JP2003077151A - Optical pickup and optical disk device - Google Patents

Optical pickup and optical disk device

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JP2003077151A
JP2003077151A JP2001265435A JP2001265435A JP2003077151A JP 2003077151 A JP2003077151 A JP 2003077151A JP 2001265435 A JP2001265435 A JP 2001265435A JP 2001265435 A JP2001265435 A JP 2001265435A JP 2003077151 A JP2003077151 A JP 2003077151A
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JP
Japan
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diffracted light
order diffracted
diffraction grating
optical
light
Prior art date
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Application number
JP2001265435A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Saito
政宏 齊藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the sufficient suppression of the offset of a tracking error signal due to the positional deviation of a diffraction grating as to an optical pickup and an optical disk device by applying to a mini-disk device, a recording/ reproducing device of DVD, etc. SOLUTION: The diffraction grating 14 is constituted by the repetition of at least three areas AR1, AR21 and AR22, AR3 having different optical distances, then the optical distances of widths W1, W21 and W22, W3 in three areas AR1, AR21 and AR22, AR3 are set so that the phase difference between a 0-order diffracted light and a ±1st order diffracted light becomes almost 0 deg. or 180 deg..

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ピックアップ及
び光ディスク装置に関し、例えばミニディスク装置、D
VDの記録再生装置等に適用することができる。本発明
は、光学距離の異なる少なくとも3つの領域の繰り返し
により回折格子を構成し、0次の回折光と、±1次の回
折光との位相差がほぼ0度又は180度となるように、
これら3つの領域における光学距離、幅を設定すること
により、回折格子の位置ずれによるトラッキングエラー
信号のオフセットを十分に抑圧することができるように
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical pickup and an optical disk device, for example, a mini disk device, D
It can be applied to a VD recording / reproducing device and the like. The present invention configures a diffraction grating by repeating at least three regions having different optical distances so that the phase difference between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light is approximately 0 degree or 180 degrees.
By setting the optical distance and width in these three regions, it is possible to sufficiently suppress the offset of the tracking error signal due to the displacement of the diffraction grating.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光ディスク装置においては、いわ
ゆる3スポット法によりトラッキング制御するようにな
されたものがあり、このような光ディスク装置において
は、回折格子を用いてレーザービームより0次、±1次
の回折光を生成し、これら0次、±1次の回折光を光デ
ィスクに照射するようになされている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is an optical disc device which is designed to perform tracking control by a so-called three-spot method. In such an optical disc device, a diffraction grating is used to form 0th order and ± 1st order from a laser beam. The diffracted light is generated and the 0th order and the ± 1st order diffracted lights are applied to the optical disc.

【0003】すなわち図9は、この種の光ディスク装置
に適用される光ピックアップを示す側面図である。この
光ピックアップ1において、半導体レーザー2は、所定
波長のレーザービームL1を出射し、続くコリメータレ
ンズ3は、このレーザービームL1を平行光線に変換す
る。続く回折格子4は、このコリメータレンズ3より出
射されるレーザービームを0次、±1次の回折光に変換
し、ビームスプリッタ5は、これら0次、±1次の回折
光によるレーザービームL1を透過して対物レンズ6に
出射する。
That is, FIG. 9 is a side view showing an optical pickup applied to an optical disk device of this type. In the optical pickup 1, the semiconductor laser 2 emits a laser beam L1 having a predetermined wavelength, and the subsequent collimator lens 3 converts the laser beam L1 into parallel rays. The subsequent diffraction grating 4 converts the laser beam emitted from the collimator lens 3 into diffracted light of 0th order and ± 1st order, and the beam splitter 5 converts the laser beam L1 by the diffracted light of 0th order and ± 1st order. The light is transmitted and emitted to the objective lens 6.

【0004】対物レンズ6は、これら0次、±1次の回
折光によるレーザービームL1を光ディスク7の情報記
録面に集光に、その結果光ディスク7より得られる戻り
光を受光してビームスプリッタ5に導く。ビームスプリ
ッタ5は、この戻りを反射してコリメータレンズ8に出
射し、このコリメータレンズ8は、この戻り光を受光素
子9の受光面に集光する。
The objective lens 6 focuses the laser beam L1 by the 0th and ± 1st order diffracted lights on the information recording surface of the optical disk 7, receives the return light obtained from the optical disk 7 as a result, and receives it from the beam splitter 5. Lead to. The beam splitter 5 reflects this return and outputs it to the collimator lens 8, and this collimator lens 8 focuses this return light on the light receiving surface of the light receiving element 9.

【0005】光ピックアップ1では、このようにして光
ディスク7に照射される0次、±1次の回折光によるレ
ーザービームL1が、光ディスク7の半径方向に所定距
離だけオフセットしてビームスポットを形成するよう
に、またこれら0次、±1次の回折光による戻り光の光
量をそれぞれ検出できるように受光素子9の受光面が形
成され、また必要に応じて各受光面が分割されて形成さ
れ、これらによりいわゆる3スポット法によりトラック
エラー信号を生成できるようになされている。
In the optical pickup 1, the laser beam L1 formed by the 0th order and ± 1st order diffracted lights applied to the optical disc 7 in this way is offset in the radial direction of the optical disc 7 by a predetermined distance to form a beam spot. In addition, the light-receiving surface of the light-receiving element 9 is formed so that the light amount of the return light due to the 0th and ± 1st-order diffracted light can be detected, and each light-receiving surface is divided and formed as necessary. With these, a track error signal can be generated by the so-called three-spot method.

【0006】このようにして0次、±1次の回折光を生
成する回折格子4においては、図10に示すように、透
明基板であるガラス基板4A上に、所望する回折角に対
応する繰り返しピッチPにより選択的に誘電体層4Bを
積層して形成される。従来の光ディスク装置において
は、この繰り返し方向における誘電体層4Bの幅Tが、
繰り返しピッチPのほぼ1/2となるように設定され
る。
In the diffraction grating 4 which generates the 0th order and ± 1st order diffracted light in this way, as shown in FIG. 10, on the glass substrate 4A which is a transparent substrate, repetitions corresponding to desired diffraction angles are repeated. It is formed by selectively stacking the dielectric layers 4B at the pitch P. In the conventional optical disk device, the width T of the dielectric layer 4B in the repeating direction is
The repetition pitch P is set to be approximately 1/2.

【0007】また図11に示すように、0次の回折光の
光強度に対して、±1次の回折光の光強度が、10
〔%〕程度となるように、誘電体層4Bの厚みが制御さ
れるようになされている。
Further, as shown in FIG. 11, the light intensity of the ± 1st order diffracted light is 10 with respect to the light intensity of the 0th order diffracted light.
The thickness of the dielectric layer 4B is controlled so as to be about [%].

【0008】因みに、これらにより例えばミニディスク
に適用する場合には、回折格子4は、繰り返しピッチP
が14〔μm〕、誘電体層4Bの幅Tが7.0〔μm〕
に設定され、誘電体層4Bが屈折率1.5の誘電体によ
り、厚さ250〔nm〕で形成されて、波長790〔n
m〕のレーザービームが使用されるようになされてい
る。
By the way, when these are applied to, for example, a mini disk, the diffraction grating 4 has a repeating pitch P.
Is 14 [μm], and the width T of the dielectric layer 4B is 7.0 [μm].
The dielectric layer 4B is made of a dielectric material having a refractive index of 1.5 and has a thickness of 250 [nm].
m] laser beam is used.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで従来の光ディ
スク装置においては、格子を横切る方向に回折格子4が
位置ずれすると、トラッキングエラー信号にオフセット
が発生する問題があり、光ディスク装置においては、こ
のオフセットによりトラッキング制御の精度が低下す
る。
By the way, in the conventional optical disk apparatus, there is a problem that when the diffraction grating 4 is displaced in the direction traversing the grating, an offset occurs in the tracking error signal. In the optical disk apparatus, this offset causes a problem. The accuracy of tracking control decreases.

【0010】このような位置ずれによるトラッキングエ
ラー信号のオフセットの発生を十分に抑圧することがで
きれば、その分、光ピックアップの組み立て作業におけ
る許容度を拡大することができ、光ピックアップの生産
性を向上することができ、さらには設計作業も簡略化す
ることができると考えられる。また受光素子のばらつき
等についても、許容範囲が拡大し、これによっても生産
性を向上できると考えられる。
If it is possible to sufficiently suppress the occurrence of the offset of the tracking error signal due to such a positional shift, the tolerance in the assembly work of the optical pickup can be expanded correspondingly, and the productivity of the optical pickup is improved. It is considered that it is possible to further simplify the design work. Further, it is considered that the allowable range of the variation of the light receiving elements is expanded and the productivity can be improved by this.

【0011】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、回折格子の位置ずれによるトラッキングエラー信号
のオフセットを十分に抑圧することができる光ピックア
ップ及び光ディスク装置提案しようとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and an object of the present invention is to propose an optical pickup and an optical disk device capable of sufficiently suppressing the offset of the tracking error signal due to the displacement of the diffraction grating.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め請求項1の発明においては、光ピックアップに適用し
て、回折格子が、少なくとも光学距離の異なる第1、第
2、第3の領域が、順次循環的に繰り返されて形成さ
れ、0次の回折光と、±1次の回折光との位相差がほぼ
0度又は180度となるように、第1、第2、第3の領
域の光学距離、繰り返し方向の第1、第2、第3の領域
の幅が設定されてなるようにする。
In order to solve such a problem, in the invention of claim 1, the diffraction grating is applied to an optical pickup, and at least the first, second and third regions having different optical distances are provided. The first, second, and third regions are formed by being sequentially and cyclically repeated so that the phase difference between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light is approximately 0 degrees or 180 degrees. The optical distance and the widths of the first, second and third regions in the repeating direction are set.

【0013】また請求項6の発明においては、光ディス
ク装置に適用して、光ピックアップの回折格子は、少な
くとも光学距離の異なる第1、第2、第3の領域が、順
次循環的に繰り返され、0次の回折光と、±1次の回折
光との位相差がほぼ0度又は180度となるように、第
1、第2、第3の領域の光学距離、繰り返し方向の第
1、第2、第3の領域の幅が設定されてなるようにす
る。
According to a sixth aspect of the present invention, applied to an optical disk device, the diffraction grating of the optical pickup has at least first, second and third regions having different optical distances sequentially and cyclically repeated. The optical distances of the first, second, and third regions and the first and second repeating directions are set so that the phase difference between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light is approximately 0 degrees or 180 degrees. The widths of the second and third areas are set.

【0014】請求項1の構成によれば、光ピックアップ
に適用して、回折格子が、少なくとも光学距離の異なる
第1、第2、第3の領域が、順次循環的に繰り返されて
形成され、0次の回折光と、±1次の回折光との位相差
がほぼ0度又は180度となるように、第1、第2、第
3の領域の光学距離、繰り返し方向の第1、第2、第3
の領域の幅が設定されてなることにより、回折格子が格
子を横切る方向に変位した場合に、1次回折光及び−1
次回折光の集光位置に対して0次回折光が同じように影
響を与えることになる。すなわち1次回折光の集光位置
で光強度が増大した場合には、−1次回折光の集光位置
でも光強度が増大させることができ、これにより回折格
子の位置ずれによる1次回折光及び−1次回折光の集光
位置における光強度差の相違を小さくすることができ
る。これに対して従来構成による回折格子においては、
回折格子が格子を横切る方向に変位した場合に、1次回
折光と−1次回折光とに対して0次回折光が異なる影響
を与えることが判った。これにより請求項1の構成によ
れば、このような1次回折光の集光位置における光強度
と−1次回折光の集光位置における光強度とが、回折格
子の位置ずれによっては異ならないようにすることがで
き、この光強度の相違によるトラッキングエラー信号の
オフセットの発生を十分に抑圧することができる。
According to the structure of claim 1, when applied to an optical pickup, the diffraction grating is formed by cyclically repeating at least first, second and third regions having different optical distances, The optical distances of the first, second, and third regions and the first and second repeating directions are set so that the phase difference between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light is approximately 0 degrees or 180 degrees. 2nd and 3rd
Since the width of the region is set, when the diffraction grating is displaced in the direction crossing the grating, the first-order diffracted light and -1
The 0th-order diffracted light similarly affects the condensing position of the 2nd-order diffracted light. That is, when the light intensity increases at the focus position of the first-order diffracted light, the light intensity can be increased at the focus position of the -1st-order diffracted light. It is possible to reduce the difference in the light intensity difference at the condensing position of the secondary diffracted light. On the other hand, in the conventional diffraction grating,
It was found that the 0th-order diffracted light had different effects on the 1st-order diffracted light and the -1st-order diffracted light when the diffraction grating was displaced in the direction crossing the grating. Thus, according to the configuration of claim 1, the light intensity at the condensing position of the first-order diffracted light and the light intensity at the condensing position of the -1st-order diffracted light do not differ depending on the displacement of the diffraction grating. Therefore, it is possible to sufficiently suppress the occurrence of the offset of the tracking error signal due to the difference in the light intensity.

【0015】これにより請求項6の構成によれば、回折
格子の位置ずれによるトラッキングエラー信号のオフセ
ットを十分に抑圧することができる光ディスク装置を提
供することができる。
Thus, according to the structure of claim 6, it is possible to provide an optical disk device capable of sufficiently suppressing the offset of the tracking error signal due to the displacement of the diffraction grating.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、適宜図面を参照しながら本
発明の実施の形態を詳述する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings as appropriate.

【0017】(1)第1の実施の形態 (1−1)第1の実施の形態の構成 図1は、本発明の第1の実施の形態に係る光ディスク装
置に適用される光ピックアップの回折格子を示す断面図
である。この実施の形態に係る光ディスク装置の光ピッ
クアップには、この回折格子14が適用される点を除い
て、図9の光ピックアップと同一に構成される。
(1) First Embodiment (1-1) Configuration of the First Embodiment FIG. 1 is a diffraction diagram of an optical pickup applied to an optical disk device according to the first embodiment of the present invention. It is sectional drawing which shows a grating. The optical pickup of the optical disk device according to this embodiment has the same configuration as the optical pickup of FIG. 9 except that the diffraction grating 14 is applied.

【0018】この回折格子14は、光学距離の異なる第
1の領域AR1、第2の領域AR21及びAR22、第
3の領域AR3が順次循環的に繰り返され、これら第1
〜第3の領域AR1〜AR3の光学距離、繰り返し方向
の幅W1、W21、W22、W3の設定により、この回
折格子14を透過するレーザービームにおいて、0次の
回折光と、前記±1次の回折光との位相差がほぼ0度又
は180度に設定されるようになされている。
In this diffraction grating 14, a first area AR1, second areas AR21 and AR22, and a third area AR3 having different optical distances are sequentially and cyclically repeated.
By setting the optical distances of the third regions AR1 to AR3 and the widths W1, W21, W22, and W3 in the repeating direction, in the laser beam transmitted through the diffraction grating 14, the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order The phase difference from the diffracted light is set to approximately 0 degree or 180 degrees.

【0019】具体的に、この実施の形態においては、回
折格子14は、透明板材であるガラス基板14A上に誘
電体層14Bの選択的な積層を繰り返すことにより、こ
れら第1〜第3の領域AR1〜AR3が形成される。回
折格子14は、この誘電体層14Bの屈折率が1.5に
設定され、これら第1〜第3の領域AR1〜AR3の繰
り返しピッチPが14.0〔μm〕に設定される。回折
格子14は、第1の領域AR1が、厚みT1=0.52
〔μm〕、幅W1=0.6〔μm〕により形成され、第
2の領域AR21及びAR22が、厚みT2=0.8
〔μm〕、幅W21、W22=0.7〔μm〕により形
成される。また第3の領域AR3が、何らガラス基板1
4A上に誘電体層14Bを積層しないようにして、幅1
2.1〔μm〕により形成される。
Specifically, in this embodiment, the diffraction grating 14 is formed by repeating the selective stacking of the dielectric layer 14B on the glass substrate 14A which is a transparent plate material, so that these first to third regions are formed. AR1 to AR3 are formed. In the diffraction grating 14, the refractive index of the dielectric layer 14B is set to 1.5, and the repeating pitch P of these first to third regions AR1 to AR3 is set to 14.0 [μm]. In the diffraction grating 14, the first region AR1 has a thickness T1 = 0.52.
[Μm] and width W1 = 0.6 [μm], and the second regions AR21 and AR22 have a thickness T2 = 0.8.
[Μm] and widths W21 and W22 = 0.7 [μm]. In addition, the third area AR3 is the glass substrate 1
The width of the dielectric layer 14B should be 1
It is formed by 2.1 [μm].

【0020】回折格子14は、始めにガラス基板に、膜
厚0.52〔μm〕により第1及び第2の領域が形成さ
れた後、さらにこの上層に選択的に誘電体が堆積され
て、第2の領域が形成されるようになされている。
The diffraction grating 14 is formed by first forming first and second regions with a film thickness of 0.52 [μm] on a glass substrate, and then further depositing a dielectric material on the upper layer, The second region is formed.

【0021】これにより回折格子14は、第2領域AR
21及びAR22が同一形状により、第1の領域AR1
の両側に形成され、これにより0次回折光を中心にして
−1次回折光側と+1次回折光側とで対称形状に同一の
周期構造が繰り返されるようになされている。
As a result, the diffraction grating 14 has the second area AR.
21 and AR22 have the same shape, the first area AR1
Are formed on both sides of the same, so that the same periodic structure is repeated symmetrically on the -1st order diffracted light side and the + 1st order diffracted light side with the 0th order diffracted light as the center.

【0022】また回折格子14は、これら第1〜第3の
領域AR1〜AR3の光学距離、繰り返し方向の幅W1
〜W3の設定により、0次の回折光の光強度が全ての回
折光の60〔%〕以上となるように設定され、また0次
の回折光の光強度に対して、±1次の回折光の光強度が
8〜15〔%〕となるように設定されるようになされて
いる。
The diffraction grating 14 has an optical distance of these first to third areas AR1 to AR3 and a width W1 in the repeating direction.
By setting W3 to W3, the light intensity of the 0th-order diffracted light is set to be 60% or more of all diffracted light, and the ± 1st-order diffraction is performed with respect to the light intensity of the 0th-order diffracted light. The light intensity of the light is set to 8 to 15%.

【0023】(1−2)第1の実施の形態の動作 以上の構成において、この実施の形態に係る光ピックア
ップにおいては、半導体レーザーより出射されたレーザ
ービームが回折格子14により0次、±1次の回折光に
変換され、この0次、±1次の回折光によるレーザービ
ームが光ディスクに照射され、またその結果得られる0
次、±1次の回折光による戻り光が受光素子により受光
されて、3スポット法によりトラッキングエラー信号が
生成される。
(1-2) Operation of the First Embodiment In the above configuration, in the optical pickup according to the present embodiment, the laser beam emitted from the semiconductor laser is 0th order, ± 1 by the diffraction grating 14. The laser beam is converted into the next diffracted light, and the laser beam by the 0th order and the ± 1st order diffracted light is applied to the optical disk, and the resulting 0 is obtained.
The returning light due to the diffracted light of the next ± 1st order is received by the light receiving element, and the tracking error signal is generated by the three-spot method.

【0024】このようにして0次、±1次の回折光を生
成する回折格子14においては、0次の回折光と、前記
±1次の回折光との位相差がほぼ0度又は180度とな
るように設定されていることにより、回折格子14が格
子を横切る方向に位置ずれした場合に、1次回折光の集
光位置と−1次回折光の集光位置とに対して、0次回折
光が同じように影響を与えることになる。すなわち1次
回折光の集光位置で光強度が増大した場合には、−1次
回折光の集光位置でも光強度が増大させることができ、
これにより回折格子の位置ずれによる1次回折光及び−
1次回折光の集光位置における光強度の相違を、従来に
比して格段的に小さくすることができる。これにより光
ディスク装置では、回折格子の位置ずれによるトラッキ
ングエラー信号のオフセットを十分に抑圧することがで
きる。
In the diffraction grating 14 for generating the 0th and ± 1st order diffracted light in this way, the phase difference between the 0th order diffracted light and the ± 1st order diffracted light is approximately 0 degree or 180 degrees. By setting so that when the diffraction grating 14 is displaced in the direction crossing the grating, the 0th-order diffracted light with respect to the focus position of the 1st-order diffracted light and the focus position of the -1st-order diffracted light Will have the same effect. That is, when the light intensity increases at the focus position of the first-order diffracted light, the light intensity can be increased at the focus position of the -1st-order diffracted light.
As a result, the first-order diffracted light due to the displacement of the diffraction grating and −
The difference in light intensity at the condensing position of the first-order diffracted light can be significantly reduced as compared with the conventional case. As a result, in the optical disc device, the offset of the tracking error signal due to the displacement of the diffraction grating can be sufficiently suppressed.

【0025】すなわち回折格子に入射するレーザービー
ムにおいては、ガウシアン分布により代表される一様な
強度分布をもっており、光ディスクの情報記録面に集光
される各n次の回折光においても、同様の強度分布によ
り情報記録面に集光されることになる。これにより各回
折光の集光位置における光強度においては、隣接、隣々
接する回折光の影響を受けることになる。
That is, the laser beam incident on the diffraction grating has a uniform intensity distribution represented by a Gaussian distribution, and the same intensity is obtained for each n-th order diffracted light focused on the information recording surface of the optical disc. Depending on the distribution, it will be focused on the information recording surface. As a result, the light intensity at the condensing position of each diffracted light is affected by the diffracted light adjacent to or adjacent to each other.

【0026】図10について上述した従来構成による回
折格子4においては、図11に示すように、偶数次の回
折光が十分に抑圧されていることにより、±1次回折光
の集光位置における光振幅は、それぞれ±1次回折光と
0次回折光の振幅を合成したもので近似することができ
る。
In the diffraction grating 4 having the conventional configuration described above with reference to FIG. 10, as shown in FIG. 11, since the even-order diffracted light is sufficiently suppressed, the light amplitude at the converging position of the ± first-order diffracted light is obtained. Can be approximated by combining the amplitudes of the ± 1st-order diffracted light and the 0th-order diffracted light, respectively.

【0027】従来構成による回折格子4においては、±
1次回折光と0次回折光の複素振幅による位相差が90
度であり、これにより回折格子4が格子方向に位置ずれ
した場合には、+1次回折光と−1次回折光とに0次回
折光が異なる影響を与える。これにより+1次回折光の
集光位置と−1次回折光の集光位置とで、光強度が相違
し、トラッキングエラー信号にオフセットが発生するこ
とが判った。
In the diffraction grating 4 having the conventional configuration, ±
The phase difference due to the complex amplitude of the 1st-order diffracted light and the 0th-order diffracted light is 90
When the diffraction grating 4 is displaced in the grating direction, the 0th-order diffracted light affects the + 1st-order diffracted light and the −1st-order diffracted light differently. As a result, it was found that the light intensity differs between the + 1st-order diffracted light focusing position and the -1st-order diffracted light focusing position, and an offset occurs in the tracking error signal.

【0028】ここで+1次回折光及び−1次回折光の集
光位置における光強度の差分値の絶対値を、これら光強
度の加算値により割り算し、この割り算して得られる値
を百分率により表して強度バランスを定義する。図2
は、±1次回折光と0次回折光との位相差を順次変化さ
せて、この強度バランスを計算した結果を示す特性曲線
図であり、従来構成による±1次回折光と0次回折光の
位相差が90度の場合にあっては、最大で0.59
〔%〕の強度バランスを生じることが判った。なおこの
シュミレーションでは、±1次回折光と0次回折光の振
幅は、絶対値が一定なものとして処理した。これによ
り、従来構成による回折格子は、格子を横切る方向への
位置ずれによる影響を最も受けやすい構造になってお
り、±1次回折光と0次回折光との位相差をほぼ0度又
は180度に設定すれば、強度バランスが最も小さくな
ることが判る。
Here, the absolute value of the difference value of the light intensities at the converging position of the + 1st order diffracted light and the −1st order diffracted light is divided by the added value of these light intensities, and the value obtained by this division is expressed as a percentage. Define strength balance. Figure 2
FIG. 4 is a characteristic curve diagram showing a result of calculating the intensity balance by sequentially changing the phase difference between the ± 1st-order diffracted light and the 0th-order diffracted light. In case of 90 degrees, the maximum is 0.59
It was found that a strength balance of [%] was produced. In this simulation, the absolute values of the amplitudes of the ± 1st-order diffracted light and the 0th-order diffracted light were set to be constant. As a result, the diffraction grating having the conventional configuration has a structure that is most easily affected by the positional shift in the direction crossing the grating, and the phase difference between the ± 1st-order diffracted light and the 0th-order diffracted light is almost 0 degree or 180 degrees. It can be seen that the strength balance becomes the smallest when set.

【0029】かくするにつき、実用上の観点から、好ま
しくは強度バランスを0.3以下、より好ましくは強度
バランスを0.15以下に設定して、十分にトラッキン
グエラー信号のオフセットを小さくすることができ、こ
の強度バランスを確保するために、±1次回折光と0次
回折光との位相差を0度±30度又は180度±30度
の範囲に設定して、回折格子の位置ずれによるトラッキ
ングエラー信号のオフセットを十分に小さくすることが
できる。
Therefore, from a practical viewpoint, the intensity balance is preferably set to 0.3 or less, more preferably 0.15 or less to sufficiently reduce the offset of the tracking error signal. In order to secure this intensity balance, the phase difference between the ± 1st-order diffracted light and the 0th-order diffracted light is set within the range of 0 ° ± 30 ° or 180 ° ± 30 °, and the tracking error due to the displacement of the diffraction grating is caused. The signal offset can be made sufficiently small.

【0030】図3は、この実施の形態に係る回折格子1
4について、位置ずれに対する強度バランスの変化を示
す特性曲線図である。この回折格子14の場合、±1次
回折光と0次回折光との複素振幅位相差は、169度で
あり、格子を横切る方向に回折格子14が位置ずれした
とき、強度バランスは、最大で0.14〔%〕に抑圧す
ることができ、これにより回折格子の位置ずれによるト
ラッキングのオフセットの発生を従来に比して格段的に
小さくすることができた。
FIG. 3 shows a diffraction grating 1 according to this embodiment.
FIG. 4 is a characteristic curve diagram showing a change in strength balance with respect to position deviation for No. 4; In the case of this diffraction grating 14, the complex amplitude phase difference between the ± 1st-order diffracted light and the 0th-order diffracted light is 169 degrees, and when the diffraction grating 14 is displaced in the direction traversing the grating, the intensity balance is at most 0. It can be suppressed to 14%, whereby the occurrence of tracking offset due to the displacement of the diffraction grating can be significantly reduced as compared with the conventional case.

【0031】また0次回折光強度の全体強度に対する割
合を、62.0〔%〕、0次回折の光強度に対する±1
次回折光の集光位置における光強度を、10.0〔%〕
に設定することができ、これにより従来構成による回折
格子とほぼ同一の実用的な光量分布を確保することがで
き、従来構成による回折格子をこの実施の形態に係る回
折格子に置き換えて、格段的にトラッキング制御の精度
を向上し、さらには生産性を向上することができる。
Further, the ratio of the 0th-order diffracted light intensity to the total intensity is 62.0%, ± 1 with respect to the 0th-order diffracted light intensity.
The light intensity at the condensing position of the next-order diffracted light is 10.0 [%]
Therefore, it is possible to secure a practical light amount distribution that is almost the same as that of the diffraction grating of the conventional configuration. By replacing the diffraction grating of the conventional configuration with the diffraction grating of this embodiment, In addition, the accuracy of tracking control can be improved, and the productivity can be improved.

【0032】なお、回折格子14においては、第2領域
AR21及びAR22が同一形状により、第1の領域A
R1の両側に形成されて、0次回折光を中心にして−1
次回折光側と+1次回折光側とで対称形状に同一の周期
構造が繰り返されていることにより、このような光学距
離の異なる3種類の領域の周期構造により0次、±1次
の回折光を作成するようにして、±1次の回折光におけ
る特性の相違を小さくすることができる。
In the diffraction grating 14, the second regions AR21 and AR22 have the same shape, so that the first region A
Formed on both sides of R1, centering on the 0th-order diffracted light and -1
Since the same periodic structure is repeated symmetrically on the 2nd-order diffracted light side and the + 1st-order diffracted light side, the 0th-order and ± 1st-order diffracted lights are generated by the periodic structure of three types of regions having different optical distances. The difference in the characteristics of the ± 1st-order diffracted light can be reduced by making it.

【0033】(1−3)第1の実施の形態の効果 以上の構成によれば、光学距離の異なる3つの領域AR
1、AR21及びAR22、AR3の繰り返しにより回
折格子14を構成し、0次の回折光と、±1次の回折光
との位相差がほぼ0度又は180度となるように、これ
ら3つの領域AR1、AR21及びAR22、AR3に
おける光学距離、幅を設定することにより、回折格子の
位置ずれによるトラッキングエラー信号のオフセットを
十分に抑圧することができる。
(1-3) Effects of the First Embodiment According to the above configuration, three areas AR having different optical distances are provided.
The diffraction grating 14 is formed by repeating 1, AR21, AR22, AR3, and these three regions are arranged so that the phase difference between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light is approximately 0 degrees or 180 degrees. By setting the optical distances and widths of AR1, AR21, AR22, and AR3, it is possible to sufficiently suppress the offset of the tracking error signal due to the displacement of the diffraction grating.

【0034】また0次の回折光の光強度に対して、±1
次の回折光の光強度が、8〜15〔%〕に設定され、さ
らには0次の回折光の光強度が、全ての回折光の60
〔%〕以上に設定されていることにより、従来構成によ
る回折格子と互換性を維持しつつ、回折格子の位置ずれ
によるトラッキングエラー信号のオフセットを十分に抑
圧することができる。
Further, with respect to the light intensity of the 0th-order diffracted light, ± 1
The light intensity of the next diffracted light is set to 8 to 15%, and the light intensity of the 0th diffracted light is 60% of all diffracted light.
By setting the ratio to be equal to or more than [%], it is possible to sufficiently suppress the offset of the tracking error signal due to the displacement of the diffraction grating while maintaining the compatibility with the diffraction grating having the conventional configuration.

【0035】(2)第2の実施の形態 図4は、本発明の第2の実施の形態に係る光ディスク装
置に適用される回折格子を示す断面図である。この回折
格子24は、図1について上述した回折格子14に代え
て適用される。この図4に示す構成において、回折格子
14と同一の構成は、対応する符号を付して示し、重複
した説明は省略する。
(2) Second Embodiment FIG. 4 is a sectional view showing a diffraction grating applied to an optical disk device according to the second embodiment of the present invention. This diffraction grating 24 is applied in place of the diffraction grating 14 described above with reference to FIG. In the configuration shown in FIG. 4, the same components as those of the diffraction grating 14 are designated by the corresponding reference numerals, and duplicate description will be omitted.

【0036】この回折格子24は、回折格子14と同様
に、光学距離の異なる第1〜第3の領域AR1、AR2
1及びAR22、AR3が、順次循環的に繰り返されて
形成され、0次の回折光と、±1次の回折光との位相差
がほぼ0度又は180度となるように、これら第1〜第
3の領域AR1、AR21及びAR22、AR3の光学
距離、繰り返し方向の幅W1、W21及びW22、W3
が設定されるようになされている。
Similar to the diffraction grating 14, the diffraction grating 24 has first to third areas AR1 and AR2 having different optical distances.
1 and AR22 and AR3 are sequentially and cyclically formed to form a phase difference between the 0th order diffracted light and the ± 1st order diffracted light of approximately 0 degree or 180 degrees. Optical distances of third regions AR1, AR21 and AR22, AR3, widths W1, W21 and W22, W3 in the repeating direction
Is set.

【0037】またこれら第1〜第3の領域AR1〜AR
3の光学距離、繰り返し方向の幅W1〜W3の設定によ
り、0次の回折光の光強度が全ての回折光の60〔%〕
以上となるように設定され、また0次の回折光の光強度
に対して、±1次の回折光の光強度が8〜15〔%〕と
なるように設定されるようになされている。
Further, these first to third areas AR1 to AR
By setting the optical distance of 3 and the widths W1 to W3 in the repeating direction, the light intensity of the 0th-order diffracted light is 60% of all diffracted light.
The light intensity of the ± 1st-order diffracted light is set to 8 to 15% with respect to the light intensity of the 0th-order diffracted light.

【0038】具体的に、回折格子24は、第1の実施の
形態に係る回折格子14と同様に、ガラス基板14Aに
対して、誘電体層の選択的な堆積を繰り返して形成さ
れ、この実施の形態では、屈折率1.5の誘電体層が適
用され、繰り返しピッチPが14.0〔μm〕に設定さ
れるようになされている。また第1の領域AR1が膜厚
T1=1.4〔μm〕、幅W1=11.3〔μm〕によ
り形成され、第2の領域AR21及びAR22が、第1
の領域AR1の両側に、それぞれ膜厚T2=0.68
〔μm〕、幅W21=W22=0.85〔μm〕により
形成されるようになされている。また第3の領域AR3
が、ガラス基板14Aに何ら誘電体層を形成しないよう
にして作成されるようになされている。
Specifically, the diffraction grating 24 is formed by repeating selective deposition of the dielectric layer on the glass substrate 14A, similarly to the diffraction grating 14 according to the first embodiment. In the above form, a dielectric layer having a refractive index of 1.5 is applied, and the repeating pitch P is set to 14.0 [μm]. The first region AR1 is formed with a film thickness T1 = 1.4 [μm] and a width W1 = 11.3 [μm], and the second regions AR21 and AR22 are
On both sides of the region AR1 of T2 = 0.68
[Μm] and width W21 = W22 = 0.85 [μm]. Also, the third area AR3
However, it is designed such that no dielectric layer is formed on the glass substrate 14A.

【0039】図5は、この回折格子24による特性を示
す特性曲線図であり、この回折格子24では、0次回折
光と±1次回折光との複素振幅位相差が11度となり、
回折格子24が格子を横切るようにシフトして、強度バ
ランスが最大で0.066〔%〕に変化した。また全体
強度に対して0次回折光強度を60.1〔%〕に設定す
ることができ、0次回折光強度に対して±1次回折光位
置の強度を9.0〔%〕に設定することができた。
FIG. 5 is a characteristic curve diagram showing the characteristic of the diffraction grating 24. In the diffraction grating 24, the complex amplitude phase difference between the 0th order diffracted light and the ± 1st order diffracted light is 11 degrees,
The diffraction grating 24 was shifted so as to cross the grating, and the intensity balance changed to 0.066 [%] at the maximum. Further, the 0th-order diffracted light intensity can be set to 60.1 [%] with respect to the overall intensity, and the ± 1st-order diffracted light position intensity can be set to 9.0 [%] with respect to the 0th-order diffracted light intensity. did it.

【0040】図4に示す構成によっても、第1の実施の
形態と同様の効果を得ることができる。
With the configuration shown in FIG. 4, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0041】(3)第3の実施の形態 図6は、本発明の第3の実施の形態に係る光ディスク装
置に適用される回折格子を示す断面図である。この回折
格子34は、図1について上述した回折格子14に代え
て適用される。この図6に示す構成において、回折格子
14と同一の構成は、対応する符号を付して示し、重複
した説明は省略する。
(3) Third Embodiment FIG. 6 is a sectional view showing a diffraction grating applied to an optical disk device according to a third embodiment of the present invention. This diffraction grating 34 is applied in place of the diffraction grating 14 described above with reference to FIG. In the configuration shown in FIG. 6, the same components as those of the diffraction grating 14 are designated by the corresponding reference numerals, and the duplicated description will be omitted.

【0042】この回折格子34は、回折格子14と同様
に、光学距離の異なる第1〜第3の領域AR1、AR2
1及びAR22、AR31及び32が、順次循環的に繰
り返されて形成され、0次の回折光と、±1次の回折光
との位相差がほぼ0度又は180度となるように、これ
ら第1〜第3の領域AR1、AR21及びAR22、A
R31及びAR32の光学距離、繰り返し方向の幅W
1、W21及びW22、W31及びW32が設定される
ようになされている。
Similar to the diffraction grating 14, the diffraction grating 34 has first to third areas AR1 and AR2 having different optical distances.
1 and AR22, AR31 and 32 are sequentially and cyclically formed, and the phase difference between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light is approximately 0 degree or 180 degrees. 1st-3rd area | region AR1, AR21 and AR22, A
Optical distance of R31 and AR32, width W in repeating direction
1, W21 and W22, W31 and W32 are set.

【0043】またこの回折格子34では、屈折率1.5
の誘電体層により第1の領域AR1が、膜厚T1=0.
8〔μm〕、幅W1=1.8〔μm〕により形成され、
何ら誘電体層を作成していない第3の領域AR31及び
AR32が、この第1の領域AR1の両側に幅W31=
W32=5.2〔μm〕により形成され、さらにこの第
3の領域AR31及びAR32の外側に、それぞれ第2
の領域AR21及びAR22が、膜厚T2=1.52
〔μm〕、幅W21=W22=0.9〔μm〕により形
成されるようになされている。なおこれら領域の繰り返
しピッチPにおいては、14〔μm〕である。
The diffraction grating 34 has a refractive index of 1.5.
Of the dielectric layer, the first region AR1 has a film thickness T1 = 0.
8 [μm] and width W1 = 1.8 [μm],
The third regions AR31 and AR32 in which no dielectric layer is formed have the width W31 = on both sides of the first region AR1.
W32 = 5.2 [μm], and the second regions are formed outside the third regions AR31 and AR32, respectively.
Regions AR21 and AR22 have a film thickness T2 = 1.52.
[Μm] and width W21 = W22 = 0.9 [μm]. The repeating pitch P of these regions is 14 [μm].

【0044】またこれらにより回折格子34は、0次の
回折光の光強度が全ての回折光の60〔%〕以上となる
ように設定され、また0次の回折光の光強度に対して、
±1次の回折光の光強度が8〜15〔%〕となるように
設定されるようになされている。
With these, the diffraction grating 34 is set such that the light intensity of the 0th-order diffracted light is 60% or more of all the diffracted light, and the light intensity of the 0th-order diffracted light is
The light intensity of the ± 1st order diffracted light is set to 8 to 15%.

【0045】図7は、この回折格子34による特性を示
す特性曲線図であり、この回折格子34では、0次回折
光と±1次回折光との複素振幅位相差が173度とな
り、回折格子34が格子を横切るようにシフトして、強
度バランスが最大で0.033〔%〕に変化した。また
全体強度に対して0次回折光強度を60.0〔%〕に設
定することができ、0次回折光強度に対して±1次回折
光位置の強度を14.2〔%〕に設定することができ
た。
FIG. 7 is a characteristic curve diagram showing the characteristic of the diffraction grating 34. In this diffraction grating 34, the complex amplitude phase difference between the 0th order diffracted light and the ± 1st order diffracted light becomes 173 degrees, and the diffraction grating 34 becomes The intensity balance was changed to 0.033 [%] at the maximum by shifting across the lattice. Further, the 0th-order diffracted light intensity can be set to 60.0 [%] with respect to the overall intensity, and the ± 1st-order diffracted light position intensity can be set to 14.2 [%] with respect to the 0th-order diffracted light intensity. did it.

【0046】図6に示す構成によっても、第1の実施の
形態と同様の効果を得ることができる。
With the configuration shown in FIG. 6, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0047】(4)他の実施の形態 なお上述の実施の形態においては、誘電体層の膜厚の制
御により光路距離の異なる第1〜第3の領域を作成する
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、図8に
示すように、屈折率n1、n2の異なる誘電体膜を堆積
させて光路距離の異なる領域を作成するようにしてもよ
い。
(4) Other Embodiments In the above embodiment, the case where the first to third regions having different optical path distances are formed by controlling the film thickness of the dielectric layer has been described. The invention is not limited to this, and as shown in FIG. 8, dielectric films having different refractive indices n1 and n2 may be deposited to form regions having different optical path distances.

【0048】また上述の実施の形態においては、光路距
離の異なる第1〜第3の領域により回折格子を作成する
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、4種類
以上の領域により回折格子を作成するようにしてもよ
い。
In the above embodiment, the case where the diffraction grating is formed by the first to third regions having different optical path distances has been described, but the present invention is not limited to this, and the diffraction grating is formed by four or more regions. A grid may be created.

【0049】また上述の実施の形態においては、ガラス
基板上に誘電体を堆積させて回折格子を作成する場合に
ついて述べたが、本発明はこれに限らず、ガラス基板に
代えて種々の透明基板を広く適用することができる。
Further, in the above-mentioned embodiments, the case where the dielectric is deposited on the glass substrate to form the diffraction grating has been described, but the present invention is not limited to this, and various transparent substrates are used instead of the glass substrate. Can be widely applied.

【0050】[0050]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、光学距離
の異なる少なくとも3つの領域の繰り返しにより回折格
子を構成し、0次の回折光と、±1次の回折光との位相
差がほぼ0度又は180度となるように、これら3つの
領域における光学距離、幅を設定することにより、回折
格子の位置ずれによるトラッキングエラー信号のオフセ
ットを十分に抑圧することができる。
As described above, according to the present invention, the diffraction grating is constructed by repeating at least three regions having different optical distances, and the phase difference between the 0th order diffracted light and the ± 1st order diffracted light is By setting the optical distances and widths in these three regions so as to be approximately 0 degrees or 180 degrees, it is possible to sufficiently suppress the offset of the tracking error signal due to the displacement of the diffraction grating.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る光ディスク装
置の光ピックアップに適用される回折格子を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing a diffraction grating applied to an optical pickup of an optical disc device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の回折格子の動作の説明に供する特性曲線
図である。
FIG. 2 is a characteristic curve diagram for explaining the operation of the diffraction grating of FIG.

【図3】図1の回折格子の特性を示す特性曲線図であ
る。
FIG. 3 is a characteristic curve diagram showing characteristics of the diffraction grating of FIG.

【図4】本発明の第2の実施の形態に係る光ディスク装
置の光ピックアップに適用される回折格子を示す断面図
である。
FIG. 4 is a sectional view showing a diffraction grating applied to an optical pickup of an optical disc device according to a second embodiment of the invention.

【図5】図4の回折格子の特性を示す特性曲線図であ
る。
5 is a characteristic curve diagram showing characteristics of the diffraction grating of FIG.

【図6】本発明の第3の実施の形態に係る光ディスク装
置の光ピックアップに適用される回折格子を示す断面図
である。
FIG. 6 is a sectional view showing a diffraction grating applied to an optical pickup of an optical disc device according to a third embodiment of the invention.

【図7】図6の回折格子の特性を示す特性曲線図であ
る。
7 is a characteristic curve diagram showing characteristics of the diffraction grating of FIG.

【図8】他の実施の形態に係る光ディスク装置の光ピッ
クアップに適用される回折格子を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a diffraction grating applied to an optical pickup of an optical disc device according to another embodiment.

【図9】光ピックアップを示す側面図である。FIG. 9 is a side view showing an optical pickup.

【図10】従来の光ピックアップに適用される回折格子
を示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a diffraction grating applied to a conventional optical pickup.

【図11】従来の回折格子の特性を示す特性曲線図であ
る。
FIG. 11 is a characteristic curve diagram showing characteristics of a conventional diffraction grating.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……光ピックアップ、4、14、24、34……回折
格子、4A、14……ガラス基板、4B、14B……誘
電体層
1 ... Optical pickup, 4, 14, 24, 34 ... Diffraction grating, 4A, 14 ... Glass substrate, 4B, 14B ... Dielectric layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D118 AA07 AA18 BA01 CD03 CF16 CG24 CG33 CG44 5D119 AA29 AA39 BA01 EA02 EB14 EC41 JA22 5D789 AA29 AA39 BA01 EA02 EB14 EC41 JA22    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 5D118 AA07 AA18 BA01 CD03 CF16                       CG24 CG33 CG44                 5D119 AA29 AA39 BA01 EA02 EB14                       EC41 JA22                 5D789 AA29 AA39 BA01 EA02 EB14                       EC41 JA22

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】レーザー光源より出射されるレーザービー
ムを回折格子に入射し、少なくとも0次、±1次の回折
光を生成し、前記0次、±1次の回折光による前記レー
ザービームを光ディスクに照射して前記光ディスクをア
クセスする光ピックアップにおいて、 前記回折格子は、 少なくとも光学距離の異なる第1、第2、第3の領域
が、順次循環的に繰り返され、 前記0次の回折光と、前記±1次の回折光との位相差が
ほぼ0度又は180度となるように、前記第1、第2、
第3の領域の前記光学距離、前記繰り返し方向の前記第
1、第2、第3の領域の幅が設定されたことを特徴とす
る光ピックアップ。
1. A laser beam emitted from a laser light source is incident on a diffraction grating to generate at least 0th order and ± 1st order diffracted light, and the laser beam by the 0th order and ± 1st order diffracted light is recorded on an optical disk. In the optical pickup for irradiating the optical disc to access the optical disc, the diffraction grating is such that at least first, second, and third regions having different optical distances are sequentially and cyclically repeated, and the 0th-order diffracted light, The first, second, and so on, so that the phase difference with the ± 1st-order diffracted light is approximately 0 degrees or 180 degrees.
An optical pickup, wherein the optical distance of a third region and the widths of the first, second and third regions in the repeating direction are set.
【請求項2】前記0次の回折光と、前記±1次の回折光
との位相差が、0度±30度又は180度±30度の範
囲であることを特徴とする請求項1に記載の光ピックア
ップ。
2. The phase difference between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light is in the range of 0 ° ± 30 ° or 180 ° ± 30 °. The optical pickup described.
【請求項3】前記0次の回折光の光強度に対して、前記
±1次の回折光の光強度が、8〜15〔%〕であること
を特徴とする請求項1に記載の光ピックアップ。
3. The light according to claim 1, wherein the light intensity of the ± 1st order diffracted light is 8 to 15% with respect to the light intensity of the 0th order diffracted light. pick up.
【請求項4】前記0次の回折光の光強度が、全ての回折
光の光強度の60〔%〕以上であることを特徴とする請
求項1に記載の光ピックアップ。
4. The optical pickup according to claim 1, wherein the light intensity of the 0th-order diffracted light is 60% or more of the light intensity of all diffracted light.
【請求項5】前記回折格子は、 透明基板上に、誘電体を選択的に積層して形成され、前
記第1の領域が、前記透明基板上に何ら前記誘電体を積
層しない領域であり、 前記第2及び第3の領域が、異なる厚みにより、前記透
明基板上に前記誘電体を積層した領域であることを特徴
とする請求項1に記載の光ピックアップ。
5. The diffraction grating is formed by selectively laminating a dielectric on a transparent substrate, and the first region is a region where no dielectric is laminated on the transparent substrate. The optical pickup according to claim 1, wherein the second and third regions are regions in which the dielectric is laminated on the transparent substrate with different thicknesses.
【請求項6】光ピックアップより出射されるレーザービ
ームを光ディスクに照射して前記光ディスクをアクセス
する光ディスク装置において、 前記光ピックアップは、 レーザー光源より出射される前記レーザービームを回折
格子に入射し、少なくとも0次、±1次の回折光を生成
し、前記0次、±1次の回折光による前記レーザービー
ムを出射し、 前記回折格子は、 少なくとも光学距離の異なる第1、第2、第3の領域
が、順次循環的に繰り返され、 前記0次の回折光と、前記±1次の回折光との位相差が
ほぼ0度又は180度となるように、前記第1、第2、
第3の領域の前記光学距離、前記繰り返し方向の前記第
1、第2、第3の領域の幅が設定されたことを特徴とす
る光ディスク装置。
6. An optical disk device for irradiating an optical disk with a laser beam emitted from an optical pickup to access the optical disk, wherein the optical pickup makes the laser beam emitted from a laser light source incident on a diffraction grating, and at least 0th order, ± 1st order diffracted light is generated, and the laser beam is emitted by the 0th order ± 1st order diffracted light, and the diffraction grating includes at least first, second, and third optical distances different from each other. Regions are sequentially and cyclically repeated so that the phase difference between the 0th-order diffracted light and the ± 1st-order diffracted light is approximately 0 degree or 180 degrees.
An optical disk device, wherein the optical distance of a third area and the widths of the first, second and third areas in the repeating direction are set.
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