JP2003075616A - 超軽量で超剛性の全セラミック反射鏡とその製造方法並びにその使用 - Google Patents

超軽量で超剛性の全セラミック反射鏡とその製造方法並びにその使用

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マティアス・クローデル
Fred Ziegler
フレッド・ツィーグラー
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学機器の要素として宇宙航空工学で使用す
ることのできる、超軽量で超剛性の全セラミック反射鏡
並びにその製造方法を提供する。 【解決手段】 セラミック材料（２）を、反射鏡輪郭に
従って予備変形したセラミック前面プレート（１）の第
１表面（４）上に装着し、該前面プレート（１）と一体
に結合させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】新しくより大きい、高複合体
で高性能の反射鏡への要求が絶えず高まっていることか
ら、この反射鏡をさらに軽く、強く、高性能にすること
が必要である。そのための可能性は、そのような反射鏡
をセラミック材料から製造することである。
【０００２】
【従来の技術】これまでセラミック反射鏡は、特にガラ
スまたはガラスセラミックス、焼結した炭化ケイ素また
はＣ／ＳｉＣから製造されてきた。これらの場合には、
反射鏡は厚いプレートから製造され、その際三角形また
は六角形等の構造にフライス盤で削り取られ、これらの
反射鏡はその要求に応じてできるだけ小さい面重量で製
造された。特にガラスの場合には、この加工は非常に労
力がかかり、それによって非常に高いコストにもつなが
るので、前述の構造は高価な特殊な工具を用いて非常に
ゆっくり労力をかけることによってのみ製造することが
できる。
【０００３】焼結したＳｉＣとＣ／ＳｉＣの場合には、
これまでに周知の方法で、所謂生状態、則ち比較的柔ら
かい状態で構造を加工するので、この加工は大変容易で
安価である。しかしながら焼結したＳｉＣの場合には、
焼結過程で少なからぬ縮みが生じ、これは正確に一定な
ままではなく、それによってセラミック状態でＣ／Ｓｉ
Ｃの場合より明らかに大きい後加工をすることになる。
ＳｉＣセラミックスはガラスに対して１００倍までの良
好な熱伝導度と明らかに高い固有剛度を示す。このため
これらの材料は高剛性反射鏡用に打ってつけである。
【０００４】ＤＥ４２０７００９Ｃ２とＤＥ４３２９５
５１Ａ１から、Ｃ／ＳｉＣ反射鏡が多孔性炭素担持体か
ら製造されることが周知であり、その際該反射鏡は機械
加工、特にフライス切削によって必要とされる最終形態
に加工される。
【０００５】この方法は比較的労力がかかるだけではな
く、１５Ｋｇ／ｍ2より明らかに小さいか、それどころ
か１０Ｋｇ／ｍ2より小さい極端に小さい面重量を有す
る必要がある反射鏡の場合には、この構造が機械加工の
際損傷され、このことが材料特性の明らかな劣化を招く
か、そのような面重量は結局は製造できないという危険
をもたらす。その際面重量は面積当たりの重量として定
義され、反射鏡の場合には、反射鏡の厚みとその面積が
互いに決められた割合にある。そのようにして例えば通
常λ／１０の反射鏡輪郭の精度では、反射鏡の直径の１
０分の１より大きい反射鏡の厚みが選択される。
【０００６】同様にＤＥ４２０７００９Ｃ２から、セラ
ミック・ハニカム構造が炭素繊維布地プリプレグから成
る厚い上層と結合され得、そのようにして軽量構造が達
せられることが周知である。しかしながらこの技術は正
に熱循環において、ハニカム布地と上層の材料が熱−機
械特性で適合せず、このことが剥離および／または亀裂
を招き、さらに上層の熱伝導度が非常に小さいという決
定的な短所を示す。
【０００７】軽い反射鏡を製造するためのその他の可能
性は、ＵＳ６、２０６、５３１に記載される。そこでは
泡製の核構造の使用が提案され、その際引き続き全反射
鏡を製造するために、比較的労力を要する層構造を製造
しなければならない。そのようにして製造された反射鏡
の場合にもさらに、ＤＥ４２０７００９の場合のよう
に、異なる膨脹性能をもとにして層が互いに剥がれるこ
とにもなり得る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、特
に、宇宙航空工学での光学機器の要素として使用するた
めに、欠陥が起こり難く、軽量で剛性の反射鏡並びにそ
の改良された製造方法を提供することである。この課題
は請求項１と７の特徴により解決される。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、一方では小さ
い面重量をもつセラミック材料を含む反射鏡を包括す
る。このセラミック材料は、所望の反射鏡輪郭に従って
予備形成したセラミック前面プレートの第１表面上に装
着される。それによって容易に反射鏡の決められた輪郭
が達せられる。さらにこのセラミック材料が前面プレー
トと一体に結合され、前面プレートとセラミック材料は
十分に等しい熱的性質をもつようになっている。それに
よって、例えばＵＳ６、２０６、５３１の場合に現れ得
るような、反射鏡構造の異なる層が剥離し得るという欠
陥の原因が避けられる。特に軽量で、それにもかかわら
ず剛性の構造を得るために、本発明によればセラミック
材料用のＣ／ＳｉＣフォームが設けられる。このフォー
ムも前面プレートもＣ／ＳｉＣから成り、その上これら
は一体に結合されるので異なる熱的性質をもつ異なる材
料層は存在しない。則ち異なる材料層が互いに剥がれる
危険や異なる膨脹性能を基にした亀裂が形成される危険
が存在しない。
【００１０】さらに前面プレートの第１表面上にＣ／Ｓ
ｉＣから成る隆起および／または窪みを備えることが可
能である。これはセラミック材料との結合により前面プ
レートとセラミック材料との間の改良された結合を作り
出すために用いられるか、または例えばリブまたは管の
形で熱的性質の改良に、例えば気体状か液状の冷却媒体
の通路の形成に寄与できる。セラミック材料が多孔性材
料、則ちフォームとして形成され、それによってある透
過性を示すので、この材料自身がその透過性に応じて温
度調節媒体用の通路として使用され得る。それ故セラミ
ック材料と温度調節媒体間の熱交換が存在することが考
慮される。そのようにしてリブまたは溝構造を備えるか
または備えないセラミックフォームは、反射鏡の統合的
な熱交換器として、例えばミラー表面から冷却媒体（気
体または液体）に熱を伝えるために使用される。その逆
に反射鏡構造の温度調節媒体による加熱も考慮される。
【００１１】さらに剛性が十分に一定のままで反射鏡構
造の重量を減らすために、セラミック材料、則ちＣ／Ｓ
ｉＣフォーム上にＣ／ＳｉＣバックプレートを装着する
ようにすることができる。すると全構造は、それに応じ
てより薄く作ることができる。他方また構造の異なる層
の故に考えられ得る欠陥の原因を取り除くために、Ｃ／
ＳｉＣバックプレートをＣ／ＳｉＣフォームと一体に結
合するようになっている。基本的にバックプレートに
は、前面プレートと同様に各々必要に応じて隆起および
／または窪みを備えることができる。
【００１２】本発明において、セラミック材料を多孔性
Ｃ／ＳｉＣフォームとした場合に意図したように、反射
鏡構造を均等に支えることにより、従来の技術に比べ
て、好ましくないキルティング作用（刺し子縫い作用）
が無く、則ち反射鏡構造に局所的に膨らみができること
なくミラー表面を研削および研磨することが可能とな
る。そのような作用は、例えばＤＥ４２０７００９で記
載されるように、ハニカム構造かまたは類似の補強リブ
を有するセラミック材料を含む構造を研削または研磨す
る場合に現れる。それから研削または研磨の際補強リブ
上の材料開削は、この領域の構造の剛性が比較的高いこ
とから、補強リブ間の領域上より大きくなる。なぜなら
構造はこの残りの領域では、材料に大抵与えられている
一定の撓み性に基づいて撓みやすいからである。従って
この材料はこの残りの領域では研磨圧のもとで下方に反
れる。研磨圧の除去後にこの残りの領域に隆起部が生じ
る。Ｃ／ＳｉＣフォームを使用する場合には正にこれが
避けられる。
【００１３】さらに研削および研磨可能な表面被覆をＣ
／ＳｉＣ前面プレート上に装着し、この表面被覆をＣ／
ＳｉＣ前面プレートと一体に結合するようにすることが
できる。それにより一方では反射鏡表面を直接研削する
ことができ、特に出来るだけ小さな散光レベルに達する
ために必要な粗さに研磨することができる。他方またこ
の一体化結合は、起こり得る欠陥の原因を阻止する。反
射鏡の全ての重要な成分を一体に結合することによっ
て、研磨したミラー面を含む全反射鏡が一体化材料から
成ることが達せられる。それ故従来の技術に対して、欠
陥の原因として作用し得る異なる材料特性をもつ異なる
層が存在しない。
【００１４】本発明は、さらに反射鏡の製造方法を包含
し、その際小さい面重量を有するセラミック材料が、反
射鏡輪郭に従って予備変形したセラミック前面プレート
の第１表面上に装着され、およびその際続いてこのセラ
ミック材料が前面プレートと一体に結合される。本発明
によれば、まず第１に重合フォーム構造が、ケイ素を含
むセラミック出発物質から成る懸濁液で覆われるように
する。このポリマー構造は、例えば懸濁液中に浸すこと
によってか、または多孔性ポリマー構造を使用する際の
毛管作用を利用して懸濁液で覆うことができる。続いて
そのようにして処理されたフォーム構造を、フォーム構
造を有するセラミック中間物を作るために空気遮断下で
熱分解する。熱分解によりポリマー構造は破壊され、熱
分解前のポリマー構造の構造を十分にもつセラミック中
間物が残る。熱分解後にセラミック中間物を炭素／炭素
前面プレート上に装着し、続いてＣ／ＳｉＣフォームと
Ｃ／ＳｉＣ前面プレートから成る一体のＣ／ＳｉＣ構造
を製造するために、１３５０℃以上の温度でケイ素を含
む材料の注入が行われる。それによって反射鏡の個々の
成分を一体にした結合が達せられ、その際最終的なセラ
ミック材料が生じる。ここで表すようにセラミック材料
乃至セラミック中間物、前面プレート、バックプレート
に関して材料を適当に選択することで、この一体結合の
実現に寄与することができる。そのような方法の長所
は、それを用いて製造可能な反射鏡の構成に基づいてす
でに説明した。
【００１５】さらに、前面プレートの第１表面上にフォ
ームを装着する前に、前面プレートの材料と同じ材料か
ら成る隆起および／または窪みを作るようにすることが
できる。そのような隆起および／または窪みに対する利
用の可能性は、同じくすでに説明した。その他にさらに
強化するためにフォーム上に炭素／炭素バックプレート
を装着することができ、その際この炭素／炭素バックプ
レートは、ケイ素を含む物質の注入によりフォームと一
体に結合される。さらに研削および研磨可能な表面被覆
をＣ／ＳｉＣ前面プレート上に装着することができ、お
よびこの表面被覆はＣ／ＳｉＣ前面プレートと一体に結
合される。これらの考えられ得る措置の長所は、同じく
本発明の反射鏡の構成に基づいてすでに説明した。
【００１６】さらに本発明の特殊な発展形態として、ポ
リマー構造を、ＳｉＣ、ケイ素および炭素を有機溶液混
合物中に懸濁させた特殊な懸濁液で覆うようにすること
ができる。
【００１７】製造方法に関して、特にセラミック中間物
を熱分解の後に接着剤を用いて前面プレートおよび／ま
たはバックプレートと結合するようにすることができ
る。この接着剤は、好ましくは炭化ケイ素および／また
は炭素および／またはケイ素を含む。続いて前述のケイ
素を含む物質の注入が１３５０℃以上の温度で行われ
る。その際、接着剤を適当に選択すると、前述の一体結
合の実現に寄与する。
【００１８】本発明の個別の実施例を、以下に図１と２
に基づいて説明する。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の方法では、セラミックフ
ォーム２を、少なくともセラミック前面プレート１と結
合するか、フォーム構造２を製造する際にこの前面プレ
ート１を直接各フォーム構造２に統合する。
【００２０】セラミックフォーム製造のための出発物質
としては、多孔性ポリマー構造、好ましくはフォーム骨
格の形のポリウレタンかまたは、例えばポリアミド顆粒
のようなその他の焼結剤を使用する。この出発物質を、
ただ１つのプロセス工程かまたは複数の浸漬工程でセラ
ミック出発物質の懸濁液中に浸すか、あるいはそのよう
な懸濁液を、例えば毛管作用を利用してポリマー構造中
に吸収させる。続いて１００〜１６０℃の温度でこの構
造を乾燥する。
【００２１】この方法では懸濁液の成分が、さらに装着
されるセラミック前面プレート１の物質を含むかまたは
これと同じ物質から成ることが重要である。この目的の
ために、微粒ＳｉＣ、Ｓｉおよび炭素を有機溶液混合物
中に懸濁させたスラッジから成る懸濁液を使用する。そ
のような懸濁液は、特に以下の単独工程により製造する
ことができる。
【００２２】結合剤添加のもとで炭化ケイ素粉末を混合
する。粘度は、溶媒を添加することによって水の粘度に
調整する。好ましくは溶媒としては有機溶媒、例えばイ
ソプロピルアルコール、酢酸ブチル、ブタンジオールお
よびポリエチレングリコールから成る混合物を、結合剤
としてはフェノール樹脂またはノボラックを使用する。
この混合物を絶えず撹拌しながら分散させる。均質化時
間後に炭素を、好ましくは微粒黒鉛および／またはカー
ボンブラックおよび／または炭素繊維の形で添加する。
ここで全系を市販のホモジナイザ内で分散させる。一番
最後に特定の利用の場合にはさらにケイ素を添加し、特
に統合した構造の場合液体注入に続く熱工程の際フォー
ム構造のセラミックス化が完全に行われることを確かめ
る。
【００２３】フォーム構造の硬化後にポリマー構造を、
９００〜１２００℃、理想的には約１０００℃の熱工程
で、空気を遮断して好ましくは窒素下で、または真空で
熱分解する。スラッジは、室温では硬いが、５０℃以上
の温度ではある可変性を示すセラミック中間物に移行す
る。
【００２４】熱分解後にすでにフォーム構造を有するこ
のセラミック中間物を、炭素／炭素物質から成る前面プ
レート１および／またはバックプレート３と硬く結合さ
せる。その際前面プレート１は理想的には、すでに少な
くとも十分に後の反射鏡の所望の表面輪郭を有する。バ
ックプレート３は任意選択であり、構造をさらに補強す
るために備えることができる。同じく基本的には、追加
のサイド・プレートを備えることも可能である。プレー
ト１、３のセラミック中間物との結合は、結合剤と少な
くとも炭化ケイ素から、好ましくはさらに炭素から成る
接着剤を用いて行われる。この接着剤はこのことから、
フォーム構造と少なくとも十分に等しい物質を含む。そ
れによって接着剤と中間物乃至フォーム構造の異なる挙
動が、次に記載する熱工程の際現れないことが保証され
る。そうでなければ亀裂形成または収縮のような好まし
くない現象を招くことになる。
【００２５】構造上の、および／または熱的理由からリ
ブ乃至溝構造７を前面プレート１および／またはバック
プレート３の裏側に備えることも可能であり、この場合
中間物のフォーム部分は、前面プレート１ないしバック
プレート３の対応する部分内に接着される。続いて接着
された構造を、７０〜１７０℃の温度で硬化する。
【００２６】構造硬化後に、これに真空下で１３５０〜
１７００℃、理想的には約１６００℃の温度でケイ素を
注入する。そのようにしてプレート１、３の炭素／炭素
構造からは、セラミックス中間物と接着剤からのよう
に、一体セラミックスの焼結過程に反してほとんど縮み
が生じないセラミックＣ／ＳｉＣ構造が生じる。その際
接着した構造から、Ｃ／ＳｉＣフォーム２、バックプレ
ート３としての同じく追加のＣ／ＳｉＣプレート、およ
びサイドプレートとを備えたＣ／ＳｉＣ前面プレート１
から成る一体構造が生じる。元のフォーム構造の多孔性
を変化させることによって反射鏡の面重量と剛性を調整
および最適化することができる。
【００２７】注入工程後にこの構造を、好ましくはサン
ド・ブラストによって洗浄するので、前の工程から来る
過剰のケイ素が無い平滑な表面が生じる。ここで後の反
射表面５が、所望の最終形態に応じた十分な粗さで予備
研削される。この予備研削が、主に反射鏡の反射膜の所
望の輪郭を遵守することを保証するものである。
【００２８】予備研削後に、少なくとも表面５に被覆６
が備えられる。そのために基本的には、研削および研磨
可能な表面の製造に適する全ての被覆、特に前面プレー
ト１と一体に結合され、前面プレート１と類似の材料を
含む被覆を設けることができる。以下にそのような被覆
の個別の製造方法を記載する。
【００２９】被覆６を製造するために、結合剤、溶媒、
金属および／またはセラミック粉末並びに炭素から成る
分散体のスラッジを製造する。それによってＣ／ＳｉＣ
前面プレート１を、続く研磨経過において１μｍ以下、
好ましくはそれどころか１０ｎｍ以下のＲＭＳ表面粗さ
が達せられるように被覆する。
【００３０】セラミック被覆用の分散体は、以下に表し
た単独工程に従って製造される。
【００３１】結合剤の添加のもとで、炭化ケイ素粉末に
この結合剤を混合する。炭化ケイ素粉末と結合剤から成
る２物質混合物の粘度を、溶媒を添加することによって
油状の粘度に調整する。溶媒としては有機溶媒、例えば
イソプロピルアルコール、酢酸ブチル、ブタンジオール
およびポリエチレングリコールから成る混合物が好まし
く使用される。この油状混合物を、市販のホモジナイザ
を用いて分散させる。均質化時間後に、炭素を好ましく
は微粒黒鉛またはカーボンブラックの形で添加する。こ
の添加後に、この物質系を再びホモジナイザ内で分散さ
せる。最後に金属粉末、好ましくは金属ケイ素を添加
し、続いて全物質系を再度分散させる。全均質化工程中
絶えず溶媒を添加し、後に利用するために必要な粘度に
調整する。この粘度は主に、基板、則ち特に前面プレー
ト１と場合によってはバックプレート３も後に被覆され
る被覆法に合わせて調節する。均質化工程中粘度を、例
えば市販の粘度計かまたは流出カップのような適当な測
定法を用いて好ましく調節する。
【００３２】スラッジ分散体を、噴射技術で、好ましく
は塗装工具を用いて塗布し、その際理想的には適当な工
具を用いて分散体の分解に対抗し、被覆と基板の間の個
々の位置ないし被覆内の欠陥位置での不均質性を避ける
ようにする。
【００３３】被覆は複数の単独工程で行うことができ
る。則ち全被覆をただ１つの被覆の代わりに複数の被覆
で塗布することも可能である。その際例えば０．５ｍｍ
までの単独膜が実施される。各被覆工程後に、その都度
膜の乾燥が好ましく行われる。そのような乾燥は、例え
ば相当する乾燥棚で行うことができる。その際乾燥時間
は、主に膜厚とすでに塗布された膜の数に合わせて調節
する。個々の被覆の間の乾燥時間は、例えば３０分から
１２０分である。乾燥温度は、理想的には１５０℃以下
にあり、例えば７０〜１２０℃である。
【００３４】被覆６が前述の作業工程に従って製造され
るとすぐに、この被覆された基板は熱工程で真空下また
は保護ガスのもとで１６００℃以上の温度に加熱され
る。この熱工程の場合には、前述の方法と同様にケイ素
と炭素間の反応親和力に基づいて炭化ケイ素、大部分は
β−ＳｉＣが形成されるようになり、その際被覆６中に
存在する炭素の一部が、塗布された膜中に存在するケイ
素とおよび／または一部が、前面プレート１の基板中に
存在する前面プレート１の基質中の残ケイ素と反応して
炭化ケイ素となる。使用した分散工程により前面プレー
ト１の基板中のケイ素と被覆６中の炭素との間で、炭化
ケイ素が形成されることによる接触反応が起こり、それ
によって被覆６の前面プレート１への強固な結合が実現
する。その際一体構造が形成される。被覆６中に存在す
る炭化ケイ素によって、熱工程中、最適な粒度分布に基
づいて達せられ得る非常に厚い表面膜が形成されること
が保証される。スラッジの物質系を適当に選択すること
によって熱工程中、形成される膜が非多孔性で、則ち開
いている多孔性も閉じている多孔性もなく形成され、そ
のため被覆６は欠陥位置をもたないようになる。この熱
工程後に被覆された前面プレート１を、光学利用に適し
た加工装置を用いて研磨することができる。
【００３５】本発明の反射鏡は、複数の長所により傑出
する。
【００３６】製造コストの減少：例えば従来の技術で公
開されているような比較的複雑な反射鏡背面用フライス
技術と比べて、Ｃ／ＳｉＣフォームの装着は容易であ
る。このフォームのその前面プレートとの一体結合は、
前面プレートのＳｉ注入中およびＳｉ注入と共に容易に
起こる。
【００３７】１５Ｋｇ／ｍ2以下、特に１０Ｋｇ／ｍ2以
下の極端に小さい面重量の達成が可能である。
【００３８】全反射鏡の一体構造の故に、異なる熱的性
質をもつ異なる物質膜は存在しない。則ち異なる物質膜
が互いに剥がれるかまたは、異なる膨脹性能を基にした
亀裂が形成する危険がない。
【００３９】多孔性フォーム構造２を使用することによ
って、セラミック材料２中ないし貫流させるためにセラ
ミック材料２に供給され得る温度調節媒体（例えば空気
または液体）上で前面プレート１のより良い熱伝導が起
こる。例えば反射鏡表面上に高い放射出力が衝突するこ
とにより反射鏡前面プレート１にもたらされる熱を排出
するならば、特に活動的な冷却、例えば後ろに吹き入れ
た空気または導入された液状冷却媒体による冷却が行わ
れる。その際例えば、フォーム構造２を通って吹き込ん
だ空気の熱伝導は、フォームや比較可能な多孔性材料の
無い反射鏡構造の場合よりも１０倍高いことが判明す
る。このことから、フォーム構造２の内側の表面積が、
フォーム構造２かまたは類似の多孔性構造が存在しない
場合に空気または類似の冷却媒体によって環流され得る
表面積よりはるかに大きいことが判明する。
【００４０】「キルティング作用」（ｑｕｉｌｔｉｎｇ
ｅｆｆｅｃｔ）が避けられる。従来の補強リブをもつ
構造に典型的な前述のキルティング作用は、容易に理解
されるように、多孔性フォーム構造としてセラミック材
料を形成する場合には避けることができる。
【００４１】前述の全セラミックＣ／ＳｉＣ軽量反射鏡
は、特に光学器械、例えば望遠鏡または類似品の要素と
して、例えば宇宙航空工学で使用することができる。
【００４２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、欠陥が起
こり難く、軽量で剛性の反射鏡並びにその改良された製
造方法を提供することができる。また、本発明により製
造された反射鏡は特に光学機器の要素として、宇宙航空
工学で使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射鏡の断面図である。
【図２】図１の断面の拡大図である。
【符号の説明】
１ セラミック前面プレート ２ セラミック材料（フォーム構造） ３ バックプレート ４ 前面プレートの第１表面 ５ 反射表面 ６ 表面被覆 ７ リブ構造または溝構造
フロントページの続き (71)出願人 502184884 エー・ツェー・エム インジニーア−ウン ターネーメン フューア エナージー−ウ ント ウムウェルテクニック ゲゼルシャ フト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツ ング ドイツ連邦共和国 80339 ミュンヘン, リドラーシュトラーセ 31アー (72)発明者 マティアス・クローデル ドイツ連邦共和国 85521 オットーブル ン，エーデルワイスシュトラーセ ６アー (72)発明者 フレッド・ツィーグラー ドイツ連邦共和国 82024 タウフキルヘ ン，ホーヘンブルンネル ヴェック 52 Ｆターム(参考） 2H042 DA01 DA12 DA15 DA19 DB13 DC05 DC08 DE00 4G132 AA02 AA18 AA47 AA62 BA14 BA27 CA12 CA14 CA18 GA09 GA22 GA24 GA31 GA48

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 小さい面重量をもつセラミック材料
    （２）を含む反射鏡であって、該セラミック材料（２）
    が、反射鏡の輪郭に従って予備変形したセラミック前面
    プレート（１）の第１表面（４）上に装着され、該前面
    プレート（１）と一体に結合された反射鏡において、セ
    ラミック材料（２）としてＣ／ＳｉＣフォームが設けら
    れ、セラミック前面プレート（１）としてＣ／ＳｉＣ前
    面プレートが設けられることを特徴とする反射鏡。
  2. 【請求項２】 前面プレート（１）の第１表面（４）上
    に、Ｃ／ＳｉＣから成る隆起および／または窪み（７）
    が備わることを特徴とする請求項１に記載の反射鏡。
  3. 【請求項３】 リブ構造または溝構造（７）が設けられ
    ることを特徴とする請求項２に記載の反射鏡。
  4. 【請求項４】 Ｃ／ＳｉＣフォーム（２）と温度調節媒
    体の間で熱交換が行われることを特徴とする、請求項１
    ないし３のいずれか一項に記載の反射鏡。
  5. 【請求項５】 Ｃ／ＳｉＣフォーム（２）上にＣ／Ｓｉ
    Ｃバックプレート（３）が装着され、該Ｃ／ＳｉＣバッ
    クプレート（３）がＣ／ＳｉＣフォーム（２）と一体に
    結合されることを特徴とする、請求項１ないし４のいず
    れか一項に記載の反射鏡。
  6. 【請求項６】 研削および研磨可能な表面被覆（６）が
    Ｃ／ＳｉＣ前面プレート（１）上に装着され、該表面被
    覆がＣ／ＳｉＣ前面プレート（１）と一体に結合される
    ことを特徴とする、請求項１ないし５のいずれか一項に
    記載の反射鏡。
  7. 【請求項７】 反射鏡の製造方法であって、小さい表面
    重量をもつセラミック材料（２）が、反射鏡の輪郭に従
    って予備変形したセラミック前面プレート（１）の第１
    表面（４）上に装着され、該前面プレート（１）と一体
    に結合される製造方法において、重合フォーム構造を、
    ケイ素を含むセラミック出発物質から成る懸濁液で覆
    い、続いてフォーム構造を有するセラミック中間物を作
    るために、空気遮断下で熱分解し、熱分解後に該セラミ
    ック中間物を炭素／炭素前面プレート（１）上に装着
    し、続いて１３５０℃以上の温度でケイ素を含む物質を
    注入して、Ｃ／ＳｉＣフォーム（２）とＣ／ＳｉＣ前面
    プレート（１）から成る一体のＣ／ＳｉＣ構造を製造す
    ることを特徴とする反射鏡の製造方法。
  8. 【請求項８】 フォーム（２）を前面プレート（１）の
    第１表面（４）上に装着する前に、該前面プレート
    （１）のものと同じ物質から成る隆起および／または窪
    み（７）が作られることを特徴とする請求項７に記載の
    方法。
  9. 【請求項９】 ケイ素を含む物質をフォーム（２）に注
    入する前に、炭素／炭素バックプレート（３）が装着さ
    れ、該炭素／炭素バックプレート（３）は、ケイ素を含
    む物質を注入することによってフォーム（２）と一体に
    結合されることを特徴とする、請求項７または８のいず
    れか一項に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 研削および研磨可能な表面被覆（６）
    がＣ／ＳｉＣ前面プレート（１）上に装着され、該表面
    被覆（６）がＣ／ＳｉＣ前面プレート（１）と一体に結
    合されることを特徴とする、請求項７ないし９のいずれ
    か一項に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 ポリマー構造を、ＳｉＣ、ケイ素およ
    び炭素を有機液体混合物中で懸濁させた懸濁液で覆うこ
    とを特徴とする、請求項７ないし１０のいずれか一項に
    記載の方法。
  12. 【請求項１２】 宇宙航空工学での光学機器用要素とし
    ての、特に請求項７ないし１１のいずれか一項に記載の
    方法によって製造される請求項１ないし６のいずれか一
    項に記載の反射鏡の使用。
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