JP2003089533A - Molding die for glass lens - Google Patents

Molding die for glass lens

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JP2003089533A JP2001280250A JP2001280250A JP2003089533A JP 2003089533 A JP2003089533 A JP 2003089533A JP 2001280250 A JP2001280250 A JP 2001280250A JP 2001280250 A JP2001280250 A JP 2001280250A JP 2003089533 A JP2003089533 A JP 2003089533A
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transparent carbon
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the durability of a molding die and the yield of a product (lens) by preventing a work (glass) from stacking to the molding die of a glass lens and preventing the molding face of the die from being damaged for a long time. SOLUTION: A transparent carbon film 2 having >=95 at.% carbon content and 3,000 to 7,000 Knoop hardness is formed on the surface of the die base material 1. The transparent carbon film 2 contains no hydrogen, has a small content of a graphite component and has a long life.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、耐久性と成形の
歩留まりを向上させたガラスレンズ成形金型に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass lens molding die having improved durability and molding yield.

【0002】[0002]

【従来の技術】各種光学機器に使用されるガラスレンズ
は、溶融状態のガラスを金型で成形して製造される。成
形時の温度は、ガラス材質にもよるが一般に400〜7
00℃である。温度が比較的高いため、酸化や腐食など
の問題があり、成形を不活性ガス雰囲気中で行なうなど
の手法がとられている。
2. Description of the Related Art Glass lenses used in various optical instruments are manufactured by molding molten glass in a mold. The temperature during molding depends on the glass material, but is generally 400 to 7
It is 00 ° C. Since the temperature is relatively high, there are problems such as oxidation and corrosion, and a method of performing molding in an inert gas atmosphere has been adopted.

【0003】特に、成形に使用される金型は、表面にガ
ラスが固着して成形不良が出たり、金型表面における溶
融ガラスの流れが悪くてレンズ表面にしわが入る問題が
あった。また、金型材料が比較的硬度が低い鋼材(ステ
ンレスなど)であるため、表面の摩耗や変形も頻発して
いた。
Particularly, in a mold used for molding, there is a problem that glass adheres to the surface to cause defective molding, or the flow of molten glass on the mold surface is poor and wrinkles are formed on the lens surface. Further, since the mold material is a steel material (stainless steel or the like) having a relatively low hardness, the surface is frequently worn and deformed.

【0004】こうした問題に対し、潤滑剤を金型表面に
塗布して離型性と流動性を高める方法がある。しかし、
被加工物が鏡面を要求されるレンズであるため、この方
法では表面がくもるなどの問題があり適用が困難であっ
た。
In order to solve such problems, there is a method in which a lubricant is applied to the surface of the mold to enhance the mold releasability and fluidity. But,
Since the object to be processed is a lens that requires a mirror surface, this method has problems such as clouding of the surface and is difficult to apply.

【0005】金型材料をより硬質で耐酸化・耐蝕性の高
い超硬合金やセラミックスにする方法もあるが、離型性
に大きな改善が見られず、一方でコストが大幅に上がる
ためあまり適用されていない。CrメッキやTiNコー
ティングなどの表面処理も同様にコストの割に効果が小
さい。
There is also a method of making the die material harder and having a high oxidation / corrosion resistance and cemented carbide or ceramics, but no significant improvement in releasability is seen, and on the other hand, the cost is greatly increased, so that it is not often applied. It has not been. Similarly, surface treatment such as Cr plating or TiN coating is also less effective for the cost.

【0006】こうした中、離型性向上に効果があるのは
ダイヤモンド状炭素膜を被覆する方法である。その種の
炭素膜は、例えば、特開昭61−281030号、特開
平6−345461、特開平7−314259、特開平
11−157852等に挙げられている。ガラスレンズ
用途以外でも、特開平2−26842、特開平4−34
4211、特開平9−194227、特開平9−183
622などでダイヤモンド状炭素膜を適用する方法が開
示されている。
Among these, the method of coating the diamond-like carbon film is effective for improving the releasability. Such carbon films are described in, for example, JP-A-61-281030, JP-A-6-345461, JP-A-7-314259, and JP-A-11-157852. In addition to glass lens applications, JP-A-2-26842 and JP-A-4-34
4211, JP-A-9-194227, and JP-A-9-183.
No. 622 discloses a method of applying a diamond-like carbon film.

【0007】しかしながら、ダイヤモンド状炭素膜は基
材に対する密着性が悪く、実用化が極めて困難であっ
た。例えば、特開平4−344211ではMo中間層
を、特開平11−157852では窒化物または炭化物
中間層を用いた密着性向上策が提案されている。また、
特開平7−314259では基材のクリーニング法によ
る改善が提案され、特開平9−194227および特開
平9−183622ではイオン注入による基板表面改質
の例が提案されている。
However, the diamond-like carbon film has poor adhesion to the base material and is extremely difficult to put into practical use. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-344211 proposes a measure for improving adhesion by using a Mo intermediate layer, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-157852 proposes a nitride or carbide intermediate layer. Also,
JP-A-7-314259 proposes an improvement by a cleaning method of a substrate, and JP-A-9-194227 and JP-A-9-183622 propose an example of substrate surface modification by ion implantation.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このように種々の方法
が検討されているが、実際にはダイヤモンド状炭素膜に
ついては耐久性の十分なものが得られていなかった。使
用開始直後は離型性が良く成形されたレンズの歩留まり
も高いが、すぐにガラスの金型への固着が始まり、歩留
まりの低下がみられた。
Various methods have been studied in this way, but in reality, a diamond-like carbon film having sufficient durability has not been obtained. Immediately after the start of use, the yield of the lens formed with good releasability was high, but immediately the glass was fixed to the mold, and the yield was reduced.

【0009】この発明は、ガラスレンズ成形金型の成形
面を、従来の炭素膜よりも安定性、耐久性に優れた膜で
覆って金型表面へのガラスの固着を低減させ、ガラスの
スムースな流動による安定した成形の長期維持、成形の
歩留まり向上を可能ならしめることを目的としている。
The present invention covers the molding surface of a glass lens molding die with a film which is more stable and durable than the conventional carbon film to reduce the sticking of the glass to the surface of the die, thereby smoothing the glass. The objective is to maintain stable molding for a long period of time and to improve the molding yield.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、この発明においては、金型の成形面を、炭素含有率
が95at%以上でヌープ硬さが3000以上、700
0以下の透明炭素膜で被覆する。なお、その透明炭素膜
は、成形面の一部、即ちガラスの固着が生じ易い部位の
みに設けてもよい。
In order to solve the above problems, in the present invention, the molding surface of the mold has a carbon content of 95 at% or more and a Knoop hardness of 3000 or more and 700 or more.
Cover with a transparent carbon film of 0 or less. The transparent carbon film may be provided only on a part of the molding surface, that is, on a portion where the glass is likely to adhere.

【0011】従来のダイヤモンド状炭素膜の耐久性が十
分でないのは、密着性のみではなく膜そのものの耐久性
が悪いことによることがわかった。即ち、一般にダイヤ
モンド状炭素膜はグラファイト成分を含むため、高温で
使用すると既に存在するグラファイト構造部を起点とし
てグラファイト化が進行し、膜が弱くなって剥離に至る
のである。
It was found that the durability of the conventional diamond-like carbon film is not sufficient not only because of the adhesion but also because the film itself has poor durability. That is, since the diamond-like carbon film generally contains a graphite component, when used at high temperature, graphitization proceeds from the already existing graphite structure as a starting point, and the film becomes weak and peels.

【0012】この発明で用いる透明炭素膜には、その不
具合が無い。かかる透明炭素膜は、高硬度のアモルファ
ス状の炭素膜で、金属上に被覆すると、膜厚が1μmを
超えていてもその透明度ゆえ干渉色を呈する。以下に本
透明炭素膜について詳細に定義する。
The transparent carbon film used in the present invention does not have the problem. Such a transparent carbon film is a high-hardness amorphous carbon film, and when it is coated on a metal, it exhibits an interference color due to its transparency even if the film thickness exceeds 1 μm. The transparent carbon film will be defined in detail below.

【0013】炭素からなる膜には、ダイヤモンド膜、グ
ラファイト膜、ダイヤモンド状炭素膜などがある。透明
炭素膜は、一般にダイヤモンド状炭素といわれる材料系
の中に含まれる特殊な膜である。
The film made of carbon includes a diamond film, a graphite film, a diamond-like carbon film and the like. The transparent carbon film is a special film contained in a material system generally called diamond-like carbon.

【0014】ダイヤモンド状炭素は極めて広い概念の材
料である。ダイヤモンド状炭素(Diamond like carbon;
DLC)、のほか、アモルファスカーボン(a−C、a−
C:H)、i−C(アイ・カーボン)、硬質炭素(hard
carbon)などとも呼ばれる。構造はsp3構造を一部に
有する非晶質構造で、構成元素は炭素のみ、あるいは水
素を含有する水素化炭素膜であり、水素含有量は最大で
は50at%を超えるものも含まれる。ヌープ硬度は、
800〜8000と広い範囲で定義されることが多い。
一般には膜中にグラファイト成分が含まれ、膜厚0.5
μmを超えると、褐色から黒色、あるいは灰色となる。
Diamond-like carbon is a very broad concept material. Diamond like carbon (Diamond like carbon;
DLC), as well as amorphous carbon (a-C, a-
C: H), i-C (eye carbon), hard carbon (hard)
Also called carbon). The structure is an amorphous structure partially having an sp3 structure, the constituent element is carbon only or a hydrogenated carbon film containing hydrogen, and the maximum hydrogen content is 50 at% or more. Knoop hardness is
It is often defined in a wide range of 800 to 8000.
Generally, a graphite component is contained in the film and the film thickness is 0.5.
If it exceeds μm, the color changes from brown to black or gray.

【0015】この発明における透明炭素膜は、このよう
に広く定義されるダイヤモンド状炭素の中でも、特に水
素を含まず、グラファイト成分が少なくて透明度が高い
非晶質炭素膜をさす。
The transparent carbon film according to the present invention is an amorphous carbon film which does not particularly contain hydrogen, has a small graphite component, and has a high transparency among the diamond-like carbons thus widely defined.

【0016】具体的には、構成元素は、合成法上混入不
可避の不純物を除くと炭素のみである。不純物の存在を
考慮すると95at%以上が炭素である。不純物は、水
に起因する水素、酸素が最も多く、残留ガスに起因する
窒素が混入することもある。また、成膜装置内部の鉄な
どの金属成分が微量に入ることもある。主に固体炭素を
原料として合成されるため、固体炭素原料中の不純物も
微量に含まれる。水や大気に起因する酸素、水素、窒素
を除いて分析すれば99.5at%以上が炭素である。
Specifically, the constituent element is only carbon, except for impurities that are unavoidable due to the synthetic method. Considering the presence of impurities, 95 at% or more is carbon. Impurities are most often hydrogen and oxygen derived from water, and may be mixed with nitrogen derived from residual gas. Further, a small amount of metal components such as iron inside the film forming apparatus may enter. Since it is mainly synthesized using solid carbon as a raw material, a trace amount of impurities are also contained in the solid carbon raw material. Excluding oxygen, hydrogen, and nitrogen derived from water and air, the analysis shows that 99.5 at% or more is carbon.

【0017】グラファイト成分が少ないことは、具体的
に透明であることと、ヌープ硬さが3000以上700
0以下であることで定義する。その透明性は、0.6μ
m以上の膜厚でも干渉色を呈する。膜厚1μmでの可視
光の平均透過率の目安は30%以上である。硬さがヌー
プ硬度で3000以上、7000以下は、ダイヤモンド
状炭素膜の中でも高硬度の材料である。ダイナミック硬
度では、約3000kgf(29419.95N)/m
2 以上、7000kgf(68646.55N)/m
2 以下とする。
The fact that the graphite component is small means that it is specifically transparent and that the Knoop hardness is 3000 or more and 700 or more.
It is defined as being 0 or less. Its transparency is 0.6μ
Interference color is exhibited even at a film thickness of m or more. The standard of the average transmittance of visible light at a film thickness of 1 μm is 30% or more. A Knoop hardness of 3000 or more and 7000 or less is a material having a high hardness among diamond-like carbon films. With dynamic hardness, about 3000kgf (29419.95N) / m
m 2 or more, 7,000 kgf (68646.55N) / m
m 2 or less.

【0018】こうした透明炭素膜は通常のガラスに対し
ても反応しにくく潤滑性にも優れるため、これをガラス
レンズ成形金型に適用すると、成形されたガラスは型離
れが良くなり歩留まりが向上する。また金型の損傷も少
なくなる。これは、膜中に含まれるグラファイト成分が
少ないため、既に存在するグラファイト相を起点とした
グラファイト化が進みにくいため、膜の寿命が延びてこ
のような特性が極めて長く持続するのである。
Since such a transparent carbon film does not easily react with ordinary glass and is excellent in lubricity, when this is applied to a glass lens molding die, the molded glass is easily released from the mold and the yield is improved. . Also, damage to the mold is reduced. This is because the graphite component contained in the film is small and graphitization starting from the already existing graphite phase does not proceed easily, so that the life of the film is extended and such characteristics last extremely long.

【0019】この透明炭素膜の炭素含有量について95
at%以上と規定したのは、これ以下では炭素以外の元
素を起点としたグラファイト化が進行しやすいためであ
る。望ましくは炭素のみから構成されることがよい。
About the carbon content of this transparent carbon film 95
The reason why it is specified to be at% or higher is that graphitization from an element other than carbon as the starting point tends to proceed below this range. Desirably, it is composed of only carbon.

【0020】ヌープ硬度に関しては、硬度3000以下
では、グラファイト成分が多い膜となるためこれ以上と
し、7000以上では表面粗度が大きくなるのでこれ以
下とした。望ましくはヌープ硬度4000以上がよい。
ここでヌープ硬度は、押し込み荷重5g以上で測定可能
な最も小さい荷重で測定した金型成形面の表面の値をさ
す。荷重を一定値に限定しないのは、膜厚が厚い場合や
特に硬度が高い場合には、低い荷重では測定不能となる
ためである。
Regarding the Knoop hardness, a hardness of 3,000 or less results in a film having a large amount of graphite components, and thus is set to a higher value. The Knoop hardness of 4000 or more is desirable.
Here, the Knoop hardness refers to the surface value of the mold molding surface measured with the smallest load that can be measured with a pushing load of 5 g or more. The reason why the load is not limited to a fixed value is that when the film thickness is large or the hardness is particularly high, the measurement cannot be performed with a low load.

【0021】なお、透明炭素膜は、ダイヤモンドとは異
なる材料である。ダイヤモンドは結晶質であり、硬さは
ビッカース硬度で約9000以上である。電子線回折や
X線回折では、ダイヤモンドからはダイヤモンド構造を
反映した回折像が得られるが、透明炭素膜からは非晶質
を反映したハローパターンとなる。ラマン分光分析で
は、ダイヤモンドでは1333cm-1付近にダイヤモン
ド構造に対応する狭いピークが見られるが、透明炭素膜
では、1350cm-1付近と1550cm-1付近に数十
〜2百cm-1の広いピーク構造を示す。屈折率は、ダイ
ヤモンドは2.4程度であるが、透明炭素膜は2.0〜
2.3の間の値をとる。薄膜の合成温度も、ダイヤモン
ドは700℃以上、一般には800℃から1000℃以
上であるが、透明炭素膜は350℃以下である。ダイヤ
モンドの合成には1%前後のメタンなどの炭化水素ガス
に、99%程度の多量の水素ガスを導入して合成を行
う。多量の原子状水素を発生させ、合成される膜中の非
晶質成分をこの原子状水素と反応させて除去するためで
ある。透明炭素膜の合成には固体炭素を原料として用い
る。
The transparent carbon film is a material different from diamond. Diamond is crystalline and has a Vickers hardness of about 9000 or more. In electron beam diffraction or X-ray diffraction, a diffraction image reflecting the diamond structure is obtained from diamond, but a halo pattern reflecting the amorphous is obtained from the transparent carbon film. In Raman spectroscopic analysis, narrow peak is observed corresponding to the diamond structure in the vicinity of 1333 cm -1 in the diamond, the transparent carbon film, a broad peak of a few tens to 2 hundred cm -1 in the vicinity of 1350 cm -1 and around 1550 cm -1 The structure is shown. The refractive index of diamond is about 2.4, but that of transparent carbon film is 2.0-
It takes a value between 2.3. The synthesis temperature of the thin film is 700 ° C. or higher for diamond, generally 800 to 1000 ° C. or higher, but 350 ° C. or lower for the transparent carbon film. For the synthesis of diamond, a large amount of about 99% hydrogen gas is introduced into about 1% hydrocarbon gas such as methane for synthesis. This is because a large amount of atomic hydrogen is generated and the amorphous component in the synthesized film is reacted with the atomic hydrogen to be removed. Solid carbon is used as a raw material for the synthesis of the transparent carbon film.

【0022】金型の母材は、機械構造用炭素鋼・合金鋼
・工具鋼・ステンレス鋼・鋳鋼などの鋼材や超硬合金な
どが適用できる。窒化ケイ素・炭化ケイ素・ジルコニア
などのセラミックスを金型の一部に使用することもあ
る。
As the base material of the mold, a steel material such as carbon steel for machine structure, alloy steel, tool steel, stainless steel, cast steel, or cemented carbide can be applied. Ceramics such as silicon nitride, silicon carbide and zirconia may be used as part of the mold.

【0023】その母材表面には、メッキ層、または、溶
射層が形成されていてもよい。
A plating layer or a thermal spray layer may be formed on the surface of the base material.

【0024】メッキ層には、NiやCrを主成分とした
ものなどがある。また、溶射層には、超硬合金やステラ
イト、ジルコニアなどの酸化物セラミックスなどが適用
できる。これらのメッキや溶射層は、硬質で化学的にも
安定しているため、その上に被覆された透明炭素膜の寿
命をさらに長くする効果がある。
The plating layer may be composed mainly of Ni or Cr. In addition, cemented carbide, oxide ceramics such as stellite and zirconia can be applied to the sprayed layer. Since these plating and thermal spray layers are hard and chemically stable, they have the effect of further prolonging the life of the transparent carbon film coated thereon.

【0025】透明炭素膜で被覆する前の金型の表面の硬
さは、使用目的・環境により種々選択されるが、可能な
範囲で高い硬度が得られる材料を選択することが好まし
い。具体的な硬度では、Hv350以上(HRCでは約
35以上)、出来ればHv600以上(HRCでは約5
5以上)が好ましい。
The hardness of the surface of the mold before coating with the transparent carbon film is variously selected depending on the purpose of use and environment, but it is preferable to select a material that can obtain high hardness within a possible range. In concrete hardness, Hv350 or more (HRC about 35 or more), and if possible Hv600 or more (HRC about 5
5 or more) is preferable.

【0026】例えば、鋼材では、炭素鋼や工具鋼、浸炭
された焼き入れ鋼、窒化鋼などを採用するとよい。これ
らの材料は、従来、耐酸化、耐蝕性の点でガラス成形金
型に適用しにくい面があったが、化学的に安定な透明炭
素膜を被覆することでこれらの問題がなくなった。これ
らの材料では、硬度がHv350以上のものは比較的安
価で容易に得られる。
For example, as the steel material, carbon steel, tool steel, carburized hardened steel, nitrided steel, etc. may be adopted. Conventionally, these materials were difficult to apply to glass molding dies in terms of oxidation resistance and corrosion resistance, but these problems were eliminated by coating with a chemically stable transparent carbon film. Of these materials, those having a hardness of Hv 350 or higher are relatively inexpensive and easily obtained.

【0027】鋼材以外では、Hv1000を大きく越え
る超硬合金が最適である。金型そのものの軽量化等が要
求される場合には、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ジルコニ
ア、アルミナなどのセラミックスを適用すると良い。こ
れらのセラミックス類の硬度はいずれもHv1000以
上ある。寿命に関しては格段の向上が見られるため、コ
スト面で合理性があれば母材として推奨できる材料であ
る。
In addition to steel materials, cemented carbide that greatly exceeds Hv1000 is most suitable. When it is required to reduce the weight of the mold itself, ceramics such as silicon nitride, silicon carbide, zirconia, and alumina are preferably used. The hardness of these ceramics is Hv 1000 or more. Since the life is markedly improved, it is a material that can be recommended as the base material if it is reasonable in terms of cost.

【0028】なお、この発明を適用することにより、硬
度がHv350以下の母材においても、延命効果は見ら
れる。例えば、耐酸化、耐蝕性に優れるステンレス鋼な
どは、ビッカース硬度で約Hv160〜270(ブリネ
ル硬度でHB150〜250程度、ロックウェル硬度で
はHRC5〜25程度)である。鋼材の中では硬度は低
いほうであるが、耐蝕性に優れるため従来からレンズ成
形用金型には頻繁に使用されてきた。硬度が低いため、
寿命の点で不利であったが、表面に透明炭素膜を被覆す
ることで耐久性が向上する。
By applying the present invention, a life prolonging effect can be seen even in a base material having a hardness of Hv350 or less. For example, Vickers hardness of Hv160 to 270 (Brinell hardness of about HB150 to 250, Rockwell hardness of about HRC5 to 25) is used for stainless steel, which has excellent oxidation resistance and corrosion resistance. Although it has the lower hardness among steel materials, it has been frequently used in lens molding dies since it has excellent corrosion resistance. Because the hardness is low,
Although it was disadvantageous in terms of life, durability is improved by coating the surface with a transparent carbon film.

【0029】アルミニウム合金も、硬度は極めて低い
が、硬質炭素膜の被覆によりある程度の寿命は確保でき
る。適用するアルミニウム合金の硬度はビッカース硬度
85以上(ブリネル硬さで約HB80以上)、出来れば
100以上(ブリネル硬さで約HB95以上)が望まし
い。表面の硬度を上げるため、表面に前述のメッキ層や
溶射層が施されていると効果的である。
Aluminum alloys also have extremely low hardness, but a certain life can be secured by coating with a hard carbon film. The hardness of the applied aluminum alloy is preferably Vickers hardness of 85 or more (Brinell hardness of about HB80 or more), and preferably 100 or more (Brinell hardness of about HB95 or more). In order to increase the hardness of the surface, it is effective that the above-mentioned plating layer or thermal spraying layer is applied to the surface.

【0030】金型に被覆する透明炭素膜は、密度が2.
8g/cm3 以上、3.3g/cm 3 以下であることが
望ましい。
The transparent carbon film covering the mold has a density of 2.
8 g / cm3Above 3.3g / cm 3To be
desirable.

【0031】ダイヤモンドの密度は3.52g/c
3 、グラファイトの密度は2.25g/cm3 であ
る。ダイヤモンド状炭素膜はこの間の値を広くとる。こ
の発明の透明炭素膜は、その中でもダイヤモンドよりの
値であることが望ましい。2.8g/cm3 以下では、
水素などの炭素以外の成分が含まれていたり、グラファ
イト成分が多いことを示し、硬度が低く、耐熱性も小さ
い。また、密度が3.3g/cm3 以上の炭素膜は、ダ
イヤモンド結晶を含む膜になり、表面粗度も大きくな
る。なお、より望ましい密度は3.0g/cm3 以上で
ある。
The density of diamond is 3.52 g / c
The density of m 3 and graphite is 2.25 g / cm 3 . The diamond-like carbon film has a wide value in this range. The transparent carbon film of the present invention preferably has a value higher than that of diamond. Below 2.8 g / cm 3 ,
It shows that it contains components other than carbon, such as hydrogen, and that it contains a large amount of graphite. It has low hardness and low heat resistance. Further, the carbon film having a density of 3.3 g / cm 3 or more becomes a film containing diamond crystals, and the surface roughness becomes large. A more desirable density is 3.0 g / cm 3 or more.

【0032】この発明の透明炭素膜は、前述のようにグ
ラファイト成分が少ないため透明であり、母材に被覆さ
れた状態では干渉色を呈する。一般的なダイヤモンド状
炭素は膜中にグラファイト成分が多く褐色から黒色とな
る。
The transparent carbon film of the present invention is transparent because it contains a small amount of graphite as described above, and exhibits an interference color when coated with the base material. In general, diamond-like carbon has a large amount of graphite component in the film and changes from brown to black.

【0033】グラファイト成分が多いと、グラファイト
の結晶を起点としてグラファイト化が進行しやすい。逆
に、グラファィト成分が少なくて干渉色を呈する透明炭
素膜は、グラファィト化がなかなか進行せず、寿命が長
くなる。
When the amount of the graphite component is large, graphitization tends to proceed from the graphite crystal as a starting point. On the contrary, a transparent carbon film having a small amount of a graphite component and exhibiting an interference color does not easily progress to a graphitization process and has a long life.

【0034】また、干渉色を呈する透明炭素膜をあらか
じめ被覆しておけば、透明炭素膜が温度などの影響でグ
ラファイト化した場合、色合が変化するため目視で被膜
の状況が把握できるメリットがある。
Further, if a transparent carbon film exhibiting an interference color is previously coated, there is a merit that when the transparent carbon film is graphitized due to the influence of temperature or the like, the color is changed and the condition of the film can be visually grasped. .

【0035】干渉色の色調は、赤、燈、黄、緑、青、紫
などや、これらの中間色、これらが混ざった状態などさ
まざまな色をとりうる。色調は膜厚と屈折率および見る
角度で変わるため本質的ではなく、どの色をとっても良
い。また、透明な干渉色でもよいし、黒色や褐色、灰色
がかった干渉色でも良い。
The color tone of the interference color can be various colors such as red, light, yellow, green, blue, purple, an intermediate color thereof, and a state in which these are mixed. The color tone is not essential because it changes depending on the film thickness, the refractive index, and the viewing angle, and any color may be used. Further, it may be a transparent interference color, or black, brown, or a grayish interference color.

【0036】なお、透明炭素膜の透明度を透過率に換算
する場合、1μmの膜厚での可視光の透過率が30%以
上であることを目安とするとよい。
When converting the transparency of the transparent carbon film into the transmittance, it is preferable that the visible light transmittance at a film thickness of 1 μm is 30% or more.

【0037】膜厚に関しては、0.05μm以上、5μ
m以下が好ましい。
Regarding the film thickness, 0.05 μm or more and 5 μm
m or less is preferable.

【0038】下限の0.05μm以下では固化しかけた
高圧のガラスから受ける外力に対して弱く、被膜が損傷
を受けやすい。好ましくは0.3μm以上が良い。ま
た、上限の5.0μm以上では膜そのものが有する内部
応力が高く、剥離しやすくなる。一般的に使用する範囲
では2.0μm以下でよい。
When the lower limit is 0.05 μm or less, the coating is vulnerable to external force from the high-pressure glass that is about to be solidified, and the coating is easily damaged. It is preferably 0.3 μm or more. If the upper limit is 5.0 μm or more, the internal stress of the film itself is high, and the film tends to peel off. In a generally used range, it may be 2.0 μm or less.

【0039】成形面となる透明炭素膜の表面はできる限
り平滑であることが望ましい。具体的には、表面粗さ
が、Ra0.001μm以上0.05μm以下であるこ
とが望ましい。
It is desirable that the surface of the transparent carbon film, which is the molding surface, be as smooth as possible. Specifically, the surface roughness is preferably Ra 0.001 μm or more and 0.05 μm or less.

【0040】表面粗さがRa0.001μmm以下の膜
は母材そのものの加工が現実的に困難である。また、R
a0.05μm以上では、加工後のレンズ表面の面粗度
が悪くなる。ただし、透明炭素膜被覆後に研磨などの処
理を行って表面の面粗度が0.05μm以下になるので
あれば問題ない。なお、さらに好ましい面粗度はRa
0.02μm以下である。
For a film having a surface roughness Ra of 0.001 μm or less, it is practically difficult to process the base material itself. Also, R
When a is 0.05 μm or more, the surface roughness of the lens surface after processing is deteriorated. However, there is no problem if the surface roughness of the surface becomes 0.05 μm or less by performing a treatment such as polishing after coating the transparent carbon film. A more preferable surface roughness is Ra
It is 0.02 μm or less.

【0041】参考までに、Rzでは0.003μm以
上、0.05μm以下(好ましくは0.06μm以
下)、Rmaxでは0.05μm以上、0.25μm以
下(好ましくは0.1μm以下)を目安とするとよい。
For reference, when Rz is 0.003 μm or more and 0.05 μm or less (preferably 0.06 μm or less), and Rmax is 0.05 μm or more and 0.25 μm or less (preferably 0.1 μm or less) as a standard. Good.

【0042】透明炭素膜の製法は、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法、レーザーアブレーション法等
が適用できる。
As the method for producing the transparent carbon film, an ion plating method, a sputtering method, a laser ablation method or the like can be applied.

【0043】これらの方法は、グラファイトなど100
%炭素成分からなる材料を原料とすることが出来るた
め、合成される透明炭素膜の炭素濃度は原理的には10
0at%となりうる。
These methods are based on 100% graphite, etc.
In principle, the carbon concentration of the synthesized transparent carbon film is 10 because the material consisting of% carbon component can be used as the raw material.
It can be 0 at%.

【0044】イオンプレーティング法は、固体炭素源を
原料とし、電子ビーム蒸発と各種励起源を組み合わせた
ものや、HCD(ホロカソード)イオンプレーティング
法、カソードアークイオンプレーティング法などがあ
る。スパッタリング法も、固体炭素源を原料とし、マグ
ネトロンスパッタ、DCスパッタ、パルスDCスパッ
タ、非平衡マグネトロンスバッタなどがある。レーザー
アブレーション法は、レーザー照射にて固体炭素を気化
して基材上に成膜する手法である。必要に応じ、これら
の方法を複数組み合わせて用いてもよい。表面の平滑性
を重視する場合、偏向磁場を利用して粗大粒子が膜中に
取り込まれないようにするとよい。
The ion plating method includes a solid carbon source as a raw material, a combination of electron beam evaporation and various excitation sources, an HCD (holocathode) ion plating method, and a cathode arc ion plating method. The sputtering method also uses magnetron sputtering, DC sputtering, pulse DC sputtering, non-equilibrium magnetron sputtering, etc., using a solid carbon source as a raw material. The laser ablation method is a method of vaporizing solid carbon by laser irradiation to form a film on a substrate. You may use these methods in combination as needed. When importance is attached to the smoothness of the surface, it is preferable to use a deflection magnetic field so that coarse particles are not taken into the film.

【0045】いずれの手法も、基板温度は450℃以下
で成膜される。700℃以上の高温で合成される結晶質
ダイヤモンドとは異なる。基材の変形、硬度低下などを
避けるため低温で処理することが望ましく、250℃以
下、あるいは基材の焼き戻し温度以下が望ましい。
In either method, the film is formed at a substrate temperature of 450 ° C. or lower. It is different from crystalline diamond that is synthesized at a high temperature of 700 ° C or higher. It is desirable to perform the treatment at a low temperature in order to avoid the deformation of the substrate, the decrease in hardness, etc., and it is desirable that the temperature be 250 ° C. or less, or the tempering temperature of the substrate or less.

【0046】透明炭素膜は、母材との間にB、Al、S
i、Ge、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、
Ta、W、またはこれらの炭化物、窒化物、炭窒化物の
うち少なくとも1種以上の物質からなる中間層を設ける
ことで、密着性を向上させることが出来る。
The transparent carbon film is formed of B, Al, S between the base material and the base material.
i, Ge, Ti, V, Cr, Zr, Nb, Mo, Hf,
Adhesion can be improved by providing an intermediate layer made of Ta, W, or at least one of these carbides, nitrides, and carbonitrides.

【0047】これらの金属または金属化合物は、母材と
透明炭素膜との両方に対する親和性が高いため付着強度
を向上させるのに効果があると考えられる。
These metals or metal compounds are considered to be effective in improving the adhesion strength because they have a high affinity for both the base material and the transparent carbon film.

【0048】また、母材と透明炭素膜との間に形成され
る上記中間層の厚さは、0.5nm以上、5nm以下が
望ましい。
The thickness of the intermediate layer formed between the base material and the transparent carbon film is preferably 0.5 nm or more and 5 nm or less.

【0049】0.5nm以下では母材表面を1原子層以
上覆うことが出来ない。上限に関しては5nm以上でも
密着性の向上は見られるが、厚い層にすると金型の使用
回数が増えるにつれて中間層部分に疲労による剥離が起
こるため、5nm以下の薄い層がよく、さらに好ましく
は1nm未満がよい。
If the thickness is 0.5 nm or less, the surface of the base material cannot be covered by one atomic layer or more. Regarding the upper limit, the adhesion is improved even if it is 5 nm or more, but if a thick layer is used, peeling due to fatigue occurs in the intermediate layer portion as the number of times the mold is used increases, so a thin layer of 5 nm or less is preferable, and more preferably 1 nm. Less than is better.

【0050】また、母材と透明炭素膜との間の中間層
は、その少なくとも母材側が、(1)母材材料と、
(2)B、Al、Si、Ge、Ti、V、Cr、Zr、
Nb、Mo、Hf、Ta、Wの中から選ばれた1種以上
の物質とからなる、(1)と(2)の混合層を形成する
ことで密着性が格段に向上する。
In the intermediate layer between the base material and the transparent carbon film, at least the base material side is (1) the base material,
(2) B, Al, Si, Ge, Ti, V, Cr, Zr,
By forming a mixed layer of (1) and (2), which is composed of one or more kinds of substances selected from Nb, Mo, Hf, Ta and W, the adhesiveness is remarkably improved.

【0051】厚さを持った混合層とすることで、母材と
中間層、母材と透明炭素膜との密着性がより強固になる
と考えられる。
It is considered that the adhesiveness between the base material and the intermediate layer and between the base material and the transparent carbon film becomes stronger by using the mixed layer having a thickness.

【0052】上記混合層の厚さは、0.5nm以上、5
nm以下が好ましい。
The thickness of the mixed layer is 0.5 nm or more and 5
nm or less is preferable.

【0053】0.5nm以下では厚さ方向に1原子層以
上の混合層を形成することが出来ない。上限に関して
は、5nm以上の混合層を形成しても効果は得られる
が、その手法が複雑になったり高価な設備を要するよう
になる。よって5nm以下が好ましい。
If the thickness is 0.5 nm or less, a mixed layer of one atomic layer or more cannot be formed in the thickness direction. Regarding the upper limit, the effect can be obtained by forming a mixed layer of 5 nm or more, but the method becomes complicated and expensive equipment is required. Therefore, it is preferably 5 nm or less.

【0054】以上、本発明では母材と透明炭素膜との間
の構造は、下記の様なものをとりうる。即ち、母材側か
ら、 ・母材→中間層→透明炭素膜 ・母材→母材材料と中間層材料との混合層→中間層材料
→透明炭素膜 ・母材→母材材料と中間層材料との混合層→透明炭素膜 などである。
As described above, in the present invention, the structure between the base material and the transparent carbon film may be as follows. That is, from the base material side: -Base material-> intermediate layer-> transparent carbon film / base material-> mixed layer of base material and intermediate layer material-> intermediate layer material-> transparent carbon film / base material-> base material and intermediate layer Mixed layer with materials → transparent carbon film, etc.

【0055】これ等の中間層または混合層は、プラズマ
CVD法、イオンプレーティング法、スパッタリング
法、レーザーアブレーション法のいずれかで形成出来
る。これ等は透明炭素膜の合成法と組み合わせやすい手
法で合成するのが好ましい。また、複数の手法を組み合
わせて用いてもよい。特に好ましいのはカソードアーク
イオンプレーティング法である。混合層を形成する場合
は、基板に印加するバイアス電圧を高めに設定する等の
方法が適用できる。例えば−400V以上、−30kV
以下の範囲の電圧が適用できる。
These intermediate layers or mixed layers can be formed by any of plasma CVD method, ion plating method, sputtering method and laser ablation method. These are preferably synthesized by a method that is easy to combine with the method for synthesizing a transparent carbon film. Further, a plurality of methods may be combined and used. Particularly preferred is the cathodic arc ion plating method. In the case of forming the mixed layer, a method of setting a bias voltage applied to the substrate to be high can be applied. For example, -400V or more, -30kV
The voltage in the following range can be applied.

【0056】さらに高い性能を要求する場合、離型性に
優れた透明炭素膜でも、表面のごく微小な凹凸がガラス
の固着の原因となることがあるのでこれをなくすことが
重要である。そこで、透明炭素膜を被覆した後に、被膜
の表面を機械研磨などにより平滑化仕上げするとより効
果的である。
When higher performance is required, even a transparent carbon film having an excellent releasability may cause adhesion of glass because very minute irregularities on the surface may cause sticking of glass, so it is important to eliminate it. Therefore, it is more effective to coat the surface of the transparent carbon film and then smooth the surface by mechanical polishing or the like.

【0057】特に寿命を考慮して比較的膜厚を厚くした
場合や、透明炭素膜を粗大粒子を取り込みやすいカソー
ドアークイオンプレーティング法、レーザーアブレーシ
ョン法などで成膜する場合にその効果は顕著である。
Particularly, the effect is remarkable when the film thickness is made relatively thick in consideration of the life, or when the transparent carbon film is formed by the cathode arc ion plating method or the laser ablation method in which coarse particles are easily taken in. is there.

【0058】面粗さの加工方法には、バフ仕上、ブラシ
研磨、バレル研磨などがある。単純に粗さを小さくする
というより、微小な鋭角を鈍角にすることが主目的であ
る。
The surface roughness processing methods include buffing, brush polishing and barrel polishing. The main purpose is to make a minute acute angle an obtuse angle, rather than simply reducing the roughness.

【0059】研磨後の面粗さは、目安としてRa0.0
01μm以上、0.05μm以下、より好ましくはRa
0.02μm以下がよい。
The surface roughness after polishing is Ra0.00 as a guide.
01 μm or more and 0.05 μm or less, more preferably Ra
0.02 μm or less is preferable.

【0060】透明炭素膜は、100%炭素成分となる固
体炭素原料を用いて合成する場合、炭化水素ガスを原料
とする方法と比較して膜中に粗大パーティクルが含まれ
る事が多い。このパーティクルに関しては、透明炭素膜
表面に観察される0.2μm以上のサイズのパーティク
ル密度が2万個/mm2 以下であることが望ましい。
When a transparent carbon film is synthesized using a solid carbon raw material having a 100% carbon content, coarse particles are often contained in the film, as compared with a method using a hydrocarbon gas as a raw material. Regarding these particles, it is desirable that the density of particles having a size of 0.2 μm or more observed on the surface of the transparent carbon film is 20,000 particles / mm 2 or less.

【0061】2万個/mm2 以上であると、成形後のレ
ンズの不良率が大きくなる。成膜直後に2万個/mm2
を超える場合は、前述のように表面を研磨加工すること
が望ましい。
If the number is 20,000 / mm 2 or more, the defective rate of the lens after molding becomes large. 20,000 pieces / mm 2 immediately after film formation
If it exceeds, it is desirable to polish the surface as described above.

【0062】なお、この発明のガラスレンズ成形用金型
は、不活性ガス中で成形加工する場合に特にその効果が
大きいが、大気中でも従来品に比べて寿命が長くなる。
The glass lens molding die of the present invention is particularly effective when it is molded in an inert gas, but it has a longer life in the atmosphere as compared with conventional products.

【0063】[0063]

【発明の実施の形態】図1乃至図3に、この発明の金型
の要部の断面を示す。図の1は金型の母材であり、この
母材の成形面となす表面にこの発明を特徴づける透明炭
素膜2が被覆される。母材1と透明炭素膜2との間に
は、既述のメッキ層又は溶射層3(図2)を設けてもよ
い。また、透明炭素膜2の付着性を高める中間層4(図
3)を設けることもある。さらに、必要に応じて膜2を
付着させる母材側の下地面や膜2の表面の表面を研磨仕
上げすることもある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIGS. 1 to 3 are sectional views of the essential parts of a mold according to the present invention. FIG. 1 shows a base material of a mold, and a surface of the base material which is a molding surface is covered with a transparent carbon film 2 which characterizes the present invention. The above-mentioned plating layer or thermal spray layer 3 (FIG. 2) may be provided between the base material 1 and the transparent carbon film 2. In addition, an intermediate layer 4 (FIG. 3) that enhances the adhesion of the transparent carbon film 2 may be provided. Furthermore, the surface of the lower surface of the base material to which the film 2 is attached or the surface of the film 2 may be polished and finished as needed.

【0064】以下、より詳細な実施例について述べる。A more detailed embodiment will be described below.

【0065】[0065]

【実施例1】各種手法で超硬合金基板上に合成した炭素
膜を熱処理して膜の変化を比較した。
Example 1 A carbon film synthesized on a cemented carbide substrate by various methods was heat-treated to compare changes in the film.

【0066】成膜には、RFプラズマCVD法、イオン
化蒸着法、ホロカソード(HCD)プラズマCVD法、
非平衡型マグネトロンスパッタリング法、カソードアー
クイオンプレーティング法、レーザーアブレーション法
を適用した。
For the film formation, an RF plasma CVD method, an ionization vapor deposition method, a hollow cathode (HCD) plasma CVD method,
Non-equilibrium magnetron sputtering method, cathodic arc ion plating method and laser ablation method were applied.

【0067】RFプラズマCVD法では、原料にメタン
ガスを適用した。基板に13.56MHzの高周波を印
加してRFプラズマを発生させ、原料ガスを分解して基
板上に成膜した。
In the RF plasma CVD method, methane gas was applied as a raw material. A high frequency of 13.56 MHz was applied to the substrate to generate RF plasma, the raw material gas was decomposed, and a film was formed on the substrate.

【0068】イオン化蒸着法では、メタンを原料とし
た。イオン化源でメタンプラズマを発生させ、それを基
板上に照射して成膜した。
In the ionization vapor deposition method, methane was used as a raw material. A methane plasma was generated by an ionization source and was irradiated on the substrate to form a film.

【0069】非平衡型マグネトロンスパッタリング法
(UBM法)では、原料に固体カーボンターゲット、ま
たは固体カーボンとシリコンターゲットを適用した。雰
囲気中にはアルゴンガス、またはアルゴンとメタンの混
合ガスを導入し、ターゲットに負の直流電圧を印加して
放電を起こさせた。ターゲット表面よりスパッタされ、
プラズマ中で活性化した炭素イオンが、プラズマ雰囲気
中の炭素イオン、炭化水素イオンとともに基板上で反応
して成膜した。
In the non-equilibrium magnetron sputtering method (UBM method), a solid carbon target or a solid carbon and silicon target was applied as a raw material. Argon gas or a mixed gas of argon and methane was introduced into the atmosphere, and a negative DC voltage was applied to the target to cause discharge. Sputtered from the target surface,
Carbon ions activated in plasma reacted with carbon ions and hydrocarbon ions in the plasma atmosphere on the substrate to form a film.

【0070】カソードアークイオンプレーティング法で
は、原料に固体カーボンターゲットを適用した。ターゲ
ットに負の電位を印加してアーク放電を発生させ、その
エネルギーで表面の炭素を蒸発、プラズマ化し、基板上
に成膜した。
In the cathode arc ion plating method, a solid carbon target was applied as a raw material. A negative potential was applied to the target to generate an arc discharge, and the energy was used to evaporate the carbon on the surface into a plasma and form a film on the substrate.

【0071】レーザーアブレーション法では、原料に固
体カーボンターゲットを適用した。ターゲットにレーザ
ーを照射してそのエネルギーで表面の炭素を蒸発、プラ
ズマ化し、基板上に成膜した。
In the laser ablation method, a solid carbon target was applied as a raw material. The target was irradiated with laser to vaporize the carbon on the surface into plasma by using the energy, and a film was formed on the substrate.

【0072】試験後は、600℃の窒素ガス雰囲気中で
2時間保持し、試験前後の硬度、外観の比較を行った。
After the test, the sample was kept in a nitrogen gas atmosphere at 600 ° C. for 2 hours to compare the hardness and appearance before and after the test.

【0073】結果を表1に示す。干渉色を呈する透明炭
素膜は試験前後で硬度の変化が見られなかった。一方、
褐色または黒色のグラファイト成分を含むダイヤモンド
状炭素膜は試験後に硬度が低下するか、または膜が完全
に無くなったり粉状になっていた。グラファイト成分の
有無が耐熱性に大きく影響したものと考えられる。
The results are shown in Table 1. The transparent carbon film exhibiting the interference color showed no change in hardness before and after the test. on the other hand,
The diamond-like carbon film containing a brown or black graphite component had a decreased hardness after the test, or the film was completely lost or powdered. It is considered that the presence or absence of the graphite component greatly affected the heat resistance.

【0074】[0074]

【実施例2】ガラスレンズ成形金型の成形面に炭素膜の
被覆処理を施し、レンズの成形を行なった。金型の母
材、被覆処理した炭素膜、中間層、混合層及び成形時の
性能を表2(a)〜表2(c)にまとめた。
Example 2 A lens was molded by coating a carbon film on the molding surface of a glass lens molding die. The base material of the mold, the coated carbon film, the intermediate layer, the mixed layer and the performance during molding are summarized in Tables 2 (a) to 2 (c).

【0075】金型は、工具鋼SKD61、ステンレス鋼
SUS304、アルミニウム合金A2014、超硬合
金、炭化ケイ素、Crメッキを施したアルミニウム合金
A2014の各種材料を母材とした。
The mold is made of various materials such as tool steel SKD61, stainless steel SUS304, aluminum alloy A2014, cemented carbide, silicon carbide, and Cr-plated aluminum alloy A2014.

【0076】それぞれの母材の硬さは、ビッカース硬度
で示し、必要に応じてロックウェル硬度Cスケールまた
はブリネル硬度を併記した。
The hardness of each base material is represented by Vickers hardness, and if necessary, the Rockwell hardness C scale or Brinell hardness is also shown.

【0077】炭素膜成膜前の母材の表面は、Ra0.0
08μmの鏡面加工を施している。
The surface of the base material before forming the carbon film was Ra0.00.
It is mirror-finished to 08 μm.

【0078】炭素膜は、RFプラズマCVD法、マイク
ロ波プラズマCVD法、非平衡型マグネトロンスパッタ
リング法、カソードアークイオンプレーティング法、及
びレーザーアブレーション法で合成した。
The carbon film was synthesized by RF plasma CVD method, microwave plasma CVD method, non-equilibrium magnetron sputtering method, cathode arc ion plating method and laser ablation method.

【0079】マイクロ波プラズマCVD法では、メタン
と水素を原料とした。2.45GHzのマイクロ波でマ
イクロ波プラズマを発生させ、原料ガスを分解して母材
上に成膜した。他の製法は実施例1に準ずる。いずれの
手法でも、成膜時の母材温度は150〜250℃の範囲
とした。
In the microwave plasma CVD method, methane and hydrogen were used as raw materials. Microwave plasma was generated with a microwave of 2.45 GHz to decompose the source gas and form a film on the base material. The other manufacturing method is in accordance with the first embodiment. In either method, the base material temperature during film formation was set in the range of 150 to 250 ° C.

【0080】炭素膜の膜厚は、0.03μmから6μm
までの範囲に制御した。表面粗さは、成膜後に得られた
ままの粗さのほかに、一部研磨加工を加えたものも作製
した。色調は、成形面上での目視による色調で判別し、
干渉色のあるものは、透明と記した。
The thickness of the carbon film is 0.03 μm to 6 μm
Controlled up to the range. As for the surface roughness, not only the roughness as obtained after the film formation but also the one partially polished was prepared. The color tone is determined by visual color tone on the molding surface,
Those with an interference color were marked as transparent.

【0081】中間層または混合層は、あるものと無いも
のを作製した。本実施例で適用した材料は、ゲルマニウ
ム、チタン、炭化チタン、クロム、シリコンである。
The intermediate layer or the mixed layer was prepared with or without. The materials applied in this example are germanium, titanium, titanium carbide, chromium, and silicon.

【0082】中間層または混合層があるものは、以下の
各手法で合成した。
Those having an intermediate layer or a mixed layer were synthesized by the following methods.

【0083】カソードアークイオンプレーティング法で
は、炭化チタンまたはクロム、チタンを成膜した。原料
には固体チタンまたは固体クロムターゲットとメタン、
アルゴンなどを適用した。ターゲットに負の電位を印加
してアーク放電を発生させ、そのエネルギーでターゲッ
ト表面の元素を蒸発、プラズマ化し、母材上にて反応さ
せて成膜した。
In the cathodic arc ion plating method, titanium carbide, chromium, or titanium was deposited. The raw materials are solid titanium or solid chromium target and methane,
Argon or the like was applied. A negative potential was applied to the target to generate arc discharge, and the energy of the target evaporated the elements on the surface of the target into plasma, which was reacted on the base material to form a film.

【0084】非平衡型マグネトロンスパッタリング法
(UBM法)では、ゲルマニウム、シリコンを合成し
た。原料に固体シリコンまたはゲルマニウムターゲット
を適用した。雰囲気中にはアルゴンを導入し、ターゲッ
トに負の直流電圧を印加して放電を発生させた。ターゲ
ット表面よりスパッタされて基板上で成膜した。
In the nonequilibrium magnetron sputtering method (UBM method), germanium and silicon were synthesized. A solid silicon or germanium target was applied to the raw material. Argon was introduced into the atmosphere, and a negative DC voltage was applied to the target to generate discharge. The target surface was sputtered to form a film on the substrate.

【0085】レーザーアブレーション法では、チタンを
成膜した。原料にはチタンターゲットを適用した。ター
ゲットにレーザーを照射してチタンを蒸発、プラズマ化
して母材上に成膜した。
In the laser ablation method, titanium was formed into a film. A titanium target was applied as a raw material. The target was irradiated with a laser to evaporate titanium into plasma and form a film on the base material.

【0086】マグネトロンスパッタリング法では、シリ
コンを形成した。原料にシリコンターゲットを使用し、
マグネトロンスパッタにより母材上に膜を析出させた。
Silicon was formed by the magnetron sputtering method. Using a silicon target as a raw material,
A film was deposited on the base material by magnetron sputtering.

【0087】膜厚は、0.3nmから10nmの範囲と
した。
The film thickness was in the range of 0.3 nm to 10 nm.

【0088】性能は、実際にガラスレンズを成形して評
価した。評価項目は寿命と良品率である。
The performance was evaluated by actually molding a glass lens. The evaluation items are service life and non-defective product rate.

【0089】寿命は、未コートのSKD61材からなる
金型が使用できなくなるショット数を1としたときの相
対値で示している。
The life is shown as a relative value when the number of shots at which the mold made of uncoated SKD61 material cannot be used is 1.

【0090】また、良品率は、それぞれの金型の寿命ま
での平均値で示している。
The non-defective rate is shown as an average value until the life of each mold.

【0091】結果は、表2に示す様に、炭素膜を被覆す
ることで性能が大幅に向上することがわかる。本実施例
の中では、最低でも5倍、最大では20倍以上の寿命が
得られている。黒色や褐色のグラファイト成分を含むダ
イヤモンド状炭素と比較し、発明品の透明炭素膜の寿命
は格段に長くなることがわかる。
The results show that the performance is significantly improved by coating the carbon film, as shown in Table 2. In this embodiment, a life of at least 5 times and a life of at least 20 times is obtained. It can be seen that the life of the transparent carbon film of the invention is significantly longer than that of diamond-like carbon containing a black or brown graphite component.

【0092】良品率も、未コートで75%程度であった
ものが、95〜99.5%まで向上した。従来見られた
金型表面に固着したガラスに起因する不良や、金型表面
でのガラスの流動不良によるしわなどが大幅に減少した
ことが確認された。
The rate of non-defective products was about 95% without coating, but improved to 95-99.5%. It was confirmed that the defects due to the glass adhered to the mold surface and the wrinkles due to the poor flow of the glass on the mold surface, which were conventionally seen, were significantly reduced.

【0093】[0093]

【実施例3】ガラスレンズ成形金型にTiNまたは炭素
膜の被覆処理を施し、レンズの成形を行なった。金型の
母材、被覆処理した炭素膜、中間層、および成形された
レンズ表面のグレードを表3にまとめた。
Example 3 A glass lens molding die was coated with TiN or a carbon film to mold a lens. Table 3 summarizes the mold base material, the coated carbon film, the intermediate layer, and the molded lens surface grade.

【0094】金型は、工具鋼SKD11を母材とした。
炭素膜成膜前の金型母材の成形面は、Ra0.002μ
mの超鏡面加工を施している。
The mold was made of tool steel SKD11 as a base material.
The forming surface of the die base material before forming the carbon film is Ra 0.002 μ
m has been subjected to ultra-mirror finishing.

【0095】炭素膜および中間層は、実施例2に準ずる
方法で合成した。一部の被膜に関しては、ブラシ研磨ま
たはバフ研磨を施した。レンズ成形前の金型表面を観察
し、0.2μm以上のサイズの粒子密度を見積もった。
The carbon film and the intermediate layer were synthesized by the method according to Example 2. Some coatings were brushed or buffed. The mold surface before lens molding was observed and the particle density of 0.2 μm or larger was estimated.

【0096】上記被覆金型で成形されたレンズの表面の
状態を5段階グレードで分類した。数字が大きいものほ
どグレードが高い。粒子密度が低いものほど成形された
レンズの表面のグレードは高い。
The surface condition of the lens molded by the above coated mold was classified into 5 grades. The higher the number, the higher the grade. The lower the particle density, the higher the surface grade of the molded lens.

【0097】[0097]

【表1】 [Table 1]

【0098】[0098]

【表2(a)】 [Table 2 (a)]

【0099】[0099]

【表2(b)】 [Table 2 (b)]

【0100】[0100]

【表2(c)】 [Table 2 (c)]

【0101】[0101]

【表3】 [Table 3]

【0102】[0102]

【発明の効果】以上述べたように、この発明のガラスレ
ンズ成形金型は、水素を含まず、グラファイト成分の含
有も規制された透明炭素膜を成形面に設けたので、ガラ
スの固着やガラスの流動不良による不良品発生率が小さ
くなって成形の歩留まりが向上する。
As described above, in the glass lens molding die of the present invention, the transparent carbon film, which does not contain hydrogen and the content of the graphite component is restricted, is provided on the molding surface. The defective product rate due to poor flowability of the product is reduced, and the molding yield is improved.

【0103】また、透明炭素膜の耐久性が向上してその
膜による成形面の保護が長期にわたってなされるため、
金型の損傷も少なくなる。
Further, since the durability of the transparent carbon film is improved and the molding surface is protected by the film for a long period of time,
Less damage to the mold.

【0104】なお、母材の表面に硬質のメッキ層や溶射
層を設けるものは、成形面の表面硬度が高まり、金型の
寿命がより延びる。また、母材と透明炭素膜との間に膜
の付着性を高める中間層を設けたものは、透明炭素膜の
剥離による寿命低下が防止される。
In the case where the hard plating layer or the thermal spray layer is provided on the surface of the base material, the surface hardness of the molding surface is increased and the life of the die is further extended. Further, in the case where the intermediate layer which enhances the adhesiveness of the film is provided between the base material and the transparent carbon film, the life reduction due to the peeling of the transparent carbon film is prevented.

【0105】このほか、母材表面や透明炭素膜の表面を
研磨加工したものは、ガラスの離型性、成形されたレン
ズの表面性状がより良くなる。
In addition, when the surface of the base material or the surface of the transparent carbon film is polished, the releasability of the glass and the surface properties of the molded lens are improved.

【0106】また、透明炭素膜が干渉色を呈するもの
は、その膜の色の変化によって膜の性状変化等を目視把
握できるメリットもある。
Further, when the transparent carbon film exhibits an interference color, there is also an advantage that the change in the film property can be visually recognized by the change in the color of the film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の金型の一例を示す部分破断正面図FIG. 1 is a partially cutaway front view showing an example of a mold of the present invention.

【図2】メッキ層又は溶射層を設けた例を示す部分破断
正面図
FIG. 2 is a partially cutaway front view showing an example in which a plating layer or a thermal spray layer is provided.

【図3】中間層を設けた例を示す部分破断正面図FIG. 3 is a partially cutaway front view showing an example in which an intermediate layer is provided.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 母材 2 透明炭素膜 3 メッキ層又は溶射層 4 中間層 1 base material 2 Transparent carbon film 3 Plating layer or sprayed layer 4 Middle class

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内海 慶春 伊丹市昆陽北一丁目1番1号 住友電気工 業株式会社伊丹製作所内   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Yoshiharu Utsumi             Sumitomo Electric Co., Ltd. 1-1-1 Koyo Kita, Itami City             Business Itami Manufacturing Co., Ltd.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 成形面の少なくとも一部に、透明炭素膜
が被覆され、その透明炭素膜が炭素を95at%以上含
み、ヌープ硬さが3000以上、7000以下の膜であ
ることを特徴とするガラスレンズ成形金型。
1. A transparent carbon film is coated on at least a part of the molding surface, and the transparent carbon film contains 95 at% or more of carbon and has a Knoop hardness of 3,000 or more and 7,000 or less. Glass lens molding die.
【請求項2】 母材が鋼、合金鋼、超硬合金、セラミッ
クスのいずれかから成る請求項1記載のガラスレンズ成
形金型。
2. The glass lens molding die according to claim 1, wherein the base material is made of steel, alloy steel, cemented carbide, or ceramics.
【請求項3】 母材の表面に硬質のメッキ層又は溶射層
が形成され、その上に透明炭素膜が被覆されている請求
項1又は2記載のガラスレンズ成形金型。
3. The glass lens molding die according to claim 1, wherein a hard plating layer or a thermal spray layer is formed on the surface of the base material, and a transparent carbon film is coated on the hard plating layer or the thermal spray layer.
【請求項4】 透明炭素膜に被覆される金型の表面がビ
ッカース硬度350以上の硬さを有する請求項1、2又
は3記載のガラスレンズ成形金型。
4. The glass lens molding die according to claim 1, 2 or 3, wherein the surface of the die covered with the transparent carbon film has a Vickers hardness of 350 or more.
【請求項5】 透明炭素膜の密度が2.8g/cm3
上、3.3g/cm 3 以下である請求項1〜4のいずれ
かに記載のガラスレンズ成形金型。
5. The density of the transparent carbon film is 2.8 g / cm.3Since
Top 3.3g / cm 3Any of claims 1 to 4 below
The glass lens molding die according to claim 1.
【請求項6】 被覆された透明炭素膜が干渉色を呈して
いる請求項1〜5のいずれかに記載のガラスレンズ成形
金型。
6. The glass lens molding die according to claim 1, wherein the coated transparent carbon film exhibits an interference color.
【請求項7】 透明炭素膜の膜厚を0.05μm以上、
5μm以下にした請求項1〜6のいずれかに記載のガラ
スレンズ成形金型。
7. A transparent carbon film having a thickness of 0.05 μm or more,
The glass lens molding die according to any one of claims 1 to 6, which has a thickness of 5 µm or less.
【請求項8】 透明炭素膜から成る成形面の表面粗さを
Ra0.001μm以上、0.05μm以下にした請求
項1〜7のいずれかに記載のガラスレンズ成形金型。
8. The glass lens molding die according to claim 1, wherein a molding surface made of a transparent carbon film has a surface roughness Ra of 0.001 μm or more and 0.05 μm or less.
【請求項9】 透明炭素膜が、イオンプレーティング
法、スパッタリング法、又はレーザーアブレーション法
のいずれかの手法で形成された膜である請求項1〜8の
いずれかに記載のガラスレンズ成形金型。
9. The glass lens molding die according to claim 1, wherein the transparent carbon film is a film formed by any one of an ion plating method, a sputtering method, and a laser ablation method. .
【請求項10】 母材と透明炭素膜との間に、B、A
l、Si、Ge、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、
Hf、Ta、W、またはこれらの炭化物、窒化物、炭窒
化物の中から選ばれた1種以上の物質からなる中間層を
有する請求項1〜9のいずれかに記載のガラスレンズ成
形金型。
10. B, A between the base material and the transparent carbon film
l, Si, Ge, Ti, V, Cr, Zr, Nb, Mo,
The glass lens molding die according to any one of claims 1 to 9, which has an intermediate layer made of Hf, Ta, W, or one or more kinds of substances selected from these carbides, nitrides, and carbonitrides. .
【請求項11】 前記中間層の厚さを0.5nm以上、
5nm以下にした請求項1〜10のいずれかに記載のガ
ラスレンズ成形金型。
11. The intermediate layer has a thickness of 0.5 nm or more,
The glass lens molding die according to claim 1, which has a thickness of 5 nm or less.
【請求項12】 母材と透明炭素膜との間に中間層を有
し、中間層の少なくとも母材側が、母材材料とB、A
l、Si、Ge、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、
Hf、Ta、Wの中から選ばれた1種以上の物質とから
なる混合層である請求項1〜11のいずれかに記載のガ
ラスレンズ成形金型。
12. An intermediate layer is provided between the base material and the transparent carbon film, and at least the base material side of the intermediate layer is the base material and B, A.
l, Si, Ge, Ti, V, Cr, Zr, Nb, Mo,
The glass lens molding die according to any one of claims 1 to 11, which is a mixed layer composed of one or more substances selected from Hf, Ta and W.
【請求項13】 前記混合層の厚さを0.5nm以上5
nm以下とする請求項1〜12のいずれかに記載のガラ
スレンズ成形金型。
13. The mixed layer has a thickness of 0.5 nm or more and 5 or more.
The glass lens molding die according to any one of claims 1 to 12, having a thickness of not more than nm.
【請求項14】 前記中間層または混合層が、プラズマ
CVD法、イオンプレーティング法、スパッタリング
法、もしくはレーザーアブレーション法のいずれかの手
法で形成されたものである請求項1〜13のいずれかに
記載のガラスレンズ成形金型。
14. The intermediate layer or the mixed layer is formed by any one of a plasma CVD method, an ion plating method, a sputtering method, and a laser ablation method. The glass lens molding die described.
【請求項15】 透明炭素膜の表面に機械加工による平
滑化処理を施した請求項1〜14のいずれかに記載のガ
ラスレンズ成形金型。
15. The glass lens molding die according to claim 1, wherein the surface of the transparent carbon film is smoothed by machining.
【請求項16】 透明炭素膜表面に観察される長径が
0.2μm以上のサイズのパーティクル密度を2万個/
mm2 以下にした請求項1〜15のいずれかに記載のガ
ラスレンズ成形金型。
16. A particle density of 20,000 particles having a major axis of 0.2 μm or more observed on the surface of the transparent carbon film /
The glass lens molding die according to any one of claims 1 to 15, which has a size of 2 mm 2 or less.
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