JP2003060359A - Multilayer circuit board - Google Patents

Multilayer circuit board

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JP2003060359A
JP2003060359A JP2001249216A JP2001249216A JP2003060359A JP 2003060359 A JP2003060359 A JP 2003060359A JP 2001249216 A JP2001249216 A JP 2001249216A JP 2001249216 A JP2001249216 A JP 2001249216A JP 2003060359 A JP2003060359 A JP 2003060359A
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JP
Japan
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frequency
circuit board
resin substrate
low
substrate
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Application number
JP2001249216A
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Japanese (ja)
Inventor
Eriko Ajioka
恵理子 味岡
Shigeru Asami
茂 浅見
Toshiaki Yamada
俊昭 山田
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer circuit board of compactness, high performance and a low price, which can make a high-frequency circuit and a low-frequency circuit coexist in compactness, and has low loss and heat resistance in a high-frequency circuit board, and where a pattern is not too fine and high density mounting is possible. SOLUTION: The multilayer circuit board has a high-frequency resin board 10 where a ground conductor 11 is disposed closely in one surface and a low-frequency resin board 20, where a ground conductor 21 is disposed closely in the other surface. The high-frequency resin board 10 and the low-frequency resin board 20 are opposed at a ground conductor side. At least a part of a conductor pattern 12 formed in the high-frequency resin board 10 and a part of a conductor pattern 22 formed in the low-frequency resin board 20 are connected via a through-hole.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高周波帯域、特にミ
リ波帯域に使用される高周波回路基板と、電源回路等の
低周波回路基板とを組み合わせた多層回路基板に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer circuit board in which a high frequency circuit board used in a high frequency band, particularly a millimeter wave band, and a low frequency circuit board such as a power supply circuit are combined.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、通信情報の急増に伴い、通信機の
小型化、軽量化、高速化が強く望まれており、これに対
応できる低誘電性電気絶縁材料が要求されている。特に
自動車電話、デジタル携帯電話等の携帯移動体通信や、
レーダシステムに使用される電波の周波数帯域はいわゆ
るミリ波帯(30〜300GHz程度)の高周波帯域のも
のが使用されている。これらの通信、レーダシステムと
して、使用される通信機器の急速な発展の中で、筐体お
よび基板、電子素子の小型高密度実装化等が図られてい
る。このギガHz帯のような高周波領域に対応した通信
機器の小型化、軽量化のためには、優れた高周波伝送特
性と適当な低誘電特性とを合わせ持つ基板材料としての
電気絶縁材料の開発が必要である。
2. Description of the Related Art In recent years, with the rapid increase in communication information, there has been a strong demand for downsizing, weight saving, and speeding up of communication devices, and a low dielectric electrical insulating material that can meet these demands has been required. Especially mobile communication such as car phones and digital mobile phones,
The frequency band of radio waves used in the radar system is a high frequency band in the so-called millimeter wave band (about 30 to 300 GHz). Along with the rapid development of communication equipment used for these communication and radar systems, miniaturization and high-density mounting of housings, substrates, and electronic elements are being pursued. In order to reduce the size and weight of communication equipment compatible with high-frequency regions such as the gigahertz band, it is necessary to develop an electrically insulating material as a substrate material that has both excellent high-frequency transmission characteristics and appropriate low-dielectric characteristics. is necessary.

【0003】すなわち基板上に形成された回路内では誘
電損失といわれる伝送過程におけるエネルギー損失が生
じる。このエネルギー損失は熱エネルギーとして回路内
に消費され熱として放出されるため好ましくない。この
エネルギー損失は低周波領域においては、誘電分極によ
って生じた双極子の電界の変化により生ずるものであ
り、高周波領域においてはイオン分極や電子分極によっ
て生ずるものである。交番電界1サイクル当たり誘電体
中で消費されるエネルギーと誘電体中に蓄えられるエネ
ルギーの比を誘電正接といい、tanδで表される。従
ってtanδは高周波領域では、周波数の増加に伴って
増大する。また、電子素子の高密度実装化により単位面
積当たりの発熱量が多くなるので、絶縁材料の誘電損失
を少しでも小さくするためには、tanδの小さい材料
を用いる必要がある。誘電損失の小さい低誘電性高分子
材料を用いることで誘電損失が抑制され、その結果信号
の誤作動も少なくなることから、高周波通信分野におい
ては伝送損失(エネルギーロス)の少ない材料が強く望
まれている。
That is, in the circuit formed on the substrate, energy loss in the transmission process called dielectric loss occurs. This energy loss is not preferable because it is consumed as heat energy in the circuit and is released as heat. This energy loss is caused by a change in the electric field of the dipole caused by dielectric polarization in the low frequency region, and is caused by ionic polarization or electronic polarization in the high frequency region. The ratio of the energy consumed in the dielectric per cycle of the alternating electric field and the energy stored in the dielectric is called the dielectric loss tangent and is represented by tan δ. Therefore, tan δ increases as the frequency increases in the high frequency region. In addition, since the amount of heat generated per unit area increases due to high-density mounting of electronic elements, it is necessary to use a material having a small tan δ in order to reduce the dielectric loss of the insulating material as much as possible. The use of low-dielectric polymer materials with low dielectric loss suppresses dielectric loss, resulting in less signal malfunctions. Therefore, materials with low transmission loss (energy loss) are strongly desired in the high-frequency communication field. ing.

【0004】また、ミリ波帯域などのような高周波で使
用する基板の場合、高誘電率の基板で線路を形成しよう
とすると線幅が狭くなり、回路パターン製造の精度が不
必要に高くなり実用上問題である。また、同様の問題が
基板の厚みが厚い基板に対しても生じてくる。さらに、
基板の厚みが厚いと、伝搬モードが多モードとなり、信
号が伝送路を通りにくくなり、伝送効率が極端に悪化し
てくる。
Further, in the case of a substrate used at a high frequency such as a millimeter wave band, when a line is formed with a substrate having a high dielectric constant, the line width becomes narrow, and the precision of circuit pattern production becomes unnecessarily high, which is practically used. It is an upper problem. Further, the same problem occurs with a substrate having a large thickness. further,
If the thickness of the substrate is thick, the propagation modes become multimode, and it becomes difficult for signals to pass through the transmission path, resulting in extremely poor transmission efficiency.

【0005】しかし、基板の厚みを高周波に最適化した
場合、基板の厚みが薄くなり、基板としての強度を保つ
ことが困難となってくる。このため、何らかの補強材を
設けたり、伝送特性を多少犠牲にしても基板の厚みを確
保しているのが現状である。
However, when the thickness of the substrate is optimized for high frequencies, the thickness of the substrate becomes thin and it becomes difficult to maintain the strength of the substrate. Therefore, at present, the thickness of the substrate is ensured even if some kind of reinforcing material is provided or the transmission characteristics are sacrificed to some extent.

【0006】また、このように誘電性・絶縁抵抗性に優
れた低誘電率材料にさらに求められる性能として、デバ
イス化工程のなかに必ず半田付け工程が入るため少なく
とも260℃で120秒の加熱に耐え得るだけの耐熱性
が要求され、耐熱性、耐アルカリ性等の化学的安定性、
および耐湿性や機械的特性に優れたものでなければなら
ない。
Further, as a performance further required for the low dielectric constant material having excellent dielectric properties and insulation resistance as described above, since a soldering step is necessarily included in the device forming step, heating at least at 260 ° C. for 120 seconds. Heat resistance that can withstand is required, chemical stability such as heat resistance and alkali resistance,
It must also have excellent moisture resistance and mechanical properties.

【0007】一方、高周波回路は、それ単独で用いられ
ることは少なく、例えば電源回路、バイアス回路、変調
信号に付随する種々の回路、IF信号回路等、いわゆる
低周波領域で機能する回路を伴う場合が多い。このよう
な低周波回路は、高周波回路とは基板に要求する特性も
異なっている。このため、基板に用いる樹脂材料、その
厚さ、パターン構成が異なり、同一基板上に構成するこ
とは現実的でない。一方、高周波用基板と低周波用基板
とを、それぞれ別個に作製し、同一面上に配置するとか
なりの面積を占有してしまい、小型化が困難になる。
On the other hand, the high frequency circuit is rarely used alone, and is accompanied by a circuit that functions in a so-called low frequency region, such as a power supply circuit, a bias circuit, various circuits associated with a modulation signal, an IF signal circuit, and the like. There are many. Such a low frequency circuit also differs from the high frequency circuit in the characteristics required for the substrate. For this reason, the resin material used for the substrate, its thickness, and the pattern configuration are different, and it is not realistic to configure them on the same substrate. On the other hand, if the high-frequency substrate and the low-frequency substrate are separately manufactured and arranged on the same plane, a considerable area is occupied, and downsizing becomes difficult.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、より
コンパクトに高周波回路と低周波回路を共存させること
ができ、しかも高周波回路基板において低損失で、耐熱
性も有し、しかもパターンが微細になりすぎず、高密度
実装が可能な小型、高性能で低価格の多層回路基板を提
供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to allow a high-frequency circuit and a low-frequency circuit to coexist more compactly, have a low loss in a high-frequency circuit board, have heat resistance, and have a fine pattern. It is an object of the present invention to provide a small-sized, high-performance, and low-priced multilayer circuit board that can be mounted in high density without becoming too high.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(7)の本発明により達成される。 (1) 一方の面に接地導体が密着配置されている高周
波用樹脂基板と、一方の面に接地導体が密着配置されて
いる低周波用樹脂基板とを少なくとも有し、前記高周波
用樹脂基板と低周波用樹脂基板とは、接地導体側におい
て対向して配置され、少なくとも前記高周波用樹脂基板
に形成されている導体パターンの一部と低周波用樹脂基
板に形成されている導体パターンの一部とがスルーホー
ルで接続されている多層回路基板。 (2) 前記高周波用樹脂基板の厚みが0.5mm以下で
ある上記(1)の多層回路基板。 (3) 前記高周波用樹脂基板は30GHz以上の周波数
帯域で使用され、低周波用樹脂基板は500MHz以下の
周波数で使用される上記(1)または(2)の多層回路
基板。 (4) さらに、前記高周波回路基板は、シールド材で
覆われている上記(1)〜(3)のいずれかの多層回路
基板。 (5) 前記高周波用樹脂基板の電子部品実装部の少な
くとも1つには前記接地導体まで貫通する取り付け孔が
形成され、かつこの取り付け孔内に電子部品を収納する
上記(1)〜(4)のいずれかの多層回路基板。 (6) 前記高周波用回路基板の導体線路と前記電子部
品の接続端子とがほぼ同一面上に存在する上記(5)の
高周波回路基板。 (7) 前記高周波用樹脂基板は、重量平均絶対分子量
1000以上の樹脂の1種または2種以上からなる樹脂
組成物であって、その組成物の炭素原子と水素原子の原
子数の和が99%以上であり、かつ樹脂分子間の一部ま
たはすべてが相互に化学的結合を有する耐熱性低誘電性
高分子材料により形成されている上記(1)〜(6)の
いずれかの多層回路基板。
These objects are achieved by the present invention described in (1) to (7) below. (1) At least a high-frequency resin substrate having a ground conductor closely disposed on one surface and a low-frequency resin substrate having a ground conductor closely disposed on one surface, and the high-frequency resin substrate The low frequency resin substrate is arranged to face each other on the ground conductor side, and at least a part of the conductor pattern formed on the high frequency resin substrate and a part of the conductor pattern formed on the low frequency resin substrate. A multilayer circuit board in which and are connected by through holes. (2) The multilayer circuit board according to (1), wherein the high-frequency resin board has a thickness of 0.5 mm or less. (3) The multilayer circuit board according to (1) or (2) above, wherein the high frequency resin substrate is used in a frequency band of 30 GHz or higher and the low frequency resin substrate is used in a frequency of 500 MHz or lower. (4) Furthermore, the said high frequency circuit board is a multilayer circuit board in any one of said (1)-(3) covered with the shield material. (5) The above-mentioned (1) to (4), in which at least one of the electronic component mounting portions of the high-frequency resin substrate has a mounting hole penetrating to the ground conductor, and the electronic component is housed in the mounting hole. One of the multilayer circuit boards. (6) The high-frequency circuit board according to (5), wherein the conductor line of the high-frequency circuit board and the connection terminal of the electronic component are substantially on the same plane. (7) The high-frequency resin substrate is a resin composition composed of one or more resins having a weight average absolute molecular weight of 1000 or more, and the total number of carbon atoms and hydrogen atoms in the composition is 99. % Or more and a part or all of the resin molecules are formed of a heat resistant low dielectric polymer material having a chemical bond with each other, the multilayer circuit board according to any one of (1) to (6) above. .

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に説明
する。本発明の多層回路基板は、一方の面に接地導体が
密着配置されている高周波用樹脂基板と、一方の面に接
地導体が密着配置されている低周波用樹脂基板とを少な
くとも有し、前記高周波用樹脂基板と低周波用樹脂基板
とは、接地導体側において対向して配置され、少なくと
も前記高周波用樹脂基板に形成されている導体パターン
の一部と低周波用樹脂基板に形成されている導体パター
ンの一部とがスルーホールで接続されているものであ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. The multilayer circuit board of the present invention has at least a high-frequency resin substrate in which a ground conductor is closely arranged on one surface, and a low-frequency resin substrate in which a ground conductor is closely arranged on one surface, The high-frequency resin substrate and the low-frequency resin substrate are arranged so as to face each other on the ground conductor side, and are formed on at least a part of the conductor pattern formed on the high-frequency resin substrate and the low-frequency resin substrate. A part of the conductor pattern is connected by a through hole.

【0011】このように高周波用基板と、低周波用基板
とを積層配置することで、高周波回路と、これに付随す
る低周波回路とをよりコンパクトなスペースに収納する
ことができ、小型、薄型の高周波装置を提供することが
できる。また、高周波基板の板厚を最適化した場合に問
題となる基板強度を低周波回路基板で補うことができ、
特に補強材を設ける必要もなくなる。
By stacking the high-frequency substrate and the low-frequency substrate in this manner, the high-frequency circuit and the low-frequency circuit associated therewith can be housed in a more compact space, which is small and thin. The high frequency device can be provided. In addition, the low-frequency circuit board can supplement the board strength that is a problem when the thickness of the high-frequency board is optimized.
In particular, there is no need to provide a reinforcing material.

【0012】次に、図を参照しつつ本発明の多層回路基
板についてより詳細に説明する。図1は本発明の多層回
路基板の構成例を示す分解斜視図、図2は断面図であ
り、図1,2において、それぞれ異なった構成態様を表
している。
Next, the multilayer circuit board of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an exploded perspective view showing a configuration example of a multilayer circuit board according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view, and FIGS. 1 and 2 show different configuration modes.

【0013】図1,2において、本発明の多層回路基板
は、一方の面に接地導体11が密着配置されている高周
波用樹脂基板10と、一方の面に接地導体21が密着配
置されている低周波用樹脂基板20とを有する。高周波
用樹脂基板10と、低周波用樹脂基板20の接地導体1
1,21形成面と単体側には、それぞれ導体線路12,
22が形成され、所望の回路を構成している。
1 and 2, the multilayer circuit board of the present invention has a high-frequency resin substrate 10 on one side of which a ground conductor 11 is closely arranged, and a ground conductor 21 on one side of the same. It has a low frequency resin substrate 20. Ground conductor 1 of high frequency resin substrate 10 and low frequency resin substrate 20
The conductor lines 12 and
22 is formed and constitutes a desired circuit.

【0014】また、これら高周波用樹脂基板10と、低
周波用樹脂基板20とは、その接地導体11,21が配
置されている側において対向配置され、好ましくは接着
層31により接着固定されている。
The high-frequency resin substrate 10 and the low-frequency resin substrate 20 are opposed to each other on the side where the ground conductors 11 and 21 are arranged, and are preferably adhered and fixed by an adhesive layer 31. .

【0015】また、各導体線路12,22、接地導体1
1,21は、必要に応じてスルーホール32により接続
され、必要な回路を構成できるようになっている。この
場合、特に高周波用樹脂基板10の導体線路11と、低
周波用樹脂基板20の導体線路21とが、少なくとも1
ヶ所以上のスルーホール32により接続され、両者が少
なくとも1ヶ所以上で電気的に接続された状態となるよ
うになっている。
Further, each conductor line 12 and 22, the ground conductor 1
1, 21 are connected by a through hole 32 as needed so that a necessary circuit can be configured. In this case, the conductor line 11 of the high frequency resin substrate 10 and the conductor line 21 of the low frequency resin substrate 20 are at least 1
The through holes 32 are connected at more than one place so that they are electrically connected at at least one place.

【0016】本発明の高周波用樹脂基板は、周波数帯域
30〜300GHzのミリ波帯域に好ましく用いることが
できる。なかでも周波数帯域30〜110GHz、特にレ
ーダーとしての使用を考慮すると、59〜60GHz、あ
るいは76〜77GHzの範囲で使用することが好まし
い。
The high frequency resin substrate of the present invention can be preferably used in a millimeter wave band of a frequency band of 30 to 300 GHz. Above all, it is preferable to use in the frequency band of 30 to 110 GHz, particularly in the range of 59 to 60 GHz or 76 to 77 GHz in consideration of use as a radar.

【0017】一方、本発明の低周波用樹脂基板は、上記
高周波用樹脂基板より低い周波数であれば特に限定され
るものではないが、好ましくは500MHz以下、特に2
00MHz以下、さらには100MHz以下が好ましく、そ
の下限はDCまでである。
On the other hand, the low frequency resin substrate of the present invention is not particularly limited as long as it has a lower frequency than the above high frequency resin substrate, but is preferably 500 MHz or less, particularly 2
The frequency is preferably 00 MHz or less, more preferably 100 MHz or less, and the lower limit is DC.

【0018】高周波用樹脂基板の一方の面には接地導体
が密着・配置されている。この接地導体面には、通常、
ほぼ全域を覆うように金属箔の接地パターンが形成され
ている。また、その他方の面には導体線路が形成されて
いる。この導体線路が形成されている面は、通常回路形
成面となり、その反対側の接地パターンが形成されてい
る面が接地面となる。接地パターンと回路形成面のパタ
ーンは、相互にマイクロストリップラインを構成した
り、キャパシタ、インダクタなどを構成することができ
る。
A ground conductor is closely attached and arranged on one surface of the high frequency resin substrate. This ground conductor surface is usually
The ground pattern of the metal foil is formed so as to cover almost the entire area. A conductor line is formed on the other surface. The surface on which the conductor line is formed is usually the circuit formation surface, and the surface on the opposite side on which the ground pattern is formed is the ground surface. The ground pattern and the pattern on the circuit forming surface can mutually form a microstrip line, or can form a capacitor, an inductor, or the like.

【0019】また、低周波用樹脂基板の一方の面にも上
記高周波用樹脂基板同様に、接地導体が密着・配置され
ている。この場合、接地導体は主に低周波回路において
のGNDとして機能する。
Further, a ground conductor is closely attached to and disposed on one surface of the low frequency resin substrate as in the case of the high frequency resin substrate. In this case, the ground conductor mainly functions as GND in the low frequency circuit.

【0020】また、接地パターンは高周波用樹脂基板上
に形成されている高周波回路と、低周波用樹脂基板上に
形成されている低周波回路とのシールドの役割も果た
す。そして、高周波用樹脂基板と低周波用樹脂基板の接
地導体面同士を対向させて積層することにより、双方の
干渉を排除し、それぞれの周波数帯域での良好な動作を
維持できる。
The ground pattern also serves as a shield between the high frequency circuit formed on the high frequency resin substrate and the low frequency circuit formed on the low frequency resin substrate. By stacking the ground conductor surfaces of the high-frequency resin substrate and the low-frequency resin substrate so as to face each other, interference between the two can be eliminated and good operation in each frequency band can be maintained.

【0021】高周波用樹脂基板上に形成された導体線
路、およびこれに付随する回路部品により構成される回
路としては、例えばミリ波帯域のシステムとして、アン
テナから送受信されるミリ波帯域の電波の処理に必要な
レーダーシステムの場合では、発振回路、周波数逓倍回
路、混合回路(変調回路)、増幅回路、濾波回路(フィ
ルター回路)、方向制御回路等である。
The conductor line formed on the high-frequency resin substrate and the circuit constituted by the circuit parts associated with the conductor line are, for example, a millimeter-wave band system, which processes a millimeter-wave band radio wave transmitted and received from an antenna. In the case of a radar system required for, an oscillation circuit, a frequency multiplication circuit, a mixing circuit (modulation circuit), an amplification circuit, a filtering circuit (filter circuit), a direction control circuit and the like.

【0022】低周波用樹脂基板上に形成された導体線
路、およびこれに付随する回路部品により構成される回
路としては、例えば、電源回路、バイアス回路、変調信
号に付随する種々の回路、IF信号回路等、高周波回路
が機能する上で必要となる回路を挙げることができる。
これらの回路を、高周波回路と密着して配置することに
より、装置全体の大きさをよりコンパクトなものとする
ことができる。
Examples of the circuit constituted by the conductor line formed on the low frequency resin substrate and the circuit components associated therewith include, for example, a power supply circuit, a bias circuit, various circuits associated with a modulation signal, and an IF signal. Examples of the circuit include circuits necessary for the high-frequency circuit to function.
By arranging these circuits in close contact with the high frequency circuit, the size of the entire device can be made more compact.

【0023】基板上に形成される導体線路、接地導体の
材料としては、金、銀、銅、ニッケル、クロム、チタ
ン、アルミニウム等の金属単体、あるいはこれらを用い
た合金等を用いることができる。これらは通常金属導体
フィルムとして基板上に接着、融着されたりするが、こ
の他に蒸着、スパッタ法などの気相堆積法、湿式メッキ
法等により形成することもできる。形成された金属導体
層を所望のパターンにエッチング(湿式または乾式)し
て回路パターンを得ることができる。また、導体線路側
のボンディングパットは、上記導体線路材料と同様の材
料を用いてもよいし、ボンディングワイヤとの接属性の
良好な材質のものを使用してもよい。
As the material of the conductor line and the ground conductor formed on the substrate, simple metals such as gold, silver, copper, nickel, chromium, titanium and aluminum, or alloys using these can be used. These are usually adhered and fused on the substrate as a metal conductor film, but they can also be formed by a vapor deposition method such as vapor deposition, a sputtering method, or a wet plating method. The formed metal conductor layer can be etched (wet or dry) into a desired pattern to obtain a circuit pattern. As the bonding pad on the conductor line side, a material similar to the above-mentioned conductor line material may be used, or a material having a good contact attribute with the bonding wire may be used.

【0024】基板上に形成される導体線路の厚さは、通
常、10〜1000μm 程度であるが、ミリ波帯域では
70μm 以下、特に35μm 以下、さらには18μm 以
下が好ましい。また、その下限値は、使用する周波数の
表皮厚さの3倍程度である。
The thickness of the conductor line formed on the substrate is usually about 10 to 1000 μm, but it is preferably 70 μm or less, particularly 35 μm or less, further preferably 18 μm or less in the millimeter wave band. The lower limit is about 3 times the skin depth of the frequency used.

【0025】基板の厚さとしては、形成する回路や、使
用する周波数帯域にもよるが、高周波用樹脂基板の場
合、好ましくは0.05〜0.5mm、より好ましくは
0.05〜0.15mm、特に0.075〜0.15mm程
度である。また、低周波用樹脂基板では、特に限定する
必要はなく、要求される強度、形状、材料等により最適
な厚さに設定すればよいが、特に0.4mm以下とすると
よい。
The thickness of the substrate depends on the circuit to be formed and the frequency band used, but in the case of a high frequency resin substrate, it is preferably 0.05 to 0.5 mm, more preferably 0.05 to 0. It is 15 mm, especially about 0.075 to 0.15 mm. The low frequency resin substrate is not particularly limited and may be set to an optimum thickness depending on the required strength, shape, material, etc., but it is particularly preferably 0.4 mm or less.

【0026】本発明において、高周波回路基板は、好ま
しくは図3に示すようなシールド部材により、基板上部
空間が覆われ、基板上に実装された回路が、外部と電磁
的に遮断されているとよい。また、シールド部材40
は、基板上の導体パターン12と接続され、さらにスル
ーホール32を介して接地導体22と接続されるように
なっているとよい。このように、シールド部材40と接
地導体22とをスルーホール32で接続することによ
り、より完全なシールドを行うことができ、外部環境か
らの電磁的影響を殆ど排除することができる。
In the present invention, it is preferable that the high frequency circuit board cover the upper space of the board with a shield member as shown in FIG. 3 so that the circuit mounted on the board is electromagnetically shielded from the outside. Good. In addition, the shield member 40
Is preferably connected to the conductor pattern 12 on the substrate and further connected to the ground conductor 22 through the through hole 32. In this way, by connecting the shield member 40 and the ground conductor 22 with the through holes 32, it is possible to perform more complete shielding and almost eliminate the electromagnetic influence from the external environment.

【0027】シールド部材は、導電性を有し、加工が比
較的容易なものであれば特に限定されるものではない。
具体的には、アルミニウム、黄銅、ステンレススチール
(SUS303,304等)、メタライズされた樹脂や
セラミック等を用いることができる。
The shield member is not particularly limited as long as it has conductivity and is relatively easy to process.
Specifically, aluminum, brass, stainless steel (SUS303, 304, etc.), metallized resin, ceramics, etc. can be used.

【0028】シールド部材の高さとしては、あまり高す
ぎると装置が大きくなりすぎ、低すぎると回路構成部品
と干渉してしまう。このため、使用する部品にもよる
が、基板面から5mm以下、特に0.5〜1mm程度とする
とよい。
If the height of the shield member is too high, the device becomes too large, and if it is too low, it interferes with the circuit components. Therefore, depending on the components used, it is preferable that the distance from the substrate surface is 5 mm or less, particularly about 0.5 to 1 mm.

【0029】本発明いにおいて、高周波用樹脂基板の電
子部品実装部の少なくとも1つには、好ましくは接地導
体金属面まで貫通する取り付け孔1aが形成されている
とよい。このような取り付け孔を形成し、この取り付け
孔内に電子部品を収納して配線することにより、電子部
品と導体線路とをより垂直、水平位置が近い状態で接続
することができる。
In the present invention, at least one of the electronic component mounting portions of the high frequency resin substrate is preferably provided with a mounting hole 1a penetrating to the ground conductor metal surface. By forming such a mounting hole and housing and wiring the electronic component in the mounting hole, the electronic component and the conductor line can be connected in a state in which the vertical and horizontal positions are closer to each other.

【0030】このように、基板の電子部品実装部に取り
付け孔を設け、この取り付け孔内部に電子部品を配置す
ることにより、基板表面の導体線路と電子部品の接続用
端子とを、略面位置に近い状態で接続することができ、
導体線路と電子部品とを接続するボンディングワイヤの
垂直方向の離間距離、並びに水平方向の離間距離を大幅
に短縮することができ、接続部における特性インピーダ
ンスを大幅に低下させ、伝送特性を大幅に改善すること
ができる。
As described above, the mounting hole is provided in the electronic component mounting portion of the substrate, and the electronic component is arranged inside the mounting hole, so that the conductor line on the surface of the substrate and the connection terminal for the electronic component are substantially in the plane position. Can be connected in a state close to
The vertical separation distance and horizontal separation distance of the bonding wire that connects the conductor line and the electronic component can be greatly reduced, and the characteristic impedance at the connection portion is greatly reduced, and the transmission characteristics are greatly improved. can do.

【0031】また、本発明の高周波用樹脂基板は、下記
の耐熱性低誘電性高分子材料を用いているため、低比誘
電率、低誘電正接であり、熱的にも安定で耐熱性があ
り、熱収縮率も低く、製造、加工が容易で、しかも高密
度実装、多層化が可能であり、高性能の高周波回路基板
を得ることができる。
Further, since the high-frequency resin substrate of the present invention uses the following heat-resistant low-dielectric polymer material, it has a low relative permittivity and low dielectric loss tangent, is thermally stable and has high heat resistance. In addition, the heat shrinkage rate is low, manufacturing and processing are easy, high-density mounting and multi-layering are possible, and a high-performance high-frequency circuit board can be obtained.

【0032】この取り付け孔は、基板に凹部を形成し、
電子部品を収納しうる状態の孔であれば特にその態様は
規制されるものではないが、好ましくは接地導体にまで
貫通しているものがよい。取り付け孔を接地導体にまで
貫通させることにより、製造が容易になると共に、電子
部品を接地導体上に配置させることができ、接地導体に
よる放熱効果を利用することができる。このように接地
導体を、電子部品の放熱に利用することで、電子部品に
わざわざ放熱板を取り付ける必要がなくなり、製造が容
易になると共に、回路をよりコンパクトにまとめること
ができる。
This mounting hole forms a recess in the substrate,
The form of the hole is not particularly limited as long as it is a hole in which electronic parts can be stored, but it is preferable that the hole penetrates to the ground conductor. By penetrating the mounting hole to the ground conductor, manufacturing is facilitated, and the electronic component can be arranged on the ground conductor, and the heat dissipation effect of the ground conductor can be utilized. By using the grounding conductor for heat dissipation of the electronic component as described above, it is not necessary to attach a heat dissipation plate to the electronic component, manufacturing is facilitated, and the circuit can be made more compact.

【0033】取り付け孔は、基板の導体線路と、電子部
品との間の距離を小さくするためには極力小さいことが
好ましく、収納する電子部品の外形より僅かに大きい程
度がよいが、取り付け作業やメンテナンスのしやすさを
考慮すると、電子部品の外周と、取り付け孔の内周との
離間距離は、好ましくは50〜200μm 、特に50〜
100μm 程度とするとよい。
The mounting hole is preferably as small as possible in order to reduce the distance between the conductor line of the substrate and the electronic component, and it is preferable that the mounting hole is slightly larger than the outer shape of the electronic component to be housed. Considering the ease of maintenance, the distance between the outer periphery of the electronic component and the inner periphery of the mounting hole is preferably 50 to 200 μm, particularly 50 to 200 μm.
It is preferable to set the thickness to about 100 μm.

【0034】また、特に導体線路と電子部品の取り付け
端子との間の距離が、ボンディング部分の平均水平離間
距離に換算して0.2mm以下、その平均垂直離間距離は
0.05mm以下程度であることが好ましい。
In particular, the distance between the conductor line and the mounting terminal of the electronic component is 0.2 mm or less in terms of the average horizontal separation distance of the bonding portion, and the average vertical separation distance thereof is about 0.05 mm or less. It is preferable.

【0035】また、回路素子の厚みが基板の厚みに対す
る比で0.6以上、好ましくは0.8〜1.2程度とな
るようにするとよい。
The ratio of the thickness of the circuit element to the thickness of the substrate is 0.6 or more, preferably about 0.8 to 1.2.

【0036】なお、導体線路と電子部品の取り付け端子
との間の垂直離間距離は、略面位置となることが最も好
ましいが、前述のように基板の厚みは回路構成、使用す
る周波数帯域により最適な厚みが存在するため、電子部
品の厚みがそのような基板の厚さより薄いか、これに近
い場合に上記関係の範囲とすればよい。
It is most preferable that the vertical separation distance between the conductor line and the mounting terminal of the electronic component is substantially a plane position. However, as described above, the thickness of the substrate is optimal depending on the circuit configuration and the frequency band used. Since the thickness of the electronic component is smaller than or close to the thickness of such a substrate, the range of the above relation may be set.

【0037】取り付け孔内部に収納される電子部品とし
ては、特に限定されるものではなく、高周波回路に使用
しうる電子部品であればいずれのものでもよい。具体的
には、バイポーラトランジスタ、接合型FET(特にシ
ョットキー接合型)、MOS-FET、IC、抵抗、キャパ
シタ、インダクタ、MMIC等の高周波用回路素子を用
いることができる。
The electronic component housed inside the mounting hole is not particularly limited, and any electronic component that can be used in a high frequency circuit may be used. Specifically, a high frequency circuit element such as a bipolar transistor, a junction type FET (in particular, a Schottky junction type), a MOS-FET, an IC, a resistor, a capacitor, an inductor, an MMIC can be used.

【0038】これらの電子部品は、好ましくは前記接地
導体上に取り付けられる。電子部品を接地導体上に固定
する方法としては、ねじ止めや、ねじと固定具を用いた
機械的方法により固定してもよいし、接着剤を用いて固
定してもよし、ロー付けやハンダで固定してもよい。こ
の場合、基板材料に下記の耐熱性低誘電性高分子材料を
用いると、ロー付けやハンダ付けで固定する際の熱にも
耐えることができる。
These electronic components are preferably mounted on the ground conductor. The electronic components can be fixed on the ground conductor by screwing, mechanical methods using screws and fixtures, fixing with an adhesive, brazing or soldering. You may fix with. In this case, if the following heat-resistant low-dielectric polymer material is used as the substrate material, it can withstand the heat when fixing by brazing or soldering.

【0039】電子部品と導体線路とはワイヤボンディン
グにより接続される。ワイヤボンディングは、ネイルボ
ンディング法とウエッジボンディング法とに大別され
る。いずれにしろ、半導体素子に形成されたボンディン
グパッドと、他の部品に形成されたボンディングパッド
(配線自体の場合もある)との間を、細いワイヤによっ
て接続する。具体的には、ワイヤとボンディングパッド
との固相拡散接合を利用して両者を接続する。ただし、
この固相拡散接合を実現するため、ワイヤをボンディン
グパッドに接触させる際に、これらに、熱およびまたは
超音波と、荷重(例えば、50〜150gという荷重)
とを、キャピラリーあるいはウエッジと呼ばれるツール
を介して加える必要がある。
The electronic component and the conductor line are connected by wire bonding. Wire bonding is roughly classified into a nail bonding method and a wedge bonding method. In any case, a thin wire connects between the bonding pad formed on the semiconductor element and the bonding pad (which may be the wiring itself) formed on another component. Specifically, the two are connected to each other using solid-phase diffusion bonding of the wire and the bonding pad. However,
In order to realize this solid phase diffusion bonding, when the wire is brought into contact with the bonding pad, they are subjected to heat and / or ultrasonic waves and a load (for example, a load of 50 to 150 g).
And must be added via a tool called a capillary or wedge.

【0040】ボンディングパットとしては、通常、アル
ミニウム、銅等が用いられ、ワイヤには、金、アルミニ
ウムなどが用いられる。
As the bonding pad, aluminum, copper or the like is usually used, and as the wire, gold, aluminum or the like is used.

【0041】本発明における耐熱性低誘電性高分子材料
は、重量平均絶対分子量が1000以上の1種または2
種以上の樹脂で構成される樹脂組成物であって、炭素原
子と水素原子の原子数の和が99%以上からなり、かつ
樹脂分子間の一部またはすべてが相互に化学的結合して
いるものである。このような重量平均絶対分子量の樹脂
組成物とすることによって、耐熱性低誘電性高分子材料
として用いるときの強度、金属との密着性、耐熱性が十
分になる。これに対し、重量平均絶対分子量が1000
より小さいと、機械的物性、耐熱性等が不足になり不適
である。特に好ましくは3000以上、最も好ましくは
5000以上である。このときの重量平均絶対分子量の
上限に特に制限はないが、通常1000万程度である。
The heat-resistant low-dielectric polymer material in the present invention is one or more having a weight average absolute molecular weight of 1000 or more.
A resin composition composed of at least one kind of resin, wherein the sum of the number of carbon atoms and hydrogen atoms is 99% or more, and some or all of the resin molecules are chemically bonded to each other. It is a thing. By using the resin composition having such a weight average absolute molecular weight, the strength, the adhesiveness with a metal, and the heat resistance when used as a heat resistant low dielectric polymer material become sufficient. On the other hand, the weight average absolute molecular weight is 1000
If it is smaller, mechanical properties, heat resistance, etc. become insufficient, which is not suitable. It is particularly preferably 3000 or more, and most preferably 5000 or more. The upper limit of the weight average absolute molecular weight at this time is not particularly limited, but is usually about 10 million.

【0042】また、本発明における樹脂組成物において
炭素と水素と原子数の和を99%以上とするのは、存在
する化学的結合を非極性結合とするためであり、これに
より耐熱性低誘電性高分子材料として用いるときの電気
的特性が十分になる。これに対し、炭素と水素の原子数
の和が99%より少ない場合、特に酸素原子や、窒素原
子などの有極性分子を形成する原子数が1%より多く含
まれる場合、電気的特性、特に誘電正接が高くなるため
不適である。
In addition, the reason why the sum of carbon, hydrogen and the number of atoms in the resin composition of the present invention is 99% or more is to make the existing chemical bond a non-polar bond. Has sufficient electric characteristics when used as a conductive polymer material. On the other hand, when the total number of carbon and hydrogen atoms is less than 99%, particularly when the number of atoms forming polar molecules such as oxygen atoms and nitrogen atoms is more than 1%, electrical characteristics, especially It is not suitable because the dielectric loss tangent becomes high.

【0043】上記高分子材料を構成する樹脂の具体例と
しては、低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、
超超低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、低分子
量ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン、エチレン−
プロピレン共重合体、ポリプロピレン、ポリブテン、ポ
リ4−メチルペンテン等の非極性α−オレフィンの単独
ないし共重合体[以下、(共)重合体ともいう]、ブタ
ジエン、イソプレン、ペンタジエン、ヘキサジエン、ヘ
プタジエン、オクタジエン、フェニルブタジエン、ジフ
ェニルブタジエン等の共役ジエンの各単量体の(共)重
合体、スチレン、核置換スチレン、例えばメチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピル
スチレン、クロルスチレン、α−置換スチレン、例えば
α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、ジビニルベ
ンゼン、ビニルシクロヘキサン等の炭素環含有ビニルの
各単量体の(共)重合体等が挙げられる。
Specific examples of the resin constituting the above polymer material include low density polyethylene, ultra low density polyethylene,
Ultra ultra low density polyethylene, high density polyethylene, low molecular weight polyethylene, ultra high molecular weight polyethylene, ethylene-
Homogeneous or copolymers of non-polar α-olefins such as propylene copolymer, polypropylene, polybutene, poly-4-methylpentene [hereinafter also referred to as (co) polymer], butadiene, isoprene, pentadiene, hexadiene, heptadiene, octadiene. (Co) polymers of conjugated diene monomers such as phenylbutadiene and diphenylbutadiene, styrene, nucleus-substituted styrenes such as methylstyrene, dimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, chlorostyrene, α-substituted styrenes such as Examples thereof include (co) polymers of each monomer of carbon ring-containing vinyl such as α-methylstyrene, α-ethylstyrene, divinylbenzene, and vinylcyclohexane.

【0044】上記では、非極性α−オレフィンの単量体
同士、共役ジエンの単量体同士、炭素環含有ビニルの単
量体同士の重合体を主に例示したが、例えば非極性α−
オレフィンの単量体と共役ジエンの単量体、非極性α−
オレフィンの単量体と炭素環含有ビニルの単量体のよう
に、異なる化合物種の単量体から得られた共重合体であ
ってもよい。
In the above, polymers of nonpolar α-olefin monomers, conjugated diene monomers, and carbocycle-containing vinyl monomers are mainly exemplified, but for example, nonpolar α-olefins are used.
Olefin monomer and conjugated diene monomer, non-polar α-
It may be a copolymer obtained from monomers of different compound species such as an olefin monomer and a carbocycle-containing vinyl monomer.

【0045】このように、これらの重合体、すなわち樹
脂の1種または2種以上により樹脂組成物が構成される
が、これらの樹脂分子間の一部またはすべてが相互に化
学的結合をしていなければならない。したがって、一部
は混合状態であってもよい。このように少なくとも一部
に化学的結合を有することによって耐熱性低誘電性高分
子材料として用いるときの強度、金属との密着性、耐熱
性が十分になる。これに対し、単なる混合で、化学的結
合を有しないときは、耐熱性、機械的物性の観点から不
十分である。
As described above, the resin composition is composed of one or more of these polymers, that is, the resins, and some or all of the resin molecules are chemically bonded to each other. There must be. Therefore, some may be in a mixed state. By having a chemical bond in at least a portion thereof, the strength, adhesiveness with metal, and heat resistance when used as a heat resistant low dielectric polymer material become sufficient. On the other hand, when it is simply mixed and does not have a chemical bond, it is insufficient from the viewpoint of heat resistance and mechanical properties.

【0046】本発明における化学的結合の形態は特に限
定はないが、架橋構造、ブロック構造、グラフト構造な
どが挙げられる。このような化学的結合を生じさせるに
は公知の方法によればよく、グラフト構造、ブロック構
造の好ましい態様については後述する。架橋構造を生じ
させる具体的方法としては、熱による架橋が好ましく、
このときの温度は50〜300℃程度が好ましい。この
ほか電子線照射による架橋等も挙げられる。
The form of the chemical bond in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a crosslinked structure, a block structure and a graft structure. A known method may be used to generate such a chemical bond, and preferred embodiments of the graft structure and the block structure will be described later. As a specific method for producing a crosslinked structure, crosslinking by heat is preferable,
The temperature at this time is preferably about 50 to 300 ° C. In addition to this, crosslinking by electron beam irradiation and the like are also included.

【0047】本発明における化学的結合の有無は架橋
度、グラフト構造においてはグラフト効率等を求めるこ
とによって確認することができる。また、透過型電子顕
微鏡(TEM)写真や走査型電子顕微鏡(SEM)写真
によっても確認することができる。一般に、一方の重合
体セグメント中に他方の重合体セグメントがほぼ10μ
m 以下、より具体的には、0.01〜10μm の微細粒
子として分散している。これに対し、単なる混合物(ブ
レンドポリマー)では、グラフト共重合体のような両ポ
リマー同士の相溶性はみられず、分散粒子の粒径は大き
いものとなる。
The presence or absence of a chemical bond in the present invention can be confirmed by determining the degree of cross-linking and the graft efficiency in the graft structure. It can also be confirmed by a transmission electron microscope (TEM) photograph or a scanning electron microscope (SEM) photograph. Generally, one polymer segment contains approximately 10 μm of the other polymer segment.
m or less, more specifically, 0.01 to 10 μm dispersed as fine particles. On the other hand, in a simple mixture (blended polymer), compatibility between both polymers, such as a graft copolymer, is not seen, and the particle size of dispersed particles becomes large.

【0048】本発明における樹脂組成物としては、ま
ず、非極性α−オレフィン系重合体セグメントとビニル
芳香族系共重合体セグメントとが化学的に結合した共重
合体であって、一方のセグメントにより形成された分散
相が他方のセグメントより形成された連続相中に微細に
分散している多相構造を示す熱可塑性樹脂が好ましいも
のとして挙げられる。
The resin composition of the present invention is a copolymer in which a non-polar α-olefin polymer segment and a vinyl aromatic copolymer segment are chemically bonded. A preferable example is a thermoplastic resin having a multiphase structure in which the dispersed phase formed is finely dispersed in the continuous phase formed from the other segment.

【0049】上記のような特定の多相構造を示す熱可塑
性樹脂中のセグメントの一つである非極性α−オレフィ
ン系重合体とは、高圧ラジカル重合、中低圧イオン重合
等で得られる非極性α−オレフィン単量体の単独重合体
または2種類以上の非極性α−オレフィン単量体の共重
合体でなければならない。極性ビニル単量体との共重合
体は誘電正接が高くなるため不適である。上記重合体の
非極性α−オレフィン単量体としてはエチレン、プロピ
レン、ブテン−1、ヘキセン−1、オクテン−1、4−
メチルペンテン−1類が挙げられ、なかでもエチレン、
プロピレン、ブテン−1、4−メチルペンテン−1が、
得られる非極性α−オレフィン系重合体の誘電率が低い
ため好ましい。
The non-polar α-olefin polymer, which is one of the segments in the thermoplastic resin having the above-mentioned specific multiphase structure, is a non-polar compound obtained by high-pressure radical polymerization, medium-low pressure ionic polymerization or the like. It must be a homopolymer of α-olefin monomers or a copolymer of two or more non-polar α-olefin monomers. A copolymer with a polar vinyl monomer is not suitable because it has a high dielectric loss tangent. As the non-polar α-olefin monomer of the polymer, ethylene, propylene, butene-1, hexene-1, octene-1,4-
Methylpentene-1 is mentioned, among them, ethylene,
Propylene, butene-1, 4-methylpentene-1,
The obtained nonpolar α-olefin polymer has a low dielectric constant, which is preferable.

【0050】上記非極性α−オレフィン(共)重合体の
具体例としては、低密度ポリエチレン、超低密度ポリエ
チレン、超超低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレ
ン、低分子量ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン、
エチレン−プロピレン共重合体、ポリプロピレン、ポリ
ブテン、ポリ4−メチルペンテン等が挙げられる。ま
た、これらの非極性α−オレフィン(共)重合体は、単
独で使用することも、2種以上併用することもできる。
Specific examples of the non-polar α-olefin (co) polymer include low density polyethylene, ultra low density polyethylene, ultra ultra low density polyethylene, high density polyethylene, low molecular weight polyethylene, ultra high molecular weight polyethylene,
Examples thereof include ethylene-propylene copolymer, polypropylene, polybutene, and poly-4-methylpentene. Further, these non-polar α-olefin (co) polymers can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0051】このような非極性α−オレフィン(共)重
合体の好ましい分子量は重量平均絶対分子量で1000
以上である。この上限には特に制限はないが、1000
万程度である。
The preferred molecular weight of such a non-polar α-olefin (co) polymer is 1000 in terms of weight average absolute molecular weight.
That is all. This upper limit is not particularly limited, but 1000
It is about 10,000.

【0052】一方、特定の多相構造を示す熱可塑性樹脂
中のセグメントの一つであるビニル芳香族系重合体と
は、非極性のものであり、具体的には、スチレン、核置
換スチレン、例えばメチルスチレン、ジメチルスチレ
ン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルス
チレン、α−置換スチレン、例えばα−メチルスチレ
ン、α−エチルスチレン、o−,m−,p−ジビニルベ
ンゼン(好ましくはm−,p−ジビニルベンゼン、特に
好ましくはp−ジビニルベンゼン)等の各単量体の
(共)重合体である。このように非極性のものとするの
は、極性官能基を持った単量体を共重合で導入すると、
誘電正接が高くなるため不適であるからである。ビニル
芳香族系重合体は単独で使用することも、2種以上併用
することもできる。
On the other hand, the vinyl aromatic polymer, which is one of the segments in the thermoplastic resin exhibiting a specific multiphase structure, is a non-polar one, and specifically, styrene, nucleus-substituted styrene, For example, methylstyrene, dimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, chlorostyrene, α-substituted styrene such as α-methylstyrene, α-ethylstyrene, o-, m-, p-divinylbenzene (preferably m-, p- It is a (co) polymer of each monomer such as divinylbenzene, particularly preferably p-divinylbenzene. In this way, to make non-polar, when a monomer having a polar functional group is introduced by copolymerization,
This is because the dielectric loss tangent becomes high, which is not suitable. The vinyl aromatic polymer may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0053】なかでもビニル芳香族系共重合体は、ジビ
ニルベンゼンの単量体を含むビニル芳香族共重合体が耐
熱性を向上させる上で好ましい。ジビニルベンゼンを含
むビニル芳香族共重合体とは、具体的には、スチレン、
核置換スチレン、例えばメチルスチレン、ジメチルスチ
レン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロル
スチレン、α−置換スチレン、例えばα−メチルスチレ
ン、α−エチルスチレン等の各単量体とジビニルベンゼ
ンの単量体の共重合体である。
Among them, the vinyl aromatic copolymer is preferably a vinyl aromatic copolymer containing a divinylbenzene monomer in order to improve heat resistance. The vinyl aromatic copolymer containing divinylbenzene, specifically, styrene,
Nucleo-substituted styrene such as methyl styrene, dimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chlorostyrene, α-substituted styrene such as α-methyl styrene, α-ethyl styrene, etc. It is a polymer.

【0054】ジビニルベンゼンの単量体と、これ以外の
上記のようなビニル芳香族の単量体との割合は特に限定
はないが、半田耐熱性を満足するために、ジビニルベン
ゼンの単量体の割合が1重量%以上含まれていることが
好ましい。ジビニルベンゼンの単量体は100重量%で
もかまわないが、合成上の問題から上限は90重量%が
好ましい。
The ratio of the divinylbenzene monomer to the other vinyl aromatic monomer as described above is not particularly limited, but in order to satisfy the solder heat resistance, the divinylbenzene monomer is used. It is preferable that the ratio is 1% by weight or more. The divinylbenzene monomer may be 100% by weight, but the upper limit is preferably 90% by weight due to problems in synthesis.

【0055】このような一方のセグメントであるビニル
芳香族系重合体の分子量は、重量平均絶対分子量で10
00以上であることが好ましい。この上限には特に制限
はないが、1000万程度である。
The molecular weight of the vinyl aromatic polymer, which is one of the above segments, is 10 in terms of weight average absolute molecular weight.
It is preferably 00 or more. The upper limit is not particularly limited, but is about 10 million.

【0056】本発明における特定の多相構造を示す熱可
塑性樹脂は、オレフィン系重合体セグメントが5〜95
重量%、好ましくは40〜90重量%、最も好ましくは
50〜80重量%からなるものである。したがって、ビ
ニル系重合体セグメントは95〜5重量%、好ましくは
60〜10重量%、最も好ましくは50〜20重量%で
ある。
The thermoplastic resin exhibiting a specific multi-phase structure in the present invention has an olefin polymer segment of 5 to 95.
%, Preferably 40 to 90% by weight, most preferably 50 to 80% by weight. Therefore, the vinyl polymer segment is 95 to 5% by weight, preferably 60 to 10% by weight, and most preferably 50 to 20% by weight.

【0057】オレフィン系重合体セグメントが少なくな
ると、成形物が脆くなるため好ましくない。また、オレ
フィン系重合体セグメントが多くなると、金属との密着
性が低く好ましくない。
When the olefin polymer segment is reduced, the molded product becomes brittle, which is not preferable. Further, when the amount of the olefin-based polymer segment is large, the adhesiveness to the metal is low, which is not preferable.

【0058】このような熱可塑性樹脂の重量平均絶対分
子量は1000以上である。この上限には特に制限はな
いが、成形性の点から1000万程度である。
The weight average absolute molecular weight of such a thermoplastic resin is 1,000 or more. The upper limit is not particularly limited, but is about 10 million from the viewpoint of moldability.

【0059】オレフィン系重合体セグメントとビニル系
重合体セグメントとが化学的に結合した構造の共重合体
としては具体的にはブロック共重合体やグラフト共重合
体を例示することができる。なかでも製造の容易さから
グラフト共重合体が特に好ましい。なお、これらの共重
合体にはブロック共重合体、グラフト共重合体等の特徴
を逸脱しない範囲で、オレフィン系重合体やビニル系重
合体が含まれていてもかまわない。
Specific examples of the copolymer having a structure in which the olefin polymer segment and the vinyl polymer segment are chemically bonded include a block copolymer and a graft copolymer. Of these, graft copolymers are particularly preferred because of their ease of production. It should be noted that these copolymers may contain an olefin-based polymer or a vinyl-based polymer as long as they do not deviate from the characteristics of the block copolymer, the graft copolymer and the like.

【0060】本発明における特定の多相構造を示す熱可
塑性樹脂を製造する方法は、グラフト化法として一般に
よく知られている連鎖移動法、電離性放射線照射法等い
ずれの方法によってもよいが、最も好ましいのは、下記
に示す方法によるものである。なぜならグラフト効率が
高く熱による二次的凝集が起こらないため、性能の発現
がより効果的であり、また製造方法が簡便であるためで
ある。
The method for producing a thermoplastic resin exhibiting a specific multiphase structure in the present invention may be any method such as a chain transfer method or an ionizing radiation irradiation method which is generally well known as a grafting method. Most preferred is the method described below. This is because the grafting efficiency is high and secondary aggregation due to heat does not occur, so that the performance is more effectively expressed and the manufacturing method is simple.

【0061】以下、本発明における特定の多相構造を示
す熱可塑性樹脂であるグラフト共重合体の製造方法を具
体的に詳述する。すなわち、オレフィン系重合体100
重量部を水に懸濁させて、別にビニル芳香族系単量体5
〜400重量部に、下記一般式(1)または(2)で表
されるラジカル重合性有機過酸化物の1種または2種以
上の混合物を上記ビニル単量体100重量部に対して
0.1〜10重量部と、10時間の半減期を得るための
分解温度が40〜90℃であるラジカル重合開始剤をビ
ニル単量体とラジカル重合性有機過酸化物との合計10
0重量部に対して0.01〜5重量部とを溶解させた溶
液を加え、ラジカル重合開始剤の分解が実質的に起こら
ない条件で加熱し、ビニル単量体、ラジカル重合性有機
過酸化物およびラジカル重合開始剤をオレフィン系重合
体に含浸させて、この水性懸濁液の温度を上昇させ、ビ
ニル単量体とラジカル重合性有機過酸化物とをオレフィ
ン共重合体中で共重合させて、グラフト化前駆体を得
る。
The method for producing a graft copolymer, which is a thermoplastic resin exhibiting a specific multiphase structure, in the present invention will be described in detail below. That is, the olefin polymer 100
By suspending parts by weight in water, vinyl aromatic monomer 5 is separately added.
To 400 parts by weight, one or a mixture of two or more radically polymerizable organic peroxides represented by the following general formula (1) or (2) is added to 100 parts by weight of the vinyl monomer. 1 to 10 parts by weight and a total of 10 radical polymerization initiators having a decomposition temperature of 40 to 90 ° C. for obtaining a half-life of 10 hours are vinyl monomers and radically polymerizable organic peroxides.
A solution prepared by dissolving 0.01 to 5 parts by weight with respect to 0 parts by weight is added, and the mixture is heated under the condition that decomposition of the radical polymerization initiator does not substantially occur, vinyl monomer, radical polymerizable organic peroxide. The olefin polymer is impregnated with the compound and the radical polymerization initiator, and the temperature of this aqueous suspension is raised to copolymerize the vinyl monomer and the radically polymerizable organic peroxide in the olefin copolymer. To obtain a grafted precursor.

【0062】ついで、グラフト化前駆体を100〜30
0℃の溶融下、混練することにより、本発明のグラフト
共重合体を得ることができる。このとき、グラフト化前
駆体に、別にオレフィン系重合体またはビニル系重合体
を混合し、溶融下に混練してもグラフト共重合体を得る
ことができる。最も好ましいのはグラフト化前駆体を混
練して得られたグラフト共重合体である。
Next, 100 to 30 of the grafted precursor is added.
The graft copolymer of the present invention can be obtained by kneading under melting at 0 ° C. At this time, a graft copolymer can also be obtained by separately mixing an olefin polymer or a vinyl polymer with the grafting precursor and kneading them under melting. Most preferred is a graft copolymer obtained by kneading a grafting precursor.

【0063】[0063]

【化1】 [Chemical 1]

【0064】一般式(1)中、R1は水素原子または炭
素数1〜2のアルキル基を示し、R2は水素原子または
メチル基を示し、R3およびR4はそれぞれ炭素数1〜4
のアルキル基を示し、R5は炭素数1〜12のアルキル
基、フェニル基、アルキル置換フェニル基または炭素数
3〜12のシクロアルキル基を示す。m1は1または2
である。
In the general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 and R 4 respectively have 1 to 4 carbon atoms.
It indicates an alkyl group, R 5 represents an alkyl group, a phenyl group, an alkyl-substituted phenyl group or a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms having 1 to 12 carbon atoms. m 1 is 1 or 2
Is.

【0065】[0065]

【化2】 [Chemical 2]

【0066】一般式(2)中、R6は水素原子または炭
素数1〜4のアルキル基を示し、R7は水素原子または
メチル基を示し、R8およびR9はそれぞれ炭素数1〜4
のアルキル基を示し、R10は炭素数1〜12のアルキル
基、フェニル基、アルキル置換フェニル基または炭素数
3〜12のシクロアルキル基を示す。m2は0、1また
は2である。
In the general formula (2), R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 and R 9 respectively have 1 to 4 carbon atoms.
R 10 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group, an alkyl-substituted phenyl group or a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms. m 2 is 0, 1 or 2.

【0067】一般式(1)で表されるラジカル重合性有
機過酸化物として、具体的には、t−ブチルペルオキシ
アクリロイロキシエチルカ−ボネ−ト;t−アミルペル
オキシアクリロイロキシエチルカ−ボネ−ト;t−ヘキ
シルペルオキシアクリロイロキシエチルカ−ボネ−ト;
1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシアクリ
ロイロキシエチルカ−ボネ−ト;クミルペルオキシアク
リロイロキシエチルカ−ボネ−ト;p−イソプロピルク
ミルペルオキシアクリロイロキシエチルカ−ボネ−ト;
t−ブチルペルオキシメタクリロイロキシエチルカ−ボ
ネ−ト;t−アミルペルオキシメタクリロイロキシエチ
ルカ−ボネ−ト;t−ヘキシルペルオキシメタクリロイ
ロキシエチルカ−ボネ−ト;1,1,3,3−テトラメ
チルブチルペルオキシメタクリロイロキシエチルカ−ボ
ネ−ト;クミルペルオキシメタクリロイロキシエチルカ
−ボネ−ト;p−イソプロピルクミルペルオキシメタク
リロイロキシエチルカ−ボネ−ト;t−ブチルペルオキ
シメタクリロイロキシエチルカ−ボネ−ボネ−ト;t−
アミルペルオキシアクリロイロキシエトキシエチルカ−
ボネ−ト;t−ヘキシルペルオキシアクリロイロキシエ
トキシエチルカ−ボネ−ト;1,1,3,3−テトラメ
チルブチルペルオキシアクリロイロキシエトキシエチル
カ−ボネ−ト;クミルペルオキシアクリロイロキシエト
キシエチルカ−ボネ−ト;p−イソプロピルクミルペル
オキシアクリロイロキシエトキシエチルカ−ボネ−ト;
t−ブチルペルオキシメタクリロイロキシエトキシエチ
ルカ−ボネ−ト;t−アミルペルオキシメタクリロイロ
キシエトキシエチルカ−ボネ−ト;t−ヘキシルペルオ
キシメタクリロイロキシエトキシエチルカ−ボネ−ト;
1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシメタク
リロイロキシエトキシエチルカ−ボネ−ト;クミルペル
オキシメタクリロイロキシエトキシエチルカ−ボネ−
ト;p−イソプロピルクミルペルオキシメタクリロイロ
キシエトキシエチルカ−ボネ−ト;t−ブチルペルオキ
シアクリロイロキシイソプロピルカ−ボネ−ト;t−ア
ミルペルオキシアクリロイロキシイソプロピルカ−ボネ
−ト;t−ヘキシルペルオキシアクリロイロキシイソプ
ロピルカ−ボネ−ト;1,1,3,3−テトラメチルブ
チルペルオキシアクリロイロキシイソプロピルカ−ボネ
−ト;クミルペルオキシアクリロイロキシイソプロピル
カ−ボネ−ト;p−イソプロピルクミルペルオキシアク
リロイロキシイソプロピルカ−ボネ−ト;t−ブチルペ
ルオキシメタクリロイロキシイソプロピルカ−ボネ−
ト;t−アミルペルオキシメタクリロイロキシイソプロ
ピルカ−ボネ−ト;t−ヘキシルペルオキシメタクリロ
イロキシイソプロピルカ−ボネ−ト;1,1,3,3−
テトラメチルブチルペルオキシメタクリロイロキシイソ
プロピルカ−ボネ−ト;クミルペルオキシメタクリロイ
ロキシイソプロピルカ−ボネ−ト;p−イソプロピルク
ミルペルオキシメタクリロイロキシイソプロピルカ−ボ
ネ−ト等を例示することができる。
Specific examples of the radical-polymerizable organic peroxide represented by the general formula (1) include t-butylperoxyacryloyloxyethyl carbonate; t-amylperoxyacryloyloxyethyl carbonate. Bonate; t-hexyl peroxyacryloyloxyethyl carbonate;
1,1,3,3-Tetramethylbutylperoxyacryloyloxyethyl carbonate; cumylperoxyacryloyloxyethyl carbonate; p-isopropyl cumylperoxyacryloyloxyethyl carbonate ;
t-Butylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate; t-Amylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate; t-hexylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate; 1,1,3,3- Tetramethylbutylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate; cumylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate; p-isopropyl cumylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate; t-butylperoxymethacryloyloxy Ethyl carbonate-bonate; t-
Amyl peroxyacryloyloxy ethoxyethyl carr
Carbonate; t-hexylperoxyacryloyloxyethoxyethyl carbonate; 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyacryloyloxyethoxyethyl carbonate; cumylperoxyacryloyloxyethoxyethyl Carbonate; p-Isopropylcumylperoxyacryloyloxyethoxyethyl carbonate;
t-butylperoxymethacryloyloxyethoxyethyl carbonate; t-amylperoxymethacryloyloxyethoxyethyl carbonate; t-hexylperoxymethacryloyloxyethoxyethyl carbonate;
1,1,3,3-Tetramethylbutylperoxymethacryloyloxyethoxyethyl carbonate; cumylperoxymethacryloyloxyethoxyethyl carbonate
P-isopropylcumylperoxymethacryloyloxyethoxyethyl carbonate; t-butylperoxyacryloyloxyisopropyl carbonate; t-amylperoxyacryloyloxyisopropyl carbonate; t-hexyl Peroxyacryloyloxy isopropyl carbonate; 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyacryloyloxy isopropyl carbonate; cumyl peroxyacryloyloxy isopropyl carbonate; p-isopropyl chloride Milperoxyacryloyloxy isopropyl carbonate; t-butyl peroxymethacryloyloxy isopropyl carbonate
T; amylperoxymethacryloyloxyisopropyl carbonate; t-hexylperoxymethacryloyloxyisopropyl carbonate; 1,1,3,3-
Examples thereof include tetramethylbutylperoxymethacryloyloxyisopropyl carbonate; cumylperoxymethacryloyloxyisopropyl carbonate; p-isopropylcumylperoxymethacryloyloxyisopropyl carbonate.

【0068】さらに、一般式(2)で表される化合物と
しては、t−ブチルペルオキシアリルカ−ボネ−ト;t
−アミルペルオキシアリルカ−ボネ−ト;t−ヘキシル
ペルオキシアリルカ−ボネ−ト;1,1,3,3−テト
ラメチルブチルペルオキシアリルカ−ボネ−ト;p−メ
ンタンペルオキシアリルカ−ボネ−ト;クミルペルオキ
シアリルカ−ボネ−ト;t−ブチルペルオキシメタリル
カ−ボネ−ト;t−アミルペルオキシメタリルカ−ボネ
−ト;t−ヘキシルペルオキシメタリルカ−ボネ−ト;
1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシメタリ
ルカ−ボネ−ト;p−メンタンペルオキシメタリルカ−
ボネ−ト;クミルペルオキシメタリルカ−ボネ−ト;t
−ブチルペルオキシアリロキシエチルカ−ボネ−ト;t
−アミルペルオキシアリロキシエチルカ−ボネ−ト;t
−ヘキシルペルオキシアリロキシエチルカ−ボネ−ト;
t−ブチルペルオキシメタリロキシエチルカ−ボネ−
ト;t−アミルペルキシメタリロキシエチルカ−ボネ−
ト;t−ヘキシルペルオキシメタリロキシエチルカ−ボ
ネ−ト;t−ブチルペルオキシアリロキシイソプロピル
カ−ボネ−ト;t−アミルペルオキシアリロキシイソプ
ロピルカ−ボネ−ト;t−ヘキシルペルオキシアリロキ
シイソプロピルカ−ボネ−ト;t−ブチルペルオキシメ
タリロキシイソプロピルカ−ボネ−ト;t−アミルペル
オキシメタリロキシイソプロピルカ−ボネ−ト;t−ヘ
キシルペルオキシメタリロキシイソプロピルカ−ボネ−
ト等を例示することができる。
Further, as the compound represented by the general formula (2), t-butylperoxyallyl carbonate; t
-Amyl peroxyallyl carbonate; t-hexyl peroxyallyl carbonate; 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyallyl carbonate; p-menthane peroxyallyl carbonate Cumyl peroxyallyl carbonate; t-butyl peroxy methallyl carbonate; t-amyl peroxy methallyl carbonate; t-hexyl peroxy methallyl carbonate;
1,1,3,3-Tetramethylbutylperoxymethallyl carbonate; p-menthane peroxymethallyl carbonate
Bonate; cumyl peroxymethalyl carbonate; t
-Butylperoxyallyloxyethyl carbonate; t
-Amyl peroxyallyloxyethyl carbonate; t
-Hexyl peroxyallyloxyethyl carbonate;
t-Butylperoxymetallyloxyethyl carbonate
T; t-amyl perxyl metalyloxyethyl carbonate
T-hexyl peroxymetalloxyethyl carbonyl; t-butyl peroxyallyloxy isopropyl carbonyl; t-amyl peroxyallyloxy isopropyl carbonyl; t-hexyl peroxyallyloxy isopropyl carbonyl Carbonate; t-Butylperoxymetallyloxyisopropyl carbonate; t-Amylperoxymetalloyloxyisopropyl carbonate; t-Hexylperoxymetalloyloxyisopropyl carbonate
And the like.

【0069】中でも好ましくは、t−ブチルペルオキシ
アクリロイロキシエチルカ−ボネ−ト;t−ブチルペル
オキシメタクリロイロキシエチルカ−ボネ−ト;t−ブ
チルペルオキシアリルカ−ボネ−ト;t−ブチルペルオ
キシメタリルカ−ボネ−トである。
Of these, t-butylperoxyacryloyloxyethyl carbonate; t-butylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate; t-butylperoxyallylcarbonyl carbonate; t-butylperoxy It is a methallyl carbonate.

【0070】このようにして得られるグラフト共重合体
のグラフト効率は20〜100重量%である。グラフト
効率はグラフト化していない重合体の溶媒抽出を行い、
その割合から求めることができる。
The graft efficiency of the graft copolymer thus obtained is 20 to 100% by weight. Grafting efficiency is obtained by solvent extraction of ungrafted polymer,
It can be calculated from the ratio.

【0071】本発明における特定の多相構造を示す熱可
塑性樹脂としては、上記の非極性α−オレフィン系重合
体セグメントとビニル芳香族系重合体セグメントとのグ
ラフト共重合体が好ましいが、このようなグラフト共重
合体において、非極性α−オレフィン系重合体セグメン
トのかわりに、あるいはこれに加えて非極性共役ジエン
系重合体セグメントを用いたものであってもよい。非極
性共役ジエン系重合体としては、前述のものを用いるこ
とができ、単独で使用しても2種以上を併用してもよ
い。
As the thermoplastic resin exhibiting a specific multiphase structure in the present invention, a graft copolymer of the above-mentioned non-polar α-olefin polymer segment and vinyl aromatic polymer segment is preferable. In such a graft copolymer, a nonpolar conjugated diene polymer segment may be used instead of or in addition to the nonpolar α-olefin polymer segment. As the non-polar conjugated diene polymer, those mentioned above can be used, and they may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0072】なお、以上のグラフト共重合体における非
極性α−オレフィン系重合体には共役ジエン単量体が含
まれていてもよく、非極性共役ジエン系重合体にはα−
オレフィンの単量体が含まれていてもよい。
The non-polar α-olefin polymer in the above graft copolymer may contain a conjugated diene monomer, and the non-polar conjugated diene polymer may contain α-.
An olefin monomer may be included.

【0073】また、得られたグラフト共重合体にさらに
ジビニルベンゼン等を用いて架橋することもできる。特
に、ジビニルベンゼンの単量体を含まないグラフト共重
合体において、耐熱性向上の観点から好ましい。
The obtained graft copolymer can be further crosslinked by using divinylbenzene or the like. In particular, a graft copolymer containing no divinylbenzene monomer is preferable from the viewpoint of improving heat resistance.

【0074】一方、本発明における特定の多相構造を示
す熱可塑性樹脂としては、ブロック共重合体であっても
よく、ブロック共重合体としては、少なくとも1つのビ
ニル芳香族単量体の重合体と、少なくとも1つの共役ジ
エンの重合体とを含むブロック共重合体を挙げることが
でき、直鎖型であっても、ラジアル型、すなわちハード
セグメントとソフトセグメントが放射線状に結合したも
のであってもよい。また、共役ジエンを含む重合体が少
量のビニル芳香族の単量体とのランダム共重合体であっ
てもよく、いわゆるテーパー型ブロック共重合体、すな
わち1つのブロック内でビニル芳香族の単量体が漸増す
るものであってもよい。
On the other hand, the thermoplastic resin having a specific multiphase structure in the present invention may be a block copolymer, and the block copolymer may be a polymer of at least one vinyl aromatic monomer. And a block copolymer containing at least one polymer of a conjugated diene. Even if it is a linear type, it is a radial type, that is, a hard segment and a soft segment are bound in a radial pattern. Good. The polymer containing the conjugated diene may be a random copolymer with a small amount of a vinyl aromatic monomer, and is a so-called taper type block copolymer, that is, a vinyl aromatic monomer in one block. The body may gradually increase.

【0075】ブロック共重合体の構造については特に制
限はなく、(A−B)n 型、(A−B)n −A型または
(A、B)n −C型のいずれであってもよい。式中、A
はビニル芳香族の単量体の重合体、Bは共役ジエンの重
合体、Cはカップリング剤残基、nは1以上の整数を示
す。なお、このブロック共重合体において、共役ジエン
部分が水素添加されたブロック共重合体を使用すること
も可能である。
The structure of the block copolymer is not particularly limited and may be any of (AB) n type, (AB) n -A type and (A, B) n -C type. . In the formula, A
Is a polymer of vinyl aromatic monomer, B is a polymer of conjugated diene, C is a coupling agent residue, and n is an integer of 1 or more. In this block copolymer, it is also possible to use a block copolymer in which the conjugated diene portion is hydrogenated.

【0076】このようなブロック共重合体において、上
記の非極性共役ジエン系共重体のかわりに、あるいはこ
れに加えて、前述の非極性α−オレフィン系重合体を用
いてもよく、非極性共役ジエン系重合体はα−オレフィ
ン単量体を含んでいるものであってもよく、非極性α−
オレフィン系重合体は、共役ジエンの単量体を含んでい
るものであってもよい。ブロック共重合体における各セ
グメントの量比や好ましい態様についてはグラフト共重
合体に準じる。
In such a block copolymer, the above-mentioned nonpolar α-olefin-based polymer may be used instead of or in addition to the above-mentioned nonpolar conjugated diene-based copolymer. The diene polymer may contain an α-olefin monomer, and may be a non-polar α-
The olefin polymer may contain a conjugated diene monomer. The amount ratio of each segment in the block copolymer and a preferable embodiment are the same as those in the graft copolymer.

【0077】本発明における樹脂組成物、好ましくは特
定の多相構造を示す熱可塑性樹脂(特に好ましくはグラ
フト共重合体)には、耐熱性を向上させるために、4−
メチルペンテン−1の単量体を含む非極性α−オレフィ
ン系重合体を加えることが好ましい。なお、本発明で
は、4−メチルペンテン−1の単量体を含む非極性α−
オレフィン系重合体が化学的結合をすることなく樹脂組
成物に含有されている場合もありうるが、このような場
合には必ずしもその添加は必要とはされない。ただし、
所定の特性を得るためにさらに添加してもよい。
In order to improve heat resistance, the resin composition of the present invention, preferably a thermoplastic resin (particularly preferably a graft copolymer) showing a specific multiphase structure, is
It is preferable to add a non-polar α-olefin-based polymer containing a monomer of methylpentene-1. In the present invention, non-polar α-containing a monomer of 4-methylpentene-1
The olefin polymer may be contained in the resin composition without forming a chemical bond, but in such a case, its addition is not always necessary. However,
It may be further added in order to obtain desired characteristics.

【0078】このような4−メチルペンテン−1の単量
体を含む非極性α−オレフィン系共重合体における4−
メチルペンテン−1の単量体の割合は50重量%以上で
あることが好ましい。なお、このような非極性α−オレ
フィン系共重体は、共役ジエンの単量体を含むものであ
ってもよい。
4- in the non-polar α-olefin copolymer containing such a monomer of 4-methylpentene-1
The proportion of the monomer of methylpentene-1 is preferably 50% by weight or more. In addition, such a nonpolar α-olefin-based copolymer may contain a monomer of a conjugated diene.

【0079】特に、4−メチルペンテン−1の単量体を
含む非極性α−オレフィン系共重合体としては、4−メ
チルペンテン−1の単量体の単独重合体であるポリ4−
メチルペンテン−1であることが好ましい。
In particular, the non-polar α-olefin copolymer containing 4-methylpentene-1 monomer is poly 4-, which is a homopolymer of 4-methylpentene-1 monomer.
It is preferably methylpentene-1.

【0080】ポリ4−メチルペンテン−1は、結晶性の
ポリ4−メチルペンテン−1であって、プロピレンの2
量体である4−メチルペンテン−1をチーグラー・ナッ
タ系触媒等を用いて重合されるアイソタクチック・ポリ
4−メチルペンテン−1が好ましい。
Poly-4-methylpentene-1 is a crystalline poly-4-methylpentene-1 which has a propylene content of 2%.
Isotactic poly-4-methylpentene-1 in which 4-methylpentene-1 which is a monomer is polymerized using a Ziegler-Natta type catalyst or the like is preferable.

【0081】ポリ4−メチルペンテン−1と特定の多相
構造を示す熱可塑性樹脂の割合は、特に限定はないが、
耐熱性および金属との接着性を満足するために、ポリ4
−メチルペンテン−1の割合が10〜90重量%である
ことが好ましい。ポリ4−メチルペンテン−1の割合が
少ないと半田耐熱性が不足する傾向がある。またポリ4
−メチルペンテン−1の割合が多くなると金属との密着
性が不足する傾向がある。ポリ4−メチルペンテン−1
にかえて、共重合体を使用するときの添加量は、これに
準じるものとすればよい。
The ratio of poly-4-methylpentene-1 to the thermoplastic resin exhibiting a specific multiphase structure is not particularly limited,
In order to satisfy heat resistance and adhesion to metal, poly 4
The proportion of -methylpentene-1 is preferably 10 to 90% by weight. If the proportion of poly-4-methylpentene-1 is low, solder heat resistance tends to be insufficient. Also poly 4
-When the proportion of methylpentene-1 is large, the adhesion with metal tends to be insufficient. Poly-4-methylpentene-1
Instead, the addition amount of the copolymer may be in accordance with this.

【0082】本発明における樹脂組成物(4−メチルペ
ンテン−1の単量体を含む非極性α−オレフィン系重合
体を加えたものを含む)の軟化点は200〜260℃で
あり、適宜選択して用いることにより、十分な半田耐熱
性を得ることができる。
The softening point of the resin composition of the present invention (including a non-polar α-olefin polymer containing a monomer of 4-methylpentene-1) is 200 to 260 ° C. By using it, sufficient solder heat resistance can be obtained.

【0083】本発明における耐熱性低誘電性高分子材料
は、前記樹脂組成物から構成される樹脂材料を熱プレス
等により例えば薄膜(フィルム)等の所望形状に成形す
る方法等により得ることができるほか、せん断力のあ
る、例えばロ−ルミキサ−、バンバリ−ミキサ−、ニ−
ダ−、単軸あるいは二軸の押出成型機等で、他の熱可塑
性樹脂と溶融混合し、所望形状に成形する方法等によっ
ても得ることができる。
The heat resistant low dielectric polymer material in the present invention can be obtained by a method of molding a resin material composed of the above resin composition into a desired shape such as a thin film by hot pressing or the like. In addition, shear mixers such as roll mixers, Banbury mixers, and knee mixers
It can also be obtained by a method of melt-mixing with another thermoplastic resin using a doubler, single-screw or twin-screw extruder, etc., and molding into a desired shape.

【0084】上記において樹脂材料のみならず、補強用
充填材として従来よりリジッド基板等に用いられている
シリカ粉、アルミナ粉、沈降性バリウム(BaSO4
粉等を、熱伝導性のコントロール、膨張係数コントロー
ル、メッキによる銅等の付着、密着性の向上、低価格化
を目的として、低誘電性(低誘電率、低誘電損失正接)
を害さない範囲で使用することが好ましい。補強用充填
剤は単独で使用することも、複数使用することもでき
る。
In the above, not only the resin material but also silica powder, alumina powder, and precipitated barium (BaSO 4 ) which have been conventionally used as a reinforcing filler in rigid substrates and the like.
Low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) for controlling thermal conductivity, expansion coefficient control, adhesion of copper etc. by plating, adhesion improvement, and cost reduction
It is preferable to use it within a range that does not hurt. The reinforcing filler can be used alone or in combination.

【0085】補強用充填剤含有フィルム中の樹脂材料の
含有量は10〜70重量%が適当である。これにより強
度が十分で、低誘電性を有し、耐熱性のあるフィルムな
いし基板となる。このような含有量は、フィルムを積層
する際、あるいは基板を積層する際に樹脂のりとして樹
脂材料、すなわち樹脂材料自体が熱融着できる量(10
重量%以上)を維持することによって実現されるもので
あってもよい。
The content of the resin material in the reinforcing filler-containing film is suitably 10 to 70% by weight. This results in a film or substrate having sufficient strength, low dielectric properties, and heat resistance. Such a content is such that the resin material as the resin paste, that is, the resin material itself can be heat-sealed when laminating films or laminating substrates (10
It may be realized by maintaining the content of (wt% or more).

【0086】本発明における樹脂材料を所定形状にする
成形方法としては、すでに述べたものもあるが、モール
ディング法、コンプレッション法、押し出し法などが挙
げられ、公知の方法に準じ、本発明の樹脂材料の使用目
的に応じ安価に成形できる方法を選択すればよい。
As the molding method for forming the resin material of the present invention into a predetermined shape, there have been already mentioned ones, but a molding method, a compression method, an extrusion method and the like can be mentioned. According to a known method, the resin material of the present invention can be used. A method that can be inexpensively molded may be selected according to the purpose of use.

【0087】本発明における耐熱性低誘電性高分子材料
の電気的性能においては、特に周波数帯域が30GHz以
上、特に30GHz〜300GHzのミリ波帯域において、
誘電率(ε)が1以上、特に2.0〜2.2を示し、か
つ誘電正接(tanδ)が、0.01以下、通常0.0
015〜0.005を有する低誘電性電気絶縁材料を得
ることができ、また電気素子となる補強用充填剤含有電
気絶縁基板にすることによって、基板強度を改善し、低
誘電性電気絶縁基板そのものよりも膨張係数を小さく
し、熱伝導性を向上させることができる。
Regarding the electrical performance of the heat-resistant low-dielectric polymer material of the present invention, especially in the frequency band of 30 GHz or more, particularly in the millimeter wave band of 30 GHz to 300 GHz,
A dielectric constant (ε) of 1 or more, particularly 2.0 to 2.2, and a dielectric loss tangent (tan δ) of 0.01 or less, usually 0.0
A low dielectric electric insulating material having 015 to 0.005 can be obtained, and by using a reinforcing filler-containing electric insulating substrate that becomes an electric element, the strength of the substrate is improved, and the low dielectric electric insulating substrate itself. The coefficient of expansion can be made smaller and the thermal conductivity can be improved.

【0088】なお、本発明における高分子材料の絶縁抵
抗率は常態における体積抵抗率で2〜5×1014Ωcm以
上である。また、絶縁破壊強度も強く、15KV/mm 以
上、特に18〜30KV/mm と優れた特性を示す。
The insulation resistivity of the polymer material of the present invention is 2-5 × 10 14 Ωcm or more in terms of volume resistivity in a normal state. Further, it has a high dielectric breakdown strength and exhibits excellent characteristics of 15 KV / mm or more, particularly 18 to 30 KV / mm.

【0089】この高分子材料は、耐熱性に優れ、ロー付
け、半田付けの際の加熱温度に耐え得る。
This polymer material is excellent in heat resistance and can endure the heating temperature at the time of brazing and soldering.

【0090】本発明において、低周波用樹脂基板に用い
られる樹脂材料としては、特に限定されるものではな
く、溶剤にて希釈でき、熱プレスが可能でエッチングに
耐えられればよく、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂、ポリイミド、ポリエステル、ポリ
フェニレンオキサイド、メラミン樹脂、シアネートエス
テル系樹脂、ジアリルフタレート等の熱硬化、熱可塑性
いずれの樹脂でもよい。
In the present invention, the resin material used for the low frequency resin substrate is not particularly limited and may be any one that can be diluted with a solvent, can be hot pressed and can withstand etching, such as epoxy resin and phenol. Resins such as resins, polyolefin resins, polyimides, polyesters, polyphenylene oxides, melamine resins, cyanate ester resins and diallyl phthalates may be used either thermosetting or thermoplastic resins.

【0091】特に、エポキシ樹脂が好ましく用いられ、
エポキシ樹脂にはビスフェノール型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、多官能グリシジルアミン樹脂等があ
る。
Particularly, an epoxy resin is preferably used,
Examples of the epoxy resin include bisphenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, and polyfunctional glycidyl amine resin.

【0092】中でも、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、多官能グ
リシジルアミン樹脂が耐熱性等の点で好ましい。
Of these, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, and polyfunctional glycidyl amine resin are preferable in terms of heat resistance.

【0093】また、補強材としてガラス繊維などを含有
していてもよい。
Further, glass fiber or the like may be contained as a reinforcing material.

【0094】高周波用樹脂基板と低周波用樹脂基板と
は、少なくとも接地導体側において対向して配置され、
少なくとも前記高周波用樹脂基板に形成されている導体
パターンの一部と低周波用樹脂基板に形成されている導
体パターンの一部とがスルーホールで接続されている。
The high frequency resin substrate and the low frequency resin substrate are arranged to face each other at least on the ground conductor side,
At least a part of the conductor pattern formed on the high frequency resin substrate and a part of the conductor pattern formed on the low frequency resin substrate are connected by through holes.

【0095】高周波用樹脂基板と低周波用樹脂基板と
は、少なくとも接地導体側において対向して配置され、
好ましくは接着される。接着には、通常用いられている
接着剤を用いてもよいし、プリプレグをその代わりに用
いてもよい。接着剤としては、上記樹脂材料、金属材料
を接着可能なものであれば特に限定させるものではない
が、例えばエポキシ系の接着剤等を挙げることができ
る。
The high frequency resin substrate and the low frequency resin substrate are arranged to face each other at least on the ground conductor side,
It is preferably glued. For the adhesion, a commonly used adhesive may be used, or a prepreg may be used instead. The adhesive is not particularly limited as long as it can bond the resin material and the metal material, and examples thereof include an epoxy adhesive.

【0096】このような接着剤による接着層の厚みとし
ては、0.005〜0.01mm程度である。
The thickness of the adhesive layer made of such an adhesive is about 0.005 to 0.01 mm.

【0097】さらに、高周波用樹脂基板と、低周波用樹
脂基板とは、それぞれ複数層積層された多層構造となっ
ていてもよい。本発明では、これらの構成層のうち、少
なくとも1層以上の導体線路同士がスルーホールにより
電気的に接続されていればよい。なお、高周波用樹脂基
板と、低周波用樹脂基板とを接続するスルーホール部分
の接地導体は、このスルーホールと接触しないように除
去されている。
Further, the high frequency resin substrate and the low frequency resin substrate may each have a multilayer structure in which a plurality of layers are laminated. In the present invention, at least one or more conductor lines among these constituent layers may be electrically connected to each other by through holes. The ground conductor of the through hole connecting the high frequency resin substrate and the low frequency resin substrate is removed so as not to contact the through hole.

【0098】[0098]

【実施例】以下本発明を実施例によりさらに詳しく説明
する。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples.

【0099】<高周波基板基板材料の合成>容積5リッ
トルのステンレス製オ−トクレ−ブに、純水2500g
を入れ、さらに懸濁剤としてポリビニルアルコ−ル2.
5gを溶解させた。この中にオレフィン系重合体として
ポリプロピレン「Jアロイ150G」(商品名、日本ポ
リオレフィン(株)製)700gを入れ、撹はん・分散
した。別にラジカル重合開始剤としてのベンゾイルペル
オキシド1.5g、ラジカル重合性有機過酸化物として
t−ブチルペルオキシメタクリロイロキシエチルカ−ボ
ネ−ト6gを、ジビニルベンゼン100g、ビニル芳香
族単量体としてスチレン200gの混合液に溶解させ、
この溶液を前記オ−トクレ−ブ中に投入・撹はんした。
次いでオ−トクレ−ブを60〜65℃に昇温し、2時間
撹はんすることによりラジカル重合開始剤およびラジカ
ル重合性有機過酸化物を含むビニル単量体をポリプロピ
レン中に含浸させた。次いで、温度を80〜85℃に上
げ、その温度で7時間維持して重合を完結させ、水洗お
よび乾燥してグラフト化前駆体(b)を得た。
<Synthesis of High Frequency Substrate Substrate Material> 2500 g of pure water was placed in a stainless steel autoclave having a volume of 5 liters.
And polyvinyl alcohol as a suspending agent 2.
5 g was dissolved. 700 g of polypropylene "J Alloy 150G" (trade name, manufactured by Nippon Polyolefin Co., Ltd.) was put into this as an olefin polymer, and stirred and dispersed. Separately, 1.5 g of benzoyl peroxide as a radical polymerization initiator, 6 g of t-butylperoxymethacryloyloxyethyl carbonate as a radically polymerizable organic peroxide, 100 g of divinylbenzene and 200 g of styrene as a vinyl aromatic monomer. Dissolved in a mixture of
This solution was put into the autoclave and stirred.
Then, the autoclave was heated to 60 to 65 ° C. and stirred for 2 hours to impregnate polypropylene with a vinyl monomer containing a radical polymerization initiator and a radically polymerizable organic peroxide. Then, the temperature was raised to 80 to 85 ° C., and the temperature was maintained for 7 hours to complete the polymerization, followed by washing with water and drying to obtain a grafted precursor (b).

【0100】次いで、このグラフト化前駆体(b)をラ
ボプラストミル一軸押出機((株)東洋精機製作所製)
で200℃にて押し出し、グラフト化反応させることに
よりグラフト共重合体(K)を得た。
Then, this grafted precursor (b) was processed with a Labo Plastomill uniaxial extruder (manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.).
Was extruded at 200 ° C. for graft reaction to obtain a graft copolymer (K).

【0101】このグラフト共重合体(K)を熱分解ガス
クロマトグラフィーによって分析したところ、ポリプロ
ピレン:ジビニルベンゼン:スチレンの重量割合は7
0:10:20であった。
When the graft copolymer (K) was analyzed by pyrolysis gas chromatography, the weight ratio of polypropylene: divinylbenzene: styrene was 7
It was 0:10:20.

【0102】重合体の分子量は、高温GPC(ウオータ
ーズ(株)製)を用いて重量平均絶対分子量を測定し
た。ポリプロピレンの分子量:300000,ジビニル
ベンゼン:146000であった。この樹脂の炭素と水
素の含有量は元素分析法で定量した。その結果、炭素原
子と水素原子の和の割合は99%以上であった。
Regarding the molecular weight of the polymer, the weight average absolute molecular weight was measured using a high temperature GPC (manufactured by Waters Co., Ltd.). The molecular weight of polypropylene was 300,000 and divinylbenzene was 146,000. The carbon and hydrogen contents of this resin were quantified by elemental analysis. As a result, the ratio of the sum of carbon atoms and hydrogen atoms was 99% or more.

【0103】<多層回路基板>上記高周波用樹脂サンプ
ルを、基板状に成形加工したものを用意した。この基板
の厚みは0.127mm、誘電率は2.2であった。ま
た、これとは別に低周波用樹脂基板として、市販のFR
−4、厚さ0.8mmを用いた。
<Multilayer Circuit Board> The above high frequency resin sample was processed into a board shape and prepared. This substrate had a thickness of 0.127 mm and a dielectric constant of 2.2. Separately from this, a commercially available FR is used as a low frequency resin substrate.
-4, a thickness of 0.8 mm was used.

【0104】それぞれの基板に、厚さ18μm の銅箔を
一方の全面に貼り付け、接地導体とした。そして、それ
ぞれの基板同士を、接地導体側を対向させるようにして
張り合わせた。このとき、2つの基板の接続用スルーホ
ール部分の接地導体を除去するなど、必要なパターン形
成処理を行った。また、貼り合わせには、エポキシ系接
着剤を用いた。このようにして張り合わされた基板の厚
みは、約1mm程度であった。
A copper foil having a thickness of 18 μm was adhered on one surface of each substrate to form a ground conductor. Then, the respective substrates were attached to each other with their ground conductors facing each other. At this time, necessary pattern forming processing such as removing the ground conductor in the through-hole portion for connection of the two substrates was performed. An epoxy adhesive was used for the bonding. The thickness of the thus laminated substrates was about 1 mm.

【0105】次に、得られた多層基板を用いて、図4に
示すような回路を形成した。すなわち、高周波用樹脂基
板10には、高周波増幅回路110を、低周波用樹脂基
板20には電源回路120を形成した。そして、これら
の回路同士をスルーホールで接続した。具体的には、電
源回路の出力を、それぞれ増幅回路の電源接続部分へ給
電するために、スルーホールで接続した。これらの詳細
な回路構成は周知の構成態様であるため説明を省略す
る。
Next, using the obtained multilayer substrate, a circuit as shown in FIG. 4 was formed. That is, the high frequency amplification circuit 110 was formed on the high frequency resin substrate 10, and the power supply circuit 120 was formed on the low frequency resin substrate 20. Then, these circuits were connected to each other by through holes. Specifically, the output of the power supply circuit was connected through a through hole to supply power to the power supply connection portion of the amplifier circuit. The detailed circuit configuration of these is a well-known configuration mode, and the description thereof is omitted.

【0106】また、図1に示すように、高周波回路基板
において、増幅素子を取り付ける部分に、接地導体にま
で貫通する取り付け孔1aを設け、この取り付け孔1a
内に増幅素子を収納した後、ワイヤーボンド接続を行っ
たサンプルを作製した。このとき取り付け孔の内周から
電子部品である増幅素子までの距離が0.1mmとなるよ
うに取り付け孔を形成した。次に、接地導体に増幅素子
をロー付けにより固定した。このときの加熱条件は12
0℃、20分であったが、基板に損傷部分は確認されな
かった。また、増幅素子の端子と、導体線路とは略同一
面位置となっていた。
Further, as shown in FIG. 1, in the high frequency circuit board, a mounting hole 1a penetrating to the ground conductor is provided in a portion where the amplification element is mounted, and the mounting hole 1a is formed.
After accommodating the amplifying element therein, a sample to which wire bond connection was performed was prepared. At this time, the mounting hole was formed so that the distance from the inner circumference of the mounting hole to the amplification element, which is an electronic component, was 0.1 mm. Next, the amplification element was fixed to the ground conductor by brazing. The heating condition at this time is 12
The temperature was 0 ° C. for 20 minutes, but no damaged portion was confirmed on the substrate. In addition, the terminals of the amplifying element and the conductor lines are located substantially on the same plane.

【0107】さらに、図3に示すように、高周波基板を
覆うようにシールド材を設け、このシールド材と接地導
体とを、導体線路、スルーホールを介して接続したサン
プルを作製した。
Further, as shown in FIG. 3, a shield material was provided so as to cover the high frequency substrate, and the shield material and the ground conductor were connected via a conductor line and a through hole to prepare a sample.

【0108】このとき、シールド材には、厚さ5mmのア
ルミニウムを、基板面からの高さが1mmとなるよう、一
面が開放した箱状に形成されたものを用い、これを基板
に覆い被せるようにしてハンダ付により固定した。
At this time, the shield material is made of aluminum having a thickness of 5 mm and is formed in a box shape with one surface open so that the height from the surface of the substrate is 1 mm, and this is covered with the substrate. In this way, it was fixed by soldering.

【0109】このようにして得られた多層回路基板は、
従来のように高周波増幅基板、電源基板を別個に設け、
これを収納した装置と比較して、装置全体の大きさで、
従来の装置に対して水平方向で30%以下、垂直方向で
30%以下の大きさとできることがわかった。
The multilayer circuit board thus obtained is
As in the past, a high-frequency amplification board and a power board are provided separately,
Compared with the device that stores this, the size of the entire device,
It has been found that the size of the conventional device can be 30% or less in the horizontal direction and 30% or less in the vertical direction.

【0110】また、取り付け孔を設け、この中に増幅素
子を収納したサンプルでは、伝送特性が従来の装置と比
較して向上していることがわかった。また、素子の温度
上昇も少ないことがわかった。
Further, it was found that the transmission characteristics of the sample in which the mounting element was provided and the amplification element was housed therein were improved as compared with the conventional device. It was also found that the temperature rise of the device was small.

【0111】[0111]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、よりコン
パクトに高周波回路と低周波回路を共存させることがで
き、しかも高周波回路基板において低損失で、耐熱性も
有し、しかもパターンが微細になりすぎず、高密度実装
が可能な小型、高性能で低価格の多層回路基板を提供す
ることができる。
As described above, according to the present invention, a high-frequency circuit and a low-frequency circuit can coexist more compactly, and the high-frequency circuit board has low loss, heat resistance, and a fine pattern. It is possible to provide a small-sized, high-performance, low-priced multilayer circuit board that enables high-density mounting without becoming too high.

【0112】[0112]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の多層回路基板の構成例を示す外観斜視
図である。
FIG. 1 is an external perspective view showing a configuration example of a multilayer circuit board according to the present invention.

【図2】本発明の多層回路基板の構成例を示す断面図で
ある。
FIG. 2 is a sectional view showing a configuration example of a multilayer circuit board according to the present invention.

【図3】本発明の多層回路基板にシールド材を設けた構
成例を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration example in which a shield material is provided on the multilayer circuit board of the present invention.

【図4】本発明の多層回路基板の回路構成例を示すブロ
ック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a circuit configuration example of a multilayer circuit board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 高周波用樹脂基板 20 低周波用樹脂基板 11,21 接地導体 12、13 導体線路 10 High frequency resin substrate 20 Low frequency resin substrate 11,21 Ground conductor 12, 13 Conductor line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 俊昭 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 5E321 AA02 AA17 GG05 5E346 AA12 AA14 AA32 AA42 AA43 AA53 BB02 BB04 BB07 CC04 CC09 CC32 DD02 DD12 DD32 EE33 FF01 GG28 HH18 HH22   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Toshiaki Yamada             1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo             -In DC Inc. F-term (reference) 5E321 AA02 AA17 GG05                 5E346 AA12 AA14 AA32 AA42 AA43                       AA53 BB02 BB04 BB07 CC04                       CC09 CC32 DD02 DD12 DD32                       EE33 FF01 GG28 HH18 HH22

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の面に接地導体が密着配置されてい
る高周波用樹脂基板と、 一方の面に接地導体が密着配置されている低周波用樹脂
基板とを少なくとも有し、 前記高周波用樹脂基板と低周波用樹脂基板とは、接地導
体側において対向して配置され、 少なくとも前記高周波用樹脂基板に形成されている導体
パターンの一部と低周波用樹脂基板に形成されている導
体パターンの一部とがスルーホールで接続されている多
層回路基板。
1. A high-frequency resin substrate having a ground conductor closely arranged on one surface, and a low-frequency resin substrate having a ground conductor closely arranged on one surface. The substrate and the low-frequency resin substrate are arranged so as to face each other on the ground conductor side, and at least a part of the conductor pattern formed on the high-frequency resin substrate and the conductor pattern formed on the low-frequency resin substrate. A multi-layer circuit board that is connected to some of them with through holes.
【請求項2】 前記高周波用樹脂基板の厚みが0.5mm
以下である請求項1の多層回路基板。
2. The high frequency resin substrate has a thickness of 0.5 mm.
The multilayer circuit board according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記高周波用樹脂基板は30GHz以上の
周波数帯域で使用され、低周波用樹脂基板は500MHz
以下の周波数で使用される請求項1または2の多層回路
基板。
3. The high frequency resin substrate is used in a frequency band of 30 GHz or higher, and the low frequency resin substrate is 500 MHz.
The multilayer circuit board according to claim 1 or 2, which is used at the following frequencies.
【請求項4】 さらに、前記高周波回路基板は、シール
ド材で覆われている請求項1〜3のいずれかの多層回路
基板。
4. The multilayer circuit board according to claim 1, wherein the high-frequency circuit board is covered with a shield material.
【請求項5】 前記高周波用樹脂基板の電子部品実装部
の少なくとも1つには前記接地導体まで貫通する取り付
け孔が形成され、かつこの取り付け孔内に電子部品を収
納する請求項1〜4のいずれかの多層回路基板。
5. A mounting hole penetrating to the ground conductor is formed in at least one of the electronic component mounting portions of the high frequency resin substrate, and the electronic component is housed in the mounting hole. Any multilayer circuit board.
【請求項6】 前記高周波用回路基板の導体線路と前記
電子部品の接続端子とがほぼ同一面上に存在する請求項
5の高周波回路基板。
6. The high frequency circuit board according to claim 5, wherein the conductor line of the high frequency circuit board and the connection terminal of the electronic component are substantially on the same plane.
【請求項7】 前記高周波用樹脂基板は、重量平均絶対
分子量1000以上の樹脂の1種または2種以上からな
る樹脂組成物であって、その組成物の炭素原子と水素原
子の原子数の和が99%以上であり、かつ樹脂分子間の
一部またはすべてが相互に化学的結合を有する耐熱性低
誘電性高分子材料により形成されている請求項1〜6の
いずれかの多層回路基板。
7. The high-frequency resin substrate is a resin composition comprising one or more resins having a weight average absolute molecular weight of 1000 or more, and the sum of the number of carbon atoms and hydrogen atoms in the composition. Is 99% or more, and a part or all of the resin molecules are formed of a heat-resistant low dielectric polymer material having chemical bonds with each other, The multilayer circuit board according to claim 1.
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