JP2003141550A - 位置検出方法 - Google Patents
位置検出方法Info
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- JP2003141550A JP2003141550A JP2001339478A JP2001339478A JP2003141550A JP 2003141550 A JP2003141550 A JP 2003141550A JP 2001339478 A JP2001339478 A JP 2001339478A JP 2001339478 A JP2001339478 A JP 2001339478A JP 2003141550 A JP2003141550 A JP 2003141550A
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- Japan
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- contrast
- image processing
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低コントラストな画像や背景の照度ムラの画
像においても安定した位置検出を短時間で行うことがで
きる位置検出方法を提供すること。 【構成】 被検物上の位置合わせ用のマークを上方から
照明する明視野照明手段と、被検物からの反射光を撮像
する撮像手段と、該撮像手段によって撮像された映像信
号を画像処理する画像処理手段とを有し、画像処理手段
では、撮像画像を画像処理した後、予め登録してある基
準パターンとの比較を行うことによってマーク位置を検
出する手段を有するパターンマツチング方式の位置検出
方法において、前記画像処理手段においてコントラスト
強調手段とエッジ強調手段とを設け、前記撮像画像をコ
ントラスト強調処理後にエッジ強調処理を行い、抽出さ
れたエッジ画像と基準パターンをパターンマッチングし
てマーク位置を検出する。
像においても安定した位置検出を短時間で行うことがで
きる位置検出方法を提供すること。 【構成】 被検物上の位置合わせ用のマークを上方から
照明する明視野照明手段と、被検物からの反射光を撮像
する撮像手段と、該撮像手段によって撮像された映像信
号を画像処理する画像処理手段とを有し、画像処理手段
では、撮像画像を画像処理した後、予め登録してある基
準パターンとの比較を行うことによってマーク位置を検
出する手段を有するパターンマツチング方式の位置検出
方法において、前記画像処理手段においてコントラスト
強調手段とエッジ強調手段とを設け、前記撮像画像をコ
ントラスト強調処理後にエッジ強調処理を行い、抽出さ
れたエッジ画像と基準パターンをパターンマッチングし
てマーク位置を検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像処理を用いた
位置検出方法に関し、特に被検物上の画像パターンと基
準パターンとの合致度から該被検物の位置検出を行うパ
ターンマッチング方式の位置検出方法に関するものであ
る。
位置検出方法に関し、特に被検物上の画像パターンと基
準パターンとの合致度から該被検物の位置検出を行うパ
ターンマッチング方式の位置検出方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のパターンマッチング方式による位
置検出方法ては、被検物上の位置合わせマーク等のパタ
ーンをＣＣＤカメラ等で撮像し、該撮像された映像信号
を画像処理装置へ入力し、該画像処理装置では、予め指
定されている閾値又は該映像信号からＰタイル法や統計
的手法により算出された閾値で映像信号を２値化し、該
２値化画像と予め登録している基準パターン（テンプレ
ート）を比較し、パターンの合致度（即ち、一致した割
合）が最大となる座標を算出することにより、該被検物
の位置座標を検出する方法が広く知られている（第１の
従来例）。
置検出方法ては、被検物上の位置合わせマーク等のパタ
ーンをＣＣＤカメラ等で撮像し、該撮像された映像信号
を画像処理装置へ入力し、該画像処理装置では、予め指
定されている閾値又は該映像信号からＰタイル法や統計
的手法により算出された閾値で映像信号を２値化し、該
２値化画像と予め登録している基準パターン（テンプレ
ート）を比較し、パターンの合致度（即ち、一致した割
合）が最大となる座標を算出することにより、該被検物
の位置座標を検出する方法が広く知られている（第１の
従来例）。
【０００３】又、特開昭６３−０５４６８０号公報に
は、前記２値化手段の際に所定画素数単位の分割された
小領域毎に画像濃度ヒストグラムを算出し、該ヒストグ
ラムデータに基づいて各小領域の２値化閾値を算出する
手段を有する位置検出装置が提案されている（第２の従
来例）。
は、前記２値化手段の際に所定画素数単位の分割された
小領域毎に画像濃度ヒストグラムを算出し、該ヒストグ
ラムデータに基づいて各小領域の２値化閾値を算出する
手段を有する位置検出装置が提案されている（第２の従
来例）。
【０００４】更に、特開昭６１−２７１８３２号公報に
は、粗位置検出時には明視野照明を用いた２値化パター
ンマッチングで微位置検出時には暗視野照明を用いた多
値化パターンマッチングで位置検出を行う装置が提案さ
れている（第３の従来例）。
は、粗位置検出時には明視野照明を用いた２値化パター
ンマッチングで微位置検出時には暗視野照明を用いた多
値化パターンマッチングで位置検出を行う装置が提案さ
れている（第３の従来例）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例には以下のような問題があった。
来例には以下のような問題があった。
【０００６】第１の従来例では、２値化画像を得るため
の閾値算出手段に様々な工夫を凝らした変化例も知られ
ているが、一般的に照明光の照度ムラが大きい場合や位
置合わせマークと背景とのコントラストが低い場合に
は、閾値が安定せず、検出率が低くなるという問題があ
った（第１の問題点）。特に、半導体露光工程では、位
置合わせマークの上に様々な薄膜を形成するため、その
膜厚のバラツキ等によって同一ロット内においてもマー
ク及び背景からの照明光反射率が変化し、２値画像が安
定せず、検出率が低くなるという問題があった（第２の
問題点）。
の閾値算出手段に様々な工夫を凝らした変化例も知られ
ているが、一般的に照明光の照度ムラが大きい場合や位
置合わせマークと背景とのコントラストが低い場合に
は、閾値が安定せず、検出率が低くなるという問題があ
った（第１の問題点）。特に、半導体露光工程では、位
置合わせマークの上に様々な薄膜を形成するため、その
膜厚のバラツキ等によって同一ロット内においてもマー
ク及び背景からの照明光反射率が変化し、２値画像が安
定せず、検出率が低くなるという問題があった（第２の
問題点）。
【０００７】第２の従来例では、上記第１の問題点を改
善すべく特定小領域に分割し、２値化閾値を算出するこ
とにより照度ムラ等に影響されにくい位置検出装置を提
案している。
善すべく特定小領域に分割し、２値化閾値を算出するこ
とにより照度ムラ等に影響されにくい位置検出装置を提
案している。
【０００８】しかしながら、第２の従来例においても、
位置合わせ用マークが分割された小領域に占める割合に
よって閾値が微妙に変化し、特に分割小領域の境目にお
いて２値画像が連続しないため、同一サンプルでも位置
を変えて撮像した場合に安定して検出できないという問
題があった（第３の問題点）。
位置合わせ用マークが分割された小領域に占める割合に
よって閾値が微妙に変化し、特に分割小領域の境目にお
いて２値画像が連続しないため、同一サンプルでも位置
を変えて撮像した場合に安定して検出できないという問
題があった（第３の問題点）。
【０００９】又、第２の問題点については一般的に膜の
分光反射率特性から膜毎に照明光源の波長を変えたり、
同一ロット内のバラツキについては一度撮像された画像
信号の平均輝度等から照明光量を制御し、再度位置合わ
せマークを撮像してから２値化するという方法が一般的
に行われている。
分光反射率特性から膜毎に照明光源の波長を変えたり、
同一ロット内のバラツキについては一度撮像された画像
信号の平均輝度等から照明光量を制御し、再度位置合わ
せマークを撮像してから２値化するという方法が一般的
に行われている。
【００１０】しかしながら、照明光源の波長を変えるた
めの装置の改造には多大な時間と費用が掛かる。又、照
明光量を制御する方法では、照明光量を変えながら撮像
するために検出時間が掛かるという問題があった（第４
の問題点）。
めの装置の改造には多大な時間と費用が掛かる。又、照
明光量を制御する方法では、照明光量を変えながら撮像
するために検出時間が掛かるという問題があった（第４
の問題点）。
【００１１】又、第３の従来例では、明視野照明と暗視
野照明を切り替えて画像を撮像するため、それぞれの照
明装置と制御機構が必要であり、コストアップの要因と
なる。
野照明を切り替えて画像を撮像するため、それぞれの照
明装置と制御機構が必要であり、コストアップの要因と
なる。
【００１２】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、低コントラストな画像や背景
の照度ムラの画像においても安定した位置検出を短時間
で行うことができる位置検出方法を提供することにあ
る。
で、その目的とする処は、低コントラストな画像や背景
の照度ムラの画像においても安定した位置検出を短時間
で行うことができる位置検出方法を提供することにあ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、被検物上の位置合わせ用のマークを上方
から照明する明視野照明手段と、被検物からの反射光を
撮像する撮像手段と、該撮像手段によって撮像された映
像信号を画像処理する画像処理手段とを有し、該画像処
理手段では、撮像画像を画像処理した後、予め登録して
ある基準パターンとの比較を行うことによってマーク位
置を検出する手段を有するパターンマツチング方式の位
置検出方法において、前記画像処理手段においてコント
ラスト強調手段とエッジ強調手段とを設け、前記撮像画
像をコントラスト強調処理後にエッジ強調処理を行い、
抽出されたエッジ画像と基準パターンをパターンマッチ
ングしてマーク位置を検出することを特徴とする。
め、本発明は、被検物上の位置合わせ用のマークを上方
から照明する明視野照明手段と、被検物からの反射光を
撮像する撮像手段と、該撮像手段によって撮像された映
像信号を画像処理する画像処理手段とを有し、該画像処
理手段では、撮像画像を画像処理した後、予め登録して
ある基準パターンとの比較を行うことによってマーク位
置を検出する手段を有するパターンマツチング方式の位
置検出方法において、前記画像処理手段においてコント
ラスト強調手段とエッジ強調手段とを設け、前記撮像画
像をコントラスト強調処理後にエッジ強調処理を行い、
抽出されたエッジ画像と基準パターンをパターンマッチ
ングしてマーク位置を検出することを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。
図面に基づいて説明する。
【００１５】＜実施の形態１＞図１は本発明に係る位置
方法の手順を示すフローチャートであり、同図における
コントラスト強調処理を図２〜図５に示し、エッジ強調
処理を図６及び図７に示す。以下に図１〜図７を用いて
本発明に係る位置検出方法を詳細に説明する。
方法の手順を示すフローチャートであり、同図における
コントラスト強調処理を図２〜図５に示し、エッジ強調
処理を図６及び図７に示す。以下に図１〜図７を用いて
本発明に係る位置検出方法を詳細に説明する。
【００１６】本発明に係る位置検出方法では、先ず、 位
置合わせ用のマークを例えばＣＣＤカメラ等の撮像装置
で撮像し、撮像信号を画像処理装置に取り込み（図１−
Ａ）、次に、撮像信号に対しコントラスト強調処理を施
し（図１−Ｂ）、その後、エッジ強調処理を行い（図１
−Ｃ）、該エッジ画像と予め記憶されている基準マーク
とのパターンマッチングを行い、相関度の最も高い位置
座標を算出することによってマークの位置検出を行う。
置合わせ用のマークを例えばＣＣＤカメラ等の撮像装置
で撮像し、撮像信号を画像処理装置に取り込み（図１−
Ａ）、次に、撮像信号に対しコントラスト強調処理を施
し（図１−Ｂ）、その後、エッジ強調処理を行い（図１
−Ｃ）、該エッジ画像と予め記憶されている基準マーク
とのパターンマッチングを行い、相関度の最も高い位置
座標を算出することによってマークの位置検出を行う。
【００１７】図２はコントラスト強調処理を示すフロー
チャートである。
チャートである。
【００１８】輝度平滑化フィルタは、コントラスト強調
処理によりノイズ成分も強調されるため、コントラスト
強調前のノイズ除去を目的としている。該輝度平滑化フ
ィルタとしては、平均値フィルタ・中間値フィルタ・正
規関数フィルタ等が適当であるが、本実施の形態におい
ては中間値フィルタを用いる。
処理によりノイズ成分も強調されるため、コントラスト
強調前のノイズ除去を目的としている。該輝度平滑化フ
ィルタとしては、平均値フィルタ・中間値フィルタ・正
規関数フィルタ等が適当であるが、本実施の形態におい
ては中間値フィルタを用いる。
【００１９】中間値フィルタは、着目している画素
（ｉ，ｊ）と例えばその近傍４点（ｉ−１，ｊ），（ｉ
＋１，ｊ），（ｉ，ｊ−１），（ｉ，ｊ＋１）計５点の
輝度の中間値（Median）を画素（ｉ，ｊ）の輝度値とし
て出力するフィルタである。
（ｉ，ｊ）と例えばその近傍４点（ｉ−１，ｊ），（ｉ
＋１，ｊ），（ｉ，ｊ−１），（ｉ，ｊ＋１）計５点の
輝度の中間値（Median）を画素（ｉ，ｊ）の輝度値とし
て出力するフィルタである。
【００２０】次に、輝度ヒストグラムを算出し、該輝度
ヒストグラムに基づき輝度変換テーブルを作成する。一
般に、コントラストの悪い画像は図４−Ａに示すよう
に、輝度分布が一定の範囲に集中している。これを図４
−Ｂに示すように輝度分布範囲を広げるように画像を変
換する処理がコントラスト強調処理である。該輝度変換
テーブルの具体的な作成方法を図３に示す。
ヒストグラムに基づき輝度変換テーブルを作成する。一
般に、コントラストの悪い画像は図４−Ａに示すよう
に、輝度分布が一定の範囲に集中している。これを図４
−Ｂに示すように輝度分布範囲を広げるように画像を変
換する処理がコントラスト強調処理である。該輝度変換
テーブルの具体的な作成方法を図３に示す。
【００２１】最初に、前記輝度ヒストグラムの最大輝度
・最小輝度を算出する。次に、予め設定されている上限
と最大輝度、下限と最小輝度を比較し、それぞれ範囲外
ならば、十分なコントラストが得られているためにコン
トラスト強調処理の必要はない。例えば、図４−Ａに示
すように、最大輝度・最小輝度が上限・下限の範囲内な
らば、図４−Ｂに示すように、例えば３倍を限度として
上限・下限まで輝度分布を拡大する。又、最大輝度又は
最小輝度の片方のみ上限又は下限の範囲外の場合も同様
に、例えば３倍を限度として輝度分布を拡大する。
・最小輝度を算出する。次に、予め設定されている上限
と最大輝度、下限と最小輝度を比較し、それぞれ範囲外
ならば、十分なコントラストが得られているためにコン
トラスト強調処理の必要はない。例えば、図４−Ａに示
すように、最大輝度・最小輝度が上限・下限の範囲内な
らば、図４−Ｂに示すように、例えば３倍を限度として
上限・下限まで輝度分布を拡大する。又、最大輝度又は
最小輝度の片方のみ上限又は下限の範囲外の場合も同様
に、例えば３倍を限度として輝度分布を拡大する。
【００２２】図３のフローチャート中のがMinimum
（ａ，ｂ）は、ａとｂの２つの数値のうち小さい数値を
出力する。同様に、Maximum （ａ，ｂ）は、ａとｂの２
つの数値のうち大きい数値を出力する。輝度変換テーブ
ルは、図５に示すように、元の画像における最小輝度と
最大輝度の範囲内を図３のフローチャートに従って算出
された最小値と最大値の範囲に線形に一次変換するテー
ブルである。最後に、前記輝度変換テーブルに従って画
像を変換する。
（ａ，ｂ）は、ａとｂの２つの数値のうち小さい数値を
出力する。同様に、Maximum （ａ，ｂ）は、ａとｂの２
つの数値のうち大きい数値を出力する。輝度変換テーブ
ルは、図５に示すように、元の画像における最小輝度と
最大輝度の範囲内を図３のフローチャートに従って算出
された最小値と最大値の範囲に線形に一次変換するテー
ブルである。最後に、前記輝度変換テーブルに従って画
像を変換する。
【００２３】次に、エッジ強調処理について説明する。
【００２４】図６は本実施の形態におけるエッジ強調処
理を示すフローチャートである。
理を示すフローチャートである。
【００２５】先ず、正規関数による平滑化フィルタ処理
を行う。これは、次の空間２次微分フィルタによるエッ
ジ強調処理において、ノイズ成分を強調し過ぎないよう
にするためである。
を行う。これは、次の空間２次微分フィルタによるエッ
ジ強調処理において、ノイズ成分を強調し過ぎないよう
にするためである。
【００２６】画像ｆ（ｘ，ｙ）に対する平均０・分散σ
2 の正規関数（ガウス関数）は、次式で表される。
2 の正規関数（ガウス関数）は、次式で表される。
【００２７】画像ｆ（ｘ，ｙ）に対し、Ｇ（ｘ, ｙ）を
畳み込むことによって得られる平滑化画像をＦ（ｘ,
ｙ）とすると、 となる。
畳み込むことによって得られる平滑化画像をＦ（ｘ,
ｙ）とすると、 となる。
【００２８】即ち、正規関数Ｇ（ｘ，ｙ）はσの値によ
って平滑化の度合い（ボケ具合）が変化する。具体的に
は、画像ｆ（ｘ，ｙ）は離散的なディジタル画像として
処理するため、例えば３×３の重み係数を とし、画素（ｉ，ｊ）とその近傍８点の計９点に対して
上記重み係数を掛けて正規化する。
って平滑化の度合い（ボケ具合）が変化する。具体的に
は、画像ｆ（ｘ，ｙ）は離散的なディジタル画像として
処理するため、例えば３×３の重み係数を とし、画素（ｉ，ｊ）とその近傍８点の計９点に対して
上記重み係数を掛けて正規化する。
【００２９】従って、画素（ｉ，ｊ）の平滑化画像Ｆ
（ｉ，ｊ）は、 となる。
（ｉ，ｊ）は、 となる。
【００３０】又、平滑化の度合い（ボケ具合）は、上記
演算を繰り返し行うことによって実現できる。繰り返し
回数を増やすことにより、よりボケた画像となる。
演算を繰り返し行うことによって実現できる。繰り返し
回数を増やすことにより、よりボケた画像となる。
【００３１】次に、前記平滑化画像に対して空間２次微
分フィルタ処理を行う。空間２次微分（ラプラシアン）
は、次式で表される。
分フィルタ処理を行う。空間２次微分（ラプラシアン）
は、次式で表される。
【００３２】但し、ｆxx（ｘ，ｙ），ｆyy（ｘ，ｙ）は
それぞれｘ方向、ｙ方向の２次微分を表す。
それぞれｘ方向、ｙ方向の２次微分を表す。
【００３３】２次微分はディジタル画像においては画素
間の差分で算出する。即ち、画素（ｉ，ｊ）における２
次微分は、 となり、これらを線形結合すると、重み係数は、 となる。同様に４５°方向も考慮すると、 となる。
間の差分で算出する。即ち、画素（ｉ，ｊ）における２
次微分は、 となり、これらを線形結合すると、重み係数は、 となる。同様に４５°方向も考慮すると、 となる。
【００３４】具体的には、画素（ｉ，ｊ）とその近傍８
点の計９点に対し、上記３×３の重み係数を掛けて正規
化する。
点の計９点に対し、上記３×３の重み係数を掛けて正規
化する。
【００３５】従って、画素（ｉ，ｊ）の空間２次微分画
像∇2 ｆ（ｉ，ｊ）は、 となる。
像∇2 ｆ（ｉ，ｊ）は、 となる。
【００３６】次に、空間２次微分画像をからエッジ部分
を２値化して抽出する。
を２値化して抽出する。
【００３７】図７は画像例えばｘ方向における輝度断面
とその１次微分及び２次微分を表しており、一般に
（ａ）をｓｔｅｐ型のエッジ、（ｂ）をｌｉｎｅ型のエ
ッジ、（ｃ）をｒｏｏｆ型のエッジと呼んでいる。
とその１次微分及び２次微分を表しており、一般に
（ａ）をｓｔｅｐ型のエッジ、（ｂ）をｌｉｎｅ型のエ
ッジ、（ｃ）をｒｏｏｆ型のエッジと呼んでいる。
【００３８】例えば、（ａ）ｓｔｅｐ型エッジにおける
エッジ位置は、厳密には２次微分上では正負のピークが
０レベルと交差する位置になる。従って、通常０交差法
と呼ばれる手法によりこの交点を算出するが、本実施の
形態においては処理時間短縮のため負の部分のみを２値
化することによりエッジ部分を抽出する。図７において
黒く網掛けした部分がこれに該当する。
エッジ位置は、厳密には２次微分上では正負のピークが
０レベルと交差する位置になる。従って、通常０交差法
と呼ばれる手法によりこの交点を算出するが、本実施の
形態においては処理時間短縮のため負の部分のみを２値
化することによりエッジ部分を抽出する。図７において
黒く網掛けした部分がこれに該当する。
【００３９】前記エッジ強調後の画像は図１−Ｃのよう
になり、該エッジ強調画像と予め登録されている基準パ
ターンとのパターンマッチングにより位置検出を行う。
になり、該エッジ強調画像と予め登録されている基準パ
ターンとのパターンマッチングにより位置検出を行う。
【００４０】＜実施の形態２＞前記実施の形態１では、
エッジ強調処理において空間２次微分フィルタ処理でエ
ッジ強調したが、平滑化フィルタと原画像との差分を算
出することによりエッジ強調しても良い。
エッジ強調処理において空間２次微分フィルタ処理でエ
ッジ強調したが、平滑化フィルタと原画像との差分を算
出することによりエッジ強調しても良い。
【００４１】例えば、平滑化フィルタとして平均値フィ
ルタを用いると、画素（ｉ，ｊ）の平滑化画像Ｈ（ｉ，
ｊ）は、 となり、該平均値フィルタによる平滑化画像と原画像と
の差分を算出してエッジ画像とする。
ルタを用いると、画素（ｉ，ｊ）の平滑化画像Ｈ（ｉ，
ｊ）は、 となり、該平均値フィルタによる平滑化画像と原画像と
の差分を算出してエッジ画像とする。
【００４２】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、被検物上の位置合わせ用のマークを上方から照
明する明視野照明手段と、被検物からの反射光を撮像す
る撮像手段と、該撮像手段によって撮像された映像信号
を画像処理する画像処理手段とを有し、該画像処理手段
では、撮像画像を画像処理した後、予め登録してある基
準パターンとの比較を行うことによってマーク位置を検
出する手段を有するパターンマツチング方式の位置検出
方法において、前記画像処理手段においてコントラスト
強調手段とエッジ強調手段とを設け、前記撮像画像をコ
ントラスト強調処理後にエッジ強調処理を行い、抽出さ
れたエッジ画像と基準パターンをパターンマッチングし
てマーク位置を検出するようにしたため、低コントラス
トな画像や背景の照度ムラの画像においても安定した位
置検出を短時間で行うことができるという効果が得られ
る。
よれば、被検物上の位置合わせ用のマークを上方から照
明する明視野照明手段と、被検物からの反射光を撮像す
る撮像手段と、該撮像手段によって撮像された映像信号
を画像処理する画像処理手段とを有し、該画像処理手段
では、撮像画像を画像処理した後、予め登録してある基
準パターンとの比較を行うことによってマーク位置を検
出する手段を有するパターンマツチング方式の位置検出
方法において、前記画像処理手段においてコントラスト
強調手段とエッジ強調手段とを設け、前記撮像画像をコ
ントラスト強調処理後にエッジ強調処理を行い、抽出さ
れたエッジ画像と基準パターンをパターンマッチングし
てマーク位置を検出するようにしたため、低コントラス
トな画像や背景の照度ムラの画像においても安定した位
置検出を短時間で行うことができるという効果が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る位置検出方法を説明する図であ
る。
る。
【図２】本発明に係るコントラスト強調処理を説明する
図である。
図である。
【図３】本発明に係る輝度変換テーブル作成処理を説明
する図である。
する図である。
【図４】本発明に係る輝度変換テーブル作成処理を説明
する図である。
する図である。
【図５】本発明に係る輝度変換テーブル作成処理を説明
する図である。
する図である。
【図６】本発明に係るエッジ強調処理を説明する図であ
る。
る。
【図７】本発明に係るエッジ抽出処理を説明する図であ
る。
る。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2F065 AA03 AA07 AA12 BB27 FF04
QQ31 QQ32 QQ33 QQ38 QQ43
5B057 AA20 CE03 CH01 CH07 DC16
DC33
5L096 FA22 FA69 HA07 JA03
Claims (2)
- 【請求項１】 被検物上の位置合わせ用のマークを上方
から照明する明視野照明手段と、被検物からの反射光を
撮像する撮像手段と、該撮像手段によって撮像された映
像信号を画像処理する画像処理手段とを有し、該画像処
理手段では、撮像画像を画像処理した後、予め登録して
ある基準パターンとの比較を行うことによってマーク位
置を検出する手段を有するパターンマツチング方式の位
置検出方法において、 前記画像処理手段においてコントラスト強調手段とエッ
ジ強調手段とを設け、前記撮像画像をコントラスト強調
処理後にエッジ強調処理を行い、抽出されたエッジ画像
と基準パターンをパターンマッチングしてマーク位置を
検出することを特徴とする位置検出方法。 - 【請求項２】 コントラスト強調処理手段では、輝度変
換テーブル作成手段と該輝度変換テーブルに従って画像
を変化する手段を設け、輝度変換テーブル作成手段にお
いて原画像のコントラスト差の３倍を限度としてコント
ラスト強調することを特徴とする請求項１記載の位置検
出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001339478A JP2003141550A (ja) | 2001-11-05 | 2001-11-05 | 位置検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001339478A JP2003141550A (ja) | 2001-11-05 | 2001-11-05 | 位置検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003141550A true JP2003141550A (ja) | 2003-05-16 |
Family
ID=19153821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001339478A Withdrawn JP2003141550A (ja) | 2001-11-05 | 2001-11-05 | 位置検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003141550A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009014249A (ja) * | 2007-07-04 | 2009-01-22 | Hitachi Zosen Corp | ごみ焼却設備におけるごみ供給量制御方法およびごみ供給量制御装置 |
| JP2011013925A (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-20 | Secom Co Ltd | 対象物検知装置 |
| JP2011028686A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Secom Co Ltd | 対象物検知装置 |
| JP2011028348A (ja) * | 2009-07-22 | 2011-02-10 | Secom Co Ltd | 対象物検知装置 |
| JP2011039998A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Clarion Co Ltd | 直線成分低減装置および歩行者検出表示システム |
| JP2013200269A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 転写装置および転写方法 |
-
2001
- 2001-11-05 JP JP2001339478A patent/JP2003141550A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009014249A (ja) * | 2007-07-04 | 2009-01-22 | Hitachi Zosen Corp | ごみ焼却設備におけるごみ供給量制御方法およびごみ供給量制御装置 |
| JP2011013925A (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-20 | Secom Co Ltd | 対象物検知装置 |
| JP2011028348A (ja) * | 2009-07-22 | 2011-02-10 | Secom Co Ltd | 対象物検知装置 |
| JP2011028686A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Secom Co Ltd | 対象物検知装置 |
| JP2011039998A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Clarion Co Ltd | 直線成分低減装置および歩行者検出表示システム |
| JP2013200269A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 転写装置および転写方法 |
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