JP2003136269A - Laser beam machining device and its method - Google Patents

Laser beam machining device and its method

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JP2003136269A
JP2003136269A JP2001332397A JP2001332397A JP2003136269A JP 2003136269 A JP2003136269 A JP 2003136269A JP 2001332397 A JP2001332397 A JP 2001332397A JP 2001332397 A JP2001332397 A JP 2001332397A JP 2003136269 A JP2003136269 A JP 2003136269A
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JP
Japan
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laser
laser processing
optical system
laser beam
laser light
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Application number
JP2001332397A
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Japanese (ja)
Inventor
Wataru Kono
渉 河野
Seiichiro Kimura
盛一郎 木村
Masaki Tamura
雅貴 田村
Hidenori Takahashi
英則 高橋
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/30Nuclear fission reactors

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser beam machining device and its method that facilitate laser beam machining for a shape-changing workpiece. SOLUTION: The laser beam machining device 10 is equipped with a copying mechanism which follows up the shape change of a workpiece to copy it easily and which always keeps a distance constant between a condensing lens 15 and the workpiece 18, an adjusting means 38 which constantly holds a path length for supplying a filler material, and a nozzle tip 26 which has an outer diameter D at least twice the diameter d of a laser guiding hole and which has a nozzle 52 for supplying the filler material to a laser beam irradiation part 36. The device injects shielding gas 47 in the direction coaxial with a laser beam 12 from near a laser beam emitting port 23 toward the laser beam irradiation part 36 of the workpiece 18. As a result, the device forms a stable shielding gas atmosphere 49 even if the shape changing workpiece 18 is located underwater, thereby enabling the filler material to be steadily fed to the laser beam irradiation part 36, preventing the surface oxidation of a weld bead, and enabling stable laser beam machining.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、原子炉内構造物等
のメンテナンス作業において、遠隔操作によるレーザ肉
盛溶接および表面改質を行うレーザ加工技術に係り、特
に炉水に水没した形状変化を有する構造物へのレーザ加
工を行うレーザ加工装置およびそのレーザ加工方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser machining technique for performing laser overlay welding and surface modification by remote control in maintenance work of internal structures of a nuclear reactor, and more particularly, to a shape change submerged in reactor water. The present invention relates to a laser processing apparatus and a laser processing method for performing laser processing on a structure having the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のレーザ加工装置1を図7に示す。
図7によれば、このレーザ加工装置1は、フィラーワイ
ヤ2を用いたレーザ溶接において、レーザ光を集光させ
てレーザ加工対象物3にレーザ光を照射する出射光学系
4を3次元加工機またはロボット等の加工機5に備え
る。この加工機5は、レーザ加工対象物3の形状変化に
対して、出射光学系4の位置を制御し、出射光学系4を
移動させながらレーザ溶接を実施する。
2. Description of the Related Art A conventional laser processing apparatus 1 is shown in FIG.
According to FIG. 7, in the laser welding using the filler wire 2, the laser processing apparatus 1 has a three-dimensional processing machine that includes an emission optical system 4 that focuses the laser light and irradiates the laser processing target 3 with the laser light. Alternatively, the processing machine 5 such as a robot is provided. The processing machine 5 controls the position of the emission optical system 4 in response to a change in the shape of the laser processing target 3 and performs laser welding while moving the emission optical system 4.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのレー
ザ加工方法では、レーザ加工対象物3の形状変化を検出
するセンサーや出射光学系4の位置を制御する制御機が
必要となり、既成プラントのメンテナンス作業におい
て、配管内のような狭隘部のレーザ加工を遠隔操作で行
うことは困難である。また、既成プラントが備える構造
物は、水没することもあり、水中でも安定したレーザ加
工が実施出来る必要がある。
However, this laser processing method requires a sensor for detecting a change in the shape of the laser processing target 3 and a controller for controlling the position of the emission optical system 4, which is required in the maintenance work of the existing plant. However, it is difficult to perform laser processing of a narrow part such as inside a pipe by remote control. Further, the structure provided in the existing plant may be submerged in water, and it is necessary to perform stable laser processing even in water.

【0004】本発明は、上述した事情を考慮してなされ
たもので、形状変化を有するレーザ加工対象物のレーザ
加工を容易にし、この加工対象物が水没していても安定
したレーザ加工をするレーザ加工装置およびその方法を
提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above-mentioned circumstances, and facilitates laser processing of a laser processing object having a shape change, and performs stable laser processing even when the processing object is submerged in water. An object is to provide a laser processing device and a method thereof.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明に係るレーザ加工
装置は、上述した課題を解決するために、請求項1に記
載したように、レーザを発振するレーザ発振装置と、前
記レーザ発振装置から発振されたレーザ光を平行光にす
る第1のレンズ光学系と、前記第1のレンズ光学系を介
して平行光になったレーザ光をレーザ加工対象物に集光
させる集光レンズ光学系と、前記集光レンズ光学系を保
持する一方、前記集光レンズ光学系によって集光された
レーザ光をレーザ加工対象物に照射する出射光学系と、
前記出射光学系からのレーザ光のレーザ光照射部に溶化
材を供給する溶化材供給手段とを具備するレーザ加工装
置において、レーザ加工対象物の形状変化に対応して出
射光学系を追従移動させる倣い機構を設け、この倣い機
構により前記集光レンズ光学系とレーザ加工対象物まで
の距離を常時一定に保持したことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a laser processing apparatus according to the present invention has a laser oscillating device which oscillates a laser and a laser oscillating device from which the laser oscillating device is provided. A first lens optical system for collimating the oscillated laser light into parallel light; and a condenser lens optical system for condensing the laser light collimated through the first lens optical system onto a laser processing object. An output optical system for holding the condenser lens optical system while irradiating a laser processing object with laser light condensed by the condenser lens optical system,
In a laser processing apparatus comprising a solubilizing material supply means for supplying a solubilizing material to a laser beam irradiation portion of the laser beam from the emitting optical system, the emitting optical system is moved to follow the shape change of the laser processing target. A feature is that a copying mechanism is provided, and the distance between the condenser lens optical system and the laser processing target is always kept constant by this copying mechanism.

【0006】上述した課題を解決するために、本発明に
係るレーザ加工装置は、請求項2に記載したように、前
記倣い機構が前記溶化材供給手段から溶化材供給位置ま
での溶化材供給路長を一定に保つ溶化材供給路長調整手
段を備えたことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, in the laser processing apparatus according to the present invention, as described in claim 2, the copying mechanism causes the solubilizing material supply path from the solubilizing material supplying means to the solubilizing material supplying position. It is characterized in that a solubilizing material supply path length adjusting means for keeping the length constant is provided.

【0007】また、上述した課題を解決するために、本
発明に係るレーザ加工装置は、請求項3に記載したよう
に、前記出射光学系がレーザ光出射口近傍よりレーザ加
工対象物のレーザ光照射部に向かってレーザ光と同軸方
向にガスを噴出させるガス噴出手段を備え、このガス噴
出手段により水中でのレーザ加工を行うようにしたこと
を特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, in the laser processing apparatus according to the present invention, as described in claim 3, the emitting optical system causes the laser beam of the laser processing object to be processed from near the laser beam emitting port. It is characterized in that a gas jetting means for jetting a gas in the direction coaxial with the laser beam toward the irradiation part is provided, and the laser processing in water is performed by the gas jetting means.

【0008】さらに、上述した課題を解決するために、
本発明に係るレーザ加工装置は、請求項4に記載したよ
うに、前記出射光学系がレーザ光出射口にレーザ光照射
部を覆う金属メッシュを備えることを特徴とする。
Further, in order to solve the above-mentioned problems,
A laser processing apparatus according to the present invention is characterized in that, as described in claim 4, the emitting optical system includes a metal mesh that covers the laser beam emitting portion at the laser beam emitting port.

【0009】一方、上述した課題を解決するために、本
発明に係るレーザ加工装置は、請求項5に記載したよう
に、前記出射光学系がレーザ光出射口にレーザ光が通過
可能なレーザ光案内孔を有するノズルチップを備え、こ
のノズルチップの外径が前記レーザ光案内孔の2倍以上
に形成したことを特徴とする。
On the other hand, in order to solve the above-mentioned problems, in the laser processing apparatus according to the present invention, as described in claim 5, a laser beam which allows the laser beam to pass through the laser beam emission port of the emission optical system. A nozzle tip having a guide hole is provided, and the outer diameter of the nozzle tip is formed to be at least twice as large as that of the laser light guide hole.

【0010】さらにまた、上述した課題を解決するため
に、本発明に係るレーザ加工装置は、請求項6に記載し
たように、前記ノズルチップがレーザ光案内孔における
円周方向の内周面に溶化材をレーザ加工対象物のレーザ
光照射部へ供給する溶化材供給ノズルを備えたことを特
徴とする。
Further, in order to solve the above-mentioned problems, in the laser processing apparatus according to the present invention, as described in claim 6, the nozzle tip is formed on the inner circumferential surface of the laser light guide hole in the circumferential direction. It is characterized by comprising a solubilizing agent supply nozzle for supplying the solubilizing agent to the laser beam irradiation portion of the laser processing target.

【0011】このように構成されたレーザ加工装置にお
いては、形状変化を有するレーザ加工対象物に対しても
レーザ加工対象物のレーザ光照射部への安定した溶化材
供給を行うことが出来、安定したレーザ加工を可能とす
る。また、水中で安定したシールドガス雰囲気を形成す
ることが出来るので、レーザ加工対象物が水中にあって
も安定したレーザ加工を可能とする。
In the laser processing apparatus configured as described above, it is possible to stably supply the solubilizing material to the laser light irradiation portion of the laser processing target even for the laser processing target having a shape change, and stable. Enables laser processing. Further, since a stable shield gas atmosphere can be formed in water, it is possible to perform stable laser processing even when the object to be laser processed is in water.

【0012】本発明に係るレーザ加工方法は、上述した
課題を解決するために、請求項7に記載したように、レ
ーザ発振器から発振された出力レーザ光を平行光にする
平行光形成工程と、平行光になった出力レーザ光を集光
レンズ光学系で集光させる集光工程と、集光された出力
レーザ光を出射光学系からレーザ加工対象物に照射する
照射工程とを順次に実行し、出力レーザ光をレーザ加工
対象物に照射する際、レーザ光照射部に溶化材を供給
し、レーザ加工対象物に対してレーザ加工を行うレーザ
加工方法において、レーザ加工対象物の形状変化に倣っ
て、出射光学系を追従移動させ、前記集光レンズ光学系
とレーザ加工対象物までの距離を一定に保つ位置調整工
程と、溶化材を供給する溶化材供給位置までの溶化材供
給路長を一定に保つ溶化材供給路長調整工程とを同時に
実行してレーザ加工対象物のレーザ加工を行うことを特
徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the laser processing method according to the present invention comprises, as described in claim 7, a parallel light forming step of converting output laser light oscillated from a laser oscillator into parallel light. The converging step of converging the collimated output laser light with the condensing lens optical system and the irradiation step of irradiating the laser processing target object with the condensed output laser light from the emission optical system are sequentially executed. When a laser processing object is irradiated with output laser light, a solubilizing material is supplied to the laser beam irradiation part to perform laser processing on the laser processing object. Position adjustment step for keeping the distance between the condensing lens optical system and the laser processing object constant by moving the exiting optical system, and the length of the solubilizing agent supply path to the solubilizing agent supplying position for supplying the solubilizing agent Keep constant Run a reduction material supply path length adjusting step simultaneously and performing laser processing of the laser processing object.

【0013】また、上述した課題を解決するために、本
発明に係るレーザ加工方法は、請求項8に記載したよう
に、前記照射工程の際に、レーザ加工対象物に向かって
照射されるレーザ光と同軸方向にガスを噴出するガス噴
出工程を備え、レーザ加工対象物にレーザ光を照射する
前記照射工程と前記ガス噴出工程とを同時に実行し、レ
ーザ加工を行うことを特徴とする。
Further, in order to solve the above-mentioned problems, the laser processing method according to the present invention is, as described in claim 8, a laser which is irradiated toward a laser processing object during the irradiation step. It is characterized by comprising a gas ejection step of ejecting gas in a direction coaxial with light, and performing the laser processing by simultaneously performing the irradiation step of irradiating a laser processing target object with laser light and the gas ejection step.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るレーザ加工装
置およびそのレーザ加工方法の実施形態を図面を参照し
て説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a laser processing apparatus and a laser processing method thereof according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】[第1実施形態]図1は本発明に係るレー
ザ加工装置の第1実施形態を示す概略図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a schematic view showing a first embodiment of a laser processing apparatus according to the present invention.

【0016】第1実施形態に示されたレーザ加工装置1
0は、レーザを発振するためのレーザ発振装置11を具
備し、レーザ発振装置11により発振された出力レーザ
光12の光路上には、平行光を形成するための第1のレ
ンズ光学系13と平行光の方向を変える反射ミラー14
と平行光を集光させる集光レンズ15とを組み合わせた
集光レンズ光学系16を備える。さらに、レーザ加工装
置10は、集光レンズ光学系16の集光レンズ15を保
持する一方、集光された出力レーザ光12をレーザ加工
対象物(以下、対象物とする)18に照射するための出
射光学系19と溶化材としてのフィラーワイヤ20を供
給する溶化材供給手段21とを具備する。
The laser processing apparatus 1 shown in the first embodiment
Reference numeral 0 indicates a laser oscillation device 11 for oscillating a laser, and a first lens optical system 13 for forming parallel light on the optical path of the output laser light 12 oscillated by the laser oscillation device 11. Reflection mirror 14 that changes the direction of parallel light
And a condenser lens 15 for condensing parallel light. Further, the laser processing apparatus 10 holds the condenser lens 15 of the condenser lens optical system 16 and irradiates the laser processing target (hereinafter referred to as target) 18 with the condensed output laser light 12 The emitting optical system 19 and the solubilizing material supply means 21 for supplying the filler wire 20 as the solubilizing material.

【0017】レーザ加工装置10における出射光学系1
9は、集光レンズ15を保持するレンズホルダ22とこ
のレンズホルダ22を同心円状に保持し、レーザ光出射
口23を有するスライドノズル24と、レーザ光出射口
23からの出力レーザ光12が通過可能なレーザ光案内
孔25を有する円盤状のノズルチップ26とを備える。
Emission optical system 1 in laser processing apparatus 10
Reference numeral 9 denotes a lens holder 22 which holds the condenser lens 15, a slide nozzle 24 which holds the lens holder 22 concentrically and has a laser light emission port 23, and an output laser beam 12 from the laser beam emission port 23. And a disk-shaped nozzle tip 26 having a possible laser light guide hole 25.

【0018】レーザ加工装置10におけるレーザ加工の
際には、レーザ発振装置11により発振された出力レー
ザ光12を第1のレンズ光学系13を介して、平行なレ
ーザ光12とし、この平行なレーザ光12を反射ミラー
14にて90°に反射し、対象物18へ出力レーザ光1
2を照射する。
At the time of laser processing in the laser processing apparatus 10, the output laser light 12 oscillated by the laser oscillator 11 is converted into parallel laser light 12 through the first lens optical system 13, and the parallel laser light 12 is generated. The light 12 is reflected by the reflection mirror 14 at 90 ° and is output to the object 18 Laser light 1
Irradiate 2.

【0019】また、対象物18が形状変化を有していて
もレーザ加工装置10が有する倣い機構28によって、
安定したレーザ加工を行うことが出来る。
Further, even if the object 18 has a change in shape, the copying mechanism 28 of the laser processing apparatus 10 allows
It is possible to perform stable laser processing.

【0020】この倣い機構28とは、対象物18の形状
変化に追従して、出射光学系19を移動させる機構であ
る。出射光学系19が備えるスライドノズル24には、
レンズホルダ22が固定され、さらに、このレンズホル
ダ22は、集光レンズ15を保持しているため、スライ
ドノズル24は、レンズホルダ22を介して、集光レン
ズ15を一体的に保持している。また、スライドノズル
24は、筒状ケーシング29内に軸方向スライド自在に
支持され、スプリング30により常時対象物18側にば
ね付勢され、常に対象物18側へ押し出されている。
The copying mechanism 28 is a mechanism for moving the emission optical system 19 in accordance with the shape change of the object 18. The slide nozzle 24 included in the emitting optical system 19 includes
Since the lens holder 22 is fixed and the lens holder 22 holds the condenser lens 15, the slide nozzle 24 integrally holds the condenser lens 15 via the lens holder 22. . The slide nozzle 24 is axially slidably supported in the cylindrical casing 29, is constantly urged by the spring 30 toward the target 18, and is constantly pushed toward the target 18.

【0021】従って、レーザ加工装置10をノズルチッ
プ26が備えるローラ31の転動によって、対象物18
上を移動させると対象物18の形状変化に追従して、出
射光学系19が追従移動し、出射光学系19のスライド
ノズル24が対象物18の表面を倣って、集光レンズ1
5と対象物18との距離を常に一定に保つようになって
いる。
Accordingly, by rolling the roller 31 provided in the nozzle tip 26 of the laser processing apparatus 10, the object 18
When it is moved up, the emission optical system 19 follows the shape change of the object 18, and the slide nozzle 24 of the emission optical system 19 follows the surface of the object 18 to move the condenser lens 1
5 and the object 18 are always kept constant.

【0022】一方、レーザ加工を行う際の溶化材供給
は、溶化材供給手段21により行われる。溶化材供給手
段21は溶化材としてのフィラーワイヤ20を有し、こ
のフィラーワイヤ20が溶化材供給路としてのワイヤ案
内管33、ワイヤ供給路34およびワイヤ供給孔35を
通って、レーザ光照射部36へ供給される。
On the other hand, the solubilizing material supply means 21 supplies the solubilizing material during the laser processing. The solubilized material supply means 21 has a filler wire 20 as a solubilized material, and this filler wire 20 passes through a wire guide tube 33, a wire supply path 34, and a wire supply hole 35 as a solubilized material supply path, and a laser beam irradiation section. 36.

【0023】ワイヤ供給路34はスライドノズル24と
レンズホルダ22との間にほぼ軸方向に延びるように形
成され、ワイヤ供給孔35は、ノズルチップ26に具備
されており、ワイヤ供給孔35の供給口側は半径方向内
方を向き、対象物18上で出力レーザ光12と交差する
ように斜めに指向されている。
The wire supply passage 34 is formed so as to extend substantially axially between the slide nozzle 24 and the lens holder 22, and the wire supply hole 35 is provided in the nozzle tip 26, and the wire supply hole 35 is supplied. The mouth side faces inward in the radial direction and is obliquely directed so as to intersect the output laser beam 12 on the object 18.

【0024】以上述べたように、本実施形態によれば、
形状変化を有する対象物18に対しても倣い機構28に
より出射光学系19が追従移動し、安定したレーザ加工
が可能となる。
As described above, according to this embodiment,
The emission optical system 19 also follows the object 18 having a shape change by the copying mechanism 28, and stable laser processing becomes possible.

【0025】[第2実施形態]図2は、本発明に係るレ
ーザ加工装置10の第2実施形態を示すものである。
[Second Embodiment] FIG. 2 shows a second embodiment of the laser processing apparatus 10 according to the present invention.

【0026】この実施形態を示すレーザ加工装置10A
は、溶化材供給手段21が溶化材供給路長調整手段(以
下、調整手段とする)38を備えている。調整手段38
以外の機構は図1に示されたレーザ加工装置10と異な
らないので、同じ符号を付して説明を省略する。
Laser processing apparatus 10A showing this embodiment
The solubilized material supply means 21 includes a solubilized material supply path length adjusting means (hereinafter, referred to as adjusting means) 38. Adjusting means 38
Since the mechanism other than that is the same as that of the laser processing apparatus 10 shown in FIG. 1, the same reference numerals are given and the description thereof is omitted.

【0027】図2によれば、この調整手段38は、フィ
ラーワイヤが巻かれた溶化材供給手段としてのワイヤリ
ール39とワイヤリール39から繰り出されるフィラー
ワイヤ20をワイヤ案内管33に送り込むための駆動ロ
ーラ40と駆動ローラ40に追従する従動ローラ41と
を対向させて有し、駆動ローラ40はローラ駆動用モー
タ42で回転駆動せしめられるようになっている。ま
た、駆動ローラ40および従動ローラ41は、ローラカ
バー44に収納されている。このローラカバー44は、
フィラーワイヤ20が通過する案内孔を有し、取付けシ
ャフト45を介してレーザ加工装置10A本体に備えら
れる。
According to FIG. 2, this adjusting means 38 is a drive for feeding a wire reel 39 as a solubilizing material supply means around which a filler wire is wound and a filler wire 20 fed from the wire reel 39 into a wire guide tube 33. A roller 40 and a driven roller 41 that follows the driving roller 40 are provided in opposition to each other, and the driving roller 40 is rotationally driven by a roller driving motor 42. The drive roller 40 and the driven roller 41 are housed in a roller cover 44. This roller cover 44 is
It has a guide hole through which the filler wire 20 passes and is provided in the main body of the laser processing apparatus 10A via a mounting shaft 45.

【0028】調整手段38の機構を図2を用いて説明す
る。ワイヤリール39からのフィラーワイヤ20は、駆
動ローラ40とこの駆動ローラ40と従動ローラ41と
の間に挟み込まれて繰り出される。ローラ駆動用モータ
42が駆動し、駆動ローラ40が回転することによっ
て、この駆動ローラ40と従動ローラ41に挟み込まれ
たフィラーワイヤ20は、ワイヤ案内管33に送り込ま
れる。
The mechanism of the adjusting means 38 will be described with reference to FIG. The filler wire 20 from the wire reel 39 is sandwiched between the driving roller 40, the driving roller 40 and the driven roller 41, and is fed out. When the roller driving motor 42 is driven and the driving roller 40 rotates, the filler wire 20 sandwiched between the driving roller 40 and the driven roller 41 is fed into the wire guide tube 33.

【0029】レーザ加工を行う際、レーザ加工装置10
は倣い機構28(図1参照)により対象物18の表面形
状に倣って出射光学系19が追従移動(昇降移動)し、
図1に示したスライドノズル24およびレンズホルダ2
2が対象物18の形状に倣って上下動(追従移動)する
ため、スライドノズル24に取り付けられたワイヤ案内
管33も対象物18の形状に倣って上下動する。
When performing laser processing, the laser processing apparatus 10
The output mechanism 19 follows (moves up and down) following the surface shape of the object 18 by the copying mechanism 28 (see FIG. 1).
The slide nozzle 24 and the lens holder 2 shown in FIG.
Since 2 moves up and down (follows) along the shape of the object 18, the wire guide tube 33 attached to the slide nozzle 24 also moves up and down according to the shape of the object 18.

【0030】ワイヤ案内管33の上下動は、ワイヤリー
ル39からワイヤ供給位置、すなわちレーザ光照射部3
6までの溶化材供給路長を変動させるため、安定したワ
イヤ供給を行う上で好ましくない。
The vertical movement of the wire guide tube 33 is performed by the wire reel 39 from the wire supply position, that is, the laser beam irradiation section 3.
Since the length of the solubilizing material supply path up to 6 is varied, it is not preferable for stable wire supply.

【0031】そこで、図2に示すようにワイヤ案内管3
3上端部近傍に止め金46aおよび46bを備え、ロー
ラカバー44を挟み込むことで、ワイヤ案内管33の上
下動に対応して、ローラカバー44が取付シャフト45
を軸とした上下動を出来るようにしたものである。
Therefore, as shown in FIG. 2, the wire guide tube 3
3 By providing the stoppers 46a and 46b near the upper end and sandwiching the roller cover 44, the roller cover 44 is attached to the mounting shaft 45 in response to the vertical movement of the wire guide tube 33.
It is designed to be able to move up and down around the axis.

【0032】以上述べたように、本実施形態によれば、
ワイヤ案内管33の上下動に対応して、ローラカバー4
4は、取付シャフト45を軸とした上下動を行うので、
ワイヤリール39からワイヤ供給位置までの溶化材供給
路長は常に一定となり、溶融部への安定したフィラーワ
イヤ20の供給が可能となる。
As described above, according to this embodiment,
The roller cover 4 corresponds to the vertical movement of the wire guide tube 33.
4 moves up and down about the mounting shaft 45,
The length of the solubilized material supply path from the wire reel 39 to the wire supply position is always constant, and stable supply of the filler wire 20 to the molten portion is possible.

【0033】[第3実施形態]図3は本発明に係るレー
ザ加工装置10の第3実施形態を示し、レーザ加工装置
10を用いて水中レーザ溶接を行う一例を示すものであ
る。尚、本実施形態において図1に示されたレーザ加工
装置10と機構の異ならない個所については、同じ符号
を付して説明を省略する。
[Third Embodiment] FIG. 3 shows a third embodiment of the laser processing apparatus 10 according to the present invention, and shows an example of underwater laser welding using the laser processing apparatus 10. In the present embodiment, parts that are not different in mechanism from the laser processing apparatus 10 shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0034】図3によれば、レーザ加工装置10Bに具
備される出射光学系19において、出力レーザ光12と
同軸方向に不活性ガスをシールドガス47として流すガ
ス噴出手段48を備え、このガス噴出手段48から噴出
されるシールドガス47によって、ノズルチップ26の
先端にシールドガス雰囲気49が形成される。そして、
このシールドガス雰囲気49の範囲でレーザ溶接を行
う。
As shown in FIG. 3, the emission optical system 19 provided in the laser processing apparatus 10B is provided with a gas ejection means 48 for flowing an inert gas as a shield gas 47 in the direction coaxial with the output laser beam 12, and this gas ejection is performed. The shield gas 47 ejected from the means 48 forms a shield gas atmosphere 49 at the tip of the nozzle tip 26. And
Laser welding is performed within this shield gas atmosphere 49.

【0035】また、ノズルチップ26に金メッキを施し
たドーム状の金属メッシュあるいはパンチプレート50
を取り付けることによって、出力レーザ光12と同軸方
向に流しているシールドガス47が水中に噴出し、シー
ルドガス47は水中で細かい気泡51となり、シールド
ガス雰囲気49を安定させる。
The nozzle tip 26 is plated with gold to form a dome-shaped metal mesh or punch plate 50.
By attaching, the shield gas 47 flowing in the direction coaxial with the output laser beam 12 is jetted out into the water, and the shield gas 47 becomes fine bubbles 51 in the water to stabilize the shield gas atmosphere 49.

【0036】以上述べたように、本実施形態によれば、
安定したシールドガス雰囲気49を形成することが出来
るので、水中でも安定したレーザ加工が可能となる。
As described above, according to this embodiment,
Since the stable shield gas atmosphere 49 can be formed, stable laser processing can be performed even in water.

【0037】[第4実施形態]図4および図5を用いて
本発明に係るレーザ加工装置10の第4実施形態を示す
ものである。全体的な構成は、図1に示されるレーザ加
工装置10と異ならないので、同じ符号を付して説明を
省略する。
[Fourth Embodiment] A laser processing apparatus 10 according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5. Since the overall configuration is the same as that of the laser processing apparatus 10 shown in FIG. 1, the same reference numerals are given and description thereof is omitted.

【0038】図4(A)および(B)はレーザ加工装置
10Cにおけるノズルチップ26の形状を示す。図4
(A)および(B)によれば、このノズルチップ26
は、その中心に出力レーザ光12が通過するレーザ光案
内孔25を有する円盤形状である。このノズルチップ外
径Dをレーザ案内孔直径(ノズルチップ内径)dの2倍
以上にすることによって、シールドガス雰囲気49の乱
れが引き起こす溶接ビードの表面酸化を防止することが
出来る。
4A and 4B show the shape of the nozzle tip 26 in the laser processing apparatus 10C. Figure 4
According to (A) and (B), this nozzle tip 26
Is a disk shape having a laser light guide hole 25 through which the output laser light 12 passes at the center. By making the nozzle tip outer diameter D twice or more the laser guide hole diameter (nozzle tip inner diameter) d, it is possible to prevent the surface oxidation of the welding beads caused by the disturbance of the shield gas atmosphere 49.

【0039】具体的な実施例として、レーザ出力1k
W、溶接速度0.3m/min、シールドガス流量60
l/minの条件下でのレーザ溶接において、ノズルチ
ップ外径Dとレーザ案内孔直径dとの比を変化させ、溶
接ビード全長Lに対する表面酸化部の長さlを調査した
結果を図5(A)に示す。レーザ溶接の溶接ビードの概
略図を図5(B)に示す。
As a concrete example, the laser output is 1 k.
W, welding speed 0.3 m / min, shield gas flow 60
In laser welding under the condition of 1 / min, the ratio of the nozzle tip outer diameter D and the laser guide hole diameter d was changed, and the length l of the oxidized surface portion with respect to the welding bead total length L was investigated. Shown in A). A schematic view of the welding beads for laser welding is shown in FIG. 5 (B).

【0040】図5(A)によれば、ノズルチップ外径D
とレーザ案内孔直径dとの比が2以上、すなわち、ノズ
ルチップ外径Dがレーザ案内孔直径dの2倍以上であれ
ば、溶接ビードの表面酸化部の長さlは、溶接ビード全
長Lのほぼ0%となり、溶接ビードの表面は酸化してい
ないことがわかる。
According to FIG. 5A, the nozzle tip outer diameter D
And the laser guide hole diameter d is 2 or more, that is, if the nozzle tip outer diameter D is twice or more the laser guide hole diameter d, the length 1 of the surface oxidized portion of the weld bead is equal to the total length L of the weld bead. Is almost 0%, indicating that the surface of the weld bead is not oxidized.

【0041】以上述べたように、本実施形態によれば、
シールドガス雰囲気49の乱れが引き起こす溶接ビード
の表面酸化を防止することが可能となる。
As described above, according to this embodiment,
It is possible to prevent the surface oxidation of the welding beads caused by the disturbance of the shield gas atmosphere 49.

【0042】[第5実施形態]図6は本発明に係るレー
ザ加工装置10の第5実施形態を示すものである。全体
構成は図1に示されるレーザ加工装置10と異ならない
ので、同じ符号を付して説明を省略する。
[Fifth Embodiment] FIG. 6 shows a laser processing apparatus 10 according to a fifth embodiment of the present invention. Since the overall configuration is the same as that of the laser processing apparatus 10 shown in FIG. 1, the same reference numerals are given and description thereof is omitted.

【0043】図6はレーザ加工装置10Dの円盤状ノズ
ルチップ26に溶化材供給ノズル52を備えた例を示
す。図6によれば、溶化材供給ノズル52は、ノズルチ
ップ26が有するレーザ光案内孔25の円周方向の一周
面に備えられている。レーザ加工装置10Dは、ノズル
チップ26が有するレーザ光案内孔25の円周方向の面
に溶化材供給ノズル52を備えることによって、レーザ
光照射部36近傍に形成されるシールドガス雰囲気49
を乱すことなく、レーザ光照射部36に溶化材としての
フィラーワイヤ20を安定して供給することが可能とな
る。
FIG. 6 shows an example in which the disk-shaped nozzle tip 26 of the laser processing apparatus 10D is provided with the solubilizing agent supply nozzle 52. According to FIG. 6, the solubilizing agent supply nozzle 52 is provided on one circumferential surface of the laser light guide hole 25 of the nozzle tip 26 in the circumferential direction. The laser processing apparatus 10D is provided with the solubilizing material supply nozzle 52 on the circumferential surface of the laser light guide hole 25 of the nozzle tip 26, so that the shield gas atmosphere 49 formed in the vicinity of the laser light irradiation unit 36 is provided.
It is possible to stably supply the filler wire 20 as the solubilizing material to the laser light irradiation section 36 without disturbing the temperature.

【0044】以上述べたように、本実施形態によれば、
溶化材供給ノズル52によりレーザ光照射部36近傍に
形成されるシールドガス雰囲気49を乱すことなく、レ
ーザ光照射部36にフィラーワイヤ20を正確に供給す
ることが出来、安定したレーザ加工が可能となる。
As described above, according to this embodiment,
The filler wire 20 can be accurately supplied to the laser light irradiation unit 36 without disturbing the shield gas atmosphere 49 formed in the vicinity of the laser light irradiation unit 36 by the solubilizing material supply nozzle 52, and stable laser processing can be performed. Become.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明に係るレーザ加工装置では、対象
物の形状変化に対応してレーザ加工装置が容易に倣い、
集光レンズと対象物との距離および溶化材供給路長を一
定に保つため、レーザ光照射部に溶化材が安定供給さ
れ、安定したレーザ加工が可能となり、また、ドーム状
の金属メッシュを備えることで、安定したシールドガス
雰囲気を形成し、水中でも安定したレーザ加工も可能と
なる。
In the laser processing apparatus according to the present invention, the laser processing apparatus easily follows the change in the shape of the object,
Since the distance between the condensing lens and the object and the length of the solubilizing agent supply path are kept constant, the solubilizing agent is stably supplied to the laser light irradiation section, stable laser processing is possible, and a dome-shaped metal mesh is provided. As a result, a stable shield gas atmosphere can be formed and stable laser processing can be performed even in water.

【0046】さらに、シールドガス雰囲気の乱れに起因
する溶接ビードの表面酸化を防止し、シールドガス雰囲
気を乱すことなく、安定したレーザ加工が可能となる。
Further, the surface oxidation of the welding bead due to the disturbance of the shield gas atmosphere is prevented, and stable laser processing can be performed without disturbing the shield gas atmosphere.

【0047】一方、本発明に係るレーザ加工方法では、
対象物の形状変化に対応して、前記集光レンズ系と対象
物までの距離を一定に保つ集光レンズ系の位置調整工程
と溶化材供給手段および溶化材供給位置までの溶化材供
給路長を一定に保つ溶化材供給路長調整工程とを同時に
実行することで、安定したレーザ加工が可能となる。ま
た、レーザ照射工程と同時に、対象物に向かって照射さ
れるレーザ光と同軸方向にシールドガスを噴出するガス
噴出工程を実行することで、安定したシールド雰囲気を
形成し、水中でも安定したレーザ加工が可能となる。
On the other hand, in the laser processing method according to the present invention,
The position adjustment process of the condenser lens system for keeping the distance between the condenser lens system and the object constant according to the shape change of the object, the solubilizing agent supply means, and the solubilizing agent supply path length to the solubilizing agent supply position. By performing the solubilizing material supply path length adjusting step for keeping the above constant at the same time, stable laser processing becomes possible. At the same time as the laser irradiation process, a stable shield atmosphere is formed by performing a gas ejection process that ejects a shield gas in the direction coaxial with the laser light that is irradiated toward the target object, and laser processing that is stable even in water. Is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るレーザ加工装置の構成概略図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus according to the present invention.

【図2】溶化材供給路長調整手段の概略図。FIG. 2 is a schematic diagram of a solubilized material supply path length adjusting means.

【図3】水中レーザ溶接の概略図。FIG. 3 is a schematic view of underwater laser welding.

【図4】(A)はノズルチップ形状の概略断面図、
(B)は図4(A)のIV−IV線に沿う概略平断面
図。
FIG. 4A is a schematic sectional view of a nozzle tip shape,
FIG. 4B is a schematic plan sectional view taken along the line IV-IV in FIG.

【図5】(A)は水中レーザ溶接におけるノズルチップ
形状と溶接ビード表面酸化の関係を説明した説明図、
(B)は溶接ビード表面を示す図。
FIG. 5A is an explanatory view illustrating the relationship between the nozzle tip shape and the welding bead surface oxidation in underwater laser welding;
(B) is a figure which shows a welding bead surface.

【図6】溶化材供給ノズルの位置を示す概略図。FIG. 6 is a schematic view showing the position of a solubilizing material supply nozzle.

【図7】従来のレーザ加工装置の構成概略図。FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a conventional laser processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 レーザ加工装置 11 レーザ発振装置 12 レーザ光 13 第1のレンズ光学系 14 反射ミラー 15 集光レンズ 16 集光レンズ光学系 18 対象物 19 出射光学系 20 フィラーワイヤ 21 溶化材供給手段 22 レンズホルダ 23 レーザ出射口 24 スライドノズル 25 レーザ光案内孔 26 ノズルチップ 28 倣い機構 29 筒状ケーシング 30 スプリング 31 ローラ 33 ワイヤ案内管 34 ワイヤ供給路 35 ワイヤ供給孔 36 レーザ光照射部 38 調整手段 39 ワイヤリール 40 駆動ローラ 41 従動ローラ 42 ローラ駆動用モータ 44 ローラカバー 45 取付シャフト 46a,46b 止め金 47 シールドガス 48 ガス噴出手段 49 シールドガス雰囲気 50 金属メッシュ 51 気泡 52 溶化材供給ノズル 10 Laser processing equipment 11 Laser oscillator 12 laser light 13 First lens optical system 14 Reflection mirror 15 Condensing lens 16 Condenser lens optical system 18 Target 19 Output optical system 20 filler wire 21 Solubilizing agent supply means 22 Lens holder 23 Laser emission port 24 slide nozzle 25 Laser light guide hole 26 nozzle tips 28 Copying mechanism 29 Cylindrical casing 30 spring 31 Laura 33 wire guide tube 34 Wire supply path 35 Wire supply hole 36 Laser light irradiation part 38 Adjustment means 39 wire reel 40 drive roller 41 Driven roller 42 Roller drive motor 44 Roller cover 45 mounting shaft 46a, 46b clasp 47 Shield gas 48 Gas ejection means 49 Shield gas atmosphere 50 metal mesh 51 air bubbles 52 Solubilizing agent supply nozzle

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 雅貴 神奈川県横浜市鶴見区末広町二丁目4番地 株式会社東芝京浜事業所内 (72)発明者 高橋 英則 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 Fターム(参考) 4E068 BB02 CA12 CB05 CE05 CH03 CJ08    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Masataka Tamura             2-4 Suehiro-cho, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa               Toshiba Keihin Office (72) Inventor Hidenori Takahashi             8th Shinsugita Town, Isogo Ward, Yokohama City, Kanagawa Prefecture             Ceremony company Toshiba Yokohama office F-term (reference) 4E068 BB02 CA12 CB05 CE05 CH03                       CJ08

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザを発振するレーザ発振装置と、 前記レーザ発振装置から発振されたレーザ光を平行光に
する第1のレンズ光学系と、 前記第1のレンズ光学系を介して平行光になったレーザ
光をレーザ加工対象物に集光させる集光レンズ光学系
と、 前記集光レンズ光学系を保持する一方、前記集光レンズ
光学系によって集光されたレーザ光をレーザ加工対象物
に照射する出射光学系と、 前記出射光学系からのレーザ光のレーザ光照射部に溶化
材を供給する溶化材供給手段とを具備するレーザ加工装
置において、 レーザ加工対象物の形状変化に対応して出射光学系を追
従移動させる倣い機構を設け、この倣い機構により前記
集光レンズ光学系とレーザ加工対象物までの距離を常時
一定に保持したことを特徴とするレーザ加工装置。
1. A laser oscillating device for oscillating a laser, a first lens optical system for collimating a laser beam oscillated by the laser oscillating device, and a parallel light via the first lens optical system. A condensing lens optical system that condenses the laser light that has become a laser processing target object, and a laser beam that is condensed by the condensing lens optical system while holding the condensing lens optical system to the laser processing target object. In a laser processing apparatus provided with an emitting optical system for irradiating and a solubilizing material supplying means for supplying a solubilizing material to a laser beam irradiation part of the laser light from the emitting optical system, in response to a change in shape of a laser processing object, A laser processing apparatus provided with a copying mechanism for moving an emission optical system to follow and keeping a constant distance between the condenser lens optical system and a laser processing object by the copying mechanism.
【請求項2】 前記倣い機構は前記溶化材供給手段から
溶化材供給位置までの溶化材供給路長を一定に保つ溶化
材供給路長調整手段を備えたことを特徴とする請求項1
記載のレーザ加工装置。
2. The profiling mechanism comprises solubilizing material supply path length adjusting means for keeping the solubilizing material supply path length from the solubilizing material supplying means to the solubilizing material supply position constant.
The laser processing device described.
【請求項3】 前記出射光学系はレーザ光出射口近傍よ
りレーザ加工対象物のレーザ光照射部に向かってレーザ
光と同軸方向にガスを噴出させるガス噴出手段を備え、
このガス噴出手段により水中でのレーザ加工を行うよう
にしたことを特徴とする請求項2記載のレーザ加工装
置。
3. The emission optical system includes gas ejection means for ejecting gas in the direction coaxial with the laser light toward the laser light irradiation portion of the laser processing target from the vicinity of the laser light emission port,
The laser processing apparatus according to claim 2, wherein laser processing in water is performed by the gas jetting means.
【請求項4】 前記出射光学系はレーザ光出射口にレー
ザ光照射部を覆う金属メッシュを備えることを特徴とす
る請求項2記載のレーザ加工装置。
4. The laser processing apparatus according to claim 2, wherein the emitting optical system is provided with a metal mesh that covers the laser light emitting portion at the laser light emitting port.
【請求項5】 前記出射光学系はレーザ光出射口にレー
ザ光が通過可能なレーザ光案内孔を有するノズルチップ
を備え、このノズルチップの外径が前記レーザ光案内孔
の2倍以上に形成したことを特徴とする請求項2記載の
レーザ加工装置。
5. The emission optical system includes a nozzle tip having a laser light guide hole through which a laser light can pass, the outer diameter of the nozzle tip being at least twice as large as that of the laser light guide hole. The laser processing apparatus according to claim 2, wherein
【請求項6】 前記ノズルチップはレーザ光案内孔にお
ける円周方向の内周面に溶化材をレーザ加工対象物のレ
ーザ光照射部へ供給する溶化材供給ノズルを備えたこと
を特徴とする請求項2記載のレーザ加工装置。
6. The nozzle tip is provided with a solubilizing agent supply nozzle for supplying a solubilizing agent to a laser beam irradiating portion of a laser processing object on an inner circumferential surface of a laser beam guide hole in a circumferential direction. Item 2. A laser processing device according to item 2.
【請求項7】 レーザ発振器から発振された出力レーザ
光を平行光にする平行光形成工程と、 平行光になった出力レーザ光を集光レンズ光学系で集光
させる集光工程と、 集光された出力レーザ光を出射光学系からレーザ加工対
象物に照射する照射工程とを順次に実行し、出力レーザ
光をレーザ加工対象物に照射する際、レーザ光照射部に
溶化材を供給し、レーザ加工対象物に対してレーザ加工
を行うレーザ加工方法において、 レーザ加工対象物の形状変化に倣って、出射光学系を追
従移動させ、前記集光レンズ光学系とレーザ加工対象物
までの距離を一定に保つ位置調整工程と、 溶化材を供給する溶化材供給位置までの溶化材供給路長
を一定に保つ溶化材供給路長調整工程とを同時に実行し
てレーザ加工対象物のレーザ加工を行うことを特徴とす
るレーザ加工方法。
7. A step of forming a parallel light beam that collimates an output laser beam emitted from a laser oscillator, a step of condensing the collimated output laser beam by a condenser lens optical system, and a condensing step. An irradiation step of irradiating the laser processing target with the output laser light thus generated from the emission optical system is sequentially performed, and when irradiating the laser processing target with the output laser light, a solubilizing material is supplied to the laser light irradiation unit, In a laser processing method for performing laser processing on an object to be laser processed, the emission optical system is moved following the shape change of the object to be laser processed, and the distance between the condenser lens optical system and the object to be laser processed is changed. Laser processing of the laser processing target is performed by simultaneously executing the position adjusting process for keeping constant and the solubilizing agent supply path length adjusting step for keeping the solubilizing agent supply path length up to the solubilizing agent supply position for supplying the solubilizing agent constant. Special Laser processing method to be.
【請求項8】 前記照射工程の際に、レーザ加工対象物
に向かって照射されるレーザ光と同軸方向にガスを噴出
するガス噴出工程を備え、レーザ加工対象物にレーザ光
を照射する前記照射工程と前記ガス噴出工程とを同時に
実行し、レーザ加工を行うことを特徴とする請求項7記
載のレーザ加工方法。
8. The irradiation for irradiating a laser beam on a laser processing target object, comprising a gas ejection step for ejecting a gas in a direction coaxial with a laser beam for irradiation on the laser processing target object in the irradiation step. The laser processing method according to claim 7, wherein the laser processing is performed by simultaneously performing the step and the gas injection step.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100846658B1 (en) 2007-05-09 2008-07-16 한국기계연구원 Laser welding zig for joinning thin plate and micro parts

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