JP2003068813A - Method and device for measuring probe mark - Google Patents

Method and device for measuring probe mark

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JP2003068813A
JP2003068813A JP2001252776A JP2001252776A JP2003068813A JP 2003068813 A JP2003068813 A JP 2003068813A JP 2001252776 A JP2001252776 A JP 2001252776A JP 2001252776 A JP2001252776 A JP 2001252776A JP 2003068813 A JP2003068813 A JP 2003068813A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To classify the picture of the needle mark of a probe in the conduction inspection of a pad formed in a semiconductor chip and to determine right or wrong of the conduction inspection at high speed. SOLUTION: A CCD camera 10, a lamp 11, a stage 12, a driving part 13 and a control part 14 are installed in a probe mark measuring device 1. The driving part 13 drives the stage 12 where a wafer 91 is fixed based on an instruction from the control part 14 and the wafer 91 is transferred to a prescribed position with respect to the CCD camera 10. The CCD camera 10 photographs the picture, and the lamp 11 generates illumination light in prescribed light quantity at the time of photographing. The CPU board of the control part 14 classifies the photographed pictures and stores them in a storage part 142 based on the position and the depth of the needle mark of the probe. Only the stored picture which is minutely analyzed is selectively extracted and analyzed based on a classification result.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップの導
通検査にてその電極に形成されたプローブの接触痕を測
定する技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for measuring contact marks of a probe formed on an electrode of a semiconductor chip in a continuity test.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、半導体チップはウェハ上
に所定の回路パターンを形成して製作される。そして、
通常の半導体チップの製作工程においては、回路パター
ン形成後にその電気的特性を調べるための導通検査が実
行される。導通検査は、半導体チップの電極に針状の検
査用プローブを接触させることによって行う。プローブ
は、各チップ単位またはウェハ全体に対し一括で、一定
の圧力を加えることで所定の抵抗値以下で電極に接触す
る。
As is well known, a semiconductor chip is manufactured by forming a predetermined circuit pattern on a wafer. And
In a normal semiconductor chip manufacturing process, a continuity test is performed after the formation of a circuit pattern to check its electrical characteristics. The continuity test is carried out by bringing a needle-shaped test probe into contact with the electrodes of the semiconductor chip. The probe contacts the electrodes with a predetermined resistance value or less by applying a constant pressure to each chip unit or the entire wafer at once.

【0003】半導体チップの電気的特性の良否判定が正
常に行われるためには、これらのプローブが以下のよう
な良好な状態で電極に接触しなければならない。
In order to normally judge the quality of the electrical characteristics of the semiconductor chip, these probes must contact the electrodes in the following good conditions.

【0004】(1)所定の領域内で接触すること:プロ
ーブの針が測定すべき対象となる電極に接触していなけ
れば良否判定は行えないからである。
(1) Contact within a predetermined area: This is because a pass / fail judgment cannot be made unless the probe needle is in contact with the electrode to be measured.

【0005】(2)正常な深さまで針先が入っているこ
と:一般に、半導体装置の電極の材質はアルミニウムで
あり、容易に酸化されて電極表面には絶縁性の酸化アル
ミニウム(Al23)の被膜が形成される。適切な導通
検査を行うためには、検査時にプローブが酸化アルミニ
ウム膜を突き破って電極の金属部分に接触する必要があ
る。
(2) Needle tip is inserted to a normal depth: Generally, the material of the electrode of the semiconductor device is aluminum, and it is easily oxidized and the surface of the electrode is made of insulating aluminum oxide (Al 2 O 3). ). In order to perform a proper continuity test, it is necessary for the probe to break through the aluminum oxide film and come into contact with the metal part of the electrode during the test.

【0006】(3)接触抵抗値が低いこと:プローブの
針の種類により異なるが、通常0.1ないし数Ω程度で
あることが望ましい。例えば、針先が潰れていたり、ゴ
ミが詰まったりしている場合には正常な良否判定が行え
ない。この場合は定期的に針をチェックすることにより
判断することができる。
(3) Low contact resistance value: Although it depends on the type of probe needle, it is usually desirable to be about 0.1 to several Ω. For example, if the needle tip is crushed or dust is clogged, normal pass / fail judgment cannot be performed. In this case, it can be judged by periodically checking the needle.

【0007】従来より、プローブの電極への接触状態の
良否を判定するには、(1)または(2)の状態であっ
たか否かを調べるため、導通検査により形成されたプロ
ーブの接触痕に対して、熟練者による顕微鏡を利用した
目視検査が行われている。
Conventionally, in order to judge whether the contact state of the probe with the electrode is good or bad, in order to determine whether or not the state is (1) or (2), the contact mark of the probe formed by the continuity test is checked. Therefore, a visual inspection using a microscope is performed by a skilled person.

【0008】また、このようなプローブの接触痕の深さ
を測定する装置として、レーザ顕微鏡や干渉を用いた微
小粗さ測定装置が存在している。これらの装置は、観測
試料(半導体チップ)の高さ位置を移動させることが可
能であり、異なる複数の高さ位置にて得られる光学情報
に基づいてプローブの接触痕の深さを測定するものであ
る。
Further, as a device for measuring the depth of the contact trace of such a probe, there is a micro-roughness measuring device using a laser microscope or interference. These devices can move the height position of the observation sample (semiconductor chip) and measure the depth of the contact mark of the probe based on the optical information obtained at different height positions. Is.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウェハ
上に形成されるプローブの接触痕は、多い場合にはウェ
ハ全体で数万ないし数十万個以上にもなるため、目視検
査をすべてについて行うことは非常に時間がかかるとい
う問題があった。
However, when the number of contact traces of the probe formed on the wafer is large, tens of thousands to hundreds of thousands or more on the entire wafer, visual inspection must be performed for all of them. Had the problem that it took a very long time.

【0010】また、上記従来の各装置は、一回の接触痕
の深さ測定につき試料の高さ位置を複数回変更する必要
があるため、その測定になお長時間を要するという問題
があった。
In addition, each of the above-mentioned conventional devices has a problem that it takes a long time for the measurement because it is necessary to change the height position of the sample a plurality of times for one measurement of the depth of the contact mark. .

【0011】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、プローブの接触痕の状態を簡易かつ短時間に測
定することができるようにすることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to make it possible to measure the state of contact marks of a probe easily and in a short time.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、半導体チップの導通検査にて形成されたプローブの
接触痕を測定するプローブ痕測定方法であって、前記半
導体チップにおける前記接触痕を撮影した画像を取得す
る画像取得工程と、前記画像取得工程によって取得され
た画像の前記接触痕についての画像情報に基づいて、前
記画像を分類して保存する保存工程と、前記保存工程に
よって保存された画像を分類結果に基づいて選択的に解
析する解析工程とを有する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a probe mark measuring method for measuring a contact mark of a probe formed by a continuity test of a semiconductor chip. An image acquisition step of acquiring a captured image, a storage step of classifying and storing the images based on image information about the contact mark of the image acquired by the image acquisition step, and a storage step of the storage step And an analysis step of selectively analyzing the generated image based on the classification result.

【0013】請求項2に記載の発明は、半導体チップの
導通検査にて形成されたプローブの接触痕を測定するプ
ローブ痕測定装置であって、前記半導体チップにおける
前記接触痕を撮影した画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段によって取得された画像の前記接触痕
についての画像情報に基づいて、前記画像を分類して保
存する保存手段とを備える。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a probe mark measuring device for measuring a contact mark of a probe formed in a continuity inspection of a semiconductor chip, wherein an image obtained by photographing the contact mark on the semiconductor chip is acquired. Image acquisition means for
A storage unit that classifies and stores the image based on image information about the contact mark of the image acquired by the image acquisition unit.

【0014】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
のプローブ痕測定装置であって、前記保存手段が、前記
接触痕の位置に基づいて前記画像を分類して保存する。
According to a third aspect of the present invention, in the probe mark measuring device according to the second aspect, the storage unit classifies and stores the images based on the position of the contact mark.

【0015】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
のプローブ痕測定装置であって、前記画像を小領域に分
割し、前記接触痕が所定の小領域に存在するか否かによ
って前記接触痕の位置に基づく分類を行う。
The invention according to claim 4 is the probe mark measuring device according to claim 3, wherein the image is divided into small areas and the contact marks are present in a predetermined small area. Classification is performed based on the position of the contact mark.

【0016】請求項5に記載の発明は、請求項2ないし
4のいずれかに記載のプローブ痕測定装置であって、前
記保存手段が、前記接触痕の深さに基づいて前記画像を
分類して保存する。
According to a fifth aspect of the present invention, in the probe mark measuring device according to any of the second to fourth aspects, the storage unit classifies the images based on the depth of the contact mark. And save.

【0017】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
のプローブ痕測定装置であって、前記保存手段が、前記
接触痕の深さを前記画像における前記接触痕を形成する
画素の濃度値に基づいて分類する。
According to a sixth aspect of the present invention, in the probe mark measuring apparatus according to the fifth aspect, the storage unit sets the depth of the contact mark to the density of pixels forming the contact mark in the image. Classify based on value.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0019】<1. 第1の実施の形態>図1は、ウェ
ハ91の構造を示す図である。ウェハ91上には複数の
半導体チップ(より正確には半導体チップの原型)92
が形成され、半導体チップ92上には電極となるパッド
93が形成される。半導体チップ92の電気特性の良否
判定は導通検査により行われ、導通検査はパッド93に
プローブの針を接触させることにより行われる。パッド
93の材質は一般にアルミニウムであり、容易に酸化さ
れて表面には絶縁性の酸化アルミニウム(Al23)の
被膜が形成される。したがって、適切な導通検査を行う
ためには、検査時にプローブが酸化アルミニウム膜を突
き破ってパッド93のアルミニウム部分に接触する必要
がある。
<1. First Preferred Embodiment> FIG. 1 is a diagram showing the structure of a wafer 91. A plurality of semiconductor chips (more accurately, prototypes of semiconductor chips) 92 are provided on the wafer 91.
Are formed, and pads 93 that will serve as electrodes are formed on the semiconductor chip 92. Whether the electrical characteristics of the semiconductor chip 92 are good or bad is determined by a continuity test, and the continuity test is performed by bringing a probe needle into contact with the pad 93. The material of the pad 93 is generally aluminum, which is easily oxidized to form a film of insulating aluminum oxide (Al 2 O 3 ) on the surface. Therefore, in order to perform an appropriate continuity test, it is necessary for the probe to break through the aluminum oxide film and contact the aluminum portion of the pad 93 during the test.

【0020】図2は、本発明の実施の形態におけるプロ
ーブ痕測定装置1の構成を示すブロック図である。プロ
ーブ痕測定装置1は、CCDカメラ10、CCDカメラ
10が撮影する際に照明を行うランプ11、ウェハ91
を固定して搬送するステージ12、ステージ12を駆動
する駆動部13、およびそれらを制御する制御部14か
ら構成される。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the probe mark measuring apparatus 1 according to the embodiment of the present invention. The probe mark measuring apparatus 1 includes a CCD camera 10, a lamp 11 that illuminates when the CCD camera 10 takes an image, and a wafer 91.
It is composed of a stage 12 that fixes and conveys the sheet, a drive unit 13 that drives the stage 12, and a control unit 14 that controls them.

【0021】CCDカメラ10は、制御部14からのカ
メラトリガにより半導体チップにおけるプローブの接触
痕を2次元画像として撮影する。また、駆動部13は制
御部14からの指示に基づいて、ウェハ91がCCDカ
メラ10の撮影範囲に対して所定の位置に搬送されるよ
うにステージ12の駆動を行うとともに、ステージ12
の駆動が完了する度に同期信号を生成して、ランプ11
と制御部14とに転送する機能を有する。なお、各パッ
ドの撮影に際してはCCDカメラ10を移動させて撮影
するようにしてもよい。
The CCD camera 10 captures a contact trace of the probe on the semiconductor chip as a two-dimensional image by a camera trigger from the control unit 14. Further, the drive unit 13 drives the stage 12 based on an instruction from the control unit 14 so that the wafer 91 is transported to a predetermined position with respect to the imaging range of the CCD camera 10, and also the stage 12
Each time the driving of the
And a control unit 14 to transfer the data. It should be noted that the CCD camera 10 may be moved to take an image of each pad.

【0022】制御部14は、主にプログラムの実行や各
種演算処理を行うCPUボード140、CCDカメラ1
0により撮影された画像に対して補正処理などを行う画
像処理ボード141、およびプログラムや画像をデータ
として保存する記憶部142を有する。
The control unit 14 mainly includes a CPU board 140 for executing programs and various arithmetic processes, and the CCD camera 1.
It has an image processing board 141 that performs correction processing and the like on an image captured by 0, and a storage unit 142 that stores programs and images as data.

【0023】図3は、CPUボード140の構成を示す
ブロック図である。CPUボード140は、各種演算処
理を行うCPU143、動作プログラムを記憶するRO
M145および各種データを記憶するRAM144が設
けられ、ROM145およびRAM144がCPU14
3に接続される。
FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of the CPU board 140. The CPU board 140 includes a CPU 143 that performs various arithmetic processes and an RO that stores an operation program.
A RAM 144 for storing M145 and various data is provided, and the ROM 145 and the RAM 144 are the CPU 14
3 is connected.

【0024】図4は、CPU143がROM145内の
プログラムに従って動作することにより実現される機能
構成を他の構成とともに示す図である。図4に示す構成
のうち、トリミング部200、位置判定部201、深さ
判定部202およびデータ保存部203が、CPU14
3により実現される機能を示す。
FIG. 4 is a diagram showing a functional configuration realized by the CPU 143 operating according to a program in the ROM 145, together with other configurations. In the configuration shown in FIG. 4, the trimming unit 200, the position determination unit 201, the depth determination unit 202, and the data storage unit 203 are the CPU 14
The function realized by 3 is shown.

【0025】トリミング部200は、画像処理ボード1
41から転送された第1画像データ100の撮影領域か
ら判定に必要な部分(トリミング領域)を切り出して、
第2画像データ101を作成する。
The trimming unit 200 is the image processing board 1
From the shooting area of the first image data 100 transferred from 41, a portion (trimming area) required for determination is cut out,
The second image data 101 is created.

【0026】位置判定部201は、第2画像データ10
1において針痕を構成する画素のうち第2画像データ1
01の外縁に最も近い4点(詳細は後述する。)の座標
を求め、求めた4点の各座標を示すデータである座標デ
ータ102を作成するとともに、それらの各座標に基づ
いて針痕の位置を判定し、分類データ103を作成す
る。
The position determination unit 201 uses the second image data 10
The second image data 1 among the pixels forming the needle trace in FIG.
The coordinates of the four points closest to the outer edge of 01 (details will be described later) are obtained, coordinate data 102, which is data indicating the coordinates of the obtained four points, is created, and the needle mark The position is determined and the classification data 103 is created.

【0027】深さ判定部202は、座標データ102に
基づいて第2画像データ101からさらに針痕を含む小
領域を切り出し、画素の濃度値に基づいて針痕の深さを
判定し、分類データ103に針痕の深さに関する情報を
付加する。
The depth determination unit 202 further cuts out a small area including the needle trace from the second image data 101 based on the coordinate data 102, determines the depth of the needle trace based on the density value of the pixel, and classifies data. Information on the depth of the needle trace is added to 103.

【0028】データ保存部203は、第1画像データ1
00または第2画像データ101に分類データ103を
関連付けて記憶部142に保存する機能を有する。
The data storage unit 203 stores the first image data 1
00 or the second image data 101 is associated with the classification data 103 and stored in the storage unit 142.

【0029】なお、これらの機能の一部はCPU143
に代わって画像処理ボード141が行ってもよい。例え
ば、トリミング部200の機能は画像処理ボード141
が行うことによりCPU143が直接処理する場合に比
べて高速に処理することができる。
Note that some of these functions are performed by the CPU 143.
The image processing board 141 may be used instead of the above. For example, the function of the trimming unit 200 is the image processing board 141.
By doing so, the processing can be performed at a higher speed than when the CPU 143 directly processes.

【0030】図5は、プローブ痕測定装置1における処
理動作を示した流れ図である。図4および図5を用いて
プローブ痕測定装置1の動作を説明する。
FIG. 5 is a flow chart showing the processing operation in the probe mark measuring apparatus 1. The operation of the probe mark measuring device 1 will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

【0031】まず、制御部14からの指示に基づいて駆
動部13が、撮影対象となっているパッドがCCDカメ
ラ10の撮影範囲の中央に撮影されるようステージ12
を駆動する(ステップS11)。駆動完了の後、駆動部
13が同期信号をランプ11および制御部14の画像処
理ボード141に送出し、画像処理ボード141はカメ
ラトリガをCCDカメラ10に送出する(ステップS1
2)。
First, based on an instruction from the controller 14, the drive unit 13 causes the stage 12 so that the pad to be photographed is photographed in the center of the photographing range of the CCD camera 10.
Is driven (step S11). After the driving is completed, the driving unit 13 sends a synchronization signal to the lamp 11 and the image processing board 141 of the control unit 14, and the image processing board 141 sends a camera trigger to the CCD camera 10 (step S1).
2).

【0032】CCDカメラ10は、カメラトリガに基づ
いて撮影を行い、画像処理ボード141が画像を取り込
む(ステップS13)。その際、ランプ11が同期信号
に基づいて照明を行うため、適切な光量の下で撮影が行
われる。また、画像は画像処理ボード141により各種
補正や処理が行われ、CPUボード140上のRAM1
44に第1画像データ100として転送される。
The CCD camera 10 captures an image based on a camera trigger, and the image processing board 141 captures an image (step S13). At that time, since the lamp 11 illuminates based on the synchronization signal, shooting is performed under an appropriate light amount. Further, the image is subjected to various corrections and processing by the image processing board 141, and the RAM 1 on the CPU board 140 is
It is transferred to 44 as the first image data 100.

【0033】第1画像データ100が作成されると、ト
リミング部200により第1画像データ100のトリミ
ングが行われ、第2画像データ101が作成される(ス
テップS14)。図6は、CCDカメラ10の撮影領域
Rとトリミング部200により切り出されるトリミング
領域(第2画像データ101の領域。)Sとの関係を示
した図である。
When the first image data 100 is created, the trimming section 200 trims the first image data 100 to create the second image data 101 (step S14). FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the photographing area R of the CCD camera 10 and the trimming area (area of the second image data 101) S cut out by the trimming section 200.

【0034】プローブの針は中心位置Pを目標にパッド
93に接触する。したがって、針痕94の状態を調べる
ためには撮影領域R全体を処理の対象とする必要はな
く、通常針痕94が存在していると考えられるトリミン
グ領域Sについてのみ処理の対象とすれば十分である。
例えば、CCDカメラ10により撮影された画像のサイ
ズがSVGA(760×680、RGB各8ビット)サ
イズの場合、仮にトリミング領域Sのサイズを200×
200とすれば、画像のサイズを1.5MBから120
KBの約10分の1に減少させることができ、データ量
および処理量を削減することができることから、高速に
分類処理を行うことができる。以下、トリミング領域S
のサイズを200×200として説明する。
The needle of the probe contacts the pad 93 with the center position P as the target. Therefore, in order to check the state of the needle mark 94, it is not necessary to process the entire imaging region R, and it is sufficient to process only the trimming region S in which the needle mark 94 is considered to be present. Is.
For example, if the size of the image captured by the CCD camera 10 is SVGA (760 × 680, 8 bits for each RGB), the size of the trimming area S is 200 ×.
If the value is 200, the size of the image will change from 1.5 MB to 120
Since it can be reduced to about 1/10 of KB, and the amount of data and the amount of processing can be reduced, classification processing can be performed at high speed. Hereinafter, the trimming area S
The size will be described as 200 × 200.

【0035】さらに、このようなトリミングを行うこと
により、針痕94の状態を調べる上で関係がないと考え
られる部分(半導体チップのパッド以外の部分など)の
影響を受けることがなくなるため、分類処理を正確に行
うことができる。
Further, by performing such trimming, there is no influence of a portion which is considered to be irrelevant in examining the state of the needle mark 94 (a portion other than the pad of the semiconductor chip, etc.), so that classification is performed. The processing can be performed accurately.

【0036】なお、図6に示すように、CCDカメラ1
0はパッド93の中心位置Pが撮影領域Rの中心となる
ように撮影を行うため、撮影領域R上のパッド93の位
置と大きさとはほぼ一定である。したがって、パッド9
3よりわずかに小さい領域であるトリミング領域Sを撮
影領域Rから切り出す処理は、エッジ検出などの複雑な
画像処理を行うことなく、高速に行うことができる。
As shown in FIG. 6, the CCD camera 1
In the case of 0, since the photographing is performed so that the center position P of the pad 93 is the center of the photographing region R, the position and the size of the pad 93 on the photographing region R are substantially constant. Therefore, the pad 9
The process of cutting out the trimming region S, which is a region slightly smaller than 3, from the photographing region R can be performed at high speed without performing complicated image processing such as edge detection.

【0037】トリミング部200により第2画像データ
101が作成されると、プローブ痕測定装置1は取得し
た画像に対して画像分類処理を行う(ステップS1
5)。
When the trimming unit 200 creates the second image data 101, the probe mark measuring apparatus 1 performs an image classification process on the acquired image (step S1).
5).

【0038】ここで、画像分類処理の詳細な動作を説明
する前に、プローブ痕測定装置1において針痕をその画
像の状態に応じて分類する手法について説明する。
Before describing the detailed operation of the image classification process, a method of classifying the needle marks in the probe mark measuring apparatus 1 according to the state of the image will be described.

【0039】図7は、トリミング領域Sにおける位置判
定の基準となる4点の関係を示す図である。図7に示す
点Z1ないし点Z4は、針痕94上の点のうちトリミン
グ領域Sの縁(以下、「トリミング枠」と称する。)に
それぞれ最も近い点である。すなわち、トリミング領域
S上の点を図7に示すX,Y座標で表し、左下の画素の
座標を(0,0)とおけば、針痕94上の点のうちYが
最大値となる点がZ1(X1,Y1)、Xが最大値とな
る点がZ2(X2,Y2)、Xが最小値となる点がZ3
(X3,Y3)、Yが最小値となる点がZ4(X4,Y
4)となる。
FIG. 7 is a diagram showing the relationship of four points which serve as a reference for position determination in the trimming area S. Points Z1 to Z4 shown in FIG. 7 are points closest to the edge of the trimming area S (hereinafter, referred to as “trimming frame”) among the points on the needle trace 94. That is, if the point on the trimming area S is represented by the X and Y coordinates shown in FIG. 7 and the coordinate of the lower left pixel is set to (0, 0), the point where Y becomes the maximum value among the points on the needle mark 94. Is Z1 (X1, Y1), the point where X is the maximum value is Z2 (X2, Y2), and the point where X is the minimum value is Z3.
(X3, Y3), the point where Y becomes the minimum value is Z4 (X4, Y3)
4).

【0040】図8は、点Z1ないし点Z4を求める方法
を概念的に示した図である。図8に示すように、左上の
点(0,200)から矢印の方向にスキャンを行い、濃
度値が所定値以上の点を針痕94を構成する画素とみな
す。そして、その座標の大小を比較することにより点Z
1ないし点Z4を求めることができる。
FIG. 8 is a diagram conceptually showing a method of obtaining the points Z1 to Z4. As shown in FIG. 8, scanning is performed from the upper left point (0,200) in the direction of the arrow, and the point having a density value of a predetermined value or more is regarded as a pixel forming the needle mark 94. Then, by comparing the size of the coordinates, the point Z
1 to the point Z4 can be determined.

【0041】図9は、トリミング領域Sを小領域に分割
して、その位置ごとに分類する例を示した図である。そ
れぞれの小領域についてトリミング枠からの距離に応じ
て、最も近い小領域を分類A(図9のハッチングされた
領域:A1ないしA20が該当)、次にトリミング枠に
近い小領域を分類B(B1ないしB12が該当)、最も
遠い小領域を分類C(C1ないしC4が該当)とする。
FIG. 9 is a diagram showing an example in which the trimming area S is divided into small areas and classified according to their positions. For each small area, the closest small area is classified A (corresponding to the hatched areas: A1 to A20 in FIG. 9) according to the distance from the trimming frame, and the small area next to the trimming frame is classified B (B1). Through B12), and the farthest small area is classified as C (C1 through C4 is applicable).

【0042】そして、点Z1ないし点Z4の各座標に基
づいて各点がどの小領域に存在しているかを判定する。
分類Aに分類される小領域に存在する場合は、その針痕
の画像を「注意」に分類し、トリミング枠上にある場合
は、導通検査においてプローブの針がパッド93からは
み出して接触していた可能性があるため「異常」に分類
する。
Then, based on the coordinates of the points Z1 to Z4, it is determined in which small area each point exists.
If it exists in a small area classified as classification A, the image of the needle mark is classified as “attention”, and if it is on the trimming frame, the needle of the probe sticks out of the pad 93 and contacts in the continuity test. Therefore, it is classified as “abnormal” because it may have occurred.

【0043】なお、本実施の形態ではトリミング領域S
内の小領域をA,B,Cの3つに分類する例を示した
が、さらに細かく分類してもよい。また、トリミング枠
に近いほど細い小領域に分割するようにしてもよい。以
上が針痕の位置に基づいて針痕の画像を分類する手法で
ある。
In this embodiment, the trimming area S
Although the example in which the small area in the above is classified into three areas A, B, and C is shown, it may be further classified. Also, the area may be divided into smaller areas closer to the trimming frame. The above is the method of classifying the images of the needle marks based on the positions of the needle marks.

【0044】次に、針痕の深さによる分類手法を説明す
る。針痕を撮影した場合、針痕は深さに応じてその画素
の濃度値が濃くなる。また、所定の光量の下で針痕を撮
影することにより、別々に撮影した針痕について同じ基
準に基づいて深さを判定することができる。すなわち、
画像において針痕を構成する画素の濃度値を求め、それ
に基づいて画像を分類すれば、画像を針痕の深さに基づ
いて分類することができる。
Next, a classification method based on the depth of the needle marks will be described. When the needle mark is photographed, the density value of the pixel of the needle mark increases with the depth. Further, by photographing the needle marks under a predetermined light amount, it is possible to determine the depth based on the same reference for the needle marks photographed separately. That is,
If the density values of the pixels forming the needle marks in the image are obtained and the images are classified based on the density values, the images can be classified based on the depth of the needle marks.

【0045】図10(a)ないし(c)は、針痕が外接
する四辺形の例を示した図である。図に示す四辺形30
1ないし303は、それぞれの針痕94aないし94c
における点Z1ないし点Z4から求めることができる。
例えば、図10(a)の例について説明すると、針痕9
4aは四辺形301の領域に含まれるから、四辺形30
1の領域に含まれる画素について濃度値が所定値以上の
画素を針痕94aを構成する画素であるとみなし、それ
らの画素の濃度値の平均値を求める。
FIGS. 10 (a) to 10 (c) are views showing an example of a quadrangle in which the needle marks are circumscribed. Quadrangle 30 shown
1 to 303 are respective needle marks 94a to 94c
Can be obtained from the points Z1 to Z4 at.
For example, explaining the example of FIG.
Since 4a is included in the region of the quadrangle 301, the quadrangle 30
Pixels included in the area 1 having a density value of a predetermined value or more are regarded as pixels forming the needle trace 94a, and the average value of the density values of those pixels is calculated.

【0046】このように針痕に外接する四辺形の領域に
含まれる部分についてのみ処理を行うことにより、トリ
ミング領域S全体を処理対象とする場合に比べて処理す
るデータ量を減らすことができ、高速に処理を行うこと
ができる。
As described above, by processing only the portion included in the quadrilateral area circumscribing the needle mark, the amount of data to be processed can be reduced as compared with the case where the entire trimming area S is processed. Processing can be performed at high speed.

【0047】表1は、このようにして求めた濃度値の平
均値による分類の例を示したものである。表1に示す例
では、濃度値の平均値に基づいて画像を分類Iないし分
類VIに分類する。ここで、「分類I」に分類されるもの
は、針痕が深すぎてパッドの底を破っている可能性があ
るため「注意」に分類する。また、「分類V」に分類さ
れるものは針痕が浅すぎて酸化アルミニウムの膜を破っ
ていない可能性があるため「注意」に分類する。これら
は、同じ「注意」に分類されるが、理由が異なるため後
に異なる処理を行う。なお、表1における濃度値の平均
値は所定値を差し引いた値で示しているが、直接濃度値
の平均値によって分類するようにしてもよい。以上が針
痕の深さに基づいて針痕の画像を分類する手法である。
Table 1 shows an example of classification by the average value of the density values thus obtained. In the example shown in Table 1, the images are classified into classification I or classification VI based on the average value of the density values. Here, those classified as “class I” are classified as “caution” because there is a possibility that the needle mark is too deep and breaks the bottom of the pad. Also, those classified as "Class V" may be classified as "Caution" because the needle marks may be too shallow to break the aluminum oxide film. These are classified into the same "caution", but different processing is performed later because of different reasons. Although the average value of the density values in Table 1 is shown by subtracting the predetermined value, the average value of the density values may be used for classification. The above is the method of classifying the images of the needle marks based on the depth of the needle marks.

【0048】図5に戻って、プローブ痕測定装置1にお
ける画像分類処理(ステップS15)の具体的な動作に
ついて説明する。図11ないし図13は、画像分類処理
の詳細を示す流れ図である。
Returning to FIG. 5, the specific operation of the image classification process (step S15) in the probe mark measuring apparatus 1 will be described. 11 to 13 are flowcharts showing details of the image classification process.

【0049】まず、位置判定部201がYの最大値Y1
に0、Yの最小値Y4に200、Xの最大値X2に0、
Xの最小値X3に200、一つ前の画素の濃度値が所定
値以上であったか否かを示すフラグFに0、Yに200
をそれぞれセットし(ステップS101)、さらにXに
0をセットする(ステップS102)。なお、フラグF
が1の場合は一つ前の画素の濃度値が所定値以上であっ
たことを示す。
First, the position determining unit 201 determines the maximum value Y1 of Y1.
0, the minimum Y value Y4 is 200, the maximum X value X2 is 0,
The minimum value X3 of X is 200, the flag F indicating whether or not the density value of the previous pixel is equal to or more than a predetermined value is 0, and Y is 200.
Are set respectively (step S101), and X is set to 0 (step S102). The flag F
Is 1 indicates that the density value of the immediately previous pixel is equal to or greater than the predetermined value.

【0050】次に、座標(X,Y)における画素の濃度
値が所定値以上か否かを判定し(ステップS103)、
濃度値が所定値以上の場合はフラグDに1をセットし
(ステップS104)、濃度値が所定値以上でない場合
はフラグDに0をセットする(ステップS105)。こ
れによりフラグDは、座標(X,Y)における画素の濃
度値が所定値以上か否かを示す。
Next, it is judged whether or not the density value of the pixel at the coordinates (X, Y) is not less than a predetermined value (step S103),
If the density value is greater than or equal to the predetermined value, the flag D is set to 1 (step S104), and if the density value is not greater than or equal to the predetermined value, the flag D is set to 0 (step S105). Accordingly, the flag D indicates whether or not the density value of the pixel at the coordinates (X, Y) is not less than the predetermined value.

【0051】点Z1ないし点Z4は、針痕の縁(いわゆ
るエッジ部分)に存在するため、フラグFが0かつフラ
グDが1、またはフラグFが1かつフラグDが0の条件
を満たす場合に点(X,Y)がエッジ部分に該当する。
したがって、フラグFおよびフラグDにより点(X,
Y)がエッジ上の点か否かを判定し(ステップS10
6)、エッジ上の点でない場合は座標の比較は行わず、
次回の判定のためフラグFにフラグDをセットして(ス
テップS107)、ステップS205まで処理をスキッ
プする。
Since the points Z1 to Z4 exist on the edge of the needle mark (so-called edge portion), when the conditions of the flag F being 0 and the flag D being 1 or the flags F being 1 and the flag D being 0 are satisfied. The point (X, Y) corresponds to the edge portion.
Therefore, the points (X,
It is determined whether Y) is a point on the edge (step S10).
6), if it is not a point on the edge, the coordinates are not compared,
The flag D is set to the flag F for the next determination (step S107), and the process is skipped until step S205.

【0052】なお、Xが0または200で、かつフラグ
Dが1の場合(点(X,Y)がトリミング枠上にありか
つ針痕である場合に相当。)は、フラグFの値に関わら
ずエッジと判定する。さらに、Xが200かつフラグD
が1の場合は点(X,Y)を点Z2とみなしてX2にX
をセットし、Y2にYをセットする。
When X is 0 or 200 and flag D is 1 (corresponding to the case where the point (X, Y) is on the trimming frame and there is a needle mark), regardless of the value of flag F. It is determined to be an edge. In addition, X is 200 and flag D
When is 1, the point (X, Y) is regarded as the point Z2, and X2 becomes X.
And Y to Y2.

【0053】ステップS106において点(X,Y)が
エッジ上の点であると判定された場合は、次回の判定の
ためのフラグFにフラグDをセットし(ステップS10
8)、さらにフラグDが0か否かを判定し(ステップS
109)、フラグDが0の場合は点(X,Y)は針痕を
構成する画素ではなく、点(X−1,Y)が針痕のエッ
ジ部分であり点Z2の候補であるから、X−1がX2よ
り大きい場合にはX2にX−1をセットし、Y2にYを
セットする(ステップS112,S113)。その後、
ステップS205まで処理をスキップする。
When it is determined in step S106 that the point (X, Y) is a point on the edge, the flag D is set to the flag F for the next determination (step S10).
8) Further, it is determined whether the flag D is 0 (step S
109), if the flag D is 0, the point (X, Y) is not the pixel forming the needle mark, but the point (X-1, Y) is the edge portion of the needle mark and is a candidate for the point Z2. If X-1 is larger than X2, X-1 is set to X2 and Y is set to Y2 (steps S112 and S113). afterwards,
The process is skipped until step S205.

【0054】一方、フラグDが1の場合(ステップS1
09においてNo。)は点(X,Y)が点Z1、点Z3
または点Z4である可能性がある。そこで、XがX3よ
り小さい場合には点(X,Y)が点Z3の候補であるか
ら、X3にXをセットし、Y3にYをセットする(ステ
ップS110,S111)。また、YがY4より小さい
場合には点(X,Y)が点Z4の候補であるから、X4
にXをセットし、Y4にYをセットする(ステップS2
01,S202)。さらに、YがY1より大きい場合に
は点(X,Y)が点Z1の候補であるから、X1にXを
セットし、Y1にYをセットする(ステップS203,
S204)。
On the other hand, when the flag D is 1 (step S1
No. in 09. ) Is point Z1 at point (X, Y), point Z3
Or it may be point Z4. Therefore, when X is smaller than X3, point (X, Y) is a candidate for point Z3, so X is set to X3 and Y is set to Y3 (steps S110 and S111). If Y is smaller than Y4, the point (X, Y) is a candidate for the point Z4.
To X and Y4 to Y (step S2
01, S202). Further, when Y is larger than Y1, the point (X, Y) is a candidate for the point Z1, so X is set to X1 and Y is set to Y1 (step S203,
S204).

【0055】以上の処理を点(0,200)から点(2
00,0)まで繰り返す(ステップS205ないしS2
07)ことにより点Z1ないし点Z4の各座標が求ま
る。
From the point (0,200) to the point (2
(00, 0) (steps S205 to S2)
07), the coordinates of the points Z1 to Z4 can be obtained.

【0056】点Z1ないし点Z4の各座標が求まると、
位置判定部201は各座標に基づいて座標データ102
を作成するとともに、点Z1ないし点Z4の各点が図1
0に示す分類Aないし分類Cのうちのいずれに該当する
かを判定し、その結果に基づいて分類データ103を作
成する(ステップS209)。
When the coordinates of the points Z1 to Z4 are obtained,
The position determination unit 201 determines the coordinate data 102 based on each coordinate.
And the points Z1 to Z4 are shown in FIG.
It is determined which of the classification A to the classification C shown in 0 corresponds, and the classification data 103 is created based on the result (step S209).

【0057】これにより、トリミング領域Sを小領域に
分割し、針痕が所定の小領域に存在するか否かによって
接触痕の位置に基づく分類を行うことができ、正常な位
置にプローブの針が接触していたか否かの判定を高速か
つ自動的に行うことができる。さらに、針痕の位置に基
づいて画像を分類して保存することができ、後に分類結
果に基づいて選択的に画像を解析することができる。
As a result, the trimming area S can be divided into small areas, and classification can be performed based on the position of the contact mark depending on whether or not the needle mark is present in a predetermined small area. It is possible to quickly and automatically determine whether or not a person is in contact. Further, the image can be classified and stored based on the position of the needle mark, and the image can be selectively analyzed later based on the classification result.

【0058】次に、深さ判定部202が座標データ10
2に基づいて、針痕が外接する四辺形の領域を求め(ス
テップS301)、求めた四辺形の領域内で所定の濃度
値以上の画素を抽出する(ステップS302)。
Next, the depth determination unit 202 causes the coordinate data 10
Based on 2, the quadrilateral region in which the needle mark is circumscribing is obtained (step S301), and pixels having a predetermined density value or more are extracted in the obtained quadrilateral region (step S302).

【0059】抽出した画素の濃度値の平均値を求め(ス
テップS303)、表1に示すように平均値による分類
を行い(ステップS304)、針痕の深さに基づく分類
情報を分類データ103に付加する。
The average value of the density values of the extracted pixels is obtained (step S303), the classification is performed according to the average value as shown in Table 1 (step S304), and the classification information based on the depth of the needle trace is stored in the classification data 103. Add.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】これにより、針痕の深さを画像における針
痕を形成する画素の濃度値に基づいて分類することがで
き、正常な深さでプローブの針が接触していたか否かの
分類を自動的に行うことができる。さらに、針痕の深さ
に基づいて画像を分類して保存することができ、後に分
類結果に基づいて選択的に画像を解析することができ
る。
Thus, the depth of the needle trace can be classified based on the density value of the pixel forming the needle trace in the image, and it can be classified whether or not the probe needle is in contact with the normal depth. It can be done automatically. Further, the image can be classified and stored based on the depth of the needle mark, and the image can be selectively analyzed later based on the classification result.

【0062】さらに、データ保存部203が位置による
分類において「異常」「注意」となった針痕については
第1画像データ100に分類データ103を付加して保
存し、「正常」と分類された針痕については第2画像デ
ータ101に分類データ103を付加して保存する(ス
テップS305)。これは、位置による分類において
「異常」「注意」に分類された画像は、針痕がトリミン
グ領域Sからはみ出していた可能性があるため、その
後、詳細判定を行う場合に撮影領域Rのデータ(第1画
像データ100)が必要だからであるのに対して、「正
常」と分類された画像は、トリミング領域Sの中央付近
に針痕が存在しており、その後、詳細判定を行う場合に
トリミング領域Sのデータ(第2画像データ101)が
あれば十分だからである。
Further, the data storage unit 203 adds the classification data 103 to the first image data 100 and saves the needle marks which are “abnormal” and “caution” in the classification by position, and are classified as “normal”. Regarding the needle mark, the classification data 103 is added to the second image data 101 and stored (step S305). This is because the images classified as “abnormal” and “caution” in the classification by position may have the needle marks protruding from the trimming area S. Therefore, when the detailed determination is performed thereafter, the data of the imaging area R ( This is because the first image data 100) is necessary, whereas the image classified as “normal” has a needle mark near the center of the trimming area S, and the trimming is performed when the detailed determination is performed thereafter. This is because the data of the area S (second image data 101) is sufficient.

【0063】なお、分類データ103に含まれるデータ
は、針痕のシリアル番号、半導体チップの番号、パッド
の番号、針痕縁分類(A3,B12,B3,C4な
ど)、濃度分類(分類I、分類IIなど)、および画像デ
ータ(第1画像データ100または第2画像データ10
1)である。
The data included in the classification data 103 includes the serial numbers of needle marks, semiconductor chip numbers, pad numbers, needle edge classifications (A3, B12, B3, C4, etc.) and density classifications (class I, Class II, etc., and image data (first image data 100 or second image data 10)
1).

【0064】これにより、撮影によって取得された画像
のうちの針痕についての画像情報に基づいて、画像を分
類して保存することができ、分類保存された画像は、分
類結果に基づいて後に選択的に解析することができる。
また、すべての針痕について第1画像データ100を保
存する場合に比べて保存するデータ量を削減することが
できる。
As a result, the images can be classified and stored based on the image information about the needle marks among the images acquired by photographing, and the classified and stored images can be selected later based on the classification result. Can be analyzed.
In addition, the amount of data to be stored can be reduced as compared with the case where the first image data 100 is stored for all needle marks.

【0065】図5に戻って、画像分類処理(ステップS
15)が終了すると、ウェハ91上のすべてのパッド9
3の撮影が終了するまでステップS11ないしS15の
処理を繰り返す(ステップS16)。
Returning to FIG. 5, the image classification process (step S
15) is completed, all pads 9 on the wafer 91 are
The processing of steps S11 to S15 is repeated until the photographing of step 3 is completed (step S16).

【0066】次に、分類状態に基づいて画像を抽出する
(ステップS17)。表2は、画像分類処理において分
類された結果に応じて抽出を行う例を示したものであ
る。総合判定欄が「詳細判定」に分類されるものがステ
ップS17において選択的に抽出される。
Next, an image is extracted based on the classification state (step S17). Table 2 shows an example of performing extraction according to the result of classification in the image classification process. Those whose comprehensive determination column is classified as "detailed determination" are selectively extracted in step S17.

【0067】[0067]

【表2】 [Table 2]

【0068】すなわち、導通検査の結果が「良(表2に
おいて導通検査欄が○のもの)」であったものについて
は、深さによる分類において「分類I」に分類された針
痕の画像(表2の例では「3の2」「4の2」が該
当)、および位置による分類において「異常」と分類さ
れた針痕の画像(表2の例では「5」が該当)が選択的
に抽出される。
That is, when the result of the continuity inspection is “good (the one in the continuity inspection column in Table 2 is“) ”, the image of the needle mark classified as“ class I ”in the classification by depth ( In the example of Table 2, “3 of 2” and “4 of 2” are applicable), and images of needle marks classified as “abnormal” in the classification by position (“5” is applicable in the example of Table 2) are selective. To be extracted.

【0069】これは、深さが浅い状態で接触した場合
(深さによる分類において「分類VI」または「分類
V」)であっても、導通検査の結果が良好であれば、た
またま酸化アルミニウムの膜が薄かっただけで製品とし
ては良好とみなせるが、プローブの接触位置がパッドか
らはみ出している場合(位置による分類において「異
常」)や深すぎてパッドの底を破っている場合(深さに
よる分類において「分類I」)には電気的特性の検査が
良好でも問題がある場合があり、詳細に解析する必要が
あるからである。
Even if the contact is made in a shallow depth (“classification VI” or “classification V” in classification by depth), if the result of the continuity test is good, it happens that the aluminum oxide is It can be considered as a good product simply because the film is thin, but when the probe contact position is out of the pad (“abnormal” in classification by position) or when it is too deep and breaks the bottom of the pad (depending on depth). This is because, in the classification, “classification I”) may have a problem even if the inspection of the electrical characteristics is good, and detailed analysis is required.

【0070】一方、導通検査の結果が「否(表2におい
て導通検査欄が×のもの)」であったものについては、
深さによる分類において「分類VI」に分類された画像
(表2の例では「12」が該当)のみが選択的に抽出さ
れる。
On the other hand, in the case where the result of the continuity inspection is "No (the continuity inspection column is X in Table 2)",
Only images classified as “classification VI” in classification by depth (“12” corresponds in the example of Table 2) are selectively extracted.

【0071】これは、深さによる分類において「分類V
I」に分類された場合は、プローブの何らかのトラブル
で針が接触しなかったために導通検査で「否」と判定さ
れたのか、針がわずかにでも接触したが導通検査で
「否」と判定されたのかを詳細に解析する必要があるか
らである。
In the classification by depth, this is "classification V
If it is classified as `` I '', it may be judged as "No" in the continuity test because the needle did not contact due to some trouble of the probe, or it may be judged as "No" in the continuity test even though the needle slightly touched. This is because it is necessary to analyze in detail the details.

【0072】詳細判定が必要と分類された画像が抽出さ
れると、抽出された画像に対して解析を行う(ステップ
S18)。選択的に抽出された画像を詳細に解析する手
法としては、画像における針痕の形状、面積、最大濃度
値、積算濃度値などを画像処理により求め、総合的に判
断する。
When the image classified as requiring the detailed determination is extracted, the extracted image is analyzed (step S18). As a method of analyzing the selectively extracted image in detail, the shape, area, maximum density value, integrated density value, etc. of the needle marks in the image are obtained by image processing and comprehensively judged.

【0073】これにより、高速な処理により分類保存さ
れた画像を、分類結果に基づいて詳細に解析する必要が
あるものだけ選択的に解析することができ、全接触痕を
解析するよりも高速にプローブの針の接触状態を解析す
ることができる。
As a result, the images classified and stored by the high-speed processing can be selectively analyzed only for those that need to be analyzed in detail based on the classification result, which is faster than the analysis of all contact marks. The contact state of the probe needle can be analyzed.

【0074】その後、抽出条件に該当する画像が終了す
るまでステップS17およびS18を繰り返し(ステッ
プS19)、解析結果を保存して(ステップS20)終
了する。
Thereafter, steps S17 and S18 are repeated until the image corresponding to the extraction condition is completed (step S19), the analysis result is saved (step S20), and the process is terminated.

【0075】以上により、プローブ痕測定装置1は、針
痕を撮影した画像の画像情報に基づいて、画像を高速に
分類して保存することができる。そして、保存された画
像を分類結果に基づいて選択的に解析することにより、
プローブによる導通検査における針の接触状態の良否判
定を効率よく行うことができる。特に、針痕の位置およ
び深さに基づいて画像を分類して保存することにより、
容易かつ高速に良否判定を行うことができる。
As described above, the probe mark measuring apparatus 1 can classify and store images at high speed based on the image information of the image of the captured needle mark. Then, by selectively analyzing the stored images based on the classification result,
It is possible to efficiently determine the quality of the contact state of the needle in the continuity test with the probe. In particular, by classifying and storing images based on the position and depth of needle marks,
Pass / fail judgment can be performed easily and at high speed.

【0076】なお、詳細に解析する手法としては、人に
よる目視が行われてもよい。その場合、プローブ痕測定
装置1は、分類結果に基づいて針痕の画像を選択的に抽
出してディスプレイなどに表示し、人がその画像を見て
判断して、解析結果を入力するなどしてもよい。
As a method of detailed analysis, visual inspection by a person may be performed. In that case, the probe mark measuring apparatus 1 selectively extracts the image of the needle mark based on the classification result and displays it on a display or the like, and a person looks at the image and judges, and inputs the analysis result. May be.

【0077】<2. 変形例>以上、本発明の実施の形
態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に
限定されるものではなく様々な変形が可能である。
<2. Modifications> The embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.

【0078】例えば、上記実施の形態において、点Z1
ないし点Z4の座標に基づいて針痕が外接する四辺形を
求めてから、濃度値の平均値を求めているが、点Z1な
いし点Z4の座標を求める際、点(X,Y)が所定の濃
度以上であると判定した時点で同時に濃度値の積算も行
って平均値を求めるようにしてもよい。
For example, in the above embodiment, the point Z1
Or, the average of density values is obtained after obtaining the quadrangle with which the needle mark circumscribes based on the coordinates of the points Z4. However, when obtaining the coordinates of the points Z1 to Z4, the point (X, Y) is set to When it is determined that the density is equal to or higher than the density, the density values may be integrated at the same time to obtain the average value.

【0079】また、上記実施の形態では、針痕の画像を
位置によって分類するために、点Z1ないし点Z4の各
座標を求めているが、点Z1ないし点Z4の各座標を求
めるのではなく、単に針痕のX座標の最大値X2と最小
値X3、およびY座標の最大値Y1と最小値Y4のみを
それぞれ求めてもよい。図14は、その場合の小領域の
分類の例を示した図である。この場合、X2、X3、Y
1、またはY4のいずれかが分類A上に存在する場合に
その針痕の画像を「注意」に分類し、トリミング枠上に
存在する場合に「異常」に分類する。
In the above embodiment, the coordinates of the points Z1 to Z4 are calculated in order to classify the images of the needle marks according to the positions. However, the coordinates of the points Z1 to Z4 are not calculated. Alternatively, only the maximum value X2 and the minimum value X3 of the X coordinate of the needle mark and the maximum value Y1 and the minimum value Y4 of the Y coordinate may be respectively obtained. FIG. 14 is a diagram showing an example of classification of small areas in that case. In this case, X2, X3, Y
If either 1 or Y4 exists on the classification A, the image of the needle mark is classified as "caution", and if it exists on the trimming frame, it is classified as "abnormal".

【0080】また、分類結果は必ずしもプローブ痕測定
装置1上に保存される必要はない。例えば、フレキシブ
ルディスクなどの記録媒体に記録されてもよいし、ネッ
トワークを通じて、詳細に解析を行うための他の端末に
分類結果を示すデータを送信してもよい。すなわち、分
類結果を後に利用することができる状態であればどのよ
うな手法が用いられてもよい。
The classification result does not necessarily have to be stored on the probe mark measuring device 1. For example, the data may be recorded in a recording medium such as a flexible disk, or the data indicating the classification result may be transmitted to another terminal for detailed analysis via a network. That is, any method may be used as long as the classification result can be used later.

【0081】[0081]

【発明の効果】請求項1に記載の発明では、取得された
画像のうちの接触痕領域についての画像情報に基づい
て、画像を分類して保存し、保存された画像を分類結果
に基づいて選択的に解析することにより、導通検査にお
けるプローブの針の全接触痕を解析するよりも高速に解
析することができる。
According to the invention described in claim 1, the images are classified and stored based on the image information about the contact mark area in the acquired image, and the stored images are classified based on the classification result. The selective analysis can be performed at a higher speed than the total contact trace of the probe needle in the continuity test.

【0082】請求項2に記載の発明では、取得された画
像の画像情報に基づいて、前記画像を分類して保存する
ことにより、分類保存された画像を後に選択的に解析す
ることができる。
According to the second aspect of the present invention, the classified and stored images can be selectively analyzed later by classifying and storing the images based on the image information of the acquired images.

【0083】請求項3に記載の発明では、接触痕の位置
に基づいて画像を分類して保存することにより、正常な
位置にプローブの針が接触していなかったものを後に選
択的に解析することができる。
According to the third aspect of the present invention, the images are classified and stored based on the positions of the contact marks, so that those in which the probe needle is not in contact with the normal position are selectively analyzed later. be able to.

【0084】請求項4に記載の発明では、接触痕が所定
の小領域に存在するか否かによって接触痕の位置に基づ
く分類を行うことにより、正常な位置にプローブの針が
接触していたか否かの分類を高速に行うことができる。
According to the fourth aspect of the invention, whether the needle of the probe is in contact with the normal position is determined by performing classification based on the position of the contact mark depending on whether the contact mark exists in a predetermined small area. It is possible to quickly classify whether or not.

【0085】請求項5に記載の発明では、接触痕の深さ
に基づいて画像を分類して保存することにより、プロー
ブの針が十分な深さで接触していなかったものを後に選
択的に解析することができる。
According to the fifth aspect of the invention, the images are classified and stored based on the depth of the contact mark, so that the needles of the probe that are not in contact with each other at a sufficient depth can be selectively selected later. Can be analyzed.

【0086】請求項6に記載の発明では、接触痕の深さ
を画像における接触痕を形成する画素の濃度値に基づい
て分類することにより、正常な深さでプローブの針が接
触していたか否かの分類を高速に行うことができる。
According to the sixth aspect of the present invention, the depth of the contact mark is classified based on the density value of the pixel forming the contact mark in the image, so that whether the probe needle contacts at the normal depth. It is possible to quickly classify whether or not.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ウェハの構造を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a structure of a wafer.

【図2】本発明の実施の形態におけるプローブ痕測定装
置の構成を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a probe mark measuring device according to an embodiment of the present invention.

【図3】CPUボードの構成を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a CPU board.

【図4】CPUがROM内のプログラムに従って動作す
ることにより実現される機能構成を他の構成とともに示
す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a functional configuration realized by a CPU operating according to a program in a ROM, together with other configurations.

【図5】プローブ痕測定装置における処理動作を示した
流れ図である。
FIG. 5 is a flowchart showing a processing operation in the probe mark measuring device.

【図6】CCDカメラの撮影領域とトリミング領域との
関係を示した図である。
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between a photographing area of a CCD camera and a trimming area.

【図7】トリミング領域Sにおける位置判定の基準とな
る4点の関係を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a relationship of four points serving as a reference for position determination in a trimming area S.

【図8】点Z1ないし点Z4を求める方法を概念的に示
した図である。
FIG. 8 is a diagram conceptually showing a method of obtaining points Z1 to Z4.

【図9】トリミング領域Sを小領域に分割して、その位
置ごとに分類する例を示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing an example in which a trimming area S is divided into small areas and classified according to their positions.

【図10】針痕が外接する四辺形の例を示した図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a quadrangle in which needle marks are circumscribed.

【図11】プローブ痕測定装置における画像分類処理の
詳細を示す流れ図である。
FIG. 11 is a flowchart showing details of image classification processing in the probe mark measuring apparatus.

【図12】プローブ痕測定装置における画像分類処理の
詳細を示す流れ図である。
FIG. 12 is a flowchart showing details of image classification processing in the probe mark measuring apparatus.

【図13】プローブ痕測定装置における画像分類処理の
詳細を示す流れ図である。
FIG. 13 is a flowchart showing details of image classification processing in the probe mark measuring apparatus.

【図14】針痕の位置による分類の例を示した図であ
る。
FIG. 14 is a diagram showing an example of classification according to the positions of needle marks.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プローブ痕測定装置 10 CCDカメラ 11 ランプ 12 ステージ 13 駆動部 14 制御部 140 CPUボード 141 画像処理ボード 142 記憶部 200 トリミング部 201 位置判定部 202 判定部 203 データ保存部 301,302,303 四辺形 91 ウェハ 92 半導体チップ 93 パッド 94,94a,94b,94c 針痕 1 Probe mark measuring device 10 CCD camera 11 lamps 12 stages 13 Drive 14 Control unit 140 CPU board 141 image processing board 142 storage 200 trimming section 201 Position determination unit 202 determination unit 203 data storage 301, 302, 303 quadrilateral 91 wafers 92 Semiconductor chips 93 pad 94, 94a, 94b, 94c Needle marks

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップの導通検査にて形成された
プローブの接触痕を測定するプローブ痕測定方法であっ
て、 前記半導体チップにおける前記接触痕を撮影した画像を
取得する画像取得工程と、 前記画像取得工程によって取得された画像の前記接触痕
についての画像情報に基づいて、前記画像を分類して保
存する保存工程と、 前記保存工程によって保存された画像を分類結果に基づ
いて選択的に解析する解析工程と、を有することを特徴
とするプローブ痕測定方法。
1. A probe mark measuring method for measuring a contact mark of a probe formed by a continuity test of a semiconductor chip, comprising an image acquiring step of acquiring an image of the contact mark on the semiconductor chip. A saving step of classifying and saving the image based on image information about the contact mark of the image acquired by the image acquiring step, and selectively analyzing the image saved by the saving step based on a classification result. A method for measuring a probe mark, which comprises:
【請求項2】 半導体チップの導通検査にて形成された
プローブの接触痕を測定するプローブ痕測定装置であっ
て、 前記半導体チップにおける前記接触痕を撮影した画像を
取得する画像取得手段と、 前記画像取得手段によって取得された画像の前記接触痕
についての画像情報に基づいて、前記画像を分類して保
存する保存手段と、を備えることを特徴とするプローブ
痕測定装置。
2. A probe mark measuring device for measuring a contact mark of a probe formed by a continuity test of a semiconductor chip, comprising: an image acquiring unit for acquiring an image of the contact mark on the semiconductor chip. A probe mark measuring device comprising: a storage unit that classifies and stores the image based on image information about the contact trace of the image acquired by the image acquisition unit.
【請求項3】 請求項2に記載のプローブ痕測定装置で
あって、 前記保存手段が、前記接触痕の位置に基づいて前記画像
を分類して保存することを特徴とするプローブ痕測定装
置。
3. The probe mark measuring apparatus according to claim 2, wherein the storage unit classifies and stores the image based on a position of the contact mark.
【請求項4】 請求項3に記載のプローブ痕測定装置で
あって、 前記画像を小領域に分割し、前記接触痕が所定の小領域
に存在するか否かによって前記接触痕の位置に基づく分
類を行うことを特徴とするプローブ痕測定装置。
4. The probe mark measuring device according to claim 3, wherein the image is divided into small regions, and the position of the contact mark is based on whether the contact mark exists in a predetermined small region. A probe mark measuring device characterized by performing classification.
【請求項5】 請求項2ないし4のいずれかに記載のプ
ローブ痕測定装置であって、 前記保存手段が、前記接触痕の深さに基づいて前記画像
を分類して保存することを特徴とするプローブ痕測定装
置。
5. The probe mark measuring device according to claim 2, wherein the saving unit classifies and saves the image based on a depth of the contact mark. Probe mark measuring device.
【請求項6】 請求項5に記載のプローブ痕測定装置で
あって、 前記保存手段が、前記接触痕の深さを前記画像における
前記接触痕を形成する画素の濃度値に基づいて分類する
ことを特徴とするプローブ痕測定装置。
6. The probe mark measuring device according to claim 5, wherein the storage unit classifies the depth of the contact mark based on a density value of a pixel forming the contact mark in the image. A probe mark measuring device characterized by.
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