JP2003085835A - Method of manufacturing draw type optical disk substrate - Google Patents

Method of manufacturing draw type optical disk substrate

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JP2003085835A
JP2003085835A JP2001273372A JP2001273372A JP2003085835A JP 2003085835 A JP2003085835 A JP 2003085835A JP 2001273372 A JP2001273372 A JP 2001273372A JP 2001273372 A JP2001273372 A JP 2001273372A JP 2003085835 A JP2003085835 A JP 2003085835A
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Japan
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substrate
dye
write
manufacturing
optical disc
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Application number
JP2001273372A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaya Ueda
昌哉 上田
Hiroyoshi Maruyama
博義 丸山
Haruhiko Kurokawa
晴彦 黒川
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Mitsubishi Engineering Plastics Corp
Original Assignee
Mitsubishi Engineering Plastics Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a DRAW type optical disk substrate which is formed by using a transesterification process polycarbonate, is little in the warpage of the substrate, small in the birefringence of the substrate, free of bright defects and free of defects in dye coating application, and method of manufacturing the DRAW type optical disk substrate. SOLUTION: This method of manufacturing the DRAW type optical disk substrate is constituted by forming a dye recording layer by application of dye onto the molded substrate obtained by injection molding the polycarbonate resin of 10,000 to 23,000 in viscosity average molecular weight manufactured by the transesterification process from an aromatic hydroxyl compound and diester carbonate and forming grooves on its signal surface, is characterized in that the contact angle of water drops measured by the signal surface before the formation of the dyestuff recording layer is 77 to 85 deg. and ionizing air of a positive polarity is blown in the direction parallel to the substrate surface.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度記憶媒体で
ある追記型光ディスク基板の製造方法に関するものであ
る。特に有機色素を光記録層に用いた追記型光ディスク
基板の製造方法及び有機色素を光記録層に用いた追記型
光ディスクの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a write-once type optical disc substrate which is a high density storage medium. In particular, the present invention relates to a method for manufacturing a write-once optical disc substrate using an organic dye in the optical recording layer and a method for manufacturing a write-once optical disc using an organic dye in the optical recording layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスクは低価格で高密度記録容量の
情報記録媒体として、ここ数年急激に生産量が増加して
いる。特にCD−R(追記型コンパクトディスク)やD
VD−R(追記型デジタル多用途ディスク)と呼ばれる
追記型光ディスクは高容量でありかつ急速な普及に伴い
低価格化が進んでいる。従って、その信号特性の向上や
基板の生産性が重要視されるようになってきている。ま
た、今後もさらなる高密度化が期待されている。
2. Description of the Related Art An optical disk has been rapidly increasing in production in recent years as an information recording medium of low cost and high density recording capacity. Especially CD-R (write-once compact disc) and D
A write-once optical disc called a VD-R (write-once digital versatile disc) has a high capacity and is being reduced in price with rapid spread. Therefore, the improvement of the signal characteristics and the productivity of the substrate are becoming more important. Further, further densification is expected in the future.

【0003】レーザーを用いる光学記録方式を採るCD
−RやDVD−Rでは通常、データを一度だけ記録可能
であり、反射バックグラウンドに対して高光学濃度のマ
ークまたはピットの形態で、デジタル情報を保存し、収
束レーザー光により読み取る。
CD which adopts an optical recording method using a laser
In -R and DVD-R, data can usually be recorded only once, and digital information is stored in the form of marks or pits of high optical density against a reflective background and read by convergent laser light.

【0004】光ディスク透明基板に一般的に用いられる
熱可塑性非晶質樹脂は、ポリカーボネート、ポリメチル
メタクリレート、非晶質ポリオレフィン等であるが、強
度、耐熱性、寸法安定性、低価格等の面から、ポリカー
ボネートが一般的に使用されている。特に、芳香族ジヒ
ドロキシ化合物と炭酸ジエステルとからエステル交換法
によって製造されるポリカーボネートは、従来から広く
使用されてきた界面法で製造されるポリカーボネートに
比べて、ホスゲンガスや有機溶媒を使用しないために環
境への負荷が少ない。また界面法に比べて製造工程が簡
素化されているために、安定した品質の製品が得られる
という大きなメリットがある。さらにはエステル交換反
応で生成した副生成物を原料モノマーの転換できるとい
うメリットもあり、環境対応、安定品質、低価格といっ
たメリットから、光ディスク基板用樹脂に適している。
Thermoplastic amorphous resins generally used for optical disk transparent substrates are polycarbonate, polymethylmethacrylate, amorphous polyolefin, etc., but in view of strength, heat resistance, dimensional stability, low cost, etc. Polycarbonate is commonly used. In particular, polycarbonate produced by an ester exchange method from an aromatic dihydroxy compound and a carbonic acid diester is environmentally friendly because it does not use phosgene gas or an organic solvent, as compared with polycarbonate produced by an interfacial method which has been widely used in the past. Is less loaded. Further, since the manufacturing process is simplified as compared with the interface method, there is a great merit that a product of stable quality can be obtained. Furthermore, it has the advantage of being able to convert the raw material monomer from the by-product generated by the transesterification reaction, and is suitable for resin for optical disk substrates because it has the advantages of environmental friendliness, stable quality, and low cost.

【0005】芳香族ポリカーボネートの欠点として、溶
融粘度が高いために、射出成形時の流動性に劣るという
性質がある。従って信号の転写性に劣り、また基板内部
の歪による複屈折が大きくなり、信号再生のエラーの原
因となる。高密度の信号を基板に転写させたり、基板内
部の歪によって発生する複屈折を低減させるために、ポ
リカーボネートの粘度平均分子量を下げることにより、
成形時の溶融粘度が下がり流動性が向上することによっ
て可能となる。しかし、ポリカーボネートの分子量を下
げすぎると、基板の強度が低下するという別の弊害が発
生する。また分子量を上げすぎると強度、耐熱性は向上
するが、成形時の溶融粘度が高くなり、転写性の低下や
複屈折の増加を招く原因となる。従って適切な分子量の
芳香族ポリカーボネートが必要となる。
A disadvantage of the aromatic polycarbonate is that it has a poor meltability during injection molding due to its high melt viscosity. Therefore, the transferability of the signal is poor, and the birefringence due to the strain inside the substrate becomes large, which causes an error in the signal reproduction. By transferring a high-density signal to the substrate, or reducing the viscosity average molecular weight of the polycarbonate in order to reduce birefringence caused by strain inside the substrate,
This is possible because the melt viscosity at the time of molding is lowered and the fluidity is improved. However, if the molecular weight of the polycarbonate is lowered too much, another problem that the strength of the substrate is lowered occurs. On the other hand, if the molecular weight is too high, the strength and heat resistance are improved, but the melt viscosity at the time of molding becomes high, which causes a decrease in transferability and an increase in birefringence. Therefore, an aromatic polycarbonate having an appropriate molecular weight is required.

【0006】また界面法で製造されたポリカーボネート
に比べて、エステル交換法で製造されたものの射出成形
光ディスク基板は負の極性に帯電しやすいという性質が
あることは知られている(特開平11−27939
6)。該特許には、光ディスク基板表面が負に帯電する
と、空気中の埃が付着しやすくなったり、追記型光ディ
スクの色素の濡れ性が低下することが述べられており、
いくつかの種類の帯電防止剤を添加する工夫が提唱され
ている。しかしながら、ポリカーボネートに帯電防止剤
を添加することにより、透明性が低下したり、長時間高
温や高湿度にさらされたときには分解しやすいという欠
点が生じるので望ましくはない。また、米国特許6,0
22,943、米国特許6,140,457には、ポリ
カーボネート樹脂の分子末端を変性することによって帯
電を低減する方法が提唱されている。しかしながら、樹
脂の末端構造を変性するだけでは、スタンパーからの離
型時の剥離帯電が減少できても、基板製造工程中に発生
する移送帯電を完全に除去するには不十分である。従来
から、光ディスクの製造工程中での帯電を除去する方法
はいくつか提案されている。特開平6−203414で
は基板をスタンパーから離型させる際に用いるエアーを
イオン化させることが提案されているが、金型から取り
出された後で発生する移送帯電は除去できない。また特
開平6−60630では再生記録装置であるドライブ内
部での基板上の帯電を除去するためにイオン化された空
気を吹き出すことを提案しているが、色素を塗布する以
前の帯電については効果が無い。特開平7−57307
では金型から取り出された後で除電バーやイオナイザに
て基板表面を除電することを提案しているが、色索の塗
布性改良やエステル交換法ポリカーボネート特有の負に
帯電することに対する処置については述べられていな
い。さらには特開平10−177744では基板表面の
帯電の極性と逆の極性のイオンを含むエアーを吹き付け
て除電させる方法が提乗されているが、エステル交換法
ポリカーボネート特有の負に帯電することに対する処置
や色素の塗布性改良については述べられていない,ある
いは特開平5−298746では、ディスクの内穴にも
帯電防止膜を塗布して、ディスクのストック部のスピン
ドルに静電気をリークさせる方法が提案されているが、
基板表面に帯電防止膜を塗布する必要があるためコスト
が上がり、工程が煩雑になる。従ってエステル交換法ポ
リカーボネートを使用した基板の色素塗布前の帯電を完
全に除去する方法は見出されていなかった。
It is known that the injection-molded optical disk substrate manufactured by the transesterification method has a property of being easily charged to a negative polarity as compared with the polycarbonate manufactured by the interfacial method (Japanese Patent Laid-Open No. 11- 27939
6). It is stated in the patent that when the surface of the optical disk substrate is negatively charged, dust in the air is likely to adhere, and the wettability of the dye of the write-once type optical disk is deteriorated.
Some ideas have been proposed for adding some types of antistatic agents. However, the addition of an antistatic agent to polycarbonate is not desirable because it causes a drawback that transparency is deteriorated and that it is easily decomposed when exposed to high temperature and high humidity for a long time. Also, US Pat.
22, 943 and U.S. Pat. No. 6,140,457 propose a method of reducing the charge by modifying the molecular ends of a polycarbonate resin. However, only by modifying the terminal structure of the resin, the peeling charge at the time of releasing from the stamper can be reduced, but it is not sufficient to completely remove the transfer charge generated during the substrate manufacturing process. Heretofore, there have been proposed some methods for removing electric charges during the manufacturing process of an optical disk. Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-203414 proposes to ionize the air used for releasing the substrate from the stamper, but the transfer charge generated after being taken out from the mold cannot be removed. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 6-60630 proposes to blow out ionized air in order to remove the charge on the substrate inside the drive which is the reproducing / recording device, but it is not effective for the charge before applying the dye. There is no. JP-A-7-57307
Proposes to remove the charge on the substrate surface with a charge-removing bar or an ionizer after it is taken out from the mold. Not mentioned. Further, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-177744, there is proposed a method of discharging electricity by spraying air containing ions having a polarity opposite to the polarity of the charge on the substrate surface. No improvement in coatability of dyes or dyes is mentioned, or in Japanese Patent Laid-Open No. 5-298746, a method is proposed in which an antistatic film is applied to the inner hole of the disc to leak static electricity to the spindle of the stock portion of the disc. However,
Since it is necessary to apply an antistatic film on the surface of the substrate, the cost increases and the process becomes complicated. Therefore, no method has been found for completely removing the electrostatic charge on the substrate using the transesterification polycarbonate before the dye coating.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、エス
テル交換法によって製造されるポリカーボネートからな
る基板であり、その基板の反りが小さく、複屈折が小さ
く、明欠陥がなく、色素塗布不良がない、追記型光ディ
スク基板の製造方法及び追記型光ディスクの製造方法を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is a substrate made of a polycarbonate produced by a transesterification method, the substrate having a small warp, a small birefringence, no bright defects, and no defective dye coating. Another object is to provide a method for manufacturing a write-once optical disc substrate and a method for manufacturing a write-once optical disc.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、光ディスク成形基板上の帯電現象は、基板表面の
水滴接触角に依存し、ある水滴接触角以下であると帯電
しやすくなり、その帯電が追記型光ディスクの色素溶液
の滴下時の変形を発生させることを見出した。すなわち
基板表面の水滴接触角をある値以上に調整することによ
って帯電を減少させ、色素溶液の滴下時の変形をなくす
ことを見出した。同時に追記型光ディスクの色素を塗布
する直前に正の極性のイオン化エアーを基板表面と平行
方向に吹き付けることによって移送中に発生する帯電も
完全に除去することが可能になることを見出した。本発
明者らは上記の知見に基づき、信号特性や生産性が良好
な追記型光ディスク基板を発明した。
As a result of intensive studies by the present inventors, the charging phenomenon on an optical disk molding substrate depends on the water droplet contact angle on the substrate surface, and if the water droplet contact angle is less than a certain value, charging is likely to occur. It was found that the electrification causes deformation of the write-once optical disc when the dye solution is dropped. That is, it has been found that the charge is reduced by adjusting the contact angle of water droplets on the surface of the substrate to a certain value or more, and the deformation at the time of dropping the dye solution is eliminated. At the same time, it was found that by spraying ionized air of positive polarity in the direction parallel to the substrate surface immediately before applying the dye of the write-once optical disc, it is possible to completely remove the charge generated during the transfer. The present inventors have invented a write-once optical disc substrate having good signal characteristics and productivity based on the above findings.

【0009】すなわち、本発明は、芳香族ジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルとからエステル交換法によって
製造される粘度平均分子量が10,000〜23,00
0のポリカーボネート樹脂を射出成形して、信号面にグ
ルーブを形成した成形基板に、色素を塗布することによ
り色素記録層を形成してなる追記型光ディスク基板の製
造方法であって、色素記録層形成前の信号面で測定され
る水滴接触角が77°以上85°以下であり、且つ色素
塗布前に、正の極性のイオン化エアーを基板表面と平行
方向に吹き付けることを特徴とする追記型光ディスク基
板の製造方法に存する。
That is, according to the present invention, the viscosity average molecular weight produced from an aromatic dihydroxy compound and a carbonic acid diester by a transesterification method is 10,000 to 23,000.
A method of manufacturing a write-once type optical disc substrate, comprising: forming a dye recording layer by applying a dye to a molded substrate having a groove formed on a signal surface by injection-molding a polycarbonate resin of 0. A write-once optical disc substrate having a contact angle of water droplets measured on the previous signal surface of 77 ° or more and 85 ° or less, and blowing ionized air of positive polarity in a direction parallel to the substrate surface before dye coating. Exists in the manufacturing method of.

【0010】[0010]

【発明の実施形態】芳香族ポリカーボネート 本発明においては、芳香族ポリカーボネートの粘度平均
分子量が10,000〜23,000の範囲内であるこ
とが必要である。粘度平均分子量が10,000未満で
は、基板の強度が著しく低下し、また、23,000を
超えると、射出成形時の複屈折が著しく増加するので望
ましくはない。粘度平均分子量は好ましくは14,00
0〜18,000の間で選ばれるべきである。ここでい
う粘度平均分子量(M)は、オストワルド粘度計を用い
塩化メチレンを溶媒とする溶液の20℃における極限粘
度(η)を測定し、以下に示すSchnellの粘度式
から算出される。 [η]=1.23×10-40.83 従って、ポリカーボネートが重合体混合物である場合
は、重合体混合物について粘度平均分子量を求める。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Aromatic Polycarbonate In the present invention, the viscosity average molecular weight of the aromatic polycarbonate must be in the range of 10,000 to 23,000. When the viscosity average molecular weight is less than 10,000, the strength of the substrate is significantly lowered, and when it exceeds 23,000, birefringence during injection molding is significantly increased, which is not desirable. The viscosity average molecular weight is preferably 1400.
It should be chosen between 0 and 18,000. The viscosity average molecular weight (M) here is calculated from the Schnell's viscosity formula shown below by measuring the intrinsic viscosity (η) at 20 ° C. of a solution using methylene chloride as a solvent using an Ostwald viscometer. [Η] = 1.23 × 10 −4 M 0.83 Therefore, when the polycarbonate is a polymer mixture, the viscosity average molecular weight of the polymer mixture is determined.

【0011】本発明で使用される芳香族ポリカーボネー
トは、原料として芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエ
ステルとを用い、エステル交換触媒の存在下、エステル
交換反応によって得ることができる。芳香族ジヒドロキ
シ化合物は、通常、下記式(1)で表される。
The aromatic polycarbonate used in the present invention can be obtained by transesterification using an aromatic dihydroxy compound and a carbonic acid diester as raw materials in the presence of a transesterification catalyst. The aromatic dihydroxy compound is usually represented by the following formula (1).

【0012】[0012]

【化1】 [Chemical 1]

【0013】(式中、Aは、単結合、炭素数1〜8のア
ルキレン基、炭素数2〜8のアルキリデン基、炭素数5
〜15のシクロアルキレン基、炭素数5〜15のシクロ
アルキリデン基並びに−O−、−S−、−CO−、−S
O−及び−SO2 −で示される2価の基からなる群から
選ばれるものであり、X及びYは、ハロゲン又は炭素数
1〜6の炭化水素基であり、p及びqは、0〜2の整数
であり、XとY、pとqは、いずれも、同一であっても
異なっていてもよい。) 上記式(1)で表される芳香族ジヒドロキシ化合物とし
ては、例えば、ビス(4−ヒドロキシジフェニル)メタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−t
−ブチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)
プロパン、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘ
プタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,
3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキ
シビフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)ケトン等が例示されるが、特に好まし
くは、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン(以下、「ビスフェノールA」と略す)が挙げられ
る。これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は単独、でも2
種以上の混合物でもよい。
(In the formula, A is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, and 5 carbon atoms.
To C15 cycloalkylene group, C5 to C15 cycloalkylidene group and -O-, -S-, -CO-, -S
O- and -SO 2 - are those selected from the group consisting of divalent groups represented by, X and Y is halogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, p and q are 0 It is an integer of 2, and X and Y, and p and q may be the same or different. ) Examples of the aromatic dihydroxy compound represented by the above formula (1) include bis (4-hydroxydiphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, and 2,2-bis (4-hydroxy). -3-Methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-t)
-Butylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2
-Bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)
Propane, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) heptane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 3,
3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (4-hydroxyphenyl) ether, bis (4- Examples thereof include hydroxyphenyl) ketone, and particularly preferably 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter abbreviated as “bisphenol A”). These aromatic dihydroxy compounds are used alone or even 2
It may be a mixture of two or more species.

【0014】炭酸ジエステルは下記式(2)で表され
る。
The carbonic acid diester is represented by the following formula (2).

【化2】 [Chemical 2]

【0015】(式中、A’は、炭素数1〜18の脂肪族
基若しくは置換脂肪族基又は芳香族基であり、2つの
A’は、同一であっても異なっていてもよい。) 上記式(2)で表される炭酸ジエステルとしては、例え
ば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ
−t−ブチルカーボネート等の脂肪族カーボネート、ジ
フェニルカーボネート及びビフェニルフェニルカーボネ
ート等の芳香族カーボネート等が例示されるが、特に好
ましくはジフェニルカーボネートであり、これらの炭酸
ジエステルは単独、あるいは2種以上を混合してもよ
い。
(In the formula, A'is an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms, a substituted aliphatic group or an aromatic group, and two A'may be the same or different.) Examples of the carbonic acid diester represented by the above formula (2) include aliphatic carbonates such as dimethyl carbonate, diethyl carbonate and di-t-butyl carbonate, and aromatic carbonates such as diphenyl carbonate and biphenylphenyl carbonate. However, diphenyl carbonate is particularly preferable, and these carbonic acid diesters may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0016】本発明で使用される芳香族ポリカーボネー
トの製造は、エステル交換法、特に芳香族ジヒドロキシ
化合物としてビスフェノールAを用い、炭酸ジエステル
としてジフェニルカーボネートを用い、かつ、ジフェニ
ルカーボネート/ビスフェノールA1のモル比で、1.
001〜1.3、好ましくは1.02〜1.2の量を用
いたエステル交換法によることが好ましい。モル比が
1.001より小さくなると、製造された芳香族ポリカ
ーボネートの末端水酸基含有量が増加して、ポリマーの
熱安定性が悪化する傾向があり、また、モル比が1.3
より大きくなると、同一条件下ではエステル交換反応の
速度が低下し、所望の分子量の芳香族ポリカーボネート
の製造が困難となる傾向がある。
The aromatic polycarbonate used in the present invention is produced by a transesterification method, particularly bisphenol A is used as the aromatic dihydroxy compound, diphenyl carbonate is used as the carbonic acid diester, and a molar ratio of diphenyl carbonate / bisphenol A1 is used. 1.
It is preferred to use the transesterification method with an amount of 001 to 1.3, preferably 1.02 to 1.2. If the molar ratio is less than 1.001, the content of terminal hydroxyl groups in the produced aromatic polycarbonate tends to increase, and the thermal stability of the polymer tends to deteriorate.
If it becomes larger, the rate of the transesterification reaction will decrease under the same conditions, and it tends to be difficult to produce an aromatic polycarbonate having a desired molecular weight.

【0017】上記の芳香族ポリカーボネートの製造に
は、エステル交換触媒が使用される。該触媒としてはア
ルカリ金属化合物及び/又はアルカリ土類金属化合物が
使用され、補助的に、塩基性ホウ素化合物、塩基性リン
化合物、塩基性アンモニウム化合物、アミン系化合物等
の塩基性化合物の併用も可能であるが、物性面や取り扱
いの面で、アルカリ金属化合物及び/又はアルカリ土類
金属化合物が単独で使用されることが特に好ましい。
A transesterification catalyst is used in the production of the above aromatic polycarbonate. An alkali metal compound and / or an alkaline earth metal compound is used as the catalyst, and a basic compound such as a basic boron compound, a basic phosphorus compound, a basic ammonium compound, or an amine compound can also be supplementarily used. However, in terms of physical properties and handling, it is particularly preferable to use the alkali metal compound and / or the alkaline earth metal compound alone.

【0018】触媒量としては、芳香族ジヒドロキシ化合
物1モルに対して、1×10-7〜9×10-7モルの範囲
で用いられるのが好ましく、さらに好ましくは1.5×
10 -7〜8×10-7モルの範囲で、特に好ましくは2×
10-7〜7×10-7モルの範囲で用いられる。この量よ
り少なければ、所定の分子量、末端水酸基含有量のポリ
カーボネートを製造するのに必要な重合活性が得られな
い傾向があり、この量より多い場合は、ポリマー色相が
悪化し、分岐が多くなりポリマーの成形性が損なわれる
傾向がある。
The amount of the catalyst is the aromatic dihydroxy compound
1 x 10 for 1 mol of product-7~ 9 × 10-7Molar range
It is preferably used in, more preferably 1.5 ×
10 -7~ 8 × 10-7In the molar range, particularly preferably 2 ×
10-7~ 7 × 10-7Used in the molar range. This amount
If the amount is less than the specified value, it will be
The polymerization activity required to produce carbonate is not obtained.
Above this amount, the polymer hue
Deteriorates, the number of branches increases, and the moldability of the polymer is impaired.
Tend.

【0019】アルカリ金属化合物としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水
酸化セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素リチウム、炭酸水素セシウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム、酢
酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸セシ
ウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウ
ム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸セシウム、水
素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素セシウム、フェニル化ホ
ウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素カリウム、フェニル
化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ素セシウム、安息香
酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、
安息香酸セシウム、リン酸水素2ナトリウム、リン酸水
素2カリウム、リン酸水素2リチウム、リン酸水素2セ
シウム、フェニルリン酸2ナトリウム、フェニルリン酸
2カリウム、フェニルリン酸2リチウム、フェニルリン
酸2セシウム、ナトリウム、カリウム、リチウム、セシ
ウムのアルコレート、フェノレート、ビスフェノールA
の2ナトリウム塩、2カリウム塩、2リチウム塩、2セ
シウム塩等が挙げられる。
Examples of the alkali metal compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, cesium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium hydrogen carbonate, cesium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate and carbonic acid. Lithium, cesium carbonate, sodium acetate, potassium acetate, lithium acetate, cesium acetate, sodium stearate, potassium stearate, lithium stearate, cesium stearate, sodium borohydride, potassium borohydride, lithium borohydride, hydride Cesium boron, sodium phenyl boride, potassium phenyl boride, lithium phenyl boride, cesium phenyl boride, sodium benzoate, potassium benzoate, lithium benzoate,
Cesium benzoate, disodium hydrogen phosphate, 2 potassium hydrogen phosphate, 2 lithium hydrogen phosphate, 2 cesium hydrogen phosphate, 2 sodium phenyl phosphate, 2 potassium phenyl phosphate, 2 lithium phenyl phosphate, 2 phenyl phosphate Cesium, sodium, potassium, lithium, cesium alcoholate, phenolate, bisphenol A
2 sodium salt, 2 potassium salt, 2 lithium salt, 2 cesium salt and the like.

【0020】また、アルカリ土類金属化合物としては、
例えば、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウ
ム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウ
ム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチ
ウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウ
ム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロン
チウム等が挙げられる。
As the alkaline earth metal compound,
For example, calcium hydroxide, barium hydroxide, magnesium hydroxide, strontium hydroxide, calcium hydrogen carbonate, barium hydrogen carbonate, magnesium hydrogen carbonate, strontium hydrogen carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, magnesium carbonate, strontium carbonate, calcium acetate, acetic acid. Examples thereof include barium, magnesium acetate, strontium acetate, calcium stearate, barium stearate, magnesium stearate, and strontium stearate.

【0021】塩基性ホウ素化合物としては、例えば、テ
トラメチルホウ素、テトラエチルホウ素、テトラプロピ
ルホウ素、テトラブチルホウ素、トリメチルエチルホウ
素、トリメチルベンジルホウ素、トリメチルフェニルホ
ウ素、トリエチルメチルホウ素、トリエチルベンジルホ
ウ素、トリエチルフェニルホウ素、トリブチルベンジル
ホウ素、トリブチルフェニルホウ素、テトラフェニルホ
ウ素、ベンジルトリフェニルホウ素、メチルトリフェニ
ルホウ素、ブチルトリフェニルホウ素等のナトリウム
塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、バリウム
塩、マグネシウム塩、ストロンチウム塩等が挙げられ
る。
Examples of the basic boron compound include tetramethylboron, tetraethylboron, tetrapropylboron, tetrabutylboron, trimethylethylboron, trimethylbenzylboron, trimethylphenylboron, triethylmethylboron, triethylbenzylboron and triethylphenylboron. , Sodium salt, potassium salt, lithium salt, calcium salt, barium salt, magnesium salt, strontium salt of tributylbenzylboron, tributylphenylboron, tetraphenylboron, benzyltriphenylboron, methyltriphenylboron, butyltriphenylboron, etc. Is mentioned.

【0022】塩基性リン化合物としては、例えば、トリ
エチルホスフィン、トリ−n−プロピルホスフィン、ト
リイソプロピルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、
四級ホスホニウム塩等が挙げられる。塩基性アンモニウ
ム化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラ
ブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルア
ンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニ
ウムヒドロキシド、トリメチルフェニルアンモニウムヒ
ドロキシド、トリエチルメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、トリエチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、ト
リエチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリブチ
ルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリブチルフェ
ニルアンモニウムヒドロキシド、テトラフェニルアンモ
ニウムヒドロキシド、ベンジルトリフェニルアンモニウ
ムヒドロキシド、メチルトリフェニルアンモニウムヒド
ロキシド、ブチルトリフェニルアンモニウムヒドロキシ
ド等が挙げられる。
Examples of the basic phosphorus compound include triethylphosphine, tri-n-propylphosphine, triisopropylphosphine, tri-n-butylphosphine, triphenylphosphine, tributylphosphine,
Examples thereof include quaternary phosphonium salts. As the basic ammonium compound, for example, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, trimethylphenylammonium hydroxide, Triethylmethylammonium hydroxide, triethylbenzylammonium hydroxide, triethylphenylammonium hydroxide, tributylbenzylammonium hydroxide, tributylphenylammonium hydroxide, tetraphenylammonium hydroxide, benzyltriphenylammonium hydroxide, methyltriphenylammonium hydroxide Sid, butyl triphenyl ammonium hydroxide, and the like.

【0023】アミン系化合物としては、例えば、4−ア
ミノピリジン、2−アミノピリジン、N,N−ジメチル
−4−アミノピリジン、4−ジエチルアミノピリジン、
2−ヒドロキシピリジン、2−メトキシピリジン、4−
メトキシピリジン、2−ジメチルアミノイミダゾール、
2−メトキシイミダゾール、イミダゾール、2−メルカ
プトイミダゾール、2−メチルイミダゾール、アミノキ
ノリン等が挙げられる。
Examples of amine compounds include 4-aminopyridine, 2-aminopyridine, N, N-dimethyl-4-aminopyridine, 4-diethylaminopyridine,
2-hydroxypyridine, 2-methoxypyridine, 4-
Methoxypyridine, 2-dimethylaminoimidazole,
2-methoxyimidazole, imidazole, 2-mercaptoimidazole, 2-methylimidazole, aminoquinoline and the like can be mentioned.

【0024】エステル交換反応は、一般には2段階以上
の多段工程で実施される。具体的には、第1段目の反応
は、93〜1.33kPaの減圧下に、120〜260
℃、好ましくは180〜240℃の温度で、0.1〜5
時間、好ましくは0.1〜3時間反応させる。ついで、
反応系の減圧度を上げながら反応温度を高め、最終的に
は133Pa以下の減圧下、240〜320℃の温度で
重縮合反応を行う。
The transesterification reaction is generally carried out in a multi-step process of two or more steps. Specifically, the reaction in the first step is carried out under reduced pressure of 93 to 1.33 kPa at 120 to 260.
0.1 to 5 at a temperature of 180 ° C., preferably 180 to 240 ° C.
The reaction is carried out for a time, preferably 0.1 to 3 hours. Then,
The polycondensation reaction is finally carried out at a temperature of 240 to 320 ° C. under a reduced pressure of 133 Pa or less while increasing the degree of reduced pressure of the reaction system.

【0025】反応の形式は、バッチ式、連続式、又は、
バッチ式と連続式の組み合わせのいずれでもよく、使用
する装置は、槽型、管型又は塔型のいずれの形式の反応
器であってもよい。
The reaction can be carried out in a batch system, a continuous system, or
Either a batch type or a continuous type may be used, and the apparatus used may be a reactor of any of a tank type, a tube type or a column type.

【0026】また、上記芳香族ポリカーボネートの製造
に際し、エステル交換触媒を失活するために、失活剤と
して酸性化合物又はその前駆体、例えば、スルホン酸化
合物又はその前駆体を添加することが好ましく、より具
体的には、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスル
ホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸ブチル等が特に
好ましい。これらは、単独で使用しても、また、2種以
上を組み合わせて使用してもよい。
In the production of the above aromatic polycarbonate, it is preferable to add an acidic compound or a precursor thereof, for example, a sulfonic acid compound or a precursor thereof, as a deactivator in order to deactivate the transesterification catalyst. More specifically, p-toluenesulfonic acid, methyl p-toluenesulfonate, butyl p-toluenesulfonate and the like are particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

【0027】これら酸性化合物又はその前駆体は、重縮
合反応に使用した塩基性エステル交換触媒の中和量に対
して0.1〜50倍モル、好ましくは0.5〜30倍モ
ルの範囲で添加する。酸性化合物又はその前駆体を添加
する時期は、重縮合反応後であれば、いつでもよく、添
加方法にも特別な制限はなく、酸性化合物又はその前駆
体の性状や所望の条件に応じて、直接添加する方法、適
当な溶媒に溶解して添加する方法、ペレットやフレーク
状のマスターバッチを使用する方法等のいずれの方法で
もよい。
The amount of these acidic compounds or their precursors is 0.1 to 50 times mol, preferably 0.5 to 30 times mol, relative to the neutralization amount of the basic transesterification catalyst used in the polycondensation reaction. Added. The timing of adding the acidic compound or its precursor may be any time after the polycondensation reaction, and there is no particular limitation on the addition method, and depending on the properties of the acidic compound or its precursor or desired conditions, Any method such as a method of adding, a method of dissolving in a suitable solvent and a method of using a master batch in the form of pellets or flakes may be used.

【0028】本発明で使用される芳香族ポリカーボネー
トには、本発明の効果を損なわない範囲で、安定剤、紫
外線吸収剤、離型剤、着色剤等の添加剤を添加をしても
よい。
The aromatic polycarbonate used in the present invention may be added with additives such as a stabilizer, an ultraviolet absorber, a release agent and a coloring agent, as long as the effects of the present invention are not impaired.

【0029】成形基板 CD−RやDVD−R等の追記型光ディスクは、上記芳
香族ポリカーボネートの射出成形により製造される、グ
ルーブと言われる同心円状に配置された複数の案内溝を
形成した成形基板を素材とする。この射出成形の際、所
定のスタンパーにあらかじめ刻印されているサブミクロ
ンの大きさのピットやグルーブの形状が、円盤状透明な
成形基板の表面(本明細書では、「信号面」と言う。)
に忠実に転写させて得られる。
Molded substrate A write-once type optical disk such as a CD-R or a DVD-R is a molded substrate formed by injection molding of the above aromatic polycarbonate and having a plurality of concentric guide grooves called grooves. As the material. At the time of this injection molding, the shape of the submicron-sized pits and grooves pre-engraved on a predetermined stamper is the surface of a disk-shaped transparent molded substrate (referred to as "signal surface" in this specification).
It is obtained by faithfully transferring to.

【0030】本発明では、成形基板において、色素記録
形成前の信号面で測定される水滴接触角、好ましくは、
信号面上グルーブより内側に延在する平坦な部分(本明
細書では「内周部」と言う。)で測定される水滴接触角
が77°以上85°以下であることが必要である。この
成形基板の水滴接触角が、77°未満であれば、負に大
きく帯電し、色素塗布時にむらが発生する。また、85
°を超えると、色素溶液と基板の濡れが悪くなり、部分
的に塗布膜をはじくために起こる明欠陥が発生する。水
滴接触角は好ましくは78〜79°である。
In the present invention, on the molded substrate, the water droplet contact angle measured on the signal surface before the dye recording is formed, preferably,
It is necessary that the water droplet contact angle measured at the flat portion extending inside the groove on the signal surface (referred to as “inner peripheral portion” in the present specification) is 77 ° or more and 85 ° or less. If the contact angle of water droplets on this molded substrate is less than 77 °, it is highly negatively charged and unevenness occurs during dye application. Also, 85
If the temperature exceeds 50 ° C., the wettability of the dye solution and the substrate becomes poor, and bright defects occur due to partial repelling of the coating film. The water drop contact angle is preferably 78 to 79 °.

【0031】成形基板の水滴接触角を測定する方法の詳
細は、次の通りである。まずマイクロシリンジを用い
て、純水20μLを1滴、23℃、50%RHの環境下
で、成形基板の内周部の表面に、好ましくは、グルーブ
の最内周縁から2〜3mm内方の位置に滴下し、ゴニオ
メーターにより、滴下30秒後の接触角θを5点測定
し、平均値を算出する。
The details of the method for measuring the water droplet contact angle of the molded substrate are as follows. First, using a microsyringe, one drop of pure water 20 μL, under the environment of 23 ° C. and 50% RH, is formed on the surface of the inner peripheral portion of the molded substrate, preferably within 2 to 3 mm from the innermost peripheral edge of the groove. Drop at a position and measure the contact angle θ at 5 points 30 seconds after dropping with a goniometer, and calculate the average value.

【0032】水滴接触角を増加させるためには下記の方
法が挙げられる。 1.分子鎖末端に疎水基を導入する。 2.基板表面に存在しやすく疎水性が高い添加剤を添加
する。 1の方法は、自由エネルギーが低い分子鎖末端が表面に
凝縮しやすいことを利用する。特に末端のアルキル基成
分濃度が高いと疎水化効果が高い。2の方法は、具体的
には、芳香族ポリカーボネートと相溶性が悪くかつ疎水
性が高い添加剤から選ばれる。例えば、ペンタエリスル
トールテトラステアレートやポリオレフィン、ポリカプ
ロラクトン等が望ましい。
The following methods can be mentioned for increasing the contact angle of water droplets. 1. A hydrophobic group is introduced at the end of the molecular chain. 2. Add an additive that easily exists on the substrate surface and is highly hydrophobic. Method 1 utilizes the fact that molecular chain ends with low free energy tend to condense on the surface. Particularly, when the concentration of the terminal alkyl group component is high, the hydrophobizing effect is high. The method 2 is specifically selected from additives having poor compatibility with aromatic polycarbonate and high hydrophobicity. For example, pentaerythritol tetrastearate, polyolefin, polycaprolactone and the like are desirable.

【0033】水滴接触角を低減させるためには、上記方
法の逆を行えば良い。すなわち、 3.分子鎖末端に親水基を導入する。 4.基板表面に存在しやすく親水性が高い添加剤を添加
する。 3の方法は、自由エネルギーが高い末端水酸基で親水化
する方法が好ましい。4の方法は、具体的には、親水性
が高い添加剤から選ばれる。例えば、グリセリン等が望
ましい。
In order to reduce the water drop contact angle, the above method may be reversed. That is, 3. A hydrophilic group is introduced at the end of the molecular chain. 4. Add an additive that easily exists on the substrate surface and is highly hydrophilic. The method of 3 is preferably a method of hydrophilizing with a terminal hydroxyl group having high free energy. Method 4 is specifically selected from additives having high hydrophilicity. For example, glycerin or the like is desirable.

【0034】追記型光ディスク 追記型光ディスクの代表的なものとしては、例えば、上
記成形基板上に、色素記録層、反射層、そして保護層
が、この順に積層された構成のCD−R型の光ディスク
の他、上記成形基板上に、色素記録層、反射層、そして
所望により設けられる保護層からなる積層体と円盤状基
板(ダミー板)とを、記録層が内側となるように接着剤
で貼り合わせた構成のDVD−R型の光ディスク、及
び、上記積層体2枚をそれらの記録層がいずれも内側と
なるように接着剤で貼り合わせた構成のDVD−R型の
光ディスクがある。本発明方法においては、上記追記型
光ディスクで、信号の記録、読み取りを行う色素記録層
は、色素を基板上の信号面に直接塗布することによっ
て、形成される。また、色素塗布前、通常、射出成形さ
れた成形基板を冷却する間に、基板表面と平行方向に正
の極性のイオン化エアーが吹き付けられる。本発明方法
は、特に、色素記録層形成前の成形基板が、基板表面を
実質的水平に保持して複数のクーリングステージを通過
する間に、ダウンブローの冷却用エアーを基板表面と垂
直方向に吹き付ける、冷却設備において適用するのが好
ましい。
[0034] as the write-once optical disc write once optical disk representative of, for example, in the molding substrate, a dye recording layer, reflective layer, and protective layer, of the CD-R type is laminated in this order optical disk In addition, a laminate comprising a dye recording layer, a reflective layer, and optionally a protective layer, and a disk-shaped substrate (dummy plate) are attached to the above-mentioned molded substrate with an adhesive so that the recording layer is on the inside. There are a DVD-R type optical disc having a combined structure, and a DVD-R type optical disc having a structure in which the above-mentioned two laminated bodies are bonded together with an adhesive so that their recording layers are inside. In the method of the present invention, the dye recording layer for recording and reading signals in the write-once optical disc is formed by directly applying the dye to the signal surface on the substrate. Further, before the dye is applied, generally, while cooling the injection-molded substrate, ionized air having a positive polarity is blown in a direction parallel to the substrate surface. In the method of the present invention, in particular, while the molded substrate before forming the dye recording layer passes through a plurality of cooling stages while holding the substrate surface substantially horizontally, down-blowing cooling air is directed in a direction perpendicular to the substrate surface. It is preferably applied in a cooling, spraying facility.

【0035】イオン化エアーの吹き付け 基板表面と平行方向への正の極性のイオン化エアーの吹
き付けは、通常、以下の方法によって行われる。図1に
示す様に、成形機から取り出された成形基板はクリーン
ブース内部に設置されたクーリングステージに置き、基
板表面が水平面方向あるいは垂直方向に、好ましくは水
平面方向に保持される。図2に示す様に、基板表面が水
平方向に保持されている場合は、クーリングステージ上
の水平に保持されている基板表面と平行に、正に帯電し
たイオン化エアーをブローすることによって、基板のそ
りを悪化させずに効率的に除電が達成される。
Spraying of ionizing air Spraying of ionizing air of positive polarity in the direction parallel to the substrate surface is usually carried out by the following method. As shown in FIG. 1, the molded substrate taken out from the molding machine is placed on a cooling stage installed inside a clean booth, and the substrate surface is held in a horizontal plane direction or a vertical direction, preferably in a horizontal plane direction. As shown in FIG. 2, when the substrate surface is held horizontally, the positively charged ionized air is blown in parallel with the horizontally held substrate surface on the cooling stage to remove the substrate surface. Elimination of static electricity is achieved efficiently without deteriorating the sled.

【0036】以下、添付の図面に従って説明するが、図
中1は、射出成形機、2は、金型(スタンパー装着)、
31は、基板取り出し機、32は、基板反転機、33
は、基板移送機、4は、クーリングステージ、5は、基
板取り出し機、6は、空気供給機、7は、クリーンブー
ス、8は、イオナイザー、9は、基板である。図1に示
す様に、射出成形機(1)から、基板取り出し機(3)
によって、取り出された成形基板は、クリーンブース
(7)内に設置された複数のクーリングステージ(4)
の、最初のステージに置かれ、最後のステージから、再
び基板取り出し機(5)によって、該クーリングステー
ジ(4)外へ取り出されるまでの間に、冷却及び除電が
行われる。図示のクーリングステージ(4)のステージ
数は16であるが、実際には、冷却速度、基板の移動速
度等に応じて、適切な数が選択される。
The following is a description with reference to the accompanying drawings. In the figure, 1 is an injection molding machine, 2 is a mold (with a stamper attached),
31 is a substrate take-out machine, 32 is a substrate reversing machine, 33
Is a substrate transfer machine, 4 is a cooling stage, 5 is a substrate takeout machine, 6 is an air supply machine, 7 is a clean booth, 8 is an ionizer, and 9 is a substrate. As shown in FIG. 1, from the injection molding machine (1) to the substrate take-out machine (3)
The molded substrates taken out by the multiple cooling stages (4) installed in the clean booth (7).
In the first stage, the substrate is taken out of the cooling stage (4) by the substrate take-out machine (5) from the last stage, and cooling and static elimination are performed. Although the number of stages of the cooling stage (4) shown in the figure is 16, an appropriate number is actually selected according to the cooling speed, the moving speed of the substrate and the like.

【0037】本発明では、冷却・除電の工程を設計する
に当たって、成形基板が、上記最初のステージから最後
のステージまでの、複数のクーリングステージ(4)を
通過する間、基板表面は実質的水平に維持されること、
ダウンブローの冷却用エアーの流れを基板表面に垂直方
向から受けること、及び、基板の上下両表面に沿う、正
の極性の除電用イオン化エアーの流れを、基板表面と実
質的に平行な方向から受けることが好ましい。クリーン
ブース(7)上方からのダウンブローの冷却用エアー
は、除電された空気やイオン化された空気を用いてもよ
いが、基板表面の静電気を完全に除電する働きはなくて
よい。ダウンブローの流れは、もっぱら基板の冷却の働
きを持てばよく、この流れだけで除電を完全に行おうと
すると、ダウンブローの風量を上げたり、エアーの吹き
出し口を基板に近づけなければならなくなる。その結
果、基板が不均一に冷却されて、基板のそりが悪化す
る。そこで、本発明では、クーリングステージ上の水平
に保持されている基板(9)の上下両表面に沿う、正に
帯電したイオン化エアーの流れを、基板表面と実質的に
平行な方向からブローすることによって、基板のそりを
悪化させずに、効率的に除電が達成される。ここで、正
の極性のイオン化エアーを発生させるために、図中で
は、各ステージごとに設けた空気供給機(6)及びイオ
ナイザー(8)を用いている。イオナイザー(8)の極
性を正の適切な帯電圧の値に調節し、空気供給機(6)
の風量を適切な値に調節することによって、成形基板の
所望の除電が達成される。クーリングステージ(4)か
ら取り出された成形基板は、通常、下記の色素記録層等
の積層工程へ搬送される。
In the present invention, in designing the cooling / static elimination process, while the molded substrate passes through the plurality of cooling stages (4) from the first stage to the last stage, the substrate surface is substantially horizontal. Be maintained at
Receiving the flow of down-blowing cooling air from the direction perpendicular to the substrate surface, and the flow of ionizing air for removing the positive polarity along the upper and lower surfaces of the substrate from a direction substantially parallel to the substrate surface. It is preferable to receive. As the cooling air for down-blowing from above the clean booth (7), discharged air or ionized air may be used, but it does not have to have a function of completely removing static electricity on the substrate surface. The down-blowing flow need only have the function of cooling the substrate, and in order to completely eliminate static electricity only by this flow, the down-blowing air volume must be increased or the air outlet must be brought close to the substrate. As a result, the substrate is non-uniformly cooled, and the warpage of the substrate is deteriorated. Therefore, in the present invention, the flow of the positively charged ionized air along both upper and lower surfaces of the substrate (9) held horizontally on the cooling stage is blown from a direction substantially parallel to the substrate surface. Thus, the static elimination can be efficiently achieved without deteriorating the warpage of the substrate. Here, in order to generate ionized air having a positive polarity, an air supplier (6) and an ionizer (8) provided for each stage are used in the figure. Adjust the polarity of the ionizer (8) to an appropriate positive charged voltage value, and then supply the air supply (6).
By adjusting the air flow rate of the molded substrate to an appropriate value, the desired charge removal of the molded substrate is achieved. The molded substrate taken out from the cooling stage (4) is usually transported to the following step of laminating a dye recording layer and the like.

【0038】色素の塗布 通常、スピンコート法を利用して、有機色素を有機溶媒
に溶解させた色素溶液を、成形基板の信号面に形成され
たグルーブを充満するように塗布することにより行われ
る。スピンコート法は、一般に、塗布液付与装置(ディ
スペンスノズル)、スピナーヘッド、飛散防止壁、そし
て排気装置から構成されてなるスピンコート装置を用
い、下記の手順に従い実施される。まず、スピナーヘッ
ド上に成形基板を載置し、次いで、スピナーヘッドを駆
動モータにより回転させながら、該基板の内周部の表面
に、好ましくは、グルーブの最内周縁より2〜3mm内
方の位置に、塗布液付与装置のノズルから塗布液を供給
する。基板上に供給された塗布液は遠心力により外周側
に放射状に流延し、塗布膜を形成する。スピンコート操
作の間、飛散防止壁の上方に設けた開口部(気体導入
部)から空気等の乾燥気体を導入し、その気体を該塗布
膜上に流通させ、スピンコート装置の下方から排気す
る。この気体の流通によって、塗布膜から溶媒が除去さ
れ、塗布膜は乾燥される。また必要に応じてベーキング
と呼ばれる乾燥オーブンに基板を投入して残存溶媒をで
きるだけ完全に除去する。
Application of Dye Usually, a dye solution prepared by dissolving an organic dye in an organic solvent is applied by a spin coating method so as to fill the groove formed on the signal surface of the molded substrate. . The spin coating method is generally carried out according to the following procedure using a spin coating device including a coating liquid applying device (dispensing nozzle), a spinner head, a shatterproof wall, and an exhaust device. First, the molded substrate is placed on the spinner head, and then, while rotating the spinner head by the drive motor, on the surface of the inner peripheral portion of the substrate, preferably within 2 to 3 mm from the innermost peripheral edge of the groove. The coating liquid is supplied to the position from the nozzle of the coating liquid applying device. The coating liquid supplied onto the substrate is radially cast on the outer peripheral side by centrifugal force to form a coating film. During the spin coating operation, a dry gas such as air is introduced through an opening (gas inlet) provided above the shatterproof wall, the gas is circulated on the coating film, and exhausted from below the spin coating device. . By the circulation of this gas, the solvent is removed from the coating film and the coating film is dried. If necessary, the substrate is put into a drying oven called baking to remove the residual solvent as completely as possible.

【0039】追記型光ディスクの場合、色素としては、
レーザー光波長域(300〜850nm)に吸収領域の
ある色素が選ばれる。具体的には、アゾ色素、シアニン
色素、フタロシアニン色素、アズレニウム色素、スクア
リリウム色素、ポリメチン色素、ピリリウム色素、チオ
ピリリウム色素、インドアニリン色素、ナフトキノン色
素、アントラキノン色素、トリアリルメタン色素、アミ
ニウム色素、ジイモニウム色素、アゾ系配位子化合物と
金属とからなる金属キレート系色素、金属錯体等、及び
これらの混合物が挙げられる。好ましくは、アゾ系、シ
アニン系、フタロシアニン系のいずれかの有機色素であ
る。これらの色素は信号の感度に優れ、溶媒に溶解しや
すく、耐光性が良好であり、高品質の追記型光ディスク
を得ることを可能にする。
In the case of a write-once optical disc, the dye is
A dye having an absorption region in the laser light wavelength range (300 to 850 nm) is selected. Specifically, azo dyes, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, azurenium dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, indoaniline dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, triallylmethane dyes, aminium dyes, diimonium dyes, Examples thereof include metal chelate dyes composed of an azo ligand compound and a metal, metal complexes and the like, and mixtures thereof. Preferred are organic dyes of azo type, cyanine type and phthalocyanine type. These dyes have excellent signal sensitivity, are easily dissolved in a solvent, have good light resistance, and make it possible to obtain a high-quality write-once optical disc.

【0040】色素溶液用の有機溶媒としては、具体的に
は、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン、ジクロルメタン、1,2−ジク
ロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素、ジメチ
ルホルムアミド等のアミド、シクロヘキサン等の炭化水
素、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン
等のエーテル、エタノール、n−プロパノール、イソプ
ロパノール、n−ブタノール、ジアセトンアルコール等
のアルコール、2,2,3,3−テトラフロロプロパノ
ール等のフッ素系溶剤、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール
エーテル類等を挙げることができる。これらの溶剤は使
用する色素の溶解性を考慮して、単独または二種以上を
適宜併用することができる。好ましくは、2,2,3,
3−テトラフロロプロパノール、オクタフロロペンタノ
ール、ジブチルエーテル等のフッ素系溶剤である。
Specific examples of the organic solvent for the dye solution include esters such as butyl acetate and cellosolve acetate,
Methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ketones such as methyl isobutyl ketone, chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform, amides such as dimethylformamide, hydrocarbons such as cyclohexane, ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, dioxane, ethanol. , Alcohols such as n-propanol, isopropanol, n-butanol and diacetone alcohol, fluorine-based solvents such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether And other glycol ethers. These solvents may be used alone or in combination of two or more in consideration of the solubility of the dye used. Preferably 2, 2, 3,
It is a fluorine-based solvent such as 3-tetrafluoropropanol, octafluoropentanol, and dibutyl ether.

【0041】さらに、色素記録層表面にAgやAuとい
った反射膜がスパッタ法にて成膜されて反射層が、また
必要に応じ、反射層表面に保護膜をコートすることによ
って保護層が形成された積層体が得られる。CD−Rの
場合は単板で形成されるが、DVD−Rの場合は上記の
基板を2枚貼り合わせることによって高密度化を達成で
きる。
Further, a reflective film such as Ag or Au is formed on the surface of the dye recording layer by a sputtering method to form a reflective layer, and if necessary, a protective layer is formed by coating the surface of the reflective layer with a protective film. A laminated body is obtained. In the case of a CD-R, it is formed of a single plate, but in the case of a DVD-R, it is possible to achieve high density by sticking two of the above substrates together.

【0042】[0042]

【実施例】以下、本発明を実施例に従って述べるが、本
発明は下記の実施例の範囲に限定されるわけではない。
なお、実施例における、部、%、ppmは別段の指示の
ない限り、いずれも重量基準の値である。
EXAMPLES The present invention will be described below according to examples, but the present invention is not limited to the scope of the following examples.
In the examples, all parts,% and ppm are based on weight unless otherwise specified.

【0043】[実施例1] 1.ポリカーボネートペレットの調製 コンデンサーを具備したステンレス製20Lの竪型攪拌
反応装置にビスフェノールA2283g(10.0モ
ル)、ジフェニルカーボネート2290g(10.7モ
ル)、4−t−ブチルフェノール58.5g(0.39
モル、ビスフェノールAに対して、3.9モル%)、触
媒として0.01N水酸化ナトリウム0.7mL(ビス
フェノールA1モルに対して7×10-6モル)を仕込み
窒素置換を行った。この混合物を第1槽にて220℃で
40分かけて原料モノマーを溶融した後、第2槽で22
0℃/13.3kPaで60分、第3槽で240℃/
2.00kPaで60分、第4槽で270℃/66.7
Paで60分間反応を行い、さらにp−トルエンスルホ
ン酸ブチル(触媒として使用した水酸化ナトリウムに対
して2倍モル量)を触媒失活剤として添加し反応を終了
させた。その結果、粘度平均分子量16,000の芳香
族ポリカーボネートが得られ、カッターで切断してペレ
ットとした。得られたペレットを用いて下記の条件にて
光ディスク基板を成形した。
[Example 1] 1. Preparation of Polycarbonate Pellets In a stainless steel 20 L vertical stirring reactor equipped with a condenser, 2283 g (10.0 mol) of bisphenol A, 2290 g (10.7 mol) of diphenyl carbonate, and 58.5 g (0.39 g of 4-t-butylphenol) were added.
Mol, 3.9 mol% with respect to bisphenol A), and 0.01 N sodium hydroxide 0.7 mL (7 × 10 −6 mol with respect to 1 mol of bisphenol A) as a catalyst were charged, and nitrogen substitution was performed. This mixture was melted in the first tank at 220 ° C. for 40 minutes to melt the raw material monomers and then in the second tank.
60 minutes at 0 ° C / 13.3kPa, 240 ° C / in the third tank
60 minutes at 2.00 kPa, 270 ° C / 66.7 in the fourth tank
The reaction was carried out at Pa for 60 minutes, and butyl p-toluenesulfonate (2 times the molar amount of sodium hydroxide used as the catalyst) was added as a catalyst deactivator to terminate the reaction. As a result, an aromatic polycarbonate having a viscosity average molecular weight of 16,000 was obtained and cut into pellets with a cutter. An optical disc substrate was molded using the obtained pellets under the following conditions.

【0044】2.成形基板の製造 得られたペレットを、下記の条件で射出成形し、成形基
板を得た。 成形機: 住友重機DISK3 金型: 12cmφCD、DVD用金型 成形基板厚み: 1.2mm スタンパーのグルーブ深さ: 160nm スタンパーのグルーブのピッチ: 0.80μm 成形機のシリンダーの最高設定温度: 360℃ スタンパーが装着されている側の金型の設定温度: 1
30℃ 射出時間: 0.1秒 冷却時間: 7.0秒 スクリュー回転数: 360rpm スクリュー径: 25mmφ 型締め力: 射出、保圧中20T、冷却中25T
2. Manufacture of Molded Substrate The obtained pellets were injection-molded under the following conditions to obtain a molded substrate. Molding machine: Sumitomo Heavy Industries DISK3 Mold: 12 cmφ CD, DVD mold Molding substrate thickness: 1.2 mm Stamper groove depth: 160 nm Stamper groove pitch: 0.80 μm Maximum setting temperature of molding machine cylinder: 360 ° C Stamper Set temperature of the mold on the side where is installed: 1
30 ° C. Injection time: 0.1 seconds Cooling time: 7.0 seconds Screw rotation speed: 360 rpm Screw diameter: 25 mmφ Clamping force: Injection, 20 T during holding pressure, 25 T during cooling

【0045】3.追記型光ディスクの調製 上記条件にて成形された基板は、成形基板は金型から取
り出した後、18個のクーリングステージにて冷却され
た。イオナイザー(ヒューグルエレクトロニクス MO
DEL 430 DC型イオナイザー)を図2に示され
る位置に設置し、ブローの方向は基板表面と平行になる
ように設置した。 極性: 正 出力電圧: +6.0kv エアー流量: 130L/min エアー圧力: 0.1MPa 基板端面とイオナイザーの距離: 20cm 得られた基板を50rpmにて回転させながら、グルー
ブの最内周から3mm内方の内周部上に、アゾ系色素の
オクタフロロペンタノール5%溶液をノズルから滴下し
た。基板上に供給された塗布液は、回転数を5000r
pmに上げることにより、外周側に放射状に流延し、グ
ルーブを充満した塗布液を形成した。コーターの上方に
設けた開口部(気体導入部)から空気を導入し、スピン
コート装置の下方から排気することによって溶媒を揮発
させた。その後、95℃に保たれた乾燥オーブンに基板
を投入して15分の乾燥を行い残存溶媒を除去し、色素
記録層の形成を完結した。その後、色素記録層表面にA
gをスパッタし、さらに保護膜をコートしてCD−R型
の追記型光ディスクを得た。
3. Preparation of write-once type optical disk The substrate molded under the above conditions was cooled in 18 cooling stages after the molded substrate was taken out from the mold. Ionizer (Hugele Electronics MO
DEL 430 DC type ionizer) was installed at the position shown in FIG. 2 so that the direction of blowing was parallel to the substrate surface. Polarity: Positive output voltage: +6.0 kv Air flow rate: 130 L / min Air pressure: 0.1 MPa Distance between substrate end face and ionizer: 20 cm While rotating the obtained substrate at 50 rpm, 3 mm inward from the innermost circumference of the groove A 5% solution of an azo dye, octafluoropentanol, was dropped onto the inner peripheral portion of the nozzle through a nozzle. The coating liquid supplied onto the substrate has a rotation speed of 5000r.
By raising the pressure to pm, the coating solution was radially cast on the outer peripheral side to form a coating liquid filled with the grooves. Air was introduced through an opening (gas inlet) provided above the coater and exhausted from below the spin coater to volatilize the solvent. After that, the substrate was put into a drying oven kept at 95 ° C. and dried for 15 minutes to remove the residual solvent, thereby completing the formation of the dye recording layer. After that, A on the surface of the dye recording layer
g was sputtered and further coated with a protective film to obtain a CD-R type write-once type optical disc.

【0046】4.評価方法 得られた成形基板または追記型光ディスクについて、下
記各項目の測定を基板5枚を用いて行った。結果は表−
1に示した。 (1)水滴接触角 本文中に記載されている方法により、測定を行った。 (2)複屈折 オーク自動複屈折測定装置(オーク(株)製、商品名A
DR−130N)を用い、基板の傾斜方向を2様に変え
て、波長632.8nmのHe−Neレーザー光によっ
て測定した。半径方向4点の絶対値の最大値を複屈折と
した。 (3)タンジェンシアルチルト アドモンサイエンス社自動そり角測定装置を用い、色素
塗布直前の基板について16点(直交する直径上にほぼ
等間隔に各8点)、タンジェンシアル方向のそり角を測
定し、絶対値の最大値をタンジェンシアルチルトとして
表示した。
4. Evaluation Method For each of the obtained molded substrate or write-once type optical disc, the following items were measured using 5 substrates. The results are
Shown in 1. (1) Water drop contact angle The measurement was performed by the method described in the text. (2) Birefringence oak automatic birefringence measuring device (Oak Co., Ltd., trade name A
DR-130N) was used, the tilt direction of the substrate was changed in two ways, and the measurement was performed with a He-Ne laser beam having a wavelength of 632.8 nm. The maximum absolute value at four points in the radial direction was defined as birefringence. (3) Tangential Tilt Admon Science's automatic warp angle measuring device was used to measure 16 points (8 points at approximately equal intervals on the orthogonal diameter) of the substrate immediately before the dye application, and the warp angle in the tangential direction. It was measured and the maximum absolute value was displayed as the tangential tilt.

【0047】(4)滴下直後の液滴変形の有無 表−1に記載されている色素記録層の色素を、オクタフ
ロロペンタノールに溶解させて、5%溶液を調製した。
調製した溶液は、冷却後素早く取り出した成形基板の内
周部の表面に、マイクロシリンジで1滴(20μL)滴
下し、液滴の形状を目視で観察し、液滴変形の有無(真
円か変形)を調べた。 (5)明欠陥の有無 色素塗布後の基板に形成された色素記録層を目視で観察
し、部分的に色素が薄くなっている部分を明欠陥とし、
その有無を調べた。
(4) Presence or absence of deformation of droplets immediately after dropping The dyes of the dye recording layer described in Table-1 were dissolved in octafluoropentanol to prepare a 5% solution.
The prepared solution was dropped by a microsyringe on the surface of the inner peripheral portion of the molded substrate that was quickly taken out after cooling, and the shape of the droplet was visually observed to confirm whether the droplet was deformed (whether it was a perfect circle or not). Deformation). (5) Presence or absence of bright defect Visually observing the dye recording layer formed on the substrate after dye coating, and defining a portion where the dye is partially thin as a bright defect,
The presence or absence thereof was investigated.

【0048】[0048]

【実施例2】実施例1において、p−t−ブチルフェノ
ールを加えないでポリカーボネートを得、得られたポリ
マーペレットに対して6000ppmのペンタエリスリ
トールテトラステアレートを混合した以外は、実施例1
と同様にして、光ディスクを得た。評価結果を表−1に
示す。
Example 2 Example 1 was repeated except that polycarbonate was obtained without adding pt-butylphenol and 6000 ppm of pentaerythritol tetrastearate was mixed with the obtained polymer pellets.
An optical disc was obtained in the same manner as in. The evaluation results are shown in Table-1.

【実施例3】実施例1において、アゾ系色素の溶液に代
えてシアニン系色素の溶液を用いた以外は、実施例1と
同様にして、光ディスクを得た。評価結果を表−1に示
す。
Example 3 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1, except that the cyanine dye solution was used instead of the azo dye solution. The evaluation results are shown in Table-1.

【実施例4】実施例1において、アゾ系色素の溶液に代
えてフタロシアニン系色素の溶液を用いた以外は、実施
例1と同様にして、光ディスクを得た。評価結果を表−
1に示す。
Example 4 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the phthalocyanine dye solution was used in place of the azo dye solution. Table of evaluation results
Shown in 1.

【実施例5】実施例1において、第4槽で290℃/3
2Paで60分間反応を行いた以外は、実施例1と同様
にして、光ディスクを得た。評価結果を表−1に示す。
[Embodiment 5] In Embodiment 1, 290 ° C./3 in the fourth tank
An optical disc was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reaction was performed at 2 Pa for 60 minutes. The evaluation results are shown in Table-1.

【実施例6】実施例5において、基板厚みを1,2mm
の代わりに0.6mmとし、かつ得られた色素塗布及び
Agスパッタ後の基板と色素塗布前の基板をアクリル系
接着剤で貼り合わせた以外は、実施例5と同様にして、
DVD−R型の追記型光ディスクを得た。評価結果を表
−1に示す。
[Sixth Embodiment] In the fifth embodiment, the substrate thickness is 1, 2 mm.
In the same manner as in Example 5, except that the substrate after dye coating and Ag sputtering was bonded to the substrate before dye coating with an acrylic adhesive instead of 0.6 mm.
A DVD-R write-once optical disc was obtained. The evaluation results are shown in Table-1.

【0049】[0049]

【比較例1】実施例1において、p−t−ブチルフェノ
ールを用いないこと以外は、実施例1と同様にして、光
ディスクを得た。評価結果を表−1に示す。
Comparative Example 1 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that pt-butylphenol was not used. The evaluation results are shown in Table-1.

【比較例2】実施例1において、第4槽で320℃/1
2Paで60分間反応を行った以外は、実施例1と同様
にして、光ディスクを得た。評価結果を表−1に示す。
Comparative Example 2 In Example 1, 320 ° C./1 in the fourth tank
An optical disc was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reaction was performed at 2 Pa for 60 minutes. The evaluation results are shown in Table-1.

【比較例3】実施例1において、p−t−ブチルフェノ
ールに代えてノニルフェノールを用いた以外は、実施例
1と同様にして、光ディスクを得た。評価結果を表−1
に示す。
Comparative Example 3 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that nonylphenol was used instead of pt-butylphenol. Table 1 shows the evaluation results.
Shown in.

【比較例4】実施例1において、ブローを使用しないこ
と以外は、実施例1と同様にして、光ディスクを得た。
評価結果を表−1に示す。
Comparative Example 4 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blow was not used.
The evaluation results are shown in Table-1.

【比較例5】実施例1において、ブローの極性を負にし
たこと以外は、実施例1と同様にして、光ディスクを得
た。評価結果を表−1に示す。
Comparative Example 5 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blow polarity was negative. The evaluation results are shown in Table-1.

【比較例6】実施例1において、ブローの方向を基板に
対して垂直にした以外は、実施例1と同様にして、光デ
ィスクを得た。評価結果を表−1に示す。
Comparative Example 6 An optical disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blowing direction was perpendicular to the substrate. The evaluation results are shown in Table-1.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】上記の表に示す結果から、本発明所定の要
件を満たした実施例1〜6においては、複屈折及び反り
(タンジェンシアルチルト)が小さく、色素塗布不良
(滴下直後の液滴変形)及び明欠陥のない、優れた光デ
ィスク基板又は光ディスクが得られている。これは、基
板の構成が単板であるCD−R型(実施例1〜5)で
も、貼り合わせのDVD−R型(実施例6)でも同様で
ある。さらに、水滴接触角を、添加剤によって適正な値
まで低減しても、同様の結果が得られる(実施例2:比
較例3)。しかし、所定の要件を欠く場合には、本発明
の目的を達成できない。すなわち、使用するポリカーボ
ネート樹脂については、粘度平均分子量が大きすぎる
(比較例2)と、複屈折が著しく増大し、また、水滴接
触角が小さすぎる(比較例1)と、色素塗布不良を生
じ、大きすぎる(比較例3)と、明欠陥を生じる結果と
なる。イオン化エアーの吹き付けについては、これを全
く行わない(比較例4)又は負の極性のイオン化エアー
を使用する(比較例5)と、いずれも、色素塗布不良が
避けられず、また、吹き付け方向を基板表面に対して垂
直とする(比較例6)と、反りが増大する結果となる。
From the results shown in the above table, in Examples 1 to 6 satisfying the requirements of the invention, the birefringence and the warp (tangential tilt) were small, and the dye coating failure (droplet deformation immediately after dropping). ) And an excellent optical disc substrate or optical disc without bright defects. This is the same for both the CD-R type (Examples 1 to 5) in which the substrate is a single plate and the bonded DVD-R type (Example 6). Further, similar results are obtained even if the water droplet contact angle is reduced to a proper value by the additive (Example 2: Comparative Example 3). However, the object of the present invention cannot be achieved when the predetermined requirements are lacking. That is, regarding the polycarbonate resin used, when the viscosity average molecular weight is too large (Comparative Example 2), the birefringence remarkably increases, and when the contact angle of water droplets is too small (Comparative Example 1), defective dye coating occurs. If it is too large (Comparative Example 3), bright defects will result. Regarding the spraying of the ionized air, if this is not performed at all (Comparative Example 4) or the ionized air having a negative polarity is used (Comparative Example 5), defective dye coating cannot be avoided, and the spraying direction is changed. If it is perpendicular to the substrate surface (Comparative Example 6), the warp increases.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明によれば、基板の反りが小さく、
基板の複屈折が小さく、明欠陥がなく、色素塗布不良が
なく、表面の埃付着がない追記型光ディスク基板の製造
方法及び追記型光ディスクの製造方法を提供することが
できる。
According to the present invention, the warp of the substrate is small,
It is possible to provide a method for manufacturing a write-once optical disk substrate and a method for manufacturing a write-once optical disk in which the birefringence of the substrate is small, there are no bright defects, there is no dye coating failure, and there is no dust adhesion on the surface.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 基板の製造工程を示す略図FIG. 1 is a schematic view showing a manufacturing process of a substrate.

【図2】 除電用機器の配置図[Fig. 2] Layout plan of static eliminator

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.成形機 2.金型 31.基板取り出し機 32.基板反転機 33.基板移送機 4.クーリングステージ 5.基板取り出し機 6.空気供給機 7.クリーンブース 8.イオナイザー 9.基板 1. Molding machine 2. Mold 31. Substrate takeout machine 32. Substrate reversing machine 33. Substrate transfer machine 4. Cooling stage 5. Substrate takeout machine 6. Air supply machine 7. Clean booth 8. Ionizer 9. substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸山 博義 神奈川県平塚市東八幡5丁目6番2号 三 菱エンジニアリングプラスチックス株式会 社技術センター内 (72)発明者 黒川 晴彦 神奈川県平塚市東八幡5丁目6番2号 三 菱エンジニアリングプラスチックス株式会 社技術センター内 Fターム(参考) 5D029 JA04 KA07 KC09 RA03 RA07 RA08 5D121 AA02 AA07 GG30    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hiroyoshi Maruyama             5-6 Higashi-Hachiman 5-2, Hiratsuka City, Kanagawa Prefecture             Ryo Engineering Plastics Stock Association             Company Technology Center (72) Inventor Haruhiko Kurokawa             5-6 Higashi-Hachiman 5-2, Hiratsuka City, Kanagawa Prefecture             Ryo Engineering Plastics Stock Association             Company Technology Center F-term (reference) 5D029 JA04 KA07 KC09 RA03 RA07                       RA08                 5D121 AA02 AA07 GG30

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとからエステル交換法によって製造される粘度平均分
子量が10,000〜23,000のポリカーボネート
樹脂を射出成形して、信号面にグルーブを形成した成形
基板に、色素を塗布することにより色素記録層を形成し
てなる追記型光ディスク基板の製造方法であって、色素
記録層形成前の信号面で測定される水滴接触角が77°
以上85°以下であり、且つ色素塗布前に、正の極性の
イオン化エアーを基板表面と平行方向に吹き付けること
を特徴とする追記型光ディスク基板の製造方法。
1. A molded substrate having a groove formed on a signal surface by injection molding of a polycarbonate resin having a viscosity average molecular weight of 10,000 to 23,000, which is produced from an aromatic dihydroxy compound and a carbonic acid diester by a transesterification method. A method of manufacturing a write-once type optical disc substrate, wherein a dye recording layer is formed by coating a dye on the surface of the recording medium, wherein the water drop contact angle measured on the signal surface before formation of the dye recording layer is 77 °.
A method for manufacturing a write-once type optical disc substrate, characterized in that ionized air having a positive polarity of 85 ° or less and before applying a dye is blown in a direction parallel to the substrate surface.
【請求項2】上記信号面に、アゾ系、シアニン系、フタ
ロシアニン系のいずれかの有機色素を有機溶媒に溶解さ
せた色素溶液を塗布して、色素記録層を形成することを
特徴とする請求項1に記載の追記型光学ディスク基板の
製造方法。
2. A dye recording layer is formed by applying a dye solution in which an azo-based, cyanine-based or phthalocyanine-based organic dye is dissolved in an organic solvent to the signal surface. Item 2. A method for manufacturing a write-once optical disc substrate according to Item 1.
【請求項3】請求項1または2に記載の追記型光ディス
ク基板から得られる追記型光ディスクの製造方法であっ
て、厚みが0.2mm以上0.6mm以下での成形基板
2枚が、形成された色素記録層を内側にして貼り合わさ
れた構造を有することを特徴とする追記型光ディスクの
製造方法。
3. A method of manufacturing a write-once optical disc obtained from the write-once optical disc substrate according to claim 1, wherein two molded substrates having a thickness of 0.2 mm or more and 0.6 mm or less are formed. A method of manufacturing a write-once type optical disc, which has a structure in which the dye recording layer is attached inside.
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