JP2003103953A - Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate - Google Patents

Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate

Info

Publication number
JP2003103953A
JP2003103953A JP2001298767A JP2001298767A JP2003103953A JP 2003103953 A JP2003103953 A JP 2003103953A JP 2001298767 A JP2001298767 A JP 2001298767A JP 2001298767 A JP2001298767 A JP 2001298767A JP 2003103953 A JP2003103953 A JP 2003103953A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
treatment
aluminum
lithographic printing
printing plate
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001298767A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Nishino
温夫 西野
Hirokazu Sawada
宏和 澤田
Akio Uesugi
彰男 上杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001298767A priority Critical patent/JP2003103953A/en
Publication of JP2003103953A publication Critical patent/JP2003103953A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for an aluminum support of a lithographic printing plate, the wearability and scumming performances of which can coexist with each other at high levels, the aluminum support thereof and a lithographic printing original plate. SOLUTION: The manufacturing method of the aluminum support of the lithographic printing plate comprises a surface roughening process consisting of an alkali etching treatment (1), a desmut treatment (1) and an electrolytically surface-roughening treatment in a nitric acid aqueous solution (1) in a first process, an alkali etching treatment (2), a desmut treatment (2) and an electrolytically surface-roughening treatment in a hydrochloric acid aqueous solution in a second process, an alkali etching treatment (3), a desmut treatment (3) in a third process and an anodic oxidation treatment, which are applied in the order named on at least one side of the aluminum plate, the aluminum support of the lithographic printing plate and the lithographic printing original plate are provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用アル
ミニウム支持体の製造方法、平版印刷版用アルミニウム
支持体、および平版印刷原版に関し、特に、コンピュー
タの印刷データに基き、レーザ光により、印刷画像を直
接に書き込んで製版する所謂デジタル刷版として好適な
支持体が得られる平版印刷版用アルミニウム支持体の製
造方法、前記製造方法で得られた平版印刷版用アルミニ
ウム支持体、および前記平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化面に画像形成層を形成した平版印刷原版に関
する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, an aluminum support for a lithographic printing plate, and a lithographic printing original plate, and particularly to printing with a laser beam based on print data of a computer. Method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which is suitable as a so-called digital printing plate for directly writing an image to produce a plate, a lithographic printing plate aluminum support obtained by the production method, and the lithographic printing The present invention relates to a lithographic printing original plate having an image forming layer formed on the roughened surface of an aluminum support for a plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷版用アルミニウム支持体は、一
般には、アルミニウム板の少なくとも一方の面に、機械
的粗面化、酸又はアルカリ溶液中での化学的エッチン
グ、酸性水溶液中でのデスマット処理、電気化学的な粗
面化である電解粗面化処理、酸性水溶液中での陽極酸化
処理、親水化処理、および封孔処理などから選択される
1つ以上の処理を組み合わせて粗面化処理することによ
り製造される。
2. Description of the Related Art An aluminum support for a lithographic printing plate generally has at least one surface of an aluminum plate mechanically roughened, chemically etched in an acid or alkaline solution, and desmutted in an acidic aqueous solution. , Electrolytic surface-roughening treatment that is electrochemical surface-roughening, anodizing treatment in an acidic aqueous solution, hydrophilic treatment, and pore-sealing treatment in combination with one or more treatments. It is manufactured by

【0003】とくに、前記電解粗面化処理は、均一な凹
凸を得やすいことから、平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化方法として一般的に用いられてきた。前記電
解粗面化処理としては、とくに、塩酸または硝酸水溶液
中での電解粗面化処理が主に行なわれてきた。
In particular, the electrolytic surface-roughening treatment has been generally used as a surface-roughening method for an aluminum support for a lithographic printing plate because it is easy to obtain uniform unevenness. As the electrolytic surface-roughening treatment, an electrolytic surface-roughening treatment in a hydrochloric acid or nitric acid aqueous solution has been mainly performed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】赤外線レーザ用感光性
画像形成材料で形成された画像形成層を有するダイレク
ト製版用の平版印刷原版、または従来のポジまたはネガ
型フィルムを用いる平版印刷原版に使用されるアルミニ
ウム支持体としては、印刷枚数(耐刷力)と耐汚れ性と
を高いレベルで両立させたものが望まれていたが、従来
の平版印刷版用アルミニウム支持体は、この点で十分で
はなかった。
The lithographic printing plate precursor for direct plate making having an image forming layer formed of a photosensitive image forming material for infrared laser, or a lithographic printing plate precursor using a conventional positive or negative film is used. It has been desired that the aluminum support for printing has a high level of both the number of printed sheets (printing durability) and stain resistance. However, the conventional aluminum support for a lithographic printing plate is not sufficient in this respect. There wasn't.

【0005】本発明は、耐刷性と耐汚れ性とが高いレベ
ルで両立した平版印刷版用アルミニウム支持体を製造で
きる平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法、前記
製造方法で製造した平版印刷版用アルミニウム支持体、
および前記平版印刷版用アルミニウム支持体において粗
面化処理された粗面化面に画像形成層を積層した平版印
刷原版を提供することを目的とする。
The present invention is directed to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate capable of producing an aluminum support for a lithographic printing plate having both high printing durability and stain resistance at a high level, and the lithographic printing produced by the above production method. Aluminum support for plates,
Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor in which an image forming layer is laminated on the roughened surface that has been roughened on the aluminum support for lithographic printing plates.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、アルミニウム板の少なくとも一方の面に、(1) アル
カリ溶液によりエッチングするアルカリエッチング処理
(1)、(2) 酸性溶液中でデスマット処理するデスマッ
ト処理(1)、(3) 硝酸水溶液中で電解粗面化処理を行
なう電解粗面化処理(1)、(4) アルカリ溶液によりエ
ッチングするアルカリエッチング処理(2)、(5) 酸性
溶液中でデスマット処理するデスマット処理(2)、
(6) 塩酸水溶液中で電解粗面化処理を行なう電解粗面化
処理(2)、(7) アルカリ溶液によりエッチングするア
ルカリエッチング処理(3)、(8) 酸性溶液中でデスマ
ット処理するデスマット処理(3)、および(9) 酸性電
解液中で陽極酸化被膜を形成する陽極酸化処理を順次行
うことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持体の
製造方法に関する。
According to a first aspect of the present invention, at least one surface of an aluminum plate is subjected to (1) alkaline etching treatment for etching with an alkaline solution (1), (2) desmut in an acidic solution. Desmutting treatment (1), (3) Electrolytic surface roughening treatment in an aqueous nitric acid solution (1), (4) Alkaline etching treatment with an alkaline solution (2), (5) Acidic Desmutting treatment (2) of desmutting in solution,
(6) Electrolytic surface roughening treatment in an aqueous hydrochloric acid solution (2), (7) Alkaline etching treatment by etching with an alkaline solution (3), (8) Desmut treatment by desmutting in an acidic solution (3) and (9) The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which comprises sequentially performing anodizing treatment for forming an anodized film in an acidic electrolytic solution.

【0007】前記製造方法においては、アルカリエッチ
ング処理(1)においてアルカリ溶液でエッチングする
ことにより、前記アルミニウム板の表面が脱脂される。
次ぎに、電解粗面化処理(1)において硝酸水溶液中で
粗面化処理することにより、大きさが0.5〜2μm程
度の凹凸であるハニカムピットが前記大波に重畳して形
成され、電解粗面化処理(2)において塩酸水溶液中で
電解粗面化処理することにより、ファセット状のピット
であって一辺の大きさが0.05〜0.3μm程度の微
小波が主に形成されると考えられる。
In the above manufacturing method, the surface of the aluminum plate is degreased by etching with an alkaline solution in the alkaline etching treatment (1).
Next, in the electrolytic surface-roughening treatment (1), the surface-roughening treatment is performed in a nitric acid aqueous solution to form honeycomb pits having irregularities with a size of about 0.5 to 2 μm so as to be superimposed on the large waves. By electrolytic surface-roughening treatment in a hydrochloric acid aqueous solution in the surface-roughening treatment (2), facet-like pits having a size of 0.05 to 0.3 μm on a side are mainly formed. it is conceivable that.

【0008】したがって、前記製造方法によれば、ハニ
カムピットと微小波とが重畳された構造の粗面化面が形
成される。
Therefore, according to the above manufacturing method, the roughened surface having the structure in which the honeycomb pits and the minute waves are superposed is formed.

【0009】前記製造方法は、材料として使用できるア
ルミニウム板の組成幅が広いから、圧延アルミニウム板
や再生アルミニウム板のように厳密な組成管理がなされ
ていなかったり、不純物が多かったりするアルミニウム
板からも、外観上の不良がなく、耐刷性に優れるだけで
なく、耐汚れ性に優れ、換言すれば印刷紙面に汚れを発
生させることのない平版印刷原版が得られる。
In the above-mentioned manufacturing method, since the composition width of the aluminum plate that can be used as a material is wide, even if the composition is not strictly controlled such as a rolled aluminum plate or a recycled aluminum plate or the aluminum plate has many impurities, A lithographic printing plate precursor that does not have a poor appearance and is excellent in printing durability and stain resistance, in other words, does not cause stains on the printing paper surface can be obtained.

【0010】請求項2に記載の発明は、前記陽極酸化処
理の後に封孔処理および親水化処理の少なくとも一方を
施す平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に関す
る。
The second aspect of the present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which comprises at least one of a pore-sealing treatment and a hydrophilizing treatment after the anodizing treatment.

【0011】前記製造方法で得られた平版印刷版用アル
ミニウム支持体は、陽極酸化皮膜と画像形成層との間の
密着性に優れ、また、現像後において、非画像部に画像
形成層が残り難いから、画質に優れた印刷物が得られ
る。
The aluminum support for a lithographic printing plate obtained by the above-mentioned production method has excellent adhesion between the anodized film and the image forming layer, and the image forming layer remains in the non-image area after development. Since it is difficult, printed matter with excellent image quality can be obtained.

【0012】請求項3に記載の発明は、前記電解粗面化
処理(1)において、硝酸とアルミニウムイオンとアン
モニウムイオンとを含有する硝酸水溶液中で、前記アル
ミニウム板のアノード反応時における電気量が100〜
500C/dm2になるように前記アルミニウム板に交
流電流を印加して電解する平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法に関する。
According to a third aspect of the present invention, in the electrolytic surface-roughening treatment (1), in an aqueous nitric acid solution containing nitric acid, aluminum ions and ammonium ions, the amount of electricity during the anode reaction of the aluminum plate is 100 ~
The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, in which an alternating current is applied to the aluminum plate so as to electrolyze so as to achieve 500 C / dm 2 .

【0013】前記製造方法によれば、粗面化面に均一な
大きさのハニカムピットが形成された平版印刷版用アル
ミニウム支持体が得られる。
According to the above manufacturing method, an aluminum support for a lithographic printing plate having honeycomb pits of uniform size formed on a roughened surface can be obtained.

【0014】請求項4に記載の発明は、前記電解粗面化
処理(1)において、硝酸とアルミニウムイオンとアン
モニウムイオンとを含有する硝酸水溶液中で、前記アル
ミニウム板のアノード反応時における電気量が200〜
500C/dm2になるように前記アルミニウム板に交
流電流を印加して電解する平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法に関する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the electrolytic surface-roughening treatment (1), in an aqueous nitric acid solution containing nitric acid, aluminum ions and ammonium ions, the amount of electricity during the anode reaction of the aluminum plate is 200 ~
The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, in which an alternating current is applied to the aluminum plate so as to electrolyze so as to achieve 500 C / dm 2 .

【0015】前記製造方法によれば、粗面化面にさらに
均一な大きさのハニカムピットが形成された平版印刷版
用アルミニウム支持体が得られる。
According to the above-mentioned manufacturing method, an aluminum support for a lithographic printing plate in which honeycomb pits of even size are formed on the roughened surface can be obtained.

【0016】請求項5に記載の発明は、前記電解粗面化
処理(1)において前記アルミニウム板に印加する交流
が、アルミニウム板のアノード反応時間taの周期Tに
占める割合であるdutyが0.5であって電流が0からピ
ークに達するまでの立上り時間tpが0.5〜2mse
cであり、周波数が40〜70Hzであり、カソード反
応時の電気量Qcとアノード反応時の電気量Qaの比Qc
/Qaが0.9〜1である平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法に関する。
[0016] The invention according to claim 5, wherein the AC to be applied to the aluminum plate in the electrolytic graining treatment (1), duty is 0 is a percentage of the period T of the anode reaction time t a of the aluminum plate 0.5 and the rise time t p from 0 to the peak of the current is 0.5 to 2 mse.
a c, a frequency is 40~70Hz, the ratio Q c of the electric quantity Q a of time electricity Q c and the anode reaction at the time of cathodic reaction
/ Q a is a process for producing a lithographic printing plate aluminum support is 0.9 to 1.

【0017】前記平版印刷版用アルミニウム支持体の製
造方法によれば、電解粗面化処理(1)において、前記
硝酸水溶液中の微量成分の影響を受け難いから、電解粗
面化が進行して前記硝酸水溶液中の微量成分の量が増大
しても、前記アルミニウム板の表面には均一なハニカム
ピットが形成できる。
According to the method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, in the electrolytic surface-roughening treatment (1), it is difficult to be influenced by the trace components in the aqueous nitric acid solution, so that the electrolytic surface-roughening proceeds. Even if the amount of trace components in the aqueous nitric acid solution increases, uniform honeycomb pits can be formed on the surface of the aluminum plate.

【0018】また、前記交流電流を発生させる電源にお
いては、電源電圧の立上り時に高い電源電圧を発生させ
る必要がないから、安価な電源回路を使用できる。
In the power supply for generating the alternating current, it is not necessary to generate a high power supply voltage when the power supply voltage rises, so that an inexpensive power supply circuit can be used.

【0019】請求項6に記載の発明は、前記電解粗面化
処理(1)において使用される硝酸水溶液が、硝酸濃度
が5〜15g/リットルであり、アルミニウムイオンの
濃度が3〜7g/リットルであり、アンモニウムイオン
の濃度が50〜150ppmであり、液温が30〜80
℃である平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に
関する。
According to a sixth aspect of the present invention, the nitric acid aqueous solution used in the electrolytic surface roughening treatment (1) has a nitric acid concentration of 5 to 15 g / liter and an aluminum ion concentration of 3 to 7 g / liter. And the ammonium ion concentration is 50 to 150 ppm and the liquid temperature is 30 to 80
And a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate which is at 0 ° C.

【0020】前記製造方法によれば、前記電解粗面化処
理(1)において、特に均一なハニカムビットが生成す
るから、特に調子再現性に優れた平版印刷原版の支持体
になる平版印刷版用アルミニウム支持体が得られる。
According to the above-mentioned manufacturing method, particularly uniform honeycomb bits are formed in the electrolytic surface-roughening treatment (1), and therefore, for a planographic printing plate which becomes a support of a planographic printing original plate having particularly excellent tone reproducibility. An aluminum support is obtained.

【0021】請求項7に記載の発明は、前記電解粗面化
処理(2)において、塩酸とアルミニウムイオンとを含
有する塩酸水溶液を用い、前記アルミニウム板のアノー
ド反応時の電気量が25〜75C/dm2になるように
交流電解する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方
法に関する。
According to a seventh aspect of the present invention, in the electrolytic surface-roughening treatment (2), an aqueous hydrochloric acid solution containing hydrochloric acid and aluminum ions is used, and the amount of electricity during the anode reaction of the aluminum plate is 25 to 75C. The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which is electrolyzed by alternating current so as to have a density of / dm 2 .

【0022】前記製造方法によれば、電解粗面化処理
(2)において形成されたハニカムピットに重畳して均
一な微小波が形成されるから、前記製造方法により得ら
れた平版印刷版用アルミニウム板の粗面化面は、耐磨耗
性に優れている。したがって、前記平版印刷版用アルミ
ニウム支持体に画像形成層を形成した平版印刷原版は、
特に耐刷性に優れている。
According to the above manufacturing method, uniform fine waves are formed on the honeycomb pits formed in the electrolytic surface roughening treatment (2). Therefore, the aluminum for lithographic printing plates obtained by the above manufacturing method is formed. The roughened surface of the plate has excellent wear resistance. Therefore, the lithographic printing plate precursor having the image forming layer formed on the aluminum support for lithographic printing plate,
Particularly excellent in printing durability.

【0023】請求項8に記載の発明は、前記電解粗面化
処理(2)において前記アルミニウム板に印加する交流
は、前記dutyが0.5であって前記立上り時間tp
0.5〜2msecであり、周波数が40〜150Hz
であり、前記Qc/Qaが0.9〜1である平版印刷版用
アルミニウム支持体の製造方法に関する。
According to an eighth aspect of the present invention, in the alternating current applied to the aluminum plate in the electrolytic surface roughening treatment (2), the duty is 0.5 and the rising time t p is 0.5 to. 2 msec and frequency is 40 to 150 Hz
And relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein Q c / Q a is 0.9 to 1.

【0024】前記平版印刷版用アルミニウム支持体の製
造方法によれば、電解粗面化処理(2)において、前記
塩酸水溶液中の微量成分の影響を受け難いから、電解粗
面化が進行して前記塩酸水溶液中の微量成分の量が増大
しても、前記アルミニウム板の表面には均一な微小波が
形成できる。したがって、前記製造方法により得られる
平版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化面に画像形成
層を形成することにより、耐刷性に特に優れた平版印刷
原版が製造できる。
According to the method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, in the electrolytic surface-roughening treatment (2), it is difficult to be influenced by the trace components in the aqueous hydrochloric acid solution, so that the electrolytic surface-roughening proceeds. Even if the amount of the trace components in the hydrochloric acid aqueous solution increases, uniform fine waves can be formed on the surface of the aluminum plate. Therefore, by forming the image forming layer on the roughened surface of the aluminum support for a lithographic printing plate obtained by the above-mentioned production method, a lithographic printing original plate having particularly excellent printing durability can be produced.

【0025】また、前記交流電流を発生させる電源にお
いては、電源電圧の立上り時に高い電源電圧を発生させ
る必要がないから、前記電源を安価に構成できる。
Further, in the power supply for generating the alternating current, it is not necessary to generate a high power supply voltage when the power supply voltage rises, so that the power supply can be constructed at low cost.

【0026】請求項9に記載の発明は、前記塩酸水溶液
において、塩酸濃度が2〜15g/リットルであり、ア
ルミニウムイオンの濃度が3〜7g/リットルである液
温20〜50℃の塩酸水溶液である平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法に関する。
According to a ninth aspect of the present invention, in the hydrochloric acid aqueous solution, the hydrochloric acid concentration is 2 to 15 g / liter, and the aluminum ion concentration is 3 to 7 g / liter. It relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate.

【0027】前記製造方法によれば、電解粗面化工程
(2)において、特に均一な微小波が形成できるから、
前記製造方法により得られる平版印刷版用アルミニウム
支持体の粗面化面に画像形成層を形成した平版印刷原版
は、請求項7のところで述べた平版印刷版に比べ、さら
に耐刷性に優れている。
According to the above-mentioned manufacturing method, particularly uniform microwaves can be formed in the electrolytic surface roughening step (2).
The lithographic printing plate precursor having the image forming layer formed on the roughened surface of the aluminum support for a lithographic printing plate obtained by the above-mentioned production method is more excellent in printing durability than the lithographic printing plate described in claim 7. There is.

【0028】請求項10に記載の発明は、前記電解粗面
化処理(1)および(2)の少なくとも一方において、
前記アルミニウム板に対する前記硝酸水溶液の平均相対
流速が1〜1000m/minになるように前記アルミ
ニウム板の長手方向に沿って前記硝酸水溶液を流通させ
る平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に関す
る。
According to a tenth aspect of the present invention, in at least one of the electrolytic surface roughening treatments (1) and (2),
The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein the nitric acid aqueous solution is circulated along the longitudinal direction of the aluminum plate so that the average relative flow rate of the nitric acid aqueous solution with respect to the aluminum plate is 1 to 1000 m / min.

【0029】前記製造方法によれば、前記アルミニウム
板の表面を均一に電解粗面化することができる。
According to the above manufacturing method, the surface of the aluminum plate can be uniformly electrolytically roughened.

【0030】請求項11に記載の発明は、前記アルカリ
エッチング処理(1)において、アルミニウム板の溶解
量が2〜15g/m2になるようにエッチング処理する
平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に関する。
According to the eleventh aspect of the present invention, in the alkali etching treatment (1), a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate is performed so that the dissolution amount of the aluminum plate is 2 to 15 g / m 2. Regarding

【0031】前記製造方法によれば、前記電解粗面化処
理(1)に先立つアルカリエッチング処理(1)におい
て、アルミニウム板の溶解量が前記範囲になるようにエ
ッチング処理を行うことにより、前記アルミニウム板の
表面に付着していた圧延時の油膜や表面の水酸化アルミ
ニウム被膜が効果的に除去できるだけでなく、前記アル
ミニウム板の表面に均一な大波も形成される。
According to the above-mentioned manufacturing method, in the alkaline etching treatment (1) prior to the electrolytic surface roughening treatment (1), the aluminum plate is subjected to etching treatment such that the amount of dissolution is within the above range. Not only can the oil film on the surface of the plate during rolling and the aluminum hydroxide film on the surface be effectively removed, but also a uniform large wave is formed on the surface of the aluminum plate.

【0032】請求項12に記載の発明は、前記アルカリ
エッチング処理(1)において、水酸化ナトリウムを含
有するアルカリ溶液を用いて前記アルミニウム板をエッ
チング処理する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法に関する。
The invention according to claim 12 relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein in the alkali etching treatment (1), the aluminum plate is subjected to an etching treatment using an alkali solution containing sodium hydroxide. .

【0033】前記製造方法においては、前記アルカリエ
ッチング処理(1)において、前記アルミニウム板の表
面を効果的に脱脂できる故に、前記製造方法で得られる
平版印刷版用アルミニウム支持体は、特に耐刷性と耐汚
れ性とに優れている。
In the above production method, since the surface of the aluminum plate can be effectively degreased in the alkali etching treatment (1), the aluminum support for a lithographic printing plate obtained by the above production method is particularly printing durable. And excellent in stain resistance.

【0034】請求項13に記載の発明は、前記アルカリ
溶液が、水酸化ナトリウムおよびアルミニウムイオン
を、それぞれ3〜30重量%および0.3〜9重量%含
有し、液温が35〜80℃である平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法に関する。
According to a thirteenth aspect of the present invention, the alkaline solution contains sodium hydroxide and aluminum ions in an amount of 3 to 30% by weight and 0.3 to 9% by weight, respectively, and the liquid temperature is 35 to 80 ° C. It relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate.

【0035】前記製造方法においては、前記エッチング
処理が短時間で行なえるので、エッチング処理装置の長
さを短くできる。
In the above manufacturing method, since the etching process can be performed in a short time, the length of the etching processing apparatus can be shortened.

【0036】請求項14に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(1)において、前記酸性溶液として硫酸水溶液
または硝酸水溶液を使用する平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造方法に関する。
The invention according to claim 14 relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein in the desmut treatment (1), an aqueous solution of sulfuric acid or an aqueous solution of nitric acid is used as the acidic solution.

【0037】前記製造方法においては、前記アルカリエ
ッチング処理(1)に引き続いて行うデスマット処理に
おいて、硫酸水溶液または硝酸水溶液を使用しているか
ら、前記アルカリエッチング処理(1)において前記ア
ルミニウム板の表面に生じた黒色乃至暗灰色の析出物で
あるスマットを効果的に除去できる。
In the above manufacturing method, since the sulfuric acid aqueous solution or the nitric acid aqueous solution is used in the desmutting treatment which is carried out subsequent to the alkali etching treatment (1), the surface of the aluminum plate is subjected to the alkali etching treatment (1). It is possible to effectively remove smut, which is a black to dark gray precipitate that has occurred.

【0038】請求項15に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(1)において、前記酸性溶液として、前記電解
粗面化処理(1)または前記陽極酸化処理における廃液
を使用する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
に関する。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in the desmut treatment (1), an aluminum support for a lithographic printing plate is used, wherein the acidic solution is a waste liquid in the electrolytic surface roughening treatment (1) or the anodizing treatment. A method of manufacturing a body.

【0039】前記製造方法によれば、前記電解粗面化処
理(1)または前記陽極酸化処理において発生する廃液
をデスマット処理で再利用しているから、廃液の発生量
を大幅に削減できる。
According to the manufacturing method, since the waste liquid generated in the electrolytic surface roughening treatment (1) or the anodizing treatment is reused in the desmut treatment, the amount of waste liquid generated can be greatly reduced.

【0040】請求項16に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(1)において、前記アルミニウム板を、硫酸を
80〜350g/リットル含有する液温25〜80℃の
硫酸水溶液、または硝酸を5〜15g/リットル含有す
る液温25〜80℃の硝酸水溶液で1〜10秒間処理す
る平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に関す
る。
According to the sixteenth aspect of the present invention, in the desmut treatment (1), the aluminum plate is a sulfuric acid aqueous solution containing 80 to 350 g / liter of sulfuric acid at a liquid temperature of 25 to 80 ° C. or 5 to 15 g of nitric acid. Per liter of a nitric acid aqueous solution containing a liquid temperature of 25 to 80 ° C. for 1 to 10 seconds.

【0041】前記製造方法によれば、前記アルカリエッ
チング処理(1)において前記スマットを特に効果的に
除去できる。
According to the manufacturing method, the smut can be removed particularly effectively in the alkali etching treatment (1).

【0042】請求項17に記載の発明は、前記アルカリ
エッチング処理(2)において、アルミニウム板の溶解
量が0.1〜10g/m2になるようにエッチング処理
する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に関す
る。
According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided an aluminum support for a lithographic printing plate, which is subjected to the etching treatment in the alkali etching treatment (2) so that a dissolution amount of the aluminum plate is 0.1 to 10 g / m 2 . It relates to a manufacturing method.

【0043】前記製造方法においては、電解粗面化処理
(1)に引き続いて行うアルカリエッチング処理(2)
により、電解粗面化処理(1)により前記アルミニウム
板の表面に生成した水酸化アルミニウムの被膜は効果的
に除去されるが、ハニカムピットは残存する。
In the above-mentioned manufacturing method, the electrolytic surface roughening treatment (1) is followed by the alkaline etching treatment (2).
Thus, the aluminum hydroxide coating film formed on the surface of the aluminum plate by the electrolytic surface roughening treatment (1) is effectively removed, but the honeycomb pits remain.

【0044】請求項18に記載の発明は、前記アルカリ
エッチング処理(2)において、水酸化ナトリウムを含
有するアルカリ溶液を用いて前記アルミニウム板をエッ
チング処理する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法に関する。
The invention according to claim 18 relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein in the alkali etching treatment (2), the aluminum plate is subjected to an etching treatment using an alkali solution containing sodium hydroxide. .

【0045】前記アルカリ溶液は、水酸化ナトリウムを
含有しているから、安価であり、しかもエッチング速度
が速い故に、前記製造方法によれば、前記アルカリエッ
チング処理(2)の所要時間、および前記アルカリエッ
チング処理(2)に使用されるエッチング装置の全長を
短くできるから好ましい。
Since the alkaline solution contains sodium hydroxide, it is inexpensive and has a high etching rate. Therefore, according to the manufacturing method, the time required for the alkaline etching treatment (2) and the alkaline It is preferable because the total length of the etching apparatus used for the etching process (2) can be shortened.

【0046】請求項19に記載の発明は、前記アルカリ
溶液が、水酸化ナトリウムおよびアルミニウムイオン
を、それぞれ3〜30重量%および0.3〜9重量%含
有し、液温が35〜80℃である平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法に関する。
According to a nineteenth aspect of the present invention, the alkaline solution contains sodium hydroxide and aluminum ions in an amount of 3 to 30% by weight and 0.3 to 9% by weight, respectively, and the liquid temperature is 35 to 80 ° C. It relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate.

【0047】前記アルカリ溶液は、特にエッチング速度
が速いので、前記アルカリエッチング処理(2)の所要
時間、および前記アルカリエッチング処理(2)に使用
されるエッチング装置の全長を特に短くできるから好ま
しい。
Since the alkaline solution has a particularly high etching rate, the time required for the alkaline etching treatment (2) and the total length of the etching apparatus used for the alkaline etching treatment (2) can be particularly shortened, which is preferable.

【0048】請求項20に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(2)において、前記酸性溶液として硫酸水溶液
を使用する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
に関する。
The twentieth aspect of the present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein an aqueous solution of sulfuric acid is used as the acidic solution in the desmut treatment (2).

【0049】前記製造方法によれば、前記アルカリエッ
チング処理(2)に引き続いて行うデスマット処理にお
いて、硫酸水溶液または硝酸水溶液を使用しているか
ら、前記アルカリエッチング処理(2)において前記ア
ルミニウム板の表面に生じたスマットを能率よく除去で
きる。
According to the above-mentioned manufacturing method, since the aqueous solution of sulfuric acid or the aqueous solution of nitric acid is used in the desmutting treatment which follows the alkali etching treatment (2), the surface of the aluminum plate is treated in the alkali etching treatment (2). The smut generated in the can be removed efficiently.

【0050】請求項21に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(2)において、前記アルミニウム板を、硫酸を
80〜350g/リットル含有する液温25〜80℃の
硫酸水溶液で1〜10秒間処理する平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法に関する。
In the desmutting treatment (2), the aluminum plate is treated with a sulfuric acid aqueous solution containing sulfuric acid at 80 to 350 g / liter at a liquid temperature of 25 to 80 ° C. for 1 to 10 seconds. The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate.

【0051】前記製造方法は、前記アルカリエッチング
処理(2)において前記アルミニウム板の表面に生じた
スマットを効果的に除去できるという特長を有する。
The manufacturing method is characterized in that the smut generated on the surface of the aluminum plate in the alkali etching treatment (2) can be effectively removed.

【0052】請求項22に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(2)において、前記酸性溶液として、前記陽極
酸化処理における廃液を使用する平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法に関する。
The invention as set forth in claim 22 relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein in the desmut treatment (2), a waste liquid in the anodizing treatment is used as the acidic solution.

【0053】前記製造方法によれば、前記陽極酸化処理
において発生する廃液をデスマット処理で再利用してい
るから、前記製造方法に使用される製造装置全体からの
廃液の発生量を大幅に削減できる。
According to the above manufacturing method, since the waste liquid generated in the anodizing treatment is reused in the desmutting treatment, the amount of waste liquid generated from the whole manufacturing apparatus used in the manufacturing method can be greatly reduced. .

【0054】請求項23に記載の発明は、前記アルカリ
エッチング処理(3)において、アルミニウム板の溶解
量が0.05〜1g/m2になるようにエッチング処理
する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に関す
る。
The invention according to claim 23 is an aluminum support for a lithographic printing plate, which is subjected to an etching treatment in the alkali etching treatment (3) so that the dissolution amount of the aluminum plate is 0.05 to 1 g / m 2 . It relates to a manufacturing method.

【0055】前記製造方法においては、電解粗面化処理
(2)に引き続いて行うアルカリエッチング処理(3)
により、電解粗面化処理(2)により前記アルミニウム
板の表面に生成した水酸化アルミニウムの被膜は効果的
に除去されるが、微小波は残存する。
In the above manufacturing method, an alkaline etching treatment (3) is carried out subsequent to the electrolytic surface roughening treatment (2).
As a result, the aluminum hydroxide film formed on the surface of the aluminum plate by the electrolytic surface roughening treatment (2) is effectively removed, but the microwave remains.

【0056】請求項24に記載の発明は、前記アルカリ
エッチング処理(3)において、水酸化ナトリウムを含
有するアルカリ溶液を用いて前記アルミニウム板をエッ
チング処理する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法に関する。
The invention according to claim 24 relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which comprises subjecting the aluminum plate to an etching treatment with an alkaline solution containing sodium hydroxide in the alkaline etching treatment (3). .

【0057】前記アルカリ溶液は、水酸化ナトリウムを
含有しているから、安価であり、しかもエッチング速度
が速い故に、前記製造方法によれば、前記アルカリエッ
チング処理(3)の所要時間、および前記アルカリエッ
チング処理(3)に使用されるエッチング装置の全長を
短くできるから好ましい。
Since the alkaline solution contains sodium hydroxide, it is inexpensive and has a high etching rate. Therefore, according to the manufacturing method, the time required for the alkali etching treatment (3) and the alkali It is preferable because the total length of the etching apparatus used for the etching process (3) can be shortened.

【0058】請求項25に記載の発明は、前記アルカリ
エッチング処理(3)において使用されるアルカリ溶液
が、水酸化ナトリウムおよびアルミニウムイオンを、そ
れぞれ3〜30重量%および0.3〜9重量%含有し、
液温が25〜80℃である平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法に関する。
According to a twenty-fifth aspect of the invention, the alkaline solution used in the alkaline etching treatment (3) contains sodium hydroxide and aluminum ions in an amount of 3 to 30% by weight and 0.3 to 9% by weight, respectively. Then
It relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate having a liquid temperature of 25 to 80 ° C.

【0059】前記アルカリ溶液は、特にエッチング速度
が速いので、前記アルカリエッチング処理(3)の所要
時間、および前記アルカリエッチング処理(3)に使用
されるエッチング装置の全長を特に短くできるから好ま
しい。
Since the alkaline solution has a particularly high etching rate, the time required for the alkaline etching treatment (3) and the total length of the etching apparatus used for the alkaline etching treatment (3) can be particularly shortened, which is preferable.

【0060】請求項26に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(3)において、前記酸性溶液として硫酸水溶液
を使用する平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
に関する。
The invention as set forth in claim 26 relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein an aqueous solution of sulfuric acid is used as the acidic solution in the desmut treatment (3).

【0061】前記製造方法によれば、前記アルカリエッ
チング処理(3)に引き続いて行うデスマット処理
(3)において、硫酸水溶液または硝酸水溶液を使用し
ているから、前記アルカリエッチング処理(3)におい
て前記アルミニウム板の表面に生じたスマットを能率よ
く除去できる。
According to the above-mentioned manufacturing method, since the sulfuric acid aqueous solution or the nitric acid aqueous solution is used in the desmutting treatment (3) which follows the alkali etching treatment (3), the aluminum is used in the alkali etching treatment (3). The smut generated on the surface of the plate can be removed efficiently.

【0062】請求項27に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(3)において、前記アルミニウム板を、硫酸を
80〜350g/リットル含有する液温25〜80℃の
硫酸水溶液で1〜10秒間処理する平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法に関する。
The invention according to claim 27 is the desmut treatment (3), wherein the aluminum plate is treated with a sulfuric acid aqueous solution containing 80 to 350 g / liter of sulfuric acid at a liquid temperature of 25 to 80 ° C. for 1 to 10 seconds. The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate.

【0063】前記製造方法は、前記アルカリエッチング
処理(3)において前記アルミニウム板の表面に生じた
スマットを効果的に除去できるという特長を有する。
The manufacturing method is characterized in that the smut generated on the surface of the aluminum plate in the alkali etching treatment (3) can be effectively removed.

【0064】請求項28に記載の発明は、前記デスマッ
ト処理(3)において、前記酸性溶液として、前記陽極
酸化処理における廃液を使用する平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法に関する。
The invention as set forth in claim 28 relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, wherein in the desmutting treatment (3), a waste liquid in the anodizing treatment is used as the acidic solution.

【0065】前記製造方法においては、前記デスマット
処理(3)を行ったアルミニウム板を水洗することな
く、直ちに陽極酸化処理に移行できるから、前記デスマ
ット処理(3)を行うデスマット処理装置と前記陽極酸
化処理を行なう陽極酸化処理装置との間に水洗装置を設
ける必要がない。
In the above-mentioned manufacturing method, the desmut treatment (3) can be immediately performed without rinsing the aluminum plate with water. Therefore, the desmut treatment apparatus for performing the desmut treatment (3) and the anodization treatment can be performed. It is not necessary to provide a water washing device with the anodizing device for performing the treatment.

【0066】請求項29に記載の発明は、前記陽極酸化
処理において、前記酸性電解液として、硫酸とアルミニ
ウムイオンとを含有し、硫酸の濃度が80〜200g/
リットルである硫酸水溶液を用い、25〜80℃の液温
で、直流電流により電解処理する平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法に関する。
According to a twenty-ninth aspect of the invention, in the anodizing treatment, the acidic electrolyte contains sulfuric acid and aluminum ions, and the concentration of sulfuric acid is 80 to 200 g /
The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which comprises electrolytically treating with a direct current at a liquid temperature of 25 to 80 ° C. using a sulfuric acid aqueous solution of liter.

【0067】前記製造方法においては、前記アルカリエ
ッチング処理(3)において生じたスマットを特に効果
的に除去できる。
In the above manufacturing method, the smut generated in the alkali etching treatment (3) can be removed particularly effectively.

【0068】請求項30に記載の発明は、請求項1〜2
8の何れか1項に記載の方法で製造されたことを特徴と
する平版印刷版用アルミニウム支持体に関する。
The invention as defined in claim 30 is defined by claim 1 and claim 2.
9. An aluminum support for a lithographic printing plate produced by the method according to any one of 8 above.

【0069】前記平版印刷版用アルミニウム支持体にお
いては、表面に均一に形成された大波に重畳してハニカ
ムピットおよび微小波が形成されているから、前記平版
印刷版用アルミニウム支持体を支持体とする平版印刷版
は、高いレベルの耐刷性と耐汚れ性とを兼ね備え、所謂
デジタル刷版として好適である。
In the aluminum support for a lithographic printing plate, honeycomb pits and minute waves are formed so as to be superposed on a large wave uniformly formed on the surface. Therefore, the aluminum support for a lithographic printing plate is used as a support. The lithographic printing plate having a high level of printing durability and stain resistance is suitable as a so-called digital printing plate.

【0070】請求項31に記載の発明は、請求項29に
記載の平版印刷版用アルミニウム支持体における粗面化
面に、ポジ型またはネガ型の画像形成層を設けてなる平
版印刷原版に関する。
A thirty-first aspect of the present invention relates to a lithographic printing original plate comprising a positive or negative image forming layer provided on the roughened surface of the lithographic printing plate aluminum support of the twenty-ninth aspect.

【0071】前記平版印刷原版は、高いレベルの耐刷性
と耐汚れ性とを兼ね備え、デジタル刷版として好適であ
る。
The lithographic printing original plate has both a high level of printing durability and stain resistance, and is suitable as a digital printing plate.

【0072】[0072]

【発明の実施の形態】1.アルミニウム板 本発明に使用されるアルミニウム板は、純アルミニウム
板、アルミニウムを主成分として各種微量元素を含むア
ルミニウム合金板、およびアルミニウムがラミネートま
たは蒸着されたプラスチックフィルムの中から選ばれ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION 1. Aluminum Plate The aluminum plate used in the present invention is selected from a pure aluminum plate, an aluminum alloy plate containing aluminum as a main component and various trace elements, and a plastic film laminated or vapor-deposited with aluminum.

【0073】前記微量元素としては、たとえば珪素、
鉄、ニッケル、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、
亜鉛、ビスマス、チタン、およびバナジウムなどがあ
る。
As the trace element, for example, silicon,
Iron, nickel, manganese, copper, magnesium, chromium,
Examples include zinc, bismuth, titanium, and vanadium.

【0074】たとえば、珪素が多く含まれると、粗面化
処理後に陽極酸化処理を施したときに、陽極酸化皮膜に
欠陥が多く生じる。前記欠陥の部分は、保水性が劣るか
ら、印刷時に印刷用紙が汚れやすくなる。また、銅が多
く含まれると、ハニカムピットが生成しない部分の面積
が多くなり、外観故障となる。したがって、硝酸水溶液
および塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理において
均一なハニカムピットを生成させる点からは、前記微量
元素の量は、0.001重量%〜1.5重量%の範囲が
好ましい。
For example, when a large amount of silicon is contained, many defects occur in the anodized film when the anodizing treatment is performed after the roughening treatment. Since the water-retaining property of the defective portion is inferior, the printing paper is liable to get dirty during printing. In addition, when a large amount of copper is contained, the area of the portion where the honeycomb pits are not formed is large, which causes an appearance failure. Therefore, from the viewpoint of forming uniform honeycomb pits in the electrochemical graining treatment in a nitric acid aqueous solution and a hydrochloric acid aqueous solution, the amount of the trace elements is 0.001% by weight to 1.5% by weight. preferable.

【0075】前記アルミニウム板に使用される純アルミ
ニウムおよびアルミニウム合金としては、通常は、アル
ミニウムハンドブック第4版(1990、軽金属協会)
に記載の、例えばJIS A 1050材、JIS A
3103材、JIS A3005材、JIS A 1
100材、JIS A 3004材、および引っ張り強
度を増す目的でこれらに5重量%以下のマグネシウムを
添加した合金などの公知のアルミニウム材を用いること
ができる。
As the pure aluminum and aluminum alloy used for the aluminum plate, the aluminum handbook, 4th edition (1990, Japan Light Metal Association) is usually used.
, JIS A 1050 material, JIS A
3103 material, JIS A3005 material, JIS A 1
Known aluminum materials such as 100 materials, JIS A 3004 materials, and alloys in which 5% by weight or less of magnesium is added to these materials for the purpose of increasing tensile strength can be used.

【0076】また、本発明においては、再生アルミニウ
ム板も使用できる。
In the present invention, recycled aluminum plate can be used.

【0077】1−1 アルミニウム合金の説明 本発明でアルミニウム板の材料として使用できるアルミ
ニウム合金としては、具体的には以下のものが挙げられ
る。
1-1 Description of Aluminum Alloy Specific examples of the aluminum alloy that can be used as the material for the aluminum plate in the present invention include the following.

【0078】(1)AL1 必須成分として、FeをO.2〜1重量%、Siを0.
05〜0.20重量%、Cuを0.006〜0.40重
量%含有し、任意成分としてMgを0,001〜0.0
3重量%、Tiを0.001〜0.04重量%含み、残
部がAlと不可避不純物とからなるアルミニウム合金で
ある。
(1) AL1 Fe as O. 2-1% by weight, and Si of 0.
0.05 to 0.20% by weight, 0.006 to 0.40% by weight of Cu, and 0.001 to 0.0% of Mg as an optional component.
An aluminum alloy containing 3% by weight, 0.001 to 0.04% by weight of Ti, and the balance being Al and inevitable impurities.

【0079】前記アルミニウム合金は、JlS A 1
050材に分類され、特に、電気化学的粗面化処理にお
けるピット径と深さとを大きくできるから、耐汚れ性と
耐刷性とのバランスを重視した平版印刷版用支持体に適
している。
The aluminum alloy is based on JlS A 1
It is classified into 050 materials, and in particular, since it can increase the pit diameter and the depth in the electrochemical roughening treatment, it is suitable as a support for a lithographic printing plate that places importance on the balance between stain resistance and printing durability.

【0080】(2)AL2 必須成分としてFeを0.1〜0.5重量%、Siを
0.02−0.10重量%含有し、任意成分として、C
uを0.005重量%以下、Mgを0.001〜0.0
3重量%、Tiを0,001−0.04重量%、Niを
0.002〜0.005重量%、Vを0.01〜O、05
重量%含有し、残部がAlと不可避不純物とからなるア
ルミニウム合金である。
(2) AL2 0.1 to 0.5% by weight of Fe and 0.02 to 0.10% by weight of Si are contained as essential components, and C is contained as an optional component.
u is 0.005 wt% or less, Mg is 0.001 to 0.0
3 wt%, Ti 0.001 to 0.04 wt%, Ni 0.002 to 0.005 wt%, V 0.01 to O, 05
It is an aluminum alloy containing 50% by weight and the balance being Al and inevitable impurities.

【0081】前記アルミニウム合金は、JlS A 1
050材〜J1S A 1070材に分類される合金で
あって、特に、電気化学的粗面化処理におけるピット径
を小さくすることにより、耐汚れ性を向上させることが
でき、非シリケート現像液と組み合わせることにより、
耐汚れ性と耐刷性のバランスを両立した平版印刷版版を
作製することができる。
The aluminum alloy is based on JlS A 1
It is an alloy classified into 050 material to J1S A 1070 material, and in particular, by reducing the pit diameter in the electrochemical graining treatment, the stain resistance can be improved, and it can be combined with a non-silicate developer. By
It is possible to produce a lithographic printing plate having a balance between stain resistance and printing durability.

【0082】(3)AL3 Alが95−99.4重量%であり、次の元素のうち、
5種類以上を以下の範囲で含むA1合金板である。
(3) AL3 Al is 95-99.4% by weight, and among the following elements,
It is an A1 alloy plate containing five or more kinds in the following ranges.

【0083】 Fe:0.3〜1重量% Si:0.15〜1重量% Cu:0.1〜1重量% Mg:0.1〜1.5重量% Mn:0.1〜1.5重量% Zn:0.1〜0.5重量% Cr:0.01〜0.1重量% Ti:0.03〜0.5重量% 前記アルミニウム合金は、スクラップ材を主原料として
使用できるから、原料コストが安価である。また、前記
アルミニウム合金は、アルミニウム合金AL1およびA
L2に比ベて機械強度が優れる。したがって、アルミニ
ウム合金AL3を使用することにより、原材料コストが
安く、かつ機械強度の優れた高強度型の平版印刷原版が
製造できる。
Fe: 0.3 to 1% by weight Si: 0.15 to 1% by weight Cu: 0.1 to 1% by weight Mg: 0.1 to 1.5% by weight Mn: 0.1 to 1.5% by weight % By weight Zn: 0.1-0.5% by weight Cr: 0.01-0.1% by weight Ti: 0.03-0.5% by weight Since the aluminum alloy can use a scrap material as a main raw material, Raw material cost is low. Further, the aluminum alloys are aluminum alloys AL1 and A
Excellent mechanical strength compared to L2. Therefore, by using the aluminum alloy AL3, it is possible to manufacture a high-strength type lithographic printing original plate which is low in raw material cost and excellent in mechanical strength.

【0084】(4)AL4 必須成分として、Mnを0.1〜1.5重量%、および
/またはMgを0.1〜1.5重量%含有するアルミニ
ウム合金である。
(4) AL4 An aluminum alloy containing 0.1 to 1.5% by weight of Mn and / or 0.1 to 1.5% by weight of Mg as an essential component.

【0085】前記アルミニウム合金は、機械強度が優れ
ると共に、AL3に比べて、粗面化処理の安定性に更に
優れ、より均一な粗面化面が優れると共に、AL1より
も更に深いピットを生成させやすい。したがって、アル
ミニウム合金AL4を用いることにより、耐汚れ性と耐
刷生とのバランスが取れ、特に耐刷性に優れ、言い換え
れば印刷性能が高く、しかも機械強度の優れた高強度型
の平版印刷原版が得られる。
The aluminum alloy is excellent in mechanical strength, more stable in roughening treatment than AL3, more uniform in roughening surface, and more deep in pits than AL1. Cheap. Therefore, by using the aluminum alloy AL4, the stain resistance and the printing durability are well balanced, the printing durability is particularly excellent, in other words, the printing performance is high and the mechanical strength is high. Is obtained.

【0086】1−2 微量元素についての説明 前記微量元素については、以下の通りである。1-2 Explanation of trace elements The trace elements are as follows.

【0087】Fe:Feは、新地金においても0.1
〜0.2重量%前後含有される元素であり、アルミニウ
ム中に固溶する量は少なく、殆どが金属間化合物として
残存する。
Fe: Fe is 0.1 even in new metal.
It is an element contained in about 0.2 wt%, and the amount of solid solution in aluminum is small, and most of it remains as an intermetallic compound.

【0088】Feは、機械強度を高める作用があるが、
1.0重量%より多いと圧延途中に割れが発生しやすく
なる。一方、Feの含有量を0.1重量%以下にするこ
とは現実的ではない。
Fe has the effect of increasing the mechanical strength,
If it exceeds 1.0% by weight, cracks are likely to occur during rolling. On the other hand, it is not realistic to set the Fe content to 0.1% by weight or less.

【0089】前記金属間化合物としては、A13Fe、
A16Fe、AlFeSi系化合物、およびAlFeS
iMn系化含物などが代表的である。
As the intermetallic compound, A1 3 Fe,
A1 6 Fe, AlFeSi-based compounds, and AlFeS
A typical example is an iMn-based inclusion.

【0090】Si:Siは、新地金においても0.0
3〜0.1重量%前後含有される元素で、アルミニウム
製品のスクラップの中にも多く含まれ、アルミニウム中
に固溶した状態、金属間化合物、および単独の析出物と
して存在する。また、平版印刷版用支持体の製造過程で
加熱されると、固溶していたSiが単体Siとして析出
することがある。
Si: Si is 0.0 even in new metal.
This element is contained in an amount of about 3 to 0.1% by weight, and is also contained in a large amount in scraps of aluminum products, and exists as a solid solution in aluminum, an intermetallic compound, and a single precipitate. In addition, when heated in the process of manufacturing the lithographic printing plate support, solid solution Si may be precipitated as simple substance Si.

【0091】単体Siが過剰の場合、過酷インキ汚れが
低下することが知られている。また、電気化学的粗面化
性に影響する。
It is known that when the amount of simple substance Si is excessive, severe ink stain is reduced. It also affects the electrochemical graining properties.

【0092】前記金属間化合物としては、AlFeSi
系化合物、AlFeSiMn系化合物、およびMg2
iなどが代表的である。
As the intermetallic compound, AlFeSi
Compounds, AlFeSiMn compounds, and Mg 2 S
i and the like are typical.

【0093】Cu:Cuは、新地金の中にも極微量含
まれる。また、JlS A 2000系およびJIS
A 4000系アルミニウム材のスクラップに多く含ま
れる元素であり、比較的アルミニウムに中に固溶しやす
い。Cuは、電気化学的粗面化性に大きな影響を及ぼす
元素である。
Cu: Cu is contained in a very small amount even in new metal. Also, JLS A 2000 system and JIS
It is an element contained in a large amount of scrap of A 4000 series aluminum material, and is relatively easily solid-dissolved in aluminum. Cu is an element that has a great influence on the electrochemical roughening property.

【0094】Mg:Mgは、新馳金の中には極微量含
まれる。また、JlS A 2000系、3000系、
5000系、および7000系材料のスクラップに多く
含まれる元素である。特に缶エンド材に多く含まれるた
め、スクラツプ材に含まれる主要な不純物金属の1つで
ある。
Mg: A very small amount of Mg is contained in the new gold. Also, JLS A 2000 series, 3000 series,
It is an element that is mostly contained in scraps of 5000 series and 7000 series materials. It is one of the main impurity metals contained in scrap materials, especially since it is contained in large amounts in can end materials.

【0095】Mgを添加する事で、耐熱軟化性、機械強
度を向上できる。比較的アルミニウム中に固溶しやす
く、Siと金属間化合物を形成することも知られてい
る。
By adding Mg, the heat softening resistance and mechanical strength can be improved. It is also known that it forms a solid solution in aluminum relatively easily and forms an intermetallic compound with Si.

【0096】Mn:Mnは、新地金の中には極微量含
まれるが、JlS A 3000系材料のスクラップに
多く含まれる元素である。特に缶ボディ材に多く含まれ
るため、スクラップ材に含まれる主要な不純物金属の1
つである。
Mn: Mn is an element contained in the scrap of JlS A 3000 series material, although it is contained in a very small amount in the new metal. Since it is especially contained in can body materials, it is one of the major impurity metals contained in scrap materials.
Is one.

【0097】Mnも比較的アルミニウム中に固溶しやす
く、Al、Fe、Si等と金属間化合物を形成する。M
nは、アルミニウム合金の機械強度を向上させるが、電
気化学的粗面化性に影響を及ぼす。
Mn is relatively easy to form a solid solution in aluminum and forms an intermetallic compound with Al, Fe, Si and the like. M
n improves the mechanical strength of the aluminum alloy, but affects the electrochemical roughening property.

【0098】Zn:Znは、新地金の中には極微量含
まれるが、JlS A 7000系材料のスクラップに
多く含まれる元素である。比較的アルミニウム中に固溶
しやすい。電気化学滴粗面化性に影響を及ぼす。
Zn: Zn is an element contained in the scrap of JlS A 7000 series material, although it is contained in a very small amount in new metal. Relatively soluble in aluminum. Affects electrochemical drop roughening.

【0099】Cr:Crは、新地金の中にも極微量含
まれることがあり、JlS A 5000系、6000
系、および7000系材料のスクラップに少量含まれる
こともある。
Cr: Cr may be contained in a very small amount even in the new metal, and JlS A 5000 series, 6000
It may be contained in a small amount in the scraps of the system and 7000 series materials.

【0100】Ti:Tiは、結晶微細化剤として通常
0.01〜0.04重量%添加される元素である。主と
して、Alとの金属間化合物、あるいはTiB2の形で
添加される。JlS A 5000系、6000系、お
よび7000系材料のスクラップには不純物金属として
比較的多めに含まれる。過剰に含まれると、電気化学的
粗面化性に影響することがある。
Ti: Ti is an element usually added as a grain refiner in an amount of 0.01 to 0.04% by weight. Mainly, it is added in the form of an intermetallic compound with Al or TiB 2 . The scraps of JLSA 5000 series, 6000 series, and 7000 series materials contain a relatively large amount of impurity metals. When contained in excess, it may affect the electrochemical roughening property.

【0101】1−3 金属間化合物の説明 アルミ原材料に含まれる元素やアルミ溶湯に添加された
元素は、鋳造工程で凝固する際、一部はアルミ中に固溶
し、残りは金属間化合物、または単独の晶出物・析出物
として存在する。前記元素が金属間化含物または単独の
晶出物・析出物として残る割合は、凝固速度の影響を大
きく受ける。たとえば、前記元素は、ローラ式連続鋳造
を採った場合のように急速疑固する場合には大部分が固
溶し、DC鋳造法のように疑固速度が遅い鋳造法を採っ
た場合には、比較的金属間化合物または単独の晶出物・
析出物として残り易い。
1-3 Description of Intermetallic Compound When the elements contained in the aluminum raw material and the elements added to the molten aluminum are solidified in the casting process, some of them are solid-solved in the aluminum, and the rest are intermetallic compounds, Or it exists as a single crystallized substance / precipitate. The proportion of the element remaining as an intermetallic compound or a single crystallized substance / precipitate is greatly affected by the solidification rate. For example, most of the above elements are solid-solved in the case of rapid suspicion as in the case of roller-type continuous casting, and in the case of a casting method with a slow suspicion rate as in the DC casting method. , Relatively intermetallic compounds or single crystallized substances
It easily remains as a precipitate.

【0102】その後、均熱、焼鈍などの熱処理工程や熱
間圧延工程中に、前記元素の多くは、アルミニウムに再
固溶したり、より安定な金属間化合物に変化したりする
が、厚さ0.1−0.7mm程度の平版印刷版用のアル
ミニウム板になった時点で、前記アルミニウム板の表面
や内部に、金属間化合物または単独の晶出物・析出物と
して存在することが多い。たとえば、DC鋳造法で前記
アルミニウム板を製造した場合においてアルミニウム合
金として前記AL1合金を使用した場合には、得られる
アルミニウム板には、500−20000個/mm2
度の密度で、金属間化含物または単独の晶出物および析
出物が存在する。一方、アルミニウム合金として前記A
L2合金を使用した場合には、得られるアルミニウム板
には、100−10000個/mm2程度の密度で金属
間化合物または単独の晶出物・析出物が存在する。AL
3合金またはAL4合金を使用した場合には、得られる
アルミニウム板には、5000−50000個/mm2
の範囲の金属間化合物または単独の晶出物・析出物が存
在する。
After that, during the heat treatment process such as soaking and annealing, and the hot rolling process, many of the above-mentioned elements re-dissolve in aluminum or change into a more stable intermetallic compound. When it becomes an aluminum plate for a lithographic printing plate of about 0.1 to 0.7 mm, it often exists as an intermetallic compound or a single crystallized substance / precipitate on the surface or inside of the aluminum plate. For example, when the AL1 alloy is used as the aluminum alloy in the case where the aluminum plate is manufactured by the DC casting method, the obtained aluminum plate has a density of about 500-20000 pieces / mm 2 and contains an intermetallic compound. There are crystals or single crystals and precipitates. On the other hand, the aluminum alloy
When the L2 alloy is used, the obtained aluminum plate contains intermetallic compounds or single crystallized substances / precipitates at a density of about 100-10000 / mm 2 . AL
When 3 alloy or AL4 alloy is used, the obtained aluminum plate has 5000-50000 pieces / mm 2
There are intermetallic compounds or single crystallized substances / precipitates in the range of.

【0103】1−4 アルミニウム板の製造方法 前記アルミニウム板は、DC鋳造法、連続鋳造法、DC
鋳造法から中間焼鈍処理および均熱処理の何れかまたは
両方を省略した製造方法、および連続鋳造法から中間焼
鈍処理を省略した製造方法の何れかにより製造できる。
1-4 Manufacturing Method of Aluminum Plate The aluminum plate is manufactured by DC casting method, continuous casting method, DC casting method.
It can be produced by either a casting method that omits the intermediate annealing treatment and / or the soaking treatment, or a continuous casting method that omits the intermediate annealing treatment.

【0104】2.粗面化処理 本発明の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に
おいては、本明細書の請求項1に記載のように、(1) ア
ルカリ溶液によりエッチングするアルカリエッチング処
理(1)、(2) 酸性溶液中でデスマット処理するデスマ
ット処理(1)、(3) 硝酸水溶液中で電解粗面化処理を
行なう電解粗面化処理(1)、(4) アルカリ溶液により
エッチングするアルカリエッチング処理(2)、(5) 酸
性溶液中でデスマット処理するデスマット処理(2)、
(6) 塩酸水溶液中で電解粗面化処理を行なう電解粗面化
処理(2)、(7) アルカリ溶液によりエッチングするア
ルカリエッチング処理(3)、(8) 酸性溶液中でデスマ
ット処理するデスマット処理(3)、および(9) 酸性電
解液中で陽極酸化被膜を形成する陽極酸化処理を順次行
なって前記アルミニウム板を粗面化する。
2. Roughening treatment In the method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate of the present invention, as described in claim 1 of the present specification, (1) an alkali etching treatment of etching with an alkali solution (1), (2 ) Desmutting treatment in acidic solution (1), (3) Electrolytic graining treatment in electrolytic nitric acid solution (1), (4) Alkaline etching treatment in alkaline solution (2) ), (5) Desmutting treatment in which desmutting is performed in an acidic solution (2),
(6) Electrolytic surface roughening treatment in an aqueous hydrochloric acid solution (2), (7) Alkaline etching treatment by etching with an alkaline solution (3), (8) Desmut treatment by desmutting in an acidic solution (3) and (9) Anodizing treatment for forming an anodized film in an acidic electrolytic solution is sequentially performed to roughen the aluminum plate.

【0105】以下、前記処理のそれぞれについて説明す
る。
Each of the above processes will be described below.

【0106】2−1 電解粗面化処理 前述のように、最初の電解粗面化処理である電解粗面化
処理(1)においては、硝酸水溶液内で電解粗面化処理
を行ない、第2回目の電解粗面化処理である電解粗面化
処理(2)においては塩酸水溶液中で電解粗面化処理を
行なう。
2-1 Electrolytic surface roughening treatment As described above, in the first electrolytic surface roughening treatment (1), the electrolytic surface roughening treatment is carried out in an aqueous nitric acid solution, and the second electrolytic roughening treatment is performed. In the electrolytic graining treatment (2), which is the electrolytic graining treatment of the second time, the electrolytic graining treatment is performed in an aqueous hydrochloric acid solution.

【0107】A.電解粗面化処理(1) 電解粗面化処理(1)においては、硝酸水溶液として
は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化
処理に用いる硝酸水溶液を使用できる。
A. Electrolytic surface roughening treatment (1) In the electrolytic surface roughening treatment (1), as the nitric acid aqueous solution, a nitric acid aqueous solution used for a usual electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current can be used.

【0108】前記硝酸水溶液としては、硝酸を1〜10
0g/リットル含む硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、
硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸塩、および
塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム
等の塩酸塩から選択される1種以上の塩を、1g/リッ
トル〜飽和濃度の範囲で添加したものを挙げることがで
きる。前記硝酸水溶液には、銅と錯体を形成する化合物
を1〜200g/リットルの濃度になるように添加する
こともできる。前記硝酸水溶液中には、さらに、鉄、
銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリ
カ等の前記アルミニウム板を形成するアルミニウム合金
中に含まれる微量元素が溶解していてもよい。加えて、
次亜塩素酸または過酸化水素を1〜100g/リットル
の濃度で含有していてもよい。
The nitric acid aqueous solution contains 1 to 10 nitric acid.
Aqueous nitric acid solution containing 0 g / liter, aluminum nitrate,
An example is one in which one or more kinds of salts selected from nitrates such as sodium nitrate and ammonium nitrate and hydrochlorides such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride are added in the range of 1 g / liter to a saturated concentration. A compound that forms a complex with copper may be added to the aqueous nitric acid solution at a concentration of 1 to 200 g / liter. Further, in the nitric acid aqueous solution, iron,
Trace elements contained in the aluminum alloy forming the aluminum plate, such as copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and silica, may be dissolved. in addition,
It may contain hypochlorous acid or hydrogen peroxide at a concentration of 1 to 100 g / liter.

【0109】前記硝酸水溶液としては、硝酸を2〜15
g/リットル含有する希硝酸に、硝酸アルミニウムなど
のアルミニウム塩を添加してアルミニウムイオンの濃度
を2〜7g/リットルに調整した溶液が特に好ましい。
As the nitric acid aqueous solution, nitric acid of 2 to 15 is used.
A solution in which an aluminum salt such as aluminum nitrate is added to dilute nitric acid containing g / l to adjust the concentration of aluminum ions to 2 to 7 g / l is particularly preferable.

【0110】また、硝酸水溶液中で電解粗面化処理を行
っていると、還元反応により、前記硝酸水溶液中にアン
モニウムイオンが生成するので、前記硝酸水溶液中に、
アンモニウムイオン濃度が50−150ppmになるよ
うに、予め硝酸アンモニウムを添加することがとくに好
ましい。
When electrolytic surface roughening treatment is carried out in an aqueous nitric acid solution, a reduction reaction produces ammonium ions in the aqueous nitric acid solution.
It is particularly preferable to add ammonium nitrate in advance so that the ammonium ion concentration becomes 50 to 150 ppm.

【0111】前記硝酸水溶液の液温は、30−80℃が
好ましく、35−60℃が特に好ましい。
The liquid temperature of the aqueous nitric acid solution is preferably 30-80 ° C, and particularly preferably 35-60 ° C.

【0112】B.電解粗面化処理(2) 電解粗面化処理(2)においては、塩酸水溶液として
は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化
処理に用いる塩酸水溶液を使用できる。
B. Electrolytic surface roughening treatment (2) In the electrolytic surface roughening treatment (2), as the hydrochloric acid aqueous solution, a hydrochloric acid aqueous solution used for usual electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current can be used.

【0113】前記塩酸水溶液としては、塩酸濃度が1〜
100g/リットルの塩酸水溶液に、塩化アルミニウ
ム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸塩、お
よび硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニ
ウム等の硝酸塩から選択された1種以上の塩を、1g/
リットル〜飽和濃度の範囲で添加したものを挙げること
ができる。前記塩酸水溶液には、また、銅と錯体を形成
する化合物を1〜200g/リットルの濃度になるよう
に添加することもできる。前記塩酸水溶液中には、鉄、
銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、珪素
等の前記アルミニウム板を形成するアルミニウム合金中
に含まれる微量元素が溶解していてもよい。加えて、次
亜塩素酸や過酸化水素を1〜100g/リットルの濃度
で含有していてもよい。
The hydrochloric acid aqueous solution has a hydrochloric acid concentration of 1 to
1 g / liter of one or more salts selected from hydrochloric acid salts such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride, and nitrate salts such as aluminum nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate in 100 g / liter hydrochloric acid aqueous solution
The thing added in the range of liter-saturation concentration can be mentioned. A compound that forms a complex with copper may be added to the aqueous hydrochloric acid solution so as to have a concentration of 1 to 200 g / liter. In the hydrochloric acid aqueous solution, iron,
Trace elements contained in the aluminum alloy forming the aluminum plate, such as copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and silicon, may be dissolved. In addition, hypochlorous acid or hydrogen peroxide may be contained at a concentration of 1 to 100 g / liter.

【0114】前記塩酸水溶液としては、塩酸を2〜15
g/リットル、さらに好ましくは2〜10g/リットル
含有する希塩酸に塩化アルミニウムなどのアルミニウム
塩を添加してアルミニウムイオンの濃度を3〜7g/リ
ットルに調整した溶液が特に好ましい。
As the hydrochloric acid aqueous solution, hydrochloric acid may be used in an amount of 2 to 15
A solution in which an aluminum salt such as aluminum chloride is added to diluted hydrochloric acid containing g / liter, more preferably 2 to 10 g / liter to adjust the concentration of aluminum ions to 3 to 7 g / liter is particularly preferable.

【0115】前記塩酸水溶液の液温は、20−50℃が
好ましく、特に30〜40℃の範囲が好ましい。
The liquid temperature of the aqueous hydrochloric acid solution is preferably 20 to 50 ° C., particularly preferably 30 to 40 ° C.

【0116】C.電解粗面化処理の条件 前記電解粗面化処理(1)および(2)の何れにおいて
も、交流および直流の何れを印加してもよいが、交流を
印加することが好ましい。前記交流は、前記アルミニウ
ム板が前記電解粗面化処理の間に陽極反応にあずかる電
気量が20〜500C/dm2になるように印加するこ
とが好ましい。そして、電解粗面化処理(1)において
は100〜500C/dm2の範囲がさらに好ましく、
200〜500C/dm2の範囲が特に好ましい。電解
粗面化処理(2)においては、25〜75C/dm2
さらに好ましく、40〜60C/dm2の範囲が特に好
ましい。
C. Conditions for electrolytic surface roughening treatment In either of the electrolytic surface roughening treatments (1) and (2), either alternating current or direct current may be applied, but alternating current is preferably applied. It is preferable that the alternating current is applied so that the amount of electricity that the aluminum plate takes in the anodic reaction during the electrolytic surface roughening treatment is 20 to 500 C / dm 2 . And, in the electrolytic surface roughening treatment (1), the range of 100 to 500 C / dm 2 is more preferable,
The range of 200 to 500 C / dm 2 is particularly preferable. In the electrolytic surface roughening treatment (2), 25 to 75 C / dm 2 is more preferable, and 40 to 60 C / dm 2 is particularly preferable.

【0117】前記交流としては、サイン波電流、矩形波
電流、台形波電流、および三角波電流など、各種の波形
を有する交流電流を用いることができるが、矩形波電流
および台形波電流が好ましく、台形波電流が特に好まし
い。
As the alternating current, alternating currents having various waveforms such as sine wave current, rectangular wave current, trapezoidal wave current and triangular wave current can be used, but rectangular wave current and trapezoidal wave current are preferable, and trapezoidal wave current is preferable. Wave currents are particularly preferred.

【0118】前記交流の周波数は、0.1〜500Hz
が好ましいが、前記電解粗面化処理(1)においては4
0〜70Hzの範囲が特に好ましく、電解粗面化処理
(2)においては、40〜150Hzが特に好ましい。
The frequency of the alternating current is 0.1 to 500 Hz.
However, in the electrolytic surface roughening treatment (1), 4 is preferable.
The range of 0 to 70 Hz is particularly preferable, and in the electrolytic surface roughening treatment (2), 40 to 150 Hz is particularly preferable.

【0119】前記台形波の一例を図1に示す。図1に示
す台形波を用いる場合は、電流が0からピークに達する
までの立上り時間tp(tpaまたはtpc)は0.1〜1
0msecの範囲が好ましく、0.5〜2msecの範
囲がとくに好ましい。立上り時間tpが0.1以上であ
れば、電源回路のインピーダンスの影響が小さいので、
電流波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が不要である
から、電源回路が安価に構成できる。また、立上り時間
pが10msec以下であれば、電解粗面化処理
(1)および(2)の何れにおいても、硝酸水溶液また
は塩酸水溶液中の微量成分の影響を受け難いから、均一
な粗面化がおこなわれる。
An example of the trapezoidal wave is shown in FIG. When the trapezoidal wave shown in FIG. 1 is used, the rise time t p (t pa or t pc ) from 0 to the peak of the current is 0.1 to 1
The range of 0 msec is preferable, and the range of 0.5 to 2 msec is particularly preferable. If the rise time t p is 0.1 or more, the influence of the impedance of the power supply circuit is small,
Since a large power supply voltage is not required at the rising of the current waveform, the power supply circuit can be constructed at low cost. Further, if the rising time t p is 10 msec or less, in both of the electrolytic surface roughening treatments (1) and (2), it is difficult to be influenced by the trace components in the nitric acid aqueous solution or the hydrochloric acid aqueous solution. Is done.

【0120】電気化学的な粗面化に用いる交流の1サイ
クルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間ta
が交流の周期Tに占める割合duty=ta/Tは、
0.33〜0.66が好ましく、0.45〜0.55が
更に好ましく、0.5が特に好ましい。
The condition of one cycle of alternating current used for electrochemical surface roughening is that the anode reaction time t a of the aluminum plate.
There proportion duty = t a / T as a percentage of the period T of the alternating current,
0.33-0.66 is preferable, 0.45-0.55 is more preferable, and 0.5 is especially preferable.

【0121】主極に対向するアルミニウム板に加わる電
気量は、アルミニウム板がカソード反応するときの電気
量Qcとアノード反応するときの電気量Qaの比Qc/Qa
が0.9〜1の範囲にあることが好ましい。前記電気量
比Qc/Qaは、電源が発生する電圧を調節することによ
り制御でき、また、図2に示す電解槽を用いるときは、
サイリスタThの点弧角を調節することにより制御でき
る。
The quantity of electricity applied to the aluminum plate facing the main electrode is the ratio Q c / Q a of the quantity of electricity Q c when the aluminum plate undergoes a cathode reaction and the quantity of electricity Q a when it undergoes an anodic reaction.
Is preferably in the range of 0.9 to 1. The electric quantity ratio Q c / Q a can be controlled by adjusting the voltage generated by the power source, and when the electrolytic cell shown in FIG. 2 is used,
It can be controlled by adjusting the firing angle of the thyristor Th.

【0122】電流密度は台形波のピーク値で電流のアノ
ードサイクル側Ia、カソードサイクル側Icともに10
〜200A/dm2の範囲が好ましく、30〜70A/
dm 2の範囲が、均一なハニカムピットおよび微小波を
形成する上で特に好ましい。
The current density is the peak value of the trapezoidal wave, and
Hard cycle side Ia, Cathode cycle side IcBoth 10
~ 200A / dm2The range is preferably 30 to 70 A /
dm 2Range of uniform honeycomb pits and microwaves
Particularly preferred for forming.

【0123】電解粗面化処理(1)および(2)の何れ
においても、電解槽としては、縦型、フラット型、ラジ
アル型などの公知の電解槽が使用できる。電解槽は、1
槽のみ使用してもよく、2槽以上を直列に使用してもよ
いが、電解粗面化処理(1)においては、1槽〜3槽を
直列に使用することが特に好ましく、電解粗面化処理
(2)においては、1槽でおこなうことがとくに好まし
い。電解粗面化処理(1)において電解槽を2層使用す
るときは、第1槽目の電解槽における電流密度および電
気量を第2槽目の電解槽における電流密度および電気量
よりも高くすることがとくに好ましい。
In each of the electrolytic surface roughening treatments (1) and (2), a known electrolytic cell such as a vertical type, a flat type or a radial type can be used as the electrolytic cell. 1 electrolyzer
Although only the tanks may be used or two or more tanks may be used in series, it is particularly preferable to use 1 to 3 tanks in series in the electrolytic surface roughening treatment (1). It is particularly preferable that the chemical treatment (2) is performed in one tank. When two layers of electrolytic cells are used in the electrolytic surface roughening treatment (1), the current density and the amount of electricity in the first electrolytic cell are made higher than the current density and the amount of electricity in the second electrolytic cell. Is particularly preferable.

【0124】前記電解槽の内部には、前記アルミニウム
板に交流または直流を印加する主電極が設けられる。
A main electrode for applying an alternating current or a direct current to the aluminum plate is provided inside the electrolytic cell.

【0125】前記電解槽においては、内部を搬送される
アルミニウム板と前記主電極との距離が5〜100m
m、好ましくは8〜15mmになるように前記アルミニ
ウム板の走路および主電極を配置することが望ましい。
前記主電極はカーボンで形成することが好ましい。
In the electrolytic cell, the distance between the aluminum plate conveyed inside and the main electrode is 5 to 100 m.
It is desirable to dispose the running path of the aluminum plate and the main electrode so that the length is m, preferably 8 to 15 mm.
The main electrode is preferably made of carbon.

【0126】前記電解槽内を搬送されるアルミニウム板
と前記電解槽の内部を流通する硝酸水溶液または塩酸水
溶液との平均相対流速は、1〜1000m/minの範
囲が好ましく、15〜300m/minの範囲が特に好
ましい。前記平均相対流速が前記範囲内である限り、前
記硝酸水溶液または塩酸水溶液の流通方向は、前記アル
ミニウム板の搬送方向と同方向および逆方向の何れの方
向であってもよい。
The average relative flow velocity between the aluminum plate transported in the electrolytic cell and the aqueous nitric acid solution or aqueous hydrochloric acid solution flowing in the electrolytic cell is preferably in the range of 1 to 1000 m / min, and in the range of 15 to 300 m / min. Ranges are particularly preferred. As long as the average relative flow velocity is within the range, the flow direction of the nitric acid aqueous solution or the hydrochloric acid aqueous solution may be either the same direction as the aluminum plate transport direction or the opposite direction.

【0127】また、前記アルミニウム板の走路と前記主
電極との距離、および前記硝酸水溶液および塩酸水溶液
の流速は一定に保持されていることが、均一な電解粗面
化を行う上で望ましい。
Further, it is desirable that the distance between the running path of the aluminum plate and the main electrode and the flow rates of the nitric acid aqueous solution and the hydrochloric acid aqueous solution are kept constant for uniform electrolytic graining.

【0128】フラット型および縦型の電解槽において
は、特公昭61−30036号公報に記載されているよ
うに、走行するアルミニウム板が摺動できるように形成
された面を内部に設け、静圧を利用して前記アルミニウ
ム板を圧接させつつ走行させることにより、前記距離を
一定に保つことができる。また、ラジアル型の電解槽に
おいては、特開平8−300843号公報に記載されて
いるように、内部に、前記アルミニウム板を搬送する直
径の大きなローラを設け、前記ローラを取り囲むよう
に、複数の主電極を円周上に配設し、前記主電極とアル
ミニウム板の距離を一定に保つことができる。
In the flat type and vertical type electrolytic cells, as described in Japanese Patent Publication No. 61-30036, a surface on which a traveling aluminum plate is slidable is provided inside and static pressure is applied. The distance can be kept constant by running the aluminum plate while pressing the aluminum plate. Further, in the radial type electrolytic cell, as described in JP-A-8-300843, a roller having a large diameter for conveying the aluminum plate is provided inside and a plurality of rollers are provided so as to surround the roller. By disposing the main electrode on the circumference, the distance between the main electrode and the aluminum plate can be kept constant.

【0129】また、前記硝酸水溶液および塩酸水溶液の
流速を一定にするには、電解槽の内部に液溜り室を設
け、内部を走行するアルミニウム板の巾方向に沿って幅
1〜5mmの液吹き出し用のスリットを設けた給液ノズル
を用いて前記硝酸水溶液および塩酸水溶液を供給すれば
よい。また、複数の液溜り室を設け、それぞれの液溜り
室を、バルブと流量計とを備える管路で接続し、前記給
液ノズルのそれぞれのスリットから吹き出す液量を調整
してもよい。
Further, in order to make the flow rates of the nitric acid aqueous solution and the hydrochloric acid aqueous solution constant, a liquid pool chamber is provided inside the electrolytic cell, and a 1-5 mm wide liquid is blown out along the width direction of the aluminum plate running inside. The nitric acid aqueous solution and the hydrochloric acid aqueous solution may be supplied using a liquid supply nozzle provided with a slit. In addition, a plurality of liquid pool chambers may be provided, and the liquid pool chambers may be connected to each other by a pipe line equipped with a valve and a flow meter, and the amount of liquid discharged from each slit of the liquid supply nozzle may be adjusted.

【0130】前記電解槽内部を走行するアルミニウム板
への給電方式としては、たとえばコンダクタローラを用
いる直接給電方式と、前記コンダクタローラを用いない
液給電方式、換言すれば間接給電方式とがある。
[0130] As a power feeding method for the aluminum plate running inside the electrolytic cell, there are, for example, a direct power feeding method using a conductor roller, a liquid power feeding method not using the conductor roller, in other words, an indirect power feeding method.

【0131】前記電解槽において、間接給電方式を用い
る場合は、変圧器および可変式誘導電圧調整器などを用
いて電流値を制御できる。
When the indirect power supply method is used in the electrolytic cell, the current value can be controlled by using a transformer and a variable induction voltage regulator.

【0132】また、前記電解槽の内部に前記主電極のほ
かに、直流を印加する補助陽極を設け、前記補助電極に
流れる直流電流の強さを制御することにより、アルミニ
ウム板に加わる陽極時の電気量と陰極時の電気量の比を
調整することができる。前記補助電極は、フェライト等
により形成できる。
In addition to the main electrode, an auxiliary anode for applying a direct current is provided inside the electrolytic cell, and by controlling the strength of the direct current flowing through the auxiliary electrode, the anode applied to the aluminum plate can be controlled. The ratio between the quantity of electricity and the quantity of electricity at the time of the cathode can be adjusted. The auxiliary electrode can be formed of ferrite or the like.

【0133】補助陽極に流れる直流電流の強さを制御す
る方法としては、特公平6−37716号公報および特
公平5−42520号公報に記載されているように、サ
イリスタやGTOなどの制御整流器による位相制御、お
よびダイオードと可変抵抗器とによる制御などが挙げら
れる。前記方法により、前記補助陽極に流れる電流を制
御すれば、変圧器の偏磁の影響を小さくすることがで
き、また、電源装置を安価に製作できるから、コスト的
に非常に有利である。
As a method for controlling the intensity of the direct current flowing through the auxiliary anode, a controlled rectifier such as a thyristor or a GTO is used as described in JP-B-6-37716 and JP-B-5-42520. Examples include phase control and control with a diode and a variable resistor. If the current flowing through the auxiliary anode is controlled by the above method, the influence of the magnetic bias of the transformer can be reduced, and the power supply device can be manufactured at low cost, which is very advantageous in terms of cost.

【0134】直接給電方式を用いる場合は、コンダクタ
ローラとしては、特開昭58−177441号公報に記
載されているように、工業用アルミニウムを用いて鋳造
し、高温均質化処理を施して表面部分のAl−Fe系昌
出物をAl3Feの単一相に変化させて耐食性を向上さ
せたコンダクタローラを用いることができる。また、特
開昭56−123400に記載されているように、フラ
ット型または縦型の電解槽におけるアルミニウム板の導
入部、または前記導入部と前記アルミニウム板の導出部
との両方に前記コンダクタローラを配設した電解槽を使
用することができる。
In the case of using the direct power feeding method, as the conductor roller, as described in JP-A-58-177441, industrial aluminum is cast and subjected to a high temperature homogenizing treatment to obtain a surface portion. It is possible to use a conductor roller in which the corrosion resistance is improved by changing the Al-Fe-based compound of ( 3) to a single phase of Al 3 Fe. Further, as described in JP-A-56-123400, the conductor roller is provided at the introduction part of the aluminum plate in the flat type or vertical type electrolytic cell, or both the introduction part and the extraction part of the aluminum plate. An arranged electrolyzer can be used.

【0135】前記電解槽においては、コンダクタローラ
は、アルミニウム板の上面または下面に接触するように
設けることが可能であるが、アルミニウム板の上面に接
触するように設け、ニップ装置にてアルミニウム板に押
しつけるようにするのが特に好ましい。アルミニウム板
がコンダクタローラに接する長さは、前記アルミニウム
板の進行方向に対して1mm〜300mmが好ましい。
アルミニウム板を挟んでコンダクタローラに対向するパ
スローラはゴム製の胴を有するゴムローラが好ましい。
前記コンダクタローラの押しつけ圧、およびゴムローラ
の胴の硬度は、前記コンダクタローラと前記アルミニウ
ム板との接する箇所においてアークスポットが発生しな
い条件で任意に設定できる。コンダクタローラがアルミ
ニウム板の上面に接触するように設置することで、コン
ダクタローラの交換作業・点検作業が簡単になる。コン
ダクタローラの端部には給電ブラシを回転体に摺動させ
ながら通電する方式を用いるのが好ましい。
In the electrolytic cell, the conductor roller can be provided so as to come into contact with the upper surface or the lower surface of the aluminum plate. It is particularly preferable to press it. The length of contact between the aluminum plate and the conductor roller is preferably 1 mm to 300 mm with respect to the traveling direction of the aluminum plate.
The pass roller facing the conductor roller with the aluminum plate interposed therebetween is preferably a rubber roller having a rubber body.
The pressing pressure of the conductor roller and the hardness of the body of the rubber roller can be arbitrarily set under the condition that an arc spot does not occur at a position where the conductor roller and the aluminum plate are in contact with each other. By installing the conductor roller so that it contacts the upper surface of the aluminum plate, replacement work and inspection work of the conductor roller are simplified. It is preferable to use a method of energizing the end portion of the conductor roller while sliding the power feeding brush on the rotating body.

【0136】前記コンダクターローラは、アークスポッ
トの発生を防止するために、前記硝酸水溶液または塩酸
水溶液により常に冷却することが好ましい。
It is preferable that the conductor roller is always cooled by the nitric acid aqueous solution or the hydrochloric acid aqueous solution in order to prevent the generation of arc spots.

【0137】2−2 アルカリエッチング処理 前述のように、本発明の製造方法においては、前記電解
粗面化処理(1)の前にアルカリエッチング処理を行
い、さらに、前記電解粗面化処理(1)および(2)の
後にもアルカリエッチング処理を行う。
2-2 Alkaline Etching Treatment As described above, in the production method of the present invention, an alkaline etching treatment is performed before the electrolytic surface roughening treatment (1), and further, the electrolytic surface roughening treatment (1) is performed. ) And (2), the alkali etching treatment is also performed.

【0138】前記電解粗面化処理(1)の前にアルカリ
エッチング処理を行うことにより、前記アルミニウム板
は脱脂されると同時に、表面に大波が形成される。
By performing the alkali etching treatment before the electrolytic graining treatment (1), the aluminum plate is degreased and at the same time a large wave is formed on the surface.

【0139】そして、前記電解粗面化処理(1)および
(2)の後にアルカリエッチング処理を行うことによ
り、電解粗面化処理(1)および(2)でアルミニウム
板の表面に生じた水酸化アルミニウムの被膜が除去され
る。
Then, after the electrolytic surface-roughening treatments (1) and (2), an alkali etching treatment is performed, so that the hydroxylation generated on the surface of the aluminum plate by the electrolytic surface-roughening treatments (1) and (2) is performed. The aluminum coating is removed.

【0140】前記アルカリエッチング処理においては、
前記アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることに
より、エッチング処理を行なう。
In the alkali etching process,
Etching is performed by bringing the aluminum plate into contact with an alkaline solution.

【0141】アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させ
る方法としては、例えば前記アルカリ溶液を収容する槽
中を連続的に通過させる方法、前記アルカリ溶液を収容
する槽中に浸漬する方法、および前記アルカリ溶液を前
記アルミニウム板の表面に噴霧する方法などがある。
The aluminum plate may be brought into contact with the alkaline solution by, for example, continuously passing through the tank containing the alkaline solution, immersing in the tank containing the alkaline solution, and the alkaline solution. There is a method of spraying on the surface of the aluminum plate.

【0142】前記アルカリエッチング処理におけるアル
ミニウム板の溶解量、換言すればエッチング量は、最初
に行うアルカリエッチング処理(1)においては2〜1
5g/m2の範囲が好ましく、特に3〜10g/m2の範
囲が好ましい。電解粗面化処理(1)に引き続いて行な
うアルカリエッチング処理(2)においては、エッチン
グ量は0.1〜10g/m2の範囲が好ましく、特に
0.2〜3.5g/m2の範囲が好ましい。そして、電
解粗面化処理(2)に引き続いて行なうアルカリエッチ
ング処理(3)においては、エッチング量は0.05〜
1g/m2の範囲が好ましく、特に0.1〜0.8g/
2の範囲が好ましい。
The amount of dissolution of the aluminum plate in the alkali etching treatment, in other words, the etching amount is 2 to 1 in the first alkali etching treatment (1).
Is preferably in the range of 5 g / m 2, in particular in the range of 3 to 10 g / m 2 is preferred. In the electrolytic graining treatment (1) to the subsequent alkali etching treatment carried out (2), the etching amount is preferably in the range of 0.1 to 10 g / m 2, particularly from 0.2~3.5g / m 2 Is preferred. Then, in the alkaline etching treatment (3) that follows the electrolytic surface roughening treatment (2), the etching amount is 0.05 to
The range of 1 g / m 2 is preferable, and especially 0.1-0.8 g / m 2.
A range of m 2 is preferred.

【0143】前記アルカリ溶液としては、苛性アルカリ
およびアルカリ金属塩の溶液等が挙げられる。
Examples of the alkaline solution include solutions of caustic and alkali metal salts.

【0144】苛性アルカリとしては、水酸化ナトリウム
および水酸化カリウム等が挙げられる。
Examples of the caustic alkali include sodium hydroxide and potassium hydroxide.

【0145】前記アルカリ金属塩としては、メタ珪酸ナ
トリウム、珪酸ナトリウム、メタ珪酸カリウム、および
珪酸カリウム等のアルカリ金属珪酸塩、炭酸ナトリウム
および炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、アルミン
酸ナトリウムおよびアルミン酸カリウム等のアルカリ金
属アルミン酸塩、グルコン酸ナトリウムおよびグルコン
酸カリウム等のアルカリ金属アルドン酸塩、並びに第二
燐酸ナトリウム、第二燐酸カリウム、第三燐酸ナトリウ
ム、および第三燐酸カリウム等のアルカリ金属燐酸水素
塩等が挙げられる。前記アルカリ溶液としては、エッチ
ング速度が速い点および安価である点から、苛性アルカ
リの溶液、および前記苛性アルカリとアルカリ金属アル
ミン酸塩との溶液が特に好ましい。
Examples of the alkali metal salt include alkali metal silicates such as sodium metasilicate, sodium silicate, potassium metasilicate and potassium silicate, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, sodium aluminate and potassium aluminate. Alkali metal aluminates such as and the like, alkali metal aldonates such as sodium gluconate and potassium gluconate, and alkali metal hydrogen phosphates such as sodium diphosphate, potassium diphosphate, sodium triphosphate, and potassium triphosphate. Salt etc. are mentioned. As the alkali solution, a caustic alkali solution and a solution of the caustic alkali and an alkali metal aluminate are particularly preferable from the viewpoint of high etching rate and low cost.

【0146】前記アルカリ溶液としては、アルミニウム
イオンを所定量含有する水酸化ナトリウム溶液が特に好
ましい。
As the alkaline solution, a sodium hydroxide solution containing a predetermined amount of aluminum ions is particularly preferable.

【0147】前記水酸化ナトリウム溶液中の水酸化ナト
リウムおよびアルミニウムイオンの濃度は、前記アルカ
リエッチング処理(1)および前記アルカリエッチング
処理(2)においては、それぞれ3〜30重量%および
0.3〜9重量%の範囲が好ましい。前記水酸化ナトリ
ウムおよびアルミニウムイオンの濃度の特に好ましい範
囲は、前記アルカリエッチング処理(1)においては、
それぞれ20〜30重量%および5〜9重量%であり、
前記アルカリエッチング処理(2)においては、それぞ
れ3〜7重量%および0.3〜7重量%である。そし
て、前記アルカリエッチング処理(3)においては、前
記水酸化ナトリウムおよびアルミニウムイオンの濃度
は、それぞれ3〜30重量%および0.3〜0.9重量
%の範囲が好ましい。
The concentrations of sodium hydroxide and aluminum ions in the sodium hydroxide solution were 3 to 30% by weight and 0.3 to 9% by weight in the alkali etching treatment (1) and the alkali etching treatment (2), respectively. A weight% range is preferred. In the alkali etching treatment (1), a particularly preferable range of the concentrations of the sodium hydroxide and aluminum ions is
20-30 wt% and 5-9 wt% respectively,
In the alkali etching treatment (2), the amounts are 3 to 7% by weight and 0.3 to 7% by weight, respectively. In the alkali etching treatment (3), the concentrations of sodium hydroxide and aluminum ions are preferably in the ranges of 3 to 30% by weight and 0.3 to 0.9% by weight, respectively.

【0148】前記アルカリ溶液の液温は、前記アルカリ
エッチング処理(1)、(2)、および(3)の何れに
おいても35〜80℃の範囲が好ましい。
The liquid temperature of the alkaline solution is preferably in the range of 35 to 80 ° C. in any of the alkaline etching treatments (1), (2) and (3).

【0149】前記アルカリエッチング処理は、アルミニ
ウム板のエッチング処理に通常に使用されるエッチング
装置を用いて行うことができる。前記エッチング装置と
しては、アルカリ溶液を貯留する槽を有し、前記槽中に
前記アルミニウム板を浸漬する形態のもの、およびスプ
レーノズルを有し、前記スプレーノズルから前記アルミ
ニウム板に向って前記アルカリ溶液を吹き付ける形態の
ものが挙げられる。前記エッチング装置は、バッチ式で
あっても連続式であってもよい。
The alkali etching treatment can be carried out by using an etching apparatus usually used for the etching treatment of an aluminum plate. The etching apparatus has a tank for storing an alkaline solution, a method of immersing the aluminum plate in the tank, and a spray nozzle, and the alkaline solution from the spray nozzle toward the aluminum plate. The form of spraying. The etching apparatus may be a batch type or a continuous type.

【0150】前記アルカリエッチング処理が終了した後
には、処理液を次工程に持ち込まないように、ニップロ
ーラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが
好ましい。
After the alkali etching treatment is completed, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with water by spraying so as not to bring the treatment liquid into the next step.

【0151】2−3 デスマット処理 前記アルカリエッチング処理(1)〜(3)において
は、前記アルミニウム板をアルカリ溶液で処理するの
で、微量元素が水酸化物などに変化して前記アルミニウ
ム板の表面に析出し、スマットが生成する。
2-3 Desmut treatment In the alkali etching treatments (1) to (3), since the aluminum plate is treated with an alkaline solution, trace elements are changed to hydroxides and the like, and the surface of the aluminum plate is treated. Precipitation occurs and smut is generated.

【0152】そこで、前記アルカリエッチング処理
(1)〜(3)が終了する毎に、前記アルミニウム板を
酸性溶液に接触させてデスマット処理し、表面のスマッ
トを除去する。
Therefore, every time the alkali etching treatments (1) to (3) are completed, the aluminum plate is brought into contact with an acidic solution and desmutted to remove smut on the surface.

【0153】前記デスマット処理は、前記アルミニウム
板を酸性溶液中に浸漬するか、酸性溶液中を通過させる
かして行なうことができ、また、前記酸性溶液を、スプ
レーノズルを用いて吹付けるスプレー処理により行うこ
とができるが、前記スプレー処理が好ましい。
The desmutting treatment can be carried out by immersing the aluminum plate in an acidic solution or passing it through an acidic solution, and spraying the acidic solution with a spray nozzle. The spray treatment is preferable.

【0154】酸性溶液としては、主要な酸成分として、
硝酸、硫酸、塩酸、およびクロム酸から選択される1種
または2種以上の酸を含有する溶液が挙げられる。前記
酸性溶液における前記酸性分の濃度は0.5〜60重量
%が好ましい。前記酸性溶液中には、アルミニウムイオ
ン、および前記微量元素のうち前記アルミニウム板を形
成するアルミニウム合金中に含まれるもののイオンが0
〜5重量%溶解していても良い。
As an acidic solution, the main acid component is
Examples include solutions containing one or more acids selected from nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and chromic acid. The concentration of the acidic component in the acidic solution is preferably 0.5 to 60% by weight. In the acidic solution, aluminum ions and ions of the trace elements contained in the aluminum alloy forming the aluminum plate are 0.
~ 5 wt% may be dissolved.

【0155】前記酸性溶液としては、硫酸を主要な酸成
分として含有する硫酸水溶液、および硝酸を主要な酸成
分として含有する硝酸水溶液が好ましく、特に、デスマ
ット処理(1)においては、硫酸を80〜200g/リ
ットル含有し、液温が25〜85℃の硫酸水溶液、およ
び硝酸を5〜15g/リットル含有し、液温が25〜5
0℃の硝酸水溶液が好ましい。デスマット処理(2)お
よび(3)においては、硫酸を80〜350g/リット
ル含有する液温25〜80℃の硫酸水溶液が好ましい。
As the acidic solution, an aqueous solution of sulfuric acid containing sulfuric acid as a main acid component and an aqueous solution of nitric acid containing nitric acid as a main acid component are preferable. Particularly, in the desmut treatment (1), sulfuric acid of 80 to Contains 200 g / liter, aqueous sulfuric acid solution having a liquid temperature of 25 to 85 ° C., and nitric acid 5 to 15 g / liter, and has a liquid temperature of 25 to 5
A 0 ° C. aqueous nitric acid solution is preferred. In the desmutting treatments (2) and (3), a sulfuric acid aqueous solution containing sulfuric acid at 80 to 350 g / liter and having a liquid temperature of 25 to 80 ° C. is preferable.

【0156】また、デスマット処理(1)においては、
前記酸性溶液として、後述する電解粗面化処理(1)ま
たは後述する陽極酸化処理で排出される廃液を使用で
き、また、デスマット処理(2)および(3)において
は、前記酸性溶液として、前記陽極酸化処理で排出され
る廃液を使用することもできる。
In the desmutting process (1),
As the acidic solution, a waste liquid discharged by the electrolytic surface-roughening treatment (1) described later or the anodizing treatment described later can be used, and in the desmut treatments (2) and (3), the acidic solution is It is also possible to use the waste liquid discharged by the anodizing treatment.

【0157】デスマット処理において、酸性溶液とし
て、電解粗面化処理(1)または陽極酸化処理で排出さ
れる廃液を再利用すれば、廃液の量を大幅に削減できる
だけでなく、前記デスマット処理(2)後に前記アルミ
ニウム板を洗浄することなく、直ちに前記陽極酸化処理
に移行できるから、デスマット処理装置と陽極酸化処理
装置との間の洗浄設備を省略できる点でも好ましい。
In the desmutting treatment, if the waste liquid discharged from the electrolytic surface roughening treatment (1) or the anodizing treatment is reused as the acidic solution, not only the amount of the waste liquid can be greatly reduced but also the desmutting treatment (2 ) After that, since it is possible to immediately shift to the anodizing treatment without cleaning the aluminum plate, it is preferable in that the cleaning equipment between the desmutting apparatus and the anodizing apparatus can be omitted.

【0158】前記酸性溶液の液温は、前記デスマット処
理(1)および(2)の何れにおいても、常温〜95℃
の範囲が好ましく、特に、25〜80℃の範囲が好まし
い。
The liquid temperature of the acidic solution is room temperature to 95 ° C. in both the desmut treatments (1) and (2).
Is preferable, and a range of 25 to 80 ° C. is particularly preferable.

【0159】処理時間は1〜30秒が好ましく、特に1
〜10秒が好ましい。
The processing time is preferably 1 to 30 seconds, and particularly 1
-10 seconds is preferable.

【0160】デスマット処理が終了した後には、処理液
を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液
切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましいが、酸
性溶液として、次の工程で用いる液と同じ種類・組成の
液、または次の工程で排出される廃液を使用する場合に
は、廃液量を少なくすべく、前記液切りおよび水洗を省
略することができる。
After the desmut treatment is completed, it is preferable to drain the treatment liquid by the nip roller and wash it with water by spraying so as not to bring the treatment liquid to the next process. When the liquid having the composition or the waste liquid discharged in the next step is used, the draining and the water washing can be omitted in order to reduce the amount of the waste liquid.

【0161】2−4 陽極酸化処理 アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる酸性電解液
としては、一般には硫酸、燐酸、蓚酸、クロム酸、およ
びそれらの混合物を主要な酸成分とする酸性溶液が用い
られるが、陽極酸化処理により多孔質酸化皮膜を形成で
きる溶液であれば、前記の酸性溶液には限定されない。
2-4 Anodizing Treatment As the acidic electrolytic solution used for the anodizing treatment of the aluminum plate, an acidic solution containing sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixture thereof as a main acid component is generally used. However, the acidic solution is not limited as long as it is a solution capable of forming a porous oxide film by anodizing treatment.

【0162】陽極酸化の処理条件は、用いる酸性電解液
の組成によって変わるので、一概には特定できないが、
一般的には、前記酸成分の濃度が1〜80重量%であ
り、液温が5〜70℃であり、電流密度が1〜60A/
dm2であり、電圧が1〜100Vであり、処理時間が
10秒〜300秒の範囲が適当である。
The treatment conditions for anodic oxidation vary depending on the composition of the acidic electrolytic solution used, and therefore cannot be generally specified.
Generally, the concentration of the acid component is 1 to 80% by weight, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 1 to 60 A /
dm 2 , the voltage is 1 to 100 V, and the processing time is suitably in the range of 10 seconds to 300 seconds.

【0163】陽極酸化皮膜の量は、1〜5g/m2の範
囲が適当である。陽極酸化皮膜の量が1g/m2以上で
あれば、充分な耐刷性が得られるから、平版印刷版の非
画像部に傷が付き難く、したがって、傷の部分にインキ
が付着する所謂きず汚れが生じ難い。陽極酸化皮膜量が
多くなると、アルミニウム板のエッジ部分に酸化皮膜が
集中しやすくなるが、陽極酸化皮膜の量が5g/m2
下であれば、このような問題が生じることはない。但
し、アルミニウム板のエッジの部分と中心部分の酸化皮
膜量の差は1g/m2以下であることが好ましい。
The amount of the anodic oxide film is appropriately in the range of 1 to 5 g / m 2 . When the amount of the anodic oxide film is 1 g / m 2 or more, sufficient printing durability can be obtained, so that the non-image area of the lithographic printing plate is less likely to be scratched, and therefore the so-called flaw in which the ink adheres to the scratched portion. Hard to get dirty. When the amount of the anodic oxide film is large, the oxide film is likely to concentrate on the edge portion of the aluminum plate, but if the amount of the anodic oxide film is 5 g / m 2 or less, such a problem does not occur. However, the difference in the amount of oxide film between the edge portion and the central portion of the aluminum plate is preferably 1 g / m 2 or less.

【0164】前記酸性電解液として硫酸水溶液を用いる
場合には、通常は、前記アルミニウム板に直流電流を印
加して陽極酸化処理を行なうが、交流を印加して陽極酸
化処理を行なってもよい。
When a sulfuric acid aqueous solution is used as the acidic electrolytic solution, a direct current is usually applied to the aluminum plate to perform anodizing treatment, but an alternating current may be applied to perform the anodizing treatment.

【0165】前記硫酸水溶液としては、特開昭54−1
28453号公報および特開昭48−45303号各公
報に詳しく記載されているように、硫酸濃度が10〜3
00g/リットルである硫酸溶液が好ましく、硫酸濃度
が80〜200g/リットルである硫酸水溶液が特に好
ましい。液温は30〜60℃が好ましく、特に30〜5
5℃の範囲が好ましい。
The sulfuric acid aqueous solution is described in JP-A-54-1.
As described in detail in JP-A-28453 and JP-A-48-45303, the sulfuric acid concentration is 10 to 3
A sulfuric acid solution having a concentration of 00 g / liter is preferable, and an aqueous sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 80 to 200 g / liter is particularly preferable. The liquid temperature is preferably 30 to 60 ° C., particularly 30 to 5
A range of 5 ° C is preferred.

【0166】直流を用いて陽極酸化処理を行なうとき
は、電流密度は、1〜60A/dm2の範囲が好まし
く、特に5〜40A/dm2の範囲が好ましい。アルミ
ニウム板を連続的に陽極酸化する場合は、アルミニウム
板の焼けと呼ばれる電流集中を防ぐために、最上流側に
おいては5〜10A/dm2の低電流密度で陽極酸化処
理をおこない、下流側に向かって徐々に電流密度を高
め、30〜50A/dm2またはそれよりも高い値にま
で電流密度を高くすることが好ましい。電流密度は、5
〜15ステップで徐々に上げることが好ましく、各ステ
ップごとに独立した電源装置を設けて前記電源装置のそ
れぞれにおいて電流密度を制御することにより、下流側
に向かって徐々に電流密度を高めることができる。前記
アルミニウム板への給電方法は、コンダクタローラを用
いない後述する液給電方式が好ましい。特開2001−
11698号公報にはその一例が示されている。
[0166] When performing anodic oxidation treatment using a direct current, the current density is preferably in the range of 1 to 60 A / dm 2, in particular in the range of 5 to 40 A / dm 2 is preferred. When continuously anodizing an aluminum plate, in order to prevent current concentration called burning of the aluminum plate, anodizing treatment is performed at a low current density of 5 to 10 A / dm 2 on the most upstream side, and the downstream side is subjected. It is preferable to gradually increase the current density by increasing the current density to a value of 30 to 50 A / dm 2 or higher. Current density is 5
It is preferable to gradually increase the current density in 15 to 15 steps, and by providing an independent power supply device for each step and controlling the current density in each of the power supply devices, the current density can be gradually increased toward the downstream side. . As a method for feeding power to the aluminum plate, a liquid feeding method which will be described later without using a conductor roller is preferable. Japanese Patent Laid-Open No. 2001-
An example is shown in Japanese Patent No. 11698.

【0167】アルミニウム板への給電方式としては、前
記電解粗面化処理のときと同様に、直接給電方式と液給
電方式とが挙げられる。
As a method of supplying power to the aluminum plate, there are a direct supply method and a liquid supply method, as in the case of the electrolytic surface roughening treatment.

【0168】直接給電方式は、高速・高電流密度になる
とコンダクタローラとアルミニウムウェブ間のスパーク
発生の問題が発生して不利なので、ライン速度が30m
/分以下の比較的低速・低電流密度の陽極酸化装置で用
いられることが多く、間接給電方式は、ライン速度が3
0m/minを越える高速・高電流密度の陽極酸化装置
で用いられることが多い。
The direct power feeding method is disadvantageous in that a spark is generated between the conductor roller and the aluminum web at a high speed and a high current density.
It is often used in anodizing equipment with a relatively low speed and low current density of less than 1 / min.
It is often used in high-speed, high-current-density anodic oxidation equipment that exceeds 0 m / min.

【0169】間接給電方式を使用する場合には、連続表
面処理技術(総合技術センター、昭和61年9月30日
発行)の289頁にあるように、山越型またはストレー
ト型の槽レイアウトを用いることができる。
When using the indirect power supply method, use the Yamakoshi type or straight type tank layout as described on page 289 of the continuous surface treatment technology (General Technology Center, issued September 30, 1986). You can

【0170】直接給電方式、間接給電方式ともに、アル
ミニウムウェブ内の電圧ドロップによるエネルギーロス
を少なくする目的で、陽極酸化処理工程は2つ以上に分
離し、それぞれの電解装置の給電槽と酸化槽、またはコ
ンダクタローラと酸化槽の間に直流電源を接続して用い
ることがとくに好ましい。
In both the direct power feeding method and the indirect power feeding method, in order to reduce energy loss due to voltage drop in the aluminum web, the anodizing process is divided into two or more steps, and a feeding tank and an oxidation tank of each electrolyzer, Alternatively, it is particularly preferable to use a DC power supply connected between the conductor roller and the oxidation tank.

【0171】直接給電方式を用いる場合は、コンダクタ
ローラとしては、前記「2−4 電解粗面化処理」のと
ころで述べたコンダクタローラと同様のものを使用でき
る。
When the direct power feeding method is used, the same conductor roller as described in the above "2-4 Electrolytic surface roughening treatment" can be used as the conductor roller.

【0172】陽極酸化処理工程においては大電流を流す
ため、ブスバーに流れる電流により発生する磁界によ
り、アルミニウム板にローレンツ力が働く。その結果ウ
ェブが蛇行する問題が生じるため、特開昭57−512
90に記載のような方法を用いることが特に好ましい。
Since a large current is passed in the anodizing process, a Lorentz force acts on the aluminum plate by the magnetic field generated by the current flowing through the bus bar. As a result, a problem occurs that the web meanders.
It is particularly preferable to use the method as described in 90.

【0173】また、アルミニウム板には大電流が流れる
ため、アルミニウム板自身を流れる電流による磁界によ
り、アルミニウム板の幅方向において中央に向かってロ
ーレンツ力が働く。その結果アルミニウム板に折れが発
生しやすくなるため、陽極酸化処理槽内に直径100〜
200mmのパスローラーを100〜3000mmピッ
チで複数設け、1度から15度の角度でラップさせてロ
ーレンツ力による折れを防止する方法をとることが特に
好ましい。
Since a large current flows through the aluminum plate, a Lorentz force acts toward the center in the width direction of the aluminum plate due to the magnetic field generated by the current flowing through the aluminum plate itself. As a result, the aluminum plate is likely to be broken, so that the diameter of the aluminum plate is 100
It is particularly preferable to adopt a method in which a plurality of 200 mm pass rollers are provided at a pitch of 100 to 3000 mm and are wrapped at an angle of 1 to 15 degrees to prevent breakage due to Lorentz force.

【0174】また、陽極酸化被膜は、アルミニウム板の
エッジに近づくほど生成量が多くなり、厚さが厚くなる
から、巻き取り装置においてアルミニウム板をうまく巻
きとれないという問題が生じることがある。前記問題
は、特公昭62−30275公報および特公昭55−2
1840号公報に記載されているように、酸性電解液を
撹拌することにより解決できる。酸性電解液を攪拌して
も前記問題が十分に解決できない場合には、巻き取り装
置を0.1〜10Hzの周期で5〜50mmの振幅でア
ルミニウム板の幅方向にオシレートさせれば、前記アル
ミニウム板の巻取りの問題を解決できる。
Further, since the amount of the anodic oxide coating is increased as it gets closer to the edge of the aluminum plate and the thickness becomes thicker, there is a problem that the aluminum plate cannot be properly wound in the winding device. The above-mentioned problems are caused by Japanese Patent Publication No. 62-30275 and Japanese Patent Publication No. 55-2.
As described in Japanese Patent No. 1840, this can be solved by stirring the acidic electrolytic solution. When the above problem cannot be sufficiently solved even by stirring the acidic electrolyte, the winding device is oscillated in the width direction of the aluminum plate with an amplitude of 5 to 50 mm at a cycle of 0.1 to 10 Hz. Can solve the problem of plate winding.

【0175】アルミニウム板に電流を通電するための陽
極としては、鉛、酸化イリジウム、白金、フェライトな
どを用いることができるが、酸化イリジウムを主体とす
るものが特に好ましい。酸化イリジウムは熱処理により
基材に被覆できる。基材としてはチタン、タンタル、ニ
オブ、ジルコニウムなどの所謂バルブ金属が用いられる
が、チタンまたはニオブが特に好ましい。前記バルブ金
属は比較的電気抵抗が大きいため、芯材に銅を用い、そ
の周囲にバルブ金属をクラッドすることが特に好まし
い。銅の芯材にバルブ金属をクラッドする場合は、あま
り複雑な形状のものは作れないので、各パーツに分割し
て作成した電極部品を、酸化イリジウムを被覆した後に
ボルト・ナット等で希望の構造となるように組み立てる
のが一般的である。
As the anode for passing a current through the aluminum plate, lead, iridium oxide, platinum, ferrite and the like can be used, but those mainly containing iridium oxide are particularly preferable. The substrate can be coated with iridium oxide by heat treatment. So-called valve metals such as titanium, tantalum, niobium and zirconium are used as the base material, and titanium or niobium is particularly preferable. Since the valve metal has a relatively large electric resistance, it is particularly preferable to use copper for the core material and clad the valve metal around the core. When clad with a valve metal on a copper core material, it is not possible to make a very complicated shape, so the electrode parts made by dividing into individual parts are coated with iridium oxide, and then the desired structure with bolts, nuts, etc. It is common to assemble so that

【0176】2−5 封孔処理・親水化処理 陽極酸化処理されたアルミニウム板は、現像液への陽極
酸化皮膜の溶解および非画像部における画像形成層の残
膜の抑制、陽極酸化皮膜の強度、親水性、および感光層
との密着性の向上等を目的に、水洗処理した後、親水化
処理を施すことができる。
2-5 Sealing Treatment / Hydrophilic Treatment The aluminum plate subjected to anodizing treatment suppresses the dissolution of the anodized film in the developing solution, the suppression of the residual film of the image forming layer in the non-image area, and the strength of the anodized film. For the purpose of improving the hydrophilicity, the adhesion to the photosensitive layer, and the like, a hydrophilizing treatment can be performed after the water washing treatment.

【0177】前記親水化処理としては陽極酸化皮膜をア
ルカリ金属珪酸塩の水溶液と接触させて処理するシリケ
ート処理があげられる。
Examples of the hydrophilic treatment include a silicate treatment in which the anodized film is brought into contact with an aqueous solution of an alkali metal silicate for treatment.

【0178】前記シリケート処理は、アルカリ金属珪酸
塩濃度が通常0.1〜30重量%であり、好ましくは
0.5〜15重量%であり、25℃でのpHが10〜1
3.5であるアルカリ金属珪酸塩の水溶液に、前記アル
ミニウム板を、5〜80℃、好ましくは10〜70℃、
より好ましくは15〜50℃で0.5〜120秒間接触
させることにより、行なうことができる。
In the silicate treatment, the alkali metal silicate concentration is usually 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C. is 10 to 1%.
The aluminum plate is added to an aqueous solution of an alkali metal silicate of 3.5 at 5 to 80 ° C, preferably 10 to 70 ° C.
More preferably, it can be carried out by contacting at 15 to 50 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

【0179】前記アルミニウム板を前記アルカリ金属珪
酸塩の水溶液に接触させる方法としては、浸漬およびス
プレーによる吹き付けなどが挙げられるが、これらの方
法には限定されない。
Examples of the method of contacting the aluminum plate with the aqueous solution of the alkali metal silicate include, but are not limited to, immersion and spraying.

【0180】なお、アルカリ金属珪酸塩水溶液は、pH
が10より低いとゲル化し、13.5より高いと陽極酸
化皮膜が溶解するから、前記ゲル化および陽極酸化皮膜
の溶解の問題が生じないpH10〜13.5の範囲が好
ましい。
The pH of the alkali metal silicate aqueous solution is
When the value is less than 10, gelling occurs, and when it is higher than 13.5, the anodic oxide film dissolves.

【0181】前記アルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用され
る。
As the alkali metal silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate or the like is used.

【0182】アルカリ金属珪酸塩の水溶液のpH調整に
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物が使用される。
To adjust the pH of the aqueous solution of the alkali metal silicate, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or lithium hydroxide is used.

【0183】なお、前記水溶液には、アルカリ土類金属
塩または第IVB族金属塩を配合してもよい。
The aqueous solution may contain an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt.

【0184】アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシ
ウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バ
リウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢
酸塩、蓚酸酸塩、硼酸塩などの水溶性塩が挙げられる。
The alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. Examples include salt.

【0185】第IVB族金属塩としては、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウムなどが挙げられる。
Examples of the Group IVB metal salt include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride oxide and the like.

【0186】アルカリ土類金属および第IVB族金属塩
は、単独でも、2種以上の組み合わせでも使用できる。
前記アルカリ土類金属および第IVB族金属塩の好まし
い配合量は、0.01〜10重量%であり、更に好まし
い配合量は、0.05〜5重量%である。
The alkaline earth metal and Group IVB metal salts may be used alone or in combination of two or more.
A preferable blending amount of the alkaline earth metal and the group IVB metal salt is 0.01 to 10% by weight, and a further preferable blending amount is 0.05 to 5% by weight.

【0187】前記アルミニウム板には、前記親水化処理
に加え、封孔処理を施すこともできる。
The aluminum plate may be subjected to a sealing treatment in addition to the hydrophilic treatment.

【0188】前記封孔処理としては、水蒸気封孔、沸騰
水(熱水)封孔、金属塩封孔(クロム酸塩/重クロム酸
塩封孔、酢酸ニッケル封孔など)、油脂含浸封孔、合成
樹脂封孔、低温封孔(赤血塩やアルカリ土類塩などによ
る)など、陽極酸化皮膜の封孔処理として公知の処理が
挙げられるが、印刷版用支持体としての性能(感光層と
の密着性や親水性)、高速処理、低コスト、低公害性等
の面から、水蒸気封孔が好ましい。
The sealing treatment includes steam sealing, boiling water (hot water) sealing, metal salt sealing (chromate / dichromate sealing, nickel acetate sealing, etc.), oil-impregnated sealing. Well-known treatments for sealing the anodic oxide film, such as synthetic resin sealing, low-temperature sealing (using red blood salt, alkaline earth salt, etc.), etc., can be used as a printing plate support (photosensitive layer). Water vapor sealing is preferred from the viewpoints of adhesion with (and hydrophilicity with), high-speed treatment, low cost, low pollution, and the like.

【0189】水蒸気封孔としては、たとえば、加圧また
は常圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対湿度70
%以上、蒸気温度95℃以上で2秒〜180秒程度陽極
酸化皮膜に接触させる特開平4−176690号公報に
開示された方法などが挙げられる。
As the water vapor sealing, for example, pressurized or normal pressure water vapor is continuously or discontinuously applied and the relative humidity is 70%.
%, And the vapor temperature is 95 ° C. or higher for about 2 seconds to 180 seconds. A method disclosed in JP-A-4-176690 is used.

【0190】他の封孔処理法としては、熱水またはアル
カリ水溶液への浸漬、熱水またはアルカリ吹き付け処
理、亜硝酸塩水溶液への浸漬、および亜硝酸塩水溶液の
吹き付け処理などが挙げられる。前記亜硝酸塩水溶液へ
の浸漬および噴き付け処理は、前記熱水またはアルカリ
水溶液への浸漬および吹き付け処理に代えて行なっても
よく、前記処理に引き続いて行なってもよい。
Other sealing methods include dipping in hot water or an alkaline aqueous solution, hot water or alkaline spraying, dipping in an aqueous nitrite solution, and spraying an aqueous nitrite solution. The immersion in the nitrite aqueous solution and the spraying treatment may be performed instead of the immersion in the hot water or the alkaline aqueous solution and the spraying treatment, or may be performed subsequent to the treatment.

【0191】前記亜硝酸塩の例としては、周期律表のI
a、IIa 、IIb 、IIIb、IVb 、IVa 、VIa、VIIa、VIII族
の金属の亜硝酸塩である金属亜硝酸塩、および亜硝酸ア
ンモニウムが挙げられる。
Examples of the nitrite include I of the periodic table.
Mention may be made of metal nitrites which are the nitrites of the metals of the groups a, IIa, IIb, IIIb, IVb, IVa, VIa, VIIa, VIII, and ammonium nitrite.

【0192】前記金属亜硝酸塩としては、例えばLiN
2、NaNO2、KNO2、Mg(NO22、Ca(N
22 、Zn(NO22、Al(NO23、Zr(N
2 4、Sn(NO23、Cr(NO23、Co(NO
22、Mn(NO22、Ni(NO22等が好ましく、
特にアルカリ金属硝酸塩が好ましい。亜硝酸塩は2種以
併用することもできる。
Examples of the metal nitrite include LiN
O2, NaNO2, KNO2, Mg (NO2)2, Ca (N
O2)2 , Zn (NO2)2, Al (NO2)3, Zr (N
O2) Four, Sn (NO2)3, Cr (NO2)3, Co (NO
2)2, Mn (NO2)2, Ni (NO2)2Etc. are preferred,
Alkali metal nitrate is particularly preferable. More than 2 kinds of nitrite
It can also be used together.

【0193】処理条件は、前記アルミニウム板の状態お
よび亜硝酸塩の種類により異なるので一義的には決定で
きないが、例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、
濃度は一般的には0.001〜10重量%であり、より
好ましくは0.01〜2重量%である。浴温度は一般的
には室温から約100℃前後であり、より好ましくは6
0〜90℃である。処理時間は一般的には15〜300
秒であり、より好ましくは10〜180秒である。
The treatment conditions cannot be uniquely determined because they depend on the state of the aluminum plate and the type of nitrite, but when sodium nitrite is used, for example,
The concentration is generally 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 2% by weight. The bath temperature is generally from room temperature to about 100 ° C., more preferably 6
It is 0 to 90 ° C. Processing time is generally 15-300
Seconds, and more preferably 10 to 180 seconds.

【0194】亜硝酸塩水溶液のpHは8.0〜11.0
に調整されていることが好ましく、8.5〜9.5に調
整されていることが特に好ましい。亜硝酸塩水溶液のp
Hを上記の範囲に調整するには、例えばアルカリ緩衝液
等を用いることができる。前記アルカリ緩衝液として
は、例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナトリウムの混
合水溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水
溶液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶
液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、
塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ酸ナトリウ
ムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を好適に用いるこ
とができるが、これらには限定されない。また、上記ア
ルカリ緩衝液はナトリウム以外のアルカリ金属塩、例え
ばカリウム塩等も用いることができる。
The pH of the nitrite aqueous solution is 8.0 to 11.0.
Is preferably adjusted to, and particularly preferably adjusted to 8.5 to 9.5. P of nitrite aqueous solution
To adjust H to the above range, for example, an alkaline buffer solution or the like can be used. Examples of the alkaline buffer include a mixed aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate, a mixed aqueous solution of sodium chloride and sodium hydroxide,
A mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sodium carbonate, a mixed aqueous solution of sodium tetraborate and sodium hydroxide, and the like can be preferably used, but not limited thereto. In addition, an alkali metal salt other than sodium, such as potassium salt, can be used as the above alkaline buffer solution.

【0195】前記親水化処理および封孔処理の少なくと
も一方を施した後、感光層との密着性を向上させるため
に、特開平5−278362号公報に開示されている酸
性水溶液処理と親水性下塗りとを行なってもよく、特開
平4−282637号公報や特願平6−108678号
明細書に開示されている有機層を設けてもよい。
After performing at least one of the hydrophilic treatment and the pore-sealing treatment, in order to improve the adhesion to the photosensitive layer, the acidic aqueous solution treatment and hydrophilic undercoating disclosed in JP-A-5-278362 are used. Alternatively, an organic layer disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-282637 or Japanese Patent Application No. 6-108678 may be provided.

【0196】平版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化
面にこれらの処理を施した後、前記粗面化面とは反対側
の面である裏面には、必要に応じてバックコートが設け
られる。このようなバックコートとしては特開平5−4
5885号公報記載の有機高分子化合物および特願平4
−189448号記載の有機または無機金属化合物を加
水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる
被覆層が好ましく用いられる。前記有機または無機金属
化合物としては、Si(OCH34、Si(OC25
4、Si(OC374、Si(OC494などの珪素
アルコキシ化合物が、安価で入手し易く、しかも耐現像
液性に優れた被覆層が形成できる故に特に好ましい。
After subjecting the roughened surface of the aluminum support for a lithographic printing plate to these treatments, a back coat is provided, if necessary, on the back surface which is the surface opposite to the roughened surface. . As such a back coat, JP-A-5-4
Organic polymer compounds described in Japanese Patent No. 5885 and Japanese Patent Application No.
A coating layer made of a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic or inorganic metal compound described in JP-A-189448 is preferably used. Examples of the organic or inorganic metal compound include Si (OCH 3 ) 4 and Si (OC 2 H 5 )
Silicon alkoxy compounds such as 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 and Si (OC 4 H 9 ) 4 are particularly preferable because they are inexpensive and easily available and can form a coating layer excellent in developer resistance.

【0197】2−6 水洗処理 なお、前記処理において使用された薬液を前記アルミニ
ウム板の表面から除去すべく、前記各処理の間に、前記
アルミニウム板を水洗処理する水洗工程を設けてもよ
い。
2-6 Rinsing Treatment In order to remove the chemical solution used in the above treatment from the surface of the aluminum plate, a rinsing step of rinsing the aluminum plate may be provided between the treatments.

【0198】前記水洗工程においては、水洗処理は、種
類および組成の異なる薬液を使用する処理槽の間におい
て行なうのが普通である。前記アルミニウム板が一の処
理槽から出て洗浄工程に入る時間、および前記洗浄工程
が終了してから前記一の洗浄槽に隣接する次の処理槽に
入るまでの時間は、10秒以下が好ましく、0.1〜1
0秒が特に好ましい。前記時間が10秒以下であれば、
前記アルミニウム板の表面の化学的な変性がそれほど進
まないから、処理ムラが発生し難い。また、前記一の処
理槽を出てから次の処理槽までのアルミニウム板の通過
時間は、15秒以下が好ましく、特に5秒以下が好まし
い。前記通過時間が15秒以下であれば、前記アルミニ
ウム板の表面の化学的な変性が進むことが殆どなく、次
工程で均一な粗面化処理を行うことができる。
In the water washing step, the water washing treatment is usually carried out between treatment tanks using chemical liquids of different types and compositions. It is preferable that the time for the aluminum plate to come out of one processing tank and enter the cleaning step and the time for the aluminum plate to enter the next processing tank adjacent to the one cleaning tank be 10 seconds or less. , 0.1-1
0 second is particularly preferred. If the time is 10 seconds or less,
Since the chemical modification of the surface of the aluminum plate does not proceed so much, it is difficult for uneven processing to occur. Further, the passage time of the aluminum plate from the one treatment tank to the next treatment tank is preferably 15 seconds or less, and particularly preferably 5 seconds or less. When the passage time is 15 seconds or less, the chemical modification of the surface of the aluminum plate hardly progresses, and uniform roughening treatment can be performed in the next step.

【0199】前記アルミニウム板の水洗工程において
は、ニップローラにて液切りした表面を、水洗槽におい
て、スプレーチップから水を噴射して洗浄するのが一般
的である。水は下流に向かって45度〜90度の角度で
噴射することが好ましい。
In the step of washing the aluminum plate with water, the surface drained by the nip roller is generally washed with water from a spray tip in a water washing tank. Water is preferably jetted downstream at an angle of 45 to 90 degrees.

【0200】水の噴射圧力は、噴射ノズル直前の圧力で
0.5〜5kg/cm2が好ましく、水温は10〜80
℃が好ましい。
The water injection pressure is preferably 0.5 to 5 kg / cm 2 immediately before the injection nozzle, and the water temperature is 10 to 80.
C is preferred.

【0201】前記アルミニウム板の搬送速度は20〜2
00m/minが好ましい。
The transport speed of the aluminum plate is 20 to 2
00 m / min is preferable.

【0202】アルミニウム板に吹き付ける洗浄水の量
は、洗浄工程1回当り0.1〜10リットル/m2が好
ましい。
The amount of washing water sprayed onto the aluminum plate is preferably 0.1 to 10 liters / m 2 per washing step.

【0203】前記水洗槽においては、アルミニウム板の
表面および裏面に、最低2本以上のスプレー管から洗浄
水を噴射することが好ましい。一つのスプレー管にはピ
ッチ50mmから200mmの間隔でスプレーチップを
5〜30本設置することが好ましい。スプレーチップの
噴霧角度は10〜150度が好ましく、アルミニウム板
とスプレーチップ噴射面の間隔は10〜250mmが好
ましい。スプレーチップの噴霧の断面形状(スプレーパ
ターン)は環状、円形、楕円形、正方形、長方形などが
あるが、円形・惰円形または正方形・長方形が好まし
い。流量分布(アルミニウム板の表面における噴霧の水
量分配状態)は環状分布、均等分布、山型分布などがあ
るが、スプレーチップをスプレー管に複数並べて使用す
るときは、幅全域での均一な流量分布を容易にする山型
分布が好ましい。流量分布は噴霧圧力とスプレーチップ
とアルミニウム板の距離により変化する。噴霧の粒子径
はスプレーチップの構造、噴霧圧力、噴霧量によって変
わるが、10μm〜10000μmの範囲が好ましく、
とくに100μm〜1000μmの範囲が好ましい。ス
プレーノズルの材質は高速で流れる液体に対して耐摩耗
性があることが好ましく、真鍮、ステンレス、セラミッ
クなどが用いられるが、セラミックノズルが特に好まし
い。
In the water washing tank, it is preferable to inject the washing water onto the front surface and the back surface of the aluminum plate from at least two spray pipes. It is preferable to install 5 to 30 spray tips at a pitch of 50 mm to 200 mm in one spray tube. The spray angle of the spray tip is preferably 10 to 150 degrees, and the distance between the aluminum plate and the spray tip jetting surface is preferably 10 to 250 mm. The cross-sectional shape (spray pattern) of the spray of the spray tip includes an annular shape, a circular shape, an elliptical shape, a square shape, a rectangular shape, and the like, and a circular / inert circular shape or a square / rectangular shape is preferable. The flow rate distribution (state of water distribution of spray on the surface of the aluminum plate) has an annular distribution, a uniform distribution, a mountain-shaped distribution, etc., but when using multiple spray tips arranged side by side in the spray pipe, a uniform flow distribution over the entire width. A mountain-shaped distribution that facilitates The flow rate distribution changes with the spray pressure and the distance between the spray tip and the aluminum plate. The particle size of the spray varies depending on the structure of the spray tip, the spray pressure, and the spray amount, but a range of 10 μm to 10000 μm is preferable,
Particularly, the range of 100 μm to 1000 μm is preferable. It is preferable that the material of the spray nozzle has abrasion resistance against a liquid flowing at a high speed, and brass, stainless steel, ceramic or the like is used, but a ceramic nozzle is particularly preferable.

【0204】スプレーチップを設置したスプレーノズル
は、アルミニウム板の進行方向に対して45〜90°の
角度で配置することができるが、スプレーパターンの中
心線のうち長さが長い方の中心線がアルミニウム板の進
行方向と直角になるようにすることが好ましい。
The spray nozzle provided with the spray tip can be arranged at an angle of 45 to 90 ° with respect to the traveling direction of the aluminum plate. It is preferable to make it perpendicular to the traveling direction of the aluminum plate.

【0205】水洗処理の時間は、1回当り10秒以下が
工業的に好ましく、特に0.5秒〜5秒が好ましい。
[0205] The time of the water washing treatment is industrially preferably 10 seconds or less, and particularly preferably 0.5 seconds to 5 seconds.

【0206】2−7 パスローラの材質 前記各処理を行なう処理槽および水洗槽においては、前
記アルミニウム板を搬送または支持するパスローラを設
けることができる。
2-7 Material of Pass Roller A pass roller for carrying or supporting the aluminum plate can be provided in the treatment tank and the water washing tank for carrying out each of the above treatments.

【0207】前記パスローラとしては、鉄鋼ライン、メ
ッキライン、電解コンデンサ製造ライン、PS版製造ラ
インなどの連続生産ラインに用いる表面にメッキ処理ま
たはライニング処理された金属ローラ、樹脂ローラ、ゴ
ムローラ、不織布ローラなどを用いることができる。
As the pass roller, a metal roller, a resin roller, a rubber roller, a non-woven cloth roller or the like having a surface plated or lined for use in a continuous production line such as a steel line, a plating line, an electrolytic capacitor production line, a PS plate production line, etc. Can be used.

【0208】前記パスローラの材質、表面の物性値は、
前記処理に使用される薬液やアルミニウム板の表面の状
態に応じて、要求される耐食性、耐摩耗性、耐熱性、耐
薬品性などを考慮して選定する。
The material of the pass roller and the physical property value of the surface are
It is selected in consideration of the required corrosion resistance, abrasion resistance, heat resistance, chemical resistance, etc. according to the chemical solution used for the treatment and the surface condition of the aluminum plate.

【0209】金属ローラとしては、ハードクロムメッキ
ローラが一般的に用いられる。
A hard chrome plated roller is generally used as the metal roller.

【0210】ゴムローラとしては、天然ゴム、イソプレ
ンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ブ
チルゴム、クロロプレンゴム、クロロスルホン化ポリエ
チレン、ニトリルゴム、アクリルゴム、エピクロロヒド
リンゴム、ウレタンゴム、多硫化ゴム、フッ素ゴムなど
のゴム類、および前記ゴム類に微量の添加物を添加した
ものから製した胴を有するローラを用いることができ
る。ゴムローラの胴の硬度は60〜90がとくに好まし
い。
As the rubber roller, natural rubber, isoprene rubber, styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, butyl rubber, chloroprene rubber, chlorosulfonated polyethylene, nitrile rubber, acrylic rubber, epichlorohydrin rubber, urethane rubber, polysulfide rubber, fluororubber It is possible to use a roller having a cylinder made of rubbers such as the above, and those obtained by adding a slight amount of additives to the rubbers. It is particularly preferable that the hardness of the body of the rubber roller is 60 to 90.

【0211】また、アルミニウム板が濡れて滑りやすい
箇所において、アルミニウムウェブの搬送速度を制御す
るときには、アルミニウムウェブが濡れた状態でもスリ
ップしにくい不織布ローラを用いることがとくに好まし
い。前記箇所においてゴムローラを用いるときは、ロー
ラに補助駆動用のモータを設けることがとくに好まし
い。
Further, when controlling the conveying speed of the aluminum web at a place where the aluminum plate is wet and slippery, it is particularly preferable to use a non-woven fabric roller which hardly slips even when the aluminum web is wet. When a rubber roller is used at the location, it is particularly preferable to provide the roller with a motor for auxiliary driving.

【0212】2−8 その他 前記アルカリエッチング処理(1)に先だって、前記ア
ルミニウム板の粗面化しようとする面を機械的に粗面化
する機械的粗面化処理を行うことができる。
2-8 Others Prior to the alkali etching treatment (1), a mechanical roughening treatment for mechanically roughening the surface of the aluminum plate to be roughened can be performed.

【0213】前記機械的粗面化処理においては、前記ア
ルミニウム板の粗面化面に、研磨材のスラリーを供給し
つつ、ブラシローラで擦るブラシ研磨法と、研磨材の粒
子を固着させた不織布を円筒状の胴の側面に固定した砂
目立てローラで擦るローラ研磨法とが挙げられるが、こ
れらには限定されない。
In the mechanical roughening treatment, a brush polishing method of rubbing with a brush roller while supplying slurry of an abrasive to the roughened surface of the aluminum plate, and a non-woven fabric in which particles of the abrasive are fixed Roller polishing method of rubbing with a graining roller fixed to the side surface of a cylindrical body, but is not limited thereto.

【0214】3.画像形成層 3−1 バックコート層 現像時に、平版印刷版用アルミニウム支持体が現像液に
溶解するのを防止し、また、後述する画像形成層と平版
印刷版用アルミニウム支持体との擦れによるキズを無く
す目的で、特開平6−32115に記載されているよう
に、後述する画像形成層を形成する前に、前記平版印刷
版用アルミニウム支持体の粗面化面とは反対側の面、す
なわち裏面に、有機高分子化合物ならびに界面活性剤を
含む厚さ0.01−8μmのバックコート層を設けるこ
とができる。
3. Image forming layer 3-1 Prevents the aluminum support for lithographic printing plates from being dissolved in a developing solution during development of the back coat layer, and scratches due to rubbing between the image forming layer and the aluminum support for lithographic printing plates described later. For the purpose of eliminating the above, as described in JP-A-6-32115, before forming an image forming layer described later, the surface opposite to the roughened surface of the aluminum support for a lithographic printing plate, that is, A back coat layer containing an organic polymer compound and a surfactant and having a thickness of 0.01 to 8 μm can be provided on the back surface.

【0215】このバックコート層の主成分としては、ガ
ラス転移点20℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂及び塩
化ビニリデン共重合樹脂の群から選ばれる少なくとも一
種の樹脂が用いられる。
At least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin and a vinylidene chloride copolymerized resin having a glass transition point of 20 ° C. or higher is used as the main component of this back coat layer. To be

【0216】飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボ
ン酸ユニットとジオールユニットからなる。
The saturated copolyester resin is composed of a dicarboxylic acid unit and a diol unit.

【0217】本発明に用いられるポリエステルのジカル
ボン酸ユニットとしてはフタル酸、テレフタル酸、イソ
フタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル
酸などの芳香族ジカルボン酸、およびアジピン酸、アゼ
ライン酸、コハク酸、蓚酸、スベ燐酸、セバチン酸、マ
ロン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸などの飽
和脂肪族ジカルボン酸などが挙げられる。
Examples of the dicarboxylic acid unit of the polyester used in the present invention include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid and tetrachlorophthalic acid, and adipic acid, azelaic acid, succinic acid, Examples thereof include oxalic acid, suberic acid, sebacic acid, malonic acid, and saturated aliphatic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.

【0218】バックコート層には更に、着色のための染
料や顔料、アルミニウム支持体との密着性向上のための
シランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ
樹脂、有機ホスホン酸、有機燐酸およびカチオン性ポリ
マー等、更には滑り剤として通常用いられるワックス、
高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンよ
りなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサン、ポ
リエチレン粉末等が適宜加えられる。
The back coat layer further includes a dye or pigment for coloring, a silane coupling agent for improving adhesion to an aluminum support, a diazo resin containing a diazonium salt, an organic phosphonic acid, an organic phosphoric acid and a cationic agent. Waxes that are usually used as polymers, etc.
Higher fatty acids, higher fatty acid amides, silicone compounds composed of dimethylsiloxane, modified dimethylsiloxane, polyethylene powder and the like are appropriately added.

【0219】バックコート層をアルミニウム支持体の裏
面に被覆するには種々の方法が適用できる。このような
方法としては、たとえば、前記樹脂の溶液または乳化分
散液を塗布、乾燥する方法、予めフィルム状に成形した
前記樹脂を接着剤や熱でアルミニウム支持体に貼り合わ
せる方法、および溶融押し出し機で前記樹脂の溶融皮膜
を形成して支持体に貼り合わせる方法等が挙げられる
が、上記の塗布量を確保する上で最も好ましいのは、前
記樹脂の溶液または乳化分散液を塗布、乾燥する方法で
ある。
Various methods can be applied to coat the back surface of the aluminum support with the back coating layer. As such a method, for example, a method of applying and drying a solution or emulsion dispersion of the resin, a method of adhering the resin previously formed into a film shape to an aluminum support with an adhesive or heat, and a melt extruder Examples of the method include forming a molten film of the resin and attaching it to a support. The most preferable method for securing the above coating amount is a method of applying a solution or emulsion dispersion of the resin and drying. Is.

【0220】3−2 画像形成層 画像形成層は、本発明の製造方法で製造された平版印刷
版用アルミニウム支持体の粗面化面に積層され、光また
は熱に感じ、可視光またはレーザ光で露光することによ
り印刷画像を形成する機能を有する層である。
3-2 Image Forming Layer The image forming layer is laminated on the roughened surface of the aluminum support for a lithographic printing plate manufactured by the manufacturing method of the present invention, and is exposed to light or heat, visible light or laser light. It is a layer having a function of forming a printed image by exposing with.

【0221】前記画像形成層としては、前記露光・現像
によりポジ型の印刷画像を形成するポジ型の画像形成
層、および前記露光・現像によりネガ型の印刷画像を形
成するネガ型の画像形成層が挙げられる。
As the image forming layer, a positive type image forming layer for forming a positive type print image by the exposure and development, and a negative type image forming layer for forming a negative type print image by the exposure and development. Is mentioned.

【0222】また、露光方法の別により、前記画像形成
層は、可視光で露光する可視光露光画像形成層と、レー
ザ光で露光し、または印刷画像を直接描き込むレーザ光
露光型画像形成層とに分けられる。
Further, depending on the exposure method, the image forming layer includes a visible light exposure image forming layer which is exposed to visible light and a laser light exposure type image forming layer which is exposed to laser light or directly draws a printed image. Can be divided into

【0223】さらに、光に感じるか熱に感じるかによ
り、前記画像形成層は、感光層と感熱層とにも分けるこ
とができる。
Further, the image forming layer can be divided into a light-sensitive layer and a heat-sensitive layer, depending on whether it is sensed by light or heat.

【0224】以下、可視光露光画像形成層とレーザ光露
光型画像形成層とにつき、説明する。 (1)可視光露光型画像形成層 前記可視光露光型画像形成層は、感光性樹脂および必要
に応じて着色剤などを含有する組成物により形成でき
る。
The visible light exposure image forming layer and the laser light exposure type image forming layer will be described below. (1) Visible light exposure type image forming layer The visible light exposure type image forming layer can be formed from a composition containing a photosensitive resin and, if necessary, a colorant and the like.

【0225】前記感光性樹脂としては、光が当たると現
像液に溶けるようになるポジ型感光性樹脂、および光が
当たると現像液に溶解しなくなるネガ型感光性樹脂が挙
げられる。
Examples of the photosensitive resin include a positive photosensitive resin which becomes soluble in a developing solution when exposed to light, and a negative photosensitive resin which becomes insoluble in a developing solution when exposed to light.

【0226】ポジ型感光性樹脂としては、キノンジアジ
ド化合物およびナフトキノンジアジド化合物等のジアジ
ド化合物と、フェノールノボラック樹脂およびクレゾー
ルノボラック樹脂等のフェノール樹脂との組み合わせ等
が挙げられる。
Examples of the positive type photosensitive resin include a combination of a diazide compound such as a quinonediazide compound and a naphthoquinonediazide compound with a phenol resin such as a phenol novolac resin and a cresol novolac resin.

【0227】一方、ネガ型感光性樹脂としては、芳香族
ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等のアルデヒド類と
の縮合物等のジアゾ樹脂、前記ジアゾ樹脂の無機酸塩、
および前記ジアゾ樹脂の有機酸塩等のジアゾ化合物と、
(メタ)アクリレート樹脂、ポリアミド樹脂、およびポ
リウレタン等の結合剤との組み合わせ、並びに(メタ)
アクリレート樹脂およびポリスチレン樹脂等のビニルポ
リマーと、(メタ)アクリル酸エステルおよびスチレン
等のビニル重合性化合物と、ベンゾイン誘導体、ベンゾ
フェノン誘導体、およびチオキサントン誘導体等の光重
合開始剤との組み合わせ等が挙げられる。
On the other hand, as the negative photosensitive resin, a diazo resin such as a condensation product of an aromatic diazonium salt and an aldehyde such as formaldehyde, an inorganic acid salt of the diazo resin,
And a diazo compound such as an organic acid salt of the diazo resin,
Combination with a binder such as (meth) acrylate resin, polyamide resin, and polyurethane, and (meth)
Examples include combinations of vinyl polymers such as acrylate resins and polystyrene resins, vinyl polymerizable compounds such as (meth) acrylic acid esters and styrene, and photopolymerization initiators such as benzoin derivatives, benzophenone derivatives, and thioxanthone derivatives.

【0228】前記着色剤としては、通常の色素のほか、
露光により発色する露光発色色素、および露光により殆
どまたは完全に無色になる露光消色色素等が使用でき
る。前記露光発色色素としては、たとえばロイコ色素等
が挙げられる。一方、前記露光消色色素としては、トリ
フェニルメタン系色素、ジフェニルメタン系色素、オキ
ザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン
系色素、アゾメチン系色素、およびアントラキノン系色
素等が挙げられる。
As the colorant, in addition to usual dyes,
It is possible to use an exposed coloring dye that develops color upon exposure, and an exposure decolorizable dye that becomes almost or completely colorless upon exposure. Examples of the light-exposure coloring dyes include leuco dyes. On the other hand, examples of the exposure decolorizable dyes include triphenylmethane dyes, diphenylmethane dyes, oxazine dyes, xanthene dyes, iminonaphthoquinone dyes, azomethine dyes, and anthraquinone dyes.

【0229】前記可視光露光型画像形成層は、前記感光
性樹脂と前記着色剤とを溶剤に配合した感光性樹脂溶液
を塗布して乾燥することにより形成できる。
The visible light exposure type image forming layer can be formed by applying a photosensitive resin solution in which the photosensitive resin and the colorant are mixed in a solvent and drying.

【0230】前記感光性樹脂溶液に使用される溶剤とし
ては、前記感光性樹脂を溶解し、しかも、室温である程
度の揮発性を有する溶剤が挙げられ、具体的には、たと
えばアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶
剤、エーテル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、アミ
ド系溶剤、および炭酸エステル系溶剤等が挙げられる。
Examples of the solvent used for the photosensitive resin solution include a solvent which dissolves the photosensitive resin and has a certain degree of volatility at room temperature. Specific examples thereof include alcohol solvents and ketones. Examples thereof include system solvents, ester solvents, ether solvents, glycol ether solvents, amide solvents, and carbonate ester solvents.

【0231】アルコール系溶剤としては、エタノール、
プロパノール、およびブタノール等が挙げられる。ケト
ン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、およ
びジエチルケトン等が挙げられる。エステル系溶剤とし
ては、酢酸エチル、酢酸プロピル、蟻酸メチル、蟻酸エ
チル等が挙げられる。エーテル系溶剤としては、テトラ
ヒドロフランおよびジオキサン等が挙げられ、グリコー
ルエーテル系溶剤としては、エチルセロソルブ、メチル
セロソルブ、およびブチルセロソルブ等が挙げられる。
アミド系溶剤としては、ジメチルホルムアミドおよびジ
メチルアセトアミド等が挙げられる。炭酸エステル系溶
剤としては、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエ
チル、および炭酸ジブチル等が挙げられる。 (2)レーザ露光型画像形成層 レーザ露光型画像形成層としては、露光・現像後に、レ
ーザ光を照射した部分が残存するネガ型レーザ画像形成
層、レーザ光を照射した部分が除去されるポジ型レーザ
画像形成層、およびレーザ光を照射すると光重合する光
重合型レーザ画像形成層などが主なものとして挙げられ
る。
As the alcohol solvent, ethanol,
Propanol, butanol, etc. are mentioned. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isopropyl ketone, and diethyl ketone. Examples of the ester solvent include ethyl acetate, propyl acetate, methyl formate, ethyl formate and the like. Examples of the ether solvent include tetrahydrofuran and dioxane, and examples of the glycol ether solvent include ethyl cellosolve, methyl cellosolve, and butyl cellosolve.
Examples of the amide solvent include dimethylformamide and dimethylacetamide. Examples of the carbonate ester solvent include ethylene carbonate, propylene carbonate, diethyl carbonate, dibutyl carbonate and the like. (2) Laser exposure type image forming layer As the laser exposure type image forming layer, a negative type laser image forming layer in which a portion irradiated with laser light remains after exposure and development, and a positive portion in which a portion irradiated with laser light is removed. Type laser image forming layers, and photopolymerization type laser image forming layers that photopolymerize when irradiated with a laser beam.

【0232】A.ネガ型レーザ画像形成層 前記ネガ型レーザ画像形成層は、(A)熱または光によ
り分解して酸を発生する酸前躯体、(B)前記酸前躯体
(A)が分解して発生した酸により架橋する酸架橋性化
合物、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)赤外線吸収
剤、および(E)フェノール性水酸基含有化合物を適宜
の溶剤に溶解または懸濁させたネガ型レーザ画像形成層
形成液から形成できる。
A. Negative type laser image forming layer The negative type laser image forming layer is composed of (A) an acid precursor that decomposes by heat or light to generate an acid, and (B) an acid precursor that decomposes by the acid precursor (A). Negative type laser image forming layer forming liquid in which an acid crosslinkable compound which is crosslinked by (C), an alkali soluble resin (C), an infrared absorber (D) and a compound (E) containing a phenolic hydroxyl group are dissolved or suspended in an appropriate solvent. Can be formed from.

【0233】酸前躯体(A)としては、例えばイミノフ
ォスフェート化合物等のように、紫外光、可視光、また
は熱により分解してスルホン酸を発生する化合物が挙げ
られる。他には、光カチオン重合開始剤、光ラジカル重
合開始剤、または光変色剤などとして一般に使用されて
いる化合物も、酸前躯体(A)として使用できる。
Examples of the acid precursor (A) include compounds such as iminophosphate compounds which decompose to generate sulfonic acid by ultraviolet light, visible light or heat. Besides, compounds generally used as a photocationic polymerization initiator, a photoradical polymerization initiator, a photochromic agent or the like can also be used as the acid precursor (A).

【0234】酸架橋性化合物(B)としては、アルコキ
シメチル基およびヒドロキシル基の少なくとも一方を有
する芳香族化合物、N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基、またはN−アシルオキシメチル基を有
する化合物、およびエポキシ化合物などが挙げられる。
The acid-crosslinkable compound (B) is an aromatic compound having at least one of an alkoxymethyl group and a hydroxyl group, a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group, or an N-acyloxymethyl group, And epoxy compounds.

【0235】アルカリ可溶性樹脂(C)としては、ノボ
ラック樹脂、およびポリ(ヒドロキシスチレン)などの
側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーなどが挙
げられる。
Examples of the alkali-soluble resin (C) include novolac resins and polymers having a hydroxyaryl group in the side chain such as poly (hydroxystyrene).

【0236】赤外線吸収剤(D)としては、760nm
〜1200nmの赤外線を吸収する染料および顔料が挙
げられ、具体的には、黒色顔料、赤色顔料、金属枌顔
料、フタロシアニン系顔料、および前記波長の赤外線を
吸収するアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニ
ン染料、シアニン色素などが挙げられる。
As the infrared absorbent (D), 760 nm
Dyes and pigments that absorb infrared rays of up to 1200 nm are listed, and specifically, black pigments, red pigments, metal halide pigments, phthalocyanine pigments, and azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes that absorb infrared rays of the above wavelengths, Examples include cyanine dyes.

【0237】フェノール性水酸基含有化合物(E)とし
ては、一般式(R1−X)n−Ar−(OH)m(R1は、
炭素数6〜32のアルキル基またはアルケニル基であ
り、Xは、端結合、O、S、COO、またはCONHで
あり、Arは、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基、
または複素環基であり、nおよびmは、何れも1〜3の
自然数である。)で示される化合物が挙げられる。前記
化合物としては、具体的にはノニルフェノールなどのア
ルキルフェノール類などが挙げられる。
As the phenolic hydroxyl group-containing compound (E), a compound of the general formula (R 1 -X) n -Ar- (OH) m (R 1 is
It is a C6-C32 alkyl group or alkenyl group, X is an end bond, O, S, COO, or CONH, Ar is an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group,
Alternatively, it is a heterocyclic group, and both n and m are natural numbers of 1 to 3. ). The compound shown by these is mentioned. Specific examples of the compound include alkylphenols such as nonylphenol.

【0238】前記ネガ型レーザ画像形成層形成液には、
さらに可塑剤なども配合できる。
In the negative type laser image forming layer forming liquid,
Further, a plasticizer and the like can be added.

【0239】B.ポジ型レーザ画像形成層 前記ポジ型レーザ画像形成層は、(F)アルカリ可溶性
高分子、(G)アルカリ溶解阻害剤、および(H)赤外
線吸収剤を適宜の溶剤に溶解または懸濁させたポジ型レ
ーザ画像形成層形成液により形成できる。
B. Positive type laser image forming layer The positive type laser image forming layer is a positive type in which (F) an alkali-soluble polymer, (G) an alkali dissolution inhibitor, and (H) an infrared absorber are dissolved or suspended in an appropriate solvent. Type laser image forming layer forming liquid.

【0240】アルカリ可溶性高分子(F)としては、た
とえばフェノール樹脂、クレゾール樹脂、ノボラック樹
脂、ピロガロール樹脂、およびポリ(ヒドロキシスチレ
ン)などのフェノール性水酸基を有するフェノール系ポ
リマー、少なくとも一部のモノマー単位がスルホンアミ
ド基を有するポリマーであるスルホンアミド基含有ポリ
マー、N−(p−トルエンスルホニル)(メタ)アクリ
ルアミド基などの活性イミド基を有するモノマーの単独
重合または共重合により得られる活性イミド基含有ポリ
マーなどが使用できる。
As the alkali-soluble polymer (F), for example, phenol resin, cresol resin, novolac resin, pyrogallol resin, and phenol type polymer having a phenolic hydroxyl group such as poly (hydroxystyrene), at least a part of monomer units are used. Sulfonamide group-containing polymer that is a polymer having a sulfonamide group, active imide group-containing polymer obtained by homopolymerization or copolymerization of a monomer having an active imide group such as N- (p-toluenesulfonyl) (meth) acrylamide group, etc. Can be used.

【0241】アルカリ溶解阻害剤(G)としては、加熱
などによりアルカリ可溶性高分子(F)と反応してアル
カリ可溶性高分子(F)のアルカリ可溶性を低下させる
化合物が挙げられ、具体的には、スルホン化合物、アン
モニウム塩、スルホニウム塩、およびアミド化合物など
が挙げられる。たとえば、アルカリ可溶性高分子(F)
として前記ノボラック樹脂を用いる場合には、アルカリ
溶解阻害剤(G)としてスルホン化合物の一種であるシ
アニン色素が好ましい。
Examples of the alkali dissolution inhibitor (G) include compounds that react with the alkali-soluble polymer (F) by heating or the like to reduce the alkali-solubility of the alkali-soluble polymer (F). Examples thereof include sulfone compounds, ammonium salts, sulfonium salts, and amide compounds. For example, alkali-soluble polymer (F)
When the above novolac resin is used as, the cyanine dye, which is one of the sulfone compounds, is preferable as the alkali dissolution inhibitor (G).

【0242】赤外線吸収剤(H)としては、スクワリリ
ウム色素、ピリリウム色素、カーボンブラック、不溶性
アゾ染料、アントラキノン系染料など、750〜120
0nmの赤外域に吸収領域があり、光/熱変換能を有す
る色素、染料、および顔料が挙げられる。
Examples of the infrared absorbent (H) include squarylium dyes, pyrylium dyes, carbon black, insoluble azo dyes, anthraquinone dyes, and the like, 750 to 120.
Examples include dyes, dyes, and pigments having an absorption region in the infrared region of 0 nm and having a light / heat conversion ability.

【0243】C.光重合型レーザ画像形成層 光重合型レーザ画像形成層は、(I)分子末端にエチレ
ン性不飽和結合を有するビニル重合性化合物を含有する
光重合型レーザ画像形成層形成液により形成できる。前
記光重合型レーザ画像形成層形成液には、必要に応じ
て、(J)光重合開始剤、および(K)増感剤などを配
合できる。
C. Photopolymerizable Laser Image Forming Layer The photopolymerizable laser image forming layer can be formed by a photopolymerizable laser image forming layer forming liquid containing (I) a vinyl polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond at the molecular end. If necessary, the photopolymerization type laser image forming layer forming liquid may contain (J) a photopolymerization initiator and (K) a sensitizer.

【0244】ビニル重合性化合物(I)としては、(メ
タ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸などのエチレ
ン性不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエス
テルであるエチレン性不飽和カルボン酸多価エステル、
前記エチレン性不飽和カルボン酸と多価アミンとからな
るメチレンビス(メタ)アクリルアミド、キシリレン
(メタ)アクリルアミドなどのエチレン性不飽和カルボ
ン酸多価アミドなどが挙げられる。
Examples of the vinyl polymerizable compound (I) include an ethylenically unsaturated carboxylic acid polyester which is an ester of an ethylenically unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid, itaconic acid and maleic acid and an aliphatic polyhydric alcohol. Valent ester,
Examples thereof include ethylenically unsaturated carboxylic acid polyvalent amides such as methylenebis (meth) acrylamide and xylylene (meth) acrylamide, which are composed of the ethylenically unsaturated carboxylic acid and polyvalent amine.

【0245】ビニル重合性化合物(I)としては、他
に、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル
化合物、および(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)ア
クリル酸エチルなどのエチレン性不飽和カルボン酸モノ
エステルなども使用できる。
Examples of the vinyl polymerizable compound (I) include aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene, and ethylenically unsaturated carboxylates such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate. Acid monoesters and the like can also be used.

【0246】光重合開始剤(J)としては、ビニル系モ
ノマーの光重合に通常に使用される光重合開始剤が使用
できる。
As the photopolymerization initiator (J), a photopolymerization initiator usually used for photopolymerization of vinyl monomers can be used.

【0247】増感剤(K)としては、チタノセン化合
物、トリアジン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベン
ゾイミダゾール系化合物、シアニン色素、メロシアニン
色素、キサンテン色素、クマリン色素などが挙げられ
る。
Examples of the sensitizer (K) include titanocene compounds, triazine compounds, benzophenone compounds, benzimidazole compounds, cyanine dyes, merocyanine dyes, xanthene dyes and coumarin dyes.

【0248】前記ネガ型レーザ画像形成層形成液、ポジ
型レーザ画像形成層形成液、または光重合型レーザ画像
形成層形成液に使用される溶剤、および前記ネガ型レー
ザ画像形成層形成液、ポジ型レーザ画像形成層形成液、
または光重合型レーザ画像形成層形成液の塗布方法につ
いては、「(1)可視光露光型画像形成層」のところで
述べた溶剤および塗布方法と同様である。
Solvents used for the negative type laser image forming layer forming liquid, the positive type laser image forming layer forming liquid, or the photopolymerization type laser image forming layer forming liquid, and the negative type laser image forming layer forming liquid, positive Type laser image forming layer forming liquid,
The method for applying the photopolymerizable laser image forming layer forming liquid is the same as the solvent and the applying method described in “(1) Visible light exposure type image forming layer”.

【0249】なお、前記光重合型レーザ画像形成層を形
成するときは、シラン化合物を水、アルコール、または
カルボン酸で部分分解して得られる部分分解型シラン化
合物などの反応性官能基を有するシリコーン化合物で平
版印刷版用支持体の粗面化面を予め処理すると、平版印
刷版用支持体と前記光重合型レーザ画像形成層との接着
性が向上するから好ましい。
When forming the photopolymerizable laser image forming layer, a silicone having a reactive functional group such as a partially decomposed silane compound obtained by partially decomposing a silane compound with water, alcohol, or carboxylic acid. It is preferable to pretreat the roughened surface of the lithographic printing plate support with a compound because the adhesion between the lithographic printing plate support and the photopolymerizable laser image forming layer is improved.

【0250】3−3 塗布方法 前記感光性樹脂溶液、ネガ型レーザ画像形成層形成液、
ポジ型レーザ画像形成層形成液、および光重合型レーザ
画像形成層形成液を前記平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化面に塗布する方法としては、コーティングロ
ッドを用いる方法、エクストルージョン型コーターを用
いる方法、スライドビードコーターを用いる方法など、
従来公知の方法が使用でき、また公知の条件に従って行
うことができる。
3-3 Coating Method The photosensitive resin solution, the negative type laser image forming layer forming solution,
As a method of applying the positive type laser image forming layer forming liquid and the photopolymerization type laser image forming layer forming liquid to the roughened surface of the aluminum support for the lithographic printing plate, a method using a coating rod, an extrusion type coater , Using a slide bead coater, etc.
A conventionally known method can be used and the method can be performed according to known conditions.

【0251】前記感光性樹脂溶液、ネガ型レーザ画像形
成層形成液、ポジ型レーザ画像形成層形成液、および光
重合型レーザ画像形成層形成液を塗布後のアルミニウム
板を乾燥する装置としては、特開平6−63487号公
報に記載の、乾燥装置内にパスロールを配置し、前記パ
スロールで搬送しつつ乾燥するアーチ型ドライヤー、上
下からノズルによりエアーを供給し、ウェブを浮上させ
ながら乾燥するエアードライヤー、高温に加熱された媒
体からの輻射熱で乾燥する輻射熱ドライヤー、およびロ
ーラを加熱し、前記ローラとの接触による伝導伝熱によ
り乾燥するローラドライヤー等がある。
As an apparatus for drying an aluminum plate after applying the photosensitive resin solution, the negative type laser image forming layer forming solution, the positive type laser image forming layer forming solution, and the photopolymerization type laser image forming layer forming solution, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-63487 discloses an arch-type dryer in which a pass roll is arranged in a drying device and is dried while being conveyed by the pass roll, and an air dryer is provided in which air is supplied from above and below by a nozzle and a web is floated and dried. There are a radiant heat dryer that dries with radiant heat from a medium heated to a high temperature, and a roller drier that heats a roller and dries by conduction heat transfer due to contact with the roller.

【0252】[0252]

【実施例】以下、実施例を用い、本発明についてさらに
具体的に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically below with reference to examples.

【0253】(実施例1−1〜実施例1−36、比較例
1)
(Examples 1-1 to 1-36, Comparative Example 1)

【0254】[0254]

【表1】 [Table 1]

【0255】[0255]

【表2】 [Table 2]

【0256】[0256]

【表3】 [Table 3]

【0257】[0257]

【表4】 [Table 4]

【0258】[0258]

【表5】 [Table 5]

【0259】[0259]

【表6】 [Table 6]

【0260】[0260]

【表7】 [Table 7]

【0261】[0261]

【表8】 表1〜4に示すアルミニウム板に、以下の手順に従って
粗面化処理を行った。前記処理は、以下にも述べるよう
に表1〜表8に示される条件に従って行なった。それぞ
れの処理の後には水洗処理をおこない、それぞれの処理
及び水洗処理の後にはニップローラに依る液切りをおこ
なった。但し、一の処置に引き続いて行なう他の処理に
おいて、前記一の処理で使用したのと同一の処理液を使
用したときは、前記一の処理と前記他の処理との間にお
いては、水洗を省略した。
[Table 8] The aluminum plate shown in Tables 1 to 4 was subjected to surface roughening treatment according to the following procedure. The treatment was performed according to the conditions shown in Tables 1 to 8 as described below. After each treatment, water washing treatment was performed, and after each treatment and water washing treatment, drainage was performed by a nip roller. However, in the other treatment performed subsequent to the one treatment, when the same treatment liquid as that used in the one treatment is used, washing with water is performed between the one treatment and the other treatment. Omitted.

【0262】(1)アルカリエッチング処理(1) アルミニウム板に、スプレー管から、NaOHを26重
量%、アルミニウムイオンを7.5重量%含有する液温
70℃のアルカリ溶液を噴きつけて、粗面化面における
アルミニウム溶解量が表1〜4に示す値になるようにア
ルカリエッチング処理を行った。
(1) Alkaline etching treatment (1) An aluminum plate was sprayed with an alkali solution containing 26% by weight of NaOH and 7.5% by weight of aluminum ions at a liquid temperature of 70 ° C. from a spray tube to give a rough surface. The alkali etching treatment was performed so that the amount of aluminum dissolved in the activated surface became the value shown in Tables 1 to 4.

【0263】(2)デスマット処理(1) 次に、表1〜4に示す条件に従ってデスマット処理をお
こなった。使用した酸性溶液の種類および液温は、表1
〜4および表5に示すとおりであった。
(2) Desmutting treatment (1) Next, desmutting treatment was performed according to the conditions shown in Tables 1 to 4. Table 1 shows the types and temperature of the acidic solutions used.
4 and Table 5.

【0264】(3)電解粗面化処理(1) 水1リットル中に68%硝酸16gと硝酸アルミニウム
63gと硝酸アンモニウム0.4gとを添加した液温5
0℃の硝酸水溶液中で、台形波電流を印加して電解粗面
化処理を行った。前記アルミニウム板のアノード反応時
の電気量、前記台形波電流の周波数、および立上り時間
pは表1〜表4に示す通りであった。交流のduty(ta
/T)は0.5であった。
(3) Electrolytic surface roughening treatment (1) Liquid temperature 5 in which 16 g of 68% nitric acid, 63 g of aluminum nitrate and 0.4 g of ammonium nitrate were added to 1 liter of water.
In a nitric acid aqueous solution at 0 ° C., a trapezoidal wave current was applied to carry out electrolytic surface roughening treatment. The amount of electricity during the anode reaction of the aluminum plate, the frequency of the trapezoidal wave current, and the rising time T p were as shown in Tables 1 to 4. AC duty (t a
/ T) was 0.5.

【0265】電流密度は、アルミニウム板がアノード反
応するときの電流のピーク値で50A/dm2であり、
カーボンの主極に対向する部分でのアルミニウム板がア
ノード反応時の電気量の総和Qaとカソード反応時の電
気量総和Qcとの比Qc/Qaは0.95であった。アル
ミニウム板に加わる電気量として、アルミニウム板が電
解槽を通過する間にアルミニウム板に加わった電気量で
あって前記アルミニウム板がアノード反応した電気量の
総和を示した。
The current density is 50 A / dm 2 at the peak value of the current when the aluminum plate undergoes the anode reaction,
Aluminum plate at a portion opposite to the main electrodes of the carbon ratio Q c / Q a of the electric amount sum Q c when total amount of electricity Q a and the cathode reaction at the time of anodic reaction was 0.95. As the amount of electricity applied to the aluminum plate, the total amount of electricity applied to the aluminum plate while the aluminum plate passed through the electrolytic cell and the amount of electricity subjected to the anode reaction of the aluminum plate was shown.

【0266】(4)アルカリエッチング処理(2) NaOH26重量%とアルミニウムイオン7.5重量%
とを含有する液温50℃のアルカリ溶液を、スプレー管
より、前記電解粗面化処理後のアルミニウム板に吹き付
けてアルカリエッチング処理を行った。粗面化面におけ
るアルミニウム板の溶解量は表1〜表4に示す通りであ
った。
(4) Alkaline etching treatment (2) NaOH 26% by weight and aluminum ion 7.5% by weight
An alkaline solution containing and was sprayed onto the aluminum plate after the electrolytic surface roughening treatment from a spray tube to perform an alkaline etching treatment. The amount of dissolution of the aluminum plate on the roughened surface was as shown in Tables 1 to 4.

【0267】(5)デスマット処理(2) 次に、デスマット処理をおこなった。デスマット処理に
用いる酸性水溶液は表1〜表4および表5のとおりであ
った。
(5) Desmutting process (2) Next, a desmutting process was performed. The acidic aqueous solutions used for the desmutting treatment are shown in Tables 1 to 4 and 5.

【0268】(6)電解粗面化処理(2) 水1リットル中に35%塩酸21gと塩化アルミニウム
40gとを添加した液温35℃の塩酸水溶液中におい
て、台形波電流を印加して電解粗面化処理を行なった。
(6) Electrolytic surface roughening treatment (2) Electrolytic roughening was performed by applying a trapezoidal wave current in a hydrochloric acid aqueous solution at a liquid temperature of 35 ° C in which 21 g of 35% hydrochloric acid and 40 g of aluminum chloride were added to 1 liter of water. Surface treatment was performed.

【0269】前記台形波電流の周波数および立上り時間
pは表1〜表4に示す通りであった。前記台形は電流
のduty(ta/T)は0.5であった。
The frequency of the trapezoidal wave current and the rising time T p are as shown in Tables 1 to 4. The trapezoid had a current duty (t a / T) of 0.5.

【0270】電流密度は、アルミニウム板がアノード反
応するときの電流のピーク値で50A/dm2であり、
アルミニウム板がアノード反応時の電気量Qaの総和と
カソード反応時の電気量の総和Qcとの比Qc/Qa
0.95であった。アルミニウム板に加わる電気量とし
て、アルミニウム板が電解槽を通過する間にアルミニウ
ム板に加わった電気量であって前記アルミニウム板がア
ノード反応した電気量の総和を示した。前記電気量は、
表1〜表4に示す通りであった。
The current density is 50 A / dm 2 at the peak value of the current when the aluminum plate undergoes the anode reaction,
The ratio Q c / Q a of the sum Q c amount of electricity when the sum and the cathode reaction of the electric quantity Q a of time the aluminum plate anode reaction was 0.95. As the amount of electricity applied to the aluminum plate, the total amount of electricity applied to the aluminum plate while the aluminum plate passed through the electrolytic cell and the amount of electricity subjected to the anode reaction of the aluminum plate was shown. The amount of electricity is
The results are shown in Tables 1 to 4.

【0271】(7)アルカリエッチング処理(3) 表6に示す組成および液温のアルカリ溶液E3−1また
はE3−2をスプレー管より前記アルミニウム板に吹き
付けてアルカリエッチング処理を行った。前記アルカリ
溶液の何れを使用したかということ、および粗面化面に
おけるアルミニウムの溶解量については表1〜表4に示
す通りであった。
(7) Alkaline Etching Treatment (3) Alkali etching treatment was carried out by spraying the above-mentioned aluminum plate with the alkaline solution E3-1 or E3-2 having the composition and liquid temperature shown in Table 6 through a spray tube. Tables 1 to 4 show which of the alkaline solutions was used and the amount of aluminum dissolved in the roughened surface.

【0272】(8)デスマット処理(3) 次に、デスマット処理をおこなった。デスマット処理に
おいては、表1〜表4に示す種類の酸性溶液を使用し
た。前記酸性溶液の具体的な種類および液温について
は、表5に示す。
(8) Desmutting process (3) Next, a desmutting process was performed. In the desmutting treatment, acidic solutions of the types shown in Tables 1 to 4 were used. Table 5 shows specific types of the acidic solution and liquid temperatures.

【0273】(9)陽極酸化処理、封孔処理、親水化処理 次に、この板を、表1および表2に示す条件で陽極酸化
処理した。前記陽極酸化処理において使用した酸性電解
液A1および酸性電解液A2の組成および液温について
は表7に示す。
(9) Anodizing Treatment, Sealing Treatment, Hydrophilization Treatment Next, this plate was subjected to anodizing treatment under the conditions shown in Table 1 and Table 2. Table 7 shows the composition and the liquid temperature of the acidic electrolytic solution A1 and the acidic electrolytic solution A2 used in the anodizing treatment.

【0274】陽極酸化処理後のアルミニウム板に、封孔
処理および親水化処理の何れか一方または両方を施し
た。封孔処理と親水化処理とのどちらを施したかについ
ては、表1〜表4に示す。
The aluminum plate after the anodizing treatment was subjected to either one or both of a pore-sealing treatment and a hydrophilizing treatment. Tables 1 to 4 show which of the sealing treatment and the hydrophilic treatment was performed.

【0275】封孔処理は、100℃、1気圧において飽
和した蒸気チャンバーの中で10秒間処理することによ
り行なった。
The sealing treatment was carried out by treating in a saturated steam chamber at 100 ° C. and 1 atm for 10 seconds.

【0276】親水化処理を行う場合には、表1〜表4に
示すように、条件S1〜S3の何れか1つに従って行な
った。条件S1〜S3については、表8に示す。
The hydrophilic treatment was carried out according to any one of the conditions S1 to S3 as shown in Tables 1 to 4. The conditions S1 to S3 are shown in Table 8.

【0277】(実施例2) (実施例2−1)実施例1−1〜実施例1−36で製造
した平版印刷版用アルミニウム支持体に、下記の下塗り
液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被覆
量は30mg/m2であった。
(Example 2) (Example 2-1) The following undercoat liquid was applied to the aluminum support for lithographic printing plates prepared in Example 1-1 to Example 1-36, and the solution was applied at 80 ° C for 30 minutes. Dry for seconds. The coating amount after drying was 30 mg / m 2 .

【0278】前記下塗り液の組成は、 a)アミノエチルホスホン酸 …0.10g b)フェニルホスホン酸 …0.15g c)β−アラニン …0.10g d)メタノール …40g e)純 水 …60g の通りであった。The composition of the undercoat liquid is as follows.   a) Aminoethylphosphonic acid ... 0.10 g   b) Phenylphosphonic acid: 0.15 g   c) β-alanine 0.10 g   d) Methanol ... 40g   e) Pure water ... 60g It was the street.

【0279】次に、前記平版印刷版用アルミニウム支持
体に、後述する感光層形成液Aを、塗布量を変化させて
塗布し、110℃で1分間乾燥して感光層を形成し、ポ
ジ型感光性平版印刷原版を得た。
Next, a photosensitive layer forming liquid A, which will be described later, was applied to the aluminum support for lithographic printing plates at various coating amounts, and dried at 110 ° C. for 1 minute to form a photosensitive layer. A photosensitive lithographic printing original plate was obtained.

【0280】感光層形成液Aの組成は、 a)1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドとピロガロール−ア セトン樹脂とのエステル化物(米国特許第3,635,709号明細書の実施例1に記載 されているもの) … 0.45g b)クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ/パラ比=6対4、重 量平均分子量3,000 、数平均分子量1,100、未反応のクレゾールを0.7%含有 ) … 1.1g c)m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量平均分子量1,700 、数平均分子量600、未反応のクレゾールを1%含有)… 0.3g d)N−(P−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド−ノルマルブチルア クリレート−ジエチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレート共重合体 (各モノマーの仕込モル比=40:40:20、重量平均分子量40,000、数平均 分子量20,000) … 0.2g e)P−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂(米国特許第4,12 3,279 号明細書に記載されているもの) … 0.021g f)ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロライド …0.01g g)テトラヒドロ無水フタル酸 … 0.1g h)安息香酸 … 0.02g i)4−〔p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕− 2,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン … 0.01g j)4−〔P−N−(P−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェニル〕−2,6− ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン … 0.02g k)2−トリクロロメチル−5−(4−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−オ キサジアゾール … 0.01g l)ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に 置換した染料 … 0.02g m)モディパーF−200(日本油脂(株)製フッ素系界面活性剤)を30重量 %含むメチルエチルケトンとメチルイソブチルケトン混合溶剤溶液 … 0.06g n)メガファックF177(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤 )を20重量%含むメチルイソブチルケトン溶液) … 0.02g o)メチルエチルケトン … 15g p)1−メトキシ−2−プロパノール … 10g の通りであった。The composition of the photosensitive layer forming liquid A is as follows:   a) 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-a Esterified product with seton resin (described in Example 1 of US Pat. No. 3,635,709) What has been done) 0.45g   b) Cresol-formaldehyde novolac resin (meta / para ratio = 6: 4, heavy Weight average molecular weight 3,000, number average molecular weight 1,100, 0.7% unreacted cresol )… 1.1g   c) m-cresol-formaldehyde novolac resin (weight average molecular weight 1,700 , Number average molecular weight 600, containing 1% of unreacted cresol) ... 0.3 g   d) N- (P-aminosulfonylphenyl) acrylamido-normal butyrua Crylate-diethylene glycol monomethyl ether methacrylate copolymer (Mole ratio of each monomer = 40:40:20, weight average molecular weight 40,000, number average) Molecular weight 20,000) 0.2 g   e) P-normal octylphenol-formaldehyde resin (U.S. Pat. Described in the specification of No. 3,279) ... 0.021 g   f) Naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride                                                         … 0.01 g   g) Tetrahydrophthalic anhydride ... 0.1 g   h) Benzoic acid: 0.02 g   i) 4- [p-N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl]- 2,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine ... 0.01 g   j) 4- [PN- (P-hydroxybenzoyl) aminophenyl] -2,6- Bis (trichloromethyl) -S-triazine ... 0.02 g   k) 2-trichloromethyl-5- (4-hydroxystyryl) -1,3,4-o Xadiazole ... 0.01 g   l) Victoria Pure Blue BOH counter anion to 1-naphthalene sulfonic acid Substituted dye: 0.02g   m) 30 parts by weight of Modiper F-200 (a fluorinated surfactant manufactured by NOF CORPORATION) % Methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone mixed solvent solution                                                        … 0.06g   n) Megafac F177 (Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd. fluorinated surfactant ) 20% by weight methyl isobutyl ketone solution) ... 0.02 g   o) Methyl ethyl ketone ... 15g   p) 1-methoxy-2-propanol ... 10 g It was the street.

【0281】前記感光層形成液Aを塗布して乾燥した感
光層の上に、メチルメタクリレートとエチルアクリレー
トとアクリル酸ソーダとを68/20/12の仕込モル
比で共重合した共重合体の水溶液を静電スプレーしてよ
りマット層を設けた。
An aqueous solution of a copolymer obtained by copolymerizing methyl methacrylate, ethyl acrylate and sodium acrylate at a charge molar ratio of 68/20/12 on the photosensitive layer coated with the photosensitive layer forming liquid A and dried. Was electrostatically sprayed to provide a mat layer.

【0282】得られた平版印刷原版を、真空焼枠中で、
透明ポジティブフィルムを通し、1mの距離から3kw
のメタルハライドランプにより50秒間露光を行なった
のち、現像液として、珪素とナトリウムとのモル比Si
2/Na2Oが1.74である珪酸ナトリウムの5.2
6%水溶液(pH=12.7)を仕込み、リンス液とし
て富士写真フィルム(株)製FR−3(1:7)を仕込
んだ富士写真フィルム(株)製自動現像機スタブロン9
00Dに通して処理した。
The lithographic printing plate precursor thus obtained was placed in a vacuum baking frame,
Through transparent positive film, 3kw from 1m distance
After exposure for 50 seconds with a metal halide lamp of No. 3, a molar ratio of silicon and sodium of Si was used as a developing solution.
5.2 of sodium silicate having O 2 / Na 2 O of 1.74
Fuji Photo Film Co., Ltd. FR-3 (1: 7) charged with 6% aqueous solution (pH = 12.7) and Fuji Photo Film Co., Ltd. automatic processor Stablon 9
Processed through 00D.

【0283】得られた平版印刷版について印刷性能を評
価した。印刷機としてハイデルベルグ社製SOR−Mを
使用し、湿し水として富士写真フィルム(株)製EU−
3(1:100)にイソプロパノールを10%添加した
ものを使用し、インキとしては、東洋インキ(株)製マ
ークファイブニュー墨を用いて印刷を行なった。前記平
版印刷版は、耐刷性および耐汚れ性が良好であった。
The printing performance of the obtained lithographic printing plate was evaluated. Heidelberg SOR-M is used as the printing machine, and Fuji Photo Film Co., Ltd. EU- is used as the dampening water.
3 (1: 100) to which 10% of isopropanol was added was used, and printing was performed using Mark Five New Ink manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. as the ink. The planographic printing plate had good printing durability and stain resistance.

【0284】(実施例2−2)実施例1−1〜実施例1
−36で製造した平版印刷版用アルミニウム支持体に、
以下の感光層形成液を2g/m2の塗布量で塗布して乾
燥し、感光層を形成した。
(Example 2-2) Examples 1-1 to 1
-36 on the aluminum support for lithographic printing plate,
The following photosensitive layer forming liquid was applied at a coating amount of 2 g / m 2 and dried to form a photosensitive layer.

【0285】前記感光層形成液の組成は、 a)1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドとピロガロール−ア セトン樹脂のエステル化物重量平均分子量2500) …40重量部 b)フェノールホルムアルデヒド樹脂(重量平均分子量10000、3核体以上 の成分90%) …75重量部 c)アクリルポリマーI …35重量部 d)2−(p−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s− トリアジン …3重量部 e)オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製) …1.5重量部 メガファックF−176(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤) …0.3重量部 f)メチルエチルケトン …1000重量部 g)プロピレングリコールモノメチルエーテル …1000重量部 であった。The composition of the photosensitive layer forming liquid is   a) 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-a Seton resin esterified product weight average molecular weight 2500)                                                         ... 40 parts by weight   b) Phenol formaldehyde resin (weight average molecular weight 10,000, trinuclear or more) Ingredients 90%) 75 parts by weight   c) Acrylic polymer I ... 35 parts by weight   d) 2- (p-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine: 3 parts by weight   e) Oil Blue # 603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) ... 1.5 parts by weight Megafac F-176 (Fluorine surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)                                                         … 0.3 parts by weight   f) Methyl ethyl ketone: 1000 parts by weight   g) Propylene glycol monomethyl ether ... 1000 parts by weight Met.

【0286】前記アクリルポリマーIは、以下の手順で
合成した。
The acrylic polymer I was synthesized by the following procedure.

【0287】N−(p−トルエンスルホニル)メタクリ
ルアミド60.3g、アクリロニトリル10.0gおよ
びエチルアクリレート46.0gをジメチルホルムアミ
ド232.6gに溶解し、窒素気流下、2,2′−アゾ
ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.224g
を重合開始剤として用い、65℃で7時間攪拌した。反
応液を放冷した後、水5リットル中に再沈した。析出し
たポリマーを濾取して乾燥し、アクリルポリマーIを1
10.4g(収率95%、Mw52,000)を得た。
60.3 g of N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, 10.0 g of acrylonitrile and 46.0 g of ethyl acrylate were dissolved in 232.6 g of dimethylformamide, and 2,2'-azobis (2,2) was obtained under a nitrogen stream. 4-dimethylvaleronitrile) 0.224 g
Was used as a polymerization initiator, and the mixture was stirred at 65 ° C. for 7 hours. The reaction solution was allowed to cool and then reprecipitated in 5 liters of water. The precipitated polymer was collected by filtration and dried to give acrylic polymer I 1
10.4 g (yield 95%, Mw 52,000) was obtained.

【0288】前記感光層の上にマット形成樹脂液を吹き
つけてマット層を形成した。
A mat-forming resin liquid was sprayed onto the photosensitive layer to form a mat layer.

【0289】前記マット層形成用樹脂液としては、メチ
ルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリル酸
(仕込重量比65:20:15)共重合体の一部をナト
リウム塩とした12%水溶液を用いた。
As the matte layer forming resin liquid, a 12% aqueous solution was used in which a part of the methyl methacrylate / ethyl acrylate / acrylic acid (charge ratio 65:20:15) copolymer was a sodium salt.

【0290】前記マット形成樹脂液の吹き付けは、回転
霧化静電塗布機を用い、霧化頭回転数25,000rp
m、樹脂液の送液量40ml/分、霧化頭への印加電圧
−90kV、塗布時の周囲温度25℃、相対湿度50%
の条件で行った。前記マット形成樹脂液を吹き付けて
2.5秒経過後、蒸気を吹き付けて前記塗布面を湿潤さ
せ、次いで3秒後に、温度60℃、湿度10%の温風を
5秒間吹き付けて乾燥させた。
For spraying the mat-forming resin liquid, a rotary atomizing electrostatic coating machine was used, and the atomizing head rotation speed was 25,000 rp.
m, flow rate of resin liquid 40 ml / min, voltage applied to atomizing head -90 kV, ambient temperature during application 25 ° C, relative humidity 50%
It went on condition of. 2.5 seconds after the matting resin solution was sprayed, steam was sprayed to moisten the coated surface, and after 3 seconds, warm air with a temperature of 60 ° C. and a humidity of 10% was sprayed for 5 seconds to dry.

【0291】以上の手順で作製した平版印刷原版に、原
稿フィルムを通して1mの距離から3kWのメタルハラ
イドランプを照射し、60秒間露光した。
The lithographic printing original plate prepared by the above procedure was irradiated with a metal halide lamp of 3 kW from a distance of 1 m through the original film and exposed for 60 seconds.

【0292】次に浸漬型現像槽を有する市販の自動現像
機PS−900D(富士写真フイルム(株)製)の現像
槽に、現像液aおよび現像補充液aを20リットル仕込
み、30℃に保温した。PS−900Dの第二浴目には
水道水を8リットル、第三浴目には下記のフィニッシン
グガム液を水で1:1に希釈したフィニッシング液を8
リットル仕込んだ。このPS−900Dに前述の露光済
みの平版印刷版を通し、現像処理した。
Next, a commercially available automatic processor PS-900D (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having an immersion type developing tank was charged with 20 liters of the developing solution a and the developing replenishing solution a and kept at 30 ° C. did. The second bath of PS-900D contained 8 liters of tap water, and the third bath contained 8 parts of finishing liquid prepared by diluting the following finishing gum liquid with water 1: 1.
I prepared liters. The PS-900D was passed through the exposed lithographic printing plate described above and developed.

【0293】現像液aはpHが約12.4であり、組成
は、 a)D−サッカロース 4.8 重量% b)水酸化ナトリウム 0.34重量% c)炭酸ナトリウム 0.70重量% d)テトラブチルアンモニウムブロマイド 0.03重量% e)水 94.7 重量% の通りであった。また、現像補充液aは、pHが約13.0であり、組成は、 a)D−サッカロース 9.7 重量% b)水酸化ナトリウム 1.5 重量% c)炭酸ナトリウム 1.0 重量% d)テトラブチルアンモニウムブロマイド 0.07重量% e)水 残 部 の通りであった。
The pH of developer a is about 12.4 and the composition is a) D-saccharose 4.8% by weight b) sodium hydroxide 0.34% by weight c) sodium carbonate 0.70% by weight d) Tetrabutylammonium bromide 0.03% by weight e) Water 94.7% by weight. The developer replenisher a has a pH of about 13.0 and has a composition of a) D-sucrose 9.7% by weight b) sodium hydroxide 1.5% by weight c) sodium carbonate 1.0% by weight d. ) Tetrabutylammonium bromide 0.07 wt% e) Water The rest was as it was.

【0294】前記フィニッシングガム液の組成は、 a)アラビアガム 1.8 重量% b)酵素変性馬鈴薯澱粉 18.3 重量% c)酵素変性玉蜀黍澱粉 3.7 重量% d)燐酸化ワキシー玉蜀黍澱粉 1.8 重量% e)ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.91重量% f)第一燐酸アンモニウム 0.27重量% g)燐酸(85%) 0.37重量% h)EDTA−四ナトリウム塩 0.27重量% i)エチレングリコール 1.8 重量% j)ベンジルアルコール 2.3 重量% k)デヒドロ酢酸ナトリウム 0.04重量% l)エマルジョン型シリコン消泡剤 0.02重量% m)水 68.4 重量% の通りであった。The composition of the finishing gum solution is as follows:   a) Gum arabic 1.8% by weight   b) Enzyme-modified potato starch 18.3% by weight   c) Enzyme-modified corn starch starch 3.7% by weight   d) Phosphorylated waxy corn starch starch 1.8% by weight   e) Dioctyl sulfosuccinate sodium salt 0.91% by weight   f) Ammonium monophosphate 0.27% by weight   g) Phosphoric acid (85%) 0.37% by weight   h) EDTA-tetrasodium salt 0.27% by weight   i) ethylene glycol 1.8% by weight   j) Benzyl alcohol 2.3% by weight   k) Sodium dehydroacetate 0.04% by weight   l) Emulsion type silicone defoamer 0.02% by weight   m) Water 68.4% by weight It was the street.

【0295】また、リンス液は、 a)ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム (40重量%水溶液) …6.7 重量% b)ヘキサメタ燐酸ナトリウム …0.8 重量% c)ベンジルアルコール …1.5 重量% d)ポリオキシエチレン(エチレンオキシド12モル付加)ノニルフェニルエー テル …1.5 重量% e)ジオクチルスルホ琥珀酸ナトリウム …1.4 重量% f)燐酸(85重量%) …5.2 重量% g)水酸化ナトリウム …2.0 重量% h)シリコン消泡剤 …0.01重量% i)水 …80.89重量% の組成を有していた。The rinse solution is   a) Sodium dodecyl diphenyl ether disulfonate (40% by weight aqueous solution) ... 6.7% by weight   b) Sodium hexametaphosphate: 0.8% by weight   c) Benzyl alcohol: 1.5% by weight   d) Polyoxyethylene (addition of 12 mol of ethylene oxide) nonylphenyl ether Tell… 1.5% by weight   e) Dioctyl sodium sulfosuccinate: 1.4% by weight   f) Phosphoric acid (85% by weight) ... 5.2% by weight   g) Sodium hydroxide: 2.0% by weight   h) Silicon antifoaming agent: 0.01% by weight   i) Water ... 80.89% by weight Had a composition of.

【0296】現像後の平版印刷版を、実施例2−1と同
様の手順で印刷性能について評価したところ、良好な耐
刷製及び印刷性能を有していることが判った。
The lithographic printing plate after development was evaluated for printing performance in the same procedure as in Example 2-1, and it was found that it had good printing durability and printing performance.

【0297】(実施例2−3)実施例1−1〜実施例1
−36で製造した平版印刷版用アルミニウム支持体に、
共重合体A( メチルメタクリレート/エチルアクリレ
ート/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ン酸ナトリウム(仕込モル比=50:30:20)の共
重合体(平均分子量約60000))の1%水溶液を、ロー
ルコーターによつて塗布し、乾燥させて下塗り層を形成
した。その乾燥後の塗布量は0.05g/m2であつ
た。
Example 2-3 Example 1-1 to Example 1
-36 on the aluminum support for lithographic printing plate,
A 1% aqueous solution of a copolymer A (copolymer of methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonate (charge molar ratio = 50: 30: 20) (average molecular weight about 60,000)) It was applied with a roll coater and dried to form an undercoat layer. The coating amount after drying was 0.05 g / m 2 .

【0298】この下塗り層の上に下記の感光層形成液を
塗布して乾燥させ、感光性平版印刷版を得た。
The following photosensitive layer forming liquid was applied onto this undercoat layer and dried to obtain a photosensitive lithographic printing plate.

【0299】前記感光層形成液の組成は、 a)2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体(米国特許第4123276号明細 中の実施例1に記載されているもの。) …0.87g b)p−ジアゾジフエニルアミンとパラホルムアルデヒドの縮合物の2−メトキ シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩…0.1g c)オイルブル−#603(オリエント化学工業(株)、青色染料) …0.03g d)メタノール …6g e)2−メトキシエタノール …6g の通りであった。The composition of the photosensitive layer forming liquid is   a) 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (US Pat. No. 4,123,276) As described in Example 1 therein. ) ... 0.87g   b) 2-Methoxy of the condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde Si-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate ... 0.1 g   c) Oil Bull- # 603 (Orient Chemical Co., Ltd., blue dye)                                                       … 0.03 g   d) Methanol ... 6g   e) 2-methoxyethanol: 6 g It was the street.

【0300】感光層の乾燥塗布量は、2.0g/m2
あつた。
The dry coating amount of the photosensitive layer was 2.0 g / m 2 .

【0301】前記平版印刷原版に透明ネガ原画を真空密
着し、3kWのメタルハライド灯で1mの距離から60
秒間露光し、下記の現像液に1分間浸漬し、感光層の表
面をスポンジで軽く擦つて現像し、市販の不感脂化ガム
液を塗布した。
A transparent negative original image was vacuum-adhered to the lithographic printing original plate, and a metal halide lamp of 3 kW was used to measure 60 m from a distance of 1 m.
It was exposed for a second, immersed in the following developer for 1 minute, lightly rubbed the surface of the photosensitive layer with a sponge to develop, and coated with a commercially available desensitizing gum solution.

【0302】前記現像液の組成は、 a)亜硫酸ナトリウム … 5g b)ベンジルアルコール …30g c)炭酸ナトリウム … 5g d)イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム …12g e)純水 …1000g であった。The composition of the developer is:   a) Sodium sulfite ... 5g   b) Benzyl alcohol ... 30g   c) Sodium carbonate ... 5g   d) Sodium isopropylnaphthalene sulfonate 12g   e) Pure water ... 1000g Met.

【0303】この平版印刷版につき、実施例2−1と同
様の手順で印刷性能を評価したところ、良好な印刷版で
あることが判った。
The printing performance of this lithographic printing plate was evaluated by the same procedure as in Example 2-1, and it was found to be a good printing plate.

【0304】(実施例2−4) カーボンブラック分散液の調製 下記の原料を、ガラスビーズにより10分間分散し、カ
ーボンブラック分散液を調製した。
Example 2-4 Preparation of Carbon Black Dispersion The following raw materials were dispersed with glass beads for 10 minutes to prepare a carbon black dispersion.

【0305】 a)カーボンブラック …1重量部 b)ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体(仕込モル比72:28 、重量平均分子量7万) …1.6重量部 c)シクロヘキサノン …1.6重量部 d)メトキシプロピルアセテート …3.8重量部 ネガ型感光性平版印刷原版の作製 実施例1−1〜実施例1−36で製造した平版印刷版用
アルミニウム支持体に、下記の感光層形成液を塗布し,
100℃で2分間乾燥をしてネガ型感光性平版印刷版を
得た。乾燥後の被膜量は2.0g/m2であった。
A) Carbon black: 1 part by weight b) Copolymer of benzyl methacrylate and methacrylic acid (molar ratio of 72:28, weight average molecular weight 70,000): 1.6 parts by weight c) Cyclohexanone: 1.6 parts by weight Part d) Methoxypropyl acetate ... 3.8 parts by weight Preparation of negative type photosensitive lithographic printing plate precursor The following photosensitive layer forming liquid was added to the aluminum support for lithographic printing plate prepared in Example 1-1 to Example 1-36. Apply
It was dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate. The coating amount after drying was 2.0 g / m 2 .

【0306】前記感光層形成液としては、 a)前記カーボンブラック分散液 …10g b)4ージアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの 縮合物の六フッ化燐酸塩 … 0.5g c)メタクリル酸と2ーヒドロキシエチルアクリレートとベンジルメタクリレー トとアクリロニトリルのラジカル共重合体(モノマー仕込モル比15:30:4 0:15、重量平均分子量10万) … 5g d)リンゴ酸 … 0.05g e)FCー430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) … 0.05g f)1ーメトキシー2ープロパノール …80g h)乳酸エチル …15g i)水 … 5g の組成を有するものを用いた。As the photosensitive layer forming liquid,   a) The carbon black dispersion: 10 g   b) of 4-diazodiphenylamine and formaldehyde Hexafluorophosphate of condensate ... 0.5g   c) Methacrylic acid, 2-hydroxyethyl acrylate and benzyl methacrylate And acrylonitrile radical copolymer (molar ratio of monomer charge 15: 30: 4) 0:15, weight average molecular weight 100,000) ... 5 g   d) Malic acid: 0.05 g   e) FC-430 (fluorine-based surfactant manufactured by 3M Company, USA) ... 0.05 g   f) 1-methoxy-2-propanol ... 80g   h) Ethyl lactate ... 15g   i) Water: 5g The one having the composition of was used.

【0307】得られた平版印刷原版を、版面出力2Wに
調節したYAGレーザで露光した後,富士写真フィルム
(株)製現像液,DN−3C(1:1),ガム液FN−
2(1:1)を仕込んだ自動現像機を通して処理したと
ころ、ネガ画像が得られた。この平版印刷版を用い、ハ
イデルSORーKZ機で印刷したところ、良好な印刷物
が得られた。
The obtained lithographic printing original plate was exposed with a YAG laser adjusted to a plate surface output of 2 W, and then developed by Fuji Photo Film Co., Ltd., DN-3C (1: 1), gum solution FN-.
When processed through an automatic processor equipped with 2 (1: 1), a negative image was obtained. When this lithographic printing plate was used for printing on a Heidel SOR-KZ machine, good printed matter was obtained.

【0308】(実施例2−5) 下塗り層の形成 実施例1−1〜実施例1−36で製造した平版印刷版用
アルミニウム支持体に、下記の下塗り液をワイヤーバー
にて塗布し、温風式乾燥装置を用いて90℃で30秒間
乾燥した。乾燥後の被膜量は20mg/m2であった。
(Example 2-5) Formation of Undercoat Layer The following undercoat liquid was applied to the aluminum support for lithographic printing plates prepared in Example 1-1 to Example 1-36 with a wire bar, and the mixture was heated. It dried at 90 degreeC for 30 second using the air dryer. The coating amount after drying was 20 mg / m 2 .

【0309】前記下塗り液は、 ・メタクリロイルオキシエチルホスホン酸 …0.2g ・メチルアクリレートとスチレンスルホン酸ナトリウム塩の仕込みモル比7 5:15の共重合体 …0.2g ・硝酸カルシウム …0.2g ・メタノール …20g ・イオン交換水 …80g の組成を有していた。The undercoat liquid is     -Methacryloyloxyethylphosphonic acid ... 0.2 g     ・ Mole ratio of methyl acrylate and styrene sulfonic acid sodium salt 7 Copolymer of 5:15 ... 0.2 g     ・ Calcium nitrate ... 0.2g     ・ Methanol: 20g     ・ Ion-exchanged water… 80g Had a composition of.

【0310】画像形成層の形成 前記下塗り層を形成した支持体上に、下記の画像形成層
塗布液P−1をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置
にて120℃で45秒間乾燥して記録層を形成し、さら
に、下記オーバーコート層塗布液を、スライドホッパー
を用いて塗布し、温風式乾燥装置にて120℃で75秒
間乾燥して平版印刷原版P−1を得た。尚、画像形成層
塗布液P−1の塗布量は2.0g/m2であり、オーバ
ーコート層塗布液の塗布量は2.3g/m2であった。
Formation of Image Forming Layer On the support having the undercoat layer formed thereon, the following image forming layer coating liquid P-1 was applied with a wire bar and dried at 120 ° C. for 45 seconds with a warm air dryer. To form a recording layer, and further, the following coating solution for overcoat layer was applied using a slide hopper, and dried at 120 ° C. for 75 seconds with a hot air dryer to obtain a lithographic printing original plate P-1. The coating amount of the image forming layer coating liquid P-1 was 2.0 g / m 2 , and the coating amount of the overcoat layer coating liquid was 2.3 g / m 2 .

【0311】画像形成層塗布液P−1の組成は、 ・チタノセン型ラジカル発生剤(CGI−784、チバ・スペシャルティ・ケ ミカルズ(株)製) …0.1g ・重合性化合物(RM−2) …0.6g ・重合性化合物(RM−3) …0.2g ・可視光吸収剤(VR−1) …0.10g ・ポリマー(PB−1) …1.20g ・銅フタロシアニン顔料 …0.04g ・重合禁止剤(クペロンAl、和光純薬(株)製)…0.005g ・フッ素系界面活性剤(メガファックKF309、大日本インキ化学工業(株 )製) …0.03g ・メチルエチルケトン …10g ・γ−ブチロラクトン … 5g ・メタノール … 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール … 5g の通りであった。The composition of the coating solution P-1 for image forming layer is as follows:   ・ Titanocene type radical generator (CGI-784, Ciba Specialty K Micals Co., Ltd.) ... 0.1 g   -Polymerizable compound (RM-2) ... 0.6 g   -Polymerizable compound (RM-3) ... 0.2 g   ・ Visible light absorber (VR-1) ... 0.10 g   -Polymer (PB-1) ... 1.20 g   ・ Copper phthalocyanine pigment ... 0.04g   ・ Polymerization inhibitor (Cuperon Al, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ... 0.005 g   ・ Fluorosurfactant (Megafuck KF309, Dainippon Ink and Chemicals, Inc. )) ... 0.03g   ・ Methyl ethyl ketone ... 10g   .Gamma.-butyrolactone ... 5 g   ・ Methanol: 7 g   ・ 1-Methoxy-2-propanol ... 5 g It was the street.

【0312】なお、画像形成層塗布液P−1の調製に用
いた重合性化合物RM−2、重合性化合物RM−3、お
よび可視光吸収剤VR−1は、以下の構造を有してい
る。
The polymerizable compound RM-2, the polymerizable compound RM-3, and the visible light absorber VR-1 used for the preparation of the coating liquid P-1 for the image forming layer have the following structures. .

【0313】[0313]

【化1】 [Chemical 1]

【0314】[0314]

【化2】 [Chemical 2]

【0315】[0315]

【化3】 また、ポリマー(PB−1)は、メタクリル酸、N−イ
ソプロピルアクリルアミドおよびエチルメタクリレート
の共重合体を合成した後、1,2−エポキシ−3−メタ
クリロイルオキシメチルシクロヘキサンと反応させるこ
とにより合成した。組成モル比は、15:30:20:
35であり、重量平均分子量は12万であった。ポリマ
ーPB−1の構造式は、以下の通りである。
[Chemical 3] Moreover, the polymer (PB-1) was synthesized by synthesizing a copolymer of methacrylic acid, N-isopropylacrylamide and ethyl methacrylate, and then reacting it with 1,2-epoxy-3-methacryloyloxymethylcyclohexane. The composition molar ratio is 15:30:20:
35 and the weight average molecular weight was 120,000. The structural formula of the polymer PB-1 is as follows.

【0316】[0316]

【化4】 また、前記オーバーコート層用塗布液は、 ・ポリビニルアルコール(ケン化度98.5モル%、重合度500) … 3g ・非イオン性界面活性剤(EMAREX NP−10 日本エマルジョン社( 株)製) … 0.05g ・イオン交換水 …96.95g の組成を有していた。[Chemical 4] The coating liquid for the overcoat layer is: polyvinyl alcohol (saponification degree: 98.5 mol%, polymerization degree: 500) 3 g Nonionic surfactant (EMEREX NP-10 manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) ... 0.05 g-Ion-exchanged water ... It had a composition of 96.95 g.

【0317】平版印刷版の評価 冨士写真フイルム(株)製自動現像機(LP−850P
2)の現像処理槽に、現像液V−2を仕込み、30℃に
保温した。自動現像機の第二浴目には、水道水を仕込
み、第三浴目には、FP−2W(富士写真フイルム
(株)製)を水で1:1に希釈したフィニッシングガム
液を仕込んだ。なお、現像液のpHは、8.1であっ
た。
Evaluation of planographic printing plate Automatic developing machine (LP-850P, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The developing solution V-2 was charged into the developing treatment tank of 2) and kept at 30 ° C. The second bath of the automatic processor was charged with tap water, and the third bath was charged with a finishing gum solution in which FP-2W (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was diluted 1: 1 with water. . The pH of the developer was 8.1.

【0318】現像液V−2は、 ・炭酸水素ナトリウム …26g ・エチレングリコールモノナフチルエーテルモノスルフェートのナトリウム塩 …30g ・エチレングリコールモノドデシルエーテル …20g ・亜硫酸ナトリウム … 3g ・エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム … 1g ・水 …920g の組成を有していた。The developing solution V-2 is   ・ Sodium hydrogen carbonate ... 26g   ・ Ethylene glycol mononaphthyl ether monosulfate sodium salt                                                 ... 30g   ・ Ethylene glycol monododecyl ether ... 20g   ・ Sodium sulfite ... 3g   ・ Ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium ... 1g   ・ Water… 920g Had a composition of.

【0319】次に、サイズが1030×800mmであ
る20枚の平版印刷原版P−1を、405nmの紫光を
発する30mW半導体レーザを用い、レーザビーム径1
2μm、版面エネルギー50μJ/cm2の露光条件で
走査露光し、上記の自動現像機を用いて現像処理した。
処理後、自動現像液を3日間そのまま放置した。その
後、1枚の平版印刷原版P−1を、同様にレーザ露光
し、引き続き現像処理した。得られた平版印刷版P−1
を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用
いて印刷した。印刷開始後、充分にインキの乗った印刷
物がどれだけの枚数得られるかを目視にて評価した。ま
た、そのときの非画像部の汚れの状態を目視で観察し
た。その結果、自動現像機を放置する前に処理した平版
印刷版からも、放置した後に処理した平版印刷版から
も、7万枚の良好な印刷物が得られた。また、得られた
印刷物の非画像部には、汚れの発生は認められなかっ
た。
Next, 20 lithographic printing original plates P-1 each having a size of 1030 × 800 mm were used, using a 30 mW semiconductor laser emitting 405 nm violet light, and a laser beam diameter of 1
Scanning exposure was performed under the exposure conditions of 2 μm and plate surface energy of 50 μJ / cm 2 , and development processing was performed using the above-mentioned automatic developing machine.
After the processing, the automatic developing solution was left as it was for 3 days. Then, one lithographic printing original plate P-1 was similarly laser-exposed and subsequently developed. Obtained planographic printing plate P-1
Was printed using a printing machine Lithrone manufactured by Komori Corporation. After the start of printing, it was visually evaluated how many sheets of printed material with sufficient ink could be obtained. In addition, the state of stains on the non-image area at that time was visually observed. As a result, 70,000 good prints were obtained from the planographic printing plate processed before leaving the automatic developing machine and from the planographic printing plate processed after standing. Further, no stain was observed in the non-image area of the obtained printed matter.

【0320】(実施例2−6) 下塗り層の形成 実施例1−1〜実施例1−36で製造した平版印刷版用
アルミニウム支持体に、下記下塗り液をワイヤーバーに
て塗布し、温風式乾燥装置を用いて90℃で30秒間乾
燥した。乾燥後の被膜量は20mg/m2であった。
(Example 2-6) Formation of Undercoat Layer The following undercoat liquid was applied with a wire bar to the aluminum support for lithographic printing plates produced in Example 1-1 to Example 1-36, and warm air was applied. It dried at 90 degreeC for 30 second (s) using the dry dryer. The coating amount after drying was 20 mg / m 2 .

【0321】下塗り液としては、 ・4−ジアゾ−3メトキシジフェニルアミンとホルムアルデヒド の縮合物のジブチルナフタレンスルホン酸塩 0.3g ・2−アミノエチルホスホン酸のマグネシウム塩 0.1g ・塩化カルシウム 0.2g ・メタノール 20g ・イオン交換水 80g の組成を有するものを用いた。As the undercoating liquid,   ・ 4-diazo-3methoxydiphenylamine and formaldehyde Condensation product of dibutylnaphthalene sulfonate 0.3g   -Magnesium salt of 2-aminoethylphosphonic acid 0.1 g   ・ Calcium chloride 0.2g   ・ Methanol 20g   ・ Ion-exchanged water 80g The one having the composition of was used.

【0322】画像形成層の形成 前記下塗り層を形成した平版印刷版用アルミニウム支持
体上に、後述する画像形成層塗布液P−2を、ワイヤー
バーで塗布し、温風式乾燥装置にて120℃で45秒間
乾燥して画像形成層を形成し、平版印刷原版P−2を得
た。乾燥後の塗布量は2.0g/m2であった。
Formation of Image Forming Layer On the aluminum support for a lithographic printing plate on which the undercoat layer has been formed, an image forming layer coating solution P-2 described later is applied with a wire bar, and heated with a hot air dryer to give 120. An image forming layer was formed by drying at 45 ° C. for 45 seconds to obtain a lithographic printing original plate P-2. The coating amount after drying was 2.0 g / m 2 .

【0323】画像形成層用塗布液P−2の組成は、 ・オニウム塩(KO−1) 0.25g ・重合性化合物(RM−1) 0.60g ・赤外線吸収剤(IR−1) 0.06g ・ポリマー(PB−2) 1.40g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・N−アリルステア燐酸アミド 0.01g ・重合禁止剤 0.005g (イルガノックス1010、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) ・フッ素系界面活性剤 0.03g (メガファックKF309、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 10g ・γ−ブチロラクトン 5g ・メタノール 7g ・1−メトキシ−3−プロパノール 5g の通りであった。The composition of the coating liquid P-2 for image forming layer is   -Onium salt (KO-1) 0.25g   -Polymerizable compound (RM-1) 0.60 g   ・ Infrared absorber (IR-1) 0.06g   ・ Polymer (PB-2) 1.40 g   ・ Victoria Pure Blue Naphthalene Sulfonate 0.04g   -N-allyl stearic acid amide 0.01 g   ・ Polymerization inhibitor 0.005g     (Irganox 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)   ・ Fluorosurfactant 0.03g   (Megafuck KF309, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)   ・ Methyl ethyl ketone 10g   ・ Γ-Butyrolactone 5 g   ・ Methanol 7g   ・ 1-Methoxy-3-propanol 5 g It was the street.

【0324】なお、前記オニウム塩KO−1、重合性化
合物RM−1、および赤外線吸収剤IR−1の構造は、
以下に示す通りである。
The structures of the onium salt KO-1, the polymerizable compound RM-1, and the infrared absorber IR-1 are as follows:
It is as shown below.

【0325】[0325]

【化5】 [Chemical 5]

【0326】[0326]

【化6】 [Chemical 6]

【0327】[0327]

【化7】 また、ポリマー(PB−2)は、メタクリル酸、N−ア
クリロイルモルホリンおよびベンジルメタクリレートの
共重合体を合成した後、3−クロロ−2−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートと、塩基およびヨウ化カリウム存
在下で反応させることにより合成した。組成モル比は、
15:30:10:45であり、重量平均分子量は10
万であった。構造式は以下の通りである
[Chemical 7] The polymer (PB-2) is reacted with 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate in the presence of a base and potassium iodide after synthesizing a copolymer of methacrylic acid, N-acryloylmorpholine and benzyl methacrylate. It was synthesized by The composition molar ratio is
15: 30: 10: 45 with a weight average molecular weight of 10
It was good. The structural formula is as follows

【0328】[0328]

【化8】 平版印刷原版P−2の評価 版材供給装置(SA−L8000)、露光装置(Lux
el T−9000CTP)、コンベア(T−9000
Conveyor)、自動現像機(LP−1310
H)、ストッカー(ST−1160)より成る冨士写真
フイルム(株)CTP出力システムを用いた。自動現像
機の現像処理槽に、現像液組成物V−1を仕込み、30
℃に保温した。自動現像機の第二浴目には、水道水を仕
込み、第三浴目には、FP−2W(富士写真フイルム
(株)製):水=1:1希釈したフィニッシングガム液
を仕込んだ。なお、現像液のpHは、8.0であった。
[Chemical 8] Evaluation plate material supply device (SA-L8000) for lithographic printing original plate P-2, exposure device (Lux)
el T-9000CTP), conveyor (T-9000)
Conveyor), automatic processor (LP-1310)
H), a stocker (ST-1160) Fuji Photo Film Co., Ltd. CTP output system was used. The developer composition V-1 was charged into the development processing tank of an automatic developing machine,
It was kept warm at ℃. The second bath of the automatic processor was charged with tap water, and the third bath was charged with FP-2W (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.): Water = 1: 1 diluted finishing gum solution. The pH of the developing solution was 8.0.

【0329】現像液組成物V−1の組成は、 ・炭酸水素カリウム …20g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム …30g ・エチレングリコールモノナフチルエーテル …20g ・亜硫酸ナトリウム … 3g ・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム … 2g ・シリコーンSA730 … 0.1g (東芝シリコーン(株)製界面活性剤) ・水 …924.9g の通りであった。The composition of the developer composition V-1 is as follows:   ・ Potassium bicarbonate ... 20g   ・ Sodium dibutylnaphthalene sulfonate ... 30g   ・ Ethylene glycol mononaphthyl ether ... 20g   ・ Sodium sulfite ... 3g   ・ Hydroxyethanediphosphonate potassium ... 2g   ・ Silicone SA730 ... 0.1g     (Toshiba Silicone Co., Ltd. surfactant)   ・ Water… 924.9g It was the street.

【0330】次に、サイズが1030×800mmであ
る30枚の平版印刷原版P−2を版材供給装置に装填
し、全自動で連続して、露光、現像処理し、ストッカー
に排出した。処理後、自動現像液を3日間そのまま放置
した。放置した後、平版印刷原版P−2の1枚を、版材
供給装置に装填し、全自動で連続して、露光、現像処理
し、ストッカーへ排出した。得られた平版印刷版P−2
を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用
いて印刷した。この際、印刷開始後、充分にインキがの
った印刷物をどれだけの枚数得られるかを目視にて評価
した。また、そのときの非画像部の汚れの状態を目視で
観察した。
Next, 30 lithographic printing original plates P-2 each having a size of 1030 × 800 mm were loaded in a plate material supplying device, exposed and developed continuously in a fully automatic manner, and discharged to a stocker. After the processing, the automatic developing solution was left as it was for 3 days. After being left standing, one plate of the planographic printing original plate P-2 was loaded into the plate material supplying device, and was continuously exposed and developed in a fully automatic manner and discharged to a stocker. Obtained planographic printing plate P-2
Was printed using a printing machine Lithrone manufactured by Komori Corporation. At this time, after the start of printing, it was visually evaluated how many sheets of printed matter with sufficient ink could be obtained. In addition, the state of stains on the non-image area at that time was visually observed.

【0331】その結果、自動現像機を放置する前に処理
した印刷版も、放置した後に処理した印刷版も、6万枚
の良好な印刷物が得られた。また、得られた印刷物の非
画像部に汚れの発生は認められなかった。
As a result, 60,000 good prints were obtained from both the printing plate processed before leaving the automatic developing machine and the printing plate processed after standing. No stain was found on the non-image area of the obtained printed matter.

【0332】(実施例2−7) 下塗り層の形成 実施例1−1〜実施例1−36で製造した平版印刷版用
アルミニウム支持体に、下記組成の下塗り液を塗布し、
80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の
塗膜の被覆量は15mg/m2であった。 <下塗り液組成> ・下記の化学式で示される高分子化合物 …0.3g
(Example 2-7) Formation of Undercoat Layer An undercoat liquid having the following composition was applied to the aluminum support for lithographic printing plates prepared in Example 1-1 to Example 1-36,
It was dried at 80 ° C for 15 seconds to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 . <Undercoating liquid composition> Polymer compound represented by the following chemical formula: 0.3 g

【0333】[0333]

【化9】 ・メタノール …100g ・水 … 1g の組成を有するものを用いた。[Chemical 9] -Methanol ... 100 g-Water ... 1 g was used.

【0334】感光層の形成 更に、下記組成の感光層塗布液を調製し、前記平版印刷
版用アルミニウム支持体の前記下塗り液を塗布した側の
面に、この感光層塗布液1を、バーコーターを用いて、
乾燥後の塗布量(感光層塗布量)が1.0g/m2にな
るよう塗布し、乾燥して感光層を形成させ、平版印刷版
を得た。
Formation of Photosensitive Layer Further, a photosensitive layer coating solution having the following composition was prepared, and the photosensitive layer coating solution 1 was applied to the surface of the aluminum support for a lithographic printing plate on the side coated with the undercoating solution with a bar coater. Using,
The coating amount after drying (photosensitive layer coating amount) was 1.0 g / m 2, and the coating was dried to form a photosensitive layer to obtain a lithographic printing plate.

【0335】前記感光層塗布液の組成は、 ・カプ燐酸 … 0.03 g ・共重合体I … 0.75 g ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量3,5 00、未反応クレゾール0.5質量%含有) … 0.25 g ・p−トルエンスルホン酸 … 0.003g ・テトラヒドロ無水フタル酸 … 0.03 g ・下記構造式で表されるシアニン染料A … 0.017gThe composition of the photosensitive layer coating solution is as follows:   ・ Capric acid: 0.03 g   -Copolymer I ... 0.75 g   M, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,5 00, containing 0.5% by mass of unreacted cresol) ... 0.25 g   -P-toluenesulfonic acid ... 0.003 g   ・ Tetrahydrophthalic anhydride: 0.03 g   ・ Cyanine dye A represented by the following structural formula: 0.017 g

【0336】[0336]

【化10】 ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニ オンに置換した染料 … 0.015g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業社製 ) … 0.05g ・γ−ブチルラクトン …10g ・メチルエチルケトン …10g ・1−メトキシ−2−プロパノール … 1g であった。[Chemical 10] -Dyestuff in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is substituted with 1-naphthalenesulfonic acid anion ... 0.015 g-Fluorosurfactant (Megafuck F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ... 0.05 g-γ -Butyl lactone ... 10 g. Methyl ethyl ketone ... 10 g. 1-Methoxy-2-propanol ... 1 g.

【0337】前記共重合体Iは、以下のようにして合成
した。
The copolymer I was synthesized as follows.

【0338】攪拌機、冷却管および滴下ロートを備えた
500mL容の三つ口フラスコに、メタクリル酸31.
0g(0.36mol)、クロロギ酸エチル39.lg
(0.36mol)およびアセトニトリル200mLを
入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混
合物にトリエチルアミン36.4g(0.36mol)
を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了
後、氷水浴を取り去り、室温下で30分間混合物を攪拌
した。
A 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel was charged with methacrylic acid 31.
0 g (0.36 mol), ethyl chloroformate 39. lg
(0.36 mol) and 200 mL of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling with an ice water bath. 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was added to this mixture.
Was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After completion of dropping, the ice water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

【0339】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30mol)を加え、油
浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反
応終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。こ
の混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500
mLでスラリーにした後、得られたスラリーを濾過し、
残った固体を乾燥してN−(p−アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミドの白色固体を得た(収量46.
9g)。
To this reaction mixture, 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, this mixture was put into 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was washed with water 500
After slurrying in mL, the resulting slurry is filtered,
The remaining solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.
9g).

【0340】つぎに、攪拌機、冷却管および滴下ロート
を備えた20mL容の三つ口フラスコに、前記N−(p
−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.6
1g(0.0192mol)、メタクリル酸エチル2.
94g(0.0258mol)、アクリロニトリル0.
80g(0.015mol)、およびN,N−ジメチル
アセトアミド20gを仕込み、湯水浴により65℃に加
熱しながら混合物を攪拌した。この混合物に「V−6
5」(和光純薬社製)0.15gを加え、65℃に保ち
ながら窒素気流下で前記混合物を2時間攪拌した。
Next, in a 20 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel, the N- (p
-Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.6
1 g (0.0192 mol), ethyl methacrylate 2.
94 g (0.0258 mol), acrylonitrile 0.
80 g (0.015 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide were charged, and the mixture was stirred while heating to 65 ° C with a hot water bath. Add "V-6 to this mixture.
5 "(manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C.

【0341】この反応混合物に、更に、前記N−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61
g、メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリル
0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド20g、お
よび「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴
下ロートにより滴下した。滴下終了後、得られた混合物
をさらに65℃で2時間攪拌した。
The reaction mixture was further mixed with the N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.61
g, 2.94 g of ethyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide, and 0.15 g of "V-65" were added dropwise by a dropping funnel over 2 hours. After the dropping was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours.

【0342】反応終了後、メタノール40gを前記混合
物に加えて冷却し、水2リットルを攪拌しながら前記混
合物を投入し、30分攪拌した後、析出物を濾取して乾
燥し、15gの白色固体状の共重合体Iを得た。
After the completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture to cool it, and the mixture was added while stirring 2 liters of water. After stirring for 30 minutes, the precipitate was collected by filtration and dried to give 15 g of white. A solid copolymer I was obtained.

【0343】得られた共重合体Iの重量平均分子量をゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した
ところ、53,000(ポリスチレン標準)であった。
The weight average molecular weight of the obtained copolymer I was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000 (polystyrene standard).

【0344】上記のようにして得られた平版印刷版を、
出力500mW、波長830nm、ビーム径17μm
(1/e2 )の半導体レーザを用いて、主操作速度5m
/秒で露光した後、富士写真フイルム(株)製のPS版
用現像液DP−4(1:8)水希釈液を用いて30秒間
現像した。
The lithographic printing plate obtained as described above,
Output 500mW, wavelength 830nm, beam diameter 17μm
Using a (1 / e2) semiconductor laser, the main operating speed is 5 m
After exposure for 1 second / second, development was carried out for 30 seconds using a PS plate developer DP-4 (1: 8) water dilution solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.

【0345】この印刷版を印刷したところ、良好な印刷
版であった。
When this printing plate was printed, it was a good printing plate.

【0346】(実施例2−8) 下塗り層の形成 実施例1−1〜実施例1−36で製造した平版印刷版用
アルミニウム支持体に、下記組成の下塗り液を塗布し、
80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の
塗膜の被覆量は15mg/m2であった。
(Example 2-8) Formation of Undercoat Layer The undercoat liquid having the following composition was applied to the aluminum support for lithographic printing plates produced in Example 1-1 to Example 1-36,
It was dried at 80 ° C for 15 seconds to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

【0347】下塗り液組成の組成は、 ・下記構造を有する高分子化合物 …0.3gThe composition of the undercoat liquid composition is   ・ Polymer compound having the following structure: 0.3 g

【0348】[0348]

【化11】 ・メタノール …100g ・水 … 1g の通りであった。[Chemical 11] ・ Methanol: 100 g ・ Water: 1 g

【0349】感光層の形成 下記組成の感光層塗布液を調製し、前記平版印刷版アル
ミニウム支持体に、バーコーターを用いて乾燥後の塗布
量が1.0g/m2になるよう塗布し、乾燥して感光層
を形成し、平版印刷原版を得た。
Formation of Photosensitive Layer A photosensitive layer coating solution having the following composition was prepared and applied onto the above lithographic printing plate aluminum support using a bar coater so that the coating amount after drying was 1.0 g / m 2 . A photosensitive layer was formed by drying to obtain a lithographic printing original plate.

【0350】前記感光層塗布液の組成は、 ・カプリン酸 …0.03 g ・共重合体II …0.75 g ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量3,5 00、未反応クレゾール0.5質量%含有) …0.25 g ・p−トルエンスルホン酸 …0.003g ・テトラヒドロ無水フタル酸 …0.03 g ・下記構造式で表されるシアニン染料A …0.017gThe composition of the photosensitive layer coating solution is as follows:   ・ Capric acid: 0.03 g   -Copolymer II ... 0.75 g   M, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,5 00, containing 0.5% by mass of unreacted cresol)                                               … 0.25 g   ・ P-toluenesulfonic acid: 0.003 g   ・ Tetrahydrophthalic anhydride: 0.03 g   ・ Cyanine dye A represented by the following structural formula: 0.017 g

【0351】[0351]

【化12】 ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニ オンに置換した染料 …0.015g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業社製 ) …0.05g ・γ−ブチルラクトン …10g ・メチルエチルケトン …10g ・1−メトキシ−2−プロパノール … 1g の通りであった。[Chemical 12] -Dyestuff in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is substituted with 1-naphthalene sulfonate anion ... 0.015 g-Fluorosurfactant (Megafuck F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)-0.05 g-γ -Butyl lactone ... 10 g. Methyl ethyl ketone ... 10 g. 1-Methoxy-2-propanol ... 1 g.

【0352】前記共重合体IIは、以下の手順で合成し
た。
The copolymer II was synthesized by the following procedure.

【0353】攪拌機、冷却管および滴下ロートを備えた
500mL容の三つ口フラスコに、メタクリル酸31.
0g(0.36mol)、クロロギ酸エチル39.lg
(0.36mol)およびアセトニトリル200mLを
仕込み、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この
混合物に、トリエチルアミン36.4g(0.36mo
l)を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下
終了後、氷水浴を取り去り、室温下で30分間混合物を
攪拌した。
A 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel was charged with methacrylic acid 31.
0 g (0.36 mol), ethyl chloroformate 39. lg
(0.36 mol) and 200 mL of acetonitrile were charged, and the mixture was stirred while cooling with an ice water bath. 36.4 g (0.36 mo) of triethylamine was added to this mixture.
1) was dripped with the dropping funnel over about 1 hour. After completion of dropping, the ice water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

【0354】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30mol)を加え、油
浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反
応終了後、水1リットルを攪拌しつつ、前記混合物を投
入し、30分間攪拌した。この混合物から析出物を濾取
し、得られた析出物に水500mLを加えてスラリーを
調製してこれを濾過し、得られた固体を乾燥することに
よりN−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミドの白色固体を得た(収量46.9g)。
51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added to this reaction mixture, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added while stirring 1 liter of water and stirred for 30 minutes. The precipitate was filtered from this mixture, 500 mL of water was added to the obtained precipitate to prepare a slurry, which was filtered, and the obtained solid was dried to obtain N- (p-aminosulfonylphenyl) methacryl. A white solid of amide was obtained (yield 46.9 g).

【0355】つぎに、攪拌機、冷却管および滴下ロート
を備えた20mL容の三つ口フラスコに、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g
(0.0192mol)、メタクリル酸エチル2.94
g(0.0258mol)、アクリロニトリル0.80
g(0.015mol)、およびN,N−ジメチルアセ
トアミド20gを仕込み、湯水浴により、65℃に加熱
しながら混合物を攪拌した。この混合物に「V−65」
(和光純薬社製)0.15gを加え、65℃°Cに保ち
ながら、窒素気流下で混合物を2時間攪拌した。この反
応混合物に、さらに、N−(p−アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド4.61g、メタクリル酸エチ
ル2.94g、アクリロニトリル0.80g、N,N−
ジメチルアセトアミド20g、および「V−65」0.
15gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下し
た。
Next, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 20 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
(0.0192 mol), ethyl methacrylate 2.94
g (0.0258 mol), acrylonitrile 0.80
g (0.015 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide were charged, and the mixture was stirred while heating to 65 ° C. in a hot water bath. Add "V-65" to this mixture.
0.15 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 2 hours while maintaining the temperature at 65 ° C. To this reaction mixture was further added 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, 2.94 g of ethyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, N, N-.
Dimethylacetamide 20 g, and "V-65" 0.
15 g of the mixture was added dropwise by the dropping funnel over 2 hours.

【0356】滴下終了後、更に65℃で2時間攪拌し、
反応終了後、メタノール40gを前記混合物に加え、冷
却した。2リットルの水を攪拌しつつ、前記混合物を投
入し、30分混合物を攪拌した後、析出物を濾取して乾
燥し、15gの白色固体状の共重合体IIを得た。
After completion of dropping, the mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours,
After the reaction was completed, 40 g of methanol was added to the mixture and cooled. The mixture was added while stirring 2 liters of water, and the mixture was stirred for 30 minutes, and then the precipitate was collected by filtration and dried to obtain 15 g of a white solid copolymer II.

【0357】得られた共重合体IIの重量平均分子量をゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した
ところ、53,000(ポリスチレン標準)であった。
The weight average molecular weight of the obtained copolymer II was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000 (polystyrene standard).

【0358】上記のようにして得られた平版印刷版を出
力500mW、波長830nm、ビーム径17μm(1
/e2 )の半導体レーザを用いて、主操作速度5m/秒
で露光した後、下記組成の非シリケート現像液を用いて
現像した。
The lithographic printing plate obtained as described above had an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 17 μm (1
/ E @ 2) of a semiconductor laser at a main operation speed of 5 m / sec, and then developed with a non-silicate developer having the following composition.

【0359】〔現像液(非シリケート現像液)〕非還元
糖と塩基とを組み合わせたD−ソルビット/酸化カリウ
ム(K2O)よりなるカリウム塩45%水溶液1リット
ルに、両性界面活性剤パイオニンC−158G(竹本油
脂(株)製)20gと消泡剤オルフィンAK−02(日
信化学(株)製)2.0gを添加して濃縮液を作製し
た。この濃縮液を水で9倍に希釈したものを現像液とし
た。この現像液1の電導度は45mS/cmである。
[Developer (non-silicate developer)] 1 L of a 45% aqueous solution of a potassium salt of D-sorbit / potassium oxide (K 2 O) in which a non-reducing sugar and a base are combined is added to an amphoteric surfactant Pionin C. A concentrated solution was prepared by adding 20 g of -158G (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) and 2.0 g of antifoaming agent Olfine AK-02 (manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.). This concentrated solution was diluted 9 times with water to obtain a developing solution. The electric conductivity of this developing solution 1 is 45 mS / cm.

【0360】この印刷版を用いて印刷したところ、良好
な印刷版であった。
When printing was carried out using this printing plate, it was a good printing plate.

【0361】(実施例2−9) 共重合体の合成 (1)合成例1(共重合体1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ
口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モ
ル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及
びアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しな
がら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロー
トにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室
温下で30分間混合物を攪拌した。
Example 2-9 Synthesis of Copolymer (1) Synthesis Example 1 (Copolymer 1) 31.0 g of methacrylic acid (0.36 g) was added to a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a cooling tube and a dropping funnel. Mol), 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling with an ice water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was added dropwise with a dropping funnel over about 1 hour. After the dropping was completed, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

【0362】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。
To this reaction mixture, 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, this mixture was put into 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was then washed with water (500 m).
After slurrying with l, this slurry was filtered, and the obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).

【0363】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た100ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.0
210モル)、メタクリル酸エチル2.05g(0.0
180モル)、アクリロニトリル1.11g(0.02
1モル)、およびN,N−ジメチルアセトアミド20g
を入れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪
拌した。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)
製)0.15gを加え、65℃に保ちながら窒素気流下
2時間混合物を攪拌した。
Next, in a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel, 5.04 g (0.0%) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was obtained.
210 mol), 2.05 g of ethyl methacrylate (0.0
180 mol), acrylonitrile 1.11 g (0.02
1 mol), and 20 g of N, N-dimethylacetamide
, And the mixture was stirred while heating to 65 ° C. with a hot water bath. Add "V-65" to this mixture (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
0.15 g) was added, and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 2 hours while maintaining the temperature at 65 ° C.

【0364】この反応混合物に、さらに、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04
g、メタクリル酸エチル2.05g、アクリロニトリル
1.11g、N,N−ジメチルアセトアミド20g、お
よび「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴
下ロートにより滴下した。滴下終了後さらに65℃で2
時間得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール
40gを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2
リットルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混合物
を攪拌した後、析出物を濾取し、乾燥することにより1
5gの白色固体状の共重合体1を得た。ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィーによりこの共重合体1の重量
平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したところ5
3,000であった。
To the reaction mixture was further added 5.04 of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide.
g, 2.05 g of ethyl methacrylate, 1.11 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide, and 0.15 g of "V-65" were added dropwise by a dropping funnel over 2 hours. After the dropping is completed, the temperature is further increased to 65 ° C for 2
The resulting mixture was stirred for time. After the reaction was completed, 40 g of methanol was added to the mixture and cooled, and the resulting mixture was mixed with water 2
This water was added to a liter with stirring, the mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was collected by filtration and dried to give 1
5 g of white solid copolymer 1 was obtained. When the weight average molecular weight (polystyrene standard) of this copolymer 1 was measured by gel permeation chromatography, it was 5
It was 3,000.

【0365】(2)合成例2(共重合体2) 合成例1の重合反応において、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.02
10モル)に代えてN−(p−ヒドロキシフェニル)メ
タクリルアミド3.72g(0.0210モル)を用い
た以外は、合成例1と同様に重合反応を行い、重量平均
分子量(ポリスチレン標準)47,000の共重合体2
を得た。
(2) Synthesis Example 2 (Copolymer 2) In the polymerization reaction of Synthesis Example 1, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide 5.04 g (0.02
Polymerization reaction was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 3.72 g (0.0210 mol) of N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide was used instead of 10 mol), and the weight average molecular weight (polystyrene standard) 47. 2,000 copolymers 2
Got

【0366】下塗り液の塗布 実施例1−1〜実施例1−36で製造した平版印刷版用
アルミニウム支持体に、下記下塗り液を塗布し、塗膜を
90℃で1分乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10m
g/m2であった。
Application of Undercoat Liquid The following undercoat liquid was applied to the aluminum support for lithographic printing plates prepared in Example 1-1 to Example 1-36, and the coating film was dried at 90 ° C. for 1 minute. The coating amount of the coating film after drying is 10 m
It was g / m 2 .

【0367】前記下塗り液の組成は、 ・β−アラニン … 0.5g ・メタノール …95g ・水 … 5g の通りであった。The composition of the undercoat liquid is as follows:   .Beta.-alanine ... 0.5 g   ・ Methanol: 95g   ・ Water: 5g It was the street.

【0368】画像形成層の形成 前記平版印刷版用アルミニウム支持体に、後述する感光
層形成液A1を塗布し、100℃で2分間乾燥して、
(A)層を形成した。乾燥後の塗布量は1.4g/m2
であった。さらに、後述する感光層形成液B1を塗布
し、100℃で2分間乾燥して、(B)層を形成し、平
版印刷原版を得た。乾燥後の感光層形成液A1およびB
1の合計塗布量は2.0g/m2であった。
Formation of Image Forming Layer The above-mentioned aluminum support for lithographic printing plates was coated with a photosensitive layer forming liquid A1 described below and dried at 100 ° C. for 2 minutes,
The (A) layer was formed. The applied amount after drying is 1.4 g / m 2.
Met. Further, a photosensitive layer forming liquid B1 described below was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a layer (B), thereby obtaining a lithographic printing original plate. Photosensitive layer forming liquids A1 and B after drying
The total coating amount of No. 1 was 2.0 g / m 2 .

【0369】感光層形成液A1の組成は、 ・共重合体1 …0.75g ・シアニン染料A …0.04g ・p−トルエンスルホン酸 …0.002g ・テトラヒドロ無水フタル酸 …0.05g ・ビクトリアピュアブルー(BOHの対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸 アニオンに置換した染料) …0.015g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株 )製) …0.02g ・γ−ブチルラクトン …8g ・メチルエチルケトン …7g ・1−メトキシ−2−プロパノール …7g の通りであった。The composition of the photosensitive layer forming liquid A1 is   -Copolymer 1 ... 0.75 g   ・ Cyanine dye A ... 0.04g   ・ P-toluenesulfonic acid: 0.002 g   ・ Tetrahydrophthalic anhydride: 0.05 g   ・ Victoria pure blue (counter anion of BOH is 1-naphthalene sulfonic acid Dye substituted with anion) 0.015 g   ・ Fluorosurfactant (MegaFac F-177, Dainippon Ink and Chemicals, Inc. ) Made ... 0.02g   ・ Γ-Butyl lactone: 8 g   ・ Methyl ethyl ketone ... 7g   ・ 1-Methoxy-2-propanol: 7 g It was the street.

【0370】感光層形成液B1の組成は、 m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量4000 ) 0.25g シアニン染料A 0.05g ステア燐酸n−ドデシル 0.02g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株) 製) 0.05g メチルエチルケトン 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g の通りであった。The composition of the photosensitive layer forming liquid B1 is   m, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4000 ) 0.25g   Cyanine dye A 0.05g   N-Dodecyl stearate 0.02g   Fluorine-based surfactant (MegaFac F-177, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Made) 0.05 g   Methyl ethyl ketone 7g   1-methoxy-2-propanol 7g It was the street.

【0371】平版印刷原版の性能評価 前記のようにして作成した平版印刷原版について、印刷
性能評価を行った。
Performance evaluation of lithographic printing original plate The printing performance of the lithographic printing original plate prepared as described above was evaluated.

【0372】得られた平版印刷原版を、出力500m
W,波長830nm、ビーム径17μm(1/e2 )の
半導体レーザを用いて主走査速度5m/秒にて露光した
後、富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4、リン
ス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機(富士写
真フイルム(株)製:「PSプロセッサー900V
R」)を用いて現像した。その際、DP−4は1:8で
希釈したものを用いた。
Output of the obtained lithographic printing plate precursor is 500 m.
After exposure with a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 17 μm (1 / e2) at a main scanning speed of 5 m / sec, a developing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4, and a rinse solution FR-3 are used. An automatic processor equipped with (1: 7) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd .: “PS Processor 900V
R "). At that time, DP-4 used was diluted 1: 8.

【0373】この平版印刷版をハイデルベルク社製のハ
イデルKOR−D機で上質紙に印刷したところ、良好な
印刷版であることが判った。
When this lithographic printing plate was printed on high-quality paper with a Heidel KOR-D machine manufactured by Heidelberg, it was found to be a good printing plate.

【0374】(実施例2−10) 下塗り層の形成 実施例1−1〜実施例1−36で製造した平版印刷版用
アルミニウム支持体に、下記の下塗り液を塗布・乾燥
し、下塗り層を形成した。
(Example 2-10) Formation of Undercoat Layer The following undercoat liquid was applied to the aluminum support for lithographic printing plates prepared in Example 1-1 to Example 1-36 and dried to form an undercoat layer. Formed.

【0375】下塗り液の組成は、 ・下記化合物 …0.3g ・メタノール …100g ・水 … 1g の組成を有していた。The composition of the undercoating liquid is   ・ The following compounds: 0.3 g   ・ Methanol: 100g   ・ Water: 1g Had a composition of.

【0376】感熱層の形成 得られた基板に、以下の下層用塗布液を、塗布量が0.
85g/m2になるよう塗布したのち、TABAI社
製、PERFECT OVEN PH200にてWin
d Controlを7に設定して140度で50秒間
乾燥し、その後、感熱層用塗布液を塗布量が0.15g
/m2になるよう塗布したのち、120度で1分間乾燥
し、平版印刷原版を得た。
Formation of Heat Sensitive Layer The following lower layer coating solution was applied to the obtained substrate at a coating amount of 0.
After coating so as to be 85 g / m 2 , it is Win with PERFECT OPEN PH200 manufactured by TABAI.
d Control is set to 7 and dried at 140 ° C. for 50 seconds, and then the coating liquid for heat-sensitive layer is applied at 0.15 g
/ M 2 and then dried at 120 ° C for 1 minute to obtain a lithographic printing original plate.

【0377】下層用塗布液の組成は、 ・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリ ル/メタクリル酸メチル=36/34/30(仕込みモル比)、重量平均分子量 50000) 1.896g ・クレゾールノボラック(m/p=6/4 重量平均分子量4500、残存モ ノマー0.8wt%) 0.237g ・シアニン染料A(下記構造) 0.109gThe composition of the lower layer coating solution is as follows:   -N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / acrylonitri Le / methyl methacrylate = 36/34/30 (molar ratio charged), weight average molecular weight 50000) 1.896g   ・ Cresol novolac (m / p = 6/4 weight average molecular weight 4500, residual molybdenum Nomer 0.8wt%) 0.237g   ・ Cyanine dye A (the following structure) 0.109 g

【0378】[0378]

【化13】 ・4,4’−ビズヒドロキシフェニルスルホン 0.063g ・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒイドロキシナフタレンスルホンに置 換したもの 0.05g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ工業(株)社製 ) 0.035g ・メチルエチルケトン 26.6g ・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g ・γ−ブチロラクトン 13.8g の通りであった。[Chemical 13] -4,4'- bishydroxyphenyl sulfone 0.063g-tetrahydrophthalic anhydride 0.190g-p-toluenesulfonic acid 0.008g-Ethyl violet counter ion substituted with 6-hydroxynaphthalene sulfone 05g-Fluorosurfactant (Megafuck F176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.035g-Methyl ethyl ketone 26.6g-1-Methoxy-2-propanol 13.6g-γ-butyrolactone 13.8g As follows: Met.

【0379】一方、前記感熱層用塗布液の組成は、 ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量450 0、未反応クレゾール0.8重量%含有) 0.237g ・シアニン染料A(上記構造) 0.047g ・ステア燐酸ドデシル 0.060g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート 0.030g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ化学工業(株) 製) 0.110g ・フッ素系界面活性剤〔メガファックMCF−312(30%)、大日本イン キ工業(株)社製〕 0.120g ・メチルエチルケトン 15.1 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7 g の通りであった。On the other hand, the composition of the heat-sensitive layer coating solution is   -M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 450 0, containing 0.8% by weight of unreacted cresol) 0.237 g   ・ Cyanine dye A (the above structure) 0.047 g   ・ Dodecyl stearate 0.060g   ・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate                                               0.030g   ・ Fluorosurfactant (MegaFac F176, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Made) 0.110g   ・ Fluorosurfactant [Megafac MCF-312 (30%), Dainippon In Ki Industrial Co., Ltd.] 0.120 g   ・ Methyl ethyl ketone 15.1 g   ・ 1-Methoxy-2-propanol 7.7 g It was the street.

【0380】得られた平版印刷原版1をCreo社製T
rendsetterにてビーム強度9w、ドラム回転
速度150rpmでテストパターンを描き込んだ。
The lithographic printing original plate 1 thus obtained was manufactured by Creo Co.
A test pattern was drawn with a redsetter at a beam intensity of 9w and a drum rotation speed of 150 rpm.

【0381】描き込みを行った平版印刷原版に対して、
現像に際し、下記の非シリケート現像液を用いて現像し
た。
For the planographic printing original plate on which the drawing was performed,
Upon development, the following non-silicate developer was used for development.

【0382】前記非シリケート現像液としては、非還元
糖と塩基とを組み合わせたD−ソルビット/酸化カリウ
ムよりなるカリウム塩45%水溶液1リットルに、両性
界面活性剤パイオニンC−158G(竹本油脂(株)
製)20gと消泡剤オルフィンAK−02(日信化学
(株)製)2.0gとを添加して濃縮液を調製し、この
濃縮液を水で9倍に希釈したものを用いた。前記非シリ
ケート現像液の電導度は45mS/cmである。
As the non-silicate developer, 1 liter of a 45% aqueous solution of a potassium salt of D-sorbit / potassium oxide in which a non-reducing sugar and a base are combined is added to an amphoteric surfactant Pionein C-158G (Takemoto Yushi Co., Ltd. )
(Manufactured by Nippon Shinyaku Co., Ltd.) and 2.0 g of antifoaming agent Olfine AK-02 (manufactured by Nisshin Chemical Co., Ltd.) were added to prepare a concentrated solution, and the concentrated solution was diluted 9 times with water. The conductivity of the non-silicate developer is 45 mS / cm.

【0383】この平版印刷版につき、実施例2−9と同
様の手順に従って印刷性能を評価したところ、良好な印
刷版であることが判った。
The printing performance of this lithographic printing plate was evaluated according to the same procedure as in Example 2-9, and it was found to be a good printing plate.

【0384】[0384]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
耐刷力と耐汚れ性能とが高いレベルで両立した平版印刷
版用アルミニウム支持体が得られる平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法、前記製造方法で製造した平版
印刷版用アルミニウム支持体、および前記平版印刷版用
アルミニウム支持体の粗面化面に画像形成層を積層した
平版印刷原版が提供される。
As described above, according to the present invention,
A method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which gives an aluminum support for a lithographic printing plate having a high level of printing durability and stain resistance, and an aluminum support for a lithographic printing plate produced by the production method, and There is provided a lithographic printing original plate in which an image forming layer is laminated on the roughened surface of the lithographic printing plate aluminum support.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明に係る平版印刷版用アルミニウ
ム支持体の製造方法における電解粗面化処理で印加する
ことのできる台形波電流の波形の一例を示す波形図であ
る。
FIG. 1 is a waveform diagram showing an example of a trapezoidal wave current waveform that can be applied in an electrolytic graining treatment in a method for manufacturing an aluminum support for a lithographic printing plate according to the present invention.

【図2】図2は、本発明に係る平版印刷版用アルミニウ
ム支持体の製造方法において、電解粗面化処理で使用で
きる電解槽の一例である。
FIG. 2 is an example of an electrolytic cell that can be used in an electrolytic graining treatment in the method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

40 電解槽 42 電解槽本体 44 送りローラ 46A 主極 46B 主極 48A 給液ノズル 48B 給液ノズル 54 補助電解槽 56 補助陽極 Th サイリスタ 40 electrolyzer 42 Electrolyzer body 44 feed roller 46A Main pole 46B Main pole 48A liquid supply nozzle 48B liquid supply nozzle 54 Auxiliary electrolyzer 56 Auxiliary anode Th thyristor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C25D 11/16 301 C25D 11/16 301 C25F 3/04 C25F 3/04 D G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/09 501 7/09 501 (72)発明者 上杉 彰男 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 AC01 AC08 AD01 AD03 DA18 DA20 EA01 FA03 FA17 2H096 AA07 BA01 BA09 CA01 CA03 CA20 EA02 EA04 GA09 2H114 AA04 AA14 AA24 BA02 BA10 DA04 DA08 DA09 DA10 DA11 DA64 EA02 EA03 EA08 FA04 GA05 GA06 GA08 GA09 4K053 PA10 PA12 QA03 QA04 RA14 RA15 RA16 RA19 RA22 SA04 SA06 TA01 TA06 TA10 TA11 TA12 TA18 4K057 WA01 WB05 WE22 WM03 WM04 WN10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C25D 11/16 301 C25D 11/16 301 C25F 3/04 C25F 3/04 D G03F 7/00 503 G03F 7 / 00 503 7/09 501 7/09 501 (72) Inventor Akio Uesugi 4000 Kawajiri, Yoshiji-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture F-term in Fuji Shashin Film Co., Ltd. (reference) 2H025 AA12 AB03 AC01 AC08 AD01 AD03 DA18 DA20 EA01 FA03 FA17 2H096 AA07 BA01 BA09 CA01 CA03 CA20 EA02 EA04 GA09 2H114 AA04 AA14 AA24 BA02 BA10 DA04 DA08 DA09 DA10 DA11 DA64. WB05 WE22 WM03 WM04 WN10

Claims (31)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム板の少なくとも一方の面
に、 (1) アルカリ溶液によりエッチングするアルカリエッチ
ング処理(1)、 (2) 酸性溶液中でデスマット処理するデスマット処理
(1)、 (3) 硝酸水溶液中で電解粗面化処理を行なう電解粗面化
処理(1)、 (4) アルカリ溶液によりエッチングするアルカリエッチ
ング処理(2)、 (5) 酸性溶液中でデスマット処理するデスマット処理
(2)、 (6) 塩酸水溶液中で電解粗面化処理を行なう電解粗面化
処理(2)、 (7) アルカリ溶液によりエッチングするアルカリエッチ
ング処理(3)、 (8) 酸性溶液中でデスマット処理するデスマット処理
(3)、および (9) 酸性電解液中で陽極酸化被膜を形成する陽極酸化処
理を順次施して粗面化面を形成することを特徴とする平
版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法。
1. At least one surface of an aluminum plate is subjected to (1) alkaline etching treatment (1) for etching with an alkaline solution, (2) desmutting treatment for desmutting in an acid solution (1), (3) nitric acid aqueous solution. Electrolytic surface roughening treatment (1), (4) Alkaline etching treatment by etching with alkaline solution (2), (5) Desmut treatment (2) by desmutting treatment in acidic solution, ( 6) Electrolytic surface roughening treatment in an aqueous hydrochloric acid solution (2), (7) Alkaline etching treatment in which an alkaline solution is used for etching (3), (8) Desmut treatment in an acidic solution (desmut treatment ( 3) and (9) An aluminum support for a lithographic printing plate, which is characterized by sequentially performing anodizing treatment for forming an anodized film in an acidic electrolyte to form a roughened surface. The method of production.
【請求項2】 前記陽極酸化処理の後に封孔処理およ
び親水化処理の少なくとも一方を施す請求項1に記載の
平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法。
2. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1, wherein at least one of sealing treatment and hydrophilic treatment is performed after the anodizing treatment.
【請求項3】 前記電解粗面化処理(1)において
は、硝酸とアルミニウムイオンとアンモニウムイオンと
を含有する硝酸水溶液中で、前記アルミニウム板のアノ
ード反応時における電気量が100〜500C/dm2
になるように前記アルミニウム板に交流電流を印加して
電解する請求項1または2に記載の平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法。
3. In the electrolytic surface-roughening treatment (1), in an aqueous nitric acid solution containing nitric acid, aluminum ions and ammonium ions, the amount of electricity during the anode reaction of the aluminum plate is 100 to 500 C / dm 2.
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1 or 2, wherein an alternating current is applied to the aluminum plate so as to perform electrolysis.
【請求項4】 前記電解粗面化処理(1)において
は、硝酸とアルミニウムイオンとアンモニウムイオンと
を含有する硝酸水溶液中で、前記アルミニウム板のアノ
ード反応時における電気量が200〜500C/dm2
になるように前記アルミニウム板に交流電流を印加して
電解する請求項3に記載の平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法。
4. In the electrolytic surface-roughening treatment (1), the amount of electricity during the anode reaction of the aluminum plate is 200 to 500 C / dm 2 in a nitric acid aqueous solution containing nitric acid, aluminum ions and ammonium ions.
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 3, wherein an alternating current is applied to the aluminum plate so as to electrolyze the aluminum plate.
【請求項5】 前記電解粗面化処理(1)において前
記アルミニウム板に印加する交流は、アルミニウム板の
アノード反応時間taの周期Tに占める割合であるduty
が0.5であって電流が0からピークに達するまでの立
上り時間tpが0.5〜2msecであり、周波数が4
0〜70Hzであり、カソード反応時の電気量Qcとア
ノード反応時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.9〜1で
ある請求項3または4に記載の平版印刷版用アルミニウ
ム支持体の製造方法。
5. AC to be applied to the aluminum plate in the electrolytic graining treatment (1) is a percentage of the period T of the anode reaction time t a of the aluminum plate duty
Is 0.5, the rise time t p until the current reaches the peak from 0 is 0.5 to 2 msec, and the frequency is 4
A 0~70Hz, the ratio of the electric quantity Q a of time electricity Q c and the anode reaction at the time of cathodic reaction Q c / Q a is a lithographic printing plate as claimed in claim 3 or 4 is 0.9 to 1 Method for manufacturing aluminum support.
【請求項6】 前記電解粗面化処理(1)において使
用される硝酸水溶液は、硝酸濃度が5〜15g/リット
ルであり、アルミニウムイオンの濃度が3〜7g/リッ
トルであり、アンモニウムイオンの濃度が50〜150
ppmであり、液温が30〜80℃である請求項3〜5
の何れか1項に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体
の製造方法。
6. The nitric acid aqueous solution used in the electrolytic surface-roughening treatment (1) has a nitric acid concentration of 5 to 15 g / liter, an aluminum ion concentration of 3 to 7 g / liter, and an ammonium ion concentration. Is 50-150
ppm and the liquid temperature is 30 to 80 ° C. 6.
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of 1.
【請求項7】 前記電解粗面化処理(2)において
は、塩酸とアルミニウムイオンとを含有する塩酸水溶液
を用い、前記アルミニウム板のアノード反応時の電気量
が25〜75C/dm2になるように交流電解する請求
項1〜6の何れか1項に記載の平版印刷版用アルミニウ
ム支持体の製造方法。
7. In the electrolytic surface-roughening treatment (2), an aqueous hydrochloric acid solution containing hydrochloric acid and aluminum ions is used so that the amount of electricity during the anode reaction of the aluminum plate is 25 to 75 C / dm 2. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 6, wherein alternating current electrolysis is performed.
【請求項8】 前記電解粗面化処理(2)において前
記アルミニウム板に印加する交流は、前記dutyが0.5
であって前記立上り時間tpが0.5〜2msecであ
り、周波数が40〜150Hzであり、前記Qc/Qa
0.9〜1である請求項7に記載の平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法。
8. The alternating current applied to the aluminum plate in the electrolytic surface-roughening treatment (2) has a duty of 0.5.
The aluminum for lithographic printing plate according to claim 7, wherein the rising time t p is 0.5 to 2 msec, the frequency is 40 to 150 Hz, and the Q c / Q a is 0.9 to 1. A method for manufacturing a support.
【請求項9】 前記塩酸水溶液は、塩酸濃度が2〜1
5g/リットルであり、アルミニウムイオンの濃度が3
〜7g/リットルである液温20〜50℃の塩酸水溶液
である請求項7または8に記載の平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法。
9. The hydrochloric acid aqueous solution has a hydrochloric acid concentration of 2 to 1.
It is 5 g / liter, and the concentration of aluminum ions is 3
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 7 or 8, which is an aqueous hydrochloric acid solution having a liquid temperature of 20 to 50 ° C of -7 g / liter.
【請求項10】 前記電解粗面化処理(1)および
(2)の少なくとも一方においては、前記アルミニウム
板に対する前記硝酸水溶液の平均相対流速が1〜100
0m/minになるように前記アルミニウム板の長手方
向に沿って前記硝酸水溶液を流通させる請求項1〜9に
記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法。
10. In at least one of the electrolytic surface roughening treatments (1) and (2), an average relative flow velocity of the nitric acid aqueous solution to the aluminum plate is 1 to 100.
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the nitric acid aqueous solution is circulated along the longitudinal direction of the aluminum plate so as to be 0 m / min.
【請求項11】 前記アルカリエッチング処理(1)に
おいては、アルミニウム板の溶解量が2〜15g/m2
になるようにエッチング処理する請求項1〜10の何れ
か1項に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法。
11. In the alkali etching treatment (1), the dissolution amount of the aluminum plate is 2 to 15 g / m 2.
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 10, wherein the aluminum support is etched so that
【請求項12】 前記アルカリエッチング処理(1)に
おいては、水酸化ナトリウムを含有するアルカリ溶液を
用いて前記アルミニウム板をエッチング処理する請求項
11に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方
法。
12. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 11, wherein in the alkali etching treatment (1), the aluminum plate is subjected to an etching treatment using an alkali solution containing sodium hydroxide.
【請求項13】 前記アルカリ溶液は、水酸化ナトリウ
ムおよびアルミニウムイオンを、それぞれ3〜30重量
%および0.3〜9重量%含有し、液温が35〜80℃
である請求項12に記載の平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法。
13. The alkaline solution contains sodium hydroxide and aluminum ions in an amount of 3 to 30% by weight and 0.3 to 9% by weight, respectively, and has a liquid temperature of 35 to 80 ° C.
13. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 12.
【請求項14】 前記デスマット処理(1)において
は、前記酸性溶液として硫酸水溶液または硝酸水溶液を
使用する請求項1〜13の何れか1項に記載の平版印刷
版用アルミニウム支持体の製造方法。
14. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1, wherein an aqueous sulfuric acid solution or an aqueous nitric acid solution is used as the acidic solution in the desmutting treatment (1).
【請求項15】 前記デスマット処理(1)において
は、前記酸性溶液として、前記電解粗面化処理(1)ま
たは前記陽極酸化処理における廃液を使用する請求項1
〜13の何れか1項に記載の平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造方法。
15. The waste liquid from the electrolytic surface roughening treatment (1) or the anodizing treatment is used as the acidic solution in the desmutting treatment (1).
14. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of items 1 to 13.
【請求項16】 前記デスマット処理(1)において
は、前記アルミニウム板を、硫酸を80〜350g/リ
ットル含有する液温25〜80℃の硫酸水溶液、または
硝酸を5〜15g/リットル含有する液温25〜80℃
の硝酸水溶液で1〜10秒間処理する請求項1〜13の
何れか1項に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の
製造方法。
16. In the desmutting treatment (1), the aluminum plate is heated at a liquid temperature of sulfuric acid of 80 to 350 g / l at a liquid temperature of 25 to 80 ° C. or nitric acid at a liquid temperature of 5 to 15 g / l. 25-80 ° C
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 13, wherein the treatment is performed with the nitric acid aqueous solution for 1 to 10 seconds.
【請求項17】 前記アルカリエッチング処理(2)に
おいては、アルミニウム板の溶解量が0.1〜10g/
2になるようにエッチング処理する請求項1〜16の
何れか1項に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の
製造方法。
17. In the alkali etching treatment (2), the dissolution amount of the aluminum plate is 0.1 to 10 g /
method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 16 for etching so as to m 2.
【請求項18】 前記アルカリエッチング処理(2)に
おいては、水酸化ナトリウムを含有するアルカリ溶液を
用いて前記アルミニウム板をエッチング処理する請求項
17に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方
法。
18. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 17, wherein in the alkaline etching treatment (2), the aluminum plate is subjected to an etching treatment using an alkaline solution containing sodium hydroxide.
【請求項19】 前記アルカリ溶液は、水酸化ナトリウ
ムおよびアルミニウムイオンを、それぞれ3〜30重量
%および0.3〜9重量%含有し、液温が35〜80℃
である請求項18に記載の平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法。
19. The alkaline solution contains sodium hydroxide and aluminum ions in an amount of 3 to 30% by weight and 0.3 to 9% by weight, respectively, and has a liquid temperature of 35 to 80 ° C.
19. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 18.
【請求項20】 前記デスマット処理(2)において
は、前記酸性溶液として硫酸水溶液を使用する請求項1
〜19の何れか1項に記載の平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造方法。
20. The sulfuric acid aqueous solution is used as the acidic solution in the desmutting treatment (2).
20. A method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of items 1 to 19.
【請求項21】 前記デスマット処理(2)において
は、前記アルミニウム板を、硫酸を80〜350g/リ
ットル含有する液温25〜80℃の硫酸水溶液で1〜1
0秒間処理する請求項20に記載の平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法。
21. In the desmutting treatment (2), the aluminum plate is treated with a sulfuric acid aqueous solution containing sulfuric acid at 80 to 350 g / liter at a liquid temperature of 25 to 80 ° C. for 1 to 1;
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 20, wherein the treatment is performed for 0 seconds.
【請求項22】 前記デスマット処理(2)において
は、前記酸性溶液として、前記陽極酸化処理における廃
液を使用する請求項20に記載の平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法。
22. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 20, wherein in the desmutting treatment (2), a waste liquid from the anodizing treatment is used as the acidic solution.
【請求項23】 前記アルカリエッチング処理(3)に
おいては、アルミニウム板の溶解量が0.05〜1g/
2になるようにエッチング処理する請求項1〜22の
何れか1項に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の
製造方法。
23. In the alkali etching treatment (3), the dissolution amount of the aluminum plate is 0.05 to 1 g /
method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 22 for etching so as to m 2.
【請求項24】 前記アルカリエッチング処理(3)に
おいては、水酸化ナトリウムを含有するアルカリ溶液を
用いて前記アルミニウム板をエッチング処理する請求項
23に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方
法。
24. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 23, wherein in the alkali etching treatment (3), the aluminum plate is subjected to etching treatment using an alkali solution containing sodium hydroxide.
【請求項25】 前記アルカリエッチング処理(3)に
おいて使用されるアルカリ溶液は、水酸化ナトリウムお
よびアルミニウムイオンを、それぞれ3〜30重量%お
よび0.3〜9重量%含有し、液温が25〜80℃であ
る請求項24に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体
の製造方法。
25. The alkaline solution used in the alkaline etching treatment (3) contains sodium hydroxide and aluminum ions in an amount of 3 to 30% by weight and 0.3 to 9% by weight, respectively, and has a liquid temperature of 25 to 30%. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 24, which has a temperature of 80 ° C.
【請求項26】 前記デスマット処理(3)において
は、前記酸性溶液として硫酸水溶液を使用する請求項1
〜25の何れか1項に記載の平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造方法。
26. A sulfuric acid aqueous solution is used as the acidic solution in the desmutting treatment (3).
25. A method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of 25 to 25.
【請求項27】 前記デスマット処理(3)において
は、前記アルミニウム板を、硫酸を80〜350g/リ
ットル含有する液温25〜80℃の硫酸水溶液で1〜1
0秒間処理する請求項26に記載の平版印刷版用アルミ
ニウム支持体の製造方法。
27. In the desmutting treatment (3), the aluminum plate is treated with a sulfuric acid aqueous solution containing sulfuric acid at 80 to 350 g / liter at a liquid temperature of 25 to 80 ° C. for 1 to 1;
The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 26, wherein the treatment is carried out for 0 seconds.
【請求項28】 前記デスマット処理(3)において
は、前記酸性溶液として、前記陽極酸化処理における廃
液を使用する請求項26に記載の平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法。
28. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 26, wherein in the desmutting treatment (3), a waste liquid from the anodizing treatment is used as the acidic solution.
【請求項29】 前記陽極酸化処理において、前記酸性
電解液として、硫酸とアルミニウムイオンとを含有し、
硫酸の濃度が80〜200g/リットルである硫酸水溶
液を用い、25〜80℃の液温で、直流電流により電解
処理する請求項1〜27の何れか1項に記載の平版印刷
版用アルミニウム支持体の製造方法。
29. In the anodizing treatment, the acidic electrolyte contains sulfuric acid and aluminum ions,
The aluminum support for a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 27, wherein electrolytic treatment is carried out by direct current at a liquid temperature of 25 to 80 ° C using a sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 80 to 200 g / liter. Body manufacturing method.
【請求項30】 請求項1〜29の何れか1項に記載の
方法で製造されたことを特徴とする平版印刷版用アルミ
ニウム支持体。
30. An aluminum support for a lithographic printing plate, which is manufactured by the method according to any one of claims 1 to 29.
【請求項31】 請求項30に記載の平版印刷版用アル
ミニウム支持体における粗面化面に、ポジ型またはネガ
型の画像形成層を設けてなる平版印刷原版。
31. A lithographic printing original plate comprising a positive or negative image forming layer provided on the roughened surface of the aluminum support for lithographic printing plates according to claim 30.
JP2001298767A 2001-09-28 2001-09-28 Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate Pending JP2003103953A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001298767A JP2003103953A (en) 2001-09-28 2001-09-28 Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001298767A JP2003103953A (en) 2001-09-28 2001-09-28 Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003103953A true JP2003103953A (en) 2003-04-09

Family

ID=19119618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001298767A Pending JP2003103953A (en) 2001-09-28 2001-09-28 Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003103953A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008036953A (en) * 2006-08-04 2008-02-21 Sharp Corp Inkjet recording device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008036953A (en) * 2006-08-04 2008-02-21 Sharp Corp Inkjet recording device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7850837B2 (en) Aluminum support for lithographic printing plate, method of preparing the same and presensitized plate using the same
US6764587B2 (en) Process for producing aluminum support for planographic printing plate, aluminum support for planographic printing plate, and planographic printing master plate
JP2001011694A (en) Electrolytic treating method
JP2005254638A (en) Method of manufacturing support for lithographic printing plate
JP2001232965A (en) Method for manufacturing original plate for lithographic printing plate
JP4250490B2 (en) Aluminum alloy base plate for planographic printing plate and support for planographic printing plate
JP2002363799A (en) Aluminum plate, method for producing supporting body for planographic printing plate, supporting body for planographic printing plate and planographic printing original plate
JP2008163382A (en) Method for treating surface of aluminum alloy, and method for manufacturing support for planographic printing plate
JP2003103954A (en) Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate
JP3788943B2 (en) Lithographic printing plate support, method for producing the same, and lithographic printing plate
JP2003191659A (en) Aluminum support for lithographic printing plate, production method therefor, and lithographic printing original plate
JP2003103953A (en) Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate
JP2003039846A (en) Method for producing aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate
JP2003103955A (en) Manufacturing method for support for lithographic printing plate
JP2003291549A (en) Method for manufacturing aluminum supporting body for planography impression, aluminum supporting body for planography impression, and planography impression
JP2002293055A (en) Method for manufacturing substrate for lithographic printing plate, substrate for lithographic printing plate, and original plate for lithographic printing plate
JP4194769B2 (en) Method for producing support for lithographic printing plate
JP4179742B2 (en) Method for producing aluminum support for lithographic printing plate
JP2003019878A (en) Method for manufacturing support for lithographic printing plate, support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate
JP2004074538A (en) Manufacturing method of support for lithographic printing plate
JP2002283763A (en) Method for manufacturing supporting body for planographic printing plate
JP2003019877A (en) Method for manufacturing support for lithographic printing plate, support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate
JP2005001356A (en) Manufacturing method of support for lithographic printing plate
JP2002067521A (en) Aluminum support for lithographic printing plate and its manufacturing method
JP4616128B2 (en) Support for lithographic printing plate