JP2003146672A - Substrate molding apparatus and middle die for molding - Google Patents

Substrate molding apparatus and middle die for molding

Info

Publication number
JP2003146672A
JP2003146672A JP2001341858A JP2001341858A JP2003146672A JP 2003146672 A JP2003146672 A JP 2003146672A JP 2001341858 A JP2001341858 A JP 2001341858A JP 2001341858 A JP2001341858 A JP 2001341858A JP 2003146672 A JP2003146672 A JP 2003146672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
molding
noble metal
substrate
molds
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001341858A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsutoshi Suenaga
辰敏 末永
Hidenao Kataoka
秀直 片岡
Akihiko Okabe
明彦 岡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP2001341858A priority Critical patent/JP2003146672A/en
Publication of JP2003146672A publication Critical patent/JP2003146672A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/088Flat discs
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/40Product characteristics
    • C03B2215/41Profiled surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/40Product characteristics
    • C03B2215/45Ring or doughnut disc products or their preforms
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate molding die which secures a high releasability irrespective of the presence or absence of a recess, and in which a load of maintenance is reduced. SOLUTION: In a substrate molding apparatus in which a lower die 12 faces an upper die 14, a middle die 21 having a direct molding action is placed on the lower die 12 as a new die element. A through hole 21a is formed in the central part of the middle die 21 in the case of molding a glass substrate 31 with a shaft-shaped projected part 31a. The middle die 21 consists of a noble metal or a noble metal alloy (an alloy essentially consisting of a noble metal) in order to make a releasing layer unnecessary.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プレス成形により
基板を作製するための基板成形装置、および、基板成形
装置に用いられる成形用の中型に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate molding apparatus for manufacturing a substrate by press molding, and a molding medium die used in the substrate molding apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報記録媒体の基板としてガラス
基板の採用が技術動向となっている。情報記録媒体の代
表例の1つに磁気ディスクがある。
2. Description of the Related Art In recent years, the adoption of glass substrates as substrates for information recording media has become a technical trend. A magnetic disk is one of the typical examples of the information recording medium.

【0003】近年、磁気ディスクにおいては、急激な高
記録密度化が進んでいる。磁気ディスク装置において、
高速回転する磁気ディスク上を、記録再生用のヘッドを
僅かに浮上させて走査させることによりランダムアクセ
スを実現している。高記録密度と高速アクセスを両立さ
せるためには、磁気ディスクの回転数を上げることと、
磁気ディスクとヘッドの間隔(ヘッド浮上量)を小さく
することが求められる。磁気ディスクの基板材料は、従
来、アルミニウムにNi‐Pめっきを施した基板が主流
であったが、近年では、高剛性であることから高速回転
させても変形しにくい、表面平滑性の高いガラス基板が
使われるようになってきた。
In recent years, magnetic disks have been rapidly increased in recording density. In the magnetic disk device,
Random access is realized by slightly moving a recording / reproducing head over a magnetic disk that rotates at a high speed for scanning. In order to achieve both high recording density and high-speed access, increase the rotation speed of the magnetic disk,
It is required to reduce the distance between the magnetic disk and the head (head flying height). Conventionally, as a substrate material for a magnetic disk, a substrate made of Ni-P plating on aluminum has been the mainstream, but in recent years, a glass having a high surface smoothness that is hard to be deformed even when rotated at a high speed due to its high rigidity. Substrates have come into use.

【0004】従来より、情報記録媒体用のガラス基板の
製造方法は研磨法であった。それは、所定サイズに切り
抜いた後に、平滑な表面を得るために精密研磨を行うも
のである。
Conventionally, a method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium has been a polishing method. That is, after cutting into a predetermined size, precision polishing is performed to obtain a smooth surface.

【0005】しかし、研磨法は、研磨に極めて高い精度
が要求され、かつ、工程数も多く、得られたガラス基板
が非常に高価であるという問題があった。
However, the polishing method has a problem that extremely high precision is required for polishing, the number of steps is large, and the obtained glass substrate is very expensive.

【0006】そこで、近時は、プレス成形法が採用され
るようになってきている。光学ガラス製品では、プレス
成形法はよく知られているが、情報記録媒体用のガラス
基板の製造に、光学ガラス用のプレス成形法をそのまま
単純に適用することはできない。表面平坦性、表面平滑
度の要求精度が全く違うからである。
Therefore, recently, a press molding method has been adopted. The press molding method is well known for optical glass products, but the press molding method for optical glass cannot be simply applied as it is to the production of a glass substrate for an information recording medium. This is because the required accuracy of surface flatness and surface smoothness is completely different.

【0007】図7は従来の基板成形用金型の概略的構成
を示す断面図である。50は下側の押圧子、51は下側
のヒータブロック、52は下金型、53は胴金型、54
は上金型、55は上側のヒータブロック、56は上側の
押圧子、57はシリンダピストンである。押圧子50上
にヒータブロック51が固定され、ヒータブロック51
上に下金型52が固定されている。下金型52は、金型
基部52aとそれより小径の成形凸部52bとからな
り、成形凸部52bの外周面に外嵌する状態で胴金型5
3が金型基部52aの上面に載置されている。上金型5
4は上側のヒータブロック55の下面に固定され、ヒー
タブロック55は上側の押圧子56の下面に固定され、
押圧子56はシリンダピストン57に取り付けられてい
る。上金型54は、金型基部54aとそれより小径の成
形凸部54bとからなり、成形凸部54bは胴金型53
に対して挿抜自在となっている。上金型54の金型基部
54aの下面が胴金型53の上面53aに当接すること
により、上金型54の下動限界を定めている。
FIG. 7 is a sectional view showing a schematic structure of a conventional substrate molding die. 50 is a lower presser, 51 is a lower heater block, 52 is a lower mold, 53 is a body mold, 54
Is an upper die, 55 is an upper heater block, 56 is an upper pusher, and 57 is a cylinder piston. The heater block 51 is fixed on the presser 50,
A lower mold 52 is fixed on the top. The lower mold 52 is composed of a mold base portion 52a and a molding convex portion 52b having a smaller diameter than that, and is fitted to the outer peripheral surface of the molding convex portion 52b in an externally fitted state.
3 is mounted on the upper surface of the mold base 52a. Upper mold 5
4 is fixed to the lower surface of the upper heater block 55, the heater block 55 is fixed to the lower surface of the upper presser 56,
The pusher 56 is attached to the cylinder piston 57. The upper mold 54 is composed of a mold base portion 54a and a molding convex portion 54b having a diameter smaller than that of the base portion 54a.
It can be inserted and removed freely. The lower surface of the mold base portion 54a of the upper mold 54 is in contact with the upper surface 53a of the body mold 53, so that the lower limit of movement of the upper mold 54 is determined.

【0008】下金型52および上金型54は、その母材
がタングステンカーバイト製となっている。それぞれの
成形凸部52b,54bの表面には離型層58,59が成
膜されている。
The base materials of the lower mold 52 and the upper mold 54 are made of tungsten carbide. Release layers 58 and 59 are formed on the surfaces of the respective molding protrusions 52b and 54b.

【0009】シリンダピストン57のシリンダ(図示せ
ず)が収縮し、シリンダピストン57と一体となって押
圧子56、ヒータブロック55および上金型54の全体
が上動し、型開きが行われた状態で、ガラス素材60を
下金型52の上に載置する。
A cylinder (not shown) of the cylinder piston 57 contracts, and together with the cylinder piston 57, the pressing element 56, the heater block 55, and the upper mold 54 as a whole move upward to perform mold opening. In this state, the glass material 60 is placed on the lower mold 52.

【0010】次いで、シリンダを伸長させ、シリンダピ
ストン57とともに押圧子56、ヒータブロック55お
よび上金型54を下動させる。胴金型53の内周面に案
内させる状態で、上金型54の成形凸部54bを胴金型
53に挿入し、上金型54の成形面54cを、下金型5
2の成形面52c上に載置されているガラス素材60に
当接する。これが、図7の状態である。
Then, the cylinder is extended, and the pressing element 56, the heater block 55 and the upper die 54 are moved downward together with the cylinder piston 57. The molding convex portion 54b of the upper mold 54 is inserted into the body mold 53 while being guided to the inner peripheral surface of the body mold 53, and the molding surface 54c of the upper mold 54 is moved to the lower mold 5.
It comes into contact with the glass material 60 placed on the second molding surface 52c. This is the state shown in FIG.

【0011】ガラス素材60を下金型52と上金型54
とで挟持し比較的小さい力で押圧した状態で、上下のヒ
ータブロック51,55の各ヒータ51a,55aに通電
し、それぞれの発熱により下金型52および上金型54
を昇温し、ガラス素材60を予備的に加熱する。
A glass material 60 is attached to a lower mold 52 and an upper mold 54.
The heaters 51a, 55a of the upper and lower heater blocks 51, 55 are energized in a state of being sandwiched by and pressed with a comparatively small force, and the respective heat generations generate a lower mold 52 and an upper mold 54.
Is heated to preheat the glass material 60.

【0012】この予備加熱によりガラス素材60の温度
がガラス転移点Tgを越えてガラス軟化点Ts近くまで
上昇すると、プレス工程に移る。
When the temperature of the glass material 60 rises above the glass transition point Tg to near the glass softening point Ts by this preheating, the pressing process starts.

【0013】すなわち、シリンダをさらに伸長動作さ
せ、上金型54を胴金型53に案内させる状態でさらに
下動し、図8に示すように、下金型52の成形面52c
と上金型54の成形面54cとでガラス素材60を加熱
加圧する。上金型54の下動は、金型基部54aの下面
が胴金型53の上面53aに当接することで規制され
る。これにより、ガラス素材を平坦平板状のガラス基板
61に成形する。前記の金型基部54aと胴金型53と
の当接がガラス基板61の厚さを決定する。
That is, the cylinder is further extended and further moved downward while the upper die 54 is guided by the body die 53, and as shown in FIG. 8, the molding surface 52c of the lower die 52.
The glass material 60 is heated and pressed by the molding surface 54c of the upper mold 54. The downward movement of the upper die 54 is restricted by the lower surface of the die base 54a contacting the upper surface 53a of the body die 53. As a result, the glass material is formed into the flat flat glass substrate 61. The thickness of the glass substrate 61 is determined by the contact between the mold base 54a and the body mold 53.

【0014】次いで、冷却工程に進む。ヒータブロック
51,55におけるヒータ51a,55aへの通電を遮断
し、ガラス基板61の温度を降下させる。所定温度まで
下がると、型開きを行い、ガラス基板61を取り出す。
Then, the process proceeds to the cooling process. The energization of the heaters 51a and 55a in the heater blocks 51 and 55 is cut off to lower the temperature of the glass substrate 61. When the temperature drops to a predetermined temperature, the mold is opened and the glass substrate 61 is taken out.

【0015】上記において、ガラス素材を高温高圧で加
熱加圧するため、軟化状態にあるガラス素材と金型成形
面とが密着し、ガラス素材が成形面に付着しやすくな
る。その対策として、下金型52および上金型54の成
形凸部52b,54bの表面に離型層58,59を形成し
てある。この離型層58,59がガラス素材60に対す
る成形面を構成しており、加熱加圧状態での成形の後の
離型を容易化している。
In the above, since the glass material is heated and pressed at high temperature and high pressure, the softened glass material and the molding surface of the mold come into close contact with each other, and the glass material easily adheres to the molding surface. As a countermeasure against this, release layers 58 and 59 are formed on the surfaces of the molding protrusions 52b and 54b of the lower mold 52 and the upper mold 54, respectively. The release layers 58 and 59 form a molding surface for the glass material 60, and facilitate the mold release after the molding in the heating and pressing state.

【0016】ところで、近時においては、高記録密度の
ハードディスク用のガラス基板として、図9(a),
(b)に示すように、裏面側中央部に軸状の凸部61a
を一体的に有するディスク状のガラス基板61が用いら
れるようになってきている。
By the way, recently, as a glass substrate for a high recording density hard disk, as shown in FIG.
As shown in (b), a shaft-shaped convex portion 61a is formed at the center on the back surface side.
A disk-shaped glass substrate 61 that integrally has is used.

【0017】このような軸状凸部付きのガラス基板を成
形するための基板成形装置の概略構成を図10に示す。
図7、図8の場合の平坦な成形面をもつ下金型52に代
えて、中央部に凹所62uを有する下金型62を用い
る。
FIG. 10 shows a schematic structure of a substrate molding apparatus for molding a glass substrate having such a shaft-shaped convex portion.
Instead of the lower mold 52 having a flat molding surface in the case of FIGS. 7 and 8, a lower mold 62 having a recess 62u in the center is used.

【0018】この下金型62は、金型基部62aとそれ
より小径の成形凸部62bとを有し、成形凸部62bの
表面の中心部に凹所62uが形成されている。この凹所
62uは、ガラス基板61における軸状凸部61aを成
形するためのものである。成形凸部62bの表面には、
その凹所62uの内表面も含めて離型層63が成膜され
ている。この離型層63は、成形凸部62bの平坦な表
面における表面平坦領域63aと、凹所62uに対応す
る離型層凹所領域63bとを有している。
The lower mold 62 has a mold base portion 62a and a molding convex portion 62b having a smaller diameter than that, and a concave portion 62u is formed at the center of the surface of the molding convex portion 62b. The recess 62u is for molding the shaft-shaped protrusion 61a in the glass substrate 61. On the surface of the molding convex portion 62b,
The release layer 63 is formed including the inner surface of the recess 62u. The release layer 63 has a surface flat region 63a on the flat surface of the molding projection 62b and a release layer recess region 63b corresponding to the recess 62u.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】図7、図8の基板成形
装置の場合、長期使用において、熱劣化、酸化、化学変
化により離型層58,59は劣化したり、剥離したりす
る。そうなると、ガラス基板の高精度、良品質な成形に
支障が生じるので、成形作業を中断し、離型層のメンテ
ナンスを行う必要がある。すなわち、劣化したり一部剥
離した離型層を除去し、新たに離型層を成膜しなければ
ならない。そうなると、生産性が大幅に低下し、製品の
コストアップを招く。
In the case of the substrate forming apparatus shown in FIGS. 7 and 8, the release layers 58 and 59 are deteriorated or peeled off due to thermal deterioration, oxidation or chemical change in long-term use. If this happens, high precision and good quality molding of the glass substrate will be hindered, so it is necessary to interrupt the molding work and perform maintenance of the release layer. That is, it is necessary to remove the mold release layer which is deteriorated or partially peeled, and to newly form a mold release layer. If this happens, the productivity will be significantly reduced and the cost of the product will increase.

【0020】図10に示す凹所62uをもつ下金型62
を有する基板成形装置の場合には、上記のメンテナンス
上の課題に加えて、さらに次のような課題がある。図1
1に示すように、離型層63のうち特に凹所62uに相
当する離型層凹所領域63bでは、その成膜において、
膜厚を均一にすることがむずかしい。
A lower mold 62 having a recess 62u shown in FIG.
In the case of the substrate forming apparatus having the above, there are the following problems in addition to the above problems in maintenance. Figure 1
As shown in FIG. 1, in the release layer recess region 63b corresponding to the recess 62u in the release layer 63, in the film formation,
It is difficult to make the film thickness uniform.

【0021】一般的にはスパッタリングで成膜するが、
ターゲットから表面平坦領域63aまでの距離と離型層
凹所領域63bまでの距離との相違に起因して、離型層
凹所領域63bでは成膜の精度が低いものとなる傾向が
ある。
Generally, the film is formed by sputtering,
Due to the difference between the distance from the target to the surface flat region 63a and the distance to the release layer recess region 63b, the accuracy of film formation tends to be low in the release layer recess region 63b.

【0022】さらに、離型層凹所領域63bにおいて
も、その底面部aと周壁部bとで膜厚が不均一になりや
すい。底面部aと周壁部bとの境界の屈折部分cや周壁
部bと表面平坦領域63aとの境界の屈折部分dでは、
特に形状精度が低下しやすい。
Further, also in the release layer recessed region 63b, the bottom portion a and the peripheral wall portion b are likely to have a non-uniform film thickness. In the refraction portion c at the boundary between the bottom surface portion a and the peripheral wall portion b and the refraction portion d at the boundary between the peripheral wall portion b and the surface flat region 63a,
In particular, the shape accuracy is likely to decrease.

【0023】また、離型層凹所領域63bは表面平坦領
域63aに比べて、強度が劣る傾向があり、長期使用に
おいて、離型層凹所領域63bでの劣化が進みやすい。
Further, the release layer recessed region 63b tends to be inferior in strength as compared with the surface flat region 63a, and deterioration in the release layer recessed region 63b is likely to proceed in long-term use.

【0024】以上の複数の要因のいずれか1つまたはい
ずれかの組み合わせの要因により、ガラス基板61にお
ける軸状凸部61aの形状精度、寸法精度が低いものに
なりやすい。
Due to one or a combination of any of the above plurality of factors, the shape accuracy and dimensional accuracy of the axial convex portion 61a of the glass substrate 61 are likely to be low.

【0025】そして、長期使用においては、特に離型層
凹所領域63bが劣化や剥離を起しやすいが、その場合
には、軸状凸部付きのガラス基板の高精度、良品質な成
形に支障が生じる。特に、軸状凸部の形状精度、寸法精
度が低下すると、情報記録媒体を作製した場合に、その
情報記録媒体における記録/再生の性能に重大な影響が
出る。
In a long-term use, the release layer recessed region 63b is apt to deteriorate or peel off. In such a case, it is possible to form a glass substrate having a shaft-shaped protrusion with high accuracy and good quality. It causes trouble. In particular, when the shape accuracy and the dimensional accuracy of the shaft-shaped convex portion are lowered, when an information recording medium is manufactured, the recording / reproducing performance of the information recording medium is seriously affected.

【0026】軸状凸部の形状や寸法に異常があると、高
速回転する情報記録媒体に振動や波打ち現象が生じやす
い。また、軸状凸部の中心軸がガラス基板表面に対する
正確な法線方向からずれていると、情報記録媒体が歳差
運動(独楽の首振り運動)を起す要因となる。
If the shape and size of the shaft-shaped convex portion are abnormal, the information recording medium rotating at a high speed is likely to be vibrated or corrugated. Further, if the central axis of the axial convex portion deviates from the accurate normal direction to the glass substrate surface, the information recording medium causes a precession movement (swinging movement of the top).

【0027】記録/再生用のヘッドは、高速回転する情
報記録媒体の表面に生じる空気流に浮上し、その浮上に
よって情報記録媒体表面との距離を一定に保つようにな
っている。これを浮上特性というが、情報記録媒体に上
記のような振動、波打ち現象、歳差運動などが生じる
と、ヘッドの浮上特性が悪化する。
The recording / reproducing head floats on the air flow generated on the surface of the information recording medium that rotates at a high speed, and the floating keeps a constant distance from the surface of the information recording medium. This is called the levitation characteristic. When the information recording medium undergoes the above-mentioned vibration, waviness, precession, etc., the levitation characteristic of the head deteriorates.

【0028】浮上の離間距離をスペーシングというが、
浮上特性が悪いと、情報記録媒体の記録密度の向上に制
約を与えることになる。記録密度が高くなるほど、スペ
ーシングが小さくなり、その状態で浮上特性が悪いと、
ヘッドを搭載しているスライダが情報記録媒体に対して
ヒットやクラッシュを生じるおそれがある。
The floating distance is called spacing.
Poor flying characteristics impose restrictions on the improvement of the recording density of the information recording medium. The higher the recording density, the smaller the spacing, and if the flying characteristics are poor in that state,
The slider on which the head is mounted may hit or crash the information recording medium.

【0029】そもそも、ガラス基板に軸状凸部をもたせ
るようになったのは、情報記録媒体の高記録密度化を促
進するためである。そうであるにもかかわらず、情報記
録媒体の構成要素であるガラス基板をプレス成形するた
めの基板成形装置において、上記のような問題を残した
ままであると、究極的に、情報記録媒体の高記録密度化
に大きな制約を与えてしまうことになりかねない。
In the first place, the reason why the glass substrate is provided with the axial convex portion is to promote the high recording density of the information recording medium. Nevertheless, if the above-mentioned problems remain in the substrate molding apparatus for press-molding the glass substrate, which is a component of the information recording medium, the high performance of the information recording medium is ultimately caused. This may impose a great limitation on increasing the recording density.

【0030】本発明は、このような事情に鑑みて創案さ
れたものであり、大局的には凹所の有無には関係なく、
高い離型性を確保しながらも、メンテナンスについての
負担を軽減することができる基板成形用金型を提供する
ことを目的としている。
The present invention was devised in view of such circumstances, and in general, regardless of the presence or absence of a recess,
An object of the present invention is to provide a substrate molding die that can reduce the burden of maintenance while ensuring high mold releasability.

【0031】また、特に軸状凸部を有する基板の製造に
好適な基板成形装置を提供することを目的としている。
It is another object of the present invention to provide a substrate forming apparatus suitable for manufacturing a substrate having a shaft-shaped convex portion.

【0032】[0032]

【課題を解決するための手段】(1)基板成形装置につ
いての本発明は、次のような手段を講じることにより、
上記の課題を解決する。
[Means for Solving the Problems] (1) The present invention with respect to a substrate forming apparatus is achieved by taking the following means.
The above problems are solved.

【0033】互いに対向する一対の金型があり、これら
両金型のうちの一方の金型上に成形用の中型というもの
を設置する。この中型は他方の金型に対向する。そし
て、この中型を貴金属または貴金属を主成分とする合金
で構成する。貴金属を主成分とする合金のことを、以下
では、「貴金属合金」と略記する。中型とこれに対向す
る金型とで成形素材をプレスして基板を成形する。
There is a pair of molds facing each other, and a middle mold for molding is installed on one of these molds. This middle die faces the other die. Then, the medium size is made of a noble metal or an alloy containing the noble metal as a main component. Hereinafter, an alloy containing a noble metal as a main component is abbreviated as “noble metal alloy”. A molding material is pressed by the middle mold and a mold facing the middle mold to mold the substrate.

【0034】従来の技術にあっては、貴金属を主成分と
はしない卑金属の金型母材の表面に離型層を成膜してい
たのに対し、本発明にあっては、貴金属または貴金属合
金からなる中型を採用することにより、離型層の必要性
をなくしている。これにより、離型層を別途に成膜する
ことによる上述した各種の不都合を解消することができ
る。
In the prior art, the release layer was formed on the surface of the base metal of the base metal not containing the noble metal as the main component, whereas in the present invention, the noble metal or the noble metal is formed. By using a medium size alloy, the need for a release layer is eliminated. This can eliminate the above-mentioned various inconveniences caused by separately forming the release layer.

【0035】貴金属または貴金属合金からなる中型は、
その表面に別途に離型層を成膜しなくても、その表面自
体が充分大きな離型性を有している。従来技術の場合
は、金型母材と離型層との複数層構造になっていること
が原因で、両者の熱膨張係数の相違から離型層が剥離し
やすいという課題を有していた。これに対して、貴金属
または貴金属合金からなる中型は、それ自体が離型性を
有していることから、単層構造でもよい。離型層を必要
とせず、したがって、離型層の剥離の問題がない。
The medium type made of a noble metal or noble metal alloy is
Even if a release layer is not separately formed on the surface, the surface itself has a sufficiently large releasability. In the case of the conventional technique, there is a problem that the release layer is easily peeled off due to the difference in thermal expansion coefficient between the mold base material and the release layer. . On the other hand, the middle-sized mold made of a noble metal or a noble metal alloy may have a single layer structure because it has releasability. No release layer is required and therefore there is no problem of release layer peeling.

【0036】貴金属または貴金属合金からなる中型は、
卑金属を主成分とする従来技術の金型母材に比べると、
熱劣化、酸化、化学変化などに対して充分大きな耐性を
有している。
The medium size made of precious metal or precious metal alloy is
Compared with the conventional mold base material containing base metal as the main component,
It has sufficiently high resistance to thermal deterioration, oxidation, chemical changes, etc.

【0037】離型層が剥離したり劣化すると、メンテナ
ンスのために、基板のプレス作業の中断、ならびに、劣
化した離型層の除去の作業、新しい離型層の再成膜の作
業を余儀なくされるが、本発明の場合には、そのような
心配が大幅に減少する。貴金属または貴金属合金の中型
を採用することは初期投資で負担となるが、上記のよう
にメンテナンスフリー性があることから、長期使用にお
いては、生産性の向上および製品コストの低減を図るこ
とができる。
When the release layer is peeled off or deteriorated, the work of pressing the substrate, the work of removing the deteriorated release layer, and the work of re-deposition of a new release layer are inevitable for maintenance. However, in the case of the present invention, such concerns are greatly reduced. Although adopting a medium-sized precious metal or precious metal alloy is a burden for initial investment, it is possible to improve productivity and reduce product cost in long-term use because of its maintenance-free property as described above. .

【0038】(2)別の態様の基板成形装置についての
本発明は、次のような手段を講じることにより、上記の
課題を解決する。
(2) Another embodiment of the substrate forming apparatus according to the present invention is to solve the above problems by taking the following means.

【0039】互いに対向する一対の金型があり、これら
両金型のうちの一方の金型上に中型を設置する。この中
型は他方の金型に対向する。この中型には、成形品であ
る基板に軸状凸部を形成するための凹所が形成されてい
る。さらに、この中型を、その凹所の領域を含めて、貴
金属または貴金属合金(貴金属を主成分とする合金)で
構成する。
There is a pair of molds facing each other, and the middle mold is placed on one of these molds. This middle die faces the other die. The middle mold is formed with a recess for forming a shaft-shaped protrusion on the substrate which is a molded product. Further, the middle die is made of a noble metal or a noble metal alloy (alloy containing noble metal as a main component) including the recessed region.

【0040】中型における凹所は、基板に軸状凸部を一
体的に形成するためのものであるが、この凹所の領域も
含めて貴金属または貴金属合金で中型の全体が作られて
いるのである。軸状凸部の軸方向長さは凹所の深さによ
る。
The recess in the middle die is for integrally forming a shaft-shaped protrusion on the substrate, but since the entire middle die is made of a noble metal or a noble metal alloy including the area of this recess. is there. The axial length of the axial projection depends on the depth of the recess.

【0041】従来技術の場合には、離型層凹所領域での
離型層成膜が不均一膜厚になりやすく、軸状凸部の形状
精度、寸法精度を低くしていたが、本発明の場合には、
凹所を含めて中型の全体が貴金属または貴金属合金であ
るので、離型層は凹所においても不要である。このよう
に、別体の離型層がないことにより、膜厚不均一や境界
屈折部での形状劣化といった問題は生じない。凹所の形
状精度および寸法精度が高く、したがって、軸状凸部の
形状精度および寸法精度を向上することができる。この
ことは、ひいては、成形された基板を用いて情報記録媒
体を作製したときに、良好な浮上特性を得やすくし、も
って、情報記録媒体の高記録密度化に貢献することがで
きる。上記(1)の作用もある。
In the case of the prior art, the release layer film formation in the release layer recessed region tends to have a non-uniform film thickness, and the shape accuracy and the dimensional accuracy of the shaft-shaped convex portion are low. In the case of invention,
Since the entire medium size including the recess is a noble metal or a noble metal alloy, the release layer is unnecessary even in the recess. As described above, since there is no separate release layer, problems such as uneven film thickness and deterioration of shape at the boundary refraction portion do not occur. The shape accuracy and the dimensional accuracy of the recess are high, so that the shape accuracy and the dimensional accuracy of the shaft-shaped convex portion can be improved. This, in turn, makes it easy to obtain good floating characteristics when an information recording medium is manufactured using a molded substrate, and thus contributes to increasing the recording density of the information recording medium. There is also the action of (1) above.

【0042】(3)さらに別の態様の基板成形装置につ
いての本発明は、次のような手段を講じることにより、
上記の課題を解決する。
(3) According to the present invention of a substrate forming apparatus of still another aspect, by taking the following means,
The above problems are solved.

【0043】互いに対向する一対の金型があり、これら
両金型のうちの一方の金型上に中型を設置する。この中
型は他方の金型に対向する。この中型には、成形品であ
る基板に軸状凸部を形成するための貫通孔が、中型を設
置している側の金型の成形面に臨む状態で形成されてい
る。さらに、この中型を、その貫通孔の領域を含めて、
貴金属または貴金属合金(貴金属を主成分とする合金)
で構成する。
There is a pair of molds facing each other, and the middle mold is placed on one of these molds. This middle die faces the other die. A through hole for forming a shaft-shaped convex portion on a substrate, which is a molded product, is formed in the middle mold in a state of facing the molding surface of the mold on the side where the middle mold is installed. Furthermore, this medium size, including the area of the through hole,
Noble metal or noble metal alloy (alloy containing noble metal as main component)
It consists of.

【0044】中型における貫通孔の奥では金型の成形面
が露出し、この貫通孔の領域での金型成形面は基板の軸
状凸部に対する成形面となる。この貫通孔の領域も含め
て貴金属または貴金属合金で中型の全体が作られている
のである。軸状凸部の軸方向長さは貫通孔の深さつまり
は中型の厚さによる。
The molding surface of the mold is exposed in the inner part of the through hole in the middle mold, and the molding surface of the mold in the region of the through hole becomes the molding surface for the shaft-shaped convex portion of the substrate. The entire medium size is made of noble metal or noble metal alloy, including the through hole region. The axial length of the axial convex portion depends on the depth of the through hole, that is, the thickness of the medium size.

【0045】従来技術の場合には、離型層凹所領域での
離型層成膜が不均一膜厚になりやすく、軸状凸部の形状
精度、寸法精度を低くしていたが、本発明の場合には、
貫通孔を含めて中型の全体が貴金属または貴金属合金で
あるので、離型層は貫通孔においても不要である。この
ように、別体の離型層がないことにより、膜厚不均一や
境界屈折部での形状劣化といった問題は生じない。貫通
孔の形状精度および寸法精度が高く、したがって、軸状
凸部の形状精度および寸法精度を向上することができ
る。貫通孔の奥の金型の成形面そのものの材質について
は触れていないが、そこが貴金属または貴金属合金でな
くてもよい。
In the case of the prior art, the release layer film formation in the release layer recessed region is likely to have a non-uniform film thickness, and the shape accuracy and the dimensional accuracy of the axial convex portion are lowered. In the case of invention,
Since the entire medium size including the through holes is a noble metal or noble metal alloy, the release layer is not necessary even in the through holes. As described above, since there is no separate release layer, problems such as uneven film thickness and deterioration of shape at the boundary refraction portion do not occur. The through hole has high shape accuracy and dimensional accuracy, and therefore, the shape accuracy and dimensional accuracy of the shaft-shaped convex portion can be improved. Although the material of the molding surface itself of the die behind the through hole is not mentioned, it does not have to be a noble metal or noble metal alloy.

【0046】高速回転する情報記録媒体に振動や波打ち
現象を生じさせない上で軸状凸部にとって重要なこと
は、その周面の形状精度および寸法精度を充分に高くす
ることであり、軸方向の端面にはそれほどの精度を求め
なくてもよいからである。このことは、ひいては、成形
された基板を用いて情報記録媒体を作製したときに、良
好な浮上特性を得やすくし、もって、情報記録媒体の高
記録密度化に貢献することができる。上記(1)の作用
もある。
What is important for the axial convex portion in order to prevent the information recording medium rotating at a high speed from vibrating or corrugating is to sufficiently enhance the shape accuracy and dimensional accuracy of the peripheral surface of the information recording medium. This is because the end face does not need to be so accurate. This, in turn, makes it easy to obtain good floating characteristics when an information recording medium is manufactured using a molded substrate, and thus contributes to increasing the recording density of the information recording medium. There is also the action of (1) above.

【0047】上記(1)〜(3)のいずれにおいても、
成形すべき基板の仕様変更に応じて、その中型を交換す
ることにより、基板成形装置の本体は複数仕様の基板製
造に対して許容することができ、生産性の向上、および
設備投資の軽減を図ることができる。
In any of the above (1) to (3),
By exchanging the middle mold according to the specification change of the board to be molded, the main body of the board molding machine can be allowed for the manufacture of boards with multiple specifications, improving productivity and reducing capital investment. Can be planned.

【0048】上記(1)〜(3)において好ましい態様
として、中型を構成する貴金属について、次のようにす
ることを挙げることができる。すなわち、イリジウム
(Ir)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウ
ム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(O
s)、レニウム(Re)の群から選ばれた少なくとも1
種の成分を含む貴金属で中型を構成する。
As a preferred embodiment in the above (1) to (3), the following can be mentioned with respect to the noble metal constituting the medium size. That is, iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (O
s), at least 1 selected from the group of rhenium (Re)
The medium size is made up of a precious metal containing seed components.

【0049】これらの貴金属は耐蝕性に優れているとと
もに、充分に高い離型性を有している。
These noble metals are excellent in corrosion resistance and have sufficiently high releasability.

【0050】あるいは、上記(1)〜(3)において好
ましい態様として、中型を構成する貴金属合金につい
て、次のようにすることを挙げることができる。すなわ
ち、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、パラジウム
(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オ
スミウム(Os)、レニウム(Re)の群から選ばれた
少なくとも1種の成分と、クロム(Cr)、アルミニウ
ム(Al)の群から選ばれた少なくとも1種の成分との
組み合わせからなる合金で中型を構成する。
Alternatively, as a preferred embodiment in the above (1) to (3), the following can be mentioned with respect to the noble metal alloy constituting the medium size. That is, at least one component selected from the group of iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os), and rhenium (Re), and chromium. The medium size is made of an alloy composed of a combination of at least one component selected from the group consisting of (Cr) and aluminum (Al).

【0051】上記各成分の貴金属が単独の状態で中型を
構成する場合には、長期使用による貴金属皮膜の肌荒れ
や摩滅の課題がなお残る可能性がある。貴金属にクロム
またはアルミニウムを組み合わせて貴金属合金にする
と、貴金属単独の場合に比べて、貴金属皮膜の肌荒れ、
摩滅を抑制することができる。特に、成形素材がガラス
素材の場合には、ガラス中の水分による酸化が生じる
が、クロムまたはアルミニウムを含む貴金属合金であれ
ば、クロム酸化物単独の場合に比べて靱性が改善され
る。そして、中型成形面の最表面がCrまたはAlの酸
化物で被膜されるため、ガラスに対して優れた離型性を
発揮する。
When the noble metal of each of the above components is used alone to form a medium size, there is a possibility that the problems of roughening and abrasion of the noble metal film due to long-term use may still remain. When chromium or aluminum is combined with a noble metal to form a noble metal alloy, the noble metal film becomes rougher than when noble metal alone is used.
Abrasion can be suppressed. In particular, when the molding material is a glass material, oxidation occurs due to the water content in the glass, but if a precious metal alloy containing chromium or aluminum is used, the toughness is improved as compared with the case where only chromium oxide is used. Since the outermost surface of the medium-sized molding surface is coated with an oxide of Cr or Al, it exhibits excellent releasability with respect to glass.

【0052】上記において、好ましい態様は、さらに、
次のような胴金型を備えていることである。それは、前
記の両金型のいずれか一方の金型に外嵌され、かつ、前
記の中型を内嵌して位置規制し、型締め時に他方の金型
を当接させて位置規制することにより型締め寸法を規定
するものである。下金型、上金型および胴金型の構成は
従来技術でもあるが、ここでは、このような構成の基板
成形装置において、さらに、上記のような中型を追加し
たことを記述している。その中型としては、上記(1)
の平板状のものでもよいし、上記(2)の凹所付きのも
のでもよいし、あるいは上記(3)の貫通孔付きのもの
でもよい。胴金型は、下金型と上金型と中型の三者の相
対位置関係を規定する。また、成形されるべき基板の厚
さを規定する。また、加熱加圧時の熱の逃げを抑え、速
やかな昇温特性を得る。
In the above, the preferred embodiment further comprises
It is equipped with the following body dies. It is fitted on either one of the above-mentioned molds, and the inside mold is fitted inside to regulate the position, and when the mold is clamped, the other mold is brought into contact to regulate the position. It defines the mold clamping dimensions. Although the structures of the lower mold, the upper mold, and the body mold are also conventional techniques, here, it is described that the above-described middle mold is further added to the substrate molding apparatus having such a structure. As the medium size, (1) above
The flat plate-shaped one, the recessed part (2) above, or the through-hole (3) above may be used. The body mold defines the relative positional relationship among the lower mold, the upper mold, and the middle mold. It also defines the thickness of the substrate to be molded. In addition, the escape of heat during heating and pressurization is suppressed, and a rapid temperature rising characteristic is obtained.

【0053】上記において、好ましい態様は、前記の一
対の金型、中型、胴金型の金型部材のうち中型以外の各
金型部材について、その母材の構成材料に言及するもの
である。
In the above, the preferred embodiment refers to the constituent material of the base material of each mold member other than the middle mold among the mold members of the above-mentioned pair of mold, middle mold, and body mold.

【0054】1つの態様として、金型母材を、タングス
テンカーバイト(WC)を主成分とする超硬合金とする
好適例を挙げることができる。この場合、耐蝕性、耐摩
耗性を優れたものにすることができる。
As one embodiment, a preferable example can be given in which the die base material is a cemented carbide containing tungsten carbide (WC) as a main component. In this case, the corrosion resistance and wear resistance can be made excellent.

【0055】もう1つの態様として、金型母材を、チタ
ンナイトライド(TiN)、チタンカーバイド(Ti
C)、クロムカーバイド(Cr32)、アルミナ(Al
23)を主成分とするサーメットとする好適例を挙げる
ことができる。サーメットというのは、セラミックと焼
結金属とからなる複合材料のことである。この場合、耐
蝕性、耐熱性、耐摩耗性を優れたものにすることができ
る。
In another embodiment, the mold base material is made of titanium nitride (TiN) or titanium carbide (Ti).
C), chrome carbide (Cr 3 C 2 ), alumina (Al
A preferred example is a cermet containing 2 O 3 ) as a main component. Cermet is a composite material composed of ceramic and sintered metal. In this case, the corrosion resistance, heat resistance and wear resistance can be made excellent.

【0056】さらにもう1つの態様として、金型母材
を、アルミナ(Al23)、シリコンカーバイド(Si
C)、クロムカーバイド(Cr32)、窒化珪素(Si
34)、窒化硼素(BN)の群から選ばれた少なくとも
1種のセラミックスとする好適例を挙げることができ
る。この場合も、耐蝕性、耐熱性、耐摩耗性を優れたも
のにすることができる。
In still another embodiment, the mold base material is alumina (Al 2 O 3 ) or silicon carbide (Si).
C), chrome carbide (Cr 3 C 2 ), silicon nitride (Si
A preferable example is at least one ceramic selected from the group consisting of 3 N 4 ) and boron nitride (BN). Also in this case, the corrosion resistance, heat resistance and wear resistance can be made excellent.

【0057】上記において、好ましい態様は、前記の一
対の金型について、少なくともその成形面に離型層が形
成されていることを挙げることができる。好適例を挙げ
ることができる。中型については、これを貴金属または
貴金属合金とすることで上記のような課題を上記のよう
に解決するが、一対の金型までも貴金属または貴金属合
金で構成するとなると、コスト的負担が大きくなりすぎ
る。そこで、一対の金型については、これを別材料から
構成し、離型層を成膜することにより、離型性を確保す
る。
In the above, a preferable embodiment is that the mold release layer is formed on at least the molding surface of the pair of molds. Suitable examples can be given. As for the medium-sized mold, the problem as described above is solved by using this as a noble metal or noble metal alloy, but if even the pair of molds is made of noble metal or noble metal alloy, the cost burden becomes too large. . Therefore, with respect to the pair of molds, the mold release properties are ensured by forming these molds from different materials and forming a mold release layer.

【0058】上記において、好ましい態様は、前記の胴
金型について、少なくともその内周面に離型層が形成さ
れていることを挙げることができる。胴金型について
は、これを貴金属または貴金属合金とすることで上記の
ような課題を上記のように解決するが、胴金型までも貴
金属または貴金属合金で構成するとなると、コスト的負
担が大きくなりすぎる。そこで、胴金型については、こ
れを別材料から構成し、離型層を成膜することにより、
離型性を確保する。成形品は必ずしも胴金型によって成
形されるとは限らないが、条件によっては、成形素材が
胴金型に位置規制されて成形の作用を受けることがあ
る。その際の離型性を確保する。
In the above, a preferable embodiment is that the mold layer is formed with a release layer on at least the inner peripheral surface thereof. Regarding the body metal mold, the above problems can be solved by making it a noble metal or a noble metal alloy, but if the body metal mold is also made of a noble metal or noble metal alloy, the cost burden becomes large. Too much. Therefore, for the body mold, by forming it from another material and forming the release layer,
Ensure releasability. The molded product is not always molded by the body mold, but depending on the conditions, the molding material may be positionally regulated by the body mold to be subjected to the molding action. In that case, the releasability is secured.

【0059】上記において、好ましい態様は、一対の金
型または胴金型に対する離型層について、シリコン(S
i)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、チタン(T
i)、ニオブ(Nb)、バナジウム(V)、モリブデン
(Mo)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、イリジ
ウム(Ir)、ロジウム(Rh)、オスミウム(O
s)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、タング
ステン(W)、タンタル(Ta)の群から選ばれた少な
くとも1種の成分から離型層を構成することを挙げるこ
とができる。この場合、優れた離型性を確保することが
できる。
In the above, in a preferred embodiment, the release layer for the pair of molds or the mold is made of silicon (S
i), nickel (Ni), chromium (Cr), titanium (T
i), niobium (Nb), vanadium (V), molybdenum (Mo), platinum (Pt), palladium (Pd), iridium (Ir), rhodium (Rh), osmium (O)
s), ruthenium (Ru), rhenium (Re), tungsten (W), and tantalum (Ta), the release layer may be composed of at least one component selected from the group. In this case, excellent releasability can be secured.

【0060】あるいは、上記において、好ましい態様
は、一対の金型または胴金型の離型層について、シリコ
ン(Si)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、チタ
ン(Ti)、ニオブ(Nb)、バナジウム(V)、モリ
ブデン(Mo)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、
イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)、オスミウム
(Os)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、タ
ングステン(W)、タンタル(Ta)の群から選ばれた
少なくとも1種の成分を主成分とする合金で離型層を構
成することを挙げることができる。この場合、さらに優
れた離型性を確保することができる。
Alternatively, in the above, in a preferred embodiment, silicon (Si), nickel (Ni), chromium (Cr), titanium (Ti), niobium (Nb) is used for the mold release layer of the pair of molds or body molds. , Vanadium (V), molybdenum (Mo), platinum (Pt), palladium (Pd),
Main component is at least one component selected from the group consisting of iridium (Ir), rhodium (Rh), osmium (Os), ruthenium (Ru), rhenium (Re), tungsten (W), and tantalum (Ta). It can be mentioned that the release layer is made of an alloy. In this case, more excellent releasability can be secured.

【0061】あるいは、上記において、好ましい態様
は、一対の金型または胴金型の離型層につき、アルミナ
(Al23)、シリコンカーバイト(SiC)、クロム
カーバイト(Cr32)、窒化珪素(Si34)、窒化
硼素(BN)の群から選ばれた少なくとも1種の成分か
ら離型層を構成することを挙げることができる。これ
も、優れた離型性を確保することができる。
Alternatively, in the above, in a preferred embodiment, alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), chrome carbide (Cr 3 C 2 ) is used for the release layers of the pair of molds or body molds. The release layer may be formed of at least one component selected from the group consisting of silicon nitride (Si 3 N 4 ) and boron nitride (BN). Also in this case, excellent releasability can be secured.

【0062】上記は基板成形装置についての発明であっ
たが、中型単独でも発明を構成している。
Although the above is the invention concerning the substrate molding apparatus, the invention is constituted by the medium size alone.

【0063】中型についての本発明は、次のような手段
を講じることにより、上記の課題を解決する。すなわ
ち、基板成形装置において、その互いに対向する一対の
金型のうちの一方の金型上に設置されて他方の金型に対
向する中型であって、その全体が貴金属または貴金属を
主成分とする合金から構成されている。この中型を採用
することにより、高い離型性を確保しながら、メンテナ
ンスフリー性を実現し、生産性を向上し、コストダウン
を図ることができる。
The present invention for the medium size solves the above-mentioned problems by taking the following means. That is, in the substrate molding apparatus, a middle mold installed on one of a pair of molds facing each other and facing the other mold, the whole of which is made of a noble metal or a noble metal as a main component. Composed of alloy. By adopting this middle-sized mold, it is possible to realize a high mold-releasing property, realize a maintenance-free property, improve productivity, and reduce costs.

【0064】上記において、中型の態様としては、その
中央部に凹所が形成されているものがある。あるいは、
その中央部に貫通孔が形成されているものがある。
In the above, as the mode of the medium size, there is one in which a recess is formed in the central portion. Alternatively,
Some have a through hole formed in the center thereof.

【0065】そして、その中型を構成する母材につい
て、好ましい態様としては、イリジウム(Ir)、白金
(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ル
テニウム(Ru)、オスミウム(Os)、レニウム(R
e)の群から選ばれた少なくとも1種の成分を含む貴金
属から中型を構成することを挙げることができる。
With respect to the base material constituting the medium size, iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os) and rhenium are preferred. (R
The medium size may be constituted by a noble metal containing at least one component selected from the group e).

【0066】あるいは、その中型を構成する母材につい
て、好ましい態様としては、イリジウム(Ir)、白金
(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ル
テニウム(Ru)、オスミウム(Os)、レニウム(R
e)の群から選ばれた少なくとも1種の成分と、クロム
(Cr)、アルミニウム(Al)の群から選ばれた少な
くとも1種の成分との組み合わせからなる合金から構成
することを挙げることができる。
Alternatively, with respect to the base material constituting the medium size, in a preferred embodiment, iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os), rhenium (R
The alloy may be composed of a combination of at least one component selected from the group e) and at least one component selected from the group of chromium (Cr) and aluminum (Al). .

【0067】以上において、本発明は、特に磁気記録媒
体などの情報記録媒体用のガラス基板、特に軸状凸部付
きのガラス基板の製造に好適である。もっとも、軸状凸
部を有しないガラス基板に適用してもよいし、ガラス以
外の材料の基板に適用してもよい。
In the above, the present invention is particularly suitable for manufacturing a glass substrate for an information recording medium such as a magnetic recording medium, particularly a glass substrate having a shaft-shaped convex portion. However, it may be applied to a glass substrate having no axial convex portion or may be applied to a substrate made of a material other than glass.

【0068】[0068]

【発明の実施の形態】以下、本発明にかかわる基板成形
装置の実施の形態について図面に基づいて詳細に説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a substrate molding apparatus according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0069】図1は本発明の実施の形態の基板成形装置
の概略的構成を示す断面図、図2は図1に示す基板成形
装置の要部を拡大して示す断面図である。10は下側の
押圧子、11は下側のヒータブロック、11aはヒータ
ブロック11に埋め込まれたヒータ、12は下金型、1
3は胴金型、14は上金型、15は上側のヒータブロッ
ク、15aはヒータブロック15に埋め込まれたヒー
タ、16は上側の押圧子、17はシリンダピストン、1
8,19,20は離型層、21は中型である。
FIG. 1 is a sectional view showing a schematic structure of a substrate forming apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged sectional view showing an essential part of the substrate forming apparatus shown in FIG. 10 is a lower presser, 11 is a lower heater block, 11a is a heater embedded in the heater block 11, 12 is a lower die, 1
3 is a body mold, 14 is an upper mold, 15 is an upper heater block, 15a is a heater embedded in the heater block 15, 16 is an upper pressing member, 17 is a cylinder piston, 1
8, 19 and 20 are release layers, and 21 is a medium size.

【0070】押圧子10上にヒータブロック11が固定
され、ヒータブロック11上に下金型12が固定されて
いる。下金型12は、金型基部12aとそれより小径の
成形凸部12bとからなり、成形凸部12bの外周面に
外嵌する状態で胴金型13が金型基部12aの上面に載
置されている。上金型14は上側のヒータブロック15
の下面に固定され、ヒータブロック15は上側の押圧子
16の下面に固定され、押圧子16はシリンダピストン
17に取り付けられている。上金型14は、金型基部1
4aとそれより小径の成形凸部14bとからなり、成形
凸部14bは胴金型13に対して挿抜自在となってい
る。上金型14の金型基部14aの下面が胴金型13の
上面13aに当接することにより、上金型14の下動限
界を定めている。下金型12および上金型14は、その
母材がタングステンカーバイト製となっている。それぞ
れの成形凸部12b,14bの表面には離型層18,19
が成膜されている。胴金型13も、その母材がタングス
テンカーバイト製となっており、その内周面には離型層
20が成膜されている。
A heater block 11 is fixed on the pressing element 10, and a lower die 12 is fixed on the heater block 11. The lower mold 12 is composed of a mold base portion 12a and a molding convex portion 12b having a smaller diameter than that, and the body mold 13 is placed on the upper surface of the mold base portion 12a while being fitted onto the outer peripheral surface of the molding convex portion 12b. Has been done. The upper die 14 is the upper heater block 15
The heater block 15 is fixed to the lower surface of the upper pressing element 16, and the pressing element 16 is attached to the cylinder piston 17. The upper mold 14 is the mold base 1
4a and a molding convex portion 14b having a smaller diameter than that, and the molding convex portion 14b can be inserted into and removed from the body metal mold 13. The lower movement limit of the upper mold 14 is determined by the lower surface of the mold base 14a of the upper mold 14 contacting the upper surface 13a of the body mold 13. The base materials of the lower mold 12 and the upper mold 14 are made of tungsten carbide. Release layers 18, 19 are formed on the surfaces of the respective molding protrusions 12b, 14b.
Is deposited. The body material of the body die 13 is also made of tungsten carbide, and the release layer 20 is formed on the inner peripheral surface thereof.

【0071】上記のような構成の基板成形装置におい
て、本発明のこの実施の形態は、新たな構成要素として
の貴金属または貴金属合金の中型21を用意し、この中
型21を胴金型13の内側において下金型12の成形面
12cの上面に載置させている。
In this embodiment of the present invention, in the substrate forming apparatus having the above-described structure, the middle mold 21 of the noble metal or the noble metal alloy is prepared as a new component, and the middle mold 21 is placed inside the body mold 13. In, the lower mold 12 is placed on the upper surface of the molding surface 12c.

【0072】図3に中型21の形状を示す。図3(a)
は平面図、図3(b)は断面図、図3(c)は斜視図で
ある。この中型21は、その中心部に上下に貫通する貫
通孔21aが形成されている。中型21は、下金型12
の成形面12c上に載置されているが、貫通孔21aに
おいて下金型12の成形面12cが露出している。その
成形面12cは離型層18の表面である。
FIG. 3 shows the shape of the middle die 21. Figure 3 (a)
Is a plan view, FIG. 3 (b) is a sectional view, and FIG. 3 (c) is a perspective view. The middle die 21 has a through hole 21a formed at the center thereof so as to vertically pass therethrough. The middle die 21 is the lower die 12
However, the molding surface 12c of the lower mold 12 is exposed in the through hole 21a. The molding surface 12c is the surface of the release layer 18.

【0073】下金型12、上金型14および胴金型13
については、その金型母材として、次のものを挙げるこ
とができる。
Lower mold 12, upper mold 14 and body mold 13
For, the following can be cited as the mold base material.

【0074】(a)タングステンカーバイト(WC)を
主成分とする超硬合金。
(A) A cemented carbide whose main component is tungsten carbide (WC).

【0075】(b)チタンナイトライド(TiN)、チ
タンカーバイド(TiC)、クロムカーバイド(Cr3
2)、アルミナ(Al23)を主成分とするサーメッ
ト。
(B) Titanium nitride (TiN), titanium carbide (TiC), chrome carbide (Cr 3)
C 2 ), a cermet containing alumina (Al 2 O 3 ) as a main component.

【0076】(c)アルミナ(Al23)、シリコンカ
ーバイド(SiC)、クロムカーバイド(Cr32)、
窒化珪素(Si34)、窒化硼素(BN)の群から選ば
れた少なくとも1種のセラミックス。
(C) Alumina (Al 2 O 3 ), Silicon Carbide (SiC), Chromium Carbide (Cr 3 C 2 ),
At least one ceramic selected from the group consisting of silicon nitride (Si 3 N 4 ) and boron nitride (BN).

【0077】下金型12、上金型14および胴金型13
にはそれぞれ離型層18,19,20が成膜されている
が、その離型層として、次のものを挙げることができ
る。
Lower die 12, upper die 14 and body die 13
Releasing layers 18, 19 and 20 are formed on each of the above. The releasing layers include the following.

【0078】(a)シリコン(Si)、ニッケル(N
i)、クロム(Cr)、チタン(Ti)、ニオブ(N
b)、バナジウム(V)、モリブデン(Mo)、白金
(Pt)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、
ロジウム(Rh)、オスミウム(Os)、ルテニウム
(Ru)、レニウム(Re)、タングステン(W)、タ
ンタル(Ta)の群から選ばれた少なくとも1種の成
分。
(A) Silicon (Si), nickel (N
i), chromium (Cr), titanium (Ti), niobium (N
b), vanadium (V), molybdenum (Mo), platinum (Pt), palladium (Pd), iridium (Ir),
At least one component selected from the group consisting of rhodium (Rh), osmium (Os), ruthenium (Ru), rhenium (Re), tungsten (W), and tantalum (Ta).

【0079】(b)シリコン(Si)、ニッケル(N
i)、クロム(Cr)、チタン(Ti)、ニオブ(N
b)、バナジウム(V)、モリブデン(Mo)、白金
(Pt)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、
ロジウム(Rh)、オスミウム(Os)、ルテニウム
(Ru)、レニウム(Re)、タングステン(W)、タ
ンタル(Ta)の群から選ばれた少なくとも1種の成分
を主成分とする合金。
(B) Silicon (Si), nickel (N
i), chromium (Cr), titanium (Ti), niobium (N
b), vanadium (V), molybdenum (Mo), platinum (Pt), palladium (Pd), iridium (Ir),
An alloy containing as a main component at least one component selected from the group consisting of rhodium (Rh), osmium (Os), ruthenium (Ru), rhenium (Re), tungsten (W), and tantalum (Ta).

【0080】(c)アルミナ(Al23)、シリコンカ
ーバイト(SiC)、クロムカーバイト(Cr32)、
窒化珪素(Si34)、窒化硼素(BN)の群から選ば
れた少なくとも1種の成分。
(C) Alumina (Al 2 O 3 ), Silicon Carbide (SiC), Chrome Carbide (Cr 3 C 2 ),
At least one component selected from the group consisting of silicon nitride (Si 3 N 4 ) and boron nitride (BN).

【0081】離型層はスパッタリング法などにより成膜
され、その膜厚は、0.2〜1.5μm、好ましくは、
0.5μm前後である。
The release layer is formed by a sputtering method or the like, and the thickness thereof is 0.2 to 1.5 μm, preferably
It is around 0.5 μm.

【0082】中型21については、それを貴金属で構成
する場合には、その貴金属として、次のものを挙げるこ
とができる。
When the middle die 21 is made of a noble metal, the following can be given as the noble metal.

【0083】(a)イリジウム(Ir)、白金(P
t)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニ
ウム(Ru)、オスミウム(Os)、レニウム(Re)
の群から選ばれた少なくとも1種の成分を含む貴金属。
(A) Iridium (Ir), platinum (P
t), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os), rhenium (Re)
A noble metal containing at least one component selected from the group of.

【0084】あるいは、中型21について、それを貴金
属合金で構成する場合には、その貴金属合金として、次
のものを挙げることができる。
Alternatively, when the middle die 21 is made of a noble metal alloy, the following can be given as the noble metal alloy.

【0085】(b)イリジウム(Ir)、白金(P
t)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニ
ウム(Ru)、オスミウム(Os)、レニウム(Re)
の群から選ばれた少なくとも1種の成分と、クロム(C
r)、アルミニウム(Al)の群から選ばれた少なくと
も1種の成分との組み合わせからなる合金。
(B) Iridium (Ir), platinum (P
t), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os), rhenium (Re)
At least one component selected from the group of
r), an alloy composed of a combination with at least one component selected from the group of aluminum (Al).

【0086】次に、以上のように構成された実施の形態
の基板成形装置の動作を説明する。
Next, the operation of the substrate forming apparatus according to the embodiment configured as described above will be described.

【0087】シリンダピストン17のシリンダ(図示せ
ず)が収縮し、シリンダピストン17と一体となって押
圧子16、ヒータブロック15および上金型14の全体
が上動し、型開きが行われた状態で(図2の二点鎖線の
状態を参照)、球状のガラス素材30を中型21の上に
載置する。このとき、中型21の中心部における貫通孔
21aにガラス素材30の一部を落とし込むようにす
る。
A cylinder (not shown) of the cylinder piston 17 contracts, and together with the cylinder piston 17, the pressing element 16, the heater block 15 and the upper die 14 are entirely moved upward to open the die. In this state (see the state of the chain double-dashed line in FIG. 2), the spherical glass material 30 is placed on the middle mold 21. At this time, a part of the glass material 30 is dropped into the through hole 21a in the center of the middle die 21.

【0088】次いで、シリンダを伸長させ、シリンダピ
ストン17とともに押圧子16、ヒータブロック15お
よび上金型14を下動させる。胴金型13の内周面に案
内させる状態で、上金型14の成形凸部14bを胴金型
13に挿入し、上金型14の離型層19の表面である成
形面14cを、中型21上に載置されているガラス素材
30に当接する。これが、図1、図2実線の状態であ
る。
Next, the cylinder is extended, and the pusher 16, the heater block 15 and the upper die 14 are moved downward together with the cylinder piston 17. The molding convex portion 14b of the upper mold 14 is inserted into the body mold 13 while being guided to the inner peripheral surface of the body mold 13, and the molding surface 14c which is the surface of the release layer 19 of the upper mold 14 is It contacts the glass material 30 placed on the middle mold 21. This is the state shown by the solid lines in FIGS.

【0089】ガラス素材30を中型21と上金型14と
で比較的小さい力で押圧した状態で、上下のヒータブロ
ック11,15の各ヒータに通電し、それぞれの発熱に
より下金型12、中型21および上金型14を昇温し、
ガラス素材30を予備的に加熱する。
While the glass material 30 is pressed by the middle mold 21 and the upper mold 14 with a comparatively small force, each heater of the upper and lower heater blocks 11 and 15 is energized, and the respective heat generation causes the lower mold 12 and the middle mold. 21 and the upper mold 14 are heated,
The glass material 30 is preliminarily heated.

【0090】この予備加熱によりガラス素材30の温度
がガラス転移点Tgを越えてガラス軟化点Ts近くまで
上昇すると、プレス工程に移る。
When the temperature of the glass material 30 exceeds the glass transition point Tg to near the glass softening point Ts by this preheating, the pressing step is started.

【0091】すなわち、シリンダをさらに伸長動作さ
せ、上金型14を胴金型13に案内させる状態でさらに
下動し、図4に示すように、中型21の成形面21bと
上金型14の成形面14cとで挟持した状態でガラス素
材30を加熱加圧する。上金型14の下動は、金型基部
14aの下面が胴金型13の上面13aに当接すること
で規制される。これにより、ガラス素材30を軸状凸部
31a付きのガラス基板31に成形する。前記の金型基
部14aと胴金型13との当接がガラス基板31の厚さ
を決定する。
That is, the cylinder is further extended and further moved downward with the upper mold 14 being guided by the body mold 13, and as shown in FIG. 4, the molding surface 21b of the middle mold 21 and the upper mold 14 are separated. The glass material 30 is heated and pressed while being sandwiched by the molding surface 14c. The downward movement of the upper mold 14 is restricted by the lower surface of the mold base 14a contacting the upper surface 13a of the body mold 13. As a result, the glass material 30 is formed into the glass substrate 31 with the shaft-shaped convex portions 31a. The contact between the mold base 14a and the body mold 13 determines the thickness of the glass substrate 31.

【0092】より具体的には、図5に示すように、加熱
によって軟化したガラス素材30が加圧力により中型2
1の貫通孔21aに押し込まれ、貫通孔21aの形状に
倣って成形されていく。
More specifically, as shown in FIG. 5, the glass material 30 softened by heating is pressed by the medium size 2
It is pushed into the first through hole 21a and is shaped in accordance with the shape of the through hole 21a.

【0093】貫通孔21aにおいては、従来技術とは異
なり、離型層はなく、離型層の膜厚不均一といった問題
もない。貴金属または貴金属合金で作製された中型21
は、その表面の成形面21bにおいても、貫通孔21a
の内周面21a1においても、それを構成している貴金
属または貴金属合金が直にガラス素材30に接触してい
る。ここでは、離型層の劣化や剥離の問題は生じない。
長期使用においても、貫通孔21aの内周面21a1
は劣化や剥離は生じない。貫通孔21aの内周面21a
1の下端における屈折部分eや内周面21a1と表面の
成形面21bとの境界の屈折部分fは、長期使用におい
ても、その直角の本来の形状精度を維持する。したがっ
て、軸状凸部31a付きのガラス基板31をプレス成形
するにおいて、軸状凸部31aの形状精度および寸法精
度を高精度に維持することができる。
Unlike the prior art, there is no release layer in the through hole 21a, and there is no problem of nonuniform film thickness of the release layer. Medium size 21 made of precious metal or precious metal alloy
Through the through hole 21a even on the molding surface 21b of the surface.
Also on the inner peripheral surface 21a 1 of the above, the noble metal or the noble metal alloy forming the same directly contacts the glass material 30. Here, the problem of deterioration and peeling of the release layer does not occur.
Even after long-term use, the inner peripheral surface 21a 1 of the through hole 21a does not deteriorate or peel off. Inner peripheral surface 21a of the through hole 21a
The refraction portion e at the lower end of 1 and the refraction portion f at the boundary between the inner peripheral surface 21a1 and the surface molding surface 21b maintain the original shape accuracy of the right angle thereof even in long-term use. Therefore, in press-molding the glass substrate 31 with the shaft-shaped protrusions 31a, the shape accuracy and the dimensional accuracy of the shaft-shaped protrusions 31a can be maintained with high accuracy.

【0094】上記のプレス工程が終了すると、次いで、
冷却工程に進む。ヒータブロック11,15におけるヒ
ータ11a,15aへの通電を遮断し、軸状凸部31a
付きのガラス基板31の温度を降下させる。所定温度ま
で下がると、型開きを行い、ガラス基板31を取り出
す。
When the above pressing process is completed, then,
Proceed to the cooling process. Energization to the heaters 11a and 15a in the heater blocks 11 and 15 is cut off, and the shaft-shaped convex portion 31a
The temperature of the attached glass substrate 31 is lowered. When the temperature drops to a predetermined temperature, the mold is opened and the glass substrate 31 is taken out.

【0095】なお、上記の実施の形態においては、中型
21として貫通孔21aを有する場合を説明したが、本
発明は必ずしもこれのみに限定されるものではなく、他
の形態の中型であってもよい。例えば、図6(a)に示
すように、貫通孔に代えて、底のある凹所22aが中央
部に形成された中型22を用いるのでもよいし、あるい
は、図6(b)に示すように、全面平坦な中型23を用
いるのでもよい。そして、これら複数種類の中型を、成
形されるべきガラス基板の仕様に応じて交換するように
すると、基板成形装置の本体については、これを共用す
ることができる。
In the above embodiment, the case where the through hole 21a is provided as the middle die 21 has been described, but the present invention is not necessarily limited to this, and the middle die may have other forms. Good. For example, as shown in FIG. 6 (a), instead of the through hole, a middle mold 22 having a recess 22a with a bottom formed in the center may be used, or as shown in FIG. 6 (b). Alternatively, the middle mold 23 having a flat surface may be used. Then, if the plurality of types of medium molds are exchanged according to the specifications of the glass substrate to be molded, this can be shared by the main body of the substrate molding apparatus.

【0096】なお、上記の説明では上金型14を上下動
させるように構成したが、これに代えて、下金型12お
よび中型21の方を上動させてもよいし、あるいは、上
下の金型を接近離間させてもよい。
In the above description, the upper mold 14 is configured to move up and down, but instead of this, the lower mold 12 and the middle mold 21 may be moved up, or the upper and lower molds may be moved up and down. The molds may be separated from each other.

【0097】また、上記説明では、基板材料をガラスと
したが、必ずしも限定するものではなく、樹脂などであ
ってもよい。
In the above description, the substrate material is glass, but the material is not limited to this and may be resin or the like.

【0098】[0098]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、卑金属
に比べて離型性に優れた貴金属または貴金属合金からな
る中型を新たに採用したことにより、離型層にかかわる
劣化、剥離などの様々な問題を解消し、メンテナンスフ
リー性を高めることができ、その結果として、長期使用
において、生産性の向上と製品コストの低減とを図るこ
とができる。
As described above, according to the present invention, by adopting a new medium size mold made of a noble metal or a noble metal alloy, which is more excellent in releasability than a base metal, deterioration, peeling, etc. relating to the release layer, etc. It is possible to solve the various problems described above and improve the maintenance-free property, and as a result, it is possible to improve the productivity and reduce the product cost in long-term use.

【0099】そして、この場合に、特に、軸状凸部付き
の基板を成形するための貫通孔または凹所を有する中型
を貴金属または貴金属合金で作製すれば、軸状凸部の形
状精度および寸法精度を充分に高いものにできる。この
ことは、その軸付きの基板を情報記録媒体に使用した場
合に、記録/再生用のヘッドの良好な浮上特性に寄与で
き、結果として、情報記録媒体の高記録密度化に貢献で
きる。
In this case, in particular, if the middle die having the through hole or the recess for molding the substrate with the axial convex portion is made of the noble metal or the noble metal alloy, the shape accuracy and the size of the axial convex portion are increased. The accuracy can be sufficiently high. This can contribute to good flying characteristics of the recording / reproducing head when the substrate with the axis is used for the information recording medium, and as a result, to high recording density of the information recording medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施の形態における基板成形装置の
概略構成を示す断面図
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a substrate molding apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示す基板成形装置における要部を示す
断面図
2 is a cross-sectional view showing a main part of the substrate forming apparatus shown in FIG.

【図3】 本発明の実施の形態における基板成形装置の
中型を示す平面図、断面図および斜視図
FIG. 3 is a plan view, a cross-sectional view, and a perspective view showing a middle mold of the substrate molding apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態における基板成形装置の
動作を示す断面図
FIG. 4 is a sectional view showing the operation of the substrate molding apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図5】 図4に示す基板成形装置の中型における貫通
孔の領域を拡大して示す断面図
5 is an enlarged cross-sectional view showing a region of a through hole in the middle die of the substrate forming apparatus shown in FIG.

【図6】 本発明における中型の他の実施の形態の概略
説明図
FIG. 6 is a schematic explanatory view of another embodiment of the medium size according to the present invention.

【図7】 従来の技術における基板成形装置の概略構成
を示す断面図
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a substrate forming apparatus according to a conventional technique.

【図8】 従来の技術における基板成形装置の動作を示
す断面図
FIG. 8 is a cross-sectional view showing an operation of a substrate forming apparatus according to a conventional technique.

【図9】 軸状凸部付きの基板を示す側面図および斜視
FIG. 9 is a side view and a perspective view showing a substrate with an axial convex portion.

【図10】 従来の技術における軸状凸部付きの基板を
成形する基板成形装置の概略構成を示す断面図
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a substrate molding apparatus for molding a substrate with a shaft-shaped convex portion in a conventional technique.

【図11】 図10に示す基板成形装置において離型層
凹所領域を拡大して示す断面図
11 is an enlarged cross-sectional view showing a release layer recessed region in the substrate molding apparatus shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 下側の押圧子 11 下側のヒータブロック 12 下金型 13 胴金型 14 上金型 15 上側のヒータブロック 16 上側の押圧子 17 シリンダピストン 18,19,20 離型層 21 中型 21a 貫通孔 10 Lower pusher 11 Lower heater block 12 Lower mold 13 Body mold 14 Upper mold 15 Upper heater block 16 Upper pusher 17 cylinder piston 18, 19, 20 Release layer 21 Medium 21a through hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片岡 秀直 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 岡部 明彦 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 Fターム(参考) 5D121 AA02 DD04 DD18    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hidenao Kataoka             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Akihiko Okabe             1-1 Tanabe Nitta, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa             Within Fuji Electric Co., Ltd. F-term (reference) 5D121 AA02 DD04 DD18

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに対向する一対の金型と、前記両金
型のうちの一方の金型上に設置されて他方の金型に対向
する中型とを備え、前記中型が貴金属または貴金属を主
成分とする合金から構成されていることを特徴とする基
板成形装置。
1. A pair of molds facing each other and a middle mold installed on one of the molds and facing the other mold, wherein the middle mold is made of a noble metal or a noble metal. A substrate forming apparatus comprising an alloy as a component.
【請求項2】 互いに対向する一対の金型と、前記両金
型のうちの一方の金型上に設置されて他方の金型に対向
する中型とを備え、前記中型には凹所が形成されてお
り、さらに、前記中型が貴金属または貴金属を主成分と
する合金から構成されていることを特徴とする基板成形
装置。
2. A pair of molds facing each other and a middle mold installed on one of the molds and facing the other mold, wherein a recess is formed in the middle mold. The substrate forming apparatus is characterized in that the middle die is made of a noble metal or an alloy containing a noble metal as a main component.
【請求項3】 互いに対向する一対の金型と、前記両金
型のうちの一方の金型上に設置されて他方の金型に対向
する中型とを備え、前記中型にはその中型を設置してい
る側の金型の成形面に臨む貫通孔が形成されており、さ
らに、前記中型が貴金属または貴金属を主成分とする合
金から構成されていることを特徴とする基板成形装置。
3. A pair of molds facing each other, and a middle mold installed on one of the molds and facing the other mold, wherein the middle mold is provided with the middle mold. A through-hole that faces the molding surface of the die on the side where the metal mold is formed is formed, and the middle die is made of a noble metal or an alloy containing a noble metal as a main component.
【請求項4】 前記中型は、それを構成する貴金属が、
イリジウム(Ir)、白金(Pt)、パラジウム(P
d)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミ
ウム(Os)、レニウム(Re)の群から選ばれた少な
くとも1種の成分を含む貴金属である請求項1から請求
項3までのいずれかに記載の基板成形装置。
4. The noble metal composing the medium-sized mold is composed of:
Iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (P
d), a noble metal containing at least one component selected from the group of rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os), and rhenium (Re), according to any one of claims 1 to 3. The substrate forming apparatus described.
【請求項5】 前記中型は、それを構成する合金が、イ
リジウム(Ir)、白金(Pt)、パラジウム(P
d)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミ
ウム(Os)、レニウム(Re)の群から選ばれた少な
くとも1種の成分と、クロム(Cr)、アルミニウム
(Al)の群から選ばれた少なくとも1種の成分との組
み合わせからなる合金である請求項1から請求項3まで
のいずれかに記載の基板成形装置。
5. The medium-sized alloy is composed of iridium (Ir), platinum (Pt), and palladium (P).
d), at least one component selected from the group of rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os) and rhenium (Re), and selected from the group of chromium (Cr) and aluminum (Al). The substrate forming apparatus according to any one of claims 1 to 3, which is an alloy composed of a combination with at least one component.
【請求項6】 さらに、前記両金型のいずれか一方の金
型に外嵌され、かつ、前記中型を内嵌して位置規制し、
型締め時に他方の金型を当接させて位置規制することに
より型締め寸法を規定する胴金型を備えている請求項1
から請求項5までのいずれかに記載の基板成形装置。
6. A position is regulated by being fitted on one of the two molds and fitted on the middle mold.
2. A body mold for defining a mold clamping size by abutting the other mold during mold clamping to regulate its position.
The substrate forming apparatus according to any one of claims 1 to 5.
【請求項7】 前記一対の金型、中型、胴金型の金型部
材のうち前記中型以外の各金型部材は、その母材が、タ
ングステンカーバイト(WC)を主成分とする超硬合金
である請求項1から請求項6までのいずれかに記載の基
板成形装置。
7. A base material of each of the mold members other than the middle mold among the mold members of the pair of molds, the middle mold, and the body mold is a cemented carbide containing tungsten carbide (WC) as a main component. The substrate forming apparatus according to any one of claims 1 to 6, which is an alloy.
【請求項8】 前記一対の金型、中型、胴金型の金型部
材のうち前記中型以外の各金型部材は、その母材が、チ
タンナイトライド(TiN)、チタンカーバイド(Ti
C)、クロムカーバイド(Cr32)、アルミナ(Al
23)を主成分とするサーメットである請求項1から請
求項6までのいずれかに記載の基板成形装置。
8. Among the mold members of the pair of molds, the middle mold, and the body mold, each mold member other than the middle mold has a base material of titanium nitride (TiN) or titanium carbide (Ti).
C), chrome carbide (Cr 3 C 2 ), alumina (Al
The substrate forming apparatus according to claim 1, which is a cermet containing 2 O 3 ) as a main component.
【請求項9】 前記一対の金型、中型、胴金型の金型部
材のうち前記中型以外の各金型部材は、その母材が、ア
ルミナ(Al23)、シリコンカーバイド(SiC)、
クロムカーバイド(Cr32)、窒化珪素(Si
34)、窒化硼素(BN)の群から選ばれた少なくとも
1種のセラミックスである請求項1から請求項6までの
いずれかに記載の基板成形装置。
9. A mold member other than the middle mold among the mold members of the pair of mold, middle mold, and body mold, whose base material is alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC) ,
Chromium Carbide (Cr 3 C 2 ), Silicon Nitride (Si
The substrate forming apparatus according to any one of claims 1 to 6, which is at least one ceramic selected from the group consisting of 3 N 4 ) and boron nitride (BN).
【請求項10】 前記一対の金型は、少なくともその成
形面に離型層が形成されている請求項1から請求項9ま
でのいずれかに記載の基板成形装置。
10. The substrate molding apparatus according to claim 1, wherein a mold release layer is formed on at least the molding surface of the pair of molds.
【請求項11】 前記胴金型は、少なくともその内周面
に離型層が形成されている請求項1から請求項10まで
のいずれかに記載の基板成形装置。
11. The substrate forming apparatus according to claim 1, wherein a release layer is formed on at least an inner peripheral surface of the body die.
【請求項12】 前記離型層は、その構成材料が、シリ
コン(Si)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、チ
タン(Ti)、ニオブ(Nb)、バナジウム(V)、モ
リブデン(Mo)、白金(Pt)、パラジウム(P
d)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)、オスミ
ウム(Os)、ルテニウム(Ru)、レニウム(R
e)、タングステン(W)、タンタル(Ta)の群から
選ばれた少なくとも1種の成分である請求項10または
請求項11に記載の基板成形装置。
12. The release layer is made of silicon (Si), nickel (Ni), chromium (Cr), titanium (Ti), niobium (Nb), vanadium (V), molybdenum (Mo). , Platinum (Pt), palladium (P
d), iridium (Ir), rhodium (Rh), osmium (Os), ruthenium (Ru), rhenium (R
The substrate forming apparatus according to claim 10 or 11, which comprises at least one component selected from the group consisting of e), tungsten (W), and tantalum (Ta).
【請求項13】 前記離型層は、その構成材料が、シリ
コン(Si)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、チ
タン(Ti)、ニオブ(Nb)、バナジウム(V)、モ
リブデン(Mo)、白金(Pt)、パラジウム(P
d)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)、オスミ
ウム(Os)、ルテニウム(Ru)、レニウム(R
e)、タングステン(W)、タンタル(Ta)の群から
選ばれた少なくとも1種の成分を主成分とする合金であ
る請求項10または請求項11に記載の基板成形装置。
13. The release layer is made of silicon (Si), nickel (Ni), chromium (Cr), titanium (Ti), niobium (Nb), vanadium (V), molybdenum (Mo). , Platinum (Pt), palladium (P
d), iridium (Ir), rhodium (Rh), osmium (Os), ruthenium (Ru), rhenium (R
The substrate forming apparatus according to claim 10 or 11, which is an alloy containing as a main component at least one component selected from the group consisting of e), tungsten (W), and tantalum (Ta).
【請求項14】 前記離型層は、その構成材料が、アル
ミナ(Al23)、シリコンカーバイト(SiC)、ク
ロムカーバイト(Cr32)、窒化珪素(Si 34)、
窒化硼素(BN)の群から選ばれた少なくとも1種の成
分である請求項10または請求項11に記載の基板成形
装置。
14. The release layer has a constituent material of
Mina (Al2O3), Silicon Carbide (SiC),
ROM CARBITE (Cr3C2), Silicon nitride (Si 3NFour),
At least one compound selected from the group of boron nitride (BN)
Substrate molding according to claim 10 or 11,
apparatus.
【請求項15】 基板成形装置において、その互いに対
向する一対の金型のうちの一方の金型上に設置されて他
方の金型に対向する中型であって、その全体が貴金属ま
たは貴金属を主成分とする合金から構成されていること
を特徴とする成形用の中型。
15. A substrate molding apparatus, which is a middle mold installed on one of a pair of molds facing each other and facing the other mold, the whole of which is mainly made of noble metal or noble metal. A medium-sized mold for molding, which is composed of an alloy as a component.
【請求項16】 中央部に凹所が形成されている請求項
15に記載の成形用の中型。
16. The molding medium mold according to claim 15, wherein a recess is formed in the central portion.
【請求項17】 中央部に貫通孔が形成されている請求
項16に記載の成形用の中型。
17. The molding medium die according to claim 16, wherein a through hole is formed in a central portion.
【請求項18】 当該中型を構成する母材は、イリジウ
ム(Ir)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジ
ウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(O
s)、レニウム(Re)の群から選ばれた少なくとも1
種の成分を含む貴金属である請求項15から請求項17
までのいずれかに記載の成形用の中型。
18. The base material constituting the medium mold is iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (O).
s), at least 1 selected from the group of rhenium (Re)
18. A noble metal containing seed components.
The medium-sized mold for molding described in any of the above.
【請求項19】 当該中型を構成する母材は、イリジウ
ム(Ir)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジ
ウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(O
s)、レニウム(Re)の群から選ばれた少なくとも1
種の成分と、クロム(Cr)、アルミニウム(Al)の
群から選ばれた少なくとも1種の成分との組み合わせか
らなる合金である請求項15から請求項17までのいず
れかに記載の成形用の中型。
19. The base material constituting the intermediate mold is iridium (Ir), platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (O).
s), at least 1 selected from the group of rhenium (Re)
The alloy for molding according to any one of claims 15 to 17, which is an alloy composed of a combination of one component and at least one component selected from the group of chromium (Cr) and aluminum (Al). Medium size.
JP2001341858A 2001-11-07 2001-11-07 Substrate molding apparatus and middle die for molding Pending JP2003146672A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001341858A JP2003146672A (en) 2001-11-07 2001-11-07 Substrate molding apparatus and middle die for molding

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001341858A JP2003146672A (en) 2001-11-07 2001-11-07 Substrate molding apparatus and middle die for molding

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003146672A true JP2003146672A (en) 2003-05-21

Family

ID=19155816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001341858A Pending JP2003146672A (en) 2001-11-07 2001-11-07 Substrate molding apparatus and middle die for molding

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003146672A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6997019B2 (en) * 2001-05-09 2006-02-14 Fuji Electric Co., Ltd. Molding process of disk with shaft shaped portion
CN114890656A (en) * 2022-04-18 2022-08-12 华彤光学科技(浙江)有限公司 Optical lens molding method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6997019B2 (en) * 2001-05-09 2006-02-14 Fuji Electric Co., Ltd. Molding process of disk with shaft shaped portion
US7428828B2 (en) 2001-05-09 2008-09-30 Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. Press die of disk with shaft shaped portion
CN114890656A (en) * 2022-04-18 2022-08-12 华彤光学科技(浙江)有限公司 Optical lens molding method
CN114890656B (en) * 2022-04-18 2023-09-08 华彤光学科技(浙江)有限公司 Optical lens molding method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0860404B1 (en) Press-moulding die for press-moulding a glass article and method for manufacturing the die
US8051678B2 (en) Press molding method for manufacturing of glass substrate
JP3565784B2 (en) Glass substrate molding die and glass substrate manufacturing method
JP4181017B2 (en) Mold for molding
US20060090517A1 (en) Press die of disk with shaft shaped portion
JP3747983B2 (en) Molding method of molded product and mold assembly
US20080104996A1 (en) Molding die, intermediate member, and method of manufacturing of substrate
US6151917A (en) Press-molding die for magnetic-disk glass substrate
JP4223537B2 (en) Mold for molding disk substrate, mirror plate thereof, method for molding disk substrate, and disk substrate
JP2003146672A (en) Substrate molding apparatus and middle die for molding
JP2003026427A (en) Metallic mold for molding substrate and method for manufacturing the same
JP4200422B2 (en) Glass blank, information recording medium substrate, and information recording medium manufacturing method
JP2005272187A (en) Mold for optical element and regenerating method thereof
JP2002187727A (en) Method of manufacturing glass substrate and die for molding glass substrate
JP2003026431A (en) Metallic mold for molding substrate and method for manufacturing substrate using the same
JP4789818B2 (en) Mold for molding optical product and method for molding optical product
JP2008183765A5 (en)
JP4382392B2 (en) Manufacturing method of mold
JP2004059368A (en) Molding die and method of manufacturing molding die
JP3681103B2 (en) Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus
JP5282304B2 (en) Manufacturing method of glass element molding die, glass element molding die, optical element molding method, and glass blank molding method
JP2003146690A (en) Mold for forming glass substrate, method of manufacturing the same and method of forming glass substrate
JP2004083356A (en) Mold for molding glass and method of manufacturing the same
JP4174270B2 (en) Glass molding product press molding method / apparatus, glass substrate manufacturing method / apparatus
JP2007137687A (en) Molding die