JP2003117786A - Semiconductor chip grinding apparatus and installing method of semiconductor chip to grinding table - Google Patents
Semiconductor chip grinding apparatus and installing method of semiconductor chip to grinding tableInfo
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップを保
護テープに貼り付けた上で、保護テープごと研削用テー
ブルに取り付けて、研削砥石を備えた研削円盤にて半導
体チップの裏面研削を行う半導体チップ研削装置及び研
削用テーブルへの半導体チップの据え付け方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor in which a semiconductor chip is attached to a protective tape, the protective tape is attached to a grinding table, and the back surface of the semiconductor chip is ground by a grinding disc equipped with a grinding wheel. The present invention relates to a chip grinding device and a method for mounting a semiconductor chip on a grinding table.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子機器は高性能化、高機能化、
小型化が進み、そこに実装される半導体素子も高機能化
が進み、更に高密度実装されることが要求されている。
このため、半導体素子を3次元的に実装するという要求
がICメモリーカードに代表される薄型、大容量機器に
おいて顕著になってきている。半導体素子の薄型化の手
段としてはウェーハ状態で裏面研削を行う方法と、ウェ
ーハから切り出したチップ状態で裏面研削を行う方法が
あり、特に、後者は個別のチップを保護テープに貼り付
けた上で、この保護テープごと研削用テーブルに、真空
吸着及び専用の治具にて固定させている。2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have become more sophisticated, more functional,
As miniaturization progresses and the semiconductor elements mounted thereon also have higher functionality, higher density packaging is required.
For this reason, the demand for three-dimensionally mounting semiconductor elements has become prominent in thin and large-capacity devices represented by IC memory cards. As means for thinning the semiconductor element, there are a method of performing backside grinding in a wafer state and a method of performing backside grinding in a chip state cut out from a wafer.In particular, the latter is done after attaching individual chips to a protective tape. The protective tape is fixed to the grinding table together with a vacuum chuck and a special jig.
【0003】図8は、従来の、半導体チップ研削装置に
おける研削用テーブルの平面図を示す。図9は、図8に
おける[9]−[9]線方向の断面図である。図8、9
は、研削用テーブルに保護テープが取り付けられている
状態を示す。FIG. 8 shows a plan view of a conventional grinding table in a semiconductor chip grinding apparatus. 9 is a cross-sectional view taken along the line [9]-[9] in FIG. 8 and 9
Shows the state in which the protective tape is attached to the grinding table.
【0004】研削用テーブル1の、一段高くなっている
中央部には凹所10が形成され、この凹所10に、通気
性を有する多孔質のポーラス部材2が嵌め込まれてい
る。ポーラス部材2の表面は研削用テーブル1の中央部
表面と面一となっており、これら表面は、研削時に、保
護テープ3を介して半導体チップTを支持するチップ支
持面9を形成する。凹所10は、吸引路7を介して、図
示しない真空ポンプなどの真空系に接続されている。A concave portion 10 is formed in the central portion of the grinding table 1 which is raised further, and a porous porous member 2 having air permeability is fitted into the concave portion 10. The surface of the porous member 2 is flush with the central surface of the grinding table 1, and these surfaces form a chip supporting surface 9 for supporting the semiconductor chip T via the protective tape 3 during grinding. The recess 10 is connected to a vacuum system such as a vacuum pump (not shown) via the suction passage 7.
【0005】チップ支持面9の外周側で、チップ支持面
9より一段低く形成されたリング状のフレームリング固
定面6には、手動操作にて上下動可能な押さえリング5
が取り付けられている。押さえリング5には、90゜お
きの4箇所に、径内方へと張り出す押さえ部5aが形成
されている。On the outer peripheral side of the chip support surface 9, a ring-shaped frame ring fixing surface 6 formed one step lower than the chip support surface 9 has a holding ring 5 which can be moved up and down by manual operation.
Is attached. The presser ring 5 is formed with presser portions 5a that extend radially inward at four locations at 90 ° intervals.
【0006】保護テープ3は、略円形状で金属製のフレ
ームリング4に張られている。具体的には、保護テープ
3の外周側端部が、フレームリング4の下面に接着され
ている。図8、9に示す状態は、保護テープ3が、その
チップ貼付面3aと、フレームリング4との間の延伸部
3bが延伸されて研削用テーブル1に取り付けられた状
態であり、取り付け前の状態は、フレームリング4及び
保護テープ3は平らな薄い円盤状となっている。フレー
ムリング4には、90゜おきの4箇所に、径外方へと張
り出す被押さえ部4aが形成されている。The protective tape 3 has a substantially circular shape and is stretched on a metal frame ring 4. Specifically, the outer peripheral side end of the protective tape 3 is bonded to the lower surface of the frame ring 4. The state shown in FIGS. 8 and 9 is a state in which the protective tape 3 is attached to the grinding table 1 by extending the extending portion 3b between the chip attachment surface 3a and the frame ring 4, and before the attachment. In the state, the frame ring 4 and the protective tape 3 are flat and thin disk-shaped. The frame ring 4 is formed with four pressed portions 4a that extend radially outward at four locations every 90 °.
【0007】保護テープ3のチップ貼付面3aの中央に
は、ゲージ測定用ウェーハWが貼付されている。ゲージ
測定用ウェーハWの周囲には、例えばウェーハ状態から
分割され良品と判別された複数の半導体チップTが、周
方向に沿って貼付されている。半導体チップTは、回路
形成面を下にして、被研削面となる裏面を上にしてチッ
プ貼付面3aに貼り付けられている。At the center of the chip attaching surface 3a of the protective tape 3, a gauge measuring wafer W is attached. A plurality of semiconductor chips T, which are divided from the wafer state and which are determined as non-defective, are attached around the gauge measurement wafer W along the circumferential direction. The semiconductor chip T is attached to the chip attaching surface 3a with the circuit forming surface facing down and the back surface serving as the ground surface facing up.
【0008】保護テープ3は、例えばアクリル系の粘着
テープであり、紫外線照射によって粘着力が低下する性
質を有する。厚さは、例えば180μmであるが、はん
だバンプ付きの半導体チップには、はんだバンプを吸収
して半導体チップの傾きを防ぐように、例えば320μ
mの厚さの保護テープを用いる。The protective tape 3 is, for example, an acrylic adhesive tape, and has a property that its adhesive strength is lowered by irradiation with ultraviolet rays. The thickness is, for example, 180 μm, but the semiconductor chip with solder bumps has, for example, 320 μm in order to absorb the solder bumps and prevent the semiconductor chip from tilting.
m protective tape is used.
【0009】次に、半導体チップTを貼付した保護テー
プ3の、研削用テーブル1への取り付け方法について説
明する。Next, a method of attaching the protective tape 3 to which the semiconductor chip T is attached to the grinding table 1 will be described.
【0010】取り付け前は、フレームリング4及び保護
テープ3は平らな薄い円盤状を呈している。先ず、フレ
ームリング4とチップ貼付面3aとの間の延伸部3b
を、チップTが貼り付けられた面とは反対側から人が指
で押して延伸させる。次いで、チップ貼付面3aの裏面
を、真空吸引されているポーラス部材2の表面(チップ
支持面9)に吸着させると共に、フレームリング4の各
被押さえ部4aが、押さえリング5の各押さえ部5の下
方に位置するように人が手動にてフレームリング4を回
して位置決めを行う。この後、押さえリング5を、やは
り手動操作にて下方に押し下げて、フレームリング4の
被押さえ部4aを、押さえリング5の押さえ部5とフレ
ームリング固定面6との間に緊締する。Before the attachment, the frame ring 4 and the protective tape 3 have a flat thin disk shape. First, the extending portion 3b between the frame ring 4 and the chip attaching surface 3a
Is pushed by a person with a finger from the side opposite to the surface on which the chip T is pasted to extend. Then, the back surface of the chip attaching surface 3a is adsorbed to the surface (chip supporting surface 9) of the porous member 2 that is vacuum-sucked, and each pressed portion 4a of the frame ring 4 is pressed by each pressing portion 5 of the pressing ring 5. A person manually turns the frame ring 4 to position it so that it is positioned below. After that, the pressing ring 5 is also pushed down by manual operation to tighten the pressed portion 4a of the frame ring 4 between the pressing portion 5 of the pressing ring 5 and the frame ring fixing surface 6.
【0011】これにより、フレームリング4は、チップ
貼付面3aよりも下方の位置にて、フレームリング固定
面6に固定され、延伸部3bに作用する張力により、チ
ップ貼付面3aの裏面はチップ支持面9に押し付けら
れ、密着力を高めた安定した研削を行うことができる。As a result, the frame ring 4 is fixed to the frame ring fixing surface 6 at a position below the chip attaching surface 3a, and the back surface of the chip attaching surface 3a supports the chip due to the tension acting on the extending portion 3b. It is pressed against the surface 9, and stable grinding with enhanced adhesion can be performed.
【0012】以上のようにして、半導体チップTはその
裏面(被研削面)を上に向けて、保護テープ3を介して
研削用テーブル1に据え付けられる。この据え付けが終
了すると、研削用テーブル1は研削手段の下方位置に移
動される。この移動は、例えば研削用テーブル1を載せ
たインデックステーブルの回転により行われる。研削手
段は、図9で一点鎖線で示すように、研削円盤8と、こ
の研削円盤8の下面外周に間欠的にリング状に配設され
た研削砥石8aとで構成される。研削円盤8と研削用テ
ーブル1とを共に回転させながら、研削円盤8を降下さ
せて研削砥石8aを半導体チップTの被研削面に押し付
けて研削を行う。As described above, the semiconductor chip T is installed on the grinding table 1 with the back surface (surface to be ground) facing upward through the protective tape 3. When this installation is completed, the grinding table 1 is moved to the position below the grinding means. This movement is performed by, for example, rotating an index table on which the grinding table 1 is placed. As shown by the alternate long and short dash line in FIG. 9, the grinding means is composed of a grinding disk 8 and a grinding wheel 8a intermittently arranged in a ring shape on the outer circumference of the lower surface of the grinding disk 8. While rotating the grinding disk 8 and the grinding table 1 together, the grinding disk 8 is lowered to press the grinding wheel 8a against the surface to be ground of the semiconductor chip T for grinding.
【0013】この研削時、半導体チップTの回路形成面
は保護テープ3に貼り付けられて保護されているため、
研削砥石8aからの圧力を緩和したり、研削屑の回路形
成面への付着などを防ぐことができる。また、半導体チ
ップTと同じ厚さを有するゲージ測定用ウェーハWも、
半導体チップTと共に研削され、且つこのゲージ測定用
ウェーハWは、研削時、図示しないゲージで厚さが測定
される。よって、測定されるゲージ測定用ウェーハWの
厚さから半導体チップTの厚さも得られ、自動的に所定
の寸法に研削することができる。At the time of this grinding, the circuit forming surface of the semiconductor chip T is adhered to the protective tape 3 for protection,
It is possible to relieve the pressure from the grinding wheel 8a and prevent the grinding dust from adhering to the circuit forming surface. Further, a gauge measuring wafer W having the same thickness as the semiconductor chip T is also
The gauge measuring wafer W is ground together with the semiconductor chip T, and the thickness of the gauge measuring wafer W is measured by a gauge (not shown) during grinding. Therefore, the thickness of the semiconductor chip T can be obtained from the measured thickness of the gauge-measuring wafer W, and the thickness can be automatically ground to a predetermined size.
【0014】[0014]
【発明が解決しようとする課題】従来は、上述したよう
に、保護テープ3を研削用テーブル1に取り付けるに際
しての延伸部3bを延伸させる方法として、人が指で延
伸部3bを押していた。これは手間と時間がかかり作業
性が悪い。特に、はんだバンプ付きの半導体チップ貼付
用の厚さが比較的厚い保護テープでは、人の手による延
伸作業が困難となる。また、指で押すようにして延伸さ
せるため延伸部3bの表面側が局部的に膨出する形とな
り、この膨出量が大きいと、その部分が研削砥石8aに
かかり研削されてしまい、吸着エラーが発生するおそれ
がある。また、延伸させる程度は、研削用テーブル1に
取り付けられた状態(図9)で、チップ貼付面3aの裏
面が研削用テーブル1のチップ支持面9に押し付けられ
るように、延伸部3bに所定の張力を作用させるべく調
整しなければならない。このように、指で押す力加減に
作業者の熟練性も要求される。Conventionally, as described above, as a method of stretching the extending portion 3b when the protective tape 3 is attached to the grinding table 1, a person pushes the extending portion 3b with a finger. This is troublesome, time consuming, and poor in workability. In particular, with a protective tape having a relatively large thickness for attaching a semiconductor chip with solder bumps, it is difficult to manually draw the protective tape. Further, since the surface side of the stretched portion 3b is locally bulged because it is stretched by pushing with a finger, and if the amount of bulging is large, that portion will be caught by the grinding wheel 8a and ground, and a suction error will occur. It may occur. Further, the extent of stretching is determined by the stretching portion 3b so that the back surface of the chip attaching surface 3a is pressed against the chip supporting surface 9 of the grinding table 1 in the state where the chip attaching surface 3a is attached to the grinding table 1 (FIG. 9). Must be adjusted to exert tension. In this way, the skill of the operator is required to control the pushing force of the finger.
【0015】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、保護
テープの延伸部の延伸を自動的に簡単に行え、保護テー
プの研削用テーブルへの取り付けを容易にした半導体チ
ップ研削装置及び研削用テーブルへの半導体チップの据
え付け方法を提供することを課題とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a semiconductor chip grinding apparatus and a grinding table in which the extending portion of the protective tape can be automatically and easily drawn and the protective tape can be easily attached to the grinding table. An object of the present invention is to provide a method of installing a semiconductor chip on a substrate.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
半導体チップ研削装置は、フレームリングに張られた保
護テープのチップ貼付面に貼付された半導体チップを研
削する研削手段と、チップ貼付面を反対側から真空吸着
するチップ支持面と、チップ支持面の外周側でチップ支
持面より下方に位置し、フレームリングを真空吸着する
フレームリング固定面とを有する研削用テーブルと、フ
レームリングを保持する保持手段と、保持手段でフレー
ムリングが保持された保護テープのチップ貼付面の裏面
側に配置され、保護テープに対して近づく方向に相対的
に移動されて保護テープを裏面側から押圧し、チップ貼
付面とフレームリングとの間の延伸部を延伸させる延伸
手段と、を備え、保護テープは、延伸部が延伸された状
態で、チップ貼付面の裏面がチップ支持面に真空吸着さ
れると共に、フレームリングがフレームリング固定面に
真空吸着される。A semiconductor chip grinding apparatus according to claim 1 of the present invention comprises a grinding means for grinding a semiconductor chip affixed to a chip affixing surface of a protective tape stretched on a frame ring, and a chip affixing device. The frame ring is provided with a grinding table having a chip support surface for vacuum suction from the opposite side and a frame ring fixing surface for vacuum suction of the frame ring, which is located on the outer peripheral side of the chip support surface and below the chip support surface. It is arranged on the back side of the chip adhering surface of the holding means for holding and the protection tape in which the frame ring is held by the holding means, and is moved relatively to the direction of approaching the protection tape to press the protection tape from the back side. And a stretching means for stretching the stretched portion between the chip attaching surface and the frame ring, and the protective tape is attached to the chip with the stretched portion stretched. With the rear surface is vacuum adsorbed to the chip supporting surface of the frame ring is vacuum adsorbed to the frame ring fixing surface.
【0017】すなわち、保護テープの延伸作業を、作業
者によるマニュアル作業から、自動化された工程とし
た。研削用テーブルへの取り付けも、フレームリングを
単に真空吸着面に置くという簡単な作業で行える。That is, the work of stretching the protective tape is changed from a manual work by an operator to an automated process. Installation to the grinding table can also be done by simply placing the frame ring on the vacuum suction surface.
【0018】本発明の請求項4に係る半導体チップ研削
装置は、フレームリングに張られた保護テープのチップ
貼付面に貼付された半導体チップを研削する研削手段
と、チップ貼付面を反対側から真空吸着するチップ支持
面と、チップ支持面の外周側でチップ支持面より下方に
位置し、フレームリングを真空吸着するフレームリング
固定面とを有する研削用テーブルと、フレームリングを
フレームリング固定面に向けて押圧していき、チップ貼
付面とフレームリングとの間の延伸部を延伸させると共
に、フレームリング固定面との間でフレームリングを挟
み込んで、フレームリングをフレームリング固定面に固
定させるクランパ手段と、クランパ手段を駆動させるク
ランパ駆動手段と、を備えている。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor chip grinding apparatus in which a grinding means for grinding a semiconductor chip stuck to a chip sticking surface of a protective tape stretched on a frame ring, and a chip sticking surface are vacuumed from the opposite side. A grinding table having a chip supporting surface to be sucked and a frame ring fixing surface which is located below the chip supporting surface on the outer peripheral side of the chip supporting surface and vacuum sucks the frame ring, and the frame ring is directed to the frame ring fixing surface. Clamping means for fixing the frame ring to the frame ring fixing surface by sandwiching the frame ring between the chip attaching surface and the frame ring and extending the extending portion between the chip attaching surface and the frame ring. , Clamper driving means for driving the clamper means.
【0019】すなわち、保護テープの延伸作業及び研削
用テーブルへの取り付け作業を、モータやシリンダ装置
などの動力を用いてまとめて一度に自動的に行う。That is, the work of stretching the protective tape and the work of attaching it to the grinding table are collectively and automatically carried out at once using the power of a motor or a cylinder device.
【0020】本発明の請求項5に係る研削用テーブルへ
の半導体チップの据え付け方法は、半導体チップを被研
削面を上にして、フレームリングに張られた保護テープ
のチップ貼付面に貼り付ける工程と、保護テープと、チ
ップ貼付面の裏面側に配置された延伸手段とを相近づけ
る方向に相対的に移動させて、延伸手段で保護テープを
裏面側から押圧して、チップ貼付面とフレームリングと
の間の延伸部を延伸させる工程と、延伸部が延伸された
保護テープのチップ貼付面の裏面を研削用テーブルのチ
ップ支持面に真空吸着させると共に、フレームリング
を、チップ支持面の外周側でチップ支持面より下方に位
置するフレームリング固定面に真空吸着させる工程と、
を有する。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of mounting a semiconductor chip on a grinding table, which comprises a step of sticking a semiconductor chip to a chip sticking surface of a protective tape stretched on a frame ring with a surface to be ground facing upward. And the protective tape and the stretching means arranged on the back surface side of the chip attaching surface are relatively moved in a direction in which they are close to each other, and the protective tape is pressed from the back surface side by the extending means, and the chip attaching surface and the frame ring. And the step of stretching the stretched portion between the stretched portion and the back surface of the chip attaching surface of the protective tape stretched by the stretched portion is vacuum-sucked to the chip supporting surface of the grinding table, and the frame ring is attached to the outer peripheral side of the chip supporting surface. And a step of vacuum suction to the frame ring fixing surface located below the chip supporting surface,
Have.
【0021】すなわち、保護テープの延伸作業を、作業
者によるマニュアル作業から、自動化された工程とし
た。研削用テーブルへの取り付けも、フレームリングを
単に真空吸着面に置くという簡単な作業で行える。That is, the work of stretching the protective tape is changed from a manual work by an operator to an automated process. Installation to the grinding table can also be done by simply placing the frame ring on the vacuum suction surface.
【0022】本発明の請求項8に係る研削用テーブルへ
の半導体チップの据え付け方法は、半導体チップを被研
削面を上にして、フレームリングに張られた保護テープ
のチップ貼付面に貼り付ける工程と、保護テープのチッ
プ貼付面の裏面を研削用テーブルのチップ支持面に真空
吸着させる工程と、フレームリングを、クランパ駆動手
段で駆動されるクランパ手段で、チップ支持面の外周側
でチップ支持面より下方に位置するフレームリング固定
面に向けて押圧していき、チップ貼付面とフレームリン
グとの間の延伸部を延伸させると共に、クランパ手段と
フレームリング固定面との間でフレームリングを挟み込
んで、フレームリングをフレームリング固定面に固定さ
せる工程と、を有する。A method of mounting a semiconductor chip on a grinding table according to claim 8 of the present invention is a step of bonding a semiconductor chip with a surface to be ground facing upward to a chip bonding surface of a protective tape stretched on a frame ring. And a step of vacuum-sucking the back surface of the chip attaching surface of the protective tape to the chip supporting surface of the grinding table, and the frame ring by the clamper means driven by the clamper driving means on the outer peripheral side of the chip supporting surface. While pressing toward the frame ring fixing surface located below, the extending portion between the chip attaching surface and the frame ring is extended, and the frame ring is sandwiched between the clamper means and the frame ring fixing surface. Fixing the frame ring to the frame ring fixing surface.
【0023】すなわち、保護テープの延伸作業及び研削
用テーブルへの取り付け作業を、モータやシリンダ装置
などの動力を用いてまとめて一度に自動的に行う。That is, the work of stretching the protective tape and the work of attaching it to the grinding table are collectively and automatically carried out at once using the power of a motor or a cylinder device.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0025】本発明の第1の実施の形態による半導体チ
ップ研削装置は、図3に示す延伸手段17、保持手段1
6a、16bと、図1及び図2(図1における[2]−
[2]線方向の断面図)に示す研削用テーブル11と、
研削砥石8aを有する研削円盤8(図2に一点鎖線で示
す)と、吸着補助手段12を備えている。The semiconductor chip grinding apparatus according to the first embodiment of the present invention comprises a stretching means 17 and a holding means 1 shown in FIG.
6a and 16b and FIGS. 1 and 2 ([2]-in FIG.
[2] A grinding table 11 shown in the sectional view in the direction of the line),
A grinding disk 8 (shown by a chain line in FIG. 2) having a grinding wheel 8a and a suction assisting means 12 are provided.
【0026】研削用テーブル11の、一段高くなってい
る中央部には凹所10が形成され、この凹所10に、通
気性を有する多孔質のポーラス部材(例えばセラミッ
ク)2が嵌め込まれている。ポーラス部材2の表面は研
削用テーブル11の中央部表面と面一となっており、こ
れら表面は、研削時に、保護テープ3を介して半導体チ
ップTを支持する円形状のチップ支持面9を形成する。
凹所10は、吸引路7を介して、図示しない真空ポンプ
などの真空系に接続されている。A recess 10 is formed in the central portion of the grinding table 11 which is elevated, and a porous porous member (for example, ceramic) 2 having air permeability is fitted into the recess 10. . The surface of the porous member 2 is flush with the surface of the central portion of the grinding table 11, and these surfaces form a circular chip supporting surface 9 for supporting the semiconductor chip T via the protective tape 3 during grinding. To do.
The recess 10 is connected to a vacuum system such as a vacuum pump (not shown) via the suction passage 7.
【0027】チップ支持面9の外周側で、チップ支持面
9より一段低く形成されたリング状の部分には、吸引路
15、7を介して真空系に接続するポーラス部材(例え
ばセラミック)13が嵌め込まれている。ポーラス部材
13は、一つながりのリング状、あるいは周方向に沿っ
て間欠的に配置されており、その表面はフレームリング
固定面として機能する。研削用テーブル11の最外周側
表面にはストッパリング11aが設けられている。On the outer peripheral side of the chip support surface 9, a ring-shaped portion formed one step lower than the chip support surface 9 is provided with a porous member (for example, ceramic) 13 connected to a vacuum system via suction paths 15 and 7. It is fitted. The porous members 13 are arranged in a continuous ring shape or are arranged intermittently along the circumferential direction, and the surface thereof functions as a frame ring fixing surface. A stopper ring 11a is provided on the outermost peripheral surface of the grinding table 11.
【0028】保護テープ3は、略円形状で金属製のフレ
ームリング14に張られている。具体的には、保護テー
プ3の外周側端部が、フレームリング14の下面に接着
されている。図1、2に示す状態は、保護テープ3が、
そのチップ貼付面3aと、フレームリング14との間の
延伸部3bが延伸されて研削用テーブル11に取り付け
られた状態であり、取り付け前の状態は、図3Aに示す
ように、フレームリング14及び保護テープ3は平らな
薄い円盤状となっている。The protective tape 3 has a substantially circular shape and is stretched on a metal frame ring 14. Specifically, the outer peripheral side end of the protective tape 3 is adhered to the lower surface of the frame ring 14. In the state shown in FIGS. 1 and 2, the protective tape 3 is
The extending portion 3b between the chip attaching surface 3a and the frame ring 14 is extended and attached to the grinding table 11, and the state before attachment is as shown in FIG. 3A. The protective tape 3 has a flat thin disk shape.
【0029】保護テープ3のチップ貼付面3aの中央に
は、ゲージ測定用ウェーハWが貼付される。ゲージ測定
用ウェーハWの周囲には、例えばウェーハ状態から分割
され良品と判別された複数の半導体チップTが、周方向
に沿って貼付される。半導体チップTは、回路形成面を
下にして、被研削面となる裏面を上にしてチップ貼付面
3aに貼り付けられる。A gauge measuring wafer W is attached to the center of the chip attaching surface 3a of the protective tape 3. Around the gauge measurement wafer W, for example, a plurality of semiconductor chips T that have been divided from the wafer state and determined to be non-defective are attached along the circumferential direction. The semiconductor chip T is attached to the chip attaching surface 3a with the circuit forming surface facing down and the back surface serving as the ground surface facing up.
【0030】保護テープ3は、例えばアクリル系の粘着
テープであり、紫外線照射によって粘着力が低下する性
質を有する。厚さは、例えば180μmであるが、はん
だバンプ付きの半導体チップには、はんだバンプを吸収
して半導体チップの傾きを防ぐように、例えば320μ
mの厚さの保護テープを用いる。The protective tape 3 is, for example, an acrylic adhesive tape, and has a property that its adhesive strength is lowered by irradiation with ultraviolet rays. The thickness is, for example, 180 μm, but the semiconductor chip with solder bumps has, for example, 320 μm in order to absorb the solder bumps and prevent the semiconductor chip from tilting.
m protective tape is used.
【0031】次に、本実施の形態による、半導体チップ
Tの、保護テープ3を介しての研削用テーブル11への
据え付け方法について説明する。Next, a method of installing the semiconductor chip T on the grinding table 11 via the protective tape 3 according to the present embodiment will be described.
【0032】先ず、延伸部3bが延伸しておらず、フレ
ームリング14及び保護テープ3が平らな薄い円盤状と
なっている状態の保護テープ3のチップ貼付面3aに、
複数の半導体チップT及びゲージ測定用ウェーハWを被
研削面を上にして貼り付ける。First, on the chip attaching surface 3a of the protective tape 3 in a state where the extending portion 3b is not extended and the frame ring 14 and the protective tape 3 are flat and thin disk-shaped,
A plurality of semiconductor chips T and a gauge measurement wafer W are attached with the surface to be ground facing up.
【0033】次いで、図3Aに示すように、フレームリ
ング14を保持手段16a、16bで保持し、チップ貼
付面3aの裏面側に延伸手段17を配置する。保持手段
16a、16bは、フレームリング14を上下から挟ん
で保持する構成で、フレームリング14に沿ってリング
状としてもよいし、あるいは周方向に沿って間欠的に等
間隔に配置してもよい。延伸手段17は、表面が例えば
50℃ほどに加熱され、上下動可能に配設された円板
(例えば金属でなる)である。円板の加熱は、図示しな
いヒータなどによって間接的に行うか、あるいは円板自
体がヒータを内蔵する構成としてもよい。Next, as shown in FIG. 3A, the frame ring 14 is held by holding means 16a and 16b, and the extending means 17 is arranged on the back side of the chip attaching surface 3a. The holding means 16a, 16b are configured to hold the frame ring 14 from above and below, and may have a ring shape along the frame ring 14, or may be intermittently arranged at equal intervals along the circumferential direction. . The stretching means 17 is a disc (made of, for example, metal) whose surface is heated to, for example, about 50 ° C. and which is vertically movable. The disc may be heated indirectly by a heater (not shown) or the disc itself may have a heater built therein.
【0034】そして、延伸手段17を保護テープ3に対
して近づけていき、チップ貼付面3aの裏面に接触さ
せ、更なる延伸手段17の移動(上昇)により、図3B
に示すように、延伸手段17で保護テープ3のチップ貼
付面3aの裏面を押圧して、チップ貼付面3aとフレー
ムリング14との間の延伸部3bを延伸させる。Then, the stretching means 17 is brought closer to the protective tape 3 and brought into contact with the back surface of the chip attaching surface 3a, and the stretching means 17 is further moved (raised) to obtain the state of FIG.
As shown in FIG. 5, the stretching means 17 presses the back surface of the chip attaching surface 3 a of the protective tape 3 to extend the extending portion 3 b between the chip attaching surface 3 a and the frame ring 14.
【0035】延伸手段17が保護テープ3から外れて
も、延伸部3bは延伸された状態を維持し、この状態で
保護テープ3は、フレームリング14の上面の数カ所を
例えばロボットのハンドにて吸着保持されて研削用テー
ブル11の上方まで移動され、チップ貼付面3aの裏面
がポーラス部材2の表面(チップ支持面9)に載置され
真空吸着される。更に、フレームリング14もポーラス
部材13の表面(フレームリング固定面)に載置され、
例えばシリンダにて上下動されるロッド状の吸着補助手
段12でフレームリング14が下方に押されてポーラス
部材13の表面に真空吸着される。吸着補助手段12の
役割は、フレームリング14とポーラス部材13との確
実な密着を得るためであるが、真空吸引力が十分大きく
フレームリング14を載置するだけで、ポーラス部材1
3の表面に隙間なく密着することができれば必ずしも必
要ない。Even if the stretching means 17 is disengaged from the protective tape 3, the stretched portion 3b remains in the stretched state, and in this state, the protective tape 3 adsorbs several points on the upper surface of the frame ring 14 by, for example, a robot hand. It is held and moved to above the grinding table 11, and the back surface of the chip attaching surface 3a is placed on the front surface (chip supporting surface 9) of the porous member 2 and is vacuum-sucked. Further, the frame ring 14 is also placed on the surface (frame ring fixing surface) of the porous member 13,
For example, the frame ring 14 is pushed downward by the rod-shaped suction assisting means 12 that is vertically moved by a cylinder, and is vacuum-sucked on the surface of the porous member 13. The role of the suction assisting means 12 is to obtain a reliable close contact between the frame ring 14 and the porous member 13. However, the vacuum suction force is sufficiently large and the frame ring 14 is simply placed on the porous member 1.
It is not always necessary as long as it can adhere to the surface of No. 3 without a gap.
【0036】以上の工程により、図2に示すように、フ
レームリング14は、チップ貼付面3aよりも下方の位
置にて、ポーラス部材13の表面(フレームリング固定
面)に固定され、延伸部3bに作用する張力により、チ
ップ貼付面3aの裏面はチップ支持面9に押し付けら
れ、密着力を高めた安定した研削を行うことができる。
また、フレームリング14はその外周側の側面がストッ
パリングの内周壁に当接し、フレームリング14をポー
ラス部材13に対して確実に位置決めして、真空吸着に
よる固定を安定させる。Through the above steps, as shown in FIG. 2, the frame ring 14 is fixed to the surface (frame ring fixing surface) of the porous member 13 at a position lower than the chip attaching surface 3a and the extending portion 3b. The back surface of the chip attaching surface 3a is pressed against the chip supporting surface 9 by the tension acting on the chip attaching surface 3a, and stable grinding with enhanced adhesion can be performed.
Further, the outer peripheral side surface of the frame ring 14 abuts on the inner peripheral wall of the stopper ring, and the frame ring 14 is reliably positioned with respect to the porous member 13 to stabilize the fixation by vacuum suction.
【0037】以上のようにして、半導体チップTはその
裏面(被研削面)を上に向けて、保護テープ3を介して
研削用テーブル11に据え付けられる。この据え付けが
終了すると、研削用テーブル11は研削手段の下方位置
に移動される。この移動は、例えば研削用テーブル11
を載せたインデックステーブルの回転により行われる。
研削手段は、研削円盤8と、この研削円盤8の下面外周
に間欠的にリング状に配設された研削砥石8aとで構成
される。研削円盤8と研削用テーブル1とを共に回転さ
せながら、研削円盤8を降下させて研削砥石8aを半導
体チップTの被研削面に押し付けて研削を行う。As described above, the semiconductor chip T is mounted on the grinding table 11 with the back surface (surface to be ground) facing upward through the protective tape 3. When this installation is completed, the grinding table 11 is moved to a position below the grinding means. This movement is performed by, for example, the grinding table 11
This is done by rotating the index table on which is mounted.
The grinding means is composed of a grinding disk 8 and a grinding wheel 8a intermittently arranged in a ring shape on the outer circumference of the lower surface of the grinding disk 8. While rotating the grinding disk 8 and the grinding table 1 together, the grinding disk 8 is lowered to press the grinding wheel 8a against the surface to be ground of the semiconductor chip T for grinding.
【0038】この研削時、半導体チップTの回路形成面
は保護テープ3に貼り付けられて保護されているため、
研削砥石8aからの圧力を緩和したり、研削屑の回路形
成面への付着などを防ぐことができる。また、半導体チ
ップTと同じ厚さを有するゲージ測定用ウェーハWも、
半導体チップTと共に研削され、且つこのゲージ測定用
ウェーハWは、研削時、図示しないゲージで厚さが測定
される。よって、測定されるゲージ測定用ウェーハWの
厚さから半導体チップTの厚さも得られ、自動的に所定
の寸法に研削することができる。At the time of this grinding, the circuit forming surface of the semiconductor chip T is adhered to and protected by the protective tape 3.
It is possible to relieve the pressure from the grinding wheel 8a and prevent the grinding dust from adhering to the circuit forming surface. Further, a gauge measuring wafer W having the same thickness as the semiconductor chip T is also
The gauge measuring wafer W is ground together with the semiconductor chip T, and the thickness of the gauge measuring wafer W is measured by a gauge (not shown) during grinding. Therefore, the thickness of the semiconductor chip T can be obtained from the measured thickness of the gauge-measuring wafer W, and the thickness can be automatically ground to a predetermined size.
【0039】以上述べたように、本実施の形態では、延
伸部3bの延伸及び保護テープ3の研削用テーブル11
への取り付けという一連の工程を全自動化でき、従来に
比べて作業性を改善でき、作業者への負担もかからな
い。特に、延伸作業の自動化のメリットは大きく、近年
開発されているバンプ付き半導体チップなどに対応した
シート厚みの厚い保護テープに対しても、所望の延伸量
に短時間で容易に延伸できる。なお、従来の指で延伸さ
せる作業は約5分ほどかかっていたが、本実施の形態の
図3に示す延伸工程は5〜10秒ほどであり、大幅な時
間短縮となり、生産効率の向上に大きく寄与する。As described above, in the present embodiment, the table 11 for extending the extending portion 3b and grinding the protective tape 3 is used.
The entire process of attaching to the can be fully automated, the workability can be improved compared to the past, and the burden on the worker is not required. In particular, the advantage of automating the stretching operation is great, and it is possible to easily stretch the protective tape having a large sheet thickness corresponding to the semiconductor chips with bumps developed in recent years to a desired stretching amount in a short time. It should be noted that the conventional work of stretching with a finger took about 5 minutes, but the stretching process shown in FIG. 3 of the present embodiment takes about 5 to 10 seconds, which greatly shortens the time and improves the production efficiency. Make a big contribution.
【0040】また、保護テープ3の材質や厚さ、延伸部
3bの幅などに応じて、延伸手段17の移動量や温度な
どを調整することで、熟練を必要とせず容易に所望の延
伸量となるように制御できる。Further, by adjusting the movement amount and temperature of the stretching means 17 according to the material and thickness of the protective tape 3 and the width of the stretching portion 3b, the desired stretching amount can be easily obtained without skill. Can be controlled.
【0041】次に、本発明の第2の実施の形態について
説明する。上記第1の実施の形態と同じ構成部分には同
一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。Next, a second embodiment of the present invention will be described. The same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
【0042】本発明の第2の実施の形態による半導体チ
ップ研削装置は、図4、図5(図4における[5]−
[5]線方向の断面図)に示される研削用テーブル21
と、クランパ手段23と、クランパ駆動手段であるシリ
ンダ装置22と、研削砥石8aを有する研削円盤8を備
えている。The semiconductor chip grinding apparatus according to the second embodiment of the present invention is shown in FIGS. 4 and 5 ([5]-in FIG. 4).
[5] Cross-sectional view in the line direction) shown in FIG.
A clamper means 23, a cylinder device 22 which is a clamper drive means, and a grinding disk 8 having a grinding wheel 8a.
【0043】研削用テーブル21の、一段高くなってい
る中央部には凹所10が形成され、この凹所10に、通
気性を有する多孔質のポーラス部材(例えばセラミッ
ク)2が嵌め込まれている。凹所10は、吸引路7を介
して、図示しない真空ポンプなどの真空系に接続されて
いる。A recess 10 is formed in the central portion of the grinding table 21 which is further raised, and a porous porous member (for example, ceramic) 2 having air permeability is fitted into the recess 10. . The recess 10 is connected to a vacuum system such as a vacuum pump (not shown) via the suction passage 7.
【0044】ポーラス部材2の表面(チップ支持面9)
の外周側には、このチップ支持面9より一段低い位置に
リング状のフレームリング固定面21aが形成されてい
る。フレームリング固定面21aの更に外周側には、周
方向に沿って90゜間隔で4個のクランパ23が取り付
けられている。これら4個のクランパ23は、本発明に
係るクランパ手段を構成する。Surface of porous member 2 (chip supporting surface 9)
A ring-shaped frame ring fixing surface 21a is formed at a position one step lower than the chip supporting surface 9 on the outer peripheral side of the. Four clampers 23 are attached at 90 ° intervals along the circumferential direction on the outer peripheral side of the frame ring fixing surface 21a. These four clampers 23 constitute the clamper means according to the present invention.
【0045】各クランパ23は、フック部23aを有す
る断面略L字形状を呈し、研削用テーブル21に対して
固定された回動軸P1のまわりに回動可能に取り付けら
れている。クランパ23の下端はシリンダ装置22の、
水平方向に伸縮するロッド22aにピンP2を介して連
結されている。具体的には、例えばピンP2はロッド2
2aの先端に固定され、クランパ23の下端はピンP2
のまわりに回動自在に連結されている。Each clamper 23 has a substantially L-shaped cross section having a hook portion 23a, and is rotatably mounted around a rotary shaft P1 fixed to the grinding table 21. The lower end of the clamper 23 is of the cylinder device 22,
The rod 22a that expands and contracts in the horizontal direction is connected via a pin P2. Specifically, for example, the pin P2 is the rod 2
2a and the lower end of the clamper 23 has a pin P2.
It is rotatably connected around.
【0046】保護テープ3及びフレームリング14の構
成は、上記第1の実施の形態と同じである。そして、や
はり第1の実施の形態と同様、保護テープ3のチップ貼
付面3aの中央には、ゲージ測定用ウェーハWが貼付さ
れ、ゲージ測定用ウェーハWの周囲には、例えばウェー
ハ状態から分割され良品と判別された複数の半導体チッ
プTが、周方向に沿って貼付される。The structures of the protective tape 3 and the frame ring 14 are the same as those in the first embodiment. Then, similarly to the first embodiment, the gauge measurement wafer W is attached to the center of the chip attachment surface 3a of the protective tape 3, and the periphery of the gauge measurement wafer W is divided, for example, from the wafer state. A plurality of semiconductor chips T determined to be non-defective are attached along the circumferential direction.
【0047】次に、本実施の形態による、半導体チップ
Tの、保護テープ3を介しての研削用テーブル21への
据え付け方法について説明する。Next, a method of mounting the semiconductor chip T on the grinding table 21 via the protective tape 3 according to the present embodiment will be described.
【0048】先ず、延伸部3bが延伸しておらず、フレ
ームリング14及び保護テープ3が平らな薄い円盤状と
なっている状態の保護テープ3のチップ貼付面3aに、
複数の半導体チップT及びゲージ測定用ウェーハWを被
研削面を上にして貼り付ける。First, the chip attachment surface 3a of the protective tape 3 in a state where the extending portion 3b is not extended and the frame ring 14 and the protective tape 3 are flat and thin disk-shaped,
A plurality of semiconductor chips T and a gauge measurement wafer W are attached with the surface to be ground facing up.
【0049】次いで、保護テープ3は、フレームリング
14の上面の数カ所を例えばロボットのハンドにて吸着
保持されて研削用テーブル21の上方まで移動され、チ
ップ貼付面3aの裏面がポーラス部材2の表面(チップ
支持面9)に載置され真空吸着される。このとき、クラ
ンパ23のフック部23aは、フレームリング固定面2
1a上から外れている。Next, the protective tape 3 is moved to a position above the grinding table 21 by adsorbing and holding several points on the upper surface of the frame ring 14 by, for example, a robot hand, and the back surface of the chip attaching surface 3a is the front surface of the porous member 2. It is placed on (chip supporting surface 9) and vacuum-adsorbed. At this time, the hook portion 23a of the clamper 23 is attached to the frame ring fixing surface 2
It is off 1a.
【0050】次いで、シリンダ装置22の駆動によりそ
のロッド22aを駆動して、クランパ23を回動軸P1
のまわりに回動させる。この回動により、フック部23
aがフレームリング14の上面に当接し、更なる回動に
より、フレームリング14をフレームリング固定面21
aに向けて押圧していく。これにより、チップ貼付面3
aとフレームリング14との間の延伸部3bが延伸され
ると共に、フック部23aとフレームリング固定面21
aとの間でフレームリング14を挟み込んで、フレーム
リング14をフレームリング固定面21aに固定させ
る。Then, the cylinder device 22 is driven to drive the rod 22a thereof to move the clamper 23 to the rotating shaft P1.
Rotate around. By this rotation, the hook portion 23
a comes into contact with the upper surface of the frame ring 14, and further rotation causes the frame ring 14 to move to the frame ring fixing surface 21.
Press toward a. As a result, the chip attachment surface 3
The extending portion 3b between the a and the frame ring 14 is extended, and the hook portion 23a and the frame ring fixing surface 21 are formed.
The frame ring 14 is sandwiched between the frame ring 14a and the frame a, and the frame ring 14 is fixed to the frame ring fixing surface 21a.
【0051】以上の工程により、図5に示すように、フ
レームリング14は、チップ貼付面3aよりも下方の位
置にて、クランパ23のフック部23aからの押圧力を
受けてフレームリング固定面21aに固定される。この
とき、延伸部3bに作用する張力により、チップ貼付面
3aの裏面はチップ支持面9に押し付けられ、密着力を
高めた安定した研削を行うことができる。Through the above steps, as shown in FIG. 5, the frame ring 14 receives the pressing force from the hook portion 23a of the clamper 23 at a position lower than the chip attaching surface 3a and receives the frame ring fixing surface 21a. Fixed to. At this time, the back surface of the chip attaching surface 3a is pressed against the chip supporting surface 9 by the tension acting on the extending portion 3b, and stable grinding with enhanced adhesion can be performed.
【0052】本実施の形態では、延伸部3bの延伸及び
保護テープ3の研削用テーブル21への取り付けという
一連の工程を一括して且つ自動的に行うことができ、延
伸工程と研削用テーブルへの取り付け工程とを別々に行
う第1の実施の形態に比べて効率的である。その他、上
記第1の実施の形態と同様な作用、効果が得られる。In the present embodiment, a series of steps of stretching the stretching portion 3b and attaching the protective tape 3 to the grinding table 21 can be automatically performed collectively and automatically. It is more efficient than the first embodiment in which the mounting step and the mounting step are separately performed. Besides, the same actions and effects as those of the first embodiment can be obtained.
【0053】以上、本発明の各実施の形態について説明
したが、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、
本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能であ
る。Although the respective embodiments of the present invention have been described above, it goes without saying that the present invention is not limited to these.
Various modifications are possible based on the technical idea of the present invention.
【0054】第1の実施の形態における、図3に示す延
伸工程で、延伸手段17を移動させるのではなく、保持
手段16a、16bごと保護テープ3及びフレームリン
グ14を、静止した延伸手段17に対して移動させるよ
うにしてもよい。あるいは、双方を相近づける方向に移
動させてもよい。In the stretching step shown in FIG. 3 in the first embodiment, the protective tape 3 and the frame ring 14 together with the holding means 16a and 16b are moved to the stationary stretching means 17 without moving the stretching means 17. You may make it move with respect to it. Alternatively, they may be moved in a direction to bring them closer to each other.
【0055】第2の実施の形態において、クランパ23
を回動軸P1に固定させ、且つ回動軸P1にモータの回
転軸を連結させて、モータの回転軸の回転によりクラン
パ23を回動させるようにしてもよい。この際、フレー
ムリング14に大きな押圧力を与えるために、モータの
回転軸と回動軸P1との間にギアを介在させるなどす
る。また、クランパ23の数も4個に限らず、数を増や
せば、より円滑に且つ容易に延伸を行える。このとき、
延伸部3bを周方向に関して均一に延伸させるため、複
数のクランパ23は周方向に沿って等角度間隔に配置す
ることが好ましい。In the second embodiment, the clamper 23
May be fixed to the rotary shaft P1, the rotary shaft of the motor may be connected to the rotary shaft P1, and the clamper 23 may be rotated by the rotation of the rotary shaft of the motor. At this time, in order to apply a large pressing force to the frame ring 14, a gear is interposed between the rotary shaft of the motor and the rotary shaft P1. Further, the number of clampers 23 is not limited to four, and if the number is increased, the stretching can be performed more smoothly and easily. At this time,
In order to uniformly stretch the stretching portion 3b in the circumferential direction, it is preferable that the plurality of clampers 23 be arranged at equal angular intervals along the circumferential direction.
【0056】あるいは、図6、7に示すように、リング
状の1つのクランパ33でクランパ手段を構成してもよ
い。この場合、クランパ33は、シリンダ装置32の、
上下に伸縮するロッド32aに連結して、研削用テーブ
ル31のフレームリング固定面31aに対して上下動す
るように構成する。このとき、保護テープ3及びフレー
ムリング14の、研削用テーブル31に対する取り付け
/取り外しに際しては、上下方向の移動ではクランパ3
3のフック部33aが邪魔になるので、水平方向にスラ
イドさせるようにして取り付け/取り外しを行うように
する。Alternatively, as shown in FIGS. 6 and 7, one ring-shaped clamper 33 may constitute the clamper means. In this case, the clamper 33 of the cylinder device 32 is
It is configured to be connected to a rod 32a that expands and contracts in the vertical direction and move vertically with respect to the frame ring fixing surface 31a of the grinding table 31. At this time, when attaching / removing the protective tape 3 and the frame ring 14 to / from the grinding table 31, the clamper 3 should be moved vertically.
Since the hook portion 33a of No. 3 interferes, it is attached / removed by sliding in the horizontal direction.
【0057】[0057]
【発明の効果】延伸手段を用いて保護テープの延伸部の
延伸を自動的に行うことで、保護テープの研削用テーブ
ルへの取り付けを短時間で簡単に行うことができる。ま
た、延伸させる程度も、ばらつきなく最適に調整でき
る。また、吸着補助手段を用いることで、フレームリン
グのフレームリング固定面への固定を確実に行える。更
に、加熱された延伸手段を用いることで、延伸性の小さ
い材質のものであっても容易に延伸を行える。By automatically stretching the stretched portion of the protective tape using the stretching means, the protective tape can be easily attached to the grinding table in a short time. Also, the degree of stretching can be optimally adjusted without variation. Further, by using the suction assisting means, the frame ring can be securely fixed to the frame ring fixing surface. Further, by using the heated stretching means, even a material having a low stretchability can be easily stretched.
【0058】クランパ駆動手段により駆動されるクラン
パ手段を用いて、フレームリングの、フレームリング固
定面へ向けた押圧を行うことで、延伸部の延伸と、フレ
ームリングのフレームリング固定面への固定を同工程に
て一括して行え、より短時間で効率的に保護テープの研
削用テーブルへの取り付けを行える。By using the clamper means driven by the clamper driving means, the frame ring is pressed toward the frame ring fixing surface, thereby extending the extending portion and fixing the frame ring to the frame ring fixing surface. This can be done collectively in the same process, and the protective tape can be efficiently attached to the grinding table in a shorter time.
【図1】本発明の第1の実施の形態による研削用テーブ
ルの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a grinding table according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1における[2]−[2]線方向の断面図であ
る。2 is a cross-sectional view taken along line [2]-[2] in FIG.
【図3】第1の実施の形態における、保護テープの延伸
作用を説明する図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the stretching action of the protective tape in the first embodiment.
【図4】本発明の第2の実施の形態による研削用テーブ
ルの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a grinding table according to a second embodiment of the present invention.
【図5】図4における[5]−[5]線方向の断面図であ
る。5 is a cross-sectional view taken along line [5]-[5] in FIG.
【図6】本発明の変形例による研削用テーブルの平面図
である。FIG. 6 is a plan view of a grinding table according to a modified example of the present invention.
【図7】図6における[7]−[7]線方向の断面図であ
る。7 is a sectional view taken along line [7]-[7] in FIG.
【図8】従来の研削用テーブルの平面図である。FIG. 8 is a plan view of a conventional grinding table.
【図9】図8における[9]−[9]線方向の断面図であ
る。9 is a cross-sectional view taken along the line [9]-[9] in FIG.
2……ポーラス部材、3……保護テープ、3a……チッ
プ貼付面、3b……延伸部、8……研削円盤、8a……
研削砥石、9……チップ支持面、11……研削用テーブ
ル、12……吸着補助手段、13……ポーラス部材、1
4……フレームリング、16a、16b……保持手段、
17……延伸手段、21……研削用テーブル、21a…
…フレームリング固定面、23……クランパ、31……
研削用テーブル、31a……フレームリング固定面、3
3……クランパ、T……半導体チップ、W……ゲージ測
定用ウェーハ。2 ... Porous member, 3 ... Protective tape, 3a ... Chip attachment surface, 3b ... Extending part, 8 ... Grinding disk, 8a.
Grinding wheel, 9 ... Chip support surface, 11 ... Grinding table, 12 ... Adsorption assisting means, 13 ... Porous member, 1
4 ... Frame ring, 16a, 16b ... Holding means,
17 ... Stretching means, 21 ... Grinding table, 21a ...
… Frame ring fixed surface, 23 …… Clamper, 31 ……
Grinding table, 31a ... Frame ring fixed surface, 3
3 ... Clamper, T ... Semiconductor chip, W ... Gauge measuring wafer.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B24B 37/04 B24B 37/04 H ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // B24B 37/04 B24B 37/04 H
Claims (8)
チップ貼付面に貼付された半導体チップを研削する研削
手段と、 前記チップ貼付面を反対側から真空吸着するチップ支持
面と、前記チップ支持面の外周側で前記チップ支持面よ
り下方に位置し、前記フレームリングを真空吸着するフ
レームリング固定面とを有する研削用テーブルと、 前記フレームリングを保持する保持手段と、 前記保持手段で前記フレームリングが保持された前記保
護テープの前記チップ貼付面の裏面側に配置され、前記
保護テープに対して近づく方向に相対的に移動されて前
記保護テープを前記裏面側から押圧し、前記チップ貼付
面と前記フレームリングとの間の延伸部を延伸させる延
伸手段と、を備え、 前記保護テープは、前記延伸部が延伸された状態で、前
記チップ貼付面の前記裏面が前記チップ支持面に真空吸
着されると共に、前記フレームリングが前記フレームリ
ング固定面に真空吸着されることを特徴とする半導体チ
ップ研削装置。1. A grinding means for grinding a semiconductor chip attached to a chip attachment surface of a protective tape stretched on a frame ring, a chip support surface for vacuum-adsorbing the chip attachment surface from the opposite side, and the chip support surface. A grinding table having an outer peripheral side below the chip support surface and having a frame ring fixing surface for vacuum-sucking the frame ring; holding means for holding the frame ring; and the frame ring by the holding means. Is disposed on the back surface side of the chip attaching surface of the protective tape that is held, is moved relative to the protection tape relative to press the protection tape from the back surface side, the chip attaching surface and A stretching means for stretching a stretched portion between the frame ring and the frame ring, wherein the protective tape is in a state where the stretched portion is stretched, Together with the rear surface of the-up application surface is vacuum adsorbed to the chip supporting surface, the semiconductor chip grinding apparatus, characterized in that the frame ring is vacuum adsorbed to the frame ring fixed surface.
ームリングの前記フレームリング固定面への真空吸着を
補助する吸着補助手段を備えていることを特徴とする請
求項1に記載の半導体チップ研削装置。2. The semiconductor chip grinding apparatus according to claim 1, further comprising suction assisting means for pushing the frame ring to assist vacuum suction of the frame ring to the frame ring fixing surface.
徴とする請求項1に記載の半導体チップ研削装置。3. The semiconductor chip grinding apparatus according to claim 1, wherein the stretching means is heated.
チップ貼付面に貼付された半導体チップを研削する研削
手段と、 前記チップ貼付面を反対側から真空吸着するチップ支持
面と、前記チップ支持面の外周側で前記チップ支持面よ
り下方に位置し、前記フレームリングを真空吸着するフ
レームリング固定面とを有する研削用テーブルと、 前記フレームリングを前記フレームリング固定面に向け
て押圧していき、前記チップ貼付面と前記フレームリン
グとの間の延伸部を延伸させると共に、前記フレームリ
ング固定面との間で前記フレームリングを挟み込んで、
前記フレームリングを前記フレームリング固定面に固定
させるクランパ手段と、 前記クランパ手段を駆動させるクランパ駆動手段と、を
備えたことを特徴とする半導体チップ研削装置。4. A grinding means for grinding a semiconductor chip attached to a chip attachment surface of a protective tape stretched on a frame ring, a chip support surface for vacuum-adsorbing the chip attachment surface from the opposite side, and the chip support surface. Of the grinding table, which is located below the chip supporting surface on the outer peripheral side of the frame ring and has a frame ring fixing surface for vacuum-sucking the frame ring, and the frame ring is pressed toward the frame ring fixing surface, While extending the extending portion between the chip attaching surface and the frame ring, sandwiching the frame ring between the frame ring fixing surface,
A semiconductor chip grinding apparatus comprising: a clamper unit for fixing the frame ring to the frame ring fixing surface; and a clamper driving unit for driving the clamper unit.
レームリングに張られた保護テープのチップ貼付面に貼
り付ける工程と、 前記保護テープと、前記チップ貼付面の裏面側に配置さ
れた延伸手段とを相近づける方向に相対的に移動させ
て、前記延伸手段で前記保護テープを前記裏面側から押
圧して、前記チップ貼付面と前記フレームリングとの間
の延伸部を延伸させる工程と、 前記延伸部が延伸された保護テープの前記チップ貼付面
の前記裏面を研削用テーブルのチップ支持面に真空吸着
させると共に、前記フレームリングを、前記チップ支持
面の外周側で前記チップ支持面より下方に位置するフレ
ームリング固定面に真空吸着させる工程と、を有するこ
とを特徴とする研削用テーブルへの半導体チップの据え
付け方法。5. A step of sticking a semiconductor chip to a chip sticking surface of a protective tape stretched on a frame ring with a surface to be ground up, and the protective tape and the chip sticking surface are arranged on the back surface side. A step of relatively moving the stretching means and a direction of approaching each other, pressing the protective tape from the back side by the stretching means, and stretching the stretched portion between the chip attaching surface and the frame ring. The vacuum ring is attached to the chip supporting surface of the grinding table by the back surface of the chip attaching surface of the protective tape in which the extending portion is stretched, and the frame ring is formed on the outer peripheral side of the chip supporting surface from the chip supporting surface. A method of mounting a semiconductor chip on a grinding table, the method comprising: vacuum suction to a frame ring fixing surface located below.
グ固定面に真空吸着させる工程の際に、吸着補助手段で
前記フレームリングを押して前記真空吸着を補助するこ
とを特徴とする請求項5に記載の研削用テーブルへの半
導体チップの据え付け方法。6. The grinding according to claim 5, wherein during the step of vacuum-sucking the frame ring to the frame ring fixing surface, the suction assist means pushes the frame ring to assist the vacuum suction. Method of mounting semiconductor chips on a table for use.
延伸手段で前記保護テープを前記裏面側から押圧するこ
とを特徴とする請求項5に記載の研削用テーブルへの半
導体チップの据え付け方法。7. The method of mounting a semiconductor chip on a grinding table according to claim 5, wherein the stretching means is heated and the protective tape is pressed from the back surface side by the heated stretching means. .
レームリングに張られた保護テープのチップ貼付面に貼
り付ける工程と、 前記保護テープの前記チップ貼付面の裏面を研削用テー
ブルのチップ支持面に真空吸着させる工程と、 前記フレームリングを、クランパ駆動手段で駆動される
クランパ手段で、前記チップ支持面の外周側で前記チッ
プ支持面より下方に位置するフレームリング固定面に向
けて押圧していき、前記チップ貼付面と前記フレームリ
ングとの間の延伸部を延伸させると共に、前記クランパ
手段と前記フレームリング固定面との間で前記フレーム
リングを挟み込んで、前記フレームリングを前記フレー
ムリング固定面に固定させる工程と、を有することを特
徴とする研削用テーブルへの半導体チップの据え付け方
法。8. A step of adhering a semiconductor chip with a surface to be ground up to a chip adhering surface of a protective tape stretched on a frame ring, and a back surface of the chip adhering surface of the protective tape is a chip of a grinding table. A step of vacuum-adsorbing to the supporting surface, and pressing the frame ring toward a frame ring fixing surface located below the chip supporting surface on the outer peripheral side of the chip supporting surface by a clamper means driven by a clamper driving means. Then, the extending portion between the chip attaching surface and the frame ring is extended, and the frame ring is sandwiched between the clamper means and the frame ring fixing surface, and the frame ring is attached to the frame ring. And a step of fixing the semiconductor chip to a fixed surface, the step of fixing the semiconductor chip to the grinding table.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001316528A JP2003117786A (en) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | Semiconductor chip grinding apparatus and installing method of semiconductor chip to grinding table |
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Family
ID=19134532
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JP2001316528A Pending JP2003117786A (en) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | Semiconductor chip grinding apparatus and installing method of semiconductor chip to grinding table |
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JP (1) | JP2003117786A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2001
- 2001-10-15 JP JP2001316528A patent/JP2003117786A/en active Pending
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