JP2003123638A - Manufacturing method of color plasma display panel - Google Patents

Manufacturing method of color plasma display panel

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JP2003123638A
JP2003123638A JP2001317051A JP2001317051A JP2003123638A JP 2003123638 A JP2003123638 A JP 2003123638A JP 2001317051 A JP2001317051 A JP 2001317051A JP 2001317051 A JP2001317051 A JP 2001317051A JP 2003123638 A JP2003123638 A JP 2003123638A
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Japan
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dielectric layer
electrode
substrate
layer
manufacturing
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Osamu Yamashita
修 山下
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Nippon Electric Kagoshima Ltd
NEC Kagoshima Ltd
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Nippon Electric Kagoshima Ltd
NEC Kagoshima Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make flat the surface of the front substrate of the plasma display panel and prevent break of the bulkhead and crack of the protection film or the like at the pasting with the rear substrate. SOLUTION: A transparent electrode 5 and a trace electrode 6 are arranged in nearly parallel on the glass substrate 3 and the glass substrate 3 including these electrodes is covered by a first transparent dielectric layer 7. On this insulation layer a color filter 9 layer divided by a black stripe 8 is arranged and a second transparent dielectric layer 10 is formed on the color filter 9 that includes a black stripe 8 excluding the crossing parts of the black stripe with the trace electrode 6, and after calcination, a third transparent dielectric layer 11 is covered on whole face, and by coating the protection film 12 over the third transparent dielectric layer, the front substrate 1 is formed. Thereby, the protection film 12 surface of the front substrate 1 becomes flat and break of the bulkhead 15 and crack of the protection film 12 or the like at the pasting of the front substrate 1 and the rear substrate 2 can be prevented, and occurrence of display defect such as a dark point of the color PDP can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はカラープラズマディ
スプレイパネル(以下、カラーPDPと称す)製造方法に
関し、特に前面基板と背面基板の組み合わせ時の前面基
板の透明誘電体層および保護膜のクラックの発生や背面
基板の隔壁の崩れの発生が防止できるカラーPDPの前
面基板の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color plasma display panel (hereinafter referred to as a color PDP), and particularly to the generation of cracks in a transparent dielectric layer and a protective film of a front substrate when the front substrate and the rear substrate are combined. The present invention relates to a method for manufacturing a front substrate of a color PDP capable of preventing the occurrence of collapse of partition walls of the rear substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】PDPは、ガス放電により発生した紫外
線によって蛍光体を励起・発光させ可視光を得ることで
表示動作を行うディスプレイである。この中でAC型は
輝度、発光効率、寿命の点で優れており、その構造およ
び製造方法に関しては、種々の技術が開示されている。
2. Description of the Related Art A PDP is a display that performs a display operation by exciting and emitting a phosphor by ultraviolet rays generated by gas discharge to obtain visible light. Among them, the AC type is excellent in brightness, luminous efficiency, and life, and various techniques have been disclosed regarding its structure and manufacturing method.

【0003】従来のカラーPDPの製造方法の一例につ
いて図3および図4を参照して説明する。図3(a)
は、前面基板の工程フロー図であり、図3(b)は背面
基板の工程フロー図である。図4は、図3の工程で製造
されたカラーPDPの断面図であり、図4(b)は図4
(a)のB―B’に沿った断面図である。
An example of a conventional method for manufacturing a color PDP will be described with reference to FIGS. 3 and 4. Figure 3 (a)
[Fig. 3] is a process flow chart of the front substrate, and Fig. 3B is a process flow diagram of the rear substrate. 4 is a cross-sectional view of the color PDP manufactured by the process of FIG. 3, and FIG.
It is sectional drawing along BB 'of (a).

【0004】図3(a)を参照すると、前面基板の製造
方法は、まず前面基板51用のガラス基板53を洗浄す
る(ステップ21)。このガラス基板53上にITO等
からなる透明電極55とCrやAg等からなるトレース
電極56を順次形成する(ステップ22)。次に、ガラ
ス基板53上に透明電極55とトレース電極56を覆う
ように低融点鉛ガラスからなる第1の透明誘電体層57
を厚膜印刷法で形成する(ステップ23)。続いで、第
1の透明誘電体層57上にブラックストライプ58形成
(ステップ24)した後、カラーフィルター59をブラ
ックストライプ58間にスクリーン印刷で形成(ステッ
プ25)する。このカラーフィルター59はパネルの輝
度の低下を最小限に抑えながら明所コントラストを向上
と、蛍光体の発光色の色純度を向上させるためのもので
あり、各放電セルにそのセルの発光スペクトルに対応し
た透過スペクトルのフィルターが形成される。その後、
カラーフィルター59上に低融点鉛ガラスからなる第2
の透明誘電体層61を厚膜印刷法で形成(ステップ2
6)する。次いで、第2の透明誘電体層61を被覆する
ようにスパッタ等によってMgOからなる保護膜62を
形成(ステップ27)して前面基板51を形成する。
Referring to FIG. 3A, in the method of manufacturing the front substrate, first, the glass substrate 53 for the front substrate 51 is washed (step 21). A transparent electrode 55 made of ITO or the like and a trace electrode 56 made of Cr, Ag or the like are sequentially formed on the glass substrate 53 (step 22). Next, a first transparent dielectric layer 57 made of low melting point lead glass is formed on the glass substrate 53 so as to cover the transparent electrode 55 and the trace electrode 56.
Are formed by a thick film printing method (step 23). Then, after forming black stripes 58 on the first transparent dielectric layer 57 (step 24), color filters 59 are formed by screen printing between the black stripes 58 (step 25). The color filter 59 is for improving the contrast in the bright place and the color purity of the emission color of the phosphor while suppressing the decrease in the brightness of the panel to the minimum. A filter with a corresponding transmission spectrum is formed. afterwards,
A second low melting point lead glass on the color filter 59
The transparent dielectric layer 61 is formed by a thick film printing method (step 2).
6) Do. Then, a protective film 62 made of MgO is formed by sputtering or the like so as to cover the second transparent dielectric layer 61 (step 27) to form the front substrate 51.

【0005】図3(b)を参照すると、背面基板52の
製造方法は、まず背面基板52用のガラス基板54を洗
浄する(ステップ41)。このガラス基板54上にCr
やAg等からなるデータ電極63を形成する(ステップ
42)。次に、ガラス基板54上にデータ電極63を覆
うように低融点鉛ガラスと白色の顔料からなる材料から
なる誘電体層64を厚膜印刷法で形成する(ステップ4
3)。続いて誘電体層64上に低融点鉛ガラスやアルミ
ナ等の混合物からなる隔壁65をサンドブラスト法など
で形成(ステップ44)し、放電空間を形成する。次い
で、放電セル毎に、それぞれのセルの発光色に対応する
蛍光体66をスクリーン印刷法によって形成(ステップ
45)し、背面基板52を形成する。
Referring to FIG. 3B, in the method of manufacturing the back substrate 52, first, the glass substrate 54 for the back substrate 52 is washed (step 41). Cr on this glass substrate 54
A data electrode 63 made of Ag or Ag is formed (step 42). Next, a dielectric layer 64 made of a material composed of low melting point lead glass and a white pigment is formed on the glass substrate 54 by a thick film printing method so as to cover the data electrodes 63 (step 4).
3). Subsequently, a partition wall 65 made of a mixture of low melting point lead glass and alumina is formed on the dielectric layer 64 by a sandblast method or the like (step 44) to form a discharge space. Next, for each discharge cell, the phosphor 66 corresponding to the emission color of each cell is formed by the screen printing method (step 45), and the back substrate 52 is formed.

【0006】上記の工程で形成した前面基板51と背面
基板52を貼り合せて放電空間を気密封止するととも
に、その内部に放電可能なガス、例えばHeとNeとX
eの混合ガスを封入し、カラーPDPが製造される。
The front substrate 51 and the rear substrate 52 formed in the above process are bonded to each other to hermetically seal the discharge space, and a dischargeable gas such as He, Ne and X is contained therein.
The color PDP is manufactured by enclosing the mixed gas of e.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記の工程で製造され
たPDPの前面基板51の背面基板52との貼り合せ面
は、図4(b)に示すように、トレース電極56とブラ
ックストライプ58の交点部分がどちらかの膜厚分厚く
なっているため、その上から第2の透明誘電体層を積層
形成しても交点部分は盛り上がった状態となる。このた
め、背面基板52と組み合わせた時、隔壁65部と局所
的に接触し、隔壁65の破壊或いは保護膜62、第2の
透明誘電体層にクラックを発生する問題があった。ま
た、前面基板と背面基板の隙間が部分的に大きくなる問
題があった。これらは、カラーPDPの点灯時に暗点、
発光斑等の表示不良を発生させる原因となっていた。
As shown in FIG. 4B, the bonding surface of the front substrate 51 of the PDP manufactured by the above process with the rear substrate 52 is formed of the trace electrode 56 and the black stripe 58. Since the intersection point is thicker by either of the film thicknesses, the intersection point is in a raised state even if the second transparent dielectric layer is laminated thereon. Therefore, when it is combined with the back substrate 52, there is a problem that it locally contacts the partition wall 65, and the partition wall 65 is broken or the protective film 62 and the second transparent dielectric layer are cracked. Further, there is a problem that the gap between the front substrate and the rear substrate is partially increased. These are dark spots when the color PDP is turned on,
This has been a cause of display defects such as light emission spots.

【0008】上記の従来技術の問題点を解決する方法と
して特開2001−118514号公報には、前面基板
の保護膜を形成する誘電体層の表面を化学的機械研磨
(CMP)により平坦化した後、保護膜(MgO)を蒸
着する技術が提案されている。この技術では、前面基板
の保護膜の表面は平坦化されるために、この技術におい
ては、前面基板と背面基板と組み合わせた時の隔壁の破
壊或いは保護膜、誘電体層にクラックの発生防止に効果
を上げているが、研磨によるコスト増加や誘電体層の研
磨厚さのバラツキが大きくなる問題があった。
As a method for solving the above-mentioned problems of the prior art, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-118514 discloses that the surface of the dielectric layer forming the protective film of the front substrate is flattened by chemical mechanical polishing (CMP). After that, a technique of depositing a protective film (MgO) has been proposed. In this technique, the surface of the protective film on the front substrate is flattened. Therefore, in this technique, it is possible to prevent the destruction of partition walls or the generation of cracks in the protective film and the dielectric layer when the front substrate and the rear substrate are combined. Although the effect is enhanced, there are problems that the cost increases due to polishing and the variation in the polishing thickness of the dielectric layer increases.

【0009】本発明の主な目的の一つはカラーPDPの
製造方法において、前面基板と背面基板を組み合わせた
時の隔壁破壊或いはMgO膜、誘電体層のクラックの発
生を抑制したカラーPDP用前面基板を提供することに
ある。
One of the main objects of the present invention is a method for manufacturing a color PDP, in which a front surface of a color PDP is suppressed in which a partition wall is broken or a MgO film or a dielectric layer is cracked when a front substrate and a rear substrate are combined. To provide a substrate.

【0010】本発明の他の目的は、カラーPDPの製造
方法において、前面基板と背面基板との組み合わせ時に
発生する隔壁破壊或いはMgO膜、誘電体層のクラック
の発生を抑制し、暗点、発光斑等の表示不良の発生を少
なくしたカラーPDPを提供することにある。
Another object of the present invention is to suppress the destruction of partition walls or the generation of cracks in the MgO film and the dielectric layer, which occur when the front substrate and the rear substrate are combined, in the method for manufacturing a color PDP, and to prevent dark spots and light emission. An object of the present invention is to provide a color PDP that reduces the occurrence of display defects such as spots.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明のカラーPDPの
製造方法は、光透過性の第1の基板に第1の電極と第2
の電極を略平行に配置し、第1の電極および第2の電極
を含む第1の基板を第1の誘電体層で被覆し、第1の誘
電体層上に所定の幅のストライプ状の絶縁層で区画化さ
れたカラーフィルター層を配置し、さらにカラーフィル
ター層を第3の誘電体層で被覆して形成した前面基板
と、第2の基板に第1の電極および第2の電極に略直交
するように第3の電極を配置し、第3の電極を含む第2
の基板上に第4の誘電体層を被覆し、この誘電体層上に
第3の電極に沿って隔壁を形成した背面基板と、を第3
の誘電体層と隔壁を対向面として貼り合せる工程を含
み、カラーフィルター層と第3の誘電体層の間のカラー
フィルター層上にはストライプ状の絶縁層と第2の電極
の交差部を除いて第2の誘電体層が第3の誘電体層を形
成する前に形成されることを特徴とする。
A method of manufacturing a color PDP according to the present invention comprises a first electrode and a second electrode on a light-transmissive first substrate.
Electrodes are arranged substantially parallel to each other, a first substrate including the first electrode and the second electrode is covered with a first dielectric layer, and a striped pattern having a predetermined width is formed on the first dielectric layer. A front substrate formed by arranging a color filter layer partitioned by an insulating layer and further covering the color filter layer with a third dielectric layer, and a first substrate and a second electrode on the second substrate. The third electrode is arranged so as to be substantially orthogonal to the second electrode including the third electrode.
A back substrate having a fourth dielectric layer coated on the substrate, and a partition wall formed on the dielectric layer along the third electrode.
Including a step of attaching the dielectric layer and the partition wall as opposed surfaces, except that the stripe-shaped insulating layer and the second electrode are not provided on the color filter layer between the color filter layer and the third dielectric layer. And the second dielectric layer is formed before forming the third dielectric layer.

【0012】上記の本発明のカラーPDPの製造方法の
構成において、ストライプ状の絶縁層形成後、このスト
ライプ状の絶縁層と第2の電極の交差部においてストラ
イプ状の絶縁層の表面が突面状であり、該交差部以外の
ストライプ状の絶縁層表面を含むカラーフィルター層表
面が第2の誘電体層によって平坦化される。
In the structure of the method for manufacturing a color PDP of the present invention described above, after the stripe-shaped insulating layer is formed, the surface of the stripe-shaped insulating layer is a convex surface at the intersection of the stripe-shaped insulating layer and the second electrode. The surface of the color filter layer including the surface of the insulating layer having a stripe shape other than the intersecting portion is planarized by the second dielectric layer.

【0013】上記の本発明のカラーPDPの製造方法の
構成において、第3の誘電体層は、同じ材料により重ね
塗りすることによって形成される。この第3の誘電体層
を同じ材料により重ね塗りすることによって形成する際
に、第2の誘電体層形成と同様に、ストライプ状の絶縁
層と第2の電極の交差部の所定の重ね塗り層において該
重ね塗りが行ないことによって第3の誘電体層の最上層
表面の平坦化をさらに改善することができる。
In the structure of the method for manufacturing a color PDP of the present invention described above, the third dielectric layer is formed by overcoating with the same material. When this third dielectric layer is formed by overcoating with the same material, as in the case of forming the second dielectric layer, a predetermined overcoating at the intersection of the striped insulating layer and the second electrode is performed. The overcoating in the layer can further improve the planarization of the top surface of the third dielectric layer.

【0014】本発明のカラーPDPの製造方法において
は、化学的機械研磨等によって平坦化することなく前面
基板の第3の誘電体層表面に形成する保護膜(MgO
膜)の表面が平坦化できる。この結果、前面基板と背面
基板の貼り合わせの際に隔壁部分と前面基板の保護膜の
接触は、面接触となり、隔壁の破壊や保護膜、透明誘電
体層のクラックの発生が抑制され、カラーPDPの暗
点、発光斑等の表示不良の発生を防止することができ
る。
In the method for manufacturing a color PDP of the present invention, a protective film (MgO) formed on the surface of the third dielectric layer of the front substrate without being planarized by chemical mechanical polishing or the like.
The surface of the film can be flattened. As a result, when the front substrate and the rear substrate are bonded together, the contact between the partition wall portion and the protective film of the front substrate becomes a surface contact, and the destruction of the partition wall and the generation of cracks in the protective film and the transparent dielectric layer are suppressed. It is possible to prevent display defects such as dark spots and light emission spots of the PDP.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】次に本発明のカラーPDPの製造
方法の実施の形態について図面を参照して説明する。図
1(a)は、前面基板の工程フロー図であり、図1
(b)は背面基板の工程フロー図である。また、図2
は、図1の工程で製造されたカラーPDPの断面図であ
り、図2(b)は図2(a)のA―A’に沿った断面図
である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of a method for manufacturing a color PDP of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a process flow diagram of the front substrate.
(B) is a process flow diagram of the rear substrate. Also, FIG.
2B is a cross-sectional view of the color PDP manufactured in the process of FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【0016】図1(a)を参照すると、前面基板1の製
造方法は、まず前面基板1用のガラス基板3(光透過
性)を洗浄する(ステップ1)。このガラス基板3上に
ITO等からなる透明電極5とCrやAg等からなるト
レース電極6を順次形成する(ステップ2)。透明電極
5とトレース電極6は略平行に形成される。
Referring to FIG. 1A, in the method of manufacturing the front substrate 1, first, the glass substrate 3 (light transmissive) for the front substrate 1 is washed (step 1). A transparent electrode 5 made of ITO or the like and a trace electrode 6 made of Cr, Ag or the like are sequentially formed on the glass substrate 3 (step 2). The transparent electrode 5 and the trace electrode 6 are formed substantially parallel to each other.

【0017】次に、ガラス基板3上に透明電極5とトレ
ース電極6を覆うように低融点鉛ガラスからなる第1の
透明誘電体層7を厚膜印刷法で形成する(ステップ
3)。続いで第1の透明誘電体層7上にブラックストラ
イプ8(絶縁層)を形成(ステップ24)した後、カラ
ーフィルター9を厚さ1〜3μm程度にブラックストラ
イプ8間にスクリーン印刷で形成(ステップ25)す
る。カラーフィルター9の材料には、赤は酸化鉄系、緑
はクロム系、コバルト―アルミ―チタン―クロム系等、
青はコバルト―アルミ系、バナジウム―ジルコニウム系
等の材料を使用することができる。
Next, a first transparent dielectric layer 7 made of low melting point lead glass is formed on the glass substrate 3 so as to cover the transparent electrodes 5 and the trace electrodes 6 by a thick film printing method (step 3). Subsequently, a black stripe 8 (insulating layer) is formed on the first transparent dielectric layer 7 (step 24), and then a color filter 9 having a thickness of about 1 to 3 μm is formed by screen printing between the black stripes 8 (step). 25) The material of the color filter 9 is iron oxide for red, chromium for green, cobalt-aluminum-titanium-chromium, etc.
For blue, materials such as cobalt-aluminum type and vanadium-zirconium type can be used.

【0018】その後、カラーフィルター9上に低融点鉛
ガラスからなる第2の透明誘電体層10を厚膜印刷法で
形成(ステップ6)する。本発明は、第2の透明誘電体
層10の形成方法に特徴がある。図2(b)に示すよう
に、第2の透明誘電体層10は、ブラックストライプ8
とトレース電極6の交差部以外のカラーフィルター9層
上に選択的に形成される。その第2の透明誘電体層10
形成には、トレース電極6とブラックストライプ8の交
点部分に位置するスクリーン版の開口部分を目詰めした
スクリーン版を用いる。このスクリーン版を使用によ
り、ブラックストライプ8とトレース電極の交差部の間
の窪んだ箇所に第2の透明誘電体層10を選択的に印刷
した後、焼成して形成することができる。この第2の透
明誘電体層10の形成により、カラーフィルター9の形
成された層の表面は第2の透明誘電体層10によって平
坦化される。
Then, a second transparent dielectric layer 10 made of low melting point lead glass is formed on the color filter 9 by a thick film printing method (step 6). The present invention is characterized by the method of forming the second transparent dielectric layer 10. As shown in FIG. 2B, the second transparent dielectric layer 10 has a black stripe 8
And is selectively formed on the color filter 9 layer other than the intersection of the trace electrodes 6. The second transparent dielectric layer 10
For the formation, a screen plate is used in which the openings of the screen plate located at the intersections of the trace electrodes 6 and the black stripes 8 are closed. By using this screen plate, the second transparent dielectric layer 10 can be selectively printed in a recessed portion between the intersections of the black stripes 8 and the trace electrodes and then baked to form the second transparent dielectric layer 10. By forming the second transparent dielectric layer 10, the surface of the layer on which the color filter 9 is formed is flattened by the second transparent dielectric layer 10.

【0019】次いで、この平坦化された面上に低融点鉛
ガラスからなる第3の透明誘電体層11をスクリーン印
刷法によって形成(ステップ7)した後、焼成する。こ
の第3の透明誘電体層11を被覆するように蒸着等によ
ってMgOからなる保護膜12を形成(ステップ8)し
て前面基板1を形成する。なお、第3の透明誘電体層1
1は2〜3回の重ね塗りによって形成される。低融点鉛
ガラスからなる上記の第1の透明誘電体層7、第2の透
明誘電体層10および第3の透明誘電体層11は光透過
性である。
Next, a third transparent dielectric layer 11 made of low melting point lead glass is formed on the flattened surface by a screen printing method (step 7) and then fired. The front substrate 1 is formed by forming a protective film 12 made of MgO by vapor deposition or the like so as to cover the third transparent dielectric layer 11 (step 8). The third transparent dielectric layer 1
1 is formed by repeating coating 2-3 times. The above-mentioned first transparent dielectric layer 7, second transparent dielectric layer 10 and third transparent dielectric layer 11 made of low melting point lead glass are light transmissive.

【0020】図1(b)を参照すると、背面基板2の製
造方法は、まず背面基板2用のガラス基板4を洗浄する
(ステップ11)。このガラス基板4上にCrやAg等
からなるデータ電極13を形成する(ステップ12)。
データ電極13は、前面基板のトレース電極6とは直交
するように配置される。続いて、ガラス基板4上にデー
タ電極13を覆うように低融点鉛ガラスと白色の顔料か
らなる材料からなる誘電体層14を厚膜印刷法で形成す
る(ステップ13)。なお、ガラス基板4は光透過性で
も光透過性でなくてよい。
Referring to FIG. 1B, in the method of manufacturing the back substrate 2, first, the glass substrate 4 for the back substrate 2 is washed (step 11). The data electrode 13 made of Cr, Ag or the like is formed on the glass substrate 4 (step 12).
The data electrode 13 is arranged so as to be orthogonal to the trace electrode 6 on the front substrate. Subsequently, a dielectric layer 14 made of a material made of low melting point lead glass and a white pigment is formed on the glass substrate 4 by a thick film printing method so as to cover the data electrodes 13 (step 13). The glass substrate 4 may be light transmissive or not.

【0021】次に、誘電体層14上に低融点鉛ガラスや
アルミナ等の混合物からなる隔壁15をサンドブラスト
法などで形成(ステップ14)し、放電空間を形成す
る。この出来上がった隔壁15のディメンションは、隔
壁幅50〜80μm、高さ100〜150μm程度であ
る。
Next, barrier ribs 15 made of a mixture of low melting point lead glass and alumina are formed on the dielectric layer 14 by a sand blast method or the like (step 14) to form discharge spaces. The dimensions of the completed partition wall 15 are about 50 to 80 μm in width and 100 to 150 μm in height.

【0022】次いで、放電セル毎に、それぞれのセルの
発光色に対応する蛍光体16をスクリーン印刷法によっ
て形成(ステップ15)し、背面基板2を形成する。
Next, for each discharge cell, the phosphor 16 corresponding to the emission color of each cell is formed by the screen printing method (step 15) to form the rear substrate 2.

【0023】上記の工程で形成した前面基板1と背面基
板2を貼り合せて放電空間を気密封止するとともに、そ
の内部に放電可能なガス、例えばHeとNeとXeの混
合ガスを封入し、カラーPDPが製造される。
The front substrate 1 and the rear substrate 2 formed in the above steps are bonded to each other to hermetically seal the discharge space, and a dischargeable gas, for example, a mixed gas of He, Ne and Xe is sealed inside the discharge space. A color PDP is manufactured.

【0024】本発明で製造されるカラーPDPの前面基
板1の保護膜12の表面は、図2(b)に示すように、
平坦化されている。そのために、前面基板1に背面基板
2を組み合わせた時、隔壁15部分と前面基板1の保護
膜12の接触が面接触になるため、隔壁15の破壊や保
護膜12、第3の透明誘電体層11のクラックの発生が
抑制され、暗点、発光斑等の表示不良の発生を少なくし
たカラーPDPを提供することができる。
The surface of the protective film 12 of the front substrate 1 of the color PDP manufactured by the present invention is, as shown in FIG.
It is flattened. Therefore, when the front substrate 1 and the rear substrate 2 are combined, the partition 15 portion and the protective film 12 of the front substrate 1 are in surface contact with each other, so that the partition 15 is broken or the protective film 12 and the third transparent dielectric are formed. It is possible to provide a color PDP in which the generation of cracks in the layer 11 is suppressed and the occurrence of display defects such as dark spots and light emission spots is reduced.

【0025】上記の本発明の実施の形態において、さら
に第3の透明誘電体層11の重ね塗りの際に、該重ね塗
り層のブラックストライプ8とトレース電極6の交差部
に重ね塗りを行わない未塗布部を形成することによって
保護膜形成する第3の透明誘電体層11の最上層表面の
平坦化をさらに改善することができる。
In the above-described embodiment of the present invention, when the third transparent dielectric layer 11 is overcoated, the black stripe 8 and the trace electrode 6 of the overcoated layer are not overcoated. By forming the uncoated portion, it is possible to further improve the flatness of the surface of the uppermost layer of the third transparent dielectric layer 11 forming the protective film.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のカラーP
DPの製造方法では、前面基板のブラックストライプと
トレース電極の交差部間のブラックストライプの窪み箇
所を透明誘電体層で充填して焼成した後、さらに透明誘
電体層を厚く形成するようにしたことによって、保護膜
を形成する下地の透明誘電体層表面は平坦化され、保護
膜の表面も平坦化される。この結果、前面基板と背面基
板の貼り合わせの際に隔壁部分と前面基板の保護膜の接
触は、面接触となり、隔壁の破壊や保護膜、透明誘電体
層のクラックの発生が抑制され、カラーPDPの暗点、
発光斑等の表示不良の発生を防止する効果を得ることが
できる。
As described above, the color P of the present invention is used.
In the method of manufacturing the DP, the transparent dielectric layer is filled in the recessed portion of the black stripe between the intersections of the black stripe of the front substrate and the trace electrode, and the transparent dielectric layer is formed thicker. Thereby, the surface of the underlying transparent dielectric layer forming the protective film is flattened, and the surface of the protective film is also flattened. As a result, when the front substrate and the rear substrate are bonded together, the contact between the partition wall portion and the protective film of the front substrate becomes a surface contact, and the destruction of the partition wall and the generation of cracks in the protective film and the transparent dielectric layer are suppressed. PDP dark spot,
The effect of preventing the occurrence of display defects such as light emission spots can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のカラーPDPの製造方法の実施の形態
を説明するための工程フロー図であり、(a)は、前面
基板の工程フロー図であり、(b)は背面基板の工程フ
ロー図である。
FIG. 1 is a process flow diagram for explaining an embodiment of a method for manufacturing a color PDP of the present invention, (a) is a process flow diagram of a front substrate, and (b) is a process flow of a rear substrate. It is a figure.

【図2】図1の工程で製造されたカラーPDPの断面図
である。
2 is a cross-sectional view of a color PDP manufactured by the process of FIG.

【図3】従来のカラーPDPの製造方法の一例を説明す
るための工程フロー図であり、(a)は、前面基板の工
程フロー図であり、(b)は背面基板の工程フロー図で
ある。
3A and 3B are process flow diagrams for explaining an example of a conventional color PDP manufacturing method, FIG. 3A is a process flow diagram of a front substrate, and FIG. 3B is a process flow diagram of a rear substrate. .

【図4】図3の工程で製造されたカラーPDPの断面図
である。
4 is a cross-sectional view of a color PDP manufactured by the process of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,51 前面基板 2,52 背面基板 3,4,53,54 ガラス基板 5,55 透明電極 6,56 トレース電極 7,57 第1の透明誘電体層 8,58 ブラックストライプ 9,59 カラーフィルター 10,61 第2の透明誘電体層 11 第3の透明誘電体層 12,62 保護膜 13,63 データ電極 14,64 誘電体層 15,65 隔壁 16,66 蛍光体 1,51 Front substrate 2,52 Rear substrate 3, 4, 53, 54 glass substrate 5,55 Transparent electrode 6,56 Trace electrode 7,57 First transparent dielectric layer 8,58 black stripes 9,59 color filter 10,61 Second transparent dielectric layer 11 Third transparent dielectric layer 12,62 protective film 13,63 data electrodes 14,64 Dielectric layer 15,65 partitions 16,66 phosphor

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光透過性の第1の基板に第1の電極と第
2の電極を略平行に配置し、前記第1の電極および前記
第2の電極を含む第1の基板を第1の誘電体層で被覆
し、前記第1の誘電体層上に所定の幅のストライプ状の
絶縁層で区画化されたカラーフィルター層を配置し、さ
らに前記カラーフィルター層を第3の誘電体層で被覆し
て形成した前面基板と、第2の基板に前記第1の電極お
よび前記第2の電極に略直交するように第3の電極を配
置し、前記第3の電極を含む前記第2の基板上に第4の
誘電体層を被覆し、前記第4の誘電体層上に前記第3の
電極に沿って隔壁を形成した背面基板と、を前記第3の
誘電体層と前記隔壁を対向面として貼り合せる工程を含
み、前記カラーフィルター層と前記第3の誘電体層の間
の前記カラーフィルター層上には前記ストライプ状の前
記絶縁層と前記第2の電極の交差部を除いて第2の誘電
体層が前記第3の誘電体層を形成する前に形成されるこ
とを特徴とするカラープラズマディスプレイパネルの製
造方法。
1. A first substrate having a first electrode and a second electrode arranged substantially parallel to each other on a light-transmissive first substrate, and a first substrate including the first electrode and the second electrode is a first substrate. And a color filter layer partitioned by a stripe-shaped insulating layer having a predetermined width on the first dielectric layer, and further disposing the color filter layer on the third dielectric layer. A front substrate formed by coating with a second electrode, and a second substrate on which a third electrode is disposed so as to be substantially orthogonal to the first electrode and the second electrode, and the second electrode including the third electrode is disposed. A substrate having a fourth dielectric layer coated on the substrate and a partition wall formed on the fourth dielectric layer along the third electrode; and the third dielectric layer and the partition wall. Including the step of laminating as a facing surface, the color filter between the color filter layer and the third dielectric layer. A second dielectric layer is formed on the core layer before forming the third dielectric layer, except for an intersection of the striped insulating layer and the second electrode. Method for manufacturing a color plasma display panel.
【請求項2】 前記ストライプ状の前記絶縁層形成後、
前記ストライプ状の前記絶縁層と前記第2の電極の交差
部の前記ストライプ状の前記絶縁層の表面が突面状であ
り、前記第2の誘電体層によって該交差部以外の前記ス
トライプ状の前記絶縁層表面を含む前記カラーフィルタ
ー層表面が平坦化されることを特徴とする請求項1記載
のカラープラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. After forming the stripe-shaped insulating layer,
The surface of the stripe-shaped insulating layer at the intersection of the stripe-shaped insulating layer and the second electrode is a convex surface, and the stripe-shaped insulating layer other than the cross-shaped portion is formed by the second dielectric layer. The method of manufacturing a color plasma display panel according to claim 1, wherein the surface of the color filter layer including the surface of the insulating layer is planarized.
【請求項3】 前記第3の誘電体層が同じ材料により重
ね塗りすることによって形成されることを特徴とする請
求項1または2記載のカラープラズマディスプレイパネ
ルの製造方法。
3. The method of manufacturing a color plasma display panel according to claim 1, wherein the third dielectric layer is formed by applying multiple layers of the same material.
【請求項4】 前記第3の誘電体層が同じ材料により重
ね塗りすることによって形成され、前記第3の誘電体層
の所定の重ね塗り層形成の際に、前記ストライプ状の前
記絶縁層と前記第2の電極の交差部は前記所定の重ね塗
りが行われないことを特徴とする請求項1〜3のいずれ
かに記載のカラープラズマディスプレイパネルの製造方
法。
4. The third dielectric layer is formed by applying multiple layers of the same material, and when the predetermined multiple application layer of the third dielectric layer is formed, the third dielectric layer and the stripe-shaped insulating layer are formed. The method of manufacturing a color plasma display panel according to claim 1, wherein the predetermined overlapping coating is not performed on the intersection of the second electrodes.
【請求項5】 前記第1の誘電体層、前記第2の誘電体
層および前記第3の誘電体層の材料として低融点鉛ガラ
スが使用されることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
かに記載のカラープラズマディスプレイパネルの製造方
法。
5. The low melting point lead glass is used as a material for the first dielectric layer, the second dielectric layer and the third dielectric layer. The method for manufacturing a color plasma display panel according to any one of claims.
【請求項6】 前記前面基板の前記第3の誘電体層表面
に保護膜がさらに形成される工程を含むことを特徴とす
る請求項1〜5のいずれかに記載のカラープラズマディ
スプレイパネルの製造方法。
6. The method of manufacturing a color plasma display panel according to claim 1, further comprising a step of forming a protective film on the surface of the third dielectric layer of the front substrate. Method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100709985B1 (en) 2005-01-04 2007-04-23 삼성코닝 주식회사 Filter for display apparatus and display apparatus having the same
WO2009133622A1 (en) * 2008-05-02 2009-11-05 株式会社 日立製作所 Method for manufacturing plasma display panel and plasma display panel, and method for manufacturing plasma display device

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