetrinitroamine (RDX), tetramethylenetetranitroamine (HM
X), ethylenedinitramine (EDNA), hexanitrohexaazaisourtitanium (CL-20), trinitrotoluene (TNT), dinitrotoluene (DNT),
Hydrazinium nitroformate (HNF), ammonium dinitramide (ADN), nitrocellulose (N
C), cellulose acetate nitrate (CAN),
Cellulose nitrate carboxymethyl ether (C
NC), azido polymers such as glycidyl azide polymer (GAP), nitroglycerin (NG), trimethylolethane trinitrate (TMETN). The gas generant is usually at least nitrocellulose (N
Often includes C). The nitrogen content of nitrocellulose can be selected from the range of 6.7 to 14.1%, and is usually about 10 to 13.5% (particularly 11 to 13.5%).

【0040】これらのガス発生剤のうち成膜性を有する
ポリマー型ガス発生剤(又はバインダーとして機能する
ガス発生剤)としては、セルロース誘導体[ニトロセル
ロース(NC)、セルロースアセテートナイトレート
(CAN)、セルロースナイトレートカルボキシメチル
エーテル(CNC)など]、ポリビニルテトラゾール誘
導体[ポリ(1−ビニル−5−アミノテトラゾール)、
ポリ(2−ビニル−5−アミノテトラゾール)、ポリ
(1−ビニルテトラゾール)、ポリ(2−ビニルテトラ
ゾール)、ポリ(1−メチル−5−ビニルテトラゾー
ル)、ポリ(2−メチル−5−ビニルテトラゾール)な
ど]、ポリアミノトリアゾール誘導体[ポリメチレン−
4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、ポリエチレン
−4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、ポリプロピ
レン−4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、ポリブ
チレン−4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、ポリ
ペンタメチレン−4−アミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ポリヘキサメチレン−4−アミノ−1,2,4−ト
リアゾール、ポリヘプタメチレン−4−アミノ−1,
2,4−トリアゾール、ポリオクタメチレン−4−アミ
ノ−1,2,4−トリアゾール、ポリノナメチレン−4
−アミノ−1,2,4−トリアゾール、ポリデカメチレ
ン−4−アミノ−1,2,4−トリアゾールなどのポリ
アルキレン−4−アミノ−1,2,4−トリアゾールな
ど]、アジドポリマー[グリシジルアジドポリマー(G
AP)、3,3−ビス(アジドメチル)オキセタン(B
AMO)、3−アジドメチル−3−メチルオキセタン
(AMMO)、3−ニトラトメチル−3−メチルオキセ
タン(NIMMO)、ビス−3,3−ニトラトメチルオ
キセタン(BNMO)、BAMO/AMMO共重合体、
BAMO/THF(テトラヒドロフラン)共重合体、G
AP/THF共重合体など]などが例示できる。これら
の成膜性を有するガス発生剤は単独で又は組み合わせて
使用できる。
Among these gas generating agents, polymer type gas generating agents (or gas generating agents functioning as binders) having film-forming property include cellulose derivatives [nitrocellulose (NC), cellulose acetate nitrate (CAN), Cellulose nitrate carboxymethyl ether (CNC) etc.], polyvinyl tetrazole derivative [poly (1-vinyl-5-aminotetrazole),
Poly (2-vinyl-5-aminotetrazole), poly (1-vinyltetrazole), poly (2-vinyltetrazole), poly (1-methyl-5-vinyltetrazole), poly (2-methyl-5-vinyltetrazole) ) Etc.], polyaminotriazole derivatives [polymethylene-
4-amino-1,2,4-triazole, polyethylene-4-amino-1,2,4-triazole, polypropylene-4-amino-1,2,4-triazole, polybutylene-4-amino-1,2, 4-triazole, polypentamethylene-4-amino-1,2,4-triazole, polyhexamethylene-4-amino-1,2,4-triazole, polyheptamethylene-4-amino-1,
2,4-triazole, polyoctamethylene-4-amino-1,2,4-triazole, polynonamethylene-4
-Amino-1,2,4-triazole, polydecamethylene-4-amino-1,2,4-triazole and other polyalkylene-4-amino-1,2,4-triazoles, etc.], azide polymer [glycidyl azide Polymer (G
AP), 3,3-bis (azidomethyl) oxetane (B
AMO), 3-azidomethyl-3-methyloxetane (AMMO), 3-nitratomethyl-3-methyloxetane (NIMMO), bis-3,3-nitratomethyloxetane (BNMO), BAMO / AMMO copolymer,
BAMO / THF (tetrahydrofuran) copolymer, G
AP / THF copolymer and the like]. These gas generating agents having film forming properties can be used alone or in combination.

【0041】ガス発生剤は可塑剤として機能する化合物
であってもよい。可塑剤として機能するガス発生剤(高
エネルギー可塑剤)としては、例えば、硝酸エステル系
化合物[NG、TMETN、Petrin、PETN、
ニトログリコール、BTTN、TEGDN、DEGD
N、NENAなど]、アルキルニトラトエチルニトラミ
ン類[MeNENA、EtNENA、BuNENAな
ど]、アジド系化合物[グリシジルアジドポリマー可塑
剤(GAP可塑剤)、BAPS、BAPA、BAPSe
など]、ニトロ系化合物[BDNPA/Fなど]などが
例示できる。
The gas generant may be a compound that functions as a plasticizer. Examples of the gas generating agent (high energy plasticizer) that functions as a plasticizer include nitrate ester compounds [NG, TMETN, Petrin, PETN,
Nitroglycol, BTTN, TEGDN, DEGD
N, NENA, etc.], alkyl nitratoethyl nitramines [MeNENA, EtNENA, BuNENA, etc.], azide compound [glycidyl azide polymer plasticizer (GAP plasticizer), BAPS, BAPA, BAPSe
Etc.] and nitro compounds [BDNPA / F etc.] and the like.

【0042】ガス発生剤は、成膜性を備えているか否か
に拘わらず、分解又は燃焼しにくいバインダーと組み合
わせて使用してもよい。バインダーとしては、被膜形成
能を有する種々の樹脂が使用でき、例えば、溶媒(有機
溶剤、水、水と有機溶剤との混合溶媒)に可溶性の樹脂
に限らず、無溶剤型バインダーも使用可能である。な
お、無溶剤型バインダーには、稀釈剤を併用してもよ
い。バインダーは熱可塑性樹脂であってもよく熱硬化性
樹脂や光硬化性樹脂であってもよい。
The gas generating agent may be used in combination with a binder that does not easily decompose or burn regardless of whether or not it has a film forming property. As the binder, various resins capable of forming a film can be used. For example, not only a resin soluble in a solvent (organic solvent, water, a mixed solvent of water and an organic solvent), but also a solventless binder can be used. is there. A diluent may be used in combination with the solventless binder. The binder may be a thermoplastic resin, a thermosetting resin or a photocurable resin.

【0043】バインダーとしては、例えば、セルロース
誘導体[セルロースアセテート(CA)、セルロースア
セテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレ
ート(CAB)などのセルロースエステル類、メチルセ
ルロース(MC)、エチルセルロース(EC)、カルボ
キシメチルセルロースナトリウム(CMC−Na)、ヒ
ドロキシエチルセルロース(HEC)、ヒドロキシプロ
ピルセルロース(HPC)、ヒドロキシプロピルメチル
セルロースなどのセルロースエーテル類など]、スチレ
ン系樹脂[ポリスチレン(PS)、スチレン−メタクリ
ル酸メチル共重合体などのスチレンと(メタ)アクリル
系単量体との共重合体、スチレン−アクリロニトリル共
重合体など]、アクリル系樹脂[ポリメチルメタクリレ
ート(PMMA)、メタクリル酸メチル−(メタ)アク
リル酸共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エス
テル共重合体、ポリアクリルアミドなど]、塩化ビニル
系樹脂[ポリビニルクロライド(PVC)、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体など]、ビニル系樹脂[エチレン
−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸
エステル共重合体、ポリ酢酸ビニル、シクロペンタジエ
ン系ポリマーなど)、ポリビニルアルコール(PV
A)、エチレン−ビニルアルコール共重合体など]、ゴ
ム又はエラストマー[アクリルゴム、ブタジエンゴム、
スチレン−ブタジエンゴムなど]、ポリエステル系樹脂
(ポリアルキレンテレフタレート系コポリエステル、ポ
リアルキレンナフタレート系コポリエステル、ポリアル
キレンアジペート系樹脂など)、ポリウレタン系樹脂
(ポリエステル系ポリウレタン、ポリエーテル系ポリウ
レタンなど)、ポリアミド系樹脂(ポリアミド11、ポ
リアミド12,ポリアミド611,ポリアミド612な
どのホモポリアミド、ナイロン6/11,ナイロン6/
12,ナイロン66/11,ナイロン66/12などの
コポリアミドなど)、エポキシ系樹脂[ビスフェノール
A型エポキシ樹脂など]、ビニルエステル系樹脂[エポ
キシ樹脂と(メタ)アクリル酸との付加体など]、ジア
リルフタレート系樹脂、熱硬化性ポリウレタン系樹脂、
シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、熱硬化性アクリ
ル系樹脂、多糖類又はその誘導体(デンプン、グアガ
ム、アラビアガム、アルギン酸ナトリウムなど)などが
例示できる。さらに、光硬化性樹脂には、例えば、エポ
キシ(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アク
リレート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどが例
示できる。なお、熱硬化性樹脂は慣用の硬化剤を用いて
硬化させることができ、光硬化性樹脂は光重合開始剤を
用いて硬化させることができる。これらのバインダーは
単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
Examples of the binder include cellulose derivatives [cellulose esters such as cellulose acetate (CA), cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate (CAB), methyl cellulose (MC), ethyl cellulose (EC), sodium carboxymethyl cellulose). (CMC-Na), hydroxyethyl cellulose (HEC), hydroxypropyl cellulose (HPC), cellulose ethers such as hydroxypropyl methyl cellulose, etc.], styrene resin [polystyrene (PS), styrene such as styrene-methyl methacrylate copolymer] And a (meth) acrylic monomer copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, etc.], acrylic resin [polymethylmethacrylate (PMMA)] Methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer, methyl methacrylate-acrylic acid ester copolymer, polyacrylamide, etc.], vinyl chloride resin [polyvinyl chloride (PVC), vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, etc.] , Vinyl resins [ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer, polyvinyl acetate, cyclopentadiene polymer, etc.), polyvinyl alcohol (PV
A), ethylene-vinyl alcohol copolymer, etc.], rubber or elastomer [acrylic rubber, butadiene rubber,
Styrene-butadiene rubber, etc.], polyester resin (polyalkylene terephthalate copolyester, polyalkylene naphthalate copolyester, polyalkylene adipate resin, etc.), polyurethane resin (polyester polyurethane, polyether polyurethane, etc.), polyamide Resin (polyamide 11, polyamide 12, polyamide 611, homopolyamide such as polyamide 612, nylon 6/11, nylon 6 /
12, copolyamides such as nylon 66/11 and nylon 66/12), epoxy resins [bisphenol A type epoxy resins etc.], vinyl ester resins [adducts of epoxy resin and (meth) acrylic acid etc.], Diallyl phthalate resin, thermosetting polyurethane resin,
Examples include silicone resins, polyimide resins, thermosetting acrylic resins, polysaccharides or their derivatives (starch, guar gum, gum arabic, sodium alginate, etc.). Furthermore, examples of the photocurable resin include epoxy (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate. The thermosetting resin can be cured using a commonly used curing agent, and the photocurable resin can be cured using a photopolymerization initiator. These binders can be used alone or in combination of two or more.

【0044】なお、硬化剤と組み合わせて硬化膜を形成
できるポリマー又はオリゴマーとしては、例えば、ヒド
ロキシ末端ポリブタジエン(HTPB)、カルボキシ末
端ポリブタジエン(CTPB)、ヒドロキシ末端ポリエ
チレン(HTPE)、アジドポリマー(GAP、BAM
O、AMMO、NIMMO、BNMO、BAMO/AM
MO共重合体、BAMO/THF(テトラヒドロフラ
ン)共重合体、GAP/THF共重合体など)なども例
示できる。
Examples of the polymer or oligomer capable of forming a cured film in combination with a curing agent include, for example, hydroxy-terminated polybutadiene (HTPB), carboxy-terminated polybutadiene (CTPB), hydroxy-terminated polyethylene (HTPE), azide polymer (GAP, BAM).
O, AMMO, NIMMO, BNMO, BAMO / AM
MO copolymers, BAMO / THF (tetrahydrofuran) copolymers, GAP / THF copolymers, etc.) can also be exemplified.

【0045】バインダーとして成膜性を有するガス発生
剤を用いる場合、ガス発生層はガス発生剤で形成しても
よく、バインダーとして分解又は燃焼しにくいバインダ
ーを用いる場合、ガス発生剤の含有量は、バインダー1
00重量部に対して10〜1000重量部、好ましくは
20〜500重量部、さらに好ましくは50〜200重
量部程度である。また、成膜性を有するガス発生剤(バ
インダー)に対する非成膜性ガス発生剤の割合も上記と
同様の範囲から選択できる。
When a gas generating agent having a film-forming property is used as the binder, the gas generating layer may be formed of the gas generating agent. When a binder which is difficult to decompose or burn is used as the binder, the content of the gas generating agent is , Binder 1
The amount is 10 to 1000 parts by weight, preferably 20 to 500 parts by weight, and more preferably 50 to 200 parts by weight, relative to 00 parts by weight. Further, the ratio of the non-film forming gas generating agent to the gas generating agent (binder) having film forming property can be selected from the same range as above.

【0046】ガス発生層及びガス発生剤組成物は、種々
のエネルギー、例えば、光(レーザ光など)の照射又は
熱の作用によりガスを発生可能である。このような組成
物は、エネルギー吸収剤(光吸収剤及び/又は熱吸収
剤)を含んでいてもよい。
The gas generating layer and the gas generating composition can generate gas by various energy, for example, irradiation of light (laser light etc.) or action of heat. Such a composition may include an energy absorber (a light absorber and / or a heat absorber).

【0047】光吸収剤は、光線の波長に応じて選択で
き、白色、黄色、橙色、赤色、青色、緑色、紫色、黒色
などの着色剤であってもよい。代表的な光吸収剤は、黒
色着色剤(カーボンブラック、黒色染料など)である。
さらに、熱吸収剤としては、例えば、赤外線吸収剤など
が例示でき、光吸収剤と同様に黒色着色剤であってもよ
い。
The light absorber can be selected according to the wavelength of the light beam, and may be a colorant such as white, yellow, orange, red, blue, green, violet and black. A typical light absorber is a black colorant (carbon black, black dye, etc.).
Further, examples of the heat absorbing agent include an infrared absorbing agent and the like, and a black colorant may be used like the light absorbing agent.

【0048】光吸収剤の含有量は、例えば、ガス発生剤
100重量部に対して0.1〜50重量部、好ましくは
0.1〜20重量部程度である。
The content of the light absorber is, for example, 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.1 to 20 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the gas generating agent.

【0049】さらに、本発明のガス発生層及びガス発生
剤組成物は、可塑性を付与するため、可塑剤を含んでい
てもよい。この可塑剤は、前記のようにガス発生剤で構
成してもよく、通常の可塑剤(非ガス発生性可塑剤)で
あってもよい。
Further, the gas generating layer and the gas generating composition of the present invention may contain a plasticizer in order to impart plasticity. This plasticizer may be composed of a gas generating agent as described above, or may be an ordinary plasticizer (non-gas generating plasticizer).

【0050】通常の可塑剤としては、例えば、フタル酸
エステル系可塑剤[ジエチルフタレート、ジブチルフタ
レート、ジオクチルフタレートなどのジアルキルフタレ
ート]、アセテート系可塑剤[トリアセチン、アセチル
トリエチルサイトレートなど]、アジピン酸系可塑剤
[ジブチルアジペート、ジオクチルアジペートなどのジ
アルキルアジペート]、ブチルフタリルブチルグリコレ
ート、メチルフタリルエチルグリコレート(MPE
G)、エチルフタリルエチルグリコレート(EPE
G)、樟脳などが例示できる。
Examples of usual plasticizers include phthalate ester plasticizers [dialkyl phthalates such as diethyl phthalate, dibutyl phthalate and dioctyl phthalate], acetate plasticizers [triacetin, acetyl triethyl citrate, etc.], adipic acid Plasticizers [dialkyl adipates such as dibutyl adipate and dioctyl adipate], butylphthalyl butyl glycolate, methylphthalyl ethyl glycolate (MPE
G), ethylphthalylethyl glycolate (EPE
G), camphor, etc. can be illustrated.

【0051】これらの可塑剤は単独で又は二種以上組み
合わせて使用できる。可塑剤(ガス発生剤としての可塑
剤を含む)の使用量は、例えば、ガス発生剤100重量
部に対して1〜100重量部、好ましくは1〜70重量
部(例えば、1〜50重量部)程度の範囲から選択で
き、5〜100重量部(例えば、10〜50重量部)程
度であってもよい。
These plasticizers can be used alone or in combination of two or more kinds. The amount of the plasticizer (including the plasticizer as the gas generating agent) used is, for example, 1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 70 parts by weight (for example, 1 to 50 parts by weight) with respect to 100 parts by weight of the gas generating agent. ), And may be about 5 to 100 parts by weight (for example, 10 to 50 parts by weight).

【0052】なお、ガス発生層及びガス発生剤組成物
は、通常、ガス発生剤(特に、成膜性を有するポリマー
型ガス発生剤)に加えて、エネルギー吸収剤(特に、光
吸収剤)及び成膜助剤(特に、可塑剤)から選択された
少なくとも一種とで構成する場合が多い。
The gas generating layer and the gas generating composition are usually composed of an energy absorbing agent (especially a light absorbing agent) and a gas generating agent (especially a polymer type gas generating agent having a film forming property). It is often composed of at least one selected from film-forming aids (particularly, plasticizers).

【0053】さらに、ガス発生層及びガス発生剤組成物
は、前記のように、バインダーの種類に応じて硬化剤を
含有していてもよい。硬化剤としては、例えば、ポリイ
ソシアネート化合物[ヘキサメチレンジイソシアネート
(HMDI)、2,4−トルエンジイソシアネート(T
DI)、ダイマージイソシアネート(DDI)、イソホ
ロンジイソシアネート(IPDI)など]、ポリアミン
化合物、多価カルボン酸類、エポキシ化合物などが例示
できる。
Further, as described above, the gas generating layer and the gas generating composition may contain a curing agent depending on the kind of the binder. Examples of the curing agent include polyisocyanate compounds [hexamethylene diisocyanate (HMDI), 2,4-toluene diisocyanate (T
DI), dimerisocyanate (DDI), isophorone diisocyanate (IPDI), etc.], polyamine compounds, polyvalent carboxylic acids, epoxy compounds and the like.

【0054】ガス発生層及びガス発生剤組成物は、着火
性や燃焼性を改善し、発熱量を大きくするため、酸化剤
を含有していてもよい。酸化剤としては、例えば、塩素
酸塩、過塩素酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩などが例示でき、
これらの塩は、アンモニア、アルカリ金属、アルカリ土
類金属、遷移金属との塩であってもよい。具体的な酸化
剤としては、例えば、NH4ClO4、NH4NO3、KC
lO4、NaClO4、KNO3、NaNO3、Sr(NO
32、塩基性硝酸銅(BCN)などが例示できる。これ
らの酸化剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用でき
る。
The gas generating layer and the gas generating composition may contain an oxidant in order to improve the ignitability and combustibility and increase the calorific value. Examples of the oxidant include chlorate, perchlorate, nitrate, nitrite and the like,
These salts may be salts with ammonia, alkali metals, alkaline earth metals and transition metals. Specific oxidizing agents include, for example, NH 4 ClO 4 , NH 4 NO 3 , and KC.
lO 4 , NaClO 4 , KNO 3 , NaNO 3 , Sr (NO
3 ) 2 and basic copper nitrate (BCN) can be exemplified. These oxidizing agents can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0055】酸化剤の含有量は、例えば、バインダー
(成膜性を有するガス発生剤を含む)100重量部に対
して0.1〜50重量部、好ましくは1〜30重量部、
さらに好ましくは1〜20重量部程度である。
The content of the oxidizing agent is, for example, 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder (including the gas generating agent having film forming property).
More preferably, it is about 1 to 20 parts by weight.

【0056】ガス発生層及びガス発生剤組成物は、着火
性を改善し、燃焼速度を向上させるため、燃焼触媒を含
んでいてもよい。燃焼触媒としては、例えば、金属酸化
物(酸化鉄、酸化銅など)、クロム酸塩(亜クロム酸
銅、重クロム酸アンモニウムなど)などが例示できる。
これらの燃焼触媒は単独で又は二種以上組み合わせて使
用できる。
The gas generating layer and the gas generating agent composition may contain a combustion catalyst in order to improve the ignitability and the burning rate. Examples of the combustion catalyst include metal oxides (iron oxide, copper oxide, etc.), chromates (copper chromite, ammonium dichromate, etc.) and the like.
These combustion catalysts can be used alone or in combination of two or more.

【0057】燃焼触媒の使用量は、例えば、ガス発生剤
100重量部に対して0.1〜10重量部、好ましくは
0.5〜10重量部、さらに好ましくは1〜10重量部
程度である。
The amount of the combustion catalyst used is, for example, 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, more preferably about 1 to 10 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the gas generating agent. .

【0058】なお、ガス発生層及びガス発生剤組成物
は、例えば、ガス発生剤などの安定性を改善するため、
安定剤を含有していてもよい。特に硝酸エステル化合物
を含む系において安定性を向上させるためには、安定剤
を含有させるのが有用である。このような安定剤として
は、アミン系安定剤(ジフェニルアミン、2−ニトロジ
フェニルアミンなど)、エチルセントラリット、レゾル
シノールなどが例示できる。
The gas generating layer and the gas generating composition are, for example, to improve the stability of the gas generating agent,
It may contain a stabilizer. In particular, in order to improve the stability in a system containing a nitrate ester compound, it is useful to add a stabilizer. Examples of such stabilizers include amine stabilizers (diphenylamine, 2-nitrodiphenylamine, etc.), ethyl centrallite, resorcinol and the like.

【0059】ガス発生層及びガス発生剤組成物は、架橋
剤(安息香酸アンモニウム、トリメチロールプロパン
(TMP)、メラミン樹脂など)、老化防止剤(フェニ
ルイソプロピル−P−フェニレンジアミン(商品名 ノ
クラック810−NA)など)を含有していてもよい。
さらに、酸化剤とバインダーとの結合を高めるため、前
記組成物は、結合剤(例えば、1,2−トリス(2−メ
チルアジリデニル)フォスフィンオキサイド(商品名
MAPO)など)を含有していてもよい。さらに、着火
性や燃焼性を改善したり、燃焼に伴って多量の熱を効率
よく発生させるため、ガス発生層及びガス発生剤組成物
は、金属成分(例えば、アルミニウム、マグネシウム、
ジルコニウム、チタン、ケイ素鉄、アルミニウム・マグ
ネシウム合金、ホウ素など)を含んでいてもよい。
The gas generating layer and the gas generating composition are composed of a cross-linking agent (ammonium benzoate, trimethylolpropane (TMP), melamine resin, etc.), an antioxidant (phenylisopropyl-P-phenylenediamine (trade name: Nocrac 810-). NA) and the like).
Further, in order to enhance the bond between the oxidant and the binder, the composition may include a binder (eg, 1,2-tris (2-methylaziridenyl) phosphine oxide (trade name).
MAPO) etc.) may be contained. Furthermore, in order to improve ignitability and combustibility, or to efficiently generate a large amount of heat with combustion, the gas generating layer and the gas generating agent composition have a metal component (for example, aluminum, magnesium,
Zirconium, titanium, silicon iron, aluminum-magnesium alloy, boron, etc.) may be contained.

【0060】なお、本発明のガス発生層及び組成物は、
必要により種々の添加剤、例えば、安定剤(酸化防止
剤、紫外線吸収剤など)、充填剤、帯電防止剤、ブロッ
キング防止剤、難燃剤、界面活性剤などを含んでいても
よい。
The gas generating layer and composition of the present invention are
If necessary, various additives such as stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, etc.), fillers, antistatic agents, antiblocking agents, flame retardants, surfactants and the like may be contained.

【0061】ガス発生層をエネルギー吸収層(光吸収
層)と被覆層とで構成する場合、エネルギー吸収層は前
記ガス発生層と同様にして形成でき、前記被膜層は、無
機質膜(金属蒸着膜、シリカ、アルミナなどの金属化合
物の蒸着膜など)で形成してもよいが、通常、非導電性
被膜、特に前記密着層と同様にして形成してもよく、樹
脂被膜で形成してもよい。樹脂としては、例えば、前記
バインダーの項で記載した種々の成膜性樹脂が使用でき
る。代表的な樹脂として、セルロース誘導体(セルロー
スアセテートなどのセルロースエステル類など)、アク
リル系樹脂(メタクリル酸メチルを主たる成分とするメ
タクリル酸メチル系樹脂など)、スチレン系樹脂(スチ
レン−アクリロニトリル共重合体など)、ビニル系樹脂
[エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)
アクリル酸エステル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコー
ル共重合体など]、ゴム又はエラストマー、ポリエステ
ル系樹脂(ポリアルキレンテレフタレート系コポリエス
テル、ポリアルキレンナフタレート系コポリエステル、
ポリアルキレンアジペート系樹脂など)、ポリウレタン
系樹脂(ポリエステル系ポリウレタンなど)、エポキシ
系樹脂[ビスフェノールA型エポキシ樹脂など]、ビニ
ルエステル系樹脂[エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
との付加体など]、熱硬化性ポリウレタン系樹脂、シリ
コーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、光硬化性樹脂などが
例示できる。
When the gas generating layer is composed of an energy absorbing layer (light absorbing layer) and a coating layer, the energy absorbing layer can be formed in the same manner as the gas generating layer, and the coating layer is an inorganic film (metal vapor deposition film). , A vapor-deposited film of a metal compound such as silica or alumina), but it may be formed in the same manner as a non-conductive coating, particularly the adhesion layer, or a resin coating. . As the resin, for example, various film-forming resins described in the section of the binder can be used. Typical resins include cellulose derivatives (cellulose esters such as cellulose acetate), acrylic resins (such as methyl methacrylate resin containing methyl methacrylate as a main component), styrene resins (styrene-acrylonitrile copolymer, etc.). ), Vinyl resin [ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth)]
Acrylic ester copolymer, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer, etc.], rubber or elastomer, polyester resin (polyalkylene terephthalate copolyester, polyalkylene naphthalate copolyester,
Polyalkylene adipate resin, etc., polyurethane resin (polyester polyurethane, etc.), epoxy resin [bisphenol A type epoxy resin, etc.], vinyl ester resin [adduct of epoxy resin with (meth) acrylic acid, etc.], Examples include thermosetting polyurethane resins, silicone resins, polyimide resins, and photocurable resins.

【0062】被膜は、被膜の特性(曲げ弾性率や引っ張
り弾性率など)を調整するため、必要により種々の添加
剤、例えば、可塑剤、硬化剤又は架橋剤、安定剤(酸化
防止剤、紫外線吸収剤など)、充填剤、着色剤、帯電防
止剤、ブロッキング防止剤、難燃剤、界面活性剤などを
含んでいてもよい。
In order to adjust the characteristics of the coating (flexural modulus, tensile modulus, etc.), the coating may contain various additives such as a plasticizer, a curing agent or a crosslinking agent, and a stabilizer (antioxidant, ultraviolet ray, etc.) as necessary. Absorber, etc.), filler, colorant, antistatic agent, antiblocking agent, flame retardant, surfactant and the like.

【0063】密着層とガス発生層との密着性を向上させ
るためには、密着層及びガス発生層に互いに共通又は同
一の成分を含有させてもよい。例えば、密着層をニトロ
セルロースなどの成膜性ガス発生剤で構成するととも
に、第2の層をニトロセルロースなどの成膜性ガス発生
剤と光吸収剤とで構成してもよい。さらには、このよう
な組合せにおいて、支持体に対する密着層の密着性が小
さい場合、密着層には密着性向上剤を含有させてもよ
い。さらに、密着層とガス発生層との密着性を向上する
ため、密着層とガス発生層との少なくとも界面近傍域
は、光吸収剤の含有の有無を除いて、実質的に同じ成分
割合の組成物で形成してもよい。例えば、密着層を成膜
性ガス発生剤と密着性向上剤とを特定の割合で含む組成
物で形成し、ガス発生剤を前記密着層の組成物に光吸収
剤を添加した組成物で形成してもよい。なお、密着性向
上剤としては、例えば、前記可塑剤、前記シランカップ
リング剤、チタンカップリング剤などのカップリング
剤、アンダーコート剤、アンカーコート剤や接着剤など
であってもよい。
In order to improve the adhesion between the adhesive layer and the gas generating layer, the adhesive layer and the gas generating layer may contain the same or the same component. For example, the adhesion layer may be composed of a film-forming gas generating agent such as nitrocellulose, and the second layer may be composed of a film-forming gas generating agent such as nitrocellulose and a light absorber. Further, in such a combination, when the adhesiveness of the adhesive layer to the support is low, the adhesive layer may contain an adhesiveness improver. Furthermore, in order to improve the adhesion between the adhesion layer and the gas generating layer, at least the vicinity of the interface between the adhesion layer and the gas generating layer, except for the presence or absence of the light absorber, composition of substantially the same component ratio. It may be formed of a material. For example, the adhesion layer is formed of a composition containing a film-forming gas generating agent and an adhesion improving agent in a specific ratio, and the gas generating agent is formed of a composition obtained by adding a light absorber to the composition of the adhesion layer. You may. The adhesiveness improver may be, for example, the plasticizer, the silane coupling agent, the coupling agent such as the titanium coupling agent, the undercoating agent, the anchor coating agent or the adhesive agent.

【0064】各層の厚みは適当に選択でき、例えば、密
着層の厚みは、支持体とガス発生層とを密着可能な範
囲、例えば、1μm以上(例えば、1〜200μm、好
ましくは2〜100μm、さらに好ましくは3〜70μ
m)程度の範囲から選択できる。ガス発生剤(ポリマー
型ガス発生剤など)を用いる場合、密着層の厚みは、例
えば、10μm以上(例えば、10〜100μm、好ま
しくは20〜100μm、さらに好ましくは25〜70
μm程度)であってもよい。
The thickness of each layer can be appropriately selected. For example, the thickness of the adhesion layer is within a range in which the support and the gas generating layer can be adhered, for example, 1 μm or more (for example, 1 to 200 μm, preferably 2 to 100 μm, More preferably 3 to 70 μ
It can be selected from the range of about m). When a gas generating agent (polymer type gas generating agent or the like) is used, the thickness of the adhesion layer is, for example, 10 μm or more (for example, 10 to 100 μm, preferably 20 to 100 μm, more preferably 25 to 70).
μm).

【0065】ガス発生部材において、ガス発生層(又は
エネルギー吸収層(光吸収層)と被覆層との全体)の厚
みはガスの噴出性に大きな影響を及ぼす。すなわち、ガ
ス発生層の曲げ弾性率及び/又は引っ張り弾性率に応じ
て、ガス発生層で保持可能なガス圧をコントロールで
き、ガス発生層の厚みが小さいと、発生したガス圧を保
持できず、ガス発生層の厚みが厚すぎると、ガスの噴出
性が損なわれる場合がある。そのため、ガス発生層の厚
みは、通常、10μm以上(例えば、10〜250μ
m、好ましくは20〜200μm、さらに好ましくは2
5〜150μm)程度の範囲から選択でき、通常、20
μm以上(例えば、20〜250μm、好ましくは25
〜200μm、さらに好ましくは30〜100μm程
度)である。
In the gas generating member, the thickness of the gas generating layer (or the total of the energy absorbing layer (light absorbing layer) and the coating layer) has a great influence on the gas ejection property. That is, depending on the bending elastic modulus and / or the tensile elastic modulus of the gas generating layer, the gas pressure that can be retained in the gas generating layer can be controlled, and if the thickness of the gas generating layer is small, the generated gas pressure cannot be retained, If the thickness of the gas generating layer is too thick, the gas ejection property may be impaired. Therefore, the thickness of the gas generating layer is usually 10 μm or more (for example, 10 to 250 μm).
m, preferably 20 to 200 μm, more preferably 2
5 to 150 μm), and usually 20
μm or more (for example, 20 to 250 μm, preferably 25
˜200 μm, more preferably about 30 to 100 μm).

【0066】なお、密着層が形成されている場合、密着
層及びガス発生層の全体の厚みは、通常、20〜250
μm、好ましくは40〜200μm、さらに好ましくは
50〜150μm程度であり、通常、60〜150μm
程度である。
When the adhesion layer is formed, the total thickness of the adhesion layer and the gas generating layer is usually 20 to 250.
μm, preferably 40 to 200 μm, more preferably 50 to 150 μm, and usually 60 to 150 μm.
It is a degree.

【0067】ガス発生層が光吸収剤(エネルギー吸収
層)と被覆層とで構成されている場合、光吸収層(エネ
ルギー吸収層)の最小厚みは1μm(好ましくは5μ
m、さらに好ましくは10μm)である。
When the gas generating layer is composed of the light absorbing agent (energy absorbing layer) and the coating layer, the minimum thickness of the light absorbing layer (energy absorbing layer) is 1 μm (preferably 5 μm).
m, and more preferably 10 μm).

【0068】本発明のガス発生部材及びガス発生剤組成
物は、微小加熱源により微小部位でガスを発生可能であ
る。微小加熱源としては、例えば、レーザ光(YAGレ
ーザ、半導体レーザなど)、サーマルヘッドなどが利用
でき、微小なホットスポットから大きなエネルギーでガ
スを発生又は噴出できる。加熱エリア(ホットスポッ
ト)の面積は特に制限されず、例えば、0.1μmφ〜
10mmφ、好ましくは1μmφ〜1mmφ、さらに好
ましくは5〜500μmφ程度である。
The gas generating member and the gas generating composition of the present invention can generate gas at a minute portion by a minute heating source. As the minute heating source, for example, laser light (YAG laser, semiconductor laser, etc.), a thermal head, or the like can be used, and a gas can be generated or ejected from a minute hot spot with large energy. The area of the heating area (hot spot) is not particularly limited, and is, for example, 0.1 μmφ
The diameter is 10 mmφ, preferably 1 μmφ to 1 mmφ, and more preferably about 5 to 500 μmφ.

【0069】ガス発生層及びガス発生剤組成物によるガ
ス発生量は、1g当たり1×10-3〜6×10-2モル、
好ましくは1×10-2〜6×10-2モル、さらに好まし
くは2×10-2〜6×10-2モル程度である。
The amount of gas generated by the gas generating layer and the gas generating composition is 1 × 10 −3 to 6 × 10 −2 mol per 1 g,
It is preferably 1 × 10 -2 to 6 × 10 -2 mol, and more preferably 2 × 10 -2 to 6 × 10 -2 mol.

【0070】本発明のガス発生部材は、前記のように、
微小な加熱源によりガス発生層の微小領域を加熱して高
いガス圧でガスを放出又は噴出させることができる。そ
のため、本発明のガス発生部材は、ノズルなどの吐出口
から吐出される液体などの流体の流れを、放出又は噴出
するガスで断続的に遮断したり流体の流れ方向を変更す
るのに有用である。特に、吐出口から吐出される液体の
流れを断続的に遮断又は変更させて液体を基処理基板に
塗布する方法において、前記ガス発生部材に微小加熱源
を作用させ、ガス発生部材の微小部位から発生するガス
により、液体の流れ方向を変更させて液体を塗布するた
めに有用である。なお、微小加熱源を作用させると(レ
ーザ光の照射など)、支持体側のガス発生層で着火し、
照射部位に対応するガス発生層の微小部位でガスが噴出
し、ガス発生層の微小部位を飛翔させることもできる。
The gas generating member of the present invention, as described above,
A minute heating source can heat a minute area of the gas generating layer to release or eject the gas at a high gas pressure. Therefore, the gas generating member of the present invention is useful for intermittently interrupting the flow of a fluid such as a liquid discharged from a discharge port such as a nozzle with a gas that is emitted or ejected or changing the flow direction of the fluid. is there. Particularly, in a method of intermittently interrupting or changing the flow of a liquid discharged from a discharge port to apply a liquid to a base processing substrate, a minute heating source is caused to act on the gas generating member, The generated gas is useful for changing the flow direction of the liquid and applying the liquid. In addition, when a minute heating source is actuated (laser light irradiation, etc.), the gas generation layer on the support side ignites,
It is also possible to eject gas at a minute portion of the gas generation layer corresponding to the irradiation portion and fly the minute portion of the gas generation layer.

【0071】このような方法では、段差を有する基板に
おいて、塗布領域と非塗布領域とが設定されている場合
であっても均一な厚みに塗膜を形成できる。例えば、半
導体プロセス製造において、半導体基板上に形成された
金属薄膜や層間絶縁膜などを、リソグラフィ技術及び反
応性イオンエッチング(RIE)などのエッチング技術
を利用して、例えば、金属配線や半導体素子などの段差
のある一次パターンを形成し、その一次パターン上に層
間絶縁膜を形成してリソグラフィ技術及びRIEなどの
エッチング技術を用いて二次パターンを形成する場合、
一次パターンの段差に応じて上層の層間絶縁膜に段差が
生じると、二次パターンの形成に利用するリソグラフィ
工程において露光不良などを生じ、歩留まりが低下す
る。これに対して本発明では、一次パターンが形成され
た基板を走査しながら、一次パターンに応じた塗布領域
と非塗布領域に対応させて、非塗布領域では前記ガス圧
を利用して塗布剤の流れ方向を変更させ、塗布領域を選
択的に塗布でき、均一な厚みの塗膜を形成できる。
With such a method, it is possible to form a coating film having a uniform thickness on a substrate having a step even when a coating region and a non-coating region are set. For example, in semiconductor process manufacturing, a metal thin film, an interlayer insulating film, or the like formed on a semiconductor substrate is utilized by using a lithography technique and an etching technique such as reactive ion etching (RIE). When a primary pattern with steps is formed, an interlayer insulating film is formed on the primary pattern, and a secondary pattern is formed using a lithography technique and an etching technique such as RIE,
When a step is formed in the upper interlayer insulating film according to the step of the primary pattern, exposure failure or the like occurs in the lithography process used for forming the secondary pattern, and the yield is reduced. On the other hand, in the present invention, while scanning the substrate on which the primary pattern is formed, the coating region and the non-coating region corresponding to the primary pattern are made to correspond, and in the non-coating region, the gas pressure is used to apply the coating agent. By changing the flow direction, the coating area can be selectively coated, and a coating film having a uniform thickness can be formed.

【0072】なお、ガス発生部材は、通常、被処理基板
に対して相対的に移動可能であるとともに、流体(又は
塗布剤)の吐出口(又はノズル)と同伴して移動可能で
ある。ガス発生部材の形態は特に制限されず、例えば、
フィルム又はシート状、テープ状などであってもよい。
さらに、微小加熱源による加熱領域を更新するため、ガ
ス発生部材は、微小加熱源に対して相対的に移動可能で
あるのが好ましい。例えば、リールやガス発生部材に形
成されたスプロケットホールなどを利用して、巻き取り
又は繰り出し可能なテープ状ガス発生部材を形成し、微
小加熱源(レーザ光の照射位置やサーマルヘッドの位置
など)に対してテープ状ガス発生部材の加熱領域を規則
的(又は周期的)に移動させてもよい。
The gas generating member is usually movable relative to the substrate to be processed, and is movable together with the discharge port (or nozzle) of the fluid (or coating material). The form of the gas generating member is not particularly limited, and for example,
It may be in the form of a film or sheet, or a tape.
Further, in order to renew the heating area by the minute heating source, it is preferable that the gas generating member is movable relative to the minute heating source. For example, by using a reel or a sprocket hole formed in a gas generating member, a tape-shaped gas generating member that can be wound or unwound is formed, and a minute heating source (such as a laser light irradiation position or a thermal head position) On the other hand, the heating region of the tape-shaped gas generating member may be moved regularly (or periodically).

【0073】さらに、ガス発生部材から発生するガス流
の方向は、液体(又は塗布剤)の流れ方向に対して横断
する方向、例えば、直交する方向、斜め下方や斜め上方
などの適当な方向にガス流を噴出させることができる。
Further, the direction of the gas flow generated from the gas generating member is a direction transverse to the flow direction of the liquid (or the coating material), for example, an orthogonal direction, an obliquely downward direction, an obliquely upward direction, or the like. A gas stream can be ejected.

【0074】なお、液体の種類は特に制限されず、種々
の被膜成形性塗布剤、例えば、フォトレジスト、絶縁材
料、反射性材料、低誘電率材料や高誘電材料、配線材料
などが例示できる。なお、塗布剤における溶媒の種類は
特に制限されず、水性溶媒であってもよく有機溶媒であ
ってもよい。液体流の幅(塗布幅)は、スキャニング操
作による塗布効率を損なわず、前記ガス圧により流れ方
向が変更可能であればよく、例えば、10〜1000μ
m程度であってもよい。
The type of liquid is not particularly limited, and various film formability coating agents such as photoresist, insulating material, reflective material, low dielectric constant material, high dielectric material, and wiring material can be exemplified. The type of solvent in the coating agent is not particularly limited, and may be an aqueous solvent or an organic solvent. The width of the liquid flow (coating width) may be any as long as the flow direction can be changed by the gas pressure without impairing the coating efficiency due to the scanning operation, for example, 10 to 1000 μm.
It may be about m.

【0075】本発明は、表面が平坦でない基材又は基
板、特に表面に段差部を有する基板に微細加工が施され
た機能部品(半導体、液晶基板など)を製造するのに有
効である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is effective for manufacturing a functional component (semiconductor, liquid crystal substrate, etc.) obtained by finely processing a substrate or substrate having an uneven surface, particularly a substrate having a step portion on the surface.

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明では、支持体に対して密着したガ
ス発生層を備えているので、エネルギーの適用部位が微
小であってもガス発生量及びガス発生力を向上できる。
そのため、微小部位から高いガス発生力で微小ガスを発
生させ、ノズルから連続的に吐出される液流を、高精度
にしかも断続的に遮断又は方向変換させることができ
る。さらに、ガスを発生させても汚染を抑制できる。
According to the present invention, since the gas generating layer which is in close contact with the support is provided, the gas generation amount and the gas generating force can be improved even if the energy application site is minute.
Therefore, it is possible to generate a minute gas with a high gas generating force from a minute portion, and to interrupt or change the direction of the liquid flow continuously discharged from the nozzle with high accuracy and intermittently. Further, even if gas is generated, pollution can be suppressed.

【0077】[0077]

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。なお、以下の実施例において、
「部」は「重量部」を示す。各試験方法は下記のとおり
である。
The present invention will be described in more detail based on the following examples, but the invention is not intended to be limited by these examples. In the following examples,
"Part" indicates "part by weight". Each test method is as follows.

【0078】(1)レーザ光照射試験 レーザ光照射試験は、図3に示す装置を用いて行った。
すなわち、電源29に接続されたレーザ装置(アルゴン
レーザ)21を利用して、シャッター22の露光時間を
1/500秒に設定して、ガス発生部材25に対して、
レーザ光(パワー600mW,レーザビーム径約200
μm)を照射する。なお、光路には、ビームサンプラー
23と集光レンズ24とが配置されている。オシロスコ
ープ28によりガス発生部材25を透過したレーザ光の
光量の変化を測定し、図4に示すグラフ[時間(横軸)
と、フォトセンサー26aにより検出され、かつ増幅器
27aで増幅された信号の電圧値との関係を示すグラ
フ]を得る。この電圧値の変化は光量の変化を意味して
いる。レーザ光の照射開始時間を測定するために、ビー
ムサンプラー23でレーザ光の一部を反射させ、反射光
の光量をフォトセンサー26bで検出し、増幅器27b
で増幅して参照光として記録する。
(1) Laser Light Irradiation Test The laser light irradiation test was conducted using the apparatus shown in FIG.
That is, using the laser device (argon laser) 21 connected to the power source 29, the exposure time of the shutter 22 is set to 1/500 seconds, and the gas generating member 25 is
Laser light (power 600mW, laser beam diameter about 200
μm). A beam sampler 23 and a condenser lens 24 are arranged in the optical path. A change in the amount of laser light transmitted through the gas generating member 25 was measured by the oscilloscope 28, and a graph shown in FIG. 4 [time (horizontal axis)]
With the voltage value of the signal detected by the photo sensor 26a and amplified by the amplifier 27a]. This change in voltage value means a change in light amount. In order to measure the irradiation start time of the laser light, a part of the laser light is reflected by the beam sampler 23, the light quantity of the reflected light is detected by the photo sensor 26b, and the amplifier 27b is used.
It is amplified by and recorded as reference light.

【0079】シャッターが閉じられた状態から完全に開
放されるまでに少しの時間がかかるため、参照光の光量
が最大値の50%に到達した時間を、レーザ光の照射開
始時間T1と定義した。また、ガス発生部材にレーザ光
が照射され、ガス発生部材のガス発生層が燃焼して孔が
開くと、透過光が観察される。透過光が観察された時間
T2も参照光の場合と同様に、透過光の光量が最大値の
50%に到達した時間とした。そして、ガス発生部材の
着火遅れ時間ΔT=T2−T1とした。
Since it takes a little time to completely open the shutter from the closed state, the time when the light quantity of the reference light reaches 50% of the maximum value is defined as the laser light irradiation start time T1. . When the gas generating member is irradiated with laser light and the gas generating layer of the gas generating member burns to open holes, transmitted light is observed. Similarly to the case of the reference light, the time T2 when the transmitted light was observed was set to the time when the light amount of the transmitted light reached 50% of the maximum value. Then, the ignition delay time ΔT = T2-T1 of the gas generating member was set.

【0080】(2)顕微鏡による観察 顕微鏡により、上記(1)レーザ光照射試験に従ってレ
ーザ光を照射したガス発生部材の状態を観察した。
(2) Observation with a microscope The state of the gas generating member irradiated with laser light was observed with a microscope according to the above (1) Laser light irradiation test.

【0081】(3)水滴飛散試験 水滴の飛散状況を調べるため、図5に示すように、孔径
40μmのノズル31から垂直方向に吐出された水流3
1aから0.5mmの距離にガス発生材部材35を設置
した。レーザ光(パワー600mW、レーザビーム径約
200μm)がガス発生部材35に照射されると、ガス
発生部材は激しくガスを噴出し、その噴出したガスは水
流31aを水滴として飛散させる。飛散した水滴は、ガ
ス発生部材35に対して水流31aを介して反対側に水
平方向に配置され、かつ水平方向に赤色色素32aで着
色されたガラス板32上に落ち、痕跡を残す。垂下する
水流から痕跡までの距離を水滴の飛散距離とした。20
回レーザ光の照射を行い、その結果を観察した。
(3) Water Droplet Scattering Test In order to investigate the scattering state of water droplets, as shown in FIG. 5, a water stream 3 discharged vertically from a nozzle 31 having a hole diameter of 40 μm.
The gas generating material member 35 was installed at a distance of 0.5 mm from 1a. When the gas generating member 35 is irradiated with laser light (power of 600 mW, laser beam diameter of about 200 μm), the gas generating member violently ejects gas, and the ejected gas scatters the water stream 31a as water droplets. The scattered water droplets are horizontally arranged on the opposite side of the gas generating member 35 via the water flow 31a and horizontally fall on the glass plate 32 colored with the red pigment 32a, leaving a trace. The distance from the hanging water stream to the trace was defined as the water droplet scattering distance. 20
Irradiation with laser light was performed and the result was observed.

【0082】(4)圧電素子を利用した発生ガス速度測
定試験 図3に示す装置において、フォトセンサー26aに代え
て圧電素子を用いる以外、前記(1)のレーザ光照射試
験と同様な方法で、時間と、圧電素子により検出され、
かつ増幅器で増幅された信号の電圧値との関係を示すグ
ラフを得る(図6参照)。この電圧値変化は光量及び音
圧の変化を意味している。また、レーザ光の照射開始時
間を測定するために、前記(1)のレーザ光照射試験と
同様にして、ビームサンプラーでレーザ光の一部を反射
させ、参照光として記録した。シャッターが閉じられた
状態から完全に開放されるまでに少しの時間がかかるた
め、参照光の光量が最大値の50%に到達した塒間を、
レーザ光の照射開始時間と定義した。また、ガス発生部
材にレーザ光が照射され、ガス発生部材からガスが噴出
すると音圧が測定された。音圧が測定開始された時間は
チャート上で急に電圧変化が開始される場所であり、容
易に判断できた。そして、(音圧が測定開始された時
間)−(レーザ光の照射開始時間)を、ガス発生部材か
ら発生したガスの到達時間とした。ガス発生部材と圧電
素子との距離を変化させたデータを得た後、計算によ
り、発生ガスの速度を求めた。
(4) Generation Gas Velocity Measurement Test Using Piezoelectric Element In the apparatus shown in FIG. 3, the same method as in the laser light irradiation test of (1) above is used except that a piezoelectric element is used instead of the photosensor 26a. Time, detected by the piezoelectric element,
Also, a graph showing the relationship with the voltage value of the signal amplified by the amplifier is obtained (see FIG. 6). This change in voltage value means a change in light amount and sound pressure. Further, in order to measure the irradiation start time of the laser light, a part of the laser light was reflected by a beam sampler and recorded as reference light in the same manner as in the laser light irradiation test of (1) above. Since it takes a little time for the shutter to be completely opened after it is closed, the gap between when the reference light amount reaches 50% of the maximum value,
It was defined as the laser light irradiation start time. The sound pressure was measured when the gas generating member was irradiated with laser light and gas was ejected from the gas generating member. The time when the sound pressure measurement was started was the place where the voltage change suddenly started on the chart, and could be easily determined. Then, (time when the sound pressure was started to be measured)-(laser light irradiation start time) was taken as the arrival time of the gas generated from the gas generating member. After obtaining data in which the distance between the gas generating member and the piezoelectric element was changed, the velocity of the generated gas was calculated.

【0083】実施例1 [密着層/被覆層用塗布液]ニトロセルロース(NC、
ニトロヘミー・ウィミス社製,混合綿 タイプIグレー
ドC)6部、トリメチロールエタントリナイトレート
(TMETN、日本油脂(株)製)4部、酢酸エチル9
0部を三角フラスコに入れ、室温下で、マグネティック
スターラーを使用して約3時間撹拌した。混合液は無色
透明の粘性液体となった。撹拌に伴って混入した気泡を
除くため、1時間以上放置した後、この混合液を使用し
た。
Example 1 [Coating liquid for adhesion layer / coating layer] Nitrocellulose (NC,
Nitrohemie Wimis, mixed cotton type I grade C) 6 parts, trimethylolethane trinitrate (TMETN, NOF Corporation) 4 parts, ethyl acetate 9
0 part was placed in an Erlenmeyer flask and stirred at room temperature using a magnetic stirrer for about 3 hours. The mixed liquid became a colorless and transparent viscous liquid. This mixed solution was used after standing for 1 hour or more in order to remove air bubbles mixed in with stirring.

【0084】[ガス発生層用塗布液]カーボンブラック
(C,三菱化学(株)製,三菱カーボンブラックMCF
88,平均粒子径18nm)1部、酢酸エチル90部を
三角フラスコに入れ、超音波洗浄器を使用して30分間
振動を与えて、カーボンブラックを酢酸エチル中に分散
させた。この分散液に、前記ニトロセルロース(NC)
6部及び前記トリメチロールエタントリナイトレート
(TMETN)4部をさらに加え、室温下で、マグネテ
ィックスターラーを使用して約3時間撹拌した。混合液
は黒色の粘性液体であり、撹拌に伴って混入した気泡を
除くために1時間以上放置した後に、この混合液を使用
した。
[Coating liquid for gas generating layer] Carbon black (C, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Mitsubishi Carbon Black MCF
88, average particle diameter 18 nm) 1 part and ethyl acetate 90 parts were put in an Erlenmeyer flask, and the carbon black was dispersed in ethyl acetate by applying vibration for 30 minutes using an ultrasonic cleaner. To this dispersion liquid, the nitrocellulose (NC)
6 parts and 4 parts of the above trimethylolethane trinitrate (TMETN) were further added, and the mixture was stirred at room temperature for about 3 hours using a magnetic stirrer. The mixed liquid was a black viscous liquid, and this mixed liquid was used after being left for 1 hour or more in order to remove bubbles mixed with stirring.

【0085】[ガス発生部材の作製]フィルムアプリケ
ーターを使用して、縦24mm×横60mm×厚さ15
0μmのガラス上に、3層構造の膜を形成した。密着層
は、密着層用塗布液をガラス上に塗布し、室温下で放置
し、乾燥することにより形成した。ガス発生層は、ガス
発生層用塗布液を密着層上に塗布し、室温下で放置し、
乾燥することにより形成した。さらに、被覆層は、被覆
層用塗布液をガス発生層上に塗布し、室温下で放置し、
乾燥することにより形成した。最終的な各層の組成と厚
さは、次の通りである。
[Production of Gas Generating Member] Using a film applicator, length 24 mm × width 60 mm × thickness 15
A film having a three-layer structure was formed on 0 μm glass. The adhesive layer was formed by applying the adhesive layer coating liquid on glass, allowing it to stand at room temperature, and drying it. For the gas generating layer, the coating liquid for gas generating layer is applied on the adhesion layer and left at room temperature,
It was formed by drying. Further, the coating layer, the coating liquid for the coating layer is applied on the gas generating layer, and allowed to stand at room temperature,
It was formed by drying. The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0086】 支持層 ガラス 150μm 密着層 NC/TMETN(6部/4部) 60μm ガス発生層 NC/TMETN/C(6部/4部/1部) 15μm 被覆層 NC/TMETN(6部/4部) 60μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供
し、オシロスコープでデータを得たところ、透過光のカ
ーブは、10回照射中10回とも、図4に示されるよう
に、激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着火
遅れ時間は400〜440μsの範囲にあり、10回の
平均値は416μsであり、非常に短い着火遅れ時間で
激しい燃焼が高い再現性で生じることが確認された。
Support layer Glass 150 μm Adhesion layer NC / TMETN (6 parts / 4 parts) 60 μm Gas generation layer NC / TMETN / C (6 parts / 4 parts / 1 part) 15 μm Coating layer NC / TMETN (6 parts / 4 parts) ) 60 μm The obtained gas generating member was subjected to a laser light irradiation test (1) and data was obtained with an oscilloscope. As a result, the curve of the transmitted light was sharp as shown in FIG. Rising, the transmitted light was not attenuated. The ignition delay time was in the range of 400 to 440 μs, the average value of 10 times was 416 μs, and it was confirmed that intense combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0087】レーザ光照射したガス発生部材を顕微鏡で
観察したところ、レーザ光の照射部に平均孔径452μ
mの孔が開いていることが確認された。また、飛散物の
観察により球面平凸レンズ状の微細片が燃焼により発生
して飛散していることが分かった。
Observation of the gas generating member irradiated with the laser beam with a microscope revealed that the laser beam irradiated part had an average hole diameter of 452 μm.
It was confirmed that the m hole was open. Further, it was found from observation of scattered objects that spherical plano-convex lens-like fine particles were generated and scattered by combustion.

【0088】さらに、ガス発生部材を水滴飛散状況観察
試験(3)に供し、20回レーザ光を照射した後にガラ
ス板を観察すると、水滴の痕跡の個数は20個であっ
た。また平均の飛散距離は2.8mmであった。水滴の
痕跡の多くは広がり角約90°の範囲内に存在してい
た。ガス発生部材は水流を水滴として飛散させるだけの
力を持っていることが示された。
Further, the gas generating member was subjected to a water droplet scattering condition observation test (3), and when the glass plate was observed after being irradiated with laser light 20 times, the number of traces of water droplets was 20. The average flying distance was 2.8 mm. Most of the traces of the water droplets were present within the range of the spread angle of about 90 °. It was shown that the gas generating member has a force sufficient to scatter the water stream as water droplets.

【0089】さらには、ガス発生部材を発生ガス速度測
定試験(4)に供し、レーザ光を照射してデータを得
た。ガス発生部材と圧電素子の距離が1.8mmである
とき、ガス発生部材から発生したガスの到達時間は36
1μsであり、距離が4.8mmであるとき、ガスの到
達時間は368μsであり、距離が7.8mmである時
ガスの到達時間は382μsであった。これらのデータ
より計算により求められた発生ガスの速度は約300m
/sであった。
Further, the gas generating member was subjected to the generated gas velocity measurement test (4) and irradiated with laser light to obtain data. When the distance between the gas generating member and the piezoelectric element is 1.8 mm, the arrival time of the gas generated from the gas generating member is 36 mm.
When the distance was 1 μs and the distance was 4.8 mm, the gas arrival time was 368 μs, and when the distance was 7.8 mm, the gas arrival time was 382 μs. The generated gas velocity calculated from these data is about 300m
Was / s.

【0090】実施例2 フィルムアプリケーターを使用して、縦24mm×横6
0mm×厚さ150μmのガラス上に、2層構造の膜を
形成した。密着層は、実施例1で調製した密着層用塗布
液をガラス上に塗布し、室温下で放置し、乾燥すること
により形成し、ガス発生層は、実施例1で調製したガス
発生層用塗布液を密着層上に塗布し、室温下で放置して
乾燥することにより形成した。最終的な膜の組成と厚さ
は、次の通りである。
Example 2 Using a film applicator, length 24 mm × width 6
A film having a two-layer structure was formed on glass having a thickness of 0 mm and a thickness of 150 μm. The adhesive layer was formed by applying the adhesive layer coating liquid prepared in Example 1 on glass, leaving it at room temperature and drying it, and the gas generating layer was used for the gas generating layer prepared in Example 1. The coating liquid was applied onto the adhesion layer, left standing at room temperature and dried. The composition and thickness of the final film are as follows.

【0091】 支持層 ガラス 150μm 密着層 NC/TMETN(6部/4部) 60μm ガス発生層 NC/TMETN/C(6部/4部/1部) 75μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供
し、オシロスコープでデータを得たところ、透過光のカ
ーブは、10回照射中10回とも、図4に示されたのと
同様に激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着
火遅れ時間は488〜514μsの範囲にあり、10回
の平均値は501μsであった。非常に短い着火遅れ時
間で激しい燃焼が再現性よく生じることが確認された。
Support layer glass 150 μm Adhesion layer NC / TMETN (6 parts / 4 parts) 60 μm Gas generation layer NC / TMETN / C (6 parts / 4 parts / 1 part) 75 μm Laser light irradiation test of the obtained gas generation member When subjected to (1) and obtained data with an oscilloscope, the curve of the transmitted light rises violently as in the case shown in FIG. 4, and the transmitted light is not attenuated even after 10 irradiations. The ignition delay time was in the range of 488 to 514 μs, and the average value of 10 times was 501 μs. It was confirmed that intense combustion occurs reproducibly with a very short ignition delay time.

【0092】また、レーザ光照射したガス発生部材を顕
微鏡で観察したところ、レーザ光の照射部に平均孔径3
84μmの孔が開いていることが確認された。また、飛
散物の観察により球面平凸レンズ状の微細片が燃焼によ
り発生して飛散していることが分かった。
When the laser-irradiated gas generating member was observed with a microscope, an average hole diameter of 3 was observed at the laser-irradiated portion.
It was confirmed that a hole of 84 μm was opened. Further, it was found from observation of scattered objects that spherical plano-convex lens-like fine particles were generated and scattered by combustion.

【0093】実施例3 フィルムアプリケーターを使用して、縦24mm×横6
0mm×厚さ125μmのOHP(オーバーヘツドプロ
ジェクタ用)シート上に、実施例1と同様にして3層構
造の膜(密着層、ガス発生層及び被覆層)を形成した。
形成された膜は簡単にOHPシートから剥離可能であっ
たので、OHPシートから剥離した膜について試験し
た。最終的な膜の組成と厚さは、次の通りである。
Example 3 Using a film applicator, length 24 mm × width 6
On a 0 mm × 125 μm thick OHP (for overhead projector) sheet, a film having a three-layer structure (adhesion layer, gas generation layer and coating layer) was formed in the same manner as in Example 1.
The film formed was easily peelable from the OHP sheet, so the film peeled from the OHP sheet was tested. The composition and thickness of the final film are as follows.

【0094】 支持層 ガラス 150μm 密着層 NC/TMETN(6部/4部) 100μm ガス発生層 NC/TMETN/C(6部/4部/1部) 10μm 被覆層 NC/TMETN(6部/4部) 50μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供
し、オシロスコープでデータを得た。透過光のカーブ
は、10回照射中10回とも、図4に示されたのと同様
に激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着火遅
れ時間は374〜400μsの範囲にあり、10回の平
均値は385μsであり、非常に短い着火遅れ時間で激
しい燃焼が高い再現性で得られた。
Support layer Glass 150 μm Adhesion layer NC / TMETN (6 parts / 4 parts) 100 μm Gas generation layer NC / TMETN / C (6 parts / 4 parts / 1 part) 10 μm Coating layer NC / TMETN (6 parts / 4 parts) ) 50 μm The obtained gas generating member was subjected to a laser light irradiation test (1), and data was obtained with an oscilloscope. The curve of the transmitted light rises violently as in the case shown in FIG. 4, and the transmitted light was not attenuated 10 times during the 10th irradiation. The ignition delay time was in the range of 374 to 400 μs, the average value of 10 times was 385 μs, and intense combustion was obtained with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0095】さらに、レーザ光照射したガス発生部材を
顕微鏡で観察したところ、レーザ光の照射部に平均孔径
376μmの孔が開いていることが確認された。また、
飛散物の観察により球面平凸レンズ状の微細片が燃焼に
より発生して飛散していることが分かった。
Further, when the gas generating member irradiated with the laser beam was observed with a microscope, it was confirmed that holes having an average hole diameter of 376 μm were formed in the laser beam irradiated portion. Also,
By observing the scattered matter, it was found that the spherical plano-convex lens-like fine pieces were generated by combustion and scattered.

【0096】実施例4 前記ニトロセルロース(NC)6部、グリシジルアジド
ポリマー(GAP、スリーエム(3M)社製,GAP可
塑剤L−12616,分子量約700)4部、酢酸エチ
ル90部の混合液を、フィルムアプリケーターを使用し
て、縦24mm×横60mm×厚さ150μmのガラス
上に塗布して乾燥し、厚み60μmの密着層を形成し
た。
Example 4 A mixed solution of 6 parts of the nitrocellulose (NC), 4 parts of glycidyl azide polymer (GAP, manufactured by 3M (3M), GAP plasticizer L-12616, molecular weight about 700), and 90 parts of ethyl acetate was added. Using a film applicator, it was applied on a glass having a length of 24 mm × a width of 60 mm × a thickness of 150 μm and dried to form an adhesion layer having a thickness of 60 μm.

【0097】この密着層の表面に、前記ニトロセルロー
ス(NC)6部、グリシジルアジドポリマー(GAP)
4部、およびカーボンブラック(C,三菱カーボンブラ
ックMCF88)1部、及び酢酸エチル90部のガス発
生層用塗布液を塗布し、厚み10〜70μmの範囲で厚
みの異なるガス発生層を形成した。そして、上記と同様
にして着火遅れ時間を測定したところ、表1に示す結果
を得た。
On the surface of this adhesive layer, 6 parts of the nitrocellulose (NC) and glycidyl azide polymer (GAP) were formed.
4 parts, 1 part of carbon black (C, Mitsubishi carbon black MCF88), and 90 parts of ethyl acetate were applied to the gas generation layer coating solution to form gas generation layers having different thicknesses in the range of 10 to 70 μm. When the ignition delay time was measured in the same manner as above, the results shown in Table 1 were obtained.

【0098】[0098]

【表1】 [Table 1]

【0099】実施例5 前記ニトロセルロース(NC)6部、前記グリシジルア
ジドポリマー(GAP)4部、酢酸エチル90部の混合
液を、フィルムアプリケーターを使用して、縦24mm
×横60mm×厚さ150μmのガラス上に塗布して乾
燥し、厚み0〜60μmの範囲で厚みが異なる密着層を
形成した。
Example 5 A mixed solution of 6 parts of the nitrocellulose (NC), 4 parts of the glycidyl azide polymer (GAP) and 90 parts of ethyl acetate was used in a length of 24 mm by using a film applicator.
It was applied on a glass having a width of 60 mm and a thickness of 150 μm and dried to form an adhesive layer having a thickness different from that of 0 to 60 μm.

【0100】この密着層の表面に、前記ニトロセルロー
ス(NC)6部、前記グリシジルアジドポリマー(GA
P)4部、カーボンブラック(C,三菱カーボンブラッ
クMCF88)1部、及び酢酸エチル90部のガス発生
層用塗布液を塗布し、厚み60μmのガス発生層を形成
した。そして、上記と同様にして着火遅れ時間を測定し
たところ、表2に示す結果を得た。
On the surface of this adhesive layer, 6 parts of the nitrocellulose (NC) and the glycidyl azide polymer (GA
P) 4 parts, carbon black (C, Mitsubishi carbon black MCF88) 1 part, and ethyl acetate 90 parts were applied to the gas generating layer coating solution to form a gas generating layer having a thickness of 60 μm. When the ignition delay time was measured in the same manner as above, the results shown in Table 2 were obtained.

【0101】[0101]

【表2】 [Table 2]

【0102】実施例6 [支持体用塗布液]酢酸セルロース(CA、ダイセル化
学工業(株)製,VAC)7部、ジエチルフタレート
(DEP、和光純薬工業(株)製 試薬)3部、酢酸メ
チル(ナカライテスク(株)製)90部を三角フラスコ
に入れ、室温下で、マグネティックスターラーを使用し
て約3時間撹拝した。混合液は無色透明の粘性液体とな
った。撹拌に伴って混入した気泡を除くため、1時間以
上放置した後に、この混合液を使用した。
Example 6 [Support coating liquid] Cellulose acetate (CA, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., VAC) 7 parts, diethyl phthalate (DEP, reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 3 parts, acetic acid 90 parts of methyl (manufactured by Nacalai Tesque, Inc.) was placed in an Erlenmeyer flask and stirred at room temperature for about 3 hours using a magnetic stirrer. The mixed liquid became a colorless and transparent viscous liquid. This mixed solution was used after standing for 1 hour or more in order to remove air bubbles mixed in with stirring.

【0103】[ガス発生部材の作製]フィルムアプリケ
ーターを使用して、縦24mm×横60mm×厚さ15
0μmのガラス板上に、3層構造の膜(支持層、密着
層、ガス発生層)を形成した。支持層は、支持体用塗布
液をガラス上に塗布し、室温下で放置し、乾燥すること
により形成した。密着層は、実施例1で調製した密着層
用塗布液を支持層上に塗布し、室温下で放置し、乾燥す
ることにより形成し、ガス発生層は、実施例1で調製し
たガス発生層用塗布液を密着層上に塗布し、室温下で放
置し、乾燥することにより形成した。形成された膜をガ
ラスから剥離した後に試験に供した。剥離した支持層は
支持体層として機能させた。最終的な各層の組成と厚さ
は、次の通りである。
[Production of Gas Generating Member] Using a film applicator, length 24 mm × width 60 mm × thickness 15
A 3-layer structure film (support layer, adhesion layer, gas generation layer) was formed on a 0 μm glass plate. The support layer was formed by applying the coating solution for a support on glass, allowing it to stand at room temperature, and drying it. The adhesive layer was formed by applying the coating liquid for an adhesive layer prepared in Example 1 on the support layer, leaving it at room temperature and drying it, and the gas generating layer was formed by the gas generating layer prepared in Example 1. It was formed by applying the coating liquid for a coating on the adhesion layer, allowing it to stand at room temperature, and drying. The formed film was peeled from the glass and then subjected to the test. The peeled support layer functions as a support layer. The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0104】 支持層 CA/DEP(7部/3部) 100μm 密着層 NC/TMETN(6部/4部) 30μm エネルギー吸収層 NC/TMETN/C(6部/4部/1部) 40μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供
し、オシロスコープでデータを得たところ、透過光のカ
ーブは、10回照射中10回とも、図4に示されたのと
同様に激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着
火遅れ時間は10回の平均値が455μsであり、非常
に短い着火遅れ時間で激しい燃焼が高い再現性で生じる
ことが確認された。
Supporting layer CA / DEP (7 parts / 3 parts) 100 μm Adhesion layer NC / TMETN (6 parts / 4 parts) 30 μm Energy absorbing layer NC / TMETN / C (6 parts / 4 parts / 1 part) 40 μm Obtained When the gas generating member was subjected to the laser light irradiation test (1) and data was obtained with an oscilloscope, the curve of the transmitted light was sharply raised in 10 times of irradiation, 10 times, as shown in FIG. The transmitted light was not attenuated. The average ignition delay time was 10 times 455 μs, and it was confirmed that violent combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0105】実施例7 [ガス発生部材の作製]フィルムアプリケーターを使用
して、縦24mm×横60mm×厚さ150μmのガラ
ス板上に、3層構造の膜(支持層、密着層、ガス発生
層)を形成した。支持層は、実施例6で調製した支持体
用塗布液をガラス上に塗布し、室温下で放置し、乾燥す
ることにより形成した。密着層は、実施例4で調製した
密着層用塗布液を支持層上に塗布し、室温下で放置し、
乾燥することにより形成し、ガス発生層は、実施例4で
調製したガス発生層用塗布液を密着層上に塗布し、室温
下で放置し、乾燥することにより形成した。形成された
膜はガラスから剥離した後に試験に供した。最終的な各
層の組成と厚さは、次の通りである。
Example 7 [Production of Gas Generating Member] A film having a three-layer structure (support layer, adhesion layer, gas generating layer) was formed on a glass plate having a length of 24 mm, a width of 60 mm and a thickness of 150 μm using a film applicator. ) Was formed. The support layer was formed by applying the support coating solution prepared in Example 6 on glass, leaving it at room temperature, and drying it. For the adhesive layer, the adhesive layer coating liquid prepared in Example 4 was applied onto the support layer and left standing at room temperature,
The gas generating layer was formed by drying, and the gas generating layer was formed by applying the coating liquid for gas generating layer prepared in Example 4 on the adhesion layer, allowing it to stand at room temperature, and drying. The formed film was subjected to a test after being peeled from the glass. The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0106】 支持体の層 CA/DEP(7部/3部) 90μm 密着層 NC/GAP(6部/4部) 20μm ガス発生層 NC/GAP/C(6部/4部/1部) 30μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供
し、オシロスコープでデータを得たところ、透過光のカ
ーブは、10回照射中10回とも、図4に示されたのと
同様に、激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。
着火遅れ時間は10回の平均値が431μsであり、非
常に短い着火遅れ時間で激しい燃焼が高い再現性で生じ
ることが確認された。
Support layer CA / DEP (7 parts / 3 parts) 90 μm Adhesion layer NC / GAP (6 parts / 4 parts) 20 μm Gas generating layer NC / GAP / C (6 parts / 4 parts / 1 part) 30 μm The obtained gas generating member was subjected to a laser light irradiation test (1) and data was obtained with an oscilloscope. As a result, the curve of the transmitted light was the same as that shown in FIG. It rose violently and the transmitted light was not attenuated.
The average ignition delay time was 10 times 431 μs, and it was confirmed that violent combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0107】実施例8 [ガス発生部材の作製]縦24mm×横60mm×厚さ
40μmの二軸延伸ポリプロピレン(OPP)フィルム
(東洋紡績(株)製,パイレンフィルム−OT 品名
P2161)上に、2層構造の膜(密着層及びガス発生
層)を形成した。密着層は、バーコーターを使用して、
ウレタン系接着剤[武田薬品工業(株)製二液混合型ラ
ミネート剤タケラック(主剤A−385と硬化剤A−5
0とを6:1(重量比)で混合した混合物)]を支持体
である二軸延伸ポリプロピレンフィルムの上に塗布し、
80℃で10秒間加熱した後、40℃で1日放置するこ
とにより形成した。ガス発生層は、フィルムアプリケー
ターを使用して、実施例4で調製したガス発生層用塗布
液を密着層上に塗布し、室温下で放置し、乾燥すること
により形成した。最終的な各層の組成と厚さは、次の通
りである。
Example 8 [Production of Gas Generating Member] Biaxially oriented polypropylene (OPP) film having a length of 24 mm × width of 60 mm × thickness of 40 μm (Pyrene Film-OT manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
A film having a two-layer structure (adhesion layer and gas generation layer) was formed on P2161). The adhesion layer uses a bar coater,
Urethane adhesive [Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. mixed two-component type laminating agent Takelac (main agent A-385 and curing agent A-5
A mixture of 0 and 6: 1 (weight ratio)]] on the biaxially oriented polypropylene film as a support,
It was formed by heating at 80 ° C. for 10 seconds and then leaving it at 40 ° C. for 1 day. The gas generating layer was formed by applying the coating liquid for gas generating layer prepared in Example 4 on the adhesion layer using a film applicator, allowing it to stand at room temperature, and drying. The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0108】 支持体 二軸延伸ポリプロピレンフィルム 40μm 密着層 二液混合型ラミネート剤タケラック 1μm ガス発生層 NC/GAP/C(6部/4部/1部) 20μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供し
(但し、レーザー光パワーを1500mWとした)、オ
シロスコープでデータを得たところ、透過光のカーブ
は、10回照射中10回とも、図4に示されたのと同様
に、激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着火
遅れ時間は10回の平均値が408μsであり、非常に
短い着火遅れ時間で激しい燃焼が高い再現性で生じるこ
とが確認された。
Support Biaxially oriented polypropylene film 40 μm Adhesion layer Two-liquid mixing type laminating agent Takelac 1 μm Gas generating layer NC / GAP / C (6 parts / 4 parts / 1 part) 20 μm Laser irradiation of the obtained gas generating member When subjected to the test (1) (however, the laser light power was 1500 mW) and the data was obtained with an oscilloscope, the curve of the transmitted light was the same as that shown in FIG. , And the transmitted light was not attenuated. The average ignition delay time was 10 times 408 μs, and it was confirmed that intense combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0109】実施例9 [ガス発生部材の作製]フィルムアプリケーターを使用
して、縦24mm×横60mm×厚さ75μmのポリエ
チレンテレフタレート(PET)フィルム(帝人デュポ
ンフィルム(株)製,メリネックス 易接着タイプ)上
に、2層構造の膜(密着層及びガス発生層)を形成し
た。密着層は、実施例4で調製した密着層用塗布液をポ
リエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、室温下
で放置し、乾燥することにより形成し、ガス発生層は、
実施例4で調製したガス発生層用塗布液を密着層上に塗
布し、室温下で放置し、乾燥することにより形成した。
最終的な各層の組成と厚さは、次の通りである。
Example 9 [Production of Gas Generating Member] Using a film applicator, a polyethylene terephthalate (PET) film having a length of 24 mm × a width of 60 mm × a thickness of 75 μm (manufactured by Teijin DuPont Films Co., Ltd., Melinex Easy Adhesion Type) A film having a two-layer structure (adhesion layer and gas generation layer) was formed thereon. The adhesive layer was formed by applying the adhesive layer coating liquid prepared in Example 4 on a polyethylene terephthalate film, leaving it at room temperature, and drying it.
The coating liquid for gas generating layer prepared in Example 4 was applied onto the adhesion layer, allowed to stand at room temperature and dried.
The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0110】 支持体 ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム 75μm 密着層 NC/GAP(6部/4部) 10μm ガス発生層 NC/GAP/C(6部/4部/1部) 40μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供し
(但し、レーザー光パワーを1000mWとした)、オ
シロスコープでデータを得たところ、透過光のカーブ
は、10回照射中10回とも、図4に示されたのと同様
に、激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着火
遅れ時間は10回の平均値が423μsであり、非常に
短い着火遅れ時間で激しい燃焼が高い再現性で生じるこ
とが確認された。
Support Polyethylene terephthalate (PET) film 75 μm Adhesion layer NC / GAP (6 parts / 4 parts) 10 μm Gas generating layer NC / GAP / C (6 parts / 4 parts / 1 part) 40 μm Obtained gas generating member Was subjected to the laser light irradiation test (1) (however, the laser light power was 1000 mW) and the data was obtained with an oscilloscope. The curve of the transmitted light was shown in FIG. Similarly to the above, the light stood up sharply and the transmitted light was not attenuated. The average ignition delay time was 10 times 423 μs, and it was confirmed that intense combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0111】実施例10 [密着層/被覆層用塗布液]前記ニトロセルロース8
部、ジブチルフタレート(DBP、ナカライテスク
(株)製,試薬ナカライ一級)2部、酢酸エチル(和光
純薬工業(株)製)90部を三角フラスコに入れ、室温
下で、マグネティックスターラーを使用して約3時間撹
拝した。混合液は無色透明の粘性液体となった。攪拌に
伴って混入した気泡を除くため、1時間以上放置した後
に、この混合液を使用した。
Example 10 [Coating Solution for Adhesion Layer / Coating Layer] Nitrocellulose 8
Part, 2 parts of dibutyl phthalate (DBP, manufactured by Nacalai Tesque, Inc., reagent Nacalai first grade), and 90 parts of ethyl acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are placed in an Erlenmeyer flask, and a magnetic stirrer is used at room temperature. I worshiped for about 3 hours. The mixed liquid became a colorless and transparent viscous liquid. This mixed solution was used after standing for 1 hour or more in order to remove air bubbles mixed in with stirring.

【0112】[ガス発生層用塗布液]カーボンブラック
(C,三菱化学(株)製 三菱カーボンブラック MC
F88 粒子径18nm)1部、酢酸エチル90部を三
角フラスコに入れ、超音波洗浄器を使用して30分間振
動を与えて、カーボンブラックを酢酸エチル中に分散さ
せた。この分散液に、前記ニトロセルロース8部、ジブ
チルフタレート2部をさらに加え、室温下で、マグネテ
ィックスターラーを使用して約3時間撹拝した。混合液
は黒色の粘性液体であり、撹拌に伴って混入した気泡を
除くために1時間以上放置した後に、この混合液を使用
した。
[Coating liquid for gas generating layer] Carbon black (C, Mitsubishi Carbon Black MC manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
F88 (particle diameter 18 nm) (1 part) and ethyl acetate (90 parts) were placed in an Erlenmeyer flask and shaken for 30 minutes using an ultrasonic cleaner to disperse carbon black in ethyl acetate. To this dispersion, 8 parts of nitrocellulose and 2 parts of dibutyl phthalate were further added, and the mixture was stirred at room temperature using a magnetic stirrer for about 3 hours. The mixed liquid was a black viscous liquid, and this mixed liquid was used after being left for 1 hour or more in order to remove bubbles mixed with stirring.

【0113】[ガス発生部材の作製]フィルムアプリケ
ーターを使用して、縦24mm×横60mm×厚さ15
0μmのガラス上に、3層構造の膜(密着層、ガス発生
層及び被覆層)を形成した。密着層は、密着層用塗布液
をガラス上に塗布し、室温下で放置し、乾燥することに
より形成した。ガス発生層は、調製したガス発生層用塗
布液を密着層上に塗布し、室温下で放置し、乾燥するこ
とにより形成し、被覆層は、調製した被覆層用塗布液を
ガス発生層上に塗布し、室温下で放置し、乾燥すること
により形成した。最終的な各層の組成と厚さは、次の通
りである。
[Production of Gas Generating Member] Using a film applicator, length 24 mm × width 60 mm × thickness 15
A 3-layer structure film (adhesion layer, gas generation layer and coating layer) was formed on 0 μm glass. The adhesive layer was formed by applying the adhesive layer coating liquid on glass, allowing it to stand at room temperature, and drying it. The gas generating layer is formed by applying the prepared coating liquid for gas generating layer on the adhesion layer, leaving at room temperature and drying, and the coating layer is prepared by coating the prepared coating liquid for coating layer on the gas generating layer. It was formed by coating the composition on a substrate, leaving it at room temperature, and drying it. The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0114】 支持層 ガラス 150μm 密着層 NC/DBP(8部/2部) 63μm ガス発生層 NC/DBP/C(8部/2部/1部) 16μm 被覆層 NC/DBP〈8部/2部)62μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供し
(但し、レーザー光パワーを1500mWとした)、オ
シロスコープでデータを得たところ、透過光のカーブ
は、10回照射中10回とも、図4に示されたのと同様
に、激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着火
遅れ時間は10回の平均値が575μsであり、非常に
短い着火遅れ時間で激しい燃焼が高い再現性で生じるこ
とが確認された。
Support layer Glass 150 μm Adhesion layer NC / DBP (8 parts / 2 parts) 63 μm Gas generation layer NC / DBP / C (8 parts / 2 parts / 1 part) 16 μm Coating layer NC / DBP <8 parts / 2 parts ) 62 μm The obtained gas generating member was subjected to a laser light irradiation test (1) (however, the laser light power was 1500 mW), and data was obtained with an oscilloscope. The curve of transmitted light was 10 times during 10 times irradiation. In both cases, as in the case shown in FIG. 4, the light rises sharply and the transmitted light is not attenuated. The ignition delay time has an average value of 575 μs for 10 times, and it was confirmed that violent combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0115】実施例11 [ガス発生層用塗布液]カーボンブラック(C,三菱化
学(株)製 三菱カーボンブラック MCF88 粒子
径18nm)1部、酢酸エチル90部を三角フラスコに
入れ、超音波洗浄器を使用して30分間振動を与えて、
カーボンブラックを酢酸エチル中に分散させた。この分
散液に、ニトロセルロース8部、ジブチルフタレート2
部、トリメチレントリニトロアミン(RDX、日本工機
(株)製,アメリカ軍用規格 MIL−DTL−398
D 適合グレード)2部をさらに加え、室温下で、マグ
ネティックスターラーを使用して約3時間攪拌した。混
合液は黒色の粘性液体であり、攪拌に伴って混入した気
泡を除くために1時間以上放置した後に、この混合液を
使用した。
Example 11 [Gas Generating Layer Coating Liquid] 1 part of carbon black (C, Mitsubishi carbon black MCF88 particle size 18 nm manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) and 90 parts of ethyl acetate were placed in an Erlenmeyer flask, and ultrasonic cleaner was used. Give a vibration for 30 minutes using
Carbon black was dispersed in ethyl acetate. Add 8 parts of nitrocellulose and 2 parts of dibutyl phthalate to this dispersion.
Section, trimethylenetrinitroamine (RDX, manufactured by Nippon Koki Co., Ltd., US military standard MIL-DTL-398
2 parts (D compatible grade) was further added, and the mixture was stirred at room temperature using a magnetic stirrer for about 3 hours. The mixed liquid was a black viscous liquid, and this mixed liquid was used after being left for 1 hour or more in order to remove bubbles mixed with stirring.

【0116】[ガス発生部材の作製]フィルムアプリケ
ーターを使用して、縦24mm×横60mm×厚さ15
0μmのガラス上に、3層構造の膜(密着層、ガス発生
層及び被覆層)を形成した。密着層は、実施例10で調
製した密着層用塗布液をガラス上に塗布し、室温下で放
置し、乾燥することにより形成した。ガス発生層は、調
製したガス発生層用塗布液を密着層上に塗布し、室温下
で放置し、乾燥することにより形成し、被覆層は、実施
例10で調製した被覆層用嬢布液をガス発生層上に塗布
し、室温下で放置し、乾燥することにより形成した。最
終的な各層の組成と厚さは、次の通りである。
[Production of Gas Generating Member] Using a film applicator, length 24 mm × width 60 mm × thickness 15
A 3-layer structure film (adhesion layer, gas generation layer and coating layer) was formed on 0 μm glass. The adhesive layer was formed by coating the adhesive layer coating liquid prepared in Example 10 on glass, allowing it to stand at room temperature, and drying it. The gas generating layer is formed by applying the prepared gas generating layer coating liquid on the adhesion layer, leaving it at room temperature and drying, and the coating layer is the coating liquid for coating layer prepared in Example 10. Was applied on the gas generating layer, left standing at room temperature and dried. The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0117】 支持層 ガラス 150μm 密着層 NC/DBP(8部/2部) 60μm ガス発生層 NC/DBP/C/RDX(8部/2部/1部/2部)15μm 被覆層 NC/DBP(8部/2部) 60μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供し
(但し、レーザー光パワーを1200mWとした)、オ
シロスコープでデータを得たところ、透過光のカーブ
は、10回照射中10回とも、図4に示されたのと同様
に、激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着火
遅れ時間は10回の平均値が488μsであり、非常に
短い着火遅れ時間で激しい燃焼が高い再現性で生じるこ
とが確認された。
Support layer Glass 150 μm Adhesion layer NC / DBP (8 parts / 2 parts) 60 μm Gas generation layer NC / DBP / C / RDX (8 parts / 2 parts / 1 part / 2 parts) 15 μm Coating layer NC / DBP ( 8 parts / 2 parts) 60 μm The obtained gas generating member was subjected to a laser light irradiation test (1) (however, the laser light power was 1200 mW) and data was obtained with an oscilloscope. The curve of the transmitted light was 10 As in the case shown in FIG. 4, the ten times during the irradiation of 10 times, the rising was sharp and the transmitted light was not attenuated. The ignition delay time averaged 10 times was 488 μs, and it was confirmed that violent combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0118】実施例12 [ガス発生層用塗布液]カーボンブラック(C,三菱化
学(株)製 三菱カーボンブラック MCF88 粒子
径18nm)1部、酢酸エチル90部を三角フラスコに
入れ、超音波洗浄器を使用して30分間振動を与えて、
カーボンブラックを酢酸エチル中に分散させた。この分
散液に、ニトロセルロース8部、ジブチルフタレート2
部、ニトログアニジン(NQ、中国化薬(株)製 アメ
リカ軍用規格MIL−N−494B適合グレード)3部
をさらに加え、室温下で、マグネティックスターラーを
使用して約3時間撹拌した。混合液は黒色の粘性液体で
あり、撹拌に伴って混入した気泡を除くために1時間以
上放置した後に、この混合液を使用した [ガス発生部材の作製]フィルムアプリケーターを使用
して、縦24mm×横60mm×厚さ150μmのガラ
ス上に、2層構造の膜(密着層、ガス発生層)を形成し
た。密着層は、実施例10で調製した密着層用塗布液を
ガラス上に塗布し、室温下で放置し、乾燥することによ
り形成した。ガス発生層は、調製したガス発生層用塗布
液を密着層上に塗布し、室温下で放置し、乾燥すること
により形成した。最終的な各層の組成と厚さは、次の通
りである。
Example 12 [Coating liquid for gas generating layer] 1 part of carbon black (C, Mitsubishi carbon black MCF88 particle size 18 nm manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) and 90 parts of ethyl acetate were placed in an Erlenmeyer flask, and an ultrasonic cleaner was used. Give a vibration for 30 minutes using
Carbon black was dispersed in ethyl acetate. Add 8 parts of nitrocellulose and 2 parts of dibutyl phthalate to this dispersion.
And 3 parts of nitroguanidine (NQ, US military standard MIL-N-494B compatible grade manufactured by Chugoku Kayaku Co., Ltd.) were further added, and the mixture was stirred at room temperature for about 3 hours using a magnetic stirrer. The mixed liquid is a black viscous liquid, and after leaving it for 1 hour or more to remove air bubbles mixed with stirring, using this mixed liquid, a [gas-producing member] film applicator was used to measure a length of 24 mm. A film having a two-layer structure (adhesion layer, gas generation layer) was formed on glass having a width of 60 mm and a thickness of 150 μm. The adhesive layer was formed by coating the adhesive layer coating liquid prepared in Example 10 on glass, allowing it to stand at room temperature, and drying it. The gas generating layer was formed by applying the prepared coating solution for gas generating layer on the adhesion layer, leaving it at room temperature, and drying. The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0119】 支持層 ガラス 150μm 密着層 NC/DBP(8部/2部) 60μm ガス発生層 NC/DBP/C/NQ(8部/2部/1部/3部) 75μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供し
(但し、レーザー光パワーを1200mWとした)、オ
シロスコープでデータを得たところ、透過光のカーブ
は、10回照射中10回とも、図4に示されたのと同様
に、激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着火
遅れ時間は10回の平均値が503μsであり、非常に
短い着火遅れ時間で激しい燃焼が高い再現性で生じるこ
とが確認された。
Support layer glass 150 μm Adhesion layer NC / DBP (8 parts / 2 parts) 60 μm Gas generation layer NC / DBP / C / NQ (8 parts / 2 parts / 1 part / 3 parts) 75 μm Obtained gas generation member Was subjected to a laser light irradiation test (1) (however, the laser light power was 1200 mW) and data was obtained with an oscilloscope. The curve of the transmitted light was shown in FIG. Similarly to the above, the light stood up sharply and the transmitted light was not attenuated. The average ignition delay time of 10 times was 503 μs, and it was confirmed that intense combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【0120】実施例13 [ガス発生層用塗布液]カーボンブラック(C,三菱化
学(株)製 三菱カーボンブラック MCF88 粒子
径18nm)1部、酢酸エチル90部を三角フラスコに
入れ、超音波洗浄器を使用して30分間振動を与えて、
カーボンブラックを酢酸エチル中に分散させた。この分
散液に、ニトロセルロース8部、ジブチルフタレート2
部、ビテトラゾールジアンモニウム塩(BHT−2NH
3、東洋化成工業(株)製 開発品)3部をさらに加
え、室温下で、マグネティックスターラーを使用して約
3時間撹拌した。混合液は黒色の粘性液体であり、撹拌
に伴って混入した気泡を除くために1時間以上放置した
後に、この混合液を使用した。
Example 13 [Gas generating layer coating solution] 1 part of carbon black (C, Mitsubishi carbon black MCF88 particle size 18 nm manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) and 90 parts of ethyl acetate were placed in an Erlenmeyer flask, and an ultrasonic cleaner was used. Give a vibration for 30 minutes using
Carbon black was dispersed in ethyl acetate. Add 8 parts of nitrocellulose and 2 parts of dibutyl phthalate to this dispersion.
Part, bitetrazole diammonium salt (BHT-2NH
3, 3 parts by Toyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added, and the mixture was stirred at room temperature for about 3 hours using a magnetic stirrer. The mixed liquid was a black viscous liquid, and this mixed liquid was used after being left for 1 hour or more to remove air bubbles mixed in with stirring.

【0121】[ガス発生部材の作製]フィルムアプリケ
ーターを使用して、縦24mm×横60mm×厚さ15
0μmのガラス上に、2層構造の膜(密着層、ガス発生
層)を形成した。密着層は、実施例10で調製した密着
層用塗布液をガラス上に塗布し、室温下で放置し、乾燥
することにより形成した。ガス発生層は、調製したガス
発生層用塗布液を密着層上に塗布し、室温下で放置し、
乾燥することにより形成した。最終的な各層の組成と厚
さは、次の通りである。
[Production of Gas Generating Member] Using a film applicator, length 24 mm × width 60 mm × thickness 15
A two-layer structure film (adhesion layer, gas generation layer) was formed on 0 μm glass. The adhesive layer was formed by coating the adhesive layer coating liquid prepared in Example 10 on glass, allowing it to stand at room temperature, and drying it. The gas generating layer is prepared by coating the prepared gas generating layer coating solution on the adhesion layer and leaving it at room temperature.
It was formed by drying. The final composition and thickness of each layer are as follows.

【0122】 支持層 ガラス 150μm 密着層 NC/DBP(8部/2部) 60μm ガス発生層 NC/DBP/C/BHT-2NH3(8部/2部/1部/3部) 75μm 得られたガス発生部材をレーザ光照射試験(1)に供し
(但し、レーザー光パワーを1200mWとした)、オ
シロスコープでデータを得たところ、透過光のカーブ
は、10回照射中10回とも、図4に示されたのと同様
に、激しく立ち上がり、透過光は減衰しなかった。着火
遅れ時間は10回の平均値が498μsであり、非常に
短い着火遅れ時間で激しい燃焼が高い再現性で生じるこ
とが確認された。
Support layer glass 150 μm Adhesion layer NC / DBP (8 parts / 2 parts) 60 μm Gas generation layer NC / DBP / C / BHT-2NH3 (8 parts / 2 parts / 1 part / 3 parts) 75 μm Obtained gas The generation member was subjected to the laser light irradiation test (1) (however, the laser light power was 1200 mW) and the data was obtained with an oscilloscope. The curve of the transmitted light is shown in FIG. Just as it was done, it rose vigorously and the transmitted light was not attenuated. The ignition delay time was 498 μs on average for 10 times, and it was confirmed that intense combustion occurs with high reproducibility with a very short ignition delay time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は本発明のガス発生部材の一例を示す概略
断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a gas generating member of the present invention.

【図2】図2は本発明のガス発生部材の他の例を示す概
略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the gas generating member of the present invention.

【図3】図3は実施例のレーザ光照射試験に用いた装置
を示す概略図である。
FIG. 3 is a schematic view showing an apparatus used for a laser light irradiation test of an example.

【図4】図4は実施例のレーザ光照射試験で得られた時
間と光量との関係を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between time and light intensity obtained in the laser light irradiation test of the example.

【図5】図5は実施例の水滴飛散試験に用いた装置を示
す概略図である。
FIG. 5 is a schematic view showing an apparatus used for the water droplet scattering test of the example.

【図6】図6は実施例の発生ガス速度測定試験で得られ
た時間と電圧値との関係を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between time and voltage value obtained in the generated gas velocity measurement test of the example.

【符号の説明】 1,11…支持体 2,12…密着層 3,13…ガス発生層 4…被覆層[Explanation of symbols] 1, 11 ... Support 2, 12 ... Adhesion layer 3, 13 ... Gas generating layer 4 ... coating layer

フロントページの続き (72)発明者 米田 幹生 兵庫県姫路市網干区余子浜1903−3Continued front page    (72) Inventor Mikio Yoneda             1903-3 Yogohama, Aboshi-ku, Himeji City, Hyogo Prefecture

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 微小加熱源により微小部位でガスを発生
可能なガス発生部材であって、支持体と、この支持体に
対して密着して形成され、かつ少なくともガス発生剤及
び光吸収剤で構成されたガス発生層とを備えているガス
発生部材。
1. A gas generating member capable of generating gas at a minute portion by a minute heating source, which is formed in close contact with a support, and at least a gas generating agent and a light absorbing agent. A gas generating member comprising a configured gas generating layer.
【請求項2】 レーザ光の照射エネルギーをE1、飛翔
又は飛散物の運動エネルギーをE2としたとき、E2/
E1が0.1〜50である請求項1記載のガス発生部
材。
2. When the irradiation energy of the laser beam is E1 and the kinetic energy of a flying or flying object is E2, E2 /
The gas generating member according to claim 1, wherein E1 is 0.1 to 50.
【請求項3】 密着層により、隣接する支持体とガス発
生層とを密着している請求項1記載のガス発生部材。
3. The gas generating member according to claim 1, wherein the adjacent support and the gas generating layer are in close contact with each other by the adhesion layer.
【請求項4】 レーザ光が透過可能な基材で構成された
支持体と、この支持体の表面に形成された密着層と、こ
の密着層の表面に形成されたガス発生層とを備えてお
り、前記密着層が、光吸収剤を実質的に含まず、支持体
及びガス発生層に対して密着した非光吸収層で構成され
ている請求項1記載のガス発生部材。
4. A support comprising a base material capable of transmitting laser light, an adhesion layer formed on the surface of the support, and a gas generating layer formed on the surface of the adhesion layer. The gas generating member according to claim 1, wherein the adhesive layer is a non-light absorbing layer that does not substantially contain a light absorbing agent and is in close contact with the support and the gas generating layer.
【請求項5】 ガス発生剤が、成膜性を有するポリマー
型ガス発生剤、および低分子又はオリゴマー型ガス発生
剤から選択された少なくとも一種の成分で構成されてい
る請求項1記載のガス発生部材。
5. The gas generating agent according to claim 1, wherein the gas generating agent is composed of at least one component selected from a polymer type gas generating agent having film forming property and a low molecular weight or oligomer type gas generating agent. Element.
【請求項6】 ガス発生剤が、少なくともニトロセルロ
ースを含む請求項1記載のガス発生部材。
6. The gas generating member according to claim 1, wherein the gas generating agent contains at least nitrocellulose.
【請求項7】 ガス発生層の厚みが20μm以上である
請求項1記載のガス発生部材。
7. The gas generating member according to claim 1, wherein the gas generating layer has a thickness of 20 μm or more.
【請求項8】 密着層の厚みが1μm以上である請求項
3記載のガス発生部材。
8. The gas generating member according to claim 3, wherein the adhesion layer has a thickness of 1 μm or more.
【請求項9】 ガス発生層が、ガス発生剤及び光吸収剤
で構成された光吸収層と、この光吸収層上に形成された
被覆層とで構成されている請求項1又は3記載のガス発
生部材。
9. The gas generating layer according to claim 1, wherein the gas generating layer comprises a light absorbing layer composed of a gas generating agent and a light absorbing agent, and a coating layer formed on the light absorbing layer. Gas generating member.
【請求項10】 少なくともガス発生剤及び光吸収剤で
構成され、かつ微小加熱源により微小部位でガスを発生
可能なガス発生剤組成物。
10. A gas generating composition comprising at least a gas generating agent and a light absorbing agent, and capable of generating gas at a minute portion by a minute heating source.
【請求項11】 レーザ光の照射によりガスを発生可能
な組成物であって、成膜性を有するポリマー型ガス発生
剤と、可塑剤及び光吸収剤から選択された少なくとも一
種とで構成された請求項10記載のガス発生剤組成物。
11. A composition capable of generating a gas when irradiated with laser light, which is composed of a polymer-type gas generating agent having film-forming properties and at least one selected from a plasticizer and a light absorber. The gas generant composition according to claim 10.
【請求項12】 ノズルから吐出される液体の流れを断
続的に遮断して液体を塗布する方法であって、レーザ光
及びサーマルヘッドから選択された微小加熱源を作用さ
せて請求項1記載のガス発生部材の微小部位から発生す
るガスにより、流れ方向を変更させて液体を塗布する方
法。
12. A method for applying a liquid by intermittently interrupting the flow of a liquid discharged from a nozzle, wherein a minute heating source selected from a laser beam and a thermal head is operated. A method of applying a liquid by changing the flow direction by a gas generated from a minute portion of a gas generating member.
【請求項13】 レーザ光を照射して支持体側のガス発
生層で着火させ、照射部位に対応するガス発生層の微小
部位でガスを噴出させるとともに、ガス発生層の微小部
位を飛翔させる請求項12記載の方法。
13. A method of irradiating a laser beam to ignite a gas generating layer on the side of a support, ejecting gas at a minute portion of the gas generating layer corresponding to the irradiated portion and flying a minute portion of the gas generating layer. 12. The method according to 12.
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