JP2003106824A - Shape-measuring method and apparatus, control program, and record medium - Google Patents

Shape-measuring method and apparatus, control program, and record medium

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JP2003106824A
JP2003106824A JP2001305106A JP2001305106A JP2003106824A JP 2003106824 A JP2003106824 A JP 2003106824A JP 2001305106 A JP2001305106 A JP 2001305106A JP 2001305106 A JP2001305106 A JP 2001305106A JP 2003106824 A JP2003106824 A JP 2003106824A
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measurement
magnification
focus
measuring
data
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JP2001305106A
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Takashi Sakaki
隆 榊
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Canon Inc
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a shape measuring method or the like for enabling the measurement of the amount of displacement in a micron order to a measuring target such as an electric circuit component that is mounted on a printed circuit board. SOLUTION: In the shape-measuring method, auto-focusing is successively executed at each measuring point in the measuring target using a noncontact three-dimensional measuring apparatus, and height is measured at a focus position in a focused state. The shape-measuring method comprises a first process for judging a focused state by executing auto-focusing by the final measuring magnification for measuring accuracy that is finally required at the measuring point of the measuring target, and a second process for detecting a focus position in a focused state by executing auto-focusing by reference measured data obtained by measuring the measuring target by magnification that is lower than the final measuring magnification.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】非接触三次元測定装置を用い
て電気回路部品などの形状を測定する形状測定方法等に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shape measuring method for measuring the shape of an electric circuit component or the like using a non-contact three-dimensional measuring device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電気回路用プリント基板に搭載さ
れる電気実装部品等の電気回路部品は、電気信号の高速
化と共に高密度集積と小型化が進み、信号配線の微細化
と多ピン化が著しくなってきている。それに伴い、プリ
ント基板上での電気回路部品が熱や物理的応力により変
形し、その接続寿命を試験する信頼性試験の重要性が高
まっている。この試験において、プリント基板上での電
気回路部品の変形量を正確に把握することは、接続寿命
を予測する上で不可欠である。
2. Description of the Related Art In recent years, electric circuit parts such as electric parts mounted on a printed circuit board for electric circuits have been integrated into high density and miniaturized along with speeding up of electric signals, resulting in miniaturization of signal wiring and increase in pin count. Is becoming noticeable. Along with this, the electric circuit components on the printed circuit board are deformed by heat or physical stress, and the reliability test for testing the connection life thereof is becoming more important. In this test, accurately grasping the amount of deformation of the electric circuit component on the printed circuit board is indispensable for predicting the connection life.

【0003】従来、プリント基板上のフリップチップの
接合検査方法の一例として、例えば特開平11−183
406号公報に記載されているように、X線画像やレー
ザーフォーカス変位計によって高さ測定を行う方法が知
られている。この方法は、基板上から電気回路部品まで
の一連の測定を行うものでなく、フリップチップ上面の
高さと接合基板面の高さをそれぞれ個別に測定し、その
測定点を平均して、高さを算出している。
As an example of a conventional flip chip bonding inspection method on a printed circuit board, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 11-183.
As described in Japanese Patent No. 406, there is known a method of performing height measurement by an X-ray image or a laser focus displacement meter. This method does not perform a series of measurements from the board to the electric circuit parts, but individually measures the height of the flip chip top surface and the joint board surface and averages the measurement points to determine the height. Is calculated.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、測定点が特定されず、フリップチップと基
板との高さ(変形量)をミクロンオーダーで測定するこ
とができない。
However, in the above conventional technique, the measurement point is not specified, and the height (deformation amount) between the flip chip and the substrate cannot be measured in the order of microns.

【0005】また、高倍率による測定の際はフォーカス
範囲が狭くなるために、大きな形状段差ではオートフォ
ーカスによる焦点が合わなくなり、測定が中断され測定
不可能という根本的な問題となる。
Further, since the focus range is narrowed at the time of measurement at high magnification, the focus due to autofocus cannot be achieved at a large step, and the measurement is interrupted, which is a fundamental problem that measurement is impossible.

【0006】本発明は上記従来の問題点に鑑み、プリン
ト基板上に搭載される電気回路部品等の測定対象物に対
して、ミクロンオーダーの変位量の測定が可能になる形
状測定方法等を提供することを目的とする。
In view of the above-mentioned conventional problems, the present invention provides a shape measuring method and the like capable of measuring a displacement amount of a micron order with respect to a measuring object such as an electric circuit component mounted on a printed circuit board. The purpose is to do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願発明に係る形状測定方法によれば、非接触三次
元測定装置を用いて、所定の測定倍率で測定対象物の形
状を測定する形状測定方法において、前記所定の測定倍
率よりも低い倍率で前記測定対象物を測定して得られた
参照測定データを用意しておき、前記参照測定データを
参照しつつ前記所定の測定倍率による測定を行うことを
特徴とする。
In order to achieve the above object, according to the shape measuring method of the present invention, the shape of an object to be measured is measured at a predetermined measurement magnification using a non-contact three-dimensional measuring device. In the shape measuring method, the reference measurement data obtained by measuring the measurement object at a magnification lower than the predetermined measurement magnification is prepared, and the reference measurement data is used to refer to the predetermined measurement magnification. The feature is that measurement is performed.

【0008】本願発明に係る形状測定方法によれば、非
接触三次元測定装置を用い、測定対象物の各測定点で順
次オートフォーカスを実行して、焦点が合う合焦状態と
なるフォーカス位置での高さ測定を行う形状測定方法に
おいて、前記測定対象物の測定点において最終的に必要
とされる精度を測るための最終測定倍率でオートフォー
カスを実行して合焦状態を判定する第一の行程と、前記
第一の行程で非合焦状態となった場合には、前記最終測
定倍率よりも低い倍率で前記測定対象物を測定して得ら
れた参照測定データを用いてオートフォーカスを実行し
て、合焦状態となるフォーカス位置を検出する第二の行
程とを備えたことを特徴とする。
According to the shape measuring method of the present invention, by using the non-contact three-dimensional measuring device, auto-focusing is sequentially performed at each measurement point of the object to be measured, and the focus position is brought into a focused state. In the shape measuring method for measuring the height of the, the first to determine the in-focus state by executing autofocus at the final measurement magnification for measuring the finally required accuracy at the measurement point of the measurement object. When the out-of-focus state occurs in the stroke and the first stroke, autofocus is performed using the reference measurement data obtained by measuring the measurement object at a magnification lower than the final measurement magnification. And a second step of detecting a focus position in a focused state.

【0009】本願発明に係る形状測定装置によれば、所
定の測定倍率で測定対象物の形状を測定する形状測定装
置において、前記所定の測定倍率よりも低い倍率で前記
測定対象物を測定して得られた参照測定データを参照し
つつ前記所定の測定倍率による測定を行う手段を備えた
ことを特徴とする。
According to the shape measuring apparatus of the present invention, in the shape measuring apparatus for measuring the shape of the measuring object at a predetermined measuring magnification, the measuring object is measured at a magnification lower than the predetermined measuring magnification. It is characterized in that it is provided with means for performing measurement at the predetermined measurement magnification while referring to the obtained reference measurement data.

【0010】本願発明に係る形状測定装置によれば、測
定対象物の各測定点で順次オートフォーカスを実行し
て、焦点が合う合焦状態となるフォーカス位置での高さ
測定を行う形状測定装置において、前記測定対象物の測
定点において最終的に必要とされる精度を測るための最
終測定倍率でオートフォーカスを実行して合焦状態を判
定する第一の手段と、前記第一の手段で非合焦状態とな
った場合には、前記最終測定倍率よりも低い倍率で前記
測定対象物を測定して得られた参照測定データを用いて
オートフォーカスを実行して、合焦状態となるフォーカ
ス位置を検出する第二の手段とを備えたことを特徴とす
る。
According to the shape measuring apparatus of the present invention, the shape measuring apparatus performs the autofocus sequentially at each measurement point of the object to be measured to measure the height at the focus position where the object is in focus. In, the first means for determining the in-focus state by performing autofocus at the final measurement magnification for measuring the finally required accuracy at the measurement point of the measurement object, and the first means In the out-of-focus state, autofocus is performed using the reference measurement data obtained by measuring the measurement object at a magnification lower than the final measurement magnification, and the focus becomes the in-focus state. And a second means for detecting the position.

【0011】本願発明に係る制御プログラムによれば、
非接触三次元測定装置を用いて、所定の測定倍率で測定
対象物の形状を測定する形状測定方法を実行するための
制御プログラムであって、前記所定の測定倍率よりも低
い倍率で前記測定対象物を測定して参照測定データを作
成するステップと、前記参照測定データを参照しつつ前
記所定の測定倍率による測定を行うステップとを備えた
ことを特徴とする。
According to the control program of the present invention,
A control program for executing a shape measuring method for measuring a shape of an object to be measured at a predetermined measurement magnification using a non-contact three-dimensional measuring device, wherein the measurement target is a magnification lower than the predetermined measurement magnification. It is characterized by including a step of measuring an object to create reference measurement data, and a step of performing measurement at the predetermined measurement magnification while referring to the reference measurement data.

【0012】本願発明に係る制御プログラムによれば、
非接触三次元測定装置を用い、測定対象物の各測定点で
順次オートフォーカスを実行して、焦点が合う合焦状態
となるフォーカス位置での高さ測定を行う形状測定方法
を実行するための制御プログラムであって、前記測定対
象物の測定点において最終的に必要とされる精度を測る
ための最終測定倍率でオートフォーカスを実行して合焦
状態を判定する第一のステップと、前記第一のステップ
で非合焦状態となった場合には、前記最終測定倍率より
も低い倍率で前記測定対象物を測定して得られた参照測
定データを用いてオートフォーカスを実行して、合焦状
態となるフォーカス位置を検出する第二のステップとを
備えたことを特徴とする。
According to the control program of the present invention,
A non-contact three-dimensional measuring device is used to sequentially perform autofocus at each measurement point of the measuring object, and to perform a shape measuring method for measuring height at a focus position where a focused state is achieved. A control program, a first step of determining an in-focus state by executing autofocus at a final measurement magnification for measuring an accuracy finally required at a measurement point of the measurement object; When the out-of-focus state is obtained in one step, autofocus is performed using the reference measurement data obtained by measuring the measurement object at a magnification lower than the final measurement magnification, and the focus is adjusted. And a second step of detecting the focus position in the state.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】図1は、本発明の実施形態に係る形状測定
方法を実行するための測定対象物の一例として、プリン
ト基板上に実装されたICパッケージ部品を示す部分模
式側面図である。また、図2は、図1に示したCSPパ
ッケージの模式平面図である。
FIG. 1 is a partial schematic side view showing an IC package component mounted on a printed circuit board as an example of a measuring object for executing the shape measuring method according to the embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic plan view of the CSP package shown in FIG.

【0015】FR4プリント基板上1に実装されたIC
パッケージはCSPパッケージであり、その形状は、縦
横が約16mm四方の正方形であり、及びモールド2の
厚みが約0.9mmであり、さらに、モールド下部に具
備された半田ボール3の厚みが約0.4mmである。
FR4 IC mounted on printed circuit board 1
The package is a CSP package, and the shape thereof is a square having a length and width of about 16 mm square, the thickness of the mold 2 is about 0.9 mm, and the thickness of the solder ball 3 provided under the mold is about 0. It is 0.4 mm.

【0016】プリント基板1を含めた上記CSPパッケ
ージの外形形状(断面形状)は、対物レンズ100倍の
測定倍率で測定することにする。
The outer shape (cross-sectional shape) of the CSP package including the printed circuit board 1 is measured at a measurement magnification of 100 times the objective lens.

【0017】まず、変形量をミクロンオーダーで正確に
比較するために、可能な限り同一箇所の測定を行うため
に、測定位置合わせ点(アライメント点)として、2点
の決定を行う。この両位置の決定には、測定倍率と同一
倍率で観察決定する(モニター上での目視位置合わせ倍
率:約3800倍)。本実施形態では、CSPパッケー
ジの上平面を基準面とし変形形状を比較するため、CS
Pパッケージの両端(図中の5,6)で位置合わせ(ア
ライメント)を行うことにする。
First, in order to accurately compare the deformation amounts on the order of microns, in order to measure the same position as much as possible, two points are determined as measurement alignment points (alignment points). To determine both positions, observation and determination are performed at the same magnification as the measurement magnification (visual alignment magnification on the monitor: about 3800 times). In this embodiment, since the upper surface of the CSP package is used as a reference surface to compare the deformed shapes, the CS
Alignment will be performed at both ends (5 and 6 in the figure) of the P package.

【0018】図2に示すように、CSPパッケージの対
角線上の四隅に実装位置合わせ用のφ0.5mm〜φ
1.5mmの円マーク4があり、その円マーク4内は、
モールド表面に比較して著しく平滑である。モールド表
面形状は、モニター上約3800倍で観察すると、凹凸
が激しく測定特定点を決定または認識することは不可能
である。本実施形態は測定精度が高いため、1μm以下
の特定微小点の特定には、円マーク4内を利用すること
が容易かつ適切なため、この円マーク4の範囲内で測定
アライメント点を設定する。
As shown in FIG. 2, φ0.5 mm to φ for mounting positioning at the four corners on the diagonal of the CSP package.
There is a circle mark 4 of 1.5 mm, and inside the circle mark 4,
Remarkably smooth compared to the mold surface. When the mold surface shape is observed on a monitor at a magnification of about 3800, it is impossible to determine or recognize a measurement specific point because the unevenness is severe. Since the present embodiment has high measurement accuracy, it is easy and appropriate to use the inside of the circle mark 4 to specify a specific minute point of 1 μm or less. Therefore, the measurement alignment point is set within the range of the circle mark 4. .

【0019】本実施形態では、円マーク4の範囲内でφ
0.6〜0.7μm以下の測定アライメント点を2箇所
設定している(図2中の5,6)。この時のアライメン
ト点5,6は、類似の点が多数存在するため、周辺の形
状模様を撮影して同一点の確認を容易にする。
In the present embodiment, φ is set within the range of the circle mark 4.
Two measurement alignment points of 0.6 to 0.7 μm or less are set (5 and 6 in FIG. 2). At this time, since the alignment points 5 and 6 have many similar points, it is easy to confirm the same point by photographing the peripheral shape pattern.

【0020】次に、図3のフローチャートに従って、上
記プリント基板上1に実装されたCSPパッケージの形
状測定方法を説明する。
Next, a method of measuring the shape of the CSP package mounted on the printed board 1 will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0021】ここで、本例の測定条件は次の通りであ
る。
Here, the measurement conditions of this example are as follows.

【0022】図1に示す非接触三次元測定器10を使用
し、対物レンズは、10倍、50倍、100倍を用い
る。使用レーザーはHe−Neレーザーとし、波長は6
33nm、出力1.8mW classIIIaとする。
測定光は1.5mW以下の散乱光であり、また測定ピッ
チは1μmとし、CSPパッケージの対角線方向(図中
Wの方向)に測定を進める。
The non-contact three-dimensional measuring device 10 shown in FIG. 1 is used, and the objective lens is 10 times, 50 times, or 100 times. The laser used is a He-Ne laser with a wavelength of 6
33 nm, output 1.8 mW class IIIa.
The measurement light is scattered light of 1.5 mW or less, and the measurement pitch is 1 μm, and the measurement proceeds in the diagonal direction of the CSP package (direction W in the figure).

【0023】まず、最終的に必要とされる精度を測るた
めの測定倍率で測定サンプルを観察し、認識できる特定
点(図1の11)を測定開始点として決定する(ステッ
プS11)。本実施形態では、対物レンズ100倍が最
終測定倍率であるため、その倍率でモニターを観察し、
測定開始点となる特定点11を決定する。
First, the measurement sample is observed at a measurement magnification for finally measuring the required accuracy, and a recognizable specific point (11 in FIG. 1) is determined as the measurement starting point (step S11). In this embodiment, since the objective lens 100 times is the final measurement magnification, the monitor is observed at that magnification,
The specific point 11 that is the measurement start point is determined.

【0024】続いて、参照測定データを作成する(ステ
ップS12)。この行程では、まず始めに、上記100
倍対物レンズを参照測定データ測定用の対物レンズに変
更する。すなわち、測定開始から測定終了までの形状変
化に全ての高さ領域においてオートフォーカス可能な
(追従できる)被写界深度を有する最も高い倍率の対物
レンズに交換する。この対物レンズ倍率は、最終測定倍
率よりも低倍率となり、その倍率は測定サンプルの最大
高低差によって変わる。しかし、測定精度を高くするた
めに、可能な限り高い倍率が望ましい。本実施形態で
は、参照測定データ測定用として10倍の対物レンズを
用いて測定を行うものとする。
Subsequently, reference measurement data is created (step S12). In this process, first, the above 100
The double objective lens is changed to an objective lens for reference measurement data measurement. That is, the objective lens having the highest magnification has a depth of field capable of auto-focusing (following) in all height regions for shape changes from the start of measurement to the end of measurement. This objective lens magnification is lower than the final measurement magnification, and the magnification depends on the maximum height difference of the measurement sample. However, in order to improve the measurement accuracy, the highest possible magnification is desirable. In this embodiment, it is assumed that the measurement is performed using a 10 × objective lens for measuring the reference measurement data.

【0025】参照測定データ測定では、まず100倍対
物レンズで観察し決定した測定開始点11に、10倍対
物レンズで観察し位置合わせを行う。倍率が低いためレ
ーザースポットの光を、測定点を含む近傍に合わせる。
合わせた点を測定開始点に指定し、100倍対物レンズ
測定条件と同じ、ピッチ、測定長で測定を開始する。測
定終了点12で測定後、この10倍対物レンズでの測定
データを(xn,yn,zn)とし、参照測定データと
する。
In the measurement of the reference measurement data, first, the measurement start point 11 determined by observing with the 100 × objective lens is observed with the 10 × objective lens and aligned. Since the magnification is low, the light of the laser spot is adjusted to the vicinity including the measurement point.
The combined point is designated as the measurement start point, and measurement is started at the same pitch and measurement length as the 100 × objective lens measurement conditions. After the measurement at the measurement end point 12, the measurement data with this 10 × objective lens is set as (xn, yn, zn) and used as reference measurement data.

【0026】次に、最終測定倍率の100倍対物レンズ
を用いて、測定開始点に位置合わせ後、測定を開始する
(ステップS13)。100倍対物レンズでの、ある測
定点座標(xn,yn)の時(ステップS14)、オー
トフォーカスをかけ焦点が合う合焦状態(フォーカスイ
ン)となった場合(ステップS15)、その測定高さを
znとし、次の測定点へステージ移動する(ステップS
16)。全ての測定点がフォーカス可能であれば、同様
にして測定後終了する(ステップS17)。
Next, using a 100 × objective lens with a final measurement magnification, the measurement is started after alignment with the measurement start point (step S13). At a certain measurement point coordinate (xn, yn) with the 100 × objective lens (step S14), when autofocus is applied to bring the object into focus (focus in) (step S15), the measurement height Zn and move the stage to the next measurement point (step S
16). If all the measurement points can be focused, the measurement is similarly ended (step S17).

【0027】しかし、焦点が合わずオートフォーカスが
不可能な状態(フォーカスアウト)となった場合、低倍
率の参照測定データを用いる(ステップS18)。
However, when the focus is not achieved and auto-focusing is impossible (focus-out), the reference measurement data of low magnification is used (step S18).

【0028】まず1回目は、100倍でフォーカスが合
わない座標(xn,yn)と同じ参照測定データ座標
(xn,yn)の測定高さデータ(zn)を参照し、そ
の高さにフォーカス位置を移動する。フォーカス位置移
動後、再度オートフォーカスをかけフォーカス可能かど
うかを判断する(ステップS15)。合焦しフォーカス
可能であれば、次の測定点に移動をする(ステップS1
6)。
First, at the first time, the measurement height data (zn) of the reference measurement data coordinate (xn, yn) which is the same as the coordinate (xn, yn) which is out of focus at 100 times is referred to, and the focus position is set at that height. To move. After moving the focus position, auto focus is again applied to determine whether focus is possible (step S15). If in focus and focus is possible, move to the next measurement point (step S1)
6).

【0029】しかし、この位置でもオートフォーカスが
不可能な場合がある。その原因は、100倍でのフォー
カス範囲に比べて10倍でのフォーカス範囲は広いた
め、同一座標でも段差の前後では、10倍で低い方か高
い方かどちらに合わせたデータであるかは正確に決める
ことはできない。つまり、参照測定データ高さが100
倍での測定高さとずれている場合があるからである。
However, autofocus may not be possible even at this position. The cause is that the focus range at 10 times is wider than the focus range at 100 times, so it is accurate whether the data is matched with the lower or higher 10 times before and after the step even at the same coordinate. I can't decide to. That is, the reference measurement data height is 100
This is because there is a case where the measurement height is doubled.

【0030】そこで、次に前後の測定点を参照する。2
回目は、参照測定データ座標でxnの次の測定点である
(xn+1,yn+1)の測定高さデータ(zn+1)
を参照し、その高さにフォーカス位置を移動する。図4
に示すように、同一サンプルを測定していることより、
形状変化の流れとしてフォーカスできなかった次の点を
参照した方が、フォーカス位置が合う可能性が高い。こ
こで、図中の18の白丸印は100倍測定点を表し、1
7の黒丸印は10倍での測定点を表す。
Then, next, reference is made to the measuring points before and after. Two
The second time is the measurement height data (zn + 1) of (xn + 1, yn + 1), which is the measurement point next to xn in the reference measurement data coordinates.
And move the focus position to that height. Figure 4
As shown in, by measuring the same sample,
It is more likely that the focus position will be aligned by referring to the next point that could not be focused as the shape change flow. Here, 18 white circles in the figure represent 100 times measurement points, and 1
The black circle 7 indicates the measurement point at 10 times.

【0031】フォーカス位置移動後、再度オートフォー
カスをかけフォーカス可能かどうかを判断する(ステッ
プS15)。合焦しフォーカス可能であれば、次の測定
点に移動をする(ステップS16)。
After moving the focus position, auto focus is again applied to determine whether focus is possible (step S15). If the object is in focus and can be focused, it moves to the next measurement point (step S16).

【0032】しかし、さらにこの座標でもオートフォー
カスが不可能な場合は、一つ前の測定点(xn−1、y
n−1)の測定高さデータ(zn−1)を参照し、その
高さにフォーカス位置を移動する。この場合は、図5に
示す場合に相当する。
However, if auto-focusing is not possible even at this coordinate, the previous measurement point (xn-1, y
The focus position is moved to the height by referring to the measured height data (zn-1) of n-1). This case corresponds to the case shown in FIG.

【0033】以後、同様に座標(xn+2,yn+2)
の高さ(zn+2)、(xn−2,yn−2)の高さ
(zn−2)、と移動しオートフォーカス可能の位置を
検出できるまでN回繰り返す。このN数は、サンプル形
状や測定ピッチなど、レンズごとの特性の違い(フォー
カス範囲の違い等)により調整する。
Thereafter, the coordinates (xn + 2, yn + 2) are similarly obtained.
Height (zn + 2), (xn-2, yn-2) height (zn-2), and repeat N times until a position where auto focus is possible can be detected. The N number is adjusted according to the difference in the characteristics of each lens such as the sample shape and the measurement pitch (difference in focus range).

【0034】この繰り返しによって、フォーカスインに
なる位置で高さ測定を行い、測定終了点12を含む全て
の点を測定後、測定終了となる。
By repeating this, height measurement is performed at the focus-in position, all points including the measurement end point 12 are measured, and then the measurement ends.

【0035】このように、最終測定倍率の100倍対物
レンズを用いてフォーカスアウトとなった場合でも、ス
テップS18に示すように、参照測定データによるフォ
ーカス位置移動によって、オートフォーカスが可能とな
り、測定の継続が可能となる。さらに、高さが低くなる
場合も、このステップ18の処理を行うことによって、
測定可能となる。
In this way, even when the objective lens with 100 times the final measurement magnification is used to bring the focus out, auto focus becomes possible by moving the focus position according to the reference measurement data as shown in step S18. It is possible to continue. Further, even if the height becomes low, by performing the processing of step 18,
It becomes possible to measure.

【0036】しかし、上記N回繰り返した後も、オート
フォーカスがかからない場合、つまりN+1回目でフォ
ーカスアウトとなった場合は、この測定条件では不可能
と判断し、測定中止とする(ステップS19)。フォー
カスが合わない原因としては、10倍でフォーカスした
位置(高さ)が100倍のフォーカス範囲に入っていな
いことが挙げられる。これは、レンズの測定精度の差に
起因している。
However, if autofocus is not applied even after repeating the above N times, that is, if the focus is out at the (N + 1) th time, it is judged that this measurement condition is not possible and the measurement is stopped (step S19). One of the causes of the lack of focus is that the position (height) focused at 10 times is not within the focus range of 100 times. This is due to the difference in lens measurement accuracy.

【0037】そこで、まず測定倍率を低くする(ステッ
プS20)。つまり、100倍での測定の前に、10倍
と100倍の間のレンズ、つまり参照測定データの測定
倍率10倍に近い測定倍率のレンズである50倍の対物
レンズに変更する。なお、倍率の変更は、対物レンズで
はなく、途中の光学系を調整しても良い。
Therefore, the measurement magnification is first lowered (step S20). That is, before the measurement at 100 times, the objective lens is changed to a lens between 10 times and 100 times, that is, a 50 times objective lens having a measurement magnification close to 10 times of the reference measurement data. The magnification may be changed not by the objective lens but by adjusting the optical system in the middle.

【0038】次に、10倍での測定データを参照測定デ
ータとしながら50倍で測定を行う。その50倍での測
定データを新たな参照測定データとして用いて100倍
での測定を再度行う。
Next, measurement is performed at 50 times while using the measurement data at 10 times as reference measurement data. The measurement data at 100 times is performed again by using the measurement data at 50 times as new reference measurement data.

【0039】本実施形態では、プリント基板とCSPパ
ッケージ上面との段差が約1mm有り、10倍の対物レ
ンズによる測定でオートフォーカス可能範囲に入ってい
たが、1mmを越える大きい段差の場合は、上述したよ
うに、さらに低倍率で測定しステップアップ測定をする
ことによって高倍率測定が可能となる。すなわち、測定
サンプルの形状変化が大きい場合や、被写界深度が浅い
高倍率のレンズによる高精度の測定であっても、ステッ
プS20,ステップS21のように、倍率を分割してス
テップアップ測定を行うことによって、可能となる。
In this embodiment, the step between the printed circuit board and the upper surface of the CSP package is about 1 mm, and the step is within the autofocusable range by the measurement with the 10 × objective lens. As described above, high magnification measurement becomes possible by measuring at a lower magnification and performing step-up measurement. That is, even when the change in shape of the measurement sample is large, or even if the measurement is performed with a high-magnification lens with a shallow depth of field, the step-up measurement is performed by dividing the magnification as in steps S20 and S21. By doing so, it becomes possible.

【0040】上記測定方法により、図6のグラフに示す
ように、約1mmの段差を有するプリント基板上に実装
されたCSPパッケージの形状がミクロンオーダーで測
定が可能となる。すなわち、本実施形態は、概略測定結
果を基に詳細測定を行い、さらに微小特定点を測定アラ
イメント点とした、基板上から電気回路部品までを一連
の測定を行うようにしたので、ミクロンオーダーの変位
量の測定が可能になる。
By the above measuring method, as shown in the graph of FIG. 6, the shape of the CSP package mounted on the printed circuit board having a step of about 1 mm can be measured in the order of micron. That is, in the present embodiment, detailed measurement is performed based on the rough measurement result, and a minute specific point is used as a measurement alignment point, and a series of measurement is performed from the substrate to the electric circuit component. The amount of displacement can be measured.

【0041】電気回路部品においても、本実施形態では
CSPとBGAを用いたが、QFPやチップ抵抗、チッ
プコンデンサ等においても同様の実施が可能である。ま
た、電気回路部品以外のミクロンオーダーの測定が要求
される対象物に用いることも当然可能である。
Although CSP and BGA are used also in the electric circuit parts in the present embodiment, the same can be applied to QFP, chip resistors, chip capacitors and the like. In addition, it is naturally possible to use it for objects other than electric circuit parts that require measurement on the order of microns.

【0042】なお、上述した図3のフローチャートに示
した手順をプログラム化し、測定装置内の記憶装置に格
納し動作することにより、上述の測定方法を自動化する
ことも可能である。この場合、記憶媒体から読み出され
たプログラムコード自体が前述した実施形態の機能を実
現することになり、そのプログラムコードを記憶した記
憶媒体は本発明を構成することになる。プログラムコー
ドを供給するための記憶媒体としては、例えば、フロッ
ピー(登録商標)ディスク、ハードディスク、光ディス
ク、光磁気ディスク、CD−ROM、CD−R、磁気テ
ープ、不揮発性のメモリカード、ROMを用いることが
できる。また、コンピュータが読み出したプログラムコ
ードを実行することにより、前述した実施形態の機能が
実現されるだけではなく、そのプログラムコードの指示
に基づき、コンピュータ上で稼動しているOSなどが実
際の処理の一部または全部を行い、その処理によって前
述した実施形態の機能が実現される場合も含まれること
は言うまでもない。
The above-described measuring method can be automated by programming the procedure shown in the flow chart of FIG. 3 and storing it in a storage device in the measuring device to operate. In this case, the program code itself read from the storage medium realizes the functions of the above-described embodiments, and the storage medium storing the program code constitutes the present invention. As the storage medium for supplying the program code, for example, a floppy (registered trademark) disk, hard disk, optical disk, magneto-optical disk, CD-ROM, CD-R, magnetic tape, non-volatile memory card, or ROM is used. You can In addition, by executing the program code read by the computer, not only the functions of the above-described embodiments are realized, but also the OS or the like running on the computer executes actual processing based on the instruction of the program code. It goes without saying that a case where some or all is performed and the functions of the above-described embodiments are realized by the processing is also included.

【0043】さらに、記憶媒体から読み出されたプログ
ラムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張ボー
ドやコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わ
るメモリに書き込まれた後、次のプログラムコードの指
示に基づき、その拡張機能を拡張ボードや拡張ユニット
に備わるCPUなどが処理を行って実際の処理の一部ま
たは全部を行い、その処理によって前述した実施形態の
機能が実現される場合も含まれることは言うまでもな
い。
Further, after the program code read from the storage medium is written in the memory provided in the function expansion board inserted into the computer or the function expansion unit connected to the computer, based on the instruction of the next program code. Needless to say, this also includes the case where the CPU or the like provided in the expansion board or the expansion unit performs the expansion function to perform a part or all of the actual processing, and the processing realizes the function of the above-described embodiment. Yes.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、測定対象物に対して、ミクロンオーダーの変位量の
測定が可能になる。すなわち、測定対象物として、多く
の電気機器類に使用されている電気回路部品やプリント
基板に用いることができ、それぞれの形状を精度良く測
定し、変形状態を正確に把握することによって、半田バ
ンプ等の電気回路部品に加わる応力を最小限に留め、接
続信頼性を向上させたり、接続寿命を延ばすことが可能
となる。
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to measure the displacement amount of the order of micron with respect to the measuring object. That is, it can be used as an object to be measured in electric circuit parts and printed circuit boards used in many electric devices, and by measuring the shape of each accurately and grasping the deformation state accurately, the solder bump It is possible to minimize the stress applied to the electric circuit parts such as the above, improve the connection reliability, and extend the connection life.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態に係るプリント基板上に実装
されたICパッケージ部品を示す部分模式側面図であ
る。
FIG. 1 is a partial schematic side view showing an IC package component mounted on a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示したCSPパッケージの模式平面図で
ある。
FIG. 2 is a schematic plan view of the CSP package shown in FIG.

【図3】実施形態の形状測定方法を示すフローチャート
である。
FIG. 3 is a flowchart showing a shape measuring method according to an embodiment.

【図4】CSPパッケージの形状と100倍の測定位置
及び10倍の測定位置の関係を模式的に表した図であ
る。
FIG. 4 is a diagram schematically showing the relationship between the shape of a CSP package and a measurement position of 100 times and a measurement position of 10 times.

【図5】測定面が複雑な形状の場合の100倍の測定位
置と10倍の測定位置の関係を模式的に表した図であ
る。
FIG. 5 is a diagram schematically showing a relationship between a 100 times measurement position and a 10 times measurement position when a measurement surface has a complicated shape.

【図6】プリント基板上のCSPパッケージの形状測定
値を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing shape measurement values of a CSP package on a printed circuit board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プリント基板上 2 モールド 3 半田ボール 4,5 アライメント点 1 on printed circuit board 2 mold 3 solder balls 4,5 alignment points

フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA01 AA02 AA04 AA06 AA20 AA24 AA25 AA53 AA65 BB01 BB05 BB27 CC01 CC28 DD03 DD10 FF10 FF26 FF41 FF67 GG05 GG22 JJ03 JJ26 LL04 PP12 5F044 KK01 LL01 Continued front page    F-term (reference) 2F065 AA01 AA02 AA04 AA06 AA20                       AA24 AA25 AA53 AA65 BB01                       BB05 BB27 CC01 CC28 DD03                       DD10 FF10 FF26 FF41 FF67                       GG05 GG22 JJ03 JJ26 LL04                       PP12                 5F044 KK01 LL01

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非接触三次元測定装置を用いて、所定の
測定倍率で測定対象物の形状を測定する形状測定方法に
おいて、 前記所定の測定倍率よりも低い倍率で前記測定対象物を
測定して得られた参照測定データを用意しておき、 前記参照測定データを参照しつつ前記所定の測定倍率に
よる測定を行うことを特徴とする形状測定方法。
1. A shape measuring method for measuring a shape of an object to be measured at a predetermined measurement magnification using a non-contact three-dimensional measuring device, wherein the object to be measured is measured at a magnification lower than the predetermined measurement magnification. A shape measuring method, characterized in that reference measurement data obtained as described above is prepared, and measurement is performed at the predetermined measurement magnification while referring to the reference measurement data.
【請求項2】 非接触三次元測定装置を用い、測定対象
物の各測定点で順次オートフォーカスを実行して、焦点
が合う合焦状態となるフォーカス位置での高さ測定を行
う形状測定方法において、 前記測定対象物の測定点において最終的に必要とされる
精度を測るための最終測定倍率でオートフォーカスを実
行して合焦状態を判定する第一の行程と、 前記第一の行程で非合焦状態となった場合には、前記最
終測定倍率よりも低い倍率で前記測定対象物を測定して
得られた参照測定データを用いてオートフォーカスを実
行して、合焦状態となるフォーカス位置を検出する第二
の行程とを備えたことを特徴とする形状測定方法。
2. A shape measuring method which uses a non-contact three-dimensional measuring device to sequentially perform autofocus at each measurement point of an object to be measured to measure a height at a focus position where an in-focus state is achieved. In the first step of determining the in-focus state by executing autofocus at the final measurement magnification for measuring the finally required accuracy at the measurement point of the measurement object, in the first step In the out-of-focus state, autofocus is performed using the reference measurement data obtained by measuring the measurement object at a magnification lower than the final measurement magnification, and the focus becomes the in-focus state. And a second step of detecting a position.
【請求項3】 前記最終測定倍率で測定開始点を決定
し、前記最終測定倍率よりも低倍率で前記測定開始点に
位置合わせを行った後に測定を開始して、その測定デー
タを前記参照測定データとして獲得する行程を、前記第
一の行程の前に実行することを特徴とする請求項2記載
の形状測定方法。
3. The measurement start point is determined by the final measurement magnification, the measurement is started after the measurement start point is aligned at a magnification lower than the final measurement magnification, and the measurement data is measured by the reference measurement. The shape measuring method according to claim 2, wherein the step of acquiring as data is executed before the first step.
【請求項4】 前記第二の行程は、 前記第一の行程で非合焦状態となった場合に、当該測定
点に対応した前記参照測定データの測定高さデータを用
いてオートフォーカスを実行し合焦状態になるか否かを
判定し、非合焦状態となった場合には、前記参照測定デ
ータの中から前記測定点の前後に位置する測定点の測定
高さデータを用いてオートフォーカスを実行し合焦状態
になるか否かを判定する処理を、合焦状態となるフォー
カス位置を検出するまで所定回数繰り返し実行すること
を特徴とする請求項2または3記載の形状測定方法。
4. The second step performs autofocus using the measurement height data of the reference measurement data corresponding to the measurement point when an out-of-focus state occurs in the first step. If it is out of focus, it is automatically measured using the measurement height data of the measurement points located before and after the measurement point from the reference measurement data. 4. The shape measuring method according to claim 2, wherein the process of executing the focus and determining whether or not the focus state is achieved is repeatedly performed a predetermined number of times until the focus position in the focus state is detected.
【請求項5】 前記処理を前記所定回数繰り返し実行し
ても非合焦状態となる場合は、前記参照測定データとし
て、前回の測定で用いた参照測定データとは別の測定倍
率で前記測定対象物を測定して得られた参照測定データ
を用いることを特徴とする請求項4記載の形状測定方
法。
5. If the in-focus state is obtained even after the processing is repeatedly performed the predetermined number of times, the measurement target is a measurement magnification different from the reference measurement data used in the previous measurement as the reference measurement data. The shape measuring method according to claim 4, wherein reference measurement data obtained by measuring the object is used.
【請求項6】 所定の測定倍率で測定対象物の形状を測
定する形状測定装置において、 前記所定の測定倍率よりも低い倍率で前記測定対象物を
測定して得られた参照測定データを参照しつつ前記所定
の測定倍率による測定を行う手段を備えたことを特徴と
する形状測定装置。
6. A shape measuring device for measuring the shape of an object to be measured at a predetermined measurement magnification, with reference to reference measurement data obtained by measuring the object to be measured at a magnification lower than the predetermined measurement magnification. At the same time, the shape measuring device is provided with means for performing measurement at the predetermined measurement magnification.
【請求項7】 測定対象物の各測定点で順次オートフォ
ーカスを実行して、焦点が合う合焦状態となるフォーカ
ス位置での高さ測定を行う形状測定装置において、 前記測定対象物の測定点において最終的に必要とされる
精度を測るための最終測定倍率でオートフォーカスを実
行して合焦状態を判定する第一の手段と、 前記第一の手段で非合焦状態となった場合には、前記最
終測定倍率よりも低い倍率で前記測定対象物を測定して
得られた参照測定データを用いてオートフォーカスを実
行して、合焦状態となるフォーカス位置を検出する第二
の手段とを備えたことを特徴とする形状測定装置。
7. A shape measuring device for performing height measurement at a focus position where an in-focus state is achieved by sequentially performing auto-focus at each measurement point of the measurement target, wherein the measurement point of the measurement target is measured. In the first means for determining the in-focus state by executing autofocus at the final measurement magnification for finally measuring the required accuracy, in the case of the non-in-focus state by the first means, Is a second means for performing autofocus using reference measurement data obtained by measuring the measurement object at a magnification lower than the final measurement magnification, and detecting a focus position in a focused state. A shape measuring device comprising:
【請求項8】 前記最終測定倍率で測定開始点を決定
し、前記最終測定倍率よりも低倍率で前記測定開始点に
位置合わせを行った後に測定を開始して、その測定デー
タを前記参照測定データとして獲得する手段を備えたこ
とを特徴とする請求項7記載の形状測定装置。
8. The measurement start point is determined by the final measurement magnification, the measurement is started after the measurement start point is aligned at a lower magnification than the final measurement magnification, and the measurement data is measured by the reference measurement. The shape measuring device according to claim 7, further comprising means for acquiring as data.
【請求項9】 前記第二の手段は、 前記第一の手段で非合焦状態となった場合に、当該測定
点に対応した前記参照測定データの測定高さデータを用
いてオートフォーカスを実行し合焦状態になるか否かを
判定し、非合焦状態となった場合には、前記参照測定デ
ータの中から前記測定点の前後に位置する測定点の測定
高さデータを用いてオートフォーカスを実行し合焦状態
になるか否かを判定する処理を、合焦状態となるフォー
カス位置を検出するまで所定回数繰り返し実行すること
を特徴とする請求項7または8記載の形状測定装置。
9. The second means, when the first means is in an out-of-focus state, executes autofocus using the measurement height data of the reference measurement data corresponding to the measurement point. If it is out of focus, it is automatically measured using the measurement height data of the measurement points located before and after the measurement point from the reference measurement data. 9. The shape measuring apparatus according to claim 7, wherein the process of performing the focus and determining whether or not the focus state is achieved is repeatedly performed a predetermined number of times until the focus position at which the focus state is achieved is detected.
【請求項10】 前記処理を前記所定回数繰り返し実行
しても非合焦状態となる場合は、前記参照測定データと
して、前回の測定で用いた参照測定データとは別の測定
倍率で前記測定対象物を測定して得られた参照測定デー
タを用いることを特徴とする請求項9記載の形状測定装
置。
10. When the in-focus state is obtained even after the processing is repeatedly executed the predetermined number of times, the reference measurement data is the measurement target at a measurement magnification different from the reference measurement data used in the previous measurement. The shape measuring device according to claim 9, wherein reference measurement data obtained by measuring an object is used.
【請求項11】 非接触三次元測定装置を用いて、所定
の測定倍率で測定対象物の形状を測定する形状測定方法
を実行するための制御プログラムであって、 前記所定の測定倍率よりも低い倍率で前記測定対象物を
測定して参照測定データを作成するステップと、 前記参照測定データを参照しつつ前記所定の測定倍率に
よる測定を行うステップとを備えたことを特徴とする制
御プログラム。
11. A control program for executing a shape measuring method for measuring a shape of an object to be measured at a predetermined measurement magnification using a non-contact three-dimensional measuring device, the control program being lower than the predetermined measurement magnification. A control program comprising: a step of measuring the measurement object at a magnification to create reference measurement data; and a step of performing measurement at the predetermined measurement magnification while referring to the reference measurement data.
【請求項12】 非接触三次元測定装置を用い、測定対
象物の各測定点で順次オートフォーカスを実行して、焦
点が合う合焦状態となるフォーカス位置での高さ測定を
行う形状測定方法を実行するための制御プログラムであ
って、 前記測定対象物の測定点において最終的に必要とされる
精度を測るための最終測定倍率でオートフォーカスを実
行して合焦状態を判定する第一のステップと、 前記第一のステップで非合焦状態となった場合には、前
記最終測定倍率よりも低い倍率で前記測定対象物を測定
して得られた参照測定データを用いてオートフォーカス
を実行して、合焦状態となるフォーカス位置を検出する
第二のステップとを備えたことを特徴とする制御プログ
ラム。
12. A shape measuring method, which uses a non-contact three-dimensional measuring device to sequentially perform auto-focus at each measurement point of a measurement object to measure height at a focus position where a focused state is achieved. Is a control program for executing, the first to determine the in-focus state by executing autofocus at the final measurement magnification for measuring the finally required accuracy at the measurement point of the measurement object. Step, and when the out-of-focus state is obtained in the first step, autofocus is performed using the reference measurement data obtained by measuring the measurement object at a magnification lower than the final measurement magnification. And a second step of detecting a focus position in a focused state.
【請求項13】 前記最終測定倍率で測定開始点を決定
し、前記最終測定倍率よりも低倍率で前記測定開始点に
位置合わせを行った後に測定を開始して、その測定デー
タを前記参照測定データとして獲得するステップを、前
記第一のステップの前に実行することを特徴とする請求
項12記載の制御プログラム。
13. The measurement start point is determined by the final measurement magnification, the measurement is started after the measurement start point is aligned at a magnification lower than the final measurement magnification, and the measurement data is measured by the reference measurement. 13. The control program according to claim 12, wherein the step of acquiring as data is executed before the first step.
【請求項14】 前記第二のステップは、 前記第一のステップで非合焦状態となった場合に、当該
測定点に対応した前記参照測定データの測定高さデータ
を用いてオートフォーカスを実行し合焦状態になるか否
かを判定し、非合焦状態となった場合には、前記参照測
定データの中から前記測定点の前後に位置する測定点の
測定高さデータを用いてオートフォーカスを実行し合焦
状態になるか否かを判定する処理を、合焦状態となるフ
ォーカス位置を検出するまで所定回数繰り返し実行する
ことを特徴とする請求項12または13記載の制御プロ
グラム。
14. The second step performs autofocus using the measurement height data of the reference measurement data corresponding to the measurement point when the out-of-focus state is obtained in the first step. If it is out of focus, it is automatically measured using the measurement height data of the measurement points located before and after the measurement point from the reference measurement data. 14. The control program according to claim 12, wherein the process of executing the focus and determining whether or not the focus state is achieved is repeatedly performed a predetermined number of times until the focus position at which the focus state is achieved is detected.
【請求項15】 前記処理を前記所定回数繰り返し実行
しても非合焦状態となる場合は、前記参照測定データと
して、前回の測定で用いた参照測定データとは別の測定
倍率で前記測定対象物を測定して得られた参照測定デー
タを用いることを特徴とする請求項14記載の制御プロ
グラム。
15. If the in-focus state is obtained even after the processing is repeated a predetermined number of times, the reference measurement data is the measurement target at a measurement magnification different from the reference measurement data used in the previous measurement. 15. The control program according to claim 14, wherein reference measurement data obtained by measuring an object is used.
【請求項16】 請求項11乃至15記載の制御プログ
ラムを記憶したことを特徴とする記憶媒体。
16. A storage medium on which the control program according to claim 11 is stored.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009302265A (en) * 2008-06-13 2009-12-24 Fuji Mach Mfg Co Ltd Pickup means selection device, pickup means selection method, and component height measurement device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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