JP2003060178A - Radiation image detector - Google Patents

Radiation image detector

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JP2003060178A
JP2003060178A JP2001244185A JP2001244185A JP2003060178A JP 2003060178 A JP2003060178 A JP 2003060178A JP 2001244185 A JP2001244185 A JP 2001244185A JP 2001244185 A JP2001244185 A JP 2001244185A JP 2003060178 A JP2003060178 A JP 2003060178A
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radiation image
image
radiation
image detector
signal
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JP2001244185A
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Japanese (ja)
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Bon Honda
凡 本田
Hiroshi Ohara
弘 大原
Hiroshi Kita
弘志 北
Kazuo Genda
和男 源田
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Original Assignee
Konica Minolta Inc
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    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y15/00Nanotechnology for interacting, sensing or actuating, e.g. quantum dots as markers in protein assays or molecular motors

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation image detector at a low cost, which is light in weight and can obtain a digital radiation image of a high image quality. SOLUTION: The radiation image detector comprises a first constituting element containing fluorescent particles for absorbing an electromagnetic wave having a shorter wavelength than that of a radioactive ray incident in response to an intensity of the incident ray to generate the electromagnetic wave, and dispersing the particles in a binder for absorbing the electromagnetic wave to generate a charge; a second constituting element for storing the charge generated in the first element; and a third constituting element for outputting a signal based on the charge stored in the second element, and formed on a fourth constituting element. The detector outputs an image signal of the incident radioactive ray based on the signal output from the third element. Here, the fourth element is constituted by using a resin. The first element is formed by dispersing the fluorescent particles in the binder of an organic photoconductor containing fullerenes or a carbon nanotube. The second element is a capacitor. The third element is formed by sing an organic semiconductor or an element of a split silicon laminated structured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、医療における放
射線画像診断の産業分野に関する。特に診断目的に用い
る放射線画像を得るための放射線画像検出器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the field of radiological image diagnosis in medicine. In particular, it relates to a radiation image detector for obtaining a radiation image used for diagnostic purposes.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、放射線画像を得る方法として、蛍
光増感紙と放射線写真フィルムとを組み合わせた所謂ス
クリーンフィルムシステム(SFシステム)が放射線画
像形成に用いられている。このSFシステムでは、被写
体を透過したX線等の放射線が蛍光増感紙に入射される
と、蛍光増感紙に含まれる蛍光体が放射線のエネルギー
を吸収して蛍光を発する。この発光により、蛍光増感紙
に密着されるように重ね合わされた放射線写真フィルム
が感光し、放射線写真フィルム上に放射線画像が形成さ
れる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a so-called screen film system (SF system), which is a combination of a fluorescent intensifying screen and a radiographic film, has been used for forming a radiographic image as a method for obtaining a radiographic image. In this SF system, when radiation such as X-rays transmitted through a subject is incident on the fluorescent intensifying screen, the phosphor contained in the fluorescent intensifying screen absorbs the energy of the radiation and emits fluorescence. By this light emission, the radiographic films superposed so as to be in close contact with the fluorescent intensifying screen are exposed to light, and a radiographic image is formed on the radiographic film.

【0003】しかし、SFシステムでは、撮影に用いる
放射線写真フィルムと蛍光増感紙との感度領域を一致さ
せて撮影を行う必要がある。また、放射線写真フィルム
に対して化学的現像及び定着等の処理をしなければなら
ず、放射線画像が得られるまでに時間を要してしまうと
ともに、使用した現像液や定着液が廃液となり環境上好
ましいものではない。
However, in the SF system, it is necessary to match the sensitivity regions of the radiographic film used for photographing and the fluorescent intensifying screen to perform photographing. In addition, the radiographic film must be chemically developed and fixed, and it takes time until a radiographic image is obtained. Not preferred.

【0004】また、SFシステムはアナログ画像であ
り、デジタルネットワークシステムを利用する遠隔診断
などを行うためには、SFシステムによって得られた放
射線画像の画像信号をデジタル信号に変換する作業等が
必要となる。
Further, the SF system is an analog image, and in order to perform remote diagnosis using a digital network system, it is necessary to convert the image signal of the radiation image obtained by the SF system into a digital signal. Become.

【0005】このため、近年の放射線画像の撮影におい
ては、SFシステムに代わってデジタル式X線画像診断
装置であるコンピューテッドラジオグラフィ(CR)や
フラットパネル型の放射線ディテクタ(FPD)など、
放射線画像のデジタル電気信号を取り出して放射線画像
を得るシステムが登場している。このようなシステムで
は、SFシステムのように放射線フィルムを用いないの
で、現像処理などの煩雑なプロセスがなく、迅速に画像
表示装置の画面上、例えば陰極管や液晶表示パネルなど
の画面上に放射線画像を描くことができる。
Therefore, in the recent radiographic image capturing, instead of the SF system, a digital X-ray image diagnostic apparatus such as a computed radiography (CR) or a flat panel type radiation detector (FPD) is used.
A system for obtaining a radiographic image by extracting a digital electric signal of the radiographic image has appeared. In such a system, since a radiation film is not used unlike the SF system, there is no complicated process such as development processing, and the radiation can be quickly displayed on the screen of the image display device, for example, the screen of the cathode ray tube or the liquid crystal display panel. You can draw an image.

【0006】また、医用画像診断分野では、コンピュー
タ断層撮影装置(CT)や核磁気共鳴断層撮影装置(M
RI)などデジタル放射線画像検出手段が近年多く用い
られるようになっており、これらの画像とあわせてネッ
トワーク上にのせることによって、遠隔診断などが簡便
に行えるようになっている。
In the field of medical image diagnosis, a computer tomography apparatus (CT) or a nuclear magnetic resonance tomography apparatus (M) is used.
Recently, digital radiation image detecting means such as RI) have been widely used, and by placing these images on a network together with these images, remote diagnosis and the like can be easily performed.

【0007】さらに、医療現場で用いられる放射線画像
の画像信号を得る放射線画像検出器は、「据置き型」と
「カセッテ型」に分類できる。「据置き型」は、胸部や
腹部などの撮影に主に用いられるもので、放射線画像検
出器とその周辺機器が一体化しており、撮影室に常に設
置した状態で撮影するものである。この場合、患者は放
射線画像を撮影するとき、撮影室へ自ら足を運ぶことと
なる。
Further, the radiation image detector used in the medical field for obtaining the image signal of the radiation image can be classified into a "stationary type" and a "cassette type". The "stationary type" is mainly used for imaging the chest and abdomen, and the radiation image detector and its peripherals are integrated, and the imaging is always installed in the imaging room. In this case, the patient must go to the radiography room himself / herself when taking a radiographic image.

【0008】一方「カセッテ型」の場合、例えばSFシ
ステムでは蛍光増感紙と放射線フィルムが、平板状のカ
セッテと呼ばれる容器に収められて、身動きのできない
重篤な患者のベッドまでもっていって放射線画像撮影が
行われる。即ち移動タイプの放射線発生装置とカセッテ
を、患者のベッドまで搬送し、患者が寝たままで放射線
画像が撮影されるものである。例えば胸部撮影では、こ
のカセッテ撮影が全体の胸部X線撮影の半数を占めると
言われている。
On the other hand, in the case of the "cassette type", for example, in the SF system, the fluorescent intensifying screen and the radiation film are stored in a flat container called a cassette, and the radiation is taken to the bed of a serious patient who cannot move. An image is taken. That is, the moving type radiation generator and the cassette are conveyed to the bed of the patient, and the radiation image is taken while the patient is lying down. For example, in chest radiography, it is said that this cassette radiography occupies half of the whole chest X-ray radiography.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、デジタル放
射線画像検出器であるCRはSFシステム同様にカセッ
テタイプの放射線画像検出器として使用できるが高価で
あり、またSFシステムほどの画質は得られていない。
またFPDにおいてはSFシステム同等以上の画質が得
られるが、CR同様に高価であり、また軽量なカセッテ
タイプの放射線画像検出器を実現することが困難であ
る。
CR, which is a digital radiation image detector, can be used as a cassette type radiation image detector like the SF system, but it is expensive and the image quality is not as good as that of the SF system. .
Further, although the FPD can obtain an image quality equal to or higher than that of the SF system, it is expensive like the CR and it is difficult to realize a lightweight cassette type radiation image detector.

【0010】そこで、本発明においては安価でかつ軽量
で高画質のデジタル放射線画像が得られる放射線画像検
出器を提供するものである。
Therefore, the present invention provides a radiation image detector which is inexpensive, lightweight, and capable of obtaining a high-quality digital radiation image.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明に係る放射線画
像検出器は、入射した放射線の強度に応じて入射した放
射線よりも波長の短い電磁波を発生させる蛍光体粒子
が、該電磁波を吸収して電荷を発生するバインダーに分
散されている第1の構成要素と、第1の構成要素で発生
された電荷を蓄積する第2の構成要素と、第2の構成要
素で蓄積された電荷に基づいて信号の出力を行う第3の
構成要素と、第1から第3の構成要素を保持する第4の
構成要素を備え、第3の構成要素から出力された信号に
基づいて、入力した放射線の画像信号を出力する放射線
画像検出器において、第4の構成要素を樹脂で形成した
ものである。
In a radiation image detector according to the present invention, a phosphor particle that generates an electromagnetic wave having a shorter wavelength than the incident radiation in accordance with the intensity of the incident radiation absorbs the electromagnetic wave. Based on the first component dispersed in the charge-generating binder, the second component storing the charge generated in the first component, and the charge stored in the second component An image of the radiation input based on the signal output from the third component, which includes a third component that outputs a signal and a fourth component that holds the first to third components In the radiation image detector that outputs a signal, the fourth component is made of resin.

【0012】この発明においては、樹脂で形成された第
4の構成要素上に第1〜第3の構成要素が形成される。
第1の構成要素は、例えばフラーレン若しくはカーボン
ナノチューブを含有した有機光導電体であるバインダー
に、蛍光体粒子が分散されたものであり、入射した放射
線の強度に応じて入射した放射線よりも波長の短い電磁
波が蛍光体粒子によって発生されると共に、発生された
電磁波を吸収して電荷がバインダーによって発生され
る。第2の構成要素はコンデンサとされており、第1の
構成要素で発生された電荷が蓄えられる。第3の構成要
素は、有機半導体や分割されたシリコン積層構造の素子
を用いて形成されており、第2の構成要素に蓄えられた
電荷に基づいて信号の出力が行われて、この第3の構成
要素から出力された信号に基づいて放射線画像の画像信
号の出力が行われる。
In the present invention, the first to third constituent elements are formed on the fourth constituent element made of resin.
The first component is, for example, a binder, which is an organic photoconductor containing fullerene or carbon nanotubes, in which phosphor particles are dispersed, and has a wavelength longer than that of the incident radiation depending on the intensity of the incident radiation. Short electromagnetic waves are generated by the phosphor particles, and at the same time, the binder absorbs the generated electromagnetic waves to generate charges. The second component is a capacitor, and the charge generated in the first component is stored. The third component is formed using an organic semiconductor or an element having a divided silicon laminated structure, and a signal is output based on the charge stored in the second component, and the third component is formed. The image signal of the radiation image is output based on the signals output from the components.

【0013】また、放射線画像検出器が可搬構造とされ
て、例えばシート状の電池等で構成された電力供給手段
が設けられるとともに、この電力供給手段から、放射線
画像検出器を駆動するために必要な電力の供給が行われ
る。さらに、画像信号を記憶する記憶手段が設けられる
とともに、この記憶手段は着脱可能とされる。
Further, the radiation image detector has a portable structure, and a power supply means constituted by, for example, a sheet-like battery is provided, and the power supply means drives the radiation image detector. The necessary power is supplied. Further, storage means for storing the image signal is provided, and the storage means is removable.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】次に、この発明の実施の一形態に
ついて図を用いて詳細に説明する。図1は、放射線画像
検出器を用いたシステムの一例を示している。図1にお
いて、放射線発生器10から放射された放射線は、被写
体(医療施設では例えば患者)15を通して放射線画像
検出器20に照射される。放射線画像検出器20では、
照射された放射線の強度に基づいて画像信号DFEを生成
する。この生成された画像信号DFEは、放射線画像検出
器20に接続されている画像処理部51によって読み出
される。あるいは放射線画像検出器20に装着された例
えば半導体メモリカード等の携帯可能な記録媒体に蓄積
されたのち、この記録媒体が放射線画像検出器20から
取り外されて画像処理部51に装着されることにより、
画像処理部51に供給される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a system using a radiation image detector. In FIG. 1, the radiation emitted from the radiation generator 10 is applied to a radiation image detector 20 through a subject (for example, a patient in a medical facility) 15. In the radiation image detector 20,
An image signal DFE is generated based on the intensity of the applied radiation. The generated image signal DFE is read by the image processing unit 51 connected to the radiation image detector 20. Alternatively, after being stored in a portable recording medium such as a semiconductor memory card attached to the radiation image detector 20, the recording medium is removed from the radiation image detector 20 and attached to the image processing unit 51. ,
It is supplied to the image processing unit 51.

【0015】画像処理部51では、放射線画像検出器2
0で生成された画像信号DFEに対してシェーディング補
正やゲイン補正、階調補正、エッジ強調処理、ダイナミ
ックレンジ圧縮処理などを施して、診断等に適した画像
信号となるように処理を行う。また画像処理部51に
は、陰極管や液晶表示素子あるいはプロジェクタ等を用
いて構成された画像表示部52が接続されており、この
画像処理部51では、画像処理中の画像信号や画像処理
完了後の画像信号に基づく画像が表示される。
In the image processing section 51, the radiation image detector 2
Shading correction, gain correction, gradation correction, edge enhancement processing, dynamic range compression processing, etc. are performed on the image signal DFE generated by 0, and processing is performed so as to obtain an image signal suitable for diagnosis and the like. Further, the image processing unit 51 is connected to an image display unit 52 configured by using a cathode ray tube, a liquid crystal display element, a projector or the like. In the image processing unit 51, an image signal during image processing and image processing completion An image based on the subsequent image signal is displayed.

【0016】また、画像処理部51では、画像の拡大や
縮小を行うとともに画像信号の蓄積や転送を容易とする
ために画像信号の圧縮や伸長処理も行う。このため、画
像表示部52に表示されている画像を拡大したり縮小す
ることで、撮影部位の確認や処理状態を容易に行うこと
ができる。また、表示された画像や表示された画像の領
域を指定させて、指定された画像や指定された領域に対
して適切な画像処理を自動的に行うことも可能となる。
Further, the image processing section 51 enlarges and reduces the image and also performs compression and decompression processing of the image signal in order to facilitate accumulation and transfer of the image signal. Therefore, by enlarging or reducing the image displayed on the image display unit 52, it is possible to easily confirm the imaging region and perform the processing state. Further, it is possible to specify a displayed image or an area of the displayed image and automatically perform appropriate image processing on the specified image or the specified area.

【0017】また、画像処理部51には、キーボード、
マウス、ポインターなどを用いて構成された情報入力部
53が接続されており、この情報入力部53によって患
者情報などを入力し、付加情報を画像信号に付け加える
ことができる。また画像処理の指定や画像信号の保存や
読み出し、ネットワークを介した画像信号の送受信を行
う際の指示等も情報入力部53から行われる。
The image processing unit 51 includes a keyboard,
An information input unit 53 configured by using a mouse, a pointer or the like is connected, and patient information or the like can be input by this information input unit 53 and additional information can be added to the image signal. Further, the information input unit 53 also designates image processing, saves and reads out image signals, and gives instructions when transmitting and receiving image signals via a network.

【0018】画像処理部51には、さらに画像出力部5
4や画像保存部55及びコンピュータ支援画像自動診断
部(CAD)56が接続されている。
The image processing section 51 further includes an image output section 5
4, an image storage unit 55, and a computer-aided image automatic diagnosis unit (CAD) 56 are connected.

【0019】画像出力部54では、記録紙やフイルム等
に放射線画像を表示させて出力する。例えば、銀塩写真
フィルムを用いるものとして、画像信号に基づき露光を
行う。この露光された銀塩写真フィルムの現像処理を行
うことで放射線画像を銀画像として描き出して出力す
る。また、記録紙に放射線画像を印刷して出力する場合
には、画像信号に基づいてインクに圧力をかけて細いノ
ズルの先端からインクを記録紙に吹き付けて印刷するイ
ンクジェットプリンタ、画像信号に基づいてインクを溶
融あるいは昇華させて記録紙に画像を転写するサーマル
プリンタ、画像信号に基づきレーザ光で感光体上を走査
して、感光体上に付着したトナーを紙に転写してから熱
と圧力で定着させることにより記録紙に画像を形成する
レーザプリンタ等を用いて画像出力部54を構成する。
The image output section 54 displays and outputs the radiation image on a recording paper, a film or the like. For example, using a silver salt photographic film, exposure is performed based on an image signal. By developing the exposed silver salt photographic film, a radiation image is drawn and output as a silver image. When printing and outputting a radiation image on recording paper, an inkjet printer that applies pressure to the ink based on the image signal to spray the ink from the tip of the thin nozzle onto the recording paper for printing, and based on the image signal A thermal printer that melts or sublimates the ink to transfer the image to the recording paper, scans the photoconductor with laser light based on the image signal, and transfers the toner adhering to the photoconductor to the paper, then heat and pressure. The image output unit 54 is configured using a laser printer or the like that forms an image on recording paper by fixing.

【0020】画像保存部55では、放射線画像の画像信
号を必要に応じて適宜読み出すことができるように保存
する。この画像保存部55は、例えば磁気的、ホログラ
ム素子、穿孔、色素分布変化等を利用して画像信号を保
存する。
The image storage unit 55 stores the image signal of the radiation image so that it can be read out as needed. The image storage unit 55 stores the image signal by using, for example, magnetically, hologram element, perforation, change in dye distribution, or the like.

【0021】CAD56は、撮影された放射線画像のコ
ンピュータ処理やコンピュータ解析を行い、診断に必要
な情報を医師に提供することで病変の見落としがないよ
うに診断支援を行う。またコンピュータ処理やコンピュ
ータ解析結果に基づいて、診断を自動的に行う。
The CAD 56 performs computer processing and computer analysis of the radiographic image taken and provides the doctor with information necessary for diagnosis, thereby supporting diagnosis so that no lesion is overlooked. In addition, diagnosis is automatically performed based on the results of computer processing and computer analysis.

【0022】放射線画像の画像信号は、上述の画像出力
部54や画像保存部55及びCAD56だけでなく、い
わゆるLANやインターネット及びPACS(医療画像
ネットワーク)等のネットワーク60を介して、病院施
設内のほかの部署あるいは遠隔地にも送付することがで
きる。また、このネットワークを介して、CT61やM
RI62から得られた画像信号あるいはCRや他のFP
D63から得られた画像信号、及びその他の検査情報等
も送付可能とされており、放射線画像検出器20で得ら
れた放射線画像と比較検討するため、ネットワーク60
を介して送付されてきた画像信号や検査情報等を画像表
示部52で表示したり画像出力部54から出力させるこ
とも行われる。また、送付されてきた画像信号や検査情
報等を画像保存部55に保存させることもできる。ま
た、放射線画像検出器20で得られた放射線画像の画像
信号等を外部画像保存装置64に保存させるものとした
り、外部画像表示装置65の画面上に、放射線画像検出
器20で得られた放射線画像を表示することも行われ
る。
The image signal of the radiation image is stored in the hospital facility not only through the image output unit 54, the image storage unit 55 and the CAD 56 described above, but also through a network 60 such as a so-called LAN, Internet and PACS (medical image network). It can be sent to other departments or remote areas. Also, via this network, CT61 and M
Image signal obtained from RI62 or CR or other FP
The image signal obtained from D63 and other inspection information can also be sent, and the network 60 is used for comparison with the radiation image obtained by the radiation image detector 20.
The image signal, inspection information, etc. sent via the image display unit 52 may be displayed or output from the image output unit 54. Further, the image signal, inspection information, etc. sent may be stored in the image storage unit 55. Further, the image signal of the radiation image obtained by the radiation image detector 20 or the like may be stored in the external image storage device 64, or the radiation obtained by the radiation image detector 20 may be displayed on the screen of the external image display device 65. An image is also displayed.

【0023】次に、放射線画像検出器20の構造の一例
を図2に示す。放射線画像検出器20には、撮像パネル
21、放射線画像検出器20の動作を制御する制御回路
30、書き換え可能な読み出し専用メモリ(例えばフラ
ッシュメモリ)等を用いて撮像パネル21から出力され
た画像信号を記憶するメモリ部31、放射線画像検出器
20の動作を切り換えるための操作部32、放射線画像
の撮影準備の完了やメモリ部31に所定量の画像信号が
書き込まれたことを示す表示部33、撮像パネル21を
駆動して画像信号を得るために必要とされる電力を供給
する電源部34、放射線画像検出器20と画像処理部5
1間で通信を行うための通信用のコネクタ35、及びこ
れらを収納する筐体40が設けられている。また、撮像
パネル21は、照射された放射線の強度に応じて発生さ
れると共に蓄積された電荷を、ライン毎に読み出すため
の読出信号を出力する走査駆動回路25や、走査駆動回
路25から出力された読出信号によって読み出された電
荷を画像信号として出力する信号選択回路27を有して
いる。なお、筐体40の内部や走査駆動回路25、信号
選択回路27、制御回路30、メモリ部31等は、図示
しない放射線遮蔽部材で覆われており、筐体40の内部
で放射線の散乱を生じたり、各回路に放射線が照射され
ることが防止される。
Next, an example of the structure of the radiation image detector 20 is shown in FIG. The radiation image detector 20 includes an image pickup panel 21, a control circuit 30 that controls the operation of the radiation image detector 20, a rewritable read-only memory (for example, a flash memory), and the like, and an image signal output from the image pickup panel 21. A memory unit 31 for storing the information, an operation unit 32 for switching the operation of the radiation image detector 20, a display unit 33 indicating that preparation for capturing a radiation image is completed and a predetermined amount of image signal is written in the memory unit 31, A power supply unit 34 that supplies electric power required to drive the image pickup panel 21 to obtain an image signal, the radiation image detector 20, and the image processing unit 5.
A communication connector 35 for performing communication between one and the other, and a housing 40 for housing these are provided. Further, the image pickup panel 21 outputs the charge generated and accumulated according to the intensity of the applied radiation from the scan drive circuit 25 which outputs a read signal for reading out for each line, or the scan drive circuit 25. It also has a signal selection circuit 27 that outputs the charges read by the read signal as an image signal. The interior of the housing 40, the scan drive circuit 25, the signal selection circuit 27, the control circuit 30, the memory unit 31, and the like are covered with a radiation shielding member (not shown), and radiation scattering occurs inside the housing 40. It is also prevented that each circuit is irradiated with radiation.

【0024】また筐体40としては、外部からの衝撃に
耐えかつ重量ができるだけ軽い素材、すなわちアルミニ
ウムあるいはその合金を素材で外形を構成することは好
ましい態様である。筐体40の放射線入射面側は、放射
線を透過し易い非金属例えばカーボン繊維などを用いて
構成する。また、放射線入射面とは逆である背面側にお
いては、放射線が放射線画像検出器20を透過してしま
うことを防ぐ目的、あるいは放射線画像検出器20を構
成する素材が放射線を吸収することで生ずる2次放射線
からの影響を防ぐために、放射線を効果的に吸収する材
料例えば鉛板などを用いることは好ましい実施態様であ
る。
It is a preferable embodiment for the casing 40 to have an outer shape made of a material that withstands an external impact and is as light as possible, that is, aluminum or its alloy. The radiation incident surface side of the housing 40 is configured by using a non-metal that easily transmits radiation, such as carbon fiber. On the back side, which is the opposite side to the radiation incident surface, it is generated for the purpose of preventing the radiation from passing through the radiation image detector 20, or because the material forming the radiation image detector 20 absorbs the radiation. In order to prevent the influence from secondary radiation, it is a preferred embodiment to use a material that effectively absorbs radiation, such as a lead plate.

【0025】図3は放射線画像検出の回路構成を示して
おり、撮像パネル21には照射された放射線の強度に応
じて発生された電荷を蓄積すると共に読み出すための収
集電極220が2次元配置されており、この収集電極2
20がコンデンサ221の一方の電極とされて、電荷が
コンデンサ221に蓄えられる。ここで、1つの収集電
極220は放射線画像の1画素に対応するものである。
FIG. 3 shows a circuit configuration for radiation image detection. The image pickup panel 21 has a two-dimensionally arranged collection electrode 220 for accumulating and reading out charges generated according to the intensity of the irradiated radiation. And this collecting electrode 2
20 is used as one electrode of the capacitor 221, and charges are stored in the capacitor 221. Here, one collecting electrode 220 corresponds to one pixel of the radiation image.

【0026】画素間には走査線223-1〜223-mと信
号線224-1〜224-nが例えば直交するように配設さ
れる。コンデンサ221-(1,1)には、シリコン積層構造
あるいは有機半導体で構成されたトランジスタ222-
(1,1)が接続されている。このトランジスタ222-(1,
1)は、例えば電界効果トランジスタであり、ドレイン電
極あるいはソース電極が収集電極220-(1,1)に接続さ
れるとともに、ゲート電極は走査線223-1と接続され
る。ドレイン電極が収集電極220-(1,1)に接続される
ときにはソース電極が信号線224-1と接続され、ソー
ス電極が収集電極220-(1,1)に接続されるときにはド
レイン電極が信号線224-1と接続される。また、他の
画素の収集電極220やコンデンサ221及びトランジ
スタ222も同様に走査線223や信号線224が接続
される。
The scanning lines 223-1 to 223-m and the signal lines 224-1 to 224-n are arranged so as to be orthogonal to each other between the pixels. The capacitor 221- (1,1) includes a transistor 222-having a silicon laminated structure or an organic semiconductor.
(1,1) is connected. This transistor 222- (1,
1) is, for example, a field effect transistor, the drain electrode or the source electrode of which is connected to the collecting electrode 220- (1,1) and the gate electrode of which is connected to the scanning line 223-1. The source electrode is connected to the signal line 224-1 when the drain electrode is connected to the collecting electrode 220- (1,1), and the drain electrode is connected to the signal line 224-1 when the source electrode is connected to the collecting electrode 220- (1,1). It is connected to the line 224-1. Further, the scanning line 223 and the signal line 224 are similarly connected to the collecting electrode 220, the capacitor 221, and the transistor 222 of other pixels.

【0027】図4は、撮像パネル21の一部断面図を示
しており、放射線の照射面側には、入射した放射線の強
度に応じて入射した放射線よりも波長の短い電磁波を発
生させる粒子が、電磁波を吸収して電荷を発生するバイ
ンダーに分散されている第1の構成要素として電荷発生
層211が設けられている。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of the image pickup panel 21. Particles for generating electromagnetic waves having a shorter wavelength than the incident radiation are provided on the irradiation surface side of the radiation according to the intensity of the incident radiation. A charge generation layer 211 is provided as a first component dispersed in a binder that absorbs electromagnetic waves and generates charges.

【0028】この電荷発生層211に入射する放射線
は、波長が1Å程度のいわゆるX線であって、人体や船
舶そして航空機の部材を透過する電磁波である。この電
磁波は一般に固定陽極あるいは回転陽極X線管で得られ
るもので、陽極の負荷電圧は10kVから300kVで
ある。特に医療用に用いられる場合は20kVから15
0kVが用いられる。そしてこの放射線が電荷発生層2
11に分散される蛍光体粒子に照射されると、波長が3
00nmから800nmの電磁波(光)を発光する。
The radiation incident on the charge generation layer 211 is a so-called X-ray having a wavelength of about 1Å, and is an electromagnetic wave transmitted through the human body, ships and members of aircraft. This electromagnetic wave is generally obtained by a fixed anode or a rotating anode X-ray tube, and the load voltage of the anode is 10 kV to 300 kV. 20 kV to 15 especially when used for medical purposes
0 kV is used. This radiation is then generated by the charge generation layer 2
When the phosphor particles dispersed in No. 11 are irradiated, the wavelength becomes 3
It emits electromagnetic waves (light) of 00 nm to 800 nm.

【0029】電荷発生層211において、バインダーに
分散する蛍光体粒子としては、CaWO4、CaWO4
Pb、MgWOなどのタングステン酸塩系蛍光体、Y2
2S:TbXGd22S:Tb、La22S:Tb、
(Y,Gd)22S:Tb、(Y,Gd)22S:T
b,Tmなどのテルビウム賦活希土類酸硫化物系蛍光
体、YPO4:Tb、GdPO4:Tb、LaPO4:T
bなどのテルビウム賦活希土類燐酸塩系蛍光体、LaO
Br:Tb、LaOBr:Tb,Tm、LaOCl:T
b、LaOCl:Tb,Tm、GdOBr:Tb、Gd
OBr:Tb,Tm、GdOCl:Tb、GdOCl:
Tb,Tmなどのテルビウム賦活希土類オキシハロゲン
化物系蛍光体、LaOBr:Tm、LaOCl:Tmな
どのツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、
LaOBr:Gd、LuOCl:Gdなどのガドリニウ
ム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、GdOB
r:Ce、GdOCl:Ce、(Gd,Y)OBr:C
e、(Gd,Y)OCl:Ceなどのセリウム賦活希土
類オキシハロゲン化物系蛍光体、BaSO4:Pb、B
aSO4:Eu2+、(Ba,Sr)SO4:Eu2+などの
硫酸バリウム系蛍光体、Ba 3(PO42:Eu2+
(Ba2PO42:Eu2+、Sr3(PO42:Eu2+
(Sr2PO42:Eu2+などの2価のユーロピウム賦
活アルカリ土類金属燐酸塩系蛍光体、BaFCl:Eu
2+、BaFBr:Eu2+、BaFCl:Eu2+,Tb、
BaFCl:Eu2+,Tb、BaF2・BaCl2・KC
l:Eu2+、(Ba,Mg)F2・BaCl2・KCl:
Eu2+などの2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属
弗化ハロゲン化物系蛍光体、CsI:Na、CsI:T
l、NaI、KI:Tlなどの沃化物系蛍光体、Zn
S:Ag、(Zn,Cd)S:Ag、(Zn,Cd)
S:Cu、(Zn,Cd)S:Cu,Agなどの硫化物
系蛍光体、HfP27、HfP27:Cu、Hf3(P
44などの燐酸ハフニウム系蛍光体、YTaO4、Y
TaO4:Tm、YTaO4:Nb、(Y,Sr)TaO
4:Nb、LuTaO4、LuTaO4:Tm、LuTa
4:Nb、(Lu,Sr)TaO4:Nb、GdTaO
4:Tm、Mg4Ta29:Nb、Gd23・Ta2 5
23:Tbなどのタンタル酸塩系蛍光体、他に、Gd
22S:Eu3+、(La,Gd,Lu)2Si27:E
u、ZnSiO4:Mn、Sr227:Eu、などを用
いることができる。特に、X線吸収および発光効率が高
いGd22S:Tb、CsI:Tlを用いることは、高
画質の放射線画像を得るために好ましい。これら蛍光体
粒子は直径は1μm以上で7μm以下が好ましい平均粒
径である。また蛍光体粒子は不定形粒子でもよいし、球
形でもよい。
In the charge generation layer 211, a binder is used.
As the dispersed phosphor particles, CaWOFour, CaWOFour:
Tungsten-based phosphors such as Pb and MgWO, Y2
O2S: TbXGd2O2S: Tb, La2O2S: Tb,
(Y, Gd)2O2S: Tb, (Y, Gd)2O2S: T
terbium-activated rare earth oxysulfide fluorescents such as b and Tm
Body, YPOFour: Tb, GdPOFour: Tb, LaPOFour: T
b or other terbium-activated rare earth phosphate phosphor, LaO
Br: Tb, LaOBr: Tb, Tm, LaOCl: T
b, LaOCl: Tb, Tm, GdOBr: Tb, Gd
OBr: Tb, Tm, GdOCl: Tb, GdOCl:
Terbium activated rare earth oxyhalogens such as Tb and Tm
Compound phosphor, LaOBr: Tm, LaOCl: Tm
Which thulium activated rare earth oxyhalide phosphor,
Gadolini such as LaOBr: Gd, LuOCl: Gd
Mu activated rare earth oxyhalide phosphor, GdOB
r: Ce, GdOCl: Ce, (Gd, Y) OBr: C
e, (Gd, Y) OCl: Ce and other cerium-activated rare earths
Oxyhalide-based phosphor, BaSOFour: Pb, B
aSOFour: Eu2+, (Ba, Sr) SOFour: Eu2+Such as
Barium Sulfate Phosphor, Ba 3(POFour)2: Eu2+,
(Ba2POFour)2: Eu2+, Sr3(POFour)2: Eu2+,
(Sr2POFour)2: Eu2+Such as divalent europium
Active alkaline earth metal phosphate-based phosphor, BaFCl: Eu
2+, BaFBr: Eu2+, BaFCl: Eu2+, Tb,
BaFCl: Eu2+, Tb, BaF2・ BaCl2・ KC
l: Eu2+, (Ba, Mg) F2・ BaCl2・ KCl:
Eu2+Divalent europium-activated alkaline earth metal such as
Fluorohalide-based phosphor, CsI: Na, CsI: T
1, NaI, KI: Tl and other iodide phosphors, Zn
S: Ag, (Zn, Cd) S: Ag, (Zn, Cd)
S: Cu, (Zn, Cd) S: Cu, Ag and other sulfides
-Based phosphor, HfP2O7, HfP2O7: Cu, Hf3(P
OFour)FourHafnium phosphate phosphors such as YTaOFour, Y
TaOFour: Tm, YTaOFour: Nb, (Y, Sr) TaO
Four: Nb, LuTaOFour, LuTaOFour: Tm, LuTa
OFour: Nb, (Lu, Sr) TaOFour: Nb, GdTaO
Four: Tm, MgFourTa2O9: Nb, Gd2O3・ Ta2O Five
B2O3: Tb and other tantalate phosphors, Gd
2O2S: Eu3+, (La, Gd, Lu)2Si2O7: E
u, ZnSiOFour: Mn, Sr2P2O7: For Eu, etc.
Can be Especially high X-ray absorption and luminous efficiency
Gd2O2Using S: Tb, CsI: Tl is
It is preferable for obtaining a high quality radiographic image. These phosphors
The average diameter of the particles is preferably 1 μm or more and 7 μm or less.
Is the diameter. The phosphor particles may be amorphous particles or spherical particles.
It can be shaped.

【0030】電荷発生層211でのバインダーは、有機
伝導体を用いる。この有機伝導体としては、π共役系高
分子材料や低分子系有機EL素子に使用される発光材料
等が挙げられる。例えば、ポリ(2−メトキシ、5−
(2’エチルヘキシロキシ)−p−フェニレンビニレ
ン)そしてポリ(3−アルキルディオフェン)などがあ
る。また「有機EL材料とディスプレイ(2001年2
月28日 株式会社シー・エム・シー発行)」の第19
0頁〜第203頁に記載されている化合物や、「有機E
L素子とその工業化最前線(1998年11月30日
エヌ・ティー・エス社発行)」の第81頁〜第90頁に
記載されている化合物などが挙げられる。前記低分子系
有機EL素子に使用される発光材料としては、例えば
「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月
30日 エヌ・ティー・エス社発行)」の第36頁〜第
56頁に記載されている化含物や「有機EL材料とディ
スプレイ(2001年2月28日株式会社シー・エム・
シー発行)」の第148頁〜第172頁に記載されてい
る化合物等が挙げられる。本発明において、光電変換可
能な有機化合物として特に好ましいものは導電性高分子
化合物であり、最も好ましいものはπ共役系高分子化合
物である。ここで、図5は導電性高分子化合物の基本骨
格、図6〜図8はπ共役系高分子化合物の具体例、図9
はπ共役系以外の導電性高分子化合物の具体例を示して
いる。なお、導電性高分子材料や低分子系有機EL素子
は上述のものに限定されるものではない。
An organic conductor is used as the binder in the charge generation layer 211. Examples of the organic conductor include a π-conjugated polymer material and a light emitting material used for a low molecular weight organic EL element. For example, poly (2-methoxy, 5-
(2'ethylhexyloxy) -p-phenylene vinylene) and poly (3-alkyldiophen). In addition, "Organic EL materials and displays (2001 2
19th of March 28, issued by CMC Inc.)
The compounds described on pages 0 to 203 and "organic E
L element and its industrialization front line (November 30, 1998)
Compounds described on pages 81 to 90 of "NTS Co., Ltd."). Examples of the light-emitting material used for the low molecular weight organic EL device include, for example, "organic EL device and its industrial front line (published on Nov. 30, 1998, NTTS Co., Ltd.)", pages 36 to 56. And the organic EL materials and displays (February 28, 2001, CM Corporation).
See pp. 148-172. In the present invention, a particularly preferable organic compound capable of photoelectric conversion is a conductive polymer compound, and the most preferable one is a π-conjugated polymer compound. Here, FIG. 5 is a basic skeleton of the conductive polymer compound, FIGS. 6 to 8 are specific examples of the π-conjugated polymer compound, and FIG.
Shows a specific example of a conductive polymer compound other than the π-conjugated system. The conductive polymer material and the low molecular weight organic EL element are not limited to those described above.

【0031】さらに、電荷発生層211の膜中に、例え
ばフラーレンC−60,フラーレンC−70,フラーレ
ンC−76,フラーレンC−78,フラーレンC−8
4,フラーレンC−240,フラーレンC−540,ミ
ックスドフラーレン、フラーレンナノチューブ、多層ナ
ノチューブ(Multi Walled Nanotube)、単層ナノチュ
ーブ(Single Walled Nanotube)などを混合すること
は、電磁波(光)に応じて発生された電荷を後述するよ
うにバイアス電圧を利用して移動させる際に、電荷の移
動を良好なものとすることができるので、高画質の放射
線画像を得るために好ましい態様である。また、電荷発
生層211は、100〜2000μmの厚さを有するこ
とが好ましい。
Further, in the film of the charge generation layer 211, for example, fullerene C-60, fullerene C-70, fullerene C-76, fullerene C-78, fullerene C-8.
4, mixing fullerene C-240, fullerene C-540, mixed fullerene, fullerene nanotube, multi-walled nanotube (Multi Walled Nanotube), single-walled nanotube (Single Walled Nanotube), etc. occurs according to electromagnetic waves (light) This is a preferable mode for obtaining a high-quality radiation image, because the movement of the charge can be made favorable when the generated charge is moved by utilizing the bias voltage as described later. Further, the charge generation layer 211 preferably has a thickness of 100 to 2000 μm.

【0032】電荷発生層211の放射線照射面側には絶
縁膜212が配置され、さらに絶縁膜212の上に電極
213が配置される。絶縁膜212は、例えばポリウレ
タン、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−アクリロニト
リル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロー
ス誘導体、スチレン−ブタジエン共重合体、各種合成ゴ
ム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、
メラニン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂らがあげられる。中で
もポリウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合
体、ポリビニルブチラール、ニトロセルロースを使用す
ることかできる。その厚さは1μmから100μmが適
切である。
An insulating film 212 is arranged on the radiation irradiation surface side of the charge generation layer 211, and an electrode 213 is further arranged on the insulating film 212. The insulating film 212 is, for example, polyurethane, vinyl chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, butadiene-acrylonitrile copolymer, polyamide resin, polyvinyl butyral, cellulose derivative, styrene-butadiene copolymer, various synthetic rubber resins. , Phenol resin, epoxy resin, urea resin,
Examples include melanin resin, phenoxy resin, silicone resin, acrylic resin, and urea formamide resin. Among them, polyurethane, polyester, vinyl chloride copolymer, polyvinyl butyral and nitrocellulose can be used. A suitable thickness is 1 μm to 100 μm.

【0033】電極213は、例えばインジウムチンオキ
シド(ITO)、SnO2、ZnOなどの導電性透明材
料、また金、銀、アルミニウム、クロムなどの金属が挙
げられる。これらの電極物質を用いて蒸着やスパッタリ
ングなどを行うことにより電極213を形成できる。こ
のようにして形成した電極213と、アースとの間にバ
イアス電圧をかけることにより、電荷発生層211の膜
中で発生させた電荷を移動させることができる。この時
のバイアス電圧は0.05〜20V/μmが好ましい。
このバイアス電圧によって移動させた電荷は、電荷発生
層211の放射線照射面側とは逆の面側に形成された第
2の構成要素、例えばコンデンサ221に蓄積される。
Examples of the electrode 213 include conductive transparent materials such as indium tin oxide (ITO), SnO 2 and ZnO, and metals such as gold, silver, aluminum and chromium. The electrode 213 can be formed by performing vapor deposition, sputtering, or the like using these electrode substances. By applying a bias voltage between the electrode 213 thus formed and the ground, the charges generated in the film of the charge generation layer 211 can be moved. The bias voltage at this time is preferably 0.05 to 20 V / μm.
The charges moved by the bias voltage are accumulated in the second constituent element, for example, the capacitor 221 formed on the surface side of the charge generation layer 211 opposite to the radiation irradiation surface side.

【0034】コンデンサ221の一方の電極となる収集
電極220とコンデンサ221の他方の電極221a
は、例えばクロムやアルミニウム、また一般の金属電極
もしくは透明電極の中から選択可能であるが、仕事関数
の小さい(4.5eV以下)金属、合金、電気伝導性化
合物及びこれらの混合物を金属膜に使用することが好ま
しい。このような好ましい物質の具体例としては、ナト
リウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リ
チウム、アルミニウム、マグネシウム/銅混合物、マグ
ネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合
物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/
酸化アルミニウム(Al23)混合物、インジウム、リ
チウム/アルミニウム混合物、希土類金属などか挙げら
れる。この電極220,221aは、これらの導電物質
を蒸着やスパッタリングなどの方法で、薄膜を形成させ
ることにより、作製することができる。また、シート抵
抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜
1μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれ
る。膜厚が薄いと導電物質がアイランド状となり、膜厚
が厚いと膜の生成に時間を要するからである。なお、電
極220と電極221aの間に介在される誘電体は、後
述する第3の構成要素で用いる絶縁層を利用する。この
コンデンサ221の容量は0.1〜1pFが好ましい。
The collecting electrode 220, which is one electrode of the capacitor 221, and the other electrode 221a of the capacitor 221.
Can be selected from, for example, chromium or aluminum, or a general metal electrode or a transparent electrode. However, a metal having a low work function (4.5 eV or less), an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof is used as a metal film. Preference is given to using. Specific examples of such preferable materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, aluminum, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum /
Aluminum oxide (Al 2 0 3) mixture, indium, a lithium / aluminum mixture, and either a rare earth metal such as. The electrodes 220 and 221a can be manufactured by forming thin films of these conductive materials by a method such as vapor deposition or sputtering. Further, the sheet resistance is preferably several hundreds Ω / □ or less, and the film thickness is usually 10 nm to
It is selected in the range of 1 μm, preferably 50 to 200 nm. This is because if the film thickness is thin, the conductive material becomes island-shaped, and if the film thickness is thick, it takes time to form the film. In addition, as the dielectric material interposed between the electrode 220 and the electrode 221a, an insulating layer used in a third component described later is used. The capacity of this capacitor 221 is preferably 0.1 to 1 pF.

【0035】コンデンサ221の放射線照射面側とは逆
の面側には、コンデンサ221に蓄積された電荷に基づ
いて信号を出力する第3の構成要素として、スイッチン
グ素子であるトランジスタ222例えばTFT(薄膜ト
ランジスタ)を形成する。このTFTは、液晶ディスプ
レイ等に使用されている無機半導体系のものでも、有機
半導体を用いたものでも良く、好ましくはプラスチック
フィルム上に形成されたTFTである。プラスチックフ
ィルム上に形成されたTFTとしては、アモルファスシ
リコン系のものが知られているが、その他、米国Alien
Technology社が開発しているFSA(Fluidic Self Ass
embly)技術、即ち、単結晶シリコンで作製した微小C
MOS(Nanoblocks)をエンボス加工したプラスチック
フィルム上に配列させることで、フレキシブルなプラス
チックフィルム上にTFTを形成するものとしても良
い。さらに、Science283,822(1999)やAppl.Phys.Lett,7
71488(1998)、Nature,403,521(2000)等の文献に記載さ
れているような有機半導体を用いたTFTであってもよ
い。
A transistor 222 such as a TFT (thin film transistor), which is a switching element, is provided as a third constituent element for outputting a signal based on the charges accumulated in the capacitor 221 on the surface of the capacitor 221 opposite to the radiation irradiation side. ) Is formed. This TFT may be an inorganic semiconductor type used in a liquid crystal display or the like, or an organic semiconductor type, and is preferably a TFT formed on a plastic film. Amorphous silicon-based TFTs are known as TFTs formed on plastic films.
FSA (Fluidic Self Ass
embly) technology, that is, minute C made of single crystal silicon
By arranging MOS (Nanoblocks) on an embossed plastic film, the TFT may be formed on the flexible plastic film. Furthermore, Science 283,822 (1999) and Appl.Phys.Lett, 7
It may be a TFT using an organic semiconductor as described in documents such as 71488 (1998), Nature, 403, 521 (2000).

【0036】このように、本発明に用いられるスイッチ
ング素子としては、上記FSA技術で作製したTFT及
び有機半導体を用いたTFTが好ましく、特に好ましい
ものは有機半導体を用いたTFTである。この有機半導
体を用いてTFTを構成すれば、シリコンを用いてTF
Tを構成する場合のように真空蒸着装置等の設備が不要
となり、印刷技術やインクジェット技術を活用してTF
Tを形成できるので、製造コストが安価となる。さら
に、加工温度を低くできることから熱に弱いプラスチッ
ク基板状にも形成できる。
As described above, as the switching element used in the present invention, the TFT manufactured by the FSA technique and the TFT using the organic semiconductor are preferable, and the particularly preferable one is the TFT using the organic semiconductor. If a TFT is formed using this organic semiconductor, TF is formed using silicon.
Equipment such as a vacuum deposition device is not required as in the case of configuring T, and TF can be used by utilizing printing technology and inkjet technology.
Since T can be formed, the manufacturing cost is low. Furthermore, since the processing temperature can be lowered, it can be formed into a plastic substrate shape which is weak against heat.

【0037】また、有機半導体を用いたTFTの内、電
界効果型トランジスタ(FET)が特に好ましく、具体
的には図5A〜図5Cに示す構造の有機TFTが好まし
い。図5Aに示す有機TFTは、基板上にゲート電極,
ゲート絶縁層,ソース・ドレイン電極,有機半導体層を
順に形成したものである。図5Bに示す有機TFTは、
基板上にゲート電極,ゲート絶縁層,有機半導体層,ソ
ース・ドレイン電極を順に形成したものであり、図5C
に示す有機TFTは、有機半導体単結晶上にソース・ド
レイン電極,ゲート絶縁層,ゲート電極を順に形成した
ものである。
Of the TFTs using the organic semiconductor, the field effect transistor (FET) is particularly preferable, and specifically, the organic TFT having the structure shown in FIGS. 5A to 5C is preferable. The organic TFT shown in FIG. 5A has a gate electrode on a substrate,
A gate insulating layer, a source / drain electrode, and an organic semiconductor layer are sequentially formed. The organic TFT shown in FIG. 5B is
A gate electrode, a gate insulating layer, an organic semiconductor layer, and a source / drain electrode are sequentially formed on a substrate.
The organic TFT shown in (1) is one in which a source / drain electrode, a gate insulating layer, and a gate electrode are sequentially formed on an organic semiconductor single crystal.

【0038】ここで、図4に示すトランジスタ222の
有機半導体層222aを形成する化合物は、単結晶材科
でもアモルファス材料でもよく、いわゆる有機EL素子
の構成を適用することもできる。有機EL素子はその構
成材料が低分子系のものでも高分子系のもの(ライトエ
ミッティングポリマーとも言う)でもよい。本発明の有
機伝導体で用いる材料としては、導電性高分子材料(π
共役系高分子材料やシリコン系高分子材料など)や低分
子系有機EL素子に使用される発光材料等が挙げられ
る。例えば導電性高分子材料としては、ポリ(2−メト
キシ、5−(2’エチルヘキシロキシ)−p−フェニレ
ンビニレン)そしてポリ(3−アルキルチオフェン)、
などがある。また「有機EL材料とディスプレイ(20
01年2月28日株式会社シー・エム・シー発行)」の
第190頁〜第203頁に記載されている化合物や、
「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月
30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第81頁〜第9
9頁に記載されている化合物などが挙げられる。前記低
分子系有機EL素子に使用される発光材料としては、例
えば、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年
11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第36頁
〜第56頁に記載されている化合物や、「有機EL材料
とディスプレイ(2001年2月28日株式会社シー・
エム・シー発行)」の第148頁〜第172頁に記載さ
れている化合物等が挙げられる。本発明において、有機
半導体として特に好ましいものは、ペンタセンやトリフ
ェニレン、アントラセン等に代表される縮環系芳香族炭
化水素化合物の単結晶や、導電性高分子化合物であるπ
共役系高分子化合物があげられる。図6は導電性高分子
化合物の基本骨格、図7〜図9はπ共役系高分子化合物
の具体例、図10はπ共役系以外の導電性高分子化合物
の具体例を示している。なお、導電性高分子材料や低分
子系有機EL素子は上述のものに限定されるものではな
い。
Here, the compound forming the organic semiconductor layer 222a of the transistor 222 shown in FIG. 4 may be a single crystal material or an amorphous material, and a so-called organic EL element structure can also be applied. The constituent material of the organic EL element may be low molecular weight or high molecular weight (also called light emitting polymer). The material used in the organic conductor of the present invention is a conductive polymer material (π
Examples thereof include conjugated polymer materials and silicon polymer materials) and light-emitting materials used for low molecular organic EL devices. For example, as the conductive polymer material, poly (2-methoxy, 5- (2'ethylhexyloxy) -p-phenylene vinylene) and poly (3-alkylthiophene),
and so on. In addition, "Organic EL materials and displays (20
Compounds described on pages 190 to 203 of February 28, 2001 (CMC Inc.),
Pages 81-9 of "Organic EL device and its frontier of industrialization" (published on November 30, 1998 by NTS Co., Ltd.)
Examples thereof include the compounds described on page 9. Examples of the light emitting material used for the low molecular weight organic EL device include, for example, "Organic EL device and its industrial front line (published on Nov. 30, 1998, NTS Co., Ltd.)", pages 36 to 56. The compounds listed on the page, "Organic EL materials and displays (February 28, 2001 C.
Published by M.C.) ", pages 148 to 172, and the like. In the present invention, particularly preferable organic semiconductors are single crystals of condensed aromatic hydrocarbon compounds represented by pentacene, triphenylene, anthracene, etc., and conductive polymer compounds.
Examples thereof include conjugated polymer compounds. 6 shows a basic skeleton of a conductive polymer compound, FIGS. 7 to 9 show specific examples of π-conjugated polymer compounds, and FIG. 10 shows specific examples of conductive polymer compounds other than π-conjugated system compounds. The conductive polymer material and the low molecular weight organic EL element are not limited to those described above.

【0039】また、π共役系高分子化合物を用いる有機
半導体には、複数のπ共役高分子化合物間でのキャリア
授受やキャリアトラップを行う目的で、フラーレンやカ
ーボンナノチューブのような立体的なπ電子雲を有する
化合物を添加することが好ましい。
In addition, in an organic semiconductor using a π-conjugated polymer compound, a three-dimensional π-electron such as fullerene or carbon nanotube is used for the purpose of carrier transfer and carrier trap between a plurality of π-conjugated polymer compounds. It is preferable to add a compound having a cloud.

【0040】これらの化合物は、例えばフラーレンC−
60,フラーレンC−70,フラーレンC−76,フラ
ーレンC−78,フラーレンC−84,フラーレンC−
240,フラーレンC−540,ミックスドフラーレ
ン、フラーレンナノチューブ、多層ナノチューブ(Mult
i Walled Nanotube)、単層ナノチューブ(Single Wall
ed Nanotube)である。さらに、フラーレンやカーボン
ナノチューブは溶剤への相溶性を付与する目的で置換基
を導入してもよい。
These compounds are, for example, fullerene C-
60, fullerene C-70, fullerene C-76, fullerene C-78, fullerene C-84, fullerene C-
240, fullerene C-540, mixed fullerene, fullerene nanotube, multi-walled nanotube (Mult
i Walled Nanotube, Single Wall
ed Nanotube). Further, a fullerene or carbon nanotube may have a substituent introduced for the purpose of imparting compatibility with a solvent.

【0041】さらに、トランジスタ222では図4に示
すように、正孔を選択的に伝導する層である伝導層22
2bを有機半導体層222aとドレイン電極(ソース電
極)222c間や、有機半導体層222aとソース電極
(ト゛レイン電極)222d間に形成するものとしても良
い。
Further, in the transistor 222, as shown in FIG. 4, the conduction layer 22 which is a layer for selectively conducting holes.
2b may be formed between the organic semiconductor layer 222a and the drain electrode (source electrode) 222c, or between the organic semiconductor layer 222a and the source electrode (drain electrode) 222d.

【0042】この伝導層222bは、導電性高分子材料
や低分子系有機EL素子に使用される発光材料等に、変
換効率や電極へのキャリア受け渡し効率を向上させるた
めに添加剤を加えた材料を用いて形成する。添加剤とし
ては、有機EL素子で使用される正孔注入材料や正孔輸
送材料,電子輸送材料,電子注入材料等を適用すること
ができる。その具体例としては、例えばトリアゾール誘
導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、
ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピ
ラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリール
アミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾー
ル誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン
誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザ
ン誘導体、アニリン系共重合体、また、導電性高分子オ
リゴマー、特にチオフェンオリゴマー、ポルフィリン化
合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化
合物、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン
誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリ
レンなどの複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイ
ミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジ
メタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、キノキサリン誘導体、8−
キノリノール誘導体の金属錯体(例えばトリス(8−キ
ノリノラート)アルミニウム(Alq3)、トリス
(5,7−ジクロロ−8−キノリトラート)アルミニウ
ム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリラート)ア
ルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリラート)
アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリラー
ト)アルミニウム、ビス(8−キノリラート)亜鉛(Z
nq2)など)である。
The conductive layer 222b is a material in which an additive is added to a conductive polymer material or a light emitting material used for a low molecular weight organic EL device in order to improve conversion efficiency and carrier transfer efficiency to an electrode. Are formed by using. As the additive, a hole injecting material, a hole transporting material, an electron transporting material, an electron injecting material or the like used in an organic EL element can be applied. Specific examples thereof include, for example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives,
Polyarylalkane derivative, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, phenylenediamine derivative, arylamine derivative, amino-substituted chalcone derivative, oxazole derivative, styrylanthracene derivative, fluorenone derivative, hydrazone derivative, stilbene derivative, silazane derivative, aniline copolymer, and also , Conductive polymer oligomers, especially thiophene oligomers, porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds, nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, heterocyclic tetracarboxylic acids such as naphthalene perylene Anhydride, carbodiimide, fluorenylidene methane derivative, anthraquinodimethane and anthrone derivative, oxadiazole derivative, thiadiazole Conductor, quinoxaline derivatives, 8-
A metal complex of a quinolinol derivative (for example, tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3), tris (5,7-dichloro-8-quinolinatolate) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinato) aluminum, tris (2- Methyl-8-quinolylate)
Aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinate) aluminum, bis (8-quinolinate) zinc (Z
nq2) etc.).

【0043】ドレイン電極(ソース電極)222c、ソ
ース電極(ドレイン電極)222d及びゲート電極22
2eは、金属でも導電性無機化合物でも導電性有機化合
物でも何れでもよいが、作製の容易さの観点から導電性
有機化合物であることが好ましく、その代表例として
は、前記π共役系高分子化合物にルイス酸(塩化鉄、塩
化アルミニウム、臭化アンチモン等)やハロゲン(ヨウ
素や臭素など)、スルホン酸塩(ポリスチレンスルホン
酸のナトリウム塩(PSS)、p−トルエンスルホン酸
カリウム等)などをドープしたものが挙げられ、具体的
にはPEDOTにPSSを添加した導電性高分子が代表
例として挙げられる。また、絶縁層222fとしては、
上述の絶縁材料を用いることができる。なお、図11は
伝導層222bを設けていない場合での有機TFTの具
体例を示している。
Drain electrode (source electrode) 222c, source electrode (drain electrode) 222d and gate electrode 22
2e may be a metal, a conductive inorganic compound, or a conductive organic compound, but is preferably a conductive organic compound from the viewpoint of ease of production, and a representative example thereof is the π-conjugated polymer compound. Is doped with Lewis acid (iron chloride, aluminum chloride, antimony bromide, etc.), halogen (iodine, bromine, etc.), sulfonate (polystyrenesulfonic acid sodium salt (PSS), potassium p-toluenesulfonate, etc.) Examples thereof include a conductive polymer obtained by adding PSS to PEDOT. Further, as the insulating layer 222f,
The insulating materials mentioned above can be used. Note that FIG. 11 shows a specific example of the organic TFT in the case where the conductive layer 222b is not provided.

【0044】スイッチング素子であるトランジスタ22
2には、図3及び図4に示すように、コンデンサ221
の一方の電極である収集電極220が接続されており、
このコンデンサ221に蓄積された電荷はトランジスタ
222を駆動することで読み出される。すなわちスイッ
チング素子を駆動することで放射線画像を画素毎の信号
を生成することができる。
Transistor 22 which is a switching element
2 includes a capacitor 221 as shown in FIGS.
A collecting electrode 220, which is one of the electrodes, is connected,
The charges accumulated in the capacitor 221 are read by driving the transistor 222. That is, by driving the switching element, a radiation image can be generated as a signal for each pixel.

【0045】またコンデンサ221に蓄積された電荷に
基づいて信号を出力する第3の構成要素は、スイッチン
グ素子を用いるものに限られるものではなく、例えばコ
ンデンサ221に蓄えられた電荷量に応じた信号を生成
して出力する構成とすることもできる。
The third component for outputting a signal based on the electric charge accumulated in the capacitor 221 is not limited to the one using the switching element, and for example, a signal corresponding to the amount of electric charge accumulated in the capacitor 221 is used. May be generated and output.

【0046】第1の構成要素から第3の構成要素を保持
する第4の構成要素としての基板214は、プラスチッ
クフィルムが好ましい。プラスチックフィルムとして
は、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポ
リエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスル
ホン(PES)、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレ
ート、ポリイミド、ボリカーボネート(PC)、セルロ
ーストリアセテート(TAC)、セルロースアセテート
プロピオネート(CAP)等からなるフィルム等が挙げ
られる。このように、基板214としてプラスチックフ
ィルムを用いることで、ガラス基板を用いる場合に比べ
て軽量化を図ることができるとともに、衝撃に対する耐
性を向上できる。
The substrate 214 as the fourth component holding the first to third components is preferably a plastic film. Examples of the plastic film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyether sulfone (PES), polyetherimide, polyetheretherketone, polyphenylene sulfide, polyarylate, polyimide, polycarbonate (PC), cellulose. Examples thereof include films made of triacetate (TAC), cellulose acetate propionate (CAP) and the like. As described above, by using the plastic film as the substrate 214, the weight can be reduced as compared with the case where the glass substrate is used, and the resistance to impact can be improved.

【0047】更にこれらのプラスチックフィルムには、
トリオクチルホスフェートやジブチルフタレート等の可
塑剤を添加してもよく、ベンゾトリアゾール系やベンゾ
フェノン系等の公知の紫外線吸収剤を添加してもよい。
また、テトラエトキシシラン等の無機高分子の原料を添
加し、化学触媒や熱、光等のエネルギーを付与すること
により高分子量化する、いわゆる有機−無機ポリマーハ
イブリッド法を適用して作製した樹脂を原料として用い
ることもできる。
Further, in these plastic films,
A plasticizer such as trioctyl phosphate or dibutyl phthalate may be added, or a known benzotriazole-based or benzophenone-based ultraviolet absorber may be added.
In addition, a resin produced by applying a so-called organic-inorganic polymer hybrid method, in which a raw material of an inorganic polymer such as tetraethoxysilane is added, and a high molecular weight is obtained by applying energy such as a chemical catalyst, heat, or light. It can also be used as a raw material.

【0048】更に基板214のトランジスタ222形成
面側とは反対面側に、電源部34例えばマンガン電池、
ニッケル・カドミウム電池、水銀電池、鉛電池などの一
次電池、充電可能な二次電池を設けるものとしても良
い。この電池の形態としては、放射線画像検出器を薄型
化できるように平板状の形態が好ましい。
Further, on the side of the substrate 214 opposite to the side where the transistor 222 is formed, the power source section 34 such as a manganese battery,
A primary battery such as a nickel-cadmium battery, a mercury battery, or a lead battery, or a rechargeable secondary battery may be provided. As a form of this battery, a flat form is preferable so that the radiation image detector can be thinned.

【0049】また、撮像パネル21では、信号線224
-1〜224-nに、例えばドレイン電極が接続された初期
化用のトランジスタ232-1〜232-nが設けられてい
る。このトランジスタ232-1〜232-nのソース電極
は接地されている。また、ゲート電極はリセット線23
1と接続される。
In the image pickup panel 21, the signal line 224
-1 to 224-n are provided with initialization transistors 232-1 to 232-n to which drain electrodes are connected, for example. The source electrodes of the transistors 232-1 to 232-n are grounded. In addition, the gate electrode is the reset line 23.
Connected with 1.

【0050】撮像パネル21の走査線223-1〜223
-mとリセット線231は、図3に示すように走査駆動回
路25と接続されている。走査駆動回路25から走査線
223-1〜223-mのうちの1つ走査線223-p(pは1
〜mのいずれかの値)に読出信号RSが供給されると、
この走査線223-pに接続されたトランジスタ222-
(p,1)〜222-(p,n)がオン状態とされて、コンデンサ
221-(p,1)〜221-(p,n)に蓄積された電荷が信号線
224-1〜224-nにそれぞれ読み出される。信号線2
24-1〜224-nは、信号選択回路27の信号変換器2
71-1〜271-nに接続されており、信号変換器271
-1〜271-nでは信号線224-1〜224-n上に読み出
された電荷量に比例する電圧信号SV-1〜SV-nを生成
する。この信号変換器271-1〜271-nから出力され
た電圧信号SV-1〜SV-nはレジスタ272に供給され
る。
Scan lines 223-1 to 223 of the image pickup panel 21
-m and the reset line 231 are connected to the scan drive circuit 25 as shown in FIG. From the scan driving circuit 25, one of the scan lines 223-1 to 223-m scan line 223-p (p is 1
To a value m), the read signal RS is supplied,
Transistor 222-connected to this scan line 223-p
(p, 1) to 222- (p, n) are turned on, and the charges accumulated in the capacitors 221- (p, 1) to 221- (p, n) are transferred to the signal lines 224-1 to 224-2. It is read to n respectively. Signal line 2
24-1 to 224-n are signal converters 2 of the signal selection circuit 27.
71-1 to 271-n are connected to the signal converter 271.
-1 to 271-n generate voltage signals SV-1 to SV-n proportional to the amount of charges read on the signal lines 224-1 to 224-n. The voltage signals SV-1 to SV-n output from the signal converters 271-1 to 271-n are supplied to the register 272.

【0051】レジスタ272では、供給された電圧信号
が順次選択されて、A/D変換器273で(例えば、1
2ビットないし14ビットの)1つの走査線に対するデ
ィジタルの画像信号とされ、制御回路30は、走査線2
23-1〜223-m各々に、走査駆動回路25を介して読
出信号RSを供給して画像走査を行い、走査線毎のディ
ジタル画像信号を取り込んで、放射線画像の画像信号の
生成を行う。この画像信号は制御回路30に供給され
る。なお、走査駆動回路25からリセット信号RTをリ
セット線231に供給してトランジスタ232-1〜23
2-nをオン状態とするとともに、走査線223-1〜22
3-mに読出信号RSを供給してトランジスタ222-(1,
1)〜222-(m,n)をオン状態とすると、コンデンサ22
1-(1,1)〜221-(m,n)に蓄えられた電荷がトランジス
タ232-1〜232-nを介して放出して、撮像パネル2
1の初期化を行うことができる。
In the register 272, the supplied voltage signals are sequentially selected, and the A / D converter 273 (for example, 1
It is a digital image signal for one scan line (2 to 14 bits), and the control circuit 30 controls the scan line 2
A read signal RS is supplied to each of 23-1 to 223-m through the scan drive circuit 25 to perform image scanning, and a digital image signal for each scanning line is taken in to generate an image signal of a radiation image. This image signal is supplied to the control circuit 30. It should be noted that the scan drive circuit 25 supplies the reset signal RT to the reset line 231 to supply the transistors 232-1 to 232-1.
2-n is turned on, and scanning lines 223-1 to 22-2
The read signal RS is supplied to 3-m to supply the transistor 222- (1,
1) to 222- (m, n) is turned on, the capacitor 22
The charges accumulated in 1- (1,1) to 221- (m, n) are discharged through the transistors 232-1 to 232-n, and the image pickup panel 2
Initialization of 1 can be performed.

【0052】制御回路30にはメモリ部31や操作部3
2が接続されており、操作部32からの操作信号PSに
基づいて放射線画像検出器20の動作が制御される。操
作部32は複数のスイッチが設けられており、操作部3
2からのスイッチ操作に応じた操作信号PSに基づき、
撮像パネル21の初期化や放射線画像の画像信号の生成
が行われる。また放射線画像の画像信号の生成は、放射
線発生器10から放射線照射終了信号がコネクタ35を
介して供給されたときに行うものとすることもできる。
さらに、生成した画像信号をメモリ部31に記憶させる
処理等も行う。
The control circuit 30 includes a memory section 31 and an operating section 3.
2 are connected, and the operation of the radiation image detector 20 is controlled based on the operation signal PS from the operation unit 32. The operation unit 32 is provided with a plurality of switches, and the operation unit 3
Based on the operation signal PS from 2 according to the switch operation,
Initialization of the imaging panel 21 and generation of an image signal of a radiation image are performed. Further, the image signal of the radiation image may be generated when the radiation irradiation end signal is supplied from the radiation generator 10 through the connector 35.
Further, it also performs processing such as storing the generated image signal in the memory unit 31.

【0053】ここで、図2に示すように、放射線画像検
出器20に電源部34を設けるとともに放射線画像の画
像信号を記憶するメモリ部31を設け、コネクタ35を
介して放射線画像検出器20を着脱自在にすれば、放射
線画像検出器20を持ち運びできるシステムを構築でき
る。さらに、不揮発性メモリを用いてメモリ部31を着
脱可能に構成すれば、放射線画像検出器20と画像処理
部51を接続しなくとも、メモリ部31を画像処理部5
1に装着するだけで画像信号を画像処理部51に供給で
きることから、更に放射線画像の撮影及び画像処理が容
易となり、操作性を向上できる。なお、放射線画像検出
器20を据置き型として用いる場合には、コネクタ35
を介して電力の供給や画像信号の読み出しを行うこと
で、メモリ部31や電源部34を設けなくとも、放射線
画像の画像信号を得られることは勿論である。
Here, as shown in FIG. 2, the radiation image detector 20 is provided with a power source section 34 and a memory section 31 for storing the image signal of the radiation image, and the radiation image detector 20 is connected via a connector 35. If it is detachable, a system capable of carrying the radiation image detector 20 can be constructed. Furthermore, if the memory unit 31 is configured to be removable using a non-volatile memory, the memory unit 31 can be connected to the image processing unit 5 without connecting the radiation image detector 20 and the image processing unit 51.
Since the image signal can be supplied to the image processing unit 51 only by mounting it on No. 1, the radiation image capturing and image processing can be further facilitated and the operability can be improved. When the radiation image detector 20 is used as a stationary type, the connector 35
It is needless to say that the image signal of the radiation image can be obtained without providing the memory unit 31 and the power supply unit 34 by supplying power and reading the image signal via the.

【0054】このように、上述の実施の形態では、第4
の構成要素を樹脂で構成したことにより、ガラス基板を
用いた従来の放射線画像検出器に比べて軽量化を図るこ
とができる。また、第4の構成要素を樹脂で構成したこ
とにより、第4の構成要素上に形成される第3の構成要
素は、分割されたシリコン積層構造の素子を用いたり有
機半導体で形成される。このため、ガラス基板を用いた
従来の放射線画像検出器のように、シリコンを主体とす
る薄膜トランジスタをガラス基板上に形成する高価で特
殊な製造装置を用いる必要がないことから、放射線画像
検出器を安価に製造できる。
As described above, in the above embodiment, the fourth
Since the constituent elements of (1) are made of resin, the weight can be reduced as compared with the conventional radiation image detector using the glass substrate. Further, since the fourth constituent element is made of resin, the third constituent element formed on the fourth constituent element is formed of an element having a divided silicon laminated structure or is formed of an organic semiconductor. Therefore, unlike a conventional radiographic image detector using a glass substrate, it is not necessary to use an expensive and special manufacturing apparatus for forming a thin film transistor mainly composed of silicon on a glass substrate. It can be manufactured at low cost.

【0055】[0055]

【発明の効果】この発明によれば、入射した放射線の強
度に応じて入射した放射線よりも波長の短い電磁波を発
生させる蛍光体粒子が、この電磁波を吸収して電荷を発
生するバインダーに分散されている第1の構成要素と、
第1構成要素で発生された電荷を蓄積する第2の構成要
素と、第2の構成要素で蓄積された電荷に基づいて信号
の出力を行う第3の構成要素を保持する第4の構成要素
が樹脂を用いて形成される。このため、入射した放射線
に基づいて画像信号を生成する放射線画像検出器を軽量
化することができる。
According to the present invention, phosphor particles that generate an electromagnetic wave having a shorter wavelength than the incident radiation depending on the intensity of the incident radiation are dispersed in a binder that absorbs the electromagnetic wave and generates an electric charge. The first component,
A fourth constituent element that holds a second constituent element that accumulates the electric charge generated in the first constituent element and a third constituent element that outputs a signal based on the electric charge accumulated in the second constituent element. Are formed using a resin. Therefore, it is possible to reduce the weight of the radiation image detector that generates the image signal based on the incident radiation.

【0056】また、第1の構成要素は、フラーレン若し
くはカーボンナノチューブを含有した有機光導電体であ
るバインダーに、蛍光体粒子を分散させて形成したの
で、高画質の放射線画像を得ることができる。さらに第
3層は、有機半導体や分割されたシリコン積層構造の素
子を用いて形成されるので、放射線画像検出器を安価に
製造できる。
Further, since the first component is formed by dispersing phosphor particles in a binder which is an organic photoconductor containing fullerene or carbon nanotubes, a high quality radiation image can be obtained. Furthermore, since the third layer is formed using an organic semiconductor or an element having a divided silicon laminated structure, the radiation image detector can be manufactured at low cost.

【0057】また、第1〜第4の構成要素と、電力供給
手段と記憶手段を一体化して可搬構造とされているの
で、放射線画像の撮影を簡単に行うことができる。さら
に、入射した放射線に基づいて画像信号を生成するため
に電力供給を行う電力供給手段や画像信号を記憶する記
憶手段が設けられるので、画像信号の読み取りや信号処
理等を行う周辺装置と接続しなくとも、放射線画像の画
像信号を得ることができる。また記憶手段は着脱可能と
されているので、周辺装置への画像信号の供給を簡単か
つ容易に行うことができる。
Further, since the first to fourth constituent elements, the power supply means and the storage means are integrated into a portable structure, it is possible to easily take a radiation image. Further, since a power supply means for supplying power to generate an image signal based on the incident radiation and a storage means for storing the image signal are provided, it is connected to a peripheral device for reading the image signal or performing signal processing. Even if it does not exist, the image signal of the radiographic image can be obtained. Further, since the storage means is removable, the image signal can be easily and easily supplied to the peripheral device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】放射線画像検出器を用いたシステムの一例を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an example of a system using a radiation image detector.

【図2】放射線画像検出器の構造の一例を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a structure of a radiation image detector.

【図3】放射線画像検出器の回路構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of a radiation image detector.

【図4】撮像パネルの一部断面図である。FIG. 4 is a partial cross-sectional view of an image pickup panel.

【図5】有機TFTの構造を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a structure of an organic TFT.

【図6】導電性高分子化合物の基本骨格を示す図であ
る。
FIG. 6 is a view showing a basic skeleton of a conductive polymer compound.

【図7】π共役系高分子化合物の具体例(その1)を示
す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a specific example (1) of a π-conjugated polymer compound.

【図8】π共役系高分子化合物の具体例(その2)を示
す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a specific example (No. 2) of the π-conjugated polymer compound.

【図9】π共役系高分子化合物の具体例(その3)を示
す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a specific example (part 3) of a π-conjugated polymer compound.

【図10】π共役系以外の導電性高分子化合物の具体例
を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a specific example of a conductive polymer compound other than a π-conjugated system.

【図11】有機TFTの具体例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a specific example of an organic TFT.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 放射線発生器 20 放射線画像検出器 21 撮像パネル 25 走査駆動回路 27 信号選択回路 30 制御回路 31 メモリ部 32 操作部 33 表示部 34 電源部 35 コネクタ 40 筐体 51 画像処理部 52 画像表示部 53 情報入力部 54 画像出力部 55 画像保存部 211 電荷発生層 214 基板 220 収集電極 221 コンデンサ 222,232 トランジスタ 223 走査線 224 信号線 231 リセット線 271 信号変換器 272 レジスタ 273 A/D変換器 10 Radiation generator 20 Radiation image detector 21 Imaging panel 25 Scan drive circuit 27 Signal selection circuit 30 control circuit 31 memory 32 Operation part 33 Display 34 Power Supply 35 connector 40 cases 51 Image processing unit 52 Image display section 53 Information input section 54 Image output section 55 Image storage 211 Charge generation layer 214 substrate 220 collecting electrode 221 capacitor 222,232 transistors 223 scan lines 224 signal line 231 reset line 271 Signal converter 272 register 273 A / D converter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // H01L 51/00 H01L 29/28 (72)発明者 北 弘志 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 源田 和男 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 Fターム(参考) 2G088 EE01 FF02 GG10 GG19 GG21 JJ05 4M118 AA10 AB01 BA14 CA11 CA15 CB11 CB20 FB13 FB20 GA10 5C024 AX12 CY14 EX22 EX24 5F088 AA20 BB03 BB07 HA15 KA10 LA08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // H01L 51/00 H01L 29/28 (72) Inventor Hiroshi Kita No. 1 Sakura-cho, Hino-shi, Tokyo Konica Stock In-company (72) Inventor Kazuo Genda 1 Sakura-cho, Hino-shi, Tokyo Konica stock In-company F-term (reference) 2G088 EE01 FF02 GG10 GG19 GG21 JJ05 4M118 AA10 AB01 BA14 CA11 CA15 CB11 CB20 FB13 FB20 GA10 5C024 AX24 5F14 EX88 EX22 AA20 BB03 BB07 HA15 KA10 LA08

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入射した放射線の強度に応じて入射した
放射線よりも波長の短い電磁波を発生させる蛍光体粒子
が、該電磁波を吸収して電荷を発生するバインダーに分
散されている第1の構成要素と、 前記第1の構成要素で発生された電荷を蓄積する第2の
構成要素と、 前記第2の構成要素で蓄積された電荷に基づいて信号の
出力を行う第3の構成要素と、 前記第1から第3の構成要素を保持する第4の構成要素
を備え、 前記第3の構成要素から出力された信号に基づいて、入
力した放射線の画像信号を出力する放射線画像検出器に
おいて、 前記第4の構成要素を樹脂で形成したことを特徴とする
放射線画像検出器。
1. A first structure in which phosphor particles that generate an electromagnetic wave having a shorter wavelength than the incident radiation depending on the intensity of the incident radiation are dispersed in a binder that absorbs the electromagnetic wave and generates an electric charge. An element, a second constituent element that accumulates the electric charge generated in the first constituent element, and a third constituent element that outputs a signal based on the electric charge accumulated in the second constituent element, A radiation image detector that includes a fourth component that holds the first to third components, and that outputs an image signal of the input radiation based on a signal that is output from the third component, A radiation image detector, wherein the fourth component is formed of resin.
【請求項2】 前記第1の構成要素において、前記バイ
ンダーはフラーレン若しくはカーボンナノチューブを含
有した有機光導電体であることを特徴とする請求項1記
載の放射線画像検出器。
2. The radiation image detector according to claim 1, wherein in the first component, the binder is an organic photoconductor containing fullerene or carbon nanotubes.
【請求項3】 前記第2の構成要素はコンデンサである
ことを特徴とする請求項1から請求項2に記載の放射線
画像検出器。
3. The radiation image detector according to claim 1, wherein the second component is a capacitor.
【請求項4】 前記第3の構成要素は、有機半導体を用
いて形成したことを特徴とする請求項1から請求項3に
記載の放射線画像検出器。
4. The radiation image detector according to claim 1, wherein the third constituent element is formed by using an organic semiconductor.
【請求項5】 前記第3の構成要素は、分割されたシリ
コン積層構造の素子を用いて形成したことを特徴とする
請求項1から請求項4に記載の放射線画像検出器。
5. The radiation image detector according to claim 1, wherein the third component is formed by using an element having a divided silicon laminated structure.
【請求項6】 前記放射線画像検出器を可搬構造とした
ことを特徴とする請求項1から請求項5に記載の放射線
画像検出器。
6. The radiation image detector according to claim 1, wherein the radiation image detector has a portable structure.
【請求項7】 前記放射線画像検出器を駆動するために
必要な電力を供給する電力供給手段を設けたことを特徴
とする請求項1から請求項6に記載の放射線画像検出
器。
7. The radiation image detector according to claim 1, further comprising power supply means for supplying power required to drive the radiation image detector.
【請求項8】 前記画像信号を記憶する記憶手段を設け
たことを特徴とする請求項1から請求項7に記載の放射
線画像検出器。
8. The radiation image detector according to claim 1, further comprising storage means for storing the image signal.
【請求項9】 前記記憶手段は着脱可能であることを特
徴とする請求項8に記載の放射線画像検出器。
9. The radiation image detector according to claim 8, wherein the storage unit is removable.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005223038A (en) * 2004-02-04 2005-08-18 Shin Etsu Polymer Co Ltd Optoelectric transducer and its manufacturing method
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EP2739701B1 (en) 2011-08-02 2016-02-10 Vieworks Co. Ltd. A novel composition for radiation imaging detector and a radiation imaging detector comprising the same

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