JP2003062428A - Organohalogen compound treatment system - Google Patents
Organohalogen compound treatment systemInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば変圧器等の
絶縁油等のＰＣＢ等の有害物質をその排出ガスを含めて
効率的に処理することができる有機ハロゲン化物処理シ
ステムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic halide treatment system capable of efficiently treating harmful substances such as PCBs such as insulating oil of transformers and the like, including their exhaust gas.
【０００２】[0002]
【背景技術】近年では、ＰＣＢ（Polychlorinated biph
enyl, ポリ塩化ビフェニル：ビフェニルの塩素化異性体
の総称）が強い毒性を有することから、その製造および
輸入が禁止されている。このＰＣＢは、１９５４年頃か
ら国内で製造開始されたものの、カネミ油症事件をきっ
かけに生体・環境への悪影響が明らかになり、１９７２
年に行政指導により製造中止、回収の指示（保管の義
務）が出された経緯がある。BACKGROUND ART In recent years, PCB (Polychlorinated biph)
Since enyl, polychlorinated biphenyl: a generic term for chlorinated isomers of biphenyl) is highly toxic, its production and import are prohibited. Although this PCB was first manufactured in Japan around 1954, its adverse effects on the living body and environment became clear as a result of the Kanemi Yusho incident.
In the past year, there was a history of instructions to discontinue production and collection (duty of storage) due to administrative guidance.
【０００３】ＰＣＢは、ビフェニル骨格に塩素が１〜１
０個置換したものであり、置換塩素の数や位置によって
理論的に２０９種類の異性体が存在し、現在、市販のＰ
ＣＢ製品において約１００種類以上の異性体が確認され
ている。また、この異性体間の物理・化学的性質や生体
内安定性および環境動体が多様であるため、ＰＣＢの化
学分析や環境汚染の様式を複雑にしているのが現状であ
る。さらに、ＰＣＢは、残留性有機汚染物質のひとつで
あって、環境中で分解されにくく、脂溶性で生物濃縮率
が高く、さらに半揮発性で大気経由の移動が可能である
という性質を持つ。また、水や生物など環境中に広く残
留することが報告されている。この結果、ＰＣＢは体内
で極めて安定であるので、体内に蓄積され慢性中毒（皮
膚障害、肝臓障害等）を引き起し、また発癌性、生殖・
発生毒性が認められている。PCB has 1 to 1 chlorine in the biphenyl skeleton.
It has 0 substitutions, and theoretically there are 209 kinds of isomers depending on the number and position of the substituted chlorine.
About 100 or more isomers have been confirmed in CB products. In addition, the physical and chemical properties among these isomers, the in vivo stability, and the environmental dynamics are so diverse that the chemical analysis of PCB and the mode of environmental pollution are complicated at present. Further, PCB is one of the persistent organic pollutants, is not easily decomposed in the environment, is fat-soluble, has a high bioconcentration rate, and is semi-volatile, and is capable of being transferred through the atmosphere. In addition, it has been reported that it widely remains in the environment such as water and living things. As a result, since PCB is extremely stable in the body, it accumulates in the body and causes chronic poisoning (skin disorders, liver disorders, etc.), carcinogenicity, reproduction and reproduction.
Developmental toxicity is noted.
【０００４】ＰＣＢは、従来からトランスやコンデンサ
などの絶縁油として広く使用されてきた経緯があるの
で、ＰＣＢを処理する必要があり、ＰＣＢを無害化処理
する方法として４５０℃以上の真空中でトランス油とＰ
ＣＢとを加熱分離処理する方法が提案されている。Since PCB has been widely used as an insulating oil for transformers and capacitors, it is necessary to treat the PCB. As a method of detoxifying the PCB, the transformer is used in a vacuum at 450 ° C. or higher. Oil and P
A method of heat-separating CB and CB has been proposed.
【０００５】しかしながら、上記真空加熱炉でＰＣＢ分
離の際に発生する排ガスは冷却手段により冷却されＰＣ
Ｂ油をトランス油と分離しているが、冷却手段におい
て、分離される排ガスには微量ＰＣＢが残留しており、
その再処理に問題がある。However, the exhaust gas generated at the time of PCB separation in the above vacuum heating furnace is cooled by the cooling means and PC
Although the B oil is separated from the transformer oil, a small amount of PCB remains in the separated exhaust gas in the cooling means,
There is a problem in its reprocessing.
【０００６】このため、冷却手段から排出されるガスは
別途処理（例えば焼却等）する必要があるが、ダイオキ
シン類等の別な有害物質が発生するという問題がある。Therefore, the gas discharged from the cooling means needs to be separately treated (eg, incinerated), but there is a problem that another harmful substance such as dioxins is generated.
【０００７】本発明は上述した問題に鑑み、例えば変圧
器等からのＰＣＢ等の有害物質をその排出ガスを含めて
効率的に処理することができる有機ハロゲン化物処理シ
ステムを提供することを課題とする。In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide an organic halide treatment system capable of efficiently treating harmful substances such as PCB from a transformer and the like, including their exhaust gas. To do.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
第１の発明は、有機ハロゲン化物を分解処理する有機ハ
ロゲン化物処理システムであって、真空加熱炉内で有害
物質含有する被処理物を加熱処理する際に排出する排ガ
スを水熱分解処理設備で処理することを特徴とする有機
ハロゲン化物処理システムにある。A first invention for solving the above-mentioned problems is an organic halide treatment system for decomposing an organic halide, wherein an object to be treated containing a harmful substance in a vacuum heating furnace is treated. An organic halide treatment system is characterized in that exhaust gas discharged during heat treatment is treated in a hydrothermal decomposition treatment facility.
【０００９】第２の発明は、第１の発明において、上記
真空加熱炉から排出される排ガスを冷却する冷却手段を
介装してなり、該冷却手段により冷却したガスを水熱分
解処理設備で処理することを特徴とする有機ハロゲン化
物処理システムにある。A second invention is the first invention, wherein a cooling means for cooling the exhaust gas discharged from the vacuum heating furnace is provided, and the gas cooled by the cooling means is provided in a hydrothermal decomposition treatment facility. The organic halide treatment system is characterized by processing.
【００１０】第３の発明は、第１の発明において、上記
水熱分解処理設備が、加熱・加圧された反応塔内におい
て炭酸ナトリウム（Ｎａ2 ＣＯ3 ）の存在下、有機ハロ
ゲン化物の脱ハロゲン化反応および酸化分解反応により
塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）、二酸化炭素（ＣＯ2）等
に分解させる水熱酸化分解装置であることを特徴とする
有機ハロゲン化物処理システムにある。In a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the hydrothermal decomposition treatment facility removes an organic halide in the presence of sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) in a heated and pressurized reaction tower. The organic halide treatment system is characterized by being a hydrothermal oxidative decomposition apparatus for decomposing into sodium chloride (NaCl), carbon dioxide (CO 2 ) and the like by a halogenation reaction and an oxidative decomposition reaction.
【００１１】第４の発明は、第３の発明において、上記
水熱酸化分解装置が、筒形状の一次反応塔と、油又は有
機溶媒，有機ハロゲン化物，水（Ｈ2Ｏ）及び水酸化ナ
トリウム（ＮａＯＨ）の各処理液を加圧する加圧ポンプ
と、当該水を予熱する予熱器と、配管を螺旋状に巻いた
構成の二次反応塔と、二次反応塔からの処理液を冷却す
る冷却器と、処理液を気液分離する気液分離手段と、減
圧弁とを備えてなることを特徴とする有機ハロゲン化物
処理システムにある。In a fourth aspect based on the third aspect, the hydrothermal oxidative decomposition apparatus comprises a cylindrical primary reaction tower, an oil or organic solvent, an organic halide, water (H 2 O) and sodium hydroxide. A pressurizing pump for pressurizing each processing solution of (NaOH), a preheater for preheating the water, a secondary reaction tower having a spirally wound pipe, and cooling the processing solution from the secondary reaction tower. The organic halide treatment system is characterized by comprising a cooler, a gas-liquid separating means for separating the treatment liquid into a gas and a liquid, and a pressure reducing valve.
【００１２】第５の発明は、第１乃至４のいずれか１の
発明において、上記被処理物がＰＣＢを含有したトラン
ス又はコンデンサ又は蛍光灯安定器であることを特徴と
する有機ハロゲン化物処理システムにある。A fifth aspect of the present invention is the organic halide treatment system according to any one of the first to fourth aspects, wherein the object to be treated is a PCB-containing transformer or condenser or a fluorescent lamp ballast. It is in.
【００１３】第６の発明は、第５の発明において、上記
トランス又はコンデンサ又は蛍光灯安定器から分離され
た液状ＰＣＢを水熱酸化分解装置で処理すると共に、真
空加熱炉から排出される排ガスと水熱酸化分解装置から
排出される排ガスとを水熱酸化分解装置で処理すること
を特徴とする有機ハロゲン化物処理システムにある。In a sixth aspect based on the fifth aspect, the liquid PCB separated from the transformer or the condenser or the fluorescent lamp ballast is treated by a hydrothermal oxidative decomposition apparatus and exhaust gas discharged from a vacuum heating furnace is discharged. An organic halide treatment system is characterized in that exhaust gas discharged from a hydrothermal oxidative decomposition apparatus is treated by the hydrothermal oxidative decomposition apparatus.
【００１４】第７の発明は、第２の発明において、上記
冷却排ガスを貯蔵する貯蔵手段を介装してなることを特
徴とする有機ハロゲン化物処理システムにある。A seventh aspect of the present invention is the organic halide treatment system according to the second aspect, characterized in that the storage means for storing the cooling exhaust gas is interposed.
【００１５】第８の発明は、第７の発明において、上記
貯蔵手段がガスホルダ又はガスボンベであることを特徴
とする有機ハロゲン化物処理システムにある。An eighth aspect of the present invention is the organic halide treatment system according to the seventh aspect, wherein the storage means is a gas holder or a gas cylinder.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】本発明による有機ハロゲン化物処
理システムの実施の形態を以下に説明するが、本発明は
これらの実施の形態に限定されるものではない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the organic halide treatment system according to the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these embodiments.
【００１７】［第１の実施の形態］図１は本実施の形態
にかかる有機ハロゲン化物処理システムの概略図を示
す。図１に示すように、本実施の形態にかかる処理シス
テムは、有機ハロゲン化物を分解処理する有機ハロゲン
化物処理システムであって、真空加熱炉１４内で有害物
質含有する被処理物１１を加熱処理する際に排出する排
ガス１７を水熱分解処理設備１２０で処理するようにし
たものである。さらに、詳述すると、本システムは、被
処理物１１から例えば液状のＰＣＢ１２等の液状の有害
物質を分離する分離手段１３と、ＰＣＢ液が抜き出され
た被処理物１１を高温真空中で加熱して有害物質を分離
する真空加熱炉１４と、真空加熱炉１４から排出される
排ガス１５を冷却してＰＣＢ液１２と排ガス１７とに分
離する冷却手段１８と、冷却された排ガス１７及び分離
されたＰＣＢ液１２を高温・高圧の亜臨界中で水熱酸化
分解処理する水熱酸化分解装置１２０と、該水熱酸化分
解装置１２０からの処理物を排水１３３と排ガス１３１
とに分離する気液分離手段１２９とを具備してなるもの
であり、処理において排出される排ガスを全て水熱酸化
分解装置１２０で分解処理するものである。上記真空加
熱炉炉１４内の温度は２００℃〜６００℃程度、加熱時
間は３時間〜１２時間程度とするのが好ましく、炉内の
圧力は、不活性ガス置換後に常圧以下とするのが好まし
い。これにより、コンデンサ等の構成部材に付着したＰ
ＣＢを除去するとともにその構成部材を脆化させ、構成
部材の後処理（素子からのアルミ箔の分離等）を容易に
している。[First Embodiment] FIG. 1 is a schematic view of an organic halide treatment system according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the treatment system according to the present embodiment is an organic halide treatment system for decomposing an organic halide, and heat-treats an object to be treated 11 containing a harmful substance in a vacuum heating furnace 14. The exhaust gas 17 discharged during the process is treated by the hydrothermal decomposition treatment facility 120. More specifically, the present system heats the separation means 13 for separating a liquid harmful substance such as a liquid PCB 12 from the processing object 11 and the processing object 11 from which the PCB liquid is extracted in a high temperature vacuum. The vacuum heating furnace 14 for separating harmful substances by cooling, the cooling means 18 for cooling the exhaust gas 15 discharged from the vacuum heating furnace 14 into the PCB liquid 12 and the exhaust gas 17, the cooled exhaust gas 17, and the separated exhaust gas 17. A hydrothermal oxidative decomposition apparatus 120 for hydrothermally oxidatively decomposing the PCB liquid 12 in a subcritical state at high temperature and high pressure, and a treated product from the hydrothermal oxidative decomposition apparatus 120 is drained 133 and an exhaust gas 131.
And a gas-liquid separating means 129 for separating the exhaust gas into a gas and a liquid, and all of the exhaust gas discharged in the process is decomposed by the hydrothermal oxidation decomposition device 120. It is preferable that the temperature in the vacuum heating furnace 14 is about 200 ° C. to 600 ° C., the heating time is about 3 hours to 12 hours, and the pressure in the furnace is not higher than atmospheric pressure after the inert gas replacement. preferable. As a result, the P that adheres to the components such as the capacitor
The CB is removed and the constituent member is embrittled to facilitate post-treatment of the constituent member (separation of the aluminum foil from the element, etc.).
【００１８】本実施の形態では、処理液１２３となる油
（又は有機溶剤）、ＰＣＢ、Ｈ2ＯおよびＮａＯＨの各
処理液１２３ａ〜１２３ｄ以外に、排ガス１２３ｅがガ
スタンク１３５ｅに貯蔵され、配管１３６ｅ及びエジェ
クタ１３７を介して処理装置に導入されている。In the present embodiment, the exhaust gas 123e is stored in the gas tank 135e in addition to the processing liquids 123a to 123d for oil (or organic solvent), PCB, H 2 O, and NaOH which become the processing liquid 123, and the pipe 136e and It is introduced into the processing apparatus via the ejector 137.
【００１９】本発明で処理する被処理物としては、有害
物質としてＰＣＢを含有するトランス又はコンデンサ又
は蛍光灯安定器を挙げることができる。The object to be treated in the present invention may be a transformer or condenser containing fluorescent substance as a harmful substance, or a fluorescent lamp ballast.
【００２０】上記真空加熱炉からの排ガスは冷却手段で
冷却された後そのまま直接水熱酸化分解処理装置１２０
で処理するようにしてもよいが、図２に示すように、一
時的に貯蔵するようにしてもよい。The exhaust gas from the vacuum heating furnace is directly cooled by the cooling means and then directly subjected to the hydrothermal oxidative decomposition treatment apparatus 120.
However, as shown in FIG. 2, it may be temporarily stored.
【００２１】一時的に貯蔵する手段としては、図２
（Ａ），（Ｂ）に示すように、ガスホルダ２１（図２
（Ａ）参照）、又はガスボンベ１１（図２（Ｂ）参照）
を用いるようにしてよい。As means for temporarily storing, FIG.
As shown in (A) and (B), the gas holder 21 (see FIG.
(See (A)), or gas cylinder 11 (see FIG. 2B)
May be used.
【００２２】上記有害物質処理設備１２０の一例を図３
を用いて説明する。図３に示すように、サイクロンセパ
レータ１２１を併設した筒形状の一次反応塔１２２と、
油（又は有機溶剤）、ＰＣＢ、水（Ｈ2Ｏ）および水酸
化ナトリウム（ＮａＯＨ）の各処理液１２３ａ〜１２３
ｄを加圧する加圧ポンプ１２４と、当該水を予熱する熱
交換器１２５と、配管を螺旋状に巻いた構成の二次反応
塔１２６と、冷却器１２７および減圧弁１２８とを備え
てなるものである。また、上記一次反応塔１２２内には
高さ方向に、所定間隔で温度計が設けられており、温度
を計測している。なお、上記サイクロンセパレータ１２
１は必要に応じて設けるようにしてもよい。An example of the hazardous substance processing facility 120 is shown in FIG.
Will be explained. As shown in FIG. 3, a cylindrical primary reaction tower 122 provided with a cyclone separator 121,
Oil (or organic solvent), PCB, water (H 2 O) and sodium hydroxide (NaOH) treatment liquids 123 a to 123
a pressurizing pump 124 for pressurizing d, a heat exchanger 125 for preheating the water, a secondary reaction tower 126 having a spirally wound pipe, a cooler 127 and a pressure reducing valve 128. Is. Further, in the primary reaction tower 122, thermometers are provided at predetermined intervals in the height direction to measure the temperature. The above cyclone separator 12
1 may be provided if necessary.
【００２３】ここで、処理設備１２０の１次反応塔１２
２及び二次反応塔１２２内でのＰＣＢの熱水分解反応に
ついて説明する。まず、反応開始時には油、有機溶剤等
が酸化剤供給源から塔内に供給される酸化剤（本実施形
態では酸素を使用する）により酸化され二酸化炭素を生
成する。この酸化反応は発熱反応であり、これにより系
内の温度は上昇し、それに応じて圧力も上昇する。本実
施形態では、一次反応塔１２２内の温度、圧力はそれぞ
れ約３８０℃、約２６ＭＰａ程度に維持した場合に最も
ＰＣＢの分解率が向上する。Here, the primary reaction tower 12 of the processing equipment 120
2 and the hydrothermal decomposition reaction of PCB in the secondary reaction tower 122 will be described. First, at the start of the reaction, oil, an organic solvent, or the like is oxidized by an oxidant (oxygen is used in this embodiment) supplied into the tower from an oxidant supply source to generate carbon dioxide. This oxidation reaction is an exothermic reaction, whereby the temperature in the system rises and the pressure rises accordingly. In the present embodiment, the decomposition rate of PCB is most improved when the temperature and pressure in the primary reaction tower 122 are maintained at about 380 ° C. and about 26 MPa, respectively.
【００２４】上記により生成したＣＯ2 は、一次反応塔
１２２内にＰＣＢとともに供給された水酸化ナトリウム
と反応し炭酸ナトリウム（Ｎａ2 ＣＯ3 ）を生成する。
２ＮａＯＨ＋ＣＯ2 →Ｎａ2 ＣＯ3 ＋Ｈ2 Ｏ …（Ａ）
次に、上記（Ａ）の反応により生成したＮａ2 ＣＯ
3 は、ＰＣＢと反応し、ＰＣＢを脱塩及び酸化分解す
る。
Ｃ12Ｈ6 Ｃｌ4 ＋１２．５Ｏ2 ＋２Ｎａ2 ＣＯ3
→４ＮａＣｌ＋３Ｈ2 Ｏ＋１４ＣＯ2 …（Ｂ）
なお、上記の塩素数４のＰＣＢの場合であるが、他の塩
素数のものについても同様な反応が生じ、ＰＣＢがＨ2
Ｏ、ＣＯ2 、ＮａＣｌに分解される。上記（Ｂ）の反応
により生じたＣＯ2 は更に、上記（Ａ）の反応によりＮ
ａＯＨと反応し（Ｂ）の反応に必要とされるＮａ2 ＣＯ
3 を生成するようになる。ところで、上記（Ｂ）のＰＣ
Ｂ分解反応においては、炭酸ナトリウム（Ｎａ2Ｃ
Ｏ3 ）は反応剤として作用する他に、（Ｂ）の分解反応
では促進する触媒としても作用している。また、上記
（Ｂ）の分解反応はアルカリ雰囲気（例えばｐＨ１０以
上）で促進される。また、ガス中のＰＣＢ等の有害物質
も同様に処理される。The CO 2 produced as described above reacts with sodium hydroxide supplied together with PCB in the primary reaction column 122 to produce sodium carbonate (Na 2 CO 3 ). 2NaOH + CO 2 → Na 2 CO 3 + H 2 O (A) Next, Na 2 CO produced by the reaction of the above (A)
3 reacts with PCB, desalting and oxidatively decomposing PCB. C 12 H 6 Cl 4 + 12.5O 2 + 2Na 2 CO 3 → 4NaCl + 3H 2 O + 14CO 2 (B) In the case of the above-mentioned PCB having a chlorine number of 4, the same reaction is obtained for other chlorine numbers. Occurs, PCB is H 2
It is decomposed into O, CO 2 , and NaCl. The CO 2 generated by the above reaction (B) is further converted into N 2 by the above reaction (A).
Na 2 CO that reacts with aOH and is required for the reaction of (B)
Will generate 3 . By the way, the above (B) PC
In the B decomposition reaction, sodium carbonate (Na 2 C
O 3 ) acts not only as a reaction agent but also as a catalyst for promoting the decomposition reaction of (B). Further, the decomposition reaction of (B) above is promoted in an alkaline atmosphere (for example, pH 10 or higher). In addition, harmful substances such as PCB in the gas are similarly treated.
【００２５】上記熱水分解装置１２０によれば、現時点
でのＰＣＢの排出基準値（３ｐｐｂ）以下の0.５ｐｐｂ
以下まで分解でき、完全分解ができる。これによりＰＣ
Ｂ含有物品の完全処理が可能となり、ＰＣＢの完全消滅
が可能となる。上記処置設備１２０からの排出される排
ガス１３１は、ＣＯ2 と余剰のＯ2 のみとなるが、外部
は排出せずに、この排ガス１３１も再度水熱酸化分解装
置１２０に導入することにより、完全閉鎖系のＰＣＢ処
理システムを構成することができる。According to the hot water decomposing device 120, 0.5 ppb, which is equal to or lower than the current PCB emission standard value (3 ppb), is used.
It can be decomposed up to the following and can be completely decomposed. This allows the PC
The B-containing article can be completely processed, and the PCB can be completely extinguished. The exhaust gas 131 discharged from the treatment equipment 120 is only CO 2 and surplus O 2, but the exhaust gas 131 is not exhausted to the outside, and the exhaust gas 131 is also introduced into the hydrothermal oxidative decomposition apparatus 120 again to completely A closed system PCB processing system can be constructed.
【００２６】また、外部へ排出する場合においては、例
えば活性炭等のフィルタを通過して完全に有害物質を除
去した後に排出するようにすればよい。なお、フィルタ
が劣化した場合には、水熱酸化分解装置１２０にて処理
することで外部での廃棄処理による外部汚染を防止する
ことができる。When discharged to the outside, the harmful substances may be discharged after passing through a filter such as activated carbon to completely remove the harmful substances. When the filter is deteriorated, it can be treated by the hydrothermal oxidative decomposition device 120 to prevent external pollution due to external disposal.
【００２７】また、本処理設備１２０は完全密閉系であ
り、外部からのＯ2 の侵入はないので、Ｏ2 の濃度を計
測することで、反応系に寄与する酸素量が十分であるか
否かを確認することができる。Further, since the present processing equipment 120 is a completely closed system and O 2 does not enter from the outside, whether or not the amount of oxygen contributing to the reaction system is sufficient by measuring the O 2 concentration. Can be confirmed.
【００２８】よって、上記有害物質を分解処理する処理
設備１２０から排出する排ガス１３１中のＯ2 ／ＣＯ2
濃度を計測するモニタリング手段としてのＯ2 ／ＣＯ2
分析計２０１を備えることで、上記Ｏ2 濃度が所定値以
下となる場合に、制御手段２１１を介して処理装置１２
０に供給する酸素（Ｏ2 ）の供給量を酸素供給設備１３
８で調整することで上昇させ、水熱反応により分解処理
効率を向上させるようにすることができる。Therefore, O 2 / CO 2 in the exhaust gas 131 discharged from the treatment facility 120 for decomposing the harmful substances
O 2 / CO 2 as a monitoring means for measuring the concentration
By providing the analyzer 201, when the O 2 concentration is equal to or lower than a predetermined value, the processing device 12 is controlled via the control means 211.
The amount of oxygen (O 2 ) supplied to the
It can be raised by adjusting in 8, and the decomposition treatment efficiency can be improved by a hydrothermal reaction.
【００２９】なお、上記有害物質処理設備１２０として
は、上述した水熱酸化分解処理手段の他に、例えば超臨
界水酸化処理する超臨界水酸化処理手段又はバッチ式の
水熱酸化分解手段としてもよい。The harmful substance treatment facility 120 may be, for example, a supercritical water oxidation treatment means for performing supercritical water oxidation or a batch type hydrothermal oxidation decomposition means in addition to the hydrothermal oxidation decomposition treatment means described above. Good.
【００３０】[0030]
【発明の効果】以上の説明したように、本発明によれ
ば、有機ハロゲン化物を分解処理する有機ハロゲン化物
処理システムであって、真空加熱炉内で有害物質含有す
る被処理物を加熱処理する際に排出する排ガスを水熱分
解処理設備で処理するので、排ガス中の有害物質の完全
分解が可能となり、外部処理が不要となる。As described above, according to the present invention, there is provided an organic halide treatment system for decomposing an organic halide, wherein an object to be treated containing a harmful substance is heat-treated in a vacuum heating furnace. Since the exhaust gas discharged at that time is treated by the hydrothermal decomposition treatment facility, it is possible to completely decompose the harmful substances in the exhaust gas, and no external treatment is required.
【図１】第１の実施の形態にかかる有害物質処理システ
ムの概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a hazardous substance processing system according to a first embodiment.
【図２】排ガスの貯蔵設備の一例図である。FIG. 2 is an example of an exhaust gas storage facility.
【図３】水熱酸化分解装置の概要図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a hydrothermal oxidative decomposition apparatus.
１１ 被処理物 １２ ＰＣＢ液 １３ 分離手段 １４ 真空加熱炉 １５ 排ガス １７ 排ガス １８ 冷却手段 １２０ 有害物質処理設備 １２１ サイクロンセパレータ １２２ 一次反応塔 １２６ 二次反応塔 １２７ 冷却器 １２８ 減圧弁 １２９ 気液分離手段 １３１ 排ガス １３３ 排水 ２０１ Ｏ2 ／ＣＯ2 分析計 ２１１ 貯蔵手段Reference Signs List 11 Processed object 12 PCB liquid 13 Separation means 14 Vacuum heating furnace 15 Exhaust gas 17 Exhaust gas 18 Cooling means 120 Hazardous substance treatment facility 121 Cyclone separator 122 Primary reaction tower 126 Secondary reaction tower 127 Cooler 128 Pressure reducing valve 129 Gas-liquid separation means 131 Exhaust gas 133 Waste water 201 O 2 / CO 2 analyzer 211 Storage means
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｂ 37/06 Ｂ０１Ｄ 53/34 ＺＡＢ Ｃ０７Ｃ 25/18 Ｂ０９Ｂ 3/00 ３０３Ｚ (72)発明者 山元 崇 長崎県長崎市深堀町五丁目717番１号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内 Ｆターム(参考） 4D002 AA21 BA05 BA13 CA20 DA02 DA12 DA16 DA35 4D004 AA50 AB06 CA13 CA22 CA50 CB04 4H006 AA05 AC13 AC26 BA92 BD82 BD84 BE10 BE12 BE30 BE60 EA22 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C07B 37/06 B01D 53/34 ZAB C07C 25/18 B09B 3/00 303Z (72) Inventor Takashi Yamamoto Nagasaki Prefecture F-term 5-171-1 Fukahori-cho, Nagasaki Sanryo Heavy Industries Co., Ltd. Nagasaki Research Institute F-term (reference) 4D002 AA21 BA05 BA13 CA20 DA02 DA12 DA16 DA35 4D004 AA50 AB06 CA13 CA22 CA50 CB04 4H006 AA05 AC13 AC26 BA92 BD82 BD84 BE10 BE12 BE30 BE60 EA22
Claims (8)
ロゲン化物処理システムであって、 真空加熱炉内で有害物質含有する被処理物を加熱処理す
る際に排出する排ガスを水熱分解処理設備で処理するこ
とを特徴とする有機ハロゲン化物処理システム。1. An organic halide treatment system for decomposing an organic halide, wherein exhaust gas discharged during heat treatment of a substance containing a harmful substance in a vacuum heating furnace is treated with a hydrothermal decomposition treatment facility. An organic halide treatment system characterized by:
段を介装してなり、該冷却手段により冷却したガスを水
熱分解処理設備で処理することを特徴とする有機ハロゲ
ン化物処理システム。2. The method according to claim 1, further comprising a cooling means for cooling the exhaust gas discharged from the vacuum heating furnace, wherein the gas cooled by the cooling means is treated by a hydrothermal decomposition treatment facility. An organic halide treatment system.
おいて炭酸ナトリウム（Ｎａ2 ＣＯ3 ）の存在下、有機
ハロゲン化物の脱ハロゲン化反応および酸化分解反応に
より塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）、二酸化炭素（Ｃ
Ｏ2）等に分解させる水熱酸化分解装置であることを特
徴とする有機ハロゲン化物処理システム。3. The dehydrohalogenation reaction and oxidation of an organic halide according to claim 1, wherein the hydrothermal decomposition treatment facility is used in the presence of sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) in a heated and pressurized reaction tower. Sodium chloride (NaCl), carbon dioxide (C
An organic halide treatment system, which is a hydrothermal oxidative decomposition apparatus for decomposing into O 2 ).
は有機溶媒，有機ハロゲン化物，水（Ｈ2Ｏ）及び水酸
化ナトリウム（ＮａＯＨ）の各処理液を加圧する加圧ポ
ンプと、当該水を予熱する予熱器と、配管を螺旋状に巻
いた構成の二次反応塔と、二次反応塔からの処理液を冷
却する冷却器と、処理液を気液分離する気液分離手段
と、減圧弁とを備えてなることを特徴とする有機ハロゲ
ン化物処理システム。4. The hydrothermal oxidative decomposition apparatus according to claim 3, wherein the hydrothermal oxidative decomposition apparatus includes a cylindrical primary reaction tower, and an oil or an organic solvent, an organic halide, water (H 2 O) and sodium hydroxide (NaOH). A pressure pump for pressurizing the treatment liquid, a preheater for preheating the water, a secondary reaction tower having a configuration in which a pipe is spirally wound, a cooler for cooling the treatment liquid from the secondary reaction tower, and a treatment. An organic halide treatment system comprising a gas-liquid separating means for separating a liquid into a liquid and a pressure reducing valve.
サ又は蛍光灯安定器であることを特徴とする有機ハロゲ
ン化物処理システム。5. The organic halide treatment system according to claim 1, wherein the object to be processed is a transformer or a capacitor containing PCB, or a fluorescent lamp ballast.
された液状ＰＣＢを水熱酸化分解装置で処理すると共
に、真空加熱炉から排出される排ガスと水熱酸化分解装
置から排出される排ガスとを水熱酸化分解装置で処理す
ることを特徴とする有機ハロゲン化物処理システム。6. The hydrothermal oxidation decomposition apparatus according to claim 5, wherein the liquid PCB separated from the transformer or the condenser or the fluorescent lamp ballast is treated by the hydrothermal oxidation decomposition apparatus and exhaust gas discharged from the vacuum heating furnace and the hydrothermal oxidation decomposition apparatus. An organic halide treatment system characterized in that the exhaust gas discharged from the exhaust gas is treated by a hydrothermal oxidation decomposition device.
を特徴とする有機ハロゲン化物処理システム。7. The organic halide treatment system according to claim 2, further comprising a storage means for storing the cooling exhaust gas.
特徴とする有機ハロゲン化物処理システム。8. The organic halide treatment system according to claim 7, wherein the storage means is a gas holder or a gas cylinder.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001254390A JP2003062428A (en) | 2001-08-24 | 2001-08-24 | Organohalogen compound treatment system |
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ID=19082562
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2003062428A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011230037A (en) * | 2010-04-26 | 2011-11-17 | Taiyo Nippon Sanso Corp | Method of recovering remaining gas |
-
2001
- 2001-08-24 JP JP2001254390A patent/JP2003062428A/en active Pending
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