JP2003129263A - 非不動態化金属体の腐食抑制方法およびボイラの腐食抑制方法 - Google Patents

非不動態化金属体の腐食抑制方法およびボイラの腐食抑制方法

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JP2003129263A
JP2003129263A JP2001323051A JP2001323051A JP2003129263A JP 2003129263 A JP2003129263 A JP 2003129263A JP 2001323051 A JP2001323051 A JP 2001323051A JP 2001323051 A JP2001323051 A JP 2001323051A JP 2003129263 A JP2003129263 A JP 2003129263A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 水分の影響によりボイラの伝熱管等の非不動
態化金属体に生じる腐食を抑制する。 【解決手段】 腐食抑制方法は、ボイラの伝熱管等の非
不動態化金属体に影響する水分中に含まれる塩化物イオ
ンと硫酸イオンとの合計量を800mg/l以下に設定
する工程を含んでいる。この方法により抑制可能な腐食
は、例えば、非不動態化金属体の厚さ方向に発生する局
部的腐食である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、腐食抑制方法、特
に、水分の影響によりボイラの伝熱管等の非不動態化金
属体に生じる腐食を抑制するための方法に関する。
【0002】
【従来の技術とその課題】日本工業規格(JIS)に規
定された特殊循環ボイラの範疇に属する貫流ボイラは、
給水を加熱して蒸気を発生させるための伝熱管を備えて
いる。このような伝熱管は、炭素鋼等の非不動態化金属
を用いて形成されているため、ボイラ水と接触する部位
がボイラ水の影響による腐食のために破損し、貫流ボイ
ラの寿命に致命的な影響を及ぼす場合がある。このた
め、貫流ボイラを長期間安定に運転するためには、伝熱
管の腐食を効果的に抑制する必要がある。
【0003】そこで、JIS B 8223:1999
は、伝熱管に生じる上述のような腐食を抑制する観点か
ら、特殊循環ボイラのボイラ水の水質に関する各種の管
理項目を設定し、その推奨基準を規定している。
【0004】ところで、伝熱管の腐食は、通常、次の三
種類の指標に基づいて評価されている。 (1)mdd(mg/dm2/day):水との接触面の単
位表面積(1dm2)における1日当りの質量減少量
(mg)を表現したものである。 (2)ipy(inch/year):1年間における、
伝熱管の厚さ(肉厚)の減少量(インチ)を表現したも
のである。 (3)食孔数/cm2:水との接触面の単位表面積(1cm
2)当りに発生した食孔の数を表現したものである。な
お、食孔とは、伝熱管の水との接触面側から厚さ方向の
反対側に向かう局部的腐食、すなわち孔食により生じた
窪みを意味する(例えば、日刊工業新聞社発行、腐食防
食協会編「防食技術便覧」31〜33頁参照)。
【0005】ところが、JIS B 8223:1999
において推奨されているボイラ水の管理基準に適合する
よう貫流ボイラを運転し、また、上述のような指標に基
づきながら伝熱管の腐食の進行状況を評価して、ボイラ
水との接触部位における伝熱管の腐食の状況が破損に至
る程度のものではないと判定できる場合であっても、予
想外に伝熱管の当該部位が腐食により破損してしまう場
合がある。これによると、JISにおいて推奨されてい
るボイラ水の管理基準は、必ずしも伝熱管の腐食を抑制
するために有効とは言えない。
【0006】本発明の目的は、水分の影響によりボイラ
の伝熱管等の非不動態化金属体に生じる腐食を抑制する
ことにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係る非不動態化
金属体の腐食抑制方法は、水分の影響により非不動態化
金属体に生じる腐食を抑制するための方法であり、非不
動態化金属体に影響する水分中に含まれる塩化物イオン
と硫酸イオンとの合計量を800mg/l以下に設定す
る工程を含んでいる。この方法により抑制可能な腐食
は、例えば局部的腐食である。
【0008】また、本発明の他の観点に係る腐食抑制方
法は、ボイラの伝熱管に生じる腐食を抑制するための方
法であり、ボイラ内のボイラ水中に含まれる塩化物イオ
ンと硫酸イオンとの合計量を800mg/l以下に設定
する工程を含んでいる。この方法により抑制可能な腐食
は、例えば、伝熱管の水との接触面側から厚さ方向の反
対側に向かう局部的腐食である。
【0009】
【発明の実施の形態】図1を参照して、本発明の腐食抑
制方法を適用可能な貫流ボイラを備えた蒸気ボイラ装置
の概略を説明する。図において、蒸気ボイラ装置1は、
貫流ボイラ2と給水装置3とを主に備えている。
【0010】貫流ボイラ2は、図2に示すように、給水
装置3から供給される給水を貯留するための貯留部4
と、貯留部4に対して起立するように設けられた複数本
の伝熱管5(非不動態化金属体の一例)と、伝熱管5の
上端部に設けられかつ図示しない負荷装置に向けて蒸気
を供給するための供給路6aを有するヘッダ6と、給水
を加熱して蒸気を発生するための加熱装置7とを主に備
えている。なお、貯留部4とヘッダ6とは、平面形状が
環状に設定されている。また、貯留部4は、その内部に
貯留された給水(後述するボイラ水W)を排出するため
の、図示しない開閉弁を備えた排出口4aを有してい
る。
【0011】伝熱管5は、非不動態化金属を用いて形成
された部材、すなわち、非不動態化金属体である。ここ
で、非不動態化金属は、中性水溶液中において自然には
不動態化しない金属をいい、通常はステンレス鋼、チタ
ン、アルミニウム、クロム、ニッケルおよびジルコニウ
ム等を除く金属である。具体的には、炭素鋼、鋳鉄、銅
および銅合金等である。なお、炭素鋼は、中性水溶液中
においても、高濃度のクロム酸イオンの存在下では不動
態化する場合があるが、この不動態化はクロム酸イオン
の影響によるものであって中性水溶液中での自然な不動
態化とは言い難い。したがって、炭素鋼は、ここでの非
不動態化金属の範疇に属する。また、銅および銅合金
は、電気化学列(emf series)が貴な位置にあるため、
通常は水分の影響による腐食が生じ難い金属と考えられ
ているが、中性水溶液中において自然に不動態化するも
のではないので、ここでの非不動態化金属の範疇に属す
る。
【0012】給水装置3は、貫流ボイラ2に給水を供給
するためのものであり、補給水の注水路8、注水路8か
らの補給水を貯留するための給水タンク9および貫流ボ
イラ2の貯留部4に給水を供給するための給水路10を
主に備えている(図1)。ここで、注水路8は、軟水化
装置11と脱酸素装置12とをこの順に備えている。軟
水化装置11は、補給水中に含まれる各種の硬度分等を
ナトリウムイオンに置換して軟水に変換するためのもの
である。一方、脱酸素装置12は、補給水中に含まれる
溶存酸素を機械的に除去するためのものである。
【0013】上述の蒸気ボイラ装置1を運転する場合
は、注水路8から給水タンク9に補給水を供給し、この
補給水を給水タンク9に貯留する。ここで貯留される給
水は、軟水化装置11および脱酸素装置12で処理され
たもの、すなわち、脱酸素処理された軟水である。そし
て、図示しないポンプを作動させ、給水タンク9に貯留
された給水を、給水路10を通じて貫流ボイラ2に供給
する。
【0014】貫流ボイラ2において、給水路10を通じ
て供給される給水は、貯留部4内においてボイラ水Wと
して貯留される。そして、貯留部4に貯留されたボイラ
水Wは、加熱装置7により加熱されながら各伝熱管5内
を上昇し、徐々に蒸気になる。各伝熱管5において生成
した蒸気はヘッダ6において集められ、供給路6aを通
じて負荷装置に供給される。
【0015】上述のような蒸気ボイラ装置1の運転中に
おいて、貫流ボイラ2で用いられる各伝熱管5は、図2
に一点鎖線IIIで示すような下端部分、すなわち、貯留
部4との連結部分が、ボイラ水Wと継続的に接触するこ
とになる。このため、伝熱管5は、そのような部分にお
いて、ボイラ水Wの影響を受け、腐食しやすい。特に、
伝熱管5は、上述の下端部分において、内周面の減肉的
な腐食に加えて局部的腐食が生じやすく、それが原因で
微小な穴開きを起こして破損する場合がある。
【0016】ここで、局部的腐食とは、図3(図2のII
I部分の拡大図)に示すように、伝熱管5の水との接触
面側から厚さ方向の反対側に向かう孔状の腐食、すなわ
ち、伝熱管5の厚さ(肉厚)方向に発生する孔状の腐食
をいう。以下、このような局部的腐食の発生現象を「孔
食」といい、この孔食により生じた孔状の腐食を「食
孔」(図3においては符号5aで示している)という。
【0017】そこで、蒸気ボイラ装置1の運転中は、腐
食による伝熱管5の破損を抑制するために、ボイラ水W
中の塩化物イオン濃度と硫酸イオン濃度とを継続的に測
定し、ボイラ水中に含まれる両イオンの合計量が800
mg/l以下、好ましくは650mg/l以下、より好
ましくは500mg/l以下、さらに好ましくは400
mg/l以下になるよう設定する。ここで、ボイラ水W
中の塩化物イオンは、JIS B 8223:1999で
推奨されている通り400mg/l以下に設定するのが
好ましく、300mg/l以下に設定するのがより好ま
しい。一方、ボイラ水中の硫酸イオンは、600mg/
l以下に設定するのが好ましく、500mg/l以下に
設定するのがより好ましい。なお、ボイラ水中の硫酸イ
オン濃度は、JIS B 8223:1999において言
及されておらず、本発明において初めて提案するボイラ
水の水質管理基準である。
【0018】このようにボイラ水W中のイオン濃度を調
整すると、伝熱管5は、ボイラ水Wとの接触部分におけ
る減肉的な腐食が抑制されると共に、食孔5aの発生お
よび成長も抑制され、腐食(特に食孔5a)による破損
を起こしにくくなる。なお、ボイラ水W中の塩化物イオ
ンと硫酸イオンとの合計量が800mg/lを超える場
合は、JIS B 8223:1999で推奨されている
他の管理基準(例えばボイラ水のpH等)を所要の状態
に設定しても、伝熱管5に腐食、特に孔食による食孔5
aが発生しやすくなる。
【0019】蒸気ボイラ装置1において、ボイラ水W中
の塩化物イオンと硫酸イオンとの合計量は、例えば、加
熱により濃縮されたボイラ水Wを給水により希釈する
と、上記のように設定することができる。因みに、ボイ
ラ水Wは、貫流ボイラ2の貯留部4内に給水路10から
給水を供給しつつ、排出口4aから濃縮されたボイラ水
Wを適宜排出すると(いわゆるブローすると)希釈する
ことができる。
【0020】なお、この実施の形態では、本発明の腐食
抑制方法を貫流ボイラで用いられる伝熱管の腐食を抑制
する場合を例に説明したが、本発明の腐食抑制方法はこ
れに限定されるものではない。例えば、貫流ボイラ以外
のボイラの伝熱管、貫流ボイラ等の各種ボイラを採用し
た蒸気ボイラ装置において用いられる貯水槽、復水配管
および給水配管、並びにボイラ以外のその他の各種熱機
器(例えば、湯沸かし器、吸収式冷凍器、クーリングタ
ワー等)において用いられる伝熱管、貯水槽および各種
の配管等、上述のような非不動態化金属からなる部材
(非不動態化金属体)であって、水や蒸気などの水分の
影響を受けて腐食する可能性があるもの、特に、上述の
ような局部的腐食(孔食)が生じる可能性があるものに
対し、本発明の腐食抑制方法は同様に適用することがで
きる。
【0021】ボイラの伝熱管以外の非不動態化金属体に
対して本発明の腐食抑制方法を適用する場合は、当該非
不動態化金属体に対して影響を与える水分中の塩化物イ
オンと硫酸イオンとの合計量を上述のように(すなわ
ち、800mg/l以下、好ましくは650mg/l以
下、より好ましくは500mg/l以下、さらに好まし
くは400mg/l以下)に設定する。例えば、蒸気ボ
イラ装置の貯水槽において孔食を抑制する場合、貯水槽
に貯留する水(給水)中の両イオンの合計量を上述のよ
うに設定する。
【0022】検証例 JIS B 8223:1999において推奨されている
ボイラ水の管理基準に適合するよう運転されていた本出
願人会社製のボイラにおいて、1989年10月から2
001年9月の12年間の間に伝熱管の腐食破損が29
件報告された。ところが、これらの報告事例の全てにお
いて、伝熱管の減肉的な腐食の状況を示す指標(md
d)は伝熱管の腐食破損が生じないことを示していた。
そこで、各報告事例について伝熱管の破損形態を調べた
ところ、全ての事例における破損形態は、孔食の進行で
生じた食孔による微小な穴開きであることが判明した。
【0023】本発明者等は、以上の原因としてボイラ水
中に含まれる硫酸イオンに着目し、ボイラ水中の硫酸イ
オン濃度と伝熱管に生じる食孔の深さの最大値(相対
値)との関係を調べた。結果を図4に示す。図4による
と、ボイラ水中の硫酸イオン濃度が高まるに従って食孔
の深さの最大値が大きくなる。これより、ボイラ水中の
硫酸イオン濃度は、伝熱管の腐食、特に孔食の進行に重
要な影響を与えていることがわかる。
【0024】そこで、本発明者等は、上述の29件の破
損事例について、それらの運転時に供給していた給水の
水質データからボイラ水中の塩化物イオンおよび硫酸イ
オンの量を求めた。また、各破損事例について、破損に
至るまでの期間から食孔の成長速度を求めた。結果を表
1に示す。
【0025】
【表1】
【0026】表1によると、ボイラ水中の塩化物イオン
量がJIS B 8223:1999で推奨されている4
00mg/l以下に設定されている場合であっても、孔
食の進行による伝熱管の破損が生じていることがわか
る。これによると、ボイラ水中の塩化物イオン量をJI
Sの推奨値以下に設定しても、孔食の進行による伝熱管
の破損は防止しにくいことになる。
【0027】また、表1の結果に基づいて、食孔の成長
速度と、塩化物イオンと硫酸イオンとの合計量との関係
をグラフ化した結果を図5に示す。図5によると、ボイ
ラ水中の塩化物イオン量がJIS B 8223:199
9で推奨されている400mg/l以下に設定されてい
る場合であっても、ボイラ水中の塩化物イオン量と硫酸
イオン量との合計濃度が800mg/lを超える場合に
おいて、孔食の進行による伝熱管の破損が集中的に発生
していることがわかる。
【0028】また、表1の結果に基づいて、塩化物イオ
ンと硫酸イオンとの合計量と、破損事例数の累積度数
(%)との関係をまとめた結果を図6に示す。なお、破
損事例数の累積度数は、上記破損事例数(29件)に対
する、図に示した塩化物イオンと硫酸イオンとの合計量
以下の当該合計量で伝熱管が破損した事例数の合計(累
積事例数)の百分率(すなわち、(累積事例数/29
件)×100)を示している。例えば、両イオンの合計
量が800mg/lの場合、それ以下の当該合計量で伝
熱管が破損した事例数の合計は4件であり、累積度数は
14%になる。図6に一点鎖線で示すように、累積度数
は、塩化物イオンと硫酸イオンとの合計量が800mg
/lを超えると急激に増加していることがわかる。
【0029】これらによると、ボイラ水中の塩化物イオ
ンと硫酸イオンとの合計量を800mg/l以下に設定
すれば、ボイラの伝熱管の腐食、特に、孔食で生じる食
孔による破損を効果的に抑制できることがわかる。
【0030】
【発明の効果】本発明に係る非不動態化金属体の腐食抑
制方法は、非不動態化金属体に影響する水分中の塩化物
イオンと硫酸イオンとの合計量を800mg/l以下に
設定しているので、非不動態化金属体に生じる腐食、特
に局部的腐食を抑制することができる。
【0031】また、本発明に係るボイラの腐食抑制方法
は、ボイラ内のボイラ水中の塩化物イオンと硫酸イオン
との合計量を800mg/l以下に設定しているので、
伝熱管に生じる腐食、特に局部的腐食を抑制することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の腐食抑制方法を適用可能な貫流ボイラ
を備えた蒸気ボイラ装置の概略図。
【図2】前記貫流ボイラの一部断面概略図。
【図3】図2のIII部分の拡大図。
【図4】ボイラ水中の硫酸イオン濃度と伝熱管に生じる
食孔の深さの最大値(相対値)との関係を調べた結果の
グラフ。
【図5】破損事例に係るボイラの伝熱管に生じた食孔の
成長速度と、ボイラ水中の塩化物イオンと硫酸イオンと
の合計量との関係を調べた結果を示すグラフ。
【図6】破損事例について、塩化物イオンと硫酸イオン
との合計量と、破損事例数の累積度数との関係をまとめ
た結果を示すグラフ。
【符号の説明】
2 貫流ボイラ 5 伝熱管 5a 食孔 W ボイラ水
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 溝上 慶太 愛媛県松山市堀江町7番地 三浦工業株式 会社内 (72)発明者 野上 康雄 愛媛県松山市堀江町7番地 三浦工業株式 会社内 (72)発明者 加藤 潤一 愛媛県松山市堀江町7番地 三浦工業株式 会社内 Fターム(参考) 4K062 EA20 FA02 FA06

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】水分の影響により非不動態化金属体に生じ
    る腐食を抑制するための方法であって、 前記非不動態化金属体に影響する前記水分中に含まれる
    塩化物イオンと硫酸イオンとの合計量を800mg/l
    以下に設定する工程を含む、非不動態化金属体の腐食抑
    制方法。
  2. 【請求項2】前記非不動態化金属体に生じる前記腐食が
    局部的腐食である、請求項1に記載の非不動態化金属体
    の腐食抑制方法。
  3. 【請求項3】ボイラの伝熱管に生じる腐食を抑制するた
    めの方法であって、 前記ボイラ内のボイラ水中に含まれる塩化物イオンと硫
    酸イオンとの合計量を800mg/l以下に設定する工
    程を含む、ボイラの腐食抑制方法。
  4. 【請求項4】前記腐食が前記伝熱管の水との接触面側か
    ら厚さ方向の反対側に向かう局部的腐食である、請求項
    3に記載のボイラの腐食抑制方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1475234A1 (en) 2003-05-07 2004-11-10 Seiko Epson Corporation Water and oil-repellent film-coated nozzle plate
JP2010059091A (ja) * 2008-09-03 2010-03-18 Tosoh Corp t−ブチルアルコール溶液及びその製造法
JP2016035081A (ja) * 2014-08-01 2016-03-17 東京電力株式会社 淡水環境における鉄系材料の腐食抑制方法

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