JP2003133422A - Input protection circuit - Google Patents

Input protection circuit

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JP2003133422A
JP2003133422A JP2001325417A JP2001325417A JP2003133422A JP 2003133422 A JP2003133422 A JP 2003133422A JP 2001325417 A JP2001325417 A JP 2001325417A JP 2001325417 A JP2001325417 A JP 2001325417A JP 2003133422 A JP2003133422 A JP 2003133422A
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input
protection circuit
resistor
diffusion layer
input protection
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Yoshinari Nagahara
善也 長原
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Yamaha Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the mounting area of an input/output buffer part on a semiconductor chip without considering the interval between diffusion layers or the like at the time of forming the diffusion layer functioning as a protection resistor. SOLUTION: This is an input protection circuit provided between an input pad 10 which receives the signal voltage and is formed on the semiconductor chip and an internal circuit. The input protection circuit has a protection resistor 12 that is formed of the diffusion layer so as to have an area that is larger on the side connected with the input pad 10 and becomes smaller on the side connected with the internal circuit side.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、入力保護回路に係
り、特に、半導体チップ上に形成された信号電圧が入力
される入力パッドと内部回路との間に設けられた入力保
護回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an input protection circuit, and more particularly to an input protection circuit provided between an input pad to which a signal voltage formed on a semiconductor chip is input and an internal circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】静電気放電により集積回路には劣化ある
いは破壊が生ずるため、この破壊電圧を向上させるため
に集積回路の入出力端子には保護回路が設けられる。M
OSデバイスの場合、最も破壊しやすのはゲート酸化膜
であり、SiO2の場合、7MV/cm以上の電界が印加
され、その間の消費電力が約2μJのときゲート破壊が
起こるとされている。これを保護するために電圧をクラ
ンプする回路が必要となる。
2. Description of the Related Art Since an integrated circuit is deteriorated or destroyed by electrostatic discharge, a protection circuit is provided at an input / output terminal of the integrated circuit in order to improve the breakdown voltage. M
In the case of an OS device, it is the gate oxide film that is most easily destroyed, and in the case of SiO 2, an electric field of 7 MV / cm or more is applied, and when the power consumption during that time is about 2 μJ, the gate breakdown is said to occur. A circuit for clamping the voltage is required to protect this.

【0003】MOS形集積回路では、出力端子は静電気
放電耐圧が比較的大きいソース・ドレインのPN接合が
接続されるために、これが保護回路の役目をするが、入
力端子はバッファを構成するMOSデバイスのゲートに
接続されるために保護回路が必要となる。
In the MOS integrated circuit, the output terminal is connected to the source / drain PN junction having a relatively high electrostatic discharge withstand voltage, and this serves as a protection circuit. However, the input terminal is a MOS device that constitutes a buffer. A protection circuit is required to be connected to the gate of the.

【0004】従来のこの種の入力保護回路の一例を図4
に示す。この入力保護回路は基板1上に基板1とは反対
導電性の拡散層2を形成し、これと基板とのPN接合を
利用するものである。このPN接合自体に異常入力電圧
に対して十分な耐圧を持たせる必要がある。特開昭52
−143778号公報には図5及び図6に示す入力保護
回路が提案されている。図5に示す入力保護回路は、抵
抗として機能する拡散層2の一端が接続される外部入力
端子4とのコンタクトホール7に近い部分の面積を広く
し、且つ拡散層が対向して設けられた部分の相互間隔を
広くするように形成されている。
An example of a conventional input protection circuit of this type is shown in FIG.
Shown in. This input protection circuit forms a diffusion layer 2 having a conductivity opposite to that of the substrate 1 on the substrate 1 and utilizes a PN junction between the diffusion layer 2 and the substrate. It is necessary for the PN junction itself to have a sufficient withstand voltage against an abnormal input voltage. JP-A-52
The input protection circuit shown in FIGS. 5 and 6 is proposed in Japanese Patent Publication No. 143778. In the input protection circuit shown in FIG. 5, the area near the contact hole 7 with the external input terminal 4 to which one end of the diffusion layer 2 functioning as a resistor is connected is widened, and the diffusion layers are provided so as to face each other. It is formed so as to widen the mutual interval of the parts.

【0005】また、図6に示す入力保護回路は、外部入
力端子4に近づくに従って拡散層の面積及び拡散層相互
間隔を漸増するようにしたものである。図5、6に示さ
れた寸法は例えば、μmで示された値である。従来の入
力保護回路の他の例を図7に示す。この入力保護回路の
抵抗体は外部入力端子となる入力パッド10にコンタク
トホール14を介して一端が接続される幅の広い直線状
に形成された第1の拡散層8と、第1の拡散層の他端と
コンタクトホール15、配線18、コンタクトホール1
6を介して一端が接続される第2の拡散層9とからな
る。
Further, the input protection circuit shown in FIG. 6 is configured such that the area of the diffusion layers and the mutual spacing of the diffusion layers are gradually increased as they approach the external input terminal 4. The dimensions shown in FIGS. 5 and 6 are values shown in μm, for example. Another example of the conventional input protection circuit is shown in FIG. The resistor of this input protection circuit includes a first diffusion layer 8 having a wide linear shape, one end of which is connected to an input pad 10 serving as an external input terminal through a contact hole 14, and a first diffusion layer. The other end and contact hole 15, wiring 18, contact hole 1
And a second diffusion layer 9 whose one end is connected via 6.

【0006】第2の拡散層9は、第1の拡散層8に比し
て幅が狭く、かつ直線状に形成されている。第2の拡散
層9の他端はコンタクトホール17、配線19を介して
入力バッファ11の入力端に接続されている。第1の拡
散層8は、耐圧を考慮して第2の拡散層9に比して幅を
広くしてある。
The second diffusion layer 9 has a narrower width than the first diffusion layer 8 and is formed linearly. The other end of the second diffusion layer 9 is connected to the input end of the input buffer 11 via the contact hole 17 and the wiring 19. The first diffusion layer 8 has a wider width than the second diffusion layer 9 in consideration of breakdown voltage.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の入力保
護回路にあっては、保護抵抗として機能する拡散層にお
ける入力端子に近い部分の耐圧を高くするために拡散層
の面積及び拡散層相互間の間隔を入力端子に近づくに従
って広くする必要があり、また、拡散層がつづら折り形
状となっているために半導体チップ上における入出力バ
ッファ部における実装面積が増大するという問題が有っ
た。さらに、入力保護回路の保護抵抗を図7に示すよう
に折り返しの直線状に形成しても面積を大きくとるため
に、同様に半導体チップ上における入出力バッファ部に
おける実装面積が増大するという問題が有った。
In the above-mentioned conventional input protection circuit, in order to increase the breakdown voltage of the portion of the diffusion layer that functions as a protection resistor, which is close to the input terminal, the area of the diffusion layer and the distance between the diffusion layers are increased. It is necessary to widen the distance between the input terminals and the input terminals, and there is a problem that the mounting area of the input / output buffer section on the semiconductor chip increases because the diffusion layer has a zigzag shape. Further, even if the protective resistance of the input protection circuit is formed in a folded linear shape as shown in FIG. 7, since the area is large, there is a problem that the mounting area of the input / output buffer section on the semiconductor chip also increases. There was

【0008】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、保護抵抗として機能する拡散層を形成する
際に拡散層間の間隔等を考慮することなく、半導体チッ
プ上における入出力バッファ部の実装面積の縮小を図っ
た入力保護回路を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and when forming a diffusion layer functioning as a protective resistance, the input / output buffer section on a semiconductor chip is not considered without considering the distance between the diffusion layers. It is an object of the present invention to provide an input protection circuit with a reduced mounting area.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1に記載の発明は、半導体チップ上に形成され
た信号電圧が入力される入力パッドと内部回路との間に
設けられた入力保護回路であって、該入力保護回路は前
記入力パッドに接続される側の面積が大きく、かつ前記
内部回路側に接続される側に向かうにつれて面積が小さ
くなるように拡散層で形成された抵抗体を有することを
特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention according to claim 1 is provided between an input pad formed on a semiconductor chip to which a signal voltage is input and an internal circuit. The input protection circuit is formed of a diffusion layer such that the area connected to the input pad is large and the area becomes smaller toward the side connected to the internal circuit. It is characterized by having a resistor.

【0010】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載の入力保護回路において、前記抵抗体を、耐圧を
十分必要とする部分のみ面積を大きく、かつ前記入力パ
ッド側から前記内部回路側に向けて段階的に小さくし、
その後の部分は一定の幅で形成するようにしたことを特
徴とする。
The invention described in claim 2 is the same as claim 1.
In the input protection circuit according to, the resistance body has a large area only in a portion that requires a sufficient breakdown voltage, and is gradually reduced from the input pad side toward the internal circuit side,
The subsequent portion is characterized by being formed with a constant width.

【0011】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
または2のいずれかに記載の入力保護回路において、前
記抵抗体を前記入力パッド側から前記内部回路側に向け
て直線的に形成したことを特徴とする。
The invention described in claim 3 is the same as claim 1.
In the input protection circuit according to any one of items 1 and 2, the resistor is linearly formed from the input pad side toward the internal circuit side.

【0012】本発明に係る入力保護回路は、信号電圧が
入力される入力パッドに接続される側の面積が大きく、
かつ内部回路側に接続される側に向かうにつれて面積が
小さくなるように拡散層で形成された抵抗体を有してい
る。また、本発明に係る入力保護回路は、前記抵抗体を
前記入力パッド側から前記内部回路側に向けて耐圧を十
分必要とする部分のみ面積を段階的に小さくし、その後
の部分は一定の幅で形成し、全体として直線的に形成し
ている。
The input protection circuit according to the present invention has a large area on the side connected to the input pad for inputting the signal voltage,
Further, it has a resistor formed of a diffusion layer so that the area becomes smaller toward the side connected to the internal circuit side. Further, in the input protection circuit according to the present invention, the area of the resistor is reduced stepwise from the input pad side to the internal circuit side only in a portion where a sufficient breakdown voltage is required, and the subsequent portion has a constant width. And is formed linearly as a whole.

【0013】したがって、入力保護回路の保護抵抗とし
て機能する拡散層の形状を単純化できるので、拡散層を
形成する際に拡散層間の間隔等を考慮することなく、半
導体チップ上における入出力バッファ部の実装面積の縮
小が図れる。
Therefore, since the shape of the diffusion layer functioning as the protection resistance of the input protection circuit can be simplified, the input / output buffer section on the semiconductor chip can be formed without considering the distance between the diffusion layers when forming the diffusion layer. The mounting area can be reduced.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照して詳細に説明する。本発明が適用される入力
保護回路の構成を図1に示す。同図において、入力保護
回路は、半導体チップ上に形成された信号電圧が入力さ
れる入力パッド10と、入力バッファ11を構成するP
MOSトランジスタ111とNMOSトランジスタ11
2のゲートとの間に接続される保護抵抗12を有してい
る。入力バッファ11の出力端は内部回路に接続されて
いる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the configuration of an input protection circuit to which the present invention is applied. In the figure, the input protection circuit includes an input pad 10 to which a signal voltage formed on a semiconductor chip is input, and a P which constitutes an input buffer 11.
MOS transistor 111 and NMOS transistor 11
It has a protection resistor 12 connected between the two gates. The output terminal of the input buffer 11 is connected to the internal circuit.

【0015】図2に本発明の実施の形態に係る入力保護
回路の保護抵抗のパターンを示す。同図において、図1
に示した保護抵抗12は拡散層で形成された抵抗体であ
り、その一端はコンタクトホール20を介して入力パッ
ド10に接続され、他端はコンタクトホール21、配線
13を介して入力バッファ11の入力端に接続されてい
る。保護抵抗12としての抵抗体は、入力パッド10に
接続されている側の面積が大きく、かつ内部回路に接続
される入力バッファ11の入力側に接続されるコンタク
トホール21に接続される端部に向かうにつれて面積が
段階的に小さくなるように形成されている。
FIG. 2 shows a pattern of protection resistors of the input protection circuit according to the embodiment of the present invention. In FIG.
The protection resistor 12 shown in FIG. 2 is a resistor formed of a diffusion layer, one end of which is connected to the input pad 10 through the contact hole 20 and the other end of which is connected to the input buffer 11 through the contact hole 21 and the wiring 13. It is connected to the input end. The resistance body as the protection resistor 12 has a large area on the side connected to the input pad 10, and has an end portion connected to the contact hole 21 connected to the input side of the input buffer 11 connected to the internal circuit. It is formed so that the area gradually decreases as it goes.

【0016】ここで、保護抵抗12を形成する抵抗体
は、耐圧を十分必要とする入力パッド10に近い部分1
2Aのみ面積が大きく、かつ入力パッド10側からコン
タクトホール21に向けて段階的に小さくし、その後の
部分12Bは保護抵抗として必要な抵抗値が得られるよ
うに一定の幅で形成され、全体として直線的に形成され
ている。なお、図2に示す抵抗体のパターンは段階的に
面積を小さくする部分12Aを両側面について段階的に
面積が変化するように段状に形成したが、図3において
符号12A'で示すように、一方の側面について段階的
に面積が変化するように段状に形成してもよい。
Here, the resistor forming the protective resistor 12 is a portion 1 close to the input pad 10 which requires a sufficient breakdown voltage.
2A has a large area and is gradually reduced from the input pad 10 side toward the contact hole 21, and the subsequent portion 12B is formed with a constant width so as to obtain a necessary resistance value as a protective resistance, and as a whole. It is formed linearly. In addition, in the resistor pattern shown in FIG. 2, the portion 12A for gradually reducing the area is formed in a stepped manner so that the area gradually changes on both side surfaces. Alternatively, one of the side surfaces may be formed in a stepped shape so that the area thereof changes stepwise.

【0017】次に、図3に示す本実施の形態に係る入力
保護回路における保護抵抗を形成する抵抗体のパターン
と、図7に示す従来の入力保護回路における抵抗体のパ
ターンとの面積を比較する。両者はほぼ、同一の抵抗値
を有する。図7に示す保護抵抗は、矩形状に形成された
第1の拡散層8の幅が5μm、長さが100μmで抵抗
値は100Ω、矩形状に形成された第2の拡散層9は幅
が1.65μm、長さが100μmで抵抗値は302Ω
で、全体の抵抗値は402Ωである。
Next, the areas of the resistor pattern forming the protective resistance in the input protection circuit according to the present embodiment shown in FIG. 3 and the resistor pattern in the conventional input protection circuit shown in FIG. 7 are compared in area. To do. Both have almost the same resistance value. In the protection resistor shown in FIG. 7, the width of the first diffusion layer 8 formed in a rectangular shape is 5 μm, the length is 100 μm, the resistance value is 100Ω, and the width of the second diffusion layer 9 formed in a rectangular shape is large. 1.65μm, length 100μm, resistance value 302Ω
Therefore, the total resistance value is 402Ω.

【0018】これに対して、図3に示す本実施の形態に
係る入力保護回路における保護抵抗は、十分な耐圧を必
要とする部分12A'は一辺が5μm、4μm、3μ
m、2μmの各正方形を連ねた形状に形成され、残りの
部分は、幅1.08μm、長さ86μmで矩形状に形成
され、部分12A'の抵抗値は4Ω、のこりの部分12
B'の抵抗値は398.14Ωで、全体の抵抗値は40
2.14Ωである。
On the other hand, in the protection resistor in the input protection circuit according to the present embodiment shown in FIG. 3, the part 12A 'requiring a sufficient breakdown voltage has sides of 5 μm, 4 μm and 3 μm.
m and 2 μm, each of which is formed by connecting squares, and the remaining part is formed in a rectangular shape with a width of 1.08 μm and a length of 86 μm.
The resistance value of B'is 398.14Ω, and the total resistance value is 40.
It is 2.14Ω.

【0019】図3に示した本実施の形態に係る入力保護
回路における保護抵抗を形成する抵抗体のパターンの面
積S1は、S1=86×1.08+5×5+4×4+3
×3+2×2=146.88(μm2)、また図7に示
した従来の保護抵抗を形成する抵抗体のパターンの面積
S2は、S2=100×5+100×1.65=665
(μm2)となる。
The area S1 of the pattern of the resistor forming the protective resistance in the input protection circuit according to the present embodiment shown in FIG. 3 is S1 = 86 × 1.08 + 5 × 5 + 4 × 4 + 3.
× 3 + 2 × 2 = 146.88 (μm2), and the area S2 of the resistor pattern forming the conventional protection resistor shown in FIG. 7 is S2 = 100 × 5 + 100 × 1.65 = 665.
(Μm2).

【0020】上述したように図3に示す本実施の形態に
係る入力保護回路における保護抵抗を形成する抵抗体の
パターンと、図7に示す従来の入力保護回路における抵
抗体のパターンとでは全体の抵抗値はほぼ同一である
が、本実施の形態に係る入力保護回路における保護抵抗
を形成する抵抗体のパターンの面積は、図4に示す従来
の入力保護回路における抵抗体のパターンの約1/4と
なり、保護抵抗の実装面積を縮小することができる。こ
の結果、半導体チップにおける入出力バッファ部の実装
面積の縮小が図れる。
As described above, the pattern of the resistors forming the protective resistance in the input protection circuit according to the present embodiment shown in FIG. 3 and the pattern of the resistors in the conventional input protection circuit shown in FIG. Although the resistance values are almost the same, the area of the resistor pattern forming the protective resistance in the input protection circuit according to the present embodiment is about 1 / the area of the resistor pattern in the conventional input protection circuit shown in FIG. Therefore, the mounting area of the protective resistor can be reduced. As a result, the mounting area of the input / output buffer section in the semiconductor chip can be reduced.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明によれば、入力保護回路の保護抵
抗として機能する拡散層の形状を単純化できるので、拡
散層を形成する際に拡散層間の間隔等を考慮することな
く、半導体チップ上における入出力バッファ部の実装面
積の縮小が図れる。
According to the present invention, since the shape of the diffusion layer functioning as the protection resistance of the input protection circuit can be simplified, the semiconductor chip can be formed without considering the distance between the diffusion layers when forming the diffusion layer. The mounting area of the input / output buffer section can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明が適用される入力保護回路の構成を示
す回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of an input protection circuit to which the present invention is applied.

【図2】 本発明の実施の形態に係る入力保護回路の保
護抵抗のパターンの一例を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a pattern of protection resistors of the input protection circuit according to the embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態に係る入力保護回路の保
護抵抗のパターンの他の例を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing another example of the pattern of the protection resistance of the input protection circuit according to the embodiment of the present invention.

【図4】 従来の入力保護回路の保護抵抗のパターンの
一例を示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an example of a pattern of protection resistors of a conventional input protection circuit.

【図5】 従来の入力保護回路の保護抵抗のパターンの
他の例を示す説明図。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing another example of the pattern of the protection resistance of the conventional input protection circuit.

【図6】 従来の入力保護回路の保護抵抗のパターンの
さらに他の例を示す説明図。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing still another example of the pattern of the protection resistance of the conventional input protection circuit.

【図7】 従来の入力保護回路の保護抵抗のパターンの
さらに他の例を示す説明図。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing still another example of the pattern of the protection resistance of the conventional input protection circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…入力パッド、11…入力バッファ、12…保護抵
抗、13、18、19…配線、14〜17、20、21
…コンタクトホール
10 ... Input pad, 11 ... Input buffer, 12 ... Protective resistance, 13, 18, 19 ... Wiring, 14-17, 20, 21
… Contact holes

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H03K 19/003 Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H03K 19/003

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップ上に形成された信号電圧が
入力される入力パッドと内部回路との間に設けられた入
力保護回路であって、 該入力保護回路は前記入力パッドに接続される側の面積
が大きく、かつ前記内部回路側に接続される側に向かう
につれて面積が小さくなるように拡散層で形成された抵
抗体を有することを特徴とする入力保護回路。
1. An input protection circuit provided between an input pad formed on a semiconductor chip and receiving a signal voltage and an internal circuit, wherein the input protection circuit is connected to the input pad. Has a large area and has a resistor formed of a diffusion layer such that the area becomes smaller toward the side connected to the internal circuit side.
【請求項2】 前記抵抗体を、耐圧を十分必要とする部
分のみ面積を大きく、かつ前記入力パッド側から前記内
部回路側に向けて段階的に小さくし、その後の部分は一
定の幅で形成するようにしたことを特徴とする請求項1
に記載の入力保護回路。
2. The resistor has a large area only in a portion where a sufficient breakdown voltage is required, and is gradually reduced from the input pad side toward the internal circuit side, and the subsequent portion is formed with a constant width. The method according to claim 1, wherein
Input protection circuit described in.
【請求項3】 前記抵抗体を前記入力パッド側から前記
内部回路側に向けて直線的に形成したことを特徴とする
請求項1または2のいずれかに記載の入力保護回路。
3. The input protection circuit according to claim 1, wherein the resistor is linearly formed from the input pad side toward the internal circuit side.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2008053555A1 (en) * 2006-11-02 2010-02-25 株式会社島津製作所 High-speed analog signal input protection circuit and time-of-flight mass spectrometer

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