JP2003118025A - Resin sheet, its production method, substrate made of the sheet, and liquid crystal display using it - Google Patents
Resin sheet, its production method, substrate made of the sheet, and liquid crystal display using itInfo
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な樹脂シー
ト、特に液晶セル基板等として利用できる、薄型、軽量
で機械強度、光拡散性等に優れた樹脂シートとその製造
方法、およびこの樹脂シートを用いた液晶表示装置に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel resin sheet, particularly a thin resin sheet which can be used as a liquid crystal cell substrate or the like and is excellent in mechanical strength and light diffusivity, a method for producing the same, and this resin sheet. The present invention relates to a liquid crystal display device.
【０００１】[0001]
【従来の技術】液晶表示装置等の表示装置においては、
透明粒子を有する光拡散シートを液晶セルの視認側に貼
り付け、照明光や液晶表示装置内蔵のバックライトに起
因するギラツキを防止し、視認性を向上させる方法が知
られていた。しかし、液晶表示装置の薄型化、軽量化の
点から、光拡散シートを液晶セルの視認側に貼り付ける
代わりに、光拡散機能を液晶セル基板に付与することが
検討されている。具体的には、液晶セル基板を構成して
いるハードコート層や基材層に透明粒子を混入し光拡散
機能を付与することが検討されている。2. Description of the Related Art In a display device such as a liquid crystal display device,
A method has been known in which a light diffusion sheet having transparent particles is attached to the viewing side of a liquid crystal cell to prevent glare caused by illumination light or a backlight built in the liquid crystal display device and improve visibility. However, from the viewpoint of reducing the thickness and weight of the liquid crystal display device, it has been considered to add a light diffusion function to the liquid crystal cell substrate instead of attaching the light diffusion sheet to the viewing side of the liquid crystal cell. Specifically, it has been studied to mix transparent particles into a hard coat layer or a base material layer constituting a liquid crystal cell substrate to impart a light diffusing function.
【０００２】しかし、ハードコート層や基材層に透明粒
子を混入した場合は、透明粒子による光の散乱のため光
の利用効率が若干低下するという問題があった。また、
液晶セル基板の最外面に、フォトリソグラフィー法で凹
凸構造を設け、光拡散機能を付与することも検討されて
いたが、フォトリソグラフィー法はレジスト塗布、パタ
ーニング、現像、レジスト除去といった複数の工程より
なるため製造効率の点で問題があった。However, when transparent particles are mixed in the hard coat layer or the base material layer, there is a problem that the light utilization efficiency is slightly lowered due to the scattering of light by the transparent particles. Also,
It was also considered to provide a light-diffusing function by providing a concavo-convex structure on the outermost surface of the liquid crystal cell substrate by a photolithography method, but the photolithography method consists of multiple steps such as resist coating, patterning, development, and resist removal. Therefore, there was a problem in terms of manufacturing efficiency.
【０００３】また、従来の反射型の液晶表示装置は、反
射層付きの偏光板を液晶層を挟んで視認側と反対側の液
晶セル基板に貼り付けた構成が一般的であったが、上記
の構成の反射型の液晶表示装置においては、液晶層と反
射層間の距離が大きく表示がぼやけるという問題があっ
た。それを改善する為に、反射板をセル内に設けた構造
が開示されている。しかし、反射板が鏡面であれば正反
射光以外の光を利用できない為、視野角が狭くなる。そ
れを改善する為には前記の様に、透明樹脂を有する光拡
散シートを液晶表示装置の視認側に設ける事が提案され
ている。また、反射板を凹凸加工することによって、反
射光を拡散する方法も提案されている。In the conventional reflection type liquid crystal display device, a polarizing plate with a reflection layer is generally attached to a liquid crystal cell substrate opposite to the viewer side with the liquid crystal layer interposed therebetween. In the reflection type liquid crystal display device having the above structure, there is a problem that the distance between the liquid crystal layer and the reflection layer is large and the display is blurred. In order to improve it, a structure in which a reflector is provided in the cell is disclosed. However, since the light other than the specularly reflected light cannot be used if the reflector is a mirror surface, the viewing angle becomes narrow. In order to improve it, it has been proposed to provide a light diffusion sheet having a transparent resin on the viewing side of the liquid crystal display device as described above. Further, a method of diffusing the reflected light by processing the reflecting plate to have unevenness has also been proposed.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、薄型、軽量
で機械強度、光拡散性に優れた樹脂シートとその製造方
法を提供することを目的とする。また、本発明は、薄
型、軽量で機械強度、光拡散性、光反射性に優れた反射
型の樹脂シートと、その製造方法を提供することを目的
とする。また、本発明は、前記樹脂シートからなる薄
型、軽量の液晶セル基板、およびこれを用いた光の利用
効率の高い液晶表示装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a resin sheet which is thin, lightweight, excellent in mechanical strength and light diffusing property, and a method for producing the same. Another object of the present invention is to provide a thin and lightweight reflective resin sheet having excellent mechanical strength, light diffusivity, and light reflectivity, and a method for producing the same. It is another object of the present invention to provide a thin and lightweight liquid crystal cell substrate made of the resin sheet, and a liquid crystal display device using the liquid crystal cell substrate with high light utilization efficiency.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の樹脂シートは、ハードコート層と、ガスバ
リア層と、基材層とを積層してなり、前記基材層が最外
層にあり、その表面が凹凸構造を有することを特徴とす
る。前記樹脂シートにおいては、前記凹凸構造を有する
基材層の表面粗さＲａは、０．３μｍ〜５．０μｍであ
ることが好ましい。また、前記樹脂シートにおいては、
前記基材層はエポキシ系樹脂よりなることが好ましく、
前記ガスバリア層はビニルアルコール系ポリマーよりな
ることが好ましく、前記ハードコート層はウレタンアク
リレート架橋ポリマーよりなることが好ましい。In order to achieve the above object, the resin sheet of the present invention comprises a hard coat layer, a gas barrier layer and a base material layer, wherein the base material layer is the outermost layer. And its surface has an uneven structure. In the resin sheet, the surface roughness Ra of the base material layer having the uneven structure is preferably 0.3 μm to 5.0 μm. In the resin sheet,
The base material layer is preferably made of an epoxy resin,
The gas barrier layer is preferably made of vinyl alcohol-based polymer, and the hard coat layer is preferably made of urethane acrylate cross-linked polymer.
【０００６】また、本発明の樹脂シートは、ハードコー
ト層と、基材層とを積層してなり、前記基材層の表面が
凹凸構造を有し、該基材層の上に金属薄層が形成されて
いることを特徴とする。The resin sheet of the present invention is formed by laminating a hard coat layer and a base material layer, the surface of the base material layer has an uneven structure, and a thin metal layer is formed on the base material layer. Is formed.
【０００７】また、本発明の樹脂シートの製造方法は、
ハードコート層と、ガスバリア層と、基材層とを積層し
てなり、前記基材層が最外層にあり、該基材層の表面が
凹凸構造を有する樹脂シートを製造する方法において、
該積層樹脂シートの平滑な基材層表面に、凹凸加工が施
されたフィルムを接触させ、加熱圧着することにより前
記凹凸加工が施されたフィルムの凹凸構造を前記基材層
表面に転写することを特徴とする。The method for producing a resin sheet of the present invention is
In a method for producing a resin sheet having a hard coat layer, a gas barrier layer, and a base material layer laminated, the base material layer being the outermost layer, and the surface of the base material layer having an uneven structure,
Transferring the concavo-convex structure of the concavo-convex film to the base layer surface by bringing the concavo-convex film into contact with the smooth base layer surface of the laminated resin sheet and thermocompression bonding. Is characterized by.
【０００８】また、本発明の樹脂シートの製造方法は、
ハードコート層と、基材層とを積層してなり、前記基材
層の表面が凹凸構造を有し、その層の上に金属薄層が形
成されてなる樹脂シートを製造する方法において、該積
層樹脂シートの平滑な基材層表面に、凹凸加工が施され
たフィルムを接触させ、加熱圧着することにより前記凹
凸加工が施されたフィルムの凹凸構造を前記基材層表面
に転写した後、該基材層上に金属薄層を設けることを特
徴とする。The method for producing a resin sheet of the present invention is
A method for producing a resin sheet comprising a hard coat layer and a base material layer, wherein the surface of the base material layer has an uneven structure, and a thin metal layer is formed on the surface of the base material layer. On the smooth base material layer surface of the laminated resin sheet, contact the film subjected to the uneven processing, after transferring the uneven structure of the film subjected to the uneven processing to the base material layer surface by thermocompression bonding, A thin metal layer is provided on the base material layer.
【０００９】前記の製造方法においては、前記凹凸加工
が施されたフィルムが、ポリイミドフィルムよりなるこ
とが好ましい。また、前記金属薄層は真空蒸着により設
けることが好ましい。In the above-mentioned manufacturing method, it is preferable that the film on which the unevenness is processed is made of a polyimide film. The thin metal layer is preferably provided by vacuum vapor deposition.
【００１０】次に、本発明の液晶セル基板は、前記いず
れかに記載の樹脂シートからなることを特徴とする。Next, the liquid crystal cell substrate of the present invention is characterized by comprising any of the resin sheets described above.
【００１１】さらに、本発明の液晶表示装置は、前記い
ずれかに記載の樹脂シートを用いたことを特徴とする。
この液晶表示装置においては、前記樹脂シートの凹凸面
が液晶側にあり、該凹凸面の上に金属薄層、カラーフィ
ルタ、透明樹脂層を設けてあり、該透明樹脂層の上に電
極パターンを設けてあり、対向側基板は平滑な樹脂シー
ト上に電極パターンを形成し、電極パターンを内側に貼
り合わせてなる構成が好ましい。Further, the liquid crystal display device of the present invention is characterized by using any one of the resin sheets described above.
In this liquid crystal display device, the uneven surface of the resin sheet is on the liquid crystal side, a thin metal layer, a color filter, and a transparent resin layer are provided on the uneven surface, and an electrode pattern is formed on the transparent resin layer. It is preferable that the opposite substrate is provided with an electrode pattern formed on a smooth resin sheet and the electrode pattern is attached to the inside.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】本発明に係る第１の樹脂シート
は、少なくとも、ハードコート層と、ガスバリア層と、
基材層とを積層してなり、前記基材層が最外層にあり、
その表面が凹凸構造を有する。本発明に係る第２の樹脂
シートは、少なくとも、ハードコート層と、基材層とを
積層してなり、前記基材層の表面が凹凸構造を有し、こ
の凹凸構造を有する基材層上すなわち基材層の表面に金
属薄層が形成されている。以下、その詳細を説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The first resin sheet according to the present invention comprises at least a hard coat layer, a gas barrier layer, and
It is made by stacking with a base material layer, and the base material layer is the outermost layer,
The surface has an uneven structure. The second resin sheet according to the present invention is formed by laminating at least a hard coat layer and a base material layer, and the surface of the base material layer has an uneven structure, and on the base material layer having this uneven structure. That is, a thin metal layer is formed on the surface of the base material layer. The details will be described below.
【００１３】本発明の樹脂シートにおいて、ハードコー
ト層は樹脂シートに耐薬品性、耐擦傷性、耐熱性、耐屈
曲性を付与する目的で形成される。ハードコート層を形
成する材料としては、前記目的を達成しうるものであれ
ば特に制限はなく、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル
系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコールや
エチレン・ビニルアルコール共重合体の如きポリビニル
アルコール系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン
系樹脂等が挙げられる。また、ポリアリレート系樹脂、
スルホン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエ
ーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルミド系樹脂、ポリ
カーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピ
ロリドン系樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル
系樹脂などもハードコート層の形成に用いることができ
る。これらの樹脂は、１種または任意の２種以上の混合
物を用いることができる。In the resin sheet of the present invention, the hard coat layer is formed for the purpose of imparting chemical resistance, scratch resistance, heat resistance and flex resistance to the resin sheet. The material for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as it can achieve the above purpose, and examples thereof include urethane resins, acrylic resins, polyester resins, polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymers. Such polyvinyl alcohol resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, etc. are exemplified. In addition, polyarylate resin,
Sulfone resin, amide resin, imide resin, polyether sulfone resin, polyetherimide resin, polycarbonate resin, silicone resin, fluorine resin, polyolefin resin, styrene resin, vinylpyrrolidone resin, cellulose Resins and acrylonitrile resins can also be used for forming the hard coat layer. These resins may be used alone or as a mixture of two or more kinds.
【００１４】上記のハードコート層形成樹脂の中でも、
支持体からの剥離性や耐擦傷性の点より、ウレタン系樹
脂が好ましく、ウレタンアクリレートが特に好ましく用
いられる。Among the above hard coat layer forming resins,
From the viewpoint of releasability from the support and scratch resistance, urethane resins are preferable, and urethane acrylate is particularly preferably used.
【００１５】ハードコート層の厚みは、１μｍ〜１０μ
ｍが好ましく、さらに好ましくは２μｍ〜５μｍがよ
い。厚みが１μｍ未満の場合は、ハードコート層をガラ
ス板やステンレスエンドレスベルト等の支持体に塗布し
剥離する時の剥離性が悪くなり、また１０μｍを超える
場合は、平滑な樹脂層が得られなくなるからである。The thickness of the hard coat layer is 1 μm to 10 μm.
m is preferable, and more preferably 2 μm to 5 μm. When the thickness is less than 1 μm, the releasability when the hard coat layer is applied to a support such as a glass plate or a stainless endless belt and peeled off becomes worse, and when it exceeds 10 μm, a smooth resin layer cannot be obtained. Because.
【００１６】本発明の樹脂シートにおいて、ガスバリア
層を形成する材料としては、特に制限はなく、例えば、
ポリビニルアルコール及びその部分ケン化物、エチレン
・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポ
リマーや、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデン
等の酸素透過が小さい材料が用いられる。中でも、高ガ
スバリア性の点よりビニルアルコール系ポリマーが特に
好ましい。これらのポリマーは、１種または任意の２種
以上の混合物を用いることができる。また、本発明にお
けるガスバリア層の材料としては、酸化珪素や窒化珪素
等の無機系材料を用いてもよい。In the resin sheet of the present invention, the material for forming the gas barrier layer is not particularly limited.
Polyvinyl alcohol and partially saponified products thereof, vinyl alcohol-based polymers such as ethylene / vinyl alcohol copolymer, and materials having small oxygen permeation such as polyacrylonitrile and polyvinylidene chloride are used. Of these, vinyl alcohol polymers are particularly preferable from the viewpoint of high gas barrier properties. These polymers may be used alone or in any mixture of two or more. Further, as the material of the gas barrier layer in the present invention, an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride may be used.
【００１７】ガスバリア層の厚みは、２μｍ〜１０μｍ
が好ましく、さらに好ましくは２μｍ〜５μｍがよい。
厚みが２μｍ未満の場合は、ガスバリア性が不十分とな
り、また１０μｍを超える場合は、平滑な樹脂層が得ら
れなくなるからである。The thickness of the gas barrier layer is 2 μm to 10 μm.
Is preferable, and more preferably 2 μm to 5 μm.
This is because if the thickness is less than 2 μm, the gas barrier property becomes insufficient, and if it exceeds 10 μm, a smooth resin layer cannot be obtained.
【００１８】本発明の樹脂シートにおいて、基材層を形
成する材料としては、前記目的を達成しうるものであれ
ば特に制限はなく、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポ
リアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリス
ルホン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂やポリアミド樹脂等
の熱可塑性樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、ボリジアリルフタレート樹脂やポリイソボニルメ
タクリレート樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。これ
らの樹脂は１種または任意の２種以上の混合物を用いる
ことができ、他成分との共重合体や混合物などとして用
いることもできる。In the resin sheet of the present invention, the material for forming the substrate layer is not particularly limited as long as it can achieve the above-mentioned object, and examples thereof include polycarbonate resin, polyarylate resin, polyether sulfone resin and polysulfone. Resins, polyester resins, polymethylmethacrylate resins, thermoplastic resins such as polyetherimide resins and polyamide resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, thermosetting resins such as polydiallyl phthalate resins and polyisobonyl methacrylate resins. To be These resins can be used alone or as a mixture of any two or more kinds, and can also be used as a copolymer or a mixture with other components.
【００１９】上記樹脂の中でも、表面平滑性を得るた
め、熱硬化性樹脂が好ましく用いられる。熱硬化性樹脂
の中では、色相の点よりエポキシ系樹脂が特に好ましく
用いられる。エポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフ
ェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ
型やそれらの水素添加の如きビスフェノール型、フェノ
ールノボラック型やクレゾールノボラック型の如きノボ
ラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型やヒンダ
ントイン型の如き含窒素環型、脂環式型、脂肪族型、ナ
フタレン型の如き芳香族型、グリシジルエーテル型、ビ
フェニル型の如き低吸水率タイプ、ジシクロ型、エステ
ル型、エーテルエステル型やそれらの変性型などが挙げ
られる。これらは単独で使用してもあるいは併用しても
よい。上記各種エポキシ系樹脂の中でも、変色防止性な
どの点より、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、脂環式
エポキシ樹脂やトリグリシジルイソシアヌレート型エポ
キシ樹脂を用いることが好ましい。Among the above resins, thermosetting resins are preferably used in order to obtain surface smoothness. Among thermosetting resins, epoxy resins are particularly preferably used from the viewpoint of hue. As the epoxy resin, for example, bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type
Types such as bisphenol type such as hydrogenation type and hydrogenation thereof, novolac type such as phenol novolac type and cresol novolac type, nitrogen-containing ring type such as triglycidyl isocyanurate type and hinderedin type, alicyclic type, aliphatic type, naphthalene type Examples thereof include low water absorption type such as aromatic type, glycidyl ether type and biphenyl type, dicyclo type, ester type, ether ester type and modified types thereof. These may be used alone or in combination. Among the various epoxy resins described above, it is preferable to use a bisphenol A type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or a triglycidyl isocyanurate type epoxy resin from the viewpoint of discoloration preventing property.
【００２０】このようなエポキシ系樹脂としては、一般
にエポキシ当量１００〜１０００、軟化点１２０℃以下
のものが、得られる樹脂シートの柔軟性や強度等の物性
などの点より好ましく用いられる。さらに塗工性やシー
ト状への展開性等に優れるエポキシ樹脂含有液を得る点
などよりは、塗工時の温度以下、特に常温において液体
状態を示す二液混合型のものが好ましく用いられる。As such an epoxy resin, one having an epoxy equivalent of 100 to 1000 and a softening point of 120 ° C. or less is generally preferably used from the viewpoint of the physical properties such as flexibility and strength of the obtained resin sheet. Further, from the viewpoint of obtaining an epoxy resin-containing liquid having excellent coatability and spreadability into a sheet, etc., a two-liquid mixed type that exhibits a liquid state at a temperature below the coating temperature, particularly at room temperature, is preferably used.
【００２１】またエポキシ系樹脂は、硬化剤、硬化促進
剤、および必要に応じて従来から用いられている老化防
止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤や
紫外線吸収剤等の従来公知の各種添加物を適宜に配合す
ることができる。The epoxy resin is a curing agent, a curing accelerator, and, if necessary, an antioxidant, a modifier, a surfactant, a dye, a pigment, a discoloration inhibitor, an ultraviolet absorber, etc. which have been conventionally used. Various conventionally known additives can be appropriately blended.
【００２２】前記、硬化剤についても特に限定はなく、
エポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種または２種
以上用いることができる。ちなみにその例としては、テ
トラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘ
キサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如
き有機酸系化合物類、エチレンジアミン、プロピレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ンやそれらのアミンアダクト、メタフェニレンジアミ
ン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルス
ルホンの如きアミン系化合物類が挙げられる。The curing agent is not particularly limited, either.
One or two or more kinds of appropriate curing agents can be used according to the epoxy resin. Incidentally, examples thereof include organic acid compounds such as tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid and methylhexahydrophthalic acid, ethylenediamine, propylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine and their amine adducts, meta compounds. Examples include amine compounds such as phenylenediamine, diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone.
【００２３】また、ジシアンジアミドやポリアミドの如
きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド
系化合物類、メチルイミダゾール、２−エチル−４−メ
チルイミダゾール、エチルイミダゾール、イソプロピル
イミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、フェニ
ルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール、ヘプタデシ
ルイミダゾールや２−フェニル−４−メチルイミダゾー
ルの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例とし
て挙げられる。Further, amide compounds such as dicyandiamide and polyamide, hydrazide compounds such as dihydrazide, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, ethylimidazole, isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole and phenylimidazole. Further, imidazole compounds such as undecyl imidazole, heptadecyl imidazole and 2-phenyl-4-methyl imidazole are also mentioned as examples of the curing agent.
【００２４】さらに、メチルイミダゾリン、２−エチル
−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリン、イソ
プロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリ
ン、フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリン、
ヘプタデシルイミダゾリンや２−フェニル−４−メチル
イミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物、その他、フ
ェノール系化合物、ユリア系化合物類やポリスルフィド
系化合物類も前記硬化剤の例として挙げられる。Further, methyl imidazoline, 2-ethyl-4-methyl imidazoline, ethyl imidazoline, isopropyl imidazoline, 2,4-dimethyl imidazoline, phenyl imidazoline, undecyl imidazoline,
Examples of the curing agent include imidazoline compounds such as heptadecyl imidazoline and 2-phenyl-4-methyl imidazoline, as well as phenol compounds, urea compounds and polysulfide compounds.
【００２５】加えて、酸無水物系化合物類なども前記硬
化剤の例として挙げられ、変色防止性などの点より、か
かる酸無水物硬化剤が好ましく用いられる。その例とし
ては無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット
酸、無水ピロメリット酸、無水ナジック酸、無水グルタ
ル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒド
ロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチ
ルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水
物、ドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物やクロレン
ディック酸無水物などが挙げられる。In addition, acid anhydride compounds and the like are also mentioned as examples of the above-mentioned curing agent, and such acid anhydride curing agent is preferably used from the viewpoint of discoloration preventing property and the like. Examples thereof include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, nadic acid anhydride, glutaric anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, Examples thereof include methyl hexahydrophthalic anhydride, methyl nadic acid anhydride, dodecenyl succinic anhydride, dichlorosuccinic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride and chlorendic acid anhydride.
【００２６】特に、無水フタル酸、テトラヒドロフタル
酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサ
ヒドロフタル酸無水物の如く無色系ないし淡黄色系で、
分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ま
しく用いられる。In particular, a colorless system or a pale yellow system such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride or methylhexahydrophthalic anhydride,
An acid anhydride-based curing agent having a molecular weight of about 140 to about 200 is preferably used.
【００２７】前記エポキシ系樹脂と硬化剤の配合割合
は、硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポ
キシ系樹脂のエポキシ基１当量に対して酸無水物当量を
０．５〜１．５当量となるように配合することが好まし
く、さらに好ましくは０．７〜１．２当量がよい。酸無
水物が０．５当量未満では、硬化後の色相が悪くなり、
１．５当量を超えると、耐湿性が低下する傾向がみられ
る。なお他の硬化剤を単独で又は２種以上を併用して使
用する場合にも、その使用量は前記の当量比に準じる。The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is such that, when an acid anhydride curing agent is used as the curing agent, the acid anhydride equivalent is 0.5 to 1. per 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. It is preferable to add 5 equivalents, more preferably 0.7 to 1.2 equivalents. If the acid anhydride is less than 0.5 equivalent, the hue after curing becomes poor,
If it exceeds 1.5 equivalents, the moisture resistance tends to decrease. When other curing agents are used alone or in combination of two or more, the amount used is in accordance with the above equivalent ratio.
【００２８】前記硬化促進剤としては、第三級アミン
類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金
属塩類、リン化合物類や尿素系化合物類等が挙げられる
が、特に第三級アミン類、イミダゾール類やリン化合物
類を用いることが好ましい。これらは単独であるいは併
用して使用することができる。Examples of the curing accelerator include tertiary amines, imidazoles, quaternary ammonium salts, organometallic salts, phosphorus compounds and urea compounds, but especially tertiary amines, It is preferable to use imidazoles and phosphorus compounds. These can be used alone or in combination.
【００２９】前記硬化促進剤の配合量は、エポキシ系樹
脂１００質量部に対して０．０５〜７．０質量部である
ことが好ましく、さらに好ましくは０．２〜３．０質量
部がよい。硬化促進剤の配合量が０．０５質量部未満で
は、充分な硬化促進効果が得られず、７．０質量部を超
えると硬化体が変色するおそれがある。The amount of the curing accelerator compounded is preferably 0.05 to 7.0 parts by mass, more preferably 0.2 to 3.0 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the epoxy resin. . If the compounding amount of the curing accelerator is less than 0.05 parts by mass, a sufficient curing promoting effect cannot be obtained, and if it exceeds 7.0 parts by mass, the cured product may be discolored.
【００３０】前記老化防止剤としては、フェノール系化
合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物やホスフィン
系化合物等の従来公知のものが挙げられる。Examples of the antiaging agent include phenol compounds, amine compounds, organic sulfur compounds and phosphine compounds, which are conventionally known.
【００３１】前記変性剤としては、グリコール類、シリ
コーン類やアルコール類等従来公知のものが挙げられ
る。Examples of the modifier include conventionally known ones such as glycols, silicones and alcohols.
【００３２】前記界面活性剤は、エポキシ系樹脂シート
を流延法でエポキシ樹脂を空気に触れながら成形する場
合に、シートの表面を平滑にするために添加される。界
面活性剤としてはシリコーン系、アクリル系やフッ素系
等が挙げられるが、とくにシリコーン系界面活性剤が好
ましい。The above-mentioned surfactant is added for smoothing the surface of the epoxy resin sheet when the epoxy resin sheet is formed by a casting method while the epoxy resin is exposed to air. Examples of the surfactant include silicone-based, acryl-based and fluorine-based surfactants, and the silicone-based surfactant is particularly preferable.
【００３３】前記基材層の厚みは、通常５０μｍ〜１０
００μｍであり、好ましくは２００μｍ〜６００μｍで
ある。厚みが５０μｍ未満の場合は樹脂シートの剛性が
なくなるので操作性が悪く、またギャップの均一性が悪
くなり、一方、１０００μｍを超える場合は薄型化の利
点がなくなり、また切断等の加工が困難となるからであ
る。The thickness of the base material layer is usually 50 μm to 10 μm.
The thickness is 00 μm, preferably 200 μm to 600 μm. When the thickness is less than 50 μm, the rigidity of the resin sheet is lost, resulting in poor operability and poor uniformity of the gap. On the other hand, when the thickness exceeds 1000 μm, the advantage of thinning is lost and processing such as cutting becomes difficult. Because it will be.
【００３４】本発明の第１の樹脂シートは、ハードコー
ト層と、ガスバリア層と、基材層とを積層してなるもの
であって、各層の積層順序や積層数は特に制限されな
い。少なくとも、ハードコート層、ガスバリア層および
基材層とを積層してなり、基材層が最外層にあり、この
基材層の表面が凹凸構造を有していればよい。ガスバリ
ア層が、耐薬品性、耐摩擦性に劣る場合は、ガスバリア
層を内層にすることによって問題なく使用することがで
きる。したがって、最も好ましい構成としては、最外層
から順次、基材層、ガスバリア層、ハードコート層の順
に積層されたものである。第１の樹脂シートの一例を図
１に例示する。１はハードコート層、４はガスバリア
層、２は凹凸加工された基材層である。The first resin sheet of the present invention is formed by laminating a hard coat layer, a gas barrier layer and a base material layer, and the laminating order and the number of layers are not particularly limited. It is sufficient that at least the hard coat layer, the gas barrier layer and the base material layer are laminated, the base material layer is the outermost layer, and the surface of the base material layer has an uneven structure. When the gas barrier layer is inferior in chemical resistance and abrasion resistance, the gas barrier layer can be used as an inner layer without problems. Therefore, the most preferable constitution is that the base material layer, the gas barrier layer and the hard coat layer are laminated in this order from the outermost layer. An example of the first resin sheet is illustrated in FIG. Reference numeral 1 is a hard coat layer, 4 is a gas barrier layer, and 2 is a base material layer having an uneven surface.
【００３５】前記凹凸構造を有する基材層の表面粗さ
は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に記載の表面粗さ
Ｒａが０．１μｍ〜１０．０μｍであることが好まし
く、より好ましくは０．３μｍ〜５．０μｍ、さらに好
ましくは０．５μｍ〜２．０μｍである。前記基材層の
表面粗さが０．１μｍより小さい場合や１０．０μｍよ
り大きい場合は、光拡散機能が不十分となり、照明光や
液晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキが
見られる。Regarding the surface roughness of the base material layer having the uneven structure, the surface roughness Ra described in JIS B 0601-1994 is preferably 0.1 μm to 10.0 μm, more preferably 0.3 μm to The thickness is 5.0 μm, more preferably 0.5 μm to 2.0 μm. When the surface roughness of the base material layer is smaller than 0.1 μm or larger than 10.0 μm, the light diffusion function becomes insufficient, and glare due to illumination light or a backlight built in the liquid crystal display device is observed.
【００３６】なお、表面粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１
−１９９４に準じて、原子力顕微鏡（ＡＦＭ）、触針式
表面粗さ計、光干渉式表面粗さ計等により測定可能であ
る。The surface roughness is JIS B 0601.
According to 1994, it can be measured by an atomic force microscope (AFM), a stylus type surface roughness meter, an optical interference type surface roughness meter, or the like.
【００３７】本発明の第１の樹脂シートの厚みは、基材
層の厚みによっても異なるが、基材層の厚みを限定した
と同様の理由から、通常５０μｍ〜１０００μｍであ
り、好ましくは２００μｍ〜６００μｍである。The thickness of the first resin sheet of the present invention varies depending on the thickness of the base material layer, but is usually 50 μm to 1000 μm, and preferably 200 μm to the same reason as the thickness of the base material layer is limited. It is 600 μm.
【００３８】本発明の第１の樹脂シートは、通常、液晶
層を挟んで視認側と反対側の液晶セル基板として用いら
れる。この場合、樹脂シートの凹凸面を液晶層側に配置
するのがよい。樹脂シートの最外層にある基材層が凹凸
構造を有することにより、光拡散機能が付与され、照明
光や液晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツ
キを防止できるとともに、光拡散層が液晶層により近い
位置にあるため、鮮明な画像が得られ、視認性を向上さ
せることができる。The first resin sheet of the present invention is usually used as a liquid crystal cell substrate on the side opposite to the viewer side with the liquid crystal layer interposed therebetween. In this case, the uneven surface of the resin sheet is preferably arranged on the liquid crystal layer side. The base material layer at the outermost layer of the resin sheet has a concavo-convex structure to impart a light diffusing function and prevent glare caused by illumination light or a backlight built in the liquid crystal display device, and the light diffusing layer is a liquid crystal layer. Since the position is closer to, a clear image can be obtained and the visibility can be improved.
【００３９】次に、本発明の第２の樹脂シートは、ハー
ドコート層と基材層とを積層してなるものであって、各
層の積層数は特に制限されない。少なくとも、ハードコ
ート層と基材層とを積層してなり、最外層にある基材層
の表面が凹凸構造を有し、該凹凸構造を有する積層体の
基材層表面に金属薄層が設けられている。この基材層の
表面粗さは前記第１の樹脂シートの場合と同様である。
また、樹脂シートの厚さや各層の材質、厚さ等も第１の
樹脂シートの場合と同様である。Next, the second resin sheet of the present invention comprises a hard coat layer and a base material layer laminated, and the number of layers laminated is not particularly limited. At least, a hard coat layer and a base material layer are laminated, the surface of the outermost base material layer has an uneven structure, and a metal thin layer is provided on the surface of the base material layer of the laminate having the uneven structure. Has been. The surface roughness of the base material layer is the same as that of the first resin sheet.
Further, the thickness of the resin sheet, the material of each layer, the thickness, etc. are the same as in the case of the first resin sheet.
【００４０】第２の樹脂シートにおいて、金属薄層はガ
スバリア機能を有し、この樹脂シートを液晶セル基板と
して用いた場合に、水分や酸素が樹脂シートを透過して
セル内に侵入することを防止する働きをする。したがっ
て、金属薄層を設けた樹脂シートにおいては、ポリビニ
ルアルコール等からなる有機ガスバリア層や珪素酸化物
等からなる無機ガスバリア層を積層させる必要はない
が、ガスバリア層を設けることを妨げるものではない。
第２の樹脂シートの一例を図２に例示する。１はハード
コート層、２は凹凸加工された基材層、３は金属薄層で
ある。In the second resin sheet, the thin metal layer has a gas barrier function, and when this resin sheet is used as a liquid crystal cell substrate, it is possible that moisture and oxygen penetrate the resin sheet and enter the cell. It works to prevent it. Therefore, in a resin sheet provided with a thin metal layer, it is not necessary to stack an organic gas barrier layer made of polyvinyl alcohol or the like or an inorganic gas barrier layer made of silicon oxide or the like, but the provision of the gas barrier layer is not hindered.
An example of the second resin sheet is illustrated in FIG. Reference numeral 1 is a hard coat layer, 2 is a base material layer having an uneven surface, and 3 is a thin metal layer.
【００４１】金属薄層としては、銀やアルミニウム等か
らなることが好ましい。前記金属薄層の厚みは、１０ｎ
ｍ〜１５０ｎｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１２０ｎ
ｍである。厚みが１０ｎｍ未満の場合は、反射膜として
の機能を発揮することができず、一方１５０ｎｍを超え
る場合は、真空蒸着に時間を要し、異常突起が発生しや
すくなったり、凹凸層との密着性が悪くなるからであ
る。The thin metal layer is preferably made of silver, aluminum or the like. The thin metal layer has a thickness of 10 n.
m-150 nm, preferably 20 nm-120 n
m. When the thickness is less than 10 nm, the function as a reflection film cannot be exerted, while when it exceeds 150 nm, it takes time for vacuum vapor deposition, and abnormal projections are likely to occur, or adhesion with an uneven layer is likely to occur. This is because the sex becomes worse.
【００４２】本発明の金属薄層を設けた樹脂シートは、
通常、液晶層を挟んで視認側と反対側の液晶セル基板と
して用いられる。この場合、樹脂シートの凹凸面を液晶
層側に配置するのがよい。金属薄層を設けた反射型の樹
脂シートを、液晶セル基板として用いて液晶表示装置を
作製することにより、反射層を液晶層により近い位置に
配置することができるので、画素の二重像が生じず、良
好な表示品位が得られる。また、この樹脂シートは基材
層表面が凹凸構造を有しているため、光拡散機能があ
り、液晶セル基板として用いた場合、照明光や液晶表示
装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防止し、
視認性を向上させることができる。The resin sheet provided with the thin metal layer of the present invention is
Usually, it is used as a liquid crystal cell substrate on the side opposite to the viewing side with the liquid crystal layer interposed therebetween. In this case, the uneven surface of the resin sheet is preferably arranged on the liquid crystal layer side. By using a reflective resin sheet provided with a thin metal layer as a liquid crystal cell substrate to fabricate a liquid crystal display device, the reflective layer can be arranged closer to the liquid crystal layer, so that a double image of a pixel can be formed. It does not occur, and good display quality is obtained. Also, since this resin sheet has an uneven structure on the surface of the base material layer, it has a light diffusion function, and when used as a liquid crystal cell substrate, it prevents glare caused by illumination light or a backlight built in the liquid crystal display device. Then
The visibility can be improved.
【００４３】また、基板の凹凸面を液晶層側に設け、そ
の上に金属薄膜を設ける構造の液晶表示素子では、金属
薄膜による反射光が前記凹凸面によって拡散される。こ
の方式では反射層と液晶層が近いため、画素の二重像が
生じず、良好な表示品位が得られる。Further, in the liquid crystal display element having the structure in which the uneven surface of the substrate is provided on the liquid crystal layer side and the metal thin film is provided thereon, the light reflected by the metal thin film is diffused by the uneven surface. In this system, since the reflective layer and the liquid crystal layer are close to each other, a double image of pixels does not occur, and good display quality can be obtained.
【００４４】次に、本発明の樹脂シートの製造方法につ
いて説明する。Next, a method for manufacturing the resin sheet of the present invention will be described.
【００４５】本発明における樹脂シートの製造方法の一
例を図３に例示した。図３に例示の製造方法は、まず流
延法により、エンドレススチールベルト４１よりなる支
持体に、ハードコート層塗布用ダイ２１よりハードコー
ト層形成樹脂液を塗布後、ＵＶ硬化装置３１を用いて硬
化し、形成されたハードコート層１３上に、ガスバリア
層塗布用ダイ２２より有機ガスバリア層形成樹脂液、基
材層塗布用ダイ２３より基材層形成樹脂液を順次塗布
後、加熱装置を用いて完全に硬化させ、最外層から順に
基材層１１、ガスバリア層１２、およびハードコート層
１３からなる積層体を形成する。このように流延法で製
造した場合、最外層にある基材層表面は平滑になる。平
滑とは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に記載の表面
粗さＲａが１ｎｍ以下であることを意味する。次に、フ
ィルム繰り出し用口ール５２から凹凸加工されたフィル
ム５４を、基材層１１の表面に接するように繰り出し、
加熱圧着した後、フィルム巻き取りロール５３にて巻き
取ることにより、フィルムの凹凸構造が基材層表面に転
写された樹脂シートを得ることができる。An example of the method for producing a resin sheet according to the present invention is illustrated in FIG. In the manufacturing method illustrated in FIG. 3, first, by a casting method, a hard coat layer forming resin liquid is applied from a hard coat layer applying die 21 to a support made of an endless steel belt 41, and then a UV curing device 31 is used. On the hard coat layer 13 which has been cured and formed, an organic gas barrier layer forming resin liquid is applied from a gas barrier layer applying die 22 and a base material layer forming resin liquid is applied from a base material layer applying die 23 sequentially, and then a heating device is used. Then, it is completely cured to form a laminated body including the base material layer 11, the gas barrier layer 12, and the hard coat layer 13 in order from the outermost layer. When the casting method is used, the surface of the outermost base material layer becomes smooth. The term “smooth” means that the surface roughness Ra described in JIS B 0601-1994 is 1 nm or less. Next, the uneven film 54 is fed from the film feeding port 52 so as to be in contact with the surface of the base material layer 11,
After thermocompression bonding, the film is wound by a film winding roll 53 to obtain a resin sheet in which the uneven structure of the film is transferred to the surface of the base material layer.
【００４６】図３においては、流延法による連続した工
程でフィルムの凹凸構造が基材層表面に転写された樹脂
シートの製造方法を例示したが、本発明の樹脂シートの
製造方法は上記に限定されるものではない。具体的に
は、基材層、ガスバリア層、およびハードコート層から
なる積層体を、エンドレススチールベルトから剥離した
後、基材層表面を凹凸加工されたフィルムで被覆し、熱
板プレス機やロール貼り合わせ機等で加熱圧着してもよ
い。In FIG. 3, the method for producing a resin sheet in which the uneven structure of the film is transferred to the surface of the base material layer in the continuous steps by the casting method is illustrated, but the method for producing the resin sheet of the present invention is as described above. It is not limited. Specifically, after peeling the laminate consisting of the base material layer, the gas barrier layer, and the hard coat layer from the endless steel belt, the base material layer surface is covered with a film having an uneven surface, and a hot plate press or roll is used. You may heat-press with a bonding machine etc.
【００４７】前記支持体は、スチール以外にステンレ
ス、銅、アルミニウム等も好ましく用いることができ
る。As the support, stainless steel, copper, aluminum or the like can be preferably used in addition to steel.
【００４８】基材層表面に凹凸構造を転写する場合、基
材層は完全にゲル化していることが好ましい。完全にゲ
ル化しているとは、基材層形成樹脂液が実質的に流動し
ない状態を意味する。したがって、基材層にエポキシ系
樹脂を用いた場合等は、該エポキシ系樹脂は完全に硬化
している必要はなく、転写できる程度に硬化していれば
よい。基材層がゲル化していない状態で基材層表面を凹
凸加工されたフィルムで被覆した場合、基材層と凹凸加
工されたフィルムとが接着するため、凹凸加工されたフ
ィルムを基材層から剥離できなかったり、剥離する際に
凹凸加工されたフィルムや基材層が破損したり、また樹
脂シートの厚みを調整することが困難となり生産性が著
しく低下するといった問題が生じる。When the uneven structure is transferred to the surface of the base material layer, it is preferable that the base material layer is completely gelled. The complete gelation means a state in which the base material layer-forming resin liquid does not substantially flow. Therefore, when an epoxy-based resin is used for the base material layer, the epoxy-based resin does not need to be completely hardened, but may be hardened to a transferable level. When the surface of the base material layer is covered with a film having a textured surface in a state where the base material layer is not gelled, the base material layer and the textured film are bonded to each other. There are problems that it cannot be peeled off, the film or base material layer that has been subjected to uneven processing is damaged during peeling, and it becomes difficult to adjust the thickness of the resin sheet, resulting in a marked decrease in productivity.
【００４９】前記凹凸加工されたフィルムとしては、ポ
リイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリテトラフ
ルオロエチレン等からなるものが好ましく用いられ、特
にポリイミドが耐熱性が良好である点で好ましい。ま
た、ポリエチレンテレフタレートを使用する際は、耐熱
性の点から裏面にアルミニウム等の金属層（５００〜２
０００オングストローム）を付与したものを用いるのが
好ましい。As the textured film, a film made of polyimide, polyethylene terephthalate, polytetrafluoroethylene or the like is preferably used, and polyimide is particularly preferable because it has good heat resistance. When polyethylene terephthalate is used, a metal layer (500-2
000 angstrom) is preferably used.
【００５０】前記凹凸加工されたフィルムの厚みは、１
０μｍ〜２００μｍであることが好ましい。フィルムの
厚みが１０μｍ未満の場合は、フィルム面に凹凸加工を
施すの事が困難になる。また基材層に凹凸構造を転写し
剥離する際にフィルムが破損しやすくなる。フィルムの
厚みが２００μｍを超える場合は、基材層に凹凸構造を
転写する事が困難になる。また経済的にも問題がある。The thickness of the film subjected to the uneven processing is 1
It is preferably 0 μm to 200 μm. When the thickness of the film is less than 10 μm, it becomes difficult to make the film surface uneven. Further, the film is easily damaged when the uneven structure is transferred to the base material layer and peeled off. When the film thickness exceeds 200 μm, it becomes difficult to transfer the uneven structure to the base material layer. There is also a financial problem.
【００５１】前記凹凸加工されたフィルムの表面粗さ
は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に記載の表面粗さ
Ｒａが０．１μｍ〜１０．０μｍであることが好まし
く、より好ましくは０．３μｍ〜５．０μｍ、さらに好
ましくは０．５μｍ〜２．０μｍである。凹凸加工され
たフィルムの表面粗さが、０．１μｍより小さい場合や
表面粗さが１０．０μｍより大きい場合は、その凹凸構
造を基材層に転写した場合、樹脂シートの光拡散機能が
不十分となり、この樹脂シートを液晶セル基板として使
用した場合、照明光や液晶表示装置内蔵のバックライト
に起因するギラツキが見られる。As for the surface roughness of the unevenly processed film, the surface roughness Ra described in JIS B 0601-1994 is preferably 0.1 μm to 10.0 μm, more preferably 0.3 μm to 5. It is 0 μm, more preferably 0.5 μm to 2.0 μm. If the surface roughness of the uneven film is less than 0.1 μm or the surface roughness is more than 10.0 μm, the light diffusion function of the resin sheet may be impaired when the uneven structure is transferred to the base material layer. When the resin sheet is used as a liquid crystal cell substrate, glare due to illumination light or a backlight built in the liquid crystal display device is observed.
【００５２】前記凹凸加工されたフィルムを、加熱圧着
する時の圧力は、２０ＭＰａ以下であることが好まし
く、より好ましくは１ＭＰａ〜１０ＭＰａがよい。加熱
圧着する時の圧力が２０ＭＰａよりも大きい場合は、凹
凸加工されたフィルム、基材層、ガスバリア層、および
ハードコート層からなる積層体が変形する等の問題が生
じる。The pressure at the time of thermocompression-bonding the above-mentioned textured film is preferably 20 MPa or less, more preferably 1 MPa to 10 MPa. If the pressure at the time of thermocompression bonding is higher than 20 MPa, problems such as deformation of the laminated body composed of the uneven film, the base material layer, the gas barrier layer, and the hard coat layer occur.
【００５３】前記凹凸加工されたフィルム、加熱圧着す
る時の温度は、５０℃〜３００℃であることが好まし
い。加熱圧着する時の温度が５０℃よりも低い場合は、
凹凸構造を基材層に転写することが困難になる。一方、
加熱圧着する時の温度が３００℃よりも高い場合は、ハ
ードコート層、有機ガスバリア層、基材層、および凹凸
加工されたフィルムからなる積層体が熱により変形する
等の問題が生じる。The temperature at the time of heat-pressing the film having the textured surface is preferably 50 ° C to 300 ° C. If the temperature when thermocompression bonding is lower than 50 ℃,
It becomes difficult to transfer the uneven structure to the base material layer. on the other hand,
When the temperature at the time of thermocompression bonding is higher than 300 ° C., there arises a problem that the laminated body composed of the hard coat layer, the organic gas barrier layer, the base material layer, and the uneven film is deformed by heat.
【００５４】本発明の樹脂シートの製造方法は流延法に
限定されるものではなく、例えばガラス板等からなる支
持体上に、ハードコート層形成樹脂液を、ワイヤーバー
コート法、エクストルージョンコート法、スピンコート
法、スプレー法、ディップコート法等で塗布後、ガスバ
リア層、基材層をエクストルージョンコート法、カーテ
ンコート法等で塗布し、完全に硬化させた後、平滑な基
材層表面を凹凸加工されたフィルムで被覆し、支持体ご
と加熱圧着することによっても形成することができる。The method for producing the resin sheet of the present invention is not limited to the casting method, and for example, a hard coat layer forming resin liquid is applied onto a support made of a glass plate or the like by a wire bar coating method or an extrusion coating. Method, spin coating method, spraying method, dip coating method, etc., then apply gas barrier layer, base material layer by extrusion coating method, curtain coating method, etc., and after completely curing, smooth base material layer surface It can also be formed by coating with a film having an uneven surface, and thermocompression bonding the whole support.
【００５５】本発明の樹脂シートの製造方法によれば、
ハードコート層と、基材層とを積層してなる積層樹脂シ
ートの平滑な基材層表面に、凹凸加工が施されたフィル
ムを接触させ、加熱圧着することにより、前記凹凸加工
が施されたフィルムの凹凸構造を前記基材層表面に転写
した後、この基材層上に金属薄層を設けてもよい。According to the method for producing a resin sheet of the present invention,
The surface of the smooth resin layer of the laminated resin sheet obtained by laminating the hard coat layer and the base material layer was brought into contact with the film having the textured surface, and thermocompression bonded to the surface, whereby the textured surface was processed. After transferring the uneven structure of the film to the surface of the base material layer, a thin metal layer may be provided on the base material layer.
【００５６】具体的には、前述したように、エンドレス
スチールベルト等よりなる支持体にハードコート層、基
材層を順次形成し、フィルム繰り出し用ロールから凹凸
加工されたフィルムを基材層表面に接するように繰り出
し、加熱圧着した後巻き取ることにより、ハードコート
層と凹凸構造を有する基材層よりなる積層体を得ること
ができる。次に、ハードコート層と凹凸構造を有する基
材層よりなる積層体を支持体より剥離し、凹凸構造を有
する基材層表面に、銀またはアルミニウム等からなる金
属薄層を真空蒸着法等により積層させることにより、金
属薄層が設けられた樹脂シートを得ることができる。Specifically, as described above, a hard coat layer and a base material layer are sequentially formed on a support made of an endless steel belt or the like, and an uneven film is formed on the surface of the base material layer from a film feeding roll. A laminate comprising a hard coat layer and a base material layer having a concavo-convex structure can be obtained by paying out so as to be in contact with each other, heating and press-bonding, and then winding. Next, the laminate comprising the hard coat layer and the base material layer having an uneven structure is peeled from the support, and a thin metal layer made of silver or aluminum is vacuum-deposited on the surface of the base material layer having the uneven structure. By laminating them, a resin sheet provided with a thin metal layer can be obtained.
【００５７】なお、本発明において、金属薄層の形成方
法は真空蒸着法に限定されるものではなく、スパッタリ
ング法やＣＶＤ法等も好ましく用いられる。In the present invention, the method of forming the thin metal layer is not limited to the vacuum vapor deposition method, and a sputtering method, a CVD method or the like is preferably used.
【００５８】液晶表示装置は一般に、偏光板、液晶セ
ル、反射板又はバックライト、及び必要に応じての光学
部品等の構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込
むことなどにより形成される。本発明においては、上記
した樹脂シートを用いる点を除いて特に限定はなく、従
来に準じて形成することができる。従って、本発明にお
ける液晶表示装置の形成に際しては、例えば視認側の偏
光板の上に設けるアンチグレア層、反射防止膜、保護
層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の偏光板の間に
設ける補償用位相差板などの適宜な光学部品を前記樹脂
シートに適宜に組み合わせることができる。本発明の樹
脂シートは光拡散機能を有しているため、液晶表示装置
を組み立てる際に光拡散板を必要としない。A liquid crystal display device is generally formed by appropriately assembling components such as a polarizing plate, a liquid crystal cell, a reflecting plate or a backlight, and if necessary, optical components and incorporating a drive circuit. In the present invention, there is no particular limitation except that the above-mentioned resin sheet is used, and the resin sheet can be formed according to conventional methods. Therefore, in forming the liquid crystal display device in the present invention, for example, an anti-glare layer, an antireflection film, a protective layer, a protective plate provided on the polarizing plate on the viewing side, or a compensation position provided between the liquid crystal cell and the polarizing plate on the viewing side. Appropriate optical components such as a phase difference plate can be appropriately combined with the resin sheet. Since the resin sheet of the present invention has a light diffusing function, a light diffusing plate is not required when assembling a liquid crystal display device.
【００５９】さらに、本発明の液晶表示装置は、本発明
の樹脂シートからなる凹凸基板上に設けられた反射用金
属層の上にカラーフィルタを設けることにより、画素間
の光路差が抑制され、混色が生じにくくなるため、良好
な表示品位を得られる。また、基板の凹凸は光拡散機能
には必要であるが、その凹凸が液晶層にまで達すると液
晶の配向を乱す元になるため、凹凸層の上に設けられた
カラーフィルタ並びにその上の平滑層によって基板の凹
凸を平滑化することによって、液晶層に基板表面の凹凸
が及ばないようにすることで、基板凹凸による液晶配向
乱れを防止する。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, the color filter is provided on the reflecting metal layer provided on the uneven substrate made of the resin sheet of the present invention, whereby the optical path difference between the pixels is suppressed, Since color mixing hardly occurs, good display quality can be obtained. Further, the unevenness of the substrate is necessary for the light diffusion function, but when the unevenness reaches the liquid crystal layer, it becomes a source of disturbing the alignment of the liquid crystal, and therefore, the color filter provided on the uneven layer and the smoothness on the color filter are provided. The unevenness of the substrate surface is prevented from reaching the liquid crystal layer by smoothing the unevenness of the substrate by the layer, thereby preventing the liquid crystal alignment disorder due to the unevenness of the substrate.
【００６０】なお、本発明の樹脂シートの用途は液晶セ
ル基板に限定されるものではなく、エレクトロルミネッ
センス表示用基板や太陽電池用基板としても好ましく用
いられる。The application of the resin sheet of the present invention is not limited to the liquid crystal cell substrate, and it is preferably used as an electroluminescence display substrate or a solar cell substrate.
【００６１】[0061]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例になんら限定されるものではな
い。また、特に言及しない限り、「％」は「質量％」を
意味する。The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples. Further, "%" means "% by mass" unless otherwise specified.
【００６２】（実施例１）（化１）の化学式で示される
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート１００質量部、硬
化剤として（化２）の化学式で示されるメチルテトラヒ
ドロ無水フタル酸１２０質量部、硬化促進剤として（化
３）の化学式で示されるテトラ−ｎ−ブチルホスホニウ
ムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート２質量部を攪
拌混合して基材層形成樹脂液を得た。次に、ポリビニル
アルコール系ポリマー（ゴーセノールＮＨ−１８、日本
合成製）５ｇを熱水９５ｇに溶解し、有機ガスバリア層
形成樹脂液を得た。Example 1 100 parts by mass of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate represented by the chemical formula (formula 1), and methyl as the curing agent represented by the chemical formula (formula 2) 120 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride and 2 parts by mass of tetra-n-butylphosphonium o, o-diethylphosphorodithioate represented by the chemical formula (Chemical Formula 3) as a curing accelerator are stirred and mixed to form a base layer forming resin liquid. Got Next, 5 g of a polyvinyl alcohol-based polymer (Gohsenol NH-18, manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.) was dissolved in 95 g of hot water to obtain an organic gas barrier layer forming resin liquid.
【００６３】[0063]
【化１】 [Chemical 1]
【００６４】[0064]
【化２】 [Chemical 2]
【００６５】[0065]
【化３】 [Chemical 3]
【００６６】図３に例示の流延法により、駆動ドラム４
２と従動ドラム４３の間に掛けられたエンドレススチー
ルベルト４１に、ダイ２１より（化４）に示すウレタン
アクリレート樹脂の１５％トルエン溶液を塗布し、風乾
した後、紫外線照射により樹脂を硬化し、厚さ２μｍの
ハードコート層１３を得た。ハードコート層上に有機ガ
スバリア層形成樹脂液をダイ２２より塗布した後、熱硬
化させ、厚さ３．７μｍの有機ガスバリア層１２を得
た。次に、有機ガスバリア層上に基材層形成樹脂液をダ
イ２３より塗布した後、熱硬化させ、厚さ４００μｍの
基材層１１を得た。この場合、基材層表面の表面粗さＲ
ａは０．２ｎｍであった。次に、凹凸加工されたポリイ
ミドフィルム５４（厚み：２５μｍ、表面粗さＲａ：１
μｍ）を、フィルム繰り出し用ロール５２より基材層表
面に接するように繰り出し、熱ロール５１でエンドレス
スチールベルトごと１５０℃、５ＭＰａで加熱圧着し、
ポリイミドフィルムをフィルム巻き取り用ロール５３に
回収した。基材層表面にはポリイミドフィルムの凹凸構
造が転写され、基材層表面の表面粗さＲａは２μｍであ
った。次にハードコート層、有機ガスバリア層、および
基材層からなる積層体をエンドレススチールベルトより
剥離し、樹脂シートを得た。According to the casting method illustrated in FIG. 3, the driving drum 4 is used.
The 15% toluene solution of the urethane acrylate resin shown in (Chemical Formula 4) is applied from the die 21 to the endless steel belt 41 hung between the No. 2 and the driven drum 43, air-dried, and then the resin is cured by ultraviolet irradiation, A hard coat layer 13 having a thickness of 2 μm was obtained. A resin liquid for forming an organic gas barrier layer was applied on the hard coat layer from a die 22 and then thermally cured to obtain an organic gas barrier layer 12 having a thickness of 3.7 μm. Next, the base layer forming resin liquid was applied onto the organic gas barrier layer from the die 23 and then heat-cured to obtain the base layer 11 having a thickness of 400 μm. In this case, the surface roughness R of the surface of the base material layer
a was 0.2 nm. Next, the roughened polyimide film 54 (thickness: 25 μm, surface roughness Ra: 1
μm) is fed from a film feeding roll 52 so as to be in contact with the surface of the base material layer, and the endless steel belt is thermocompression-bonded together with a heat roll 51 at 150 ° C. and 5 MPa,
The polyimide film was collected on the film winding roll 53. The uneven structure of the polyimide film was transferred to the surface of the base material layer, and the surface roughness Ra of the surface of the base material layer was 2 μm. Next, the laminate including the hard coat layer, the organic gas barrier layer, and the base material layer was peeled off from the endless steel belt to obtain a resin sheet.
【００６７】[0067]
【化４】 [Chemical 4]
【００６８】（表面粗さＲａの測定方法）触針式表面粗
さ計 Ｐ−１１（Ｔｅｎｃｏｌ製）を用いて、測定長２
００μｍ、スキャン測定２０μｍ／ｓｅｃで測定した。(Measurement Method of Surface Roughness Ra) Using a stylus type surface roughness meter P-11 (manufactured by Tencol), measurement length 2
The measurement was performed at 00 μm and a scan measurement of 20 μm / sec.
【００６９】（実施例２）実施例１と同様にして基材層
形成樹脂液を得た。ガラス板上にワイヤーバーコート法
により（化４）に示すウレタンアクリレート樹脂の１５
％トルエン溶液を塗布し、風乾した後、紫外線照射によ
り樹脂を硬化し厚さ２μｍのハードコート層を得た。ハ
ードコート層上に、前記基材層形成樹脂液をべーカー式
アプリケータにて厚さ４００μｍに塗布し、１００℃で
６０分間加熱硬化し、基材層を形成した。この場合、基
材層の表面粗さＲａは０．２ｎｍであった。次に、基材
層表面を、凹凸加工されたポリエチレンテレフタレート
フィルム（厚み：６０μｍ、表面粗さＲａ：２μｍ）で
被覆し、１５０℃で５ＭＰａで加熱圧着し、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを基材層より剥離した後、ガ
ラス板からハードコート層と基材層からなる積層体を剥
離した。基材層表面にはポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの凹凸構造が転写され、基材層表面の表面粗さＲ
ａは２μｍであった。次に、凹凸加工された基材層表面
に、アルミニウムを真空度６．７×１０ -2Ｐａ、０．０
４ｎｍ／ｓの速度で真空蒸着させ（アルミニウム層の厚
み：３０ｎｍ）、反射型の樹脂シートを得た。Example 2 A base material layer was prepared in the same manner as in Example 1.
A forming resin liquid was obtained. Wire bar coating method on glass plate
15 of the urethane acrylate resin shown in (Chemical Formula 4)
% Toluene solution, air dry, and then irradiate
The resin was cured to obtain a hard coat layer having a thickness of 2 μm. Ha
The base layer-forming resin liquid is placed on the hard coat layer in a beaker type.
Apply it to a thickness of 400 μm with an applicator and at 100 ° C
It was heat-cured for 60 minutes to form a base material layer. In this case,
The surface roughness Ra of the material layer was 0.2 nm. Then the substrate
Polyethylene terephthalate with uneven surface
Film (thickness: 60 μm, surface roughness Ra: 2 μm)
Coat and heat press bond at 150 ℃ and 5MPa
After peeling off the terephthalate film from the substrate layer,
Peel off the laminate consisting of the hard coat layer and the base layer from the lath plate.
Released. Polyethylene terephthalate film on the surface of the base material layer
The unevenness of the film is transferred, and the surface roughness R of the substrate layer surface
a was 2 μm. Next, the surface of the base material layer that has been textured
The aluminum to a vacuum degree of 6.7 × 10 -2Pa, 0.0
Vacuum deposition at a rate of 4 nm / s (thickness of aluminum layer
(See: 30 nm) to obtain a reflective resin sheet.
【００７０】（比較例１）実施例１と同様にして基材層
形成樹脂液を調製した。ガラス板上にワイヤーバーコー
ト法により（化４）に示すウレタンアクリレート樹脂の
１５％トルエン溶液を塗布し、風乾した後、紫外線照射
により樹脂を硬化し、厚さ２μｍのハードコート層を得
た。ハードコート層上に前記基材層形成樹脂液をべーカ
ー式アプリケータにて厚さ４００μｍに塗布し、１００
℃で６０分間加熱硬化し、表面粗さＲａが０．２ｎｍの
基材層を形成した後、ガラス板からハードコート層と基
材層からなる積層体を剥離した。次に、実施例２と同様
にして、平滑な基材層表面にアルミニウムを真空蒸着さ
せ、反射型の樹脂シートを得た。Comparative Example 1 A substrate layer forming resin liquid was prepared in the same manner as in Example 1. A 15% toluene solution of the urethane acrylate resin shown in Chemical formula 4 was applied onto a glass plate by the wire bar coating method, air-dried, and then the resin was cured by irradiation with ultraviolet rays to obtain a hard coat layer having a thickness of 2 μm. The base layer-forming resin solution was applied onto the hard coat layer with a beaker type applicator so as to have a thickness of 400 μm.
After heat-curing at 60 ° C. for 60 minutes to form a base material layer having a surface roughness Ra of 0.2 nm, the laminate comprising the hard coat layer and the base material layer was peeled from the glass plate. Next, in the same manner as in Example 2, aluminum was vacuum-deposited on the smooth surface of the base material layer to obtain a reflective resin sheet.
【００７１】（評価試験：表示品位）実施例１、２と比
較例１で作製した樹脂シートを液晶セル基板として用い
て液晶表示装置を組み立て、暗室中で２０°の角度でリ
ング状照明装置を照射し、液晶表示装置の電圧印加状態
で黒色表示の表示品位を調べ、電圧無印加状態で白色表
示の表示品位を調べた。(Evaluation Test: Display Quality) A liquid crystal display device was assembled using the resin sheets prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 as a liquid crystal cell substrate, and a ring-shaped illumination device was set at an angle of 20 ° in a dark room. Irradiation was performed, and the display quality of the black display was examined with the voltage applied to the liquid crystal display device, and the display quality of the white display was examined with no voltage applied.
【００７２】その結果、実施例１、２で作製した樹脂シ
ートを用いて液晶表示装置を作製したところ、表示品位
は良好であった。一方、比較例１で作製した樹脂シート
を用いて液晶表示装置を作製したところ、白色表示にお
いてギラツキがみられた。As a result, when a liquid crystal display device was manufactured using the resin sheets manufactured in Examples 1 and 2, the display quality was good. On the other hand, when a liquid crystal display device was produced using the resin sheet produced in Comparative Example 1, glare was observed in white display.
【００７３】（実施例３）実施例２で作製した樹脂シー
ト２の金属３の表面に、液晶表示素子の画素に対応した
カラーフィルタ６３を印刷法にて形成し、このカラーフ
ィルタ６３上に、カラーフィルタ並びに基板の凹凸を平
滑化させる熱硬化性の透明樹脂層６４を設け、透明樹脂
層６４の上にＩＴＯからなる透明電極層を通常のスパッ
タリング法で形成したあと、ＩＴＯからなる透明電極層
をフォトリソグラフィ法にて電極パターン６５を形成す
ることによって、液晶表示素子用プラスチック基板を得
た。一方、対向側基板に平滑なプラスチック基板６２を
用い、ＩＴＯからなる透明電極パターン６５を形成す
る。両基板の透明電極パターン上に配向膜６６を形成
し、ラビング法からなる配向処理を施した後、スペーサ
６９を介して電極面を向かい合わせに熱硬化性エポキシ
樹脂からなるシール６７を用いて基板６２と２を貼り合
わせた後、基板間に液晶６８を充填し、偏光板及び位相
差補償フィルムにて挟持する事によって反射用液晶表示
素子を得た。このとき、凹凸面は視認者側から見て、液
晶６８を挟んだ向こう側になる。本実施例ではカラーフ
ィルタ６３上に透明樹脂層６４を設けることにより、カ
ラーフィルタ６３並びに凹凸基板２の凹凸を埋没平滑化
するため、液晶６８の配向乱れは生じなかった。カラー
フィルタ６３上の平滑樹脂６４は、熱硬化性アクリル樹
脂以外に透明エポキシ樹脂等でカラーフィルタ表面を平
滑化しても、同じように液晶の配向乱れは生じなかっ
た。(Example 3) On the surface of the metal 3 of the resin sheet 2 produced in Example 2, a color filter 63 corresponding to the pixels of the liquid crystal display element was formed by a printing method, and on this color filter 63, A thermosetting transparent resin layer 64 for smoothing unevenness of the color filter and the substrate is provided, and a transparent electrode layer made of ITO is formed on the transparent resin layer 64 by a usual sputtering method, and then a transparent electrode layer made of ITO. An electrode pattern 65 was formed by photolithography to obtain a plastic substrate for a liquid crystal display element. On the other hand, a smooth plastic substrate 62 is used as the opposite substrate, and a transparent electrode pattern 65 made of ITO is formed. After forming an alignment film 66 on the transparent electrode patterns of both substrates and performing an alignment treatment by a rubbing method, the substrates are formed by using a seal 67 made of a thermosetting epoxy resin with the electrode surfaces facing each other through a spacer 69. After bonding 62 and 2, liquid crystal 68 was filled between the substrates and sandwiched between a polarizing plate and a retardation compensation film to obtain a reflective liquid crystal display element. At this time, the concavo-convex surface is on the opposite side of the liquid crystal 68 as seen from the viewer side. In this embodiment, since the transparent resin layer 64 is provided on the color filter 63, the irregularities of the color filter 63 and the concave-convex substrate 2 are buried and smoothed, so that the alignment disorder of the liquid crystal 68 does not occur. Even if the smoothing resin 64 on the color filter 63 was made smooth with a transparent epoxy resin or the like in addition to the thermosetting acrylic resin, the alignment disorder of the liquid crystal did not occur similarly.
【００７４】また、カラーフィルタ６３を印刷法以外の
電着法で形成する場合は、前記金属３の表面に電着して
も構わないが、反応率の高い銀等の金属は容易に酸化す
るので、金属表面の上にネサやＩＴＯからなる透明電極
を設ける事が望ましいため、前記実施例２の金属層の上
に厚み８０ｎｍでＩＴＯを設け、その上にフィルタを電
着法で設け、後は上述の方法で反射型液晶表示装置を作
製した。When the color filter 63 is formed by an electrodeposition method other than the printing method, it may be electrodeposited on the surface of the metal 3, but a metal such as silver having a high reaction rate is easily oxidized. Therefore, since it is desirable to provide a transparent electrode made of ITO or ITO on the metal surface, ITO is provided with a thickness of 80 nm on the metal layer of Example 2, and a filter is provided thereon by an electrodeposition method. Manufactured a reflective liquid crystal display device by the method described above.
【００７５】このとき、金属表面の透明電極の屈折率と
膜厚の積は５０から４００ｎｍ程度が望ましく、特に基
板の凹凸面上の金属に銀を用いた場合、短波長側の反射
が低減するため、前記の積が４００ｎｍ程度のとき、波
長４５０ｎｍ程度の青色光の反射光が干渉ピークで強調
されるため、短波長側の反射率の低減を補償できる。ま
た、金属膜と透明電極の間に窒化ケイ素や酸化ケイ素、
チタン酸化物等を挟持して反射光を補償しても構わな
い。At this time, the product of the refractive index and the film thickness of the transparent electrode on the metal surface is preferably about 50 to 400 nm. Particularly, when silver is used as the metal on the uneven surface of the substrate, the reflection on the short wavelength side is reduced. Therefore, when the product is about 400 nm, the reflected light of the blue light having a wavelength of about 450 nm is emphasized at the interference peak, so that the reduction of the reflectance on the short wavelength side can be compensated. In addition, silicon nitride or silicon oxide between the metal film and the transparent electrode,
The reflected light may be compensated by sandwiching titanium oxide or the like.
【００７６】[0076]
【発明の効果】本発明の樹脂シートは樹脂系であるの
で、薄型、軽量であり機械強度に優れている。また、本
発明の樹脂シートは、最外層にある基材層が凹凸構造を
有するため光拡散機能を有しており、この樹脂シート
を、液晶セル基板として用いて液晶表示装置を作製する
ことにより、照明光や液晶表示装置内蔵のバックライト
に起因するギラツキが防止できるとともに、光の散乱が
小さく、光の利用効率が高くなるため、より明るい表示
品位が得られる。また、凹凸構造を有する基材層表面に
金属薄層を設けた反射型の樹脂シートを、液晶セル基板
として用いて液晶表示装置を作製することにより、反射
層である金属薄層を液晶層により近い位置に配置するこ
とができるので、画素の二重像が生じず、良好な表示品
位が得られる。Since the resin sheet of the present invention is a resin sheet, it is thin, lightweight and excellent in mechanical strength. Further, the resin sheet of the present invention has a light diffusing function because the outermost base material layer has an uneven structure, and by using this resin sheet as a liquid crystal cell substrate, a liquid crystal display device is manufactured. In addition, glare due to illumination light and a backlight built in the liquid crystal display device can be prevented, and light scattering is small and light utilization efficiency is high, so that a brighter display quality can be obtained. In addition, a reflection type resin sheet provided with a metal thin layer on the surface of a base material layer having a concavo-convex structure is used as a liquid crystal cell substrate to manufacture a liquid crystal display device. Since they can be arranged at close positions, a double image of pixels does not occur, and good display quality can be obtained.
【００７７】さらに、本発明の液晶表示装置において、
液晶セル基板表面を凹凸加工することにより、凹凸材料
を貼り付け、その上に金属層を設ける従来のパネルと比
べて、凹凸材料の剥離という問題が無くなる。Furthermore, in the liquid crystal display device of the present invention,
By subjecting the surface of the liquid crystal cell substrate to concavo-convex processing, the problem of peeling of the concavo-convex material is eliminated as compared with a conventional panel in which a concavo-convex material is attached and a metal layer is provided thereon.
【図１】 本発明の樹脂シートの一例である。FIG. 1 is an example of a resin sheet of the present invention.
【図２】 本発明の樹脂シートの一例である。FIG. 2 is an example of a resin sheet of the present invention.
【図３】 本発明の樹脂シートの製造方法の一例であ
る。FIG. 3 is an example of a method for producing a resin sheet of the present invention.
【図４】 本発明の液晶表示装置の断面である。FIG. 4 is a cross section of a liquid crystal display device of the present invention.
１ ：ハードコート層 ２ ：凹凸加工された基材層 ３ ：金属薄層 ４ ：ガスバリア層 １１：基材層 １２：ガスバリア層 １３：ハードコート層 ２１：ハードコート層塗布用ダイ ２２：ガスバリア層塗布用ダイ ２３：基材層塗布用ダイ ３１：ＵＶ硬化装置 ３２：乾燥機 ３３：乾燥機 ４１：エンドレススチールベルト ４２：駆動ドラム ４３：従動ドラム ５１：熱ロール ５２：凹凸加工されたフィルム線り出し用口ール ５３：凹凸加工されたフィルム巻き取り用ロール ５４：凹凸加工されたフィルム ６０：上側偏光板 ６１：下側偏光板 ６２：平滑機能基板 ６３：カラーフィルタ ６４：平滑樹脂層 ６５：電極パターン ６６：配向膜 ６７：シール ６８：液晶 ６９：スペーサ 1: Hard coat layer 2: Base material layer with unevenness 3: Thin metal layer 4: Gas barrier layer 11: Base material layer 12: Gas barrier layer 13: Hard coat layer 21: Die for coating hard coat layer 22: Gas barrier layer coating die 23: Base layer coating die 31: UV curing device 32: Dryer 33: Dryer 41: Endless steel belt 42: Drive drum 43: Driven drum 51: Heat roll 52: Concavo-convex film projecting port 53: Film winding roll with unevenness 54: Unevenly processed film 60: Upper polarizing plate 61: Lower polarizing plate 62: Smooth function substrate 63: Color filter 64: smooth resin layer 65: Electrode pattern 66: Alignment film 67: Seal 68: Liquid crystal 69: Spacer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２３Ｃ 14/20 Ｃ２３Ｃ 14/20 Ｚ 14/24 14/24 Ｎ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ 1/1335 ５０５ 1/1335 ５０５ // Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 9:00 9:00 (72)発明者 梅原 俊志 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 御園 健司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 伊納 一平 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 HA08 HB08X HC05 HC10 JA02 JB03 JC03 JC08 JD11 JD13 LA01 LA02 LA06 LA09 LA15 LA16 LA20 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FA41Z FB04 GA06 GA08 LA02 4F100 AB00D AK01A AK21B AK25A AK51A AK53C AL01A AT00C BA03 BA07 BA10C CA02 CC00A DD07C EC04 EH31 EH46 EJ05A EJ08 EJ39 EJ42 GB41 HB21C JD02B JK12A JM02D JN06 4F209 AG01 AG03 AJ03 PA02 PB02 PC05 PN03 PN06 4K029 AA11 AA24 AA25 BA03 BA04 BD09 CA01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C23C 14/20 C23C 14/20 Z 14/24 14/24 NG02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 1 / 1335 505 1/1335 505 // B29L 7:00 B29L 7:00 9:00 9:00 (72) Inventor Toshishi Umehara 1-2 1-2 Shimohozumi, Ibaraki City, Osaka Prefecture Nitto Denko Corporation (72) Inventor Kenji Misono 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka (72) Inventor Ippei Ino 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka, Osaka F-term (reference) 2H090 HA08 HB08X HC05 HC10 JA02 JB03 JC03 JC08 JD11 JD13 LA01 LA02 LA06 LA09 LA15 LA16 LA20 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FA41Z FB04 GA06 GA08 LA02 4F100 AB00D AK01A AK21B AK25C A51A AK51A L01A AT00C BA03 BA07 BA10C CA02 CC00A DD07C EC04 EH31 EH46 EJ05A EJ08 EJ39 EJ42 GB41 HB21C JD02B JK12A JM02D JN06 4F209 AG01 AG03 AJ03 PA02 PB02 PC05 PN03 PN06 4K029 AA11 BA03 A24 AA24 AA24 AA24
Claims (13)
材層とを積層してなり、前記基材層が最外層にあり、そ
の表面が凹凸構造を有することを特徴とする樹脂シー
ト。1. A resin sheet comprising a hard coat layer, a gas barrier layer, and a base material layer laminated, the base material layer being the outermost layer, and the surface thereof having an uneven structure.
Ｒａが、０．３μｍ〜５．０μｍであることを特徴とす
る請求項１に記載の樹脂シート。2. The resin sheet according to claim 1, wherein the surface roughness Ra of the base material layer having the uneven structure is 0.3 μm to 5.0 μm.
ことを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂シー
ト。3. The resin sheet according to claim 1, wherein the base material layer is made of an epoxy resin.
系ポリマーよりなることを特徴とする請求項１〜３のい
ずれかに記載の樹脂シート。4. The resin sheet according to claim 1, wherein the gas barrier layer is made of vinyl alcohol polymer.
レート架橋ポリマーよりなることを特徴とする請求項１
〜４のいずれかに記載の樹脂シート。5. The hard coat layer comprises a urethane acrylate cross-linked polymer.
The resin sheet according to any one of to 4.
なり、前記基材層の表面が凹凸構造を有し、該基材層の
上に金属薄層が形成されていることを特徴とする樹脂シ
ート。6. A laminate comprising a hard coat layer and a base material layer, wherein the surface of the base material layer has an uneven structure, and a thin metal layer is formed on the base material layer. Characteristic resin sheet.
材層とを積層してなり、前記基材層が最外層にあり、該
基材層の表面が凹凸構造を有する樹脂シートを製造する
方法において、該積層樹脂シートの平滑な基材層表面
に、凹凸加工が施されたフィルムを接触させ、加熱圧着
することにより前記凹凸加工が施されたフィルムの凹凸
構造を前記基材層表面に転写することを特徴とする樹脂
シートの製造方法。7. A resin sheet produced by laminating a hard coat layer, a gas barrier layer, and a base material layer, wherein the base material layer is the outermost layer, and the surface of the base material layer has an uneven structure. In the method, the uneven base film surface is provided with a concavo-convex structure of the film subjected to the concavo-convex process by bringing the film subjected to the concavo-convex process into contact with the smooth base material layer surface of the laminated resin sheet. A method for producing a resin sheet, which comprises transferring.
なり、前記基材層の表面が凹凸構造を有し、その層の上
に金属薄層が形成されてなる樹脂シートを製造する方法
において、該積層樹脂シートの平滑な基材層表面に、凹
凸加工が施されたフィルムを接触させ、加熱圧着するこ
とにより前記凹凸加工が施されたフィルムの凹凸構造を
前記基材層表面に転写した後、該基材層上に金属薄層を
設けることを特徴とする樹脂シートの製造方法。8. A resin sheet produced by laminating a hard coat layer and a base material layer, wherein the surface of the base material layer has an uneven structure, and a thin metal layer is formed on the layer. In the method, the uneven structure of the uneven film is formed by bringing the uneven film into contact with the smooth substrate layer surface of the laminated resin sheet and thermocompressing the film. A method for producing a resin sheet, which comprises providing a thin metal layer on the base material layer after transfer to the base material layer.
リイミドフィルムであることを特徴とする請求項７また
は８に記載の樹脂シートの製造方法。9. The method for producing a resin sheet according to claim 7, wherein the film having the textured surface is a polyimide film.
ことを特徴とする請求項８に記載の樹脂シートの製造方
法。10. The method for producing a resin sheet according to claim 8, wherein the thin metal layer is provided by vacuum vapor deposition.
シートからなる液晶セル基板。11. A liquid crystal cell substrate comprising the resin sheet according to claim 1.
シートを用いてなる液晶表示装置。12. A liquid crystal display device using the resin sheet according to claim 1.
いて、前記樹脂シートの凹凸面が液晶側にあり、該凹凸
面の上に金属薄層、カラーフィルタ、透明樹脂層を設け
てあり、該透明樹脂層の上に電極パターンを設けてあ
り、対向側基板は平滑な樹脂シート上に電極パターンを
形成し、電極パターンを内側に貼り合わせてなる液晶表
示装置。 【０００１】13. The liquid crystal display device according to claim 12, wherein the uneven surface of the resin sheet is on the liquid crystal side, and a thin metal layer, a color filter, and a transparent resin layer are provided on the uneven surface, A liquid crystal display device in which an electrode pattern is provided on a transparent resin layer, and a counter substrate is formed by forming an electrode pattern on a smooth resin sheet and bonding the electrode pattern inside. [0001]
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|---|---|---|---|---|
| JP2007223313A (en) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Cayman Islands Shoako Kagi Kofun Yugenkoshi | Method for forming molded thin film molded with tape-like die |
| JP2010149334A (en) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | Method for manufacturing resin film and light-shielding film |
| JP2010173156A (en) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | Method for forming cured resin film |
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- 2001-10-16 JP JP2001317835A patent/JP3660900B2/en not_active Expired - Fee Related
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